(57)【要約】【課題】バニシングヘッドの飛行特性を改善する。【解決手段】バニシングヘッドは少なくとも２つのレールを備え、各レールは内壁および外壁を有する。外壁は互いに、かつバニシングヘッドの中心軸線に対して所定の角度となっている。このような角度によって、バニシングヘッドがバニス仕上げすべきディスクに接触した場合、ヘッドは、改善された回復時間を示すことができる。レールの壁は垂直であり、レールの壁とレールの頂部表面との間のコーナーはシャープとなっている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
前縁および後縁を有する、所定材料の本体と、
内壁および外壁を備え、前記材料の本体から延びた第１レールおよび第２レールとを備え、前縁に最も近い前記第１レールの前記外壁の部分が後縁に最も近い前記第１レールの前記外壁部分よりも中心軸に近くなるよう、前記第１レールの前記外壁が前記バニシングヘッドの中心軸に対して所定の角度となっており、前縁に最も近い前縁第２レールの前記外壁部分のほうが、後縁に最も近い前記第２レールの前記外壁部分よりも中心軸線に近くなるよう、前記第２レールの前記外壁が中心軸線に対して所定の角度となっているバニシングヘッド。
【請求項２】
前記外壁と前記中心軸線との間の角度の各々が、約５〜２５°の間にある、請求項１記載のバニシングヘッド。
【請求項３】
前記レールの高さが、３０μｍよりも高い、請求項１記載のバニシングヘッド。
【請求項４】
磁気ディスクをバニス仕上げするための方法であって、
前記磁気ディスクを回転させるステップと、
前記磁気ディスクの上にバニシングヘッドを飛行させるステップとを備え、
前記バニシングヘッドが、所定材料の本体と、前記所定材料の本体から延びた第１レールおよび第２レールとを備え、前記第１レールおよび前記第２レールが内壁および外壁を備え、前記前縁に最も近い前記第１レールの前記外壁の部分が後縁に最も近い前記第１レールの前記外壁部分よりも中心軸に近くなるよう、前記第１レールの前記外壁が前記バニシングヘッドの中心軸に対して所定の角度となっており、前縁に最も近い前縁第２レールの前記外壁部分のほうが、後縁に最も近い前記第２レールの前記外壁部分よりも中心軸線に近くなるよう、前記第２レールの前記外壁が、中心軸線に対して所定の角度となっている方法。
【請求項５】
前記外壁と前記中心軸線との間の角度の各々が、約５〜２５°の間にある、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記レールの高さが、３０μｍよりも高い、請求項６記載の方法。
【請求項７】
前記第１レールと前記第２レールとが、前記バニシングヘッドの飛行性を高めるよう、前記中心軸線に対して対称的となっている、請求項４記載の方法。
【請求項８】
前記第１レールと前記第２レールとが、前記バニシングヘッドの飛行性を高めるよう、前記中心軸線に対して対称的となっている、請求項１記載のバニシングヘッド。
【請求項９】
所定材料の本体と、
前記所定材料の本体から３０μｍよりも長い距離延びている第１レールおよび第２レールを備え、前記第１レールおよび第２レールが内壁および外壁を備え、前記外壁のうちの少なくとも１つが、前記バニシングヘッドの中心軸線に対して所定の角度となっており、前記少なくとも１つのレールが、前記材料の本体の前記バニシング表面に対して７５〜９０°の角度をなし、前記第１レールおよび第２レールの前記外壁と、前記第１レールおよび第２レールのバニシング表面との間の曲率半径が、０．０１２７ｍｍ（０.５ミル）未満であるバニシングヘッド。
【請求項１０】
前記磁気ディスクを回転させるステップと、
前記磁気ディスクの上にバニンシングを飛行させるステップとを備え、
前記バニシングヘッドが所定材料の本体と、
