(57)【要約】【課題】  平面モータを用いたステージ装置において、位置サーボが切れた場合でもステージを位置サーボが可能な状態まで自力で戻す方法を提供することを目的とする。【解決手段】  多相コイルを備えたベースと、複数の磁石を備えたステージを備え、前記多相コイルに通電することによって、前記ステージが前記ベースの上面に沿って移動するステージ装置の制御方法であって、第１のコイル相を構成するコイルのうち、少なくとも前記複数の磁石と対向する位置に存在するコイルに一定電流を供給することによって、前記ステージを回転させる第１工程と、第２のコイル相を構成するコイルのうち、少なくとも前記複数の磁石と対向する位置に存在するコイルに一定電流を順次供給することによって、前記ステージを回転させる第２工程と、を含む。【選択図】  図３
2007068256.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多相コイルを備えたベースと、複数の磁石を備えたステージを備え、前記多相コイルに通電することによって、前記ステージが前記ベースの上面に沿って移動するステージ装置の制御方法であって、
第１のコイル相を構成するコイルのうち、少なくとも前記複数の磁石と対向する位置に存在するコイルに一定電流を供給することによって、前記ステージを回転させる第１工程と、
第２のコイル相を構成するコイルのうち、少なくとも前記複数の磁石と対向する位置に存在するコイルに一定電流を順次供給することによって、前記ステージを回転させる第２工程と、
を含むことを特徴とする制御方法。
【請求項２】
第２工程の後に、前記第１のコイル相を構成するコイルのうち、少なくとも前記複数の磁石と対向する位置に存在するコイルに一定電流を供給することによって、前記ステージを回転させる第３工程とを含むことを特徴とする請求項１に記載の制御方法。
【請求項３】
前記ステージの姿勢が正常か否かを判定する工程を含むことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の制御方法。
【請求項４】
前記ステージの位置を計測するためのレーザー干渉計を用いて前記ステージの姿勢が正常か否かを判定することを特徴とする請求項３に記載の制御方法。
【請求項５】
前記第１のコイル相は第１コイル群と第２コイル群とを備え、
前記第１工程において、前記第１コイル群と前記第２コイル群で逆向きの電流を供給することを特徴とする請求項１〜４の少なくともいずれかに記載の制御方法。
【請求項６】
前記第２工程において、前記第２のコイル相を構成するコイルのうち前記複数の磁石と対向する位置に存在するコイルに１つずつ通電して、前記ステージを安定角度まで回転させることによって前記ステージの角度を補正することを特徴とする請求項１〜５の少なくともいずれかに記載の制御方法。
【請求項７】
原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、
請求項１〜６の少なくともいずれかに記載の制御方法を用いて、前記基板を搭載したステージを制御することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
デバイス製造方法であって、請求項７に記載の露光装置を用いて前記基板に露光をする工程と、露光された前記基板を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項９】
多相コイルを備えたベースと、複数の磁石を備えたステージを備え、前記多相コイルに通電することによって、前記ステージが前記ベースの上面に沿って移動するステージ装置において、前記ステージの角度を補正する補正方法であって、前記複数の磁石と対向する位置に存在するコイルに１つずつ通電して、前記ステージを安定角度まで回転させることによって前記ステージの角度を補正することを特徴とする補正方法。
【請求項１０】
原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、
請求項９に記載の制御方法を用いて、前記基板を搭載したステージを制御することを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
デバイス製造方法であって、請求項１０に記載の露光装置を用いて前記基板に露光をする工程と、露光された前記基板を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は平面モータを用いたステージ装置の制御方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
露光装置は、ウエハを搭載して移動するウエハステージを備える。近年、このようなステージを駆動するために平面モータを用いることが注目されている。図３は、特許文献１に開示される、平面モータを用いたウエハステージを示す図である。
【０００３】
図３において、ステージ（可動子）の下面には複数の磁石が設けられ、ステージを支持するベース内（固定子）には複数のコイルが設けられる。磁石が形成する磁束が通過するコイルに通電することによってローレンツ力が発生して、ステージはローレンツ力によってベースに対して移動する。
