(57)【要約】【課題】室内一般環境もしくは低清浄度空間内に設置できるとともに一般環境における搬送時に被処理物へ塵埃等が付着することを防止して被処理物の品質を向上する。【解決手段】被処理物を収納した密閉式収納容器９を搬入する投入モジュール２と容器洗浄モジュール３と容器開放モジュール４と処理モジュール５及び容器密閉モジュール６とを、互いに独立した閉空間で構成し、各モジュールの内部空間を汚染除去制御して清浄化して局所清浄化空間とする。密閉式収納容器９は真空吸引により蓋１２を密封して外部雰囲気が侵入することを防いで収納した被処理物に塵埃等が付着することを確実に防ぐ。容器洗浄モジュール３は清浄化した雰囲気を密閉式収納容器９の外装部に吹き付けて付着している塵埃等を除去する。【選択図】    図１
2007333300.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工・組立に必要な被処理物を収納して一般環境もしくは低清浄度空間内の塵埃から隔離する密閉式収納容器を搬入し、搬入した前記密閉式収納容器の外装部に外部環境で付着した塵埃等を除去する容器洗浄手段と、塵埃等が除去された前記密閉式収納容器の密閉機構を開放し、前記密閉式収納容器に収納されている被処理物を取り出す容器開放手段と、被処理物の加工・組立の各種処理を行う処理手段及び処理済みの被処理物を前記密閉式収納容器に収納して密封して排出する容器密閉手段とを、互いに独立した閉空間を形成するモジュールで構成し、
前記容器洗浄手段と前記容器開放手段と前記処理手段及び前記容器密閉手段を構成するモジュールは内部空間の雰囲気が汚染除去制御により清浄化され、前記各モジュールを工程順に連結していることを特徴とする微細部品の製造装置。
【請求項２】
前記密閉式収納容器は、複数の被処理物を収納する容器本体は開閉自在な蓋と対向する位置に複数の吸引口を有し、各吸引口は前記容器本体の内部に形成された連通孔を経由して前記容器本体の端部に設けられた逆止弁に接続され、前記逆止弁を介して前記連通孔を真空吸引して前記蓋を前記容器本体に吸着させて密封する請求項１記載の微細部品の製造装置。
【請求項３】
前記容器洗浄手段と前記容器開放手段と前記処理手段及び前記容器密閉手段を構成するモジュールは、装置内雰囲気循環系と装置外雰囲気導入系の２系統を有する請求項１又は２に記載の微細部品の製造装置。
【請求項４】
前記容器洗浄手段と前記容器開放手段と前記処理手段及び前記容器密閉手段を構成するモジュールは、隣接するモジュール間の空気流出入を遮断する遮蔽機構を有する請求項１乃至３のいずれかに記載の微細部品の製造装置。
【請求項５】
前記容器洗浄手段を構成するモジュールは、複数の清浄化エア吹付口を有する通気ダクト内に設けられた高清浄化ユニットと、通気ダクトの外気取込側に設けられた中清浄化ユニットと循環風量調整弁と外気取込調整弁及び排気ファンを有し、
前記循環風量調整弁と前記外気取込調整弁の開度を調整して外気取込みの風量と内部を循環する風量とを調節するとともに前記排気ファンの排気風量を調節して外部雰囲気を前記通気ダクトに取り込みながら内部雰囲気を循環させて清浄化した雰囲気を前記複数の清浄化エア吹付口から前記密閉式収納容器の外装部に吹き付けて外装部に付着している塵埃等を除去する請求項１乃至４のいずれかに記載の微細部品の製造装置。
【請求項６】
前記容器開放手段と前記処理手段及び前記容器密閉手段を構成するモジュールは、通気ダクトの天井吹出口に設けられた高清浄化ユニットと、前記通気ダクトの外気取込側に設けられた中清浄化ユニットと、前記通気ダクト内に設けられた循環風量調整弁と、外気取込調整弁及び排気ファンを有し、
前記循環風量調整弁と前記外気取込調整弁の開度を調整して外気取込みの風量と内部を循環する風量とを調節するとともに前記排気ファンの排気風量を調節して外部雰囲気を通気ダクトに取り込みながら内部雰囲気を循環させて清浄化した雰囲気を前記通気ダクトの天井吹出口から処理空間に吹き出す請求項１乃至５のいずれかに記載の微細部品の製造装置。
【請求項７】
前記容器開放手段と前記処理手段及び前記容器密閉手段を構成するモジュールは、前記高清浄化ユニットから吹き出す全風量が一定になるようにしながら前記排気ファンにより外部に排出される風量より前記外気取込調整弁により取り込む外部雰囲気の風量が上回るように制御する請求項６記載の微細部品の製造装置。
【請求項８】
前記容器開放手段を構成するモジュールの圧力は、前記容器洗浄手段を構成するモジュールの圧力より高く保持する請求項１乃至７のいずれかに記載の微細部品の製造装置。
【請求項９】
前記容器開放手段を構成するモジュールは、前記密閉式収納容器の逆止弁を開にして前記蓋の前記容器本体に対する吸着力を解除する手段を有する請求項２乃至８のいずれかに記載の微細部品の製造装置。
【請求項１０】
前記容器密閉手段を構成するモジュールは、前記密閉式収納容器の逆止弁を開にして真空吸引する手段を有する請求項２乃至９のいずれかに記載の微細部品の製造装置。
【請求項１１】
加工・組立に必要な被処理物を収納して一般環境もしくは低清浄度空間内の塵埃から隔離する密閉式収納容器に収納された被処理物を清浄化された雰囲気内で加工・組立を行う微細部品の製造方法であって、
