(57)【要約】【課題】ＣＦのＲＧＢ画素をＩＪ法で作製する際に好適な断面形状を有するＩＪ法用離画壁の製造方法、該方法により製造されたＩＪ法用離画壁付基板、これを用いた混色がないカラーフィルタ、及びその製造方法。【解決手段】基板の少なくとも一方の面に光酸発生剤と該光酸発生剤の作用により架橋する架橋剤とアルカリ可溶性バインダーと塩基性化合物と色材とを少なくとも含む感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と前記感光性樹脂層を露光して露光領域を硬化させる露光工程と未露光部の前記感光性樹脂層を除去することで離画壁を形成する現像工程とを少なくとも有するＩＪ法用離画壁の製造方法、該方法で製造されたＩＪ法用離画壁付基板、及び該ＩＪ法用離画壁付き基板を用いて、前記離画壁で離隔された領域に着色液体組成物の液滴をＩＪ法により付与して画素を形成する画素形成工程を有するカラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の少なくとも一方の面に、光酸発生剤と、該光酸発生剤の作用により架橋する架橋剤と、アルカリ可溶性バインダーと、塩基性化合物と、色材とを少なくとも含む感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光して露光領域を硬化させる露光工程と、未露光部の前記感光性樹脂層を除去することで離画壁を形成する現像工程と、を少なくとも有するインクジェット法用離画壁の製造方法。
【請求項２】
基板の少なくとも一方の面に、光酸発生剤と、該光酸発生剤の作用により架橋する架橋剤と、アルカリ可溶性バインダーと、塩基性化合物と、色材とを少なくとも含む感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光して露光領域を硬化させる露光工程と、未露光部の前記感光性樹脂層を除去することで離画壁を形成する現像工程と、を少なくとも経て製造されたインクジェット法用離画壁付き基板。
【請求項３】
基板の少なくとも一方の面に、光酸発生剤と、該光酸発生剤の作用により架橋する架橋剤と、アルカリ可溶性バインダーと、塩基性化合物と、色材とを少なくとも含む感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光して露光領域を硬化させる露光工程と、未露光部の前記感光性樹脂層を除去することで離画壁を形成する現像工程と、を少なくとも経て製造されたインクジェット法用離画壁付き基板を用い、前記離画壁で離隔された領域に着色液体組成物の液滴をインクジェット法により付与して画素を形成する画素形成工程を有するカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ。
【請求項５】
請求項４に記載のカラーフィルタを有する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット法用離画壁の製造方法、インクジェット法用離画壁付き基板、カラーフィルタ及びその製造方法並びに液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置用カラーフィルタは、ガラス等の基板上に赤色、緑色、青色のドット状画像をそれぞれマトリックス状に配置し、その境界をブラックマトリックス等の濃色の離画壁で区分した構造である。このようなカラーフィルタの製造方法としては、従来、支持体としてガラス等の基板を用い、１）染色法、２）印刷法、３）着色した感光性樹脂液の塗布と露光及び現像の繰り返しによる着色感光性樹脂液法（着色レジスト法）（例えば、特許文献１参照。）、４）仮支持体上に形成した画像を順次、最終又は仮の支持体上に転写する方法、５）予め着色した感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより着色層を形成し、順次直接、基板上にこの感光性着色層を転写し、露光して現像することを色の数だけ繰り返す方法等により多色画像を形成する方法（転写方式）が知られている（例えば、特許文献２参照。）。またインクジェット法を用いる方法（特許文献３参照。）も知られている。
【０００３】
これらの方法のうち、着色レジスト法は高い位置精度でカラーフィルタを作製できるものの、感光性樹脂液の塗布にロスが多くコスト的には有利とは言えない。一方インクジェット法は樹脂液のロスが少なくコスト的に有利ではあるものの、画素の位置精度が悪いという問題がある。
これらを克服すべく、離画壁を着色レジスト法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製するカラーフィルタ製造法も提案されているが、作成された離画壁の断面形状を観察すると、上端やそのエッジが丸くなっており、後に打滴された各色インクが離画壁をのり越えやすいために、隣接画素と混色を起こし表示品位を低下させる。
【０００４】
従来、光ラジカル重合により露光部を硬化させて離画壁を形成していた。しかしこの従来の方法では、現像後の段階で、既に離画壁上部のエッジがなだらかな形状に形成されてしまい、離画壁として最適な形状とはならなかった。
【０００５】
また、フォトスペーサ等の硬化樹脂パターンをカチオン重合により形成する方法が開示されている（例えば、特許文献４参照。）。しかし、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製する際に用いられる離画壁については何ら触れられていない。
また、カラーフィルタなどのカラー画像層の形成に有用な化学増幅を利用した転写型の感光性樹脂組成物、それを用いた感光性転写シートが開示されている（例えば、特許文献５）。しかしながら、サイドエッジ低減と現像ラチチュード増大を謳っているが、硬化レジストの形状に関する記載はなかった。
【特許文献１】特開平１−１５２４４９号公報
【特許文献２】特開昭６１−９９１０２号公報
【特許文献３】特開平８−２２７０１２号公報
【特許文献４】特開２００４−１８４４４１号公報
【特許文献５】特開２００２−３５１０７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであり、カラーフィルタのＲＧＢ画素をインクジェット法で作製する際に好適な断面形状を有するインクジェット法用離画壁の製造方法及びその方法により製造されたインクジェット法用離画壁付き基板を提供することを目的とする。
さらに本発明は、このインクジェット法用離画壁付き基板を用いた混色のない高解像度のカラーフィルタ及びその製造方法並びにこのカラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記実情に鑑み本発明者らは、鋭意研究を行ったところ、上記課題を解決しうることを見出し本発明を完成した。
即ち、本発明は下記の手段により達成されるものである。
【０００８】
即ち、本発明は、
＜１＞基板の少なくとも一方の面に、光酸発生剤と、該光酸発生剤の作用により架橋する架橋剤と、アルカリ可溶性バインダーと、塩基性化合物と、色材とを少なくとも含む感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光して露光領域を硬化させる露光工程と、未露光部の前記感光性樹脂層を除去することで離画壁を形成する現像工程と、を少なくとも有するインクジェット法用離画壁の製造方法。
【０００９】
＜２＞基板の少なくとも一方の面に、光酸発生剤と、該光酸発生剤の作用により架橋する架橋剤と、アルカリ可溶性バインダーと、塩基性化合物と、色材とを少なくとも含む感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光して露光領域を硬化させる露光工程と、未露光部の前記感光性樹脂層を除去することで離画壁を形成する現像工程と、を少なくとも経て製造されたインクジェット法用離画壁付き基板。
【００１０】
＜３＞基板の少なくとも一方の面に、光酸発生剤と、該光酸発生剤の作用により架橋する架橋剤と、アルカリ可溶性バインダーと、塩基性化合物と、色材とを少なくとも含む感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光して露光領域を硬化させる露光工程と、未露光部の前記感光性樹脂層を除去することで離画壁を形成する現像工程と、を少なくとも経て製造されたインクジェット法用離画壁付き基板を用い、前記離画壁で離隔された領域に着色液体組成物の液滴をインクジェット法により付与して画素を形成する画素形成工程を有するカラーフィルタの製造方法。
【００１１】
＜４＞上記＜３＞に記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタ。
＜５＞上記＜４＞に記載のカラーフィルタを有する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、カラーフィルタのＲＧＢ画素をインクジェット法で作製する際に好適な断面形状を有するインクジェット法用離画壁の製造方法及びその方法により製造されたインクジェット法用離画壁付き基板を提供することができる。
さらに本発明によれば、このインクジェット法用離画壁付き基板を用いた混色のない高解像度のカラーフィルタ及びその製造方法並びにこのカラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明について説明する。なお、本発明において「インクジェット法用離画壁」とは、カラーフィルタの製造においてインクジェット法により画素を形成する際に用いられる離画壁をいう。
＜インクジェット法用離画壁の製造方法及びインクジェット法用離画壁付き基板＞
本発明のインクジェット法用離画壁（以下、単に「離画壁」と称することがある。）の製造方法は、基板の少なくとも一方の面に、光酸発生剤と、該光酸発生剤の作用により架橋する架橋剤と、アルカリ可溶性バインダーと、塩基性化合物と、色材とを少なくとも含む感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光して露光領域を硬化させる露光工程と、未露光部の前記感光性樹脂層を除去することで離画壁を形成する現像工程と、を少なくとも有する。
本発明のインクジェット法用離画壁付き基板は、本発明のインクジェット法用離画壁の製造方法により製造することができる。
【００１４】
本発明インクジェット法用離画壁は、光を吸収して酸を発生する光酸発生剤と、該光酸発生剤の作用により架橋する架橋剤と、アルカリ可溶性バインダーと、塩基性化合物と、色材とを含む感光性樹脂層を架橋反応をすることにより製造される。
本発明における架橋反応によれば、従来のラジカル重合と比較して酸素阻害による硬化不足に対する対策（貧酸素雰囲気下での重合等）を講じる必要がなく、また、現像後の段階でも、離画壁上端及びそのエッジが丸くなることがなく、急峻なインクジェット法用として最適な形状を形成することができる。
【００１５】
本発明における離画壁は、下記条件（１）及び（２）を満たしていることが好ましい
（１）基板と離画壁の断面の交点をＡ１及びＡ２とする。該離画壁の最も高さの高い点をＨとし、Ｈから基板に下ろした垂線の足をＧとし、Ｈを通り基板表面に平行な直線をＬ０とする。ＨとＧをＨＰ：ＰＧ＝１：３に内分する点をＰとし、Ｐを通り基板表面に平行な直線をＬ１とし、Ｌ１が離画壁の断面と交わる点をＢ１、Ｂ２とする。Ａ１とＡ２の距離をａ、Ｂ１とＢ２の距離をｂとするとき、ｂ／ａの値が０．８以上１．２以下である。
（２）６００ｎｍにおける吸光度Ａ６００と５００ｎｍにおける吸光度Ａ５００の比Ａ６００／Ａ５００が０．７〜１．４である。
【００１６】
良好な画質のカラーフィルタを得るためには、前記の各画素間の混色を防ぐこと以外に離画壁の色調が重要である。離画壁の側面は通常、垂直でない（ｂ／ａ値が１未満）ので、画素の周囲部分では赤青緑などの画素の色と離画壁の色が加わった色が表示されることになる。即ち、赤青緑などの画素の色が如何に純色であっても離画壁の色が無彩色でないと画面全体で見ると良好な色調にならない。
離画壁色調としては漆黒であることが望ましい。従って、離画壁の色材としては、例えばカーボンブラック、チタンブラック、黒鉛、金属化合物（例えば、酸化鉄、酸化チタン）などの黒色の色材を用いることが好ましい。しかしながら、一般に黒色色材（黒色顔料や黒色染料）と呼ばれているものでも厳密には完全な黒色（可視光の吸光度が、全波長域にわたり等しい）というわけではない。例えば代表的な黒色顔料であるカーボンブラックの場合でも色調は作成方法、粒径、ストラクチャー等により変化するが、特に粒径がこの色調に大きく寄与する。粒径については、１０〜７５ｎｍが好ましく、より好ましくは１２〜５０ｎｍ、更に１５〜４０ｎｍの範囲が好ましい。粒径が１０ｎｍ未満であったり、７５ｎｍを超えると、Ａ６００／Ａ５００の値が０．７〜１．４の範囲から外れるために好ましくない。
尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個平均値をいう。
【００１７】
本発明における感光性樹脂層は、光酸発生剤と架橋剤とアルカリ可溶性バインダーと塩基性化合物と色材とを少なくとも含む感光性樹脂組成物を塗布する方法（塗布法）や該感光性樹脂組成物により形成された感光性樹脂層を有する感光性転写材料を転写する方法（転写法）により形成される。
以下、感光性樹脂組成物及び感光性転写材料について説明する。
【００１８】
［感光性樹脂組成物］
基板上のインクジェット法用離画壁は、光酸発生剤と、該光酸発生剤の作用により架橋する架橋剤と、アルカリ可溶性バインダーと、塩基性化合物と、色材とを少なくとも含む感光性樹脂組成物（「濃色感光性樹脂組成物」又は「濃色組成物」ともいう。）から形成される。
ここで、濃色組成物とは、５５５ｎｍにおいて高い光学濃度を有する組成物のことであり、その値は２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。
また、この濃色組成物は、後述するように光酸発生剤から生成する酸の触媒作用により架橋反応を起こして硬化する為、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は２．０〜１０．０であり、好ましくは２．５〜６．０、最も好ましいのは３．０〜５．０である。２．０未満では離画壁形状が望みのものとならない恐れがあり、１０．０を超えると、架橋反応を開始することができず離画壁そのものを作ることが困難となる。
以下、該組成物中の成分について説明する。
【００１９】
（光酸発生剤）
光照射により酸を発生する光酸発生剤には、有機ハロゲン化合物、オニウム塩、スルホン酸エステル等が挙げられる。これらのなかでは有機ハロゲン化合物が好ましく、特に、ハロメチル化トリアジン、ハロメチル化オキサジアゾール化合物が好ましい。具体的にはハロメチル化トリアジン化合物は一般式（１）で示される。
【００２０】
【化１】
2007333880.tif 000002
【００２１】
（式中Ｒ１及びＲ２は、ハロメチル基であり、Ｙは炭素数５以上の有機基である。）
