(57)【要約】【課題】垂直磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】垂直磁気記録媒体に情報を記録し、または垂直磁気記録媒体に記録された情報を読み取る垂直磁気ヘッドであって、記録のための磁場の発生源となるコイルと、磁場の磁路を形成するものであって、垂直磁気記録媒体側の端部の領域が垂直磁気記録媒体の移動方向に対して前側になるリーディング部と、相対的に後側になるトレーリング部とからなり、トレーリング部の両側縁部が斜角であり、リーディング部は、空気軸受面に対して傾斜した面を有するメインポールと、メインポールと共に磁場の磁路を形成するものであって、空気軸受面側一端部は、メインポールと離隔され、他端部は、メインポールと連結されるように配置されるリターンポールと、を備えることを特徴とする垂直磁気ヘッドである。【選択図】図２
2007220273.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直磁気記録媒体に情報を記録し、または、前記垂直磁気記録媒体に記録された情報を読み取る垂直磁気ヘッドにおいて、
前記記録のための磁場の発生源となるコイルと、
前記磁場の磁路を形成するものであって、前記垂直磁気記録媒体側の端部の領域が、前記垂直磁気記録媒体の移動方向に対して前側になるリーディング部と、相対的に後側になるトレーリング部とからなり、前記トレーリング部の両側縁部が斜角であり、前記リーディング部は、空気軸受面に対して傾斜した面を有するメインポールと、
前記メインポールと共に前記磁場の磁路を形成するものであって、空気軸受面側の一端部は、前記メインポールと離隔され、他端部は、前記メインポールと連結されるように配置されるリターンポールと、を備えることを特徴とする垂直磁気ヘッド。
【請求項２】
前記メインポールの前記垂直磁気記録媒体と対向する面は、六角形であることを特徴とする請求項１に記載の垂直磁気ヘッド。
【請求項３】
前記メインポールの一側面に隣接して配置され、前記垂直磁気記録媒体と対向する一端部が、前記垂直磁気記録媒体から離れる方向に空気軸受面と離隔されたサブヨークをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の垂直磁気ヘッド。
【請求項４】
前記メインポールは、前記サブヨークより飽和磁束密度が大きい材質から形成されることを特徴とする請求項３に記載の垂直磁気ヘッド。
【請求項５】
空気軸受面で前記メインポールと前記リターンポールとが離隔された距離は、約５００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１ないし請求項４のうちいずれか一項に記載の垂直磁気ヘッド。
【請求項６】
前記垂直磁気記録媒体と対向する端部を有する読み取りヘッド部をさらに備えることを特徴とする請求項１ないし請求項４のうちいずれか一項に記載の垂直磁気ヘッド。
【請求項７】
垂直磁気ヘッドの製造方法において、
（ａ）基板に第１絶縁層及び第２絶縁層を形成する段階と、
（ｂ）前記第２絶縁層が傾斜面を有する形状となるように一部エッチングする段階と、
（ｃ）前記第１絶縁層及び前記第２絶縁層上に第１磁性層を蒸着して、前記第２絶縁層を前記第１磁性層内に埋め込む段階と、
（ｄ）前記第１磁性層を、所定幅を有して上部両側の縁部が斜角である形状に形成する段階と、
（ｅ）前記第１磁性層及び前記第１絶縁層上に第３絶縁層及び第２磁性層を順次に形成する段階と、
（ｆ）前記第１磁性層の一端部の下部が空気軸受面に対して傾斜した面となるように、前記第１磁性層及び前記第２絶縁層の側面を研磨する段階と、を含むことを特徴とする垂直磁気ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記（ｄ）段階は、
前記第１磁性層の一部にフォトレジストをコーティングし、前記第１磁性層の前記フォトレジストがコーティングされていない部分をエッチングする段階と、
前記第１磁性層の上部両側の縁部が露出されるように、前記フォトレジストをアッシングする段階と、
前記第１磁性層に対して面取り工程を行い、前記アッシングされたフォトレジストを除去する段階と、を含むことを特徴とする請求項７に記載の垂直磁気ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記（ｄ）段階は、
