(57)【要約】【課題】マルチビーム走査において、複数の偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出する。【解決手段】マルチビーム走査装置は、被走査面２０の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段２２，２４を有し、複数の光ビームを放射する光源装置１０が、Ｎ個の半導体レーザ１ａ〜１ｃ及び、これらと１：１に対応するＮ個のカップリングレンズ２ａ〜２ｃとを有し、カップリングレンズは同一の構成で、主走査方向に関して光軸を互いに非平行にされる。同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する任意の２つの偏向光ビームをＢi，Ｂi＋1（ｉ＝１〜Ｎ−１）、ビームＢi，Ｂi＋1を放射する半導体レーザに対応するカップリングレンズの光軸が主走査方向になす角：φiを、ビームＢi、Ｂi＋1の主走査方向の間隔が、同期光検出手段の分解能：Δ以上となるように設定し、各偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できるように構成されている。【選択図】図１
2007188092.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、上記被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、
各偏向光ビームによる走査開始の同期をとるために、被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段を有し、
複数の光ビームを放射する光源装置が、
Ｎ（≧２）個の半導体レーザ及び、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するＮ個のカップリングレンズとを、少なくとも有し、
上記Ｎ個のカップリングレンズは同一の構成で、光軸を主走査方向に関して互いに非平行にされ、
同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する任意の２つの偏向光ビームをＢi、Ｂi+1（ｉ＝１〜Ｎ−１）とするとき、これらビームＢi、Ｂi+1を放射する半導体レーザに対応するカップリングレンズの光軸が主走査方向になす角：φiを、上記ビームＢi、Ｂi+1の主走査方向の間隔が、上記同期光検出手段の分解能：Δ以上となるように設定し、上記各偏向光ビームを上記同期光検出手段により個別的に検出できるように構成したことを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項２】
光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、上記被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、
各偏向光ビームによる走査開始の同期をとるために、被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段を有し、
複数の光ビームを放射する光源装置が、
ｎ（≧２）個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するｎ個のカップリングレンズと、上記ｎ個の半導体レーザ及びｎ個のカップリングレンズを、上記ｎ個のカップリングレンズの光軸が主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する第１光源部と、
ｍ（≧２）個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するｍ個のカップリングレンズと、上記ｍ個の半導体レーザ及びｍ個のカップリングレンズを、上記ｍ個のカップリングレンズの光軸が主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する第２光源部と、
上記第１光源部から放射されるｎ本の光ビームと、上記第２光源部から放射されるｍ本の光ビームを互いに近接する光ビームとして合成するビーム合成手段とを有し、
上記第１および第２光源部における各カップリングレンズの光軸方向、第１及び第２光源部と上記ビーム合成手段の相互の位置関係を、互いに隣接する偏向光ビームが主走査方向に、互いに上記同期光検出手段の分解能：Δ以上の距離分離するように設定し、上記各偏向光ビームを上記同期光検出手段により個別的に検出できるように構成したことを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項３】
請求項２記載のマルチビーム走査装置において、
ｎ＝ｍで、第１光源部と第２光源部が同一構成のものであることを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項４】
請求項３記載のマルチビーム走査装置において、
光源装置における各半導体レーザの発光部が、対応するカップリングレンズの光軸上に配備されることを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項５】
請求項３記載のマルチビーム走査装置において、
ｎ＝ｍ＝２であることを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項６】
請求項１記載のマルチビーム走査装置において、
Ｎ（≧２）個の半導体レーザのうち、少なくともＰ（２≦Ｐ≦Ｎ）個の発光部が、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずれていることを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項７】
請求項２記載のマルチビーム走査装置において、
ｎ＋ｍ個の半導体レーザのうち、少なくともＰ（２≦Ｐ≦ｎ＋ｍ）個の発光部が、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずれていることを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項８】
請求項７記載のマルチビーム走査装置において、
ｎ＝ｍで、第１光源部と第２光源部が同一構成のものであることを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項９】
請求項８記載のマルチビーム走査装置において、
ｎ＝ｍ＝２であることを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項１０】
請求項１〜９の任意の１に記載のマルチビーム走査装置において、
光源装置から放射される複数の光ビームが、光偏向器の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、
上記複数の光ビームが、上記偏向反射面の近傍において、主走査方向に交叉するように、上記光源装置が構成されたことを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０の任意の１に記載のマルチビーム走査装置において、
光源装置から放射される複数の光ビームが、光偏向器の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、
光源装置と光偏向器との間に、光源装置からの複数の光ビームを、上記偏向反射面の近傍に、互いに副走査方向に分離した主走査方向に長い線像として結像させる線像結像光学系を有し、
上記走査結像光学系が、上記偏向反射面位置と被走査面位置とを、副走査方向において幾何光学的な共役関係とするアナモフィックなものであることを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項１２】
マルチビーム走査装置に用いられる光源装置であって、
請求項１〜１１の任意の１に記載された構成を有することを特徴とする光源装置。
【請求項１３】
光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、上記被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査方法であって、
請求項１〜１０の任意の１に記載のマルチビーム走査装置を用いて行うことを特徴とするマルチビーム走査方法。
【請求項１４】
光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、上記被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査方法であって、
請求項１１記載のマルチビーム走査装置を用いて行うことを特徴とするマルチビーム走査方法。
【請求項１５】
潜像担持体に光走査により潜像を形成し、上記潜像を可視化して所望の記録画像を得る画像形成装置において、
潜像担持体を光走査する光走査装置として、請求項１〜１０の任意の１に記載のマルチビーム走査装置を用いることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１６】
潜像担持体に光走査により潜像を形成し、上記潜像を可視化して所望の記録画像を得る画像形成装置において、
潜像担持体を光走査する光走査装置として、請求項１１記載のマルチビーム走査装置を用いることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１７】
請求項１５または１６記載の画像形成装置において、
