(57)【要約】【課題】得られる液晶パネルの安定的な高コントラスト化を容易に低コストで実現できる、液晶パネルの製造方法、液晶パネル、画像表示装置を提供する。【解決手段】液晶セルの両側にｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する第１の光学補償層と偏光子とをこの順に有し、０＜α＜９０であって、該液晶セルの一方の側における該偏光子（Ａ）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ）の遅相軸とのなす角度が＋α°、該液晶セルのもう一方の側における該偏光子（Ａ´）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ´）の遅相軸とのなす角度が−α°である液晶パネルの製造方法であって、同一原反の基材に、基材の長尺方向に対して＋α°の配向処理と−α°の配向処理とを行う工程と、該＋α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ）を形成し、該−α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ´）を形成する工程と、を含む。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セルの両側にｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する第１の光学補償層と偏光子とをこの順に有し、０＜α＜９０であって、該液晶セルの一方の側における該偏光子（Ａ）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ）の遅相軸とのなす角度が＋α°、該液晶セルのもう一方の側における該偏光子（Ａ´）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ´）の遅相軸とのなす角度が−α°である液晶パネルの製造方法であって、
同一原反の基材に、基材の長尺方向に対して＋α°の配向処理と−α°の配向処理とを行う工程と、
該＋α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ）を形成し、該−α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ´）を形成する工程と、
を含む、液晶パネルの製造方法。
【請求項２】
前記同一原反の基材が、全長５００〜１００００ｍの１本の原反である、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）のそれぞれを形成する工程が、液晶材料を含有する塗工液を塗工する工程と、該塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度で処理して配向させる工程とを含む、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
同一ロットの塗工液を用いて前記第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）のそれぞれを形成する、請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
前記液晶材料が重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを含み、前記液晶材料の配向工程が、重合処理および／または架橋処理を行うことをさらに含む、請求項３または４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記重合処理および／または架橋処理が、加熱、光照射、紫外線照射から選ばれる少なくとも１つにより行われる、請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
前記液晶セルと前記第１の光学補償層（Ｂ）との間に、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を有する第２の光学補償層（Ｃ）を有し、前記液晶セルと前記第１の光学補償層（Ｂ´）との間に、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を有する第２の光学補償層（Ｃ´）を有する、請求項１から６までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項８】
前記偏光子（Ａ）の吸収軸と前記第２の光学補償層（Ｃ）の遅相軸とのなす角度が＋β°、前記偏光子（Ａ´）の吸収軸と前記第２の光学補償層（Ｃ´）の遅相軸とのなす角度が＋β°であり、βが８５〜９５である、請求項７に記載の製造方法。
【請求項９】
前記第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）のそれぞれがλ／２板である、請求項１から８までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項１０】
前記第２の光学補償層（Ｃ）および（Ｃ´）のそれぞれがλ／４板である、請求項７から９までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項１１】
請求項１から１０までのいずれかに記載の製造方法により得られる、液晶パネル。
【請求項１２】
請求項１１に記載の液晶パネルを含む、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルの製造方法、液晶パネル、および画像表示装置に関する。より詳細には、液晶パネルの安定的な高コントラスト化を容易に低コストで実現できる、液晶パネルの製造方法、液晶パネル、および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１０は、従来の代表的な液晶パネルの概略断面図である。図１１は、この液晶パネルに用いられ得る代表的な液晶セルの概略断面図である。この液晶パネル９００は、液晶セル９１０と、液晶セル９１０の外側に配された位相差板９２０、９２０´と、位相差板９２０、９２０´の外側に配された偏光板９３０、９３０´とを備える。代表的には、偏光板９３０、９３０´は、その偏光軸が互いに直交するようにして配されている。液晶セル９１０は、一対の基板９１１、９１１´と、該基板間に配された表示媒体としての液晶層９１２とを有する。一方の基板９１１には、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子（代表的にはＴＦＴ）と、このアクティブ素子にゲート信号を与える走査線およびソース信号を与える信号線とが設けられている（いずれも図示せず）。他方の基板９１１´には、カラーフィルターを構成するカラー層９１３Ｒ、９１３Ｇ、９１３Ｂと遮光層（ブラックマトリックス層）９１４とが設けられている。基板９１１、９１１´の間隔（セルギャップ）は、スペーサー（図示せず）によって制御されている。
【０００３】
上記位相差板は、液晶表示装置の光学補償を目的として用いられている。最適な光学補償（例えば、視野角特性の改善、カラーシフトの改善、コントラストの改善）を得るために、位相差板の光学特性の最適化および／または液晶パネルにおける配置について、種々の試みがなされている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
液晶セルの片側に配された偏光板９３０に含まれる偏光子の吸収軸とｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する位相差板９２０の遅相軸とのなす角度を＋α°、液晶セルのもう片側に配された偏光板９３０´に含まれる偏光子の吸収軸とｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する位相差板９２０´の遅相軸とのなす角度を−α°（ここでαは１７〜２７）となるような特定の位置関係で、特定の２つの位相差板を液晶セルの両側に配置することにより、液晶パネルのコントラストの改善を図ることができる。しかし、この方法で得られる従来の液晶パネルは、高コントラストを安定的に実現させることができず、製造ロット間でのコントラストのばらつきが見られたり、製造ロットによっては低コントラスト品が得られてしまったりすることがある。
【特許文献１】特開平１１−９５２０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、得られる液晶パネルの安定的な高コントラスト化を容易に低コストで実現できる、液晶パネルの製造方法、液晶パネル、および画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題を解決するために、液晶セルの両側に配置させる位相差板の作製過程に着目した。そして、上記＋α°角を有する位相差板と上記−α°角を有する位相差板について、従来は別々の原反から作製していたが、これらを同一の原反から作製することで、上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。
【０００７】
本発明の液晶パネルの製造方法は、液晶セルの両側にｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する第１の光学補償層と偏光子とをこの順に有し、０＜α＜９０であって、該液晶セルの一方の側における該偏光子（Ａ）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ）の遅相軸とのなす角度が＋α°、該液晶セルのもう一方の側における該偏光子（Ａ´）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ´）の遅相軸とのなす角度が−α°である液晶パネルの製造方法であって、同一原反の基材に、基材の長尺方向に対して＋α°の配向処理と−α°の配向処理とを行う工程と、該＋α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ）を形成し、該−α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ´）を形成する工程と、を含む。
【０００８】
好ましい実施形態においては、上記同一原反の基材が、全長５００〜１００００ｍの１本の原反である。
好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）のそれぞれを形成する工程が、液晶材料を含有する塗工液を塗工する工程と、該塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度で処理して配向させる工程とを含む。
好ましい実施形態においては、同一ロットの塗工液を用いて上記第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）のそれぞれを形成する。
【０００９】
好ましい実施形態においては、上記液晶材料が重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを含み、上記液晶材料の配向工程が、重合処理および／または架橋処理を行うことをさらに含む。
【００１０】
好ましい実施形態においては、上記重合処理および／または架橋処理が、加熱、光照射、紫外線照射から選ばれる少なくとも１つにより行われる。
【００１１】
好ましい実施形態においては、上記液晶セルと上記第１の光学補償層（Ｂ）との間に、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を有する第２の光学補償層（Ｃ）を有し、上記液晶セルと上記第１の光学補償層（Ｂ´）との間に、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を有する第２の光学補償層（Ｃ´）を有する。
【００１２】
好ましい実施形態においては、上記偏光子（Ａ）の吸収軸と上記第２の光学補償層（Ｃ）の遅相軸とのなす角度が＋β°、上記偏光子（Ａ´）の吸収軸と上記第２の光学補償層（Ｃ´）の遅相軸とのなす角度が＋β°であり、βが８５〜９５である。
【００１３】
好ましい実施形態においては、上記第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）のそれぞれがλ／２板である。
【００１４】
好ましい実施形態においては、上記第２の光学補償層（Ｃ）および（Ｃ´）のそれぞれがλ／４板である。
【００１５】
本発明の別の局面によれば、液晶パネルが提供される。この液晶パネルは、本発明の製造方法により得られる。
【００１６】
本発明の別の局面によれば、画像表示装置が提供される。この画像表示装置は、本発明の液晶パネルを含む。
【発明の効果】
【００１７】
以上のように、本発明によれば、遅相軸と偏光子の吸収軸との角度が＋α°を有する第１の光学補償層（Ｂ）と−α°を有する第１の光学補償層（Ｂ´）を得るにあたって、同一原反の基材に、基材の長尺方向に対して＋α°の配向処理と−α°の配向処理とを行う工程と、該＋α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ）を形成し、該−α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ´）を形成する工程とを含むような製造方法を採用することによって、液晶セルの両側に配置させる第１の光学補償層（Ｂ）と第１の光学補償層（Ｂ´）との面内位相差のズレを安定的かつ大幅に低減できる。したがって、液晶パネルおよびそれを含む液晶表示装置の高コントラスト化を容易に低コストで実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである：
（１）「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。また、例えば「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。本明細書において「実質的に等しい」とは、光学フィルムの全体的な光学特性に実用上の影響を与えない範囲でｎｘとｎｙが異なる場合も包含する趣旨である。
