(57)【要約】【課題】低出力、低温のＵＶ光で製造可能であって、かつ配向膜と光学異方性層間の密着を確保した光学補償シートを提供する。【解決手段】透明支持体上に、液晶性組成物を光重合により硬化させて形成される光学異方性層を有する光学補償シートであって、該液晶性組成物が少なくとも一種の下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有し、該光重合における光重合開始剤の感光域が３３０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲であり、かつハロゲンラジカルまたは水素原子を除く原子の数が８以下の炭化水素ラジカルを発生する光学補償シート。一般式（Ｉ）    （Ｚ）n−Ｌ100−（Ｑ）m（式中、Ｚは重合性基を有する置換基を表し、ｎは０〜４の整数を表し、Ｑは少なくとも一つのホウ素原子を含有する置換基等を表し、ｍは１又は２を表し、Ｌ100はｎ＋ｍ価の連結基を表すが、ｎが０かつｍが１の場合はＬ100は水素原子等を表す。）【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、液晶性組成物を光重合により硬化させて形成される光学異方性層を有する光学補償シートであって、該液晶性組成物が、少なくとも一種の下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有し、該光重合における光重合開始剤の感光域が３３０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲であり、かつハロゲンラジカルまたは水素原子を除く原子の数が８以下の炭化水素ラジカルを発生する光学補償シート。
【化１】
2007219193.tif 000040
（式中、Ｚは重合性基を有する置換基を表し、ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合２以上のＺは同一でも異なっていてもよく、Ｑは−Ｓｉ（Ｒ100）3（Ｒ100はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルコキシ基、またはアルキル基を表すが、少なくとも一つのＲ100はハロゲン原子またはアルコキシ基である。）、アルデヒド基、アシル基、カルボキシル基、イソシアネート基、または少なくとも一つのホウ素原子を含有する置換基を表し、ｍは１又は２を表し、ｍが２の場合２つのＱは同一でも異なっていてもよく、Ｌ100はｎ＋ｍ価の連結基を表すが、ｎが０かつｍが１の場合はＬ100は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表す。）
【請求項２】
ｎが０又は１である請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項３】
Ｑが、下記一般式（II）で表される置換基である請求項１または２に記載の光学補償シート。
【化２】
2007219193.tif 000041
（式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表すか、Ｒ1及びＲ2が連結してアルキレン基、アリール基、またはこれらの組み合わせからなる連結基を構成する。）
【請求項４】
Ｒ1及びＲ2がそれぞれ水素原子であり、Ｚが下記一般式（III）で表される基、またはオキシラニル部分もしくはオキセタン部分を有する基である請求項３に記載の光学補償シート。
【化３】
2007219193.tif 000042
（式（III）中、Ｒ3は水素原子またはメチル基を表し、Ｌ1は単結合またはＯ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、及びそれらの組み合わせからなる群から選ばれる二価の連結基を表す。）
【請求項５】
前記光重合開始剤が１００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で３０％以上分解する請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項６】
前記光重合開始剤が下記の化合物群から選択される一種以上の化合物を含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【化４】
2007219193.tif 000043
【化５】
2007219193.tif 000044
【請求項７】
配向膜をさらに含む請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学補償シート。
【請求項８】
前記配向膜が重合性基を有する有機化合物からなる請求項７に記載の光学補償シート。
【請求項９】
透明支持体がセルロースアシレートを含むフィルムである請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学補償シート。
【請求項１０】
前記液晶性組成物の光重合による硬化を、８０℃以下で行う請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シートの作製方法。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シートと、偏光膜とを有する偏光板。
【請求項１２】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シートを有する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶性組成物を光重合により硬化させて形成される光学異方性層を含む光学補償シート、該光学補償シートを含む偏光板、および液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶セル、偏光素子および光学補償シート（位相差板）からなる。透過型液晶表示装置では、二枚の偏光素子を液晶セルの両側に取り付け、少なくとも一枚の光学補償シートを液晶セルと偏光素子との間に配置する。反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、少なくとも一枚の光学補償シート、そして一枚の偏光素子の順に配置する。液晶セルは、棒状液晶性化合物、それを封入するための二枚の基板および棒状液晶性化合物に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、棒状液晶性化合物の配向状態の違いで、透過型については、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、反射型については、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。
【０００３】
光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために、様々な液晶表示装置で用いられている。光学補償シートとしては、延伸ポリマーフィルムが従来から使用されていたが、近年延伸ポリマーフィルムからなる光学補償シートに代えて、透明支持体上に液晶性化合物を含む液晶性組成物を塗布して形成した光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。液晶性化合物には多様な配向形態があることから、液晶性化合物を用いることで、従来の延伸ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。液晶性化合物を用いた光学補償シートでは、液晶セルの様々な表示モードに対応するものが既に提案されている。例えば、ＴＮモードの液晶セル用光学補償シートについては、特許文献１〜４に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用光学補償シートについては、特許文献５に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用光学補償シートについては、特許文献６および７に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用光学補償シートについては、特許文献８に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用光学補償シートについては、特許文献９に記載がある。
