(57)【要約】【課題】本発明は、軽量薄形の液晶表示装置の製造方法を提供する。本発明はまた、前記したような方法により製造される液晶表示装置を提供する。【解決手段】軽量薄形の液晶表示装置の製造方法及びそれにより製造された液晶表示装置を提供する。液晶表示装置の製造方法は外面に偏光板、緩衝層及び透明フィルムが順に積層されたアセンブリ母基板を提供して、アセンブリ母基板を単位セルでカッティングして個別化することを含む。【選択図】図１
2007219492.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アセンブリ母基板の外面に偏光板、緩衝層及び透明フィルムが順に積層するアセンブリ母基板形成ステップと、
前記アセンブリ母基板を単位セルでカッティングして個別化するステップと、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記アセンブリ母基板は、第１及び第２母基板を含み、
前記アセンブリ母基板形成ステップは、
前記第１及び第２母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び／またはカラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、
前記第１及び第２母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、
前記積層ステップの後、前記第１及び第２母基板をアセンブリするアセンブリステップと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記アセンブリ母基板は、第１及び第２母基板を含み、
前記アセンブリ母基板形成ステップは、
前記第１及び第２母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び／またはカラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、
前記第１及び第２母基板をアセンブリするアセンブリステップと、
前記アセンブリステップの後、前記第１及び第２母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記アセンブリ母基板は、第１及び第２母基板を含み、
前記アセンブリ母基板の形成ステップは、
前記第１及び第２母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、
前記各母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び／または前記カラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、
前記セル形成ステップの後、前記第１及び第２母基板をアセンブリするアセンブリステップと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記緩衝層は、接着性を有することを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記緩衝層は、第１及び第２接着層と、前記第１及び第２接着層間に位置するクッション層と、を含むことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
液晶パネルと、
前記液晶パネルの外面上の偏光板と、
前記偏光板上の緩衝層と、
前記緩衝層上の透明フィルムとを含み、
前記液晶パネル、前記偏光板、前記緩衝層及び前記透明フィルムの外周縁は同じ切断面を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
前記緩衝層は接着性を有することを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記緩衝層は、第１及び第２接着層と、前記第１及び第２接着層間に位置したクッション層と、を含むことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
液晶パネルと、
前記液晶パネルの外面上の偏光板と、
前記偏光板上の緩衝層と、
前記緩衝層上の透明フィルムとを含み、
前記液晶パネル、前記偏光板、前記緩衝層及び前記透明フィルム間の公差は２０ないし３０μｍであることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】
前記緩衝層は、接着性を有することを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記緩衝層は、第１及び第２接着層と、前記第１及び第２接着層間に位置したクッション層と、を含むことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置の製造方法及びそれにより製造された液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に液晶表示装置は第１表示板と、これに液晶層を介在して結合する第２表示板と、を含む液晶表示パネルに駆動ＩＣ（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）ドライバ等を付着して、これを収納容器に収納する等の作業を介して完成する。このように完成した液晶表示装置は画像具現を必要とするいろいろの装置、例えば携帯用電話機、ノートコンピュータ及びＰＤＡ（Personal Digital Assistants）等の携帯用装置で具現されることができる。
【０００３】
例えば携帯用表示装置を組立てるためには、液晶表示パネルは画像が具現される部分が露出することができるようにウィンドウ（ｗｉｎｄｏｗ）が形成されたケース内にハウジング（ｈｏｕｓｉｎｇ）されている。そして、ケースのウィンドウを介して露出する液晶表示パネルを保護するためにケースのウィンドウ上に透明ガラスまたはプラスチック材質の保護窓を位置させる。
【０００４】
ところが、このように保護窓は携帯用表示装置で相当な厚さと重量を占め、外部衝撃により容易に破損されてしまう。また、ケースのウィンドウに保護窓を付着するための別途の作業が必要であるので生産効率も落ちる。また、個々の表示装置を個別に組み立てるため、複数の表示装置を生産する場合の生産効率が低下してしまう。
