(57)【要約】【課題】「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」の有機色素材料を含む２層（Ｌ０層，Ｌ１層）型光情報記録媒体において、Ｌ１層の管理情報を高品質で再生する光情報記録媒体を提供すること。【解決手段】２層型の光情報記録媒体１００の光照射前の光反射率よりも記録マーク部分の光反射率が増大する有機色素を含むＬ１層のエンボスピット領域に、予め、青色レーザで直流パワーの光照射処理を施して有機色素の光吸収率を低下させ、Ｌ１層の再生専用領域ｂ１の光反射率が、同層のミラー部ｍの光反射率より大きくすることにより、高品質なエンボスピット信号の再生特性が得られる。【選択図】図１
2007220265.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
片側からの光の照射により情報の記録再生を行う光情報記録媒体であって、
前記光を照射することにより記録マークが形成される有機色素を含む複数の記録層を備え、
前記記録層は、前記光の照射前の光反射率よりも前記記録マーク部分の光反射率が増大し、
前記光の入射側から見て奥側に設けた記録層の再生専用領域の光反射率が、当該記録層のミラー部の光反射率より大きい
ことを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記光の入射側から見て奥側に設けた記録層の再生専用領域の光反射率（Ｒｅ）と、当該記録層のミラー部の光反射率（Ｒｍ）との比（Ｒｅ／Ｒｍ）が１．２５以上（Ｒｅ／Ｒｍ≧１．２５）であることを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
さらに、前記光の入射側から見て手前側に設けた記録層の再生専用領域の光反射率が、当該記録層のミラー部の光反射率より大きいことを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記光の入射面側から見て手前側の記録層の再生専用領域に、当該光の入射側から見て凸形状を有するエンボスピットを備え、且つ、前記光の入射面側から見て奥側の記録層の再生専用領域に、当該光の入射側から見て凹形状を有するエンボスピットを備えることを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
２層型の光情報記録媒体の製造方法であって、
光透過性材料からなる第１の透明基板上に、青色レーザ照射で生じる分解反応により光吸収率が低下する有機色素を含む第１の記録層及び半透明中間層を順次積層した第１のディスク基板を形成し、
第２の基板上に、反射層、青色レーザ照射で生じる分解反応により光吸収率が低下する前記有機色素を含む第２の記録層及び界面層を積層した第２のディスク基板を形成し、
前記第１のディスク基板と前記第２のディスク基板とが、前記半透明中間層と前記界面層とが対向するように、透明接着層を介して積層し、
前記第１の記録層または前記第２の記録層における再生専用領域に青色レーザの直流パワーで光照射処理を施し、当該青色レーザの入射側から見て奥側に設けた記録層の再生専用領域の光反射率（Ｒｅ）が、当該記録層のミラー部の光反射率（Ｒｍ）より大きく（Ｒｅ＞Ｒｍ）することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記第１の記録層及び前記第２の記録層における再生専用領域に、それぞれ青色レーザの直流パワーで光照射処理を施すことを特徴とする請求項５記載の光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体等に関し、より詳しくは、青色レーザによる情報の記録再生を可能とした光情報記録媒体等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、文字、図形等のデータを記録し再生可能な光情報記録媒体として、ＣＤ−Ｒ／ＣＤ−ＲＷ等が知られている。また、ＣＤ（コンパクトディスク）に比べて数倍の記録容量を有するＤＶＤ（デジタル多用途ディスク）が、映画等の画像や音声等の情報を記録した情報記録媒体として、広く使用されているようになっている。このＤＶＤには、ユーザ側で情報の記録を１回に限り行えるＤＶＤ−Ｒ（追記型のデジタル多用途ディスク）や、情報の書換えが可能なＤＶＤ−ＲＷ（書換え可能型のデジタル多用途ディスク）が既に製品化され、大容量の光情報記録媒体として、広く一般化されている。
【０００３】
近年、情報通信機器の発達に伴い、光情報記録媒体に対して大容量化の要求が著しい。光情報記録媒体の大容量化としては、記録再生レーザの短波長化、光学系におけるレンズの高ＮＡ化、トラックピッチの狭小化、記録トラックのランド及びグルーブへの記録、そして記録層の多層化等が積極的に行われている。
【０００４】
特に、従来の光情報記録媒体に比べ、より高密度且つ高性能な記録再生を実現する次世代の光情報記録媒体では、記録再生用レーザとして波長４０５ｎｍ程度の青色レーザが使用される。
このような短波長の光を用いて記録再生特性を得るためには、光情報記録媒体の記録層に「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」を有する有機色素材料を用いることが検討されている（特許文献１参照）。ここで、「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」とは、例えば、記録層の青色レーザが照射される前の光反射率よりも、青色レーザの照射により形成される記録マーク部分の光反射率の方が高くなる特性を言う。
