(57)【要約】【課題】より細いガードバンドを描画するためにビームを細く絞るとアドレス部描画では半径方向の送りを狭くしないと未描画部が出来てしまい、トータルの描画時間が長くなる。また、アドレス部描画のために半径方向の送りを狭くするほど円周方向には長い溝が描画されてしまい、アドレス部の溝幅（円周方向）は、ガードバンドほど細くできない。【解決手段】原盤（描画原盤２４）として、データ部にはガードバンドと称する円周方向に細い溝があり、アドレス部には、位置情報を記録した半径方向に細い溝があるディスクリートトラックメディアの原盤を用い、ディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、少なくとも、アドレス部において電子ビームマスタリング装置（図１の装置）の電子ビーム１１を原盤（描画原盤２４）の半径方向に微小振動させながら描画する。【選択図】図１
2007242072.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビームによる情報記録媒体用原盤を描画する装置として電子ビームマスタリング装置を使用し、前記原盤として、磁気ディスク装置用媒体として提案されている１媒体方式であって、データ部にはガードバンドと称する円周方向に細い溝があり、アドレス部には、位置情報を記録した半径方向に細い溝があるディスクリートトラックメディアの原盤を用い、
電子レンズ等によって細ビーム化した電子ビームを、回転駆動機構上に載せたディスクリートトラックメディアの原盤に照射して描画する電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画方法であって、
前記ディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、少なくとも、前記アドレス部において前記電子ビームマスタリング装置の電子ビームを前記原盤の半径方向に微小振動させながら描画することを特徴とする電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画方法。
【請求項２】
前記電子ビームマスタリング装置を用いて前記ディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、前記データ部と前記アドレス部の両方で電子ビームを原盤の半径方向に微小振動させると共に、その振動振幅を、前記アドレスの方が前記データ部より大きくなるようにして描画することを特徴とする請求項１記載の電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画方法。
【請求項３】
電子ビームによる情報記録媒体用原盤を描画する装置として電子ビームマスタリング装置を使用し、前記原盤として、磁気ディスク装置用媒体として提案されている１媒体方式であって、データ部にはガードバンドと称する円周方向に細い溝があり、アドレス部には、位置情報を記録した半径方向に細い溝があるディスクリートトラックメディアの原盤を用い、
電子レンズ等によって細ビーム化した電子ビームを、回転駆動機構上に載せたディスクリートトラックメディアの原盤に照射して描画する電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画装置であって、
前記ディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、少なくとも、前記アドレス部において前記電子ビームマスタリング装置の電子ビームを前記原盤の半径方向に微小振動させながら描画する電子ビーム描画制御手段を備えていることを特徴とする電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画装置。
【請求項４】
前記電子ビーム描画制御手段は、前記ディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、前記データ部と前記アドレス部の両方で電子ビームを原盤の半径方向に微小振動させると共に、前記微小振動の振動振幅を、前記アドレスの方が前記データ部より大きくなるようにして描画する機能を備えていることを特徴とする請求項３記載の電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画装置。
【請求項５】
前記電子ビームマスタリング装置は、少なくとも、電子ビームを広帯域な周波数範囲で変更可能な第１の偏向制御手段と、
