(57)【要約】【課題】  光ディスクの反射膜の欠損であるピンホールを抑制する。【解決手段】  光ディスクの透明基材と反射層の積層膜を真空成膜装置によるロール方式で形成する場合に、金属反射層の成膜直後に、保護層として、金属酸化膜、金属窒化物、金属または樹脂膜を積層することにより、反射層を保護する。これにより、金属反射膜が表面に晒されなくなり、基材が通過するライン上のロールや巻き取り部での透明基材レーザー光入射側（場合によっては保護フィルム）に反射膜が直接接触しなくなり、この接触によって発生するピンホールが抑えられる。また、反射層の酸化による反射率の減少を抑えることができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録層を設けた透明基材と、前記記録層上に形成された反射層と、前記透明基板及び反射層を支持する基板とを有し、巻き取り式の真空成膜装置を用いて前記透明基材の記録層上に反射層を形成した光記録媒体であって、
前記反射層上に保護層が形成されている、
ことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記保護層は反射層の形成直後に形成されることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記保護層は金属酸化物と、金属窒化物と、金属または樹脂膜とを積層した層であることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記保護層は１０〜５００ｎｍの膜厚を有することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記保護層上に接着剤を介して基板が接合されていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
【請求項６】
記録層を設けた透明基材と、前記記録層上に形成された反射層と、前記透明基板及び反射層を支持する基板とを有する光記録媒体の製造方法であって、
巻き取り式の真空成膜装置を用いて前記透明基材の記録層上に反射層を形成する成膜工程を有し、
前記成膜工程で反射層上に保護層を形成する、
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記保護層は反射層の形成直後に形成することを特徴とする請求項６記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記保護層は金属酸化物と、金属窒化物と、金属または樹脂膜とを積層して形成することを特徴とする請求項６記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項９】
前記保護層は１０〜５００ｎｍの膜厚で形成することを特徴とする請求項６記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
前記保護層上に接着剤を介して基板が接合することを特徴とする請求項６記載の光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスク等の光記録媒体に関し、特に反射層を改良した光記録媒体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光ディスクの大容量化が進んでいる。ＣＤ、ＤＶＤよりもさらに高密度・大容量化したBlu-ray Disc（以下、ＢＤと記す）が商品化されてきている。ＢＤは単層で２時間のハイビジョンの映像を記録が可能な２５ＧＢの大容量メディアである。高密度に記録するために信号を記録するピットを小さくし、１ディスク当たりに記録できる容量を増やしている。そのため、より小さいピットの有無を読み取るためにレーザーの波長を４０５ｎｍと短くし、０．８５の高ＮＡのレンズを用いて分解能を高めていると共に、ディスク構造も最適化されてきた。
図２はＢＤの構造を示す断面図である。
図示のように、このＢＤは、ベース基板・記録層１、反射層２、透明カバー層３を積層した構造を持っている。図示しないレーザー光源から出射されたレーザー光は、透明カバー層３側から入射して反射層２で反射し、図示しない光ディテクタによって検出される。
【０００３】
また、ＢＤの製造方法は、信号記録パターンを形成したスタンパーを金型に取り付けた射出成形機を用いて、信号記録層を有する１．１ｍｍのディスク基板を作製する。次にスパッタ装置を用いて、アルミや銀またはそれらの合金等の金属を用いて反射層を形成し、反射層付きのディスクを作製する。その後、接着剤を用いて透明カバー層と貼り合わせるか、スピンコートにより樹脂を広げてＵＶで硬化させ、総厚１．２ｍｍのディスクを作製する。
