(57)【要約】【課題】使用するフォトマスクの枚数または工程を増加させることなく、セルギャップの調整を行うことができる表示パネル用の基板およびその製造に適用できるフォトマスクを提供すること。【解決手段】第一着色層１１１をパターニングすると同時に表示領域Ａの内外の所定の位置にスペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１をパターニングし、その後第二着色層１１２をパターニングすると同時に、表示領域Ａ内に形成された第一要素２２１に積層する位置にスペーサ２２の第二要素２２２をパターニングし、さらにその後、第三着色層１１３をパターニングすると同時に表示領域Ａ外に形成された第一要素２３１に積層する位置にスペーサ２３の第二要素２３２をパターニングする。【選択図】図１２
2007219330.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルギャップを制御するためのスペーサを有する表示パネル用の基板であって、第一の要素と、少なくとも一部が前記第一の要素に積層する第二の要素とを有し、前記第一の要素と第二の要素とが積層する部分の合計高さが前記第一の要素と前記第二の要素との相対的な位置に応じて変化するスペーサと、第二の要素と積層しない第一の要素および／または第一の要素と積層しない第二の要素と、を備えることを特徴とする表示パネル用の基板。
【請求項２】
前記スペーサの前記第一の要素と前記第二の要素との少なくとも一方は、ある方向に沿って高さが変化する形状を有し、前記第一の要素と前記第二の要素とが積層する部分の位置が前記ある方向に沿って相対的に変化すると、前記第一の要素と前記第二の要素とが積層する部分の合計高さが変化することを特徴とする請求項１に記載の表示パネル用の基板。
【請求項３】
セルギャップを制御するためのスペーサを有する表示パネル用の基板であって、第一の要素と、少なくとも一部が前記第一の要素に積層する第二の要素とを有し、前記第一の要素と前記第二の要素が積層する部分の面積が前記第一の要素と前記第二の要素との相対的な位置に応じて変化するスペーサと、第二の要素が積層しない第一の要素および／または第一の要素に積層しない第二の要素と、を備えることを特徴とする表示パネル用の基板。
【請求項４】
前記スペーサの前記第一の要素と前記第二の要素の少なくとも一方はある方向に対して不等幅な形状を有し、前記第一の要素と前記第二の要素とが積層する部分の位置が前記ある方向に沿って相対的に変化すると前記第一の要素と前記第二の要素とが積層する部分の面積が変化することを特徴とする請求項３に記載の表示パネル用の基板。
【請求項５】
前記第一の要素と前記第二の要素は、互いに異なる色の着色感材により形成されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の表示パネル用の基板。
【請求項６】
第一の領域と第二の領域とを有し、前記第一の領域および前記第二の領域に形成されるスペーサの第一の要素と、前記第一の領域に形成されるスペーサの第二の要素と、第二の領域に形成されるスペーサの第二の要素とが、互いに異なる色の着色感材により形成されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の表示パネル用の基板。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の表示パネル用の基板を備えることを特徴とする表示パネル。
【請求項８】
着色層をパターニングするための透光部または遮光部と、セルギャップを制御するためのスペーサの第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と、前記スペーサの第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部と、を有することを特徴とするフォトマスク。
【請求項９】
前記スペーサの前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記スペーサの前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部の少なくとも一方は、光エネルギの透過できる量が不均一であることを特徴とする請求項８に記載のフォトマスク。
【請求項１０】
前記スペーサの前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記スペーサの前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部の少なくとも一方は、光エネルギの透過できる量が一端から他端に向かって徐々にまたは段階的に変化することを特徴とする請求項９に記載のフォトマスク。
【請求項１１】
前記スペーサの前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記スペーサの前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部の少なくとも一方は、不均一な幅の形状を有することを特徴とする請求項８に記載のフォトマスク。
【請求項１２】
前記スペーサの前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記スペーサの前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部の少なくとも一方は、先細り形状または先太り形状を有することを特徴とする請求項１１に記載のフォトマスク。
【請求項１３】
着色層をパターニングするための透光部または遮光部と、セルギャップを制御するためのスペーサの第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と、を有することを特徴とするフォトマスク。
【請求項１４】
着色層をパターニングするための透光部または遮光部と、セルギャップを制御するためのスペーサの第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部と、を有することを特徴とするフォトマスク。
【請求項１５】
請求項１３に記載のフォトマスクと、請求項１４に記載のフォトマスクと、を備えることを特徴とするフォトマスクの組。
【請求項１６】
前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部の少なくとも一方は、光エネルギの透過できる量が不均一であることを特徴とする請求項１５に記載のフォトマスクの組。
【請求項１７】
前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部の少なくとも一方は、光エネルギの透過できる量が一端から他端に向かって徐々にまたは段階的に変化することを特徴とする請求項１６に記載のフォトマスクの組。
【請求項１８】
前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部は、不等幅の形状を有することを特徴とする請求項１５に記載のフォトマスクの組。
【請求項１９】
前記スペーサの前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記スペーサの前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部の少なくとも一方は、先細り形状または先太り形状を有することを特徴とする請求項１８に記載のフォトマスクの組。
【請求項２０】
請求項８から請求項１２のいずれかに記載のフォトマスクを用いてある色の着色層をパターニングすると同時にセルギャップを制御するためのスペーサの第一の要素と第二の要素の少なくとも一方をパターニングする工程と、請求項８から請求項１２のいずれかに記載のフォトマスクを用いて他の色の着色層をパターニングすると同時に前記スペーサの第一の要素と第二の要素の少なくとも他方をパターニングする工程と、を含むことを特徴とする表示パネル用の基板の製造方法
【請求項２１】
請求項１６から請求項１９のいずれかに記載のフォトマスクの組に含まれるある一のフォトマスクを用いて第一の色の着色層をパターニングすると同時にスペーサの第一の要素をパターニングする工程と、請求項１６から請求項１９のいずれかに記載のフォトマスクの組に含まれる他の一のフォトマスクを用いて第二の色の着色層をパターニングすると同時に第一の領域または第二の領域の一方に形成された前記スペーサの第一の要素に積層する位置に前記スペーサの第二の要素をパターニングする工程と、請求項１６から請求項１９のいずれかに記載のフォトマスクの組に含まれる前記他の一のフォトマスクを用いて第三の色の着色層をパターニングすると同時に第一の領域または第二の領域の他方に形成された前記スペーサの第一の要素に積層する位置に前記スペーサの第二の要素をパターニングする工程と、を含むことを特徴とする表示パネル用の基板の製造方法。
【請求項２２】
請求項２０または請求項２１に記載の基板の製造方法を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネル用の基板、表示パネル、フォトマスク、フォトマスクの組、表示パネル用の基板の製造方法および表示パネルの製造方法に関するものであり、特に好適には、セルギャップを制御するスペーサを備える表示パネル用の基板、この表示パネル用の基板を備える表示パネル、この表示パネル用の基板またはこの表示パネルの製造に適用できるフォトマスクまたはフォトマスクの組、このフォトマスクまたはこのフォトマスクの組を用いた表示パネル用の基板の製造方法および表示パネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的な液晶表示パネルは、一対の基板が、微小な間隔をおいて相対向して配置され、この一対の基板の間に、液晶が充填されるという構成を有する。そして、この一対の基板の間隔、すなわちセルギャップは、所定の均一な寸法に維持される。
【０００３】
セルギャップを所定の均一な寸法に維持するための構成としては、たとえば球状のビーズを一対の基板の間に介在させる構成や、一対の基板の少なくとも一方に突起状の構造物を形成する構成などが用いられている。そして突起状の構造物を形成する構成としては、たとえば、カラーフィルタ基板上に赤色、緑色、青色の各色の着色感材（感光性樹脂に所定の色の顔料を分散させた溶液）からなる着色層をパターニングする際に、同時にこれらの着色感材を部分的に重ね合わせ、突起状の構造物を形成する構成が知られている（特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開平９−１２００７５号公報
【特許文献２】特開２００４−１９８８４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、着色感材を部分的に重ね合わせる構成は、次のような問題点を有する。まずこの構成では、それぞれの色の着色感材をパターニングするためのフォトマスクが必要となる。たとえば、三色の着色感材を重ね合わせるには、三枚のフォトマスクが必要となる。このため、フォトマスクに要する費用が増加するか、または削減できない。
【０００６】
また、このような構成の突起状の構造物を用いる構成は、各着色層の色特性またはセルギャップのいずれか一方のみを、独立して調整することが困難であるという問題点を有する。各着色層は、各絵素が所定の色特性を備えるように、所定の層厚に形成する必要がある。一方、突起状の構造物は、セルギャップを所定の寸法に維持できるように、所定の高さに形成する必要がある。ところが着色層と突起状の構造物とを同じ着色感材により形成する構成では、各色の着色層の層厚（すなわち絵素の色特性）と、突起状の構造物の高さとが相互に影響する。したがって、各着色層の層厚の合計値と、セルギャップの維持に必要な突起状の構造物の高さとを一致させるように設計する必要がある。しかしながら、生産工程でばらつきが発生して、セルギャップが設計値からずれる場合がある。このような場合には、色特性に影響を与えることなく、セルギャップを適正な値に調整することが困難となる。
【０００７】
また、このような構成は、液晶表示パネルの特定の領域のセルギャップのみを調整することが困難である。このため、次のような問題が生じることがある。液晶表示パネルの基板の表面において、絵素がマトリックス状に配列される領域（すなわち表示領域）と、その外側の領域とでは、ブラックマトリックスやオーバーコート層の厚さが相違することがある。このような場合、突起状の構造物の高さが基板の全面にわたって同じであると、表示領域とその外側の領域との境界近傍において、貼り合わせた対向基板にひずみが生じることがある。そして基板のひずみが生じた箇所において、液晶の配向が乱れ、光漏れが生じるなどして、液晶表示パネルの表示品位が低下するおそれがある。
【０００８】
そこで、表示領域の内外で、突起状の構造物の高さを異ならせるという構成が提案されている（特許文献２参照）。しかしながら、このような構成では工程数が増加し、また、必要となるフォトマスクの枚数も増加する。
【０００９】
