(57)【要約】【課題】基板に放射線硬化性樹脂を塗布した場合に、基板の外周端部近傍で表面張力により盛り上がった放射線硬化性樹脂の厚さムラを抑制すると共に、基板外側へのバリ発生を抑制できる光情報記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】光情報記録媒体の製造方法は、少なくとも１層の信号記録層を有する基板と光透過させる樹脂層とを含む光情報記録媒体の製造方法であって、放射線硬化性樹脂を前記基板上に塗布する工程と、前記基板の回転数を第１の回転数に達するまで加速させた後に、前記回転数を減速させ、前記回転数の減速中に放射線を照射して、前記放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させて樹脂層を形成する工程とを含む。【選択図】図５
2007052893.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１層の信号記録層を有する基板と光透過させる樹脂層とを含む光情報記録媒体の製造方法であって、
放射線硬化性樹脂を前記基板上に塗布する工程と、
前記基板の回転数を加速させ、第１の回転数に達した後に、前記回転数を減速させ、前記回転数の減速中に放射線を照射して、前記放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させて樹脂層を形成する工程と
を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記樹脂層を形成する工程において、前記第１の回転数より低い第２の回転数に達した後、放射線を照射して、前記放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させて樹脂層を形成することを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記樹脂層を形成する工程において、前記基板を前記第２の回転数で一定時間回転させながら放射線を照射し、前記放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させて樹脂層を形成することを特徴とする請求項２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記樹脂層を形成する工程において、前記基板の外径と同じか又は前記外径より小さい内径の円形の穴を有する遮光マスクを、前記遮光マスクの前記穴が前記基板と同心円状に配置して、前記遮光マスクを介して前記基板に放射線を照射して、前記放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させて樹脂層を形成することを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記樹脂層を形成する工程の後に、前記基板の回転数を前記第１の回転数より高い所定の回転数以上に加速して、前記基板の外周端部の前記放射線硬化樹脂を振り切る工程をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記基板の外周端部の前記放射線硬化樹脂を振り切る工程の後に、前記基板の外周端部に放射線を照射して、前記基板の外周端部の前記放射線硬化樹脂を硬化させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記放射線硬化性樹脂の塗布工程は、スピンコート法によって行うことを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記放射線硬化性樹脂の塗布工程において、中心孔を有する基板を用いて、前記中心孔を塞いで前記基板へ前記放射線硬化性樹脂を塗布することを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項９】
前記樹脂層は、前記信号記録層の上に設ける光透過層であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
前記樹脂層は、保護層であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
前記樹脂層は、複数の信号記録層の間に設ける中間層であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
前記樹脂層を形成する工程の後に、
前記基板の少なくとも一部を硬化させた前記放射線硬化性樹脂に溝または凹凸ピットを有するスタンパを貼付した後、さらに放射線を照射して前記放射線硬化性樹脂を硬化させて中間層を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１３】
表面に放射線硬化性樹脂が塗布された基板を回転可能に保持する回転テーブルと、
前記回転テーブルを回転させるモータと、
前記基板の上の前記放射線硬化性樹脂に放射線を照射して、前記放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させる放射線ランプと、
前記モータの回転数と前記放射線ランプの放射線の照射タイミングとを制御する制御部と
を備える、光情報記録媒体の製造装置。
【請求項１４】
前記基板の外径と同じか又は前記外径より小さい内径の円形の穴を有する遮光マスクであって、前記基板と前記放射線ランプとの間に、前記基板に非接触で、前記放射線ランプから見て前記穴が前記基板と同心円状となるように配置された遮光マスクをさらに備え、
前記放射線ランプから前記遮光マスクを介して前記基板に放射線が照射されることを特徴とする請求項１３に記載の光情報記録媒体の製造装置。
【請求項１５】
前記制御部は、前記モータの回転数を加速させ、第１の回転数に達した後、減速させて、前記回転数の減速中に前記放射線ランプから前記基板の上の前記放射線硬化性樹脂に放射線を照射させることを特徴とする請求項１３に記載の光情報記録媒体の製造装置。
【請求項１６】
前記制御部は、前記モータの回転数を加速させ、第１の回転数に達した後、減速させて、前記第１の回転数より低い第２の回転数に達した後、前記放射線ランプから放射線を照射させることを特徴とする請求項１３に記載の光情報記録媒体の製造装置。
【請求項１７】
請求項１に記載の製造方法によって製造された光情報記録媒体であって、
