(57)【要約】 【課題】干渉計システムにおいて、大きな光学素子又は短い離間についての要請がなく、平面鏡干渉計を用いて測定するためのダイナミック測定レンジを向上すること。【解決手段】  測定されている物体１２０への第１の方向に沿った第１の成分、及び該第１の方向に対して垂直な第２の方向に沿った第２の成分を含む光路１５６に基づいた測定値を示す第１の信号を提供する第１の測定チャネルと、前記第２の方向に沿った少なくとも１つの成分を有する測定値を示す第２の信号を提供する第２の測定チャネルと、前記第１の信号の測定値及び前記第２の信号の測定値を用いて、前記第１の方向に沿った測定値を求める処理システムと、を備える。  【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定されている物体への第１の方向に沿った第１の成分、及び該第１の方向に対して垂直な第２の方向に沿った第２の成分を含む光路に基づいた測定値を示す第１の信号を提供する第１の測定チャネルと、
前記第２の方向に沿った少なくとも１つの成分を有する測定値を示す第２の信号を提供する第２の測定チャネルと、
前記第１の信号の測定値及び前記第２の信号の測定値を用いて、前記第１の方向に沿った測定値を求める処理システムと、
を備える、干渉計システム。
【請求項２】
前記第１の測定チャネルは、
前記物体上に取り付けられる第１の反射鏡と、
前記物体から前記第２の方向において離間される第２の反射鏡と、
前記第１の方向の測定ビームを前記第１の反射鏡に誘導する干渉計光学系と、を備え、前記測定ビームは前記第１の反射鏡から前記第２の反射鏡に反射し、前記第２の反射鏡から前記第１の反射鏡に戻り、
前記測定ビーム、及び前記測定ビームに関連付けられる参照ビームから前記第１の信号を生成する検出器システムと、を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記第１の反射鏡及び前記第２の反射鏡はそれぞれ、定偏角プリズムを含む、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記第２の測定チャネルは、
前記物体上に取り付けられる第１の反射面及び第２の反射面を備え、該第１の反射面は該第２の反射面に対して角度を有し、該第１の反射面及び該第２の反射面はそれぞれ、前記第１の方向又は前記第２の方向に対して平行ではなく、
ビームコンバイナを含み、前記第１の反射面に突き当たるように第１のビームを前記第１の方向に誘導し、且つ前記第２の反射面に突き当たるように第２のビームを前記第１の方向に誘導するように配置される干渉計光学系と、
前記第１の反射面及び前記第２の反射面からそれぞれ反射した後に、前記第１のビーム及び前記第２のビームから前記第２の信号を生成する検出器システムと、
前記第１のビーム及び前記第２のビームが前記検出器システムに達するように操作するために、前記第１の反射面及び前記第２の反射面に対して配置されるビームステアリング部材と、を備える、請求項１ないし３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項５】
前記第２の測定チャネルは、
前記物体上に取り付けられ、測定ビームを前記第１の方向から前記第２の方向に進行するように再び誘導するような向きに配置される測定反射鏡と、
前記物体上に取り付けられ、前記第１の方向に進行する参照ビームを反対の方向に戻すように再び誘導するような向きに配置される参照反射鏡と、
前記第１の方向において前記測定ビームを一度だけ通過させるために前記測定反射鏡に誘導し、前記第１の方向において前記参照ビームを最初に通過させるために前記参照反射鏡に誘導し、その後、もう一度通過させるために前記参照反射鏡に誘導するシステムと、
前記物体から前記第２の方向において離間され、前記測定ビームを誘導して前記測定反射鏡に戻し、その後、測定ビームを再び誘導して前記システムに戻すように配置される、上方に位置する反射鏡と、
前記測定ビーム及び前記参照ビームから前記第２の信号を生成する検出器システムと、を備える、請求項１ないし３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項６】
第３の方向に沿った第１の成分と、前記第２の方向に沿った第２の成分とを有する、１つの光路に沿った測定値を示す第３の信号を提供する第３の測定チャネルであって、前記第３の方向は前記第１の方向及び前記第２の方向に対して垂直である、第３の測定チャネルと、
前記第２の方向に沿った少なくとも１つの成分を有する測定値を示す第４の信号を提供する第４の測定チャネルであって、前記処理システムは前記第３の測定信号及び前記第４の測定信号を用いて、前記第３の方向に沿った測定値を求める、第４の測定チャネルと、
前記物体から前記第３の方向に沿って離間され、前記第３の測定チャネル及び前記第４の測定チャネルが前記第１の信号及び前記第２の信号をそれぞれ生成するために用いるビームを操作する第２の光学系と、を含む干渉計システムをさらに備える、請求項１ないし５のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項７】
前記第１の測定チャネルが測定する光路とは反対側にある第２の光路に沿った測定値を提供する干渉計システムであって、該第２の光路は前記第２の方向に沿った少なくとも１つの成分を有する、干渉計システムと、
前記第２の方向を中心にした前記物体の回転を測定する干渉計システムとをさらに備える、請求項１ないし６のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項８】
測定されている物体への第１の方向に沿った第１の成分と、該第１の方向に対して垂直な第２の方向に沿った第２の成分とを有する、１つの光路に沿った第１の測定値を求めるために、干渉計システム内の第１の測定チャネルを操作するステップと、
前記第２の方向に沿った少なくとも１つの成分を有する第２の測定値を求めるために、前記干渉計システムの第２の測定チャネルを操作するステップと、
前記第１の測定値及び前記第２の測定値から、前記第１の方向に沿った第３の測定値を求めるステップと、
含む、物体を測定するための方法。
【請求項９】
前記第１の測定チャネルを操作するステップは、
