(57)【要約】【課題】封止材が基板間の奥に入り込んでも画像の表示品位が劣化しない電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。【解決手段】液晶装置１において、光反射性電極４１を備える第１の電極パターン４０を、注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるように形成する。従って、第１の透光性基板１０の側から封止材３１に紫外光を照射して封止材３１を硬化させる際、封止材３１の一部が封止材３１'として基板間の奥まで入り込んいても、このような封止材３１'にも、紫外光は、光反射性電極４１で遮られることなく十分に届くため、封止材３１'を確実に硬化させることができる。従って、封止材３１'から溶出した未硬化成分が液晶５に混入して液晶５のしきい値電圧を変動させるという不具合を回避することができる。【選択図】図３
2007188108.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光反射性電極が形成された第１の透光性基板と、カラーフィルタおよび透光性電極が形成された第１の透光性基板とをシール材によって貼り合せる貼り合わせ工程と、
前記シール材の途切れ部分からなる注入口から前記シール材で区画された領域内に電気光学物質を注入する注入工程と、
前記注入口に対して光硬化性の封止材を塗布した後、前記封止材に光照射して当該封止材を硬化させる封止工程と
を有する電気光学装置の製造方法において、
前記カラーフィルタおよび前記光反射性電極のうちの少なくも一方については、前記注入口およびその周辺領域を避けるように形成しておくことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記カラーフィルタおよび前記光反射性電極のうち、前記光反射性電極を前記注入口およびその周辺領域を避けるように形成しておくことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
請求項２において、前記封止工程では、前記第１の透光性基板および前記第２の透光性基板のうち、前記第１の透光性基板の側から前記封止材に向けて光を照射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１または２において、前記封止工程では、前記第１の透光性基板および前記第２の透光性基板の側端面に対向する側から前記封止材に向けて光を照射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、前記電気光学物質は、液晶であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一対の基板間に液晶などの電気光学物質を保持した電気光学装置、この電気光学装置を用いた電子機器、および電気光学装置の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、一対の基板間に電気光学物質を注入するための注入口に対する封止技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話機、モバイルコンピュータなどといった電子機器の表示部として、液晶装置などの電気光学装置が広く用いられており、液晶装置は、例えば、図１３ないし図１５に示すように構成される。
【０００３】
図１３は、従来の液晶装置の分解斜視図である。図１４（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１３に示す液晶装置を、図１３のＩＩ−ＩＩ'線で示す縦方向のうち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断したときのＩＩ'側端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置で切断したときのＩＩ'側端部の断面図である。図１５は、図１３に示す液晶装置に用いた第１の透光性基板の平面図である。
【０００４】
図１３に示すように、液晶装置１Ａは、矩形のガラスなどからなる第１の透光性基板１０と、同じく矩形のガラスなどからなる第２の透光性基板２０と、第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０とを貼り合せるシール材３０と、このシール材３０で区画された液晶封入領域３５内に保持された液晶５と、シール材３０の途切れ部分からなる注入口３２を封止する光硬化性の封止材３１とを有している。液晶装置１Ａでは、シール材３０で区画された液晶封入領域３５の内側のうち、電子機器において枠体の開口（図示せず）などで規定される部分が、利用者に画像を表示する画像表示領域２として利用される。
【０００５】
ここに示す液晶装置１Ａは、パッシブマトリクス型であり、第１の透光性基板１０には、画像表示領域２で縦方向にストライプ状に延びた第１の電極パターン４０が形成されている一方、第２の透光性基板２０には、画像表示領域２で横方向にストライプ状に延びた第２の電極パターン５０が形成されている。
【０００６】
