(57)【要約】【課題】処理ユニット内の清浄度を保ちつつも、隣接する装置の内部圧力調整に好適に貢献することができる処理ユニットを提供する。【解決手段】制御部がインターフェイスユニット３３内の気流を基準流量に維持しつつ、吸気ファン４５の回転数を調整することで流量を調整し、インターフェイスユニット３３内の圧力を調整する。したがって、インターフェイスユニット３３内の清浄度を保ちつつも、連通口３９，４０を介して隣接する装置の内部圧力調整に好適に貢献することができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置に隣接して配置される処理ユニットにおいて、
前記基板処理装置に連通している連通口と、
外部の気流を処理ユニット内に取り込む取り込み手段と、
処理ユニット内の気流を外部に排出する排出手段と、
処理ユニット内を清浄に保つための前記取り込み手段からの流量を基準流量とし、前記取り込み手段からの気流を少なくとも基準流量に維持しつつ、前記取り込み手段または／および前記排出手段の流量を調節して処理ユニット内の圧力を調整する調整手段と、
を備えていることを特徴とする処理ユニット。
【請求項２】
請求項１に記載の処理ユニットにおいて、
前記取り込み手段は、フィルタと、回転数を調節可能な吸気ファンを備えていることを特徴とする処理ユニット。
【請求項３】
請求項１に記載の処理ユニットにおいて、
前記取り込み手段は、クリーンエアを供給するエア供給口と、このエア供給口の流路断面積を調節可能なバルブとを備えていることを特徴とする処理ユニット。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の処理ユニットにおいて、
前記排出手段は、処理ユニットの筐体底面のほぼ全面にわたって形成されている開口であることを特徴とする処理ユニット。
【請求項５】
請求項１から３のいずれかに記載の処理ユニットにおいて、
前記排出手段は、処理ユニットの筐体の一部位に形成されている開口であることを特徴とする処理ユニット。
【請求項６】
請求項５に記載の処理ユニットにおいて、
前記開口は、開口面積を調整可能なスライド蓋を備えていることを特徴とする処理ユニット。
【請求項７】
請求項１から３のいずれかに記載の処理ユニットにおいて、
前記排出手段は、処理ユニットの筐体の一部位に形成されている開口と、この開口に付設された排気ファンとを備えていることを特徴とする処理ユニット。
【請求項８】
請求項７に記載の処理ユニットにおいて、
前記開口は、開口面積を調整可能なスライド蓋を備えていることを特徴とする処理ユニット。
【請求項９】
請求項１から３のいずれかに記載の処理ユニットにおいて、
前記排気手段は、処理ユニットの筐体の一部位に形成され、排気用のユーティリティに接続される排気口を備えていることを特徴とする処理ユニット。
【請求項１０】
請求項９に記載の処理ユニットにおいて、
前記排気口は、開口面積を調整可能なスライド蓋を備えていることを特徴とする処理ユニット。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載の処理ユニットにおいて、
処理ユニット内の圧力を検出する圧力センサを備え、
前記調整手段は、前記圧力センサの出力値が予め設定された目標値に一致するように調整を行うことを特徴とする処理ユニット。
【請求項１２】
請求項１から１０のいずれかに記載の処理ユニットにおいて、
処理ユニット内の圧力を検出する第１の圧力センサと、
基板処理装置内の圧力を検出する第２の圧力センサとを備え、
前記調整手段は、前記第１の圧力センサと前記第２の圧力センサとの差圧が、予め設定された目標値に一致するように調整を行うことを特徴とする処理ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称する）等の基板を処理する処理ユニットに係り、特に基板処理装置に隣接して配置される処理ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のこの種の装置として、露光装置と塗布現像装置との間に隣接して配置される処理ユニットがある。この処理ユニットとしては、例えば、インターフェイスユニットが例示される（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