（２）「面内位相差Ｒｅ」は、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定したフィルム（層）面内の位相差値をいう。Ｒｅは、波長５９０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、進相軸方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｙとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差Ｒｔｈは、２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈは、波長５９０ｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、厚み方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｚとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数は、面内位相差Ｒｅと厚み方向位相差Ｒｔｈとの比であり、式：Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）によって求められる。
（５）本明細書に記載される用語や記号に付される添え字の「１」は第１の光学補償層を表し、添え字の「２」は第２の光学補償層を表す。
（６）「λ／２板」とは、ある特定の振動方向を有する直線偏光を、当該直線偏光の振動方向とは直交する振動方向を有する直線偏光に変換したり、右円偏光を左円偏光に（または、左円偏光を右円偏光に）変換したりする機能を有するものをいう。λ／２板は、光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム（層）面内の位相差値が約１／２である。
（７）「λ／４板」とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有するものをいう。λ／４板は、光の波長（通常、可視光領域）に対して、フィルム（層）面内の位相差値が約１／４である。
（８）本発明において単に「第１の光学補償層」と称する場合は、第１の光学補償層（Ｂ）および第１の光学補償層（Ｂ´）の両方を含めたものを意味する。同様に、単に「第２の光学補償層」と称する場合は、第２の光学補償層（Ｃ）および第１の光学補償層（Ｃ´）の両方を含めたものを意味し、単に「偏光子」と称する場合は、偏光子（Ａ）および偏光子（Ａ´）の両方を含めたものを意味する。
（９）本発明において、基材に対して＋α°の配向処理とは、最終的に液晶セルが配置され得る方向（粘着剤層が形成され得る方向）から見て、基材の流れ方向に対して反時計廻りにα°の配向処理を行うことを意味し、基材に対して−α°の配向処理とは、最終的に液晶セルが配置され得る方向（粘着剤層が形成され得る方向）から見て、基材の流れ方向に対して時計廻りにα°の配向処理を行うことを意味する。
（１０）本発明において「同一原反」とは、継ぎ目の無い１本の原反を意味する。
【００１９】
Ａ．液晶パネル
Ａ−１．液晶パネルの全体構成
図１は、本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。ここでは、反射型の液晶表示装置用液晶パネルを説明する。液晶パネル１００は、液晶セル２０と、液晶セル２０の下側に配置された第２の光学補償層（Ｃ）４０と、第２の光学補償層（Ｃ）４０の下側に配置された第１の光学補償層（Ｂ）３０と、第１の光学補償層（Ｂ）３０の下側に配置された偏光板１０と、液晶セル２０の上側に配置された第２の光学補償層（Ｃ´）４０´と、第２の光学補償層（Ｃ´）４０´の上側に配置された第１の光学補償層（Ｂ´）３０´と、第１の光学補償層（Ｂ´）３０´の上側に配置された偏光板１０´とを備える。目的および液晶セルの配向モードによっては、第２の光学補償層（Ｃ）４０、第２の光学補償層（Ｃ´）４０´は省略され得る。液晶セル２０は、一対のガラス基板２１、２１´と、該基板間に配された表示媒体としての液晶層２２とを有する。下基板２１´の液晶層２２側には、反射電極２３が設けられている。上基板２１には、カラーフィルター（図示せず）が設けられている。基板２１、２１´の間隔（セルギャップ）は、スペーサー２４によって制御されている。本発明においては、液晶パネルの両側に配置される積層体（例えば、第２の光学補償層／第１の光学補償層／偏光板）を、「光学補償層付偏光板」と称することがある。図１を例に説明すると、液晶セルの下側に光学補償層付偏光板５００、上側に光学補償層付偏光板５００´が配置されている。
【００２０】
例えば、反射型ＶＡモードの場合には、このような液晶パネル１００は、電圧無印加時には、液晶分子は基板２１、２１´面に垂直に配向する。このような垂直配向は、垂直配向膜（図示せず）を形成した基板間に負の誘電率異方性を有するネマティック液晶を配することにより実現され得る。このような状態で、偏光板１０´を通過した直線偏光の光を上基板２１の面から液晶層２２に入射させると、入射光は垂直配向している液晶分子の長軸の方向に沿って進む。液晶分子の長軸方向には複屈折が生じないため入射光は偏光方位を変えずに進み、反射電極２３で反射されて再び液晶層２２を通過し、上基板２１から出射される。出射光の偏光状態は入射時と変わらないので、当該出射光は偏光板１０´を透過し、明状態の表示が得られる。電極間に電圧が印加されると、液晶分子の長軸が基板面に平行に配向する。この状態の液晶層２２に入射した直線偏光の光に対して液晶分子は複屈折性を示し、入射光の偏光状態は液晶分子の傾きに応じて変化する。所定の最大電圧印加時において、反射電極２３で反射し上基板から出射された光は、例えばその偏光方位が９０°回転させられた直線偏光となるので、偏光板１０´で吸収されて暗状態の表示が得られる。再び電圧無印加状態にすると配向規制力により明状態の表示に戻すことができる。また、印加電圧を変化させて液晶分子の傾きを制御して偏光板１０´からの透過光強度を変化させることにより階調表示が可能となる。
【００２１】
図２は、図１における光学補償層付偏光板（第２の光学補償層／第１の光学補償層／偏光板）を構成する各層の光軸を説明する分解斜視図である。この光学補償層付偏光板は、図２に示すように、液晶セルの下側の光学補償層付偏光板５００を例に説明すると、偏光子（Ａ）１１と第１の光学補償層（Ｂ）３０と第２の光学補償層（Ｃ）４０とをこの順に有する。各層は、任意の適切な粘着剤層または接着剤層（図示せず）を介して積層されていてよい。実用的には、偏光子（Ａ）１１の第１の光学補償層（Ｂ）３０が形成されない側には、任意の適切な保護フィルム１５（図示せず）が積層されている。さらに、偏光子（Ａ）１１と第１の光学補償層（Ｂ）３０との間には、任意の適切な保護フィルム１２が設けられ得ることが好ましい。保護フィルム１２、１５は、透明保護フィルムであることが好ましく、トリアセチルセルロースフィルムであることがより好ましい。
【００２２】
上記第１の光学補償層（Ｂ）３０および第１の光学補償層（Ｂ´）３０´は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する。上記第２の光学補償層（Ｃ）４０および第２の光学補償層（Ｃ´）４０´は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を有する。
【００２３】
本発明においては、図２に示すように、第１の光学補償層（Ｂ）３０は、その遅相軸ｂが偏光子（Ａ）１１の吸収軸ａに対して所定の角度＋α°を規定している。他方、図３に示すように、第１の光学補償層（Ｂ´）３０´は、その遅相軸ｂ´が偏光子（Ａ´）１１´の吸収軸ａ´に対して所定の角度−α°を規定している。角度αは、０＜α＜９０であり、好ましくは５〜４５、より好ましくは１０〜３５、さらに好ましくは１８〜２８、さらに好ましくは１９〜２５、特に好ましくは２１〜２４であり、最も好ましくは２２〜２３である。
【００２４】
本発明においては、第２の光学補償層（Ｃ）４０および第２の光学補償層（Ｃ´）４０´を備える場合、第２の光学補償層（Ｃ）４０は、その遅相軸ｃが偏光子（Ａ）１１の吸収軸ａに対して所定の角度＋β°を規定している。他方、第２の光学補償層（Ｃ´）４０´は、その遅相軸ｃ´が偏光子（Ａ´）１１´の吸収軸ａ´に対して所定の角度＋β°を規定している。角度βは、８５〜９５であり、好ましくは８７〜９３であり、さらに好ましくは８８〜９２であり、最も好ましくは８９〜９１である。
【００２５】
光学補償層付偏光板５００の第２の光学補償層（Ｃ）４０側および光学補償層付偏光板５００´の第２の光学補償層（Ｃ´）４０´側を、光学補償層付偏光板５００中の偏光子１１の吸収軸と光学補償層付偏光板５００´中の偏光子１１´の吸収軸とが互いに直交するように、液晶セルの両面のそれぞれに貼り付けることにより、図１に示すような液晶パネルが得られる。
【００２６】
Ａ−２．第１の光学補償層
第１の光学補償層は、上記のように、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する。好ましくは、第１の光学補償層は、λ／２板として機能し得る。第１の光学補償層がλ／２板として機能することにより、λ／４板として機能する第２の光学補償層の波長分散特性（特に、位相差がλ／４を外れる波長範囲）について、位相差が適切に調節され得る。このような第１の光学補償層の面内位相差Ｒｅ１は、好ましくは２００〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは２２０〜２８０ｎｍであり、最も好ましくは２３０〜２７０ｎｍである。
【００２７】
本発明においては、液晶セルの両側に配置させる第１の光学補償層（Ｂ）と第１の光学補償層（Ｂ´）との面内位相差Ｒｅ１のズレが安定的かつ大幅に低減される。第１の光学補償層（Ｂ）と第１の光学補償層（Ｂ´）との面内位相差Ｒｅ１のズレ（大きいほうの値−小さいほうの値）は、小さければ小さいほど好ましく、好ましくは７ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下、さらに好ましくは３ｎｍ以下、特に好ましくは２ｎｍ以下である。第１の光学補償層（Ｂ）と第１の光学補償層（Ｂ´）との面内位相差Ｒｅ１のズレ（大きいほうの値−小さいほうの値）が７ｎｍよりも大きいと、液晶パネルおよびそれを含む液晶表示装置の高コントラスト化が実現できないおそれがある。
【００２８】
本発明において、第１の光学補償層の厚みは、λ／２板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは０．５〜５μｍであり、さらに好ましくは１〜４μｍであり、最も好ましくは１．５〜３μｍである。
【００２９】
本発明において、第１の光学補償層を形成する材料としては、上記のような特性が得られる限りにおいて任意の適切な材料が採用され得る。液晶材料が好ましく、液晶相がネマティック相である液晶材料（ネマティック液晶）がさらに好ましい。液晶材料を用いることにより、得られる光学補償層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができる。その結果、所望の面内位相差を得るための光学補償層の厚みを格段に小さくすることができる。このような液晶材料としては、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶ポリマーおよび液晶モノマーを組み合わせて用いてもよい。液晶材料の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。また、液晶の配向状態は、ホモジニアス配向であることが好ましい。
【００３０】
上記液晶材料が液晶モノマーである場合、例えば、重合性モノマーまたは架橋性モノマーであることが好ましい。これは、後述するように、重合性モノマーまたは架橋性モノマーを重合または架橋させることによって、液晶材料の配向状態を固定できるためである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー（重合性モノマーまたは架橋性モノマー）同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された第１の光学補償層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、第１の光学補償層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた光学補償層となる。重合性モノマーおよび架橋性モノマーは、組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２−５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ−Ｓｉｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７が挙げられる。
【００３２】
上記液晶モノマーとしては、例えば、ネマティック性液晶モノマーが好ましく、具体的には、下記式（Ｌ１）で表されるモノマーが挙げられる。これらの液晶モノマーは、単独で、または２つ以上を組み合わせて用いられ得る。
【００３３】
【化１】
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【００３４】
上記式（Ｌ１）において、Ａ1およびＡ2は、それぞれ重合性基を表し、同一でも異なっていてもよい。また、Ａ1およびＡ2はいずれか一方が水素であってもよい。Ｘは、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲを表し、Ｒは、ＨまたはＣ1〜Ｃ4アルキルを表し、Ｍはメソゲン基を表す。
【００３５】
上記式（Ｌ１）において、Ｘは同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。上記式（Ｌ１）のモノマーの中でも、Ａ2は、それぞれ、Ａ1に対してオルト位に配置されていることが好ましい。
【００３６】
さらに、上記Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立して、下記式
Ｚ−Ｘ−（Ｓｐ）n                  ・・・（Ｌ２）
で表されることが好ましく、Ａ1およびＡ2は同じ基であることが好ましい。
【００３７】
