(57)【要約】【課題】高い防眩性と画像ボケ、白ボケの改善とを両立した反射防止フィルム及び該反射防止フィルムを用いた偏光板を高い生産性で提供すること。また該反射防止フィルム、偏光板を用いることで周囲の明るさに対して安定した表示性能を示す高品位なディスプレイを提供すること。【解決手段】透明支持体上に少なくとも防眩層と低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、該フィルム表面への入射光に対し、該フィルムの表面凹凸に起因する特定の反射強度プロファイルを有する反射防止フィルム。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、少なくとも防眩層と低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射し、フィルム法線と入射方向とを含む面内で、該フィルムの表面凹凸に起因する反射強度を測定した際、反射角度θに対する反射率の変化量｜ｄＲ（θ）／ｄθ｜の最大値が０．００５以上０．０３未満であることを特徴とする反射防止フィルム。
［ここで、Ｒ（θ）は反射角度θにおける反射率である。］
【請求項２】
透明支持体上に、少なくとも防眩層と低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射し、フィルム法線と入射方向とを含む面内で、該フィルムの表面凹凸に起因する反射強度を測定した際、反射角度θに対する相対反射率Ｒrel（θ）の変化量｜ｄＲrel（θ）／ｄθ｜の最大値が０．３５以上１．０未満であることを特徴とする反射防止フィルム。
［ここで、Ｒrel（θ）は正反射方向の反射率Ｒsで規格化した相対反射率であり、Ｒrel（θ）＝Ｒ(θ）／Ｒsであり、Ｒ（θ）は反射角度θにおける反射率である。］
【請求項３】
５°入射での鏡面反射率が０．５％以上３％未満である請求項１又は請求項２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値が０〜３５％であり、且つ、表面散乱に起因するヘイズ値が５〜１５％である請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
反射防止フィルムの中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．３０μｍである請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
ＪＩＳ  Ｋ−７１０５に準じた反射防止フィルムの像鮮明性が、光学くし幅０．５ｍｍで測定したときに５〜６０％である請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項７】
防眩層が、透光性樹脂と透光性粒子とを少なくとも含有する請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
透光性樹脂が少なくとも３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としてなり、透光性粒子がアクリル含率５０〜１００質量％である架橋ポリ（メタ）アクリレート系重合体粒子である請求項７記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
透光性樹脂が少なくとも３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としてなり、透光性粒子がアクリル含率５０〜１００質量％である架橋ポリアクリル（−スチレン）（共）重合体粒子である請求項７または８に記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
偏光膜と、該偏光膜の両側に設けられた保護フィルムとを有する偏光板において、該保護フィルムの少なくとも一方が、請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項１１】
２枚の保護フィルムの少なくとも一方が、光学異方性を有する光学補償フィルムである請求項１０に記載の偏光板。
【請求項１２】
２枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルムとは反対に配置される保護フィルムが、液晶性化合物の配向を固定した光学異方性層を少なくとも有する光学補償フィルムである
請求項１０又は請求項１１に記載の偏光板。
【請求項１３】
２枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルムとは反対に配置される保護フィルムが、偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面にディスコティック構造単位を有する化合物を含有してなる光学異方性層を有する光学補償フィルムである請求項１０〜１２のいずれかに記載の偏光板。
【請求項１４】
少なくとも１枚の光学補償フィルムと、偏光板とを粘着層を介して貼り合せた複合偏光板であって、該偏光板が請求項１０〜１３のいずれかに記載の偏光板である積層偏光板。
【請求項１５】
請求項１０〜１４のいずれかに記載の偏光板を少なくとも１枚有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１６】
偏光板、表示用液晶セル及びバックライトを少なくとも含み、最大輝度が３００ｃｄ/ｍ2以上、白/黒表示における暗室コントラスト比が、液晶セル法線方向において５００以上、該法線に対して３０°以内の角度範囲で１５０以上、該法線に対して６０°以内の角度範囲で１５以上である液晶表示装置であって、請求項１０〜１５のいずれかに記載の偏光板が、表示装置の観察者側最表面に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１７】
表示画面の対角が２０インチ以上である請求項１５又は１６に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、一般に、ＣＲＴ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のようなディスプレイ装置において、外光の反射による像の映り込みを防止するために、ディスプレイの最表面に配置される。
【０００３】
外光反射の影響を低減するためには表示装置表面の反射率を下げる方法と、表面凹凸などにより反射光を散乱させる方法がある。
【０００４】
反射光の散乱性を有する防眩性フィルムは、大きくは実質的に表面散乱性だけを有する防眩性フィルムと、表面散乱性と内部散乱性の両方を有する防眩性フィルムとに大別することができる。
【０００５】
また、特に近年表示装置の高精細化に伴い、防眩性フィルムによる微小な輝度ムラ（ギラツキと呼称する）の改良手段として、表面散乱に加えて従来以上に高い内部散乱性を有する防眩性フィルムに関する技術が開示されている（特許文献１〜４）。
【０００６】
外光の反射による像の映り込みを防止するために、フィルム表面に凹凸形状をつけ反射像の輪郭をぼかす手段が一般的であり、外光の正反射方向からの視認性は向上する。一方で、正反射以外の方向にまで散乱光が回り込むため、その方向では黒が白味がかって（白ボケと呼称する）見えてしまう。この課題に対して、フィルム表面に光線を照射し反射光の散乱分布（プロファイル）を制御する提案（特許文献５）がなされており、ここでは−１０°の入射光に対する反射光プロファイルにおいて、半値幅を７°以上且つ３０°方向と正反射方向（１０°）の反射強度比を０．２以下である防眩フィルムが開示されている。
【特許文献１】特開２０００−３０４６４８号公報
【特許文献２】特許第３５０７７１９号公報
【特許文献３】特許第３５１５４０１号公報
【特許文献４】特許第３５１５４２６号公報
【特許文献５】特開２００２−３６５４１０号公報
【特許文献６】特開２００３−１２１６０６号公報
【特許文献７】特開２００３−２７０４０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記したように、外光反射の影響を低減するためには表示装置表面の反射率を下げる方法と、表面凹凸などにより反射光を散乱させる方法があるが、どちらかの方法のみを考慮しただけでは視認性の更なる向上は困難である。例えば反射率を現在の常識より大幅に低減させたとしても防眩性がない表面であれば、反射物の形は依然として認識され、目障りに見えることが容易に推察できる。特許文献６、７等で光散乱性フィルムが表示装置の最表面に用いられる場合には、明室にて外光の表面反射を抑制する効果を有する反射防止機能を併せ持つフィルムが好ましいことが記載されている。また、特許文献７では、内部散乱性を制御することにより、ＬＣＤの視野角特性を向上する散乱性フィルムに関する技術が開示されている。
【０００８】
さらに、液晶表示装置など表示装置そのものの視野角依存性を考慮した上で、反射防止フィルムの性能を最適化することが、表示装置のトータル性能向上には極めて重要である。
【０００９】
しかしながら、防眩性と画像ボケ、白ぼけの改善を同時に満足する反射防止フィルムは提案されていないのが現状である。
【００１０】
従って、本発明の目的は、高い防眩性と画像ボケ、白ボケの改善とを両立した反射防止フィルム及び該反射防止フィルムを用いた偏光板を高い生産性で提供することにある。さらには、該反射防止フィルム、偏光板を用いることで周囲の明るさに対して安定した表示性能を示す高品位なディスプレイを提供することにある。
【００１１】
本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより、前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
すなわち本発明は、下記の構成により前記目的を達成したものである。
【００１３】
１．  透明支持体上に、少なくとも防眩層と低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射し、フィルム法線と入射方向とを含む面内で、該フィルムの表面凹凸に起因する反射強度を測定した際、反射角度θに対する反射率の変化量｜ｄＲ（θ）／ｄθ｜の最大値が０．００５以上０．０３未満であることを特徴とする反射防止フィルム。
［ここで、Ｒ（θ）は反射角度θにおける反射率である。］
２．  透明支持体上に、少なくとも防眩層と低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、略平行な光を該フィルム表面に入射し、フィルム法線と入射方向とを含む面内で、該フィルムの表面凹凸に起因する反射強度を測定した際、反射角度θに対する相対反射率Ｒrel（θ）の変化量｜ｄＲrel（θ）／ｄθ｜の最大値が０．３５以上１．０未満であることを特徴とする反射防止フィルム。
［ここで、Ｒrel（θ）は正反射方向の反射率Ｒsで規格化した相対反射率であり、Ｒrel（θ）＝Ｒ(θ）／Ｒsであり、Ｒ（θ）は反射角度θにおける反射率である。］
３．  ５°入射での鏡面反射率が０．５％以上３％未満である前記１項又は前記２項に記載の反射防止フィルム。
４．  反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値が０〜３５％であり、且つ、表面散乱に起因するヘイズ値が５〜１５％である前記１〜３項のいずれかに記載の反射防止フィルム。
５．  反射防止フィルムの中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．３０μｍである前記１〜４項のいずれかに記載の反射防止フィルム。
６．  ＪＩＳ  Ｋ−７１０５に準じた反射防止フィルムの像鮮明性が、光学くし幅０．５ｍｍで測定したときに５〜６０％である前記１〜５項のいずれかに記載の反射防止フィルム。
７．  防眩層が、透光性樹脂と透光性粒子とを少なくとも含有する前記１〜６項のいずれかに記載の反射防止フィルム。
８．  透光性樹脂が少なくとも３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としてなり、透光性粒子がアクリル含率５０〜１００質量％である架橋ポリ（メタ）アクリレート系重合体粒子である前記７項記載の反射防止フィルム。
９．  透光性樹脂が少なくとも３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としてなり、透光性粒子がアクリル含率５０〜１００質量％である架橋ポリアクリル（−スチレン）（共）重合体粒子である前記７項または８項に記載の反射防止フィルム。
１０．  偏光膜と、該偏光膜の両側に設けられた保護フィルムとを有する偏光板において、該保護フィルムの少なくとも一方が、前記１〜９項のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
１１．  ２枚の保護フィルムの少なくとも一方が、光学異方性を有する光学補償フィルムである前記１０項に記載の偏光板。
１２．  ２枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルムとは反対に配置される保護フィルムが、液晶性化合物の配向を固定した光学異方性層を少なくとも有する光学補償フィルムである前記１０項又は前記１１項に記載の偏光板。
１３．  ２枚の保護フィルムのうち、反射防止フィルムとは反対に配置される保護フィルムが、偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面にディスコティック構造単位を有する化合物を含有してなる光学異方性層を有する光学補償フィルムである前記１０〜１２項のいずれかに記載の偏光板。
１４．  少なくとも１枚の光学補償フィルムと、偏光板とを粘着層を介して貼り合せた複合偏光板であって、該偏光板が前記１０〜１３項のいずれかに記載の偏光板である積層偏光板。
１５．  前記１０〜１４項のいずれかに記載の偏光板を少なくとも１枚有することを特徴とする液晶表示装置。
１６．  偏光板、表示用液晶セル及びバックライトを少なくとも含み、最大輝度が３００ｃｄ/ｍ2以上、白/黒表示における暗室コントラスト比が、液晶セル法線方向において５００以上、該法線に対して３０°以内の角度範囲で１５０以上、該法線に対して６０°以内の角度範囲で１５以上である液晶表示装置であって、前記１０〜１５項のいずれかに記載の偏光板が、表示装置の観察者側最表面に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
１７．  表示画面の対角が２０インチ以上である前記１５項又は１６項に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のフィルムにより、高い防眩性と画像ボケ、白ボケの改善とを両立した反射防止フィルム及び該反射防止フィルムを用いた偏光板、液晶表示装置を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明について更に詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。さらに、本発明でいう「支持体上」には、該支持体の直接の表面をいう場合と、該支持体の上に何らかの層（膜）を設けた表面をいう場合の両方を含む趣旨である。「ハードコート層上」等も同様である。
【００１６】
０．反射強度の角度依存性
本発明の反射防止フィルムは、少なくとも表面に微細凹凸構造を有するものであり、この凹凸構造に起因する光の散乱により反射像を散らして輪郭をぼかすことで防眩性を発揮する。フィルム表面に、ある角度で光が入射したときの表面凹凸による反射強度の角度依存性が、本発明の特定の関係式における数値範囲を満たすものが、本発明における好適な反射防止性能を取りうる。
【００１７】
具体的には図１に示す。図１の（ａ）は、本発明の反射防止フィルムの、表面凹凸による反射光強度の角度依存性を測定する方法を示す模式図である。また図１の（ｂ）は、フィルムの法線方向Ｄと光の入射方向Ｅを含む面Ｃを示す模式図である。図１（ａ）及び（ｂ）に示されるように、表面に凹凸を有する反射防止フィルムＡの表面Ｂに、光源Ｆから略平行な光を入射し、フィルムの法線方向Ｄと光の入射方向Ｅを含む面Ｃ内で、受光部Ｇの角度を連続的に変化させ、それぞれの反射角、例えば反射角θにおける反射光の強度を測定して、フィルムの表面凹凸に起因する反射光強度の反射角度依存性（以下、反射光強度プロファイルともいう）を測定する。
【００１８】
フィルムに入射させる光は略平行光が望ましく、具体的に白色光源をコリメートし、拡散又は収斂角度を１°以内とすることが好ましい。また表面凹凸のサイズにもよるが、測定範囲は１ｍｍ2以上あることが好ましい。入射角度は特に限定はないが、正反射付近の角度依存性を測定することが目的であり、正反射が観察できない０°付近や、プロファイルの両側が観察できないような広角からの入射は好ましくない。おおよそ５°から４５°の範囲であることが好ましい。測定する方法としては、例えば（株）村上色彩技術研究所製自動変角光度計「ＧＰ−５型」を用いることで、約５ｍｍφの白色平行光を試料表面に照射して、入射光方向とフィルムの法線方向を含む面内での反射光強度の角度依存性を反射角度０．１°刻みで連続的に測定することができる。
【００１９】
実際のディスプレイに用いられた際、反射防止フィルムの防眩性反射防止層を施した面とは反対の面（裏面と呼称する）は、偏光膜やディスプレイ表面に密着貼合されている。このため、裏面反射の影響は無視できる程度に小さくなる。本発明で取り扱う反射光強度プロファイルも、実態に近づけるべく裏面反射の影響をなくした状態で考察することが望ましく、具体的には、測定の際に反射防止フィルムの裏面を黒く塗ったり、粘着剤を介して黒色の樹脂フィルムやクロスニコル配置の偏光板と密着貼合したりすることにより測定できる。ここ用いている「表面凹凸に起因する反射強度」とは、これらの方法を用いて測定した反射強度のことを意味し、塗設層間の界面反射や内部粒子による散乱などの影響を少なからず含んでいる。すなわち、フィルム最表面と空気との界面に起因する反射強度のみに限定したものではない。
【００２０】
仮に、光量によらない反射像のボケかたを防眩性とすると、防眩性は反射光プロファイルの角度依存性と直接相関させて考えることができる。防眩性のない平滑な表面では、正反射から角度がつくと急激に強度が低下し、計算上｜ｄＲrel（θ）／ｄθ｜の最大値は無限大になる。逆に｜ｄＲrel（θ）／ｄθ｜の最大値が小さくなれば、光があらゆる角度に拡散し反射像のボケ、防眩性が大きくなることを意味する。ｄは微分記号であり、ｄＲrel（θ）／ｄθは関数Ｒrel（θ）の接線の傾きを表している。実験的には観察角度θの測定刻みを小さくした時の光量変化を求めれば良く、本発明においてはθの測定刻みを０．１°として測定している。θの刻み値が１°を超えると（本来あるべき）反射光プロファイルとの誤差が大きくなり、本発明の規定範囲とずれを生じる可能性があるため、１°以下とすることが好ましい。測定手段としては例えば前述のような一般的な市販装置で測定可能である。
【００２１】
実際に人が認識する反射像とは、この防眩性に反射強度の絶対値が掛け合わされた物理量であるということができ、すなわち表面の反射率が高くても反射像のボケが大きければ、反射率が低い平滑な表面と同等な視認性を示すと考えることができる。
しかしながら、表面の反射率が高いまま防眩性を強くすると、広い角度範囲まで反射光が散乱するために「白ボケ」といわれる問題が生じてしまう。本発明者らは、このような弊害がなく反射像の映り込みを低減するためには、反射光プロファイルを適値に制御することが非常に重要であるものと考えた。このように、本発明の反射プロファイルの関係を満たすことで、高価な多層反射防止膜などを用いずとも、画像ぼけ、白ボケのない高品位な反射防止フィルムを得ることができる。
【００２２】
反射光強度の角度依存性の一例を図２に示す。横軸はフィルム法線に対する反射角度（
受光部の角度θ）であり、フィルム法線方向が０°である。−５°の方向から平行光を入射しており、従って正反射方向である５°にピークがある。縦軸はピーク強度で規格化した相対反射強度Ｒrel（θ）である。
【００２３】
反射角度θに対する相対反射率Ｒ（θ）の最大変化量｜ｄＲrel（θ）／ｄθ｜は、図中破線Ａの傾きとして表現できる。この傾きが大きいほど防眩性は小さく、小さいほど防眩性は大きくなる。本発明では｜ｄＲrel（θ）／ｄθ｜が０．３５以上１．０未満、好ましくは０．４０以上０．８５未満とすることで、防眩性と画像ボケ、白ぼけの改善を同時に満足する反射防止フィルムを得ることができる。また、反射角度θに対する反射率の最大変化量｜ｄＲ（θ）／ｄθ｜（防眩性と反射率のトータル性能と考えることができる）は、本発明では０．００５以上０．０３未満、好ましくは０．００８以上０．０２５未満とすることでも、防眩性と画像ボケ、白ぼけの改善を同時に満足する反射防止フィルムを得ることができる。
所望のプロファイルとなるように、透光性粒子の量、大きさを選択するとともに、塗布膜の乾燥及び硬化の条件を変更することにより、粒子の膜中での凝集の程度、凝集粒子の分布を変更する。
さらに上記いずれかの関係式を満たす反射防止フィルムにおいて、５°入射での鏡面反射率が０．５％以上３％未満であることが好ましく、０．５％以上２％未満がより好ましい。
【００２４】
１．本発明の構成物
まず、本発明のフィルムに使用することのできる各種化合物および支持体について記載する。
【００２５】
１−（１）バインダー
本発明の反射防止フィルムは、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される少なくとも１層を含んで構成されることができる。すなわち、バインダーとして電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物（以下、硬化性組成物ともいう）を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより、該支持体上に反射防止機能に寄与する少なくとも１層の機能層を形成することができる。
【００２６】
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００２７】
［光重合性多官能モノマー］
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシド又はプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；等を挙げることができる。
【００２８】
さらにはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【００２９】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。さらに好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート等が挙げられる。
【００３０】
モノマーバインダーとしては、各層の屈折率を制御するために、屈折率の異なるモノマーを用いることができる。特に高屈折率モノマーの例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が含まれる。また、例えば特開２００５−７６００５号公報、同２００５−３６１０５号公報に記載されたデンドリマーや、例えば特開２００５−６０４２５号公報記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
多官能モノマーは、２種類以上を併用してもよい。
【００３１】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤又は熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
【００３２】
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。
【００３３】
〔ポリマーバインダー〕
本発明にはバインダーとして、無架橋のポリマー又は架橋しているポリマーを用いることができる。架橋しているポリマーはアニオン性基を有するのが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋している構造を有する。
【００３４】
ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィン（飽和炭化水素）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖及びポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖及びポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。
【００３５】
ポリオレフィン主鎖は飽和炭化水素からなる。ポリオレフィン主鎖は、例えば、不飽和重合性基の付加重合反応により得られる。ポリエーテル主鎖は、エーテル結合（−Ｏ−）によって繰り返し単位が結合している。ポリエーテル主鎖は、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られる。ポリウレア主鎖は、ウレア結合（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレア主鎖は、例えば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応により得られる。ポリウレタン主鎖はウレタン結合（−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基と、水酸基（Ｎ−メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。
【００３６】
ポリエステル主鎖は、エステル結合（−ＣＯ−Ｏ−）によって繰り返し単位が結合している。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基（酸ハライド基を含む）と水酸基（Ｎ−メチロール基を含む）との縮重合反応により得られる。ポリアミン主鎖はイミノ結合（−ＮＨ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイミン基の開環重合反応により得られる。ポリアミド主鎖は、アミド結合（−ＮＨ−ＣＯ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリアミド主鎖は、例えば、イソシアネート基とカルボキシル基（酸ハライド基を含む）との反応により得られる。メラミン樹脂主鎖は、例えば、トリアジン基（例えばメラミン）とアルデヒド（例えばホルムアルデヒド）との縮重合反応により得られる。なお、メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋構造を有する。
【００３７】
アニオン性基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、又は連結基を介して主鎖に結合させる。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として主鎖に結合させることが好ましい。アニオン性基の例としては、カルボン酸基（カルボキシル基）、スルホン酸基（スルホ基）及びリン酸基（ホスホノ基）などが挙げられ、スルホン酸基及びリン酸基が好ましい。アニオン性基は塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは解離していてもよい。
【００３８】
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。
【００３９】
架橋構造は２つ以上の主鎖を化学的に結合（好ましくは共有結合）するものであるが、３つ以上の主鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、窒素原子、リン原子、脂肪族残基、芳香族残基及びこれらの組み合わせから選ばれる二価以上の基からなることが好ましい。
【００４０】
架橋しているアニオン性基を有するポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、２〜９６質量％であることが好ましく、４〜９４質量％であることがさらに好ましく、６〜９２質量％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、２つ以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー中の架橋構造を有する繰り返し単位の割合は、４〜９８質量％であることが好ましく、６〜９６質量％であることがさらに好ましく、８〜９４質量％であることが最も好ましい。
【００４１】
架橋しているアニオン性基を有するポリマーの繰り返し単位は、アニオン性基と架橋構造の双方を有していてもよい。また、その他の繰り返し単位（アニオン性基も架橋構造もない繰り返し単位）が含まれていてもよい。
【００４２】
その他の繰り返し単位としては、アミノ基又は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位及びベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基又は四級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に無機粒子の分散状態を維持する機能を有する。なお、アミノ基、四級アンモニウム基及びベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位、又は架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても同様の効果が得られる。
【００４３】
アミノ基又は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位では、アミノ基又は四級アンモニウム基は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、又は連結基を介して主鎖に結合させる。アミノ基又は四級アンモニウム基は、連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させるこ
とが好ましい。アミノ基又は四級アンモニウム基は、二級アミノ基、三級アミノ基又は四級アンモニウム基であることが好ましく、三級アミノ基又は四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基又は四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、アルキル基であることが好ましく、炭素数が１〜１２のアルキル基であることが好ましく、炭素数が１〜６のアルキル基であることがさらに好ましい。
四級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。
【００４４】
アミノ基又は四級アンモニウム基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマーが、アミノ基又は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は０．０６〜３２質量％であることが好ましく、０．０８〜３０質量％であることがさらに好ましく、０．１〜２８質量％であることが最も好ましい。
【００４５】
［含フッ素ポリマー］
本発明にはポリマーのバインダーのうち、特に低屈折率層には含フッ素ポリマーを好ましく用いることができる。
【００４６】
（含フッ素ビニルモノマー重合単位）
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学製）やＲ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはペルフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。
【００４７】
架橋反応性付与のための構成単位としては、主として以下の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）で示される単位が挙げられる。
（Ａ）：グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内に予め自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、
（Ｂ）：カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、
（Ｃ）：分子内に上記（Ａ）、（Ｂ）の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記（Ａ）、（Ｂ）の構成単位と反応させて得られる構成単位、（例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位）が挙げられる。
【００４８】