【０００４】
また、新しい光ディスクの製造方法の一つに基板と記録層を別に作製し、貼り合わせてディスクを作製する方法がある（例えば特許文献１参照）。
この方法は、ロール方式と呼ばれるものであり、まず、透明基材フィルムを用い、その上に樹脂を塗布し、ロール状スタンパーで圧着しながらＵＶを照射することで、透明基材上に記録層を形成したカバー層シートを作製する。その後、成膜装置で金属を蒸着やスパッタ等で成膜することで反射層を形成する。
そのカバー層シートに反射層を成形したシートを、支持体となる基板（ポリカーボネート、ポリ乳酸、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂等プラスチック材料、紙、金属等）と接着剤で貼り合せ、ディスク状に打ち抜くことで作製する。
【０００５】
図３は成膜装置の一例を示す説明図であり、図４は図３に示す成膜装置の巻き取り部を示す説明図である。
図３に示すように、この成膜装置は、ロール状スタンパー１１、巻き取りロール１２、巻き出しロール１３、蒸着・スパッタ元１４、ガイドロール１５を有する。
巻き出しロール１３から引き出された透明基材１０は、ロール状スタンパー１１に送られ、蒸着処理やスパッタ処理を施された後、巻き取りロール１２に巻き取られる。
図４に示すように、巻き取りロール１２では、透明基材１０のレーザー光入射側１０Ａを外側とし、反射層成膜面側１０Ｂを内側にして巻き取られる。
【０００６】
ＣＤ、ＤＶＤで行われてきた射出成形による製造方法では、サブミクロンサイズのピットを持つＢＤの作製を行うと転写が不十分になり、構造が丸みを帯びたり、浅い構造となってしまう。この原因は細かな構造に樹脂が入り込まないためと言われている。
さらに、射出成形の金型温度を上げ、金型が十分冷却した後、製品を取り出せば確かに転写性は上がるが成形時間が長くなり、製品にバリ欠陥が多くなる。そのため生産効率がさがる。
これに対し、上記のロール方式では従来の問題を解決し、転写率の高い高品質な光ディスクを作製することができ、低コストのＢＤを作製することが可能となる。
【特許文献１】特開２００５−３０２２０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記ロール方式による製造方法において、透明フィルム上に樹脂で記録層を形成したカバー層シートに反射層となる金属を成膜するために、図３で示すような真空中で巻き取り式の成膜装置を用いて行うことになる。
その場合、装置内で金属膜を成膜した反射層成膜面が成膜後に通過するライン上のガイドロール１５に触れたり、巻き取り時に透明基材１０のレーザー光入射側１０Ａ（キズ防止用の保護フィルムが貼り付けてある場合もある）に触れてしまい、ロールやフィルムの微小な凹凸により金属膜が削り取られ、その部分だけ金属膜が欠落したピンホールが生じてしまう。
しかし、光ディスク、特にＢＤでは記録パターンがサブミクロンと小さく、微小なピンホールでもその部分の記録パターンを読むことができなくなってしまう。
なお、反射層を厚くすることでも、発生するピンホールは抑えることができるが、記録媒体の反射率に上限があるため、金属膜を厚くすることは難しい。
【０００８】
そこで本発明は、光記録媒体をロール方式で作製する場合に、金属反射膜等の欠落によるピンホールの発生を抑制でき、高品質の光記録媒体を作製することが可能な光記録媒体及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述の目的を達成するため、本発明の光記録媒体は、記録層を設けた透明基材と、前記記録層上に形成された反射層と、前記透明基板及び反射層を支持する基板とを有し、巻き取り式の真空成膜装置を用いて前記透明基材の記録層上に反射層を形成した光記録媒体であって、前記反射層上に保護層が形成されていることを特徴とする。
