(57)【要約】【課題】電気光学素子以外からの発光を抑制することで高い画像品質を得ることが可能な電気光学装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】機能層１３上の、画素電極１１に対向した位置に、画素電極１１と同じ形状を成した電極部１５を形成し、この電極部１５を介して各機能層１３の発光層１３ｂにキャリア（電子）を注入するようにした。この結果、画素電極１１の外周囲の領域Ｒにはみ出して配置された発光層１３ｂに対して注入されるキャリア（電子）の密度は非常に小さく、画素電極１１と電極部１５との間に挟まれた領域の発光層１３ｂにキャリアが集中して注入される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層と前記第２電極層との間に配置され少なくとも発光層を含む機能層と、から構成された複数の電気光学素子を備えた電気光学装置において、
前記第２電極層の形状を、前記第１電極層の形状に合わせたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層と前記第２電極層との間に配置され少なくとも発光層を含む機能層と、から構成された複数の電気光学素子と、
前記各電気光学素子の周囲に配置される絶縁層と
を備えた電気光学装置において、
前記第１電極層上であってその周囲に、前記絶縁層の一部が乗り上げていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気光学装置において、
前記機能層は、前記発光層の他に少なくも電荷注入層を備え、
前記電荷注入層の電気抵抗は、前記発光層に比べて低い材料で構成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一つに記載の電気光学装置において、
前記電気光学素子は、前記機能層が有機材料で構成された有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
基板上に、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層と前記第２電極層との間に配置され少なくとも発光層を含む機能層と、から構成された複数の電気光学素子を備えた電気光学装置の製造方法において、
前記基板上に形成された前記第１電極層上に前記機能層を形成する工程と、
前記機能層上に導電層を形成する工程と
前記第１電極層の形状に合うように前記導電層を形成して前記第２電極層を形成する工程と
を備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記機能層を液滴吐出法によって形成するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、軽量化、薄型化、高視野角等の観点から、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という）を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置が注目されている。
【０００３】
この有機ＥＬ素子は、基本的には、有機機能層を陽極と陰極とで挟んだ形態であって、両電極から注入されたキャリア（電子及び正孔）が再結合時に形成される励起子（エキシトン）が励起状態から基底状態に遷移する際に光を出射する。
【０００４】
ところで、有機機能層を、発光層以外に電荷注入層を備えた２層構造や、発光層以外に電荷注入層及び電子輸送層を備えた３層構造等といった積層構造にすることで発光効率を高めることができることが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平６−４５０７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一般に、上述した電荷注入層（例えば、正孔注入層）には、チオフェン系ポリマーとスチレンポリマーよりなる材料（ＰＥＤＴ／ＰＳＳ）といった、発光層に使用される材料に比べて低抵抗な有機材料が使用される。この結果、電荷注入層には、陽極から注入されたキャリア（正孔）が電荷注入層（正孔注入層）全体に広がって分布するようになる。
【０００６】
また、液相プロセス（たとえば、液滴吐出法）によって形成される有機ＥＬ素子は、塗布された液状材料が画素電極上に均一に広がるようにするため、図１０に示すように、有機ＥＬ素子３０間を区画する絶縁層３１の下側部３１ａが親液化処理され、画素電極３２側に迫り出している。従って、電荷注入層３３ａ及び発光層３３ｂは、その親液処理された絶縁層３１ａ上を覆うように画素電極３２上に形成されている。
【０００７】
