(57)【要約】【課題】色変換層によってもたらされる凹凸または段差を確実に緩和する構造を有し、該構造によって無機酸化物膜の被覆不良、および有機ＥＬ層に対する水分および酸素の侵入を確実に阻止して、ダークスポットの発生が抑制され、長期間にわたって安定した発光特性を維持する有機ＥＬディスプレイの提供。【解決手段】少なくとも、透明支持基板と、パターン状に形成されている１種または複数種の色変調層と、平坦化層と、無機膜層と、透明電極と、有機ＥＬ層と、反射電極とをこの順に含み、該平坦化層は、２層以上のアクリル樹脂層の積層体であることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持基板と、
透明支持基板上にパターン状に形成されている１種または複数種の色変調層と、
前記１種または複数種の色変調層上に形成されている平坦化層と、
該平坦化層上に形成されている無機膜層と、
該無機膜層上に形成されている透明電極と、
該透明電極上に形成されている有機ＥＬ層と、
該有機ＥＬ層上に形成されている反射電極と
を少なくとも含み、前記平坦化層は、２層以上のアクリル樹脂層の積層体であることを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【請求項２】
前記２層以上のアクリル樹脂層のそれぞれは、その下に存在する層の全体を覆うように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項３】
前記無機膜層は前記平坦化層の全体を覆うように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項４】
前記平坦化層が、第１平坦化層および第２平坦化層から形成されており、第１平坦化層の膜厚は前記色変調層の膜厚の２０％以上８０％未満であり、第２平坦化層の膜厚は前記色変調層の膜厚の３％以上６０％未満であり、および平坦化層の総膜厚は前記色変調層の膜厚の３０％以上１００％未満であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項５】
前記平坦化層の端部において、前記平坦化層の表面と前記透明支持基板の表面とのなす角が４０゜未満であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項６】
透明支持基板を準備する工程と、
透明支持基板上にパターン状の１種または複数種の色変調層を形成する工程と、
前記１種または複数種の色変調層上に、２層以上のアクリル樹脂層の積層体である平坦化層を形成する工程と、
該平坦化層上に無機膜層を形成する工程と、
該無機膜上に透明電極を形成する工程と、
該透明電極上に有機ＥＬ層を形成する工程と、
該有機ＥＬ層上に反射電極を形成する工程と
を含むことを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項７】
前記２層以上のアクリル樹脂層が、同一の材料を用いて形成されることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【請求項８】
前記平坦化層を形成する工程が、２０ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有する第１のアクリル樹脂塗布液を用いて第１平坦化層を形成する工程と、１０ｍＰａ・ｓ以上３０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有する第２のアクリル樹脂塗布液を用いて、第１平坦化層の上に第２平坦化層を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬディスプレイおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイパネルの作製方式としては、電界をかけることにより赤・青・緑にそれぞれ発光する有機ＥＬ素子を配列する「３色発光方式」、および、有機ＥＬ素子の発する白色の発光を、カラーフィルタでカットし、赤・青・緑を表現する「カラーフィルタ方式」、さらに、有機ＥＬ素子の発する近紫外光、青色光、青緑色光または白色光を吸収し、波長分布変換を行って可視光域の光を発光する色変換色素を含む色変換層を用いる「色変換方式」が提案されている。
【０００３】
これらの方式の内、成膜時にメタルマスクを用いる必要がなく、フォトプロセスを用いて所望の形状および配列を有するカラーフィルタ層および／または色変換層を形成することができるという点において、「カラーフィルタ方式」および「色変換方式」が、ディスプレイの大画面化および高精細化に有利であると考えられている。
【０００４】
カラーディスプレイとしての実用上の重要課題は、精細なカラー表示機能を有すると共に、色再現性を含め長期的な安定性を有することである。しかしながら、カラー有機ＥＬディスプレイには、一定期間の駆動により発光特性（電流−輝度特性）が著しく低下するという欠点を有している。
【０００５】
この発光特性の低下原因の代表的なものは、ダークスポットの成長である。このダークスポットとは、発光欠陥点のことである。駆動時および保存中に酸化が進むとダークスポットの成長が進み、発光面全体に広がる。このダークスポットは、素子中の酸素または水分により、素子を構成する積層材料の酸化または凝集によるものと考えられている。その成長は、通電中はもちろん、保存中にも進行し、特に（１）素子の周囲に存在する酸素または水分により加速され、（２）有機積層膜中に吸着物として存在する酸素または水分に影響され、および（３）素子作製時の部品に吸着している水分あるいは製造時等における水分の侵入にも影響されると考えられている。
【０００６】
この水分の有機ＥＬ素子への侵入を妨げる手法として、基板上に絶縁性の水分・酸素遮断層を設けることが提案されてきている。水分・酸素遮断層として、ポリイミド変性シリコーン樹脂（たとえば、特許文献１〜３参照）などの有機樹脂を配設する技術、および膜厚０．０１〜２００μｍの無機酸化物層（特許文献４および５参照）を配設する技術が知られている。無機酸化物膜層には、有機発光層の寿命を維持するために高い防湿性が要求される。
【０００７】
また、基板上に１つまたは複数のカラーフィルタ層を設けたカラーフィルタの作製方法として、カラーフィルタ層上に形成した高分子膜層に、ＤＣスパッタリングによりＳｉＯｘ、ＳｉＮｘを形成する方法があり、透明導電膜の密着性を向上させる効果が知られている（特許文献６および７参照）。また、低融点ガラスを焼結する方法がある（特許文献８参照）。
【０００８】
