(57)【要約】【課題】  基板を基板ホルダ上の正確な位置に隙間なく密着させることができる基板ホルダを提供する。【解決手段】  基板を載置する基板載置面１４と、前記基板の少なくとも一部を、前記基板載置面１４と平行な方向に移動可能にして、該基板の変形を補正する基板補正機構１５,１９とを備えることを特徴とする。【選択図】  図２
2007311374.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置する基板載置面と、
前記基板の少なくとも一部を、前記基板載置面と平行な方向に移動可能にして、該基板の変形を補正する基板補正機構と、
を備えることを特徴とする基板ホルダ。
【請求項２】
前記基板載置面は、前記基板の一部を支持する第１載置面と第２載置面とを有し、
前記基板補正機構は、前記第１載置面と前記第２載置面とを、前記平行な方向に相対的に移動させることを特徴とする請求項１記載の基板ホルダ。
【請求項３】
前記基板補正機構は、前記第１載置面と前記第２載置面とを、前記基板載置面と交差する方向に相対的に移動させることを特徴とする請求項２記載の基板ホルダ。
【請求項４】
前記第２載置面は、前記基板の周辺部分に対応するように複数に分割されて設けられていることを特徴とする請求項２または請求項３記載の基板ホルダ。
【請求項５】
前記基板補正機構は、前記基板載置面とは異なり、前記基板の一部を支持する支持部材を有することを特徴とする請求項１記載の基板ホルダ。
【請求項６】
前記支持部材は、前記基板載置面に対して突出可能に設けられることを特徴とする請求項５記載の基板ホルダ。
【請求項７】
前記支持部材は、前記基盤を支持する際に、低抵抗接触方式または非接触方式であることを特徴とする請求項５または請求項６記載の基板ホルダ。
【請求項８】
前記支持部材は、回転体機構またはエアーを介在させて前記基板を支持することを特徴とする請求項７記載の基板ホルダ。
【請求項９】
前記基板の変形を検出する基板変形検出機構を備え、
前記基板補正機構は、前記基板変形検出機構の検出結果に基づいて、前記基板の変形を補正することを特徴とする請求項１乃至請求項８記載の基板ホルダ。
【請求項１０】
所定のパターンを基板上に露光する露光装置において、
前記基板を載置するための請求項１乃至請求項９の何れか一項に記載の基板ホルダを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の露光装置を用いて、所定のパターンを基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示素子等のフラットパネル表示素子等のマイクロデバイスをリソグラフィ工程で製造するための露光装置が備える基板ホルダ、該基板ホルダを備えた露光装置及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
マイクロデバイスの一つである液晶表示素子等を製造する場合において、マスク（レチクル、フォトマスク等）のパターンを、投影光学系を介してフォトレジスト等が塗布された大型基板（ガラスプレート、半導体ウエハ等）上に投影露光する投影露光装置が使用されている。投影露光装置において投影露光される際、大型基板は基板搬送装置により投影露光装置が備える基板ホルダ上に搬送され、基板ホルダ上に吸着保持される（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１１−６７８８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、ガラス基板は液晶表示素子の大型化に伴い大型化しており、現在では１ｍ角以上のガラス基板も用いられている。また、ガラス基板は、露光装置の基板ホルダ上に搬送され、基板ホルダ上に吸着保持されるが、ガラス基板と基板ホルダ面上との間に隙間を作ることなく、基板ホルダ面上の正確な位置に密着させる必要がある。しかしながら、ガラス基板は薄板であるためうねりや反りを生じやすく、ガラス基板が基板ホルダ上に吸着された際に、ガラス基板と基板ホルダ面との間に部分的に隙間が生じることがある。また、ガラス基板が基板ホルダ上に搬送され、基板ホルダ上に吸着保持される際に、ガラス基板が基板ホルダ面に対して回転または位置ずれし、基板ホルダ上の正確な位置に吸着されないという問題があった。したがって、基板を正確な位置に載置しなおす必要が生じ、露光処理のスループットを低下させていた。
【０００４】
この発明の課題は、基板を基板ホルダ上の正確な位置に隙間なく密着させることができる基板ホルダ、該基板ホルダを備えた露光装置及び露光装置を用いたデバイスの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この発明の基板ホルダは、基板（Ｐ）を載置する基板載置面と、前記基板（Ｐ）の少なくとも一部を、前記基板載置面と平行な方向に移動可能にして、該基板（Ｐ）の変形を補正する基板補正機構（１５，４２ａ〜４２ｆ）とを備えることを特徴とする。