前記第１磁性層の一部にフォトレジストをコーティングし、前記第１磁性層のフォトレジストがコーティングされていない部分をエッチングする段階と、
前記フォトレジストを除去する段階と、
前記第１磁性層に対して乾式エッチングによる面取り工程を行う段階と、を含むことを特徴とする請求項７に記載の垂直磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記第１磁性層と前記第２磁性層との間に存在する前記第３絶縁層の厚さを、約５００ｎｍ以下に形成することを特徴とする請求項７ないし請求項９のうちいずれか一項に記載の垂直磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
前記第１、第２及び第３絶縁層のそれぞれをＡｌ２Ｏ３で形成することを特徴とする請求項７ないし請求項９のうちいずれか一項に記載の垂直磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１２】
前記第１磁性層及び前記第２磁性層のそれぞれをＮｉＦｅで形成することを特徴とする請求項７ないし請求項９のうちいずれか一項に記載の垂直磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直磁気ヘッドに係り、さらに詳細には、垂直磁気記録媒体の記録対象トラック以外のトラックに対して垂直磁気ヘッドから及ぼされる磁場の影響を最小化して、安定した高密度記録ができるようにメインポールの形状を改善した垂直磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録は、情報記録方式によって水平磁気記録方式と垂直磁気記録方式とに大別されうる。水平磁気記録方式は、磁性層の磁化方向が磁性層の表面に平行に整列されることを利用して情報を記録する方式であり、垂直磁気記録方式は、磁性層の磁化方向が磁性層の表面に垂直方向に整列されることを利用して情報を記録する方式である。したがって、記録密度の側面では、垂直磁気記録方式が水平磁気記録方式よりはるかに有利である。
【０００３】
図１は、従来技術による垂直磁気ヘッドを示す図面である。図面を参照すれば、従来の垂直磁気ヘッドは、垂直磁気記録媒体１０（以下、記録媒体と称する）、記録媒体１０に情報を記録する記録ヘッド部１００、及び記録媒体１０に記録された情報を読み取る読み取りヘッド部１１０を備える。
【０００４】
記録ヘッド部１００は、メインポールＰ１、リターンヨーク１０５、及びコイルＣを備える。コイルＣは、記録媒体１０に情報を記録するための記録磁場を発生させる役割を行う。メインポールＰ１及びリターンヨーク１０５は、コイルＣによって発生した記録磁場の磁路を形成するものであって、磁性物質で形成される。ニッケル鉄（ＮｉＦｅ）のような磁性物質が主に使われ、このとき、それぞれの成分比を調節することによって、飽和磁束密度が異なるように形成させる。メインポールＰ１の側面には、サブヨーク１０１が形成されて、情報を記録する過程でメインポールＰ１から発生する磁場を垂直磁気記録媒体１０の選択された領域に集める役割を行う。
【０００５】
読み取りヘッド１１０は、第１及び第２シールド層Ｓ１、Ｓ２を備え、第１及び第２シールド層Ｓ１、Ｓ２の間に形成された読み取りセンサー１１１を備える。第１及び第２シールド層Ｓ１、Ｓ２は、選択されたトラックの所定領域ＡＲＰの情報を読む間に、前記領域ＡＲＰの周りの磁気的要素から発生する磁場が読み取りセンサー１１１に到達することを遮断する。
【０００６】
読み取りセンサー１１１としては、一般的にＭＲ、ＧＭＲまたはＴＭＲ構造体が使われる。
【０００７】
空気軸受面（Ａｉｒ  Ｂｅａｒｉｎｇ  Ｓｕｒｆａｃｅ；以下、ＡＢＳと称する。）は、記録ヘッド部１００が記録層１３と対向する面として定義され、図面上ではＸ−Ｙ平面と平行な面となる。
【０００８】
メインポールＰ１から発生して記録媒体１０に向かう磁場の垂直成分が、記録層１３のマグネティックドメインを磁化させて情報を記録する。このように磁化された一つの単位を記録ビットとし、記録密度が増加するにつれて、記録ビットの大きさは小さくなる。
【０００９】
記録密度は、一般的に面密度で表し、１平方インチ当り記録ビットの数で表示する。すなわち、面密度が増加するためには、記録ビットのダウントラック方向の長さとクロストラック方向の長さとがいずれも小さくならなければならない。
