(57)【要約】【課題】画像堅牢性、耐光性に優れた感熱転写受像シートを提供する。【解決手段】紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーを含有する受容層を有する感熱転写受像シート。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーを含有する受容層を有することを特徴とする感熱転写受像シート。
【請求項２】
紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーラテックスと染着性受容ポリマーラテックスとを含有する受容層を有することを特徴とする感熱転写受像シート。
【請求項３】
前記の紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーラテックスが、前記染着性受容ポリマーよりも色素の染着性が劣るポリマー骨格を有することを特徴とする請求項２記載の感熱転写受像シート。
【請求項４】
前記染着性受容ポリマーラテックスが塩化ビニル骨格を含むラテックスであることを特徴とする請求項３記載の感熱転写受像シート。
【請求項５】
紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーを水に懸濁させてラテックスを形成する一方、染着性受容ポリマーを水に懸濁させてラテックスを形成し、両ラテックスの混合物を支持体上に塗布することで受容層を形成することを特徴とする感熱転写受像シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は色素を含有する感熱転写シート（インクシート）と重ね合わせて使用される感熱転写受像シートに関し、特に画像堅牢性の優れた感熱転写受像シート及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、種々の熱転写記録方法が知られているが、中でも染料拡散転写記録方式は、銀塩写真の画質に最も近いカラーハードコピーが作製できるプロセスとして注目されている（例えば、非特許文献１及び２参照）。しかも、銀塩写真に比べて、ドライであること、デジタルデータから直接可視像化できる、複製作りが簡単であるなどの利点を持っている。
【０００３】
この染料拡散転写記録方式では、色素を含有する感熱転写シート（以下、インクシートともいう。）と感熱転写受像シート（以下、受像シートともいう。）とを重ね合わせ、次いで、電気信号によって発熱が制御されるサーマルヘッドによってインクシートを加熱することでインクシート中の色素を受像シートに転写して画像情報の記録を行うものであり、シアン、マゼンタ、イエローの３色を重ねて記録することで色の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像を転写記録することができる。
【０００４】
しかしながら、従来の感熱転写受像シートでは転写された画像の耐光性が悪く、転写された画像の鮮明度が保管中に低下してしまい長期にわたって美麗な画像を維持できないという問題があった。これは、転写された染料の比較的多くが受容層の表面近傍に存在するために光の影響を受けやすいためである。このような問題を解決するために、例えば特許文献１には、受像シートの染料受容層の表面に紫外線吸収剤や酸化防止剤等の安定化剤を含む離型剤層を形成させることが開示されている。しかし、紫外線吸収剤を単に染料受容層中に添加するという方法では、安定化剤がブリードアウトして消失したり、色素転写時にインクシートに転写したり、熱によって揮散又は分解したりして安定化剤の効果が経時的に減少するという問題があった。
【０００５】
また、従来の感熱転写受像シートでは染着性のよいポリエステル樹脂が染料受容層に用いられるが、サーマルヘッドによる加熱転写時にインクシートが受像シートに貼りつくいわゆる融着が起きたり、インクシートが受像シートに貼りつき気味になってインクシートを剥離する際に受像シート表面にスジ上の故障（スティッキング）が発生したり、高温多湿の条件下で保存すると画像の色にじみが発生したりするという問題があった。このような問題を解決するために、例えば特許文献２又は３には、一定比率のポリエステル樹脂と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とからなる染着樹脂や、塩化ビニルスチレン系共重合体を用いることが開示されている。しかし、特許文献２又は３に開示された受像シートでは、上記の耐光性の問題を解決することができなかった。
【特許文献１】特開平２−１４１２８７号公報
【特許文献２】特開平６−１６６２７２号公報
【特許文献３】特開平７−４０６７０号公報
【非特許文献１】「情報記録（ハードコピー）とその材料の新展開」，(株)東レリサーチセンター発行，１９９３年，ｐ．２４１−２８５
【非特許文献２】「プリンター材料の開発」，(株)シーエムシー発行，１９９５年，ｐ．１８０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、画像堅牢性、耐光性に優れた感熱転写受像シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーを受容層に含有させることで、紫外線吸収剤がブリードアウトしたり色素転写時にインクシートに転写したりするのを防止できることを見い出した。また、紫外線吸収能を有するユニットを含む染着性の低いポリマーラテックスと染着性受容ポリマーラテックスとを受容層に含有させることで、紫外線吸収剤がインクシートに転写するのを防止しつつ画像堅牢性、耐光性を向上させることができることを見い出した。本発明はこのような知見に基づきなされるに至ったものである。
【０００８】
上記課題は下記の手段により達成された。
（１）紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーを含有する受容層を有することを特徴とする感熱転写受像シート。
（２）紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーラテックスと染着性受容ポリマーラテックスとを含有する受容層を有することを特徴とする感熱転写受像シート。
（３）前記の紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーラテックスが、前記染着性受容ポリマーよりも色素の染着性が劣るポリマー骨格を有することを特徴とする（２）項に記載の感熱転写受像シート。
（４）前記染着性受容ポリマーラテックスが塩化ビニル骨格を含むラテックスであることを特徴とする（３）項に記載の感熱転写受像シート。
（５）紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーを水に懸濁させてラテックスを形成する一方、染着性受容ポリマーを水に懸濁させてラテックスを形成し、両ラテックスの混合物を支持体上に塗布することで受容層を形成することを特徴とする感熱転写受像シートの製造方法。
本発明において、「紫外線吸収能を有するユニット」とは、紫外線吸収能を有する化合物、および該化合物の一部分を含む構造を意味する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の感熱転写受像シートは、高品位の画像を形成することができ、かつ光堅牢性に優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の感熱転写受像シートは、支持体上に染料受容層（受容層）が形成されている。受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。また、下地層と支持体との間には断熱層が形成されていることが好ましい。さらに、支持体の裏面側にはカール調整層、筆記層、帯電調整層が形成されていることが好ましい。各層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。
【００１１】
（受容層）
受容層は、インクシートから移行してくる染料を受容し、形成された画像を維持する役割を果たす。そのため受容層には染着しやすい樹脂（染着性受容ポリマー）が用いられる。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル等のビニル系樹脂、及びその共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート、フェノール樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリサルフォン、ブチラール樹脂、メラミン樹脂、ポリビニルアルコール、エチレンやプロピレン等のオレフィンと他のビニル系モノマーとの共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、スチレンアクリル共重合体、アイオノマー、セルロース樹脂、天然ゴム、合成ゴム等の単体又は混合物を用いることができるが本発明はこれらに限定されない。本発明では塩化ビニル骨格を有するポリマーが特に好ましい。
【００１２】
色素の染着性の程度については以下のようにして定義される。受像シートにイエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの４色を２５６階調のベタ画像を形成するよう出力し、得られた画像の反射濃度を測定して、最も反射濃度の高いものを染着性が良い受容ポリマーと定義する。なお、受容ポリマーの染着性は、プリンター、インクシートによって異なり得るので注意が必要である。
【００１３】
＜紫外線吸収剤＞
また、本発明では耐光性を向上するために受容層に紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーが添加される。ここで、紫外線吸収能を有するユニットとは、紫外線吸収能を有する部分構造を意味する。紫外線吸収能を有する部分構造式は、紫外線吸収剤における紫外線を吸収する部分構造として知られている。この紫外線吸収剤を高分子量化することで受容層に固定でき、インクシートへの拡散や加熱による昇華・蒸散などを防ぐことができる。
紫外線吸収剤としては、情報記録分野において広く知られている各種紫外線吸収剤骨格を有する化合物を使用することができる。具体的には、２−ヒドロキシベンゾトリアゾール型紫外線吸収剤、２−ヒドロキシベンゾトリアジン型紫外線吸収剤、２−ヒドロキシベンゾフェノン型紫外線吸収剤骨格を有する化合物を挙げることができる。紫外線吸収能（吸光係数）・安定性の観点では、ベンゾトリアゾール型、トリアジン骨格を有する化合物が好ましく、高分子量化・ラテックス化の観点ではベンゾトリアゾール型、ベンゾフェノン型の骨格を有する化合物が好ましい。具体的には、特開２００４−３６１９３６号公報などに記載された紫外線吸収剤を用いることができる。
【００１４】
紫外線吸収剤は、紫外域に吸収をもち、可視領域に吸収端がかからないことが好ましい。具体的には、受容層に添加して感熱転写受像シートを形成したとき、３７０ｎｍの反射濃度がＡｂｓ０．５以上になることが好ましく、３８０ｎｍの反射濃度がＡｂｓ０．５以上になることが更に好ましい。また、４００ｎｍの反射濃度がＡｂｓ０．１以下であることが好ましい。なお、４００ｎｍを超える範囲での反射濃度が高いと画像が黄ばむため好ましくない。
【００１５】