【０００６】
また、この発明の露光装置は、所定のパターンを基板（Ｐ）上に露光する露光装置において、前記基板（Ｐ）を載置するためのこの発明の基板ホルダ（１４）を備えることを特徴とする。
【０００７】
また、この発明のデバイスの製造方法は、この発明の露光装置を用いて、所定のパターンを基板（Ｐ）上に露光する露光工程（Ｓ３０３）と、前記露光工程（Ｓ３０３）により露光された前記基板（Ｐ）を現像する現像工程（Ｓ３０４）とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
この発明の基板ホルダによれば、基板載置面と平行な方向に移動可能に構成されている基板補正機構により基板の変形を補正することができるため、基板を基板ホルダ上の正確な位置に隙間なく密着させることができる。
【０００９】
また、この発明の露光装置によれば、この発明の基板ホルダを備えているため、基板を基板ホルダ上の正確な位置に隙間なく密着させることができ、良好な露光を行うことができる。
【００１０】
また、この発明のデバイスの製造方法によれば、この発明の基板ホルダを備えた露光装置を用いて露光を行うため、良好なデバイスを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、この発明の第１の実施の形態にかかる液晶露光装置（露光装置）について説明する。図１は、実施の形態にかかる液晶露光装置１００及び搬送ロボット２０の概略構成を示す斜視図である。なお、以下の説明においては、図１中に示す直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がプレートホルダ１４の表面に対して平行となるよう設定され、Ｚ軸がプレートホルダ１４の表面に対して直交する方向に設定されている。図中のＸＹＺ直交座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直方向に設定される。
【００１２】
この液晶露光装置１００は、マスクＭを露光用照明光ＩＬで照明する図示しない照明光学系、マスクＭを保持する図示しないマスクステージ、マスクステージの下方に配置された投影光学系ＰＬ、及び投影光学系ＰＬの下方でベース１２上をＸＹ２次元方向に移動するプレートステージＰＳＴを備えている。プレートステージＰＳＴ上にはプレートＰを載置するプレートホルダ（基板ホルダ。以下、ホルダという。）１４が載置されている。
【００１３】
この液晶露光装置１００では、ホルダ１４の表面上に基板としてのガラスプレート（以下、プレートという。）Ｐが載置された状態で、ステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われる。すなわち、図示しない照明系からの露光用照明光ＩＬにより、マスクＭ上に形成されるスリット状の照明領域が照明された状態で、マスクＭを保持する図示しないマスクステージとプレートＰをホルダ１４を介して保持するプレートステージＰＳＴとを同期して所定の走査方向（Ｙ方向）に移動させることにより、プレートＰ上にマスクＭのパターンが逐次転写される。プレートＰは、フラットパネルディスプレイ用の矩形形状を有する基板であって、外径が５００ｍｍよりも大きい。ここで、外径が５００ｍｍよりも大きいとは、プレートＰの一辺または対角線が５００ｍｍよりも大きいということである。
【００１４】
また、この液晶露光装置１００に近接して、水平関節型の搬送ロボット（搬送手段）２０が設けられている。この搬送ロボット２０は、アーム部２２と、２本の爪部２３を有する搬送アーム２４と、アーム部２２を駆動する駆動装置２５とを備えている。プレートＰを保持する基板搬送用トレイ（以下、トレイという。）２６の両端にそれぞれ設けられた４つのつば部２７が２本の爪部２３によって下方から保持され、搬送アーム２４によってトレイ２６が保持される。トレイ２６は、プレートＰより一回り大きな矩形の外枠２８と、この外枠２８の内部に所定間隔で格子状に張り巡らされた複数本の線状部材３２とを備えている。これらの複数本の線状部材３２によって構成される各格子の内部には矩形の開口部３３が複数形成されている。
【００１５】
ホルダ１４の上面には、ホルダ１４の表面（基板載置面）とプレートＰとが接するようにトレイ２６を収納する収納部が設けられている。即ち、ホルダ１４の表面には、トレイ２６を構成する格子状の線状部材３２に対応して線状部材３２が埋没する程度の深さを有した格子状の溝１４ａが形成されている。また、ホルダ１４の表面はプレートＰが載置された際に該プレートＰの撓みを除去するように平面度が高く仕上げられている。
【００１６】
