(57)【要約】【課題】ＭＶＡ−ＬＣＤに好適なカラーフィルタの製造方法の提供。【解決手段】透明基板上に、離画壁及び前記離画壁の間隙に設けられた着色画素を有する着色画素層と、前記着色画素層上に設けられた配向分割用突起と、を有するＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法であって、前記透明基板上に前記離画壁を形成する工程と、前記離画壁の間隙に前記各着色画素を形成する工程と、を少なくとも有し、前記離画壁の断面において、前記離画壁の前記透明基板からの高さが最も高い点における前記透明基板からの高さをｈと、前記透明基板から０．８ｈの位置に前記透明基板と平行な線をＬ１と、Ｌ１と前記離画壁が接する点における接線をＬ２と、ｈの位置に前記透明基板と平行な線をＬ３としたとき、Ｌ２とＬ３との交点から前記離画壁までの距離ｄをｈで除した値ｄ／ｈが０．０４以下を満たすことを特徴とするＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、離画壁及び前記離画壁の間隙に設けられた少なくとも赤色、緑色及び青色の着色画素を有する着色画素層と、前記着色画素層上に設けられた配向分割用突起と、を有する配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、
前記透明基板上に前記離画壁を形成する工程と、前記離画壁の間隙に前記各着色画素を形成する工程と、を少なくとも有し、
前記離画壁の断面において、前記離画壁の前記透明基板からの高さが最も高い点における前記透明基板からの高さをｈと、前記透明基板から０．８ｈの位置に前記透明基板と平行な線をＬ１と、Ｌ１と前記離画壁が接する点における接線をＬ２と、ｈの位置に前記透明基板と平行な線をＬ３としたとき、Ｌ２とＬ３との交点から前記離画壁までの距離ｄをｈで除した値ｄ／ｈが０．０４以下を満たすことを特徴とする配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記着色画素を形成する工程が、前記離画壁の間隙に着色液体組成物による液滴をインクジェット法で付与する工程であることを特徴とする請求項１に記載の配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法により製造された配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタ。
【請求項４】
請求項３に記載の配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタを有する配向分割垂直配向型液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタ及びその製造方法並びに配向分割垂直配向型液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置用カラーフィルタは、ガラス等の基板上に赤色、緑色、青色のドット状画像をそれぞれマトリックス状に配置し、その境界をブラックマトリックス等の離画壁で区分した構造である。このようなカラーフィルタの製造方法としては、従来、支持体としてガラス等の基板を用い、１）染色法、２）印刷法、３）着色した感光性樹脂液の塗布と露光及び現像の繰り返しによる着色感光性樹脂液法（着色レジスト法）（例えば、特許文献１、２及び３参照。）、４）仮支持体上に形成した画像を順次、最終又は仮の支持体上に転写する方法（例えば、特許文献４、５及び６参照。）、５）予め着色した感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより着色層を形成し、順次直接、基板上にこの感光性着色層を転写し、露光して現像することを色の数だけ繰り返す方法等により多色画像を形成する方法（転写方式）が知られている（例えば、特許文献７参照。）。またインクジェット法を用いる方法（例えば、特許文献８参照。）も知られている。
【０００３】
これらの方法のうち、着色レジスト法は位置精度高くカラーフィルタを作製できるものの、感光層樹脂液の塗布にロスが多くコスト的には有利とは言えない。一方インクジェット法は樹脂液のロスが少なくコスト的に有利ではあるものの、画素の位置精度が悪いという問題がある。これらを克服すべく、ブラックマトリックスを着色レジスト法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製するカラーフィルタ製造法も提案されているが、作成されたブラックマトリックスの断面形状を観察すると、上端やそのエッジが丸くなっており、後に打滴された各色インクがブラックマトリックスをのり越えやすいために、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどが起こる恐れがある。これを防ぐ為、ブラックマトリックスとインクとの間に、お互いはじきあう性質を持たせたり、ブラックマトリックス間隙部のインクの濡れ性を高めたりする方法が開示されている（例えば、特許文献９、１０及び１１参照。）が、これらの方法では、ブラックマトリックス用着色レジストやインクに特殊な素材が必要であったり、ブラックマトリックス間隙部の表面エネルギーを高める工程（表面改質処理）が必要であり、コスト的な問題がなお残されている。
また、プラズマ処理により離画壁を撥水処理する方法が知られている（例えば、特許文献１２参照。）。
【０００４】
表示装置の中でも配向分割垂直配向型液晶表示装置（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ−Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、以下、適宜ＭＶＡ−ＬＣＤと称することがある。）はセルギャップの影響が非常に大きいため、カラーフィルタに高い平滑性が要求される。従来のインクジェット方式に用いられる離画壁はその断面のエッジがなだらかであるため、画素打滴時にインクが離画壁に乗り上げてしまい、凹凸の多いカラーフィルタができあがる。そのため、従来の凹凸の多いカラーフィルタを用いてＭＶＡ−ＬＣＤを作成すると、セルギャップムラに起因する多くの表示ムラが発生し、高品位なＭＶＡ−ＬＣＤを製造することが困難であった。
【特許文献１】特開昭６３−２９８３０４号公報
【特許文献２】特開昭６３−３０９９１６号公報
【特許文献３】特開平１−１５２４４９号公報
【特許文献４】特開昭６１−９９１０３号公報
【特許文献５】特開昭６１−２３３７０４号公報
【特許文献６】特開昭６１−２７９８０２号公報
【特許文献７】特開昭６１−９９１０２号公報
【特許文献８】特開平８−２２７０１２号公報
【特許文献９】特開平６−３４７６３７号公報
【特許文献１０】特開平７−３５９１５号公報
【特許文献１１】特開平１０−１４２４１８号公報
【特許文献１２】特開２００１−３４３５１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり、配向分割垂直配向型液晶表示装置に好適なカラーフィルタ及びその製造方法並びにこのカラーフィルタを用いた配向分割垂直配向型液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
即ち、本発明は、
＜１＞  透明基板上に、離画壁及び前記離画壁の間隙に設けられた少なくとも赤色、緑色及び青色の着色画素を有する着色画素層と、前記着色画素層上に設けられた配向分割用突起と、を有する配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、前記透明基板上に前記離画壁を形成する工程と、前記離画壁の間隙に前記各着色画素を形成する工程と、を少なくとも有し、前記離画壁の断面において、前記離画壁の前記透明基板からの高さが最も高い点における前記透明基板からの高さをｈと、前記透明基板から０．８ｈの位置に前記透明基板と平行な線をＬ１と、Ｌ１と前記離画壁が接する点における接線をＬ２と、ｈの位置に前記透明基板と平行な線をＬ３としたとき、Ｌ２とＬ３との交点から前記離画壁までの距離ｄをｈで除した値ｄ／ｈが０．０４以下を満たすことを特徴とする配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【０００７】
＜２＞  前記着色画素を形成する工程が、前記離画壁の間隙に着色液体組成物による液滴をインクジェット法で付与する工程であることを特徴とする＜１＞に記載の配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。
【０００８】
＜３＞  ＜１＞又は＜２＞に記載の配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法により製造された配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタである。
【０００９】
＜４＞  ＜３＞に記載の配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタを有する配向分割垂直配向型液晶表示装置である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、配向分割垂直配向型液晶表示装置に好適なカラーフィルタ及びその製造方法並びにこのカラーフィルタを用いた配向分割垂直配向型液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法は、透明基板上に、離画壁及び前記離画壁の間隙に設けられた赤色、緑色及び青色の着色画素を有する着色画素層と、前記着色画素層上に設けられた配向分割用突起と、を有する配向分割垂直配向型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法であって、前記透明基板上に前記離画壁を形成する工程と、前記離画壁の間隙に前記各着色画素を形成する工程と、を少なくとも有し、前記離画壁の断面において、前記離画壁の前記透明基板からの高さが最も高い点における前記透明基板からの高さをｈと、前記透明基板から０．８ｈの位置に前記透明基板と平行な線をＬ１と、Ｌ１と前記離画壁が接する点における接線をＬ２と、ｈの位置に前記透明基板と平行な線をＬ３としたとき、Ｌ２とＬ３との交点から前記離画壁までの距離ｄをｈで除した値ｄ／ｈが０．０４以下を満たすことを特徴とする。
【００１２】
本発明のＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法に用いられる離画壁は、ｄ／ｈ値が０．０４以下を満たすためにその断面のエッジ部が急峻であり、特にインクジェット方式により画素を形成する際のインクの離画壁への乗り上げを防ぐことができる。そのため、本発明のＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法で製造されたカラーフィルタは平滑性が高い。
【００１３】
本発明のＭＶＡ−ＬＣＤは本発明のＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタを有する。平滑性の高い本発明のＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタを有する本発明のＭＶＡ−ＬＣＤはセルギャップ均一性が高いため、表示ムラのない高品位な画像を表示できる。
【００１４】
（濃色組成物）
本発明に係る離画壁は、濃色組成物から形成される。ここで、濃色組成物とは、高い光学濃度を有する組成物のことであり、その値は２．０〜１０．０である。濃色組成物の光学濃度は好ましくは２．５〜６．０であり、特に好ましくは３．０〜５．０である。また、この濃色組成物は、後述するように好ましくは光開始系で硬化させる為、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は２．０〜１０．０であり、好ましくは２．５〜６．０、最も好ましいのは３．０〜５．０である。２．０未満では離画壁形状が望みのものとならない恐れがあり、１０．０を超えると、重合を開始することができず離画壁そのものを作ることが困難となる。かかる性質を有しさえすれば、組成物中の濃色体は有機物（染料、顔料などの各種色素）であっても、また各形態の炭素であっても、これらの組み合わせからなるものであってもよい。かかる濃色体は、特に限定されないが、黒色体がもっとも多く使用される。
離画壁の光学濃度（ＯＤ）は、一般的な光学濃度計（例えば、グレタグマクベス社製Ｄ２００−ＩＩ）や、分光光度計ＵＶ−２１００〔（株）島津製作所製〕により測定することができる。
