(57)【要約】【課題】ガラス基板を真空吸着によってクールプレート上に密着させ冷却処理を行っても、吸着を解除時に、ガラス基板は軋んだり破壊しないガラス基板の冷却方法、及びプリベーク装置を提供する。【解決手段】ガラス基板６０をクールプレート２１に接近させた位置でリフトピン２３の下降を一旦停止させ、ガラス基板の温度がクールプレートの温度に近づいた時点でリフトピンの下降を再開させ、ガラス基板をクールプレート上に載置し、真空吸着により密着させた冷却を継続して行う。リフトピンの下降を一旦停止させる機構、下降を再開させる機構、真空吸着により密着させた冷却を継続して行う機構を具備する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上に洗浄処理、フォトレジストの塗布、予備乾燥処理、プリベーク処理、パターン露光、現像処理、ポストベーク処理が順次に施されるフォトリソグラフィ法によってパターンを形成してカラーフィルタを製造する際のホットプレート及びクールプレートを用いたプリベーク処理において、
１）前記クールプレート上に、リフトピンを下降させて加熱されたガラス基板を載置する際に、ガラス基板をクールプレートに接近させた位置でリフトピンの下降を一旦停止させて冷却を開始し、
２）上記ガラス基板の温度が、クールプレートの温度に近づいた時点でリフトピンの下降を再開させ、
３）上記ガラス基板をクールプレート上に載置し、真空吸着により密着させた冷却を継続して行うことを特徴とするガラス基板の冷却方法。
【請求項２】
ガラス基板上に洗浄処理、フォトレジストの塗布、予備乾燥処理、プリベーク処理、パターン露光、現像処理、ポストベーク処理が順次に施されるフォトリソグラフィ法によってパターンを形成してカラーフィルタを製造する際のホットプレート及びクールプレートを用いたプリベーク装置において、
１）前記クールプレート上に、リフトピンを下降させて加熱されたガラス基板を載置する際に、ガラス基板をクールプレートに接近させた位置で冷却を開始するためにリフトピンの下降を一旦停止させる機構、
２）上記ガラス基板の温度が、クールプレートの温度に近づいた時点でリフトピンの下降を再開させる機構、
３）上記ガラス基板をクールプレート上に載置し、真空吸着により密着させた冷却を継続して行う機構を具備することを特徴とするプリベーク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板上にフォトリソグラフィ法によってパターンを形成する際のプリベーク処理に関するものであり、特に、ガラス基板を冷却した後の吸着解除の際に、ガラス基板が軋んだり、破壊することのないガラス基板の冷却に関する。
【背景技術】
【０００２】
図４は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図５は、図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図４、及び図５に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図４、及び図５はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００３】
液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、このブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。
【０００４】
ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００５】
ガラス基板上へのブラックマトリックスの形成は、例えば、ガラス基板（４０）上に金属薄膜を形成し、この金属薄膜をフォトエッチングすることによって形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色フォトレジストを用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
【０００６】
樹脂を用いて形成されたブラックマトリックスを樹脂ブラックマトリックスと称し、例えば、テレビなどのように、高輝度なバックライトを用いた際に、クロムなどの金属をブラックマトリックスとして用いたときに起こる液晶表示装置での内部反射を抑制するために、低反射の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合、或いは、例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｃｈｉｎｇ）方式に用いたときに起こる液晶表示装置での電界の乱れを抑制するために、高絶縁性の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合などに採用されていた。
【０００７】
しかし、ガラス基板が大型化するのに伴い、ブラックマトリックスの材料としてクロムなどの金属を用い真空装置で薄膜を成膜するブラックマトリックスよりも、黒色フォトレ
