(57)【要約】【課題】クロストークの発生を抑えることが可能な電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供すること。【解決手段】複数の画素電極２７を形成する工程と、複数の画素電極２７を共通して区画する隔壁２５を形成する工程と、隔壁２５により囲まれた領域に、グリコール系の溶剤が添加された有機導電性層６１を含む機能層を形成する工程と、有機導電性層６１に光Ｒを照射する工程とを備えることを特徴とする。【選択図】図６
2007220392.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素電極を形成する工程と、
前記複数の画素電極を共通して区画する隔壁を形成する工程と、
前記隔壁により囲まれた領域に、グリコール系の溶剤が添加された有機導電性層を含む
機能層を形成する工程と、
前記有機導電性層に光を照射する工程とを備えることを特徴とする電気光学装置の製造
方法。
【請求項２】
前記複数の画素電極上の前記有機導電性層の一部の領域に選択的に光を照射することを
特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記有機導電性層の抵抗値に応じて、前記有機導電性層に照射する光量を調整すること
を特徴とする請求項１または請求項２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記有機導電性層が、ポリエチレンジオキシチオフェンを含むことを特徴とする請求項
１から請求項３のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記光が、紫外光であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載
の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記有機導電性層を形成する際、液滴吐出法により形成することを特徴とする請求項１
から請求項５のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法により製造され
たことを特徴とする電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、発光素子として有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」と
いう）を使用したディスプレイやプリンタの光書き込みヘッドといった電気光学装置の開
発が盛んに行われている。
【０００３】
この種の電気光学装置は、有機ＥＬ素子を構成する発光材料（以下、「有機ＥＬ材料」
という）が高分子系有機材料であるか、または低分子系有機材料であるかによってその製
造方法が異なる。そして、有機ＥＬ材料が高分子系有機材料である場合は、該有機ＥＬ材
料を所定の溶媒に溶解または分散させて液状組成物を形成し、その液状組成物を液滴吐出
ヘッドのノズルから吐出して基板の所定の画素電極上に塗布させる、所謂液滴吐出法を使
用して製造することが知られている。この場合、画素電極の周囲を隔壁で区画することで
、塗布された有機材料液体が他の位置にある画素電極上に塗布された液状組成物と混ざり
合うのを抑制することで高精細なパターニングを可能としている。
【０００４】
また、有機ＥＬ素子の金属系電極の形成方法として、レーザーアブレーション加工法が
提案されている。この方法は、有機化合物層と有機化合物層上に積層された金属系電極と
を同時に飛散させる方法であり、具体的には、金属系電極にレーザ光を照射し、金属系電
極を帯状に形成するものである（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特許第３５５６９９０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、有機ＥＬ素子の正孔注入層のような有機導電性層を形成する際、保水性と湿
潤性をもたらす目的で、高沸点水溶性有機溶媒からなるグリコール系の溶剤が添加された
液滴吐出用の液状組成物を用いることがある。このように、有機導電性層にグリコール系
の溶剤を添加することにより、平坦膜を形成することが可能となっている。しかしながら
、グリコール系の溶剤の添加に起因して、有機導電性層の電気伝導度が高くなり、画素電
極に供給された電子が、画素電極周囲の有機導電性層に染み出してしまい、画素電極周囲
の有機導電性層も発光し、その結果、隣接する画素とのクロストークが発生してしまう。
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、クロストークの発生を
抑えることが可能な電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供することを目的とす
る。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明は、以下の手段を提供する。
本発明の電気光学装置の製造方法は、複数の画素電極を形成する工程と、前記複数の画
