(57)【要約】【課題】カラーフィルタ／色変換層パターンの最外周端部における高分子平坦化層の不均一な被覆やはじきに起因した層間剥離や短絡等のない安定なマルチカラーまたはフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを提供する。【解決手段】赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）より選択される少なくとも２色を１組とするカラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの複数の繰り返しを配置したマルチカラーまたはフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの一方の最外側部と同色のカラーフィルタ／色変換層のダミーパターンを、他方の最外側部に配置した有機ＥＬディスプレイパネル。好ましくは前記カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの一方の最外側部と同色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターンが、全てのカラーフィルタ／色変換層のストライプパターンを囲周して配置される。【選択図】図１
2007019008.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持基板、該透明支持基板上に順次積層された色変換フィルタおよび有機ＥＬ発光素子を含み、前記色変換フィルタは赤色、緑色および青色から選択される少なくとも２色のカラーフィルタ／色変換層を１組としたカラーフィルタ／色変換層の複数のストライプパターン、該カラーフィルタ／色変換層を被覆する透明な高分子平坦化層および該高分子平坦化層を被覆するパッシベーション層を備え、表示領域を越えて前記カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンが配置されているマルチカラーまたはフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記表示領域を越えて配置されたカラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの一方の最外側部に、他方の最外側部に配置されたカラーフィルタ／色変換層と同色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターンが配置されていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項２】
前記カラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターンと同色のカラーフィルタ／色変換層のパターンが、異色のカラーフィルタ／色変換層のパターンよりも長い形成長さを有することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項３】
前記ダミーパターンとして配置されたカラーフィルタ／色変換層が、赤色（Ｒ）のカラーフィルタ／色変換層であることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項４】
透明支持基板、該透明支持基板上に順次積層された色変換フィルタおよび有機ＥＬ発光素子を含み、前記色変換フィルタは赤色、緑色および青色から選択される少なくとも２色のカラーフィルタ／色変換層を１組としたカラーフィルタ／色変換層の複数のストライプパターン、該カラーフィルタ／色変換層を被覆する透明な高分子平坦化層および該高分子平坦化層を被覆するパッシベーション層を備え、表示領域を越えて前記カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンが配置されているマルチカラーまたはフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記表示領域を越えて配置されたカラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの一方の最外側部に配置されたカラーフィルタ／色変換層を前記色変換フィルタの第１の辺とした時に、第１の辺と同色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターンが、前記色変換フィルタの他の全ての各辺において最外側部の少なくとも一部に配置されていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項５】
前記ダミーパターンが、カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの全てを囲周して配置されていることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項６】
前記ダミーパターンが、コの字型に連続して配置されていることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項７】
前記ダミーパターンと異色の前記カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの長手方向両端部領域の少なくとも一部に、前記ダミーパターンが配置されていることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項８】
前記ダミーパターンと異色の前記カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの長手方向両端部領域の全てに、前記ダミーパターンが配置されていることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項９】
前記ダミーパターンとして配置されるカラーフィルタ／色変換層が、赤色（Ｒ）のカラーフィルタ／色変換層である請求項４ないし８に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（以下「有機ＥＬ」と称す）ディスプレイに関し、さらに詳しくは、透明支持基板上にカラーフィルタ／色変換層のストライプパターンが配置された積層構造体からなる色変換フィルタを備えた、マルチカラーまたはフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報の多様化が進み、固体撮像素子をはじめ、情報分野における表示デバイスには、美・軽・薄・優が要求されているばかりでなく、さらに低消費電力・高応答が要求され、それらに向けての活発な開発が進められ、特に高精細なフルカラー表示デバイスの考案が広く提案されている。
有機ＥＬ発光素子は、１９８０年代の後半、印加電圧１０Ｖにおいて１０００ｃｄ／ｃｍ２以上の高輝度が得られる有機分子の薄膜積層構造を有する有機ＥＬ素子（非特許文献１）が報告されて以来、現在数多く市販されている液晶ディスプレイに対抗して、視野角依存性、光応答速度を有する素子として実用化に向けての研究が活発化し、その一部は既に商品化されている。また、発光材料をはじめ構成材料に有機高分子材料を用いた有機ＥＬ素子も数多く提案されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、低電圧で高い電流密度が実現できることから、無機ＥＬ素子やＬＥＤに比べて高い発光輝度および発光効率が期待でき、（１）高輝度および高コントラスト、（２）低駆動電圧および高発光効率、（３）高解像度、（４）高視野角、（５）高応答速度、（７）微細化およびカラー化、（７）軽さおよび薄さなど、表示素子としての優れた特徴を有し、美・軽・薄・優への要求を満たすマルチカラーまたはフルカラーディスプレイ・フラットパネルへの応用が期待されている。
【０００４】
有機ＥＬディスプレイのマルチカラー化またはフルカラー化の一例として、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三原色の発光体をマトリクス状に配置し、それぞれを発光させる方法が提案されている（特許文献１、特許文献２、特許文献３）。ＲＧＢそれぞれの有機発光素子を用いてカラー化する場合、ＲＧＢ用の３種の発光体をマトリクス状に高細密に配置することが要求されることから、技術的な困難性を伴い、製造コストが高くなる。加えて、３種の発光体の寿命が異なることから、時間の経過に伴って色度にズレを生ずる怖れがある。
【０００５】