【特許文献１】韓国公開特許２００４―００８８２１７号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする技術的課題は軽量薄形の液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
【０００６】
本発明が解決しようとする他の技術的課題は前記したような方法により製造される液晶表示装置を提供することにある。
【０００７】
本発明が解決しようとする技術的課題は以上で言及した技術的課題で制限されないし、言及されないまた他の技術的課題は下記の記載から当業者に明確に理解されることができることである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記技術的課題を達成するための本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法は、アセンブリ母基板の外面に偏光板、緩衝層及び透明フィルムが順に積層するアセンブリ母基板形成ステップと、
前記アセンブリ母基板を単位セルでカッティングして個別化するステップと、を含む。
上述したように本発明の実施形態による液晶表示装置の製造方法によれば、母基板自体に偏光板、緩衝層及び透明フィルムを積層したものを、単位セルにカッティングして個別化する、よって、個別に表示装置を組み立てるよりも、生産効率が優れる。また、積層後にカッティングすることで、各層の誤差を小さくし、軽量薄形の液晶表示装置を製造することができる。
また、透明フィルムは液晶表示装置を化学薬品及び／またはスクラッチ（scratch）から保護する。この透明フィルムが液晶表示装置を保護するため、液晶表示装置を保護するための別途の保護窓を不要である。よって、携帯用液晶表示装置を軽量、薄型に形成することができる。また、保護窓を形成するための工程を削減できるため、製造コストを削減することができる。
また、前記アセンブリ母基板は、第１及び第２母基板を含み、前記アセンブリ母基板形成ステップは、前記第１及び第２母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び／またはカラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、前記第１及び第２母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、前記積層ステップの後、前記第１及び第２母基板をアセンブリするアセンブリステップと、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法を提供する。
ここで、前記緩衝層は接着性を有することが好ましい。緩衝層は、基本的性質として外部衝撃を吸収する衝撃吸収性を有するとともに、接着性を有している。よって、緩衝層の上下に形成される層との接着性を高めることができる。
ここで、前記緩衝層は第１及び第２接着層と前記第１及び第２接着層間に位置したクッション層を含むことが好ましい。
また、前記アセンブリ母基板は、第１及び第２母基板を含み、前記アセンブリ母基板形成ステップは、前記第１及び第２母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び／またはカラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、前記第１及び第２母基板をアセンブリするアセンブリステップと、前記アセンブリステップの後、前記第１及び第２母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法を提供する。
ここで、前記緩衝層は接着性を有することが好ましい。
ここで、前記緩衝層は第１及び第２接着層と前記第１及び第２接着層間に位置したクッション層を含むことが好ましい。
また、前記アセンブリ母基板は、第１及び第２母基板を含み、前記アセンブリ母基板の形成ステップは、前記第１及び第２母基板の外面に前記偏光板、前記緩衝層と前記透明フィルムを積層する積層ステップと、前記各母基板の内面にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル及び／または前記カラーフィルタ単位セルを形成するセル形成ステップと、前記セル形成ステップの後、前記第１及び第２母基板をアセンブリするアセンブリステップと、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法を提供する。
ここで、前記緩衝層は接着性を有することが好ましい。
ここで、前記緩衝層は第１及び第２接着層と前記第１及び第２接着層間に位置したクッション層を含むことが好ましい。
【０００９】
前記他の技術的課題を達成するための本発明の一実施形態による液晶表示装置は液晶パネル、前記液晶パネルの外面上の偏光板、前記偏光板上の緩衝層及び前記緩衝層上の透明フィルムを含むが、前記液晶パネル、前記偏光板、前記緩衝層及び前記透明フィルムの外周縁は同じ切断面を含む。
この液晶表示装置は、母基板上に各層が形成されたものをカッティングすることで製造される。よって、切断面が同一となる。この液晶表示装置は、軽量、薄型であるとともに、製造工程の短縮で製造コストが安価である。また、各層の誤差が少ない。
前記緩衝層は接着性を有することを特徴とする。
前記緩衝層は、第１及び第２接着層と、前記第１及び第２接着層間に位置したクッション層と、を含むことを特徴とする。
【００１０】
前記他の技術的課題を達成するための本発明の他の実施形態による液晶表示装置は液晶パネル、前記液晶パネルの外面上の偏光板、前記偏光板上の緩衝層及び前記緩衝層上の透明フィルムを含むが、前記液晶パネル、前記偏光板、前記緩衝層及び前記透明フィルム間の公差は２０ないし３０μｍである。
この液晶表示装置は、母基板上に各層が形成されたものをカッティングすることで製造される。よって、各層の誤差が小さい。また、この液晶表示装置は、軽量、薄型であるとともに、製造工程の短縮で製造コストが安価である。
前記緩衝層は、接着性を有することを特徴とする。
前記緩衝層は、第１及び第２接着層と、前記第１及び第２接着層間に位置したクッション層と、を含むことを特徴とする。
【００１１】
その他実施形態の具体的な事項は詳細な説明及び図面に含まれている。