上記式（Ｌ２）において、Ｚは架橋性基を表し、Ｘは上記式（Ｌ１）で定義した通りであり、Ｓｐは、１〜３０個の炭素原子を有する直鎖または分枝鎖の置換または非置換のアルキル基からなるスペーサーを表し、ｎは、０または１を表す。上記Ｓｐにおける炭素鎖は、例えば、エーテル官能基中の酸素、チオエーテル官能基中の硫黄、非隣接イミノ基またはＣ1〜Ｃ4のアルキルイミノ基等により割り込まれていてもよい。
【００３８】
上記式（Ｌ２）において、Ｚは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましい。下記式において、Ｒとしては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル等の基が挙げられる。
【００３９】
【化２】
2007147799.tif 000004
【００４０】
また、上記式（Ｌ２）において、Ｓｐは、下記式で表される原子団のいずれかであることが好ましく、下記式において、ｍは１〜３、ｐは１〜１２であることが好ましい。
【００４１】
【化３】
2007147799.tif 000005
【００４２】
上記式（Ｌ１）において、Ｍは、下記式（Ｌ３）で表されることが好ましい。下記式（Ｌ３）において、Ｘは、上記式（Ｌ１）において定義したのと同様である。Ｑは、例えば、置換または非置換の直鎖もしくは分枝鎖アルキレンもしくは芳香族炭化水素原子団を表す。Ｑは、例えば、置換または非置換の直鎖もしくは分枝鎖Ｃ1〜Ｃ12アルキレン等であり得る。
【００４３】
【化４】
2007147799.tif 000006
【００４４】
上記Ｑが芳香族炭化水素原子団である場合、例えば、下記式に表されるような原子団や、それらの置換類似体が好ましい。
【００４５】
【化５】
2007147799.tif 000007
【００４６】
上記式で表される芳香族炭化水素原子団の置換類似体としては、例えば、芳香族環１個につき１〜４個の置換基を有してもよく、また、芳香族環または基１個につき、１または２個の置換基を有してもよい。上記置換基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。上記置換基としては、例えば、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、ニトロ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等のハロゲン、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ等が挙げられる。
【００４７】
上記液晶モノマーの具体例としては、例えば、下記式（Ｌ４）〜（Ｌ１９）で表されるモノマーが挙げられる。
【００４８】
【化６】
2007147799.tif 000008
【００４９】
上記液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０〜１００℃であり、最も好ましくは６０〜９０℃である。
【００５０】
Ａ−３．第２の光学補償層
本発明においては、第２の光学補償層を有していても良い。第２の光学補償層は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚで表される屈折率分布を有する。
【００５１】
第２の光学補償層は、好ましくは、０．９７＜Δｎｄ（ｘ）／Δｎｄ（５９０）＜１．０５を満たす。ここで、Δｎｄ（ｘ）は、波長ｘ（４５０ｎｍ≦ｘ≦７００ｎｍ）の光で測定した面内の位相差値、Δｎｄ（５９０）は、波長５９０ｎｍの光で測定した面内の位相差値を示す。
【００５２】
第２の光学補償層のΔｎｄ（ｘ）およびΔｎｄ（５９０）は、好ましくは２０〜２００ｎｍ、より好ましくは４０〜１８０ｎｍ、さらに好ましくは６０〜１６０ｎｍである。本発明においては、第２の光学補償層のΔｎｄ（５９０）は、第１の光学補償層のΔｎｄ（５９０）より大きいことが好ましい。
【００５３】
第２の光学補償層の厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定されればよい。具体的には、厚みは、コーティングで得られる場合、好ましくは１〜１５μｍであり、さらに好ましくは１．５〜１０μｍであり、最も好ましくは２〜８μｍである。フィルムとして得られる場合、好ましくは、３０〜１２０μｍ、さらに好ましくは４０〜１００μｍ、最も好ましくは５０〜９０μｍである。
【００５４】
第２の光学補償層は、代表的には、高分子フィルムを延伸処理することにより形成され得る。例えば、ポリマーの種類、延伸条件、延伸方法等を適切に選択することにより、所望の光学特性（例えば、屈折率分布、面内位相差、厚み方向位相差、Ｎｚ係数）を有する第２の光学補償層が得られ得る。
【００５５】
上記ポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、任意の適切なポリマーが採用され得る。具体例としては、ポリカーボネート系ポリマー、ノルボルネン系ポリマー、セルロース系ポリマー、ポリビニルアルコール系ポリマー、ポリスルホン系ポリマー等が挙げられる。
【００５６】
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、ノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとエチレンやプロピレン等のα−オレフィンとの共重合体（代表的には、ランダム共重合体）、および、これらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト変性体、ならびに、それらの水素化物が挙げられる。
【００５７】
ノルボルネン系樹脂を得るために用いられるノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、例えば、５−メチル−２−ノルボルネン、５−ジメチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２−ノルボルネン等、これらのハロゲン等の極性基置換体；ジシクロペンタジエン、２，３−ジヒドロジシクロペンタジエン等；ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび／またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体、例えば、６−メチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−エチリデン−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−クロロ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−シアノ−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−ピリジル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン、６−メトキシカルボニル−１，４：５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン等；シクロペンタジエンの３〜４量体、例えば、４，９：５，８−ジメタノ−３ａ，４，４ａ，５，８，８ａ，９，９ａ−オクタヒドロ−１Ｈ−ベンゾインデン、４，１１：５，１０：６，９−トリメタノ−３ａ，４，４ａ，５，５ａ，６，９，９ａ，１０，１０ａ，１１，１１ａ−ドデカヒドロ−１Ｈ−シクロペンタアントラセン等が挙げられる。これらは、１種のみで用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００５８】
ノルボルネン系樹脂を得るためには、ノルボルネン系モノマー以外に、本発明の目的を損なわない範囲内において、環状オレフィンとして開環重合可能な他のシクロオレフィン類を併用することができる。このようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シクロペンテン、シクロオクテン、５，６−ジヒドロジシクロペンタジエン等の反応性の二重結合を１個有する化合物が挙げられる。
【００５９】
ノルボルネン系樹脂は、トルエン溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ（ＧＰＣ）法で測定した数平均分子量（Ｍｎ）が好ましくは２５，０００〜２００，０００、さらに好ましくは３０，０００〜１００，０００、最も好ましくは４０，０００〜８０，０００である。数平均分子量が上記の範囲であれば、機械的強度に優れ、溶解性、成形性、操作性が良いものができる。
【００６０】
ノルボルネン系樹脂がノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加して得られるものである場合には、水素添加率は、好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上であり、最も好ましくは９９％以上である。このような範囲であれば、耐熱劣化性および耐光劣化性などに優れる。
【００６１】
ノルボルネン系樹脂は、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン社製の商品名ゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ社製のアートン、ＴＩＣＯＮＡ社製のトーパスが挙げられる。
【００６２】
Ａ−４．偏光子
本発明において、偏光子としては、目的に応じて任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く特に好ましい。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、１〜８０μｍ程度である。
【００６３】
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いし、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗しても良い。
【００６４】
ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【００６５】
Ａ−５．保護フィルム
本発明において、上記保護フィルム１２および１５としては、偏光板の保護フィルムとして使用できる任意の適切なフィルムが採用され得る。このようなフィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。上記ポリマーフィルムは、例えば、前記樹脂組成物の押出成形物であり得る。ＴＡＣ、ポリイミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ガラス質系ポリマーが好ましく、ＴＡＣがさらに好ましい。
【００６６】
上記保護フィルムは、透明で、色付きが無いことが好ましい。具体的には、厚み方向の位相差値が、好ましくは−９０ｎｍ〜＋９０ｎｍであり、さらに好ましくは−８０ｎｍ〜＋８０ｎｍであり、最も好ましくは−７０ｎｍ〜＋７０ｎｍである。
【００６７】
上記保護フィルムの厚みとしては、上記の好ましい厚み方向の位相差が得られる限りにおいて、任意の適切な厚みが採用され得る。具体的には、保護フィルムの厚みは、好ましくは５ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１ｍｍ以下であり、特に好ましくは１〜５００μｍであり、最も好ましくは５〜１５０μｍである。
【００６８】
上記保護フィルム１２および１５は、同一であってもよく、異なっていてもよい。保護フィルム１５には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等が施され得る。
【００６９】
Ａ−６．その他の構成要素
本発明の液晶パネルは、さらに他の光学層を備えていてもよい。このような他の光学層としては、目的や液晶パネル、画像表示装置の種類に応じて任意の適切な光学層が採用され得る。具体例としては、液晶フィルム、光散乱フィルム、回折フィルム、さらに別の光学補償層（位相差フィルム）等が挙げられる。
【００７０】
本発明の液晶パネルは、上記光学補償層付偏光板（例えば、第２の光学補償層／第１の光学補償層／偏光板）の少なくとも一方に最外層として粘着剤層または接着剤層をさらに有し得る。このように最外層として粘着剤層または接着剤層を有することにより、例えば、液晶セルとの積層が容易になり、上記光学補償層付偏光板が液晶セルから剥離するのを防止できる。上記粘着剤層および接着剤層を形成する材料としては、任意の適切な材料が採用され得る。好ましくは、吸湿性や耐熱性に優れる材料が用いられる。吸湿による発泡や剥離、熱膨張差等による光学特性の低下、液晶セルの反り等を防止できるからである。
【００７１】
実用的には、上記粘着剤層または接着剤層の表面は、上記光学補償層付偏光板が実際に使用されるまでの間、任意の適切なセパレータによってカバーされ、汚染が防止され得る。セパレータは、例えば、任意の適切なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを設ける方法等によって形成され得る。
【００７２】
本発明における上記光学補償層付偏光板の各層は、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤による処理等によって、紫外線吸収能を付与したものであってもよい。
【００７３】
Ｂ．液晶パネルの製造方法
本発明の液晶パネルの製造方法は、
液晶セルの両側にｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する第１の光学補償層と偏光子とをこの順に有し、０＜α＜９０であって、該液晶セルの一方の側における該偏光子（Ａ）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ）の遅相軸とのなす角度が＋α°、該液晶セルのもう一方の側における該偏光子（Ａ´）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ´）の遅相軸とのなす角度が−α°である液晶パネルの製造方法であって、同一原反の基材に、基材の長尺方向に対して＋α°の配向処理と−α°の配向処理とを行う工程と、該＋α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ）を形成し、該−α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ´）を形成する工程と、を含む。