液晶装置１Ａを反射型に構成する場合には、第１の透光性基板１０に形成する第１の電極パターン４０については、例えば、図１４（Ａ）に示すように、光反射性を備えた金属膜からなる光反射性電極４１と、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜などといった導電性金属酸化膜からなる透光性電極４２との２層構造にする。但し、本形態では、液晶装置１を半透過・半反射型に構成することを目的に、第１の電極パターン４０については光反射性電極４１と透光性電極４２との２層構造にするとともに、第１の電極パターン４０において第２の電極パターン５０と交差する部分の光反射性電極４１に対してはスリット状の開口などを形成することにより、光反射性電極４１に光反射性および透光性を付与してある。また、液晶装置１Ａを半透過・半反射型に構成する場合には、光反射性電極４１を薄くすることにより、光反射性および透光性を付与することもある。なお、第１の透光性基板１０には、第１の電極パターン４０の上層側に配向膜１２が形成されている。
【０００７】
これに対して、液晶装置１Ａを透過型、反射型、および半透過・半反射型のいずれのタイプに構成する場合も、第２の透光性基板２０に形成する第２の電極パターン５０については、第１の電極パターン４０の透光性電極４２と同様、ＩＴＯ膜からなる透光性電極で形成する。
【０００８】
ここで、第２の透光性基板２０には、第１の電極パターン４０と第２の電極パターン５０とが対向する領域を囲むように、ブラックマトリクスなどと称せられる遮光膜２３が形成されている。また、第２の透光性基板２０には、第１の電極パターン４０と第２の電極パターン５０とが対向する領域に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが形成され、これらのカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの表面側に、絶縁性の平坦化膜１１、第２の電極パターン５０、および配向膜２２がこの順に形成されている。
【０００９】
なお、本形態の液晶装置１Ａは、半透過・半反射型であるので、図１３に示すように、第１の透明基板１０の外側表面には偏光板６１が貼られ、第２の透明基板２０の外側表面には偏光板６２が貼られている。また、第１の透明基板１０の外側にはバックライト装置９が配置されている。
【００１０】
このように構成した液晶装置１Ａを製造する際には、第１の透光性基板１０および第２の透光性基板２０の各々に、第１の電極パターン４０および第２の電極パターン５０などを形成した後、第１の透光性基板１０および第２の透光性基板２０の一方にシール材３０を環状に塗布し、このシール材３０を介して第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０とを貼り合わせる。この状態において、第１の透光性基板１０の基板辺１０２が位置する側では、シール材３０の途切れ部分によって、第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０との間で開口する注入口３２が形成されている。従って、図１４（Ｂ）に矢印Ａで示すように、注入口３２から液晶封入領域３５内に液晶５を注入した後、注入口３２に対して光硬化性の封止材３１を塗布し、しかる後に、矢印ＵＶで示すように、第１の透光性基板１０の側から封止材３１に紫外光を照射して封止材３１を硬化させれば、注入口３２を封止することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
図１４（Ｂ）に示すように、液晶装置１Ａの製造工程において、注入口３２に対して光硬化性の封止材３１を塗布したとき、その一部が封止材３１'（点線で示す）として基板間の奥まで入り込んでしまうことがある。このような封止材３１'も硬化すれば、以下に説明するような不具合を発生させることはないが、従来の液晶装置１Ａでは、紫外光が光反射性電極４１に遮られて、基板間の奥まで入り込んだ封止材３１'にまで十分に届かず、封止材３１'が硬化しない。このため、従来の液晶装置１Ａでは、封止材３１'から溶出した未硬化成分が液晶５に混入して液晶５のしきい値電圧を変動させ、表示の品位を低下させるという問題点がある。
【００１２】
すなわち、液晶装置１Ａでは、画像表示領域２の縁部分でも品位の高い表示を行えるように、画像表示領域２の外側領域６にも所定の幅にわたって第１の電極パターン４０および第２の電極パターン５０を形成し、画像表示領域２の外側領域６でも液晶５を駆動するようになっているが、この部分の液晶５にしきい値電圧の変動が発生していると、それに起因する配向の乱れが画像表示領域２の内側に位置する液晶５の配向状態にも影響を及ぼす。その結果、画像表示領域２で表示された画像の品位が低下してしまうのである。
【００１３】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、封止材が基板間の奥に入り込んでも画像の表示品位が劣化しない電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法に関するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するため、本発明では、光反射性電極が形成された第１の透光性基板と、カラーフィルタおよび透光性電極が形成された第２の透光性基板と、前記第１の透光性基板と前記第２の透光性基板とを貼り合せ、注入口としての途切れ部分を備えるシール材と、該シール材で区画された領域内に保持された電気光学物質と、前記注入口を封止する光硬化性の封止材とを有する電気光学装置において、前記カラーフィルタおよび前記光反射性電極のうちの少なくも一方は、前記注入口およびその周辺領域を避けるように構成されていることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明では、光反射性電極が形成された第１の透光性基板と、カラーフィルタおよび透光性電極が形成された第２の透光性基板とをシール材によって貼り合せる貼り合わせ工程と、当該シール材の途切れ部分からなる注入口から前記シール材で区画された領域内に電気光学物質を注入する注入工程と、前記注入口に対して光硬化性の封止材を塗布した後、前記封止材に光照射して当該封止材を硬化させる封止工程とを有する電気光学装置の製造方法において、前記カラーフィルタおよび前記光反射性電極のうちの少なくも一方については、前記注入口およびその周辺領域を避けるように構成しておくことを特徴とする。
