(57)【要約】【課題】本発明は、隣り合う同色の画素間のクロストークを防止することを可能にする有機ＥＬ発光装置の製造方法を提供する。【解決手段】行方向及び列方向に設けられている隔壁と、前記隔壁により互いに離間している複数の有機ＥＬ発光部と、を有する有機ＥＬ発光装置の製造方法において、  前記行方向の隔壁部の高さと、前記列方向の隔壁部の高さを異ならせて前記隔壁を形成する隔壁形成工程と、  前記行方向、前記列方向のうちいずれか高い方の隔壁部に沿って、前記高い方の隔壁間に有機ＥＬ材料を連続して塗布する工程と、を有する。【選択図】図１
2007188862.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
行方向及び列方向に設けられている隔壁と、前記隔壁により互いに離間している複数の有機ＥＬ発光部と、を有する有機ＥＬ発光装置の製造方法において、
前記行方向の隔壁部の高さと、前記列方向の隔壁部の高さを異ならせて前記隔壁を形成する隔壁形成工程と、
前記行方向、前記列方向のうちいずれか高い方の隔壁部に沿って、前記高い方の隔壁間に有機ＥＬ材料を連続して塗布する工程と、を有することを特徴とする有機ＥＬ発光装置の製造方法。
【請求項２】
行方向及び列方向に設けられている隔壁と、前記隔壁により互いに離間している複数の有機ＥＬ発光部と、を有する有機ＥＬ発光装置において、
前記隔壁は、前記行方向と前記列方向において高さが異なることを特徴とする有機ＥＬ発光装置。
【請求項３】
前記行方向と前記列方向のうち高さが低い方の隔壁部が、前記行方向と前記列方向のうち高さが高い方の隔壁部の長尺方向に斜面を有することを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬ発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電流の注入によって発光する有機化合物材料のエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬと称す）を利用した有機ＥＬ発光装置及びその製造方法に関し、特に、画素分離用の隔壁を備えた有機ＥＬ発光装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
大画面ディスプレイとして有望視されている有機ＥＬ発光装置は、有機ＥＬ発光材料を大型基板に塗布形成することによって、低コスト化を達成しようとしている。
【０００３】
代表的な塗布形成方法として、特許文献１で開示されたインクジェット方式による発光装置の作製方法について説明する。
【０００４】
図８に示したように、透明基板上に酸化スズインジウム（以下、ＩＴＯと称す）等から成るアノード透明電極を、フォトリソグラフィー法を用いて作製する。次に、透明電極間に電気絶縁性の高い素子分離用の「隔壁」（例えば、ポリイミド）を、フォトリソグラフィー法を用いて形成する。次に、各画素中に、インクジェット法を用いて正孔注入層及び発光層等をこの順に滴下塗布形成する。ここで、「隔壁」の高さは、有機ＥＬ層の膜厚に対して十分高い必要がある。その目的は、有機ＥＬ材料が、インクジェットのノズルから噴出して画素内に着弾する際に、その一部が基板から跳ね返って周りに飛散し、隔壁を乗り越えて隣接する有機ＥＬ材料に混入することを防ぐことである。また、図９に示した様に、隔壁９１及び９２は、各画素の周囲をとり囲む形状とすることで、画素間分離を達成している。従って、インクジェット方式の場合には、特許文献１で示されたように、「隔壁」の高さはいずれの場所においてもほぼ同一である（図９において、ｈ５＝ｈ６）。
【０００５】
次に、他の塗布方法として、特許文献２で開示されたいわゆるノズルプリンティング方式による発光装置の作製方法について説明する。
【０００６】