潜像担持体が、光導電性の感光体であり、その均一帯電と光走査とにより静電潜像が形成され、形成された静電潜像をトナー画像として可視化することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、マルチビーム走査装置・マルチビーム走査方法・光源装置・画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、共通の走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、上記被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置は、従来から種々のものが提案され、光走査の高能率化の観点から、近来、その実現が意図されている。  
マルチビーム走査を行うには複数の光ビームが必要であり、この光ビーム数に対応する数の発光部を光源装置に必要とする。  
このような複数の発光部としては、半導体レーザアレイを用いることもできるし、複数の独立した半導体レーザを用いることもできる。  
半導体レーザアレイは、アレイ配列した各発光部が互いに近接しているので、隣接する発光部の発光強度が互いに影響し合う所謂「クロストーク」の問題があるため、高精度の光量制御を行うことが難しい。  
独立した複数の半導体レーザを発光部とする場合にはクロストークの問題はなく、個々の半導体レーザの光量制御を高精度に行うことができる。  
マルチビーム走査の場合、被走査面の複数ラインが同時に走査されるので「偏向光ビームごとの走査開始位置」を揃える必要がある。これを行うのに、複数の偏向光ビームが形成する光スポットが「副走査方向へ１列に配列する」ようにし、光スポットの任意の１を「走査開始用の同期光検出手段」により検出し、全ての光スポットに対して同一の同期制御を行う方法が考えられる。
【０００３】
複数の光スポットが主走査方向に分離している場合は、「隣接する光スポット間の主走査方向の分離量」を予め設計条件として定めておき、最先に走査を開始する光スポットを上記同期光検出手段で検出し、検出信号に基づき「最先に走査を開始する光スポット」の走査開始の同期を取り、以下、後続する光スポットと「最先に走査を開始する光スポット」との、主走査方向の分離量に応じた遅延時間により、後続する光スポットの走査開始の同期信号を逐次に発生させる方法がある。  
光源装置の発光部として「独立した複数の半導体レーザ」を用いる場合、機械的振動や環境変動に伴い、光学系の機械的精度が経時的に劣化して、光スポット相互の位置関係が経時的に変動すると、上述「光スポットの１つを基準として他の光スポットの走査開始の同期を取る方法」では、光スポット間の走査開始位置に経時的に「ずれ」を生じて書込まれる画像を劣化させる問題が考えられる。  
従って、このような問題を回避するには、特許文献１に開示されている発明のように、複数の光スポットを主走査方向に分離して、個々の光スポットを個別的に検出し、複数の光スポットに対して個別的に走査開始の同期を取るようにするのが良い。
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１７９２２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
この発明は、マルチビーム走査において、光源装置の発光部として、独立した複数の半導体レーザを用いる場合に、複数の偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できる、新規なマルチビーム走査装置およびマルチビーム走査方法、上記マルチビーム走査装置に用いられる新規な光源装置、上記マルチビーム走査装置を用いる新規な画像形成装置の実現を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明のマルチビーム走査装置は基本的に「光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置」であって、各偏向光ビームによる走査開始の同期をとるために「被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段」を有する。  
複数の偏向光ビームを被走査面に向かって集光し、光スポットを形成させるための「走査結像光学系」は、１枚のレンズで構成することも、２枚以上のレンズで構成することもでき、１枚以上のレンズと「結像機能を持つ１以上のミラー」を含む構成とすることもできる。  
同期光検出手段は、上記の如く、被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する。従って、同期光検出手段は「受光手段」を有し、受光手段により偏向光ビームを受光して受光信号を発生する。受光手段の受光面は、例えば「被走査面と等価で、上記走査領域へ向かう光ビームを受光できる位置」に配備される。被走査面と等価な位置とは「受光面に受光される光ビームが、少なくとも主走査方向において、受光面上に実質的に集光するような位置」である。
【０００７】
例えば、上記被走査面と等価な位置に受光面を配置し「走査結像光学系を通過した光ビーム」が受光面に入射するようにすれば、受光面上には被走査面におけると同様の光スポットが形成される。  
走査結像光学系はしばしば、最も被走査面に近い位置に「回転多面鏡の面倒れや像面湾曲を補正するために、主走査方向に実質的にパワーを持たない長尺のトロイダルレンズやシリンドリカルレンズ」を有する。このような場合、長尺のトロイダルレンズやシリンドリカルレンズは主走査方向に実質的なパワーを持たないので、光スポットは、主走査方向に関しては、走査結像光学系のうち「上記トロイダルレンズやシリンドリカルレンズを除く部分」により形成されることになる。  
このような場合、被走査面と等価な位置に同期光検出手段の受光面をおき、走査結像光学系のうち「上記トロイダルレンズやシリンドリカルレンズを除いた部分を通過した偏向光ビーム」を受光面で受光するようにすると、受光面上に形成されるのは「主走査方向に光スポットと同等の幅を持ち、副走査方向には長い長円形状のスポット」になるが、このようなスポットでも同期光として用いるのに十分である。この場合、上記受光面の近傍にシリンドリカルレンズを配して、光ビームを受光面上に、副走査方向においても集光させることもできる。  
勿論、走査領域へ向かって偏向する光ビームを、走査結像光学系を介することなく、専用の光学系により、同期光検出手段の受光手段の受光面上に「少なくとも主走査方向に集光させる」ように構成してもよい。
【０００８】
請求項１以下の発明を説明するのに先立ち、マルチビーム走査装置の参考例をいくつか説明する。
第１の参考例（以下、参考例１という。）のマルチビーム走査装置は、複数の光ビームを放射する光源装置が、Ｎ（≧２）個の半導体レーザ及び、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するＮ個のカップリングレンズとを少なくとも有する。  
上記Ｎ個のカップリングレンズは、同一の構成で、光軸を、主走査方向に関して平行にされる。即ち、Ｎ個のカップリングレンズの光軸は、これらを副走査方向から見ると互いに平行である。  
同期光検出手段の上記受光面位置において、互いに隣接する任意の２つの偏向光ビームをＢi、Ｂi＋1（ｉ＝１〜Ｎ−１）とする。これらビームＢi、Ｂi＋1を放射する半導体レーザの発光部は、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向に、ずれ量：ζi，ζi＋1だけずらされている。各半導体レーザと上記受光面位置との間に配置される光学系の主走査方向の横倍率をＭ（主）とするとき、同期光検出手段の分解能：Δに対し上記ずれ量：ζi，ζi＋1は、
Δ≦Ｍ（主）・｜ζi−ζi＋1｜
を満足するように設定され、各偏向光ビームは同期光検出手段により個別的に検出可能である。  
上記ずれ量：ζi，ζi＋1（ｉ＝１〜Ｎ−１）のうちには「０であるもの」が含まれていてもよい。  
「同期検出手段の分解能：Δ」は、同期光検出手段が、主走査方向に隣接した２つの偏向光ビームを「別個の光ビームとして分離して検出できる」ために、上記２つの偏向光ビームに要求される「受光面上における主走査方向の分離量の限界」を言う。この分解能は、典型的な受光手段であるフォトセンサで０．５ｍｍ程度である。
【０００９】
第２の参考例（以下、参考例２とう。）のマルチビーム走査装置は、複数の光ビームを放射する光源装置が、第１光源部、第２光源部およびビーム合成手段を有する。  
「第１光源部」は、ｎ（≧２）個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するｎ個のカップリングレンズと、これらｎ個の半導体レーザおよびｎ個のカップリングレンズを、ｎ個のカップリングレンズの光軸を主走査方向に関して互いに平行にして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する。  
「第２光源部」は、ｍ（≧２）個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するｍ個のカップリングレンズと、これらｍ個の半導体レーザおよびｍ個のカップリングレンズを、ｍ個のカップリングレンズの光軸を主走査方向に関して互いに平行にして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する。  
「ビーム合成手段」は、第１光源部から放射されるｎ本の光ビームと、第２光源部から放射されるｍ本の光ビームを、互いに近接する光ビームとして合成する手段である。  
第１光源部における任意の半導体レーザの発光部の、対応するカップリングレンズの光軸からの主走査方向のずれ量：ζi（ｉ＝１〜ｎ）と、第２光源部における任意の半導体レーザの発光部の、対応するカップリングレンズの光軸からの主走査方向のずれ量：ζk（ｋ＝１〜ｍ）と、第１及び第２光源部とビーム合成手段の位置関係とが、「同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する偏向光ビームが、主走査方向に互いに上記分解能：Δ以上の距離分離する」ように設定され、各偏向光ビームは同期光検出手段により個別的に検出可能である。
【００１０】
