(57)【要約】【課題】カップの駆動機構や位置合わせ機構の駆動機構等に要するスペースの削減や省コストを図ることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。【解決手段】基板Ｗを保持する保持機構６１と，保持機構６１に保持された基板Ｗを囲むカップ６２，６３と，保持機構６１に対する基板Ｗの位置を合わせる位置合わせ機構６５とを備えた装置４５Ａにおいて，カップ６２，６３及び位置合わせ機構６５を保持機構６１に保持された基板Ｗに対してそれぞれ相対的に昇降させる移動機構６６を備えた。【選択図】  図４
2007019369.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する装置であって，
基板を保持する保持機構と，
前記保持機構に保持された基板を囲むカップと，
前記保持機構に対する基板の位置を合わせる位置合わせ機構とを備え，
前記カップ及び前記位置合わせ機構を前記保持機構に保持された基板に対してそれぞれ相対的に昇降させる移動機構を備えたことを特徴とする，基板処理装置。
【請求項２】
前記カップを２以上設け，
前記移動機構は，前記各カップを前記保持機構に保持された基板に対してそれぞれ昇降させることを特徴とする，請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記移動機構は，前記２以上のカップのうち外側のカップを前記保持部材に保持された基板を囲む位置に上昇させた状態で，その内側のカップを昇降させることを特徴とする，請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記位置合わせ機構は，前記移動機構によって上昇させられた状態で，前記保持機構に対する基板の位置合わせを行うことを特徴とする，請求項１〜３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記移動機構は，直進移動することにより前記カップを昇降させるカップ用直進カムと，直進移動することにより前記位置合わせ機構を昇降させる位置合わせ機構用直進カムとを備え，
前記カップ用直進カム及び前記位置合わせ機構用直進カムは，カム支持部材によって支持され，前記カム支持部材を直進移動させる駆動部の駆動により，前記カム支持部材と一体的に直進移動することを特徴とする，請求項１〜４のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記カップ及び／又は前記位置合わせ機構に，複数の支持部材を取り付け，
各支持部材にローラをそれぞれ設け，
前記各支持部材の昇降をガイドするガイド部材を備え，
前記カップ用直進カム及び／又は前記位置合わせ機構用直進カムを各ローラに対応させて複数設け，
各カップ用直進カム及び／又は各位置合わせ機構用直進カムの直進移動に伴って前記各ローラが昇降させられることにより，前記各支持部材が前記ガイド部材にガイドされながら昇降する構成としたことを特徴とする，請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記保持機構が設けられたチャンバー内に基板を搬入出させる搬入出口を設け，
前記搬入出口に対して昇降することにより前記搬入出口を開閉するシャッターを設け，
前記移動機構は，直進移動することにより前記シャッターを昇降させるシャッター用直進カムを備え，
前記シャッター用直進カムは，前記カム支持部材によって支持され，前記駆動部の駆動により，前記カム支持部材と一体的に直進移動することを特徴とする，請求項５又は６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記シャッターにシャッター用支持部材を取り付け，
前記シャッター用支持部材にシャッター用ローラを設け，
前記シャッター用支持部材の昇降をガイドするシャッター用ガイド部材を備え，
前記シャッター用直進カムの直進移動に伴って前記シャッター用ローラが昇降させられることにより，前記シャッター用支持部材が前記シャッター用ガイド部材にガイドされながら昇降する構成としたことを特徴とする，請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記移動機構は，前記シャッターによって前記搬入出口を閉塞した状態で，前記カップ及び前記位置合わせ機構をそれぞれ昇降させることを特徴とする，請求項７又は８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
基板を処理する方法であって，
位置合わせ機構用直進カムを直進移動させることにより位置合わせ機構を上昇させ，保持機構に対する基板の位置合わせを行い，
前記位置合わせ機構用直進カムを直進移動させることにより前記位置合わせ機構を下降させ，
カップ用直進カムを直進移動させることによりカップを上昇させ，前記保持機構に保持された基板を前記カップによって囲んだ状態で，前記基板に処理液を供給して基板を処理することを特徴とする，基板処理方法。
【請求項１１】
前記カップによって囲んだ状態で前記基板を処理した後，前記カップ用直進カムを直進移動させることにより前記カップを下降させることを特徴とする，請求項１０に記載の基板処理方法。
【請求項１２】
前記カップ用直進カム及び前記位置合わせ機構用直進カムを一体的に直進移動させることを特徴とする，請求項１０又は１１に記載の基板処理方法。
【請求項１３】
シャッター用直進カムを前記カップ用直進カム及び／又は前記位置合わせ機構用直進カムと一体的に直進移動させることによりシャッターを下降させ，チャンバーの搬入出口を開口させ，
前記搬入出口を介して前記チャンバー内に基板を搬入させ，
前記シャッター用直進カムを前記カップ用直進カム及び／又は前記位置合わせ機構用直進カムと一体的に直進移動させることにより前記シャッターを上昇させ，前記搬入出口を閉塞することを特徴とする，請求項１０〜１２のいずれかに記載の基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，基板処理装置及び基板処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体デバイスの製造工程においては，半導体ウェハ（以下，「ウェハ」という）を薬液，純水等の処理液によって洗浄する基板洗浄装置が用いられる。そのような基板洗浄装置の一例として，ウェハをスピンチャックによって略水平に保持して回転させ，回転するウェハの上面に処理液を供給して処理する枚葉式のものが知られている。
【０００３】
かかる基板洗浄装置には，ウェハに供給された処理液が周囲に飛散することを防止するため，スピンチャックによって保持されたウェハの周囲を囲むカップが備えられる。このカップは，スピンチャックに保持されたウェハに対して昇降自在になっており，ウェハがスピンチャックに受け渡されるときには，ウェハを囲む位置から下降させられ，ウェハを処理する際には，ウェハを囲む位置に上昇させられるようになっている。また，このカップは複数備えられる場合もあり，例えば供給する処理液の種類に応じて，ウェハを囲むカップを使い分けるように構成することができる（例えば，特許文献１参照）。
【０００４】
さらに，かかる基板処理装置には，スピンチャックに対するウェハの位置合わせを行う位置合わせ機構（センタリング機構）が備えられる場合もある（例えば，特許文献２参照）。位置合わせ機構は，スピンチャックによって保持されたウェハに対して相対的に昇降自在になっている。かかる構成においては，スピンチャックにウェハが受け渡される際，位置合わせ機構はウェハが受け渡される位置に対して相対的に下降させられた位置で待機させられる。ウェハがスピンチャックに受け渡されると，位置合わせ機構がウェハに対して相対的に上昇させられ，位置合わせ機構によってウェハの位置合わせが行われる。位置合わせが行われると，スピンチャックによってウェハが吸着保持され，位置合わせ機構は再びウェハに対して相対的に下降させられる。その後，ウェハの表面処理が開始されるようになっている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３１４００号公報
【特許文献２】特開２００４−３４２９３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら，従来の装置にあっては，カップを昇降させる駆動機構，位置合わせ機構を昇降させる駆動機構等が個別に設けられており，各駆動機構を配置するスペースが多く必要で，装置の小型化が難しかった。また，各駆動機構に要するコストを削減することも難しかった。さらに，各駆動機構の駆動を制御する制御部の負担も多かった。
