(57)【要約】  【課題】  簡易な工程で、また顔料や染料を用いることなく、表面光沢を有する基材の他、表面にざらつきや微細な凹凸形状などを有する基材も任意の色彩に着色する。  【解決手段】  光反射性を有する基材上に、透明性を有し、無機材料からなる皮膜を形成する。この無機材料皮膜は厚さに応じて種々の色彩を得ることができるため、無機材料皮膜の厚さを部分的に変化させることにより、基材表面に形状・文字情報を形成することも可能である。【選択図】  図１０
2007052838.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光反射性を有する基材の表面に、透明性を有し、無機材料からなる皮膜が形成され、
上記皮膜の厚さを面方向に変化させてなることを特徴とする表面皮膜。
【請求項２】
光反射性を有する基材の表面に、透明性を有し、無機材料からなる皮膜が形成され、
上記皮膜の光学的干渉を利用して上記基材の表面に色彩を付与させたことを特徴とする基体。
【請求項３】
上記皮膜の厚さを連続的に変化させてなる請求項２に記載の基体。
【請求項４】
上記皮膜の厚さを不連続的に変化させてなる請求項２に記載の基体。
【請求項５】
上記無機材料が、溶剤または現像液に対して溶解性を有することを特徴とする請求項２に記載の基体。
【請求項６】
形状・文字情報に対応して上記皮膜の厚さを変化させるようにしたことを特徴とする請求項２に記載の基体。
【請求項７】
光反射性を有する基材上に所望の形状に打ち抜いたマスクを載置し、上記無機材料からなる皮膜を形成することを特徴とする皮膜の形成方法。
【請求項８】
光反射性を有する基材上に所望の形状に打ち抜いたマスクを載置し、上記無機材料からなる皮膜を形成する皮膜の形成方法を複数回繰り返すことにより、所望の色彩にて形状・文字情報を形成することを特徴とする請求項７に記載の皮膜の形成方法。
【請求項９】
光反射性を有する基材上に上記無機材料からなる皮膜を形成し、所望の形状・文字情報に対応するマスクを載置した後、上記マスクによって保護されない部分の一部または全部をエッチングにて除去することを特徴とする皮膜の形成方法。
【請求項１０】
光反射性を有する基材上に上記無機材料からなる皮膜を形成し、所望の形状・文字情報に対応するマスクを載置した後、上記マスクによって保護されない部分の一部または全部を現像処理にて除去することを特徴とする皮膜の形成方法。
【請求項１１】
光反射性を有する基材上に上記無機材料からなる皮膜を形成し、所望の形状・文字情報に対応する部分を結晶化させた後、結晶化を施さない部分を現像処理にて除去することを特徴とする皮膜の形成方法。
【請求項１２】
表面に凹凸パターンを形成した光反射性を有するディスク基板上に少なくとも反射膜および保護層を形成してなり、上記光記録媒体のレーベル面が上記保護層側に位置する光記録媒体であって、
透明性を有し、上記無機材料からなる皮膜が上記反射膜と上記保護層との間に形成されることを特徴とする光記録媒体。
【請求項１３】
上記皮膜の厚さを部分的に変化させることにより、上記光記録媒体表面に形状・文字情報を形成したことを特徴とする請求項１２に記載の光記録媒体。
【請求項１４】
表面に凹凸パターンを形成した光反射性を有するディスク基板上に少なくとも反射膜および保護層を形成してなり、上記光記録媒体のレーベル面が上記ディスク基板側に位置する光記録媒体であって、
透明性を有し、上記無機材料からなる皮膜が上記反射膜と上記ディスク基板との間に形成されることを特徴とする光記録媒体。
【請求項１５】
上記皮膜の厚さを部分的に変化させることにより、上記光記録媒体表面に形状・文字情報を形成したことを特徴とする請求項１４に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光干渉を利用して色彩を付与する表面皮膜とその形成方法、ならびに表面皮膜を形成した基体および光記録媒体に関する。具体的には、金属、ガラス、プラスチックなど、光の一部または全部を反射する基材の表面に皮膜を形成することにより、顔料や染色を利用することなく、基材に任意の色彩を付与するものであり、さらに、形成された皮膜を任意の形状・文字情報などにパターニングし、必要に応じて色彩と形状・文字情報などを定着させて耐性を向上させる方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、金属、ガラス、プラスチックなどに着色皮膜を設けることにより、反射鏡の防眩処理や半透明な模様の形成、耐光性や耐熱性が要求される基材の着色や、模様・文字情報などの記入を行ってきた。
【０００３】
このような着色の方法として、以下の特許文献１に、スパッタ・ガスの組成を変えた条件で成膜し、膜厚を変化させたときの光干渉の違いで異なる色彩の皮膜を作る方法が示されている。この方法を用いた場合、皮膜の材料、膜厚およびスパッタ・ガスの組成比の組み合わせにより、多種類の着色が可能となる。
【特許文献１】特開平５−７０９２９号公報
【０００４】
また、以下の特許文献２には、光学的干渉により干渉色を発現させる方法が記載されており、金属表面にバリヤー層および光反射層を設け、金属表面と光反射層との反射光の干渉で色彩を付与するものである。特許文献２では、金属上にアルミニウム、マグネシウム等を陽極酸化させて形成した透明なバリヤー層を設け、そのバリヤー層表面に光反射層を形成することにより、干渉色を発現させるものである。また、以下の特許文献３には、ガラスなどの表面に金属タンタル皮膜を形成し、その表面のみを陽極酸化によって透明な酸化タンタルとすることで、金属タンタル上で反射した光と酸化タンタル上で反射した光が干渉して色彩を付与する方法が示されている。
【特許文献２】特開２００２−３６３７７２号公報
【特許文献３】特開２００４−３５９４９３号公報
【０００５】
特許文献２および特許文献３の各方法では、陽極酸化電圧を変化させて透明なバリヤー層または酸化タンタル皮膜の厚さを変化させることにより、多種類の着色が可能となる。
【０００６】
