(57)【要約】【課題】微小な霧粒子を効率良く生成することができ、微細パターンの幅からはみ出すことなく欠陥部を修正することが可能なパターン修正装置を提供する。【解決手段】このパターン修正装置の噴霧部では、修正液２０を注入した容器１９の底に超音波振動子２１を設け、超音波エネルギーを与えて修正液２０を霧化させる。したがって、霧吹きの原理を利用して修正液２０を霧化する場合に比べ、微小な霧粒子を効率良く生成することができる。【選択図】図２
2007220894.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、
修正液を霧状にして前記欠陥部に噴射し、前記修正液を前記欠陥部に堆積させて前記欠陥部を修正する堆積装置を備え、
前記堆積装置は、前記修正液に超音波振動を与えて前記修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液を収束して塗布ノズルから噴出するヘッド部とを含むことを特徴とする、パターン修正装置。
【請求項２】
前記噴霧部は、水槽と、該水槽内に設けられ、前記修正液が注入された容器と、前記水槽内の水を介して前記容器内の前記修正液に超音波振動を与える超音波振動子とを含むことを特徴とする、請求項１に記載のパターン修正装置。
【請求項３】
前記噴霧部は、さらに、前記水槽内における前記容器の位置を調整する位置調整機構を含むことを特徴とする、請求項２に記載のパターン修正装置。
【請求項４】
前記噴霧部は、さらに、前記水槽内の水面に対する前記容器の傾斜角度を調整する角度調整機構を含むことを特徴とする、請求項２または請求項３に記載のパターン修正装置。
【請求項５】
前記角度調整機構は、前記容器が固定された内輪と、該内輪を所望の傾斜角度で保持する外輪とを有する球面ブッシュ軸受を含むことを特徴とする、請求項４に記載のパターン修正装置。
【請求項６】
基板上に形成された微細パターンの欠陥部に噴射して修正するための霧状の修正液を生成する修正液霧化ユニットにおいて、
水槽と、該水槽内に設けられ、前記修正液が注入された容器と、前記水槽内の水を介して前記容器内の前記修正液に超音波振動を与え、前記修正液を霧状にする超音波振動子とを備えることを特徴とする、修正液霧化ユニット。
【請求項７】
さらに、前記水槽内における前記容器の位置を調整する位置調整機構を備えることを特徴とする、請求項６に記載の修正液霧化ユニット。
【請求項８】
さらに、前記水槽内の水面に対する前記容器の傾斜角度を調整する角度調整機構を備えることを特徴とする、請求項６または請求項７に記載の修正液霧化ユニット。
【請求項９】
前記微細パターンの欠陥部は電極の断線部であり、
前記修正液は金属ペーストであることを特徴とする、請求項６から請求項８までのいずれかに記載の修正液霧化ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明はパターン修正装置および修正液霧化ユニットに関し、特に、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置と、それに用いられる修正液霧化ユニットに関する。より特定的には、この発明は、フラットパネルディスプレイの製造工程において発生する電極のオープン欠陥などを修正するパターン修正装置と、それに用いられる修正液霧化ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの大型化、高精細化に伴い、ガラス基板上の電極などに欠陥が存在する確率が高くなっており、歩留まりの向上を図るため欠陥を修正する方法が提案されている。
【０００３】
たとえば、液晶ディスプレイのガラス基板の表面には電極が形成されている。この電極が断線している場合、塗布針先端に付着させた導電性ペーストを断線部に塗布し、電極の長さ方向に塗布位置をずらしながら複数回塗布して電極を修正する（たとえば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平８−２９２４４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の欠陥修正方法では、電極の断線部とペーストタンクとの間を何度も往復させて塗布針に導電性ペーストを補充しながら塗布するので、断線部が長いほど修正にかかる時間が長くなる。また、円形の塗布部を１列に配置した形状にペーストが塗布されるので、電極の幅からはみ出た部分は塗布後にレーザカット処理する必要があった。特に幅が２０μｍ以下のような微細な電極を修正する場合、電極の幅からはみ出すことなく修正することは困難であった。
