(57)【要約】【課題】曲率半径が小さい（大Ｄ／Ｒ）レンズの場合においても膜厚ムラを極力小さく抑えると共に、膜の部位に拘わらず光学特性をはじめとする膜質を均一に保有する光学薄膜成膜方法、光学薄膜成膜装置、光学素子、光学系、及び露光装置を提供する。  【解決手段】  平面視が円形で、凸面形状の表面を有する光学素子本体１３の、前記表面に塗布液１７を塗布して単層又は多層の光学薄膜１４を形成する光学薄膜成膜方法において、前記光学素子本体１３を、前記凸面形状の中心軸Ｏを中心として回転させると共に、前記塗布液１７を、前記円形の半径方向に沿い、前記凸面形状の周縁部１３ａから中心Ｏ１に向けて順次塗布した光学薄膜成膜方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面視が円形で、凸面形状の表面を有する光学素子本体の、前記表面に塗布液を塗布して単層又は多層の光学薄膜を形成する光学薄膜成膜方法において、
前記光学素子本体を、前記凸面形状の中心軸を中心として回転させると共に、前記塗布液を、前記円形の半径方向に沿い、前記凸面形状の周縁部から中心に向けて順次塗布したことを特徴とする光学薄膜成膜方法。
【請求項２】
前記塗布液を、前記凸面形状の周縁部から中心を通り更に反対側の周縁部に向けて順次塗布したことを特徴とする請求項１に記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項３】
前記凸面形状の表面に塗布された塗布液に含まれる分散媒が、揮発することにより、前記表面に前記光学薄膜が形成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項４】
前記表面の前記光学薄膜の膜厚ムラを１５％以内としたことを特徴とする請求項１乃至３の何れか一つに記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項５】
前記凸面形状の前記表面は、前記光学素子本体の有効径をＤ、曲率半径をＲとしたときの比（Ｄ／Ｒ）が０より大きく１．９８以下の範囲であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一つに記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項６】
前記凸面形状の前記表面は、前記光学素子本体の有効径をＤ、曲率半径をＲとしたときの比（Ｄ／Ｒ）が１．５０以上１．９８以下の範囲であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一つに記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項７】
前記光学素子の最大回転数が、５００ｒｐｍ以上２５００ｒｐｍ以下であり、最高速度到達までの時間が８秒以下であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか一つに記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項８】
前記塗布液の組成が、金属フッ化物とアルコールからなることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一つに記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項９】
前記光学素子の回転が２００ｒｐｍに到達するまでに、前記塗布液の前記表面への塗布状態が開始し、前記光学素子の回転が最高速度に到達するまでに、前記塗布液の前記表面への塗布状態が完了し、塗布開始から塗布完了までの時間が５秒以下であることを特徴とする請求項１乃至８の何れか一つに記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項１０】
