(57)【要約】【課題】アース電極部の形成が容易な電極部付き光学フィルタの製造方法を提供すること。【解決手段】表面に、メッシュ状金属層及びその周囲の枠状金属層からなる導電層が設けられた透明基板の当該導電層全表面に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化のハードコート層等の機能性層を形成し、透明基板の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し、枠状金属層の上に設けられた未硬化の機能性層を溶剤により除去して枠状金属層を露出させる工程Ａを含む、電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に、メッシュ状金属層及びその周囲の枠状金属層からなる導電層が設けられた透明基板の当該導電層全表面に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の機能性層を形成し、透明基板の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し、枠状金属層の上に設けられた未硬化の機能性層を溶剤により除去して枠状金属層を露出させる工程Ａを含む、電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項２】
機能性層がハードコート層である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
上記工程Ａの後、ハードコート層及び露出した枠状金属層の上に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の低屈折率層を形成し、透明基板の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し、枠状金属層の上に設けられた未硬化の低屈折率層を溶剤により除去して枠状金属層を露出させる工程Ｂを行う請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
上記工程Ａの後、ハードコート層及び露出した枠状金属層の上に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の高屈折率層を形成し、透明基板の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し、枠状金属層の上に設けられた未硬化の高屈折率層を溶剤により除去して枠状金属層を露出させる工程Ｃを行い、次いで
高屈折率層及び露出した枠状金属層の上に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の低屈折率層を形成し、透明基板の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し、枠状金属層の上に設けられた未硬化の低屈折率層を溶剤により除去して枠状金属層を露出させる工程Ｂ’を行う請求項２に記載の製造方法。
【請求項５】
導電層上に全ての層を形成した後、導電層を有する表面にさらに紫外線を照射する請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
透明基板の導電層の設けられていない側の表面に、近赤外線吸収層が設けられている請求項２〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
近赤外線吸収層がネオン光吸収色素を含有する請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
さらにネオン光吸収色素層を有する請求項６に記載の製造方法。
【請求項９】
ハードコート層が、紫外線吸収剤を含有する請求項２〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
透明基板がプラスチックフィルムである請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
表面に、メッシュ状金属層からなるか、或いはメッシュ状金属層とその周囲の枠状金属層とからなる導電層が設けられた透明基板の当該導電層全表面に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の機能性層を形成し、機能性層の上から導電層の外縁の枠状領域に紫外線が当たらないようにマスクを介して紫外線を照射し、その導電層の枠状領域上に設けられた未硬化の機能性層を溶剤により除去して枠状領域を露出させる工程Ａ’を含む、電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法により得られる電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１３】
近赤外線吸収層の透明基板と反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている請求項１２に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１４】
透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている請求項１３に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１５】
プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１２〜１４のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１６】
請求項１２〜１４のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項１７】
請求項１２〜１４のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にＰＤＰに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。
【０００３】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、これらを防止する目的で、ＰＤＰに対して、導電性を有する種々のＰＤＰフィルタ（電磁波シールド性光透過窓材）が提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００４】
さらに、従来のＰＤＰを初めとした大型ディスプレイでは、反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムが貼り合わされている。例えば、特許文献１（特開平１１−７４６８３号公報）には、２枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。
【０００５】
上記電磁波シールド性光透過窓材においては、上記導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために、導電層（電磁波シールド材）、例えば導電性メッシュ、をＰＤＰ本体に接地（アース）する必要がある。そのためには、２枚の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出させ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地するか、２枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触するように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。しかしながら、このような方法では、積層工程における上記作業が煩雑であるとの問題がある。