上記実情に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、必要なフォトマスクの枚数を増加させないか、もしくは減少させることができる表示パネル用の基板、表示パネル、フォトマスク、フォトマスクの組、表示パネル用の基板の製造方法および表示パネルの製造方法を提供すること、または、工程数を増加させることなくセルギャップを調整することができる表示パネル用の基板、表示パネル、フォトマスク、フォトマスクの組、表示パネル用の基板の製造方法および表示パネルの製造方法を提供すること、または、着色層の層厚（色特性）に影響を与えることなく、セルギャップを調整することができる表示パネル用の基板、表示パネル、フォトマスク、フォトマスクの組、表示パネル用の基板の製造方法および表示パネルの製造方法を提供すること、または、表示パネルの特定の領域ごとにセルギャップを独立的に調整できる表示パネル用の基板、表示パネル、フォトマスク、フォトマスクの組、表示パネル用の基板の製造方法および表示パネルの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するため、本発明は、セルギャップを制御するためのスペーサを有する表示パネル用の基板において、第一の要素と、少なくとも一部が前記第一の要素に積層する第二の要素とを有し、前記第一の要素と第二の要素とが積層する部分の合計高さが前記第一の要素と前記第二の要素との相対的な位置に応じて変化するスペーサと、第二の要素と積層しない第一の要素および／または第一の要素と積層しない第二の要素とを備えることを要旨とするものである。
【００１１】
ここで、前記スペーサの前記第一の要素と前記第二の要素との少なくとも一方は、ある方向に沿って高さが変化する形状を有し、前記第一の要素と前記第二の要素とが積層する部分の位置が前記ある方向に沿って相対的に変化すると、前記第一の要素と前記第二の要素とが積層する部分の合計高さが変化することが好ましい。
【００１２】
また、本発明は、セルギャップを制御するためのスペーサを有する表示パネル用の基板において、第一の要素と、少なくとも一部が前記第一の要素に積層する第二の要素とを有し、前記第一の要素と前記第二の要素が積層する部分の面積が前記第一の要素と前記第二の要素との相対的な位置に応じて変化するスペーサと、第二の要素が積層しない第一の要素および／または第一の要素に積層しない第二の要素と、を備えることを要旨とするものである。
【００１３】
ここで、前記スペーサの前記第一の要素と前記第二の要素の少なくとも一方はある方向に対して不等幅な形状を有し、前記第一の要素と前記第二の要素とが積層する部分の位置が前記ある方向に沿って相対的に変化すると前記第一の要素と前記第二の要素とが積層する部分の面積が変化するものであることが好ましい。
【００１４】
前記第一の要素と前記第二の要素は、互いに異なる色の着色感材により形成されることが好ましい。
【００１５】
また、第一の領域と第二の領域とを有し、前記第一の領域および前記第二の領域に形成されるスペーサの第一の要素と、前記第一の領域に形成されるスペーサの第二の要素と、第二の領域に形成されるスペーサの第二の要素とが、互いに異なる色の着色感材により形成される構成であってもよい。
【００１６】
本発明は、着色層をパターニングするための透光部または遮光部と、セルギャップを制御するためのスペーサの第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と、前記スペーサの第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部とを有することを要旨とするものである。
【００１７】
前記スペーサの前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記スペーサの前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部の少なくとも一方は、光エネルギの透過できる量が不均一であることが好ましい。具体的には、光エネルギの透過できる量が一端から他端に向かって徐々にまたは段階的に変化する構成が好適に適用できる。
【００１８】
また、前記スペーサの前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記スペーサの前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部の少なくとも一方は、不均一な幅の形状を有する構成であってもよい。具体的には、先細り形状または先太り形状を有する構成が好適に適用できる。
【００１９】
本発明は、着色層をパターニングするための透光部または遮光部と、セルギャップを制御するためのスペーサの第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部とを有するフォトマスクと、着色層をパターニングするための透光部または遮光部と、セルギャップを制御するためのスペーサの第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部とを有するフォトマスクとを備えることを要旨とする。
【００２０】
ここで、前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部の少なくとも一方は、光エネルギの透過できる量が不均一であることが好ましい。具体的には、光エネルギの透過できる量が一端から他端に向かって徐々にまたは段階的に変化する構成が適用できる。
【００２１】
また、前記第一の要素をパターニングするための透光部または遮光部と前記第二の要素をパターニングするための透光部または遮光部は、不等幅の形状を有するものであってもよい。たとえば、先細り形状または先太り形状を有する構成が適用できる。
【００２２】
本発明は、前記いずれかのフォトマスクを用いてある色の着色層をパターニングすると同時にセルギャップを制御するためのスペーサの第一の要素と第二の要素の少なくとも一方をパターニングする工程と、前記いずれかのフォトマスクを用いて他の色の着色層をパターニングすると同時に前記スペーサの第一の要素と第二の要素の少なくとも他方をパターニングする工程とを含むことを要旨とするものである。
【００２３】
また、本発明は、前記フォトマスクの組に含まれるある一のフォトマスクを用いて第一の色の着色層をパターニングすると同時にスペーサの第一の要素をパターニングする工程と、前記フォトマスクの組に含まれる他の一のフォトマスクを用いて第二の色の着色層をパターニングすると同時に第一の領域または第二の領域の一方に形成された前記スペーサの第一の要素に積層する位置に前記スペーサの第二の要素をパターニングする工程と、前記フォトマスクの組に含まれる前記他の一のフォトマスクを用いて第三の色の着色層をパターニングすると同時に第一の領域または第二の領域の他方に形成された前記スペーサの第一の要素に積層する位置に前記スペーサの第二の要素をパターニングする工程と、を含むことを要旨とするものである。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、スペーサを構成する第一要素と第二要素とを、一枚または二枚のフォトマスクもしくはフォトマスクの組でパターニングできることから、必要となるフォトマスクの枚数を減らすことができる。
【００２５】
また、本発明によれば、第一の要素と第二の要素との相対的な位置関係を変更することにより、第一の要素と第二の要素とが積層する部分の合計高さを変更することができる。セルギャップは、第一の要素と第二の要素とが積層する部分の合計高さによって規定されるから、第一の要素と第二の要素との相対的な位置関係を変更することにより、セルギャップを調整できる。第一の要素と第二の要素との相対的な位置関係の変更は、第一要素または第二要素の少なくとも一方をパターニングする際に、フォトマスクの位置をシフトすることによりおこなえる。したがって、工程数を増加させることなく、セルギャップの調整を行うことができる。
【００２６】
また、セルギャップは、第一要素と第二要素との相対的な位置関係を変更することにより調整できる。したがって、セルギャップの調整のために、基板表面に塗布する着色感材の膜厚（または、最終的に形成される各着色層の層厚）を変更する必要がない。すなわち、セルギャップの調整が、基板表面に塗布する着色感材の膜厚（すなわち、最終的に形成される着色層の層厚）に影響を与えることがなく、また、影響を受けることもない。
【００２７】
第一の領域に形成されるスペーサの第一の要素または第二の要素の少なくとも一方と、第二の領域に形成されるスペーサの第一の要素または第二の要素の少なくとも一方とが、互いに異なる色の着色感材からなる構成であると、第一の領域と第二の領域とで互いに独立してセルギャップを調整することができる。また、第一の領域に形成されるスペーサの第一の要素または第二の要素の少なくとも一方と、第二の領域に形成されるスペーサの第一の要素または第二の要素の少なくとも一方とを、互いに異なる構成で形成する構成であっても、第一の領域と第二の領域とで互いに独立してセルギャップを調整することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下に、本発明の各実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００２９】
最初に、本発明の第一実施形態について説明する。図１は、本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板の構成を模式的に示した外観斜視図である。詳しくは、図１（ａ）は、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板の全体を示した図、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＢ部拡大図であり、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板の表面に形成されるスペーサの構成を示した図である。なお、この図は説明のための模式的な図であり、表示パネル用の基板１１ａのサイズに対する絵素１１６やスペーサ２０のサイズの比率、形状や数などは、必ずしも現実の表示パネル用の基板と一致するものではない（以下、他の図においても同じ）。
【００３０】
本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａは、図１（ａ）に示すように、ガラスなどからなる透明基板１１４の表面に、ブラックマトリックス１１５、第一の色の着色層１１１（以下、「第一着色層」と称する）、第二の色の着色層１１２（以下、「第二着色層」と称する）、第三の色の着色層１１３（以下、「第三着色層」と称する）とが形成される。そして、ブラックマトリックス１１５上の所定の位置に、セルギャップを制御するためのスペーサ２０が形成される。また、図１では省略してあるが、透明基板１１４の表面には、透明電極（共通電極）などの所定の要素が形成される。
【００３１】
ブラックマトリックス１１５は、各絵素１１６を光学的に分離するための格子状の要素である。このブラックマトリックス１１５は、たとえば黒色の着色剤を含有する樹脂材料などにより形成される。
【００３２】
第一着色層１１１、第二着色層１１２および第三着色層１１３は、各絵素１１６に所定の色特性を与えるための要素である。各着色層１１１，１１２，１１３は、それぞれ、赤色、緑色または青色のいずれかの着色感材（前記いずれかの色の顔料を分散させた感光性樹脂）などにより形成される。そして、各着色層１１１，１１２，１１３は、それぞれ互いに異なる色の着色感材により形成される。これらの各着色層１１１，１１２，１１３は、マトリックス状に配列される絵素１１６の列の方向に沿った細長い形状を有しており、互いに平行に配列される。そして、第一着色層１１１、第二着色層１１２、第三着色層１１３、第一着色層１１１、第二着色層１１２、・・・、というように、各着色層１１１，１１２，１１３が周期的に配列される。
【００３３】
なお、本実施形態においては、各着色層１１１，１１２，１１３を形成する着色感材として、ネガ型レジスト（光エネルギの照射を受けると、不溶性または難溶性となるタイプのレジスト）を適用するものとする。
【００３４】
スペーサ２０は、図１（ｂ）に示すように、第一要素２０１と第二要素２０２とを備え、これら第一要素２０１と第二要素２０２とが積層する構成を有する。本実施形態においては、第一要素２０１の上に第二要素２０２が積層する構成を示す。
【００３５】
スペーサ２０の第一要素２０１は、高さが互いに異なる複数の段差面を有し、一端から他端に向かうにしたがって、高さが段階的に高くなっていく（または低くなっていく）形状を有する。本実施形態においては、高さが異なる３つの段差面２０１１，２０１２，２０１３を有し、中心線Ｌ１１の方向に沿って、高さが段階的に変化する形状を示す。
【００３６】
各第一要素２０１は、図１（ａ）に示すように、各着色層１１１，１１２，１１３の長手方向に平行な方向に沿って、高さが段階的に高くなっていく（または低くなっていく）向きに配列される。そして、高さが高い側（または高さが低い側）が、全て同じ向きを向くように配列される。
【００３７】
スペーサ２０の第二要素２０２は、少なくともその一部が、スペーサ２０の第一要素２０１の各段差面２０１１，２０１２，２０１３のいずれかに積層可能な寸法および形状を有する。そしてこのような寸法および形状であれば、具体的に限定する必要はない。本実施形態においては、スペーサ２０の第二要素２０２が、スペーサ２０の第一要素２０１の各段差面２０１１，２０１２，２０１３とほぼ同じ寸法および形状を有する構成を示す。