本発明では、紫外線吸収剤は高分子量化され、質量平均分子量１００００以上が好ましく、質量平均分子量１０００００以上が更に好ましい。高分子量化する手段としては、紫外線吸収剤をポリマーにグラフトすることが好ましい。主鎖となるポリマーとしては、併用する受容ポリマーより色素の染着性が劣るポリマー骨格を有することが好ましい。また、製膜した際に十分な皮膜強度を有することが好ましい。ポリマー主鎖に対する紫外線吸収剤のグラフト率は、５〜２０質量％が好ましく、８〜１５質量％がより好ましい。
【００１６】
また、紫外線吸収ユニットを含むポリマーはラテックス化することが更に好ましい。ラテックス化することにより水分散系の塗布液を塗布製膜することにより受容層を形成することができ、製造コストを軽減することが可能である。ラテックス化する方法は例えば特許第３４５０３３９号明細書などに記載された方法を用いることができる。ラテックス化された紫外線吸収剤としては、例えば一方社油脂工業株式会社製ＵＬＳ−７００、ＵＬＳ−１７００、ＵＬＳ−１３８３ＭＡ、ＵＬＳ−１６３５ＭＨ、ＸＬ−７０１６、ＵＬＳ−９３３ＬＰ、ＵＬＳ−９３５ＬＨ、新中村化学製Ｎｅｗ  Ｃｏａｔ  ＵＶＡ−１０２５Ｗ、Ｎｅｗ  Ｃｏａｔ  ＵＶＡ−２０４Ｗ、Ｎｅｗ  Ｃｏａｔ  ＵＶＡ−４５１２Ｍ（いずれも商品名）など市販の紫外線吸収剤を使用することもできる。
紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーをラテックス化する場合、前記の染着性受容ポリマーも同様にしてラテックス化し、両者を混合してから塗布することで紫外線吸収剤が均一に分散した受容層を形成することができる。
【００１７】
紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマー又はそのラテックスの添加量は、受容層を形成する染着性受容ポリマー又はそのラテックスに対して５〜５０質量部が好ましく、１０〜３０質量部がより好ましい。
【００１８】
以下に、紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーについて、さらに詳細に説明する。
紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーは、好ましくは紫外線吸収剤をその部分構造に含むポリマーであり、該紫外線剤としては、有機化合物であっても、無機化合物であっても良い。
有機の紫外線吸収剤の場合、下記一般式（１）〜（８）で表されるものが好ましい。
【００１９】
【化１】
2007030275.tif 000002
【００２０】
式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15は、各々独立に、同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基を表す。
【００２１】
【化２】
2007030275.tif 000003
【００２２】
式中、Ｒ21、Ｒ22は各々独立に、同じであっても異なっていても良く、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基を表す。Ｔはアリール基、ヘテロ環、アリールオキシ基を表す。好ましくは、Ｔはアリール基である。
【００２３】
【化３】
2007030275.tif 000004
【００２４】
式中、Ｘ31、Ｙ31、Ｚ31は、各々独立に置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、もしくはヘテロ環基を表す。但し、Ｘ31、Ｙ31、Ｚ31のうち少なくとも一つは一般式（ａ）で表される基を表す。
【００２５】
【化４】
2007030275.tif 000005
【００２６】
式中、Ｒ31、Ｒ32は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキル及びもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基を表す。また、隣り合うＲ31、Ｒ32が連結して環を形成しても良い。
【００２７】
【化５】
2007030275.tif 000006
【００２８】
式中、Ｒ41〜Ｒ44は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基を表す。
【００２９】
【化６】
2007030275.tif 000007
【００３０】
式中、Ｑはアリール基、もしくは５または6員のヘテロ環を表し、Ｒ51は水素原子、またはアルキル基であり、Ｘ51およびＹ51は各々シアノ基、−COOR52、−CONR52R53、−COR52、−SO2ＯR52、−SO2ＮR52R53であり、Ｒ52、Ｒ53は水素原子、アルキル基、アリール基を表す。Ｒ52、Ｒ53のうち、どちらか一方は水素原子であることが好ましい。また、Ｘ51とＹ51は連結して５または６員環を形成してもよい。Ｘ51、Ｙ51がカルボキシル基の時、それらは塩の形であっても良い。
【００３１】
【化７】
2007030275.tif 000008
【００３２】
式中、Ｒ61、Ｒ62は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、または互いに連結して５または６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。また、Ｒ61、Ｒ62のいずれかが窒素原子の隣のメチン基と結合して、５または６員環を形成しても良い。Ｘ61、Ｙ61は同じでも異なっていても良く、一般式（５）におけるＸ51、Ｙ51と同義である。
【００３３】
【化８】
2007030275.tif 000009
【００３４】
式中、Ｒ71〜Ｒ74は、各々独立に、同じであっても異なっていても良く、水素原子、アルキル基、アリール基を表し、Ｒ71とＲ74は一緒になって二重結合を形成しても良く、Ｒ71とＲ74は一緒になって二重結合を形成するときは、Ｒ72とＲ73は連結してベンゼン環またはナフタレン環を形成しても良い。Ｒ75はアルキル基またはアリール基を表し、Ｚ71は酸素原子、イオウ原子、メチレン基、エチレン基、＞Ｎ−Ｒ76または＞Ｃ(Ｒ77)(Ｒ78)を表し、Ｒ76はアルキル基、アリール基を表し、Ｒ77、Ｒ78は同じでも異なっていても良く、水素原子またはアルキル基を表す。Ｘ71、Ｙ71は同じでも異なっていても良く、一般式（５）におけるＸ51、Ｙ51と同義である。ｎは０または１を表す。
【００３５】
【化９】
2007030275.tif 000010
【００３６】
式中、Ｒ81〜Ｒ86は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基を表し、Ｒ87、Ｒ88は同じでも異なっていても良く、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ87とＲ88で連結して５または６員環を形成しても良い。
【００３７】
一般式（１）〜（８）および一般式（ａ）において、各置換基は、例えば、アルキル部、アリール部またはヘテロ環部を有する基においては、下記の置換基で置換されていてもよい。また、一般式（１）〜（８）および一般式（ａ）の各基の説明および具体的な基としては、同じく下記に示す基のうち、対応する基の例示の基が挙げられる。
以下にこのような基を説明および例示する。
ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２―エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。〕、アルケニル基［直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、
【００３８】
ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、
【００３９】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p-クロロフェノキシカルボニルアミノ、m-ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、
【００４０】
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキルもしくはアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２―ピリジルカルボニル、２―フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、
【００４１】
カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリールもしくはヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）を表す。
【００４２】
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニルが挙げられる。
【００４３】
上記一般式（１）〜（８）で表される紫外線吸収剤が水溶性である場合には、イオン性親水性基を有することが好ましい。イオン性親水性基には、スルホ基、カルボキシル基、ホスホノ基および４級アンモニウム基等が含まれる。前記イオン性親水性基としては、カルボキシル基、ホスホノ基、およびスルホ基が好ましく、特にカルボキシル基、スルホ基が好ましい。カルボキシル基、ホスホノ基およびスルホ基は塩の状態であってもよく、塩を形成する対イオンの例には、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン（例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン）および有機カチオン（例、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラメチルグアニジウムイオン、テトラメチルホスホニウム）が含まれる。
【００４４】
上記一般式（１）〜（８）で表される紫外線吸収剤のうち、紫外線吸収剤自身の光堅牢性が高いという点から一般式（１）〜（４）で表されるものが好ましく、さらに吸収特性から（１）〜（３）で表されるものが好ましく、中でも一般式（１）と（３）が特に好ましい。一方、塩基性条件下で用いられる場合には、解離による着色が生じない点から一般式（４）〜（８）で表される化合物が好ましい。
以下に一般式（１）〜（８）で表される紫外線吸収剤の具体例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、ここでＰｈはフェニル基、ＭｅはＣＨ3である。
【００４５】
【化１０】
2007030275.tif 000011
【００４６】
【化１１】
2007030275.tif 000012
【００４７】
【化１２】
2007030275.tif 000013
【００４８】
【化１３】
2007030275.tif 000014
【００４９】
【化１４】
2007030275.tif 000015
【００５０】
【化１５】
2007030275.tif 000016
【００５１】
【化１６】
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【００５２】
【化１７】
2007030275.tif 000018
【００５３】
【化１８】
