(57)【要約】【課題】過酷な環境下に長期間おかれても、Ｖ溝基板および蓋板とこれらに接着剤で固定された光ファイバとが剥離しにくく、光ファイバの光軸が初期位置から位置ずれを起こしにくいため、良好な特性を維持することのできる光ファイバアレイおよびその製造方法を提供する。【解決手段】Ｖ溝基板上に平行に形成された複数のＶ溝に、端部の被覆を除去した複数本の光ファイバを整列配置し、前記光ファイバに被せる蓋板と前記Ｖ溝基板との間に前記各光ファイバを接着剤で固定した光ファイバアレイにおいて、前記Ｖ溝基板および蓋板と前記各光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が、５ｎｍ〜１０００ｎｍである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｖ溝基板上に平行に形成された複数のＶ溝に、端部の被覆を除去した複数本の光ファイバを整列配置し蓋板で押さえ、前記蓋板と前記Ｖ溝基板と前記複数の光ファイバを接着剤で固定した光ファイバアレイにおいて、
前記Ｖ溝基板および蓋板と前記複数の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が、５ｎｍ〜１０００ｎｍであることを特徴とする光ファイバアレイ。
【請求項２】
前記Ｖ溝基板の各Ｖ溝と前記複数の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が、５ｎｍ〜１０００ｎｍであり、前記蓋板と前記複数の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が、５ｎｍ〜５００ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の光ファイバアレイ。
【請求項３】
前記複数の光ファイバの外径の平均値ｄからの偏差Δｄが、０．３μｍ以下であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の光ファイバアレイ。
【請求項４】
前記複数の光ファイバのコア偏芯Δｅが、０．４μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の光ファイバアレイ。
【請求項５】
前記複数の光ファイバの被覆除去部における外径の平均値ｄからの偏差Δｄと、コア偏芯Δｅとの和が、０．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項記載の光ファイバアレイ。
【請求項６】
前記接着剤は、硬化前の粘度が０．１〜３．０Ｐａ・ｓ（１００〜３０００ｃＰ（ｃｐｓ））の紫外線硬化型または熱硬化型の樹脂であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項記載の光ファイバアレイ。
【請求項７】
前記接着剤は、硬化後のヤング率が５００ＭＰａ以上、硬化収縮率が５％以下の紫外線硬化型または熱硬化型のエポキシ系樹脂であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項記載の光ファイバアレイ。
【請求項８】
Ｖ溝基板上に平行に形成された複数のＶ溝に、端部の被覆を除去した複数本の光ファイバをその先端が前記Ｖ溝基板の端面から突出した状態で整列配置する工程と、
前記複数本の光ファイバに蓋板を被せ、第１の荷重を印加することにより前記複数本の光ファイバを前記Ｖ溝基板と前記蓋板とで挟持する工程と、
前記光ファイバの突出した先端に接着剤を塗布し、前記複数本の光ファイバを挟持した前記Ｖ溝基板と前記蓋板とで形成される空間に接着剤をその表面張力によって浸透させる工程と、
前記蓋板に前記第１の荷重よりも大きい第２の荷重を印加しながら前記接着剤を硬化させて、前記複数本の光ファイバを前記Ｖ溝基板および前記蓋板と一体に固定する工程と、
前記複数本の光ファイバの突出した先端を除去して、前記Ｖ溝基板および前記蓋板の端面とほぼ合致させる前記複数本の光ファイバの端面を形成する工程と、
を含むことを特徴とする光ファイバアレイの製造方法。
【請求項９】
前記Ｖ溝基板および蓋板と前記複数本の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が５ｎｍ〜１０００ｎｍになるように、前記第１の荷重および第２の荷重を選択することを特徴とする請求項８記載の光ファイバアレイの製造方法。
【請求項１０】