ハロメチル基としては、例えばトリクロロメチル基、トリブロモメチル基、ジクロロメチル基、ジブロモメチル基などがあり、炭素数５以上の有機基としては、例えば置換基を有していてもよい、フェニル基、ナフチル基、スチリル基、スチリルフェニル基、フリルビニル基、四級化アミノエチルアミノ基などがある。ハロメチル化トリアジン化合物の具体例としては、以下の式（２）〜（２３）で示される化合物がある。
【００２２】
【化２】
2007333880.tif 000003
【００２３】
【化３】
2007333880.tif 000004
【００２４】
【化４】
2007333880.tif 000005
【００２５】
【化５】
2007333880.tif 000006
【００２６】
一般式（１）で示されるハロメチル化トリアジン化合物の中でも好ましいものは、以下の一般式（２４）〜（２６）で示される化合物である。
【００２７】
【化６】
2007333880.tif 000007
【００２８】
式中Ｒ１及びＲ２は、ハロメチル基であり、Ｒはそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアルコキシ基であり、ｎは０〜３の整数である。
【００２９】
【化７】
2007333880.tif 000008
【００３０】
式中Ｒ１  及びＲ２  は、ハロメチル基であり、Ｒはそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアルコキシ基であり、ｎは０〜３の整数である。
【００３１】
【化８】
2007333880.tif 000009
【００３２】
式中Ｒ１及びＲ２は、ハロメチル基であり、Ｒはそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０〜１の整数である。一般式（２４）〜（２６）で示される化合物の中でも好ましいものは、Ｒ１及びＲ２がトリクロロメチル基であり、Ｒの炭素数が１〜２であり、一般式（２４）、（２５）ではｎが０〜２の整数であり、一般式（２６）は０〜１の整数である化合物である。
ハロメチル化オキサジアゾール化合物は、一般式（２７）で示される。
【００３３】
【化９】
2007333880.tif 000010
【００３４】
式中Ｒ３は、ハロメチル基であり、Ｚは置換基を有していてもよいベンゾフリル基またはベンゾフリルビニル基である。ハロメチル化オキサジアゾール化合物の具体例としては、以下の式（２８）〜（４５）で示される化合物がある。
【００３５】
【化１０】
2007333880.tif 000011
【００３６】
【化１１】
2007333880.tif 000012
【００３７】
【化１２】
2007333880.tif 000013
【００３８】
一般式（２７）で示されるハロメチル化オキサジアゾール化合物の中でも好ましいのは、以下の一般式（４６）で示される化合物である。
【００３９】
【化１３】
2007333880.tif 000014
【００４０】
式中、Ｒ３はハロメチル基であり、Ｒはそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアルコキシ基であり、ｎは０〜２の整数である。さらに好ましいのは、Ｒ３がトリクロロメチル基であり、Ｒがそれぞれ独立して炭素数１〜２のアルキル基またはアルコキシ基であり、ｎが０〜１の整数である化合物である。
【００４１】
光酸発生剤は、感光性樹脂層中の固形分に対して、０．０５〜１５質量％、好ましくは５〜１５質量％である。光酸発生剤の含有量が１５質量％を超えると、パターンが膨潤してしまい、０．０５質量％未満であると、露光によって十分な量の酸が発生しないので、感光性樹脂（アルカリ可溶性バインダー）と架橋剤との架橋が不充分となり現像後の残膜率が低下し、画像の耐熱性、耐薬品性等が低下しやすくなる場合がある。
【００４２】
（架橋剤）
本発明における感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性バインダーとの間で架橋反応を起こして硬化するため架橋剤を含有する。
架橋剤は、酸の作用により硬化作用を有する。架橋剤としては、架橋置換基を少なくとも１種以上有する置換基（以下、「架橋性置換基」という。）を有する化合物を挙げることもできる。
【００４３】
このような架橋性置換基の具体例としては、例えば（ｉ）ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アセトキシアルキル基等のヒドロキシアルキル基またはその誘導体；
（ｉｉ）ホルミル基、カルボキシアルキル基等のカルボニル基またはその誘導体；
（ｉｉｉ）ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミノメチル基、ジメチロールアミノメチル基、ジエチロールアミノメチル基、モルホリノメチル基等の含窒素基含有置換基；
（ｉｖ）グリシジルエーテル基、グリシジルエステル基、グリシジルアミノ基等のグリシジル基含有置換基；
（ｖ）ベンジルオキシメチル基、ベンゾイロキシメチル基等のアリルオキシアルキル基、アラルキルオキシアルキル基等の芳香族誘導体；
（ｖｉ）ビニル基、イソプロペニル基等の重合性多重結合含有置換基等を挙げることができる。
本発明の架橋剤の架橋性置換基としては、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基等が好ましく、特にアルコキシメチル基が好ましい。
【００４４】
前記架橋性置換基を有する架橋剤としては、例えば（ｉ）メチロール基含有メラミン化合物、メチロール基含有ベンゾグアナミン化合物、メチロール基含有ウレア化合物、メチロール基含有グリコールウリル化合物、メチロール基含有フェノール化合物等のメチロール基含有化合物；
（ｉｉ）アルコキシアルキル基含有メラミン化合物、アルコキシアルキル基含有ベンゾグアナミン化合物、アルコキシアルキル基含有ウレア化合物、アルコキシアルキル基含有グリコールウリル化合物、アルコキシアルキル基含有フェノール化合物等のアルコキシアルキル基含有化合物；
（ｉｉｉ）カルボキシメチル基含有メラミン化合物、カルボキシメチル基含有ベンゾグアナミン化合物、カルボキシメチル基含有ウレア化合物、カルボキシメチル基含有グリコールウリル化合物、カルボキシメチル基含有フェノール化合物等のカルボキシメチル基含有化合物；
（ｉｖ）ビスフェノールＡ系エポキシ化合物、ビスフェノールＦ系エポキシ化合物、ビスフェノールＳ系エポキシ化合物、ノボラック樹脂系エポキシ化合物、レゾール樹脂系エポキシ化合物、ポリ（ヒドロキシスチレン）系エポキシ化合物等のエポキシ化合物等を挙げることができる。
【００４５】
本発明における架橋剤は、アルコキシメチル化メラミン化合物またはその樹脂、またはアルコキシメチル化グリコールウリル化合物またはその樹脂が好ましい。特に好ましい架橋剤としては、下記式（４７）で示されるアルコキシメチル化ウレア化合物または式（４８）で示されるアルコキシメチル化グリコールウリル化合物を挙げることができる。
【００４６】
【化１４】
2007333880.tif 000015
【００４７】
ここでＲ３は、炭素数１〜４のアルキル基である。
【００４８】
【化１５】
2007333880.tif 000016
【００４９】
ここでＲ４は、炭素数１〜４のアルキル基である。
【００５０】
前記式（４７）および式（４８）において、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を挙げることができる。
前記架橋剤は、例えばメラミン化合物やグリコールウリル化合物とホルマリンを縮合反応させてメチロール基を導入した後、さらにメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール等の低級アルコール類でエーテル化し、次いで反応液を冷却して析出する化合物またはその樹脂を回収することで得られる。また前記架橋剤は、ＣＹＭＥＬ（商品名、三井サイアナミッド製）、ニカラッド（三和ケミカル製）のような市販品としても入手することができる。
【００５１】
架橋剤としてはメラミン、ベンゾグアナミン、グリコールウリル又は尿素にホルムアルデヒドを作用させた化合物またはそれらのアルキル変性化合物、エポキシ化合物、レゾール化合物等が有効であり、その具体例は、次のとおりである。
【００５２】
具体的には、三井サイアナミド社のサイメル（登録商標）３００、３０１、３０３、３５０、７３６、７３８、３７０、７７１、３２５、３２７、７０３、７０１、２６６、２６７、２８５、２３２、２３５、２３８、１１４１、２７２、２５４、２０２、１１５６、１１５８及び三和ケミカル製のニカラッド（登録商標）ＭＷ−３０Ｍ、ＭＷ−３０、ＭＷ−２２、ＭＳ−１１、ＭＳ−００１、ＭＸ−７３０、ＭＸ−７５０、ＭＸ−７０６、ＭＸ−０３５は、メラミンにホルムアルデヒドを作用させた化合物またはそのアルキル変性物の例である。サイメル（登録商標）１１２３、１１２５、１１２８は、ベンゾグアナミンにホルムアルデヒドを作用させた化合物またはそのアルキル変性物の例である。サイメル（登録商標）１１７０、１１７１、１１７４、１１７２はグリコールウリルにホルムアルデヒドを作用させた化合物またはそのアルキル変性物の例である。
尿素にホルムアルデヒドを作用させた化合物またはそのアルキル変性物の例として三井サイアナミド社のＵＦＲ（登録商標）６５、３００を挙げることができる。
【００５３】
エポキシ化合物の例として、ノボラックエポキシ樹脂（東都化成社製ＶＤＰＮ−６３８、７０１、７０２、７０３、７０４等）、アミンエポキシ樹脂（東都化成社製ＹＨ−４３４等）、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、ソルビトール（ポリ）グリシジルエーテル、（ポリ）グリセロール（ポリ）グリシジルエーテル、ペンタエリスリトール（ポリ）グリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、アリルグリシジルエーテル、エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、フェノールグリシジルエーテル、ラウリルアルコールグリシジルエーテル、アジピン酸グリシジルエーテル、フタル酸グリシジルエーテル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリシジルフタルイミド、（ポリ）エチレングリコールグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセリンポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル等を挙げることができる。
【００５４】
この中で特に好ましい化合物として、分子中に−Ｎ（ＣＨ２ＯＲ）２基を有する化合物（式中、Ｒは水素原子またはアルキル基を示す）が挙げられる。
詳しくは、尿素あるいはメラミンにホルムアルデヒドを作用させた化合物またはそのアルキル変性物が特に好ましい。
レゾール化合物の例として、群栄化学社製のＰＰ−３０００ｓ、ＰＰ−３０００Ａ、ＲＰ−２９７８、ＳＰ−１９７４、ＳＰ−１９７５、ＳＰ−１９７６、ＳＰ−１９７７、ＲＰ−３９７３等が挙げられる。
これらの架橋剤は、１種単独で用いても、２種以上を併用しても良い。
【００５５】
架橋剤の感光性樹脂組成物（感光性樹脂層）中における含有量としては、アルカリ可溶性バインダーの量に対して、好ましくは５〜７０質量％、より好ましくは１０〜４０質量％である。架橋剤の含有量が７０質量％を超えると、感光性樹脂組成物表面にベタツキが生じ、取り扱い性に難を生じる場合があり、また、架橋剤の含有量が５質量％未満となると、アルカリ可溶性バインダーと架橋剤との架橋が不十分となり、現像後の残膜率が低下し、感光性樹脂組成物を離画壁形成に用いて形成された離画壁は上部及びそのエッジが丸みを帯びてしまい、急峻なインクジェット法用の離画壁を形成することができない場合がある。
【００５６】
（塩基性化合物）
本発明における感光性樹脂組成物は、架橋剤とアルカリ可溶性バインダー（感光性樹脂）との架橋反応を充分なものとするために、塩基性化合物を含有する。
前記塩基性化合物としては、公知の１級〜３級アミン化合物を特に限定されず用いることができる。
たとえば、以下の化合物類を挙げることができる。
【００５７】
−１級アミン化合物−
前記１級アミン化合物としては、例えば、ベンジルアミン、フェネチルアミン、３−フェニル−１−プロピルアミン、４−フェニル−１−ブチルアミン、５−フェニル−１−ペンチルアミン、６−フェニル−１−ヘキシルアミン、α−メチルベンジルアミン、２−メチルベンジルアミン、３−メチルベンジルアミン、４−メチルベンジルアミン、２−（ｐ−トリル）エチルアミン、β−メチルフェネチルアミン、１−メチル−３−フェニルプロピルアミン、２−クロロベンジルアミン、３−クロロベンジルアミン、４−クロロベンジルアミン、２−フロロベンジルアミン、３−フロロベンジルアミン、４−フロロベンジルアミン、４−ブロモフェネチルアミン、２−（２−クロロフェニル）エチルアミン、２−（３−クロロフェニル）エチルアミン、２−（４−クロロフェニル）エチルアミン、２−（２−フロロフェニル）エチルアミン、２−（３−フロロフェニル）エチルアミン、２−（４−フロロフェニル）エチルアミン、４−フロロ−α，α−ジメチルフェネチルアミン、２−メトキシベンジルアミン、３−メトキシベンジルアミン、４−メトキシベンジルアミン、２−エトキシベンジルアミン、２−メトキシフェネチルアミン、３−メトキシフェネチルアミン、４−メトキシフェネチルアミン、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、２−プロピルアミン、アリルアミン、ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ラウリルアミン、アニリン、オクチルアニリン、アニシジン、４−クロルアニリン、１−ナフチルアミン、メトキシメチルアミン、２−メトキシエチルアミン、２−エトキシエチルアミン、３−メトキシプロピルアミン、２−ブトキシエチルアミン、２−シクロヘキシルオキシエチルアミン、３−エトキシプロピルアミン、３−プロポキシプロピルアミン、３−イソプロポキシプロピルアミンなどが挙げられる。
【００５８】
−２級アミン化合物−
２級アミン化合物としては、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジアミルアミン、ジベンジルアミン、ジオクチルアミン、ジアリルアミン、Ｎ−メチルベンジルアミン、Ｎ−メチルオクタデシルアミン、Ｎ−メチルアニリン、ピペリジン、ピロリジン、モルホリン、ピペラジン、メチルピペラジンなどが挙げられる。
【００５９】
−３級アミン化合物−
前記３級アミン化合物としては、たとえば、モルホリノアセトフェノン、ニトロジメチルフェニルモルホリン、トリエチルアミン、ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、シクロヘキシルモルホリノチオ尿素などが挙げられる。
【００６０】
本発明における塩基性化合物は強塩基性であることが好ましく、上記の中でも、塩基性の観点から、脂肪族系アミン化合物、具体的にはブチルアミン、２−メトキシエチルアミン、α−メチルベンジルアミン、ジイソプロピルアミン、メチルピペラジン、ピペリジン、モルホリン、トリエチルアミン、モルホリノアセトフェノンが好ましく、メチルピペラジン、トリエチルアミン、モルホリノアセトフェノンがより好ましい。