上記（Ｃ）の構成単位は該架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。ここに、光重合性基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、ｏ−キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、１，２，３−チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げ
ることができ、これらは１種のみでなく２種以上であってもよい。これらのうち、（メタ）アクリロイル基及びシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
【００４９】
光重合性基含有共重合体を調製するための具体的な方法としては、下記の方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
ａ．水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法、
ｂ．水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する（メタ）アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法、
ｃ．エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸を反応させてエステル化する方法、
ｄ．カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法。
【００５０】
なお、上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機粒子共存時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシル基やヒドロキシル基等を一定量残すことも好ましい。
【００５１】
本発明に有用な共重合体では、上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位、及び側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。
【００５２】
併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２‐ヒドロキシエチル等）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。
【００５３】
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、ペルフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基｛（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等｝を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０モル％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０モル％の場合である。好ましいポリマーについては、特開２００２−２４３９０７号、特開２００２−３７２６０１号、特開２００３−２６７３２号、特開２００３−２２２７０２号、特開２００３−２９４９１１号、特開２００３−３２９８０４号、特開２００４−４４４４、特開２００４−４５４６２号の各公報に記載のものを挙げることができる。
【００５４】
また本発明の含フッ素ポリマーには、防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平６−９３１００号、特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法及び、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。特に好ましい化合物としては、特開平１１−１８９６２１号公報の実施例１、２及び３のポリマー、又は特開平２−２５１５５５号公報の共重合体Ａ−２及びＡ−３を挙げることができる。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％である。
【００５５】
本発明に好ましく用いることのできるポリマーの好ましい分子量は、質量平均分子量が５０００以上、好ましくは１００００〜５０００００、最も好ましくは１５０００〜２０００００である。平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。
【００５６】
上記のポリマーに対しては、特開平１０−２５３８８号公報及び特開２０００−１７０２８号公報に記載のごとく適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開２００２−１４５９５２号公報に記載のごとく、含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、前記ハードコート層で述べた多官能モノマーを挙げることができる。これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。
【００５７】
〔オルガノシラン化合物〕
本発明の反射防止フィルムにおける機能層には、オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物等（以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する）を含有させることが、耐擦傷性の点で好ましい。
【００５８】
このゾル成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することによりバインダーとして機能する。また、多官能アクリレートポリマーを有する場合、活性光線の照射により３次元構造を有するバインダーが形成される。
【００５９】
上記オルガノシラン化合物は、下記一般式（１）で表されるものが好ましい。
一般式（１）：（Ｒ10）m1−Ｓｉ（Ｘ11）4-m1
上記一般式（１）において、Ｒ10は置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜６のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【００６０】
Ｘ11は、水酸基又は加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ11ＣＯＯ（Ｒ11は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、例えばＣＨ3ＣＯＯ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
ｍ１は１〜３の整数を表し、好ましくは１又は２であり、特に好ましくは１である。
【００６１】
Ｒ10又はＸ11が複数存在するとき、複数のＲ10又はＸ11はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
【００６２】
Ｒ10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【００６３】
Ｒ10が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
【００６４】
上記一般式（１）で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式（１−１）で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
一般式（１−１）：
【００６５】
【化１】
2007163971.tif 000003
【００６６】
上記一般式（１−１）において、Ｒ12は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、及び塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、及び塩素原子が更に好ましく、水素原子及びメチル基が特に好ましい。
【００６７】
Ｙ11は単結合又は、＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−＊＊もしくは＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊及び＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合及び＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。＊は＝Ｃ（Ｒ12）−に結合する位置を、＊＊はＬ11に結合する位置を表す。
【００６８】
Ｌ11は２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル又はエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル又はエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【００６９】
ｍ２は０又は１を表し、好ましくは０である。
Ｒ10は一般式（１）におけるＲ10と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、又は無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、又は無置換のアリール基が更に好ましい。
【００７０】
Ｘ11は一般式（１）におけるＸ11と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。Ｘ11が複数存在するとき、複数のＸ11はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【００７１】
一般式（１）、一般式（１−１）の化合物は２種類以上を併用してもよい。
【００７２】
以下に一般式（１）、一般式（１−１）で表される化合物の具体例を示すが、限定されるものではない。
【００７３】
【化２】
2007163971.tif 000004
【００７４】
【化３】
2007163971.tif 000005
【００７５】
これらのうち、（Ｍ−１）、（Ｍ−２）、及び（Ｍ−５）が特に好ましい。
【００７６】
［触媒］
そして、前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物は、一般に、前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。
【００７７】
触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；蓚酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数｛ｐＫａ値（２５℃）｝が４．５以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が３．０以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が２．５以下の有機酸が更に好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、蓚酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、蓚酸が特に好ましい。
【００７８】
（金属キレート化合物）
金属キレート化合物としては、一般式Ｒ01ＯＨ（式中、Ｒ01は炭素数１〜１０のアルキル基を示す）で表されるアルコールと、Ｒ02ＣＯＣＨ2ＣＯＲ03（式中、Ｒ02は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ03は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す）で表される化合物とを配位子とした、Ｚｒ、Ｔｉ、Ａｌから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、２種以上の金属キレート化合物を併用してもよい。
【００７９】
本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式Ｚｒ（ＯＲ01）p1（Ｒ02ＣＯＣＨＣＯＲ03）p2、Ｔｉ（ＯＲ01）q1（Ｒ02ＣＯＣＨＣＯＲ03）q2、及びＡｌ（ＯＲ01）r1（Ｒ02ＣＯＣＨＣＯＲ03）r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノ
シラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
【００８０】
金属キレート化合物中のＲ01及びＲ02は、同一又は異なってもよく、炭素数１〜１０のアルキル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、又はフェニル基などである。また、Ｒ03は、前記と同様の炭素数１〜１０のアルキル基のほか、炭素数１〜１０のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のｐ１、ｐ２、ｑ１、ｑ２、ｒ１、及びｒ２は、それぞれｐ１＋ｐ２＝４、ｑ１＋ｑ２＝４、ｒ１＋ｒ２＝３となる様に決定される整数を表す。
【００８１】
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウムなどのチタニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
【００８２】
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、１種単独で又は２種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
【００８３】
（β−ジケトン化合物及びβ−ケトエステル化合物）
また、本発明においては、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。
【００８４】
本発明で使用されるのは、一般式Ｒ02ＣＯＣＨ2ＣＯＲ03で表されるβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで、Ｒ02は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｒ03は炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を表す。すなわち、上記金属キレート化合物（ジルコニウム、チタニウム及び／又はアルミニウム化合物）中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物を構成するＲ02及びＲ03は、上記金属キレート化合物を構成するＲ02及びＲ03と同様である。
【００８５】
このβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓ−ブチル、アセト酢酸−
ｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチルヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチル及びアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物１モルに対し好ましくは２モル以上、より好ましくは３〜２０モル用いられる。２モル以上用いることにより、得られる組成物の保存安定性の低下を防止することができるので好ましい。
【００８６】
前記オルガノシラン化合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が最も好ましい。
【００８７】
前記オルガノシラン化合物は、硬化性組成物（防眩層用、低屈折率層用等の塗布液）に直接添加してもよいが、前記オルガノシラン化合物を、予め触媒の存在下に処理して前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物を調製し、得られた反応溶液（ゾル液）を用いて前記硬化性組成物を調製するのが好ましく、本発明においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物及び金属キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物及び／又はβ−ケトエステル化合物を添加した液を、防眩層又は低屈折率層の少なくとも１層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
【００８８】
〔その他のバインダー化合物〕
本発明の硬化性樹脂組成物に対しては、例えば特開２００３−３９５８６号公報に記載の以下の反応性有機珪素化合物を併用することもできる。反応性有機珪素化合物は、電離放射線硬化性化合物と反応性有機珪素化合物の合計に対して１０〜１００質量％の範囲で使用される。特に下記の電離放射線硬化性有機珪素化合物を使用する場合には、これだけを樹脂成分として硬化性樹脂組成物を形成することが可能である。
【００８９】
［反応性有機珪素化合物］
（珪素アルコキシド）
珪素アルコキシドは、前記一般式（１）で表される化合物のうち、Ｘ11がアルコキシ基（ＯＲ13）であって、Ｒ10、Ｒ13が炭素数１〜１０のアルキル基を表す化合物に該当する。これらの化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００９０】
（シランカップリング剤）
シランカップリング剤としては、例えば、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロリド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン等が挙げられる。
【００９１】
（電離放射線硬化性珪素化合物）
電離放射線によって反応架橋する複数の基、例えば、重合性二重結合基を有する分子量５，０００以下の有機珪素化合物が挙げられる。このような反応性有機珪素化合物は、片末端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル官能性ポリシロキサン、或いはこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラン、又はビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられる。
【００９２】
（その他の化合物）
その他の化合物としては、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシシラン化合物等が挙げられる。
【００９３】
１−（２）ラジカル重合開始剤
本発明で用いられるエチレン性不飽和基を有する各種モノマーの重合は、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。本発明の反射防止フィルムを作製するに際しては、光ラジカル重合開始剤及び熱ラジカル重合開始剤を併用することもできる。
【００９４】
〔光ラジカル重合開始剤〕
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類（特開２００１−１３９６６３号公報記載のもの等）、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
【００９５】
アセトフェノン類の例には、２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシジメチル−ｐ−イソプロピルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルホリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−t−ブチル−ジクロロアセトフェノンなどが含まれる。
【００９６】
ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルなどが含まれる。
【００９７】
ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４'−メチルジフェニルスルフィド、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン及びｐ−クロロベンゾフェノン、４，４'−ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、３，３'，４，４'−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカル
ボニル）ベンゾフェノンなどが含まれる。
【００９８】
ボレート塩としては、例えば、特許第２７６４７６９号、特開２００２−１１６５３９号等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９〜２２頁，１９９８年，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物があげられる。例えば、前記特開２００２−１１６５３９号明細書の段落番号［００２２］〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。またその他の有機ホウ素化合物としては、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられ、具体例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。
【００９９】
ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドなどが含まれる。
【０１００】
活性エステル類の例には１，２−オクタンジオン、１−[４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）]、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。具体的には特開２０００−８００６８号公報の実施例記載化合物１〜２１が特に好ましい。
【０１０１】
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
【０１０２】
活性ハロゲン類としては、具体的には、若林らの“Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ”４２巻、２９２４頁（１９６９年）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特開平５−２７８３０号公報、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔの“Ｊｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１巻（３号），（１９７０年）等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物：ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。より好適には、少なくとも一つのモノ−、ジ−又はトリ−ハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体が挙げられる。
【０１０３】
具体的な例には、ｓ−トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、例えば２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−スチリルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−Ｂｒ−４−ジ（エチル酢酸エステル）アミノ）フェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−ｓ−トリアジン、２−トリハロメチル−５−（ｐ−メトキシフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールが含まれる。具体的には特開昭５８−１５５０３号公報のｐ１４〜ｐ３０、特開昭５５−７７７４２号公報のｐ６〜ｐ１０、特公昭６０−２７６７３号公報のｐ２８７記載のＮｏ．１〜Ｎｏ．８、特開昭６０−２３９７３６号公報のｐ４４３〜ｐ４４４のＮｏ．１〜Ｎｏ．１７、米国特許第４７０１３９９号明細書のＮｏ．１〜１９などの化合物が特に好ましい。
【０１０４】
無機錯体の例には、ビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス［２,６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル］チタニウムが挙げられる。クマリン類の例には３−ケトクマリンが挙げられる。
これらの開始剤は単独でも混合して用いてもよい。
【０１０５】
光ラジカル重合開始剤としては、上記のほか、「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９及び、加藤清視著「紫外線硬化システム」｛総合技術
センター発行｝（平成元年）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１０６】
市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」など；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア５００」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア１８７０」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」など；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【０１０７】
光ラジカル重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【０１０８】
［光増感剤］
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製の「カヤキュアー（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）」などが挙げられる。
【０１０９】
〔熱ラジカル重合開始剤〕
熱ラジカル開始剤としては、有機又は無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
【０１１０】
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（プロピオニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
【０１１１】
１−（３）架橋性化合物
本発明を構成するモノマー又はポリマーバインダ−が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。
【０１１２】
〔アミノ化合物〕
例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を架橋性化合物として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。
【０１１３】
メラミン系化合物は、一般にトリアジン環に窒素原子が結合した骨格を有する化合物として知られているものであり、具体的にはメラミン、アルキル化メラミン、メチロールメラミン、アルコキシ化メチルメラミン等を挙げることができるが、１分子中にメチロール基及びアルコキシ化メチル基のいずれか一方又は両方を合計で２個以上有するものが好ましい。具体的には、メラミンとホルムアルデヒドとを塩基性条件下で反応させて得られるメチロール化メラミン、アルコキシ化メチルメラミン、又はそれらの誘導体が好ましく、特に硬化性樹脂組成物に良好な保存安定性が得られる点、及び良好な反応性が得られる点で、アルコキシ化メチルメラミンが好ましい。架橋性化合物として用いられるメチロール化メラミン及びアルコシ化メチルメラミンには特に制約はなく、例えば、文献「プラスチック材料講座［８］ユリア・メラミン樹脂」（日刊工業新聞社）に記載されている方法で得られる各種の樹脂状物の使用も可能である。
【０１１４】
また、尿素系化合物としては、尿素の他、ポリメチロール化尿素その誘導体であるアルコキシ化メチル尿素、ウロン環を有するメチロール化ウロン及びアルコキシ化メチルウロン等を挙げることができる。そして、尿素誘導体等の化合物についても、上記の文献に記載されている各種樹脂状物の使用が可能である。
【０１１５】
〔硬化触媒〕
本発明の反射防止フィルムには、硬化を促進する硬化触媒として電離放射線又は熱の照射によりラジカルや酸を発生する化合物を使用することができる。
【０１１６】
［熱酸発生剤］
熱酸発生剤の具体例としては、例えば、各種脂肪族スルホン酸とその塩、クエン酸、酢酸、マレイン酸等の各種脂肪族カルボン酸とその塩、安息香酸、フタル酸等の各種芳香族カルボン酸とその塩、アルキルベンゼンスルホン酸とそのアンモニウム塩、アミン塩、各種金属塩、リン酸や有機酸のリン酸エステル等を挙げることができる。
【０１１７】
市販されている材料としては、「キャタリスト４０４０」、「キャタリスト４０５０」、「キャタリスト６００」、「キャタリスト６０２」、「キャタリスト５００」、「キャタリスト２９６−９」｛以上、日本サイテックインダストリーズ（株）製｝や、「ＮＡＣＵＲＥシリーズ１５５、１０５１、５０７６、４０５４Ｊ」やそのブロックタイプの「ＮＡＣＵＲＥシリーズ２５００、５２２５、Ｘ４９−１１０、３５２５、４１６７」｛以上、キング社製｝などが挙げられる。
【０１１８】
この熱酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、さらに好ましくは０．１〜５質量部である。添加量がこの範囲であると、硬化性樹脂組成物の保存安定性が良好で塗膜の耐擦傷性も良好なものとなる。
【０１１９】
［感光性酸発生剤、光酸発生剤］
更に光重合開始剤として用いることができる感光性酸発生剤について詳述する。
感光性酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、又はマイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。以下さらに説明する。
【０１２０】
感光性酸発生剤としては、例えば、（１）ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等の各種オニウム塩；（２）β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物等のスルホン化合物；（３）アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等のスルホン酸エステル類；（４）スルホンイ
ミド化合物類；（５）ジアゾメタン化合物類；を挙げることができる。
【０１２１】
オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられる。中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。例えば特開２００２−２９１６２号明細書の段落番号［００５８］〜［００５９］に記載の化合物等が挙げられる。
【０１２２】
感光性酸発生剤の使用割合は、硬化性樹脂組成物１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、さらに好ましくは０．１〜５質量部である。
その他、具体的な化合物や使用法として、例えば特開２００５−４３８７６号記載の内容などを用いることができる。
【０１２３】
１−（４）透光性粒子
本発明の反射防止フィルム、特に防眩層には、表面散乱性や内部散乱性を付与するため、各種の透光性粒子を用いることができる。
これらの透光性粒子は、ハードコート層に用いることもできる。
【０１２４】
透光性粒子は有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。粒径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なくなり、ヘイズ値の設計が容易となる。透光性粒子としては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、バインダーとの屈折率差が後記のような数値範囲になるものが好ましい。
【０１２５】
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、メラミン樹脂粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）等が用いられる。