測定ビームを前記第１の方向において第１の反射鏡に誘導するステップを含み、該第１の反射鏡は、前記物体上に取り付けられ、該測定ビームを、前記物体から前記第２の方向において離間される第２の反射鏡に反射するように向けられ、
前記第１の反射鏡及び前記第２の反射鏡から反射された後の前記測定ビームから、参照ビームとの合成ビームを形成するステップと、
前記第１の測定値を求める過程を実施するために、前記合成されたビームを測定するステップと、を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記第２の測定チャネルを操作するステップは、
前記物体上の第１の反射面に突き当たるように、第１のビームを前記第１の方向に誘導するステップと、
第２の反射面に突き当たるように、第２のビームを前記第１の方向に誘導することであって、該第２の反射面は前記第１の反射面に対して或る角度を成し、前記第１の反射面及び前記第２の反射面は前記第１の方向又は前記第２の方向に対して平行ではない、誘導するステップと、
前記第１の面及び前記第２の面からそれぞれ反射した後の前記第１のビーム及び前記第２のビームの合成ビームを測定するステップと、を含む、請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２の測定チャネルを操作するステップは、
前記第１の方向において測定ビームを一度だけ通過させるために測定反射鏡に誘導するステップを含み、該一度だけ通過させることは、前記物体上にある前記測定反射鏡からの反射と、前記第２の方向において前記物体から離間される第２の反射鏡からの反射とを含み、
前記第１の方向において参照ビームを最初に通過させるために前記物体上にある第３の反射鏡まで、且つ第３の反射鏡から誘導するステップと、
前記参照ビームをもう一度通過させるために前記第３の反射鏡まで、且つ前記第３の反射鏡から誘導するステップと、
前記測定ビームが一度だけ通過し、また前記参照ビームが一度だけ通過し、もう一度通過し終えたときに、該測定ビーム及び該参照ビームの合成ビームを測定するステップと、を含む、請求項８又は９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウォークオフが小さな干渉計に関する。
【背景技術】
【０００２】
平面鏡干渉計は、ウェーハ処理システムの精密ステージのような物体の位置及び／又は向きを測定することができる。そのような用途の場合、平面鏡は典型的には、測定されるステージ上に取り付けられ、干渉計が、平面鏡から反射させるために１つ又は複数の測定ビームを誘導する。各測定ビームは一般的に個別の測定チャネルに対応し、信号処理のために対応する参照ビームと合成されて、測定値が生成される。測定ビームと対応する参照ビームとの間の分離（separation）角を小さくするために、いくつかの干渉計（一般的には複光路干渉計と呼ばれる）は、平面鏡からもう一度反射させるために、再帰反射鏡を用いて各測定ビームを戻し、その後、干渉計が測定ビーム及び参照ビームを合成する。これらの複光路干渉計は測定ビームの光路長を概ね２倍にするので、不都合な場合もある。
【０００３】
ステージ又は他の物体の位置及び向きを測定する干渉計システムは多くの場合に、多数の自由度を測定する必要がある。たとえば、剛性の３次元物体は一般的に、６つの独立した自由度、たとえばＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸に対する位置を示すＸ座標、Ｙ座標及びＺ座標、並びにＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を中心にした物体の回転に対応する横揺れ角、縦揺れ角及び偏揺れ角を有する。一般的に、測定軸のうちの少なくとも２つ、たとえばＹ軸及びＺ軸は、干渉計光学系と測定鏡との間の離間（separation）に対して垂直な、少なくとも１つの成分を有する方向を定義する。したがって、１つの物体の全ての自由度を測定する干渉計システムは多くの場合に、ステージの周囲の多数の場所において、多数の測定鏡及び干渉計光学系を使用する。
【０００４】
干渉計光学系が投影レンズのような他の処理システム部品と干渉するのを防ぐために、光学系−測定鏡離間に対して垂直な変位を測定する干渉計システムが開発されている。たとえば、特許文献１及び特許文献２は、投影レンズに対するステージの高さを測定することができる干渉計システムを記述する。そのようなシステムでは、ステージ上に取り付けられる反射鏡が、水平な入射光路からの（たとえば、Ｘ軸に沿った）測定ビームを垂直な反射光路に（たとえば、Ｚ軸に沿って）反射する。そのステージの上方に取り付けられる反射鏡が、垂直方向に誘導された測定ビームを反射して、ステージ上にある反射鏡に戻し、そのステージにおいて、測定ビームは再び、水平な戻り光路に誘導されて、干渉計光学系に戻される。したがって、測定ビームの全ドップラシフトが、水平成分及び垂直成分を有する、１つの光路に沿った動きを示す。個別の測定チャネルが、その動きの水平成分を測定することができるので、結果として、垂直成分又は高さ測定値を抽出することができる。
【０００５】
測定される自由度毎のダイナミックレンジは一般的に、測定鏡の回転（たとえば、横揺れ、縦揺れ又は偏揺れ回転）によって制限される。測定鏡が回転すると、測定ビームが偏向し、それにより、反射された測定ビームが、参照ビームと再合成するために要求される光路から「外れていく」可能性がある。一般的に、そのような「ウォークオフ」の許容量（及びそれに対応する、測定のダイナミックレンジ）は、ビーム半径ｗ、及び干渉計光学系から測定鏡まで延在する光路長Ｌに依存する。たとえば、従来の複光路干渉計の場合のダイナミックレンジは典型的には、干渉計光学系と測定鏡との間の離間に沿った平行移動を測定するときに、約ｗ／４Ｌラジアンである。特許文献１及び特許文献２に記述される高さ測定は、少なくとも水平方向の成分を測定し、減算する必要があるので、概ね同じようなダイナミックレンジ制限を受ける。したがって、大きなダイナミックレンジを達成するために、従来の干渉計では、ビーム幅が広く、且つ／又は光学系と測定される物体との間の離間が短いことが要求される。広いビーム幅及び短い離間は多くの場合に、ウェーハ処理装置を含む数多くのシステムの空間及び機能要件の中で対応するのは難しい。さらに、広いビームに対応することにより、干渉計の光学部品の大きさ及びコストが増加する。
【特許文献１】米国特許第６，０２０，９６４号