【００６１】
これらの塩基性化合物は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００６２】
前記塩基性化合物は、感光性樹脂組成物（感光性樹脂層）中の固形分に対して、好ましくは０．１〜０．５質量％、より好ましくは０．２〜０．４質量％、成特に好ましくは０．２５〜０．３５質量％である。
塩基性化合物の含有量が上記範囲０．１質量％未満であると本発明の効果を充分に得られないことがあり、０．５質量％を超えると感光性樹脂組成物の諸性能が経時で劣化する場合がある。
【００６３】
（アルカリ可溶性バインダー）
本発明における感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性バインダー（以下、単に「バインダー」ともいう。）の少なくとも１種を含有する。
このバインダーは、パターン露光で前記光酸発生剤から生成する酸の触媒作用で前記架橋剤と架橋反応して架橋体（ポリマー）をつくって硬化するものである。
【００６４】
バインダーとしては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ビニル系樹脂、ノボラック樹脂（フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂等）、ポリヒドロキシスチレン等の公知のバインダーの中から適宜選択することができる。
【００６５】
本発明では特に、（メタ）アクリル系のモノマーの共重合によって得られるビニル系共重合体が好ましく、メタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アルキルエステル、又はカルボキシル基含有モノマーを構成単位として含む共重合体がより好ましい。柔軟さを付与する点で、（メタ）アクリル系が好ましく、弱アルカリ現像適正の付与の点で、カルボキシル基を含有することが好ましい。
なお、（メタ）アクリルは、アクリル又はメタクリルの両方をとり得ることを示す。以下同様である。
【００６６】
上記の中でも、特にメタクリル酸メチル及びベンジルメタクリレートの少なくとも１つを含む共重合体が好ましい。メタクリル酸メチル及びベンジルメタクリレートの少なくとも１つを含む共重合体には、メタクリル酸メチルを含む共重合体、ベンジルメタクリレートを含む共重合体、メタクリル酸メチル及びベンジルメタクリレートを含む共重合体等が挙げられる。
【００６７】
前記メタクリル酸メチルを含む共重合体には、メタクリル酸／メタクリル酸メチル共重合体（共重合比：１４〜１７．６モル％／８２．４〜８６モル％、重量平均分子量２０，０００〜１４０，０００）、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／エチルアクリレート共重合体（共重合比：５〜１０モル％／７０〜６０モル％／２５〜３０モル％、重量平均分子量２０，０００〜１４０，０００）等が挙げられる。
【００６８】
前記ベンジルメタクリレートを含む共重合体には、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合比：２５〜３７モル％／７５〜６３モル％、重量平均分子量２０，０００〜１５０，０００）、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート／スチレン共重合体（共重合比：２０モル％／１７．８モル％／６２．２モル％、重量平均分子量２０，０００〜１４０，０００）等が挙げられる。
【００６９】
前記メタクリル酸メチル及びベンジルメタクリレートを含む共重合体には、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合比：１４．６〜２７．２モル％／７９．１〜３２．７モル％／１６．３〜４０モル％、重量平均分子量２０，０００〜１５０，０００）、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／ベンジルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート共重合体（共重合比：１０〜１５モル％／７０〜６５モル％／１０モル％／１０モル％、重量平均分子量２０，０００〜１５０，０００）等が挙げられる。
【００７０】
従来より市販のネガ型レジスト組成物によく使用されているクレゾールノボラック樹脂やポリヒドロキシスチレン及びその誘導体は露光後、ベーク後に着色してしまうが、このような露光後、ベーク処理時での着色が少なく、光透過率が低下しない点で、上記したメタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／ベンジルメタクリレート共重合体等が特に好ましい。
【００７１】
上記のアルカリ可溶性バインダーは、１種単独で用いても、２種以上を併用しても良い。
【００７２】
前記アルカリ可溶性バインダーの感光性樹脂組成物における含有量としては、該組成物の全固形分に対して、１０〜９０質量％が好ましく、２０〜７０質量％がより好ましい。
【００７３】
アルカリ可溶性バインダーの含有量が９０質量％を超えたり、また、含有量が１０質量％未満となると、アルカリ可溶性バインダーと架橋剤との架橋が不十分となり、現像後の残膜率が低下し、感光性樹脂組成物を離画壁形成に用いて形成された離画壁は上部及びそのエッジが丸みを帯びてしまい、急峻なインクジェット法用の離画壁を形成することができない場合がある。
【００７４】
（色材）
本発明に用いる色材としては、具体的には、下記染料、顔料に記載のカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号が付されているものを挙げることができる。
本発明における感光性樹脂組成物には、有機顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができ、感光性樹脂層に遮光性が要求される際には、カーボンブラック、酸化チタン、４酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉といった遮光剤の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができる。また、公知の色材（染料、顔料）を使用することができる。該公知の色材のうち顔料を用いる場合には、感光性樹脂組成物中に均一に分散されていることが好ましい。
前記感光性樹脂組成物の固形分中の色材の比率は、十分に現像時間を短縮する観点から、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましく、５０〜５５質量％であることが更に好ましい。
【００７５】
上記公知の染料ないし顔料としては、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００４０］に記載の色材や、特開２００５−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料や、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の色材を好適に用いることができる。
【００７６】
上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる感光性樹脂組成物を、後述する有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
【００７７】
（溶剤）
本発明における感光性樹脂組成物においては、上記成分の他に、更に有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
【００７８】
（界面活性剤）
本発明における離画壁又は感光性転写材料においては、後述するスリット状ノズル等を用いることにより、感光性樹脂組成物を基板又は仮支持体に塗布することができるが、該感光性樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることにより、均一な膜厚に制御でき、塗布ムラを効果的に防止することができる。
上記界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が、好適なものとして挙げられる。
尚、感光性樹脂組成物の全固形分に対する界面活性剤の含有量は、０．００１〜１％が一般的であり、０．０１〜０．５％が好ましく、０．０３〜０．３％が特に好ましい。
【００７９】
（紫外線吸収剤）
本発明における感光性樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報記載の化合物の他、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
尚、感光性樹脂組成物の全固形分に対する紫外線吸収剤の含有量は、０．５〜１５％が一般的であり、１〜１２％が好ましく、１．２〜１０％が特に好ましい。
【００８０】
（増感剤）
本発明における感光性樹脂組成物には、必要に応じて増感剤を含有することができる。増感剤を用いることにより、可視光領域における感光性樹脂組成物の感度を十分な物とすることができる。
以下に、本発明に好適に用いられる増感剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８１】
【化１６】
2007333880.tif 000017
【００８２】
【化１７】
2007333880.tif 000018
【００８３】
【化１８】
2007333880.tif 000019
【００８４】
【化１９】
2007333880.tif 000020
【００８５】
【化２０】
2007333880.tif 000021
【００８６】
【化２１】
2007333880.tif 000022
【００８７】
【化２２】
2007333880.tif 000023
【００８８】
【化２３】
2007333880.tif 000024
【００８９】
感光性樹脂組成物中の増感剤の含有量は、固形分換算で、０．５〜３・０質量％であることが好ましく、１．０〜２．０質量％であることがより好ましい。
【００９０】
本発明における感光性樹脂層の厚みとしては、感光性樹脂組成物の固形分含有量及び形成される離画壁の厚さに依存し、特に限定されるものではないが、一般的に、１〜１２μｍが好ましく、１．５〜１２μｍがより好ましく、１．８〜８μｍが更に好ましく、２．０〜６．０μｍが特に好ましい。
【００９１】
［感光性転写材料］
本発明における離画壁の形状を容易且つ低コストで実現するものとして、仮支持体上に該仮支持体から近い側から順に、少なくとも中間層と感光性樹脂組成物からなる層とを有してなる感光性転写材料を使用するという後述の手法（２）がある。
【００９２】
（仮支持体）
上記の感光性転写材料における仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【００９３】
（感光性樹脂組成物層）
上記の感光性転写材料における感光性樹脂組成物層は、前記感光性樹脂組成物から形成され、その形状等の特性、形成方法等については、塗布法により形成された層と同様であり、好ましい態様も同様である。
【００９４】
（中間層）
本発明における感光性樹脂転写材料においては、多層を形成するときに層どうしが混ざり合わないようにする目的から、仮支持体上に形成された感光性樹脂層と他の層（例えば下記熱可塑性樹脂層）との間に中間層を設けることが好ましい。
中間層は、具体的には、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコールなどを主成分とする層が好ましく、このうちポリビニルアルコールを主成分とするものがより好ましい。
ポリビニルアルコールとしては鹸化度が８０％以上のものが好ましい。上記中間層における前記ポリビニルアルコールの含有量としては、２５質量％〜９９質量％が好ましく、５０質量％〜９０質量％がより好ましく、５０質量％〜８０質量％が特に好ましい。また、必要に応じてポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドなどのポリマーを添加してもよいが、このうちポリビニルピロリドンが好ましい。これらのポリマーの添加量は層全体の１〜４０質量％、より好ましくは１０〜３５質量％である。
また、本発明に用いることができる中間層としては、特開平５−７２７２４号公報の［００１４］〜［００１５］に記載されている「分離層」も好ましいものとして挙げられる。尚、中間層の膜厚としては、好ましくは０．２〜１０μｍであり、より好ましくは０．５〜３．０μｍである。
【００９５】
（熱可塑性樹脂層）
上記の感光性転写材料は、必要に応じて熱可塑性樹脂層を有していてもよい。かかる熱可塑性樹脂層とは、アルカリ可溶性であることが好ましく、少なくとも樹脂成分を含んで構成され、該樹脂成分としては、実質的な軟化点が８０℃以下であることが好ましい。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、後述する離画壁形成方法において、永久支持体（基板）との良好な密着性を発揮することができる。
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤或いは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【００９６】
（保護フイルム）
感光性樹脂組成物層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄い保護フイルムを設けることが好ましい。保護フイルムは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂組成物層から容易に分離されねばならない。保護フイルム材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、保護フイルムの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。
【００９７】
（感光性転写材料の作製方法）
本発明における感光性転写材料は、仮支持体上に熱可塑性樹脂層の添加剤を溶解した塗布液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥することにより熱可塑性樹脂層を設け、その後熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤からなる中間層材料の溶液を塗布、乾燥し、その後感光性樹脂組成物用塗布液を塗布、乾燥して設けることにより作製することができる。なお、熱可塑性樹脂層を設けない場合や、該熱可塑性樹脂層と感光性樹脂組成物層の間に、両者が混ざり合わない溶剤からなる層（中間層）を設ける場合には感光性樹脂組成物用塗布液の溶剤の制約は特に必要がない。