さらに、カラーフィルタ層および／または色変換層を形成し、それら層を保護層で被覆した上に有機ＥＬ素子を形成する場合に、保護層端部における段差による有機ＥＬ素子の電極の断線を防止することを目的として、２層からなる保護層を設けることが提案されている（特許文献１０参照）。
【０００９】
有機ＥＬ素子の性能低下を防止することに関して、無機酸化物膜を色変換層上に適用することが注目され、その適用技術が検討されてきている。
【００１０】
【特許文献１】特開平５−１３４１１２号公報
【特許文献２】特開平７−２１８７１７号公報
【特許文献３】特開平７−３０６３１１号公報
【特許文献４】特開平８−２７９３９４号公報
【特許文献５】特開平１０−２４１８６０号公報
【特許文献６】特開平７−１４６４８０号公報
【特許文献７】特開平１０−１０５１８号公報
【特許文献８】特開２０００−２１４３１８号公報
【特許文献９】特許第３３０４２８７号公報
【特許文献１０】特開２００４−１３４０９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
「色変換方式」における色変換層は１０μｍ程度の膜厚を有する。このような大きな膜厚によって色変換層の間隙において段差が形成される結果、該間隙において形成される無機酸化物膜の被覆不良が発生し、色変換層などの有機膜積層体中に吸着物として存在する酸素または水分の侵入経路が形成される恐れがある。その結果として、ダークスポットが多く発生するという減少が見られている。
【００１２】
ダークスポットの発生を抑制するためには、大きな膜厚を有する色変換層によって形成される凹凸および段差を何らかの方法で平坦化する必要がある。そのような平坦化法としては、色変換層を研磨する方法（特許文献５参照）、色変換層の上に高分子膜を塗布する方法（特許文献９参照）、無機酸化物膜を形成する方法が提案されてきている。特許文献９は、その実施例において、膜厚１５μｍを有する遮光層および色変換層を形成した場合に、それらの層の上表面における凹凸が１．２μｍとなること、および該上表面の上に膜厚５μｍの平坦化層を形成することにより凹凸を０．５μｍに低減することができ、十分な表示能が得られることを教示している。
【００１３】
しかしながら、市販されている遮光層材料（たとえば、カラーモザイクＣＫ（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製）など）は、一般的に材料の粘度が低いために、塗布によって形成される遮光層の膜厚は０．５〜２．０μｍ程度となる。前述のような１５μｍの膜厚を有する遮光層を形成するためには、材料粘度、色素濃度の調整などの材料の改良が必要となる。これは、製造コスト増加の要因である。
【００１４】
また、一般的に、色変換層は、あらかじめ形成されている遮光層に対する位置合わせを伴うフォトリソグラフ工程によって形成される。このため、隣接する色変換層が重なることを避けるため、およびマスクアライナーの位置合わせ精度を考慮して、隣接する色変換層の間に間隙を形成することが必須となっている。この間隙の深さ（すなわち段差）は、色変換層の膜厚である１０μｍ程度である。このような段差を有する色変換層の上に膜厚５μｍの平坦化層を形成した場合、平坦化層の上表面は１．５〜２．０μｍ程度の凹凸を有する。
【００１５】
したがって、色変換層によってもたらされる凹凸および段差が大きな場合であっても、確実にそれら凹凸および段差を緩和する構造が強く求められている。該構造によって、無機酸化物膜の被覆不良、および有機ＥＬ層に対する水分および酸素の侵入を確実に阻止して、ダークスポットの発生を抑制することが可能となる。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の第１の実施形態である有機ＥＬディスプレイは、透明支持基板と、透明支持基板上にパターン状に形成されている１種または複数種の色変調層と、前記１種または複数種の色変調層上に形成されている平坦化層と、該平坦化層上に形成されている無機膜層と、該無機膜層上に形成されている透明電極と、該透明電極上に形成されている有機ＥＬ層と、該有機ＥＬ層上に形成されている反射電極とを少なくとも含み、前記平坦化層は、２層以上のアクリル樹脂層の積層体であることを特徴とする。ここで、前記２層以上のアクリル樹脂層のそれぞれは、その下に存在する層の全体を覆うように形成されていることが望ましい。また、無機膜層は平坦化層の全体を覆うように形成されていることが望ましい。また、平坦化層を、第１平坦化層および第２平坦化層から形成し、第１平坦化層の膜厚を色変調層の膜厚の２０％以上８０％未満とし、第２平坦化層の膜厚を前記色変調層の膜厚の３％以上６０％未満とし、および平坦化層の総膜厚を前記色変調層の膜厚の３０％以上１００％未満とすることが望ましい。さらに、平坦化層の端部において、平坦化層の表面と透明支持基板の表面とのなす角が４０゜未満であることが好ましい。
【００１７】
本発明の第２の実施形態である有機ＥＬディスプレイの製造方法は、透明支持基板を準備する工程と；透明支持基板上にパターン状の１種または複数種の色変調層を形成する工程と；前記１種または複数種の色変調層上に、２層以上のアクリル樹脂層の積層体である平坦化層を形成する工程と；該平坦化層上に無機膜層を形成する工程と；該無機膜上に透明電極を形成する工程と；該透明電極上に有機ＥＬ層を形成する工程と；該有機ＥＬ層上に反射電極を形成する工程とを含むことを特徴とする。ここで、前記２層以上のアクリル樹脂層は同一の材料を用いて形成されていてもよい。また、平坦化層を形成する工程は、２０ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有する第１のアクリル樹脂塗布液を用いて第１平坦化層を形成する工程と、１０ｍＰａ・ｓ以上３０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有する第２のアクリル樹脂塗布液を用いて、第１平坦化層の上に第２平坦化層を形成する工程とを含むことが望ましい。
【発明の効果】
【００１８】