前記Ｖ溝基板のＶ溝と前記複数の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が５ｎｍ〜１０００ｎｍになり、前記蓋板と前記複数の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が５ｎｍ〜５００ｎｍになるように、前記第１の荷重および第２の荷重を選択することを特徴とする請求項８記載の光ファイバアレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光ファイバアレイおよびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、通信分野を中心として光ファイバに注目が集まっている。特にＩＴ（情報技術）分野においては、高速インターネット網の整備に、光ファイバを用いた通信技術が必要となる。
【０００３】
光ファイバは、低損失、高帯域、細径・軽量、無誘導、省資源等の特徴を有しており、このような光ファイバを用いた通信システムは、従来のメタリックケーブルを用いた通信システムに比べ、中継器数を大幅に削減することができ、建設、保守が容易になり、通信システムの経済性、信頼性の向上を図ることができる。
【０００４】
また、光ファイバは、一つの波長の光だけでなく、多くの異なる波長の光を１本の光ファイバで同時に多重伝送することができるため、多様な用途に対応可能な大容量の伝送路を実現することができ、映像サービス等にも対応することができるという大きな利点を有する。
【０００５】
また、光ファイバを用いた光通信においては、複数の光ファイバが並列に配置され、その周囲に被覆樹脂層が形成された光ファイバリボンが用いられている。そして、この光ファイバリボンを、受光素子や発光素子、各種端末機器（パソコン、モバイル、ゲーム等）と接続するには、通常、光ファイバリボンの端部の被覆樹脂層を除去することにより、複数の光ファイバの端部を露出させ、この露出した光ファイバをＶ溝を有する基板の溝に載置、固定し、さらに、露出した光ファイバを覆う蓋部を接着層を介して基板に取り付けることにより、複数の光ファイバが所定の間隔で離間して配置された光ファイバアレイが用いられている。
【０００６】
このような光ファイバアレイは、例えば特許文献１に開示されているように、複数本の光ファイバを並列させる光ファイバ位置決め用の多数のＶ溝が設けられたＶ溝基板に複数本の光ファイバをその先端がＶ溝基板の端面から突出した状態で並列し、次いで前記Ｖ溝の開口側に蓋を被せて光ファイバをＶ溝と蓋とで挟持し、次いで光ファイバ突出部に接着剤を塗布し、その表面張力によって接着剤を挟持部に浸透させ、次いで接着剤を硬化させて光ファイバをＶ溝基板に固定し、次いで光ファイバ突出部を除去してＶ溝基板の端面と合致する光ファイバ端面を形成して製造される。
【特許文献１】特開２００５−１８１７２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述するような光ファイバアレイは野外の過酷な環境下におかれることが多く、６０℃の高温から−４０℃の低温に曝されたり、砂漠環境や高温多湿の環境に曝されたりする。光ファイバアレイはこうした過酷な環境下で、長期間安定して良好な特性を維持しなければならない。
【０００８】
ところが、従来の光ファイバアレイは、上記のような過酷な環境下に長期間曝された場合、経時変化により光ファイバを固定している基板と蓋とが剥がれて、光ファイバの固定が不安定になる現象があった。
【０００９】
この現象は、光ファイバアレイの製造時に、溝部および蓋部と光ファイバが接している部分に接着剤が完全に回り込むことができずに硬化してしまうため、過酷な環境下に曝されると、接着剤と基板、或いは接着剤と蓋板の熱膨張率の違いにより、溝部および蓋部と光ファイバの接する部分に応力が集中し、剥離を引き起こすことが原因である。
【００１０】
また、光ファイバは光軸が所定位置からずれると、接続している光学部品との間で伝送損失が大きくなってしまうため、例えば０．５μｍ以下といった極めて高い位置精度が要求されている。
【００１１】
また、従来の光ファイバアレイでは、Ｖ溝基板や蓋部の寸法精度および接着剤の特性にのみ言及されており、複合材料であるはずの「光ファイバ」の寸法に言及したものはなかった。例えば、光ファイバの外径を「１２５μｍ」という場合、この１２５μｍという数値は公称値であり、実際は、ＪＩＳ  Ｃ６８３５に記載されているように、１２４μｍ〜１２６μｍまでバラついた外径の光ファイバで構成されている。このため、いくらＶ溝基板や蓋部の寸法精度を管理しても、光ファイバ自身の寸法精度を向上させないことには、所望の伝送特性を確保することができなかった。
【００１２】
この発明は、上記課題を解決するために為されたものであり、過酷な環境下に長期間おかれても、Ｖ溝基板および蓋板とこれらに接着剤で固定された光ファイバとが剥離しにくく、光ファイバの光軸が初期位置から位置ずれを起こしにくいため、良好な特性を維持することのできる光ファイバアレイおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１３】
