(57)【要約】【課題】反応生成物が付着、堆積、析出し難い２段式真空ポンプを提供する。【解決手段】ブースタポンプ１０と、前記ブースタポンプに接続されるメインポンプ３０と、前記ブースタポンプとメインポンプとを接続する中間配管５０とを備えた真空ポンプ１において、前記ブースタポンプ１０のケーシング１３、下部端面フランジ１６、前記中間配管５０に加熱手段２５、２７、５２を設けると共に、メインポンプ３０のケーシング３２に冷却手段６０が設けられ、前記ブースタポンプ１０、中間配管５０を強制加熱するとともに、メインポンプ３０を強制冷却し、ブースタポンプ１０、中間配管５０、メインポンプ３０を所定温度範囲内に維持する。【選択図】図１
2007262906.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバに接続されるブースタポンプと、このブースタポンプに接続され、大気側に吐出するメインポンプとを有し、前記ブースタポンプの吐出口とメインポンプの吸気口とが中間配管を介して接続されている２段式真空ポンプにおいて、
前記ブースタポンプのポンプ室側面を覆うケーシング及び吐出口側のポンプ室端面を覆う端面フランジ並びに前記中間配管の外周面に加熱手段を設けると共に、前記メインポンプのポンプ室側面を覆うケーシングに冷却手段を設け、
前記加熱手段により、前記ブースタポンプのポンプ室から中間配管に至る排気経路を強制加熱し、かつ前記冷却手段により、前記メインポンプのポンプ室を強制冷却することを特徴とする２段式真空ポンプ
【請求項２】
前記ブースタポンプの吐出口側のポンプ室端面を覆う端面フランジに設けられた加熱手段は、前記吐出口に近接して配置されていることを特徴とする請求項１に記載の２段式真空ポンプ。
【請求項３】
前記加熱手段はヒータであって、温度検出手段からの信号により所定の温度範囲内に制御されることを特徴とする請求項１に記載の２段式真空ポンプ。
【請求項４】
前記冷却手段は、メインポンプのケーシングの側壁に配置された均熱板と、前記均熱板に取り付けられる冷却管とを備えることを特徴とする請求項１記載の２段式真空ポンプ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体製品や電子部品等の製造工程において用いられる２段式真空ポンプに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製品の製造プロセスにおいて、薄膜形成には、一般的に化学気相成長装置（ＣＶＤ）やエッチング装置等が用いられている。
これら化学気相成長装置（ＣＶＤ）やエッチング装置等にあっては、反応室である真空チャンバと、真空チャンバからのプロセスガスを大気圧まで昇圧させて真空チャンバの外部に排出する真空ポンプとを備えている。
そして、一つの真空ポンプで真空チャンバが必要とする真空度まで到達しない場合には、ブースタポンプとメインポンプの二つのポンプ備えた２段式真空ポンプを用い、所定の到達真空度を得ている。
【０００３】
ところで、この２段式真空ポンプを用いて、所定温度範囲を外れると固化しやすいプロセスガス、例えばＴＥＯＳガスをチャンバから排気すると、ブースタポンプの発熱量が小さいため、ブースタポンプ内部の排気経路の温度が所定温度以下となり、従って、プロセスガスの温度が所定温度以下となり、ブースタポンプ内部の排気経路に反応生成物が付着、堆積し、ポンプの円滑な動作に支障を来たすことがあった。また、メインポンプの発熱量が大きいため、メインポンプ内部の排気経路の温度が所定温度以上となり、従って、プロセスガスの温度が所定温度以上となり、メインポンプ内部の排気経路に反応生成物が析出し、ポンプの円滑な動作に支障を来たすことがあった。
【０００４】
かかる課題を解決するために、特許文献１には、前段ポンプ（ブースタポンプ）と後段ポンプ（メインポンプ）とを流体管路を介して直列に連結する真空排気装置であって、前記後段ポンプの作動室周りに形成した受熱ジャケットと、前記前段ポンプの作動室周りに形成した加熱ジャケットと、これら両ジャケット間を接続する導管と、この導管により前記後段ポンプから前記前段ポンプへ流通する循環水を制御する手段とを備えた真空排気装置が提案されている。
この特許文献１に記載された真空ポンプにあっては、後段ポンプに生じた熱を、前段ポンプに循環水を介して伝え、前段ポンプを加熱し熱不均衡を解消しようとするものである。
【０００５】