【０００７】
本発明の目的は，カップの駆動機構や位置合わせ機構の駆動機構等に要するスペースの削減や省コストを図ることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため，本発明によれば，基板を処理する装置であって，基板を保持する保持機構と，前記保持機構に保持された基板を囲むカップと，前記保持機構に対する基板の位置を合わせる位置合わせ機構とを備え，前記カップ及び前記位置合わせ機構を前記保持機構に保持された基板に対してそれぞれ相対的に昇降させる移動機構を備えたことを特徴とする，基板処理装置が提供される。
【０００９】
前記カップを２以上設け，前記移動機構は，前記各カップを前記保持機構に保持された基板に対してそれぞれ昇降させるようにしても良い。また，前記移動機構は，前記２以上のカップのうち外側のカップを前記保持部材に保持された基板を囲む位置に上昇させた状態で，その内側のカップを昇降させる構成にしても良い。前記位置合わせ機構は，前記移動機構によって上昇させられた状態で，前記保持機構に対する基板の位置合わせを行うとしても良い。
【００１０】
また，前記移動機構は，直進移動することにより前記カップを昇降させるカップ用直進カムと，直進移動することにより前記位置合わせ機構を昇降させる位置合わせ機構用直進カムとを備え，前記カップ用直進カム及び前記位置合わせ機構用直進カムは，カム支持部材によって支持され，前記カム支持部材を直進移動させる駆動部の駆動により，前記カム支持部材と一体的に直進移動することとしても良い。
【００１１】
また，前記カップ及び／又は前記位置合わせ機構に，複数の支持部材を取り付け，各支持部材にローラをそれぞれ設け，前記各支持部材の昇降をガイドするガイド部材を備え，前記カップ用直進カム及び／又は前記位置合わせ機構用直進カムを各ローラに対応させて複数設け，各カップ用直進カム及び／又は各位置合わせ機構用直進カムの直進移動に伴って前記各ローラが昇降させられることにより，前記各支持部材が前記ガイド部材にガイドされながら昇降する構成としても良い。
【００１２】
また，前記保持機構が設けられたチャンバー内に基板を搬入出させる搬入出口を設け，前記搬入出口に対して昇降することにより前記搬入出口を開閉するシャッターを設け，前記シャッターは，前記移動機構によって昇降させられる構成としても良い。例えば，前記移動機構に，直進移動することにより前記シャッターを昇降させるシャッター用直進カムを備え，前記シャッター用直進カムは，前記カム支持部材によって支持され，前記駆動部の駆動により，前記カム支持部材と一体的に直進移動するとしても良い。さらに，前記シャッターにシャッター用支持部材を取り付け，前記シャッター用支持部材にシャッター用ローラを設け，前記シャッター用支持部材の昇降をガイドするシャッター用ガイド部材を備え，前記シャッター用直進カムの直進移動に伴って前記シャッター用ローラが昇降させられることにより，前記シャッター用支持部材が前記シャッター用ガイド部材にガイドされながら昇降する構成としても良い。また，前記移動機構は，前記シャッターによって前記搬入出口を閉塞した状態で，前記カップ及び前記位置合わせ機構をそれぞれ昇降させる構成としても良い。
【００１３】
また，本発明によれば，基板を処理する方法であって，位置合わせ機構用直進カムを直進移動させることにより位置合わせ機構を上昇させ，保持機構に対する基板の位置合わせを行い，前記位置合わせ機構用直進カムを直進移動させることにより前記位置合わせ機構を下降させ，カップ用直進カムを直進移動させることによりカップを上昇させ，前記保持機構に保持された基板を前記カップによって囲んだ状態で，前記基板に処理液を供給して基板を処理することを特徴とする，基板処理方法が提供される。
【００１４】
この方法にあっては，前記カップによって囲んだ状態で前記基板を処理した後，前記カップ用直進カムを直進移動させることにより前記カップを下降させるようにしても良い。前記カップ用直進カム及び前記位置合わせ機構用直進カムは，一体的に直進移動させても良い。
【００１５】
さらに，シャッター用直進カムを前記カップ用直進カム及び／又は前記位置合わせ機構用直進カムと一体的に直進移動させることによりシャッターを下降させ，チャンバーの搬入出口を開口させ，前記搬入出口を介して前記チャンバー内に基板を搬入させ，前記シャッター用直進カムを前記カップ用直進カム及び／又は前記位置合わせ機構用直進カムと一体的に直進移動させることにより前記シャッターを上昇させ，前記搬入出口を閉塞するとしても良い。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば，カップを昇降させる駆動機構，位置合わせ機構を昇降させる駆動機構等を個別に設ける必要が無く，カップの駆動機構や位置合わせ機構の駆動機構等に要するスペースを削減することができる。従って，装置の小型化を図ることができ，また，省コストを図ることができる。また，各直進カムの形状や配置を設定することによって，基板の処理工程に応じたカップや位置合わせ機構の昇降を行うことができ，制御が簡単になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下，本発明の好ましい実施の形態を，基板の一例としてのウェハに対して洗浄処理を行う処理システムに基づいて説明する。図１に示すように，処理システム１は，外部から処理システム１に対してキャリアＣを搬入出するための搬入出部２と，ウェハＷに洗浄処理を施す処理部３とを備えている。
【００１８】
搬入出部２は，複数枚，例えば２５枚のウェハＷを収納可能なキャリアＣを載置するキャリア載置部１０，及び，キャリア載置部１０と処理部３との間に設けられた基板搬送部１１を備えている。
【００１９】
ウェハＷは例えば略円形の薄板状をなし，開口部を持つキャリアＣ内に複数枚が収納された状態で，処理システム１の外部からキャリア載置部１０に一括して搬入される。
【００２０】
基板搬送部１１内には基板搬送装置２５が配設されている。基板搬送装置２５は，本体２６と，一枚のウェハＷを略水平な姿勢で保持可能な搬送アーム２７とを備え，本体２６をＹ軸方向（Ｘ軸方向（略水平方向）に対して略垂直な略水平方向）とＺ軸方向（略鉛直方向）とに適宜移動させることにより，キャリア載置部１０上の各キャリアＣや，後述する各受け渡しユニット４１Ａ，４１Ｂにアクセス可能な位置に搬送アーム２７を移動させることができる。
【００２１】
処理部３には，中心部に配置された主ウェハ搬送機構３１の周りに，受け渡しユニット群３２，洗浄ユニット群３３，加熱・冷却ユニット群３４，及び，制御・ユーティリティユニット群３５が配置されている。
【００２２】
主ウェハ搬送機構３１は，ウェハＷをそれぞれ略水平な姿勢で一枚ずつ保持する３本の搬送アーム３１ａ，３１ｂ，３１ｃを備えている。これらの搬送アーム３１ａ〜３１ｃを後述する受け渡しユニット４１Ａ，４１Ｂ，基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５Ｄ，冷却ユニット４６，加熱ユニット４７Ａ〜４７Ｃに対して選択的にアクセスさせ，各ユニットに対しウェハＷの搬入出を行えるようになっている。
【００２３】
受け渡しユニット群３２は，基板搬送部１１と主ウェハ搬送機構３１との間に配置され，受け渡しユニット４１Ａ，４１Ｂが下からこの順に積み重ねられた構成になっている。
【００２４】
洗浄ユニット群３３は，２台の基板洗浄ユニット４５Ａ，４５Ｂが下段にＸ軸方向に並べて配設され，その上段に２台の基板洗浄ユニット４５Ｃ，４５Ｄが，Ｘ軸方向に並べて配設された構成になっている。各基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５Ｄの構成については，後に詳細に説明する。
【００２５】
加熱・冷却ユニット群３４は，冷却ユニット４６，加熱ユニット４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃが下からこの順に積み重ねられた構成になっている。
【００２６】
制御・ユーティリティユニット群３５には，処理システム１の電源である電装ユニット５１と，処理システム１内の各種装置の動作の制御を行う機械制御ユニット５２と，基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５Ｄに送液する薬液を貯蔵する薬液貯蔵ユニット５３とが配設されている。
【００２７】
