(57)【要約】【課題】表示する色ごとに層厚の異なる透明電極を容易に形成することができる電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供すること。【解決手段】対向基板１２上に、画素領域を区画する隔壁４１を形成する隔壁形成工程と、隔壁４１で区画された領域に、それぞれ対向電極形成材料液５１を塗布して対向電極４３を形成する対向電極形成工程とを備え、該対向電極形成工程で、対向電極４３の層厚を、対応して設けられる着色層４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂを透過する光の波長帯域に応じて設定する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２電極の間に電気光学層を介在させ、平面状に配置された複数の画素領域を有し、該複数の画素領域のそれぞれに対応して設けられた着色層を透過させて表示を行う電気光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記画素領域を区画する隔壁を形成する隔壁形成工程と、
前記隔壁で区画された領域に、それぞれ電極形成材料液を塗布して前記第１電極を形成する第１電極形成工程とを備え、
該第１電極形成工程で、前記第１電極の層厚を、対応して設けられる前記着色層を透過する光の波長帯域に応じて設定することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記隔壁が導電性を有しており、該隔壁を介して前記第１電極を互いに導通させることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１電極形成工程で、前記電極形成材料液を液滴吐出法により塗布することを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
他の基板上に、該他の基板表面を前記画素と対応して区画する他の隔壁を形成する他の隔壁形成工程と、
前記他の隔壁で区画された領域にそれぞれ他の電極形成材料液を塗布、乾燥させて前記第２電極を形成する第２電極形成工程とを備え、
該第２電極形成工程で、前記第２電極の層厚を、対応して設けられる前記着色層の透過光の波長帯域に応じて設定することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記第２電極形成工程で、前記他の電極形成材料液を液滴吐出法により塗布することを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記第１電極形成工程の前に、前記隔壁で区画された領域にそれぞれ前記着色層を形成するカラーフィルタ層形成工程を備えることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記カラーフィルタ層形成工程が、前記着色層に隣接して絶縁層を形成する絶縁層形成工程を有し、
該絶縁層形成工程で、前記絶縁層の層厚を、対応して設けられる前記着色層を透過する光の波長帯域に応じて設定することを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記電気光学層が、液晶層を構成し、
前記第１電極の上面に、配向膜を形成する配向膜形成工程を有し、
該配向膜形成工程で、前記配向膜の膜厚を、対応して設けられる前記着色層を透過する光の波長帯域に応じて設定することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
第１及び第２電極の間に電気光学層を介在させ、平面状に配置された複数の画素に応じて設けられた複数の着色層を有するカラーフィルタ層を備える電気光学装置において、
基板上に形成されて該基板表面を区画する隔壁を有し、
前記第１電極の層厚が、対応して設けられた前記着色層を透過する光の波長帯域に応じて設定されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１０】
前記隔壁が導電性を有しており、前記第１電極が前記隔壁を介して互いに導通していることを特徴とする請求項９に記載の電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置などの電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ノート型パーソナルコンピュータや携帯電話機、電子手帳などの電子機器において、画像情報を表示する手段として液晶装置が広く利用されている。このような液晶装置には、カラー表示を行うためにカラーフィルタ基板（対向基板）が組み込まれている。このカラーフィルタ基板は、例えば透明ガラスなどからなる基材上に所定のパターンで画素に対応して配列されたＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色層を有しており、液晶層を駆動する透明電極や液晶層を構成する液晶分子の配向を行う配向膜が着色層の上面に形成されている。
【０００３】
このようなカラーフィルタ基板では、透明電極に光が入射すると、透明電極の入射面と出射面とにおいて反射が生じる。そして、入射光と出射面及び入射面で反射した反射光との間で、干渉が発生する。ここで、３色の着色層のそれぞれの上面に形成された透明電極の層厚が同一となっているので、透明電極に入射した光のうち赤色光成分、緑色光成分及び青色光成分の透過率がそれぞれ異なることとなる。このため、表示する色光成分によって輝度のズレが生じてしまう。
【０００４】
そこで、透明電極の層厚を対応して設けられている着色層で表示される色光成分に応じて変更した液晶装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
この液晶装置では、透明電極の層厚を層内における透過光と反射光とが干渉して互いに強めあうような値としている。このように画素で表示する色ごとに透明電極の層厚を調整することで、各画素で表示する色光成分による輝度のズレが抑制可能となっている。