【特許文献１】特開平６−２１４１１６号公報
【特許文献２】米国特許第５５８３６７９号明細書
【特許文献３】米国特許第５６４６７０３号明細書
【特許文献４】独国特許出願公開第３９１１６２０号明細書
【特許文献５】特開平１０−５４９８２号公報
【特許文献６】米国特許第５８０５２５３号明細書
【特許文献７】国際公開第９６／３７８０４号パンフレット
【特許文献８】特開平９−２６５７２号公報
【特許文献９】特許第２８６６３７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液晶性組成物からなる光学異方性層を含む光学補償シートは、通常、透明支持体上に配向膜及び液晶性化合物を含む光学異方性層を設けることにより作製することができ、その作製工程で、高い温度で強力なＵＶ光（紫外光）にて液晶性化合物を重合させて光学異方性層を硬化させる工程を含んでいるが、高速生産性および省資源の観点より、該工程におけるＵＶ光の強度の低減が可能である光学補償シートが望まれていた。
また、高温条件下でのＵＶ照射による硬化では液晶性化合物の揺らぎの増大による複屈折Δｎの低下が起こる。従って、所望の光学特性（Ｒｅ，Ｒｔｈ）にみあった光学異方性層を得るためには、高温における固定化によって生じたΔｎの低下を補うために膜厚を厚くする必要があり、それに伴う面状の悪化等が問題であった。
該重合・硬化反応が不十分であると配向膜と光学異方性層間の密着力が不十分となって、偏光膜との貼り合わせ工程や液晶セルとの貼り合わせ工程で層間剥離を生じる問題が発生する。この様なことから、低温条件下でも低出力のＵＶ光で光学異方性層と配向膜層との密着性を付与できる技術が強く望まれていた。
すなわち、本発明の第一の課題は、低温条件下で低出力のＵＶ光で製造可能な高速生産性の光学補償シートを提供することである。また、本発明の第二の課題は、配向膜と光学異方性層間の密着を確保することで、偏光膜との貼り合せ工程及び液晶セルとの貼り合わせ工程を従来よりも容易にし、歩留まりを向上させることである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、上記課題解決のため、光学異方性層形成のための液晶性組成物の組成に関し広範な検討を加えた結果、所定の化合物および所定の光重合開始剤が光学異方性層と配向膜間の良好な密着を与えること等を発見し、この知見を基に本発明を完成させた。
【０００６】
上記課題は以下の手段によって達成された。
［１］透明支持体上に、液晶性組成物を光重合により硬化させて形成される光学異方性層を有する光学補償シートであって、該液晶性組成物が、少なくとも一種の下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有し、該光重合における光重合開始剤の感光域が３３０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲であり、かつハロゲンラジカルまたは水素原子を除く原子の数が８以下の炭化水素ラジカルを発生する光学補償シート。
【０００７】
【化１】
2007219193.tif 000002
（式中、Ｚは重合性基を有する置換基を表し、ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合２以上のＺは同一でも異なっていてもよく、Ｑは−Ｓｉ（Ｒ100）3（Ｒ100はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルコキシ基、またはアルキル基を表すが、少なくとも一つのＲ100はハロゲン原子またはアルコキシ基である。）、アルデヒド基、アシル基、カルボキシル基、イソシアネート基、または少なくとも一つのホウ素原子を含有する置換基を表し、ｍは１又は２を表し、ｍが２の場合２つのＱは同一でも異なっていてもよく、Ｌ100はｎ＋ｍ価の連結基を表すが、ｎが０かつｍが１の場合はＬ100は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表す。）
［２］ｎが０又は１である［１］に記載の光学補償シート。
［３］Ｑが、下記一般式（II）で表される置換基である［１］または［２］に記載の光学補償シート。
【０００８】
【化２】
2007219193.tif 000003
【０００９】
（式中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表すか、Ｒ1及びＲ2が連結してアルキレン基、アリール基、またはこれらの組み合わせからなる連結基を構成する。）
［４］Ｒ1及びＲ2がそれぞれ水素原子であり、Ｚが下記一般式（III）で表される基、またはオキシラニル部分もしくはオキセタン部分を有する基である［３］に記載の光学補償シート。
【００１０】
【化３】
2007219193.tif 000004
【００１１】
（式（III）中、Ｒ3は水素原子またはメチル基を表し、Ｌ1は単結合またはＯ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、及びそれらの組み合わせからなる群から選ばれる二価の連結基を表す。）
［５］前記光重合開始剤が１００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で３０％以上分解する［１］〜［４］のいずれか１項に記載の光学補償シート。
［６］前記光重合開始剤が下記の化合物群から選択される一種以上の化合物を含む［１］〜［５］のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【００１２】
【化４】
2007219193.tif 000005
【００１３】
【化５】
2007219193.tif 000006
【００１４】
［７］配向膜をさらに含む［１］〜［６］のいずれか一項に記載の光学補償シート。
［８］前記配向膜が重合性基を有する有機化合物からなる［７］に記載の光学補償シート。
［９］透明支持体がセルロースアシレートを含むフィルムである［１］〜［８］のいずれか一項に記載の光学補償シート。
［１０］前記液晶性組成物の光重合による硬化を、８０℃以下で行う［１］〜［９］のいずれか１項に記載の光学補償シートの作製方法。
［１１］［１］〜［９］のいずれか１項に記載の光学補償シートと、偏光膜とを有する偏光板。
［１２］［１］〜［９］のいずれか１項に記載の光学補償シートを有する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の光学補償シートは、その光学異方性層形成における重合・硬化反応が容易であることから、製造の高速化及び省資源化が可能である。さらに本発明の光学補償シートは、配向膜と光学異方性層の層間密着が著しく向上している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明を詳細に説明する。
本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００１７】
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のリターデーションおよび厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA 21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)、面内の遅相軸（KOBRA 21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にKOBRA 21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は  ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADHはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【００１８】
