(57)【要約】      （修正有）【課題】ペリクル膜がフレームに取り付けられる前、及びペリクルがフォトマスクか保護カバーの何れかに取り付けられる前に、ペリクルフレームを容易に洗浄できるようにしながら圧力を均等化するシステムを提供する。【解決手段】  ペリクルフレームの外側表面２２及び内側表面２４と、フレームを貫いて外側表面から内側表面まで延びる少なくとも１つの通気口２６と、フィルター２８と、を含んでおり、フィルターは、通気口内に配置されており、フレームの外側表面よりもフレームの内側表面に少なくとも３倍は近接して配置される。【選択図】図３
2007052429.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学ペリクルフレームにおいて、
外側表面及び内側表面と、
前記フレームを貫通して前記外側表面から前記内側表面まで延びている、少なくとも１つの通気口と、
前記通気口内に配置されているフィルターであって、前記フレームの前記外側表面に対するよりも前記フレームの前記内側表面に対して少なくとも３倍近い、フィルターとを備えている光学ペリクルフレーム。
【請求項２】
前記少なくとも１つの通気口は、第１通気口区画と第２通気口区画を備えており、前記第１通気口区画は、前記第２通気口区画の断面積より大きい断面積を有しており、前記第２通気口区画よりも、前記フレームの前記外側表面近くに配置されている、請求項１に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項３】
前記第１通気口区画は、前記第２通気口区画より少なくとも３倍長い、請求項２に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項４】
前記第１通気口区画は、前記第２通気口区画より少なくとも６倍長い、請求項２に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項５】
前記フィルターの高さは、前記第２通気口区画の長さの少なくとも２倍である、請求項２に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項６】
前記フィルターの高さは、前記第２通気口区画の長さの少なくとも４倍である、請求項２に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項７】
前記第１通気口区画の長さは、前記フィルターの高さの少なくとも２倍である、請求項２に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項８】
前記少なくとも１つの通気口の少なくとも一部分は、前記フレームを貫通して直線状に延びており、前記第１及び第２通気口区画の断面は、実質的に円形である、請求項３に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項９】
前記少なくとも１つの通気口の少なくとも一部分は、前記フレームを貫いて直線状に延びており、前記第１及び第２通気口区画の断面は、実質的に長方形である、請求項３に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項１０】
前記フィルターの断面積は、前記第１通気口区画の断面積より小さいが、前記第２通気口区画の断面積より大きい、請求項３に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項１１】
前記フィルターの断面積は、前記第１通気口区画の断面積とほぼ同じ大きさである、請求項３に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項１２】
前記第１通気口区画は、前記フィルターを位置決めするためのフィルター座を更に備えている、請求項３に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項１３】
前記フィルターは、少なくとも部分的には前記第１通気口区画内に配置されている、請求項１０に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項１４】
前記フィルターと前記フィルター座の間に接着剤層を更に備えている、請求項１２に記載の光学ペリクルフレーム。
【請求項１５】
光学ペリクルにおいて、