以上のような構成を採ることによって、本発明の有機ＥＬディスプレイは、平坦化層の上表面の凹凸が０．５μｍ未満に制御される結果、透明支持基板の全ての領域において、被覆不良がなく、かつ水分および酸素の遮断性に優れた無機膜層を有し、透明支持基板側からの有機ＥＬ層の水分および酸素の侵入を効果的に防止することができる構造を有する。したがって、ダークスポットが発生することがなく、長期間にわたって優れた発光特性を維持する有機ＥＬディスプレイを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の有機ＥＬディスプレイは、透明支持基板１と、透明支持基板１上にパターン状に形成されている１種または複数種の色変調層３（ａ，ｂ，ｃ）と、前記１種または複数種の色変調層３上に形成されている平坦化層４（ａ，ｂ）と、該平坦化層４上に形成されている無機膜層５と、該無機膜層５上に形成されている透明電極２１と、該透明電極２１上に形成されている有機ＥＬ層２２と、該有機ＥＬ層２２上に形成されている反射電極２３とを少なくとも含み、前記平坦化層４は、２層以上のアクリル樹脂層の積層体であることを特徴とする。図１に、３種の色変調層３（ａ，ｂ，ｃ）の間隙および周囲に設けられたブラックマトリクス２を有し、平坦化層４が第１平坦化層４ａおよび第２平坦化層４ｂの２層構成である色変調フィルタ１０の例を示す。また、図２に、図１の色変調フィルタ１０の上に、複数の部分電極からなる透明電極２１、有機ＥＬ層２２および複数の部分電極からなる反射電極２３が設けられている本発明の有機ＥＬディスプレイの例を示す。
【００２０】
色変調フィルタ１０は、透明支持基板１、１種または複数種の色変調層３、平坦化層４および無機膜層５を少なくとも含む積層体である。透明支持基板１は、可視光（波長４００〜７００ｎｍ）に対して透明であり、積層される層の形成に用いられる条件（溶媒、温度等）に耐えるものであるべきであり、および寸法安定性に優れていることが好ましい。好ましい透明支持基板１は、ガラス基板、およびポリオレフィン、アクリル樹脂（ポリメチルメタクリレートを含む）、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートを含む）、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などの樹脂で形成された剛直性の樹脂基板を含む。あるいはまた、ポリオレフィン、アクリル樹脂（ポリメチルメタクリレートを含む）、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートを含む）、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などから形成される可撓性フィルムを、透明支持基板１として用いてもよい。
【００２１】
ブラックマトリクス２は、隣接する色変調層の間隙および周囲に設けられてもよい任意選択の層である。ブラックマトリクス２は、可視光に対して不透明な層であり、有機ＥＬディスプレイパネルのコントラスト比を向上させる効果を有する。ブラックマトリクス２は、フラットパネルディスプレイ用のブラックマトリクス材料として一般的に市販されているレジスト材料、またはカーボンブラックなどの黒色色素をポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネートなどのバインダー樹脂中に分散した材料を用いて形成することができる。ブラックマトリクス２は、可視光全領域において吸光度が９７％以上（光学濃度（ＯＤ値）が１．５以上）となる膜厚を有することが望ましい。ブラックマトリクス２は、透明支持基板１の上にスピンコート、ロールコート、ナイフコートのような慣用の塗布方法によってブラックマトリクス材料を塗布し、その後にフォトリソグラフ法などを用いて所望の形状に成形することによって得ることができる。あるいはまた、スクリーン印刷などの手法を用いて、所望の位置に所望の形状を有するブラックマトリクス２を形成してもよい。
【００２２】
１種または複数種の色変調層３は、カラーフィルタ層、色変換層、またはカラーフィルタ層と色変換層との積層体から構成される。カラーフィルタ層は、入射光に含まれる成分のうち所望される波長域の成分のみを透過させる層である。また、カラーフィルタ層／色変換層の積層体を用いる場合、カラーフィルタ層は、光の出射側に設けられ、色変換層を出射する光の色純度を向上させる機能を有する。カラーフィルタ層は、たとえば、市販の液晶ディスプレイ用カラーフィルタ材料（カラーモザイク（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製）など）を用いて形成することができる。
【００２３】
色変換層は、色変換色素とマトリクス樹脂とを含む層である。色変換色素は、入射光の波長分布変換を行って異なる波長の光を放射する色素であり、好ましくは、有機ＥＬ層が発する近紫外光または青色〜青緑色の可視光の波長分布変換を行って、所望の波長域の光（たとえば、青色、緑色、赤色）を放射する色素である。本発明において使用することができる色変換色素は、赤色光を放射するローダミン系色素およびシアニン系色素、緑色光を放射するクマリン系色素およびナフタルイミド系色素、および青色光を放射するクマリン系色素など、当該技術において知られている任意の色素を含む。マトリクス樹脂としては、光硬化性樹脂、光熱併用硬化型樹脂など、当該技術において知られている任意の樹脂を用いることができる。
【００２４】
本発明においては、透明支持基板１の上に複数種の色変調層３を設けることができる。図１および図２の構成においては、有機ＥＬ層が発する光を用いて赤色光を得る赤色変調層３ａ、有機ＥＬ層が発する光を用いて緑色光を得る緑色変調層３ｂ、および有機ＥＬ層が発する光を用いて青色光に変換する青色変調層３ｃが設けられている。複数種の色変調層３をマトリクス状に配置し、およびそれらに対応する位置に独立的に制御される複数の有機ＥＬ発光部を配設することによって、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいて多色表示が可能となる。
【００２５】
色変調層３は、透明支持基板１の上に、スピンコート、ロールコート、ナイフコートのような慣用の塗布方法によって、その構成層（色変換層および／またはカラーフィルタ層）の材料を塗布し、その後にフォトリソグラフ法などを用いてパターニングして所望の形状に成形することによって得ることができる。あるいはまた、スクリーン印刷などの手法を用いて、所望の位置に所望の形状を有するパターン状の色変調層３を形成してもよい。
【００２６】
平坦化層４は、色変調層によってもたらされる凹凸（段差）を平坦化するための層である。平坦化層４は、可視光における高い透明性（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、１００℃以上のＴｇおよび２Ｈ以上の鉛筆硬度（形成後の上表面における表面硬度）を有し、および色変調層３（ならびに、存在する場合にはブラックマトリクス２）を被覆することができる材料を用いて形成することができる。
【００２７】