別法として、白色発光体をバックライトとして使用し、カラーフィルタを用いて三原色を分離し、透過させる方法が提案されている（特許文献４、特許文献５、特許文献６）が、発光量をＲＧＢに分離することから、高輝度のＲＧＢ光を得るために要求される高輝度の白色光を期待できる有機発光体は未だ得られていない。
さらに、発光体の発光を平面的に分離配置した蛍光体に吸収させ、それぞれの蛍光体から多色の蛍光を発光させる方法も提案されている（特許文献７）が、蛍光体から多色の蛍光を発光させる方法は、ＣＲＴ、プラズマディスプレイなどに実績がある。
【０００６】
近年では有機発光体の発光域の光を吸収し、可視光域の蛍光を発光する蛍光材料をフィルタと組み合わせて用いる色変換フィルタ方式が提案され（特許文献７、特許文献８）、この方式では、有機発光体の発光色は白色に限定されないことから、より輝度の高い有機発光体を光源に使用でき、青色発光の有機発光体を用いた色変換フィルタ方式（特許文献７、特許文献９、特許文献１０）では、青色光を緑色光や赤色光に波長変換している。このような蛍光色素を含む蛍光変換膜を高細密にパターニングして配置すれば、発光体の近紫外光ないし可視光範囲のエネルギー線を用いてフルカラーの発光型ディスプレイを構築することができる。
【０００７】
このような色変換フィルタ方式のフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの典型的な断面構造を図７に示す。図７において、１０は透明支持基板、２０は色変換フィルタ、３０は有機ＥＬ発光素子であり、色変換フィルタ２０は、カラーフィルタ／色変換層２１、平坦化層２２およびパッシベーション層２３から構成され、有機ＥＬ発光素子３０は、第１電極３１、絶縁層３２、有機ＥＬ層３３および第２電極３４から構成される。図７において、カラーフィルタ／色変換層２１は、それぞれ赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）それぞれのカラーフィルタと色変換層との積層体、カラーフィルタ兼色変換層、あるいはカラーフィルタの単独からなり、３色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）、２１（Ｇ）および２１（Ｂ）を１組としたストライプパターンが透明支持基板１０上に配置されている。
【０００８】
上記のような有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、表示部最外周の表示不良を防止する手段として、表示領域を越えたさらに外側に表示に使用されないカラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンを配置する方法が提案されている（特許文献１２）。
前記色変換フィルタ方式の有機ＥＬフルカラーディスプレイパネルの典型的な製造方法は、透明支持基板１０上に、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれのカラーフィルタ／色変換層２１をパターニングして配置し、該カラーフィルタ／色変換層２１を透明な高分子平坦化層２２で被覆して平坦な表面を形成し、該高分子平坦化層３を透明な無機膜からなるパッシベーション層２３で被覆することによって色変換フィルタ２０を形成する。次いで、該色変換フィルタ２０上に透明導電膜を被覆しパターンニングして第１電極３１を形成し、該第１電極３１上に絶縁膜を被覆しパターニングして絶縁層３２を形成し、前記第１電極３１および絶縁層３２上に有機ＥＬ層３３を積層し、該有機ＥＬ層３３上に第２電極３４を積層して該第２電極３４を前記第１電極３１と直交して配置することによって有機ＥＬ発光素子３０を形成する。最終的に、透明支持基板１０上に積層された色変換フィルタ２０および有機ＥＬ発光素子３０を封止体４０で封止する。
【０００９】
カラーフィルタ／色変換層２１の形成方法として、液状レジスト（光反応性ポリマー）に蛍光色素を分散させた懸濁液を透明支持基板１０上、あるいは透明支持基板１０上に配置したカラーフィルタ上にスピンコート法などにより均一な厚さに塗布して製膜した後、フォトリソグラフィー法等でパターニングする方法（特許文献１１、特許文献８）、塩基性バインダーに蛍光色素を分散させて透明支持基板１０上、あるいは透明支持基板１０上に配置したカラーフィルタ上に塗布し、酸性水溶液を用いてエッチングしてパターニングする方法（特許文献１０）などが知られている。
【特許文献１】特開昭５７−１５７４８７号公報
【特許文献２】特開昭５８−１４７９８９号公報
【特許文献３】特開平０３−２１４５９３号公報
【特許文献４】特開平０１−３１５９８８号公報
【特許文献５】特開平０２−２７３４９６号公報
【特許文献６】特開平０３−１９４８９５号公報
【特許文献７】特開平０３−１５２８９７号公報
【特許文献８】特開平０５−２５８８６０号公報
【特許文献９】特開平０８−２８６０３３号公報
【特許文献１０】特開平０９−２０８９４４号公報
【特許文献１１】特開平０５−１９８９２１号公報
【特許文献１２】特開平１１−３０７２６３号公報
【非特許文献１】Ａｐｐｌ．  Ｐｈｙｓ．  Ｌｅｔｔ．  ５１，  ９１３  （１９８７）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
カラーフィルタ／色変換層２０は、ＲＧＢの各色毎に高さが異なり、その最大段差は１０μｍ前後と大きく、またＲＧＢの各色毎に構成材料が異なり、純水との接触角も４０°〜９０°程度と異なる。
このような高さや構成材料の異なるカラーフィルタ／色変換層２０の形成により生じた表面の凹凸を緩和し、その上にパッシベーション層２３を介して有機ＥＬ発光素子３０を積層するのに適した平坦な表面を得るための高分子平坦化層２２の形成において、カラーフィルタ／色変換層２０がＲＧＢの規則的な繰返しのストライプパターンを有する範囲では、全体的にほぼ同じ高さを有することから、平坦な表面を有する高分子平坦化層２２の均一な被覆を得ることができる。
【００１１】
一方、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンが、ＲＧＢの規則的なストライプパターンの繰返しのない両最外側部では、図７に示したように、カラーフィルタ／色変換層の形成順序により、左端には最初に形成されたカラーフィルタ／色変換層（図７では青色の２１（Ｂ））の外側に２番目および３番目に形成された上面が外側に傾斜したカラーフィルタ／色変換層２１（図７では緑色の２１（Ｇ）および赤色の２１（Ｒ））が配置されるのに対して、右端には最初に形成されたカラーフィルタ／色変換層（図７では青色の２１（Ｂ））のみが配置され、その急峻な壁が存在する。その結果、これらのカラーフィルタ／色変換層２１の上に形成される高分子平坦化層２２の表面は、左端では緩やかな傾斜を有するのに対して、右端では急峻な傾斜を有することから、高分子平坦化層２２の被覆が不均一となるばかりでなく、カラーフィルタ／色変換層２１と高分子平坦化層２２との親和性も両外側部で異なることから高分子平坦化層２２にはじきが発生しやすい。
【００１２】
また、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの長手方向の両端部においては、高分子平坦化層２２の形成材料の流れにより、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンに沿った谷が形成され、高分子平坦化層２２の表面に波打ちが発生する。表示領域の高分子平坦化層２２には、十分に平坦な表面が要求されることから、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンを表示領域外に十分に延長して形成することが要求される。
【００１３】
これらのカラーフィルタ／色変換層のパターンの最外周端部における高分子平坦化層の不均一な被覆やはじきは、前記表示領域を越えてカラーフィルタ／色変換層のパターンを配置した場合においても同様に発生し、その後に形成されるパッシベーション層の被覆不良や、絶縁層の剥離を誘起し、有機ＥＬ発光素子の短絡を誘発する原因の一つになっている。
【００１４】