前記所定材料の本体から３０μｍよりも長い距離延びている第１レールおよび第２レールを備え、前記第１レールおよび第２レールは内壁および外壁を備え、前記外壁のうちの少なくとも１つが前記バニシングヘッドの中心軸線に対して所定の角度となっており、前記少なくとも１つのレールが前記材料の本体の前記バニシング表面に対して７５〜９０°の角度をなし、前記第１レールおよび第２レールの前記外壁と、前記第１レールおよび第２レールのバニシング表面との間の曲率半径が、０．０１２７ｍｍ（０.５ミル）未満である、磁気ディスクをバニス仕上げする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスクをバニス仕上げするためのバニシングヘッドおよび磁気ディスクをバニス仕上げするための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスクは、一般に次の方法によって製造される。
１．アルミ合金基板にニッケル−リン合金を無電解メッキする。
２．メッキされたこの基板をテクスチャー仕上げする。
３．メッキされ、テクスチャー仕上げされた基板に１つ以上の下部層、１つ以上の磁気層および１つ以上の保護オーバーコートをデポジットする。（基板に同じように他の層をデポジットすることも知られている。）
４．保護オーバーコートに潤滑剤を塗布する。
５．この結果得られたディスクを、次にバニス仕上げする。
【０００３】
バニス仕上げ中、ディスクを回転し、ディスクの上でバニシングヘッドを飛行させ、好ましくない汚染粒子を除去する。かかる汚染粒子は「キスバフ（ｋｉｓｓ−ｂｕｆｆ）」プロセス中、またはエッジバスプロセス中に生じるＡｌ２Ｏ３を含むことがある。バニス仕上げ中の粒子除去効率を高めることが、このプロセスの重要な目的である。図１は、磁気ディスク１２をバニス仕上げする従来のバニシングヘッド１０を示す。ディスク１２が方向１６に回転している間、ヘッド１０は、サスペンション１４によって保持されている。ヘッド１０は、ディスク１２の走行運動に対して約１５°の角度αに保持される。バニス仕上げ中、ヘッド１０はディスク１２の表面から汚染粒子を除去する。
【０００４】
図２Ａ、２Ｂおよび２Ｃは、ヘッド１０の側面図、背面図および底面図をそれぞれ示す。これら図から分かるように、ヘッド１０は、このヘッド１０の底部表面から延びる第１レール１８ａと第２レール１８ｂを含む。レール１８ａ、１８ｂは、ヘッド１０の中心軸線Ｃに対して平行であり、これらレールは、ヘッド１０がディスク１２の上方を飛行することを助ける傾斜した部分、すなわちランプ２０を含む。レール１８ａ、１８ｂは、１００μｍの高さＨ１を有し、これらレールは機械加工プロセスによって形成される。レール１８ａ、１８ｂはヘッド１０の本体に対して実質的に垂直な側壁２２を有し、更にシャープなレールのコーナーを有する。（レールのコーナーとは、レールの側壁２２がレールの空気ベアリング表面２４に合流するコーナーを意味する。）
【０００５】
これまでは、バニシングヘッドをエッチングプロセスによって製造していたことも知られている。エッチングプロセスによって形成されたレールは、約５〜１０μｍの高さを有する。（これよりも実質的に高いレールをエッチングするには、長い時間がかかる。）エッチングプロセスによって形成される従来の一部のバニシングヘッドは、丸くされたレールコーナーを有し、エッチングプロセスによって形成された従来技術の一部のヘッドは、かなりシャープなレールコーナーを有する。更に、エッチングプロセスによって形成された一部の従来のバニシングヘッドレールは、水平線に対して所定の角度、例えば約６０°の側壁を有し、一方、エッチングプロセスによって形成された従来の他のバニシングヘッドは、垂直に近い側壁を有する。しかしながら、我々の最良の知識の範囲内では、レールが約１０μｍの高さしかないときに垂直の壁を有する従来のレールを形成するのに使用されるエッチングプロセスの条件を、例えば７５μｍ程度に、より高いレールを形成するのに使用した場合、その結果傾斜した壁が得られることが分かっている。
【０００６】
（バニシングヘッド１０は一対のレールを含むが、従来技術ではナニスに付与された米国特許第4,845,816号、バーガに付与された米国特許第6,267,645号および米国公開特許出願第US2002/0029448A1号に示されているようなバニシング表面を有するバニシングヘッドを提供することも知られている。）