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【００５４】
【化１９】
2007030275.tif 000020
【００５５】
一般式（１）〜（８）で表される化合物は、特公昭48−30492号、同55−36984号、同55−125875号、同36−10466号、同48−5496号、特開昭46−3335号、同58−214152号、同58−221844号、同47−10537号、同59−19945号、同63−53544号、同51−56620号、同53−128333号、同58−181040号、特開平6−211813号、同7−258228号、同8−239368号，同8−53427号，同10−115898号，同10−147577号，同10−182621号、特表平8−501291号、米国特許第3，754，919号、同4，220，711号、同2，719，086号、同3，698，707号、同3，707，375号、同5，298，380号、同5，500，332号、同5，585，228号、同5，814，438号、英国特許1，198，337号、ヨーロッパ特許第323408A号、同520938A号、同521823A号、同531258A号、同530135A号、同520938A号等に記載されているか又は記載の方法に準じて合成することができる。
また、代表的な紫外線吸収剤の構造と、その物性および作用機構については、Andreas  Valet著，“Light  Stabilizers  for  Paint”，Vincentz出版に記載が有る。
【００５６】
本発明における紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーは、上記一般式（１）〜（８）で表される化学構造をその構成単位、あるいは構成単位の一部としてポリマー中に組み込まれたものである。一般式（１）で表される化学構造を構成単位にもつ紫外線吸収剤としては欧州特許747755号、特開平8-179464号、同6-82962号、同4-193869号、同3-139590号、特開昭63-55542号、同62-24247号、同47-560号、同58-185677号等が、一般式（２）で表される化学構造を構成単位にもつ紫外線吸収剤としては特開昭63-35660号、特開平2-180909号が、一般式（３）で表される化学構造を構成単位にもつ紫外線吸収剤としては欧州特許706083号が、一般式（５）で表される化学構造を構成単位にもつ紫外線吸収剤としては、特表平4-500228号、特公昭63-53541号が、一般式（６）で表される化学構造を構成単位にもつ紫外線吸収剤としては欧州特許27242号、特公平1-53455号、特開昭61-189530号が、一般式（７）で表される化学構造を構成単位にもつ紫外線吸収剤としては特開昭63-53543号がそれぞれ開示されており、さらに特開昭47-192号、同61-169831号、同63-53543号、同63-53544号、同63-56651号、欧州特許343246号等が知られている。
【００５７】
無機化合物の紫外線吸収剤としてはドイツ特許19511316号で開示されている酸化チタン微粒子分散物や、酸化セリウムや酸化亜鉛等の金属酸化物微粒子分散物を用いることができる。
本発明においては、有機化合物の紫外線吸収剤が好ましい。
【００５８】
本発明の紫外線吸収能を有するユニットを含むポリマーは、媒体中に溶解もしくは分散して添加することが出来る。媒体に対して溶解性を有する場合には、本発明の化合物を直接添加することが出来る。一方、溶解性がない場合、例えば本発明のように水溶性の媒体を用いる場合で油溶性紫外線吸収剤を使用する場合には、米国特許２，３２２，０２７号に記載の方法などが用いられる。例えば、フタール酸アルキルエステル（ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど）、リン酸エステル（ジフェニルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルブチルホスフェートなど）、クエン酸エステル（アセチルクエン酸トリブチルなど）、安息香酸エステル（安息香酸オクチルなど）、アルキルアミド（ジエチルラウリルアミドなど）、脂肪酸エステル類（ジブトキシエチルサクシネート、ジエチルアゼレートなど）、トリメシン酸エステル類（トリメシン酸トリブチルなど）など、又は沸点約３０℃ないし１５０℃の有機溶剤、例えば酢酸エチル、酢酸ブチルのごとき低級アルキルアセテート、プロピオン酸エチル、２級ブチルアルコール、メチルイソブチルケトン、β−エトキシエチルアセテート、メチルセロソルブアセテートなどに溶解した後親水性コロイドに分散される。上記高沸点溶媒と低沸点溶媒とは混合してもよい。
また、特公昭５１−３９８５３号、特開昭５１−５９９４３号に記載されている重合物による分散法も使用することができる。
これらの疎水性化合物をオイル組成物又はポリマー組成物の形で感光材料に添加する具体的方法については特開平７−９２６１３号に記載された方法を適用できる。
【００５９】
＜ポリマーラテックス＞
本発明に用いるポリマーラテックスについて説明する。本発明の感熱転写受像シートにおいて、受容層に用いうるポリマーラテックスは水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなどいずれでもよい。なおポリマーラテックスについては、奥田平，稲垣寛編集，「合成樹脂エマルジョン」，高分子刊行会発行（1978年）、杉村孝明，片岡靖男，鈴木聡一，笠原啓司編集，「合成ラテックスの応用」，高分子刊行会発行（1993年）、室井宗一著，「合成ラテックスの化学」，高分子刊行会発行（1970年）、三代澤良明監修，「水性コーティング材料の開発と応用」，シーエムシー出版（2004年）および特開昭64-538号公報などに記載されている。分散粒子の平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜1000nm程度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径分布を持つものでもよい。
【００６０】
ポリマーラテックスとしては通常の均一構造のポリマーラテックス以外、いわゆるコア／シェル型のラテックスでもよい。この場合コアとシェルはガラス転移温度を変えると好ましい場合がある。本発明のポリマーラテックスのガラス転移温度は、−３０℃〜１３０℃が好ましく、０℃〜１００℃がより好ましく、１０℃〜８０℃がさらに好ましい。
【００６１】
本発明のポリマーラテックスの好ましい態様としては、アクリル系ポリマー、ポリエステル類、ゴム類(例えばSBR樹脂)、ポリウレタン類、ポリ塩化ビニル類、ポリ酢酸ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリオレフィン類等の疎水性ポリマーを好ましく用いることができる。これらポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでもまた架橋されたポリマーでもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、2種類以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。これらポリマーの分子量は数平均分子量で5000〜1000000、好ましくは10000〜500000がよい。分子量が小さすぎるものはラテックスを含有する層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは成膜性が悪く好ましくない。また、架橋性のポリマーラテックスも好ましく使用される。
【００６２】
本発明に使用するポリマーラテックスの合成に用いるモノマーとしては、特に制限はなく、通常のラジカル重合又はイオン重合法で重合可能なものでは、下記に示すモノマー群（ａ）〜（ｊ）を好適に用いることができる。これらモノマーを独立かつ自由に組み合わせて選択し、ポリマーラテックスを合成することができる。
【００６３】
−モノマー群（ａ）〜（ｊ）−
（ａ）共役ジエン類：１，３−ペンタジエン、イソプレン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、シクロペンタジエン等。
（ｂ）  オレフィン類：エチレン、プロピレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、６−ヒドロキシ−１−ヘキセン、４−ペンテン酸、８−ノネン酸メチル、ビニルスルホン酸、トリメチルビニルシラン、トリメトキシビニルシラン、１，４−ジビニルシクロヘキサン、１，２，５−トリビニルシクロヘキサン等
【００６４】
（ｃ）  α，β−不飽和カルボン酸エステル類：アルキルアクリレート（例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート等）、置換アルキルアクリレート（例えば、２−クロロエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート等）、アルキルメタクリレート（例えば、メチルメタクリレート、ブチルメタクリ−レート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート等）、置換アルキルメタクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、グリセリンモノメタクリレート、２−アセトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート（ポリオキシプロピレンの付加モル数＝２ないし１００のもの）、３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、クロロ−３−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニオプロピルメタクリレート、２−カルボキシエチルメタクリレート、３−スルホプロピルメタクリレート、４−オキシスルホブチルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレート等）、不飽和ジカルボン酸の誘導体（例えば、マレイン酸モノブチル、マレイン酸ジメチル、イタコン酸モノメチル、イタコン酸ジブチル等）、多官能エステル類（例えばエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラメタクリレート等）。
【００６５】
（ｄ）  β−不飽和カルボン酸のアミド類：例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、イタコン酸ジアミド、Ｎ−メチルマレイミド、２−アクリルアミド−メチルプロパンスルホン酸、メチレンビスアクリルアミド、ジメタクリロイルピペラジン等
（ｅ）  不飽和ニトリル類：アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（ｆ）  スチレン及びその誘導体：スチレン、ビニルトルエン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム塩、ｐ−スチレンスルフィン酸カリウム塩、ｐ−アミノメチルスチレン、１，４−ジビニルベンゼン等。
（ｇ）  ビニルエーテル類：メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル等。