【００３８】
これらのスペーサ２０の第一要素２０１と第二要素２０２は、それぞれ、第一着色層１１１、第二着色層１１２または第三着色層１１３のいずれかを形成する着色感材により形成される。そして、スペーサ２０の第一要素２０１と第二要素２０２とは、互いに異なる色の着色感材により形成される。
【００３９】
また、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａの表面には、第二要素２０２が積層しない第一要素２０３、および第一要素２０１の上に積層しない第二要素２０４が、それぞれ所定の位置に単独に形成される。
【００４０】
次に、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａの製造に適用できるフォトマスクについて説明する。以下、このフォトマスクを「第一実施形態にかかるフォトマスク」と称する。
【００４１】
図２は、第一実施形態にかかるフォトマスク３１の構成を示した外観斜視図である。本実施形態にかかるフォトマスク３１は、図２に示すように、透明な支持体３０１の表面に、光エネルギを透過しない遮光膜３０２が形成される。そして本実施形態にかかるフォトマスク３１の表面の所定の位置には、光エネルギが透過できる透光部３１１，３１２，３１３が形成される。なお、これら透明な支持体３０１や遮光膜３０２は、一般的なネガ型フォトマスクと同じものが適用できる。したがって、これらの説明は省略する。
【００４２】
透光部には、スペーサ２０の第一要素２０１をパターニングするための透光部３１１（以下、「第一透光部」と称する）、スペーサ２０の第二要素２０２をパターニングするための透光部３１２（以下、「第二透光部」と称する）および着色層１１１，１１２，１１３をパターニングするための透光部３１３（以下、「第三透光部」と称する）とがある。これらの各透光部３１１，３１２，３１３は、それぞれ所定の寸法および形状に形成され、それぞれ所定の色の着色感材をパターニングしてスペーサ２０の第一要素２０１、第二要素２０２および着色層１１１，１１２，１１３を形成できる。
【００４３】
着色層１１１，１１２，１１３をパターニングするための第三透光部３１３は、細長い形状に形成される。この第三透光部３１３の長手方向は、マトリックス状に配列される絵素１１６の列の方向に一致するように設定される。この第三透光部３１３の長手方向寸法は、絵素１１６の配列に着色層１１１，１１２，１１３をパターニングするために必要な寸法に加えて、所定の長さだけ長く形成される。この所定の長さについては後述する。そして複数の第三透光部３１３が、所定のピッチをおいて平行に配列される。この第三透光部３１３の配列ピッチは、（絵素１１６の列のピッチ）×（着色層の色数）に相当する寸法に設定される。本実施形態においては、着色層は赤色、緑色、青色の三色であるため、第三透光部３１３の配列ピッチは、絵素１１６の列のピッチの３ピッチに相当する寸法に設定される。
【００４４】
スペーサ２０の第一要素２０１をパターニングするための第一透光部３１１は、スペーサ２０の第一要素２０１の高さが低い段差面２０１３となる範囲に対する光エネルギの照射量を、高さが高い段差面２０１１となる範囲への照射量に比較して少なくできるように構成される。ネガ型レジストには、光エネルギの照射量が少ないと、最終的に形成される固体層の層厚が薄くなるという性質を有するものがある。本実施形態では、ネガ型レジストのこのような性質を利用して、第一要素２０１を一端側と他端側とで高さが異なる形状に形成する。
【００４５】
このような第一要素２０１を形成するため、第一透光部３１１は、光エネルギが透過できる量が互いに異なる複数の領域を有する。そしてこれらの領域は、一端から他端に向かって、光エネルギの透過量が段階的に大きくなるように（または段階的に小さくなるように）配列される。これら各領域の配列方向は、第三透光部３１３の長手方向に平行に設計される。
【００４６】
第一透光部３１１の具体的な構成としては、次のような構成が挙げられる。図３は、第一透光部３１１の各種構成を、模式的に示した平面図である。
【００４７】
第一の構成としては、図３（ａ）に示すように、遮光膜３０２をハーフトーン状に形成し、各領域ごとに遮光膜３０２の密度を変更するという構成が挙げられる。光エネルギの透過量は、遮光膜３０２の密度に応じて変化する。したがって、遮光膜３０２の密度が高い領域は光エネルギの透過量が少なくなり、遮光膜３０２の密度が低い領域は透過量が多くなる。
【００４８】
第二の構成としては、図３（ｂ）に示すように、遮光膜３０２を短冊状に形成し、短冊の幅を各領域ごとに変更するという構成が挙げられる。このような構成によれば、遮光膜３０２の短冊の幅が大きい領域は光エネルギの透過量が少なくなり、短冊の幅が小さい領域は、透過量が多くなる。
【００４９】
第三の構成としては、図３（ｃ）に示すように、遮光膜３０２を短冊状に形成し、各領域ごとに遮光膜３０２の短冊の数を異ならせるという構成が挙げられる。このような構成によれば、遮光膜３０２の短冊の数が多い領域は、光エネルギの透過量が少なくなり、数が少ない領域は透過量が多くなる。
【００５０】
なお、これら三種類の構成は例示であり、これら三種類の構成に限定されるものではない。要は、第一透光部が、光エネルギの透過量が互いに相違する複数の領域を備えるものであればよい。
【００５１】
次に、本実施形態にかかるフォトマスク３１の第一透光部３１１、第二透光部３１２および第三透光部３１３の相互の位置関係と、これらの各透光部３１１，３１２，３１３と表示パネル用の基板１１ａに形成される絵素１１６との位置関係について説明する。本実施形態にかかるフォトマスク３１の第一透光部３１１、第二透光部３１２および第三透光部３１３は、次に示すような位置関係を充足するように配列される。
【００５２】
第一透光部３１１および第二透光部３１２と、第三透光部３１３との位置関係は次の通りである。図４（ａ）は、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａに、本実施形態にかかるフォトマスク３１の各透光部３１１，３１２，３１３を重ね合わせた状態を示した平面模式図である。なお、図においては、第一実施形態にかかるフォトマスク３１の輪郭を省略してある。
【００５３】
各第三透光部３１３の配列ピッチは、基板に形成される絵素の列の３ピッチに等しい寸法に設定される。したがって絵素１１６の列は、３列ごとに第一透光部３１１と重なる。そして、第一透光部３１１と第二透光部３１２は、絵素１１６の列が３列ごとに各第三透光部３１３と重なる位置関係において、ブラックマトリックス１１５上に位置するように配列される。
【００５４】
なお、絵素１１６は周期的に配列され、本実施形態にかかるフォトマスク３１の各透光部３１１，３１２，３１３も周期的に配列される。したがって、第三透光部３１３をどの絵素の列に投影したとしても、この位置関係を充足する。
【００５５】
第一透光部３１１と第二透光部３１２との位置関係は、次の通りである。図４（ｂ）は、本実施形態にかかるフォトマスク３１を、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａの互いに異なる２箇所の位置に重ね合わせ、これら２箇所の一方の位置と他方の位置とで、第三透光部３１３が互いに異なる絵素１１６の列に重なるように位置合わせした状態を示す。図４（ｂ）中においては、前記他方の位置における各透光部を示す符号に、「’」を付して区別している。
【００５６】
第一透光部３１１と第二透光部３１２とは、前記位置関係において、一方の位置における第一透光部３１１の位置と、他方の位置における第二透光部３１２’の位置とが重なるように設計される。そして、一方の位置における第二透光部３１２の位置と他方の位置における第一透光部３１１’の位置とが重ならないように設計される。
【００５７】
以上の位置関係を充足するような各透光部の配列としては、具体的には、次のような配列が挙げられる。
【００５８】
各第三透光部３１３を挟んで、当該各第三透光部３１３の片側に第一透光部３１１が配列され、反対側に第二透光部３１２が配列される。図４においては、各第三透光部３１３の右側に第一透光部３１１が配列され、左側に第二透光部３１２が配列される構成を示す。
【００５９】
そして、第三透光部３１３を挟んで配列される第一透光部３１１と第二透光部３１２との中心線間隔は、絵素１１６の列の１ピッチに等しく設定される。また、第一透光部３１１と第二透光部３１２の縦方向位置（第三透光部３１３の長手方向位置）は、互いに一致するように（すなわち、第一透光部３１１の中心線Ｃ１１と第二透光部３１２の中心線Ｃ２１とが一致するように）配列されることが好ましい。
【００６０】
このような配列によれば、前記位置関係を充足する。特に、第一透光部３１１および第二透光部３１２と、第三透光部３１３との中心線間距離が、絵素１１６の列の１／２ピッチの距離となるように配列されることが好ましい。このような構成とすると、第一透光部３１１と第二透光部３１２は、ブラックマトリックス１１５の幅方向の略中心に位置する。
【００６１】
次に、各着色層１１１，１１２，１１３およびスペーサ２０を形成する工程について説明する。図５は、この工程を示した平面模式図である。詳しくは、図５（ａ）は、第一の色の着色感材からなる第一着色層１１１を形成する工程において、使用するフォトマスクと透明基板１１４とを重ね合わせた状態を示す。図５（ｂ）は、第二の色の着色感材からなる第二着色層１１２、スペーサ２０の第一要素２０１および第二要素２０２を形成する工程を示す。図５（ｃ）は、第三の色の着色感材からなる着色層１１３、スペーサ２０の第一要素２０１および第二要素２０２を形成する工程を示す。いずれも、図中においてはフォトマスクの輪郭を省略してある。
【００６２】
第一の色の着色感材からなる第一着色層１１１を形成する工程の内容は、次の通りである。まず、ブラックマトリックス１１５が形成された透明基板１１４の表面に、第一の色の着色感材（たとえば赤色の着色感材）を塗布する。そして、第一着色層１１１をパターニングするための透光部を有するフォトマスクを用い、塗布した第一の色の着色感材の所定の領域に、光エネルギを照射する。
【００６３】
第一着色層１１１のパターニングに用いるフォトマスクの構成と、このフォトマスクと透明基板１１４との位置関係は、図５（ａ）に示すとおりである。このフォトマスクは、第一着色層１１１をパターニングする透光部３３３を有する。このフォトマスクの透光部３３３の寸法、形状および配列は、本実施形態にかかるフォトマスク３１の第三透光部３１３とほぼ同じである。また、このフォトマスクには、スペーサ２０の第一要素２０１をパターニングするための透光部と第二要素２０２をパターニングするための透光部が形成される必要がない。
【００６４】
そして、このフォトマスクの透光部３３３を、いずれかの絵素１１６の列に重ね合わせ、光エネルギを照射する。その後の現像工程において、塗布した第一の色の着色感材のうち、光エネルギの照射を受けなかった部分を除去する。これにより、ある絵素１１６の列の表面に第一着色層１１１が形成される。
【００６５】
第二の色の着色感材からなる第二着色層１１２、スペーサ２０の第一要素２０１および第二要素２０２を形成する工程は、次の通りである。この工程では、第二着色層１１２、スペーサ２０の第一要素２０１および第二要素２０２をと同時に形成する。まず、前記工程を経た透明基板１１４の表面に、第二の色の着色感材（たとえば、緑色の着色感材）を塗布する。そして、本実施形態にかかるフォトマスク３１を用いて、塗布した第二の色の着色感材の所定の領域に光エネルギを照射する。
【００６６】
このときの透明基板１１４と各透光部３１１，３１２，３１３との位置関係は、図５（ｂ）に示すとおりである。すなわち、第一着色層が形成されない絵素１１６の列が、第三透光部３１３と重なる位置関係とする。これにより、第三透光部３１３を通じて、絵素１１６の列の表面に塗布した第二の色の着色感材が、光エネルギの照射を受ける。また、第三透光部３１３の側方に形成される第一透光部３１１および第二透光部３１２を通じて、ブラックマトリックス１１５上に塗布した第二の色の着色感材の所定の部分が光エネルギの照射を受ける。
【００６７】
なお、第一透光部３１１は、光エネルギの透過できる量が互いに異なる複数の領域を有している。したがって、第一透光部３１１を通じて光エネルギの照射を受ける範囲内には、光エネルギの被照射量が互いに相違する複数の領域が形成される。
【００６８】
その後の現像工程において、塗布した第二の色の着色感材のうち、光エネルギの照射を受けなかった部分を除去する。この結果、第一着色層１１１が形成された絵素１１６の列とは異なる３列ごとの絵素１１６の列に、第二着色層１１２が形成される。そして、第二の色の着色感材からなるスペーサ２０の第一要素２０１と第二要素２０４とが、第一着色層１１１を挟んで対向する位置に形成される。
【００６９】
また、本実施形態において適用するネガ型レジストは、光エネルギの被照射量に応じて、最終的に形成される固体層の層厚が変化するという性質を有する。したがって、第一透光部３１１を通じて光エネルギの照射を受けた領域のうち、光エネルギの被照射量の多い領域は、形成される固体層の層厚が高くなる。一方、光エネルギの被照射量の少ない領域は、形成される固体層の層厚が低くなる。この結果、光エネルギの被照射量に応じて（すなわち第一透光部３１１の各領域の光エネルギが透過できる量に応じて）、互いに高さが相違する段差面を有する形状に形成される。