【００７４】
本発明において用い得る基材としては、任意の適切な基材が採用され得る。基材は単層でも良いし、複数の層から構成される積層体でも良い。積層体の場合は、具体的には、例えば、「偏光子保護フィルム／偏光子／偏光子保護フィルム」から構成される積層体などが挙げられる。基材上に形成されたフィルム（具体的には、第１の光学補償層）は、光学フィルムの所望の積層構造に応じて適切な順序で転写（積層）されてもよい。本発明において用い得る基材としては、同一原反の基材であり、全長（長尺方向の長さ）は、好ましくは５００〜１００００ｍの１本の原反、より好ましくは５００〜８０００ｍの１本の原反、さらに好ましくは５００〜６０００ｍの１本の原反、さらに好ましくは５００〜３０００ｍの１本の原反、特に好ましくは５００〜２０００ｍの１本の原反、最も好ましくは１０００〜２０００ｍの１本の原反である。全幅長（幅方向の長さ）は、好ましくは１００〜２０００ｍｍ、より好ましくは２００〜１５００ｍｍ、さらに好ましくは３００〜１２００ｍｍ、特に好ましくは３００〜１０００ｍｍ、最も好ましくは３００〜７００ｍｍである。基材の全長（長尺方向の長さ）および全幅長（幅方向の長さ）が上記範囲を外れると、安定した製造が困難になるおそれがある。
【００７５】
本発明において用い得る基材が、最終的に偏光板の保護フィルム（偏光子保護フィルム）として使用される場合などは、そのようなフィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。上記ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。ＴＡＣ、ポリイミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ガラス質系ポリマーが好ましい。このようなフィルムは、透明で、色付きが無いことが好ましい。すなわち、透明保護フィルムであることが好ましい。具体的には、厚み方向の位相差値が、好ましくは−９０ｎｍ〜＋９０ｎｍであり、さらに好ましくは−８０ｎｍ〜＋８０ｎｍであり、最も好ましくは−７０ｎｍ〜＋７０ｎｍである。
【００７６】
基材が最終的に偏光板の保護フィルム（偏光子保護フィルム）として使用される場合、基材の厚みは、上記の好ましい厚み方向の位相差が得られる限りにおいて、任意の適切な厚みが採用され得る。好ましくは５ｍｍ以下であり、より好ましくは１ｍｍ以下であり、さらに好ましくは１〜５００μｍであり、特に好ましくは５〜１５０μｍである。
【００７７】
本発明において用い得る基材が、その上に形成された光学補償層を転写して最終的に剥離されるような場合などは、そのような基材の主成分となる材料の具体例としては、ガラス基板、金属箔、プラスチックシートまたはプラスチックフィルムが挙げられる。なお、基材上には配向膜が設けられていてもよいが、設けられなくてもよい。上記プラスチックフィルムとしては、任意の適切なフィルムが採用され得る。具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムが挙げられる。また、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状またはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムも挙げられる。さらに、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマーやそれらのブレンド物等の透明ポリマーからなるフィルムなども挙げられる。これらの中でも、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムである。
【００７８】
基材がその上に形成された光学補償層を転写して最終的に剥離されるような場合は、基材の厚みは、好ましくは２０〜１００μｍであり、より好ましくは３０〜９０μｍであり、さらに好ましくは３０〜８０μｍである。このような範囲の厚みを有することにより、非常に薄い光学補償層の形成工程において良好に支持する強度が付与され、かつ、すべり性やロール走行性のような操作性も適切に維持される。
【００７９】
Ｂ−１．基材の配向処理
図４、図５に示すように、同一原反の長尺の基材１３（基材が最終的に偏光子保護フィルムとして使用される場合には保護フィルム１２と考えて良い）の表面に、長手方向に対して＋α°の配向処理と−α°の配向処理とを施し、当該表面に所定の液晶材料を含む塗工液を塗工することにより、同一原反の長尺の基材１３上に第１の光学補償層（Ｂ）３０と第１の光学補償層（Ｂ´）３０´を形成することができる。この場合、同一ロットの塗工液を用いて第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）のそれぞれを形成することが好ましい。一般に塗工液は、例えば、液晶材料と１種類あるいは２種類以上の溶剤と重合開始剤とを含む。このように、一般に塗工液は重合開始剤を含むので、調製した塗工液は比較的早く化学反応が進んで粘度が高くなり、塗工が困難になったり所望の特性が得られなくなったりするおそれがある。また、大量の塗工液を均一に撹拌することは困難であるし、撹拌した塗工液を長時間放置すると分離してしまうこともある。このため、別々の基材上にそれぞれ第１の光学補償層を形成する場合には、その都度に調製した異なるロットの塗工液を用いることが必要となってしまう。一方、同一ロットの塗工液を用いることにより、製造ロット間での液晶材料の性質（分子量分布、不純物量など）に起因するムラを排除でき、結果として位相差のばらつきを低減できる。また、同一ロットの塗工液を用いることにより、製造ロット間における、使用する塗工液の濃度や組成比に起因するムラを排除でき、結果として位相差のばらつきを低減できる。
【００８０】
上記工程によって得られる第１の光学補償層（Ｂ）３０（偏光子（Ａ）１１の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ）３０の遅相軸とのなす角度が＋α°）と第１の光学補償層（Ｂ´）３０´（偏光子（Ａ´）１１´の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ´）３０´の遅相軸とのなす角度が−α°）とは、従来のように別々の原反の基材から作製されたものではなく、同一原反の長尺の基材から作製されたものであるため、これら第１の光学補償層（Ｂ）３０と第１の光学補償層（Ｂ´）３０´との面内位相差Ｒｅ１のズレが安定的かつ大幅に低減される。このように同一原反の長尺の基材から作製された第１の光学補償層（Ｂ）３０と第１の光学補償層（Ｂ´）３０´とを液晶セルの両側に配置して液晶パネルや液晶表示装置とすれば、高コントラスト化を容易に低コストで実現できる。
【００８１】
上記基材への配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体例としては、ラビング処理、斜方蒸着法、延伸処理、光配向処理、磁場配向処理、電場配向処理等が挙げられる。好ましくはラビング処理である。なお、各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。
【００８２】
上記配向処理の配向方向は、偏光子と積層した場合に偏光子の吸収軸と所定の角度（＋α°および−α°）をなすような方向である。＋α°の配向方向は、形成される第１の光学補償層（Ｂ）の遅相軸ｂの方向と実質的に同一であり、−α°の配向方向は、形成される第１の光学補償層（Ｂ´）の遅相軸ｂ´の方向と実質的に同一である。上記αは、０＜α＜９０であり、好ましくは５〜４５、より好ましくは１０〜３５、さらに好ましくは１８〜２８、さらに好ましくは１９〜２５、特に好ましくは２１〜２４であり、最も好ましくは２２〜２３である。
【００８３】
長尺の基材に対して上記のような所定の角度を規定し得る配向処理としては、長尺の基材の長手方向に処理を行うこと、ならびに、長尺の基材の長手方向またはその垂直方向（幅方向）に対して斜め方向（具体的には、上記のような所定の角度を規定する方向）に処理を行うことが挙げられる。偏光子は、前述したように二色性物質で染色したポリマーフィルムを延伸して製造されており、その延伸方向に吸収軸を有している。そして、偏光子を大量生産する際には、長尺のポリマーフィルムを準備し、その長手方向に連続的に延伸が行われている。光学補償層付偏光板を作製する際には、好ましくは、長尺の基材の長手方向が偏光子の吸収軸と同一の方向となるように積層が行われる。このため、偏光子の吸収軸に対して所定の角度をなすような方向に配向させるには、斜め方向に配向処理を行うことが望ましい。偏光子の吸収軸の方向と基材の長手方向は実質的に一致するので、配向処理の方向は、長手方向に対して上記所定の角度をなす方向に行えばよい。一方、基材の長手方向または幅方向に処理を行う場合には、基材を斜め方向に切り抜いてから積層する必要がある。その結果、切り出した各フィルムにおいて光軸の角度にばらつきが生じるおそれがあり、結果として製品間に品質のばらつきが生じ得、コストや時間がかかり、廃棄物が増加し、大型フィルムの製造が困難となる。
【００８４】
同一原反の長尺の基材の表面に、長手方向に対して＋α°の配向処理と−α°の配向処理とを施す方法は、任意の適切な方法が採用され得る。代表的には、例えば、長手方向に対して＋α°のラビング処理と長手方向に対して−α°のラビング処理とを所定時間ごとに交互に行う方法が挙げられる。この場合、図４に示すように、連続的に交互にラビング処理を行っても良いし、図５に示すように、一方のラビング処理を所定時間行った後、未ラビング部分（Ｐ）を間に挟んで、続いてもう一方のラビング処理を所定時間行っても良い。製造上の容易さを考慮すると、同一原反の長尺の基材の表面に、＋α°（または−α°）の配向処理を所定時間連続して行い、その後、続いて、反対の符号の角度−α°（または＋α°）の配向処理を所定時間連続して行い、同一原反の基材への配向処理を終了する方法が好ましい。この場合、最終的に液晶セルの上下面に＋α°の配向処理を経て得られた光学補償層付偏光板と−α°の配向処理を経て得られた光学補償層付偏光板とを配置することを考慮すると、＋α°の配向処理が施される長さ（長尺方向の基材の長さ）と−α°の配向処理が施される長さ（長尺方向の基材の長さ）とが実質的に等しいことが好ましい。
【００８５】
配向処理は、基材表面に直接施してもよく、任意の適切な配向層（代表的には、ポリイミド層、ポリビニルアルコール層、シランカップリング層など）を形成し、当該配向層に施してもよい。例えば、ラビング処理は、基材表面に直接施されるのが好ましい。配向層にラビング処理を行う場合には、配向層形成時に以下の不利益があるからである：配向層がポリイミド層である場合には、（１）基材を侵食しない溶媒を選択する必要があるので、配向層形成組成物の溶媒の選択が困難である；（２）高温（例えば、１５０〜３００℃）でのキュアリングが必要となるので、得られる楕円偏光板に外観不良が生じる場合がある。また、配向層がポリビニルアルコール層である場合には、配向層の耐熱性および耐湿性が不十分であるので、高温多湿下では、基材と配向層とが剥離する場合があり、その結果、白ボケが発生する場合がある。さらに、配向層がシランカップリング剤層である場合には、形成される液晶層（第１の光学補償層）が傾斜しやすく、所望の正の一軸性を実現することが困難となる場合がある。
【００８６】
Ｂ−２．第１の光学補償層を形成する液晶材料の塗工工程
次に、上記配向処理を施した基材表面に上記Ａ−２項で説明したような液晶材料を含有する塗工液を塗工し、次いで当該液晶材料を配向させて第１の光学補償層（Ｂ）および第１の光学補償層（Ｂ´）を形成する。具体的には、液晶材料を適切な溶媒に溶解または分散した塗工液を調製し、この塗工液を、上記配向処理を施した基材表面に塗工すればよい。液晶材料の配向工程は後述のＢ−３項で説明する。
【００８７】
上記溶媒としては、上記液晶材料を溶解または分散し得る任意の適切な溶媒が採用され得る。使用される溶媒の種類は、液晶材料の種類等に応じて適宜選択され得る。溶媒の具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピルなどのエステル系溶媒、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル系溶媒、あるいは二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチルセロソルブ等が挙げられる。好ましくは、トルエン、キシレン、メシチレン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸エチルセロソルブである。これらの溶媒は、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。
【００８８】
上記塗工液における液晶材料の含有量は、液晶材料の種類や目的とする層の厚み等に応じて適宜設定され得る。具体的には、液晶材料の含有量は、好ましくは５〜５０重量％であり、さらに好ましくは１０〜４０重量％であり、最も好ましくは１５〜３０重量％である。
【００８９】
上記塗工液は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、重合開始剤や架橋剤が挙げられる。これらは、液晶材料として液晶モノマー（重合性モノマーまたは架橋性モノマー）を用いる場合に特に好適に用いられる。上記重合剤の具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等が挙げられる。上記架橋剤の具体例としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が挙げられる。これらは、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。他の添加剤の具体例としては、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。これらもまた、単独で、または２種類以上を組み合わせて用いられ得る。上記老化防止剤としては、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物が挙げられる。上記前記変性剤としては、例えば、グリコール類、シリコーン類やアルコール類が挙げられる。上記界面活性剤は、例えば、光学フィルムの表面を平滑にするために用いられ、具体例としては、シリコーン系、アクリル系、フッ素系等の界面活性剤が挙げられる。