平坦化層４を形成するための材料は、イミド変性シリコーン樹脂、エポキシ変性アクリレート樹脂、反応性ビニル基を有するアクリレートモノマー／オリゴマー／ポリマーを含む樹脂、フッ素系樹脂などの光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂を含む。本発明において、術語「アクリレート」は、アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルの両方を含むことを意図する。本発明においては、エポキシ変性アクリレート樹脂、および反応性ビニル基を有するアクリレートモノマー／オリゴマー／ポリマーを含む樹脂を、「アクリル樹脂」と総称する。
【００２８】
前述の材料の塗布は、スピンコート法、スリットコート法、ロールコート法、キャスト法などの慣用の手法により形成することができる。しかしながら、平坦化層４の端部にテーパ形状を形成することを考慮して、スピンコート法またはスリットコート法を用いることが好ましい。得られる平坦化層４の膜厚は、用いる材料の粘度、および／または該材料の塗布条件（たとえば、スピンコート法における回転数など）によって調整することができる。塗布の後に、当該技術において知られている任意の方法を用いて、露光または加熱を行って平坦化層４を形成することができる。
【００２９】
本発明においては、アクリレートポリマーを主成分とするネガ型光硬化性のアクリル樹脂を用いて平坦化層４を形成することが好ましい。その理由は以下の通りである。
（１）  一般的に色変調層材料のマトリクス樹脂としてアクリル樹脂が用いられることが多い。このために、他の材料を用いた場合に比較して、アクリル樹脂を用いて平坦化層を形成することにより、平坦化層と色変調層との屈折率差を小さくして、それら層の界面における光透過率の減少を抑制することができる。
（２）  ポジ型光硬化性材料を用いた場合、露光された部分の溶解性が増大し、未露光部分が平坦化層４を形成する。ここで、平坦化層４を形成する未露光部分は現像液に対する溶解性が比較的に高いために、形成された平坦化層４の上表面の凹凸が大きくなる傾向にある。しかしながら、ネガ型光硬化性のアクリル樹脂を用いた場合、露光された部分が光硬化して平坦化層４を形成する。このため、平坦化層４を形成する光硬化部分の現像液に対する溶解速度を小さくすることができ、それによって形成された平坦化層４の上表面の凹凸を小さくすることができる（１ｎｍ以下の平均表面粗さＲａ）。
（３）  露光時の光の散乱によって、光硬化部分の末端において露光強度が緩やかに減衰する領域が発生する。このため、光硬化部分の末端において、現像液に対する溶解速度が漸次変化し、その結果としてテーパ形状を形成することができる。
【００３０】
本発明において、平坦化層４は２層以上の積層構造をとる。ここで、平坦化層４を構成する２つ以上の層のそれぞれは、その下に存在する層の全体を覆うように形成される。図１および図２の例においては、平坦化層４が第１平坦化層４ａおよび第２平坦化層４ｂを有する２層構成を示した。図１および図２に示す２層構成の場合には、第１平坦化層４ａは、色変調層３および存在する場合にはブラックマトリクス２の全体を覆うように形成される。同様に、第２平坦化層４ｂは、第１平坦化層４ａの全体を覆うように形成される。
【００３１】
２層構成における第１平坦化層４ａは、色変調層３の膜厚の２０％以上７５％未満、好ましくは２５％以上６０％未満の膜厚を有することが望ましい。たとえば、色変調層３の膜厚が１０μｍである場合、第１平坦化層４ａの膜厚は、２．０μｍ以上７．５μｍ未満、好ましくは２．５μｍ以上６．０μｍ未満となる。ここで、複数種の色変調層３が存在し、その膜厚が異なる場合には、最も厚い色変調層３を基準とする。また、本発明における「第１平坦化層４ａの膜厚」は、第１平坦化層４ａが透明支持基板１と接触し、その上表面が平坦である領域（図１におけるｄの領域）における膜厚を意味する。さらに、第１平坦化層４ａの末端部（図１におけるｃの領域）において、第１平坦化層４ａの上表面と、透明支持基板１の表面とのなす角（以下、第１平坦化層４ａのテーパ角と称する）が４０゜未満であることが望ましい。
【００３２】
第１平坦化層４ａは、好ましくは２０〜５０ｍＰａ・ｓの粘度を有する塗布材料（好ましくはアクリル樹脂塗布液）を用いて形成されることが望ましい。このような範囲内の粘度を有する塗布材料を用いることによって、所望の膜厚の第１平坦化層の形成が容易になり、およびパターン状に形成された色変調層３の間隙（図１におけるｅの領域を意味する）における第１平坦化層４ａの凹部の深さを低減して、上表面の凹凸を小さくすることができる。
【００３３】
２層構成における第２平坦化層４ｂは、色変調層３の膜厚の３％以上６０％未満、好ましくは５％以上４０％未満の膜厚を有することが望ましい。たとえば、色変調層３の膜厚が１０μｍである場合、第２平坦化層４ｂの膜厚は、０．３μｍ以上６．０μｍ未満、好ましくは０．５μｍ以上４．０μｍ未満となる。ここで、複数種の色変調層３が存在し、その膜厚が異なる場合には、最も厚い色変調層３を基準とする。また、本発明における「第２平坦化層４ｂの膜厚」は、第２平坦化層４ｂが透明支持基板１と接触し、その上表面が平坦である領域（図１におけるｂの領域）における膜厚を意味する。さらに、第２平坦化層４ｂの末端部（図１におけるａの領域）において、第２平坦化層４ｂの上表面と、透明支持基板１の表面とのなす角（以下、第２平坦化層４ｂのテーパ角と称する）が４０゜未満であることが望ましい。
【００３４】
第２平坦化層４ｂは、好ましくは１０〜３０ｍＰａ・ｓの粘度を有する塗布材料（好ましくはアクリル樹脂塗布液）を用いて形成されることが望ましい。このような範囲内の粘度を有する塗布材料を用いることによって、所望の膜厚の第２平坦化層の形成が容易になり、およびパターン状に形成された色変調層３の間隙における第２平坦化層４ｂの凹部の深さを低減して、上表面の凹凸を小さくすることができる。
【００３５】
本発明においては、色変調層３の間隙における平坦化層４の上表面（２層構成の場合、第２平坦化層４ｂの上表面）の凹部の深さ（以下、色変調層間隙部深さという）を０．５μｍ以下にすることが望ましい。
【００３６】
また、平坦化層４の総膜厚（すなわち、第１平坦化層４ａの膜厚と第２平坦化層４ｂの膜厚の和）は、色変調層の膜厚の３０％以上１００％未満であることが望ましい。平坦化層４の総膜厚についても、複数種の膜厚が異なる色変調層３が存在する場合には、最も厚い色変調層３を基準とする。このような範囲内の総膜厚とすることによって、視野角依存性の増大などの悪影響を受けることなしに、平坦化層４の上面の凹凸および段差を緩和して、ダークスポットの発生、および透明電極２１および／または反射電極２３の故障の発生を効果的に防止することができる。
【００３７】