前記基板の外周端部近傍における前記樹脂層の厚みは、前記基板の上の前記樹脂層全面における平均厚みよりも１０μｍ以上薄いことを特徴とする光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光情報記録媒体の製造方法及び製造装置、並びに光情報記録媒体に関し、特に、例えば、放射線硬化性樹脂からなる中間層、光透過層、保護層等の厚みが薄型化された高密度光情報記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報記録の分野では様々な光情報記録に関する研究が進められている。この光情報記録は高密度化が可能であり、また、非接触で記録・再生が行え、それを安価に実現できる方式として幅広い用途での応用が実現されつつある。現在の光ディスクとしては、厚さ１．２ｍｍの透明樹脂基板に情報層を設け、それをオーバーコートによって保護した構造（コンパクト・ディスク（ＣＤ））、あるいは０．６ｍｍの透明樹脂基板の一方もしくは両方に情報層を設け、それら２枚を貼り合わせた構造（デジタル・ヴァーサタイル・ディスク（ＤＶＤ））等が用いられている。
【０００３】
近年、光ディスクの記録密度を上げる方法として、対物レンズの開口数（ＮＡ）を大きくする方法や、使用するレーザの波長を短くする方法が検討されている。このとき記録・再生側基材（レーザ光が入射する側の基板）の厚みが薄いほうが、レーザスポットが受ける収差の影響を小さくでき、ディスクの傾き角度（チルト）の許容値を大きくできる。このことから、記録・再生側基材の厚さを０．１ｍｍ程度にし、ＮＡを０．８５程度、レーザの波長を４００ｎｍ程度にすることが提案されている（Ｂｌｕ−ｒａｙディスク）（例えば、特許文献１参照。）。ただし、このとき、記録・再生光のフォーカスや球面収差への影響から、記録・再生側基材の厚みばらつきが５％以内に抑えられることが好ましい。このような記録・再生側基材を０．１ｍｍにした光ディスクにおいても互換性の観点から、ＣＤやＤＶＤと同じく厚みが１．２ｍｍであることが好ましい。
【０００４】
このようなＢｌｕ−ｒａｙディスクの記録・再生側基材は、略０．１ｍｍ程度と薄く、従来の光ディスクの製造で用いられてきた射出成形で作製することができない。一般に、直径１２ｃｍ程度の基板の場合、その厚みが０．３ｍｍよりも薄くなってしまうと、射出成形で形成することが非常に困難である。また、記録・再生側基材には非常に高い厚み精度が求められる。そこで、キャスティング等の方法を用いて作製されたシートをディスク形状に打ち抜き、それを基板と貼り合わせる、という方法が主流となっている。ただ、この方法ではシートの材料コストが非常に高く、光ディスクが高価なものになる。
【０００５】
そこで、放射線硬化性樹脂をスピンコート等の方法を用いて塗布し、それを硬化することで記録・再生側基材を形成することが提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００６】
しかしながら、記録・再生側基材は非常に高い厚み精度が要求されるため、スピンコートにも高い技術を要求される。特に液体のＵＶ樹脂を塗布した場合には、塗布後に基板の回転を停止すると円形の基板の外周部分で表面張力によりＵＶ樹脂が盛り上がってしまう。これを解決するために、基板の回転数を加速しながらＵＶ照射を行ってＵＶ樹脂を硬化させることが提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
【０００７】
さらには、光ディスクの外周端部近傍の美観を確保するために、基板の外周端部部分を遮光しながらＵＶ樹脂を硬化することも提案されている（例えば、特許文献４および５参照。）。
【０００８】
【特許文献１】特開平０８−２３５６３８号公報
【特許文献２】特開平１０−２８９４８９号公報
【特許文献３】国際特許公開第ＷＯ０２／１０１７３７号パンフレット
【特許文献４】特許第２９２４２５５号
【特許文献５】特開平１０−１９９０５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記の各方法では、記録・再生側基材に求められる高い厚み精度と、光ディスクの外周端部近傍での美観を両立することができず、量産レベルで安定した光ディスクの作製を行うことが困難であった。
【００１０】
例えば、樹脂を基板に塗布した後、基板を一定回転数で回転させたままＵＶ照射を行うと基板の外周端部付近で厚みが極端に薄くなったり、基板の外周端部から樹脂がはみだしたまま硬化されてしまったりするという問題があった。
【００１１】
また、基板の回転数を加速しながらＵＶ照射を行う場合、均一な厚み精度を実現することができるが、基板の外周端部の余分な樹脂が完全に振り切られる前にＵＶ照射されると振り切られる前に硬化して、基板外側にバリが生じてしまうことがあった。また、加速度が大きすぎると、余分な樹脂だけではなく基板の外周端部より少し内側（すなわち、外周端部近傍）の樹脂まで振り切られて、基板の外周端部近傍における樹脂の塗布厚みが薄くなってしまう場合があるという問題があった。
【００１２】
そこで、本発明の目的は、放射線硬化性樹脂からなる光透過層、中間層、保護層を有する光情報記録媒体を製造する場合に、基板に放射線硬化性樹脂を塗布した場合に、基板の外周端部近傍で表面張力により盛り上がった放射線硬化性樹脂の厚さムラを抑制すると共に、基板外側へのバリ発生を抑制できる光情報記録媒体の製造方法及び製造装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、少なくとも１層の信号記録層を有する基板と光透過させる樹脂層とを含む光情報記録媒体の製造方法であって、
放射線硬化性樹脂を前記基板上に塗布する工程と、
前記基板の回転数を加速させ、第１の回転数に達した後に、前記回転数を減速させ、前記回転数の減速中に放射線を照射して、前記放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させて樹脂層を形成する工程と
を含むことを特徴とする。この光情報記録媒体の製造方法によれば、外周端部近傍まで厚みが非常に均一で、安定な放射線硬化性樹脂からなる光透過層、中間層を有する光情報記録媒体を製造できる。
【００１４】
また、前記樹脂層を形成する工程において、前記第１の回転数より低い第２の回転数に達した後、放射線を照射して、前記放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させて樹脂層を形成させてもよい。
【００１５】
さらに、前記樹脂層を形成する工程において、前記基板を前記第２の回転数で一定時間回転させながら放射線を照射し、前記放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させて樹脂層を形成させてもよい。
【００１６】
またさらに、前記樹脂層を形成する工程において、前記基板の外径と同じか又は前記外径より小さい内径の円形の穴を有する遮光マスクを、前記遮光マスクの前記穴が前記基板と同心円状に配置して、前記遮光マスクを介して前記基板に放射線を照射して、前記放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させて樹脂層を形成させてもよい。
【００１７】
また、前記樹脂層を形成する工程の後に、前記基板の回転数を前記第１の回転数より高い所定の回転数以上に加速して、前記基板の外周端部の前記放射線硬化樹脂を振り切る工程をさらに含んでもよい。