予め、与えられた一種もしくは二種の振幅で、固定された一定周波数で電子ビームを微小振動させ、外部装置からは、その振幅のオン／オフ若しくは切り換え信号のみを与えられる第２の偏向制御手段を備えていることを特徴とする請求項３又は４記載の電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子ビーム回転駆動機構上の原盤に照射することによって、磁気ディスク装置の情報記録媒体の一種であるディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）の原盤を作成する電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画方法、電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画装置に係り、特に、アドレス部の円周方向分解能を向上させる電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画方法、電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
(1) ：従来例１
図６は従来例１の説明図である。以下、図６に基づいて従来例１を説明する。
【０００３】
(a) ：概要の説明
電子ビームによる情報記録用原盤を描画する装置（以下「電子ビームマスタリング装置若しくはＥＢＲ（Electron Beam Recorder）は、回転している原盤の主面にレジストを塗布し、直接主面に電子ビームを照射しながら主面に沿って移動させることで、螺旋状もしくは同芯円状に溝やピット列を形成する。
【０００４】
現在、広く実用化されているＣＤやＤＶＤの原盤描画にはレーザ光を光源としたマスタリング装置が広く使われているが、より高密度な原盤描画を目的にＥＢＲが開発されている。電子ビームを使用するとレーザ光では困難だった幅２００ｎｍ以下の溝を容易に描画できる。
【０００５】
一方、露光原盤からマザーの金型を製作し、媒体を大量複製するという光ディスクで使われている原盤製造プロセスを磁気ディスク装置の媒体製造にも適用しようとする研究も進められており、電子ビームマスタリング装置の有力な応用先と考えられている。磁気ディスク装置の記録密度は、既に光ディスクを上回っており、レーザ光による描画装置では不可能なレベルとなっているためである。
【０００６】
(b) ：Ｘθ型電子ビームマスタリング装置（ＥＢＲ）の説明
図６は電子ビームマスタリング装置（ＥＢＲ）の説明図である。図６において、１は電子銃、２はブランカ、４は対物レンズ、５は偏向電極、６は電子鏡筒、７はフォーマッタ、８、９はドライバ、１１は電子ビーム、２１はＸステージ、２２はスピンドルモータ（θステージ）、２３はＸステージ駆動モータ、２４は描画原盤を示す。
【０００７】
このＸθ型電子ビームマスタリング装置（ＥＢＲ）は、Ｘθ機構系と、電子ビーム光学系に大別され、前者はレジストを塗布した露光原盤をスピンドルモータ（θ軸駆動：θステージ）２２により回転させつつＸ軸モータ（Ｘステージ駆動モータ２３）でスピントルモータ２２を搭載したＸ軸ステージ２１を原盤半径方向に移動させる。
【０００８】
後者は電子銃１、ブランカ２、偏向制御光学系（図示省略）、対物レンズ４等から構成され、断続する電子ビーム（ＥＢ）１１をレジスト面に収束、照射させることでレジスト面に情報ピット列を形成する。電子ビーム１１はレーザビームに比べ、微小スポット（φ１００ｍｍ以下）の形成が可能である。
【０００９】
更に、偏向制御光学系でスポット位置を高精度に制御することで機構系の位置誤差を補正して高密度記録を実現している。偏向制御光学系は機構系誤差の補正の他に、溝を蛇行させて情報を記録させたり半径方向にシフトさせたピットの形成に使用する場合もあり、光学系は両方の信号に対応している。また、ブランキング信号や情報記録用偏向信号は、通常ＥＢＲとは独立したフォーマッタ７と呼ばれる信号発生装置から送られ、フォーマッタ７を交換することで種々のフォーマットに対応している。なお、本発明に直接関係がないため、図６では機構系誤差補正用偏向信号は省略してある。
【００１０】
一方、図６のようなＥＢＲで描画するフォーマットとして、磁気ディスク装置用媒体の一種であるディスクリートトラックメディア（以下「ＤＴＭ」と記す）が考えられている。以下、このＤＴＭについて説明する。
【００１１】
(c) ：ディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）の説明
