(57)【要約】【課題】防眩性、白ボケ改善、解像度を高いレベルで実現することのできる防眩性フィルム及びこれを効率よく簡便に製造することができる方法を提供すること。【解決手段】透明樹脂を含有してなる基材フィルム上に表面に凹凸を持つ防眩層及び低屈折率層を有し、前記低屈折率層は特定のケイ素化合物（Ａ）および／または（Ａ）とフッ素化合物の共重合体から形成される、分子中に−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−結合を有する化合物を含む硬化膜であり；前記凹凸が下記〔１〕〜〔３〕を満たすことを特徴とする防眩性フィルム。〔１〕凹凸の高さが０．１〜０．８μｍである。〔２〕凹凸の周期が４〜１００μｍの範囲にある。〔３〕凹凸の平均傾斜角が３度以下である。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂を含有してなる基材フィルムと、
前記基材フィルム上に設けられ、基材フィルムの反対側の面に凹凸を持つ防眩層と、
前記防眩層上に設けられた低屈折率層とを含む防眩性フィルムであって、
前記低屈折率層は、少なくとも下記成分（Ａ）および／または（Ｂ）を含む低屈折率層形成用組成物から形成される、分子中に−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−結合を有する化合物を含む硬化膜であり、
該凹凸が下記〔１〕〜〔３〕を満たすことを特徴とする防眩性フィルム。
〔１〕凹凸の高さが０．１〜０．８μｍである。
〔２〕凹凸の周期が４〜１００μｍの範囲にある。
〔３〕凹凸の平均傾斜角が３度以下である。
（Ａ）：式（１）ＲaＳｉＹ4-a（式中、Ｒは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ａは０〜２の整数を表し、ａが２の時、２つのＲは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、４−ａが２〜４の時、複数のＹは同一であっても相異なっていてもよい）で表される化合物、前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物、および前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物からなる群から選ばれる１種以上のケイ素化合物。
（Ｂ）：（Ａ）とフッ素化合物の共重合体。
【請求項２】
前記防眩層の屈折率が１．５５以上である請求項１に記載の防眩性フィルム。
【請求項３】
前記防眩層が、活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂と、平均粒子径が５〜１００ｎｍである微粒子とを含むものを硬化して得られるものである請求項１又は２に記載の防眩性フィルム。
【請求項４】
前記微粒子が五酸化アンチモン及び/又はリンがドープされた酸化スズ微粒子である、請求項３に記載の防眩性フィルム。
【請求項５】
全光線透過率が９０％以上であり、かつヘーズが１０％以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の防眩性フィルム。
【請求項６】
前記低屈折率層形成用組成物は、さらに中空微粒子を含有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の防眩性フィルム。
【請求項７】
透明樹脂を含有してなる基材フィルム上に、直接又は他の層を介して、下記〔４〕〜〔６〕を満たす塗布液を塗布することにより防眩層を形成することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の防眩性フィルムの製造方法。
〔４〕揮発性を有する有機溶剤の含有量が少なくとも２０体積％である。
〔５〕平均粒子径が５〜１００ｎｍである微粒子の含有量が少なくとも５体積％である。
〔６〕界面活性剤の含有量が多くとも１，０００ｐｐｍである。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の防眩性フィルムを、偏光子の少なくとも片方の面に備える偏光板。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の防眩性フィルム又は請求項８に記載の偏光板を備える液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防眩性フィルム及びその製造方法に関し、さらに詳しくは液晶表示装置の偏光板保護フィルムに好適な防眩性フィルム及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、陰極線管（ＣＲＴ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などに代表される表示装置の最表面には、外光反射によるコントラストの低下、像の映りこみを防止するために、防眩性フィルムや反射防止フィルムが配置されることが多い。
このような防眩性フィルムの表面には、微細な凹凸が形成されている。このような凹凸を形成する方法としては、微細粒子を含有した樹脂を基材となるフィルムの表面に塗布し、粒子の形状による突起を表面に形成する方法が一般的である。他に、サンドブラストやエッチング、凹凸を転写する方法などが報告されている。表面の凹凸により、外光を拡散反射し、像の映り込みを防止することができる。しかしながら、表面の凹凸には外光の散乱により、黒表示に白みがかかり、表示品位を低下させてしまう、いわゆる白ボケ現象が起こりやすいという問題がある。さらに、表面の凹凸により画素からの透過光も曲げられてしまうため、透過画像の鮮明性が低下するという問題もある。
例えば、特許文献１には、凹凸を形成した型を転写することにより、ピッチ３０〜３００μｍ、十点平均粗さ０．３〜３μｍの表面凹凸を形成した防眩層が開示されている。しかしながらこのような型を転写することにより形成する方法によっては、多大な設備導入が必要となる上、十点平均粗さ１μｍ以下の微細な凹凸を形成することが困難であり、実際に得られた防眩層は透過画像鮮明性の点で不十分である。
また、特許文献２には、表面に平均山谷間隔４０μｍ以下、かつ平均傾斜角５度以上の微細な凹凸構造を有することを特徴とする防眩層が開示されている。これによれば、画素サイズの小さい大画面の表示装置においてもギラツキ現象の発生を防止しつつ、外光の表面反射による視認妨害の発生を有効に防止できると記載されている。しかしながら、高精細なディスプレイ用途には、白ボケ現象の改善、透過画像鮮明性の点で不十分である。
特許文献３には、表面に凹凸を持つ防眩性フィルムおよび防眩性反射防止フィルムにおいて、突起部分の頂点の法線ベクトルを含む平面での断面で、その法線と直角に左右に直線を５００ｎｍ伸ばした時、左右いずれかの直線の終点が突起の稜線とぶつかった点と反対方向の直線を延長した直線が突起の稜線とぶつかった点と頂点の３点がつくる角度を頂点とし、これが１７０度以上である突起を５０％以上含む防眩性フィルム及び防眩性反射防止フィルムが開示されている。これによれば、白味がよく、かつ透過画像鮮明性が良い防眩性フィルムおよび防眩性反射防止フィルムを提供することができると記載されている。また、このような突起を形成する方法としては、先ず微細粒子等で表面突起を形成した後、その突起の頂点部分にラビング処理、カレンダー処理等を施し、平坦化することが提案されている。しかしながら、このような方法は、ラビング処理装置、カレンダー処理装置等の機械を別途導入する必要があり、さらに加工工程もより煩雑なものとなる。
【０００３】
【特許文献１】特開昭６４−１９３０１号公報
【特許文献２】特開２００１−１５４００６号公報
【特許文献３】特開２００１−２８１４０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従って、本発明の目的は、防眩性、白ボケ改善、解像度を高いレベルで実現することのできる防眩性フィルム及びこれを効率よく簡便に製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、基材フィルムに塗布する塗布液に特定の微粒子を含有させ、界面活性剤を特定割合以下とことにより、上記目的を達成しうることを見いだし、この知見に基づいてさらに研究を進め、本発明を完成するに至った。
【０００６】
かくして本発明によれば、
（１）透明樹脂を含有してなる基材フィルムと、前記基材フィルム上に設けられ、基材フィルムの反対側の面に凹凸を持つ防眩層と、前記防眩層上に設けられた低屈折率層とを含む防眩性フィルムであって、前記低屈折率層は、少なくとも下記成分（Ａ）および／または（Ｂ）を含む低屈折率層形成用組成物から形成される、分子中に−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−結合を有する化合物を含む硬化膜であり、該凹凸が下記〔１〕〜〔３〕を満たすことを特徴とする防眩性フィルム。
〔１〕凹凸の高さが０．１〜０．８μｍである。
〔２〕凹凸の周期が４〜１００μｍの範囲にある。
〔３〕凹凸の平均傾斜角が３度以下である。
（Ａ）：式（１）ＲaＳｉＹ4-a（式中、Ｒは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ａは０〜２の整数を表し、ａが２の時、２つのＲは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、４−ａが２〜４の時、複数のＹは同一であっても相異なっていてもよい）で表される化合物、前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物、および前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物からなる群から選ばれる１種以上のケイ素化合物。