次に，本発明にかかる基板処理装置としての基板洗浄ユニット４５Ａの構成について説明する。図２に示すように，基板洗浄ユニット４５Ａは，ウェハＷを収納する密閉構造のチャンバー６０を備えており，チャンバー６０の内部には，ウェハＷを略水平な姿勢で所定の高さに保持して回転させる保持機構としてのスピンチャック６１と，スピンチャック６１によって保持されたウェハＷの周囲を囲む２つのカップ，即ち，外側のアウターカップ６２，及び，アウターカップ６２の内側に配置されたインナーカップ６３が備えられている。さらに，インナーカップ６３の内側には，スピンチャック６１に対するウェハＷの位置合わせ（センタリング）を行う位置合わせ機構としてのセンタリング機構６５が備えられている。また，アウターカップ６２，インナーカップ６３，センタリング機構６５をスピンチャック６１に保持されたウェハＷに対してそれぞれ相対的に昇降移動させる移動機構６６が，チャンバー６０の下方に備えられている。スピンチャック６１及びアウターカップ６２の上方には，スピンチャック６１によって保持されたウェハＷの上面に処理液や処理ガス等の処理流体を供給する供給ノズル６７ａを備えた供給ノズルアーム６７が設けられている。
【００２８】
チャンバー６０の側壁６０ａには，ウェハＷをチャンバー６０内に対して搬入出させるための搬入出口７１が設けられている。搬入出口７１は，主ウェハ搬送機構３１が隣接する側に設けられ，また，スピンチャック６１によって保持されるウェハＷと同じ高さにおいて開口している。ウェハＷをスピンチャック６１に受け渡すときは，ウェハＷを主ウェハ搬送機構３１の搬送アーム３１ａ〜３１ｃのいずれかによって保持して略水平方向に移動させ，搬入出口７１を介してチャンバー６０内に搬入し，スピンチャック６１の上端部に載せるようになっている。
【００２９】
スピンチャック６１は，上端部においてウェハＷの下面を吸着し，ウェハＷを上方に向けて保持するようになっている。スピンチャック６１の下端は，モータ７２に接続されている。このモータ７２を駆動させることにより，スピンチャック６１が略鉛直方向の中心軸を回転中心として回転させられ，スピンチャック６１にセンタリングされて保持されたウェハＷが，ウェハＷの中央部を回転中心として，スピンチャック６１と一体的に回転するようになっている。
【００３０】
アウターカップ６２は，略円筒形状の側壁部６２ａを有している。側壁部６２ａの外面は，チャンバー６０の側壁６０ａの内側面に沿って近接するように設けられている。また，アウターカップ６２には，側壁部６２ａの上縁から内側に向かって延びる環状の上部６２ｂが形成されている。上部６２ｂの下面は，内側に向かうほど上方に向かうように傾斜した略円錐台面状に形成されている。アウターカップ６２の下方には，アウターカップ６２によって受け止められた処理液を排出する排液路７３が備えられている。
【００３１】
また，アウターカップ６２は，移動機構６６の作動により，略鉛直方向に沿って昇降し，上昇位置（図２において二点鎖線）と下降位置（図２において実線）とに移動可能である。アウターカップ６２が上昇位置に配置されているとき，上部６２ｂの下面は，スピンチャック６１に保持されたウェハＷの周縁部を囲む高さに配置される。即ち，ウェハＷの周囲に飛散した処理液がアウターカップ６２によって受け止められるようになっている。また，アウターカップ６２が上昇位置に配置されているとき，搬入出口７１は，側壁部６２ａの外面によって内側から閉塞された状態になる。なお，本実施の形態において，側壁部６２ａの外面は，搬入出口７１を閉塞するシャッターとしての機能を兼ね備えている。他方，下降位置に配置されているとき，アウターカップ６２はスピンチャック６１に保持されたウェハＷの下方に配置され，側壁部６２ａの外面は，搬入出口７１の下方に配置され，搬入出口７１が開かれた状態になる。
【００３２】
図３に示すように，アウターカップ６２の下部には，下方に向かって延びるように略鉛直方向に沿って設けられた複数本，例えば３本の直棒状のアウターカップ用支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃが取り付けられている。各支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃの下端部には，支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃに対してＸ軸方向の中心軸を回転中心として回転可能なアウターカップ用ローラ７６が，それぞれ一つずつ設けられている。
【００３３】
図２に示すように，各支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃは，チャンバー６０の底部６０ｂを上下に貫通するように設けられている。底部６０ｂには，各支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃの昇降をガイドする筒状のアウターカップ用ガイド部材７７が，各支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃにそれぞれ一つずつ対応させて取り付けられている。各支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃは，このガイド部材７７の内側を通るように配置されており，各ガイド部材７７に沿ってＺ軸方向にのみ昇降するように移動方向が制限されている。各ローラ７６は，チャンバー６０の下方において後述する移動機構６６の直進カム１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃ上に支持されている。このように，アウターカップ６２は，複数の支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃによって確実に支持されている。
【００３４】
図２に示すように，インナーカップ６３は，略円筒状の側壁部６３ａを有している。また，インナーカップ６３には，側壁部６３ａの上縁から内側に向かって延びる環状の上部６３ｂが形成されている。上部６３ｂの下面は，内側に向かうほど上方に向かうように傾斜した略円錐台面状に形成されている。インナーカップ６３の下方には，インナーカップ６３によって受け止められた処理液を排出する排液路８３が備えられている。
【００３５】
また，インナーカップ６３は，アウターカップ６２が上昇位置に配置されている状態において，移動機構６６の作動により，略鉛直方向に沿って昇降し，上昇位置（図２において二点鎖線）と下降位置（図２において実線）とに移動可能である。インナーカップ６３が上昇位置に配置されているとき，上部６３ｂの下面は，スピンチャック６１に保持されたウェハＷの周縁部を囲む高さに配置される。即ち，ウェハＷの周囲に飛散した処理液が，インナーカップ６３によって受け止められるようになっている。下降位置では，インナーカップ６３はスピンチャック６１に保持されたウェハＷの下方に配置される。
【００３６】
図３に示すように，インナーカップ６３の下部には，下方に向かって延びるように略鉛直方向に沿って設けられた複数本，例えば３本の直棒状のインナーカップ用支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃが取り付けられている。各支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃの下端部には，支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃに対してＸ軸方向の中心軸を回転中心として回転可能なインナーカップ用ローラ８６が，それぞれ一つずつ設けられている。
【００３７】
また，図２に示すように，各支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃは，チャンバー６０の底部６０ｂを貫通するように設けられている。底部６０ｂには，各支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃの昇降をガイドする筒状のインナーカップ用ガイド部材８７が，各支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃにそれぞれ一つずつ対応させて取り付けられている。各支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃは，このガイド部材８７の内側を通るように配置されており，各ガイド部材８７に沿ってＺ軸方向にのみ昇降するように移動方向が制限されている。各ローラ８６は，チャンバー６０の下方において後述する移動機構６６の直進カム１０３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃ上に支持されている。このように，インナーカップ６３は，複数の支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃによって確実に支持されている。
