(57)【要約】【課題】新規な触媒成分と遷移金属化合物とからなる触媒および該触媒を用いる重合方法を提供すること。【解決手段】エチレン性不飽和モノマー重合用触媒は、（Ａ）周期表第３族ないし第１２族から選ばれる遷移金属の化合物、（Ｂ）触媒成分、（Ｃ）特定の有機アルミニウム化合物からなり、前記（Ｂ）が、（ｉ）特定の有機アルミニウム化合物と、（ii）Ｈ2Ｏ、Ｒ4ＮＨ2等（Ｒ4はハロゲン化炭化水素基）と、（iv）Ｒ10Ｘ、Ｒ10Ｈ、Ｒ10ＯＨまたはＲ10ＣＯＯＨ（Ｒ10はハロゲン化炭化水素基、Ｘはハロゲン原子）とを任意の順序で反応させたのち、（iii）トリフェニルクロロメタン、ビス（η−シクロペンタジエニル）鉄・硫酸塩、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムクロライドまたはトリエチルアンモニウムクロライドと反応させて得られる触媒成分である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）周期表第３族ないし第１２族から選ばれる遷移金属の化合物
（Ｂ）下記の触媒成分、
および
（Ｃ）下記一般式で表されるアルミニウム化合物
Ｒam Ａｌ（ＯＲb）n Ｘp
（式中、Ｒa およびＲb は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０≦ｍ≦３、ｎは０≦ｎ≦３、ｐは０≦ｐ≦３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＝３である。）
からなることを特徴とするエチレン性不飽和モノマー重合用触媒；
触媒成分（Ｂ）：
（ｉ）トリｎアルキルアルミニウム、トリ分岐アルキルアルミニウム、トリシクロアルキルアルミニウム、トリアリールアルミニウム、部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウムおよびトリハロゲン化アルミニウムから選ばれる有機アルミニウム化合物と、
（ii）Ｈ2Ｏ、Ｒ4ＮＨ2およびＨＯ−Ｒ5−ＯＨ（式中、Ｒ4はハロゲン化炭化水素基を示
し、Ｒ5はアルキルシリレン基またはアリールシリレン基を示す。）からなる群より選ば
れる少なくとも１種の化合物と、
（iv）Ｒ10Ｘ、Ｒ10Ｈ、Ｒ10ＯＨ、Ｒ10ＣＯＯＨ（式中、Ｒ10はハロゲン化炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）、これらのアルカリ金属塩およびこれらのアルカリ土類金属塩から選ばれる少なくとも１種の化合物と
を任意の順序で反応させたのち、
（iii）トリフェニルクロロメタン、ビス（η−シクロペンタジエニル）鉄・硫酸塩、Ｎ
，Ｎ−ジメチルアニリニウムクロライド、トリエチルアンモニウムクロライドから選ばれる化合物と反応させて得られるか
あるいは、
（ｉ）トリアルキルアルミニウムおよびハロゲン化アリール置換アルミニウムから選ばれる有機アルミニウム化合物と、
（ii）Ｈ2Ｏ、Ｒ4ＮＨ2およびＨＯ−Ｒ5−ＯＨ（式中、Ｒ4はハロゲン化炭化水素基を示
し、Ｒ5はアルキルシリレン基またはアリールシリレン基を示す。）からなる群より選ば
れる少なくとも１種の化合物
とを反応させた後
（iii）トリフェニルクロロメタン、ビス（η−シクロペンタジエニル）鉄・硫酸塩、Ｎ
，Ｎ−ジメチルアニリニウムクロライドおよびトリエチルアンモニウムクロライドから選ばれる化合物
を反応させて得られる触媒成分。
【請求項２】
上記触媒成分（Ｂ）が、化合物（ｉ）を化合物（ii）１モルに対し１〜５モル、化合物（iii）を化合物（ｉ）１モルに対し０．１〜２モル、必要に応じて化合物（iv）を化合
物（ｉ）１モルに対し１〜６モルの割合で用いて得られる請求項１に記載のエチレン性不飽和モノマー重合用触媒。
【請求項３】
上記化合物（iii）が、トリフェニルクロロメタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムク
ロライドおよびトリエチルアンモニウムクロライドから選ばれる化合物である請求項１または２に記載のエチレン性不飽和モノマー重合用触媒。
【請求項４】
上記化合物（iii）が、トリフェニルクロロメタンおよびＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウ
ムクロライドから選ばれる化合物である請求項１または２に記載のエチレン性不飽和モノマー重合用触媒。
【請求項５】
上記遷移金属の化合物（Ａ）が下記式（Ｉ）〜（VIII）のいずれかで表される遷移金属化合物である請求項１または２に記載のエチレン性不飽和モノマー重合用触媒；
Ｍ1 Ｌ1x      …（Ｉ）
（式中、Ｍ1は周期表第４族の遷移金属原子を示し、ｘは遷移金属原子Ｍ1の原子価を満たす数であり、Ｌ1は遷移金属原子に配位する配位子を示し、少なくとも１個のＬ1はシクロペンタジエニル骨格を有する配位子であり、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子以外のＬ1は、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化
水素基、ハロゲン原子または水素原子を示し、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を２個以上含む場合には、そのうち２個のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子同士は、（置換）アルキレン基または（置換）シリレン基を介して結合されていてもよい。）
【化１】
2007126686.tif 000170
（式中、Ｍ1は、周期表第４族の遷移金属原子を示し、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18およびＲ19は、
互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、水素原子またはハロゲン原子を示し、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18およびＲ19で示される基のうち、互いに隣接する基の一部が結合してそれらの基が結合する炭素原子とともに環を形成していてもよく、Ｘ1およびＸ2は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、水素原子またはハロゲン原子を示し、Ｙ1は、炭素原子数が１〜２０の２価の炭
化水素基、炭素原子数が１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、−ＮＲ20−、−Ｐ（Ｒ20）−、−Ｐ
（Ｏ）（Ｒ20）−、−ＢＲ20−または−ＡｌＲ20−〔ただし、Ｒ20は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、水素原子またはハロゲン原子である〕を示す。）
【化２】
2007126686.tif 000171
（式中、Ｍ2は周期表第４族の遷移金属原子を示し、
Ｃｐは、Ｍ2にπ結合しているシクロペンタジエニル基またはその誘導体を示し、
Ｚは、酸素原子、イオウ原子、ホウ素原子または−Ｓｉ（Ｒ352）−、−Ｃ（Ｒ352）−、−Ｓｉ（Ｒ352）Ｓｉ（Ｒ352）−、−Ｃ（Ｒ352）Ｃ（Ｒ352）−、−Ｃ（Ｒ352）Ｃ（
Ｒ352）Ｃ（Ｒ352）−、−Ｃ（Ｒ35）＝Ｃ（Ｒ35）−、−Ｃ（Ｒ352）Ｓｉ（Ｒ352）−、−Ｇｅ（Ｒ352）−を示し、
Ｙ2は、窒素原子、リン原子、酸素原子またはイオウ原子を含む配位子を示し、たとえ
ば−Ｎ（Ｒ36）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｐ（Ｒ36）−などであり、またＺとＹ2とで縮合
環を形成してもよく、
Ｒ35は水素原子または２０個までの非水素原子をもつアルキル基、アリール基、シリル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基およびこれらの組合せから選ばれた基であり、Ｒ36は炭素原子数が１〜１０のアルキル基、炭素原子数が６〜１０のアリール基
もしくは炭素原子数が７〜１０のアラルキル基であるか、または１個もしくはそれ以上のＲ35と３０個までの非水素原子の縮合環系を形成してもよく、
Ｘ3は、互いに同一でも異なっていてもよく、２０個以下の炭素原子を含有する炭化水
素基、水素原子またはハロゲン原子を示す。）
【化３】
2007126686.tif 000172
（式中、Ｍ3は周期表第１０族の遷移金属原子を示し、Ｘ4およびＸ5は、互いに同一でも
異なっていてもよく、窒素原子またはリン原子を示し、Ｒ41およびＲ42は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭化水素基を示し、ｍおよびｎは、互いに同一でも異なっていてもよく、１または２であって、それぞれ、Ｘ4およびＸ5の価数を満たす数である。Ｒ43は、
【化４】
2007126686.tif 000173
を示し〔但し、Ｒ50、Ｒ55、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ56およびＲ57は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または前記Ｒ41およびＲ42同様の炭化水素基を示す〕、前記Ｒ41、Ｒ42、Ｒ50〔またはＲ51、Ｒ52〕およびＲ55〔またはＲ56、Ｒ57〕は、これらのうちの２個以上、好ましくは隣接する基が互いに連結して環を形成していてもよく、Ｒ44およびＲ45は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、−ＯＲ46、−ＳＲ47、−Ｎ（Ｒ48）2 または−Ｐ（Ｒ49）2〔但し、Ｒ46〜Ｒ49は、炭素原子数
が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が６〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数が７〜２０のアラルキル基または有機シリル基を示し、Ｒ48同士またはＲ49同士は互いに連結して環を形成していてもよい。〕を示し、Ｒ44およびＲ45は、互いに連結して環を形成していてもよい。）
【化５】
2007126686.tif 000174
（式中、Ｍ4は、周期表第３〜６族の遷移金属原子を示し、Ｒ'およびＲ"は、互いに同一
でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、有機シリル基であるかまたは、窒素、酸素、リン、イオウ、ケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を含む置換基で置換された炭化水素基を示し、ｍは、０〜２の整数であり、ｎは、１〜５の整数であり、Ａは、周期表第１３〜１６族の原子を示し、ｎが２以上の場合には、複数のＡは、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｅは、炭素、水素、酸素、ハロゲン、窒素、硫黄、リン、ホウ素およびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を有する置換基であり、ｍが２の場合、２個のＥは、互いに同一でも異なっていてもよく、また２個のＥは互いに連結して環を形成していてもよく、ｐは、０〜４の整数であり、Ｘ6は、水素原子
、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基を示し、ｐが２以上の場合には、複数のＸ6は、互いに同一でも異なっていても
よい。）
【化６】
2007126686.tif 000175
（式中、Ｍは周期表第４族の遷移金属原子を示し、ｍは、１〜３の整数を示し、Ｒ1〜Ｒ6は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、またｍが２以上の場合にはＲ1〜Ｒ6で示される基のうち２個の基が連結されていてもよく（但し、Ｒ1同
士が結合されることはない）、ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。）
【化７】
2007126686.tif 000176
（式中、Ｍは周期表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、Ｒ1〜Ｒ10は、互いに同一でも
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、ｎは、Ｍの価数を満たす数を示し、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基を示し、ｎが２以上の場合には、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに連結して環を形成してもよく、Ｙは、酸素、イオウ、炭素、窒素、リン、ケイ素、セレン、スズおよびホウ素からなる群より選ばれた少なくとも１種の元素を含む２価の結合基を示し、炭化水素基である場合には炭素原子３個以上からなる結合基である。）
【化８】
2007126686.tif 000177
（式中、Ｍは周期表第８族の遷移金属原子を示し、Ｒ1〜Ｒ4は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基または炭化水素基を示し、Ｒ5およびＲ6は、互いに同一でも異なっていてもよく、ハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基または炭化水素基を示し、またＲ1とＲ5 、Ｒ2とＲ6、Ｒ1とＲ3、Ｒ2とＲ4、Ｒ3とＲ4は互いに連結して環を形成していてもよく、ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、Ｘは、
水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基または炭素原子数１〜２０の
ハロゲン化炭化水素基を示し、ｎが２以上の場合には、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、Ｙは周期表第１５または１６族の原子を示す。）
【請求項６】
成分（Ａ）のみ、または、該成分（Ａ）とともに前記成分（Ｂ）および／または前記成分（Ｃ）が、粒子状担体（Ｄ）に担持されてなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のエチレン性不飽和モノマー重合用触媒。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の触媒の存在下にエチレン性不飽和モノマーを重合または共重合することを特徴とするエチレン性不飽和モノマーの重合方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メタロセン化合物などの遷移金属化合物と組み合わせて使用することにより、高活性のエチレン性不飽和モノマー重合用触媒となり得る触媒成分に関する。また本発明は、この触媒成分とメタロセン化合物などの遷移金属化合物の触媒からなるエチレン性不飽和モノマー重合用触媒およびこれを用いるエチレン性不飽和モノマーの重合方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来からポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ-4-メチル-1-ペンテン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・スチレン共重合体、エチレン・プロピレン・ブテン３元共重合体などのエチレン性不飽和モノマー（共）重合体を製造するための触媒として、チタン化合物と有機アルミニウム化合物とからなるチタン系触媒、およびバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなるバナジウム系触媒が知られている。
【０００３】
また、高い重合活性でオレフィン重合体を製造することのできる触媒としてジルコノセンなどのメタロセン化合物と、有機アルミニウムオキシ化合物（アルミノオキサン）またはトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランなどのホウ素系化合物とからなるチーグラー型触媒が知られている。
【０００４】
さらに、ニッケル化合物またはパラジウム化合物と、アルミノキサン、イオン性化合物などの助触媒とからなる触媒が提案されている（非特許文献１）。
ところで一般にポリオレフィンなどのエチレン性不飽和モノマー（共）重合体は、機械的特性に優れているため、各種成形体用などの種々の分野に用いられているが、近年エチレン性不飽和モノマー（共）重合体に対する物性の要求がが多用化しており、様々な性状のポリマーが望まれている。
【０００５】
このような状況のもと重合活性に優れ、しかも優れた性状を有するエチレン性不飽和モノマー（共）重合体が製造できるような新たな助触媒成分の出現が望まれている。
【非特許文献１】J.Am.Chem.Soc.1995,117,6414-6415
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記のような従来技術に鑑みてなされたものであって、メタロセン化合物などの遷移金属化合物と併用して用いることにより、エチレン性不飽和モノマー重合活性を発揮する新たな触媒成分および該触媒成分を含む高活性であり分子量が高い重合体を得ることができる触媒、並びに該触媒を用いるエチレン性不飽和モノマーの重合方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分は、下記（ｉ）〜（iii）、必
要に応じて（iv）を任意の順序で反応させて得られる化合物からなることを特徴としている；
（ｉ）周期表第１３族の原子を含む化合物
（ii）前記周期表第１３族の原子を含む化合物（ｉ）と反応し、２つ以上の第１３族原子と結合可能な化合物
（iii）周期表第１３族の原子を含む化合物と反応しイオン化イオン性化合物を形成させ
ることのできる化合物
（iv）炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、ヒドロキシ炭化水素化合物、シラノール化合物、ボロン酸化合物、有機カルボン酸化合物、有機スルホン酸化合物、ヒドロキシルアミン化合物、スルホンアミド化合物、ケトイミド化合物、アミド化合物、オキシム化合物、アミン化合物、イミド化合物、ジイミン化合物、イミン化合物、ジケトン化合物およびこれらの金属塩から選ばれる少なくとも１種の化合物
本発明の他の態様に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分は、下記（ｉ）および（ii）、必要に応じて（iv）を任意の順序で反応させた後、さらに（iii）を反応させ
て得られる化合物からなることを特徴としている；
（ｉ）下記一般式で表される化合物ＭＲ1 Ｒ2 Ｒ3（ただし、Ｍは周期表第１３族の原子
を示し、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、互いに同一でも異なっていてもよく、ハロゲン原子、水素原子、水酸基または有機基を示し、またＲ1 、Ｒ2 およびＲ3 のうち２個の基が互いに連結して環を形成してもよい。）
（ii）前記化合物（ｉ）と反応し、２つ以上のＭと結合可能な化合物
（iii）前記（ｉ）および（ii）、必要に応じて下記（iv）を任意の順序で反応させて得
られた反応生成物と反応しイオン化イオン性化合物を形成させることのできる化合物
（iv）炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、ヒドロキシ炭化水素化合物、シラノール化合物、ボロン酸化合物、有機カルボン酸化合物、有機スルホン酸化合物、ヒドロキシルアミン化合物、スルホンアミド化合物、ケトイミド化合物、アミド化合物、オキシム化合物、アミン化合物、イミド化合物、ジイミン化合物、イミン化合物、ジケトン化合物およびこれらの金属塩から選ばれる少なくとも１種の化合物
前記（ｉ）としては、下記一般式で表されるアルミニウム化合物がある；
Ｒam Ａｌ（ＯＲb）n Ｘp
（式中、Ｒa およびＲb は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０≦ｍ≦３、ｎは０≦ｎ≦３、ｐは０≦ｐ≦３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＝３である。）
前記化合物（ii）としては、Ｈ2Ｏ、Ｈ2Ｓおよび下記一般式で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物がある；
【０００８】
【化１】
2007126686.tif 000002
【０００９】
（式中、Ｒ4 は水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基または酸素含有基を示し、Ｒ5 は２価の炭化水素基、２価のハロゲン化炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基、２価のスズ含有基、２価のホウ素含有基または単結合を示し、Ｒ6 およびＲ7 は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基または酸素含有を示し、Ｒ6 およびＲ7 はそれぞれＲ5 を形成する炭素原子と結合して環を形成することがあり、Ｒ8 およびＲ9 は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を示す。）
前記化合物（iii）としては、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモ
ニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオンまたはフェロセニウムカチオンをもつイオン化イオン性化合物を形成させることのできる化合物がある。
【００１０】
前記化合物（iv）としては、下記一般式で表される化合物から選ばれる少なくとも１種がある；
Ｒ10Ｘ、
Ｒ10Ｈ、
Ｒ10ＯＨ、
Ｒ10Ｒ11ＮＨ、
Ｒ10ＣＯＯＨ、
Ｒ10ＳＯ3 Ｈ、
Ｒ10Ｒ11ＣＮＯＨ、
Ｒ10Ｒ11ＮＯＨ、
Ｒ10ＣＯＮＨＲ11、
Ｒ10ＳＯ2 ＮＨＲ11、
Ｒ10ＣＯＣＨ2 ＣＯＲ11、
Ｒ10Ｃ（＝ＮＨ）ＣＨ2 ＣＯＲ11、
（式中、Ｒ10は炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基またはホウ素含有基を示し、Ｒ11は水素原子、アルコキシ基または、Ｒ10と同一または相異なる炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基もしくはホウ素含有基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。）
本発明のさらに他の態様に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分は、下記式で表されることを特徴としている。
【００１１】
【化２】
2007126686.tif 000003
【００１２】
（式中、Ｍは互いに同一でも異なっていてもよく周期表第１３族の原子を示し、ｎは０以上の整数であり、Ｙは２価の連結基を示しｎが１以上の場合には複数のＹは互いに同一でも異なっていてもよく、Ｚは１個または２個以上のＭと結合可能な基を示し、ｍは１以上かつｎ＋１以下の整数であり、Ｑは互いに同一でも異なっていてもよく、以下に示す基から選ばれた１種の基を示し、
【００１３】
【化３】
2007126686.tif 000004
【００１４】
〔但し、Ｒ10は炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基またはホウ素含有基を示し、Ｒ11は水素原子、アルコキシ基または、Ｒ10と同一または相異なる炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基もしくはホウ素含有基を示す。〕Ａはカチオンを示し、ｊはＺの価数であり、ｍはＺの個数であり、ｋはｋ＝ｊｍ／ｒでありＡカチオンの価数を示す。）。
【００１５】
前記２価の連結基Ｙとしては、下記に示す２価の連結基などから選ばれる１種の連結基が挙げられる；
【００１６】
【化４】
2007126686.tif 000005
【００１７】
（式中、Ｒ4 は水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基または酸素含有基を示し、Ｒ5 は２価の炭化水素基、２価のハロゲン化炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基、２価のスズ含有基、２価のホウ素含有基または単結合を示し、Ｒ6 およびＲ7 は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基または酸素含有基を示し、Ｒ6 およびＲ7 はそれぞれＲ5 を形成する炭素原子と結合して環を形成することがあり、Ｒ8 およびＲ9 は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を示す。）
前記１個または２個以上のＭと結合可能な基Ｚとしては、ハロゲンアニオン、ヒドリド、カルバニオン、アルコレート、アリールアルコレート、アルキルカルボキシレート、アリールカルボキシレート、チオレート、カルボチオレート、ジチオカルボネート、トリチオカルボネート、スルホネート、スルファメート、ホスフェートなどから選ばれる１種の基が挙げられる。
【００１８】
前記Ａカチオンとしては、特に制限はないが、例えばカルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、ジクロヘプシルトリエニルカチオン、フェロセニウムカチオンおよび周期表第１族、第１１族の金属カチオンなどからなる群より選ばれた１種のカチオンが挙げられる。
【００１９】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒は、
（Ａ）周期表第３族ないし第１２族から選ばれる遷移金属の化合物
（Ｂ）前記触媒成分、および
（Ｃ）周期表第１３族の原子を含む有機化合物
からなることを特徴としている。
【００２０】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒は、前記成分（Ａ）のみ、または、該成分（Ａ）とともに成分（Ｂ）および／または成分（Ｃ）が、粒子状担体（Ｄ）に担持されていてもよい。
【００２１】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマーの重合方法は、上記のような触媒の存在下にエチレン性不飽和モノマーを重合または共重合することを特徴としている。
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分は、メタロセン化合物などの遷移金属化合物と組み合わせて使用することにより、高活性のエチレン性不飽和モノマー重合用触媒となり得る。
