(57)【要約】【課題】省資源に基づく安価な製造方法で電磁波シールド層の金属メッシュパターンを製造することができ、光学フィルター全体の厚みを薄くして軽量化することができ、高い電磁波シールド性を有すると共に、透光性に優れていて鮮明な画像を得ることのできる光学フィルター及びその製造方法を提供する。【解決手段】電磁波シールド材１４が配設されたディスプレイ用光学フィルター１０において、現像銀等の導電性金属からなるメッシュパターン１７とその上に積層された金属メッキ層１８ａ、１８ｂとからなる電磁波シールド材１４を、光学フィルター１０を構成する透明基材１２の片面に、転写により前記金属メッキ層１８ｂ側で貼着する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電磁波シールド材が配設されたディスプレイ用光学フィルターであって、導電性金属のメッシュパターンとその上に積層された金属メッキ層とからなる電磁波シールド材が、光学フィルターを構成する透明基材の片面に、貼着されていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルター。
【請求項２】
前記導電性金属のメッシュパターンが、写真製法により生成された現像銀メッシュパターンであることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項３】
前記金属メッキ層は、前記現像銀メッシュパターンの上に接して積層された、無電解銅メッキ層および／または電解銅メッキ層を有することを特徴とする請求項２に記載のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項４】
前記現像銀メッシュパターンは、ポジ型写真製法またはネガ型写真製法によって生成されたものであることを特徴とする請求項２または３に記載のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項５】
さらに前記光学フィルターは、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、光吸収材分散層、反射防止層のうち、１つ以上の層を有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項６】
電磁波シールド材が配設されたディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、支持基材の上に写真製法により現像銀メッシュパターンを生成するメッシュパターン生成工程と、前記現像銀メッシュパターンの上に導電性の金属メッキ層により、金属メッシュからなる電磁波シールド材を形成するメッキ工程と、前記電磁波シールド材を、光学フィルターを構成する透明基材の片面に、転写により前記金属メッキ層側で貼着する転写工程と、を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
【請求項７】
前記メッキ工程と前記転写工程との間に、前記支持基材の上に形成された電磁波シールド材をｐＨ１１〜１３の強アルカリ液に浸漬することにより、電磁波シールド材と支持基材との密着力を低下させるアルカリ処理工程を有することを特徴とする請求項６に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
【請求項８】
前記現像銀メッシュパターンは、ポジ型写真製法またはネガ型写真製法によって生成することを特徴とする請求項６または７に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などの各種ディスプレイに使用される光学フィルターに関するものである。さらに詳細には、ディスプレイ用光学フィルター（以下、単に「光学フィルター」という揚合がある。）全体の厚みを薄くして軽量化することができ、高い電磁波シールド性を有すると共に、透光性に優れていて鮮明な画像を得ることのできるディスプレイ用光学フィルター及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などのディスプレイにおいては、ディスプレイ前面から発生する電磁波が人体に悪影響を与えたり、周囲の電子機器を誤動作させることが問題とされるようになり、ディスプレイの画像の鮮明さと共に、ディスプレイが周囲へ与える影響への対策が益々重要視されつつある。
特に、大型の薄型ディスプレイとして需要の増大しているＰＤＰにおいては、電磁波シールドフィルム以外に、近赤外線の波長領域を使用している各種のリモコンスイッチの誤作動を防ぐための近赤外線吸収フィルム、その近赤外線吸収フィルムに使用されている近赤外線吸収剤の経時劣化を防ぐための紫外線吸収フィルム、さらには可視光領域の色調調整のためのネオン光カットフィルム、光学フィルターの表面に外光が映り込むのを防ぐための反射防止フィルム等が、必要とされる機能に応じて組み合わせて構成されている。
これらのフィルムをディスプレイ用光学フィルターとして用いることにより画像の映り具合の改善を図ると共に、周囲へ与える影響を低減する対策が採られている。
【０００３】
一方、ディスプレイから発生する電磁波が外部に漏洩して人体に与える悪影響を防ぐという要求に対しては、従来から、種々の透明導電性フィルムおよび電磁波シールドフィルムが開発されている。公知の電磁波シールド材は、大きく分けると、透明導電膜による電磁波シールド材と、導電性の金属メッシュによる電磁波シールド材の２つに区分される。このうち、透明導電膜による電磁波シールド材は、金属メッシュによる電磁波シールド材に比べて透明性に優れる反面、表面抵抗率が大きく、電磁波シールド性能に劣る。このため、ＰＤＰ等の強い電磁波を発生させる機器からの電磁波をシールドする用途では、金属メッシュによる電磁波シールド材が好ましい。
【０００４】
さらに、導電性の金属メッシュによる電磁波シールド材の作製方法としては、下記の（１）〜（３）に示す方法が挙げられる。
（１）透明基材に金属箔を貼り合わせ、または透明基材に金属の薄膜を蒸着した後、フォトリソグラフ法により導電性金属パターンを形成するエッチング法（例えば、特許文献１参照）。
（２）透明基材の上に導電性の金属ペーストをメッシュパターンに印刷した後にメッキして導電性金属パターンを形成する印刷−メッキ法（例えば、特許文献２参照）。
（３）細線パターンを写真製法により生成された現像銀で形成した後、この現像銀の薄膜の上にメッキすることにより導電性金属パターンを形成する写真銀−メッキ法（例えば、特許文献３および特許文献４参照）。
【０００５】
そして、写真製法により生成した現像銀でメッシュパターンを形成する方法には、下記の（ａ），（ｂ）に示す２通りがある。
【０００６】
（ａ）支持体上に設けられた銀塩を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより金属銀部と光透過性部とを形成し、さらに前記金属銀部を物理現像及び／又はメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成する方法（例えば、特許文献３参照）。この方法は、露光マスクに覆われて露光されなかった部分には現像銀は発現せず、露光マスクに覆われていなくて露光された部分に現像銀が発現する、したがって、露光マスクと比較して反転した形に現像銀が表れるネガ型の露光・現像法である。
【０００７】