素電極を共通して区画する隔壁を形成する工程と、前記隔壁により囲まれた領域に、グリ
コール系の溶剤が添加された有機導電性層を含む機能層を形成する工程と、前記有機導電
性層に光を照射する工程とを備えることを特徴とする。
【０００８】
本発明に係る電気光学装置の製造方法では、グリコール系の溶剤が添加された有機導電
性層を含む機能層を形成することにより、平坦性に優れた膜を形成することができる。さ
らに、この有機導電性層に光を照射すると、有機導電性層が高抵抗化される。ここで、有
機導電性層は、グリコール系の溶剤が添加されているため、有機導電性層に光を照射する
前の状態は、低抵抗な層となっている。そして、この有機導電性層は、画素電極に供給さ
れた電子が周囲の有機導電性層に流れ込み、その画素電極の周囲の有機導電性層が同時に
発光し、その結果、隣接する画素とのクロストークが発生してしまう。しかしながら、有
機導電性層に光を照射することにより、有機導電性層は高抵抗、すなわち、有機導電性層
の電気伝導度は低くなるため、電子が周囲の有機導電性層に流れ込むのを防止することが
できるので、クロストークの発生を抑えることが可能となる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記複数の画素電極上の前記有機導電性層
の一部の領域に選択的に光を照射することが好ましい。
本発明に係る電気光学装置の製造方法では、画素電極に供給された電子が周囲の有機導
電性層に流れ込む可能性がある複数の画素電極上の有機導電性層の一部の領域に選択的に
、例えば、画素電極の形状に開口したマスクを用いて光を照射する。これにより、電子が
周囲の有機導電性層に流れ込むのを効率良く防止することができる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記有機導電性層の抵抗値に応じて、前記
有機導電性層に照射する光量を調整することが好ましい。
本発明に係る電気光学装置の製造方法では、有機導電性層の抵抗値を全面的に測定し、
有機導電性層の抵抗値の低い箇所には、高い箇所に比べて、例えば、長い時間光を照射す
ることにより、有機導電性層の抵抗値を抑えるとともに、有機導電性層を均一な抵抗値に
することが可能となる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記有機導電性層が、ポリエチレンジオキ
シチオフェンを含むことが好ましい。
本発明に係る電気光学装置の製造方法では、有機導電性層上に、例えば、発光層を含む
機能層を形成した場合、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）を含んだ有機導
電性層は、高い導電性を得るとともに、発光層に対する高い正孔注入効果を得ることがで
きる。ここで、有機導電性層に光を照射することにより、有機導電性層の導電性を低くす
ることができるので、クロストークの発生を抑え、かつ、低い駆動電圧で高い発光効率を
得ることが可能となる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記光が、紫外光であることが好ましい。
本発明に係る電気光学装置の製造方法では、有機導電性層に紫外光を照射することによ
り、有機導電性層を構成する分子構造が変性し易くなり、その結果、電気伝導度を容易に
低くすることができる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記有機導電性層を形成する際、液滴吐出
法により形成することが好ましい。
本発明に係る電気光学装置の製造方法では、直接画素を描画できるためマスクを必要と
せず、したがって高精細な電気光学装置の製造が可能となる。また、液相プロセスである
ため真空を必要とせず、したがって、エネルギーコストおよび材料コストの面でも有利と
なり、特に大面積のパターニングに有効となる。
また、有機導電性層は、高沸点のグリコール系の溶剤が添加されているため、液滴吐出
法に用いられる吐出ヘッドは乾きづらくなる。したがって、液滴吐出法を用いることによ
り、容易に平坦膜を形成することが可能となる。
【００１４】
本発明の電気光学装置は、上記の電気光学装置の製造方法により製造されたことを特徴
とする。
本発明に係る電気光学装置では、上記電気光学装置の製造方法を用いることにより、有
機導電性層の電気伝導度は低くなり、クロストークの発生を抑えることが可能となるため
、輝度ムラ等の表示ムラを抑えた装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施形態としての光書き込みヘッドを備えた電気光学装置の製造方法
について説明する。
まず、電気光学装置の製造方法に先立ち、本発明に係る電気光学装置の構造について説
明する。また、電気光学装置としては、光プリンタについて各図に従って説明する。尚、
以下に説明する光プリンタは、フルカラー表示が可能なタンデム方式の光プリンタである
。
【００１６】
［光プリンタ］
図１は、光プリンタの主要断面図である。
図１に示すように、光プリンタ１は、光書き込みヘッド及び発光部ユニットとしてのブ
ラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ、シアン用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ、マゼンダ用有機Ｅ
Ｌ露光ヘッド２Ｍ、及びイエロ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｙを備えている。また、光プリン
タ１は、各露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙの下方に、ブラック用感光ドラム３Ｋ、シ
アン用感光ドラム３Ｃ、マゼンダ用感光ドラム３Ｍ、イエロ用感光ドラム３Ｙをそれぞれ
備えている。
【００１７】
さらに、光プリンタ１は、駆動ローラ４、従動ローラ５、テンションローラ６、及び該
テンションローラ６によりテンションを加えられて張架されながら図１において反時計周
り方向へ循環駆動される中間転写ベルト７を備える。そして、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，
３Ｍ，３Ｙは、中間転写ベルト７に対して所定間隔に配置されている。
【００１８】
各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙは、中間転写ベルト７の駆動と同期して図１にお
いて時計周り方向へ回転駆動されるようになっている。そして、各露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ
，２Ｍ，２Ｙは、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの外周面を各感光ドラム３Ｋ，３
Ｃ，３Ｍ，３Ｙの回転に同期して順次ライン走査することで、描画データに応じた静電潜
像を対応する感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に形成する。
【００１９】
また、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの周囲には、該感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３
Ｍ，３Ｙの各外周面を一様に帯電させるコロナ帯電器８Ｋ，８Ｃ，８Ｍ，８Ｙが設けられ
ている。
【００２０】
また、光プリンタ１は、ブラック用感光ドラム３Ｋの周囲にブラック用現像装置９Ｋを
、シアン用感光ドラム３Ｃの周囲にシアン用現像装置９Ｃを、マゼンダ用感光ドラム３Ｍ
の周囲にマゼンダ用現像装置９Ｍを、イエロ用感光ドラム３Ｙの周囲にイエロ用現像装置
９Ｙをそれぞれ備えている。この各現像装置９Ｋ，９Ｃ，９Ｍ，９Ｙは、対応する有機Ｅ
Ｌ露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙによって各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に
形成された静電潜像に対応する色の現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）を
形成するものである。例えば、シアン用現像装置９Ｃは、シアン用有機ＥＬ露光ヘッド２
Ｃによってシアン用感光ドラム３Ｃ上に形成された静電潜像にシアン色のトナーを付与し
て可視像（トナー像）を形成する。
【００２１】
詳しくは、各現像装置９Ｋ，９Ｃ，９Ｍ，９Ｙは、例えば、トナーとして非磁性一成分
トナーを用いるもので、その一成分現像剤を、例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、
現像ローラ表面に付着したトナーの膜厚を規制ブレードで規制する。この規制により、現
像ローラを各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙに接触或いは押圧させることにより、各
感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に形成された静電潜像の電位レベルに応じて現像剤
を付着させて可視像（トナー像）として現像する。
【００２２】
さらに、光プリンタ１は、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの周囲に、各現像装置
９Ｋ，９Ｃ，９Ｍ，９Ｙで現像された可視像（トナー像）を一次転写対象である中間転写
ベルト７に順次転写する一次転写ローラ１０Ｋ，１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙを備えている。
さらにまた、光プリンタ１は、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの周囲に、クリーニ
ング装置１１Ｋ，１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙを備えている。クリーニング装置１１Ｋ，１１
Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙは、一次転写の後に、各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙの表面に