図２は、ホルダ１４の構成を示す図である。図２に示すように、ホルダ１４の基板載置面には、プレートＰをホルダ１４の基板載置面上に載置する際に、球状の回転体を有する回転体機構を介在させてプレートＰの全面を一時的に支持する複数の支持装置（基板補正機構）１５を備えている。図３は、支持装置１５の構成を示す断面図である。支持装置１５は、図３に示すように、ホルダ１４の基板載置面上に設けられた吸気孔１６に配置され、回転可能に構成されている球状の回転体（支持部材）１７と、回転体１７をＺ方向に移動させる可動機構１８とを備えている。また、ホルダ１４上には、ホルダ１４に対するプレートＰの位置決めを行うための３つの基板位置基準（基板変形検出機構）１９を備えている。
【００１７】
プレートＰが吸気孔１６を介して図示しない真空ポンプにより吸引される前においては、図３に示すように、回転体１７の頂部は、ホルダ１４の基板載置面に対して突出している。即ち、ホルダ１４の基板載置面より高位、即ち＋Ｚ側に位置している。トレイ２６に載置されたプレートＰが搬送アーム２４によりホルダ１４の上方に搬送され、搬送アーム２４を下降した際、ホルダ１４上にプレートＰが吸着される前に、支持部材１５は、回転体１７の頂部をプレートＰの一部に当接させることにより、プレートＰの全面を一時的に支持する。なお、回転体１７はベアリング機構等を介在させて可動機構１８に設けられ回転可能に構成されているため、プレートＰの一部と回転体１７の一部とが低抵抗で接触する。したがって、プレートPをホルダ１４の基板載置面と平行な方向へ移動が容易な状態で、プレートPを支持することができる。
【００１８】
プレートＰが複数の支持装置１５により一時的に支持されているとき、即ちプレートＰが複数の回転体１７に当接しているとき、プレートＰはホルダ１４上に吸着されておらずＸＹ平面内（基板載置面と平行な方向）において移動可能となっているため、図示しない駆動機構によりプレートＰを−Ｘ方向及び＋Ｙ方向に移動させて、図４に示すように基板位置基準１９にプレートＰの基準辺Ｐ１を押し当てることにより、ホルダ１４に対するプレートＰの位置を容易に調整することができる。
【００１９】
ホルダ１４に対するプレートＰの位置を調整した後、プレートＰが吸気孔１６を介して図示しない真空ポンプにより吸引され、回転体１７及び可動機構１８は徐々に下降、即ち回転体１７及び可動機構１８のＺ方向における位置は徐々に−Ｚ側に移動し、図５に示すように、回転体１７の頂部は、ホルダ１４の基板載置面より低位、即ち−Ｚ側に位置し、プレートＰはホルダ１４の基板載置面上に吸着される。
【００２０】
このとき、ホルダ１４の中央部に配置されている吸気孔１６から吸引を開始し、最初にプレートＰの中央部のみがホルダ１４の基板載置面上に吸着されるようにする。そして、ホルダ１４の中央部からの吸引に遅れて、徐々に周辺部に配置されている吸気孔１６からの吸引を開始し、プレートＰの中央部から周辺部に拡がるように少しずつプレートＰがホルダ１４上に吸着されるようにする。即ち、プレートＰをホルダ１４の基板載置面上に載置する際に、プレートＰの中央部と比較してプレートＰの周辺部を遅れて基板載置面上に導く。したがって、プレートＰが薄板であるためうねりや反りを有している場合においても、プレートＰと基板載置面との間に部分的に隙間が生じることがなく、またプレートＰが変形することもないため、プレートＰをホルダ１４上の正確な位置に吸着させることができる。
【００２１】
第１の実施の形態にかかる露光装置によれば、プレートＰがホルダ１４の基板載置面と平行な方向に移動可能に構成されているため、プレートＰの変形及びホルダ１４に対する位置ずれを容易に補正することができる。したがって、プレートＰをホルダ１４上の正確な位置に隙間なく密着させることができ、良好な露光を行うことができる。
【００２２】
なお、第１の実施の形態においては、ホルダ１４の中央部から吸引を開始し、中央部から遅れて周辺部の吸引を開始することによりプレートＰの中央部から周辺部に拡がるように少しずつプレートＰがホルダ１４上に吸着されるようにしているが、ホルダ１４の全部の吸気孔１６からの吸引を同時に開始し、プレートＰの全面を同時にホルダ１４上に吸着させるようにしてもよい。
【００２３】
また、第１の実施の形態においては、回転体機構を介在させてプレートＰを一時的に支持しているが、例えばエアーを介在させて非接触方式によりプレートＰを一時的に支持するようにしてもよい。この場合には、プレートＰがホルダ１４に吸着されていないため、プレートＰをＸＹ平面内において容易に移動させることができる。従って、プレートＰのホルダ１４に対する位置ずれの補正を容易に行うことができる。また、例えばホルダ１４の中央部からエアーの吸引を開始し、中央部から遅れて周辺部のエアーの吸引を開始するようにし、プレートＰの中央部から周辺部に拡がるように少しずつプレートＰがホルダ１４上に吸着させることにより、プレートＰをホルダ１４上に隙間なく密着させることができ、プレートＰの変形を防止することができる。
