(57)【要約】【課題】電子写真用トナー等の製造工場における水系分散体の製造工程から排出される、固形分を含む排水の処理を効率的に行い、凝集剤の使用量及び汚泥の発生量を削減する。【解決手段】水性塗料、電子写真用トナー等の製造工場における、界面活性剤、着色剤及びシリカを含む水系分散体の製造工程から排出される、固形分を含む排水の処理の凝集反応工程において、排水のｐＨを４〜６の範囲としてシリカの表面電位を＋２０ｍＶ〜−２０ｍＶの範囲とすることにより、処理を効率的に行うことができ、凝集剤の使用量及び汚泥の発生量を削減することができる。【選択図】図１
2007029802.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
界面活性剤、着色剤及びシリカを含む水系分散体を製造する工程から排出される、固形分を含む排水を処理対象とする排水処理方法であって、
排水への凝集剤の添加及び凝集反応を行う反応工程と、
前記反応工程で凝集反応した凝集物からフロックを形成するフロック形成工程と、
前記フロックと分離液とに分離する分離工程と、
を含み、
前記反応工程において、前記排水のｐＨを４〜６の範囲としてシリカの表面電位を＋２０ｍＶ〜−２０ｍＶの範囲とすることを特徴とする排水処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載の排水処理方法であって、
前記分離工程において、遠心分離により前記フロックと前記分離液とに分離することを特徴とする排水処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真用トナー（静電荷像現像用トナー）等を製造する工程から排出される、固形分を含む排水を処理対象とする排水処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
水性塗料、電子写真用トナー等の製造工場における水系分散体の製造工程では、着色剤分散液等を含有する排水が発生する。これらの排水には、着色剤成分である顔料等の他に、顔料等の分散性を上げるために界面活性剤や、内添剤としてシリカが含まれているため、固形分濃度とともに化学的酸素要求量（ＣＯＤ）が大きく、このままの状態で河川や下水道等に排出することはできない。このため、これらの排水は、工場内の排水処理施設にて処理された後に外部に排出される。
【０００３】
特に、近年、電子写真用トナーの製造方法として、従来の混練粉砕法に代わり、乳化重合法によるトナーを始め、懸濁重合法、溶解懸濁法などの各種化学的トナー製法が開発され、実施されている。例えば乳化重合法では、結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させて形成された樹脂分散液と着色剤、離型剤、シリカ等の帯電制御剤等を界面活性剤の存在下、水系溶媒中で撹拌・混合しながら、凝集、加熱融合させ、所定の粒径、粒度、形状、構造を有する着色樹脂粒子であるトナー粒子を作製するが、この過程で界面活性剤水溶液や、顔料分散液、離型剤分散液、エマルション水溶液、シリカ分散液、装置洗浄排水等、固形分を含有する排水が発生する。
【０００４】
通常、一般の排水処理としては、凝集沈殿処理が利用される場合が多い。凝集沈殿処理とは、非特許文献１（１４１〜１５３ページ）に記載されているように、排水処理の分野において最も一般的に用いられている固液分離操作であり、広く用いられている。凝集沈殿処理は、排水に凝集剤を添加することによりフロック（凝集により生じた粗大粒子）を生じさせ、水とフロックとの比重差により、フロックを沈殿させ固液分離を行う処理方法である。こうして固体として分離されたフロックは、産業廃棄物の汚泥として処理され、固体を分離した水は、化学的酸素要求量が低減し、河川や下水道等へ排出されている。これらの固液分離した後の汚泥は、そのまま加圧ろ過脱水装置にて脱水処理される場合が多い。加圧ろ過脱水装置とは、非特許文献１（１８２ページ）にも記載されているように、排水処理の分野において最も一般的に用いられている脱水装置である。
【０００５】
特許文献１では、有機汚染物質含有排水を固液分離する排水処理方法において、発生した汚泥の一部を、被処理原水側に戻して循環することにより、汚泥の最終処理が容易な排水処理方法が開示されている。また、特許文献２では、エマルション排水の処理に、加圧浮上分離を行う方法が開示されている。
【０００６】
また、特許文献３には、シリコン微粒子及び／又はコロイドシリカ含有排水を凝集処理する方法が開示されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平７−１３６４０８号公報
【特許文献２】特開平９−２２５４７４号公報
【特許文献３】特開２００４−２６１７０８号公報
【非特許文献１】通商産業省環境立地局監修、「五訂  公害防止の技術と法規（水質編）」、平成１３年発行、１４１〜１５３ページ、１８２ページ
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１に記載の方法を用いると、排水に表面電位（ゼータ電位）が例えば−２０ｍＶ未満−１００ｍＶ以上であるシリカ粒子が多く含まれる場合、凝集剤を添加しても懸濁物質が凝集してできるフロックの成長が不十分で、汚泥が沈降しにくいという問題を生じてしまう。フロックの成長が不十分である原因としては、シリカ粒子表面に存在する−ＳｉＯＨ基や−ＯＨイオンが、排水中に含まれるアルカリイオンと電気的な架橋構造を形成することにより粒子表面が−２０ｍＶ未満−１００ｍＶ以上に帯電し、この静電反発力で粒子が凝集せず分散状態になるためと推定される。
【０００９】
また、非特許文献１には、凝集時に使用する凝集剤に応じて適したｐＨ範囲があり、アルミニウム系凝集剤の場合はｐＨ６〜８の範囲が適し、鉄系凝集剤の場合にはｐＨ９〜１１の範囲が適するとの記載がある。しかし、このｐＨ範囲では界面活性剤及びシリカ含有排水の処理は困難である。
【００１０】
また、特許文献２に記載の方法は、エマルション排水の処理は可能であるが、トナー製造工場から発生する全ての種類の排水にそのまま適用することはできない。
【００１１】
また、特許文献３に記載されているｐＨ処理条件であるｐＨ６．５〜７の範囲では、界面活性剤及びシリカ含有排水の処理は困難である。
【００１２】
また、例えば、電子写真用トナーの乳化重合法、懸濁重合法、溶解懸濁法等の化学的トナー製法による製造工程から発生する、界面活性剤、着色剤、離型剤、シリカ、その他多成分を含有する排水の凝集沈殿処理では、沈殿槽等におけるフロックの沈降性が悪く、特に、固形分濃度あるいは化学的酸素要求量が低い排水の固液分離に際し非常に長時間の沈降処理が要求される。さらに、排水中に含まれる少量の固形分を凝集沈殿処理するために、多量の凝集剤を使用すると、産業廃棄物として処理する汚泥が多量に発生するという問題がある。
【００１３】
本発明は、水性塗料、電子写真用トナー等の製造工場における水系分散体の製造工程から排出される、固形分を含む排水の処理を効率的に行い、凝集剤の使用量及び汚泥の発生量を削減することができる排水処理方法である。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、界面活性剤、着色剤及びシリカを含む水系分散体を製造する工程から排出される、固形分を含む排水を処理対象とする排水処理方法であって、排水への凝集剤の添加及び凝集反応を行う反応工程と、前記反応工程で凝集反応した凝集物からフロックを形成するフロック形成工程と、前記フロックと分離液とに分離する分離工程と、を含み、前記反応工程において、前記排水のｐＨを４〜６の範囲としてシリカの表面電位を＋２０ｍＶ〜−２０ｍＶの範囲とする。
【００１５】
また、前記排水処理方法の分離工程において、遠心分離により前記フロックと前記分離液とに分離することが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、水性塗料、電子写真用トナー等の製造工場における、界面活性剤、着色剤及びシリカを含む水系分散体の製造工程から排出される、固形分を含む排水の処理の凝集反応工程において、排水のｐＨを４〜６の範囲としてシリカの表面電位を＋２０ｍＶ〜−２０ｍＶの範囲とすることにより、処理を効率的に行うことができ、凝集剤の使用量及び汚泥の発生量を削減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の実施の形態について以下説明する。ここでは、電子写真用トナー製造工程を例にして、本発明の実施の形態に係る排水処理方法を説明する。
【００１８】
本発明者らが検討した結果によれば、トナー製造工程から排出される、界面活性剤水溶液や、顔料分散液、離型剤分散液、エマルション水溶液、シリカ分散液等の排液において、全排水量に対して３０〜７０重量％を占める固形分濃度が低い排水、例えば、界面活性剤水溶液を含有する排水と、固形分濃度が高い排水とを混合すると、界面活性剤の作用により、凝集沈殿処理における沈降時間が長くなり、また、凝集沈殿させるために使用する無機凝集剤、例えば塩化第二鉄等の添加量が増加し、その結果、凝集沈殿物の量、つまり産業廃棄物として処理する汚泥が多量に発生する。これは、無機凝集剤として使用している塩化第二鉄等の無機塩の一定量が、排水中に含まれる界面活性剤と電荷中和反応し、凝集剤としての作用を阻害しているためであると考えられる。また、固形分濃度が低い排水に対して凝集沈殿処理を行う場合でも、一定量の凝集剤が常に必要であるが、そのような固形分濃度が低い排水が全排水量に対して３０〜７０重量％を占めるため、多量の凝集剤を使用する結果となっていた。
【００１９】