【００１０】
ダウントラック方向の長さは、記録媒体１０の移動速度と記録電流の周波数とによって決定され、クロストラック方向の長さは、Ｐ１のＹ方向長さを含んで、Ｐ１の形状に依存する量である。したがって、記録密度が増加するにつれて、前記長さは小さくなり続けなければならず、かつ安定した記録特性を有するために、隣接トラックに影響を与えないように、Ｐ１の形状が設計されなければならないという困難さがある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、前記問題点を勘案して案出されたものであって、メインポールの形状を改善することによって、隣接トラックの消去効果を最小化させて、安定した高密度記録特性を有する垂直磁気記録ヘッド及びその製造方法を提供するところにその目的がある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を達成するための本発明の実施形態による垂直磁気ヘッドは、垂直磁気記録媒体に情報を記録し、前記垂直磁気記録媒体に記録された情報を読み取る垂直磁気ヘッドであって、前記記録のための磁場の発生源となるコイルと、前記磁場の磁路を形成するものであって、前記垂直磁気記録媒体側の端部の領域が前記垂直磁気記録媒体の移動方向に対して前側になるリーディング部と、相対的に後側になるトレーリング部とからなり、前記トレーリング部の両側縁部が斜角であり、前記リーディング部は空気軸受面に対して傾斜した面を有するメインポールと、前記メインポールと共に前記磁場の磁路を形成するものであって、空気軸受面側の一端部は、前記メインポールと離隔され、他端部は、前記メインポールと連結されるように配置されるリターンポールとを備えることを特徴とする。
【００１３】
また、前記目的を達成するための本発明の実施形態による垂直磁気ヘッドの製造方法は、（ａ）基板に順次に第１絶縁層及び第２絶縁層を形成する段階と、（ｂ）前記第２絶縁層が傾斜面を有する形状となるように一部エッチングする段階と、（ｃ）前記第１絶縁層及び前記第２絶縁層上に第１磁性層を蒸着して、前記第２絶縁層を前記第１磁性層内に埋め込む段階と、（ｄ）前記第１磁性層を、所定幅を有して上部両側の縁部が斜角である形状に形成する段階と、（ｅ）前記第１磁性層及び前記第１絶縁層上に第３絶縁層及び第２磁性層を順次に形成する段階と、（ｆ）前記第１磁性層一端部の下部が空気軸受面に対して傾斜した面となるように、前記第１磁性層及び前記第２絶縁層の側面を研磨する段階とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明は、高密度記録において記録特性が改善された垂直磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。
【００１５】
メインポールの端部形状を改善することによって、さらに小さなトラック方向長を有する記録が可能になり、また、隣接トラックの磁化に及ぼす影響を最小化させうる。また、本発明の実施形態による製造方法は、既存の磁気ヘッド工程に簡単な工程を追加することによって、改善された構造のメインポールを備えた垂直磁気ヘッドを容易に製造できる方法を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して本発明の実施形態による垂直磁気ヘッドについて詳細に説明する。
【００１７】
図２は、本発明の実施形態による垂直磁気ヘッドの構成を示す図である。図面を参照すれば、垂直磁気ヘッドは、垂直磁気記録媒体（以下、記録媒体）に情報を記録する記録ヘッド部４００を備えている。
【００１８】
記録ヘッド部４００は、記録磁場の発生源となるコイル４２０と、コイルにより形成された磁場の磁路を形成するリターンポール４０５と、リターンポール４０５と一端部は離隔され、他端部は連結されて、リターンポール４０５と共に磁路を形成するメインポール４１０とを備える。メインポール４１０の側面には、サブヨーク４０１が配置されてメインポール４１０と共に磁路を形成する。サブヨーク４０１の一端部は、記録媒体２００からと離れる方向に、ＡＢＳと離隔されている。このような配置は、記録磁場をメインポール４１０の記録媒体方向の端部４１１に集束させるためのものである。前記端部４１１に集束される磁場の強度は、材質の飽和磁束密度によって制限されるので、メインポール４１０は、サブヨーク４０１の飽和磁束密度より大きい値を有する材質で形成されることが望ましい。