本発明は、カラーフィルタ／色変換層パターンの最外周端部における高分子平坦化層の不均一な被覆やはじきを解消し、パッシベーション層の被覆不良や第１電極および絶縁層の剥離を防止することにより、有機ＥＬ発光素子の短絡のない安定なマルチカラーまたはフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの両最外側部に、同一材料で形成された同一の高さを有する同色のカラーフィルタ／色変換層を配置することにより、両外側部のカラーフィルタ／色変換層を越えて被覆される高分子平坦化層の表面の傾斜がカラーフィルタ／色変換層の両最外側部でほぼ等しくなり、高分子平坦化層の均一な被覆が得られること、より好ましくは、カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの長手方向両端部領域に前記と同色のカラーフィルタ／色変換層をさらに配置することによりカラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの長手方向の端部において、高分子平坦化層表面の波うちが解消され、均一な被覆が得られることを見出し、本発明を完成した。
【００１６】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの第１の形態は、透明支持基板、該透明支持基板上に順次積層された色変換フィルタおよび有機ＥＬ発光素子を含み、前記色変換フィルタは赤色、緑色および青色から選択される少なくとも２色のカラーフィルタ／色変換層を１組としたカラーフィルタ／色変換層の複数のストライプパターン、該カラーフィルタ／色変換層を被覆する透明な高分子平坦化層および該高分子平坦化層を被覆するパッシベーション層を備え、表示領域を越えて前記カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンが配置されているマルチカラーまたはフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記表示領域を越えて配置されたカラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの一方の最外側部に、他方の最外側部に配置されたカラーフィルタ／色変換層と同色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターンが配置されていることを特徴とする。
【００１７】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの第２の形態は、前記カラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターンと同色のカラーフィルタ／色変換層のパターンは、異色のカラーフィルタ／色変換層のパターンよりも長い形成長さを有する。前記第１および第２の形態において、前記ダミーパターンが、赤色（Ｒ）のカラーフィルタ／色変換層からなることが好ましい。
【００１８】
本発明の他の形態は、前記と同色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターンを、さらにカラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの長手方向両端部近傍の少なくとも一部に配置するものである。即ち、透明支持基板、該透明支持基板上に順次積層された色変換フィルタおよび有機ＥＬ発光素子を含み、前記色変換フィルタは赤色、緑色および青色から選択される少なくとも２色のカラーフィルタ／色変換層を１組としたカラーフィルタ／色変換層の複数のストライプパターン、該カラーフィルタ／色変換層を被覆する透明な高分子平坦化層および該高分子平坦化層を被覆するパッシベーション層を備え、表示領域を越えて前記カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンが配置されているマルチカラーまたはフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記表示領域を越えて配置されたカラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの一方の最外側部に配置されたカラーフィルタ／色変換層を前記色変換フィルターの第１の辺とした時に、第１の辺と同色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターンが、前記色変換フィルターの他の全ての各辺において最外側部の少なくとも一部に配置されていることを特徴とする。
【００１９】
より具体的には、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの第３の形態は、前記ダミーパターンが、カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの全てを囲周して配置されていることを特徴とする。前記ダミーパターンを連続するコの字型として色変換フィルターの３辺を囲周し、前記第１の辺と併せて実質的に色変換フィルターを囲周する構成としても良い。
【００２０】
さらに、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの第４の形態は、前記ダミーパターンと異色の前記カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの長手方向両端部領域の少なくとも一部に、前記ダミーパターンが配置されていることを特徴とする。
さらに、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの第５の形態は、前記ダミーパターンと異色の前記カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの長手方向両端部領域の全てに、前記ダミーパターンが配置されていることを特徴とする。
【００２１】
前記第３から第５の形態において、ダミーパターンとして配置されるカラーフィルタ／色変換層が、赤色（Ｒ）のカラーフィルタ／色変換層であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明において、カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの両最外側部に、また、ストライプパターンの長手方向両端部領域の少なくとも一部に、同一材料からなる同色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターンを配置したことにより、これらの同色のカラーフィルタ／色変換層が、高分子平坦化層形成時に同じ高さを有する堰として機能し、未硬化の高分子平坦化層形成材料の均一な流れを作り出す結果、高分子平坦化層の均一な被覆を得ることができる。また、カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの両最外側部に配置される、あるいはストライプパターンの長手方向両端部領域の少なくとも一部に配置されるカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターンが同一材料からなることから、高分子平坦化層材料との親和性が等しくなり、高分子平坦化層のはじきが解消される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明を、図１〜６に基づいて説明する。図１は、本発明のフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの断面図、図２〜６は、それぞれ第１から第５の形態のカラーフィルタ／色変換層のパターン配置の一例を示す平面図であり、図７は、表示領域を越えて表示に使用されないカラーフィルタ／色変換層のパターンを配置した従来技術のフルカラー有機ＥＬディスプレイパネル（特許文献１２参照）の断面図、図８はそのカラーフィルタ／色変換層のパターン配置を示す平面図である。
【００２４】
本発明において、有機ＥＬディスプレイパネルは、図１に示したように、透明支持基板１０、該透明支持基板上に順次積層された色変換フィルタ２０および有機ＥＬ発光素子３０を含み、色変換フィルタ２０および有機ＥＬ発光素子３０が、封止体４０で封止される。
色変換フィルタ２０は、透明支持基板１０上に赤色（Ｒ）、緑色（Ｒ）および青色（Ｂ）それぞれのカラーフィルタ／色変換層２１、該カラーフィルタ／色変換層２１上の高分子平坦化層２２および該高分子平坦化層２２上のパッシベーション層２３から構成され、有機ＥＬ発光素子３０は、色変換フィルタ２０上に配置された第１電極３１、該第１電極３１の縁部および第１電極間に配置された絶縁層３２、前記第１電極３１および絶縁層３２上に積層された有機ＥＬ層３３および該有機ＥＬ層３３上に配置された第２電極３４から構成される。
【００２５】