【０１２６】
無機粒子としては、シリカ粒子（屈折率１．４４）、アルミナ粒子（屈折率１．６３）、ジルコニア粒子、チタニア粒子、また中空や細孔を有する無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ粒子（屈折率１．４４）、アルミナ粒子（屈折率１．６３）、ジルコニア粒子、チタニア粒子、また中空や細孔を有する無機粒子が挙げられる。
【０１２７】
なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリアクリル（−スチレン）（共）重合体粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明における内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。
【０１２８】
さらに、本発明において防眩層は、透光性樹脂と透光性粒子とを含有することが好ましく、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダーとアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート重合体からなる透光性粒子とを組合せて用いて形成されることが好ましく、特に該バインダーとアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリアクリル（−スチレン）（共）重合体からなる透光性粒子との組合せが好ましい。アクリル含率は６０〜１００質量％がより好ましく、更に好ましくはアクリル１００質量％または、アクリル含率６０〜９５質量％が更に好ましい。アクリル１００質量％の粒子または、アクリル含率が６０〜９５質量％の粒子をそれぞれ単独で用いても良いし、両者を併用しても良い。併用する場合の配合率は、所望の屈折率となるように調整することができる。
また、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダーとしては
、硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３の範囲であることが好ましい。架橋ポリアクリル（−スチレン）（共）重合体からなる透光性粒子としては、屈折率が１．４８〜１．５４の範囲であることが好ましい。
【０１２９】
本発明におけるバインダー（透光性樹脂）と透光性粒子との屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．６５である。屈折率を前記範囲とするには、バインダー及び透光性粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
【０１３０】
また、本発明においては、バインダーと透光性粒子との屈折率の差（透光性粒子の屈折率−バインダーの屈折率）は、絶対値として好ましくは０．００１〜０．０３０であり、より好ましくは０．００１〜０．０２０、更に好ましくは０．００１〜０．０１５である。この差が０．０３０以下であれば、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じず、好ましい。
【０１３１】
ここで、バインダーの屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。上記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
【０１３２】
上記のような透光性粒子の場合には、バインダー中で透光性粒子が沈降し易いので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透光性粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ以下の無機フィラーを、バインダーに対して塗膜の透明性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させるとよい。
【０１３３】
透光性粒子の平均粒径は０．５〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２．０〜６．０μｍである。平均粒径が０．５μｍ以上であれば、光の散乱角度分布が広角に広がりすぎることがないので、ディスプレイの文字ボケを引き起こすことがなく好ましい。一方、１０μｍ以下であれば、透光性粒子を添加する層の膜厚をあえて厚くする必要がなく、カールやコスト上昇といった問題が生じることもないので好ましい。
【０１３４】
また透光性粒子は、粒子径の異なる２種以上のものを併用して用いてもよい。このことにより、より大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。
【０１３５】
上記透光性粒子は、それが添加される層の全固形分中に３〜３０質量％含有されるように配合されることが好ましい。より好ましくは５〜２０質量％である。３質量％以上含有させることにより、十分な添加効果を発揮させることができ、３０質量％以下であれば、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じることがない。
【０１３６】
また、透光性粒子の密度は、好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ2である。
【０１３７】
〔透光性粒子調製、分級法〕
本発明に係る透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁及び１４６頁から１４７頁の記載、「合成高分子」１巻、ｐ．２４６〜２
９０、同３巻、ｐ．１〜１０８等に記載の方法、及び特許第２５４３５０３号明細書、同第３５０８３０４号明細書、同第２７４６２７５号明細書、同第３５２１５６０号明細書、同第３５８０３２０号明細書、特開平１０−１５６１号公報、特開平７−２９０８号公報、特開平５−２９７５０６号公報、特開２００２−１４５９１９号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
【０１３８】
透光性粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製又は合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
【０１３９】
１−（５）無機粒子
本発明には硬度などの物理特性、反射率、散乱性などの光学特性などの向上のため、各種無機粒子を用いることができる。
無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つ金属の酸化物、具体例としては、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯ等が挙げられる。その他ＢａＳＯ4、ＣａＣＯ3、タルク及びカオリンなどが含まれる。
【０１４０】
本発明に使用する無機粒子の粒径は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均径は１〜２００ｎｍである。好ましくは５〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは１０〜１００ｎｍ、特に好ましくは１０〜８０ｎｍである。無機粒子を１００ｎｍ以下に微細化することで透明性を損なわないフィルムを形成できる。無機粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
【０１４１】
無機粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ2／ｇであることが最も好ましい。
【０１４２】
本発明に使用する無機粒子は分散媒体中に分散物として使用する層の塗布液に添加することが好ましい。
【０１４３】
無機粒子の分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。このような分散媒体の例には、水、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル等）、脂肪族炭化水素（例えば、ヘキサン、シクロヘキサン等）、ハロゲン化炭化水素（例えば、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素等）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、エーテル（例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン等）、エーテルアルコール（例えば、１−メトキシ−２−プロパノール等）が含まれる。トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールがより好ましく、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが特に好ましい。
【０１４４】
無機粒子は、分散機を用いて分散する。分散機の例には、サンドグラインダーミル（例
えばピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
【０１４５】
［高屈折率粒子］
本発明を構成する層を高屈折率化する目的に対しては、屈折率の高い無機粒子をモノマーと開始剤、有機置換された珪素化合物中に分散した組成物の硬化物が好ましく用いられる。
【０１４６】
この場合の無機粒子としては、屈折率の観点から、特にＺｒＯ2、ＴｉＯ2好ましく用いられる。ハードコート層の高屈折率化に対してはＺｒＯ2が、高屈折率層、中屈折率層用の粒子としてはＴｉＯ2の微粒子が最も好ましい。
【０１４７】
上記ＴｉＯ2の粒子としては、コバルト、アルミニウム、ジルコニウムから選ばれる少なくとも１つの元素を含有するＴｉＯ2を主成分とする無機粒子が特に好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。
【０１４８】
本発明におけるＴｉＯ2を主成分とする粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０であることが好ましく、２．１０〜２．８０であることがさらに好ましく、２．２０〜２．８０であることが最も好ましい。
【０１４９】
ＴｉＯ2を主成分とする粒子の一次粒子の質量平均径は１〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１〜１５０ｎｍ、さらに好ましくは１〜１００ｎｍ、特に好ましくは１〜８０ｎｍである。
【０１５０】
ＴｉＯ2を主成分とする粒子の結晶構造は、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造が主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。
【０１５１】
ＴｉＯ2を主成分とする粒子に、Ｃｏ（コバルト）、Ａｌ（アルミニウム）及びＺｒ（ジルコニウム）から選ばれる少なくとも１つの元素を含有することで、ＴｉＯ2が有する光触媒活性を抑えることができ、本発明の反射防止フィルムの耐候性を改良することができる。特に、好ましい元素はＣｏ（コバルト）である。また、２種類以上を併用することも好ましい。
【０１５２】
本発明で用いられるＴｉＯ2を主成分とする無機粒子は、表面処理により特開２００１−１６６１０４号公報記載のごとく、コア／シェル構造を有していてもよい。
【０１５３】
層中の無機粒子の添加量は、バインダーの全質量の１０〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８０質量％であると更に好ましい。無機粒子は層内で２種類以上用いてもよい。
【０１５４】
［低屈折率粒子］
低屈折率層に含有させる無機粒子は、低屈折率であることが望ましく、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。
【０１５５】
シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１５０％以下が好ましく、
より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。すなわち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、シリカ微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
ここで、無機粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
【０１５６】
シリカ微粒子の粒径が上記下限値以上であれば、耐擦傷性の改良効果が大きくなり、上記上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化するなどの不都合が生じないので好ましい。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題ない。
【０１５７】
（小サイズ粒径のシリカ微粒子）
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満であるシリカ微粒子（「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）の少なくとも１種を上記の粒径のシリカ微粒子（「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）と併用することが好ましい。小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
【０１５８】
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コスト及び保持剤効果の点で好ましい。
【０１５９】
低屈折率のシリカ微粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ2〜１００ｍｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ2〜８０ｍｇ／ｍ2、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ2〜６０ｍｇ／ｍ2である。該下限値以上であれば、良好な耐擦傷性の改良効果が発揮でき、該上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化するなどの不都合が生じないので好ましい。
【０１６０】
（中空シリカ粒子）
屈折率をより低下させる目的のためには、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましい。
【０１６１】
中空のシリカ微粒子は、その屈折率が１．１５〜１．４０であることが好ましく、更に好ましくは１．１７〜１．３５、最も好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をｒi、粒子外殻の半径をｒoとすると、空隙率ｘ（％）は下記数式（１）で表される。中空シリカ粒子の空隙率ｘは、好ましくは１０〜６０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。
数式（１）：ｘ＝｛（４πｒi3／３）／（４πｒo3／３）｝×１００
【０１６２】
中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から、中空のシリカ粒子の屈折率は、通常、１．１５以上である。
【０１６３】
中空シリカ粒子の製造方法は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報や特開２００２−７９６１６号公報に記載されている。本発明において好ましく用いられる中空シリカ粒子としては、特に外殻の内部に空洞を有している粒子で、その外殻の細孔が閉塞されて
いる粒子が特に好ましい。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率は特開２００２−７９６１６号公報に記載の方法で算出することができる。
【０１６４】
中空シリカ粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ2〜１００ｍｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ2〜８０ｍｇ／ｍ2、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ2〜６０ｍｇ／ｍ2である。塗設量が該下限値以上であれば、良好な低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が発現するので好ましく、該上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化するなどの不都合が生じないので好ましい。
【０１６５】
中空シリカ粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１５０％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。すなわち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、中空シリカの粒径は３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６５ｎｍ以下である。
【０１６６】
中空シリカ粒子の粒径が該下限値以上であれば、空腔部の割合が十分で屈折率の低下が見込めるので好ましく、該上限値以下であれば、低屈折率層表面に微細な凹凸ができて、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化するなどの不都合が生じることがないので好ましい。中空シリカ粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでもよく、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題ない。
【０１６７】
また、中空シリカ粒子は粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカ粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
【０１６８】
本発明において中空シリカ粒子の比表面積は、２０〜３００ｍ2／ｇが好ましく、更に好ましくは３０〜１２０ｍ2／ｇ、最も好ましくは４０〜９０ｍ2／ｇである。表面積は窒素を用いＢＥＴ法で求めることができる。
【０１６９】
１−（６）導電性粒子
本発明の反射防止フィルムには導電性を付与するために、各種の導電性粒子を用いることができる。導電性粒子は、金属の酸化物又は窒化物から形成することが好ましい。金属の酸化物又は窒化物の例には、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛及び窒化チタンが含まれる。酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。
【０１７０】
導電性無機粒子は、これらの金属の酸化物又は窒化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖ及びハロゲン原子が含まれる。酸化錫及び酸化インジウムの導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｐ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖ及びハロゲン原子を添加することが好ましい。Ｓｂを含有する酸化錫（ＡＴＯ）及びＳｎを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）が特に好ましい。ＡＴＯ中のＳｂの割合は、３〜２０質量％であることが好ましい。ＩＴＯ中のＳｎの割合は、５〜２０質量％であることが好ましい。
【０１７１】
帯電防止層に用いる導電性無機粒子の一次粒子の平均粒子径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、５〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、５〜７０ｎｍであることが最も好ましい。形成される帯電防止層中の導電性無機粒子の平均粒子径は、１〜２００ｎｍであり、５〜１５０ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。導電性無機粒子の平均粒子径は
、粒子の質量を重みとした平均径であり、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
【０１７２】
導電性無機粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ2／ｇであることが最も好ましい。
【０１７３】
導電性無機粒子を表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物又は有機化合物を用いて実施する。表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナ及びシリカが含まれる。シリカ処理が特に好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。２種類以上の表面処理を組み合わせて実施してもよい。
【０１７４】
導電性無機粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状又は不定形状であることが好ましい。
【０１７５】
導電性無機粒子は、特定の層内にその２種類以上を併用してもよく、また反射防止フィルムの複数の層に、それぞれ別の種類の導電性無機粒子を用いてもよい。
【０１７６】
帯電防止層中の導電性無機粒子の割合は、２０〜９０質量％であることが好ましく、２５〜８５質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがさらに好ましい。
【０１７７】
導電性無機粒子は、分散物の状態で帯電防止層の形成に使用することができる。
【０１７８】
１−（７）表面処理剤
本発明で使用する無機粒子は、分散液中又は塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。
【０１７９】
表面処理は、無機化合物又は有機化合物の表面処理剤を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例には、コバルトを含有する無機化合物（ＣｏＯ2、Ｃｏ2Ｏ3、Ｃｏ3Ｏ4など）、アルミニウムを含有する無機化合物｛Ａｌ2Ｏ3、Ａｌ（ＯＨ）3など｝、ジルコニウムを含有する無機化合物（ＺｒＯ2、Ｚｒ（ＯＨ）4など）、ケイ素を含有する無機化合物（ＳｉＯ2など）、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ2Ｏ3など）などが含まれる。
【０１８０】
コバルトを含有する無機化合物、アルミニウムを含有する無機化合物、ジルコニウムを含有する無機化合物が特に好ましく、コバルトを含有する無機化合物、Ａｌ（ＯＨ）3、Ｚｒ（ＯＨ）4が最も好ましい。
【０１８１】
表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、アニオン性基を有する有機化合物（好ましくは、カルボキシル基、スルホン酸基、又はリン酸基を有する有機化合物であり、ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸などが特に好ましい）、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。これらのうちシランカップリング剤が最も好ましい。特にシランカップリング剤（オルガノシラン化合物）、その部分加水分解物、及びその縮合物の少なくとも一種で表面処理されていることが好ましい。
【０１８２】
チタネートカップリング剤としては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシ
チタン、テトライソプロポキシチタンなどの金属アルコキシド、「プレンアクト（ＫＲ−ＴＴＳ、ＫＲ−４６Ｂ、ＫＲ−５５、ＫＲ−４１Ｂ）」等｛味の素（株）製｝などが挙げられる。
【０１８３】
表面処理に用いる有機化合物は、さらに、架橋性又は重合性官能基を有することが好ましい。架橋性又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基｛例えば（メタ）アクリル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等｝、カチオン重合性基（例えばエポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等）、重縮合反応性基（例えば加水分解性シリル基、Ｎ−メチロール基等）などが挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する基である。
【０１８４】
これらの表面処理は２種類以上を併用することもでき、アルミニウムを含有する無機化合物とジルコニウムを含有する無機化合物を併用することが、特に好ましい。
【０１８５】
無機粒子がシリカである場合、カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例えば、チタンカップリング剤、シランカップリング剤等）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
【０１８６】
上記カップリング剤は、例えば低屈折率層の無機フィラーの表面処理剤として該層塗布液調製以前に、予め表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。特にシリカ微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【０１８７】
本発明に好ましく用いることのできる表面処理剤及び表面処理用の触媒の具体的化合物は、例えば、国際公開第２００４／０１７１０５号パンフレットに記載のオルガノシラン化合物及び触媒を挙げることができる。
【０１８８】
１−（８）分散剤
本発明に使用する粒子の分散には各種の分散剤を使用することができる。
分散剤は、さらに架橋又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基｛例えば（メタ）アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等｝、カチオン重合性基（エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。
【０１８９】
無機粒子の分散、特にＴｉＯ2を主成分とする無機粒子の分散にはアニオン性基を有する分散剤を用いることが好ましく、アニオン性基、及び架橋又は重合性官能基を有することがより好ましく、該架橋又は重合性官能基を側鎖に有する分散剤であることが特に好ましい。
【０１９０】
アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基（スルホ基）、リン酸基（ホスホノ基）、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、又はその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基又はその塩が好ましく、カルボキシル基、リン酸基が特に好ましい。１分子当たりの分散剤に含有されるアニオン性基の数は、１分子中に複数種類が含有されていてもよいが、平均で２個以上であることが好ましく、より好ましくは５個以上、特に好ましくは１０個以上である。また、分散剤に含有されるアニオン性基は、１分子中に複数種類が含有されていてもよい。
【０１９１】
側鎖にアニオン性基を有する分散剤において、アニオン性基含有繰返し単位の組成は、
全繰返し単位のうちの１０-4〜１００モル％の範囲であり、好ましくは１〜５０モル％、特に好ましくは５〜２０モル％である。
【０１９２】
分散剤は、さらに架橋又は重合性官能基を含有することが好ましい。架橋又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基｛例えば（メタ）アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等｝、カチオン重合性基（エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。
【０１９３】
１分子当たりの分散剤に含有される架橋又は重合性官能基の数は、平均で２個以上であることが好ましく、より好ましくは５個以上、特に好ましくは１０個以上である。また、分散剤に含有される架橋又は重合性官能基は、１分子中に複数種類が含有されていてもよい。
【０１９４】
本発明に用いる好ましい分散剤において、側鎖にエチレン性不飽和基を有する繰返し単位の例としては、ポリ−１，２−ブタジエン及びポリ−１，２−イソプレン構造、又は（メタ）アクリル酸のエステル又はアミドの繰返し単位であって、それに特定の残基（−ＣＯＯＲ04又はＣＯＮＨＲ04のＲ04基）が結合しているものが利用できる。
【０１９５】
上記特定の残基（Ｒ04基）の例としては、−（ＣＨ2）ｎ−ＣＲ05＝ＣＲ06Ｒ07、−（ＣＨ2Ｏ）ｎ−ＣＨ2ＣＲ05＝ＣＲ06Ｒ07、−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｎ−ＣＨ2ＣＲ05＝ＣＲ06Ｒ07、−（ＣＨ2）ｎ−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ2ＣＲ05＝ＣＲ06Ｒ07、−（ＣＨ2）ｎ−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ05＝ＣＲ06Ｒ07及び（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2−Ｘ01）を挙げることができ、ここで、Ｒ05〜Ｒ07はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、炭素数が１〜２０のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、Ｒ05とＲ06又はＲ07は互いに結合して環を形成してもよく、ｎは１〜１０の整数であり、そしてＸ01はジシクロペンタジエニル残基である。
【０１９６】
エステル残基のＲ04の具体例には、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2｛特開昭６４−１７０４７号公報記載のアリル（メタ）アクリレートのポリマーに相当｝、−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ6Ｈ5、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−Ｃ6Ｈ5、−ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2及びＣＨ2ＣＨ2Ｏ−Ｘ01（Ｘ01はジシクロペンタジエニル残基）が含まれる。アミド残基のＲ04の具体例には、−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2、−ＣＨ2ＣＨ2−Ｘ02（Ｘ02は１−シクロヘキセニル残基）及びＣＨ2ＣＨ2−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2、−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2が含まれる。
【０１９７】
上記のエチレン性不飽和基を有する分散剤においては、その不飽和結合基に遊離ラジカル（重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカル）が付加し、分子間で直接、又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、分子間に架橋が形成されて硬化する。あるいは、分子中の原子（例えば不飽和結合基に隣接する炭素原子上の水素原子）が遊離ラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、分子間に架橋が形成されて硬化する。
【０１９８】
アニオン性基、及び架橋又は重合性官能基を有し、且つ該架橋又は重合性官能基を側鎖に有する分散剤の質量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されないが１０００以上であることが好ましい。分散剤のより好ましい質量平均分子量（Ｍｗ）は２０００〜１００００００であり、さらに好ましくは５０００〜２０００００、特に好ましくは１００００〜１０００００である。