また、特許文献２には、第１ハウジング内に多段式の第１ポンプ機構を収容してなるメインポンプと、第２ハウジング内に第２ポンプ機構を収容してなるブースタポンプとが、当該ブースタポンプをガス流に関する上流側として直列に連結されてなる真空ポンプ装置であって、前記第１ハウジングと第２ハウジングとは結合部材を介して熱的に結合されており、当該結合部材は、第１ハウジングに対しては、第１ポンプ機構の最後段を取り囲む部位と熱的に直結されていることを特徴とする真空ポンプ装置が提案されている。
この特許文献２に記載された真空ポンプ装置にあっては、メインポンプに生じた熱を、結合部材を介してブースタポンプに伝え、ブースタポンプを加熱して熱不均衡を解消し、反応生成物の堆積、析出を防止している。
【０００６】
【特許文献１】特開平０２−２９４５７４号公報
【特許文献２】特開２００４―１００５９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前記特許文献１及び特許文献２に記載された真空ポンプにあっては、メインポンプの熱を吸収して、ブースタポンプに移送することによりブースタポンプを加熱しているため、メインポンプからの熱移送のみではブースタポンプの温度を十分に上げることができず、メインポンプ、ブースタポンプの温度を所定温度範囲内にすることは困難であり、前記した反応生成物の付着、堆積、析出を充分に抑制することができなかった。
【０００８】
特に、特許文献１に記載された真空ポンプにあっては、前段ポンプの吐出口と後段ポンプの吸引口とに接続される中間配管については、何ら考慮されていないため、中間配管内部に反応生成物が付着、堆積するという技術的課題があった。
また、特許文献２に記載された真空ポンプにあっては、前記第１ハウジングと第２ハウジングとは結合部材を介して熱的に結合されているため、結合部材も加熱されると考えられるが、前記したように熱移送効率が悪く、結合部材が長くなるに連れて、より熱移送効率が低下する。一方、結合部材を短くすると、メインポンプとブースタポンプを近接して配置しなければならず、配置の自由度に欠けるという技術的課題があった。
【０００９】
本発明は、上記技術的課題を解決するためになされたものであり、ブースタポンプからメインポンプに至る一連の排気経路の温度を所定温度範囲に維持することにより、反応生成物の付着、堆積、析出を抑制した２段式真空ポンプを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は上記目的を達成するためになされたものであり、本発明にかかる２段式真空ポンプは、真空チャンバに接続されるブースタポンプと、このブースタポンプに接続され、大気側に吐出するメインポンプとを有し、前記ブースタポンプの吐出口とメインポンプの吸気口とが中間配管を介して接続されている２段式真空ポンプにおいて、前記ブースタポンプのポンプ室側面を覆うケーシング及び吐出口側のポンプ室端面を覆う端面フランジ並びに前記中間配管の外周面に加熱手段を設けると共に、前記メインポンプのポンプ室側面を覆うケーシングに冷却手段を設け、前記加熱手段により、前記ブースタポンプのポンプ室から中間配管に至る排気経路を強制加熱し、かつ前記冷却手段により、前記メインポンプのポンプ室を強制冷却することを特徴としている。
【００１１】
本発明の２段式真空ポンプにあっては、低温側であって反応生成物が付着、堆積しやすいブースタポンプのポンプ室から中間配管に至る排気経路を強制加熱するとともに、高温側であって、反応生成物が析出しやすいメインポンプのポンプ室を強制冷却する構成としたため、ブースタポンプからメインポンプに至る一連の排気経路の温度を所定温度範囲に維持させ易く、プロセスガスとして、例えばＴＥＯＳガスのような所定温度範囲を外れると固化しやすいプロセスガスを流しても、反応生成物の付着、堆積、析出を抑制することができる。
特に、前記中間配管の外周面にも加熱手段が設けられているため、中間配管が長い場合であっても、反応生成物の付着、堆積を抑制することができ、メインポンプとブースタポンプの配置の制約を受けることがない。
【００１２】
ここで、前記ブースタポンプの吐出口側のポンプ室端面を覆う端面フランジに設けられた加熱手段は、前記吐出口に近接して配置されていることが望ましい。
このように、ブースタポンプから中間配管に至る一連の排気経路のうち、温度が低下しやすい吐出口に近接して加熱手段を配置しているので、吐出口を効果的に加熱でき、吐出口近傍に反応生成物が付着、堆積するのを抑制できる。