さらに、本発明者らの研究によれば、界面活性剤水溶液を含有する排水に、表面電位（ゼータ電位）が−２０ｍＶ未満−１００ｍＶ以上であるシリカを含有する排水を混合すると、界面活性剤の作用により、シリカの分散状態がより安定することから、凝集沈殿処理での沈降時間が長くなり、また、凝集沈殿させるために使用する無機凝集剤、例えば塩化第二鉄の添加量が増加し、その結果、凝集沈殿物の量、つまり、産業廃棄物として処理する汚泥が多量に発生する。これは、無機凝集剤として使用している塩化第二鉄の一定量が、排水中に含まれるシリカおよび、それを排水中で安定に分散させている界面活性剤と電荷中和反応し、凝集剤としての作用を阻害しているためである。
【００２０】
そこで、本発明者らは鋭意検討の結果、トナー製造工程等から発生する、固形分を含む排水の処理において、粒子表面のゼータ電位が−２０ｍＶ未満−１００ｍＶ以上であるシリカを含む排水に対して、凝集剤を添加して凝集処理を行う際に、排水のｐＨを４〜６に調整することにより、シリカ表面のゼータ電位が＋２０ｍＶ〜−２０ｍＶの範囲になり、粒子間引力が表面電位による反発力を上回ることで凝集を促進でき、凝集剤の使用量及び汚泥の発生量を削減することができることを見出した。
【００２１】
また、このようにして得られた凝集処理水についてフロックを形成させた後、遠心分離装置（デカンタ、多孔板式遠心沈降機等）を用いた遠心分離によりフロックと分離液とに分離する濃縮処理を施した後、得られた濃縮液を加圧ろ過機（フィルタプレス、加圧葉状ろ過機、加圧ヌッチェ等）を使用し、固形分を分離除去することにより、固液分離時間を大幅に短縮することが可能であることを見出した。
【００２２】
上記凝集処理と遠心分離による濃縮処理とを組み合わせることにより、シリカを含む排水処理で使用する凝集剤の使用量と汚泥発生量を大幅に低減できると共に、排水処理に要する時間も短縮されるため、生産性も大幅に改善される。
【００２３】
［排水処理方法］
本実施形態に係る排水処理方法について、図面を用いて以下に具体的に説明するが、これに限定されるものではない。
【００２４】
図１には本実施形態に係る排水処理方法を行うための排水処理装置の一例の概略図を示す。
【００２５】
本実施形態に係る排水処理装置の一例である排水処理装置１は、図１に示すように、原水槽１０と、反応槽１２と、凝集槽１４と、凝集沈殿槽１６と、生物処理槽１８と、後沈殿槽２０と、砂ろ過装置２２と、活性炭ろ過吸着装置２４と、汚泥濃縮槽２６、脱水装置２８とを備える。
【００２６】
さらに詳細に説明すると、排水処理装置１において、原水槽１０、反応槽１２、凝集槽１４、凝集沈殿槽１６、生物処理槽１８、後沈殿槽２０、砂ろ過装置２２、活性炭ろ過吸着装置２４の入口と出口とがそれぞれ直列に配管等を介して接続されている。また、脱水装置２８の入口は、後沈殿槽２０下部の出口に配管等を介して接続されている。
【００２７】
本実施形態に係る排水処理方法を図１を参照して説明する。
【００２８】
トナー製造工程から排出される排水に対しては、まず凝集沈殿処理が行われる。凝集沈殿処理は、反応槽１２における、排水のｐＨ調整と凝集剤の添加及び凝集反応を行う反応工程と、凝集槽１４における、反応工程で凝集反応した凝集物から沈殿しやすい粗大フロックを形成するフロック形成工程と、凝集沈殿槽１６における、フロックと分離液とに分離する分離工程と、を含む。
【００２９】
まず排水は、原水槽１０に一時的に貯留される。排水は、少なくとも表面電位（ゼータ電位）が−２０ｍＶ未満−１００ｍＶ以上であるシリカを含むが、含まれるシリカの表面電位はこの範囲外でもかまわない。その後、反応槽１２において撹拌羽根等の撹拌手段により急速撹拌されながらポンプ等により凝集剤が添加され、凝集反応が行われる（反応工程）。その後、凝集反応が行われた反応液は、凝集槽１４に送液される。
【００３０】
この反応工程では、反応槽１２において、酸（塩酸、硫酸等）あるいはアルカリ（水酸化ナトリウム水溶液等）を添加し、ｐＨ４〜６に調整してシリカ粒子の表面電位（ゼータ電位）を＋２０ｍＶ〜−２０ｍＶの範囲にする。これにより、粒子間引力が表面電位による反発力を上回ることで凝集が促進され、塩化第二鉄等の凝集剤を添加することによりシリカを含む凝集物が形成される。凝集剤の添加は、酸あるいはアルカリを添加してｐＨが４〜６を維持するようにして行う。ｐＨの範囲は、ｐＨ５〜６の範囲であることが好ましく、ｐＨ５．６〜６．０の範囲であることがより好ましい。ｐＨが６より高いと、凝集反応が十分でなく着色成分等が除去出来ない場合があり、また、着色成分を除去するには多量の凝集剤を必要とする。また、ｐＨが４より低いと、無機系凝集剤より生成した水酸化物の溶解度が増加し凝集剤由来の着色が残る場合がある。特に、凝集剤として塩化第二鉄を用い、反応槽１２におけるｐＨを５．６〜６．０の範囲とすることにより優れた凝集効果を発揮することができる。
【００３１】
本実施形態では、反応工程においてｐＨ４〜６に調整してシリカ粒子の表面電位（ゼータ電位）を＋２０ｍＶ〜−２０ｍＶの範囲にするが、シリカ粒子の表面電位は、＋１０ｍＶ〜−１０ｍＶの範囲にすることが好ましく、＋５ｍＶ〜−５ｍＶの範囲にすることがより好ましい。
【００３２】
本実施形態に係る排水処理方法は、排水中のシリカの体積平均粒径が１５０ｎｍ以下、特に４ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲、とりわけ４ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である場合に効果的である。
【００３３】
また、排水に含まれるシリカは、後述するようにトナーの帯電制御剤等の内添剤や外添剤として用いられるシリカを起因とするが、用いられるシリカの種類としてはコロイダルシリカ、超微粒子無水シリカ等が挙げられ、本実施形態に係る排水処理方法は、排水中のシリカの種類がコロイダルシリカである場合に特に効果的である。
【００３４】
凝集剤の添加量は、処理する排水に対して５００ｍｇ／Ｌ〜５０００ｍｇ／Ｌの範囲の濃度であることが好ましく、１０００ｍｇ／Ｌ〜３０００ｍｇ／Ｌの範囲の濃度であることがより好ましい。添加量が５００ｍｇ／Ｌより少ないと、凝集効果が少なく発生する汚泥の含水率が高くなる場合があり、５０００ｍｇ／Ｌより多いと、発生する汚泥量が増加して次工程での分離が困難となる場合がある。
【００３５】
凝集剤としては、一般の無機系凝集剤を用いることができる。無機系凝集剤としては、例えば、硫酸アルミニウム、塩化第二鉄、ポリ塩化アルミニウム、ポリシリカ鉄等、あるいはこれらの組み合わせが用いられ、安価であること、凝集性が良好であること等から、塩化第二鉄が用いられることが好ましい。
【００３６】
反応工程において撹拌羽根等の撹拌手段によって急速撹拌することによりｐＨ調整及び凝集反応が行われるが、撹拌速度は、１００ｒｐｍ〜５００ｒｐｍの範囲であることが好ましく、２５０ｒｐｍ〜４００ｒｐｍの範囲であることがより好ましい。撹拌速度が１００ｒｐｍより小さいと、凝集反応が十分に行われず、細かい粒子が減らない場合があり、５００ｒｐｍより大きいと、一度形成された凝集物が再び細かくなってしまう場合がある。
【００３７】
反応工程において、通常排水は反応槽１２に連続的に流入され、ｐＨ調整処理された処理液は連続的に凝集槽１４へ排出される。このとき、反応槽１２における滞留時間としては、５分〜２０分の範囲であることが好ましく、１０分〜１５分の範囲であることがより好ましい。滞留時間が５分より小さいと、反応が十分ではなく、色が除去出来ない場合があり、２０分より大きいと、処理効率が低下する場合がある。
【００３８】
次に、凝集槽１４において、反応槽１２から移送された反応液に対して有機系の高分子凝集剤が添加され、撹拌羽根等の撹拌手段により緩速撹拌が行われ、排水中の凝集物が成長したフロックが形成される（フロック形成工程）。このフロック中には、主に、顔料、離型剤、シリカ、トナー微粒子等が含まれている。フロックは、緩速撹拌されることにより成長する。このとき得られるフロックの懸濁液（処理液）の固形分濃度は０.５〜１.５％程度である。なお、反応槽１２と凝集槽１４とを一体化した槽を使用して、１つの槽内で反応工程と、フロック形成工程とが行われてもよい。
【００３９】
高分子凝集剤としては、例えば、ポリアクリルアミド系、ポリアクリル酸ソーダ系等のアニオン性高分子凝集剤、ポリアクリルアミド系、ポリアクリル酸エステル系、ポリメタクリル酸エステル系、ポリアミン系、ポリジシアンジアミド系等のカチオン性高分子凝集剤；ポリアクリルアミド系、ポリエチレンオキサイド系等のノニオン性高分子凝集剤、アクリル酸ジメチルアミノエチル系等の両性高分子凝集剤、あるいはこれらの組み合わせを使用することができる。凝集性が良好であること等から、ポリアクリルアミド系のアニオン性高分子凝集剤を使用することが好ましい。
【００４０】
高分子凝集剤の添加量としては、処理する排水に対して１ｍｇ／Ｌ〜５０ｍｇ／Ｌの範囲の濃度であることが好ましく、２ｍｇ／Ｌ〜２０ｍｇ／Ｌの範囲の濃度であることがより好ましい。添加量が１ｍｇ／Ｌより少ないと、処理後の水に着色成分が残ってしまったり、凝集効果が少なく、発生する汚泥の含水率が高くなる場合があり、５０ｍｇ／Ｌより多いと、発生する汚泥の粘着性が増し、次工程での処理性が悪化する場合がある。
【００４１】
高分子凝集剤を使用しなくてもフロックが十分に成長する場合には、高分子凝集剤は必ずしも必要ないが、無機系凝集剤と高分子凝集剤の組み合わせ使用は、電子写真用トナーの乳化重合法、懸濁重合法、溶解懸濁法等の化学的トナー製法による製造工程から発生する、界面活性剤、着色剤、離型剤、シリカ、その他多成分を含有する排水の処理に対して有効である。
【００４２】