一方、対向電極３４は、隣接する他の有機ＥＬ素子３０に共通に各絶縁層３１及び発光層３３ｂ上の全面に渡って形成されている。このため、発光層３３ｂには、対向電極３４から注入されたキャリア（電子）が発光層３３ｂ全体に広がって分布する。
【０００８】
従って、発光層３３ｂでは、その全域にて再結合が生じることから画素電極３２が形成された領域Ｒａだけでなくその外周囲の領域Ｒｂからも発光する。この結果、有機ＥＬ素子３０は、その素子の周囲からも発光するため、発光領域が広くなり、点発光よりもむしろ面発光となる。そのために、たとえば、光書き込みヘッドの発光素子として有機ＥＬ素子を使用した場合では、結像がぼけてしまい、解像度の低い画像となってしまうという問題があった。
【０００９】
本発明は、上記の問題点に鑑みなされたものであって、各電気光学素子以外からの発光を抑制することで高い画像品質を得ることが可能な電気光学装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の電気光学装置は、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層と前記第２電
極層との間に配置され少なくとも発光層を含む機能層と、から構成された複数の電気光学素子を備えた電気光学装置において、前記第２電極層の形状を、前記第１電極層の形状に合わせている。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置は、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層と前記第２電極層との間に配置され少なくとも発光層を含む機能層と、から構成された複数の電気光学素子と、前記各電気光学素子の周囲に配置される絶縁層と
を備えた電気光学装置において、前記第１電極層上であってその周囲に、前記絶縁層の一部が乗り上げている。
【００１２】
これらによれば、第１電極層と第２電極層との間に挟まれた領域の発光層にのみキャリアが集中して注入される。従って、各電気光学素子は、その周囲、即ち、画素電極の外周囲からは光が出射しないことから、解像度の高い画像を表示することができる。
【００１３】
この電気光学装置において、前記機能層は、前記発光層の他に少なくも電荷注入層を備え、前記電荷注入層の電気抵抗は、前記発光層に比べて低い材料で構成されていてもよい。
【００１４】
これによれば、電荷注入層の電気抵抗値が発光層に比べて小さくても、第１電極層と第２電極層との間に挟まれた領域の発光層に集中してキャリアが注入される。従って、各電気光学素子は、その周囲、即ち、画素電極の外周囲からは光が出射しないことから、解像度の高い画像を表示することができる。
【００１５】
この電気光学装置において、前記電気光学素子は、前記機能層が有機材料で構成された有機エレクトロルミネッセンス素子であってもよい。
これによれば、有機エレクトロルミネッセンス素子において、その発光領域が周囲に広がらない。この結果、解像度の高い画像を表示することができる。
【００１６】
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上に、第１電極層と、第２電極層と、前記第１電極層と前記第２電極層との間に配置され少なくとも発光層を含む機能層と、から構成された複数の電気光学素子を備えた電気光学装置の製造方法において、前記基板上に形成された前記第１電極層上に前記機能層を形成する工程と、前記機能層上に導電層を形成する工程と、前記第１電極層の形状に合うように前記導電層を形成して前記第２電極層を形成する工程とを備えている。
【００１７】
これによれば、第２電極層の形状が第１電極層の形状に合った電気光学素子が形成される。従って、電気光学素子は、その周囲、即ち、画素電極の外周囲からは光が出射しないことから、解像度の高い画像を表示することができる電気光学装置を製造することができる。
【００１８】
この電気光学装置の製造方法において、前記機能層を液滴吐出法によって形成するようにしてもよい。
これによれば、第１電極層の周囲にも、機能層を構成する材料を含んだ液滴を塗布しても、その周囲に塗布された領域からの発光を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
（第１実施形態）
以下、本発明の一実施形態に係る電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、「有機ＥＬ装置」という）について各図に従って説明する。図１（ａ）は、本実施形態に係る有機ＥＬ装置の上面図であり、（ｂ）は、その陰極層を備えた有機ＥＬ
装置の一部概略断面図である。
【００２０】
本実施形態の有機ＥＬ装置１０は、アクティブマトリクス駆動方式であって、基板Ｓ上には各有機ＥＬ素子に供給する電流（キャリア）の量を制御するための図示しない薄膜トランジスタ等を備えている。尚、本実施形態の基板Ｓは、例えば、無アルカリガラスといった光透過性を有する材料で構成されている。