さらに、ＣＤ、ＤＶＤ、Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ（登録商標。以下、ＢＤと適宜称する。）などの光記録媒体では、レーザが入射する面の反対面をレーベル面とし、このレーベル面に音楽や映画のタイトルなどを印刷する方法が一般的に用いられている。ＤＶＤにおいては、反射膜の裏側に直接印刷する方法が取られることもある。この場合、厚さ０．６ｍｍのダミー基板を通して印刷を見ることになり、高級感が得られる。また、反射面上にマスタリングでピットを形成し、レーベルを形成する方法（以下、ピットアートと適宜称する。）も用いられている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述の特許文献１の方法では、皮膜を形成する対象が金属に限られ、また３００℃の高温に加熱する必要がある。また、エッチング用マスクを利用することで色彩の変化をつける方法が述べられているが、マスクの仕様については何ら具体的な記載が無く、概念的な記述のみに留まっている。
【０００８】
また、特許文献２の方法は、反射光の干渉を使って色彩を付与するものではあるが、皮膜の構成がバリヤー層と光反射性層の２層となっており、それぞれを別の手法で形成する必要があり、工程が煩雑となる。また、バリヤー層は光学距離で１９０〜１５００ｎｍもの厚みを有し、また光反射性層も０．５〜１００ｎｍの厚さを有するため、基材表面にざらつきや微細な凹凸形状などがある場合、これらの特質を維持することはできない。
【０００９】
また、特許文献３の方法で述べられている皮膜材料はタンタルのみであり、しかも５００ｎｍ以上もの膜厚で皮膜を形成する必要がある。また、陽極酸化によって透明な酸化タンタル層を作るため、均一な色彩を得るためには所望の膜厚が透明化されるまで皮膜の全面に均一な電界をかけ続ける必要があるが、これは極めて困難なことである。
【００１０】
一般に、金属、ガラスなど光沢面を有する基材に、高い耐久性を持った着色を施すことには困難を伴う。また、充分な発色を得るためには、着色層を少なくとも数ミクロン以上の膜厚に形成する必要があるため、基材の表面にざらつきや微細な凹凸形状などを有する場合、表面の形質を残したまま着色することはできなかった。特に精密な形状・文字情報などを多色で形成することは極めて困難であった。
【００１１】
さらに、インクやペイントなど染料や顔料を発色成分とする色彩は、発色成分を担持する樹脂などの性質で耐性が決まることが多く、酸・塩基、酸化・還元、薬品、活性エネルギー線、温度などに対する高い耐性を付与することは困難である。また、ピットアートはピットの反射率の違いを利用した表示であるため、カラー表示を行うことはできないという問題がある。
【００１２】
したがって、この発明では、金属、ガラス、プラスチックなど、光の一部もしくは全部を反射する基材の表面にナノメートルオーダーの超薄膜を形成することにより、顔料や染料を用いることなく基材を任意の色彩に着色する方法を提供し、さらに、形成された薄膜を任意の形状・文字情報などにパターニングし、必要に応じて色彩と形状・文字情報などを定着させて耐性を向上させることを目的とする。さらに、この方法を用いて作製された薄型の記録媒体および着色基体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために、この発明では、光反射性を有する基材上に透明性を有し、無機材料からなる皮膜を形成する。これにより、無機材料皮膜の光学的干渉を利用して上記基材の表面に色彩が付与された着色基体を作製することができる。また、無機材料皮膜の厚さを部分的に変化させることにより、基材表面に形状・文字情報を形成することも可能である。
【００１４】
また、保護層側がレーベル面となるＣＤまたはＤＶＤ等の光記録媒体において、反射膜と保護層との間に無機材料皮膜を形成することにより、レーベル面に印刷等を施さなくても形状・文字情報を形成することができる。ディスク基板側がレーベル面となるＢＤ等の光記録媒体においては、反射膜とディスク基板との間に無機材料皮膜を形成することにより、形状・文字情報を形成することができる。
【発明の効果】
【００１５】
この発明によれば、無機材料皮膜の厚さに応じて種々の色彩を付与することができるため、顔料や染料を用いることなく基材を任意の色彩に着色することが可能となり、高い耐性を得ることができる。また、無機材料皮膜はナノメートルオーダーで十分な発色を得られるため、表面にざらつきや微細な凹凸形状などを有する基材や光記録媒体等にも用いることができ、また微細な文字情報などの形成も可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、この発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００１７】
図１に示すように、この発明では、参照符号１で示す基材上に透明性を有する皮膜２を形成し、入射光３が基材１の表面１ａで反射された反射光３ａと、入射光４が皮膜２の表面２ａで反射された反射光４ａとの光干渉によって色彩を付与するものであり、皮膜２の材料としては透明性を有する無機材料を用いる。なお、参照符号５は反射光３ａと反射光４ａとの干渉光である。
【００１８】
皮膜２の材料として用いる無機材料としては、具体的に、一酸化チタン（ＴｉＯ）、二酸化チタン（ＴｉＯ2）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ3）、酸化タングステン（ＷＯ3）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化銅（ＣｕＯ）、五酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ５）、酸化スチビウム（Ｓｂ2Ｏ3）、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ2）、フッ化セリウム（ＣｅＦ3）、酸化ガドリニウム（Ｇｄ2Ｏ3）、フッ化ネオジウム（ＮｄＦ3）、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、フッ化バリウム（ＢａＦ2）、硫化カドミウム（ＣｄＳ）、グリヨライト（Ｎａ2ＡｌＦ6）、酸化ニッケル（ＮｉＯ）、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ3）、酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ4）、硫酸カルシウム（ＣａＳＯ4）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ3）、水酸化マグネシウム（Ｍｇ(ＯＨ)2）、ケイ酸カルシウム（ＣａＳｉ2Ｏ5）、炭酸マグネシウム（ＭｇＣＯ3）、炭酸リチウム（Ｌｉ2ＣＯ3）、炭酸ナトリウム（Ｎａ2ＣＯ3）、炭酸コバルト（ＣｏＣＯ3）、炭酸ストロンチウム（ＳｒＣＯ3）、炭酸ニッケル（Ｎｉ2ＣＯ3）、炭酸ビスマス（（ＢｉＯ）2ＣＯ3）、りん酸アルミニウム（ＡｌＰＯ4）、りん酸水素バリウム（ＢａＨＰＯ4）、りん酸リチウム（Ｌｉ3ＰＯ4）、クエン酸亜鉛（Ｚｎ3(Ｃ6Ｈ5Ｏ7)2）、ほう酸亜鉛（２ＺｎＯ・３Ｂ2Ｏ3）、ほう酸バリウム（ＢａＢ4Ｏ7）、およびこれらの混合物などが挙げられる。
