(57)【要約】【課題】ピットパターン及びグルーブの形成を容易にするのみならず、露光装置の構成や露光実施前の条件決定、露光中の露光機操作をより簡潔にし、コストを抑制できる光記録媒体用未露光原盤とその露光方法、及び該露光により得られる光記録媒体用現像前原盤の提供。【解決手段】（１）基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層が順次積層された原盤であって、その面内の一部にプリ現像処理領域を有する光記録媒体用未露光原盤。（２）プリ現像処理領域が同心円状に設けられている（１）記載の光記録媒体用未露光原盤。（３）基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層が順次積層されており、面内の一部に設けられたプリ現像処理領域にグルーブ（案内溝）が、プリ現像処理領域以外の領域（非プリ現像処理領域）にピットパターンが露光されている光記録媒体用現像前原盤。【選択図】図１
2007242141.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層が順次積層された原盤であって、その面内の一部にプリ現像処理領域を有することを特徴とする光記録媒体用未露光原盤。
【請求項２】
プリ現像処理領域が同心円状に設けられていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体用未露光原盤。
【請求項３】
基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層が順次積層されており、面内の一部に設けられたプリ現像処理領域にグルーブ（案内溝）が露光されていることを特徴とする光記録媒体用現像前原盤。
【請求項４】
プリ現像処理領域以外の領域（非プリ現像処理領域）にピットパターンが露光されていることを特徴とする請求項３記載の光記録媒体用現像前原盤。
【請求項５】
請求項２記載の光記録媒体用未露光原盤のプリ現像処理領域にグルーブ（案内溝）を露光することを特徴とする光記録媒体用未露光原盤の露光方法。
【請求項６】
プリ現像処理領域以外の領域（非プリ現像処理領域）にピットパターンを露光することを特徴とする請求項５記載の光記録媒体用未露光原盤の露光方法。
【請求項７】
ピットパターンを露光するレーザー光強度（パワー）とグルーブ（案内溝）を露光するレーザー光強度（パワー）が同じであることを特徴とする請求項５又は６記載の光記録媒体用未露光原盤の露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体用未露光原盤、特にハイブリッドディスク用未露光原盤とその露光方法、及び該露光により得られる光記録媒体用現像前原盤に関する。
【背景技術】
【０００２】
昨今における情報量の増大により、アプリケーションソフトウェアや音楽、画像（静止画、動画）、各種データなどの大容量の情報は、光記録媒体で配布・販売されるのが一般的となっている。
これらの情報を記録する光記録媒体としては、ＣＤやＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ等の再生専用領域からなるものが広く普及しており、これらの光記録媒体は記録情報が予めピットとして基板上に形成され、当該成形基板上に反射層と保護層を積層させた構造になっている。
これに対して、記録可能領域からなるＣＤ−Ｒ／ＲＷやＤＶＤ＋Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ等の記録用光記録媒体も広く普及している。これらの記録用光記録媒体は、全面に時間情報が記録されたグルーブ（案内溝）が形成されており、前記グルーブが形成された成形基板上に記録層（ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ、ＤＶＤ−Ｒでは有機色素等、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＷでは無機相変化膜）、反射層、保護層が積層され、光記録装置でピットを書き込むことにより時間情報とデータが記録される構造の光記録媒体である。
