(57)【要約】【課題】  従来のシャフトインサート型マグネットローラ等では、成形後に反りが発生し、主極等において所望の磁束密度が達成できない場合がある。【解決手段】  強磁性体粉末と樹脂バインダーとを含む溶融状態の混合物に磁場を印加して成形する工程を含む製造方法で得られうるシャフトインサート型マグネットローラにおいて、前記のシャフトが軸部シャフトと本体部シャフトとを含み、下記式で表されるＡ（％）が２５％以下であることを特徴とするマグネットローラ、で解決する。ただし、Ａ（％）＝（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００。【選択図】    図３
2007219254.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
強磁性体粉末と樹脂バインダーとを含む溶融状態の混合物に磁場を印加して成形する工程を含む製造方法で得られうるシャフトインサート型マグネットローラにおいて、
前記のシャフトが軸部シャフトと本体部シャフトとを含み、
「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積
に対する
「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積
の割合（下記式で表されるＡ（％））が２５％以下であることを特徴とするマグネットローラ。
Ａ（％）＝（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００。
【請求項２】
下記（Ｂ）の面積が、下記（Ｃ）の面積の６０％未満とされていることを特徴とする、請求項１に記載のマグネットローラ。
（Ｂ）「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」と平行の位置関係にあり、かつ、
金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の磁場発生源に最近接の位置にある
本体部シャフトの
「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」の断面積あるいは表面積。
（Ｃ）前記のシャフトに対して平行な位置関係にある「本体部シャフト断面積」のうち最大の断面積。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば、複写機、プリンタ、ファクシミリ等の画像形成装置に組み込まれるマグネットローラに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の複写機、プリンタ、ファクシミリ等における粉末トナーを用いた画像形成装置に組み込まれるマグネットローラは、次のような樹脂磁石材料で構成されている。
【０００３】
（１）磁気特性に優れた合成樹脂材を成形材料としてシャフトとロールを一体成形し、成形中に該ロールに異方化着磁を行うことにより、工程数を減らすことができ、安価にマグネットローラを製造することができる（特許文献１）。
【０００４】
（２）ゲート口からキャビティ外壁又は、中心に１５度以上の傾きを設けたゲートを有する金型内にシャフトをセットしておき、フェライト粉と高分子材料からなる複合樹脂マグネット材を射出し、成形物を配向又は着磁することにより、軸方向磁束密度が均一なマグネットローラが得られる（特許文献２）。
【特許文献１】特開昭６１−２０４９１０号公報。
【特許文献２】特開昭６２−２４２３２２号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１及び２は、金型内にインサートされたシャフト（磁性体あるいは非磁性体であるかは記載されていない）は、該溶融樹脂磁石材料が金型内で最も高い磁場発生源の方向へ引き寄せられる方向へ力を受け、また、シャフトが磁性体であれば、更にシャフト自身が金型内で最も高い磁場発生源の磁気吸引力により引き寄せられる力を受ける。従って、上記の力によりシャフトが反った状態のままでマグネットロールが成形されてしまう。
【０００６】