【０００５】
また、記録層の多層化はディスク寸法を変えることなく記録層の面積を容易に増やせ、さらに光学系におけるレンズの高ＮＡ化による対物レンズの開発、面ブレ抑制のための生産技術、防汚性確保のためのカートリッジ等が不要というメリットがある。
【０００６】
記録層の多層化として、特に２個の記録層を設ける２層化の方法としては、いわゆる２Ｐ法と逆積層法とが知られている。２Ｐ法は、光入射側の基板に形成した第１記録層と半透明反射層の上に、光硬化性の樹脂を塗布して光透過性スタンパを押し当て光照射により硬化した後、光透過性スタンパを剥がして溝パターンを転写し、その上に第２記録層を形成する方法である。逆積層法は、第１記録層を形成した第１基板と第２記録層を形成した第２基板とを透明接着剤で貼り合せて製造する方法である（特許文献２、特許文献３参照）。
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２９３７７２号公報
【特許文献２】特開２００５−３１０３４９号公報
【特許文献３】特開２００３−３３１４７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、光情報記録媒体の記録層は、通常、ユーザ記録領域と、このユーザ記録領域の外周側もしくは内周側に管理情報（システムリードイン又はシステムリードアウト）としてのエンボスピット信号を形成したエンボスピット領域と、が設けられている。ここで、上述した「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」を有する有機色素材料を用いて、片面に複数の記録層をもつ光情報記録媒体を構成した場合、光入射面側から見てより奥側の記録層において、有機色素が短波長レーザを吸収することにより、エンボスピット領域に形成したエンボスピット信号の光反射率が低下するという問題がある。
【０００９】
さらに、例えば、逆積層法によって形成された２個の記録層を有する光情報記録媒体の場合は、光の入射面側から見て奥側の記録層（Ｌ１層）の記録特性を確保するために、記録層（Ｌ１層）の厚さを、手前の記録層（Ｌ０層）の厚さより、ある程度大きくする必要がある。このため、記録層（Ｌ１層）のエンボスピット領域からのエンボスピット信号の光反射率がより顕著に低下する傾向があるという問題がある。
【００１０】
本発明は、上記事情を考慮してなされたものである。
即ち、本発明の目的は、片面に、「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」を示す有機色素材料を含む２個の記録層を有する光情報記録媒体において、光入射面側から見て奥側の記録層の管理情報を高品質で再生可能な光情報記録媒体を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、光入射面側から見て奥側の記録層の管理情報を高品質で再生可能な光情報記録媒体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述した課題を解決するために、本発明者は鋭意検討の結果、「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」を示す有機色素材料を含む２層型光情報記録媒体において、第２層（Ｌ１層）のエンボスピット領域にある有機色素の屈折率が変化する程度に青色レーザを照射したところ、第２層（Ｌ１層）から高品質のエンボスピット信号が得られることを見出し、かかる知見に基づき本発明を完成した。
かくして本発明によれば、片側からの光の照射により情報の記録再生を行う光情報記録媒体であって、光を照射することにより記録マークが形成される有機色素を含む複数の記録層を備え、記録層は、光の照射前の光反射率よりも記録マーク部分の光反射率が増大し、光の入射側から見て奥側に設けた記録層の再生専用領域の光反射率が、記録層のミラー部の光反射率より大きいことを特徴とする光情報記録媒体が提供される。
【００１２】
即ち、本発明が適用される光情報記録媒体は、「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」を示す有機色素を含む記録層の中、記録再生光の入射側から見て第２層（Ｌ１層）の再生専用領域の光反射率（Ｒｅ）を、ミラー部の光反射率（Ｒｍ）より大きくすることにより、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域から得られるエンボスピット信号の再生特性を、高品質にすることができる。
ここで、光の入射側から見て奥側に設けた記録層の再生専用領域の光反射率（Ｒｅ）と、記録層のミラー部の光反射率（Ｒｍ）との比（Ｒｅ／Ｒｍ）が１．２５以上（Ｒｅ／Ｒｍ≧１．２５）であることが好ましい。
さらに、光の入射側から見て手前側に設けた記録層（Ｌ０層）の再生専用領域の光反射率も、同じ記録層（Ｌ０層）のミラー部の光反射率より大きいことが好ましい。
【００１３】
また、本発明が適用される光情報記録媒体は、光の入射面側から見て手前側の記録層の再生専用領域に、光の入射側から見て凸形状を有するエンボスピットを備え、且つ、光の入射面側から見て奥側の記録層の再生専用領域に、光の入射側から見て凹形状を有するエンボスピットを備えるものであることが好ましい。
【００１４】