フロック形成工程において撹拌羽根等の撹拌手段によって撹拌することによりフロックを成長させるが、撹拌速度は、６０ｒｐｍ〜５００ｒｐｍの範囲であることが好ましく、１００ｒｐｍ〜３００ｒｐｍの範囲であることがより好ましい。撹拌速度が６０ｒｐｍより小さいと、フロックの形成が十分ではなく、細かい粒子が減らない場合があり、５００ｒｐｍより大きいと、一度形成されたフロックが再び細かくなってしまう場合がある。
【００４３】
フロック形成工程において、通常排水は凝集槽１４に連続的に流入され、フロック形成された処理液は連続的に凝集沈殿槽１６へ送液される。このとき、凝集槽１４における滞留時間としては、５分〜２０分の範囲であることが好ましく、１０分〜１５分の範囲であることがより好ましい。滞留時間が５分より小さいと、フロックの形成が十分ではなく、細かい粒子が減らない場合があり、２０分より大きいと、処理効率が低下する場合がある。また、凝集槽１４においてバッチ式で排水の凝集処理が行われてもよい。この場合、処理時間は５分〜１５分の範囲であることが好ましく、５分〜１０分の範囲であることがより好ましい。
【００４４】
凝集工程における処理する排水の温度としては、通常、１０℃〜３０℃の範囲で行われ、好ましくは、１５℃〜２５℃の範囲で行われる。
【００４５】
次に、凝集槽１４においてフロック形成された処理液は、凝集沈殿槽１６に送液される。凝集沈殿槽１６に送液された処理液は、凝集沈殿槽１６において自然沈降分離によって、フロックが濃縮された沈殿物（汚泥スラリ）と分離液とに分離される（分離工程）。
【００４６】
凝集沈殿槽１６において汚泥スラリと分離された分離液は、生物処理槽１８に送液されて生物処理が行われ、溶存有機物が除去される。生物処理槽１８では活性汚泥に生息するバクテリア等で溶存有機物を分解処理し、次の後沈殿槽２０で自然沈降により、活性汚泥と上澄み水に分離される。後沈殿槽２０で得られた上澄み水は、砂濾過装置２２で残存固形物を除去した後、活性炭ろ過吸着装置２４で溶存化学物質や生物処理工程で処理しきれなかった溶存有機物を吸着処理した後、河川等に放流される。なお、排水性状によっては生物処理工程が省略される場合もある。
【００４７】
一方、凝集沈殿槽１６において分離液と分離された汚泥スラリ及び後沈殿槽２０で得られた汚泥スラリは、ポンプ等にて汚泥濃縮槽２６へ搬送され、６〜１２時間程度をかけて、自然沈降にて濃縮される。汚泥スラリの固形分濃度は０．５〜１．５重量％程度である。また、濃縮後の固形分濃度は２．０〜４．０重量％程度である。汚泥濃縮槽２６における自然沈降が不十分な場合には、フロック形成工程と同様の高分子凝集剤を添加してもよい。
【００４８】
濃縮後の汚泥スラリは、脱水装置２８で脱水処理された後、産業廃棄物の汚泥として処理される。なお、脱水後の汚泥ケーキの固形分濃度は１５〜５０重量％程度である。なお、脱水装置２８で発生したろ過液は、トナー製造工程で発生した排水を貯蔵する原水槽１０へ移送され、新たな排水と混合された後、上述の廃水処理プロセスで処理される。
【００４９】
脱水装置２８としては、加圧葉状ろ過機、加圧ヌッチェ、フィルタプレス等の加圧ろ過機、真空ろ過機等が挙げられるが、通常は、フィルタプレスが用いられる。また、発生する汚泥の量を減らすことができること、処理時間を短縮することができること、凝集工程にて使用する凝集剤の量を減らすことができること、装置のメンテナンス性等の点から脱水工程の前に遠心分離装置を使用した遠心濃縮により脱水してもよい。
【００５０】
従来の排水処理方法では、反応槽１２で排水のｐHを７〜８に調整すると共に、大量の無機凝集剤を加えてフロックを生成させる。次に凝集槽１４において、高分子凝集剤が添加され、無機凝集剤にて生成したフロックが成長する。得られたフロックの懸濁液は次の凝集沈殿槽１６に送られ、３〜６時間程度をかけて自然沈降で固液分離される。凝集沈殿槽１６の上澄み水は、生物処理、活性炭処理を行い、河川等に放流される。
【００５１】
一方、凝集沈殿槽１６において分離液と分離された汚泥スラリ及び後沈殿槽２０で得られた汚泥スラリは、ポンプ等にて汚泥濃縮槽２６へ搬送され、６〜１２時間程度をかけて、自然沈降にて濃縮される。汚泥スラリの固形分濃度は０．５〜１．５重量％程度である。また、濃縮後の固形分濃度は２．０〜４．０重量％程度である。濃縮後の汚泥スラリは、脱水装置２８で脱水処理された後、産業廃棄物の汚泥として処理される。なお、脱水後の汚泥ケーキの固形分濃度は１５〜５０重量％程度である。
【００５２】
本実施形態の排水処理方法の分離工程において、処理効率の点から、自然沈降の代わりに遠心分離処理を行うことが好ましい。遠心分離処理により、固液分離時間を大幅に短縮することができる。
【００５３】
遠心分離手段を設けた排水処理装置の一例の概略を図２に示す。この場合、図２に示すように、凝集槽１４から排出される処理液はポンプ等にて遠心分離手段である遠心分離機３０へ送られる。遠心分離機３０において、分離液と汚泥スラリとに分離される。
【００５４】
図３は本実施形態で用いられる遠心分離機３０の一例である連続式スクリュデカンタの断面図である。スクリュデカンタは、ケーシング５０の中央に外胴ボウル５２と内胴スクリュ５４を有し、両端が軸封装置で支持され、水平に固定されている。外胴ボウル５２は円筒型と円錐型を一体としたボウルである。内胴スクリュ５４はパイプ５６とそれに溶接されたスクリュ羽根５８とを備える。汚泥スラリはフィードパイプ６０を通じて、内胴スクリュ５４のパイプ５６内に供給され、パイプ５６にある複数個の吸入液吐出口６２を経由して、外胴ボウル５２内へ供給される。
【００５５】
外胴ボウル５２を高速回転させると、遠心力（遠心効果２,０００〜３,５００Ｇ程度、ここでＧは重力加速度）により、固形物の遠心分離が促進され、外胴ボウル５２内壁に固形物であるフロックの沈殿物（汚泥）が堆積する。この時、内胴スクリュ５４を外胴ボウル５２と僅かに回転差を与えながら、外胴ボウル５２と同一方向に回転させると、外胴ボウル５２の内壁に堆積した汚泥の濃縮液がスクリュ羽根５８によって外胴ボウル５２の円錐側へ搬送され、外胴ボウル５２の傾斜面の固形物排出口６４より外部へ自動排出される。このとき得られる汚泥濃縮液の固形分濃度は、１０〜２０重量％程度である。また、遠心分離後の分離液は、外胴ボウル５２の大径側にある分離液排出口６６より外部へ自動排出される。
【００５６】
本発明の実施の形態に係る排水処理方法は、乳化重合法、懸濁重合法、溶解懸濁法などの各種化学的トナー製造方法による製造工程、特に、シリカや界面活性剤を多量に使用する乳化重合法によるトナーの製造工程から排出される排水の処理に好ましく適用可能である。乳化重合法では、結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させて形成された樹脂分散液と着色剤、離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を水系溶媒中で撹拌・混合しながら、凝集、加熱融合させ、所定の粒径、粒度、形状、構造を有する着色樹脂粒子であるトナー粒子を作製する。乳化重合法は、トナーの原材料となるラテックスポリマの製造工程と、着色剤、離型剤等の分散液の製造工程と、現像用トナーの製造工程と、に大きく分けられる。以下に、それぞれについて例を挙げ説明する。
【００５７】
＜電子写真用トナー＞
［ラテックスポリマの製造工程］
ラテックスポリマを生成するには、通常モノマと界面活性剤とを水に加え、撹拌してエマルションとする。モノマエマルションが生成したら、該モノマエマルションの好ましくは２５重量％以下（すなわち、少量のモノマエマルション）と、遊離基開始剤とを、水相に加えて混合し、所望の反応温度で種重合を開始する。種粒子の生成後、この種粒子含有組成物に更に残りのモノマエマルションを追加し、所定の温度で、所定の時間、重合を続けて重合を完了し、ラテックスポリマ（エマルション分散液）を生成させる。このラテックスポリマの製造工程から、製造工程で不要となったり、その製造工程の設備メンテナンス等にて発生した、界面活性剤等の固形分を含有するエマルション分散液等が排出される。ラテックスポリマが生成したら、着色剤分散液、離型剤分散液等とともに凝集させて凝集体粒子とし、次にこれを融合させてトナー粒子とする。
【００５８】
前記モノマの種類としては、遊離基開始剤と反応しうるものであれば特に制限はない。モノマの具体例としては、スチレン、パラクロロスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類の単独重合体または共重合体；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸２−エチルヘキシル等のビニル基を有するエステル類の単独重合体または共重合体；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のビニルニトリル類の単独重合体または共重合体等を挙げることができる。また、自己乳化性を持つポリエステル、ポリウレタンのような樹脂を界面活性剤とともに水系媒体中でせん断し分散させても良い。
【００５９】
また、自己乳化性を持つポリエステル、ポリウレタンのような樹脂を界面活性剤とともに水系媒体中でせん断し、分散させても良い。また、ラテックスポリマとして、アンモニア成分を含むものも用いられる。
【００６０】
ラテックスポリマの製造に使用される界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤または非イオン系界面活性剤を使用できるが、一般的にはアニオン系界面活性剤が、分散力が強く、樹脂粒子の分散に優れているため、好ましい。非イオン系界面活性剤は、前記アニオン系界面活性剤またはカチオン系界面活性剤と併用されるのが好ましい。前記界面活性剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用して使用してもよい。
【００６１】
