(57)【要約】【課題】アース電極部の形成が容易な電極部付き光学フィルタの製造方法を提供すること。【解決手段】剥離性表面全面に未硬化のハードコート層又は近赤外線吸収層が形成された、当該剥離性表面を有する所定の寸法の矩形状基板の該未硬化層を、該未硬化の層より寸法の大きい矩形状透明フィルムの表面全体に導電層が形成された積層体の当該導電層上に、該未硬化の層の周囲に導電層の帯状領域を残すように、圧着させ、該未硬化の層を硬化した後、矩形状基板を除去することにより硬化層を導電層上に転写する工程を含む、電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
剥離性表面全面に未硬化のハードコート層又は近赤外線吸収層が形成された、当該剥離性表面を有する所定の寸法の矩形状基板の該未硬化層を、該未硬化の層より寸法の大きい矩形状透明フィルムの表面全体に導電層が形成された積層体の当該導電層上に、該未硬化の層の周囲に導電層の帯状領域を残すように、圧着させ、該未硬化の層を硬化した後、矩形状基板を除去することにより硬化層を導電層上に転写する工程を含む、電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。
【請求項２】
当該剥離性表面全面に、未硬化のハードコート層を形成する請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
剥離性表面と未硬化のハードコート層との間に、未硬化のハードコート層と同形、同寸法の未硬化の低屈折率層が面一で存在する請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
未硬化のハードコート層と未硬化の低屈折率層との間に、未硬化のハードコート層と同形、同寸法の未硬化の高屈折率層が面一で存在する請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
当該剥離性表面全面に、未硬化の近赤外線吸収層を形成する請求項１に記載の製造方法。
【請求項６】
導電層を有する矩形状透明フィルムの裏面に、近赤外線吸収層が形成されている請求項２〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
矩形状基板を除去した後、ハードコート層及び導電層を有する矩形状透明フィルムの裏面に、近赤外線吸収層を形成する請求項２〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
近赤外線吸収層がネオン光吸収色素を含有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
表面が剥離性の矩形状基板が、剥離剤層を有する矩形状基板である請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
導電層が、メッシュ状導電層である請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
メッシュ状導電層の厚さに対するハードコート層の厚さの比が、２：１〜１：１０の範囲にある請求項１０に記載の製造方法。
【請求項１２】
未硬化のハードコート層、未硬化のハードコート層と未硬化の低屈折率層、又は未硬化のハードコート層と未硬化の低屈折率層と未硬化の高屈折率層が、紫外線硬化性樹脂を含む請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１３】
未硬化のハードコート層、未硬化のハードコート層と未硬化の低屈折率層、又は未硬化のハードコート層と未硬化の低屈折率層と未硬化の高屈折率層が、熱硬化性樹脂を含む請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１４】
ハードコート層が、紫外線吸収剤を含有する請求項１〜１３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１５】
透明フィルムがプラスチックフィルムである請求項１〜１４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１６】
圧着を真空下に行う請求項１〜１５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１７】
硬化を紫外線照射により行う請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１８】
硬化を加熱により行う請求項１３に記載の製造方法。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか１項に記載の製造方法により得られる電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２０】
近赤外線吸収層の透明フィルムと反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている請求項１９に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２１】
透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている請求項２０に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２２】
プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１９〜２１のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２３】
請求項１９〜２１のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項２４】
請求項１９〜２１のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にＰＤＰに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。
【０００３】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、これらを防止する目的で、ＰＤＰに対して、導電性を有する種々のＰＤＰフィルタ（電磁波シールド性光透過窓材）が提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００４】
さらに、従来のＰＤＰを初めとした大型ディスプレイでは、反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムが貼り合わされている。例えば、特許文献１（特開平１１−７４６８３号公報）には、２枚の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。
【０００５】
上記電磁波シールド性光透過窓材においては、上記導電層による電磁波シールド性を良好なものとするために、導電層（電磁波シールド材）、例えば導電性メッシュ、をＰＤＰ本体に接地（アース）する必要がある。そのためには、２枚の透明基板間から電磁波シールド材を外部にはみ出させ、上記光透過窓材積層体の裏側に回り込ませて接地するか、２枚の透明基板間に該電磁波シールド材に接触するように導電性粘着テープを挟み込む必要がある。しかしながら、このような方法では、積層工程における上記作業が煩雑であるとの問題がある。