【０００６】
また、特許文献２（特開２００１−１４２４０６号公報）には、１枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部（端部）とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−７４６８３号公報
【特許文献２】特開２００１−１４２４０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に示されているように、従来のＰＤＰ等のディスプレイ用光学フィルタは、一般に複数の機能性フィルムを製造後、それらを貼り合わせるので煩雑な製造工程となり、コスト面でも不利である。
【０００９】
このため、部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を図るため、特許文献２に示されるようなフィルタ部材にガラスを含まないタイプのＰＤＰフィルタ（直張りタイプＰＤＰフィルタ）が提案されている。しかしながら、このような直張りタイプＰＤＰフィルタもガラス以外の機能性フィルムを予め製造した後、貼り合わせるという点では、従来のフィルタと同様で、煩雑な製造工程となり、コスト面でも十分とは言えない。
【００１０】
これらの問題を解決するために、基板として一枚の樹脂フィルムのみを用い、複数の機能層をその表面に形成する構造を採用することが考えられる。その製造方法として最も簡便なものが、樹脂フィルム上に導電メッシュを形成した電磁波シールドフィルム上に、反射防止層、近赤外線吸収層等の機能層を塗工によって形成する方法である。
【００１１】
しかしながら、上記のように塗工によって各機能層を形成すると、導電メッシュ部が露出しない状態となるため電磁シールドのためのアース部を確保できないとの問題がある。
【００１２】
従って、本発明は、精度良く且つ容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【００１３】
また、本発明は、精度良く且つ容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【００１４】
さらに、本発明は、精度良く且つ容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１５】
また、本発明は、精度良く且つ容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１６】
さらに、本発明は、精度良く且つ容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するＰＤＰ用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１７】
また、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。
【００１８】
さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
従って、本発明は、
表面に、メッシュ状金属層及びその周囲の枠状金属層からなる導電層が設けられた透明基板の当該導電層全表面に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の機能性層を形成し、透明基板の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し、枠状金属層の上に設けられた未硬化の機能性層を溶剤により除去して枠状金属層を露出させる工程Ａを含む、電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法；
にある。
【００２０】
上記の本発明の方法によれば、前記のように印刷版を作製しなくても、枠状金属導電層をマスクとして利用して紫外線照射することにより、層の周囲に導電層の枠状領域を残すようにハードコート層を形成することができ、これにより電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタを容易に得ることができる。
【００２１】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の好適態様は以下の通りである。
（１）機能性層がハードコート層が好ましい。機能性層は、近赤外線吸収層、又はこれを形成するための粘着剤層等であっても良い。機能性層が、近赤外線吸収層の場合、近赤外線吸収層上に、同様にしてハードコート層等を設けても良い。
（２）上記工程Ａの後、ハードコート層及び露出した枠状金属層の上に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の低屈折率層を形成し、透明基板の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し、枠状金属層の上に設けられた未硬化の低屈折率層を溶剤により除去して枠状金属層を露出させる工程Ｂを行う。
（３）上記工程Ａの後、ハードコート層及び露出した枠状金属層の上に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の高屈折率層を形成し、透明基板の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し、枠状金属層の上に設けられた未硬化の高屈折率層を溶剤により除去して枠状金属層を露出させる工程Ｃを行い、次いで
高屈折率層及び露出した枠状金属層の上に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の低屈折率層を形成し、透明基板の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し、枠状金属層の上に設けられた未硬化の低屈折率層を溶剤により除去して枠状金属層を露出させる工程Ｂ’を行う。
（４）導電層上に全ての層を形成した後（即ち、上記必要な工程終了後）、導電層を有する表面にさらに紫外線を照射する。
（５）透明基板の導電層の設けられていない側の表面に、近赤外線吸収層が設けられている。
（６）近赤外線吸収層がネオン光吸収色素を含有する。
（７）さらにネオン光吸収色素層を有する。例えば、近赤外線吸収層の上に設けられる。
（８）近赤外線吸収層上にネオン発光の吸収層を有する。
（９）ハードコート層が、紫外線吸収剤を含有する。
（１０）透明基板が透明なプラスチックフィルムである。
【００２２】
尚、本発明において、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の機能性層を複数（即ち、ハードコート層、低屈折率層等）順次形成し、透明基板の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し、枠状金属層の上に設けられた未硬化の複数の機能性層を溶剤により一度に除去して枠状金属層を露出させても良い。
【００２３】
また本発明は、