【００１６】
本発明では、光反射性電極、あるいはカラーフィルタが注入口およびその周辺領域を避けるように形成されているので、注入口に塗布した封止材に光照射して封止材を硬化させる際、注入口付近で基板間の奥に入り込んだ封止材についても光が十分、届く。このため、基板間の奥に入り込んだ封止材についても確実に硬化させることができる。従って、封止材から溶出した未硬化成分が電気光学物質に混ざり込んでそのしきい値電圧を変動させるなどといった不具合を回避できる。それ故、封止材の未硬化に起因する画像の品位の低下を確実に防止することができる。
【００１７】
本発明においては、前記カラーフィルタおよび前記光反射性電極のうち、例えば、前記光反射性電極の方を前記注入口およびその周辺領域を避けるように形成しておく。この場合、前記封止工程では、前記第１の透光性基板および前記第２の透光性基板のうち、前記第１の透光性基板の側から前記封止材に向けて光を照射する。
【００１８】
本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記封止工程では、前記第１の透光性基板および前記第２の透光性基板の側端面に対向する側から前記封止材に向けて光を照射してもよい。このような方向から光を照射した場合、基板の側端面から基板内に入射した光は、基板内を伝搬しながら基板間に出射される。ここに、本発明では、注入口およびその周辺領域を避けるように光反射性電極あるいはカラーフィルタが形成されているので、基板内を伝搬した光は、注入口およびその周辺領域においても基板間に出射される。従って、光が基板間の奥に入り込んだ封止材にも十分、届くので、このような封止材についても確実に硬化させることができる。
【００１９】
本発明において、前記第１の透光性基板では、画像表示領域から前記注入口が形成されている基板辺に向かって前記光反射性電極がストライプ状に延びている場合があり、この場合には、前記画像表示領域から前記基板辺側に位置する外側領域への前記光反射性電極のはみ出し寸法を、前記注入口およびその周辺領域ではそれに隣接する領域に比較して短くすれば、前記光反射性電極を前記注入口およびその周辺領域を避けるように形成することができる。
【００２０】
本発明において、前記反射性電極は、例えば、金属膜からなる。例えば、前記反射性電極は、少なくとも銀、白金および銅を含む合金からなる。
【００２１】
本発明において、前記反射性電極の上層側には、前記第２の透光性基板側に形成されている透光性電極と同一材料からなる透光性電極が積層されていることが好ましい。このように構成すると、第１の透光性基板と第２の透光性基板において、同一の材料からなる電極間に電気光学物質が挟まれた構成になるので、電気光学物質に分極配向などが発生しない。
【００２２】
本発明は、前記電気光学物質として液晶を用いた電気光学装置に適用すると、特に効果的である。各種の電気光学物質のうち、液晶の場合には、印加した電場によってその配向状態を制御することにより、光変調を行って画像を表示するため、画像表示領域の外側領域において液晶の配向状態が乱れると、その影響が画像表示領域内の液晶の配向状態にまで及びやすい傾向にある。しかるに本発明では、基板間の奥に入り込んだ封止材から溶出した未硬化成分が液晶に混ざり込むことがないので、このような未硬化成分の混入に起因する液晶の配向不良が画像表示領域の外側領域で発生しない。それ故、液晶装置において、封止材の未硬化に起因する画像の品位の低下を防止することができる。
【００２３】
本発明を適用した電気光学装置は、例えば、携帯電話機やモバイルコンピュータなどといった各種電子機器の表示部として用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下に実施形態を説明するにあたっては、各種の液晶装置のうち、パッシブマトリクス方式の液晶装置を例に説明する。
【００２５】
［実施の形態１］
図１および図２はそれぞれ、本発明の実施の形態１に係る液晶装置の斜視図、および分解斜視図である。図３（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１に示す液晶装置を、図１のＩ−Ｉ'線で示す縦方向のうち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断したときのＩ'側端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置で切断したときのＩ'側端部の断面図である。図４は、図１に示す液晶装置に用いた第１の透光性基板の平面図である。なお、図１および図２などには、電極パターンおよび端子などを模式的に示してあるだけであり、実際の液晶装置では、より多数の電極パターンや端子が形成されている。
【００２６】