【００２３】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒および重合方法は、重合活性に優れ、しかも優れた性状を有するエチレン性不飽和モノマー（共）重合体が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分、エチレン性不飽和モノマー重合用触媒および該触媒を用いたエチレン性不飽和モノマーの重合方法について具体的に説明する。
【００２５】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分は、下記（ｉ）、（ii）および（iii）、必要に応じて（iv）を任意の順序で反応させるか、好ましくは下記（ｉ）およ
び（ii）、必要に応じて（iv）を任意の順序で反応させた後、（iii）を反応させて得ら
れる。
（ｉ）周期表第１３族の原子を含む化合物、好ましくは下記一般式で表される化合物ＭＲ1 Ｒ2 Ｒ3（ただし、Ｍは周期表第１３族の原子を示し、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、互い
に同一でも異なっていてもよく、ハロゲン原子、水素原子、水酸基または有機基を示し、またＲ1 、Ｒ2 およびＲ3 のうち２個の基が互いに連結して環を形成してもよい。）
（ii）前記化合物（ｉ）と反応し、２つ以上の第１３族原子と結合可能な化合物（iii）
周期表第１３族の原子を含む化合物と反応しイオン化イオン性化合物を形成させることのできる化合物、好ましくは前記（ｉ）および（ii）、必要に応じて下記（iv）を任意の順序で反応させて得られた反応生成物と反応しイオン化イオン性化合物を形成させることのできる化合物（iv）炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、ヒドロキシ炭化水素化合物、シラノール化合物、ボロン酸化合物、有機カルボン酸化合物、有機スルホン酸化合物、ヒドロキシルアミン化合物、スルホンアミド化合物、ケトイミド化合物、アミド化合物、オキシム化合物、アミン化合物、イミド化合物、ジイミン化合物、イミン化合物、ジケトン化合物およびこれらの金属塩から選ばれる少なくとも１種の化合物まず、本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分の調製に用いられる各成分について説明する。
【００２６】
（ｉ）周期表第１３族の原子を含む化合物
本発明で用いられる（ｉ）周期表第１３族の原子を含む化合物は、好ましくは一般式ＭＲ1 Ｒ2 Ｒ3 で表される化合物である。
【００２７】
一般式ＭＲ1 Ｒ2 Ｒ3 で表される化合物において、Ｍは第１３族の原子であり、具体的には、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウムなどであり、特にホウ素、アルミニウムが好ましい。
【００２８】
Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、互いに同一でも異なっていてもよく、ハロゲン原子、水素原子、水酸基または有機基である。またＲ1 、Ｒ2 およびＲ3 のうち２個の基が互いに連結
して環を形成してもよい。
【００２９】
ハロゲン原子はフッ素、塩素、臭素、ヨウ素であり、中でも塩素、臭素が好ましい。
有機基には炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基などがあり、中でも炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０の炭化水素で置換された炭化水素置換シリル基、炭素原子数が１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜２０のアリーロキシ基が望ましい。
【００３０】
炭素原子数が１〜２０の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基などが挙げられ、より具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニリル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基が挙げられ、
ハロゲン化炭化水素基としては、前記炭素原子数が１〜２０の炭化水素基をハロゲン化した基が挙げられる。
【００３１】
炭素原子数が１〜２０の炭化水素で置換された炭化水素置換シリル基としては、メチルシリル、フェニルシリルなどのモノ炭化水素置換シリル；ジメチルシリル、ジフェニルシリルなどのジ炭化水素置換シリル；トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどのトリ炭化水素置換シリルなどが挙げられ、
炭素原子数が１〜２０のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどが挙げられ、
炭素原子数が６〜２０のアリーロキシ基としては、フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどが挙げられる。
【００３２】
一般式ＭＲ1 Ｒ2 Ｒ3 で示される化合物の好ましい例としては、
一般式 Ｒam Ａｌ（ＯＲb ）n Ｘp
（式中、Ｒa およびＲb は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０≦ｍ≦３、ｎは０≦ｎ≦３、ｐは０≦ｐ≦３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＝３である。）
で表されるアルミニウム化合物が挙げられる。
【００３３】
より具体的には、
(1)一般式 Ｒam Ａｌ（ＯＲb）3-m
（式中、Ｒa およびＲb は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは好ましくは１．５≦ｍ≦３の数である。）
で表されるアルミニウム化合物、
(2)一般式 Ｒam ＡｌＸ3-m
（式中、Ｒa は炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０≦ｍ≦３である。）
で表されるアルミニウム化合物、
(3)一般式 Ｒam Ａｌ（ＯＲb）nＸp
（式中、Ｒa およびＲb は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＝３である。）
で表されるアルミニウム化合物。
【００３４】
このようなアルミニウム化合物としてより具体的には
トリエチルアルミニウム、トリn-ブチルアルミニウム、トリn-オクチルアルミニウムなどのトリn-アルキルアルミニウム；
トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリsec-ブチルアルミニウム、トリ tert-ブチルアルミニウム、トリ2-メチルブチルアルミニウム、トリ3-メチルブチルアルミニウム、トリ2-メチルペンチルアルミニウム、トリ3-メチルペンチルアルミニウム、トリ4-メチルペンチルアルミニウム、トリ2-メチルヘキシルアルミニウム、トリ3-メチルヘキシルアルミニウム、トリ2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリ分岐鎖アルキルアルミニウム；
トリシクロヘキシルアルミニウムなどのトリシクロアルキルアルミニウム；
トリフェニルアルミニウム，トリトリルアルミニウムなどのトリアリールアルミニウム；
トリイソプレニルアルミニウムなどのトリアルケニルアルミニウム；
イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプロポキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド；
ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド；
エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド；
Ｒa2.5 Ａｌ(ＯＲb)0.5 などで表される平均組成を有する部分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム；
ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミドなどのジアルキルアルミニウムハライド；
エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド；
エチルアルミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム；
エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウム；
アルミニウムトリクロライド、アルミニウムトリブロマイドなどアルミニウムトリハライド；
トリスペンタフルオロフェニルアルミニウムなどのハロゲン化アリール置換アルミニウム；
トリストリフルオロメチルアルミニウムなどのハロゲン化アルキルアルミニウムなどを挙げることができる。
【００３５】
また、一般式ＭＲ1 Ｒ2 Ｒ3 で示される化合物の好ましい例として、トリスペンタフルオロフェニルホウ素などのハロゲン化アリール置換ホウ素；
トリストリフルオロメチルホウ素などのハロゲン化アルキルホウ素などの有機ホウ素化合物が挙げられる。
【００３６】
さらに、一般式ＭＲ1 Ｒ2 Ｒ3 で示される化合物の好ましい例として、ＢＨ3、ボロン
酸、Ｂ（ＯＨ）3、Ａｌ（ＯＨ）3、および三塩化アルミニウム、三臭化アルミニウム、三沃化アルミニウムなどのトリハロゲン化アルミニウム、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三沃化ホウ素などのトリハロゲン化ホウ素などを挙げることもできる。
【００３７】
上記のような化合物（ｉ）は、１種単独でまたは２種以上組合わせて用いることができる。
（ii）前記化合物（ｉ）と反応し、２つ以上の第１３族原子と結合可能な化合物
２つ以上の前記化合物（ｉ）と反応し、２つ以上の第１３族原子と結合可能な化合物（ii）は、好ましくは前記一般式ＭＲ1 Ｒ2 Ｒ3 で示される化合物と反応し、得られる化合物において２個以上のＭと結合した架橋構造を提供しうる化合物であり、具体的には、Ｈ2Ｏ、Ｈ2Ｓおよび下記一般式で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。
【００３８】
【化５】
2007126686.tif 000006
【００３９】
式中、Ｒ4 は水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基または酸素含有基を示す。
炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニリル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基などの炭素原子数が１〜２０の炭化水素基が挙げられる。さらに前記アリール基には前記アルキル基が単数または複数置換してもよい。
【００４０】
ハロゲン化炭化水素基として具体的には、上記炭素原子数が１〜２０の炭化水素基をハロゲン化した基などが挙げられる。
ケイ素含有基としては、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルトリフルオロメチルシリルなどのアルキルシリル基；ハロゲン化アルキルシリル基；トリベンジルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフルオロメチルジフェニルシリルなどのアリールアル
キルシリル基；ハロゲン化アリールアルキルシリル基；トリフェニルシリル、トリペンタフルオロフェニルシリルなどのアリールシリル基；ハロゲン化アリールシリル基；トリメチルシリルオキシ、ジメチルフェニルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシなどのアルキルシリルオキシ基；アリールアルキルシリルオキシ基；アリールシリルオキシ基などが挙げられる。
【００４１】
ゲルマニウム含有基としては、上記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した基などが挙げられる。
スズ含有基としては、上記ケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基などが挙げられる。
【００４２】
酸素含有基としては、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、トリフェニルカルビノキシ、ベンジルオキシなどのアルキルアルコキシ基；アリールアルコキシ基；アルキルアリールアルコキシ基、また上記の置換基の一部がハロゲン化されたハロゲン化アルキルアルコキシ基；ハロゲン化アリールアルコキシ基；ハロゲン化アルキルアリールアルコキシ基などが挙げられる。
【００４３】
これらの中では、アルキル基、アリール基、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン置換アリール基などが好ましい。
Ｒ5 は２価の炭化水素基、２価のハロゲン化炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基、２価のスズ含有基、２価のホウ素含有基または単結合を示し、好ましい例として具体的には、メチレン、ジメチルメチレン、1,2-エチレン、ジメチル-1,2-
エチレン、1,3-トリメチレン、1,4-テトラメチレン、1,2-シクロヘキシレン、1,4-シクロヘキシレンなどのアルキレン基；ジフェニルメチレン、ジフェニル-1,2-エチレンなどの
アリールアルキレン基；フェニレン、ナフチレンなどのアリレン基などの炭素原子数が１〜２０の２価の炭化水素基が挙げられる。
【００４４】
２価のハロゲン化炭化水素基として具体的には、クロロメチレンなどの上記炭素原子数が１〜２０の２価の炭化水素基をハロゲン化した基などが挙げられる。２価のケイ素含有基としては、シリレン、メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、ジフェニルシリレン、メチルフェニルシリレンなどのアルキルシリレン基；アリールシリレン基；アルキルアリールシリレン基；テトラメチル-1,2-ジシリレン、テトラフェニル-1,2-ジシリレンなどのアルキルジシリレン基；アリールジシリレン基；アルキルアリールジシリレン基；また上記の置換基の一部がハロゲン化されたハロゲン化アルキルシリレン基；ハロゲン化アリールシリレン基；ハロゲン化アルキルアリールシリレン基；ハロゲン化アルキルジシリレン基；ハロゲン化アリールジシリレン基；ハロゲン化アルキルアリールジシリレン基などが挙げられる。
【００４５】
２価のゲルマニウム含有基としては、上記２価のケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した基などが挙げられる。
２価のスズ含有基としては、上記２価のケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基などが挙げられる。
【００４６】
２価のホウ素含有基としては、−ＢＲ5'−（ただしＲ5'はＲ4 と同様の炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基または酸素含有基を示す）などが挙げられる。
【００４７】
Ｒ6 およびＲ7 は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基または酸素含有基から選ばれる原子または基を示し、具体的には前記Ｒ4 と同様の基が挙げられる。またＲ6 は
Ｒ5 を形成する炭素原子と結合してＲ6 が結合する窒素原子とともに環を形成することがあり、Ｒ7 はＲ5 を形成する炭素原子と結合してＲ7 が結合する窒素原子とともに環を形成することがある。これらのなかでは、アルキル基であることが好ましい。
【００４８】
Ｒ8 およびＲ9 は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基およびハロゲン化炭化水素基から選ばれる原子または基を示し、具体的には前記Ｒ1 ないしＲ3 と同様の基が挙げられる。これらのなかではアルキル基が好ましい。
【００４９】
このような化合物（ii）のなかでは、Ｈ2 Ｏまたは、Ｒ4 もしくはＲ5 がアルキル基、芳香族炭化水素基、ケイ素含有基、ホウ素含有基もしくはハロゲン含有置換基である化合物であることが特に好ましい。
【００５０】
このような化合物（ii）は前記化合物（ｉ）と反応し、得られる化合物においてたとえば下記のような架橋構造を形成すると推測される。
【００５１】
【化６】
2007126686.tif 000007
【００５２】
【化７】
2007126686.tif 000008
【００５３】
このような前記化合物（ii）として具体的には、
【００５４】
【化８】
2007126686.tif 000009
【００５５】
【化９】
2007126686.tif 000010
【００５６】
【化１０】
2007126686.tif 000011
【００５７】
【化１１】
2007126686.tif 000012
【００５８】
【化１２】
2007126686.tif 000013
【００５９】
【化１３】
2007126686.tif 000014
【００６０】
【化１４】
2007126686.tif 000015
【００６１】
【化１５】
2007126686.tif 000016
【００６２】
【化１６】
2007126686.tif 000017
【００６３】
【化１７】
2007126686.tif 000018
【００６４】
【化１８】
2007126686.tif 000019
【００６５】
上記のような化合物（ii）は、１種単独でまたは２種以上組合わせて用いることができる。
（iii）周期表第１３族の原子を含む化合物と反応しイオン化イオン性化合物を形成さ
せることのできる化合物
周期表第１３族の原子を含む化合物と反応しイオン化イオン性化合物を形成させることのできる化合物としては、前記一般式ＭＲ1Ｒ2Ｒ3で表される化合物と反応しイオン化イ
オン性化合物を形成させることのできる化合物、前記（ｉ）および（ii）、必要に応じて下記（iv）を任意の順序で反応させて得られた反応生成物と反応しイオン化イオン性化合物を形成させることのできる化合物、ＬｉＢ（Ｃ6Ｆ5）4、ＬｉＢ（Ｐｈ）4、ＬｉＡｌ（Ｃ6Ｆ5）4またはＬｉＡｌ（Ｐｈ）4と反応しイオン化イオン性化合物を形成させることのできる化合物などが挙げられる。
【００６６】
周期表第１３族の原子を含む化合物と反応してイオン化イオン性化合物を形成させることができる化合物として好ましくは、プロトンを与えることができるカチオン、プロトンを与えないカチオンのいずれでもよく、たとえばカルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘプチルトリエニルカチオン、フェロセニウムカチオンなどのカチオンをもったイオン化イオン性化合物を形成することのできる化合物がある。
【００６７】
具体的には、メチルリチウムなどのアルキル金属塩、メトキシリチウムなどのアルコキシ金属塩およびトリフェニルクロロメタン、アセチルトリフェニルメタン；カリウムトリエチルホウ素ハイドライド、ビス（η−シクロペンタジエニル）鉄・硫酸塩、N,N-ジメチルアニリニウムクロライド、トリエチルアンモニウムクロライドなどが挙げられる。
【００６８】
上記のような化合物（iii）は、１種単独でまたは２種以上組合わせて用いることがで
きる。
化合物（iv）
本発明で必要に応じて用いられる化合物（iv）は、化合物（ｉ）に由来する第１３族原子（Ｍ）に助触媒成分として有効な置換基を提供する化合物であり、具体的には炭化水素化合物、ハロゲン化炭化水素化合物、ヒドロキシ炭化水素化合物、シラノール化合物、ボロン酸化合物、有機カルボン酸化合物、有機スルホン酸化合物、ヒドロキシルアミン化合物、スルホンアミド化合物、ケトイミド化合物、アミド化合物、オキシム化合物、アミン化合物、イミド化合物、ジイミン化合物、イミン化合物、ジケトン化合物およびこれらの金属塩から選ばれる少なくとも１種類の化合物である。
【００６９】
このような化合物としては、たとえば下記一般式のいずれかで表される化合物およびこ
れらの金属塩がある。
Ｒ10Ｘ、Ｒ10Ｈ、Ｒ10ＯＨ、Ｒ10Ｒ11ＮＨ、Ｒ10ＣＯＯＨ、Ｒ10ＳＯ3 Ｈ、Ｒ10Ｒ11ＣＮＯＨ、Ｒ10Ｒ11ＮＯＨ、Ｒ10ＣＯＮＨＲ11、Ｒ10ＳＯ2 ＮＨＲ11、Ｒ10ＣＯＣＨ2 ＣＯＲ11、Ｒ10Ｃ（＝ＮＨ）ＣＨ2 ＣＯＲ11
式中、Ｒ10は炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基またはホウ素含有基を示し、具体的には前記Ｒ4 と同様の炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基が挙げられる。
【００７０】
ホウ素含有基としては、−ＢＲ10'Ｒ10''（ただしＲ10'およびＲ10''は、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ4 と同様の炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基または酸素含有基を示し、またＲ10'およびＲ10''は互
いに連結して環を形成してもよい）が挙げられる。
【００７１】
Ｒ11は水素原子、アルコキシ基またはＲ10と同一または相異なる炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基もしくはホウ素含有基を示し、具体的には前記Ｒ1 ないしＲ3 と同様のアルコキシ基、前記Ｒ4 と同様の炭化水素基、ハロゲン化炭化水素、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基およびスズ含有基が挙げられる。ホウ素含有基としてはＲ10と同様の基が挙げられる。
【００７２】
またＲ10およびＲ11は、互いに連結してＲ10およびＲ11が結合する窒素原子または炭素原子とともに環を形成することがあり、この環は二重結合を有していてもよい。
Ｘはハロゲン原子を示す。
【００７３】
このような化合物の例を下記に示す。
一般式 Ｒ10Ｘ で表される化合物としては、例えば
【００７４】
【化１９】
2007126686.tif 000020
【００７５】
一般式 Ｒ10Ｈ で表される化合物としては、例えば
【００７６】
【化２０】
2007126686.tif 000021
【００７７】
一般式 Ｒ10ＯＨ で表される化合物としては、例えば
【００７８】
【化２１】
2007126686.tif 000022
【００７９】
一般式 Ｒ10Ｒ11ＮＨ で表される化合物としては、例えば
【００８０】
【化２２】
2007126686.tif 000023
【００８１】
一般式 Ｒ10ＣＯＯＨ で表される化合物としては、例えば
【００８２】
【化２３】
2007126686.tif 000024
【００８３】
一般式 Ｒ10ＳＯ3 Ｈ で表される化合物としては、例えば
【００８４】
【化２４】
2007126686.tif 000025
【００８５】
一般式 Ｒ10Ｒ11ＮＯＨ で表される化合物としては、例えば
【００８６】
【化２５】
2007126686.tif 000026
【００８７】
一般式 Ｒ10Ｒ11ＣＮＯＨ で表される化合物としては、例えば
【００８８】
【化２６】
2007126686.tif 000027
【００８９】
一般式 Ｒ10ＣＯＮＨＲ11 で表される化合物としては、例えば
【００９０】
【化２７】
2007126686.tif 000028
【００９１】
一般式 Ｒ10ＳＯ2 ＮＨＲ11 で表される化合物としては、例えばＰｈ−ＳＯＯ−ＮＨ−Ｐｈ、Ｐｈ−ＳＯＯ−ＮＨ−Ｍｅ があり、一般式 Ｒ10ＣＯＣＨ2 ＣＯＲ11 で表される
化合物としては、例えば
【００９２】
【化２８】
2007126686.tif 000029
【００９３】
一般式 Ｒ10Ｃ（＝ＮＨ）ＣＨ2 ＣＯＲ11 で表される化合物としては、例えば
【００９４】
【化２９】
2007126686.tif 000030
【００９５】
このような化合物（iv）のなかでは、上記一般式中のＲ10が置換基を有する芳香族炭化水素基またはフッ素含有置換基である化合物であることが好ましく、Ｒ10またはＲ11のいずれか１つ以上が、置換基を有する芳香族炭化水素基またはフッ素含有置換基である化合物であることも好ましい。
【００９６】
前記置換基を有する芳香族炭化水素基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン（特にフッ素が好ましい。）などから選ばれる少なくとも１個の置換基が置換した芳香族炭化水素基が挙げられる。
【００９７】
前記フッ素含有置換基としては、フッ素原子を１個以上含有している置換基が挙げられる。
これらの化合物の金属塩としては、
Ｒ10Ｙ、Ｒ10ＯＹ、Ｒ10Ｒ11ＮＹ、Ｒ10ＣＯＯＹ、Ｒ10ＳＯ3 Ｙ、Ｒ10Ｒ11ＣＮＯＹ、Ｒ10Ｒ11ＮＯＹ、Ｒ10ＣＯＮＲ11Ｙ、Ｒ10ＳＯ2 ＮＲ11Ｙ（但し、Ｒ10およびＲ11は前記と同様であり、Ｙはリチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属である。）などが挙げられる。さらに、（Ｒ10ＳＯ3）2Ｂａなど（Ｒ10は前記と同じ）のようなアルカリ土類金属を金属塩にもつ化合物例えば（Ｃ6Ｆ5ＳＯ3）2Ｂａ等も挙げられる。
【００９８】
上記のような化合物（iv）は、１種単独でまたは２種以上組合わせて用いることができる。
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分は、上記のような（ｉ）、（ii）および（iii）、または（ｉ）、（ii）、（iii）および（iv）を反応させることにより調製することができる。
【００９９】
エチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分の調製に際して、化合物（ｉ）は化合物（ii）１モルに対して１〜５モル、好ましくは２〜３モル、化合物（iii）は化合物（ｉ）１
モルに対して０．１〜２モル、好ましくは０．５〜１モル、必要に応じて用いられる化合物（iv）は化合物（ｉ）１モルに対して１〜６モル、好ましくは２〜３モルの割合で用いることが可能である。
【０１００】
本発明では特に、化合物（ｉ）は化合物（ii）１モルに対して約２モル、化合物（iii
）は化合物（ｉ）１モルに対して約０．５モル、必要に応じて用いられる化合物（iv）は化合物（ｉ）１モルに対して約２または３モルの割合で用いることが好ましい。
【０１０１】
反応に用いられる溶媒としては、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカンなどの脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル含有脂肪族炭化水素；エーテル含有脂環族炭化水素；またはこれらの混合物などが挙げられる。
【０１０２】
（ｉ）から選ばれる少なくとも１種類の化合物、（ii）から選ばれる少なくとも１種類の化合物および（iii）から選ばれる少なくとも１種類の化合物から本発明に係るエチレ