（ｈ）  ビニルエステル類：酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルクロロ酢酸ビニル等。
（ｉ）  α，β−不飽和カルボン酸及びその塩類：アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、アクリル酸ナトリウム、メタクリル酸アンモニウム、イタコン酸カリウム等。
（ｊ）  その他の重合性単量体：Ｎ−ビニルイミダゾール、４−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリン、ジビニルスルホン等。
【００６６】
本発明で使用できるポリマーラテックスは市販もされており、以下のようなポリマーが利用できる。アクリル系ポリマーの例としては、ダイセル化学工業(株)製セビアンA-4635,4718，4601、日本ゼオン(株)製Nipol  Lx811、814、821、820、855（P-17：Tg36℃）、857x2（P-18：Tg43℃）、大日本インキ化学(株)製Voncoat  R3370（P-19：Tg25℃）、4280（P-20：Tg15℃）、日本純薬(株)製ジュリマーET-410（P-21：Tg44℃）、ＪＳＲ(株)製AE116（P-22：Tg50℃）、AE119（P-23：Tg55℃）、AE121（P-24：Tg58℃）、AE125(P-25：Tg60℃)、AE134（P-26：Tg48℃）、AE137（P-27：Tg48℃）、AE140（P-28：Tg53℃）、AE173（P-29：Tg60℃）、東亞合成(株)製アロンＡ−１０４（P-30：Tg45℃）、高松油脂(株)製NS-600X、NS-620X、日信化学工業(株)製ビニブラン2580、2583、2641、2770、2770H、2635、2886、5202C、2706などが挙げられる（いずれも商品名）。
【００６７】
ポリエステル類の例としては、大日本インキ化学(株)製FINETEX  ES650、611、675、850、イーストマンケミカル製WD-size、WMS、高松油脂(株)製A-110、A-115GE、A-120、A-121、A-124GP、A-124S、A-160P、A-210、A-215GE、A-510、A-513E、A-515GE、A-520、A-610、A-613、A-615GE、A-620、WAC-10、WAC-15、WAC-17XC、WAC-20、S-110、S-110EA、S-111SL、S-120、S-140、S-140A、S-250、S-252G、S-250S、S-320、S-680、DNS-63P、NS-122L、NS-122LX、NS-244LX、NS-140L、NS-141LX、NS-282LX、東亞合成(株)製アロンメルトPES-1000シリーズ、PES-2000シリーズ、東洋紡(株)製バイロナールMD-1100、MD-1200、MD-1220、MD-1245、MD-1250、MD-1335、MD-1400、MD-1480、MD-1500、MD-1930、MD-1985、住友精化(株)製セポルジョンESなどが挙げられる（いずれも商品名）。
【００６８】
ポリウレタン類の例としては、大日本インキ化学(株)製HYDRAN  AP10、AP20、AP30、AP40、101H、Vondic  1320NS、1610NS、大日精化(株)製D-1000、D-2000、D-6000、D-4000、D-9000、高松油脂(株)製NS-155X、NS-310A、NS-310X、NS-311X、第一工業製薬(株)製エラストロンなどが挙げられる（いずれも商品名）。
【００６９】
ゴム類の例としては、LACSTAR  7310K、3307B、4700H、7132C(以上、大日本インキ化学(株)製)、Nipol  Lx416、LX410、LX430、LX435、LX110、LX415A、LX438C、2507H、LX303A、LX407BPシリーズ、V1004、MH5055(以上日本ゼオン(株)製)などが挙げられる（いずれも商品名）。
【００７０】
ポリ塩化ビニル類の例としては、日本ゼオン(株)製G351、G576、日信化学工業(株)製ビニブラン240、270、277、375、386、609、550、601、602、630、660、671、683、680、680S、681N、685R、277、380、381、410、430、432、860、863、865、867、900、900GT、938、950などが挙げられる（いずれも商品名）。ポリ塩化ビニリデン類の例としては、旭化成工業(株)製L502、L513、大日本インキ化学(株)製D-5071など挙げられる（いずれも商品名）。ポリオレフィン類の例としては、三井石油化学(株)製ケミパールS120、SA100、V300（P-40：Tg80℃）、大日本インキ化学(株)製Voncoat  2830、2210、2960、住友精化(株)製ザイクセン、セポルジョンG、共重合ナイロン類の例としては、住友精化(株)製セポルジョンPA、などが挙げられる（いずれも商品名）。
【００７１】
ポリ酢酸ビニル類の例としては、日信化学工業(株)製ビニブラン1080、1082、1085W、1108W、1108S、1563M、1566、1570、1588C、A22J7-F2、1128C、1137、1138、A20J2、A23J1、A23J1、A23K1、A23P2E、A68J1N、1086A、1086、1086D、1108S、1187、1241LT、1580N、1083、1571、1572、1581、4465、4466、4468W、4468S、4470、4485LL、4495LL、1023、1042、1060、1060S、1080M、1084W、1084S、1096、1570K、1050、1050S、3290、1017AD、1002、1006、1008、1107L、1225、1245L、GV-6170、GV-6181、4468W、4468Sなどが挙げられる（いずれも商品名）。
【００７２】
これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて２種以上ブレンドしてもよい。
【００７３】
本発明では受容層を水系の塗布液を塗布後乾燥して調製することが好ましい。ただし、ここで言う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)の６０質量％以上が水であることをいう。塗布液の水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、オキシエチルフェニルエーテルなどの水混和性の有機溶媒を用いることができる。
【００７４】
ポリマーラテックスの最低造膜温度(MFT)は−３０℃〜９０℃、より好ましくは０℃〜７０℃程度が好ましい。最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は一時可塑剤ともよばれポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常有機溶剤)で、例えば室井宗一著，「合成ラテックスの化学」，高分子刊行会発行（1970年）に記載されている。好ましい造膜助剤は以下の化合物であるが、本発明で用い得る化合物は以下の具体例に限定されるものではない。
Ｚ−１：ベンジルアルコール
Ｚ−２：２，２，４−トリメチルペンタンジオール−１，３−モノイソブチレート
Ｚ−３：２−ジメチルアミノエタノール
Ｚ−４：ジエチレングルコール
【００７５】
本発明に用いられるポリマーラテックスの好ましい例としては、ポリ乳酸エステル類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリアセタール類、SBR類、ポリ塩化ビニル類を挙げることができ、この中でも、ポリエステル類、ポリカーボネート類、ポリ塩化ビニル類を含むことが最も好ましい。
【００７６】
本発明に用いられるポリマーラテックスは、ポリマーラテックスとともにいかなるポリマーも併用しても良い。併用することのできるポリマーとしては、透明又は半透明で、無色であることが好ましく、天然樹脂やポリマー及びコポリマー、合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン類、ポリビニルアルコール類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリビニルピロリドン類、カゼイン、デンプン、ポリアクリル酸類、ポリメチルメタクリル酸類、ポリ塩化ビニル類、ポリメタクリル酸類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリビニルアセタール類（例えば、ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラール）、ポリエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエポキシド類、ポリカーボネート類、ポリ酢酸ビニル類、ポリオレフィン類、ポリアミド類がある。バインダーは水又は有機溶媒またはエマルションから被覆形成してもよい。
【００７７】
本発明に用いられるバインダーは、加工脆性と画像保存性の点でガラス転移温度（Ｔｇ）が−３０℃〜７０℃の範囲のものが好ましく、より好ましくは−１０℃〜５０℃の範囲、さらに好ましくは０℃〜４０℃の範囲である。バインダーとして２種以上のポリマーをブレンドして用いることも可能で、この場合、組成分を考慮し加重平均したＴｇが上記の範囲に入ることが好ましい。また、相分離した場合やコア−シェル構造を有する場合には加重平均したＴｇが上記の範囲に入ることが好ましい。
【００７８】
このガラス転移温度（Ｔｇ）は下記式で計算することができる。
1／Tg＝Σ(Xi／Tgi)
ここでは、ポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ個のモノマー成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの重量分率（ΣXi=1）、Tgiはi番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。尚、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値（Tgi）は「Polymer  Handbook(3rd  Edition)」(J.Brandrup,  E.H.Immergut著(Wiley-Interscience、1989))の値を採用できる。
【００７９】
本発明に用いられるバインダーに用いられるポリマーは、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、分散重合法、アニオン重合法、カチオン重合等により容易に得ることができるが、ラテックスとして得られる乳化重合法が最も好ましい。また、ポリマーを溶液中で調製し、中和するか乳化剤を添加後に水を加え、強制的に撹拌により水分散体を調製する方法も好ましい。乳化重合法は、例えば、水、或いは、水と水に混和し得る有機溶媒（例えばメタノール、エタノール、アセトン等）との混合溶媒を分散媒とし、分散媒に対して５〜１５０質量％のモノマー混合物と、モノマー総量に対して乳化剤と重合開始剤を用い、３０〜１００℃程度、好ましくは６０〜９０℃で３〜２４時間、攪拌下重合させることにより行われる。分散媒、モノマー濃度、開始剤量、乳化剤量、分散剤量、反応温度、モノマー添加方法等の諸条件は、使用するモノマーの種類を考慮し、適宜設定される。また、必要に応じて分散剤を用いることが好ましい。