図６に示したように、透明基板上にＩＴＯから成るアノード透明電極を、フォトリソグラフィー法を用いて形成した後、ノズルプリンティング方式に適した画素分離用の「隔壁」を、ストライプ状（図７の隔壁７３）にフォトリソグラフィー法を用いて形成する。ここで、隔壁の高さは、必要量の塗布インク（有機ＥＬ材料６４、６４’、６４”）が隔壁６３を乗り越えない程度に十分高い必要があり、また、いずれの場所もほぼ同一の高さである（図６参照）。ノズルは、このストライプ状の隔壁７３に沿って高速に搬送させる。ノズルプリンティング方式の特長は、溶液の粘度と圧力を調整することで、１回の突出で必要量の溶液（有機ＥＬ材料６４）を隔壁内の溝部分に滴下するものである。すなわち、有機ＥＬ材料を、溝内に連続的に（液滴が途切れることなく、一筆書きのように）滴下させることで、インクジェット法における「隔壁での液滴の跳ね返り等によるインクの混入（混色）」という課題を克服している。
【０００７】
以下有機ＥＬ材料を、溝内に連続して（液滴が途切れることなく、一筆書きのように）滴下させる方法をノズルプリンティング法とする。
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−１５３９６７号公報
【特許文献２】特開２００２−７５６４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、ノズルプリンティング法の場合には、特許文献２で開示されたように、「隔壁」はストライプ状（図７参照）であることから、ノズルと被成膜物との相対位置が変化する方向（以下スキャン方向とする。）に配置する同色の画素間の物理的な分離が存在しない。そのために、隣り合う同色の画素間におけるクロストークが問題となっている。クロストークの原因は、発光層、正孔輸送層、電子輸送層等の有機化合物層を介して発光層から発する光が隣り合う同色の画素に伝わっていくことである。
【００１０】
本発明は、隣り合う同色の画素間のクロストークを防止することを可能にする有機ＥＬ発光装置の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
そこで、本発明は行方向及び列方向に設けられている隔壁と、前記隔壁により互いに離間している複数の有機ＥＬ発光部と、を有する有機ＥＬ発光装置の製造方法において、
前記行方向の隔壁部の高さと、前記列方向の隔壁部の高さを異ならせて前記隔壁を形成する隔壁形成工程と、
前記行方向、前記列方向のうちいずれか高い方の隔壁部に沿って、前記高い方の隔壁間に有機ＥＬ材料を連続して塗布する工程と、を有することを特徴とする有機ＥＬ発光装置の製造方法を提供する。
【００１２】
また、本発明は行方向及び列方向に設けられている隔壁と、前記隔壁により互いに離間している複数の有機ＥＬ発光部と、を有する有機ＥＬ発光装置において、
前記隔壁は、前記行方向と前記列方向において高さが異なることを特徴とする有機ＥＬ発光装置を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によると、スキャン方向に対して交差する方向にも低い隔壁（行方向の隔壁）が形成された状態で、有機ＥＬ材料をノズルプリィンティング法で塗布することによって隣り合う同色の画素間のクロストークを防止することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明は、ノズルプリンティング法で有機ＥＬ材料を塗布して形成する有機ＥＬ発光装置とその製造方法であって、有機ＥＬ材料の同色画素間のクロストークをも防止した、有機ＥＬ発光装置を提供するものである。
【００１５】