【発明の効果】
【００１２】
上述したように本発明の実施形態による液晶表示装置の製造方法によれば、母基板自体に偏光板、緩衝層及び透明フィルムを積層して、単位セルでカッティングして個別化することによって、生産効率が優れ、誤差が小さく、軽量薄形の液晶表示装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の利点及び特徴、そしてそれらを達成する方法は添付される図面と共に詳細に後述する実施形態を参照すると明確になることである。しかし本発明は以下で開示する実施形態に限られることでなく相異なる多様な形態で具現されることであり、単に本実施形態は本発明の開示が完全なようにし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範ちゅうを完全に知らせるために提供することであり、本発明は請求項の範ちゅうにより定義されるだけである。図面で層及び領域の大きさ及び相対的な大きさは説明の明瞭性のために誇張されたことであることができる。
【００１４】
素子（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）または層が他の素子または層“上”または“上方”に指称されることは他の素子の真上にまたは中間に他の層または他の素子を介在した場合を全て含む。反面、素子が“直接上（ｄｉｒｅｃｔｌｙ  ｏｎ）”と指称されることは中間に他の素子または層を介在しないことを示す。明細書全体にかけて同一参照符号は同一構成要素を指称する。“及び／または”は言及されたアイテムのそれぞれ及び一つ以上の全ての組合せを含む。
【００１５】
本明細書で記述する製造方法を構成する段階は順次または連続的なことを明示したり他の特別な言及がある場合でなければ、一つの製造方法を構成する一つの段階と他の段階が明細書上に記述された順序に制限されて解析されない。したがって当業者が容易に理解することができる範囲内で製造方法の構成段階の順序を変化させることができ、この場合それに付隨する当業者に自明な変化は本発明の範囲に含まれることである。
【００１６】
以下、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を図１ないし図１０を参照しながら説明する。
【００１７】
図１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を順序通り示した工程順序図である。図１に示したように、先に母基板の内面に単位セルを形成する（Ｓ１１）。
【００１８】
図２ないし図６を用いて、これをさらに詳細に説明する。図２は本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法に提供される第１母基板及び第１母基板に形成された薄膜トランジスタ単位セル形成領域を示した概念図、図３は図２の薄膜トランジスタ単位セル形成領域に形成された薄膜トランジスタ単位セルを形成する画素電極及び薄膜トランジスタを示した概念図、図４は図３の薄膜トランジスタ及び画素電極のプロファイル（ｐｒｏｆｉｌｅ）を示した断面図、図５は本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法に提供される第２母基板及び第２母基板に形成されたカラーフィルタ単位セル形成領域を示した概念図、図６は図５のカラーフィルタ単位セルの断面図である。
図２に示したように第１母基板１０の内面には例えば薄膜トランジスタ単位セル３０が形成されている。また、図５に示すように第２母基板９０の内面には例えばカラーフィルタ単位セル１１０が形成される。ここで、母基板１０、９０の“内面”と言うのは、後述する液晶層ＬＣが形成される面を示しており、このような“内面”の反対面に該当する面は“外面”と称するようにする。
【００１９】
まず、第１母基板に対して説明する。
【００２０】
図２に示したように、第１母基板１０は例えば３７０ｍｍ×４７９ｍｍまたは５５０ｍｍ×６５０ｍｍの大きさを有することができる。第１母基板１０は例えば透明であり、耐熱性が優秀な板状のガラスまたは石英等の透明無機成形物で構成される。第１母基板１０は、例えばポリテレフタル酸エチレン（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）またはポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等の透明有機高分子成形物で構成されることもできる。
【００２１】
第１母基板１０には少なくとも一つの薄膜トランジスタ単位セル形成領域２０が含まれることができる。また、各薄膜トランジスタ単位セル形成領域２０の内部には薄膜トランジスタ単位セル３０が形成される。
【００２２】
図３及び図４に示したように、薄膜トランジスタ単位セル３０は薄膜トランジスタ４０、ゲート線５０、データ線６０及び画素電極８０を含む。
薄膜トランジスタ４０はゲート電極４２、ゲート絶縁膜４３、ソース電極４７及びドレイン電極４８、半導体層４４及び抵抗性接触層４５、４６で構成される。薄膜トランジスタ４０上には、保護膜７０及び画素電極８０が形成されている。
【００２３】
ゲート線５０はゲート電極４２を形成する過程で形成される。一つのゲート線５０はマトリックス状に配置された薄膜トランジスタ４０のうち１行に属した薄膜トランジスタのゲート電極４２に全て連結される。
【００２４】
データ線６０は薄膜トランジスタ４０のソース電極４７及びドレイン電極４８を形成する過程で形成される。一つのデータ線６０はマトリックス状に配置された薄膜トランジスタ４０のうち１列に属した薄膜トランジスタのソース電極４７に全て連結される。
【００２５】
画素電極８０は光透過率及び電気伝導度が優れており、透明な導電性物質で形成される。画素電極８０は例えばインジウムスズオキサイド（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）またはインジウムジンクオキサイド（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ；ＩＺＯ）で形成されることができる。画素電極８０は一つの薄膜トランジスタ４０毎に一つずつ形成されて、保護膜７０に形成されているコンタクトホール７２を介してドレイン電極４８と電気的に連結される。
【００２６】
次に、第２母基板に対して説明する。