ン性不飽和モノマー重合用触媒成分を調製する方法としては、たとえばトルエンなどの非極性溶媒中、たとえば−１０〜＋１０℃で、（ｉ）と（ii）を反応させた後、室温で撹拌または加熱下で攪拌を行い、さらに（iii）を加え、（ｉ）と（ii）との反応生成物と（iii）とを−７８℃〜室温で反応させる方法がある。
【０１０３】
このようなエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分の調製に用いられる（ｉ）、（ii）および（iii）の好ましい組み合わせとしては、たとえば下記表１に示すものが挙げら
れる。
【０１０４】
【表１】
2007126686.tif 000031
【０１０５】
（ｉ）から選ばれる少なくとも１種類の化合物、（ii）から選ばれる少なくとも１種類の化合物、（iii）から選ばれる少なくとも１種類の化合物および（iv）から選ばれる少
なくとも１種類の化合物から本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分を調製する方法としては、たとえば、トルエンなどの溶媒、非極性溶媒中で、たとえば−１０〜＋１０℃で、（ｉ）と（ii）を反応させた後、−１００〜−５０℃で（iv）を加え、（ｉ）と（ii）との反応生成物と（iv）とを反応させた後、さらに（iii）を加え反応させ
る方法がある。
【０１０６】
また他の方法として、トルエンなどの非極性溶媒中で、−１００〜−５０℃で、（ｉ）と（iv）を反応させた後、−１０〜＋１０℃で（ii）を加え、（ｉ）と（iv）との反応生成物と（ii）とを反応させた後、さらに（iii）加え反応させる方法がある。
【０１０７】
このようなエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分の調製に用いられる（ｉ）、（ii）、（iii）および（iv）の好ましい組み合わせとしては、たとえば下記表２に示すもの
が挙げられる。
【０１０８】
【表２】
2007126686.tif 000032
【０１０９】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分をさらに具体的に説明すると、化合物（ｉ）としてアルミニウムトリブロマイドを用い、化合物（ii）として水を用い、化合物（iii）としてトリフェニルクロロメタンを用い、化合物（iv）としてリチウムペ
ンタフルオロベンゼンを用い、かつ（ｉ）を（ii）１モルに対して２モル、（iii）を（
ｉ）１モルに対して０．５モル、（iv）を（ｉ）１モルに対して３モルの割合で用いると、下記のような反応生成物が得られるものと推定される。
【０１１０】
【化３０】
2007126686.tif 000033
【０１１１】
さらに他の方法として化合物（ｉ）としてエチルアルミニウムジクロライドを用い、化合物（ii）として水を用い、化合物（iii）としてトリフェニルクロロメタンを用い、化
合物（iv）としてリチウムペンタフルオロベンゼンを用い、かつ（ｉ）を（ii）１モルに対して２モル、（iii）を（ｉ）１モルに対して０．５モル、（iv）を（ｉ）２モルに対
して４モルの割合で用いると、上記と同様の反応生成物が得られるものと推定される。
【０１１２】
【化３１】
2007126686.tif 000034
【０１１３】
本発明の他の態様に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分は、下記式で表される化合物である。
【０１１４】
【化３２】
2007126686.tif 000035
【０１１５】
式中、Ｍは互いに同一でも異なっていてもよく周期表第１３族の原子を示し、具体的には、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウムなどであり、特にホウ素、アルミニウムが好ましい。
【０１１６】
ｎは０以上の整数であり、好ましくは０〜５、より好ましくは０〜３であり、ｎ＝０が最も好ましい態様の一つである。
Ｙは２価の連結基を示しｎが１以上の場合には複数のＹは互いに同一でも異なっていてもよい。Ｙが示す２価の連結基として具体的には、下記のような連結基が挙げられる。
【０１１７】
【化３３】
2007126686.tif 000036
【０１１８】
式中、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 およびＲ9 は、前記化合物（ii）のＲ4、Ｒ5 、
Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 およびＲ9 と同義である。このような連結基としてより具体的には、
【０１１９】
【化３４】
2007126686.tif 000037
【０１２０】
【化３５】
2007126686.tif 000038
【０１２１】
【化３６】
2007126686.tif 000039
【０１２２】
【化３７】
2007126686.tif 000040
【０１２３】
【化３８】
2007126686.tif 000041
【０１２４】
【化３９】
2007126686.tif 000042
【０１２５】
【化４０】
2007126686.tif 000043
【０１２６】
【化４１】
2007126686.tif 000044
【０１２７】
【化４２】
2007126686.tif 000045
【０１２８】
【化４３】
2007126686.tif 000046
【０１２９】
【化４４】
2007126686.tif 000047
【０１３０】
Ｙとしては、−Ｏ−または上記連結基中のＲ4、Ｒ5がアルキル基、ケイ素含有基、ホウ素含有基、芳香族炭化水素基またはハロゲン含有置換基であるような連結基がより好ましい。
【０１３１】
Ｚは１個または２個以上のＭと結合可能な基を示し、具体的にはハロゲン；水素；メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシルなどの炭素原子数が１〜２０、好ましくは１〜１０のアルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどの炭素原子数が１〜２０、好ましくは１〜１０のアルコキシ基、アセチル基、硫酸アニオンなどから選ばれる１種の基である。Ｚとしては、特にハロゲンが好ましい。
【０１３２】
ｊはＺの価数を示し、ｊ＝１が好ましい態様の１つである。ｍはＺの個数を示し、１以上かつｎ＋１以下の整数であり、好ましくは１〜６、好ましくは１〜４の整数である。
Ｑは互いに同一でも異なっていてもよく、以下に示す基から選ばれた１種の基を示す。
【０１３３】
【化４５】
2007126686.tif 000048
【０１３４】
式中、Ｒ10およびＲ11は前記化合物（iv）のＲ10およびＲ11と同義である。このようなＱで示される基の具体的な例を以下に示す。一般式 Ｒ10− で表される基としては、例えば
【０１３５】
【化４６】
2007126686.tif 000049
【０１３６】
一般式 Ｒ10Ｏ− で表される基としては、例えば
【０１３７】
【化４７】
2007126686.tif 000050
【０１３８】
一般式 Ｒ10Ｒ11Ｎ− で表される基としては、例えば
【０１３９】
【化４８】
2007126686.tif 000051
【０１４０】
一般式 Ｒ10ＣＯＯ− で表される基としては、例えば
【０１４１】
【化４９】
2007126686.tif 000052
【０１４２】
一般式 Ｒ10ＳＯ3 − で表される基としては、例えば
【０１４３】
【化５０】
2007126686.tif 000053
【０１４４】
一般式 Ｒ10ＳＯ2 − で表される基としては、例えば
【０１４５】
【化５１】
2007126686.tif 000054
【０１４６】
一般式 Ｒ10ＣＯ− で表される基としては、例えばＭｅＣＯ− 、ＥｔＣＯ− 、ＰｈＣＯ− があり、一般式 Ｒ10Ｒ11ＮＯ− で表される基としては、例えば
【０１４７】
【化５２】
2007126686.tif 000055
【０１４８】
一般式 Ｒ10Ｒ11ＣＮＯ− で表される基としては、例えば
【０１４９】
【化５３】
2007126686.tif 000056
【０１５０】
【化５４】
2007126686.tif 000057
【０１５１】
【化５５】
2007126686.tif 000058
【０１５２】
一般式 Ｒ10ＣＯＣＨ2 ＣＯ− で表される基としては、例えば
【０１５３】
【化５６】
2007126686.tif 000059
【０１５４】
【化５７】
2007126686.tif 000060
【０１５５】
上記のようなＱで示される基は、少なくとも１個以上が、上記一般式中のＲ10が置換基を有する芳香族炭化水素基またはフッ素含有置換基である基であることが好ましく、Ｒ10またはＲ11のいずれか１つ以上が、置換基を有する芳香族炭化水素基またはフッ素含有置換基である基であることも好ましい。
【０１５６】
前記置換基を有する芳香族炭化水素基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン（特にフッ素が好ましい。）などから選ばれる少なくとも１個の置換基が置換した芳香族炭化水素基が挙げられる。
【０１５７】
前記フッ素含有置換基としては、フッ素原子を１個以上含有している置換基が挙げられる。以下に前記式で表される本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分の下記式で表されるアニオン部の一例を示す。
【０１５８】
【化５８】
2007126686.tif 000061
【０１５９】
【化５９】
2007126686.tif 000062
【０１６０】
【化６０】
2007126686.tif 000063
【０１６１】
【化６１】
2007126686.tif 000064
【０１６２】
【化６２】
2007126686.tif 000065
【０１６３】
【化６３】
2007126686.tif 000066
【０１６４】
【化６４】
2007126686.tif 000067
【０１６５】
【化６５】
2007126686.tif 000068
【０１６６】
【化６６】
2007126686.tif 000069
【０１６７】
【化６７】
2007126686.tif 000070
【０１６８】
なお、上記例示中、Ｃ6Ｆ5はペンタフルオロフェニル基を示し、n-Octはｎ−オクチル
基を示し、Ｐｈはフェニル基を示し、Ｍｅはメチル基を示す。
Ａはカチオンを示し、カチオンとしては特に制限されないが、例えばカルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、シクロヘ
プチルトリエニルカチオン、フェロセニウムカチオンおよび周期表第１族、第１１族の金属カチオンからなる群より選ばれた１種のカチオンが挙げられる。
【０１６９】
Ａで示されるカチオンとしては、例えば以下のようなカチオンが挙げられる。［Ｌｉ+
］、［Ｎａ+］、［Ｋ+］、［Ａｇ+］、［Ｌｉ（Ｅｔ2Ｏ）2+］、［Ｐｈ3Ｃ+］、［ＫＢＥｔ3+］、［ＮａＡｌＨ（ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ3）2+］、［Ｈ3Ｏ+］、［Ｐｈ4Ｐ+］、［Ｐ
ｈＮＭｅ2Ｈ+］、［Ｅｔ3ＮＨ+］、［Ｍｅ3ＮＨ+］、［（n-Ｂｕ）3ＮＨ+］、［ＭｅＰｈ2ＮＨ+］、［Ｃｐ2Ｆｅ+］、
【０１７０】
【化６８】
2007126686.tif 000071
【０１７１】
ｋはＡカチオンの価数を示し、ｋ＝ｊｍ／ｒである。以下、前記式で表される本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分の一例を示す。
【０１７２】
【化６９】
2007126686.tif 000072
【０１７３】
前記式で表される本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分は、例えば、前記化合物（ｉ）および化合物（ii）、必要に応じて化合物（iv）を反応させた後、さらに前記化合物（iii）と反応させて得られる。
【０１７４】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分は、後述する遷移金属化合物などと併用することにより優れた重合活性を有するエチレン性不飽和モノマー重合用触媒と
なりうる。本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分は、後述するようないずれの遷移金属化合物と併用しても優れた重合活性を有するエチレン性不飽和モノマー重合用触媒となる。
【０１７５】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分は、少量の添加であっても重合活性が高い。また、溶媒に溶解し易く取扱が容易であり、活性も発現し易い。本発明の触媒成分からは、高分子量の重合体も容易に得られる。
【０１７６】
重合用触媒
本発明のエチレン性不飽和モノマー重合用触媒は、
（Ａ）第３族ないし第１２族の遷移金属から選ばれる化合物
（Ｂ）前記の触媒成分、および
（Ｃ）第１３族の原子を含む有機化合物からなる。
【０１７７】
（Ａ）第３族ないし第１２族から選ばれる遷移金属の化合物
本発明で用いられる（Ａ）第３族ないし第１２族から選ばれる遷移金属の化合物としては、たとえば下記一般式（Ｉ）ないし（VIII）のいずれかで表される遷移金属化合物が挙げられる。
【０１７８】
まず一般式（Ｉ）で表される化合物について説明する。
Ｍ1 Ｌ1x … （Ｉ）
式中、Ｍ1 は周期表第４族の遷移金属原子を示し、具体的には、ジルコニウム、チタンまたはハフニウムであり、好ましくはジルコニウムである。
【０１７９】
ｘは遷移金属原子Ｍ1 の原子価であり、遷移金属原子Ｍ1 に配位する配位子Ｌ1 の個数を示す。
Ｌ1 は遷移金属原子に配位する配位子を示し、少なくとも１個のＬ1 はシクロペンタジエニル骨格を有する配位子であり、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子以外のＬ1 は、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ハロゲン原子または水素原子である。
【０１８０】
シクロペンタジエニル骨格を有する配位子としては、たとえばシクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、メチルエチルシクロペンタジエニル基、プロピルシクロペンタジエニル基、メチルプロピルシクロペンタジエニル基、ブチルシクロペンタジエニル基、メチルブチルシクロペンタジエニル基、ヘキシルシクロペンタジエニル基などのアルキル置換シクロペンタジエニル基あるいはインデニル基、4,5,6,7-テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基などを例示することができる。これらの基は、炭素原子数が１〜２０の（ハロゲン化）炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、ハロゲン原子などで置換されていてもよい。
【０１８１】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物がシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を２個以上含む場合には、そのうち２個のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子同士は、（置換）アルキレン基、（置換）シリレン基などの２価の結合基を介して結合されていてもよい。このような２個のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子が２価の結合基を介して結合されている遷移金属化合物としては後述するような一般式（II）または（IIａ）で表される遷移金属化合物が挙げられる。
【０１８２】
シクロペンタジエニル骨格を有する配位子以外の配位子Ｌ1 としては、具体的に下記のようなものが挙げられる。
炭素原子数が１〜２０の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基などが挙げられ、より具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基が挙げられる。
【０１８３】
炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基としては、前記炭素原子数が１〜２０の炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。酸素含有基としてはヒドロキシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコキシ基；フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリーロキシ基；フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基などが挙げられる。
【０１８４】
イオウ含有基としては前記酸素含有基の酸素がイオウに置換した置換基、ならびにメチルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネート、p-トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネート、p-クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォネート基；メチルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンゼンスルフィネート、p-トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基が挙げられる。
【０１８５】
窒素含有基としてはアミノ基；メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどのアルキルアミノ基；フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニルアミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリールアミノ基などが挙げられる。
【０１８６】
リン含有基としてはジメチルフォスフィノ、ジフェニルフォスフィノなどのフォスフィノ基などが挙げられる。
ケイ素含有基としてはメチルシリル、フェニルシリルなどのモノ炭化水素置換シリル；ジメチルシリル、ジフェニルシリルなどのジ炭化水素置換シリル；トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどのトリ炭化水素置換シリル；トリメチルシリルエーテルなどの炭化水素置換シリルのシリルエーテル；トリメチルシリルメチルなどのケイ素置換アルキル基；トリメチルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられる。
【０１８７】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
このような遷移金属化合物は、たとえば遷移金属の原子価が４である場合、より具体的には下記一般式（I'）で示される。
【０１８８】
Ｒ12Ｒ13Ｒ14Ｒ15Ｍ1 … （I'）
式中、Ｍ1 は、前記と同様の周期表第４族から選ばれる遷移金属原子を示し、好ましくはジルコニウム原子である。
【０１８９】
Ｒ12は、シクロペンタジエニル骨格を有する基（配位子）を示し、
Ｒ13、Ｒ14およびＲ15は、互いに同一でも異なっていてもよく、シクロペンタジエニル骨格を有する基（配位子）、炭素原子数が１〜２０の（ハロゲン化）炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ハロゲン原子または水素原子を示す。
【０１９０】
本発明では上記一般式（I'）で示される遷移金属化合物において、Ｒ13、Ｒ14およびＲ15のうち少なくとも１個がシクロペンタジエニル骨格を有する基（配位子）である化合物、たとえばＲ12およびＲ13がシクロペンタジエニル骨格を有する基（配位子）である化合物が好ましく用いられる。また、Ｒ12およびＲ13がシクロペンタジエニル骨格を有する基（配位子）である場合、Ｒ14およびＲ15はシクロペンタジエニル骨格を有する基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、トリアルキルシリル基、スルフォネート基、ハロゲン原子または水素原子であることが好ましい。
【０１９１】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表され、Ｍ1 がジルコニウムである遷移金属化合物について具体的な化合物を例示する。
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムモノクロリドモノハイドライド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジブロミド、ビス（シクロペンタジエニル）メチルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムフェノキシモノクロリド、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（オクチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（4,5,6,7-テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（インデニル）ジルコニウムジブロミド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムメトキシクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムエトキシクロリド、ビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（メタンスルホナト）、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（p-トルエンスルホナト）、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、
ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（エチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルベンジルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド、ビス（エチルヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルシクロヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）エチルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）シクロヘキシルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）フェニルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ベンジルジルコニウムモノクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）メチルジルコニウムモノハイドライド、ビス（シクロペンタジエニル）ジフェニルジルコニウム、ビス（シクロペンタジエニル）ジベンジルジルコニウム、ビス（インデニル）ジルコニウムビス（p-トルエンスルホナト）、ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムエトキシクロリド、ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムビス（メタンスルフォネート）、ビス（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドなど。
【０１９２】
なお上記例示において、シクロペンタジエニル環の二置換体は、1,2-および1,3-置換体を含み、三置換体は、1,2,3-および1,2,4-置換体を含む。またプロピル、ブチルなどのアルキル基は、n-、i-、sec-、tert-などの異性体を含む。
【０１９３】
また上記のようなジルコニウム化合物において、ジルコニウムを、チタンまたはハフニウムに置換えた化合物を挙げることもできる。
２個のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子が２価の結合基を介して結合されている遷移金属化合物としては、たとえば下記一般式（II）で表される化合物が挙げられる。
【０１９４】
【化７０】
2007126686.tif 000073
【０１９５】
式中、Ｍ1 は、周期表第４族の遷移金属原子を示し、具体的には、ジルコニウム、チタニウムまたはハフニウムであり、好ましくはジルコニウムである。
Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18およびＲ19は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含有基、水素原子またはハロゲン原子を示す。Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18およびＲ19で示される基のうち、互いに隣接する基の一部が結合してそれらの基が結合する炭素原子とともに環を形成していてもよい。なお、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18およびＲ19が各々２ヶ所に表示されているが、それぞれたとえばＲ16とＲ16などは、同一の基でもよくまた相異なる基でもよい。Ｒで示される基のうち同一のサフィックスのものは、それらを継いで、環を形成する場合の好ましい組み合せを示している。
【０１９６】
炭素原子数が１〜２０の炭化水素基としては、前記一般式（Ｉ）中のＬと同様の基が挙げられる。
これらの炭化水素基が結合して形成する環としてはベンゼン環、ナフタレン環、アセナフテン環、インデン環などの縮環基、および前記縮環基上の水素原子がメチル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基で置換された基が挙げられる。
【０１９７】
炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基としては、前記炭素原子数が１〜２０の炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。
ケイ素含有基、酸素含有基、窒素含有基、リン含有基としては、前記一般式（Ｉ）中のＬと同様の基が挙げられる。
【０１９８】
イオウ含有基としては前記酸素含有基の酸素がイオウに置換した置換基などが挙げられる。
ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
【０１９９】
