(57)【要約】【課題】同じチャンバー内で、特に、マスク基板の端面全体、及び、ペリクルが貼り付けられていた領域も確実に洗浄することができるマスク基板用の洗浄装置を提供する。【解決手段】チャンバー２と、該チャンバー内に、少なくとも、前記マスク基板５を支持して回転可能な基板支持手段３と、該基板支持手段により支持された基板に対して洗浄液を供給する基板洗浄液供給手段６，７と、前記基板支持手段により支持された基板の上面５ａ及び端面５ｂに対して回転しながら又は回転せずに摺接可能な洗浄ブラシ８と、前記チャンバーから洗浄液の廃液を排出するための廃液口１０とを備え、前記基板支持手段は、前記マスク基板５の周囲を支持する複数の支持ピン４を有し、該支持ピンにより支持されている基板を該支持ピンに対して相対的に回転させ、該基板の周囲を他の位置で支持し直すことができるものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置１。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスク基板を洗浄するための装置であって、チャンバーと、該チャンバー内に、少なくとも、前記マスク基板を支持して回転可能な基板支持手段と、該基板支持手段により支持された基板に対して洗浄液を供給する基板洗浄液供給手段と、前記基板支持手段により支持された基板の上面及び端面に対して回転しながら又は回転せずに摺接可能な洗浄ブラシと、前記チャンバーから洗浄液の廃液を排出するための廃液口とを備え、前記基板支持手段は、前記マスク基板の周囲を支持する複数の支持ピンを有し、該支持ピンにより支持されている基板を洗浄した後、該基板を前記支持ピンに対して相対的に回転させ、該基板の周囲を他の位置で支持し直して洗浄することができるものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置。
【請求項２】
前記基板支持手段の複数の支持ピンが、四角形のマスク基板の隣り合う辺に対して異なる位置で支持するように配置されているものであることを特徴とする請求項１に記載のマスク基板用の洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄ブラシが、円筒状又は円柱状のものであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のマスク基板用の洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄ブラシに対して洗浄液を供給するブラシ洗浄液供給手段を備えることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
【請求項５】
前記基板支持手段は、前記基板支持手段により支持された基板を上昇させるとともに、該基板又は前記基板支持手段の各支持ピンを９０°回転させた後、前記基板を下降させて該基板の周囲を他の位置で支持し直すものであることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
【請求項６】
前記基板洗浄液供給手段が、前記基板支持手段により支持された基板の上面に洗浄液を供給する上面洗浄ノズルと、該基板の下面に洗浄液を供給する下面洗浄ノズルを有するものであることを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
【請求項７】
前記基板支持手段を包囲し、前記洗浄液の飛散を抑制するカバー手段を備えることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
【請求項８】
前記カバー手段の内側に気流調整板が設けられていることを特徴とする請求項７に記載のマスク基板用の洗浄装置。
【請求項９】
前記基板支持手段及びカバー手段の少なくとも一方が上下動可能であることを特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
【請求項１０】
前記チャンバー内の雰囲気を浄化するためのフィルタが設けられていることを特徴とする請求項１ないし請求項９のいずれか一項に記載のマスク基板用の洗浄装置。
【請求項１１】