残留しているトナーを除去するためのものである。
【００２３】
このような各感光ドラム３Ｋ，３Ｃ，３Ｍ，３Ｙ上に形成されたブラック，シアン，マ
ゼンタ，イエロの各可視像（トナー像）は、一次転写ローラ１０Ｋ，１０Ｃ，１０Ｍ，１
０Ｙによって中間転写ベルト７上に順次一次転写される。この一次転写により中間転写ベ
ルト７上で順次重ね合わされてフルカラーとなった可視像（トナー像）は、二次転写ロー
ラによって用紙等の記録媒体Ｐ上に二次転写され、一対の定着ローラ１２を通ることで記
録媒体Ｐ上に定着される。可視像（トナー像）が定着した記録媒体Ｐは、排紙ローラ１３
によって案内されて光プリンタ１の上部に形成された排紙トレイ１４上へ排出される。
【００２４】
また、光プリンタ１は、多数枚の記録媒体Ｐを保持する給紙カセット１５、該給紙カセ
ット１５から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアップローラ１６、二次転写ローラ６
６の二次転写部への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラ１７を備えてい
る。さらに、光プリンタ１は、中間転写ベルト７とで二次転写部を形成する二次転写ロー
ラ１８、及び二次転写後に中間転写ベルト７の表面に残留しているトナーを除去するクリ
ーニングブレード１９を備えている。
【００２５】
次に、有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙの詳細について説明する。尚、ブラ
ック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ、シアン用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ、マゼンダ用有機ＥＬ
露光ヘッド２Ｍ、及びイエロ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｙは、全て同じ構造をしているので
、説明の便宜上、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋについて説明し、他の有機ＥＬ露光
ヘッド２Ｃ，２Ｍ，２Ｙについては、その詳細な説明を省略する。
【００２６】
図２は、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋの斜視図である。ブラック用有機ＥＬ露光
ヘッド２Ｋは、一方向、即ち中間転写ベルト７の搬送方向に対して直交する方向に配設さ
れた箱体２１と、箱体２１とブラック用感光ドラム３Ｋとの間に位置するように箱体２１
に支持固定された光学部材２３とを備えている。箱体２１は、ブラック用感光ドラム３Ｋ
側に開口部を有しており、その開口部に向かって光が出射するように発光素子アレイ２２
を固定している。
【００２７】
［発光装置］
図３（ａ）は、発光素子アレイ２２の上面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）中ａ−
ａ線断面図である。
図３（ａ）に示すように、発光素子アレイ２２は、基板Ｓ上に発光素子としての有機エ
レクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という）２４を複数個配列してい
る。本実施形態の発光素子アレイ２２は、縦一列に等ピッチに配列された複数個（本実施
形態では、１０個）の有機ＥＬ素子２４が２列配列されている。そして、各有機ＥＬ素子
２４は、隣接する他の列の有機ＥＬ素子２４と縦方向に半ピッチだけずれるようにして配
置されている。つまり、各有機ＥＬ素子２４は、千鳥格子状に配列されている。
【００２８】
また、複数の有機ＥＬ素子２４の周囲には、その複数の有機ＥＬ素子２４全体を囲むよ
うに隔壁としての隔壁２５が形成されている。本実施形態における隔壁２５は、図３（ａ
）に示すように、複数の有機ＥＬ素子２４全体を囲むように略四角形状を成している。
【００２９】
図３（ｂ）に示すように、隔壁２５は、基板Ｓ上に形成された親液性バンク２５ａと、
該親液性バンク２５ａ上に形成された撥液性バンク２５ｂとから構成されている。親液性
バンク２５ａの一部は、撥液性バンク２５ｂより基板Ｓ中央側に張り出すようにして形成
されている。親液性バンク２５ａは、元来、親液性を備えた材料であって、例えば、酸化
珪素（ＳｉＯ２）で構成されたものである。また、親液性を備えていないものであっても
、通常用いられる公知の親液化処理を施すことで表面を親液化したものであってもよい。
一方、撥液性バンク２５ｂは、元来、撥液性を備えた材料、例えば、フッ素系樹脂で構成
されたものであってもよい。また、撥液性を備えていないものであっても、通常用いられ
るアクリル樹脂やポリイミド樹脂等の有機樹脂をパターン形成し、ＣＦ4プラズマ処理等
により表面を撥液化したものであってもよい。
【００３０】
また、図３（ｂ）に示すように、隔壁２５によって基板Ｓ中央には素子形成領域として
の凹状領域２６が形成されている。凹状領域２６の底部には、陽極としての画素電極２７