【００２４】
また、第１の実施の形態においては、基板位置基準１９にプレートＰの基準辺Ｐ１を押し当てることにより、プレートＰのホルダ１４に対する位置ずれを補正しているが、基板位置基準１９をプレートＰに押し付けるように動かしたり、プレートＰのエッジ部をＣＣＤカメラ等により撮像し、この撮像された画像を用いてプレートＰのホルダ１４に対する位置ずれを補正するようにしてもよい。また、プレートＰにアライメントマークを設け、アライメントマークの位置の検出結果を用いてプレートＰのホルダ１４に対する位置ずれを補正するようにしてもよい。また、図示しないオートフォーカス系を用いてプレートＰの所定箇所のＺ方向における位置を計測することにより、ホルダ１４上に載置されたプレートＰの平面度を検出するようにしてもよい。プレートＰの平面度が悪い場合には、プレートＰが変形していると判断し、再載置を行う。
【００２５】
また、第１の実施の形態においては、複数の支持装置１５によりプレートＰの全面を一時的に支持しているが、プレートＰの少なくとも一部を一時的に支持するようにしてもよい。例えば、プレートＰの周辺部を一時的に支持するようにし、この状態でプレートＰの周辺部のホルダ１４に対する位置を補正することにより、プレートＰの変形及び位置ずれを補正することができる。
【００２６】
また、第１の実施の形態においては、各回転体１７に対応して可動機構１８が設けられているが、全ての回転体１７のZ方向の移動を制御することが可能な１つの可動機構または幾つかの回転体１７のZ方向の移動を制御する複数の可動機構を備えるようにしてもよい。この場合、可動機構が回転体１７のそれぞれを独立して移動させるようにするのが望ましい。
【００２７】
次に、この発明の第２の実施の形態にかかる液晶露光装置について説明する。なお、この第２の実施の形態にかかる液晶露光装置は、第１の実施の形態にかかるホルダ１４に代えて、プレートホルダ（以下、ホルダという。）１４´を備えている。第２の実施の形態にかかるホルダ１４´以外の構成は、第１の実施の形態にかかる液晶露光装置１００の構成と同一である。したがって、第２の実施の形態の説明においては、第１の実施の形態にかかる液晶露光装置の構成と同一の構成の詳細な説明は省略する。また、この第２の実施の形態にかかる液晶露光装置の説明においては、第１の実施の形態にかかる液晶露光装置と同一の構成には第１の実施の形態で用いたものと同一の符号を付して説明を行なう。
【００２８】
図６は、ホルダ１４´の構成を示す図である。ホルダ１４´は、図６に示すように、プレートＰの中央部を載置するための第１載置面を有する第１ホルダ４０と、矩形形状を有するプレートＰの周辺部分に対応するように複数に分割されて設けられている第２載置面を有する第２ホルダ４２ａ〜４２ｆとを備えている。４つの第２ホルダ４２ａ〜４２ｄは、プレートＰの四隅を載置するための第２載置面を有しており、２つの第２ホルダ４２ｅ，４２ｆは、対向する長辺の中央部を載置するための第２載置面を有している。ホルダ１４´の表面、即ち第１載置面及び第２載置面はプレートＰが載置された際に該プレートＰの撓みを除去するように平面度が高く仕上げられている。
【００２９】
第２ホルダ４２ａ〜４２ｆのそれぞれはＸＹ平面内（第１載置面及び第２載置面と平行な方向）及びＺ方向（第１載置面と第２載置面と直交する方向）において移動可能に構成されており、第２ホルダ４２ａ〜４２ｆのそれぞれに接続されている図示しない駆動部は第２ホルダ４２ａ〜４２ｆのそれぞれを独立して移動させる。
【００３０】
プレートＰが第１載置面及び第２載置面上に吸着される前においては、第２ホルダ４２ａ〜４２ｆの第２載置面は、第１ホルダ４０の第１載置面に対して高位、即ち＋Ｚ側に位置している。この状態で、トレイ２６に載置されたプレートＰが搬送アーム２４によりホルダ１４´の上方に搬送され、搬送アーム２４を下降した際、まず、プレートＰの周辺部が第２載置面上に接触する。プレートＰの周辺部が第２載置面上に接触してから、第２ホルダ４２ａ〜４２ｆを徐々に下降、即ち第２載置面の第１載置面に対するＺ方向における位置を徐々に−Ｚ方向に移動する。そして、第２載置面と第１載置面とのＺ方向における位置が同一になる前であってプレートＰの中央部が第１載置面上に接触した後、第１ホルダ４０は吸引を開始し、プレートＰの中央部が第１ホルダ４０の第１載置面上に吸着されるようにする。そして、第２載置面と第１載置面とのＺ方向における位置が同一となるまで、第２ホルダ４２ａ〜４２ｆは下降し続ける。
【００３１】