【０００６】
また、特許文献２（特開２００１−１４２４０６号公報）には、１枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部（端部）とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−７４６８３号公報
【特許文献２】特開２００１−１４２４０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に示されているように、従来のＰＤＰ等のディスプレイ用光学フィルタは、一般に複数の機能性フィルムを製造後、それらを貼り合わせるので煩雑な製造工程となり、コスト面でも不利である。
【０００９】
このため、部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を図るため、特許文献２に示されるようなフィルタ部材にガラスを含まないタイプのＰＤＰフィルタ（直張りタイプＰＤＰフィルタ）が提案されている。しかしながら、このような直張りタイプＰＤＰフィルタもガラス以外の機能性フィルムを予め製造した後、貼り合わせるという点では、従来のフィルタと同様に、煩雑な製造工程となる。また、各機能性フィルムは、基板に透明フィルムを用いているため、それらを貼り合わせる必要があることから、製造されるＰＤＰフィルムには複数の透明フィルムが含まれることとなり、コスト面でも不利である。
【００１０】
これらの問題を解決するために、基板として一枚の樹脂フィルムのみを用い、複数の機能層をその表面に形成する構造を採用することが考えられる。その製造方法として最も簡便なものが、樹脂フィルム上に導電メッシュを形成した電磁波シールドフィルム上に、反射防止層、近赤外線吸収層等の機能層を塗工によって形成する方法である。
【００１１】
しかしながら、上記のように塗工によって各機能層を形成すると、導電メッシュ部が露出しない状態となるため電磁シールドのためのアース部を確保できないとの問題がある。また、間欠的に塗工する方法も考えられるが、装置が比較的高価である点、塗工の際の位置精度が悪い点等の問題がある。さらに電磁波シールドフィルムの導電メッシュ面に、印刷法にて機能層を形成する方法もあるが、この場合、比較的高粘度の塗料を用いる必要がある等の制約が生じる。
【００１２】
従って、本発明は、精度良く且つ容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【００１３】
また、本発明は、精度良く且つ容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
【００１４】
さらに、本発明は、精度良く且つ容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１５】
また、本発明は、精度良く且つ容易に製造することができ、そして軽量で薄く、良好な電磁波シールド性を有し、そしてディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１６】
さらに、本発明は、精度良く且つ容易に製造することができ、そして良好な電磁波シールド性を有し、またディスプレイに装着し易く且つ接地し易いアース電極を有するＰＤＰ用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１７】
また、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。
【００１８】
さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
従って、本発明は、
剥離性表面全面に未硬化のハードコート層又は近赤外線吸収層が形成された、当該剥離性表面を有する所定の寸法の矩形状基板の該未硬化層を、該未硬化の層より寸法の大きい矩形状透明フィルムの表面全体に導電層が形成された積層体の当該導電層上に、該未硬化の層の周囲に導電層の帯状領域を残すように、圧着させ、該未硬化の層を硬化した後、矩形状基板を除去することにより硬化層を導電層上に転写する工程を含む、電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法；
にある。
【００２０】
上記の本発明の転写方法によれば、印刷版を作製しなくても、ハードコート層等を有する剥離性の矩形状基板を作製すれば、例えば、それを所望の寸法に裁断して、真空下に圧着する（ラミネートする）ことにより容易に転写することができ、得られるパターンも再現性の高いものである。また、導電層がメッシュ状導電層の場合、ハードコート層等の厚さを大きくしてメッシュ間の空隙を埋めることもでき、転写後の層表面の平滑性も容易に得ることができるとの利点がある。
【００２１】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の好適態様は以下の通りである。
（１）当該剥離性表面全面に、未硬化のハードコート層を形成する。この場合、未硬化の近赤外線吸収層を設けない。
（２）剥離性表面と未硬化のハードコート層との間に、未硬化のハードコート層と同形、同寸法の未硬化の低屈折率層が面一で存在する。
（３）未硬化のハードコート層と未硬化の低屈折率層との間に、未硬化のハードコート層と同形、同寸法の未硬化の高屈折率層が面一で存在する。
（４）当該剥離性表面全面に、未硬化の近赤外線吸収層を形成する。この場合、剥離性表面と近赤外線吸収層との間に未硬化のハードコート層等が設けられることが一般的である。
（５）当該剥離性表面全面に未硬化のハードコート層を設けられている場合、一般に、導電層を有する矩形状透明フィルムの裏面に、近赤外線吸収層が形成されている。
（６）矩形状基板を除去した後、ハードコート層及び導電層を有する矩形状透明フィルムの裏面に、近赤外線吸収層を形成する。
（７）近赤外線吸収層がネオン光吸収色素を含有する。或いは、近赤外線吸収層の別層として、ネオン発光の吸収層を有していても良い。
（８）表面が剥離性の矩形状基板が、剥離剤層を有する矩形状基板である。
（９）導電層が、メッシュ状導電層である。
（１０）メッシュ状導電層の厚さに対するハードコート層の厚さの比が、２：１〜１：５の範囲にある。特にハードコート層の層厚が３〜１０μｍが好ましい。
（１１）未硬化のハードコート層、未硬化のハードコート層と未硬化の低屈折率層、又は未硬化のハードコート層と未硬化の低屈折率層と未硬化の高屈折率層が、紫外線硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を含む。紫外線硬化性樹脂が好ましい。硬化が速く、生産性が向上する。
（１２）ハードコート層が、紫外線吸収剤を含有する。
（１３）透明フィルムがプラスチックフィルムである。
（１４）圧着を真空下に行う。
（１５）紫外線硬化性樹脂を用いた場合、硬化を紫外線照射により行う。熱硬化性樹脂を用いたときは硬化を加熱により行う。
【００２２】
さらに、本発明は、上記の製造方法により得られる電極部として周囲に突出した導電層を有するディスプレイ用光学フィルタにもある。