具体的な測定方法としては、まず、ＯＤが３．０以下になるような薄膜の測定用遮光層を形成する。より精度よく測定するためには、ＯＤを３以下にすることが好ましい。
次いで、分光光度計ＵＶ−２１００〔（株）島津製作所製〕を用いて、測定用遮光層付基板の透過光学濃度（ＯＤ）を波長５５５ｎｍで測定すると共に、更にこれら測定用遮光層付基板の各々に用いたガラス基板の透過光学濃度（ＯＤ０）を同様の方法で測定する。そして、ＯＤからＯＤ０を差し引いた値（透過ＯＤ；＝ＯＤ−ＯＤ０）を測定用遮光層の透過光学濃度とする。
接触式表面粗さ計Ｐ−１０（ＴＥＮＣＯＲ社製）を用いて、測定用遮光層の膜厚を測定し、測定結果の透過光学濃度と膜厚の関係から、実際に作製した膜厚の離画壁の光学濃度を算出することができる。
【００１５】
本発明に用いる濃色体としては、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料や、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤を好適に用いることができる。
【００１６】
本発明の濃色組成物には、有機顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができ、離画壁に遮光性が要求される際には、カーボンブラック、酸化チタン、４酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉といった遮光剤の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。公知の着色剤（染料、顔料）を使用することができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、濃色組成物中に均一に分散されていることが好ましい。
前記濃色組成物の固形分中の濃色体の比率は、十分に現像時間を短縮する観点から、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましく、５０〜５５質量％であることが更に好ましい。
黒色濃色体として、更に例示すると、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。
【００１７】
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
本発明で用いる濃色体（顔料）は、分散安定性の観点から、数平均粒径０．００１〜０．１μｍのものが好ましく、更に０．０１〜０．０８μｍのものが好ましい。尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個平均値をいう。
【００１８】
濃色組成物はかかる濃色体以外に、重合開始剤、及び多官能性モノマーを少なくとも含んでなることが好ましい。また、必要に応じて更に公知の添加剤、例えば、可塑剤、充填剤、安定化剤、重合禁止剤、界面活性剤、溶剤、密着促進剤等を含有させることができる。さらに濃色組成物は少なくとも１５０℃以下の温度で軟化もしくは粘着性になることが好ましく、熱可塑性であることが好ましい。かかる観点からは、相溶性の可塑剤を添加することで改質することができる。
【００１９】
濃色組成物を硬化させる方法としては、熱開始剤を用いる熱開始系や光開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、本発明では硬化後の離画壁を後述するような形状とすることが重要であることから、光開始系を用いることが好ましい。ここで用いる光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光ともいう）により、後述の多官能性モノマーの重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤若しくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。
例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
【００２０】
具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；
【００２１】
９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物；
【００２２】
６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールなどが挙げられる。
【００２３】
上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特に、トリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。
特に好ましいのは、トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾールであり、アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、更に、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールなどのトリハロメチル基含有化合物、及びミヒラーズケトン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールである。
【００２４】
前記光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。前記光重合開始剤の濃色組成物における総量としては、濃色組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記総量が、０．１質量％未満であると、組成物の光硬化の効率が低く露光に長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、現像する際に、形成された画像パターンが欠落したり、パターン表面に荒れが生じやすくなることがある。
【００２５】
前記光重合開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、以下で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
【００２６】
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
【００２７】
上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【００２８】
上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【００２９】
前記水素供与体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。
【００３０】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
【００３１】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。前記水素供与体の濃色組成物における総量としては、濃色組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。
【００３２】
濃色組成物の多官能性モノマーとしては、下記化合物を単独で又は他のモノマーとの組合わせて使用することができる。具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。
【００３３】
また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。
【００３４】
多官能性モノマーの濃色組成物における含有量としては、濃色組成物の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。前記含有量が、５質量％未満であると、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性が劣ることがあり、８０質量％を越えると、濃色組成物としたときのタッキネスが増加してしまい、取扱い性に劣ることがある。
【００３５】
（離画壁）
本発明に係る離画壁は、上記濃色組成物から形成される。離画壁は、２以上の画素群を離画するものであり、一般には黒であることが多いが、黒に限定されるものではない。濃色とする着色物は、有機物（染料、顔料などの各種色素）が好ましい。離画壁は、濃色組成物を貧酸素雰囲気下にて露光し、その後現像することにより形成することが好ましい。
かかる濃色組成物を光硬化させる際の貧酸素雰囲気下とは、不活性ガス下、減圧下、酸素を遮断しうる保護層下のことを指しており、これらは詳しくは以下の通りである。
【００３６】
不活性ガスとは、Ｎ２、Ｈ２、ＣＯ２、などの一般的な気体や、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類をいう。この中でも、安全性や入手の容易さ、コストの問題から、Ｎ２が好適に利用される。
【００３７】
減圧下とは５００ｈＰａ以下、好ましくは１００ｈＰａ以下の状態を指す。
【００３８】
酸素を遮断しうる保護層とは、例えば、特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの二種以上の組合せ等が挙げられる。これらの中でも特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。ポリビニルアルコールは鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量はアルカリ可溶な樹脂層固形分の１〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１〜５０質量％、更に好ましくは１０〜４０質量％である。
また、酸素を遮断しうる層としては各種フィルムを用いることもでき、たとえばＰＥＴをはじめとするポリエステル類、ナイロンをはじめとするポリアミド類、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ類）も好適に用いることができる。これらフィルムは必要に応じて延伸されたものでもよく、厚みは５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。また、離画壁を転写材料を用いて作製する場合、下記に記載の仮支持体を酸素を遮断しうる層として好適に用いることが可能である。
【００３９】
このようにして作製された酸素を遮断しうる保護層の酸素透過係数は２０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましいが、１００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましく、もっとも好ましくは５０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
酸素透過率が２０００ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）より多い場合は効率的に酸素を遮断することができないため、離画壁を所望の形状にすることが困難となることがある。
【００４０】
本発明において、透明基板上に形成された離画壁の断面形状は、図１に示す如く離画壁１００の透明基板２００からの高さが最も高い点における透明基板２００からの高さをｈと、透明基板２００から０．８ｈの位置に透明基板２００と平行な線をＬ１と、Ｌ１と離画壁１００が接する点における接線をＬ２と、ｈの位置に透明基板２００と平行な線をＬ３としたとき、Ｌ２とＬ３との交点から離画壁１００までの距離ｄをｈで除した値ｄ／ｈが０．０４以下であることを特徴とする。
【００４１】
基板上において、上記で説明したような濃色組成物を、同じく上記で説明した貧酸素雰囲気下で光重合した場合、組成物自身の吸収により組成物表面から基板方向への露光量は減衰するため、結果として表面の硬化がより進む。さらに、貧酸素雰囲気下であるために組成物表面での重合阻害が抑制され、こちらも結果として表面の硬化がより進む。これら二つの寄与により、基板上に形成された離画壁の断面におけるｄ／ｈ値を０．０４以下とすることができる。