さらに、平坦化層４を３層以上の積層構造とすることも可能であり、その場合にも平坦化層４の総膜厚（すなわち、全ての部分構成層の膜厚の和）は、色変調層の膜厚の３０％以上１００％未満であることが望ましい。また、平坦化層４の各部分構成層（２層構成の場合には第１平坦化層４ａおよび第２平坦化層４ｂ）の形成後に、紫外線処理などの表面処理を施して、その上に形成される層の塗布材料の湿潤性、密着性などを向上させてもよい。
【００３８】
ここで、色変調層の膜厚を１０μｍとし、その上に種々の膜厚の第１平坦化層４ａを形成した場合の、色変調層間隙部深さを図３に示す。図３から明らかなように、第１平坦化層４ａの膜厚が増大するにつれて、色変調層３の間隙における凹部の深さが減少し、第１平坦化層４ａの膜厚を１０μｍとした場合に、色変調層３の間隙における凹部の深さは０．５５μｍであった。また、第１平坦化層４ａのテーパ角を測定したところ、膜厚６μｍで５０゜であり、膜厚８μｍ以上ではほぼ垂直（９０゜）となった。これらの膜厚の第１平坦化層４ａを形成した場合、たとえ第２平坦化層４ｂを形成したとしても、第１平坦化層４ａの末端部（図１におけるｃの領域）において、透明電極２１および／または反射電極２３の故障（断線およびまたは隣接する部分電極間での短絡）が発生した。図５に、平坦化層末端部における故障の顕微鏡写真を示した（図５（ａ）は断線を示し、図５（ｂ）は隣接する部分電極間での短絡を示す）。
【００３９】
次に、色変調層の膜厚を１０μｍとし、その上に種々の膜厚の第１平坦化層４ａを形成し、さらにその上に種々の膜厚の第２平坦化層４ｂを形成した場合の色変調層間隙部深さを図４に示す。図４から明らかなように、いずれの膜厚の第１平坦化層４ａを用いた場合においても、第２平坦化層４ｂの膜厚が増大するにつれて、色変調層３の間隙における凹部の深さが減少した。
【００４０】
具体的には、第１平坦化層４ａの膜厚が１．５μｍの場合、膜厚６μｍの第２平坦化層４ｂを形成したとしても色変調層間隙部深さは０．８μｍであった。この際に、第２平坦化層４ｂのテーパ角は５０゜であり、第２平坦化層の末端部（図１におけるａの領域に相当する領域）において、透明電極２１の断線が発生した。
【００４１】
これに対して、第１平坦化層４ａの膜厚が２．５μｍの場合、膜厚１．２μｍ以上の第２平坦化層４ｂを形成することによって、色変調層間隙部深さを０．５μｍ以下にすることができた。同様に、第１平坦化層４ａの膜厚が３．０μｍの場合に１．０μｍ以上の膜厚、第１平坦化層４ａの膜厚が４．０μｍの場合に０．８μｍ以上の膜厚、および第１平坦化層４ａの膜厚が５．０μｍの場合に０．３μｍ以上の膜厚で第２平坦化層４ｂを形成することによって、色変調層間隙部深さを０．５μｍ以下にすることができた。０．５μｍ以下の色変調層間隙部深さを達成できたいずれの場合においても、透明電極２１および／または反射電極２３の故障は発生しなかった。以上の場合において、平坦化層４の総膜厚の下限値は３．７〜５．３μｍであり、このような範囲内の膜厚を有する第１平坦化層を単独で用いた場合の色変調層３の間隙における凹部の深さは０．８〜１．３μｍ程度であることから、第２平坦化層４ｂを設けたことによって平坦化層４の上表面の凹凸および段差をより有効に平坦化することができたことが分かる。
【００４２】
以上のように検討した第１平坦化層４ａおよび第２平坦化層４ｂの膜厚に関する代表的な組み合わせを以下の第１表に示す。
【００４３】
【表１】
2007242461.tif 000003
【００４４】
平坦化層４の上に無機膜層５が形成される。無機膜層５は、該層が被覆する色変調層３および平坦化層４（ならびに、存在する場合にはブラックマトリクス２）から放出される水分が有機ＥＬ層２２側に透過することを防止するための層である無機膜層５は、通常１００ｎｍ〜１μｍの膜厚を有する。無機膜層５を形成するための材料としては、ＳｉＯｘ、ＡｌＯｘ、ＴｉＯｘ、ＴａＯｘ、ＺｎＯｘ等の金属酸化物、ＳｉＮｘ等の金属窒化物、ＳｉＮｘＯｙ等の金属酸窒化物等の材料を使用できる。好ましくは、色変調層３を形成する材料との屈折率差の小さいＳｉＯｘまたはＳｉＮｘＯｙを用いて無機膜層５を形成する。無機膜層５の形成においては、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、ディップ法などの当該技術において知られている任意の手段を用いることができる。
【００４５】
次いで、図２に示すように、無機膜層５の上に、透明電極２１、有機ＥＬ層２２および反射電極２３からなる有機ＥＬ素子２０を形成する。有機ＥＬ素子２０は、独立して制御することができる複数の発光部を有することが望ましい。
【００４６】
透明電極２１は、陽極（正孔注入電極）または陰極（電子注入電極）のいずれか、好ましくは陽極として機能する電極である。透明電極２１は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して好ましくは５０％以上、より好ましくは８５％以上の透過率を有することが好ましい。透明電極２１を形成するための材料は、ＩＴＯ（Ｉｎ−Ｓｎ酸化物）、ＩＺＯ（Ｉｎ−Ｚｎ酸化物）、Ａｌ−Ｓｎ酸化物（ＡＴＯ）、ＮＥＳＡ膜、Ｓｎ酸化物、Ｉｎ酸化物、Ｚｎ酸化物、Ｚｎ−Ａｌ酸化物、Ｚｎ−Ｇａ酸化物、および、これらの酸化物に対してＦ、Ｓｂなどのドーパントを添加した導電性透明金属酸化物を含む。透明電極２１は、通常５０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは１００〜３００ｎｍの範囲内の厚さを有することが望ましい。通常、透明電極２１は、導電性透明金属酸化物をスパッタ法を用いて堆積させることによって形成される。
【００４７】
独立して制御することができる複数の発光部を形成するために、透明電極２１を、第１の方向に延びるストライプ形状の複数の部分電極から形成することが望ましい。ここで、、任意選択的にＡｌ、Ｍｏ、Ｎｉ、ＣｒまたはＷなどの金属で形成される補助電極（不図示）を形成して、透明電極２１の配線抵抗を低減することができる。補助電極を、第１の方向に延びるストライプ形状の複数の部分電極から形成して、補助電極を構成する部分電極のそれぞれを、透明電極２１を構成する１つの部分電極に電気的に接続することが望ましい。補助電極は、有機ＥＬディスプレイの表示部内に透明電極と並行させて設けてもよいし、あるいはまた、表示部内に形成される透明電極２１と直列に配置させるように表示部外に設けてもよい（この場合、補助電極は透明電極２１と外部駆動回路とを接続する端子電極として機能する）。
【００４８】