【００１３】
また、前記加熱手段はヒータであって、温度検出手段からの信号により所定の温度範囲内に制御されることが望ましい。
このように、温度検出手段からの信号により所定の温度範囲内に制御されるため、プロセスガス使用量の変動により、ブースタポンプのポンプ室の温度が変化しても、ブースタポンプのポンプ室から中間配管に至る排気経路を所定温度範囲内に制御でき、確実に反応生成物の付着、堆積を抑制することができる。
【００１４】
更に、前記冷却手段は、メインポンプのケーシングの側壁に配置された均熱板と、前記均熱板に取り付けられる冷却管とを備えることが望ましい。
このように、冷却手段がメインポンプのケーシングの側壁に配置されているため、メインポンプの吸気側と吐出側の温度差を小さくできるので、反応生成物の付着、堆積しにくい温度範囲に維持し易く、反応生成物の付着、堆積を抑制できる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ブースタポンプからメインポンプに至る一連の排気経路の温度を所定温度範囲に維持することにより、反応生成物の付着、堆積、析出を抑制した２段式真空ポンプを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の一実施形態を図１乃至図７に基づいて説明する。尚、図１は一実施形態の断面図、図２は一実施形態にかかるブースタポンプの下部端面フランジを示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は底面図である。図３は一実施形態に用いられているシート状ヒータを示す図、図４はブースタポンプの下部端面フランジ側の断熱プレートを示す図、図５は、図４に示した断熱プレートが下部端面フランジに装着された状態を示す図、図６は一実施形態のメインポンプに設けられた均熱板及び冷却管を示した図、図７は図１に示したＩ−Ｉ断面図である。
【００１７】
本発明にかかる真空ポンプ１は、図１に示すように、ブースタポンプ１０及びメインポンプ３０、並びに前記ブースタポンプ１０とメインポンプ３０とを接続する中間配管５０の温度を、所定の温度内（例えば、１００℃〜１１０℃）に維持することによって、反応生成物の付着、堆積、析出を抑制するものであり、ブースタポンプ１０及び中間配管５０に、ヒータ２５、２７、５２を設け強制的に加熱すると共に、メインポンプ３０に冷却手段６０を設け、全体として所定の温度内に維持する点に特徴を有している。
【００１８】
前記ブースタポンプ１０は、従来のブースタポンプと同様に、真空チャンバ（反応室）に接続された排気管（図示せず）に接続される吸気口１１および吐出口１２が形成されたケーシング１３を備えている。
【００１９】
このケーシング１３内には、所定のクリアランス（微小隙間）をもって非接触噛合状態で互いに噛み合うよう平行に、一対のスクリューロータが収納されている。なお、図１に示したスクリューロータ１４と、紙面の奥側に他のスクリューロータ（図示せず）とによって、前記一対のスクリューロータが構成されている。
【００２０】
そして、このケーシング１３は上部端面フランジ１５及び下部端面フランジ１６とにより封止され、ケーシング１３の内部にポンプ室が形成される。
前記上部端面フランジ１５に隣接して、断熱プレート１５ａ、ベアリングハウジング１７が配置され、ベアリングハウジング１７とスクリューロータ１４との間に軸受け１８及び軸穴封止用のシール部材１９が設けられている。
同様に、前記下部端面フランジ１６に隣接して、断熱プレート１６ａ、ベアリングハウジング２０が配置され、ベアリングハウジング２０とスクリューロータ１４との間に軸受け２１及び軸穴封止用のシール部材２２が設けられている。
【００２１】
また、他のスクリューロータ側においても、他のスクリューロータとベアリングハウジング１７、２０との間に、軸受け（図示せず）及び軸穴封止用のシール部材（図示せず）が設けられている。
更に、スクリューロータ１４に一体的に装着された同期歯車２３が設けられ、他のスクリューロータに一体的に装着された同期歯車（図示せず）と噛合している。なお、前記同期歯車２３及び他のスクリューロータに一体的に装着された同期歯車（図示せず）はギアハウジング２４内に収納されている。
また、前記スクリューロータ１４の一端には、モータ等の駆動手段２９が設けられている。
【００２２】