これらの値は、実際には基板上に形成された離画壁を、基板ごと垂直にカットして断面を露出させ、顕微鏡等で直接観察することで測定する。こうして得られた離画壁形状を固定化する工程を経ることで、一旦その空隙に打滴されたインクは離画壁を乗り越えにくくなり、その結果、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどを防いで良好なカラーフィルタを得ることができる。
本発明においてｄ／ｈ値は０．０４以下であるが、０．０３８以下が好ましく、特に０．０３５以下が好ましい。
【００４２】
（感光性転写材料）
かかる離画壁形状を容易且つ低コストで実現するものとして、仮支持体上に少なくとも酸素を遮断しうる保護層（以下、酸素遮断層と称することがある。）と、濃色組成物からなる層（濃色組成物層）とを、この順に有してなる感光性転写材料を使用するという手法がある。このような材料を用いた場合、濃色組成物層は酸素遮断層に保護されるため自動的に貧酸素雰囲気下となる。そのため露光工程を不活性ガス下や減圧下で行う必要がなく、現状の工程をそのまま利用できる利点がある。感光性転写材料における酸素遮断層及び濃色組成物層を構成する材料は上述の通りである。
また、仮支持体上に少なくとも濃色組成物層を有する感光性転写材料を用い、該仮支持体を「酸素を遮断しうる保護層」として用いてもよい。この場合は、上記酸素遮断層を設ける必要がなく、工程数を削減することが可能である。
【００４３】
上記の感光性転写材料は、必要に応じて仮支持体と酸素遮断層との間に熱可塑性樹脂層を有していてもよい。かかる熱可塑性樹脂層とは、アルカリ可溶性であって、少なくとも樹脂成分を含んで構成され、該樹脂成分としては、実質的な軟化点が８０℃以下であることが好ましい。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、永久支持体との良好な密着性を発揮することができる。
【００４４】
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
【００４５】
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
【００４６】
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。
【００４７】
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【００４８】
上記の感光性転写材料における仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。この厚みが５μｍ未満では、仮支持体を剥離する際に破れやすくなる傾向があり、また、仮支持体を介して露光する場合は、３００μｍを超えると解像度が低下する傾向がある。
上記具体例の中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【００４９】
濃色組成物層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄いカバーシートを設けることが好ましい。カバーシートは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、濃色組成物層から容易に分離されねばならない。カバーシート材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、カバーシートの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。
【００５０】
（透明基板）
カラーフィルタを構成する透明基板（永久支持体）としては、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。
【００５１】
（離画壁の形成）
以下、感光性転写材料を用いて、離画壁を形成する場合を説明する。仮支持体上に、酸素遮断層、濃色組成物層、更に該濃色組成物層上にカバーシートが設けられた感光性転写材料を用意する。まず、カバーシートを剥離除去した後、露出した濃色組成物層の表面を永久支持体（基板）上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネーター、真空ラミネーター等の中から適宜選択したものが使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
【００５２】
次いで、仮支持体と酸素遮断層との間で剥離し、仮支持体を除去する。続いて、仮支持体除去後の除去面の上方に所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該酸素遮断層の間の距離を適宜（例えば、２００μｍ）に設定し、露光する。次いで、照射後所定の処理液を用いて現像処理して、パターニング画像を得て、引き続き必要に応じて、水洗処理して、離画壁を得る。
また、仮支持体を酸素を遮断しうる保護層として用いる場合は、仮支持体を残したまま（剥離せずに）、該仮支持体の上方に所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該仮支持体の間の距離を適宜（例えば、２００μｍ）に設定し、露光する。次いで、仮支持体を除去し、照射後所定の処理液を用いて現像処理して、パターニング画像を得て、引き続き必要に応じて、水洗処理して、離画壁を得る。
該露光としては、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）等で行い、露光量としては適宜（例えば、３００ｍＪ／ｃｍ２）選択することができる。
照射後所定の処理液を用いて現像処理する。現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。光照射に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
前記現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧して、濃色組成物層又は酸素遮断層の表面を均一に湿らせることが好ましい。前記現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
【００５３】
適当なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【００５４】
前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。
【００５５】
前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。濃色組成物層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温付近から４０℃が好ましい。現像時間は、濃色組成物層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。短すぎると非露光部の現像が不充分となると同時に紫外線の吸光度も不充分となることがあり、長すぎると露光部もエッチングされることがある。いずれの場合にも、離画壁形状を好適なものとすることが困難となる。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。この現像工程にて、離画壁形状は前述のごとく形成される。
【００５６】
本発明に係る離画壁の上表面には、撥インク性化合物が存在することが好ましい。本発明では、離画壁に撥水処理を施す事で該離画壁の上表面が撥水性を帯びた状態（撥インク性化合物が存在する状態）とすることが好ましい。これにより、インクジェットなどの方法で着色液体組成物（インク）の液滴を該離画壁間に付与した時に、インクが該離画壁を乗り越えて、隣の色と混色するなどの不都合を無くすことができる。
【００５７】
なお、本発明において上表面とは、離画壁の表面であって該表面の接線と基板表面とのなす角度が１０°以下の範囲をいう。
【００５８】
該撥水処理として、離画壁上面に撥水材料を塗布する方法や、撥水層を新たに設ける方法、プラズマ処理により撥水性を付与する方法、撥水性物質を離画壁に練りこむ方法などが挙げられる。
【００５９】
以下に、撥水処理について詳細に説明する。
（１）＜撥水性物質を離画壁に練りこむ方法＞
「混色」を防ぐ手段として、上述した濃色組成物に含フッ素樹脂（Ａ）を含有させる方法がある。
【００６０】
含フッ素樹脂は、エチレン性二重結合と下記式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを含む共重合体であって、酸価が１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであるものが好ましい。エチレン性二重結合としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基が挙げられる。
【００６１】
−（Ｘ−Ｏ）ｎ−Ｙ ・・・式１
【００６２】
式１中、Ｘは、炭素数１〜１０の２価飽和炭化水素基又は炭素数１〜１０のフルオロ化された２価飽和炭化水素基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、水素原子（Ｙに隣接する酸素原子に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合していない場合に限る）、炭素数１〜２０の１価飽和炭化水素基又は炭素数１〜２０のフルオロ化された１価飽和炭化水素基を示し、ｎは２〜５０の整数を示す。
ただし、式１におけるフッ素原子の総数は２以上である。
【００６３】
式１におけるＸ、Ｙの態様として、好ましくは、Ｘは、炭素数１〜１０の水素原子１個を除いてフルオロ化されたアルキレン基又は炭素数１〜１０のパーフルオロ化されたアルキレン基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、炭素数１〜２０の水素原子１個を除いてフルオロ化されたアルキル基又は炭素数１〜２０のパーフルオロ化されたアルキル基を示すものが挙げられる。
【００６４】
式１におけるＸ、Ｙの態様として、より好ましくは、Ｘは、炭素数１〜１０のパーフルオロ化されたアルキレン基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、炭素数１〜２０のパーフルオロ化されたアルキル基を示すものが挙げられる。
【００６５】
Ｘ、Ｙの態様が上記のものであることにより、含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏する。
【００６６】
式１においてｎは２〜５０の整数を示す。ｎは２〜３０が好ましく、２〜１５がより好ましい。ｎが２以上であると、インク転落性が良好である。ｎが５０以下であると、含フッ素樹脂をエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体やその他の単量体との共重合によって合成する場合に、単量体の相溶性が良好となる。
【００６７】
また、式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）における炭素原子の総数は２〜５０が好ましく、２〜３０がより好ましい。当該範囲では、含フッ素樹脂は良好な撥インク性、特に撥有機溶剤性を奏する。また含フッ素樹脂をエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体やその他の単量体との共重合によって合成する場合に、単量体の相溶性が良好となる。
【００６８】
Ｘの具体例としては、−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−、及びＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−が挙げられる。
【００６９】
Ｙの具体例としては、−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦ２、−（ＣＦ２）２ＣＦ３、−（ＣＦ２）３ＣＦ３、−（ＣＦ２）４ＣＦ３、−（ＣＦ２）５ＣＦ３、−（ＣＦ２）６ＣＦ３、−（ＣＦ２）７ＣＦ３、−（ＣＦ２）８ＣＦ３、−（ＣＦ２）９ＣＦ３、及び（ＣＦ２）１１ＣＦ３、−（ＣＦ２）１５ＣＦ３が挙げられる。
【００７０】
式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）の好ましい態様としては、式２で表されるＲｆ基（ａ）が挙げられる。