ペリクルフレームであって、外側表面、内側表面、上面、及び底面と、前記フレームを貫いて前記外側表面から前記内側表面まで延びている、少なくとも１つの通気口と、前記通気口内に配置されている、少なくとも１つのフィルターとを備えており、前記ペリクルフレームの前記通気口の位置における断面は実質的にＵ字型に形成されており、前記フレームの外側表面から前記内側表面に亘る前記フレームの長さの少なくとも３／４において、前記フレームの上面から前記底面まで連続する面が存在していない、ペリクルフレームと、
前記フレームの前記上面を覆うように形成されているペリクル膜とを備えている光学ペリクル。
【請求項１６】
光学ペリクルにおいて、
ペリクルフレーム、ペリクル膜、及び保護カバーの間の領域の境界を画定している、前記ペリクルフレームであって、外側表面、上面、及び底面と、前記フレームを貫いて前記外側表面から前記境界が画定された領域まで延びている少なくとも１つの通気口と、少なくとも１つのフィルターとを備えており、前記フレームの外側表面から前記フィルターまでの距離は、前記フィルターから前記境界が画定された領域までの距離の少なくとも３倍である、ペリクルフレームと、
前記フレームの上面を覆うように形成されているペリクル膜と、
前記フレームの前記底面が取り付けられている保護カバーとを備えている光学ペリクル。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの通気口は、第１通気口区画と第２通気口区画を備えており、前記第１通気口区画は、前記第２通気口区画の断面積より大きい断面積を有しており、前記第２通気口区画よりも、前記フレームの前記外側表面近くに配置されている、請求項１５に記載の光学ペリクル。
【請求項１８】
前記第１通気口区画は、前記第２通気口区画より少なくとも３倍長い、請求項１７に記載の光学ペリクル。
【請求項１９】
前記第１通気口区画は、前記第２通気口区画より少なくとも６倍長い、請求項１７に記載の光学ペリクル。
【請求項２０】
前記フィルターの高さは、前記第２通気口区画の長さの少なくとも２倍である、請求項１７に記載の光学ペリクル。
【請求項２１】
前記フィルターの高さは、前記第２通気口区画の長さの少なくとも４倍である、請求項１７に記載の光学ペリクル。
【請求項２２】
前記第１通気口区画の長さは、前記フィルターの高さの少なくとも２倍である、請求項１７に記載の光学ペリクル。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの通気口の少なくとも一部分は、前記フレームを貫いて直線状に延びており、前記第１及び第２通気口区画は、実質的に円筒形をしている、請求項１８に記載の光学ペリクル。
【請求項２４】
前記少なくとも１つの通気口の少なくとも一部分は、前記フレームを貫いて直線状に延びており、前記第１及び第２通気口区画は、実質的に長方形プリズム形をしている、請求項１８に記載の光学ペリクル。
【請求項２５】
前記少なくとも１つの通気口の少なくとも一部分は、前記フレームを貫いて直線状に延びており、前記第１通気口区画は、実質的に円錐形をしている、請求項１８に記載の光学ペリクル。
【請求項２６】
前記フィルターの断面積は、前記第１通気口区画の断面積より小さいが、前記第２通気口区画の断面積より大きい、請求項１８に記載の光学ペリクル。
【請求項２７】
前記フィルターの断面積は、前記第１通気口区画の断面積とほぼ同じ大きさである、請求項１８に記載の光学ペリクル。
【請求項２８】
前記第１通気口区画は、前記フィルターを位置決めするためのフィルター座を更に備えている、請求項１８に記載の光学ペリクル。
【請求項２９】
前記フィルターは、少なくとも部分的には前記第１通気口区画内に配置されている、請求項２６に記載の光学ペリクル。
【請求項３０】
前記フィルターと前記フィルター座の間に接着剤層を更に備えている、請求項２８に記載の光学ペリクル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、写真製版製造業で用いられるフォトマスク用の光学ペリクルに関する。特に、本発明は、ペリクルフレーム内に圧力均等化オリフィスが形成されている光学ペリクルに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造には、通常、感光物質（フォトレジスト）の層を目標のウェーハの表面に塗布する段階が含まれている。フォトレジストは、フォトマスクを使って選択されたパターンで光に曝され、次いで現像され、ウェーハの露出領域が残される。通常、露出領域は、その後エッチング除去されるか又は修正され、残っているフォトレジストが取り除かれる。フォトマスクのパターンは、通常、非常に細かい細部を保有しており、フォトマスクの表面に例えごく小さくても粒子が在ると、目標ウェーハ上に正確なパターンを複写する妨になる。