（ｂ）透明基材上に、物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層とをこの順で有する感光材料を露光し、物理現像核上に任意の細線パターンで金属銀を析出させ、次いで前記物理現像核上に設けられた層を除去した後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきする方法（例えば、特許文献４参照）。この方法は、露光マスクに覆われて露光されなかった部分には現像銀が発現し、露光マスクに覆われていなくて露光された部分には現像銀が発現しない、したがって、露光マスクと同じ形に現像銀が表れるポジ型の露光・現像法（銀錯塩拡散転写法、以降ＤＴＲ法と称す。）である。
【０００８】
また、特許文献５，６には、エッチング法において銅箔が除去された透明基材の表面には銅箔の有する凸凹が接着剤層に残り、透過光がこの凸凹で散乱してしまい光線透過率が低下するという問題が有り、この問題を解決するため、エッチングで形成した銅箔のメッシュパターンを、別の支持材に転写することが記載されている。
また、特許文献７にも同様に、２枚の銅箔を貼り合わせて、片方の厚みの薄い銅箔のみにエッチングによりメッシュパターンを形成した後、この形成された銅箔のメッシュパターンを別の保護層に転写することによる、透光性に優れた電磁波シールド材の製造方法が記載されている。
【特許文献１】特開平１０−０７５０８７号公報
【特許文献２】特開平１１−１７０４２０号公報
【特許文献３】特開２００４−２２１５６４号公報
【特許文献４】国際公開第２００４／００７８１０号パンフレット
【特許文献５】特開２００５−０６４２８０号公報
【特許文献６】特開２００４−０６９９３１号公報
【特許文献７】特開２００３−２１８５８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
光学フィルターに組み込まれる電磁波シールド材の金属メッシュパターンを製造するに際し、上記（１）のエッチング法においては、細線部分となるほんのわずかな部分のみを残し、それ以外のほとんど大部分の金属をエッチングにより溶解除去するのは資源を節減するという観点から問題である。また、金属の薄膜を蒸着する方法では、膨大な設備費が必要となることから簡単に製造を行うことができないという問題があった。
上記（２）の印刷−メッキ法においては、金属メッシュパターンの線幅を３０μｍ以下にするのが困難であるという問題があった。また、導電性ペーストにはバインダーが含有されているため、導電性ペーストを用いて基材の上に印刷したのみでは低い導電率しか得られず、高い電磁波シールド性能が得られないという問題があった。
【００１０】
上記（３）の写真銀−メッキ法においては、高い電磁波シールド性能が得られ、また、透明基材の寸法に制約を受けることが無く、ロールｔｏロールで製造でき非常に生産性が高いことから好ましい製造方法である。
【００１１】
一方、各種ディスプレイ、特にＰＤＰにおいては、ディスプレイに取り付ける光学フィルターとして、外部光（屋外光や室内照明光）による映り込みが生じることを防ぐために反射防止フィルム（ＡＲフィルム）を最外層に採用している。しかしながら、ディスプレイの画像を改良する対策として、色補正についてはネオン光吸収剤を用いることのみが開示されているに留まっている。
近年、各種ディスプレイ、特にＰＤＰにおいては、暗い室内だけでなく、部屋を照明等で明るくしたままの状態で画像を見たいという要望が高まっている。しかし、部屋を明るくすると、外部光の反射や映り込みにより画像が白色化し、更には白黒のコントラストが低下して画像がぼやけるという現象が起きる。このため、ＰＤＰにおいては、ＰＤＰの発光強度を減衰させないで鮮明な画像を映し出すため、全光線透過率が高くて輝度の低下が少ない光学フィルターが必要とされている。また、画面の大型化による重量の増大を避けることができる軽量化を図った光学フィルターが求められている。
【００１２】
特許文献５〜７に記載の方法は、いずれも、基材に接着剤を用いて貼り合せた極めて薄い（約５〜１５μｍ程度の薄膜厚み）銅箔を、エッチング法により金属メッシュパターンに形成し、その金属メッシュパターンを転写することにより、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液等のエッチング液によって透明基材が着色するという問題を解決し、透光性を高めることを目的としたものである。しかし、金属メッシュパターンを基材から剥離して別の支持材に転写するに当たって、銅箔と基材を張り合わせる接着剤の接着力を加減調整することが難しいという問題があった。
【００１３】
また、特許文献５〜７には、金属メッシュパターンを転写することが記載されているが、基材から金属メッシュパターンを剥離し易くする方法に関しては、何ら開示も示唆もされていない。
また、特許文献５〜７に記載の方法は、細線部分となるほんのわずかな部分のみを残し、それ以外のほとんど大部分の金属をエッチングにより溶解除去し資源を浪費するという、エッチング法に付随する根本的な問題は、何ら解決されていないという問題があった。
このように、従来技術においては、省資源に基づく安価な製造方法で、第１の基材の表面に電磁波シールド層の金属メッシュパターンを製造し、その金属メッシュパターンを別の第２の透明基材に容易に転写して形成する電磁波シールド材を用いた光学フィルターは提供されていなかった。
【００１４】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、省資源に基づく安価な製造方法で金属メッシュパターンからなる電磁波シールド層を形成することができ、光学フィルター全体の厚みを薄くして軽量化することができ、高い電磁波シールド性を有すると共に、透光性に優れていて鮮明な画像を得ることのできる光学フィルター及びその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
前記課題を解決するため、本発明は、電磁波シールド材が配設されたディスプレイ用光学フィルターであって、導電性金属のメッシュパターンとその上に積層された金属メッキ層とからなる電磁波シールド材が、光学フィルターを構成する透明基材の片面に、貼着されていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルターを提供する。
【００１６】
前記導電性金属のメッシュパターンは、写真製法により生成された現像銀メッシュパターンであることが好ましい。
前記金属メッキ層は、前記現像銀メッシュパターンの上に接して積層された、無電解銅メッキ層および／または電解銅メッキ層を有することが好ましい。
前記現像銀メッシュパターンは、ポジ型写真製法またはネガ型写真製法によって生成されたものであることが好ましい。
前記電磁波シールド材は、０．５〜１５μｍの厚みおよび１０〜５０μｍの線幅を有し、細線の間隔が１００〜９００μｍの金属メッシュであることが好ましい。
前記金属メッキ層の表面は、黒化処理されていることが好ましい。
さらに前記光学フィルターは、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、光吸収材分散層、反射防止層のうち、１つ以上の層を有することが好ましい。
【００１７】