が形成されている。本実施形態の画素電極２７は、円形形状である。また、本実施形態の
画素電極２７は、縦一列に等ピッチに配列された複数個（本実施形態では、１０個）形成
されるとともに、横方向に２列配列されている。そして、各画素電極２７は、隣接する他
の列の画素電極２７と縦方向に半ピッチだけずれるようにして配置されている。各画素電
極２７は、それぞれに独立した配線を介して図示しないデータ信号出力駆動回路に接続さ
れている。そして、このデータ信号出力駆動回路から出力された描画データ信号が画素電
極２７に供給されるようになっている。
【００３１】
また、凹状領域２６の底部には、各画素電極２７上を被覆するように、正孔注入層（有
機導電性層）６１が形成されている。この正孔注入層６１は、ポリエチレンジオキシチオ
フェン（以下、「ＰＥＤＯＴ」と書く）及びポリスチレンスルフォン酸（以下、「ＰＳＳ
」と記載）の混合物にジエチレングリコール（ＤＥＧ）が添加されて構成されている。
【００３２】
正孔注入層６１上には、発光層２８が形成されている。発光層２８上には、電子注入層
６２が形成されている。また、電子注入層６２上には、各画素電極２７と撥液性バンク２
５ｂを共通して覆うように陰極２９が形成されている。
また、この電子注入層６２は、ポリフェニレンビニレン系のポリマーで構成された公知
の電子注入層材料である。
【００３３】
陰極２９の上面全体に、前記封止部材３０が形成されている。そして、正孔注入層６１
Ｌ、発光層２８及び電子注入層６２Ｌで、機能層が構成される。また、画素電極２７およ
び陰極２９と、これらの間に挟持される機能層により発光素子である有機ＥＬ素子２４が
構成される。
【００３４】
このような構成を有する有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋは、図３（ｂ）に示すように、正孔注
入層６１、発光層２８、電子注入層６２の各膜厚が凹状領域２６内全域に渡って均一にな
っている。従って、各画素電極２７上には均一な膜厚の発光層２８が形成される。
【００３５】
また、図４に示すように、光学部材２３は、発光素子アレイ２２と対向する位置に備え
られている。この光学部材２３は、内部に複数のレンズ３１を備えており、有機ＥＬ素子
２４から出射した光を集光し、その後、その他端側から出射してブラック用感光ドラム３
Ｋに照射（描画）する。
【００３６】
次に、有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ，２Ｃ，２Ｍ，２Ｙの製造方法を図５から図７に従って
説明する。尚、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋ、シアン用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ、
マゼンダ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｍ、及びイエロ用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｙは、全て同じ
方法によって製造される。従って、説明の便宜上、ブラック用有機ＥＬ露光ヘッド２Ｋの
製造方法のみを説明し、他の有機ＥＬ露光ヘッド２Ｃ，２Ｍ，２Ｙについては、その詳細
な説明を省略する。
【００３７】
先ず、基板Ｓ上の略中央に、公知の方法によって千鳥格子状に２０個の画素電極２７を
パターニングする。続いて、図５（ａ）に示すように、基板Ｓ上であって、各画素電極２
７全体を囲むように酸化珪素（ＳｉＯ２）をパターニングして親液性バンク２５ａを形成
する。その後、形成した親液性バンク２５ａ上に、親液性バンク２５ａの一部が基板Ｓ中
央側に張り出すようにフッ素系樹脂を、例えば高さが１〜２μｍ程度になるようにパター
ニングして撥液性バンク２５ｂを形成する。これにより、基板Ｓ上には、各画素電極２７
全体を囲むように隔壁２５が形成される（バンク形成工程）。この結果、各画素電極２７
が形成された基板Ｓ中央には凹状領域２６が形成される。
【００３８】
続いて、凹状領域２６内に正孔注入層６１を、液体プロセスの１種である液滴吐出法に
よって形成する。即ち、図５（ｂ）に示すように、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを主体とした正孔
注入層材料をジエチレングリコール（グリコール溶剤）といった所定の溶媒に溶解または
分散させて形成された液状組成物ＬＡを吐出ヘッド６５のノズルＮから吐出させる。この
とき、吐出ヘッド６５に設けられた、紙面手前及び奥に沿って延設されるガイドレール６
５Ａに沿って吐出ヘッド６５を基板Ｓに対して紙面手前及び奥方向に移動させながら液状
組成物ＬＡを凹状領域２６内に複数回吐出する。これにより、液状組成物ＬＡが凹状領域
２６内全面に塗布される（機能層形成工程）。
【００３９】
次に、基板Ｓを密閉容器内に搬送し、容器内を減圧することにより基板Ｓ上に配置した
液状組成物ＬＡから溶媒を除去し、膜化する。減圧は、大気圧から１Ｔｏｒｒまでを３０
秒から数分程度の時間で行うと、より平坦性の高い正孔注入層６１を形成することができ