【００１９】
ＡＢＳにおいてメインポール４１０とリターンポール４０５との間には、所定長さｇのギャップが形成されていて、ギャップ周囲にあるメインポール４１０の終端で漏れ磁束が発生する。記録媒体２００は、軟磁性下地層２０５、中間層２１０、記録層２１５の構造を有して、メインポール４１０から漏れ記録磁場の垂直成分が記録層２１５を垂直方向に磁化させる方式で記録が行われる。したがって、ＡＢＳにおいてリターンポール４０５とメインポール４１０とが離隔された距離、すなわち、ギャップ長ｇは、メインポール４１０から漏れた記録磁場が記録媒体２００の軟磁性下地層２０５を経由してリターン経路を形成できるように、約５００ｎｍ以下に形成されることが望ましい。
【００２０】
記録ヘッド部４００の側部には、記録媒体２００に記録された情報を読み取る読み取りヘッド部３００が配置されている。読み取りヘッド部３００は、第１シールド層３０５、第２シールド層３１５、及び前記第１シールド層３０５と前記第２シールド層３１５との間に配置された読み取りセンサー３１０を備え、前記第１シールド層３０５、第２シールド層３１５、及び読み取りセンサー３１０の一端部のそれぞれは、ＡＢＳと一致するように配置される。
【００２１】
読み取りセンサー３１０としては、ＧＭＲまたはＴＭＲのような磁気抵抗素子が使われうる。
【００２２】
図面においてＸ軸方向は、記録媒体２００が進む方向であって、一般的に記録層２１５のダウントラック方向と称する。そして、Ｙ軸は、ダウントラック方向に垂直方向であって、一般的にクロストラック方向と称する。
【００２３】
メインポール４１０の記録媒体２００側の端部４１１の形状を詳細に説明すれば、前記端部４１１は、その領域をトレーリング部４１２とリーディング部（ｌｅａｄｉｎｇ）４１３とに分けられる。ここで、リーディング部４１３は、記録媒体２００の移動方向との関係で前側に位置する領域を意味し、トレーリング部４１２は、相対的に後方に位置する領域を意味する。図面において、Ｘ方向が記録媒体２００の移動方向であり、ＡＢＳは、Ｘ−Ｙ平面と平行な面となる。
【００２４】
トレーリング部４１２は、両側縁部が斜角である形態を有し、リーディング部４１３は、ＡＢＳに対して所定角度で傾斜した面４１３ａを有している。前記縁部が斜角である形状は、例えば、前記端部４１１の記録媒体２００と対向する断面が六角形となる形状でありうる。
【００２５】
メインポール４１０の形状を前記のように構成したのは、メインポール４１０からの記録磁場が記録媒体２００上の記録が行われるトラック以外の隣接トラックに影響を与えることを最小化するためである。
【００２６】
以下、図３Ａないし図３Ｃ、及び図４を参照して本発明の実施形態による垂直磁気ヘッドの記録特性を説明する。
【００２７】
図３Ａは、本発明の実施形態と比較例とによるクロストラック方向に沿った記録媒体２００上における記録磁場のプロファイルを示すグラフであり、図３Ｂ及び図３Ｃは、図３ＡのＣ、Ｄ部分をそれぞれ拡大して示すグラフである。比較例としては、図１に示す従来の垂直磁気ヘッドが使われた。グラフを参照すれば、本発明の実施形態の場合、記録されるトラックの中心部、すなわち、Ｘ軸で０と表示された部分での記録磁場の強度は、比較例より大きく現れ、中心部から離れるにつれてさらに速く減少して、優れた記録磁場プロファイルを有するということが分かる。
【００２８】
例えば、記録媒体の保磁力Ｈｃを４５００  Ｏｅとするとき、実施形態と比較例とでそれぞれ、前記保磁力より大きい値を有するトラック方向長さＴＷ１、ＴＷ２を見れば、ＴＷ１は約１４０ｎｍであり、ＴＷ２は約１５２ｎｍである。すなわち、ＴＷ１がＴＷ２に比べて約８％減少するということが分かる。したがって、高密度記録により有利な条件となる。
【００２９】
また、グラフを参照して隣接トラックの磁化に影響を与える範囲を比較してみる。垂直磁気記録媒体の記録特性は、保磁力Ｈｃ以外に核生成磁界Ｈｎという物性を使用して示す。ここで、Ｈｎは、記録媒体の一領域が一方向に飽和された後に、磁化の反転を開始させるための外部磁場の強度を意味する量である。すなわち、隣接トラックの磁化に影響を与えるか否かは、隣接トラック付近での記録磁場の強度とＨｎとを比較することで判断できる。記録媒体の核生成磁界Ｈｎを１５００  Ｏｅとするとき、１５００  Ｏｅより低い磁場の値を有する位置では、隣接トラックの磁化に影響を与えないと見ることができる。１５００  Ｏｅより小さな磁場の値を有し始める中心部からの距離を、実施形態と比較例とにおいてそれぞれｄ１、ｄ２とすれば、ｄ１は約１３０ｎｍであり、ｄ２は約１４８ｎｍである。すなわち、本発明の実施形態の場合、隣接トラックに影響を与えない位置が比較例に比べてトラックの中心部から約１４％近い位置に形成されるので、それだけトラック幅を縮めることができる条件となる。