【０００３】
近年では、再生専用領域と記録可能領域の両方を同一媒体上に有する光記録媒体、いわゆるハイブリッドディスクが実用化されている。この媒体では、再生専用領域に存在する既存の情報の他に、新たな情報を記録可能領域に付加することができる。例えばコンピューターソフトの古いコンテンツを、新しいバージョンにアップグレードさせることができる等、当該光記録媒体の使い勝手を向上させることができる。
ＣＤフォーマットのハイブリッドＣＤ−Ｒ／ＲＷを例にとると、再生専用領域を形成するピットと記録可能領域を形成するグルーブは、異なる深さで形成する必要があり、それぞれ深さがλ／４ｎ及びλ／８ｎ（λ：再生波長、ｎ：基板の屈折率）であることが望ましい。このような光記録媒体を得るためには、光記録媒体用原盤におけるフォトレジストのパターン形成において、ピットとグルーブで深さを変える必要がある。
このような光記録媒体用原盤を製造する場合、まずターンテーブルに固定されたガラス基盤を回転させながら、ガラス基盤上にフォトレジスト材料を塗布する。そしてピットパターンとグルーブの潜像の露光は、通常ガラス基盤上に形成されたフォトレジスト層へ、それぞれ高強度と低強度のレーザー光を照射することで行っている。しかしフォトレジスト層が単層のため、ピットの深さはフォトレジスト層膜の厚さとして正確に管理することが可能であるが、グルーブの深さはレーザー光強度やフォトレジストの感度の誤差により変動してしまう。またグルーブ底部の形状がＶ字型となるため、この原盤から作製された光記録媒体の記録可能領域における記録特性が悪化する。
【０００４】
このような課題を解決するため、例えば、特許文献１では、ガラス基盤の表面上にそれぞれ感度の異なるフォトレジストを回転させながら二回塗布し、第一のフォトレジスト層と第二のフォトレジスト層を積層させることで二層化し、上層のフォトレジスト層の膜厚によりグルーブの深さを管理する方法が提案されている。しかし実際には、第二のフォトレジスト層に使用されるフォトレジスト材料の原液に含まれる溶媒又は原液を希釈するための溶媒により、初めに積層された第一のフォトレジスト層が溶出されるため、上記の方法でフォトレジスト層を積層させることは不可能である。
【０００５】
そこで、特許文献２〜３では、上記の問題を解決したピットとグルーブの二水準の深さを有する光記録媒体用原盤とその製造方法の発明が開示されている。即ち、この発明では図１に示すように、ガラス基盤１上に積層される第一のフォトレジスト層２と第二のフォトレジスト層４の間に、電気抵抗の小さい導電性膜である中間層３を設けている。第１フォトレジスト層２、中間層３、第２フォトレジスト層４の膜厚はそれぞれ３００〜２０００Å、３０〜３００Å、３００〜２０００Åである。これはピット露光には第一のフォトレジスト層２及び及び第二のフォトレジスト層４を、グルーブ露光には第二のフォトレジスト層４のみをそれぞれ露光できるように、二水準のレーザー光強度で潜像を行っており、中間層３の膜厚によりピットを露光する露光ビームが中間層３を８５％以上透過するようにしているためである。また第一のフォトレジスト層２の感度が、第二のフォトレジスト層４の感度より大きくなるような層構成の組み合わせとしている。これらにおいて、中間層３の熱拡散の効果により、底部の中心部分が盛り上がらないピットパターンの形成が可能となる。加えて第一のフォトレジスト層２を第二のフォトレジスト層４より高感度にすることで、フォトレジストの境界部分に段のないピットパターンを形成することができる。よって二水準のレーザー光強度で潜像することにより、深さの異なるピットパターン及びグルーブを同一盤面上へ形成することができる。
二水準のレーザー光強度で露光された光記録媒体用未露光原盤は、特許文献４に開示されている発明の装置及び方法によって現像が行われることにより、ピットやグルーブが形成される。