【００１９】
これら無機材料は、無機材料自体が透明である必要はなく、皮膜の状態で透明性を有していれば用いることができる。この発明の皮膜は特に膜厚を規定するものではないが、１０〜４００ｎｍという可視光の波長以下の膜厚でも顕著な発色効果を奏する。このため、例えば酸化タングステン（黄色）、酸化モリブデン（白黄色）、硫化亜鉛（淡緑）、二酸化チタン（白色）など、粉末の状態で色を有していても問題なく利用することができる。
【００２０】
上述のように、干渉光により発色を得る場合には、基材１の表面で反射された反射光３ａと、皮膜２の表面で反射された反射光４ａとが同程度に大きいことが必要である。皮膜２の表面での反射光を大きくするためには、皮膜２の屈折率を大きくする必要がある。また、様々な色彩の干渉光は２つの反射光に位相差があることで生じるが、薄い膜厚で大きな位相差を得るためにも皮膜の屈折率を大きくする必要がある。これらの理由から、皮膜の屈折率は概ね１．６以上とすることが好ましい。以下の表１に、代表的な無機材料の屈折率を示す。
【００２１】
【表１】
2007052838.tif 000003
【００２２】
また、上記無機材料のほか、基板上に樹脂材料を用いて樹脂皮膜を形成することにより、無機材料を使った場合と同様の効果を得ることができる。以下の表２に、代表的な樹脂材料とその屈折率を示す。
【００２３】
【表２】
2007052838.tif 000004
【００２４】
しかし、表２に示すとおり、樹脂皮膜の屈折率は無機材料皮膜の屈折率よりも低い場合が多く、表面反射光が弱くなり易い。また、２つの反射光の位相差が、発色を得るのに充分なほどには大きくならない場合が多い。これらの場合、樹脂皮膜の表面反射光が弱くなり、得られる色彩の発色も弱いものになる。
【００２５】
上述のような皮膜材料を用いて、基材１の表面に皮膜２を形成する方法としては、以下の種々のものを用いることができる。例えば無機材料を用いた場合、乾式法としては化学蒸着法（ＣＶＤ：Chemical Vapor Deposition）の他、真空蒸着法、プラズマ援用蒸着法、スパッタなどの物理蒸着法（ＰＶＤ：Physical Vapor Deposition）、湿式法としてはバーコート、スピンコート、スクリーン印刷などの塗布法、ＬＢ法、化学析出法、陽極酸化法、電解析出法などを用いることができる。また、樹脂材料を用いた場合はスピンコート、スクリーン印刷等の方法を用いることができる。
【００２６】
この発明で用いる基材としては、必ずしも金属光沢を有する必要はなく、金属、ガラス、プラスチックなど種々のものを用いることができる。また、可視光の一部でも反射されていれば、皮膜表面での反射光および基材表面での反射光により光干渉を生ずるため、白色、灰色、赤色、青色、緑色などの基材を用いてこの発明の方法を適用することができる。また、基材表面１ａは平滑面に限られるものではなく、ざらつきや微細な凹凸を有するものでも構わない。例えば、凹凸パターンの形成された光ディスクなどの記録媒体の基板も用いることができる。
【００２７】
基材表面は、皮膜形成を容易にしたり皮膜の剥離を防止したりする目的で、適宜表面処理を行うことができる。表面処理方法としては、加熱・焼成、紫外線などの活性エネルギー線照射、ＵＶ（Ultraviolet）／オゾン処理、逆スパッタ、プラズマ・エッチング処理のほか、過酸化水素水、過マンガン酸アルカリ金属塩や重クロム酸アルカリ金属塩の水溶液、濃硫酸、濃硝酸などによる酸化処理、サンド・ブラストなどによる粗面化処理、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、シリル化剤などによる官能基修飾などの方法が挙げられる。
【００２８】
このような基板表面上に無機材料皮膜または樹脂皮膜を形成する。このとき皮膜材料と皮膜厚さを調整することにより、種々の色彩を得ることができる。得られる色彩について、具体的には後に説明する。
【００２９】
このとき、皮膜を一様な厚さに形成して部分ごとに皮膜の厚さを変化させることにより、基材に形状・文字情報を付与することができる。形状・文字情報を付与する方法としては、例えば
（１）マスクを用いて部分ごとの膜厚を変化させ、形状・文字情報を形成する方法
（２）エッチングおよび現像により膜厚を変化させ、形状・文字情報を形成する方法
（３）皮膜を変質させて溶媒に対する溶解度差を持たせて現像することにより膜厚を変化させ、形状・文字情報を形成する方法
が挙げられる。以下、それぞれの形状・文字情報形成方法について詳細に説明する。
【００３０】
（１）マスクを用いて部分ごとの膜厚を変化させ、形状・文字情報を形成する方法
この方法では、まず、目的とする形状・文字情報などに打ち抜いたマスクを基材上に載置し、所望の色彩を与える膜厚となるよう無機材料の皮膜を形成した後、マスクをはずす。着色する色彩の数だけマスクを用意し、順次、無機材料の皮膜を形成していくことで、基材上にカラー画像を形成することができる。また、一つのマスクを使って形成した無機材料の皮膜の上に、別のマスクを使った無機材料の皮膜を重ねて膜厚を変えることで、最初の膜とは別の色彩の形状・文字情報などを形成することもできる。
【００３１】
