(57)【要約】【課題】製造時に環境に与える負荷が低減された電気光学装置を提供する。【解決手段】液晶装置１の構成によれば、防塵ガラスを含まない分、防塵ガラスをＴＦＴアレイ基板１０等に接着するための加熱工程、或いは紫外線照射工程をなくすことができるため、液晶装置１００を製造する場合に比べて接着層を硬化させるための加熱工程或いは紫外線照射工程を減らすことが可能である。したがって、接着層を硬化させるための加熱工程、或いは紫外線照射工程において消費される消費エネルギーを低減でき、消費エネルギーの増大に伴って増大する環境への負荷を低減できる。【選択図】図４
2007333771.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板の一方の面上において、それぞれ開口領域を有する複数の画素と、
前記第１基板における前記一方の面に対向する他方の面の側に配置されており、表面に前記開口領域毎にマイクロレンズのレンズ曲面が形成されたマイクロレンズ基板と、
前記レンズ曲面に充填されており、前記マイクロレンズ基板及び前記第１基板を相互に接着する接着層と
を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
電気光学物質を介して前記第１基板の前記一方の面側に対向配置された第２基板を備え、
前記第１基板の厚みは、前記マイクロレンズ基板及び前記第２基板の夫々の厚みより薄いこと
を特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項３】
第１基板と、前記第１基板の一方の面上において、それぞれ開口領域を有する複数の画素と、前記第１基板における前記一方の面に対向する他方の面の側に配置されており、表面に前記開口領域毎にマイクロレンズのレンズ曲面が形成されたマイクロレンズ基板と、前記レンズ曲面に充填されており、前記マイクロレンズ基板及び前記第１基板を相互に接着する接着層とを備えた電気光学装置を製造するための電気光学装置の製造方法であって、
前記接着層を形成する工程と、
前記接着層を介して前記マイクロレンズ基板及び前記第１基板を接着する工程と
を備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１又は２の何れか一項に記載の電気光学装置を具備してなること
を特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、マイクロレンズを備えた液晶パネル等の電気光学装置、及びその製造方法、並びにそのような電気光学装置を備えた液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置では、画素スイッチング用素子としてのＴＦＴ（Thin Film Transistor）等の電子素子が作り込まれたＴＦＴアレイ基板と、当該ＴＦＴアレイ基板に対向配置された対向基板と、これら基板間に設けられた液晶層等の電気光学物質層とによって装置本体部が構成される。このような装置本体部の両面の夫々には、防塵ガラスが配置され、画素の開口領域に塵が付着することによる画質の低下が抑制されている。
【０００３】
一方、この種の電気光学装置では、例えば対向基板には、各画素に対応するマイクロレ
ンズが作り込まれたり、このような複数のマイクロレンズが作り込まれたマイクロレンズ
アレイ板が貼り付けられたりする。このようなマイクロレンズによって、そのままでは各画素における開口領域を除いた非開口領域に向かって進行する筈の光を、画素単位で集光して、電気光学物質層を透過する際には、各画素の開口領域内に導かれるようにしている。この結果、電気光学装置において明るい表示が可能となる。特許文献１は、マイクロレンズを備えた液晶表示装置の一例を開示している。
【０００４】
【特許文献１】特開平３―１７０９１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述した構成を有する電気光学装置では、対向基板をＴＦＴアレイ基板に貼り合わせる工程に加え、防塵ガラスをＴＦＴ基板及び対向基板の夫々に貼り合わせる工程を含む煩雑な工程で当該電気光学装置が製造されることになり、電気光学装置の製造プロセスで消費される電力も大きくなってしまう問題点がある。特に、液晶パネルを大量生産する量産過程では、電力消費、即ち消費エネルギーの増大をできるだけ抑制することが、環境に与える負荷を低減するうえで好ましいといえる。加えて、電気光学装置を構成する部材を低減することにより、資源の有効利用も望まれている。