【０００５】
そこで、本願発明者は、下部を修正液に浸漬した噴霧ノズルにアトマイズガスを供給し、霧吹きの原理を利用して修正液を霧状にし、霧状の修正液を収束して欠陥部に噴射し、修正液を欠陥部に堆積させて修正するパターン修正方法を提案した（たとえば特願２００５−５０７６６号参照）。この方法では、修正液を補充しながら噴出することができるので、塗布針が欠陥部とペーストタンクとの間を何度も往復していた従来に比べ、欠陥部を迅速に修正することができる。
【０００６】
しかし、このパターン修正装置では、霧吹きの原理を利用して修正液を霧化していたので、修正液を数μｍ程度の微小な霧粒子にすることが難しく、１０μｍを切るような微細な電極部からはみ出すことなく修正するには適さない場合があった。
【０００７】
また、噴霧部の後段の減圧部でアトマイズガスを排気する必要があるので、霧粒子の多くがアトマイズガスとともに外部に排気されたり、減圧部の内壁に霧粒子が付着して液滴となるため、修正液の使用効率が低かった。
【０００８】
それゆえに、この発明の主たる目的は、微小な霧粒子を効率良く生成することができ、微細パターンの幅からはみ出すことなく欠陥部を修正することが可能なパターン修正装置および修正液霧化ユニットを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明に係るパターン修正装置は、基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、修正液を霧状にして欠陥部に噴射し、修正液を欠陥部に堆積させて欠陥部を修正する堆積装置を備え、堆積装置は、修正液に超音波振動を与えて修正液を霧状にする噴霧部と、霧状にされた修正液を収束して塗布ノズルから噴出するヘッド部とを含むことを特徴とする。したがって、超音波振動によって修正液を霧状にするので、微細な霧粒子を効率良く生成することができ、微細パターンの幅からはみ出すことなく欠陥部を修正することができる。
【００１０】
好ましくは、噴霧部は、水槽と、該水槽内に設けられ、修正液が注入された容器と、水槽内の水を介して容器内の修正液に超音波振動を与える超音波振動子とを含む。したがって、水槽の水を介して超音波振動を与えるので、修正液が無くなった場合でも温度上昇によって超音波振動子が破損することがない。また、修正液を容器に注入するので、修正液の使用量を低減することができる。また、修正液の交換を容器単位で行なうことができ、操作性が良い。
【００１１】
また好ましくは、噴霧部は、さらに、水槽内における容器の位置を調整する位置調整機構を含む。この場合は、修正液の霧化に最適な位置に容器を配置することができる。
【００１２】
また好ましくは、噴霧部は、さらに、水槽内の水面に対する容器の傾斜角度を調整する角度調整機構を含む。この場合は、超音波パワーの当たる位置における修正液の厚さを薄くして、修正液を霧化し易くすることができる。また、修正液の量、粘度、種類に応じて、容器の傾斜角度を最適値に設定することができる。
【００１３】
また好ましくは、角度調整機構は、容器が固定された内輪と、該内輪を所望の傾斜角度で保持する外輪とを有する球面ブッシュ軸受を含む。この場合は、容器の傾斜角度を自在に設定することができる。
【００１４】