アニオン系界面活性剤の具体例としては、ラウリン酸カリウム、オレイン酸ナトリウム、ヒマシ油ナトリウム等の脂肪酸セッケン類；オクチルサルフェート、ラウリルサルフェート、ラウリルエーテルサルフェート、ノニルフェニルエーテルサルフェート等の硫酸エステル類；ラウリルスルホネート、ドデシルベンゼンスルホネート、トリイソプロピルナフタレンスルホネート、ジブチルナフタレンスルホネートなどのアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム；ナフタレンスルホネートホルマリン縮合物、モノオクチルスルホサクシネート、ジオクチルスルホサクシネート、ラウリン酸アミドスルホネート、オレイン酸アミドスルホネート等のスルホン酸塩類；ラウリルホスフェート、イソプロピルホスフェート、ノニルフェニルエーテルホスフェート等のリン酸エステル類；ジオクチルスルホコハク酸ナトリウムなどのジアルキルスルホコハク酸塩類；スルホコハク酸ラウリル２ナトリウム等のスルホコハク酸塩類；などが挙げられる。
【００６２】
カチオン系界面活性剤の具体例としては、ラウリルアミン塩酸塩、ステアリルアミン塩酸塩、オレイルアミン酢酸塩、ステアリルアミン酢酸塩、ステアリルアミノプロピルアミン酢酸塩等のアミン塩類；ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド、ラウリルジヒドロキシエチルメチルアンモニウムクロライド、オレイルビスポリオキシエチレンメチルアンモニウムクロライド、ラウロイルアミノプロピルジメチルエチルアンモニウムエトサルフェート、ラウロイルアミノプロピルジメチルヒドロキシエチルアンモニウムパークロレート、アルキルベンゼントリメチルアンモニウムクロライド、アルキルトリメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩類；などが挙げられる。
【００６３】
非イオン性界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンオクチルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のアルキルフェニルエーテル類；ポリオキシエチレンラウレート、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンオレート等のアルキルエステル類；ポリオキシエチレンラウリルアミノエーテル、ポリオキシエチレンステアリルアミノエーテル、ポリオキシエチレンオレイルアミノエーテル、ポリオキシエチレン大豆アミノエーテル、ポリオキシエチレン牛脂アミノエーテル等のアルキルアミン類；ポリオキシエチレンラウリン酸アミド、ポリオキシエチレンステアリン酸アミド、ポリオキシエチレンオレイン酸アミド等のアルキルアミド類；ポリオキシエチレンヒマシ油エーテル、ポリオキシエチレンナタネ油エーテル等の植物油エーテル類；ラウリン酸ジエタノールアミド、ステアリン酸ジエタノールアミド、オレイン酸ジエタノールアミド等のアルカノールアミド類；ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミエート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート等のソルビタンエステルエーテル類；などが挙げられる。
【００６４】
遊離基開始剤としては、特に制限はない。具体的には、過酸化水素、過酸化アセチル、過酸化クミル、過酸化ｔｅｒｔ−ブチル、過酸化プロピオニル、過酸化ベンゾイル、過酸化クロロベンゾイル、過酸化ジクロロベンゾイル、過酸化ブロモメチルベンゾイル、過酸化ラウロイル、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、ペルオキシ炭酸ジイソプロピル、テトラリンヒドロペルオキシド、１−フェニル−２−メチルプロピル−１−ヒドロペルオキシド、過トリフェニル酢酸ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、過蟻酸ｔｅｒｔ−ブチル、過酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、過安息香酸ｔｅｒｔ−ブチル、過フェニル酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、過メトキシ酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、過Ｎ−（３−トルイル）カルバミン酸ｔｅｒｔ−ブチル等の過酸化物類；２，２'-アゾビスプロパン、２，２'−ジクロロ−２，２'−アゾビスプロパン、１，１'−アゾ（メチルエチル）ジアセテート、２，２'−アゾビス（２−アミジノプロパン）塩酸塩、２，２'−アゾビス（２−アミジノプロパン）硝酸塩、２，２'−アゾビスイソブタン、２，２'−アゾビスイソブチルアミド、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル、２，２'−アゾビス−２−メチルプロピオン酸メチル、２，２'−ジクロロ−２，２'−アゾビスブタン、２，２'−アゾビス−２−メチルブチロニトリル、２，２'−アゾビスイソ酪酸ジメチル、１，１'−アゾビス（１−メチルブチロニトリル−３−スルホン酸ナトリウム）、２−（４−メチルフェニルアゾ）−２−メチルマロノジニトリル、４，４'−アゾビス−４−シアノ吉草酸、３，５−ジヒドロキシメチルフェニルアゾ−２−メチルマロノジニトリル、２−（４−ブロモフェニルアゾ）−２−アリルマロノジニトリル、２，２'−アゾビス−２−メチルバレロニトリル、４，４'−アゾビス−４−シアノ吉草酸ジメチル、２，２'−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、１，１'−アゾビスシクロヘキサンニトリル、２，２'−アゾビス−２−プロピルブチロニトリル、１，１'−アゾビス−１−クロロフェニルエタン、１，１'−アゾビス−１−シクロヘキサンカルボニトリル、１，１'−アゾビス−１−シクロへプタンニトリル、１，１'−アゾビス−１−フェニルエタン、１，１'−アゾビスクメン、４−ニトロフェニルアゾベンジルシアノ酢酸エチル、フェニルアゾジフェニルメタン、フェニルアゾトリフェニルメタン、４−ニトロフェニルアゾトリフェニルメタン、１，１'−アゾビス−１，２−ジフェニルエタン、ポリ（ビスフェノールＡ−４，４'−アゾビス-４-シアノペンタノエート）、ポリ（テトラエチレングリコール−２，２'−アゾビスイソブチレート）等のアゾ化合物類；１，４−ビス（ペンタエチレン）−２−テトラゼン、１，４−ジメトキシカルボニル−１，４−ジフェニル−２−テトラゼン等が挙げられる。
【００６５】
本実施形態において、ラテックスポリマの大きさは、レーザ回折式粒度分布測定装置（堀場製作所製、ＬＡ−７００）で測定した体積平均粒径で、０．０５μｍ〜１μｍ程度である。
【００６６】
［着色剤分散液、離型剤分散液の製造工程］
着色剤分散液は、着色剤、界面活性剤等を、水相中で混合し、分散処理をすることによって得られる。同様にして、離型剤分散液は、離型剤、界面活性剤等を、水相中で混合し、分散処理をすることによって得られる。この着色剤分散液、離型剤分散液の製造工程から、製造工程で不要となったり、その製造工程の設備メンテナンス等にて発生した、界面活性剤、着色剤等の固形分を含有する着色剤分散液や、界面活性剤、離型剤等の固形分を含有する離型剤分散液等が排出される。
【００６７】
着色剤としては、例えばカーボンブラック、クロムイエロー、ハンザイエロー、ベンジジンイエロー、スレンイエロー、キノリンイエロー、パーマネントオレンジＧＴＲ、ピラゾロンオレンジ、バルカンオレンジ、ウオッチヤングレッド、パーマネントレッド、ブリリアントカーミン３Ｂ、ブリリアントカーミン６Ｂ、デュポンオイルレッド、ピラゾロンレッド、リソールレッド、ローダミンＢレーキ、レーキレッドＣ、ローズベンガル、アニリンブルー、ウルトラマリンブルー、カルコオイルブルー、メチレンブルークロライド、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、マラカライトグリーンオキサレート、などの種々の顔料；アクリジン系、キサンテン系、アゾ系、ベンゾキノン系、アジン系、アントラキノン系、ジオキサジン系、チアジン系、アゾメチン系、インジコ系、チオインジコ系、フタロシアニン系、アニリンブラック系、ポリメチン系、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系、チアゾール系、キサンテン系などの各種染料などを挙げることができる。これらの着色剤は１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
また、着色剤分散液中の着色剤の大きさは、例えば、上記レーザ回折式粒度分布測定装置で測定した体積平均粒径で、０．０５μｍ〜０．５μｍ程度である。
【００６９】
また離型剤として働くワックスの種類としては特に制限はないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類；軟化点を有するシリコーン類；オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪酸アミド類；カルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス；ミツロウ等の動物系ワックス類；モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャトロプシュワックス等の鉱物・石油系ワックス類；ステアリン酸ステアリル、ベヘン酸ベヘニル等の高級脂肪酸と高級アルコールとのエステルワックス類；などが挙げられる。