塗布現像装置は、基板に対してフォトレジスト被膜を被着し、インターフェイスユニットは、その基板を受け取って連通口から露光ユニットに対して搬送する。基板を受け取った露光装置は、基板に対して所定パターンの露光を行う。そして、インターフェイスユニットは露光された基板を、連通口を介して塗布現像装置に搬送し、塗布現像装置はその基板に対して現像処理を行う。ここでいうインターフェイスユニットとは、内部に基板を一時的に収容して、隣接する装置間での処理速度差を吸収するような役割を備えている装置である。
【０００４】
なお、露光装置及び塗布現像装置並びにインターフェイスユニットは、基板の汚染を防止するために、各々がダウンフローを形成する機構を備えており、かつ、露光装置及び塗布現像装置では気流が各々の開口等を通して自身の装置外へ排出されたり、インターフェイスユニットの連通口を通してインターフェイスユニットに流入されたりしている。特に、露光装置は、その処理内容から、清浄度を高く維持する要請があり、装置内部の温度と圧力の制御について精度が求められている。
【特許文献１】特開平１１−３８５０号公報（第５−６頁、図４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来のインターフェイスユニットは、ダウンフローを形成するための単純な構成しか備えていないので、隣接する露光装置や現像塗布装置の内部圧力を調整するにあたり、好適に貢献できない場合がある。
【０００６】
例えば、露光装置からインターフェイスユニットの連通口を通してインターフェイスユニットに流入される流量を増やすために、露光装置におけるダウンフローの流量を増大させて内部圧力を増やすと、その分だけ温調を行うエアの量が増大するので、露光装置において温調精度を維持するのが困難になる。そこで、露光装置のダウンフロー流量を変えずに、インターフェイスユニットのダウンフロー流量を減じて内部圧力を低くすることが考えられるが、このようにするとインターフェイスユニットにおけるダウンフローの流量が不足して、インターフェイスユニット内における清浄度に悪影響を与えることがある。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、処理ユニット内の清浄度を保ちつつも、隣接する装置の内部圧力調整に好適に貢献することができる処理ユニットを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板処理装置に隣接して配置される処理ユニットにおいて、前記基板処理装置に連通している連通口と、外部の気流を処理ユニット内に取り込む取り込み手段と、処理ユニット内の気流を外部に排出する排出手段と、処理ユニット内を清浄に保つための前記取り込み手段からの流量を基準流量とし、前記取り込み手段からの気流を少なくとも基準流量に維持しつつ、前記取り込み手段または／および前記排出手段の流量を調節して処理ユニット内の圧力を調整する調整手段と、を備えていることを特徴とするものである。
【０００９】
［作用・効果］請求項1に記載の発明によれば、調整手段が処理ユニット内の気流を少なくとも基準流量に維持しつつ、取り込み手段または／および排出手段の流量を調整して処理ユニット内の圧力を調整する。したがって、処理ユニット内の清浄度を保ちつつも、連通口を介して隣接する装置の内部圧力調整に好適に貢献することができる。
【００１０】
本発明において、前記取り込み手段は、フィルタと、回転数を調節可能な吸気ファンを備えていることが好ましい（請求項２）。吸気ファンの回転数を調整することにより、フィルタを介した取り込み手段から取り込む気流の流量を自在に調整することができる。
【００１１】
本発明において、前記取り込み手段は、クリーンエアを供給するエア供給口と、このエア供給口の流路断面積を調節可能なバルブとを備えていることが好ましい（請求項３）。バルブの開度を調整することにより、エア供給口からの流量を調整することができる上、吸気ファン等の構成を省略することもでき、構成を簡単化することができる。
【００１２】
本発明において、前記排出手段は、処理ユニットの筐体底面のほぼ全面にわたって形成されている開口であることが好ましい（請求項４）。筐体底面のほぼ全面にわたり形成されている開口を通して、内部の気流を外部へ排出することができ、筐体の構成を簡易化することができる。
【００１３】
本発明において、前記排出手段は、処理ユニットの筐体の一部位に形成されている開口であることが好ましい（請求項５）。処理ユニットの筐体の一部位に形成されている開口を通して、内部の気流を外部へ排出することができる。
【００１４】