【特許文献２】米国特許第６，６５０，４１９号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
既存の干渉計の制約に鑑みて、大きな光学素子又は短い離間についての要請がなく、平面鏡干渉計を用いて測定するためのダイナミック測定レンジを向上することができるシステム及び方法が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための手段として、測定されている物体への第１の方向に沿った第１の成分、及び該第１の方向に対して垂直な第２の方向に沿った第２の成分を含む光路に基づいた測定値を示す第１の信号を提供する第１の測定チャネルと、前記第２の方向に沿った少なくとも１つの成分を有する測定値を示す第２の信号を提供する第２の測定チャネルと、前記第１の信号の測定値及び前記第２の信号の測定値を用いて、前記第１の方向に沿った測定値を求める処理システムと、を備える、干渉計システムが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本明細書において、異なる図面において同じ参照符号が用いられるとき、類似の、又は同じ構成要素が示される。
【０００９】
本開示の一態様によれば、干渉計が、光学系−物体離間に対してそれぞれ平行及び垂直な成分を含む光路の広いダイナミックレンジ測定を提供する第１の測定チャネルと、垂直な成分だけの広いダイナミックレンジ測定を提供する第２の測定チャネルとを用いて、垂直方向及び水平方向に沿った測定のための広いダイナミックレンジを達成することができる。本開示のさらに別の態様によれば、干渉計システムが、処理装置において用いられるステージのような剛性の物体の６つ全ての自由度の測定のための広いダイナミックレンジを達成することができる。
【００１０】
図１は、物体の水平方向及び垂直方向の平行移動を測定するための干渉計光学系１１０を備えるシステム１００を示す。例示される実施形態では、システム１００はフォトリソグラフィ装置の一部であり、測定される物体は、投影レンズ１３０に対して半導体ウェーハ１２５のような加工物を位置決めするためのステージ１２０である。干渉計光学系１１０は、投影レンズ１３０に対して固定された位置を有することが好ましい。フォトリソグラフィの場合、投影レンズ１３０がウェーハ１２５の正確なエリアに所望のパターンを投影することができるように、ステージ１２０及び／又は投影レンズ１３０のための位置決めシステム（図示せず）が、投影レンズ１３０の光学軸に対してウェーハ１２５を正確に位置決めできなければならない。さらに、厳密に合焦したパターンを投影するために、ステージ１２０又は投影レンズ１３０のための合焦システムが、ウェーハ１２５と投影レンズ１３０との間の離間を制御することができるか、又はその離間に合わせることができる。ウェーハ処理装置内のステージ１２０の測定は、干渉計システムの単なる例示的な応用形態であり、さらに一般的には、本明細書に記述される干渉計と類似の干渉計は、種々のシステムにおいて種々の物体を測定できることは当業者には理解されよう。
【００１１】
干渉計光学系１１０は、ビーム源１１２から入力ビームＩＮを受光し、最初にステージ１２０に向かってＸ方向に誘導される３つのビーム１５２、１５４及び１５６を生成する。後にさらに説明されるように、ビーム１５２及び１５４は、Ｚ方向においてステージ１２０の平行移動を測定する第１の広いダイナミックレンジの測定チャネル用であり、ビーム１５６は、Ｚ方向及びＸ方向において成分を有する測定のための第２の広いダイナミックレンジの測定チャネル用である。Ｘ方向における平行移動の広いダイナミックレンジの測定値は、第１の測定チャネルからの測定値を用いて、第２の測定チャネルを用いて測定される、合成されたＸ方向及びＺ方向の動きのＺ成分を除去することによって求めることができる。
【００１２】
例示される実施形態の干渉計光学系１１０は、ビームスプリッティング光学素子１１３と、偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）１１４と、４分の１波長板（ＱＷＰ）１１５及び１１６のような偏光変換素子と、方向転換鏡１１７と、参照反射鏡１１８とを備える。ビーム源１１２が入力ビームＩＮをビームスプリッティング光学素子１１３の中に誘導し、ビームスプリッティング光学素子１１３は、システム１００の２つの測定チャネルに対応する２つの個別のビームＩＮ１及びＩＮ２を生成する。別法では、２つの個別のビーム源が入力ビームＩＮ１及びＩＮ２を直に生成することができる。
【００１３】
一実施形態による干渉計１１０では、各入力ビームＩＮ、ＩＮ１及びＩＮ２は、第１の周波数Ｆ１及び第１の直線偏光を有する第１の成分、及び第２の周波数Ｆ２及び第１の直線偏光に対して垂直な第２の直線偏光を有する第２の成分を有するヘテロダインビームである。数多くのビーム源が、所望の特性を有するヘテロダインビームを生成することができる。ビーム源１１２には、たとえば、ゼーマン分裂を通して、及び／又は音響光学変調器（ＡＯＭ）を用いて、周波数Ｆ１及びＦ２に所望の差を生成する、レーザを用いることができる。既に知られているか、又は開発することができるヘテロダインビームの他の発生源が適している場合もある。別法では、ビーム源１１２として、長コヒーレンス長、単一周波数レーザを用いることもでき、その場合、要求されるコヒーレンス長は、たとえば測定ビーム１５６の光路長と、その関連する参照ビーム１５８の光路長との間の差に依存する。単一周波数ビームを用いる干渉計は典型的には、ビーム電力の変動の影響をなくすために多数の位相測定を必要とするので、ヘテロダインビームを使用することが好ましいであろう。
【００１４】
例示される実施形態のビームスプリッティング光学素子１１３は、干渉システム１００の第１の測定チャネル及び第２の測定チャネルのためのチャネル入力ビームＩＮ１及びＩＮ２をそれぞれ生成する。チャネル入力ビームＩＮ１及びＩＮ２が、ビーム源１１２からの入力ビームＩＮと同じ偏光特性及び周波数特性を有するように、ビームスプリッティング光学素子１１３の場合には非偏光ビームスプリッティングであることが好ましい。詳細には、入力ビームＩＮ並びにチャネル入力ビームＩＮ１及びＩＮ２には全て、個々の周波数成分が直交偏光を有するヘテロダインビームを用いることができる。具体的な例を提供するために、ヘテロダインビームを用いる１つの例示的な実施形態が以下に記述される。しかしながら、その記述は例示することを意図しており、制限することを意図していないことは理解されたい。