【０００３】
マスクの表面における粒子の汚染を最小にするために、フォトマスクを保護する光学ペリクルが開発されている。光学ペリクルは、フレームに取り付けられた透明な膜であり、フォトマスク表面に取り付けられるので、汚染粒子は、フォトマスクの表面ではなく、ペリクル膜上に落下する。ペリクルフレームは、ペリクル膜をマスク表面上方相当な距離に保持するので、膜上に落下する粒子が照射光の焦平面の外側に位置することになる。その結果、これらの粒子が、投影されたマスクパターンを妨げることはない。半導体製造業で光学ペリクルを使用すると、埃及び他の粒子による汚染の影響を軽減するのに役立ち、業界内では普及している。
【０００４】
ペリクルは、保護カバーがペリクルフレームの、ペリクルの反対側に取り付けられるようにパッケージされる。これによって、ペリクル、ペリクルフレーム、及び保護カバーで気密のパッケージができる。代わりに、ペリクルを既にフォトマスクに隣接させた状態で出荷し、気密パッケージを形成することもできる。
【０００５】
ペリクルパッケージは、埃及び他の汚染粒子による汚染を減らすために、通常、気密である。しかしながら、輸送中に温度と圧力が変わるときに問題が起こる。これによって、パッケージ及び／又はペリクルが膨張及び／又は収縮し、その結果ペリクルが損傷を被ることもある。従って、フレーム、ペリクル構造体の接着剤層、そしてフォトマスク自体にも、圧力均等化オリフィス又は通気口が設計されている。これらの構造の中には、ペリクルを損傷させること無く、そしてペリクルとフォトマスクの間の領域に汚染粒子を進入させること無く圧力を均等化できるように、フィルターを使用しているものもある。
【０００６】
ペリクルのユーザーは、保護カバーを備えたペリクルを受け取った後、通常、保護カバーを取り外して、フォトマスクをペリクルに取り付ける。しかしながら、ペリクル膜、保護カバー又はフォトマスクがペリクルフレームに取り付けられる前であっても、ペリクルのユーザーは、フレーム上に在るかもしれない汚染粒子を除去するために、ペリクルのフレームを洗浄する必要がある。１つ又は複数のフィルターを使用しているペリクルでは、フィルターと、フレームによって境界が定められている領域との間の均等化オリフィスの部分、ペリクル膜、及びフォトマスクは、最も重要な洗浄部分である。これは、これらの表面が、フォトマスクが配置される場所に非常に近接しているためであり、この部分の汚染粒子は、何れもフィルター区画を既に通過しており、一旦フォトマスクが塗布されると、フォトマスク自体から遮蔽されることはないからである。従って、この洗浄をやり易くするために、等化オリフィスとフィルターを使用しており、フィルターが、ペリクル膜、ペリクルフレーム及びフォトマスクの間で境界が定められる領域に非常に近接して配置されているペリクルを使用するのが理想的である。
【特許文献１】米国特許第５，８２０，９５０号明細書
【特許文献２】米国特許第４，８３３，０５１号明細書
【特許文献３】米国特許第６，１０３，４２７号明細書
【特許文献４】米国特許第５，５２９，８１９号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の目的は、保護カバー付きペリクルが飛行機で輸送されるとき、或いは周囲の圧力が増減する状態に曝されたときに、圧力を均等化するためのシステムを開発することである。具体的には、本発明の目的は、ペリクル膜がフレームに取り付けられる前、及びペリクルがフォトマスクか保護カバーの何れかに取り付けられる前に、ペリクルフレームを容易に洗浄できるようにしながら、この圧力を均等化するシステムを開発することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、外側表面及び内側表面と、フレームを貫いて外側表面から内側表面まで延びる少なくとも１つの通気口と、フィルターと、を含んでいる光学ペリクルフレームであって、フィルターは、通気口内に配置されていて、フレームの外側表面よりもフレームの内側表面に少なくとも３倍は近くにある、光学ペリクルフレームを提供している。
【０００９】
本発明の別の態様は、ペリクルフレームと、フレームの上面を覆うように作られているペリクル膜とを含んでいる光学ペリクルを提供している。ペリクルフレームは、外側表面と、内側表面と、上面と、底面とを含んでおり、少なくとも１つの通気口は、フレームを貫いて外側表面から内側表面まで延びており、少なくとも１つのフィルターは、通気口内に配置されており、ペリクルフレームの通気口の位置における断面領域は、Ｕ字型に構成されているので、フレームの外側表面から内側表面に亘るフレームの長さの少なくとも３／４の間、フレームの上面から底面まで連続する面が存在していない。