本発明において、前記開口は、開口面積を調整可能なスライド蓋を備えていることが好ましい（請求項６，８，１０）。開口のスライド蓋を移動させることにより、開口面積を調整して外部に排出する気流の流量を調整することができるので、微調整を行うことができる。
【００１５】
本発明において、前記排出手段は、処理ユニットの筐体の一部位に形成されている開口と、この開口に付設された排気ファンとを備えていることが好ましい（請求項７）。開口に付設された排気ファンの回転数を調整することにより、外部に排出する気流の流量を調整することができる。
【００１６】
本発明において、前記排気手段は、処理ユニットの筐体の一部位に形成され、排気用のユーティリティに接続される排気口を備えていることが好ましい（請求項９）。排気用のユーティリティに排気口を接続することにより、処理ユニットの周囲に気流を排出することなく、内部の気流を外部へ排出することができる。
【００１７】
本発明において、処理ユニット内の圧力を検出する圧力センサを備え、前記調整手段は、前記圧力センサの出力値が予め設定された目標値に一致するように調整を行うことが好ましい（請求項１１）。圧力センサの出力値が目標値に一致するように調整することにより、基準流量を正確に維持できる。
【００１８】
本発明において、処理ユニット内の圧力を検出する第１の圧力センサと、基板処理装置内の圧力を検出する第２の圧力センサとを備え、前記調整手段は、前記第１の圧力センサと前記第２の圧力センサとの差圧が、予め設定された目標値に一致するように調整を行うことが好ましい（請求項１２）。第１の圧力センサと第２の圧力センサの差圧を目標値に一致するように調整することにより、（台風等の影響で）装置が設置された環境の気圧が変動してもその影響を受けないようにできる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る処理ユニットによれば、調整手段が処理ユニット内の気流を基準流量に維持しつつ、取り込み手段または／および排出手段の流量を調整して処理ユニット内の圧力を調整する。したがって、処理ユニット内の清浄度を保ちつつも、連通口を介して隣接する装置の内部圧力調整に好適に貢献することができる。
【実施例１】
【００２０】
以下、図面を参照して本発明の実施例1を説明する。
図１は、実施例１に係るインターフェイスユニット及び隣接する基板処理装置の概略構成を示す縦断面図であり、図２は、インターフェイスユニットの外観斜視図であり、図３は、インターフェイスユニットの要部を示す縦断面図である。
【００２１】
塗布現像装置１は、塗布ユニット３を備えており、基板Ｗに対してフォトレジスト液などの塗布液を供給して、基板Ｗの表面に被膜を被着する処理を行う。また、現像ユニット５を備えており、露光装置７で所定パターンが露光された後、基板Ｗに対して現像処理を行う。その際には、搬送ユニット９が基板Ｗの受け渡しを行う。基板Ｗは、塗布現像装置１の周囲容器１１の側壁に設けられた開口１３を通して搬送される。また、周囲容器１１の上部には、吸気口１４が形成され、この吸気口１４にはＵＬＰＡフィルタ１５及び吸気ファン１７が積層配置されている。
【００２２】
露光装置７は、被膜が被着された基板Ｗに対して所定パターンの露光を行う露光ユニット１９を備えている。基板Ｗの受け渡しは、搬送ユニット２１が行う。このとき、基板Ｗの搬送は、露光装置７の周囲容器２３の側壁に形成されている開口２５を通して行われる。周囲容器２３の天井面には、吸気口２７が形成されているとともに、ＵＬＰＡフィルタ２９及び吸気ファン３１が重ねて配置されている。
【００２３】
上述した塗布現像装置１と露光装置７の間には、インターフェイスユニット３３が配置されている。このインターフェイスユニット３３は、基板Ｗを積層収納するとともに、塗布現像装置１と露光装置７との間において順次に基板Ｗを搬送するバッファ搬送ユニット３５を備えている。バッファ搬送ユニット３５は、外容器３７によって上部が覆われている。この外容器３７は、露光装置７の開口２５と、塗布現像装置１の開口１３との間で基板Ｗを搬送するための連通口３９，４０を側面に備えている。また、天井面には、吸気口４１を備えており、さらにＵＬＰＡフィルタ４３及び吸気ファン４５を積層配備している。なお、塗布現像装置１の開口１３とインターフェイスユニット３３の連通口４０と、及び露光装置７の開口２５とインターフェイスユニット３３の連通口３９とは、周囲に対して閉塞的な連結具４７で連結されている。
【００２４】
なお、上述したインターフェイスユニット３３が本発明における処理ユニットに相当し、吸気ファン４５が本発明における取り込み手段に相当する。