図７はＤＴＭの構造説明図である。ＤＴＭを問わず、通常の磁気ディスク媒体は、ディスク円盤上にトラック（若しくはシリンダ）を同心円上に形成し、トラック上に情報を記録する。トラック同士の間隔（トラックピッチ）は、既に１μｍ以下のレベルとなっており、高密度化のためには更に狭いトラックピッチ化が必要である。
【００１２】
通常、トラックは１周が１００〜３００程度のセクタに分割されており、１セクタは１つのデータ部３２と１つのアドレス部３１から構成される。データ部３２はこれから情報を書き込むための領域で、従来の磁気ディスク媒体では最初は何も記録されていない。アドレス部３１は、情報の記録位置を特定するためのアドレス（トラックナンバ／セクタナンバ）や読み書き用のヘッドを位置決めするためのサーボ情報が予め記録されている。
【００１３】
サーボ情報は、隣接トラックとの共通部分が多く、通常は１トラック当たりのセクタ数は変わらないため、アドレス部３１は半径方向に細いパターンが放射状、若しくは円弧状に記録される。ＤＴＭはこのアドレス部をＥＢＲなどで書き込んでおくと共に、従来未記録だったデータ部３２にもトラックとトラックの境界にガードバンド３４と称する溝を形成しようとするものである。
【００１４】
従来は、装置組み立て後に１台１台書き込んでいたアドレス部３１を、予め書き込んだマスター原盤から磁気転写やナノインクプリントと呼ばれる技術で大量複製すると装置のコストダウンが可能となる。磁気転写やナノインクプリントは、本発明と直接関係ないので詳述は避けるが、マスター原盤作成プロセスの第１歩がＥＢＲによる描画で、高密度、高精度な描画はＥＢＲの精度に掛かっている。また、ガードバンド３４も、従来は書滲みや書き広がり防止のため詰めることができなかったトラックピッチを詰めることが出来、高密度化の手段として期待されている。
【００１５】
(2) ：従来例２
以下、特許文献１を従来例２として説明する。従来例２には次のような内容が記載されている。
【００１６】
(a) ：最適な形状のピットを精度良く作成可能な原盤製造用の情報記録方法及び装置並びに情報記録媒体を提供する。
【００１７】
(b) ：基板上に形成されたレジスト層に電子ビームを照射してトラックに沿って記録ピット列の潜像を形成する情報記録方法であり、該電子ビームの照射を該トラック方向に移動する際に、該トラック方向に対して交差する方向に微小往復振動させて照射すると共に、該記録ピットのピット長に応じて該微小往復振動の振動幅を調整する。本発明による情報記録装置は、かかる情報記録方法を実行する。本発明による情報記録媒体は、かかる情報記録方法を用いて作成される。
【００１８】
(3) ：従来例３
以下、特許文献２を従来例３として説明する。従来例３には次のような内容が記載されている。
【００１９】
(a) ：同心円状および螺旋状のパターン描画を可能とした電子線露光装置を提供することを目的とするものである。
【００２０】
(b) ：電子線描画装置は、基盤上に塗布されたレジストに電子線を照射して所望のパターンを描画する電子線描画装置であって、前記基盤を回転自在に支持する回転ステージと、該回転ステージを直線移動させる直線移動手段と、前記回転ステージの回転速度と、前記直線移動手段による直線移動とを制御する制御手段とを備え、該制御手段の制御により、前記パターンとして、螺旋状のパターンおよび同心円状のパターンを選択的に描画可能とされていることを特徴とするものである。
【特許文献１】特開２００３−２４８９８１号公報
【特許文献２】特開２００４−１０９５７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
(1) ：前記従来例１のようなＤＴＭをＥＢマスタリング装置で描画しようとした場合、アドレス部３１は半径方向に、ガードバンド３４は円周方向に、出来るだけ細い溝を描画することが要求される。図６のようなＸθ型のＥＢＲで円周方向の溝は、ビームをより細く絞ることで実現できるのに対し、半径方向の溝を描画するには、図８のようにブランカで円周方向に短いピット状の溝を描画し、次の回転の際に同じθ方向で半径方向にほぼ溝幅だけずらした位置に同じ形状のピット溝を書き繋いで描画する。
【００２２】
θ方向の同一位置に描画するためには回転モータや半径方向の送り精度を高め、更には偏向制御で高精度に補正する必要があるが、慣性体である回転モータや半径方向送りステージを連続的に移動させながらの描画となるため、精度の良い描画ができることが知られている。しかしながら、従来の描画方法でＤＴＭを描画しようとすると次の２つの課題があった。
【００２３】