【００１８】
さらに、前記基板の外周端部の前記放射線硬化樹脂を振り切る工程の後に、前記基板の外周端部に放射線を照射して、前記基板の外周端部の前記放射線硬化樹脂を硬化させる工程をさらに含んでもよい。
【００１９】
なお、前記放射線硬化性樹脂の塗布工程は、スピンコート法によって行ってもよい。
【００２０】
また、前記放射線硬化性樹脂の塗布工程において、中心孔を有する基板を用いて、前記中心孔を塞いで前記基板へ前記放射線硬化性樹脂を塗布してもよい。
【００２１】
さらに、前記樹脂層は、前記信号記録層の上に設ける光透過層であってもよい。あるいは、前記樹脂層は、保護層であってもよい。また、前記樹脂層は、複数の信号記録層の間に設ける中間層であってもよい。
【００２２】
さらに、前記樹脂層を形成する工程の後に、
前記基板の少なくとも一部を硬化させた前記放射線硬化性樹脂に溝または凹凸ピットを有するスタンパを貼付した後、さらに放射線を照射して前記放射線硬化性樹脂を硬化させて中間層を形成する工程をさらに含んでもよい。
【００２３】
本発明に係る光情報記録媒体の製造装置は、表面に放射線硬化性樹脂が塗布された基板を回転可能に保持する回転テーブルと、
前記回転テーブルを回転させるモータと、
前記基板の上の前記放射線硬化性樹脂に放射線を照射して、前記放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させる放射線ランプと、
前記モータの回転数と前記放射線ランプの照射タイミングとを制御する制御部と
を備える。
【００２４】
また、前記基板の外径と同じか又は前記外径より小さい内径の円形の穴を有する遮光マスクであって、前記基板と前記放射線ランプとの間に、前記基板に非接触で、前記放射線ランプから見て前記穴が前記基板と同心円状となるように配置された遮光マスクをさらに備えてもよい。この場合には、前記放射線ランプから前記遮光マスクを介して前記基板に放射線が照射される。
【００２５】
さらに、前記制御部は、前記モータの回転数を加速させ、第１の回転数に達した後、減速させて、前記回転数の減速中に前記放射線ランプから前記基板の上の前記放射線硬化性樹脂に放射線を照射させてもよい。
【００２６】
またさらに、前記制御部は、前記モータの回転数を加速させ、第１の回転数に達した後、減速させて、前記第１の回転数より低い第２の回転数に達した後、前記放射線ランプから放射線を照射させてもよい。
【００２７】
また、本発明に係る光情報記録媒体は、前記製造方法によって製造された光情報記録媒体であって、
前記基板の外周端部近傍における前記樹脂層の厚みは、前記基板の上の前記樹脂層全面における平均厚みよりも１０μｍ以上薄いことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２８】
本発明に係る光情報記録媒体の製造方法によれば、放射線硬化性樹脂などの液体材料から光透過層を作製する場合でも、厚み精度が高く、かつ基板外側のバリなどがない、外観に優れた光情報記録媒体を作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
本発明の実施の形態に係る光情報記録媒体の製造装置及び製造方法について、添付図面を参照しながら説明する。なお、図面では、実質的に同一の部材には同一の符号を付している。また、図面において、中心軸について左右対称である場合には、対称な軸から一方の側のみを示し、もう一方は省略する場合がある。
【００３０】
（実施の形態１）
本発明の実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造装置及び製造方法について説明する。図１は、本発明の実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造装置の構成を示すブロック図である。この光情報記録媒体の製造装置は、放射線硬化性樹脂１８が塗布された基板１１を回転可能に保持する回転テーブル２０と、回転テーブル２０を回転させるモータ３０と、基板１１の上の放射線硬化性樹脂１８に放射線１５を照射して、放射線硬化性樹脂１８の少なくとも一部を硬化させる放射線ランプ４０と、モータ３０の回転数と放射線ランプ４０の照射タイミングとを制御する制御部５０とを備える。さらに、この製造装置は、基板１１と放射線ランプ３０との間に、基板１１に非接触で配置された遮光マスク６０をさらに備えてもよい。この遮光マスク６０は、図２（ａ）に示すように、基板１１の外径と同じか又は外径より小さい内径の円形の穴を有し、放射線ランプ４０の側から見て穴が基板１１と同心円状となるように配置される。この場合には、放射線ランプ４０から遮光マスク６０を介して基板１１上の放射線硬化性樹脂１８に放射線１５が照射される。
【００３１】
この光情報記録媒体の製造装置を構成する各部材について説明する。
まず、放射線ランプ４０としては、放射線硬化性樹脂１８を硬化させる放射線を照射できるものであればよい。この放射線ランプ４０は、例えば円形のものを用いることができる。円形の放射線ランプ４０によれば、基板１１上の放射線硬化性樹脂の全体に放射線を照射できる。なお、放射線ランプ４０の形状は円形に限られず、他の形状であってもよい。また、基板１１の回転途中に放射線硬化性樹脂１８を硬化させるために、できるだけ短時間で放射線硬化性樹脂１８を硬化できることが好ましい。例えば、放射線ランプ４０としてＵＶランプを用いる場合には、１パルスの紫外線を照射することにより、放射線硬化性樹脂１８は１２００ｒｐｍ程度の回転では延伸されない程度まで硬化させることができる。例えば、放射線ランプ４０として、パルス照射できるタイプのＵＶ照射機（キセノン社製  ＲＣ−７４７型）を用いることができる。このＵＶ照射機によれば、１パルス、数十ｍｓの紫外線照射を行うことができる。なお、ここでいう放射線とは、放射線硬化性樹脂１８を硬化させることができるあらゆる電磁波、例えば、赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線等を含む概念である。
【００３２】
次に、遮光マスク６０について図２を用いて説明する。図２の（ａ）は、遮光マスク６０と基板１１との位置関係を示す平面図であり、図２（ｂ）は、（ａ）の概略断面図である。この遮光マスク６０は、基板１１の外径と同じか又は外径より小さい内径の円形の穴を有し、その外側にドーナツ状の遮光部分を有する。また、遮光マスク６０は、放射線ランプ４０の側から見て穴が基板１１と同心円状となるように配置され、基板１１の外周端部のみを遮光する。例えば、このドーナツ状の遮光マスク６０の内径は、直径１１８ｍｍとしてもよい。この遮光マスク６０を介して基板１１上の放射線硬化性樹脂１８に放射線を照射するので、基板１１の外周端部には放射線が照射されない。そこで、基板１１の外周端部から回転によって振り切られようとしている放射線硬化性樹脂１８には放射線が照射されず、硬化されないので、そのまま振り切ることができる。また、遮光マスク６０を用いれば、基板１１から振り切られた放射線硬化性樹脂１８が放射線１８にさらされてしまうことを確実に防止できるため、余分な放射線硬化性樹脂をリサイクルできるというメリットがある。