マスク基板を洗浄する方法であって、前記請求項１ないし請求項１０のいずれか一項に記載の洗浄装置を用い、前記マスク基板を前記基板支持手段の支持ピンで支持し、少なくとも、洗浄液を供給しながら前記洗浄ブラシによって前記基板の端面を洗浄した後、前記支持ピンにより支持されている基板を該支持ピンに対して相対的に回転させて該基板の周囲を他の位置で支持し直し、前記洗浄ブラシによって再度端面を洗浄する工程を行うことを特徴とするマスク基板の洗浄方法。
【請求項１２】
前記基板支持手段により前記基板を回転させるとともに、洗浄液を供給しながら前記洗浄ブラシを前記基板の中心から角部まで往復させて該基板の上面を洗浄する工程を行うことを特徴とする請求項１１に記載のマスク基板の洗浄方法。
【請求項１３】
前記マスク基板として、ペリクルを剥がした後のマスク基板を前記ペリクルが貼り付けられていた面を上にして前記基板支持手段の支持ピンで支持し、洗浄液を供給するとともに、前記基板のペリクルが貼り付けられていた領域に前記洗浄ブラシを回転させながら摺接させて該領域を洗浄する工程を行うことを特徴とする請求項１１又は請求項１２に記載のマスク基板の洗浄方法。
【請求項１４】
前記マスク基板を洗浄した後、該基板を純水でリンスする工程と、リンス後、該基板を前記基板支持手段により回転させて乾燥する工程を行うことを特徴とする請求項１１ないし請求項１３のいずれか一項に記載のマスク基板の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体デバイスの作製工程等におけるフォトリソグラフィーで使用するマスク基板を洗浄するための洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス、液晶表示装置（ＬＣＤ）等の製造工程では、シリコンウエーハやガラス基板等に微細なパターン形成を行うため、所望のパターンが形成されたマスク基板を用いてフォトリソグラフィーが行われる。
フォトリソグラフィー工程においてマスク基板にパーティクル等が付着しているとパターン形成不良を引き起こすため、図１０に示したように環状のフレーム２３に透明な膜（ペリクル膜）２２を貼り付けたペリクル２１が用いられる。ペリクル２１を接着層２４を介してマスク５に貼り付ければ、パーティクル等はペリクル膜２２に付着し、マスク基板５のパターン面への付着を避けることができる。
【０００３】
しかし、マスク基板５にペリクル２１を貼り付けてフォトリソグラフィーを行う場合でも、そもそもマスク基板は清浄に保つ必要があり、マスク基板の両面のみならず端面も洗浄する必要がある。また、例えばマスク基板からペリクルを剥がした後、マスク基板を再度使用する場合には、ペリクルが貼り付けられていた領域を重点的に洗浄する必要がある。
【０００４】
マスク基板を洗浄する場合、純水あるいは洗浄液を満たした洗浄槽に基板を投入してメガソニック洗浄を行う方法がある。しかし、この方法では、メガソニック照射が部分的に十分あたらず、洗浄ムラが生じる場合がある。この場合、人力で磨き洗浄を行う必要がある。
【０００５】
一方、マスク基板用の洗浄装置として、洗浄槽、水洗槽、及び乾燥槽を備えた装置が提案されている（特許文献１参照）。例えば、マスク基板の角部をアームで保持し、洗浄槽で基板に対し、超音波を掛けた純水を噴射するとともにブラシで擦って洗浄した後、他の洗浄槽内に収容された洗浄液中に浸漬する。次いで、基板を水洗槽に搬送して表面の洗浄液を除去し、さらに乾燥槽に搬送して乾燥が行われる。
【０００６】
このような装置では、基板の側面（端面）も洗浄することができるとされているが、多数の槽を備えるため、装置が大型化してしまうほか、基板をアームで保持して各槽間を搬送させるため、搬送中にパーティクル等が付着するおそれがある。また、この装置では、例えばペリクルが貼り付けられていた領域（以下、ペリクル部という場合がある）を重点的に洗浄することはできない。
【０００７】
一方、回転テーブルによりマスク基板の周囲を支持し、上下に配置されたノズルから基板の両面に洗浄液を供給して洗浄した後、基板を回転させることにより乾燥（スピン乾燥）を行う洗浄装置が提案されている（特許文献２参照）。
このように回転テーブルでマスク基板を支持して洗浄を行う装置では、装置を小型化することができ、回転テーブルに載置したまま洗浄から乾燥まで行うことができる。しかし、やはりペリクル部を重点的に洗浄することができないほか、基板の支持されている部分が洗浄されないという問題がある。
【０００８】
【特許文献１】特開平５−２５９１３７号公報
