(57)【要約】【課題】高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物の表面形状を測定することができる干渉測定装置を提供する。【解決手段】干渉測定装置１は、光源１１，１２、レンズ２１〜２５、アパーチャ３１、光合波器４１、光分波器４２、ハーフミラー４３、撮像部５１、解析部５２、受光部６１、変位検出部６２、ピエゾアクチュエータ７１、駆動部７２、ミラー７３、ステージ８１、駆動部８２および制御部９０を備える。制御部９０は、変位検出部６２による光路長差検出結果に基づいて、光路長差が複数の目標値に順次になるように、駆動部７２，８２を介してピエゾアクチュエータ７１およびステージ８１による光路長差調整動作を制御する。制御部９０は、ステージ８１による移動動作の際にも、光路長差が各目標値になるようにピエゾアクチュエータ７１による移動動作をフィードバック制御する、【選択図】図１
2007333469.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を出力する光源と、
該光源から出力された光を２分岐して第１分岐光および第２分岐光として出力し、前記第１分岐光が第１対象物により反射されて生じる第１反射光を入力するとともに、前記第２分岐光が第２対象物により反射されて生じる第２反射光を入力して、これら第１反射光と第２反射光とを干渉させて当該干渉光を出力する干渉光学系と、
前記干渉光学系から出力される干渉光を結像する結像光学系と、
前記結像光学系により結像された干渉光の干渉パターンを撮像する撮像部と、
前記光源から前記第１対象物を経て前記撮像部に到るまでの光路長と、前記光源から前記第２対象物を経て前記撮像部に到るまでの光路長との、光路長差を検出する光路長差検出手段と、
前記光路長差を調整する光路長差調整手段と、
前記光路長差検出手段による光路長差検出結果に基づいて、前記光路長差が複数の目標値に順次になるように前記光路長差調整手段による光路長差調整動作を制御する制御部と、
を備え、
前記光路長差調整手段は、前記第１対象物または前記第２対象物を移動させることで前記光路長差を調整する第１移動手段および第２移動手段を含み、
前記第１移動手段は、前記第２移動手段の作動範囲より狭い作動範囲を有するとともに、前記第２移動手段の位置精度より高い位置精度を有し、
前記制御部は、前記複数の目標値それぞれにおいて前記第１移動手段による移動量が前記作動範囲内の所定範囲内となるように前記第２移動手段による移動動作を連続的または断続的に行わせ、前記第２移動手段による移動動作の際にも前記光路長差検出手段による光路長差検出結果に基づいて前記光路長差が各目標値になるように前記第１移動手段による移動動作をフィードバック制御する、
ことを特徴とする干渉測定装置。
【請求項２】
前記制御部は、
前記第２移動手段による移動動作を連続的に行わせ、
前記光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される際に、前記第１移動手段による移動動作をステップ的に行わせ、
前記光路長差が或る目標値に設定されている期間には、前記光路長差が該目標値になるように前記第１移動手段による移動動作をフィードバック制御する、
ことを特徴とする請求項１記載の干渉測定装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される前に、その移行後の目標値において前記第１移動手段による移動量が前記所定範囲から外れる場合に、該移動量が該所定範囲内に入るように前記第２移動手段による移動動作の速さを調整する、ことを特徴とする請求項２記載の干渉測定装置。
【請求項４】
前記制御部は、
前記第２移動手段による移動動作を断続的に行わせ、
前記第２移動手段による移動動作が行われている期間には、そのときの前記光路長差を維持するように前記第１移動手段による移動動作を制御し、
前記第２移動手段による移動動作が行われていない期間には、前記光路長差が各目標値になるように前記第１移動手段による移動動作をフィードバック制御する、
ことを特徴とする請求項１記載の干渉測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、干渉光学系を備える干渉測定装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