また本発明の製造方法は、記録層を設けた透明基材と、前記記録層上に形成された反射層と、前記透明基板及び反射層を支持する基板とを有する光記録媒体の製造方法であって、巻き取り式の真空成膜装置を用いて前記透明基材の記録層上に反射層を形成する成膜工程を有し、前記成膜工程で反射層上に保護層を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の光記録媒体及びその製造方法によれば、金属反射膜が表面に晒されなくなり、基材が通過するライン上のロールや巻き取り部での透明基材レーザー光入射側（場合によっては保護フィルム）に反射膜が直接接触しなくなり、この接触によって発生するピンホールが抑えられることから、高品質の光記録媒体を作製することができる効果を奏する。また、反射層の酸化による反射率の減少を抑えることができる利点もある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の実施の形態では、光記録媒体をロール方式で真空成膜装置により形成する場合に、金属反射層の成膜直後に、保護層として、金属酸化膜、金属窒化物、金属または樹脂膜を積層することにより、反射層を保護する。
図１は本実施の形態による光記録媒体（光ディスク）の構造を示す断面図である。
図示のように、本例の光記録媒体は、基板４と、接着剤５と、保護層６と、反射層７と、記録層８と、透明基材９を有する。
レーザー光は透明基材９の側から入射する。そして、透明樹脂からなる記録層７を通り、反射層７で反射して戻ってくる。そのとき、記録層７にピットが形成されていれば、その部分では光が散乱して反射光は弱くなる。それに対し、ピットが形成されていなければ、その部分での反射光は強くなる。この強弱によりピットの有無を読み取っている。そのため、透明基材９と記録層８は読み取るレーザー光の波長に対しては透明であり、反射層７では反射する材料である。
【００１２】
透明基材９には膜厚均一で複屈折のないポリカーボネートフィルムが用いる。また、記録層７はＵＶ硬化樹脂よりなり、耐摩傷性や硬さ、強度等の良いアクリル樹脂を用いる。
また、反射層７の成膜方法として、蒸着、イオンプレーティング、スパッタ等があるが、成膜速度が速く、大面積の成膜が可能で、低コスト化が可能なスパッタ法を用いる。また、反射層材料としては、金、銀、銅、アルミやそれらの合金等があるが、４０５ｎｍでの反射率があり、耐久性があり、コストが低いアルミ合金を用いる。そのアルミ合金を５０ｎｍ程度、スパッタにより成膜し、反射層を作製する。
【００１３】
また、保護層６として、ＩＴＯを１００ｎｍスパッタで成膜する。なお、膜厚は厚いほど保護する効果がある。材料は保護する効果があり、耐久性があれば用いることが可能であるため、成膜装置内で連続的に作製できる他の金属酸化物、金属窒化物または金属材料を用いることが可能である。反射層の金属を厚くすることでもピンホールを押さえられるが、反射率が高くなってしまい、光記録媒体の反射率の規格の上限を超えてしまう。そのため、読み取るレーザーの波長に対し、反射率の大きくない金属や金属化合物を保護層に用いることが必要である。なお、保護層６の膜厚は、例えば１０〜５００ｎｍの範囲で形成する。
なお、本例では、ＩＴＯで保護層を形成したことで、アルミ合金反射層の酸化による反射率低下が抑えられ、光ディスクの反射層としての耐久性を向上できる。
【実施例１】
【００１４】
以下、具体的な実施例を挙げて特性例を説明する。
ポリカーボネート基材にアクリル樹脂で記録パターンを転写したカバー層シートに、反射層としてアルミ合金５０ｎｍ、保護層としてＩＴＯを膜厚を変えて積層した場合のピンホール数の測定結果を図５に示す。なお、ピンホールの数え方は反射層成膜後のフィルムをライトテーブル上で顕微鏡による観察を行った。
実施例１の保護層を作製後、基板と接着剤を用いて貼り合わせてＢＤを作製し、８０°Ｃ、８５％ＲＨの条件で９６時間の保存試験を実施した。場合のピンホール数の測定結果を図６に示す。
これらの測定結果により、本例の保護膜を形成することにより、反射率の変化が低く、耐久性が向上するとともにピンホールの削減を達成できることが検証できた。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施例による光記録媒体を示す断面図である。
【図２】従来の光記録媒体を示す断面図である。
【図３】成膜装置の概要を示す説明図である。
【図４】図３に示す成膜装置の巻き取り部を示す斜視図である。
【図５】本発明の実施例による試作品の保護特性の測定結果を示す表である。
【図６】本発明の実施例による試作品の反射率特性の測定結果を示す表である。
【符号の説明】
【００１６】
４……基板、５……接着剤、６……保護層、７……反射層、８……記録層、９……透明基材。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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