【００２３】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）ハードコート層が、透明フィルムの近赤外線吸収層と反対側の表面に設けられている場合、近赤外線吸収層の透明フィルムと反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている。
（２）透明粘着剤層の上に剥離シートが設けられている。
（３）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
【００２４】
さらにまた、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ；及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
【発明の効果】
【００２５】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法により、周囲に突き出た導電層からなる電極部（アース電極）を有する光学フィルタを、極めて容易に且つ高い精度で製造することができる。即ち、本発明の方法によれば、矩形状のプラスチックフィルム全面に形成された導電層上に、周囲に導電層を残すようにハードコート層等をラミネート転写することにより形成するので、精度良く且つ効率良く、周囲に突き出た導電層からなる電極部（アース電極）を有する光学フィルタを作製することができる。
【００２６】
また本発明のディスプレイ用光学フィルタは、上記製造方法を利用することにより有利に得られる、周囲に突き出た導電層を有する特定の構成の電極付き光学フィルタであり、アース設置を非常に容易にすることができるとの利点がある。
【００２７】
特に、本発明では、一般に、透明フィルムを１枚用いて上記光学フィルタを得ているので、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。
【００２８】
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
本発明の、電極部（アース電極）付きディスプレイ用光学フィルタの製造方法、及び本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。
【００３０】
図１に、本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタの製造方法の１例を説明するための図を示す。
【００３１】
表面に剥離剤層１１Ａを有する矩形状基板１１のその剥離剤層１１Ａの表面全面に、未硬化の低屈折率層１７及び未硬化のハードコート層１６が端面において面一に形成されている。一方、これらの未硬化の層より寸法の大きい矩形状透明フィルム１２には、その表面全体に導電層１３が形成されており、裏面には近赤外線吸収層１４が形成されている。この矩形状基板１１と矩形状透明フィルム１２とを、未硬化のハードコート層１６と導電層１３がこの未硬化のハードコート層の周囲に導電層１３の帯状領域（幅Ｌ）を残すように、真空下に圧着させ、密着させる（１）。これにより、（２）に示すようにこれらの積層体が形成される。次いで、紫外線照射（ＵＶ照射）等により未硬化の低屈折率層１７及び未硬化のハードコート層１６を硬化させ、これらの硬化層を導電層１３上に残して、剥離剤層１１を有する矩形状基板１０を除去する。これにより、硬化した低屈折率層１７及び硬化したハードコート層１６が導電層１３上に転写され、本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタ１０が得られる。従って、幅Ｌの周囲に突き出た導電層（電極部）を有するディスプレイ用光学フィルタが容易に得ることができる。
【００３２】
このような未硬化の低屈折率層１７及び未硬化のハードコート層１６の、導電層１３への圧着は、例えば、ラミネータを用いて行われる。ラミネート条件は、通常ハードコート層の材料の軟化点以上の温度で行われ、一般に２０〜１２０℃、好ましくは４０〜１１０℃、特に好ましくは６０〜１００℃の温度、１〜１０ｋｇ／ｃｍ2の圧力であり、好ましくは脱気後行われる。このような圧着の方法は、印刷法と異なり表面平滑性及び寸法安定性の点で特に有利である。
【００３３】
このように転写によりハードコート層等を設けることにより、これらの層を導電層１３より狭い所定の領域に精確に設けることができ、積層体の周囲に導電層を有する透明フィルム（上記幅Ｌの細い帯状領域）が突出する。この突出した部分がアースのための電極部として使用される。この両端部の細い帯状の領域の幅Ｌは、２〜１００ｍｍ、特に５〜５０ｍｍであることが好ましい。また導電層がメッシュ状の場合、ハードコート層等の層厚を大きくすることによりメッシュ間隙を埋めることができるので平滑な層表面が得られるとの利点も有する。
【００３４】
未硬化の低屈折率層１７及び未硬化のハードコート層１６が設けられた、表面に剥離剤層１１を有する矩形状基板１０は、例えば、長尺状フィルムの形で作製し、これを所望の寸法に裁断して、本発明の上記方法に使用することが好ましい。これにより生産性が向上する。また種々の形状の光学フィルタを、容易に作成することができ、自由度が拡大する。また、導電層１３及び近赤外線吸収層１４を有する透明フィルムも、上記のように長尺状に作製し、所望の寸法に裁断することも好ましい。
【００３５】
図１において、近赤外線吸収層１４上には透明粘着剤層が設けられていることが好ましい（ディスプレイへの貼付に有利）。さらにその上に剥離シートが設けられていても良い。また、ハードコート層１６上には、反射防止性を向上させるために上記のように低屈折率層等を設けることが好ましいが、ハードコート層のみであっても良い。
【００３６】
図１において、矩形状透明フィルム１２の裏面に形成された近赤外線吸収層１４を、矩形状基板１０の低屈折率層１６の上に設けても良い。或いは矩形状透明フィルム１２の裏面にハードコート層１６及び低屈折率層１７を設け、矩形状基板１０上に近赤外線吸収層１４を設け（好ましくは矩形状基板１０上に透明化処理層、近赤外線吸収層１４及び透明粘着剤層の順で設ける）でも良い。
【００３７】
しかながら、図１で得られる光学フィルタの構成が、ディスプレイ装着時に導電層が、ディスプレイの外側に存在することになるため、アースの設置が容易である点で有利である。
【００３８】
図１で得られた電極部付きディスプレイ用光学フィルタの低屈折率層側から見た平面図を図２に示す。ハードコート層１６上の低屈折率層１７の周囲に導電層１３が帯状に存在していることが示されている。この導電層１３はハードコート層１６（低屈折率層１７）の周囲（４辺）より突き出ており、電極部（幅Ｌの部分）を形成している。この電極部には、さらに導電性テープ等が貼付されても良い。
【００３９】
図１及び２では、本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタを一枚製造する方法を説明したが、一度に複数作成することも可能である。例えば、表面に導電層１３が形成され、裏面には近赤外線吸収層１４が形成された矩形状透明フィルム１２として、光学ディスプレイが２枚得られる寸法のものを用意し、この上に、上記の未硬化の低屈折率層１７及び未硬化のハードコート層１６が形成された、剥離剤層１１を有する矩形状基板１０を２枚、間隔をあけて連続して上記のように圧着して、その硬化、矩形状基板１０の剥離により硬化層を転写させて、導電層１３の２箇所に硬化層を形成する。そして、これを硬化層の間で裁断して周囲に導電層を有する２枚のディスプレイ用光学フィルタを得る。３枚以上も同様にして得ることができる。