【００９０】
上記塗工液の塗工量は、塗工液の濃度や目的とする層の厚み等に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工液の液晶材料濃度が２０重量％である場合、塗工量は、透明保護フィルムの面積（１００ｃｍ2）あたり好ましくは０．０３〜０．１７ｍｌであり、さらに好ましくは０．０５〜０．１５ｍｌであり、最も好ましくは０．０８〜０．１２ｍｌである。
【００９１】
塗工方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。具体例としては、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法等が挙げられる。塗工速度としては、任意の適切な方法が採用され得る。具体的には例えば、１時間当たり、好ましくは５０〜５０００ｍ、より好ましくは１００〜３０００ｍ、さらに好ましくは２００〜１０００ｍである。塗工時間としては、任意の適切な方法が採用され得る。具体的には例えば、好ましくは３０分〜１０時間、より好ましくは１時間〜７時間、さらに好ましくは２時間〜５時間である。
【００９２】
Ｂ−３．第１の光学補償層を形成する液晶材料の配向工程
次いで、上記基材表面の配向方向に応じて、第１の光学補償層（Ｂ）および第１の光学補償層（Ｂ´）を形成する液晶材料を配向させる。当該液晶材料の配向は、使用した液晶材料の種類に応じて、液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶材料が液晶状態をとり、上記基材表面の配向方向に応じて当該液晶材料が配向する。これによって、塗工により形成された層に複屈折が生じ、第１の光学補償層（Ｂ）および第１の光学補償層（Ｂ´）が形成される。
【００９３】
上記のように処理温度は、液晶材料の種類に応じて適宜決定され得る。具体的には、処理温度は、好ましくは４０〜１２０℃であり、さらに好ましくは５０〜１００℃であり、最も好ましくは６０〜９０℃である。また、処理時間は、好ましくは３０秒以上であり、さらに好ましくは１分以上であり、特に好ましくは２分以上、最も好ましくは４分以上である。処理時間が３０秒未満である場合には、液晶材料が十分に液晶状態をとらない場合がある。一方、処理時間は、好ましくは１０分以下であり、さらに好ましくは８分以下であり、最も好ましくは７分以下である。処理時間が１０分を超えると、添加剤が昇華するおそれがある。
【００９４】
また、液晶材料として上記Ａ−２項に記載のような液晶モノマー（重合性モノマーおよび／または架橋性モノマー）を用いる場合には、上記塗工により形成された層に、さらに重合処理または架橋処理を施すことが好ましい。重合処理を行うことにより、上記液晶モノマーが重合し、液晶モノマーがポリマー分子の繰り返し単位として固定される。また、架橋処理を行うことにより、上記液晶モノマーが３次元の網目構造を形成し、液晶モノマーが架橋構造の一部として固定される。結果として、液晶材料の配向状態が固定される。なお、液晶モノマーが重合または架橋して形成されるポリマーまたは３次元網目構造は「非液晶性」である。したがって、形成された第１の光学補償層は、例えば、液晶分子に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、温度に影響されない、非常に優れた安定性を有する第１の光学補償層が得られ得る。
【００９５】
上記重合処理または架橋処理の具体的手順は、使用する重合開始剤や架橋剤の種類によって適宜選択され得る。例えば、光重合開始剤または光架橋剤を使用する場合には光照射を行えばよく、紫外線重合開始剤または紫外線架橋剤を使用する場合には紫外線照射を行えばよく、熱による重合開始剤または架橋剤を使用する場合には加熱を行えばよい。光または紫外線の照射時間、照射強度、合計の照射量、照射時の温度等は、液晶材料の種類、透明保護フィルムの種類および配向処理の種類、第１の光学補償層に所望される特性等に応じて適宜設定され得る。同様に、加熱温度、加熱時間等も適宜設定され得る。
【００９６】
上記のような配向処理を行うことにより、上記基材の配向方向に応じて液晶材料が配向するので、形成された第１の光学補償層（Ｂ）の遅相軸ｂは、上記基材の＋α°の配向方向と実質的に同一となり、形成された第１の光学補償層（Ｂ´）の遅相軸ｂ´は、上記基材の−α°の配向方向と実質的に同一となる。したがって、第１の光学補償層（Ｂ）の遅相軸ｂの方向は、基材の長手方向に対して、＋０°〜＋９０°、好ましくは＋５°〜＋４５°、より好ましくは＋１０°〜＋３５°、さらに好ましくは＋１８°〜＋２８°、さらに好ましくは＋１９°〜＋２５°、特に好ましくは＋２１°〜＋２４°、最も好ましくは＋２２°〜＋２３°となる。第１の光学補償層（Ｂ´）の遅相軸ｂ´の方向は、基材の長手方向に対して、−０°〜−９０°、好ましくは−５°〜−４５°、より好ましくは−１０°〜−３５°、さらに好ましくは−１８°〜−２８°、さらに好ましくは−１９°〜−２５°、特に好ましくは−２１°〜−２４°、最も好ましくは−２２°〜−２３°となる。
【００９７】
Ｂ−４．偏光子の積層工程
【００９８】
Ｂ−４−１．基材が保護フィルムであって偏光子保護フィルムとして機能させる場合
【００９９】
偏光子を、基材（この場合は保護フィルム）の配向処理を施す表面とは反対側の表面上に積層する。偏光子の積層は、本発明の製造方法における任意の適切な時点で行われ得る。例えば、偏光子を予め保護フィルムに積層しておいてもよく、第１の光学補償層を形成した後に積層してもよく、第２の光学補償層を形成した後に積層してもよい。偏光子の、上記保護フィルムと反対側の表面には、別の保護フィルムが貼り合わせられていても良い。
【０１００】
上記保護フィルムと偏光子との積層方法としては、任意の適切な積層方法（例えば、接着）が採用され得る。接着は、任意の適切な接着剤または粘着剤を用いて行われ得る。接着剤または粘着剤の種類は、被着体（すなわち、透明保護フィルムおよび偏光子）の種類に応じて適宜選択され得る。接着剤の具体例としては、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤、イソシアネート系接着剤、ゴム系接着剤等が挙げられる。粘着剤の具体例としては、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、イソシアネート系、ゴム系等の粘着剤が挙げられる。
【０１０１】
上記接着剤または粘着剤の厚みは、特に制限されないが、好ましくは１０〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは３０〜１８０ｎｍであり、最も好ましくは５０〜１５０ｎｍである。
【０１０２】
上記接着剤または粘着剤から形成される層としては、ポリビニルアルコール系接着剤から形成される層が好ましい。ポリビニルアルコール系接着剤は、好ましくは、ポリビニルアルコール系樹脂と架橋剤を含有する。
【０１０３】
上記ポリビニルアルコール系樹脂は、特に限定されないが、例えば、ポリ酢酸ビニルをケン化して得られたポリビニルアルコール；その誘導体；更に酢酸ビニルと共重合性を有する単量体との共重合体のケン化物；ポリビニルアルコールをアセタール化、ウレタン化、エーテル化、グラフト化、リン酸エステル化等した変性ポリビニルアルコール；などが挙げられる。前記単量体としては、（無水）マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、イタコン酸、（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸及びそのエステル類；エチレン、プロピレン等のα−オレフィン、（メタ）アリルスルホン酸（ソーダ）、スルホン酸ソーダ（モノアルキルマレート）、ジスルホン酸ソーダアルキルマレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、アクリルアミドアルキルスルホン酸アルカリ塩、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン誘導体等が挙げられる。これらポリビニルアルコール系樹脂は１種のみ用いても良いし２種以上を併用しても良い。
【０１０４】
上記ポリビニルアルコール系樹脂は、接着性の点からは、平均重合度が好ましくは１００〜３０００、より好ましくは５００〜３０００であり、平均ケン化度が好ましくは８５〜１００モル％、より好ましくは９０〜１００モル％である。
【０１０５】
上記ポリビニルアルコール系樹脂としては、アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂を用いることができる。アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂は、反応性の高い官能基を有するポリビニルアルコール系接着剤であり、得られる光学フィルムの耐久性が向上する点で好ましい。
【０１０６】
アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂は、ポリビニルアルコール系樹脂とジケテンとを公知の方法で反応して得られる。例えば、ポリビニルアルコール系樹脂を酢酸等の溶媒中に分散させておき、これにジケテンを添加する方法、ポリビニルアルコール系樹脂をジメチルホルムアミドまたはジオキサン等の溶媒にあらかじめ溶解しておき、これにジケテンを添加する方法等が挙げられる。また、ポリビニルアルコールにジケテンガスまたは液状ジケテンを直接接触させる方法が挙げられる。
【０１０７】
アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂のアセトアセチル基変性度は、０．１モル％以上であれば特に制限はない。０．１モル％未満では接着剤層の耐水性が不十分であり不適当である。アセトアセチル基変性度は、好ましくは０．１〜４０モル％、さらに好ましくは１〜２０モル％である。アセトアセチル基変性度が４０モル％を超えると架橋剤との反応点が少なくなり、耐水性の向上効果が小さい。アセトアセチル基変性度はＮＭＲにより測定した値である。
【０１０８】
上記架橋剤としては、ポリビニルアルコール系接着剤に用いられているものを特に制限なく使用できる。
架橋剤は、ポリビニルアルコール系樹脂と反応性を有する官能基を少なくとも２つ有する化合物を使用できる。例えば、エチレンジアミン、トリエチレンアミン、ヘキサメチレンジアミン等のアルキレン基とアミノ基を２個有するアルキレンジアミン類（なかでもヘキサメチレンジアミンが好ましい）；トリレンジイソシアネート、水素化トリレンジイソシアネート、トリメチレンプロパントリレンジイソシアネートアダクト、トリフェニルメタントリイソシアネート、メチレンビス（４−フェニルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネートおよびこれらのケトオキシムブロック物またはフェノールブロック物等のイソシアネート類；エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジまたはトリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等のエポキシ類；ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド等のモノアルデヒド類；グリオキザール、マロンジアルデヒド、スクシンジアルデヒド、グルタルジアルデヒド、マレインジアルデヒド、フタルジアルデヒド等のジアルデヒド類；メチロール尿素、メチロールメラミン、アルキル化メチロール尿素、アルキル化メチロール化メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミンとホルムアルデヒドとの縮合物等のアミノ−ホルムアルデヒド樹脂；更にナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、鉄、ニッケル等の二価金属、又は三価金属の塩及びその酸化物；などが挙げられる。架橋剤としては、メラミン系架橋剤が好ましく、特にメチロールメラミンが好適である。
【０１０９】
上記架橋剤の配合量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１〜３５重量部、より好ましくは１０〜２５重量部である。一方、耐久性をより向上させるには、ポリビニルアルコール系樹脂１００重量部に対して、架橋剤を３０重量部を超え４６重量部以下の範囲で配合することができる。特に、アセトアセチル基を含有するポリビニルアルコール系樹脂を用いる場合には、架橋剤の使用量を３０重量部を超えて用いるのが好ましい。架橋剤を３０重量部を超え４６重量部以下の範囲で配合することにより、耐水性が向上する。
【０１１０】
なお、上記ポリビニルアルコール系接着剤には、さらにシランカップリング剤、チタンカップリング剤などのカップリング剤、各種粘着付与剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐加水分解安定剤などの安定剤等を配合することもできる。
【０１１１】
偏光子と接する面（好ましくは、上記透明保護フィルム面やもう一方の側の保護フィルム面）には接着性向上のために易接着処理を施すことができる。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、低圧ＵＶ処理、ケン化処理等の表面処理やアンカー層を形成する方法が挙げられ、これらを併用することもできる。これらの中でも、コロナ処理、アンカー層を形成する方法、およびこれらを併用する方法が好ましい。
【０１１２】