【特許文献２】特開平１０−２６０５２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記問題点に鑑み、本発明は、同じチャンバー内で、特に、マスク基板の端面全体、及び、ペリクルが貼り付けられていた領域も確実に洗浄することができるマスク基板用の洗浄装置を提供することを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明によれば、マスク基板を洗浄するための装置であって、チャンバーと、該チャンバー内に、少なくとも、前記マスク基板を支持して回転可能な基板支持手段と、該基板支持手段により支持された基板に対して洗浄液を供給する基板洗浄液供給手段と、前記基板支持手段により支持された基板の上面及び端面に対して回転しながら又は回転せずに摺接可能な洗浄ブラシと、前記チャンバーから洗浄液の廃液を排出するための廃液口とを備え、前記基板支持手段は、前記マスク基板の周囲を支持する複数の支持ピンを有し、該支持ピンにより支持されている基板を洗浄した後、該基板を前記支持ピンに対して相対的に回転させ、該基板の周囲を他の位置で支持し直して洗浄することができるものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置が提供される（請求項１）。
【００１１】
このような洗浄装置であれば、同じチャンバー内で、マスク基板の周囲を支持ピンで支持した状態で、基板の端面を洗浄ブラシと洗浄液によって物理化学洗浄することができる上、支持ピンで基板の周囲を他の位置で支持し直すことができるので、はじめに支持ピンで支持していたところも含めて端面全体を確実に洗浄することができる。また、基板の上面も洗浄ブラシを洗浄ブラシと洗浄液によって洗浄することができるため、上面全体はもちろん、ペリクルが貼り付けられていた領域を重点的に洗浄することもできる。
【００１２】
この場合、前記基板支持手段の複数の支持ピンが、四角形のマスク基板の隣り合う辺に対して異なる位置で支持するように配置されているものとすることができる（請求項２）。
一般的なマスク基板は四角形であるため、この形状に対応して支持ピンが配置されていれば１回目と２回目とで基板端面の支持位置が確実に異なるので、基板端面全体をブラシ洗浄することができ、特に有用な洗浄装置となる。
【００１３】
前記洗浄ブラシは、円筒状又は円柱状のものが好適である（請求項３）。
円筒状又は円柱状の洗浄ブラシであれば、ブラシの底面で基板の上面を洗浄することができ、ブラシの側面で基板の端面を確実に洗浄することができる洗浄装置となる。
【００１４】
また、前記洗浄ブラシに対して洗浄液を供給するブラシ洗浄液供給手段を備えることが好ましい（請求項４）。
ブラシ洗浄液供給手段によって洗浄ブラシに洗浄液を直接供給しながら洗浄を行うことができるものとすれば、洗浄効果が一層高くなり、基板をより確実に洗浄することができる洗浄装置となる。
【００１５】
前記基板支持手段は、前記基板支持手段により支持された基板を上昇させるとともに、該基板又は前記基板支持手段の各支持ピンを９０°回転させた後、前記基板を下降させて該基板の周囲を他の位置で支持し直すものとすることができる（請求項５）。
特に四角形のマスク基板を洗浄する場合、基板又は支持ピンを９０°回転させることで、基板の周囲を他の位置で支持し直すことができるため、基板の端面全体を容易にかつ確実に洗浄することができる洗浄装置となる。
【００１６】
前記基板洗浄液供給手段が、前記基板支持手段により支持された基板の上面に洗浄液を供給する上面洗浄ノズルと、該基板の下面に洗浄液を供給する下面洗浄ノズルを有するものであることが好ましい（請求項６）。
このような上下の洗浄ノズルを備えていれば、洗浄中に基板の下面が乾燥して汚染やステインが残ることを確実に防止することができる洗浄装置となる。
【００１７】
前記基板支持手段を包囲し、前記洗浄液の飛散を抑制するカバー手段を備えることが好ましい（請求項７）。
このようなカバー手段を備えていれば、チャンバー内に洗浄液が飛散することを抑制することができるため、マスク基板の洗浄を連続して行うことができる洗浄装置となる。
【００１８】
前記カバー手段の内側に気流調整板が設けられていてもよい（請求項８）。
洗浄中、基板支持手段の回転により気流が発生するが、カバー手段の内側に気流調整板を設けておくことで洗浄液のミストの拡散を抑制することができる。