本発明の光学補償シートは、透明支持体上に液晶性組成物からなる光学異方性層を設けた構成からなるが、更に配向膜を透明支持体と光学異方性層の間に設けることが好ましい。光学異方性層を複数設ける場合は、配向膜を光学異方性層上に設けてもよい。また、透明支持体と配向膜の接着を上げる目的でその間に下塗層を、表面保護の目的で光学異方性層の上に保護膜を設けてもよい。本発明の光学補償シートにおける光学異方性層の形成に用いられる液晶性組成物は、主成分として、光学異方性を発現する液晶性化合物、一般式（Ｉ）で表される化合物、高分子バインダー、光重合開始剤より構成されるが、必要に応じ、モノマー、界面活性剤、配向温度低下剤、カイラル剤等の添加剤を加えてもよい。光学異方性層の厚さは、０．５〜１００μｍであることが好ましく、０．５〜３０μｍであることが更に好ましい。
【００１９】
本発明の光学補償シートは、光学異方性層の形成に用いられる液晶性組成物中に、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を含有する。該化合物は、配向膜に対して強い相互作用を持つ置換基を有し、該組成物の塗布液を塗布後に一般式（Ｉ）で表される化合物の一部又は全部が配向膜と相互作用することにより配向膜界面及び配向膜の内部に拡散して吸着される。
従って、配向膜上に光学異方性層を形成した後では、塗布液中に添加された一般式（Ｉ）で表される化合物は、光学異方性層、配向膜、及び、両者の界面のいずれかに、一般式（Ｉ）そのままの化学構造体、もしくは、一般式（Ｉ）で表される化合物が配向膜や他の添加剤と反応して形成された誘導体として存在していればよい。
この一般式（Ｉ）で表される化合物及び該化合物の誘導体が配向膜及び／又は光学異方性層中に存在する比率によらず、該化合物もしくはその誘導体と液晶性化合物が相互作用し、配向膜層と光学異方性層の密着性を高める効果がある。また、該化合物が重合性基を有する場合は、紫外線照射等によって液晶性化合物を重合させる際に、該化合物及び液晶性化合物も互いに反応して架橋し、配向膜層と光学異方性層との密着性をさらに高める効果がある。
【００２０】
本発明に用いられる前記化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される。
一般式（Ｉ）
（Ｚ）n−Ｌ100−（Ｑ）m
（式中、Ｚは重合性基を有する置換基を表し、ｎは０〜４の整数を表し、ｎが２以上の場合２以上のＺは同一でも異なっていてもよく、Ｑは−Ｓｉ（Ｒ100）3（Ｒ100はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルコキシ基、または、アルキル基を表すが、少なくとも一つのＲ100はハロゲン原子またはアルコキシ基である。）、アルデヒド基、アシル基、カルボキシル基、イソシアネート基、または少なくとも一つのホウ素原子を含有する置換基を表し、ｍは１又は２を表し、ｍが２の場合２つのＱは同一でも異なっていてもよく、Ｌ100はｎ＋ｍ価の連結基を表すが、ｎが０かつｍが１の場合はＬ100は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基または置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表す。）
【００２１】
一般式（Ｉ）中、Ｚが表す重合性基を有する置換基としては、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、スチリル基、ビニルケトン基、ブタジエン基、ビニルエーテル基、オキシラニル基、アジリジニル基及びオキセタン基等を含む置換基が挙げられる。これらのうち、（メタ）アクリレート基、スチリル基、オキシラニル基もしくはオキセタン基を含む置換基が好ましく、（メタ）アクリレート基又はスチリル基を含む置換基がより好ましい。
【００２２】
特に、（メタ）アクリレート基を含む置換基としては、下記一般式（III）で表される基であるのが好ましい。
【００２３】
【化６】
2007219193.tif 000007
【００２４】
一般式（III）中、Ｒ3は水素原子又はメチル基であり、水素原子が好ましい。Ｌ1は、単結合又はＯ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、及びそれらの組み合わせからなる群から選ばれる二価の連結基であり、単結合、−ＣＯ−ＮＨ−、又は−ＣＯＯ−が好ましく、単結合または−ＣＯ−ＮＨ−が最も好ましい。
【００２５】
また、一般式（Ｉ）中、Ｌ100はｎ＋ｍ価の連結基を表すが、ｎが０かつｍが１の場合はＬ100は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表す。
ｎは０〜４の整数を表し、０又は１を表すことがより好ましく、１を表すことがより好ましい。ｍは１又は２を表し、１を表すことがより好ましい。
Ｌ100としては、例えば  二価の連結基として、単結合、又は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリール基及びそれらの組み合わせから選ばれる二価の連結基が挙げられる。このなかで、置換もしくは無置換のアリーレン基がより好ましい。また、Ｌ100が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基及びヘテロアリール基については、下記一般式（II）中のＲ1及びＲ2が表すそれぞれと同義であり、好ましい範囲も同様である。またこれらの基が有する置換基の例は、下記置環基群Ｙから選ばれる少なくとも１種が挙げられる。
【００２６】
一般式（Ｉ）中、Ｑは、配向膜に吸着して結合することができる基であることが好ましい。例えば、配向膜がポリビニルアルコール等のヒドロキシル基を有する場合は、配向膜のヒドロキシル基と結合できる基が好ましい。なお、「配向膜に吸着して結合することができる基」とは、配向膜を構成している材料（主にはポリマー）が有する基と相互作用して、配向膜に化学吸着可能な基を意味する。一般式（Ａ）で表される化合物が、配向膜中に含有される場合は、配向膜に吸着可能な基であるか否かは、配向膜を構成している材料（主にはポリマー）が有する基と相互作用可能か否かによって判断される。
【００２７】
Ｑとして好ましくは、−Ｓｉ（Ｒ100）3（Ｒ100はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルコキシ基、または、アルキル基を表すが、少なくとも一つのＲ100はハロゲンまたはアルコキシ基である。）、または少なくとも一つのホウ素原子を含有する置換基であればよい。
少なくとも一つのホウ素原子を含有する置換基としては、下記一般式（II）で表される置換基などが挙げられる。
【００２８】
Ｑは特に下記一般式（II）で表される置換基であることが好ましい。
【００２９】
【化７】
2007219193.tif 000008
【００３０】
一般式（II）中、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基を表すか、  または、Ｒ1及びＲ2が連結してアルキレン基、アリール基、又はこれらの組み合わせからなる連結基を構成していてもよい。
【００３１】
一般式（II）中、Ｒ1及びＲ2がそれぞれ表す置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基には、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基が含まれる。
前記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ-ブチル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１-メチルブチル基、イソヘキシル基、２-メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１-アダマンチル基、２-ノルボルニル基等の直鎖状、分枝状、又は環状のアルキル基が挙げられる。前記アルケニル基の具体例としては、ビニル基、１-プロペニル基、１-ブテニル基、１-メチル-１-プロペニル基、１-シクロペンテニル基、１-シクロヘキセニル基等の直鎖状、分枝状、又は環状のアルケニル基が挙げられる。
前記アルキニル基の具体例としては、エチニル基、１-プロピニル基、１-ブチニル基、１-オクチニル基等が挙げられる。アリール基の具体例としては、１個から４個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と不飽和五員環とが縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としてはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、ピレニル基等が挙げられる。