よって、成形品は最も高い磁場発生源により形成された磁極の部分のマグネット層厚が、他の部分に比べ薄くなり、結果的に所望の磁束密度を得られない場合があり、また、成形品が常温に戻った場合、シャフトの反りがもとに戻り（反りがなくなる）、結果的にマグネットローラが反ってしまう場合がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明では、鋭意検討の結果、従来技術の問題点・課題を、下記のように新たに捉えなおした。「従来技術では、溶融樹脂磁石材料が最も高い磁場発生源に引き寄せられる力と、シャフトが磁性体の場合は、シャフト自身も最も高い磁場発生源に引き寄せられる力とにより、金型内にインサートされたシャフトは最も高い磁場発生源の方向に反り、結果的に成形品は、最も高い磁場発生源に対応する磁極のマグネット層厚が薄くなり、また、成形品が常温に戻った場合、シャフトの反りがもとに戻り（反りがなくなる）、結果的には、前記磁極と凹となる方向へマグネットローラが反ってしまい、前記磁極においては、所望の磁束密度が得られなくなる」と、原因に関する推定をし、その原因を解決するための手段を検討した。結果、下記の発明を完成するに至った。
【０００８】
（１）本発明の第１は、
「強磁性体粉末と樹脂バインダーとを含む溶融状態の混合物に磁場を印加して成形する工程を含む製造方法で得られうるシャフトインサート型マグネットローラにおいて、
前記のシャフトが軸部シャフトと本体部シャフトとを含み、
「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積
に対する
「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積
の割合（下記式で表されるＡ（％））が２５％以下であることを特徴とするマグネットローラ。
Ａ（％）＝（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００。」、
である。
【０００９】
（２）本発明の第２は、
「下記（Ｂ）の面積が、下記（Ｃ）の面積の６０％未満とされていることを特徴とする、（１）に記載のマグネットローラ。
（Ｂ）「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」と平行の位置関係にあり、かつ、
金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の磁場発生源に最近接の位置にある
本体部シャフトの
「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」の断面積あるいは表面積。
（Ｃ）前記のシャフトに対して平行な位置関係にある「本体部シャフト断面積」のうち最大の断面積。」、
である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明（請求項１、２）により、成形時のシャフトの反りが防止でき、結果的にシャフトとマグネットとの同軸度が向上し、軸方向に均一な磁束密度をもつマグネットローラが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
（１）本発明の第１は、
「強磁性体粉末と樹脂バインダーとを含む溶融状態の混合物に磁場を印加して成形する工程を含む製造方法で得られうるシャフトインサート型マグネットローラにおいて、
前記のシャフトが軸部シャフトと本体部シャフトとを含み、
「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積
に対する
「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積
の割合（下記式で表されるＡ（％））が２５％以下であることを特徴とするマグネットローラ。
Ａ（％）＝（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００。」、
である。
【００１２】
（２）本発明の第２は、
「下記（Ｂ）の面積が、下記（Ｃ）の面積の６０％未満とされていることを特徴とする、（１）に記載のマグネットローラ。
（Ｂ）「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」と平行の位置関係にあり、かつ、
金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の磁場発生源に最近接の位置にある
本体部シャフトの
「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」の断面積あるいは表面積。