これらのうち炭素原子数が１〜２０の炭化水素基であることが好ましく、特にメチル、エチル、プロピル、ブチルの炭素原子数が１〜４の炭化水素基、炭化水素基が結合して形成されたベンゼン環、炭化水素基が結合して形成されたベンゼン環上の水素原子がメチル、エチル、n-プロピル、iso-プロピル、n-ブチル、iso-ブチル、tert-ブチルなどのアル
キル基で置換された基であることが好ましい。
【０２００】
Ｘ1 およびＸ2 は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基、水素原子またはハロゲン原子を示し、具体的には、前記一般式（Ｉ）中のＬと同様の基または原子が挙げられる。
【０２０１】
これらのうち、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基またはスルフォネート基であることが好ましい。
Ｙ1 は、炭素原子数が１〜２０の２価の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基、２価のスズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、−ＮＲ20
−、−Ｐ（Ｒ20）−、−Ｐ（Ｏ）（Ｒ20）−、−ＢＲ20−または−ＡｌＲ20−〔ただし、Ｒ20は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、水素原子またはハロゲン原子である〕を示す。
【０２０２】
炭素原子数が１〜２０の２価の炭化水素基として具体的には、メチレン、ジメチルメチレン、1,2-エチレン、ジメチル-1,2-エチレン、1,3-トリメチレン、1,4-テトラメチレン
、1,2-シクロヘキシレン、1,4-シクロヘキシレンなどのアルキレン基；ジフェニルメチレン、ジフェニル-1,2-エチレンなどのアリールアルキレン基などが挙げられる。
【０２０３】
炭素原子数が１〜２０の２価のハロゲン化炭化水素基として具体的には、クロロメチレンなどの上記炭素原子数が１〜２０の２価の炭化水素基をハロゲン化した基などが挙げられる。
【０２０４】
２価のケイ素含有基としては、シリレン、メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、ジ（n-プロピル）シリレン、ジ（i-プロピル）シリレン、ジ（シクロヘキシル）シリレン、メチルフェニルシリレン、ジフェニルシリレン、ジ（p-トリル）シリレン、ジ（p-クロロフェニル）シリレンなどのアルキルシリレン基；アルキルアリールシリレン基；アリールシリレン基；テトラメチル-1,2-ジシリレン、テトラフェニル-1,2-ジシリレンなどのアルキルジシリレン基；アルキルアリールジシリレン基；アリールジシリレン基などが挙げられる。
【０２０５】
２価のゲルマニウム含有基としては、上記２価のケイ素含有基のケイ素をゲルマニウム
に置換した基などが挙げられる。
２価のスズ含有基としては、上記２価のケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基などが挙げられる。
【０２０６】
これらのうち、ジメチルシリレン、ジフェニルシリレン、メチルフェニルシリレンなどの置換シリレン基が特に好ましい。また、Ｒ20は、前記一般式（Ｉ）中のＬと同様のハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基である。
【０２０７】
以下に、前記一般式（II）で表される遷移金属化合物について具体的な化合物を例示する。
エチレン-ビス（インデニル）ジメチルジルコニウム、エチレン-ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、エチレン-ビス（インデニル）ジルコニウムビス（トリフルオロ
メタンスルホナト）、エチレン-ビス（インデニル）ジルコニウムビス（メタンスルホナ
ト）、エチレン-ビス（インデニル）ジルコニウムビス（p-トルエンスルホナト）、エチ
レン-ビス（インデニル）ジルコニウムビス（p-クロルベンゼンスルホナト）、エチレン-ビス（4,5,6,7-テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレ
ン-ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビス
（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビス
（インデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン-ビス（インデニル）ジルコ
ニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、ジメチルシリレン-ビス（4,5,6,7-テト
ラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、ジフェニルシリレン-ビス（インデニル
）ジルコニウムジクロリド、メチルフェニルシリレン-ビス（インデニル）ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス（2,3,5-トリメチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス（2,4,7-トリメチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-tert-ブチ
ルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（3-tert-ブチル
シクロペンタジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（4-メチルシクロペンタジエニル）（3-メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（4-tert-ブチルシクロペンタジエニル）（3-メチルインデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、イソプロピリデン（4-tert-ブチルシクロペンタジエニル）（3-tert-ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（4-メチルシクロペンタジエニル）（3-メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（4-tert-ブ
チルシクロペンタジエニル）（3-メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（4-tert-ブチルシクロペンタジエニル）（3-tert-ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン（3-tert-ブチルシクロペンタジエニル）（フルオレ
ニル）ジルコニウムジクロリド、イソプロピリデン（3-tert-ブチルシクロペンタジエニ
ル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリドなど。
【０２０８】
また上記のような化合物中のジルコニウムを、チタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げることもできる。
前記一般式（II）で表される遷移金属化合物として、他の具体的な例としては下記一般式（II'）または（II''）で表される遷移金属化合物がある。
【０２０９】
【化７１】
2007126686.tif 000074
【０２１０】
式中、Ｍ1 は周期表第４族の遷移金属原子を示し、具体的には、チタニウム、ジルコニウムまたはハフニウムであり、好ましくはジルコニウムである。Ｒ21は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜６の炭化水素基を示し、具体的には、
メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、シクロヘキシルなどのアルキル基
；ビニル、プロペニルなどのアルケニル基などが挙げられる。
【０２１１】
これらのうちインデニル基に結合した炭素原子が１級のアルキル基が好ましく、さらに炭素原子数が１〜４のアルキル基が好ましく、特にメチル基およびエチル基が好ましい。
Ｒ22、Ｒ24、Ｒ25およびＲ26は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子またはＲ21と同様の炭素原子数が１〜６の炭化水素基を示す。Ｒ23は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数が６〜１６のアリール基を示し、具体的には、
フェニル、α-ナフチル、β-ナフチル、アントリル、フェナントリル、ピレニル、アセナフチル、フェナレニル、アセアントリレニル、テトラヒドロナフチル、インダニル、ビフェニリルなどが挙げられる。これらのうちフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリルであることが好ましい。
【０２１２】
これらのアリール基は、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、α−またはβ−ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリル、ベンジルフェニル、ピレニル、アセナフチル、フェナレニル、アセアントリレニル、テトラヒドロナフチル、インダニル、ビフェニリルなどのアリール基などの炭素原子数が１〜２０の炭化水素基；
トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルなどの有機シリル基で置換されていてもよい。
【０２１３】
Ｘ1 およびＸ2 は、互いに同一でも異なっていてもよく、前記一般式（II）におけるＸ1 およびＸ2 と同じである。これらのうち、ハロゲン原子または炭素原子数が１〜２０の炭化水素基であることが好ましい。
【０２１４】
Ｙ1 は、前記一般式（II）における、Ｙ1 と同じである。これらのうち、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含有基であることが好ましく、２価のケイ素含有基であることがより好ましく、アルキルシリレン、アルキルアリールシリレンまたはアリールシリレンであることがより好ましい。
【０２１５】
以下に上記一般式（II'）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示す。
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-（α-ナフチル）インデニル）
｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-（β-ナフチ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4-(1-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-
ビス｛1-（2-メチル-4-(2-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(9-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(9-フェナントリル）インデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-フル
オロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(ペンタフルオロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(m-クロロフェニル）イ
ンデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(o-クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(o,p-ジクロロフェニル) フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-ブロモフェニル）インデニル）
｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-トリル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(m-トリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(o-トリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(o,o'-ジメチルフェニル)-1-インデニル) ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-エチルフェニル）インデニル）｝
ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-i-プロピル
フェニル）インデニル))ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-ベンジルフェニル)インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-ビフェニル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(m-ビフェニル)インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(p-トリメチルシリレンフェニル)インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-(m-トリメチルシリレンフェニル)インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-フェニル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジエチルシリレン-ビス｛1-（2-メチ
ル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ-(i-プロピル)シリレン-
ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ-（n-ブチル）シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジシクロヘキシルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-トリル）シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-クロロフェニル）シリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルゲルミレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルスタニレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジブロミド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジメチル、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムメチルクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メ
チル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムクロリドＳＯ2Ｍｅ、
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムクロリドＯＳＯ2Ｍｅ、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-フェニルインデニル
）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-（α-ナフ
チル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エ
チル-4-（β-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-（2-メチル-1-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-（5-アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-（9-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-（9-フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-
ビス｛1-（2-エチル-4-（o-メチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-（m-メチルフェニル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-（p-メチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-（2,3-ジメチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-（2,4-ジメチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-（2,5-ジメチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（2,4,6-トリメチルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（o-クロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（m-クロロフェニル）インデニル）｝ジルコ
ニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（p-クロロフェニル）
インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-
（2,3-ジクロロフェニル）インデニル)｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-(2-エチル-4-（2,6-ジクロロフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロ
リド、
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（3,5-ジクロロフェニル）インデニル）
｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（2-ブロモフ
ェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（3-ブロモフェニル）インデニル)｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（4-ブロモフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（4-ビフェニリル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（4-トリメチルシ
リルフェニル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-（β-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-（2-メチル-1-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-（5-アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-（9-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-（9-フェナントリル）インデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-フ
ェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-（β-ナフチル）インデニル)｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-（8-メチル-9-ナフチル）インデニル）
｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-（5-アセ
ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-
i-プロピル-4-（9-アントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-i-プロピル-4-（9-フェナントリル）インデニル)｝ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-（β-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-（2-メチル-1-ナフチル）インデニル)｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-（5-アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジク
ロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-（9-アントリル）インデニル）
｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-s-ブチル-4-（9-フェナ
ントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ペンチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ペンチル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-（β-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-（2-メチル-1-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-（5-アセナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド
、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-（9-アントリル）インデニル）｝ジル
コニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ブチル-4-（9-フェナントリ
ル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-（β-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-（2-メチル-1-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-（5-アセナフチル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-（9-アントリル
）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-i-ブチル-4-（9-フェナントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレ
ン-ビス｛1-(2-ネオペンチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-ネオペンチル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ヘキシル-4-フェニルインデニル
）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-(2-n-ヘキシル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシ
リレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（9-アントリル）インデニル）｝ジ
ルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（9-フェナ
ントリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ
フェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（9-アントリル）インデニル）｝ジルコニウム
ジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（9-フェナントリル）イン
デニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（4-ビフェニリル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチレン-ビス｛1-(2-エ
チル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチレン-ビス｛1-(2-エ
チル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1
-(2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-(2-エチル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジメチルゲルミル-ビス｛1-(2-エチル-4-フェニルインデニル）｝ジルコニウムジクロリ
ド、rac-ジメチルゲルミル-ビス｛1-(2-エチル-4-（α-ナフチル）インデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルゲルミル-ビス｛1-(2-n-プロピル-4-フェニルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリドなど。
【０２１６】
また上記のような化合物中のジルコニウムをチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げることもできる。
次に、一般式（II''）で表される遷移金属化合物について説明する。
【０２１７】
【化７２】
2007126686.tif 000075
【０２１８】