前記単層又は多層の光学薄膜を構成している各層内の屈折率のばらつきの範囲が０．２％以内であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一つに記載の光学薄膜成膜方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の光学薄膜成膜方法に使用する光学薄膜成膜装置であって、
前記光学素子本体を保持して回転させる保持部と、
前記塗布液を塗布する塗布部と、
該塗布部を前記光学素子本体の半径方向に沿って相対移動させる駆動部と、
前記保持部を回転させると共に、前記駆動部により前記塗布部を前記半径方向に相対移動させて、前記塗布液を、前記凸面形状の周縁部から中心に向けて順次塗布するようにした制御部とを有することを特徴とする光学薄膜成膜装置。
【請求項１２】
前記制御部は、前記塗布液を、前記凸面形状の周縁部から中心を通り更に反対側の周縁部に向けて順次塗布するように制御することを特徴とする請求項１１に記載の光学薄膜成膜装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１０の何れか一つに記載の光学薄膜成膜方法により単層又は多層の光学薄膜が成膜されたことを特徴とする光学素子。
【請求項１４】
平面視が円形で、凸面形状の表面に光学薄膜が成膜された光学素子において、
前記凸面形状の前記表面は、該凸面形状の前記光学素子本体の有効径をＤ、曲率半径をＲとしたときの比（Ｄ／Ｒ）が０より大きく１．９８以下の範囲であり、
前記光学薄膜の膜厚ムラが１５％以内であることを特徴とする光学素子。
【請求項１５】
前記単層又は多層の光学薄膜を構成している各層内の屈折率のばらつきの範囲が０．２％以内であることを特徴とする請求項１４に記載の光学素子。
【請求項１６】
請求項１３乃至１５の何れか一つに記載の光学素子が配置されたことを特徴とする光学系。
【請求項１７】
請求項１６に記載の光学系が配置されたことを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光学レンズ、プリズム等のような光学素子、特に露光装置に代表される高輝度光学素子の表面に光学薄膜（例えば、反射膜、反射防止膜等）を成膜させるための光学薄膜成膜方法、この成膜方法に用いられる光学薄膜成膜装置、光学薄膜が成膜された光学素子、この光学素子が配置された光学系、更に、この光学系が配置された露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、このような光学薄膜の成膜は真空蒸着により行われている。従来から用いられている真空蒸着装置（光学薄膜成膜装置）は、真空排気可能な密閉された成膜室内に、蒸着源と、補正板と、支持機構により自公転自在に支持された複数の光学素子（レンズ）とを配置してなる。
【０００３】
この成膜処理は、成膜室内を真空排気した状態で、蒸着源におけるヒーター又は電子銃により蒸着物質を加熱蒸発させて行われ、蒸着粒子を拡散させ、光学素子の表面に蒸着粒子を付着させて薄膜を成膜させる。このとき、蒸着源からの粒子の到達距離等の関係から成膜された膜厚分布にムラが生じないように、補正板が配設されている。この補正板は光学素子の表面が平板状もしくは曲率の小さな（すなわち、曲率半径の大きな）曲面の場合に、膜厚ムラが発生しないように形状が設定されていた。
【０００４】
ところが、最近におけるステッパーと称させる光リソグラフィー装置においては波長の短いエキシマレーザ光が用いられ、このような短波長の光に用いられるレンズは屈折率が小さいため、曲率の大きな（すなわち、曲率半径の小さな）レンズ（光学素子）が多用されるようになってきている。また、映像機器であるカメラレンズ等においても、デジタルカメラや高性能レンズの普及に伴い、曲率の大きなレンズが多用されている。
【０００５】
このような曲率の大きなレンズを成膜対象として、従来の光学薄膜成膜方法である蒸着という手法をそのまま用いると、膜厚ムラや膜質ムラが生じ、十分な光学性能が得られなかった。
【０００６】
この対策として、蒸着源とレンズ間に補正板を置き、曲率の大きなレンズの場合においても膜厚ムラを小さく抑えることができるような蒸着装置が開発されている（特許文献１、２）。
【０００７】