また、この発明に係る修正液霧化ユニットは、基板上に形成された微細パターンの欠陥部に噴射して修正するための霧状の修正液を生成する修正液霧化ユニットにおいて、水槽と、該水槽内に設けられ、修正液が注入された容器と、水槽内の水を介して容器内の修正液に超音波振動を与え、修正液を霧状にする超音波振動子とを備えることを特徴とする。したがって、超音波振動によって修正液を霧状にするので、微小な微細な霧粒子を効率良く生成することができ、微細パターンの幅からはみ出すことなく欠陥部を修正することができる。また、水槽の水を介して超音波振動を与えるので、修正液が無くなった場合でも温度上昇によって超音波振動子が破損することがない。また、修正液を容器に注入するので、修正液の使用量を低減することができる。また、修正液の交換を容器単位で行なうことができ、操作性が良い。
【００１５】
好ましくは、さらに、水槽内における容器の位置を調整する位置調整機構を備える。この場合は、修正液を霧化するのに最適な位置に容器を配置することができる。
【００１６】
また好ましくは、さらに、水槽内の水面に対する容器の傾斜角度を調整する角度調整機構を備える。この場合は、超音波パワーの当たる位置における修正液の厚さを薄くして、修正液を霧化し易くすることができる。また、修正液の量、粘度、種類に応じて、容器の傾斜角度を最適値に設定することができる。
【００１７】
また好ましくは、微細パターンの欠陥部は電極の断線部であり、修正液は金属ペーストである。この場合は、微細な電極の幅からはみ出すことなく電極の断線部を修正することができる。
【発明の効果】
【００１８】
以上のように、この発明に係るパターン修正装置および修正液霧化ユニットでは、修正液に超音波振動を与えて修正液を霧状にするので、微細な霧粒子を効率良く生成することができ、微細パターンの幅からはみ出すことなく欠陥部を修正することができる。また、修正液霧化ユニットでは、水槽内の水を介して容器内の修正液に超音波振動を与えるので、修正液が無くなった場合でも温度上昇によって超音波振動子が破損することがない。また、修正液を容器に注入するので、修正液の使用量を低減することができる。また、修正液の交換を容器単位で行なうことができ、操作性が良い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
[実施の形態１]
図１は、この発明の実施の形態１よるパターン修正装置の全体構成を示す図である。図１において、パターン修正装置１は、基板の表面を観察する観察光学系２と、観察された画像を映し出すモニタ３と、観察光学系２を介してレーザ光を照射し不要部をカットするカット用レーザ部４と、欠陥修正用の修正材料をナノ粒子にして溶媒中に分散させた修正液を霧状にして欠陥部に噴出し、微粒子を欠陥部に堆積させる微粒子堆積装置５と、欠陥部を加熱して霧状の修正液中の溶媒を気化させる基板加熱部６と、欠陥部を認識する画像処理部７と、装置全体を制御するホストコンピュータ８と、装置機構部の動作を制御する制御用コンピュータ９とを備える。さらに、その他に欠陥部を持つ基板をＸＹ方向（水平方向）に移動させるＸＹステージ１０と、ＸＹステージ１０上で基板を保持するチャック部１１と、観察光学系２や微粒子堆積装置５をＺ方向（垂直方向）に移動させるＺステージ１２などが設けられている。
【００２０】
図２は、図１に示したパターン修正装置の要部を示す断面図である。欠陥部１３ａがあるパターン、たとえば電極１３が形成された基板１４は、チャック部１１に固定され、そのチャック部１１はＸＹステージ１０によりＸＹ方向に移動される。なお、基板１４全体を加熱するヒータをチャック部１１に内蔵して、基板１４の上側から欠陥部１３ａを含む範囲を部分加熱可能な基板加熱部６と併用することも可能である。基板１４が大型になる場合には、チャック部１１内にヒータを内蔵して基板１４全体を加熱することは大掛かりになるため、このような場合には基板加熱部６のみの構成にする方が好ましい。基板加熱部６としては、ＬＤ光源やＣＯ２レーザなどを用いることが可能である。また、加熱が必要でない場合は、加熱部は省略される。
【００２１】
微粒子堆積装置５は、修正に用いる修正材料をナノ粒子にし、それを溶媒中に均一に分散して液状化した修正液を霧状にする噴霧部１５と、霧状の修正液を加熱する加熱部１７と、加熱された霧状の修正液を収束して欠陥部１３ａに噴出し、欠陥部１３ａに微粒子を堆積するヘッド部１８とを含む。
【００２２】