【００３８】
図３に示すように，センタリング機構６５は，複数個，例えば３個の回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃを備えている。各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃは，略鉛直方向の中心軸を回転中心として回転可能になっている。各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃの上面には，突起９１がそれぞれ設けられている。各突起９１は，各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃの回転中心から偏心した外側の位置に設けられている。これらの突起９１は，スピンチャック６１に保持されたウェハＷの周りを囲むように配置されている。また，各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃを回転させる回転駆動手段９２が，各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃにそれぞれ対応させて設けられている。かかる構成においては，各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃをそれぞれ回転させることにより，スピンチャック６１に保持されたウェハＷの周縁部に対して各突起９１を当接又は離隔させることができ，各突起９１を当接させることにより，ウェハＷの周縁部を３方向から内側に向かって押し，ウェハＷの中央部がスピンチャック６１の回転中心に合うように位置決め（センタリング）することができる。なお，各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃは，スピンチャック６１に保持されたウェハＷに対して昇降可能であり，ウェハＷのセンタリングを行うことが可能な上昇位置（図２において二点鎖線）と，ウェハＷから離隔した下降位置（図２において実線）とに移動可能になっている。
【００３９】
図３に示すように，各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃは，複数本，例えば３本の直棒状のセンタリング機構（位置合わせ機構）用支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃの上端部に，それぞれ一つずつ取り付けられている。各支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃは，略鉛直方向に沿って設けられている。各支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃの下端部には，支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃに対してＸ軸方向の中心軸を回転中心として回転可能な位置合わせ機構用ローラとしてのセンタリング機構用ローラ９６が，それぞれ一つずつ設けられている。
【００４０】
また，図２に示すように，各支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃは，チャンバー６０の底部６０ｂを貫通するように設けられている。底部６０ｂには，各支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃの昇降をガイドする筒状のセンタリング機構（位置合わせ機構）用ガイド部材９７が，各支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃにそれぞれ一つずつ対応させて取り付けられている。各支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃは，このガイド部材９７の内側を通るように配置されており，各ガイド部材９７に沿ってＺ軸方向にのみ昇降するように移動方向が制限されている。各ローラ９６は，チャンバー６０の下方において後述する移動機構６６の直進カム１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃ上に支持されている。
【００４１】
図２及び図３に示すように，移動機構６６は，アウターカップ６２を昇降させるアウターカップ用直進カムとしての複数個，例えば３個の直進カム１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃと，インナーカップ６３を昇降させるインナーカップ用直進カムとしての複数個，例えば３個の直進カム１０３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃと，センタリング機構６５を昇降させるセンタリング機構（位置合わせ機構）用直進カムとしての複数個，例えば３個の直進カム１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃとを備えている。直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃは，略水平に設けられた略平板状のカム支持部材としてのカム支持板１０６によって支持されている。カム支持板１０６の上面において，各直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃは，前述した各ローラ７６に一つずつ対応させて設けられ，各直進カム１０３Ａ〜１０３Ｃは，各ローラ８６に一つずつ対応させて設けられ，各直進カム１０５Ａ〜１０５Ｃは，各ローラ９６に一つずつ対応させて設けられている。さらに，各直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃは，互いに略平行に，Ｙ軸方向に沿って延設されており，カム支持板１０６をＹ軸方向に沿って直進移動させる駆動部１０７の駆動により，カム支持板１０６と一体的に，Ｙ軸方向に沿って直進移動できる構成となっている。
【００４２】
図４に示すように，各直進カム１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃは，互いに同じ形状を有している。各直進カム１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃの上面には，異なる２つの高さの段差が設けられている。即ち，互いに同じ高さに設けられた高縁部１１１，１１２と，高縁部１１１，１１２より低い高さに設けられた低縁部１１３とが形成されている。高縁部１１１，１１２，低縁部１１３は，それぞれＹ軸方向に延設された細長い略水平面状になっている。また，直進カム１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃの先端側から基端側に向かう方向において，高縁部１１１，低縁部１１３，高縁部１１２の順に直線状に並ぶように設けられている。高縁部１１１と低縁部１１３との間，高縁部１１２と低縁部１１３との間は，それぞれ低縁部１１３側に向かうほど下降するように傾斜した傾斜部１１４，１１５になっている。
【００４３】
前述した各支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃのローラ７６は，直進カム１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃの上面にそれぞれ載せられている。即ち，各直進カム１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃの直進移動に伴って，各ローラ７６が回転しながら直進カム１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃに対して相対的に移動し，各ローラ７６を支持する支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃが各ガイド部材７７にガイドされながら昇降させられることにより，アウターカップ６２が昇降させられるようになっている。なお，直進カム１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃの上面に対する各ローラ７６の位置は，互いに同じになっており，各ローラ７６は，同時に高縁部１１１又は１１２から低縁部１１３へ，また低縁部１１３から高縁部１１１又は１１２へ移動するようになっている。従って，各支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃは互いに同期して昇降させられ，アウターカップ６２の姿勢を維持したまま昇降させることができる。また，各ローラ７６が高縁部１１１又は１１２に位置しているとき，アウターカップ６２が前述した上昇位置に持ち上げられた状態となり，各ローラ７６が低縁部１１３に位置しているとき，アウターカップ６２が前述した下降位置に下げられた状態となるような高さに設定されている。なお，本実施の形態おいては，アウターカップ６２の外面がシャッターとして機能するので，支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃ，ローラ７６，ガイド部材７７，直進カム１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃは，それぞれシャッター用支持部材，シャッター用ローラ，シャッター用ガイド部材，シャッター用直進カムとしての機能も有している。