【００２７】
図５に示したように第２母基板９０は例えば３７０ｍｍ×４７９ｍｍまたは５５０ｍｍ×６５０ｍｍの大きさを有することができる。第２母基板９０は例えば透明であり、耐熱性が優秀な板状のガラスまたは石英等の透明無機成形物で構成される。例えばポリテレフタル酸エチレン（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）またはポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等の透明有機高分子成形物で構成されることもできる。
【００２８】
第２母基板９０には少なくとも一つのカラーフィルタ単位セル形成領域１００が含まれることができる。また、カラーフィルタ単位セル形成領域１００の内部にはカラーフィルタ単位セル１１０が形成される。
【００２９】
図６は図５のカラーフィルタ単位セルの断面図である。図６に示したように、カラーフィルタ単位セル１１０はカラーフィルタ１２０、オーバーコート層１３０及び共通電極１４０で構成される。
【００３０】
カラーフィルタ１２０は光のうちレッド波長の光のみを通過させるレッドカラーフィルタ１２２、光のうちグリーン波長の光のみを通過させるグリーンカラーフィルタ１２４及び光のうちブルー波長の光のみを通過させるブルーカラーフィルタ１２６で構成されることができる。レッドカラーフィルタ１２２、グリーンカラーフィルタ１２４及びブルーカラーフィルタ１２６は図３に示したような薄膜トランジスタ単位セル３０の画素電極８０と一対一で対応する位置に形成される。
【００３１】
共通電極１３０は光透過率が高くて電気伝導度が優秀な物質で形成される。共通電極１３０は例えばインジウムスズオキサイド（ＩＴＯ）またはインジウムジンクオキサイド（ＩＺＯ）で形成される。共通電極１３０はカラーフィルタ１２０の上面に形成されて、カラーフィルタ単位セル形成領域１００の全体に形成される。
【００３２】
続いて、母基板の外面に偏光板、緩衝層と透明フィルムを積層する（図１のＳ１２）。
【００３３】
図７Ａ及び図７Ｂは本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で、図７Ａは第１母基板の外面に偏光板及び透明フィルムを積層する方法を概略的に示した斜視図、図７Ｂは第２母基板の外面に偏光板及び透明フィルムを積層する方法を概略的に示した斜視図である。図７Ａ及び図７Ｂに示したように、薄膜トランジスタ単位セル（図２の３０）とカラーフィルタ単位セル（図５の１１０）が形成されている第１及び第２母基板１０、９０の外面に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂと透明フィルム１７０ａ、１７０ｂを積層する。
【００３４】
透明フィルム１７０ａ、１７０ｂは液晶表示装置を化学薬品及び／またはスクラッチ（scratch）から保護するためである。透明フィルム１７０ａ、１７０ｂは例えばポリテレフタル酸エチレン（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）及びポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等を用いて形成することができるが、これに限られるのではない。
【００３５】
このような透明フィルム１７０ａ、１７０ｂには薄膜トランジスタ単位セル３０とカラーフィルタ単位セル１１０の形状と一致する形状のプリント１７１がさらに形成されていることができる。これは、後述するカッティング工程の便宜のためのことである。
【００３６】
また、外部の衝撃から液晶表示装置を保護するために、透明フィルム１７０ａ、１７０ｂと偏光板１５０ａ、１５０ｂ間には緩衝層１６０ａ、１６０ｂが位置する。
【００３７】
緩衝層１６０ａ、１６０ｂは外部衝撃を吸収する衝撃吸収性以外にも接着性を有することができる。よって、緩衝層１６０ａ、１６０ｂの上下に形成される、例えば偏光板１５０ａ、１５０ｂや透明フィルム１７０ａ、１７０ｂと緩衝層１６０ａ、１６０ｂとの接着性を高めることができる。このような緩衝層１６０ａ、１６０ｂは、衝撃吸収性と接着性を一つの層に全て含む単一層構造を有することもでき、あるいは衝撃吸収性と接着性をそれぞれ有する複数個の層で構成された多層構造を有することもできる。多層構造を有する緩衝層１６０ａ、１６０ｂは相異なる特性を有する少なくとも２個の層で構成されることができ、例えば接着性を有する接着層及び衝撃吸収性を有するクッション層で構成されることができる。望ましくは緩衝層１６０ａはクッション層１６１ａの両面にそれぞれ第１及び第２接着層１６２ａ、１６３ａが形成されている構造を有することができる。同様に、緩衝層１６０ｂはクッション層１６１ｂの両面にそれぞれ第１及び第２接着層１６２ｂ、１６３ｂが形成されている構造を有することができる。
【００３８】
緩衝層１６０ａ、１６０ｂは例えばシリコーン樹脂またはアクリル樹脂を含むことができる。シリコーン樹脂では例えば日本ジェルテック（ＧＥＬＴＥＣ）社のＯＰＴ００１―６０を用いることができ、アクリル樹脂では例えば日本三菱社のＣＬＥＡＲＦＩＴ、韓国３Ｍ社のＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）等を用いることができる。この時、緩衝層１６０ａ、１６０ｂは約１０μｍないし１０ｍｍの厚さを有することができて、０ないし１０ｋｇｆの接着力を有することができ、少なくとも約６０％の光透過率を有することができるが、これに限られないで緩衝層１６０ａ、１６０ｂが適用される液晶表示装置の特性によって多様な厚さ、接着力及び光透過率を有することができる。
【００３９】
母基板１０、９０の外面に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂを積層することにおいて、例えば第１及び第２母基板１０、９０の外面に各偏光板１５０ａ、１５０ｂを積層した後、緩衝層１６０ａ、１６０ｂを形成して、その上に透明フィルム１７０ａ、１７０ｂを積層することができる。
【００４０】
また、例えば、先ず第１及び第２母基板１０、９０の外面に各偏光板１５０ａ、１５０ｂを積層する。そして、透明フィルム１７０ａ、１７０ｂ上に緩衝層１６０ａ、１６０ｂを積層したものを偏光板１５０ａ、１５０ｂ上に積層することができる。
【００４１】