すなわち、本発明に係る有機ＥＬ発光装置の製造方法は、行方向及び列方向に設けられている隔壁と、隔壁により互いに離間している複数の有機ＥＬ発光部と、を有する有機ＥＬ発光装置の製造方法である。そして本発明に係る製造方法は、行方向の隔壁部の高さと、列方向の隔壁部の高さを異ならせて隔壁を形成する隔壁形成工程と、行方向、列方向のうちいずれか高い方の隔壁部に沿って、高い方の隔壁間に有機ＥＬ材料を連続して塗布する工程と、を有する。
【００１６】
また、本発明に係る有機ＥＬ発光装置は、行方向及び列方向に設けられている隔壁と、隔壁により互いに離間している複数の有機ＥＬ発光部と、を有し、隔壁は行方向と列方向において高さが異なることを特徴とする。
【００１７】
隔壁は、複数の有機ＥＬ発光部の間に設けられている。つまり、隔壁は行方向に沿って設けられている隔壁部と列方向に沿って設けられている隔壁部とを有する。発光装置が複数行、複数列の有機ＥＬ発光部を有する場合には、隔壁部は行方向、列方向ともに複数ライン設けられる。本発明において、行方向に設けられる隔壁部の高さと列方向に設けられる隔壁部の高さは異なる。行方向の隔壁部と列方向の隔壁部とが交わる部分の高さは高い方の隔壁部となる。ここで、高さとは、有機ＥＬ層の下に設けられる電極の表面から最も電極と離れた位置との距離のことである。
【００１８】
隔壁の形成は、複数の有機ＥＬ発光部の間に設けられるように、つまり行方向と列方向に沿って隔壁部を有するように形成する。隔壁の形成は、有機ＥＬ材料を塗布するより前に行われる。隔壁は、塗布される有機ＥＬ材料を区画することになるからである。
【００１９】
有機ＥＬ発光部は、一対の電極とその間に配置される有機化合物層とを有する。そして陽極から注入された正孔と、陰極から注入された電子とが有機化合物層において再結合し、励起された分子が基底状態に戻る際に光を発する。有機化合物層は、少なくとも発光層を有しており、その他に正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、電子注入層等が設けられていても良い。
【００２０】
有機ＥＬ発光部の形成は、この有機ＥＬ発光部を行方向と列方向に離間して複数形成する。有機化合物層は有機ＥＬ材料を連続して塗布することによって形成されるが、隔壁によってそれぞれ離間して形成される。連続して塗布するとは、具体的には有機ＥＬ材料が途切れることなく線状に塗布することである。この場合、各有機ＥＬ発光部に均一な膜を成膜するために、ノズルから一定量の有機ＥＬ材料を吐出させながら、ノズルと被成膜物との相対位置を一定の速度で変化させることが好ましい。ここで、行方向および列方向とは、本発明の有機ＥＬ発光装置を表示装置に適用させた場合にそれぞれ表示面の横方向および縦方向を指すものではないが、以下の説明では、便宜上紙面横方向を行方向、紙面縦方向を列方向として説明する。なお、行方向と列方向とは必ずしも垂直に交わっている必要はない。
【００２１】
有機ＥＬ発光部の形成は、スキャン方向（ノズルと被成膜物との相対位置が変化する方向）に対して平行な隔壁部のみを形成するのではなく、スキャン方向に対して交差する方向の隔壁部をも形成した状態で有機ＥＬ材料を塗布して形成する。そして、後者の隔壁部の高さは前者よりも低く形成されていて、同一インク（有機ＥＬ材料）の物理的な分離を実現したものである。スキャン方向に対して平行な隔壁部は、異なる色のインク（例えば、有機ＥＬ材料６４と６４’、６４’と６４”）の分離と混色防止が目的であることから、塗布インク膜厚に対して十分高くする必要がある。しかし、スキャン方向に対して交差する方向の隔壁部は、同色インク（有機ＥＬ材料）の分離のみが目的であることから、有機ＥＬ材料の最終膜厚より高い程度であれば良い。また、ノズルからの塗布液が連続的であることが途切れないようにするためには、スキャン方向に対して交差する方向の隔壁部は低ければ低いほど良い。
【００２２】