【００１５】
ＰＢＳ１１４は、偏光に応じて入力ビームＩＮ１の成分を分離してビーム１５２及び１５４を生成し、同様に、偏光に応じて入力ビームＩＮ２の成分を分離してビーム１５６及び１５８を生成する。結果として、ビーム１５２及び１５４は直交する直線偏光を有し、ビーム１５６及び１５８も同様である。入力ビームＩＮ１及びＩＮ２がヘテロダインビームであるとき、入力ビーム及びＰＢＳ１１４の偏光軸は、偏光スプリッティングが各入力ビームＩＮ１又はＩＮ２の周波数成分を分離するように向けられる。したがって、例示的な実施形態では、ビーム１５２、１５４、１５６及び１５８は単一周波数ビームである。例示される実施形態では、ＰＢＳ１１４は、測定ビーム１５６が、ＰＢＳ１１４が透過する直線偏光を有し、参照ビーム１５８が最初に、ＰＢＳ１１４が反射する直線偏光を有するようになされる。干渉計光学系１１０の別の実施形態は、測定ビームとして、ＰＢＳ１１４において最初に反射するビームを用いることができ、参照ビームとして、ＰＢＳ１１４において最初に透過するビームを用いることができることは当業者には理解されよう。さらに、例示される実施形態は、直角プリズム間に狭持される薄い偏光膜を有するＰＢＳ１１４を示すが、ＰＢＳ１１４は、ＰＢＳ１１４の要求されるビームスプリッティング機能及び合成機能を実行する複屈折光学素子のような異なる構造を用いて実装することもできる。さらに、単色入力ビームを用いる実施形態では、ＰＢＳ１１４の代わりに、非偏光ビームスプリッタを用いることができる。
【００１６】
システム１００は、水平なＸ方向及び垂直なＺ方向に沿って、ステージ１２０の相対的な動きをモニタすることができる。垂直方向の測定の場合、第１の測定チャネルが、ステージ１２０上に反射面１４２及び１４４を設ける測定反射鏡１４０を使用し、面１４２が、Ｘ軸に対して名目的には垂直であるステージ１２０の側面と成す角度は、面１４４がステージ１２０の側面と成す角度に対する補角である。干渉計光学系１１０は、ＱＷＰ１１５を通してビーム１５２及び１５４を誘導し、面１４２及び１４４からそれぞれ反射させる。面１４２及び１４４はそれぞれのビーム１５２及び１５４を、ポロプリズム１４６及び１４８にそれぞれ誘導し、それらのポロプリズムはビーム１５２及び１５４を反射鏡１４０に戻すように向けられる。ステージ１２０が傾いていないとき、ビーム１５２及び１５４がそれぞれの面１４２及び１４４に戻る光路は平行であるが、ポロプリズム１４６及び１４８に入射するそれぞれの光路からＹ方向にオフセットされる。
【００１７】
戻されたビーム１５２は面１４２から再び反射し、ＱＷＰ１１５を通過し、方向転換鏡１１７から反射し、ＰＢＳ１１４に再び入射する。戻されたビーム１５４は面１４４から再び反射し、ＱＷＰ１１５を通過し、ＰＢＳ１１４に直に再び入射する。ＱＷＰ１１５を２度通過することにより、各ビーム１５２及び１５４の直線偏光が概ね９０°だけ回転し、その結果、ＰＢＳ１１４が戻されたビーム１５２を透過し、戻されたビーム１５４を反射して、第１の出力ビームＯＵＴ１を形成し、そのビームは検出器システム１６０に入射する。
【００１８】
例示される構成においてステージ１２０がＸ方向に動くことから生じるドップラシフトは、ビーム１５２及び１５４の両方の光路の場合に同じであるが、Ｚ方向にステージ１２０が動くことによって、ビーム１５４において引き起こされるドップラシフトとは反対のドップラシフトが、ビーム１５２において引き起こされる。したがって、ビーム１５２及び１５４が合成されてビームＯＵＴ１になるときに、ビーム１５２及び１５４の周波数差から生じるビート周波数がドップラシフトの差に依存し、それゆえ、Ｚ方向におけるステージ１２０の動きを示す。反射鏡１４０を含む干渉計システムは、反射鏡１４０を用いる測定がもはやＺ方向に沿って垂直ではなく、干渉計１１０とステージ１２０との間の離間に対して垂直な任意の方向に沿うように、Ｘ軸を中心にして回転することができることに留意されたい。
【００１９】
検出器システム１６０は、Ｚ方向におけるステージ１２０の変位を求めるために出力ビームＯＵＴ１を測定又は解析する。１つの例示的な実施形態では、検出器システム１６０は、ビーム１５２及び１５４の周波数の差を測定し、その後、その差を用いて、ドップラシフトの差、それゆえＺ方向に沿ったステージ１２０の垂直方向の速度又は変位を求めることができる。ビーム１５２及び１５４が最初に周波数Ｆ１及びＦ２を有するヘテロダイン干渉計では、戻されるビーム１５２及び１５４は、ステージ１２０が動くときに個々の面１４２及び１４４から反射する結果として生じた可能性があるドップラシフトに応じて周波数Ｆ１’及びＦ２’を有するであろう。上記のように、面１４２及び１４４は、ステージ１２０のＸ方向又はＹ方向の動きが両方のビーム１５２及び１５４の同じドップラシフトを引き起こすが、Ｚ方向の動きがビーム１５２及び１５４の反対のドップラシフトを引き起こすような角度を成す。したがって、ステージ１２０の水平方向への動きによって、戻されるビーム１５２と１５４との間の周波数差Ｆ１’−Ｆ２’は変化しないが、垂直方向への動きによって周波数差Ｆ１’−Ｆ２’が変化する。検出器システム１６０内の従来の光検出器及び電子回路が、出力ビームＯＵＴ１を受光し、ビート周波数Ｆ１’−Ｆ２’を有する電子信号を生成することができる。同様に、ビート周波数Ｆ１−Ｆ２を有する参照電子信号を、入力ビームＩＮ又はＩＮ１の一部を直に測定することによって生成することができる。
【００２０】
検出器システム１６０の１つの例示的な実施形態はさらに、周波数Ｆ１−Ｆ２を有する参照ビート信号に対する、周波数Ｆ１’−Ｆ２’を有するビート信号の位相を測定する位相検出回路を備える。相対的な位相の変化は、ビート周波数Ｆ１’−Ｆ２’及びＦ１−Ｆ２が異なることを示し、出力ビームＯＵＴ１の正味のドップラシフトの測定を可能にし、それはＺ方向の速度を示す。求められた速度成分を積分することにより、Ｚ方向に沿った平行移動が示される。
【００２１】