次に、本発明によれば、２層型の光情報記録媒体の製造方法であって、光透過性材料からなる第１の透明基板上に、青色レーザ照射で生じる分解反応により光吸収率が低下する有機色素を含む第１の記録層及び半透明中間層を順次積層した第１のディスク基板を形成し、一方、第２の基板上に、反射層、青色レーザ照射で生じる分解反応により光吸収率が低下する有機色素を含む第２の記録層及び界面層を積層した第２のディスク基板を形成し、続いて、第１のディスク基板と第２のディスク基板とが、半透明中間層と界面層とが対向するように、透明接着層を介して積層し、さらに、第１の記録層または第２の記録層における再生専用領域に青色レーザの直流パワーで光照射処理を施し、青色レーザの入射側から見て奥側に設けた記録層の再生専用領域の光反射率（Ｒｅ）が、記録層のミラー部の光反射率（Ｒｍ）より大きく（Ｒｅ＞Ｒｍ）することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法が提供される。
【００１５】
ここで、第１の記録層及び第２の記録層における再生専用領域に、それぞれ青色レーザの直流パワーで光照射処理を施すことにより、それぞれの再生専用領域の光反射率を、ミラー部の反射率よりも高め、さらに高品質な再生特性が得られる光情報記録媒体を製造することができる。
【００１６】
本発明が適用される光情報記録媒体によれば、「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」を示す有機色素材料を含む２個の記録層の中、少なくとも１個の記録層における再生専用領域を、例えば、青色レーザの直流パワーにより光照射処理を行うことにより、記録再生光の光入射面側から見て奥側に設けた第２層（Ｌ１層）のエンボスピット信号の光反射率を、未記録時の状態に比べて高くすることができ、その結果、高品質な再生信号が得ることができる。
また、逆積層法で作成し、片側から入射する青色レーザを用いて記録可能な２層の記録層を有する光情報記録媒体においても、光入射面側から見て奥側の第２層（Ｌ１層）から、管理情報としてのエンボスピット信号の光反射率を増大し、より高品質な再生特性を得ることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の光情報記録媒体は、再生専用領域から高品質の再生信号が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態）について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。また、使用する図面は本実施の形態を説明するためのものであり、実際の大きさを表すものではない。
【００１９】
図１は、本実施の形態が適用される光情報記録媒体を説明する図である。図１には、有機色素を含む記録層を２個有し、逆積層法により形成した２層型の光情報記録媒体１００（ここでは、２層型ＨＤ  ＤＶＤ−Ｒ）が示されている。
図１（ａ）は、２層型の光情報記録媒体１００のレイアウト及び断面概略図である。図１（ａ）に示すように、中央部分に中心孔が形成された円盤状の光情報記録媒体１００は、記録再生光の光入射側から見て手前側の第１の透明基板１０を有する第１層（Ｌ０層）と、記録再生光の光入射側から見て奥側の第２の基板２０を有する第２層（Ｌ１層）とから構成されている。
第１層（Ｌ０層）における第１の透明基板１０と、第２層（Ｌ１層）における第２の基板２０とは、それぞれ同様なレイアウト構造を有し、内周側に設けられた再生専用領域ｂ１と、再生専用領域ｂ１よりも外周側に設けられたユーザ記録領域ｂ２とを有している。さらに、再生専用領域ｂ１とユーザ記録領域ｂ２との間に設けたミラー部ｍ（コネクション領域）とを有している。ここでミラー部ｍとは、エンボスピットや溝が形成されない部分をいう。
【００２０】
本実施の形態が適用される光情報記録媒体１００は、後述するように、有機色素を含む２層の記録層を有し、片面から、例えば、波長４０５±５ｎｍの記録再生光が入射し、光入射面側から見て手前側の第１層（Ｌ０層）である第１記録層１１と、奥側の第２層（Ｌ１層）である第２記録層２２とに記録再生を行なう２層型光情報記録媒体である。
図１に示すように、記録再生光は、第１の透明基板１０を通して第１記録層１１と第２記録層２２との各記録層に入射する。第１記録層１１の記録位置は、第１の透明基板１０上に形成されたトラック案内溝の光入射側から見て手前側に凸のエンボス溝（グルーブ）である。第２記録層２２の記録位置は、第２の基板２０上に形成された光入射側から見て手前側に凸のエンボス溝（グルーブ）である。
【００２１】
ここで、本実施の形態が適用される光情報記録媒体１００では、第１記録層１１及び第２記録層２２に含まれる有機色素は、記録マーク形成により光反射率が増加するＬｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性を有する。ここで、Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性とは、記録層に形成される記録マークの部分の光反射率が、記録マークが形成されない部分の光反射率より高くなる特性のことをいう。
【００２２】
図１（ｂ）は、第１層（Ｌ０層）及び第２層（Ｌ１層）における再生専用領域ｂ１とユーザ記録領域ｂ２の断面拡大図である。図１（ｂ）に示すように、逆積層法により形成する２層型の光情報記録媒体１００は、記録層をそれぞれ設けた第１の透明基板１０と第２の基板２０とを有する。第１の透明基板１０上には、第１記録層１１と、半透明反射層１２とが形成される。第２の基板２０上には、反射層２１、第２記録層２２、界面層２３が形成される。第１の透明基板１０と第２の基板２０とは、透明接着層２４により、それぞれの記録層を向かい合わせに貼り合せて製造する。
【００２３】