【００１９】
また、前記基板支持手段及びカバー手段の少なくとも一方が上下動可能であるものとすることもできる（請求項９）。
基板支持手段やカバー手段が上下動できるものであれば、基板支持手段へのマスク基板の受け渡しを干渉せずに容易に行うことができる洗浄装置となる。
【００２０】
前記チャンバー内の雰囲気を浄化するためのフィルタが設けられているものとすることもできる（請求項１０）。
フィルタによりチャンバー内を清浄な雰囲気に保つことができ、マスク基板へのパーティクル等の再付着を確実に防止することができる。
【００２１】
さらに本発明によれば、マスク基板を洗浄する方法であって、前記洗浄装置を用い、前記マスク基板を前記基板支持手段の支持ピンで支持し、少なくとも、洗浄液を供給しながら前記洗浄ブラシによって前記基板の端面を洗浄した後、前記支持ピンにより支持されている基板を該支持ピンに対して相対的に回転させて該基板の周囲を他の位置で支持し直し、前記洗浄ブラシによって再度端面を洗浄する工程を行うことを特徴とするマスク基板の洗浄方法が提供される（請求項１１）。
【００２２】
本発明に係る洗浄装置を用い、支持ピンで支持されている基板の端面を洗浄液の供給と洗浄ブラシによって洗浄した後、基板の周囲を他の位置で支持し直して再度端面を洗浄することにより、当初支持された位置も含めて端面全体を確実に洗浄することができる。
【００２３】
また、前記基板支持手段により前記基板を回転させるとともに、洗浄液を供給しながら前記洗浄ブラシを前記基板の中心から角部まで往復させて該基板の上面を洗浄する工程を行うこともできる（請求項１２）。
基板の回転と洗浄ブラシの往復により基板の上面を洗浄すれば、マスク基板の全面を確実に洗浄することができる。
【００２４】
また、前記マスク基板として、ペリクルを剥がした後のマスク基板を前記ペリクルが貼り付けられていた面を上にして前記基板支持手段の支持ピンで支持し、洗浄液を供給するとともに、前記基板のペリクルが貼り付けられていた領域に前記洗浄ブラシを回転させながら摺接させて該領域を洗浄する工程を行うこともできる（請求項１３）。
ペリクルを剥がした後のマスク基板は特にペリクルが貼られていた領域を重点的に洗浄する必要があるが、本発明に係る装置を用い、洗浄ブラシを回転させながらその領域に摺接させることによって短時間で効率的に洗浄することができる。
【００２５】
また、前記マスク基板を洗浄した後、該基板を純水でリンスする工程と、リンス後、該基板を前記基板支持手段により回転させて乾燥する工程を行うこともできる（請求項１４）。
本発明に係る洗浄装置を用い、洗浄後の基板を基板支持手段で支持したままリンスし、さらに乾燥させることにより、同じチャンバー内で基板全体の洗浄から乾燥までを効率的に行うことができる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明に係るマスク基板用の洗浄装置は、同じチャンバー内で、マスク基板の周囲を支持ピンで支持した状態で、基板の上面及び端面を洗浄ブラシと洗浄液によって物理化学洗浄することができる。しかも、支持ピンで基板の周囲を他の位置で支持し直すことができるので、端面全体を確実に洗浄することができる。また、基板の上面を洗浄ブラシと洗浄液によって洗浄することができるため、上面全体はもちろん、ペリクルが貼り付けられていた領域を重点的に洗浄することもできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、添付の図面を参照しつつ、好適な態様として、本発明に係るマスク基板用の洗浄装置を用いて四角形のマスク基板を洗浄する場合について説明する。
図１及び図２は、本発明に係るマスク基板用の洗浄装置の一例を示している。この洗浄装置１は、チャンバー２、基板支持手段３、基板洗浄液供給手段６，７、洗浄ブラシ８、廃液口１０、カバー手段１１等を備えている。
【００２８】
基板支持手段３は、回転テーブル１４、マスク基板５の周囲（辺の部分）を支持するための６本の支持ピン４等を有している。支持ピン４は、マスク基板５の１組の対向する２辺については各辺の中央部を１本で支持し、他の組の対向する２辺については両角付近を２本で支持するように配置されている。このように支持ピン４が配置されていることによりマスク基板５の隣り合う辺を異なる位置で支持することができる。なお、本発明に係る洗浄装置では、支持ピン４の配置はこれに限定されず、マスク基板５の隣り合う辺に対して異なる位置で支持するように配置されていればよい。