【００２１】
図１（ｂ）に示すように、基板Ｓは、その素子形成面Ｓａ上に複数の第１電極としての画素電極１１をマトリクス状に配置形成している。画素電極１１は、本実施形態では、矩形形状を成している。各画素電極１１は、薄膜トランジスタに電気的に接続され、該薄膜トランジスタによって制御された電流（キャリア）が供給されるようになっている。尚、画素電極１１は、光透過性を有した導電性材料で構成されている。本実施形態の画素電極１１は、インジウム−スズ化合物（ＩＴＯ）で構成されている。
【００２２】
また、基板Ｓ上には、絶縁層１２が形成されている。絶縁層１２は、親液性を有した第１絶縁層１２ａと、該第１絶縁層１２ａ上に配置された撥液性を有した第２絶縁層１２ｂとから構成されている。本実施形態では、第１絶縁層１２ａは酸化珪素（ＳｉＯｘ）で、第２絶縁層１２ｂはポリイミドでそれぞれ構成されている。
【００２３】
また、第１絶縁層１２ａ及び第２絶縁層１２ｂは、それぞれ、画素電極１１に対応した位置に開口部Ｑｏが連通形成されている。つまり、各画素電極１１が配置された位置には、画素電極１１を囲むようにして凹部Ｚが形成されている。そして、第１絶縁層１２ａは、第２絶縁層１２ｂよりも凹部Ｚの底部の中心に向かって、即ち、画素電極１１に向かって迫り出すようして配置されている。そして、前述したように形成された絶縁層１２の各開口部Ｑｏによって画素が区画形成される。
【００２４】
各凹部Ｚには機能層１３が形成されている。機能層１３は、正孔注入層１３ａ及び発光層１３ｂとから構成されており、画素電極１１側から正孔注入層１３ａ、発光層１３ｂの順に積層されている。各正孔注入層１３ａ及び発光層１３ｂは、公知の高分子材料で構成されており、例えば、本実施形態では、正孔注入層１３ａをポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）で構成し、発光層１３ｂをアルキキノリール鎖体アルミニウム（Ａｌｑ３）で構成している。従って、凹部Ｚを構成する絶縁層１２は、画素電極１１を囲むようにして形成されているので、機能層１３の一部は、画素電極１１の外周囲（図１（ｂ）中符号「Ｒ」にて示された領域）に、はみ出して配置される。尚、本実施形態の発光層１３ｂは白色の光を出射するものである。
【００２５】
機能層１３上には対向電極１４が形成されている。図１（ａ）に示すように、対向電極１４は、前記画素電極１１に対向した位置に電極部１５を有している。電極部１５は、対向した画素電極１１と同じ形状を成している。本実施形態では、画素電極１１は矩形形状を成しているので、各電極部１５は、対応する画素電極１１と同じ大きさの矩形形状となっている。また、各電極部１５は隣接する他の電極部１５と細長の連結部１６を介して電気的に接続され、全電極部１５が同電位（接地電位）となる。本実施形態では、連結部１６は、電極部１５の各上下左右に連結されている。尚、対向電極１４は、本実施形態では、アルミニウム（Ａｌ）で構成されている。そして、電極部１５は、各機能層１３の発光層１３ｂに対してキャリア（電子）を注入する。
【００２６】
そして、画素電極１１と、対向電極１４（電極部１５）と、前記画素電極１１と前記対向電極１４（電極部１５）との間に配置された機能層１３とで、一つの電気光学素子としての有機ＥＬ素子２０が構成されている。また、対向電極１４上の全面には図示しない保護層が形成されている。
【００２７】
そして、画素電極１１にキャリアが供給されて正孔注入層１３ａを介して発光層１３ｂにキャリア（正孔）が注入されるとともに、対向電極１４からキャリア（電子）が注入されることで、発光層１３ｂにて発光し、その光が基板Ｓを透過して素子形成面Ｓａと対向する面（光出射面）から外部に出射される。
【００２８】
次に、前述のように構成された有機ＥＬ装置１０の製造方法について、図２及び図３に従って説明する。
まず、基板Ｓを洗浄した後、公知の方法によって所定の領域に薄膜トランジスタを形成する。その後、基板Ｓ上に、フォトリソグラフィー法等を使用することによって画素電極１１、及び、第１及び第２絶縁層１２ａ，１２ｂを順次形成する。このとき、第１及び第２絶縁層１２ａ，１２ｂ上に酸素プラズマ処理を施すことによって第２絶縁層１２ｂの表面を撥液化しておく（図２（ａ）参照）。
【００２９】
続いて、公知の液滴吐出法によって画素電極１１及び第１絶縁層１２ａ上に正孔注入層１３ａを形成する。これは、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）をエタノールといった有機溶媒に溶解した液状体Ｌを第１及び第２絶縁層１２ａ，１２ｂによって区画形成された凹部Ｚに塗布し（図２（ｂ）参照）、続いて、乾燥させることで形成する（図２（ｃ）参照）。
【００３０】