【００７０】
第三の色の着色感材からなる第三着色層１１３、スペーサ２０の第一要素２０１および第二要素２０２を形成する工程は、次の通りである。この工程では、第三着色層１１３、スペーサ２０の第一要素２０３および第二要素２０２を同時に形成する。まず、前記工程を経た透明基板１１４の表面に、第三の色の着色感材を塗布する。そして、本実施形態にかかるフォトマスク３１を通じて、塗布した第三の色の着色感材の所定の範囲に、光エネルギを照射する。
【００７１】
このときの透明基板１１４と各透光部３１１，３１２，３１３との位置関係は、図５（ｃ）に示すとおりである。すなわち、第一着色層１１１または第二着色層１１２が形成されない絵素の列が、第三透光部３１３と重なる。そして、第二透光部３１２は、第二の色の着色感材からなるスペーサ２０の第一要素２０１が形成された位置と重なる。
【００７２】
その後の現像工程において、塗布した第三の色の着色感材のうち、光エネルギの照射を受けなかった部分を除去する。この結果、第三着色層１１３が形成されるとともに、第二の色の着色感材からなる第一要素２０１の上に、第三の色の着色感材からなる第二要素２０２が積層する。このようにして、ブラックマトリックス１１５上の所定の位置に、第一要素２０１と第二要素２０２とが積層する構成のスペーサ２０が形成される。
【００７３】
なお、第二の色の着色感材からなる第二要素２０４と、第三の色の着色感材からなる第一要素２０３は、他の第一要素２０１または第二要素２０２とは積層せず、それぞれ単独でブラックマトリックス１１５上に存在することになる。
【００７４】
以上の工程を経て、ブラックマトリックス１１５が形成された透明基板１１４の表面に、第一着色層１１１、第二着色層１１２、第三着色層１１３およびスペーサ２０が形成される（これらの要素が形成された基板の構成は、図１を参照）。
【００７５】
次に、セルギャップの調整方法について説明する。図１を参照すると、前記工程を経て得られたスペーサ２０は、第一要素２０１と第二要素２０２とが積層する部分の合計高さが、セルギャップを規定する。
【００７６】
スペーサ２０の第一要素２０１は、高さが互いに異なる複数の段差面２０１１，２０１２，２０１３を有し、これらの段差面２０１１，２０１２，２０１３は、各着色層１１１，１１２，１１３の長手方向に沿って、高さが段階的に高くなる（または低くなる）ように配列される。このような第一要素２０１を備えるスペーサ２０は、第二要素２０２を第一要素２０１の段差面２０１１，２０１２，２０１３のいずれに積層させるかによって、積層する部分の合計高さが変化する。したがってセルギャップの調整は、第一要素２０１と第二要素２０２の相対的な位置関係を、着色層１１１，１１２，１１３の長手方向に沿って変更することにより行うことができる。
【００７７】
スペーサ２０の第一要素２０１と第二要素２０２との相対的な位置の変更は、第二の色の着色感材からなる第二着色層１１２を形成した後、第三の色の着色感材からなる第三着色層１１３、第一要素２０１および第二要素２０２をパターニングする際に、本実施形態にかかるフォトマスク３１の位置を調整することにより行うことができる。
【００７８】
図６は、第三の色の着色感材からなる第二要素２０２をパターニングする際における、本実施形態にかかるフォトマスク３１の各透光部３１１，３１２，３１３の位置関係を示した図である。図６（ａ）は、積層する部分の合計高さを通常の高さにするための位置関係を示す。図６（ｂ）は、積層する部分の合計高さを通常よりも高くするための位置関係を示す。図６（ｃ）は、積層する部分の合計高さを通常よりも低くするための位置関係を示す。また、Ｂ部断面拡大図、Ｃ部断面拡大図、Ｄ部断面拡大図は、各位置関係における、第一要素２０１と第二透光部３１２との断面方向の位置関係を拡大して示す。
【００７９】
本実施形態における「通常の高さ」とは、第二要素２０２が、第一要素２０１が有する３つの互いに高さが異なる段差面２０１１，２０１２，２０１３のうち、中間の高さを有する段差面２０１２に積層する場合の高さをいうものとする。積層する部分の合計高さを通常の高さにするためには、図６（ａ）に示すように、第二透光部３１２の位置を、第二の色の着色感材からなる第一要素２０１の各段差面２０１１，２０１２，２０１３のうち、中間の高さの段差面２０１２の位置に一致させる。
【００８０】
図６（ａ）に示す位置において光エネルギを照射すると、塗布された第三の色の着色感材４３のうち、第一要素２０１の中間の高さの段差面２０１２上に存在する部分が、光エネルギの照射を受ける。この結果、第二の色の着色感材からなる第一要素２０１の中間の高さの段差面２０１２上に、第三の色の着色感材からなる第二要素２０２が積層する構成のスペーサ２０を得る。
【００８１】
第一要素２０１と第二要素２０２とが積層する位置を変更するには、図６（ｂ）または図６（ｃ）に示すように、本実施形態にかかるフォトマスク３１を、すでに形成された第一要素２０１の各段差面２０１１，２０１２，２０１３の配列方向に沿って（図中において矢印ａまたは矢印ｂの向き）シフトさせた位置で光エネルギを照射すればよい。
【００８２】
積層する部分の合計高さを通常の高さより高くするためには、図６（ｂ）に示すように、第一実施形態にかかるフォトマスク３１を矢印ａの向きにシフトし、第二透光部３１２を、すでに形成された第二の色の着色感材からなる第一要素２０１の高さの高い段差面２０１１上に位置させる。この結果、第二の色の着色感材からなる第一要素２０１の高さの高い側の段差面２０１１上に、第三の色の着色感材からなる第二要素が積層する構成のスペーサを得る。
【００８３】
一方、積層する部分の合計高さを通常の高さより低くするためには、図６（ｃ）に示すように、本実施形態にかかるフォトマスク３１を矢印ｂの向きにシフトさせ、第二透光部３１２を、第二の色の着色感材からなる第一要素２０１の高さの低い段差面２０１３上に位置させる。この結果、第二の色の着色感材からなる第一要素２０１の高さの低い側の段差面２０１３上に、第三の色の着色感材からなる第二要素が積層する構成のスペーサ２０を得る。
【００８４】
このように、第三の色の着色感材により第三着色層１１３、第一要素２０１および第二要素２０２をパターニングする際に、本実施形態にかかるフォトマスク３１を、着色層１１１，１１２，１１３の長手方向に沿ってシフトさせる。これによって、第一要素２０１と第二要素２０２との相対的な位置関係を変更でき、結果として積層する部分の合計高さを調整することができる。
【００８５】
ところで、本実施形態にかかるフォトマスク３１を第三透光部３１３の長手方向に沿ってシフトさせると、第三着色層１１３が形成される範囲もシフトする。このため、本実施形態にかかるフォトマスク３１をシフトした場合においても、必要な範囲に第三着色層１１３を形成できるように、第三透光部３１３の長手方向寸法をシフト量を見込んで長く設計しておく。
【００８６】
なお、第二の色の着色感材からなる第二着色層１１２、スペーサ２０の第一要素２０１および第二要素２０２をパターニングする際に、本実施形態にかかるフォトマスク３１をシフトさせる構成であってもよい。また、第二の色の着色感材からなる第二着色層１１２、スペーサ２０の第一要素２０１および第二要素２０２をパターニングする際と、第三の色の着色感材からなる第三着色層１１３、スペーサ２０の第一要素２０１および第二要素２０２をパターニングする際の双方において、第一実施形態にかかるフォトマスク３１の位置を互いに逆向きにシフトさせる構成であってもよい。要は、第一要素２０１と第二要素２０２との相対的な位置関係を変更できるものであればよい。
【００８７】
このような構成によれば、次に示す作用効果を奏する。
【００８８】
まず、三色の着色層およびスペーサのパターニングに必要となるフォトマスクの枚数は２枚となる。このため、従来のように各色ごとにフォトマスクを必要とする構成に比較して、フォトマスクの枚数を少なくすることができる。したがって、フォトマスクに要する費用を削減することができ、表示パネル用の基板の製造コストの上昇の防止、または低減を図ることができる。
【００８９】
また、セルギャップは、第一要素と第二要素との相対的な位置関係を変更することにより調整できる。したがって、セルギャップの調整のために、基板表面に塗布する着色感材の膜厚（または、最終的に形成される各着色層の層厚）を変更する必要がない。すなわち、セルギャップの調整において、基板表面に塗布する着色感材の膜厚（すなわち、最終的に形成される着色層の層厚）に影響を与えることがなく、また、影響を受けることもない。
【００９０】
なお、スペーサ２０の形状は前記構成に限定されるものではない。たとえば、本実施形態においては、第一要素２０１は、高さが互いに異なる３つの段差面２０１１，２０１２，２０１３を有する構成であるが、段差面の数は限定されるものではない。たとえば４以上の高さが異なる段差面を有する構成であってもよい。また、第一要素が、高さが滑らかに変化する形状を有する構成であってもよい。
【００９１】
図７（ａ）に示す変形例にかかるスペーサ２０ａは、高さが滑らかに変化する形状を有する第一要素２０１ａと、この第一要素２０１ａに積層する第二要素２０２ａを有する。このような構成の第一要素２０１ａを備えるスペーサ２０ａであっても、前記同様の作用効果を奏することができる。
【００９２】
図７（ｂ），（ｃ）は、このような構成の第一要素２０１ａをパターニングする際に用いる本実施形態にかかるフォトマスク３１の第一透光部３１１ａの構成を示す。高さが徐々に変化する構成の第一要素２０１ａをパターニングするための第一透光部３１１ａの構成として、たとえば、図７（ｂ）に示すように、一端から他端に向かって、遮光膜３０２の密度がグラデーション状に変化する構成が適用できる。また、図７（ｃ）に示すように、一端から他端に向かって、遮光膜３０２の幅が徐々に細くなる（または徐々に太くなる）構成も適用できる。
【００９３】
このような構成の第一透光部３１１ａは、透過できる光エネルギの量が、一端から他端に向かって徐々に多くなる（または少なくなる）。ネガ型のレジストには、照射された光エネルギの量が少ないと、最終的に形成される固体層の層厚が薄くなるという性質を有するものがある。したがって、一端から他端に向かって、透過できる光の量が徐々に変化すると、このようなネガ型のレジストにより形成される固体層の層厚も、透過した光エネルギの量に対応して、一端から他端に向かって、徐々に変化する形状となる。
【００９４】
次に、本発明の第二実施形態について説明する。
【００９５】
図８は、本発明の第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｂの構成を模式的に示した斜視図である。それぞれ、図８（ａ）は、第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｂの全体を示した図、図８（ｂ）は、図８（ａ）のＢ部拡大図であり、第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｂの表面に形成されるスペーサ２１の構成を示す。
【００９６】
本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｂは、図８（ａ）に示すように、ガラスなどからなる透明基板１１４の表面に、ブラックマトリックス１１５、第一着色層１１１、第二着色層１１２、第三着色層１１３が形成される。そして、ブラックマトリックス１１５上には、セルギャップを制御するスペーサ２１が形成される。なお、ブラックマトリックス１１５、第一着色層１１１、第二着色層１１２、第三着色層１１３の構成は、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａと同じ構成が適用できることから、説明は省略する。また、本実施形態においては、各着色層１１１，１１２，１１３を形成する着色感材として、ネガ型レジストを適用するものとする。
【００９７】
スペーサ２１は、図８（ｂ）に示すように、第一要素２１１と第二要素２１２とを備える。そして、第一要素２１１と第二要素２１２とが積層する構成を有する。本実施形態においては、第一要素２１１の上に第二要素２１２が積層する構成を示す。
【００９８】
スペーサ２１の第一要素２１１は、不等幅の形状を有しており、一端から他端に向かうにつれて、横幅寸法が徐々に大きくなっていく（または小さくなっていく）。図８においては、第一要素２１１が等脚台形に形成され、中心線Ｌ２１の方向に沿って横幅寸法が徐々に変化する構成を示す。
【００９９】
各スペーサ２１の各第一要素２１１は、各着色層１１１，１１２，１１３の長手方向に平行な方向に沿って、横幅寸法が徐々に大きくなっていく（または、小さくなっていく）向きに配列される。そして横幅が大きい側（または小さい側）が、全て同じ向きを向くように配列される。
【０１００】
スペーサ２１の第二要素２１２は、等幅の形状を有し、その長手方向長さが第一要素２１１の最大横幅寸法とほぼ同じか、またはそれよりも大きく形成される。また、その横幅方向寸法は、第一要素２１１の長さ寸法（ここでは着色層１１１，１１２，１１３の長手方向に沿った寸法）よりも短く形成される。図８においては、第二要素２１２が細長い帯状に形成される構成を示す。
【０１０１】
これらスペーサ２１の第一要素２１１と第二要素２１２とは、それぞれ、第一着色層１１１、第二着色層１１２または第三着色層１１３のいずれかを形成する着色感材により形成される。そして、第一要素２１１と第二要素２１２とは、互いに異なる色の着色感材により形成される。