【特許文献１】特開平７−５６１８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記従来の液晶装置においても、以下の課題が残されている。すなわち、上記従来の液晶装置では、３色の色ごとに異なる層厚の透明電極を形成するとき、例えば透明電極材料の成膜、エッチングを繰り返すことが行われる。したがって、色ごとでも透明電極の層厚を同一とすることと比較して、透明電極の形成工程が複雑化するという問題がある。ここで、近年では、より高い色再現性を得るために上述したＲ、Ｇ、Ｂの３色のほかにＣ（シアン）を加えた４色で表示を行うことがある。この場合には、色ごとに異なる層厚の透明電極を形成する工程がより複雑化するという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記従来の問題に鑑みてなされたもので、表示する色ごとに層厚の異なる透明電極を容易に形成することができる電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明にかかる電気光学装置の製造方法は、第１及び第２電極の間に電気光学層を介在させ、平面状に配置された複数の画素に対応して設けられた複数の着色層を有するカラーフィルタ層を備える電気光学装置の製造方法において、基板上に、該基板表面を前記画素と対応して区画する隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁で区画された領域に、それぞれ電極形成材料液を塗布する前記第１電極を形成する第１電極形成工程とを備え、該第１電極形成工程で、前記第１電極の層厚を、対応して設けられた前記着色層の色光成分に応じて設定することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明にかかる電気光学装置は、第１及び第２電極の間に電気光学層を介在させ、平面状に配置された複数の画素に応じて設けられた複数の着色層を有するカラーフィルタ層を備える電気光学装置において、基板上に形成されて該基板表面を区画する隔壁を有し、前記第１電極の層厚が、対応して設けられた前記着色層の透過光の波長帯域に応じて設定されていることを特徴とする。
【００１０】
この発明では、隔壁で区画された領域内への電極形成材料液の塗布量を変更することで、第１電極の層厚を容易に調整できる。したがって、表示する色ごとに層厚の異なる第１電極を容易に形成することができる。
【００１１】
すなわち、基板上に隔壁を形成して画素領域を区画した後、各画素領域に電極形成材料液を塗布しこれを乾燥させることで析出された電極形成材料によって第１電極を形成する。ここで、第１電極の層厚をそれぞれ対応して設けられた着色層の透過光の波長帯域に応じた値とすることで、着色層を透過する波長帯の光に対して第１電極内における光損失を抑制できる。例えば、第１電極に入射した光のうち着色層を透過する波長帯の光に対して、第１電極内において第１電極の入射面から出射面に向かう透過光と出射面及び入射面で反射して出射面に向かう反射光とが互いに強めあうように各第１電極の層厚を設定することで、着色層を透過する波長帯の光に対する第１電極の光損失が低減される。これにより、画素ごとの輝度のズレが抑制できる。
【００１２】
以上より、電極形成材料液の塗布量を変更することで容易に第１電極の層厚を調整し、画素ごとの輝度のズレを抑制した電気光学装置を容易に製造することができる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記隔壁が導電性を有しており、該隔壁を介して前記第１電極を互いに導通させることが好ましい。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置は、前記隔壁が導電性を有しており、前記第１電極が前記隔壁を介して互いに導通していることが好ましい。
【００１５】
この発明では、第１電極が隔壁を介して互いに導通することで、各第１電極が同電位となり、第１電極の電圧制御が容易となる。
【００１６】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記第１電極形成工程で、前記電極形成材料液を液滴吐出法により塗布することが好ましい。
【００１７】
この発明では、液滴吐出法によって第１電極を選択的に形成することができる。これにより、電極形成材料液の無駄を抑制でき、低コスト化が図れる。
【００１８】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、他の基板上に、該他の基板表面を前記画素と対応して区画する他の隔壁を形成する他の隔壁形成工程と、前記他の隔壁で区画された領域にそれぞれ他の電極形成材料液を塗布、乾燥させて前記第２電極を形成する第２電極形成工程とを備え、該第２電極形成工程で、前記第２電極の層厚を、対応して設けられた前記着色層の色光成分に応じて設定することが好ましい。
【００１９】
この発明では、上述と同様に、他の隔壁で区画された領域内への他の電極形成材料液の塗布量を変更することで、第２電極の層厚を容易に調整できる。これにより、したがって、画素ごとの輝度のズレをより抑制した電気光学装置を容易に製造することができる。
【００２０】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記第２電極形成工程で、前記他の電極形成材料液を液滴吐出法により塗布することが好ましい。
【００２１】
この発明では、上述と同様に、液滴吐出法によって第２電極を選択的に形成することができる。これにより、他の電極形成材料液の無駄を抑制でき、低コスト化が図れる。
【００２２】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記第１電極形成工程の前に、前記隔壁で区画された領域にそれぞれ前記着色層を形成するカラーフィルタ層形成工程を備えることとしてもよい。
【００２３】
この発明では、着色層、第１電極の順で基板上に積層し、最上面の第１電極と第２電極とで介在された電気光学層に電圧を印加して画像の表示を行う。
【００２４】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記カラーフィルタ層形成工程が、前記着色層に隣接して絶縁層を形成する絶縁層形成工程を有し、該絶縁層形成工程で、前記絶縁層の層厚を、対応して設けられる前記着色層の透過光の波長帯域に応じて設定することが好ましい。
【００２５】
この発明では、着色層に絶縁層を設けることで、各着色層の層厚が異なっていても、着色層に隣接して絶縁層を形成することで、着色層及び絶縁層全体の層厚を各画素領域で均一化することができる。ここで、絶縁層の層厚を着色層の透過光の波長帯域に応じて設定することで、上述と同様に、画素ごとの輝度の低下や色のズレをより抑制できる。