【００２９】
さらに、基板支持手段３は、基板５を支持ピン４に対して相対的に回転させて支持し直すための手段として、図３（Ａ）に示したような上下動可能な可動ピン１６を備えている。支持ピン４により支持されている基板５を可動ピン１６で支持して上昇させ、基板５又は各支持ピン４を９０°回転させた後、可動ピン１６を下降させる。これにより、支持ピン４によって基板５の各辺を他の位置で支持し直すことができる。
また、基板５を支持し直す手段として、ロボットアームを用いてもよい。例えば、図３（Ｂ）に示したように、基板支持手段３で支持されている基板５をロボットアーム３０で保持して上昇させる。そして、回転テーブル１４を９０°回転させた後、基板５を基板支持手段３に戻すことで、支持ピン４によって基板５の各辺を他の位置で支持し直すことができる。
【００３０】
上面洗浄ノズル６と下面洗浄ノズル７は、それぞれ基板５の上下の面に対して洗浄液又は純水を供給することができるように配置されている。なお、これらのノズル６，７は、装置１の大きさや洗浄すべきマスク基板５の大きさ等に応じて各ノズルの本数、設置位置等を適宜設定すればよい。また、各ノズル６，７は、洗浄効果を高めるため、メガソニック照射ノズルとすることもできる。
【００３１】
洗浄ブラシ８は、マスク基板にキズをつけないものを使用することができ、例えば半導体ウエーハ等の洗浄に使用するＰＶＡスポンジで円筒状又は円柱状に成形したものが好適である。図４は洗浄ブラシ８を拡大して示している。このようなＰＶＡブラシ８がブラシ駆動機構１７に取り付けられている。ブラシ駆動機構１７によりブラシ８は回転することができ、さらにチャンバー２内を上下、左右、前後に自在に移動することができ、基板の形状を選ばずにブラシ洗浄することができる。従って、例えばブラシ８の側面８ｂをマスク基板５の端面に、あるいはブラシ８の底面８ａを基板５の上面にそれぞれ回転させながら摺接させることで汚れを物理的に除去することができる。なお、洗浄ブラシ８の数も特に限定されず、２つ以上設けても良い。
また、ブラシ駆動機構１７には、洗浄ブラシ８に対して洗浄液を供給するためのブラシ洗浄液供給ノズル９が備えられている。なお、ブラシ８の内部に洗浄液を供給するようにしても良い。
【００３２】
カバー手段１１は基板支持手段３を包囲するように設けられている。さらに、カバー手段１１の内側には基板支持手段３の回転により生じた気流を整流するための気流調整板（パンチング板等）１２が設けられている。このようなカバー手段１１を設けることにより、洗浄中、洗浄液やミストがチャンバー２の内部全体に飛散することを効果的に抑制することができ、洗浄した基板の再汚染を防止することができる。
【００３３】
さらに、カバー手段１１にはカバー上下動手段１５が取り付けられている。３つのカバー上下動手段１５が同期して上下動することによりカバー手段１１を上下動することができる。洗浄時はカバー手段１１を上昇させることで洗浄液の飛散を効果的に防ぐことができる。また、マスク基板５を受け渡す時はカバー手段１１を下降させることで干渉を防ぎ、マスク基板５の支持ピン４への受け渡しを容易に行うことができる。なお、基板支持手段３（支持ピン４）を上下動可能にして基板５とカバー手段１１との干渉を防ぐようにしてもよい。
【００３４】
チャンバー２の下面の中央部には廃液口１０が設けられており、チャンバー２の下面には廃液口１０に向けて傾斜するスロープ１８が設けられている。このようなスロープ１８を設けることで洗浄液の廃液が廃液口１０に集まり、よどみが少ない状態で廃液を回収することができる。
また、チャンバー２の天井部にＨＥＰＡフィルタ、ＵＬＰＡフィルタ等のフィルタを有するクリーンユニット１３を設けることにより、チャンバー内の雰囲気を常に浄化することができる。
【００３５】
このような本発明に係る洗浄装置１を用いれば、洗浄液の供給と洗浄ブラシ８により、マスク基板５の端面、ペリクル部、表面全体をそれぞれ物理化学洗浄することができる。以下、本発明の装置を用いたマスク基板５の端面、ペリクル部、表面全体を好適に洗浄する方法についてそれぞれ説明する。
【００３６】
＜端面洗浄＞