ジストを用いてフォトリソグラフィ法によって形成する樹脂ブラックマトリックスの方が価格的に有利なものとなり、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。また、環境に配慮してクロムなどの金属を用いることを回避する傾向にある。
【０００８】
また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。また、透明導電膜（４３）の形成は、ブラックマトリックス、着色画素が形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
【０００９】
図４、及び図５に示すカラーフィルタは、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して下記のような、種々な機能が付加されるようになった。
【００１０】
例えば、高信頼性機能。液晶表示装置として高信頼性が求められる際には、着色画素のもつ耐熱性、耐湿性、及び耐薬品性などの性能を補うために、また、着色画素からの溶出物のバリアとして着色画素上に保護層（オーバーコート層）を形成することがある。また、ＩＰＳ方式に用いられる際の高絶縁性を付与するために、或いは、カラーフィルタとＴＦＴ側基板とのシール強度を向上させるために保護層（オーバーコート層）を形成することがある。
また、液晶分子の配向をより均一なものにして表示品質を向上させる際に、着色画素上に保護層（オーバーコート層）を形成し、平坦性の高いカラーフィルタとすることがある。
【００１１】
また、付随される機能としては、例えば、透過・反射併用機能。一基の液晶表示装置において透過型と反射型の両機能を兼ね備えた半透過型液晶表示装置は、屋外の明るい環境下でも、屋内の暗い環境下でも用いることができる。
この半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタには、透過表示の着色画素と反射表示の着色画素の２種の着色画素が形成される方式がある。
【００１２】
また、例えば、分光特性調整機能。半透過型液晶表示装置に用いるカラーフィルタの他の方式であり、透過表示用として適切な分光特性を有する着色部に透明部を設けることによって、着色部の色光と透明部の白色光を混色させ反射表示用として適切な分光特性に調節するものである。この透明部は透明なフォトレジストによってパターン状に形成される。
【００１３】
また、例えば、光路差調整機能。半透過型液晶表示装置においては、透過表示の領域と反射表示の領域を通過する光の位相をそろえるために、基板間の間隔を、透過表示の領域：反射表示の領域＝２：１としている。この基板間の間隔を２：１とするために、反射表示の領域に光路差調整層を設けている。この光路差調整層は、透明なフォトレジストによってパターン状に形成される。
【００１４】
また、例えば、光散乱機能。半透過型液晶表示装置においては、その反射表示の領域では、外光が入射してから外部へ出射するまでの光路のいずれかの箇所で光を散乱させている。この光散乱機能をカラーフィルタに設ける際には、カラーフィルタの反射表示の領域に光散乱層を設けている。この光散乱層は、光散乱粒子を含有させた透明なフォトレジストによってパターン状に形成される。
【００１５】
上記、高信頼性機能、透過・反射併用機能、分光特性調整機能、光路差調整機能、光散乱機能は、いずれも図４に示すカラーフィルタに付加されたものであるが、これらの層は、透明導電膜（４３）の形成前にガラス基板上に形成されており、透明導電膜（４３）の下面にこれらの層が設けられている。
一方、基本的な機能を備えたカラーフィルタの透明導電膜（４３）の上面に設けられる機能としては、下記のものが挙げられる。
【００１６】
例えば、スペーサー機能。従来の液晶表示装置に於いては、基板間にギャップを形成するために、スペーサーと呼ばれるビーズを散布している。このスペーサーの部分で光もれを生じ、コントラストが低下し表示品質に悪影響を及ぼす、などの問題を有していた。
このような問題を解決する技術として、フォトレジストを用い、フォトリソグラフィ法により画素間のブラックマトリックスの位置にスペーサー機能を有するパターン状のフォトスペーサー（突起部）を形成する方法が開発、実用された。
【００１７】
また、例えば、配向分割機能。従来の液晶表示装置に於いては、液晶分子を一様に配向させるために、液晶を挟持する両基板に設けられた透明導電膜上に、予めポリイミドを塗布し、その表面に一様なラビング処理をしておく。
しかし、多くの液晶表示装置に用いられているＴＮ型液晶においては、原理的に広い視野角を得ることは困難であり、中間調表示状態では斜め視角において光がもれ、コントラストが低下し表示品質が悪化する。すなわち、コントラストが良好な視野角は狭いといった問題を有していた。
【００１８】
このような問題を解決する一技術として、一画素内での液晶分子の配向方向が一方向でなく、複数の方向になるように制御し、複数の方向で均一な中間調表示をするようにした、すなわち視野角の広い、配向分割垂直配向型液晶表示装置（ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）−ＬＣＤ）が開発された。