【００２６】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記電気光学層が、液晶層を構成し、前記第１電極の上面に、配向膜を形成する配向膜形成工程を有し、該配向膜形成工程で、前記配向膜の膜厚を、対応して設けられる前記着色層の透過光の波長帯域に応じて設定することとしてもよい。
【００２７】
この発明では、液晶装置を構成する液晶層の液晶分子の配向を制御する配向膜の膜厚を着色層の透過光の波長帯域に応じて設定することで、上述と同様に、画素ごとの輝度のズレをさらに抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明による電気光学装置の製造方法及び電気光学装置の一実施形態を、図面に基づいて説明する。ここで、図１は液晶装置の平面図、図２は図１のＡ−Ａ矢視断面図、図３は図２の部分拡大図、図４は液晶装置の等価回路図である。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００２９】
本実施形態における液晶装置（電気光学装置）１は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）を画素スイッチング素子として用いたＴＦＴ方式アクティブマトリックス型の液晶装置である。そして、液晶装置１は、図１から図４に示すように、液晶パネル２と、液晶パネル２の外面にそれぞれ配置された偏光板（図示略）とを備えている。
【００３０】
液晶パネル２は、図１から図３に示すように、ＴＦＴ基板（他の基板）１１と、ＴＦＴ基板１１と対向配置された対向基板（基板）１２と、ＴＦＴ基板１１及び対向基板１２を貼着するシール材１３と、ＴＦＴ基板１１及び対向基板１２によって形成されたセルギャップ内に封入された液晶層（電気光学層）１４とを備えている。そして、液晶パネル２は、図１及び図２に示すように、ＴＦＴ基板１１と対向基板１２とが重なると共にシール材１３の内側に形成された周辺遮光膜１５を有しており、この周辺遮光膜１５によってシール領域の内側が画像表示領域１６となっている。なお、図１では、対向基板１２の図示を省略している。
【００３１】
ＴＦＴ基板１１は、図１から図３に示すように、平面視矩形状を有しており、例えばガラスや石英、プラスチックなどの透光性材料によって構成されている。そして、ＴＦＴ基板１１のうち画像表示領域１６と重なる領域には、図２から図４に示すように、画素電極２１やＴＦＴ素子２２、複数のデータ線２３及び走査線２４が形成されている。また、ＴＦＴ基板１１の内側表面には、隔壁２５が形成されている。さらに、ＴＦＴ基板１１の内側表面には、配向膜２６が形成されている。
【００３２】
画素電極２１は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide：酸化インジウムスズ）などの透光性導電材料によって構成されており、画素電極形成材料（電極形成材料）であるＩＴＯの微粒子を分散させた後述する画素電極形成材料液５２を滴下、乾燥させることによって形成されている。また、画素電極２１は、平面状に複数配置された画素領域のそれぞれに設けられている。そして、画素電極２１は、図２及び図３に示すように、対向基板１２に設けられた後述する対向電極（第１電極）４３と液晶層１４を介して対向配置されており、対向電極４３との間で液晶層１４を挟持する。
【００３３】
また、画素電極２１の層厚は、図３に示すように、後述するカラーフィルタ層４２の着色層４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂを透過する透過光の波長帯域に応じて設定されている。すなわち、画素電極２１のうち、赤色光を透過させる後述する着色層４２Ｒと対応して設けられた画素電極２１Ｒの層厚と、緑色光を透過させる後述する着色層４２Ｇと対応して設けられた画素電極２１Ｇの層厚と、青色光を透過させる後述する着色層４２Ｂと対応して設けられた画素電極２１Ｂの層厚とが異なっている。
【００３４】
ここで、画素電極２１Ｒは赤色光に対する透過率が最大となるような層厚となっており、画素電極２１Ｇは緑色光に対する透過率が最大となるような層厚となっており、画素電極２１Ｂは青色光に対する透過率が最大となるような層厚となっている。例えば、本実施形態では、赤色光の波長を６３０ｎｍ、緑色光の波長を５５０ｎｍ、青色光の波長を４６５ｎｍ、画素電極２１を構成するＩＴＯの屈折率を１．８としたとき、画素電極２１Ｒの層厚が１７５ｎｍ、画素電極２１Ｇの層厚が１５４ｎｍ、画素電極２１Ｂの層厚が１２９ｎｍとなっている。
【００３５】
各画素電極２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂの層厚を上述のように設定することで、例えば画素電極２１Ｒでは、画素電極２１Ｒに入射した光のうち着色層４２Ｒを透過する光である赤色光成分に対して、画素電極２１Ｒ内において画素電極２１Ｒの入射面から出射面に向かう透過光と出射面及び入射面で反射して出射面に向かう反射光とが互いに強めあうことになる。これにより、画素電極２１Ｒの赤色光成分に対する入射光と出射光との強度比である光損失が低減される。
【００３６】
ＴＦＴ素子２２は、例えばｎ型トランジスタによって構成されており、データ線２３と走査線２４との交点にそれぞれ設けられている。また、ＴＦＴ基板１１の上面に非晶質ポリシリコン膜または非晶質ポリシリコン膜を結晶化させたポリシリコン膜を部分的に形成し、これに対して部分的な不純物の導入や活性化を行うことで形成されている。そして、ＴＦＴ素子２２は、ソース電極がデータ線２３に接続され、ゲート電極が走査線２４に接続され、ドレイン電極が画素電極２１に接続されている。また、画素電極２１に書き込まれた画像信号のリークを防止するため、画素電極２１と容量線２７との間に保持容量２８が接続されている。
【００３７】
また、ＴＦＴ基板１１の内側表面には、図２及び図３に示すように、平面視でＴＦＴ素子２２やデータ線２３、走査線２４と重なると共に画素電極２１の周囲を囲むようにＴＦＴ基板１１の表面を区画する隔壁２５が形成されている。
【００３８】
隔壁２５は、平面視でＴＦＴ素子２２やデータ線２３、走査線２４と重なると共に画素電極２１の周囲を囲んでＴＦＴ基板１１の表面を区画するように形成されている。そして、隔壁２５は、例えばアクリルやポリイミド、エポキシなどのような有機材料で構成されており、絶縁性を有している。
【００３９】