前記被処理物を収納した前記密閉式収納容器に清浄化した雰囲気を吹き付けて前記密閉式収納容器に付着した塵埃等を除去してから清浄化された雰囲気内に搬送し、清浄化した雰囲気内で前記密閉式収納容器に収納した被処理物を取り出すことを特徴とする微細部品の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の微細部品の製造方法により液滴を吐出する複数のノズルを有するノズル板と、該ノズル板のノズルに対応した液室を有する流路板とを接合して形成したことを特徴とする液吐出ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体や液晶、光ディスク、プラズマディスプレイあるいはインクジェットプリンタヘッド等の微細部品又は電気回路基板の電子部品実装処理等、雰囲気中の粉塵等を嫌う各種加工・組立処理作業を行うための微細部品の製造装置と製造方法及びそれにより製造された液吐出ヘッド、特に粉塵等が極めて少ない清浄空間の清浄度の向上と、部品や製品等の品質の向上に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体やインクジェットプリンタに使用する記録ヘッド等の微細部品の製造や電気回路基板に対する電子部品の実装等の各種加工や組立を行う場合、周囲雰囲気中の粉塵等を嫌うため粉塵等が極めて少ない清浄空間であるクリーンルーム内で加工や組立を行っている。
【０００３】
従来の一般的なクリーンルームは内部で発生する粉塵を少なくするため、図９に示すように、各種製造装置が設けられたクリーンルーム６０の入口側にエアシャワー室６１と更衣室６３を設け、一般環境の空間６３にいた作業者は更衣室６２でクリーン着に着替えた後、エアシャワー室６１でクリーン着に付着している粉塵等を落しクリーンルーム６０に入室して製造装置を使用して各種製造を行う。このクリーンルーム６０は天井に埋め込んだファンとＨＥＰＡフィルタ６４で室内に清浄な空気を取入れ、それを循環させて清浄度を維持している。このようなクリーンルーム６０は、建設に莫大な投資が必要であるとともにクリーンルーム６０の運転維持費が莫大であり、かつ作業性が悪いなどの問題がある。
【０００４】
このような問題を解消するため、局所的に部品や製品の雰囲気だけをクリーンにする局所清浄化装置が特許文献１や特許文献２及び特許文献３に開示されている。特許文献１に開示された局所清浄化装置７０は、図１０に示すように、装置のキャビネット７１により、装置内部と一般環境と区別して、装置内の雰囲気をファン７２によりフィルタ７３に送り、フィルタ７３を通して清浄な雰囲気にし、この清浄な雰囲気を装置の上部空間を通して分散板７４で整流して作業空間７５に送り、作業空間７５を常時清浄な状態にしている。また、装置内部を正圧にして、一般環境中の粉塵等が侵入することを防止し、作業空間７５内の雰囲気を安定に維持するために、気体供給管７６から清浄フィルタ７７を通した清浄な気体を供給している。
【０００５】
特許文献２に示された各局所清浄化装置は被処理物の搬入排出部にエアロック機構を設け、被処理物を局所清浄化装置に搬入する際、エアロック機構は機構内の雰囲気を真空排気又はガスパージしてエアロック機構ないの雰囲気を局所清浄化装置と同じにした後、被処理物をエアロック機構を通して局所清浄化装置に搬入し、被処理物を局所清浄化装置から排出する際にもエアロック機構は機構内の雰囲気を真空排気又はガスパージしてエアロック機構ないの雰囲気を局所清浄化装置と同じにした後、被処理物をエアロック機構を通して排出するようにして被処理物を局所清浄化装置に搬入、排出する際に、塵埃等を有する一般環境の雰囲気が局所清浄化装置に侵入することを防いでいる。
【０００６】
特許文献３に開示された局所清浄化装置を有する微細部品の組立装置は、図１１（ａ）の正面図と（ｂ）の側面断面図に示すように、微細部品の組立に必要な複数の工程を分割し、各工程における所定の加工や処理を行う構成要素を互いに独立したモジュール８０ａ〜８０ｄとし、複数のモジュール８０ａ〜８０ｄをそれぞれ連続して配置し、各モジュール８０ａ〜８０ｄは隣接する各モジュール間の部品移載とトレイの出し入れに必要な作業用開口部を除き外気及び隣接するモジュールと離隔するように遮蔽板等で覆われたクリーンブースとしている。そして各モジュール８０ａ〜８０ｄ内にフィルタと送風ファンにより構成されたクリーンユニット８１により所定量の清浄空気を常時供給するとともにモジュール８０ａ〜８０ｄ下部に設けた排気ファン８２により内部空気を外部に強制的に排出してモジュール８０ａ〜８０ｄ内の清浄化を図っている。このように複数の工程を分割してモジュール８０ａ〜８０ｄとすることにより、各モジュール８０ａ〜８０ｄの容積を最小化することができるとともに各モジュール８０ａ〜８０ｄの給気量と排気量を最適化することにより良好なダウンフロー気流を容易に形成することができる。
【特許文献１】特開平９−２６４５７５号公報
【特許文献２】特開２００１−２９８０６８号公報
【特許文献３】特開２００５−８１４５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１や特許文献２に示された局所清浄化装置で被処理物に対して複数の処理を行う場合、被処理物を各局所清浄化装置間で順次移動させて処理を行うため、この移動のときに被処理物が清浄環境から一般環境に暴露されることになり、塵埃等の不要物質が付着して処理品質の低下を招く。また、被処理物に付着した塵埃等が局所清浄化装置に入り込み、装置内雰囲気の清浄度が低下してしまう。
【０００８】
特許文献３に示された微細部品の組立装置は、独立した清浄空間を形成する各モジュールがクリーンブースで連結されているため、モジュール間を移動する被処理物は一般環境に暴露されることはないが、組立装置が室内一般環境あるいは低清浄空間に設置された場合、組立装置に対して被処理物を搬入、排出する際に、設置空間に存在する塵埃等不要物質が被処理物に付着して処理の品質の著しい低下を招く。
【０００９】