そして、ケーシング１３、上部端面フランジ１５、下部端面フランジ１６とによって形成されるポンプ室内に、ケーシング１３とスクリューロータ１４と他のスクリューロータ（図示せず）との噛合部分で仕切られた、複数の螺旋形状の作業室が形成され、スクリューロータ１４、他のスクリューロータの回転によって回転軸の軸方向に作業室が移動するように構成されている。
【００２３】
このブースタポンプ１０は圧縮度合いが低いために、圧縮熱の発生は小さい。そのため、このブースタポンプ１０には、所定温度内に維持するため、ケーシング１３の外周囲を覆うように、加熱手段としてのヒータ２５が設けられている。
このヒータ２５は、図３に示すように、シート状の繊維部材の間にニクロム線等の発熱体２５ａが設けられたものである。
そして、ケーシング１３の外周囲を覆うように設けられたヒータ２５の外周囲を更に覆うように断熱材２６が設けられ、ヒータ２５からの熱が放熱されるのを抑制している。尚、吸気口１１の外周面には、断熱材２８のみが設けられているが、ヒータを吸気口１１の外周囲に巻回しても良い。
【００２４】
更に、下部端面フランジ１６の底面にも、図２に示すように、前記したヒータ２５と同様な、シート状の繊維部材の間にニクロム線等の発熱体が設けられたヒータ２７が設けられている。このヒータ２７は、図２に示すように一対のスクリューロータの軸を囲むように楕円形状に形成されている。
また、前記下部端面フランジ１６に形成された吐出口１２は、図２（ａ）に示すように、前記下部端面フランジ１６の底面から突出して形成され、前記ヒータ２７は前記吐出口１２を覆うように装着される。
【００２５】
このように、前記ブースタポンプ１０の吐出口１２側のポンプ室端面を覆う下部端面フランジ１６に設けられたヒータ２７は、ブースタポンプ１０から中間配管５０に至る排気経路のうち、温度が低下しやすい吐出口１２に近接して配置されているため、吐出口１２を効果的に加熱でき、吐出口１２近傍の反応生成物の付着、堆積を確実に抑制することができる。
特に、スクリューロータの周囲を囲むように下部端面フランジ１６の底面、及び吐出口１２を覆うようにヒータ２７が形成されているため、少ない発熱量でも、吐出口１２近傍の反応生成物の付着、堆積を確実に抑制できる。
【００２６】
図４及び図５は、ヒータ２７が装着された下部端面フランジ１６の底面に装着される断熱プレート１６ａを示している。この断熱プレート１６ａには切欠き部１６ｂが形成され、この切欠き部１６ｂから前記吐出口１２が突出する。そして、突出した吐出口１２は、図１に示すように、ベアリングハウジング２０に形成された凹部空間内部に収容される。尚、図４，５中、符号１６ｃ、１６ｄはスクリューロータの回転軸が挿通する貫通穴である。
このように、前記ヒータ２７とベアリングハウジング２０との間に断熱プレート１６ａが装着されることにより、ヒータ２７の熱がベアリングプレート２０に移動するのを抑制できる。
【００２７】
なお、この実施形態にあっては、上部端面フランジ１５にヒータが設けられていない場合を示したが、上部端面フランジ１５にもヒータを設け、ケーシング１３の温度を所定の温度範囲内になすのが望ましい。
【００２８】
また、前記ブースタポンプ１０の吐出口１２には中間配管５０が接続されている。この中間配管５０の他端部は、メインポンプ３０の吸気口３１に接続されている。この中間配管５０は、配管本体５１と、その外周囲に設けられたヒータ５２と、前記ヒータ５１の外周囲に形成された断熱材５３とから構成されている。
この中間配管５０は外気に晒されるため、温度が低下し易い。そのため、前記したブースタポンプ１０のヒータ２５、２７と同様なシート状ヒータ５２が配管本体５１の外周囲に巻回され、中間配管５０を所定温度範囲内になしている。
【００２９】
このように、ブースタポンプ１０のケーシング１３の外周囲にヒータ２５、下部端面フランジ１６にヒータ２７、配管本体５１の外周囲にヒータ５２が形成されているため、ケーシング１３及び配管本体５１を強制加熱できるので、ブースタポンプ１０から中間配管５０に至る排気経路を所定の温度（例えば１００℃〜１１０℃）に維持される。
更に、断熱材２６でケーシング１３を覆い、また断熱材５３で配管本体５１を覆っているため、ブースタポンプ１０から中間配管５０に至る排気経路を少ないエネルギーで所定の温度（例えば、１００℃〜１１０℃）に維持することができる。
【００３０】
このヒータ２５、２７、５２の温度制御は、図１に示すように温度検出手段５５、５６、５７をブースタポンプのケーシング１３、下部端面フランジ１６の吐出口１２、中間配管５０の配管本体５１に装着し、前記温度検出手段５５、５６、５７で各部材の温度を検出し、この検出信号に基づいて前記ヒータ２５、２７、５２を制御することによって行なわれる。