ビーム１５２及び１５４を用いてＺ方向における平行移動を測定することにより、ステージ１２０の回転の広いダイナミックレンジが許容される。詳細には、ポロプリズム１４６及び１４８が、Ｚ軸を中心にしたステージ１２０の回転を求めるための再帰反射鏡である。Ｙ軸を中心にしたステージ１２０の回転は、ビーム１５２及び１５４に共通の影響を与える。Ｘ軸を中心にしたステージ１２０の回転の影響は、ポロプリズム１４６及び１４８によって相殺され、反射鏡１４２と１４４との間の小さな角度を選択することによって最小限に抑えられる。また第１の測定チャネルは、従来の複光路測定チャネルの光路長よりも短い光路長を有するので、結果として、複光路干渉計の場合よりも、第１の測定チャネルの場合のダイナミックレンジが広くなる。「System and Method of using a Side-Mounted Interferometer to Acquire Position Information」というタイトルの米国特許出願第２００５／０１８５１９３号はさらに、物体の垂直方向の平行移動を測定するための、広いダイナミックレンジを有する類似のシステム及び他の適当なシステムを記述する。
【００２２】
干渉計光学系１１０は、第２の測定チャネルのための測定ビーム１５６も生成する。例示される実施形態では、測定ビーム１５６は、ＰＢＳ１１４を通過する入力ビームＩＮ２の成分である。測定ビーム１５６は最初に、Ｘ方向において、ＱＷＰ１１５を通って、ステージ１２０上に取り付けられる反射鏡１７０まで移動する。反射鏡１７０は、五角プリズムのような定偏角プリズムであり、ビーム１５６を、投影レンズ１３０に対して固定することができる取付構造体１３４上にある反射鏡１３２まで誘導することが好ましい。１つの例示的な実施形態では、反射鏡１７０は、図１においてＹ方向に延在する頂点と、垂直方向から名目的に２２．５°を成す反射表面１７２と、水平方向から名目的に２２．５°を成す反射表面１７４とを有する五角プリズムであり、反射鏡１３２は、Ｘ方向に沿って延在する頂点を有する、突出したポロプリズムである。別法では、ビーム１５６を９０°曲げる任意の定偏角プリズム又は反射鏡を用いることができる。反射鏡１３２は、ステージ１２０が任意の許される位置にある場合に、測定ビーム１５６を反射して反射鏡１７０に戻すように向けられ、位置決めされる。その後、反射鏡１７０は、測定ビーム１５６を、ＱＷＰ１１５を通して、ＰＢＳ１１４に戻す。ステージ１２０から測定ビーム１５６が反射することにより、Ｘ方向及びＺ方向においてステージ１２０が動くことから生じる成分を有するドップラシフトが引き起こされ、ＱＷＰ１１５を２度通過することによりビーム１５６の偏光が変化し、戻されたビーム１５６がＰＢＳ１１４から反射して第２の測定チャネルのための出力ビームＯＵＴ２の一部が形成される。
【００２３】
同じく第２の測定チャネルにおいて用いられる参照ビーム１５８は、参照ビーム１５８及び測定ビーム１５６が出力ビームＯＵＴ２において合成されるまで、干渉計光学系１１０内に留まる光路を有する。詳細には、参照ビーム１５８は最初に、ＰＢＳ１１４内で、ＱＷＰ１１６を通って参照反射鏡１１８に進む経路に反射される。参照反射鏡１１８には、反射鏡１３２が生成するオフセットに一致するオフセットを有する反射されたビームを生成するポロプリズム又は他の反射鏡を用いることができ、参照反射鏡１１８は参照ビーム１５８を、ＱＷＰ１１６を通してＰＢＳ１１４に戻し、その際、参照ビーム１５８は、ＰＢＳ１１４を通過して、出力ビームＯＵＴ２の一部を形成する。
【００２４】
測定ビーム１５６が参照ビーム１５８と合成されるときに結果として生じるビート周波数の変化は、測定ビーム１５６がステージ１２０から反射することによって引き起こされる全ドップラシフトを示す。検出器システム１６０が、第１の測定チャネルの場合に正味のドップラシフトを求めたのと同じようにして、第２の測定チャネルのための全ドップラシフトを求めることができる。先に言及されたように、全ドップラシフトは、Ｘ方向におけるステージ１２０の動きに関連するドップラシフトと、Ｚ方向におけるステージ１２０の動きに関連するドップラシフトとの和である。ビーム１５６とビーム１５８との間の位相差を最大にする、ステージ１２０の動きの方向は、正のＸ方向及び負のＺ方向に等しい成分を有するベクトルに平行である。しかしながら、第１の測定チャネルがＺ方向における動きの測定値を生成するので、両方の測定チャネルからの情報を合成して、Ｘ方向における動きを測定することができる。
【００２５】
反射鏡１７０、たとえば五角プリズムは、ステージ１２０が大きな範囲にわたってＹ軸を中心にして縦揺れ回転する場合でも、ビーム１５８のための比較的変化の少ない垂直方向の光路を提供することができ、同じようにポロプリズム１７０は、Ｘ軸を中心にしたステージ１２０の横揺れ回転を補償する再帰反射鏡としての役割を果たすので、第２の測定チャネルは、広いダイナミックレンジの測定を提供する。さらに、ポロプリズム１３２が、Ｘ軸及びＺ軸両方のステージ１２０の回転を補償する。再び、第２の測定チャネルのための光路長は一般に、従来の複光路干渉計の場合の光路長よりも短く、システム１００の第２の測定チャネルに、より広いダイナミックレンジを与える。システム１００の第２の測定チャネルのために適したいくつかの干渉計システムの動作及び別の実施形態に関するさらなる説明は、米国特許第６，６５０，４１９号において見いだすことができる。第１の測定チャネル及び第２の測定チャネルからの測定値を合成することによって達成される、Ｘ軸に沿った水平方向の平行移動の結果的な測定値は、両方の測定チャネルがステージ１２０の回転を容認するので、ステージ１２０の回転に対して広いダイナミックレンジを有する。
【００２６】
本開示の別の態様によれば、干渉計システムが、ウェーハステージのような物体の６つの自由度を測定するための広いダイナミックレンジを提供することができる。一般的に、６つの自由度を測定することは、測定されている物体の周囲の種々の場所から測定を実行することによって簡略化される。たとえば、図２は、測定されているステージ２２０の周囲の４つの場所において干渉計システム３００、３００’、４００及び５００を有するシステム２００を示す。この実施形態は、投影レンズ２３０に対して干渉計システム３００、３００’、４００及び５００の場所が固定されているリソグラフィシステムである。ステージ２２０は、必要に応じて、投影レンズ２３０に対してウェーハ２２５の位置及び向きを設定するために動く。反射鏡３３０、３３０’及び４３０は、ステージ２２０の上方又は下方に取り付けることができ、ステージ２２０の垂直方向への動きを測定するために用いられる。