この配向制御は、基板上に配向制御突起を設けて行うのであるが、配向制御突起はフォトレジストによってパターン状に形成される。
【００１９】
上記種々な機能は、そのカラーフィルタの用途、仕様にもとづき１機能或いは複数の機能が図４に示すカラーフィルタに追加される。これらの機能は、基本となるカラーフィルタ上に付随する層として、各々対応して、透明導電膜（４３）の形成前に保護層（オーバーコート層）、反射表示の着色画素、分光特性調整用の透明部、光路差調整機能、光散乱機能などを形成し具備させる。或いは透明導電膜（４３）の形成後にフォトスペーサー、配向制御用突起などを形成し具備させる。
従って、例えば、図４に示すカラーフィルタにスペーサー機能及び配向分割機能が追加された仕様のカラーフィルタを製造する際には、図４に示すカラーフィルタを作製した後に、例えば、配向制御用突起を形成し、続いてフォトスペーサーを形成する。
【００２０】
上記、基本となるカラーフィルタ上に付随する層を形成する際には、パターンとして形成されない保護層（オーバーコート層）を除き、いずれの層も前記ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）と同様に、フォトレジストを用いてのフォトリソグラフィ法によってパターンに形成される。
【００２１】
上記ブラックマトリックス、着色画素、及び付随する各層をフォトリソグラフィ法によりパターンとして形成する際には、例えば、先ずガラス基板に対して必要に応じた洗浄処理を施し、続いて塗布装置によるフォトレジストの塗布、減圧乾燥装置による予備乾燥処理、プリベーク装置によるプリベーク処理、露光装置によるパターン露光、現像処理ユニットによる現像処理、加熱ユニットによるポストベーク処理が順次に施され、ガラス基板
に所定のパターンを形成する。
【００２２】
上記フォトレジストの塗布直後は、フォトレジストの塗膜は乾燥していないために流動性があり、次工程へガラス基板を搬送した場合には、搬送中に塗膜の膜厚が変化し易く膜厚にムラを発生させることがある。予備乾燥処理は、この搬送に伴う塗膜の膜厚の変化を防止するために、塗膜中の溶剤を減圧下で半ば蒸発させる予備的な乾燥処理である。
【００２３】
次工程のプリベーク処理は、塗膜中の溶剤を加熱によって蒸発させる本格的な乾燥処理である。塗膜中の溶剤が残留していると、フォトレジストの感度は著しく低下し、加えてガラス基板への接着力が弱まるので、塗膜中に溶剤が残留することは好ましいことではない。
【００２４】
図１（ａ）は、プリベーク装置の一例の概略を示す断面図である。図１（ａ）に示すように、プリベーク装置（３０）は、加熱チャンバー（１０）と冷却チャンバー（２０）で構成されている。加熱チャンバー（１０）内には、ホットプレート（１１）を上部に備えたバキューム・テーブル（１２）が設けられており、また、冷却チャンバー（２０）内には、クールプレート（２１）を上部に備えたバキューム・テーブル（２２）が設けられている。
【００２５】
前記予備乾燥処理によって、塗膜中の溶剤を半ば蒸発させたガラス基板は、加熱チャンバー（１０）内のホットプレート（１１）上に載置され、加熱による乾燥処理が施される。続いて、ガラス基板は、冷却チャンバー（２０）に搬送され、クールプレート（２１）上に載置され冷却されて常温に戻される。
図１（ｂ）は、クールプレート（２１）を上部に備えたバキューム・テーブル（２２）の一例の概略を示す断面図である。図１（ｂ）は、移載機構（図示せず）によって、ガラス基板（６０）がリフトピン（２３）上に受け渡された段階を示したものである。
【００２６】
ガラス基板（６０）は、例えば、加熱チャンバー（１０）から移載機構によって、底面を２本のアーム（図示せず）で支えられた状態でクールプレート（２１）上に載置されるが、そのままではクールプレート（２１）上に載置後、アームを退避することができないので、一旦、クールプレート（２１）の上面から突出した状態でアームと干渉しない位置に設けられた複数のリフトピン（２３）上に受け渡され、その後にアームが退避する。
【００２７】
リフトピン（２３）は、クールプレート（２１）に対し垂直方向に昇降自在であり、ガラス基板（６０）が受け渡された後に下降し、クールプレート（２１）上に載置される。クールプレート（２１）に設けられたリフトピン（２３）が昇降する開口（２４）とは別に、リフトピン（２３）の上部がクールプレート（２１）内まで下降した後に、ガラス基板（６０）とクールプレート（２１）の間の空気を吸引する吸着孔（２７）が、上記開口（２４）間に設けらている。
【００２８】
クールプレート（２１）内には導管が備えられており、外部からの冷却水の循環によってクールプレート（２１）は冷却される。
また、バキューム・テーブル（２２）は、中空部（２５）を有し、上部にクールプレート（２１）を備え、下部には排気口（２６）が設けられている。クールプレート（２１）上のガラス基板（６０）を真空吸着する際には、排気口（２６）からの排気により行う。
【００２９】