図１および図２に示すように、液晶装置１は、矩形のガラスなどからなる第１の透光性基板１０と、同じく矩形のガラスなどからなる第２の透光性基板２０と、第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０とを貼り合せるシール材３０と、このシール材３０で区画された液晶封入領域３５内に保持された電気光学物質としての液晶５と、シール材３０の途切れ部分からなる注入口３２を封止する光硬化性の封止材３１とを有している。液晶装置１では、シール材３０で区画された液晶封入領域３５の内側のうち、電子機器において枠体３の開口４などで規定される部分が、利用者に画像を表示する画像表示領域２として利用される。
【００２７】
ここに示す液晶装置１Ａは、パッシブマトリクス型であり、第１の透光性基板１０および第２の透光性基板２０のうち、第１の透光性基板１０には、画像表示領域２で縦方向にストライプ状に延びた第１の電極パターン４０が形成されている。一方、第２の透光性基板２０には、画像表示領域２で横方向にストライプ状に延びた第２の電極パターン５０が形成されている。
【００２８】
液晶装置１を反射型に構成する場合には、第１の透光性基板１０に形成する第１の電極パターン４０については、図３（Ａ）に示すように、光反射性を備えた金属膜からなる光反射性電極４１と、ＩＴＯ膜などといった導電性金属酸化膜からなる透光性電極４２との２層構造にする。但し、本形態では、液晶装置１を半透過・半反射型に構成することを目的に、第１の電極パターン４０については、光反射性電極４１と透光性電極４２との２層構造にするとともに、第１の電極パターン４０において第２の電極パターン５０と交差する部分の光反射性電極４１に対してはスリット状の開口などを形成することにより、光反射性電極４１に光反射性および透光性を付与してある。また、液晶装置１Ａを半透過・半反射型に構成する場合には、光反射性電極４１を薄くして、光反射性および透光性を付与することもある。なお、第１の透光性基板１０には、第１の電極パターン４０の上層側に配向膜１２が形成されている。
【００２９】
ここで、光反射性電極４２は、アルミニウム膜、あるいは銀−白金−銅合金（ＡＰＣ）膜などといった金属膜から構成することができる。
【００３０】
これに対して、液晶装置１を透過型、反射型、および半透過・半反射型のいずれのタイプに構成する場合も、第２の透光性基板２０に形成する第２の電極パターン５０については、第１の電極パターン４０の透光性電極４２と同様、ＩＴＯ膜からなる透光性電極で構成してある。
【００３１】
従って、本形態の液晶装置１において、第１の電極パターン４０および第２の電極パターン５０で互いに対向する電極は、同一の材料から構成されているので、液晶５が分極配向するなどの問題を解消することができる。
【００３２】
ここで、第２の透光性基板２０には、第１の電極パターン４０と第２の電極パターン５０とが対向する領域を囲むように、ブラックマトリクスなどと称せられる遮光膜２３が形成されている。また、第２の透光性基板２０には、第１の電極パターン４０と第２の電極パターン５０とが対向する領域に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが形成され、これらのカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの表面側に、絶縁性の平坦化膜１１、第２の電極パターン５０および配向膜２２がこの順に形成されている。
【００３３】
なお、本形態の液晶装置１Ａは、半透過・半反射型であるので、図１および図２に示すように、第１の透明基板１０の外側表面には偏光板６１が貼られ、第２の透明基板２０の外側表面には偏光板６２が貼られている。また、第１の透明基板１０の外側にはバックライト装置９が配置されている。
【００３４】
（電極パターンおよび端子の構成）
再び図１および図２において、本形態の液晶装置１では、第１の透光性基板１０としては、第２の透光性基板２０よりも大きな基板が用いられ、第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０とを貼り合わせたときに第２の透光性基板１０の基板辺２０１から第１の透光性基板１０が張り出す部分１５を利用して、駆動用ＩＣ７が実装されているとともに、フレキシブル基板９０が接続されている。また、第２の透光性基板の基板辺２０１、および第１の透光性基板１０において第２の透光性基板２０の基板辺２０１と重なる部分には、基板間導通用端子６０、７０が形成されており、第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０とを貼り合せた状態で、基板間導通用端子６０、７０同士は、後述する導電材によって電気的に接続し、基板間の導通が行われる。
【００３５】
従って、フレキシブル基板９０から第１の透光性基板１０に実装されている駆動用ＩＣ７に信号入力すると、駆動用IＣ７から第１の電極パターン４０に画像信号が入力されるとともに、駆動用ＩＣ７から出力された走査信号は、基板間導通用端子６０、７０を介して第２の透光性基板２０に形成されている第２の電極パターン５０に供給される。従って、画像信号および走査信号によって、第１の電極パターン４０と第２の電極パターン５０との間に位置する液晶５の配向状態を制御することができるので、画像表示領域２において所定の画像をカラー表示することができる。
【００３６】
このような液晶装置１では、画像表示領域２の縁部分でも品位の高い表示を行えるように、図３（Ａ）、（Ｂ）および図４に示すように、画像表示領域２の外側領域６にも所定の幅にわたって第１の電極パターン４０および第２の電極パターン５０が形成され、画像表示領域２の外側領域６でも液晶５が駆動される。