【００１０】
本発明の更に別の態様は、ペリクルフレームと、フレームの上面を覆うように作られているペリクル膜と、フレームの底面が取り付けられている保護カバーとを含んでいる光学ペリクルを提供している。ペリクルフレームは、フレームと、ペリクル膜と、保護カバーの間の領域の境界を画定し、フレームは、外側表面と、上面及び底面と、フレームを貫いて外側表面から境界を画定された領域まで延びている少なくとも１つの通気口と、少なくとも１つのフィルターとを含んでおり、フレームの外側表面からフィルターまでの距離は、フィルターから画定された領域までの距離の少なくとも３倍はある。
【実施例】
【００１１】
問題を解決するための先行技術の試み
好適な実施形態を述べる前に、ペリクル保護フォトマスクの輸送中に発生する周囲の圧力が増減する問題を解決するための先行技術の試みを示している図１を、先ず参照する。ペリクル膜２は、ペリクルフレーム４に取り付けられている。フレーム４は、実質的に水平方向に延びるオリフィスチャネル６を含んでいる。フィルター８は、フレーム４のオリフィスチャネル６内に取り付けられている。代わりに、先行技術の中には（図示せず）、フィルター８を、フレーム４の外側に取り付け、オリフィスチャネル６を覆っているものもある。
【００１２】
光学ペリクルを顧客へと出荷するとき、通常、光学ペリクルは、２のようなペリクル膜が４のようなフレームに取り付けられた形態をしている。光学ペリクルは、通常、フォトマスクにはまだ取り付けられていないので、米国特許第５，８２０，９５０号に示されているような保護プラスチックカバー（図１に示していない）が、普通は用いられる。この保護カバーは、取り外し可能で、一般的には、フレーム４の底面に取り付けられる。保護カバーは、埃及び他の微粒子がペリクル膜２の下側に堆積するのを防ぐ働きをする。これは、フレームに取り付けられたペリクルがフォトマスク上の所定の位置に取り付けられると、ペリクル膜の下側に付着していた埃が直接フォトマスク上に落下する公算が大きいので、重要である。この埃は、シリコンウェーハの表面に複写されて、ウェーハを欠陥品にすることになる。
【００１３】
保護カバーは、粒子がペリクル膜の下側に堆積するのを防ぐ効果的なシールを提供するが、気密シールは、カバーで保護されたペリクルが顧客の工場に空輸されるときに問題を呈する。周囲の圧力が下がると、ペリクル膜、フレーム及び保護カバーによって境界が画定されている空間内に捕捉されている大気圧が、薄いペリクル膜を押すので、ペリクル膜は外向きに湾曲する。これによって、ペリクル膜は伸び又は損傷し、或いは膜とフレームの間の接着が悪影響を被る。ペリクルがそのように伸び又は損傷を被ると、写真製版の際には、光が非常に高い割合でペリクル膜を直接通過し、反射又は回折が極めて小さいことが重要なので、致命的である。光が歪むと、写真製版の際に、フォトマスクパターンが、下に配置されているシリコンウェーハに正確に複写されなくなりかねない。
【００１４】
輸送中にペリクル膜がこのような損傷を被るのを防ぐために、図１に参照番号６で示しているような通気オリフィスチャネルをペリクルフレーム４に設けることもある。フィルター８は、通常、埃及び他の粒子が、ペリクル膜の下の空間に侵入するのを防ぐために設けられている。そのようなフィルターは、通常、３ミクロンより大きい埃及び他の粒子を濾過する。図１の技術と同様の先行技術は、イマムラへの米国特許第４，８３３，０５１号に記載されている。
【００１５】
この問題を解決するための別の先行技術の試みでは、フレームの中へとフレームの中央壁に沿って延び、ペリクル膜の下方に画定された内側空間に至る、フレームを貫通して設けられた長いチャネル（図１には図示せず）が設けられている。そのような試みの一例が、Ｓｔｏｒｍへの米国特許第６，１０３，４２７号に記載されている。別の、少し似た試みが、Ｃａｍｐｉ．Ｊｒ．への米国特許第５，５２９，８１９号に示されている。代わりに、チャネル（これも図１に図示せず）は、フレーム４と、フレームの底部に取り付けられているフォトマスクとの間の接着剤層を貫通して形成してもよい。長いチャネルは、圧力差を均等化する目的を果たす一方で、粒子がそのような長いチャネルを通り抜ける公算を少なくすると考えられている。これは、長いチャネルが直接接着剤層を貫いて通っているときには、埃及び他の粉塵は、長いチャネルを通り抜けることができず接着剤にくっつく傾向があるので、特に正しいと考えられた。これらの先行技術の技法の多くは、Ｒｏｂｅｒｔ  Ｗ．Ｍｕｒｐｈｙ及びＲｉｃｋ  Ｂｏｙｄの「ペリクル付フォトマスクの圧力差の影響」という文書に述べられている。
