(57)【要約】【課題】窒素原子を配位原子とする多座配位子化合物として有用な、新規なスルホンアミド化合物を提供する。【解決手段】  下記一般式（Ｉ）で表されるスルホンアミド化合物。2007070235.tif 000011  （式中、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、互いに同一でも異なっていても良い。Ｒ１およびＲ３は置換されてもよい炭化水素基を表し、すべてのＲ１およびＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２およびＲ４は置換されてもよい２価の炭化水素基を表し、すべてのＲ２およびＲ４は同一でも異なっていてもよい。Ｒ１〜Ｒ４から選ばれる２つの基が互いに結合して５〜８員環を形成しても良い。Ａｒは芳香環を含む二価の有機基である。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）で表されるスルホンアミド化合物。
【化１】
2007070235.tif 000010
（式中、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、互いに同一でも異なっていても良い。Ｒ１およびＲ３は置換されてもよい炭化水素基を表し、すべてのＲ１およびＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２およびＲ４は置換されてもよい２価の炭化水素基を表し、すべてのＲ２およびＲ４は同一でも異なっていてもよい。Ｒ１〜Ｒ４から選ばれる２つの基が互いに結合して５〜８員環を形成しても良い。Ａｒは芳香環を含む二価の有機基である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はスルホンアミド化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
窒素原子を配位原子とする多座配位子化合物は、金属と錯体を形成することで種々の化学反応の触媒機能を有することが知られており、その例としてジアミン化合物の銅錯体により２，３−ジヒドロキシナフタレンの不斉酸化重合がおこること（非特許文献１）、トリアミン化合物の銅錯体により４−フェノキシフェノールの高選択的酸化重合がおこること、報告されている（非特許文献２）。
【非特許文献１】Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，  ３６，  ２６０４  （２００３）
【非特許文献２】Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．  １２０，  ８５２９  （１９９８）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、窒素原子を配位原子とする多座配位子化合物として有用な、新規なスルホンアミド化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
即ち、本発明は、下記一般式（Ｉ）で表されるスルホンアミド化合物を提供するものである。
【化１】
2007070235.tif 000002
（式中、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、互いに同一でも異なっていても良い。Ｒ１およびＲ３は置換されてもよい炭化水素基を表し、すべてのＲ１およびＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。Ｒ２およびＲ４は置換されてもよい２価の炭化水素基を表し、すべてのＲ２およびＲ４は同一でも異なっていてもよい。Ｒ１〜Ｒ４から選ばれる２つの基が互いに結合して５〜８員環を形成しても良い。Ａｒは芳香環を含む二価の有機基である。）
【発明の効果】
【０００５】
本発明のスルホンアミド化合物は、酸化重合触媒の金属錯体の配位子として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明のスルホンアミド化合物は、上記一般式（Ｉ）で表されるスルホンアミド化合物である。
【０００７】
上記一般式（Ｉ）において、ｍおよびｎは１以上の整数を表し、互いに同一でも異なっていても良い。ｍおよびｎとして、１〜６の整数が好ましく、１〜４の整数がより好ましく、１または２がさらに好ましく、１が特に好ましい。
【０００８】
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１およびＲ３は置換されてもよい炭化水素基を表し、すべてのＲ１およびＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。
【０００９】