図３（ａ）、（ｂ）は、上記冷却チャンバー（２０）を用いた冷却処理の動作を説明する断面図である。図３は、図１（ｂ）におけるクールプレート（２１）、リフトピン（２３）、ガラス基板（６０）の一部分を拡大して示したものである。符号（Ｄ１）は、リフトピン（２３）がクールプレート（２１）の上面から突出した高さを表している。
図３（ａ）、（ｂ）に示すように、ガラス基板（６０）がリフトピン（２３）上に受け渡された状態で、リフトピン（２３）を下降させ、ガラス基板（６０）をクールプレート（２１）上に載置し、効果的に均一な冷却をするために、矢印（２８）で示すように、吸着孔（２７）から空気を吸引し、ガラス基板（６０）をクールプレート（２１）に真空吸着させながら密着させた冷却を行う。
【００３０】
しかしながら、上記のような真空吸着させながら密着させた冷却を行う冷却処理においては、加熱されたガラス基板がクールプレート（２１）上に載置されると、冷却の始まったガラス基板（６０）は収縮しようとする。ところが、ガラス基板はクールプレート（２１）上に吸着、固定されているために、収縮することができず内部応力が増大した状態になる。
その結果、真空吸着を解除した時に、ガラス基板は音をだして軋んだり、破壊するといった問題がある。
【特許文献１】特開平１１−１１２１９８号公報
【特許文献２】特願２０００−２６８１７５号公報
【特許文献３】特願２０００−２６８１７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３１】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、ガラス基板を真空吸着によってクールプレート上に密着させた冷却による冷却処理を行っても、その真空吸着を解除した時に、ガラス基板は音をだして軋んだり、破壊することのない、ガラス基板の冷却方法、及びプリベーク装置を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００３２】
本発明は、ガラス基板上に洗浄処理、フォトレジストの塗布、予備乾燥処理、プリベーク処理、パターン露光、現像処理、ポストベーク処理が順次に施されるフォトリソグラフィ法によってパターンを形成してカラーフィルタを製造する際のホットプレート及びクールプレートを用いたプリベーク処理において、
１）前記クールプレート上に、リフトピンを下降させて加熱されたガラス基板を載置する際に、ガラス基板をクールプレートに接近させた位置でリフトピンの下降を一旦停止させて冷却を開始し、
２）上記ガラス基板の温度が、クールプレートの温度に近づいた時点でリフトピンの下降を再開させ、
３）上記ガラス基板をクールプレート上に載置し、真空吸着により密着させた冷却を継続して行うことを特徴とするガラス基板の冷却方法である。
【００３３】
また、本発明は、ガラス基板上に洗浄処理、フォトレジストの塗布、予備乾燥処理、プリベーク処理、パターン露光、現像処理、ポストベーク処理が順次に施されるフォトリソグラフィ法によってパターンを形成してカラーフィルタを製造する際のホットプレート及びクールプレートを用いたプリベーク装置において、
１）前記クールプレート上に、リフトピンを下降させて加熱されたガラス基板を載置する際に、ガラス基板をクールプレートに接近させた位置で冷却を開始するためにリフトピンの下降を一旦停止させる機構、
２）上記ガラス基板の温度が、クールプレートの温度に近づいた時点でリフトピンの下降を再開させる機構、
３）上記ガラス基板をクールプレート上に載置し、真空吸着により密着させた冷却を継続
して行う機構を具備することを特徴とするプリベーク装置である。
【発明の効果】
【００３４】
本発明は、クールプレート上に、リフトピンを下降させて加熱されたガラス基板を載置する際に、ガラス基板をクールプレートに接近させた位置でリフトピンの下降を一旦停止させて冷却を開始し、ガラス基板の温度が、クールプレートの温度に近づいた時点でリフトピンの下降を再開させ、ガラス基板をクールプレート上に載置し、真空吸着により密着させた冷却を継続して行うガラス基板の冷却方法であるので、ガラス基板を真空吸着によってクールプレート上に密着させた冷却による冷却処理を行っても、その真空吸着を解除した時に、ガラス基板は音をだして軋んだり、破壊することのないガラス基板の冷却方法となる。
【００３５】
本発明は、クールプレート上に、リフトピンを下降させて加熱されたガラス基板を載置する際に、ガラス基板をクールプレートに接近させた位置で冷却を開始するためにリフトピンの下降を一旦停止させる機構、ガラス基板の温度が、クールプレートの温度に近づいた時点でリフトピンの下降を再開させる機構、ガラス基板をクールプレート上に載置し、真空吸着により密着させた冷却を継続して行う機構を具備するプリベーク装置であるので、ガラス基板を真空吸着によってクールプレート上に密着させた冷却による冷却処理を行っても、その真空吸着を解除した時に、ガラス基板は音をだして軋んだり、破壊することのないプリベーク装置となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図２は、本発明によるプリベーク装置の一実施例における冷却チャンバー内に設けられたクールプレート及びリフトピンを示す断面図である。図２（ａ）は、搬送されたガラス基板（６０）がリフトピン（２３）上に受け渡された段階を示したものである。
