(57)【要約】      （修正有）【課題】ＰＤＰの表示コントラストを維持したまま、外光の映り込み像を軽減する電磁波シールド板と、それを用いた前面フィルターを提供する。【解決手段】画像表示装置の視認側３に設置される画像表示装置用電磁波シールド板であって、透明基材１３と、該透明基材１３上に形成された格子状の導電層３０を有し、画像表示領域内における前記導電層３０の透明基材１３に対して垂直な断面の形状が、該導電層３０の視認側３の表面における線幅より画像表示装置側４の表面における線幅の方が広いテーパー形状であることを特徴とする画像表示装置用電磁波シールド板とする。【選択図】図１
2007242845.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示装置の視認側に設置される画像表示装置用電磁波シールド板であって、透明基材と、該透明基材上に形成された格子状の導電層を有し、該導電層の画像表示領域内の縦断面において、視認側の線幅よりも画像表示装置側の線幅の方が広いことを特徴とする画像表示装置用電磁波シールド板。
【請求項２】
光源を画像表示装置側、測光器を視認側として測定したヘーズをＡ（％）、光源を視認側、測光器を画像表示装置側として測定したヘーズをＢ（％）としたとき、ＡおよびＢが下記式（１）を満たす請求項１に記載の画像表示装置用電磁波シールド板。
Ａ＜４．０＜Ｂ      （１）
【請求項３】
前記導電層上の視認側に黒色層が形成されている請求項１または２に記載の画像表示装置用電磁波シールド板。
【請求項４】
前記黒色層が黒色顔料とガラスを含む請求項３に記載の画像表示装置用電磁波シールド板。
【請求項５】
前記導電層をフォトリソグラフ法で形成する請求項１〜４のいずれかに記載の画像表示装置用電磁波シールド板の製造方法。
【請求項６】
透明基材上に感光性ペーストを塗布し、その後露光、現像を経て格子状パターンを形成する画像表示装置用電磁波シールド板の製造方法であって、該感光性ペーストがα−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤を含み、α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤の含有量が該感光性ペースト全体に対し５〜３０重量％の範囲である請求項５に記載の画像表示装置用電磁波シールド板の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜４に記載の画像表示装置用電磁波シールド板に、反射防止層、色補正層から選ばれる少なくとも１つの層が積層された画像表示装置用前面フィルター。
【請求項８】
請求項７に記載の画像表示用前面フィルターを備えた画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電磁波を発生する画像表示装置に用いる画像表示装置用電磁波シールド板およびその製造方法、およびそれを用いた画像表示装置用前面フィルター、画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイの需要が急速に伸びている。その中でもプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）はその一翼を担っており、公共の場での掲示板、特に駅で電車発着の時刻表示等に利用されている。
【０００３】
ＰＤＰは、各画素に設置されている表示電極を放電させることで封入されている希ガスを励起しＲＧＢの蛍光体が発光するが、その時ＰＤＰからは蛍光体からの発光以外にも電磁波やネオン光等が発生する。この為ＰＤＰにはこの様な不必要な電磁波やネオン光等をカットする目的で前面フィルターが設置される。前面フィルターは、図５、図６に示すように外光反射を防止する反射防止層（以下、ＡＲ層という）、パネルからのネオン光や近赤外線をカットしパネルからの発光色を制限する色補正層、パネルから輻射される電磁波をカットする電磁波シールド層等を強化ガラス等からなる透明基材上に積層し、パネル前面に設置される。
【０００４】
上記電磁波シールド層としては樹脂フィルム等の透明基材上に透明導電性薄膜を形成したものや、金属線や導電性繊維を不織布状に形成したもの、メッシュ状に形成した金属層等が知られている。電磁波シールド層は、パネルからの発光を極力妨げることがない様にしなければならず光透過性を維持しつつ電磁波シールド性を持たせるためにメッシュ状に形成した金属層を有する電磁波シールド層が広く用いられている。