【００４０】
上記導電層１３は、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層、又は塗工層、或いは金属酸化物層（誘電体層）、又は金属酸化物層と金属層との交互積層膜である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されているか、金属繊維層である。これにより低抵抗を得られやすい。一般に、メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの空隙は、下記の図３に示すように、ハードコート層１６で埋められている。これにより透明性が向上する。ハードコート層１６で埋めない場合は、他の層、例えば近赤外線吸収層１４或いはそれ専用の透明樹脂層で埋められるのが好ましい。
【００４１】
上記反射防止層１７は、一般に低屈折率層である。即ち、ハードコート層１６とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により反射防止効果を示す。この低屈折率層とハードコート層１６との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。
【００４２】
また反射防止層１７は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い（好ましくは低い）ハードコート層１６のみであっても良い。ハードコート層１６、反射防止層１７は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。
【００４３】
上記近赤外線吸収層１４は、ＰＤＰ又はディスプレイから発生する近赤外線領域の不要な電磁波を遮断する機能を有する。一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有する色素を含む層である。透明粘着層１５は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層１５の上に剥離シートを設けても良い。
【００４４】
電極部は、光学フィルタの１つの相対する両端面から突き出た導電層であり、突き出た帯状部分の幅（図１及び２のＬ）は、前述のように、２〜１００ｍｍ、特に５〜５０ｍｍであることが好ましい。導電層は、メッシュ状金属層であることが好ましい。
【００４５】
図３に、図１の（３）に示された本発明のディスプレイ用光学フィルタ１１の好ましい態様の１例の概略断面図を示す。図３は、図１の導電層としてメッシュ導電層を用いた場合における図に相当する。図３のディスプレイ用光学フィルタ２１において、透明フィルム２２の一方の表面に、メッシュ状の導電層２３、ハードコート層２６及び低屈折率層（反射防止層）２７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層２４（及びその上に透明粘着剤層を設けることが好ましい）が設けられている。ハードコート層２６及び低屈折率層等の反射防止層２７が、透明フィルムの表面全域に形成された導電層２３上に、周囲に枠状の導電層を残すように形成されており、これにより導電層２３が周囲により突き出ており、電極部を形成している。このメッシュ状の金属層のメッシュの空隙は、ハードコート層２６で埋められており、これにより透明性が向上している。メッシュ状導電層の厚さに対するハードコート層の厚さの比が、２：１〜１：１０の範囲にあることが好ましい。この場合、特にハードコート層の層厚が３〜１０μｍが好ましい。得られる光学フィルタの反り（カール）及びヘイズが共に優れたものが得られる。この電極部には、アースをとるための種々の導電材料が接続される。例えば、導電性テープ（（株）寺岡製作所製のＮｏ．８３２３）の等を用いることができる。
【００４６】
上記矩形のディスプレイ用光学フィルタは透明フィルムを１枚用いているが、透明フィルムは２枚用いても良い。例えば、透明フィルムの表面に、メッシュ状の導電層、ハードコート層及び低屈折率層等の反射防止層がこの順で設けられたものを本発明の方法に従い製造し、別の透明フィルムの表面には近赤外線吸収層及びその上に透明粘着剤層が設けられたものを、２枚の透明フィルムの層が設けられていない表面同士で接着しても良い。透明フィルム２枚は、製造上有利である場合に採用されるが、厚さが大きくなるので嵩高くなる点で不利である。
【００４７】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法において使用されるハードコート層等を導電層上に圧着する方法は、前記のようにラミネータを用いて行われる。例えば、真空ラミネータを用い一般に２０〜１２０℃、好ましくは４０〜１１０℃、特に好ましくは６０〜１００℃の温度、脱気時間１〜５分、プレス圧力１〜１０ｋｇ／ｃｍ2、プレス時間１〜４５分で加圧圧着することにより行われる。
【００４８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。
【００４９】
透明フィルムは、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。
【００５０】
透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍが好ましく、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
矩形基板も、上記透明フィルムと同様のものを使用することができる。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等が好ましい。矩形基板の厚さは、一般に１μｍ〜１ｍｍ、１μｍ〜０．５ｍｍが好ましく、特に１０〜２５０μｍが好ましい。
【００５１】
本発明の矩形基板の表面に剥離性を有する。このため、一般に上記矩形基板表面に剥離剤層が設けられている。剥離剤層は、一般にシリコーン樹脂、フッ素樹脂等の層或いはシリコーンオイル等の界面活性剤含有樹脂層が設けられている。その厚さは、一般に１〜１０μｍ、３〜５μｍが好ましい。
【００５２】
本発明の導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□の範囲となるように設定される。メッシュ（格子）状の導電層も好ましい。或いは、導電層は、塗工層でもよく、気相成膜法により得られる層（金属酸化物（ＩＴＯ等）の透明導電薄膜）でも良い。さらに、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体膜とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）であっても良い。
【００５３】
メッシュ状の導電層としては金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたもの、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００５４】