有機ＥＬ材料の塗布において、発光色の異なる有機ＥＬ発光部ごとに異なる有機ＥＬ材料を用いる場合（例えば、有機ＥＬ材料６４と６４’、６４’と６４”）には、同色の有機ＥＬ発光部はスキャン方向に沿って線状に配置される。そのため、本発明の製造方法によって得られる有機ＥＬ発光装置の画素配列は、線状に設けられる複数色の有機ＥＬ発光部が周期的に配列されるいわゆるストライプ配列となる。
【００２３】
以下、本発明の実施の形態について図面に基づいて説明する。
【００２４】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施形態による有機ＥＬ発光装置の隔壁を示した模式図であり、図２は、本発明の第１の実施形態による有機ＥＬ発光装置の隔壁に区画された領域に有機化合物層が設けられていることを示す模式図である。図１（１）と図２（１）は平面図、図１（２）、図１（３）、図２（２）、図２（３）は断面図である。本発明の有機ＥＬ発光装置は有機化合物層の下（紙面奥側）および有機化合物層の上（紙面手前側）にそれぞれ電極が設けられるが、図１、図２は電極を省略し、模式的に示したものである。本発明の有機ＥＬ発光装置は、電極はストライプ状の電極が交差した構成であって、いわゆるパッシブマトリクス型の発光装置であっても良い。あるいは、本発明の有機ＥＬ発光装置は、一方の電極が有機ＥＬ発光部毎に区切られていて他方の電極が有機ＥＬ発光部間に跨って設けられているいわゆるアクティブマトリクス型の発光装置であっても良い。
【００２５】
図１において、１１は列方向の隔壁部、１２は行方向の隔壁部である。図２において、２１は列方向の隔壁部、２２は行方向の隔壁部、２３，２３’，２３”は有機ＥＬ層である。
【００２６】
本発明の第１の実施形態は、図１および図２に示した通り、ノズルプリンティング法で有機ＥＬ材料を塗布して形成する有機ＥＬ発光装置であって、スキャン方向に対して平行な隔壁部を形成する。これに加えて、ノズルスキャン方向に対して交差する方向の隔壁部をも形成し、かつ、スキャン方向に対して平行な隔壁部の高さをｈ１、スキャン方向に対して交差する方向の隔壁部の高さをｈ２とした時に、ｈ１＞ｈ２としたものである。スキャン方向に対して交差する方向の隔壁部の高さｈ２は、スキャン方向の素子間におけるインクの分離が目的であり、スキャン方向の隣接素子間におけるインクの混入は（同一インクであることから）問題とならない。従って、ｈ２は、小さければ小さいほど良いが、下限としては、有機ＥＬ層およびカソード電極を加えた総膜厚以上あれば良い。具体的には、１μｍ＜ｈ１＜１０μｍ、０．１μｍ＜ｈ２＜２μｍ程度である。
【００２７】
隔壁の材料は、電気絶縁性の高い材料であれば良く、例えば、ポリイミド、ポリエステル、スチレン−アクリル共重合体、アクリル等の樹脂や、それらに添加剤を加えたもの、あるいは、ＳｉＯ2等が好ましい。また、隔壁の表面は撥水性であり、隔壁内、つまり隔壁によって区画されて有機ＥＬ発光部となる領域はインク（有機ＥＬ材料）が定着しやすいように、親水性とすることが好ましい。例えばポリイミドの隔壁の場合には、Ｏ2プラズマ処理することで、溝内を親水性とした後、隔壁をＣＦ4プラズマ処理することで、隔壁を撥水性とすることができる。
【００２８】
隔壁の高さを列方向と行方向とで異ならせる手法としては、特に限定されないが、例えば、フォトリソグラフィー法において、フォトマスクを２種類用意して、まず、隔壁材料を全面に塗布（あるいは蒸着）形成した上にフォトレジストを全面に塗布する。次に、ノズルスキャン方向に対して平行な隔壁部（列方向の隔壁部）に相当する部分をマスクとしたフォトマスクで所望時間露光して現像し、次に、残存するレジストをマスクとして所望時間エッチングする。さらに、その上にフォトレジストを塗布形成し、スキャン方向に対して平行（列方向の隔壁部）及び交差する方向の隔壁部（行方向の隔壁部）の両方に相当する部分をマスクとしたフォトマスクで所望時間露光し、現像する。その後、それによって残存したレジストをマスクとして所望時間エッチングすることで、行方向の隔壁部の高さを、列方向の隔壁部の高さより低く作製することが可能である（詳細は、実施例１参照）。