【００３３】
この遮光マスク６０を設ける位置は、基板１１に近いことが好ましいが、その一方、遮光マスク６０に放射線硬化性樹脂１８が付着してしまうと樹脂層の厚みムラが大きくなる。そこで、遮光マスク６０は、基板１１上の放射線硬化樹脂１８に接触させることなく、所定距離だけ離して設けることが好ましい。例えば、遮光マスク６０と基板１１の最短距離をおよそ５００μｍとなるようにする。
【００３４】
なお、遮光マスク６０は、放射線を遮光できるものであれば用いることができる。具体的には、遮光マスク６０として、金属材料からなるものを用いることができる。より具体的には、例えば、Ａｌを主原料とする金属から作製してもよい。あるいは、ＳＵＳ等を用いてもよい。また放射線１５が遮光マスク６０で反射することが悪影響を及ぼすような場合では、遮光マスク６０の表面をコートしたり、着色してもよい。
【００３５】
また、遮光マスク６０は、図３（ａ）のように下面が基板１１と平行な断面を有する遮光マスク６０であってもよく、図３（ｂ）のように外周側にいくほど基板１１から遠ざかるように斜めにカットされた断面を有する遮光マスク６０ａであってもよい。遮光マスク６０としては、基板１１の外周端部が十分に遮光され、かつ振り切られる放射線硬化性樹脂１８が遮光マスク６０に付着しない形状であることが好ましい。
【００３６】
なお、この遮光マスク６０は、この光記録媒体の製造装置において必ずしも必須の部材ではない。この遮光マスク６０は、基板１１の外周端部の放射線硬化性樹脂１８に放射線１５を照射しないように設けるものである。そこで、例えば、放射線ランプ４０として、直線光源などを用いることにより、放射線１５が基板１１上の放射線硬化性樹脂１８のみに照射され、基板１１の外周端部の放射線硬化性樹脂１８には照射されないようにすれば、遮光マスク６０を用いなくてもよい。
【００３７】
また、制御部５０は、例えば、物理的な構成としてはコンピュータによって実現でき、その動作についてはコンピュータプログラムによって実現することができる。この制御部５０によって、モータ３０の回転数と放射線ランプ４０の放射線の照射タイミングとを制御する。例えば、この制御部５０では、モータ３０の回転数を第１の回転数まで加速後、減速させて、回転数の減速中に放射線ランプ４０から基板１１の上の放射線硬化性樹脂１８に放射線１５を照射させることができる。さらに、制御部５０によって、モータ３０の回転数を第１の回転数まで加速後、減速させて、第１の回転数より低い第２の回転数に達した後、放射線１５を照射させてもよい。
【００３８】
次に、実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造方法について、図４のフローチャートと図５のタイムチャートとを用いて説明する。図４は、実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造方法のフローチャートである。図５は、本発明の実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造方法における基板１１の回転数と時間との関係を示すタイムチャートである。
（１）基板１１上に放射線硬化性樹脂１８を塗布する（Ｓ０１）。例えば、基板１１を回転させながら滴下した放射線硬化性樹脂１８を基板１１上に延伸して塗布してもよい（スピンコート）。
（２）次に、基板１１の回転数を加速させて、所定の回転数（例えば、図５：回転数１２００ｒｐｍ）に達した後、減速させて、基板１１の回転数の減速中（例えば、回転数９００ｒｐｍ）に、放射線ランプ４０から遮光マスク６０を介して基板１１上の放射線硬化性樹脂１８に放射線１５を照射して放射性硬化性樹脂１８を硬化させる（Ｓ０２）。例えば、図５のタイムチャートでは、加速から４秒後、回転数１２００ｒｐｍに達した後、減速し、減速から１秒後、回転数９００ｒｐｍで放射線１５を照射する。これは、スピンキュアとも呼ばれる。
（３）基板１１の回転数を加速して、外周端部の余分の放射線硬化性樹脂１８を振り切る（Ｓ０３）。図５の例では、例えば、回転数１５００ｒｐｍまで加速して放射線硬化性樹脂１８を振り切る。
（４）遮光マスク６０を外して、基板１１の外周端部の未硬化の放射線硬化性樹脂１８に放射線１５を照射して（図５：回転数０）、未硬化の放射線硬化性樹脂１８を硬化させる（最終硬化）（Ｓ０４）。
以上の手順によって、光情報記録媒体を製造することができる。
【００３９】
次に、基板１１上に放射線硬化性樹脂１８を塗布する工程Ｓ０１について、図６を用いて説明する。
（ａ）まず、信号記録層１２を有する基板１１を用意する。この基板１１としては、例えば、図６（ａ）に示すように、厚さ略１．１ｍｍ、直径略１２０ｍｍ、中心孔径略１５ｍｍの基板１１を用いることができる。この基板１１はポリカーボネートからなり、射出成形によって形成される。なお、基板１１は、ポリカーボネート以外の、例えばアクリル、ポリオレフィンといった別の樹脂材料から形成されていてもよい。また、信号記録層１２は基板１１に形成されたピット上の厚さ略４０ｎｍのＡｇ合金あるいはＡｌ等の薄膜からなる。
（ｂ）次に、図６（ｂ）に示すように、基板１１を回転テーブル２０にセットし、さらに基板１１の中心孔をキャップ１７で塞ぐ。
（ｃ）次いで、粘度略２０００ｍＰａ・ｓの放射線硬化性樹脂１８をキャップ１７上に略２ｇ滴下して、基板１１の回転数を略３３００ｒｐｍで略１．５秒間延伸する。
（ｄ）その後、基板１１の回転を止めて、放射線硬化性樹脂１８の延伸による塗布（スピンコートともいう）を終了した後、キャップ１７を取り外す。
以上の手順によって、基板１１上に放射線硬化性樹脂１８を塗布する工程を行うことができる。なお、この場合、図６（ｃ）に示すように、放射線硬化性樹脂１８の延伸終了後、基板１１の回転数を停止した状態では、基板１１上の放射線硬化性樹脂１８の表面張力によって外周端部に近い領域で樹脂１８の盛り上がりが発生する場合がある。
【００４０】
次に、基板１１の回転数を加速後、所定回転数に達した後、減速し、回転数の減速中に放射線を照射して放射線硬化性樹脂を硬化させる工程Ｓ０２について、図７のフローチャートを用いて説明する。
（ａ）まず、基板１１の回転数を加速する（Ｓ１１）。
（ｂ）回転数が所定回転数に達したか否か判断する（Ｓ１２）。基板１１の回転数が所定回転数に達している場合には、次の工程Ｓ１３に移行する。一方、基板１１の回転数が所定回転数に達していない場合には、再び加速工程Ｓ１１に戻る。
（ｃ）基板１１の回転数が所定回転数に達している場合には、回転数を減速する（Ｓ１３）。基板１１の回転数を所定回転数まで加速しておくことによって、上述した外周端部に近い領域で発生する樹脂１８の盛り上がりを抑制できる。