【０００６】
よって、本発明は上記問題点等に鑑みてなされたものであり、例えば、環境に与える負荷を低減し、且つ資源の有効利用が可能となる電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る電気光学装置は上記課題を解決するために、第１基板と、前記第１基板の一方の面上において、それぞれ開口領域を有する複数の画素と、前記第１基板における前記一方の面に対向する他方の面の側に配置されており、表面に前記開口領域毎にマイクロレンズのレンズ曲面が形成されたマイクロレンズ基板と、前記レンズ曲面に充填されており、前記マイクロレンズ基板及び前記第１基板を相互に接着する接着層とを備える。
【０００８】
本発明に係る電気光学装置では、例えばＴＦＴアレイ基板等の第１基板及び当該第１基板に対向配置される対向基板等の第２基板の間に液晶層が設けられている。第２基板上の画素領域を構成する複数の画素の開口領域は、第１基板に設けられた遮光膜或いは配線等によって開口領域が規定されている。ここで、「開口領域」とは、実質的に光が透過する画素内の領域であり、例えば、後述するマイクロレンズによって画素に集光される光が配線、遮光膜、電子素子等で遮られることがない領域を意味する。逆に、画素内に配線、遮光膜等が形成されており、表示に寄与する光が透過しない領域、即ち開口領域を互いに隔てる領域は、「非開口領域」と呼ばれることになる。
【０００９】
マイクロレンズ基板は、第１基板における一方の面に対向する他方の面の側に配置されており、表面に開口領域毎にマイクロレンズのレンズ曲面が形成されている。このようなマイクロレンズ基板は、例えば透明な接着層を介して第１基板に接着されている。接着層が充填されることによって、レンズ曲面には、マイクロレンズが形成されており、マイクロレンズ基板の裏面の側、即ちマイクロレンズ基板を基準として、第１基板と反対側から入射する入射光を開口領域に集光する。このようなマイクロレンズによれば、効率良く開口領域に光を集光でき、開口領域に供給される光量を増大させることが可能であり、画素の輝度を高めることが可能である。
【００１０】
本発明に係る電気光学装置によれば、ＴＦＴアレイ基板の他方の面にマイクロレンズ基板接着層が接着層を介して接着されているため、レンズ曲面に透明部材が充填された状態で当該透明部材にカバーガラスを接着してなるマイクロレンズ基板を別途形成し、当該形成されたマイクロレンズ基板をＴＦＴアレイ基板に接着したうえに防塵ガラスをこれら基板に接着する場合に比べて、基板の枚数を減らすことが可能である。より具体的には、本発明に係る電気光学装置によれば、２枚の防塵ガラス、ＴＦＴアレイ基板、対向基板、及びマイクロレンズ基板からなる５枚の基板に比べて基板を２枚減らすことができる。したがって、電気光学装置を構成する部材を低減でき、資源を有効利用することが可能である。加えて、従来行われていた防塵ガラスをＴＦＴアレイ基板及び対向基板に接着する工程をなくすことが可能であるため、これら基板を接着する接着剤を硬化させるための熱硬化或いはＵＶ硬化工程をなくすことができる。したがって、熱硬化或いは紫外線硬化工程で消費される消費電力を低減でき、消費エネルギーの増大に伴って増大する環境への負荷を低減できる。
【００１１】
本発明に係る電気光学装置によれば、ＴＦＴアレイ基板等の第１基板の他方の面の側から開口領域に光が集光されることから、第１基板から見て一方の面上から入射する光を遮るために第２基板に遮光膜を設ける必要がない。より具体的には、第１基板の一方の面の側に予め形成された遮光性を有する配線等によって電子素子を遮光できることに加え、第１基板から見て電子素子が形成された一方の面の側の反対側から入射する光をマイクロレンズ基板によって集光するため、非開口領域に導かれる光を低減できる。したがって、第２基板に遮光膜を形成する工程をなくすことができ、電気光学装置の製造に要するコストの低減、及び消費エネルギーの低減が可能となる。尚、ＴＦＴ等の電子素子は、第１基板の一方の面上に形成されていればよく、第２基板の第１基板に臨む側の面に形成されていてもよい。
【００１２】
以上説明したように、本発明に係る電気光学装置によれば、製造プロセスで消費されるエネルギーの低減、及び資源の有効利用が可能であるため、環境に及ぼす負荷が低減された電気光学装置を提供でできる。
【００１３】
本発明に係る電気光学装置の一の態様では、電気光学物質を介して前記第１基板の前記一方の面側に対向配置された第２基板を備え、前記第１基板の厚みは、前記マイクロレンズ基板及び前記第２基板の夫々の厚みより薄くてもよい。