（Ｂ）：（Ａ）とフッ素化合物の共重合体。
（２）防眩層の屈折率が１．５５以上である前記（１）に記載の防眩性フィルム；
（３）防眩層が、活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂と、平均粒子径が５〜１００ｎｍである微粒子とを含むものを硬化して得られるものである前記（１）又は（２）に記載の防眩性フィルム；
（４）前記微粒子が五酸化アンチモン及び/又はリンがドープされた酸化スズ微粒子である、前記（３）に記載の防眩性フィルム。
（５）全光線透過率が９０％以上であり、かつヘーズが１０％以下である前記（１）〜（４）のいずれか１項に記載の防眩性フィルム；
（６）前記低屈折率層形成用組成物は、さらに中空微粒子を含有することを特徴とする、前記（１）〜（５）のいずれか１項に記載の防眩性フィルム。
（７）透明樹脂を含有してなる基材フィルム上に、直接又は他の層を介して、下記〔４〕〜〔６〕を満たす塗布液を塗布することにより防眩層を形成することを特徴とする前記（１）〜（６）のいずれか１項に記載の防眩性フィルムの製造方法；
〔４〕揮発性を有する有機溶剤の含有量が少なくとも２０体積％である
〔５〕平均粒子径が５〜１００ｎｍである微粒子の含有量が少なくとも５体積％である
〔６〕界面活性剤の含有量が多くとも１，０００ｐｐｍである；
（８）前記（１）〜（６）のいずれか１項に記載の防眩性フィルムを、偏光子の少なくとも片方の面に備える偏光板；
及び
（９）前記（１）〜（６）のいずれか１項に記載の防眩性フィルム又は前記（８）に記載の偏光板を備える液晶表示装置；
がそれぞれ提供される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、防眩性、白ボケ改善、解像度を高いレベルで実現可能な、特に液晶表示装置における偏光板保護フィルムに好適な防眩性フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の防眩性フィルムは、透明樹脂を含有してなる基材フィルムと、前記基材フィルム上に設けられ、基材フィルムの反対側の面に凹凸を持つ防眩層と、前記防眩層上に設けられた低屈折率層とを含む。
本発明に用いる基材フィルムに使用する透明樹脂としては、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上のものを好ましく用いることができ、例えば、脂環式構造を有する重合体樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスチレン系樹脂、鎖状ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂等が挙げられる。これらの透明樹脂は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に優れ、複屈折が小さい点で、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、トリアセチルセルロース、ブチリルセルロース等のセルロース樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；又は脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましく、透明性、軽量性の観点から、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましく、寸法安定性、厚み制御性の観点からポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有する重合体樹脂がさらに好ましい。
【０００９】
脂環式構造を有する重合体樹脂は、主鎖及び／又は側鎖に脂環式構造を有するものであり、機械強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有するものが好ましい。
【００１０】
重合体の脂環式構造としては、飽和脂環炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和脂環炭化水素（シクロアルケン）構造などが挙げられるが、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造が好ましい。脂環式構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個の範囲であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性の特性が高度にバランスされ、好適である。本発明に使用される脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を含有してなる繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは３０重量％以上、さらに好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは７０重量％以上、もっとも好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造を有する重合体樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあると基材フィルムの透明性および耐熱性の観点から好ましい。
【００１１】
脂環式構造を有する重合体樹脂は、具体的には、（１）ノルボルネン系重合体、（２）単環の環状オレフィン系重合体、（３）環状共役ジエン系重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物が挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体がより好ましい。
ノルボルネン系重合体としては、具体的にはノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加型共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体水素添加物が最も好ましい。
上記の脂環式構造を有する重合体樹脂は、例えば特開２００２−３２１３０２号公報などに開示されている公知の重合体から選ばれる。
【００１２】
本発明に用いる透明樹脂のガラス転移温度は、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００〜２５０℃である。ガラス転移温度がこのような範囲にある透明樹脂を含有してなる基材フィルムは、高温下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。
【００１３】
本発明に用いる基材フィルムは、透明樹脂の他に、他の配合剤を含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定はないが、無機微粒子；酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤；滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤；染料や顔料等の着色剤；帯電防止剤等が挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、透明樹脂１００重量部に対して、通常０〜５重量部、好ましくは０〜３重量部である。
【００１４】
基材フィルムの平均厚みは、機械的強度などの観点から、好ましくは３０〜３００μｍ、より好ましくは４０〜２００μｍである。
また、基材フィルムの厚みのばらつきが、基材フィルム全幅にわたって前記平均厚みの３％以内であることが好ましい。基材フィルムの厚みのばらつきが前記範囲にあることにより、防眩層の密着性及びその上に積層する他の層の表面平滑性を向上させることができる。
本発明に用いる基材フィルムを成形する方法としては、溶液流延法又は溶融押出成形法が挙げられる。中でも、基材フィルム中の揮発性成分の含有量や厚みムラを少なくできる点から、溶融押出成形法が好ましい。さらに溶融押出成形法としては、ダイスを用いる方法やインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚み精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。
基材フィルムを成形する方法として、Ｔダイを用いる方法を採用する場合、Ｔダイを有する押出機における透明樹脂の溶融温度は、透明樹脂のガラス転移温度よりも８０〜１８０℃高い温度にすることが好ましく、ガラス転移温度よりも１００〜１５０℃高い温度にすることがより好ましい。押出機における溶融温度が過度に低いと透明樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に溶融温度が過度に高いと樹脂が劣化する可能性がある。
【００１５】
本発明に用いる基材フィルムとして、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用してもよい。表面改質処理を行うことにより、防眩層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理などが挙げられる。
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理などが挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。
薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸などの酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄する方法が挙げられる。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度などに応じて、処理時間などを調整する必要がある。
【００１６】
本発明においては、基材フィルムと後述する防眩層との間に、他の層を介してもよい。他の層としては、プライマー層が挙げられる。
プライマー層は、透明樹脂を含有してなる基材フィルムと防眩層との密着性の付与及び向上を目的として形成される。プライマー層を構成する材料としては、例えば、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシアネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、これらの重合体に極性基を導入した変性物が挙げられる。これらの中で、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂に極性基を導入した変性物及び環化ゴムに極性基を導入した変性物を好適に用いることができる。
【００１７】
主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格又は少なくともその一部に水素添加したポリブタジエン骨格を有する樹脂が挙げられ、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ共重合体）、その水素添加物（ＳＥＢＳ共重合体）等が挙げられる。なかでも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物に極性基を導入した変性物を好適に用いることができる。
【００１８】
重合体の変性物を得るために用いる極性基を導入するための化合物としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸；塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体；等が挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物は、密着性に優れるので、好適に用いることができる。不飽和カルボン酸又はその無水物の中では、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は、２種以上を混合して用い、変性することもできる。
プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常０．０１〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍである。
【００１９】
本発明において防眩層とは、液晶表示装置やＣＲＴなどの表示装置の見やすさを向上させるために、例えば蛍光灯の光などが画面にうつるのを防ぐ働きをするもので、この光を乱反射させる物質を含む層をいい、有機樹脂材料を含む層を用いることができる。
防眩層を構成する有機樹脂材料としては、防眩層におけるバインダーとしての性質を有し、防眩層形成後の皮膜として十分な強度を持ち、さらに透明性のあるものを特に制限なく使用できる。前記樹脂としては熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、活性エネルギー線硬化型樹脂が挙げられるが、皮膜の強度、加工性の点で、熱硬化型樹脂又は活性エネルギー線硬化型樹脂が好ましい。
熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン-尿素共縮合樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられ、なかでも、表面硬度、耐繰り返し疲労性及び耐擦傷性に優れる観点から、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂が好ましい。
また、これらの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用することができる。
【００２０】
活性エネルギー線硬化型樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び／又はモノマーが、エネルギー線の照射により硬化してなる樹脂である。活性エネルギー線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線又は電子線を用いる。
紫外線および電子線硬化型樹脂としては特に制限はなく、従来から使用されているものの中から、適宜選択して用いることができる。この紫外線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマー、又は光重合性モノマー、光重合開始剤や光増感剤を含有するものである。また、電子線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマー又は光重合性モノマーを含有するものである。
【００２１】
前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。また，光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６-ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
本発明においては、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を用いることが好ましい。
【００２２】
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α-アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ-ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ-ｎ-ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。
【００２３】
本発明においては、防眩層は、前記熱硬化型樹脂又は活性エネルギー線硬化型樹脂と、微粒子とを含むものを硬化して得られるものが好ましい。防眩層が、前記構成をとることにより、本発明における表面凹凸形状を実現することができる。
前記微粒子としては、平均粒子径が５〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものを用いる。平均粒子径は、５００個の粒子を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等により得られる二次電子放出のイメージ写真からの目視やイメージ写真を画像処理することにより、又は動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる。ここでいう平均粒子径は、個数平均粒子径をさす。以下同様である。
より具体的には、上記粒子径を有する微粒子であればよいが、導電性を有する微粒子が好ましい。前記微粒子として、導電性を有する微粒子を用いることにより、帯電防止性、機械的強度に優れる防眩層を得ることができる。加えて、防眩層の屈折率を容易に制御することができる。
【００２４】
導電性微粒子は、導電性を有する微粒子であれば特に制約はないが、透明性に優れることから、金属酸化物の微粒子が好ましい。
【００２５】
導電性の金属酸化物としては、例えば、五酸化アンチモン、酸化スズ、リンがドープされた酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモンがドープされた酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ素がドープされた酸化スズ（ＦＴＯ）、スズがドープされた酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛がドープされた酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムがドープされた酸化亜鉛（ＡＺＯ）、酸化亜鉛／酸化アルミニウム、アンチモン酸亜鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に優れること等から、五酸化アンチモン及び／又はリンがドープされた酸化スズの使用が好ましい。
また本発明においては、導電性の金属酸化物微粒子として、導電性を持たない金属酸化物微粒子に、導電性金属酸化物を被覆することによって、導電性を付与したものを使用することもできる。例えば、屈折率は高いが導電性を有しない酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム等の微粒子の表面に、前記導電性金属酸化物を被覆して導電性を付与して用いることができる。
【００２６】
本発明においては、防眩層における微粒子の含有量は、少なくとも３０体積％であることが好ましく、４０〜６０体積％であることがさらに好ましい。前記微粒子の含有量が前記範囲よりも少ないと防眩層の表面凹凸の高さが不十分となり、逆に多いと防眩層の強度が不十分となる傾向がある。
【００２７】