有機ＥＬ層２２は、透明電極２１および反射電極２３から注入されるキャリアを再結合させて、所望の波長分布を有する光を発するための層である。有機ＥＬ層２２は、有機発光層を少なくとも含み、必要に応じて正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層および／または電子注入層を含む。これらの各層は、それぞれにおいて所望される特性を実現するのに充分な膜厚を有して形成される。たとえば、下記のような層構成からなるものが採用される。
（１）有機発光層
（２）正孔注入層／有機発光層
（３）有機発光層／電子注入層
（４）正孔注入層／有機発光層／電子注入層
（５）正孔輸送層／有機発光層／電子注入層
（６）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層
（７）正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層
（上記の構成において、陽極として機能する電極が左側に接続され、陰極として機能する電極が右側に接続される）
【００４９】
有機発光層の材料としては、任意の公知の材料を用いることができる。たとえば、青色から青緑色の発光を得るためには、例えば縮合芳香環化合物、環集合化合物、金属錯体（Ａｌｑ３のようなアルミニウム錯体など）、スチリルベンゼン系化合物（４，４’−ビス（ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）など）、ポルフィリン系化合物、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、べンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、芳香族ジメチリディン系化合物などの材料が好ましく使用される。あるいはまた、ホスト化合物にドーパントを添加することによって、種々の波長域の光を発する有機発光層を形成してもよい。ホスト化合物としては、ジスチリルアリーレン系化合物（たとえば出光興産製ＩＤＥ−１２０など）、Ｎ，Ｎ’−ジトリル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルビフェニルアミン（ＴＰＤ）、アルミニウムトリス（８−キノリノラート）（Ａｌｑ３）等を用いることができる。ドーパントとしては、ペリレン（青紫色）、クマリン６（青色）、キナクリドン系化合物（青緑色〜緑色）、ルブレン（黄色）、４−ジシアノメチレン−２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−６−メチル−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ、赤色）、白金オクタエチルポルフィリン錯体（ＰｔＯＥＰ、赤色）などを用いることができる。
【００５０】
正孔注入層の材料としては、フタロシアニン類（銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）などを含む）またはインダンスレン系化合物などを用いることができる。正孔輸送層は、トリアリールアミン部分構造、カルバゾール部分構造、オキサジアゾール部分構造を有する材料を用いて形成することができる。用いることができる材料は、好ましくは、ＴＰＤ、α−ＮＰＤ、ＭＴＤＡＰＢ（ｏ−，ｍ−，ｐ−）、ｍ−ＭＴＤＡＴＡなどを含む。
【００５１】
電子輸送層の材料としては、Ａｌｑ３のようなアルミニウム錯体；ＰＢＤ、ＴＰＯＢのようなオキサジアゾール誘導体；ＴＡＺのようなトリアゾール誘導体；以下に示す構造を有するもののようなトリアジン誘導体；フェニルキノキサリン類；ＢＭＢ−２Ｔのようなチオフェン誘導体などを用いることができる。電子注入層の材料としては、Ａｌｑ３のようなアルミニウム錯体、あるいはアルカリ金属ないしアルカリ土類金属をドープしたアルミニウムのキノリノール錯体などを用いることができる。
【００５２】
有機ＥＬ層２２を構成するそれぞれの層は、蒸着（抵抗加熱または電子ビーム加熱）などの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。
【００５３】
反射電極２３は、陽極または陰極のいずれか、好ましくは陰極として機能する電極である。反射電極２３を形成するための材料として、高反射率の金属、アモルファス合金、微結晶性合金を用いることが好ましい。高反射率の金属は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰおよびＣｒＢなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、ＮｉＡｌなどを含む。反射電極２３は、通常５０ｎｍ以上、好ましくは５０ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは１００〜３００ｎｍの範囲内の厚さを有することが望ましい。反射電極２３を陰極として用いる場合には、前述の高反射率金属、アモルファス合金または微結晶性合金に対して、仕事関数が小さい材料であるリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属を添加して合金化し、電子注入効率を向上させることができる。反射電極２３を陽極として用いる場合には、反射電極２３と有機ＥＬ層２２との界面に、前述の導電性透明金属酸化物の層を設けて有機ＥＬ層２２に対する正孔注入の効率を向上させてもよい。
【００５４】
独立して制御することができる複数の発光部を形成するために、反射電極２３を、第２の方向に延びるストライプ形状の複数の部分電極から形成することが望ましい。第２の方向は、透明電極２１を構成するストライプ形状の部分電極が延びる第１の方向と交差する方向であり、好ましくは直交する方向である。このような構成を採ることによって、透明電極の１つの部分電極と、反射電極２３の１つの部分電極とに所定の電界を印加することによって、それら部分電極の交差する位置で有機ＥＬ層２２を発光させることができる。
【００５５】
反射電極２３は、それを形成する材料に依存して、蒸着法（抵抗加熱蒸着法または電子ビーム加熱蒸着法）、スパッタ法、イオンプレーティング法、レーザアブレーション法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。ここで、ストライプ形状の部分電極からなる反射電極２３を形成する場合には、所望の形状を与えるマスクを用いてもよいし、あるいは透明電極２１上に逆テーパ形状断面を有する分離隔壁（不図示）を用いてもよい。
【００５６】