また、モジュ−ル内に清浄空間を形成するためのクリーンユニットは、一般環境あるいは低清浄空間等の塵埃の多い空間で使用されると、高性能フィルタの目詰まり等により寿命が著しく低下するため、頻繁に交換する必要があり設備維持費用が増大してしまう。
【００１０】
これらの短所を解消するためには、局所清浄化装置や組立装置をある程度清浄化された空間、例えば清浄度がクラス１００００程度のクリーンルーム内に設置して使用する必要があり、一般環境下で使用することは困難であり、建設費や維持管理費が膨大なものになってしまう。
【００１１】
この発明は、このような問題を解消し、室内一般環境もしくは低清浄度空間内に設置することができるとともに一般環境における搬送時に被処理物へ塵埃等が付着することを防止し、かつ処理雰囲気の清浄度の低下を防止して被処理物の品質を向上することができる微細部品の製造装置と製造方法及びそれにより製造された液吐出ヘッドを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この発明の微細部品の製造装置は、加工・組立に必要な被処理物を収納して一般環境もしくは低清浄度空間内の塵埃から隔離する密閉式収納容器を搬入し、搬入した前記密閉式収納容器の外装部に外部環境で付着した塵埃等を除去する容器洗浄手段と、塵埃等が除去された前記密閉式収納容器の密閉機構を開放し、前記密閉式収納容器に収納されている被処理物を取り出す容器開放手段と、被処理物の加工・組立の各種処理を行う処理手段及び処理済みの被処理物を前記密閉式収納容器に収納して密封して排出する容器密閉手段とを互いに独立した閉空間を形成するモジュールで構成し、前記容器洗浄手段と前記容器開放手段と前記処理手段及び前記容器密閉手段を構成するモジュールは内部空間の雰囲気が汚染除去制御により清浄化され、前記各モジュールを工程順に連結していることを特徴とする。
【００１３】
前記密閉式収納容器は、複数の被処理物を収納する容器本体は開閉自在な蓋と対向する位置に複数の吸引口を有し、各吸引口は前記容器本体の内部に形成された連通孔を経由して前記容器本体の端部に設けられた逆止弁に接続され、前記逆止弁を介して前記連通孔を真空吸引して前記蓋を前記容器本体に吸着させて密封することが望ましい。
【００１４】
また、前記容器洗浄手段と前記容器開放手段と前記処理手段及び前記容器密閉手段を構成するモジュールは、装置内雰囲気循環系と装置外雰囲気導入系の２系統を有する。
【００１５】
さらに、前記容器洗浄手段と前記容器開放手段と前記処理手段及び前記容器密閉手段を構成するモジュールは、隣接するモジュール間の空気流出入を遮断する遮蔽機構を有する。
【００１６】
また、前記容器洗浄手段を構成するモジュールは、複数の清浄化エア吹付口を有する通気ダクト内に設けられた高清浄化ユニットと、通気ダクトの外気取込側に設けられた中清浄化ユニットと循環風量調整弁と外気取込調整弁及び排気ファンを有し、前記循環風量調整弁と前記外気取込調整弁の開度を調整して外気取込みの風量と内部を循環する風量とを調節するとともに前記排気ファンの排気風量を調節して外部雰囲気を前記通気ダクトに取り込みながら内部雰囲気を循環させて清浄化した雰囲気を前記複数の清浄化エア吹付口から前記密閉式収納容器の外装部に吹き付けて外装部に付着している塵埃等を除去する。
【００１７】
前記容器開放手段と前記処理手段及び前記容器密閉手段を構成するモジュールは、通気ダクトの天井吹出口に設けられた高清浄化ユニットと、前記通気ダクトの外気取込側に設けられた中清浄化ユニットと、前記通気ダクト内に設けられた循環風量調整弁と、外気取込調整弁及び排気ファンを有し、前記循環風量調整弁と前記外気取込調整弁の開度を調整して外気取込みの風量と内部を循環する風量とを調節するとともに前記排気ファンの排気風量を調節して外部雰囲気を通気ダクトに取り込みながら内部雰囲気を循環させて清浄化した雰囲気を前記通気ダクトの天井吹出口から処理空間に吹き出して清浄度を保つ。
【００１８】
また、前記容器開放手段と前記処理手段及び前記容器密閉手段を構成するモジュールは、前記高清浄化ユニットから吹き出す全風量が一定になるようにしながら前記排気ファンにより外部に排出される風量より前記外気取込調整弁により取り込む外部雰囲気の風量が上回るように制御する。
【００１９】
また、前記容器開放手段を構成するモジュールの圧力は、前記容器洗浄手段を構成するモジュールの圧力より高く保持する。
【００２０】
また、前記容器開放手段を構成するモジュールは、前記密閉式収納容器の逆止弁を開にして前記蓋の前記容器本体に対する吸着力を解除する手段を有し、前記容器密閉手段を構成するモジュールは、前記密閉式収納容器の逆止弁を開にして真空吸引する手段を有する。
【００２１】
この発明の微細部品の製造方法は、加工・組立に必要な被処理物を収納して一般環境もしくは低清浄度空間内の塵埃から隔離する密閉式収納容器に収納された被処理物を清浄化された雰囲気内で加工・組立を行う微細部品の製造方法であって、前記被処理物を収納した前記密閉式収納容器に清浄化した雰囲気を吹き付けて前記密閉式収納容器に付着した塵埃等を除去してから清浄化された雰囲気内に搬送し、清浄化した雰囲気内で前記密閉式収納容器に収納した被処理物を取り出すことを特徴とする。
【００２２】
この発明の液吐出ヘッドは、前記微細部品の製造方法により液滴を吐出する複数のノズルを有するノズル板と、該ノズル板のノズルに対応した液室を有する流路板とを接合して形成したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