本発明においては、防眩層の表面の凹凸の高さは、十点平均粗さＲｚで０．１〜０．８μｍ、好ましくは０．２〜０．７μｍである。前記凹凸の高さが前記範囲より小さいと防眩性が不十分となり、逆に大きいと散乱が大きくなりすぎて、画像表示装置に用いたときヘーズが大きくなったり、画像鮮明性が低下したりし、さらに画像表示を黒表示にしたときの白味も強くなる。
防眩層の表面の凹凸の高さとして表される十点平均粗さＲｚは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１-１９９４に準じて、例えば、ダイヤモンドからなる先端部を頂角５５度の円錐形とした直径１ｍｍの測定針を介して凹凸構造面上を一定方向に３ｍｍの長さで走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線として知見を得ることができる。あるいは光学干渉式表面粗さ測定機によっても測定することができる。
【００２８】
本発明においては、防眩層の表面の凹凸の周期の範囲は、４〜１００μｍ、好ましくは１０〜８０μｍである。前記凹凸の周期が前記範囲よりも小さいと防眩性が不十分となり、逆に大きいと画像表示装置に用いたときにギラツキが生じてしまう。
防眩層の凹凸の周期は、前述の表面粗さ曲線における凹凸変化が微小な部分に基づいて表面粗さ曲線の凹凸変化が凸部として評価できる基準線を想定し、その基準線からの当該凸部の高さの平均を中心線として、表面粗さ曲線がその中心線を下から上（又は上から下）に通過する際の交点に基づきその交点間の距離の平均として定義することができる。
【００２９】
本発明においては、防眩層の平均傾斜角は、３度以下、好ましくは２度以下である。防眩層の平均傾斜角が前記範囲よりも大きいと、散乱が大きくなりすぎて、画像表示装置に用いたときヘーズが大きくなったり、画像鮮明性が低下したりし、さらに画像表示を黒表示にしたときの白味が強くなる。
平均傾斜角は、前述の表面粗さ曲線における前記した凹凸変化が微小な部分の勾配に基づいてその勾配の絶対値の平均として定義することができる。
【００３０】
本発明においては、防眩層の凸部を主面側からみたときの形状が、多角形の最密充填の形になっていることが好ましい。前記形状が、多角形の最密充填の形になっていることにより、防眩性と、白ボケ防止および透過画像鮮明性との両立が可能となる。多角形としては、五角形、六角形、八角形が挙げられる。前記形状は、これらが２種以上組み合わさったものでもよい。
【００３１】
本発明においては、防眩層の屈折率は、好ましくは１．５５以上、より好ましくは１．６０以上である。防眩層の屈折率がこの範囲にあると、防眩層上に低屈折率層を設けた場合に、外光の反射を抑制し、映り込みを防止することができる。屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメーターを用いて測定して求めることができる。
【００３２】
本発明においては、防眩層は、ＪＩＳ  Ｋ５６００-５-４で示す鉛筆硬度試験（試験板はガラス板）で「ＨＢ」以上の硬度を示すことが好ましい。防眩層の鉛筆硬度が前記範囲であることにより、防眩層がハードコート層を兼ねることができ、部材を薄くすることができる。
防眩層の厚みは、１〜３０μｍの範囲であることが好ましい。
【００３３】
本発明の防眩性フィルムは、防眩層の上に設けられた低屈折率層を有する。低屈折率層を有することにより、本発明の防眩性フィルムに反射防止性を備えることができる。
防眩層上に形成される低屈折率層は、少なくとも下記成分（Ａ）および／または（Ｂ）を含む低屈折率層形成用組成物から形成される、分子中に−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−結合を有する化合物（以下、「化合物Ｘ」ということがある。）を含む硬化膜である。
（Ａ）：式（１）ＲaＳｉＹ4-a（式中、Ｒは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ａは０〜２の整数を表し、ａが２の時、２つのＲは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、４−ａが２〜４の時、複数のＹは同一であっても相異なっていてもよい）で表される化合物（以下、「化合物（Ａ）」ということがある。）、前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物（以下、「化合物（Ａ１）」ということがある。）、および前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物（以下、「化合物（Ａ２）」ということがある。）からなる群から選ばれる１種以上のケイ素化合物（以下、「化合物（Ａ）など」ということがある。）、
（Ｂ）：（Ａ）とフッ素化合物の共重合体
【００３４】
〔分子中に−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−結合を有する化合物Ｘ〕
＜ＲaＳｉＹ4-aで表される化合物（Ａ）など＞
本化合物（Ａ）において、置換基を有してもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、４-メチルフェニル基、１-ナフチル基、２-ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール基；ビニル基、アリル基等のアルケニル基；ベンジル基、フェネチル基、３-フェニルプロピル基等のアラルキル基；クロロメチル基、γ-クロロプロピル基、３，３，３-トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基；γ-メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基；γ-グリシドキシプロピル基、３，４-エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基；γ-メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基；３-アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基；トリフルオロメチル基等のパーフルオロアルキル基等を挙げることができる。この中でも、合成の容易性、入手可能性等から、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、パーフルオロアルキル基が好ましい。
【００３５】
Ｙは、加水分解性基を示す。加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−結合を生じさせる基である。加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシル基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基；オキシム基（−Ｏ−Ｎ＝Ｃ−Ｒ1（Ｒ2））、エノキシ基（−Ｏ−Ｃ（Ｒ1）＝Ｃ（Ｒ2）Ｒ3）、アミノ基、アミノキシ基（−Ｏ−Ｎ（Ｒ1）Ｒ2）、アミド基（−Ｎ（Ｒ1）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ2）等を挙げることができる。これらの基において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して水素原子または一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Ｙとしては、入手容易性等からアルコキシル基が好ましい。
【００３６】
ＲaＳｉＹ4-aで表される化合物（Ａ）としては、ａが０〜２の整数である珪素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等を挙げることができる。これらの中でも、入手容易性等からアルコキシシラン類がより好ましい。
【００３７】
ａが０であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、ａが１であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，３，３-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。ａが２であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。
【００３８】
化合物（Ａ）の分子量は特に限定されないが、４０〜３００であるのが好ましく、１００〜２００がより好ましい。
【００３９】
化合物（Ａ）の少なくとも１種の部分加水分解生成物（化合物（Ａ１））および化合物（Ａ）の少なくとも１種の完全加水分解生成物（化合物（Ａ２））は、化合物（Ａ）の一種またはそれ以上を、全部または部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。
【００４０】
化合物（Ａ１），（Ａ２）は、たとえば、Ｓｉ（Ｏｒ）4（ｒは１価の炭化水素基を表す）で表されるシリコンテトラアルコキシドを、モル比〔Ｈ2Ｏ〕／〔Ｏｒ〕が１以上、例えば、１〜５、好ましくは１〜３となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。加水分解は、５〜１００℃の温度で、２〜１００時間、全容を攪拌することにより行うことができる。
【００４１】
化合物（Ａ）を加水分解する場合には、必要に応じて触媒を使用してもよい。使用する触媒としては、得られる部分加水分解物および／または加水分解物が２次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、および加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。