（Ｃ）前記のシャフトに対して平行な位置関係にある「本体部シャフト断面積」のうち最大の断面積。」、
である。
【００１３】
マグネット部の材料は、樹脂バインダーとしてエチレンエチルアクリレート樹脂を１０重量％（滑剤、安定剤等含む）、強磁性体粉末として異方性ストロンチウムフェライト（ＳｒＯ・６Ｆｅ２Ｏ３）粉末を９０重量％とし、これらを混合して溶融混練し、ペレット状にする。このペレットを溶融状態にして、図１のように、金型内（成形空間内）に、図２のようなシャフト（磁性体を含んでもよい）を挿入しておき、注入口から溶融樹脂磁石材料を成形空間内へ射出注入し、２４０Ｋ・Ａ／ｍ〜２４００Ｋ・Ａ／ｍの磁場を印加しながら配向着磁して、図３のようなマグネットローラを得る。該マグネットローラは、溶融樹脂磁石材料が最も高い磁場発生源に引き寄せられる方向に、前記樹脂圧により、上記シャフトが最も高い磁場発生源の方向に反ることもなく、また、シャフトが磁性体の場合でも、シャフト自身が最も高い磁場発生源に引き寄せられる力（磁気吸引力）により、上記シャフトが最も高い磁場発生源の方向に反ることもなく、金型内にインサートされたシャフトはマグネット部の中心に位置し、マグネット部（マグネットローラ本体部）とシャフト部の同軸度が良好で反りのないマグネットローラが得られる。従って、図４のように軸方向の磁束密度が均一となる。
【００１４】
ここでは、図２のような本体部シャフトの断面が長方形のシャフトを用いたが、シャフト形状は、これらに制限されるものではない。
【００１５】
例えば、図５のように断面が（ａ）のような台形形状、（ｂ）のような楕円形状、（ｃ）のような三角形形状、等が考えられる。要するに、成形空間内において、溶融樹脂磁石材料が最も高い発生磁場の方向へ流れるのを遮るような形状でなければよい。言い換えれば、最も高い発生磁場の方向へ流れる溶融樹脂磁石材料の力（樹脂圧）をできるだけ受けないような形状であればよい。また、最も高い磁場発生源に引き寄せられないシャフト形状（シャフト材質が磁性体の場合）を採用することが好ましく、つまり、マグネットローラ本体部断面積に対するシャフト断面積をできるだけ小さくすればよい。
【００１６】
また、シャフト形状において、下記（Ｂ）の面積が、下記（Ｃ）の面積の６０％未満とする。
（Ｂ）「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」と平行の位置関係にあり、かつ、
金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の磁場発生源に最近接の位置にある
本体部シャフトの
「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」の断面積あるいは表面積。
（Ｃ）前記のシャフトに対して平行な位置関係にある「本体部シャフト断面積」のうち最大の断面積。」
例えば、図５の（ａ）では、シャフト面２０を金型内で最も高い磁場発生源の方向に向けるように挿入固定する。
シャフト面２０の面積（Ｂ）は１３．６ｃｍ２で、
両側面２１の面積は２０．７ｃｍ２で、
底面２２の面積は２０．４ｃｍ２、
シャフトに対して平行な位置関係にある「本体部シャフト断面積」のうち最大の断面積（Ｃ）は、２６．６ｃｍ２
である。
（計算根拠：台形の高さは、ＳＱＲＴ（（２０．７）２−（３．４）２）である。
なお、ＳＱＲＴとは、数学の平方根を表す。
従い、
（Ｃ）の最大の断面積は、ＳＱＲＴ｛（ＳＱＲＴ（（２０．７）２−（３．４）２））２＋（１３．６＋３．４）２｝＝２６．６ｃｍ２である。）
従い、前記（Ｂ）の面積は、前記（Ｃ）の面積の５１．１％である（１３．６／２６．６×１００＝５１．１）。
【００１７】
上記のようなシャフトを用いることにより、図６のように、金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の磁場発生源に引き寄せられる溶融樹脂磁石材料の流れを妨げることなく、また、シャフトが磁性体の場合でも、前記（Ｂ）の面積が小さいので、該磁場発生源の磁気吸引力による影響も小さくでき、金型内にインサートされた上記シャフトは反ることなくマグネット部の中心に位置し、マグネット部とシャフト部の同軸度が良好で反りのないマグネットローラとなる。
【００１８】