第２載置面と第１載置面とのＺ方向における位置が同一となり、第２ホルダ４２ａ〜４２ｆが下方向への駆動を停止した後、第２ホルダ４２ａ〜４２ｆは吸引を開始し、プレートＰの周辺部が第２ホルダ４２ａ〜４２ｆの第２載置面上に吸着されるようにする。即ち、プレートＰをホルダ１４´の基板載置面上に載置する際に、プレートＰの中央部と比較してプレートＰの周辺部を遅れて基板載置面上に吸着させる。したがって、プレートＰが薄板であるためうねりや反りを有している場合においても、プレートＰと基板載置面との間に部分的に隙間が生じることがなく、プレートＰをホルダ１４´上に吸着させることができる。
【００３２】
次に、プレートステージＰＳＴを走査方向に移動させ、図示しないアライメント顕微鏡（基板変形検出機構）により、まず、プレートＰ（図中、一点鎖線で示す）上に形成されているアライメントマークａ１〜ａ４を検出し、更に、プレートステージＰＳＴを走査方向に移動させ、アライメントマークａ５〜ａ８を検出する。ここでアライメント顕微鏡により検出されたアライメントマークａ１の位置が所望の位置、即ち、アライメントマークａ１が本来位置すべき位置からずれている場合には、第２ホルダ４２ａをＸＹ平面内において、例えば図６に示す矢印ａの方向に移動させることにより、ホルダ１４´に対するプレートＰの位置（変形）を調整する。同様に、アライメントマークａ５の位置がずれている場合には第２ホルダ４２ｆをＸＹ平面内において例えば図６に示す矢印ｂ方向に移動させることにより、ホルダ１４´に対するプレートＰの位置（変形）を調整する。そして、プレートＰの第１面（紙面左側）の露光を行なう。
【００３３】
同様に、図示しないアライメント顕微鏡により、まずアライメントマークａ９〜ａ１２を検出し、次にアライメントマークａ１３〜ａ１６を検出する。アライメント顕微鏡により検出されたアライメントマークａ１６の位置がずれている場合には第２ホルダ４２ｃを例えば図６に示す矢印ｃの方向に移動させることにより、ホルダ１４´に対するプレートＰの位置（変形）を調整する。そして、プレートＰの第２面（紙面右側）の露光を行う。
【００３４】
また、図６に示すように、第２ホルダ４２ａ〜４２ｆは、プレートＰを保持したトレイ２６を第１ホルダ４０に載置する際に、プレートＰに変形があった場合において、プレートＰの周辺部の変形を補正するために第２載置面を移動させた際にも、トレイ２６と干渉しないような位置関係に配置されている。なお、トレイ２６の開口に対して第２載置面が予め小さく形成されており、移動量についても開口の範囲内に移動するように設定されていれば移動の際に干渉することはない。
【００３５】
第２の実施の形態にかかる露光装置によれば、第１載置面及び第２載置面と平行な方向にプレートＰが移動可能に構成されているため、プレートＰの変形を容易に補正することができる。特に、プレートＰの周縁部において生じやすいプレートＰのうねりや反りを容易に補正することができる。したがって、プレートＰをホルダ１４´上の正確な位置に隙間なく密着させることができ、良好な露光を行うことができる。
【００３６】
なお、第２の実施の形態においては、６つの第２ホルダ４２ａ〜４２ｆを備えているが、プレートＰの四隅を載置する少なくとも４つの第２ホルダを備えていればよい。
【００３７】
また、第２の実施の形態においては、プレートＰ上に設けられているアライメントマークを検出することによりプレートＰのホルダ１４´に対する位置ずれを検出しているが、プレートＰのエッジ部をＣＣＤカメラ等により検出することによりプレートＰのホルダ１４´に対する位置ずれを検出するようにしてもよい。また、図示しないオートフォーカス系を用いてプレートＰの所定箇所のＺ方向における位置を計測することにより、ホルダ１４´上に載置されたプレートＰの平面度を検出するようにしてもよい。プレートＰの平面度が悪い場合には、プレートＰが変形していると判断し、再載置を行う。
【００３８】
また、上述の各実施の形態においては、液晶表示素子を製造するための露光装置を例に挙げて説明しているが、液晶露光装置に限定されることなく、例えば、ウエハ上に集積回路パターンを転写する半導体製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置であっても良い。
【００３９】
上述の各実施の形態にかかる露光装置では、投影光学系を用いてレチクル（マスク）により形成された転写用のパターンを感光性基板（プレート）に露光する（露光工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて感光性基板としてのプレート等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図７のフローチャートを参照して説明する。
【００４０】