【０００４】
ステージ上にはミラーが設けられ、ステージ外部に設けられた干渉計から照射された計測光をミラーに反射させることによって、ステージの位置が計測される。
【特許文献１】特開２００４−２５４４８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述のような平面モータを用いたステージ装置は、ガイドを有しない。そのため、たとえば装置の電源立ち上げ時や停電時、緊急停止時といった、ステージの位置サーボが切れてしまうときには、ステージはいかなる姿勢でも停止しうる。しかしながら、姿勢が位置計測に用いられる座標軸に対して大きく傾いている場合（つまり、ステージが大きく回転した場合）には、干渉計を用いてステージの位置を検出することが困難である。干渉計から照射される光が、ステージとともに大きく傾いたミラーに反射されることによって、光路を変えてしまい、干渉計に光が戻らないためである。
【０００６】
ステージの位置が検出できないと、ステージに位置サーボを行うことができない。そのため、ステージの位置が検出できる状態まで、ステージの姿勢を手動で戻さなければならない。このことは、メンテナンスの面でも、スループットの面でも好ましくない。
【０００７】
本発明は、平面モータを用いたステージ装置において、位置サーボが切れた場合でもステージを位置サーボが可能な状態まで自力で戻す方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、多相コイルを備えたベースと、複数の磁石を備えたステージを備え、前記多相コイルに通電することによって、前記ステージが前記ベースの上面に沿って移動するステージ装置の制御方法であって、第１のコイル相を構成するコイルのうち、少なくとも前記複数の磁石と対向する位置に存在するコイルに一定電流を供給することによって、前記ステージを回転させる第１工程と、第２のコイル相を構成するコイルのうち、少なくとも前記複数の磁石と対向する位置に存在するコイルに一定電流を順次供給することによって、前記ステージを回転させる第２工程と、を含む。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、平面モータを用いたステージ装置において、位置サーボが切れた場合でもステージを位置サーボが可能な状態まで自力で戻す方法を提供することができる。またロボットハンドなどの補助的な装置を設ける必要がないため、装置の複雑化あるいは大型化することを回避できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
＜実施例１＞
平面モータの構成については特開２００４−２５４４８９号公報と同様であるので、図１を用いて簡単に説明する。
【００１１】
ステージ装置は、ステージ４１（可動子）と、ステージ４１に設けられたミラー４２と、ステージ外部に設けられたレーザ干渉計４３と、ステージを支持するベース４５（固定子）等を備える。ステージ４１の上面には、ウェハチャック（不図示）が設けられ、ウェハチャックによってウェハが保持される。ステージ４１の下面（裏面）には、複数の永久磁石が設けられる。複数の永久磁石は、周期的な磁束密度分布を形成するように配置されている。
【００１２】
図２（ａ），（ｂ）はステージの下面に配置された永久磁石を説明するための図であり、図２（ａ）はＹ方向から見た図であり、図２（ｂ）は−Ｚ方向から見た図である。特開２００４−２５４４８９号公報に記載されているため、簡単に説明する。
【００１３】
ステージ４１の下面（裏面）には、磁石列４６が配置される。磁石列４６は複数の永久磁石を備え、各永久磁石は所定の方向に着磁されている。永久磁石４６ａは−Ｚ方向に磁束を発生するように着磁され、永久磁石４６ｂは＋Ｚ方向に磁束を発生するように着磁されている。また永久磁石４６ｃ〜４６ｆは、図のように水平方向に磁束を発生するように着磁されている。
【００１４】
これらの永久磁石によって、ベースに設けられたコイルに対して周期Ｌの磁束分布を形成することができる。また、ステージの裏面には永久磁石が設けられない欠損部Ａ，Ｂと、領域Ｃ〜Ｈが存在する。欠損部Ａ，Ｂを設けることによって、ステージを回転方向に駆動することができる。
【００１５】
ベース４５内にはコイル層３１が配置され、コイル層３１はＸ方向に沿って並べられた複数のコイルを備える。これらのコイルはＹ方向に沿って長い直線部を備える。コイル層３１のコイルに電流を流すことによって、ステージ４１はローレンツ力によりＸ方向に駆動される。コイル層を形成する各コイルに流す電流は、制御器３２によって制御される。
【００１６】
各コイルには、互いに隣合う２本のコイルを一組として電流が供給される。２本のコイルに位相差が９０°の正弦波電流を流すことによって、２相リニアモータを構成する。コイルに流す正弦波電流は、ステージ４１とベース４１の相対位置によって決まる。
【００１７】
たとえば、一方のコイルに印加される磁束密度が
【００１８】
【数１】
2007068256.tif 000003
【００１９】