上記の有機ＥＬディスプレイパネルでは、有機ＥＬ発光素子３０の有機ＥＬ層３３で発光させた近紫外ないし可視領域の光を色変換フィルタ２０に入射し、色変換フィルタ２０のカラーフィルタ／色変換層２１を通して透明支持基板１０の裏面に画像として出光させる。
カラーフィルタ／色変換層のストライプパターン
カラーフィルタ／色変換層２１は、フルカラーディスプレイパネルにおいては、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）３色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）、２１（Ｇ）および２１（Ｒ）を１組としたパターン、マルチカラーディスプレイパネルにおいては、Ｒ、ＧおよびＢから選択された２色のカラーフィルタ／色変換層２１を１組としたパターンの複数が、透明支持基板１０上に表示領域全体および表示領域を越えて配置される。本発明においてカラーフィルタ／色変換層２１のパターンは、図２〜６に示したようなストライプパターンである。
【００２６】
カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンは、図２〜６に示したように、表示領域を越えた両側のそれぞれに、ＲＧＢの少なくとも２色の１組からなるカラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンが配置され、本発明においては、図２〜３に示したように、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの一方の最外側部に配置されたカラーフィルタ／色変換層と同色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターン２１ａ（図２、３では赤色（Ｒ））が、他方の最外側部に配置されている。一方、従来技術においては、図８に示したように、カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの両最外側部には異なる色のカラーフィルタ／色変換層（図８ではそれぞれ赤色の２１（Ｒ）と青色の２１（Ｂ））が配置されている。
【００２７】
本発明の図４〜６に示した形態においては、さらにカラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの長手方向両端部領域の少なくとも一部に、カラーフィルタ／色変換層２１ａと同色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターンが配置されている。
本発明の図４に示した第３の形態においては、表示領域および表示領域を越えて配置されたカラーフィルタ／色変換層２１の繰返しからなるストライプパターンの全てを囲周して、同色のカラーフィルタ／色変換層２１ｂ（図４では、赤色（Ｒ））からなるダミーパターンが配置されている。
【００２８】
本発明の図５に示した第４の形態においては、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの一方の最外側部に配置されたカラーフィルタ／色変換層と同色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターン２１ｃ、２１ｄ（図５では、赤色（Ｒ））が配置されている。ダミーパターン２１ｃは他方の最外側部に配置され、さらにダミーパターン２１ｄがダミーパターンと異なる１色のカラーフィルタ／色変換層２１（図５では、青色（Ｂ））のストライプパターンの長手方向両端部領域に配置されている。
【００２９】
本発明の図６に示した第５の形態においては、前記ダミーパターン２１ｃ、２１ｄ（図６では、赤色（Ｒ））が、他方の最外側部（ダミーパターン２１ｃ）、およびダミーパターンと異色の全てのカラーフィルタ／色変換層２１（図６では、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ））のストライプパターンの長手方向両端部領域（ダミーパターン２１ｄ）に配置されている。
【００３０】
前記ダミーパターンとしてのカラーフィルタ／色変換層２１ａ〜２１ｄは、同色であればＲ、ＧおよびＢのいずれであってもよいが、層高さの高いカラーフィルタ／色変換層２１に支持されて平坦な表面の高分子平坦化層２２が形成されることから、高分子平坦化層２２の形成の直前に形成される、すなわちカラーフィルタ／色変換層２１として最後に形成される可能性が高い赤色（Ｒ）のカラーフィルタ／色変換層であることが好ましい。
【００３１】
前記カラーフィルタ／色変換層２１の各ストライプパターンおよびダミーパターン２１ａ〜２１ｄは、パターン幅が５０〜３００μｍ、好ましくは９０〜１５０μｍ、最も好ましくは９５〜１０５μｍである。
図２に示す第１の形態および図８に示す従来の形態においては、カラーフィルタ／色変換層２１の各ストライプパターンおよびダミーパターン２１ａのそれぞれが等しい形成長さを有する。
【００３２】
図３に示す第２の形態においては、両最外側部に位置するカラーフィルタ／色変換層と同色のカラーフィルタ／色変換層（図では、赤色（Ｒ））のそれぞれは、異色のカラーフィルタ／色変換層（図では、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ））のパターンよりも長い形成長さを有する。両者の形成長さの差は、３０μｍ以上、２００μｍ以下が好ましい。３０μｍ未満の場合は両者の段差を緩和する効果が減少し、２００μｍを超える場合はダミーパターンの面積が増大するためパネルサイズに悪影響を及ぼすこととなる。さらに好ましくは７０μｍ以上、１２０μｍ以下である。
【００３３】
図４に示す第３の形態においては、ダミーパターン２１ｂは全てのカラーフィルタ／色変換層２１を囲周する。他の構成例としては、ダミーパターン２１ｂをコの字型とし、表示領域を越えて配置されたカラーフィルタ／色変換層のストライプパターンの一方の最外側部に配置されたカラーフィルタ／色変換層２１をコの字を閉じる他の１辺として用いることにより、カラーフィルタ／色変換層のストライプパターンを実質的に全て囲周しても良い。
【００３４】
図５、６に示す第４、５の形態においては、両最外側部に位置するカラーフィルタ／色変換層と同色のカラーフィルタ／色変換層（図では、赤色（Ｒ））のそれぞれは、異色のカラーフィルタ／色変換層（図では、青色（Ｂ）、または青色（Ｂ）と緑色（Ｇ））のパターンよりも長い形成長さとすることが好ましい。さらには、長く形成したカラーフィルタ／色変換層の長手方向外側端部と、ダミーパターン２１ｄの外側端部とを略１直線に形成することが好ましい。このようにすることで、長手方向端部における高分子平坦化層の波うちを低減することが可能となる。両者の形成長さの差は、３０μｍ以上、２００μｍ以下が好ましい。３０μｍ未満の場合は有効に作用するダミーパターン２１ｄの形成が困難となり、２００μｍを超える場合はダミーパターンの面積が増大するためパネルサイズに悪影響を及ぼすこととなる。さらに好ましくは７０μｍ以上、１２０μｍ以下である。
ダミーパターン２１ｄは、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの両端部からストライプ方向に５μｍ以上、３０μｍ以下の距離で離間して配置することが好ましい。より好ましくは、８μｍ以上、１５μｍ以下である。３０μｍを超えて離間すると引き続き形成される高分子平坦化層２２の平坦化が不十分となる。５μｍ未満の場合は、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの端部がダミーパターン２１ｄに影響を及ぼし、ダミーパターン２１ｄの膜厚が厚くなり、やはり平坦化に悪影響を及ぼす。
【００３５】
カラーフィルタ／色変換層２１
ＲＧＢそれぞれのカラーフィルタ／色変換層２１は、ＲＧＢ各色の染料または顔料からなるフィルタ色素を含む透光性の着色樹脂からなるカラーフィルタ層と有機ＥＬ発光素子の発光体から発せられる近紫外領域ないし可視領域の光、特に、青色ないし青緑色領域の光を吸収し、異なる色、赤色〜緑色領域の可視光を発する有機蛍光色素を含む蛍光色変換層との積層体、カラーフィルタ機能を備えた前記蛍光色変換層、あるいは前記カラーフィルタ層の単独のいずれかであり、それらの層厚さは５〜２０μｍ、好ましくは８〜１５μｍ、最も好ましくは１０〜１３μｍである。カラーフィルタ／色変換層２１のパターン間には、非透光性のブラックマスクが配置されていることが好ましい。
【００３６】