【００４４】
各直進カム１０３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃは，互いに同じ形状を有している。各直進カム１０３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃの上面には，異なる２つの高さの段差が設けられている。即ち，低縁部１２１と，低縁部１２１より高い高さに備えられた高縁部１２２とが設けられている。低縁部１２１，高縁部１２２は，それぞれＹ軸方向に延設された細長い略水平面状になっている。高縁部１２２は，低縁部１２１より基端側に設けられている。低縁部１２１と高縁部１２２との間は，高縁部１２２側に向かうほど上昇するように傾斜した傾斜部１２３になっている。
【００４５】
前述した各支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃのローラ８６は，直進カム１０３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃの上面にそれぞれ載せられている。即ち，各支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃの直進移動に伴って，各ローラ８６が回転しながら直進カム１０３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃに対して相対的に移動し，各ローラ８６を支持する支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃが各ガイド部材８７にガイドされながら昇降させられることにより，インナーカップ６３が昇降させられるようになっている。なお，直進カム１０３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃの上面に対する各ローラ８６の位置は，互いに同じになっており，各ローラ８６は，同時に低縁部１２１から高縁部１２２へ，また高縁部１２２から低縁部１２１へ移動するようになっている。従って，各支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃは互いに同期して昇降させられ，インナーカップ６３の姿勢を維持したまま昇降させることができる。また，各ローラ８６が高縁部１２２に位置しているとき，インナーカップ６３が前述した上昇位置に持ち上げられた状態となり，各ローラ８６が低縁部１２１に位置しているとき，インナーカップ６３が前述した下降位置に下げられた状態となるような高さに設定されている。
【００４６】
各直進カム１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃは，互いに同じ形状を有している。各直進カム１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃの上面には，異なる２つの高さの段差が設けられている。即ち，互いに同じ高さに設けられた低縁部１２５，１２６と，低縁部１２５，１２６より高い高さに設けられた高縁部１２７とが形成されている。低縁部１２５，１２６，高縁部１２７は，それぞれＹ軸方向に延設された細長い略水平面状になっている。また，直進カム１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃの先端側から基端側に向かう方向において，低縁部１２５，高縁部１２７，低縁部１２６の順に直線状に並ぶように設けられている。低縁部１２５と高縁部１２７との間，高縁部１２７と低縁部１２６との間は，それぞれ高縁部１２７側に向かうほど上昇するように傾斜した傾斜部１２８，１２９になっている。
【００４７】
前述した各支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃのローラ９６は，直進カム１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃの上面にそれぞれ載せられている。即ち，各支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃの直進移動に伴って，各ローラ９６が回転しながら各直進カム１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃに対して相対的に移動し，各ローラ９６を支持する支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃが各ガイド部材９７にガイドされながら昇降させられることにより，各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃ，即ち，センタリング機構６５全体が昇降させられるようになっている。なお，各直進カム１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃの上面に対する各ローラ９６の位置は，互いに同じになっており，各ローラ９６は，同時に低縁部１２５又は１２６から高縁部１２７へ，また高縁部１２７から低縁部１２５又は１２６へ移動するようになっている。従って，各支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃは互いに同期して昇降させられるようになっている。また，各ローラ９６が高縁部１２７に位置しているとき，各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃが前述した上昇位置に持ち上げられた状態となり，各ローラ９６が低縁部１２５，１２６に位置しているとき，回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃが前述した下降位置に下げられた状態となるような高さに設定されている。
【００４８】
さらに，上記直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃの形状や配置の関係は，以下のように設定されている。図５において，ローラ７６が直進カム１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃの高縁部１１１，傾斜部１１４，低縁部１１３又は傾斜部１１５に位置しているとき，ローラ８６，９６は，それぞれ直進カム１０３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃの低縁部１２１，直進カム１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃの低縁部１２５に配置される（図５において実線）。即ち，インナーカップ６３とセンタリング機構６５が下降させられた状態で，アウターカップ６２が昇降させられるようになっている。また，ローラ８６が傾斜部１２３又は高縁部１２２に位置しているとき，ローラ７６，９６は，それぞれ高縁部１１２，低縁部１２６に配置される（図５において点線）。即ち，アウターカップ６２が上昇させられ，かつ，センタリング機構６５が下降させられた状態で，インナーカップ６３が昇降させられるようになっている。また，ローラ９６が傾斜部１２８，高縁部１２７又は傾斜部１２９に位置しているとき，ローラ７６，８６は，それぞれ高縁部１１２，低縁部１２１に配置される（図５において一点鎖線）。即ち，アウターカップ６２が上昇させられ，かつ，インナーカップ６３が下降させられた状態で，センタリング機構６５が昇降させられるようになっている。なお，ローラ７６，８６，９６がそれぞれ高縁部１１２，低縁部１２１，低縁部１２６に位置している状態，即ち，アウターカップ６２が上昇させられ，かつ，インナーカップ６３とセンタリング機構６５がそれぞれ下降させられた状態にすることもできる（図５において二点鎖線）。