洗浄するマスク基板をロボットアーム等により洗浄装置１に搬送し、図２に示されるようにマスク基板５を支持手段３に受け渡して支持ピン４により支持する。図５に示したように洗浄ブラシ８に対してブラシ洗浄液供給ノズル９から純水等の洗浄液を供給するとともに、洗浄ブラシ８を回転させながらブラシ８の側面８ｂを基板５の端面５ｂに沿って摺接させる。このようにブラシ８に洗浄液を直接供給しながらブラシ洗浄をすることで極めて高い洗浄効果が得られる。なお、ブラシ洗浄中、必要に応じて上下の洗浄ノズル６，７から純水等を供給し、マスク基板の上下面の乾燥や汚染を防止することが好ましい。
【００３７】
上記のようにブラシ８に洗浄液を供給しながらブラシ８を基板５の端面５ｂに沿って摺接させることにより、支持ピン４で支持されている部分を除き、端面５ｂをブラシ洗浄することができる。
また、ブラシ８を基板５の端面５ｂに接触させずに洗浄を行うこともできる。すなわち、ブラシ８を基板の端面５ｂに近接させ、ブラシ８に洗浄液を供給するとともにブラシ８を高速回転させることで過流が生じ、洗浄効果を発揮させることができる。この場合、ブラシ自体は基板５に接触していないため、ブラシ８によって不意にキズを付けてしまうこともない。
【００３８】
次に、１回目の端面洗浄時に支持ピン４で支持されている部分を洗浄するため、支持ピン４により基板５の各辺を他の位置で支持し直す。図６（Ａ）に示されているように支持ピン４で支持されている基板５を、例えば、図３（Ａ）（Ｂ）に示した可動ピン１６又はロボットアーム３０によって基板５を上昇させる。そして、図６（Ｂ）に示すように各支持ピン４を時計回りに回転させる。支持ピン４を９０°回転させたところで可動ピン１６又はロボットアーム３０により基板５を下降させ、図６（Ｃ）に示すように再度支持ピン４によって基板５の各辺を支持する。
【００３９】
各支持ピン４は四角形のマスク基板５の隣り合う辺に対して異なる位置で支持することができるように配置されているので、上記のように支持ピン４を基板５に対して相対的に９０°回転させることにより基板５の各辺は他の位置で支持し直されることになる。すなわち、支持ピン４の相対的な回転前後においてマスク基板５と支持ピン４との接触部位が変わることになる。この状態で再度洗浄ブラシ８により基板５の端面を洗浄すれば、当初、支持ピン４で支持されていた部分も洗浄することができ、基板５の端面を全周にわたってブラシ洗浄することができる。
なお、ブラシ８は基板５の周囲を何周させてもよく、汚れの程度に応じて適宜設定すれば良い。
【００４０】
上記のように端面全体を洗浄した後、マスク基板５を回転又は静止した状態で、上下の各ノズル６，７から基板５に対してリンス液（例えば純水）を供給し、基板５に付着している洗浄液を除去する。
次いで、必要に応じて基板支持手段３の回転テーブル１４を高速回転させてマスク基板５に付着している液体を遠心力で吹き飛ばして乾燥させる。
【００４１】
＜ペリクル部洗浄＞
図７のようにペリクルを剥がした後のマスク基板５をペリクルが貼り付けられていた面５ａを上にして基板支持手段３の支持ピン４で支持する。図８に示されるように洗浄ブラシ８に対してブラシ洗浄液供給ノズル９から洗浄液を供給するとともに、基板５のペリクルが貼り付けられていた領域（ペリクル部）１９に洗浄ブラシ８を回転させながらブラシ８の底面８ａを摺接させる。ペリクル部１９に沿ってブラシ８を移動させることにより、ペリクル部１９の全周にわたってブラシ洗浄することができる。なお、基板５のペリクル部１９あるいは上面５ａを洗浄する場合は、ブラシ洗浄液供給手段から洗浄液を供給してブラシ洗浄することに限らず、上面洗浄ノズル６から洗浄液を供給してブラシ洗浄することもできる。
【００４２】
また、ペリクル部１９を洗浄する場合も、高速回転するブラシ８を基板５に近接させて過流による洗浄を行ってもよい。また、ブラシ８がペリクル部に沿って周る回数も特に限定されず、例えば、ペリクル部１９の位置と洗浄回数を数値制御することでペリクル部１９を効率的にかつ重点的に洗浄することができる。
【００４３】
また、洗浄中、基板５の下面側には下面洗浄ノズル７から水や洗浄液を供給することが好ましい。基板５の上面５ａ（ペリクル部１９）に洗浄液を供給して洗浄すると、洗浄液が基板５の端面や下面側に回り込み、乾燥して汚染やステインが発生するおそれがある。そこで、下面側に水や洗浄液を供給すれば、汚染やステインの発生を防ぐことができる。
【００４４】
上記のようにペリクル部１９を洗浄した後は、前記端面洗浄と同様にリンス工程及び必要に応じて乾燥工程を行うことができる。
【００４５】
＜表面洗浄＞