【００２９】
また、他の手法としては、列方向の隔壁部に相当する部分のマスクの幅を、行方向の隔壁部に相当する部分のマスク幅より大きくしたフォトマスクを用意する。このマスクを用いて露光−現像し、残存したレジストは、列方向の隔壁部の幅＞行方向の隔壁部の幅である。次に、該残存するレジスト構造体をマスクとして隔壁材料をエッチングすると、［列方向の隔壁部の幅］＞［行方向の隔壁部の幅］であるポリイミド隔壁が作製される。この時点での隔壁の高さは、どこも同じである。次に、この素子の表面から、ポリイミド材料が軟化する温度程度の熱を加えて、ポリイミド隔壁を軟化させる。すると、熱容量の関係で、幅の狭い隔壁部の高さの方が、幅の広い隔壁部の高さより低くなる。このようにして、［列方向の隔壁部の高さ］＞［行方向の隔壁部の高さ］である素子が得られる。
【００３０】
その他にも、フォトマスクの透過度の変化を利用や、位相シフトのマスクを利用すること等でも実現可能である。
【００３１】
（第２の実施の形態）
図３は、本発明の第２の実施形態による有機ＥＬ発光装置の隔壁を示した模式図であり、図４は、本発明の第２の実施形態による有機ＥＬ発光装置の隔壁に区画された領域に有機化合物層が設けられていることを示す模式図である。図３（１）と図４（１）は平面図、図３（２）、図３（３）、図４（２）、図４（３）は断面図である。本発明の有機ＥＬ発光装置は有機化合物層の下（紙面奥側）および有機化合物層の上（紙面手前側）にそれぞれ電極が設けられるが、図３、図４は電極を省略し、模式的に示したものである。
【００３２】
図３において、３１は列方向の隔壁部、３２は行方向の隔壁部である。図４において、４１は列方向の隔壁部、４２は行方向の隔壁部、４３，４３’，４３”は有機ＥＬ層である。
【００３３】
本発明の第２の実施の形態は、ノズルプリンティング法で有機ＥＬ材料を塗布して形成する有機ＥＬ発光装置において、第１の実施の形態に加えて、高さが低い方の隔壁部の長尺方向に斜面を有する。つまり、スキャン方向に対して交差する方向の隔壁部が、スキャン方向に対して平行な隔壁部の長尺方向に斜面を有する。
【００３４】
斜面を有するとは、例えばスキャン方向の断面（ｄ−ｄ’）が、図３（３）に示したような山型であることである。すなわち、図３（２）において、列方向の隔壁をｈ３、行方向の隔壁をｈ４とした時に、ｈ３≧ｈ４、かつ、図３（３）において、隔壁断面形状が底面に平行な平面部分を持たない山型としたものである。
【００３５】
本発明で、行方向の隔壁部の高さｈ４を列方向の隔壁部の高さｈ３よりも低くする目的は、行方向の隔壁部が、同色のインク間の分離のみが目的であり、同色インクであることから、隣接画素間のインクの混色が問題にならないことによる。従って、ｈ４は、小さければ小さいほど良いが、下限としては、有機ＥＬ層およびカソード電極を加えた総膜厚以上あれば良い。具体的には、１μｍ＜ｈ３＜１０μｍ、０．１μｍ＜ｈ４＜２μｍ程度である。また、列方向への画素へのインク（同色）の分離を加速する目的で、隔壁部は、図３（３）に示したような傾斜部のみから成る山型形状とする。隔壁部の上部に平坦な部分を形成しないことで、隔壁部のインクの残存を防いでいる（通常の隔壁は台形形状である）。
【００３６】
隔壁部の形状を山型にする手法は、特に限定されないが、レジスト材料や露光条件を選ぶ（例えば、デフォーカスさせる）ことで作製することが可能である。あるいは、幅の異なる隔壁を形成した後、エッチングあるいは熱処理で変形させることができる。また、フォトマスクの透過度の変化を利用や、位相シフトのマスクを利用すること等でも可能である。
【００３７】