【０００７】
バニシングヘッドは読み出し−書き込みヘッドとは構造および機能の点で異なる。カブラに付与された米国特許第5,949,614号には、読み出し−書き込みヘッドの一例が開示されている。ディスクドライブ内に読み出し−書き込みヘッドが実装されており、かかるヘッドは使用中に磁気ディスクの上方を飛行する。読み出し−書き込みヘッドの後端部に設けられたトランスジューサが、ディスクとの間でデータを読み出したり書き込んだりするようになっている。バニシングヘッドは、一般にかかるトランスジューサを有していない。
【０００８】
磁気ディスクの表面上のアスペリティを検出するためには、別のタイプのヘッドが使用される。かかるヘッドは、アスペリティに対するヘッドの機械的衝撃を検出するためのセンサを含む。バニシングヘッドも一般に、このタイプのトランスジューサを有していない。かかるヘッドは、米国特許第5,963,396号および同第6,138,502号において、バーガ外によって記述されている。
【０００９】
不幸なことに、バニシングヘッド１０は時々バニス仕上げ中にディスク１０に接触したり、アバランシュモードのままになることがあり得る。ヘッド１０がかかる接触からリカバーし、ディスク１０の表面上の飛行を再開し、その後、ディスク１０のバニス仕上げを再開するのには時間がかかる。ヘッド１０がリカバーするのに必要な時間を短縮することが望ましい。また、バニシングヘッド１０は、ディスク１０の外側エッジの近くにおいて不安定な飛行特性を示す。その理由は、スライダー本体がＡＢＳの下の空気流の方向に平行でないからである。ヘッドの飛行が不安定である結果、ヘッドとディスクの相互作用が生じ、ディスク上の欠陥を生じさせ得るので、このようなことはバニス仕上げ作業にとって望ましくないことである。また、バニシングヘッドのこれら特徴を改善することが好ましい。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係わるバニシングヘッドは、このヘッドの中心軸線に対して所定の角度となっている外壁を有するレールを備える。このことは、粒子を除去するのに望ましい。更にスライダーの中心軸線はサスペンションの中心軸線に平行であるので、良好な飛行特性に起因してヘッドとディスクの相互作用が生じたときに、ヘッドがリカバーする時間が短くなる。
【００１１】
一実施形態では、側方レールの外壁はヘッドの中心軸線に対して５〜２５°（一般的には１５°）の角度を有する。この角度は汚染粒子がディスク表面に埋没するのを防止することが実証されている。その理由は、粒子はランプ２０に最初には衝突せず、その代わりに粒子をすくい上げるレールのエッジに衝突するからである。ディスクが回転している間に粒子がランプ２０の下方に入ると、粒子はランプによって生じた垂直力に起因し、ディスク内に進入できる。この理由は、レールが５〜２５°の間の角度となっているからである。
【００１２】
一実施形態では、バニシングヘッドはディスクとヘッドとの相対的運動の方向に平行に維持される。
【００１３】
従来のバニシングヘッドと比較して、バニシングレールの高さを高くすると、性能が高まることを、我々は発見した。これらレールは一般に３０μｍ高い高さとなっており、一実施形態では５０〜１００μｍの高さを有する。レールの壁をより高くすると、ヘッドとディスクの境界から放出すべき変位した粒子に対し、これら粒子を再付着させることなく、自由スペースおよび空気流を増加できると考えられる。
【００１４】
垂直に近い側壁を有するレールを設けることによっても、バニシング性能を高めることができることも発見した。一実施形態では、側壁は７５°よりも大きい角度であり、一実施形態では８０〜９０°の間である。レールの側壁を急にすることによってすぐれた性能が得られる。その理由は、レールの壁が急でない場合、バニシングヘッドにより汚染粒子に加えられる力の垂直成分は、ディスク表面から離間するように粒子をスイープするのではなく、粒子をディスク内に下方に駆動するように働くからであると考えられる。また側壁を急にした結果、空気の漏れが増加することに起因し、空気ベアリングがより剛性となり、更に表面の異常性または粒状性に対するコンプライアンスが低下するからである。