また本発明は、電磁波シールド材が配設されたディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、支持基材の上に写真製法により現像銀メッシュパターンを生成するメッシュパターン生成工程と、前記現像銀メッシュパターンの上に導電性の金属メッキ層により、金属メッシュからなる電磁波シールド材を形成するメッキ工程と、前記電磁波シールド材を、光学フィルターを構成する透明基材の片面に、転写により前記金属メッキ層側で貼着する転写工程と、を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供する。
【００１８】
前記金属メッキ層は、前記現像銀メッシュパターンの上に接して積層された、無電解銅メッキ層および／または電解銅メッキ層を有することが好ましい。
前記メッキ工程と前記転写工程との間に、前記支持基材の上に形成された電磁波シールド材をｐＨ１１〜１３の強アルカリ液に浸漬することにより、電磁波シールド材と支持基材との密着力を低下させるアルカリ処理工程を有することが好ましい。
前記現像銀メッシュパターンは、ポジ型写真製法またはネガ型写真製法によって生成することが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明は、省資源に基づく安価な製造方法で電磁波シールド材のメッシュパターンを製造し、その電磁波シールド材を透明基材の上に容易に転写することからなる光学フィルターを提供するものであって、光学フィルター全体の厚みを薄くして軽量化することができ、高い電磁波シールド性を有すると共に、透光性に優れていて鮮明な画像を得ることのできる光学フィルターを提供することができる。
【００２０】
本発明の方法を用いることにより、従来技術での透明基材の上に金属メッシュパターンを形成してそのまま光学フィルターの構成層中に貼り合わせる場合に比べて、金属メッシュパターンを製造するために用いる透明基材のフィルム１枚を省くことができるので、可視光線の透光性を改善することができる。
【００２１】
本発明は、写真製法により生成した現像銀メッシュパターンの上に接して無電解メッキおよび／または電解メッキにより銅メッキ層が積層されているので、金属銀が銅メッキ層に拡散移行する現象により、現像銀メッシュパターンと支持基材との密着力が低下して電磁波シールド材が支持基材から浮いてしまい、電磁波シールド材を支持基材から剥離し易くなる。
また、本発明は、支持基材の上に形成された電磁波シールド材をｐＨ１１〜１３の強アルカリ液に浸漬することにより、電磁波シールド材と支持基材との密着力を低下させているので、電磁波シールド材を支持基材から剥離し易くなる。
このため、本発明では、電磁波シールド材を支持基材から剥離して透明基材上に転写する工程において、支持基材の上に形成された電磁波シールド材を透明基材に向けて圧着した後、支持基材との密着力の低下した電磁波シールド材を剥がす、転写の作業が円滑にできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、最良の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
図１（ａ）は本発明のディスプレイ用光学フィルターの一例を示す模式的断面図であり、図１（ｂ）はその層構成を示す部分拡大断面図である。図２は、電磁波シールド材が支持基材上に設けられた積層体の一例を示す模式的断面図である。図３（ａ）は支持基材上に設けられた電磁波シールド材を透明基材上に転写する様子を説明する模式的断面図であり、図３（ｂ）は電磁波シールド材から支持基材を剥離する様子を説明する模式的断面図である。図４は、従来法によるディスプレイ用光学フィルターの一例を示す模式的断面図である。
【００２３】
本形態例のディスプレイ用光学フィルター（以下単に、本形態例の光学フィルターという。）は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のディスプレイの前面パネルＰに直貼りで取り付けて使用することができる。なお、図１及び図４において目Ｅは、視覚側を表す。
【００２４】
図１に示す本形態例の光学フィルター１０は、視覚側から順に、反射防止層１１、紫外線吸収剤が添加された透明基材（紫外線吸収層）１２、黒色顔料が分散された粘着剤層（光吸収材分散層）１３、電磁波シールド材１４、粘着剤層１５、近赤外線吸収剤が添加された粘着剤層（近赤外線吸収層）１６が積層されてなるものであって、２つの粘着剤層１３，１５の間に挟み込まれた電磁波シールド材１４は、導電性金属のメッシュパターン１７とその上に積層された金属メッキ層１８ａ，１８ｂとからなるとともに、金属メッキ層１８ｂ側が透明基材１２側に向くように、粘着剤層１３を介して、転写により透明基材１２の片面に貼着されたものである。
図１に示す光学フィルター１０の場合、黒色顔料が分散された粘着剤層１３が光吸収材分散層として機能する。
【００２５】
なお、図１においては、透明基材１２に紫外線吸収剤を添加して紫外線吸収層となし、前面パネルＰに接する粘着剤層１６に近赤外線吸収剤を添加して近赤外線吸収層となした例を示すが、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層のうち光学フィルターに採用する層の組み合わせは、特にこれに限定されるものではない。例えば、近赤外線吸収層は、バインダ樹脂層（図示せず）内に近赤外線吸収剤を添加したものを貼り合わせてもよい。ネオン光吸収層（図示せず）は、例えばネオン光吸収剤を添加した粘着剤層によって実現することができる。
【００２６】
（反射防止層）
ここで、反射防止層１１は、光学フィルター１０の外側からの可視光線の反射を防ぐためのものであって、単層の場合は、透明基材１２に比べて屈折率の低い物質、例えばポリシロキサン構造を有するフッ素含有有機化合物等の薄膜を形成する。また多層からなる場合は、透明基材１２に比べて高屈折率の物質、例えば酸化チタンの蒸着薄膜と、透明基材に比べて低屈折率の物質、例えば酸化ケイ素の薄膜を交互に積層する。このような金属酸化物薄膜の形成方法は特に限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、湿式塗布法により、酸化ジルコニウム、ＩＴＯ、酸化ケイ素等の薄膜を形成することができる。
しかしながら、ディスプレイ用の光学フィルターの場合、複数のフィルムを積層していることから、その積層しているフィルム界面で反射が発生してしまう。
そのため、光学フィルター全体では反射率が上昇してしまうことから、最外層の反射防止層１１のみでは、外部光の反射による画像の白色化および白黒のコントラストの低下を防止して画像を鮮明にするという課題を十分に解決することができていないのが現状である。
【００２７】
（光吸収材分散層）
そこで、本発明では、反射防止層１１を通過してきた外部光を吸収する光吸収材を粘着剤層１３中に分散し、光学フィルター１０の内部への外部光の入射と、光学フィルター１０の内部に入射した外部光に由来する散乱光が再度フィルターの外側に出射したり、迷光となってディスプレイの画像と干渉することを低減する。これにより、ディスプレイの画像が白色化するのを防ぎ、白黒のコントラストを高めることができる。
【００２８】
（光吸収材）
本発明に使用する光吸収材としては、カーボンブラック、黒鉛、アニリンブラック、シアニンブラック、チタンブラック、黒色酸化鉄、酸化クロム、酸化マンガンなどの黒色顔料の粒子を使用することができる。光学フィルター全体としての色調を、無彩色もしくは好ましい色調に調整するために、必要に応じて複数種の光吸収材や他の色材を複合して使用しても良い。これらの黒色顔料のうち、特に、カーボンブラックが好適に使用される。前記黒色顔料（光吸収材）の好ましい粒子径の分布範囲は０．０１〜０．５μｍの範囲であり、より好ましくは０．０５〜０．３μｍの範囲である。