また、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層及び中間層を設けたシート、及び保護フイルム上に感光性樹脂層を設けたシートを用意し、中間層と感光性樹脂組成物層が接するように相互に貼り合わせることによっても、更には、前記の仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設けたシート、及び保護フイルム上に濃色感光性樹脂組成物層及び中間層を設けたシートを用意し、熱可塑性樹脂層と中間層が接するように相互に貼り合わせることによっても、作製することができる。
尚、上記作製方法における塗布は、公知の塗布装置等によって行うことができるが、本発明においては、スリット状ノズルを用いた塗布装置（スリットコータ）によって行うことが好ましい。
【００９８】
［基板］
前記基板（永久支持体）としては、金属性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや透明合成樹脂フィルムが挙げられる。
【００９９】
本発明における離画壁は、前記感光性樹脂組成物を用いて形成されるが、下記（１）の塗布法、並びに下記（２）の転写法で製造することが好ましい。
即ち、（１）離画壁は、感光性樹脂組成物を、基板に塗布乾燥した後、露光し現像して形成する。
（２）感光性樹脂組成物により仮支持体上に形成された感光性転写層（感光性樹脂組成物層）を有する感光性転写材料を、前記基板上に転写した後、露光し現像して形成する。
【０１００】
本発明において、基板上に形成された離画壁の断面形状は、図１に示す如く、基板と離画壁の断面の交点をＡ１及びＡ２、該離画壁の最も高さの高い点をＨ、Ｈから基板に下ろした垂線の足をＧ、Ｈを通り基板表面に平行な直線をＬ０、ＨとＧをＨＰ：ＰＧ＝１：３に内分する点をＰ、Ｐを通り基板表面に平行な直線をＬ１、Ｌ１が離画壁の断面と交わる点をＢ１及びＢ２とし、Ａ１とＡ２の距離をａ、Ｂ１とＢ２の距離をｂとするとき、ｂ／ａの値を０．８以上１．２以下であることが好ましい。
【０１０１】
本発明においては、基板上に形成される離画壁の断面形状において、基板と離画壁の断面の交点をＡ１及びＡ２、該離画壁の最も高さの高い点をＨ、Ｈから基板に下ろした垂線の足をＧ、Ｈを通り基板表面に平行な直線をＬ０、ＨとＧをＨＰ：ＰＧ＝１：３に内分する点をＰ、Ｐを通り基板表面に平行な直線をＬ１、Ｌ１が離画壁の断面と交わる点をＢ１及びＢ２とし、Ａ１とＡ２の距離をａ、Ｂ１とＢ２の距離をｂとするとき、酸素阻害の起こらない貧酸素雰囲気下とするか又は酸素遮断層を設けることなく、ｂ／ａの値を０．８以上１．２以下に調整することができる。
これらの値は、実際には基板上に形成された離画壁を、基板ごと垂直にカットして断面を露出させ、顕微鏡等で直接観察することで測定する。こうして得られた離画壁形状を固定化する工程を経ることで、例えば、カラーフィルタに用いた場合、一旦その空隙に打滴されたインクは該離画壁を乗り越えにくくなる。その結果、隣接画素との混色などを防いで良好なカラーフィルタを得ることができる。前記ｂ／ａの値は０．８以上１．２以下であることが好ましく、０．８５以上１．１５以下であることがより好ましく、０．９以上１．１以下であることが特に好ましい。
【０１０２】
本発明において、離画壁の高さｈ（離画壁の最も高さの高い点をＨと、Ｈから基板におろした垂線の足Ｇとの距離）は、１．０μｍ以上であることが好ましいが、より好ましくは１．５μｍ以上１０μｍ以下であり、更に好ましくは１．８μｍ以上７．０μｍ以下、特に好ましくは２．０μｍ以上５．０μｍ以下である。中でも、１．５μｍ以上１０μｍ以下とすることにより、より効果的に混色を防止できる。高さが１．５μｍ未満であると混色が起こりやすく、１０μｍを超えると離画壁の形成が難しくなる。
【０１０３】
本発明における離画壁の５５５ｎｍにおける光学濃度は、２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。
前記光学濃度の範囲とすることにより、コントラストの高い表示装置がえられて好ましい。また、表示装置の表示品位の点から離画壁の色は黒であることが好ましい。
本発明における離画壁は「６００ｎｍにおける吸光度÷５００ｎｍにおける吸光度」の値が０．７〜１．４の範囲であることが好ましく、中でも、表示装置の表示品質の観点から、０．７５〜１．２の範囲がより好ましく、０．７７〜１．１５の範囲がさらに好ましい。
前記吸光度の比が上記好ましい範囲外であると、離画壁が着色して見えるために好ましくない。
前記吸光度の比を好ましい範囲にするには、色材種を調整することで達成できる。
【０１０４】
（インクジェット法用離画壁の製造方法）
本発明のインクジェット法用離画壁の製造方法（以下、「離画壁の形成」ともいう。）は、前記光酸発生剤、架橋剤、アルカリ可溶性バインダー、塩基性化合物、色材を少なくとも含む前記感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層を露光して露光領域を硬化させる露光工程と、未露光部の前記感光性樹脂層を除去することで離画壁を形成する現像工程と、を少なくとも有する。
上記構成とすることにより、カラーフィルタのＲＧＢ画素をインクジェット法で作製する際に好適な断面形状を有するインクジェット法用離画壁の製造方法及びその方法により製造されたインクジェット法用離画壁付き基板を提供することができる。
本発明のインクジェット法用離画壁の製造方法について、以下、具体的に説明するがこれに限定されるものではない。
【０１０５】
−感光性樹脂組成物を用いる離画壁の形成−
（感光性樹脂層形成工程）
まず、基板を洗浄した後、該基板を熱処理して表面状態を安定化させる。該基板を温調後、前記感光性樹脂組成物を塗布する。引き続き、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性をなくした後、プリベークして感光性樹脂層を得る。また、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性をなくした後、ＥＢＲ（エッジ・ビード・リムーバー）等にて基板周囲の不要な塗布液を除去してから、プリベークして感光性樹脂層を得てもよい。
前記塗布としては、特に限定されず、公知のスリット状ノズルを有するガラス基板用コーター（例えば、エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）や、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（平田機工株式会社製）等を用いて行うことができる。
前記乾燥は、公知の乾燥装置（例えば、ＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業社製）等）を用いて行うことができる、
プリベークとしては、特に限定されないが、例えば、１２０℃３分間することにより達成することができる。前記得られた感光性樹脂層の膜厚は、前述の通りである。
【０１０６】
（露光工程）
続いて、基板と画像パターンを有するマスク（例えば、石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該感光性樹脂層の間の距離を適宜（例えば、２００μｍ）に設定し露光する（露光工程）。露光により、感光性樹脂層の光が照射された領域（露光領域）が硬化する。
該露光としては、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティ型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）等で行い、露光量としては適宜（例えば、３００ｍＪ／ｃｍ２）選択することができる。
【０１０７】
（現像工程）
次に、現像液で現像して未露光部の感光性樹脂層を除去することでパターニング画像を得（現像工程）、引き続き必要に応じて、水洗処理して離画壁を得る。
前記現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧して、該感光性樹脂層の表面を均一に湿らせることが好ましい。
前記現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
光照射に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【０１０８】
前記感光性樹脂組成物の塗布による方法及び後述の感光性転写材料を用いる方法における前記アルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【０１０９】
前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。
【０１１０】
前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。感光性樹脂層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組み合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。短すぎると非露光部の現像が不充分となると同時に紫外線の吸光度も不充分となることがあり、長すぎると露光部もエッチングされることがある。いずれの場合にも、離画壁形状を好適なものとすることが困難となる。この現像工程にて、離画壁形状は前述のごとく形成される。
【０１１１】
−感光性転写材料を用いた離画壁の形成−
（感光性樹脂層形成工程）
まず、前述の感光性転写材料の保護フィルムを剥離除去した後、露出した感光性樹脂層の表面を永久支持体（基板）上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネータ、真空ラミネータ等の中から適宜選択したものが使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
【０１１２】
（露光・現像工程）
次いで、仮支持体を除去する。続いて、仮支持体除去後の除去面の上方に所望のフォトマスクを配置し、光源より紫外線を照射し、照射後所定の処理液を用いて現像処理して、パターニング画像を得て、引き続き必要に応じて、水洗処理して、離画壁を得る。
現像処理に用いる現像液及び光照射に用いる光源は、前記塗布法を用いた形成における現像液及び光源が同様に用いられる。
【０１１３】
（撥水処理）
本発明のカラーフィルタの製造方法は、離画壁に撥水処理を施す事で該離画壁の少なくとも一部が撥水性を帯びた状態とすることが好ましい。これは、その後にインクジェットなどの方法で、着色液体組成物の液滴を該離画壁間に付与した時に、インクが該離画壁を乗り越えて、隣の色と混色するなどの不都合を無くす為である。
該撥水処理として、離画壁上面に撥水材料を塗布する方法や、撥水層を新たに設ける方法、プラズマ処理により撥水性を付与する方法、撥水性物質を離画壁に練りこむ方法、光触媒により撥水性を付与する方法などが挙げられる。
以下に、撥水処理の詳細な説明をする。
【０１１４】
（１）＜撥水性物質を離画壁に練りこむ方法＞
「混色」を防ぐ手段として、含フッ素樹脂（Ａ）を含有する本発明の感光性樹脂組成物（濃色感光性樹脂組成物）より得られるフォトレジストを用いて離画壁を作製する方法がある。
本発明の含フッ素樹脂は、下記式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）と、酸性基（ｂ）とを有し、酸価が１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇである。
−（Ｘ−Ｏ）ｎ−Ｙ  ・・・式１
式１中、Ｘは、炭素数１〜１０の２価飽和炭化水素基又は炭素数１〜１０のフルオロ化された２価飽和炭化水素基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、水素原子（Ｙに隣接する酸素原子に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合していない場合に限る）、炭素数１〜２０の１価飽和炭化水素基又は炭素数１〜２０のフルオロ化された１価飽和炭化水素基を示し、ｎは２〜５０の整数を示す。
ただし、式１におけるフッ素原子の総数は２以上である。
【０１１５】
式１におけるＸ、Ｙの態様として、好ましくは、Ｘは、炭素数１〜１０の水素原子１個を除いてフルオロ化されたアルキレン基又は炭素数１〜１０のパーフルオロ化されたアルキレン基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、炭素数１〜２０の水素原子１個を除いてフルオロ化されたアルキル基又は炭素数１〜２０のパーフルオロ化されたアルキル基を示すものが挙げられる。
【０１１６】
式１におけるＸ、Ｙの態様として、より好ましくは、Ｘは、炭素数１〜１０のパーフルオロ化されたアルキレン基であって、ｎで括られた単位毎に同一の基又は異なる基を示し、Ｙは、炭素数１〜２０のパーフルオロ化されたアルキル基を示すものが挙げられる。
【０１１７】
Ｘ、Ｙの態様が上記のものであることにより、含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏する。
【０１１８】
式１においてｎは２〜５０の整数を示す。ｎは２〜３０が好ましく、２〜１５がより好ましい。ｎが２以上であると、インク転落性が良好である。ｎが５０以下であると、含フッ素樹脂をＲｆ基（ａ）を有する単量体と、酸性基（ｂ）を有する単量体やその他の単量体との共重合によって合成する場合に、単量体の相溶性が良好となる。
【０１１９】
また、式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）における炭素原子の総数は２〜５０が好ましく、２〜３０がより好ましい。当該範囲では、含フッ素樹脂は良好な撥インク性、特に撥有機溶剤性を奏する。また含フッ素樹脂をＲｆ基（ａ）を有する単量体、酸性基（ｂ）を有する単量体及びその他の単量体との共重合によって合成する場合に、単量体の相溶性が良好となる。
【０１２０】
Ｘの具体例としては、−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−、及びＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−が挙げられる。
【０１２１】
Ｙの具体例としては、−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦ２、−（ＣＦ２）２ＣＦ３、−（ＣＦ２）３ＣＦ３、−（ＣＦ２）４ＣＦ３、−（ＣＦ２）５ＣＦ３、−（ＣＦ２）６ＣＦ３、−（ＣＦ２）７ＣＦ３、−（ＣＦ２）８ＣＦ３、−（ＣＦ２）９ＣＦ３、及び（ＣＦ２）１１ＣＦ３、−（ＣＦ２）１５ＣＦ３が挙げられる。
【０１２２】
式１で表されるポリフルオロエーテル構造からなるＲｆ基（ａ）の好ましい態様としては、式２で表されるＲｆ基（ａ）が挙げられる。
−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１・・・式２