【００３０】
図４は、ダウントラック方向に沿って記録媒体の位置における記録磁場のプロファイルを本発明の実施形態と比較例とを比較して示すグラフである。本発明の実施形態の場合、記録領域の中心部から離れるにつれて勾配がさらに急激な特性を示し、比較例の場合より相対的に優れた信号対雑音比（ＳＮＲ）特性を有すると予測できる。
【００３１】
以下、図５Ａないし図５Ｊを参照して、本発明の実施形態による垂直磁気ヘッドの製造方法を詳細に説明する。
【００３２】
図５Ａを参照すれば、基板５００に第１絶縁層５０３及び第２絶縁層５０６を順次に形成し、第２絶縁層５０６上の所定領域に第１フォトレジスト５０９を形成する。このとき、基板５００として、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ基板が使われ、例えば、読み取りヘッド部が形成されているＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣ基板が使われうる
【００３３】
図５Ｂを参照すれば、前記第１フォトレジスト５０９が形成されていない部分の第２絶縁層５０６をエッチングして、第２絶縁層５０６が傾斜面５０６ａを有する形状になるようにする。
【００３４】
図５Ｃを参照すれば、第１絶縁層５０３及び第２絶縁層５０６上に第１磁性層５１２を蒸着して、第２絶縁層５０６が第１磁性層５１２内に埋め込まれるようにする。
【００３５】
後述する工程において、Ｘ−Ｙ平面と平行にＡＢＳが形成され、例えば、第２絶縁層５０６の傾斜面５０６ａのＳ−Ｓ'による断面がＡＢＳでありうる。
【００３６】
図５Ｄを参照すれば、第１磁性層５１２上に第２フォトレジスト５１５を形成する。
【００３７】
図５Ｅを参照すれば、前記第２フォトレジスト５１５が形成されていない第１磁性層５１２をエッチングする。
【００３８】
図５Ｆを参照すれば、第１磁性層５１２上の第２フォトレジスト５１５の一部を除去して、第１磁性層５１２上部の両側縁部を露出させる。このとき、Ｏ２プラズマを利用したアッシング工程が利用されうる。
【００３９】
図５Ｇを参照すれば、第１磁性層５１２の前記縁部に対して面取り工程を行い、前記アッシングされた第２フォトレジスト（図５Ｆの５１５）を除去する。
【００４０】
この時、図５Ｆの工程は省略できる。すなわち、図５Ｅ段階で、第１磁性層５１２上の第２フォトレジスト５１５を除去した後、面取り工程によって図５Ｇの形状を形成してもよい。
【００４１】
前記面取り工程は、例えば、乾式エッチング工程によって行われうる。
【００４２】
図５Ｈを参照すれば、第１絶縁層５０３及び第１磁性層５１２上に第３絶縁層５１８を形成し、前記第３絶縁層５１８上に第２磁性層５２１を形成する。
【００４３】
この時、第１磁性層５１２と第２磁性層５２１との距離がギャップ長ｇとなり、前記ギャップ長は、前述したように約５００ｎｍ以下に形成することが望ましい。
【００４４】
前記工程において、第１、第２磁性層５１２、５２１としては、ＮｉＦｅのような材質が使われ、第１ないし第３絶縁層５０３、５０６、５１８としては、Ａｌ２Ｏ３のような材質が使われうる。
【００４５】
図５Ｉを参照すれば、矢印方向Ｂに沿ってＳ−Ｓ'断面まで研磨工程を行う。
【００４６】
図５Ｊを参照すれば、第１磁性層５１２の一端部の下部にＡＢＳに対して傾斜した面が形成され、上部両側の縁部が斜角である形状が完成する。
【００４７】
このような本発明の垂直磁気ヘッド及びその製造方法は、理解を容易にするために、添付した図に示す実施形態を参考として説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施例が可能であるという点が理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的な保護範囲は、特許請求の範囲によって決定されなければならない。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明は、磁気記録関連の技術分野に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】従来の垂直磁気ヘッドを示す図である。