【００４２】
用いる酸触媒としては、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸；塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸；酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー；を挙げることができる。これらの触媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて使用できる。
【００４３】
また、酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基性触媒を用いてもよい。
【００４４】
化合物（Ａ１），（Ａ２）の分子量は、通常、重量平均分子量が２００〜５０００の範囲である。
【００４５】
＜化合物（Ａ）などとフッ素化合物の共重合体（Ｂ）＞
本共重合体（Ｂ）は、化合物（Ａ）などのケイ素原子に、フッ素原子を有する有機基が結合した構造を含む化合物である。フッ素原子を有する有機基としては、パーフルオロアルキル基が好ましい。共重合体の形成に用いることのできるフッ素化合物としては、例えば、テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロピレン、３，３，３−トリフロロプロピレン等のフロロオレフィン類；パーフロロ（アルキルビニルエーテル）類もしくはパーフロロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類；パーフロロ（メチルビニルエーテル）、パーフロロ（エチルビニルエーテル）、パーフロロ（プロピルビニルエーテル）、パーフロロ（ブチルビニルエーテル）、パーフロロ（イソブチルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルキルビニルエーテル）類；パーフロロ（プロポキシプロピルビニルエーテル）等のパーフロロ（アルコキシアルキルビニルエーテル）類；その他を挙げることができる。これらの化合物は、単独で、又は２種以上を併用することができる。
【００４６】
また、フッ素化合物としては、ゾル−ゲル反応により容易に共重合体を形成できる観点から、パーフルオロアルキルアルコキシシラン等のフッ素を含有する化合物を用いることが好ましい。パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、たとえば、一般式（２）：ＣＦ3（ＣＦ2）nＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＲ4）3（式中、Ｒ4は、炭素数１〜５個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数を示す）で表される化合物があげられる。具体的には、たとえば、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシランなどがあげられる。これらのなかでも前記ｎが２〜６の化合物が好ましい。これらは、それぞれ単独で、又は２種以上混合して用いることができる。
【００４７】
共重合体（Ｂ）を得る方法としては、たとえば、ゾル−ゲル反応によって縮合可能なアルコキシシリル基を有するパーフルオロアルキルアルコキシシランと、化合物（Ａ）などを、アルコール溶媒（たとえば、メタノール、エタノール等）中で有機酸（たとえばシュウ酸等）やエステル類の存在下で加熱し縮重合させることにより得られる。
【００４８】
なお、これらの反応成分の比率は特に制限されないが、通常、パーフルオロアルキルアルコキシシラン１モルに対して、化合物（Ａ）などを１〜１００モル程度、さらには２〜１０モルとするのが好適である。
【００４９】
共重合体（Ｂ）の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が５０００以上であるのが好ましい。
【００５０】
共重合体（Ｂ）は、水酸基および／またはエポキシ基を有することが好ましい。共重合体（Ｂ）の水酸基および／またはエポキシ基は、化合物（Ａ）などまたは共重合体（Ｂ）の−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−構造と反応して、硬化膜の皮膜強度が強くなり、耐擦傷性をさらに向上させることができる。水酸基および／またはエポキシ基は、フルオロアルキル構造に導入されていいてもよく、−Ｏ−Ｓｉ−Ｏ−構造に導入されていてもよい。水酸基および／またはエポキシ基はこれら官能基を有する化合物を共重合することにより導入できる。
【００５１】
本発明の硬化性樹脂組成物中の前記化合物（Ａ）などと共重合体（Ｂ）の混合割合は、当該組成物から得られる硬化膜の用途に応じて適宜に調製される。化合物（Ａ）などの割合が多くなると、共重合体（Ｂ）の割合が少なくなり、硬化膜の屈折率が上昇したり、防汚染性が低下する傾向がある。一方、化合物（Ａ）などの割合が少なくなると、硬化膜の皮膜強度が弱くなり、耐擦傷性が低下する傾向がある。これらの観点から、硬化性樹脂組成物中、化合物（Ａ）などの割合は、化合物（Ａ）などと共重合体（Ｂ）の合計に対して、通常、固形分で５〜９０重量％であるのが好ましい。より好ましくは、３０〜７５重量％である。
【００５２】
〔架橋性化合物〕
低屈折率層形成用組成物には架橋性化合物を配合することができる。架橋性化合物としては、たとえば、メラミン樹脂、グリコール類、アクリル系樹脂、アジド類、イソシアネート類などがあげられる。これらのなかでも低屈折率層形成用組成物の保存安定性から、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化メラミンまたはこれらの誘導体などのメラミン樹脂が好ましい。架橋性化合物の使用割合は、フッ素化合物（Ｂ）１００重量部に対して、７０重量部以下が好ましい。より好ましくは３０重量部以下、さらに好ましくは５〜３０重量部である。
【００５３】
〔中空微粒子〕
低屈折率層形成用組成物には、中空微粒子を配合することができる。添加される中空微粒子は、無機化合物の中空状微粒子である。中空微粒子は、外殻の内部に空洞が形成されたものが好ましく、シリカ系中空微粒子が特に好ましい。低屈折率層形成用組成物に、化合物Ｘと併せて中空微粒子が添加されることにより、低屈折率性に加えて耐擦傷性の向上を図ることができる。
【００５４】
無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｐ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3、ＭｏＯ3、ＺｎＯ2、ＷＯ3等の一種または二種以上を挙げることができる。中空微粒子としては、（Ａ）無機酸化物単一層、（Ｂ）種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、（Ｃ）上記（Ａ）と（Ｂ）との二重層を包含するものを利用できる。
【００５５】
中空微粒子の外殻は、細孔を有する多孔質なものであってもよく、また、細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側で密閉されたものでもよい。外殻は、内側の第１無機酸化物皮膜層および外側の第２無機酸化物皮膜層からなる複数の無機酸化物皮膜層であることが好ましい。外側に第２無機酸化物皮膜層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化できるとともに、内部の空洞を密封した中空微粒子を得ることができる。特に、第２無機酸化物皮膜層の形成に含フッ素有機珪素化合物を用いる場合には、フッ素原子を含む被覆層が形成されるために、得られる粒子はより一層低屈折率になるとともに、有機溶媒への分散性が向上し、かつ低屈折率層の防汚性付与にも効果があるため好ましい。
【００５６】
このような含フッ素有機珪素化合物としては、３，３，３-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-３，３，３-トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、３，３，３-トリフルオロプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。
【００５７】
外殻の厚みは、１〜５０ｎｍ、特に、５〜２０ｎｍの範囲であることが好ましい。外殻の厚みが１ｎｍ未満であると、中空微粒子が所定の粒子形状を保持できない場合がある。また、外殻の厚みが５０ｎｍを超えると、中空微粒子中の空洞が小さく、その結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分になるおそれがある。さらに、外殻の厚みは、中空微粒子の平均粒子径の１／５０〜１／５の範囲にあることが好ましい。
【００５８】
上述のように第１無機酸化物皮膜層および第２無機酸化物皮膜層を外殻として設ける場合には、これらの層の厚みの合計が、上記１〜５０ｎｍの範囲となるようにすればよく、特に、第２無機酸化物皮膜層の厚みは２０〜４０ｎｍの範囲が好ましい。
【００５９】
また、空洞には、中空微粒子を調製する際に用いた溶媒や乾燥する際に浸入する気体が存在してもよいし、後述する空洞を形成するための前駆体物質が空洞に残存していてもよい。前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻にわずかに付着してわずかに残存することもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。