【００３７】
但し、本形態では、図３（Ｂ）および図４に示すように、第１の電極パターン４０は、光反射性電極４１および透光性電極４２のいずれもが、注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるように構成されている。すなわち、第１の透光性基板１０では、画像表示領域２から注入口３２が形成されている基板辺１０２に向かって画像表示領域２の外側領域６にはみ出すように第１の電極パターン４０がストライプ状に延びているが、第１の電極パターン４０のうち、画像表示領域２から注入口３２およびその周辺領域３２０に向かう第１の電極パターン４０Ａの外側領域６へのはみ出し寸法は、それに隣接する領域に向かう第１の電極パターン４０Ｂの外側領域６へのはみ出し寸法と比較して短い。それ故、第１の透光性基板１０において、注入口３２および周辺領域３２０には、第１の電極パターン４０（光反射性電極４１および透光性電極４２）が形成されていない。
【００３８】
（液晶装置１の製造方法）
図５および図６は、それぞれ液晶装置１の製造方法を示す工程図、および説明図である。図７（Ａ）は、液晶装置１の製造方法において行う液晶注入工程の説明図、図７（Ｂ）は、この液晶注入工程に続いて行う封止工程の説明図である。
【００３９】
本形態の液晶装置１を製造するにあたって、第１の透光性基板１０および第２の透光性基板２０はいずれも、図５および図６に示す工程（Ａ）において、これらの基板１０、２０を各々、多数枚取りできる大型基板の状態で、図３（Ａ）、（Ｂ）を参照して説明した遮光膜２３、カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ、平坦化膜２１（いずれも図示せず）、電極パターン４０、５０などの形成工程が行われる。なお、液晶装置１を製造するにあたっては、単品の液晶装置１に対応したサイズに第１および第２の透光性基板１０、２０を切り出した後、これらの基板１０、２０の各々に電極パターン４０、５０などを形成する方法を採用することもあるが、いずれの方法も基本的な内容が同様であるため、以下の説明では、そのサイズに関わらず、一対の基板を第１の透光性基板１０および第２の透光性基板２０として説明する。
【００４０】
次に、図５および図６に示す工程（Ｂ）において、各大型の基板１０、２０の各々に対して、配向膜１２、２２の形成およびラビング工程を行った後、図５および図６に示す工程（Ｃ）において、例えば、第１の透光性基板１０にシール材３０を塗布する一方、第２の透光性基板２００にギャップ材を散布する。ここで、シール材３０は、図２に示すように、液晶封入領域３５を区画し、かつ、途切れ部分によって注入口３２を形成するように塗布する。
【００４１】
次に、図５および図６に示す工程（Ｄ）において、第１の透光性基板１０と第２の透光性基板２０とを所定の位置関係をもって貼り合わせて大型のパネル３００を形成する（貼り合わせ工程）。
【００４２】
このように構成した大型のパネル３００から図１および図２を参照して説明した単品の液晶装置１を得るには、まず、図５および図６に示す工程（Ｅ）において、大型のパネル３０に対する切断工程（１次ブレイク工程）として、第１および第２の透光性基板１０、２０に対して、スクライブ溝３０２をそれぞれ切断予定線３０１の全体、あるいはその両端部に形成した後、各透光性基板１０、２０に対して切断予定線３０１に沿って、所定の押圧治具を裏面側から押し当てて機械的応力を加える、あるいはレーザ光を照射することにより、大型のパネル３００を短冊状のパネル４００に切断する。
【００４３】
この状態において、短冊状のパネル４００の切断部分（側端面）には、図７（Ａ）に示すように、単品の液晶装置用のパネル１'として切り出される領域毎に、注入口３２が開口しているので、図５および図６に示す工程（Ｆ）において、注入口３２からパネル１'内に液晶３６を注入する（液晶注入工程）。
【００４４】
次に、図７（Ｂ）に示すように、注入口３２に対して、アクリル系樹脂などとった光硬化性の封止材３１を塗布した後、第１の透光性基板１０の面外方向から封止材３１に対してＵＶ光（矢印Ｌで示す）を所定のパワー密度で照射して、封止材３１を硬化させる（封止工程）。
【００４５】
次に、図５および図６に示す工程（Ｇ）において、短冊状のパネル４００に対する切断工程（２次ブレイク工程）として、第１および第２の透光性基板１０、２０に対して、スクライブ溝４０２をそれぞれ切断予定線４０１の全体、あるいはその両端部に形成した後、各透光性基板１０、２０に対して切断予定線４０１に沿って、所定の押圧治具を裏面側から押し当てて機械的応力を加える、あるいはレーザ光を照射することにより、短冊状のパネル４００を単品のパネル１'に切断する。
【００４６】
なお、単品のパネル１'については、図１および図２に示すように、第２の透光性基板２０を第１の透光性基板１０よりも小さ目に仕上げて、各端子領域を露出させる必要があるので、第２の透光性基板２０の切断予定線４０３の全体、あるいはその両端部にスクライブ溝４０４を形成した後、切断予定線４０３に沿って、所定の押圧治具を裏面側から押し当てて機械的応力を加える、あるいはレーザ光を照射することにより、第２の透光性基板２０から不要な部分を除去して、第１の透光性基板１０から端子領域を露出させる（短冊からの除材工程）。
【００４７】
しかる後には、図５および図６に示す工程（Ｈ）において、駆動用ＩＣ７やフレキシブル基板９０などの実装を行って液晶装置１を完成させる。
【００４８】