また、レンズ形状を最周辺部分にレンズ形状とは逆向きの曲率を持たせなだらかな稜線を持たせたり、レンズ有効径内に膜厚修正用凹凸を設けた、スピンコートによる均一塗布方法も開発されている（特許文献３、４）。
【特許文献１】特開平１１−１０６９０２号公報
【特許文献２】特開平１１−１４０６４２号公報
【特許文献３】特開２００２−２６３５５３号公報
【特許文献４】特開２００３−１５４３０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１、２では、Ｄ／Ｒ（光学素子の有効径をＤ、曲率半径をＲとしたときの比）が１．６を越えるような曲率が極めて大きいレンズ全面への膜厚ムラを抑えることは可能であっても、屈折率や反射率に代表される膜質まで均一に成膜することは不可能であり、レンズ周辺部の膜弱や屈折率の低下が顕著に発生してレンズ周辺部の特性変化が起こり、これらを用いた光学系では光学性能を悪化させる等の問題があった。
【０００９】
また、特許文献３、４では、Ｄ／Ｒが１．９８などの半球レンズに近い形状への対応ができない上、有効径内に凹凸があるため透過もしくは反射する光線の軌跡の精度が悪化することから、高精度光学系に採用できないといった問題があった。
【００１０】
そこで、この発明は、曲率半径が小さい（大Ｄ／Ｒ）レンズの場合においても膜厚ムラを極力小さく抑えると共に、膜の部位に拘わらず光学特性をはじめとする膜質を均一に保有する光学薄膜成膜方法、光学薄膜成膜装置、光学素子、光学系、及び露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１に記載の発明は、平面視が円形で、凸面形状の表面を有する光学素子本体の、前記表面に塗布液を塗布して単層又は多層の光学薄膜を形成する光学薄膜成膜方法において、前記光学素子本体を、前記凸面形状の中心軸を中心として回転させると共に、前記塗布液を、前記円形の半径方向に沿い、前記凸面形状の周縁部から中心に向けて順次塗布した光学薄膜成膜方法としたことを特徴とする。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の構成に加え、前記塗布液を、前記凸面形状の周縁部から中心を通り更に反対側の周縁部に向けて順次塗布したことを特徴とする。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の構成に加え、前記凸面形状の表面に塗布された塗布液の分散媒が、揮発することにより、前記表面に前記光学薄膜が形成されたことを特徴とする。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３の何れか一つに記載の構成に加え、前記表面の前記光学薄膜の膜厚ムラを１５％以内としたことを特徴とする。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４の何れか一つに記載の構成に加え、前記凸面形状の前記表面は、前記光学素子本体の有効径をＤ、曲率半径をＲとしたときの比（Ｄ／Ｒ）が０より大きく１．９８以下の範囲であることを特徴とする。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、請求項１乃至４の何れか一つに記載の構成に加え、前記凸面形状の前記表面は、前記光学素子本体の有効径をＤ、曲率半径をＲとしたときの比（Ｄ／Ｒ）が１．５０以上１．９８以下の範囲であることを特徴とする。
【００１７】
請求項７に記載の発明は、請求項１乃至６の何れか一つに記載の構成に加え、前記光学素子の最大回転数が、５００ｒｐｍ以上２５００ｒｐｍ以下であり、最高速度到達までの時間が８秒以下であることを特徴とする。
【００１８】
請求項８に記載の発明は、請求項１乃至７の何れか一つに記載の構成に加え、前記塗布液の組成が、金属フッ化物とアルコールからなることを特徴とする。
【００１９】
請求項９に記載の発明は、請求項１乃至８の何れか一つに記載の構成に加え、前記光学素子の回転が２００ｒｐｍに到達するまでに、前記塗布液の前記表面への塗布状態が開始し、前記光学素子の回転が最高速度に到達するまでに、前記塗布液の前記表面への塗布状態が完了し、塗布開始から塗布完了までの時間が５秒以下であることを特徴とする。