図９に示したようにマスク基板５を支持ピン４により支持して回転させる。洗浄ブラシ８に対してブラシ洗浄液供給ノズル９から洗浄液を供給するとともに、洗浄ブラシ８を基板５の中心から角部までの間２０を往復させて基板５の表面（上面）５ａを洗浄する。この場合も、ブラシ８の底面８ａを基板５の上面５ａに摺接させて洗浄してもよいし、高速回転するブラシ８を基板５に近接させて過流による洗浄を行ってもよい。
【００４６】
ブラシ８が基板の中心から角部の間２０を往復する回数は特に限定されず、例えばマスク基板５の中心と角部の位置、並びにブラシ８の往復回数を数値制御することにより上面全体を確実にかつ効率的に洗浄することができる。
【００４７】
また、上記のようにブラシ８の往復によって基板５の表面（上面）を洗浄する場合も、洗浄中、基板５の下面側には下面洗浄ノズル７から純水や洗浄液を供給して基板５の端面及び下面の汚染やステインの発生を防ぐことが好ましい。
なお、基板５の上面５ａを洗浄した後、基板５を反転させて下面側を同様に洗浄してもよい。
【００４８】
以上のように本発明に係るマスク基板用の洗浄装置は、マスク基板の端面全体、ペリクルが貼り付けられていた領域、基板の表面全体をそれぞれ選択的に洗浄することができる。もちろん、これらの箇所全てを順次洗浄することもできるし、基板を反転させて裏面を洗浄することもできる。
【００４９】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。前述の実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【００５０】
上記実施形態では、四角形のマスク基板を洗浄する場合について説明したが、本発明に係る洗浄装置で洗浄するマスク基板の形状は特に限定されず、例えば、基板支持手段の支持ピンは洗浄すべきマスク基板の形状に応じて配置すればよい。すなわち、支持ピンでマスク基板の周囲を支持することができ、支持ピンにより支持されている基板を該支持ピンに対して相対的に回転させることにより基板の周囲を他の位置で支持し直すことができるように支持ピンを配置すればよい。例えば、マスク形状が円形である場合、回転することにより任意の位置で支持し直すことができるので、支持ピンの配置は必ずしも不均等でなく、円周に沿って均等に配置されていてもよい。
また、上記実施形態では、ブラシを回転させて洗浄する場合について説明したが、マスク基板の形状やブラシの形状（例えば角柱）によっては、ブラシを回転させずに洗浄を行ってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明に係るマスク基板用洗浄装置の一例の概略を示す上面図である。
【図２】本発明に係るマスク基板用洗浄装置の一例の概略を示す断面図である。
【図３】（Ａ）基板を可動ピンにより上昇させた状態を示す概略図である。（Ｂ）基板をロボットアームにより上昇させた状態を示す概略図である。
【図４】洗浄ブラシを拡大した概略図である。
【図５】マスク基板の端面をブラシで洗浄する状態を示す概略図である。
【図６】基板の端面を洗浄する場合に支持ピンにより基板を支持し直す方法の一例を示す図である。
【図７】ペリクルが貼り付けられていた領域を示す概略図である。
【図８】ペリクル部をブラシで洗浄する状態を示す概略図である。
【図９】基板の表面を洗浄する場合の洗浄ブラシが往復する部分を示す概略図である。
【図１０】マスク基板にペリクルを貼り付けた状態を示す概略図である。
【符号の説明】
【００５２】
１…マスク基板用洗浄装置、  ２…チャンバー、  ３…基板支持手段、  ４…支持ピン、  ５…マスク基板、  ５ａ…マスク基板の表面（上面）、  ５ｂ…マスク基板の端面、  ６…上面洗浄ノズル、  ７…下面洗浄ノズル、  ８…洗浄ブラシ、  ８ａ…ブラシ底面、  ８ｂ…ブラシ側面、  ９…ブラシ洗浄液供給手段、  １０…廃液口、  １１…カバー手段、  １２…気流調整板、  １３…クリーンユニット（フィルタ）、  １４…回転テーブル、  １５…カバー上下動手段、  １６…可動ピン、  １９…ペリクルが貼り付けられていた領域（ペリクル部）、  ３０…ロボットアーム。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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