データ線２３は、図４に示すように、例えばアルミニウムなどの金属によって構成された配線であって、図４に示すＹ方向に延在するように形成されている。また、走査線２４は、データ線２３と同様に、図４に示すＸ方向に延在するように形成されている。そして、これらデータ線２３及び走査線２４によって、画素が区画される。
【００４０】
また、ＴＦＴ基板１１には、図１に示すように、一辺端部（図１に示す下辺）において対向基板１２より外側に張り出す張出領域が形成されている。
【００４１】
また、ＴＦＴ基板１１上には、上記一辺に沿ってデータ線駆動回路３１が設けられており、上記一辺と隣接する二辺に沿って走査線駆動回路３２、３３が設けられている。そして、ＴＦＴ基板１１の上記張出領域には、データ線駆動回路３１及び走査線駆動回路３２、３３の端子群である端子部３４が設けられている。これらデータ線駆動回路３１、走査線駆動回路３２、３３及び端子部３４は、配線３５により適宜接続されている。
【００４２】
データ線駆動回路３１は、供給された信号に基づき、複数のデータ線２３に、図４に示すような画像信号Ｓ１、Ｓ２、…を供給する構成となっている。ここで、データ線駆動回路３１によりデータ線２３に書き込まれる画像信号は、線順次に供給しても、互いに隣接する複数のデータ線２３同士に対してグループごとに供給してもよい。
【００４３】
また、走査線駆動回路３２、３３は、供給された信号に基づき、複数の走査線２４に、図４に示すような走査信号Ｇ１、Ｇ２、…を所定のタイミングでパルス的に供給する構成となっている。ここで、走査線駆動回路３２、３３により走査線２４に送られる走査信号は、線順次に供給される。
【００４４】
配向膜２６は、画素電極２１及び隔壁２５の表面に設けられており、例えばポリイミド膜などの透光性の有機材料で構成された膜にラビング処理などの所定の配向処理を施すことで形成されている。
【００４５】
対向基板１２は、図１及び図２に示すように、ＴＦＴ基板１１と同様に平面視矩形状を有しており、例えばガラスや石英、プラスチックなどの透光性材料によって構成されている。そして、対向基板１２のうち液晶層１４側の表面には、隔壁４１とカラーフィルタ層４２と対向電極４３とが形成されている。また、対向基板１２の表面には、配向膜４４が形成されている。
【００４６】
隔壁４１は、隔壁２５と同様に、平面視でＴＦＴ素子２２やデータ線２３、走査線２４と重なると共に対向電極４３を囲んで対向基板１２の表面を区画するように形成されている。そして、隔壁４１は、例えば感光性を有すると共に内部にカーボン微粒子を分散させたアクリルやポリイミド、エポキシなどの感光性有機材料で構成されており、カーボン微粒子を分散させることによって導電性を有している。ここで、隔壁４１の導電率は、対向電極４３と同等となっている。このため、隔壁４１を介して隣接する対向電極４３の間の導通が十分に確保され、各対向電極４３の電位を共通にすることができる。なお、感光性樹脂材料中にカーボン微粒子を分散させることで隔壁４１が導電性を有しているが、カーボン微粒子に限らず、他の導電性微粒子を分散させてもよい。
【００４７】
カラーフィルタ層４２は、対向基板１２の表面に形成されており、赤色光を透過させる着色層４２Ｒ、緑色光を透過させる着色層４２Ｇ及び青色光を透過させる着色層４２Ｂで構成されている。この着色層４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂは、例えば感光性の樹脂材料で構成されており、隔壁４１で区画された領域内に形成されている。ここで、着色層４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂの透過光の中心波長は、それぞれ６３０ｎｍ、５５０ｎｍ、４６５ｎｍとなっている。
【００４８】
対向電極４３は、画素電極２１と同様にＩＴＯなどの透光性導電材料で構成されている。また、対向電極４３は、画素電極２１と同様に、画素領域に応じて設けられている。そして、対向電極４３の層厚は、着色層４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂを透過する透過光の波長帯域に応じて設定されている。すなわち、対向電極４３のうち、着色層４２Ｒと対応して設けられた対向電極４３Ｒの層厚と、着色層４２Ｇと対応して設けられた対向電極４３Ｇの層厚と、着色層４２Ｂと対応して設けられた対向電極４３Ｂの層厚とが異なっている。ここで、対向電極４３Ｒ、４３Ｇ、４３Ｂは、それぞれ赤色光、緑色光、青色光に対する透過率が最大となるような層厚となっている。例えば、本実施形態では、対向電極４３Ｒ、４３Ｇ、４３Ｂの層厚が、それぞれ１７５ｎｍ、１５４ｎｍ、１２９ｎｍとなっている。
【００４９】
したがって、例えば対向電極４３Ｒでは、対向電極４３Ｒに入射した光のうち着色層４２Ｒを透過する光である赤色光成分に対して、対向電極４３Ｒ内において対向電極４３Ｒの入射面から出射面に向かう透過光と出射面で反射して入射面に向かう反射光とが互いに強めあうことになる。
【００５０】
また、対向電極４３は、隔壁４１が導電性を有していることから、互いに導通している。このため、各対向電極４３の電位が同等となり、対向電極４３のうちの１つに電圧を印加するだけですべての対向電極４３の電位を制御することができる。
【００５１】
配向膜４４は、配向膜２６と同様に、例えばポリイミド膜などの透光性の有機膜にラビング処理などの所定の配向処理を施すことで形成されている。ここで、配向膜４４のラビング方向は、配向膜２６のラビング方向とほぼ同方向となっている。そして、対向基板１２の角部には、ＴＦＴ基板１１と対向基板１２との間の電気的な導通を確保するための基板間導通材４５が設けられている。
【００５２】
液晶層１４は、図１から図３に示すように、配向膜２６、４４の間で所定の配向状態となっている。この液晶層１４の液晶モードとしては、ＴＮ（Twisted Nematic）モードのほか、ＶＡＮ（Vertical Aligned Nematic）モード、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）モード、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）モード、ＯＣＢ（Optical Compensated Bend）モードなどを採用することができる。
（液晶装置の製造方法）
次に、上述した構成の液晶装置の製造方法について、図５及び図６を参照しながら説明する。ここで、図５及び図６は、それぞれ液晶装置の製造工程を示す断面図である。なお、以下の説明では、液晶パネルの製造工程に特徴があるため、液晶パネルの製造工程を中心に説明する。