【００６０】
なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒や気体が存在していてもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると空洞の容積が増大し、屈折率の低い中空微粒子が得られ、この中空微粒子を配合して得られる透明皮膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。
【００６１】
中空微粒子の平均粒子径は、特に限定されないが、５〜２０００ｎｍが好ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましい。５ｎｍよりも小さいと、中空によって低屈折率になる効果が小さくなる。２０００ｎｍより大きいと、透明性が低下し、拡散反射による寄与が大きくなってしまう。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。
【００６２】
上述のような中空微粒子の製造方法は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に詳細に記載されており、ここに記載された方法等により製造できる。また、市販されている無機中空微粒子を用いてもよい。
【００６３】
中空微粒子の配合量は、特に限定されないが、低屈折率層全体に対して、１０〜３０重量％であることが好ましい。この範囲であれば、低屈折率性と耐擦傷性とをともに奏することができる。
【００６４】
中空微粒子は、分散液の形で用いることができる。分散液に用いる有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ｎ-ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体；ジアセトンアルコール；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；ｎ-ヘキサン、ｎ-ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類を挙げることができる。これらの有機溶媒は１種単独で、または２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００６５】
〔酸発生剤〕
低屈折率層形成用組成物には酸発生剤を配合することができる。酸発生剤は、低屈折率層形成用組成物中で均一に溶解し、低屈折率層形成用組成物を分解したり、硬化膜の皮膜透明性を低下させないものが好ましい。酸発生剤としては、ｐ−トルエンスルホン酸、安息香酸等の有機酸や、トリアジン系化合物等の光酸発生剤などがあげられる。酸発生剤の使用割合は、フッ素化合物（Ｂ）１００重量部に対して、１０重量部以下が好ましい。より好ましくは５重量部以下、さらに好ましくは０．１〜５重量部である。
【００６６】
低屈折率層形成用組成物は、前記各成分を好ましくは前記割合となるように混合した溶液として調製できる。低屈折率層形成用組成物には、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム、セリア等をアルコール溶媒に分散したゾルなどを添加しても良い。その他、金属塩、金属化合物などの添加剤を適宜に配合することができる。
【００６７】
低屈折率層形成用組成物の調製に用いられる溶媒は、各成分等を分離することなく溶解できるものを特に制限なく使用することができる。たとえば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル酢酸ブチル等のエステル類があげられる。さらに、塗工性や溶液の安定性を向上させる目的で、各成分が析出しない範囲でアルコール類等の貧溶媒を用いることもできる。
【００６８】
溶液濃度は、溶液安定性を損なわない範囲で適宜調整することができる。低屈折率層形成用組成物を厚み精度よく薄膜に形成することが好ましいため、通常、０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％の程度とするのが、取扱い易く好ましい。
【００６９】
低屈折率層形成用組成物（溶液）は他の層上に塗工した後、乾燥、硬化することにより低屈折率層の硬化膜を形成することができる。塗工方法は特に制限されず、通常の方法、例えば、ドクターブレード法、グラビアロールコーター法、ディッピング法、スピンコート法、刷毛塗り法フレキソ印刷法などがあげられる。
【００７０】
硬化条件は、低屈折率層形成用組成物に応じて、加熱または活性光線照射により行うことができる。乾燥条件、硬化条件は使用する溶媒の沸点や飽和蒸気圧、基材の種類等により適宜に決定できるが、基材の着色や分解を抑えるため、加熱する場合には、通常１６０℃以下、ＵＶ照射する場合には通常２Ｊ／ｃｍ2 以下とするのが好ましい。
【００７１】
低屈折率層の屈折率は、好ましくは１．２５〜１．３７、さらに好ましくは１．３０〜１．３７である。低屈折率層の屈折率を前記範囲にすることにより、防眩性フィルムに反射防止性に加えて、耐擦傷性を付与することができる。
低屈折率層の屈折率は、防眩層の屈折率と同様の方法で測定することができる。
低屈折率層の厚みは、可視光線の吸収をよくするため、１０〜１０００ｎｍ、好ましくは３０〜５００ｎｍである。
【００７２】
本発明においては、低屈折率層の上に防汚層を有していても良い。防汚層は、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために設けるものである。
防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。
具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；化学的気相成長（ＣＶＤ）法；湿式コーティング法；等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常２０ｎｍ以下が好ましく、１〜１０ｎｍであるのがより好ましい。
【００７３】
本発明の防眩性フィルムは、好ましくは、下記の本発明の防眩性フィルムの製造方法により製造することができる。
【００７４】
本発明の防眩性フィルムの製造方法は、透明樹脂を含有してなる基材フィルム上に、直接又は他の層を介して、下記〔４〕〜〔６〕を満たす塗布液を塗布することにより防眩層を形成することを特徴とする。
〔４〕揮発性を有する有機溶剤の含有量が少なくとも２０体積％である。
〔５〕平均粒子径が５〜１００ｎｍである微粒子の含有量が少なくとも５体積％である。
〔６〕界面活性剤の含有量が多くとも１，０００ｐｐｍである。
【００７５】
本発明の製造方法に用いる基材フィルムは、本発明の防眩性フィルムのところで説明したとおりである。
基材フィルムと防眩層との間に他の層を介する場合において、他の層としてはプライマー層が挙げられる。プライマー層を形成する材料は、本発明の防眩性フィルムのところで説明したとおりである。プライマー層の形成方法は特に制限されず、プライマー層形成用塗布液を公知の塗布方法により、基材フィルム上に塗布して形成する方法等が挙げられる。
【００７６】
本発明の製造方法において、防眩層を形成する塗布液に含まれる揮発性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ-ブタノール、イソブタノール等のアルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ-ヘキサン、ｎ-ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；及びこれらの２種以上からなる組み合わせ；等が挙げられる。
これらの中でも、塗布液の対流を発生させ、表面凹凸を形成するために、ＡＳＴＭ．Ｄ３５３９．７６に従い測定した酢酸ｎ-ブチルの蒸発速度を１とした場合の相対蒸発速度で０．７以上であることが好ましく、０．９以上であることがより好ましい。このような有機溶剤としては、メタノール、エタノール、トルエン、ｎ-ヘキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
塗布液における有機溶剤の含有量は、２０体積％以上であり、４０体積％以上であることが好ましい。前記範囲より少ないと、塗布液の対流が十分に発生しないため、表面凹凸の高さが不十分となる。
【００７７】
本発明の製造方法において、防眩層を形成する塗布液に含まれる平均粒子径が５〜１００ｎｍである微粒子は、本発明の防眩性フィルムのところで説明したとおりである。
微粒子の粒子径は、平均粒子径で、５〜１００ｎｍであり、好ましくは１０〜５０ｎｍである。前記粒子径が、前記範囲よりも小さいと塗布液にチキソ性が付与されず、塗布した後に防眩層の表面に凹凸を形成させにくくする傾向にあり、逆に前記範囲よりも大きいと防眩層のヘーズが大きくなって、得られる防眩性フィルムを画像表示装置に用いたときに、画像鮮明性が低下してしまう。
塗布液における微粒子の含有量は、少なくとも５体積％であり、好ましくは７〜３０体積％である。微粒子の含有量が、前記範囲よりも少ないと塗布液にチキソ性が付与されず、防眩層としての役割を果たす凹凸が表面に形成されない。
【００７８】