なお、本明細書で用いる用語は、特に規定されていない限り、ＪＩＳ  Ｃ６８３５で規定された用語の定義に従うものとする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
この発明の請求項１に係る光ファイバアレイは、Ｖ溝基板上に平行に形成された複数のＶ溝に、端部の被覆を除去した複数本の光ファイバを整列配置し蓋板で押さえ、前記蓋板と前記Ｖ溝基板と前記複数の光ファイバを接着剤で固定した光ファイバアレイにおいて、前記Ｖ溝基板および蓋板と前記複数の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が、５ｎｍ〜１０００ｎｍであることを特徴とするものである。
【００１５】
この発明の請求項２に係る光ファイバアレイは、請求項１記載の光ファイバアレイにおいて、前記Ｖ溝基板の各Ｖ溝と前記複数の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が、５ｎｍ〜１０００ｎｍであり、前記蓋板と前記複数の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が、５ｎｍ〜５００ｎｍであることを特徴とするものである。
【００１６】
この発明の請求項３に係る光ファイバアレイは、請求項１または請求項２記載の光ファイバアレイにおいて、前記複数の光ファイバの外径の平均値ｄからの偏差Δｄが、０．３μｍ以下であることを特徴とするものである。
【００１７】
この発明の請求項４に係る光ファイバアレイは、請求項１〜３のいずれか１項記載の光ファイバアレイにおいて、前記複数の光ファイバのコア偏芯Δｅが、０．４μｍ以下であることを特徴とするものである。
【００１８】
この発明の請求項５に係る光ファイバアレイは、請求項１〜４のいずれか１項記載の光ファイバアレイにおいて、前記複数の光ファイバの被覆除去部における外径の平均値ｄからの偏差Δｄと、コア偏芯Δｅとの和が、０．５μｍ以下であることを特徴とするものである。
【００１９】
この発明の請求項６に係る光ファイバアレイは、請求項１〜５のいずれか１項記載の光ファイバアレイにおいて、前記接着剤は、硬化前の粘度が０．１〜３．０Ｐａ・ｓ（１００〜３０００ｃＰ（ｃｐｓ））の紫外線硬化型または熱硬化型の樹脂であることを特徴とするものである。
【００２０】
この発明の請求項７に係る光ファイバアレイは、請求項１〜６のいずれか１項記載の光ファイバアレイにおいて、前記接着剤は、硬化後のヤング率が５００ＭＰａ以上、硬化収縮率が５％以下の紫外線硬化型または熱硬化型のエポキシ系樹脂であることを特徴とするものである。
【００２１】
この発明の請求項８に係る光ファイバアレイの製造方法は、Ｖ溝基板上に平行に形成された複数のＶ溝に、端部の被覆を除去した複数本の光ファイバをその先端が前記Ｖ溝基板の端面から突出した状態で整列配置する工程と、前記複数本の光ファイバに蓋板を被せ、第１の荷重を印加することにより前記複数本の光ファイバを前記Ｖ溝基板と前記蓋板とで挟持する工程と、前記光ファイバの突出した先端に接着剤を塗布し、前記複数本の光ファイバを挟持した前記Ｖ溝基板と前記蓋板とで形成される空間に接着剤をその表面張力によって浸透させる工程と、前記蓋板に前記第１の荷重よりも大きい第２の荷重を印加しながら前記接着剤を硬化させて、前記複数本の光ファイバを前記Ｖ溝基板および前記蓋板と一体に固定する工程と、前記複数本の光ファイバの突出した先端を除去して、前記Ｖ溝基板および前記蓋板の端面とほぼ合致させる前記複数本の光ファイバの端面を形成する工程と、を含むことを特徴とするものである。
【００２２】
この発明の請求項９に係る光ファイバアレイの製造方法は、請求項８記載の光ファイバアレイの製造方法において、前記Ｖ溝基板および蓋板と前記複数本の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が５ｎｍ〜１０００ｎｍになるように、前記第１の荷重および第２の荷重を選択することを特徴とするものである。
【００２３】
この発明の請求項１０に係る光ファイバアレイの製造方法は、請求項８記載の光ファイバアレイの製造方法において、前記Ｖ溝基板のＶ溝と前記複数の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が５ｎｍ〜１０００ｎｍになり、前記蓋板と前記複数の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が５ｎｍ〜５００ｎｍになるように、前記第１の荷重および第２の荷重を選択することを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００２４】