式中、Ｍ1 は周期表第４族の遷移金属原子を示し、具体的には、チタニウム、ジルコニウムまたはハフニウムであり、好ましくはジルコニウムである。
Ｒ31およびＲ32は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、リン含有基、水素原子またはハロゲン原子を示し、具体的には、前記一般式（Ｉ）中のＬと同様の原子または基が挙げられる。
【０２１９】
これらのうちＲ31は、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基であることが好ましく、特にメチル、エチル、プロピルの炭素原子数が１〜３の炭化水素基であることが好ましい。
Ｒ32は、水素原子または炭素原子数が１〜２０の炭化水素基であることが好ましく、特に水素原子あるいは、メチル、エチル、プロピルの炭素原子数が１〜３の炭化水素基であることが好ましい。
【０２２０】
Ｒ33およびＲ34は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜２０のアルキル基を示し、具体的にはメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、シクロヘ
キシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマンチルなどが挙げられる。
【０２２１】
これらのうちＲ33は、２級または３級アルキル基であることが好ましい。Ｘ1 およびＸ2 は、互いに同一でも異なっていてもよく、前記一般式（II）におけるＸ1 およびＸ2 と同じである。
【０２２２】
Ｙ1 は、前記一般式（II）における、Ｙ1 と同じである。
以下に上記一般式（II''）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示す。
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-エチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-n-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピ
ルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメ
チル-4-n-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-sec-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチル
シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-n-ペンチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-n-ヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-シクロヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-メチルシクロヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-フェニルエチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-フェニルジクロロメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-クロロメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
（2,7-ジメチル-4-トリメチルシリルメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-トリメチルシロキシメチルインデニル）
｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジエチルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（i-プロピル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（n-ブチル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（シクロヘキシル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-エチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-トリル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-クロロフェニル）シリレン-ビス｛1-（2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-エチルインデニル）｝ジルコニウムジブロミド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-エチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリ
レン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメ
チル-4-sec-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメ
チルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-ペンチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-n-ヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-シクロヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-
（2,3,7-トリメチル-4-メチルシクロヘキシルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-トリメチルシリルメチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-トリメチルシロキシメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-フェニルエチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-フェニルジクロロメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-
4-クロロメチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジエチルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（i-プロピル）シリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（n-ブチル）シリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（シクロヘキシル）シリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-メチルフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリ
メチル-4-t-ブチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-
ジフェニルシリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-エチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-トリル）シリレン-ビス｛1-（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジ（p-クロロフェニル）シリレン-ビス｛1-
（2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチ
ルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル）｝ジルコニウムジ
メチル、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル
）｝ジルコニウムメチルクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル）｝ジルコニウム-ビス（メタンスルホナト）、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル）｝ジルコニウム-ビス（p-フェニルスルフィナト）、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-3-メチル-4-i-
プロピル-7-メチルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチル-4,6-ジ-i-プロピルインデニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-エチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル）｝ジルコニウムジ
クロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-フェニル-4-i-プロピル-7-メチルインデ
ニル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルシリレン-ビス｛1-（2-メチルインデニ
ル）｝ジルコニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス｛1-（2,4,7-トリメチルインデニル
）｝ジルコニウムジクロリド、rac-イソプロピリデン-ビス｛1-（2,4,7-トリメチルイン
デニル）｝ジルコニウムジクロリドなど。
【０２２３】
また上記のような化合物中のジルコニウムをチタニウムまたはハフニウムに代えた化合物を挙げることもできる。
２個のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子が２価の結合基を介して結合されている遷移金属化合物の他の例としては、例えば下記一般式（IIａ）で表される化合物が挙げられる。
【０２２４】
【化７３】
2007126686.tif 000076
【０２２５】
式中、Ｍ は、周期表第３〜６族から選ばれる遷移金属原子を示す。
Ｙ2 は、炭素原子、ケイ素原子またはゲルマニウム原子を示す。
Ｒ1 およびＲ2 は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数が１〜４０の基、ＯＨ基、ハロゲン原子、または、ＮＲ152 基（但し、Ｒ15は、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜１０のアルキル基または炭素原子数が６〜１０のアリール基である。）であるか、または、Ｒ1 およびＲ2 は、それらを結合する原子と一緒に、環を形成している。前記炭素原子数が１〜４０の基としては、例えば炭素原子数が１〜１０のアルキル基、炭素原子数が１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜１０のアリール基、炭素原子数が６〜２５のアリールオキシ基、炭素原子数が２〜１０アルケニル基、炭素原子数が７〜４０のアリールアルキル基または炭素原子数が７〜４０のアリールアルケニル基が挙げられる。
【０２２６】
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 およびＲ9 は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜４０の基、−ＳｉＲ153 基、−ＮＲ152 基または−ＰＲ152 基（但し、Ｒ15は、互いに同一でも異なっていてもよく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜１０のアルキル基または炭素原子数が６〜１０のアリール基であるか、あるいな環を形成している。）であるか、または、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 およびＲ9 のうち互いに隣接する２つ以上の基がそれらを結合する原子と一緒に、好ましくは４〜４０個、特に好ましくは６〜２０個の炭素原子を含有する環を形成している。前記炭素原子数が１〜４０の基としては、例えば、ハロゲン化されていてもよい炭素原子数が１〜１０のアルキル基、ハロゲン化されていてもよい炭素原子数が６〜３０のアリール基、炭素原子数が６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数が２〜１２のアルケニル基、炭素原子数が７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数が７〜４０のアルキルアリール基または炭素原子数が８〜４０アリールアルケニル基が挙げられる。
【０２２７】
Ｒ10は、水素原子または炭素原子数が１〜４０の基であるか、あるいはＲ10は、基Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 の１つ以上に結合している。前記炭素原子数が１〜４０の基としては、例えば炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数が２〜１２のアルケニル基、炭素原子数が７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数が７〜４０のアルキルアリール基または炭素原子数が８〜４０のアリールアルケニル基が挙げられ、これらの基は、−ＮＲ152 基、−ＳｉＲ153 基、−ＳＲ152 基、−ＯＳｉＲ153 基（但し、Ｒ15は、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜１０のアルキル基または炭素原子数が６〜１０のアリール基である。）などの置換基を有してもよい。
【０２２８】
Ｒ11およびＲ12は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数が１〜４０の基を示す。前記炭素原子数が１〜４０の基としては、例えば、炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が２〜１２のアルケニル基、炭素原子数が７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数が７〜４０のアルキルアリール基または炭素原子数が８〜４０のアリールアルケニル基が挙げられ、これらの基は、ハロゲン原子、−ＮＲ152 基、−ＳｉＲ153 基、−ＳＲ15基、−ＯＳｉＲ153 基（但し、Ｒ15は、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜１０のアルキル基または炭素原子数が６〜１０のアリール基である。）などの置換基を有してもよい。
【０２２９】
Ｒ13およびＲ14は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数が１〜４０の基を示す。前記炭素原子数が１〜４０の基としては、例えば炭素原子数が１〜２０のアルキル基、炭素原子数が１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数が６〜２０のアリール基、炭素原子数が２〜１２のアルケニル基、炭素原子数が７〜４０のアリールアルキル基、炭素原子数が７〜４０のアルキルアリール基または炭素原子数が８〜４０のアリールアルケニル基が挙げられる。これらの基は、例えばハロゲン原子、−ＮＲ152 、−ＳＲ15、−ＳｉＲ153 、−ＯＳｉＲ153 （式中、Ｒ15は、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜１０のアルキル基または炭素原子数が６〜１０のアリール基である。）などの置換基を有してもよい。
【０２３０】
なお、Ｙ2 が炭素原子であり、Ｒ10、Ｒ13およびＲ14がメチル基である場合には、Ｒ3 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ9 の少なくとも１つが水素原子とは異なり、および／または、Ｒ8 が水素原子である。
【０２３１】
前記一般式（IIａ）で表される遷移金属化合物の中では、Ｍが、周期表第４族の金属原子、例えば、チタン、ジルコニウムまたはハフニウム、好ましくはジルコニウムであり、
Ｒ1 およびＲ2 が、互いに同一であり、炭素原子数が１〜４アルキル基またはハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素、好ましくは塩素）あり、
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 およびＲ9 が、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数が１〜１０のアルキル基または炭素原子数が６〜２４のアリール基であるか、または、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8およびＲ9 のうち、互いに
隣接する２つ以上の基がそれらを結合する原子と一緒に、４〜２０個の炭素原子を有する芳香族または脂肪族の環を形成し、
Ｒ10が、水素原子、炭素原子数が６〜２４のアリール基または炭素原子数が１〜１０のアルキル基（好ましくは、炭素原子数が１〜４のアルキル基）であり、
Ｙ2 が、炭素原子であり、
Ｒ11およびＲ12が、互いに同一でも異なっていてもよく、Ｒ11が、水素原子、炭素原子数が１〜１０の炭化水素基（好ましくは、炭素原子数が１〜４のアルキル基または炭素原子数が６〜１０のアリール基）であり、
Ｒ12が、水素原子であり、
Ｒ13およびＲ14が、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素原子数が１〜１０の炭化水素基（好ましくは、炭素原子数が１〜４のアルキル基または炭素原子数が６〜１０のアリール基）であり、
Ｒ3 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ9 の少なくとも１つが、水素とは異なり、および／または、Ｒ8 が、水素である遷移金属化合物が好ましく、
Ｍが、ジルコニウムであり、
Ｒ1 およびＲ2 が、互いに同一であり、ハロゲン原子、好ましくは塩素であり、
Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ9 が、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数が１〜４のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチルまたはイソブチル）、炭素原子数が６〜１４のアリール基（例えば、フェニルまたはナフチル）であるか、あるいは、Ｒ3およびＲ4 、および／または、Ｒ5 
およびＲ6 が、それらを結合する原子と一緒に、４〜２０個の炭素原子を有する芳香族炭化水素環、好ましくは置換されていてもよい６員環を形成し、
Ｒ8 が、水素原子であり、
Ｙ2 が、炭素原子であり、
Ｒ10が、水素原子、炭素原子数が１〜６のアルキル基（特に、メチル）または炭素原子数が６〜１０のアリール基（特に、フェニル）であり、
Ｒ11およびＲ12が、互いに同一であり、水素原子であり、
Ｒ13およびＲ14が、互いに同一でも異なっていてもよく、メチルまたはフェニル基である遷移金属化合物が特に好ましい。
【０２３２】
以下に、前記一般式（IIａ）で表される遷移金属化合物について具体的な化合物を例示する。
｛4-（η5-シクロペンタジエニル）（η5-4,5-テトラヒドロペンタレン）｝ジクロロチタン、｛4-（η5-シクロペンタジエニル）（η5-4,5-テトラヒドロペンタレン）｝ジクロロジルコニウム、｛4-（η5-シクロペンタジエニル）（η5-4,5-テトラヒドロペンタレン）｝ジクロロハフニウム、｛4-（η5-シクロペンタジエニル）-4-メチル−（η5-4,5-テ
トラヒドロペンタレン）｝ジクロロジルコニウム、｛4-（η5-シクロペンタジエニル）-4-エチル-（η5-4,5-テトラヒドロペンタレン）｝ジクロロジルコニウム、｛4-（η5-シクロペンタジエニル）-4-フェニル-（η5-4,5-テトラヒドロペンタレン）｝ジクロロジルコニウムなど。
【０２３３】
本発明では、（Ａ）遷移金属化合物として下記一般式（III）で表される化合物を用い
ることもできる。
Ｌ2 Ｍ2 Ｘ32 … （III）
式中、Ｍ2 は周期表第４族の遷移金属原子を示す。
【０２３４】
Ｌ2 は、非局在化π結合基の誘導体であり、金属Ｍ2 活性サイトに拘束幾何形状を付与しており、
Ｘ3 は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、２０個以下の炭素原子を含有する炭化水素基、２０個以下のケイ素原子を含有するシリル基または２０個以下のゲルマニウム原子を含有するゲルミル基である。
【０２３５】
このような一般式（III）で表される化合物のうちでは、下記一般式（III'）で表され
る化合物が好ましい。
【０２３６】
【化７４】
2007126686.tif 000077
【０２３７】
式中、Ｍ2 は周期表第４族の遷移金属原子を示し、具体的にはジルコニウム、チタンまたはハフニウムであり、好ましくはジルコニウムである。
Ｃｐは、Ｍ2 にπ結合しているシクロペンタジエニル基またはその誘導体を示す。
【０２３８】
Ｚは、酸素原子、イオウ原子、ホウ素原子または周期表第１４族の原子を含む配位子を示し、たとえば−Ｓｉ（Ｒ352）−、−Ｃ（Ｒ352）−、−Ｓｉ（Ｒ352）Ｓｉ（Ｒ352）−
、−Ｃ（Ｒ352）Ｃ（Ｒ352）−、−Ｃ（Ｒ352）Ｃ（Ｒ352 ）Ｃ（Ｒ352）−、−Ｃ（Ｒ35）＝Ｃ（Ｒ35）−、−Ｃ（Ｒ352）Ｓｉ（Ｒ352）−、−Ｇｅ（Ｒ352）−などである。
【０２３９】
Ｙ2 は、窒素原子、リン原子、酸素原子またはイオウ原子を含む配位子を示し、たとえば−Ｎ（Ｒ36）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｐ（Ｒ36）−などである。
またＺとＹ2 とで縮合環を形成してもよい。
【０２４０】
上記Ｒ35は水素原子または２０個までの非水素原子をもつアルキル基、アリール基、シリル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基およびこれらの組合せから選ばれた基であり、Ｒ36は炭素原子数が１〜１０のアルキル基、炭素原子数が６〜１０のアリール基もしくは炭素原子数が７〜１０のアラルキル基であるか、または１個もしくはそれ以上のＲ35と３０個までの非水素原子の縮合環系を形成してもよい。
【０２４１】
以下に上記一般式（III）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示す。
（tert-ブチルアミド）（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）-1,2-エタンジイ
ルジルコニウムジクロリド、（tert-ブチルアミド）（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）-1,2-エタンジイルチタンジクロリド、（メチルアミド）（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）-1,2-エタンジイルジルコニウムジクロリド、（メチルアミド）（
テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）-1,2-エタンジイルチタンジクロリド、（エチルアミド）（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）-メチレンチタンジクロリド、（tert-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）シランチタンジクロリド、（tert-ブチルアミド）ジメチル（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）シランジルコニウムジクロリド、（ベンジルアミド）ジメチル-（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）シランチタンジクロリド、（フェニルホスフィド）ジメチル（テトラメチル-η5-シクロペンタジエニル）シランジルコニウムジベンジルなど。
【０２４２】
次に、一般式（IV）で表される化合物について説明する。
一般式（IV）化合物は、周期表第８〜１０族の遷移金属化合物である。
【０２４３】
【化７５】
2007126686.tif 000078
【０２４４】
式中、Ｍ3 は周期表第８〜１０族の遷移金属原子を示し、好ましくはニッケル、パラジウム、白金である。
Ｘ4 およびＸ5 は、互いに同一でも異なっていてもよく、窒素原子またはリン原子を示す。
【０２４５】
Ｒ41およびＲ42は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭化水素基を示す。炭化水素基として具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基などの炭素原子数が１〜２０の直鎖もしくは分岐状のアルキル基；フェニル基、ナフチル基などの炭素原子数が６〜２０のアリール基；これらのアリール基に前記炭素原子数が１〜２０のアルキル基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基などが挙げられる。
【０２４６】
ｍおよびｎは、互いに同一でも異なっていてもよく、１または２であって、それぞれ、Ｘ4 およびＸ5 の価数を満たす数である。
Ｒ43は、
【０２４７】
【化７６】
2007126686.tif 000079
【０２４８】
を示す。ただし、Ｒ50、Ｒ55、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ56およびＲ57は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または前記Ｒ41およびＲ42 と同様の炭化水素基を示す。
前記Ｒ41、Ｒ42、Ｒ50（またはＲ51、Ｒ52）およびＲ55（またはＲ56、Ｒ57）は、これらのうちの２個以上、好ましくは隣接する基が互いに連結して環を形成していてもよい。
【０２４９】
Ｒ44およびＲ45は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基を示す。
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
【０２５０】