また、例えば透明フィルム１７０ａ、１７０ｂ上に緩衝層１６０ａ、１６０ｂを積層して、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ上に偏光板１５０ａ、１５０ｂを積層した後、これは第１及び第２母基板１０、９０の外面にそれぞれ積層することができる。
【００４２】
この時、積層方法では例えばロールトゥーロール（ｒｏｌｌ―ｔｏ―ｒｏｌｌ）または真空吸着方法等を用いることができる。この積層方法に限られず、多様な方法を利用して第１及び第２母基板１０、９０の外面に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂを積層することができる。
【００４３】
続いて、アセンブリ母基板を形成する（図１のＳ１３）。
【００４４】
図８は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で、アセンブリ母基板（組立母基板）を形成する方法を概略的に示した斜視図である。図８に示したように、アセンブリ母基板を製造するために第１母基板１０に形成された薄膜トランジスタ単位セル３０、第２母基板９０に薄膜トランジスタ単位セル３０の個数通り形成されたカラーフィルタ単位セル（図５の１１０）のうちいずれか一つに液晶を収納するための液晶フェンス（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｆｅｎｃｅ、図示せず）を形成する。液晶フェンスは紫外線によって硬化する紫外線硬化物質及び第１母基板１０及び第２母基板９０を接着させる接着物質を含む。液晶フェンスは直径が小さな帯状であって、カラーフィルタ単位セル（図５の１１０）及び薄膜トランジスタ単位セル３０のエッジ（ｅｄｇｅ）に沿って閉ループ（ｃｌｏｓｅｄ  ｌｏｏｐｅ）状で形成される。
【００４５】
続いて、液晶フェンスが形成された状態で液晶フェンスの内部に滴下方式（ｏｎｅ  ｄｒｏｐ  ｆｉｌｌｉｎｇ）で液晶を供給する。滴下方式で液晶（図示せず）を供給するためには、先にシミュレーション等によって適切な液晶量が算出される。例えば、液晶フェンスによって囲まれた平面的な面積と、薄膜トランジスタ単位セル３０及びカラーフィルタ単位セル（図５の１１０）の間の空間であるセルギャップ（ｃｅｌｌ  ｇａｐ）と、を考慮して適切な液晶量が算出される。液晶フェンスによって形成された空間に液晶を供給する段階では液晶フェンス内部の複数箇所に液晶を滴下して液晶層ＬＣを形成するようになる。
【００４６】
液晶フェンス内部に液晶が滴下されて供給された後、第１母基板１０と第２母基板９０は液晶フェンスを媒介にアセンブリされてアセンブリ母基板を形成するようになる。アセンブリ母基板は例えばホットプレス（ｈｏｔ  ｐｒｅｓｓ）方法で第１及び第２母基板１０、９０をアセンブリすることによって形成されることができる。この時、ホットプレスは常圧または減圧、望ましくは約１０―１ｔｏｒｒの圧力で、約５０ないし１００℃、望ましくは約６０℃の温度で行われることができるが、これに限られないで、液晶表示装置の特性によって多様な圧力と温度条件下で行われることができる。
【００４７】
このようなホットプレス工程で、第１及び第２母基板１０、９０の外面に付着されている偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂはさらに堅固に第１及び第２母基板１０、９０に付着されることができる。以下、第１母基板１０の薄膜トランジスタ単位セル３０、液晶層ＬＣ及び第２母基板９０のカラーフィルタ単位セル（図５の１１０）をＬＣＤ単位セル（ＬＣＤ  ｕｎｉｔ  ｃｅｌｌ）と称するようにする。
【００４８】
ＬＣＤ単位セルが形成された第１母基板１０及び第２母基板９０は大気圧状態で所定時間の間放置される。このようにＬＣＤ単位セルが形成されたアセンブリ母基板を大気圧状態で所定時間放置することは薄膜トランジスタ単位セル３０及びカラーフィルタ単位セル１１０間にところどころ滴下された液晶を均一に拡散するためである。
【００４９】
続いて、アセンブリ母基板をカッティングする（図１のＳ１４）。
【００５０】
図９は本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で、アセンブリ母基板を単位セルでカッティングする方法を概略的に示した概念図である。図９に示したように、外面には偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂが積層されていて、内面にはＬＣＤ単位セルが形成されている状態で、アセンブリ母基板を単位セルでカッティング（ｃｕｔｔｉｎｇ）して個別化する。
【００５１】
アセンブリ母基板のカッティングは非接触方式で切断するレーザビーム切断装置または接触方式で切断するダイアモンドホイール２００またはブレード等により遂行される。透明フィルム１７０ａ、１７０ｂに単位セルを表示するプリント１７１が形成されている場合には、プリント１７１の線に沿ってアセンブリ母基板をカッティングすることによってさらに便利にカッティングすることができる。
【００５２】
図１０は、本発明の一実施形態による製造方法により製造された液晶表示装置に含まれる液晶表示パネルの概略的な斜視図である。図１０に示したように単位セルでカッティングして形成された一つの薄膜トランジスタ単位セル（図２の３０）を含む第１表示板１０ｕ、液晶層ＬＣを介在して第１表示板１０ｕと対向配置されて一つのカラーフィルタ単位セル（図５の１１０）を含む第２表示板９０ｕで構成された液晶表示パネル２１０の外面には偏光板１５０ａｕ、１５０ｂｕ、緩衝層１６０ａｕ、１６０ｂｕ及び透明フィルム１７０ａｕ、１７０ｂｕがそれぞれ順に積層されている。
【００５３】
偏光板（図９の１５０ａ、１５０ｂ）、緩衝層（図９の１６０ａ、１６０ｂ）及び透明フィルム（図９の１７０ａ、１７０ｂ）が全て積層された状態でアセンブリ母基板を単位セルでカッティングして個別化することによって、液晶表示パネル２１０、偏光板１５０ａｕ、１５０ｂｕ、緩衝層１６０ａｕ、１６０ｂｕ及び透明フィルム１７０ａｕ、１７０ｂｕの外周縁は同じ切断面を有するようになる。
【００５４】