この発明は以上のように、Ｖ溝基板上に平行に形成された複数のＶ溝に、端部の被覆を除去した複数本の光ファイバを整列配置し蓋板で押さえ、前記蓋板と前記Ｖ溝基板と前記複数の光ファイバを接着剤で固定した光ファイバアレイにおいて、前記Ｖ溝基板および蓋板と前記複数の光ファイバとの間の接着剤層の厚さの最小値が、５ｎｍ〜１０００ｎｍであるように構成したので、過酷な環境下に長期間おかれても、Ｖ溝基板および蓋板とこれらに接着剤で固定された光ファイバとが剥離しにくく、光ファイバの光軸が初期位置から位置ずれを起こしにくいため、良好な特性を維持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
この発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。
【００２６】
図１は、この発明による光ファイバアレイの一実施形態を示す概略的端面図であり、この光ファイバアレイ１０は、複数本の光ファイバとして、例えば、４本の光ファイバを備えた光ファイバアレイである。
【００２７】
すなわち、光ファイバアレイ１０は、Ｖ溝基板２０上に平行に形成された複数（４個）のＶ溝２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄに、端部の被覆を除去した複数本（４本）の光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄを整列配置し、光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに被せる蓋板３０とＶ溝基板２０および各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄを接着剤４０で固定したものである。
【００２８】
Ｖ溝基板２０上に形成された各Ｖ溝２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄの開き角は、例えば６０°である。また、各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの半径は、例えば６２．５μｍである。
【００２９】
そして、この光ファイバアレイ１０は、Ｖ溝基板２０および蓋板３０と各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄとの間の接着剤４０の層の厚さｔｇ，ｔｃの最小値が、５ｎｍ〜１０００ｎｍであることを規定している。
【００３０】
なお、Ｖ溝基板２０の各Ｖ溝２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄと各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄとの間の接着剤４０の層の厚さｔｇの最小値は、５ｎｍ〜１０００ｎｍであることが望ましい。また、蓋板３０と各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄとの間の接着剤４０の層の厚さｔｃの最小値は、５ｎｍ〜５００ｎｍであることが望ましい。
【００３１】
各Ｖ溝２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄと各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄとの間、および、蓋板３０と各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄとの間の接着剤４０の層の厚さｔｇ，ｔｃの最小値をこの範囲にすることで、後述する試験結果に示すように、接着剤４０の層が、過酷な環境下におけるＶ溝基板２０や蓋板３０と接着剤４０との熱膨張率の違いから発生する応力を吸収することができる。
【００３２】
そのため、過酷な環境下に長期間おかれても、Ｖ溝基板２０および蓋板３０とこれらに接着剤４０で固定された各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄとが剥離しにくく、各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの光軸が初期位置から位置ずれを起こしにくいため、良好で安定した特性を維持することができる。
【００３３】
すなわち、例えば、任意の光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの光軸が所定位置からずれることに起因して、接続している光学部品との間で伝送損失が増加することを、未然に防止することができる。
【００３４】
また、この光ファイバアレイ１０は、各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの外径ｄの平均値からの偏差Δｄが、０．３μｍ以下であることが望ましい。
【００３５】
また、この光ファイバアレイ１０は、各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄのコア偏芯Δｅが、０．４μｍ以下であることが望ましい。