【０００５】
電磁波シールド層を含む前面フィルターはＰＤＰ前面に設置されるため、光学特性の制約が多い。特にヘーズや外光の映り込みは画像品位に直接つながるため、重要な特性の一つである。ＰＤＰ点灯時においては、ディスプレイ側から視認側に光を透過させて測定されるヘーズが大きいと、ディスプレイの表示光が散乱して画像がぼやけたり、コントラストが低下するという問題を生じる。また、外光の映りこみはコントラストに影響を及ぼすため、双方ともに低いことが望ましい。さらに、ＰＤＰ消灯時においても外光の映り込みが強いと、製品としての品位が落ちる等の問題がある。
【０００６】
ヘーズは電磁波シールド層を光が通過するときに発生する拡散透過光が最も影響を与えるが、それは電磁波シールド層を形成しているメッシュパターン表面での乱反射が原因である。その為メッシュパターンのディスプレイ側の表面を黒色化させることで光の乱反射を押さえる方法（特許文献１参照）が開示されているが、このような方法では、メッシュパターン形成後のメッキによる黒色化が必要になるなど、工程が複雑となるため、コスト増の問題がある。また、この方法によっては外光の映り込みを防止することはできないという問題があった。
【０００７】
一方、外光の映り込みは反射強度を下げることで低減する。反射強度低減には、液晶ディスプレイ等に用いられているアンチグレア処理が有効であるが、ヘーズが高くなるため、結局はコントラストの低下を招き、有効な方法とは言えなかった。
【特許文献１】特開２０００−２８６５９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は外光の映りこみがなく、表示コントラストの良好な画像表示装置を得ることのできる画像表示装置用電磁波シールド板、画像表示装置用前面フィルター、および画像装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記問題点を解決するため、本発明は以下の構成からなる。
（Ａ）画像表示装置の視認側に設置される画像表示装置用電磁波シールド板であって、透明基材と、該透明基材上に形成された格子状の導電層を有し、該導電層の画像表示領域内の縦断面において、視認側の線幅よりも画像表示装置側の線幅の方が広いことを特徴とする画像表示装置用電磁波シールド板。
（Ｂ）光源を画像表示装置側、測光器を視認側として測定したヘーズをＡ（％）、光源を視認側、測光器を画像表示装置側として測定したヘーズをＢ（％）としたとき、ＡおよびＢが下記式（１）を満たす（Ａ）項に記載の画像表示装置用電磁波シールド板。
Ａ＜４．０＜Ｂ      （１）
（Ｃ）前記導電層上の視認側に黒色層が形成されている（Ａ）または（Ｂ）項に記載の画像表示装置用電磁波シールド板。
（Ｄ）前記黒色層が黒色顔料とガラスを含む（Ｃ）項に記載の画像表示装置用電磁波シールド板。
（Ｅ）前記導電層をフォトリソグラフ法で形成する（Ａ）〜（Ｄ）項のいずれかに記載の画像表示装置用電磁波シールド板の製造方法。
（Ｆ）透明基材上に感光性ペーストを塗布し、その後露光、現像を経て格子状パターンを形成する画像表示用電磁波シールド板の製造方法であって、該感光性ペーストがα−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤を含み、α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤の含有量が該感光性ペースト全体に対し５〜３０重量％の範囲である（Ｅ）項に記載の画像表示装置用電磁波シールド板の製造方法。
（Ｇ）（Ａ）〜（Ｄ）項に記載の画像表示装置用電磁波シールド板に、反射防止フィルム、色補正フィルムから選ばれる少なくとも１つが積層された画像表示装置用前面フィルター。
（Ｈ）（Ｇ）項に記載の画像表示装置用前面フィルターを備えた画像表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の電磁波シールド板を用いた前面フィルターはコントラストを低下させることなく外光の映り込みを抑制することができるため、画像表示装置の画像品位を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の電磁波シールド板は、画像表示装置の視認側に設置されるものであり、透明基材と、該透明基材上に形成された格子状の導電層を有する。さらに、該導電層の画像表示領域内の縦断面において、視認側の線幅よりも画像表示装置側の線幅の方が広いことを特徴とする。