【０００６】
図２に露光、現像及びエッチングによるピットとグルーブのパターニング手順を示す。
（ａ）の工程で露光用レーザービーム５により露光された原盤に、（ｂ）の工程で、アルカリ溶液を塗布して、第二のフォトレジスト層の潜像部分を現像する。二水準のレーザー光強度のうち、強い強度で露光されたピットパターンは現像が中間層まで達し、弱い強度で露光されたグルーブは第二のフォトレジスト層途中まで現像される。次に（ｃ）の工程で硝酸を塗布することにより、ピットパターン露光部の中間層を除去する。このとき、フォトレジスト層は硝酸に不溶のため、グルーブ露光部の形状は変化しない。更に（ｄ）の工程で、再度アルカリ溶液による現像を行う。これにより、ピット露光部では第二のフォトレジスト層と共に、第一のフォトレジスト層の潜像部分にある第一のフォトレジストを除去し、ピットパターンが形成される。同時にグルーブ露光部は、一回目の現像にて除去できなかった第二のフォトレジスト層中、残りの潜像部分の第二のフォトレジストを除去する。最後に（ｅ）の工程で、再度、硝酸を塗布することにより、グルーブ形成部底の中間層を除去し、グルーブが形成される。
一連の工程ではフォトレジスト材料をガラス基盤上に塗布する時と同様に、ターンテーブル上に設置した原盤を回転させながら、スピンコート法により潜像部分のフォトレジスト材料を除去するための現像液、中間層を除去するための酸溶解液、及びリンス液となる純水の吐出を行うので、現像及び中間層除去の内外差が発生せず、それぞれ均一なピット及びグルーブ形状を得ることができる。
【０００７】
【特許文献１】特開平６−１５０３９１号公報
【特許文献２】特許第３４７６６２１号公報
【特許文献３】特許第３４７９４１３号公報
【特許文献４】特開平９−３２０１２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前述した光記録媒体用未露光原盤（図２に示したような光記録媒体用原盤を作製するための露光、現像、エッチング処理を行う前の状態の原盤）を使用することにより、同一盤面上にピットからなる領域とグルーブからなる領域の両方が形成された所望の光記録媒体用原盤を得ることができる。
しかしながら、このような光記録媒体用原盤を得るには、深さの異なるピットパターン及びグルーブを同一盤面上へ形成するために、二水準のレーザー光強度（パワー）で露光することが必要不可欠である。二水準のレーザー光強度で露光するには、一台の露光装置内にレーザー光源又はレーザー光路を二つ設けなければならない。レーザー光源を司るユニットが二台ある場合はもちろん、一台の光源から光路を分割したとしても、分割された箇所以降のレーザー光軸は二本になる。
その結果、レーザー光を増幅或いは発振させるための光学素子（Ａ／Ｏ）やレンズを各光軸上に設置しなければならず、露光装置の設備にかかる費用が増大する。また光源から照射対象である光記録媒体用未露光原盤上までのレーザー光路が複雑になるため、光軸調整や露光装置のメンテナンスが大変難しくなる。
更に、光記録媒体用未露光原盤の露光前に行うレーザー光強度（パワー）の調整は、二水準分についてそれぞれ実施しなければならない。よって生産時において段取りに時間を要することになり、これがコストアップの要因ともなる。
本発明では、このような問題を解決し、ピットパターン及びグルーブの形成を容易にするのみならず、露光装置の構成や露光実施前の条件決定、露光中の露光機操作をより簡潔にし、コストを抑制できる光記録媒体用未露光原盤とその露光方法、及び該露光により得られる光記録媒体用現像前原盤の提供を目的とする。なお、ここでいう現像前原盤とは、図２に示した工程のうち、（ａ）の露光工程のみが終了した段階の原盤を指す。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は次の１）〜７）の発明（以下、本発明１〜７という）によって解決される。