表面に、メッシュ状金属層からなるか、或いはメッシュ状金属層とその周囲の枠状金属層とからなる導電層が設けられた透明基板の当該導電層全表面に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の機能性層を形成し、機能性層の上から導電層の外縁の枠状領域（枠状金属層がある場合は当該領域）に紫外線が当たらないようにマスクを介して紫外線を照射し、その導電層の枠状領域上に設けられた未硬化の機能性層を溶剤により除去して枠状領域を露出させる工程Ａ’を含む、電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法にもある。
【００２４】
上記導電層上に機能性層としてハードコート層を設けた場合、その上に、必要に応じて低屈折率層、高屈折率層等を、前記と同様に、ＵＶ照射、現像（溶剤による除去）により形成することができる。
【００２５】
さらに、本発明は、上記の製造方法により得られる電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタにもある。
【００２６】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）ハードコート層が、透明フィルムの近赤外線吸収層と反対側の表面に設けられている場合、近赤外線吸収層の透明フィルムと反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている。
（２）透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている。
（３）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
【００２７】
さらにまた、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ；及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
【発明の効果】
【００２８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法により、周囲に突き出た導電層からなる電極部（アース電極）を有する光学フィルタを、極めて容易に且つ高い精度で製造することができる。即ち、本発明の方法によれば、例えば、矩形状の透明基板全面に形成された導電層上に設けられた未硬化の機能性層（ハードコート層）に、周囲の枠状金属導電層をマスクとして利用して紫外線照射することにより、精度良く且つ効率良く、周囲に突き出た導電層からなる電極部（アース電極）を有する光学フィルタを作製することができる。
【００２９】
また本発明のディスプレイ用光学フィルタは、上記製造方法を利用することにより有利に得られる、周囲に突き出た導電層を有する特定の構成の電極付き光学フィルタであり、アース設置を非常に容易にすることができるとの利点がある。
【００３０】
特に、本発明では、一般に、透明フィルムを１枚用いて上記光学フィルタを得ているので、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。
【００３１】
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
本発明の、電極部（アース電極）付きディスプレイ用光学フィルタの製造方法、及び本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタについて、以下、詳細に説明する。
【００３３】
図１及び図２に、本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタの製造方法の１例を説明するための図を示す。
【００３４】
一方の表面にメッシュ状導電層１３が設けられた矩形状透明フィルム１２のその導電層１３の全面に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化のハードコート層１６を形成する（一般に塗工後乾燥することにより形成する；（１）及び（２））。メッシュ状導電層１３が設けられた矩形状透明フィルム１２は、図２に示すように、透明フィルム１２の中央にメッシュ状金属層１３Ａが設けられ、その周囲に枠状金属層１３Ｂが設けられており、これらが導電層１３を構成している。枠状金属層１３Ｂは、導電性が高く、面積が大きいのでアース電極として極めて利用しやすい形態である。メッシュ状金属層１３Ａと枠状金属層１３Ｂとは結合しており、導通状態にある。メッシュ状金属層１３Ａは、細線であり、枠状金属層１３Ｂの枠の幅（Ｌ）は２ｍｍ以上でかなりの幅があり、紫外線を照射した場合は、前者は細線の後ろ側にも光は回り込むが、後者の枠の背面には光はほとんど回り込むことができない。従って、枠状金属層１３Ｂは、マスクとして利用することができる。
【００３５】
次いで、未硬化のハードコート層１６が設けられたメッシュ状導電層１３を有する透明フィルム１２の裏面に、紫外線を照射する（２）。この場合、枠状金属層１３Ｂに紫外線が余り当たらないように、紫外線を照射することが好ましい。上述したように、照射された紫外線は、メッシュ状導電層１３の内、メッシュ状金属層１３Ａの背後の未硬化のハードコート層には到達するが、枠状金属層１３Ｂの背後の未硬化のハードコート層にはほとんど到達しない。従って、紫外線照射後、枠状金属層１３Ｂの背後の未硬化のハードコート層（未露光部）１６は、溶剤によって除去することができる（現像）。但し、この段階での紫外線照射は、未硬化のハードコート層を完全硬化まで行うことは好ましくない。枠状金属層１３Ｂの背後の未硬化のハードコート層を溶剤で除去できる程度に紫外線照射を抑えるべきである。その場合、メッシュ状金属層１３Ａ上のハードコート層は半硬化状態であり、ある程度の耐溶剤性が備わっており、半硬化ハードコート層１６Ｍである。一般に、この段階での紫外線照射は、完全硬化に必要な紫外線量の１０〜１００％が好ましい。例えば、その紫外線量は、１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【００３６】
枠状金属層１３Ｂの背後の未硬化のハードコート層１６を溶剤で洗浄することにより除去した後、半硬化ハードコート層１６Ｍに再度紫外線照射してハードコート層を完全硬化させる（３）。これにより硬化したハードコート層１６Ｃが導電層１３上に設けられた電極部付きディスプレイ用光学フィルタが得られる。上記のように硬化したハードコート層を設けた後、透明基板１２の裏面に、近赤外線吸収層、或いは近赤外線吸収層及び透明粘着剤層が設けても良い。
【００３７】
尚、工程（２）の裏面からの紫外線照射を、未硬化のハードコート層に接触しないように、その上方に、枠状金属層１３Ｂに光が当たらないような形状のマスクを配置し、そのマスクを介して行っても良い。このマスクを使用する方法は、枠状金属層の無い全面メッシュ金属層の導電層に対しても上記と同様に行うことができる。しかしながら、枠状金属層１３Ｂをマスクとして利用する方法に比べて、マスクの作製、マスクの配置等の煩雑さが増すとの不利がある。
【００３８】
ハードコート層１６Ｃ上に、さらに、低屈折率層（ハードコート層の屈折率より低い）１７Ｃを設ける場合、或いは高屈折率層（ハードコート層の屈折率より高い）及び低屈折率層（ハードコート層の屈折率より低い）１７Ｃを設ける場合等、ハードコート層１６Ｃ上に複数の機能層を設ける場合においては、ハードコート層１６を完全硬化する前に、低屈折率層、高屈折率層を設けることが、生産性の点から好ましい。