この発明は、被処理物を収納した容器を搬入する容器投入手段と容器洗浄手段と容器開放手段と処理手段及び容器密閉手段とを、互いに独立した閉空間を形成するモジュールで構成し、各モジュールの内部空間を汚染除去制御して清浄化して局所清浄化空間とすることにより、被処理物を処理する空間の清浄度を安定して維持することができ、各種部品や製品などを高品質に製造することができる。また、作業者はクリーンルームという特殊な作業環境から開放され一般環境下での作業が可能になり作業性と作業効率を著しく向上することができる。さらに、従来のクリーンルームの建設に伴う莫大な投資を削減することができ、各種部品や製品などの製造コストを大幅に低減することができる。
【００２４】
また、被処理物を収納して運搬する容器を密閉式収納容器にすることにより、被処理物を室内一般環境もしくは低清浄環境に露出させないで済み、室内一般環境もしくは低清浄環境に含まれる塵埃等が被処理物に付着することを防いで、塵埃等が付着していない被処理物を容器開放手段と処理手段及び容器密閉手段を構成するモジュールに搬入することができ、各処理品質を向上させることができる。
【００２５】
この密閉式収納容器は真空吸引により蓋を密封することにより、外部雰囲気が侵入することを防いで収納した被処理物に塵埃等が付着することを確実に防ぐことができる。また、蓋を吸引している負圧を解除することにより、簡単に蓋を開くことができ、作業性を向上させることができる。
【００２６】
また、容器洗浄手段と容器開放手段と処理手段及び容器密閉手段を構成するモジュールを装置内雰囲気循環系と装置外雰囲気導入系の２系統にすることにより、装置外から取り込む風量を調節して内部の圧力を適正に保つことができる。
【００２７】
また、容器洗浄手段と容器開放手段と処理手段及び容器密閉手段を構成するモジュールの隣接するモジュール間の空気流出入を遮断機構で遮断することにより、各モジュールの給気量と排気量を最適化することができ、良好な気流を容易に形成することができる。さらに各モジュールのメンテナンス等を他のモジュールの清浄度を維持した状態で行うことができ、作業性を向上することができるとともに他のモジュールにある仕掛り中の被処理物に塵埃等が付着することを防ぐことができる。
【００２８】
また、容器洗浄手段を構成するモジュールは、複数の清浄化エア吹付口を有する通気ダクト内に設けられた高清浄化ユニットと、通気ダクトの外気取込側に設けられた中清浄化ユニットと循環風量調整弁と外気取込調整弁及び排気ファンを有し、循環風量調整弁と外気取込調整弁の開度を調整して外気取込みの風量と内部を循環する風量とを調節するとともに排気ファンの排気風量を調節して外部雰囲気を通気ダクトに取り込みながら内部雰囲気を循環させて清浄化した雰囲気を複数の清浄化エア吹付口から密閉式収納容器の外装部に吹き付けて外装部に付着している塵埃等を除去することにより、密閉式収納容器の外装部に付着している塵埃等を確実に除去することができ、密閉式収納容器に付着している塵埃等が他のモジュールに進入することを防ぐことができる。
【００２９】
さらに、容器開放手段と処理手段及び容器密閉手段を構成するモジュールは、通気ダクトの天井吹出口に設けられた高清浄化ユニットと、通気ダクトの外気取込側に設けられた中清浄化ユニットと、通気ダクト内に設けられた循環風量調整弁と、外気取込調整弁及び排気ファンを有し、循環風量調整弁と外気取込調整弁の開度を調整して外気取込みの風量と内部を循環する風量とを調節するとともに排気ファンの排気風量を調節して外部雰囲気を通気ダクトに取り込みながら内部雰囲気を循環させて清浄化した雰囲気を通気ダクトの天井吹出口から処理空間に吹き出すことによりモジュール内を所定の清浄度に保つことができる。
【００３０】
また、外部雰囲気は中清浄化ユニットを通してから高清浄化ユニットに送るから、高清浄化ユニットに有する高性能フィルタに目詰りが生じることを防ぐことができ、メンテナンスの作業性を向上することができる。
【００３１】
また、容器開放手段と処理手段及び容器密閉手段を構成するモジュールは、高清浄化ユニットから吹き出す全風量が一定になるようにしながら排気ファンにより外部に排出される風量より外気取込調整弁により取り込む外部雰囲気の風量が上回るように制御することにより内部圧力を正圧に保つことができ、所定の清浄度を確実に保つことができる。
【００３２】
また、容器開放手段を構成するモジュールの圧力を、容器洗浄手段を構成するモジュールの圧力より高く保持することにより、密閉式収納容器を容器洗浄手段から容器洗浄手段に搬送するときに、容器洗浄手段の雰囲気が容器洗浄手段に流れ込むことを確実に防ぐことができる。
【００３３】
この微細部品の製造装置により液滴を吐出する複数のノズルを有するノズル板と、ノズル板のノズルに対応した液室を有する流路板とを接合して液吐出ヘッドを形成することにより、高品質で安定した吐出特性を有する液吐出ヘッドを安定して作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
図１はこの発明の微細部品の製造装置の構成を示す平面図である。微細部品の製造装置１は、所定の加工や組立等の工程毎に互いに独立したモジュールで構成され、投入モジュール２ａ，２ｂと容器洗浄モジュール３ａ，３ｂと容器開放モジュール４ａ，４ｂと複数の処理モジュール５ａ，５ｂ，５ｃと容器密閉モジュール６及び排出モジュール７を有し、各モジュール間の搬入排出口には空気流出入を遮断するために機械的シャッタ又はエアカーテン等により構成された遮蔽機構８が設けられている。投入モジュール２ａ，２ｂは、加工・組立に必要な部品等を収納して一般環境もしくは低清浄度空間内の塵埃から隔離する密閉式収納容器９を搬入する。容器洗浄モジュール３ａ，３ｂは搬入された密閉式収納容器９の外装部に外部環境で付着した塵埃等を除去する。容器開放モジュール４ａ，４ｂは塵埃等が除去された密閉式収納容器９の密閉機構を開放し、密閉式収納容器８に収納されている部品等を取り出して次工程へ搬送する。各処理モジュール５ａ，５ｂ，５ｃは所定の工程毎に部品の加工や組立を行う。容器密閉モジュール６は処理、加工済みの部品等を密閉式収納容器９に収納して密封する。排出モジュール７は処理、加工済みの部品等を収納した密閉式収納容器９を排出する。