その後、正孔注入層１３ａ上に発光層１３ｂを形成する。これは、アルキキノリール鎖体アルミニウム（Ａｌｑ３）をエタノールといった有機溶媒に溶解した液状体を発光層１３ｂ上に塗布し、その後、乾燥させることで形成する（図２（ｄ）参照）。
【００３１】
次に、図３（ａ）に示すように、発光層１３ｂ及び第２絶縁層１２ｂ上の全面にアルミニウム（Ａｌ）からなる導電層２１を蒸着形成する。その後、図３（ｂ）に示すように、発光層１３ｂ上の画素電極１１と対向した領域及び第２絶縁層１２ｂ上の一部を覆うメタルマスクＭｏを配置する。そして、この状態でミリング処理を行う。このミリング処理は、たとえば、アルゴン（Ａｒ）ミリングである。
【００３２】
すると、メタルマスクＭｏが配置されていない領域に形成された導電層２１が除去される。その結果、図３（ｃ）に示すように、画素電極１１上に対向した位置には、その画素電極１１と同じ形状を成した、即ち、矩形形状を成した電極部１５が、また、第２絶縁層１２ｂ上は、隣接する他の電極部１５と連結するように細長の連結部１６がそれぞれ形成される。
【００３３】
その後、対向電極１４上の全面に保護層を形成することで、有機ＥＬ装置１０が完成する。
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
【００３４】
（１）本実施形態によれば、機能層１３上の、画素電極１１に対向した位置に、画素電極１１と同じ形状を成した電極部１５を形成し、この電極部１５を介して各機能層１３の発光層１３ｂにキャリア（電子）を注入するようにした。従って、画素電極１１の外周囲の領域Ｒにはみ出して配置された発光層１３ｂに対して注入されるキャリア（電子）の密度は非常に小さく、画素電極１１と電極部１５との間に挟まれた領域の発光層１３ｂにキャリアが集中して注入される。この結果、画素電極１１の外周囲の領域Ｒにてほとんど発光しないことから、発光領域が各有機ＥＬ素子２０の周囲に広がるのを抑制することができる。
【００３５】
（２）本実施形態によれば、対向電極１４の電極部１５は、機能層１３を形成後、画素
電極１１に対向する位置にメタルマスクを配置し、その状態でアルゴンミリング処理を施すことで形成するようにした。従って、ウェットエッチングを使用した場合に比べて、有機材料で構成された機能層１３に対する損傷を抑制しつつ対向電極１４の電極部１５を形成することができる。
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態に係る有機ＥＬ装置を図４に従って説明する。本実施形態においては、対向電極１４の形状が異なっている以外は上記第１実施形態と同様である。従って、同じ構成の部材については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００３６】
図４は、第２実施形態に係る有機ＥＬ装置１０Ａの上面図である。図４に示すように、本実施形態では、電極部１５は画素電極１１の形状に合った矩形形状を成しているが、その各電極部１５を連結する連結部１６が上記第１実施形態とは異なり各電極部１５の上下隅部に配置されている。そして、各連結部１６は、隣接する他の電極部１５と交差するようにして配置されている。
【００３７】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、上記第１実施形態の効果に加えて、各連結部１６が隣接する他の電極部１５と接続していることから、各電極部１５がより確実に電気的に接続される。この結果、各電極部１５の電位をより均一にすることができる。
（第３実施形態）
次に、本発明を具体化した第３実施形態に係る有機ＥＬ装置を図５に従って説明する。本実施形態においては、対向電極１４の形状が異なっている以外は上記第１実施形態と同様である。従って、同じ構成の部材については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００３８】
図５は、第３実施形態に係る有機ＥＬ装置１０Ｂの上面図である。図５に示すように、本実施形態では、電極部１５は画素電極１１の形状に合った矩形形状を成しているが、その各電極部１５を連結する連結部１６が各電極部１５の上下側にのみ配置されている。そして、各連結部１６は、基板Ｓの一方向（図５中では、左右方向）に沿って絶縁層１２ｂの上に形成された配線２２を介して他の電極部１５と電気的に接続されている。
【００３９】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、上記第１実施形態の効果に加えて、各連結部１６が配線２２を介して各電極部１５に接続されている。連結部１６は細線であるが、この配線２２を介することで連結部１６の長さを第１実施形態に比べて短くすることができる。この結果、連結部１６の形成不良による各電極部１５間の電気的接続の不良の発生を抑制することができる。