【００４９】
即ち，ローラ７６，８６，９６がそれぞれ高縁部１１１，低縁部１２１，低縁部１２５に配置されている状態から，カム支持板１０６を基端側から先端側に向かう直進方向Ｄ１に直進させると，図６に示すように，アウターカップ６２，センタリング機構６５，インナーカップ６３がこの順に昇降するように設計されている。また，ローラ７６，１０４，１１４がそれぞれ高縁部１１２，高縁部１２２，低縁部１２６に配置されている状態から，カム支持板１０６を基端側から先端側に向かう直進方向Ｄ２に直進させると，インナーカップ６３，センタリング機構６５，アウターカップ６２がこの順に昇降するように設計されている。
【００５０】
図７に示すように，カム支持板１０６の下方には，ボールネジ１４１が備えられている。ボールネジ１４１は，長さ方向をＹ軸方向に向けて備えられており，図示しないベアリングを備えた支持体１４２，１４３によって先端側及び基端側が回転可能に支持され，Ｙ軸方向を中心として回転可能になっている。ボールネジ１４１の基端部には，従動プーリ１４４が取り付けられている。また，図２に示すように，モータ１４５の駆動により回転可能な駆動プーリ１４６が設けられている。従動プーリ１４４と駆動プーリ１４６には，無端状のベルト１４７が巻回されている。なお，支持体１４２，１４３，モータ１４５は，図２に示すようにチャンバー６０の底部６０ｂより下方に配置されチャンバー６０に対して固定された筐体１４８上に固定されている。本実施の形態において，駆動部１０７は，ボールネジ１４１，従動プーリ１４４，ベルト１４７，駆動プーリ１４６及びモータ１４５によって構成されている。また，筐体１４８上には，ボールネジ１４１の両側においてボールネジ１４１と略平行に，ガイドレール１５１Ａ，１５１Ｂが設けられている。
【００５１】
カム支持板１０６の下面には，ボールネジ１４１と螺合したネジ穴を有する接続体１５２，及び，各ガイドレール１５１Ａ，１５１Ｂに沿ってそれぞれ摺動可能な摺動体１５３Ａ，１５３Ｂが取り付けられている。従って，カム支持板１０６は，接続体１５２，摺動体１５３Ａ，１５３Ｂを介して，ボールネジ１４１，ガイドレール１５１Ａ，１５１Ｂに対して直進可能に支持されている。
【００５２】
かかる構成においては，モータ１４５の駆動により駆動プーリ１４６が回転させられると，駆動プーリ１４６の回転に伴って従動プーリ１４４が回転させられ，従動プーリ１４４の回転に伴って，ボールネジ１４１がＹ軸方向を中心として回転させられるようになっている。接続体１５２及びカム支持板１０６は，ガイドレール１５１Ａ，１５１Ｂによってガイドされながら，ボールネジ１４１の回転に伴ってＹ軸方向に直進移動させられる。即ち，カム支持板１０６上の直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃが，カム支持板１０６と一体的にＹ軸方向に沿って直進移動するようになっている。なお，モータ１４５の回転方向，即ちボールネジ１４１の回転方向は可変となっているので，カム支持板１０６，直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃの移動方向は逆向きにすることもできる。即ち図７に示すように，直進方向Ｄ１にも直進方向Ｄ２にも移動させることができる。
【００５３】
図２に示すように，供給ノズル６７ａは，略水平に設けられた供給ノズルアーム６７の先端部に取り付けられており，供給ノズルアーム６７の回転により，スピンチャック６１に保持されたウェハＷの上方において，少なくともウェハＷの中央部上方から周縁部上方までスキャンするように移動することができる。
【００５４】
供給ノズル６７ａには，処理液として薬液を供給する薬液供給路１６１，リンス用処理液として純水（ＤＩＷ）を供給する純水供給路１６２，乾燥用処理ガスとして例えば窒素ガス（Ｎ２）などの不活性ガスを供給する不活性ガス供給路１６３が接続されている。薬液供給路１６１，純水供給路１６２，不活性ガス供給路１６３は，供給ノズル６７ａに設けられた３つの供給口（図示せず）にそれぞれ個別に接続されている。薬液供給路１６１，純水供給路１６２，不活性ガス供給路１６３には，それぞれ開閉弁１６６，１６７，１６８が介設されている。
【００５５】
なお，基板洗浄ユニット４５Ａの各部の制御は，制御部１７０の命令によって制御される。制御部１７０は，例えばモータ７２，モータ１４５，図示しない供給ノズルアーム６７の回転駆動機構や昇降機構，開閉弁１６６，１６７，１６８等に制御命令を与え，各動作を制御するようになっている。
【００５６】
基板洗浄ユニット４５Ａは以上のような構造になっており，基板洗浄ユニット４５Ｃも，基板洗浄ユニット４５Ａと概ね同様の構成を有している。基板洗浄ユニット４５Ｂ，４７Ｄは，基板洗浄ユニット４５Ａ，４５Ｃに対してほぼ面対称な構造になっている。
【００５７】
次に，以上のように構成された処理システム１を用いたウェハＷの処理工程について説明する。先ず，未だ処理システム１における処理が施されていない複数枚のウェハＷが収納されたキャリアＣがキャリア載置部１０に載置され，基板搬送装置２５によってキャリアＣ内のウェハＷが取り出され，受け渡しユニット４１Ａに搬入され，主ウェハ搬送機構３１によって受け渡しユニット４１Ａから基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５Ｄのいずれかに搬送される。そして，基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５ＤにおいてウェハＷの洗浄処理が行われる。洗浄処理後，ウェハＷは主ウェハ搬送機構３１によって基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５Ｄから搬出させられ，加熱ユニット４７Ａ〜４７Ｃのいずれかに搬入され，加熱による乾燥処理が施される。その後，必要に応じて冷却ユニット４６にて冷却される。乾燥又は冷却処理後，ウェハＷは加熱ユニット４７Ａ〜４７Ｃ又は冷却ユニット４６から搬出され，受け渡しユニット４１Ｂに受け渡される。そして，基板搬送装置２５によって受け渡しユニット４１Ｂから取り出され，再びキャリアＣ内に収納される。
【００５８】
次に，基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５Ｄにおける洗浄処理について詳細に説明する。先ず，ウェハＷを搬入する前の基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５Ｄにおいては，アウターカップ６２は上昇位置に配置され，搬入出口７１がアウターカップ６２の側壁部６２ａによって閉塞されている。また，インナーカップ６３は下降位置に配置され，センタリング機構６５は下降位置に配置されている。即ち，各支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃのローラ７６は高縁部１１１上に位置し，各支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃのローラ８６は低縁部１２１上に位置し，各支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃのローラ９６は低縁部１２５上に位置している。
【００５９】
かかる状態において，駆動部１０７の駆動を開始させ，カム支持板１０６の直進方向Ｄ１に向かう直進移動を開始させる。すると，各ローラ７６，８６，９６は，それぞれ回転しながら各直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃの先端側から基端側に向かって相対的に直進移動する。その移動の途中で，先ず，各ローラ７６が高縁部１１１から傾斜部１１４に沿って相対的に下降し，低縁部１１３に移動する。これにより，支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃが一斉に下降し，アウターカップ６２が上昇位置から下降位置に下降させられ，搬入出口７１が開口させられる。
【００６０】
こうして搬入出口７１を開口させたら，搬送アーム３１ａ〜３１ｃのいずれかによって保持したウェハＷを搬入出口７１を介してチャンバー６０内に進入させ，スピンチャック６１に受け渡す。ウェハＷを受け渡したら，搬送アーム３１ａ〜３１ｃを搬入出口７１からチャンバー８０の外部に退出させる。
【００６１】