【０１９９】
架橋又は重合性官能基の含有単位は、アニオン性基含有繰返し単位以外の全ての繰返し単位を構成していてもよいが、好ましくは全架橋又は繰返し単位のうちの５〜５０モル％であり、特に好ましくは５〜３０モル％である。
【０２００】
分散剤は、架橋又は重合性官能基、アニオン性基を有するモノマー以外の適当なモノマーとの共重合体であってもよい。共重合成分に関しては特に限定はされないが、分散安定性、他のモノマー成分との相溶性、形成皮膜の強度等種々の観点から選択される。好ましい例としては、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ‐ブチル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、スチレン等が挙げられる。
【０２０１】
分散剤の形態は特に制限はないが、ブロック共重合体又はランダム共重合体であることが好ましくコスト及び合成的な容易さからランダム共重合体であることが特に好ましい。
【０２０２】
分散剤の無機粒子に対する使用量は、１〜５０質量％の範囲であることが好ましく、５〜３０質量％の範囲であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが最も好ましい。また、分散剤は２種類以上を併用してもよい。
【０２０３】
以下に本発明に好ましく用いられる分散剤の具体例を示すが、本発明用の分散剤はこれらに限定されるものではない。なお特に記載のない場合はランダム共重合体を表す。
【０２０４】
【化４】
2007163971.tif 000006
【０２０５】
【表１】
2007163971.tif 000007
【０２０６】
【化５】
2007163971.tif 000008
【０２０７】
【表２】
2007163971.tif 000009
【０２０８】
【化６】
2007163971.tif 000010
【０２０９】
【表３】
2007163971.tif 000011
【０２１０】
【化７】
2007163971.tif 000012
【０２１１】
【表４】
2007163971.tif 000013
【０２１２】
【化８】
2007163971.tif 000014
【０２１３】
【化９】
2007163971.tif 000015
【０２１４】
１−（９）防汚剤
本発明の反射防止フィルム、特にその最上層には防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系又はフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することが好ましい。
【０２１５】
これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量％の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。
【０２１６】
シリコーン系化合物の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中には、ジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。
【０２１７】
置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。
【０２１８】
シリコーン系化合物の分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、３０００〜３００００であることが特に好ましく、１００００〜２００００であることが最も好ましい。
【０２１９】
またシリコーン系化合物の珪素原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７．８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。
【０２２０】
好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業（株）製の“Ｘ−２２−１７４ＤＸ”、“Ｘ−２２−２４２６”、“Ｘ−２２−１６４Ｂ”、“Ｘ２２−１６４Ｃ”、“Ｘ−２２−１７０ＤＸ”、“Ｘ−２２−１７６Ｄ”、“Ｘ−２２−１８２１”（以上商品名）；チッソ（株）製の「サイラプレーンＦＭ−０７２５」、「サイラプレーンＦＭ−７７２５」、「サイラプレーンＦＭ−４４２１」、「サイラプレーンＦＭ−５５２１」、「サイラプレーンＦＭ−６６２１」、「サイラプレーンＦＭ−１１２１」；Ｇｅｌｅｓｔ社製の“ＤＭＳ−Ｕ２２”、“ＲＭＳ−０３３”、“ＲＭＳ−０８３”、“ＵＭＳ−１８２”、“ＤＭＳ−Ｈ２１”、“ＤＭＳ−Ｈ３１”、“ＨＭＳ−３０１”、“ＦＭＳ１２１”、“ＦＭＳ１２３”、“ＦＭＳ１３１”、“ＦＭＳ１４１”、“ＦＭＳ２２１”（以上商品名）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０２２１】
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖｛例えば−ＣＦ2ＣＦ3、−ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ、−ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＦ3、−ＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）4Ｈ等｝であっても、分岐構造｛例えばＣＨ（ＣＦ3）2、ＣＨ2ＣＦ（ＣＦ3）2、ＣＨ（ＣＨ3）ＣＦ2ＣＦ3、ＣＨ（ＣＨ3）（ＣＦ2）5ＣＦ2Ｈ等｝であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環、例えばペルフルオロシクロへキシル基、ペルフルオロシクロペンチル基又はこれらで置換されたアルキル基等）であってもよく、エーテル結合を有していてもよい（例えばＣＨ2ＯＣＨ2ＣＦ2ＣＦ3、ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2Ｃ4Ｆ8Ｈ、ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2Ｃ8Ｆ17、ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＦ2ＣＦ2ＯＣＦ2ＣＦ2Ｈ等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
【０２２２】
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成に、あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。
【０２２３】
フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのコポリマーであっても、コオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。
【０２２４】
フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。
【０２２５】
好ましいフッ素系化合物の例としては、ダイキン化学工業（株）製の“Ｒ−２０２０”、“Ｍ−２０２０”、“Ｒ−３８３３”、“Ｍ−３８３３”（以上商品名）；大日本インキ（株）製の「メガファックＦ−１７１」、「メガファックＦ−１７２」、「メガファックＦ−１７９Ａ」、「ディフェンサＭＣＦ−３００」（以上商品名）などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０２２６】
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤又はポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。
【０２２７】
好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製の「メガファックＦ−１５０」（商品名）、東レダウコーニング（株）製の“ＳＨ−３７４８”（商品名）などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
【０２２８】
１−（１０）界面活性剤
本発明の反射防止フィルムには、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、又はその両者を光拡散層形成用の塗布組成物中に含有することが好ましい。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いることができる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることができる。
【０２２９】
フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体（「フッ素系高分子界面活性剤」と略記することもある）が挙げられ、該フッ素系高分子界面活性剤は、下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むアクリル系（共）重合体、メタアクリル系（共）重合体か、又は下記（ｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位と下記（ｉｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位を含むアクリル系共重合体、メタアクリル系共重合体、さらにこれらと共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。
【０２３０】
（ｉ）下記一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式（２）：
【０２３１】
【化１０】
2007163971.tif 000016
【０２３２】
一般式（２）において、Ｒ21は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ21は酸素原子、硫黄原子又はＮ（Ｒ22）−を表し、酸素原子が好ましい。ｓ１は１以上６以下の整数、ｔ１は２〜４の整数を表す。Ｒ22は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基である。
【０２３３】
（ｉｉ）前記（ｉ）と共重合可能な下記一般式（３）で示されるモノマー
一般式（３）：
【０２３４】
【化１１】
2007163971.tif 000017
【０２３５】
一般式（３）において、Ｒ31は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ31は酸素原子、硫黄原
子又はＮ（Ｒ33）−を表し、Ｒ33は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基である。Ｌ31は酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−、及びＮ（ＣＨ3）−が好ましい。
【０２３６】
Ｒ32は置換基を有してもよい炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐又は環状のアルキル基を表す。Ｒ32のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐又は環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
【０２３７】
本発明で用いることができるフッ素系高分子界面活性剤中に用いられる、これらの一般式（２）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系高分子界面活性剤の各単量体に基づいて１０モル％以上であり、好ましくは１５〜７０モル％であり、より好ましくは２０〜６０モル％の範囲である。
【０２３８】
本発明で用いられるフッ素系高分子界面活性剤の好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、５，０００〜８０，０００がより好ましい。
【０２３９】
更に、本発明で用いられるフッ素系高分子界面活性剤の好ましい添加量は、塗布液に対して０．００１〜５質量％の範囲であり、好ましくは０．００５〜３質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。フッ素系高分子界面活性剤の添加量が０．００１質量％以上であれば、効果が十分に発揮されるので好ましく、また５質量％以下であれば、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、塗膜としての性能（例えば反射率、耐擦傷性）に悪影響を及ぼしたりするなどの不具合が生じないので好ましい。
【０２４０】
以下、一般式（２）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含むフッ素系高分子界面活性剤の具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０２４１】
【化１２】
2007163971.tif 000018
【０２４２】
【化１３】
2007163971.tif 000019
【０２４３】
しかしながら、上記のようなフッ素系高分子界面活性剤を防眩層に使用すると、防眩層表面にＦ原子を含有する官能基が偏析して防眩層の表面エネルギーが低下し、該防眩層上に低屈折率層をオーバーコートしたとき反射防止性能が悪化するという問題が生じることがある。これは、低屈折率層を形成するために用いられる硬化性組成物の濡れ性が悪化するために、低屈折率層に目視では検知できない微小なムラが悪化するためと推定される。このような問題を解決するためには、フッ素系ポリマーの構造と添加量を調整することにより、防眩層の表面エネルギーを、好ましくは２０ｍＮ・ｍ-1〜５０ｍＮ・ｍ-1に、より好ましくは３０ｍＮ・ｍ-1〜４０ｍＮ・ｍ-1に制御することが効果的であることを見出した。このような表面エネルギーを実現するためには、Ｘ線光電子分光法で測定したフッ素原子由来のピークと、炭素原子由来のピークの比であるＦ／Ｃが０．１〜１．５であることが好ましい。
【０２４４】
あるいは、上層を塗布する時には、上層を形成する溶媒に抽出されるようなフッ素系高分子界面活性剤を選択することで、下層表面（＝界面）に偏在することがなくなり、上層と下層の密着性を持たせることができ、高速塗布においても面状の均一性を保ち、且つ耐擦傷性の強い反射防止フィルムを提供することができる。また表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の防眩層の表面エネルギーを上記範囲に制御することでも目的を達成することができる。そのようなフッ素系高分子界面活性剤の例は、下記（ｉｉｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位を含む、アクリル系（共）重合体、メタアクリル（共）重合体か、又は下記（ｉｉｉ）のモノマーに相当する繰り返し単位と下記（ｉｖ）のモノマーに相当する繰り返し単位とを含むアクリル系共重合体、メタアクリル系共重合体、さらにこれらと共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体である。
【０２４５】
（ｉｉｉ）下記一般式（４）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式（４）
【０２４６】
【化１４】
2007163971.tif 000020
【０２４７】
一般式（４）において、Ｒ41は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｌ41は酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（Ｒ42）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ42）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。ｓ２は１以上６以下の整数（１〜３がより好ましく、１であることが更に好ましい）、ｔ２は１以上１８以下の整数（４〜１２がより好ましく、６〜８が更に好ましい）を表す。Ｒ42は水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。
【０２４８】
またフッ素系高分子界面活性剤中に、一般式（４）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位が２種類以上構成成分として含まれていてもよい。
【０２４９】
（ｉｖ）前記（ｉｉｉ）と共重合可能な下記一般式（５）で示されるモノマー
一般式（５）
【０２５０】
【化１５】
2007163971.tif 000021
【０２５１】
一般式（５）において、Ｒ51は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｌ51は酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（Ｒ53）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ53）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ53は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。
【０２５２】
Ｒ52は置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、又は置換基を有していてもよい芳香族基（例えば、フェニル基又はナフチル基）を表す。炭素数１〜１２の直鎖、分岐、もしくは環状のアルキル基、又は総炭素数６〜１８の芳香族がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖、分岐、又は環状のアルキル基が更に好ましい。
【０２５３】
本発明で用いることができるフッ素系高分子界面活性剤中に用いられる、これらの一般式（４）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの好ましい量は、該フッ素系高分子界面活性剤の各単量体に基づいて１０〜１００モル％であり、好ましくは２０〜１００モル％であり、より好ましくは４０〜１００モル％の範囲である。
【０２５４】
以下、一般式（４）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含む、フッ素系高分子界面活性剤の具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【０２５５】
【化１６】
2007163971.tif 000022
【０２５６】
【表５】
2007163971.tif 000023
【０２５７】
【化１７】
2007163971.tif 000024
【０２５８】
【表６】
2007163971.tif 000025
【０２５９】
【化１８】
2007163971.tif 000026
【０２６０】
【表７】
2007163971.tif 000027
【０２６１】
【表８】
2007163971.tif 000028
【０２６２】
【化１９】
2007163971.tif 000029
【０２６３】
【表９】
2007163971.tif 000030
【０２６４】
１−（１１）増粘剤
本発明の反射防止フィルムは、機能層形成用の塗布液の粘度を調整するために増粘剤を用いてもよい。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味し、添加することにより塗布液の粘度が上昇する大きさとして、好ましくは０．０５〜５０ｃＰであり、さらに好ましくは０．１０〜２０ｃＰであり、最も好ましくは０．１０〜１０ｃＰである。
【０２６５】
このような増粘剤としては以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリ−ε−カプロラクトン、
ポリ−ε−カプロラクトンジオール、
ポリ−ε−カプロラクトントリオール、
ポリビニルアセテート、
ポリ（エチレンアジペート）、
ポリ（１，４−ブチレンアジペート）、
ポリ（１，４−ブチレングルタレート）、
ポリ（１，４−ブチレンスクシネート）、
ポリ（１，４−ブチレンテレフタレート）、
ポリ（エチレンテレフタレート）、
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレンアジペート）、
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレングルタレート）、
ポリ（ネオペンチルグリコールアジペート）、
ポリ（ネオペンチルグリコールセバケート）、
ポリ（１，３−プロピレンアジペート）、
ポリ（１，３−プロピレングルタレート）、
ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、
ポリビニルアセタール、
ポリビニルプロパナール、
ポリビニルヘキサナール、
ポリビニルピロリドン、
ポリ（メタ）アクリル酸エステル、
セルロースアセテート、
セルロースプロピオネート、
セルロースアセテートブチレート。
【０２６６】
この他にも、特開平８−３２５４９１号公報記載のスメクタイト、フッ素四珪素雲母、ベントナイト、シリカ、モンモリロナイト及びポリアクリル酸ナトリウム、特開平１０−２１９１３６号公報記載のエチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピー性付与剤を使用することができる。
【０２６７】
１−（１２）塗布溶媒
本発明において、各層を形成するための塗布組成物に用いられる溶媒としては、各成分を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶媒が使用できる。
【０２６８】
溶媒は２種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が１００℃以下の溶媒を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が１００℃以上の溶媒を少量含有することが好ましい。
【０２６９】
沸点が１００℃以下の溶媒としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃）、ヘプタン（９８．４℃）、シクロヘキサン（８０．７℃）、ベンゼン（８０．１℃）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８℃）、クロロホルム（６１．２℃）、四塩化炭素（７６．８℃）、１，２−ジクロロエタン（８３．５℃）、トリクロロエチレン（８７．２℃）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６℃）、ジイソプロピルエーテル（６８．５℃）、ジプロピルエーテル（９０．５℃）、テトラヒドロフラン（６６℃）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２℃）、酢酸メチル（５７．８℃）、酢酸エチル（７７．１℃）、酢酸イソプロピル（８９℃）などのエステル類、アセトン（５６．１℃）、２−ブタノン（メチルエチルケトンと同じ、７９．６℃）などのケトン類、メタノール（６４．５℃）、エタノール（７８．３℃）、２−プロパノール（８２．４℃）、１−プロパノール（９７．２℃）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６℃）、プロピオニトリル（９７．４℃）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２℃）などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
【０２７０】
沸点が１００℃を以上の溶媒としては、例えば、オクタン（１２５．７℃）、トルエン（１１０．６℃）、キシレン（１３８℃）、テトラクロロエチレン（１２１．２℃）、クロロベンゼン（１３１．７℃）、ジオキサン（１０１．３℃）、ジブチルエーテル（１４２．４℃）、酢酸イソブチル（１１８℃）、シクロヘキサノン（１５５．７℃）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫと同じ、１１５．９℃）、１−ブタノール（１１７．７℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６℃）、ジメチルスルホキシド（１８９℃）などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノンである。
【０２７１】
１−（１３）その他
本発明の反射防止フィルムには、前記の成分以外に、樹脂、カップリング剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収
剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤などを添加することもできる。
【０２７２】
１−（１４）支持体
本発明の反射防止フィルムの支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シート、透明ガラスなど、特に限定はない。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム等）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、ポリノルボルネン系樹脂フィルム｛例えば「アートン」（商品名）ＪＳＲ（株）製、及び「ゼオネックス」（商品名）日本ゼオン（株）製｝等が使用できる。
【０２７３】
〔セルロースアシレートフィルム〕
その中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましく、セルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。又、透明支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度とする。
【０２７４】
［セルロースアセテート］
本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ
Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。
【０２７５】
セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがさらに好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。
【０２７６】
一般に、セルロースアシレートの２，３，６位の水酸基は、全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。さらにセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。
【０２７７】
本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落「００４３」〜「００４４」［実施例］［合成例１］、段落「００４８」〜「００４９」［合成例２］、段落「００５１」〜「００５２」［合成例３］に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【０２７８】
［セルロースアシレートフィルムの製造］
本発明で用いられるセルロースアシレートフィルムは、溶液製膜法（ソルベントキャスト法）により製造することができる。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
【０２７９】
有機溶媒は、炭素数が３〜１２のエーテル、炭素数が３〜１２のケトン、炭素数が３〜１２のエステル及び炭素数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【０２８０】
エーテル、ケトン及びエステルは環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれか２つ以上を有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その好ましい炭素数は、いずれかの官能基を有する化合物の、上記で特定した好ましい炭素数の範囲内であればよい。
【０２８１】
炭素数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが含まれる。炭素数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。炭素数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。
【０２８２】
２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが含まれる。
【０２８３】
ハロゲン化炭化水素の炭素数は１又は２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
【０２８４】
セルロースアシレート溶液（ドープ）の調整は一般的な方法で行える。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温又は高温）で処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。非塩素系溶媒を用いることもでき、それについては発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号に記載されているものが挙げられる。
【０２８５】
セルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【０２８６】
溶液は、常温（０〜４０℃）で、セルロースアシレートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、且つ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加
熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。
【０２８７】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。
【０２８８】
容器は攪拌できるように構成されているものを用いる。窒素ガス等の不活性な気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
【０２８９】
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
【０２９０】
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、又は取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【０２９１】
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
【０２９２】
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアシレートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロースアシレートの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【０２９３】
次に、混合物を−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【０２９４】
さらに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
【０２９５】
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【０２９６】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧及び減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
【０２９７】
なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を、冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度＋１０℃程度の温度で保持する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【０２９８】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造する。