１）  基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層が順次積層された原盤であって、その面内の一部にプリ現像処理領域を有することを特徴とする光記録媒体用未露光原盤。
２）  プリ現像処理領域が同心円状に設けられていることを特徴とする１）記載の光記録媒体用未露光原盤。
３）  基盤上に第一のフォトレジスト層、酸化膜からなる中間層及び第二のフォトレジスト層が順次積層されており、面内の一部に設けられたプリ現像処理領域にグルーブ（案内溝）が露光されていることを特徴とする光記録媒体用現像前原盤。
４）  プリ現像処理領域以外の領域（非プリ現像処理領域）にピットパターンが露光されていることを特徴とする３）記載の光記録媒体用現像前原盤。
５）  ２）記載の光記録媒体用未露光原盤のプリ現像処理領域にグルーブ（案内溝）を露光することを特徴とする光記録媒体用未露光原盤の露光方法。
６）  プリ現像処理領域以外の領域（非プリ現像処理領域）にピットパターンを露光することを特徴とする５）記載の光記録媒体用未露光原盤の露光方法。
７）  ピットパターンを露光するレーザー光強度（パワー）とグルーブ（案内溝）を露光するレーザー光強度（パワー）が同じであることを特徴とする５）又は６）記載の光記録媒体用未露光原盤の露光方法。
【００１０】
以下、上記本発明について詳しく説明する。
本発明の光記録媒体用未露光原盤は、図１に一例を示すように、ガラス基盤１の上に第一のフォトレジスト層２、中間層３、第二のフォトレジスト層４の順に積層された層構成を有する。フォトレジスト層中でレーザー光の照射により露光された潜像部分は、アルカリ水溶液に可溶となる。第一及び第二のフォトレジスト層で使用されるフォトレジスト材料はポジ型と呼ばれており、感光材料やノボラック樹脂等の固体をアルキル系やアセテート系の溶媒に溶解させた状態となっているのが一般的である。フォトレジスト材料の原液は高粘性・高濃度であるため、光記録媒体用未露光原盤を作製する場合には通常、原液を前記の溶媒等によって希釈した後に使用される。
【００１１】
図１に示した光記録媒体用未露光原盤の製造プロセスについて説明する。
フォトレジスト層を形成するためのフォトレジスト材料の塗布には、一般的にスピンコート法が用いられる。図２に示すように、まず円形のガラス基盤１を研磨、洗浄した後、塗れ性向上のためガラス基盤表面上をシランカップリング剤（密着剤）によりトリメチルシリル化処理して疎水化する。このガラス基盤をターンテーブルに載置し、回転させながら、スピナー装置のディスペンサにより第一のフォトレジスト材料を滴下する。第一のフォトレジスト材料が盤面上に行き渡ったところで滴下を終了し、ターンテーブルの回転数を滴下時よりも大きくして、遠心力により余分な第一のフォトレジスト材料をガラス基盤の外方に飛散させる。この第一のフォトレジスト材料の飛散時における振り切り回転数を調整することにより、第一のフォトレジスト層２の膜厚を調整することが可能であり、通常、３００〜２０００Åの厚さになるよう設定する。
【００１２】
この第一のフォトレジスト材料が塗布されたガラス基盤をオーブンでプリベークすることにより第一のフォトレジスト層が形成される。第一のフォトレジスト層のプリベーク温度は、後述する第二のフォトレジスト層４のプリベーク温度及び露光・現像後のポストベーク温度よりも高く設定することが好ましい。これは第二のフォトレジスト層のプリベーク時及び露光・現像後のポストベーク時に、第一のフォトレジスト層からの溶媒の蒸発によるガスの発生を防ぐためであり、ガスが集中する部分の盛り上がりによる欠陥の発生がなく、良好な信号品質を得られるためである。また第一のフォトレジスト層を第二のフォトレジスト層よりも高感度にすると、露光時にフォトレジストの境界部分に段のないピットパターンを形成することができるため好適である。
【００１３】
次に、第一のフォトレジスト層上に導電性膜である中間層３を形成する。この中間層に電気抵抗の小さいＩｎ２Ｏ３やＩＴＯ（Ｉｎ２Ｏ３９５重量％−ＳｎＯ２５重量％）を使用すると、露光時、熱拡散効果により中間層膜質の変化を抑制できるため、ピット底部の中心が盛り上がらない平らな形状のピットを形成することができる。また中間層の熱伝導率は４０Ｗ／ｍＫ以上であることが望ましい。中間層の積層には一般的にスパッタ法が用いられ、膜厚は１０〜３００Åの範囲で設定される。