式２中、ｐは２又は３の整数を示し、ｎで括られた単位毎に同一の基であり、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【０１２３】
式２で表されるＲｆ基（ａ）として、具体的には、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３（ｎは２〜９）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）、
−ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）
が合成の容易さの点から好ましく挙げられる。
【０１２４】
含フッ素樹脂内のＲｆ基（ａ）は、全て同一でもよいし、異なっていてもよい。
【０１２５】
含フッ素樹脂におけるフッ素原子の含有量は１〜６０％が好ましく、５〜４０％がより好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、本発明の感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【０１２６】
含フッ素樹脂は、酸性基（ｂ）を有する。
酸性基（ｂ）としては、カルボキシル基、フェノール性水酸基、及びスルホン酸基からなる群から選ばれる少なくとも１つの酸性基又はその塩が好ましい。
【０１２７】
含フッ素樹脂の酸価は、１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、１０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。この範囲であると本発明の感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。なお、酸価は樹脂１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量（単位ｍｇ）であり、本明細書においては単位をｍｇＫＯＨ／ｇと記載する。
【０１２８】
含フッ素樹脂の数平均分子量は、５００以上２００００未満が好ましく、２０００以上１５０００未満がより好ましい。当該範囲であると本発明の感光性樹脂組成物の現像性が良好である。数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレンを標準物質として測定される。
【０１２９】
含フッ素樹脂は、エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを含む共重合体であって、酸価が１〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであるのが好ましい。
【０１３０】
エチレン性二重結合としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基が挙げられる。
【０１３１】
エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体としては、
ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＯＣＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＨ２ＯＱ１Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＳＯ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＣＯＲｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＮＲ１ＣＯＯＱ２Ｒｆ、ＣＨ２＝ＣＲ１ＣＯＯＱ２ＯＱ１Ｒｆ等が挙げられる。ただし、Ｒ１は水素原子又はメチル基を、Ｑ１は単結合又は炭素数１〜６の２価有機基を、Ｑ２は炭素数１〜６の２価有機基を、それぞれ示す。Ｑ１、Ｑ２は環状構造を有していてもよい。
【０１３２】
Ｑ１、Ｑ２の具体例としては、
−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）−、−ＣＨ２（ＣＨ２）３ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２）−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２−等が挙げられる。Ｑ１は単結合であってもよい。
合成の容易さの観点から、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−が好ましい。
【０１３３】
エチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体として具体的には以下のものが挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３（ｎは３〜９）、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）。
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３（ｎは３〜９）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）。
ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−１ＣＦ３（ｎは３〜９）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ６Ｆ１３（ｎは２〜６）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ−１Ｃ３Ｆ７（ｎは２〜６）。
【０１３４】
含フッ素樹脂におけるエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位の含有量は、１〜９５％等が好ましく、５〜８０％がより好ましく、２０〜６０％がさらに好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、本発明の感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【０１３５】
酸性基（ｂ）を有する単量体として、カルボキシル基を有する単量体、フェノール性水酸基を有する単量体、スルホン酸基を有する単量体が挙げられる。
【０１３６】
カルボキシル基を有する単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１３７】
フェノール性水酸基を有する単量体としては、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。またこれらのベンゼン環の１個以上の水素原子が、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキル基の１個以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基に置換された化合物等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１３８】
スルホン酸基を有する単量体としては、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アリルオキシプロパンスルホン酸、（メタ）アクリル酸−２−スルホエチル、（メタ）アクリル酸−２−スルホプロピル、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、もしくはそれらの塩等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１３９】
含フッ素樹脂における酸性基（ｂ）を有する単量体に基づく単量体単位の含有量は、０．１〜４０％等が好ましく、０．５〜３０％がより好ましく、１〜２０％がさらに好ましい。当該範囲であると含フッ素樹脂は良好な撥インク性を奏し、感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【０１４０】
含フッ素樹脂がエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを有する共重合体である場合、Ｒｆ基（ａ）及び酸性基（ｂ）を有しない単量体（以下、「その他の単量体」という。）に基づく単量体単位を有していてもよい。
【０１４１】
その他の単量体としては、炭化水素系オレフィン類、ビニルエーテル類、イソプロペニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルエステル類、アリルエステル類、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、芳香族ビニル化合物、クロロオレフィン類、フルオロオレフィン類、共役ジエン類が挙げられる。これらの化合物には、官能基が含まれていてもよく、例えば水酸基、カルボニル基、アルコキシ基、アミド基等が挙げられる。またポリシロキサン構造を有する基を有していてもよい。ただし、これらのその他の単量体に基づく単量体単位は、Ｒｆ基（ａ）及び酸性基（ｂ）を有しない。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。特に（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類が、本発明の感光性樹脂組成物から形成される塗膜の耐熱性に優れるので好ましい。
【０１４２】
含フッ素樹脂において、その他の単量体に基づく単量体単位の割合は８０％以下が好ましく、７０％以下がより好ましい。当該範囲であると本発明の感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
【０１４３】
本発明における含フッ素樹脂は、上記のエチレン性二重結合とＲｆ基（ａ）とを有する単量体に基づく単量体単位と、エチレン性二重結合と酸性基（ｂ）とを有する単量体に基づく単量体単位とを含む共重合体を合成することによって得られるほか、反応部位を有する重合体にＲｆ基（ａ）を有する化合物及び／又は酸性基（ｂ）を有する化合物を反応させる各種変性方法によっても得られる。
【０１４４】
反応部位を有する重合体にＲｆ基（ａ）を有する化合物を反応させる各種変性方法としては、例えば、エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にＲｆ基（ａ）とカルボキシル基を有する化合物を反応させる方法、エポキシ基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後にＲｆ基（ａ）とヒドロキシル基を有する化合物を反応させる方法が挙げられる。
【０１４５】
エポキシ基を有する単量体の具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが挙げられる。
【０１４６】
Ｒｆ基（ａ）とカルボキシル基を有する化合物としては、下記式３で表される化合物が挙げられる。
ＨＯＯＣ−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１・・・式３
式３中、ｐは２又は３の整数、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【０１４７】
Ｒｆ基（ａ）とヒドロキシル基を有する化合物としては、下記式４で表される化合物が挙げられる。
ＨＯＣＨ２−Ｃｐ−１Ｆ２（ｐ−１）−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐ−Ｏ）ｎ−１−ＣｑＦ２ｑ＋１・・・式４
式４中、ｐは２又は３の整数、ｑは１〜２０の整数、ｎは２〜５０の整数を示す。
【０１４８】
反応部位を有する重合体に酸性基（ｂ）を有する化合物を反応させる各種変性方法としては、例えば、水酸基を有する単量体をあらかじめ共重合させ、後に酸無水物を反応させる方法が挙げられる。また、エチレン性二重結合を有する酸無水物をあらかじめ共重合させ、後に水酸基を有する化合物を反応させる方法が挙げられる。
【０１４９】
水酸基を有する単量体の具体例としては、ビニルフェノール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシメチル）等が挙げられる。
【０１５０】
さらに、水酸基を有する単量体としては、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体であってもよい。例えば、ＣＨ２＝ＣＨＯＣＨ２Ｃ６Ｈ１０ＣＨ２Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ（ここで、ｇは１〜１００の整数、以下同じ。）、ＣＨ２＝ＣＨＯＣ４Ｈ８Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｇＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ
３Ｈ６Ｏ）ｋＨ（ここで、ｈは０又は１〜１００の整数であり、ｋは１〜１００の整数であり、ｈ＋ｋは１〜１００である。以下同じ。）、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ２Ｈ４Ｏ（Ｃ２Ｈ４Ｏ）ｈ（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｋＨ等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５１】
酸無水物の具体例としては、無水フタル酸、無水３−メチルフタル酸、無水トリメリット酸等が挙げられる。
【０１５２】
エチレン性二重結合を有する酸無水物の具体例としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、無水３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、無水ｃｉｓ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、２−ブテン−１−イルスシニックアンハイドライド等が挙げられる。
【０１５３】
水酸基を有する化合物としては、１つ以上の水酸基を有している化合物であれば良く、前記に示した水酸基を有する単量体の具体例や、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類等が挙げられる。分子内に１個の水酸基を有する化合物が好ましい。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５４】
含フッ素樹脂あるいは含フッ素樹脂の前駆体となる前記反応部位を有する重合体は、単量体を必要に応じて連鎖移動剤と共に、溶媒に溶解して加熱し、重合開始剤を加えて反応させる方法によって合成できる。
【０１５５】
含フッ素樹脂（Ａ）の配合量は、感光性樹脂組成物中の固形分に対し、０．０１〜５０％が好ましく、０．１〜３０％がより好ましく、０．２〜１０％が特に好ましい。当該範囲であると感光性樹脂組成物は良好な撥インク性、インク転落性を奏し、現像性が良好となる。