図１（ｂ）に示すように、２層型の光情報記録媒体１００の再生専用領域ｂ１は、所定の深さ及び幅のエンボスピットを有し、このエンボスピット部分に照射するレーザスポットにより情報を記録する。本実施の形態では、第１記録層１１の再生専用領域ｂ１におけるエンボスピットは記録再生光の光入射側から見て凸状形状になっており、一方、第２記録層２２の再生専用領域ｂ１におけるエンボスピットは光入射側から見て凹状形状となっている。
ここで、本実施の形態が適用される光情報記録媒体１００において、第２記録層２２の再生専用領域ｂ１に形成したエンボスピットが光入射側から見て凹状形状を有することにより、第２層の再生専用領域ｂ１から良好な再生信号の振幅を得ることができる。
【００２４】
また、図１（ｂ）に示すように、２層型の光情報記録媒体１００のユーザ記録領域ｂ２は、所定の深さ及び幅のエンボス溝（グルーブ）と、所定の高さ及び幅のランドを有し、このエンボス溝（グルーブ）部分に照射するレーザスポットにより情報を記録する。本実施の形態では、第１の透明基板１０と第２の基板２０の、それぞれのユーザ記録領域ｂ２に形成されたエンボス溝（グルーブ）は、いずれも、光入射方向から見て手前側に凸の溝形状を有している。尚、エンボス溝はサーボ用に一定周期でウォブルしたり、アドレス用にウォブル周期が変調していたりしてもよい。
【００２５】
ここで、本実施の形態が適用される光情報記録媒体１００のユーザ記録領域ｂ２は、第２記録層２２における光入射側から見て凹部の記録層厚さは、凸部の記録層厚さより厚い構成としている。
さらに、第１の透明基板１０の第１記録層１１における光入射側から見て手前に凸のエンボス溝（グルーブ）部と、第２の基板２０の第２記録層２２における光入射側から見て手前に凸のエンボス溝（グルーブ）部に、それぞれ情報を記録する方式を採用している。このような方式を採用することにより、ユーザ記録領域ｂ２から、良好な再生信号が得られる。
【００２６】
前述したように、本実施の形態が適用される光情報記録媒体１００は、Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性を示す有機色素を含む記録層を２個有している。そして、記録再生光の光入射側から見て奥側に設けた、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１における光反射率（Ｒｅ）が、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１以外に設けたミラー部ｍにおける光反射率（Ｒｍ）より大きい（Ｒｅ＞Ｒｍ）ことに特徴を有している。
第２層（Ｌ１層）における再生専用領域ｂ１の光反射率（Ｒｅ）がミラー部ｍにおける光反射率（Ｒｍ）より大きい（Ｒｅ＞Ｒｍ）ことにより、Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性を示す有機色素を含む記録層を有する２層型の光情報記録媒体１００において、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１から、高品質のエンボスピット信号を得ることができる。
【００２７】
本実施の形態が適用される２層型の光情報記録媒体１００の第２層（Ｌ１層）において、再生専用領域ｂ１の光反射率（Ｒｅ）がミラー部ｍの光反射率（Ｒｍ）より大きい（Ｒｅ＞Ｒｍ）割合は、特に限定されないが、通常、再生専用領域ｂ１の光反射率（Ｒｅ）が、ミラー部ｍの光反射率（Ｒｍ）より１．２５倍以上（Ｒｅ／Ｒｍ≧１．２５）、好ましくは、１．４倍以上、さらに好ましくは、１．７倍以上である。但し、通常、２．０倍以下である。
再生専用領域ｂ１の光反射率（Ｒｅ）が過度に小さい場合は、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１からのエンボスピット信号を得ることが困難になる傾向がある。
【００２８】
ここで、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１の光反射率（Ｒｅ）は、通常、５％〜８％、好ましくは、７％〜８％である。また、第２層（Ｌ１層）のミラー部ｍの光反射率（Ｒｍ）は、通常、２．５％〜４％である。
【００２９】
本実施の形態が適用される２層型の光情報記録媒体１００の第２層（Ｌ１層）において、再生専用領域ｂ１の光反射率（Ｒｅ）をミラー部ｍの光反射率（Ｒｍ）より大きく（Ｒｅ＞Ｒｍ）する方法は特に限定されない。例えば、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１に、所定の波長を有する光（青色レーザ、赤色レーザ等）の所定量を照射することが挙げられる。この場合、青色レーザの直流パワーを用いることが好ましい。
第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１に、所定の波長を有する光を所定量照射すると、再生専用領域ｂ１における記録層に含まれる有機色素が変質し、その結果、屈折率及び光吸収率が変化することにより、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１の光反射率が増大すると考えられる。
さらに、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１の光照射処理と併せて、第１層（Ｌ０層）の再生専用領域ｂ１も光照射処理することにより、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１の光反射率をさらに増大させることができる。また、第１層（Ｌ０層）の再生専用領域ｂ１のみを光照射処理することにより、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１の光反射率をある程度増大させることが可能である。