【００１４】
最後に、中間層上に第二のフォトレジスト層を形成する。形成方法は第一のフォトレジスト材料を塗布した時と同様で、第一のフォトレジスト材料及び中間層が形成されたガラス基盤をターンテーブルに載置し、ガラス基盤を回転させながらスピナー装置のディスペンサにより第二のフォトレジスト材料を滴下する。第二のフォトレジスト材料が盤面上に行き渡ったところで滴下を終了し、ターンテーブルの回転数を滴下時よりも大きくして、遠心力により余分な第二のフォトレジスト材料をガラス基盤の外方に飛散させる。この第二のフォトレジスト材料の飛散時における回転数を調整することにより、第二のフォトレジスト層の膜厚を調整することが可能であり、通常２５０〜２０００Åの厚さになるよう設定する。
【００１５】
この第二のフォトレジスト層形成プロセスにおいて、中間層の膜厚が第一及び第二のフォトレジスト層の膜厚と比較して極端に薄い場合、特に１０Å未満である場合、中間層の膜面内に直径０．０５ｍｍ程度のピンホールを多数生じることがある。この場合、中間層まで積層した上に第二のフォトレジスト材料を塗布すると、第二のフォトレジスト材料が前記ピンホールに浸透することがある。この浸透が第一のフォトレジスト層に達すると、第一のフォトレジスト層の界面上で、第二のフォトレジスト材料を希釈している溶媒により、第一のフォトレジスト材料と第二のフォトレジスト材料が混合又は相溶し、第二のフォトレジスト層を形成するためのプリベーク中に溶媒が蒸発するのに伴い、ピンホール開口部から膨張、破裂するため、第二のフォトレジスト層上に、直径０．１５ｍｍ程度の大きさで１００〜３００Å程度の高さを持つ欠陥が生じる。このため光記録媒体の再生専用領域や記録後の記録可能領域の欠陥率が悪化し、再生時のエラーが多く発生してしまう原因となる。
【００１６】
このような欠陥の発生を防止するには、第二のフォトレジスト材料を塗布する際に、該フォトレジスト材料の吐出時間を短くしたり（１０秒以内）、飛散時における振り切り回転数を高速（３０００ｒｐｍ以上）にしたり、吐出位置を原盤の中心部（スタンパ加工時に切断する内径部分）としたりすることが好適である。
このようにして第二のフォトレジスト材料が塗布されたガラス基盤は、再度オーブンでプリベークすることにより、第二のフォトレジスト層が形成され、第一のフォトレジスト層、中間層及び第二のフォトレジスト層が積層された光記録媒体用未露光原盤となり、露光機からのレーザー光によるピット及びグルーブ露光が可能な状態となる。
【００１７】
本発明では、上記のような光記録媒体用未露光原盤において、当該原盤面内の一部に、プリ現像処理を施したプリ現像処理領域を設ける点に特徴がある。この未露光原盤に露光すると、同一盤面上に、それぞれ深さの異なる、ピットパターンからなる領域とグルーブからなる領域を容易に形成することができる。更に、プリ現像処理領域を同心円状に設ければ、露光により同一盤面上に、それぞれ深さの異なるピットパターンからなる領域とグルーブからなる領域を容易かつ正確に形成することが可能となる。
前述したポジ型フォトレジスト材料は通常、露光されることにより感光材料（ＰＡＣ：ＰｈｏｔｏＡｃｔｉｖｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄ）として用いられるオルトジアゾナフトキノン化合物が転移し、水の付加が起こりインデンカルボン酸となるため、アルカリ現像液に可溶な状態となる。反面、未露光部はＰＡＣがフォトレジスト材料中のノボラック樹脂とアゾカップリング反応を起こすことでアルカリ不溶な状態となる。本発明では未露光原盤の面内の一部に露光前の現像処理、即ちプリ現像処理を施すことにより、プリ現像処理された領域中に含まれるＰＡＣの一部をアルカリ不溶な状態にさせる。故に、露光前の時点で、未露光原盤内の一部領域について、露光ビームに対する第二のフォトレジスト材料の感度を低下させ、現像時のグルーブ落ちを防止することができる。