任意選択的に、陰極として用いる電極（透明電極２１または反射電極２３の一方）と有機ＥＬ層２２との界面にバッファ層（不図示）をもうけて、有機ＥＬ層２２に対する電子注入効率を向上させてもよい。バッファ層の材料としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、またはＣｓなどのアルカリ金属、Ｂａ、Ｓｒなどのアルカリ土類金属またはそれらを含む合金、希土類金属、あるいはそれら金属のフッ化物などの用いることができるが、それらに限定されるものではない。バッファ層の膜厚は、駆動電圧および透明性等を考慮して適宜選択することができるが、通常の場合には１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５７】
さらに、周囲環境に存在する水分および酸素などからデバイスを保護する目的で、ガラスなどの封止基板を用いて有機ＥＬディスプレイを封止してもよい。封止基板の貼り合わせは、ＵＶ硬化型、熱硬化型などの各種接着剤を用いて行うことが可能である。あるいはまた、有機ＥＬディスプレイの反射電極２３側を封止樹脂で被覆することによって封止を行うことも可能である。
【実施例】
【００５８】
（実施例１）
本実施例においては、１６０画素×１２０画素（各画素はＲＧＢの副画素で構成される）、画素ピッチ０．３３ｍｍの有機ＥＬディスプレイを作製する。
【００５９】
最初に、透明支持基板１としてのフュージョンガラス（コーニング製１７３７ガラス、１００×１００×１．１ｍｍ）上に、スピンコーティング法を用いてブラックマトリクス材料（カラーモザイクＣＫ−７８００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製））を塗布し、フォトリソグラフ法によってパターニングを実施し、幅０．０３ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍの開口部を有する膜厚１μｍのブラックマトリクス２を得た。
【００６０】
次いで、青色フィルタ材料（カラーモザイクＣＢ−７００１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製））をスピンコート法にて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、幅０．０８ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚１０μｍの第１の方向に延びる複数のストライプ形状部分からなる青色変調層３ｃ（カラーフィルタ層のみで形成される）を形成した。
【００６１】
クマリン６（０．７重量部）を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１２０重量部へ溶解させた。この溶液に対して、光重合性樹脂組成物の「Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５」（商品名、新日鐵化学株式会社）１００重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、青色変調層３ｃを形成した透明支持基板１上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、幅０．０８ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚１０μｍの第１の方向に延びる複数のストライプ形状部分からなる緑色変調層３ｂ（色変換層のみで形成される）を形成した。
【００６２】
クマリン６（０．６重量部）、ローダミン６Ｇ（０．３質量部）、ベーシックバイオレット１１（０．３質量部）を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１２０重量部へ溶解させた。この溶液に対して光重合性樹脂組成物の「Ｖ２５９ＰＡ／Ｐ５」（商品名、新日鐵化学株式会社）１００重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布液を、緑色変調層３ｂを形成した透明支持基板１上にスピンコート法を用いて塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを実施し、幅０．０８ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍ、膜厚１０μｍの第１の方向に延びる複数のストライプ形状部分からなる赤色変調層３ａ（色変換層のみで形成される）を形成した。
【００６３】
次いで、ＲＧＢの色変調層３を形成した透明支持基板１上の色変調層３およびブラックマトリクス２の全体を被覆するように、粘度４０ｍＰａ・ｓのアクリル系樹脂材料（ＮＮ８１０（ＪＳＲ製））をスピンコート法（回転数１０００ｒｐｍ）で塗布した。ブラックマトリクス２を形成した区域より広い開口部を有するフォトマスクを通して塗布層を露光し、次いでアルカリ性現像液（ＮＭＤ−３（東京応化工業製））を用いて現像を行った。その後に２００℃に加熱してポストベークを行い、膜厚３μｍの第１平坦化層４ａを得た。
【００６４】
次に、第１平坦化層４ａを形成した透明支持基板１上の第１平坦化層４ａの全体を被覆するように、粘度４０ｍＰａ・ｓのアクリル系樹脂（ＮＮ８１０（ＪＳＲ製））をスピンコート法（回転数１２００ｒｐｍ）で塗布した。第１平坦化層４ａを形成した区域より広い開口部を有するフォトマスクを通して塗布層を露光し、次いでアルカリ性現像液（ＮＭＤ−３（東京応化工業製））を用いて現像を行った。その後に２００℃に加熱してポストベークを行い、膜厚２μｍの第２平坦化層４ｂを得た。以上のように、膜厚５μｍの平坦化層４が得られた。また、色変調層間隙部深さは約０．３μｍであった。
【００６５】
次に、平行平板型プラズマＣＶＤ装置を用いて第２平坦化層４ｂを被覆するようにＳｉＮｘを堆積させ、膜厚３００ｎｍの無機膜層５を得た。この際に、雰囲気として流量５０ｓｃｃｍのＳｉＨ４ガスおよび流量２００ｓｃｃｍのＮ２ガスを用い、１５０ＷのＲＦ電力を印加し、および基板ステージの温度を１００℃に設定した。
【００６６】
次に、室温におけるスパッタ法を用いて、無機膜層５の全面に膜厚２００ｎｍのＩＺＯ膜を形成した。この際に、スパッタターゲットとしてＩＺＯを用い、スパッタガスとしてＡｒおよびＯ２の混合ガスを用いた。得られたＩＺＯ膜をシュウ酸をエッチング液として用いるフォトリソグラフ法によってパターニングして、幅０．１ｍｍ、０．１１ｍｍピッチの第１の方向に延びる複数のストライプ形状の部分電極からなる透明電極２１を得た。透明電極２１の複数の部分電極は、色変調層３の複数のストライプ形状部分に相当する位置に形成された。そして、ポリイミド材料（フォトニース（東レ株式会社製））を用い、フォトリソグラフ法によって透明電極２１の複数の部分電極の間隙に絶縁膜を形成した。