【００１４】
この態様によれば、マイクロレンズ基板及び第２基板の夫々の厚みに応じて入射光を開口領域に効率良く集光できる。尚、第１基板の厚みは、画素ピッチの値や、第２基板及びマイクロレンズ基板の夫々の厚みとの相対的な関係、各基板及び接着層の屈折率等に応じて個別具体的に設定される。
【００１５】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、第１基板と、前記第１基板の一方の面上において、それぞれ開口領域を有する複数の画素と、前記第１基板における前記一方の面に対向する他方の面の側に配置されており、表面に前記開口領域毎にマイクロレンズのレンズ曲面が形成されたマイクロレンズ基板と、前記レンズ曲面に充填されており、前記マイクロレンズ基板及び前記第１基板を相互に接着する接着層とを備えた電気光学装置を製造するための電気光学装置の製造方法であって、前記接着層を形成する工程と、前記接着層を介して前記マイクロレンズ基板及び前記第１基板を接着する工程とを備える。
【００１６】
本発明に係る電気光学装置の製造方法によれば、上述した電気光学装置と同様に、製造プロセスで消費されるエネルギーの低減、及び資源の有効利用が可能であるため、環境に及ぼす負荷が低減された電気光学装置を製造できる。
【００１７】
本発明に係る電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置を備えている。
【００１８】
本発明に係る電子機器によれば、上述した本発明に係る電気光学装置を具備してなるので、高品位の表示が可能な、投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明に係る電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置等も実現することが可能である。
【００１９】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面を参照しながら本発明に係る電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器の各実施形態を説明する。
【００２１】
＜１：マイクロレンズ基板＞
先ず、図１及び図２を参照しながら本実施形態に係る電気光学装置に適用されるマイクロレンズ基板の構成を説明する。
【００２２】
図１（ａ）は、マイクロレンズ基板２１０の概略斜視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＩｂ−Ｉｂ´断面部分の構成を示す概略斜視図である。図２は、凹部２１１を拡大して示した平面図である。
【００２３】
図１（ａ）において、マイクロレンズ基板２１０は、例えば石英基板やガラス板等の透明基板であり、その表面のレンズ形成領域２１０ａに複数の凹部２１１が形成されている。尚、マイクロレンズ基板２１０は、後に説明するようにマイクロレンズ基板２１０及びＴＦＴアレイ基板１０を相互に接着する接着層２３０が凹部２１１に充填されることによって凹部２１１毎にマイクロレンズが形成される。図１（ｂ）において、凹部２１１は、マイクロレンズ基板２１０にアレイ状に形成されており、その内側の面がマイクロレンズのレンズ曲面５００を規定する。
【００２４】
図２において、相互に隣接する凹部２１１の夫々が規定するレンズ曲面５００は相互に接していてもよいし、交わるように形成されてもよい。互いに隣接する凹部２１１の夫々が規定するレンズ曲面５００は、相互に離間されていてもよい。前者の如くレンズ曲面５００が交わるように形成すれば、各マイクロレンズにおいてレンズとして有効な領域を広くとることが可能となる。理想的には、各のコーナー部５０１において、４つのレンズ曲面５００が交わるようにすれば、各マイクロレンズ５００の隅々にまで、集光機能を与えることが可能となり、光の利用効率を最大限に高めることが可能となる。レンズ曲面５００の形状、即ちレンズ曲面の曲率は、マイクロレンズに要求される光学特性に応じて個別具体的に設定可能であり、例えば球面又は非球面に設定可能である。
【００２５】
尚、マイクロレンズ基板２１０は、後述するように、液晶装置等の電気光学装置において、ＴＦＴアレイ基板１０に接着される。したがって、凹部２１１は、ＴＦＴアレイ基板１０上の画素領域たる表示領域１０ａを構成する複数の画素のピッチに対応させて配置されている。
【００２６】
＜２：電気光学装置＞
＜２−１：電気光学装置の全体構成＞