さらに、図２Ａ〜図２Ｄに示すように、マスク１０を用いることにより、同一の成膜条件下における無機材料の基材への付着速度を制御して、目的とする色彩を得る膜厚となるように調整することもできる。これは、例えばマスク１０の中に参照符号１０ａ，１０ｂ，１０ｃで示す空隙密度を制御したメッシュや、参照符号１０ｄ，１０ｅ，１０ｆで示す直径を制御した空孔を設けることにより、マスク１０を通過する無機材料の流量を制御し、基材１１に付着する皮膜の膜厚を変化させるものである。マスクの中にいくつかのパターンの空孔やメッシュを設ければ、一回の成膜で基材上に参照符号１２ａ〜１２ｆで示すような複数の色彩を付与することができるようになる。
【００３２】
なお、図２Ａは基材１１上にマスク１０を配置したときの側面図であり、図２Ｂはメッシュおよび空孔を有するマスク１０の上面図であり、図２Ｃはマスク１０を用いて皮膜を形成したときの側面図であり、図２Ｄは基材１１上に形成された皮膜の上面図である。
【００３３】
同様な方法で、有機レジスト皮膜を使用することもできる。図３Ａに示すように、まず、基材１１上にレジスト皮膜２１を形成し、次いで図３Ｂに示すように、目的とする形状・文字情報等の形状に対応するようにしてレジスト皮膜２１の露光がなされるように例えばマスク２２を配置する。さらに、図３Ｃに示すように、マスク２２を通して紫外線などの活性エネルギー線２３で露光した後、現像して形状・文字情報に対応する部分の基材を露出させる。
【００３４】
次に、この上から目的とする色彩を与える膜厚となるように無機材料皮膜２４を形成し、最後に基材１１上に形成されたレジスト皮膜を溶解または剥離することにより、基材１１の露出部分に形成された無機材料皮膜が基材１１上に残り、無機材料皮膜パターン２４ａを得ることができる。このとき、レジスト皮膜としてポジ型レジストを用いた場合、露光部２１ａが溶解または剥離され、ネガ型レジストを用いた場合、未露光部２１ｂが溶解または剥離される。なお、図３Ａ〜図３Ｅでは、ポジ型レジストを用いた例を示している。このようにして有機レジスト皮膜を用いる方法は、微細な形状・文字情報などを形成する際に特に有効である。
【００３５】
（２）エッチングおよび現像により膜厚を変化させ、形状・文字情報を形成する方法
図４Ａ〜図４Ｄに示すように、この方法では、まず基材１１の表面に目的とする色彩を与える一様な厚さで無機材料皮膜３１を形成する（図４Ａ）。次いで、目的とする形状・文字情報などの形に打ち抜いたマスク２２を無機材料皮膜３１上に載置し（図４Ｂ）、露出した無機材料皮膜３１の一部または全部をエッチングで除去した後（図４Ｃ）、マスク２２をはずすことで形状・文字情報３１ａを形成するものである（図４Ｄ）。
【００３６】
エッチングはプラズマ・エッチングやイオン・エッチングなどのドライ・エッチング、無機材料の皮膜の種類に応じて化学的に溶解させるウエット・エッチング、サンド・ブラストなどを使って表層から削り取る方法などがある。ウエット・エッチングの例を挙げると、例えば無機材料の皮膜として酸化ケイ素を用いた場合には、フッ化水素酸、またはフッ化水素酸と無機酸の混合液で処理することにより、マスクから露出した部分の一部または全部を除去することができる。これらのエッチング処理では、エッチングの程度を制御することによって、エッチング部分の色彩を、マスクを乗せた部分とは異なる色彩に発色させたり、表面を粗面化して光沢面とは異なる色彩を付与したりすることもできる。
【００３７】
また、現像により膜厚を変化させる場合、基材上に目的とする色彩を与える一様な厚さで無機材料皮膜を形成する。次いで、目的とする形状・文字情報などのマスクを無機材料皮膜上に載置し、露出した無機材料皮膜の一部または全部を現像で除去し、マスクをはずすことで形状・文字情報３１ａを形成するものである。例えば、無機材料の皮膜として酸化タングステンを用いた場合には、現像液としてアルカリ水溶液を用いることにより、マスクから露出した部分を容易に溶解することができる。
【００３８】
（３）皮膜を変質させて溶媒に対する溶解度差を持たせて現像することにより膜厚を変化させ、形状・文字情報を形成する方法
このような方法としては、アモルファスの皮膜を結晶化させる、あるいは微細結晶を成長させることにより結晶部分を溶解しにくくし、それ以外の部分を溶解させる方法がある。まず、図５Ａに示すように、基材１１上に無機材料皮膜４１を一様な厚さで成膜する。成膜後の無機材料皮膜４１はアモルファス性の高い状態になっているか、または結晶が微細な状態となっている。この無機材料皮膜４１上に目的とする形状・文字情報などの形のマスク２２を載置し（図５Ｂ）、イオン・ビームなどの活性エネルギー線２３を照射する（図５Ｃ）ことで、いくつかの無機材料については露光部４１ａの結晶性を向上させることができる。アモルファス性の高い部分は、酸性またはアルカリ性の現像液を用いることで溶解することができる。しかしながら、結晶化処理を施すことにより現像液に対する溶解性を著しく低下させることができる。このため、現像処理を施すことにより結晶性の高い部分だけを残すことができる（図５Ｄ）。
【００３９】
結晶化処理は、無機材料皮膜を形成する基材の材質に応じて選ぶことができる。基材の耐熱性が充分に高く、皮膜の結晶化温度がそれほど高くない場合は、電気炉やオーブンの中で結晶化温度以上まで皮膜形成物を加熱することで、皮膜を結晶化させることができる。加熱温度はアモルファスの無機材料を結晶化させる温度であれば良い。例えば無機材料として酸化タングステン（ＷＯ3）を用いた場合、おおむね３５０［℃］以上の温度で加熱することにより、アモルファスの結晶化が始まる。しかし、皮膜の膜厚が大きい場合に（概ね５００ｎｍ以上）、６００［℃］を超える温度で加熱すると、皮膜から酸化タングステンの黄色い粉末が遊離してくる場合もあるため、短時間の加熱で処理を終了するか、より低い温度で長時間処理することが望ましい。
【００４０】
基材の耐熱性が低い場合や、皮膜の結晶化温度が高いために加熱処理が困難な場合、イオン・ビーム放射によってアモルファスを結晶化させることができる。イオン・ビームとしては、リチウムイオン、ナトリウムイオン、クリプトンイオン、アルゴンイオン、ガリウムイオンなどを使うことができる。また、これらの性質を利用して皮膜を結晶化処理することで耐薬品性を向上させることができる他、皮膜を形成した基材を自然環境下に放置した場合に、酸性物質で退色することを防ぐなどの効果を奏する。
【００４１】