炭化水素基として具体的には、前記Ｒ41およびＲ42同様の炭素原子数が１〜２０のアルキル基および炭素原子数が６〜２０のアリール基、ベンジル基などの炭素原子数が７〜２０のアラルキル基などが挙げられる。これらのアリール基、アラルキル基には前記炭素原子数が１〜２０のアルキル基などの置換基が１個以上置換していてもよい。
【０２５１】
また、Ｒ44およびＲ45として、−ＯＲ46、−ＳＲ47、−Ｎ（Ｒ48）2 または−Ｐ（Ｒ49）2 で表される基も示される。
Ｒ46〜Ｒ49は、前記Ｒ41およびＲ42同様の炭素原子数が１〜２０のアルキル基および炭素原子数が６〜２０のアリール基、シクロヘキシル基などの炭素原子数が６〜２０のシクロアルキル基；ベンジル基などの炭素原子数が７〜２０のアラルキル基；メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、エチルシリル基、ジエチルシリル基、トリエチルシリル基などの有機シリル基を示す。なお、上記アリール基、アラルキル基には、前記炭素原子数が１〜２０のアルキル基などの置換基が１個以上置換していてもよい。そしてＲ48同士またはＲ49同士は互いに連結して環を形成していてもよい。
【０２５２】
前記Ｒ44およびＲ45は、互いに連結して環を形成していてもよい。
前記一般式（IV）で表される遷移金属化合物としては、下記一般式（IV'）で表される
化合物が好ましい。
【０２５３】
【化７７】
2007126686.tif 000080
【０２５４】
（式中、Ｍ3 、Ｘ4 、Ｘ5 、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ50およびＲ55は、前記一般式（IV）と同じである。）
このような一般式（IV'）で表される遷移金属化合物の具体的なものとしては、次の化
合物などが挙げられる。下記式中、ｉＰｒはイソプロピル基を示す。
【０２５５】
【化７８】
2007126686.tif 000081
【０２５６】
【化７９】
2007126686.tif 000082
【０２５７】
【化８０】
2007126686.tif 000083
【０２５８】
【化８１】
2007126686.tif 000084
【０２５９】
【化８２】
2007126686.tif 000085
【０２６０】
【化８３】
2007126686.tif 000086
【０２６１】
【化８４】
2007126686.tif 000087
【０２６２】
【化８５】
2007126686.tif 000088
【０２６３】
【化８６】
2007126686.tif 000089
【０２６４】
【化８７】
2007126686.tif 000090
【０２６５】
上記以外にも、前記一般式（IV'）で表される遷移金属化合物として、上記化合物中の
パラジウムまたはニッケルが白金に置き代わった化合物などが挙げられる。
また、前記一般式（IV）で表される化合物としては、上記以外に次の化合物などが挙げられる。下記式中、ｉＰｒはイソプロピル基を示す。
【０２６６】
【化８８】
2007126686.tif 000091
【０２６７】
【化８９】
2007126686.tif 000092
【０２６８】
上記以外にも、前記一般式（IV）で表される遷移金属化合物として、上記化合物中のパラジウムまたはニッケルが白金に置き代わった化合物などが挙げられる。
次に、一般式（Ｖ）で表される遷移金属化合物ついて説明する。
【０２６９】
一般式（Ｖ）で表される化合物は、周期表第３〜６族の遷移金属アミド化合物である。
【０２７０】
【化９０】
2007126686.tif 000093
【０２７１】
式中、Ｍ4 は、周期表第３〜６族の遷移金属原子を示し、チタン、ジルコニウム、ハフニウムなどの周期表第４族の遷移金属原子であることが好ましい。
Ｒ'およびＲ"は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、有機シリル基であるかまたは、窒素、酸素、リン、イオウ、ケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を含む置換基で置換された炭化水素基を示す。
【０２７２】
炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、オ
クタデシルなどの炭素原子数が１〜２０の直鎖または分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；これらのアリール基に前記炭素原子数が１〜２０のアルキル基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基などが挙げられる。
【０２７３】
ハロゲン化炭化水素基としては、前記炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられる。
有機シリル基として具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。
【０２７４】
窒素、酸素、リン、イオウおよびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を含む置換基で置換された炭化水素基としては、前記炭化水素基に−ＣＯＯＣＨ3、−Ｎ（ＣＨ3)Ｃ
（Ｏ）ＣＨ3 、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3 、−ＣＮ、−Ｎ（Ｃ2Ｈ5)2、−Ｎ（ＣＨ3)Ｓ（Ｏ2)ＣＨ3 、−Ｐ（Ｃ6Ｈ5)2 などが置換した基が挙げられる。
【０２７５】
ｍは、０〜２の整数である。
ｎは、１〜５の整数である。
Ａは、周期表第１３〜１６族の原子を示し、具体的には、ホウ素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、ゲルマニウム原子、セレン原子、スズ原子などが挙げられ、炭素原子またはケイ素原子であることが好ましい。ｎが２以上の場合には、複数のＡは、互いに同一でも異なっていてもよい。
【０２７６】
Ｅは、炭素、水素、酸素、ハロゲン、窒素、硫黄、リン、ホウ素およびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を有する置換基である。ｍが２の場合には、２個のＥは、互いに同一でも異なっていてもよく、また２個のＥが互いに連結して環を形成していてもよい。
【０２７７】
このような−（（Ｅm ）Ａ）n −で示される２個の窒素原子を結合する結合基として具体的には以下のような基などが挙げられる。
−ＣＨ2 −、−Ｃ（Ｍｅ）2−、−Ｃ（Ｐｈ）2−、−Ｓｉ（Ｍｅ）2−、
−Ｓi(Ｐｈ)2−、−Ｓi(Ｍｅ)(Ｐｈ)−、−ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｓi(Ｍｅ)2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ（Ｍｅ）2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（Ｅｔ）2ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ（n-Ｐｒ）2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（i-Ｐｒ）2ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ（n-Ｂｕ）2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（i-Ｂｕ）2ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ（s-Ｂｕ）2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（c-Ｐｅｎ）2ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ（c-Ｈｅｘ）2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（Ｐｈ）2ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ（Ｍｅ）(Ｅｔ)ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（Ｍｅ）(i-Ｐｒ)ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ（Ｍｅ）(i-Ｂｕ)ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（Ｍｅ）(t-Ｂｕ)ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ（Ｍｅ）(i-Ｐｅｎ)ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（Ｍｅ）(Ｐｈ)ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ（Ｅｔ）(i-Ｐｒ)ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（Ｅｔ）(i-Ｂｕ)ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ（Ｅｔ)(i-Ｐｅｎ）ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｃ（i-Ｐｒ)(i-Ｂｕ）ＣＨ2−、
−ＣＨ2Ｃ（i-Ｐｒ)(i-Ｐｅｎ）ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｓi(Ｍｅ)2ＣＨ2 −、
−ＣＨ2Ｓi(Ｅｔ)2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｓi(n-Ｂｕ)2ＣＨ2 −、
−ＣＨ2Ｓi(Ｐｈ)2ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｍｅ）ＣＨ2ＣＨ（Ｍｅ）−、
−ＣＨ（Ｐｈ）ＣＨ2ＣＨ（Ｐｈ）−、−Ｓi(Ｍｅ)2ＯＳi(Ｍｅ)2−、
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2 −、−Ｓi(Ｍｅ)2ＣＨ2ＣＨ2Ｓi(Ｍｅ)2−、
【０２７８】
【化９１】
2007126686.tif 000094
【０２７９】
【化９２】
2007126686.tif 000095
【０２８０】
【化９３】
2007126686.tif 000096
【０２８１】
【化９４】
2007126686.tif 000097
【０２８２】
【化９５】
2007126686.tif 000098
【０２８３】
なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、n-Ｐｒはn-プロピル基を示し、i-Ｐｒはイソプロピル基を示し、n-Ｂｕはn-ブチル基を示し、i-Ｂｕはイソブチル基を示し、s-Ｂｕはsec-ブチル基を示し、t-Ｂｕはtert-ブチル基を示し、i-Ｐｅ
ｎはイソペンチル基を示し、c-Ｐｅｎはシクロペンチル基を示し、c-Ｈｅｘはシクロヘキシル基を示し、Ｐｈはフェニル基を示す。
【０２８４】
ｐは、０〜４の整数である。
Ｘ6 は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基を示し、具体的には、前記一般式（Ｉ）におけるＬ1 と同じである。なお、ｐが２以上の場合には、Ｘ6 で示される複数の基は、互いに同一でも異なっていてもよい。
【０２８５】
これらのうち、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基またはスルフォネー
ト基であることが好ましい。
以下に、上記一般式（Ｖ）で表される遷移金属アミド化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。
【０２８６】
【化９６】
2007126686.tif 000099
【０２８７】
【化９７】
2007126686.tif 000100
【０２８８】
【化９８】
2007126686.tif 000101
【０２８９】
【化９９】
2007126686.tif 000102
【０２９０】
【化１００】
2007126686.tif 000103
【０２９１】
なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、ｉＰｒはイソプロピル基を示し、ｔＢｕは tert-ブチル基を示す。
本発明では、上記のような化合物において、チタンをジルコニウム、ハフニウムに置き換えた遷移金属アミド化合物を用いることもできる。
【０２９２】
本発明では、前記一般式（Ｖ）で表される遷移金属アミド化合物としては、Ｒ'とＲ''
が、アルキル基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基である、下記一般式（Ｖ'）で表される遷移金属アミド化合物を用いることが望ましい。
【０２９３】
【化１０１】
2007126686.tif 000104
【０２９４】
式中、Ｍ4 は、前記一般式（Ｖ）におけるＭ4 と同じであり、チタン、ジルコニウム、ハフニウムなどの周期表第４族の遷移金属原子であることが好ましく、特にチタンが好ましい。
【０２９５】
Ｒ61〜Ｒ70は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、有機シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、−ＣＯＯＲ71、−Ｎ（Ｒ72）Ｃ（Ｏ）Ｒ73、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ74、−ＣＮ、−ＮＲ752 または−Ｎ（Ｒ76）Ｓ（Ｏ2 ）Ｒ77（ただし、Ｒ71〜Ｒ77は炭素原子数が１〜５のアルキル基を示す。）を示す。ただし、Ｒ61〜Ｒ65のうち少なくとも１つは水素以外の基であり、かつＲ66〜Ｒ70のうち少なくとも１つは水素以外の基である。
【０２９６】
ハロゲン原子としては、前記一般式（Ｖ）におけるＸ6 と同じであり、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基および有機シリル基としては、前記一般式（Ｖ）におけるＲ'および
Ｒ''と同じである。
【０２９７】
アルコキシ基として具体的には、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシなどが挙げられる。
アリーロキシ基として具体的には、フェノキシ、2,6-ジメチルフェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシなどが挙げられる。
【０２９８】
−ＣＯＯＲ71、−Ｎ（Ｒ72）Ｃ（Ｏ）Ｒ73、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ74、−ＣＮ、−ＮＲ752 または−Ｎ（Ｒ76）Ｓ（Ｏ2 ）Ｒ77（ただし、Ｒ71〜Ｒ77は炭素原子数が１〜５のアルキル基を示す。）で示される基としては、−ＣＯＯＣＨ3 、−Ｎ（ＣＨ3 ）Ｃ（Ｏ）ＣＨ3 、−ＯＣ（Ｏ）ＣＨ3 、−ＣＮ、−Ｎ（Ｃ2 Ｈ5 ）2 、−Ｎ（ＣＨ3 ）Ｓ（Ｏ2 ）ＣＨ3 などが挙げられる。
【０２９９】
またＲ61〜Ｒ65で示される基のうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結してそれぞれが結合する炭素原子とともに芳香族環、脂肪族環などの環を形成していてもよく、Ｒ66〜Ｒ70で示される基のうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結してそれぞれが結合する炭素原子とともに芳香族環、脂肪族環などの環を形成していてもよい。
【０３００】
ｍは、０〜２の整数である。
ｎは、１〜５の整数である。
Ａは、前記一般式（Ｖ）におけるＡと同じであり、炭素原子またはケイ素原子であることが好ましい。ｎが２以上の場合には、複数のＡは、互いに同一でも異なっていてもよい。
【０３０１】
Ｅは、前記一般式（Ｖ）におけるＥと同じであり、好ましくは炭素、水素、窒素およびケイ素から選ばれる少なくとも１種の元素を含有する置換基である。ｍが２の場合には、２個のＥは、互いに同一でも異なっていてもよく、また２個のＥが互いに連結して環を形成していてもよい。
【０３０２】
このような−（（Ｅm ）Ａ）n −で示される２個の窒素原子を結合する結合基として具体的には前記と同様の基などが挙げられる。
ｐは、０〜４の整数である。
【０３０３】
Ｘ6 は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基、炭素原子数が１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、具体的には、前記一般式（Ｉ）におけるＬ1 と同じである。
【０３０４】
これらのうち、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基またはスルフォネート基であることが好ましい。
ｐが２以上の場合にはＸ6 で示される複数の基は、互いに同一でも異なっていてもよい
。
【０３０５】
以下に、上記一般式（Ｖ'）で表される遷移金属アミド化合物の具体的な例を示すが、
これらに限定されるものではない。
【０３０６】
【化１０２】
2007126686.tif 000105
【０３０７】
【化１０３】
2007126686.tif 000106
【０３０８】
【化１０４】
2007126686.tif 000107
【０３０９】
【化１０５】
2007126686.tif 000108
【０３１０】
【化１０６】
2007126686.tif 000109
【０３１１】
【化１０７】
2007126686.tif 000110
【０３１２】
【化１０８】
2007126686.tif 000111
【０３１３】
【化１０９】
2007126686.tif 000112
【０３１４】
【化１１０】
2007126686.tif 000113
【０３１５】
【化１１１】
2007126686.tif 000114
【０３１６】
【化１１２】
2007126686.tif 000115
【０３１７】
【化１１３】
2007126686.tif 000116
【０３１８】
【化１１４】
2007126686.tif 000117
【０３１９】
なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、ｉＰｒはiso-プロピル基を示し、ｎＰｒはn-プロピル基を示し、ｎＢｕはn-ブチル基、ｓＢｕはsec-ブチル基、t Ｂｕは tert-ブチル基、ｎＯctはn-オクチル基を示す。
【０３２０】
本発明では、上記のような化合物において、チタンをジルコニウム、ハフニウムに置き換えた遷移金属アミド化合物を用いることもできる。
次に、一般式（VI）で表される遷移金属化合物について説明する。
【０３２１】
【化１１５】
2007126686.tif 000118
【０３２２】
（なお、ここでＮ……Ｍは、一般的には配位していることを示すが、本発明においては
配位していてもしていなくてもよい。）
式（VI）中、Ｍは周期表第３〜１１族の遷移金属原子（３族にはランタノイドも含まれる）を示し、好ましくは３〜９族（３族にはランタノイドも含まれる）の金属原子であり、より好ましくは３〜５族および９族の金属原子であり、特に好ましくは４族または５族の金属原子である。具体的には、スカンジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウム、イットリウム、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、レニウム、鉄、ルテニウムなどであり、好ましくはスカンジウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、コバルト、ロジウムなどであり、より好ましくは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、コバルト、ロジウム、バナジウム、ニオブ、タンタルなどであり、特に好ましくはチタン、ジルコニウム、ハフニウムである。
【０３２３】
ｍは、１〜６、好ましくは１〜４の整数を示す。
Ｒ1〜Ｒ6は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。
【０３２４】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、 tert-ブチル、ネオペンチル、n-ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；
ビニル、アリル、イソプロペニルなどの炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルケニル基；
エチニル、プロパルギルなど炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基；
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；
シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルなどの炭素数５〜３０の環状不飽和炭化水素基；
フェニル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；
トリル、iso-プロピルフェニル、t-ブチルフェニル、ジメチルフェニル、ジ-t-ブチル
フェニルなどのアルキル置換アリール基などが挙げられる。
【０３２５】
上記炭化水素基は、水素原子がハロゲンで置換されていてもよく、たとえば、トリフルオロメチル、ペンタフルオロフェニル、クロロフェニルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化炭化水素基が挙げられる。
【０３２６】
また、上記炭化水素基は、他の炭化水素基で置換されていてもよく、たとえば、ベンジル、クミルなどのアリール基置換アルキル基などが挙げられる。
さらにまた、上記炭化水素基は、ヘテロ環式化合物残基；アルコシキ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基などの酸素含有基；アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基、これらがアンモニウム塩となったものなどの窒素含有基；ボランジイル基、ボラントリイル基、ジボラニル基などのホウ素含有基；メルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソチオシアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジ
チオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基などのイオウ含有基；ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル基、ホスファト基などのリン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を有していてもよい。
【０３２７】
これらのうち、特に、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、t-ブチル、ネオペンチル、n-ヘキシルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチル、ビフェニル、ターフェニル、フェナントリル、アントラセニルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；これらのアリール基にハロゲン原子、炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基またはアリーロキシ基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基などが好ましい。
【０３２８】
Ｒ1 〜Ｒ6 が示す酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基としては、上記例示したものと同様のものが挙げられる。
ヘテロ環式化合物残基としては、ピロール、ピリジン、ピリミジン、キノリン、トリアジンなどの含窒素化合物、フラン、ピランなどの含酸素化合物、チオフェンなどの含硫黄化合物などの残基、およびこれらのヘテロ環式化合物残基に炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基、アルコキシ基などの置換基がさらに置換した基などが挙げられる。
【０３２９】
ケイ素含有基としては、シリル基、シロキシ基、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基など、具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオ
ロフェニル）シリルなどが挙げられる。これらの中では、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリルなどが好ましい。特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリルが好ましい。炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げられる。
【０３３０】
ゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムおよびスズに置換したものが挙げられる。
次に上記で説明したＲ1〜Ｒ6の例について、より具体的に説明する。
【０３３１】
Ｒ1 〜Ｒ6 として好ましい酸素含有基のうち、アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシなど
が、アリーロキシ基としては、フェノキシ、2,6-ジメチルフェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシなどが、アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、p-クロロベンゾイル基、p-メトキシベンゾイル基などが、エステル基としては、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、p-クロロフェノキシカルボニルなどが好ましく例示される。
【０３３２】
Ｒ1 〜Ｒ6 として好ましい窒素含有基のうち、アミノ基としては、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジフェニルアミノなどが、アミド基としては、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N-メチルベンズアミドなどが、イミド基としては、アセトイミド、ベンズイミドなどが、イミノ基としては、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが好ましく例示される。