【００５３】
本実施形態における液晶パネルの製造工程は、対向基板形成工程と、ＴＦＴ基板形成工程とを有している。
【００５４】
まず、対向基板形成工程を行う。この対向基板形成工程は、隔壁形成工程と、カラーフィルタ層形成工程と、対向電極形成工程とを備えている。
【００５５】
最初に、隔壁形成工程を行う。ここでは、まず、ガラスなどの透光性材料からなる対向基板１２上の全面にカーボン微粒子を含有した導電性の感光性有機材料をスピンコート法などを用いて塗布し、これを乾燥させることで隔壁層を形成する。そして、マスク（図示略）を用いたフォトリソグラフィ技術により、この隔壁層のうちカラーフィルタ層４２や対向電極４３を形成する画素領域に開口を形成する。このようにして、対向基板１２の内側表面に、隔壁４１を形成する（図５（ａ））。
【００５６】
この後、隔壁４１の内側表面に、後述する対向電極形成材料液（電極形成材料液）５１に対して親液性を有するための親液化処理を施す。この親液化処理は、例えば隔壁４１の内側表面にプラズマ処理などを施すことやシランカップリング剤などの親液化用表面処理剤を塗布することによって行われる。
【００５７】
次に、カラーフィルタ層形成工程を行う。ここでは、まず、隔壁４１が形成された対向基板１２上の全面に赤色光を透過させる着色が施された有機材料をスピンコート法などを用いて塗布し、これを乾燥させることで着色層を形成する。そして、マスク（図示略）を用いたフォトリソグラフィ技術により、隔壁４１の開口領域に赤色光を透過させる着色層４２Ｒを形成する。また、着色層４２Ｒの形成方法と同様に、緑色光を透過させる着色層４２Ｇ及び青色光を透過させる着色層４２Ｂを形成する。このようにして、対向基板１２の内側表面のうち隔壁４１の開口領域に着色層４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂを形成してカラーフィルタ層４２を構成する（図５（ｂ））。
【００５８】
続いて、対向電極形成工程を行う。ここでは、カラーフィルタ層４２が形成された対向基板１２の内側表面のうち隔壁４１の開口領域に、対向電極４３を構成するＩＴＯの微粒子を分散媒中に分散させた対向電極形成材料液５１の液滴を液滴吐出法を用いて滴下する（図５（ｃ））。
【００５９】
ＩＴＯの微粒子の表面には、分散媒中における分散性を向上させるために有機物などをコーティングして使用してもよい。また、ＩＴＯの微粒子の粒径は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが望ましい。これは、１００ｎｍよりも大きいと、ノズルに目詰まりが生じる場合がある。また、１ｎｍより小さいと、ＩＴＯの微粒子に対するコーティング剤の体積比が大きくなり、得られる膜中の有機物の割合が過多となる。
【００６０】
また、分散媒としては、ＩＴＯの微粒子を分散できるもので、凝集を起こさないものであれば特に限定されない。例えば、水のほかに、メタノールやエタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、またエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ｐ−ジオキサンなどのエーテル系化合物、さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物が挙げられる。これらのうち、微粒子の分散性と分散液の安定性、また液滴吐出法への適用の容易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好ましく、より好ましい分散媒としては、水、炭化水素系化合物が挙げられる。
【００６１】
そして、対向電極形成材料液５１の表面張力は、例えば０．０２Ｎ／ｍ以上０．０７Ｎ／ｍ以下の範囲内であることが好ましい。液滴吐出法にて液体を吐出する際、表面張力が０．０２Ｎ／ｍ未満であると、インク組成物のノズル面に対する濡れ性が増大するため飛行曲りが生じやすくなり、０．０７Ｎ／ｍを超えるとノズル先端でのメニスカスの形状が安定しないため吐出量や、吐出タイミングの制御が困難になる。表面張力を調整するため、上記分散液には、基板との接触角を大きく低下させない範囲で、フッ素系、シリコーン系、ノニオン系などの表面張力調節剤を微量添加するとよい。ノニオン系表面張力調節剤は、液体の基板への濡れ性を向上させ、膜のレベリング性を改良し、膜の微細な凹凸の発生などの防止に役立つものである。上記表面張力調節剤は、必要に応じて、アルコール、エーテル、エステル、ケトンなどの有機化合物を含んでもよい。
【００６２】
また、対向電極形成材料液５１には、ＩＴＯの微粒子が互いに接触して凝集を起こすことを防ぐために、分散安定剤が添加される。分散安定剤としては、例えば、アルキルアミンなどのアミン化合物が用いられる。この分散安定剤は、金属微粒子表面から離脱した後、最終的には、分散媒と共に、蒸散することが可能であることが必要であり、少なくとも、沸点が３００℃を超えない範囲、通常、２５０℃以下の範囲となるものが好ましい。例えば、アルキルアミンとして、そのアルキル基は、Ｃ８〜Ｃ１８の範囲に選択され、アルキル鎖の末端にアミノ基を有するものが用いられる。例えば、前記Ｃ８〜Ｃ１８の範囲のアルキルアミンは、熱的な安定性もあり、また、室温付近での蒸気圧もさほど高くなく、室温等で保管する際、含有率を所望の範囲に維持、制御することが容易であるなど、ハンドリング性の面から好適に用いられる。
【００６３】
対向電極形成材料液５１の粘度は、例えば１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。これは、液滴吐出法を用いて液体材料を液滴として吐出する際、粘度が１ｍＰａ・ｓより小さい場合にはノズル周辺部がインクの流出により汚染されやすく、また粘度が５０ｍＰａ・ｓより大きい場合はノズル孔での目詰まり頻度が高くなり円滑な液滴の吐出が困難となるためである。
【００６４】