【００２５】
インターフェイスユニット３３の外容器３７は、その底面が全面にわたって開放された開口４９を形成している。また、その下部には、床面に対する外容器３７の高さを調整するためのギャップ調整機構５０が取り付けられている。このギャップ調整機構５０は、例えば、装置等の高さを調整するためのボルトとナット等で構成されている。このギャップ調整機構５０を手動で調整することにより、外容器３７の開口４９の床面からの隙間ｇｐが適宜に調整できる。また、吸気口４１の下方にあたる一部位には、圧力センサ５１が配置されている。
【００２６】
図４のブロック図に示すように、制御部５３は、バッファ搬送ユニット３５の動作を制御するとともに、吸気ファン４５の回転数を制御する。また、圧力センサ５１から出力される圧力値に基づいて吸気ファン４５の回転数を後述するように制御する。
【００２７】
なお、上記の開口４９が本発明における排出手段に相当し、制御部５３が本発明における調整手段に相当する。
【００２８】
ここで図５を参照する。なお、図５は、インターフェイスユニットの要部に係る制御のフローチャートである。
【００２９】
ステップＳ１
電源が投入されると、まず制御部５３は、吸気ファン４５の回転数を、インターフェイスユニット３３の清浄度を維持するのに必要な最低限の基準流量を得るために必要な回転数よりも、所定数多い回転数となるように予め調整し、インターフェイスユニット３３の清浄度を維持するために必要な最低限の基準流量よりも大流量である「既定流量」（目標値）に設定を行う。
【００３０】
ステップＳ２
ここで、例えば、露光装置７の都合により、インターフェイスユニット３３内の圧力を下げるように要請があったものとする。その要請を受けてインターフェイス３３内の目標圧力値を制御部５３に設定する。
【００３１】
ステップＳ３
次に、オペレータが手動でギャップ調整機構５０を調整して隙間ｇｐを現状よりも大きくする。すると、隙間ｇｐが大きくなって外容器３７の開口４９から排出される気流の流量自体は変化しないが、隙間ｇｐが大きくなって同一流量の気流が通る開口の大きさが大きくなることで排気抵抗が小さくなり、圧力値が下がることとなる。かかる圧力値の低下を圧力センサ５１が出力値として制御部５３に出力する。
【００３２】
ステップＳ４
制御部５３は、圧力センサ５１で測定された圧力値と、予め設定されていた目標圧力値とを比較して処理を分岐する。
【００３３】
ステップＳ５
圧力値が目標圧力値と等しくない場合には、制御部５３が吸気ファン４５の回転数を所定量だけ上げる。具体的には、圧力センサ５１によって測定された圧力値が目標圧力値よりも低ければ吸気ファン４５の回転数を所定量上げるように制御部５３は制御し、逆に、測定された圧力値が目標圧力値よりも高ければ吸気ファン４５の回転数を下げるように制御部５３は制御する。但し、インターフェイスユニット３３の清浄度を維持するのに必要な最低限の流量を得るために必要な回転数を吸気ファン４５が下回ることのないように制御部５３は吸気ファン４５を制御する。そして、再びステップＳ４にて条件判断を行う。
【００３４】
ステップＳ６
圧力値が目標圧力値以上である場合には、制御部５３は吸気ファン４５の現状の回転数を維持しつつ、ステップＳ６で装置が停止されるまでの間、上記ステップＳ４との間の処理を繰り返し実行する。換言すると、インターフェイスユニット３３内の吸気口４１から流入する気流の流量が、基準流量を下回ることがないように制御を行う。
【００３５】
上述したように、制御部５３がインターフェイスユニット３３内の気流を基準流量に維持しつつ、吸気ファン４５の回転数を調整することで流量を調整し、インターフェイスユニット３３内の圧力を調整する。したがって、インターフェイスユニット３３内の清浄度を保ちつつも、連通口３９，４０を介して隣接する装置の内部圧力調整に好適に貢献することができる。
【００３６】
なお、ギャップ調整機構５０は、手動によるものではなく、電動モータによって外容器３７を床面に対して昇降させるように構成してもよい。
【００３７】
また、ギャップ調整機構５０に代えて、開口４９の周囲にスカート形状の昇降枠を取り付けて、ギャップｇｐを調整するように構成してもよい。
【実施例２】
【００３８】
次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。
図６は、実施例２に係るインターフェイスユニットの要部を示す縦断面図である。なお、実施例１と同じ構成については、同符号を付すことにより詳細な説明を省略する。
【００３９】