噴霧部１５の容器１９内には修正液２０が注入されている。電極１３の欠陥部１３ａを修正する場合には、修正液２０として、金属ナノ粒子を用いた、銀ペースト、金ペースト、銅ペースト、パラジウムペーストを希釈したものが使用される。または、修正液２０として金属錯体溶液や金属コロイドを用いてもよい。修正液２０は、１０ｍＰａ・ｓ以下の低粘度で、溶媒が水溶性かアルコール系のものが好ましい。
【００２３】
容器１９の底の中央部には超音波振動子２１が設けられ、超音波振動子２１の全体または一部は修正液２０に浸漬されている。超音波振動子２１を駆動すると、その超音波エネルギーが修正液２０中を伝わり、このパワーで修正液２０の表面が持ち上がって山ができる。表面張力が減少して修正液２０の山から引き裂かれるようにして修正液２０の霧粒子が発生する。霧粒子は、直径数μｍ程度の微粒子となる。霧粒子の大きさは修正液２０の材料や、超音波振動子２１を駆動する周波数で異なり、周波数が高いほど霧粒子径は小さくなる。超音波振動子２１の駆動周波数は、たとえば１．６ＭＨｚから２．４ＭＨｚ程度に設定される。
【００２４】
容器１９の上部にはガス供給管２２が設けられている。図示しないガス供給源からガス供給管２２を介して容器１９内に、修正液２０の霧粒子を後段に搬送するための搬送ガス、たとえば窒素ガスが注入される。なお、酸化しない修正液２０であれば、搬送ガスは空気でも構わない。
【００２５】
また、容器１９の側部には出力管２３が設けられている。容器１９内で生成された修正液２０の霧粒子は、出力管２３を介して加熱部１７に送られる。ガス供給管２２や出力管２３としてはホースなどを用いる。加熱部１７の中央にはパイプ２７が配置され、パイプ２７の外周部にはヒータ２８と温度センサ２９が取り付けられている。温度センサ２９の検出結果に基づいてヒータ２８の電流が制御されることで、パイプ２７が所定の温度に調整され、パイプ２７内の霧粒子が加熱される。霧粒子を加熱することによって、欠陥部１３ａに付着した霧粒子の流れや飛散を抑制する。なお、ヒータ２８の周りは断熱部材（図示せず）で覆われている。また、修正液２０によっては、図３に示すように加熱部１７を省略することも可能である。
【００２６】
図２に戻って、ヘッド部１８は、霧粒子の周りをシースガス（たとえば窒素ガス）で覆いこみ、霧粒子の流れを収束させてヘッド部１８下端の塗布ノズル３０から欠陥部１３ａに向けて霧粒子を噴出する。塗布ノズル３０の噴出口の内径は１００〜２００μｍ程度であり、シースガスによって噴出口の内径の１／１０程度まで霧粒子の流れを収束させることが可能であり、１０μｍ程度の微細パターンを描画することも可能となる。
【００２７】
シャッタ３１は、欠陥修正を行なう前に基板１４上に霧粒子が噴出されないように塗布ノズル３０から噴出される霧粒子を受けるものである。修正開始時にシャッタ３１を開放して欠陥修正を行ない、修正完了と同時にシャッタ３１を塗布ノズル３０の先端と基板１４の間に移動させ、シャッタ３１で霧粒子を受ける。なお、シャッタ３１に、塗布ノズル３０から噴出された霧粒子を吸引する機能を持たせてもよい。
【００２８】
次に、このパターン修正装置の使用方法について説明する。図４（ａ）は、基板１４の表面に形成された電極１３のオープン欠陥部１３ａを示す図であり、図４（ｂ）はオープン欠陥部１３ａを修正する途中経過を示す図である。ＸＹステージ１０を駆動させて塗布ノズル３０と基板１４を相対的に移動させ、欠陥部１３ａの一方端から他方端に向けて修正材料のナノ粒子を堆積させていく。このとき、塗布ノズル３０の先端と基板１４の表面の間隔を一定の距離（たとえば５ｍｍ前後）に保って非接触で修正することができる。
【００２９】
ナノ粒子の堆積層の線幅を一定に保つためには、欠陥部１３ａを含む範囲で基板１４の一部分または基板１４全体を最適な温度に保つとともに、噴霧部１５に供給する搬送ガスの流量、加熱部の温度、ヘッド部１８のシースガスの流量などを最適値に管理する必要がある。なお、塗布ノズル３０の先端と基板１４までの間隔はナノ粒子の堆積層の線幅に及ぼす影響は比較的小さい。
【００３０】