【００１２】
本発明の電磁波シールド板は、具体的には図１または図２に示すような断面形状を有するものである。このように導電層の線幅が視認側より画像表示装置側が広く、画像表視認側から画像表示装置側へ進むに従って広くなるような形状の場合、視認側から入射する外光は導電層の側面で乱反射し、拡散透過光が増えるため光沢度が小さくなる。そのため外光の映り込みがぼやけて画像品位が向上する。
【００１３】
それに対して画像表示装置側からは導電層の側面は見えないため、画像表示装置からの発光では乱反射は発生せず、ヘーズが小さくなるため表示コントラストは低下しない。
【００１４】
本発明において、前記導電層の縦断面とは、電磁波シールド板を構成する透明基材表面に対して垂直な断面を指す。また、本発明において、該導電層の画像表示領域内の縦断面において、視認側の線幅よりも画像表示装置側の線幅の方が広いか否かは、画像表示装置の前面に設置した際に表示領域となる領域から少なくとも１０の位置を選び断面観察を行い、導電層の視認側の面における線幅と画像表示装置側の面における線幅を測定し、全ての位置において導電層の視認側の面における線幅の平均値が画像表示装置側の面における線幅の平均値より１．５μｍ以上大きい場合にテーパー形状であると判断する。
【００１５】
上記効果を達成する本発明の電磁波シールド板の、光源を画像表示装置側、測光器を視認側として測定したヘーズＡ（％）および光源を視認側、測光器を画像表示装置側として測定したヘーズＢ（％）は、下記式（１）を満たす範囲であることが好ましい。
Ａ＜４．０＜Ｂ      （１）
ヘーズＡが４．０（％）未満であることによって、電磁波シールド板を通過する際の画像表示装置の発光の拡散が抑制され、表示コントラストが向上する。ヘーズＡは好ましくは３．０（％）以下である。ヘーズＡは小さいほど好ましいが、十分な電磁波シールド性を有する格子状パターンの導電層を有する電磁波シールド板においては、一般的には１％以上となる。また、ヘーズＢが４．０より大きいことで、外光が電磁波シールド板を通過する際に拡散されるため、電磁波シールド板を通過した光が画像表示装置の表面で反射することによる外光の映り込みが特に抑制される。また、導電層が上記形状を有し、かつヘーズＢが４．０（％）より大きい場合は、電磁波シールド板の視認側表面における反射光が拡散されるため、電磁波シールド板の視認側表面における外光の映り込みが抑制される。
【００１６】
ヘーズＢは好ましくは５．０（％）以上である。上記範囲にすることで、コントラストを落とさずに効率的に外光の映り込みを良化することができる。また、映り込み防止のためにはヘーズＢは大きいほど好ましいが、一般にヘーズＡを４．０（％）未満とするとヘーズＢを１０％以上とすることは困難である。
【００１７】
以下、本発明の電磁波シールド板を構成する素材、製造方法について説明する。
（透明基材）
本発明に用いられる透明基材としては、着色が少なく光線透過率の高い基材であれば特に限定されないが、ガラス板や、アクリル板、さらにはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂等が挙げられる。この中でも後述のように焼成を行う場合においては、ガラス板が好ましい。ガラス板を用いることで６００℃程度までの焼成を行うことができるので、導電微粒子の密着性が上がり、電磁波シールド性や格子状パターンの強度を向上する事ができる。また、基材厚みは０．０１ｍｍ以上１０mm以下が好ましく、さらには０．０５ｍｍ以上５ｍｍ以下がより好ましい。０．０１ｍｍ未満では基材のハンドリング性や寸法安定性が悪く、１０ｍｍ以上では透過率が低くなるので好ましくない。
（導電層）
本発明の電磁波シールド板は透明基材上に格子状パターンの導電層を形成する。格子状パターンは画像表示装置からの発光を極力妨げず、かつ必要とする電磁波シールド性能を発揮する範囲で、線幅８〜２０μｍ、膜厚５〜１５μｍ、ピッチ１５０〜３００μｍから任意に設定することができる。
【００１８】