【００３５】
この製造装置１に搬入する部品や加工済みの部品等を収納する密閉式収納容器９は、図２（ａ）の平面図と（ｂ）のＡ−Ａ断面図と（ｃ）のＢ−Ｂ断面図に示すように、複数の部品等の被処理物１０を収納する容器１１と、容器１１に収納した被処理物１０に外部環境の塵埃等が付着するのを防止するため蝶番等で開閉自在な密閉用の蓋１２を有する。容器１１の被処理物収納部１３の外周部には蓋１２と対向する位置に複数の吸引口１４を有し、各吸引口１４は容器１１の内部に形成された連通孔１５を経由して容器１１の端部に設けられ、ばね１６で弁体１７を弁座に押し付けた逆止弁１８に接続している。
【００３６】
この密閉式収納容器９に被処理物１０を収納するときは、被処理物１０を作成した清浄雰囲気中で被処理物１０を容器１１に収納し、容器１１の被処理物収納部１３を覆うように蓋１２を配置し、図３に示すように、真空吸引手段に接続された吸引アダプタ１９を逆止弁１８に装着して、ばね１６で弁座に押し付けられている弁体１７を内部に押し込んで逆止弁１８を開にする。この状態で真空吸引手段により真空吸引して連通孔１５を減圧して負圧にし、吸引口１４に作用する吸引力で蓋１２を吸引して容器１１に蓋１２を密着させる。蓋１２で容器１１を密閉した後、逆止弁１８から吸引アダプタ１９を取り外すと、ばね１６により弁体１７が弁座に押し付けられて逆止弁１８を閉にして連通孔１５内を負圧に保ち、蓋１２による容器１１の密閉を保持する。このように蓋１２を真空吸引して容器１１を密閉するから、容器１１を確実に密閉することができ、密閉式収納容器９を一般環境に移動しても外部雰囲気が密閉式収納容器９内に侵入することを防いで収納した被処理物１０に塵埃等が付着することを防ぐことができる。この収納容器１１の密閉を解除するときは、真空破壊用アダプタにより逆止弁１８の弁体１７を押し込んで連通孔１５内を真空破壊して吸引口１４に作用している吸引力を解除する。したがって収納容器１１の蓋１２を簡単に開くことができる。
【００３７】
容器洗浄モジュール３ａ，３ｂは、図４の構成図に示すように、外気及び隣接する投入モジュール２ａ，２ｂと容器開放モジュール４ａ，４ｂとはモジュールキャビネット２０により隔離される遮蔽構造であり、複数の清浄化エア吹付口２１を有する通気ダクト２２内に設けられた高清浄化ユニット２３と通気ダクト２２の外気取込側に設けられた中清浄化ユニット２４と循環風量調整弁２５と外気取込調整弁２６と排気ファン２７及び容器搬送装置２８を有し、局所清浄化装置を構成している。高清浄化ユニット２３は、図５の構成図（ａ）に示すように、プレフィルタ２９とファン３０と微細粉塵まで除去できる高性能フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）３１及び整流板３２を有する。中清浄化ユニット２４は、図５（ｂ）に示すように、プレフィルタ２９とファン３０と中性能フィルタ３３と整流板３２を有する。そして循環風量調整弁２５と外気取込調整弁２６の開度を調整して外気取込みの風量と内部を循環する風量とを調節するとともに排気ファン２７の排気風量を調節して外部雰囲気を通気ダクト２２に取り込みながら内部雰囲気を循環させる。外気取込調整弁２６から取り込んだ設置空間の外部雰囲気は中清浄化ユニット２４により塵埃等が除去されて通気ダクト２１に送られる。通気ダクト２１に中清浄化ユニット２４を介して送られた外部雰囲気と循環風量調整弁２５から送られた内部循環雰囲気は高清浄化ユニット２３により清浄化され複数の清浄化エア吹付口２１から吹き出され、容器搬送装置２８が設けられた処理空間３４の雰囲気を清浄化するとともに容器搬送装置２８により搬送された密閉式収納容器９の外装部に付着している塵埃等を除去する。除去された塵埃等の一部は排気ファン２７により外部に排出され、循環する内部雰囲気に含まれている塵埃等は高清浄化ユニット２３の高性能フィルタ３１により捕獲、除去されて清浄化される。
【００３８】
容器開放モジュール４ａ，４ｂと処理モジュール５ａ，５ｂ，５ｃと容器密閉モジュール６は、図６の構成図に示す局所清浄化装置３５で構成されている。この局所清浄化装置３５は、通気ダクト３６の天井吹出口に設けられた高清浄化ユニット２３と通気ダクト３６の外気取込側に設けられた中清浄化ユニット２４と通気ダクト３６内に設けられた冷却装置３７と循環風量調整弁２５と外気取込調整弁２６と排気ファン２７及び各種処理装置３８を有する。そして循環風量調整弁２５と外気取込調整弁２６の開度を調整して外気取込みの風量と内部を循環する風量とを調節するとともに排気ファン２７の排気風量を調節して外部雰囲気を通気ダクト３６に取り込みながら内部雰囲気を循環させる。外気取込調整弁２６から取り込んだ外部雰囲気は中清浄化ユニット２４により塵埃等が除去されて通気ダクト３６に送られる。通気ダクト３６に中清浄化ユニット２４を介して送られた外部雰囲気と循環風量調整弁２５から送られた内部循環雰囲気は高清浄化ユニット２３により清浄化されて各種処理装置３８が設けられた処理空間３９に吹き出され、この吹き出しにより処理空間３９の雰囲気は一部が排気ファン２７により外部に排出され、大部分は循環風量調整弁２５により循環して処理空間３９の雰囲気の清浄度を例えばクラス１００程度以下にする。