(a) ：より細いガードバンドを描画するためにビームを細く絞るとアドレス部描画では半径方向の送りを狭くしないと未描画部が出来てしまい、トータルの描画時間が長くなる。
【００２４】
(b) ：電子ビーム描画には、いわゆる近接効果と呼ばれ、ビームが当たらなかった部分も反射された電子などにより描画される現象がある。図９はトラックピッチを変えて単一溝を描画し近接効果を検証したものである。隣接トラックからの距離が近づくと隣接トラック描画時にも露光されるため、溝幅が広くなってしまう。すなわち、ＤＴＭにおいては、描画密度の高いアドレス部３１では近接効果がデータ部３２より強く働くため、アドレス部３１の描画のために半径方向の送りを狭くするほど円周方向には長い溝が描画されてしまい、アドレス部３１の溝幅（円周方向）は、ガードバンドほど細くできない。
【００２５】
(2) ：前記従来例２では、ビームを半径方向に振動させながら記録し、記録ピット長に応じて振動振幅を変化させている。これに対して本発明は、アドレス部とデータ部で振幅を切り替えており、従来例２のピット長ではない。また、従来例２では、本発明の電子ビーム鏡筒等の構造やＤＴＭ原盤の描画についてまで言及していない。
【００２６】
(3) ：前記従来例３では、同心円状および螺旋状のパターン描画を可能とした電子線露光装置に関して述べおり、ウォブルの方法を限定して斜めのパターン（位相サーボ）を描画したり、幅の広い放射パターンを描画する。
【００２７】
しかし、従来例３では、本発明のようなデータ部とアドレス部でウォブル振幅を変えるという概念はなく、ＥＢ鏡筒の構造やＤＴＭ原盤の描画についてまで言及していない。
【００２８】
本発明は、この点に鑑みてなされたもので、ディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）の原盤を描画原盤として、少なくとも、アドレス部において電子ビームマスタリング装置の電子ビームを原盤の半径方向に微小振動させながら描画すると共に、描画時間を短くし、円周方向にも半径方向と同等幅の溝が描画できるようにし、実質的にその描画方法だけでなく、前記描画方法を実現するための電子ビームマスタリング装置やその電子光学系の構造も提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００２９】
本発明は前記の目的を達成するため、次のように構成した。
【００３０】
(1) ：電子ビームによる情報記録媒体用原盤を描画する装置として電子ビームマスタリング装置を使用し、前記原盤として、磁気ディスク装置用媒体として提案されている１媒体方式であって、データ部にはガードバンドと称する円周方向に細い溝があり、アドレス部には、位置情報を記録した半径方向に細い溝があるディスクリートトラックメディアの原盤を用い、電子レンズ等によって細ビーム化した電子ビームを、回転駆動機構上に載せたディスクリートトラックメディアの原盤に照射して描画する電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画方法であって、前記ディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、少なくとも、前記アドレス部において前記電子ビームマスタリング装置の電子ビームを前記原盤の半径方向に微小振動させながら描画することを特徴とする
(2) ：前記(1) の電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画方法において、前記電子ビームマスタリング装置を用いて前記ディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、前記データ部と前記アドレス部の両方で電子ビームを原盤の半径方向に微小振動させると共に、その振動振幅を、前記アドレスの方が前記データ部より大きくなるようにして描画することを特徴とする。
【００３１】
(3) ：電子ビームによる情報記録媒体用原盤を描画する装置として電子ビームマスタリング装置を使用し、前記原盤として、磁気ディスク装置用媒体として提案されている１媒体方式であって、データ部にはガードバンドと称する円周方向に細い溝があり、アドレス部には、位置情報を記録した半径方向に細い溝があるディスクリートトラックメディアの原盤を用い、電子レンズ等によって細ビーム化した電子ビームを、回転駆動機構上に載せたディスクリートトラックメディアの原盤に照射して描画する電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画装置であって、前記ディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、少なくとも、前記アドレス部において前記電子ビームマスタリング装置の電子ビームを前記原盤の半径方向に微小振動させながら描画する電子ビーム描画制御手段を備えていることを特徴とする。