このように本発明に係る有機ＥＬ発光装置の製造方法は、該行方向の隔壁部を、従来の列方向の隔壁部より低くするか、あるいは、斜面を有する構造とすることで、ノズルプリィンティング法の特長である塗布液の連続滴下性を損なわない。
【００３８】
また、行方向の隔壁部の作製方法は、従来の列方向の隔壁部の作製法と同等レベルの工程を付加するだけのものであり、特別な工程や装置を必要としないことから、パネルのコストアップが避けられる。
【００３９】
以上、本発明によると、ノズルプリィンティング法を用いても、有機ＥＬ材料の画素間の完全な分離が可能となる。従って、本発明によって、ノズルプリィンティング法という塗布プロセスを用いて、有機ＥＬ発光装置を提供することができる。そして、本発明による有機ＥＬ発光装置は、デジタルカメラや、テレビ受像機、携帯電話、ＰＣモニタ等の表示部に適用することができる。本発明による有機ＥＬ発光装置をこのような表示部に適用することによって、クロストークが少なく表示品質の高い電子機器を得ることができる。
【実施例】
【００４０】
以下に具体例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
【００４１】
＜実施例１＞
本実施例は、第１の実施の形態による有機ＥＬ発光装置を作成した例である。
【００４２】
まず、従来のノズルプリィンティング法による有機ＥＬ発光装置の作製方法を、図６（断面図）と図７（平面図）の有機ＥＬ発光装置の有機ＥＬ発光部を図を用いて説明する。
【００４３】
従来のノズルプリィンティング法では、隔壁６３間に、正孔注入層や発光層（赤６４、緑６４’、青６４”）等の有機ＥＬ層を、ノズル６５を用いて塗布形成する。この時、液状インク（有機ＥＬ材料）６４を途切れることなく、連続的に滴下することで、図８に示した従来のインクジェット法での課題であった「液滴インク（有機ＥＬ材料）８４が隔壁を乗り越えて隣接画素に混入する」という問題を解決している。
【００４４】
ただし、従来のノズルプリィンティング法は、図７に示したように、スキャン方向７６に平行な隔壁７３のみを形成し、有機ＥＬ層７４、７４’、７４”の色分離を行なっていた。
【００４５】
本実施例は、図１（１）に示したように、従来のスキャン方向に対して平行な隔壁（以下、列方向の隔壁）１１に加えて、スキャン方向に対して垂直な方向にも隔壁（以下、行方向の隔壁）１２を形成した。ここで、列方向の隔壁１１の高さをｈ１、行方向の隔壁１２の高さをｈ２とすると、図１（２）に示したように、ｈ１＞ｈ２とした。
【００４６】
ここで、隔壁の作製は、通常のフォトリソグラフィー法とエッチング法を用いた。透明基板６１上にＩＴＯをパターニング形成し、その上面全面に、隔壁材料であるポリイミド６３を厚さ２μｍ形成し、次に、ポジ型のフォトレジスト材料（図示せず）を全面に厚さ２μｍ塗布形成した。
【００４７】
次に、図５（１）に示したようなフォトマスクＡを用いて露光した。フォトマスクＡは、列方向の隔壁部に相当する部分５１が光を通さないマスク部となっている。マスクＡで保護されなかったレジスト部は、露光後、現像することによって溶解除去された。次に、残存したレジスト材料構造部をマスクとして、ポリイミドをエッチングした。ここで、エッチングした部分の深さは０．５μｍとした。
【００４８】
次に、図５（２）に示したようなフォトマスクＢを用いて露光した。フォトマスクＢでは、列と行の両方向の隔壁部に相当する部分５２が遮光される。フォトマスクＢで保護されなかったレジスト部は、露光後、現像することによって溶解除去された。次に、残存したレジスト材料構造部をマスクとして、ポリイミドをエッチングした。今回のエッチングで削れた部分の深さは、さらに１．５μｍであった。
【００４９】