図４（ｃ）は、欠陥部１３ａの修理が完了した状態を示す図である。ナノ粒子の堆積層からなる修正部３２は基板加熱部６によりさらに本焼成しても良いし、基板１４全体を別工程の炉で再焼成しても構わない。なお、修正部３２の膜厚が不足する場合は、複数回繰り返し行なうことで、ナノ粒子堆積層を積層すれば良い。また、修正部３２の線幅が電極１３の線幅よりも太くなったり、修正部３２以外の部分にナノ粒子が付着した場合は、レーザ部４を用いて不要部をレーザカットしてもよい。
【００３１】
また、条件によっては、基板１４を加熱することなく常温で収束噴射することも可能である。この場合、描画線は太くなる傾向はあるが、修正液２０の蒸発は緩やかになり、霧粒子が弾けることがなくなるので、基板１４を加熱した場合に比べて飛散物は少なくなる。さらに、ヘッド部１８に供給される霧粒子の量を減らして収束噴射すれば、基板１４を加熱しなくても、金属ペーストの粘性により飛散は低減され、常温でも１０μｍ前後の微細線の描画が可能となる。その後、基板加熱部６による局所加熱、または、炉による焼成で導通を得る。
【００３２】
なお、このパターン修正装置では、ＸＹステージ１０により基板１４を移動させて堆積層を描画したが、基板１４を動かさずに微粒子堆積装置５を移動するようにして堆積層を描画してもよい。
【００３３】
また、ＸＹステージ１０としては、一軸ステージをＸＹ方向に重ねたものや、基板１４を固定してＸ軸とＹ軸とを分離して駆動するガントリー方式など多種ステージ形式が考えられ、ここに示したステージには限定されない。
【００３４】
この実施の形態１では、容器１９内の修正液２０中に超音波振動子２１を設け、修正液２０に超音波振動を与えて霧化するので、霧吹きの原理を利用して修正液２０を霧化する場合に比べ、微小な霧粒子を生成することができる。具体的には、修正液２０を数μｍ程度の微小な霧粒子にすることができ、１０μｍを切るような微細な電極部からはみ出すことなく断線部を修正することができる。
【００３５】
また、霧吹きの原理を利用する場合のように噴霧部の後段に減圧部を設けてアトマイズガスを排気する必要がなく、霧粒子の多くがアトマイズガスとともに外部に排気されたり、減圧部の内壁に霧粒子が付着して液滴となることがない。したがって、修正液２０の使用効率が高くなる。
【００３６】
[実施の形態２]
実施の形態１では、噴霧部１５の容器１９の底に超音波振動子２１を設けたが、修正液２０が無くなった状態で超音波振動子２１を駆動させると、超音波振動子２１が冷却されず高温になって破損する。したがって、実施の形態１では、容器１９内に修正液２０を多めに入れることにより、超音波振動子２１の破損を防止するとともに、超音波振動子２１の冷却を促進した。
【００３７】
しかし、金属ナノペーストなどの修正液２０は、常温で使用した場合には日持ちが悪く、短期間で定期的に交換する必要がある一方、高価であるため、容器１９に入れる修正液２０の量は少ない方が好ましい。また、修正液２０の材質を定期的に変える場合には、その都度、超音波振動子２１も含めて容器１９を洗浄するか、噴霧部１５ごと交換する必要があり、使用勝手が悪い。この実施の形態２は、この問題を解決するものである。
【００３８】
図５は、この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の噴霧部１５の構成を示す断面図である。図５において、このパターン修正装置では、噴霧部１５の容器１９を小瓶４０と蓋４１で構成する。小瓶４０としては、たとえば、外径が３０ｍｍ程度のねじ口ガラス瓶を使用する。小瓶４０の底に少量の修正液２０を入れてから蓋４１をする。蓋４１には、ガス供給管２２と出力管２３が接続される。小瓶４０と蓋４１の接触面には図示しないシール部材が設けられ、容器１９の密閉性が確保されている。
【００３９】
小瓶４０の底は、超音波振動子２１を底面に配置した水槽４２の水面に近接して設けられるか、あるいは水中に浸漬される。超音波振動子２１の超音波エネルギーが水中を伝わり、このパワーで水面が持ち上げられて水の山ができる。このパワーは容器１９の底を経由して修正液２０に伝達され、修正液２０中の表面張力が減少して修正液２０から霧粒子が発生する。他の構成は、実施の形態１と同じであるので、その説明は繰り返さない。
【００４０】