【０１５６】
（２）＜撥水層を設ける方法＞
「混色」を防ぐ手段として、離画壁を形成した基板上の離画壁に合致した位置にインキ反発性を有する仕切り壁を作製する方法がある。
【０１５７】
インキ反発性を有する仕切り壁として、シリコーンゴム層を用いることが好ましい。表層に塗設されるシリコーンゴム層は、着色に用いる溶液およびインクに対して反発効果を有することが必須であり、これに限定されるものではないが、下記一般式（１）のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものである。
【０１５８】
【化２４】
2007333880.tif 000025
【０１５９】
なお、一般式（１）において、ｎは２以上の整数、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基あるいはフェニル基である。
【０１６０】
この様な線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋することによりシリコーンゴムが得られる。架橋剤は、いわゆる室温（低温）硬化型のシリコーンゴムに使われるアセトキシシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシラン、アルケニオキシシランなどであり、通常線状の有機ポリシロキサンとして末端が水酸基であるものと組み合わせて、それぞれ脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコ−ル型、脱アミン型、脱アミド型、脱ケトン型のシリコーンゴムとなる。また、シリコーンゴムには、触媒として少量の有機スズ化合物などが添加される。感光性樹脂層とシリコーンゴム層の接着のために層間に接着層として種々のものを用いることがあり、特にアミノシラン化合物や有機チタネート化合物が好ましい。感光性樹脂層とシリコーンゴム層間に接着層を設ける代わりにシリコーンゴム層に接着成分を添加しておくこともできる。この添加接着成分としてもアミノシラン化合物や有機チタネート化合物が使用できる。
【０１６１】
仕切り壁を作製するための露光は離画壁をマスクとし、基板の裏側から行い、さらに照射ＵＶ光を散乱させて入射光を透過部位の大きさより拡大して感光性樹脂に作用させて、光反応して可溶化する樹脂の部分をシリコーンゴム表層側の方が大きくなる様にする。この様に露光した後、ｎ−ヘプタン／エタノ−ル混合液で現像してシリコーンゴム表層を有する仕切り壁を作製できる。
【０１６２】
（３）＜プラズマ処理により撥水性を付与する方法＞
「混色」を防ぐ手段として、離画壁を形成した基板に、プラズマによる撥水化処理をする方法がある。
【０１６３】
本工程において導入する、少なくともフッ素原子を含有するガスとしては、ＣＦ４、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、ＳＦ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ５Ｆ８から選択されるハロゲンガスを１種以上用いることが好ましい。特に、Ｃ５Ｆ８（オクタフルオロシクロペンテン）は、オゾン破壊能が０であると同時に、大気寿命が従来のガスに比べて（ＣＦ４：５万年、Ｃ４Ｆ８：３２００年）０．９８年と非常に短い。従って、地球温暖化係数が９０（ＣＯ２＝２とした１００年積算値）と、従来のガスに比べて（ＣＦ４：６５００、Ｃ４Ｆ８：８７００）非常に小さく、オゾン層や地球環境保護に極めて有効であり、本発明で使用する上で望ましい。
【０１６４】
さらに、導入ガスとしては、必要に応じて酸素、アルゴン、ヘリウム等のガスを併用しても良い。本工程においては、上記ＣＦ４、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６、ＳＦ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ５Ｆ８から選択されるハロゲンガスを１種以上とＯ２との混合ガスを用いると、本工程において処理される離画壁表面の撥インク性の程度を制御することが可能になる。但し、当該混合ガスにおいて、Ｏ２の混合比率が３０％を超えるとＯ２による酸化反応が支配的になり、撥インク性向上効果が妨げられるため、また、Ｏ２混合比率が３０％を超えると樹脂に対するダメージが顕著になるため、当該混合ガスを用いる場合にはＯ２の混合比率が３０％以下の範囲で使用する必要がある。
【０１６５】
また、プラズマの発生方法としては、低周波放電、高周波放電、マイクロ波放電等の方式を用いることができる。プラズマ処理の際の圧力、ガス流量、出力、処理時間等の条件は任意に設定することができるが、本発明の効果を達成するためには、以下の条件であることがより好ましい。
【０１６６】
プラズマ処理の際の圧力は、１０〜１００Ｐａが好ましく、２０〜８０Ｐａがより好ましく、３０〜５０Ｐａがさらに好ましい。ガス流量は、４０〜３００ｓｃｃｍが好ましく、５０〜２００ｓｃｃｍがより好ましく、６０〜１００ｓｃｃｍがさらに好ましい。出力は、１０〜１００Ｗが好ましく、２０〜９０Ｗがより好ましく、３０〜８０Ｗがさらに好ましい。処理時間は上記圧力と出力に依存し、２０〜２００ｓｅｃが好ましく、２０〜１００ｓｅｃがより好ましく、１０〜５０ｓｅｃがさらに好ましい。
【０１６７】
（４）＜離画壁上面に撥水材料を塗布する方法＞
「混色」を防ぐ手段として、離画壁を形成した基板に、撥水性を有する材料を全面に塗布する方法がある。
撥水性を有する材料としてはポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂、シリコーンゴム、パーフルオロアルキルアクリレート、ハイドロカーボンアクリレート、メチルシロキサン等、一般に撥水材料と考えられるもので色材に対する接触角が６０°以上のものであれば特に限定されるものではない。
【０１６８】
撥水材料の塗布の方法としては基板、離画壁などに影響を及ぼさない方法であれば、スリットコート、スピンコート、ディップコート、ロールコート等各材料に最適の方法を選択することが可能である。
【０１６９】
次に、基板裏面側から離画壁を介してＵＶＯ３処理を行い、離画壁以外の部分の撥水膜を選択的に除去または親水化処理（色材に対する接触角が処理前後で３０°以上の開きがある）する。
【０１７０】
撥水材料を除去または親水化処理することが可能ならば、パターニングの方法はレーザーアブレーション、プラズマアッシング、コロナ放電処理等のドライ処理およびアルカリを用いたウェット処理等材料に応じて最適の方法を選択することが可能である。また、離画壁上に撥水材料をパターン形成することが可能であればリフトオフ法等も有効である。
【０１７１】
上記（１）〜（４）の撥水処理方法の中でも、「工程の簡便さ」という観点から（３）プラズマによる撥水処理方法が特に好ましい。
【０１７２】
＜カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ並びに液晶表示装置＞
本発明のカラーフィルタの製造方法は、本発明のインクジェット法用離画壁付き基板を用い、離画壁で離隔された領域に着色液体組成物（以下、「インク」と称することがある。）の液滴をインクジェット法により付与して画素を形成する画素形成工程を有する。本発明のカラーフィルタは、本発明のカラーフィルタの製造方法により製造することができる。
【０１７３】
インクジェット法を実施するためのインクジェット記録装置としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
用いるインクは油性、水性であっても使用できる。また、そのインクに含まれる着色材は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタ作製に用いる、塗布方式の着色インク（着色樹脂組成物、例えば、特開２００５−３８６１号公報［００３４］〜［００６３］記載）や、特開平１０−１９５３５８号公報［０００９］〜［００２６］に記載のインクジェット用組成物を使用することもできる。
本発明におけるインクには、着色後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することもできる。加熱によって硬化する成分としては各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、またエネルギー線によって硬化する成分としては例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものを例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、上記＜感光性樹脂組成物＞の項で挙げた、顔料などの色材を含有させた感光性樹脂組成物を、好適なものとして用いることができる。
【０１７４】
また、本発明において用いることができるインクとしては、少なくともバインダー、及び、２官能乃至３官能のエポキシ基含有モノマーを含有するカラーフィルタ用熱硬化性インクも好適なものとして用いることができる。
【０１７５】
本発明のカラーフィルタは、インクジェット方式で画素形成されたカラーフィルタであるが、ＲＧＢ３色のインクを吹き付けて３色のカラーフィルタを形成することが好ましい。
このカラーフィルタは、液晶表示素子、電気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬＺＴ等と組合せて表示素子として用いられる。カラーカメラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用できる。
【０１７６】
このようにして形成されたカラーフィルタのパターン形状は特に限定されるものではなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であっても、格子状であっても、さらにはデルタ配列状であってもよい。
【０１７７】
（オーバーコート層）  
カラーフィルタ作製後、全面に耐性向上のためにオーバーコート層を設ける場合がある。オーバーコート層は、インクＲ，Ｇ，Ｂの固化層を保護するとともに、表面を平坦にすることができるが、工程数が増えるという観点から、設けないことが好ましい。
【０１７８】
オーバーコート層を形成する樹脂（ＯＣ剤）としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性で優れており、また、カラーフィルタ用光硬化性組成物の樹脂成分が通常アクリル系樹脂を主成分としており、密着性に優れていることからアクリル系樹脂組成物が望ましい。
オーバーコート層の例として、特開２００３−２８７６１８号公報の段落番号００１８〜００２８に記載のものや、オーバーコート剤の市販品として、ＪＳＲ社製「オプトマーＳＳ６６９９Ｇ」）が挙げられる。
【０１７９】
本発明のカラーフィルタは液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置に好適に用いられる。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木  昭夫著、（株）工業調査会  １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹  順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。
この表示装置のうち、液晶表示装置に適用するのが特に好ましい。液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田  龍男編集、（株）工業調査会  １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらのなかで特にカラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに本発明はもちろんＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門  ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。
【０１８０】
液晶表示装置はカラーフィルタ以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなどさまざまな部材から構成される。本発明のカラーフィルタはこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島  健太郎  （株）シーエムシー  １９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表  良吉  （株）富士キメラ総研  ２００３年発行）」に記載されている。
【０１８１】
以下に、本発明のカラーフィルタを液晶表示装置に適応した場合について図面を用いて説明する。
図２は本発明のカラーフィルタの一実施形態の断面を示す図である。図２中、１１は基板としての透明基板、１２は離画壁、１３は画素である着色部、１４は必要に応じて形成される保護層である。本発明のカラーフィルタを用いて液晶素子を構成する場合には、着色部１３上或いは、着色部１３上に保護層１４を形成したさらにその上に、液晶を駆動するためのＩＴＯ（インジウム・チン・オキサイド）等透明導電材からなる透明導電膜が形成されて提供される場合もある。
【０１８２】
本発明の液晶表示装置は、本発明のカラーフィルタを有するものである。本発明における液晶表示素子とは、対向する一対の基板の間に、液晶材料が封入された液晶層を有する素子である。
液晶表示装置は、対向する一対の基板の少なくとも一方にカラーフィルタを有し、互いに対向し合う側の表面に導電層が設けられた２枚の基板間に液晶層が挟持され、該両導電層間に電圧が印可されその間に挟持される液晶材料がその電圧に応じて配向状態を変化させ表示を行う表示装置である。
【０１８３】
液晶表示装置の基本的な構成態様としては、（１）薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」という場合がある。）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、カラーフィルタ及び対向電極（導電層）を備えるカラーフィルタ側基板との間に液晶材料を封入して構成されるもの、（２）カラーフィルタが上記駆動側基板に直接形成されたカラーフィルタ一体型駆動基板と、対向電極（導電層）を備える対向基板との間に液晶材料を封入して構成されるもの等が挙げられる。
上記導電層としては、例えば、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ２等の金属酸化膜などが挙げられ、中でも透明性のものが好ましく、ＩＴＯ膜が特に好ましい。上記駆動側基板、カラーフィルタ側基板、対向基板は、その基板として、例えば、ソーダガラス板、低膨張ガラス板、ノンアルカリガラス板、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いはプラスチックフィルム等を用いて構成される。