ここで、液滴吐出法の吐出技術としては、帯電制御方式や加圧振動方式、電気機械変換方式、電気熱変換方式、静電吸引方式などが挙げられる。帯電制御方式は、材料に帯電電極で電化を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御してノズルから吐出させるものである。また、加圧振動方式は、材料に例えば３０ｋｇ／ｃｍ２程度の超高圧を印加してノズル先端側に材料を吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には材料が直進してノズルから吐出され、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料が飛散するのでノズルから吐出されない。そして、電気機械変換方式は、ピエゾ素子（圧電素子）がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出してノズルから吐出させるものである。さらに、電気熱変換方式は、材料を貯留した空間内に設けたヒータにより、材料を急激に気化させてバブル（泡）を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。また、静電吸引方式は、材料を貯留した空間内に微小圧力を加え、ノズルに材料のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから材料を引き出す方式である。この他、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式など、さまざまな技術を適用することができる。この液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を的確に配置できるという利点を有する。なお、液滴吐出法によって吐出される対向電極形成材料液５１の一滴の量は、例えば１ｎｇ以上３００ｎｇ以下となっている。
【００６５】
この液滴吐出法によってカラーフィルタ層４２を構成する各着色層４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂ上に滴下される対向電極形成材料液５１の液滴量は、滴下される対向電極形成材料液５１中のＩＴＯの濃度が同一であれば、着色層４２Ｒ、着色層４２Ｇ、着色層４２Ｂの順で少なくなる。
【００６６】
そして、滴下した対向電極形成材料液５１に加熱処理を施して内部の溶媒を蒸発させると共に、ＩＴＯの微粒子を焼成させる。この加熱処理により、対向電極４３Ｒ、４３Ｇ、４３Ｂが形成される。（図５（ｄ））。このように、対向電極形成材料液５１の塗布量を変更することで、各対向電極４３Ｒ、４３Ｇ、４３Ｂの層厚が設定される。したがって、層厚の異なる対向電極４３Ｒ、４３Ｇ、４３Ｂを容易に形成できる。
【００６７】
このとき、液滴吐出法を用いることで着色層４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂ上に選択的に対向電極形成材料液５１の液滴が滴下されるので、対向電極形成材料液５１の無駄が抑制されている。ここで、隔壁４１が導電性を有しているため、着色層４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂ上にそれぞれ形成された対向電極４３Ｒ、４３Ｇ、４３Ｂが隔壁４１を介して互いに導通している。
【００６８】
この後、隔壁４１及び対向電極４３Ｒ、４３Ｇ、４３Ｂの上面にポリイミドなどの有機材料からなる配向膜形成材料層を形成し、これにラビング処理を施すことによって配向膜４４を形成する（図５（ｅ））。このようにして、対向基板１２を形成する。
【００６９】
続いて、ＴＦＴ基板形成工程を行う。このＴＦＴ基板形成工程は、隔壁形成工程と、画素電極形成工程とを備えている。
【００７０】
まず、ガラスなどの透光性材料からなるＴＦＴ基板１１上に、周知の方法によりＴＦＴ素子や、複数のデータ線２３及び走査線２４などを形成する。
【００７１】
次に、隔壁形成工程を行う。ここでは、上述した対向基板形成工程における隔壁形成工程と同様に、ＴＦＴ基板１１上の全面に感光性有機材料をスピンコート法などを用いて塗布し、これを乾燥させることで隔壁層を形成する。そして、マスク（図示略）を用いたフォトリソグラフィ技術により、この隔壁層の画素電極２１を形成する領域に開口を形成する。これにより、ＴＦＴ基板１１の内側表面に、隔壁２５を形成する（図６（ａ））。
【００７２】
この後、上述と同様に、隔壁２５の内側表面に、後述する画素電極形成材料液（他の電極形成材料液）５２に対して親液性を有するための親液化処理を施す。
【００７３】
次に、画素電極形成工程を行う。ここでは、対向電極形成工程と同様に、隔壁２５が形成されたＴＦＴ基板１１の内側表面のうち隔壁２５の開口領域に、画素電極２１を構成するＩＴＯの微粒子が分散した画素電極形成材料液５２の液滴を液滴吐出法を用いて滴下する（図６（ｂ））。ここで、ＴＦＴ基板１１上に滴下される画素電極形成材料液５２の液量は、滴下される画素電極形成材料液５２中のＩＴＯの濃度が同一であれば、着色層４２Ｒと対応する領域、着色層４２Ｇと対応する領域、着色層４２Ｂと対応する領域の順で少なくなる。
【００７４】
そして、加熱処理を施して画素電極２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂを形成する（図６（ｃ））。ここで、隔壁２５が絶縁性を有しているため、画素電極２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂは、非導通となっている。
【００７５】
この後、隔壁２５及び画素電極２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂの上面にポリイミドなどの有機材料からなる配向膜形成材料層を形成し、これにラビング処理を施すことによって配向膜２６を形成する（図６（ｄ））。ここで、配向膜２６のラビング方向は、配向膜４４のラビング方向とほぼ同方向となっている。以上のようにして、ＴＦＴ基板１１を形成する。
【００７６】
その後、形成したＴＦＴ基板１１と対向基板１２とをシール材１３で貼着すると共にＴＦＴ基板１１と対向基板１２との間に液晶層１４を封入する。このようにして、液晶パネル２を形成する。さらに、ＴＦＴ基板１１及び対向基板１２のそれぞれの外側表面に上記偏光板を設け、液晶装置１を製造する。
（電子機器）
このような構成の液晶装置１は、例えば、図７に示すような携帯電話機（電子機器）１００に設けられる。ここで、図７は、携帯電話機１００の斜視図である。この携帯電話機１００は、複数の操作ボタン１０１、受話口１０２、送話口１０３及び本実施形態の液晶装置１からなる表示部１０４を備えている。
【００７７】