この実施の形態２では、超音波振動子２１を水槽４２の底に設けるとともに、修正液２０を注入した小瓶４０を水槽４２内に設け、超音波エネルギーを水槽４２内の水と小瓶４０の底を介して修正液２０に与える。したがって、超音波振動子２１は水槽４２内の水で冷却されるので、たとえ小瓶４０内の修正液２０が無くなった場合でも温度上昇によって超音波振動子２１が破損することはない。また、小瓶４０内の修正液２０に超音波振動子２１の冷却機能を持たさないので、噴霧部の修正液２０の注入量を少なくすることができる。また、超音波振動子２１が修正液２０によって汚染されることがなく、修正液２０を交換する場合は、容器１９のみを交換すればよいので、使い勝手がよく、経済性、メンテナンス性に優れる。
【００４１】
なお、水槽４２内の水が減って超音波振動子２１および水槽４２の温度が上昇するのを防止し、安全性を高めるために、水槽４２内の水の水位を検出する水位センサや、超音波振動子２１、水槽４２あるいは水槽４２内の水の温度を検出する温度センサを設けてもよい。
【００４２】
[実施の形態３]
図６は、この発明の実施の形態３によるパターン修正装置の噴霧部の構成を示す断面図である。図６において、この噴霧部が図５の噴霧部と異なる点は、容器１９を水槽４２内で傾斜させて配置する点である。容器１９を傾斜させるのは、修正液２０の液厚が薄い部分を生成し、その部分に超音波のパワーを当てることにより、修正液２０の霧化を促進するためである。
【００４３】
図７は、図６に示した噴霧部の詳細な構成を示す図である。この噴霧部では、水槽４２内における容器１９の位置と傾斜角度を調整する機構が設けられている。水槽４２は、底板４３と中空円柱状部材４４と水槽蓋４５とを含む。底板４３と中空円柱状部材４４とが接する面は、Ｏリング４６によってシールされる。
【００４４】
超音波振動子２１は、ケース４７と、ケース４７の上面中央に設けられたセラミック振動子４８と、水漏れ防止用のシール部材４９とを含む。ケース４７の上面は、底板４３の中央に開けられた貫通孔４３ａを塞ぐようにして、シール部材４９を介して底板４３の下面４３ｂに固定される。水槽４２の下には箱状の支持台５０が設けられている。支持台５０には超音波振動子２１の駆動回路５１が内蔵され、支持台５０の側面には駆動回路５１を空冷するファン５２が設けられている。
【００４５】
容器１９を構成する小瓶４０の外周面上端部のねじ口部４０ａには、蓋４１の内摺面の下端部に形成された雌ねじ部４１ａが螺合される。小瓶４０と蓋４１の間の密封性を高めるため、小瓶４０と蓋４１の接触面にはＯリング６０が設けられている。蓋４１の上部側面には貫通孔４１ｂが開けられ、その貫通孔４１ｂには継手６１が固着され、その継手６１には搬送ガスを供給するためのガス供給管２２が接続される。また、蓋４１の上端面中央には突起部４１ｃが設けられ、突起部４１ｃの中央には貫通孔４１ｄが形成され、貫通孔４１ｄにはチューブ６２が挿入されている。チューブ６２の上端部には継手６３が固定され、継手６３には霧粒子を次段に出力するための出力管２３が接続される。
【００４６】
チューブ６２は、貫通孔４１ｄを介して容器１９に対して進退自在に設けられている。すなわち、蓋４１の突起部４１ｃの外周面に形成された雄ねじにナット６４が螺合され、ナット６４の内端面でテーパ部材６５を下方に押し付けることでＯリング６６を突起部４１ｃの内周面とチューブ６２の外周面との間に押し込む。これにより、突起部４１ｃとチューブ６２の間のシールが行なわれるとともに、チューブ６２が貫通孔４１ｄ内で任意の位置に固定される。
【００４７】
また、水槽蓋４５上には、水槽４２内の水面に対して容器１９を傾斜させて保持するとともに、水槽４２内における容器１９の位置を調整するための可動台７０が水平方向に移動可能に設けられている。可動台７０は、ねじ７１を閉めることで水槽蓋４５上に固定される。水槽蓋４５の中央には貫通孔４５ａが開口されており、貫通孔４５ａを通して小瓶４０の底が水槽４２内の水面に斜めに挿入される。貫通孔４５ａは可動台７０などによって密閉され、水槽４２内の水の蒸発は最小限に留められる。
【００４８】