【００８０】
乳化重合法は、一般的には次に示す文献に従って行うことができる。奥田平，稲垣寛編集，「合成樹脂エマルジョン」，高分子刊行会発行（1978年）、杉村孝明，片岡靖男，鈴木聡一，笠原啓司編集，「合成ラテックスの応用」，高分子刊行会発行（1993年）、室井宗一著，「合成ラテックスの化学」，高分子刊行会発行（1970年）。本発明に用いられるポリマーラテックスを合成する乳化重合法において、一括重合法、モノマー（連続・分割）添加法、エマルジョン添加法、シード重合法などを選択することができ、ラテックスの生産性の観点から一括重合法、モノマー（連続・分割）添加法、エマルジョン添加法が好ましい。
【００８１】
前記重合開始剤としてはラジカル発生能があればよく、過硫酸塩や過酸化水素などの無機過酸化物、日本油脂(株)有機過酸化物カタログなどに記載の過酸化物および和光純薬工業(株)アゾ重合開始剤カタログなどに記載のアゾ化合物を用いることができる。その中でも、過硫酸塩などの水溶性過酸化物および和光純薬工業(株)アゾ重合開始剤カタログなどに記載の水溶性アゾ化合物が好ましく、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）塩酸塩、アゾビス（２−メチル−N−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド）、アゾビスシアノ吉草酸がより好ましく、特に、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウムなどの過酸化物が画像保存性、溶解性、コストの観点から好ましい。
【００８２】
前記重合開始剤の添加量としては、重合開始剤がモノマー総量に対して０．３質量％〜２．０質量％であることが好ましく、０．４質量％〜１．７５質量％であることがより好ましく、０．５質量％〜１．５質量％であることが特に好ましい。
【００８３】
前記重合乳化剤としては、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤のいずれも用いることができるが、アニオン性界面活性剤が分散性と画像保存性の観点から好ましく、少量で重合安定性が確保でき、加水分解耐性もあることからスルホン酸型アニオン界面活性剤がより好ましく、ペレックスＳＳ−Ｈ(花王(株))に代表される長鎖アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩がさらに好ましく、パイオニンＡ−４３−Ｓ（竹本油脂(株)）のような低電解質タイプが特に好ましい。
【００８４】
前記重合乳化剤として、スルホン酸型アニオン界面活性剤がモノマー総量に対して０．１質量％〜１０．０質量％使用されていることが好ましく、０．２質量％〜７．５質量％使用されていることがより好ましく、０．３質量％〜５．０質量％使用されていることが特に好ましい。
【００８５】
本発明に用いられるポリマーラテックスの合成には、キレート剤を使用するのが好ましい。キレート剤は、鉄イオンなど金属イオンやカルシウムイオンなどのアルカリ土類金属イオンなどの多価イオンを配位（キレート）できる化合物であり、特公平6-8956号、米国特許5053322号、特開平4-73645号、特開平4-127145号、特開平4-247073号、特開平4-305572号、特開平6−11805号、特開平5−173312号、特開平5−66527号、特開平5−158195号、特開平6−118580号、特開平6−110168号、特開平6−161054号、特開平6−175299号、特開平6−214352号、特開平7−114161号、特開平7−114154号、特開平7−120894号、特開平7−199433号、特開平7−306504号、特開平9−43792号、特開平8−314090号、特開平10−182571号、特開平10−182570号、特開平11−190892号に記載の化合物を用いることができる。
【００８６】
前記キレート剤としては、無機キレート化合物（トリポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、テトラポリリン酸ナトリウム等）、アミノポリカルボン酸系キレート化合物（ニトリロトリ三酢酸、エチレンジアミン四酢酸等）、有機ホスホン酸系キレート化合物（Research  Disclosure１８１７０号、特開昭５２−１０２７２６号、同５３−４２７３０号、同５６−９７３４７号、同５４−１２１１２７号、同５５−４０２４号、同５５−４０２５号、同５５−２９８８３号、同５５−１２６２４１号、同５５−６５９５５号、同５５−６５９５６号、同５７−１７９８４３号、同５４−６１１２５号、及び西独特許１０４５３７３号などに記載の化合物）、ポリフェノール系キレート剤、ポリアミン系キレート化合物など好ましく、アミノポリカルボン酸誘導体が特に好ましい。
【００８７】
前記アミノポリカルボン酸誘導体の好ましい例としては、「ＥＤＴＡ（−コンプレキサンの化学−）」（南江堂、1977年）の付表の化合物があげられ、またこれら化合物のカルボキシル基の一部がナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属塩やアンモニウム塩など置換されてもよい。特に好ましいアミノカルボン酸誘導体としては、イミノ二酢酸、N−メチルイミノ二酢酸、N−（２−アミノエチル）イミノ二酢酸、N−（カルバモイルメチル）イミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、エチレンジアミン−N,N'−二酢酸、エチレンジアミン−N,N'−ジ−α−プロピオン酸、エチレンジアミン−N,N'−ジ−β−プロピオン酸、N,N'−エチレン−ビス（α−o−ヒドロキシフェニル）グリシン、N,N'−ジ（２−ヒドロキシベンジル）エチレンジアミン−N,N'−二酢酸、エチレンジアミン−N,N'−二酢酸−N,N'−ジアセトヒドロキサム酸、N−ヒドロキシエチルエチレンジアミン−N,N',N'−三酢酸、エチレンジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、１,２−プロピレンジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、ｄ,ｌ−２,３−ジアミノブタン−N,N,N',N'−四酢酸、meso−２,３−ジアミノブタン−N,N,N',N'−四酢酸、１−フェニルエチレンジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、ｄ,ｌ−１,２−ジフェニルエチレンジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、１,４−ジアミノブタン−N,N,N',N'−四酢酸、trans−シクロブタン−１,２−ジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、trans−シクロペンタン−１,２−ジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、trans−シクロヘキサン−１,２−ジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、cis−シクロヘキサン−１,２−ジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、シクロヘキサン−１,３−ジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、シクロヘキサン−１,４−ジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、o−フェニレンジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、cis−１,４−ジアミノブテン−N,N,N',N'−四酢酸、trans−１,４−ジアミノブテン−N,N,N',N'−四酢酸、α,α'−ジアミノ−o−キシレン−N,N,N',N'−四酢酸、２−ヒドロキシ−１,３−プロパンジアミン−N,N,N',N'−四酢酸、２,２'−オキシ−ビス（エチルイミノ二酢酸）、２,２'−エチレンジオキシ−ビス（エチルイミノ二酢酸）、エチレンジアミン−N,N'−二酢酸−N,N'−ジ−α−プロピオン酸、エチレンジアミン−N,N'−二酢酸−N,N'−ジ−β−プロピオン酸、エチレンジアミン−N,N,N',N'−テトラプロピオン酸、ジエチレントリアミン−N,N,N',N'',N''−五酢酸、トリエチレンテトラミン−N,N,N',N'',N''',N'''−六酢酸、１,２,３−トリアミノプロパン−N,N,N',N'',N''',N'''−六酢酸があげられ、またこれら化合物のカルボキシル基の一部がナトリウムやカリウムなどのアルカリ金属塩やアンモニウム塩など置換されたものもあげることができる。
【００８８】
前記キレート剤の添加量は、モノマー総量に対して０．０１質量％〜０．４質量％であることが好ましく、０．０２質量％〜０．３質量％であることがより好ましく、０．０３質量％〜０．１５質量％であることが特に好ましい。キレート剤量が０．０１質量％未満であると、ポリマーラテックスの製造工程で混入する金属イオンの捕捉が不十分となり、ラテックスの凝集に対する安定性が低下し、塗布性を悪化させる。また、０．４％を超えると、ラテックスの粘度が上昇し塗布性を低下させる。
【００８９】
本発明に用いられるポリマーラテックスの合成には、連鎖移動剤を使用することが好ましい。連鎖移動剤としては、「Polymer  Handbook，第３版」（Wiley-Interscience，1989）に記載されているものが好ましい。硫黄化合物は連鎖移動能が高く、少量で用いることで済むことからより好ましい。ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタンやｎ−ドデシルメルカプタン等疎水的なメルカプタン系の連鎖移動剤が特に好ましい。
【００９０】
前記連鎖移動剤量は、モノマー総量に対して０．２質量％〜２．０質量％が好ましく、０．３質量％〜１．８質量％がより好ましく、０．４質量％〜１．６質量％が特に好ましい。
【００９１】
乳化重合では、上記化合物以外に、電解質、安定化剤、増粘剤、消泡剤、酸化防止剤、加硫剤、凍結防止剤、ゲル化剤、加硫促進剤など合成ゴムハンドブック等に記載の添加剤を使用してもよい。
【００９２】
本発明に用いられるポリマーラテックスは、その塗布液における溶媒として、水系溶媒を用いることができるが、水混和性の有機溶媒を併用してもよい。水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルミアミド等を挙げることができる。これら有機溶媒の添加量は、溶媒の５０％以下、より好ましくは３０％以下であることが好ましい。
【００９３】
また、本発明に用いられるポリマーラテックスは、ポリマー濃度がラテックス液に対して１０〜７０質量％であることが好ましく、さらに２０〜６０質量％、特に３０〜５５質量％であることが好ましい。
ポリマーラテックスの添加量は、ポリマーラテックスの固形分が受容層中の全ポリマーの５０〜９５質量％であることが好ましく、７０〜９０質量％であることがより好ましい。
なお、本発明の受像シートにおけるポリマーラテックスは、塗布後に溶媒の一部を乾燥させることにより形成されるゲルまたは乾燥皮膜の状態を含む。