上述の（１）、（２）および（３）のいずれの方法においても、目的とする形状・文字情報などの形のマスクとしては、例えば金属や樹脂などを所望の形状に打ち抜いて作製した板状のものやフィルム状のものを用いる他、粘着テープを切り抜いて用いることもできる。これらのマスクは、形成した無機材料皮膜の上に密着させ、現像液の浸入を防ぐようにして利用する。現像液の浸入を防ぐ目的を達するものであれば、ロウ、グリス、ワセリン、ペトロラタム、ペースト状樹脂などを、目的とする形状・文字情報などの形状に塗布または印刷する方法を用いてもよい。
【００４２】
また、現像液として用いる溶液は、無機材料の皮膜を溶解するものであればどのようなものでも使用することができる。具体的には、酸性溶液として、塩酸、硝酸、酢酸のような液体の酸を適宜水で希釈した溶液のほか、リン酸、シュウ酸、クエン酸、酒石酸のような固体の酸を水に溶かした溶液も利用することができる。また、アルカリ溶液としては、水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液、アンモニア水溶液、トリエタノールアミン水溶液、ジエタノールアミン水溶液などのほか、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニウム塩のような固体のアルカリを水に溶かしたものも利用することができる。現像液は現像速度の調整や現像残渣の効率的な除去などの目的で、適宜、水溶液に有機溶剤を混ぜて用いたり、浸透剤や界面活性剤などを添加したりすることができる。現像液の温度は特に制限されるものではないが、皮膜の溶解速度を調整するために適宜、温度を調整するなどの方法を採用することができる。
【００４３】
上述のような各方法により、色彩を付与するための一様な厚さの無機材料皮膜、もしくは、形状・文字情報などを形成した無機材料皮膜を形成後、無機材料皮膜の損傷や磨耗の防止、指紋の付着防止などの目的で保護層を設ける。保護層は、例えばスピンコートにより無機材料皮膜上にポリマー原料を塗布し、紫外線などを照射することにより硬化させて形成する。または、ポリマーフィルムをラミネートするなどの方法で保護膜を設けても良い。この他、皮膜よりも低い屈折率を有する無機材料を保護膜として設けても良い。
【００４４】
このようにして、金属、ガラス、プラスチック等からなる基材上に無機材料皮膜を形成することにより、基材に色彩を付与することができ、さらに部分ごとに膜厚を変化させることにより形状・文字情報などを形成することができる。
【実施例】
【００４５】
以下、実施例によりこの発明を具体的に説明する。まず、レジスト皮膜の形成方法および得られる色彩について説明する。
【００４６】
ここで、スパッタリングによる成膜方法を説明する。図６に示される成膜装置（スパッタリング装置）５０は、真空の成膜室５１に設けられた陽極に基材５２が取り付けられ、陰極には無機材料がターゲット５３ａ，５３ｂとして取り付けられる。
【００４７】
放電ガス（例えば、アルゴン）はボンベ５４に格納され、マスフローコントローラ５５の制御の下、ストップバルブ５６を介して成膜室５１に提供される。マスフローコントローラ５５は、成膜中、所定量の放電ガスを所定タイミングで成膜室５１に送り込むように制御する。また、反応性ガス（例えば、酸素または窒素）は、ボンベ５７から、マスフローコントローラ５８、ストップバルブ５９を介して成膜室５１に提供される。マスフローコントローラ５８は、成膜中、所定量の反応性ガスを所定タイミングで成膜室５１に送り込むように制御する。
【００４８】
放電ガスと反応性ガスが成膜室５１に導入された時点で、陰極と陽極との間に所定の電圧をかけ、グロー放電を行う。このグロー放電によって発生したプラズマをエネルギー源にしてターゲット５３ａ，５３ｂからスパッタされた成膜物質を基材５２上に堆積させて薄膜を形成する。こうした成膜電力の制御は、電源Ａ６１、電源Ｂ６２、電源Ｃ６３等からなる成膜電力コントロール６４によって行われる。
【００４９】
この成膜装置５０は、上述したような反応性ガス比率の変更制御をマスフローコントローラ５５、５８を含む反応性ガス比率コントロール６０によって行い、成膜電力の変更制御を成膜電力コントロール６４によって行う。反応性ガス比率コントロール６０と成膜電力コントロール６４は、例えば、図示しないマイクロコンピュータによって制御され、制御内容はメモリにロードされたプログラム等を介して指示される。また、成膜時には放電ガスと反応性ガスを導入する前に、真空ポンプ６５にて成膜室内を真空状態に保つ。
【００５０】
＜実施例１＞
無機材料として酸化タングステン（ＷＯ3）を用い、シリコンウエハからなる基材の光沢面上にスパッタリングにより皮膜を形成する。酸化タングステン皮膜は成膜時間を変えて膜厚を変化させ、それぞれの皮膜厚さについて基材の光沢面上の色彩を確認する。なお、成膜時の条件は、以下のとおりとする。
ターゲット：酸化タングステン（ＷＯ3）
ターゲット・基材間距離：１０３［ｍｍ］
成膜ガス：アルゴン／酸素＝１９／７［ＳＣＣＭ／ＳＣＣＭ］
成膜開始ガス圧力：５．０×１０-4［Ｐａ］
成膜時ガス圧力：０．３５［Ｐａ］
成膜電力：ＤＣ１３５[Ｗ]
ここで、ＳＣＣＭ（Standard cc / min）は、１気圧，０℃あるいは２５℃等一定温度で規格化された１分あたりのガス流量を表す。また、成膜開始ガス圧力および成膜時ガス圧力は、ダイヤフラム・ゲージにて測定したものである。
【００５１】
以下の表３に、酸化タングステン皮膜の膜厚およびその色彩を示す。
【００５２】
【表３】
2007052838.tif 000005
【００５３】
＜実施例２＞
次いで、無機材料として硫化亜鉛および二酸化ケイ素を用い、シリコンウエハからなる基材の光沢面上および非光沢面上にスパッタリングにより混合皮膜を形成する。混合皮膜は成膜時間を変えて膜厚を変化させ、それぞれの皮膜厚さについて基材の光沢面上の色彩を確認する。なお、成膜時の条件は、以下のとおりとする。
ターゲット：硫化亜鉛／二酸化ケイ素＝８／２（分子数比）
ターゲット・基材間距離：８８［ｍｍ］
成膜ガス：アルゴン＝２６［ＳＣＣＭ］
成膜開始ガス圧力：５．０×１０-4［Ｐａ］
成膜時ガス圧力：０．４０［Ｐａ］
成膜電力：ＲＦ１００[Ｗ]
ここで、成膜開始ガス圧力および成膜時ガス圧力は、ダイヤフラム・ゲージにて測定したものである。