【００７０】
また、離型剤分散液中の離型剤の大きさは、例えば、上記レーザ回折式粒度分布測定装置で測定した体積平均粒径で、０．０５μｍ〜０．５μｍ程度である。
【００７１】
界面活性剤としては、上記ラテックスポリマの製造に使用される界面活性剤と同様のものが挙げられる。
【００７２】
［現像用トナーの製造工程］
上記調製法により得られたラテックスポリマは、次のような方法でトナーの調製に用いられる。上記調製法により得られたラテックスポリマと、着色剤分散液と、離型剤分散液と、必要に応じて凝集剤と、必要に応じて帯電制御剤と、及び必要に応じて他の添加剤とを混合し、得られた混合物をラテックスポリマのガラス転移温度（Ｔｇ）近辺の温度、好ましくは、ラテックスポリマのＴｇ±１０℃で、凝集体を生成するのに効果的な時間、例えば１〜８時間加熱して、トナー大の凝集体を生成する。次に、この凝集体懸濁液を、ラテックスポリマのＴｇ又はそれより高い温度、好ましくはラテックスポリマのＴｇ＋４０℃、例えば約６０〜約１２０℃に加熱して合体又は融合させてトナー粒子を造粒し、このトナー粒子をろ過などの手段で母液から分離して、イオン交換水などで洗浄（洗浄工程）した後、乾燥する。
【００７３】
ラテックスポリマは、通常トナーの結着樹脂として用いられ、トナーの固形分に対して７５〜９８重量％程度トナー内に存在する。
【００７４】
着色剤は、通常トナー中に、着色に効果的な量、例えばトナーの固形分に対して１〜１５重量％程度、好ましくは３〜１０重量％程度存在する。
【００７５】
離型剤として働くワックス類の好ましい量としては、トナーの固形分に対して、５〜２０重量％程度である。
【００７６】
必要に応じて使用される凝集剤は、融合に効果的な量、例えばトナーの固形分に対して０．０１〜１０重量％程度を用いることができる。使用する凝集剤としては、一価以上の電荷を有する化合物が好ましく、その化合物の具体例としては、前述のアニオン性界面活性剤類；塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、シュウ酸等の酸類；塩化マグネシウム、塩化ナトリウム、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸アンモニウム、硝酸アルミニウム、硝酸銀、硫酸銅、炭酸ナトリウム、ポリ塩化アルミニウム等の塩類；等が挙げられるが、これらに限るものではない。好ましい凝集剤としては、硝酸等の窒素成分を有するものが挙げられる。
【００７７】
帯電制御剤は、帯電させるのに効果的な量、例えばトナーの固形分に対して０．１〜５重量％を使用しても良い。適当な帯電制御剤としては、アルキルピリジニウムハロゲン化物類、重硫酸塩類、シリカ等の帯電制御剤類、アルミニウム錯体のような陰帯電制御剤等が挙げられるが、これらに限るものではない。
【００７８】
その他必要に応じて添加剤として、無機微粒子等を湿式添加してもよい。湿式添加する無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、リン酸三カルシウムなど、通常トナー表面の外添剤として使用される全てのものを、イオン性界面活性剤や高分子酸、高分子塩基等で水に分散して、シリカ等の無機微粒子分散液として湿式添加することができる。
【００７９】
本実施形態において使用されるシリカの分散液中の大きさは、上記レーザ回折式粒度分布測定装置で測定した体積平均粒径で、４ｎｍ〜１５０ｎｍ程度である。
【００８０】
以上のようなラテックスポリマの製造工程、着色剤分散液の製造工程、離型剤分散液の製造工程、トナー製造工程等の製造工程（トナーの洗浄工程を含む）から、製造工程で不要となったり、その製造工程の設備メンテナンス等にて発生した、界面活性剤、着色剤、離型剤、無機微粒子、シリカ、トナー等の固形分を含有するエマルション分散液、顔料分散液、離型剤分散液、シリカ分散液、無機微粒子分散液、トナー分散液、装置洗浄排水等が、排出される。その排水量割合は、前記洗浄工程から排出されるシリカ分散液が全体の約１％を占める。これらの排水は原水槽に集められ、上記排水処理方法による処理が施される。
【００８１】
本実施形態に係る排水処理方法は、乳化重合法等の化学的トナー製造方法による電子写真用トナーの製造工程から排出される、界面活性剤及びシリカ微粒子を含有する排水を処理に適用されることが好ましいが、その各工程のうち、顔料分散液製造工程、離型剤分散液製造工程、無機微粒子分散液製造工程、トナー融合工程、トナー洗浄工程等から排出される、例えば、界面活性剤含有量が０．１〜４重量％で、このときのシリカ微粒子の含有量が０．１〜４重量％の液の処理に適用される。界面活性剤含有量が０．１重量％より低く及びシリカ含有量が０．１重量％より低い場合には、膜分離等の技術が適応される。このように、排水処理の処理効率を考慮して、各工程から排出される排水中に含有される界面活性剤及びシリカの量に応じて、異なる排水処理方法を適用することが好ましい。また、ラテックスポリマ（エマルション分散液）製造工程から排出される排液に対しては、遠心濃縮等の濃縮処理が困難な場合があるため、濃硫酸を用いた加熱酸分解法等の他の排水処理方法を適用してもよい。
【００８２】
本実施形態に係る排水処理方法は、以上のような乳化重合法等の化学的トナー製造方法による電子写真用トナーの製造工程から排出される固形分含有排水の処理に適用されることが好ましい。
【００８３】
以上の本発明の実施形態の説明において、電子写真用トナーの製造工程を例としたが、本実施形態に係る排水処理方法は、水性塗料等の水系分散体の製造工場等の製造工程において排出される界面活性剤やシリカ含有排水に対しても、適用することができる。
【実施例】
【００８４】
以下、実施例および比較例を挙げ、本発明をより具体的に詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【００８５】
＜電子写真用トナーの製造例＞
以下に、本実施例及び比較例における排水処理が施される排水が排出される、電子写真用トナーの製造例を示す。
【００８６】
［エマルション分散液の調製］
スチレン                  ３２０重量部
ｎ−ブチルアクリレート      ８０重量部
アクリル酸                  １０重量部
ドデカンチオール            １０重量部
この溶液４２０重量部と、非イオン性界面活性剤（三洋化成社製、ノニポール４００）６重量部、及びアニオン性界面活性剤（第一工業製薬社製、ネオゲンＲ）１０重量部とをイオン交換水５５０重量部に溶解した溶液をフラスコ中に入れて分散、乳化し、１０分間ゆっくりと撹拌・混合しながら、過硫酸アンモニウム４重量部を溶解したイオン交換水５０重量部を投入した。その後、フラスコ内を窒素で充分に置換してから撹拌しながらオイルバスで系内が７０℃になるまで加熱し、５時間そのまま乳化重合を継続し、エマルション分散液を得た。
【００８７】
エマルション分散液で得られたラテックスポリマは、レーザ回折式粒度分布測定装置（堀場製作所製、ＬＡ−７００）で樹脂微粒子の体積平均粒子径（Ｄ５０）を測定したところ１５５ｎｍであり、示差走査熱量計（島津制作所社製、ＤＳＣ−５０）を用いて昇温速度１０℃／ｍｉｎで樹脂のガラス転移点を測定したところ５４℃であり、分子量測定器（東ソー社製、ＨＬＣ−８０２０）を用い、ＴＨＦを溶媒として重量平均分子量（ポリスチレン換算）を測定したところ３万３千であった。
【００８８】
［着色剤分散液の調製］
顔料                                                        １５０重量部
アニオン性界面活性剤（ネオゲンＳＣ：第一工業製薬（株）製）    ２０重量部
イオン交換水                                                ４００重量部
以上を混合して、アルティマイザーにて分散処理し、着色剤分散液を調整した。なお、顔料は、イエロー用としてはピグメントイエロー７４（大日精化社製）、シアン用としてはピグメントブルー１５：３（ＢＡＳＦ社製）、マゼンタ用としてはピグメントレッド１２２（大日精化社製）、ブラック用としてはカーボンブラック（キャボット社製）、をそれぞれ使用した。
【００８９】
［離型剤分散液の調製］
パラフィンワックス（日本精蝋（株）製：ＨＮＰ０１９０、融点８５℃）  ５０重量部
カチオン性界面活性剤（花王（株）製：サニゾールＢ５０）                ５重量部
イオン交換水                                                      ２００重量部
以上を９５℃に加熱して、ホモジナイザ（ＩＫＡ社製：ウルトラタラックスＴ５０）を用いて分散した後、圧力吐出型ホモジナイザで分散処理し、体積平均粒径が５５０ｎｍである離型剤を分散させてなる離型剤分散液を調製した。
【００９０】
［凝集粒子の調製］
エマルション分散液                                        ２００重量部
着色剤分散液                                                ３０重量部
離型剤分散液                                                ７０重量部
カチオン性界面活性剤（花王（株）製：サニゾールＢ５０）    １．５重量部
シリカ（スノーテックスＸＳ、日産化学工業社製、体積平均粒径４ｎｍ）  ５重量部
以上を丸型ステンレス製フラスコ中でホモジナイザ（ＩＫＡ社製：ウルトラタラックスＴ５０）を用いて混合し、分散した後、加熱用オイルバス中でフラスコ内を撹拌しながら４８℃まで加熱した。４８℃で３０分間保持した後、光学顕微鏡にて観察すると体積平均粒径が約５μｍである凝集粒子（体積：９５ｃｍ３）が形成されていることが確認された。