【００１６】
しかしながら、フレームを製造した後で且つフレームがペリクル膜、保護カバー又はフォトマスクに取り付けられる前に、フレームを洗浄して、フォトマスクを取り付けるときに、汚染粒子がフォトマスク上に落下して、写真製版処理を台無しにすることが決して無いようにしなければならない。フィルターを使用しているフレームでは、フィルターと、フレームとペリクル膜とフォトマスクとによって境界が画定される領域との間の表面は、洗浄が最も重要な表面である。この領域の汚染粒子は、どんなものでも、フォトマスクが取り付けられるとき、その現在の場所とフォトマスクとの間に何ら障害になるようなものはない。従って、ペリクルは、ペリクルフレームを、フォトマスクと共に使用する前に容易に洗浄できるようにしながら、濾過状態で圧力が均等化されるように設計されている。
詳細な説明
先に述べたように、半導体製造で光学ペリクルを使用すると、埃及び他の粒子による汚染の影響を軽減する助けとなり、このようなペリクルは、業界で広く使用されている。図２は、ペリクルフレーム１２、ペリクル膜１４、及び保護カバー１６を含んでいる本開示の光学ペリクル１０の或る実施形態を示している。図示のように、ペリクル膜１４は、通常、ペリクルフレーム１２の上面１８に取り付けられ、保護カバー１６は、通常、フレームの底面２０に取り付けられている。図３に示しているように、保護カバーは、光学ペリクル１０から取り外され、ペリクルフレーム１２に貼り付けられたペリクル膜１４だけが残される。これにより、次に、フォトマスク（図示せず）をペリクルフレームの底部に取り付けることができるようになる。先に述べたように、この状態のフォトマスクは、写真製版で、汚染粒子の影響を最小限に抑えながら、フォトマスクに表されたパターンをシリコンウェーハへ複写するのに用いられることは良く知られている。
【００１７】
図３に示すように、図２の実施形態のペリクルフレーム１２は、外側表面２２と内側表面２４を含んでいる。フレームは、普通は、外側表面２２から内側表面２４までフレームを貫いて延びる少なくとも１つの通気口２６を含んでいる。フィルター２８は、通常、通気口の内側に配置され、概ね３ミクロン以上の大きさの粒子がフレームの外側表面から内側表面まで通気口２６を通過するのを防いでいる。図３に示すように、このフィルターは、一般的に、フレームの外側表面２２よりも内側表面２４に、少なくとも３倍は近接して配置されている。
【００１８】
これも図３に示すように、ペリクルフレーム１２の通気口の位置における断面領域は、通常、実質的にＵ字型に構成されている。図示のように、フレームの断面は、左側を下にした「Ｕ字型」に見える。フレームの外側表面２２は、普通は、「Ｕ」のアームの上部であり、フレームの内側表面２４は、普通は、「Ｕ」の基部の底である。最後に、フィルター２８は、通気口によって分けられたフレームの両部分を接続して、「Ｕ」字型の基部の最上部を表しているように見える。通気口の位置におけるフレームのＵ字型の断面領域は、通常、フレームの外側表面２２から内側表面２４に亘るフレームの長さの少なくとも３／４で、フレームの上表面１８から底表面２０まで連続する面を有していない。
【００１９】
ペリクルフレーム１２は、通常、プラスチック又はアルミニウムで作られるが、他の適した材料を使用してもよい。ペリクルフレームと、その中に形成されている通気口は、様々な方法で形成することができる。通常、成形は、鋳造又はモールド成形で行われる。また、フレームの通気口２６及び他の要素は、ドリル加工のような機械加工技法を使って形成してもよい。
【００２０】
完成した光学ペリクル１０は、飛行機又は他の方法で輸送されることが多く、そのため、先に論じたように、光学ペリクルによって境界が画定される領域とその周囲の環境の間の気圧が変わる。通気口２６は、普通は、ペリクルフレーム１２、ペリクル膜１４及び保護カバー１６によって画定されているこの領域が、ペリクルを取り囲んでいる領域と同じ気圧に維持されるように機能する。フィルター２８は、輸送前、輸送中、及び輸送後に、汚染粒子が画定されている領域に入らないように維持する役目を果たす。
【００２１】