干渉光学系を備える干渉測定装置として特許文献１，２に開示されたものが知られている。これらの文献に開示された装置は、光源から出力された光を２分岐して第１分岐光および第２分岐光として出力し、第１分岐光が第１対象物により反射されて生じる第１反射光と、第２分岐光が第２対象物により反射されて生じる第２反射光とを干渉させて、これにより生じる干渉光の強度を検出部により検出する。
【０００３】
特許文献１に開示された装置は、第１対象物および第２対象物のうち一方が反射ミラーであって他方が薄膜状の被測定物であり、その被測定物の膜厚を測定するものである。そのために、この装置では、光源から第１対象物を経て検出部に到るまでの光路長Ｌ１をステッピングモータにより粗調整し、光源から第２対象物を経て検出部に到るまでの光路長Ｌ２をピエゾアクチュエータにより微調整して、検出部により検出される干渉光強度がピークとなる２つの位置を求め、これら２つの位置から被測定物の膜厚を測定する。
【０００４】
また、特許文献２に開示された装置は、第１対象物および第２対象物のうち一方が反射ミラーであって他方が被測定物であり、その被測定物の表面形状を測定するものである。そのために、この装置では、光路長Ｌ１と光路長Ｌ２との差（光路長差）を複数の目標値に順次に設定し、光路長差が各目標値に設定されているときに生じる干渉パターンを撮像部により撮像して、その撮像した干渉パターンに基づいて被測定物の表面形状を測定する。なお、干渉パターンを撮像部により撮像するために、干渉光学系から出力される干渉光を撮像部の撮像面上に結像する結像光学系が用いられる。
【特許文献１】特開２００５−２８３３８７号公報
【特許文献２】特開２００１−０６６１２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の特許文献２に開示されたような被測定物の表面形状を測定する干渉測定装置において、表面形状を高精度に測定するには、実際の光路長差「Ｌ１−Ｌ２」を各目標値に高精度で一致させる必要があり、その為には、ピゾアクチュエータを用いて光路長差を調整することが望ましい。また、表面形状測定のダイナミックレンジを大きくするには、光路長差の調整範囲が広いことが望ましい。
【０００６】
しかし、ピゾアクチュエータを用いて光路長差を調整する場合には、ピゾアクチュエータの作動範囲が数μｍでしかなく、光路長差の調整範囲が狭い。また、ピゾアクチュエータを作動範囲内で用いる場合であっても、ピゾアクチュエータによる第１対象物または第２対象物の移動量が大きいときには、結像光学系による干渉光の結像面と撮像部の撮像面とが互いに大きくずれてしまい、撮像部により撮像される干渉パターン像が不鮮明となって、被測定物の表面形状の測定を高精度に行うことができない。したがって、ピゾアクチュエータのみを用いて光路長差を調整する場合には、高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物の表面形状を測定することは困難である。
【０００７】
ところで、表面形状測定のダイナミックレンジを大きくするには、ステッピングモータにより移動が可能なステージの上に対象物，ピエゾアクチュエータおよび結像光学系の一部（例えばレンズ）を載せ、そのステージ上で対象物および結像光学系の一部を一体にしてピエゾアクチュエータにより移動させることが考えられる。この場合、ステージによる移動動作により表面形状測定のダイナミックレンジを広くすることができ、また、ピエゾアクチュエータによる移動動作により表面形状測定の精度を高くすることができる、と期待される。しかし、そのようなピエゾアクチュエータは、対象物および結像光学系の一部を一体にして移動させ、かつ光学系の機械的振動をフィードバック制御することができるほどの応答速度を有していない。
【０００８】
本発明は、上記問題点を解消する為になされたものであり、高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物の表面形状を測定することができる干渉測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る干渉測定装置は、(1) 光を出力する光源と、(2) 該光源から出力された光を２分岐して第１分岐光および第２分岐光として出力し、第１分岐光が第１対象物により反射されて生じる第１反射光を入力するとともに、第２分岐光が第２対象物により反射されて生じる第２反射光を入力して、これら第１反射光と第２反射光とを干渉させて当該干渉光を出力する干渉光学系と、(3)干渉光学系から出力される干渉光を結像する結像光学系と、(4) 結像光学系により結像された干渉光の干渉パターンを検出する撮像部と、(5) 光源から第１対象物を経て撮像部に到るまでの光路長と、光源から第２対象物を経て撮像部に到るまでの光路長との、光路長差を検出する光路長差検出手段と、(6)光路長差を調整する光路長差調整手段と、(7) 光路長差検出手段による光路長差検出結果に基づいて、光路長差が複数の目標値に順次になるように光路長差調整手段による光路長差調整動作を制御する制御部と、を備える。