【００５４】
以下の表４に、硫化亜鉛および二酸化ケイ素の混合皮膜の膜厚およびその色彩を示す。なお、得られた混合皮膜の膜厚と色彩は、金属光沢の有無を除いては光沢面上、非光沢面上とも同じであった。
【００５５】
【表４】
2007052838.tif 000006
【００５６】
上述のように、無機材料をターゲットに用い、膜厚を変化させることで種々の色彩を得ることができる。
【００５７】
また、膜厚の変化によって得られるそれぞれの色彩を用いて、形状・文字情報を形成することができる。以下、形状・文字情報の形成方法について詳細に説明する。
【００５８】
まず、マスクを用いて部分ごとの膜厚を変化させ、形状・文字情報を形成する方法を用いた場合について、具体的に説明する。
【００５９】
＜実施例３＞
図７Ａ〜図７Ｊおよび図８Ａ〜図８Ｅを参照して、所望の形状に打ち抜いたマスクを用い、膜厚を定量的に制御しながら皮膜を重ね合わせることにより、目的とする形状を目的とする色彩で得る方法について説明する。ここで、図７Ａ〜図７Ｊはシリコンウエハおよび皮膜の側面図であり、図８Ａ〜図８Ｅはシリコンウエハおよび皮膜の上面図である。
【００６０】
まず、図７Ａに示すように、シリコンウエハ７０の光沢面に、５×５［ｃｍ2］の正方形の打ち抜きを設けたアルミ箔７２ａを貼り付け、この全面に硫化亜鉛／二酸化ケイ素＝８／２（分子数比）の混合皮膜７１ａを、＜実施例２＞と同じスパッタ条件で５５[ｎｍ]の膜厚に成膜し（１層目）、紫色の皮膜を得た。次いで、図７Ｂに示すように、シリコンウエハ７０からアルミ箔７２ａを剥離すると、シリコンウエハ７０上に５×５［ｃｍ2］の紫色の正方形の皮膜が形成された（図８Ａ）。
【００６１】
次いで、図７Ｃに示すように、正方形の中心を合わせるようにして、４×４［ｃｍ2］の正方形の打ちきを設けたアルミ箔７２ｂを貼り付け、同じスパッタ条件で混合皮膜７１ｂを２０［ｎｍ］の膜厚に成膜した（２層目）。シリコンウエハ７０からアルミ箔７２ｂを剥離すると、４×４［ｃｍ2］の大きさで成膜した部分が厚さ７５［ｎｍ］となり、５×５［ｃｍ2］の紫色の皮膜上に４×４［ｃｍ2］の青色の皮膜が形成された（図７Ｄ、図８Ｂ）。同様にして、図７Ｅに示すように、３×３［ｃｍ2］の正方形の打ち抜きを設けたアルミ箔７２ｃを貼り付け、同じスパッタ条件で混合皮膜７１ｃを６０［ｎｍ］の膜厚に成膜した（３層目）。シリコンウエハ７０からアルミ箔７２ｃを剥離すると、３×３［ｃｍ2］の大きさで成膜した部分が厚さ１３５［ｎｍ］となり、４×４［ｃｍ2］の青色の皮膜上に３×３［ｃｍ2］の黄色の皮膜が形成された（図７Ｆ、図８Ｃ）。
【００６２】
さらに、図７Ｇに示すように、２×２［ｃｍ2］の正方形の打ち抜きを設けたアルミ箔７２ｄを貼り付け、同じスパッタ条件で混合皮膜７１ｄを１５［ｎｍ］の膜厚に成膜し（４層目）、アルミ箔７２ｄを剥離すると、２×２［ｃｍ2］の大きさで成膜した部分が厚さ１５０［ｎｍ］となり、３×３［ｃｍ2］の黄色の皮膜上に２×２[ｃｍ2]の橙色の皮膜が形成された（図７Ｈ、図８Ｄ）。最後に、図７Ｉに示すように、１×１［ｃｍ2］の正方形の打ち抜きを設けたアルミ箔７２ｅを貼り付け、同じスパッタ条件で混合皮膜７１ｅを６５［ｎｍ］の膜厚に成膜し（５層目）、アルミ箔７２ｅを剥離すると、１×１［ｃｍ2］の大きさで成膜した部分が厚さ１３５［ｎｍ］となり、２×２［ｃｍ2］の橙色の皮膜上に１×１［ｃｍ2］の青緑色の皮膜が形成された（図７Ｊ、図８Ｅ）。
【００６３】
このような方法を用いることにより、基材上に任意の形状を様々な色彩で形成することができる。また、マスクとして用いるアルミ箔を文字の形状に打ち抜くことにより、文字情報を付与することもできる。
【００６４】
＜実施例４＞
図９および図１０を参照して、ＣＤ−Ｒのレーベル面となる保護層側全体を着色し、さらに他の色で文字情報を入れる方法について説明する。金型原盤（スタンパ）上にポリカーボネートを射出成型する方法により、直径１２０［ｍｍ］、厚さ１．２［ｍｍ］で、円形のセンターホールを有し、片面にデータに対応した凹凸パターンが形成されたディスク基板８０を製造した。次に、ディスク基板８０上にテトラフルオロプロパノールに記録用色素化合物を濃度２．０重量％で溶解した液を、８０［ｎｍ］の膜厚になるようスピンコートし、記録層８１とした。さらに、記録層８１上に銀を含有する反射膜材料を１００［ｎｍ］の膜厚にスパッタし、反射層８２を形成した。この全面に硫化亜鉛／二酸化ケイ素＝８／２（分子数比）混合皮膜８３を、実施例２と同じスパッタ条件で７５［ｎｍ］の膜厚に成膜し、青色の皮膜を得た。この上にアルファベットの文字列を打ち抜いたポリイミド・フィルム８４をマスクとして貼付し、実施例２と同じスパッタ条件で７５［ｎｍ］の膜厚にスパッタした。ポリイミド・フィルム８４をはがすと、文字列８５が形成され、青色の皮膜上に橙色の文字列が形成された。この上に保護膜材料である紫外線効果型樹脂をスピンコートし、紫外線を照射して硬化させ、厚さ８［μｍ］の保護層８６を形成した。
【００６５】
＜実施例５＞
図１１Ａ〜図１１Ｈを参照して、ＢＤのレーベル面となるディスク基板側全体を着色し、さらに他の色で文字情報を入れる方法について説明する。まず、金型原盤（スタンパ）上にポリカーボネートを射出成型する方法により、直径１２０［ｍｍ］、厚さ１．１［ｍｍ］で、円形のセンターホールを有し、片面にデータに対応した凹凸パターンが形成されたディスク基板９０を製造した。次いで、図１１Ｂに示すように、基板９０の凹凸パターン面上に硫化亜鉛／二酸化ケイ素＝８／２（分子数比）の混合皮膜９１を形成する。このとき、＜実施例２＞と同じスパッタ条件にて膜厚７５［ｎｍ］となるように成膜し、ほぼ無色の混合皮膜９１を得た。この混合皮膜９１上に、アルファベットの文字列を打ち抜いたポリイミド・フィルム９２をマスクとして貼付し（図１１Ｃ）、＜実施例２＞と同じスパッタ条件で７５［ｎｍ］の膜厚にスパッタした（図１１Ｄ）。マスクを剥がすと、目視ではほとんど無色の文字列９３が形成された（図１１Ｅ）。さらにこの上に、銀を含有する反射膜９４を１００［ｎｍ］の膜厚にスパッタした（図１１Ｆ）。このとき、文字列９３部分は厚さ１７５［ｎｍ］となった。
【００６６】