【００９１】
［付着粒子の調製］
調整した上記凝集粒子の分散液に、上記樹脂微粒子分散液を緩やかに６０重量部追加した。なお、前記樹脂微粒子分散液に含まれる樹脂粒子の体積は２５ｃｍ３であった。そして、加熱用オイルバスの温度を５０℃に上げて１時間保持した。光学顕微鏡にて観察すると、体積平均粒径が約５．７μｍである付着粒子が形成されていることが確認された。
【００９２】
その後、調整した上記付着粒子の分散液に、アニオン性界面活性剤（ネオゲンＳＣ：第一工業製薬（株）製）３重量部を追加した後、前記ステンレス製フラスコを密閉し、磁力シールを用いて撹拌を継続しながら、１０５℃まで加熱し、３時間保持した。そして、冷却後、反応生成物をろ過し、イオン交換水で十分に洗浄した後、乾燥させることにより、電子写真用トナーを得た。
【００９３】
［排水Ａ−１の組成］
排水Ａ−１とは、上記電子写真用トナーの製造を行う製造工場の洗浄工程から排出された排水であり、その中には、顔料分散液、離型剤（ワックス）分散液、エマルション分散液、界面活性剤水溶液、シリカ等が含まれる排水である。排水Ａ−１の主な組成について以下に示す。排水Ａ−１には、界面活性剤、ラテックスポリマ、着色剤、ワックス、シリカ等が含まれ、排水Ａ−１の固形分濃度は０．０１重量％、化学的酸素要求量（ＣＯＤ）は８７ｍｇ／Ｌ、含まれるシリカの表面電位（ゼータ電位）は−９８ｍＶ、体積平均粒径は４ｎｍであった。
界面活性剤                                      ０．００８重量部
ラテックスポリマ                                ０．００４重量部
着色剤                                          ０．０１６重量部
ワックス                                        ０．０１２重量部
シリカ                                            ０．０６重量部
水                                              ９９９．９重量部
【００９４】
なお、固形分濃度は、アルミ製の容器に、排水サンプルを入れ、オーブンにて水分を蒸発させる方法で測定した。また、化学的酸素要求量は、ＪＩＳ  Ｋ  ０１０２  １７にて定められている方法で測定した。具体的には、試料に酸化剤を加え、一定の条件の下で反応させ、そのとき消費した酸化剤の量を酸素の量に換算して表す試験方法である。含まれるシリカの表面電位は、大塚電子（株）製レーザゼータ電位計（ＥＬＳ−６０００型）を用い、光散乱方法（レーザドップラー法）により測定した。排水サンプルを測定装置の矩形セルに入れ、セル室温度を２５℃で保持し測定を行った。なお、光源にはＨｅ−Ｎｅレーザ（１０ｍＷ）を使用した。
【００９５】
［排水Ａ−２の組成］
排水Ａ−２とは、排水Ａ−１と組成、固形分濃度、化学的酸素要求量はほぼ同じであるが、含まれるシリカの表面電位（ゼータ電位）は−６５ｍＶ、体積平均粒径は４ｎｍである排水である。
【００９６】
［排水Ａ−３の組成］
排水Ａ−３とは、排水Ａ−１と組成、固形分濃度、化学的酸素要求量はほぼ同じであるが、シリカとして（スノーテックスＺＬ、日産化学工業社製、体積平均粒径１００ｎｍ）がトナー製造において使用され、含まれるシリカの表面電位（ゼータ電位）は−９８ｍＶ、体積平均粒径は１００ｎｍである排水である。
【００９７】
［排水Ａ−４の組成］
排水Ａ−４とは、排水Ａ−１と組成、固形分濃度、化学的酸素要求量はほぼ同じであるが、シリカとして（スノーテックスＺＬ、日産化学工業社製、体積平均粒径１００ｎｍ）がトナー製造において使用され、含まれるシリカの表面電位（ゼータ電位）は−５８ｍＶ、体積平均粒径は１００ｎｍである排水である。
【００９８】
［排水Ｂ−１の組成］
排水Ｂ−１は、上記電子写真用トナーの製造を行う製造工場の洗浄工程から排出された排水であり、排水Ａ−１とは、組成はほぼ同じであるがその濃度が異なる。排水Ｂ−１の主な組成について以下に示す。排水Ｂ−１には、界面活性剤、ラテックスポリマ、着色剤、離型剤（ワックス）、シリカ等が含まれ、排水Ｂ−１の固形分濃度は５重量％、化学的酸素要求量は３４０ｍｇ／Ｌ、含まれるシリカの表面電位（ゼータ電位）は−９７ｍＶ、体積平均粒径は４ｎｍであった。
界面活性剤                                              ４重量部
ラテックスポリマ                                        ２重量部
着色剤                                                  ８重量部
ワックス                                                ６重量部
シリカ                                                ３０重量部
水                                                  ９５０重量部
【００９９】
［排水Ｂ−２の組成］
排水Ｂ−２とは、排水Ｂ−１と組成、固形分濃度、化学的酸素要求量はほぼ同じであるが、含まれるシリカの表面電位（ゼータ電位）は−５６ｍＶ、体積平均粒径は４ｎｍである排水である。
【０１００】
［排水Ｂ−３の組成］
排水Ｂ−３とは、排水Ｂ−１と組成、固形分濃度、化学的酸素要求量はほぼ同じであるが、シリカとして（スノーテックスＺＬ、日産化学工業社製、体積平均粒径１００ｎｍ）がトナー製造において使用され、含まれるシリカの表面電位（ゼータ電位）は−９７ｍＶ、体積平均粒径は１００ｎｍである排水である。
【０１０１】
［排水Ｂ−４の組成］
排水Ｂ−４とは、排水Ｂ−１と組成、固形分濃度、化学的酸素要求量はほぼ同じであるが、シリカとして（スノーテックスＺＬ、日産化学工業社製、体積平均粒径１００ｎｍ）がトナー製造において使用され、含まれるシリカの表面電位（ゼータ電位）は−５５ｍＶ、体積平均粒径は１００ｎｍである排水である。
【０１０２】
（実施例１）
[排水Ａ−１の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度０．０１重量％の排水Ａ−１を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水Ａ−１を、まず原水槽１０に蓄え、そこからポンプにて反応槽１２へ送液し、排水のｐＨを酸（塩酸）で４．０〜４．４に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を１０００ｍｇ/Ｌ添加し、撹拌速度５００ｒｐｍ、滞留時間１０分にて、凝集反応を行った。凝集後のシリカの表面電位は−６ｍＶであった。次に、得られた反応液をポンプで凝集槽１４（１８ｍ３）へ送液し、高分子凝集剤（アクリルアミド系高分子凝集剤：ハイモロックＳＳ−１００：ハイモ社製)を１ｍｇ／Ｌを添加し、撹拌速度３００ｒｐｍ、滞留時間１０分にてフロック形成を行った。フロック形成は良好に行うことができた。次に、凝集槽１４においてフロック形成された処理液を、ポンプで凝集沈殿槽１６に送液した。送液された処理液を、凝集沈殿槽１６において自然沈降分離によって、フロックが濃縮された汚泥スラリと分離液とに分離した。分離に要した時間は２時間であった。凝集沈殿槽１６において汚泥スラリと分離された分離液は、生物処理槽１８にポンプで送液されて生物処理（活性汚泥処理）が行われ、さらに砂ろ過装置２２及び活性炭ろ過吸着装置２０へ送液され、ろ過を行った。この排出水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。また、凝集沈殿槽１６において分離液と分離された汚泥スラリ、及び後沈殿槽２０で得られた汚泥スラリは、脱水装置２８（フィルタプレス）による脱水処理工程を経て、汚泥として回収した。排水Ａ−１を１８ｍ３処理したが、処理された排水（処理水）は着色なく透明で、最終的な汚泥発生量は、１．１ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１０３】
（実施例２）
[排水Ｂ−１の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度５重量％の排水Ｂ−１を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で４．０〜４．４に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を２０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を２ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は−８ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は３時間であった。排水Ｂ−１を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、７６ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１０４】
（実施例３）