【００１０】
また、本発明に係る干渉測定装置において、光路長差調整手段は、第１対象物または第２対象物を移動させることで光路長差を調整する第１移動手段および第２移動手段を含む。第１移動手段は、第２移動手段の作動範囲より狭い作動範囲を有するとともに、第２移動手段の位置精度より高い位置精度を有する。そして、制御部は、複数の目標値それぞれにおいて第１移動手段による移動量が上記作動範囲内の所定範囲内となるように第２移動手段による移動動作を連続的または断続的に行わせ、第２移動手段による移動動作の際にも光路長差検出手段による光路長差検出結果に基づいて光路長差が各目標値になるように第１移動手段による移動動作をフィードバック制御する。
【００１１】
なお、「光路長差」は、光源から第１対象物を経て撮像部に到るまでの光路長をＬ１とし、光源から第２対象物を経て撮像部に到るまでの光路長をＬ２としたときに、これらの差「Ｌ１−Ｌ２」で表されるものであってもよいし、或る基準値に対する相対的な変化量であってもよい。
【００１２】
好ましくは、本発明に係る干渉測定装置において、制御部は、第２移動手段による移動動作を連続的に行わせる場合には、(a) 光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される際に、第１移動手段による移動動作をステップ的に行わせ、(b) 光路長差が或る目標値に設定されている期間には、光路長差が該目標値になるように第１移動手段による移動動作をフィードバック制御する。このとき、更に好ましくは、制御部は、光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される前に、その移行後の目標値において第１移動手段による移動量が所定範囲から外れる場合に、該移動量が該所定範囲内に入るように第２移動手段による移動動作の速さを調整する。
【００１３】
また、好ましくは、本発明に係る干渉測定装置において、制御部は、第２移動手段による移動動作を断続的に行わせる場合には、(a) 第２移動手段による移動動作が行われている期間には、そのときの光路長差を維持するように第１移動手段による移動動作を制御し、 (b) 第２移動手段による移動動作が行われていない期間には、光路長差が各目標値になるように第１移動手段による移動動作をフィードバック制御する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、高精度かつ高ダイナミックレンジで被測定物の表面形状を測定することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００１６】
図１は、本実施形態に係る干渉測定装置１の構成図である。この図に示される干渉測定装置１は、被測定物９の表面形状を測定するものであって、光源１１，１２、レンズ２１〜２５、アパーチャ３１、光合波器４１、光分波器４２、ハーフミラー４３、撮像部５１、解析部５２、受光部６１、変位検出部６２、ピエゾアクチュエータ７１、駆動部７２、ミラー７３、ステージ８１、駆動部８２および制御部９０を備える。
【００１７】
光源１１は、コヒーレント長が比較的短い光λ１を出力するものであり、例えば波長帯域６００ｎｍ〜９００ｎｍの広帯域光を出力することができるタングステンランプである。一方、光源１２は、コヒーレント長が比較的長い光λ２を出力するものであり、例えば波長１.５５μｍのレーザ光を出力する半導体レーザ光源である。光合波器４１は、光源１１から出力されてレンズ２１およびアパーチャ３１を経て到達した光λ１を反射させるとともに、光源１２から出力されて到達した光λ２を透過させて、これらの光を合波してレンズ２２へ出力する。
【００１８】