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、金属繊維及び／又は金属被覆有機繊維よりなる線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。
【００５５】
なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００５６】
メッシュ状の導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。
【００５７】
金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。
【００５８】
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００５９】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００６０】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００６１】
或いは、メッシュ状の導電層を、透明基板に導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。
【００６２】
一般に、粒径１００μｍ以下のカーボンブラック粒子、或いは銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を５０〜９０重量％濃度にＰＭＭＡ、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。
【００６３】
このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼすことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。
【００６４】
このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。
【００６５】
導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００６６】
上記の他に、メッシュ状の導電層として、フィルム面に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによって得られるメッシュ状導電層を用いても良い。
【００６７】
塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。
【００６８】
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。
【００６９】
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００７０】
或いは、ポリマーは後述するハードコート層に使用される紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。
【００７１】
上記塗工による導電層の形成は、ポリマー（必要により溶剤を用いて）中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。
【００７２】
上記塗工形成された導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００７３】
本発明の導電層は、塗工により形成される導電性ポリマーの層であることも好ましい。例えば、ポリアセチレン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリフェニルアセチレン、ポリナフタレン等の炭化水素系ポリマー；ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリエチレンビニレン、ポリアズレン、ポリイソチアナフテン等のヘテロ原子含有ポリマーを挙げることができる。ポリピロール、ポリチオフェンが好ましい。上記導電性ポリマーの明導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に              ０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００７４】
導電層を気相成膜法により形成する場合（金属酸化物層）、その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。前記の無機化合物を用いて導電層を形成することができる。導電層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、３０〜５００００ｎｍ、特に５０ｎｍ程度が好ましい。
【００７５】
導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるために設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００７６】
また導電層は、誘電体層（金属酸化物）と金属層との交互積層膜でも良い。特に、誘電体層／金属層／誘電体層／金属層／誘電体層の５層以上の積層体が好ましい。例えば、ＩＴＯ等の金属酸化物の誘電体層とＡｇ等の金属層との交互積層体（例、ＩＴＯ／銀／ＩＴＯ／銀／ＩＴＯの積層体）を挙げることができる。
【００７７】
上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００７８】
導電層（特にメッシュ状導電層）をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、導電層上にメッキ層を形成することが好ましい。
【００７９】
メッキ処理に使用される材料としては、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀及び金を上げることができる。これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。メッキ処理としては通常の液相メッキ（電気メッキ、無電解メッキ等）により一般に行われる。
【００８０】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。
【００８１】
本発明の反射防止層は、一般に基板である透明フィルムより屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止膜は基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜としても良い。
【００８２】
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１２μｍである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００８３】
熱硬化性樹脂のバインダ樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコーン樹脂などを挙げることができる。