【０２９９】
ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５質量％となるように濃度を調整することが好ましい。
【０３００】
ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許第６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
【０３０１】
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。
【０３０２】
流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラム又はバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラム又はバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０３０３】
複数の調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用い、ソルベントキャスト法により２層以上を同時に流延してフィルムを作製することもできる。この場合、ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０質量％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
【０３０４】
２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製
してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２８５号などの各公報に記載の方法が適応できる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出すセルロースアシレートフィルム流延方法でもよい。
【０３０５】
あるいは、また２個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成型したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭４４−２０２３５号公報に記載されている方法である。流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく、特に限定されない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。
【０３０６】
さらに本発明では、セルロースアシレート溶液を、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）形成用溶液と同時に流延し、機能層とフィルム形成を同時形成することも実施しうる。
【０３０７】
単層液では、必要なフィルム厚さにするためには、高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多い。この解決法として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延する。これにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。
【０３０８】
［可塑剤］
セルロースアシレートフィルムには、機械的物性を改良するため、又はフィルム製造の際における流延後の乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。
【０３０９】
可塑剤としては、リン酸エステル又はカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、ジフェニルビフェニルホスフェート、及びトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）及びＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰ及びＤＰＰが特に好ましい。
【０３１０】
可塑剤の添加量は、セルロースアシレートの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【０３１１】
［劣化防止剤］
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。
【０３１２】
劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、劣化防止剤の効果及びフィルム表面へのブリードアウト（滲み出し）を考慮して、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【０３１３】
［レターデーション調整剤］
セルロースアシレートフィルムには、フィルムのレターデーションを調整するため、必要に応じてレターデーション調整剤を使用することができる。フィルムのレターデーションとしては、膜厚方向には０〜３００ｎｍ、面内方向には０〜１０００ｎｍが好ましい。
【０３１４】
レターデーション上昇剤としては、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物が好ましく、芳香族化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
【０３１５】
詳しくは、特開２０００−１１１９１４号公報、同２０００−２７５４３４号公報、同２００２−２３６２１５号公報、国際公開第００／０６５３８４号パンフレット等に記載されている。
【０３１６】
［セルロースアシレートフィルムの延伸処理］
作製されたセルロースアシレートフィルムは、さらに延伸処理により乾燥ムラや乾燥収縮で発生する膜厚ムラ、表面凹凸を改善することができる。また、延伸処理はレターデーションを調整することにも用いられる。
【０３１７】
巾方向延伸処理の方法に特に限定はないが、その例としてテンターによる延伸方法が挙げられる。また、更に好ましくは、ロールの長手方向に縦延伸を行うことであり、ロールフィルムを搬送するパスロール間にて、それぞれのパスロールのドロー比（パスロール同士の回転比）を調節することにより、縦延伸が可能となる。
【０３１８】
〔ポリエチレンテレフタレートフィルム〕
本発明では、ポリエチレンテレフタレートフィルムも、透明性、機械的強度、平面性、耐薬品性及び耐湿性共に優れており、その上安価であり好ましく用いられる。
【０３１９】
［易接着処理］
透明プラスチックフィルムと、その上に設けられるハードコート層との密着強度をより向上させるため、透明プラスチックフィルムは、易接着処理が施されたされたものであることが更に好ましい。市販されている光学用易接着層付きＰＥＴフィルムとしては、東洋紡績（株）製「コスモシャインＡ４１００、Ａ４３００」等が挙げられる。
【０３２０】
２．反射防止フィルムを構成する層
本発明の反射防止フィルムは、以上述べた各種化合物を含む組成物を混合、透明支持体上に塗設して各種の機能層を形成することによって得られるものである。本発明の反射防
止フィルムは、透明支持体上に少なくとも防眩層と低屈折率層を有する。また、目的に合わせてさらに他の機能層を有することもできる。次に、本発明の反射防止フィルムを構成する各機能層について記載する。
【０３２１】
２−（１）ハードコート層
本発明の反射防止フィルムには、該フィルムの物理的強度を付与するために、好ましくは透明支持体の一方の面にハードコート層が設けられ、そのハードコート層の上に防眩層および低屈折率層が設けられる。好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に、中屈折率層、高屈折率層が設けられて、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、２層以上の積層から構成されても良い。またハードコート層に防眩性を付与し防眩性ハードコート層とすることで層数を減らす構成としても良い。
【０３２２】
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．５２〜１．９０であり、更に好ましくは１．５５〜１．８０である。本発明の態様では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層あるので、ハードコート層の屈折率が該下限値以上であれば、反射防止性が良好となり、該上限値以下であれば、反射光の色味が強くなりすぎるなどの傾向が生じないので好ましい。
【０３２３】
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、ハードコート層の厚さは通常０．５〜５０μｍ程度とし、好ましくは１〜２０μｍ、さらに好ましくは２〜１０μｍ、最も好ましくは３〜７μｍである。
【０３２４】
又、ハードコート層の硬度は、鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
さらに、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０３２５】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
【０３２６】
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０３２７】
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍの透光性粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。
【０３２８】
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマーもしくは無機粒子、又はその両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。
【０３２９】
２−（２）防眩層
防眩層は、表面散乱による防眩性と共に、好ましくは得られる反射防止フィルムの耐擦
傷性を向上させるためのハードコート性を該フィルムに寄与する目的で形成される。
【０３３０】
防眩性を形成する方法としては、特開平６−１６８５１号公報に記載のような、表面に微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして形成する方法；特開２０００−２０６３１７号公報に記載のように、電離放射線照射量の差による電離放射線硬化型樹脂の硬化収縮により形成する方法；特開２０００−３３８３１０号公報に記載のように、乾燥にて透光性樹脂に対する良溶媒の質量比が減少することにより、透光性微粒子及び透光性樹脂をゲル化させつつ固化させて塗膜表面に凹凸を形成する方法；特開２０００−２７５４０４号公報に記載のように、外部からの圧力により表面凹凸を付与する方法；などが知られており、本発明においてもこれら公知の方法を利用することができる。
【０３３１】
本発明で用いることができる防眩層は、透光性樹脂と、防眩性を付与するための透光性粒子を含有する。防眩層は、好ましくはハードコート性を付与することのできるバインダーポリマー、透光性粒子及び溶媒を含有する塗布液を用いて形成され、透光性粒子自体の突起又は複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸を形成されるものであることが好ましい。
【０３３２】
透光性粒子の分散によって形成される防眩層は、透光性樹脂と該透光性樹脂中に分散された透光性粒子を含有する。防眩性を有する防眩層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えていることが好ましい。透光性樹脂は、１−（１）バインダーの項に前記した化合物を用いて形成されることが好ましく、中でも［光重合性多官能モノマー］の項に挙げた化合物を用いることが好ましく、少なくとも３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分として形成されることが最も好ましい。ここで主成分とは、透光性樹脂で過半数の重量分率を占める事を意味し、具体的には透光性樹脂中に含まれる３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーの重量分率の総和が５０％を超えることが好ましい。
【０３３３】
上記透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋ポリ（メタ）アクリル系粒子、架橋ポリアクリル（−スチレン）（共）重合体粒子が好ましい。
【０３３４】
透光性粒子の形状は、球形又は不定形のいずれも使用できる。
また、粒子径の異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに防眩性反射防止フィルムを貼り付けた場合に、「ギラツキ」と呼ばれる表示画像品位上の不具合が発生する場合がある。「ギラツキ」は、防眩性反射防止フィルム表面に存在する凹凸により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与する透光性粒子よりも小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なる透光性粒子を併用することにより大きく改善することができる。
【０３３５】
上記透光性粒子は、形成された防眩層中の透光性粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ2となるように防眩層に含有される。
【０３３６】
透光性粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
【０３３７】
防眩層の膜厚は、１〜１５μｍの範囲であることが好ましく、１．２〜８μｍの範囲であることがより好ましい。該下限値以上であればハード性が不足することがなく、該上限
値以下であればカールの発生や脆性の低下により加工適性が低下するなどの問題が生じないので、該膜厚範囲内とするのが好ましい。
【０３３８】
一方、防眩層の中心線平均粗さ（Ｒａ）は０．０８〜０．３０μｍの範囲であることが好ましい。Ｒａが該上限値以下であれば、ギラツキや外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生しない。また、透過画像鮮明度の値は５〜６０％とするのが好ましい。
【０３３９】
防眩層の硬度は、鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０３４０】
２−（３）高屈折率層、中屈折率層
本発明の反射防止フィルムには、さらに好適には、高屈折率層、中屈折率層を設け、反射防止性をより高めることができる。
【０３４１】
以下の本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明支持体との関係で言えば屈性率は、透明支持体＞低屈折率層、高屈折率層＞透明支持体の関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。
【０３４２】
高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．４０であることが好ましく、より好ましくは１．６０〜２．２０、更に好ましくは、１．６５〜２．１０、最も好ましくは１．８０〜２．００である。
【０３４３】
支持体から近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作製する場合、高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．４０であることが好ましく、１．７０〜２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．８０であることが好ましい。
【０３４４】
高屈折率層及び中屈折率層に用いるＴｉＯ2を主成分とする無機粒子は、分散物の状態で高屈折率層及び中屈折率層の形成に使用する。
無機粒子は、分散剤の存在下で分散媒体中に分散するのがよい。
【０３４５】
本発明に用いる高屈折率層及び中屈折率層は、分散媒体中に無機粒子を分散した分散液に、好ましくは、さらにマトリックス形成に必要なバインダー前駆体（例えば、前記の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）、光重合開始剤等を加えて高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、電離放射線硬化性化合物（例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。
【０３４６】
さらに、高屈折率層及び中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時又は塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。
【０３４７】
このようにして作製した高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、例えば、前記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重
合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機粒子を含有する高屈折率層及び中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
【０３４８】
高屈折率層のバインダーは、該層の塗布組成物の固形分量に対して、５〜８０質量％添加する。
【０３４９】
高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％、特に好ましくは１５〜７５質量％である。無機粒子は高屈折率層内で２種類以上を併用してもよい。
【０３５０】
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
【０３５１】
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ，Ｉ，Ｃｌ等）を含む電離放射線硬化性化合物、Ｓ，Ｎ，Ｐ等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
【０３５２】
高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を後述する光学干渉層として用いる場合、３０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは５０〜１７０ｎｍ、特に好ましくは６０〜１５０ｎｍである。
【０３５３】
高屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。
【０３５４】
２−（４）低屈折率層
本発明の反射防止フィルムの反射率を低減するため、低屈折率層を用いる必要がある。
【０３５５】
低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４６であることが好ましく、１．２５〜１．４６であることがより好ましく、１．３０〜１．４６であることが特に好ましい。
【０３５６】
低屈折率層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の硬度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０３５７】
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
【０３５８】
低屈折率層の形成に特に好ましく用いられる前記硬化性組成物は、（Ａ）前記含フッ素ポリマー、（Ｂ）無機粒子、（Ｃ）オルガノシラン化合物を含有してなることが好ましい。
【０３５９】
低屈折率層には、本発明における微粒子を分散・固定するためにバインダーが用いられる。バインダーとしては、１−（１）バインダーの項で前記したものを用いることができるが、バインダー自身の屈折率の低い前記含フッ素ポリマー、又は含フッ素ゾル／ゲル素
材などを用いることが好ましい。含フッ素ポリマー又は含フッ素ゾル／ゲルとしては、熱又は電離放射線により架橋し、形成される低屈折率層表面の動摩擦係数０．０３〜０．３０であり、水に対する接触角８５〜１２０°となる素材が好ましい。
【０３６０】
２−（５）帯電防止層、導電性層
本発明においては、帯電防止層を設けることが反射防止フィルム表面での静電気防止の点で好ましい。帯電防止層を形成する方法は、例えば、導電性微粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、又は透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法等の従来公知の方法を挙げることができる。導電性層は、支持体に直接又は、支持体との接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。また、帯電防止層を反射防止膜の一部として使用することもできる。この場合、最表層から近い層で使用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。
【０３６１】
帯電防止層の厚さは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０３〜７μｍであることがより好ましく、０．０５〜５μｍであることがさらに好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、１０5〜１０12Ω／□であることが好ましく、１０5〜１０9Ω／□であることがさらに好ましく、１０5〜１０8Ω／□であることが最も好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。
【０３６２】
帯電防止層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、帯電防止層のヘイズは１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。また波長５５０ｎｍの光の透過率は、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、６５％以上であることがさらに好ましく、７０％以上であることが最も好ましい。
【０３６３】
本発明における帯電防止層は、その硬度が優れていることが好ましく、具体的な帯電防止層の硬度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましく、４Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０３６４】
２−（６）防汚層
本発明の反射防止フィルムの最表面には防汚層を設けることができる。防汚層は反射防止層の表面エネルギーを下げ、親水性又は親油性の汚れを付きにくくするものである。
防汚層には含フッ素ポリマーや防汚剤を用いて形成することができる。
防汚層の厚さは２〜１００ｎｍであることが好ましく、５〜３０ｎｍであることがさらに好ましい。
【０３６５】
２−（７）干渉ムラ（虹ムラ）防止層
本発明の反射防止フィルムにおける透明支持体とハードコート層、又は透明支持体と防眩層に実質的な屈折率差（屈折率差が０．０３以上）がある場合、透明支持体／ハードコート層、又は透明支持体／防眩層界面で反射光が生じる。この反射光は反射防止層表面での反射光と干渉し、ハードコート層（又は防眩層）の微妙な膜厚ムラに起因した干渉ムラを生じることがある。
【０３６６】
この様な干渉ムラを防止するために、例えば透明支持体とハードコート層（又は防眩層）の間に中間の屈折率ｎPを有し、膜厚ｄPが下記数式（２）を満たす様な干渉ムラ防止層を設けることもできる。
数式（２）：ｄP＝（２Ｎ−１）×λ／（４ｎP）
但し、λは可視光の波長で４５０〜６５０ｎｍの範囲の何れかの値、Ｎは自然数。
【０３６７】
また、反射防止フィルムを画像表示等に貼合する場合、透明支持体の反射防止層を積層していない側に粘着剤層（又は接着剤層）を積層する場合がある。この様な態様で、透明支持体と粘着剤層（又は接着剤層）の間に実質的な屈折率差（０．０３以上）がある場合、透明支持体／粘着剤層（又は接着剤層）の反射光が生じ、この反射光が、反射防止層表面の反射光などと干渉し、上記と同様に支持体やハードコート層の膜厚ムラに起因した干渉ムラを生じることがある。この様な干渉ムラを防止する目的で透明支持体の反射防止層を積層していない側に上記と同様の干渉ムラ防止層を設けることもできる。
【０３６８】
なお、この様な干渉ムラ防止層に関しては特開２００４−３４５３３３号公報に詳しく記載されており、本発明ではここで紹介されている干渉ムラ防止層を用いることもできる。
【０３６９】
２−（８）易接着層
本発明の反射防止フィルムには易接着層を塗設することもできる。易接着層とは、例えば、本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いるときの、該保護フィルムとその隣接層、又はハードコート層と支持体とを接着し易くする機能を付与する層のことをいう。
【０３７０】
易接着処理としては、ポリエステル、アクリル酸エステル、ポリウレタン、ポリエチレンイミン、シランカップリング剤等からなる易接着剤により透明プラスチックフィルム上に易接着層を設ける処理が挙げられる。
【０３７１】
本発明において好ましく用いられる易接着層の例としては、−ＣＯＯＭ（Ｍは水素原子又はカチオンを表す）基を有する高分子化合物を含有する層を含むものであり、さらに好ましい態様は、反射防止フィルムの支持体側に−ＣＯＯＭ基を有する高分子化合物を含有する層を設け、それに隣接させて偏光膜側に親水性高分子化合物を主たる成分として含む層を設けたものである。
【０３７２】
ここでいう−ＣＯＯＭ基を有する高分子化合物としては例えば−ＣＯＯＭ基を有するスチレン−マレイン酸共重合体や−ＣＯＯＭ基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸−無水マレイン酸共重合体などであり、特に−ＣＯＯＭ基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合体を用いると好ましい。このような高分子化合物を単独で又は２種以上併用して用いることができる。
【０３７３】
上記高分子化合物の好ましい質量平均分子量としては、５００〜５００，０００程度のものであるとよい。−ＣＯＯＭ基を有する高分子化合物の特に好ましい例は特開平６−０９４９１５号、特開平７−３３３４３６号などの各公報に記載のものが好ましく用いられる。
【０３７４】
また親水性高分子化合物として好ましくは、親水性セルロース誘導体（例えば、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシセルロース等）、ポリビニルアルコール誘導体（例えば、ポリビニルアルコール、酢酸ビニルービニルアルコール共重合体、ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、ポリビニルベンザール等）、天然高分子化合物（例えば、ゼラチン、カゼイン、アラビアゴム等）、親水性ポリエステル誘導体（例えば、部分的にスルホン化されたポリエチレンテレフタレート等）、親水性ポリビニル誘導体（例えば、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリビニルインダゾール、ポリビニルピラゾール等）が挙げられ、単独で又は２種以上併用して用いられる。
【０３７５】
易接着層の厚みとしては０．０５〜１．０μｍの範囲が好ましい。０．０５μｍ以上であれば十分な接着性が得られ、また、１．０μｍより厚くても接着性の効果はそれ以上あまり向上しないので、易接着層は該厚み範囲とすることが好ましい。
【０３７６】
２−（９）カール防止層
本発明の反射防止フィルムには、カール防止加工を施すこともできる。カール防止加工とは、これを施した面を内側にして丸まろうとする機能を付与するものであり、具体的にはカール防止層を設ける態様が挙げられる。反射防止フィルムなど、透明樹脂フィルムの片面にのみ前記の各種機能層などを形成した際には、その各種機能層などを形成した側の面を内側にしてカールしようとする傾向を生じる。カール防止層はこうしたカールの発生を防止する働きをするものである。
【０３７７】
カール防止層は、反射防止フィルムの背面、すなわち支持体の、防眩層又は反射防止層を有する側と反対側の表面に設ける態様を挙げることができるが、本発明では、例えば反射防止フィルムの背面にも易接着層を塗設する場合もあり、カール発生の状況によっては、逆面、すなわち防眩層又は反射防止層を有する側にカール防止層を塗設するような態様も挙げることができる。
【０３７８】
カール防止加工の具体的方法としては、溶媒塗布によるもの、溶媒とセルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等の透明樹脂層を塗設するもの等が挙げられる。
【０３７９】
溶媒塗布による方法とは、具体的には、反射防止フィルムの支持体として用いるセルロースアシレートフィルムを溶解させる溶媒、又は膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。これらのカールを防止する機能を有する層の塗布液は、従ってケトン系、エステル系の有機溶媒を含有するものが好ましい。
【０３８０】
好ましいケトン系の有機溶媒の例としてはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、エチル−ｎ−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジエチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、メチル−ｎ−へプチルケトン等であり、好ましいエステル系の有機溶媒の例としては酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。
【０３８１】
しかしながら、用いる溶媒としては、セルロースアシレートフィルムを溶解させる溶媒及び／又は膨潤させる溶媒の他、さらに該フィルムを溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。この他にも、透明ハード加工や帯電防止加工を施してもカール防止機能を発揮する。
【０３８２】
２−（１０）水吸収層
本発明の反射防止フィルムには水吸収剤を含む層を設けることができる。水吸収剤は、アルカリ土類金属を中心に、水吸収機能を有する化合物から選択することができる。例えば、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＣａＯ、及びＭｇＯなどが挙げられる。さらに、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｃａの様な金属元素から選択することもできる。これらの吸収剤粒子の粒子サイズは、好ましくは１００ｎｍ以下であり、５０ｎｍ以下で使用されるのがさらに好ましい。
【０３８３】
これらの水吸収剤を含む層は、前記の帯電防止層と同様に真空蒸着法等を使って作製してもよいし、ナノ粒子を各種方法で作成して用いてもよい。層の厚みは１〜１００ｎｍが
好ましく、１〜１０ｎｍがより好ましい。
【０３８４】
水吸収剤を含む層は、支持体と積層体（反射防止層を含む各種機能層）の間、積層体の最上層、積層体の間に設けられていてもよく、又は積層体中の有機層もしくは帯電防止層中に水吸収材が添加されていてもよい。帯電防止層に添加する場合には共蒸着法を用いることが好ましい。
【０３８５】
２−（１１）プライマー層・無機薄膜層
本発明の反射防止フィルムでは、支持体と積層体との間に、公知のプライマー層又は無機薄膜層を設置することで、ガスバリアー性を高めたりすることができる。
【０３８６】
プライマー層としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を用いることが可能であるが、本発明においては、このプライマー層として、これらの樹脂の層と無機薄膜層とを組み合わせた有機／無機ハイブリッド層を設けることが好ましい。無機薄膜層としては、無機蒸着層又はゾルーゲル法による緻密な無機コーティング薄膜が好ましい。無機蒸着層としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ等の蒸着層が好ましい。無機蒸着層は真空蒸着法、スパッタリング法等により形成することができる。
【０３８７】
３．反射防止フィルムの層構成
本発明の反射防止フィルムについては、上記のような層を用い、公知の層構成を使用することができる。たとえば、代表的な例としては以下のようなものがある。
ａ．支持体／ハードコート層
ｂ．支持体／ハードコート層／低屈折率層（図３）
ｃ．支持体／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層（図４）