る。また、複数の種類の溶媒を使用する場合は、使用する各溶媒の蒸気圧に合わせて、そ
の溶媒の蒸気圧付近で圧力を保持する様に複数のステップで減圧を行っても良い。この様
にすることで、配置した液状組成物ＬＡ全面での乾燥の速度をより均一にすることが可能
となり、より平坦性の高い膜を形成することができる。本発明では、各画素電極２７が隔
壁２５からある程度離れた領域に配置されているため、その上に配置された液状組成物Ｌ
Ａの乾燥状態に対する隔壁２５の影響が低減され、全ての画素電極２７上に平坦で、膜厚
の均一性の高い正孔注入層６１を形成することができる。
【００４０】
また、基板Ｓを、例えばホットプレート上に載置することによって加熱して液状組成物
ＬＡ中の溶媒を蒸発させ、凹状領域２６上全面に正孔注入層６１を形成しても良い（図５
（ｃ）参照）。
【００４１】
そして、図６（ａ）に示すように、正孔注入層６１全面に対して紫外光Ｒを照射する（
光照射工程）。照射する紫外光の波長は、３６５ｎｍである。この結果、紫外光Ｒが照射
された正孔注入層６１は、その層を構成する分子構造が変性し、電気抵抗値は高くなる（
電気伝導度は低くなる）。すなわち、紫外光Ｒを照射する前に比べて、正孔注入層６１の
電気抵抗値は全体的に高くなる。
【００４２】
更には、１００℃〜１５０℃で１分〜数分の加熱処理を実施する。加熱処理を行うこと
で、紫外光で露光された領域の反応がより安定して進行し、再現性良く紫外光を照射した
領域の電気抵抗を高くすることができる。
【００４３】
続いて、発光層２８を液滴吐出法によって形成する。即ち、図６（ｂ）に示すように、
発光層２８を構成する組成物としての発光材料をキシレンといった所定の溶媒に溶解また
は分散させて形成された液状組成物Ｌを吐出ヘッド４０のノズルＮから吐出させる。この
とき、吐出ヘッド４０に設けられた前記ガイドレール４１に沿って吐出ヘッド４０を基板
Ｓに対して紙面手前及び奥方向に移動させながら液状組成物Ｌを順次吐出することで正孔
注入層６１の全面に液状組成物Ｌを吐出する。これにより、正孔注入層６１の上全面に液
状組成物Ｌが塗布される。
【００４４】
次に、正孔注入層６１を形成する工程と同様に、基板Ｓを密閉容器内に搬送し、容器内
を減圧することにより基板Ｓ上に配置した液状組成物Ｌから溶媒を除去し、膜化する。各
画素電極２７が隔壁２５からある程度離れた領域に配置されているため、全ての画素電極
２７上に平坦で、膜厚の均一性の高い発光層２８を形成することができる。
【００４５】
また、基板Ｓを、例えばホットプレート上に載置することによって加熱して液状組成物
Ｌ中の溶媒を蒸発させ、発光層２８を形成しても良い。このとき、正孔注入層６１は、凹
状領域２６の全面に渡って均一な膜厚となっているので、蒸発後においては、この発光層
２８は凹状領域２６の全面に渡って均一な膜厚となる。
【００４６】
続いて、発光層２８上に電子注入層６２を液滴吐出法によって形成する。即ち、電子注
入層６２を構成する組成物としてのポリフェニレンビニレン系のポリマーを含んだ電子注
入層材料をキシレンといった所定の溶媒に溶解または分散させて形成された液状組成物を
吐出ヘッドのノズルから吐出させ発光層２８の全面に電子注入層材料を所定の溶媒に溶解
又は分散した液状組成物を吐出する。その後、基板Ｓを、密閉容器中に搬送し、容器内を
減圧することで、液状組成物中の溶媒を蒸発させ、基板Ｓ上に配置した液状組成物を膜化
する。また、例えばホットプレート上に載置することによって加熱して前記電子注入層材
料の液状組成物中の溶媒を蒸発させても良い。このとき、図７（ａ）に示すように、発光
層２８は全面に渡って均一な膜厚であるので、電子注入層６２は、凹状領域２６の全面に
渡って均一な膜厚となる。
【００４７】
続いて、図７（ｂ）に示すように、隔壁２５及び電子注入層６２上に、ＬｉＦ層、Ｃａ
層、Ａｌ層等を公知の蒸着方法等により積層し、陰極２９を形成する。続いて、陰極２９
全面に光透過性を有する、例えば樹脂等で構成された封止部材３０を形成する。
【００４８】
本実施形態に係る電気光学装置の製造方法では、ジエチレングリコールの溶剤が添加さ
れた有機導電性層を形成することにより、平坦性に優れた膜を形成することができる。し
かしながら、ジエチレングリコールを添加した正孔注入層は、抵抗値が低くなり、正孔注
入層６１の一部が電極としても作用する様になるため、発光させる発光素子の周辺部が発
光したり、複数の発光素子を発光させた場合にその間に配置された発光素子が発光する所
謂発光のクロストークが発生し易くなる。しかしながら、本発明では、有機導電性層６１
に光を照射することにより、有機導電性層６１は高抵抗となり、有機導電性層の電気伝導
度は低くなるため、電子が周囲の機能層に流れ込むのを防止することができるので、クロ
ストークの発生を抑えることが可能となる。
【００４９】
次に、有機ＥＬ素子２４の紫外線照射前及び紫外線照射後の発光領域の変化を示す。
紫外線Ｒを照射する前の有機ＥＬ素子２４の発光領域Ａは、図８の点線で示す領域とな
っており、紫外線Ｒを照射した後の有機ＥＬ素子の発光領域Ｂは、図８の実線で示す領域
となっている。すなわち、一点鎖線で示す実発光領域Ｃに対し、紫外線Ｒを照射する前、
発光領域Ａは、実発光領域Ｃから染み出している。しかしながら、正孔注入層６１に紫外