（ｄ）基板１１の回転数の減速中に、放射線ランプ４０から遮光マスク６０を介して基板１１上の放射線硬化性樹脂１８に放射線１５を照射して、放射線硬化性樹脂１８を硬化させる（Ｓ１４）。なお、従来技術のように基板１１の回転数の加速中に放射線を照射した場合には、外周端部にとげ状のバリが生じてしまうことがある。これは基板１１の外周端部の放射線硬化性樹脂１８が、基板１１の回転数の加速によって振り切られようとしている最中に放射線が照射され、硬化してしまうためと考えられる。本発明に係る光情報記録媒体の製造方法では、上述のように基板１１の回転数の減速中に放射線を照射して放射線硬化性樹脂１８を硬化させるので、減速によって放射線硬化性樹脂１８の振り切りが抑制され、バリの発生を抑制できると考えられる。さらに、本発明の光情報記録媒体の製造方法では、遮光マスク６０を介して基板１１上の放射線硬化性樹脂１８に放射線１５を照射して、基板１１の外周端部には放射線が照射されないように遮光している。これによって、基板１１の外周端部で振り切られようとしている放射線硬化性樹脂１８が硬化することなく、そのまま振り切られるので、上記バリの発生を抑制できると考えられる。
以上の手順によって、基板１１の回転数の減速中に放射線を照射して放射線硬化性樹脂１８を硬化させる工程Ｓ０２を行うことができる。
【００４１】
なお、ここでは遮光マスク６０を用いたが、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法において、この遮光マスク６０を用いることは必ずしも必須ではない。例えば、放射線ランプ４０として直線光源などを用いることにより、放射線１５が基板１１上の放射線硬化性樹脂１８のみに照射され、基板１１の外周端部の放射線硬化性樹脂１８には照射されないようにすれば、遮光マスク６０を用いなくてもよい。なお、遮光マスク６０を用いた場合には、基板１１から振り切られた放射線硬化性樹脂１８が放射線１８にさらされてしまうことを確実に防止できるため、余分な放射線硬化性樹脂１８をリサイクルできるというメリットが得られる。
【００４２】
さらに、基板１１の外周端部の余分の放射線硬化性樹脂１８を振り切る工程Ｓ０３について、図８のフローチャートを用いて説明する。
（ａ）基板１１の回転数を再び加速する（Ｓ２１）。
（ｂ）基板１１の回転数が所定の回転数に達したか否か判断する（Ｓ２２）。所定の回転数に達していなければ、ステップＳ２１に戻ってさらに基板１１の回転数を加速する。一方、回転数が所定の回転数に達していれば、次のステップＳ２３に移行する。この所定の回転数としては、樹脂の塗布時や放射線照射時の回転数よりも高い方が好ましい。例えば１５００ｒｐｍ〜１００００ｒｐｍであり、より好ましくは２０００ｒｐｍ〜９０００ｒｐｍである。
（ｃ）基板１１の回転数が所定回転数に達していれば基板１１の外周端部の余分の放射線硬化性樹脂１８を振り切ることができる（Ｓ２３）。
以上によって、基板１１の外周端部の余分の放射線硬化性樹脂１８を振り切る工程Ｓ０３を行うことができる。
【００４３】
この振り切り工程についてさらに説明する。上述の基板１１の回転数の減速中に放射線照射によって放射線硬化性樹脂１８を硬化させる工程によって、図６（ｃ）の放射線硬化性樹脂１８の盛り上がりの相当部分は取り除かれるが、図９（ａ）に示されるように、遮光マスク６０によって放射線が照射されなかった基板１１の外周端部近傍には、未硬化であって、余分な放射線硬化性樹脂１８が凸部形状をなす場合がある。この凸部形状の突起は、およそ５０μｍ程度にもなる場合がある。このような突起があると光情報記録媒体を扱っているときにこの部分に負荷がかかると、光透過層が剥離してしまうおそれがある。そこで、振り切り工程Ｓ０３では、基板１１の回転数を再度加速して、さらなる高速回転によって余分の放射線硬化性樹脂１８を振り切るものである。この振り切りを行うことによって、基板１１の外周端部近傍まで均一な厚みの光透過層を形成することができ、信頼性の高い光情報記録媒体を提供することができる。
【００４４】
なお、振り切られる樹脂の量によっては、図９（ｂ）のように、基板１１の外周端部近傍に段差を持つ光透過層を形成することもできる。この場合には、振り切りを行った後も、基板１１の外周端部近傍での放射線硬化性樹脂１８が完全になくなってしまわないことが好ましい。また、光透過層の厚さが薄すぎても強度が下がってしまうため、外周端部近傍の光透過層の厚みは３μｍ以上、さらには１０μｍ以上、９０μｍ以下であることが好ましい。なお、上記段差は、例えば、１０μｍ以上とすることができる。さらに、信号記録層に形成されている反射膜などが大気にさらされた状態にあると、酸化などによって腐食してしまう恐れが非常に高くなる。従って、上記段差は信号領域よりも外側、すなわち半径５８．６ｍｍ以上、さらには５９．０ｍｍ以上であることが好ましい。さらに、樹脂１８を振り切った後もわずかな厚さの樹脂１８によって信号記録層１２が覆われていることが好ましい。
【００４５】
さらに、遮光マスク６０を外して、基板１１の外周端部の未硬化の放射線硬化性樹脂１８に放射線を照射して硬化させる工程Ｓ０４について説明する。上述したように、基板１１の回転数を加速して基板の外周端部の余分の放射線硬化性樹脂を振り切った後、遮光マスク６０の下部にあって、基板１１の外周端部に存在する未硬化の放射線硬化性樹脂１８を硬化させる必要がある。そのために、遮光マスク６０を外した後、基板１１の外周端部に放射線１５を照射して、未硬化の放射線硬化性樹脂を硬化させる（最終硬化）。例えば、図５のタイミングチャートの例では、基板の回転数を０にした後、放射線を照射して最終硬化している。なお、最終硬化のために放射線を照射するタイミングは上記の例の場合に限られない。
以上によって、基板１１の外周端部の未硬化の放射線硬化性樹脂１８に放射線を照射して硬化させる工程Ｓ０４を行うことができる。
【００４６】
以上の各工程Ｓ０１〜Ｓ０４によって、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法を行うことができる。なお、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法において、基板１１上に放射線硬化性樹脂１８を塗布する工程Ｓ０１及び基板１１の回転数の減速中に放射線を照射して放射線硬化性樹脂を硬化させる工程Ｓ０２を必須とするが、上述の放射線硬化性樹脂１８を振り切る工程Ｓ０３は、必須ではない。すなわち、上述の基板１１の回転数の減速中に放射線を照射して放射線硬化性樹脂を硬化させる工程Ｓ０２において、最初の加速によって十分に樹脂１８を振り切ることができる場合には振り切り工程Ｓ０３を行う必要がない。この場合には、その後の基板１１の外周端部の未硬化の放射線硬化性樹脂１８に放射線を照射して硬化させる工程Ｓ０４についても行う必要がない。
【００４７】