【００９４】
＜離型剤＞
また、受容層には、画像形成時に熱転写シートとの熱融着を防ぐために、離型剤を配合することもできる。離型剤は、シリコーンオイル、リン酸エステル系可塑剤フッ素系化合物を用いることができるが、特にシリコーンオイルが好ましく用いられる。シリコーンオイルとしては、エポキシ変性、アルキル変性、アミノ変性、カルボキシル変性、アルコール変性、フッ素変性、アルキルアラルキルポリエーテル変性、エポキシ・ポリエーテル変性、ポリエーテル変性等の変性シリコーンオイルが好ましく用いられるが、中でもビニル変成シリコーンオイルとハイドロジェン変成シリコーンオイルとの反応物が良い。離型剤の添加量は、受容ポリマーに対して０．２〜３０質量部が好ましい。
【００９５】
受容層の塗布量は、０．５〜１０ｇ／ｍ2（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましい。
【００９６】
（下地層）
受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。これらの層については、例えば特許第３５８５５９９号明細書、特許第２９２５２４４号明細書などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【００９７】
（断熱層）
断熱層（発泡層）は、サーマルヘッドを用いた加熱転写時における熱から支持体を保護する役割を果たす。また、高いクッション性を有するので、基材として紙を用いた場合であっても、印字感度の高い熱転写受像シートを得ることができる。
断熱層は樹脂と発泡剤とから形成される。断熱層の樹脂としては、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、変性オレフィン樹脂等公知の樹脂、あるいはそれらをブレンドしたものが使用できる。これらの樹脂を有機溶剤または水に溶解および／または分散させたものを塗工することにより断熱層を形成するが、断熱層塗工液は、発泡剤に影響を与えない水系塗工液であるのが好ましく、例えば、水溶性、水分散性、もしくはＳＢＲラテックス、ウレタン系エマルジョン、ポリエステルエマルジョン、酢酸ビニルおよびその共重合体のエマルジョン、アクリルおよびアクリルスチレン等のアクリルの共重合体のエマルジョン、塩化ビニルエマルジョン等のエマルジョン、またはこれらのディスパージョン等を用いることができるが、発泡剤として、後述するマイクロスフェアを使用する場合には、上述の樹脂中、酢酸ビニルおよびその共重合体のエマルジョン、アクリルおよびアクリルスチレン等のアクリルの共重合体のエマルジョンを使用するのが好ましい。
【００９８】
これらの樹脂は、共重合させるモノマーの種類およびその配合比を変化させることにより、ガラス転移点や柔軟性、造膜性を容易にコントロールすることができる為、可塑剤や造膜助剤を添加しなくても所望する物性が得られる点、膜形成後の各種環境においての保存時に色の変化が少ない点、物性の経時変化が少ない点で適している。また、上述の樹脂中、ＳＢＲラテックスは、一般にガラス転移点が低くブロッキングを起こしやすく、膜形成後や保存中に黄変が生じやすいために好ましくない。ウレタン系エマルジョンは、ＮＭＰ、ＤＭＦ等の溶剤を含むものが多く、発泡剤に悪影響を与えやすいため好ましくない。ポリエステルエマルジョンまたはディスパージョンや塩化ビニルエマルジョンは、一般にガラス転移点が高く、マイクロスフェアの発泡性が悪くなるため好ましくない。また柔らかいものもあるが、これらは可塑剤の添加によって柔軟性を付与しているため、好ましくは使用されることがない。
【００９９】
発泡剤の発泡性能は、樹脂の硬さに大きく影響される。発泡剤が望ましい発泡倍率まで発泡する為には、ガラス転移点が−３０〜２０℃、又は、最低造膜温度が２０℃以下のものが望ましい。ガラス転移点が２０℃以上のものは、柔軟性が不足し発泡剤の発泡性能が低下してしまう。また、ガラス転移点が−３０℃以下のものは、粘着性に起因するブロッキング（発泡層形成後の基材を巻き取った際に発泡層と基材の裏面にて発生）を起こしたり、熱転写受像シートをカットする際に、不良（受像シートを裁断する際に、カッターの刃に発泡層の樹脂がこびりついて、外観が悪くなる、又、裁断の寸法にくるいが生じる等）が発生したりすることがある。また、最低造膜温度が２０℃以上のものは、塗工・乾燥時に造膜不良を起こし、表面のヒビ割れなどの不具合が生じる。
【０１００】
発泡剤としては、加熱により分解して、酸素、炭酸ガス、窒素等のガスを発生するジニトロペンタメチレンテトラメン、ジアゾアミノベンゼン、アゾビスイソブチロニトリル、アゾジカルボアミド等の分解型発泡剤、ブタン、ペンタン等の低沸点液体をポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の樹脂で覆ってマイクロカプセルとしたマイクロスフェア等公知の発泡剤が挙げられる。これらの中でも、ブタン、ペンタン等の低沸点液体をポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル等の樹脂で覆ってマイクロカプセルとしたマイクロスフェアが好ましく使用される。これらの発泡剤は、発泡層形成後加熱により発泡し、発泡後は高いクッション性および断熱性を有する。これら発泡剤の使用量は、発泡層を形成する樹脂１００質量部当たり０．５〜１００質量部の範囲が好ましい。０．５質量部以下では、発泡層のクッション性が低く発泡層形成の効果が得られない。１００質量部以上では、発泡後の中空率が大きくなりすぎ、発泡層の機械的強度が低下して、通常の取扱いに耐えられなくなる。また、発泡層表面が平滑さを失い、外観、印画品質に悪影響を及ぼす。また発泡層全体の厚さは、３０〜１００μｍが好ましい。３０μｍ以下の場合は、クッション性や断熱性が不足し、１００μｍ以上の場合は、発泡層の効果が向上せずに強度が低下してしまう。また、発泡剤の粒径としては、発泡前の体積平均粒径が５〜１５μｍ程度のもの、発泡後の粒径が２０〜５０μｍのものが好ましい。発泡前の体積平均粒径が５μｍ以下、発泡後の粒径が２０μｍ以下のものは、クッション効果が低く、発泡前の体積平均粒径が１５μｍ以上、発泡後の粒径が２０〜５０μｍ以上のものは、発泡層表面を凹凸にし、ひいては形成された画像の画像品質に悪影響を及ぼす為好ましくない。
【０１０１】
発泡剤の中でも特に好ましくは、隔壁の軟化温度および発泡開始温度が１００℃以下、最適発泡温度（加熱時間１分間で、最も発泡倍率が高くなる温度）が１４０℃以下の低温発泡型のマイクロスフェアを用いて、発泡時の加熱条件をなるべく低いものとするのが好ましい。発泡温度の低いマイクロスフェアを用いることにより、発泡時の基材の熱シワやカールを防止することができる。この発泡温度の低いマイクロスフェアは、隔壁を形成するポリ塩化ビニリデンやポリアクリロニトリルなどの熱可塑性樹脂の配合量を調節することにより得ることができる。体積平均粒径は５〜１５μｍである。このマイクロスフェアを用いた発泡層は、発泡により得られる気泡が独立気泡であること、加熱のみの簡単な工程で発泡すること、マイクロスフェアの配合量で発泡層の厚さが容易に制御できることなどの利点がある。
【０１０２】
しかし、このマイクロスフェアは有機溶剤に弱く、発泡層として有機溶剤を使用した塗工液を使用すると、マイクロスフェアの隔壁が侵食されてしまい、発泡性が低下してしまう。従って、上記の様なマイクロスフェアを使用した場合には、隔壁を侵すような有機溶剤、例えばアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチルなどのエステル系、メタノール、エタノール等の低級アルコール等の有機溶剤を含まない水系の塗工液を使用するのが良い。従って水系の塗工液、具体的には、水溶性か水分散性の樹脂を使用したもの、もしくは樹脂のエマルジョン、好ましくはアクリルスチレンエマルジョンや変成酢酸ビニルエマルジョンを用いるのが良い。また、水系の塗工液にて発泡層を形成しても、助溶剤や造膜助剤、可塑剤としてＮＭＰ、ＤＭＦ、セロソルブ等の高沸点高極性溶媒を添加したものは、マイクロスフェアに影響を与えるので、使用する水性樹脂の組成、高沸点溶媒添加量を把握し、マイクロカプセルに悪影響がないか確認する等の注意が必要である。
【０１０３】
（支持体）
支持体には、コート紙やＷＰ紙（両面ラミネート紙）等を用いることができる。
【０１０４】
−コート紙−
前記コート紙は、原紙等のシートに、各種の樹脂、ゴムラテックス又は高分子材料を片面又は両面に塗工した紙であり、用途に応じて、塗工量が異なる。このようなコート紙としては、例えば、アート紙、キャストコート紙、ヤンキー紙等が挙げられる。
【０１０５】
前記原紙等の表面に塗工する樹脂としては、熱可塑性樹脂を使用することが適当である。このような熱可塑性樹脂としては、例えば、以下の（イ）〜（チ）の熱可塑性樹脂を例示することができる。
【０１０６】
（イ）ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン樹脂や、エチレンやプロピレン等のオレフィンと、他のビニルモノマーとの共重合体樹脂や、アクリル樹脂等が挙げられる。
（ロ）エステル結合を有する熱可塑性樹脂である。例えば、ジカルボン酸成分（これらのジカルボン酸成分にはスルホン酸基、カルボキシル基等が置換していてもよい）と、アルコール成分（これらのアルコール成分には水酸基などが置換されていてもよい）との縮合により得られるポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリレート等のポリアクリル酸エステル樹脂又はポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレンアクリレート樹脂、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂、ビニルトルエンアクリレート樹脂等が挙げられる。
具体的には、特開昭５９−１０１３９５号公報、同６３−７９７１号公報、同６３−７９７２号公報、同６３−７９７３号公報、同６０−２９４８６２号公報などに記載のものを挙げることができる。
また、市販品としては、東洋紡製のバイロン２９０、バイロン２００、バイロン２８０、バイロン３００、バイロン１０３、バイロンＧＫ−１４０、バイロンＧＫ−１３０；花王製のタフトンＮＥ−３８２、タフトンＵ−５、ＡＴＲ−２００９、ＡＴＲ−２０１０；ユニチカ製のエリーテルＵＥ３５００、ＵＥ３２１０、ＸＡ−８１５３、ＫＺＡ−７０４９、ＫＺＡ−１４４９；日本合成化学製のポリエスターＴＰ−２２０、Ｒ−１８８；星光化学工業社製のハイロスシリーズの各種熱可塑性樹脂（いずれも商品名）等が挙げられる。
【０１０７】
（ハ）ポリウレタン樹脂等が挙げられる。
（ニ）ポリアミド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。
（ホ）ポリスルホン樹脂等が挙げられる。
（ヘ）ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体樹脂等が挙げられる。
（ト）ポリビニルブチラール等の、ポリオール樹脂、エチルセルロース樹脂、酢酸セルロース樹脂等のセルロース樹脂等が挙げられる。
（チ）ポリカプロラクトン樹脂、スチレン−無水マレイン酸樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。