【００３２】
Ｒ1及びＲ2がそれぞれ表す置換もしくは無置換のアリール基の具体例には、フェニル基及びナフチル基が含まれる。また、Ｒ1及びＲ2がそれぞれ表す置換もしくは無置換のヘテロアリール基の例には、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環上の水素原子を１個除し、ヘテロアリール基としたものが含まれる。窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環の具体例としては、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、カルバゾール、ベンゾフラン、ジベンゾフラン、チアナフテン、ジベンゾチオフェン、インダゾールベンズイミダゾール、アントラニル、ベンズイソオキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、プリン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、キノリン、アクリジン、イソキノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキザリン、ナフチリジン、フェナントロリン、プテリジン等が挙げられる。
【００３３】
Ｒ1、Ｒ2及びＬ100は、可能な場合はさらに１個以上の置換基によって置換されていてもよい。これらの炭化水素基は任意の置換基によって１個以上置換されていてもよい。置換基としては水素を除く１価の非金属原子団を挙げることができ、例えば、以下の置換基群Ｙから選ばれる。
置換基群Ｙ：
ハロゲン原子（-Ｆ、-Ｂｒ、-Ｃｌ、-Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ-アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルアミノ基、Ｎ-アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ-ジアリールアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ-アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ-アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ-ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ-アルキルアシルアミノ基、Ｎ-アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ'-アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアルキルウレイド基、Ｎ'-アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリールウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリールウレイド基、Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアルキル-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアルキル-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'-アリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アリール-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリール-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリール-Ｎ-アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アリール-Ｎ-アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アリール-Ｎ-アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ-アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルカルバモイル基、Ｎ-アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールカルバモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（-ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ-アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ-アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ-アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルスルファモイル基、Ｎ-アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールスルファモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールスルファモイル基、Ｎ-アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ-アルキルスルホニルスルファモイル基（-ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ-アリールスルホニルスルファモイル基（-ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ-アルキルスルホニルカルバモイル基（-ＣＯＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ-アリールスルホニルカルバモイル基（-ＣＯＮＨＳＯ2（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、アル���キシシリル基（-Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）3）、アリーロキシシリル基（-Ｓｉ（Ｏａｒｙｌ）3）、ヒドロキシシリル基（-Ｓｉ（ＯＨ）3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（-ＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基（-ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノ基（-ＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノ基（-ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（-ＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基（-ＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基及びアルキニル基。
また、これらの置換基は、可能であるならば置換基同士、又は置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよい。
【００３４】
一般式（II）中のＲ1及びＲ2として好ましくは水素原子である。
【００３５】
以下に一般式（Ｉ)で表される化合物の好ましい具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
【００３６】
【化８】
2007219193.tif 000009