【００３６】
また、この光ファイバアレイ１０は、各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの外径の平均値ｄからの偏差Δｄと、コア偏芯Δｅとの和が、０．５μｍ以下であることが望ましい。
【００３７】
これらの偏差Δｄ、コア偏芯Δｅの条件を満たすことで、光ファイバアレイ１０を構成する各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄのバラツキを抑えることができ、各Ｖ溝２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄと各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄとの間、および、蓋板３０と各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄとの間の接着剤４０の層の厚さｔｇ，ｔｃの最小値を所定範囲に制限するうえで有効である。
【００３８】
また、この光ファイバアレイ１０において、接着剤４０は、硬化前の粘度が０．１〜３．０Ｐａ・ｓ（１００〜３０００ｃＰ（ｃｐｓ））の紫外線硬化型または熱硬化型の樹脂であることが望ましい。
【００３９】
接着剤４０の硬化前の粘度が０．１Ｐａ・ｓ（１００ｃＰ（ｃｐｓ））未満では、粘度が低すぎるため、Ｖ溝基板２０および蓋板３０と各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄとで構成される間隙に流し込んだ紫外線硬化型樹脂組成物が硬化前に流出してくるおそれがあり、また、接着剤４０の硬化前の粘度が３．０Ｐａ・ｓ（３０００ｃＰ（ｃｐｓ））を超えると、前記間隙が確実に充填されないことがあるからである。
【００４０】
さらに、接着剤４０は、硬化後のヤング率が５００ＭＰａ以上、硬化収縮率が５％以下の紫外線硬化型または熱硬化型のエポキシ系樹脂であることが望ましい。
【００４１】
このような物性の接着剤４０を選定することで、Ｖ溝基板２０および蓋板３０と各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄとが接着剤４０によって固定され、次工程以降での研磨等の取り扱いで、各光ファイバ１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの先端が欠けたり破断することを低減することができる。
【００４２】
ここで、上記のような光ファイバアレイ１０において、光ファイバとして用いるのに適した光ファイバテープ心線と、その使用方法について、図２、図３を参照して説明する。
【００４３】
光ファイバテープ心線は、紫外線硬化型樹脂を被覆した光ファイバを多心数横一列に並べて一括被覆したものである。そして、光ファイバアレイ１０を構成するには、２枚の光ファイバテープ心線１Ａ，１Ｂの端部の被覆を除去して各光ファイバを交互に配置して横一列に並べる。
【００４４】
例えば、４心の光ファイバテープ心線１Ａの場合、端部の被覆を除去して４本の光ファイバ１Ａａ，１Ａｂ，１Ａｃ，１Ａｄを形成する。同様に、４心の光ファイバテープ心線１Ｂの場合も、端部の被覆を除去して４本の光ファイバ１Ｂａ，１Ｂｂ，１Ｂｃ，１Ｂｄを形成する。
【００４５】
そして、光ファイバテープ心線１Ａの光ファイバ１Ａａ，１Ａｂ，１Ａｃ，１Ａｄと、光ファイバテープ心線１Ｂの光ファイバ１Ｂａ，１Ｂｂ，１Ｂｃ，１Ｂｄとを交互に配置することで、横一列に並んだ８本の光ファイバ１Ａａ，１Ｂａ，１Ａｂ，１Ｂｂ，１Ａｃ，１Ｂｃ，１Ａｄ，１Ｂｄを構成する。
【００４６】
そのうえで、この８本の光ファイバ１Ａａ，１Ｂａ，１Ａｂ，１Ｂｂ，１Ａｃ，１Ｂｃ，１Ａｄ，１Ｂｄを、Ｖ溝基板２０上に平行に形成された少なくとも８個のＶ溝２１ａ〜２１ｈに１本ずつ配置し、蓋板３０を被せて接着剤４０で固定することで、８本の光ファイバ１Ａａ〜１Ｂｄを備えた光ファイバアレイ１０を構成することができる。
【００４７】
次に、上記の光ファイバアレイ１０の製造方法について説明する。
【００４８】
（１）まず、Ｖ溝基板２０上に平行に形成された複数のＶ溝２１ａ，２１ｂ，…に、端部の被覆を除去した複数本の光ファイバ１ａ，１ｂ，…を、その先端がＶ溝基板２０の端面から突出した状態で整列配置する。
【００４９】
例えば、１６本の光ファイバ１ａ〜１ｐで光ファイバアレイ１０を構成する場合、少なくとも１６個のＶ溝２１ａ〜２１ｐを有するＶ溝基板２０を準備する。
【００５０】
そして、２枚の８心光ファイバテープ心線１Ａ，１Ｂの被覆を除去し、各光ファイバ１Ａａ〜１Ａｈ，１Ｂａ〜１Ｂｈを所定長さ露出させ、上下２段に重ね合わせる。
【００５１】