この参考例２のマルチビーム走査装置でｎ＝ｍとし、第１光源部と第２光源部を同一構造のものとすることができ、この場合「光源装置の第１、第２光源部における各半導体レーザを、対応する保持体の保持孔に圧入固定し、各カップリングレンズを対応する保持体に接着樹脂により固定し、上記接着樹脂により、対応する半導体レーザの発光部に対する光軸位置を調整する」ように構成できる。また、この場合、ｎ＝ｍ＝２とすることができる。上記「接着樹脂」としては例えば「紫外線硬化樹脂」を用いることができる。  
カップリングレンズを保持体に固定するのに接着樹脂を用い、接着樹脂（の量等）により、半導体レーザの発光部に対する光軸位置を調整する場合、接着樹脂は「温度や湿度の変動」により体積変化を生じるので、上記発光部とカップリングレンズ光軸との相対的な関係が環境変化により変動する。このような場合、１個の光スポットのみを同期光検出手段で検出し、この光スポットを基準として、他の光スポットの走査開始位置の同期を固定的に制御すると、前述した「光スポット間の走査開始位置の経時的なずれ」を発生する虞があるが、同期光検出手段により「光ビームを個別的に検出」すれば、光ビームごとに走査開始の適正なタイミングを与えることができる。
【００１１】
請求項１記載のマルチビーム走査装置は、以下の如き特徴を有する。  
即ち、複数の光ビームを放射する光源装置が、Ｎ（≧２）個の半導体レーザ及び、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するＮ個のカップリングレンズとを、少なくとも有する。  
Ｎ個のカップリングレンズは同一の構成で「光軸を主走査方向に関して互いに非平行」にされる。  
同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する任意の２つの偏向光ビームをＢi、Ｂi＋1（ｉ＝１〜Ｎ−１）とするとき、これらビームＢi、Ｂi＋1を放射する半導体レーザに対応するカップリングレンズの光軸が主走査方向になす角：φiは、ビームＢi、Ｂi＋1の主走査方向の間隔が、前述の同期光検出手段の分解能：Δ以上となるように設定される。従って、各偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できる。  
請求項２記載のマルチビーム走査装置は、以下の如き特徴を有する。  
即ち、複数の光ビームを放射する光源装置が、第１光源部、第２光源部およびビーム合成手段を有する。  
「第１光源部」は、ｎ（≧２）個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するｎ個のカップリングレンズと、ｎ個の半導体レーザ及びｎ個のカップリングレンズを、ｎ個のカップリングレンズの光軸が、主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する。
【００１２】
「第２光源部」は、ｍ（≧２）個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するｍ個のカップリングレンズと、ｍ個の半導体レーザ及びｍ個のカップリングレンズを、ｍ個のカップリングレンズの光軸が、主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する。  
「ビーム合成手段」は、第１光源部から放射されるｎ本の光ビームと、第２光源部から放射されるｍ本の光ビームを互いに近接する光ビームとして合成する手段である。  
そして、第１および第２光源部における各カップリングレンズの光軸方向、第１及び第２光源部とビーム合成手段の相互の位置関係が「互いに隣接する偏向光ビームが主走査方向に互いに、前記分解能：Δ以上の距離分離する」ように設定される。従って、各偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できる。  
この請求項２記載のマルチビーム走査装置において、ｎ＝ｍとし、第１光源部と第２光源部を同一構成のものとすることができる（請求項３）。  
請求項３記載のマルチビーム走査装置においては、光源装置における各半導体レーザの発光部を、対応するカップリングレンズの光軸上に配備することができる（請求項４）。また、請求項３記載のマルチビーム走査装置において、ｎ＝ｍ＝２とすることができる（請求項５）。  
上述の請求項１記載のマルチビーム走査装置においては、Ｎ（≧２）個の半導体レーザのうち、少なくともＰ（２≦Ｐ≦Ｎ）個の発光部を、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずらして配置することができる（請求項６）。  
請求項２記載のマルチビーム走査装置においては、ｎ＋ｍ個の半導体レーザのうち、少なくともＰ（２≦Ｐ≦ｎ＋ｍ）個の発光部を、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずらして配置することができる（請求項７）。この場合に、ｎ＝ｍとし、第１光源部と第２光源部を同一構成のものとすることができる（請求項８）。この請求項８記載のマルチビーム走査装置において、ｎ＝ｍ＝２とすることができる（請求項９）。
【００１３】
請求項１０記載のマルチビーム走査装置は、上記請求項１〜９の任意の１に記載のマルチビーム走査装置において、光源装置から放射される複数の光ビームが、光偏向器の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、上記複数の光ビームが上記偏向反射面の近傍において、主走査方向に交叉するように光源装置が構成されたことを特徴とする。  請求項１１記載のマルチビーム走査装置は、上記請求項１〜１０の任意の１に記載のマルチビーム走査装置において、光源装置から放射される複数の光ビームが、光偏向器の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、光源装置と光偏向器との間に、光源装置からの複数の光ビームを、上記偏向反射面の近傍に、互いに副走査方向に分離した「主走査方向に長い線像」として結像させる線像結像光学系を有し、走査結像光学系が、偏向反射面位置と被走査面位置とを、副走査方向において幾何光学的な共役関係とするアナモフィックなものであることを特徴とする。マルチビーム走査装置を、このような構成とすることにより、偏向反射面の面倒れを補正することができる。  
この発明の「光源装置」は、マルチビーム走査装置に用いられる光源装置であって、請求項１〜１１の任意の１に記載された構成を有することを特徴とする（請求項１２）。
この発明の「マルチビーム走査方法」は、光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査方法である。
【００１４】
請求項１３記載のマルチビーム走査方法は、上記請求項１〜１０の任意の１に記載のマルチビーム走査装置を用いて行うことを特徴とする。また、請求項１４記載のマルチビーム走査方法は、上記請求項１１記載のマルチビーム走査装置を用いて行うことを特徴とする。  
この発明の画像形成装置は「潜像担持体に光走査により潜像を形成し、この潜像を可視化して所望の記録画像を得る画像形成装置」である。  
請求項１５記載の画像形成装置は、潜像担持体を光走査する光走査装置として、上記請求項１〜１０の任意の１に記載のマルチビーム走査装置を用いることを特徴とし、請求項１６記載の画像形成装置は、潜像担持体を光走査する光走査装置として、請求項１１記載のマルチビーム走査装置を用いることを特徴とする。
上記請求項１５または１６記載の画像形成装置において、潜像担持体を光導電性の感光体とし、その均一帯電と光走査とにより静電潜像を形成し、形成された静電潜像をトナー画像として可視化するように構成することができる（請求項１７）。トナー画像は、シート状の記録媒体（転写紙やオーバヘッドプロジェクタ用のプラスチックシート）に定着される。  
請求項１５または１６記載の画像形成装置では、感光媒体として、例えば銀塩写真フィルムを用いることもできる。この場合、マルチビーム走査装置による光走査で形成された潜像は、通常の銀塩写真プロセスの現像手法で可視化できる。
このような画像形成装置は例えば「光製版装置」として実施できる。  
また請求項１７記載の画像形成装置は、具体的にはレーザプリンタやレーザプロッタ、デジタル複写機、ファクシミリ装置等として実施できる。  
上に説明したように、マルチビーム走査装置では、複数の光スポットは、被走査面上において、互いに副走査方向に分離していなくてはならない。複数の光スポットを被走査面上において、副走査方向に分離するには種々の方法が可能である。  
上に説明した各マルチビーム走査装置におけるように、光源装置が複数の半導体レーザと、これら半導体レーザに１：１に対応する複数のカップリングレンズとを有する場合、例えば、カップリングレンズの光軸に対し、対応する半導体レーザの発光部を副走査方向にずらし、半導体レーザとカップリングレンズとの対ごとの「カップリングレンズ光軸に対する発光部の副走査方向へのずれ量」を調整することによって、光スポットが互いに副走査方向に分離するようにしてもよいし、個々のカップリングレンズの光軸が、副走査方向において互いに微小角をなすようにし、各光軸が副走査方向になす角を調整することによって、光スポットが互いに副走査方向に分離するようにすることもでき、あるいは、上記光軸の方向と「発光部の光軸からの副走査方向のずれ量」とを調整することによって、
光スポットが互いに副走査方向に分離するようにしてもよい。
【００１５】
なお、上の説明におけるカップリングレンズのカップリング作用は、対応する半導体レーザの発光部からの発散性の光束を、平行ビームとする作用でも良いし、発散性もしくは集束性の光ビームとする作用でもよい。
【発明の効果】
【００１６】
以上に説明したように、この発明によれば、新規なマルチビーム走査装置・マルチビーム走査方法・光源装置・画像形成装置を実現できる。  