ｄ．支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図５）
【０３８８】
上記ｂ（図３）のように、支持体上にハードコート層を塗布した上に、低屈折率層を積層すると、反射防止フィルムとして好適に用いることができる。低屈折率層はハードコート層の上に低屈折率層４を光の波長の１／４前後の膜厚で形成することにより、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができる。
【０３８９】
また、ｃ（図４）のように支持体上にハードコート層を塗布した上に、高屈折率層、低屈折率層を積層しても反射防止フィルムとして好適に用いることができる。さらに、ｄ（図５）のように支持体、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、そして低屈折率層の順序の層構成を設置することにより、反射率を１％以下とすることができる。
【０３９０】
上記反射防止フィルムａ〜ｄの層構成において、ハードコート層（２）は防眩性を有する防眩層とすることができる。防眩性は図６に示されるような透光性粒子の分散によるものでも、図７に示されるようなエンボス加工などの方法による表面の賦形によって形成されてもよい。透光性粒子の分散によって形成される防眩層は、透光性樹脂と該透光性樹脂中に分散された透光性粒子を含有してなる。防眩性を有する防眩層は、好ましくは防眩性とハードコート性を兼ね備えており、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。
【０３９１】
また支持体とそれよりも表面側の層の間、あるいは最表面に設けてもよい層として、干渉ムラ（虹ムラ）防止層、帯電防止層（ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合）、別のハードコート層（１層のハードコート層又は防眩層だけで硬度が不足する場合）、ガスバリアー層、水吸収層（防湿層）、密着改良層、防汚層（汚染防止層）、等が挙げられる。
【０３９２】
本発明における反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムを構成する各層の屈折率は以下の関係を満たすことが好ましい。
ハードコート層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
【０３９３】
４．反射防止フィルムの製造方法
本発明の反射防止フィルムは、以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
【０３９４】
４−（１）塗布液の調製
［各層形成用塗布液の調製］
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。その際、溶媒の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は５質量％以下が好ましく、２質量％以下がより好ましい。溶媒の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、又はその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
【０３９５】
［塗布液の物性］
本発明における塗布方式は、液物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、塗布する瞬間の液物性、特に粘度及び表面張力を制御する必要がある。
【０３９６】
粘度については２．０ｍＰａ・ｓｅｃ以下であることが好ましく、更に好ましくは１．５ｍＰａ・ｓｅｃ以下、最も好ましくは１．０ｍＰａ・ｓｅｃ以下である。塗布液によっては剪断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間の剪断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高剪断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液に剪断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなると乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。
【０３９７】
また、液物性ではないが、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量も塗布可能な上限の速度に影響を与える。透明支持体に塗り付けられる塗布液の量は２．０〜５．０ｃｃ／ｍ2の範囲であることが好ましい。透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を増やすと塗布可能な上限の速度が上がるため好ましいが、透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を増やしすぎると乾燥にかかる負荷が大きくなるため、液処方・工程条件によって最適な透明支持体に塗り付けられる塗布液の量を決めることが好ましい。
【０３９８】
表面張力については、１５〜３６ｍＮ／ｍの範囲にあることが好ましい。レベリング剤を添加するなどして表面張力を低下させることは乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。一方、表面張力が下がりすぎると塗布可能な上限の速度が低下してしまうため、１７ｍＮ／ｍ〜３２ｍＮ／ｍの範囲がより好まく、１９ｍＮ／ｍ〜２６ｍＮ／ｍの範囲が更に好ましい。
【０３９９】
［濾過］
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜１０μｍのフィルターが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．１〜５μｍであるフィルターを用いることが好ましく用いられる。フィルターの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、濾過圧力は１．５ＭＰａ以下、より好ましくは１．０ＭＰａ以下、更には０．２ＭＰａ以下で濾過することが好ましい。
【０４００】
濾過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物のろ過部材と同様のものが挙げられる。また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
【０４０１】
４−（２）塗布前の処理
本発明で使用する支持体は、塗布前に表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理又は紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。
【０４０２】
さらに、塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭５９−１５０５７１号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法；特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法；特開平７−３３３６１３号公報に記載される超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法（伸興社製、「ニューウルトラクリーナー」等）等の乾式除塵法が挙げられる。
【０４０３】
また、洗浄槽中にフィルムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法；特公昭４９−１３０２０号公報に記載されているフィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行う方法；特開２００１−３８３０６号に記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法もしくは湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。
【０４０４】
また、このような除塵工程を行う前に、フィルム支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、ＵＶ、軟Ｘ線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧は、１０００Ｖ以下が望ましく、好ましくは３００Ｖ以下、特に好ましくは、１００Ｖ以下である。
【０４０５】
フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアシレートフィルムの温度をＴｇ以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【０４０６】
本発明の反射防止フィルムを偏光板の保護フィルムとして使用する場合のように、セルロースアシレートフィルムを偏光膜と接着させる場合には、偏光膜との接着性の観点から、酸処理又はアルカリ処理、すなわちセルロースアシレートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
【０４０７】
接着性などの観点から、セルロースアシレートフィルムの表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍＮ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましく、上記表面処理により調整することができる。
【０４０８】
４−（３）塗布
本発明の反射防止フィルムの各層は、以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（米国特許第２６８１２９４号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
【０４０９】
本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、且つ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、防眩層および低屈折率層を含む反射防止フィルムの少なくとも１層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。
【０４１０】
マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／ｉｎが好ましく、１００〜３００本／ｉｎがより好ましい。グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、５〜２００ｒｐｍであることがより好ましい。支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ／分であることが好ましく、１〜５０ｍ／分がより好ましい。
【０４１１】
本発明のフィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法（ダイコート法）が好ましく用いられる。特に、ハードコート層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域（２０ｃｃ／ｍ2以下）で好ましく用いることができるダイコーターについて、以下に説明する。
【０４１２】
［ダイコーターの構成］
図８は、本発明の実施に使用したスロットダイを用いたときのコーターの断面図である。コーター１０はバックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブＷに対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブＷ上に塗膜１４ｂを形成する。
【０４１３】
スロットダイ１３の内部には、ポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば図９（Ａ）に示すような略円形でもよいし、又は半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、又はスロット開口部１６ａとは反対側の面中央から行う。また、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。
【０４１４】
スロット１６は、ポケット１５からウェブＷへの塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様に、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６のスロット先端における、バックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、３０°以上９０°以下が好ましい。
【０４１５】
スロット１６の開口部１６ａが位置する、スロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１８とされている。このランド１８であって、スロット１６に対してウェブＷの進行方向の上流側を上流側リップランド１８ａ、下流側を下流側リップランド１８ｂと称する。
【０４１６】
図９は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明で用いるスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。従来のスロットダイ３０では、上流側リップランド３１ａと下流側リップランド３１ｂの
ウェブとの距離は等しい。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明で用いるスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩLOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度よくおこなうことができる。
【０４１７】
上流側リップランド１８ａのランド長さＩUPは、特に限定はされないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド１８ｂのランド長さＩLOは３０μｍ以上１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以上６０μｍ以下である。下流側リップのランド長さＩLOが３０μｍより長くすることによって、先端リップのエッジ又はランドが欠けやすかったり、塗膜にスジが発生しやすかったりするといった不具合が生じないので、塗布が容易になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になったり、塗布液が下流側で広がりやすくなったりするという問題も発生しない。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。一方、下流側リップのランド長さＩLOが１００μｍより短くすることによって、適当なビードを形成することができ、薄層塗布を行うことが容易になる。
【０４１８】
さらに、下流側リップランド１８ｂは、上流側リップランド１８ａよりもウェブＷに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差（以下、オーバーバイト長さＬＯと称する）は３０μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは３０μｍ以上１００μｍ以下、もっとも好ましくは３０μｍ以上８０μｍ以下である。スロットダイ１３がオーバーバイト形状のとき、先端リップ１７とウェブＷの隙間ＧLとは、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間を示す。
【０４１９】
図１０は、本発明を実施した塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。
ウェブＷの進行方向側とは反対側に、ビード１４ａに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー４０を設置する。減圧チャンバー４０は、その作動効率を保持するためのバックプレート４０ａとサイドプレート４０ｂを備えており、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間にはそれぞれ隙間ＧB、ＧSが存在する。
【０４２０】
図１１及び図１２は、近接している減圧チャンバー４０とウェブＷを示す断面図である。サイドプレートとバックプレートは、図１１のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、図１２のように適宜隙間を変えられるようにチャンバーにネジ４０ｃなどで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、バックプレート４０ａとウェブＷの間、サイドプレート４０ｂとウェブＷの間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間ＧB、ＧSと定義する。減圧チャンバー４０のバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧBとは、減圧チャンバー４０を図１０のようにウェブＷ及びスロットダイ１３の下方に設置した場合、バックプレート４０ａの最上端からウェブＷまでの隙間を示す。
【０４２１】
バックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧBをスロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷとの隙間ＧLよりも大きくして設置するのが好ましく、これによりバックアップロール１１の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例えば、スロットダイ１３の先端リップ１７とウェブＷとの隙間ＧLが３０μｍ以上１００μｍ以下のとき、バックプレート４０ａとウェブＷの間の隙間ＧBは１００μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。
【０４２２】
［材質、精度］
前記ウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。従って、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が２０μｍ以内とすることが好ましい。
【０４２３】
また、スロットダイの先端リップの材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でダレてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップのウェブ走行方向における長さを３０〜１００μｍの範囲にしても、先端リップの精度を満足できない。従って、高い加工精度を維持するためには、特許第２８１７０５３号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダイの少なくとも先端リップを、平均粒径５μｍ以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、炭化タングステン（以下、ＷＣと称す）などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることもできる。ＷＣ結晶の平均粒径としては、粒径３μｍ以下がさらに好ましい。
【０４２４】
高精度な塗布を実現するためには、先端リップのウェブ進行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この２つの因子の組み合わせ、つまり隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以下になるように先端リップとバックアップロールの真直度を出す。
【０４２５】
［塗布速度］
上記の様なバックアップロール及び先端リップの精度を達成することにより、本発明で好ましく用いられる塗布方式は、高速塗布時における膜厚の安定性が高い。さらに、前記塗布方式は前計量方式であるために高速塗布時でも安定した膜厚の確保が容易である。低塗布量の塗布液に対して、該塗布方式は高速で膜厚安定性よく塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が困難である。前記ダイコート法を用い、２５ｍ／分以上で塗布することが生産性の面から好ましい。
【０４２６】
４−（４）乾燥
本発明の反射防止フィルムは、支持体上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶媒を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送されることが好ましい。溶媒を乾燥する方法としては、各種の知見を利用することができる。具体的な知見としては特開２００１−２８６８１７号公報、同２００１−３１４７９８号公報、同２００３−１２６７６８号公報、同２００３−３１５５０５号公報、同２００４−３４００２号公報などの記載が挙げられる。
【０４２７】
乾燥ゾーンの温度は２５℃〜１４０℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布液に含有される溶媒以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには、１２０℃の温風中で数分以内にその数１０質量％前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、２官能のアクリレートモノマー等は１００℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布液に含有される溶媒以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
【０４２８】
また、各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布液の固形分濃度が１〜５０質量％の間は塗膜表面の風速が０．１〜２ｍ／秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
【０４２９】
さらに各層の塗布組成物を支持体上に塗布した後、乾燥ゾーン内で支持体の塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと支持体との温度差が０℃〜２０℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
【０４３０】
４−（５）硬化
本発明の反射防止フィルムは、溶媒の乾燥の後に、ウェブで電離放射線及び／又は熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することができる。
【０４３１】
本発明における電離放射線種は、特に制限されるものではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。
【０４３２】
紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく利用できる。
【０４３３】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【０４３４】
照射条件は、それぞれのランプによって異なるが、照射光量は１０ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜１００００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて５０〜１００％の分布が好ましく、８０〜１００％の分布がより好ましい。
【０４３５】
本発明では、支持体上に積層された少なくとも１層に電離放射線を照射し、且つ電離放射線照射開始から０．５秒以上の間、膜面温度６０℃以上に加熱した状態で、酸素濃度１０体積％以下の雰囲気で電離放射線を照射する工程によって硬化することが好ましい。また電離放射線照射と同時及び／又は連続して酸素濃度３体積％以下の雰囲気で加熱されることも好ましい。特に最外層であり、かつ膜厚が薄い低屈折率層がこの方法で硬化されることが好ましい。硬化反応が熱で加速され、物理強度、耐薬品性に優れた皮膜を形成することができる。
【０４３６】
電離放射線を照射する時間については０．７秒以上６０秒以下が好ましく、０．７秒以上１０秒以下がより好ましい。０．５秒以上であれば、硬化反応を完了させることができ、十分な硬化を行うことができる。また６０秒以下であれば、それほど長時間低酸素条件を維持することにならず、設備が大型化したり、多量の不活性ガスが必要であったりする不都合がないので好ましい。
【０４３７】
酸素濃度は、６体積％以下の雰囲気で、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は重合
反応により形成することが好ましく、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。必要以上に酸素濃度を低減しなければ、窒素などの不活性ガスの使用量がそれほど多量とはならず、製造コストの観点から好ましい。
【０４３８】
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０４３９】
不活性ガスを電離放射線照射室に供給し、且つ照射室のウェッブ入り口側にやや吹き出す条件にすることで、ウェッブ搬送に伴う導搬エアーを排除し、反応室の酸素濃度を有効に下げられると共に、酸素による硬化阻害の大きい極表面の実質の酸素濃度を効率よく低減することができる。照射室のウェッブ入り口側での不活性ガスの流れの方向は、照射室の給気、排気のバランスを調整することなどで制御できる。不活性ガスをウェッブ表面に直接吹き付けることも、導搬エアーを除去する方法として好ましく用いられる。
【０４４０】
また上記反応室の前に前室を設け、事前にウェッブ表面の酸素を排除することで、より硬化を効率よく進めることができる。また電離放射線反応室又は前室のウェッブ入口側を構成する側面は、不活性ガスを効率的に使用するために、ウェッブ表面とのギャップは０．２〜１５ｍｍが好ましく、より好ましくは、０．２〜１０ｍｍとするのがよく、０．２〜５ｍｍとするのがもっとも好ましい。
【０４４１】
しかし、ウェッブを連続製造するには、ウェッブを接合して繋げていく必要があり、接合には接合テープなどで貼る方法が広く用いられている。このため、電離放射線反応室又は前室の入口面とウェッブのギャップをあまり狭くすると、接合テープなど接合部材が引っかかる問題が生じる。このためギャップを狭くするには、電離放射線反応室又は前室の入口面の少なくとも一部を可動とし、接合部が入るときは接合厚み分ギャップを広げるのが好ましい。この実現のためには、電離放射線反応室又は前室の入口面を進行方向前後に可動にしておき、接合部が通過する際に前後に動いてギャップを広げるやり方や、電離放射線反応室又は前室の入口面をウェッブ面に対し、垂直方向に可動にし、接合部が通過する際に上下に動いてギャップを広げるやり方を取ることができる。
【０４４２】
硬化の際、フィルム面が６０℃以上１７０℃以下で加熱されることが好ましい。６０℃以上であれば、加熱の硬化が十分に行われ、１７０℃以下であれば、基材の変形などの問題が生じない。更に好ましい温度は６０℃〜１００℃である。フィルム面とは硬化しようとする層の膜面温度を指す。またフィルムがこの温度である時間は、ＵＶ照射開始から０．１秒以上、３００秒以下が好ましく、更に１０秒以下が好ましい。フィルム面の温度を上記の温度範囲に保つ時間が短すぎることがなければ、皮膜を形成する硬化性組成物の反応を十分に促進することができ、また長すぎることがなければフィルムの光学性能が低下したり、設備が大きくなったりするなどの製造上の問題は生じない。
【０４４３】
加熱する方法に特に限定はないが、ロールを加熱してフィルムに接触させる方法、加熱した窒素を吹き付ける方法、遠赤外線又は赤外線の照射などが好ましい。特許２５２３５７４号公報に記載の回転金属ロールに温水や蒸気・オイルなどの媒体を流して加熱する方法も利用できる。加熱の手段としては誘電加熱ロールなどを使用してもよい。
【０４４４】
紫外線照射は、構成する複数の層それぞれに対して、１層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。あるいはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。
【０４４５】
本発明では、支持体上に積層された少なくとも一層を複数回の電離放射線により硬化することができる。この場合、少なくとも２回の電離放射線を、酸素濃度３体積％を超えることのない連続した反応室で行うことが好ましい。複数回の電離放射線照射を同一の低酸素濃度の反応室で行うことにより、硬化に必要な反応時間を有効に確保することができる。特に高生産性のため製造速度を上げた場合には、硬化反応に必要な電離放射線のエネルギーを確保するために複数回の電離放射線照射が必要となる。
【０４４６】
また、硬化率（１００−残存官能基含率）が１００％未満のある値となった場合、その上に層を設けて電離放射線及び／又は熱により硬化した際に下層の硬化率が上層を設ける前よりも高くなると、下層と上層との間の密着性が改良され、好ましい。
【０４４７】
４−（６）ハンドリング
本発明の反射防止フィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
【０４４８】
ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体が、クリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で、塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は、乾燥室に送られて乾燥される。
【０４４９】
乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は、乾燥室から硬化室へ送り出され、塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、硬化した層を有するフィルム支持体は硬化部へ送られ硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。
【０４５０】
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−硬化部を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能である。
【０４５１】
本発明の反射防止フィルムを作製するためには、前記したように塗布液の精密濾過操作と同時に、塗布部における塗布工程及び、乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、且つ塗布が行われる前に、フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程及び乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／ｍ3以下）以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／ｍ3以下）以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。
【０４５２】
４−（７）鹸化処理
本発明の反射防止フィルムを、偏光膜の２枚の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作製する際には、偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。
【０４５３】
ａ．アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中にフィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面の、アルカリと反応性を有する部分を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は０．５〜３モル／Ｌであり、特に好ましくは１〜２モル／Ｌである。好ましいアルカリ液の液温は３０〜７５℃、特に好ましくは４０〜６０℃である。該鹸化条件の組合
せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
【０４５４】
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和したりすることが好ましい。
【０４５５】
鹸化処理することにより、塗布層を有する表面と反対の表面の両方が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
【０４５６】
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