【００３９】
図３に、メッシュ状導電層上に、ハードコート層、さらに低屈折率層を設けた本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタの製造方法の別の１例を説明するための図を示す。
【００４０】
図１と同様に、一方の表面にメッシュ状導電層１３が設けられた矩形状透明フィルム１２のその導電層１３の全面に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化のハードコート層１６を形成し（一般に塗工後乾燥することにより形成する；（１）及び（２））、次いで、未硬化のハードコート層１６が設けられたメッシュ状導電層１３を有する透明フィルム１２の裏面に、紫外線を照射し、その後、枠状金属層１３Ｂの背後の未硬化のハードコート層１６（未露光部）を除去する（現像）（３）。この後、図３（４）に示すように、半硬化のハードコート層１６Ｍを完全硬化せずに、半硬化のハードコート層１６及びその周囲の枠状金属層１３Ｂの上に、紫外線硬化性樹脂組成物を含む未硬化の低屈折率層１７を形成し、次いで、未硬化の低屈折率層１７が設けられたメッシュ状導電層１３を有する透明フィルム１２の裏面に、紫外線を照射し、その後、枠状金属層１３Ｂの背後の未硬化の低屈折率層１７を溶剤で洗浄することにより除去する（５）。その後、半硬化ハードコート層１６Ｍ及び半硬化低屈折率層１７Ｍに再度紫外線照射してこれらの層を完全硬化させる（６）。これにより硬化したハードコート層１６Ｃ及び低屈折率層１７Ｃが導電層１３上に設けられた電極部付きディスプレイ用光学フィルタが得られる。
【００４１】
低屈折率層１７Ｃに、さらに高屈折率層等の反射防止層などの他の層を設ける場合も、低屈折率層１７Ｃを設ける場合と同様に、未硬化の各層を形成し、マスクによるＵＶ照射、溶剤除去（現像）を繰り返し、最後に完全硬化することにより得られる。
【００４２】
或いは、上記のように紫外線硬化性樹脂組成物を含む機能性層を複数（即ち、ハードコート層、低屈折率層等）を形成する場合、未硬化の機能性層を塗工、乾燥により順次形成し、透明基板の導電層が形成されていない側の表面に紫外線を照射し（即ち、メッシュ状導電層１３上の複数の未硬化の機能性層に一度に紫外線を照射する）、枠状金属層の上に設けられた未硬化の複数の機能性層を溶剤により一度に除去して枠状金属層を露出させることもできる。この方法によれば、裏面への紫外線照射を１度にすることができ、生産性で有利であるが、複数の未硬化の機能性層が、塗工時に混合する恐れ、あるいは塗工表面の平滑性を損なう恐れがある。
【００４３】
上記のように、ハードコート層等の機能性層を設けることにより、これらの層を導電層１３より狭い所定の領域に精確に設けることができ、積層体の周囲に導電層を有する透明フィルム（上記幅Ｌの細い帯状領域）が突出する。この突出した部分がアースのための電極部として使用される。この両端部の細い帯状の領域の幅Ｌは、２〜１００ｍｍ、特に５〜５０ｍｍであることが好ましい。またハードコート層等の層厚を大きくすることによりメッシュ状導電層のメッシュ間隙を埋めることができるので平滑な層表面が得られるとの利点も有する。
【００４４】
図３（６）の構成の積層体の基板の裏側には、通常近赤外線吸収層が設けられる。近赤外線吸収層は、UV照射により損傷を受けやすいため、上記のようにＵＶ照射等によるハードコート層等の形成を行った後に設けることが好ましい。
【００４５】
矩形状透明フィルム１２の裏面に予め近赤外線吸収層１４（及び透明粘着剤層）を形成しておいても良い。
【００４６】
図４に、本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様の１例の概略断面図を示す。図４の光学フィルタは、図３で得られた光学フィルタの透明フィルムの裏面に近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５を設けられている。即ち、図４において、透明フィルム１２の一方の表面に、メッシュ状の導電層１３（１３Ａ及び１３Ｂ）、硬化ハードコート層１６Ｃ及び硬化低屈折率層１７Ｃ（反射防止層）がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５が設けられている。そして、この積層体の周囲の端面には、電極部（一般にアース電極）１３Ｂが形成されている。導電層としてメッシュ状の金属層を用いているので、電磁波遮断効果等が特に優れている。このメッシュ状の金属層のメッシュの空隙は、硬化ハードコート層２６Ｃで埋められており、これにより透明性が向上している。透明粘着剤層１５上には、さらに剥離シートが設けられていても良い。
【００４７】
この構成において、ハードコート層１６Ｃ及び低屈折率層１７Ｃ等の反射防止層と、近赤外線吸収層１４との位置が、相互に入れ替わっていても良く、また近赤外線吸収層１４が、導電層１３とハードコート層１６Ｃとの間に設けられても良い（後願排除の観点からあった方がよいと思われます）。しかながら、図４の構成は、ディスプレイ装着時に導電層が、ディスプレイの外側に存在することになるため、アースの設置が容易である点で有利である。
【００４８】
上記導電層１３は、本発明では、外側に枠状の金属又は金属含有層を有するメッシュ状の金属層又は金属含有層である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されているか、金属繊維層である。これにより低抵抗を得られやすい。一般に、メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの空隙は、ハードコート層１６Ｃで埋められている。これにより透明性が向上する。ハードコート層１６Ｃで埋めない場合は、他の層、例えば近赤外線吸収層１４或いはそれ専用の透明樹脂層で埋められるのが好ましい。
【００４９】
上記反射防止層は、一般に低屈折率層１７Ｃである。即ち、ハードコート層１６Ｃとその上に設けられた低屈折率層１７Ｃとの複合膜により反射防止効果を効率良くに示す。この低屈折率層１７Ｃとハードコート層１６Ｃとの間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。
【００５０】
また反射防止層は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い（好ましくは低い）ハードコート層１６Ｃのみであっても良い。ハードコート層１６Ｃ、反射防止層は、一般に、いずれも塗工により形成されている。シートを貼り付けて形成しても良い。
【００５１】
上記近赤外線吸収層１４は、ＰＤＦから発生する近赤外線領域の不要な電磁波を遮断する機能を有する。一般に８００〜１２００ｎｍに吸収極大を有する色素を含む層である。近赤外線吸収層１４上に一般に設けられる透明粘着剤層は、ディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層の上に剥離シートを設けても良い。
【００５２】
枠状金属層１３Ｂより構成される電極部は、光学フィルタの周囲に突き出た導電層であり、突き出た帯状部分の幅（図２のＬ）は、前述のように、２〜１００ｍｍ、特に５〜５０ｍｍであることが好ましい。また、厚さは一般に１〜２０μｍ、２〜１０μｍが好ましい。