このような格子状パターンの導電層の形成方法としては、金属箔を基材に貼り合わせ、レジストパターンを金属箔上に形成後、ケミカルエッチングを行うことでパターン化を行うエッチング法、基材に導電性粒子と感光性成分を含有した感光性ペーストを塗布し、フォトマスクを介して露光した後、現像を経て導電層を形成するフォトリソグラフ法、ハロゲン化銀を分散した乳剤を基材に塗布し、フォトマスクを介して露光した後、現像、定着、水洗をおこなうことにより導電層を形成する銀塩法、スクリーン印刷等を用いて導電層を形成する印刷法等が挙げられる。上述した断面形状を有し、かつ上述のヘーズ特性を有する導電層を形成するためには、上記の中でも特にフォトリソグラフ法が好ましい。フォトリソグラフ法を用いることで、導電パターンが基材の画像表示側と視認側のどちらに形成しても、現像時間を調整することにより、簡便に常に視認側の断面を画像表示側の断面より広くすることができる。すなわち、図１のように導電層を透明基材の視認側に設ける場合は現像時間を短く、図２のように導電層を透明記事の画像表示装置側に設ける場合は現像時間を長くすることによって、所望のテーパー形状を有する格子状パターンの導電層を容易に形成することができる。
【００１９】
さらに、フォトリソグラフ法で形成した格子状パターン層を焼成することによって、感光性成分などの有機成分を除去し、導電性粒子材料を主成分とする導電層を形成することが、特に好ましい。
【００２０】
導電層に用いる導電材料としては、金、銀、銅、アルミ、鉄などの金属が挙げられるがその中でも加工性、電磁波シールド性に優れる銀、銅、アルミが好ましい。また、パターン形成法に上記フォトリソグラフ法を用いる場合においては銀が最も好ましい。これらの導電性粒子を用いることで焼成温度が低く設定でき、製造コストの低減が可能となる。さらには基材にガラスを用いた場合には、基材の歪みを生じさせずに導電層を焼成することができる。
【００２１】
フォトリソグラフ法を用いて導電層を形成する為に使用する感光性銀ペーストとしては、感光性樹脂と前記導電性粒子を混練した物を使用する。感光性樹脂としては、ポリマー、１分子中に２つ以上の炭素−炭素２重結合を有する多官能モノマー、光重合開始剤等が成分として挙げられる。感光性樹脂に使用されるポリマーは特に限定されないが、感光性樹脂のパターン加工を、有機溶媒を用いる方法ではなくアルカリ水溶液現像で行うためにアルカリ可溶性のポリマーであることが望ましい。アルカリ可溶性のポリマーとしては、アクリル系共重合体があげられる。アクリル系共重合体とは、共重合成分に少なくともアクリル系モノマーを含む共重合体であり、アクリル系モノマーとは、具体的な例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメルカプタンアクリレートなどのアクリル系モノマー、およびこれらのアクリレートをメタクリレートに代えたものなどが挙げられる。光重合開始剤としてはα−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤を使用することが好ましい。α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤を使用することで、導電パターンが基材の画像表示側と視認側のどちらに形成しても、現像時間を調整することにより、簡便に常に視認側の断面を画像表示側の断面より広くすることができる。α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤の好ましい例としては、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１等が挙げられる。これらの配合量としては感光性ペースト全体の５〜３０重量％の範囲が好ましい。５重量％未満では得られる感光性樹脂の光感度が不足し、３０重量％を越えると、現像性が悪くなる傾向にある。
（黒色層）
導電層上の少なくとも視認側に黒色層が形成されていることが好ましい。導電層上の視認側に黒色層を形成することによって、画像表示のコントラストを高くすることができる。
【００２２】