上記アンカー層としては、例えば、反応性官能基を有するシリコーン層が挙げられる。反応性官能基を有するシリコーン層の材料は、特に制限されないが、例えば、イソシアネート基含有のアルコキシシラノール類、アミノ基含有アルコキシシラノール類、メルカプト基含有アルコキシシラノール類、カルボキシ含有アルコキシシラノール類、エポキシ基含有アルコキシシラノール類、ビニル型不飽和基含有アルコキシシラノール類、ハロゲン基含有アルコキシラノール類、イソシアネート基含有アルコキシシラノール類が挙げられ、アミノ系シラノールが好ましい。さらに上記シラノールを効率よく反応させるためのチタン系触媒や錫系触媒を添加することにより、接着力を強固にすることができる。また上記反応性官能基を有するシリコーンに他の添加剤を加えてもよい。具体的にはさらにはテルペン樹脂、フェノール樹脂、テルペン−フェノール樹脂、ロジン樹脂、キシレン樹脂などの粘着付与剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐熱安定剤などの安定剤等を用いても良い。
【０１１３】
上記反応性官能基を有するシリコーン層は公知の技術により塗工、乾燥して形成される。シリコーン層の厚みは、乾燥後で、好ましくは１〜１００ｎｍ、さらに好ましくは１０〜５０ｎｍである。塗工の際、反応性官能基を有するシリコーンを溶剤で希釈してもよい。希釈溶剤は特に制限はされないが、アルコール類があげられる。希釈濃度は特に制限されないが、好ましくは１〜５重量％、より好ましくは１〜３重量％である。
【０１１４】
上記接着剤層の形成は、上記接着剤を、上記保護フィルム、偏光子のいずれかの側または両側に塗布することにより行うことが好ましい。上記保護フィルムと偏光子とを貼り合せた後には、乾燥工程を施し、塗布乾燥層からなる接着剤層を形成することが好ましい。接着剤層を形成した後にこれを貼り合わせることもできる。上記貼り合わせは、ロールラミネーター等により行うことができる。加熱乾燥温度、乾燥時間は接着剤の種類に応じて適宜決定される。
【０１１５】
本発明の製造方法によれば、上記保護フィルムの配向処理において、第１の光学補償層の遅相軸を設定できるので、長手方向に延伸された（すなわち、長手方向に吸収軸を有する）長尺の偏光フィルム（偏光子）を使用することができる。つまり、長手方向に対して所定の角度をなすよう配向処理がなされた長尺の保護フィルムと、長尺の偏光フィルム（偏光子）とを、それぞれの長手方向を揃えて（いわゆるロールｔｏロールで）連続的に貼りあわせることができる。したがって、非常に優れた製造効率で光学フィルムが得られる。さらに、この方法によれば、フィルムを長手方向（延伸方向）に対して斜めに切り出して積層する必要がない。その結果、切り出した各フィルムにおいて光軸の角度にばらつきが生じることがなく、結果として製品間で品質のばらつきがない光学フィルムが得られる。さらに、切り抜きによる廃棄物も生じないので、低コストで光学フィルムが得られる。加えて、大型偏光板の製造も容易になる。
【０１１６】
なお、偏光子の吸収軸の方向は、長尺フィルムの長手方向と実質的に平行である。本明細書において「実質的に平行」とは、長手方向と吸収軸方向との角度が０°±１０°を包含する趣旨であり、好ましくは０°±５°であり、さらに好ましくは０°±３°である。
【０１１７】
Ｂ−４−２．基材上に形成された第１の光学補償層を転写して最終的に基材を剥離する場合
【０１１８】
基材上に形成された第１の光学補償層を、透明保護フィルムの表面に転写する。ここにいう透明保護フィルムは基材とは別のものであり、例えば、本発明において用い得る基材が偏光子保護フィルムとして使用される場合の具体例として先に例示したフィルム等が挙げられる。好ましくは、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムである。転写方法は特に限定されず、例えば、基材に支持された第１の光学補償層を接着剤を介して保護フィルムと貼り合わせることにより行われる。転写という方法を採用することにより、非常に優れた製造効率で、フィルム（層）同士の密着性が非常に優れた光学フィルムが得られる。
【０１１９】
上記接着剤としては、代表的には、硬化型接着剤が挙げられる。硬化型接着剤の代表例としては、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、湿気硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が挙げられる。熱硬化型接着剤の具体例としては、エポキシ樹脂、イソシアネート樹脂およびポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂系接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤の具体例としては、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤（特に、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤）が好ましい。湿気硬化型接着剤は、空気中の水分や被着体表面の吸着水、水酸基やカルボキシル基等の活性水素基等と反応して硬化するので、接着剤を塗工後、放置することによって自然に硬化させることができ、操作性に優れる。さらに、硬化のために加熱する必要がないので、第１の光学補償層および保護フィルムが貼り合わせ（接着）時に加熱されない。その結果、加熱収縮の心配がないので、本発明のように第１の光学補償層および保護フィルムがきわめて薄い場合であっても、積層時の割れ等が顕著に防止され得る。なお、上記イソシアネート樹脂系接着剤とは、ポリイソシアネート系接着剤、ポリウレタン樹脂接着剤の総称である。
【０１２０】
上記硬化型接着剤は、例えば、市販の接着剤を使用してもよく、上記の各種硬化型樹脂を溶媒に溶解または分散し、硬化型樹脂接着剤溶液（または分散液）として調製してもよい。溶液（または分散液）を調製する場合、当該溶液における硬化型樹脂の含有割合は、固形分重量が好ましくは１０〜８０重量％であり、さらに好ましくは２０〜６５重量％であり、とりわけ好ましくは２５〜６５重量％であり、最も好ましくは３０〜５０重量％である。用いられる溶媒としては、硬化型樹脂の種類に応じて任意の適切な溶媒が採用され得る。具体例としては、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは、単独で、または２種以上を組み合わせて用いられ得る。
【０１２１】
上記接着剤の塗工量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工量は、第１の光学補償層または保護フィルムの面積（ｃｍ２）あたり好ましくは０.３〜３ｍｌであり、さらに好ましくは０.５〜２ｍｌであり、最も好ましくは１〜２ｍｌである。塗工後、必要に応じて、接着剤に含まれる溶媒は、自然乾燥や加熱乾燥によって揮発させられる。このようにして得られる接着剤層の厚みは、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５μｍ〜１５μｍ、最も好ましくは１μｍ〜１０μｍである。また、接着剤層の押し込み硬度（Ｍｉｃｒｏｈａｒｄｎｅｓｓ）は、好ましくは０．１〜０．５ＧＰａであり、さらに好ましくは０．２〜０．５ＧＰａであり、最も好ましくは０．３〜０．４ＧＰａである。なお、押し込み硬度は、ビッカース硬度との相関性が公知であるので、ビッカース硬度にも換算できる。押し込み硬度は、例えば、日本電気株式会社（ＮＥＣ）製の薄膜硬度計（例えば、商品名ＭＨ４０００、商品名ＭＨＡ−４００）を用いて、押し込み深さと押し込み荷重とから算出することができる。
【０１２２】
続いて、上記基材を上記第１の光学補償層から剥離すれば、上記第１の光学補償層と上記保護フィルムとの積層が完了する。
【０１２３】
他方、偏光子を、上記保護フィルムの上記第１の光学補償層と反対側の表面に積層する。偏光子の積層は、本発明の製造方法における任意の適切な時点で行われ得る。例えば、偏光子を予め保護フィルムに積層しておいてもよく、第１の光学補償層を形成した後に積層してもよく、第２の光学補償層を形成した後に積層してもよい。例えば、予め偏光板（保護フィルム／偏光子／保護フィルム）を作製しておいてから、第１の光学補償層を転写によって形成しても良い。
【０１２４】
上記保護フィルムと偏光子との積層方法としては、任意の適切な積層方法（例えば、接着）が採用され得る。接着は、任意の適切な接着剤または粘着剤を用いて行われ得る。接着剤または粘着剤の種類は、被着体（すなわち、保護フィルムおよび偏光子）の種類に応じて適宜選択され得る。接着剤の具体例としては、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤、イソシアネート系接着剤、ゴム系接着剤等が挙げられる。粘着剤の具体例としては、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、イソシアネート系、ゴム系等の粘着剤が挙げられる。
【０１２５】
上記接着剤または粘着剤の厚みは、特に制限されないが、好ましくは１０〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは１５〜１８０ｎｍであり、最も好ましくは２０〜１５０ｎｍである。
【０１２６】
本発明の製造方法によれば、上記保護フィルムの配向処理において、第１の光学補償層の遅相軸を設定できるので、長手方向に延伸された（すなわち、長手方向に吸収軸を有する）長尺の偏光フィルム（偏光子）を使用することができる。つまり、長手方向に対して所定の角度をなすよう配向処理がなされた長尺の保護フィルムと、長尺の偏光フィルム（偏光子）とを、それぞれの長手方向を揃えて（いわゆるロールｔｏロールで）連続的に貼りあわせることができる。したがって、非常に優れた製造効率で光学フィルムが得られる。さらに、この方法によれば、フィルムを長手方向（延伸方向）に対して斜めに切り出して積層する必要がない。その結果、切り出した各フィルムにおいて光軸の角度にばらつきが生じることがなく、結果として製品間で品質のばらつきがない光学フィルムが得られる。さらに、切り抜きによる廃棄物も生じないので、低コストで光学フィルムが得られる。加えて、大型偏光板の製造も容易になる。
【０１２７】
なお、偏光子の吸収軸の方向は、長尺フィルムの長手方向と実質的に平行である。本明細書において「実質的に平行」とは、長手方向と吸収軸方向との角度が０°±１０°を包含する趣旨であり、好ましくは０°±５°であり、さらに好ましくは０°±３°である。
【０１２８】
Ｂ−５．第２の光学補償層の形成工程
第２の光学補償層を上記第１の光学補償層の表面上に形成する。代表的には、第２の光学補償層は、上記Ａ−３項で説明した高分子フィルムを第１の光学補償層の表面に積層することにより形成される。好ましくは、高分子フィルムは延伸フィルムである。積層方法は特に限定されず、任意の適切な接着剤または粘着剤（例えば、上記に記載の接着剤または粘着剤）を用いて行われる。
【０１２９】
上記接着剤または粘着剤としては、代表的には、硬化型接着剤が挙げられる。硬化型接着剤の代表例としては、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、湿気硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が挙げられる。熱硬化型接着剤の具体例としては、エポキシ樹脂、イソシアネート樹脂およびポリイミド樹脂等の熱硬化性樹脂系接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤の具体例としては、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤が挙げられる。湿気硬化型接着剤（特に、イソシアネート樹脂系の湿気硬化型接着剤）が好ましい。湿気硬化型接着剤は、空気中の水分や被着体表面の吸着水、水酸基やカルボキシル基等の活性水素基等と反応して硬化するので、接着剤を塗工後、放置することによって自然に硬化させることができ、操作性に優れる。さらに、硬化のために加熱する必要がないので、貼り合わせ（接着）時に加熱されない。その結果、加熱収縮の心配がないので、各層がきわめて薄い場合であっても、積層時の割れ等が顕著に防止され得る。なお、上記イソシアネート樹脂系接着剤とは、ポリイソシアネート系接着剤、ポリウレタン樹脂接着剤の総称である。
【０１３０】
上記硬化型接着剤は、例えば、市販の接着剤を使用してもよく、上記の各種硬化型樹脂を溶媒に溶解または分散し、硬化型樹脂接着剤溶液（または分散液）として調製してもよい。溶液（または分散液）を調製する場合、当該溶液における硬化型樹脂の含有割合は、固形分重量が好ましくは１０〜８０重量％であり、さらに好ましくは２０〜６５重量％であり、とりわけ好ましくは２５〜６５重量％であり、最も好ましくは３０〜５０重量％である。用いられる溶媒としては、硬化型樹脂の種類に応じて任意の適切な溶媒が採用され得る。具体例としては、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン等が挙げられる。これらは、単独で、または２種以上を組み合わせて用いられ得る。
【０１３１】
上記接着剤の塗工量は、目的に応じて適宜設定され得る。例えば、塗工量は、塗工対象の面積（ｃｍ２）あたり好ましくは０.３〜３ｍｌであり、さらに好ましくは０.５〜２ｍｌであり、最も好ましくは１〜２ｍｌである。塗工後、必要に応じて、接着剤に含まれる溶媒は、自然乾燥や加熱乾燥によって揮発させられる。このようにして得られる接着剤層の厚みは、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５μｍ〜１５μｍ、最も好ましくは１μｍ〜１０μｍである。また、接着剤層の押し込み硬度（Ｍｉｃｒｏｈａｒｄｎｅｓｓ）は、好ましくは０．１〜０．５ＧＰａであり、さらに好ましくは０．２〜０．５ＧＰａであり、最も好ましくは０．３〜０．４ＧＰａである。なお、押し込み硬度は、ビッカース硬度との相関性が公知であるので、ビッカース硬度にも換算できる。押し込み硬度は、例えば、日本電気株式会社（ＮＥＣ）製の薄膜硬度計（例えば、商品名ＭＨ４０００、商品名ＭＨＡ−４００）を用いて、押し込み深さと押し込み荷重とから算出することができる。
【０１３２】
Ｂ−６．光学補償層付偏光板の作製
図６、図７を参照して、本発明における光学補償層付偏光板の具体的手順の一例について説明する。なお、図６、図７において、符号１１１、１１２は、各層を形成するフィルムおよび／または積層体を捲回するロールである。
【０１３３】
偏光子の原料となる長尺のポリマーフィルムを準備し、上記Ａ−４項に記載のようにして染色、延伸等を行う。延伸は、長尺のポリマーフィルムについて、その長手方向に連続的に行う。これによって、図６の斜視図に示すように、長手方向（延伸方向：矢印方向）に吸収軸を有する長尺の偏光子１１が得られる。