次に、図３乃至図５を参照しながら、本実施形態に係る電気光学装置の一例である液晶層地の全体構成を説明する。図３は、本実施形態に係る液晶装置をＴＦＴアレイ基板上に配置された対向基板側から見た平面図であり、図４は、図３のＩＶ−ＩＶ´断面図である。図５は、本実施形態に係る液晶装置の比較例の構成を示す断面図である。ここでは、電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例に挙げる。
【００２７】
図３及び図４において、液晶装置１は、本発明の「第１基板」の一例であるＴＦＴアレイ基板１０、本発明の「第２基板」の一例である対向基板２０、マイクロレンズ基板２１０及び接着層２３０を備えている。ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の間には、本発明の「電気光学物質」の一例である液晶層５０が封入されている。ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０は、複数の画素が配列されてなる画素領域としての画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。
【００２８】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材５６が散布されている。即ち、本実施形態の電気光学装置は、プロジェクタのライトバルブ用として小型で拡大表示を行うのに適している。
【００２９】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、額縁遮光膜５３の一部又は全部は、対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０の側の面に内蔵遮光膜として形成されてもよい。
【００３０】
画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺のいずれかに沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。尚、走査線駆動回路１０４を、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２が設けられたＴＦＴアレイ基板１０の一辺に隣接する２辺に沿って設けるようにしてもよい。この場合、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿って設けられた複数の配線によって、二つの走査線駆動回路１０４を相互に電気的に接続できる。
【００３１】
対向基板２０の４つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導通材１０６が配置されている。他方、ＴＦＴアレイ基板１０にはこれらのコーナー部に対向する領域において上下導通端子が設けられている。これら上下導通端子により、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００３２】
図４において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング素子としてのＴＦＴや走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極９ａ上に、配向膜１６が形成されている。対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０に臨む側の面には、画素電極９ａと対向する対向電極が形成されており、当該対向電極を覆うように配向膜２２が形成されている。配向膜１６及び２２は、例えばポリイミド等の有機材料、或いは斜方蒸着法により無機材料を蒸着させてなる無機膜である。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【００３３】
マイクロレンズ基板２１０は、ＴＦＴアレイ基板２０を基準として対向基板２０の反対側に配置されている。接着層２３０は、凹部２１１のレンズ曲面５００に充填されており、マイクロレンズ基板２１０及びＴＦＴアレイ基板１０を相互に接着している。
【００３４】
接着層２３０は、ＴＦＴアレイ基板１０におけるマイクロレンズ基板２１０に臨む側の面、或いはマイクロレンズ基板２０における凹部２１１が形成された面に透明な接着剤が塗布された状態で、マイクロレンズ基板２１０及びＴＦＴアレイ基板２０を相互に貼り合わせた後、当該接着剤が硬化されることによって形成されている。この際、マイクロレンズ２１２は、凹部２１１に接着層２３０を構成する接着剤が凹部２１１に充填されることによって形成される。