−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１・・・式２
式２中、ｐは２又は３の整数を示し、ｎで括られた単位毎に同一の基であり、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【００７１】
式２で表されるＲｆ基（ａ）として、具体的には、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３ （ｎは２〜９）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）
が合成の容易さの点から好ましく挙げられる。
【００７２】
含フッ素樹脂内のＲｆ基（ａ）は、全て同一でもよいし、異なっていてもよい。
【００７３】
含フッ素樹脂におけるフッ素原子の含有量は１〜６０％が好ましく、５〜４０％がより好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏する。
【００７４】
エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体としては、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＯＣＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＨ２ＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＳＯ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＣＯＲｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＣＯＯＱ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＯＱ１Ｒｆ等が挙げられる。ただし、Ｒ１は水素原子又はメチル基を、Ｑ１は単結合又は炭素数１〜６の２価有機基を、Ｑ２は炭素数１〜６の２価有機基を、それぞれ示す。Ｑ１、Ｑ２は環状構造を有していてもよい。
【００７５】
Ｑ１、Ｑ２の具体例としては、
−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２−等が挙げられる。Ｑ１は単結合であってもよい。
合成の容易さの観点から、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−が好ましい。
【００７６】
エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体として具体的には以下のものが挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３  （ｎは３〜９）、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３  （ｎは２〜６）、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７  （ｎは２〜６）。
【００７７】
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３  （ｎは３〜９）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７  （ｎは２〜６）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３  （ｎは２〜６）。
【００７８】
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３  （ｎは３〜９）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３  （ｎは２〜６）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７  （ｎは２〜６）。
【００７９】
含フッ素樹脂におけるエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位の含有量は、１〜９５％等が好ましく、５〜８０％がより好ましく、２０〜６０％がさらに好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、濃色組成物の現像性が良好となる。
【００８０】
酸性基（ｂ）を有する単量体として、カルボキシル基を有する単量体、フェノール性水酸基を有する単量体、スルホン酸基、水酸基を有する単量体が挙げられる。
【００８１】
カルボキシル基を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８２】
フェノール性水酸基を有する単量体としては、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。またこれらのベンゼン環の１個以上の水素原子が、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキル基の１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基に置換された化合物等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８３】
スルホン酸基を有する単量体としては、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アリルオキシプロパンスルホン酸、（メタ）アクリル酸−２−スルホエチル、（メタ）アクリル酸−２−スルホプロピル、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、もしくはそれらの塩等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８４】
水酸基を有する単量体の具体例としては、ビニルフェノール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）等が挙げられる。
【００８５】
さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ（ここで、ｇは１〜１００の整数、以下同じ。）、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ（ここで、ｈは０又は１〜１００の整数であり、ｋは１〜１００の整数であり、ｈ＋ｋは１〜１００である。以下同じ。）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８６】
含フッ素樹脂における酸性基（ｂ）を有する単量体に基づく単量体単位の含有量は、０．１〜４０％等が好ましく、０．５〜３０％がより好ましく、１〜２０％がさらに好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、濃色組成物の現像性が良好となる。
【００８７】
含フッ素樹脂がエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを有する共重合体である場合、Ｒｆ基（ａ）及び酸性基（ｂ）を有しない単量体（以下、「その他の単量体」という。）に基づく単量体単位を有していてもよい。
【００８８】
その他の単量体としては、炭化水素系オレフィン類、ビニルエーテル類、イソプロペニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルエステル類、アリルエステル類、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、芳香族ビニル化合物、クロロオレフィン類、フルオロオレフィン類、共役ジエン類が挙げられる。これらの化合物には、官能基が含まれていてもよく、例えば水酸基、カルボニル基、アルコキシ基、アミド基等が挙げられる。またポリシロキサン構造を有する基を有していてもよい。ただし、これらのその他の単量体に基づく単量体単位は、Ｒｆ基（ａ）及び酸性基（ｂ）を有しない。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。特に（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類が、濃色組成物から形成される塗膜の耐熱性に優れるので好ましい。
【００８９】
含フッ素樹脂において、その他の単量体に基づく単量体単位の割合は８０％以下が好ましく、７０％以下がより好ましい。当該範囲であると濃色組成物の現像性が良好となる。
【００９０】
本発明における含フッ素樹脂は、上記のエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを含む共重合体を合成することによって得られるほか、反応部位を有する重合体にＲｆ基（ａ）を有する化合物及び／又は酸性基（ｂ）を有する化合物を反応させる各種変性方法によっても得られる。
【００９１】
反応部位を有する重合体にＲｆ基（ａ）を有する化合物を反応させる各種変性方法としては、例えば、エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にＲｆ基（ａ）とカルボキシル基を有する化合物を反応させる方法、エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にＲｆ基（ａ）とヒドロキシル基を有する化合物を反応させる方法が挙げられる。
【００９２】
エポキシ基を有する単量体の具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが挙げられる。
【００９３】
Ｒｆ基（ａ）とカルボキシル基を有する化合物としては、下記式３で表される化合物が挙げられる。
ＨＯＯＣ−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１    式３
式３中、ｐは２又は３の整数、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【００９４】
Ｒｆ基（ａ）とヒドロキシル基を有する化合物としては、下記式４で表される化合物が挙げられる。
ＨＯＣＨ２−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１  式４
式４中、ｐは２又は３の整数、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【００９５】
反応部位を有する重合体に酸性基（ｂ）を有する化合物を反応させる各種変性方法としては、例えば、水酸基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後に酸無水物を反応させる方法が挙げられる。また、エチレン性二重結合を有する酸無水物をあらかじめ共重合させ、後に水酸基を有する化合物を反応させる方法が挙げられる。
【００９６】
水酸基を有する単量体の具体例としては、ビニルフェノール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）等が挙げられる。
【００９７】
さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ（ここで、ｇは１〜１００の整数、以下同じ。）、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ（ここで、ｈは０又は１〜１００の整数であり、ｋは１〜１００の整数であり、ｈ＋ｋは１〜１００である。以下同じ。）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９８】
酸無水物の具体例としては、無水フタル酸、無水３−メチルフタル酸、無水トリメリット酸等が挙げられる。
【００９９】
エチレン性二重結合を有する酸無水物の具体例としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、無水３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、無水ｃｉｓ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、２−ブテン−１−イルスシニックアンハイドライド等が挙げられる。