本発明の製造方法において、防眩層を形成するための塗布液に含まれる界面活性剤の含有量は、多くとも１，０００ｐｐｍであり、好ましくは多くとも５００ｐｐｍであり、もっとも好ましくは０ｐｐｍである。界面活性剤の含有量が前記範囲よりも多いと、塗布液の対流が十分に発生せず、防眩層の表面に凹凸が形成されなくなる。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤やシリコーン系界面活性剤が挙げられる。フッ素系の界面活性剤としては、スリーエム社製のフロラードＦＣ-４３１等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガファックＦ-１７１、Ｆ-１７２、Ｆ-１７３、Ｆ-１７６ＰＦ、Ｆ-４７０、Ｆ-４７１等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。
【００７９】
本発明の防眩層は、粒子径５００ｎｍ以上の粒子が含まれないことが好ましい。平均粒子径が前記範囲にある粒子が含有されると、防眩層のヘーズが大きくなって、得られる防眩性フィルムを画像表示装置に用いたときに、画像鮮明性が低下してしまう。
【００８０】
防眩層を形成するための塗布液には、上記微粒子及び界面活性剤に加えて、防眩層を構成する有機樹脂材料が挙げられる。有機樹脂材料については、本発明の防眩性フィルムのところで説明したとおりである。
【００８１】
防眩層を形成するための塗布液の粘度は５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、３０ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましい。
粘度が前記範囲より大きいと、塗布液の対流が十分に発生せず、表面凹凸の高さが不十分となる。
前記塗布液の粘度は、ＪＩＳ  Ｚ  ８８０３に従い、単一円筒形回転粘度計により測定することができる。測定時の塗布液温度は、実際の塗布環境温度で行う。
【００８２】
防眩層を形成するための塗布液の塗工方法としては、特に制限されず、公知の塗工方法が採用できる。塗工方法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法等が挙げられる。塗布後の厚みは、塗布直後、溶剤乾燥前の溶液の状態で、平均厚みで１０μｍ以上であることが好ましく、平均厚みで３０μｍ〜１００μｍであることがより好ましい。塗布後の厚みが、前記範囲より薄いと、表面凹凸の高さが不十分となる。逆に塗布後の厚みが前記範囲より厚いと、表面凹凸高さ、周期が大きくなり、白ぼけが増し、透過画像鮮明性が悪化するため好ましく無い。
【００８３】
本発明の製造方法においては、防眩層を構成する塗布液を塗工した後、これを乾燥及び硬化させることにより、表面に凹凸を有する防眩層を形成することができる。本発明においては、上述した防眩層を構成する塗布液を塗工することにより、塗工の際、塗布液に対流が生じ、塗工層の表面に凹凸を容易に形成させることができる。
乾燥温度及び乾燥時間は、防眩層を構成する塗布液の溶剤や有機樹脂材料の種類、基材フィルムの種類に応じて適宜設定される。乾燥温度は、通常、室温から基材フィルムのガラス転移温度以下の範囲である。塗工時に塗布液が対流することで、表面凹凸が形成される。さらに乾燥により、溶剤が減少し残留した塗布液成分の粘度が増加することで、前記表面凹凸が固定化される。
【００８４】
防眩層の塗膜を得てこれを乾燥した後は、熱硬化型樹脂を含有する場合には加熱することにより、活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する場合には活性エネルギー線を照射することにより、それぞれ硬化させて防眩層を形成することができる。硬化させる条件は、防眩層を構成する有機樹脂材料の種類によって異なる。
有機樹脂材料が、熱硬化型樹脂である場合は、使用する熱硬化型樹脂に適した硬化条件で加熱して、硬化させればよい。
有機樹脂材料が、活性エネルギー線硬化型樹脂である場合は、電子線又は紫外線の照射によって硬化することができる。電子線硬化の場合は、コックロフワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線が使用される。紫外線硬化の場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が挙げられる。
【００８５】
本発明の製造方法において、防眩層の上の低屈折率層の形成は、上に説明した通りの方法で行うことができる。
【００８６】
本発明の製造方法において、低屈折率層の上に防汚層を形成する場合、防汚層の形成方法としては、形成する材料に応じて、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；化学的気相成長（ＣＶＤ）法；湿式コーティング法；が挙げられる。
【００８７】
本発明の防眩性フィルムは、全光線透過率が９０％以上であり、かつヘーズが１０％以下であることが好ましく、全光線透過率が９２％以上であり、かつヘーズが５％以下であることがさらに好ましい。前記範囲からはずれると、防眩性フィルムを画像表示装置に用いたときに、画像鮮明性が低下してしまう傾向にある。
【００８８】
本発明の防眩性フィルムは、防眩性に優れ、低屈折率層を設けることにより、さらに反射防止性にも優れるので、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような表示装置に適用することができる。
本発明の防眩性フィルムは、上記表示装置の中でも液晶表示装置に用いることが好ましく、その中でも偏光子保護フィルムに用いることが好ましい。
【００８９】
本発明の偏光板は、本発明の防眩性フィルムを偏光子の少なくとも片方の面に備える。
偏光子としては、例えばポリビニルアルコールや部分ホルマール化ポリビニルアルコール等の従来に準じた適宜なビニルアルコール系ポリマーよりなるフィルムに、ヨウ素や二色性染料等よりなる二色性物質による染色処理、延伸処理、架橋処理等の適宜な処理を適宜な順序や方式で施したもので、自然光を入射させると直線偏光を透過する適宜なものを用いることができる。特に、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。偏光子の厚みは、５〜８０μｍが一般的であるが、これに限定されない。
本発明の偏光板において、本発明の防眩性フィルムを偏光子の少なくとも片方の面に備えればよく、通常は片方のみに備える。本発明の防眩性フィルムを偏光子の片方のみに備える場合には、本発明の防眩性フィルムが表示装置における視認側になるように備えることが好ましい。
本発明の偏光板において、本発明の防眩性フィルムを偏光子の片方のみに備える場合には、偏光子のもう一方の面には保護フィルムを備えることが好ましい。この場合において、保護フィルムとしては、例えばトリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂や脂環式構造を有する重合体樹脂からなるフィルムが挙げられるが、透明性、低複屈折性、寸法安定性などに優れる点から脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましい。脂環式構造を有する重合体樹脂としては、本発明の防眩性フィルムに用いる基材フィルムの部分で記載したものと同様のものが挙げられる。
【００９０】
本発明の偏光板においては、使用する保護フィルムは、等方性でもよく、複屈折性を有していてもよい。前記保護フィルムが、複屈折性を有している場合は、液晶表示装置の形成に際して積層する位相差板をこの保護フィルムが兼ねることができ、部材の薄型化が可能になる。前記複屈折性を有する保護フィルムを得る方法としては、基材フィルムを延伸する方法、基材フィルム上に液晶性化合物からなる光学異方層を積層する方法が挙げられる。
本発明の偏光板において、防眩性フィルムと偏光子との間、偏光子と保護フィルムとの間に、接着剤層又は粘着剤層を介してもよい。接着剤層に用いる接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものが好ましい。
本発明の偏光板の厚みは、特に制限されないが、通常６０μｍ〜２ｍｍの範囲である。
【００９１】
本発明の液晶表示装置は、前記本発明の防眩性フィルム又は偏光板を備える。本発明の液晶表示装置は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）型等の半透過型、反射型等、あらゆる液晶セルを有する液晶表示装置とすることができる。
【実施例】
【００９２】
本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び％は特に断りのない限り重量基準である。
本実施例における評価は、以下の方法によって行う。
（１）凹凸の高さ
ＪＩＳ  Ｂ０６０１-１９９４に準拠し、十点平均粗さＲｚを測定し、これを凹凸の高さとした。具体的には、ダイヤモンドからなる先端部を頂角５５度の円錐形とした直径１ｍｍの測定針を介して凹凸構造面上を一定方向に２．５ｍｍの長さで走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線を得、その表面粗さ曲線から基準長さを０．８ｍｍとして十点平均粗さＲｚを求めた。
（２）凹凸の周期
上述の（１）で得られた表面粗さ曲線における凹凸変化が微小な部分に基づいて表面粗さ曲線の凹凸変化が凸部として評価できる基準線を想定し、その基準線からの当該凸部の高さの平均を中心線として、表面粗さ曲線がその中心線を下から上（又は上から下）に通過する際の交点に基づきその交点間の距離の平均を凹凸の周期とした。
（３）凹凸の平均傾斜角
上述の（１）で得られた表面粗さ曲線における上述（２）における凹凸変化が微小な部分の勾配に基づいてその勾配の絶対値の平均を凹凸の平均傾斜角とした。
（４）屈折率
高速分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、Ｍ-２０００Ｕ）を用いて、測定波長２４５〜１０００ｎｍ、入射角５５度、６０度及び６５度で測定し、その測定値を元に算出した値を屈折率とした。