【００１８】
上記プリ現像処理は、未露光原盤作製後、通常の露光後現像に使用されるスピンコートによる湿式現像法で容易に実施できる。即ち、図３のように、所望のプリ現像処理領域の開始半径にノズルを合致させて現像液を滴下し、遠心力により外周方向に現像液を行き渡らせればよい。プリ現像処理を行わない内周側の領域への現像液の飛び・跳ねを防止するため、該領域にマスクを設置することが好ましい。プリ現像処理時間は、第二のフォトレジスト材料のレーザー光に対する感度、現像液の濃度、露光に使用するレーザー波長などにより異なってくるが、過剰なプリ現像処理により第二のフォトレジスト材料の感光性、即ちアルカリ可溶性を完全に消失させないことが重要であり、通常、１０〜１５０秒程度の処理時間とする。
【００１９】
また、前述のような光記録媒体用未露光原盤のプリ現像処理領域にグルーブを露光することにより、容易にグルーブを形成できる光記録媒体用現像前原盤が得られる。前述の通り、光記録媒体用未露光原盤上に、プリ現像処理による第二のフォトレジスト材料の感度低下領域を作ると、当該領域ではレーザー光による潜像箇所の現像速度が低下する。即ち現像が中間層止まりのグルーブになりやすくなるため、現像時のグルーブ形成が容易になる。
また、前述のような光記録媒体用未露光原盤のプリ現像処理をしなかった領域（非プリ現像処理領域）にピットパターンを露光することにより、容易にピットを形成できる光記録媒体用現像前原盤が得られる。非プリ現像処理領域では、第二のフォトレジスト材料の感度が未露光原盤作製時のまま確保されている。よって当該領域では、露光部分の現像が第一のフォトレジスト層まで達しやすくピットが形成されやすいため、現像時のピット形成が容易になる。
【００２０】
また、前述のような光記録媒体用未露光原盤上の、プリ現像処理領域にグルーブを、非プリ現像処理領域にピットパターンを露光することが、ピット及びグルーブのそれぞれの形成を容易にするのに有効である。前述のように、光記録媒体用未露光原盤の面内で第二のフォトレジスト材料の感度がそれぞれ異なるため、ピット及びグルーブが露光される部分の現像速度が両領域で異なる。よって、現像が第一のフォトレジスト層に達する領域でピットを、達しない領域でグルーブを容易に形成できる。
【００２１】
また、前述のような光記録媒体用未露光原盤上への露光に際し、ピットパターンを露光するレーザー光強度（パワー）とグルーブを露光するレーザー光強度（パワー）を同じにすることが、露光機の機構や露光前の条件設定、露光中の露光機操作を簡潔にするのに有効である。
本発明では、光記録媒体用未露光原盤中に、第二のフォトレジスト材料の感度が異なる二つの領域を設けており、プリ現像処理領域では露光部分の現像速度が低下する。よってレーザー光強度（パワー）がピットパターン露光部とグルーブ露光部で同じであっても、プリ現像処理領域では現像が第一のフォトレジスト層まで達しにくい。その結果、露光で使用するレーザー光軸は一本で済むため露光機の機構を簡素化できる。また露光前のレーザー光量調整等の条件設定は単軸分のみでよく、条件設定の時間を減らせるためコストダウンできる。更に露光中は、同じ光軸上に挿入するピットパターン露光用のＯｎ／Ｏｆｆ信号と、グルーブ露光用のウォブル信号の切り換え操作のみでよく、露光機動作も簡素化できる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明１〜７によれば、ピットパターン及びグルーブの形成を容易にするのみならず、露光装置の構成や露光実施前の条件決定、露光中の露光機操作をより簡潔にし、コストを抑制できる光記録媒体用未露光原盤とその露光方法、及び該露光により得られる光記録媒体用現像前原盤を提供できる。各発明の特徴的効果は次のとおりである。
本発明１によれば、露光により同一盤面上にそれぞれ深さの異なるピットパターンからなる領域とグルーブからなる領域を容易に形成することができる。