前記（Ｂ）の面積が、前記（Ｃ）の面積の６０％以上となると、最も高い磁場発生源に引き寄せられる溶融樹脂磁石材料の流れを妨げることになり、結果的に前記溶融樹脂磁石材料の流れの圧力により、最も高い磁場発生源の方向にシャフトが反ってしまう。また、同時に上記磁場発生源による磁気吸引力の影響を大きく受け、結果的に最も高い磁場発生源の方向にシャフトが反ってしまう。
【００１９】
上記では、マグネットローラ材料として、樹脂バインダーにエチレンエチルアクリレート樹脂、強磁性粉末に異方性ストロンチウムフェライトを用いたもので説明したが、これらに制限されるものではない。
【００２０】
強磁性体粉末としては、ＭＯ・ｎＦｅ２Ｏ３（ｎは自然数）で代表される化学式を持つ異方性フェライト磁性粉などがあげられる。式中のＭとして、Ｓｒ、Ｂａまたは鉛などの１種類または２種類以上が適宜選択して用いられる。
【００２１】
また、強磁性体粉末として、異方性フェライト磁性粉、等方性フェライト磁性粉、異方性希土類磁性粉（例えばＳｍＦｅＮ系）、等方性希土類磁性粉（例えばＮｄＦｅＢ系）を単独または２種類以上を混合して用いてもよい。要求される磁束密度により適宜選択すればよい。
【００２２】
樹脂バインダーとしては、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＰＳ（ポリフェニレンスフィド）、ＥＶＡ（エチレンー酢酸ビニル共重合体）、ＥＶＯＨ（エチレンービニルアルコール共重合体）及びＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）などの１種類または２種類以上、もしくはエポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フラン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂及びポリイミド樹脂などの熱硬化性樹脂の１種類または２種類以上を混合して用いることができる。
【００２３】
上記に示した単独磁性粉あるいは混合磁性粉の含有率が５０重量％未満では、磁性粉不足により、マグネットピースあるいはマグネットローラの磁気特性が低下して所望の磁力が得られにくくなり、また、それらの含有率が９５重量％を超えると、樹脂バインダー不足となり成形性が損なわれるおそれがある。
【００２４】
添加剤としては、磁性粉の表面処理剤としてシラン系やチタネート系等のカップリング剤、流動性を良好にするポリスチレン系・フッ素系滑剤等、安定剤、可塑剤、もしくは難燃剤などを添加する。
【００２５】
また、本明細書においては、「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフトの断面形状が長方形、台形、楕円形、三角形、等を挙げたが、これに制限されるものではなく、高磁場発生源の方向へ流れる溶融樹脂磁石材料の妨げにならないような形状であれば何でもよい。
【００２６】
また、「（Ｂ）「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」と平行の位置関係にあり、かつ、
金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の磁場発生源に最近接の位置にある
本体部シャフトの
「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」の断面積あるいは表面積。」
を小さくし、該高磁場発生源の影響を小さくできるような形状であれば何でもよい。更に、シャフト材質は磁性体、非磁性体のどちらでもよい。
【００２７】
シャフト両端部は、切削加工等により丸軸にしてもよいが、図７のように、圧入、圧接、接着、等により、上記のようなシャフトの両端部に、端部にＤカットした部分を含むような丸軸（円筒状の軸）を固着してもよい。また、図８のように、シャフトとスリーブを別々の部材で受けるような現像装置であれば、前記のように、シャフト両端部を切削加工等や、圧入、圧接、接着、等により、丸軸を形成する必要もなく、低コストのマグネットローラが実現できる。
【００２８】
更に、本明細書においては、５極構成のマグネットロールを図示しているが、本発明は５極マグネットロールのみに限定されない。すなわち、所望の磁束密度と磁界分布により、磁極数や磁極位置も適宜設定すればよい。
【実施例】
【００２９】
以下に本発明を実施例および比較例に基づき具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３０】
（実施例１）