【図２】本発明の実施形態による垂直磁気ヘッドを示す図である。
【図３Ａ】本発明の実施形態と比較例とによるクロストラック方向に沿って記録媒体上における記録磁場のプロファイルを示すグラフである。
【図３Ｂ】本発明の実施形態と比較例とによるクロストラック方向に沿って記録媒体上における記録磁場のプロファイルを示すグラフである。
【図３Ｃ】本発明の実施形態と比較例とによるクロストラック方向に沿って記録媒体上における記録磁場のプロファイルを示すグラフである。
【図４】本発明の実施形態と比較例とによるダウントラック方向に沿って記録媒体上における記録磁場のプロファイル示すグラフである。
【図５Ａ】本発明の実施形態による垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す図である。
【図５Ｂ】本発明の実施形態による垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す図である。
【図５Ｃ】本発明の実施形態による垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す図である。
【図５Ｄ】本発明の実施形態による垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す図である。
【図５Ｅ】本発明の実施形態による垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す図である。
【図５Ｆ】本発明の実施形態による垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す図である。
【図５Ｇ】本発明の実施形態による垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す図である。
【図５Ｈ】本発明の実施形態による垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す図である。
【図５Ｉ】本発明の実施形態による垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す図である。
【図５Ｊ】本発明の実施形態による垂直磁気記録ヘッドの製造方法を示す図である。
【符号の説明】
【００５０】
２００  記録媒体
２０５  軟磁性下地層
２１０  中間層
２１５  記録層
３００  読み取りヘッド部
３０５  第１シールド層
３１０  読み取りセンサー
３１５  第２シールド層
４００  記録ヘッド部
４０１  サブヨーク
４０５  リターンポール
４１０  メインポール
４１１  端部
４１２  トレーリング部
４１３  リーディング部
４１３ａ  面
４２０  コイル
５００  基板
５０３  第１絶縁層
５０６  第２絶縁層
５０６ａ  傾斜面
５０９  第１フォトレジスト
５１２  第１磁性層
５１５  第２フォトレジスト
５１８  第３絶縁層
５２１  第２磁性層
【図１】
2007220273.tif 000003
【図２】
2007220273.tif 000004
【図３Ａ】
2007220273.tif 000005
【図３Ｂ】
2007220273.tif 000006
【図３Ｃ】
2007220273.tif 000007
【図４】
2007220273.tif 000008
【図５Ａ】
2007220273.tif 000009
【図５Ｂ】
2007220273.tif 000010
【図５Ｃ】
2007220273.tif 000011
【図５Ｄ】
2007220273.tif 000012
【図５Ｅ】
2007220273.tif 000013
【図５Ｆ】
2007220273.tif 000014
【図５Ｇ】
2007220273.tif 000015
【図５Ｈ】
2007220273.tif 000016
【図５Ｉ】
2007220273.tif 000017
【図５Ｊ】
2007220273.tif 000018