本発明２によれば、露光により同一盤面上にそれぞれ深さの異なるピットパターンからなる領域とグルーブからなる領域を、容易かつ正確に形成することができる。
本発明３によれば、潜像部分の現像が第一のフォトレジスト層まで達しにくく、中間層止まりのグルーブになりやすいため、現像時のグルーブ形成を容易にすることができる。
本発明４によれば、現像が第一のフォトレジスト層まで達しやすくピットが形成されやすいため、現像時のピット形成を容易にすることができる。
本発明５によれば、中間層止まりの現像でグルーブの形成を容易にすることができる。
本発明６によれば、現像時のピットの形成を容易にすることができる。
本発明７によれば、露光機の機構や露光前の条件設定、露光中の露光機操作を簡潔にすることができる。
【実施例】
【００２３】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【００２４】
実施例１、比較例１
直径２５０ｍｍの円形ガラス基盤を研磨、洗浄した後、ヘキサメチレンジシラサン（ＨＭＤＳ）によるトリメチルシリル化処理により研磨面を疎水化した。
次いで、ガラス基盤をスピナー装置のターンテーブルに載置し、ターンテーブルによりガラス基盤を回転させながら、スピナー装置のディスペンサにより、第一のフォトレジスト材料（東京応化製ＴＳＭＲ−ＧＰ８０００ＰＬ原液を溶媒により希釈したもの）を滴下した。第一のフォトレジスト材料が盤面上に行き渡ったところで滴下を終了し、すぐにターンテーブルの回転数を上げて盤上に残留する余分な第一のフォトレジスト材料を外方へ飛散させた。この第一のフォトレジスト材料が塗布されたガラス基盤を、オーブンにより１３５℃で３０分間プリベークし、膜厚が８００Åの第一のフォトレジスト層を形成した。
続いて、スパッタ法により、中間層となるＩｎ２Ｏ３を２０Åの膜厚で積層した。
最後に、中間層の上に、ターンテーブルによりガラス基盤を回転させながら、スピナー装置のディスペンサにより、第二のフォトレジスト材料（東京応化製ＴＨＭＲ−ＧＰ８０００ＰＬ原液を溶媒により希釈したもの）を滴下した。第二のフォトレジスト材料が盤面上に行き渡ったところで滴下を終了し、すぐにターンテーブルの回転数を上げて、盤上に残留する余分な第二のフォトレジスト材料を外方へ飛散させた。この第二のフォトレジスト材料が塗布されたガラス基盤を、オーブンにより９０℃で３０分間プリベークして、第二のフォトレジスト層膜厚が２８０Å、全層膜厚の合計が１１００Åの光記録媒体用未露光原盤を得た。
【００２５】
本実施例１の未露光原盤は、露光前に図３に示すようなスピンコート法で、５０％希釈現像液により半径３５ｍｍから外周側へ向ってプリ現像処理を３０秒間施した。
また、比較例１として、実施例１と同様の層構成を持ちプリ現像処理を施さない光記録媒体用未露光原盤を用意した。
これらの未露光原盤は、図４に示すような露光装置により、トラックピッチ１．６μｍのＣＤフォーマットに従い露光した。波長λ＝４５３ｎｍ、強度３．４ｍＷのレーザー光を使用し、半径位置２２〜３５ｍｍの領域にピットパターンを、半径位置３５〜５９ｍｍの領域にグルーブをそれぞれ順に連続露光し潜像を実施した〔図２の（ａ）〕。
潜像後、５０％希釈現像液による現像及び０．１６％硝酸水溶液による中間層の除去を組み合わせることにより〔図２の（ｂ）〜（ｅ）〕、ピット及びグルーブのパターニングを行い、最後に１３０℃で３０分間ポストベークを実施し、ピット領域とグルーブ領域を有する光記録媒体用原盤を得た。
これらの光記録媒体用原盤のピットパターン及びグルーブ露光領域をそれぞれＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で観察したところ、ピットパターンについては本実施例１と比較例１のどちらも同様に、現像・エッチング工程により第二のフォトレジスト層、中間層、第一のフォトレジスト層が除去され、潜像通りにピットの形状が形成されていた。