【００３５】
液晶装置１の動作時に、液晶装置１に光を供給する不図示の光源は、ＴＦＴアレイ基板１０から見てマイクロレンズ基板２１０の側に配置されている。光源から出射された光は、マイクロレンズ基板２１０における図中下側からマイクロレンズ基板２１０に入射する。マイクロレンズ２１２は、マイクロレンズ基板２１０に入射した入射光をＴＦＴアレイ基板１０上の各画素における開口領域に集光し、液晶層５０の配向状態に応じて画像表示領域１０ａに所望の画像が表示される。
【００３６】
ここで、図５を参照しながら、本実施形態に係る液晶装置１の比較例である従来の液晶装置の構成を説明する。尚、比較例に係る液晶装置１００を構成する構成要素のうち液晶装置１と共通する部分に共通の参照符号している。
【００３７】
図５において、液晶装置１００は、防塵ガラス基板３００ａ、接着剤層３１０ａ及び３１０ｂ、ＴＦＴアレイ基板１０、マイクロレンズ基板３２０、防塵ガラス基板３００ｂ、及び液晶層５０を主たる構成要素として構成されている。マイクロレンズ基板３２０は、基板本体３２０ｂの表面に形成された凹部に、基板本体３２０ｂ及びカバーガラス基板３２０ａを相互に接着する接着剤を充填することによって形成された複数のマイクロレンズ３１２を有している。防塵ガラス基板３００ａ及びＴＦＴアレイ基板１０は、熱硬化材料或いは紫外線硬化材量で構成された接着層３１０ａを介して相互に接着されている。防塵ガラス基板３００ｂ及びマイクロレンズ基板３２０は、熱硬化材料或いは紫外線硬化材量で構成された接着層３１０ｂを介して相互に接着されている。
【００３８】
液晶装置１００の製造プロセスでは、液晶防塵ガラス基板３００ａ及び３００ｂの夫々をＴＦＴアレイ基板１０及びマイクロレンズ基板３２０に接着するために、接着層３１０ａ及び３１０ｂの夫々を加熱する工程、或いは接着層３１０ａ及び３１０ｂの夫々に紫外線を照射する工程が必要となる。加えて、マイクロレンズ基板３２０を形成する際に、カバーガラス基板３２０ａ及び基板本体３２０ｂを接着剤等で接着する工程が必要となる。この際、接着剤が熱硬化材料或いは紫外線硬化材料である場合、加熱工程、或いは紫外線照射工程が必要となる。
【００３９】
一方、図４に示すように、液晶装置１の構成によれば、防塵ガラスを含まない分、防塵ガラスをＴＦＴアレイ基板１０等に接着するための加熱工程、或いは紫外線照射工程をなくすことができるため、液晶装置１００を製造する場合に比べて接着層を硬化させるための加熱工程或いは紫外線照射工程を減らすことが可能である。加えて、マイクロレンズ基板２１０及びＴＦＴアレイ基板１０を接着層２３０を介して接着する工程が、凹部２１１に充填された接着材を硬化させる加熱工程、或いは紫外線照射工程と兼用可能である。
【００４０】
したがって、液晶装置１の構成によれば、液晶装置１００の各部を接着剤を介して相互に接着する工程を減らすことができる。これに伴い、接着層を硬化させるための加熱工程、或いは紫外線照射工程において消費される消費エネルギーを低減でき、消費エネルギーの増大に伴って増大する環境への負荷を低減できる。特に、量産工程で液晶装置１を量産する場合には、その量産効果により、少量の液晶装置を製造する場合に比べて加熱工程等で消費される消費エネルギーを格段に低減することが可能である。
【００４１】
加えて、図４及び図５に示すように、液晶装置１の主たる構成要素に含まれる基板は、ＴＦＴアレイ基板１０、対向基板２０及びマイクロレンズ基板２１０の３枚であり、液晶装置１００の主たる構成要素に含まれる基板は、２枚の防塵ガラス基板３００ａ及び３００ｂ、ＴＦＴアレイ基板１０、カバーガラス基板３２０ａ、並びに基板本体３２０ｂの５枚である。したがって、液晶装置１によれば、液晶装置１を構成する部材を、液晶装置１００を構成する部材より減らすことができ、資源を有効利用することが可能である。
【００４２】
尚、図３及び図４に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
【００４３】
＜２−２：電気光学装置の回路構成＞
次に、図６を参照しながら、以上の如く構成された電気光学装置における回路構成及び動作を説明する。図６には、電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路を示す回路図である。
【００４４】