ハーフミラー４３は、光合波器４１により合波されてレンズ２２を経て到達した光λ１，λ２を２分岐して第１分岐光および第２分岐光とし、第１分岐光をレンズ２３へ出力し、第２分岐光をレンズ２４へ出力する。また、ハーフミラー４３は、第１分岐光がレンズ２３を経てミラー７３により反射されて生じる第１反射光を再びレンズ２３を経て入力するとともに、第２分岐光がレンズ２４を経て被測定物９により反射されて生じる第２反射光を再びレンズ２４を経て入力して、これら第１反射光と第２反射光とを干渉させて当該干渉光をレンズ２５へ出力する。すなわち、ハーフミラー４３は、干渉光学系を構成する要素である。
【００１９】
光分波器４２は、ハーフミラー４３から出力されてレンズ２５を経た光を入力し、そのうち光λ１を反射させて撮像部５１へ出力し、光λ２を透過させて受光部６１へ出力する。レンズ２３〜２５は、ハーフミラー４３から出力されて光分波器４２により分波された干渉光λ１を撮像部５１の撮像面上に結像する結像光学系を構成する要素である。撮像部５１は、その結像された干渉光λ１の干渉パターンを撮像するものであり、例えばＣＣＤカメラである。受光部６１は、ハーフミラー４３から出力されて光分波器４２により分波された光λ２の強度を検出するものであり、例えばフォトダイオードである。
【００２０】
ここで、ハーフミラー４２からミラー７３により反射されて再びハーフミラー４２に到るまでの光路長と、ハーフミラー４２から被測定物９により反射されて再びハーフミラー４２に到るまでの光路長との光路長差をΔＬとする。前述したように、光源１２から出力され受光部６１に到達する光λ２のコヒーレント長は比較的長いので、図２（ａ）に示されるように、受光部５１に到達する光λ２の強度は、比較的広い光路長差ΔＬの範囲において周期的に変化する。これに対して、光源１１から出力され撮像部５１に到達する光λ１のコヒーレント長は比較的短いので、図２（ｂ）に示されるように、撮像部６１に到達する光λ１の強度は、比較的狭い光路長差ΔＬの範囲において周期的に変化し、しかも、光路長差ΔＬが値０に近いほど干渉の振幅が大きい。
【００２１】
このことを利用して、解析部５２は、光路長差が複数の目標値それぞれに設定されたときに撮像部５１により撮像された光λ１の干渉パターン像を取得し、それらの複数の干渉パターン像に基づいて、像の各位置において干渉の振幅が最大となる光路長差を求め、これにより被測定物９の表面形状（高さ分布）を求める。
【００２２】
また、非測定物９の表面形状が波長未満の微小な凹凸を持つ場合には、干渉の振幅が最大となる光路長差付近において、光λ２の中心波長をλ２０とおいて、λ２０／４ずつ４回光路長差をシフトさせると共に干渉パターン像を取得し、それら４つの干渉パターン像に基づいて、像の各位置において干渉波形の位相オフセット値を求めることにより、被測定物９の表面形状（高さ分布）を求めることも可能である。
【００２３】
さらには、干渉の振幅が最大となる光路長差を求める方法と、干渉波形の位相オフセット値を求める方法の両方によって得られた高さ分布を総合することによって、広い高さ範囲の表面形状を、波長未満の精度で得ることもできる。
【００２４】
また、変位検出部６２は、受光部８１により検出された光λ２の強度の変化から、光路長差（または、或る基準値に対する相対的な光路長差の変化量）を求める。すなわち、光源１２、受光部６１および変位検出部６２は、光路長差を検出する光路長差検出手段を構成する要素である。なお、ピエゾアクチュエータ７１によりミラー７３に微小振動を与えて、或る光路長差を中心にして変調を与えることで、より正確に光路長差を検出することができる。
【００２５】
ピエゾアクチュエータ７１，駆動部７２，ステージ８１および駆動部８２は、光路長差を調整する光路長差調整手段を構成する要素である。ステージ８１は、駆動部８２により駆動されたステッピングモータの回動により、ハーフミラー４３とミラー７３との間の光学系の光軸に平行な方向に、レンズ２３，ピエゾアクチュエータ７１およびミラー７３を一体として移動させる。ピエゾアクチュエータ７１は、駆動部７２により駆動されて、ハーフミラー４３とミラー７３との間の光学系の光軸に平行な方向に、ミラー７３を移動させる。ピエゾアクチュエータ７１（第１移動手段）の作動範囲は、ステージ８１（第２移動手段）の作動範囲より狭い。また、ピエゾアクチュエータ７１の位置精度は、ステージ８１の位置精度より高い。
【００２６】