【００８４】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリ��ート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００８５】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００８６】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００８７】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００８８】
さらに、ハードコート層は、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。
【００８９】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００９０】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層２の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００９１】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４４〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００９２】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００９３】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００９４】
反射防止層が上記３層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜９０ｎｍ、低屈折率層の厚さは８５〜１１０ｎｍであることが好ましい。
【００９５】
反射防止層の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を、前記の矩形基板の剥離性表面に塗工し、次いで乾燥した後、前記透明フィルム上の導電層に圧着し、その後熱硬化させるか、或いは、紫外線照射により硬化する。本発明では紫外線照射による硬化が好ましい。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。この後は、前記のように矩形基板を除去して本発明の光学フィルタを得る。
【００９６】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。
【００９７】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００９８】
本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９９】
高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。
【０１００】
（ａ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計２層に積層したもの、（ｂ） 高屈折率層／低屈折率層を２層ずつ交互に、合計４層に積層したもの、（ｃ） 中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計３層に積層したもの、（ｄ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。高屈折率層としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等の屈折率が１．６以下の薄膜を用いることができる。
【０１０１】
上記高屈折率層及び低屈折率層等は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。しかしながら、このような蒸着膜は、本発明の転写には好ましくないので、矩形基板、透明フィルムに直接接しない層でのみ使用することができる。
【０１０２】
近赤外線吸収層は、透明フィルムの表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、一般に、下記色素及びバインダ樹脂等を含む塗工液を塗工、そして乾燥させることによって得られる。しかしながら、例えば下記色素及びバインダ樹脂等を含む紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂、或いは熱硬化性樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得ても良い。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【０１０３】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【０１０４】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【０１０５】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【０１０６】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【０１０７】
本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【０１０８】
近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【０１０９】
導電性粘着テープとしては、金属箔の一方の面に、導電性粒子を分散させた粘着層を設けたものであって、この粘着層には、アクリル系、ゴム系、シリコーン系粘着剤や、エポキシ系、フェノール系樹脂等を用いることができる。
【０１１０】
粘着層に分散させる導電性粒子としては、電気的に良好な導体であればよく、種々のものを使用することができる。例えば、銅、銀、ニッケル等の金属粉体、このような金属で被覆された樹脂又はセラミック粉体等を使用することができる。また、その形状についても特に制限はなく、リン片状、樹枝状、粒状、ペレット状等の任意の形状をとることができる。
【０１１１】
この導電性粒子の配合量は、粘着層を構成するポリマーに対し０．１〜１５容量％であることが好ましく、また、その平均粒径は０．１〜１００μｍであることが好ましい。このように、配合量及び粒径を規定することにより、導電性粒子の凝縮を防止して、良好な導電性を得ることができるようになる。
【０１１２】
導電性粘着テープの基材となる金属箔としては、銅、銀、ニッケル、アルミニウム、ステンレス等の箔を用いることができ、その厚さは通常の場合、１〜１００μｍである。
【０１１３】
粘着層は、この金属箔に、前記粘着剤と導電性粒子とを所定の割合で均一に混合したものをロールコーター、ダイコーター、ナイフコーター、マイカバーコーター、フローコーター、スプレーコーター等により塗工することにより容易に形成することができる。
【０１１４】
この粘着層の厚さは通常の場合５〜１００μｍである。
【０１１５】
本発明の透明粘着剤層は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブタジエン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【０１１６】