【００１５】
レールの側壁と、レールの空気ベアリング表面との間の曲率半径を最小にすることを保証できることも発見した。一実施形態では、このような曲率半径は０．０１２７ｍｍ（０.５ミル）未満、例えば０．０１２７ｍｍ〜０．００１２７ｍｍ（０.５〜０.０５ミル）、一般には０．００５０８〜０．００２５４ｍｍ（０.２〜０.１ミル）の間である。曲率半径を最小にすることが望ましい理由は、バニス仕上げ中に丸くされたコーナーが粒子に衝突した場合、粒子は望ましいフルな衝撃を受けないからである。
【００１６】
本発明の一実施形態に係わるバニシングヘッドは、ＡｌＴｉＣを含む。しかしながら、他の硬質材料、例えばＳｉＣまたは炭素も使用できる。
【００１７】
以下、本発明に係わるバニシングヘッドの上記およびそれ以外の特徴について、より詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
図３Ａ〜３Ｃは、本発明に従って構成されたバニシングヘッド１００を示す。このバニシングヘッド１００は、ヘッド１００の、全体に平坦な底部表面１０４から延びるレール１０２ａ、１０２ｂを備える。レール１０２ａ，１０２ｂのうちのヘッド１００の前縁１０８に隣接する部分１０６ａ、１０６ｂは、空気動力学的理由から、角度βで傾斜している。一実施形態では、この角度βはレール１０２ａ，１０２ｂの空気ベアリング表面１１０ａ、１１０ｂの他の部分に対して１８分となっている。
【００１９】
一実施形態では、レール１０２は表面１０４から５０〜１００μｍの間の高さＨ２だけ延びている。ヘッド１００は６０ミルの幅Ｗ１および８０ミルの長さＬ１を有する。レール１０２ａ，１０２ｂは、長さＬ１の半分よりも長い距離だけ延びており、一般に長さＬ１か、または長さＬ１より若干短い距離だけ延びている。レール１０２ａ，１０２ｂの外壁１１２ａ，１１２ｂはヘッド１００の中心軸線Ｃに対して１５°の角度γをなしている。しかしながら、これら寸法は単なる例にすぎない。
【００２０】
バニシングヘッド１００は、任意の適当な硬質材料から製造できる。例えば一実施形態では、ヘッド１００はＡｌＴｉＣ，ＳｉＣまたは炭素を含むことができる。これとは異なり、ヘッド１００はＡｌＴｉＣのような材料の本体と、例えばスパッタリングまたはＣＶＤによりその本体上にデポジットされたＳｉＣまたは炭素の層とを含むことができる。（当技術分野で知られているように）ＡｌＴｉＣはＡｌ２Ｏ３とＴｉＣを含む二相材料である。）
【００２１】
図３Ｃを参照すると、レール１０２ａ，１０２ｂの壁１１２ａ，１１２ｂは、垂直に近くなっている。更に、壁１１２ａ，１１２ｂがレール１０２ａ，１０２ｂの表面１１０ａ，１１０ｂに合流するコーナー１１４ａ，１１４ｂは、一般にシャープな９０度の角度となっている。
【００２２】
壁１１２ａ，１１２ｂは、垂直に示されている（このように垂直であることが好ましい）が、壁１１２ａ，１１２ｂは垂直から若干ずれた角度、例えば７５°よりも大きい角度となっていてもよい。上記のように、コーナー１１４ａ，１１４ｂのシャープさ、および壁１１２ａ，１１２ｂの垂直の性質が、ヘッド１００の性能を改善している。
【００２３】
使用中、ヘッド１００は図４に示されるように、サスペンション１２０に取り付けられている。バニス仕上げ中のディスク１２４が第２モータ（図示されていない）によって回転されている間、第１モータ（これも図示されず）は方向１２２へ、サスペンション１２０（従ってヘッド１００）を移動させる。バニス仕上げ中、ディスク１２４はヘッド１００に対して毎秒１５２．４ｃｍ（６０インチ（ｉｐｓ））の速度で移動する。ヘッド１００は一般にディスク１２４の表面よりも約８．８９μｍ（約０.３５μインチ）上方で飛行する。一般にバニス仕上げ中、ディスク１２４のＩＤでスタートし、ヘッドを外側に移動させる。しかしながら、別の実施形態ではヘッドをＯＤからＩＤに向けて移動させることができるが、このことはディスクのＩＤに汚染粒子を残す傾向があるので、あまり好ましいことではなく、この部分はデータ記録ゾーンの一部であると考えられる。