【０１０２】
また、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｂの表面には、第二要素２１２が積層しない第一要素２１３、および、第一要素２１１の上に積層しない第二要素２１４が、それぞれ所定の位置に形成される。
【０１０３】
次に、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｂの製造に適用できるフォトマスクについて説明する。以下、このフォトマスクを「第二実施形態にかかるフォトマスク」と称する。
【０１０４】
図９は、第二実施形態にかかるフォトマスク３２の構成を模式的に示した外観斜視図である。本実施形態にかかるフォトマスク３２は、図９に示すように、透明な支持体３０１の表面に、光エネルギを透過しない遮光膜３０２が形成される。そしてフォトマスク３２の表面の所定の位置には、光エネルギが透過できる透光部３２１，３２２，３２３が形成される。なお、これら透明な支持体３０１や遮光膜３０２は、一般的なネガ型フォトマスクと同じものが適用できることから、詳細な説明は省略する。
【０１０５】
この透光部には、スペーサ２１の第一要素２１１，２１３をパターニングするための第一透光部３２１、スペーサ２１の第二要素２１２，２１４をパターニングするための第二透光部３２２、着色層１１１，１１２，１１３をパターニングするための第三透光部３２３がある。そして各透光部３２１，３２２，３２３は、着色層１１１，１１２，１１３、スペーサ２１の第一要素２１１，２１３または第二要素２１２，２１４のそれぞれをパターニングできるよう、所定の寸法および形状に形成される。
【０１０６】
第一透光部３２１は、不等幅の形状を有する第一要素２１１，２１３を形成できるよう、透明基板１１４の表面に投影される形状が不等幅の形状を有するように形成される。そして、第三透光部３２３の長手方向に沿って一端から他端に向かうにしたがって、横幅寸法が徐々に大きくなるように（または小さくなるように）配列される。また、第一透光部３２１は、横幅寸法が大きい側（または小さい側）が、全て同じ向きを向くように配列される。
【０１０７】
第二透光部３２２は、帯状の形状を有する第二要素２１２，２１４を形成できるよう、透明基板１１４の表面に投影される範囲が、帯状の形状を有するように形成される。そして、各第二透光部３２２の長手方向と第三透光部３２３の長手方向とが、互いに略直交する向きに配列される。
【０１０８】
第三透光部３２３の寸法、形状および配列は、第一実施形態にかかるフォトマスク３１の第三透光部３１３と同じにできる。
【０１０９】
本実施形態における各着色層１１１，１１２，１１３、スペーサ２１の第一要素２１１および第二要素２１２を形成する工程は、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａにおける工程と同じ工程が適用できる。したがって、説明は省略する。
【０１１０】
次に、セルギャップの調整方法について、図１０を参照して説明する。第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｂに形成されるスペーサ２１は、第一要素２１１と第二要素２１２との積層部分の合計高さが、実際にセルギャップを規定する。
【０１１１】
このようなスペーサ２１を備える表示パネル用の基板１１ｂと、対向基板とを貼り合わせて加圧すると、スペーサ２１の第一要素２１１と第二要素２１２とが積層する部分が、加圧によって圧縮変形する。この圧縮変形の程度は、第一要素２１１と第二要素２１２とが積層する部分の面積の大小に応じて変化する。すなわち、積層する部分の面積が大きくなるにしたがって、圧縮変形しにくくなり、積層する部分の面積が小さくなるにしたがって、圧縮変形しやすくなる。
【０１１２】
第一要素２１１は、不等幅の形状を有するから、第一要素２１１と第二要素２１２との相対的な位置を変更すると、積層する部分の面積が変化する。したがって、第一要素２１１と第二要素２１２との相対的な位置関係を変更することにより、セルギャップを調整できる。
【０１１３】
第一要素２１１と第二要素２１２との相対的な位置の変更は、第二の色の着色感材からなる第二着色層１１２を形成した後、第三の色からなる第三着色層１１３、スペーサ２１の第一要素２１１および第二要素２１２をパターニングする際に、本実施形態にかかるフォトマスク３２の位置をシフトすることにより行うことができる。
【０１１４】
図１０は、第三の色の着色感材からなる第二要素２１２をパターニングする際における、本実施形態にかかるフォトマスク３２と、透明基板１１４との位置関係を示した平面模式図である。図１０（ａ）は、積層する部分の面積を通常の大きさにする場合の位置を示す。図１０（ｂ）は、積層する部分の面積を通常よりも大きくする場合の位置を示す。図１０（ｃ）は、積層する部分の面積を通常よりも小さくする場合の位置を示す。そしてＢ部拡大図、Ｃ部拡大図、Ｄ部拡大図は、すでに形成された第一要素２１１と、本実施形態にかかるフォトマスク３２の第二透光部３２２との位置関係を、各位置関係ごとに拡大して示す。
【０１１５】
本実施形態においては、図１０（ａ）に示すように、第二要素２１２が、第一要素２１１の略中心に積層する場合に、セルギャップが通常の高さになるものとする。
【０１１６】
セルギャップを通常の高さより高くするためには、図１０（ｂ）に示すように、本実施形態にかかるフォトマスク３２を矢印ａの向きにシフトさせ、第二透光部３２２が重なる位置を、第二の色の着色感材からなる第一要素２１１の横幅の大きい側に移動させる。この結果、第一要素２１１と第二要素２１２とが積層する部分の面積が大きくなり、加圧変形量が通常よりも小さいスペーサを得る。
【０１１７】
一方、セルギャップを通常の高さより低くするためには、図１０（ｃ）に示すように、本実施形態にかかるフォトマスク３２を矢印ｂの向きにシフトさせ、第二透光部３２２が重なる位置を、第二の色の着色感材からなる第一要素２１１の幅の細い側に移動させる。この結果、第一要素２１１と第二要素２１２とが積層する部分の面積が小さくなり、加圧変形量が通常よりも大きいスペーサを得る。
【０１１８】
このように、第三の色の着色感材からなる第三着色層１１３、第一要素２１１および第二要素２１２をパターニングする際に、本実施形態にかかるフォトマスク３２を、各着色層１１１，１１２，１１３の長手方向に沿ってシフトさせる。これにより、第一要素２１１と第二要素２１２の相対的な位置関係が変化し、積層する部分の面積が変化する。この結果、積層する部分の加圧後の合計高さも変化する。
【０１１９】
なお、第二の色の着色感材からなる第二着色層１１２、スペーサ２１の第一要素２１１および第二要素２１２をパターニングする際に、本実施形態にかかるフォトマスク３２をシフトさせる構成であってもよい。また、第二の色の着色感材からなる第二着色層１１２、スペーサ２１の第一要素２１１および第二要素２１２をパターニングする際と、第三の色の着色感材からなる第三着色層１１３、スペーサ２１の第一要素２１１および第二要素２１２をパターニングする際との双方において、本実施形態にかかるフォトマスク３２の位置を、互いに逆向きにシフトさせる構成であってもよい。要は、第一要素２１１と第二要素２１２との相対的な位置関係を変更できるものであればよい。
【０１２０】
このような構成によれば、第一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
【０１２１】
なお、スペーサ第一要素の形状は前記構成に限定されるものではなく、種々の形状を適用できる。図１１は、本実施形態における、スペーサの第一要素の各種変形例を模式的に示した平面図である。
【０１２２】
図１１（ａ）に示すスペーサ２１ａは、第一要素２１１ａが略二等辺三角形に形成される構成を備える。図１１（ｂ）に示すスペーサ２１ｂは、第一要素２１１ｂが直角三角形に形成される。このように、第一要素が三角形状に形成される構成であってもよい。図１１（ｃ），（ｄ）に示すスペーサ２１ｃ，２１ｄは、段階的に横幅寸法が変化する形状の第一要素２１１ｃ，２１１ｄを備える。このように、第一要素の横幅寸法が段階的に変化する構成であってもよい。要は、第一スペーサが不等幅の形状を有し、ある方向に沿って、徐々にまたは段階的に横幅寸法が変化するものであればよい。このような形状であれば、いずれも同様の作用効果を奏することができる。
【０１２３】
次に、本発明の第三実施形態について説明する。
【０１２４】
図１２は、本発明の第三実施形態にかかる表示パネル用の基板の構成を示した模式図である。それぞれ、図１２（ａ）は、第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃの全体を示した図、図１２（ｂ）は、図１２（ａ）のＢ部またはＣ部拡大図であり、第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃに形成されるスペーサ２２，２３を抜き出して示した拡大図である。
【０１２５】
本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃは、図１２（ａ）に示すように、透明基板１１４の表面に、ブラックマトリックス１１５、第一着色層１１１、第二着色層１１２、第三着色層１１３、第一スペーサ２２および第二スペーサ２３が形成される。第一スペーサ２２とは、表示領域（絵素１１６がマトリックス状に配列される領域をいう。図中においては一点鎖線Ａで囲まれる領域を指す。以下同じ。）内に形成されるスペーサをいうものとする。第二スペーサ２３とは、表示領域外に形成されるスペーサをいうものとする。
【０１２６】
なお、透明基板１１４、ブラックマトリックス１１５、各着色層１１１，１１２，１１３は、第一または第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａ，１１ｂと同じ構成が適用できる。
【０１２７】
第一スペーサ２２と第二スペーサ２３は、それぞれ第一要素２２１，２３１と第二要素２２２，２３２とを備え、第一要素２２１，２３１と第二要素２２２，２３２とが積層する構成を有する。本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃにおいては、第一要素２２１，２３１の上に第二要素２２２，２３２が積層する構成を示す。
【０１２８】
第一および第二スペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１は、高さが異なる複数の段差面を有し、一端から他端に向かうにしたがって、高さが段階的に高くなる（または低くなる）形状を有する。図１２においては、高さが互いに異なる３つの段差面２０１１，２０１２，２０１３を有し、中心線Ｌ３１の方向に沿って高さが段階的に変化する形状を有する。
【０１２９】
本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃの第一および第二スペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１は、各着色層１１１，１１２，１１３の長手方向に平行な方向に沿って、高さが段階的に高くなる（または低くなる）向きに配列される。そして、高さが高い側（または低い側）が、全て同じ向きを向くように配列される。
【０１３０】
第一および第二スペーサ２２，２３の第二要素２２２，２３２は、少なくともその一部が、第一または第二スペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１の各段差面２０１１，２０１２，２０１３上に積層できる寸法および形状を有する。そして、このような寸法および形状であれば、具体的に限定する必要はない。本実施形態においては、各スペーサ２２，２３の第二要素２２２，２３２が、各スペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１の各段差面２０１１，２０１２，２０１３とほぼ同じ寸法および形状を有する構成を示す。
【０１３１】
第一および第二スペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１と第二要素２２２，２３２とは、それぞれ、第一着色層１１１、第二着色層１１２または第三着色層１１３のいずれかを形成する着色感材により形成される。その組合せは次の通りである。
【０１３２】
第一スペーサ２２の第一要素２２１と第二スペーサ２３の第一要素２３１とは、同じ色の着色感材からなる。第一スペーサ２２の第二要素２２２と第二スペーサ２３の第二要素２３２とは、互いに異なる色の着色感材であって、かつ、各スペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１とは異なる色の着色感材からなる。
【０１３３】
具体的には、次のような組合せが挙げられる。第一および第二スペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１は、それぞれ第一の色の着色感材（たとえば赤色の着色感材）からなる。第一スペーサ２２の第二要素２２２は、第二の色の着色感材（たとえば、緑色の着色感材）からなる。第二スペーサ２３の第二要素２３２は、第三の色の着色感材（たとえば、青色の着色感材）からなる。
【０１３４】