で表されるとし、もう一方のコイルに印加される磁束密度が
【００２０】
【数２】
2007068256.tif 000004
【００２１】
で表されるものとする。但しωは磁石の配列周期で決まる定数である。この時、前者のコイルには
【００２２】
【数３】
2007068256.tif 000005
【００２３】
で決まる電流を、後者のコイルには
【００２４】
【数４】
2007068256.tif 000006
【００２５】
で決まる電流を流せば、コイルが発生する単位長さ当りの駆動力
【００２６】
【数５】
2007068256.tif 000007
は
【００２７】
【数６】
2007068256.tif 000008
【００２８】
と計算される。即ち、ステージのＸ方向の位置に関係無く、一定の大きさの駆動力が得られる。以上の考え方はＹ方向、Ｚ方向の駆動力に関しても同様である。
【００２９】
コイル層３１の下にはコイル層３２が配置され、コイル層３２はＹ方向に沿って並べられた複数のコイルを備える。コイル層３２の構成はコイル層３１と同様であるため説明を省略する。コイル層３２の下にさらに複数のコイル層を備えていてもよい。
【００３０】
ステージに設けられたミラー４２は、Ｘ方向に垂直な反射面と、Ｙ方向に垂直な反射面とを備える。それぞれの反射面にレーザ干渉計から照射されるレーザ光を反射させることによって、ステージのＸＹ方向における位置が計測される。図１においては、ステージのＸ方向における位置を計測する干渉計４３のみを示している。また、ステージのＺ方向における位置を計測するためのミラーおよび干渉計をさらに設けてもよい。レーザ干渉計４３は、２本のレーザ光をミラー４２に照射することによって、ステージのＺ軸まわりの回転量を計測する。
【００３１】
制御器３２には、レーザ干渉計によって計測されたステージの位置と目標位置が入力され、ステージ４１の位置はサーボ制御される。
【００３２】
ここで、ステージ４１はガイドをもたないため、停電時や緊急停止時といった、ステージのサーボが切れてしまう場合には、ステージ４１は大きく回転した状態で停止してしまうことがある。こうなると、ミラーによって反射されたレーザ光がレーザ干渉計に戻らず、ステージ４１を制御することができなくなってしまう。
【００３３】
そこで、以下のような制御を行うことで、ステージの姿勢を正常な状態にもどす（姿勢を初期化する）。
【００３４】
図３は、ステージの姿勢初期化方法のフローチャートである。図５は、ステージ４１が、ＸＹ平面で回転した状態で制御不能となっている様子を示す。図５では、分かりやすくするためにコイル層３１のみを示している。姿勢を初期化するために、まず、コイルに救急する電流の向き（符号）を決定する。ここで、電流の向きはコイル群Ａ（コイルｃ１、ｃ５、ｃ９、ｃ１３、・・・）及びコイル群Ｂ（コイルｃ３、ｃ７、ｃ１１、ｃ１５、・・・）で互いに逆向きにする。つぎに、決定した電流をコイル群ＡおよびＢに一定時間だけ同時に流す（Ｓ２１）。コイルに流す電流の大きさは特に限定する必要はなく、ステージ４１がコイルに電流を流すことによって回転できればよい。なお、本実施例では２相コイルを用いており、コイル群ＡおよびＢは同一のコイル相である。
【００３５】
このとき、ステージ４１のベース上での位置を、撮像装置等により検出できる場合には、ステージ４１が位置する部分のコイルだけに通電するようにしてもよい。
【００３６】
Ｓ２１により、ステージ４１は磁石とコイル間に働くローレンツ力によって捕捉され、Ｚ軸まわりに回転した状態で停止する。図６は、このときのステージの回転角とステージにかかるモーメントの関係を表すグラフである。ここで、図６の縦軸はコイルに流す電流の大きさを１とした場合のステージのθｚ方向のモーメントについて、その最大値を１として正規化されている。例えば、Ｓ２１の直前のステージ４１の回転角が１０°であったとする（Ｐ６１）。このとき、Ｓ２１によってステージ４１には正のモーメントが発生する。ステージ４１はモーメントを受けて、回転角が大きくなる方向（グラフにおける右方向）に回転し、モーメントの大きさが０になる回転角（この角度を安定角度とする）で停止する（Ｐ６２）。
【００３７】
上述の一定電流は、ステージが回転して停止するのに要する時間だけ供給すれば十分である。この時間は、平面モータを装置に組み込む前に予め測定しておけばよい。このことは、Ｓ２１にかぎらず、以下のステップについても同様である。
【００３８】
つぎに、Ｓ２１で通電しなかったコイル相のうち、最も端にあるコイルｃ２から順に一定電流を流す（Ｓ２２）。なお、ステージ４１のベース上での位置を、撮像装置等により検出できる場合には、ステージ４１が位置する部分のコイルのうち、最も端にあるコイルｃ４から順に通電してもよい。つまり、少なくとも複数の磁束と対向する位置に存在するコイルに通電すればよい。以下の説明では、後者の方法の例を示す。図７〜１０は、Ｓ２２で各コイルに通電した様子を示す図である。図１１〜１４は、図７〜図１０のようにコイルに通電したときの、ステージの回転角とステージに加わるモーメントの関係を示す図である。図１１〜１４は、図６のように正規化されている。
【００３９】