しかしながら、先に述べたように、何らかの構造体がペリクルフレーム１２に取り付けられる前に、フレーム表面から写真製版処理を悪化させる恐れのある汚染粒子を取り除くために、フレームを洗浄しなければならない。最も重要なのは、ペリクルフレーム１２の内側表面２４と、フィルターと内側表面の間に位置している通気口２６部分を洗浄しなければならないことである。これらの表面に到達した粒子は、普通は粒子がこの領域に入るのを防ぐフィルター２８によって、もはや防がれることはないので、この領域の洗浄は最も重要である。この領域に位置している汚染粒子は、フォトマスクがペリクルフレーム１２の底部に取り付けられると、フォトマスク上に落下し、フォトレジスト上に投影される危険性が大きい。構造を徹底的に拭き取るか、又は構造から汚染粒子を吹き飛ばすような、ペリクルを洗浄する何らかの旧来の方法を使用してもよい。洗浄し、ペリクル膜と保護カバーをペリクルフレームに取り付けた後、光学ペリクルは、通常は、実質的に清浄であり、写真製版処理の準備が整っている。
【００２２】
フィルターを、ペリクルフレームの外側表面２２よりも内側表面２４に、少なくとも３倍は近くに配置することによって、洗浄すべき最も重要な領域が最小になり、洗浄を容易且つ効果的に行うことができる。これは、通常は、フォトマスク上に落下する粒子が殆ど無くなることを意味しており、従って、写真製版処理中に形成される欠陥シリコンウェーハの数も少なくなることが期待される。
【００２３】
更に図３に示すように、ペリクルフレームの少なくとも１つの通気口２６は、第１通気口区画３０と第２通気口区画３２を更に含んでいる。第１通気口区画は、第２通気口区画より大きい断面積を有することによって画定されることが多く、第１通気口区画は、ペリクルフレーム１２の外側表面２２近くに配置されることが多い。更に、第１通気口区画３０は、通常、第２通気口区画３２より少なくとも３倍は長く、通気口２６の少なくとも一部分は、ペリクルフレーム１２を直線状に貫通して延びている。なお、通気口は、１つ又は２つではなく任意の数の区画を含んでいてもよい。
【００２４】
図３に示しているように、ペリクルフレーム１２の通気口２６は、フィルター２８を通気口２６の内側に位置決めするためのフィルター座３４を含んでいることが多い。接着剤層３６は、普通は、フィルターを通気口の内側に固定するために、フィルターとフィルター座の間に配置される。フィルターは、第２通気口区画３２の断面寸法より大きく、第１通気口区画３０の断面寸法より小さい断面寸法を有していることが多い。実際、フィルターの断面寸法は、或る実施形態では、第１通気口区画と概ね同じ寸法である。このフィルター寸法に合致するフィルターは、一般に、第１通気口区画内に、第２通気口区画に当接させて配置される。繰り返すが、第１及び第２通気口区画それぞれの長さと組み合わせられたこのフィルターの位置は、フィルターと、ペリクルフレームの内側表面２４との間の領域を最小にする働きをする。
【００２５】
更に、フィルター２８は、第１通気口区画３０に対して第２通気口区画３２の長さが短いことと整合して、通常、第２通気口区画３２の長さの少なくとも２倍の高さを有している。図面に示しているように、フィルターの高さは、フレームの底面２０に最も近いフィルターの表面から、フレームの上面１８に最も近いフィルター表面までを測定する。実施形態の中には、第２通気口区画の長さに対するフィルターの高さの比率が、少なくとも２対１ではなく、少なくとも４対１のものもある。更に、第１通気口区画の長さは、通常、フィルターの高さの２倍である。
【００２６】
空気は通すが或る種の汚染粒子の通過を防ぐために、光学ペリクル１０に使用されているフィルター２８は、膜型式のフィルターであることが多い。ミリポア社から販売されているＭＦミリポアフィルター（商標）又はセロテートフィルター（商標）を、本開示の光学ペリクル１０に使用してもよい。これらのフィルターは、透過性のフィルターで、原材料のセルロース混合エステル又はセルロースアセテートで作られることも多い。
【００２７】
図４は、第２の実施形態の光学ペリクル２１０を示している。光学ペリクルは、通常、先に論じたのと同じ特徴の多くを有しているが、この実施形態の第１通気口区画２３０は、第２通気口区画２３２の長さの少なくとも６倍の長さを有している。この設定は、洗浄が最も不可欠な表面積を更に最小限にする。
【００２８】
殆どの実施形態で、通気口２６の断面形状は、ペリクルフレームの外側表面２２から内側表面２４まで同じであるが、変化していてもよい。図５と図６は、第３の実施形態の光学ペリクル３１０を示しており、第１通気口区画３３０と第２通気口区画３３２は、共に円形の断面を有している。更に、第１及び第２通気口区画は、通常、相似形の円形プリズム又は円筒である。