【００３１】
前記温度検出手段５５、５６、５７としては、例えば熱電対を用いることができる。そして、温度検出対象部材であるケーシング１３、吐出口１２、配管本体５１の温度が所定温度範囲を超えた場合には、前記熱電対からの当該温度検出信号を受けて、前記ヒータ２５、２７、５２の電源を切り、所定温度範囲以下となった場合には、前記熱電対からの当該温度検出信号を受けて、ヒータ２５，２７，５２の電源を入れることによって制御する。
このように、温度検出手段５５、５６、５７からの温度検出信号により所定の温度範囲内になるように、ヒータ２５，２７，５２は制御されるため、プロセスガス使用量の変動により、ブースタポンプ１０のポンプ室の温度が変化しても、ブースタポンプ１０のポンプ室から中間配管５０に至る一連の排気経路を所定温度範囲内に制御でき、確実に反応生成物の付着、堆積を抑制することができる。
【００３２】
次にメインポンプ３０について説明する。
このメインポンプ３０も、ブースタポンプ１０と同様な構成を備えている。即ち、メインポンプ３０のケーシング３２には、吸気口３１および吐出口３３が設けられ、このケーシング３０内には、所定のクリアランス（微小隙間）をもって非接触噛合状態で互いに噛み合うよう平行に、一対のスクリューロータ３４が収納されている。なお、このメインポンプ３０にあっても、紙面の奥側に他のスクリューロータが配置されている。
【００３３】
そして、ケーシング３２は上部端面フランジ３５及び下部端面フランジ３６とにより封止され、ケーシング３２内部にポンプ室が形成される。
また、前記上部端面フランジ３５に隣接して、断熱プレート３５ａ、ベアリングハウジング３７が配置されている。前記ベアリングハウジング３７とスクリューロータ３４の間には、軸受け３８及び軸穴封止用のシール部材３９が設けられている。
同様に、前記下部端面フランジ３６に隣接して、断熱プレート３６ａ、ベアリングハウジング４０が配置されている。前記ベアリングハウジング４０とスクリューロータ３４の間には、軸受け４１及び軸穴封止用のシール部材４２が設けられている。
【００３４】
更に、他のスクリューロータ側においても、他のスクリューロータとベアリングハウジング３７、４０との間に、軸受け（図示せず）及び軸穴封止用のシール部材（図示せず）が設けられている。
更に、スクリューロータ３４に一体的に装着された同期歯車４３が設けられ、他のスクリューロータに一体的に装着された同期歯車（図示せず）と噛合している。なお、前記同期歯車４３及び他のスクリューロータに一体的に装着された同期歯車（図示せず）はギアハウジング４４内に収納されている。
また、前記スクリューロータ３４の一端には、モータ等の駆動手段４５が設けられている。
【００３５】
そして、ケーシング３２内部に形成されたポンプ室内に、ケーシング３２とスクリューロータ３４、他のスクリューロータの噛合部分で仕切られた複数の螺旋形状の作業室が形成され、スクリューロータ３４、他のスクリューロータの回転によって回転軸の軸方向に作業室が移動するように構成されている。
【００３６】
更に、前記ケーシング３２の側壁には冷却手段６０が設けられている。このメインポンプ３０では圧縮熱が発生するため、所定温度（例えば、１００℃〜１１０℃）を超えた温度になり、反応生成物が析出、付着、堆積し易い。冷却手段６０は、ケーシング３２を所定温度に維持することによって、反応生成物の析出、付着、堆積を抑制するものである。
【００３７】
冷却手段６０は、図６、図７に示すように、ケーシング３２の相対向する側壁に配置された、熱伝導率の高い材質よりなる均熱板６１と、前記均熱板に取り付けられた、冷却媒体が流通する冷却管６２と、前記冷却管６２を前記均熱板６１の表面に取り付けるための取付板６３とを備えている。
【００３８】
前記取付板６３は、均熱板６１と同様に熱伝導率の高い材質によって構成され前記取付板６３の下面には、前記冷却管６２が収容される溝６３ａが形成されている。前記冷却管６２は前記溝６３ａに収容され、前記均熱板６１と取付板６３の間に配置される。尚、前記均熱板６１はボルト６１ａでケーシング３２に取り付けられ、前記取付板６３はボルト６３ｂで前記均熱板６１に取り付けられている。
【００３９】