[排水Ａ−１の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度０．０１重量％の排水Ａ−１を、図２に示す排水処理装置を用いて処理した。排水Ａ−１を、まず原水槽１０に蓄え、そこからポンプにて反応槽１２へ送液し、排水のｐＨを酸（塩酸）で４．０〜４．４に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を１０００ｍｇ/Ｌ添加し、撹拌速度５００ｒｐｍ、滞留時間１０分にて、凝集反応を行った。凝集後のシリカの表面電位は−５ｍＶであった。次に、得られた反応液をポンプで凝集槽１４へ送液し、高分子凝集剤（アクリルアミド系高分子凝集剤：ハイモロックＳＳ−１００：ハイモ社製)を１ｍｇ／Ｌを添加し、撹拌速度３００ｒｐｍ、滞留時間１０分にてフロック形成を行った。フロック形成は良好に行うことができた。次に、凝集槽１４においてフロック形成された処理液を、ポンプで遠心分離機３０に送液した。遠心分離機３０としては、遠心効果３,０００Ｇの能力を持つスクリュデカンタ（石川島播磨重工業社製ＨＳ型、図３参照）を使用し、通常運転（１８ｍ３／ｈｒ)にて処理した。分離に要した時間は１時間であった。遠心分離機３０において汚泥スラリと分離された分離液は、生物処理槽１８にポンプで送液されて生物処理（活性汚泥処理）が行われ、さらに活性炭ろ過吸着装置２０へ送液され、活性炭によるろ過を行った。ろ液は着色なく透明であった。この排出水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。また、遠心分離機３０において分離液と分離された汚泥スラリ、及び後沈殿槽２０で得られた汚泥スラリは、脱水装置２８（フィルタプレス）による脱水処理工程を経て、汚泥として回収した。排水Ａ−１を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、最終的な汚泥発生量は、１．２ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１０５】
（実施例４）
[排水Ａ−２の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度０．０１重量％の排水Ａ−２を、図２に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で５．６〜６．０に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を１０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を１ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例３と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は＋２ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、遠心分離機３０において分離に要した時間は１時間であった。排水Ａ−２を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、１．１ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１０６】
（実施例５）
[排水Ｂ−１の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度５重量％の排水Ｂ−１を、図２に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で４．０〜４．４に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を２０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を２ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例３と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は−７ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、遠心分離機３０において分離に要した時間は１時間であった。排水Ｂ−１を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、７４ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１０７】
（実施例６）
[排水Ｂ−２の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度５重量％の排水Ｂ−２を、図２に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で５．６〜６．０に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を２０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を２ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例３と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は＋３ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、遠心分離機３０において分離に要した時間は１時間であった。排水Ｂ−２を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、７３ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１０８】
（実施例７）
[排水Ａ−３の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度０．０１重量％の排水Ａ−３を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で５．０〜５．４に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を１０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を１ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は−７ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は２時間であった。排水Ａ−３を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、１．７ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１０９】
（実施例８）
[排水Ａ−４の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度０．０１重量％の排水Ａ−４を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で５．０〜５．４に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を１０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を１ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は＋５ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は２時間であった。排水Ａ−４を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、１．８ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１１０】
（実施例９）
[排水Ｂ−３の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度５重量％の排水Ｂ−３を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で５．０〜５．４に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を２０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を２ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は−６ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は３時間であった。排水Ｂ−３を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、９８ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１１１】
（実施例１０）
[排水Ｂ−４の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度５重量％の排水Ｂ−４を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で５．０〜５．４に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を２０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を２ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は＋１ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は３時間であった。排水Ｂ−４を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、９５ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１１２】