制御部９０は、変位検出部６２による光路長差検出結果に基づいて、光路長差が複数の目標値に順次になるように、駆動部７２，８２を介してピエゾアクチュエータ７１およびステージ８１による光路長差調整動作を制御する。特に、制御部９０は、複数の目標値それぞれにおいて、ピエゾアクチュエータ７１による移動量が作動範囲内の所定範囲内となるように、ステージ８１による移動動作を連続的または断続的に行わせる。また、制御部９０は、ステージ８１による移動動作の際にも、変位検出部６２による光路長差検出結果に基づいて、光路長差が各目標値になるようにピエゾアクチュエータ７１による移動動作をフィードバック制御する、
【００２７】
図３は、ピエゾアクチュエータ７１およびステージ８１による光路長差調整動作について説明する図である。この図には、ハーフミラー４３とミラー７３との間の光学系が示され、また、光路長差を調整するピエゾアクチュエータ７１およびステージ８１が示されている。ここで、ハーフミラー４３とレンズ２３との間の間隔をｘ１とし、レンズ２３とミラー７３との間の間隔をｘ２とする。間隔ｘ１は、ステージ８１による移動動作により調整される。間隔ｘ２は、ピエゾアクチュエータ７１による移動動作により調整される。ピエゾアクチュエータ７１またはステージ８１により間隔（ｘ１＋ｘ２）を変更することで、光路長差ΔＬを調整することができる。
【００２８】
仮に、ステージ８１による移動動作により間隔ｘ１のみを調整する場合、ステージ８１の作動範囲が比較的広いことから、広いダイナミックレンジで光路長差を調整することができる。しかし、この場合、ステージ８１の位置精度が比較的低いことから、高精度で光路長差を調整することができず、したがって、高精度に被測定物９の表面形状を測定することができない。
【００２９】
一方、仮に、ピエゾアクチュエータ７１による移動動作により間隔ｘ２のみを調整する場合、ピエゾアクチュエータ７１の位置精度が比較的高いことから、高精度で光路長差を調整することができる。しかし、この場合、ピエゾアクチュエータ７１の作動範囲が比較的狭いことから、広いダイナミックレンジで光路長差を調整することができず、したがって、広いダイナミックレンジで被測定物９の表面形状を測定することができない。
【００３０】
また、仮に、ピエゾアクチュエータ７１の作動範囲内であっても広い範囲に亘って移動動作を行わせると、レンズ２３の焦点距離と間隔ｘ２との差が大きくなる場合があり、その場合には、結像光学系による干渉光の結像面と撮像部５１の撮像面とが互いに大きくずれてしまい、撮像部５１により撮像される干渉パターン像が不鮮明となって、被測定物９の表面形状の測定を高精度に行うことができない。
【００３１】
そこで、本実施形態では、高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物の表面形状を測定する為に、制御部９０は、複数の目標値それぞれにおいて、ピエゾアクチュエータ７１による移動量が作動範囲内の所定範囲内となるように、ステージ８１による移動動作を連続的または断続的に行わせる。また、制御部９０は、ステージ８１による移動動作の際にも、変位検出部６２による光路長差検出結果に基づいて、光路長差が各目標値になるようにピエゾアクチュエータ７１による移動動作をフィードバック制御する、以下では、ピエゾアクチュエータ７１およびステージ８１それぞれの好適な２つの動作態様について説明する。
【００３２】
図４は、本実施形態に係る干渉測定装置１の第１動作態様を説明するフローチャートである。また、図５は、この第１動作態様における間隔ｘ１，間隔ｘ２および間隔（ｘ１＋ｘ２）それぞれの時間的変化を示す図である。この第１動作態様では、制御部９０は、駆動部８２を介して、ステージ８１による移動動作を連続的に行わせる。
【００３３】
初めに、ステップＳ１１では、制御部９０は、駆動部８２を介してステージ８１による移動動作を開始させる。光路長差を或る目標値から次の目標値に一定時間間隔Δｔで移行させるとし、その移行の際の間隔（ｘ１＋ｘ２）の変化量をΔｘとしたときに、ステージ８１の移動速度は「Δｘ／Δｔ」に設定される。これにより、ハーフミラー４３とレンズ２３との間の間隔ｘ１は、時間の経過とともに略リニアに変化していく。しかし、ステージ８１の位置精度が比較的低いことから、間隔ｘ１の時間的変動は比較的大きい。
【００３４】
そこで、ステップＳ１２では、制御部９０は、光路長差が該目標値になるように、駆動部７２を介してピエゾアクチュエータ７１による移動動作をフィードバック制御する。このとき、ピエゾアクチュエータ７１により間隔ｘ２が調整されて、間隔（ｘ１＋ｘ２）が高精度に設定される。