【０１００】
水酸基を有する化合物としては、１つ以上の水酸基を有している化合物であれば良く、前記に示した水酸基を有する単量体の具体例や、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類等が挙げられる。分子内に１個の水酸基を有する化合物が好ましい。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０１】
含フッ素樹脂あるいは含フッ素樹脂の前駆体となる前記反応部位を有する重合体は、単量体を必要に応じて連鎖移動剤と共に、溶媒に溶解して加熱し、重合開始剤を加えて反応させる方法によって合成できる。
【０１０２】
含フッ素樹脂の酸価は、１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、１０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。この範囲であると濃色組成物の現像性が良好となる。なお、酸価は樹脂１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量（単位ｍｇ）であり、本明細書においては単位をｍｇＫＯＨ／ｇと記載する。
【０１０３】
含フッ素樹脂の数平均分子量は、５００以上２００００未満が好ましく、２０００以上１５０００未満がより好ましい。当該範囲であると濃色組成物の現像性が良好である。数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレンを標準物質として測定される。
【０１０４】
含フッ素樹脂（Ａ）の配合量は、濃色組成物中の固形分に対し、０．０１〜５０％が好ましく、０．１〜３０％がより好ましく、０．２〜１０％が特に好ましい。当該範囲であると濃色組成物は良好な撥インク性、インク転落性を奏し、現像性が良好となる。
【０１０５】
（２）＜撥水層を設ける方法＞
「混色」を防ぐ手段として、離画壁を形成した基板上の離画壁に合致した位置にインク反発性を有する仕切り壁を作製する方法がある。
【０１０６】
インク反発性を有する仕切り壁として、シリコーンゴム層を用いることが好ましい。表層に塗設されるシリコーンゴム層は、着色に用いる溶液およびインクに対して反発効果を有することが必須であり、これに限定されるものではないが、次の様な繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものである。
【０１０７】
【化１】
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【０１０８】
ここでｎは２以上の整数、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基あるいはフェニル基である。この様な線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋することによりシリコーンゴムが得られる。架橋剤は、いわゆる室温（低温）硬化型のシリコーンゴムに使われるアセトキシシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシラン、アルケニオキシシランなどであり、通常線状の有機ポリシロキサンとして末端が水酸基であるものと組み合わせて、それぞれ脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコ−ル型、脱アミン型、脱アミド型、脱ケトン型のシリコーンゴムとなる。また、シリコーンゴムには、触媒として少量の有機スズ化合物などが添加される。濃色組成物層とシリコーンゴム層の接着のために層間に接着層として種々のものを用いることがあり、特にアミノシラン化合物や有機チタネ−ト化合物が好ましい。濃色組成物層とシリコーンゴム層間に接着層を設ける代わりにシリコーンゴム層に接着成分を添加しておくこともできる。この添加接着成分としてもアミノシラン化合物や有機チタネ−ト化合物が使用できる。
【０１０９】
仕切り壁を作製するための露光は離画壁をマスクとし、基板の裏側から行い、さらに照射ＵＶ光を散乱させて入射光を透過部位の大きさより拡大して感光性樹脂に作用させて、光反応して可溶化する樹脂の部分をシリコーンゴム表層側の方が大きくなる様にする。この様に露光した後、ｎ−ヘプタン／エタノール混合液で現像してシリコーンゴム表層を有する仕切り壁を作製できる。
【０１１０】
（３）＜プラズマ処理により撥水性を付与する方法＞
「混色」を防ぐ手段として、離画壁を形成した基板に、プラズマによる撥水化処理をする方法がある。
【０１１１】
本工程において導入する、少なくともフッ素原子を含有するガスとしては、ＣＦ４、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、ＳＦ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ５Ｆ８から選択されるハロゲンガスを１種以上用いることが好ましい。特に、Ｃ５Ｆ８（オクタフルオロシクロペンテン）は、オゾン破壊能が０であると同時に、大気寿命が従来のガスに比べて（ＣＦ４：５万年、Ｃ４Ｆ８：３２００年）０．９８年と非常に短い。従って、地球温暖化係数が９０（ＣＯ２＝２とした１００年積算値）と、従来のガスに比べて（ＣＦ４：６５００、Ｃ４Ｆ８：８７００）非常に小さく、オゾン層や地球環境保護に極めて有効であり、本発明で使用する上で望ましい。
【０１１２】
さらに、導入ガスとしては、必要に応じて酸素、アルゴン、ヘリウム等のガスを併用しても良い。本工程においては、上記ＣＦ４、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、ＳＦ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ５Ｆ８から選択されるハロゲンガスを１種以上とＯ２との混合ガスを用いると、本工程において処理される離画壁表面の撥インク性の程度を制御することが可能になる。但し、当該混合ガスにおいて、Ｏ２の混合比率が３０％を超えるとＯ２による酸化反応が支配的になり、撥インク性向上効果が妨げられるため、また、Ｏ２混合比率が３０％を超えると樹脂に対するダメージが顕著になるため、当該混合ガスを用いる場合にはＯ２の混合比率が３０％以下の範囲で使用する必要がある。
【０１１３】
また、プラズマの発生方法としては、低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電等の方式を用いることができ、プラズマ処理の際の圧力、ガス流量、放電周波数、処理時間等の条件は任意に設定することができる。
【０１１４】
（４）＜離画壁上面に撥水材料を塗布する方法＞
「混色」を防ぐ手段として、離画壁を形成した基板に、撥水性を有する材料を全面に塗布する方法がある。
撥水性を有する材料としてはポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂、シリコーンゴム、パーフルオロアルキルアクリレート、ハイドロカーボンアクリレート、メチルシロキサン等、一般に撥水材料と考えられるもので着色液体組成物に対する接触角が６０°以上のものであれば特に限定されるものではない。
【０１１５】
撥水材料の塗布の方法としては基板、離画壁などに影響を及ぼさない方法であれば、スリットコート、スピンコート、ディップコート、ロールコート等各材料に最適の方法を選択することが可能である。
【０１１６】
次に、基板裏面側から離画壁を介してＵＶＯ３処理を行い、離画壁以外の部分の撥水膜を選択的に除去または親水化処理（着色剤に対する接触角が処理前後で３０°以上の開きがある）する。
【０１１７】
撥水材料を除去または親水化処理することが可能ならば、パターニングの方法はレーザーアブレーション、プラズマアッシング、コロナ放電処理等のドライ処理およびアルカリを用いたウェット処理等材料に応じて最適の方法を選択することが可能である。また、離画壁上に撥水材料をパターン形成することが可能であればリフトオフ法等も有効である。
【０１１８】
上記（１）〜（４）の撥水処理方法の中でも、「工程の簡便さ」という観点から（３）プラズマによる撥水処理方法が特に好ましい。
【０１１９】
（着色画素の形成）
ついで、上記現像工程にて形成された離画壁の間隙に対し、ＲＧＢ各着色画素を形成する為の着色液体組成物をその空隙に侵入させる。これにより着色画素層が形成される。この着色液体組成物を離画壁間隙に侵入させる方法としては、インクジェット法やストライプギーサー塗布法など公知のものを使用することができ、インクジェット法がコスト的に好ましい。また、このように各着色画素を形成する前に、離画壁の形状を固定化してもよく、その手段は特に限定されないが以下のようなものが挙げられる。すなわち、１）現像後、再露光を行う（ポスト露光と呼ぶことがある）  ２）現像後、比較的低い温度で加熱処理を行う等である。ここで言う加熱処理とは離画壁を有する基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、あるいは赤外線ランプを照射するということをさす。
【０１２０】
ここで、上記１）を行う場合の露光量は、大気下であれば５００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは１０００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２であり、貧酸素雰囲気下である場合にはそれより低い露光量で露光することも可能である。また、同じく２）を行う場合の加熱温度は５０〜２５０℃、好ましくは７０〜２００℃程度であり、その加熱時間は、１０〜１５０分程度である。温度が５０℃より低い場合には離画壁の硬化が進まない懸念があり、２５０℃より大きい場合には離画壁形状が崩れてしまう懸念がある。
【０１２１】
各着色画素形成のために用いるインクジェット法に関しては、インクを熱硬化させる方法、光硬化させる方法、あらかじめ基板上に透明な受像層を形成しておいてから打滴する方法など、公知の方法を用いることができる。
【０１２２】
好ましくは、各着色画素を形成した後、加熱処理（いわゆるベーク処理）する加熱工程を設ける。即ち、光照射により光重合した層を有する基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、あるいは赤外線ランプを照射する。加熱の温度及び時間は、濃色組成物の組成や形成された層の厚みに依存するが、一般に充分な耐溶剤性、耐アルカリ性、及び紫外線吸光度を獲得する観点から、約１２０℃〜約２５０℃で約１０分〜約１２０分間加熱することが好ましい。
【０１２３】
このようにして形成されたカラーフィルタのパターン形状は特に限定されるものではなく、図２に示すような一般的なデルタ配列であっても（図２（Ａ））格子構造もしくはストライプ構造であっても（図２（Ｂ））よい。
【０１２４】
（インクジェット方式）
本発明に用いるインクジェット方式としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
用いるインクは油性、水性であっても使用できる。また、そのインクに含まれる着色材は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタ作製に用いる、塗布方式の着色インク（着色樹脂組成物、例えば、特開２００５−３８６１号公報［００３４］〜［００６３］記載）や、特開平１０−１９５３５８号公報［０００９］〜［００２６］に記載のインクジェット用組成物を使用することもできる。
本発明におけるインクには、着色後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することもできる。加熱によって硬化する成分としては各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、またエネルギー線によって硬化する成分としては例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものを例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、上記＜濃色組成物＞の項で挙げた、顔料などの着色剤を含有させた感光性樹脂組成物を、好適なものとして用いることができる。
【０１２５】
また、本発明において用いることができるインクとしては、少なくともバインダー、及び、２官能乃至３官能のエポキシ基含有モノマーを含有するカラーフィルタ用熱硬化性インクも好適なものとして用いることができる。