【００３７】
【化９】
2007219193.tif 000010
【００３８】
【化１０】
2007219193.tif 000011
【００３９】
【化１１】
2007219193.tif 000012
【００４０】
【化１２】
2007219193.tif 000013
【００４１】
本発明に用いられる前記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量については特に制限はないが、液晶性化合物に対する好ましい割合は、０．０１質量％以上４０質量％以下、より好ましくは０．０５質量％以上３０質量％以下、特に好ましくは０．０５質量％以上２０質量％以下である。
【００４２】
［液晶性化合物］
液晶性組成物中に含まれる液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物が好ましい。
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。これらの棒状液晶性化合物の固定は、棒状液晶性化合物の末端構造に重合性基を導入（後述の円盤状液晶と同様）し、この重合・硬化反応を利用して行われている。また上述の低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。高分子液晶性化合物は、以上のような低分子液晶性化合物に相当する側鎖を有するポリマーである。高分子液晶性化合物を用いた光学補償シートについては、特開平５−５３０１６号公報に記載がある。
【００４３】
ディスコティック液晶性化合物については、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ１１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ１７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式（Ａ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００４４】
（Ａ）  Ｄ（−Ｌ−Ｐ）ｎ
式中、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であり；Ｐは重合性基であり；そして、ｎは４乃至１２の整数である。
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＰ（またはＰＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｐ）との組み合わせを意味する。
【００４５】
【化１３】
2007219193.tif 000014
【００４６】
【化１４】
2007219193.tif 000015
【００４７】
【化１５】
2007219193.tif 000016
【００４８】
【化１６】
2007219193.tif 000017
【００４９】
【化１７】
2007219193.tif 000018
【００５０】
【化１８】
2007219193.tif 000019
【００５１】
【化１９】
2007219193.tif 000020
【００５２】
【化２０】
2007219193.tif 000021
【００５３】
【化２１】
2007219193.tif 000022
【００５４】
式（Ａ）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６乃至１０であることが好ましい。
二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｐ）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
【００５５】
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２０：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２１：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２４：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【００５６】
式（Ａ）の重合性基（Ｐ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｐ）の例を以下に示す。
【００５７】
【化２２】
2007219193.tif 000023
【００５８】
【化２３】
2007219193.tif 000024
【００５９】
【化２４】
2007219193.tif 000025
【００６０】
【化２５】
2007219193.tif 000026
【００６１】
【化２６】
2007219193.tif 000027
【００６２】
【化２７】
2007219193.tif 000028
【００６３】
重合性基（Ｐ）は、不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）またはエポキシ基（Ｐ６、Ｐ１８）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）であることが最も好ましい。
式（Ｉ）において、ｎは４乃至１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＰの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。液晶性化合物は、光学異方性層の全量に対し、５０質量％〜９９．９質量％の範囲で使用され、好適な範囲は７０質量％〜９９．９質量％、更に好適な範囲は８０質量％〜９９．５質量％である。
【００６４】
［高分子バインダー］
高分子バインダーは液晶層の層転移温度の調整、光学特性の調整、塗布性の改良等の目的で使用される。具体的な高分子化合物としては例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイミド共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、セルロースエステル類、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリエチレン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、シリコーン系ポリマー、フッ素含有ポリマーが挙げられる。これらの高分子化合物としては、光学特性に影響を与えないものが使用しやすいが、光学特性に影響を与えるものも積極的に光学特性の調整材料として使用することが可能である。特開平８−５０２０６号公報には、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角を調整し、所望の光学特性を得るために、セルロースエステルが好適であることが報告されている。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネ−ト、ヒドロキシプロピルセルロース、およびセルロースアセテートプチレートを挙げることができる。セルロースアセテートブチレートのブチリル化度は３０％〜８０％の範囲、アセチル化度は３０〜８０％の範囲が好ましい。これら高分子化合物は、光学異方性層全量に対し、０．１〜３０質量％の範囲で使用され、好適には０．１〜１０質量％である。
【００６５】
［光重合開始剤］
光重合開始剤としては、感光域が３３０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲にあり、重合開始ラジカルとして、ハロゲンラジカルまたは水素原子を除く原子の数８以下の炭化水素ラジカルを発生するものを用いる。ハロゲンラジカルとしては、フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素のラジカルが挙げられるが、特にクロルラジカルが好ましい。水素原子を除く原子の数８以下の炭化水素ラジカルは、ハロゲン化炭化水素ラジカル等の置換基を有する炭化水素ラジカルであってもよく、例としては、メチルラジカル、エチルラジカル、プロピルラジカル、ブチルラジカル、フェニルラジカル、トリルラジカル、クロロフェニルラジカル、ブロモフェニルラジカル、ベンゾイルラジカル等が挙げられる。感光波長と光源のマッチングは高感度化の必要な要件である。３３０ｎｍ〜４５０ｎｍに感光域のある光重合開始剤は、メタルハライドランプや高圧水銀灯などのＵＶ光源とのマッチングがよく、低出力のＵＶ光での重合反応の促進を可能とするだけでなく、光学補償シートの着色が少ないという利点を有する。また、上述のように、光重合開始剤のラジカルの嵩が小さいと、光学異方性層と配向膜との密着がよくなる。これは、嵩が小さい光学異方性層の重合性ラジカルが配向膜まで拡散される結果、配向膜の表面で化学結合が生成し、また配向膜表面附近が硬化して、密着が改良しているものと推定される。