【００３０】
尚、本実施の形態においては、再生専用領域ｂ１の光反射率（Ｒｅａ）と比較する部分として、再生専用領域ｂ１とユーザ記録領域ｂ２との間に設けたミラー部ｍを用いたが、必ずしもミラー部ｍに限定されない。即ち、再生専用領域ｂ１の光反射率（Ｒｅ）と比較するミラー部としては、光情報記録媒体１００の第２層（Ｌ１層）の再生専用領域ｂ１以外の部分であって、例えば、中心孔を設けた円盤状の光情報記録媒体１００の最内周部または最外周部において、エンボスピットや案内溝が形成されず、記録再生光に対して純粋に光反射率が測定可能な部分が含まれる。
【００３１】
次に、本実施の形態が適用される光情報記録媒体１００を構成する各層について説明する。
（第１の透明基板１０、第２の基板２０）
第１の透明基板１０に用いられる材料は、透明かつ複屈折率が小さい等の光学特性に優れ、さらに射出成形等の成形性に優れた材料が好ましい。また、吸湿性が小さいことが好ましい。具体的にはポリカーボネート樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が例示できるがこれらに限定されるものではない。
第２の基板２０は機械的安定性が高く、剛性が大きく、さらに射出成形等の成形性に優れた材料が好ましい。また、吸湿性が小さいことが好ましい。但し、第２の基板２０は、第１の透明基板１０のように透明性や光学特性を備える必要はない。このような材料としては、第１の透明基板１０に用いうる材料と同じものが用い得るほか、ＡＢＳ樹脂、フィラー含有エポキシ樹脂、Ａｌを主成分とした、例えば、Ａｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板等を用いることができる。
【００３２】
第１の透明基板１０と第２の基板２０は、一方の面に螺旋状又は同心円状にトラッキング用の溝が形成されている。溝はサーボ用に溝が一定周期でウォブルしたり、アドレス用にウォブル周期が変調していたりしてもよい。また、管理情報等を形成するために、ピットが設けられていても良い。
本実施の形態において、第１の透明基板１０及び第２の基板２０は、原盤及びスタンパを作製し、射出成型により作製することが好ましい。
【００３３】
本実施の形態が適用される光情報記録媒体１００においては、第１の透明基板１０及び第２の基板２０の材料として、透明かつ複屈折率が小さい等の光学特性に優れたポリカーボネート樹脂を使用した。第１の透明基板１０と第２の基板２０の形状は、厚さ０．６ｍｍ、内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍである。また、第１の透明基板１０のエンボス溝（グルーブ）の形状は、トラックピッチ０．４μｍ、溝幅２００ｎｍ〜２４０ｎｍ、溝深さ３０ｎｍ〜６０ｎｍである。一方、第２の基板２０のエンボス溝（グルーブ）の形状は、トラックピッチ０．４μｍ、溝幅２００ｎｍ〜２４０ｎｍ、溝深さ３０ｎｍ〜６０ｎｍである。
【００３４】
（第１記録層１１と第２記録層２２）
第１記録層１１と第２記録層２２は、例えば、青色レーザの照射前の光反射率よりも照射により形成される記録マーク部分の光反射率の方が高くなる特性（Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性）を有する光吸収性の有機色素材料を用いて形成する。
即ち、第１記録層１１と第２記録層２２に含まれる有機色素は、波長４０５ｎｍ程度の青色レーザ照射で生じる分解反応により光吸収率が低下し、その結果、形成される記録マーク部分の光反射率が、青色レーザ照射前の光反射率よりも高くなるという「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」を実現している。
このような有機色素としては、例えば、シアニン色素、メロシアニン色素、スクアリウム色素、アントラキノン系色素、トリアリールメタン色素、ピリリウム色素、アゾ色素、含金属アゾ色素、フタロシアニン色素、ポリフィリン色素、トリアリールアミン色素、スクアリリウム色素、ピロメテン系色素、ホルマザン金属錯体系色素アヌレン系色素等が例示できるが、これらに限定されるものではない。
【００３５】
本実施の形態が適用される光情報記録媒体１００では、第１記録層１１及び第２記録層２２に記録したマークの光反射率が記録前の光反射率より高くなるＬｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ記録にすることが重要であり、前述した有機色素の中から、記録再生光の波長における吸収の大きい有機色素、つまり、光学定数の消衰係数ｋの大きい有機色素が望ましい。これらの有機色素は、１種類のみを用いても２種類以上の色素を混ぜて使用しても良い。
【００３６】
また、クエンチャーや他の色素、添加剤、高分子（例えば、ニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー）、金属微粒子等を含んでいても良い。第１記録層１１と第２記録層２２は、上記の有機色素及び任意の添加剤を、公知の有機溶媒（例えば、テトラフルオロプロパノール、ケトンアルコール、アセチルアセトン、メチルセルロブ、トルエン等）で溶解・溶媒和したものを第１の透明基板１０あるいは第２の基板２０に反射層２１を形成した上に形成される。
【００３７】
