(57)【要約】【課題】支持体上に凹凸構造を有する塗布膜を安定して形成する塗布方法を提供すること。【解決手段】版胴上に形成された凹及び凸部に塗布液を供給し、前記凹及び凸部に供給された塗布液を連続走行する支持体上に転写した後、活性光線又は熱線で硬化することを特徴とする塗布方法。【選択図】図２
2007117935.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
版胴上に形成された凹及び凸部に塗布液を供給し、前記凹及び凸部に供給された塗布液を連続走行する支持体上に転写した後、活性光線又は熱線で硬化することを特徴とする塗布方法。
【請求項２】
弾性を有する前記版胴と対向してバックアップローラが配置され、前記版胴と前記バックアップローラとは前記支持体を介して接触するとともに、前記版胴と前記バックアップローラとの接触圧が変更可能であることを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、連続走行する支持体に凹凸を有する塗布膜を形成する塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子情報に基づいて、静止画像や動画を表示するための表示装置として、ＣＲＴ表示装置、液晶表示装置、プラズマ表示装置等の様々な表示装置が用いられている。
【０００３】
例えば、液晶表示装置で画像を眺めると、画面に室内の照明装置や太陽が写って見えることがあり、画像の視認性を著しく損なってしまう。
【０００４】
このように、画面に室内の照明装置や、太陽が写って見えるのを防止する目的として防眩性フイルムが用いられているが、この防眩性フイルムの製造方法について様々な提案がされている。
【０００５】
その１つとして、均一に塗布された塗布膜に凹凸を持った版を押し当ててエンボス加工を行うことにより、微細な凹凸構造を有する塗布膜を備えた防眩性フイルムを得る方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
又、均一に塗布された塗布膜の表面に、微細な凹凸を有するマット状の賦型フィルムをラミネートして、塗膜硬化後に賦型フィルムを剥離して防眩性フイルムを得る方法が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００４−２９２４０号公報
【特許文献２】特開平６−１６８５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載された方法では、エンボス版が塗布膜と接触し回転している間に、エンボス板の凹部に塗布膜の一部が付着してしまい凹凸高さが変化する恐れがある。また、長時間運転時には凹部に付着した塗布膜が剥がれて異物となり、フイルム上に転写して故障の原因となる確率が増加する。更に、経時的に見て、エンボス加工した凹凸が戻ってしまう恐れがある。
【０００８】
また、特許文献２に記載された方法では、第一に賦型フィルムは剥離後に使用できず廃棄物が多く出てしまう問題がある。第二に塗布膜の厚み変動などにより賦型フィルムを引き剥がす際に塗布膜を破壊する場合がある。
【０００９】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、支持体上に凹凸構造を有する塗布膜を安定して形成する塗布方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の目的は、下記の構成により達成することが出来る。
１．版胴上に形成された凹及び凸部に塗布液を供給し、前記凹及び凸部に供給された塗布液を連続走行する支持体上に転写した後、活性光線又は熱線で硬化することを特徴とする塗布方法。
２．弾性を有する前記版胴と対向してバックアップローラが配置され、前記版胴と前記バックアップローラとは前記支持体を介して接触するとともに、前記版胴と前記バックアップローラとの接触圧が変更可能であることを特徴とする１に記載の塗布方法。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１の発明によれば、版胴上に形成された凹及び凸部に塗布液を供給し、前記凹及び凸部に供給された塗布液を連続走行する支持体上に転写し、転写後活性光線又は熱線で硬化することにより、凹凸部の再現性に優れ、故障原因となる異物等の発生がなく、経時的にも凹凸が変化せず安定した塗布膜を得ることが出来る。
【００１２】
請求項２の発明によれば、請求項１の発明に加え、弾性を有する版胴とバックアップローラとを支持体を介して接触させ、かつ、接触圧を変更可能にしたことにより、凹凸度合の異なる製品の要求に対して、版胴を変更することなく迅速に対応することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の実施の形態の一例を図面を用いて説明する。
【００１４】
なお、本欄の記載は請求項の技術的範囲や用語の意義を限定するものではない。また、以下の本発明の実施の形態における断定的な説明は、ベストモードを示すものであって、本発明の用語の意義や技術的範囲を限定するものではない。
【００１５】
図１は支持体上の塗布膜に凹凸を形成するための塗布装置１００の概略構成図である。
【００１６】
１０１はプラスチックフイルムからなる支持体で、不図示の元巻き装置から繰り出され、図の矢印の方向に回転するバックアップローラ１０２に抱かれながら連続走行する。
【００１７】
１０３はバックアップローラ１０２と対向配置され、かつ、支持体１０１を介してバックアップローラ１０２と所定の接触圧で接触する版胴であり、その上方には塗布機１０４が設けられている。
【００１８】
版胴１０３は、シームレスの版胴本体１０３Ａ、版胴本体１０３Ａを支持する支持ロール１０３Ｂ等から構成されている。
【００１９】
１０５は支持体１０１上に転写された塗布液１０６を活性光線又は熱線により硬化させるための硬化装置である。
【００２０】