インターフェイスユニット３３Ａは、その外容器３７Ａが底面５５を備えている。さらに、底面５５の一部位には、本発明における排出手段に相当する開口５７が形成されている。この開口５７付近には、その開口面積を調整可能なスライド蓋５９が付設されている。スライド蓋５９には、螺合部６１が立設されており、ここには螺軸６３が螺合されている。螺軸６３は、モータ６５の回転軸に連結されている。モータ６５を駆動することにより、スライド蓋５９が開口５７に沿ってスライドし、開口５７の開口面積が調節される。
【００４０】
本装置では、ギャップ調整機構５０が固定的に使われ、図３におけるステップＳ２で、図示しない操作パネルからモータ６５を駆動し、例えば、露光装置７の要請に応じた圧力値となるように開口５７の開口面積を調整する。すると、図４のステップＳ４〜６に示すように、インターフェイスユニット３３が停止されるまでの間、圧力センサ５１の出力値に応じて制御部５３が吸気ファン４５の回転数を調整するとともに、モータ６５の回転数をも調整する。つまり、吸気側と排気側との両方について流量の調整を図って、インターフェイスユニット３３内の圧力を調整するので、圧力の微調整が可能である。
【００４１】
なお、制御部５３による圧力調整は、吸気側または排気側のいずれか一方だけとしてもよい。
【実施例３】
【００４２】
次に、図面を参照して本発明の実施例３を説明する。
図７は、実施例３に係るインターフェイスユニットの要部を示す縦断面図である。なお、実施例１と同様の構成は、同符号を付すことで詳細な説明については省略する。
【００４３】
インターフェイスユニット３３Ｂは、その外容器３７Ｂが底面５５を備え、その一部位には開口５７が形成され、この開口５７の上部には、排気ファン６７が付設されている。さらに、その上面には、開口５７の開口面積を調整可能なスライド蓋５９が付設されている。
【００４４】
なお、開口５７及び排気ファン６７は、本発明における排気手段に相当する。
【００４５】
本装置では、ギャップ調整機構５０が固定的に使われ、図３におけるステップＳ２で図示しない操作パネルからモータ６５を駆動したり、排気ファン６７の回転数を調整したりして、例えば、露光装置７の要請に応じた圧力値となるように開口５７の開口面積や排気流量を調整する。すると、図４のステップＳ４〜６に示すように、インターフェイスユニット３３が停止されるまでの間、圧力センサ５１の出力値に応じて制御部５３が吸気ファン４５や排気ファン６７の回転数を調整するとともに、モータ６５の回転数をも調整する。つまり、吸気側と排気側との両方について流量の調整を図って、インターフェイスユニット３３内の圧力を調整するので、圧力の微調整が可能である。また、開口５７の開口面積と排気ファン６７の回転数を調整するので、より微妙な調整を行うことができる。また、排気ファン６７により圧力を負圧にすることもできるので、より広範囲の圧力調整が可能となる。
【００４６】
なお、調整は、開口５７の開口面積または排気ファン６７のいずれか一方だけとしてもよい。
【実施例４】
【００４７】
次に、図面を参照して本発明の実施例４を説明する。
図８は、実施例４に係るインターフェイスユニットの外観斜視図である。なお、上記実施例１と同様の構成については同符号を付して詳細な説明を省略する。
【００４８】
本実施例のインターフェイスユニット３３Ｃは、外容器３７Ｃの上面に、本発明における取り込み手段に相当するエア供給口６９を備えている。また、このエア吸気口６９には、流路断面積を調整可能なバタフライバルブ７１が配備されている。エア吸気口６９には、別置のクリーンエア供給装置（図示省略）に連通接続されるダクト管７３が取り付けられている。
【００４９】
この構成によると、バタフライバルブ７１を調整して、流路断面積を調整することにより、エア供給口６９から流入するクリーンエアの流量を調整してインターフェイスユニット３３の内部圧力を調節することができる。また、吸気ファン等の構成を省略することができ、構成を簡単化することができる。
【００５０】
また、図８中に点線で示すように、吸気ファン４５の回転数調整を併用するようにしてもよい。これにより、他装置の動作状況により流量が変動しやすいユーティリティの影響を受けにくくすることができる。
【実施例５】
【００５１】
次に、図面を参照して本発明の実施例５を説明する。
図９は、実施例５に係るインターフェイスユニットの要部を示す縦断面図である。
【００５２】