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に圧着することによる装備することができる。
【０１１７】
前記透明化樹脂層も、前記透明粘着剤層を利用しても良い。
【０１１８】
本発明において透明フィルム２枚を使用する場合、これらの接着には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ及びＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１１９】
その層厚は、一般に１０〜３００μｍ、好ましくは、２０〜３００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に圧着することによる装備することができる。
【０１２０】
上記透明粘着剤層の材料として、ＥＶＡも使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【０１２１】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【０１２２】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【０１２３】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【０１２４】
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。
【０１２５】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。
【０１２６】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【０１２７】
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０１２８】
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【０１２９】
なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【０１３０】
上記接着層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【０１３１】
反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。
【０１３２】
透明粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１３３】
本発明の電極部付き光学フィルタは、上記の材料を用いて、前述のように製造することができる。このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。
【０１３４】
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを１枚使用した場合は、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【０１３５】
従って、本発明の光学フィルタを有するディスプレイは、反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、安全なディスプレイということができる。
【実施例】
【０１３６】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
＜電極部付きディスプレイ用光学フィルタの作製＞
（ハードコート層及び低屈折率層を有する矩形基板の作製）
（１）低屈折率層の形成
下記の配合：
オプスターＪＮ―７２１２（日本合成ゴム（株）製）          １００質量部
メチルエチルケトン                                        １１７質量部
メチルイソブチルケトン                                    １１７質量部
を混合して得た塗工液を、表面に剥離剤層（シリコーン樹脂；厚さ２μｍ）を有する厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（幅：２００ｍｍ、長さ４００ｍｍ）の剥離剤層の全表面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍの低屈折率層（屈折率１．４２）を形成した。
【０１３７】
（２）ハードコート層の形成
下記の配合：
エポキシアクリレート（分子量５０００〜１５００００）        ４０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）        ４０質量部
ＩＴＯ（平均粒径１５０ｎｍ）                                ２０質量部
メチルエチルケトン                                        １００質量部
トルエン                                                  １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製）          ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記低屈折率層上にバーコータにより塗布し（図１（１）参照）、乾燥させた。これにより、剥離剤層上に厚さ６μｍのハードコート層（屈折率１．５２）を形成した。
【０１３８】
これにより、低屈折率層及びハードコート層を有する矩形基板を作製した。
【０１３９】
（メッシュ状導電層等を有する透明フィルムの作製）
（３）メッシュ状導電層の形成
表面に接着層（ポリエステル；厚さ２μｍ）を有する厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（幅：２００ｍｍ、長さ４００ｍｍ）の接着層上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。
【０１４０】
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してＰＥＴフィルムの全面にメッシュ状導電層を形成した。
【０１４１】
このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、開口率は７７％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは４μｍであった。
【０１４２】
（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート                                    ３０質量部
ＴＡＰ−２（山田化学工業（株）製）                            ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ  Ｒｅｄ  ８３８０（有本化学工業（株）製            ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製）                    １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製）                              ０．６質量部