さらに、光重合開始剤は、１００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で３０％以上分解するものであることが好ましい。光重合開始剤の例を以下に記すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６６】
【化２８】
2007219193.tif 000029
【００６７】
【化２９】
2007219193.tif 000030
【００６８】
これらの光重合開始剤は液晶性組成物の全量に対し、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
［その他の添加剤］
上記の液晶性化合物と共に、液晶性組成物中には、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【００６９】
液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
【００７０】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落番号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。特に好ましい例として、  特開２００５−２９２３５１号公報明細書中の段落番号［００５４］から［０１０９］に記載のフルオロ脂肪族基含有ポリマーが挙げられる。
【００７１】
［光学異方性層の作製］
光学異方性層は、上記成分を含む液晶性組成物を後述する配向膜の上に塗布し、液晶相−固相転移温度以下で配向させ、その後、ＵＶ照射によって、液晶性化合物を固定することにより形成する。液晶組成物の塗布は、公知の方法（例、バーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。液晶相−固相転移温度としては７０℃〜３００℃が好ましく、特に７０℃〜１７０℃が好ましい。液晶性化合物の重合反応としては、光重合反応が行われる。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましく、照射エネルギーは、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよく、加熱条件に特に制限はないが、液晶正化合物の配向度を低下させないために、80℃以下であることがより好ましい。
【００７２】
［配向膜］
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。本発明の光学補償シートにおける配向膜は、重合性基を有する有機化合物からなることが好ましい。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜に使用するポリマーの種類は、液晶セルの表示モードの種類に応じて決定する。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に垂直（ダイレクターが透明支持体面の法線方向に平行）に配向している表示モード（例、ＶＡ、ＯＣＢ、ＨＡＮ）では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に水平（ディスコティック液晶性分子ではダイレクターが透明支持体面の法線方向に平行）に配向させる機能を有する配向膜を用いる。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に水平に配向している表示モード（例、ＳＴＮ）では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に垂直に配向させる機能を有する配向膜を用いる。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に斜めに配向している表示モード（例、ＴＮ）では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に斜めに配向させる機能を有する配向膜を用いる。
【００７３】
本発明の光学補償シートにおける配向膜に使用される具体的な有機化合物の種類については、液晶セルの表示モードに対応する液晶性分子を用いた光学補償シートについての文献に記載がある。配向膜に使用する有機化合物に架橋性基を導入して架橋性基を反応させることにより、配向膜の強度が上がるとともに層間の密着も改良することが可能となる。なお、配向膜に使用する有機化合物の重合については、特開平８−３３８９１３号公報に記載がある。配向膜の厚さは、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。本発明の光学補償シートにおける配向膜に使用される有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。
さらに、本発明の光学補償シートにおける配向膜に使用される有機化合物として好ましいポリマーの例としては、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーを挙げることができ、このうちゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましい。
【００７４】
ポリビニルアルコールとしては、例えば鹸化度７０〜１００％のものが挙げられ、一般に鹸化度８０〜１００％のものが用いられ、より好ましくは鹸化度８５〜９５％のものが用いられる。重合度としては、１００〜３０００の範囲が好ましい。変性ポリビニルアルコールとしては、共重合変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）3、Ｎ（ＣＨ3）3・Ｃｌ、Ｃ9Ｈ19ＣＯＯ、ＳＯ3Ｎａ、Ｃ12Ｈ25等が導入される）、連鎖移動により変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、Ｃ12Ｈ25等が導入されている）、ブロック重合による変性をしたもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ2、ＣＯＯＲ、Ｃ6Ｈ5等が導入される）等のポリビニルアルコールの変性物を挙げることができる。重合度としては、１００〜３０００の範囲が好ましい。これらの中で、好ましくは、鹸化度８０〜１００％の未変性または変性ポリビニルアルコールであり、より好ましくは鹸化度８５〜９５％の未変性またはアルキルチオ変性ポリビニルアルコールである。
【００７５】
［透明支持体］
光学補償シートの透明支持体としては、光学異方性を制御したポリマーフィルムを好ましく用いることができる。支持体が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。
透明支持体を形成する材料としては、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂が用いられ、ポリマーフィルムを延伸することによって、光学異方性を得る。なお、セルロースエステルフィルムにレターデーション上昇剤（欧州特許出願公開第０９１１６５６号明細書記載）を添加することで、光学的異方性の高いセルロースエステルフィルムを製造することもできる。本発明の光学補償シートにおける透明支持体としては特にセルロースアシレートフィルムが好ましい。
【００７６】
セルロースエステルまたは合成ポリマーのフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは光学異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理、鹸化処理）を実施してもよく、透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