Ｒ１およびＲ３の置換されても良い炭化水素基における炭化水素基として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ノニル基、ドデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、ドコシル基等の炭素数１〜５０程度、好ましくは１〜１６、より好ましくは１〜８、特に好ましくは炭素数１〜４（もしくは１〜３）のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロノニル基、シクロドデシル基、ノルボニル基、アダマンチル基等の炭素数３〜５０程度、好ましくは３〜１６、より好ましくは３〜８の環状飽和炭化水素基；エテニル基、プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基、２−ノネニル基、２−ドデセニル基等の炭素数２〜５０程度、好ましくは２〜１６、より好ましくは２〜８のアルケニル基；フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ブチルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、４−ヘキシルフェニル基、４−シクロヘキシルフェニル基、４−アダマンチルフェニル基、４−フェニルフェニル基等の炭素数６〜５０程度、好ましくは６〜２０、より好ましくは６〜１２のアリール基；フェニルメチル基、１−フェニレンエチル基、２−フェニルエチル基、１−フェニル−１−プロピル基、１−フェニル−２−プロピル基、２−フェニル−２−プロピル基、１−フェニル−３−プロピル基、１−フェニル−４−ブチル基、１−フェニル−５−ペンチル基、１−フェニル−６−ヘキシル基等の炭素数７〜５０程度、好ましくは７〜２０、より好ましくは７〜１２のアラルキル基が挙げられる。
【００１０】
Ｒ１およびＲ３の置換されてもよい炭化水素基において置換してもよい基として、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、アミノ基、ホスフィノ基、置換されてもよい炭化水素基、置換されてもよい炭化水素オキシ基、置換されてもよい炭化水素メルカプト基、置換されてもよい炭化水素アミノ基、置換されてもよい炭化水素ホスフィノ基である。これらの中で置換されてもよい基は、ここに挙げる置換してもよい基で、さらに置換されてもよい。
【００１１】
上記のハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子であり、さらに好ましくはフッ素原子である。
【００１２】
上記の炭化水素オキシ基、炭化水素メルカプト基とはそれぞれ、水酸基、メルカプト基に前記の炭化水素基が置換された基である。
【００１３】
上記の炭化水素アミノ基、炭化水素ホスフィノ基とはそれぞれ、アミノ基、ホスフィノ基に前記の炭化水素基が一つまたは二つ置換された基である。
上記の置換していてもよい炭化水素基としては、上記の基Ｒ１およびＲ３について説明した置換していてもよい炭化水素基をあげることができる。
【００１４】
Ｒ１およびＲ３の置換されてもよい炭化水素基において置換してもよい基として、好ましくはハロゲン原子、置換されてもよい炭化水素基、置換されてもよい炭化水素オキシ基、置換されてもよい炭化水素メルカプト基、置換されてもよい炭化水素アミノ基、置換されてもよい炭化水素ホスフィノ基であり、より好ましくはハロゲン原子、置換されてもよい炭化水素基、置換されてもよい炭化水素オキシ基であり、さらに好ましくはハロゲン原子、置換されてもよい炭化水素基である。
【００１５】
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ２およびＲ４は置換されてもよい２価の炭化水素基を表し、すべてのＲ２およびＲ４は同一でも異なっていてもよい。
【００１６】
Ｒ２およびＲ４における２価の炭化水素基としては、メチレン基、１，１−エチレン基、１，２−エチレン基、１，２−プロピレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基、１，２−ブチレン基、１，２−ペンチレン基、１，２−へキシレン基、１，２−ノニレン基、１，２−ドデシレン基等の炭素数１〜２０、好ましくは２〜１２、より好ましくは２〜６のアルキレン基；１，２−シクロプロピレン基、１，２−シクロブチレン基、１，３−シクロブチレン基、１，２−シクロペンチレン基、１，２−シクロへキシレン基、１，２−シクロノニレン基、１，２−シクロドデシレン等の炭素数３〜２０、好ましくは３〜１２、より好ましくは３〜６のシクロアルキレン基；１，１−エテニレン基、１，２−エテニレン基、１，２−エテニレンメチレン基、１−メチルー１，２−エテニレン基、１，２−エテニレンー１，１−エチレン基、１，２−エテニレンー１，２−エチレン基、１，２−エテニレンー１，２−プロピレン基、１，２−エテニレンー１，３−プロピレン基、１，２−エテニレンー１，４−ブチレン基、１，２−エテニレンー１，２−ブチレン基、１，２−エテニレンー１，２−ヘプチレン基、１，２−エテニレンー１，２−デシレン基等の炭素数２〜２０、好ましくは２〜１２、より好ましくは２〜６のアルケニレン基；エチニレン基、エチニレンメチレン基、エチニレンー１，１−エチレン基、エチニレンー１，２−エチレン基、エチニレンー１，２−プロピレン基、エチニレンー１，３−プロピレン基、エチニレンー１，４−ブチレン基、エチニレンー１，２−ブチレン基、エチニレンー１，２−ヘプチレン基、エチニレンー１，２−ドデシレン基等の炭素数２〜２０、好ましくは２〜１２、より好ましくは２〜６のアルキニレン基；１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、１，２−ナフチレン基、１，４−