なお、前記熱可塑性樹脂は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１０８】
また、前記熱可塑性樹脂には、増白剤、導電剤、填料、酸化チタン、群青、カーボンブラック等の顔料や染料等を必要に応じて含有させておくことができる。
【０１０９】
−ラミネート紙−
前記ラミネート紙は、原紙等のシートに、各種の樹脂、ゴム又は高分子シート又はフィルム等をラミネートした紙である。前記ラミネート材料としては、例えば、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリイミド、トリアセチルセルロース等が挙げられる。これらの樹脂は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１１０】
前記ポリオレフィンは、一般に低密度ポリエチレンを用いて形成することが多いが、支持体の耐熱性を向上させるために、ポリプロピレン、ポリプロピレンとポリエチレンとのブレンド、高密度ポリエチレン、高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンド等を用いるのが好ましい。特に、コストや、ラミネート適性等の点から、高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンドを用いるのが最も好ましい。
【０１１１】
前記高密度ポリエチレンと、前記低密度ポリエチレンとのブレンドは、例えば、ブレンド比率（質量比）１／９〜９／１で用いられる。該ブレンド比率としては、２／８〜８／２が好ましく、３／７〜７／３がより好ましい。該支持体の両面に熱可塑性樹脂層を形成する場合、支持体の裏面は、例えば、高密度ポリエチレン、或いは高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンドを用いて形成されるのが好ましい。ポリエチレンの分子量としては、特に制限はないが、メルトインデックスが、高密度ポリエチレン及び低密度ポリエチレンのいずれについても、１．０〜４０ｇ／１０分の間のものであって、押出し適性を有するものが好ましい。
尚、これらのシート又はフィルムには、白色反射性を与える処理を行ってもよい。このような処理方法としては、例えば、これらのシート又はフィルム中に酸化チタンなどの顔料を配合する方法が挙げられる。
【０１１２】
前記支持体の厚みとしては、２５μｍ〜３００μｍが好ましく、５０μｍ〜２６０μｍがより好ましく、７５μｍ〜２２０μｍが更に好ましい。該支持体の剛度としては、種々のものがその目的に応じて使用することが可能であり、写真画質の電子写真用受像シート用の支持体としては、カラー銀塩写真用の支持体に近いものが好ましい。
【０１１３】
（カール調整層）
支持体がそのまま露出していると環境中の湿度・温度により感熱転写受像シートがカールしてしまうことがあるため、支持体の裏面側にカール調整層を形成することが好ましい。カール調整層は、受像シートのカールを防止するだけでなく防水の役割も果たす。カール調整層には、ポリエチレンラミネートやポリプロピレンラミネート等が用いられる。具体的には、例えば特開昭６１−１１０１３５号公報、特開平６−２０２２９５号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【０１１４】
（筆記層・帯電調整層）
筆記層・帯電調整層には、無機酸化物コロイドやイオン性ポリマー等を用いることができる。帯電防止剤として、例えば第四級アンモニウム塩、ポリアミン誘導体等のカチオン系帯電防止剤、アルキルホスフェート等のアニオン系帯電防止剤、脂肪酸エステル等のノニオン系帯電防止剤など任意のものを用いることができる。具体的には、例えば特許第３５８５５８５号明細書などに記載されたものと同様にして形成することができる。
【０１１５】
熱転写画像形成の際に、上述した本発明の感熱転写受像シートと併せて使用される感熱転写シート（インクシート）は支持体上に拡散転写染料を含む色素層を設けたものであり、任意のインクシートを使用することができる。熱転写時の熱エネルギーの付与手段は、従来公知の付与手段のいずれも使用することができ、例えば、サーマルプリンター（例えば、日立製作所製、商品名、ビデオプリンターＶＹ−１００）等の記録装置によって記録時間をコントロールすることにより、５〜１００ｍＪ／ｍｍ２程度の熱エネルギーを付与することによって所期の目的を十分に達成することができる。
また、本発明の感熱転写受像シートは、支持体を適宜選択することにより、熱転写記録可能な枚葉またはロール状の感熱転写受像シート、カード類、透過型原稿作成用シート等の各種用途に適用することもできる。
【０１１６】
以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【０１１７】
参考例
（インクシートの作製）
厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ルミラー、商品名、(株)東レ製）を基材フィルムとして用いた。そのフィルム背面側に耐熱スリップ層（厚み１μｍ）を形成し、かつ表面側に下記組成のイエロー、マゼンタ、シアン組成物を、それぞれ単色に塗布（乾膜時の塗布量１ｇ／ｍ２）した。
イエローインキ
染料（マクロレックスイエロー６Ｇ、商品名、バイエル社製）    ５．５質量部
ポリビニルブチラール樹脂                                    ４．５質量部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（１／１）                        ９０質量部
マゼンタ
マゼンタ染料（ディスパーズレッド６０）                      ５．５質量部
ポリビニルブチラール樹脂                                    ４．５質量部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（１／１）                        ９０質量部
シアン
シアン染料（ディスパーズレッド６３）                        ５．５質量部
ポリビニルブチラール樹脂                                    ４．５質量部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（１／１）                        ９０質量部
【０１１８】
実施例１
（受層シートの作製）
（１−１）試料１０１（比較例）の作製
支持体として合成紙（ユポＦＰＧ２００、厚さ２００μｍ、商品名、ユポコーポレーション社製）を用い、この一方の面に下記組成の白色中間層、受容層の順にバーコーターにより塗布を行った。それぞれの乾燥時の塗布量は白色中間層１．０ｇ／ｍ２、受容層４．０ｇ／ｍ２となるように塗布を行い、乾燥は各層１１０℃、３０秒間行った。
白色中間層
ポリエステル樹脂（バイロン２００、商品名、東洋紡積(株)製）    １０質量部
蛍光増白剤（Ｕｖｉｔｅｘ  ＯＢ、商品名、チバガイギー社製）      １質量部
酸化チタン                                                    ３０質量部
メチルエチルケトン／トルエン（１／１）                        ９０質量部
受容層
塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂                                  １００質量部
（ソルバインＡ、商品名、日信化学工業(株)製）
アミノ変性シリコーン                                            ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン                                          ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（＝１／１）                    ４００質量部
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤                                ５質量部
（Ｔｉｎｕｖｉｎ９００、商品名、チバスペシャリティーケミカルズ社製）
【０１１９】
（１−２）試料１０２（比較例）の作製
受容層のみ下記組成とし、それ以外は試料１０１の同様に作製した。
受容層
塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂                                  １００質量部
（ソルバインＡ、商品名、日信化学工業(株)製）
アミノ変性シリコーン                                            ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン                                          ５質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（＝１／１）                    ４００質量部
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤                              １０質量部
（Ｔｉｎｕｖｉｎ９００、商品名、チバスペシャリティーケミカルズ社製）
【０１２０】
（１−３）試料１０３（本発明）の作製
受容層を下記組成のものと変更して、１００℃、２分間で行った。それ以外は、試料１０１と同様に作製した。
受容層
塩化ビニル系ラテックス                                        ４８質量部
（ビニブラン６０９、商品名、日信化学工業(株)製）
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤ポリマーラテックス            １５質量部
（ＵＬＳ１７００、商品名、一方社油脂工業(株)製）
モンタン酸ワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）        １０質量部
【０１２１】
（１−４）試料１０４（本発明）の作製
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は試料１０３と同様に作製した。
受容層
塩化ビニル系ラテックス                                        ５４質量部
（ビニブラン６０９、商品名、日信化学工業(株)製）
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤ポリマーラテックス          ７．５質量部
（ＵＬＳ１７００、商品名、一方社油脂工業(株)製）
モンタン酸ワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）        １０質量部
【０１２２】
（画像形成）