図７は、コイルｃ４に通電した様子を表す図である。コイルｃ４とステージ（磁石）の間にローレンツ力が働き、ローレンツ力によってステージ４１はθ方向に回転した後に停止する。図１１において、コイルｃ４に通電する直前の回転角は図６のＰ６２である。コイル７２に通電すると、モーメントの符号が負であることから、ステージ４１は回転角が小さくなる方向（図１１の左方向）に回転し、モーメントが０となる回転角で停止する（Ｐ６３）。
【００４０】
つぎに、コイルｃ６に通電する。図８は、コイルｃ６に通電した様子を表す図である。コイルｃ６とステージ（磁石）の間にローレンツ力が働き、ローレンツ力によってステージ４１はθ方向に回転した後に停止する。図１２において、コイルｃ６に通電する直前の回転角は図７のＰ６３である。コイルｃ６に通電すると、モーメントの符号が負であることから、ステージ４１は回転角が小さくなる方向（図１２の左方向）に回転し、モーメントが０となる回転角で停止する（Ｐ６４）。
【００４１】
つぎにコイルｃ８に通電する。図９はコイルｃ８に通電した様子を表す図である。コイルｃ８とステージ（磁石）の間にローレンツ力が働き、ローレンツ力によってステージ４１はθ方向に回転した後に停止する。図１３において、コイルｃ８に通電する直前の回転角は図８のＰ６４である。コイルｃ８に通電すると、モーメントの符号が正であることから、ステージ４１は回転角が大きくなる方向（図１３の右方向）に回転し、モーメントが０となる回転角で停止する（Ｐ６５）。
【００４２】
Ｓ２２では、このようにコイル通電を順次行っていくが、説明を簡略にするため、最後に通電するコイルを述べることにする。
【００４３】
上述の例では図中の左端のコイルから通電していったので、最後は右端のコイルに通電することになる。図１０は、コイルｃ２０に通電した様子を表す図である。コイルｃ２０とステージ（磁石）の間にローレンツ力が働き、ローレンツ力によってステージ４１はθ方向に回転した後に停止する。図１４において、コイルｃ２０に通電する直前の回転角は図９のＰ６６とする。コイルｃ２０に通電すると、モーメントの符号が負であることから、ステージ４１は回転角が小さくなる方向（図１４の左方向）に回転し、モーメントが０となる回転角で停止する（Ｐ６７）。
【００４４】
以上でＳ２２を終了する。このようにして、ステージの角度を補正することができる。上述の説明では、姿勢初期化を実行する前のステージの回転角が正である場合を例に説明したが、回転角が負である場合には、Ｓ２２を終了した後にステージの回転角が−２°（Ｐ６８）となることが判明している。このときには、Ｓ２１と同様の処理を再度実行する（Ｓ２３）。
【００４５】
すなわち、Ｓ２３では、図中に黒で示したコイル群Ａ（コイルｃ１、ｃ５、ｃ９、ｃ１３、・・）及び灰色で示したコイル群Ｂ（ｃ３、ｃ７、ｃ１１、ｃ１５、・・・）に互いに逆向きの電流を一定時間だけ流す。すると、図６から分かるように、ステージ４１には正のモーメントが発生する。モーメントによりステージは回転角が大きくなる方向（図の右方向）に回転し、回転角が０となって停止する（Ｐ６７）。この状態で姿勢初期化が完了する。
【００４６】
以上の実施例において、Ｓ２１およびＳ２２における電流の向きは、反転したものを考慮すれば、それぞれ２通りが考えられる。したがって、Ｓ２１〜Ｓ２３の一連の処理において、電流の向きの組合せは４通り存在する。このとき、４つのうちある１つの組合せが実行された場合、Ｓ２３を終えるとステージはθ方向の回転角が０°の状態で停止する。しかし、それ以外の組合せを実行された場合、Ｓ２３を終えるとステージはθ方向にある回転角をもった状態で停止する。そこで、正しい組合せを実行するために、Ｓ２１における電流の向きとＳ２２における電流の向きの組合せが前回と異なるように、電流の向きを決定して、Ｓ２１〜Ｓ２３を繰り返す。これにより、ステージの位置あるいは姿勢の検出が困難な状況であっても、ステージの姿勢を初期化できる。
【００４７】
図４は、本発明の変形例を示すフローチャートである。変形例では、ステージの姿勢が正常か否かを判定する工程（Ｓ３４）が設けられる。Ｓ３０〜Ｓ３３はＳ２０〜Ｓ２３と同様であるので説明を省略する。ステージの姿勢が正常か否かを判定するために、例えば、図１のレーザ干渉計４３と判定手段４６が用いられる。レーザ干渉計４３からステージ４１のミラーの反射されて干渉計４３に戻ってくれば、判定手段はステージ４１の姿勢が正常であると判定し、戻ってこなければ、正常でないと判定する。なお、レーザ干渉計を用いずにカメラ等の撮像装置を用いてもよい。
【００４８】
４つの組合せを実行する途中でステージが正常な姿勢に戻ったことが判定されれば、残りの組合せを実行する必要がない。つまり、このように判定手段を設けることで、姿勢初期化に要する時間が節約できる。
【００４９】
なお、本実施例では平面モータとして２相リニアモータを用いたが、３相以上のリニアモータであってもよい。
【００５０】
本実施例によれば、位置サーボが切れた場合でもステージを位置サーボが可能な状態まで自力で戻すことができる。さらに、ロボットハンドなどを用いないため、装置の複雑化や大型化を回避することができる。