以上より、フォトマスクＡ及びフォトマスクＢの両方のマスクで保護され、残存したポリイミド隔壁は、列方向の隔壁部１１となり、高さｈ１は２μｍであった。一方、フォトマスクＡでは露光されたが、フォトマスクＢでは露光されなかった部位は、行方向の隔壁部１２となり、高さｈ２は１．５μｍであった。また、列方向の隔壁部１１の幅は２０μｍ、ピッチは１８０μｍであった。行方向の隔壁部１２の幅は２０μｍ、ピッチは２５０μｍであった。
【００５０】
このようにして、図１（１）及び（２）に示したようなポリイミド隔壁を持つ構造体が得られた。
【００５１】
次に、ポリイミド隔壁を持つ該構造体の上面から、Ｏ2プラズマ処理をすることで、表面全体を親水性とした。次に、ポリイミド隔壁の部分のみを、ＣＦ4プラズマ処理をすることで、隔壁の部分のみを撥水性とした。こうすることによって、溶液である有機ＥＬ材料が、隔壁部分でははじき易く、画素の隔壁内（隔壁によって区画されて有機ＥＬ発光部となる領域）にはとどまりやすくなる。
【００５２】
次に、該構造体を用いて、図６に示したような通常のノズルプリィンティング法により、有機ＥＬ材料６４、６４’、６４”を積層塗布形成した。有機溶剤乾燥後には、図２に示したように、有機ＥＬ層２３、２３’、２３”が、同色インク間でも行方向の隔壁部２２で分離できていることが観察された。さらに、カソード電極として有機ＥＬ層上全面にＡｌ電極を形成して封止した後、有機ＥＬ発光装置として特性評価したところ、隣接画素からのクロストークはほとんど観察されなかった。
【００５３】
以上、本発明によると、行方向に低い隔壁部２２を設けることで、ノズルプリィンティング法のインクの連続塗布性を損なうことなく、スキャン方向の隣接画素間の物理的な分離を可能としている。行方向の隔壁部２２の高さは、本発明では０．５μｍあれば十分であった（一方、列方向の隔壁部は、２μｍ以上必要であった）。
【００５４】
＜実施例２＞
図３と図４は、本発明の第２の実施形態による有機ＥＬ発光装置を示したものであり、図３（１）と図４（１）は平面図、図３（２）、図３（３）、図４（２）、図４（３）は断面図である。
【００５５】
本実施例は、図３（１）に示したように、従来のノズルスキャン方向の列方向の隔壁部３１に加えて、行方向の隔壁部３２を形成した。ここで、列方向の隔壁部３１の高さをｈ３、行方向の隔壁部３２の高さをｈ４とすると、図３（２）に示したように、ｈ３＞ｈ４とした。また、図３（３）に示したように、行方向の隔壁部３２は、ｄ−ｄ’方向の断面が、斜面を有するように、つまり底面に平行な平面を持たない山型形状とした。
【００５６】
具体的な隔壁の作製方法とその形状について以下に述べる。
【００５７】
隔壁の作製には、通常のフォトリソグラフィー法とエッチング法を用いた。
【００５８】
実施例１と同様に、透明基板６１上にＩＴＯ６２とポリイミド膜とフォトレジスト膜を形成した後、図５（２）に示したマスクＢを用いて露光−現像を行ない、ポリイミドをエッチングした。エッチング後に残ったポリイミド隔壁の形状は、列方向の隔壁部３１の幅が２０μｍ、ピッチが１８０μｍ、行方向の隔壁部３２は幅が５μｍ、ピッチが２００μｍ、隔壁高さはすべて３μｍであった。次に、該発光装置の表面から、適当な条件を選んでドライエッチングを行なった。一般に、表面構造体（表面に凹凸を有するもの）の表面からドライエッチングを行なった場合、構造体の凸部（変極部分）にプラズマが集中して、構造体が変形する。このことを利用して、本例では、幅の狭い隔壁部の変形を加速させることが出来た。具体的には、エッチング後の行方向の隔壁部３２は、幅が５μｍ、ピッチが２００μｍ、高さが１μｍの山型となった。一方、列方向の隔壁部３１は、エッチングによる変化がほとんど無く、幅が２０μｍ、ピッチが１８０μｍ、高さが３μｍであった。
【００５９】
このようにして図３（１）〜（３）に示したような隔壁を持つ構造体が得られ、その表面形状は、ｈ３＞ｈ４かつ行方向の隔壁部が底面に平行な平面を持たない山型形状となった。