白黒のコントラストを高めるために黒色顔料（光吸収材）の添加量を増やせば全光線透過率が低下して画像が暗くなるという現象が起こるので、黒色顔料（光吸収材）の添加量を無制限に増やすことはできないが、許容される全光線透過率に応じて黒色顔料（光吸収材）の添加条件を調整することにより充分に満足の得られる白黒コントラストが達成される。
【００２９】
（透明基材）
透明基材１２を構成する透明材料としては、可視領域で透明であり、またフレキシブル性を有し、好ましくは耐熱性の良好な樹脂からなるプラスチックフィルムである。
そのようなプラスチックフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂等からなる厚さが１０〜６００μｍの単層または複合フィルムが挙げられる。
光学フィルターにおいては、透明基材に反射防止層、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層などの機能層を塗布したものを積層してフィルターの層構成中に存在させることができる。全光線透過率の低下を抑える観点からは、極力、兼用して透明基材層の数を少なくすることが好ましい。そのような兼用の方法としては、１枚の透明基材の上に複数の機能層を順次形成したり、剥離紙の上に形成した機能層を転写する方法を挙げることができる。
【００３０】
（粘着剤層）
各粘着剤層１３，１５，１６を構成する粘着剤としては、可視領域で透明であれば（すなわち、十分な透過率を有すれば）特に限定されない。透明であれば、硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂などが挙げられるが、これらの硬化型樹脂のうちでは、樹脂硬化のための設備が簡易で作業性に優れることから、紫外線硬化型樹脂が好ましい。また、粘着剤層の中に黒色顔料を直接混入させる場合には、熱可塑性樹脂が好適に用いられる。
粘着剤層は、透明性の観点からは、アクリル系共重合体が好適に用いられる。
【００３１】
（黒色顔料の分散した粘着剤層）
本発明における光吸収材分散層は、図１に示す例のように、粘着剤に黒色顔料を分散させて形成してもよい。粘着剤に黒色顔料を分散して形成される光吸収材分散層の塗布厚みは、２〜５０μｍであるのが好ましい。
本発明における、粘着剤に黒色顔料を分散させて形成する光吸収材分散層に使用される粘着剤（透明樹脂）は、透明であれば、上述した各種硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。透明性の観点からは、アクリル系共重合体が好適に用いられる。
適切に選定された透明樹脂に、上記の黒色顔料を均一に混合、分散させて光吸収材分散層組成物を調製し、得られた光吸収材分散層組成物を、透明基材１２の上に、バーコーティング方法、ロールコーティング方法、グラビアリバースコーティング方法等の公知の塗布方法で塗布する方法により、光吸収材分散層１３を形成することができる。
【００３２】
図１において、光吸収材（黒色顔料）が分散された粘着剤層１３は、透明性を有する粘着剤（透明粘着剤）中に、上述の光吸収材（黒色顔料）を分散させることにより、光学フィルター１０内部に入射した外部光に由来する散乱光が再度フィルターの外部目視側に出射したり、迷光となってディスプレイの画像と重畳することを低減する。これにより、ディスプレイの画像が白色化するのを防ぎ、白黒のコントラストを高めることができる。
粘着剤層１３に光吸収材を配合すると、透明基材に光吸収材を分散させた場合に比べて、透明基材の層数を一層減らすことができるので、全光線透過率の低下を抑えることができる。なお、ひとつの粘着剤層に多量の光吸収材を配合すると粘着剤の機能が低下して好ましくない場合は、複数の粘着剤層に分散して配合しても良い。また、粘着剤層と透明基材の両方に光吸収材を配合しても良い。
【００３３】
（近赤外線吸収層）
近赤外線吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。近赤外線吸収層を形成する方法としては、透明基材や粘着剤層の中に近赤外線吸収剤を混入させる方法、近赤外線吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。近赤外線吸収剤としては、波長領域８００〜１１００ｎｍの近赤外線透過率が１５％以下、好ましくは１０％以下であることが望ましい。具体例としては、イモニウム塩系化合物、ジイモニウム塩系化合物、アミニウム塩系化合物、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、アミノチオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、トリアリールメタン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、カーボンブラック、酸化アンチモン、酸化インジウムをドープした酸化錫、周期表の４、５または６族に属する金属の酸化物若しくは炭化物若しくはホウ化物等が挙げられる。これらの近赤外線吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。近赤外線吸収層を設けることにより、ディスプレイが発する近赤外線を吸収することができる。
【００３４】
（紫外線吸収層）
紫外線吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。紫外線吸収層を形成する方法としては、透明基材や粘着剤層の中に紫外線吸収剤を混入させる方法、紫外線吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。紫外線吸収層は、外部光による近赤外線吸収層の劣化を防ぐため、近赤外線吸収層よりも視覚側に設けられる。紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤のいずれも使用可能であるが、５０％透過率での波長が３５０〜４２０ｎｍが好ましく、より好ましくは３６０〜４００ｎｍである。前記５０％透過率での波長が３５０ｎｍより低波長では、紫外線遮断能が弱く、４２０ｎｍより高波長では着色が強くなり、好ましくない。
【００３５】
有機系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、フェニルサリチレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリチレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベンゾエート等のヒドロキシベンゾエート系化合物等が挙げられる。無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
【００３６】
（ネオン光吸収層）
ネオン光吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。ネオン光吸収層は、ＰＤＰの発光するネオン光（吸収波長５８０〜６２０ｎｍ）を、ネオン光吸収剤を用いて除去することにより画像の赤色をより鮮明にするためのものである。