参考例のインクシートと、前記試料１０１〜１０４の受容シートとを、前者のインク層と後者の受容層とが接するように重ね合わせ、熱転写型プリンターを用いて画像出力した。出力画像は、各試料にグレーを与える階調を用いた。
【０１２３】
（耐光性試験）
上記画像試料に、３７０ｎｍでの光透過率５０％の紫外線カットフィルターおよび熱線カットフィルターを介してキセノン光（１０万ｌｘキセノン光照射器）を７、１４日間照射した。シアン初期濃度１．０での曝露後の残存率を算出し、評価した。
残存率（％）＝［照射後の光学濃度／照射前の光学濃度］×１００（％）
◎：平均残存率が８０％以上
○：平均残存率が７０％以上８０％以下
△：平均残存率が６０％以上７０％以下
×：平均残存率が６０％未満
得られた結果を表１に示す。
【０１２４】
【表１】
2007030275.tif 000021
【０１２５】
表１の結果から明らかなように、本発明の画像サンプルは耐光性が良いことが分かった。
【０１２６】
実施例２
（受層シートの作製）
（２−１）試料２０１（比較例）の作製
受容層のみ下記組成とし、それ以外は試料１０１と同様に作製した。
受容層
塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂                                  １００質量部
（ソルバインＣＬ、商品名、日信化学工業(株)製）
メチルスチル変性シリコーン                                      ２質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、２４−５１０）
エポキシ変性シリコーン                                          ２質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０００Ｔ）
メチルエチルケトン／トルエン（＝１／１）                    ４００質量部
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤                                ５質量部
（Ｔｉｎｕｖｉｎ９００、商品名、チバスペシャリティーケミカルズ社製）
【０１２７】
（２−２）試料２０２（比較例）の作製
受容層のみ下記組成とし、それ以外は試料１０１と同様に作製した。
受容層
塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂                                  １００質量部
（ソルバインＣＬ、商品名、日信化学工業(株)製）
メチルスチル変性シリコーン                                      ２質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、２４−５１０）
エポキシ変性シリコーン                                          ２質量部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０００Ｔ）
メチルエチルケトン／トルエン（＝１／１）                    ４００質量部
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤                              １０質量部
（Ｔｉｎｕｖｉｎ９００、商品名、チバスペシャリティーケミカルズ社製）
【０１２８】
（２−３）試料２０３（本発明）の作製
受容層を下記組成とし、それ以外は試料１０３と同様に作製した。
受容層
塩化ビニル系ラテックス                                        ４８質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業(株)製）
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤ポリマーラテックス            １５質量部
（ＵＬＳ１７００、商品名、一方社油脂工業(株)製）
モンタン酸ワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）        １０質量部
【０１２９】
（２−４）試料２０４（本発明）の作製
受容層を下記組成のものと変更して、それ以外は試料１０３と同様に作製した。
受容層
塩化ビニル系ラテックス                                        ５４質量部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業(株)製）
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤ポリマーラテックス          ７．５質量部
（ＵＬＳ１７００、商品名、一方社油脂工業(株)製）
モンタン酸ワックス（Ｊ５３７、商品名、中京油脂(株)製）        １０質量部
【０１３０】
（画像形成）
参考例のインクシートと、前記試料２０１〜２０４までの受容シートとを、前者のインク層と後者の受容シートとが接するように重ね合わせ、熱転写型プリンターを用いて画像出力した。出力画像は、イエロー単色、マゼンタ単色、シアン単色、およびブラック画像を、最小濃度（つまり、白地）から最大濃度まで順次増加させるステップパターンを用いた。
【０１３１】
（耐光性試験）
上記画像試料について実施例１と同様にして耐光性試験を行い、評価した。得られた結果を表２に示す。
【０１３２】
【表２】
2007030275.tif 000022
【０１３３】
表２の結果から明らかなように、本発明の画像サンプルは耐光性が良いことが分かった。
【０１３４】
実施例３
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにビニブラン６８３（商品名、日信化学工業(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１３５】
実施例４
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにビニブラン６０１（商品名、日信化学工業(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１３６】
実施例５
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにビニブラン２７０（商品名、日信化学工業(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１３７】
実施例６
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにビニブラン３８０（商品名、日信化学工業（株）製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１３８】
実施例７
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにビニブラン９００（商品名、日信化学工業（株）製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１３９】
実施例８
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにビニブラン９００ＧＴ（商品名、日信化学工業（株）製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１４０】
実施例９
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにビニブラン９００（商品名、日信化学工業（株）製）とビニブラン６０９（商品名、日信化学工業（株）製）との混合物に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、ビニブラン６０９とビニブラン９００との混合比はポリマーラテックスの固形分で等量になるように混合し、ビニブラン６０９とビニブラン９００との混合ラテックッスの使用量は、ポリマーラテックスの固形分で実施例１と同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１４１】
実施例１０
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにバイロナールＭＤ１４８０（商品名、東洋紡積(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１４２】
実施例１１
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにバイロナールＭＤ１５００（商品名、東洋紡積(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１４３】
実施例１２
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにエリーテルエマルジョンＫＺＴ８８０３（商品名、ユニチカ(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１４４】
実施例１３
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにテラマックＬＡＥ１００Ｎ（ユニチカ(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１４５】
実施例１４
塩化ビニル系ラテックスをビニブラン６０９の代わりにＬＸ４１６（商品名、日本ゼオン(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１４６】
実施例１５
紫外線吸収剤ポリマーラテックスをＵＬＳ１７００の代わりにＵＬＳ１６３５ＭＨ（商品名、一方社油脂工業(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１４７】
実施例１６
紫外線吸収剤ポリマーラテックスをＵＬＳ１７００の代わりにＸＬ−７０１６（商品名、一方社油脂工業(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１４８】
実施例１７
紫外線吸収剤ポリマーラテックスをＵＬＳ１７００の代わりにＵＶＡ−１０２５Ｗ（商品名、新中村化学工業(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１４９】
実施例１８
紫外線吸収剤ポリマーラテックスをＵＬＳ１７００の代わりにＵＶＡ−２０４Ｗ（商品名、新中村化学工業(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。
【０１５０】
実施例１９
紫外線吸収剤ポリマーラテックスをＵＬＳ１７００の代わりにＵＶＡ−４５１２Ｍ（商品名、新中村化学工業(株)製）に代えたこと以外は実施例１と同様にして試料を作製した。なお、使用量はポリマーラテックスの固形分で同じ質量部数になるよう使用した。実施例１と同様にして耐光性試験を行ったところ、本実施例においても耐光性の良い画像サンプルが得られることが分かった。