図３のマグネットローラ用材料として、樹脂バインダーにエチレンエチルアクリレート樹脂（日本ユニカー製ＰＥＳ２１０）を１０重量％（滑剤、安定剤を含む）、強磁性粉末に異方性ストロンチウムフェライト（ＳｒＯ・６Ｆｅ２Ｏ３）粉末（日本弁柄工業製ＮＦ−３５０）を９０重量％とし、これらを混合して溶融混練し、ペレット状に成形し、このペレットを溶融状態にし、図１の射出成形装置（金型）を用いて、図２のような正方形（断面が６ｍｍ×６ｍｍ）のシャフトを成形空間内にインサートしておき、２４０Ｋ・Ａ／ｍ〜２４００Ｋ・Ａ／ｍの磁場を印加しながら溶融樹脂磁石の磁性粒子を配向着磁し、図３に示すようなマグネットローラを得た。この時、シャフト面（６ｍｍ）を、該金型内において最も高い磁場（２４００Ｋ・Ａ／ｍ）を発生する方向に向けた。
【００３１】
マグネット本体部の外径はφ１３．６（直径１３．６ｍｍ、断面積１．４５ｃｍ２）、マグネット本体部の長さは３２０ｍｍ、軸部を含めた全長を３７０ｍｍとした。図７のように、マグネット本体部に対応する部分のシャフトは、断面（正方形）が６ｍｍ×６ｍｍとし、両端の軸部には外径φ６（直径６ｍｍ、断面積０．２８ｃｍ２）の丸軸を直方体（断面が６ｍｍ×６ｍｍ、断面積＝０．３６ｃｍ２）に圧入接着した。尚、シャフト材質は磁性体であるＳＵＭ２２を使用した。
【００３２】
従って、上記では、Ａ（％）＝（本体部シャフト断面積／マグネットローラ本体部断面積）×１００＝（０．３６ｃｍ２／１．４５ｃｍ２）×１００＝２４．８（％）となる。
【００３３】
形成されたマグネットローラの両端軸部を支持し、マグネットローラを回転させながら、マグネットローラの中心から８ｍｍ離れた位置（スリーブ上）にプローブ（磁束密度センサー）をセットし、ガウスメータにてマグネットローラの周方向磁束密度パターン及び軸方向磁束密度パターンを測定した。軸方向磁束密度パターンを測定する場合、まず、マグネットローラ軸方向の中央部分の周方向磁束密度を測定し、各磁極の磁束密度ピーク位置を検出し、それぞれの磁極の磁束密度ピーク位置において、プローブをマグネットローラの軸方向端部からもう一方の端部へスキャンさせて軸方向磁束密度を測定し、軸方向有効磁束密度領域において、最大磁束密度値（ｂｍＴ）と最小磁束密度値（ａｍＴ）との差（バラツキ＝ｂｍＴ−ａｍＴ）を測定した。測定結果は、最も高い磁場を印加して形成された磁極（主極）の測定値を代表値として表に記載した。
また、図９のように、形成されたマグネットローラの両端軸部を支持し、マグネットローラを回転させながら、ピックテスターをマグネットローラ本体部の軸方向中心位置に当て、該マグネットローラの反り量（曲がり量＝ａ−ｂ）を測定した。
測定結果を表１に示す。  
【００３４】
【表１】
2007219254.tif 000003
上記の説明と一部繰り返しになるが、実施例・比較例に共通する「表」の内容について、説明する。
「表」中の「Ａ（％）」とは（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００、である。
また、「表」中の「シャフト断面積比」とは、下記の（Ｂ）／（Ｃ）×１００で表される。
・（Ｂ）「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」と平行の位置関係にあり、かつ、
金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の磁場発生源に最近接の位置にある
本体部シャフトの
「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」の断面積あるいは表面積。
・（Ｃ）前記のシャフトに対して平行な位置関係にある「本体部シャフト断面積」のうち最大の断面積。
実施例１の場合、（Ｂ）／（Ｃ）×１００＝６／（６×ＳＱＲＴ（２））×１００＝７０．７％）
「表」中の磁束密度バラツキ（前記のｂｍＴ−ａｍＴ）とは、軸方向有効磁束密度領域において、磁束密度最大値と磁束密度最小値との差であり、金型内において最も高い磁場を発生させて形成した磁極（主極）の測定値のみ記載した。
「表」中の反り量は、金型内において最も高い磁場を発生させて形成した磁極側のマグネットローラ本体部が、仮想中心に対しての曲がり量（前記の曲がり量＝ａ−ｂ）を記載した。
【００３５】
（実施例２）
マグネット本体部に対応する部分のシャフトを断面（正方形）を５ｍｍ×５ｍｍとする以外はすべて実施例１と同様に行った。