【００２４】
図４の実施形態では、ヘッド１００の中心軸線Ｃはディスク１２４の運動方向１２８に平行となっている。このことは、ヘッド１０が図１において取り付けられている角度αと対照的である。
【００２５】
一実施形態では、バニシングヘッド上のレールは、例えば次のプロセスを使ったエッチングにより形成される。
１．図５Ａに示されるように、例えばスパッタリングにより、材料の本体２０２上に銅の層２００をデポジットする。（本体２０２は、一般にＡｌＴｉＣである。）
２．銅の層２００の上にフォトレジスト層２０４を形成する。
３．フォトレジスト層２０４をリソグラフィによりパターン形成する。（リソグラフィパターン形成の代わりに、一部の実施形態では電子ビームパターン形成を使用する。）（図５Ａおよび５Ｂは、材料の本体２０２の小さい部分しか示していない。一般に、本体２０２内に多数のバニシングヘッドが同時に形成される。）
４．この結果得られた構造体は水性塩化鉄（ＦｅＣｌ３）溶液を使ったエッチングステップを受け、フォトレジスト層２０４内のパターンを銅の層２００へ転写する。次に、例えばアセトンを使ってフォトレジスト層２０４の残りの部分を除去する。
５．図５Ｂを参照する。次に、この結果得られた構造体を、フッ素とアルゴンの混合物をプロセスガスとして使用するＲＩＥプロセスを受ける。一実施形態では、フッ素のソースはＳＦ６であるが、別の実施形態では、他のフッ素を含むガスを使用できる。更に、一実施形態では、エッチング装置内に２０ＳＣＣＭのＳＦ６および１５ＳＣＣＭのアルゴンが流入する。このエッチングプロセスは３０〜１００μｍまでの深さ、一実施形態では６５〜１００μｍまでの深さにエッチングが行われ得まで続く。
６．その後、水性塩化鉄溶液を使って銅の層２０２の残りの部分を除去する。
７．次に材料の本体２０２を個々のバニシングヘッドにカットする。
８．ヘッド上に部分１０６ａおよび１０６ｂを機械的に形成する。
【００２６】
本願で参考例として援用する「加工部品をエッチングするための方法」を発明の名称とし、サイモン・グリエールによって２００６年２月１３日に出願された米国仮特許出願第60/773,225号には上記プロセスが記載されている。このプロセスは単なる例にすぎず、別の実施形態では他のプロセスを使用できる。
【００２７】
図６Ａは、本発明の別の実施形態に従って構成されたバニシングヘッド２５０を示す。このバニシングヘッド２５０は、台形のレール２５２ａおよび２５２ｂを含む。理解できるように、レール２５２ａ，２５２ｂの外壁２５４ａ，２５４ｂは、ヘッド２５０の中心軸線Ｃに対して角度θとなっている。角度θは５〜２５°の間であり、一般に約１５°である。
【００２８】
図６Ｂはヘッド２５０の背面図である。図３の実施形態と同じように、レール２５２ａ，２５２は、３０〜１００μｍまでの高さＨ３を有し、一実施形態では６５μｍの高さを有する。レール２５２ａ，２５２ｂの壁は垂直に近い角度、例えば７５°よりお大きい角度、一実施形態では８０〜９０°までの角度をなす。
【００２９】
上記実施形態では、レールの双方の外壁はヘッドの中心軸線Ｃに対して角度θとなっている。（バニシングヘッドがＩＤからＯＤまで移動するケースに対して）ＯＤに最も近いレールの壁が角度θとなっていることが主に重要である。反対のレールの反対の壁は一般に対称性および飛行の安定性の理由から、この角度となっている。（バニシングヘッドがＯＤからＩＤに向かって移動するケースでは、ＩＤに最も近いレールの壁の角度が主に重要である。）
【００３０】