以上のように、本実施形態における液晶装置の製造方法及び液晶装置１によれば、対向電極形成材料液５１や画素電極形成材料液５２の滴下量を調整することで、各着色層４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂで表示される色ごとに設定された層厚の異なる対向電極４３Ｒ、４３Ｇ、４３Ｂや画素電極２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂを容易に形成できる。したがって、画素ごとの輝度のズレを抑制した液晶装置１を容易に製造することができる。
【００７８】
ここで、隔壁４１が導電性を有しているので、対向電極４３が隔壁４１を介して互いに導通し、各対向電極４３が同電位となる。このため、対向電極４３を共通電極としてその電圧制御が容易となる。
【００７９】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【００８０】
例えば、上記実施形態では画素電極と対向電極とをそれぞれ液滴吐出法を用いて形成しているが、いずれか一方のみであってもよい。このようにしても、液滴吐出法を用いて形成された画素電極または対向電極を透過する光のうち対応して設けられる着色層の透過光の波長帯域の光に対する損失を低減することができる。
【００８１】
また、カラーフィルタ層と対向基板との間またはカラーフィルタ層と対向電極との間に各着色層の層厚の違いを調整する絶縁層を形成してもよい。すなわち、着色層は、その色表示の再現性を向上させることを目的として、透過光の波長帯域に応じて色表示の再現性がより高められる層厚に設定されることがある。このため、透過光の波長帯域に応じて層厚がそれぞれ異なることになる。そこで、着色層に隣接して透光性材料で構成された絶縁層を形成することで着色層と絶縁層とを合わせた層厚を各着色層で最適化することができる。ここで、上述した画素電極及び対向電極と同様に、各絶縁層の層厚を対応して設けられている着色層の透過光の波長帯域に応じて設定することが望ましい。このようにすることとで、各絶縁層に対応して設けられた着色層を透過する光の損失や色のずれを抑制できる。
【００８２】
同様に、ＴＦＴ基板上に形成された配向膜または対向基板上に形成された配向膜あるいはその双方の膜厚を、上述した画素電極及び対向電極と同様に、対応して設けられている着色層の透過光の波長帯域に応じて調整してもよい。このようにすることで、上述と同様に、配向膜を透過する光の損失や色のずれを抑制できる。
【００８３】
また、対向基板に設けられた隔壁が導電性を有する感光性樹脂材料で構成されているが、各対向電極の間で隔壁を介して導通が確保されていればよく、絶縁性材料で構成された層と導電性材料で構成された層とを積層し、この導電性材料で構成された層によって各対向電極の導通を図る構成としてもよい。ここで、隔壁を、絶縁材料で構成された層と導電性材料で構成された層とを交互に複数積層した構成としてもよい。
【００８４】
また、対向基板に設けられた隔壁が導電性を有しており、各対向電極がこの隔壁を介して互いに導通しているが、各対向電極の電位をそれぞれ制御可能な構成とすれば、この隔壁を絶縁性材料で形成し、導電性を有しない構成としてもよい。
【００８５】
また、各着色層をフォトリソグラフィ技術を用いて形成しているが、画素電極や対向電極と同様に、液滴吐出法を用いて形成してもよい。このとき、対向基板上に形成された隔壁で区画された画素領域に各着色層を形成する着色層形成材料液の液滴を滴下し、これを乾燥させることで着色層を形成する。
【００８６】
また、カラーフィルタ層が赤色光、緑色光及び青色光の３色をそれぞれ透過させる着色層を備えており、３色でカラー表示を行っているが、他の３色によってカラー表示を行う構成としてもよく、これにシアン色光を透過させる着色層を加えた４色でカラー表示を行う構成としてもよい。また、少なくとも２色の光をそれぞれ透過させる着色層を備えていればよく、カラー表示に限らない。
【００８７】
また、電気光学装置として液晶装置を用いて説明しているが、カラーフィルタ層を透過させてカラー表示を行う電気光学装置であれば、例えば有機ＥＬ装置など、他の電気光学装置であってもよい。ここで、有機ＥＬ装置を用いる場合には、電気光学層として電圧を印加することによって白色に発光する発光機能層を用い、発光した白色光をカラーフィルタ層を透過させることで、赤色光、緑色光及び青色光によるカラー表示を行うことができる。
【００８８】
また、液晶装置を有する電子機器として携帯電話機について説明したが、液晶装置などの電気光学装置を備えていれば、携帯電話機に限らず、他の電子機器に適用してもよい。ここで、適用可能な電子機器としては、ノート型パーソナルコンピュータやＰＤＡ（Personal Digital Assistant：携帯情報端末機）、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、カーナビゲーション装置、デジタルビデオカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ページャ、電子手帳、電卓、電子ブックやプロジェクタ、ワードプロセッサ、テレビ電話機、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備える機器などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】本発明の一実施形態における液晶装置を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図３】図２の部分拡大図である。
【図４】図１の等価回路図である。
【図５】一実施形態における液晶装置の製造工程を示す断面図である。
【図６】同じく、液晶装置の製造工程を示す断面図である。
【図７】図１の露光ヘッドを備える光プリンタを示す斜視図である。
【符号の説明】
【００９０】
１  液晶装置、１１  ＴＦＴ基板（他の基板）、１２  対向基板（基板）、１４  液晶層（電気光学層）、２１，２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂ  画素電極（第２電極）、２５  隔壁（他の隔壁）、４１  隔壁、４２  カラーフィルタ層、４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂ  着色層、４３，４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂ  対向電極（第１電極）、２６，４４  配向膜、５１  対向電極形成材料液（電極形成材料液）、５２  画素電極形成材料液（他の電極形成材料液）