Ａ（％）＝（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００＝（０．２５ｃｍ２／１．４５ｃｍ２）×１００＝１７．２（％）となる。
実施例２の場合、（Ｂ）／（Ｃ）×１００＝５／（５×ＳＱＲＴ（２））×１００＝７０．７％）
測定結果を表１に示す。  
【００３６】
（実施例３）
シャフト断面が５ｍｍ×６ｍｍで、シャフトの断面が５ｍｍの面を、該金型内において最も高い磁場（２４００Ｋ・Ａ／ｍ）を発生する方向に向ける以外はすべて実施例１と同様に行った。
Ａ（％）＝（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００＝（０．３ｃｍ２／１．４５ｃｍ２）×１００＝２０．７（％）となる。
実施例３の場合、（Ｂ）／（Ｃ）×１００＝５／（ＳＱＲＴ（５２＋６２））×１００＝６４．１％）
測定結果を表１に示す。  
【００３７】
（実施例４）
マグネット本体部に対応する部分のシャフトを断面（長方形）を３ｍｍ×６ｍｍとし、３ｍｍの面を金型内において最も高い磁場（２４００Ｋ・Ａ／ｍ）を発生する方向に向ける以外はすべて実施例１と同様に行った。
Ａ（％）＝（（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００＝（０．１８ｃｍ２／１．４５ｃｍ２）×１００＝１２．４（％）となる。
実施例４の場合、（Ｂ）／（Ｃ）×１００＝３／（ＳＱＲＴ（３２＋６２））×１００＝４４．７％）
測定結果を表１に示す。  
【００３８】
（実施例５）
シャフト断面が４．２ｍｍ×６ｍｍで、シャフトの断面が４．２ｍｍの面を、該金型内において最も高い磁場（２４００Ｋ・Ａ／ｍ）を発生する方向に向ける以外はすべて実施例１と同様に行った。
Ａ（％）＝（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００＝（０．２５ｃｍ２／１．４５ｃｍ２）×１００＝１７．３（％）となる。
実施例５の場合、（Ｂ）／（Ｃ）×１００＝４．２／（ＳＱＲＴ（（４．２）２＋６２））×１００＝５７．３％）
測定結果を表１に示す。
【００３９】
（実施例６）
シャフト断面が１ｍｍ×６ｍｍで、シャフトの断面が１ｍｍの面を、該金型内において最も高い磁場（２４００Ｋ・Ａ／ｍ）を発生する方向に向ける以外はすべて実施例１と同様に行った。
Ａ（％）＝（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００＝（０．０６ｃｍ２／１．４５ｃｍ２）×１００＝４．１（％）となる。
実施例６の場合、（Ｂ）／（Ｃ）×１００＝１／（ＳＱＲＴ（１２＋６２））×１００＝１６．４％）
測定結果を表１に示す。
【００４０】
（実施例７）
シャフト断面が台形で、上辺幅２ｍｍ、下辺幅６ｍｍ、高さ６ｍｍとし、シャフトの断面の上辺２ｍｍ幅の面を、該金型内において最も高い磁場（２４００Ｋ・Ａ／ｍ）を発生する方向に向ける以外はすべて実施例１と同様に行った。
Ａ（％）＝（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００＝（０．２４ｃｍ２／１．４５ｃｍ２）×１００＝１６．５（％）となる。
実施例７の場合、（Ｂ）／（Ｃ）×１００＝２／（ＳＱＲＴ（（２＋２）２＋６２））×１００＝２７．７％）
測定結果を表１に示す。
【００４１】
（実施例８）
シャフト断面が三角形で、底辺が５ｍｍ、高さが６ｍｍの２等辺三角形とし、両斜辺の頂点を、該金型内において最も高い磁場（２４００Ｋ・Ａ／ｍ）を発生する方向に向ける以外はすべて実施例１と同様に行った。
Ａ（％）＝（「シャフトに対して垂直な方向」の本体部シャフト断面積／「シャフトに対して垂直な方向」のマグネットローラ本体部断面積）×１００＝（０．１５ｃｍ２／１．４５ｃｍ２）×１００＝１０．３（％）となる。
実施例８の場合、（Ｂ）／（Ｃ）×１００＝０／（ＳＱＲＴ（６２））×１００＝０％）である。理由は、下記の（Ｂ）が、２等辺三角形の頂点であるため、０であるからである。
（Ｂ）「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」と平行の位置関係にあり、かつ、
金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の磁場発生源に最近接の位置にある
本体部シャフトの