このように、本形態の液晶装置１およびその製造方法では、第１の電極パターン４０は、図３（Ｂ）および図４に示すように、注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるように形成されているので、図３（Ｂ）および図７（Ｂ）に示すように、第１の透光性基板１０の側から封止材３１に紫外光を照射して封止材３１を硬化させる際、図３（Ｂ）に示すように、封止材３１の一部が封止材３１'（点線で示す）として基板間の奥まで入り込んでいても、このような封止材３１'に対して、紫外光は、光反射性電極４１で遮られることなく十分に届く。このため、基板間の奥まで入り込んだ封止材３１'を確実に硬化させることができる。従って、封止材３１'から溶出した未硬化成分が液晶５に混入して液晶５のしきい値電圧を変動させるという不具合を回避することができる。よって、封止材３１の未硬化に起因する画像の品位の低下を確実に防止することができる。
【００４９】
しかも、注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるように第１の電極パターン４０を形成しても、第１の透光性基板１０において、第１の電極パターン４０が形成されていない領域は、あくまで画像表示領域２の外側領域６の極めて狭い領域であるため、第１の電極パターン４０がなくても表示品位が低下することはない。
【００５０】
［実施の形態２］
図８（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形態２に係る液晶装置を、図１のＩ−Ｉ'線で示す縦方向のうち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断したときのＩ'側端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置で切断したときのＩ'側端部の断面図である。
【００５１】
上記実施形態では、図７（Ｂ）に示すように、封止工程において、注入口３２に対して光硬化性の封止材３１を塗布した後、第１の透光性基板１０の側から封止材３１に紫外光を照射して封止材３１を硬化させたが、図８（Ａ）、（Ｂ）に示すように、注入口３２に対して光硬化性の封止材３１を塗布した後、矢印ＵＶで示すように、第２の透光性基板２０の側から封止材３１に紫外光を照射して封止材３１を硬化させてもよい。
【００５２】
このような封止工程を採用するにあたって、本形態では、遮光膜２３、カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ、および第２の電極パターン５０については、注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるように形成しておく。その他の構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する機能を有する部分には、同一の符号を付して図８（Ａ）、（Ｂ）に示すことにして、それらの説明を省略する。
【００５３】
このように構成すると、封止工程において、第２の透光性基板２０の側から光照射して封止材３１を硬化させる際、注入口３２付近で基板間の奥に入り込んだ封止材３１'に対しても、紫外光は、遮光膜２３やカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂで吸収、減衰することなく、十分に照射されるので、基板間の奥に入り込んだ封止材３１'についても確実に硬化させることができる。それ故、封止材３１'から未硬化成分などが液晶に混ざり込んでそのしきい値電圧を変動させるという不具合を回避できる。それ故、封止材３１の未硬化に起因する画像の品位の低下を確実に防止することができる。
【００５４】
また、注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるように遮光膜２３、カラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂ、および第２の電極パターン５０を形成しても、これらの要素が形成されていない領域は、あくまで画像表示領域２の外側領域６の極めて狭い領域であるため、表示品位が低下することはない。
【００５５】
［実施の形態３］
図９（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形態３に係る液晶装置を、図１のＩ−Ｉ'線で示す縦方向のうち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断したときのＩ'側端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置で切断したときのＩ'側端部の断面図である。
【００５６】
上記実施形態１、２では、第１の透光性基板１０の側、あるいは第２の透光性基板２０の側から紫外光を照射し、かつ、第１の電極パターン４０、あるいはカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂや遮光膜２３については、注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるように形成した構成であったが、本形態では、図９（Ａ）、（Ｂ）に示すように、注入口３２に封止材３１を塗布した後、矢印ＵＶで示すように、第１の透光性基板１０および第２の透光性基板２０の面内方向（短冊状パネル４００の側端面４１０に対向する方向）から光照射して封止材３１を硬化させる封止工程を採用し、かつ、実施の形態１、２で説明したように、第１の電極パターン４０、あるいはカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂや遮光膜２３については、注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるように形成した構成を採用している。その他の構成は、実施の形態１、２と同様であるため、共通する機能を有する部分には、同一の符号を付して図９（Ａ）、（Ｂ）に示すことにして、それらの説明を省略する。