【図１】
2007328141.tif 000003
【図２】
2007328141.tif 000004
【図３】
2007328141.tif 000005
【図４】
2007328141.tif 000006
【図５】
2007328141.tif 000007
【図６】
2007328141.tif 000008
【図７】
2007328141.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成19年8月10日(2007.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２電極の間に電気光学層を介在させ、平面状に配置された複数の画素領域を有し、該複数の画素領域のそれぞれに対応して設けられた着色層を透過させて表示を行う電気光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記画素領域を区画する隔壁を形成する隔壁形成工程と、
前記隔壁で区画された領域にそれぞれ前記着色層を形成するカラーフィルタ層形成工程と、
前記隔壁で区画された領域に、それぞれ電極形成材料液を塗布して前記第１電極を形成する第１電極形成工程とを備え、
該第１電極形成工程で、前記第１電極の層厚を、対応して設けられる前記着色層を透過する光の波長帯域に応じて設定することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記隔壁が導電性を有しており、該隔壁を介して前記第１電極を互いに導通させることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１電極形成工程で、前記電極形成材料液を液滴吐出法により塗布することを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
他の基板上に、該他の基板表面を前記画素と対応して区画する他の隔壁を形成する他の隔壁形成工程と、
前記他の隔壁で区画された領域にそれぞれ他の電極形成材料液を塗布、乾燥させて前記第２電極を形成する第２電極形成工程とを備え、
該第２電極形成工程で、前記第２電極の層厚を、対応して設けられる前記着色層の透過光の波長帯域に応じて設定することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記第２電極形成工程で、前記他の電極形成材料液を液滴吐出法により塗布することを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記カラーフィルタ層形成工程が、前記着色層に隣接して絶縁層を形成する絶縁層形成工程を有し、
該絶縁層形成工程で、前記絶縁層の層厚を、対応して設けられる前記着色層を透過する光の波長帯域に応じて設定することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記電気光学層が、液晶層を構成し、
前記第１電極の上面に、配向膜を形成する配向膜形成工程を有し、
該配向膜形成工程で、前記配向膜の膜厚を、対応して設けられる前記着色層を透過する光の波長帯域に応じて設定することを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
第１及び第２電極の間に電気光学層を介在させ、平面状に配置された複数の画素に応じて設けられた複数の着色層を有するカラーフィルタ層を備える電気光学装置において、
基板上に形成されて該基板表面を区画する隔壁を有し、
該隔壁に区画された領域それぞれに、着色層と前記第１電極とが積層され、
前記第１電極の層厚が、対応して設けられた前記着色層を透過する光の波長帯域に応じて設定されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
前記隔壁が導電性を有しており、前記第１電極が前記隔壁を介して互いに導通していることを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、本発明にかかる電気光学装置の製造方法は、第１及び第２電極の間に電気光学層を介在させ、平面状に配置された複数の画素領域を有し、該複数の画素領域のそれぞれに対応して設けられた着色層を透過させて表示を行う電気光学装置の製造方法であって、基板上に、前記画素領域を区画する隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁で区画された領域にそれぞれ前記着色層を形成するカラーフィルタ層形成工程と、前記隔壁で区画された領域に、それぞれ電極形成材料液を塗布して前記第１電極を形成する第１電極形成工程とを備え、該第１電極形成工程で、前記第１電極の層厚を、対応して設けられる前記着色層を透過する光の波長帯域に応じて設定することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明にかかる電気光学装置は、第１及び第２電極の間に電気光学層を介在させ、平面状に配置された複数の画素に応じて設けられた複数の着色層を有するカラーフィルタ層を備える電気光学装置において、基板上に形成されて該基板表面を区画する隔壁を有し、該隔壁に区画された領域それぞれに、着色層と前記第１電極とが積層され、前記第１電極の層厚が、対応して設けられた前記着色層を透過する光の波長帯域に応じて設定されていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
すなわち、基板上に隔壁を形成して画素領域を区画した後、各画素領域に電極形成材料液を塗布しこれを乾燥させることで析出された電極形成材料によって第１電極を形成する。ここで、第１電極の層厚をそれぞれ対応して設けられた着色層の透過光の波長帯域に応じた値とすることで、着色層を透過する波長帯の光に対して第１電極内における光損失を抑制できる。例えば、第１電極に入射した光のうち着色層を透過する波長帯の光に対して、第１電極内において第１電極の入射面から出射面に向かう透過光と出射面及び入射面で反射して出射面に向かう反射光とが互いに強めあうように各第１電極の層厚を設定することで、着色層を透過する波長帯の光に対する第１電極の光損失が低減される。これにより、画素ごとの輝度のズレが抑制できる。
また、着色層、第１電極の順で基板上に積層し、最上面の第１電極と第２電極とで介在された電気光学層に電圧を印加して画像の表示を行う。