光Ｒを照射することにより、発光領域Ｂは、紫外線Ｒを照射する前に比べ狭くなり、ほぼ
実発光領域Ｃと同じ領域になる。これにより、実発光領域Ｃの外側の領域が発光すること
がないため、クロストークの発生を確実に抑えることが可能となる。
【００５０】
次に、紫外線照射前及び紫外線照射後の正孔注入層６１のスペクトル特性の変化につい
て説明する。
紫外光照射前（点線）及び紫外光照射後（実線）の正孔注入層６１のスペクトル特性を
比較すると、図９に示すように、紫外線照射後の正孔注入層６１のスペクトル特性は、紫
外光照射前の正孔注入層のスペクトル特性に６１に比べ波長が高い側にシフトしている。
すなわち、正孔注入層６１に紫外光Ｒを照射することにより、構造が変化しているのが分
かる。
【００５１】
次に、本発明に係る第２実施形態について、図１０を参照して説明する。なお、以下に
説明する各実施形態において、上述した第１実施形態に係る電気光学装置１と構成を共通
とする箇所には同一符号を付けて、説明を省略することにする。
本実施形態に係る電気光学装置の製造方法では、画素電極２７上の正孔注入層６１のみ
に光を照射する点において、第１実施形態の電気光学装置１の製造方法と異なる。
【００５２】
また、説明の便宜上、正孔注入層７１のうち、図１０（ａ）及び図１０（ｂ）画素電極
２７と陰極２９に挟持される領域Ｑ１に配置された（画素電極２７上の領域Ｑ１に形成さ
れた）正孔注入層７１を符号「７１Ｌ」とし、複数の画素電極２７の間の領域Ｑ２に配置
された正孔注入層７１を符号「７１Ｈ」とする。
【００５３】
本実施形態に係る電気光学装置の製造方法について説明する。
まず、第１実施形態と同様にして、凹状領域２６上全面に正孔注入層７１を形成した後
、図１１（ａ）に示すように、正孔注入層７１上にマスクＭ１を載置する。マスクＭ１は
、正孔注入層７１の全面を覆う大きさのものであって、紫外光Ｒの透過を遮断する非透過
領域Ｔａと、紫外光Ｒに対して透過性を有する透過領域Ｔｂとを備えている。マスクＭ１
は、縦一列に等ピッチに１０箇所配列された円形形状の透過領域Ｔｂが２列配列されてい
る。そして、各透過領域Ｔｂは、隣接する他の列の透過領域Ｔｂと縦方向に半ピッチだけ
ずれるようにして配置されている。つまり、マスクＭ１の各透過領域Ｔｂは、図１１（ａ
）に示すように、画素電極２７上の領域Ｑ１に相対向する位置に配置され、非透過領域Ｔ
ａは、画素電極２７以外の領域Ｑ２に相対向する位置に配置されている。従って、各画素
電極２７上の領域Ｑ１に形成された正孔注入層７１には透過領域Ｔｂが、また、各画素電
極２７上の領域Ｑ２に形成された正孔注入層７１には非透過領域Ｔａが配置される。
【００５４】
そして、図１１（ａ）に示すように、マスクＭ１を介して正孔注入層７１全面に対して
紫外光Ｒを照射する（光照射工程）。照射する紫外光の波長は、３６５ｎｍである。この
結果、領域Ｑ２に位置する正孔注入層５１には紫外光Ｒが照射されず、領域Ｑ１に位置す
る正孔注入層６１にのみ紫外光Ｒが照射される。紫外光Ｒが照射された領域Ｑ１に位置す
る正孔注入層６１は、その層を構成する分子構造が変性し、電気抵抗値が高くなる。一方
、紫外光Ｒが照射されなかった領域Ｑ２に位置する正孔注入層７１は、その層を構成する
分子構造は変性せず、電気抵抗値は低い。このようにして、高い電気抵抗値を有する正孔
注入層７１Ｌと、低い電気抵抗値を有する正孔注入層７１Ｈとを備えた正孔注入層７１が
形成される。
【００５５】
更には、１００℃〜１５０℃で１分〜数分の加熱処理を実施する。加熱処理を行うこと
で、紫外光で露光された領域の反応がより安定して進行し、再現性良く紫外光を照射した
領域の電気抵抗を高くすることができる。
続いて、上記第１実施形態の図６（ｂ），図７（ａ），（ｂ）に示す方法と同様に、発
光層２８を液滴吐出法によって形成した後、隔壁２５及び電子注入層６２上に、陰極２９
を形成する。
【００５６】
本実施形態に係る電気光学装置の製造方法では、画素電極２７に供給された電子が周囲
の正孔注入層７１に流れ込む可能性のある複数の画素電極２７上の正孔注入層７１のみに
紫外光Ｒを照射する。これにより、電子が周囲の正孔注入層７１に流れ込むのを効率良く
防止することができる。
なお、本実施形態では、紫外光を選択的に照射する方法として、直接基板Ｓに密着或い
は近接させるマスク使用する方式を記載したが、投影型の露光装置を用いて、ガラスマス
ク上に形成したマスクを用いて選択的に紫外光を照射する様にしても良い。
【００５７】
次に、本発明に係る第３実施形態について、図１２を参照して説明する。
本実施形態に係る電気光学装置１の製造方法では、正孔注入層６１の抵抗値に応じて、
正孔注入層６１に照射する紫外光Ｒの光量を調整する点において、第１実施形態と異なる
。
【００５８】
本実施形態に係る電気光学装置の製造方法について説明する。
まず、第１実施形態の図５（ｃ）に示すように、凹状領域２６上全面に正孔注入層７１
を形成する。その後、正孔注入層６１の全体の抵抗値を測定する。そして、測定した正孔
注入層６１の抵抗値に応じて、図１２の照射時間と抵抗値との関係を示すグラフから紫外
光Ｒを照射する時間を決定する。
続いて、決定された照射時間の紫外光Ｒを正孔注入層６１に照射し、上記第１実施形態