さらに、反射膜９４上にテトラフルオロプロパノールに記録用色素化合物を濃度２．０重量％で溶解した液を１５０［ｎｍ］の膜厚になるようスピンコートし、記録膜９５とした（図１１Ｇ）。溶媒を乾燥させた後、三酸化セルロースの接着フィルムをラミネートし、紫外線を照射して硬化させて膜厚７５［μｍ］の保護層（光透過層）９６を形成した。
【００６７】
図１２Ａに、上述のようにして作製したＢＤの断面図、図１２ＢにＢＤの上面図、図１２ＣにＢＤをレーベル面から見たときの光干渉の模式図を示す。ＢＤは厚さ１．１［ｍｍ］の基板上に光透過層を形成してなり、光透過層側からレーザを照射して情報を読み取る。このため、基板側がレーベル面となる。基板９０側から見ると混合皮膜９１および文字列９３の奥側に反射膜９４が成膜されるため、反射膜９４の形成後に光の干渉が起こり、青色の背景上に橙色の文字列が形成された。
【００６８】
このような方法を用いることにより、ＣＤ−Ｒ、ＢＤ等のように微細な凹凸パターンを有するディスク基板上にも皮膜を形成し、記録面の裏側を任意の彩色を施すことができ、さらに、背景色とは別の色を有する形状や文字情報を鮮明に形成することができる。
【００６９】
次いで、エッチングおよび現像により膜厚を変化させ、形状・文字情報を形成する方法について説明する。
【００７０】
＜実施例６＞
図１３Ａ〜図１３Ｄを参照して、一様な膜厚で成膜した無機材料皮膜にエッチングを施すことにより、部分的に膜厚を変化させ、目的とする形状を目的とする色彩で得る方法について説明する。まず、図１３Ａに示すように、シリコンウエハ１００の光沢面に、硫化亜鉛／二酸化ケイ素＝８／２（分子数比）の混合皮膜１０１を、＜実施例２＞と同じスパッタ条件で６０［ｎｍ］の膜厚に成膜し、紫色の干渉光を有する皮膜を得た。次いで、この上に、１×１［ｃｍ2］の大きさに切り抜いたカプトン接着テープ（住友スリーエム社製）１０２を貼着した後（図１３Ｂ）、混合皮膜１０１の露出部分にエッチング処理を施した（図１３Ｃ）。次いで、接着テープ１０２が部分的に貼着されたシリコンウエハ１００から接着テープ１０２を剥離した。
【００７１】
上述のようにして得られたシリコンウエハ１００は、その表面に１×１［ｃｍ2］形状の無機材料皮膜１０１ａが形成され、紫色の色彩を得ることができた。また、シリコンウエハ１００上に形成された無機材料皮膜は、０．１規定・水酸化ナトリウム水溶液、および０．１規定・塩酸に１０分間浸しても溶解および変色を起こさなかった。
【００７２】
＜実施例７＞
図１４Ａ〜図１４Ｆおよび図１５Ａ〜図１５Ｅを参照して、一様な膜厚で成膜した無機材料皮膜に現像処理を施すことにより、部分的に膜厚を変化させ、目的とする形状を目的とする色彩で得る方法について説明する。ここで、図１４Ａ〜図１４Ｆは断面図を示し、図１５Ａ〜図１５Ｅは上面図を示す。
【００７３】
まず、シリコンウエハ１１０の光沢面に、酸化タングステン（ＷＯ3）を＜実施例１＞と同じスパッタ条件で７５［ｎｍ］の膜厚に成膜し、青色の酸化タングステン皮膜１１１を得た（図１４Ａ）。この上に、ポジ型レジスト１１２としてＡＺＲＦＰ−２１０Ｋ（ヘキスト・ジャパン社製）を３５０ｒｐｍで３０秒間スピンコートし、１００［℃］のオーブン中で２分間加熱硬化させた（図１４Ｂ、図１５Ａ）。
【００７４】
次いで、１×１［ｃｍ2］の露光部分（開口部分）１１３ａを有するガラス製マスク１１３をポジ型レジスト１１２上に載置し（図１４Ｃ、図１５Ｂ）、ガラス製マスク１１３を通して紫外線１１４を３００［ｍＪ／ｃｍ2］露光した（図１４Ｄ、図１５Ｃ）。このようなシリコンウエハ１１０を０．５％水酸化ナトリウム水溶液に浸し、露光部分のポジ型レジストと無機材料の皮膜を同時に溶解した（図１４Ｅ、図１５Ｄ）。さらに、このシリコンウエハ１１０を水洗・乾燥した後、５００［℃］の電気炉中で３０分間加熱し、未露光部に残ったポジ型レジストを焼成除去すると同時に、酸化タングステン皮膜を結晶化させた（図１４Ｆ、図１５Ｅ）。なお、参照符号１１１ａは、結晶化された酸化タングステン皮膜を示し、参照符号１１２ａはポジ型レジストの露光部分を示す。また、図１５Ｃでは、ガラス製マスク１１３を記載していない。
【００７５】
上述のようにして得られたシリコンウエハは、ポジ型レジストの未露光部分と同様の形状を青色で得ることができる。また、シリコンウエハに形成された無機材料皮膜は、０．１規定・水酸化ナトリウム水溶液、および０．１規定・塩酸に１０分間浸しても、溶解および変色を起こさなかった。
【００７６】
＜実施例８＞
図１６Ａ〜図１６Ｆおよび図１７Ａ〜図１７Ｅを参照して、上述の実施例７と同様に、現像処理を施すことにより、目的とする形状および／または文字を目的とする色彩で得る第２の方法について説明する。ここで、図１６Ａ〜図１６Ｆは断面図を示し、図１７Ａ〜図１７Ｅは上面図を示す。
【００７７】
まず、シリコンウエハ１１０の光沢面に、酸化タングステン（ＷＯ3）を＜実施例１＞と同じスパッタ条件で７５［ｎｍ］の膜厚に成膜し、青色の酸化タングステン皮膜１１１を得た。この上に、ネガ型レジスト１１５を１，０００ｒｐｍで３０秒間スピンコートし、６０［℃］のオーブン中で１０分間加熱硬化させた。
【００７８】
次いで、１×１［ｃｍ2］の露光部分（開口部分）１１３ａを有するガラス製マスク１１３をネガ型レジスト１１５上に載置し、ガラス製マスク１１３を通して紫外線１１４を３００［ｍＪ／ｃｍ2］露光した。このようなシリコンウエハ１１０をトーホール２０７（東邦化学工業社製）の５％水溶液に浸し、未露光部分のネガ型レジストと無機材料の皮膜を同時に溶解した。さらに、このシリコンウエハ１１０を水洗・乾燥した後、６００［℃］の電気炉中で３０分間加熱し、露光部に残ったネガ型レジストを焼成除去すると同時に、酸化タングステン皮膜を結晶化させた。なお、参照符号１１１ｂは、結晶化された酸化タングステン皮膜を示し、参照符号１１５ａはネガ型レジストの露光部分を示す。また、図１７Ｃでは、ガラス製マスク１１３を記載していない。
【００７９】
上述のようにして得られたシリコンウエハは、１×１［ｃｍ2］の露光部分と同様の形状を青色で得ることができる。また、シリコンウエハに形成された無機材料皮膜は、０．１規定・水酸化ナトリウム水溶液、および０．１規定・塩酸に１０分間浸しても、溶解および変色を起こさなかった。
【００８０】
＜実施例９＞