第１記録層１１と第２記録層２２の形成手段としては、スピンコート法を用いるが、スピンコート条件は内周から外周にかけて、回転数を３００ｒｐｍ〜５０００ｒｐｍの間で数条件組み合わせて行えばよく、これらのスピンコート条件、色素溶液の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度を調節することにより、第１記録層１１と第２記録層２２の膜厚を制御できる。
本実施の形態では、有機色素溶液の濃度を調整して第１記録層１１の膜厚を１５ｎｍ〜４５ｎｍ、第２記録層２２の膜厚を３０ｎｍ〜６０ｎｍになるように作製している。
【００３８】
（半透明反射層１２）
第１の透明基板１０の第１記録層１１上に形成する半透明反射層１２は、光の吸収が小さく光の透過率が３０％以上あり、かつ適度な光の光反射率があることが望ましい。たとえば光反射率の高い金属膜を薄くすることで適当な透過率と光反射率とのバランスをとることができる。また、半透明反射層１２は薄いので、耐食性のある材料が望ましい。さらに、透明接着層２４への有機色素の侵み出しを防ぐために遮蔽性を持つことが好ましい。
半透明反射層１２は、例えば、金、銀、アルミニウムあるいはこれらを含む合金を、スパッタ法等の手段により形成することができる。Ａｇを主成分としているものはコストが安い点、光反射率が高い点から特に好ましい。
【００３９】
半透明反射層１２は、膜の結晶粒が大きいと再生ノイズの原因となるため、結晶粒が小さい材料を用いるのが好ましい。純銀は結晶粒が大きい傾向があるためＡｇは合金として用いるのが好ましい。中でもＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１原子％〜５原子％含有することが好ましい。
【００４０】
Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１原子％〜５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１原子％〜５原子％であることが好ましい。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄ、ＡｇＣａＣｕ、ＡｇＣａＣｕ、ＡｇＩｎ等である。Ａｕは結晶粒が小さく、耐食性に優れ好適であるが、Ａｇ合金に比べて高価である。また、半透明反射層１２としてＳｉＯ２等の金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成して用いることも可能である。
【００４１】
尚、第１記録層１１と半透明反射層１２との間に、ＳｉＯ２、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等のエンハンス層や耐酸化層等の他の層を設けてもよい。また、半透明反射層１２上に保護層を形成してもよいし、保護層を形成しなくてもよい。保護層としては光吸収層、反射層を保護できる層であればよく、例えば、紫外線硬化樹脂、シリコーン系樹脂等によって形成される。
本実施の形態では、半透明反射層１２としてＡｇを主成分とするＡｇ合金反射膜を用い、さらに膜厚８ｎｍ〜１５ｎｍで形成している。
【００４２】
（反射層２１）
第２の基板２０上に形成する反射層２１は、光反射率が高く、耐食性に優れることが望ましい。光反射率を高くするために、反射層２１の厚さは通常、５０ｎｍ以上が好ましい。より好適には８０ｎｍ以上である。但し、記録感度を上げるためにはある程度薄いことが好ましく、また、厚い反射膜を形成すると第２の基板２０が反るため、通常は３００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは２００ｎｍ以下が望ましい。
【００４３】
反射層２１の材料としては、再生光の波長で光反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ等の金属を、単独または合金にして用いることが可能である。この中でも、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ及びこれらの合金は料として適している。合金を形成する成分としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属等の金属及び半金属を挙げることができる。
【００４４】
これらの中でも、Ａｇ合金はコストが安く、光反射率が高く、耐食性に優れるために好ましい。Ａｇ合金としてはＡｇを主成分とし、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ及び希土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を０．１原子％〜５原子％含有することが好ましい。Ｔｉ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｃａ、Ｉｎ及び希土類金属のうち２種以上含む場合は、各々０．１原子％〜５原子％でもかまわないが、それらの合計が０．１原子％〜５原子％であることが好ましい。希土類金属の中では、ネオジウムが特に好ましい。具体的には、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＣｕＡｕ、ＡｇＣｕＡｕＮｄ、ＡｇＣｕＮｄ、ＡｇＣａＣｕ、ＡｇＩｎ等である。
【００４５】
反射層２１を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。なかでも、スパッタ法が生産性の上で好ましい。
本実施の形態では、反射層２１は、Ａｇ合金反射膜を用いて膜厚１００ｎｍ〜１６０ｎｍで形成している。
【００４６】