本実施例のインターフェイスユニット３３Ｄは、外容器３７Ｄの底面が閉塞されている。外容器３７Ｄの側面の下方の一部位には、本発明における排出手段に相当する排気口７５を備えている。また、この排気口７５には、流路断面積を調整可能なバタフライバルブ７７が配備されている。排気口７５には、クリーンルームに設けられているユーティリティの一つである排気部７９に連通接続されるダクト管８１が取り付けられている。したがって、バタフライバルブ７７の開度を調整することにより、排気の流量を調整することができる。
【００５３】
本実施例によると、排気用のユーティリティである排気部７９に排気口を接続することにより、インターフェイスユニット３３Ｄの周囲に気流を排出することなく、内部の気流を外部へ排出することができる。
【実施例６】
【００５４】
次に、図面を参照して本発明の実施例６を説明する。
図１０は、実施例６に係るインターフェイスユニットの要部に係るブロック図である。
【００５５】
本実施例６は、図９及び図１０に示すように、インターフェイスユニット３３Ｄの内部圧力を測定する第１の圧力センサ５１に加え、露光装置７の内部圧力を測定する第２の圧力センサ８３を備えている。そして、制御部５３Ａは、第１の圧力センサ５１と第２の圧力センサ８３の差圧を検出し、この値が、予め設定されている目標値と一致するように吸気ファン４５や排気ファン６７等の回転数を調整する。なお、差圧を調整する場合であっても、上述した実施例１と同様に、基準流量を下回らないように制御する。
【００５６】
本実施例装置によると、制御部５３Ａが差圧を一定に保とうと制御するので、例えば、台風等の影響で環境の気圧が変動してもその影響を受けないようにすることができる。これにより、装置停止を防止でき、装置の稼働率をより高く保つことができる。
【００５７】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００５８】
（１）上述した実施例１〜４における開口４９，５７は、外容器３７，３７Ａ〜Ｃの下面に形成されているが、内部の気流を排気できる位置であれば下面に限らず側面等の他の箇所に形成するようにしてもよい。
【００５９】
（２）上述した実施例では、露光装置７とインターフェイスユニット３３の隣接配置を例示して説明したが、本発明はこのような組み合わせに限定されるものではない。例えば、インターフェイスユニット３３と塗布露光装置１や、塗布露光装置１と（図示しない）ＦＯＵＰ装置などのように、基板処理装置が処理ユニットに隣接して配置されるものであれば種々の装置に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】実施例１に係るインターフェイスユニット及び隣接する基板処理装置の概略構成を示す縦断面図である。
【図２】インターフェイスユニットの外観斜視図である。
【図３】インターフェイスユニットの要部を示す縦断面図である。
【図４】インターフェイスユニットの要部に係るブロック図である。
【図５】インターフェイスユニットの要部に係る制御のフローチャートである。
【図６】実施例２に係るインターフェイスユニットの要部を示す縦断面図である。
【図７】実施例３に係るインターフェイスユニットの要部を示す縦断面図である。
【図８】実施例４に係るインターフェイスユニットの外観斜視図である。
【図９】実施例５に係るインターフェイスユニットの要部を示す縦断面図である。
【図１０】実施例６に係るインターフェイスユニットの要部に係るブロック図である。
【符号の説明】
【００６１】
Ｗ  …  基板
１  …  塗布現像装置
３  …  塗布ユニット
５  …  現像ユニット
７  …  露光装置
９  …  搬送ユニット
３３  …  インターフェイスユニット３３（処理ユニット）
３７  …  外容器
３９，４０  …  連通口
４３  …  ＵＬＰＡフィルタ
４５  …  吸気ファン（取り込み手段）
４９  …  開口４９（排出手段）
ｇｐ  …  隙間
５０  …  ギャップ調整機構
５１  …  圧量センサ
５３  …  制御部（調整手段）
【図１】
2007311478.tif 000003
【図２】
2007311478.tif 000004
【図３】
2007311478.tif 000005
【図４】
2007311478.tif 000006
【図５】
2007311478.tif 000007
【図６】
2007311478.tif 000008
【図７】
2007311478.tif 000009
【図８】
2007311478.tif 000010
【図９】
2007311478.tif 000011
【図１０】
2007311478.tif 000012