ネオン光吸収層を形成する方法としては、透明基材や粘着剤層の中にネオン光吸収剤を混入させる方法、ネオン光吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。前記ネオン光吸収剤としては、例えば、シアニン系、スクアリリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系等の色素のうち、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する適当な色素が挙げられる。これらのネオン光吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。
【００３７】
（電磁波シールド材）
従来、ディスプレイから発生する電磁波が外部に漏洩して人体への悪影響を防ぐという要求に対して、種々の透明導電性フィルムおよび電磁波シールドフィルムが開発されている。公知の電磁波シールド材は、大きく分けると、透明導電膜による電磁波シールド材と、導電性の金属メッシュによる電磁波シールド材の２つに区分される。透明導電膜による電磁波シールド材は金属メッシュによる電磁波シールド材に比べて、透明性に優れる反面、表面抵抗率が大きく、電磁波シールド性能に劣る。プラズマディスプレイは多量の電磁波を発生させるので、金属メッシュによる電磁波シールド材が好ましい。
さらに、導電性の金属メッシュの製造方法としては、高い電磁波シールド効果と高い透明性（高い全光線透過率）とを両立させ得る点で、写真銀−メッキ法によるものが優れており、より高い透明性（高い全光線透過率）が得られるので、黒色顔料（光吸収材）の添加濃度をより高濃度とすることが可能となり、白黒コントラストをより高めることができる。
【００３８】
（電磁波シールド材の製造方法）
本発明で用いる電磁波シールド材の製造方法は、異なる２つの銀塩写真現像法（ポジ型写真製法−メッキ法、ネガ型写真製法−メッキ法）のうち、いずれかの方法を用いて支持基材の上に写真製法により生成された現像銀からなる細線メッシュパターンの薄膜を形成し、この細線パターンの上に、メッキにより導電性の金属層を積層して金属メッシュパターンからなる電磁波シールド材を形成し、その電磁波シールド材を、光学フィルターを構成する透明基材に転写するものである。現像銀の細線パターンとしては、メッシュ、格子状、櫛歯状、その他の種々のパターンから特に制限なく採用することができる。
【００３９】
銀塩写真現像法の１つの方法は、古くから知られる通常のいわゆる銀塩写真フィルムを用いて行う方法（ネガ型写真製法）であって、例えば、特許文献３に記載された方法、すなわち、支持体上に設けられた銀塩を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより金属銀部と光透過性部とを形成し、さらに前記金属銀部を物理現像及び／又はメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成する方法である。
【００４０】
銀塩写真現像法のもう１つの方法（ポジ型写真製法）は、特許文献４に記載された方法、すなわち、銀塩写真現像法を応用し、ハロゲン化銀を可溶性銀錯塩形成剤で溶解して可溶性銀錯塩にし、同時にハイドロキノン等の還元剤（現像主薬）で還元して現像核上に任意の細線パターンの金属銀を析出させる方法である。
なお、特公昭４２−２３７４５号公報には、ハロゲン化銀乳剤層とハロゲン化銀溶剤（銀錯塩形成材）を応用し、銀錯塩拡散転写現像法（ＤＴＲ現像法）により物理現像銀からなる導電性層を形成する技術が記載されている。しかしながら、上述したように近年の電磁波シールド材に要求される、全光線透過率５０％以上の透光性と表面抵抗率１０オーム／□以下の導電性とを同時に満足させるには、上記特許公報に記載された技術だけでは達成することができなかった。
【００４１】
以下、ポジ型写真製法−メッキ法とネガ型写真製法−メッキ法では、説明が重複するので、上述のポジ型写真−メッキ法を主体として、写真製法により生成した現像銀で細線パターンを形成する方法を説明する。本発明においては、ネガ型写真製法−メッキ法による場合についても基本的には、ポジ型写真製法−メッキ法に準じて実施することができる。
すなわち、本発明には、ポジ型写真製法とネガ型写真製法とのいずれでも適用できる。
【００４２】
（ポジ型写真製法−メッキ法：物理現像核）
現像銀の細線メッシュパターンが形成される支持基材Ｓ（図２参照）には、予め物理現像核層が設けられていることが好ましい。支持基材Ｓとしては、特に限定されるものではないが、透明基材１２と同様なプラスチックフィルムを用いることができる。
物理現像核としては、重金属あるいはその硫化物からなる微粒子（粒子サイズは１〜数十ｎｍ程度）が用いられる。例えば、金、銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属硫化物等が挙げられる。これらの物理現像核の微粒子層は、真空蒸着法、カソードスパッタリング法、コーティング法等によって透明基材上に設けることができる。生産効率の面からコーティング法が好ましく用いられる。物理現像核層における物理現像核の含有量は、固形分で１平方メートル当たり０．１〜１０ｍｇ程度が適当である。
【００４３】
支持基材Ｓは、塩化ビニリデンやポリウレタン等のポリマーラテックス層の接着層を設けることができ、また接着層と物理現像核層との間にはゼラチン等の親水性バインダーからなる中間層を設けることもできる。
【００４４】
物理現像核層には、親水性バインダーを含有するのが好ましい。親水性バインダー量は物理現像核に対して１０〜３００質量％程度が好ましい。親水性バインダーとしては、ゼラチン、アラビアゴム、セルロース、アルブミン、カゼイン、アルギン酸ナトリウム、各種デンプン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミドとビニルイミダゾールの共重合体等を用いることができる。物理現像核層には親水性バインダーの架橋剤を含有することもできる。
【００４５】
物理現像核層や前記中間層等の塗布には、例えばディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティングなどの塗布方式で塗布することができる。本発明において物理現像核層は、上記したコーティング法によって、通常連続した均一な層として設けることが好ましい。
【００４６】
本発明において、物理現像核層に金属銀を析出させるためのハロゲン化銀の供給は、支持基材Ｓ上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順に一体的に設ける方法、あるいは別の紙やプラスチック樹脂フィルム等の基材上に設けられたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する方法がある。コスト及び生産効率の面からは前者の物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を一体的に設けるのが好ましい。
【００４７】
（ネガ型写真製法−メッキ法：ハロゲン化銀乳剤）