【００３９】
この局所清浄化装置３５の処理空間３０は外部雰囲気の圧力より２０Ｐａ程度高い正圧に保たれている。この処理空間３０に高清浄化ユニット２３から垂直一方向に吹き出す清浄化された内部循環雰囲気の風速は０．２５〜０．５ｍ／ｓｅｃ程度であり、外気取込調整弁２６から処理空間３０を正圧に保つためと作業者への給気のため高清浄化ユニット２３から吹き出す全風量の１０％程度になっている。また、局所清浄化装置３５で構成される容器開放モジュール４ａ，４ｂの処理空間の圧力は容器洗浄モジュール３ａ，３ｂの圧力より例えば５〜１０Ｐａ程度高く保持され、容器洗浄モジュール３ａ，３ｂの雰囲気が流れ込まないようになっている。この局所清浄化装置３５の正圧や差圧を維持するために、高清浄化ユニット２３から吹き出す全風量が一定になるようにしながら排気ファン２７により外部に排出される風量より外気取込調整弁２６により取り込む外部雰囲気の風量が上回るように適切に制御する。
【００４０】
この製造装置１で微細部品として例えばインクジェット方式の画像形成装置に使用する記録ヘッドを組み立てる場合について説明する。記録ヘッド４０は、図７の構成図に示すように、液室ユニット４１と駆動ユニット４２を有する。液室ユニット４１はノズル板４３と流路板４４及び振動板４５を有する。ノズル板４１は、図８の平面図（ａ）に示すように、インク滴を吐出する複数のノズル４６を有する。流路板４４は、図８（ｂ）に示すように、ノズル板４４のノズル４６に対応した液室４７が形成され、振動板４５は各液室４７に対応した振動部を有し、各液室４７毎に振動を伝える。このノズル板４３と流路板４４及び振動板４５は接着剤４８によりそれぞれ接合している。駆動ユニット４２は、基板４９上に複数の圧電素子を有する駆動部５０ａと支柱部５０ｂを交互に有し、駆動部５０ａと支柱部５０ｂは所定の間隔をおいて、基板４９に接着剤４８で接合している。
【００４１】
この記録ヘッド４０により記録用紙に画像を形成するとき、液室ユニット４１の液室４７にインク供給機構によりインクが供給される。この状態で駆動ユニット４２の圧電素子駆動部５０ａを選択的に駆動すると、液室ユニット４１の振動板４５が振動し、ノズル４６からインク滴を吐出する。この各ノズル４６から吐出するインクを高精度に制御して高品質な画像を形成するためには、液室ユニット４１を構成するノズル板４３と流路板４４及び振動板４５をそれぞれ高い精度で位置合わせして接合するとともに、液室ユニット４１と駆動ユニット４２も高精度に位置合わせして接合する必要がある。
【００４２】
このノズル板４３と流路板４４及び振動板４５を高精度に位置合わせして接合するため、ノズル板４３には、図８（ａ）に示すように、両端部に位置検出用基準マーク５１が貫通穴で形成され、流路板４４の両端部の上面と下面にそれぞれ位置検出用基準マーク５２が形成されている。また、振動板４５の両端部にも貫通穴からなる位置検出用基準マーク５３が形成されている。このノズル板４３の位置検出用基準マーク５１と振動板４５の位置検出用基準マーク５３は、流路板４４の位置検出用基準マーク５２と中心が一致するように配置され、位置検出用基準マーク５１，５３は位置検出用基準マーク５２より大径に形成している。
【００４３】
そしてノズル板４３と流路板４４を接合するために位置決めするときは、図８（ｃ）に示すように、ノズル板４３の両端部に形成された位置検出用基準マーク５１と流路板４４の両端部に設けた位置検出用基準マーク５４をそれぞれ検出して画像処理により位置検出用基準マーク５１，５２の中心位置を算出し、位置検出用基準マーク５１，５２の中心一が一致するようにノズル板４３又は流路板４４の位置誤差を補正してノズル板４３と流路板４４のアライメント（位置補正）を完了する。その後、ノズル板４３と流路板４４を接着剤４８で接合する。このようにしてノズル板４３と流路板４４を接合すると、図８（ｃ）に示すように、ノズル板３３の位置検出用基準マーク５１の中に流路板４４の位置検出用基準マーク５２が高精度に位置合わせされる。また、流路板４４と振動板４５も同様に位置合わせして接合する。
【００４４】
このノズル板４３と流路板４４及び振動板４５は清浄雰囲気中で作製され、作製されたノズル板４３と流路板４４及び振動板４５を清浄雰囲気中でそれぞれ密閉式収納容器９に収納し、密閉式収納容器９の蓋１２を閉じ、真空吸引手段に接続された吸引アダプタ１９を密閉式収納容器９の逆止弁１８に装着し、真空吸引手段により真空吸引して容器１１に蓋１２を密着させ密閉する。その後、逆止弁１８から吸引アダプタ１９を取り外して逆止弁１８を閉にして蓋１２による密閉を保持する。このようにノズル板４３と流路板４４及び振動板４５を密閉式収納容器９に密封するから、ノズル板４３や流路板４４及び振動板４５を室内一般環境もしくは低清浄環境に露出させないで済み、室内一般環境もしくは低清浄環境に含まれる塵埃等がノズル板４３や流路板４４及び振動板４５に付着することを防ぐことができる。
【００４５】
このノズル板４３と流路板４４を製造装置１で組み立てるとき、投入モジュール２ａ，は流路板４４を収納した密閉式収納容器９ａを投入し、投入モジュール２ｂからノズル板４３を収納した密閉式収納容器９ｂを投入する。処理モジュール５ａは流路板４４に対して接着剤４８の塗布処理を行い、処理モジュール５ｂは流路板４４に対してＵＶ剤の塗布処理を行い、処理モジュール５ｃはノズル板４３と流路板４４の接着処理を行う。
【００４６】