【００５７】
本形態のように、第１の透光性基板１０および第２の透光性基板２０の面内方向（短冊状パネル４００の側端面４１０に対向する方向）から紫外光を照射した場合、第１の透光性基板１０および第２の透光性基板２０の側端面から基板内に入射した紫外光は、基板内を伝搬しながら、基板間に出射される。この際に、注入口３２およびその周辺領域３２０を避けるように、第１の電極パターン４０、あるいはカラーフィルタ７Ｒ、７Ｇ、７Ｂや遮光膜２３を形成しておくと、基板内を伝搬した光は、注入口３２およびその周辺領域３２０においても基板間に出射され、基板間の奥に入り込んだ封止材３１'に紫外光が十分に照射される。従って、注入口３２付近で基板間の奥に入り込んだ封止材３１'についても確実に硬化させることができるので、封止材３１'から溶出した未硬化成分が液晶に混ざり込んでそのしきい値電圧を変動させるという不具合を回避できる。
【００５８】
［その他の実施の形態］
上記の形態では、パッシブマトリクス型の液晶装置１に本発明を適用した例を説明したが、能動素子としてＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置、あるいは能動素子として薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置等々、各種の液晶装置の製造に本発明を適用してもよい。
【００５９】
［電子機器の実施形態］
図１０は、本発明に係る液晶装置（液晶装置１）を各種の電子機器の表示装置として用いる場合の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源７０、表示情報処理回路７１、電源回路７２、タイミングジェネレータ７３、そして液晶装置７４を有する。また、液晶装置７４は、液晶表示パネル７５および駆動回路７６を有する。液晶装置７４および液晶パネル７５としては、前述した液晶装置１、および単品のパネル１'を用いることができる。
【００６０】
表示情報出力源７０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ７３によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路７１に供給する。
【００６１】
表示情報処理回路７１は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路７６へ供給する。電源回路７２は、各構成要素に所定の電圧を供給する。
【００６２】
図１１は、本発明に係る電子機器の一実施形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示している。ここに示すパーソナルコンピュータ８０は、キーボード８６を備えた本体部８７と、液晶表示ユニット８８とを有する。液晶表示ユニット８８は、前述した液晶装置１を含んで構成される。
【００６３】
図１２は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機９０は、複数の操作ボタン９１と、液晶装置からなる液晶装置１を有している。
【００６４】
以上説明したように、本発明では、光反射性電極、あるいはカラーフィルタが注入口およびその周辺領域を避けるように形成されているので、注入口に塗布した封止材に光照射して封止材を硬化させる際、注入口付近で基板間の奥に入り込んだ封止材についても確実に硬化させることができる。従って、封止材から未硬化成分などが電気光学物質に混ざり込んでそのしきい値電圧を変動させるという不具合を回避できる。それ故、封止材の未硬化に起因する画像の品位の低下を確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の実施の形態１に係る液晶装置の斜視図である。
【図２】図１に示す液晶装置の分解斜視図である。
【図３】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１に示す液晶装置を、図１のＩ−Ｉ'線で示す縦方向のうち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断したときのＩ'側端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置で切断したときのＩ'側端部の断面図である。
【図４】図１に示す液晶装置に用いた第１の透光性基板の平面図である。
【図５】図１に示す液晶装置の製造方法を示す工程図である。
【図６】図１に示す液晶装置の製造方法を示す説明図である。
【図７】（Ａ）は、図１に示す液晶装置の製造方法において行う液晶注入工程の説明図、（Ｂ）は、この液晶注入工程に続いて行う塗布工程および硬化工程の説明図である。