上記のように、本発明に係わるヘッドの主な利点の１つは、例えば図７に示されるように指向性が改善されることである。図７では、バニス仕上げ中にバニシングヘッドをディスクのＯＤに向かって移動させる実験を行った。ディスクの半径は約４７．５ｍｍ（１.８７インチ）であり、ヘッド３５１，３５２およびお３５３は、図１および２に示されるように従来のバニシングヘッドであった。図７から分かるように、平均的にこの設計のヘッドはアバランシュの発生前には約４７．１１７ｍｍ（約１.８５５インチ）までしか到達できない。（ヘッドが飛行を停止し、ディスクに抗力を加えたときにアバランシュが生じる。）アバランシュ後、ヘッド３５１，３５２および３５３はディスクＩＤに向かってプルバックされた。理解できるように、ヘッド３５１，３５２および３５３はこれらが４５．９２３２ｍｍ（１.８０８インチ）の平均半径上に位置するまでリカバーせず、再び飛行を開始することはない。
【００３１】
これと対照的に、（図６Ａおよび６Ｂの構造に係わる）ヘッド３０１、３０２および３０３は、優れた性能を発揮した。特にこれら援用するは約４７．４５ｍｍ（１.８６８インチ）の半径（平均値）に到達するまでアバランシュを開始せず、約４７．２２ｍｍ（１.８５９インチ）の平均半径でリカバーした。従って、この設計のヘッドは優れた飛行性能を呈した。
【００３２】
図６Ａおよび６Ｂの設計に係わるヘッドは優れた飛行性能を呈したが、バニシングヘッドはバニス仕上げ中の良好な粒子除去性能を呈する必要もある。図６Ａおよび６Ｂの構造を有するヘッドは、機械加工によっては容易に形成できない。かかるヘッドをエッチングによって形成できるかどうかを判断するために、エッチング技術を用いて実験を行った。図８はバニシングヘッド４０１〜４０６を用いた実験中に得られる結果を示す表であり、各ヘッドは下記のような選択された特性を有する。バニシングヘッド４０１は機械加工によって形成した図１および２に示されるような従来のバニシングヘッドであった。ヘッド４０１のためのレールは、１００μｍの高さを有していた。実験中、別のＡｌ２Ｏ３汚染粒子を含む潤滑剤にディスクを浸漬し、次に汚染粒子の新しいカウント数を得るために潤滑剤を検査することにより、ディスク上の汚染粒子の数を判断するための光学的検査装置によってディスクを検査した。次に、ディスクをバニシングヘッドを用いてバニス仕上げした。バニス仕上げ中、ＩＤからＯＤまでヘッドをスイープし、次にＯＤからＩＤまでヘッドをスイープした。次に再び上記装置を用いてディスクを検査し、どれだけ多くの汚染粒子が除去されたかを判断した。
【００３３】
ヘッドを潤滑剤に浸漬したときに、ヘッド４０１がディスクに加えられた粒子の数に等しい汚染粒子の数を除去した。すなわち、除去された汚染粒子数は、浸漬中に加えられた粒子数の１００％に等しい。（この実験中、バニス仕上げ中に除去された粒子は、浸漬に起因して、必ずしもディスク上に載っているすべての同じ粒子とは限らない。しかしながら、バニス仕上げ中に除去される粒子数は浸漬に起因してディスクに載った粒子数と同じであった。）
【００３４】
ヘッド４０２は、ヘッド４０１に類似しているが、ａ）ヘッド４０２がエッチングによって製造されていること、ｂ）ヘッド４０２のレール高さが１０μｍであること、ｃ）レールの壁が６０°であること、ｄ）ヘッド４０２に対するレールのコーナーにおける曲率のほうが（シャープなコーナーを有する）ヘッド４０１よりも大きい（すなわち０．０５０８ｍｍ（２ミル）大きい）ことが異なっていた。理解できるように、ヘッド４０２は、良好でないバニス仕上げ性能を発生し、潤滑剤に浸漬中に加えられた粒子の８４.１％だけ等しい粒子の数を除去した。
【００３５】
ヘッド４０３はヘッド４０２と同じであるが、レールの高さが１０μｍではなく、７５μｍであった点が異なっていた。理解できるように、これによって粒子除去効率は９６.０％まで上昇した。
【００３６】
ヘッド４０４は、ヘッド４０３と同じであるが、レールのコーナーはヘッド４０４において、よりシャープである点が異なっていた。この設計変更は、粒子除去効率を９８.４％まで増加させた。
【００３７】
ヘッド４０５はヘッド４０４と同じであったが、レールの壁が垂直である点が異なっていた。これによって、粒子除去効率は１０２.０５％まで増加した。（このヘッドは汚染粒子を含む潤滑剤にディスクを浸漬したときに加えられた粒子数に等しい数の粒子を除去しただけでなく、浸漬前にディスクに存在していた汚染粒子も除去したので、このような効率が生じ得る。）