【００７７】
［保護膜］
保護膜は、光学異方性層の表面の保護および平滑性向上等の目的で設けられる。使用される化合物は、特に制限はないが、光学異方性層を溶解しない溶剤に可溶でかつ製膜能のある高分子化合物が好ましい。具体例としては、ゼラチン、メチルセルロース、アルギン酸、ペクチンアラビアガム、プルラン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸アミド、ポリビニルベンゼンスルホン酸ソーダ、カラギナン、ポリエチレングリコール等の水溶性高分子を挙げることができる。
【００７８】
［液晶表示装置］
本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。液晶表示装置は、液晶セル、及び偏光板からなる。偏光板は保護膜、偏光膜、および光学補償シート（位相差板）からなる。偏光膜としては、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜が挙げられる。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造される。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。保護膜は偏光膜の両面に設けることができ、また、光学補償シートの透明支持体を、偏光膜の一方の側の保護膜としても機能させることもできる。他方の側の保護膜としては、光学的等方性が高いセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。
【実施例】
【００７９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【００８０】
［比較例１］
（ポリマー基材（透明支持体）の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
───────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（質量部）    内層            外層
────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート    １００質量部  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）        ７．８質量部  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）３．９質量部  ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）          ２９３質量部  ３１４質量部
メタノール（第２溶媒）                    ７１質量部    ７６質量部
１−ブタノール（第３溶媒）              １．５質量部  １．６質量部
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０質量部  ０．８質量部
下記レターデーション上昇剤              ２．０質量部      ０質量部
────────────────────────────────────
【００８１】
【化３０】
2007219193.tif 000031
【００８２】
得られた内層用ドープおよび外層用ドープを三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１５％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１５５℃の温度で２０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフィルムをポリマー基材として、光学特性を測定した。
ポリマー基材（ＰＫ−１）の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは、７０μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、遅相軸は搬送方向と直交した方向にあり、１６ｎｍであった。また、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、８５ｎｍであった。
ポリマー基材（ＰＫ−１）を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このＰＫ−１の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
このＰＫ−１上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【００８３】
（配向膜塗布液組成）
下記の変性ポリビニルアルコール                        １０質量部
水                                                  ３７１質量部
メタノール                                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                        ０．５質量部
【００８４】
【化３１】
2007219193.tif 000032
【００８５】
ポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と直交方向に配向膜にラビング処理を実施した。
【００８６】
（光学異方性層の形成）
光学異方性層組成物ＤＡ−１
下記のディスコティック液晶性化合物                      ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                      ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２  イーストマンケミカル）            ０．３４質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１  イーストマンケミカル）                ０．１１質量部
下記化合物Ｐ−１                                          ０．２３質量部
下記化合物Ｐ−２                                          ０．０２質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製；化合物：Ｇ−１））
１．３５質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製；化合物：Ｈ−１）
４５質量部
化合物Ｉ−１０１（一般式（Ｉ）の化合物）                    ０．２質量部
【００８７】
【化３２】
2007219193.tif 000033
【００８８】
【化３３】
2007219193.tif 000034
【００８９】
（例示化合物（I−１０１）の合成例）
３−アミノフェニルボロン酸（１０ｇ）をテトラヒドロフラン（８０ｍｌ）に溶解させ、０℃にて攪拌しながらアクリル酸クロリド（６．８ｍｌ）を滴下した。添加後、０℃で１時間攪拌してから２５℃に昇温して１時間攪拌した。食塩水を加え、酢酸エチルにて水層から抽出した。硫酸ナトリウムにて一晩乾燥させた後、溶媒を減圧留去して白褐色の結晶を得た。結晶を酢酸エチル４００ｍｌとヘキサン１００ｍｌの混合溶液にて洗浄し、濾過することによって白褐色の結晶Ｉ−１０１（１２．４ｇ、収率８９％）を得た。以下に、1Ｈ−ＮＭＲの測定結果を示す。
例示化合物（Ｉ−１０１）の1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ（ｐｐｍ）＝５．７０（ｄ，１Ｈ）、６．２５（ｄ，１Ｈ）、６．４５（ｄｄ，１Ｈ）、７．３０（ｔ，１Ｈ）、７．５０（ｄ，１Ｈ）、７．８０（ｄ，１Ｈ）、７．９０（ｓ，１Ｈ）、８．００（ｓ，２Ｈ）、１０．１０（ｓ，１Ｈ）。