【００３２】
(4) ：前記(3) の電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画装置において、前記電子ビーム描画制御手段は、前記ディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、前記データ部と前記アドレス部の両方で電子ビームを原盤の半径方向に微小振動させると共に、前記微小振動の振動振幅を、前記アドレスの方が前記データ部より大きくなるようにして描画する機能を備えていることを特徴とする
(5) ：前記(3) 又は(4) のディスクリートトラックメディアの原盤描画装置において、前記電子ビームマスタリング装置は、少なくとも、電子ビームを広帯域な周波数範囲で変更可能な第１の偏向制御手段と、予め、与えられた一種もしくは二種の振幅で、固定された一定周波数で電子ビームを微小振動させ、外部装置からはその振幅のオン／オフ若しくは振幅切り換え信号のみを与えられる第２の偏向制御手段を備えていることを特徴とする。
【００３３】
（作用）
以下、図１を参照しながら前記構成に基づく本発明の作用を説明する。
【００３４】
(a) ：前記(1) 、(3) の作用
電子ビームマスタリング装置により、電子レンズ等によって細ビーム化した電子ビーム１１を、回転駆動機構上に載せたディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）の原盤からなる描画原盤２４に照射して描画を行う。このように、ディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、少なくとも、前記原盤のアドレス部において電子ビームマスタリング装置の電子ビームを前記原盤の半径方向に微小振動（ウォブル）させながら描画する（図１のＡ参照）。
【００３５】
このようにすれば、アドレス部放射パターンの円周方向分解能を高められると共に、微小振動時間の短縮も可能となる。そして、描画時間を短くし、円周方向にも半径方向と同等幅の溝が描画できる。
【００３６】
(b) ：前記(2) 、(4) の作用
前記(a) の作用において、電子ビームマスタリング装置を用いてディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、データ部とアドレス部の両方で電子ビームを原盤の半径方向に微小振動（ウォブル）させると共に、その振動振幅を、アドレスの方がデータ部より大きくなるようにして描画する。
【００３７】
このようにすれば、アドレス部放射パターンの円周方向分解能を高められると共に、微小振動時間の短縮も可能となる。そして、描画時間を短くし、円周方向にも半径方向と同等幅の溝が描画できる（図１のＢ参照）。
【００３８】
(c) ：前記(5) の作用
電子ビームマスタリング装置に、少なくとも、電子ビームを広帯域な周波数範囲で変更可能な第１の偏向制御手段と、予め、与えられた一種もしくは二種の振幅で、固定された一定周波数で電子ビームを微小振動させ、外部装置からはその振幅のオン／オフ若しくは振幅切り換え信号のみを与えられる第２の偏向制御手段を含む電子光学系を採用する。
【００３９】
このようにすれば、更に、高速描画が可能な電子ビームマスタリング装置の開発が可能となる。
【発明の効果】
【００４０】
本発明は前記の構成（請求項１乃至請求項５に対応）により次のような効果がある。
【００４１】
(1) ：電子ビームマスタリング装置を用いて、ディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）の原盤にパターンを描画する際に、アドレス部において電子ビームを半径方向に微小振動（ウォブル）させることで、アドレス部放射パターンの円周方向分解能を高められると共に、微小振動時間の短縮も可能となる。
【００４２】
(2) ：電子ビームマスタリング装置に、少なくとも、電子ビームを広帯域な周波数範囲で変更可能な第１の偏向制御手段と、予め、与えられた一種もしくは二種の振幅で、固定された一定周波数で電子ビームを微小振動（ウォブル）させ、外部装置からはその振幅のオン／オフ若しくは切り換え信号のみを与えられる第２の偏向制御手段を含む電子光学系を採用することで、更に、高速描画が可能な電子ビームマスタリング装置の開発が可能となる。