「金型内において最も高い印加磁場を発生する磁極の方向に対して垂直な方向」の断面積あるいは表面積。
測定結果を表１に示す。  
【００４２】
（比較例１）
シャフト断面が６．５ｍｍ×６．５ｍｍで、シャフトの断面が６．５ｍｍの面を、該金型内において最も高い磁場（２４００Ｋ・Ａ／ｍ）を発生する方向に向ける以外はすべて実施例１と同様に行った。
Ａ（％）＝（シャフト断面積／マグネットローラ本体部断面積）×１００＝（０．４２ｃｍ２／１．４５ｃｍ２）×１００＝２９．１（％）となる。
比較例１の場合、（Ｂ）／（Ｃ）×１００＝６．５／（６．５×ＳＱＲＴ（２））×１００＝７０．７％）
測定結果を表１に示す。
【００４３】
（比較例２）
シャフト断面が６ｍｍ×８ｍｍで、シャフトの断面が６ｍｍの面を、該金型内において最も高い磁場（２４００Ｋ・Ａ／ｍ）を発生する方向に向ける以外はすべて実施例１と同様に行った。
Ａ（％）＝（シャフト断面積／マグネットローラ本体部断面積）×１００＝（０．４８ｃｍ２／１．４５ｃｍ２）×１００＝３３．１（％）となる。
比較例２の場合、（Ｂ）／（Ｃ）×１００＝６／（ＳＱＲＴ（６２＋８２））×１００＝６０％）
測定結果を表１に示す。
【００４４】
（比較例３）
シャフト断面が７ｍｍ×７ｍｍで、シャフトの断面が７ｍｍの面を、該金型内において最も高い磁場（２４００Ｋ・Ａ／ｍ）を発生する方向に向ける以外はすべて実施例１と同様に行った。
Ａ（％）＝（シャフト断面積／マグネットローラ本体部断面積）×１００＝（０．４９ｃｍ２／１．４５ｃｍ２）×１００＝３３．８（％）となる。
比較例３の場合、（Ｂ）／（Ｃ）×１００＝７／（７×ＳＱＲＴ（２））×１００＝７０．７％）
測定結果を表１に示す。
【００４５】
表１に示すとおり、
Ａ（％）が、２５％以下であると、以下の点で好ましい。
＜１＞主極磁束密度が８５ｍＴ〜９５ｍＴ程度であり、比較例の７６ｍＴ〜８０ｍＴ程度に比べて、主極磁束密度が高いため好ましい。
＜２＞主極軸方向磁束密度のバラツキが１．０ｍＴ〜２．０ｍＴ程度であり、比較例の３．５ｍＴ〜４．３ｍＴ程度に比べて、主極軸方向磁束密度のバラツキが小さいため好ましい。
＜３＞主極側の反り量（凹み量）が０．０３ｍｍ〜０．１０ｍｍ程度であり、比較例の０．１８〜２．１ｍｍ程度に比べて、主極側の反り量（凹み量）が小さいため好ましい。
【００４６】
表１に示すとおり、さらに、
シャフト断面積比（（Ｂ）／（Ｃ））が６０％未満であると、以下の点でさらに好ましい。
＜１＞主極磁束密度が９０ｍＴ〜９５ｍＴ程度であり、実施例の中でも高めであるため、さらに好ましい。
＜２＞主極軸方向磁束密度のバラツキが１．０ｍＴ〜１．６ｍＴ程度であり、実施例の中でも小さめであるため、さらに好ましい。
＜３＞主極側の反り量（凹み量）が０．０３ｍｍ〜０．０７ｍｍ程度であり、実施例の中でも小さめであるため、さらに好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明のマグネットローラを成形する装置（金型）
【図２】本発明に用いるシャフトの斜視図
【図３】本発明のマグネットローラの斜視図
【図４】本発明のマグネットローラの軸方向磁束密度パターン
【図５】本発明の別のシャフトの断面図
【図６】本発明のマグネットローラの成形を説明する図
【図７】本発明のマグネット本体部のシャフト部と軸部との固着を説明する図
【図８】本発明のマグネットローラを用いた現像装置図
【図９】マグネットローラの反り量を測定する装置
【符号の説明】
【００４８】
１    成形空間
２    本体部シャフト
３    軸部シャフト
４    注入口
５    射出成形装置（金型）
６    磁場発生源
７    マグネット本体部
８    軸方向磁束密度パターン（主極）
９    本体部シャフト断面（台形）
１０  本体部シャフト断面（楕円形）
１１  本体部シャフト断面（三角形）
１２  溶融樹脂磁石材料の流れる方向
１３  軸部シャフトの一部を圧入する穴
１４  スリーブ
１５  軸受け（スリーブ用）  
１６  現像装置壁  
１７  ピックテスター
１８  軸部シャフト支持部材
１９  反り測定装置ベース台
２０  最も高い磁場に対向するシャフト面
２１  シャフト側面
２２  シャフト底面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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