【００５１】
以下、本発明のステージ装置が適用される例示的な露光装置を説明する。露光装置は図１５に示すように、照明装置１０１、レチクルを搭載したレチクルステージ１０２、投影光学系１０３、ウエハを搭載したウエハステージ１０４とを有する。露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップアンドリピート投影露光方式またはステップアンドスキャン投影露光方式であってもよい。
【００５２】
照明装置１０１は回路パターンが形成されたレチクルを照明し、光源部と照明光学系とを有する。光源部は、例えば、光源としてレーザを使用する。レーザは、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ、波長約１５３ｎｍのＦ２エキシマレーザなどを使用することができる。しかしながら、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、ＹＡＧレーザを使用してもよいし、そのレーザの個数も限定されない。光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。
【００５３】
照明光学系はマスクを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。
【００５４】
投影光学系１０３は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子を少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系（カタディオプトリック光学系）が用いられうる。また、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することができる。
【００５５】
ウエハステージ１０４は、上述の平面モータによって駆動される。レチクルステージも同様に平面モータを用いて駆動してもよく、またリニアモータを用いても良い。ステップアンドスキャン投影露光方式の場合には、それぞれのステージは同期して移動する。また、ウエハステージ１０４は２つ以上のステージを備える構成であってもよい。また、露光装置は液浸露光装置であってもよい。
【００５６】
このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用されうる。
【００５７】
次に、図１６及び図１７を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図１６は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
【００５８】
ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。
【００５９】
図１７は、ステップ４の上はプロセスの詳細なフローチャートである。ステップＳ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップＳ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】平面モータを用いたステージ装置を示す図。
【図２】ステージに設けられた磁石の配置を示す図。
【図３】本発明の実施例における制御方法を示すフローチャート。
【図４】本発明の変形例における制御方法を示すフローチャート。
【図５】図３におけるＳ１を説明するための図。
【図６】Ｓ２１におけるステージの回転角に対するθ軸方向のモーメント指標を示す図。
【図７】コイルｃ４に通電した状態を示す図。
【図８】コイルｃ６に通電した状態を示す図。
【図９】コイルｃ８に通電した状態を示す図
【図１０】コイルｃ２０に通電した状態を示す図
【図１１】コイルｃ４に通電した際のステージの回転角に対するθ軸方向のモーメント指標を示す図。
【図１２】コイルｃ６に通電した際のステージの回転角に対するθ軸方向のモーメント指標を示す図。
【図１３】コイルｃ８に通電した際のステージの回転角に対するθ軸方向のモーメント指標を示す図。
【図１４】コイルｃ２０に通電した際のステージの回転角に対するθ軸方向のモーメント指標を示す図。
【図１５】露光装置を説明するための図。
【図１６】露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのをフローチャートである。
【図１７】図１６に示すフローチャートのステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2007068256.tif 000021
【図１４】
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【図１５】
2007068256.tif 000023
【図１６】
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【図１７】
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