【０１３４】
図７（ａ）の斜視図に示すように、長尺の基材１３を準備し、その一方の表面にラビングロール１２０、１２０´によりラビング処理を行う。この際ラビングの方向は、基材１３の長手方向とは異なる方向、例えば、＋２３°の方向と−２３°の方向とする。次いで、図７（ｂ）の斜視図に示すように、上記ラビング処理を施した基材１３上に、上記Ｂ−２およびＢ−３項に記載のようにして第１の光学補償層（Ｂ）３０および第１の光学補償層（Ｂ´）３０´を形成する。この第１の光学補償層（Ｂ）３０および第１の光学補償層（Ｂ´）３０´は、ラビング方向に沿って液晶材料が配向するため、その遅相軸方向は、基材１３のラビング方向と実質的に同一方向となる。
【０１３５】
上記のようにして同一原反の基材１３上に第１の光学補償層（Ｂ）３０および第１の光学補償層（Ｂ´）３０´が形成される。この積層フィルムから、第１の光学補償層（Ｂ）３０が積層された部分および第１の光学補償層（Ｂ´）３０´が積層された部分をそれぞれ打ち抜くことにより、基材１３／第１の光学補償層（Ｂ）３０の積層体、および、基材１３／第１の光学補償層（Ｂ´）３０´の積層体を作製する。
【０１３６】
上記で作製した積層体の基材１３が保護フィルムであって偏光子保護フィルムとして機能する場合、すなわち、例えば、基材１３が保護フィルム１２である場合、保護フィルム１２／第１の光学補償層（Ｂ）３０の積層体における第１の光学補償層（Ｂ）３０上に第２の光学補償層（Ｃ）４０を、上記Ｂ−５項で説明した任意の適切な接着剤または粘着剤を介して積層する。同様に、保護フィルム１２／第１の光学補償層（Ｂ´）３０´の積層体における第１の光学補償層（Ｂ´）３０´上に第２の光学補償層（Ｃ´）４０´を、上記Ｂ−５項で説明した任意の適切な接着剤または粘着剤を介して積層する。このようにして得られた保護フィルム１２／第１の光学補償層（Ｂ）３０／第２の光学補償層（Ｃ）４０の積層体の保護フィルム１２側に上記偏光子１１と保護フィルム１５を積層し、光学補償層付偏光板５００（第２の光学補償層（Ｃ）４０／第１の光学補償層（Ｂ）３０／保護フィルム１２／偏光子１１／保護フィルム１５）を作製する。なお、保護フィルム１２に上記偏光子１１や保護フィルム１５を積層する時期はいつでもよく、例えば、保護フィルム１２の配向処理前に該保護フィルム１２に予め積層してあってもよい。同様に、光学補償層付偏光板５００´（第２の光学補償層（Ｃ´）４０´／第１の光学補償層（Ｂ´）３０´／保護フィルム１２／偏光子１１／保護フィルム１５）を作製する。
【０１３７】
基材１３上に形成された第１の光学補償層を転写して最終的に基材１３を剥離する場合、図８（ａ）の模式図に示すように、保護フィルム１５と、偏光子１１と、保護フィルム１２と、基材１３／第１の光学補償層（Ｂ）３０の積層体１２１とを、矢印方向に送り出し、それぞれの長尺方向を揃えた状態で接着剤等（図示せず）によって貼り合わせ、積層体１２３’を形成する。さらに、図８（ｂ）に示すように、積層体１２３’から基材１３を剥離して、積層体１２３（保護フィルム１５、偏光子１１、保護フィルム１２および第１の光学補償層（Ｂ）３０）を形成する。さらに、図９の模式図に示すように、第２の光学補償層（Ｃ）４０を準備し、これと積層体１２３（保護フィルム１５、偏光子１１、保護フィルム１２および第１の光学補償層（Ｂ）３０）とを、矢印方向に送り出し、それぞれの長尺方向を揃えた状態で接着剤等（図示せず）によって貼り合わせる。このようにして、光学補償層付偏光板５００（第２の光学補償層（Ｃ）４０／第１の光学補償層（Ｂ）３０／保護フィルム１２／偏光子１１／保護フィルム１５）を作製する。同様に、光学補償層付偏光板５００´（第２の光学補償層（Ｃ´）４０´／第１の光学補償層（Ｂ´）３０´／保護フィルム１２／偏光子１１／保護フィルム１５）を作製する。なお、図８、９において、符号１２２は、フィルム同士を貼り合わせるためのガイドロールを示す。また、符号１１３〜１１８は、各層を形成するフィルムおよび／または積層体を捲回するロールである。
【０１３８】
Ｂ−７．光学補償層付偏光板の用途
本発明における光学補償層付偏光板は、各種画像表示装置（例えば、液晶表示装置、自発光型表示装置）に好適に使用され得る。適用可能な画像表示装置の具体例としては、液晶表示装置、ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）が挙げられる。本発明における光学補償層付偏光板を液晶表示装置に用いる場合には、例えば、黒表示における光漏れ防止および視野角補償に有用である。本発明における光学補償層付偏光板は、ＶＡモードの液晶表示装置に好適に用いられ、反射型および半透過型のＶＡモードの液晶表示装置に特に好適に用いられる。また、本発明における光学補償層付偏光板をＥＬディスプレイに用いる場合には、例えば、電極反射防止に有用である。
【０１３９】
Ｂ−８．液晶パネルの製造
上記のようにして得られた光学補償層付偏光板５００の第２の光学補償層（Ｃ）４０側および光学補償層付偏光板５００´の第２の光学補償層（Ｃ´）４０´側を、光学補償層付偏光板５００中の偏光子１１の吸収軸と光学補償層付偏光板５００´中の偏光子１１´の吸収軸とが互いに直交するように、液晶セルの両面のそれぞれに貼り付けることにより、図１に示すような液晶パネルが得られる。
【０１４０】
液晶セルの駆動モードとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な駆動モードが採用され得る。駆動モードの具体例としては、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードおよびＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードが挙げられる。ＶＡモードおよびＯＣＢモードが好ましい。例えば、第１の光学補償層および第２の光学補償層を組み合わせると、カラーシフトの改善が著しいからである。
【実施例】
【０１４１】
以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。
【０１４２】
（１）位相差の測定
試料フィルムの屈折率ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを、自動複屈折測定装置（王子計測機器株式会社製，自動複屈折計ＫＯＢＲＡ３１ＰＲ）により計測し、面内位相差Ｒｅおよび厚み方向位相差Ｒｔｈを算出した。測定温度は２３℃、測定波長は５９０ｎｍであった。
【０１４３】
（２）厚みの測定
第１の光学補償層の厚みは大塚電子製ＭＣＰＤ２０００を用いて、干渉膜厚測定法によって測定した。その他の各種フィルムの厚みは、ダイヤルゲージを用いて測定した。
【０１４４】
（３）コントラストの測定
得られた液晶パネルの黒表示状態でのコントラストを測定した。測定には、ＥＬＤＩＭ社製「ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ  １６０Ｄ」を用いた。
【０１４５】
〔実施例１〜３〕
ａ．ＴＡＣ／偏光子／ＴＡＣからなる偏光板の作製
ポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素を含む水溶液中で染色した後、ホウ酸を含む水溶液中で速比の異なるロール間にて６倍に一軸延伸して偏光子を得た。この偏光子と、ＴＡＣフィルム（厚み４０μｍ）を、接着剤を用いて、偏光子の吸収軸方向が長手方向となるように、ＴＡＣ／偏光子／ＴＡＣの順になるように貼り付け、偏光板を得た。
【０１４６】
ｂ．配向処理
上記で得られた偏光板の一方のＴＡＣフィルム面を、図７（ａ）に示すように、同一原反（全長３０００ｍ、全幅長５００ｍｍ）上、ラビングロールを用いて、ラビング角度＝約＋２３°および約−２３°でラビングした。
【０１４７】
ｃ．第１の光学補償層の形成
ネマティック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）１０ｇと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）０．５ｇとを、トルエン４０ｇに溶解して、液晶組成物（塗工液）を調製した。上記のように作製した偏光板（１）の配向処理面上に、当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、９０℃で２分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。このようにして形成された液晶層に、メタルハライドランプを用いて２０ｍＪ/ｃｍ2の光を照射し、当該液晶層を硬化させることによって、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する第１の光学補償層を形成した。＋角の配向処理面上には第１の光学補償層（１Ａ）が形成され、−角の配向処理面上には第１の光学補償層（１Ｂ）が形成された。得られた積層体から第１の光学補償層（１Ａ）が形成された部分および第１の光学補償層（１Ｂ）が形成された部分を打ち抜いた。第１の光学補償層（１Ａ）および第１の光学補償層（１Ｂ）の厚みは２μｍであった。第１の光学補償層（１Ａ）の面内位相差、第１の光学補償層（１Ｂ）の面内位相差、それらの差は表１に示す通りであった。
【０１４８】
ｄ．第２の光学補償層の形成
ノルボルネン系のフィルムである日本ゼオン製の商品名「ゼオノア」（延伸前の厚みは６０μｍ）を、１３５℃でＸ軸方向に１．２５倍、Ｙ軸方向に１．０３倍に２軸延伸し、第２の光学補償層（延伸後の厚みは４０μｍ）を作成した。第２の光学補償層の位相差を王子計測製のＫＯＢＲＡ２１−ＡＤＨを使用して測定したところ、面内位相差が１２０ｎｍ、厚み方向位相差が１９２ｎｍ、Ｎｚ係数＝１．６であった。
【０１４９】
ｅ．光学補償層付偏光板の作製
上記で得られた第１の光学補償層（１Ａ）／偏光板の積層体の第１の光学補償層（１Ａ）面に、上記で得られた第２の光学補償層を、イソシアネート系接着剤を用いて貼り付け、第２の光学補償層／第１の光学補償層（１Ａ）／偏光板の構成を有する光学補償層付偏光板（Ａ）を得た。上記で得られた第１の光学補償層（１Ｂ）／偏光板の積層体の第１の光学補償層（１Ｂ）面に、上記で得られた第２の光学補償層を、イソシアネート系接着剤を用いて貼り付け、第２の光学補償層／第１の光学補償層（１Ｂ）／偏光板の構成を有する光学補償層付偏光板（Ｂ）を得た。
【０１５０】
ｆ．液晶パネルの作製
液晶セル（ソニー製のＰＳＰ（プレイステーションポータブル）から取り出したもの）の視認側に光学補償層付偏光板（Ｂ）を、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けた。その際、偏光板が外側（視認側）になるように貼り付けた。液晶セルのバックライト側には、光学補償層付偏光板（Ａ）を、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けた。その際、偏光板が外側（バックライト側）になるように貼り付けた。また、光学補償層付偏光板（Ａ）中の偏光子の吸収軸と光学補償層付偏光板（Ｂ）中の偏光子の吸収軸とが直交するような配置にした。
【０１５１】
ｇ．評価
得られた液晶パネルのコントラストを測定した。結果を表１に示す。
【０１５２】
〔実施例４〜６〕
ａ．基材の配向処理
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ株式会社製、ルミラーＲ４１）（厚み５０μｍ）の一方の面を、図７（ａ）に示すように、同一原反（全長３０００ｍ、全幅長５００ｍｍ）上、ラビングロールを用いて、ラビング角度＝約＋２３°および約−２３°でラビングした。
【０１５３】
ｂ．第１の光学補償層の形成
ネマティック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）１０ｇと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）０．５ｇとを、トルエン４０ｇに溶解して、液晶組成物（塗工液）を調製した。上記のように作製したＰＥＴ基材の配向処理面上に、当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、９０℃で２分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。このようにして形成された液晶層に、メタルハライドランプを用いて２０ｍＪ/ｃｍ2の光を照射し、当該液晶層を硬化させることによって、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する第１の光学補償層を形成した。＋角の配向処理面上には第１の光学補償層（１Ａ）が形成され、−角の配向処理面上には第１の光学補償層（１Ｂ）が形成された。得られた積層体から第１の光学補償層（１Ａ）が形成された部分および第１の光学補償層（１Ｂ）が形成された部分を打ち抜いた。第１の光学補償層（１Ａ）および第１の光学補償層（１Ｂ）の厚みは２μｍであった。第１の光学補償層（１Ａ）の面内位相差、第１の光学補償層（１Ｂ）の面内位相差、それらの差は表１に示す通りであった。
【０１５４】
ｃ．偏光子の作製
ポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素を含む水溶液中で染色した後、ホウ酸を含む水溶液中で速比の異なるロール間にて６倍に一軸延伸して偏光子を得た。
【０１５５】
ｄ．第２の光学補償層の形成
ノルボルネン系のフィルムである日本ゼオン製の商品名「ゼオノア」（延伸前の厚みは６０μｍ）を、１３５℃でＸ軸方向に１．２５倍、Ｙ軸方向に１．０３倍に２軸延伸し、第２の光学補償層（延伸後の厚みは４０μｍ）を作成した。第２の光学補償層の位相差を王子計測製のＫＯＢＲＡ２１−ＡＤＨを使用して測定したところ、面内位相差が１２０ｎｍ、厚み方向位相差が１９２ｎｍ、Ｎｚ係数＝１．６であった。
【０１５６】
ｅ．光学補償層付偏光板の作製