【００９０】
上記光学異方性層組成物ＤＡ−１を、メチルエチルケトンにて溶解し、比重０．９２０の塗布液１４とした。
スロットダイ１３の上流側リップランド長ＩUPを１ｍｍ、下流側リップランド長ＩLOを５０μｍとしたスロットダイ１３を用いて、ウェブ１２上に塗布液１４を５．２ｍｌ／ｍ2 で塗布した。塗布速度は６０ｍ／分とした。ウェブ１２には配向膜塗布を行ったポリマー基材（ＰＫ−１）を用い、下流側リップランド１９との隙間の長さは４０μｍに設定した。ラビング処理は、ポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と直交する方向に、配向膜にラビング処理を実施した。塗布液１４を連続的に塗布し、１２５℃の状態で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、７０℃でＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層付き光学補償シート（ＫＨ−１）を作製した。
【００９１】
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は５０ｎｍであり、液晶性分子のダイレクターの方向を該透明支持体面に投影して得られる線の平行方向と実質的に直交しているように配置されていた。
偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出できなかった。
【００９２】
［実施例１〜６、比較例２〜５］
（透明支持体の作製）
比較例１と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＰＫ−１）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例１と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＰＫ−１）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
表１に記載のように、比較例１のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７およびカヤキュアーＤＥＴＸを表１に記載の化合物に記載量置き換え、および、化合物Ｉ−１０１の添加を表１に記載の化合物に記載量置き換えまたは添加しないで、ディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−２〜１１）を作製した。塗布条件はＵＶ照射時の温度を変更する以外は比較例１と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−２〜１１）を作製した。
得られた光学補償フィルム中のＤＬＣ側鎖の不飽和基の消失率をＦＴ−ＩＲ法により、１００ｍＪ／ｃｍ2露光量での開始剤の分解率を分光吸収スペクトル法により、測定した。結果を表１に示す。
（偏光子の作製）
平均重合度４０００、鹸化度９９．８ｍｏｌ％のＰＶＡを水に溶解し、４．０％の水溶液を得た。この溶液をテーパーのついたダイを用いてバンド流延して乾燥し、延伸前の幅が１１０ｍｍで厚みは左端が１２０μｍ、右端が１３５μｍになるように製膜した。
このフィルムをバンドから剥ぎ取り、ドライ状態で４５度方向に斜め延伸してそのままよう素０．５ｇ／Ｌ、よう化カリウム５０ｇ／Ｌの水溶液中に３０℃で１分間浸漬し、次いでホウ酸１００ｇ／Ｌ、よう化カリウム６０ｇ／Ｌの水溶液中に７０℃で５分間浸漬し、さらに水洗槽で２０度で１０秒間水洗したのち８０℃で５分間乾燥してよう素系偏光子（ＨＦ−０１）を得た。偏光子は、幅６６０ｍｍ、厚みは左右とも２０μｍであった。
【００９３】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＫＨ―１（光学補償シート）をポリマー基材（ＰＫ−１）面で偏光子（ＨＦ−０１）の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。
偏光子の透過軸とポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸とは平行になるように配置した。
偏光子の透過軸と上記トリアセチルセルロースフィルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（ＨＢ−１）を作製した。
【００９４】
【表１】
2007219193.tif 000035
【００９５】
【化３４】
2007219193.tif 000036
【００９６】
（ＴＮ液晶セルでの評価）
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（LL−191A、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例１で作製した偏光板（ＨＢ−１）を、光学補償シート（ＫＨ−１）が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
【００９７】
（液晶表示装置パネル上でのムラ評価）
実施例１〜６、比較例１〜８の液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価した。ムラの発生なしを○、斜め方向から見た場合にわずかに見えるを△、正面からもムラが見えるを×とした。結果を表２に示す。
【００９８】
（密着性の評価）
１．テープ密着
光学異方性層作製後、その表面を金具で引っ掻いてからセロファンテープを貼り付け、テープを光学異方性層と平行に剥し、密着性を評価した。評価基準は、Ａ：全く剥がれない、Ｂ：少し剥がれる、Ｃ：剥がれやすい、の３段階とした。
２．アルカリ処理密着
光学異方性層作製後、その表面を２ｃｍ間隔で3箇所に×の切り込みをカッタでいれ、６０℃のＮａＯＨ  １．５Ｎ溶液に３０分間浸漬させ、綿棒に１Kgの過重をかけて、×部分を３０往復こすり、アルカリ処理後密着を評価した。評価基準は、５：全く剥がれない、４：少し剥がれる、３：擦ると剥がれる、２：擦ると簡単に剥がれる、１：溶けたように剥がれる、０：擦る前から剥がれる、の６段階とした。
【００９９】
【表２】
2007219193.tif 000037
【０１００】
上記表１に示した実施例と比較例の結果からわかるように、本発明の実施例はいずれも光学異方性層と配向膜との密着が優れていることが明らかである。
【０１０１】
（実施例７）
実施例１で用いたレターデーション上昇剤の添加量を変えて、Ｒｔｈを７０、８０、１００、１１０ｎｍにしたポリマー基材を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには光学補償シート付き偏光板を作製した。ポリマー基材のＲｔｈを７０、８０、１００、１１０ｎｍに変えても、上下左右の視野角は実施例１で得られた効果と同様の効果が得られた。
【０１０２】
（実施例８）
実施例１で用いたレターデーション上昇剤を、下記のレターデーション上昇剤に代え、内層の添加量を１．４質量部にし、Ｒｔｈを９５ｎｍにしたポリマー基材を作製した以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには、光学補償シート付き偏光板を作製した。実施例１で得られた効果と同様の効果が得られた。
【０１０３】
【化３５】
2007219193.tif 000038
【０１０４】
（実施例９）
実施例８で用いたレターデーション上昇剤の添加量を変えて、Ｒｔｈを７０、８０、９０、１００、１１０、１２０ｎｍにしたポリマー基材を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには光学補償シート付き偏光板を作製した。ポリマー基材のＲｔｈを７０、８０、９０、１００、１１０、１２０ｎｍに変えても、実施例１で得られた効果と同様の効果が得られた。
（実施例１０）
実施例１で用いた化合物Ｐ−１、化合物Ｐ−２を、下記化合物に変え、０．１８質量部添加した以外は実施例１〜６と同様にして、光学補償シート、さらには光学補償シート付き偏光板を作製した。化合物Ｐ−１、Ｐ−２を下記化合物に変えても、実施例１〜６で得られた効果と同様の効果が得られた。
【０１０５】
【化３６】
2007219193.tif 000039