図６において、液晶装置１の画像表示領域１０ａを構成するマトリクス状に形成された複数の画素には、それぞれ、画素電極９ａと画素電極９ａをスイッチング制御するためのＴＦＴ３０とが形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａがＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。ＴＦＴ３０が、本発明に係る電気光学装置の「電子素子」の一例である。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
【００４５】
ゲート電極３ａはＴＦＴ３０のゲートに電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線１１ａ及びゲート電極３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｍを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。
【００４６】
画素電極９ａを介して電気光学物質の一例としての液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎは、対向基板２０に形成された対向電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率（画素電極が反射型の場合には反射率）が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として液晶装置１から画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射される。
【００４７】
ここで保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極９ａと対向電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。蓄積容量７０は、走査線１１ａに並んで設けられ、固定電位側容量電極を含むとともに定電位に固定された容量電極３００を含んでいる。
【００４８】
＜２−３：電気光学装置の詳細な構成＞
次に、図７を参照しながら、液晶装置１の要部における詳細な構成を説明する。図７は、図４に対応する断面によって液晶装置１の画素部を切った断面を拡大して示した要部断面図である。
【００４９】
図７において、マイクロレンズ２１２は、ＴＦＴアレイ基板１０上の画素のピッチに合わせてマイクロレンズ基板２１０に形成されている。マイクロレンズ基板２１０は、マイクロレンズ２１２が画素電極９ａに対応するように位置決めされた状態で接着層２３０を介してＴＦＴアレイ基板１０に接着されている。マイクロレンズ２１２は、マイクロレンズ基板２１０の裏面側からマイクロレンズ基板２１０に入射する入射光を画素電極９ａに集光する。ＴＦＴアレイ基板１０上においてＴＦＴ３０が配置された領域は、マイクロレンズ２１２によって集光された光が照射されない非開口領域となり、画素電極９ａが形成された領域を含む開口領域を介して光が装置外部に出射される。したがって、マイクロレンズ２１２によって集光された光は、互いに隣接する画素電極９ａの間に配置されたＴＦＴ３０に照射されない。
【００５０】
一方、図５に示した液晶装置１００によれば、光源は、図中上側、即ちマイクロレンズ基板３２０から見て防塵ガラス基板３００ｂが配置された側に配置され、当該光源から出射された光は、ＴＦＴアレイ基板１０から見てマイクロレンズ基板３２０側からＴＦＴアレイ基板１０に照射される。したがって、ＴＦＴアレイ基板１０上に形成されたＴＦＴを光が照射されることを防止するために、各画素の開口領域を互いに隔てる非開口領域を規定する遮光膜をマイクロレンズ基板３２０に設ける必要がある。
【００５１】
しかしながら、液晶装置１によれば、ＴＦＴアレイ基板１０の両面のうちＴＦＴ３０が形成されていない裏面側から入射光が入射するため、ＴＦＴアレイ基板１０の内部、或いはＴＦＴ３０の下層側に形成された遮光性を有する配線等によってＴＦＴ３０が遮光され、ＴＦＴ３０に生じる光リーク電流を低減できる。加えて、マイクロレンズ２１２によって、ＴＦＴ３０に光が照射されないように入射光が開口領域に集光されるため、ＴＦＴ３０に生じる光リーク電流をより一層効果的に低減できる。また、液晶装置１によれば、液晶装置１００のように、マイクロレンズ基板３２０に非開口領域を規定する遮光膜を形成しなくても十分にＴＦＴ３０に照射される光を低減できる。
【００５２】