【００６０】
次に、実施例１と同様に、ポリイミド隔壁を持つ基板の上面から、Ｏ2プラズマ処理をして、表面全体を親水性とした。次に、ポリイミド隔壁の部分のみを、ＣＦ4プラズマ処理をすることで、隔壁の部分のみを撥水性とした。これは、溶液である有機ＥＬ材料が、隔壁部分でははじき易く、画素の隔壁内（隔壁によって区画されて有機ＥＬ発光部となる領域）でとどまりやすくするためである。
【００６１】
次に、図６に示したような通常のノズルプリィンティング法により、有機ＥＬ材料６４を積層塗布形成したところ、有機溶剤乾燥後には、図４に示したように、有機ＥＬ材料４３が、同色インク内でも行方向の隔壁部４２で分離できていることが観察された。さらに、カソード電極として有機ＥＬ層４３上にＡｌ電極を形成して封止した後、有機ＥＬ発光装置として特性評価したところ、隣接画素からのクロストークはほとんど観察されなかった。
【００６２】
以上、本実施例によると、行方向に低い隔壁部４２を設けることで、ノズルプリィンティング法のインクの連続塗布性を損なうことなく、ノズルスキャン方向の隣接画素間の物理的な分離を可能としている。行方向の隔壁部４２の高さは、本発明では１μｍあれば十分であった（一方、列方向の隔壁は３μｍであった）。
【００６３】
＜比較例１＞
行方向の隔壁部を形成しない他は、実施例１と同じとした。フォトリソグラフィー法で使用したマスクは、図５（１）のみとした。本比較例によると、ノズルプリィンティング法で形成された有機ＥＬ素子は、図７に示した構造となる。
【００６４】
次に、実施例１と同様に、本発光装置の特性を評価したところ、同色発光層から成る隣接画素からのクロストークが生じ、輝度低下がみられた。
【００６５】
すなわち、本比較例有機ＥＬ発光装置では、行方向に隔壁が存在しないことから、列方向の同色発光層からのクロストークが生じ、問題となった。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の有機ＥＬ発光装置（実施の形態１、実施例１）を説明する図。
【図２】本発明の有機ＥＬ発光装置（実施の形態１、実施例１）を説明する図。
【図３】本発明の有機ＥＬ発光装置（実施の形態２、実施例２）を説明する図。
【図４】本発明の有機ＥＬ発光装置（実施の形態２、実施例２）を説明する図。
【図５】本発明の有機ＥＬ発光装置の隔壁を形成する時に用いるマスク形状。
【図６】有機ＥＬ素子をノズルプリィンティング法で形成することを説明する図。
【図７】有機ＥＬ素子をノズルプリィンティング法で形成することを説明する図。
【図８】有機ＥＬ素子をインクジェット法で形成することを説明する図。
【図９】有機ＥＬ素子をインクジェット法で形成することを説明する図。
【符号の説明】
【００６７】
１１、２１、３１、４１、６３、７３、８３、９１  列方向（スキャン方向に平行）の隔壁
１２、２２、３２、４２、９２  行方向（スキャン方向に垂直）の隔壁
２３、４３、７４、８４  有機ＥＬ層（赤）
２３’、４３’、７４’、８４’  有機ＥＬ層（青）
２３”、４３”、７４”、８４”  有機ＥＬ層（緑）
６４、９３  有機ＥＬ材料（赤）
６４’、９３’  有機ＥＬ材料（青）
６４”、９３”  有機ＥＬ材料（緑）
５１  フォトマスクＡにおける遮蔽部分
５２  フォトマスクＢにおける遮蔽部分
ｈ１、ｈ３、ｈ５  列方向（スキャン方向に平行）の隔壁部の高さ
ｈ２、ｈ４、ｈ６  行方向（スキャン方向に垂直）の隔壁部の高さ
Ｗ７  ソース電極幅
６５、７５、８５  ノズル
６１、８１  透明基板
６２、８２  ＩＴＯ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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