本発明において、ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀写真感光材料の一般的なハロゲン化銀乳剤の製造方法に従って製造することができる。ハロゲン化銀乳剤は、通常、硝酸銀水溶液、塩化ナトリウムや臭化ナトリウムのハロゲン水溶液をゼラチンの存在下で混合熟成することによって作られる。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀組成は、塩化銀を８０モル％以上含有するのが好ましく、特に９０モル％以上が塩化銀であることが好ましい。塩化銀含有率を高くすることによって形成された物理現像銀の導電性が向上する。
【００４８】
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤層は、各種の光源に対して感光性を有している。電磁波シールド材を作製するための１つの方法として、例えば網目状などの細線パターンの物理現像銀の形成が挙げられる。この場合、ハロゲン化銀乳剤層は細線パターン状に露光されるが、露光方法として、細線パターンの透過原稿とハロゲン化銀乳剤層を密着して紫外光で露光する方法、あるいは各種レーザー光を用いて走査露光する方法等がある。前者の紫外光を用いた密着露光は、ハロゲン化銀の感光性は比較的低くても可能であるが、レーザー光を用いた走査露光の場合は比較的高い感光性が要求される。従って、後者の露光方法を用いる場合は、ハロゲン化銀の感光性を高めるために、ハロゲン化銀は化学増感あるいは増感色素による分光増感を施してもよい。化学増感としては、金化合物や銀化合物を用いた金属増感、硫黄化合物を用いた硫黄増感、あるいはこれらの併用が挙げられる。好ましくは、金化合物と硫黄化合物を併用した金−硫黄増感である。上記したレーザー光で露光する方法においては、４５０ｎｍ以下の発振波長の持つレーザー光、例えば４００〜４３０ｎｍに発振波長を有する青色半導体レーザー（バイオレットレーザーダイオードとも云う）を用いることによって、明室下（明るいイエロー蛍光灯下）でも取り扱いが可能となる。
【００４９】
本発明において、物理現像核層が設けられる支持基材Ｓ上の任意の位置、たとえば接着層、中間層、物理現像核層あるいはハロゲン化銀乳剤層、または支持体を挟んで設けられる裏塗り層にハレーションないしイラジエーション防止用の染料もしくは顔料を含有させてもよい。
【００５０】
（ポジ型写真製法−メッキ法：露光・現像）
前記物理現像核層の上に直接にあるいは中間層を介してハロゲン化銀乳剤層が塗設された感光材料を用いて電磁波シールド材を作製する場合は、網目状パターンのような任意の細線パターンの透過原稿と上記感光材料を密着して露光、あるいは、任意の細線パターンのデジタル画像を各種レーザー光の出力機で上記感光材料に走査露光した後、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で処理することにより銀錯塩拡散転写現像（ＤＴＲ現像）が起こり、未露光部のハロゲン化銀が溶解されて銀錯塩となり、物理現像核上で還元されて金属銀が析出して細線パターンの物理現像銀薄膜を得ることができる。露光された部分はハロゲン化銀乳剤層中で化学現像されて黒化銀となる。現像後、ハロゲン化銀乳剤層及び中間層、あるいは必要に応じて設けられた保護層は水洗除去されて、細線パターンの物理現像銀薄膜が表面に露出する。
【００５１】
ＤＴＲ現像後、物理現像核層の上に設けられたハロゲン化銀乳剤層等の除去方法は、水洗除去あるいは剥離紙等に転写剥離する方法がある。水洗除去は、スクラビングローラ等を用いて温水シャワーを噴射しながら除去する方法や温水をノズル等でジェット噴射しながら水の勢いで除去する方法がある。
【００５２】
一方、物理現像核層が塗布された支持基材Ｓとは別の基材上に設けたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する場合、前述と同様にハロゲン化銀乳剤層に露光を与えた後、物理現像核層が塗布された支持基材Ｓと、ハロゲン化銀乳剤層が塗布された別の感光材料とを、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で重ね合わせて密着し、アルカリ液中から取り出した後、数十秒〜数分間経過した後に、両者を剥がすことによって、物理現像核上に析出した細線パターンの物理現像銀薄膜が得られる。
【００５３】
次に、銀錯塩拡散転写現像のために必要な可溶性銀錯塩形成剤、還元剤、及びアルカリ液について説明する。可溶性銀錯塩形成剤は、ハロゲン化銀を溶解し可溶性の銀錯塩を形成させる化合物であり、還元剤はこの可溶性銀錯塩を還元して物理現像核上に金属銀を析出させるための化合物であり、これらの作用はアルカリ液中で行われる。
【００５４】
本発明に用いられる可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、アルカノールアミン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩、Ｔ．Ｈ．ジェームス編のザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス４版の４７４〜４７５項（１９７７年）に記載されている化合物等が挙げられる。
【００５５】
前記還元剤としては、写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができる。例えば、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン等の３−ピラゾリドン類、パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、パラフェニレンジアミン等が挙げられる。
【００５６】
上記した可溶性銀錯塩形成剤及び還元剤は、物理現像核層と一緒に支持基材Ｓに塗布してもよいし、ハロゲン化銀乳剤層中に添加してもよいし、またはアルカリ液中に含有させてもよく、更に複数の位置に含有してもよいが、少なくともアルカリ液中に含有させるのが好ましい。
【００５７】
アルカリ液中への可溶性銀錯塩形成剤の含有量は、現像液１リットル当たり、０．１〜５モルの範囲で用いるのが適当であり、還元剤は現像液１リットル当たり０．０５〜１モルの範囲で用いるのが適当である。
【００５８】
アルカリ液のｐＨは１０以上が好ましく、更に１１〜１４の範囲が好ましい。銀錯塩拡散転写現像を行うためのアルカリ液の適用は、浸漬方式であっても塗布方式であってもよい。浸漬方式は、例えば、タンクに大量に貯流されたアルカリ液中に、物理現像核層及びハロゲン化銀乳剤層が設けられた透明基材を浸漬しながら搬送するものであり、塗布方式は、例えばハロゲン化銀乳剤層上にアルカリ液を１平方メートル当たり４０〜１２０ｍｌ程度塗布するものである。
【００５９】
（細線パターンの寸法）
前述したように、細線パターンとしては、たとえば線幅１０〜１００μｍ程度の細線を縦横に格子状に設けられたものがあるが、細線幅を小さくして格子の間隔を大きくすると透光性は上がるが導電性は低下し、逆に細線幅を大きくして格子の間隔を小さくすると透光性は低下して導電性は高くなる。本発明にかかる支持基材Ｓ上に形成された任意の細線パターンの物理現像銀は、全光線透過率５０％以上の透光性と表面抵抗率１０オーム／□以下の導電性とを同時に満足させることは困難である。具体的にはこの物理現像銀は、表面抵抗率５０オーム／□以下、好ましくは２０オーム／□以下の導電性を有しているが、細線幅５０μｍ以下、たとえば細線幅２０μｍのパターンで、全光線透過率５０％以上とした場合には、表面抵抗率は数百オーム／□〜千オーム／□以上にもなってしまう。しかしながら、この物理現像銀自身は、しっかりした銀画像が形成されて通電性を有しているため、銅やニッケルなどの金属による鍍金（メッキ）、特に電解メッキを施すことにより、細線パターンが０．５〜１５μｍの厚み及び１０〜５０μｍの線幅であるとき、全光線透過率５０％以上、好ましくは６０％以上の透光性の細線パターンであっても、表面抵抗率１０オーム／□以下、好ましくは７オーム／□以下の導電性を保持することができる。