赤色カラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）は、通常（Ｒ）カラーフィルタ層上に、有機ＥＬ発光素子からの青色ないし青緑色領域の光を光源とした青色ないし青緑色領域の光を、赤色領域の光に変換し得る有機蛍光色素を含む蛍光色変換層を積層して形成される。有機ＥＬ発光素子からの青色ないし青緑色領域の光を光源として、単に（Ｒ）カラーフィルタ層のみを通して赤色領域の光を取出しても、極めて弱い出力光しか得られないので、（Ｒ）カラーフィルタ層と（Ｒ）蛍光色変換層とを組み合わせて用いることにより、十分な強度の赤色領域の出力光を得ることができる。また、（Ｒ）蛍光色変換層に赤色のフィルタ色素を配合して（Ｒ）カラーフィルタ機能を兼ね備えた蛍光色変換層としてもよい。
【００３７】
緑色カラーフィルタ／色変換層２１（Ｇ）は、（Ｇ）カラーフィルタ層上に、有機ＥＬ発光素子からの青色ないし青緑色領域の光を光源とした青色ないし青緑色領域の光を、緑色領域の光に変換し得る有機蛍光色素を含む蛍光色変換層を積層して形成してもよく、（Ｇ）カラーフィルタ機能を兼ね備えた蛍光色変換層としてもよい。有機ＥＬ発光素子からの光が緑色領域の光を十分に含む場合には、（Ｇ）カラーフィルタ層のみとして緑色領域の光を出光させてもよい。
【００３８】
青色カラーフィルタ／色変換層２１（Ｂ）は、有機ＥＬ発光素子からの光を、単に（Ｂ）カラーフィルタ層のみを通して青色領域の光を出光させることが可能であることから、通常、（Ｂ）カラーフィルタ層のみからなるが、（Ｂ）カラーフィルタ層の厚みを、前記カラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）および２１（Ｇ）の合計厚みとほぼ等しくするために、（Ｂ）カラーフィルタ層上に透明な樹脂層を（Ｂ）蛍光色変換層に代えて積層することが好ましい。
【００３９】
有機ＥＬ発光素子の発光体から発せられる青色領域ないし青緑色領域の光を吸収して赤色領域の蛍光を発する有機蛍光色素として、たとえば、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジニウムパークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素およびオキサジン系色素などが挙げられる。さらに、蛍光性を有する直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料などの各種染料も使用することができる。
【００４０】
緑色領域の蛍光を発する有機蛍光色素として、たとえば、３−（２´−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン６）、３−（２´−ベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン７）、３−（２´−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−ジエチルアミノ−クマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、クマリン系染料であるベーシックイエロー５１、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。また、蛍光性を有する直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料などの各種染料も使用することができる。
【００４１】
前記有機蛍光色素は、そのまま用いてもよく、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化した有機蛍光顔料として用いてもよい。これらの有機蛍光色素および有機蛍光顔料（本明細書中、特に断りのない限り、前記「有機蛍光色素」と「有機蛍光顔料」とを総称して、「有機蛍光色素」と記す）は、それらを単独で用いてもよく、蛍光の色素を調整するために、それらの２種以上を混合して用いてもよい。
【００４２】
前記赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）の蛍光色変換層は、前記有機蛍光色素をマトリクス樹脂に含有させた層であり、有機蛍光色素を蛍光色変換層の重量基準で０．０１〜５重量％、好ましくは０．１〜２重量％含有する。有機蛍光色素の含有量が０．０１重量％未満では、波長変換が不十分となり、一方、５重量％を越えると、濃度消光などの効果により色変換効率の低下をもたらす。
【００４３】
前記マトリクス樹脂は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂組成物を、光および／または熱処理して重合または架橋させ、不溶不融化させた樹脂からなる。前記有機蛍光色素を含む光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂組成物の塗膜を露光および現像する方法で、マトリクス樹脂を含む色変換層のパターンを形成するために、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂組成物は、塗膜の非露光部分が有機溶媒やアルカリ溶液などの現像液に可溶性であることが望ましい。
【００４４】
このような光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂組成物として、たとえば、アクリロイル基および／またはメタクリロイル基を複数有するアクリル系多官能性モノマーおよびオリゴマーと、光および／または熱重合開始剤とからなるレジスト、ポリビニル桂皮酸エステルと増感剤とからなる組成物、鎖状および／または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物、エポキシ樹脂と光酸発生剤とからなるレジストなどが挙げられる。
【００４５】
特に、アクリル系多官能性モノマーおよびオリゴマーと光および／または熱重合開始剤とからなるレジストは、皮膜形成性に優れ、高精密なパターニングが可能であり、それらを重合させた樹脂は、透光性、耐溶剤性、耐熱性などに優れ、信頼性が高いことから、色変換層の形成に用いるのに好適である。
また、これらの光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂組成物は、緑色および青色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｇ）および２１（Ｂ）が、カラーフィルタ層の単独からなる場合の透明樹脂層の形成にも好適に使用することができる。
【００４６】
前記カラーフィルタ／色変換層２１は、ＲＧＢそれぞれのフィルタ色素および／または前記有機蛍光色素を配合した光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂組成物を、透明支持基板１０上、あるいは透明支持基板１０上に積層したカラーフィルタ層上に塗布して所定の厚さの塗膜を形成し、所定のパターンを有するマスクを通して露光し、非露光部分を所定の現像液を用いて現像し、除去することにより形成することができる。
【００４７】
図１〜６において、ＲＧＢそれぞれのカラーフィルタ／色変換層２１の形成順序により、最初に形成したカラーフィルタ／色変換層２１（図１〜６では２１（Ｂ））の最外側部に、左端では上面が外側に傾斜した２番目に形成したカラーフィルタ／色変換層（図１〜６では２１（Ｇ））および３番目に形成したカラーフィルタ／色変換層（図１〜６では２１（Ｒ））が、右端には上面が外側に傾斜した３番目に形成したカラーフィルタ／色変換層（図１〜６では２１ａ（Ｒ）、２１ｂ（Ｒ）、２１ｃ（Ｒ））がそれぞれ配置される。
【００４８】
高分子平坦化層２２
色変換フィルタ２０を構成する高分子平坦化層２２は、前記カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンを保護し、それらの形成により生じた透明支持基板１０上の凹凸を平坦化し、その上にパッシベーション層２３を介して有機ＥＬ発光素子３０を形成するのに適したパッシベーション層２３の平滑な表面を得るための高分子膜層である。高分子平坦化層２２の層厚さは、通常、１〜１０μｍ、好ましくは２〜８μｍ、最も好ましくは３〜５μｍである。
【００４９】
高分子平坦化層２２は、４００〜７００ｎｍの範囲の可視域における透過率が５０％以上の高い透明性および１００℃以上のガラス転移温度（Ｔｇ）および鉛筆硬度２Ｈ以上の表面硬度を有することが好ましい。