【００２０】
請求項１０に記載の発明は、請求項１乃至９の何れか一つに記載の構成に加え、前記単層又は多層の光学薄膜を構成している各層内の屈折率のばらつきの範囲が０．２％以内であることを特徴とする。
【００２１】
請求項１１に記載の発明は、請求項１に記載の光学薄膜成膜方法に使用する光学薄膜成膜装置であって、前記光学素子本体を保持して回転させる保持部と、前記塗布液を塗布する塗布部と、該塗布部を前記光学素子本体の半径方向に沿って相対移動させる駆動部と、前記保持部を回転させると共に、前記駆動部により前記塗布部を前記半径方向に相対移動させて、前記塗布液を、前記凸面形状の周縁部から中心に向けて順次塗布するようにした制御部とを有する光学薄膜成膜装置としたことを特徴とする。
【００２２】
請求項１２に記載の発明は、請求項１１に記載の構成に加え、前記制御部は、前記塗布液を、前記凸面形状の周縁部から中心を通り更に反対側の周縁部に向けて順次塗布するように制御することを特徴とする。
【００２３】
請求項１３に記載の発明は、請求項１乃至１０の何れか一つに記載の光学薄膜成膜方法により単層又は多層の光学薄膜が成膜された光学素子としたことを特徴とする。
【００２４】
請求項１４に記載の発明は、平面視が円形で、凸面形状の表面に光学薄膜が成膜された光学素子において、前記凸面形状の前記表面は、該凸面形状の前記光学素子本体の有効径をＤ、曲率半径をＲとしたときの比（Ｄ／Ｒ）が０より大きく１．９８以下の範囲であり、前記光学薄膜の膜厚ムラが１５％以内である光学素子としたことを特徴とする。
【００２５】
請求項１５に記載の発明は、請求項１４に記載の構成に加え、前記単層又は多層の光学薄膜を構成している各層内の屈折率のばらつきの範囲が０．２％以内であることを特徴とする。
【００２６】
請求項１６に記載の発明は、請求項１３乃至１５の何れか一つに記載の光学素子が配置された光学系としたことを特徴とする。
【００２７】
請求項１７に記載の発明は、請求項１６に記載の光学系が配置された露光装置としたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２８】
かかる発明によれば、曲率の大きなレンズの場合においても膜厚ムラを極力小さく抑えると共に、膜の部位に拘わらず光学特性をはじめとする膜質を均一に保有する光学薄膜成膜方法、光学薄膜成膜装置、光学素子、光学系、及び露光装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、この発明の実施の形態を図を用いて説明する。
［発明の実施の形態１］
【００３０】
図１乃至図５は、この発明の実施の形態１を示す。
【００３１】
まず構成を説明すると、図１中符号１１は、この発明の光学薄膜成膜方法に使用する光学薄膜成膜装置で、この光学薄膜成膜装置１１により成膜される光学素子１２は、光学素子本体１３の表面に光学薄膜１４がスピンコートにより成膜されて形成されている。
【００３２】
この光学薄膜成膜装置１１は、光学素子本体１３を保持して凸面形状の中心軸Ｏを中心として回転させる保持部１５と、その光学素子本体１３に塗布液１７を塗布する「塗布部」であるディスペンサー１６と、このディスペンサー１６を光学素子本体１３の半径方向Ｘに沿って相対移動させる駆動部１９と、保持部１５を回転させると共に、駆動部１９により前記ディスペンサー１６を前記半径方向Ｘに相対移動させて、塗布液１７を、凸面形状の一方側（図１中左側）の周縁部１３ａから中心Ｏ１を通り更に反対側（図１中右側）の周縁部１３ａに向けて順次塗布するように制御する制御部２０が設けられている。
【００３３】
次に、かかる光学薄膜成膜装置１１を用いて光学薄膜１４を成膜する方法について説明する。
【００３４】
まず、光学素子本体１３を保持部１５に固定し、この光学素子本体１３を凸面形状の中心軸を中心として回転させると共に、ディスペンサー１６を半径方向Ｘに移動させ、このディスペンサー１６に注入した塗布液１７を、円形の半径方向Ｘに沿い、凸面形状の一方（ここでは図中左側）の周縁部１３ａから中心Ｏ１を通り更に反対側（ここでは図中右側）の周縁部１３ａに向けて順次塗布する。