このような黒色層の形成方法としては導電層上に感光性黒色ペーストを塗布し、格子状パターンに露光、現像を行って黒色層を形成する方法が挙げられる。感光性黒色ペーストとしては感光性樹脂に黒色顔料とガラスを混練した物を使用する事が出来る。黒色層に含まれるガラス成分としては、軟化温度が５５０℃以下、好ましくは、３５０〜５００℃のガラス成分を用いることができる。軟化温度３５０℃未満のガラスは化学的安定性が低く、また、軟化温度５００℃超、特に、５５０℃を超えると、基板上で十分な軟化を行うことが困難になるため、黒色層にヘーズ感が生じやすくなる。軟化温度が５５０℃以下、好ましくは、３５０〜５００℃のガラス成分であれば、特に制限なく用いることができるが、黒色層と接触する導電層との反応を考慮すると、鉛、ビスマス、および亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも一種類の元素を含むホウケイ酸系のガラス粉末が好ましく用いられる。また、環境面を考慮すると、酸化ビスマスや酸化亜鉛を主成分とするガラス粉末が好ましい。さらに、アルカリ金属を含むガラス粉末を用いた場合には、焼成時に基板ガラスとのイオン交換反応により、基板の反りを生じることがあるため、アルカリ金属の含有量は１０重量％以下とすることが好ましい。黒色顔料としては、コバルト、ニッケル、銅、鉄、マンガン、クロム、ルテニウムの酸化物を含む無機酸化物からなる顔料を用いることができる。それぞれの元素単独の酸化物を用いることもできるが、３種以上の元素で構成されるスピネル化合物を用いることも有効である。特に、４００〜７００℃に加熱する工程を経る際には、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｃｕ−Ｍｎ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｍｎ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｕ−ＭｎなどのＣｏ元素を含むスピネル化合物を用いることにより、高温での退色を防止することが可能である。感光性樹脂としては感光性銀ペーストで使用できる物をそのまま使用する事が出来る。
【００２３】
本発明の画像表示装置用前面フィルターは、上述の画像表示装置用電磁波シールド板に、反射防止層、色補正層から選ばれる少なくとも１つが積層されたものであり、好ましくは反射防止機能および色補正機能を有するフィルムを粘着層を介して積層する事で得られる。
【００２４】
積層の構成としては視認側からみて反射防止層／電磁波シールド板／色補正層、反射防止層／色補正層／電磁波シールド板、反射防止機能と色補正機能を有する層／電磁波シールド板等が考えられるが、いずれを用いても良い。また図３、図４に示すように反射防止フィルムの裏面に色補正層を持つ機能統合フィルムを、粘着層を介して電磁波シールド板に積層しても良い。上記反射防止フィルム、機能統合フィルムは市販の物を用いることができるが、反射率ができるだけ小さいものを使用した方が画像表示装置の画像品位を向上することができ、好ましい。
【実施例】
【００２５】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【００２６】
なお、各実施例及び比較例で得られた電磁波シールド板及び前面フィルターの評価方法は以下の通りであり、また各実施例で使用した設備・部材は以下の通りである。
（１）線幅、ピッチ、導電層の断面形状、黒色層と導電層の線幅の関係
格子パターンをデジタルマイクロスコープ（ＶＨ-８０００  キーエンス社製）を用いて倍率３００倍で観察し、線幅、ピッチを測定した。ここでいう線幅とは、電磁波シールド板を水平に置き、垂直方向から観察したときの格子状パターンの幅のことを指す。またピッチとは格子状パターンの対辺間の繰り返し距離のことを指す。また電磁波シールド板を透明基材表面に垂直に切断し、断面を電子顕微鏡（Ｓ−２４００  日立計測器サービス社製）を用いて倍率５００倍で観察し、導電層の視認側の表面における線幅、導電層の画像表示装置側の表面における線幅、、導電層の厚みを測定した。ここでいう厚みとは透明基材表面に垂直な方向の導電層の高さを指す。
【００２７】
なお、断面形状観察は画像表示領域内で任意に選択した１０サンプルについて、各１視野（合計１０視野）について行った。ここで、１０視野全てにおいて導電層の視認側の表面における線幅より導電層の画像表示装置側の表面における線幅が１．５μｍ以上広い場合はテーパー形状である（○）と判定し、１０視野のうち１つでも導電層の視認側の表面における線幅より導電層の画像表示装置側の表面における線幅の差が１．５μｍ以下である場合、両者が同じである場合、導電層の視認側の表面における線幅より導電層の画像表示装置側の表面における線幅が狭い場合はテーパー形状ではない（×）とした。