【０３３３】
Ｒ1 〜Ｒ6 として好ましいイオウ含有基のうち、アルキルチオ基としては、メチルチオ
、エチルチオなどが、アリールチオ基としては、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナフチルチオなどが、チオエステル基としては、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルなどが、スルホンエステル基としては、スルホン酸メチル、スルホン酸エチル、スルホン酸フェニルなどが、スルホンアミド基としては、フェニルスルホンアミド、N-メチルスルホンアミド、N-メチル-p-トルエンスルホンアミ
ドなどが好ましく例示される。
【０３３４】
なおＲ6 は、水素以外の置換基であることが好ましい。すなわちＲ6 は、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基であることが好ましい。
【０３３５】
Ｒ6 として好ましい炭化水素基としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、 tert-ブチル、ネオペンチル、n-ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；フェニル、ナフチル、ビフェニリル、トリフェニリルなどの炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；ベンジルなどの炭素原子数が７〜３０、好ましくは７〜２０のアリールアルキル基；および、これらの基に炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基またはアリーロキシ基、ハロゲン、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基などの置換基がさらに置換した基などが好ましく挙げられる。
【０３３６】
Ｒ6 として好ましい炭化水素置換シリル基としては、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチルシリル、
ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。特に好ましくは、トリメチルシリル、トリエチルフェニル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル-t-ブチルシリル、ジメチル(ペンタフルオロフェニル)シ
リルなどが挙げられる。
【０３３７】
本発明では、Ｒ6 としては特に、イソプロピル、イソブチル、sec-ブチル、 tert-ブチル、ネオペンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の分岐状アルキル基、およびこれらの基の水素原子を炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基で置換した基（クミル基など）、アダマンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基から選ばれる基であることが好ましく、あるいはフェニル、ナフチル、フルオレニル、アントラニル、フェナントリルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基、または炭化水素置換シリル基であることも好ましい。
【０３３８】
Ｒ1 〜Ｒ6 は、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪環、芳香環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。
【０３３９】
また、ｍが２以上の場合には、Ｒ1 〜Ｒ6 で示される基のうち２個の基が連結されていてもよい。ただし、Ｒ1 同士は結合されることはない。さらに、ｍが２以上の場合にはＲ1 同士、Ｒ2 同士、Ｒ3 同士、Ｒ4 同士、Ｒ5 同士、Ｒ6同士は、互いに同一でも異なっ
ていてもよい。
【０３４０】
ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、具体的には０〜５、好ましくは１〜４、より好ましくは１〜３の整数である。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基を示す。なお、ｎが２以上の場合には、互いに同一であっても、異なっていてもよい。
【０３４１】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
炭化水素基としては、前記Ｒ1〜Ｒ6で例示したものと同様のものが挙げられる。具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシルなどのアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０のシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、ナフチル、メチルナフチル、アントリル、フェナントリルなどのアリール基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの炭化水素基には、ハロゲン化炭化水素、具体的には炭素原子数１〜２０の炭化水素基の少なくとも一つの水素がハロゲンに置換した基も含まれる。
【０３４２】
これらのうち、炭素原子数が１〜２０のものが好ましい。
ヘテロ環式化合物残基としては、前記Ｒ1〜Ｒ6で例示したものと同様のものが挙げられる。
【０３４３】
酸素含有基としては、前記Ｒ1〜Ｒ6で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、ヒドロキシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコシキ基；フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリーロキシ基；フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基；アセトキシ基；カルボニル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０３４４】
イオウ含有基としては、前記Ｒ1〜Ｒ6で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、メチルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネート、p-トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネート、p-クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォネート基；メチルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジルスルフィネート、p-トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基；アルキルチオ基；アリールチオ基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０３４５】
窒素含有基として具体的には、前記Ｒ1〜Ｒ6で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、アミノ基；メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどのアルキルアミノ基；フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニルアミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリールアミノ基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０３４６】
ホウ素含有基として具体的には、ＢＲ4（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよ
いアリール基、ハロゲン原子等を示す）が挙げられる。
リン含有基として具体的には、トリメチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシ
クロヘキシルホスフィンなどのトリアルキルホスフィン基；トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィンなどのトリアリールホスフィン基；メチルホスファイト、エチルホスファイト、フェニルホスファイトなどのホスファイト基（ホスフィド基）；ホスホン酸基；ホスフィン酸基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０３４７】
ケイ素含有基として具体的には、前記Ｒ1〜Ｒ6で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、フェニルシリル、ジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどの炭化水素置換シリル基；トリメチルシリルエーテルなどの炭化水素置換シリルエーテル基；トリメチルシリルメチルなどのケイ素置換アルキル基；トリメチルシリルフェニルなどのケイ素置換アリール基などが挙げられる。
【０３４８】
ゲルマニウム含有基として具体的には、前記Ｒ1〜Ｒ6で例示したものと同様のものが挙げられ、具体的には、前記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した基が挙げられる。
【０３４９】
スズ含有基として具体的には、前記Ｒ1〜Ｒ6で例示したものと同様のものが挙げられ、より具体的には、前記ケイ素含有基のケイ素をスズに置換した基が挙げられる。
ハロゲン含有基として具体的には、ＰＦ6、ＢＦ4などのフッ素含有基、ＣlＯ4、ＳbＣl6などの塩素含有基、ＩＯ4などのヨウ素含有基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０３５０】
アルミニウム含有基として具体的には、ＡlＲ4（Ｒは水素、アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、ハロゲン原子等を示す）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０３５１】
なお、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよい。
以下に、上記一般式（VI）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。
【０３５２】
なお、下記具体例においてＭは遷移金属元素であり、個々には、Ｓｃ(III) 、Ｔｉ(III) 、Ｔｉ(IV)、Ｚｒ(III) 、Ｚｒ(IV)、Ｈｆ(IV)、Ｖ(IV)、Ｎｂ(V) 、Ｔａ(V) 、Ｃｏ(II)、Ｃｏ(III) 、Ｒｈ(II)、Ｒｈ(III) 、Ｒｈ(IV)を示すが、これらに限定されるものではない。これらのなかでは特に、Ｔｉ(IV) 、Ｚｒ(IV) 、Ｈｆ(IV)が好ましい。
【０３５３】
Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロゲン、もしくはメチル等のアルキル基を示すが、これらに限定されるものではない。また、Ｘが複数ある場合は、これらは同じであっても、異なっていても良い。
【０３５４】
ｎは金属Ｍの価数により決定される。例えば、２種のモノアニオン種が金属に結合している場合、２価金属ではｎ＝０、３価金属ではｎ＝１、４価金属ではｎ＝２、５価金属ではｎ＝３になる。たとえば金属がＴｉ（IV）の場合はｎ＝２であり、Ｚｒ（IV）の場合はｎ＝２であり、Ｈｆ（IV）の場合はｎ＝２である。
【０３５５】
【化１１６】
2007126686.tif 000119
【０３５６】
【化１１７】
2007126686.tif 000120
【０３５７】
【化１１８】
2007126686.tif 000121
【０３５８】
【化１１９】
2007126686.tif 000122
【０３５９】
【化１２０】
2007126686.tif 000123
【０３６０】
【化１２１】
2007126686.tif 000124
【０３６１】
【化１２２】
2007126686.tif 000125
【０３６２】
【化１２３】
2007126686.tif 000126
【０３６３】
【化１２４】
2007126686.tif 000127
【０３６４】
【化１２５】
2007126686.tif 000128
【０３６５】
【化１２６】
2007126686.tif 000129
【０３６６】
【化１２７】
2007126686.tif 000130
【０３６７】
【化１２８】
2007126686.tif 000131
【０３６８】
【化１２９】
2007126686.tif 000132
【０３６９】
【化１３０】
2007126686.tif 000133
【０３７０】
【化１３１】
2007126686.tif 000134
【０３７１】
【化１３２】
2007126686.tif 000135
【０３７２】
【化１３３】
2007126686.tif 000136
【０３７３】
【化１３４】
2007126686.tif 000137
【０３７４】
このような遷移金属化合物のより具体的な例としては、以下のような化合物が挙げられる。
【０３７５】
【化１３５】
2007126686.tif 000138
【０３７６】
【化１３６】
2007126686.tif 000139
【０３７７】
【化１３７】
2007126686.tif 000140
【０３７８】
なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、ｉＰｒはi-プロピル基、ｔＢｕはtert- ブチル基、Ｐｈはフェニル基を示す。次に一般式（VII）で表される遷移金属化
合物について説明する。
【０３７９】
【化１３８】
2007126686.tif 000141
【０３８０】
式中、Ｍは周期表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、
Ｒ1〜Ｒ10は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水
素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、
リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよく、
ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、ｎが２以上の場合は、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、またＸで示される複数の基は互いに結合して環を形成してもよく、Ｙは、酸素、イオウ、炭素、窒素、リン、ケイ素、セレン、スズおよびホウ素からなる群より選ばれた少なくとも１種の元素を含む２価の結合基を示し、炭化水素基である場合には炭素原子３個以上からなる基である。
【０３８１】
一般式（VII）において、Ｒ6またはＲ10の少なくとも一方、特に両方が、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基であることが好ましい。
【０３８２】
一般式（VII）において、Ｍ、Ｒ1〜Ｒ10およびＸとしては、一般式（VI）の化合物について挙げたＭ、Ｒ1〜Ｒ6およびＸと同じ基を用いることができる。Ｙの具体例は、後に記載する。
【０３８３】
一般式（VII）で表される遷移金属化合物は、下記一般式（VII-a）で表される遷移金属化合物であることが好ましい。
【０３８４】
【化１３９】
2007126686.tif 000142
【０３８５】
式中、Ｍは、周期律表第３〜１１族の遷移金属原子を示し、好ましくは第４族または第５族、より好ましくは第４族、例えばチタン、ジルコニウム、ハフニウムなど、特にチタンである。
【０３８６】
Ｒ1〜Ｒ10は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水
素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、ニトリル基またはニトロ基を示し、これらのうちの２個以上、好ましくは隣接する基が互いに連結して環を形成していてもよい。
【０３８７】
ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、一般的に０〜４、好ましくは１〜４、より好ましくは１〜３の整数である。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基またはケイ素含有基を示し、ｎが２以上の場合には、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよく、また２個以上のＸが互いに連結して環を形成していてもよい。
【０３８８】
Ｙは、酸素、イオウ、炭素、窒素、リン、ケイ素、セレン、スズおよびホウ素からなる群より選ばれた少なくとも１種の元素を含む２価の結合基を示し、炭化水素基である場合
には炭素原子３個以上からなる基である。
【０３８９】
これらの結合基は、好ましくは主鎖が原子３個以上、より好ましくは４個以上２０個以下、特に好ましくは４個以上１０個以下で構成された構造を有する。なお、これらの結合基は置換基を有していてもよい。
【０３９０】
一般式（VII-a）において、Ｒ6またはＲ10の少なくとも一方、特に両方が、ハロゲン原子、炭化水素基、炭化水素置換シリル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、ニトリル基またはニトロ基であることが好ましい。
【０３９１】
一般式（VII-a）において、ＸおよびＲ1〜Ｒ10の具体例としては、一般式（VI）において説明したＸおよびＲ1〜Ｒ6と同様の基が挙げられる。Ｘとしては、特に、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基またはスルホネート基が好ましい。ｎが２以上の場合、２個以上のＸが互いに連結して形成する環は、芳香族環であっても、脂肪族環であってもよい。
【０３９２】
２価の結合基（Ｙ）として具体的には、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｅ−などのカルコゲン原子；−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3)−、−ＰＨ−、−Ｐ（ＣＨ3)−などの窒素またはリン原子含有基；−ＳｉＨ2−、−Ｓｉ（ＣＨ3)2−などのケイ素原子含有基；−ＳｎＨ2−、−Ｓｎ
（ＣＨ3)2−などのスズ原子含有基；−ＢＨ−、−Ｂ（ＣＨ3)−、−ＢＦ−などのホウ素
原子含有基などが挙げられる。炭化水素基としては−（ＣＨ2)4−、−（ＣＨ2)5−、−（ＣＨ2)6−などの炭素原子数が３〜２０の飽和炭化水素基、シクロヘキシリデン基、シク
ロヘキシレン基などの環状飽和炭化水素基、これらの飽和炭化水素基の一部が１〜１０個の炭化水素基、フッ素、塩素、臭素などのハロゲン、酸素、イオウ、窒素、リン、ケイ素、セレン、スズ、ホウ素などのヘテロ原子で置換された基、ベンゼン、ナフタレン、アントラセンなどの炭素原子数が６〜２０の環状炭化水素の残基、ピリジン、キノリン、チオフェン、フランなどのヘテロ原子を含む炭素原子数が３〜２０の環状化合物の残基などが挙げられる。
【０３９３】
以下に、上記一般式（VII）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示すが、これら
に限定されるものではない。
【０３９４】
【化１４０】
2007126686.tif 000143
【０３９５】
【化１４１】
2007126686.tif 000144
【０３９６】
なお、上記例示中、Ｍｅはメチル基を示し、Ｐｈはフェニル基を示し、ｔＢｕはtert-
ブチル基を示す。
本発明では、上記のような化合物において、チタン金属をジルコニウム、ハフニウムなどのチタン以外の金属に置き換えた遷移金属化合物を用いることもできる。
【０３９７】
一般式（VI）または（VII）で表される遷移金属化合物の製造方法は、特に限定される
ことなく、たとえば以下のようにして製造することができる。
まず、本発明に係る遷移金属化合物を構成する配位子は、サリチルアルデヒド類化合物を、式Ｒ1 −ＮＨ2 の第１級アミン類化合物（Ｒ1 は前記一般式（VI）および（VII）中
のＲ1 と同様の意味を有する）、例えばアニリン類化合物もしくはアルキルアミン類化合物と反応させることにより得られる。具体的には、両方の出発化合物を溶媒に溶解する。溶媒としては、このような反応に普通のものを使用できるが、なかでもメタノール、エタノール等のアルコール溶媒、またはトルエン等の炭化水素溶媒が好ましい。次いで、得られた溶液を室温から還流条件で、約１〜４８時間撹拌すると、対応する配位子が良好な収率で得られる。
【０３９８】
配位子化合物を合成する際、触媒として、蟻酸、酢酸、トルエンスルホン酸等の酸触媒を用いてもよい。また、脱水剤として、モレキュラシーブス、硫酸マグネシウムまたは硫酸ナトリウムを用いたり、ディーンシュタークにより脱水を行うと、反応進行に効果的である。
【０３９９】
次に、こうして得られた配位子を遷移金属Ｍ含有化合物と反応させることで、対応する遷移金属化合物を合成することができる。具体的には、合成した配位子を溶媒に溶解し、必要に応じて塩基と接触させてフェノキサイド塩を調製した後、金属ハロゲン化物、金属アルキル化物等の金属化合物と低温下で混合し、−７８℃から室温、もしくは還流条件下で、約１〜４８時間撹拌する。溶媒としては、このような反応に普通のものを使用できるが、なかでもエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の極性溶媒、トルエン等の炭化水素溶媒などが好ましく使用される。また、フェノキサイド塩を調製する際に使用する塩基としては、n-ブチルリチウム等のリチウム塩、水素化ナトリウム等のナトリウム塩等の金属塩や、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基が好ましいが、この限りではない。
【０４００】
また、化合物の性質によっては、フェノキサイド塩調製を経由せず、配位子と金属化合物とを直接反応させることで、対応する遷移金属化合物を合成することもできる。
さらに、合成した遷移金属化合物中の金属Ｍを、常法により別の遷移金属と交換することも可能である。また、例えばＲ1 〜Ｒ6 の何れかがＨである場合には、合成の任意の段階において、Ｈ以外の置換基を導入することができる。
【０４０１】
次に一般式（VIII）で表される遷移金属化合物について説明する。
【０４０２】
【化１４２】
2007126686.tif 000145
【０４０３】
式中、Ｍは周期表第８〜１１族の遷移金属原子を示し、鉄、ルテニウム、オスニウム、コバルト、ロジウム、イリジウムなどの周期表第８、９族の遷移金属原子であることが好ましく、特に鉄、コバルトが好ましい。
【０４０４】
Ｒ1〜Ｒ4は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基などを示す。
【０４０５】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの炭素原子数が１〜
２０の直鎖または分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチル、アントリルなどの炭素原子数が６〜２０のアリール基；これらのアリール基に前記炭素原子数が１〜２０のアルキル基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基；シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのシクロアルキル基；ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０４０６】
ハロゲン化炭化水素基としては、前記炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ヘテロ環式化合物としては、含窒素複素環化合物、含酸素複素環化合物、含イオウ複素環化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０４０７】
酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基としては、前記一般式（VI）中のＲ1 〜Ｒ6 と同様の基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０４０８】
ケイ素含有基としては、炭化水素置換シリル基、炭化水素置換シリルのシリルエーテル基、ケイ素置換アルキル基、ケイ素置換アリール基等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０４０９】
ゲルマニウム含有基としては、炭化水素置換ゲルミル基、炭化水素置換ゲルミルのゲルマニウムエーテル基、ゲルマニウム置換アルキル基、ゲルマニウム置換アリール基等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０４１０】
スズ含有基としては、炭化水素置換スタニル基、炭化水素置換スズのスタニルエーテル基、スズ置換アルキル基、スズ置換アリール基等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０４１１】
酸素含有基のうち、アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシなどが、アリーロキシ基として
は、フェノキシ、2,6-ジメチルフェノキシ、2,4,6-トリメチルフェノキシなどが、アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、p-クロロベンゾイル基、p-メトキシベンゾイル基などが、エステル基としては、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、p-クロロフェノキシカルボニルなどが好ましく例示される。
【０４１２】
窒素含有基のうち、アミノ基としては、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジフェニルアミノなどが、アミド基としては、アセトアミド、N-メチルアセトアミド、N-メチルベンズアミドなどが、イミド基としては、アセトイミド、ベンズイミドなどが、イミノ基としては、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが好ましく例示される。
【０４１３】