【００３５】
ここで、ディスペンサー１６は、あらかじめ光学素子本体１３の回転前に、光学素子１３の凸面形状の一方（ここでは図中左側）の周縁部１３ａの更に外側に待機させておき、光学素子本体１３の回転と同時に凸面形状の一方（ここでは図中左側）の周縁部１３ａから中心Ｏ１を通り、更に反対側（ここでは図中右側）の周縁部１３ａを通り抜け、光学素子本体１３から離れた場所に静止する。
【００３６】
回転している光学素子本体１３の周縁部１３ａから中心Ｏ１に向けて順次塗布液１７が滴下されると、この塗布液１７は、光学素子本体１３の表面に渦巻き状に滴下されると共に、この光学素子本体１３の回転による遠心力で、塗布液１７が周縁部１３ａに向かって広がり、光学素子本体１３の全面に行き渡る。
【００３７】
さらに、回転を続けると、塗布液１７の分散媒が揮発することにより、光学素子本体１３の中心Ｏ１から周縁部１３ａに向かって徐々に乾燥し、光学薄膜１４を形成するものである。
【００３８】
この際、使用する塗布液１７は、分散媒が有機系液体であっても、無機系液体であっても良く、薄膜形成物質も有機物でも無機物でも良い。また、塗布液１７自体、単純分散であっても、ゾルゲル溶液やコロイド溶液であっても良い。
【００３９】
具体的には、次の通りである。分散媒としては、メタノールやエタノール、１−プロパノールに代表されるアルコール類、ジエチルエーテルに代表されるエーテル類、酢酸メチルや酢酸エチルなどに代表されるエステル類などが有機系液体として挙げられ、水、酢酸水溶液や塩酸水溶液などに代表される稀酸、アンモニウム水などに代表されるアルカリ水溶液などが無機系液体として挙げられる。
【００４０】
また、薄膜形成物質として、ビニル系、ポリエステル系、ナイロン系、レジスト類、有機シリコーン系などの有機物や、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＷＯ３等の金属酸化物や、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム、クライオライト（Ｎａ３ＡｌＦ６）、ＫＭｇＦ３などの金属フッ化物、などの有機物が挙げられる。
【００４１】
なお、これら分散媒、薄膜形成物質等は、ここに挙げた物質以外でも良く、この場合でも同様に均一成膜が可能である。
【００４２】
その成膜時の、保持部１５の最大回転数は、５００ｒｐｍ以上２５００ｒｐｍ以下が望ましい。更に、保持部１５の回転開始から最大回転数到達までの時間（以下「立上がり時間」という）は、２０秒以下にすることが望ましい。このようなスピンコート条件に設定することによって、光学素子１２が曲率の大きなレンズのような場合でも、レンズの周縁部１３ａにおいてもムラのない均一な成膜を行うことが可能となる。
【００４３】
また、その立上がり時間を８秒以下、塗布時間を５秒以下とすることにより、この間に、塗布液１７を光学素子本体１３の周縁部１３ａから中心Ｏ１まで塗布することにより、未塗布部分ができなくなると共に、中心Ｏ１に到達するまでに、塗布液１７が乾燥してしまうことなく、光学素子本体１３の表面全面に渡って良好に塗布できる。
【００４４】
更に、保持部１５の最大回転数を７００ｒｐｍ以上２５００ｒｐｍ以下とすれば、光学素子本体１３の表面に塗布された塗布液１７が、短時間で、均一の厚さに成膜される。
【００４５】
特に、露光装置に代表されるような超精密光学機器に導入される精密な光学素子１２の成膜には、上記条件（立上がり時間が８秒以下、最大回転数が７００ｒｐｍ以上２５００ｒｐｍ以下、塗布時間が５秒以下）で行うのが望ましい。また、Ｄ／Ｒが１．５から１．９８の範囲にあるような超高Ｄ／Ｒ凸レンズへの成膜の場合、上記条件に加え、塗布液１７の全面滴下が回転最高速度到達までに完了するように制御することにより、今まで不可能とされてきた超大Ｄ／Ｒ曲面であっても、光学素子本体１３の周縁部１３ａにおいてもムラのない均一な成膜を行うことが可能となる。