高分子平坦化層２２の形成用の材料として、カラーフィルタ／色変換層２１の機能を低下させることなく、それらの上に平滑な塗膜を形成できる材料、たとえば、イミドシリコーン樹脂、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２などの無機金属化合物をアクリル樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂などに分散させた材料、アクリレート系モノマー、オリゴマー、ポリマーおよびそれらの混合物など反応性ビニル基を含有する樹脂、各種のレジスト樹脂、フッ素系樹脂などの光硬化性および／または熱硬化性樹脂が挙げられる。
【００５０】
高分子平坦化層２２として、高い熱伝導率を有するメソゲン構造を有するエポキシ樹脂を用いて、基板方向への熱の放散を図ってもよく、また、高分子膜に代えて、ゾルゲル法を用いて形成される無機膜を用いてもよい。
高分子平坦化層２２の形成方法には特に制限はなく、スパッタ法、蒸着法、ＣＶＤ法などの乾式法を採用することができるが、好ましくはスピンコート法、ロールコート法、キャスト法などの湿式法が採用される。
【００５１】
本発明において、透明支持基板１０上に形成された前記カラーフィルタ／色変換層２１上に、前記高分子平坦化層２２を湿式法で形成する場合、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの両最外側部に、同一材料で同色のカラーフィルタ／色変換層２１および２１ａが配置されていることにより、それらを越えて流れる高分子平坦化層２２の形成材料の流れが、図１に示したように、両側で均等になり、カラーフィルタ／色変換層２１および２１ａ間では均一な厚さの平坦な表面を有し、カラーフィルタ／色変換層２１および２１ａを越えて同様の裾引きを有する高分子平坦化層２２が形成される。
【００５２】
一方、従来技術では、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの両最外側部に、異種材料で高さも異なる場合もある異色のカラーフィルタ／色変換層２１が配置されていることにより、それらを越えて流れる高分子平坦化層２２の形成材料の流れが、図７に示したように、両側で不均等になり、異なる裾引きの高分子平坦化層２２が形成される。
【００５３】
図２および図８に示したように、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの形成長さが、全て等しい形態では、ストライプパターンの長手方向端部において、各ストライプパターン間を流れる高分子平坦化層２２の形成材料の流れによって、長手方向端部に比較的に深い谷が形成され、高分子平坦化層２２表面に小さな波うちが発生するので、表示領域を越えるストライプパターンの形成長さを十分な長さとすることが要求される。
【００５４】
図３に示したように、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの最外側部に配置されたカラーフィルタ／色変換層２１および２１ａと同色のカラーフィル／タ色変換層のパターンの形成長さを、異色のカラーフィルタ／色変換層のパターン形成長さよりも長くした形態とすることが好ましい。この形態では、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの長手方向端部におけるストライプパターンの実質的な間隔が広がり、谷が浅くなる結果、ストライプパターンの長手方向端部の高分子平坦化層２２表面の波うちが減少する。
【００５５】
さらに好ましい形態は、図４に示したように、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの全てを囲周してカラーフィルタ／色変換層２１ｂを配置した形態である。高分子平坦化層２２の形成材料の流れは、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの全周にわたって均等になり、ストライプパターンの長手方向端部の高分子平坦化層２２表面の波うちが消滅し、カラーフィルタ／色変換層２１ｂで囲周された範囲内に均一な厚さの高分子平坦化層２２が形成される。
【００５６】
この効果は、図５、６に示すようにカラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの長手方向両端部に不連続なダミーパターン２１ｄを形成することによっても得ることができる。
パッシベーション層２３
色変換フィルタを構成するパッシベーション層２３は、前記高分子平坦化層２２を完全に覆うように形成され、大気中の水蒸気などのガスを高分子平坦化層２２が吸着するのを防止すると共に、カラーフィルタ／色変換層２１からの水分および酸素を捕獲し、それらの有機ＥＬ発光素子への移行を防止する無機膜層である。
【００５７】
パッシベーション層２３は、その上に有機ＥＬ発光素子３０、直接には第１電極３１および絶縁層３２を形成可能な無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物、無機酸窒化物およびそれらの混合物などの無機膜またはそれらの無機膜を積層した多層膜からなる。
パッシベーション層２３は、透明性を有する限り厚くできるが、ピンホールが少なく、水分および酸素などの良好なガス遮断性を得るために、好ましくは５０〜３００ｎｍの厚さを有する。
【００５８】
パッシベーション層２３の形成方法として、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法など、慣用の無機薄膜形成法を採用することができ、特に金属酸化物膜の形成には、高分子平坦化層２２への密着性、膜質の均質性、および生産性の観点から、反応性スパッタ法を含むスパッタ法が好適に採用される。
透明支持基板１０
透明支持基板１０は、前記色変換フィルタ２０およびその上に積層される有機ＥＬ発光素子３０の支持基板であるばかりでなく、その裏面が画像表示面でもあることから、カラーフィルタを通して出光してくる光に透明で、かつ寸法安定性に優れた、色変換フィルタの形成時の溶媒、温度などの条件に耐えるものである。
【００５９】
透明支持基板１０の材料として、ガラスやポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレートなどの高透明性の樹脂を使用することができ、ホウケイ酸ガラス、青板ガラスなどのガラス材料が特に好ましく使用される。
有機ＥＬ発光素子３０
有機ＥＬ発光素子３０は、有機発光体を含有する有機発光層を少なくとも含む有機ＥＬ層３３を、少なくとも１対の電極間に狭持させた構造を有し、電極間に電流を印加することにより、有機発光層から近紫外ないし可視領域の蛍光を発光させ、その光を、透明電極を通して色変換フィルタに入射する。
【００６０】
有機ＥＬ発光素子１０は、図１に示したように、前記色変換フィルタ２０上に、直接、形成されていてもよく、また、別の素子基板（図示していない）上に形成されていてもよい。素子基板上に形成された有機ＥＬ発光素子の場合、有機ＥＬ発光素子の透明電極面を色変換フィルタ２０面に対峙させる。
一対の電極、陽極／陰極（第１電極３１／第２電極３４）間に挟持される有機ＥＬ層３３は、有機発光体を含有する有機発光層を少なくとも含むが、下記の層構成のいずれかが好ましく採用される。
【００６１】
陽極／有機発光層／陰極
陽極／正孔注入層／有機発光層／陰極
陽極／有機発光層／電子注入層／陰極
陽極／正孔注入層／有機発光層／電子注入層／陰極
陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極
有機発光層は、青色ないし青緑色の波長領域の発光を得ることのできる有機発光体をマトリクス樹脂に分散させた層であり、有機発光体として、たとえば、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などが好ましく使用される。
【００６２】
有機発光層で発光した光を色変換フィルタに入射させるために、陽極および陰極の少なくとも一方には、有機発光体の発する光の波長領域において透明であることが要求され、この透明電極（図１、７では第１電極３１）は、透明導電膜、たとえば、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）膜、亜鉛含有酸化インジウム（ＩＺＯ）膜などから形成される。一方、他方の電極（図１、７では第２電極３４）は、通常、金属電極からなる。
【００６３】
これらの陽極および陰極のそれぞれは、平行なストライプ状のパターンを有し、有機ＥＬ層を挟んで互いに交叉して形成され、陽極と陰極との交差部分が電圧の印加により発光するサブ画素を構成する。そして、このサブ画素を前記色変換フィルタ２０のカラーフィルタ／色変換層２１と対峙させることにより、特定の蛍光色のカラーフィルタ／色変換層２１を発光させ、特定の色を透明支持基板１０の裏面に出光させることができる。