ＴＦＴ等の駆動素子と画素電極とが配列形成された駆動側基板としては、例えば、互いに垂直に交わってマトリックス状に配設されたデータバスライン及びゲートバスラインと接続されたＴＦＴ、及びＴＦＴを介してデータバスラインと接続する導電層が設けられたものなどが挙げられる。
【０１８４】
図３に、図２のカラーフィルタを用いて構成された、液晶表示素子の一実施形態の断面図を示す。図３中、１７は共通電極（透明導電膜）、１８は配向膜、１９は液晶、２１は対向基板、２２は画素電極、２３は配向膜であり、図２と同じ部材には同じ符号を付して説明を省略する。
【０１８５】
カラー液晶素子は、一般的にカラーフィルタ側の基板１１と対向基板２１とを合わせ込み、液晶１９を封入することにより形成される。液晶素子の一方の基板２１の内側に、ＴＦＴ（図示せず）と画素電極２２がマトリクス状に形成されている。また、カラーフィルタ側の基板１１の内側には、画素電極２２に対向する位置に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列するように、カラーフィルタの着色部１３が形成され、その上に透明な共通電極１７が形成される。さらに、両基板の面内には配向膜１８、２３が形成されており、液晶分子を一定方向に配列させている。これらの基板は、スペーサー（図示せず）を介して対向配置され、シール材（図示せず）によって貼り合わされ、その間隙に液晶１９が充填される。上記液晶表示素子は、透過型の場合には、基板２１及び画素電極２２を透明素材で形成し、それぞれの基板の外側に偏光板を接着し、一般的に蛍光灯と散乱板を組み合わせたバックライトを用い、液晶化合物をバックライトの光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させることにより表示を行う。また、反射型の場合には、基板２１或いは画素電極２２を反射機能を備えた素材で形成するか、或いは、基板２１上に反射層を設け、透明基板１１の外側に偏光板を設け、カラーフィルタ側から入射した光を反射して表示を行う。
本発明の液晶表示装置は本発明のカラーフィルタを有するため、混色や白ヌケのない高解像度の画像を表示することができる。
【実施例】
【０１８６】
以下、本発明を実施例を用いてさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例により限定されるものではない。なお、特に断りのない限り「％」および「部」は、「質量％」および「質量部」を表す。
【０１８７】
［感光性樹脂組成物の製法］
感光性樹脂組成物は、まず下記感光性樹脂組成物処方に記載の量のカーボンブラック分散液、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ１０分間攪拌し、次いで、メチルエチルケトン、バインダーＰ−１、架橋剤ＭＷ−３０Ｍ（三和ケミカル（株）製）、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、トリエチルアミン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ＲＰＭ３０分間攪拌することによって得られる。
【０１８８】
＜感光性樹脂組成物処方＞
・カーボンブラック分散液（カーボンブラックの粒径２０ｎｍ）        ２０．５部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ８．０部
・メチルエチルケトン                                                  ５３部
・バインダーＰ−１                                                  ７．３部
・架橋剤ＭＷ−３０Ｍ（三和ケミカル（株）製）                        ６．４部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン              １．６部
・トリエチルアミン                                                ０．０４部
・界面活性剤１                                                  ０．０５５部
【０１８９】
＜カーボンブラック分散液＞
・カーボンブラック（デグッサ社製  Ｎｉｐｅｘ３５）                １３．１部
・分散剤（下記参照）                                              ０．８０部
【０１９０】
【化２５】
2007333880.tif 000026
【０１９１】
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）                                            ６．７２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７９．３８部
【０１９２】
＜バインダーＰ−１＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）                                                ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ７３部
【０１９３】
＜界面活性剤１＞
・下記構造物１                                                        ３０部
・メチルエチルケトン                                                  ７０部
【０１９４】
【化２６】
2007333880.tif 000027
【０１９５】
［実施例１］
（離画壁の形成）
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。該基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
該基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、感光性樹脂組成物を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置；東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の１部を乾燥して塗布層の流動性をなくした後、１２０℃３分間プリベークして感光性樹脂層を得た。
【０１９６】
超高圧水銀灯を有すプロキシミティ型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量２００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。露光終了して１分後に１２０℃で３０秒間加熱処理（露光後ベーク）を行った。
【０１９７】
次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂層の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン性界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、引き続き２２０℃で３０分間熱処理して幅１５μｍ、高さ２．０μｍの格子パターン状離画壁を得た。
【０１９８】
〔プラズマ撥水化処理〕
離画壁を形成した基板に、カソードカップリング方式平行平板型プラズマ処理装置を用いて、以下の条件にてプラズマ撥水化処理を行った。
使用ガス  ：ＣＦ４ガス流量  ：８０ｓｃｃｍ
圧力        ：４０Ｐａ
ＲＦパワー  ：５０Ｗ
処理時間  ：３０ｓｅｃ
【０１９９】
（画素形成）
次いで、インクジェット装置を用いＲ、Ｇ、Ｂそれぞれのインクをブラックマトリックスパターン様離画壁の間隙に付与して着色した。
このインクは、下記の成分のうち、先ず、顔料、高分子分散剤及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得、その顔料分散液をディソルバー等で十分攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、Ｒ（赤色）インクを調製した。
＜Ｒインクの組成＞
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）                                ５部
・高分子分散剤（ＡＶＥＣＩＡ社製ソルスパース２４０００）                １部
・バインダー（グリシジルメタクリレート−スチレン共重合体）              ３部
・第一エポキシ樹脂（ノボラック型エポキシ樹脂、油化シェル社製エピコート１５４）
２部
・第二エポキシ樹脂（ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル）        ５部
・硬化剤（トリメリット酸）                                              ４部
・溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル                                ８０部
【０２００】
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えて、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いるほかはＲインクの場合と同様にしてＧ（緑色）インクを調製した。
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えて、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いるほかはＲインクの場合と同様にしてＢ（青色）インクを調製した。
画素着色後のカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分ベークすることで、離画壁（ブラックマトリックス）、各画素共に完全に硬化させて、カラーフィルタを得た。
【０２０１】
こうして得られたカラーフィルタの、各画素を構成するインクは離画壁間隙（離画壁で離隔された領域）にぴったり収まり、隣接画素との混色などの欠陥となる不良は見つからなかった。
上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びにブラックマトリクスの上に更に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）の透明電極をスパッタリングにより形成した。別途、対向基板としてガラス基板を用意し、カラーフィルタ基板の透明電極上及び対向基板上にそれぞれＰＶＡモード用にパターニングを施した。
前記ＩＴＯの透明電極上の離画壁の上部に相当する部分にフォトスペーサを設け、その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
その後、カラーフィルタの画素群を取り囲むように周囲に設けられたブラックマトリックス外枠に相当する位置に紫外線硬化樹脂のシール剤をディスペンサ方式により塗布し、ＰＶＡモード用液晶を滴下し、対向基板と貼り合わせた後、貼り合わされた基板をＵＶ照射した後、熱処理してシール剤を硬化させた。このようにして得た液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。
【０２０２】
［評価］
（離画壁付き基板のムラ評価）
上記のようにして作製された離画壁付き基板を、格子に対して４５゜の角度から、透過光にかざして、１０人が目視観察した際、ムラを感じた人数で評価した。
−評価基準−
○：３人未満
△：３人以上７人未満
×：７人以上
【０２０３】
（ｂ／ａ値による形状評価：図１参照）
得られたカラーフィルタを基板ごと垂直にカットして断面を露出させ、走査型電子顕微鏡で撮影（倍率２００００倍）した。基板と離画壁の断面の交点をＡ１及びＡ２とし、該離画壁の最も高さの高い点をＨ、Ｈから基板に下ろした垂線の足をＧ、Ｈを通り基板表面に平行な直線をＬ０、ＨとＧをＨＰ：ＰＧ＝１：３に内分する点をＰ、Ｐを通り基板表面に平行な直線をＬ１、Ｌ１が離画壁の断面と交わる点をＢ１及びＢ２、Ａ１とＡ２の距離をａ、Ｂ１とＢ２の距離をｂとして、ｂ／ａ値を求めた。測定はランダムに選んだ１０点について行い、それらの値を平均して求めた値を表１に示す。
【０２０４】
（離画壁の上端角部のｄ／ｈ値による形状の評価：図４参照；尚、図面は模式図であり、実際の形状サイズとは異なる。）
上記の走査型電子顕微鏡写真から以下の方法で離画壁の上端角部の形状を評価した。該離画壁の基板からの高さが最も高い点における基板からの高さをＨ、Ｈから基板に下ろした垂線の足をＧ、直線ＨＧ上にありＨとＧをＨＱ：ＰＱ＝１：４に内分する点をＱとして、Ｑを通り基板表面に平行な直線をＬ２とする。Ｌ２が離画壁の断面と交わる点をＲ、Ｒにおける接線をＬ３とする。Ｌ３とＬ０の交点Ｓとする。離画壁の高さをｈ、Ｓから離画壁の断面までの距離をｄとした時、ｄ／ｈの値を離画壁の上端角部の形状の尺度とした。ｄ／ｈの値が、０．０６以下であれば混色が起こりにくく、更にこの値が０．０４以下であればより混色が起こりにくくなることがわかる。
【０２０５】
（離画壁の黒色度の評価）
露光マスクを用いず試料全面に露光する以外は離画壁を作成する方法と同様にしてガラス板上に離画壁と同一厚みのベタ画像を作成した。この試料の４５０ｎｍから６５０ｎｍの波長領域の吸光度を分光光度計ＵＶ−２１００を用いて測定する。このチャートから５００ｎｍと６００ｎｍの値を求め下記の式で計算する。
黒色度＝６００ｎｍにおける吸光度÷５００ｎｍにおける吸光度
【０２０６】
（画素間の混色評価）
得られたカラーフィルタを画素を形成した側とは反対側から２００倍の光学顕微鏡で目視観察して画素間の混色の有無を調べた。１０００画素観察して下記のランクに分けた。結果を表１に示す。許容されるのはＡランクとＢランクのものである。
Ａランク：混色が全くないもの
Ｂランク：混色が１〜２箇所のもの
Ｃランク：混色が３〜１０箇所のもの
Ｄランク：混色が１１箇所以上のもの
【０２０７】
［実施例２］
（感光性転写材料−１の作製）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて感光性樹脂組成物を塗布して、１００℃で３分間乾燥して感光性樹脂層を設け、この上に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着して、感光性転写材料−１を得た。
【０２０８】
（離画壁の形成）
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
【０２０９】