【００５３】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法において未露光部分の機能性層を除去するための溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルエチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族類、メタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類を用いることができる。アセトン、メチルエチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチルが好ましい。
【００５４】
溶剤により未露光部の層の除去（現像）は、一般に、溶剤の噴霧（スプレー）、溶剤への浸漬、或いは噴霧、浸漬した状態で、スポンジ等で擦ることにより行われる。
【００５５】
本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。
【００５６】
透明基板は、一般に、透明なプラスチックフィルム及びガラス板である。その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、プラスチックフィルムが好ましい。プラスチックフィルムの材料としては、例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。
【００５７】
透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍが好ましく、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００５８】
本発明の導電層は、外側に枠状の金属導電層を有するメッシュ（格子）状の導電層であり、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□の範囲となるように設定される。
【００５９】
メッシュ状の導電層としては、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００６０】
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００６１】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００６２】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの額縁部を除く部分の投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００６３】
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状導電層を用いても良い。
【００６４】
塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。
【００６５】
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。
【００６６】
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００６７】
或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。
【００６８】
導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い（特に、上記溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成する方法の場合）。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００６９】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。
【００７０】
本発明の反射防止層は、一般に透明基板より屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止膜は透明基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、透明基板の屈折率が低い場合、透明基板より屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜としても良い。
【００７１】
ハードコート層としては、紫外線硬化性樹脂組成物（紫外線硬化性樹脂、光重合開始剤等からなる）を主成分とする層の硬化層である。通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。
【００７２】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリ��ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００７３】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００７４】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００７５】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００７６】
さらに、ハードコート層は、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。その量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００７７】
高屈折率層も、紫外線硬化性樹脂組成物を含む層の硬化層であり、一般に紫外線硬化性樹脂組成物中に、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００７８】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層２の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００７９】
低屈折率層も、紫外線硬化性樹脂組成物を含む層の硬化層であり、一般に紫外線硬化性樹脂組成物中に、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４５〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８０】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００８１】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００８２】
反射防止層がハードコート層と上記２層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜９０ｎｍ、低屈折率層の厚さは８５〜１１０ｎｍであることが好ましい。
【００８３】
反射防止層の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を、前記の矩形透明基板表面に塗工し、次いで乾燥した後、前記のようにマスク露光による紫外線照射して、半硬化させ、メチルエチルケトン等の溶剤で未露光部を洗浄除去し、その後紫外線照射により完全硬化すればよい。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００８４】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。