先ず、図７のステップＳ３０１において、１ロットのプレート上に金属膜が蒸着される。次のステップＳ３０２において、その１ロットのプレート上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップＳ３０３において、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて、マスクのパターンの像が投影光学系を介して、その１ロットのプレート上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップＳ３０４において、その１ロットのプレート上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップＳ３０５において、その１ロットのプレート上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスクのパターンに対応する回路パターンが、各プレート上の各ショット領域に形成される。
【００４１】
その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行ない、プレートから複数のデバイスに切断され、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、上述の各実施の形態にかかる露光装置を用いて露光を行なっているため、良好な半導体デバイスを得ることができる。なお、ステップＳ３０１〜ステップＳ３０５では、プレート上に金属を蒸着し、その金属膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチングの各工程を行っているが、これらの工程に先立って、プレート上にシリコンの酸化膜を形成後、そのシリコンの酸化膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチング等の各工程を行っても良いことはいうまでもない。
【００４２】
また、上述の実施の形態にかかる露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図８のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。まず、図８において、パターン形成工程Ｓ４０１では、上述の各実施の形態にかかる露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２へ移行する。
【００４３】
次に、カラーフィルタ形成工程Ｓ４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルタを形成する。そして、カラーフィルタ形成工程Ｓ４０２の後に、セル組み立て工程Ｓ４０３が実行される。セル組み立て工程Ｓ４０３では、パターン形成工程Ｓ４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程Ｓ４０３では、例えば、パターン形成工程Ｓ４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。
【００４４】
その後、モジュール組み立て工程Ｓ４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、上述の各実施の形態にかかる露光装置を用いて露光を行なっているため、良好な液晶表示素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】第１の実施の形態にかかる液晶露光装置及び搬送ロボットの概略構成を示す斜視図である。
【図２】第１の実施の形態にかかるプレートホルダの構成を示す図である。
【図３】第１の実施の形態にかかる支持装置の構成を示す断面図である。
【図４】基板位置基準を用いたプレートの位置合わせを説明するための図である。
【図５】第１の実施の形態にかかる支持装置の構成を示す断面図である。
【図６】第２の実施の形態にかかるプレートホルダの構成を示す図である。
【図７】この発明の実施の形態にかかるマイクロデバイスとしての半導体デバイスの製造方法を示すフローチャートである。
【図８】この発明の実施の形態にかかるマイクロデバイスとしての液晶表示素子の製造方法を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００４６】
１２…ベース、１４，１４´…プレートホルダ、１５…支持装置、１７…回転体、１８…可動機構、１９…基板位置基準、２０…搬送ロボット、２２…アーム部、２３…爪部、２４…搬送アーム、２５…駆動装置、２６…保持部材、２７…つば部、２８…外枠、３２…線状部材、３３…開口部、４０…第１ホルダ、４２ａ〜４２ｆ…第２ホルダ、１００…液晶露光装置、ＩＬ…露光用照明光、Ｒ…レチクル、ＰＬ…投影光学系、Ｐ…プレート、ＰＳＴ…プレートステージ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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