可動台７０は、水槽４２内の水面に対して斜めに設けられた保持孔７０ａを含む。保持孔７０ａには、水槽４２内の水面に対する容器１９の傾斜角度を調整するための球面ブッシュ軸受７２が止めねじ７３を用いて固定されている。球面ブッシュ軸受７２は、内輪７２ａおよび外輪７２ｂを含む。内輪７２ａは、球体に貫通孔を形成したものであり、外輪７２ｂは内輪７２ａの外球面を把持する内球面を含む。内輪７２ａの中心軸と外輪７２ｂの中心軸との間の角度は、たとえば０度±１０度の間の任意の角度に調整可能になっている。球面ブッシュ軸受７２は、樹脂製またはステンレス製が好ましい。
【００４９】
球面ブッシュ軸受７２の内輪７２ａの貫通孔に、円筒状のスペーサ７４が斜め上から挿入される。スペーサ７４の外周面上端部に沿って設けられた突起部が内輪７２ａの上端に当接され、スペーサ７４の外周面下端部に形成された雄ねじ部にナット７５が螺合され、スペーサ７４が内輪７２ａに固定される。スペーサ７４の貫通孔７４ａに容器１９が斜め上から挿入され、容器１９はスペーサ７４の貫通孔７４ａに進退自在に保持される。スペーサ７４の上端部の突起部に形成されたねじ孔に螺合されたねじ７６により容器１９の蓋４１をロックすると、容器１９はスペーサ７４に固定される。
【００５０】
このような構成にすることで、水槽４２内の水面に対する容器１９の傾斜角度を、球面ブッシュ軸受７２の可動範囲で任意の値に設定することが可能となる。傾斜角度の設定範囲は、たとえば６０±１０度程度である。また、容器１９を平行移動させて、水槽４２の水面に対する容器１９の位置を調整することが可能となる。さらに、容器１９を斜め上下方向に移動させて、水槽４２の水面に対する小瓶４０の底の挿入深さを調整することが可能となる。このように容器１９の傾斜角度および位置を調整することにより、超音波振動子２１による修正液２０の霧化の条件を最適条件に設定することが可能となる。
【００５１】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】この発明の実施の形態１によるパターン修正装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】図１に示したパターン修正装置の要部を示す断面図である。
【図３】図２に示した微粒子堆積装置の他の構成を示す断面図である。
【図４】図１〜図３に示したパターン修正装置の使用方法を示す図である。
【図５】この発明の実施の形態２によるパターン修正装置の噴霧部の構成を示す断面図である。
【図６】この発明の実施の形態３によるパターン修正装置の噴霧部の構成を示す断面図である。
【図７】図６に示した噴霧部の詳細な構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１  パターン修正装置、２  観察光学系、３  モニタ、４  カット用レーザ部、５  微粒子堆積装置、６  基板加熱部、７  画像処理部、８  ホストコンピュータ、９  制御用コンピュータ、１０  ＸＹステージ、１１  チャック部、１２  Ｚステージ、１３  電極、1３ａ  欠陥部、１４  基板、１５  噴霧部、１７  加熱部、１８  ヘッド部、１９  容器、２０  修正液、２１  超音波振動子、２２  ガス供給管、２３  出力管、２７  パイプ、２８  ヒータ、２９  温度センサ、３０  塗布ノズル、３１  シャッタ、３２  修正部、４０  小瓶、４０ａ  ねじ口部、４１  蓋、４１ａ  雌ねじ部、４１ｂ，４１ｄ  貫通孔、４１ｃ  突起部、４２  水槽、４３  底板、４３ａ  貫通孔、４３ｂ  下面、４４  中空円柱状部材、４５  水槽蓋、４５ａ  貫通孔、４６，６６  Ｏリング、４７  ケース、４８  セラミック振動子、４９  シール部材、５０  支持台、５１  駆動回路、５２  ファン、６０  Ｏリング、６１，６３  継手、６２  チューブ、６４，７５  ナット、６５  テーパ部材、７０  可動台、７０ａ  保持孔、７１，７３  ねじ、７２  球面ブッシュ軸受、７２ａ  内輪、７２ｂ  外輪、７４  スペーサ、７４ａ  貫通孔。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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