（実施例１１）
[排水Ａ−１の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度０．０１重量％の排水Ａ−１を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で５．５〜５．９に調整しながら無機凝集剤（ポリ塩化アルミニウム）を１５００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を１ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は−１９ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は２時間であった。排水Ａ−１を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、２．３ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１１３】
（比較例１）
[排水Ａ−１の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度０．０１重量％の排水Ａ−１を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で７．３〜７．７に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を３０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を３ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は−２５ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は３時間であった。排水Ａ−１を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、５．１ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１１４】
（比較例２）
[排水Ａ−２の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度０．０１重量％の排水Ａ−２を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で７．３〜７．７に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を３０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を３ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は−２６ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は３時間であった。排水Ａ−２を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、５．２ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１１５】
（比較例３）
[排水Ｂ−１の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度５重量％の排水Ｂ−１を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で７．５〜７．９に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を５０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を５ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は−４１ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は５時間であった。排水Ｂ−１を１８ｍ３処理したが、処理された排水は顔料等による排水の着色が残り、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、１８５ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１１６】
（比較例４）
[排水Ｂ−２の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度５重量％の排水Ｂ−２を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で７．５〜７．９に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を５０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を５ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は−３８ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は５時間であった。排水Ｂ−２を１８ｍ３処理したが、処理された排水は顔料等による排水の着色が残り、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、１８８ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１１７】
（比較例５）
[排水Ａ−１の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度０．０１重量％の排水Ａ−１を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で３．５〜３．９に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を３０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を３ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は−２４ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は３時間であった。排水Ａ−１を１８ｍ３処理したが、処理された排水は着色なく透明で、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、５．３ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１１８】
（比較例６）
[排水Ｂ−１の処理]
上記トナー製造工程から排出された固形分濃度５重量％の排水Ｂ−１を、図１に示す排水処理装置を用いて処理した。排水のｐＨを酸（塩酸）で３．５〜３．９に調整しながら無機凝集剤（塩化第二鉄）を５０００ｍｇ/Ｌ添加して凝集反応を行い、高分子凝集剤（ハイモロックＳＳ−１００)を５ｍｇ／Ｌを添加してフロック形成を行ったこと以外は実施例１と同様にして処理を行った。凝集後のシリカの表面電位は−４８ｍＶであった。フロック形成は良好に行うことができた。また、凝集沈殿槽１６において分離に要した時間は５時間であった。排水Ｂ−１を１８ｍ３処理したが、処理された排水は顔料等による排水の着色が残り、この排水の化学的酸素要求量は＜５ｍｇ／Ｌであった。最終的な汚泥発生量は、１９０ｇ／Ｌであった。結果を表１に示す。
【０１１９】
【表１】
2007029802.tif 000003
【０１２０】
表１に示すように、凝集時のｐＨを４〜６の範囲とした実施例１〜８では、比較例１〜６に比べて、処理を効率的に行うことができ、凝集剤の使用量及び汚泥の発生量を削減することができた。また、実施例３〜６のように固液分離方法として遠心分離法を採用することにより、実施例１，２に比べてさらに分離時間の短縮、凝集剤の使用量及び汚泥の発生量の削減を達成することができた。
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】本発明の実施形態に係る排水処理装置の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の実施形態に係る排水処理装置の他の例を示す概略図である。
【図３】本発明の実施形態に係る排水処理方法に用いられる遠心分離機の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１２２】
１，３，５  排水処理装置、１０  原水槽、１２  反応槽、１４  凝集槽、１６  凝集沈殿槽、１８  生物処理槽、２０  後沈殿槽、２２  砂ろ過装置、２４  活性炭ろ過吸着装置、２６  汚泥濃縮槽、２８  脱水装置、３０  遠心分離機、３２  ｐＨ調整槽、５０  ケーシング、５２  外胴ボウル、５４  内胴スクリュ、５６  パイプ、５８  スクリュ羽根、６０  フィードパイプ、６２  吸入液吐出口、６４  固形物排出口、６６  分離液排出口。
【図１】
2007029802.tif 000004
【図２】
2007029802.tif 000005
【図３】
2007029802.tif 000006