この発明のマルチビーム走査装置・マルチビーム走査方法では、被走査面を同時走査するべく走査領域へ向かう複数の偏向光ビームを、同期光検出手段により個別的に検出できるので、走査開始のタイミングを各偏向光ビームごとに独立して設定でき、同時走査により書込まれる画像の書込み開始位置を全偏向光ビームに対して揃えることができるので、極めて良好な画像書込みを実現できる。  
また、この発明の光源装置は、同時に走査される複数の偏向光ビームを、走査領域へ向かう途上で個別的に検出できるように、主走査方向に分離するので、上記良好な画像書込みを可能ならしめることができる。また、この発明の画像形成装置は、上記マルチビーム走査装置を用いて画像書込みを行うので、高速且つ良好な画像形成が可能である。  
また、請求項３、５記載のマルチビーム走査装置のように、光源装置に用いる第１、第２光源部を同一構造のものとすることにより、部品の共通化により、光源装置の低コスト化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
先に説明した参考例１のマルチビーム走査装置の例に即して、マルチビーム走査を説明する。図１（ａ）に示したマルチビーム走査装置の構成は、上記参考例１、２やこの発明のマルチビーム走査装置の基本的な構成の１例である。
図１（ａ）において、符号１０で示す光源装置からは、３本の光ビームが放射される（図の繁雑化を避けるため、光源装置１０から放射される光ビームの１本のみを描いている）。放射された各光ビーム（実質的な平行ビームである）は、線像結像光学系としてのシリンドリカルレンズ１２に入射する。シリンドリカルレンズ１２は副走査方向にのみ正のパワーを有し、入射してくる３本の光ビームを副走査方向にのみ集束させ、光偏向器としての回転多面鏡１４の偏向反射面の近傍に、主走査方向に長い線像として結像させる。線像は、各光ビームごとに結像され、各線像は副走査方向に互いに分離している。  
図示されないモータにより回転多面鏡１４が矢印方向に等速回転されると、偏向反射面で反射された３本の光ビームは、それぞれ偏向光ビームとなって等角速度的に偏向する。
各偏向光ビームは、偏向しつつ走査結像光学系としてのｆθレンズ１６に入射し、ｆθレンズ１６を透過すると、長尺平面鏡である折り返しミラー１８により反射されて光路を屈曲され、被走査面の実体をなす感光体２０の周面上に、ｆθレンズ１６の作用により光スポットとして集光する。  
被走査面上に形成される３個の光スポットは、互いに副走査方向に分離しており、図に示す如く、１度に被走査面の３ラインを同時に走査する。  
折り返しミラー１８の長手方向の「走査開始側端部」近傍に平面鏡２２が配置されている。平面鏡２２の配置されている部位は、偏向光ビームが被走査面の有効走査領域を走査するに必要な有効偏向領域外である。平面鏡２２により反射された偏向光ビームは同期光検出のための受光手段であるフォトセンサ２４に入射する。即ち、各偏向光ビームは、偏向しつつ被走査面の走査領域へ向かう途上において、先ず平面鏡２２に入射して反射され、フォトセンサ２４に入射して受光される。フォトセンサ２４の受光面は「光学的に被走査面と等価な位置」に配置されている。平面鏡２２に入射する各偏向光ビームはfθレンズ１６の光学作用を受けているので、各偏向光ビームは、フォトセンサ２４の受光面上に被走査面におけると同様の光スポットとして集光する。  
この装置例において、平面鏡２２とフォトセンサ２４とは「同期光検出手段」を構成している。フォトセンサ２４の受光面の受光領域は、主走査方向に分解能：Δ（例えば０．５ｍｍ）を有するような大きさを有している。
【００１８】
図１（ｂ）は、図１（ａ）における光源装置１０の１例の要部を、説明図的に示している。光源装置１０の要部は、光源として３個の半導体レーザ１ａ、１ｂ、１ｃと、これら半導体レーザに１：１に対応するカップリングレンズ２ａ、２ｂ、２ｃとを有している。これら半導体レーザ１ａ〜１ｃとカップリングレンズ２ａ〜２ｃとは、相互の位置関係を定められて、図示されない適宜の保持手段により一体に保持されている。  
半導体レーザ１ａ〜１ｃおよびカップリングレンズ２ａ〜２ｃは、同一構成のものであり、それぞれ、大略主走査方向に配列されている。また、カップリングレンズ２ａ〜２ｃは、対応する半導体レーザ１ａ〜１ｃの各発光部からの発散性の光束を「実質的な平行ビーム」に変換する。  
即ち、各半導体レーザの発光部は、実質的に、対応するカップリングレンズの焦点面上に位置される。  
図１（ｃ）は、カップリングレンズ２ａ〜２ｃが主走査方向に配列した状態を示している。各カップリングレンズの中心部に描かれた「＋印」は、光軸位置を示している。カップリングレンズ２ａ〜２ｃの各光軸は互いに平行であり、図１（ｃ）において図面に直交する方向である。符号Ｈａ、Ｈｂ、Ｈｃは、カップリングレンズ２ａ、２ｂ、２ｃにそれぞれ対応する半導体レーザ１ａ、１ｂ、１ｃの発光部を表している。  
発光部Ｈｂはカップリングレンズ２ｂの光軸上に位置する。これに対し、発光部Ｈａは、カップリングレンズ１ａの光軸から主走査方向に「ζａ」、副走査方向に「ξａ」だけずれている。同様に、発光部Ｈｃは、カップリングレンズ１ｃの光軸から主走査方向に「ζｃ」、副走査方向に「ξｃ」だけずれている。このような発光部と光軸との位置関係は冶具を用いて精度良く設定される。  
図１（ｄ）は、各発光部Ｈａ、Ｈｂ，Ｈｃから放射された光束の主光線の挙動を示している。  
発光部Ｈｂはカップリングレンズ２ｂの光軸上（の焦点位置）に位置するので、発光部Ｈｂから放射された光束は、カップリングレンズ２ｂにより平行ビーム化され、主光線はカップリングレンズ２ｂの光軸に合致して進行する。  
これに対し、発光部Ｈａ、Ｈｃは、対応するカップリングレンズ２ａ、２ｃの光軸からずれているため、これら発光部からの光束は、対応するカップリングレンズにより平行ビーム化されるが、主光線の方向は、図中に実線で示されたように、カップリングレンズにより屈折される。このためカップリングレンズ２ａ、２ｃにより平行ビーム化された光ビームの主光線の方向は、カップリングレンズ２ａ、２ｃの光軸に対して傾きを持つことになる。
【００１９】
光源装置１０から放射された３本の光ビームは、前述のごとくして被走査面上およびフォトセンサ２４の受光面上に光スポットを形成する。  
図１（ｅ）は、フォトセンサ２４の受光面上における光スポットの様子を、説明図として示している。被走査面上に形成される光スポットの様子もこれと同様である。  
図１（ｅ）において、符号Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃで示す「光スポット」は、それぞれ半導体レーザ１ａ、１ｂ、１ｃから放射された光ビームにより形成されたものである。これら光スポットＳａ、Ｓｂ、Ｓｃは光学的には、カップリングレンズ２ａ、２ｂ、２ｃとシリンドリカルレンズ１２、ｆθレンズ１６とによる、発光部Ｈａ、Ｈｂ，Ｈｃの像である。なお、各光スポットは、光源と光偏向器との間の適宜の位置に配置されるビーム整形用アパーチュアの「開口部の大きさ」の調整により、副走査方向にやや長い「楕円形状」にされている。  
図１（ｅ）に示すように、光スポットＳｂを中心として、光スポットＳａは主走査方向に「δａｂ」だけずれ、副走査方向に「ηａｂ」だけずれ、光スポットＳｃは、主走査方向に「δｂｃ」だけずれ、副走査方向に「ηｂｃ」だけずれている。  
カップリングレンズ２ａ〜２ｃ（前述の如くこれらは光学的に等価なものである）とシリンドリカルレンズ１２、ｆθレンズ１６との「合成光学系」を考えてみると、この合成光学系は主走査方向と副走査方向のパワーの異なるアナモフィックな光学系であり、結像の横倍率を主走査方向につきＭ（主）、副走査方向につきＭ（副）とすると、上述のδａｂ、δｂｃ、ηａｂ、ηｂｃは、それぞれ、
δａｂ＝Ｍ（主）・ζａ、δｂｃ＝Ｍ（主）・ζｃ
ηａｂ＝Ｍ（副）・ξａ、ηｂｃ＝Ｍ（副）・ξｃ
で与えられる。  
ηａｂ、ηｂｃは、同時に走査される隣接２ライン間の走査線間隔であるから、「ηａｂ＝ηｂｃ」となるように、即ち、｜ξａ｜＝｜ξｃ｜となるように、発光部Ｈａ、Ｈｃの「カップリングレンズ光軸に対する副走査方向のずれ量」が設定される。
【００２０】
一方、δａｂ、δｂｃについては、各偏向光ビームがフォトセンサ２４の受光面上に形成する光スポットが、フォトセンサ２４により別個に検出される必要があるから、上記δａｂ、δｂｃは、フォトセンサ２４における主走査方向の分解能：Δよりも大きくなければならない。即ち、
Δ≦δａｂ、且つ、Δ≦δｂｃ
を満足するように、上記ζａ、ζｃを定めることにより、３本の偏向光ビームの各光スポットを同一のフォトセンサ２４により別個に検出できるので、その検出結果に基づき、各偏向光ビームによる走査の開始位置を独立に制御でき、上記開始位置を偏向光ビームごとに高精度に「同一位置に揃える」ことができる。  
なお、ζａ、ζｃは「Δ≦δａｂ、且つ、Δ≦δｂｃ」が満足される限りにおいて、ξａ＝ξｃとしてもよいし、ζａ≠ζｃとしてもよい。  
上記合成光学系は主走査方向に関してはアフォーカル系であるので、上記主走査方向の横倍率は、カップリングレンズ２ａ〜２ｃの焦点距離をｆ、fθレンズ１６の主走査方向の焦点距離をＦとすれば、Ｍ（主）＝Ｆ／ｆで与えられる。  
上に説明した実施の形態においては、半導体レーザ１ｂの発光部Ｈｂの、カップリングレンズ２ｂの光軸からの主走査方向のずれ量：ζｂを０としたが、ζｂは０以外の有限の値としてもよい。  
ζｂ≠０であるときには、
Δ≦Ｆ／ｆ｜ζａ―ζｂ｜、且つ、Δ≦Ｆ／ｆ｜ζｃ―ζｂ｜
が成り立つように、ζａ、ζｂ、ζｃを設定すればよい。なお、この場合、ζａ、ζｂ、ζｃは、図１（ｃ）において、光軸より右側にある場合を正、左にある場合を負とする。
【００２１】