【０４５７】
鹸化処理は、塗布層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の、水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に塗布層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受けることがあるため、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは１０〜５０゜、より好ましくは３０〜５０゜、さらに好ましくは４０〜５０゜となる。５０゜以下であれば、偏光膜との接着性に問題が生じることがないので好ましい。一方、１０゜以上であれば、フィルムが受けるダメージが大きすぎて物理強度を損なうなどの問題を生じないので好ましい。
【０４５８】
ｂ．アルカリ液を塗布する方法
上記の浸漬法における、各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件で、アルカリ液を、塗布層を有する側とは反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等への接触などによって行うことも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では（ａ）の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば蒸着膜やゾル／ゲル膜は、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響を受けることがあるため、浸漬法ではこれらの層を設けることは容易ではないが、この塗布法では液と接触しないため問題なくこれらの層を設けることが可能となる。
【０４５９】
上記（ａ）、（ｂ）のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、反射防止フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行ってもよい。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光膜との張り合わせ工程も併せて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率よく偏光板を作製することができる。
【０４６０】
ｃ．ラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
上記（ｂ）と同様に、塗布層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合には、最終層まで形成した後に、該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで、最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化することができる。この場合、鹸化処理の後にラミネートフィルムを剥離すればよい。この方法でも、塗布層へのダメージなしに、偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理を、トリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。上記（ｂ）の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物と
して発生する半面、アルカリ液を塗布する特別な装置が不要である利点がある。
【０４６１】
ｄ．中途層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
下層まではアルカリ液に対する耐性があるが、上層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、下層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に上層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、例えば防眩層とフッ素含有ゾル／ゲル膜の低屈折率層とからなる反射防止フィルムにおいては、低屈折率層が親水基を有する場合、防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
【０４６２】
ｅ．予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに塗布層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを、予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接又は他の層を介して塗布層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面と形成される塗布層との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、塗布層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで、親水化面を除去してから塗布層を形成することで対処できる。また、塗布層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
【０４６３】
４−（８）偏光膜の作製
本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の少なくとも片側に配置される保護フィルムとして使用して偏光板を製造することができる。
【０４６４】
その場合、一方の保護フィルムとして、本発明の反射防止フィルムを用い、他方の保護フィルムには、通常のセルロースアセテートフィルムを用いることができる。また前記の溶液製膜法で製造され、且つ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムと、そのようなロールフィルム形態のフィルムに、前記のダイコーターなどにより塗布層を形成した本発明の反射防止フィルムとを用いることが好ましい。
【０４６５】
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
【０４６６】
反射防止フィルムの透明支持体やセルロースアセテートフィルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。
【０４６７】
偏光板の生産性には保護フィルムの透湿性が重要である。偏光膜と保護フィルムは水系接着剤で貼り合わせられており、この接着剤の溶媒は保護フィルム中を拡散することで乾燥される。保護フィルムの透湿性が高ければ高いほど、乾燥は早くなり生産性は向上するが、透湿性が高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）によっては水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下することがある。
【０４６８】
保護フィルムの透湿性は、透明支持体であるポリマーフィルム（及び重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、親疎水性等により決定される。
【０４６９】
本発明の反射防止フィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合、透湿性は１００〜１０００ｇ／ｍ2・２４ｈｒｓであることが好ましく、３００〜７００ｇ／ｍ2・２４ｈｒｓであることが更に好ましい。
【０４７０】
透明支持体の厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインスピード、あるいは、延伸、圧
縮により調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により好ましい範囲にすることが可能である。
【０４７１】
透明支持体の自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調整することができる。この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により好ましい範囲にすることが可能である。
【０４７２】
透明支持体の親疎水性は、添加剤により調整することができる。上記自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。透湿性を独立に制御することにより、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することが可能となる。
【０４７３】
偏光膜としては、公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作製される。
【０４７４】
すなわち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ、張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
【０４７５】
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落［００２０］〜［００３０］に詳しい記載がある。
【０４７６】
更には、本発明の偏光板において、片面が反射防止フィルムであるのに対して、他方の保護フィルムが光学補償フィルムであることも好ましい態様である。
該光学補償フィルムは、液晶性化合物の配向を固定した光学異方性層を有する光学補償フィルムであることが好ましい。
さらには、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物を含有してなるものであることが好ましい。
光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
また、本発明の反射防止フィルムを有する偏光板と光学補償フィルムとを粘着剤層を介して貼り合わせた複合偏光板であっても良い。
【０４７７】
光学補償フィルムは粘着剤層を介して偏光板および液晶セルと貼りあわせることで、環境変化による寸度変化により発生するムラが軽減される場合がある。
粘着剤は特に限定はなく、一般的にＬＣＤに用いられるもアクリル系の粘着剤を使用することができる。粘着剤に使用する成分は単一でも複数のアクリルポリマーを用いてもよく、素材のＴｇや架橋度、また粘着剤層の厚みを調整し、前述のムラを改良することができる。
【０４７８】
５．本発明の反射防止フィルムの使用形態
本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲ
Ｔ）のような画像表示装置に用いられる。本発明に従う反射防止フィルムは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）又は陰極管表示装置（ＣＲＴ）など公知のディスプレイ上に用いることができる。
【０４７９】
５−（１）液晶表示装置
本発明の反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
【０４８０】
液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
【０４８１】
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。
【０４８２】
［ＴＮモード］
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０〜１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【０４８３】
［ＶＡモード］
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
【０４８４】
ＶＡモードの液晶セルには、
（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、
（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル｛“ＳＩＤ９７，Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ”（予稿集）、２８集（１９９７年）、ｐ．８４５記載｝、
（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル｛「日本液晶討論会の予稿集」、ｐ．５８〜５９（１９９８年）記載｝及び、
（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（「ＬＣＤインターナショナル９８」で発表）が含まれる。
【０４８５】
［ＯＣＢモード］
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第４，５８３，８２５号、同第５，４１０，４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０４８６】
［ＩＰＳモード］
ＩＰＳモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式で
あり、詳しくは“Ｐｒｏｃ．ＩＤＲＣ”（Ａｓｉａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ’９５），ｐ．５７７−５８０及び同ｐ．７０７−７１０に記載されている。
【０４８７】
［ＥＣＢモード］
ＥＣＢモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの１つであって、例えば特開平５−２０３９４６号公報に詳細が記載されている。
【０４８８】
５−（２）液晶表示装置以外のディスプレイ
［ＰＤＰ］
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、一般に、ガス、ガラス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の２枚である。２枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。２枚のガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。
【０４８９】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既に市販されている。プラズマディスプレイパネルについては、特開平５−２０５６４３号、同９−３０６３６６号の各公報に記載がある。
【０４９０】
前面板をプラズマディスプレイパネルの前面に配置することがある。前面板はプラズマディスプレイパネルを保護するために充分な強度を備えていることが好ましい。前面板は、プラズマディスプレイパネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズマディスプレイ本体に直貼りして使用することもできる。
【０４９１】
プラズマディスプレイパネルのような画像表示装置では、光学フィルターとして本発明の反射防止フィルムをディスプレイ表面に直接貼り付けることができる。また、ディスプレイの前に前面板が設けられている場合は、前面板の表側（外側）又は裏側（ディスプレイ側）に光学フィルターとしての反射防止フィルムを貼り付けることもできる。
【０４９２】
［タッチパネル］
本発明の反射防止フィルムは、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
【０４９３】
［有機ＥＬ素子］
本発明の反射防止フィルムは、有機ＥＬ素子等の保護フィルムとして用いることができる。
【０４９４】
本発明の反射防止フィルムを有機ＥＬ素子等に用いる場合には、特開平１１−３３５６６１号、特開平１１−３３５３６８号、特開２００１−１９２６５１号、特開２００１−１９２６５２号、特開２００１−１９２６５３号、特開２００１−３３５７７６号、特開２００１−２４７８５９号、特開２００１−１８１６１６号、特開２００１−１８１６１７号、特開２００２−１８１８１６号、特開２００２−１８１６１７号、特開２００２−０５６９７６号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開２００１−１４８２９１号、特開２００１−２２１９１６号、特開２００１−２３１４４３号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。
【０４９５】
６．各種特性値
以下に本発明に関する上述した項目以外の各種測定法と、好ましい特性値を示す。
【０４９６】
６−（１）反射率
鏡面反射率及び色味の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”［日本分光（株）製］にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角−５゜の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。
【０４９７】
６−（２）色味
本発明の反射防止フィルムをその保護フィルムとして用いた偏光板は、ＣＩＥ標準光源Ｄ65の、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における入射角５゜の入射光に対して、正反射光の色味、すなわちＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のＬ*、ａ*、ｂ*値を求めることで色味を評価することができる。
【０４９８】
Ｌ*、ａ*、ｂ*値は、それぞれ３≦Ｌ*≦２０、−７≦ａ*≦７、且つ、−１０≦ｂ*≦１０の範囲内であることが好ましい。この範囲とすることで、従来の偏光板で問題となっていた赤紫色から青紫色の反射光の色味が低減され、さらに３≦Ｌ*≦１０、０≦ａ*≦５、且つ、−７≦ｂ*≦０の範囲内とすることで大幅に低減され、液晶表示装置に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味がニュートラルで、気にならない。詳しくはａ*≦７であれば赤味が強くなりすぎることがなく、ａ*≧−７であればシアン味が強くなりすぎることがなく好ましい。またｂ*≧−７であれば青味が強くなりすぎることがなく、ｂ*≦０であれば黄味が強くなりすぎることがなく好ましい。
【０４９９】
更には、反射光の色味均一性は、反射光の３８０ｎｍ〜６８０ｎｍの反射スペクトルにより求めたＬ*ａ*ｂ*色度図上でのａ*ｂ*より、下記の数式（３）に従って色味の変化率として得ることができる。
数式（３）：
【０５００】
【数１】
2007163971.tif 000031
【０５０１】
ここで、ａ*max及びａ*minは、それぞれａ*値の最大値及び最小値；ｂ*max及びｂ*minは、それぞれｂ*値の最大値及び最小値；ａ*av及びｂ*avは、それぞれａ*値及びａ*値の平均値である。色の変化率は、それぞれ３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましく、８％以下であることが最も好ましい。
【０５０２】
また、本発明の反射防止フィルムは、耐候性試験前後の色味の変化であるΔＥwが１５以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、５以下であることが最も好ましい。この範囲において、低反射と反射光の色味の低減を両立することができるため、例えば画像表示装置の最表面に適用した場合、室内の蛍光灯のような、輝度の高い外光が僅かに映り込んだ場合の色味が、ニュートラルで、表示画像の品位が良好となり、好ましい。
【０５０３】
上記の色味の変化ΔＥwは、下記の数式（４）に従って求めることができる。
数式（４）：ΔＥw＝［（ΔＬw）2＋（Δａw）2＋（Δｂw）2］1/2
ここで、ΔＬw，Δａw，Δｂwは、耐候性試験前後のＬ*値，ａ*値，ｂ*値のそれぞれの変化量である。
【０５０４】
６−（３）透過画像鮮明度
透過画像鮮明度は、ＪＩＳ  Ｋ−７１０５に従い、スガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−２Ｄ型」にて、スリット幅が０．５ｍｍの光学櫛を用いて測定できる。
【０５０５】
透過画像鮮明度は、一般にフィルムを透過して映す画像のボケ具合を示す指標であり、この値が大きい程、フィルムを通して見る画像が鮮明で良好であることを示す。一方で表面凹凸を有する防眩層を持つフィルムでは、鮮明性が高くなるとその幾何構造に起因し「ぎらつき」と呼ばれる微小な輝度ムラを生じてしまうため、トータルの性能を考慮すると透過画像鮮明性は必ずしも高い方が良いとはいえない。本発明の反射防止フィルムの透過画像鮮明度は５〜６０％であることが好ましい。より好ましくは、２０〜６０％であることが好ましい。
【０５０６】
６−（４）表面粗さ
本発明の反射防止フィルムにおける中心線平均粗さ（Ｒａ）など、表面粗さパラメータの測定は、ＪＩＳ  Ｂ−０６０１に準じて行うことができる。
【０５０７】
本発明フィルムの表面凹凸形状としては、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．３０μｍであることが好ましい。より好ましくは、０．０８〜０．１５μｍである事が好ましい。
Ｒａが０．０８以上であれば充分な防眩性が得られ、０．３０以下であればギラツキ、外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生することがないので、Ｒａはこの範囲内であることが好ましい。
また、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下となるように設計するのが、十分な防眩性と、目視での均一なマット感が達成されるので好ましい。
【０５０８】
６−（５）ヘイズ
本発明の反射防止フィルムのヘイズとは、ＪＩＳ  Ｋ−７１３６に規定されたヘイズ値のことであり、ＪＩＳ  Ｋ−７３６１−１で規定された光線透過率の測定法に基づき、日本電色工業（株）製の濁度計“ＮＤＨ−１００１ＤＰ”を用いて測定したヘイズ＝（拡散光／全透過光）×１００（％）として自動計測される値を用いた。
【０５０９】
本発明の反射防止フィルムは、その光学特性を内部散乱に起因するヘイズ（以後、内部ヘイズと呼称する）０％〜３５％であることが好ましく、より好ましくは０％〜３０％、更に好ましくは０％〜１０％、最も好ましくは０％〜５％である。また、表面散乱に起因するヘイズ（以後、表面ヘイズと呼称する）が５％〜１５％であることが好ましく、５％〜１０％であることがより好ましい。
【０５１０】
内部ヘイズは、例えばフィルム表面と実質的に等しい屈折率の媒体で表面凹凸による散乱をなくすことで測定できる。表面ヘイズはフィルム全体のヘイズと内部ヘイズの差として求めることができる。
【０５１１】
６−（７）耐擦傷性
［スチールウール耐傷性評価］
「ラビングテスター」を用いて、以下の条件で擦りテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
擦り材：スチールウール｛日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００｝を試料と接触するテスターの擦り先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
擦り速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：５００ｇ／ｃｍ2、及び２００ｇ／ｃｍ2
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
擦り回数：１０往復。
擦り終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、擦り部分の傷を反射光で目視観察して、擦った部分以外との反射光量との差を観察することによって評価する。
【０５１２】
［消しゴム擦り耐傷性評価］
ラビングテスターを用いて、以下の条件で擦りテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
擦り材：プラスチック消しゴム｛（株）トンボ鉛筆製“ＭＯＮＯ”｝を試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に固定。
移動距離（片道）：４ｃｍ、
擦り速度：２ｃｍ／秒、
荷重：５００ｇ／ｃｍ2
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
擦り回数：１００往復。
擦り終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、こすり部分の傷を反射光で目視観察し、擦った部分以外との反射光量との差によって評価する。
【０５１３】
［テーパー試験］
ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量から擦傷性を評価することができる。この摩耗量が少ないほど好ましい。
【０５１４】
６−（８）硬度
［鉛筆硬度］
本発明の反射防止フィルムの硬度は、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に従う鉛筆硬度試験で評価することができる。鉛筆硬度はＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０５１５】
［表面弾性率］
本発明の反射防止フィルムにおける表面弾性率は、微小表面硬度計｛（株）フィッシャー・インスツルメンツ製：「フィッシャースコープＨ１００ＶＰ−ＨＣＵ」｝を用いて求めた値である。具体的には、ダイヤモンド製の四角錐圧子（先端対面角度；１３６°）を使用し、押し込み深さが１μｍを超えない範囲で、適当な試験荷重下での押し込み深さを測定し、除荷重時の荷重と変位の変化から求められる弾性率である。
【０５１６】
［ユニバーサル硬度］
また上記の微小表面硬度計を用いて、表面硬度をユニバーサル硬度として求めることもできる。ユニバーサル硬度は四角錐圧子の試験荷重下での押し込み深さを測定し、試験荷重をその試験荷重で生じた圧痕の幾何学的形状から計算される圧痕の表面積で割った値である。上記の表面弾性率とユニバーサル硬度の間には、正の相関を有することが知られている。
【０５１７】
本発明で定義する架橋性ポリマーのユニバーサル硬度とは、ガラス板上に硬化形成した約２０〜３０μｍ厚の該架橋性ポリマー膜について、フィッシャーインストルメンツ（株）製の微小硬度計“Ｈ１００”により、以下測定手順で求めたユニバーサル硬度（Ｎ／ｍｍ2）によって表わされる。
【０５１８】
架橋性ポリマーの他に、必要な触媒や架橋剤、重合開始剤等を含んだ固形分濃度約２５質量％の塗布液を、硬化後の膜厚が約２０〜３０μｍになるように適切なバーコーターを選択してＴＯＳＨＩＮＲＩＫＯ．ＣＯ．ＬＴＤ製、（２６ｍｍ×７６ｍｍ×１．２ｍｍ）
磨きスライドガラス板上に塗布する。架橋性ポリマーが熱硬化性の場合には、膜が十分硬化される熱硬化条件を予め求めておき（一例として１２５℃、１０分）、架橋性ポリマーが電離放射線硬化性の場合にも、同様に膜が十分硬化される硬化条件を予め求めておく（一例として酸素濃度１２ｐｐｍ、ＵＶ照射量７５０ｍＪ／ｃｍ2）。それぞれの膜に対して、荷重を０から４ｍＮまで連続的に増加させ、基材のガラス板硬度の影響がでない１／１０膜厚を最大として、円錐ダイヤモンド圧子を押し込んだ際の各荷重Ｆに対する窪み面積Ａ（ｍｍ2）から求めたＦ／ＡのＮ＝６測定平均値からユニバーサル硬度を算出する。
【０５１９】
［ナノインデンテーションによる表面硬度］
また、特開２００４−３５４８２８号公報記載のナノインデンテーションによって表面硬度をもとめることができ、この場合の硬度としては２ＧＰａ〜４ＧＰａ、ナノインデンテーション弾性率は１０ＧＰａ〜３０ＧＰａであることが好ましい。
【０５２０】
６−（９）防汚性試験
［マジック拭き取り性］
反射防止フィルムをガラス面上に粘着剤で固定し、２５℃、６０ＲＨ％の条件下で黒「マジックインキ」（「マッキー極細」）｛商品名：ゼブラ（株）製｝のペン先（細）にて直径５ｍｍの円形を３周書き込み、５秒後に１０枚重ねに折り束ねた「ベンコット」｛商品名：旭化成（株）｝で「ベンコット」の束がへこむ程度の荷重で２０往復拭き取る。「マジックインキ」跡が拭き取りで消えなくなるまで、この書き込みと拭き取りを同一の条件で繰り返し、拭き取りできた回数により防汚性を評価することができる。
消えなくなるまでの回数は５回以上であることが好ましく、１０回以上であることが更に好ましい。
【０５２１】
黒「マジックインキ」については「マジックインキ  Ｎｏ．７００（Ｍ７００−Ｔ１  黒）極細」を用い、試料の上に直径１ｃｍの円を描いて塗りつぶし、２４時間放置後に「ベンコット」で擦り、「マジックインキ」が拭き取れるかどうかによっても評価することができる。
【０５２２】
６−（１０）表面張力
本発明で測定、評価する表面張力は、機能層を形成する塗布液の表面張力を、温度２５℃の環境下で表面張力計｛協和界面科学（株）製、“ＫＹＯＷＡ  ＣＢＶＰ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＴＥＮＳＩＯＭＥＴＥＲ  Ａ３”｝を用いて測定することができる。
【０５２３】
６−（１１）接触角
接触角計［“ＣＡ−Ｘ”型接触角計、協和界面科学（株）製］を用い、乾燥状態（２０℃、６５％ＲＨ）で、液体として純水を使用して直径１．０ｍｍの液滴を針先に作り、これをフィルムの表面に接触させてフィルム上に液滴を作った。フィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を接触角とする。
【０５２４】
６−（１２）表面自由エネルギー
表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」｛（株）リアライズ社出版、１９８９．１２．１０発行｝に記載のように、接触角法、湿潤熱法、及び吸着法により求めることができる。本発明のフィルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロースアシレートフィルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
【０５２５】
本発明の反射防止フィルムの表面自由エネルギー（γｓv：単位、ｍＮ／ｍ）とは、Ｄ
．Ｋ．Ｏｗｅｎｓの“Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．”、１３巻、ｐ．１７４１（１９６９年）を参考に、反射防止フィルム上で実験的に求めた純水Ｈ2Ｏとヨウ化メチレンＣＨ2Ｉ2のそれぞれの接触角θH2O、θCH2I2から、以下の連立方程式ａ，ｂ｛数式（５）｝より求めた値γｓdとγｓhの和として表される値γｓv（＝γｓd＋γｓh）で定義される、反射防止フィルムの表面張力を表す。このγｓvが小さく、低表面自由エネルギーであるほど表面の撥き性が高く、一般に防汚性に優れる。
数式（５）：
【０５２６】
ａ．１＋ｃｏｓθH2O＝２√γｓd（√γH2Od／γH2Ov）＋２√γｓh（√γH2Oh／γH2Ov）
ｂ．１＋ｃｏｓθCH2I2＝  ２√γｓd（√γCH2I2d／γCH2I2v）＋２√γｓh（√γCH2I2h／γCH2I2v）
γH2Od＝２１．８、γH2Oh＝５１．０、γH2Ov＝７２．８、
γCH2I2d＝４９．５、γCH2I2h＝１．３、γCH2I2v＝５０．８
【０５２７】
接触角の測定は、反射防止フィルムを２５℃、６０％ＲＨの条件下で１時間以上調湿した後に、協和界面科学（株）製、自動接触角計「ＣＡ−Ｖ１５０型」を用いて、２μＬの液滴をフィルム上に滴下してから３０秒後に接触角を求めた。
【０５２８】
本発明のフィルムの表面自由エネルギーは２５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２０ｍＮ／ｍ以下であることが特に好ましい。
【０５２９】
６−（１３）カール
カールの測定は、ＪＩＳ  Ｋ−７６１９−１９８８の「写真フィルムのカールの測定法」中の方法Ａのカール測定用型板を用いて行われる。
測定条件は２５℃、６０％ＲＨ、調湿時間１０時間である。
【０５３０】
本発明における反射防止フィルムは、カールを以下の数式（６）で表したときの値が、−１５〜＋１５の範囲に入っていることが好ましく、−１２〜＋１２の範囲がより好ましく、さらに好ましくは−１０〜＋１０である。このときのカールの試料内測定方向は、ウェッブ形態での塗布の場合、基材の搬送方向について測ったものである。
数式（６）：カール＝１／Ｒ
Ｒは曲率半径（ｍ）
【０５３１】
これは、フィルムの製造、加工、市場での取り扱いで、ひび割れ、膜はがれを起こさないための重要な特性である。カール値が前記範囲にあり、カールが小さいことが好ましい。ここで、カールが「＋」とはフィルムの塗設側が湾曲の内側になるカールをいい、「−」とは塗設側が湾曲の外側になるカールをいう。
【０５３２】