この製造装置１でノズル板４３と流路板４４を組み立てるとき、複数の流路板４４が収納された密閉型収納容器９ａは室内一般環境もしくは低清浄環境下において投入モジュール２ａに供給される。投入モジュール２ａに供給された密閉型収納容器９ａは容器搬送装置２８により容器清浄モジュール３ａに移載される。このとき投入モジュール２ａと容器清浄モジュール３ａの間の遮蔽機構８は開放し、容器清浄モジュール３ａと容器開放モジュール４ａの間の遮蔽機構８は遮蔽しておく。密閉型収納容器９ａが容器清浄モジュール３ａに移載完了すると投入モジュール２ａと容器清浄モジュール３ａの間の遮蔽機構８を遮蔽して外気と隔離する。そして容器清浄モジュール３ａで移載された密閉型収納容器９ａに複数の清浄化エア吹付口２１から清浄化した空気を吹付けて、装置外部環境下において密閉収納容器９ａの外装部に付着した塵埃等を除去する。
【００４７】
密閉収納容器９ａの外装部に付着した塵埃等の除去を所定時間行った後、密閉収納容器９ａを容器開放モジュール４ａに移載する。この密閉収納容器９ａを容器開放モジュール４ａに移載するとき、容器清浄モジュール３ａと容器開放モジュール４ａの間の遮蔽機構８を開放しても、容器開放モジュール４ａの処理空間の圧力が容器洗浄モジュール３ａの圧力より高く保持されているから、容器洗浄モジュール３ａ内の雰囲気が容器開放モジュール４ａに流れ込むことを防ぐとともに密閉収納容器９ａに付着した塵埃等が容器清浄モジュール３ａで除去されているから容器開放モジュール４ａの清浄度を維持することができる。
【００４８】
容器開放モジュール４ａは移載された密閉収納容器９ａを大気開放機構の真空破壊用アダプタを使用して密閉収納容器９ａの逆止弁１８の弁体１７を押し込んで密閉収納容器９ａ内の真空を破壊した後、アクチュエータにより密閉収納容器９ａの蓋１２を開く。その後、密閉収納容器９ａに収納されている流路板４４を搬送装置により処理モジュール５ａに移載する。この搬送装置は流路板４４を把持する真空吸着チャック部と密閉収納容器９ａを順次取出すためのピッチ送り機構と昇降機構と旋回機構より構成される。
【００４９】
処理ステージ５ａは塗布テーブルと流路板位置決め機構と塗布ユニットと流路板把持機構とテーブル移動機構及び移載ユニットより構成される。そして供給された流路板４４を塗布テーブル上に載置子、流路板位置決め機構によりＸＹの２方向の位置を定め、塗布テーブルに内蔵した真空吸着機構により流路板を吸着保持する。塗布ユニットは例えば凸版に所定量の接着剤４８を転写したのち流路板４４表面に凸版を押圧塗布するフレキソ印刷方式を採用している。所定の位置に位置決めされた流路板４４はテーブル移動機構により塗布ユニットに移動され、塗布ユニットの凸版に押圧され接着剤４８が塗布される。その後、移載ユニットは塗布テーブル上に載置された流路板を把持して処理モジュール５ｂに移載する。
【００５０】
処理モジュール５ｂは流路板４４を載置する塗布テーブルと流路板４４を所定の位置に位置決めする位置決め機構、ＵＶ剤を吐出する塗布ノズル、塗布ノズルからＵＶ剤を吐出させるための塗布ユニット、塗布ノズルからのＵＶ剤吐出量を制御する塗布コントローラ、流路板把持機構、テーブル移動機構及び移載ユニットとで構成している。そして供給された流路板４４は塗布テーブル上に載置され、位置決め機構によりＸＹの２方向の位置を定め、塗布テーブルに内蔵した真空吸着機構により流路板４４を吸着保持する。塗布ユニットは塗布コントロ−ラにより予め定められた一定量のＵＶ剤を塗布ノズルより吐出させ、塗布ノズルをＸＹ２方向に所定量移動させ流路板４４表面の所定位置に複数個所にわたり塗布する。塗布方式は例えば空圧制御による定量吐出ディスペンサーを採用している。移載ユニットは塗布テーブル上に載置された流路板４４を把持するための真空吸着チャック部よ次工程位置まで搬送するための１軸送り機構と昇降機構より構成される。表面に接着剤４８及びＵＶ剤が塗布された流路板４４は移載ユニットにより次工程の処理モジュール５ｃの流路板ステージ上に移載される。
【００５１】
一方、複数のノズル板４３が収納された密閉型収納容器９は室内一般環境もしくは低清浄環境下において投入モジュール２ｂに供給される。投入モジュール２ｂに供給された密閉型収納容器９ｂは容器搬送装置２８により容器清浄モジュール３ｂに移載される。このとき投入モジュール２ｂと容器清浄モジュール３ｂの間の遮蔽機構８は開放し、容器清浄モジュール３ｂと容器開放モジュール４ｂの間の遮蔽機構８は遮蔽しておく。密閉型収納容器９ｂが容器清浄モジュール３ｂに移載完了すると投入モジュール２ｂと容器清浄モジュール３ｂの間の遮蔽機構８を遮蔽して外気と隔離する。そして容器清浄モジュール３ｂで移載された密閉型収納容器９ｂに複数の清浄化エア吹付口２１から清浄化した空気を吹付けて、装置外部環境下において密閉収納容器９ｂの外装部に付着した塵埃等を除去する。密閉収納容器９ｂの外装部に付着した塵埃等の除去を所定時間行った後、密閉収納容器９ｂを容器開放モジュール４ｂに移載する。
【００５２】
容器開放モジュール４ｂは移載された密閉収納容器９ｂ内の真空を破壊した後、密閉収納容器９ｂの蓋１２を開き、収納されているノズル板４３を搬送装置により処理モジュール５ｃに移載する。
【００５３】