【００８５】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００８６】
近赤外線吸収層は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層を形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば上記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして乾燥させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００８７】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００８８】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００８９】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【００９０】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【００９１】
本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【００９２】
近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【００９３】
導電性粘着テープを使用する場合は、例えば、金属箔の一方の面に、導電性粒子を分散させた粘着層を設けたものであって、この粘着層には、アクリル系、ゴム系、シリコン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂等を用いることができる。
【００９４】
粘着層に分散させる導電性粒子としては、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。また、その形状についても特に制限はなく、リン片状、樹枝状、粒状、ペレット状等の任意の形状をとることができる。
【００９５】
この導電性粒子の配合量は、粘着層を構成するポリマーに対し０．１〜５０質量％であることが好ましく、また、その平均粒径は０．１〜１００μｍであることが好ましい。このように、配合量及び粒径を規定することにより、導電性粒子の凝縮を防止して、良好な導電性を得ることができるようになる。
【００９６】
導電性粘着テープの基材となる金属箔としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、１〜１００μｍである。
【００９７】
粘着層は、この金属箔に、前記粘着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合したものをロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により塗工することにより容易に形成することができる。
【００９８】
この粘着層の厚さは通常の場合５〜１００μｍである。
【００９９】
本発明の透明粘着剤層は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【０１００】
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層を介してディスプレイのガラス板に貼り合わせることができる。
【０１０１】
前記透明化樹脂層も、前記透明粘着剤層を利用しても良い。
【０１０２】
本発明において透明フィルム２枚を使用する場合、これらの接着には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ及びＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１０３】
その層厚は、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１０４】
上記透明粘着剤層の材料として、ＥＶＡも使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【０１０５】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【０１０６】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【０１０７】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【０１０８】
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。
【０１０９】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。
【０１１０】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【０１１１】
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０１１２】
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【０１１３】
なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【０１１４】
上記接着層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【０１１５】
反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。
【０１１６】
透明粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１１７】
本発明の電極部付き光学フィルタは、上記の材料を用いて、前述のように製造することができる。このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。
【０１１８】
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを１枚使用した場合は、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【０１１９】
従って、本発明の光学フィルタを有するディスプレイは、反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、安全なディスプレイということができる。
【実施例】
【０１２０】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１２１】
［実施例１］
＜電極部を有するディスプレイ用光学フィルタの作製＞
（１）メッシュ状導電層の形成
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（透明基板）の全面に、厚さ１０μｍの銅箔（導電性材料）を、接着剤（ポリエステルウレタン：厚さ１５μｍ）を介してラミネートした。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムを、フォトリソ工程（レジストフィルム貼付−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）に付し、格子状パターンの銅箔（線径１０μｍ、ピッチ２５０μｍ；外枠の帯状領域の幅：５ｍｍ；図２参照）を形成した。