メチルエチルケトン                                        １５２質量部
メチルイソブチルケトン                                      １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ＰＥＴフィルムの裏面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ５μｍの近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）を形成した。
【０１４３】
（５）透明粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製）                １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製）                          ０．４５質量部
トルエン                                                  １５質量部
酢酸エチル                                                  ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの透明粘着剤層を形成した。
【０１４４】
これにより前記矩形基板より寸法の大きい導電層等有する透明フィルムを得た。
【０１４５】
（電極部付きディスプレイ用光学フィルタの作製）
導電層等有する透明フィルムの導電層上に、その４辺の縁部（末端）に帯状部分（幅１０ｍｍ）を残すように、ハードコート層及び低屈折率層を有する矩形基板を、ハードコート層が導電層と接触するように積層した。得られた積層体を、真空ラミネータを用い、温度９０℃、脱気時間１．５分、プレス圧力４．５ｋｇ／ｃｍ2、プレス時間１．５分で加熱加圧圧着した。
【０１４６】
このように圧着された積層体に、低屈折率層側から紫外線を照射し、ハードコート層及び低屈折率層を硬化させた。
【０１４７】
次いで、得られた硬化積層体から矩形基板を除去し、周囲に突き出た導電層の電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４８】
［実施例２］
ハードコート層と低屈折率層の間に、下記のように高屈折率層を設けた以外同様にして実施例１と同様にして電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４９】
（６）高屈折率層の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）          ６質量部
ＺｎＯ（平均粒径４ｎｍ）                                      ４質量部
メチルエチルケトン                                        １００質量部
トルエン                                                  １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製）          １質量部
を混合して得た塗工液を、上記低屈折率層上にバーコータを用いて塗布し、乾燥させた。これにより、低屈折率層上に厚さ９０ｎｍの高屈折率層（屈折率１．７０）を形成した。
【０１５０】
［実施例３］
ハードコート層の層厚を８μｍに変更した以外実施例１と同様にして電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１５１】
［実施例４］
ハードコート層の層厚を１０μｍに変更した以外実施例１と同様にして電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１５２】
［実施例５］
ハードコート層の層厚を１２μｍに変更した以外実施例１と同様にして電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１５３】
［比較例１］
実施例１のメッシュ状導電層等を有する透明フィルムを、電極部を有するディスプレイ用光学フィルタとして用いた。
【０１５４】
［参考例１］
ハードコート層の層厚を４μｍに変更した以外実施例１と同様にして電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１５５】
［参考例２］
ハードコート層の層厚を１５μｍに変更した以外実施例１と同様にして電極部を有するディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１５６】
［光学フィルタの評価］
（１）周囲の帯状導電層の寸法精度
得られた光学フィルタの周囲の帯状導電層の幅を、５点測定し、その精度を評価した。最大幅と最小幅の差が０．５ｍｍ以内を○、１ｍｍ以上を×と表記した。
（２）ヘイズ
得られた光学フィルタのヘイズを、ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に従い測定した。
（３）反り（カール）
得られた光学フィルタを平坦なガラス板に置き、フィルタの４辺の内最も浮いている部分の縁部からガラス板表面までの垂直距離を測定した。その距離が５ｍｍ以下の場合を○、５ｍｍ超過１０ｍｍ以下を△、１０ｍｍ超過を×と評価した。
【０１５７】
上記結果を表１に示す。
【０１５８】
【表１】
2007328284.tif 000003
【０１５９】
上記のように、本発明の製造方法により得られた光学フィルタ（比較例１以外）は、導電層の電極部を寸法精度良く形成されており、アースが極めて容易である。また、適正層厚で形成されたハードコート層を有する光学フィルタ（実施例のもの）は、ヘイズ及びカールにおいても優れている。これにより、ディスプレイ表示に好適な透明性と、ディスプレイパネルへの貼り合わせに優れたものであることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１６０】
【図１】本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタの製造方法の１例を説明するための図である。
【図２】本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタの代表的な１例の平面図である。
【図３】本発明の電極部付きディスプレイ用光学フィルタの好ましい態様の１例の概略断面図である。
【符号の説明】
【０１６１】
１０、２０  ディスプレイ用光学フィルタ
１１  矩形状基板
１１Ａ  剥離剤層
１２、２２  透明フィルム
１３、２３  導電層
１６、２６  ハードコート層
１７、２７  反射防止層
１４、２４  近赤外線吸収層
【図１】
2007328284.tif 000004
【図２】
2007328284.tif 000005
【図３】
2007328284.tif 000006