【００４３】
(3) ：ディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）の原盤を描画原盤として、少なくとも、アドレス部において電子ビームマスタリング装置の電子ビームを原盤の半径方向に微小振動させながら描画している。このため、描画時間を短くし、円周方向にも半径方向と同等幅の溝が描画できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
§１：例１の説明
図２は例１の説明図、図３は振動による描画時の説明図である。以下、図２、図３に基づき例１を説明する。なお、本発明でも図７に示したＤＴＭの構造や図８に示した円周方向溝と半径方向溝の描画方法は同じである。
【００４５】
図２、図３において、１は電子銃、２はブランカ、４は対物レンズ、５は偏向電極、６は電子鏡筒、７はフォーマッタ、８、９はドライバ、１１は電子ビーム、２１はＸステージ、２２はスピンドルモータ（θステージ）、２３はＸステージ駆動モータ、２４は描画原盤（ディスクリートトラックメディアの原盤）、３１はアドレス部、３２はデータ部、３５は描画ビーム、３６は描画方向を示す。
【００４６】
例１では、フォーマッタ７からブランカ２に対して図８に示したような描画方法でアドレス部３１とデータ部３２を描画する信号を送る一方、同じくフォーマッタ７からアドレス部３１の描画時のみ半径方向に高速で微小振動（ウォブル）させるための信号を偏向電極５に印加する。
【００４７】
すなわち、例１は、電子ビームによる情報記録媒体用原盤を描画する装置として電子ビームマスタリング装置を使用し、原盤として、磁気ディスク装置用媒体として提案されている１媒体方式であって、データ部３２にはガードバンドと称する円周方向に細い溝があり、アドレス部３１には、位置情報を記録した半径方向に細い溝があるディスクリートトラックメディアの原盤（図７参照）を用い、電子レンズ等によって細ビーム化した電子ビーム１１を、回転駆動機構上に載せたディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）の原盤（図２の描画原盤２４参照）に照射して描画する電子ビーム１１によるディスクリートトラックメディアの原盤描画方法である。
【００４８】
そして、ディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）の原盤を描画する際に、少なくとも、アドレス部３１において電子ビームマスタリング装置の電子ビーム１１を前記原盤の半径方向に微小振動（ウォブル）させながら描画する。
【００４９】
このようにすることにより、図３に示したように、本来半径方向にも円周方向にも発生する近接効果の影響が半径方向により強く現れる結果となり、アドレス部３１の半径方向の溝幅分解能をデータ部のガードバンドと同程度に高めることができる。その結果、半径方向の送りピッチも図３の従来方式に比べ広く取ることができるため、結果として描画時間の短縮が実現される。
【００５０】
この場合、アドレス部３１では、前記振動によりｄ１方向（半径方向）には長く描画され、ｄ２方向（円周方向）には描画された線の幅が狭くなる。また、データ部３２で描画された線の幅をＷ１とし、アドレス部３１で描画された線の幅をＷ２とした場合、Ｗ１≒Ｗ２となるように振動させながら描画する。
【００５１】
§２：例２の説明
図４は例２の説明図である。以下、図４に基づき例２を説明する。図４において、１は電子銃、２はブランカ、４は対物レンズ、５は偏向電極、６は電子鏡筒、７はフォーマッタ、８、９はドライバ、１１は電子ビーム、２１はＸステージ、２２はスピンドルモータ（θステージ）、２３はＸステージ駆動モータ、２４は描画原盤（ディスクリートトラックメディアの原盤）を示す。
【００５２】
描画したい原盤のガードバンド幅がビーム径に比べある程度広い場合は、図４に示したように、データ部とアドレス部の両方でビームを微小振動させ、その振幅をアドレス部の方を大きくすることも可能である。
【００５３】
すなわち、例２は、例１の電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画方法において、電子ビームマスタリング装置を用いてディスクリートトラックメディアの原盤を描画する際に、データ部とアドレス部の両方で電子ビーム１１を原盤の半径方向に微小振動させると共に、その振動振幅を、アドレス部の方が前記データ部より大きくなるようにして描画する。
【００５４】