【０１２２】
このフィルム表面の導電層の線幅は１０μｍ、開口率は９２％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは１０μｍであった。
【０１２３】
（２）ハードコート層の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）        ８０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ）                                ２０質量部
メチルエチルケトン                                        １００質量部
トルエン                                                  １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製）          ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記メッシュ状導電層の全面にバーコータを用いて塗布し、乾燥させた。
【０１２４】
未硬化のハードコート層及び導電層を有するポリエチレンテレフタレートフィルムの裏面より紫外線照射（照射量：１０００ｍＪ／ｃｍ2）を行った。次いで、メチルエチルケトンを、未露光部の未硬化のハードコート層にスプレーし、枠状金属層上の未硬化のハードコート層を洗浄除去した（現像）。
【０１２５】
これにより、メッシュ状導電層上に厚さ５μｍの半硬化のハードコート層（屈折率１．５２）を形成した。
【０１２６】
（３）低屈折率層の形成
下記の配合：
オプスターＪＮ―７２１２（日本合成ゴム（株）製）          １００質量部
メチルエチルケトン                                        １１７質量部
メチルイソブチルケトン                                    １１７質量部
を混合して得た塗工液を、半硬化のハードコート層を有するメッシュ状導電層の全面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。
【０１２７】
未硬化の低屈折率層、半硬化のハードコート層及び導電層を有するポリエチレンテレフタレートフィルムの裏面より紫外線照射（照射量：１０００ｍＪ／ｃｍ2）を行った。次いで、メチルエチルケトンを、未露光部の未硬化の低屈折率層にスプレーし、枠状金属層上の未硬化の低屈折率層層を洗浄除去した（現像）。
【０１２８】
これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍの半硬化の低屈折率層（屈折率１．４２）を形成した。
【０１２９】
半硬化の低屈折率層上から、紫外線照射（照射量：１０００ｍＪ／ｃｍ2）して、半硬化のハードコート層及び低屈折率層を完全硬化させた。
【０１３０】
（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート                                  ３０質量部
ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製）                          ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ  Ｒｅｄ  ３８０（有本化学工業（株）製            ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製）                  １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製）                            ０．６質量部
メチルエチルケトン                                      １５２質量部
メチルイソブチルケトン                                    １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ポリエチレンフィルムの裏面全面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンフィルム上に厚さ５μｍの近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）を形成した。
【０１３１】
（５）透明粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製）                １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製）                          ０．４５質量部
トルエン                                                  １５質量部
酢酸エチル                                                  ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの透明粘着剤層を形成した。
【０１３２】
これにより周囲に突き出た電極部（枠状金属層）を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３３】
［光学フィルタの評価］
（１）周囲の帯状導電層の寸法精度
得られた光学フィルタの周囲の帯状導電層の幅を、各辺１０点測定し、その精度を評価した。
【０１３４】
最大幅と最小幅の差がほとんど無く良好な寸法精度を示した。
【図面の簡単な説明】
【０１３５】
【図１】本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタの製造方法の１例を説明するための図である。
【図２】本発明のメッシュ状導電層が設けられた透明フィルムの１例の平面図である。
【図３】本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタの製造方法の好ましい１例を説明するための図である。
【図４】本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様の１例の概略断面図である。
【符号の説明】
【０１３６】
１０  ディスプレイ用光学フィルタ
１２  透明フィルム
１３  メッシュ状導電層
１６  未硬化のハードコート層
１６Ｍ  半硬化ハードコート層
１６Ｃ  硬化ハードコート層
１７  未硬化の低屈折率層
１７Ｍ  半硬化低屈折率層
１７Ｃ  硬化低屈折率層
１４  近赤外線吸収層
１５  透明粘着剤層
【図１】
2007328286.tif 000003
【図３】
2007328286.tif 000004
【図４】
2007328286.tif 000005
【図２】
2007328286.tif 000006