【０１２６】
本発明におけるカラーフィルタは、インクジェット方式で画素形成されたカラーフィルタであることが好ましく、ＲＧＢ３色のインクを吹き付けて３色のカラーフィルタを形成することが好ましい。
【０１２７】
（オーバーコート層） 
カラーフィルタ作製後、全面に耐性向上のためにオーバーコート層を設ける場合がある。オーバーコート層は、インクＲ，Ｇ，Ｂの着色画素を保護するとともに、表面を平坦にすることができるが、工程数が増えるという観点から、設けないことが好ましい。
【０１２８】
オーバーコート層を形成する樹脂（ＯＣ剤）としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性で優れており、また、カラーフィルタ用光硬化性組成物の樹脂成分が通常アクリル系樹脂を主成分としており、密着性に優れていることからアクリル系樹脂組成物が望ましい。
オーバーコート層の例として、特開２００３−２８７６１８号公報の段落番号００１８〜００２８に記載のものや、オーバーコート剤の市販品として、ＪＳＲ社製「オプトマーＳＳ６６９９Ｇ」）が挙げられる。
【０１２９】
着色画素層上には、必要に応じて透明電極、配向膜等を設けてもよい。透明電極の具体例としては、例えば、ＩＴＯが挙げられる。また、配向膜の具体例としては、ポリイミドが挙げられる。
【０１３０】
次に、配向分割用突起について説明する。本発明に係る配向分割用突起は、フォトレジストを用いて塗布膜を形成後、フォトマスクを介しステッパーを用いて露光し、引き続く現像により所望のパターン状に形成できる。
【０１３１】
本発明における配向分割用突起の形成に用いるフォトレジストとしては、フェノールノボラック樹脂を好適に使用することができる。また、本発明においては、配向分割用突起の体積抵抗率を調節するために、配向分割用突起の形成に用いるフォトレジストに導電性フィラーを添加することが好ましく、導電性フィラーとしてはカーボンブラック、ＩＴＯ、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＴｉＯ2、ＺｎＯ等が挙げられる。
【０１３２】
上記導電性フィラーは、単独で又はこれらの組み合わせでフォトレジストに添加して用いられる。フォトレジストに導電性フィラーを添加することにより、ポストベーク温度を低くすることができ、また、配向分割用突起の濃度が低くなりカラーフィルタの透過率が向上する。上記導電性フィラーがカーボンブラックなどであると、配向分割用突起の濃度が高くなりカラーフィルタの透過率が低下するが、コントラストは向上する。
【０１３３】
また、本発明の配向分割用突起を形成する際のポストベーク条件としては、２４０℃×２０分以上であることが好ましく、該ポストベークを２４０℃×２０分以上にすることによって、配向分割用突起の体積抵抗率を１．０×１０12Ωｃｍ以下にすることができる。尚、このポストベークは、２４０℃×２０分〜３００℃×２０分程度で十分である。
【０１３４】
図３（ａ）は、本発明のＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの一実施形態に係る一画素を拡大して示す平面図である。また、図３（ｂ）は、図３（ａ）におけるＡ−Ａ’線の断面図である。図３（ａ）及び（ｂ）に示す様に、この例は、ガラス基板１上に離画壁２、着色画素３、透明電極４、断面形状が円弧状の配向分割用突起５が順次に形成されたＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタ６の例である。
【０１３５】
断面形状が円弧状の配向分割用突起５は、一画素内で角度９０°だけ屈曲させてある。一画素内の断面形状が円弧状の配向分割用突起５を実線で、また、隣接する画素内の断面形状が円弧状の配向分割用突起５を点線で表している。図４（ａ）は、図３に示すＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタに、ＴＦＴ側基板を配置しＭＶＡ−ＬＣＤとした際の状態を示す平面図である。また、図４（ｂ）は、図４（ａ）におけるＢ−Ｂ’線の断面図である。
【０１３６】
図４（ａ）に２重点線です示す様に、ＴＦＴ側基板にも断面形状が円弧状の配向分割用突起７が一画素内で９０°屈曲させてある。カラーフィルタ６に設けた断面形状が円弧状の配向分割用突起５と、ＴＦＴ側基板に設けた断面形状が円弧状の配向分割用突起７は、交互に位置する様に設けてある。
【０１３７】
従って、電圧印加時には、図４（ａ）に白矢印で示す様に、一画素内で、画素内上方部の液晶分子は左上方４５°の方向と右下方４５°の方向に傾斜し、また、黒矢印で示す様に、画素内下方部の液晶分子は右上方４５°の方向と左下方４５°の方向に傾斜する。即ち、一画素が４分割された例であり、図４（ｃ）に示す様に、一画素内で液晶分子の傾斜方向が４方向となり、視野角特性の更に優れた液晶表示装置となる。
【０１３８】
また、図５（ａ）は、本発明のＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの他の実施形態に係る一画素を拡大して示す平面図である。図５（ｂ）は、図５（ａ）におけるＣ−Ｃ’線の断面図である。図５（ａ）及び（ｂ）に示す様に、この例は、ガラス基板１上に離画壁２、着色画素３、透明電極４、断面形状が円弧状の配向分割用突起５が順次に形成されたカラーフィルタである。断面形状が円弧状の配向分割用突起５は、平面形状が円形状で断面形状が円弧状の突起である。
【０１３９】
この様なＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタに、対向したＴＦＴ側基板を配置しＭＶＡ−ＬＣＤとした際には、電圧印加時に液晶分子は、いわば無限の方向に傾斜する、すなわち、一画素が無限に分割されたものとなり、図５（ｃ）に示す様に、一画素内で液晶分子の傾斜方向が無限の方向となり、視野角特性の特に優れた液晶表示装置となる。
【０１４０】
［配向分割垂直配向型液晶表示装置］
本発明の配向分割垂直配向型液晶表示装置は、本発明のＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタを有するものであれば特に限定されるものではない。
図６は、本発明のＭＶＡ−ＬＣＤの一実施形態を示す断面図である。ここで、液晶表示装置１０は、所定のセルギャップを置いて対向配置されたアレイ基板１２と対向基板１４とを備え、これらアレイ基板と対向基板との間に液晶層１６が挟持されてなる。アレイ基板１２及び対向基板１４は、液晶表示装置の表示領域の外周を囲むように配置されたシール材１８により周縁部同士が接合されている。シール材１８の一部には図示しない液晶注入口が設けられ、この液晶注入口は液晶注入後に封止材により封止される。
【０１４１】
アレイ基板１２は、透明なガラスからなる基板１１を備え、この基板上には図示しない複数の走査線と、絶縁膜を介して該走査線と直交した複数の信号線２０とが配置され、この走査線と信号線とにより囲まれた領域には、それぞれ略矩形状の画素電極２２が設けられ画素部を構成している。ここで、各画素電極２２は、走査線と信号線２０との交差部に設けられたＴＦＴ２４に接続されている。更に、ガラス基板１１の全面には配向膜２６が形成されている。
【０１４２】
対向基板１４は、透明なガラスからなる基板２８上に、着色画素層３０、ＩＴＯからなる透明な対向電極３２、配向膜３３を順に形成して構成されている。着色画素層３０は、マトリックス状に形成された離画壁３４及び離画壁３４間を互いに略平行に延びたストライプ状の緑色の着色画素３５Ｇ、青色の着色画素３５Ｂ、赤色の着色画素３５Ｒにより形成されている。これらの着色画素３５Ｇ、３５Ｂ、３５Ｒを覆う様に、ガラス基板２８の略全面に対向電極３２が形成され、更に該対向電極に重ねて配向膜３３が形成されてなる。
【０１４３】
また、本実施の形態において、対向基板１４の配向膜３３は、配向分割用突起４０及び複数の柱状スペーサー４２を備えて形成されている。配向分割用突起４０は、着色画素３５Ｇ、３５Ｂ、３５Ｒの各々の略中央部と対向する位置に設けられ、アレイ基板１２側に突出している。各柱状スペーサー４２は、離画壁３４と対向する位置に設けられていると共に、アレイ基板１２側に突出し、その先端はアレイ基板側の配向膜２６に当接している。従って、アレイ基板１２及び対向基板１４間のセルギャップは、複数の柱状スペーサー４２によって所定の値に維持されている。
【０１４４】
更に、２枚の基板１１、２８の外面にはそれぞれ偏光板４４、４５が設けられ、本発明のＭＶＡ−ＬＣＤの液晶表示素子１０は、光シャッターとしてカラー画像を表示する。
【０１４５】
着色画素層３０は平坦性が高いため、この着色画素層を備える液晶表示素子１０は、着色画素層３０と基板１１との間にセルギャップムラが生せず、色ムラ等の表示不良が発生することがない。
【実施例】
【０１４６】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、以下の実施例において、特に断りのない限り「％」および「部」は、「質量％」および「質量部」を表し、分子量とは重量平均分子量のことを示す。
【０１４７】
［濃色組成物の製法］
濃色組成物Ｋ１は、まず表１に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ１０分間攪拌し、次いで、表１に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）アミノ−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ＲＰＭ３０分間攪拌することによって得られる。なお、表１に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
【０１４８】
＜Ｋ顔料分散物１＞、
・カーボンブラック（デグッサ社製  Ｎｉｐｅｘ３５）      １３．１％
・分散剤                                                ０．６５％
【０１４９】
【化２】
2007163978.tif 000003
【０１５０】
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比
のランダム共重合物、分子量３．７万）                    ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート    ７９．５３％
【０１５１】
＜バインダー２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比
のランダム共重合物、分子量３．８万）                        ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート          ７３％
【０１５２】
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）                                        ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート          ２４％
【０１５３】
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１                                              ３０％
【０１５４】
【化３】
2007163978.tif 000004
【０１５５】
・メチルエチルケトン                                        ７０％
【０１５６】
【表１】
2007163978.tif 000005
【０１５７】
［実施例１］
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、上表に記載の組成よりなる濃色組成物Ｋ１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚２μｍの濃色感光層Ｋ１を得た。