前記冷却管６２を流通する冷却媒体は、水でも気体でも良い。また、予め所定の温度まで加熱する必要のあるたとえば、パージガスをこの冷却管６２内を通過させ、真空チャンバに導くように構成しても良い。また、図示しないが、ケーシング３２に温度検出手段を設け、前記冷却管６２を流れる冷却水の流量を制御するようにしても良い。
【００４０】
尚、前記冷却手段６０に、取付板６３の上面に取り付けられ、ケーシング３２の外周囲を包囲する放熱カバーを加えても良い。この放熱カバーはＵ字状に形成された二つの部材で構成され、その両端が各均熱板６１に取り付けられることで、全体としてケーシング３２を覆うように取り付けられる。したがって、この放熱カバーとケーシング３２との間には空間が形成され、この空間内を空気が流通することによって、ケーシング３２、均熱板６１、取付板６３の放熱効果がより促進される。また、この放熱カバーを取り付けることで充分な冷却効果が得られる場合には、冷却管６２を省略しても良い。
【００４１】
また、このメインポンプ３０の吐出口３３の外周囲は、ヒータ２５、２７と同様なシート状のヒータ４６で覆われている。そして、このヒータ４６の外周囲は、断熱材４７で覆われている。このヒータ４６は、メインポンプ３０からの吐出（排気）ガスの温度が所定温度範囲以下に低下した場合、吐出（排気）ガスを所定温度範囲まで加熱するものである。
【００４２】
このように構成されたブースタポンプ１０とメインポンプ３０を備えた真空ポンプ１の動作、作用について説明する。
まず、ブースタポンプ１０において、駆動手段２９によって一対のスクリューロータが回転すると、ケーシング１３とスクリューロータ１４、他のスクリューロータの噛合部分で仕切られた作業室が、吸気口１１側から吐出口１２側に移動する。
これにより、吸気口１１から吸気した作業室内の気体（ガス）は、吐出口側に移送され、所定の圧力まで昇圧し、ブースタポンプ１０から中間配管５０に排気される。
【００４３】
このとき、ケーシング１３、吐出口１２はヒータ２５，２７によって強制加熱され所定の温度に維持されている。そのため、例えば、ＴＥＯＳガスにおけるＴＥＯＳのポリマーのような反応生成物がブースタポンプ１０内の壁面に付着、堆積するのを抑制できる。同様に、中間配管５０もヒータ５２によって強制加熱されて、所定の温度に維持されているため、反応生成物が配管本体５１の内部に付着、堆積するのを抑制できる。
【００４４】
そして、メインポンプ３０においても、ケーシング３２と一対のスクリューロータの噛合部分で仕切られた作業室が、吸気口３１側から吐出口３３側に移動する。これにより、吸気口３１から吸気した作業室内の気体（ガス）は吐出口３３側に移送され、大気圧まで昇圧し、メインポンプ３０の吐出口３３から吐出（排気）される。
【００４５】
このメインポンプ３０にあっては、作業室内の気体（ガス）の圧縮熱により、所定の温度範囲を超えて高温化する。しかも、吸気口側３１よりも吐出口３３側が高温となる。しかしながら、冷却管６２内を流れる冷却媒体によって、均熱板６１及びケーシング３２は冷却され、ポンプ内部（ケーシング３２）は所定の温度範囲に維持される。しかも、均熱板６１が設けられているため、ケーシング３２の吸気口３２から吐出口３３に至る温度勾配を極力少なくすることができる。
【００４６】
このように、メインポンプ３０に冷却手段６０を設け、メインポンプ３０の温度を所定温度範囲内に維持したため、例えば、ＳｉＯ2のような反応生成物の析出を抑制することができ、反応生成物の付着、堆積も抑制することができる。
【００４７】
以上説明したように、ブースタポンプ１０、メインポンプ３０、両ポンプを接続する中間配管５０を所定温度範囲内に維持することにより、反応生成物の付着、堆積、析出が抑制され、真空ポンプを長時間、円滑に動作させることができる。
また、反応生成物の付着、堆積、析出が抑制されるため、所定期間におけるメンテナンスの回数を少なくすることができる。
【００４８】
なお、上記実施形態にあっては、下部端面プレート１６にシート状のヒータ２７を設けた場合について説明したが、本発明はこのシート状のヒータ２７に限定されるものではなく、図８に示すような棒状のシーズヒータ７０を用いても良い。
このシーズヒータ７０は、下部端面フランジ１６の側壁に形成された孔Ａに着脱自在に取り付けられ、図８（ｂ）に示すようにシーズヒータ７０の間に、スクリューロータ回転軸が位置し、かつ一つのシーズヒータ７０が吐出口１２に近接して配置される。また、図８において前記孔Ａの開口は吐出口１２に対して側面に形成した場合を示したが、前記孔Ａの開口を吐出口１２の形成面側あるいは吐出口１２の背面側に形成しても良い。