【００６４】
また、アクティブマトリクス駆動を行う場合には、陽極を一様な平面電極とし、陰極を各サブ画素に対応するようにパターニングし、各サブ画素に対応するスイッチング素子を設ける。
【実施例】
【００６５】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルを、以下の実施例および比較例によりさらに詳細に説明する。なお、各実施例および比較例では、画素数６０×８０（Ｒ、Ｇ、Ｂを含む）、画素ピッチ０．３３ｍｍの有機ＥＬディスプレイパネルを作製した、
（実施例１）
色変換フィルタの作製
図１に示す断面構造および図２に示すカラーフィルタ／色変換層２１のパターンを有する色変換フィルタを作製した。
【００６６】
カラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）、２１（Ｇ）および２１（Ｂ）の形成
５０×５０×１．０ｍｍのコーニングガラス製透明支持基板１０上に、青色フィルタ材料（カラーモザイクＣＢ−７００１、富士ハントエレクロニクステクノロジー（株）製）をスピンコートして塗膜を形成し、この塗膜をフォトリソグラフ法によりパターニングして、線幅１００μｍ、ピッチ３３０μｍおよび膜厚１０μｍのストライプパターンを有する青色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｂ）を形成した。
【００６７】
カラーフィルタ／色変換層２１（Ｂ）を形成した透明支持基板１０上に、蛍光色素のクマリン６（０．７質量部）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）（１２０質量部）に溶解させた溶液に、光重合性樹脂（ＶＰＡ１００／Ｐ５，新日鐵化成工業（株）製）（１００質量部）を溶解した塗布液を塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングして、線幅１００μｍ、ピッチ３３０μｍおよび膜厚１０μｍのストライプパターンを有する緑色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｇ）を形成した。図１および２において、最初に形成した左端のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｂ）の外側に形成されたカラーフィルタ／色変換層２１（Ｇ）は、塗布液の流れの傾斜に沿った層高さと傾斜した上面を有していた。
【００６８】
カラーフィルタ／色変換層２１（Ｂ）および２１（Ｇ）を形成した透明支持基板１０上に、蛍光色素のクマリン６（０．６質量部）、ローダミン６Ｇ（０．３質量部）およびベーシックバイオレット１１（０．３質量部）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）（１２０質量部）に溶解させた溶液に、光重合性樹脂（ＶＰＡ１００／Ｐ５、新日鐵化成工業（株）製）（１００質量部）を溶解した塗布液を塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングして線幅１００μｍ、ピッチ３３０μｍおよび膜厚１０μｍのストライプパターンを有する赤色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）を形成した。図１および２において、最初に形成した左端のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｂ）の外側に形成されたカラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）およびダミーのカラーフィルタ／色変換層２１ａ（Ｒ）は、塗布液の流れの傾斜に沿った層高さと傾斜した上面を有していた。
【００６９】
上記で得られたカラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）、（Ｇ）および（Ｂ）のパターンは、図２に示したように、左端から順に、非表示領域のＲＧＢ・表示領域内でのＲＧＢの繰返し・非表示領域のＲＧＢ＋Ｒであった。
高分子平坦化層２２の形成
上記で得られたカラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）、（Ｇ）および（Ｂ）が形成された透明支持基板１０上に、エポキシ変性アクリレートからなるＵＶ硬化型樹脂をスピンコート法により塗布し、高圧水銀灯に暴露し、膜厚５μｍの高分子平坦化層２２を形成した。
【００７０】
得られた高分子平坦化層２２は、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの両最外側部の断面形状が同じであり、同様の裾引きを有していた。また、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの長手方向端部に、各ストライプパターンに対応した波うちが見られたが、上面は表示領域の全面にわたって極めて平坦であった。
パッシベーション層２３の形成
カラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）、２１（Ｇ）および２１（Ｂ）、ならびに高分子平坦化層２２が形成された透明支持基板１０上に、ターゲットとしてＳｉを、スパッタガスとしてＡｒと酸素との混合ガスを用いるＲＦマグネトロンスパッタ法により、室温で膜厚３００ｎｍのＳｉＯｘ膜を蒸着させ、パッシベーション層２３を形成した。
【００７１】
有機ＥＬ発光素子３０の作製
図１に示す断面構造を有する有機ＥＬ発光素子３０を、前記で得られた色変換フィルタ２０の図２に示す表示領域に作製した。
第１電極（陽極）３１の形成
前記色変換フィルタ２０のパッシベーション層２３上の全面に、インジウムおよび亜鉛の酸化物と酸化インジウムとの混合物（ＩＤＩＸＯ、出光興産（株）製）をターゲットに用い、スパッタ法によりＩＺＯ透明導電膜を成膜し、透明導電膜の全面にレジスト剤（ＯＦＲＰ−８００、東京応化（株）製）を塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングを行ない、前記色変換フィルタ２０のカラーフィルタ／色変換層２１に対応した位置に幅９０μｍ、膜厚１００ｎｍのストライプパターンを有する第１電極３１を陽極として形成した。
【００７２】
絶縁層３２の形成
第１電極３１を形成した色変換フィルタ２０上に、レジスト剤（ＪＥＭ７００−Ｒ２、日本合成ゴム（株）製）を塗布し、フォトリソグラフ法によりパターニングして、第１電極３１の縁部および第１電極３１間に絶縁層３２を形成した。
有機ＥＬ層３３の形成
色変換フィルタ２０、ならびに第１電極３１および絶縁層３２が形成された透明支持基板１０を、抵抗加熱蒸着装置内に装着し、付属の真空槽内圧を１×１０−４Ｐａまで減圧し、この真空を保持したまま、第１電極３１および絶縁層３２上に正孔注入層として銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を層厚１００ｎｍ、正孔輸送層として４，４´−ビス［Ｎ−（１−ナアフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α―ＮＰＤ）を層厚２０ｎｍ、有機発光層として４，４´−ビス（２，２´−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）を層厚３０ｎｍ、および電子注入層としてトリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム錯体（Ａｌｑ）を層厚２０ｎｍにて順次積層し、有機ＥＬ層３３を形成した。有機ＥＬ層を構成する各層の形成材料の化学構造式を表１に示す。
【００７３】
【表１】
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第２電極（陰極）３４の形成
さらに、真空を保持したまま、第１電極３１のストライプパターンと直交するストライプパターンを有するマスクを用いて、ライン幅０．３０ｍｍ、ラインピッチ０．３３ｍｍ（ライン間隔０．０３ｍｍ）のストライプパターンを有する、厚さ２００ｎｍのＭｇ／Ａｇ（質量比１０／１）からなる第２電極３４を陰極として形成し、有機ＥＬ発光素子３０を作製した。
【００７４】
封止