アセンブリ母基板を単位セルでカッティングして液晶表示パネルを形成して、その後に偏光板、緩衝層及び透明フィルムを液晶表示パネル上に積層する場合には、液晶表示パネルに合うように偏光板、緩衝層及び透明フィルムをそれぞれ裁断することが必要である。そして、液晶表示パネル毎に、切断された偏光板、緩衝層及び透明フィルムを積層しなければならないので作業時間が長時間必要となる。さらに、液晶表示パネルに偏光板、緩衝層及び透明フィルムを積層している間に、これら間に相互にミスアラインが発生してしまう可能性が高い。この時発生する誤差は約１００μｍの水準である。
【００５５】
反面、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法では偏光板（図９の１５０ａ、１５０ｂ）、緩衝層（図９の１６０ａ、１６０ｂ）及び透明フィルム（図９の１７０ａ、１７０ｂ）が積層されているアセンブリ母基板を単位セルでカッティングして個別化するので作業時間を減らすことができる。また、液晶表示パネル２１０に積層されている偏光板１５０ａｕ、１５０ｂｕ、緩衝層１６０ａｕ、１６０ｂｕ及び透明フィルム１７０ａｕ、１７０ｂｕ間の誤差も約２０ないし３０μｍの水準に落とすことができて、結局、液晶表示装置の製造において生産効率を高めることができる。
【００５６】
続いて、単位セルでカッティングした液晶表示パネル２１０に駆動ＩＣドライバ（図示せず）等を付着して、これを収納容器（図示せず）に収納する等の作業を介して液晶表示装置を完成する。
【００５７】
このような液晶表示装置が例えば携帯用表示装置の用途で用いる場合、液晶表示装置の液晶表示パネル２１０を露出するケース（図示せず）内にハウジングするようになる。この時、液晶表示パネル２１０を保護するための別途の保護窓は必要としないので、携帯用表示装置は軽量薄形を形成することができる。なお、保護窓が不要なのは、透明フィルム１７０ａ、１７０ｂが保護膜の役目を果たすからである。
【００５８】
以下、本発明の他の実施形態による液晶表示装置の製造方法は図２ないし図６、図９ないし図１３を参照しながら説明する。図１１は本発明の他の実施形態による液晶表示装置の製造方法を順序通り示した工程順序図、図１２は本発明の他の実施形態による液晶表示装置の製造方法で、アセンブリ母基板を形成する方法を概略的に示した斜視図、図１３は本発明の他の実施形態による液晶表示装置の製造方法で、アセンブリ母基板に偏光板及び透明フィルムを積層する方法を概略的に示した斜視図である。
【００５９】
本発明の他の実施形態による液晶表示装置の製造方法はアセンブリ母基板を形成した後アセンブリ母基板の外面に偏光板、緩衝層と透明フィルムを積層するということを除いては本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法と同じであるので、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法との差異点を中心に説明する。
【００６０】
図１１に示したように、母基板の内面に単位セルを形成する（Ｓ２１）。
【００６１】
これをさらに詳細に説明すれば、図２ないし図６に示したように第１及び第２母基板１０、９０の内面に例えば薄膜トランジスタ単位セル形成領域２０とカラーフィルタ単位セル形成領域１００内にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル３０とカラーフィルタ単位セル１１０を形成する。
【００６２】
続いて、アセンブリ母基板を形成する（図１１のＳ２２）。
【００６３】
図１２に示したように、アセンブリ母基板を製造するために第１母基板１０に形成された薄膜トランジスタ単位セル３０、第２母基板９０に形成されたカラーフィルタ単位セル（図５の１１０）のうちいずれか一つに液晶フェンス（図示せず）を形成して、液晶フェンス内部の複数箇所に液晶を滴下する。
【００６４】
次に、第１母基板１０と第２母基板９０は液晶フェンスを媒介にアセンブリしてアセンブリ母基板を形成する。この時、ホットプレス方法等を利用してアセンブリ母基板を形成することができるが、このようなホットプレスは例えば常圧または減圧、望ましくは約１０―１ｔｏｒｒの圧力で、約５０ないし１００℃、望ましくは約６０℃の温度条件下で行われることができる。
【００６５】
続いて、滴下された液晶が均一に拡散されるようにするためにアセンブリ母基板を大気圧状態で所定時間放置する。
【００６６】
続いて、アセンブリ母基板の外面に偏光板、緩衝層と透明フィルムを積層する（図１１のＳ２３）。
【００６７】
図１３に示したように、内部にＬＣＤ単位セルが形成されているアセンブリ母基板の外面に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂと透明フィルム１７０ａ、１７０ｂを積層する。透明フィルム１７０ａ、１７０ｂは化学薬品及び／またはスクラッチ（scratch）から液晶表示装置を保護して、緩衝層１６０ａ、１６０ｂは外部の衝撃から液晶表示装置を保護する。このような透明フィルム１７０ａ、１７０ｂ及び緩衝層１６０ａ、１６０ｂに対する説明は本発明の一実施形態と同じであるのでここでは省略するようにする。
【００６８】
アセンブリ母基板の外面に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂを積層する順序は本発明の一実施形態で説明したように同じく多様な順序で積層されることができる。この時、積層方法としては例えばロールトゥーロール方法または真空吸着方法等を用いることができ、これに限られないで多様な方法を利用してアセンブリ母基板の外面に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂを積層することができる。
【００６９】
続いて、アセンブリ母基板をカッティングする（図１１のＳ２４）。
【００７０】
図９に示したように、外面には偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂが積層されていて、内面にはＬＣＤ単位セルが形成されている状態で、例えばレーザビーム切断装置またはダイアモンドブレード等によりアセンブリ母基板を単位セル状態でカッティングして個別化する。アセンブリ母基板に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂが全て積層されている状態でアセンブリ母基板を単位セルでカッティングすることによって、図１０に示したように液晶表示パネル２１０、偏光板１５０ａｕ、１５０ｂｕ、緩衝層１６０ａｕ、１６０ｂｕ及び透明フィルム１７０ａｕ、１７０ｂｕの外周面は同じ切断面を有するようになる。