このようにすれば、アドレス部放射パターンの円周方向分解能を高められると共に、微小振動時間の短縮も可能となる。そして、描画時間を短くし、円周方向にも半径方向と同等幅の溝が描画できる。
【００５５】
但し、図２や図４の描画方式を従来のようなＥＢＲで描画するためには、偏向電極の周波数帯域が追いつかないという問題が残る。微小振動させる周波数は、ブランキング最大周波数の５〜１０倍程度は必要であるのに対し、実際には偏向電極もブランキングも２０〜３０ＭＨZ 程度で限界である。従って、従来のＥＢＲ装置では偏向電極の周波数帯域からブランキング周波数が２〜３ＭＨZ に制限され、より高速な描画を狙った大電流ＥＢ光学系が開発されても効果が発揮できなくなる。そしてこの問題は、以下に示す例３によって解消される。
【００５６】
§３：例３の説明
図５は例３の説明図である。以下、図５に基づき例３を説明する。図５において、１は電子銃、２はブランカ、４は対物レンズ、５は偏向電極、６は電子鏡筒、７はフォーマッタ、８はドライバ、１５はウォブル専用電極、１６は駆動回路、２１はＸステージ、２２はスピンドルモータ（θステージ）、２３はＸステージ駆動モータ、２４は描画原盤（ディスクリートトラックメディアの原盤）を示す。
【００５７】
例３では、大電流ＥＢ光学系が開発された場合にも、本発明が適用できるようにウォブル周波数を１００ＭＨZ 以上に上げることのできる電子光学系を提供するものである。
【００５８】
すなわち、従来のＥＢＲ装置に設けられている偏向電極は、種々なフォーマットに対応するため入力信号と偏向変位の関係が、ＤＣからより高帯域までフラットな周波数特性が得られるように設計されており、駆動回路の設計が難しくなり高帯域化が難しかった。
【００５９】
しかし、特定の周波数に限定して考えると、偏向電極のＣ（キャパシタンス）と配線周りのＬ（インダクタンス）で決まる共振周波数で理論上のインピーダンスが純抵抗のみの小さな値となるため、ＧＨZ オーダの振動も可能となる。
【００６０】
従って、図５に示したように、従来の広帯域偏向器の他にウォブル専用電極１５を設け、電極の共振周波数で駆動される。駆動回路１６から電極までを長いケーブルで引き回すと、共振周波数は落ちてしまうが、電子光学系の直ぐ脇に駆動回路１６を設ければ、共振周波数を１００ＭＨZ 以上にすることは可能である。
【００６１】
予め、振幅を駆動回路１６に与えておき、ＯＮ／ＯＦＦ信号（図２参照）若しくは振幅切替信号（図４参照）をフォーマッタ７から与えれば、本発明を大電流ＥＢ光学系にも適用できる。なお、このような例においては、ウォブルのＯＮ／ＯＦＦ周波数はウォブル周波数より１桁程度遅くなり、アドレス部の先頭やデータ部の先頭に過渡状態が発生し、アドレス部の放射パターンが乱れたり、ガードバンドの先頭が太くなったりするが、元々磁気ディスク装置にはこれらの部分はデータの読み書きは行わない構造となっているため、実用上の問題は発生しない。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の原理説明図である。
【図２】実施の形態における例１の説明図である。
【図３】実施の形態における振動による描画時の説明図である。
【図４】実施の形態における例２の説明図である。
【図５】実施の形態における例３の説明図である。
【図６】従来のＸθ電子ビームマスタリング装置の説明図である。
【図７】従来のＤＴＭの構造説明図である。
【図８】従来の円周方向溝と半径方向溝の描画方法説明図である。
【図９】従来の近接効果の影響の説明図である。
【符号の説明】
【００６３】
１  電子銃
２  ブランカ
４  対物レンズ
５  偏向電極
６  電子鏡筒
７  フォーマッタ
８  ドライバ
９  ドライバ
１１  電子ビーム
１５  ウォブル専用電極
１６  駆動回路
２１  Ｘステージ
２２  スピンドルモータ（θステージ）
２３  Ｘステージ駆動モータ
２４  描画原盤
３１  アドレス部
３２  データ部
３３  データトラック
３４  ガードバンド
３５  描画ビーム
３６  描画方向
【図１】
2007242072.tif 000003
【図２】
2007242072.tif 000004
【図３】
2007242072.tif 000005
【図４】
2007242072.tif 000006
【図５】
2007242072.tif 000007
【図６】
2007242072.tif 000008
【図７】
2007242072.tif 000009
【図８】
2007242072.tif 000010
【図９】
2007242072.tif 000011