さらに、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃの表示領域内には、第一要素２２１に積層しない第二要素２２３が形成される。また、表示領域外にも、第一要素２３１に積層しない第二要素２３３が形成される。表示領域内に単独に形成される第二要素２２３は、第一スペーサ２２の第二要素２２２とは異なる色の着色感材からなる。表示領域外に単独に形成される第二要素２３３は、第二スペーサ２３の第二要素２３２とは異なる色の着色感材からなる。
【０１３５】
次に、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃの製造に適用できるフォトマスクについて説明する。本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃの製造には、構成が互いに異なる少なくとも２枚のフォトマスクの組を用いる。以下、これらのフォトマスクを、第三実施形態にかかるフォトマスク、または第三実施形態にかかるフォトマスクの組と称する。
【０１３６】
図１３は、第三実施形態にかかるフォトマスク３４，３５の構成を模式的に示した外観斜視図である。図１３（ａ）は、本実施形態にかかるフォトマスクの組のうちの一方のフォトマスク（以下、単に「第一フォトマスク」と称する）を、図１３（ｂ）は、本実施形態にかかるフォトマスクの組のうちの他方のフォトマスク（以下、単に「第二フォトマスク」と称する）を示す。
【０１３７】
第一および第二フォトマスク３４，３５は、図１３に示すように、透明な支持体３０１の表面に、光エネルギを透過しない遮光膜３０２が形成される。そして、第一および第二フォトマスク３４，３５の所定の位置には、光エネルギが透過できる透光部３４１，３４２，３４３，３５１，３５２，３５３が形成される。なお、透明な支持体３０１や遮光膜３０２には、一般的なネガ型フォトマスクと同じものが適用できることから、詳細な説明は省略する。
【０１３８】
第一フォトマスク３４には、第一および第二スペーサ２２，２３のそれぞれの第一要素２２１，２３１をパターニングするための透光部３４１，３４２（以下、「第一透光部」と称する）、各着色層１１１，１１２，１１３のいずれかをパターニングするための透光部３４３（以下、「第三透光部」と称する）とが形成される。なお、表示パネル用の基板の表示領域に対応する領域Ａ’内の第一透光部には符号３４１を、この領域Ａ’外の第一透光部には符号３４２を付して区別する。以下、表示パネル用の基板の表示領域に対応する領域も、単に「表示領域」と称する。
【０１３９】
第二フォトマスク３５には、第一および第二スペーサ２２，２３のそれぞれの第二要素２２２，２３２をパターニングするための透光部３５１，３５２（以下、「第二透光部」と称する）、各着色層１１１，１１２，１１３のいずれかをパターニングするための透光部３５３（以下、「第三透光部」と称する）とが形成される。なお、表示領域Ａ’内に形成される第二透光部には符号３５１を、表示領域Ａ’外に形成される第二透光部には符号３５２を付して区別する。
【０１４０】
これらの第一透光部３４１，３４２、第二透光部３５１，３５２、第三透光部３４３，３５３の形状および寸法は、第一実施形態にかかるフォトマスク３１の第一透光部３１１、第二透光部３１２、第三透光部３１３と同じ形状または寸法が適用できる。また、第一透光部３４１，３４２の構成は、第一実施形態にかかるフォトマスク３１の第一透光部３１１と同じ構成が適用できるから、説明は省略する。
【０１４１】
次に、第一フォトマスク３４と第二フォトマスク３５に形成される各透光部３４１，３４２，３４３，３５１，３５２，３５３の位置関係、および本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃに形成される絵素１１６と、第一フォトマスク３４と第二フォトマスク３５の各透光部３４１，３４２，３４３，３５１，３５２，３５３との位置関係について説明する。第一フォトマスク３４と第二フォトマスク３５の各透光部３４１，３４２，３４３，３５１，３５２，３５３は、次のような位置関係を充足するように配列される。
【０１４２】
図１４（ａ）は、第一フォトマスク３４を第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃに重ね、第三透光部３４３の位置が絵素１１６の列のいずれかに一致するように位置合わせした状態を示した平面模式図である。なお、この図では、第一フォトマスク３４の輪郭は省略してある。この位置関係において、第一透光部３４１，３４２が、表示領域内および表示領域外のブラックマトリックス１１５上に位置するように配列される。
【０１４３】
図１４（ｂ）は、図１４（ａ）に示す状態にさらに第二フォトマスク３５を重ね、第二フォトマスク３５の第三透光部３５３が、第一フォトマスク３４の第三透光部３４３と重ならない絵素１１６の列に一致するように位置合わせした状態を示す。この図においては、第一および第二フォトマスク３４，３５の輪郭は省略してある。
【０１４４】
このような位置関係とした場合において、第二フォトマスク３５の表示領域Ａ’内に形成される第二透光部３５１は、第一フォトマスク３４の表示領域内に形成される第一透光部３４１と一致する位置に配列される。また、第二フォトマスク３５の表示領域外に形成される第二透光部３５２は、第一フォトマスク３４の表示領域外に形成される第一透光部３４２と一致しない位置に配列される。
【０１４５】
図１４（ｃ）は、図１４（ｂ）において第二フォトマスク３５の位置を変更した状態を示した平面模式図であり、第二フォトマスク３５の第三透光部３５３が、図１４（ｂ）において第一および第二フォトマスク３４，３５の第三透光部３４３，３５３のいずれとも重なっていない絵素の列に重なっている状態を示す。この図においては、第一および第二フォトマスク３４，３５の輪郭は省略してある。
【０１４６】
このような位置関係とした場合において、第二フォトマスク３５の表示領域外の第二透光部３５２は、第一フォトマスク３４の表示領域外の第一透光部３４１と一致する位置に配列される。また、第二フォトマスク３５の表示領域内の第二透光部３５１は、第一フォトマスク３４の表示領域内の第一透光部３４１と一致しない位置に配置される。
【０１４７】
以上の位置関係を充足するような各透光部の配列としては、具体的には、次のような配列が挙げられる。
【０１４８】
第一フォトマスク３４の表示領域Ａ’内の第一透光部３４１は、各第三透光部３４３の片側に沿うように配列される。また、表示領域Ａ’外の第一透光部３４２は、この表示領域Ａ’を取り囲むように配列される。第二フォトマスク３５の表示領域Ａ’内の第二透光部３５１は、第二フォトマスク３５の第三透光部３５３の片側に沿うように配列される。各第二透光部３５１が配列される側は、第一フォトマスク３４において第一透光部３４１が配列される側と反対側とする。
【０１４９】
第一フォトマスク３４の第三透光部３４３と第一透光部３４１との中心線間距離と、第二フォトマスク３５の第三透光部３５３と第二透光部３５１との中心線間距離とは、等しく設定される。そして前記各位置関係において、第一フォトマスク３４の表示領域内外の第一透光部３４１，３４２と、第二フォトマスク３５の表示領域内外の第二透光部３５１，３５２との縦方向位置（すなわち、第三透光部３４３，３５３の長手方向位置）は、互いに一致する位置に配列されることが好ましい。
【０１５０】
このような配列によれば、前記位置関係を充足する。特に、第一透光部３４１および第二透光部３５１と、第三透光部３４３，３５３との中心線間隔が、絵素１１６の列の１／２ピッチと等しい距離に形成されることが好ましい。このような寸法であれば、表示領域内において、第一スペーサ２２がブラックマトリックス１１５の線幅の中心に形成される。
【０１５１】
次に、第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃの各着色層１１１，１１２，１１３および各スペーサ２２，２３の形成工程について説明する。図１５は、各着色層１１１，１１２，１１３および第一および第二スペーサ２２，２３の形成工程を示した平面模式図である。詳しくは、図１５（ａ）は、第一の色の着色感材からなる第一着色層１１１、第一および第二スペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１を形成する工程を示す。図１５（ｂ）は、第二の色の着色感材からなる第二着色層１１２、第一スペーサ２２の第二要素２２２を形成する工程を示す。図１５（ｃ）は、第三の色の着色感材からなる第三着色層１１３、第二スペーサ２３の第二要素２３２を形成する工程を示す。
【０１５２】
第一の色の着色感材からなる第一着色層１１１、第一および第二スペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１を形成する工程は、次の通りである。この工程においては、第一着色層１１１と第一および第二スペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１とを同時に形成する。
【０１５３】
ブラックマトリックス１１５が形成された透明基板１１４の表面に、第一の色の着色感材（たとえば、赤色の着色感材）を塗布する。そして、第一フォトマスク３４を通じて、塗布した第一の色の着色感材の所定の範囲に光エネルギを照射する。このときの第一フォトマスク３４の位置は、図１５（ａ）に示すとおりである。すなわち、第一フォトマスク３４の第三透光部３４３と、絵素１１６の列のいずれかとが一致する位置とする。
【０１５４】
その後、現像処理によって、塗布した第一の色の着色感材のうち、光エネルギの照射を受けなかった部分を除去する。これにより、第一着色層１１１を得るとともに、表示領域Ａ内および表示領域Ａ外の所定の位置に、第一および第二スペーサ２２，２３のそれぞれの第一要素２２１，２３１を得る。
【０１５５】
第二の色の着色感材からなる第二着色層１１２、第一スペーサ２２の第二要素２２２を形成する工程は、次の通りである。この工程においては、第二着色層１１２と第二スペーサ２３の第二要素２３２とを、同時に形成する。
【０１５６】
前記工程を経た透明基板１１４の表面に、第二の色の着色感材（たとえば、緑色の着色感材）を塗布する。そして、第二フォトマスク３５を通じて、塗布した第二の色の着色感材の所定の範囲に光エネルギを照射する。このときの第二フォトマスク３５の位置は、図１５（ｂ）に示すとおりである。すなわち、第二フォトマスク３５の第三透光部３５３が、第一着色層１１１が形成されない絵素１１６の列のいずれかと重なり、かつ、表示領域Ａ’内の第二透光部３５１が、表示領域Ａ内に形成された第一の着色感材からなる第一要素２２１と重なる位置とする。
【０１５７】
その後、現像処理によって、塗布した第二の色の着色感材のうち、光エネルギの照射を受けなかった部分を除去する。この結果、絵素１１６の列の表面に第二着色層１１２が形成される。そして、表示領域Ａ内においては、第一の色の着色感材からなる第一要素２２１の上に、第二の色の着色感材からなる第二要素２２２が積層する。
【０１５８】
これにより、表示領域Ａ内のブラックマトリックス上に、第一要素２２１と第二要素２２２とが積層する構成の第一スペーサ２２が形成される。また、表示領域Ａ外においては、第一の色の着色感材からなる第一要素２３１に積層しない位置に、第二の色の着色感材からなる第二要素２３３が形成される。
【０１５９】
次いで、第三の色の着色感材からなる第三着色層１１３、第二スペーサ２３の第二要素２３２を形成する。この工程においては、第三着色層１１３と第二スペーサ２３の第二要素２３２とを同時に形成する。
【０１６０】
前記工程を経た透明基板１１４の表面に、第三の色の着色感材（たとえば、青色の着色感材）を塗布する。そして、第二フォトマスク３５を通じて、塗布した第三の色の着色感材の所定の範囲に光エネルギを照射する。このときの第二フォトマスク３５の位置は、図１５（ｃ）に示すとおりである。すなわち、第二フォトマスク３５の第三透光部３５３が、第一着色層１１１または第二着色層１１２のいずれもが形成されない絵素１１６の列と重なり、かつ、表示領域Ａ’外の第二透光部３５２が、表示領域Ａ外に形成された第一要素２３１と重なる位置とする。
【０１６１】
その後、現像処理によって、塗布した第三の色の着色感材のうち、光エネルギの照射を受けなかった部分を除去する。これにより、絵素１１６の列の表面に第三着色層１１３が形成される。そして、第一着色層１１１、第二着色層１１２、第三着色層１１３が、互いに平行にストライプ状に配列される。
【０１６２】
そして、表示領域Ａ外においては、第三の色の着色感材からなる第二要素２３２が、第一の色の着色感材からなる第一要素２３１の上に積層する。これにより、表示領域外のブラックマトリックス１１５上に、第一要素２３１と第二要素２３２とが積層する構成の第二スペーサ２３が形成される。一方、表示領域Ａ内においては、第一の色の着色感材からなる第一要素２２１に積層しない位置に、第三の色の着色感材からなる第二要素２２３が形成される。
【０１６３】
次に、セルギャップの調整方法について説明する。前記工程を経て得られた各スペーサ２２，２３は、第一要素２２１，２３１と第二要素２２２，２３２との積層する部分の合計高さが、実際にセルギャップを規定する。各スペーサのセルギャップを調整する機構は、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａに形成されるスペーサと同じであることから、説明は省略する。