【００２７】
プロセッサ２５０には適当なソフトウエアを実行する汎用コンピュータを用いることができ、プロセッサ２５０は、１つ又は複数の干渉計システム３００、３００’、４００又は５００の異なるチャネルからの測定値を合成して、特定の測定値を求めることができ、たとえば、上記のようにＸ−Ｚ測定値及びＺ測定値にそれぞれ対応する信号からＸ測定値を求めることができる。またプロセッサ２５０は、後にさらに説明されるように、個別の干渉計システム３００、３００’、４００及び５００からの測定信号を合成して、回転測定値を正確に求めることもできる。
【００２８】
システム２００の１つの例示的な実施形態における干渉計システム３００を用いて、図２のＸ方向に沿った水平方向への動きと、Ｚ方向に沿った垂直方向への動きとが測定される。上記のように、図１の干渉計システム１００は、水平方向及び垂直方向の両方への動きを測定することができ、システム３００にも用いることができる。しかしながら、図３Ａは、システム１００に類似であるが、Ｚ方向における変位を測定するための異なる技法を用いる第１の測定チャネルを有する、干渉計システムの別の実施形態３００を示す。
【００２９】
干渉計システム３００の第１の測定チャネルは、ビーム源３１２と、ＰＢＳ３４０と、方向転換鏡３５２と、第１の測定反射鏡３２２と、垂直方向に変位した反射鏡３３０と、偏光変換素子（たとえばＱＷＰ）３５４と、参照反射鏡３２４と、再帰反射鏡３５５と、検出器システム３６２とを用いる。ビーム源３１２は入力ビームＩＮ１を生成し、１つの例示的な実施形態では、そのビームは上記のようなヘテロダインビームである。ＰＢＳ３４０は、入力ビームＩＮ１を、測定ビーム３７２及び参照ビーム３７４に分割する。例示的な実施形態における測定ビーム３７２は、ＰＢＳ３４０から反射し、その後、方向転換鏡３５２から反射し、Ｘ方向において測定反射鏡３２２に進む。
【００３０】
測定反射鏡３２２は、Ｘ軸からある角度（好ましくは４５°）を成してステージ２２０上に取り付けられる平面鏡である。測定反射鏡３２２は、測定ビーム３７２を、水平なＸ方向から垂直なＺ方向に反射する。垂直な光路において、測定ビーム３７２は反射鏡３３０に突き当たり、その例示的な実施形態では、その反射鏡は、レンズ１３０の中心と位置合わせされる頂点を有するポロプリズムである。反射鏡３３０は、測定ビーム３７２を、垂直で、且つＹ方向においてオフセットされた光路に沿って、測定反射鏡３２２に戻る。その後、測定ビーム３７２は、測定反射鏡３２２、方向転換鏡３５２及びＰＢＳ３４０から反射し、検出器システム３６２への出力ビームの一部を形成する。
【００３１】
ＰＢＳ３４０からの参照ビーム３７４はＱＷＰ３５４を通過して、反射鏡３２４から反射する。その例示的な実施形態では、反射鏡３２４はステージ２２０上に取り付けられる平面鏡であり、名目上、Ｘ軸に対して垂直である。ステージ２２０が傾いていないとき、参照ビーム３７４は、同じ光路に沿って参照鏡３２４から戻り、ＱＷＰ３５４を通過し、ＰＢＳ３４０に入射する。最初に２度ＱＷＰ３５４を通過することにより、参照ビーム３７４の偏光が変化し、その結果、その後、参照ビーム３７４は、ＰＢＳ３４０から再帰反射鏡３５５に向かって反射する。再帰反射鏡３５５は、反射された参照ビーム３７４に、ポロプリズム３３０が測定ビーム３７２に与えるのと同じオフセットを与えるポロプリズムであることが好ましい。再帰反射鏡３５５から、参照ビーム３７４はＰＢＳ３４０において反射し、ＱＷＰ３５４を通過し、反射鏡３２４からもう一度反射し、ＱＷＰ３５４を通って戻り、その後、ＰＢＳ３４０を通過して、検出器３６２への出力ビームにおいて測定ビーム３７２に合流する。
【００３２】
図３Ｂは、ビーム３７２及び３７４がステージ２２０から反射する、反射鏡３２２及び３２４のエリアを示す。測定ビーム３７２は、測定反射鏡３２２から２度反射し、反射する度に、Ｘ方向におけるステージ２２０の動き及びＺ方向におけるステージ２２０の動きに対応する成分を有するドップラシフトを受ける。参照ビーム３７４も同様に、ステージ２２０上の反射鏡３２４から２度反射し、反射する度に、Ｘ方向におけるステージ２２０の速度に依存するドップラシフトを受ける。ステージ２２０がＺ方向において動く場合には、ビーム３７２だけがドップラシフトを受けるであろう。Ｘ方向においてステージ２２０が動くことにより、ビーム３７４では、ビーム３７２に対して２倍のドップラシフトが引き起こされ、ビーム３７２と３７４との間の位相差を最大にするステージ２２０の動きの方向は、Ｘ方向及びＺ方向において等しい成分を有するベクトルに平行である。測定される周波数は、ビーム３７２とビーム３７４との間の位相差の変化率であり、等しいＸ成分及びＺ成分を有するベクトルに沿った速度を示す。ポロプリズム３３０がステージ２２０の横揺れ回転を補償する再帰反射鏡としての役割を果たし、ステージ２２０の他の回転が測定ビーム３７２及び参照ビーム３７４の両方に影響を及ぼすので、この第１の測定チャネルは、広いダイナミックレンジ測定を提供する。一般的に、偏揺れ回転は、ビーム３７２及び３７４に異なる量の影響を及ぼすが、反射鏡３３０及び３５５によってそれぞれ補償されるであろう。「Interferometer for Measuring Perpendicular Translations」というタイトルの米国特許出願第１１／２０５，３６８号はさらに、垂直方向への変位を測定する測定チャネルのための類似の、且つ適した別の実施形態を記述する。
【００３３】
図３Ａの干渉計システム３００の第２の測定チャネルは、入力ビームＩＮ２を生成するが、それ以外の点では、図１のシステム１００の第２の測定チャネルと概ね同じように動作するビーム源３１４を備える。詳細には、干渉計システム３００の第２の測定チャネルの場合、ＰＢＳ３４０、ＱＷＰ３５４、反射鏡３２６及び３２８、ポロプリズム３３０、ＱＷＰ３５６、ポロプリズム３５７並びに検出器システム３６４がそれぞれ、ＰＢＳ１１４、ＱＷＰ１１５、反射鏡１７２及び１７４、ポロプリズム１３２、ＱＷＰ１１６、参照反射鏡１１８並びに検出器システム１６０と同じ構成を有し、同じ役割を果たすことができる。これらの素子及び役割は先に説明されたとおりである。干渉計システム３００の第１の測定チャネルは、Ｘ＋Ｚ方向においてステージが動く場合に最大の位相差を生成し、干渉計システム３００の第２の測定チャネルはＸ−Ｚ方向においてステージが動く場合に最大の位相差を生成するので、これらのチャネルはＸＺ平面において２つの直交する方向を測定する。それゆえ、Ｘ方向及びＺ方向におけるステージの動きは、システム３００の２つのチャネルの測定結果から、最大の分解能で計算することができる。