【００６７】
そして、ネガ型フォトレジスト（ＺＰＮ１１６８（日本ゼオン製））のスピンコート法による塗布、プリベーク、フォトマスクを用いる所定のパターンの焼き付け、６０秒間にわたる１１０℃のホットプレート上でのポストエクスポージャベーク、現像、および１５分間にわたる１６０℃のホットプレート上でのポストベークの行程を経て、第２の方向に延びる複数のストライプ形状部分からなり、逆テーパ形状の断面を有する反射電極分離隔壁を形成した。ここで、第２の方向は、透明電極２１の複数の部分電極が延びる方向である第１の方向と直交するように設定した。
【００６８】
次いで、反射電極分離隔壁以下の構造を形成した基板を、抵抗加熱蒸着装置内に配置して、有機ＥＬ層２２を形成した。有機ＥＬ層２２は、正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層の４層構成とした。真空槽内圧を１×１０−４Ｐａまで減圧し、膜厚１００ｎｍの銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ、正孔注入層）、膜厚２０ｎｍの４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ、正孔輸送層）、膜厚３０ｎｍのＤＰＶＢｉ（有機発光層）、および膜厚２０ｎｍのＡｌｑ３（電子注入層）を、真空を破ることなく積層して、有機ＥＬ層４０を得た。
【００６９】
さらに真空を破ることなしに、厚さ２００ｎｍのＭｇ／Ａｇ（質量比１０：１）を積層して、ストライプ形状の複数の部分電極からなる反射電極２３を形成した。反射電極２３の部分電極のそれぞれは、反射電極分離隔壁が延びる方向である第２の方向に延び、幅０．３ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍを有した。
【００７０】
最後に、グローブボックス内の乾燥窒素雰囲気（酸素および水分ともに１０ｐｐｍ以下）中において、封止ガラス（不図示）およびＵＶ硬化型接着剤を用いて封止を行い、有機ＥＬディスプレイを得た。
【００７１】
（実施例２）
平坦化層４の形成を以下の方法で行ったことを除いて、実施例１と同様の方法を用いて有機ＥＬディスプレイを作製した。
【００７２】
ＲＧＢの色変調層３を形成した透明支持基板１上の色変調層３およびブラックマトリクス２の全体を被覆するように、粘度４０ｍＰａ・ｓのアクリル系樹脂材料（ＮＮ８１０（ＪＳＲ製））をスピンコート法（回転数８００ｒｐｍ）で塗布した。ブラックマトリクス２を形成した区域より広い開口部を有するフォトマスクを通して塗布層を露光し、次いでアルカリ性現像液（ＮＭＤ−３（東京応化工業製））を用いて現像を行った。その後に２００℃に加熱してポストベークを行い、膜厚４μｍの第１平坦化層４ａを得た。
【００７３】
次に、第１平坦化層４ａを形成した透明支持基板１上の第１平坦化層４ａの全体を被覆するように、粘度２０ｍＰａ・ｓのアクリル系樹脂（ＮＮ８１０Ｌ（ＪＳＲ製））をスピンコート法（回転数１５００ｒｐｍ）で塗布した。第１平坦化層４ａを形成した区域より広い開口部を有するフォトマスクを通して塗布層を露光し、次いでアルカリ性現像液（ＮＭＤ−３（東京応化工業製））を用いて現像を行った。その後に２００℃に加熱してポストベークを行い、膜厚１μｍの第２平坦化層４ｂを得た。以上のように、膜厚５μｍの平坦化層４が得られた。また、色変調層間隙部深さは約０．４μｍであった。
【００７４】
（比較例１）
平坦化層４の形成を以下の方法で行ったことを除いて、実施例１と同様の方法を用いて有機ＥＬディスプレイを作製した。
【００７５】
ＲＧＢの色変調層３を形成した透明支持基板１上の色変調層３およびブラックマトリクス２の全体を被覆するように、粘度４０ｍＰａ・ｓのアクリル系樹脂材料（ＮＮ８１０（ＪＳＲ製））をスピンコート法（回転数６００ｒｐｍ）で塗布した。ブラックマトリクス２を形成した区域より広い開口部を有するフォトマスクを通して塗布層を露光し、次いでアルカリ性現像液（ＮＭＤ−３（東京応化工業製））を用いて現像を行った。その後に２００℃に加熱してポストベークを行い、膜厚５μｍの単一層からなる平坦化層を得た。色変調層間隙部深さは約０．８μｍであった。
【００７６】
（評価）
実施例１、実施例２および比較例１で作製した有機ＥＬディスプレイを、デューティ比１／６０、面発光輝度１００ｃｄ／ｍ２、および室温において１０００時間にわたって連続駆動し、連続駆動後のダークスポットの発生数を比較した。なお、各実施例および比較例について、１０個のサンプルを用意し、ディスプレイ全面を観察した。結果を第２表に示す。
【００７７】
【表２】
2007242461.tif 000004
【００７８】
第２表から明らかなように、実施例１および実施例２の有機ＥＬディスプレイは、比較例１の有機ＥＬディスプレイと比較して、ダークスポットの発生密度が著しく少ないことがわかる。このダークスポット発生数低減の効果は、色変調層に起因する凹凸および段差を平坦化層が緩和することによって、無機膜層５の形成不良を抑制し、無機膜層５が水分および酸素から有機ＥＬ素子２０を保護する層として有効に機能したためと考えられる。以上の結果から、平坦化層による凹凸および段差の緩和が、ダークスポットの発生防止および有機ＥＬディスプレイの長寿命化において有効であることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の有機ＥＬディスプレイの色変調フィルタの構成例を示す図である。
【図２】本発明の有機ＥＬディスプレイの構成例を示す図である。
【図３】第１平坦化層の膜厚の変化に伴う色変調層の間隙における凹部の深さの変化を示すグラフである。
【図４】種々の膜厚を有する第１平坦化層に関して、第２平坦化層の膜厚の変化に伴う色変調層の間隙における凹部の深さの変化を示すグラフである。
【図５】平坦化層末端部における電極の故障の例の顕微鏡写真を示す図であり、（ａ）は断線を示し、（ｂ）は隣接する部分電極間での短絡を示す図である。
【符号の説明】
【００８０】
１  透明支持基板
２  ブラックマトリクス
３ａ〜ｃ  色変調層
４ａ  第１平坦化層
４ｂ  第２平坦化層
５  無機膜層
１０  色変調フィルタ
２０  有機ＥＬ素子
２１  透明電極
２２  有機ＥＬ層
２３  反射電極
【図１】
2007242461.tif 000005
【図２】
2007242461.tif 000006
【図３】
2007242461.tif 000007
【図４】
2007242461.tif 000008
【図５】
2007242461.tif 000009