【図８】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形態２に係る液晶装置を、図１のＩ−Ｉ'線で示す縦方向のうち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断したときのＩ'側端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置で切断したときのＩ'側端部の断面図である。
【図９】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形態３に係る液晶装置を、図１のＩ−Ｉ'線で示す縦方向のうち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断したときのＩ'側端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置で切断したときのＩ'側端部の断面図である。
【図１０】本発明に係る液晶装置を用いた各種電子機器の構成を示すブロック図である。
【図１１】本発明に係る液晶装置を用いた電子機器の一実施形態としてのモバイル型のパーソナルコンピュータを示す説明図である。
【図１２】本発明に係る液晶装置を用いた電子機器の一実施形態としての携帯電話機の説明図である。
【図１３】従来の液晶装置の分解斜視図である。
【図１４】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ、図１３に示す液晶装置を図１３のＩＩ−ＩＩ'線で示す方向のうち、液晶の注入口周辺を避けた位置で切断したときのＩＩ'側端部の断面図、および液晶の注入口を通る位置で切断したときのＩＩ'側端部の断面図である。
【図１５】図１３に示す液晶装置に用いた第１の透光性基板の平面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１…液晶装置（電気光学装置）、２…画像表示領域、６…画像表示領域の外側領域、７Ｒ，７Ｇ，７Ｂ…カラーフィルタ、１０…第１の透光性基板、２０…第２の透光性基板、２３…遮光膜、３０…シール材、３１…封止材（光硬化性材料）、３１'…奥まで入り込んだ封止材、３２…注入口、３５…液晶封入領域、３６…液晶（電気光学物質）、４０…第１の電極パターン、４１…光反射性電極、４２…透光性電極、５０…第２の電極パターン、３２０…注入口の周辺領域、４００…短冊状のパネル、４１０…パネルの側端面。
【図１】
2007188108.tif 000003
【図２】
2007188108.tif 000004
【図３】
2007188108.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2007188108.tif 000009
【図８】
2007188108.tif 000010
【図９】
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【図１０】
2007188108.tif 000012
【図１１】
2007188108.tif 000013
【図１２】
2007188108.tif 000014
【図１３】
2007188108.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
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【手続補正書】
【提出日】平成19年5月7日(2007.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の透光性基板と、第２の透光性基板とを注入口が形成されたシール材によって貼り合わせ、前記注入口から前記第１の透光性基板と前記第２の透光性基板との間に電気光学物質を注入し、前記注入口に封止材を塗布する電気光学装置の製造方法において、
前記封止材に向けて光を照射して、前記注入口を越えて前記第１の透光性基板と前記第２の透光性基板との間に入り込んだ前記封止材を硬化させる工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記第１の透光性基板に光反射性を備えた金属膜を前記注入口及び前記注入口周辺を避けて形成する工程を有し、
前記第１の基板側から前記封止材に向けて前記光を照射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記第２の透光性基板にカラーフィルタを前記注入口及び前記注入口周辺を避けて形成する工程を有し、
前記第２の基板側から前記封止材に向けて前記光を照射することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
第１の透光性基板と、第２の透光性基板とを注入口が形成されたシール材によって貼り合わせ、前記注入口から前記第１の透光性基板と前記第２の透光性基板との間に電気光学物質を注入し、前記注入口に封止材を塗布する電気光学装置の製造方法において、
前記第１の透光性基板に光反射性を備えた金属膜を、前記第２の透光性基板にカラーフィルタを、それぞれ前記注入口を避けて形成する工程を有し、
前記第１の透光性基板及び前記第２の透光性基板の前記注入口が形成されている側の端面側から前記封止材に向けて光を照射して前記封止材を硬化させる工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の電気光学装置の製造方法において、前記電気光学物質は、液晶であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。