【００３４】
１つの例示的な実施形態における図２の干渉計システム３００’も、ステージ２２０の水平方向及び垂直方向への動きを測定する。しかしながら、干渉計システム３００’は、システム３００とステージ２２０との間の離間がＹ方向に沿うように配置される。システム３００’は、システム３００と同様に、たとえば、図１又は図３Ａによって例示されるタイプの干渉計システムを用いて実装することができる。
【００３５】
干渉計システム３００及び３３０’は合わせて、Ｘ、Ｙ及びＺ方向へのステージの動きの測定を提供する。システム３００及び３００’は、ステージ２２０上の異なる点を測定し、それゆえ、ステージ２２０の回転に関していくつかの情報を提供する。たとえば、ステージ２２０が０°以外の横揺れ角又は縦揺れ角で回転するとき、システム３００からのＺ方向の測定値は、システム３００’からのＺ方向の測定値とは異なるであろう。ステージ２２０の回転は、システム３００及び／又は３００’と同じ場所か、又は干渉計システム４００及び／又は５００の場所かのいずれかにある、さらに別の干渉計システムを用いてさらに測定することができる。
【００３６】
図４Ａ及び図４Ｂはそれぞれ、図２に示されるような干渉計システム３００と反対側に配置することができる、干渉計システム４００の側面図及び上面図を示す。この実施形態では、干渉計システム４００は、Ｘ＋Ｚ方向への平行移動を測定する第１の測定チャネルと、Ｚ軸を中心にしたステージ２２０の偏揺れ角の回転を測定する第２の測定チャネルとを有する。干渉計システム４００は、Ｘ＋Ｚ方向の平行移動を測定し、その場合、Ｚ方向の平行移動は干渉計システム３００の測定点の反対側にあるステージ２２０上の点において測定され、システム３００及び４００から求められるＺ方向の測定値を用いて、ステージ２２０の縦揺れ回転を求めることができる。さらに、Ｘ軸を中心にした横揺れ角の回転は、システム３００及び４００が測定する点からＹ方向にオフセットされた点を測定する、干渉計システム３００’からのＺ方向測定と、システム３００及び４００からのＺ方向測定との組み合わせから求めることができる。したがって、システム３００、３００’及び４００は、ステージ２２０の６つの自由度（たとえば、Ｘ、Ｙ、Ｚ、縦揺れ、偏揺れ及び横揺れ）を測定するのに十分である。
【００３７】
干渉計システム４００の第１の測定チャネルは、図３Ａのビーム源３１２、ＰＢＳ３４０、方向転換鏡３５２、測定反射鏡３２２、ポロプリズム３３０、ＱＷＰ３５４、参照反射鏡３５５及び検出器システム３６２とそれぞれ同じ構成及び動作を有することができる、ビーム源４１２、ＰＢＳ４４２、方向転換鏡４５６、測定反射鏡４２２、ポロプリズム４３０、偏光変換素子（又はＱＷＰ）４５２、参照反射鏡４５４及び検出器システム４６２を用いる。別法では、干渉計システム４００は、図１のシステム１００の第１の測定チャネルの場合に先に説明された構造及び技法を用いて、Ｚ方向における動きを測定することができる。いずれの実施形態でもＺ方向の測定の場合に広いダイナミックレンジを提供し、結果として、システム３００及び４００からのＺ方向測定を用いる縦揺れ回転測定は、ステージ２２０の傾きに対して高い許容度を有する。さらに、ステージ２２０の両側においてＺ方向測定を実行するシステム３００及び４００によって、縦揺れ回転がＺ方向測定の差に最大の影響を及ぼし、縦揺れ測定の精度が改善される。
【００３８】
図４Ｂは、干渉計システム４Ｂの第２の測定チャネルを最もわかりやすく示す。図に示されるように、第２の測定チャネルは、ビーム源４１４、ＰＢＳ４４４、偏光変換素子４５２、方向転換鏡４５８、平面反射鏡４２４及び検出器システム４６４を用いる角度干渉計である。ＰＢＳ４４４は、ビーム源４１４からの入力ビームを分割して、一対のビームＹＡＷＭ及びＹＡＷＲを生成する。例示される実施形態では、ビームＹＡＷＭは最初にＰＢＳ４４４から反射し、途中でＱＷＰ４５２を通過して、平面反射鏡４２４まで進む。その後、ビームＹＡＷＭは反射鏡４２４から反射し、ＱＷＰ４５２を通って戻り、ＰＢＳ４４４を通過して検出器４６４への出力ビームの一部を形成する偏光を有する。ビームＹＡＷＲは最初にＰＢＳ４４４を通過し、方向転換鏡４５８から反射し、途中でＱＷＰ４５２を通過して、平面反射鏡４２４まで進む。ビームＹＡＷＭは反射鏡４２４から反射し、ＱＷＰ４５２を通って戻り、その際、ＰＢＳ４４４において反射して検出器４６４への出力ビームの一部を形成する偏光を有する。
【００３９】
反射鏡４２４から反射するときに、ビームＹＡＷＭ及びＹＡＷＲはいずれも、Ｘ方向におけるステージ２２０の速度を示すドップラシフトを受ける。したがって、検出器４６４におけるビームＹＡＷＭとＹＡＷＲとの間の周波数差の任意の変化は、ステージ２２０上のＹ方向において離間された点におけるＸ方向速度の差を示し、それゆえ、Ｚ軸を中心にしたステージ２２０の回転を示す。図４Ｃに示されるように、反射鏡４２４上のビームＹＡＷＭ及びＹＡＷＲの反射エリア間の離間は、偏揺れ回転によって引き起こされる速度差を大きくするために大きいことが好ましい。対照的に、反射鏡４２４上の参照ビーム４７４の反射エリアの離間及び、反射鏡４２２上の測定ビーム４７２の反射エリアの離間は、ステージ回転の影響を最小限に抑えるために、それよりも小さい。
【００４０】
図２の例示的な実施形態のシステム２００の干渉計システム３００、３００’及び４００は合わせて、Ｘ、Ｙ及びＺ方向の動き、並びに縦揺れ、偏揺れ及び横揺れ回転の広いダイナミックレンジ測定を提供する。しかしながら、図２の干渉計システム２００は、オプションで干渉計システム５００を用いて、重複した測定を提供し、且つ／又は測定の信頼性を高めることができる。一実施形態では、干渉計システム５００は、干渉計システム３００’がＺ方向の動きを測定するときと反対側にあるステージ２２０上の点において、Ｚ方向の動きの広いダイナミックレンジ測定を実行する。そのようなＺ方向の動きの測定は、たとえば、図１又は図３Ａに関して先に説明されたタイプの構造及び過程を用いて、実行することができる。Ｚ方向の速度測定のＹ方向に沿った離間を大きくすることにより、横揺れ回転を正確に測定するための測定信号が最大になる。