さらに、この光情報記録媒体の製造方法の別例について、図１０のフローチャートを用いて説明する。この別例の光情報記録媒体の製造方法は、図４の基板１１の回転数の減速中に放射線を照射して放射線硬化性樹脂を硬化させる工程Ｓ０２について、図７の場合と比較すると、第１の回転数から第２の回転数まで減速した後に放射線を照射する点で相違する。
（ａ）まず、基板１１の回転数を加速する（Ｓ３１）。
（ｂ）回転数が第１の回転数に達したか否か判断する（Ｓ３２）。基板１１の回転数が第１の回転数に達している場合には、次の工程Ｓ３３に移行する。一方、基板１１の回転数が第１の回転数に達していない場合には、再び加速工程Ｓ３１に戻る。
（ｃ）基板１１の回転数が第１の回転数に達している場合には、回転数を減速する（Ｓ３３）。基板１１の回転数を第１の回転数まで加速しておくことによって、上述した外周端部に近い領域で発生する樹脂１８の盛り上がりを抑制できる。
（ｄ）回転数が第２の回転数に達したか否か判断する（Ｓ３４）。基板１１の回転数が第２の回転数に達している場合には、次の工程Ｓ３５に移行する。一方、基板１１の回転数が第２の回転数に達していない場合には、再び減速工程Ｓ３３に戻る。なお、この場合、瞬時にフィードバック制御され、速やかに第２の回転数に達する。
（ｅ）基板１１の回転数が第２の回転数まで減速された後、放射線ランプ４０から遮光マスク６０を介して基板１１上の放射線硬化性樹脂１８に放射線１５を照射して、放射線硬化性樹脂１８を硬化させる（Ｓ３５）。
以上の手順によって、基板１１の回転数を第１の回転数から第２の回転数まで減速した後、放射線を照射して放射線硬化性樹脂１８を硬化させる工程Ｓ０２を行うことができる。
【００４８】
この別例の光情報記録媒体の製造方法では、上述のように基板１１の回転数を第１の回転数から第２の回転数まで減速した後、放射線を照射して放射線硬化性樹脂１８を硬化させる。以下に、この第１の回転数及び第２の回転数（照射タイミング）と、基板の外周端部における放射線硬化性樹脂の厚さムラについて考察する。
【００４９】
まず、遮光マスクを用いた場合の影響について説明する。遮光マスク６０を用いた場合、基板１１を回転させながら放射線硬化性樹脂１８を硬化させると、基板１１の内周側から、基板１１の外周と遮光マスク６０の間を通ってさらに外側へ向かう空気の流れが発生することがある。そのとき、遮光マスク６０と基板１１の外周との間が狭くなっているため空気の流れが強くなり、この空気の流れによる力によって、放射線硬化性樹脂１８が基板１１の外周端部近傍で薄くなるという傾向が見られる。
【００５０】
次に、従来技術である基板１１の回転数の加速中に放射線を照射する場合について説明する。回転数の加速中に放射線を照射する照射タイミングを種々変化させた場合、遮光マスク６０を用いない場合には、上述のように基板の外周端部にバリが発生する。一方、遮光マスク６０を用いる場合には、上述のように遮光マスク６０の影響によって、基板１１の回転に空気の流れが加わり、放射線硬化性樹脂１８を基板の外周方向に押し出す力が強くなりすぎ、放射線硬化性樹脂１８は、図１１（ａ）のような形状になると考えられる。この場合、加速中の照射タイミングについて、加速度の大きさと回転数を下げて放射線照射を行ったが、厚みムラが大きくなる傾向が得られる。例えば、２００ｒｐｍ／秒で加速し回転数が略８００ｒｐｍに達した時にＵＶ照射して硬化を行う場合、図１１（ｂ）に示すように、遮光マスクに近い部分の厚みは厚くなるが、延伸直後に基板の外周部分で発生していた図１１（ｂ）の盛り上がりが十分に解消されない。
【００５１】
そこで、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法の別例において、基板の回転数を第１の回転数から第２の回転数に減速後に、遮光マスク６０を介して放射線を照射して放射線硬化性樹脂を硬化する場合の、第１の回転数及び第２の回転数について検討する。上記の例では、一旦３００ｒｐｍ／秒で加速して回転数が１２００ｒｐｍ（第１の回転数）となるまで回転させた後、−３００ｒｐｍ／秒で減速し、回転数が９００ｒｐｍ（第２の回転数）に達した時に放射線照射を行う。そのときの基板の外周端部の近傍での様子を図１１（ｃ）に示す。この場合には、図１１（ａ）や（ｂ）で見られた厚みムラが解消され、非常に均一な層が形成されている。これは、一旦１２００ｒｐｍ（第１の回転数）まで加速することによって、基板１１の外周部分の樹脂１８の盛り上がりが遠心力などによって解消され（図１１（ａ）の状態）、さらに９００ｒｐｍ（第２の回転数）まで減速することによって、遮光マスク６０の下部の放射線硬化性樹脂１８が基板１１の内周方向に引き戻されることによると考えられる。
【００５２】
さらに遮光マスク６０を用いた場合の回転数についていくつかの検討を行う。一旦回転数を加速した後に減速してから硬化する、という原則は維持したまま回転数を変える。先に述べた実施の形態では４秒間で１２００ｒｐｍまで回転を上げ、その後１秒間で９００ｒｐｍまで回転を下げて放射線照射を行っている。これに対して、例えば、４秒間で１５００ｒｐｍまで回転を上げ、その後８００ｒｐｍまで回転を下げる、などである。なお、回転数の組み合わせによっては厚みの絶対値が小さくなってしまうので、それぞれの組み合わせにおいて得られる厚みの絶対値がほぼ同様になるように、あらかじめ塗布する厚みを調整しておく。複数の組み合わせによって厚み分布が、たとえば４μｍ以下になる条件を探すと、一旦上げる回転数（第１の回転数）よりも、どこまで回転数を下げるか（第２の回転数）ということのほうが厚みムラに対しては大きな影響を及ぼすことがわかる。この回転数（第１及び第２の回転数）は、使用する放射線硬化性樹脂の粘度によって変わることは当然想定されるので、その粘度にあわせて最適な範囲を選択することが好ましい。本実施例で用いた２０００ｍＰａ・ｓ程度の粘度の場合、放射線照射時の回転数（第２の回転数）は、４００ｒｐｍ以上、１０００ｒｐｍ以下であることが好ましい。
【００５３】
次に、第１の回転数まで回転数を上げるのに必要な時間についても検討する。この場合、上記の回転数の組み合わせについてすべて同様の結果が得られる。すなわち、回転数を上げるための時間が短すぎる（加速が大き過ぎる）と、加速による力が大きくなるため、基板の外周端部の放射線硬化性樹脂が振り切られすぎる傾向があるため、厚みムラがＮＧとなる。一方、回転を上げるのに時間がかかっても厚みムラには影響がない。なお、回転数が大きすぎると厚みの絶対値が小さくなってしまうので、それぞれの組み合わせにおいて得られる厚みの絶対値がほぼ同様になるように、あらかじめ塗布する厚みを調整しておく。
【００５４】