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２，３−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、３−フェニルー１，２−フェニレン基、２，２’−ジフェニレン基等の炭素数６〜２０、好ましくは６〜１６、より好ましくは６〜１２のアリーレン基；１，２−フェニレンメチレン基、１，３−フェニレンメチレン基、１，４−フェニレンメチレン基、１，２−フェニレンー１，１−エチレン基、１，２−フェニレンー１，２−エチレン基、１，２−フェニレンー１，２−プロピレン基、１，２−フェニレンー１，３−プロピレン基、１，２−フェニレンー１，４−ブチレン基、１，２−フェニレンー１，２−ブチレン基、１，２−フェニレンー１，２−ヘキシレン基、メチレン―１，２−フェニレンメチレン基、メチレン―１，３−フェニレンメチレン基、メチレン―１，４−フェニレンメチレン基等の炭素数７〜２０、好ましくは７〜１６、より好ましくは７〜１２のアリーレン基とアルキレン基からなる二官能炭化水素基があげられる。
【００１７】
Ｒ２およびＲ４の２価の炭化水素基において置換してもよい基とは、Ｒ１およびＲ３についてあげた１価の炭化水素基に置換してもよい基と同じ範囲の基であり、具体例、好ましい例も同じである。
【００１８】
上記一般式（Ｉ）のＲ２およびＲ４における置換されてもよい２価の炭化水素基として、好ましくは炭素数２〜２０のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基およびアリーレン基とアルキレン基からなる二官能炭化水素基であり、より好ましくは炭素数２〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基およびアリーレン基とアルキレン基からなる二官能炭化水素基であり、さらに好ましくは炭素原子数２〜８のアルキレン基、シクロアルキレン基およびアリーレン基とアルキレン基からなる二官能炭化水素基である。特に好ましくは１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基である。
【００１９】
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１〜Ｒ４から選ばれる２つの基が互いに結合して５〜８員環を形成しても良い。この形成される環は、５〜７員環がより好ましく、５または６員環がさらに好ましい。この形成される環は窒素原子を少なくとも１個有し、酸素原子、硫黄原子などを有していてもよい含窒素ヘテロ環である。
【００２０】
（Ｒ１）２Ｎ−＊  または（Ｒ３）２Ｎ−＊  の構造において、Ｒ１とＲ１またはＲ３とＲ３が環を形成する場合、具体例として、
【００２１】
【化２】
2007070235.tif 000003
が挙げられ、＊−ＮＲ１−Ｒ２−ＮＲ１−＊  または  ＊−ＮＲ３−Ｒ４−ＮＲ３−＊  の構造において、Ｒ１とＲ１またはＲ３とＲ３が環を形成する場合、具体例として、
【００２２】
【化３】
2007070235.tif 000004
が挙げられ、＊−Ｒ２−ＮＲ１−＊  または  ＊−Ｒ４−ＮＲ３−＊  の構造において、Ｒ１とＲ２またはＲ３とＲ４が環を形成する場合、具体例として、
【００２３】
【化４】
2007070235.tif 000005
【００２４】
が挙げられ、＊−Ｒ２−ＮＲ１−Ｒ２−＊  または  ＊−Ｒ４−ＮＲ３−Ｒ４−＊  の構造において、Ｒ２とＲ２またはＲ４とＲ４が環を形成する場合、具体例として、
【００２５】
【化５】
2007070235.tif 000006
【００２６】
（ただし、Ｒ５はＲ１またはＲ３を表す。）
が挙げられる。この中で、１〜１２が好ましく、１、２、３、４、５、６、９、１０がより好ましく、１、２、３、４、５がさらに好ましい。
【００２７】
前記の構造１〜２１において、水素原子の結合した炭素原子に、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素オキシ基、炭化水素二置換アミノ基、炭化水素メルカプト基、炭化水素カルボニル基、炭化水素オキシカルボニル基、炭化水素二置換アミノカルボニル基、炭化水素スルホニル基が置換してもよい。これらの置換してもよい基とは、Ｒ１およびＲ３の炭化水素基におけるそれらと同じものがあげられ、具体例および好ましい例も同じである。
【００２８】
上記一般式（Ｉ）において、Ａｒは芳香環を含む二価の有機基である。
【００２９】
Ａｒにおける芳香環を含む二価の有機基の基本骨格として、ベンゼン環、ピリジン環、１，２−ジアジン環、１，３−ジアジン環、１，４−ジアジン環、１，３，５−トリアジン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、アザジアゾール環の単環性芳香環；該単環性芳香環の中から互いに独立に選んだ２つ以上を縮環した縮環性芳香環；該単環性芳香環及び／又は該縮環性芳香環の中から互いに独立に選んだ２つ以上を、単結合、メチレン基、エチレン基、エテニレン基、エチニレン基、酸素原子、硫黄原子、イミノ基、カルボニル基、スルホニル基で連結した多環性芳香環；該縮環性芳香環または該多環性芳香環の隣り合う２つの芳香環をメチレン基、エチレン基、カルボニル基、スルホニル基で渡環した構造を１つ以上有する渡環性芳香環を挙げることができる。該基本骨格として、単環性芳香環、縮環性芳香環、多環性芳香環が好ましく、ベンゼン環、ピリジン環、ピロール環、ナフタレン環、ジフェニル環がより好ましく、ベンゼン環、ナフタレン環、ジフェニル環がさらに好ましい。