本発明に使用することが出来る活性光線としては、紫外線、電子線、γ線等で、パターン状に形成された活性光線硬化型樹脂を活性化させる光源であれば制限なく使用出来るが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は１ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、更に好ましくは、２０ｍＪ／ｃｍ２〜１００００ｍＪ／ｃｍ２であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ２〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００２１】
また、電子線も同様に使用出来る。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることが出来る。
【００２２】
熱線としては、例えば、電力、蒸気等により加熱して得られる熱線等を使用することが出来る。
【００２３】
１０２Ａはバックアップローラ１０２の回転軸で、塗布装置１００の両側側板１００Ａに回転可能に支持されている。
【００２４】
１０６Ａは版胴１０６の回転軸で、スライドブロック１０７に回転可能に支持され、スライドブロック１０７は、両側側板１００Ａに設けた図１の水平方向の略長方形の穴１００Ｂにスライド可能に保持されている。
【００２５】
１０８は接触圧変更ボルトで、両側側板１００Ａから立ち上がった雌ネジ部１００Ｃに螺合するとともに、その先端はスライドブロック１０７の左側面に当接している。
【００２６】
１０９は圧縮バネで、スライドブロック１０７の右側面と穴１００Ｂの端面との間に挿入され、スライドブロック１０７を図１の左方向に付勢している。
【００２７】
斯かる構成によって、接触圧変更ボルト１０９を回転すると、スライドブロック１０７が図１の左右方向に移動して、版胴１０６のバックアップローラ１０２に対する接触圧が変更可能となる。
【００２８】
塗布機１０４としては、塗布液１０６を定量供給出来るものであれば特に限定されるものではなく、例えば、定量供給可能なディスペンサー、エクストルージョンン型ダイヘッド、カーテンコータ等を使用することが出来る。
【００２９】
版胴本体１０３Ａとしては、弾性があり、精度が確保出来るものであれば特に限定されるものではなく、例えば、フレキソ印刷に用いられる樹脂、ゴム等を使用することが可能である。版胴本体１０３Ａの凹凸の形成は、レーザ加工、エッチング等を用いて作成可能である。
【００３０】
版胴本体１０３Ａのゴム硬度は３０〜８０度の範囲であることが好ましく、精度よく安定した微細凹凸構造の転移印刷を行う上で樹脂版のゴム硬度がこの範囲にあることが好ましい。版胴本体１０３Ａのゴム硬度は、厚みによっても影響される為、厚みが０．５〜１０ｍｍの範囲の樹脂版において３０〜８０度の範囲であることが好ましい。より好ましくは４０〜８０度の範囲である。
【００３１】
版胴本体１０３Ａのゴム硬度が３０度未満であると、版が柔らか過ぎて所望の微細凹凸構造を形成するのに難があり、また版自体も摩耗し易くなる為好ましくない。ゴム硬度が８０度を超えると、版胴が高速回転して印刷する際の柔軟性に欠け塗布液１０６の転移量の再現性に乏しくなる。ゴム硬度はＪＩＳ  Ｋ  ６２５３に記載の方法に準じてデュロメータ等で測定した値で示される。
【００３２】
支持ロール１０３Ｂとしては、強度を維持できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、鉄、ステンレス、アルミ等の金属等の材料を使用することが可能である。
【００３３】
支持体１０１としては、製造が容易であること、塗布液との接着性が良好であること、等が好ましい要件として挙げられ、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等を使用することが可能である。
【００３４】
塗布液１０６としては、凹凸が形成可能で、支持体１０１との接着性が良好であれば、活性光線硬化型樹脂、熱硬化性樹脂が溶解された溶剤系塗布液、水溶性塗布液のどちらでも良い。
【００３５】
活性光線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性光線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である。活性光線硬化型樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性光線照射によって硬化する樹脂でもよい。
【００３６】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。
【００３７】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【００３８】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報）。
【００３９】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。
【００４０】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。
【００４１】
熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることが出来る。
【００４２】
不飽和ポリエステル樹脂としては、例えば、オルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは被膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂（ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど）を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Ｂｒ２でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはＩＰＮ化した強靭性（高強度、高弾性率、高伸び率）の強靭性樹脂等がある。