さらに、第１の回転数から第２の回転数まで回転数を下げるのに必要な時間については、時間が短すぎると、すなわち、減速が早すぎると、回転数を下げた効果が現れにくくなる。一方、逆に時間が長すぎると、すなわち、減速が遅すぎると、一旦回転数を上げた効果が薄れてしまうため最適な範囲が存在する。本実施例では最大回転数（第１の回転数）に達した時から、減速して第２の回転数に達するまで（放射線照射時）の時間が０．３秒以上、２秒未満であることが好ましい。光情報記録媒体を作製する上では、できるだけ短いタクトでかつ安定して質の高いものが作製できることが好ましい。例えば、図１２の（ａ）及び（ｂ）に示したような組み合わせであれば高い歩留りで生産を行うことができる。なお、図１２（ａ）の例では、第１の回転数が１０００ｒｐｍ（３秒後）であり、第２の回転数が７００ｒｐｍ（最初から４秒後、第１の回転数から１秒後）である。また、図１２（ｂ）の例では、第１の回転数が１５００ｒｐｍ（１．５秒後）であり、第２の回転数が７００ｒｐｍ（最初から２秒後、第１の回転数から０．５秒後）である。
【００５５】
なお、さらに別例として、基板１１の回転数を第２の回転数まで減速させた後、第２の回転数（ここでは９００ｒｐｍ）で一定時間保持した状態で放射線を照射してもよい。この場合には、減速状態から定速状態に移った時点からの時間が長くなるほどこの厚みムラを均一にする効果が少しずつ失われる傾向がある。したがって、基板１１の回転数を減速させた後、ある一定の回転数を保ちながら放射線１５を照射して放射線硬化性樹脂１８を硬化させてもよいが、基板１１の回転数の減速中に放射線１５を照射して放射線硬化性樹脂１８を硬化させることがさらに好ましい。
【００５６】
なお、本実施例では粘度が２０００ｍＰａ・ｓの放射線硬化性樹脂１８を用いたが、用いる放射線硬化性樹脂１８の粘度は上記の場合に限定されず、所望する光透過層の厚みや記録膜の凹凸の大きさに合わせて適宜選択すればよい。また、用いる放射線硬化性樹脂１８の粘度にあわせて延伸（スピンコート）や硬化（スピンキュア）、樹脂振り切り時の回転数を決めればよい。樹脂１８の粘度が高い場合には、回転数を数百ｒｐｍ〜１００００ｒｐｍ程度にしてもよい。異なった粘度の放射線硬化性樹脂１８を使用するときには、その粘度にあわせて最適な回転数および回転時間を選択することが好ましい。
【００５７】
また、光透過層は、記録・再生を行うレーザの波長に対して略透明であることが好ましい。本実施の形態の光情報記録媒体は略４０５ｎｍの波長のレーザで記録・再生を行うものであり、この波長に対して、９０％以上の透過率を有するものを用いることができる。
【００５８】
ここでは、一例として、ピットが形成された基板上にＡｌやＡｇ合金などからなる反射膜、光透過層を積層した再生専用型の光情報記録媒体を示したが、これらの例に限られない。本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、例えば、ピット又はグルーブ溝が形成された基板上に相変化型記録膜などの薄膜と光透過層を積層した書き換え可能な記録再生型や、一回のみの記録が可能な追記型の光情報記録媒体の作製にも応用できる。
【００５９】
（実施の形態２）
本発明の実施の形態２に係る光情報記録媒体の製造方法について説明する。この光情報記録媒体の製造方法は、実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造方法と比較すると、光透過層ではなく、放射線硬化性樹脂からなる保護層を形成する点で相違する。なお、実施の形態１で説明した部分と同様の部分については、重複する説明を省略する。実施の形態１で作製した光情報記録媒体のように、光透過層を放射線硬化性樹脂で形成する場合、放射線硬化性樹脂の硬化収縮による光情報記録媒体の反りを軽減するために、硬化後の放射線硬化性樹脂を柔らかめに、例えば鉛筆硬度ＨＢやＢ程度に、設計することが考えられる。このとき光透過層が柔らかすぎて、光情報記録媒体を扱った際等に光透過層表面に傷がついたりして記録・再生の特性に影響を及ぼすことが想定される。そこで、図１３に示すように、光透過層１３上に保護層２１を設けることが好ましい。この保護層２１の硬度は、傷つき防止の観点から鉛筆硬度Ｈ以上で、さらには指紋などが付着しないように防汚性に優れていることが好ましい。ここで鉛筆硬度とは、鉛筆の先端を尖らせて、４５度の角度で１ｋｇの荷重で押し当て、荷重を加えたまま鉛筆を引っ張って、傷がつくかどうかで判定できる。なお、鉛筆硬度は、ＪＩＳ-Ｋ５４００に準拠して測定する。
【００６０】
本発明の実施の形態２に係る光情報記録媒体の製造方法では、実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造方法における放射線硬化性樹脂からなる光透過層を形成する場合と同様にして、放射線硬化性樹脂からなる保護層２１を形成することができる。
【００６１】
（実施の形態３）
本発明の実施の形態３に係る光情報記録媒体の製造方法について説明する。この光情報記録媒体の製造方法は、実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造方法と比較すると、複数の信号記録層を有する多層型の光情報記録媒体の製造方法である点で相違する。すなわち、この光情報記録媒体の製造方法では、実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造方法における放射線硬化性樹脂からなる光透過層の形成と同様にして、複数の信号記録層の間の中間層を形成することができる。なお、実施の形態１および２で説明した部分と同様の部分については、重複する説明を省略する。
【００６２】
これまでの実施の形態では信号記録層が１層のみの、いわゆる単層型の光情報記録媒体について述べてきたが、信号記録層を２層以上の複数層有する、いわゆる多層型の光情報記録媒体についても本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は有効である。例えば、図１４（ａ）は、２層型の光情報記録媒体の構成を示す断面図である。この２層型の光情報記録媒体は、信号記録層３０２、３１２間に略２５μｍの中間層３０９を有し、光透過層３０３の厚みが略７５μｍである。また、図１４（ｂ）は、４層型の光情報記録媒体の光情報記録媒体の構成を示す概略断面図である。この４層型の光情報記録媒体は、各信号記録層３０２、３１２、３２２、３３２間に略１５μｍの中間層３０９、３１９、３２９を有し、光透過層３０３の厚みが略５５μｍである。上記２層型の光情報記録媒体及び４層型光情報記録媒体において、光透過層３０３だけでなく、上記の中間層３０９、３１９、３２９も実施の形態１と同様の方法で形成することができる。
【００６３】
次に、この光情報記録媒体の製造方法について、具体的な実施例を以下に説明する。
（ａ）まず、基板３０１の信号記録層３０２の上に放射線硬化性樹脂３０８を塗布する。ここでは略２００ｍＰａ・ｓの放射線硬化性樹脂を用い、実施の形態１と同様にキャップ１７を用いて略２０００ｒｐｍで略３秒間延伸を行う。