感光性転写材料−１の保護フイルムを剥離後、ラミネータ（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用い、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。
仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティ型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量２００ｍＪ／ｃｍ２でパターン露光した。露光終了して１分後に１２０℃で３０秒間加熱処理（露光後ベーク）を行った。
【０２１０】
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．０６モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム株式会社製）を用い、２９℃３０秒、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画素を得た。
その後更に、該基板に対して感光性樹脂層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ２の光でポスト露光後、２２０℃、１５分熱処理し、離画壁を得た。
この後、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作成し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。また、実施例１と同様の方法で液晶表示装置を作製した。
【０２１１】
［実施例３］
（感光性転写材料−２の作製）
実施例２において、仮支持体と感光性樹脂層の間に仮支持体から近い順に下記熱可塑性樹脂層と中間層を設ける以外は、実施例２と同様にして行い感光性転写材料−２を得た。
【０２１２】
（熱可塑性樹脂層の形成）
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて下記熱可塑性樹脂層塗布液を乾燥膜厚が３μｍになるよう塗布して１００℃で３分間乾燥した。
＜熱可塑性樹脂層用塗布液処方＞
・メタノール                                                      １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ６．４部
・メチルエチルケトン                                              ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）                                    ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                                                １３．６部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製）                                                      ９．１部
・前記界面活性剤１                                                ０．５４部
・メチルエチルケトン                                                  ７０部
【０２１３】
（中間層の形成）
前述の熱可塑性樹脂層の上にスリット状ノズルを用いて下記中間層用塗布液を乾燥膜厚が１．６μｍになるよう塗布して１００℃で３分間乾燥した。
＜中間層用塗布液処方＞
・ポリビニルアルコール                                            ３２．２部
（ＰＶＡ２０５（鹸化率＝８８％）；（株）クラレ製）
・ポリビニルピロリドン                                            １４．９部
（ＰＶＰ、Ｋ−３０；アイエスピー・ジャパン社製）
・メタノール                                                        ４２９部
・蒸留水                                                            ５２４部
【０２１４】
（離画壁の形成）
感光性転写材料−１を感光性転写材料−２に変更した以外は、実施例２と同様の方法で転写、露光を行った。
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５％のトリエタノールアミン含有、ノニオン性界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム製）にて３０℃５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と中間層を除去した。
引き続き炭酸Ｎａ系現像液（０．０６モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン性界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム製）を用い、２９℃３０秒、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画素を得た。
【０２１５】
引き続き洗浄剤（燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「Ｔ−ＳＤ１（富士写真フイルム製）」を用い、３３℃２０秒、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、ブラック（Ｋ）の画像を得た。
その後更に、該基板に対して感光性樹脂層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ２の光でポスト露光後、２２０℃、１５分熱処理し、離画壁を得た。
この後、実施例１と同様にカラーフィルタを作成し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。また、実施例１と同様の方法で液晶表示装置を作製した。
【０２１６】
［実施例４］
離画壁の高さを２．７μｍとした以外は、実施例３と同様に実施し、同様に評価した。結果を表１に示す。
【０２１７】
［実施例５］
離画壁の高さを３．３μｍとした以外は、実施例３と同様に実施し、同様に評価した。結果を表１に示す。
【０２１８】
［実施例６］
離画壁の高さを４．５μｍとした以外は、実施例３と同様に実施し、同様に評価した。結果を表１に示す。
【０２１９】
［実施例７］
実施例１において、添加物中のトリエチルアミンを、モルホリノアセトフェノンに変更して添加した以外は同様の添加物／量にて感光性樹脂組成物を作成し、それを実施例３と同様に処理して液晶表示装置を作製した。結果を表１に示す。
【０２２０】
［比較例１］
［比較感光性樹脂組成物１の製法］
比較感光性樹脂組成物１は、まず下記比較感光性樹脂組成物１処方に記載の量のカーボンブラック分散液、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ１０分間攪拌し、次いで、メチルエチルケトン、バインダーＰ−１、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ＲＰＭ３０分間攪拌することによって得られる。
この比較感光性樹脂組成物１を用いた以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタを得た。また、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。また、実施例１と同様の方法で液晶表示装置を作製した。
【０２２１】
＜比較感光性樹脂組成物１処方＞
・カーボンブラック分散液（カーボンブラックの粒径２０ｎｍ）            ２３部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ８．０部
・メチルエチルケトン                                                  ５３部
・バインダーＰ−１                                                  ９．１部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル（重合禁止剤）                ０．００２部
・ＤＰＨＡ液                                                        ４．５部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン（光重合開始剤）                                                                            ０．１６部
・前記界面活性剤１                                              ０．０５５部
【０２２２】
＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（重合禁止剤ＭＥＨＱ  ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ）                                                          ７６部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ２４部
【０２２３】
［比較例２］
［比較感光性樹脂組成物２の製法］
比較感光性樹脂組成物２は、まず下記比較感光性樹脂組成物２処方に記載の量のカーボンブラック分散液、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ１０分間攪拌し、次いで、メチルエチルケトン、バインダーＰ−１、架橋剤ＭＷ−３０Ｍ（三和ケミカル（株）製）、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ＲＰＭ３０分間攪拌することによって得られる。
この比較感光性樹脂組成物２を用いた以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタを得た。また、実施例１と同様の評価を行った。結果を表１に示す。また、実施例１と同様の方法で液晶表示装置を作製した。
【０２２４】
＜比較感光性樹脂組成物２処方＞
・カーボンブラック分散液（カーボンブラックの粒径２０ｎｍ）        ２０．５部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                  ８．０部
・メチルエチルケトン                                                  ５３部
・バインダーＰ−１                                                  ７．３部
・架橋剤ＭＷ−３０Ｍ（三和ケミカル（株）製）                        ６．４部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビスエトキシカルボニルメチル）アミノ−３’−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン              １．６部
・界面活性剤１                                                  ０．０５５部
【０２２５】
＜カーボンブラック分散液＞
・カーボンブラック（デグッサ社製  Ｎｉｐｅｘ３５）                １３．１部
・分散剤（前記参照）                                              ０．８０部
【０２２６】
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）                                            ６．７２部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート              ７９．３８部
【０２２７】
＜バインダーＰ−１＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）                                                ２７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート                    ７３部
【０２２８】
＜界面活性剤１＞
・前記構造物１                                                        ３０部
・メチルエチルケトン                                                  ７０部
【０２２９】
【表１】
2007333880.tif 000028
【０２３０】
上記表１から明らかな通り、アミンを加えて架橋反応した離画壁を有する実施例１〜７のいずれにおいても、混色がなく、離画壁基板のムラ（画素面状）もなく良好であった。
一方、比較例１、２は、混色、離画壁基板のムラ（画素面状）ともに不良であった。
【０２３１】
（評価）
上記で得られた液晶表示装置を白表示した場合、及び、黒表示した場合の表示品位を目視で観察した。結果を表２に示した。
【０２３２】
【表２】
2007333880.tif 000029
【０２３３】
表２から明らかな通り、実施例１〜７で作成したカラーフィルタを備えた液晶表示装置の画面は、いずれも混色が無く良好な画面であった。
一方、比較例１、２で作製したカラーフィルタを備えた液晶表示装置は、白表示、黒表示状態共に、程度の差はあるものの赤味かかった表示であり、表示品位が劣るものであった。
【図面の簡単な説明】
【０２３４】
【図１】本発明の離画壁の断面形状を示す模式図の一例である。
【図２】本発明のカラーフィルタの一実施形態の断面を示す図である。
【図３】図２に示すカラーフィルタを用いて構成された、液晶表示装置の一実施形態の断面図である。
【図４】本発明の離画壁の断面形状を示す模式図の別の一例である。
【符号の説明】
【０２３５】
１１  基板（透明基板）
１２  離画壁
１３  画素
１４  保護層
【図１】
2007333880.tif 000030
【図２】
2007333880.tif 000031
【図３】
2007333880.tif 000032
【図４】
2007333880.tif 000033