【００４６】
図１にはＤ／Ｒが１．９８、図４にはＤ／Ｒが１．５０の凸面形状の光学素子１２を示す。
【００４７】
なお、この実施の形態では、光学素子本体１３の一方の周縁部１３ａから反対側の他方の周縁部１３ａまで、塗布液１７を順次塗布しているが、これに限らず、少なくとも一方の周縁部１３ａから中心Ｏ１まで塗布すれば良い。但し、中心Ｏ１までで塗布を終了すると、ディスペンサー１６から液垂れが発生する虞があるが、他方の周縁部１３ａまで塗布すると、液垂れを考慮する必要がない。
【００４８】
そして、このような方法により成膜された光学素子１２は、凸面形状の表面が、光学素子本体１３の有効径をＤ、曲率半径をＲとしたときの比（Ｄ／Ｒ）が０より大きく１．９８以下の範囲、又は、１．５０以上１．９８以下の範囲で、表面の光学薄膜１４の膜厚ムラが１５％以内で、光学薄膜１４の屈折率のばらつきの範囲が０．２％以内である。
【００４９】
次に、以上のように成膜された光学素子を用いた露光装置３０について、図２を用いて説明する。
【００５０】
この露光装置３０は、少なくともエキシマレーザ等を露光光として供給するための光源３１、この露光光をマスクＲに供給するための照明光学系３２、マスクＲのパターンのイメージを被露光基板Ｗ上に投影するための投影光学系３３を含んでいる。
【００５１】
照明光学系３２は、マスクＲと被露光基板Ｗとの間の相対位置を調節するためのアライメント光学系３４を含んでいる。マスクＲは、マスク交換系３５により位置が制御されるマスクステージ３６に配置されている。被露光基板Ｗは、ステージ制御系３７により位置が制御されるウェハーステージ３８に配置されている。更に、光源３１、アライメント光学系３４、マスク交換系３５、ステージ制御系３７は、主制御部３９によって制御される。
【００５２】
このような露光装置３０では、詳細な図示は省略されているが、この発明の成膜方法で成膜された多数の光学素子が、照明光学系３２及び／または投影光学系３３に配置されている。
【００５３】
このような露光装置３０によれば、照明光学系３２及び／または投影光学系３３を構成する光学素子として、膜厚ムラ及び屈折率ムラが優れた光学性能を備えているので、高精度に露光することが可能である。
【実施例１】
【００５４】
上記光学薄膜成膜装置１１を用いて、スピンコートにより、光学素子本体１３の表面に光学薄膜１４を成膜した。
【００５５】
ゾルゲル法により得られた１−プロパノールにフッ化マグネシウムを３％分散させた塗布液を、以下の条件１で、光学素子本体１３の表面に塗布した。この光学素子本体１３は、有効径Ｄが９５ｍｍ、曲率半径Ｒが５０ｍｍである。
・条件１
【００５６】
回転条件：立上がり時間が５秒で光学素子本体１３を１０００ｒｐｍまで加            速し
１０００ｒｐｍで６０秒間保持し
５秒で０ｒｐｍまで徐々に減速し回転を停止。
塗布範囲：光学素子本体１３の一方の周縁部１３ａから他方の周縁部１３ａ              まで（直径の範囲）
塗布液滴下量：１ｍｌ／秒以上
塗布時間：５秒
塗布開始時の保持部回転数：５０ｒｐｍ〜１００ｒｐｍ
塗布終了時の保持部回転数：１０００ｒｐｍ
この条件はφ５０〜３００までのレンズに適応。
【００５７】
これにより、得られた光学素子１２の表面の大Ｄ／Ｒ面の頂点部分（中心Ｏ１部分）から周辺部分（周縁部１３ａ）までの膜厚ムラを図５に示す。
【００５８】
この図から、頂点部分（中心Ｏ１部分）から周辺部分（周縁部１３ａ）へ近づくに従って、膜厚が若干厚くなっているが、非常に膜厚ムラが小さいことが分かる。
［比較例１］
【００５９】
光学素子に、従来の蒸着法にてフッ化マグネシウム単層膜を成膜した。この光学素子は、有効径Ｄが７５ｍｍ、曲率半径Ｒが５０ｍｍである。
【００６０】
これにより、得られた光学素子の表面の大Ｄ／Ｒ面の頂点部分（中心Ｏ１部分）から周辺部分（周縁部）までの膜厚ムラを図６に示す。
【００６１】
この図から、頂点部分（中心Ｏ１部分）から周辺部分（周縁部）へ近づくに従って、膜厚が急激に薄くなり、非常に膜厚ムラが大きいことが分かる。
【実施例２】
【００６２】