（ｂ）次に、基板３０１を所定回転数まで加速し、減速して、回転数の減速中に、遮光マスク６０を介して放射線を照射して放射線硬化性樹脂の少なくとも一部を硬化させる。例えば、径φ１１８ｍｍの穴を有する遮光マスク６０を用いる。また、基板３０１の回転数を１５０ｒｐｍ／秒で加速して６００ｒｐｍまで基板３０１を回転させた後に、−１５０ｒｐｍ／秒で回転数を減速させながら４００ｒｐｍになったときに放射線を照射する。本実施例ではパルス照射できるタイプのＵＶ照射機（キセノン社製  ＲＣ−７４７型）を用い、１パルス、数十ｍｓの照射を行う。なお、この放射線硬化性樹脂に信号を転写するため、このとき放射線硬化性樹脂は完全には硬化を行わず、表面が未硬化な状態が残るようにする必要がある。例えば、放射線の強度を下げることで表面を未硬化な状態にできるが、それでも硬化しすぎる場合には放射線照射する雰囲気を変えることによって硬化の程度を調整できる。本実施例で使用した放射線硬化性樹脂は酸素過剰な雰囲気で硬化が阻害される性質を有するため、雰囲気の酸素濃度を高めることで未硬化な状態を安定して作製することができる。
（ｃ）この放射線硬化性樹脂の未硬化状態の表面に、形成する溝や凹凸ピットを有するスタンパ３１０を図１５（ａ）のように押し付ける。例えば、ローラ等を用いて、スタンパ３１０と基板３０１とを端から密着させていくことができる。この場合、スタンパ３１０と基板３０１との間に気泡が混入する場合には真空中で両者を押し付けることが好ましい。
（ｄ）スタンパ３１０を押し付けたまま放射線を照射し、放射線硬化性樹脂３０８を完全に硬化する。
（ｅ）放射線硬化性樹脂３０８を完全に硬化させた後に、スタンパ３１０を剥離することによって、図１５（ｂ）に示すように、厚さ略２５μｍの中間層３０９を形成することができる。スタンパ３１０として放射線に対して透明であるポリオレフィン基板を用いることができる。なお、基板３０１と基板３０１に予め形成されていた信号記録層３０２が放射線に対して透明であるならば、スタンパ３１０は透明でなくても構わない。例えば金属製のスタンパなども使用可能である。
（ｆ）スタンパ３１０の剥離後、形成した溝、凹凸の上に金属膜などを形成して信号記録層を形成することができる。
（ｇ）その後、上記の工程（ａ）〜（ｆ）を繰り返して、光透過層３０３を作製することにより、多層型の光情報記録媒体を作製することができる。
【００６４】
なお、作製する光透過層や中間層の厚みによって、塗布条件を変えたり、用いる放射線硬化性樹脂の粘度を変えることができる。また、本実施の形態では、放射線硬化性樹脂の塗布後にいったん放射線を照射し、放射線硬化性樹脂を一部硬化させてからスタンパを貼付し、さらに放射線を照射して完全に硬化させたが、これに限られない。例えば、放射線硬化性樹脂の塗布後に放射線を照射することなくスタンパを貼付し、その後に放射線を照射して放射線硬化性樹脂を硬化させてもよい。
【００６５】
また、この光情報記録媒体の製造方法において、実施の形態２で述べた光情報記録媒体の製造方法と同様に、放射線硬化性樹脂からなる保護層をさらに形成してもよい。さらに、これらの多層光情報記録媒体は、書き換え可能な記録再生型、一回のみの記録が可能な追記型や、あるいは、反射層がＡｌやＡｇを主成分とするような再生専用型であってもよい。
【００６６】
以上、本発明の実施の形態について例をあげて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されず、本発明の技術的思想に基づき他の実施の形態に適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明に係る光情報記録媒体の製造方法及び光情報記録媒体は、放射線硬化性樹脂からなる光透過層、中間層、保護層等を有する光情報記録媒体の製造方法に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造装置の構成を示すブロック図である。
【図２】（ａ）遮光マスクと基板との位置関係を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）の概略断面図である。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は、形状の異なる遮光マスクを用いた場合の基板との位置関係を示す概略断面図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る製造方法のフローチャートである。
【図５】本発明の実施の形態１に係る製造方法における時間と基板の回転数との関係を示すタイムチャートである。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、図４のステップＳ０１の放射線硬化性樹脂の塗布工程を示す概略断面図である。
【図７】図４のステップＳ０２の基板の回転数を減速中に放射線を照射して放射線硬化性樹脂を硬化させる工程の詳細を示すフローチャートである。
【図８】図４のステップＳ０３の振り切り工程のフローチャートである。
【図９】（ａ）は、本発明の実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造方法における振り切り工程を行う前の光情報記録媒体の外周端部近傍での放射線硬化性樹脂の状態を示す断面図であり、（ｂ）は、振り切り工程を行った後の光情報記録媒体の外周端部近傍での放射線硬化性樹脂の状態を示す断面図である。
【図１０】本発明の実施の形態１に係る光情報記録媒体の製造方法におけるステップＳ０２の別例のフローチャートである。
【図１１】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の実施の形態１における、光情報記録媒体の外周端部近傍での放射線硬化性樹脂の分布の様子を示す断面図である。
【図１２】（ａ）及び（ｂ）は、基板の回転数の加速及び減速を変えて放射線照射を行う場合のそれぞれのタイムチャートである。
【図１３】本発明の実施の形態２における、保護層を形成した光情報記録媒体の断面図である。
【図１４】（ａ）は、本発明の実施の形態３における、２層型の光情報記録媒体の一例を示す断面図であり、（ｂ）は、４層型の光情報記録媒体の一例を示す断面図である。
【図１５】（ａ）〜（ｂ）は、本発明の実施の形態３に係る光情報記録媒体の製造方法における、中間層形成の各工程を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６９】
１１、３０１  基板
１２、３０２、３１２、３２２、３３２  信号記録層
１３、３０３  光透過層
１５  放射線
１７  キャップ
１８  放射線硬化性樹脂
２０  回転テーブル
２１  保護層
３０  モータ
４０  放射線ランプ
５０  制御部
６０、６０ａ  遮光マスク
３０４  溝または凹凸ピット
３０８  一部硬化した放射線硬化性樹脂
３０９、３１９、３２９  中間層
３１０  スタンパ
【図１】
2007052893.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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