【００４１】
別法では、横揺れ角回転は、図４Ｂの干渉計システム４００の第２の測定チャネルに類似であるが、Ｙ軸に対して垂直な平面反射鏡上の反射エリア間のＺ方向に沿った離間を与えるように向けられる角度干渉計を用いて測定することができる。図５Ａ及び図５Ｂは、ステージ２２０の横揺れ及び偏揺れの両方の回転を測定する干渉計システム５００の一実施形態を示す。
【００４２】
図５Ａは、干渉計システム５００の第１の測定チャネルを最もわかりやすく示す。この実施形態では、第１の測定チャネルは、図４Ｂの干渉計システム４００の第２の測定チャネルを形成する角度干渉計とは、幾何学的構成が幾分異なる角度干渉計である。干渉計システム５００の横揺れ角干渉計は、ビーム源５１２と、ＰＢＳ５４２と、偏光変換素子（たとえばＱＷＰ）５５２と、平面反射鏡５２０と、方向転換鏡５５４と、検出器システム５６２とを用いる。ＰＢＳ５４２は、ビーム源５１２からの入力ビームを分割して、一対のビームＲＯＬＬＭ及びＲＯＬＬＲを生成する。例示される実施形態では、ビームＲＯＬＬＭは最初にＰＢＳ５４２を通過し、途中でＱＷＰ５５２を通過して、平面反射鏡５２０まで進む。ビームＲＯＬＬＭは反射鏡５２０から反射し、ＱＷＰ５５２を通って戻り、その際、ＰＢＳ５４２において反射して検出器５６２への出力ビームの一部を形成する偏光を有する。ビームＲＯＬＬＲは最初に、ＰＢＳ５４２において反射し、方向転換鏡５５４から反射し、途中でＱＷＰ５５２を通過して、平面反射鏡５２０まで進む。その後、ＲＯＬＬＲは反射鏡５２０から反射し、ＱＷＰ５５２を通って戻り、その際、ＰＢＳ５４２を通過して検出器５６２への出力ビームの一部を形成する偏光を有する。
【００４３】
平面反射鏡５２０からの反射によって引き起こされるビームＲＯＬＬＭ及びＲＯＬＬＲのドップラシフトの差は、Ｚ方向において離間される点のＹ方向の速度の差を示し、それゆえＸ軸を中心にした横揺れ回転を示す。したがって、検出器システム５６２は、ビームＲＯＬＬＭとＲＯＬＬＲとの間の周波数差の変化を測定し、ステージ２２０の横揺れ回転を求めることができる。図５Ｃに示されるように、反射鏡５２０上のビームＲＯＬＬＭ及びＲＯＬＬＲの反射エリア間の離間は、測定精度を高めるためにできる限り大きくすべきである。
【００４４】
図５Ｂは、干渉計システム５００が第２の測定チャネルを含み、別の、すなわち重複した偏揺れ回転の測定を実行できることも示す。例示される実施形態では、第２の測定チャネルは、干渉計システム４００の第２の測定チャネルとは異なる向きを有するが、同じ構造を有する角度干渉計である。詳細には、干渉計システム５００の第２の測定チャネルは、図４Ｂのビーム源４１４と、ＰＢＳ４４４と、ＱＷＰ４５２と、方向転換鏡４５８と、反射鏡４２４と、検出器電子回路４６４と概ね同じように構成され、且つ同じ役割を果たすことができるビーム源５１４と、ＰＢＳ５４４と、ＱＷＰ５５２と、測定反射鏡５２０と、方向転換鏡５５６と、検出器電子回路５６４とを用いる。
【００４５】
こうして、図２の例示的な実施形態の干渉計システム２００は、異なるサブシステム３００、３００’、４００及び５００において異なる測定を実行することにより、ステージ２２０の６つの自由度を測定することができる。しかしながら、サブシステムは、異なるシステムにおいて異なる測定を実行するために、且つ／又はサブシステム３００、３００’、４００及び５００のうちのいくつかを完全になくすために、種々の態様で構成し直すことができる。
【００４６】
本開示はシステム及び過程の特定の実施形態を記述するが、その記述は、本教示によるシステム及び過程の例を提供するだけであり、特許請求の範囲を制限するものと見なされるべきではない。たとえば、上記の開示は、ドップラシフトを測定し、物体の速度を求める干渉計に焦点を当てているが、別の実施形態による干渉計は、位相差を測定し、距離を直に測定することもできる。開示される実施形態の種々の他の適合形態、及び特徴の組み合わせが、本教示の利益を受けた当業者であれば思い浮かぶはずであり、それゆえ、それらも添付の特許請求の範囲の範囲内にある。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】水平方向及び垂直方向における測定を提供し、物体の向きの広いダイナミックレンジを可能にする干渉計を含むシステムの図である。
【図２】剛性の物体の６つ全ての自由度を測定する干渉計を含むシステムの平面図である。
【図３Ａ】水平方向及び垂直方向における測定を提供し、物体の向きの広いダイナミックレンジを可能にする干渉計を含む別の実施形態の側面図である。
【図３Ｂ】図３Ａのシステムにおいて生成されるビームのための測定反射鏡及び反射エリアを示す図である。
【図４Ａ】偏揺れ角及び水平方向の動きの測定を提供し、物体の向きの広いダイナミックレンジを可能にする干渉計を含む実施形態の側面図である。
【図４Ｂ】偏揺れ角及び水平方向の動きの測定を提供し、物体の向きの広いダイナミックレンジを可能にする干渉計を含む実施形態の上面図である。
【図４Ｃ】図４Ａ及び図４Ｂのシステムにおいて生成されるビームのための測定反射鏡及び反射エリアを示す図である。
【図５Ａ】２つの垂直な軸を中心にした角度測定を提供し、物体の向きの広いダイナミックレンジを可能にする干渉計を含む実施形態の側面図である。
【図５Ｂ】２つの垂直な軸を中心にした角度測定を提供し、物体の向きの広いダイナミックレンジを可能にする干渉計を含む実施形態の上面図である。
【図５Ｃ】図５Ａ及び図５Ｂのシステムにおいて生成されるビームのための測定反射鏡及び反射エリアを示す図である。
【符号の説明】
【００４８】
１１０：干渉光学系
１１２：ビーム源
１１３：ビームスプリッティング光学素子
１１４：偏光ビームスプリッタ
１１５：４分の１波長板
１２０：ステージ、物体
１２５：ウェーハ
１３０：投影レンズ
１５６：光路
１６０：検出器システム
【図１】
2007163479.tif 000003
【図２】
2007163479.tif 000004
【図３Ａ】
2007163479.tif 000005
【図３Ｂ】
2007163479.tif 000006
【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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