【００３５】
ステップＳ１３では、制御部９０は、光路長差が或る目標値に設定されてから一定時間Δｔが経過したか否かを判断し、一定時間Δｔが経過したら次のステップＳ１４の処理に進む。ステップＳ１４では、制御部９０は、次の目標値が有るか否かを判断し、次の目標値が有れば次のステップＳ１５の処理に進み、次の目標値が無ければステップＳ１８の処理に進む。
【００３６】
ステップＳ１５では、制御部９０は、光路長差が次の目標値に移行される前に、その移行後の目標値においてピエゾアクチュエータ７１による移動量ｘ２が所定範囲から外れるか否かを判断する。そして、制御部９０は、その移動量ｘ２が所定範囲から外れると判断した場合にはステップＳ１６を経てステップＳ１７の処理に進み、また、その移動量ｘ２が所定範囲内にあると判断した場合には直ちにステップＳ１７の処理に進む。ステップＳ１６では、制御部９０は、次の目標値に移行した後にピエゾアクチュエータ７１による移動量ｘ２が所定範囲内に入るようにステージ８１による移動動作の速さを調整する。
【００３７】
ステップＳ１７では、制御部９０は、光路長差を次の目標値に設定し、駆動部７２を介してピエゾアクチュエータ７１をΔｘだけステップ的に移動させる。その後、ステップＳ１２の処理に戻って、制御部９０は、光路長差が新たな目標値になるように、駆動部７２を介してピエゾアクチュエータ７１による移動動作をフィードバック制御する。ステップＳ１８では、制御部９０は、駆動部８２を介してステージ８１による移動動作を終了させる。
【００３８】
このように第１動作態様では、制御部９０は、ステージ８１による移動動作を連続的に行わせ、光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される際に、ピエゾアクチュエータ７１による移動動作をステップ的に行わせ、また、光路長差が或る目標値に設定されている期間には、光路長差が該目標値になるようにピエゾアクチュエータ７１による移動動作をフィードバック制御する。このように制御部９０がピエゾアクチュエータ７１およびステージ８１それぞれの移動動作を制御することにより、ステージ８１の移動動作の広いダイナミックレンジと、ピエゾアクチュエータ７１の移動動作の高い位置精度とを、共に活かすことができて、高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物９の表面形状を測定することができる。
【００３９】
また、第１動作態様では、制御部９０は、光路長差が或る目標値から次の目標値に移行される前に、その移行後の目標値においてピエゾアクチュエータ７１による移動量が所定範囲から外れる場合に、該移動量が該所定範囲内に入るようにステージ８１による移動動作の速さを調整する（ステップＳ１５，Ｓ１６）。このように制御部９０がステージ８１の移動速度を調整することにより、ステージ８１の移動速度や目標値変更の時間間隔Δｔの精度が不充分である場合であっても、ピエゾアクチュエータ７１による移動量を所定範囲内に維持することができるので、被測定物９の表面形状の高精度測定を維持することができる。なお、光路長差の目標値の個数をＮとしたときに、Ｎ・Δｔの時間内にステージ８１を速度「Δｘ／Δｔ」で等速移動させたときの移動距離が充分な精度（例えば誤差が±１μｍ以下）であれば、ステップＳ１５，１６は不要であり、ステップＳ１４の後に直ちにステップＳ１７の処理に進めばよい。
【００４０】
図６は、本実施形態に係る干渉測定装置１の第２動作態様を説明するフローチャートである。また、図７は、この第２動作態様における間隔ｘ１，間隔ｘ２および間隔（ｘ１＋ｘ２）それぞれの時間的変化を示す図である。この第２動作態様では、制御部９０は、駆動部８２を介して、ステージ８１による移動動作を断続的に行わせる。
【００４１】
ステップＳ２１では、制御部９０は、光路長差が目標値になるように、駆動部７２を介してピエゾアクチュエータ７１による移動動作をフィードバック制御する。このとき、ステージ８１は移動していないが、ステージ８１の位置精度が比較的低いことから、間隔ｘ１の時間的変動は比較的大きい。しかし、ピエゾアクチュエータ７１により間隔ｘ２が調整されて、間隔（ｘ１＋ｘ２）が高精度に設定される。
【００４２】