【００４３】
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールＦ型、臭素化ビスフェノールＡ型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。
【００４４】
ビニルエステル樹脂としては、例えば、普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーをスチレン等のモノマーに溶解した物である。また、分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えば、ビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としてはビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。
【００４５】
フェノール樹脂は、フェノール類とフォルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。
【００４６】
熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えば、マレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・Ｏ，Ｏ′−ジアリルビスフェノール−Ａ樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。
【００４７】
また、上述した活性光線硬化型樹脂の一部も、熱硬化性樹脂として用いることが出来る。
【００４８】
次に、斯かる構成の塗布装置１００の動作について説明する。
【００４９】
不図示の元巻き装置から繰り出された支持体１０１はバックアップローラ１０２に抱かれて走行する。
【００５０】
図２に示すように、版胴１０３上の凹部及び凸部に塗布機１０４から塗布液１０６が供給される。版胴１０３とバックアップローラ１０２とは所定の接触圧で接触しており、このような接触圧の条件下で、供給された塗布液１０６は版胴１０３の回転に伴いバックアップローラ１０２上に抱かれて連続走行する支持体１０１上に転写される。版胴１０３表面には凹凸部が形成されているため、支持体１０１上に転写された塗布液１０６にも前記凹凸部に対応した凹凸が形成される。
【００５１】
塗布液１０６が転写された支持体１０１は硬化装置１０５で硬化され、支持体１０１上に凹凸を有する塗布膜１０６Ａが形成され、不図示の巻き取り装置に巻き取られる。
【００５２】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。本実施例では、熱線による硬化装置１０５を備えた塗布装置１００を用いた。
【実施例】
【００５３】
支持体１０１として、厚さ７５μｍ、幅６００ｍｍのポリエチレンテレフタレートフイルム、塗布液１０６として、純水にポリビニルアルコールを固形分濃度として１質量％となるように溶解し、更に、活性剤を添加して濡れ性をコントロールしたものを使用した。
【００５４】
塗布液１０６の粘度、濡れ性を測定したところ、粘度はＢ型粘度計で２５℃で５．２ｍＰａ・ｓ、濡れ性を表す表面張力は３４．５ｄｙｎｅ／ｃｍであった。
【００５５】
版胴本体１０３Ａのゴム硬度は５０度の樹脂製であり、凹凸は０．１ｍｍである。
【００５６】
また、塗布幅（転写幅）は５００ｍｍ、塗布速度は５０Ｍ／ｍｉｎである。
【００５７】
以上の条件における実験結果を表１に示す。
【００５８】
【表１】
2007117935.tif 000003
【００５９】
表１に示すように、版胴押し込み量、即ち、版胴１０６とバックアップローラ１０２との接触圧を変化させることにより、支持体１０１上にそれぞれの押し込み量に比例した凹凸を得ることが出来た。
【００６０】
また、作製サンプルの断面を観察した結果、図３（ａ）に示すように、支持体１０１上の全ての領域において塗布膜１０６Ａの凹凸が観察された。一方、凸部にのみ塗布液を供給した場合には、図３（ｂ）に示すように、支持体１０１上に塗布膜１０６Ａが無いところが観察された。
【００６１】
図３（ｂ）のように、支持体１０１上に塗布膜１０６Ａが無い部分が存在すると、例えば、液晶表示装置等の防眩フイルムとして用いた場合、塗布膜１０６Ａが無い部分とある部分では、光の反射、透過特性が大きく変わってしまい、所期の目的を達成することが出来なくなる。本実施例のように、支持体上１０１上の全ての部分に塗布膜１０６Ａが存在すると、光の反射、透過特性が大きく変化してしまうことを防止できる。
【００６２】
以上説明したように、版胴上に形成された凹及び凸部に塗布液を供給し、前記凹及び凸部に供給された塗布液を連続走行する支持体上に転写することにより、凹凸部の再現性に優れ、故障原因となる異物等の発生がなく、経時的にも凹凸が変化せず安定した塗布膜を得ることが出来る。
【００６３】
また、弾性を有する版胴とバックアップローラとを支持体を介して接触させ、かつ、接触圧を変更可能にしたことにより、凹凸度合の変更要求に対して、版胴を変更することなく迅速に対応することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】塗布装置の概略構成図。
【図２】塗布装置の要部拡大図。
【図３】塗布膜が形成された支持体の断面図。
【符号の説明】
【００６５】
１００  塗布装置
１００Ａ  両側側板
１００Ｂ  穴
１００Ｃ  雌ネジ部
１０１  支持体
１０２  バックアップローラ
１０２Ａ、１０６Ａ  回転軸
１０３  版胴
１０３Ａ  版胴本体
１０３Ｂ  支持ロール
１０４  塗布機
１０５  硬化装置
１０６  塗布液
１０６Ａ  塗布膜
１０７  スライドブロック
１０８  接触圧変更ボルト
１０９  圧縮バネ
【図１】
2007117935.tif 000004
【図２】
2007117935.tif 000005
【図３】
2007117935.tif 000006