【００７１】
続いて、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法と同じく、単位セルでカッティングした液晶表示パネル２１０に駆動ＩＣドライバ等を付着して、これを収納容器に収納する等の作業を介して液晶表示装置を完成する。
【００７２】
以下、本発明のまた他の実施形態による液晶表示装置の製造方法は図８ないし図１０及び図１４ないし図１６を参照しながら説明する。図１４は本発明のまた他の実施形態による液晶表示装置の提供方法を順序通り示した工程順序図であり、図１５Ａ及び図１５Ｂは、本発明のまた他の実施形態による液晶表示装置の製造方法であり、母基板の外面に偏光板及び透明フィルムを積層する方法を概略的に示した斜視図であり、図１６Ａ及び図１６Ｂは本発明のまた他の実施形態による液晶表示装置の製造方法で、母基板の内面に単位セルを形成する方法を概略的に示した斜視図である。
【００７３】
本発明のまた他の実施形態による液晶表示装置の製造方法は先に母基板に偏光板、緩衝層及び透明フィルムを積層した後、以後工程を行なうということを除いては本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法と同じであるので、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法との差異点を中心に説明する。
【００７４】
図１４に示したように、母基板の外面に偏光板、緩衝層及び透明フィルムを積層する（Ｓ３１）。
【００７５】
図１５Ａ及び図１５Ｂに示したように、先に第１母基板１０と第２母基板９０の外面に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂと透明フィルム１７０ａ、１７０ｂを積層する。透明フィルム１７０ａ、１７０ｂは化学薬品及び／またはスクラッチ（scratch）から液晶表示装置を保護して、緩衝層１６０ａ、１６０ｂは外部の衝撃から液晶表示装置を保護する。このような透明フィルム１７０ａ、１７０ｂ及び緩衝層１６０ａ、１６０ｂに対する説明は本発明の一実施形態と同じであるのでここでは省略するようにする。
【００７６】
第１及び第２母基板１０、９０の外面に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂを積層する順序は本発明の一実施形態で説明したことと同じく多様な順序で積層されることができる。この時、積層方法では例えばロールトゥーロール方法または真空吸着方法等を用いることができ、これに限られないで多様な方法を利用して第１及び第２母基板１０、９０の外面に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂを積層することができる。
【００７７】
続いて、母基板の内面に単位セルを形成する（図１４のＳ３２）。
【００７８】
図１６Ａ及び図１６Ｂに示したように、外面に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂが積層されている第１及び第２母基板１０、９０の内面に例えば薄膜トランジスタ単位セル形成領域２０とカラーフィルタ単位セル形成領域１００内にそれぞれ薄膜トランジスタ単位セル３０とカラーフィルタ単位セル１１０を形成する。
【００７９】
続いて、アセンブリ母基板を形成する（図１４のＳ３３）。
【００８０】
図８に示したように、アセンブリ母基板を製造するために第１母基板１０に形成された薄膜トランジスタ単位セル（図１６Ａの３０）、第２母基板９０に形成されたカラーフィルタ単位セル１１０のうちいずれか一つに液晶フェンス（図示せず）を形成して、液晶フェンス内部の複数箇所に液晶を滴下する。
【００８１】
次に、第１母基板１０と第２母基板９０は液晶フェンスを媒介にアセンブリーしてアセンブリ母基板を形成する。この時、ホットプレス方法等を利用してアセンブリ母基板を形成することができるが、このようなホットプレスは例えば常圧または減圧、望ましくは約１０―１ｔｏｒｒの圧力で、約５０ないし１００℃、望ましくは約６０℃の温度条件下で行われることができる。
【００８２】
続いて、滴下された液晶が均一に拡散されるようにするためにアセンブリ母基板を大気圧状態で所定時間放置する。
【００８３】
続いて、アセンブリ母基板をカッティングする（図１４のＳ３４）。
【００８４】
図９に示したように、外面には偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂが積層されていて、内面にはＬＣＤ単位セルが形成されている状態で、例えばレーザビーム切断装置またはダイアモンドブレード等によりアセンブリ母基板を単位セル状態でカッティングして個別化する。アセンブリ母基板に偏光板１５０ａ、１５０ｂ、緩衝層１６０ａ、１６０ｂ及び透明フィルム１７０ａ、１７０ｂが全て積層されている状態でアセンブリ母基板を単位セルでカッティングすることによって、図１０に示したように液晶表示パネル２１０、偏光板１５０ａｕ、１５０ｂｕ、緩衝層１６０ａｕ、１６０ｂｕ及び透明フィルム１７０ａｕ、１７０ｂｕの外周面は同じ切断面を有するようになる。
【００８５】
続いて、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法と同じく、単位セルでカッティングした液晶表示パネル２１０に駆動ＩＣドライバ等を付着して、これを収納容器に収納する等の作業を介して液晶表示装置を完成する。
【００８６】
上述したように、本実施形態では液晶滴下方式を利用して液晶層を形成する場合を例示しているが、液晶注入方式を利用して液晶層を形成する場合にも本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を適用することができる。
【００８７】
また、本実施形態では電界生成電極である画素電極と共通電極が相異なる基板に形成される場合を例示して説明したが、これに限られないで画素電極と共通電極が同じ基板に形成される場合も本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を適用することができる。
【００８８】