上に説明したマルチビーム走査装置（参考例）は、光源装置１０から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系１６により被走査面２０に向かって集光し、被走査面２０上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、各偏向光ビームによる走査開始の同期をとるために、被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段２２，２４を有し、複数の光ビームを放射する光源装置１０が、Ｎ（＝３）個の半導体レーザ１ａ〜１ｃ及び、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するＮ個のカップリングレンズ２ａ〜２ｃとを少なくとも有し、Ｎ個のカップリングレンズ２ａ〜２ｃは同一の構成で、主走査方向に関して光軸を互いに平行にされ、対応する半導体レーザからの光束を実質的な平行ビームとするものであり、同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する任意の２つの偏向光ビームをＢi，Ｂi＋1（ｉ＝１〜２）とし、これらビームＢi，Ｂi＋1を放射する半導体レーザの発光部の、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向のずれ量をζi、ζi＋1（ζａ〜ζｃ）するとき、各半導体レーザと受光面位置との間に配置される光学系の、主走査方向の横倍率：Ｍ（主）と、同期光検出手段の分解能：Δとに対し、ずれ量：ζi，ζi＋1が、関係：Δ≦Ｍ（主）・｜ζi−ζi＋1｜を満足するように設定されることにより、各偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できるように構成したマルチビーム走査装置である。  
なお、上の装置例では、カップリングレンズ２ａ〜２ｃの光軸を互いに平行としたが、これらを主走査方向に関してのみ、互いに平行（即ち、副走査方向から見て互いに平行）となるようにし、副走査方向に関しては、光軸相互が微小な角をなすようにしても良く、このようにする場合は、上記ずれ量をξａ＝ξｂ＝ξｃ＝０と設定しても、光軸のなす微小角の調整により、光スポットを副走査方向に分離することができる。
【００２２】
図２および図３は、図１（ａ）に示すマルチビーム走査装置の光源装置として使用可能な光源装置の例を説明するための図である。なお、繁雑を避けるため、混同の虞がないと思われるものについては、図１以下、全図面を通じて同一の符号を用いる。  
図２（ａ）は、この光源装置の要部の構造を説明するための図である。  
符号１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄは半導体レーザを示し、符号２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄは「半導体レーザ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄの個々と１：１に対応するカップリングレンズ」を示す。また、符号３Ａ，３Ｂは保持体を示し、符号４はビーム合成手段としてのプリズムを示している。  
半導体レーザ１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄは同一構成のものであり、カップリングレンズ２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄも同一構成のものである。各カップリングレンズは、対応する半導体レーザからの光束を平行ビーム化するように設定される。  
また、保持体３Ａ，３Ｂも同一構成のものである。  
保持体３Ａと半導体レーザ１ａ、１ｂと、カップリングレンズ２ａ、２ｂとは「第１光源部」を構成する。また、保持体３Ｂと半導体レーザ１ｃ、１ｄと、カップリングレンズ２ｃ、２ｄとは「第２光源部」を構成する。  
第１および第２光源部は「同様の構成」であるので、第１光源部を例にとって説明する。図２（ｂ）は、第１光源部の保持体３Ａを正面側から見た図であり、同図のＣ−Ｃ’断面を、半導体レーザおよびカップリングレンズとともに描いたのが図２（ｃ）である。  
図２（ｂ）、（ｃ）に示す如く、保持体３Ａの基部３００は板状で、その中央部分にレンズ保持用の凸部３０１が形成され、凸部３０１の両側に、光ビーム通過用の貫通孔３０２，３０３が、凸部３０１を挟むように穿設されている。貫通孔３０２，３０３は基部３００を厚み方向に貫通し「互いに平行」である。貫通孔３０２，３０３の、基部３００の裏側出口近傍は孔径を拡大され、この部分に半導体レーザ１ａ、１ｂが圧入されて固定されている（図２（ｃ））。従って、半導体レーザ１ａ、１ｂの発光部の位置は、貫通孔３０２，３０３に対して一義的に定まる。
【００２３】
また、凸部３０１には、これを挟むようにしてカップリングレンズ２ａ、２ｂが、光軸を互いに平行にして固定的に設けられる。なお、図２（ｂ）、（ｃ）において、符号３０４，３０５は固定用のねじ孔を示す。  
第２光源部は、半導体レーザ１ｃ、１ｄとカップリングレンズ２ｃ、２ｄ（図２（ａ）参照）を、第１光源部と同様、保持体３Ｂに固定的に保持することにより構成される。  
第１光源部および第２光源部は、それぞれのカップリングレンズの光軸を互いに平行にして、プリズム４の入射側面に対向するように配置される。  
図３（ａ）を参照すると、この図は、保持体へのカップリングレンズの取りつけ状態を、保持体３Ａへのカップリングレンズ２ｂの取りつけ状態を例として説明するための図である。図に示すように凸部３０１の側面は、凹の円筒面に形成され、この円筒面はカップリングレンズ２ｂの取りつけ基準面になっている。  
カップリングレンズ２ｂは、そのコバ部分に紫外線硬化樹脂３１０を塗布されて、紫外線硬化樹脂３１０を上記円筒面部分に接触させられる。カップリングレンズ２ｂは、光軸（「＋」印で表す）と半導体レーザ１ｂの発光部Ｈｂ（保持体３Ａに固定された定位置である）との位置関係（主走査方向のずれ量：ζｂ、副走査方向のずれ量：ξｂ）および光軸方向の位置を、冶具（図示されず）により調整される。このように位置調整された状態で、紫外線硬化樹脂３１０に紫外線を照射し、樹脂を硬化させると、カップリングレンズ２ｂは凸部３０１に固定的に接着される。他のカップリングレンズ２ａ、２ｃ、２ｄの「対応する保持体への保持」も同様に行われる。  
図３（ｂ）は、プリズム４によるビーム合成の様子を、発光部Ｈａ，Ｈｃから放射された光ビームにつき説明するための図である。プリズム４は、図３（ｂ）に示す如き側面形状を有する。プリズム４は平行四辺形のプリズムと直角プリズムとを組み合せた構成を持ち、両プリズムの接合部には偏光反射膜４０１が形成されている。また、発光部Ｈｃからの光ビームが入射する部位（図示されていないが発光部Ｈｄからの光ビームも入射する）には、１／２波長板４０３が設けられている。
【００２４】
発光部Ｈａ，Ｈｂから放射される光は、何れも偏光反射膜４０１に対してＰ偏光となるように光源の態位が定められている。従って、発光部Ｈａから放射され、カップリングレンズ２ａにより平行ビーム化された光ビーム（図示されていないが発光部Ｈｂから放射され、カップリングレンズ２ｂにより平行ビーム化された光ビームも）は、プリズム４に入射すると偏光反射膜４０１を透過してプリズム４から射出する。一方、発光部Ｈｃから放射され、カップリングレンズ２ｃにより平行ビーム化された光ビーム（図示されていないが発光部Ｈｄから放射され、カップリングレンズ２ｄにより平行ビーム化された光ビームも）は、１／２波長板４０３を透過することにより、偏光反射膜４０１に対してＳ偏光となる。そしてプリズム４のプリズム面４０２で全反射され、さらに偏光反射膜４０１で全反射されてプリズム４から入射する。  
このようにして、プリズム４から射出する４本の光ビーム（何れも平行ビームである）は、互いに近接する光ビームとして合成される。  
なお、プリズム４から射出する４本の光ビームのうち２本がＳ偏光、他の２本がＰ偏光となり、互いに偏光面が直交することになる。周知の如く、反射面による反射率は、入射角の変化と共にＳ偏光とＰ偏光とで異なる変化をするので「上記のまま」であると、光源装置から放射された４本の光ビームが、図１（ａ）における回転多面鏡１４の偏向反射面や折り返しミラー１８等で反射されるとき、反射率の変化により、被走査面上の光スポットの光強度が光ビーム２本ごとに異なる変動をするので、このような問題を避けるために、プリズム４によりビーム合成された４本の光ビームをして、１／４波長板を通過せしめて４本の光ビームを共に「円偏光状態」とすることが好ましい。  
図３（ｃ）は、光源装置１０を斜め後方から見た状態を示している。符号５で示す箱状のケーシング内には、前記プリズム４が所定の態位に調整されて収納され、ケーシング５の後側板には、半導体レーザ１ａ、１ｂ、カップリングレンズ２ａ、２ｂ（図示されず）を一体化された保持体３Ａと、半導体レーザ１ｃ、１ｄ、カップリングレンズ２ｃ、２ｄ（図示されず）を一体化された保持体３Ｂとが、上記後側板に穿設された係合孔に（カップリングレンズを固定された）保持体凸部を嵌合させ、取付け態位を調整されて固定されている。ビーム合成された４本の光ビーム（平行ビーム）は、ケーシング５に形成されている円筒状の射出口５Ａから射出する。射出口５Ａには、前述の「１／４波長板」と、ビーム整形を行うためのアパーチュアが設けられている。従って、光源装置１０から射出する４本の平行光ビームは何れもビーム整形され、円偏光とされている。
【００２５】
光源装置１０から放射された４本の光ビームは、図１（ａ）に示す如く、シリンドリカルレンズ１２により、回転多面鏡１４の偏向反射面近傍に、互いに副走査方向に分離した「主走査方向に長い線像」に結像し、回転多面鏡により偏向光ビームとされ、ｆθレンズ１６の作用により、感光体２０の周面である被走査面上に副走査方向に分離した光スポットを形成する。そして、これら４つの光スポットにより被走査面の４ライン（４走査線）が同時に走査される。  
図４（ａ）は、プリズム４の合成状態を説明図的に示している。プリズム４による合成は、プリズム４の合成側から見た状態において、カップリングレンズ２ａ、２ｂの光軸間中心と、カップリングレンズ２ｃ、２ｄの光軸間中心とが、図に示す位置：ｑとして合致するように行われるものとする。図の繁雑を避けるため、カップリングレンズ２ａとカップリングレンズ２ｃとを互いに重ねて描き、カップリングレンズ２ｂとカップリングレンズ２ｄとを重ねて描いた。カップリングレンズの光軸が互いに平行で、カップリング作用が半導体レーザからの光束を平行ビーム化するものであるので、上記光軸間中心が位置：ｑで合致している限り、個々のカップリングレンズの位置はどこにあっても良く、従って、図４（ａ）のように、カップリングレンズを２個ずつ重ねて描いても、以下の説明の一般性は失われない。  