ステップＳ２２では、制御部９０は、光路長差が或る目標値に設定されてから一定時間Δｔが経過したか否かを判断し、一定時間Δｔが経過したら次のステップＳ２３の処理に進む。ステップＳ２３では、制御部９０は、次の目標値が有るか否かを判断し、次の目標値が有れば次のステップＳ２４の処理に進み、次の目標値が無ければ終了する。
【００４３】
ステップＳ２４では、制御部９０は、光路長差が次の目標値に移行される前に、その移行後の目標値においてピエゾアクチュエータ７１による移動量ｘ２が所定範囲から外れるか否かを判断する。そして、制御部９０は、その移動量ｘ２が所定範囲から外れると判断した場合にはステップＳ２５を経てステップＳ２６の処理に進み、また、その移動量ｘ２が所定範囲内にあると判断した場合には直ちにステップＳ２６の処理に進む。
【００４４】
ステップＳ２５では、制御部９０は、次の目標値に移行した後にピエゾアクチュエータ７１による移動量ｘ２が所定範囲内に入るようにステージ８１を移動させた後に停止させ、また、そのステージ８１が移動している期間にも、そのときの光路長差を維持するようにピエゾアクチュエータ７１による移動動作を制御する。なお、このときのステージ８１の移動に際しては、次の目標値においてピエゾアクチュエータ７１による移動量ｘ２が所定範囲の上限を超える場合には、ピエゾアクチュエータ７１による移動量ｘ２が所定範囲の下限の近くになるようにする。逆に、次の目標値においてピエゾアクチュエータ７１による移動量ｘ２が所定範囲の下限を超える場合には、ピエゾアクチュエータ７１による移動量ｘ２が所定範囲の上限の近くになるようにする。
【００４５】
ステップＳ２６では、制御部９０は、光路長差を次の目標値に設定し、駆動部７２を介してピエゾアクチュエータ７１をΔｘだけステップ的に移動させる。その後、ステップＳ２１の処理に戻って、制御部９０は、光路長差が新たな目標値になるように、駆動部７２を介してピエゾアクチュエータ７１による移動動作をフィードバック制御する。
【００４６】
このように第２動作態様では、制御部９０は、ステージ８１による移動動作が行われている期間には、そのときの光路長差を維持するようにピエゾアクチュエータ７１による移動動作を制御する。また、制御部９０は、ステージ８１による移動動作が行われていない期間には、光路長差が各目標値になるようにピエゾアクチュエータ７１による移動動作をフィードバック制御する。このように制御部９０がピエゾアクチュエータ７１およびステージ８１それぞれの移動動作を制御することにより、ステージ８１の移動動作の広いダイナミックレンジと、ピエゾアクチュエータ７１の移動動作の高い位置精度とを、共に活かすことができて、高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物９の表面形状を測定することができる。なお、ステージ８１の位置精度が悪い場合には、第１動作態様より第２動作態様の方が有効である、
【００４７】
なお、上記実施形態の干渉測定装置１では、ピエゾアクチュエータ７１およびステージ８１の双方は、ハーフミラー４３とミラー７３との間の光路長を調整した。しかし、ピエゾアクチュエータ７１およびステージ８１の双方が、ハーフミラー４３と被測定物９との間の光路長を調整してもよい。また、ピエゾアクチュエータ７１およびステージ８１のうち、一方がハーフミラー４３とミラー７３との間の光路長を調整し、他方がハーフミラー４３と被測定物９との間の光路長を調整してもよい。
【００４８】
図８は、他の実施形態に係る干渉測定装置２の構成図である。図１に示された干渉測定装置１の構成と比較すると、この図８に示される干渉測定装置２は、ステージ８１がレンズ２４および被測定物９を移動させる点で相違する。このような構成の干渉測定装置２も、同様の作用効果を奏することができる。
【実施例１】
【００４９】
次に、干渉測定装置１の第２動作態様の具体的な第１実施例および第２実施例について説明する。第１実施例では、光源１２として、出力波長λ２が６３３ｎｍであるＨｅ-Ｎｅレーザ光源を用いた。ピエゾアクチュエータ７１として、ＮＥＣ／ＴＯＫＩＮ社製のＡＥ０５０５Ｄ０８を用いた。ステージ８１として、Ｎｅｗｐｏｒｔ社製のＭ−４４３ステージにＮｅｗｐｏｒｔ社製のモータアクチュエータＬＴＡ−ＨＳを取り付けたものを用いた。ハーフミラー４３とミラー７３との間の間隔（ｘ１＋ｘ２）の各ステップ間の変更幅をλ２／８（＝約８０ｎｍ）とした。
【００５０】