【０１６４】
そして、このような第一スペーサ２２と第二スペーサ２３を備える表示パネル用の基板１１ｃは、表示領域Ａ内のセルギャップと、表示領域外のセルギャップとを、独立して調整できる。図１６は、表示領域Ａの内外でセルギャップを独立して調整する方法を示した平面模式図である。詳しくは、図１６（ａ），（ｂ）は、表示領域Ａ内のセルギャップを独立的に調整する方法を示す。図１６（ｃ），（ｄ）は、表示領域Ａ外のセルギャップを独立して調整する方法を示す。
【０１６５】
表示領域Ａ内のセルギャップの調整方法は、次の通りである。第二の色の着色感材からなる第二着色層１１２、第一スペーサ２２の第二要素２２２を、第二フォトマスク３５を用いてパターニングする際に、第二フォトマスク３５の位置をシフトさせる。図１６（ａ）は、着色層１１１，１１２，１１３の長手方向に沿って矢印ａの向きにシフトさせた状態を、図１６（ｂ）は、矢印ｂの向きにシフトさせた状態を示す。これにより、表示領域Ａ内に形成される第一要素２２１と、第二要素２２２との相対的な位置関係が変化し、第一要素２２１と第二要素２２２とが積層する部分の合計高さを調整できる。
【０１６６】
一方、表示領域Ａ外においても、第二着色層からなる第二要素２３３がシフトするが、この第二要素２３３は第一要素２３１とは積層しないから、表示領域Ａ外のセルギャップにはなんらの影響を与えない。
【０１６７】
表示領域外のセルギャップの調整方法は、次の通りである。第三の色の着色感材からなる第三着色層１１３、第二スペーサ２３の第二要素２３２を、第二フォトマスク３５を用いてパターニングする際に、第二フォトマスク３５の位置をシフトさせる。図１６（ｃ）は、着色層１１１，１１２，１１３の長手方向に沿って矢印ｃの向きに、図１６（ｄ）は、矢印ｄの向きにシフトした状態を示す。これにより、表示領域Ａ外に形成される第二スペーサ２３は、第一要素２３１と第二要素２３２との相対的な位置関係が変化し、積層する部分の合計高さが変化する。
【０１６８】
一方、表示領域Ａ内においても、第三の色の着色感材からなる第二要素２２３がシフトするが、この第二要素２２２は第一要素２２１とは積層しないから、表示領域Ａ内のセルギャップにはなんらの影響を与えない。
【０１６９】
このような構成によれば、次のような作用効果を奏することができる。
【０１７０】
まず、三色の着色層１１１，１１２，１１３および各スペーサ２２，２３のパターニングに必要となるフォトマスクの枚数は２枚となる。このため、従来のように各色ごとにフォトマスクを必要とする構成に比較して、フォトマスクの枚数を減少させることができる。したがって、フォトマスクに要する費用を削減することができ、表示パネル用の基板の製造コストの上昇の防止、または低減を図ることができる。
【０１７１】
また、表示領域Ａ内と表示領域Ａ外のそれぞれのセルギャップは、各スペーサ２２，２３の第一要素２２１，２３１と第二要素２２２，２３２との相対的な位置関係を変更することにより調整できる。このため、塗布すべき着色感材の膜厚（または、最終的に形成される各着色層１１１，１１２，１１３の層厚）を変更しなくても、セルギャップを調整できる。したがって、セルギャップの調整が、基板表面に塗布する着色感材の膜厚（すなわち、最終的に形成される着色層の層厚）に影響を与えることがなく、また、影響を受けることもない。
【０１７２】
さらに、表示領域内のセルギャップと、表示領域外のセルギャップとを、互いに独立して調整できる。したがって表示領域内のみ、または表示領域外のみのセルギャップの調整が行える。さらに、表示領域外と表示領域内とで、異なる量の調整を行うこともできる。この結果、表示領域の周縁部における対向基板の変形を防止または抑制し、対向基板の変形に起因する液晶の配向の乱れを防止し、表示品位の向上を図ることができる。
【０１７３】
なお、第一および第二スペーサ２２，２３の形状は前記構成に限定されるものではない。第一および第二スペーサ２２，２３の変形例には、第一実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａと同じ変形例が適用できる。また、変形例にかかるスペーサを形成するための第一フォトマスク３４の第一透光部３４１，３４２および第二フォトマスク３５の第二透光部３５１，３５２の構成も、第一実施形態にかかるフォトマスク３１の第一透光部３１１または第二透光部３１２と同じ構成が適用できる。したがって、説明は省略する。
【０１７４】
次に、本発明の第四実施形態について説明する。なお、前記いずれかの実施形態と同一の構成については説明を省略する。
【０１７５】
図１７は、本発明の第四実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｄの構成を示した模式図である。それぞれ、図１７（ａ）は、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｄの全体を示した図、図１７（ｂ）は、図１７（ａ）のＢ部またはＣ部拡大図であり、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｄに形成される第一または第二スペーサ２４，２５を抜き出して示した図である。
【０１７６】
本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｄは、図１７（ａ）に示すように、透明基板１１４の表面に、ブラックマトリックス１１５、第一着色層１１１、第二着色層１１２、第三着色層１１３、第一スペーサ２４および第二スペーサ２５が形成される。また、表示領域Ａ内には、第一要素２４１に積層しない第二要素２４３が、表示領域Ａ外には、第一要素２５１に積層しない第二要素２５３が、それぞれ所定の位置に形成される。第一スペーサ２４とは、表示領域内に形成されるスペーサをいう。第二スペーサ２５とは、表示領域外に形成されるスペーサをいう。なお、透明基板１１４、ブラックマトリックス１１５、各着色層１１１，１１２，１１３は、前記いずれかの実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａ，１１ｂ，１１ｃと同じ構成が適用できる。したがって、これらの要素の説明は省略する。
【０１７７】
第一および第二スペーサ２４，２５のそれぞれの第一要素２４１，２５１および第二要素２４２，２５２の構成は、第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｂに形成されるスペーサ２１の第一要素２１１または第二要素２１２と同じ構成が適用できる。また、第一要素２４１，２５１と第二要素２４２，２５２との積層形態、および各要素２４１，２４２の配列の向きも、第二実施形態と同じ構成が適用できる。したがって説明は省略する。
【０１７８】
第一および第二スペーサ２４，２５の第一要素２４１，２５１および第二要素２４２，２５２は、それぞれ、第一着色層１１１、第二着色層１１２または第三着色層１１３のいずれかを形成する着色感材により形成される。その組合せは、第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃに形成される第一スペーサ２２および第二スペーサ２３と同じ組合せが適用できる。したがって、説明は省略する。
【０１７９】
次に、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｄの製造に適用できるフォトマスクについて説明する。本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｄの製造には、互いに構成が異なる少なくとも２枚のフォトマスクの組を用いる。以下、これらのフォトマスクを、第四実施形態にかかるフォトマスクまたは第四実施形態にかかるフォトマスクの組と称する。
【０１８０】
図１８は、第四実施形態にかかるフォトマスクの組の構成を模式的に示した平面図である。図１８（ａ）は、第四実施形態にかかるフォトマスクの組のうちの一方のフォトマスク３６（以下、単に「第一のフォトマスク」と称する）を、図１８（ｂ）は、第四実施形態にかかるフォトマスクの組のうちの他方のフォトマスク３７（以下、単に「第二フォトマスク」と称する）を示す。
【０１８１】
第一フォトマスク３６には、第一および第二スペーサ２４，２５の第一要素２４１，２５１をパターニングするための第一透光部（表示領域Ａ’内の第一透光部には符号３６１を、表示領域Ａ’外の第一透光部には符号３６２を付して区別する）と、着色層１１１，１１２，１１３のいずれかをパターニングするための第三透光部３６３とが形成される。
【０１８２】
第二フォトマスク３７には、各スペーサ２４，２５の第二要素２４２，２５２をパターニングするための第二透光部（表示領域Ａ’内の第二透光部には符号３７１を、表示領域Ａ’外の第二透光部には符号３７２を付して区別する）と、着色層１１１，１１２，１１３のいずれかをパターニングするための第三透光部３７３とが形成される。
【０１８３】
なお、本実施形態にかかるフォトマスク３６，３７またはフォトマスクの組は、第三実施形態にかかるフォトマスク３４，３５またはフォトマスクの組と比較すると、第一透光部３６１，３６２および第二透光部３７１，３７２の構成が異なるのみであり、他は同じ構成が適用できる。そして、第一透光部３６１，３６２、第二透光部３７１，３７２の構成には、第二実施形態にかかるフォトマスク３２の第一透光部３２１、第二透光部３２２と同じ構成が適用できる。したがって、詳細な説明は省略する。
【０１８４】
本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｄに、各色の着色感材からなる着色層１１１，１１２，１１３、第一スペーサ２４、第二スペーサ２５の各要素を形成する工程は、第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃと同じ工程が適用できる。したがって、説明は省略する。
【０１８５】
第一および第二スペーサ２４，２５の第一要素２４１，２５１と第二要素２４２，２５２とが積層する部分の高さが変化する構成は、第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｂに形成されるスペーサ２１と同じである。したがって、説明は省略する。
【０１８６】
また、本実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｄのセルギャップの調整方法は、第三実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃのセルギャップの調整方法とほぼ同じである。第三実施形態の説明における「第一要素の高さが高い側」を「第一要素の横幅寸法が大きい側」に、「高さが低い側」を「横幅寸法が小さい側」に読み替えればよい。したがって、説明は省略する。
【０１８７】
このような構成によれば、第三実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
【０１８８】
前記各実施形態においては、着色感材としてネガ型レジストを用いる構成を示したが、ポジ型レジストを適用することも可能である。この場合、着色層、スペーサの第一要素および第二要素をパターニングする際に使用するフォトマスクは、前記各実施形態にかかるフォトマスクの極性を反転させた構成のものが適用できる。すなわち、前記各実施形態の説明において、フォトマスクの「透光部」と「遮光部」とを入れ替えて読めばよい。
【０１８９】
また、ポジ型レジストには、光エネルギの照射を受けなかった部分が現像工程後に固体層として残るという性質を有するものがある。このようなポジ型レジストは、光エネルギの被照射量が少なくなるにしたがって、得られる固体層の層厚が厚くなる。したがって、第一実施形態または第三実施形態にかかるフォトマスクの第一透光部と同じ構成の透光部を用いれば、高さが互いに異なる段差面を有するスペーサの第一要素を形成できる。ただし、第一実施形態または第三実施形態とは、光の透過量と形成される段差面の高さの関係が逆になる。
【０１９０】
次に、本発明の各実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造方法の全体的な流れと、表示パネルの製造方法の全体的な流れについて説明する。図１９（ａ）は、本発明の第一実施形態または第二実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａ，１１ｂの断面構造を模式的に示した図であり、図１９（ｂ）は、本発明の第三実施形態または第四実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ｃ，１１ｄの断面構造を模式的に示した図である。
【０１９１】
各実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａ〜１１ｄの製造方法は、各着色層１１１，１１２，１１３およびスペーサ２０〜２５の形成工程を除いては、同じ方法が適用できる。したがって、まとめて説明する。なお、以下の説明において、符号「１１」は、第一実施形態から第四実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａ〜１１ｄのいずれかもしくは複数、または各実施形態にかかる表示パネル用の基板１１ａ〜１１ｄをまとめて指し示すものとする。