カップリングレンズ２ａ、２ｃの光軸（「＋」印で示す）に相対的な、半導体レーザ１ａ、１ｃの発光部Ｈａ，Ｈｃのずれ量を、主走査方向に関してζａ、ζｃ、副走査方向に関してξａ、ξｃとする。同様に、カップリングレンズ２ｂ、２ｄの光軸（「＋」印で示す）に相対的な、半導体レーザ１ｂ、１ｄの発光部Ｈｂ，Ｈｄのずれ量を、主走査方向に関してζｂ、ζｄ、副走査方向に関してξｂ、ξｄとする。  
このとき、３｜ζａ｜＝｜ζｃ｜、３｜ζｂ｜＝｜ζｄ｜とし、３｜ξａ｜＝｜ξｃ｜、３｜ξｂ｜＝｜ξｄ｜となるようにすると、被走査面（同様にフォトセンサ２４の受光面）に形成される光スポットＳａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの様子は、図４（ｂ）に示す如くになる。「Ｑ」は、シリンドリカルレンズ１２とｆθレンズ１６による前記の位置：ｑの像である。
【００２６】
隣接する光スポット間の「主走査方向の間隔」を、図の如く、δａｂ、δａｃ、δｂｄとすると、これらは、前述の結像倍率：Ｍ（主）（＝Ｆ／ｆ）を用いて以下のように表される。  
δａｂ＝Ｍ（主）｜ζｂ−ζａ｜
δａｃ＝Ｍ（主）｜ζｃ−ζａ｜
δｂｄ＝Ｍ（主）｜ζｄ−ζｂ｜
フォトセンサ２４における主走査方向の分解能：Δを用いると、個々の光スポットがフォトセンサ２４により別個に検出されるためには、
δａｂ≦Δ、δａｃ≦Δ、δｂｄ≦Δ
の３条件が独立して満足されればよい。換言すれば、上記結像倍率：Ｍ（主）に応じて、上記条件が満足されるように、ずれ量：ζａ、ζｃ、ζｂ、ζｄを、それぞれ設定すればよい。  
副走査方向のずれ量：ξａ、ξｂ、ξｃ、ξｄは、光スポットＳａ、Ｓｂ、Ｓｃ，Ｓｄの副走査方向の隣接間隔が、所定の走査線ピッチに合致するように、副走査方向の結像倍率：Ｍ（副）に応じて設定する。  
図４（ｃ）は、図４（ａ）における発光部ＨｂとＨｄとの位置を入れ替えた場合である。このとき被走査面上における光スポットＳａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの配列は、図４（ｄ）に示す如くになる。即ち、発光部とカップリングレンズ光軸との位置関係の調整により、光スポットＳａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの配列状態は適宜に調整可能である。  
図４（ｄ）の光スポット配列の場合において、各光スポットをフォトセンサ２４により個別に検出できる条件が、
δａｄ≦Δ、δａｃ≦Δ、δｂｄ≦Δ
となることは、上の説明に照らして容易に理解されるであろう。
【００２７】
図１（Ａ）に示すマルチビーム走査装置における光源装置１０として「図２〜図４に実施の形態を説明した光源装置」を用いたものは、光源装置１０から放射され、同時に偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系１６により被走査面２０に向かって集光し、被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより、複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、各偏向光ビームによる走査開始のため同期をとるために、被走査面の走査領域へ向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段２２，２４を有し、複数の光ビームを放射する光源装置１０が、ｎ（＝２）個の半導体レーザ１ａ、１ｂと、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するｎ個のカップリングレンズ２ａ、２ｂと、ｎ個の半導体レーザ及びｎ個のカップリングレンズを、ｎ個のカップリングレンズの光軸を、主走査方向に関して互いに平行にして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体３Ａとを有する第１光源部と、ｍ（＝２）個の半導体レーザ１ｃ、１ｄと、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するｍ個のカップリングレンズ２ｃ、２ｄと、ｍ個の半導体レーザ及びｍ個のカップリングレンズを、ｍ個のカップリングレンズの光軸を、主走査方向に関して互いに平行にして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体３Ｂとを有する第２光源部と、第１光源部３Ａから放射されるｎ（＝２）本の光ビームと、第２光源部から放射されるｍ（＝２）本の光ビームを互いに近接する光ビームとして合成するビーム合成手段４とを有し、第１光源部における任意の半導体レーザの発光部の、対応するカップリングレンズの光軸からの
主走査方向のずれ量：ζi（ζａ、ζｂ）と、第２光源部における任意の半導体レーザの発光部の、対応するカップリングレンズの光軸からの主走査方向のずれ量：ζk（ζｃ、ζｄ）と、第１、第２光源部とビーム合成手段４の位置関係とを、同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する偏向光ビームが、主走査方向に、同期光検出手段の分解能：Δ以上の距離分離するように設定することにより、各偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できるように構成した参考例２のマルチビーム走査装置である。
【００２８】
また、図２〜図４に即して説明した光源装置は、ｎ＝ｍで、第１光源部と第２光源部が同一構造のものであり、光源装置の第１、第２光源部における各半導体レーザは、対応する保持体の保持孔に圧入固定され、各カップリングレンズは対応する保持体に接着樹脂により固定され（図３参照）、接着樹脂により、対応する半導体レーザの発光部に対する光軸位置を調整され、ｎ＝ｍ＝２である。  
上に説明した例では、カップリングレンズ２ａ〜２ｄの光軸を互いに平行としたが、これら光軸を「主走査方向に関して」平行とし、副走査方向に関しては、相互に微小角をなすようにしてもよい。このように、各カップリングレンズの光軸が副走査方向に関して微小角をなすようにする場合には、各発光部の副走査方向のずれ量：ξａ〜ξｄを「０」とすることもできる。  
また、図２〜図４に説明した例を、半導体レーザやカップリングレンズの数：ｎ、ｍを３以上の場合に敷衍することも容易である。  
図１〜図４に即して説明した例では、例えば、カップリングレンズ２ａ、２ｂの光軸に対する発光部Ｈａ、Ｈｂのずれの方向を「互いに離れる向き」として説明したが「ずれの方向」は、このような「互いに離れる向き」に限られない。  
図５を参照して、カップリングレンズ２ａ、２ｂの光軸に対する発光部Ｈａ、Ｈｂのずれの場合を例にとって説明すると、発光部Ｈａ、Ｈｂを、図５（ａ）に示す場合のように、互いに主走査方向に近づくようにずらしてもよい。この場合には、カップリングレンズ２ａ、２ｂにより平行ビーム化された光ビームの主光線は、主走査方向において互いに離れる向きに進む。また、図５（ｂ）に示すように、発光部Ｈａ、Ｈｂを「同じ向き」にずらしてもよい。この場合には、主走査方向のずれ量：ζａ、ζｂの大小関係に応じて、カップリングされた光ビームの進行方向は、主走査方向において、互いに交叉する向きに進むようにも、互いに離れる向きに進むようにもできる。
【００２９】
上に説明した各例では、基本的にカップリング光軸相互の関係は、主走査方向に関して互いに平行であり、半導体レーザの発光部は、対応するカップリングレンズの光軸に対して主走査方向にずれた位置に位置される。  
この場合、同時走査に用いられる偏向光ビームの数が大きくなると、発光部の一部は、カップリングレンズの光軸から「大きく離れた位置」に配置されることになる。このような発光部からの光束は対応するカップリングレンズの周辺部を通ることになるので、カップリングされた光ビームにおける波面収差が大きくなる。このような波面収差がある程度大きくなると、この光ビームが被走査面上に形成する光スポットのスポット径を増大させる。このような光スポットで画像書込みがなされると、書込み形成された画像の画質が所期の品質を実現できないこともあり得る。  
このような問題を避ける方策として「各カップリングレンズの光軸の方向を、主走査方向において互いに非平行とする」ことが考えられる。  
図６は、このような光源装置の１例を概念的に示している。  
光源装置１０Ａの要部は、２個の半導体レーザ１ａ、１ｂと、これらと１：１に対応するカップリングレンズ２ａ、２ｂとを有している。図は、光源装置１０Ａを副走査方向から見た状態である。図の如く、カップリングレンズ２ａ、２ｂの光軸は「主走査方向に関して非平行」である。上記光軸は、副走査方向に関しては共に同一面内にある。  
半導体レーザ１ａ、１ｂの発光部を従前通りＨａ、Ｈｂとし、これら発光部のカップリングレンズ２ａ、２ｂの光軸からのずれ量を、主走査方向につきζａ、ζｂ、副走査方向につきξａ、ξｂとすると、ζａ＝ζｂ＝０であり、ξａとξｂとは被走査面上の光スポットが副走査方向に走査線ピッチ分だけ分離するように定められている。このようにすると、発光部をカップリングレンズ光軸から大きく離して配置する必要はなく、上述の波面収差劣化の問題を有効に回避できる（半導体レーザとカップリングレンズの数が多くなっても同様である）。
【００３０】
このような光源装置を図１（ａ）に示す如きマルチビーム走査装置の光源装置として用いた場合に、被走査面と等価なフォトセンサ２４の受光面上で光スポットを個別的に検出できる条件を説明すると、以下のようになる。  