したがって、液晶装置１の構成によれば、液晶装置１を製造する製造プロセスに含まれる工程数を、液晶装置１００を製造する製造プロセスにおける工程数より少なくできる。これにより、液晶装置１を製造する際に要する製造コストを低減できることに加え、製造プロセスにおいて消費されるエネルギーも低減することが可能である。
【００５３】
図７において、ＴＦＴアレイ基板１０の厚みｔ１は、対向基板２０の厚みｔ２及びマイクロレンズ基板２１０の厚みｔ３より薄いため、良好なデフォーカス特性によって高品位の画像を表示することも可能である。加えて、ＴＦＴアレイ基板１０の厚みｔ１を薄くすることによって、ＴＦＴアレイ基板１０にＴＦＴ３０等の電子素子及び各種配線を形成し易くなる利点もある。
【００５４】
尚、ＴＦＴアレイ基板１０の厚みｔ１は、画素ピッチや、対向基板２０及びマイクロレンズ基板２１０の夫々の厚みｔ２、ｔ３との相対的な関係、各基板及び接着層２３０の屈折率等の光学特性に応じて個別具体的に設定可能である。
【００５５】
このように、本実施形態に係る電気光学装置によれば、製造プロセスにおいて消費される消費エネルギーを低減できることに加え、表示性能を低下させることなく当該電気光学装置を構成する各種部材を従来の電気光学装置に比べて少なくできる。よって、本実施形態に係る電気光学装置によれば、環境に及ぼす負荷が低減された電気光学装置を提供でき、且つ資源の有効利用が可能となる。
【００５６】
以上説明した本実施形態に係る電気光学装置は、対向基板２０の光出射面、及びマイクロレンズ基板２１０における入射光が入射する側の面の各々の側に、例えば、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertically Aligned）モード、ＰＤＬＣ(Polymer Dispersed Liquid Crystal)モード等の動作モードや、ノーマリーホワイトモード／ノーマリーブラックモードの別に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光板などが所定の方向で配置されていてもよい。
【００５７】
＜３：電気光学装置の製造方法＞
次に、図８及び図９を参照しながら本実施形態に係る電気光学装置の製造方法を説明する。図８及び図９は、上述した液晶装置１の製造工程の一例を概略的に示す工程断面図である。
【００５８】
図８（ａ）に示すように、凹部２１１が形成されていないマイクロレンズ基板２１０ａ上に、マスク９００として例えばＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）等によりアモルファスシリコン膜を形成する。マスク９００は耐フッ酸性を有するＣｒ膜、ポリシリコン膜等でも良い。
【００５９】
続いて、図８（ｂ）に示すように、マスク９００において図１又は図２（ｂ）に示す凹部２１１の形成位置に対応する個所に、例えばマスク９００に対するフォトリソグラフィ法を用いたパターニングにより、複数の開口部９０２を形成する。マスク９００において、複数の開口部９０２は夫々平面的に例えば円形状として形成され、且つ該開口部９０２に対応して、マイクロレンズ基板２１０が備える凹部２１１より小さいサイズとして形成される。
【００６０】
続いて、図８（ｃ）において、複数の開口部９０２が形成されたマスク９００を介して、マイクロレンズ基板２１０ａに対して等方性エッチングを施すことにより、複数の凹部２１１を形成する。より具体的には、この等方性エッチングは、好ましくは、フッ酸系などのエッチャントを用いたウェットエッチングにより行われる。
【００６１】
その後、図８（ｄ）において、マスク９００をエッチング処理によって除去し、レンズ曲面を規定する複数の凹部２１１が形成されたマイクロレンズ基板２１０を形成する。
【００６２】
次に、図９（ａ）において、凹部２１１が形成されたマイクロレンズ基板２１０ａの表面に接着材２３０ａを塗布し、凹部２１１に未硬化の接着層２３０ａを形成する。これと同時に、或いは相前後して、液晶層５０を挟持するように相互の貼り合わせられたＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を含む構造体を形成しておく。
【００６３】
次に、図９（ｂ）において、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を含む構造体とマイクロレンズ基板２１０とを接着層２３０ａを介して貼り合せる。その後、紫外線照射、或いは加熱処理によって接着層２３０ａを硬化させることによって接着層２３０を形成し、ＴＦＴアレイ基板１０及びマイクロレンズアレイ２１０を相互に接着すると共に、マイクロレンズ２１２を形成し、液晶装置１が形成される。