図９および図１０は、第１実施例における間隔（ｘ１＋ｘ２）の時間的変化を示す図である。図１０は、図９の一部を拡大して示すものである。これらの図に示されるように、０.５秒間隔、ステップ幅８０ｎｍで、ピエゾアクチュエータ７１による間隔（ｘ１＋ｘ２）の変更が行われた。また、ステージ８１を移動させる際の移動量が１μｍであった。
【００５１】
ステージ８１を移動させている間も、ピエゾアクチュエータ７１の移動量をフィードバック制御することで、間隔（ｘ１＋ｘ２）を一定の目標値に維持するようにした。ただし、その際に間隔（ｘ１＋ｘ２）が多少変動するが、ピエゾアクチュエータ７１の移動量のフィードバック制御が外れることは無かった。ステージ８１の移動が終了して停止した後は、ピエゾアクチュエータ７１の移動量のフィードバック制御により、間隔（ｘ１＋ｘ２）は安定して目標値に維持された。
【００５２】
このように、第１実施例では、間隔（ｘ１＋ｘ２）を、８０００ｎｍ以上の幅に亘って８０ｎｍずつ変化させることができた。それぞれの位置では、光源１２から出力されて受光部６１により受光された光λ２の干渉信号に基づいてフィードバック制御による安定化がなされているので、光路長差として１ｎｍの精度がある。
【００５３】
第２実施例では、上記第１実施例と同様の構成とし、光路長差の位置精度を確認するために、ピエゾアクチュエータ７１による間隔（ｘ１＋ｘ２）の変更ステップ幅を変えながら、長距離に亘って移動を行った。図１１および図１２は、第２実施例における間隔（ｘ１＋ｘ２）の時間的変化を示す図である。図１２（ａ）〜（ｃ）は、図１１の一部を拡大して示すものである。
【００５４】
当初は、間隔（ｘ１＋ｘ２）の各ステップ間の変更幅をλ２／８（＝約８０ｎｍ）として、８０００ｎｍに亘って間隔（ｘ１＋ｘ２）を変化させた。続いて、間隔（ｘ１＋ｘ２）の各ステップ間の変更幅をλ２／７２（＝約９ｎｍ）として、４９０ｎｍに亘って間隔（ｘ１＋ｘ２）を変化させた（図１２（ａ））。更に続いて、間隔（ｘ１＋ｘ２）の各ステップ間の変更幅をλ２／７２０（＝約０.９ｎｍ）として、２５０ｎｍに亘って間隔（ｘ１＋ｘ２）を変化させ（図１２（ｂ））、その後に停止させた（図１２（ｃ））。静止状態での位置の誤差は、ｒｍｓで０.８８ｎｍであり、１ｎｍの精度での位置決めができたことがわかる。
【００５５】
以上のように、ｎｍ精度での光路長差の掃引を、ピエゾアクチュエータの動作距離より長いレンジに亘って行うことができた。高速では１６０ｎｍ／ｓｅｃでの掃引を行うことができ、また、低速では１ｎｍ／ｓｅｃでの掃引を行うことができ、どちらも１ｎｍの位置精度で行うことができた。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本実施形態に係る干渉測定装置１の構成図である。
【図２】撮像部５１または受光部５１に到達する光の強度と光路長差との関係を示す図である。
【図３】ピエゾアクチュエータ７１およびステージ８１による光路長差調整動作について説明する図である。
【図４】本実施形態に係る干渉測定装置１の第１動作態様を説明するフローチャートである。
【図５】本実施形態に係る干渉測定装置１の第１動作態様における間隔ｘ１，間隔ｘ２および間隔（ｘ１＋ｘ２）それぞれの時間的変化を示す図である。
【図６】本実施形態に係る干渉測定装置１の第２動作態様を説明するフローチャートである。
【図７】本実施形態に係る干渉測定装置１の第２動作態様における間隔ｘ１，間隔ｘ２および間隔（ｘ１＋ｘ２）それぞれの時間的変化を示す図である。
【図８】他の実施形態に係る干渉測定装置２の構成図である。
【図９】第１実施例における間隔（ｘ１＋ｘ２）の時間的変化を示す図である。
【図１０】第１実施例における間隔（ｘ１＋ｘ２）の時間的変化を示す拡大図である。
【図１１】第２実施例における間隔（ｘ１＋ｘ２）の時間的変化を示す図である。
【図１２】第２実施例における間隔（ｘ１＋ｘ２）の時間的変化を示す拡大図である。
【符号の説明】
【００５７】
１…干渉測定装置、９…被測定物、１１，１２…光源、２１〜２５…レンズ、３１…アパーチャ、４１…光合波器、４２…光分波器、４３…ハーフミラー、５１…撮像部、５２…解析部、６１…受光部、６２…変位検出部、７１…ピエゾアクチュエータ、７２…駆動部、７３…ミラー、８１…ステージ、８２…駆動部、９０…制御部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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