【００２９】
図７と図８は、第４の実施形態の光学ペリクル４１０を示しており、この場合も、先に述べた光学ペリクルと同じ特徴の多くを備えている。この光学ペリクルは、断面が長方形の第１通気口区画４３０と第２通気口区画４３２を有していることが多く、従って、この実施形態の通気口区画は、通常、長方形プリズムの形状をしている。これらの断面は、普通は長方形ではなく方形である。
【００３０】
本開示の第５の実施形態の光学ペリクル５１０を、図９と図１０に示している。第１通気口区画５３０の断面は、普通は円形であるが、この実施形態は、他の実施形態とは異なり、第１通気口区画によって形成されているプリズムが円錐プリズムである。更に、第２通気口区画５３２は、普通は相似形の円形プリズム又は円筒であるが、どの様なプリズムの形状であってよい。
【００３１】
図１１と図１２は、第６の実施形態の光学ペリクル６１０を示しており、第１通気口区画６３０と第２通気口区画６３２は、共に代表的には方形の断面を有している。しかしながら、この実施形態は、第１通気口区画がフレームの外側表面６２２からフレームの内側表面６２４に進むにつれて、概ね次第に内向きに細くなっている。最後に、本開示の何れの実施形態の第１通気口区画３０と第２通気口区画３２も、どの様な多角形プリズムと、それに対応する断面に類似していてもよく、両方の通気口区画は、同一のプリズム形状及び／又は断面であってもよいし、なくてもよい。
【００３２】
上に述べた開示は、独自の効用を有する数多くの独特の発明を包含している。これらの各発明を、その好適な形態で開示してきたが、ここに開示し図示したその具体的な実施形態は、本発明を限定するものではなく、多くの変更を施すことができる。本発明の主題は、ここに開示している様々な要素、特徴、機能及び／又は特性の、全ての新規且つ自明ではない組み合わせ及び準組み合わせを含んでいる。同様に、請求項は、「或る」又は「第１の」要素又はその等価物について述べている場合、そのような請求は、１つ又は複数のそのような要素を組み込むことを含むということであって、２つ以上のそのような要素を必要とし、又はそれらを排除するものではないと理解頂きたい。特許請求の範囲は、開示されている発明の１つに向けられ、新規で自明ではない或る種の組み合わせ及び準組み合わせを具体的に指定している。特徴、機能、要素及び／又は特性の他の組み合わせ及び準組み合わせにおいて具現化された発明は、本出願又は関連出願の本請求項の補正、又は新たな請求項の呈示を通して請求される。そのような補正された又は新しい請求項も、それが異なる発明に向けられているか同一の発明に向けられているか、元の請求項に対する範囲に関して、異なるか、それより広いか、狭いか、等しいかに関わらず、本開示の発明の主題に含まれるものと見なされる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】先行技術による、ペリクル膜が取り付けられている状態の光学ペリクルフレームの側面断面図であり、フレームは、フレームを貫通して延びる通気口と、通気口内の、フレームの外側表面近くに配置されているフィルターとを有している。
【図２】本開示の第１の実施形態による、光学ペリクルフレームと、フレームの上面に取り付けられているペリクル膜と、フレームの底面に取り付けられている保護カバーとを含んでいる光学ペリクルの側面断面図である。
【図３】本開示の第１の実施形態による、フレームの表面に取り付けられているペリクル膜を含んでいる光学ペリクルフレームの側面断面図である。
【図４】本開示の光学ペリクルの第２の実施形態の側面断面図である。
【図５】光学ペリクルの第３の実施形態の正面図である。
【図６】図５の光学ペリクルの側面断面図である。
【図７】光学ペリクルの第４の実施形態の正面図である。
【図８】図７の光学ペリクルの側面断面図である。
【図９】光学ペリクルの第５の実施形態の正面図である。
【図１０】図９の光学ペリクルの側面断面図である。
【図１１】光学ペリクルの第６の実施形態の正面図である。
【図１２】図１１の光学ペリクルの側面断面図である。
【図１３】図２、３、５、７の実施形態の上面図であり、通気口及びフィルターをかくれ線で示す。
【図１４】図９、１１の実施形態の上面図であり、通気口及びフィルターをかくれ線で示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【外国語明細書】
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