（第４実施形態）
次に、本発明を具体化した第４実施形態に係る有機ＥＬ装置を図６に従って説明する。図６（ａ），（ｂ）に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１０Ｃにおいては、基板Ｓ上に形成された画素電極１１はマトリクス状に配置形成されているのではなく、２列に配置された複数の画素電極１１が、基板Ｓの一方向に沿って（図６では、上下方向に沿って）千鳥格子状に配置形成されている。そして、千鳥格子状に配置形成された複数の画素電極１１の全体を囲むようにして絶縁層１２が配置されている。
【００４０】
このような構成を成した有機ＥＬ装置１０Ｃは、光プリンタの露光ヘッドに搭載され、感光体を露光して所望の文字や図形の像を形成する用途に適用されるものである。
本実施形態の有機ＥＬ装置１０Ｃの画素電極１１は、上記第１〜第３実施形態の有機ＥＬ装置１０〜１０Ｂとは異なり、円形形状を成している。従って、図６（ａ）に示すよう
に、本実施形態の電極部１５は、それぞれ、対向する画素電極１１に形状に合うように円形形状を成している。また、各電極部１５は、連結部１６を介してその配置される列に対応して絶縁層１２上に形成された配線２３とで電気的に接続されている。つまり、図６中左側に列方向に沿って配置された複数の電極部１５は、連結部１６を介して図６中左側に列方向に沿って配置された絶縁層１２上に形成された配線２３ａに接続されている。また、右側に列方向に沿って配置された複数の電極部１５は、連結部１６を介して図６中右側に列方向に沿って配置された絶縁層１２上に形成された配線２３ｂに接続されている。
【００４１】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、上記第１実施形態と同様に、機能層１３上の、画素電極１１に対向した位置に、画素電極１１と同じ円形形状を成した電極部１５を形成したことから、各画素電極１１の外周囲の領域Ｒにはみ出して配置された発光層１３ｂに対して注入されるキャリア（電子）の密度を非常に小さくすることができる。この結果、画素電極１１の外周囲の領域Ｒにてほとんど発光しないことから、発光領域が各有機ＥＬ素子２０の周囲に広がるのを抑制することができる。
【００４２】
（２）本実施形態によれば、発光領域が各有機ＥＬ素子２０の周囲に広がらないので、解像度の高い像を表示することが可能な有機ＥＬ装置を実現することができる。
（第５実施形態）
次に、本発明を具体化した第５実施形態に係る有機ＥＬ装置を図７に従って説明する。本実施形態においては、対向電極１４の形状が異なっている以外は上記第４実施形態と同様である。従って、同じ構成の部材については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００４３】
図７は、第５実施形態に係る有機ＥＬ装置１０Ｄの上面図である。図７に示すように、本実施形態では、電極部１５は画素電極１１の形状に合った円形形状を成しているが、その各電極部１５を連結する連結部１６が上記第４実施形態とは異なっている。詳しくは、各電極部１５は４つの連結部１６に接続されている。そして、各電極部１５は同じ列上に隣接する他の２つの電極部１５と接続されている。また、各電極部１５は、他の列上に配置された２つの電極部１５と接続されている。
【００４４】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、上記第４実施形態の効果に加えて、各連結部１６が隣接する他の４つの電極部１５と接続していることから、第４実施形態に比べて各電極部１５がより確実に電気的に接続される。この結果、各電極部１５の電位をより均一にすることができる。
（第６実施形態）
次に、本発明を具体化した第６実施形態に係る有機ＥＬ装置を図８に従って説明する。本実施形態においては、対向電極１４の形状が異なっている以外は上記第４実施形態と同様である。従って、同じ構成の部材については同じ符号を付し、その詳細な説明を省略する。
【００４５】
図８は、第５実施形態に係る有機ＥＬ装置１０Ｅの上面図である。図８に示すように、本実施形態では、電極部１５は画素電極１１の形状に合った円形形状を成しているが、その各電極部１５を連結する連結部１６が上記第４実施形態とは異なっている。詳しくは、各電極部１５は５つの連結部１６に接続されている。そして、各電極部１５は同じ列上に隣接する他の２つの電極部１５と接続されている。また、各電極部１５は、他の列上に配置された２つの電極部１５と接続されている。さらに、各電極部１５は、その配置される列に対応して絶縁層１２上に形成された配線２３とで電気的に接続されている。