透明支持基板１０上に順次積層された色変換フィルタ２０および有機ＥＬ発光素子３０を、グローブボックス内において、酸素および水分濃度がともに１０ｐｐｍ以下の乾燥窒素雰囲気下に、封止ガラスおよびＵＶ効果接着剤からなる封止体４０を用いて封止し、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを作製した。
（実施例２）
図３に示すように、赤色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）のパターンの形成長さを、緑色および青色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｇ）および２１（Ｂ）のパターンの形成長さより全長で１００μｍ長くし、パターン中心の位置は変えずに形成したこと以外は、実施例１と同様に処理して、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを作製した。
【００７５】
本実施例で形成された高分子平坦化層２２は、パターンの形成長さの長い赤色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）により支持され、パターンの長手方向端部の高分子平坦化層２２表面の波うちが実施例１に比較して大幅に減少した。
（実施例３）
図４に示すように、カラーフィルタ／色変換層２１のパターンの全周を囲んで、赤色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）のストライプ両端部と接する位置に、幅１００μｍのダミーの赤色のカラーフィルタ／色変換層２１ｂを形成した以外は、実施例２と同様に処理して、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを作製した。
【００７６】
本実施例で形成された高分子平坦化層２２は、カラーフィルタ／色変換層２１のパターンの全てを囲周する赤色のカラーフィルタ／色変換層２１ｂにより支持され、パターンの長手方向端部の高分子平坦化層２２表面の波うちが全く見られず、全面にわたって極めて平坦であった。
（実施例４）
図５に示すように、青色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｂ）を赤色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）よりも全長で１００μｍ短く、長手方向の中央の位置は同一として形成し、青色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｂ）のストライプ両端からそれぞれ５μｍ離間して、幅１００μｍ、長さ４５μｍのダミーの赤色のカラーフィルタ／色変換層２１ｄを形成したこと以外は実施例１と同様に処理して、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを作製した。
【００７７】
本実施例で形成された高分子平坦化層２２は、ストライプパターンの長手方向両端部領域に形成した赤色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターン２１ｄ（Ｒ）により支持され、パターンの長手方向端部の高分子平坦化層２２表面の波うちが実施例１に比較して大幅に減少した。
（実施例５）
図６に示すように、青色と緑色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｂ）、２１（Ｇ）のストライプ両端からそれぞれ５μｍ離間して、幅１００μｍ、長さ４５μｍのダミーの赤色のカラーフィルタ／色変換層２１ｄを形成したこと以外は実施例２と同様に処理して、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを作製した。
【００７８】
本実施例で形成された高分子平坦化層２２は、ストライプパターンの長手方向両端部領域に形成した赤色のカラーフィルタ／色変換層からなるダミーパターン２１ｄ（Ｒ）により支持され、パターンの長手方向端部の高分子平坦化層２２表面の波うちが全く見られず、全面にわたって極めて平坦であった。
（比較例１）
図８に示したように、カラーフィルタ／色変換層２１（Ｒ）、２１（Ｇ）および２１（Ｂ）のパターンを、ＲＧＢ・表示領域（ＲＧＢの繰返し）・ＲＧＢとした以外は、実施例１と同様の手順でフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを作製した。
【００７９】
本比較例で形成された高分子平坦化層２２は、パターンの両最外側のカラーフィルタ／色変換層２１を越える外側の断面形状が、図７に示したようにＲ側とＢ側とで大きく異なっていた。また、パターンの長手方向端部のカラーフィルタ／色変換層２１表面の波うちは、実施例１と同様であった。
（評価）
実施例１〜５および比較例１で作製した有機ＥＬディスプレイパネルについて、それらの作製過程における層間剥離の発生頻度と、駆動回路に接続して１００ｃｄ／ｃｍ２で画像を表示させた場合の短絡の発生頻度を評価した。評価結果を表２に示す。
【００８０】
【表２】
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表２の評価結果は、図４に示したカラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの全てを囲周して同色のカラーフィルタ／色変換層２１ｂを配置した実施例３においては、カラーフィルタ／色変換層２１ｂで囲周された範囲内はもちろん、それを越えた裾ひき部まで均質な高分子平坦化層２２が形成され、かつ、カラーフィルタ／色変換層２１ｂで囲周された範囲内の高分子平坦化層２２の表面が極めて平坦であることを示している。
【００８１】
また、図２および図３に示したカラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの一方の最外側部にダミーのカラーフィルタ／色変換層２１ａを配置した実施例１および２においては、ストライプパターンの長手方向端部の高分子平坦化膜２２の波うちが、その程度によって、剥離や短絡を発生させることを示し、図４に示した実施例４においては、ダミーパターン２１ｃ、２１ｄを配置した領域では、それを越えた裾ひき部まで均質な高分子平坦化層２２が形成され、かつ、ダミーパターン２１ｃ、２１ｄで終端した範囲内の高分子平坦化層２２の表面が極めて平坦であることを示しているが、緑色のカラーフィルタ／色変換層２１（Ｇ）の長手方向端部の高分子平坦化層２２の波うちが、その程度によって、短絡までにはいたっていないが、若干の剥離を発生させることを示している。図５に示した実施例５においては、ダミーパターン２１ｃ、２１ｄで終端された範囲内はもちろん、それを越えた裾ひき部まで均質な高分子平坦化層２２が形成され、かつ、ダミーパターン２１ｃ、２１ｄで終端された範囲内の高分子平坦化層２２の表面が極めて平坦であることを示している。
【００８２】
図８に示した比較例では、カラーフィルタ／色変換層２１のストライプパターンの両最外側部に異色のカラーフィルタ／色変換層２１が配置されていることにより、それらを越える高分子平坦化層２２の裾引きの違いが、剥離や短絡の発生に影響していることを示している。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの断面図
【図２】本発明の第１の形態を示すカラーフィルタ／色変換層のパターン図
【図３】本発明の第２の形態を示すカラーフィルタ／色変換層のパターン図
【図４】本発明の第３の形態を示すカラーフィルタ／色変換層のパターン図
【図５】本発明の第４の形態を示すカラーフィルタ／色変換層のパターン図
【図６】本発明の第５の形態を示すカラーフィルタ／色変換層のパターン図
【図７】従来技術の有機ＥＬディスプレイパネルの断面図
【図８】従来技術のカラーフィルタ／色変換層のパターン図
【符号の説明】
【００８４】
１０  透明支持基板
２０  色変換フィルタ
２１  カラーフィルタ／色変換層
２１ａ、ｂ、ｃ、ｄ  カラーフィルタ／色変換層のダミーパターン
２１（Ｒ）  赤色フィルタ／色変換層
２１（Ｇ）  緑色フィルタ／色変換層
２１（Ｂ）  青色フィルタ／色変換層
２２  高分子平坦化層
２３  パッシベーション層
３０  有機ＥＬ発光素子
３１  第１電極（陽極）
３２  絶縁層
３３  有機ＥＬ層
３４  第２電極（陰極）
４０  封止体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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