の図６（ｂ），図７（ａ），（ｂ）に示す方法と同様に、発光層２８を液滴吐出法によっ
て形成した後、隔壁２５及び電子注入層６２上に、陰極２９を形成する。
なお、第２実施形態のように、画素電極２７上の正孔注入層６１のみに光を照射する場
合、画素電極２７上の正孔注入層６１のみの抵抗値を測定し、図１２に示すグラフより抵
抗値に応じた照射時間を決定すれば良い。
【００５９】
本実施形態に係る電気光学装置の製造方法では、正孔注入層６１の抵抗値の低い箇所に
は、高い箇所に比べて、長い時間光を照射することにより、正孔注入層６１を均一な抵抗
値にすることが可能となる。
なお、本実施形態において、正孔注入層６１の抵抗値に応じて紫外光Ｒの照射時間を変
えたが、これに代えて、紫外光Ｒの強度を変えても良い。すなわち、正孔注入層６１の抵
抗値の低い箇所には、高い箇所に比べて、強度の大きい紫外光Ｒを照射することにより、
画素電極２７上の正孔注入層６１を均一な抵抗値にすることが可能となる。
【００６０】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸
脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、グリコール系の溶剤として、ジエチレングリコールを用いたが、トリエチレン
グリコール等であっても良い。
【００６１】
また、上記各実施形態において、光として紫外光Ｒを使用した化学反応により電気抵抗
値を高くするようにしているが、紫外光Ｒ以外の光を使用して電気抵抗値を高くするよう
にしてもよい。例えば、炭酸レーザ、エキシマーレーザ、ＹＡＧレーザ等を利用して照射
した領域を熱的に変性させて高抵抗する様にしても良い。また、更に高いエネルギーでレ
ーザ照射を行うことで、レーザアブレーションにより照射した領域の膜を除去する様にし
てもよい。更には、高抵抗化させたい領域に予め照射するレーザ光の吸収率の高い材料を
選択的に配置しておき、適当な値で膜を形成した面全面にレーザを照射する様な工程を使
用しても良い。この様なレーザによる加工は、減圧雰囲気中或いは不活性気体の雰囲気中
で行うことが、汚染や機能層の劣化を防止する上で望ましい。特にレーザによる加工は、
発光層の形成前の工程で行うことが、発光層の劣化を防止するために望ましい。例えば、
正孔注入層上に発光層を形成する構成の場合、正孔注入層に対してレーザによる加工を行
うことが有効である。
また、上記各実施形態において、正孔注入層を形成する際、液滴吐出法により形成した
が、この方法に限らず、例えば、スピンコート法により形成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る電気光学装置を示す主要断面図である。
【図２】図１の電気光学装置の有機ＥＬ露光ヘッドの斜視図である。
【図３】図１の電気光学装置の発光素子アレイの（ａ）は上面図、（ｂ）はａ−ａ線における断面図である。
【図４】図１の電気光学装置の有機ＥＬ素子の発光状態を示す平面図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る電気光学装置の製造方法を示す要部断面図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る電気光学装置の製造方法を示す要部断面図である。
【図７】本発明の第１実施形態に係る電気光学装置の製造方法を示す要部断面図である。
【図８】図３の有機ＥＬ素子の紫外線照射前及び紫外線照射後の発光領域の変化を示す平面図である。
【図９】図３の有機ＥＬ素子の紫外線照射前及び紫外線照射後のスペクトル特性の変化を示す平面図である。
【図１０】本発明の第２実施形態に係る電気光学装置の電気光学装置の発光素子アレイの（ａ）は上面図、（ｂ）はａ−ａ線における断面図である。
【図１１】本発明の第２実施形態に係る電気光学装置の製造方法を示す要部断面図である。
【図１２】本発明の第３実施形態に係る電気光学装置の製造方法に用いる照射時間と抵抗値との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００６３】
Ｒ…紫外光（光）、１…電気光学装置（光プリンタ）、２５…隔壁（バンク）、２７…
画素電極、６１…正孔注入層（有機導電性層）
【図１】
2007220392.tif 000003
【図２】
2007220392.tif 000004
【図３】
2007220392.tif 000005
【図４】
2007220392.tif 000006
【図５】
2007220392.tif 000007
【図６】
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【図７】
2007220392.tif 000009
【図８】
2007220392.tif 000010
【図９】
2007220392.tif 000011
【図１０】
2007220392.tif 000012
【図１１】
2007220392.tif 000013
【図１２】
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