【０１９２】
本発明の各実施形態にかかる表示パネルの製造方法は、カラーフィルタ製造工程（すなわち、本発明の各実施形態にかかる表示パネル用の基板を製造する工程）と、ＴＦＴアレイ基板製造工程と、パネル（セル）製造工程とを含む。
【０１９３】
カラーフィルタ基板製造工程は、ブラックマトリックス形成工程と、着色層形成工程と、透明電極（共通電極）膜形成工程とを含む。
【０１９４】
ブラックマトリックス形成工程は次のとおりである。本実施形態においては、樹脂ＢＭ法を適用するものとする。まず透明基板１１４の表面にＢＭレジスト（黒色着色剤を含有する感光性樹脂組成物）などを塗布する。次いで、塗布したＢＭレジストを、フォトリソグラフィ法などを用いて、所定のパターンに形成する。これにより、所定のパターンのブラックマトリックス１１５を得る。
【０１９５】
着色層形成工程では、カラー表示用の赤色、緑色、青色の各着色層１１１，１１２，１１３を形成すると同時に、前記スペーサ２０〜２５のいずれかを適宜選択して形成する。この各着色層１１１，１１２，１１３とスペーサ２０〜２５の形成方法は、前記の通りである。
【０１９６】
透明電極（共通電極）膜形成工程においては、表示領域内のブラックマトリックス１１５および着色層１１１，１１２，１１３の表面に、透明電極（共通電極）１１９を形成する。たとえばマスキング法であれば、これまでの工程を経た透明基板１１４の表面にマスクを配置し、スパッタリングなどによってＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）などを蒸着させて、透明電極（共通電極）１１９を形成する。
【０１９７】
このような工程を経て、各実施形態にかかる表示パネル用の基板（すなわちカラーフィルタ）１１を得る。
【０１９８】
ＴＦＴアレイ基板製造工程の内容は、次の通りである。
【０１９９】
透明基板１２１の表面に、走査信号線（ゲート信号線）（図示せず）、補助容量信号線（図示せず）およびゲート電極１２８を形成する。まず、ガラスなどからなる透明基板１２１の表面に、タングステン、チタン、アルミニウム、クロムなどからなる単層または多層の導体膜を形成する。この導体膜の形成方法には、公知の各種スパッタリング法などが適用できる。そして、形成した導体膜を、フォトリソグラフィ法などを用いて所定のパターンに形成する。これにより、所定のパターンの走査信号線、補助容量信号線およびゲート電極１２８を得る。
【０２００】
次に、ゲート絶縁膜１２３を形成する。このゲート絶縁膜１２３は、たとえば窒化シリコンなどからなり、プラズマＣＶＤ法などを用いて形成する。
【０２０１】
次に、ゲート絶縁膜１２３の表面に半導体膜を形成する。この半導体膜は、たとえばｎ＋型のアモルファスシリコンなどからなり、プラズマＣＶＤ法などを用いて形成する。
【０２０２】
次に、絶縁膜を形成する。この絶縁膜は、たとえば窒化シリコンなどからなる。まず、プラズマＣＶＤ法などによって窒化シリコン膜を形成し、しかる後に、フォトリソグラフィ法などを用いて、形成した窒化シリコン膜を所定のパターンに形成する。これにより、所定のパターンの絶縁膜を得る。
【０２０３】
次に、コンタクト層を形成する。このコンタクト層は、たとえばｎ＋型のアモルファスシリコンなどからなる。そしてプラズマＣＶＤ法などを用いて形成する。このコンタクト層は、後に形成するソースバスラインやドレイン線とのオーミックコンタクトを良好にするためのものである。
【０２０４】
次に、データ信号線（ソース信号線）１２４およびドレイン線１２５を形成する。このデータ信号線１２４およびドレイン線１２５は、チタン、アルミニウム、クロム、モリブデンなどの導体からなる。そして、たとえばフォトリソグラフィ法などを用いて形成する。
【０２０５】
次に、保護膜１２６を形成する。そして、形成した保護膜１２６に、コンタクト孔を形成する。このコンタクト孔は、フォトリソグラフィ法などを用いて形成する。
【０２０６】
保護膜１２６の表面に、透明電極（絵素電極）１２７を形成する。まず、透明な導電性物質の膜、一般的にはたとえばＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）の膜を、スパッタリング法などを用いて形成する。その後、形成したＩＴＯの膜を、フォトリソグラフィ法などを用いて、所定のパターンに形成する。これにより、所定のパターンの透明電極（絵素電極）１２７を得る。
【０２０７】
以上の工程を経て、ＴＦＴアレイ基板１２を得る。
【０２０８】
パネル（セル）製造工程においては、まず、前記工程を経て得た本発明のいずれかの実施形態にかかる表示パネル用の基板１１と、ＴＦＴアレイ基板１２のそれぞれの表面に、配向膜１１８，１２９を形成する。そして、形成した配向膜１１８，１２９に配向処理を施す。その後、基板１１，１２どうしを貼り合わせるとともに、その間に液晶を充填する。
【０２０９】
各基板１１，１２の表面に配向膜１１８，１２９を形成する方法には、従来一般の方法が適用できることから、詳細な説明は省略する。簡単に説明すると、まず、円圧式印刷装置やインクジェット式印刷装置を用い、基板１１，１２の表面に液状の配向材を塗布する。その後、配向膜焼成装置などを用いて基板を加熱し、塗布した配向材を焼成する。これにより、各基板１１，１２の表面に、固体の配向膜が形成される。
【０２１０】
そして焼成した配向膜１１８，１２９に配向処理を施す。この配向処理としては、ラビングローラなどを用い、配向膜１１８，１２９の表面にミクロな傷をつける方法や、配向膜１１８，１２９の表面に光エネルギを照射し、配向膜１１８，１２９の表面性状を調整する光配向処理などが適用できる。
【０２１１】
その後、シールパターニング装置などを用いて、基板の一方の表面に、紫外線硬化型のシール材とコモン転移材を塗布する。そして、液晶滴下装置などを用いて、基板の表示領域に液晶を滴下する。その後、減圧雰囲気下で基板どうしを貼り合わせ、シール材に紫外線を照射して硬化させる。
【０２１２】
以上のような工程を経て、表示パネル１を得る。
【０２１３】
以上、本発明の各実施形態について詳細に説明したが、本発明は、前記各実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。
【０２１４】
たとえば、前記各実施形態においては、着色層の配列としてストライプ配列を示したが、着色層の配列はこれに限定されるものではない。たとえば、デルタ配列やモザイク配列であってもよい。前記各実施形態におけるフォトマスクにおいて、第三透光部の配列は、着色層の配列に応じて適宜変更できるものである。
【０２１５】
また、前記各実施形態においては、第一要素の上に第二要素を積層させる構成を示したが、第一要素と第二要素の上下位置関係は、前記実施形態に限定されるものではない。たとえば、第二要素の上に第一要素を積層させる構成であってもよい。
【０２１６】
また、前記各実施形態にかかるフォトマスクの各透光部の位置関係の説明には、等倍のフォトマスクを用いたが、不等倍のフォトマスクであっても適用できる。不等倍のフォトマスクを用いる場合には、透明基板に投影される各透光部の範囲や位置関係が、前記所定の関係を充足するように、透光部の寸法、形状および位置関係を設計する。
【０２１７】
また、前記各実施形態においては、互いに色が異なる第一〜第三着色層を形成する構成を示したが、着色層の色数は三色に限定されるものではない。たとえば、五色またはそれ以上の色数の着色層を有する構成であってもよい。そして、そのうちの二色または三色の着色感材により、スペーサを形成すればよい。そして色数が増加しても、前記作用効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２１８】
【図１】本発明の第一実施形態にかかる表示パネル用の基板の構成を示した外観斜視図であり、（ａ）は基板全体を示した図、（ｂ）は、（ａ）のＢ部拡大図であり、スペーサの構成を拡大して示す。
【図２】前記実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造に適用できるフォトマスクの構成を模式的に示した外観斜視図である。
【図３】スペーサの第一要素をパターニングするために前記フォトマスクに形成される第一透光部の構成を模式的に示した平面図であり、（ａ），（ｂ），（ｃ）は、第一透光部の構成のバリエーションを示す。
【図４】前記実施形態にかかるフォトマスクに形成される透光部と、前記実施形態にかかる表示パネル用の基板に形成される絵素との位置関係を示した平面模式図である。
【図５】着色層とスペーサの形成工程を模式的に示した平面図であり、それぞれ、（ａ）は、第一着色層を形成する工程を、（ｂ）は、第二着色層、スペーサの第一要素および第二要素を形成する工程を、（ｃ）は、第三着色層、スペーサの第一要素および第二要素とを形成する工程を示す。
【図６】セルギャップの調整機構および調整方法を模式的に示した図であり、（ａ）は、セルギャップを通常の寸法に設定する構成および方法を、（ｂ）は、セルギャップを大きくする構成および方法を、（ｃ）は、セルギャップを小さくする構成および方法を示す。
【図７】（ａ）は、前記実施形態にかかる表示パネル用の基板に形成されるスペーサの変形例を示した外観斜視図、（ｂ），（ｃ）は、（ａ）に示すスペーサのパターニングに適用できるフォトマスクの透光部の構成を模式的に示した平面図である。
【図８】本発明の第二実施形態にかかる表示パネル用の基板の構成を示した外観斜視図であり、（ａ）は、基板全体を示した図、（ｂ）は、（ａ）のＢ部拡大図であり、スペーサの構成を示す。
【図９】前記実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造に適用できるフォトマスクの構成を模式的に示した外観斜視図である。
【図１０】前記実施形態にかかるフォトマスクに形成される透光部と、前記実施形態にかかる表示パネル用の基板に形成される絵素との位置関係を示した平面模式図であり、（ａ）は、セルギャップを通常の寸法にするための位置を、（ｂ）は、通常よりも大きくするための位置を、（ｃ）は、通常よりも小さくするための位置を示し、Ｂ部拡大図、Ｃ部拡大図、Ｄ部拡大図は、各位置における第一要素と第二透光部との位置関係を拡大して示す。
【図１１】（ａ）〜（ｄ）は、前記実施形態にかかる表示パネル用の基板に形成されるスペーサの変形例を示した外観斜視図であり、（ａ），（ｂ）は、第一要素が三角形に形成される構成の例を、（ｃ），（ｄ）は、第一要素が段階的に横幅寸法が変化する形状に形成される構成の例を示す。
【図１２】本発明の第三実施形態にかかる表示パネル用の基板の構成を示した外観斜視図であり、（ａ）は、基板全体を示した図、（ｂ）は、（ａ）のＢ部またはＣ部拡大図であり、スペーサの構成を拡大して示す。
【図１３】前記実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造に適用できるフォトマスクの組の構成を模式的に示した外観斜視図であり、（ａ）は第一フォトマスクの構成を、（ｂ）は第二フォトマスクの構成を示す。
【図１４】前記実施形態にかかるフォトマスクに形成される透光部と、前記実施形態にかかる表示パネル用の基板に形成される絵素との位置関係を示した平面模式図である。
【図１５】着色層とスペーサの形成工程を模式的に示した平面図であり、それぞれ、（ａ）は、第一着色層を形成する工程を、（ｂ）は、第二着色層、スペーサの第一要素および第二要素を形成する工程を、（ｃ）は、第三着色層、スペーサの第一要素および第二要素とを形成する工程を示す。
【図１６】表示領域の内外のセルギャップの調整機構および調整方法を模式的に示した図であり、（ａ）は、表示領域内のセルギャップを大きくする構成および方法を、（ｂ）は、表示領域内のセルギャップを小さくする構成および方法を、（ｃ）は、表示領域外のセルギャップを大きくする構成および方法を、（ｄ）は、表示領域外のセルギャップを小さくする構成および方法を示す。
【図１７】本発明の第四実施形態にかかる表示パネル用の基板の構成を示した外観斜視図であり、（ａ）は、基板全体を示した図、（ｂ）は、（ａ）のＢ部またはＣ部拡大図であり、スペーサの構成を示す。
【図１８】前記実施形態にかかる表示パネル用の基板の製造に適用できるフォトマスクの組構成を模式的に示した外観斜視図であり、（ａ）は第一フォトマスクの構成を、（ｂ）は第二フォトマスクの構成を示す。
【図１９】（ａ）は、第一または第二実施形態にかかる表示パネル用の基板を備える表示パネルの断面構造を模式的に示した図であり、（ｂ）は、第三または第四実施形態にかかる表示パネル用の基板を備える表示パネルの断面構造を模式的に示した図である。
【符号の説明】
【０２１９】
１１（１１ａ〜１１ｄ）  各実施形態にかかる表示パネル用の基板
１１１  第一着色層
１１２  第二着色層
１１３  第三着色層
１１４  透明基板
１１５  ブラックマトリックス
１１６  絵素
２２  第一スペーサ
２２１  第一スペーサの第一要素
２２２  第一スペーサの第二要素
２３  第二スペーサ
２３１  第二スペーサの第一要素
２３２  第二スペーサの第二要素
２０１１，２０１２，２０１３  第一要素の各段差面
Ａ  表示領域を示す線
Ｌ３１  第一要素の中心線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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