【００３８】
ヘッド４０６は、図６Ａおよび６Ｂに係わる設計であった。ヘッド４０６は、７５μｍのレール高さ、垂直壁およびシャープなコーナーを有していた。理解できるように、ヘッド４０６は１０１.０％の粒子除去効率を呈した。
【００３９】
上記実験は、良好なバニス仕上げ性能および良好な飛行性能を達成できるバニシングヘッドを形成できることを示す。
【００４０】
異常で、特定の実施形態を参照し、本発明について説明したが、当業者であれば、本発明の要旨から逸脱することなく、形状および細部に関して変更を行うことが可能であることを理解できよう。例えばバニシングヘッドは異なる製造技術を使って製造でき、異なる機械的寸法を有し、異なる材料から製造できる。本発明に係わるバニシングヘッドは全ての特性を有しなくてもよく、上記目的のすべてを満たさなくてもよい。また、バニス仕上げ中に異なる速度でディスクを回転してもよい。従って、これら変更は本発明の範囲内である。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】磁気ディスクをバニス仕上げするための、従来のバニシングヘッドを示す。
【図２Ａ】図１のバニシングヘッドの側面図である。
【図２Ｂ】図２Ａのバニシングヘッドの背面図である。
【図２Ｃ】図２Ａおよび図２Ｂのバニシングヘッドの底部の平面図である。
【図３Ａ】本発明に係わるバニシングヘッドの側面図である。
【図３Ｂ】図３Ａのバニシングヘッドの背面図である。
【図３Ｃ】図３Ａおよび図３Ｂのバニシングヘッドの底部の平面図である。
【図４】磁気ディスクをバニス仕上げするための、サスペンションに取り付けられた図３Ａ〜３Ｃのバニシングヘッドを示す。
【図５Ａ】バニシングヘッドを製造するための方法を示す。
【図５Ｂ】バニシングヘッドを製造するための方法を示す。
【図６Ａ】本発明の別の実施形態に従って構成されたバニシングヘッドの底面図である。
【図６Ｂ】図６Ａのバニシングヘッドの背面図である。
【図７】本発明に係わるバニシングヘッドの飛行性能と、従来技術に係わるバニシングヘッドの飛行性能とを比較する表である。
【図８】種々の特性を有するバニシングヘッドのバニス仕上げ性能を比較数表である。
【符号の説明】
【００４２】
１０  バニシングヘッド
１２  磁気ディスク
１４  サスペンション
１８ａ  第１レール
１８ｂ  第２レール
２０  ランプ
１００  バニシングヘッド
１０２ａ，１０２ｂ  レール
１１０ａ，１１０ｂ  空気ベアリング表面
１１２ａ，１１２ｂ  壁
１２０  サスペンション
１２４  ディスク
【図１】
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【図２Ａ】
2007220288.tif 000004
【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
2007220288.tif 000009
【図４】
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【図５Ａ】
2007220288.tif 000011
【図５Ｂ】
2007220288.tif 000012
【図６Ａ】
2007220288.tif 000013
【図６Ｂ】
2007220288.tif 000014
【図７】
2007220288.tif 000015
【図８】
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【外国語明細書】
2007220288.tif 000017
2007220288.tif 000018
2007220288.tif 000019
2007220288.tif 000020
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