搬送アーム３１ａ〜３１ｃが退出した後，さらに直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃが直進方向Ｄ１に直進移動させられると，各ローラ７６は低縁部１１３から傾斜部１１５に沿って相対的に上昇し，高縁部１１２に移動する。これにより，支持部材７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃが一斉に上昇し，図８に示すように，アウターカップ６２が下降位置から再び上昇位置に持ち上げられ，搬入出口７１が閉塞される。スピンチャック６１に保持されたウェハＷは，アウターカップ６２の上部６２ｂによって囲まれた状態となる。
【００６２】
その後，直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃがさらに直進方向Ｄ１に向かって直進移動すると，各ローラ９６が，低縁部１２５から傾斜部１２８に沿って相対的に上昇し，高縁部１２７に移動する。これにより，支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃが一斉に上昇し，図６に示すように，センタリング機構６５が下降位置から上昇位置に持ち上げられる。センタリング機構６５が上昇位置に配置されたら，各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃの各突起９１を当接させ，ウェハＷのセンタリングを行う。センタリングが行われたら，スピンチャック６１の図示しない吸着手段を作動させ，ウェハＷの下面をスピンチャック６１によって吸着させる。これにより，ウェハＷがセンタリングされた状態で確実に保持される。また，各回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃの各突起９１をウェハＷから離隔させる。その後，直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃがさらに直進方向Ｄ１に向かって直進移動すると，各ローラ９６は高縁部１２７から傾斜部１２９に沿って相対的に下降し，低縁部１２６に移動する。これにより，支持部材９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃが一斉に下降し，センタリング機構６５が上昇位置から再び下降位置に戻される。
【００６３】
次に，直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃがさらに直進方向Ｄ１に向かって直進移動すると，各ローラ８６が，低縁部１２１から傾斜部１２３に沿って相対的に上昇し，高縁部１２２に移動する。これにより，支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃが一斉に上昇し，図６に示すように，インナーカップ６３が下降位置から上昇位置に持ち上げられる。スピンチャック６１に保持されたウェハＷは，アウターカップ６２の内側において，インナーカップ６３によって囲まれた状態となる。こうしてアウターカップ６２とインナーカップ６３を上昇させたら，駆動部１０７の駆動を停止させ，直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃを静止させる。これにより，アウターカップ６２とインナーカップ６３が上昇した状態が維持される。
【００６４】
かかる状態において，スピンチャック６１によってウェハＷを回転させながら，供給ノズル７６ａからウェハＷの上面に薬液を供給し，ウェハＷの薬液処理を行う。ウェハＷ上に供給された薬液は，ウェハＷの周縁部に向かって流れ，インナーカップ６３によって受け止められ，インナーカップ６３から排出される。
【００６５】
薬液処理が終了したら，薬液供給を停止させ，再び駆動部１０７の駆動を開始させる。このとき，モータ１４６の回転方向は先程とは逆方向にし，直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃを直進方向Ｄ２に移動させる。すると，各ローラ８６が高縁部１２２から傾斜部１２３に沿って相対的に下降し，低縁部１２１に移動する。これにより，支持部材８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃが一斉に下降し，図６に示すように，インナーカップ６３が上昇位置から下降位置に戻される。各ローラ８６が低縁部１２１に移動したら，駆動部１０７の駆動を一旦停止させる。これにより，インナーカップ６３が下降位置に配置された状態に維持される。スピンチャック６１に保持されたウェハＷは，インナーカップ６３の上方において，アウターカップ６２によって囲まれた状態となる。
【００６６】
かかる状態において，スピンチャック６１によってウェハＷを回転させながら，供給ノズル７６ａからウェハＷの上面に純水を供給し，ウェハＷのリンス処理を行う。ウェハＷ上に供給された純水は，ウェハＷの周縁部に向かって流れ，アウターカップ６２によって受け止められ，アウターカップ６２から排出される。リンス処理が終了したら，純水供給を停止させ，窒素ガスの供給を開始させる。ウェハＷは回転させられながら窒素ガスを供給されることにより乾燥処理される。
【００６７】
乾燥処理後，窒素ガスの供給及びスピンチャック６１の回転を停止させ，ウェハＷを静止させる。そして，再び駆動部１０７の駆動を開始させ，直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃを直進方向Ｄ２に直進移動させる。各ローラ７６，８６，９６は，それぞれ回転しながら各直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃの基端側から先端側に向かって相対的に直進移動する。各ローラ７６が傾斜部１１５を介して低縁部１１３に移動すると，図６に示すように，アウターカップ６２が上昇位置から再び下降位置に下降させられる。即ち，搬入出口７１が開口させられる。
【００６８】
搬入出口７１が開口させられたら，搬送アーム３１ａ〜３１ｃのいずれかを搬入出口７１を介してチャンバー６０内に進入させ，スピンチャック６１によるウェハＷの吸着を解除し，搬送アーム３１ａ〜３１によってスピンチャック６１からウェハＷを受け取り，搬入出口７１を介して搬出させる。こうして，基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５Ｄにおける一連の洗浄処理が終了する。
【００６９】
処理済みのウェハＷが搬出させられた後，次の未処理のウェハＷが搬入出口７１を介して搬入されると，上述した工程と同様の工程によって，次のウェハＷが洗浄処理される。こうして，複数枚のウェハＷが連続的に洗浄処理される。
【００７０】
かかる基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５Ｄによれば，直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃを一体的に直進移動させる移動機構６６の作動によって，アウターカップ６２，インナーカップ６３，センタリング機構６５をそれぞれ昇降させることができる。従って，従来のように，アウターカップ６２を昇降させるためのシリンダ等の駆動機構，インナーカップ６３を昇降させるためのシリンダ等の駆動機構，位置合わせ機構を昇降させるシリンダ等の駆動機構を個別に設ける必要が無いので，これらの駆動機構等に要するスペースを削減できる。従って，基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５Ｄの小型化を図ることができ，また，駆動機構等に要するコストの低減を図ることができる。
【００７１】
また，直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃの形状や配置を設計することにより，直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃの直進移動を調節するだけで，即ち，一個のモータ１４５の駆動を制御するだけで，基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５ＤにおけるウェハＷの処理工程に従って，アウターカップ６２，インナーカップ６３，センタリング機構６５を所定の順番に昇降させることができる。従って，従来のようにアウターカップ６２の駆動機構，インナーカップ６３の駆動機構，センタリング機構６５の駆動機構等に対して個別に制御命令を与える手間を省略でき，制御部１７０の制御が簡単になる。
【００７２】