【００６４】
本実施形態に係る電気光学装置の製造方法によれば、上述した本実施形態に係る電気光学装置と同様に、製造プロセスにおいて消費される消費エネルギーを低減でき、環境に与える負荷を低減することが可能である。
【００６５】
＜４：電子機器＞
次に、図１０を参照しながら、本実施形態に係る電気光学装置を具備してなる電子機器の実施形態を説明する。以下では、本実施形態に係る電子機器の一例として上述した液晶装置１をライトバルブとして用いた投射型カラー表示装置を説明する。以下では、その全体構成、特に光学的な構成について説明する。図１０は、投射型カラー表示装置の図式的断面図である。
【００６６】
図１０において、投射型カラー表示装置の一例たる液晶プロジェクタ１１００は、駆動回路がＴＦＴアレイ基板上に搭載された液晶装置を含む液晶モジュールを３個用意し、それぞれＲＧＢ用のライトバルブ１００Ｒ、１００Ｇ及び１００Ｂとして用いたプロジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ１１００では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット１１０２から投射光が発せられると、３枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロックミラー１１０８によって、ＲＧＢの三原色に対応する光成分Ｒ、Ｇ及びＢに分けられ、各色に対応するライトバルブ１００Ｒ、１００Ｇ及び１００Ｂにそれぞれ導かれる。この際特に、Ｂ光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ１１２２、リレーレンズ１１２３及び出射レンズ１１２４からなるリレーレンズ系１１２１を介して導かれる。そして、ライトバルブ１００Ｒ、１００Ｇ及び１００Ｂによりそれぞれ変調された三原色に対応する光成分は、ダイクロックプリズム１１１２により再度合成された後、投射レンズ１１１４を介してスクリーンにカラー画像として投射される。
【００６７】
本発明に係る電子機器によれば、図１０を参照して説明した電子機器の他にも、高品質な画像表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置、電子放出装置（Field Emission Display及びConduction Electron-Emitter Display）、これら電気泳動装置、電子放出装置を用いた装置としてＤＬＰ（Digital Light Processing）等を実現することも可能である。
【００６８】
尚、本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】図１（ａ）は、マイクロレンズ基板の概略斜視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ´断面部分の構成について示す概略斜視図である。
【図２】本実施形態の電気光学装置に適用されるマイクロレンズ基板の一部を拡大して示した平面図である。
【図３】本実施形態に係る電気光学装置の平面図である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ´断面図である。
【図５】本実施形態に係る液晶装置の比較例の構成を示す断面図である
【図６】本実施形態に係る電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路を示す回路図である。
【図７】図４に対応する断面で本実施形態に係る電気光学装置を切った断面を拡大して示した要部断面図である。
【図８】本実施形態に係る電気光学装置の製造方法を概略的に示す工程断面図（その１）である。
【図９】本実施形態に係る電気光学装置の製造方法を概略的に示す工程断面図（その２）である。
【図１０】本実施形態に係る電子機器の一例である投射型カラー表示装置を示す図式的断面図である。
【符号の説明】
【００７０】
１，１００・・・液晶装置、１０・・・ＴＦＴアレイ基板、２０・・・対向基板、３０・・・ＴＦＴ、２１０・・・マイクロレンズ基板、２３０・・・接着層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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