【００３７】
リフトピン（２３）は、クールプレート（２１）に対し垂直方向に昇降自在となっている。リフトピン（２３）へのガラス基板（６０）の受け渡しは、リフトピン（２３）がクールプレート（２１）の上面から符号（Ｄ１）で示す高さほど突出した位置にて静止した状態でガラス基板（６０）を受け渡すようになている。これは、移載機構のアームが退避するするための間隔をとるためである。
【００３８】
ガラス基板（６０）が受け渡された後に、リフトピン（２３）は下降し、クールプレート（２１）上に載置するのであるが、本発明においては、図２（ｂ）に示すように、リフトピン（２３）が下降を開始しガラス基板（６０）をクールプレート（２１）に接近させた位置（Ｄ２）で、リフトピン（２３）の下降を一旦停止させる機構を備えている。
【００３９】
また、ガラス基板（６０）をクールプレート（２１）に接近させた位置（Ｄ２）で、ガラス基板（６０）が冷却を開始し、ガラス基板（６０）の温度がクールプレート（２１）の温度に近づいた時点で、リフトピン（２３）の下降を再開させる機構を備えている。
また、図２（ｃ）に示すように、リフトピン（２３）の下降の再開により、ガラス基板（６０）をクールプレート（２１）上に載置し、真空吸着により密着させ冷却を行う機構を備えている。
【００４０】
本発明によるガラス基板の冷却方法は、図２（ａ）に示すように、クールプレート（２１）の上面から符号（Ｄ１）で示す高さほど突出した位置にて静止した状態にあるリフトピン（２３）に受け渡されたガラス基板（６０）を、クールプレート（２１）上にリフトピン（２３）を下降させて載置する際に、図２（ｂ）に示すように、高さ（Ｄ１）の位置とクールプレート（２１）上面の間の、符号（Ｄ２）で示すクールプレートに接近させた
位置で、一旦、リフトピン（２３）の下降を停止させる。
そして、このクールプレートに接近させた位置で、ガラス基板（６０）の冷却を開始させクールプレート（２１）の温度に近づけることを特徴としている。
【００４１】
これにより、リフトピン（２３）上の加熱されたガラス基板（６０）は冷却を開始するが、ガラス基板（６０）はリフトピン（２３）上では固定されていないので、ガラス基板（６０）の冷却に伴う収縮は何ら制約を受けることなく収縮することになる。従って、冷却を開始したガラス基板（６０）に内部応力は発生しない。
【００４２】
次に、ガラス基板（６０）の温度が、クールプレート（２１）の温度に近づいた時点でリフトピン（２３）の下降を再開させ、ガラス基板（６０）をクールプレート上に載置する。このガラス基板（６０）を真空吸着によりクールプレート（２１）に密着させて、効果的に均一な冷却を継続して行う。
【００４３】
従って、ガラス基板（６０）の内部応力を抑制し、且つ効果的に均一な冷却を行うことができるものとなる。
これにより、真空吸着を解除した際に、ガラス基板は音をだして軋んだり、破壊するといった問題は解消される。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】（ａ）は、プリベーク装置の一例の概略を示す断面図である。（ｂ）は、クールプレートを上部に備えたバキューム・テーブルの一例の概略を示す断面図である。
【図２】（ａ）は、本発明のプリベーク装置にて、ガラス基板がリフトピン上に受け渡された段階の説明図である。（ｂ）は、ガラス基板をクールプレートに接近させた段階の説明図である。（ｃ）は、ガラス基板をクールプレート上に載置し、真空吸着により密着させ冷却を行う段階の説明図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は、冷却チャンバーを用いた冷却処理の動作を説明する断面図である。
【図４】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図５】図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１０・・・加熱チャンバー
１１・・・ホットプレート
１２・・・バキューム・テーブル
２０・・・冷却チャンバー
２１・・・クールプレート
２２・・・バキューム・テーブル
２３・・・リフトピン
２４・・・開口
２６・・・排気口
２７・・・吸着孔
３０・・・プリベーク装置
４０、６０・・・ガラス基板
４１・・・ブラックマトリックス
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
Ｄ１・・・リフトピンがクールプレートの上面から突出した高さ
Ｄ２・・・ガラス基板をクールプレートに接近させた位置
【図１】
2007147832.tif 000003
【図２】
2007147832.tif 000004
【図３】
2007147832.tif 000005
【図４】
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【図５】
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