（界面層２３）
第２の基板２０の第２記録層２２上に形成する界面層２３は、有機色素を含む第２記録層２２と透明接着層２４とを遮蔽し、両層の混和を防止しするのが目的である。透明接着層２４は、第２記録層２２にダメージを与えない材料からなることが望ましい。透明接着層２４として液状の紫外線硬化樹脂が直接に色素の第２記録層２２と接すると色素層と相溶する。これを防ぐために両層のあいだに界面層２３を設けることが望ましい。界面層２３は形成するときに第２記録層２２と混和せず、さらに透明接着層２４によって、第１の透明基板１０と第２の基板２０を接着するときに、透明接着層２４と混和しなければ特に限定されるものではない。また、界面層２３は他の機能を兼ねていても良いし、必要に応じてさらに他の層を挟んでも良い。
【００４７】
界面層２３の材料は、金属または半導体、金属または半導体の酸化物、窒化物、硫化物等無機物が好ましく、さらには誘電体等透明な無機物がより好ましい。具体的には、酸化珪素、特に二酸化珪素や、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化イットリウム等の酸化物；硫化亜鉛、硫化イットリウム等の硫化物；窒化珪素等の窒化物；炭化珪素；酸化物とイオウとの混合物及び後述の合金等が好適である。また、酸化珪素と硫化亜鉛との３０：７０〜９０：１０程度（重量比）の混合物も好適である。また、イオウと二酸化イットリウムの混合物を酸化亜鉛との混合物（Ｙ２Ｏ２Ｓ−ＺｎＯ）も好適である。
【００４８】
界面層２３の厚さは３ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上である。界面層２３の厚さが過度に薄いと、遮蔽防止が不十分となる。また、１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５０ｎｍ以下である。界面層２３が過度に厚いと光の透過率を低下させるおそれがあり、また無機物からなる層の場合には成膜に時間を要し生産性が低下したり、膜応力が高くなったりする。界面層２３を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられるが、スパッタ法が生産性の上で好ましい。
本実施の形態では、界面層２３として、スパッタ法等によってＺｎＳ−ＳｉＯ２透明誘電体膜を厚さ５ｎｍ〜１５ｎｍで形成している。
【００４９】
（透明接着層２４）
透明接着層２４は、記録再生波長で透明である他に、接着力が高く、硬化接着時の収縮力が小さく、環境保存安定性が高い材料が好ましい。本実施例の形態において、２層の記録層（第１記録層１１、第２の記録層２２）に、それぞれ別々にフォーカスサーボをかけるため、透明接着層２４の膜厚は正確に制御することが好ましい。フォーカスサーボ機構にもよるが、透明接着層の２４の膜厚は、好ましくは１０μｍ以上が必要であり、対物レンズの開口数が高いほどその距離は小さくてよい傾向がある。
例えば、光情報記録媒体１００が、厚さ０．６ｍｍの２枚の基板を貼り合わせ、記録再生光として青色レーザを用いる場合は、透明接着層２４の膜厚は約２０μｍが好適である。透明接着層２４は、半透明反射層１２にダメージを与えない材料からなることが望ましい。また、透明接着層２４と半透明反射層１２との間に、公知の無機または有機系の保護層を形成してもよい。
【００５０】
本実施の形態では、透明接着層２４はラジカル系紫外線硬化樹脂を用いて厚さ約２０μｍで形成している。また、半透明反射層１２を形成した第１記録層１１を有する第１の透明基板１０と、界面層２３を形成した第２記録層２２を有する第２の基板２０のそれぞれに、スピンコート法によって紫外線硬化樹脂を厚さ約１０μｍで形成し、真空貼り合わせ方式で第１の透明基板１０と第２の基板２０とを貼り合わせている。
ここで、ラジカル系紫外線硬化樹脂としては、スピンコート法によって所定の膜厚を形成するために、０℃〜４０℃の温度範囲において、粘度２０ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓであるものを用いることが好ましい。
また、ラジカル系紫外線硬化樹脂としては、公知の全ての組成物を用いることができ、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物を用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能アクリレート、単官能メタアクリレート、多官能アクリレート、多官能メタアクリレートを重合成モノマー成分として、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。
【００５１】
尚、本実施の形態が適用される光情報記録媒体としては、図１に示した逆積層法で形成した２層型の光情報記録媒体１００に限定されない。即ち、Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性を示す有機色素を含む記録層を２個有している光情報記録媒体であれば、例えば、２Ｐ法で形成した２層型の光情報記録媒体も含まれる。また、図１に示した光情報記録媒体１００のように、第１層（Ｌ０層）の第１の透明基板１０側から記録再生光が入射する基板入射方式に限定されず、膜面入射方式の２層型光情報記録媒体にも適用が可能である。
【実施例】
【００５２】
以下に実施例に基づき本実施の形態をより具体的に説明する。尚、本実施の形態は実施例に限定されない。
（１）光情報記録媒体の調製