【００３０】
Ａｒにおける前記の基本骨格において、水素原子の結合した芳香環上の炭素原子２つから、それぞれ水素原子を１つずつ取り除くことにより、芳香環を含む二価の有機基となる。Ａｒにおける芳香環を含む二価の有機基としては、１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、１，２−ナフチレン基、１，４−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２，３−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、３−フェニルー１，２−フェニレン基、２，２’−ジフェニレン基、３，３’−ジフェニレン基、４，４’−ジフェニレン基が好ましく、１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、２，２’−ジフェニレン基、４，４’−ジフェニレン基がより好ましく、１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、４，４’−ジフェニレン基がさらに好ましく、１，４−フェニレン基、４，４’−ジフェニレン基が特に好ましい。
【００３１】
上記Ａｒの芳香環を含む二官能性の有機基において、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素オキシ基、炭化水素二置換アミノ基、炭化水素メルカプト基、炭化水素カルボニル基、炭化水素オキシカルボニル基、炭化水素二置換アミノカルボニル基、炭化水素スルホニル基が置換してもよい。これらの置換してもよい基とは、Ｒ１およびＲ３の炭化水素基におけるそれらと同じ定義であり、具体例および好ましい例も同じである。
一般式（Ｉ）で表される化合物は例えば次の反応式に従って合成できる。
【００３２】
【化６】
2007070235.tif 000007
【００３３】
（式中、ｍ、ｎ、Ｒ１〜Ｒ４は一般式（Ｉ）のそれらと同じ定義である。）
反応条件に特に制限はないが、好ましい条件を次に示す。化合物（Ｉｃ）に０．５当量の化合物（Ｉａ）および０．５当量の化合物（Ｉｂ）を加えて、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル等の有機溶媒中で−２０〜１００℃で０．１〜１００時間反応させて、必要なら精製することにより、一般式（Ｉ）で表される化合物が得られる。
【００３４】
本発明のスルホンアミド化合物は、金属錯体の配位子として用いることができる。配位子として本発明のスルホンアミド化合物を有する金属錯体における金属原子としては、金属元素の原子であれば特に制限はないが、周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版１９８９）の第１〜１２族の金属原子が好ましく、第３〜１２族の金属原子がより好ましく、さらに好ましくは第一遷移金属系列の金属原子である。又、場合によってはランタン系列、アクチニウム系列に属する金属であってもよい。例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｆｒ、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｒａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｌｒ等が挙げられ、好ましくはＳｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎであり、特に好ましくはＣｕ原子である。該金属錯体における金属原子の価数は、自然界に通常存在するものを適宜選択して使用することができ、例えば銅の場合は１または２価の銅を用いることができる。
【００３５】
本発明のスルホンアミド化合物を配位子として有する金属錯体には、電気的中性を保たせるようなカウンターイオンが必要な場合がある。カウンターアニオンとしては、通常ブレンステッド酸の共役塩基が使用される。例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、炭酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボーレートイオン、ヘキサフルオロホスフェイトイオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、水酸化物イオン、酸化物イオン、メトキサイドイオン、エトキサイドイオン等が挙げられる。この内、好ましくは塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、水酸化物イオンまたはメトキサイドイオンであり、さらに好ましくは塩化物イオン、臭化物イオン、硫酸イオンまたは硝酸イオンである。なお、カウンターカチオンとしては、アルカリ金属やアルカリ土類金属等のカチオンを適宜用いることができる。
【００３６】
該金属錯体は、種々の化学反応に対して触媒機能を有し得る。例えば、芳香族化合物の酸化重合の触媒として有用である。