【００２８】
また、導電層の厚みについては、１０視野における測定値の平均値を用いた。
（２）全光線透過率、直線透過率、拡散透過率、ヘーズＡ（％）、ヘーズＢ（％）
ヘーズメーター（日本電色工業株式会社製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準拠して測定を行い、光源を画像表示装置側、測光器を視認側として測定したヘーズＡ（％）および光源を視認側、測光器を画像表示装置側として測定したヘーズＢ（％）を測定した。測定条件として光源はＤ６５を用いた。それぞれ表示領域に相当する範囲の１０点について測定し、平均値を用いた。
（３）光沢度
グロスメーター（株式会社シロ産業製）を用いて光沢度を測定した。測定条件として６０度、光源はＤ６５を用いた。映り込み防止の観点からは光沢度は１０％以下であることが好ましい。
（４）映り込み
前面フィルターを４２インチプラズマディスプレイ「ＰＸ２０」（松下電器産業製）にセットし、蛍光灯の映り込み像を目視で評価し、以下の基準で判定した。
◎：映り込み像がほとんど分からない。
○：映り込み像があるものの、輪郭がぼやけている。
×：映り込み像の輪郭がはっきりとしている。
（４）表示コントラスト
前面フィルターを４２インチプラズマディスプレイ「ＰＸ２０」（松下電器産業製）にセットし、テストパターンを表示して目視で評価し、以下の基準で判定した。
◎：コントラストが非常に良い。
○：コントラストがやや低下するものの、十分なコントラストを有する。
×：コントラストが明らかに悪い。
【００２９】
また、装置、素材は以下のものを用いた。
（１）印刷  ：マイクロテック社製スクリーン印刷機
（２）乾燥  ：タバイ社製熱風乾燥炉
（３）露光  ：大日本スクリーン製露光機（光源：２ｋＷ超高圧水銀灯）
（４）現像  ：ミクロ技研社製現像機（炭酸ナトリウム  ３．５重量部水溶液を用いてシャワー現像を行った）
（５）焼成  ：光洋サーモテック社製ローラーハース焼成炉
（６）スクリーン版：３８０メッシュカレンダー版
また、前面フィルター作製時には反射防止層、色補正層、近赤外線遮蔽層を含む下記機能統合フィルムを用いて電磁波シールド板に貼合した。
機能統合フィルム：住友大阪セメント製クリアラス（粘着層付き機能統合フィルム）
［実施例１］酸化コバルト（Ｃｏ３Ｏ４、平均粒子径０．１μm）１５重量部、光重合開始剤（チバガイギー社製「イルガキュア３６９」）１０重量部、感光性アクリルポリマー（東レ社製「ＡＸ５５０」）１５重量部、トリメチルプロパントリアクリレート（第一工業製薬社製）１０重量部、γ−ブチロラクトン（東京化成社製）１５重量部、Ｂｉ系ガラス粉末（軟化温度５２０℃）２０重量部を調合しプラネタリーミキサー及び三本ロールミルで混練して感光性黒色ペーストを作成した。また、銀粉末（同和鉱業製、平均粒子径２μｍ）６５重量部、酸化コバルト（Ｃｏ３Ｏ４、平均粒子径０．１μm）２重量部、感光性アクリルポリマー（東レ社製「ＡＸ５５９」）７重量部、ポリエチレングリコールジアクリレート（共栄社社製「ライトアクリレート４ＥＧ−Ａ」）４重量部、光重合開始剤（チバガイギー社製「イルガキュア３６９」）：１０重量部、γ−ブチロラクトン（東京化成社製）：１５重量部、Ｂｉ系ガラス粉末（軟化温度４８０℃）１重量部を調合しプラネタリーミキサー及び三本ロールミルで混練して感光性銀ペーストを作成した。その後厚み２．８ｍｍのソーダガラス（旭硝子製  「ＰＤ２００」）に感光性銀ペーストをスクリーン印刷にて全面塗布し、乾燥した。その後感光性黒色ペーストを塗布し乾燥し、メッシュパターンのフォトマスクを介して露光した。その後現像を９０秒間行い、最後に焼成を行うことで線幅１５．３μｍ（導電層線幅視認側：１３．２μｍ、画像表示側：１５．３μｍ）、ピッチ２５０μｍ、厚み７μｍの電磁波シールド板を得た。
［実施例２］実施例１と同様に厚み２．８ｍｍのソーダガラスに感光性黒色ペーストをスクリーン印刷にて全面塗布し、乾燥した。その後感光性銀ペーストを塗布し乾燥した。その後メッシュパターンのフォトマスクを介して露光した。その後現像を１２０秒間行い、最後に焼成を行うことで線幅１５．３μｍ（導電層線幅視認側：１５．３μｍ、画像表示側：１３．１μｍ）、ピッチ２５０μｍ、厚み７μｍの電磁波シールド板を得た。