図１に示す構造を有する逆積層法で形成した２層型光情報記録媒体を調製した。第１層（Ｌ０層）の第１記録層及び第２層（Ｌ１層）の第２記録層は、「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」を示し、下記化学式（１）で表わされるシアニン系色素と、化学式（２）で表される添加剤０．３重量％濃度のテトラフルオロプロパノール溶液（色素溶液）を、スピンコート法により形成した。
【００５３】
【化１】
2007220265.tif 000003
【００５４】
【化２】
2007220265.tif 000004
【００５５】
ここで、第１記録層の再生専用領域におけるエンボスピットは記録再生光の光入射側から見て凸状形状になっており、第２記録層の再生専用領域におけるエンボスピットは光入射側から見て凹状形状となっている。また、ユーザ記録領域において、第１記録層の光入射側から見て手前に凸のエンボス溝（グルーブ）部と、第２記録層の光入射側から見て手前に凸のエンボス溝（グルーブ）部に、それぞれ情報を記録する方式を採用している。
【００５６】
（実施例１〜実施例３、比較例１）
表１に示すように、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域の光反射率（Ｒｅ）が、第２層（Ｌ１層）のミラー部の光反射率（Ｒｍ）より大きい２層型光情報記録媒体について、記録再生評価機（パルステック工業株式会社製ＯＤＵ−１０００）を用いて、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域から得られるエンボスピット信号の再生特性（ジッタ：Ｅｊ（単位：％））を評価した。数値が小さいほど、高品質の再生信号が得られる。
【００５７】
記録再生条件は、下記に示す通りである。
・レーザ波長：４０５±５ｎｍ
・開口数（ＮＡ）：０．６５±０．０１
・記録線速：６．６１ｍ／ｓ
・ピットピッチ：１Ｔ／６４．８ＭＨｚ
・再生パワー：０．５ｍＷ
・記録パワー：１２ｍＷ
【００５８】
尚、実施例１については、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域を、予め、直流パワー１２ｍＷで波長４０５±５ｎｍのレーザによる照射処理を行った。
実施例２については、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域及び第１層（Ｌ０層）の再生専用領域を、それぞれ予め、直流パワー１２ｍＷで波長４０５±５ｎｍのレーザによる照射処理を行った。実施例３については、第１層（Ｌ０層）の再生専用領域を、直流パワー１２ｍＷで波長４０５±５ｎｍのレーザによる照射処理を行った。
また、比較のため、２層型光情報記録媒体の再生専用領域に光照射処理を行わない場合についても再生専用領域のエンボスピット信号を再生した。結果を表１に示す。
【００５９】
【表１】
2007220265.tif 000005
【００６０】
表１に示す結果から、「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」の有機色素からなる記録層を有する２層型光情報記録媒体において、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域の光反射率（Ｒｅ）がミラー部の光反射率（Ｒｍ）より大きい（Ｒｅ＞Ｒｍ）場合（実施例１〜実施例３）は、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域から得られるエンボスピット信号のジッタ（Ｅｊ）が減少し、高品質の再生信号が得られることが分かる。
特に、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域及び第１層（Ｌ０層）の再生専用領域を光照射処理を行うと（実施例２）、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域から得られるエンボスピット信号の再生特性がさらに向上することが分かる。
また、第１層（Ｌ０層）の再生専用領域のみを光照射処理を行った場合（実施例３）も、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域から得られるエンボスピット信号の再生特性が改良されることが分かる。
一方、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域の光反射率（Ｒｅ）がミラー部の光反射率（Ｒｍ）より小さい（Ｒｅ＜Ｒｍ）場合（比較例１）は、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域から得られるエンボスピット信号のジッタ（Ｅｊ）が増大し、再生特性が不十分であることが分かる。
【００６１】
以上、詳述したように、本実施例により、「Ｌｏｗ  ｔｏ  Ｈｉｇｈ特性」を示す有機色素を含む記録層を有し、逆積層法で形成した２層型光情報記録媒体において、記録再生光の入射側から見て第２層（Ｌ１層）の再生専用領域の光反射率（Ｒｅ）を、ミラー部の光反射率（Ｒｍ）より大きくすることにより、第２層（Ｌ１層）の再生専用領域から得られるエンボスピット信号の再生特性を、高品質にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本実施の形態が適用される光情報記録媒体を説明する図である。
【符号の説明】
【００６３】
１０…第１の透明基板、１１…第１記録層、１２…半透明反射層、２０…第２の基板、２１…反射層、２２…第２記録層、２３…界面層、２４…透明接着層
【図１】
2007220265.tif 000006