上記光学薄膜成膜装置１１を用いて、スピンコートにより、光学素子本体１３の表面に光学薄膜１４を成膜した。
【００６３】
ゾルゲル法により得られた１−プロパノールにフッ化マグネシウムを１％分散させた塗布液を、実施例１に記載の条件で、光学素子本体１３の表面に塗布した。
【００６４】
これにより、得られた光学素子１２の表面の大Ｄ／Ｒ面の頂点部分（中心Ｏ１部分）から周辺部分（周縁部１３ａ）までの屈折率を図７、図８に示す。
【００６５】
図７は曲率半径５０ｍｍの凸レンズの場合、図８は曲率半径１２０ｍｍの凸レンズの場合であるが、これらの図から、頂点部分（中心Ｏ１部分）から周辺部分（周縁部１３ａ）の内面各部分の屈折率の違いが全く見られないことが分かる。
［比較例２］
【００６６】
光学素子に、従来の蒸着法にてフッ化ランタン単層膜を成膜した。
【００６７】
これにより、得られた光学素子の表面の大Ｄ／Ｒ面の頂点部分（中心Ｏ１部分）から周辺部分（周縁部）までの屈折率を図９、図１０に示す。
【００６８】
図９は曲率半径５０ｍｍの凸レンズの場合、図１０は曲率半径１２０ｍｍの凸レンズの場合であるが、これらの図から、頂点部分（中心Ｏ１部分）から周辺部分（周縁部）に向かって屈折率が急激に低くなって行くことが分かる。
【実施例３】
【００６９】
分散媒が１−プロパノール８０％、メタノール２０％のＭｇＦ２ゾル塗布液を使用して上記条件１により、立上がり時間が５秒以下で光学素子を１０００ｒｐｍまで加速して、光学薄膜１４を成膜した場合には、光学素子１２の表面におけるシミの発生は見られなかった。
【００７０】
但し、立上がり時間が５秒以下の場合でも、塗布開始時の回転数が２００ｒｐｍを超えていたり、塗布液の滴下量が規定の量より、少ない場合には、シミが発生する。
【００７１】
また、１−プロパノール、メタノールやキシレンのように揮発性の高い分散媒を使用した塗布液１７では、シミが発生し易いので、塗布条件を正確に守らなければならないが、揮発性の小さい溶剤を分散媒とする塗布液を使用した場合は塗布条件が多少粗くても良い。
［比較例３］
【００７２】
他の条件は実施例３と同様で、塗布時間を６〜７秒とした場合には、薄いシミが所々に発生し、発生率はほぼ１００％であった。
【００７３】
また、塗布時間が８秒以上の場合には、濃い帯状のシミが発生し、発生率はほぼ１００％であった。
【００７４】
本実施例では、フッ化マグネシウムを成膜したが、これに限ることなく、その他のフッ化物、シリカ等の酸化物でも良いことは、言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】この発明の実施の形態にかかる光学薄膜成膜装置を示す概略図である。
【図２】同実施の形態にかかる露光装置を説明する概略図である。
【図３】同実施の形態にかかる光学素子の平面図である。
【図４】同実施の形態にかかる、Ｄ／Ｒが１．５０の光学素子を示す側面図である。
【図５】実施例１にかかる曲率半径５０ｍｍの光学素子の膜厚分布を示すグラフ図である。
【図６】比較例１にかかる曲率半径５０ｍｍの光学素子の膜厚分布を示すグラフ図である。
【図７】実施例２にかかる曲率半径５０ｍｍの光学素子の屈折率分布を示すグラフ図である。
【図８】実施例２にかかる曲率半径１２０ｍｍの光学素子の屈折率分布を示すグラフ図である。
【図９】比較例２にかかる曲率半径５０ｍｍの光学素子の屈折率分布を示すグラフ図である。
【図１０】比較例２にかかる曲率半径１２０ｍｍの光学素子の屈折率分布を示すグラフ図である。
【符号の説明】
【００７６】
11  光学薄膜成膜装置
12  光学素子
13  光学素子本体
13a 周縁部
14  光学薄膜
15  保持部
16  ディスペンサー（塗布部）
17  塗布液
19  駆動部
20  制御部
30  露光装置
32  照明光学系
33  投影光学系
Ｏ  中心軸
O1  中心
Ｘ  半径方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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