図１８を参照して、上述の実施例７と同様に、現像処理を施すことにより、目的とする形状および／または文字を目的とする色彩で得る第３の方法、および得られた形状の定着について説明する。
【００８１】
まず、シリコンウエハ１２０の光沢面に、酸化タングステン（ＷＯ3）皮膜１２１を＜実施例１＞と同じスパッタ条件で７５［ｎｍ］の膜厚に成膜し、青色の皮膜を得た(図１８Ａ)。この上に、１×１［ｃｍ2］の大きさに切り抜いたカプトン接着テープ（住友スリーエム社製）１２２を貼り付け（図１８Ｂ）、ＮＭＤ−３現像液（水酸化テトラヒドロアンモニウムの２．３８％水溶液，東京応化工業社製）に浸し、接着テープで保護されていない部分を溶解した（図１８Ｃ）。得られたサンプルは水洗・乾燥した後、カプトン接着テープを剥離し、５００［℃］の電気炉中で３０分間加熱して酸化タングステン皮膜を結晶化させた（図１８Ｄ）。これにより得られたシリコンウエハは、１×１［ｃｍ2］のカプトン接着テープ部分と同様の形状を青色で得ることができる。また、シリコンウエハに形成された無機材料皮膜は、０．１規定・水酸化ナトリウム水溶液、および０．１規定・塩酸に１０分間浸しても、溶解および変色を起こさなかった。
【００８２】
上述の実施例６〜実施例９のような方法を用いることにより、基材上に精密な形状や文字情報を任意の色彩で形成することができ、さらにこれを定着させて安定した着色皮膜とすることができる。
【００８３】
このように、無機材料皮膜の厚さを部分的に変化させることにより、染料や顔料を使用せず、ナノメートルオーダーの薄さで色彩を付与することができる。
【００８４】
以上、この発明の実施形態について具体的に説明したが、この発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【００８５】
例えば、上述の実施形態において挙げた数値はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値を用いてもよい。
【００８６】
また、この方法は、基材表面が光沢面、非光沢面のいずれでも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】光の干渉の様子を表す模式図である。
【図２】マスクを用いて成膜した場合に形成された皮膜の一例を示す模式図である。
【図３】有機レジスト皮膜をマスクとして用いた場合の形状・文字情報の形成方法を示す模式図である。
【図４】エッチングを用いて形状・文字情報を形成する方法の一例を示す模式図である。
【図５】皮膜の一部を結晶化させることにより溶媒に対する溶解度差を持たせて形状・文字情報を形成する方法の一例を示す模式図である。
【図６】スパッタリング装置の構成の一例を示す模式図である。
【図７】実施例３における形状・文字情報形成方法を示す側面図である。
【図８】実施例３における形状・文字情報形成方法を示す上面図である。
【図９】実施例４における形状・文字情報形成方法を示す側面図である。
【図１０】実施例４における形状・文字情報形成方法を示す上面図である。
【図１１】実施例５における形状・文字情報形成方法を示す側面図である。
【図１２】実施例５における形状・文字情報形成方法を示す上面図である。
【図１３】実施例６における形状・文字情報形成方法を示す側面図である。
【図１４】実施例７における形状・文字情報形成方法を示す側面図である。
【図１５】実施例７における形状・文字情報形成方法を示す上面図である。
【図１６】実施例８における形状・文字情報形成方法を示す側面図である。
【図１７】実施例８における形状・文字情報形成方法を示す上面図である。
【符号の説明】
【００８８】
１，１１・・・基材
１ａ・・・基材表面
２・・・皮膜
２ａ・・・皮膜表面
３，４・・・入射光
３ａ，４ａ・・・反射光
５・・・干渉光
１０・・・マスク
１０ａ，１０ｂ，１０ｃ・・・メッシュ
１０ｄ，１０ｅ，１０ｆ・・・空孔
１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆ・・・皮膜
２１・・・レジスト皮膜
２１ａ，４１ａ・・・露光部
２１ｂ・・・未露光部
２２・・・マスク
２３・・・活性エネルギー線
２４，３１，４１，１０１ａ・・・無機材料皮膜
２４ａ・・・パターン
３１ａ・・・形状・文字情報
５０・・・スパッタリング装置
５１・・・成膜室
５２・・・基材
５３ａ，５３ｂ・・・ターゲット
７０，１００，１１０，１２０・・・シリコンウエハ
７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄ，７１ｅ・・・混合皮膜
７２ａ、７２ｂ、７２ｃ、７２ｄ、７２ｅ・・・アルミ箔
８０，９０・・・ディスク基板
８１，９５・・・記録層
８２，９４・・・反射層
８３，９１，１０１・・・混合皮膜
８４，９２・・・ポリイミド・フィルム
８５，９３・・・文字列
８６，９６・・・保護層
１０１ａ・・・無機材料皮膜
１０２，１２２・・・接着テープ
１１１，１２１・・・酸化タングステン皮膜
１１１ａ，１１１ｂ，１２１ａ・・・結晶化された酸化タングステン皮膜
１１２・・・ポジ型レジスト
１１２ａ，１１３ａ，１１５ａ・・・露光部分
１１３・・・ガラス製マスク
１１４・・・紫外線
１１５・・・ネガ型レジスト
【図１】
2007052838.tif 000007
【図２】
2007052838.tif 000008
【図３】
2007052838.tif 000009
【図４】
2007052838.tif 000010
【図５】
2007052838.tif 000011
【図６】
2007052838.tif 000012
【図７】
2007052838.tif 000013
【図８】
2007052838.tif 000014
【図９】
2007052838.tif 000015
【図１０】
2007052838.tif 000016
【図１１】
2007052838.tif 000017
【図１２】
2007052838.tif 000018
【図１３】
2007052838.tif 000019
【図１４】
2007052838.tif 000020
【図１５】
2007052838.tif 000021
【図１６】
2007052838.tif 000022
【図１７】
2007052838.tif 000023