また、本発明におけるフィルムは、上記したカール測定法に基づいて、相対湿度のみを８０％と１０％に変更したときの各カール値の差の絶対値が、２４〜０が好ましく、１５〜０がさらに好ましく、８〜０が最も好ましい。これはさまざまな湿度下でフィルムを貼り付けたときのハンドリング性や剥がれ、ひび割れに関係する特性である。
【０５３３】
６−（１４）密着性評価
反射防止フィルムの層間、又は支持体と塗布層との密着性は以下の方法により評価することができる。
【０５３４】
塗布層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを１ｍｍ間隔で入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエ
ステル粘着テープ“ＮＯ．３１Ｂ”を圧着し、２４時間放置後引き剥がす試験を同じ場所で繰り返し３回行い、剥がれの有無を目視で観察する。１００個の升目中、剥がれが１０升以内であることが好ましく、２升以内であることが更に好ましい。
【０５３５】
６−（１５）脆性試験（耐ひび割れ性）
耐ひび割れ性は、反射防止フィルムの塗布、加工、裁断、粘着剤の塗布、種々の物体への貼りつけ等のハンドリングで割れ欠陥を出さないための重要な特性である。
【０５３６】
反射防止フィルム試料を３５ｍｍ×１４０ｍｍに切断し、温度２５℃、６０％ＲＨの条件で２時間放置した後、筒状に丸めたときにひび割れが発生し始める曲率直径を測定し、表面のひび割れを評価することができる。
【０５３７】
本発明のフィルムの耐ひび割れ性は、塗布層側を外側にして丸めたときに、ひび割れが発生する曲率直径が、５０ｍｍ以下であることが好ましく、４０ｍｍ以下がより好ましく、３０ｍｍ以下が最も好ましい。エッジ部のひび割れについては、ひび割れがないか、ひび割れの長さが平均で１ｍｍ未満であることが好ましい。
【０５３８】
６−（１６）塵埃除去性
本発明の反射防止フィルムをモニターに貼り付け、モニター表面に塵埃（布団、衣服の繊維屑）を振りかけ、クリーニングクロスで塵埃を拭き取り、塵埃除去性を評価することができる。
６回の拭取りで完全に取除けることが好ましく、３回以内の拭き取りで塵埃が完全に取り除けることが更に好ましい。
【０５３９】
６−（１７）液晶表示装置の性能
以下に、本発明の反射防止フィルムを表示装置上に用いたときの特性の評価方法と好ましい状況について記載する。
【０５４０】
液晶表示装置に設けられている視認側の偏光板を剥がし、代わりに本発明の反射防止フィルム又は偏光板を、塗布面が視認側に、且つ偏光板の透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように粘着剤を介して貼り付ける。５００Ｌｘの明室にて、液晶表示装置を黒表示にして、種々の視角から目視により以下の各種特性を評価することができる。
【０５４１】
具体的な市販の液晶表示装置としては、例えばＴＮモードでは“Ｓｙｎｃｍａｓｔｅｒ１７２Ｘ”（Ｓａｍｓｕｎｇ社製）、“ＭＤＴ１９１Ｓ”｛三菱電機（株）製｝、“ＴＨ−１５ＴＡ２”｛松下電器産業（株）製｝など；ＶＡモードでは“ＬＣ１５Ｓ４”｛シャープ（株）製｝；ＩＰＳモードでは“ＴＨ３２ＬＸ−５００”｛松下電器（株）製｝；ＯＣＢモードでは“ＶＴ２３ＸＤ１”｛（株）ナナオ製｝などが挙げられる。
【０５４２】
［画像のムラ、色味評価］
作製した液晶表示装置を用いて、黒表示（Ｌ１）時のムラや色味変化を複数の観察者により目視評価する。
１０人が評価し、ムラ、左右色味変化、温湿度による色味変化、白ボケを認識できるものが３人以下であることが好ましく、１人も認識できないことがより好ましい。
また、外光の映り込みは蛍光灯を用いて行い、目視にて映り込みの変化を相対的に評価することができる。
【０５４３】
［黒表示の光漏れ］
液晶表示装置正面からの方位方向４５゜、極角方向７０゜における黒表示の光漏れ率を測定する。光漏れ率が０．４％以下であることが好ましく、０．１％以下であることがよ
り好ましい。
【０５４４】
［コントラスト、及び視野角］
コントラスト及び視野角は、測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、コントラスト比及び左右方向（セルのラビング方向と直交方向）の視野角（コントラスト比が１０以上となる角度範囲の広さ）を調べることができる。
【実施例】
【０５４５】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０５４６】
＜反射防止フィルムの作製＞
〔含フッ素ポリマーの合成〕
合成例１：含フッ素ポリマー（１）の合成
【０５４７】
内容量１００ｍＬのステンレス製撹拌機付オートクレーブに、酢酸エチル４０ｍＬ、ヒドロキシエチルビニルエーテル（ＨＥＶＥ）１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらに、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して、６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３Ｍｐａ（５．４ｋｇ／ｃｍ2）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ2）に達した時点で加熱を止め、放冷した。
【０５４８】
室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶媒を除去することにより、沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解して、ヘキサンから２回再沈殿を行うことによって、残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ,Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍＬに溶解、氷冷下アクリル酸クロリド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることにより下記構造式の含フッ素ポリマー（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。
含フッ素ポリマー（１）：
【０５４９】
【化２０】
2007163971.tif 000032
【０５５０】
〔反射防止フィルムの作製〕
実施例１−１〜１−５及び比較例１−１〜１−７
［ゾル液ａの調製］
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン｛“ＫＢＭ−５１０３”、信越化学工業（株）製｝１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０５５１】
［防眩層用塗布液（ＢＬＡ）の調製］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタクリレー
トの混合物｛“ＤＰＨＡ”、日本化薬（株）製｝３１ｇをメチルイソブチルケトン３８ｇで希釈した。更に、重合開始剤｛「イルガキュア１８４」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝を１．５ｇ添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系表面改質剤（ＦＰ−１４９）０．０４ｇ、シランカップリング剤｛“ＫＢＭ−５１０３”、信越化学工業（株）製｝６．２ｇを加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５２０であった。
【０５５２】
最後に、この溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５４０）の３０％シクロヘキサノン分散液を２１．０ｇ加えて完成液とした。得られた混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩層用塗布液（ＢＬＡ）を調製した。
【０５５３】
［防眩層用塗布液（ＢＬＢ）の調製］
防眩層用塗布液（ＢＬＡ）の調製において、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子の３０％シクロヘキサノン分散液の添加量を２１．０ｇから１４．０ｇに変更した以外は防眩層用塗布液（ＢＬＡ）と同様にして、防眩層用塗布液（ＢＬＢ）を調製した。
【０５５４】
［防眩層用塗布液（ＢＬＣ）の調製］
防眩層用塗布液（ＢＬＡ）の調製において、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子の３０％シクロヘキサノン分散液の添加量を２１．０ｇから１０．０ｇに変更した以外は防眩層用塗布液（ＢＬＡ）と同様にして、防眩層用塗布液（ＢＬＣ）を調製した。
【０５５５】
［防眩層用塗布液（ＢＬＤ）の調製］
防眩層用塗布液（ＢＬＡ）の調製において、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子の３０％シクロヘキサノン分散液の添加量を２１．０ｇから１７．０ｇに変更した以外は防眩層用塗布液（ＢＬＡ）と同様にして、防眩層用塗布液（ＢＬＤ）を調製した。
【０５５６】
［防眩層用塗布液（ＢＬＥ）の調製］
防眩層用塗布液（ＢＬＡ）の調製において、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子の３０％シクロヘキサノン分散液の添加量を２１．０ｇから２８．０ｇに変更した以外は防眩層用塗布液（ＢＬＡ）と同様にして、防眩層用塗布液（ＢＬＥ）を調製した。
【０５５７】
［防眩層用塗布液（ＢＬＦ）の調製］
防眩層用塗布液（ＢＬＡ）の調製において、平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５４０）の３０％シクロヘキサノン分散液を２１．０ｇ用いる代わりに、平均粒径５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５４０）の３０％シクロヘキサノン分散液を２８．０ｇ用いた以外は防眩層用塗布液（ＢＬＡ）と同様にして、防眩層用塗布液（ＢＬＦ）を調製した。
【０５５８】
［低屈折率層用塗布液（ＬＬＡ）の調整］
ポリシロキサン及び水酸基を含有する屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー｛“ＪＴＡ１１３”、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製｝１３ｇ、コロイダルシリカ分散液“ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ”｛（商品名）、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製｝１．３ｇ、前記ゾル液ａ０．６ｇ、及びメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層塗布液（ＬＬＡ）を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４５であった。
【０５５９】
［低屈折率層用塗布液（ＬＬＢ）の調整］
前記低屈折率層用塗布液（ＬＬＡ）において、コロイダルシリカ分散液“ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ”を１．３ｇ用いる代わりに、中空シリカゾル（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）を１．９５ｇ用いた以外は、低屈折率層用塗布液（ＬＬＡ）と同様にして、低屈折率層用塗布液（ＬＬＢ）を作成した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．３９であった。
【０５６０】
［低屈折率層用塗布液（ＬＬＣ）の調製］
前記合成例１で作製した含フッ素ポリマー（１）１５．２ｇ、コロイダルシリカ分散液｛シリカ、“ＭＥＫ−ＳＴ”の粒子径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学工業（株）製｝１．４ｇ、反応性シリコーン“Ｘ−２２−１６４Ｂ”｛（商品名）、信越化学工業（株）製｝０．３ｇ、ゾル液ａ７．３ｇ、光重合開始剤｛「イルガキュア９０７」（商品名）、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝０．７６ｇ、メチルエチルケトン３０１ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液（ＬＬＣ）を調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４４であった。
【０５６１】
［反射防止フィルム（１Ｆ）の作製（実施例１−１）］
（１）防眩層の塗設
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム｛“ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ”、富士写真フイルム（株）製｝をロール形態で巻き出して、下記の装置構成及び塗布条件で示されるダイコート法によって防眩層用塗布液（ＢＬＡ）を塗布し、溶剤を乾燥した後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの「空冷メタルハライドランプ」｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの防眩性を有する防眩層を形成し、巻き取った。
【０５６２】
基本条件：スロットダイ１３は、上流側リップランド長ＩUPが０．５ｍｍ、下流側リップランド長ＩLOが５０μｍで、スロット１６の開口部のウェブ走行方向における長さが１５０μｍ、スロット１６の長さが５０ｍｍのものを使用した。上流側リップランド１８ａとウェブＷの隙間を、下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間よりも５０μｍ長くし（以下、オーバーバイト長さ５０μｍと称する）、下流側リップランド１８ｂとウェブＷとの隙間ＧLを５０μｍに設定した。また、減圧チャンバー４０のサイドプレート４０ｂとウェブＷとの隙間ＧS、及びバックプレート４０ａとウェブＷとの隙間ＧBはともに２００μｍとした。それぞれの塗布液の液物性に合わせて、塗布速度＝５０ｍ／分、ウエット塗布量＝１７ｍｌ／ｍ2で塗布を行い、その後３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒乾燥した。また、間塗布幅：１３００ｍｍ、有効幅：１２８０ｍｍとした。
【０５６３】
（２）低屈折率層の塗設
上記防眩層用塗布液（ＢＬＡ）を塗布して防眩層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、前記低屈折率層用塗布液（ＬＬＡ）を上記の塗布条件にて塗布速度＝４０ｍ／分、ウエット塗布量＝５ｍｌ／ｍ2で塗布を行った。、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度０．１％の雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取って反射防止フィルムを作製した。
【０５６４】
（３）反射防止フィルムの鹸化処理
上記低屈折率層の製膜後、この反射防止フィルム試料について、以下の処理を行った。
１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１モル／Ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した反射防止フィルムを、この水
酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの防眩性反射防止フィルム（１Ｆ）を作製した。
【０５６５】
（実施例１−２及び１−３）
実施例１−１において、防眩層用塗布液（ＢＬＡ）を用いる代わりに、防眩層用塗布液（ＢＬＢ）又は（ＢＬＣ）を用いた以外は実施例１−１と同様にして防眩層を形成し、更に実施例１−１と同様にして低屈折率層の塗設、鹸化処理を行い、防眩性反射防止フィルム（２Ｆ）及び（３Ｆ）を作製した。
【０５６６】
（実施例１−４）
実施例１−２において、低屈折率用塗布液（ＬＬＡ）を用いる代わりに、低屈折率用塗布液（ＬＬＢ）を用いた以外は実施例１−２と同様にして防眩性反射防止フィルム（４Ｆ）を作製した。
【０５６７】
（実施例１−５）
実施例１−２において、低屈折率用塗布液（ＬＬＡ）を用いる代わりに、低屈折率用塗布液（ＬＬＣ）を用い、塗布後の乾燥条件を１００℃、２分間に変更した以外は実施例１−２と同様にして防眩性反射防止フィルム（５Ｆ）を作製した。
【０５６８】
（比較例１−１）
実施例１−１において、防眩層用塗布液（ＢＬＡ）を用いる代わりに、防眩層用塗布液（ＢＬＤ）を用い、ウエット塗布量＝１０ｍＬ／ｍ2した以外は実施例１−１と同様にして防眩層を形成し、更に実施例１−１と同様にして低屈折率層の塗設、鹸化処理を行い、防眩性反射防止フィルム（１ｒＦ）を作製した。
【０５６９】
（比較例１−２）
実施例１−１において、防眩層用塗布液（ＢＬＡ）を用いる代わりに、防眩層用塗布液（ＢＬＥ）を用い、ウエット塗布量＝１５ｍＬ／ｍ2した以外は実施例１−１と同様にして防眩層を形成し、更に実施例１−１と同様にして低屈折率層の塗設、鹸化処理を行い、防眩性反射防止フィルム（２ｒＦ）を作製した。
【０５７０】
（比較例１−３）
実施例１−１において、防眩層用塗布液（ＢＬＡ）を用いる代わりに、防眩層用塗布液（ＢＬＦ）を用い、ウエット塗布量＝１５ｍＬ／ｍ2した以外は実施例１−１と同様にして防眩層を形成し、更に低屈折率用塗布液（ＬＬＡ）を用いる代わりに、低屈折率用塗布液（ＬＬＢ）を用いた以外は実施例１−１と同様にして低屈折率層の塗設、鹸化処理を行い、防眩性反射防止フィルム（３ｒＦ）を作製した。
【０５７１】
（比較例１−４）
実施例１−２において、低屈折率層を塗設しなかったこと以外は実施例１−２と同様にして防眩性反射防止フィルムを作製し、更に実施例１−１と同様にして鹸化処理を行い、防眩性反射防止フィルム（４ｒＦ）を作製した。
【０５７２】
（比較例１−５及び１−６）
市販の反射防止フィルム｛“ＣＶＬ０２”、富士写真フイルム（株）製｝を比較例１−５の反射防止フィルム（５Ｆ）として、広視野角反射防止フィルム｛“ＣＶＵ０１”、富士写真フイルム（株）製、を比較例１−６の反射防止フィルム（６Ｆ）として評価した。
【０５７３】
（比較例１−７）
さらに、多層構成の「クリアＡＲ」を使用した市販の液晶表示装置から表面の偏光板を剥離し、これを比較例１−７の偏光板試料（７ｒＰ）として評価した。
【０５７４】
［防眩性反射防止フィルムの評価］
得られたフィルム試料について、以下の項目の評価を行った。結果を表１、表２に示す。
【０５７５】
（１）反射強度測定
図１の（ａ）及び（ｂ）に示したように、約５ｍｍφの白色平行光を反射防止フィルム試料Ａの表面にあて、入射光方向Ｅとフィルムの法線方向Ｄを含む面内Ｃで受光部Ｇの角度を０．１°刻みで連続的に変化させ、の反射光強度の角度依存性を測定した。測定装置は（株）村上色彩技術研究所製自動変角光度計「ＧＰ−５型」を用いた。
【０５７６】
測定結果の一例を図２に示す。横軸はフィルム法線に対する受光部の角度θで縦軸はピーク強度で規格化した相対反射強度Ｒrel（θ）である。反射率算出を行う際、試料のない状態で入射光を直接測定したときの光源光量Ｉ0を１００％強度とした。従って、それぞれの反射角度における反射強度をＩ（θ）とすると、反射率Ｒ（θ）はＩ（θ）／Ｉ0として計算できる。反射角度θに対する反射強度の変化率｜ｄＲ（θ）／ｄθ｜は０．１°刻みで測定されるデータの両側１０点平均値からその傾きａの絶対値として算出した。更に相対反射率Ｒrel（θ）は正反射となる反射角度における反射率Ｒs｛図２では、正反射角度は５°であり、Ｒs＝Ｒ（５）である｝に対するそれぞれの反射角度における反射率の比として計算し、即ちＲrel＝Ｒ（θ）／Ｒsとなる。なお、使用した光源の｜ｄＲ（θ）／ｄθ｜は１．２であった。
【０５７７】
（２）平均反射率
フィルムの裏面をサンドペーパーで祖面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における鏡面分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの鏡面反射率の算術平均値を用いた。
【０５７８】
（３）ヘイズ
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ（Ｈ）、内部ヘイズ（Ｈi）、表面ヘイズ（Ｈs）を測定した。
（ｉ）ＪＩＳ  Ｋ−７１３６に準じて得られたフィルムの全ヘイズ値（Ｈ）を測定する。（ｉｉ）得られたフィルムの低屈折率層側の表面を、低屈折率層と同じ屈折率となる媒体で浸し、さらにカバーガラスを載せ、表面ヘイズの影響をなくした状態で測定した値をフィルムの内部ヘイズ（Ｈi）とした。
（ｉｉｉ）上記（ｉ）で測定した全ヘイズ（Ｈ）から上記（ｉｉ）で算出した内部ヘイズ（Ｈi）を引いた値をフィルムの表面ヘイズ（Ｈs）として算出した。
【０５７９】
（４）透過画像鮮明度
透過画像鮮明度は、ＪＩＳ  Ｋ−７１０５に従い、スガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−２Ｄ型」にて、スリット幅が０．５ｍｍの光学櫛を用いて測定した。
【０５８０】
（５）中心線平均粗さ
ＪＩＳ  Ｂ−０６０１に準じて、得られた反射防止フィルムの中心線平均粗さＲａを測定した。
【０５８１】
（６）防眩性
得られた反射防止フィルムに、ルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ2）を４５°の角度から映し、−４５°の方向から観察した際の反射像のボケの程度を、以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない                ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる                ：○
蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる      ：△
蛍光灯がほとんどぼけない                    ：×
【０５８２】
（７）白味
得られた反射防止フィルムの、防眩性反射防止層を塗設した面とは反対側の面を、粘着剤を介して黒色のアクリル樹脂ボードに貼り付け、５００Ｌｘの明室下にて黒が黒く見える度合い（すっきりとした黒のままで見えるか、散乱光によりグレーっぽく見えるか）を目視にて観察した。実施例、比較例のサンプルについて一番白く見えるものを１点、黒色アクリル板を１０点として、１０段階の相対評価を行った。
【０５８３】
得られた防眩性反射防止フィルムの評価結果を、それぞれの反射防止フィルムの構成と共に表１０及び１１に示す。
【０５８４】
【表１０】
2007163971.tif 000033
【０５８５】
【表１１】
2007163971.tif 000034
【０５８６】
＜偏光板の作製＞
実施例２−１〜２−５及び比較例２−１〜２−６
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム｛“ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ”、富士写真フイルム（株）製｝を、１．５モル／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗したものと、実施例１で作製した防眩性反射防止フィルム｛鹸化処理済み：実施例１−１〜１−５の反射防止フィルム試料（１Ｆ〜５Ｆ）及び、比較例１−１〜１−６の反射防止フィルム試料（１ｒＦ〜６ｒＦ）｝を、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光膜の両面に接着、保護して偏光板を作製した。これらを、それぞれ実施例２−１｛偏光板試料（１Ｐ）｝〜実施例２−５｛偏光板試料（５Ｐ）｝及び、比較例２−１｛偏光板試料（１ｒＰ）｝〜比較例２−６｛偏光板試料（６ｒＰ）｝とした。
【０５８７】
比較例２−７
多層構成の「クリアＡＲ」を使用した市販の液晶表示装置から表面の偏光板を剥離し、これを比較例２−７の偏光板試料（７ｒＰ）として評価した。
【０５８８】
比較例２−８
また、上記の鹸化処理済みのトリアセチルセルロースフィルムを両面の保護フィルムに用いて偏光板を作製し、比較偏光板試料（８ｒＰ）とした。
【０５８９】
［偏光板の評価］
液晶テレビ｛“ＬＣ２０Ｓ４”、シャープ（株）製｝の視認側の偏光板の一部を剥がし、次いで実施例２−１〜２−５及び比較例２−１〜２−６で、それぞれ作製した偏光板（１Ｐ）〜（５Ｐ）並びに、（１ｒＰ）〜（６ｒＰ）、（７ｒＰ）及び（８ｒＰ）のそれぞれを、剥がした偏光板の代わりとして貼り換えたものを作製した。得られた表示装置について、以下の項目の評価を行った。を表１２に示す。
【０５９０】
また、この液晶テレビの視認側の偏光板を、反射防眩機能のない偏光板に貼替えて暗室
での表示特性を評価したところ、正面輝度は５００ｃｄ／ｍ2、正面コントラストは５５０、極角３０°および極角６０°でのコントラストは全方位に渡りそれぞれ、１８０以上および２５以上であった。
【０５９１】
（１）画像ボケ
ＬＣＤパネルの白地に、１０ポイントの大きさの明朝体で「薔薇」の文字を一行当たり２５文字、１０行連続して表示した状態で、防眩性のない偏光板を用いて同様の表示をした時と比較した際の、文字の輪郭のボケ（画像ボケ）の程度を以下の基準で目視評価した。
ボケが全く気にならず、好ましい              ：◎
ボケがわずかに気になるが、比較的好ましい    ：○
ボケが若干気になる                          ：△
ボケが目立ち、好ましくない                  ：×
【０５９２】
（２）映り込み
実施例２及び比較例２で得られた液晶テレビに、ルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ2）を４５°の角度から映し、−４５°の方向から観察した際の蛍光灯の映り込みの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない程、映り込まない      ：◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかるが、殆ど映り込まない  ：○
蛍光灯はぼけているが、若干写り込む                ：△
蛍光灯が完全に写り込む                            ：×
【０５９３】
（３）白ボケ
実施例２及び比較例２で得られた液晶ＴＶを、天井部に蛍光灯のある５００Ｌｘの明室に設置し、黒表示及び低階調な画像を含む動画を表示させ、白ボケの評価を行った。黒表示の場合は黒が黒く見える度合いを、動画表示の場合は画像がくっきりと見えるか（明室コントラスト）を観点に以下の基準で目視観察した。
黒表示が黒く見え、動画ともくっきりと見える        ：◎
黒表示、動画ともにやや甘く見える                  ：○
黒表示での白味が目立ち、動画画像もすっきりしない  ：△
動画画像のメリハリが明らかにない                  ：×
【０５９４】
【表１２】
2007163971.tif 000035
【０５９５】
市販の対角３２インチの液晶テレビ｛“Ｗ３２−Ｌ７０００”、（株）日立製作所製｝、及び対角３７インチの液晶テレビ｛“ＬＣ−３７ＡＤ５”、シャープ（株）製｝についても同様の試料を作製し視認性評価を行ったところ、表１２に示す対角２０インチの液晶表示装置における評価と同様の結果を得た。
【０５９６】
表１２に示された結果より、以下のことが明らかである。
本発明の防眩性反射防止フィルムは、２０インチ以上の液晶テレビに適用した際、高い防眩性と画像ボケ、白ボケの改善とを両立することができる。
【０５９７】
＜液晶表示装置での防眩性反射防止フィルムの評価＞
実施例３−１
透過型ＴＮ液晶セル（“Ｓｙｎｃｍａｓｔｅｒ１７２Ｘ”、Ｓａｍｓｕｎｇ社製）の、液晶セルのバックライト側の偏光板として、バックライト側の保護フィルムにプレーンタック｛“ＴＤ−８０ＵＬ”、富士フイルム（株）製｝を、液晶セル側の保護フィルムに視野角拡大フィルム｛「ワイドビューフィルムＳＡ  １２８」、富士写真フイルム（株）製
｝を用い、視認側の偏光板として、視認側最表面の保護フィルムに実施例１−２で作製された防眩性反射防止フィルム（２Ｆ）を、液晶セル側の保護フィルムとして視野角拡大フィルム｛「ワイドビューフィルムＳＡ  １２８」、富士写真フイルム（株）製｝を用いたところ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
【０５９８】
実施例３−２
透過型ＴＮ液晶セル｛“ＲＤＴ１９１Ｓ”、三菱電機（株）製｝の、液晶セルのバックライト側の偏光板として、バックライト側の保護フィルムにプレーンタック｛“ＴＤ−８０ＵＬ”、富士フイルム（株）製｝を、液晶セル側の保護フィルムに視野角拡大フィルム｛「ワイドビューフィルムＳＡ  １２８」、富士写真フイルム（株）製｝を用い、視認側の偏光板として、視認側最表面の保護フィルムに実施例１−２で作製された防眩性反射防止フィルム（２Ｆ）を、液晶セル側の保護フィルムとして視野角拡大フィルム｛「ワイドビューフィルムＳＡ  １２８」、富士写真フイルム（株）製｝を用いたところ、上下左右の視野角が非常に広く、正面からの輝度が高く鮮やかな表示が得られるにも関わらず、明室でも白ボケがなく、暗所でも非常に高コントラストであり、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０５９９】
【図１】図１（ａ）は、本発明の反射防止フィルムの、表面凹凸による反射光強度の角度依存性を測定する方法を示す模式図である。  図１（ｂ）は、フィルムの法線方向Ｄと光の入射方向Ｅを含む面Ｃを示す模式図である。
【図２】図２は、反射光強度の角度依存性の測定結果の一例である。
【図３】図３は、本発明の反射防止フィルムの、好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。
【図４】図４は、本発明の反射防止フィルムの、別の好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。
【図５】図５は本発明の反射防止フィルムの、さらに別の好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。
【図６】図６は本発明の、透光性粒子を用いた防眩性反射防止フィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。
【図７】図７は本発明の、エンボス加工などにより表面賦形が施された防眩性反射防止フィルムの、好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。
【図８】図８は、本発明を実施したスロットダイ１３を用いたコーター１０の断面図である。
【図９】図９（Ａ）は本発明のスロットダイ１３の断面形状を示し、図９（Ｂ）は従来のスロットダイ３０の断面形状を示す。
【図１０】図１０は、本発明を実施した塗布工程のスロットダイ１３及びその周辺を示す斜視図である。
【図１１】図１１は、近接している減圧チャンバー４０とウェブＷを示す断面図である。（バックプレート４０ａはチャンバー４０本体と一体）
【図１２】図１２は、近接している減圧チャンバー４０とウェブＷの別の態様を示す断面図である。（バックプレート４０ａがチャンバー４０にネジ４０ｃで留められている）
【符号の説明】
【０６００】
Ａ：反射防止フィルムＡ
Ｂ：反射防止フィルムＡの表面
Ｃ：反射防止フィルムの法線方向Ｄと光の入射方向Ｅを含む面
Ｄ：反射防止フィルムの法線方向
Ｅ：光の入射方向
Ｆ：光源
Ｇ：検出器受光部
【０６０１】
（１）：支持体
（２）：ハードコート層
（３）：中屈折率層
（４）：高屈折率層
（５）：低屈折率層
【０６０２】
１０：コーター
１１：バックアップロール
Ｗ：ウェブ
１３：スロットダイ
１４：塗布液
１４ａ：ビード
１４ｂ：塗膜
１５：ポケット
１６：スロット
１６ａ：スロット開口部
１７：先端リップ
１８：ランド
１８ａ：上流側リップランド
１８ｂ：下流側リップランド
ＩUP：上流側リップランド１８ａのランド長さ
ＩLO：下流側リップランド１８ｂのランド長さ
ＬO：オーバーバイト長さ（下流側リップランド１８ｂと上流側リップランド１８ａのウェブＷとの距離の差）
ＧL：先端リップ１７とウェブＷの隙間（下流側リップランド１８ｂとウェブＷの隙間）
【０６０３】
３０：従来のスロットダイ
３１ａ：上流側リップランド
３１ｂ：下流側リップランド
３２：ポケット
３３：スロット
４０：減圧チャンバー
４０ａ：バックプレート
４０ｂ：サイドプレート
４０ｃ：ネジ
【０６０４】
ＧB：バックプレート４０ａとウェブＷの間の隙間
ＧS：サイドプレート４０ｂとウェブＷの間の隙間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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