［実施例３］実施例１のメッシュパターン形成側のガラス面に機能統合フィルムを貼り合わせ、前面フィルターを作成した。
［実施例４］実施例２のメッシュパターン形成側と反対面のガラス面に機能統合フィルムを貼り合わせ、前面フィルターを作成した。
［比較例１］実施例１と同様に、厚み２．８ｍｍのソーダガラスに感光性銀ペーストをスクリーン印刷にて全面塗布し、乾燥した。その後感光性黒色ペーストを塗布し乾燥し、メッシュパターンのフォトマスクを介して露光した。その後現像を１２０秒間行い、最後に焼成を行うことで線幅１５．１μｍ（導電層線幅視認側：１５．０μｍ、画像表示側：１３．１μｍ）、ピッチ２５０μｍ、厚み７μｍの電磁波シールド板を得た。
［比較例２］比較例１と同一条件で塗布、乾燥、露光を行った。その後現像を１５０秒行い線幅１５．１μｍ（導電層線幅視認側：１５．１μｍ、画像表示側：１０．４μｍ）、ピッチ２５０μｍ、厚み７μｍの電磁波シールド板を得た。
［比較例３］比較例１と同一条件で塗布、乾燥、露光を行った。その後現像を１００秒行い線幅１５．２μｍ（導電層線幅視認側：１５．２μｍ、画像表示側：１５．１μｍ）、ピッチ２５０μｍ、厚み７μｍの電磁波シールド板を得た。
［比較例４］比較例１のメッシュパターン形成側のガラス面に機能統合フィルムを貼り合わせ、前面フィルターを作成した。
［比較例５］比較例２のメッシュパターン形成側のガラス面に機能統合フィルムを貼り合わせ、前面フィルターを作成した。
［比較例６］比較例３のメッシュパターン形成側のガラス面に機能統合フィルムを貼り合わせ、前面フィルターを作成した。
【００３０】
導電層の形状、ヘーズ値、パネル性能評価の結果を表１〜表３に示す。実施例１、２では導電層の視認側線幅に比べ、画像表示側線幅が広くなっている。対して、比較例３〜５では導電層の視認側線幅が、画像表示側線幅と同じか、広くなっている。次にヘーズ測定結果を表２に示す。光源を視認側、測光器を画像表示側としてヘーズを測定した値（ヘーズＡ）を比較すると、比較例２が４％を超え、それ以外は４％以下となった。また光源を画像表示側、測光器を視認側としてヘーズを測定した値（ヘーズＢ）を比較すると、実施例１および実施例２ではそれぞれ４．３７、４．１１となり４％を超えたが、比較例１〜３ではすべて４％以下であった。次に鏡面光沢度と外光の映り込み像、及びコントラスト評価の結果について表３に示す。実施例３、４の前面フィルターは比較例４〜６の前面フィルターに比べて鏡面光沢度が減少しており、反射光の成分の内、拡散光成分が増加していることが分かる。また外光の映り込み像を評価すると、実施例３、４では映り込み像がぼやけていたのに対し、比較例５〜７では映り込み像が輪郭が分かる程強度が強かった。さらに、ＰＤＰのコントラストを評価したところ、比較例６ではコントラストが悪く、実施例３、及び比較例４がコントラストが良く、実施例４、比較例６はコントラストが非常に良かった。
【００３１】
【表１】
2007242845.tif 000003
【００３２】
【表２】
2007242845.tif 000004
【００３３】
【表３】
2007242845.tif 000005
【００３４】
以上の結果より、本発明から得られる電磁波シールド板を用いた前面フィルターは、外光の映り込みが無く、かつコントラストが良いことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の電磁波シールド板の一形態を示す断面模式図である。
【図２】本発明の電磁波シールド板の他の形態を示す断面模式図である。
【図３】本発明の電磁波シールド板を使用した前面フィルターの一形態を示す断面模式図である。
【図４】本発明の電磁波シールド板を使用した前面フィルターの他の形態を示す断面模式図である。
【図５】従来の一般的な画像表示装置用前面フィルターの断面模式図である。
【図６】従来の一般的な画像表示装置用前面フィルターの断面模式図である。
【符号の説明】
【００３６】
１  電磁波シールド板
２  前面フィルター
３  視認側
４  画像表示装置側
１０  反射防止層
１１  色補正層
１２  電磁波遮断層
１３  透明基板
２０  黒色層
３０  導電層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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