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と濃色感光層Ｋ１の間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０１５８】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、濃色感光層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を１００倍希釈したものにて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ２にてポスト露光を行って光学濃度３．９の離画壁を得た。このようにして得られた離画壁付き基板を、基板ごと垂直にカットして断面を露出させ、顕微鏡等で直接観察した。離画壁の透明基板からの高さが最も高い点における透明基板からの高さをｈと、透明基板から０．８ｈの位置に透明基板と平行な線をＬ１と、Ｌ１と離画壁が接する点における接線をＬ２と、ｈの位置に透明基板と平行な線をＬ３としたとき、Ｌ２とＬ３との交点から離画壁までの距離をｄと定義すると、ｈ＝１．６μｍ、ｄ＝０．０６１μｍであり、ｄ／ｈ＝０．０３８であった。
【０１５９】
〔プラズマ撥水化処理〕
離画壁を形成した基板に、カソードカップリング方式平行平板型プラズマ処理装置を用いて、以下の条件にてプラズマ撥水化処理を行った。
使用ガス    ：ＣＦ４  ガス流量  ：８０ｓｃｃｍ
圧力        ：４０Ｐａ
ＲＦパワー  ：５０Ｗ
処理時間    ：３０ｓｅｃ
【０１６０】
−画素用着色インク組成物の調製−
下記の成分のうち、先ず、顔料、高分子分散剤及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得た。その顔料分散液をディソルバー等で十分攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、赤色（Ｒ）画素用着色インク組成物を調製した。
〈赤色画素用着色インク組成物の組成〉
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）                          ５部
・高分子分散剤（ＡＶＥＣＩＡ社製ソルスパース２４０００）          １部
・バインダー（グリシジルメタクリレート−スチレン共重合体）        ３部
・第一エポキシ樹脂（ノボラック型エポキシ樹脂、
油化シェル社製エピコート１５４）        ２部
・第二エポキシ樹脂（ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル）  ５部
・硬化剤（トリメリット酸）                                        ４部
・溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                          ８０部
【０１６１】
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いるほかは赤色画素用着色インク組成物の場合と同様にして緑色（Ｇ）画素用着色インク組成物を調製した。
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いるほかは赤色画素用着色インク組成物の場合と同様にして青色（Ｂ）画素用着色インク組成物を調製した。
【０１６２】
次に上記記載のＲ、Ｇ、Ｂの画素用着色インク組成物を用いて、上記で得られたカラーフィルタ基板の離画壁で区分された領域内（凸部で囲まれた凹部）に、インクジェット方式の記録装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンからなるカラーフィルタを作製した。画像着色後のカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分ベークすることで離画壁、各画素ともに完全に硬化させた。
【０１６３】
こうして得られたカラーフィルタの、各画素を構成するインクは離画壁間隙にぴったり収まり、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどの欠陥となる不良は見つからなかった。  
上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に更に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
【０１６４】
このカラーフィルタのＩＴＯ抵抗を測定した（三菱化学（株）製「ロレスタ」；四探針法でシート抵抗を測定）ところ、１２Ω／□という非常に低い値を示した。
【０１６５】
下記のスペーサ用の感光性樹脂層用塗布液の処方１を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタのＩＴＯ上に塗布し、乾燥して感光性樹脂層を形成した。
【０１６６】
〔感光性樹脂層用塗布液の処方１〕
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体                  １０８部
（モル比＝２０／８０、重量平均分子量４００００；高分子物質）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  ６４．７部
（重合性モノマー）
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチルアミノ）−３’−ブロモフェニル〕−ｓ−トリアジン      ６．２４部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル                      ０．０３３６部
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨＭ（保土ヶ谷化学社製）      ０．８７４部
・メガファックＦ７８０Ｆ                                  ０．８５６部
（大日本インキ化学工業（株）製；界面活性剤）
・メチルエチルケトン                                          ３２８部
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート                        ４７５部
・メタノール                                                １６．６部
【０１６７】
次に、所定のフォトマスクを介して超高圧水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。露光後、ＫＯＨ現像液〔ＣＤＫ−１（商品名）の１００倍希釈液（ｐＨ＝１１．８）、富士写真フイルム（株）製〕を用いて未露光部の感光性樹脂層を溶解除去した。
続いて、２３０℃で３０分間ベークし、ガラス基板上のＩＴＯ膜の上の離画壁の上部に位置する部分に直径１６μｍ、平均高さ３．７μｍの柱状スペーサパターンを形成した。その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
【０１６８】
（液晶配向分割用突起の形成）
下記の突起用感光性樹脂層用塗布液の処方Ａを、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタ側基板のＩＴＯ上に塗布し、乾燥して突起用感光性樹脂層を形成した。
次に、突起用感光性樹脂層上に下記処方Ｐ１の中間層用塗布液を用いて、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層を設けた。
【０１６９】
〔突起用感光性樹脂層用塗布液：処方Ａ〕
・ポジ型レジスト液                                          ５３．３部
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＦＨ−２４１３Ｆ）
・メチルエチルケトン                                        ４６．７部
・前記界面活性剤１                                          ０．０４部
【０１７０】
〔中間層用塗布液：処方Ｐ１〕
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、クラレ（株）製、
鹸化度＝８８％、重合度５５０）      ３２．２部
・ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０  １４．９部
・蒸留水                                                        ５２４部
・メタノール                                                    ４２９部
【０１７１】
次に、フォトマスクが突起用感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ２でプロキシミティー露光した。その後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間基板に噴霧しながら現像し、突起用感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去した。すると、前記カラーフィルタ側基板のＩＴＯ膜の上のＲ、Ｇ、Ｂの画素の上部に位置する部分に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ側基板を２４０℃下で５０分ベークすることにより、カラーフィルタ側基板上に高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の配向分割用突起を形成することができた。
【０１７２】
更に、前記より得られたカラーフィルタ側基板に対して、駆動側基板及び液晶材料を組合せることによって配向分割垂直配向型液晶表示素子を作製した。即ち、駆動側基板として、ＴＦＴと画素電極（導電層）とが配列形成されたＴＦＴ基板を準備し、該ＴＦＴ基板の画素電極等が設けられた側の表面と、前記より得た、カラーフィルタ基板の配向分割用突起が形成された側の表面とが対向するように配置し、前記で形成したスペーサーによる間隙を設けて固定した。この間隙に液晶材料を封入し、画像表示を担う液晶層を設けた。このようにして得た液晶セルの両面に、（株）サンリツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、配向分割垂直配向型液晶表示装置とした。
【０１７３】
［実施例２］
実施例１と同様の素材、手順で現像までを行い、ポスト露光を行わずに光学濃度４．０の離画壁を得た。このようにして得られた離画壁の形状を、実施例１と同様の手順で観察したところ、ｈ＝１．７μｍ、ｄ＝０．０６５μｍであり、ｄ／ｈ＝０．０３８であった。
【０１７４】
次いで、実施例１と同様にＲ、Ｇ、Ｂ画素を着色したのち、そのカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分ベークすることで、離画壁、各画素共に完全に硬化させた。上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に更に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
【０１７５】
こうして得られたカラーフィルタの、各画素を構成するインクは離画壁間隙にぴったり収まり、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどの欠陥となる不良は見つからなかった。また、カラーフィルタのＩＴＯ抵抗を測定した（三菱化学（株）製「ロレスタ」；四探針法でシート抵抗を測定）ところ、１１Ω／□という非常に低い値を示した。これは、本発明を用いることで予期せず離画壁表面の平坦性が高まったためと考えられる。
次いで、実施例１と同様の方法により、配向分割垂直配向型液晶表示装置を作製した。
【０１７６】
［感光性転写材料Ｋ１の製法］
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１から成る中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、前記濃色組成物Ｋ１を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２μｍの濃色組成物層を設け、最後に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。
こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の濃色組成物層とが一体となった感光性転写材料を作製し、サンプル名を感光性転写材料Ｋ１とした。
【０１７７】
＜熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１＞
・メタノール                                                １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート          ６．３６部
・メチルエチルケトン                                        ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート
／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）
＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）
＝６３／３７、平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）          １３．６部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製）                                        ９．１部
・前記界面活性剤１                                          ０．５４部
【０１７８】
＜中間層用塗布液：処方Ｐ１＞
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）                                                  ３２．２部
・ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ−３０）１４．９部
・蒸留水                                                        ５２４部
・メタノール                                                    ４２９部
【０１７９】
［実施例３］
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
得られたシランカップリング処理ガラス基板に、上記の製法にて作製された感光性転写材料Ｋ１からカバーフィルムを除去し、除去後に露出した濃色組成物層の表面と前記シランカップリング処理ガラス基板の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネータ（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と濃色組成物層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。
【０１８０】
次いで、０．５％ＫＯＨ水溶液にて現像して、濃色組成物層の未露光部分及びその下の中間層、熱可塑性樹脂層を除去しガラス基板上にブラックマトリックスパターン様離画壁を得た。つづいて大気下においてアライナーにて基板の表から基板の全面を２０００ｍＪ／ｃｍ２でポスト露光し、光学濃度４．０の離画壁を得た。
このようにして得られた離画壁の形状を、実施例１と同様の手順で観察したところ、ｈ＝１．８μｍ、ｄ＝０．０５μｍであり、ｄ／ｈ＝０．０２８であった。
次いで、下記の方法により撥水化処理を行った。
【０１８１】
［塗布法による撥水化処理］
離画壁の形成された基板上に、予めフッ素系界面活性剤（住友３Ｍ社製、フロラードＦＣ−４３０）が０．５％（感光性樹脂の固形分に対して）内添してあるアルカリ可溶の感光性樹脂（ヘキストジャパン社製、ポジ型フォトレジストＡＺＰ４２１０）を膜厚２μｍとなるようにスリット状ノズルを用いて塗布し、温風循環乾燥機中で９０℃、３０分間の熱処理を行った。
次いで、１１０ｍＪ／ｃｍ  ２  （３８ｍＷ／ｃｍ  ２  ×２．９秒）の露光量で離画壁の形成された基板裏面から離画壁を介して露光し、無機アルカリ現像液（ヘキストジャパン社製、ＡＺ４００Ｋデベロッパー、１：４）中に８０秒間浸漬揺動した後、純水中で３０〜６０秒間リンス処理を行い、離画壁上に撥水性樹脂層を形成することにより画素内外に表面エネルギー差を設けた。撥水性樹脂層形成後の画素内外の表面エネルギーは、画素外（樹脂層上）が１０〜１５ｄｙｎｅ／ｃｍ、画素内（ガラス基板上）は５５ｄｙｎｅ／ｃｍ前後であった。
【０１８２】
次いで、実施例１と同様にＲ、Ｇ、Ｂ画素を着色したのち、そのカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分ベークすることで、離画壁、各画素共に完全に硬化させた。
【０１８３】
こうして得られたカラーフィルタの、各画素を構成するインクは離画壁間隙にぴったり収まり、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどの欠陥となる不良は見つからなかった。上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に更に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
このカラーフィルタのＩＴＯ抵抗を測定した（三菱化学（株）製「ロレスタ」；四探針法でシート抵抗を測定）ところ、７Ω／□という非常に低い値を示した。これは、本発明を用いることで離画壁表面の平坦性が高まったためと考えられる。
次いで、実施例１と同様の方法により、配向分割垂直配向型液晶表示装置を作製した。
【０１８４】
［実施例４］
実施例３と同様の素材、手順で現像までを行い、ポスト露光を行わず、この離画壁付き基板を８０℃オーブン中で４０分ベークを行うことで離画壁の硬化を進め、光学濃度４．１の離画壁を得た。このようにして得られた離画壁の形状を、実施例１と同様の手順で観察したところ、ｈ＝１．６μｍ、ｄ＝０．０５２μｍであり、ｄ／ｈ＝０．０３３であった。
【０１８５】
次いで、実施例１と同様にＲ、Ｇ、Ｂ画素を着色したのち、そのカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分ベークすることで、離画壁、各画素共に完全に硬化させた。
【０１８６】
こうして得られたカラーフィルタの、各画素を構成するインクは離画壁間隙にぴったり収まり、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどの欠陥となる不良は見つからなかった。上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に更に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の透明電極をスパッタリングにより形成した。
この、カラーフィルタのＩＴＯ抵抗を測定した（三菱化学（株）製「ロレスタ」；四探針法でシート抵抗を測定）ところ、８Ω／□という非常に低い値を示した。これは、本発明を用いることで離画壁表面の平坦性が高まったためと考えられる。
次いで、実施例１と同様の方法により、配向分割垂直配向型液晶表示装置を作製した。
【０１８７】
［実施例５］
実施例３において、感光性転写材料Ｋ１を下記の感光性転写材料Ｋ２に変更した以外は、実施例３と同様の方法で離画壁を作製した。
次いで、実施例１と同様の方法により、配向分割垂直配向型液晶表示装置を作製した。
【０１８８】
［感光性転写材料Ｋ２の製法］
厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（テイジンデュポンフィルム株式会社製  テトロン  Ｇ２）仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、上記濃色組成物Ｋ１を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が２．０μｍの濃色組成物層を設け、最後に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。
こうして仮支持体と濃色組成物層とが一体となった感光性転写材料を作製し、サンプル名を感光性転写材料Ｋ２とした。
【０１８９】
［比較例１］
実施例１の露光工程において窒素下露光を行う代わりに、大気下露光を行うこと以外は、実施例１と全く同様の処理、操作を行ってブラックマトリックス様離画壁付き基板を得た。このようにして得られた離画壁の光学濃度は３．９であった。
このようにして得られた離画壁の形状を、実施例１と同様の手順で観察したところ、ｈ＝１．７μｍ、ｄ＝０．１４μｍ、ｄ／ｈ＝０．０８２であった。次いで、実施例１と同様にＲ、Ｇ、Ｂ画素を着色後、同条件にてベークしたところ、インクは離画壁を乗り越えてしまい、隣接画素との混色が起こってしまっていた。また、実施例と同様にＩＴＯ抵抗を測定したところ、２２Ω／□であり、ブラックマトリックス表面の平坦性はあまり高いものではなかった。
次いで、実施例１と同様の方法により、配向分割垂直配向型液晶表示装置を作製した。
【０１９０】
［評価］
−ＩＴＯ抵抗値−
ＩＴＯ膜を形成したカラーフィルタのＩＴＯ抵抗を、三菱化学（株）製「ロレスタ」；四探針法でシート抵抗を測定した。
【０１９１】
−表示ムラ−
液晶表示装置にグレイのテスト信号を入力させた際にムラの発生の有無を、目視及びルーペにて観察し、下記の基準に従って判断した。
〔基準〕
○：ムラがほとんど観察されなかった。
△：ムラが若干観察された。
×：ムラが顕著に確認できた。
以上の結果を表２にまとめて示す。また、実施例と比較例のカラーフィルタの断面形状の概念図を図７に示す。
【０１９２】
【表２】
2007163978.tif 000006
【０１９３】
表２より、本発明よりなる液晶表示装置はITO抵抗値が低く、表示ムラもない高品位なものであることが分かる。これは、本発明によってRGBインク打滴時のインク乗り越え等を抑えることができた事も要因の一つであると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０１９４】
【図１】離画壁の形状を説明するための模式断面図である。
【図２】カラーフィルタのパターンを示す概念図である。
【図３】（ａ）は、本発明のＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの一実施形態に係る一画素を拡大して示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）におけるＡ−Ａ’線の断面図である。
【図４】（ａ）は、図３に示すＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタに、ＴＦＴ側基板を配置しＭＶＡ−ＬＣＤとした際の状態を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）におけるＢ−Ｂ’線の断面図であり、（ｃ）は一画素内での液晶分子の傾斜方向を示す図である。
【図５】（ａ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの他の実施形態に係る一画素を拡大して示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）におけるＣ−Ｃ’線の断面図であり、（ｃ）は一画素内での液晶分子の傾斜方向を示す図である。
【図６】本発明のＭＶＡ−ＬＣＤの一実施形態を示す断面図である。
【図７】実施例と比較例のカラーフィルタの断面形状の概念図である。
【符号の説明】
【０１９５】
１０  液晶表示装置
１１、２８  ガラス基板
１２  アレイ基板
１４  対向基板
１６  液晶層
１８  シール材
２０  信号線
２２  画素電極
２４  ＴＦＴ
２６、３３  配向膜
３０  着色画素層
３２  対向電極
３４  離画壁
３５Ｇ、３５Ｂ、３５Ｒ  着色画素
４０  配向分割用突起
４２  柱状スペーサー
４４、４５  偏光板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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