ＴＡＣフィルム（厚み４０μｍ）、上記ｃで得られた偏光子、ＴＡＣフィルム（厚み４０μｍ）、上記ｂで得られた第１の光学補償層（１Ａ）／ＰＥＴ基材の積層体を、図８（ａ）に示すように積層し、その後、図８（ｂ）に示すようにＰＥＴ基材を剥離した。これにより、ＴＡＣ／偏光子／ＴＡＣ／第１の光学補償層（１Ａ）の積層体を得た。さらに、この積層体と上記ｄで得られた第２の光学補償層とを、イソシアネート系接着剤を用いて、図９に示すように積層し、第２の光学補償層／第１の光学補償層（１Ａ）／ＴＡＣ／偏光子／ＴＡＣの構成を有する光学補償層付偏光板（Ａ）を得た。同様に、ＴＡＣフィルム（厚み４０μｍ）、上記ｃで得られた偏光子、ＴＡＣフィルム（厚み４０μｍ）、上記ｂで得られた第１の光学補償層（１Ｂ）／ＰＥＴ基材の積層体を、図８（ａ）に示すように積層し、その後、図８（ｂ）に示すようにＰＥＴ基材を剥離した。これにより、ＴＡＣ／偏光子／ＴＡＣ／第１の光学補償層（１Ｂ）の積層体を得た。さらに、この積層体と上記ｄで得られた第２の光学補償層とを、イソシアネート系接着剤を用いて、図９に示すように積層し、第２の光学補償層／第１の光学補償層（１Ｂ）／ＴＡＣ／偏光子／ＴＡＣの構成を有する光学補償層付偏光板（Ｂ）を得た。
【０１５７】
ｆ．液晶パネルの作製
液晶セル（ソニー製のＰＳＰ（プレイステーションポータブル）から取り出したもの）の視認側に光学補償層付偏光板（Ｂ）を、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けた。その際、偏光板が外側（視認側）になるように貼り付けた。液晶セルのバックライト側には、光学補償層付偏光板（Ａ）を、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を介して貼り付けた。その際、偏光板が外側（バックライト側）になるように貼り付けた。また、光学補償層付偏光板（Ａ）中の偏光子の吸収軸と光学補償層付偏光板（Ｂ）中の偏光子の吸収軸とが直交するような配置にした。
【０１５８】
ｇ．評価
得られた液晶パネルのコントラストを測定した。結果を表１に示す。
【０１５９】
〔比較例１〜３〕
実施例１〜３の項目ｂにおいて、項目ａに従って得られた偏光板の一方のＴＡＣフィルム面を、ラビングロールを用いて、ラビング角度＝約＋２３°でラビングした。また、別途項目ａに従って得られた偏光板の一方のＴＡＣフィルム面を、ラビングロールを用いて、ラビング角度＝約−２３°でラビングした。
【０１６０】
実施例１〜３の項目ｃと同様に、＋角の配向処理がなされた偏光板の配向処理面上に第１の光学補償層（１Ｃ）を形成し、−角の配向処理がなされた偏光板の配向処理面上に第１の光学補償層（１Ｄ）を形成した。第１の光学補償層（１Ｃ）および第１の光学補償層（１Ｄ）の厚みは２μｍであった。第１の光学補償層（１Ｃ）の面内位相差、第１の光学補償層（１Ｄ）の面内位相差、それらの差は表１に示す通りであった。
【０１６１】
実施例１〜３の項目ｄ、ｅ、ｆと同様に行い、液晶パネルを得た。得られた液晶パネルのコントラストを測定した。結果を表１に示す。
【０１６２】
〔比較例４〜６〕
実施例４〜６の項目ａにおいて、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの一方の面を、ラビングロールを用いて、ラビング角度＝約＋２３°でラビングした。また、別途用意したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの一方の面を、ラビングロールを用いて、ラビング角度＝約−２３°でラビングした。
【０１６３】
実施例４〜６の項目ｂと同様に、＋角の配向処理がなされたＰＥＴ基材の配向処理面上に第１の光学補償層（１Ｃ）を形成し、−角の配向処理がなされたＰＥＴ基材の配向処理面上に第１の光学補償層（１Ｄ）を形成した。第１の光学補償層（１Ｃ）および第１の光学補償層（１Ｄ）の厚みは２μｍであった。第１の光学補償層（１Ｃ）の面内位相差、第１の光学補償層（１Ｄ）の面内位相差、それらの差は表１に示す通りであった。
【０１６４】
実施例４〜６の項目ｃ、ｄ、ｅ、ｆと同様に行い、液晶パネルを得た。得られた液晶パネルのコントラストを測定した。結果を表１に示す。
【０１６５】
【表１】
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【０１６６】
実施例１〜６においては、液晶セルの上下に配置する光学補償層付偏光板（Ａ）と（Ｂ）で用いられている基材（実施例１〜３においてはＴＡＣフィルム、実施例４〜６においてはＰＥＴフィルム）が同一原反由来のものである。したがって、製造ロット間での基材の厚みのばらつきが低減され、厚みの精度が上がる。また、製造ロット間での基材の表面状態や表面エネルギーのばらつきが低減され、結果として位相差のばらつきを低減できる。
【０１６７】
実施例１〜６においては、液晶セルの上下に配置する光学補償層付偏光板（Ａ）と（Ｂ）で第１の光学補償層の形成するために用いる塗工液として、同一ロットの塗工液を用いることができる。一般に塗工液は、例えば、液晶材料と１種類あるいは２種類以上の溶剤と重合開始剤とを含む。このように、一般に塗工液は重合開始剤を含むので、調製した塗工液は比較的早く化学反応が進んで粘度が高くなり、塗工が困難になったり所望の特性が得られなくなったりするおそれがある。このため、比較例１〜６のように、別々の基材上にそれぞれ第１の光学補償層を形成する場合には、その都度に調製した異なるロットの塗工液を用いることが必要となってしまう。実施例１〜６のように同一ロットの塗工液を用いることにより、製造ロット間での液晶材料の性質（分子量分布、不純物量など）に起因するムラを排除でき、結果として位相差のばらつきを低減できる。また、実施例１〜６のように同一ロットの塗工液を用いることにより、製造ロット間における、使用する塗工液の濃度や組成比に起因するムラを排除でき、結果として位相差のばらつきを低減できる。
【０１６８】
実施例１〜６においては、液晶セルの上下に配置する光学補償層付偏光板（Ａ）と（Ｂ）で第１の光学補償層の形成するために用いる塗工液の塗工を、実質的に同時に行うことができる。このため、塗工液の塗工時の温度のばらつきを低減することができ、このため、塗工膜の厚みや特性を均一なものとでき、結果として位相差のばらつきを低減できる。また、塗工液の吐き出し口と基材（配向フィルム）とのギャップ距離のばらつきを低減することができ、このため、塗工膜の厚みを均一なものとでき、結果として位相差のばらつきを低減できる。さらに、乾燥炉の温度のばらつきを低減することができ、結果として位相差のばらつきを低減できる。
【産業上の利用可能性】
【０１６９】
本発明の液晶パネルは、各種画像表示装置（例えば、液晶表示装置、自発光型表示装置）に好適に使用され得る。
【図面の簡単な説明】
【０１７０】
【図１】本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。
【図２】本発明の好ましい実施形態による光学補償層付偏光板の分解斜視図である。
【図３】本発明の好ましい実施形態による別の光学補償層付偏光板の分解斜視図である。
【図４】本発明における配向処理の一例を示す斜視図である。
【図５】本発明における配向処理の別の一例を示す斜視図である。
【図６】本発明の液晶パネルの製造方法の一例における工程の概略を示す斜視図である。
【図７】本発明の液晶パネルの製造方法の一例における別の工程の概略を示す模式図である。
【図８】本発明の液晶パネルの製造方法の一例におけるさらに別の工程の概略を示す模式図である。
【図９】本発明の液晶パネルの製造方法の一例におけるさらに別の工程の概略を示す模式図である。
【図１０】従来の代表的な液晶パネルの概略断面図である。
【図１１】従来の代表的な液晶パネルに用いられ得る代表的な液晶セルの概略断面図である。
【符号の説明】
【０１７１】
１０、１０´          偏光板
１１、１１´          偏光子
１２                  保護フィルム
１３                  基材
１５                  保護フィルム
２０                  液晶セル
３０、３０´          第１の光学補償層
４０、４０´          第２の光学補償層
１００                  液晶パネル
５００、５００´        光学補償層付偏光板
【図１】
2007147799.tif 000010
【図２】
2007147799.tif 000011
【図３】
2007147799.tif 000012
【図４】
2007147799.tif 000013
【図５】
2007147799.tif 000014
【図６】
2007147799.tif 000015
【図７】
2007147799.tif 000016
【図８】
2007147799.tif 000017
【図９】
2007147799.tif 000018
【図１０】
2007147799.tif 000019
【図１１】
2007147799.tif 000020
【手続補正書】
【提出日】平成18年7月27日(2006.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セルの両側にｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する第１の光学補償層と偏光子とをこの順に有し、０＜α＜９０であって、該液晶セルの一方の側における該偏光子（Ａ）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ）の遅相軸とのなす角度が＋α°、該液晶セルのもう一方の側における該偏光子（Ａ´）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ´）の遅相軸とのなす角度が−α°である液晶パネルの製造方法であって、
同一原反の長尺の基材の表面に、基材の長尺方向に対して＋α°または−α°の配向処理を連続して行い、その後、続いて、反対の符号の角度の配向処理を連続して行う工程と、
該＋α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ）を形成し、該−α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ´）を形成する工程と、
該同一原反の長尺の基材の該配向処理を施した表面とは反対側の表面と、長手方向に吸収軸を有する長尺の偏光子とを、それぞれの長手方向を揃えて連続的に貼り合わせる工程と、
を含む、液晶パネルの製造方法。
【請求項２】
液晶セルの両側にｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有する第１の光学補償層と偏光子とをこの順に有し、０＜α＜９０であって、該液晶セルの一方の側における該偏光子（Ａ）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ）の遅相軸とのなす角度が＋α°、該液晶セルのもう一方の側における該偏光子（Ａ´）の吸収軸と該第１の光学補償層（Ｂ´）の遅相軸とのなす角度が−α°である液晶パネルの製造方法であって、
同一原反の長尺の基材の表面に、基材の長尺方向に対して＋α°または−α°の配向処理を連続して行い、その後、続いて、反対の符号の角度の配向処理を連続して行う工程と、
該＋α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ）を形成し、該−α°の配向処理を施した表面に第１の光学補償層（Ｂ´）を形成する工程と、
該基材上に形成された第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）を透明保護フィルムの表面に転写して該基材を剥離する工程と、
該透明保護フィルムの該第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）とは反対側の表面と、長手方向に吸収軸を有する長尺の偏光子とを、それぞれの長手方向を揃えて連続的に貼り合わせる工程と、
を含む、液晶パネルの製造方法。
【請求項３】
前記同一原反の基材が、全長５００〜１００００ｍの１本の原反である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）のそれぞれを形成する工程が、液晶材料を含有する塗工液を塗工する工程と、該塗工された液晶材料を該液晶材料が液晶相を示す温度で処理して配向させる工程とを含む、請求項１から３までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
同一ロットの塗工液を用いて前記第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）のそれぞれを形成する、請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記液晶材料が重合性モノマーおよび／または架橋性モノマーを含み、前記液晶材料の配向工程が、重合処理および／または架橋処理を行うことをさらに含む、請求項４または５に記載の製造方法。
【請求項７】
前記重合処理および／または架橋処理が、加熱、光照射、紫外線照射から選ばれる少なくとも１つにより行われる、請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
前記液晶セルと前記第１の光学補償層（Ｂ）との間に、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を有する第２の光学補償層（Ｃ）を有し、前記液晶セルと前記第１の光学補償層（Ｂ´）との間に、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を有する第２の光学補償層（Ｃ´）を有する、請求項１から７までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項９】
前記偏光子（Ａ）の吸収軸と前記第２の光学補償層（Ｃ）の遅相軸とのなす角度が＋β°、前記偏光子（Ａ´）の吸収軸と前記第２の光学補償層（Ｃ´）の遅相軸とのなす角度が＋β°であり、βが８５〜９５である、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記第１の光学補償層（Ｂ）および（Ｂ´）のそれぞれがλ／２板である、請求項１から９までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項１１】
前記第２の光学補償層（Ｃ）および（Ｃ´）のそれぞれがλ／４板である、請求項８から１０までのいずれかに記載の製造方法。
【請求項１２】
請求項１から１１までのいずれかに記載の製造方法により得られる、液晶パネル。
【請求項１３】
請求項１２に記載の液晶パネルを含む、画像表示装置。