一方、グルーブ露光領域については、比較例１では図５に示すように現像・エッチング工程により第二のフォトレジスト層、中間層、第一のフォトレジスト層が除去され、ピットと同じ深さのグルーブが形成されていた。これに対し、本実施例１では図６に示すように現像・エッチング工程により潜像部分の第二のフォトレジスト層及び中間層のみが除去されていた。即ち、ピット露光とグルーブ露光のレーザー強度が同じでも、第二のフォトレジスト層の感度低下により現像が第一のフォトレジスト層へ達せず、所望の深さ及び幅でグルーブが形成されていることが確認できた。
【００２６】
実施例２、比較例２
第一及び第二のフォトレジスト材料としてローム・アンド・ハース製ＳＰＲ６８０９原液を溶媒により希釈したものを用い、第一のフォトレジスト層の膜厚を１１００Å、第二のフォトレジスト層の膜厚を３２０Å、中間層の膜厚を３０Å、膜厚の合計を１４５０Åとした点以外は、実施例１と同様にして光記録媒体用未露光原盤を得た。
この未露光原盤に対し、実施例１と同様にして、半径４０ｍｍから外周側へ向ってプリ現像処理を１０秒間施した。
また、比較例２として、実施例２と同様の層構成を持ちプリ現像処理を施さない光記録媒体用未露光原盤を用意した。
【００２７】
これらの未露光原盤は、図４に示すような露光装置により、トラックピッチ０．７４μｍのＤＶＤフォーマットに従い露光した。波長λ＝４１３ｎｍ、強度２．３ｍＷのレーザー光を使用し、半径位置２２〜４０ｍｍの領域にピットパターンを、半径位置４０〜５９ｍｍの領域にグルーブをそれぞれ順に露光し潜像を実施した。
実施例１と同様の現像・エッチング工程を経て、最後に１１０℃で４５分間ポストベークを実施し、ピット領域とグルーブ領域を有する光記録媒体用原盤を得た。
これらの光記録媒体用原盤のピットパターン及びグルーブ露光領域をそれぞれＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で観察したところ、ピットパターンについては、本実施例２及び比較例２のどちらも同様に、現像・エッチング工程により第二のフォトレジスト層、中間層、第一のフォトレジスト層が除去され、潜像通りにピットの形状が形成されていた。
一方、グルーブ露光領域については、比較例２では露光部分の第二のフォトレジスト層、中間層、第一のフォトレジスト層のみならず、非露光部分も現像が進行し、グルーブパターンが完全に流出していた。これに対し、本実施例２では図７に示すように現像・エッチング工程により潜像部分の第二のフォトレジスト層、及び中間層のみが除去され、底打ちしたグルーブ形状となっていた。即ち、ピット露光とグルーブ露光のレーザー強度が同じでも、第二のフォトレジスト層材料の感度低下効果により潜像が第一のフォトレジスト層へ達せず、所望の深さ・幅でグルーブが形成されていることが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】光記録媒体用未露光原盤の層構成の一例を示す図。
【図２】露光、現像及びエッチングによるピットとグルーブのパターニング手順を示す図。（ａ）露光（潜像）工程、（ｂ）第二のフォトレジスト層現像工程、（ｃ）中間層除去工程、（ｄ）第一及び第二のフォトレジスト層現像工程、（ｅ）中間層除去工程。
【図３】プリ現像処理の実施形態を示す模式図。
【図４】光記録媒体用原盤を作製するための露光装置の模式図。
【図５】比較例１のグルーブ露光領域のＡＦＭ（原子間力顕微鏡）断面測定図。
【図６】実施例１のグルーブ露光領域のＡＦＭ（原子間力顕微鏡）断面測定図。
【図７】実施例２のグルーブ露光領域のＡＦＭ（原子間力顕微鏡）断面測定図。
【符号の説明】
【００２９】
１  ガラス基盤
２  第一のフォトレジスト層
３  中間層
４  第二のフォトレジスト層
５  露光用レーザービーム
６  ピット
７  グルーブ
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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