このようなシーズヒータ７０を設けた場合には、真空ポンプの外部からシーズヒータ７０を着脱することができるため、ヒータのメンテナンスが容易になるという効果を得ることができる。
【００４９】
また、上記実施形態において、メインポンプ２０の発熱量が大きく、前記冷却手段６０だけでは放熱しきれず、メインポンプ３０の排気側の下部端面フランジ３６が所定温度を超える場合には、メインポンプ３０の排気側の断熱プレート３６ａを省略し、冷却水配管を設け、下部端面フランジ３６を冷却水で強制的に冷却しても良い。
即ち、図９、図１０に示すように、ベアリングハウジング４０に、スクリューロータの回転軸の周囲を囲うように溝４０ａが形成され、この溝４０ａ内に冷却水配管７１が収容されている。尚、この冷却水配管７１は、下部端面フランジ４０に接するように取り付けられるのが望ましい。
このように、冷却水配管７１が設けられているため、前記冷却水配管７１を流れる冷却水によって、下部端面フランジ３６を強制的に冷却することができ、該下部端面フランジ３６を所定の温度範囲になすことができる。
【００５０】
また、上記実施形態にあっては、ＴＥＯＳガスを用いた場合を例にとって説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、所定の温度範囲おいて反応副生成物の生成が抑制されるものに好適に用いることができる。
また、上記実施形態にあっては、スクリュー式のポンプを例にとって説明したが、当然に、ルーツ式のポンプにも適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明にかかる真空ポンプは、例えば、電子部品の製造分野、半導体製造分野において用いられる、ブースタポンプとメインポンプの二つのポンプを備える、いわゆる２段ポンプに好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】図１は本発明にかかる一実施形態を示す断面図である。
【図２】図２は、図１に示した一実施形態にかかるブースタポンプの下部端面フランジを示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は底面図である。
【図３】図３は、図１に示した一実施形態に用いられているシート状ヒータを示す図である。
【図４】図４は、図１に示したブースタポンプの下部端面フランジ側の断熱プレートを示す図である。
【図５】図５は、図４に示した断熱プレートが下部端面フランジに装着された状態を示す図である。
【図６】図６は、一実施形態のメインポンプに設けられた均熱板及び冷却管を示した図である。
【図７】図７は図１に示したＩ−Ｉ断面図である。
【図８】本発明の変形例を示す図であって、（ａ）は正面図、（ｂ）は底面図、（ｃ）は側面図である。
【図９】本発明の他の変形例を示す図であって、メインポンプの排気側の断面図である。
【図１０】図９に示したＩＩ−ＩＩ矢視図である。
【符号の説明】
【００５３】
１      真空ポンプ
１０      ブースタポンプ
１１      吸気口
１２      吐出口
１３      ケーシング
１４      スクリューロータ
１５      上部端面フランジ
１５ａ    断熱プレート
１６      下部端面フランジ
１６ａ    断熱プレート
２５      ヒータ
２６      断熱材
２７      ヒータ
２８      断熱材
３０      メインポンプ
３１      吸気口
３２      ケーシング
３３      吐出口
３４      スクリューロータ
３５      上部端面フランジ
３５ａ    断熱プレート
３６      下部端面フランジ
３６ａ    断熱プレート
４６      ヒータ
４７      断熱材
５０      中間配管
５１      配管本体
５２      ヒータ
５３      断熱材
５５      温度検出手段
５６      温度検出手段
５７      温度検出手段
６０      冷却手段
６１      均熱板
６２      冷却管
６３      取付け板
７０      シーズヒータ
７１      冷却水配管
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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