また、本実施形態では薄膜トランジスタとカラーフィルタが相異なる基板に形成される場合を例示して説明したが、これに限られないで、薄膜トランジスタとカラーフィルタが同じ基板に形成される場合にも本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を適用することができる。
上述したように本発明の実施形態による液晶表示装置の製造方法によれば、母基板自体に偏光板、緩衝層及び透明フィルムを積層したものを、単位セルにカッティングして個別化する、よって、個別に表示装置を組み立てるよりも、生産効率が優れる。また、積層後にカッティングすることで、各層の誤差を小さくし、軽量薄形の液晶表示装置を製造することができる。
また、透明フィルムは液晶表示装置を化学薬品及び／またはスクラッチ（scratch）から保護する。この透明フィルムが液晶表示装置を保護するため、液晶表示装置を保護するための別途の保護窓を不要である。よって、携帯用液晶表示装置を軽量、薄型に形成することができる。また、保護窓を形成するための工程を削減できるため、製造コストを削減することができる。
【００８９】
以上添付した図面を参照して本発明の実施形態を説明したが、本発明は前記実施形態に限られることでなく相異なる多様な形態で製造されることができ、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は本発明の技術的思想や必須な特徴を変更しなくて他の具体的な形態で実施できるということを理解することができることである。それゆえ以上で記述した実施形態は全ての面で例示的なことであって限定的でないことに理解しなければならない。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明の液晶表示装置の製造方法及びそれにより製造された液晶表示装置は、軽量薄形の液晶表示装置に適用されることができる。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を順序通り示した工程順序図である。
【図２】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法に提供される第１母基板及び第１母基板に形成された薄膜トランジスタ単位セル形成領域を示した概念図である。
【図３】図２の薄膜トランジスタ単位セル形成領域に形成された薄膜トランジスタ単位セルを形成する画素電極及び薄膜トランジスタを示した概念図である。
【図４】図３の薄膜トランジスタ及び画素電極のプロファイル（ｐｒｏｆｉｌｅ）を示した断面図である。
【図５】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法に提供される第２母基板及び第２母基板に形成されたカラーフィルタ単位セル形成領域を示した概念図である。
【図６】図５のカラーフィルタ単位セルの断面図である。
【図７Ａ】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で、第１母基板の外面に偏光板及び透明フィルムを積層する方法を概略的に示した斜視図である。
【図７Ｂ】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で、第２母基板の外面に偏光板及び透明フィルムを積層する方法を概略的に示した斜視図である。
【図８】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で、アセンブリ母基板を形成する方法を概略的に示した斜視図である。
【図９】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法で、アセンブリ母基板を単位セルでカッティングする方法を概略的に示した概念図である。
【図１０】本発明の一実施形態による製造方法により製造された液晶表示装置に含まれる液晶表示パネルの概略的な斜視図である。
【図１１】本発明の他の実施形態による液晶表示装置の製造方法を順序通り示した工程順序図である。
【図１２】本発明の他の実施形態による液晶表示装置の製造方法で、アセンブリ母基板を形成する方法を概略的に示した斜視図である。
【図１３】本発明の他の実施形態による液晶表示装置の製造方法で、アセンブリ母基板に偏光板及び透明フィルムを積層する方法を概略的に示した斜視図である。
【図１４】本発明のまた他の実施形態による液晶表示装置の提供方法を順序通り示した工程順序図である。
【図１５Ａ】本発明のまた他の実施形態による液晶表示装置の製造方法で、母基板の外面に偏光板及び透明フィルムを積層する方法を概略的に示した斜視図である。
【図１５Ｂ】本発明のまた他の実施形態による液晶表示装置の製造方法で、母基板の外面に偏光板及び透明フィルムを積層する方法を概略的に示した斜視図である。
【図１６Ａ】本発明のまた他の実施形態による液晶表示装置の製造方法で、母基板の内面に単位セルを形成する方法を概略的に示した斜視図である。
【図１６Ｂ】本発明のまた他の実施形態による液晶表示装置の製造方法で、母基板の内面に単位セルを形成する方法を概略的に示した斜視図である。
【符号の説明】
【００９２】
１０、９０：第１及び第２母基板
１５０ａ、１５０ｂ：偏光板
１６０ａ、１６０ｂ：緩衝層
１７０ａ、１７０ｂ：透明フィルム
【図１】
2007219492.tif 000003
【図２】
2007219492.tif 000004
【図３】
2007219492.tif 000005
【図４】
2007219492.tif 000006
【図５】
2007219492.tif 000007
【図６】
2007219492.tif 000008
【図７Ａ】
2007219492.tif 000009
【図７Ｂ】
2007219492.tif 000010
【図８】
2007219492.tif 000011
【図９】
2007219492.tif 000012
【図１０】
2007219492.tif 000013
【図１１】
2007219492.tif 000014
【図１２】
2007219492.tif 000015
【図１３】
2007219492.tif 000016
【図１４】
2007219492.tif 000017
【図１５Ａ】
2007219492.tif 000018
【図１５Ｂ】
2007219492.tif 000019
【図１６Ａ】
2007219492.tif 000020
【図１６Ｂ】
2007219492.tif 000021