図７において、符号１６は「図１（ａ）に示すｆθレンズ１６」を合成し、単一化して示している。図に示すように、ｆθレンズ１６に主走査方向（図の上下方向）において集束角：φをもった光束が入射した場合を考えてみると、入射光束は、ｆθレンズ１６により集束角を「γφ」に変換され、図中のＰ点に結像する。そして、結像点Ｐから距離：Ｓだけ離れた被走査面２０上では、主走査方向に「δ」だけ広がることになる。上記「γ」を、ｆθレンズ１６の「主走査方向の角倍率」と呼ぶ。角倍率：γはｆθレンズ１６に応じて一義的に定まる。  
ここで、図７における集束角：φを、図６に示す光源装置１０Ａから放射された２本の光ビームの主光線が「主走査方向においてなす角」と考えてみる。  
すると、上記２本の光ビームの主光線同士はＰ点において交叉するが、各光ビーム（偏向光ビーム）が結像するのは被走査面２０の位置である。従って、被走査面上に結像により形成される２つの光スポットは、主走査方向に距離：δだけ分離することになる。距離：δは、図７の角：γφと距離：Ｓとを用いて、
δ＝２Ｓ・ｔａｎ（γφ／２）
と表すことができる。  
従って、２つの光スポットを個別的に検出できる条件は、フォトセンサ２４の分解能：Δに対し、
Δ≦δ＝２Ｓ・ｔａｎ（γφ／２）
が成り立つことである。  
ｆθレンズ１６の使用態様は設計条件として定まり、角倍率：γもｆθレンズ１６の特性として定まる。また、上記角：φが定まれば、Ｐ点の位置、従って距離：Ｓが定まることになる。従って、上記条件「Δ≦δ＝２Ｓ・ｔａｎ（γφ／２）」を満足するように、角：φを設定すればよい。  
上に説明したところは、光ビームの数が３以上のばあいにも容易に敷衍することができる。
【００３１】
即ち、複数の光ビームを放射する光源装置が、Ｎ（≧３）個の半導体レーザ及び、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するＮ個のカップリングレンズとを、少なくとも有し、Ｎ個のカップリングレンズは同一の構成で、光軸を主走査方向に関して互いに非平行にされるものである場合には、同期光検出手段の受光面位置において、互いに隣接する任意の２つの偏向光ビームをＢi、Ｂi＋1（ｉ＝１〜Ｎ−１）とするとき、これらのビームＢi、Ｂi＋1を放射する半導体レーザに対応するカップリングレンズの光軸が主走査方向になす角：φiを「ビームＢi、Ｂi＋1の主走査方向の間隔が同期光検出手段の分解能：Δ以上とする」ように設定すれば良いのである（請求項１）。  
例えば、光源装置から放射される光ビーム数が４本であり、これらビームをビームＢ1〜Ｂ4とし、同期光検出手段の受光面位置において、これらが順次に隣接するものとすれば、光ビームＢ1，Ｂ2が主走査方向に角：φ12をなしてｆθレンズに入射し、同様に、光ビームＢ2，Ｂ3が主走査方向に角：φ23をなしてｆθレンズに入射し、光ビームＢ3，Ｂ4が主走査方向に角：φ34をなしてｆθレンズに入射するものとし、また、光ビームＢ1，Ｂ2の主光線が交叉する位置から受光面に至る距離をＳ12、光ビームＢ2，Ｂ3の主光線が交叉する位置から受光面に至る距離をＳ23、光ビームＢ3，Ｂ4の主光線が交叉する位置から受光面に至る距離をＳ34とすれば、各光スポットを個別的に検出できるようにするには、同期光検出手段の分解能：Δに対して、
Δ≦２Ｓ12・ｔａｎ（γφ12／２）
Δ≦２Ｓ23・ｔａｎ（γφ23／２）
Δ≦２Ｓ34・ｔａｎ（γφ34／２）
を満足するように、光源装置を構成すればよい。各半導体レーザの発光部が対応するカップリングレンズの光軸に対して主走査方向に「ずらされない（ζ＝０）」場合には、各カップリングレンズの光軸が主走査方向になす角が上記の角：φ12、φ23、φ34となるように設定すれば良い。
【００３２】
図８は、図６で示した如き光源装置の具体的な１例を示している。  
符号３０で示す保持体には厚み方向に互いに角度をなして２つの貫通孔３０２’、３０３’が穿設され、貫通孔の端部に半導体レーザ１ａ、１ｂが圧入固定されている。保持体３０の中央部に突設された凸部には、各半導体レーザ１ａ、１ｂに対応するカップリングレンズ２ａ、２ｂが、図３に即して説明したのと同様の方法で接着固定されている。ただし、この例では、半導体レーザの各発光部が対応するカップリングレンズの光軸上に位置するように、各カップリングレンズの位置が調整されている。そして、カップリングレンズ２ａ、２ｂの光軸は、図に示す如く主走査方向において互いに非平行であり、且つ、各光ビームの形成する光スポットが被走査面上で副走査方向に分離するように、副走査方向において互いに微小角をなしている（このようにする代わり、上記両光軸が主走査方向に平行な同一面にあるようにし、各カップリングレンズに対応する半導体レーザの発光部を、上記光軸位置から副走査方向に変位させて位置させてもよい）。  
このようにして、主走査方向に互いに非平行な２本の光ビームが得られる。  
各カップリングレンズは光学的に同一で、発光部からの発散光束を平行ビームに変換する。  
図８に示す如き光源装置は、同様のものを２つ用い、これらを第１、第２光源部として前述のプリズム４とともに、図２に即して説明したのと同様の光源装置として構成し、第１、第２光源部からの各２本の光ビームをプリズム４により合成して互いに近接する４本の平行光ビームとして射出させることができる。  
図９は、このような光源装置を説明するための図である。  
図９において、符号３Ｃで示すのは、図８に示した光源であり、第１光源部である。符号３Ｄは、第１光源部３Ｃと同様の構成の第２光源部を示す。第１光源部３Ｃ、第２光源部３Ｄは、図の如く、主走査方向に「Ｌ」だけ離れて配置され、第１光源部３Ｃから放射される光ビームＢ1，Ｂ3と、第２光源部３Ｄから放射される光ビームＢ2，Ｂ4が主走査方向に交互に配列するように組み合わせられる（図９には図示されていないが、このようにするために、第１光源部３Ｃと第２光源部３Ｄとは、図９の面に平行な面内で、各光源部における「２つのカップリングレンズの光軸のなす角を２等分する直線」が、互いに角をなしている）。これら４本の光ビームは図示されないプリズム（ビーム合成手段  図２に示すプリズム４と同様のもの）により合成される。
【００３３】
これら光ビームＢ1，Ｂ2，Ｂ3，Ｂ4が、被走査面（および同期光検出手段の受光面上）で、図９の右図のように、互いにビームの配列と同配列の光スポットＳ1，Ｓ2，Ｓ3，Ｓ4を形成するものとすれば、これら光スポットを個別的に検出できる条件は、図９に示す光ビームが主走査方向においてなす角：φ12、φ23、φ34が、ｆθレンズの角倍率：γ、同期光検出手段の分解能：Δに対して、前述の条件：
Δ≦２Ｓ12・ｔａｎ（γφ12／２）
Δ≦２Ｓ23・ｔａｎ（γφ23／２）
Δ≦２Ｓ34・ｔａｎ（γφ34／２）
を満足することであり、このように光源装置を構成することにより、４本の光ビームを個別的に検出することができる。  
図９に即して説明した光源装置を、図１（ａ）に示すマルチビーム走査装置の光源装置１０として使用することにより、感光体２０の周面である被走査面を、同時に４本ずつ走査することができる。  
即ち、このようなマルチビーム走査装置は、光源装置１０から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系１６により被走査面２０に向かって集光し、被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査装置において、各偏向光ビームによる走査開始のため同期をとるために、被走査面の走査領域へと向かう偏向光ビームを検出する同期光検出手段２２，２４を有し、複数の光ビームを放射する光源装置が、ｎ（＝２）個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するｎ個のカップリングレンズと、ｎ個の半導体レーザ及びｎ個のカップリングレンズを、ｎ個のカップリングレンズの光軸が、主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関
係に保って一体的に保持する保持体とを有する第１光源部３Ｃと、ｍ（＝２）個の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と１：１に対応するｍ個のカップリングレンズと、ｍ個の半導体レーザ及びｍ個のカップリングレンズを、ｍ個のカップリングレンズの光軸が、主走査方向において互いに所定の角をなすようにして、所定の位置関係に保って一体的に保持する保持体とを有する第２光源部３Ｄと、第１光源部３Ｃから放射されるｎ本の光ビームと、第２光源部３Ｄから放射されるｍ本の光ビームを互いに近接する光ビームとして合成するビーム合成手段とを有し、第１および第２光源部における各カップリングレンズの光軸方向、第１及び第２光源部と上記ビーム合成手段の相互の位置関係を、互いに隣接する偏向光ビームが主走査方向に、互いに同期光検出手段の分解能：Δ以上の距離分離するように設定し、各偏向光ビームを同期光検出手段により個別的に検出できるように構成されたものである（請求項２）。
【００３４】
またｎ＝ｍで、第１光源部３Ｃと第２光源部３Ｄが同一構成であり（請求項３）、光源装置における各半導体レーザの発光部が、対応するカップリングレンズの光軸上に配備され（請求項４）、且つ、ｎ＝ｍ＝２である（請求項５）。  
上に説明した請求項１記載の発明に用いる光源装置では、一般に、Ｎ（≧２）個の半導体レーザのうち、少なくともＰ（２≦Ｐ≦Ｎ）個の発光部を、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずらして位置させることができる（請求項６）。  
同様に、図９に即して説明した光源装置においても、ｎ＋ｍ個の半導体レーザのうち、少なくともＰ（２≦Ｐ≦ｎ＋ｍ）個の発光部を、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずらして配置することができ（請求項７）、このような場合にも、ｎ＝ｍで、第１光源部と第２光源部を同一構成のものとして構成し（請求項８）、且つ、ｎ＝ｍ＝２とすることができる。  