【００４６】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、上記第４実施形態の効果に加えて、各連結部１６が隣接する他の５つの電極部１５と接続していることから、第４実施形態に比べて各電極部１５がより確実に電気的に接続される。この結果、各電極部１５の電位をより均一にすることができる。
（第７実施形態）
次に、本発明を具体化した第７実施形態に係る有機ＥＬ装置を図９に従って説明する。本実施形態の有機ＥＬ装置１０Ｆは、その対向電極１４が上記第１〜第６実施形態と異なり、対向する画素電極１１に合った形状を成す電極部１５を備えておらず、図９に示すように、基板Ｓに対向して全面に一様に形成されている。
【００４７】
また、第１絶縁層１２ａの一部が各画素電極１１上に乗り上げて、各画素電極１１の周囲を覆っている。そして、その第１絶縁層１２ａの一部を覆うように画素電極１１上に正孔注入層１３ａが配置されている。
【００４８】
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、各画素電極１１の第１絶縁層１２ａが画素電極１１の周囲を覆っているので、画素電極１１から供給されたキャリア（正孔）は正孔注入層１３ａの中央領域に集中して供給される。この結果、発光層１３ｂの発光領域は、そ中心になりその周囲に広がらない。
【００４９】
（２）本実施形態によれば、上記第１〜第６実施形態の対向電極１４のように、電極部１５や連結部１６を形成する必要がないので、対向電極１４の形成が従来と同じく公知の方法で形成することができる。
【００５０】
尚、この発明は以下のように変更して具体化することもできる。
・上記第１〜第３実施形態では、各有機ＥＬ素子２０の電極部１５を矩形形状に、上記第４〜第８実施形態では、各有機ＥＬ素子２０の電極部１５を円形形状としたが、本発明はこれらに限定されるものではなく、他の形状を成していても良い。要は、対向する位置に配置される画素電極１１の形状に合っていれば、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５１】
・上記各実施形態では、機能層１３は、発光層１３ｂ以外に正孔注入層１３ａを備えていたが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、正孔注入層１３ａ及び発光層１３ｂ以外に正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層等を含んでいてもよい。
【００５２】
・上記各実施形態では、有機ＥＬ素子２０の機能層１３を構成する正孔注入層１３ａ及び発光層１３ｂを液滴吐出法によって形成したが、本発明はこれに限定されず、公知の蒸着法やスパッタ法を使用して形成してもよい。
【００５３】
・上記各実施形態では、電気光学素子として有機ＥＬ素子２０を使用したが、本発明はこれに限定されるものではなく、他の形態を成した発光素子であってもよい。たとえば、発光ダイオードであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】（ａ），（ｂ）は、それぞれ、第１実施形態の有機ＥＬ装置の構成を説明するための図。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ、第１実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための図。
【図３】同じく、（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ本実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための図。
【図４】第２実施形態の有機ＥＬ装置の構成を説明するための図。
【図５】第３実施形態の有機ＥＬ装置の構成を説明するための図。
【図６】（ａ），（ｂ）は、それぞれ、第４実施形態の有機ＥＬ装置の構成を説明するための図。
【図７】第５実施形態の有機ＥＬ装置の構成を説明するための図。
【図８】第６実施形態の有機ＥＬ装置の構成を説明するための図。
【図９】第７実施形態の有機ＥＬ装置の構成を説明するための図。
【図１０】従来の有機ＥＬ装置の構成を説明するための図。
【符号の説明】
【００５５】
１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ，１０Ｆ…電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンス装置、１１…第１電極層としての画素電極、１５…第２電極層としての対向電極、１３…機能層、１３ａ…電荷注入層、１３ｂ…発光層、２０…電気光学素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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