【００９３】
（５）全光線透過率及びヘーズ
ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１に準拠して、日本電色工業社製「濁度計ＮＤＨ−３００Ａ」を用いて測定した。全光線透過率は大きいほど、ヘーズは小さいほど優れる。
（６）白味
分光光度計（日本分光社製、分光光度計Ｖ５５０）を用い、防眩性フィルムに５度方向から光を照射し、正反対の５度方向から４０度ずれた４５度方向の散乱光の光量を測定した。測定は３５０ｎｍ〜７００ｎｍの波長域で行い、反射率が最も高い波長での測定値をもって白味の指標とした。白味は、測定値が小さいほど優れる。
（７）画像鮮明性
ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して、スガ試験機社製写像性測定装置ＩＣＭ-１Ｔを用いて透過光の写像性を測定した。光学くし幅は２．０ｍｍとした。画像鮮明性は、大きいほど優れる。
（８）防眩性
作成した防眩性フィルムにルーバー無しのむき出しの蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ2）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
○：蛍光灯の輪郭が分からない
△：蛍光灯はぼやけているが、輪郭は識別できる
×：蛍光灯がほとんどぼやけていない
（９）塗布液粘度
ＪＩＳ  Ｚ８８０３に従い、単一円筒形回転粘度計により測定した。測定時の塗布液温度は２０℃、円筒外径は２０ｍｍ、円筒回転速度は６０ｒｐｍであった。
【００９４】
（製造例１）原反フィルムの作製
ノルボルネン系重合体（日本ゼオン(株)製、製品名：ＺＥＯＮＯＲ １４２０Ｒ、ガラス転移温度１３６℃、飽和吸水率０.０１重量％未満）のペレットを、熱風乾燥器を用いて１１０℃で４時間乾燥した。リーフディスク形状のポリマーフィルター（ろ過精度３０μｍ）が設置され、ダイリップの先端部がクロムめっきされた算術平均粗さＲa０.０４μｍ、リップ幅６５０ｍｍのコートハンガータイプのＴダイを備えた単軸押出機を用いて、前記ペレットを２６０℃で溶融押出して、膜厚１００μｍ、幅６００ｍｍの原反フィルムａを得た。得られた原反フィルムａの飽和吸水率は０.０１重量％未満であった。また、面内のレターデーションＲeは、２ｎｍであった。
【００９５】
（製造例２−１）防眩層形成用組成物Ｇ１の調製
五酸化アンチモン微粒子（平均粒子径２０ｎｍ）のメチルイソブチルケトンゾル（固形分濃度４０％、触媒化成社製）１００部に、紫外線硬化型ウレタンアクリレート（日本合成化学社製、製品名「紫光ＵＶ７０００Ｂ」）１２部、及び光開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名「イルガキュアー１８４」）０．５部を混合し、紫外線硬化型の防眩層形成用組成物Ｇ１を調製した。
組成物Ｇ１の有機溶剤の含有量は７７体積％、五酸化アンチモン微粒子の含有量は１１体積％、界面活性剤の含有量は０ｐｐｍ、塗布液Ｇ１の粘度は１０ｍＰａ・ｓであった。
【００９６】
（製造例２−２）防眩層形成用組成物Ｇ２の調製
五酸化アンチモン微粒子（平均粒子径２０ｎｍ）のエタノールゾル（固形分濃度４０％、触媒化成社製）１００部に、シリコーン系ハードコート剤（固形分濃度２８％、日本ダクロシャムロック社製、製品名「ゾルガードＮＰ７２０」）４０部を混合し、熱硬化型の防眩層形成用組成物Ｇ２を調製した。
組成物Ｇ２の有機溶剤の含有量は８３体積％、五酸化アンチモン微粒子の含有量は８体積％、界面活性剤の含有量は０ｐｐｍ、組成物Ｇ２の粘度は７ｍＰａ・ｓであった。
【００９７】
（製造例２−３）防眩層形成用組成物Ｇ３の調製
五酸化アンチモン微粒子（平均粒子径２０ｎｍ）のメチルイソブチルケトンゾル（固形分濃度４０％、触媒化成社製）１００部に、紫外線硬化型ウレタンアクリレート（日本合成化学社製、製品名「紫光ＵＶ７０００Ｂ」）１２部、光開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名「イルガキュアー１８４」）０．５部、及びフッ素系界面活性剤（ネオス社製、製品名「フタージェント２５０」）０．２部を混合し、紫外線硬化型の防眩層形成用塗布液３を調製した。
組成物Ｇ３の有機溶剤の含有量は７７体積％、五酸化アンチモン微粒子の含有量は１１体積％、界面活性剤の含有量は１７７５ｐｐｍ、組成物Ｇ３の粘度は１０ｍＰａ・ｓであった。
【００９８】
（製造例２−４）防眩層形成用組成物Ｇ４の調製
五酸化アンチモン微粒子（平均粒子径２０ｎｍ）のメチルイソブチルケトンゾル（固形分濃度４０％、触媒化成社製）１００部に、紫外線硬化型ウレタンアクリレート（日本合成化学社製、製品名「紫光ＵＶ７０００Ｂ」）５０部、光開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名「イルガキュアー１８４」）２部、及びメチルイソブチルケトン１４０部を混合し、紫外線硬化型の防眩層形成用組成物Ｇ４を調製した。
組成物Ｇ４の有機溶剤の含有量は８３体積％、五酸化アンチモン微粒子の含有量は３体積％、界面活性剤の含有量は０ｐｐｍ、組成物Ｇ４の粘度は１５ｍＰａ・ｓであった。
【００９９】
（製造例３）低屈折率層形成用組成物Ｌ１の調製
還流管を備えつけた４つ口反応フラスコにエタノール２００部を投入し、撹拌下にこのエタノールに蓚酸１２０部を少量づつ添加することにより、蓚酸のエタノール溶液を調製した。次いでこの溶液をその還流温度まで加熱し、還流下のこの溶液中にテトラエトキシシラン２０部とトリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（TSL８２５７、GE東芝シリコーン社製）4部の混合物を滴下した。滴下終了後も、還流下に加熱を５時間続けた後冷却し、メタノールにて固形分が１重量％になるように希釈することにより低屈折率層形成用組成物１を調製した。
次に、中空シリカ微粒子として中空シリカイソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業社製、固形分２０重量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ）を前記低屈折率層形成用組成物１に、中空微粒子の割合が固形分基準で８０重量％になるように添加し、低屈折率層形成用組成物Ｌ１を調製した。
【０１００】
（実施例１）防眩性フィルム１の製造
製造例１で得られた基材フィルムａの片面に、ワイヤーバーを用いて、製造例２−１で得られた防眩層形成用組成物Ｇ１を乾燥前の厚みが平均厚みで５０μｍになるように塗布し、この塗膜を２０℃で１分間、１００℃で１分間乾燥し、続いて紫外線照射（積算光量５００ｍＷ／ｃｍ2）することにより、防眩層を形成した。
次に、製造例３で得た低屈折率層形成用組成物Ｌ１溶液を、基材フィルムａの防眩層を有する面にマイクログラビアコーターによって塗布して、被膜を１２０℃で５分間  熱処理して、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成して防眩性フィルム１を得た。
得られた防眩性フィルム１について、上述の評価を行った。但し、凹凸に関する評価は、防眩層形成後、低屈折率層形成前に行った。結果を表１に示す。
【０１０１】
（実施例２）防眩性フィルム２の製造
防眩層形成用塗布液として、製造例２−２で得られた防眩層形成用組成物Ｇ２を用い、塗膜の乾燥を２０℃で１分間、１００℃で２分間行い、続いて８０℃で２時間加熱した他は実施例１と同様の操作を行うことにより、防眩性フィルム２を得た。
得られた防眩性フィルム１について、上述の評価を行った。但し、凹凸に関する評価は、防眩層形成後、低屈折率層形成前に行った。結果を表１に示す。
【０１０２】
（実施例３）防眩性フィルム３の製造
基材フィルムａのかわりに、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製、コスモシャイン４３００、厚み１００μｍ、以下「基材フィルムｂ」と記す）を用いた他は実施例１と同様の操作を行うことにより、防眩性フィルム３を得た。
得られた防眩性フィルム１について、上述の評価を行った。但し、凹凸に関する評価は、防眩層形成後、低屈折率層形成前に行った。結果を表１に示す。
【０１０３】
（比較例１）防眩性フィルム４の製造
防眩層形成用組成物Ｇ１のかわりに製造例３で得られた防眩層形成用組成物Ｇ３を用いた他は、実施例１と同様の操作を行うことにより、防眩性フィルム４を得た。
得られた防眩性フィルム１について、上述の評価を行った。但し、凹凸に関する評価は、防眩層形成後、低屈折率層形成前に行った。結果を表１に示す。
【０１０４】
（比較例２）防眩性フィルム５の製造
防眩層形成用組成物Ｇ１のかわりに、製造例４で得られた防眩層形成用組成物Ｇ４を用いた他は、実施例１と同様の操作を行うことにより、防眩性フィルム５を得た。
得られた防眩性フィルム１について、上述の評価を行った。但し、凹凸に関する評価は、防眩層形成後、低屈折率層形成前に行った。結果を表１に示す。
【０１０５】
【表１】
2007062102.tif 000002
１）ＣＯＰ：製造例１で得た原反フィルムａ
２）ＰＥＴ：ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製コスモシャイン４３００）
３）−：凹凸が小さいため測定不能
【０１０６】
表１の結果から以下のことがわかる。本発明によれば、実施例に示すように、白味、画像鮮明性及び防眩性に優れる。
一方、表面の凹凸の高さが０．１μｍより小さく、凹凸の周期が不明のもの（比較例１〜２）は、防眩性が劣る。