半導体レーザの発光部を、対応するカップリングレンズの光軸から主走査方向にずらして配置することにより、平行ビーム化された光ビームの主光線の方向をカップリングレンズの光軸方向から主走査方向に逸らすことができるので、光ビーム相互が主走査方向でなす角（前記の角：φ23等）を容易に調整できる。  
ところで、上に説明した各光源装置においては、半導体レーザから射出された全ての光ビームを「回転多面鏡１４の偏向反射面近傍で主走査方向において交差させる」のが好ましい。  
図１０を参照して説明する。図１０で上下方向が主走査方向である。  
図１０（ａ）では、例えば、発光部Ｈａ、Ｈｂからの光ビームが互いに広がりつつ回転多面鏡の偏向反射面１４Ａに入射している。回転多面鏡の回転方向が矢印方向であるとして、被走査面２０における主走査方向のＧ点を考えてみると、発光部Ｈａからの光ビームの光スポットがＧ点に位置するとき、偏向反射面１４Ａは実線の位置にあり、光ビームは「実線で示す光路」を通ってＧ点に到達する。  
一方、発光部Ｈｂからの光ビームがＧ点に光スポットを形成する時点では、偏向反射面１４Ａは破線の態位まで回転しており、光ビームは「破線で示す光路」を通ってＧ点に達する。  
この図から分かるように、「発光部Ｈａ、Ｈｂからの光ビームが偏向反射面１４Ａに入射する位置」が離れていると、２つの光ビームは「かなり異なった光路」を通り、ｆθレンズ１６の異なる位置を通過するため、Ｇ点に結像する各光ビームに対するｆθレンズ１６の光学作用が同一にならない。このため、被走査面２０上で主走査方向の同じ像高に達する２つの光ビームに対し、収差等の光学特性が異なったものとなり、走査線に曲がりを生じ、走査線ピッチの像高間変動の原因となる虞がある。
【００３５】
これに対し、図１０（ｂ）に示すように、発光部Ｈａ、Ｈｂからの光ビームが偏向反射面１４Ａの近傍において、主走査方向に交叉するようにすれば、被走査面２０の同一像高に向かう光ビーム（偏向光ビーム）は、実質的に同じ光路を通ることになり、上記の如き走査線曲がりや、これに伴う「走査線ピッチの像高間変動」の問題は生じない。また、光源装置からの全ての光ビームを、偏向反射面近傍で主走査方向に交叉させる構成とすることにより、回転多面鏡１４の内接円半径を小さくでき、回転多面鏡の高速回転が可能となるので、走査の高速化に有利となる。  
請求項１０記載のマルチビーム走査装置は、上に実施の形態を種々説明したマルチビーム走査装置において、光源装置から放射される複数の光ビームが、光偏向器の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、複数の光ビームが、偏向反射面の近傍において、主走査方向に交叉するように光源装置が構成されたものである。  
このようなマルチビーム走査装置に用いられる光源装置を、例えば、図９に示した光源装置で実現する場合であれば、図における角：φ12、φ23、φ34の調整により、光ビームＢ1，Ｂ2，Ｂ3，Ｂ4が偏向反射面近傍で主走査方向に交叉するようにすればよい。  
また、図２に即して説明したような光源装置で実現するには、図１１に示すように、保持体３Ａ，３Ｂ（簡略化して示している）を主走査方向（図の上下方向）に距離：Ｌだけ離し、発光部Ｈａ，Ｈｂから放射された光ビームＢａ，Ｂｂと発光部Ｈｃ，Ｈｄから放射された光ビームＢｃ，Ｂｄが、主走査方向に交互に配列し、且つ、これらが偏向反射面１４Ａの近傍で交叉するようにすることができる。  
図１１（ｂ）は、カップリングレンズ２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄの位置関係と、発光部Ｈａ，Ｈｂ，Ｈｃ，Ｈｄの関係の１例を示している。カップリングレンズおよび半導体レーザを保持する保持体３Ａ，３Ｂとしては同一のものを用いるので、発光部Ｈａ，Ｈｂ間の間隔；Ａａｂと、発光部Ｈｃ，Ｈｄ間の間隔：Ａｃｄは同一である。各発光部と対応するカップリングレンズの光軸との相対的な位置関係は、カップリングレンズの接着固定の際に適宜設定する。
【００３６】
図１１（ｂ）に示す例では、カップリングレンズ２ａ、２ｂを保持する保持体３Ａに対し、カップリングレンズ２ｃ、２ｄを保持する保持体３Ｂが、長手方向において傾けられている。  
図１１（ｃ）は、図１１（ｂ）に示す如き発光部配置を、ビーム合成手段であるプリズム４（図２参照）で合成した状態を示している。符号２は合成された仮想的なカップリングレンズを示す。このとき、発光部Ｈａ，Ｈｂ，Ｈｃ，Ｈｄから放射された光ビームが被走査面（および同期光検出手段の受光面上）に形成する４つの光スポットＳａ，Ｓｂ，Ｓｃ，Ｓｄの様子を図１１（ｄ）に示す。  
上に説明した各光源装置を光源装置１０として用いる図１（ａ）のマルチビーム走査装置は、光源装置１０から放射される複数の光ビームが、光偏向器１４の同一の偏向反射面で同時に偏向されるように構成され、光源装置１０と光偏向器１４との間に、光源装置からの複数の光ビームを偏向反射面の近傍に、互いに副走査方向に分離した主走査方向に長い線像として結像させる線像結像光学系１２を有し、走査結像光学系１６は、偏向反射面位置と被走査面位置とを、副走査方向において幾何光学的な共役関係とするアナモフィックなものである（請求項１１）。そして、上に種々説明した光源装置は、マルチビーム走査装置に用いられる光源装置であって、請求項１〜１１の任意の１に記載された構成を有するものである（請求項１２）。  
上に実施の形態を説明した如き、マルチビーム走査装置を用いることにより、光源装置から放射されて偏向される複数の偏向光ビームを、走査結像光学系により被走査面に向かって集光し、被走査面上に、互いに副走査方向に分離した複数の光スポットを形成し、これら複数の光スポットにより複数ラインを同時に走査するマルチビーム走査方法を実現できる（請求項１３、１４）。
【００３７】
具体的な例の１つとして、図１に即して説明した参考例１の装置の具体例を挙げる。  
光源装置１０における各カップリングレンズの焦点距離：ｆ＝２７ｍｍ、ｆθレンズ１６の主走査方向の焦点距離：Ｆ＝２２５．３ｍｍである。したがって、前述の主走査方向の結像倍率：Ｍ（主）（＝Ｆ／ｆ）＝８．３４倍である。  
このとき、図１（ｅ）に示す光スポットＳａ、Ｓｂ、Ｓｃが個別的に検出可能である条件は、フォトセンサ２４の分解能：Δ＝０．５ｍｍとして、図のδａｂ，δｂｃを用いて、前述の如く、Δ≦δａｂ＝Ｍ（主）・ζａ、Δ≦δｂｃ＝Ｍ（主）・ζｃである。Ｍ（主）＝８．３４倍を考慮すると、発光部Ｈａ，Ｈｃのカップリングレンズ光軸に対する主走査方向のずれ量：ζａ、ζｃはそれぞれ、ζａ＝ζｃ≧０．０６ｍｍ（＝０．５／８．３４）であれば良いことになる。
【００３８】
図１２は、この発明の画像形成装置の実施の１形態を示している。  
潜像担持体としての光導電性の感光体２０は、円筒状に形成されて矢印方向へ等速回転し、帯電手段（帯電ローラによる接触式のものを示しているが、コロナ放電式のものとしてもよい）１１２により均一帯電され、マルチビーム走査装置１１４の光走査による書込みで静電潜像を形成される。この静電潜像は、現像手段１１６により現像され、現像により得られたトナー画像は、転写手段（転写・分離チャージャ式のものを示しているが、ローラ式のものとしてもよい）１２０によりシート状の記録媒体（転写紙やオーバヘッドプロジェクタ用のプラスチックシート等）Ｓに転写される。記録媒体Ｓは、転写されたトナー画像を定着手段１２２により定着されて装置外へ排出される。トナー画像転写後の感光体２０は、クリーニング装置１２４により、残留トナーや紙粉等を除去される。  
マルチビーム走査装置１１４としては、上に実施の形態を説明した請求項１〜１１の任意の１に記載のものが用いられる。  
即ち、図１２に示す画像形成装置は、潜像担持体２０に光走査により潜像を形成し、潜像を可視化して所望の記録画像を得る画像形成装置において、潜像担持体を光走査する光走査装置として、請求項１〜１０または請求項１１記載のマルチビーム走査装置を用いたものであり（請求項１６，１７）、潜像担持体２０は光導電性の感光体であり、その均一帯電と光走査とにより静電潜像が形成され、形成された静電潜像がトナー画像として可視化される（請求項１８）。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】マルチビーム走査装置の参考例を説明するための図である。
【図２】光源装置の１形態例を説明するための図である。
【図３】図２の形態例の光源装置を説明するための図である。
【図４】図２，３に示す光源装置を用いたときの光スポットの形成状態の１例を説明するための図である。
【図５】図２，３に示す光源装置における発光部とカップリングレンズの位置関係の別例を説明するための図である。
【図６】請求項１記載の発明における、光源装置の実施の形態を説明するための図である。
【図７】請求項１記載の発明における、各光ビームの個別的な検出の条件を説明するための図である。
【図８】請求項１記載の発明における光源装置の具体的１例を説明するための図である。
【図９】図８の光源装置を２個組み合わせ、ビーム合成手段であるプリズムでビーム合成する光源装置の１例を説明するための図である。
【図１０】請求項１０記載の発明の利点を説明するための図である。
【図１１】請求項１０記載のマルチビーム走査装置における光源装置の１例を説明するための図である。
【図１２】画像形成装置の実施の１形態を説明するための図である。
【符号の説明】
【００４０】
１ａ、１ｂ、１ｃ      半導体レーザ
２ａ、２ｂ、２ｃ      カップリングレンズ
１０      光源装置
１２      シリンドリカルレンズ（線像結像光学系）
１４      回転多面鏡（光偏向器）
１６      ｆθレンズ（走査結像光学系）
２０      感光体（被走査面の実体をなす）
２２      平面鏡
２４      フォトセンサ
【図１】
2007188092.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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