重ね合わせた２枚の光ファイバテープ心線１Ａ，１Ｂの各光ファイバ１Ａａ〜１Ａｈ，１Ｂａ〜１Ｂｈを交互に配置することで横一列に並べた後、１６個のＶ溝２１ａ〜２１ｐに１本ずつ配置する。
【００５２】
（２）つぎに、光ファイバ１ａ，１ｂ，…に蓋板３０を被せ、第１の荷重を印加することにより、各光ファイバ１ａ，１ｂ，…をＶ溝基板２０と蓋板３０とで挟持する。
【００５３】
例えば、１６本の光ファイバ１ａ〜１ｐで光ファイバアレイ１０を構成する場合、各光ファイバ１Ａａ，１Ｂａ，〜，１Ａｈ，１ＢｈをＶ溝２１ａ〜２１ｐと蓋板３０とで挟持する。
【００５４】
このとき、各光ファイバ１Ａａ〜１Ｂｈは、Ｖ溝２１ａ〜２１ｐと被覆部との間で曲げられるため、光ファイバ自体の剛性によりＶ溝から浮き上がろうとする力が発生する。そこで、第１の荷重は、Ｖ溝基板２０と蓋板３０との間隔を調整しながら、各光ファイバ１Ａａ〜１ＢｈがＶ溝２１ａ〜２１ｐに完全に接しないで、多少浮き上がる程度の荷重を選択する。
【００５５】
（３）つぎに、光ファイバ１ａ，１ｂ，…の突出した先端に接着剤４０を塗布し、各光ファイバ１ａ，１ｂ，…を挟持したＶ溝基板２０と蓋板３０とで形成される空間（間隙）に、接着剤４０をその表面張力によって浸透させる。
【００５６】
例えば、１６本の光ファイバ１ａ〜１ｐで光ファイバアレイ１０を構成する場合、各光ファイバ１Ａａ〜１Ｂｈの突出部に接着剤４０を塗布し、その表面張力によって接着剤４０を挟持部に浸透させる。
【００５７】
（４）つぎに、蓋板３０に第１の荷重よりも大きい第２の荷重を印加しながら接着剤４０を硬化させて、各光ファイバ１ａ，１ｂ，…をＶ溝基板２０および蓋板３０と一体に固定する。
【００５８】
このとき、第２の荷重は、各光ファイバ１ａ，１ｂ，…がＶ溝２１ａ，２１ｂ，…に完全に接する程度まで押圧する荷重を選択する。
【００５９】
第１の荷重と第２の荷重を選択することにより、Ｖ溝基板２０および蓋板３０と各光ファイバ１ａ，１ｂ，…との間の接着剤４０の層の厚さｔｇ，ｔｃの最小値が、５ｎｍ〜１０００ｎｍになる。
【００６０】
また、第１の荷重と第２の荷重を選択することにより、Ｖ溝基板２０の各Ｖ溝２１ａ，２１ｂ，…と各光ファイバ１ａ，１ｂ，…との間の接着剤４０の層の厚さｔｇの最小値が、５ｎｍ〜１０００ｎｍになり、また、蓋板３０と各光ファイバ１ａ，１ｂ，…との間の接着剤４０の層の厚さｔｃの最小値が、５ｎｍ〜５００ｎｍになる。
【００６１】
（５）つぎに、光ファイバ１ａ，１ｂ，…の突出した先端を除去して、Ｖ溝基板２０および蓋板３０の端面と合致する各光ファイバ１ａ，１ｂ，…の端面を形成する。
【００６２】
表１は、第１の荷重と第２の荷重を変化させ、それにより接着剤４０の層の厚さを変えて作成した光ファイバアレイに対して、４０種類のサンプルで環境試験（煮沸試験）を行い、剥離と伝送特性を評価した表である。
【００６３】
剥離試験は、光ファイバアレイを沸騰水に入れ、所定時間経過後の剥がれの発生状況を調べたもので、○は剥がれの発生がみられない良好な状態（合格）、×は剥がれが発生した状態（不合格）を示している。
【００６４】
また、伝送特性は、基準となるＰＬＣ（Planar Lightwave Circuit）との接続損失が０．１ｄＢ以下のものは◎（合格）、０．３ｄＢ以下のものには○（合格）、０．５ｄＢ以下のものは△（合格）、０．５ｄＢ超のものには×（不合格）としている。なお、測定波長は１５５０ｎｍである。
【表１】
2007147895.tif 000003
【００６５】
この試験結果から明らかなように、この発明の光ファイバアレイは、過酷な環境下に長期間おかれても、Ｖ溝基板および蓋板とこれらに接着剤で固定された光ファイバとが剥離しにくく、光ファイバの光軸が初期位置から位置ずれを起こしにくいため、良好な特性を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】この発明による光ファイバアレイの一実施形態を示す概略的端面図である。
【図２】２枚の光ファイバテープ心線を示す斜視図である。
【図３】２枚の光ファイバテープ心線の組立配置を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００６７】
１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ  光ファイバ
１Ａ，１Ｂ  光ファイバテープ心線
１Ａａ，１Ａｂ，１Ａｃ，１Ａｄ  光ファイバ
１Ｂａ，１Ｂｂ，１Ｂｃ，１Ｂｄ  光ファイバ
１０  光ファイバアレイ
２０  Ｖ溝基板
２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ  Ｖ溝
３０  蓋板
４０  接着剤
【図１】
2007147895.tif 000004
【図２】
2007147895.tif 000005
【図３】
2007147895.tif 000006