また、該金属錯体は、複核金属錯体となり得るので、酸化重合反応に用いた場合には、酸化重合反応の活性を向上させ得る。
【実施例】
【００３７】
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【００３８】
実施例１
次のスキームに従い、スルホンアミド化合物（ＩＩＩ）の合成を行った。
【００３９】
【化７】
2007070235.tif 000008
【００４０】
窒素置換した反応容器に化合物（ＩＩ）  （０．３７  ｍＬ，  ２．８  ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．０  ｍＬ，  １４  ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン５  ｍＬを入れ、これに４，４’−ビフェニルジスルホニルクロライド  （０．５  ｇ，  １．４  ｍｍｏｌ）を加え、室温で１２時間攪拌した。水−クロロホルムで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し粗生成物を得た。これを再結晶（クロロホルム−ヘキサン）により精製した。化合物（ＩＩＩ）が収率９１％で得られた。
融点１１５．５−１１６．８℃  １Ｈ  ＮＭＲ  （２００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  d  ２．２７  （ｓ，  １２Ｈ，  −ＮＣＨ３），  ２．５３  （ｔ，  ４Ｈ，  Ｊ  ＝  ７．０  Ｈｚ，  −ＮＣＨ２−），  ２．８５  （ｓ，  ６Ｈ，  −ＮＣＨ３），  ３．１９  （ｔ，  ４Ｈ，  Ｊ  ＝  ７．０  Ｈｚ，  −ＮＣＨ２−），  ７．７２−７．７７  （ｍ，  ４Ｈ，  ａｒｏｍａｔｉｃ），  ７．９２−７．９９  （ｍ，  ４Ｈ，  ａｒｏｍａｔｉｃ）．  ＩＲ  （ＫＢｒ，  ｃｍ-１）：  ２９４３，  １５９３，  １３３６，  １１５７，  １０９０，  ９８０．ＭＳ  （ＦＡＢ）：  ４８３  （［Ｍ  ＋  １］＋）．
【００４１】
実施例２
実施例１と同様にして、構造式（Ｖ）で表されるスルホンアミド化合物の合成を行った。
【００４２】
【化８】
2007070235.tif 000009
化合物（ＩＶ）  （０．４６  ｍＬ，  ２．８  ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．０  ｍＬ，  １４  ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン５  ｍＬ、４，４’−ビフェニルジスルホニルクロライド  （０．５  ｇ，  １．４  ｍｍｏｌ）を用い、室温で１２時間反応を行い、生成物を再結晶（クロロホルム−ヘキサン）により精製した。化合物（Ｖ）が収率９６％で得られた。
融点１５１．８−１５３．０℃．  比旋光度［a］２５Ｄ  −１７９  （ｃ  ＝  ０．１９，  ＣＨＣｌ３）．  １Ｈ  ＮＭＲ  （２００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）：  d  １．５６−１．９６  （ｍ，  １６Ｈ，  −ＣＨ２−），  ２．５８−２．８３  （ｍ，  １２Ｈ，  −ＮＣＨ２−），  ３．１４−３．２４  （ｍ，  ２Ｈ，  −ＮＣＨ２−），  ３．４１−３．５２  （ｍ，  ２Ｈ，  −ＮＣＨ２−），  ３．７２−３．８１  （ｍ，  ２Ｈ，  −ＮＣＨ２−），  ７．７３−７．７９  （ｍ，  ４Ｈ，  ａｒｏｍａｔｉｃ），  ７．９３−７．９８  （ｍ，  ４Ｈ，  ａｒｏｍａｔｉｃ）．  ＩＲ  （ＫＢｒ，  ｃｍ-１）：  ２９５８，  １５９２，  １４６０，  １３４６，  １２０１，  １１６１，  １０９３，  １０４１，  ９８９．  ＭＳ  （ＦＡＢ）：  ５８７  （［Ｍ  ＋  １］＋）．  
【００４３】
参考例１
上記化合物（ＩＩＩ）の銅錯体を用いた２，３−ジヒドロキシナフタレンの酸化重合を行った。シュレンクチューブに、ＣｕＣｌ２  ０．１２ｍｍｏｌ、塩化メチレン−メタノール（７：１）  ３．５ｍＬ、化合物（ＩＩＩ）０．１２ｍｍｏｌを加え、酸素雰囲気として、３０分間攪拌した。２，３−ジヒドロキシナフタレン  １．２ｍｍｏｌを加え、室温で４８時間攪拌した。反応混合物を真空下、濃縮し、窒素雰囲気とした後、室温で、塩化メチレン５ｍＬ、ピリジン１．５ｍＬおよび塩化アセチル１．２ｍＬを加え、１２時間攪拌した。得られた反応混合物を少量の塩酸を含むメタノール１００ｍＬに落とし、沈殿物を遠心分離することにより回収した後、６０℃で真空乾燥した。ポリ（２，３−ジアセトキシ−１，４−ナフタレン）が収率６２％で得られ、ＴＨＦ可溶部の数平均分子量は２７００（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定、ＴＨＦ中）であった。
【００４４】
参考例２
参考例１と同様にして、上記化合物（Ｖ）で表されるリン酸エステル化合物の銅錯体を用いた２，３−ジヒドロキシナフタレンの酸化重合を行い、得られたポリマーを分析した。ポリ（２，３−ジアセトキシ−１，４−ナフタレン）が収率６４％で得られ、ＴＨＦ可溶部の数平均分子量は４１００、比旋光度［a］Ｄ  は  +5であった。