処理モジュール５ｃは接合上テーブルと接合下テーブルを有する接合テーブルと流路板位置決め機構と接合テーブル位置調整機構と接合テーブル加圧機構と画像処理装置とＵＶ露光装置とノズル板仮置きテーブルとノズル板位置決め機構とノズル板受渡し機構と移載ユニット及び位置検出用基準マーク検出用の撮影装置とにより構成されている。そして処理モジュール５ｂから移載された流路板４４を真空吸着等の把持手段により把持し接合上テーブルに移載して流路板位置決め機構で流路板４４のＸＹ２方向の位置を定める。容器開放モジュール４ｂから移載されたノズル板４３はノズル板仮置きテーブル上でノズル板位置決め機構によりＸＹ２方向の位置を定めた後、ノズル板受渡し機構により接合上テーブルに移載される。接合上テ−ブルは移載されたノズル板４３を真空吸着機構にて吸着把持して１８０度旋回し流路板４４が載置された接合上テーブルの上方に移動する。その後、２台の撮像装置によりノズル板４３に設けた位置検出用基準マーク５１を検出し、画像処理装置により位置検出用基準マーク５１の中心を演算してノズル板４３の接合位置調整のターゲット座標を得る。引き続いて接合下テ−ブル上の流路板４４の位置検出用基準マーク５２を検出して同様に流路板４４の接合位置調整のターゲット座標を得る。このノズル板４３と流路板４４の接合位置調整のターゲット座標が一致するように接合テーブル位置調整機構により接合テーブルを移動させてノズル板４３と流路板４４の位置調整行い、記接合テーブル加圧機構によりノズル板４３と流路板４４を所定の圧力にて押圧して接合する。さらに、ＵＶ露光装置によりＵＶ剤に紫外線を所定時間照射して硬化させる。接合されたノズル板４３と流路板４４は真空吸着チャックを有する移載ユニットにより容器密閉モジュール６に移載されて密閉式収納容器９ｃに収納される。
【００５４】
容器密閉モジュール６は密閉式収納容器９ｃに所定数の接合されたノズル板４３と流路板４４が収納されるとアクチュエータにより密閉式収納容器９ｃの蓋１２を閉じ、
【００５５】
容器密閉モジュール６は真空吸引手段に接続された吸引アダプタ１９を密閉式収納容器９ｃの逆止弁１８に装着し、真空吸引手段により真空吸引して容器１１に蓋１２を密着させる。その後、逆止弁１８から吸引アダプタ１９を取り外して逆止弁１８を閉にして蓋１２による密閉を保持する。この接合されたノズル板４３と流路板４４が収納された密閉式収納容器９ｃは搬送装置により排出モジュール７に搬送される。このとき、処理モジュール５ｃと容器密閉モジュール６との間の遮蔽機構８は遮蔽した状態で容器密閉モジュール６と排出モジュール７との間の遮蔽機構８を開放し、密閉式収納容器９ｃを排出モジュール７に搬送した後、容器密閉モジュール６と排出モジュール７との間の遮蔽機構８を遮断して容器密閉モジュール６の雰囲気を清浄化する。
【００５６】
排出モジュール７に搬送された密閉式収納容器９ｃは次工程である流路板４４と振動板４５の組立を行う製造装置１に搬送される。
【００５７】
前記説明ではインク流路から吐出口にかけての形状が直線的であるエッジシューター方式に記録ヘッドを組み立てる場合について説明したがインク流路の向きと吐出口の向きが異なるサイドシューター方式に記録ヘッドも製造装置１により同様にして組み立てることができる。
【００５８】
また、前記説明では密閉式収納容器９の蓋１２を真空吸引して密封する場合について説明したが、例えばマグネットチャックを使用して蓋１２を磁気吸引して密封しても良い。
【００５９】
さらに、この製造装置１を使用して半導体等の微細部品の製造や電気回路基板に対する電子部品の実装等の各種加工や組立を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】この発明の微細部品の製造装置の構成を示す平面図である。
【図２】この発明の密閉式収納容器の構成図である。
【図３】密閉式収納容器に設けた逆止弁と吸引アダプタを示す部分断面図である。
【図４】容器洗浄モジュールの構成図である。
【図５】高清浄化ユニットと中清浄化ユニットの構成図である。
【図６】容器開放モジュールと処理モジュール及び容器密閉モジュールを構成する局所清浄化モジュールの構成図である。
【図７】記録ヘッドの構成図である。
【図８】ノズル板と流路板の構成を示す平面図である。
【図９】従来のクリーンルームの構成図である。
【図１０】従来の局所清浄化モジュールの構成図である。
【図１１】従来の局所清浄化モジュールを有する微細部品の組立装置の構成図である。
【符号の説明】
【００６１】
１；微細部品の製造装置、２；投入モジュール、３；容器洗浄モジュール、
４；容器開放モジュール、５；処理モジュール、６；容器密閉モジュール、
７；排出モジュール、８；遮蔽機構、９；密閉式収納容器、１０；被処理物、
１１；容器、１２；蓋、１３；被処理物収納部、１４；吸引口、１５；連通孔、
１６；ばね、１７；弁体、１８；逆止弁、１９；吸引アダプタ、
２０；モジュールキャビネット、２１；清浄化エア吹付口、２２；通気ダクト、
２３；高清浄化ユニット、２４；中清浄化ユニット、２５；循環風量調整弁、
２６；外気取込調整弁、２７；排気ファン、２８；容器搬送装置、
１９；プレフィルタ、３０；ファン、３１；高性能フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）、
３２；整流板、３３；中性能フィルタ、３５；局所清浄化装置、３６；通気ダクト、
３７；冷却装置、３８；処理装置、３９；処理空間、４０；記録ヘッド、
４１；液室ユニット、４２；駆動ユニット、４３；ノズル板、４４；流路板、
４５；振動板、４６；ノズル、４７；液室、４８；接着剤、４９；基板、
５０ａ；駆動部，５１，５２，５３；位置検出用基準マーク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2007333300.tif 000011
【図１０】
2007333300.tif 000012
【図１１】
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