さらに，アウターカップ６２，インナーカップ６３，センタリング機構６５は，各ローラ７６，８６，９６を介して，直進カム１０２Ａ〜１０２Ｃ，１０３Ａ〜１０３Ｃ，１０５Ａ〜１０５Ｃの各縁部によって確実に支持されるようになっており，アウターカップ６２，インナーカップ６３，センタリング機構６５が保持されている位置から誤って落下するおそれがない。従って，アウターカップ６２，インナーカップ６３，センタリング機構６５の各昇降動作のタイミングがずれることを防止でき，各昇降動作を正確に行うことができる。
【００７３】
以上，本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において，各種の変更例または修正例に想到しうることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００７４】
本実施の形態においては，ウェハＷを囲むカップは２個，即ちアウターカップ６２及びインナーカップ６３が備えられているとしたが，カップの個数は任意で良く，例えば１個であっても良い。勿論，３個以上備えても良い。この場合も，カップを昇降させるためのカップ用直進カムを各カップにそれぞれ対応させて設け，それらのカップ用直進カムをカム支持板１０６上に追加して設けるようにすれば，駆動部１０７を駆動させることにより，各カップを処理工程に応じて順番に昇降させることができる。
【００７５】
本実施の形態では，アウターカップ６２全体を昇降させることで，側壁部６２ａによって搬入出口７１を開閉することとしたが，アウターカップ６２とは別個に，搬入出口７１を開閉するシャッターを設けても良い。さらに，そのシャッターの昇降移動も，移動機構６６によって行うようにしても良い。例えば図８に示すように，搬入出口７１に対して相対的に昇降することにより搬入出口７１をチャンバー６０の内側から開閉するシャッター１８０を，アウターカップ６２の外側に設ける。そして，シャッター１８０を支持するシャッター用支持部材１８１を取り付け，支持部材１８１の下端部にはシャッター用ローラ１８２を設ける。底部６０ｂには，支持部材１８１の昇降をガイドする筒状のシャッター用ガイド部材１８３を取り付ける。そして，直進移動することによりシャッター１８０を昇降させるためのシャッター用直進カム１８３を，カム支持板１０６上において他の直進カムと略平行に設ければ良い。即ち，直進カム１８３の直進移動に伴ってローラ１８２が回転しながら昇降させられることにより，支持部材１８１がガイド部材１８３によってガイドされながら昇降する構成にする。このようにしても，駆動部１０７の駆動により，シャッター１８０，アウターカップ６２，インナーカップ６３，センタリング機構６５等を，処理工程に応じて順番に昇降させるように構成することができる。
【００７６】
シャッター１８０，アウターカップ６２，インナーカップ６３，センタリング機構６５等の昇降動作の順番や，処理工程の順番などは，実施の形態に示したものに限定されず，任意に設定することができる。即ち，シャッター用直進カム，アウターカップ用直進カム，インナーカップ用直進カム，センタリング機構用直進カム等の形状や配置を適宜設計することで，様々な順番で昇降させることができる。例えば，インナーカップ６３を上昇位置に上昇させた状態でセンタリング機構６５を上昇位置に上昇させ，センタリングを行うようにしても良い。
【００７７】
また，本実施の形態では，ウェハＷをチャンバー８０内に搬入して搬入出口７１を閉じた後，即ちアウターカップ６２を上昇位置に上昇させた後に，センタリング機構６５を上昇位置に上昇させ，センタリングを行うとしたが，搬入出口７１を開口させている間，即ちアウターカップ６２を下降位置に下降させている間に，センタリング機構６５を上昇位置に上昇させても良い。
【００７８】
また，本実施の形態では，搬入したウェハＷをスピンチャック６１に受け渡すとしたが，例えば図９に示すように，搬入出口７１を開いている間，センタリング機構６５を上昇位置に上昇させ，センタリング機構６５にウェハＷを受け渡すようにしても良い。例えばセンタリング機構６５の回転板９０Ａ〜９０Ｃの上面にウェハＷを載せるようにすれば良い。ウェハＷがセンタリング機構６５に受け渡されたら，すぐにセンタリングを行い，その後，センタリング機構６５を下降位置に下降させ，センタリング機構６５からスピンチャック６１にウェハＷが受け渡されるようにしても良い。この場合，ウェハＷを搬入してすぐにセンタリングを行うことができるので，スループットの向上を図ることができる。
【００７９】
本実施の形態では，スピンチャック６１はウェハＷの下面を吸着保持する構成としたが，例えばウェハＷの周縁部に複数の保持部材を当接させてウェハＷを保持するメカチャック式のものであっても良い。
【００８０】
本実施の形態におけるセンタリング機構６５は，回転板９０Ａ，９０Ｂ，９０Ｃをそれぞれ回転させ，ウェハＷの周縁部に対して各突起９１を当接させることにより，センタリングを行う構成としたが，センタリング機構６５の構成はかかるものには限定されない。例えば，ウェハＷの外周縁に沿うように円弧状に湾曲させた内周面を有する複数のガイド部材を備えた構成としても良い。各ガイド部材の内周面は，下方に向かうほど内側に向かうように傾斜させることが好ましい。かかる構成においては，スピンチャック６１に保持されたウェハＷの下方から各ガイド部材を上昇させ，各ガイド部材の内周面下部に囲まれる位置にウェハＷを相対的に落とし入れることで，ウェハＷの周縁に各ガイド部材の内周面下部を接触させ，ウェハＷのセンタリングを行うことができる。
【００８１】
また，本発明にかかる基板処理装置は，基板洗浄ユニット４５Ａ〜４５Ｄには限定されず，例えば基板の周縁部を洗浄する洗浄装置，基板に形成された膜の周縁部を除去する周辺部除去処理を行う基板処理装置，及び，基板に対して洗浄以外の他の処理，例えば成膜処理等を行う基板処理装置に適用することもできる。本発明にかかる基板処理方法は，例えば基板の周縁部を洗浄する洗浄方法，周辺部除去処理方法，及び，ウェハＷに対して洗浄以外の他の処理，例えば成膜処理等に適用することもできる。
【００８２】
本発明における基板はウェハに限定されるものではなく，例えばＬＣＤ用のガラス基板，フォトマスク基板，ＣＤ基板等であっても良い。従って，基板の形状も限定されるものではなく，任意の形状，例えば略長方形板状等であっても良い。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明は，基板を処理する基板処理装置及び基板処理方法に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】処理システムの構成を説明する概略平面図である。
【図２】基板洗浄ユニットの構成を説明する概略縦断面図である。
【図３】スピンチャック，アウターカップ，インナーカップ，センタリング機構の配置を説明する概略斜視図である。
【図４】アウターカップ用直進カム，インナーカップ用直進カム，センタリング機構用直進カムを備えたカム支持板の概略斜視図である。
【図５】アウターカップ用直進カム，インナーカップ用直進カム，センタリング機構用直進カムに対する各ローラの配置関係を説明する説明図である。
【図６】ウェハの洗浄処理工程におけるアウターカップ，インナーカップ，センタリング機構の昇降動作を説明する説明図である。
【図７】移動機構の概略側面図である。
【図８】シャッター，シャッター用支持部材，シャッター用直進カムを設けた別の実施形態にかかる基板洗浄ユニットの構成を説明する縦断面図である。
【図９】別の実施形態にかかるアウターカップ，インナーカップ，センタリング機構の昇降動作を説明する説明図である。
【符号の説明】
【００８５】
Ｗ      ウェハ
１      処理システム
４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃ，４５Ｄ  基板洗浄ユニット
６１    スピンチャック
６２    アウターカップ
６３    インナーカップ
６５    センタリング機構
６６    移動機構
７１    搬入出口
７５Ａ，７５Ｂ，７５Ｃ  アウターカップ用支持部材
７６    アウターカップ用ローラ
８５Ａ，８５Ｂ，８５Ｃ  インナーカップ用支持部材
８６    インナーカップ用ローラ
９５Ａ，９５Ｂ，９５Ｃ  センタリング機構用支持部材
９６    センタリング機構用ローラ
１０２Ａ，１０２Ｂ，１０２Ｃ  アウターカップ用直進カム
１０３Ａ，１０３Ｂ，１０３Ｃ  インナーカップ用直進カム
１０５Ａ，１０５Ｂ，１０５Ｃ  センタリング機構用直進カム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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