金属メッシュの全光線透過率を向上させるためには、細線が設けられた領域の面積に対して、細線間の光透過部の面積を十分に広くする必要がある。このため、細線の間隔は、１００〜９００μｍであることが好ましく、より好ましくは１５０〜７００μｍである。
【００６０】
（細線パターンの金属銀へのメッキ）
金属メッキした細線パターンの厚みは所望とする特性により任意に変えることができるが、０．５〜１５μｍ、好ましくは２〜１２μｍの範囲である。
本発明の電磁波シールド材は、細線パターンが０．５〜１５μｍの厚み及び１〜４０μｍの線幅であるとき、全光線透過率５０％以上、かつ表面抵抗率が１０オーム／□以下という優れた透光性能と導電性能を持ち、３０ＭＨｚ〜１，０００ＭＨｚのような広い周波数帯に亘って３０ｄＢ以上のシールド効果を発揮することができる。
【００６１】
現像銀メッシュパターン１７上への導電性金属のメッキは、無電解メッキ法、電解メッキ法あるいは両者を組み合わせたメッキ法のいずれでも可能であるが、支持基材Ｓ上に電磁波シールド層を作製するにあたり、支持基材Ｓ上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を設けたロール状の長尺ウェブに、少なくとも細線パターンの露光、現像処理およびメッキ処理という一連の処理を施すことができる観点からも、電解メッキあるいはそれに無電解メッキを組み合わせた方法が好ましい。
【００６２】
本発明において、現像銀メッシュパターン１７上に金属１８ａ，１８ｂをメッキする方法は、以下による。
支持基材Ｓの片面に、写真製法により生成された現像銀メッシュパターン１７を形成し、当該現像銀層１７の上に、銅（Ｃｕ）及び／又はニッケル（Ｎｉ）をメッキする。
本発明において金属メッキ法は公知の方法で行うことができるが、たとえば電解メッキ法は、銅、ニッケル、銀、金、半田、あるいは銅／ニッケルの多層あるいは複合系などの従来公知の方法を使用でき、これらについては、「表面処理技術総覧；（株）技術資料センター、１９８７年１２月２１日初版、２８１〜４２２頁」等の文献を参照することができる。
メッキが容易で、かつ導電性に優れ、さらに厚膜にメッキでき、低コスト等の理由により、銅および／またはニッケルを用いることが好ましい。特に、現像銀層１７上に積層した第１のメッキ層１８ａが無電解銅メッキおよび／または電解銅メッキによる銅メッキ層であり、さらに第１のメッキ層１８ａの上に積層した第２のメッキ層１８ｂがニッケルメッキ層である組み合わせが好ましい。第２のメッキ層１８ｂの表面には黒化処理を施すことが好ましい。本形態例では、反射防止層１１を有する透明基材１２の片面に、電磁波シールド材１４を転写により金属メッキ層１８ｂ側で貼着しているので、黒化処理したメッキ層１８ｂを視覚側に配置することができる。
【００６３】
（無電解銅メッキ）
無電解銅メッキ液としては、金属銅（Ｃｕ）の濃度として０．５〜１０ｇ／リットルが好ましく、さらに好ましくは２〜３ｇ／リットルの濃度である。
メッキ処理液の温度としては、３０〜８０℃が好ましく、さらに好ましくは４０〜５０℃である。メッキ処理液の温度が３０℃より低いと銅のメッキ析出速度が遅くなり、８０℃以上になると、エネルギー費用が嵩むことから好ましくない。
メッキ厚みは０．０１〜１μｍが好ましく、さらに好ましくは０．０５〜０．２μｍである。また、無電解銅メッキ液は、公知のメッキ液であればどのような液であっても問題はない。
【００６４】
（電解銅メッキ）
電解銅メッキの場合は、硫酸銅、青化銅、ピロリン酸銅など、どのようなメッキ液でも良いが、その中でも硫酸銅がコスト面から見て好ましい。これらの電解銅メッキ液において、銅（Ｃｕ）の濃度は、それぞれ適当な濃度に設定すればよい。
硫酸銅メッキ浴を用いる場合、硫酸濃度が２０〜４００ｇ／リットルが好ましく、さらに好ましくは７０〜３００ｇ／リットルである。硫酸濃度が２０ｇ／リットルより低いと、メッキ液が不安定となり、３００ｇ／リットルより高いとメッキ粒子に異常が生じるから好ましくない。
メッキ処理温度としては、１０〜６０℃が好ましく、さらに好ましくは２０〜４０℃である。メッキ処理液の温度が、１０℃より低いとメッキ時間が長く掛かりコストアップとなり、６０℃より高いとメッキ外観が悪くなる。
電解メッキの電流密度としては、０．０５〜２０Ａ／ｃｍ２が好ましく、さらに好ましくは０．５〜８Ａ／ｃｍ２である。電解メッキの電流密度が０．０５Ａ／ｃｍ２より低いと、メッキ時間が長くなりコストアップとなる。また、電解メッキの電流密度が２０Ａ／ｃｍ２より高いと、メッキ皮膜の外観が悪くなるから好ましくない。
【００６５】
（電解ニッケルメッキ）
電解ニッケルメッキを行う場合には、ニッケルメッキ処理液として、ワット浴（硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ホウ酸）、スルファミン酸ニッケル浴（スルファミン酸ニッケル、塩化ニッケル、ホウ酸）その他、どのようなメッキ浴でもよい。
【００６６】
（黒化処理）
金属メッキ層１８ｂの最表面は、メッキした金属の光沢による光の反射を防ぐために黒化処理することが好ましい。ニッケルメッキ層１８ｂの表面の黒化処理の方法として、黒化処理皮膜の種類および用いる黒化処理液の配合について特に制限はないが、好ましい一例として、黒ニッケルを使用する場合、当該黒化処理液の硫酸ニッケル濃度は、１０〜５０ｇ／リットルで行うのが好ましく、さらに好ましくは２０〜４０ｇ／リットルである。硫酸ニッケルの濃度が１０ｇ／リットルより低いと、メッキ析出が遅くなりコストアップとなり、５０ｇ／リットルより高いと黒化処理の仕上げ色が安定しないから好ましくない。
【００６７】
（基材のアルカリ処理）
支持基材Ｓの上に写真製法により生成された現像銀メッシュパターン１７を作製する工程の後、前記現像銀メッシュパターン１７の上に導電性の金属メッキ層１８ａ，１８ｂを積層し、金属メッシュパターンからなる電磁波シールド材１４を形成するが、電磁波シールド材１４を透明基材１２の片面に転写する工程に当たって、電磁波シールド材１４を支持基材Ｓから剥離し易くするために、電磁波シールド材１４の形成された支持基材Ｓを、アルカリ処理する。
【００６８】
アルカリ処理は、電磁波シールド材１４の形成された支持基材Ｓを、ｐＨ１２〜１３の強アルカリ液（水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液）に浸漬して行う。このアルカリ処理により、電磁波シールド材１４と支持基材Ｓとの密着力を低下して、電磁波シールド材１４が支持基材Ｓから剥離し易くなる。電磁波シールド材１４が形成された支持基材Ｓをアルカリ処理した後は、中和処理、水洗浄等により、電磁波シールド材１４及び支持基材Ｓに付着している余分な薬液を充分に洗浄除去した後、水切り、乾燥を行う。
【００６９】
上記の方法によって得られる電磁波シールド材１４は、細線パターンが０．５〜１５μｍの厚み及び１０〜５０μｍの線幅を有し、細線の間隔が１００〜９００μｍであるとき、全光線透過率５０％以上、かつ表面抵抗率が１０オーム／□以下という優れた透光性能と導電性能を持ち、３０ＭＨｚ〜１，０００ＭＨｚのような広い周波数帯に亘って３０ｄＢ以上のシールド効果を発揮することができる。
【００７０】
なお、上述のＤＴＲ−メッキ法の場合、支持基材Ｓの全面に物理現像核が残存することになる。従来、透明基材上に物理現像銀層を形成する場合、物理現像核の残存のためＤＴＲ−メッキ法は透明性の点で不充分との説もあるが、本発明においては、電磁波シールド材１４を別の透明基材１２に転写するため、支持基材Ｓが光学フィルター１０の層構成に含まれることはない。このため、本発明の光学フィルター１０において、充分な透明性を得ることができるのである。
【００７１】
（光学フィルターの製造方法）
本発明では、異なる２つの銀塩写真現像法（ポジ型写真製法−メッキ法、ネガ型写真製法−メッキ法）のうち、いずれかの方法を用いて支持基材Ｓの上に写真製法により生成された現像銀からなる細線パターンの薄膜１７を形成し、この細線パターン１７の上に、メッキにより金属層１８ａ，１８ｂを積層して形成された電磁波シールド材１４が用いられる。この支持基材Ｓの上に形成された写真製法−メッキ法による電磁波シールド材１４を、光学フィルター１０を構成する透明基材１２の片面に転写することにより、電磁波シールド材１４を形成する。
【００７２】
図１に示す光学フィルター１０の製造方法は特に限定されないが、例えば、以下に示す方法を用いることができる。なお、製造工程中または工程後に、粘着剤層を保護するため、任意に剥離紙を積層してもよい。
（１）図２に示すように、支持基材Ｓの上に形成された、写真製法により生成された現像銀のメッシュパターン１７とその上に積層されたメッキ層１８ａ，１８ｂであって、好ましくは銅メッキ層１８ａ（無電解銅メッキおよび／または電解銅メッキによる）および／またはニッケルメッキ層１８ｂとからなる金属メッシュパターンによる電磁波シールド材１４を準備する。
なお、支持基材Ｓの上に形成された電磁波シールド材１４を、ｐＨ１１〜１３の強アルカリ液に浸漬して電磁波シールド材１４と支持基材Ｓとの密着力を低下させ、電磁波シールド材１４を支持基材Ｓから剥離し易くさせておくのが好ましい。
（２）透明基材１２の片面に、反射防止層１１を設けて積層体（ＡＲフィルム）Ａを作製する。
（３）積層体Ａの反射防止層１１を設けた面とは反対側の面に、粘着剤層１３を設ける。その粘着剤層１３の上に、図３（ａ）に示すように電磁波シールド材１４を貼り合わせて圧着した後、図３（ｂ）に示すように支持基材Ｓを剥がして電磁波シールド材１４を積層体Ａの粘着剤層１３の上に転写し、この電磁波シールド材１４により光学フィルター１０の電磁波シールド層を形成する。
なお、図３において、反射防止層１１の図示は簡略のため省略しているが、本形態例では、図３中、透明基材１２の下面に反射防止層１１が設けられている。
（４）積層体Ａの粘着剤層１３の上に形成された電磁波シールド材１４である、転写された金属メッシュパターンの窪みに、粘着剤層１５を埋め込み平滑化する。
（５）粘着剤層１５の上に、さらに粘着剤層１６を積層して、本形態例の光学フィルター１０を得る（図１参照）。
【００７３】
上記の電磁波シールド材１４を積層体Ａに転写するに際しては、転写先の接着剤層として透明基材１２の片面に粘着剤層１３を設けているが、この粘着剤層１３に用いる接着剤または粘着剤としては、適当な接着力を有する粘着剤、あるいは光線、電離放射線、熱等で硬化する硬化型の接着剤を用いることができる。本発明では、接着後に硬化して形状が安定する点から、アクリル系等の熱硬化型接着剤が特に好ましい。
【００７４】
本形態例の光学フィルター１０は、最も内側に設けられた粘着剤層１６によってディスプレイの前面パネルＰ等に貼着して用いることができる。
本発明の電磁波シールド材の製造方法によれば、省資源に基づく安価な製造方法で金属メッシュパターンからなる電磁波シールド材を製造し、その電磁波シールド材を別の透明基材に容易に転写するものであって、光学フィルター全体の厚みを薄くして軽量化することができ、高い電磁波シールド性を有すると共に、透光性に優れていて鮮明な画像を得ることのできる光学フィルターを提供することができる。
【００７５】
本発明の光学フィルターをディスプレイ用光学フィルターとして用いることにより、従来技術（図４参照）での透明基材２４の上に金属メッシュパターン２５を作製してそのまま光学フィルターの構成層中に貼り合わせる場合に比べて、金属メッシュパターンを製造するために用いる透明基材フィルム１枚を省くことができるので、可視光線の透光性を改善することができる。
なお、図４に示す光学フィルター２０において、符号２１は反射防止層、２２は反射防止層と積層される透明基材、２３は粘着剤層、２４は金属メッシュパターンの支持基材、２５は金属メッシュパターン、２６，２７は粘着剤層である。
【００７６】
本発明によれば、支持基材Ｓの上に形成された、写真製法により生成した現像銀のメッシュパターン１７に接して、無電解メッキおよび／または電解メッキにより銅メッキ層１８ａが積層されているので、支持基材Ｓ上の現像銀層１７から金属銀が銅メッキ層１８ａ中に拡散移行する現象により、電磁波シールド材１４と支持基材Ｓとの密着力が低下して電磁波シールド材１４が支持基材Ｓから浮いてしまい、電磁波シールド材１４を支持基材Ｓから剥離し易くなる。
【００７７】
また、本発明は、支持基材Ｓの上に形成された電磁波シールド材１４を、ｐＨ１１〜１３の強アルカリ液に浸漬して電磁波シールド材１４と支持基材Ｓとの密着力を低下させているので、電磁波シールド材１４を支持基材Ｓから剥離し易くなる。
このため、本発明では、電磁波シールド材１４を支持基材Ｓから剥離して透明基材１２に転写する工程において、支持基材Ｓの上に形成された電磁波シールド材１４を、光学フィルター１０の構成層に含まれる透明基材１２に対して、粘着剤層１３を介して圧着した後、支持基材Ｓとの密着力の低下した電磁波シールド材１４を剥がして転写する作業が円滑にできる。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、液晶、ＥＬなどの各種ディスプレイに使用される電磁波シールド材を用いた光学フィルターとして利用することができる
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】（ａ）は本発明のディスプレイ用光学フィルターの一例を示す模式的断面図であり、（ｂ）はその層構成を示す部分拡大断面図である。
【図２】電磁波シールド材が支持基材上に設けられた積層体の一例を示す模式的断面図である。
【図３】（ａ）は支持基材上に設けられた電磁波シールド材を透明基材上に転写する様子を説明する模式的断面図であり、（ｂ）は電磁波シールド材から支持基材を剥離する様子を説明する模式的断面図である。
【図４】従来法によるディスプレイ用光学フィルターの一例を示す模式的断面図である。
【符号の説明】
【００８０】
Ｐ…前面パネル、Ｓ…支持基材、１０…ディスプレイ用光学フィルター（光学フィルター）、１１…反射防止層、１２…透明基材（紫外線吸収層）、１３…粘着剤層（光吸収材分散層）、１４…電磁波シールド材、１５…粘着剤層、１６…粘着剤層（近赤外線吸収層）、１７…現像銀メッシュパターン、１８ａ…第１の金属メッキ層（銅メッキ層）、１８ｂ…第２の金属メッキ層（ニッケルメッキ層）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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