イオウ含有基のうち、アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオなどが、アリールチオ基としては、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナフチルチオなどが、チオエステル基としては、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルなどが、スルホンエステル基としては、スルホン酸メチル、スルホン酸エチ
ル、スルホン酸フェニルなどが、スルホンアミド基としては、フェニルスルホンアミド、N-メチルスルホンアミド、N-メチル-p-トルエンスルホンアミドなどが好ましく例示され
る。
【０４１４】
またＲ1 とＲ5 、Ｒ2 とＲ6 、Ｒ1 とＲ3 、Ｒ2 とＲ4 、Ｒ3 とＲ4 各々が互いに連結して芳香族環、脂肪族環や窒素原子やイオウ原子、酸素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有してもよい。
【０４１５】
ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、具体的には１〜８、好ましくは１〜５、より好ましくは１〜３の整数である。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基を示し、具体的には、前記一般式（Ｉ）中のＬと同様の基または原子が挙げられる。また、ｎが２以上の場合には、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよい。
【０４１６】
これらのうち、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜２０の炭化水素基またはスルフォネート基が好ましい。
Ｙは周期表第１５または１６族の原子を示し、具体的には窒素原子、リン原子、ヒ素原子、アンチモン原子、酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子などが挙げられ、好ましくは窒素原子、酸素原子またはイオウ原子である。
【０４１７】
本発明では、前記一般式（VIII）で表されるイミン化合物としては、下記一般式（VIII-a）で表される遷移金属イミン化合物であることが好ましい。
【０４１８】
【化１４３】
2007126686.tif 000146
【０４１９】
式中、Ｍは周期表第８〜１１族の遷移金属原子を示し、鉄、ルテニウム、オスニウム、コバルト、ロジウム、イリジウムなどの周期表第８、９族の遷移金属原子であることが好ましく、特に鉄、コバルトが好ましい。
【０４２０】
Ｒ7 〜Ｒ10は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基などを示す。具体的には前記一般式（VIII）中のＲ1 〜Ｒ4 と同様の基が挙げられる。
【０４２１】
Ｒ11は、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基などを示す。具体的には前記一般式（VIII）中のＲ1 〜Ｒ4 と同様の基が挙げられる。
【０４２２】
Ｒ7 とＲ9 、Ｒ8 とＲ10、Ｒ8 とＲ11、Ｒ9 とＲ10は、各々が互いに連結して芳香族環、脂肪族環、または窒素原子、イオウ原子、酸素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。
【０４２３】
Ｒ12〜Ｒ16は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基などを示す。具体的には前記一般式（VIII）中のＲ1 〜Ｒ4 と同様の基が挙げられる。
【０４２４】
Ｒ12〜Ｒ16のうち少なくとも1つは水素原子以外の基であり、またＲ12〜Ｒ16で示され
る基のうちの２個以上の基が互いに連結して環を形成していてもよく、好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪族環、芳香族環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有してもよい。
【０４２５】
ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、具体的には１〜８、好ましくは１〜５、より好ましくは１〜３の整数である。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基を示し、ｎが２以上の場合には、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよい。具体的には前述したものと同様の基または原子が挙げられる。
【０４２６】
Ｙは周期表第１５または１６族の原子を示し、具体的には窒素原子、リン原子、ヒ素原子、アンチモン原子、酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子などが挙げられ、好ましくは窒素原子、酸素原子またはイオウ原子である。
【０４２７】
本発明では、前記一般式（VIII）で表されるイミン化合物としては、下記一般式（VIII-b）で表される遷移金属イミン化合物であることがより好ましい、
【０４２８】
【化１４４】
2007126686.tif 000147
【０４２９】
式中、Ｍは周期表第８〜１１族の遷移金属原子を示し、鉄、ルテニウム、オスニウム、コバルト、ロジウム、イリジウムなどの周期表第８、９族の遷移金属原子であることが好ましく、特に鉄、コバルトが好ましい。
【０４３０】
Ｒ17〜Ｒ20は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基などを示す。具体的には前記一般式（VIII）中のＲ1 〜Ｒ4 と同様の基が挙げられる。
【０４３１】
Ｒ17とＲ19、Ｒ18とＲ20、Ｒ19とＲ20は、各々が互いに連結して芳香族環、脂肪族環、または窒素原子、イオウ原子、酸素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していても
よく、これらの環はさらに置換基を有していてもよい。
【０４３２】
Ｒ21〜Ｒ30は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基などを示す。
【０４３３】
Ｒ21〜Ｒ25のうち少なくとも1つは水素原子以外の基であり、かつＲ26〜Ｒ30のうち少
なくとも1つは水素原子以外の基であり、またＲ21〜Ｒ25で示される基のうちの２個以上
の基が互いに連結して環を形成していてもよく、Ｒ26〜Ｒ30で示される基のうちの２個以上の基が互いに連結して環を形成していてもよく、好ましくは隣接する基が互いに連結して脂肪族環、芳香族環または、窒素原子などの異原子を含む炭化水素環を形成していてもよく、これらの環はさらに置換基を有してもよい。
【０４３４】
ｎは、Ｍの価数を満たす数であり、具体的には１〜８、好ましくは１〜５、より好ましくは１〜３の整数である。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、ケイ素含有基を示し、ｎが２以上の場合には、Ｘで示される複数の基は互いに同一でも異なっていてもよい。具体的には、Ｘは前述のものと同様のものが挙げられる。
【０４３５】
Ｙは周期表第１５または１６族の原子を示し、具体的には窒素原子、リン原子、ヒ素原子、アンチモン原子、酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子などが挙げられ、好ましくは窒素原子、酸素原子またはイオウ原子である。
【０４３６】
以下に、上記一般式（VIII）、（VIII-a）、（VIII-b）で表される遷移金属イミン化合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるものではない。
【０４３７】
【化１４５】
2007126686.tif 000148
【０４３８】
【化１４６】
2007126686.tif 000149
【０４３９】
【化１４７】
2007126686.tif 000150
【０４４０】
【化１４８】
2007126686.tif 000151
【０４４１】
【化１４９】
2007126686.tif 000152
【０４４２】
【化１５０】
2007126686.tif 000153
【０４４３】
【化１５１】
2007126686.tif 000154
【０４４４】
【化１５２】
2007126686.tif 000155
【０４４５】
【化１５３】
2007126686.tif 000156
【０４４６】
【化１５４】
2007126686.tif 000157
【０４４７】
【化１５５】
2007126686.tif 000158
【０４４８】
なお、上記例示中Ｍｅはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示し、ｎＰｒはn-プロピル基を示し、ｉＰｒはi-プロピル基を示し、ｓＢｕはsec-ブチル基を示し、ｔＢｕはtert-
ブチル基を示し、ｎＯｃはn-オクチル基を示し、Ｐｈはフェニル基を示す。
【０４４９】
本発明では、上記のような遷移金属化合物において、鉄をコバルトに置き換えた化合物を例示することもできる。上記したような遷移金属化合物は、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【０４５０】
さらに本発明では、前記一般式（Ｉ）ないし（VIII）のいずれかで表される遷移金属化合物以外にも下記式で表される遷移金属化合物を用いることができる。
【０４５１】
【化１５６】
2007126686.tif 000159
【０４５２】
【化１５７】
2007126686.tif 000160
【０４５３】
【化１５８】
2007126686.tif 000161
【０４５４】
（Ｃ）第１３族の原子を含む有機化合物
本発明で用いられる（Ｃ）第１３族の原子を含む有機化合物として、具体的には下記一般式で表される有機アルミニウム化合物が挙げられる。
【０４５５】
Ｒam Ａｌ（ＯＲb ）n Ｈp Ｘq
（式中、Ｒa およびＲb は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｐは０≦ｐ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＝３である。）
このような有機アルミニウム化合物としては、次のような化合物などが例示できる。
【０４５６】
(1)一般式 Ｒam Ａｌ（ＯＲb）3-m
（式中、Ｒa およびＲb は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは好ましくは１．５≦ｍ≦３の数である。）
で表される有機アルミニウム化合物、
(2)一般式 Ｒam ＡｌＸ3-m
（式中、Ｒa は炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは好ましくは０＜ｍ＜３である。）
で表される有機アルミニウム化合物、
(3)一般式 Ｒam ＡｌＨ3-m
（式中、Ｒa は炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、ｍは好ましくは２≦ｍ＜３である。）
で表される有機アルミニウム化合物、
(4)一般式 Ｒam Ａｌ（ＯＲb）nＸq
（式中、Ｒa およびＲb は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が１〜１５、好ましくは１〜４の炭化水素基を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、ｍは０＜ｍ≦３、ｎは０≦ｎ＜３、ｑは０≦ｑ＜３の数であり、かつｍ＋ｎ＋ｑ＝３である。）
で表される有機アルミニウム化合物。
【０４５７】
有機アルミニウム化合物としてより具体的には
トリエチルアルミニウム、トリn-ブチルアルミニウムなどのトリn-アルキルアルミニウム；
トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリsec-ブチルアルミニウム、トリ tert-ブチルアルミニウム、トリ2-メチルブチルアルミニウム、トリ3-メチルブチルアルミニウム、トリ2-メチルペンチルアルミニウム、トリ3-メチルペンチルアルミニウム、トリ4-メチルペンチルアルミニウム、トリ2-メチルヘキシルアルミニウム、トリ3-メチルヘキシルアルミニウム、トリ2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリ分岐鎖アルキルアルミニウム；
トリシクロヘキシルアルミニウムなどのトリシクロアルキルアルミニウム；
トリフェニルアルミニウム，トリトリルアルミニウムなどのトリアリールアルミニウム；
ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのジアルキルアルミニウムハイドライド；
トリイソプレニルアルミニウムなどのトリアルケニルアルミニウム；
イソブチルアルミニウムメトキシド、イソブチルアルミニウムエトキシド、イソブチルアルミニウムイソプロポキシドなどのアルキルアルミニウムアルコキシド；
ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルアルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムアルコキシド；
エチルアルミニウムセスキエトキシド、ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアルミニウムセスキアルコキシド；
Ｒa 2.5 Ａｌ（ＯＲb ）0.5 などで表される平均組成を有する部分的にアルコキシ化されたアルキルアルミニウム；
ジエチルアルミニウムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミドなどのジアルキルアルミニウムハライド；
エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド；
エチルアルミニウムジクロリド、プロピルアルミニウムジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化されたアルキルアルミニウム；
ジエチルアルミニウムヒドリド、ジブチルアルミニウムヒドリドなどのジアルキルアルミニウムヒドリド；
エチルアルミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルアル
ミニウムジヒドリドなどその他の部分的に水素化されたアルキルアルミニウム；
エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムなどを挙げることができる。
【０４５８】
また前記有機アルミニウム化合物に類似する化合物も使用することができ、たとえば窒素原子を介して２以上のアルミニウム化合物が結合した有機アルミニウム化合物を挙げることができる。このような化合物として具体的には、
（Ｃ2Ｈ5)2 ＡｌＮ（Ｃ2Ｈ5)Ａｌ（Ｃ2Ｈ5)2
などを挙げることができる。
【０４５９】
その他にも、有機化合物（Ｃ）としては、一般式
（i-Ｃ4Ｈ9)x Ａｌy （Ｃ5 Ｈ10)z
（式中、ｘ、ｙおよびｚは正の数であり、ｚ≧２ｘである。）
で表されるイソプレニルアルミニウムを使用することもできる。
【０４６０】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒は、前記成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）からなるが、本発明では前記成分（Ａ）のみ、または成分（Ａ）とともに成分（Ｂ）および／または成分（Ｃ）が、粒子状担体（Ｄ）に担持されていてもよい。
【０４６１】
このような粒子状担体（Ｄ）としては、無機または有機の化合物であって、粒径が１０〜３００μｍ、好ましくは２０〜２００μｍの範囲にある顆粒状ないしは微粒子状の固体が使用される。このうち無機担体としては多孔質酸化物が好ましく、具体的にはＳｉＯ2 、Ａｌ2Ｏ3 、ＭｇＯ、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｂ2Ｏ3、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ2
などまたはこれらを含む混合物、たとえばＳｉＯ2-ＭｇＯ、ＳｉＯ2-Ａｌ2Ｏ3 、ＳｉＯ2-ＴｉＯ2 、ＳｉＯ2-Ｖ2Ｏ5 、ＳｉＯ2-Ｃｒ2Ｏ3 、ＳｉＯ2-ＴｉＯ2-ＭｇＯなどを例示することができる。これらの中でＳｉＯ2 およびＡｌ2Ｏ3 からなる群から選ばれた少な
くとも１種の成分を主成分とするものが好ましい。
【０４６２】
なお、上記無機酸化物には少量のＮａ2ＣＯ3 、Ｋ2ＣＯ3 、ＣａＣＯ3 、ＭｇＣＯ3 、Ｎａ2ＳＯ4 、Ａｌ2(ＳＯ4)3 、ＢａＳＯ4 、ＫＮＯ3 、Ｍｇ（ＮＯ3)2、Ａｌ（ＮＯ3)3 、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏなどの炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有していて
も差しつかえない。
【０４６３】
このような粒子状担体（Ｄ）はその種類および製法により性状は異なるが、本発明で好ましく用いられる担体は、比表面積が５０〜１０００ｍ2／ｇ、好ましくは１００〜７０
０ｍ2／ｇであり、細孔容積が０．３〜２．５ｃｍ3／ｇであることが望ましい。該粒子状担体は、必要に応じて１００〜１０００℃、好ましくは１５０〜７００℃で焼成して用いられる。
【０４６４】
さらに、粒子状担体としては、粒径が１０〜３００μｍの範囲にある有機化合物の顆粒状ないしは微粒子状固体を挙げることができる。これら有機化合物としては、エチレン、プロピレン、1-ブテン、4-メチル-1-ペンテンなどの炭素原子数が２〜１４のα-オレフィンを主成分として生成される（共）重合体あるいはビニルシクロヘキサン、スチレンを主成分として生成される重合体もしくは共重合体を例示することができる。
【０４６５】
本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒は、上記のような（Ａ）第３族から第１２族の遷移金属から選ばれる化合物、（Ｂ）前記（ｉ）、（ii）および（iii）、ま
たは前記（ｉ）、（ii）、（iii）および（iv）を反応させて得られる化合物、（Ｃ）第
１３族の原子を含む有機化合物、必要に応じて（Ｄ）粒子状担体からなる。図１に本発明
に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒の調製工程を示す。
【０４６６】
重合の際には、各成分の使用法、添加順序は任意に選ばれるが、以下のような方法が例示される。
(1) 成分（Ａ）と、成分（Ｂ）と、成分（Ｃ）とを任意の順序で重合器に添加する方法。(2) 成分（Ａ）と成分（Ｂ）を予め接触させた触媒成分、および成分（Ｃ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
(3) 成分（Ａ）と成分（Ｃ）を予め接触させた触媒成分、および成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
(4) 成分（Ａ）を粒子状担体（Ｄ）に担持した触媒成分、成分（Ｂ）および成分（Ｃ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
(5) 成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを粒子状担体（Ｄ）に担持した触媒成分、および成分（Ｃ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
(6) 成分（Ａ）と成分（Ｃ）とを粒子状担体（Ｄ）に担持した触媒成分、および成分（Ｂ）を任意の順序で重合器に添加する方法。
(7) 成分（Ａ）と成分（Ｂ）と成分（Ｃ）とを粒子状担体（Ｄ）に担持した触媒を重合器に添加する方法。
【０４６７】
なお上記の粒子状担体（Ｄ）に成分（Ａ）および成分（Ｂ）が担持された固体触媒成分はエチレン性不飽和モノマーが予備重合されていてもよい。
本発明に係るエチレン性不飽和モノマーの重合方法では、上記のような重合用触媒の存在下に、エチレン性不飽和モノマーを重合または共重合することにより重合体を得る。
【０４６８】
本発明では、重合は溶解重合、懸濁重合などの液相重合法または気相重合法いずれにおいても実施できる。
液相重合法において用いられる不活性炭化水素媒体として具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油などの脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素またはこれらの混合物などを挙げることができ、重合に用いるエチレン性不飽和モノマー自身を媒体として用いることもできる。
【０４６９】
上記のような重合用触媒を用いて、エチレン性不飽和モノマーの（共）重合を行うに際して、成分（Ａ）は、反応容積１リットル当り、通常１０-12〜１０-2モル、好ましくは
１０-10〜１０-2モルとなるような量で用いられる。
【０４７０】
成分（Ｂ）は、成分（Ｂ）中の１３族原子（ＭB ）と成分（Ａ）中の遷移金属原子（ＭA ）とのモル比〔ＭB ／ＭA 〕が、通常０．０１〜１００００、好ましくは０．０５〜２０００となるような量で用いられる。成分（Ｃ）は、成分（Ｃ）と成分（Ａ）中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｃ）／Ｍ〕が、通常１〜５００００、好ましくは１〜２００００となるような量で用いられる。
【０４７１】
また、このような重合用触媒を用いたエチレン性不飽和モノマーの重合温度は、通常−５０〜２００℃、好ましくは０〜１７０℃の範囲である。重合圧力は、通常常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ2 、好ましくは常圧〜５０ｋｇ／ｃｍ2 の条件下であり、重合反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うことができる。さらに重合を反応条件の異なる２段以上に分けて行うことも可能である。
【０４７２】
得られるエチレン性不飽和モノマーの（共）重合体の分子量は、重合系に水素を存在させるか、または重合温度を変化させることによって調節することができる。
本発明の重合用触媒が利用されるエチレン性不飽和モノマーとしては、エチレン、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、3-メチル-1-ブテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ペンテン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキ
サデセン、1-オクタデセン、1-エイコセンなどの1-オレフィン；
スチレン、α−メチルスチレンなどのアリール基置換エチレン系不飽和モノマー；
アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、ビシクロ(2,2,1)-5-ヘプテン-2,3-ジカルボン酸などの不飽和脂肪酸；
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n-プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸 tert-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n-ブチル、メタクリル酸イソブチルなどの不飽和カルボン酸エステル；
ジエン、トリエン、テトラエンなどが例示される。
【０４７３】
得られるエチレン性不飽和モノマーの（共）重合体としては、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリヘキセン、ポリ-4-メチル-1-ペンテン、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・ブテン共重合体、エチレン・ペンテン共重合体、エチレン・ヘキセン共重合体、エチレン・4-メチル-1-ペンテン共重合体、エチレ
ン・オクテン共重合体、エチレン・プロピレン・ブテン・３元共重合体、エチレン・ブテン・ヘキセン・３元共重合体、エチレン・ブテン・オクテン・３元共重合体、プロピレン・ブテン共重合体、プロピレン・ペンテン共重合体、プロピレン・ヘキセン共重合体、プロピレン・オクテン共重合体、エチレン・スチレン共重合体、プロピレン・スチレン共重合体、エチレン・プロピレン・スチレン３元共重合体、エチレン・オクテン・スチレン３元共重合体、エチレン・α−オレフィン・ジエン３元共重合体（ジエンとしては、ブタジエン、イソプレン、1,4-ヘキサジエン、ジシクロペンタジエン、5-エチリデン-2-ノルボ
ルネン、7-メチル-1,6-オクタジエンなどが挙げられる。）、エチレン・α−オレフィン
・トリエン３元共重合体（トリエンとしては、6,10-ジメチル-1,5,9-ウンデカトリエン、5,9-ジメチル-1,4,8-デカトリエンなどの鎖状または環状トリエンが挙げられる。）、エ
チレン・α−オレフィン・テトラエン３元共重合体（テトラエンとしては、6,10,14-トリメチル-1,5,9,13-ペンタデカトリエン、5,9,13-トリメチル-1,4,8,12-テトラデカトリエ
ンなどが挙げられる。）などが例示される。なお、３元系共重合体のα−オレフィンとしては、プロピレン、n-ブテン、ペンテン、n-ヘキセン、n-オクテン、デセンなどが挙げられる。
［実施例］
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０４７４】
なお、本発明において極限粘度［η］は１３５℃デカリン中で測定し、ｄｌ／ｇで示した。
［実施例１］
触媒成分の溶液Ａの調製
充分に窒素置換したフラスコ内のブロモペンタフルオロベンゼン ７．４１ｇ（３０．
０ｍｍｏｌ）を溶解した脱水トルエン溶液７０ｍｌに、−７８℃でn-ＢｕＬｉのヘキサン溶液１９ｍｌ（３０．６ｍｍｏｌ）を添加し、−７８℃で４時間攪拌した。これに三臭化アルミニウム ２．６７ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）を溶解した脱水トルエン溶液３００ｍｌ
を添加し、自然昇温の後、１２時間室温で攪拌した。このスラリーをグラスフィルターで濾過し、ろ液を分取した。これを０℃で攪拌しながら、乾燥窒素に蒸留水０．０９ｍｌを含ませた含水窒素を系内にバブリングしながら導入した。導入後、室温で３時間攪拌し、その後６０℃で３時間攪拌した。この溶液を−４０℃まで冷却し、これにトリフェニルクロロメタン１．３９ｇ（５．０ｍｍｏｌ）を溶解した脱水トルエン溶液４０ｍｌを滴下し
た。滴下後、室温で１２時間攪拌することにより、触媒成分の溶液Ａを調製した。
［実施例２］
触媒成分の溶液Ｂの調製
充分に窒素置換したフラスコ内のトリイソブチルアルミニウム ５ｍｍｏｌを溶解した
脱水トルエン溶液２０ｍｌを０℃で攪拌しながら、乾燥窒素に蒸留水０．０４５ｍｌを含ませた含水窒素を系内にバブリングしながら導入した。導入後、室温で３時間攪拌した。この溶液を０℃まで冷却し、ペンタフルオロフェノール １．８４ｇ（１０．０ｍｍｏｌ
）の脱水トルエン溶液１０ｍｌを滴下した。滴下後、室温で１２時間攪拌し、その後６０℃で２時間攪拌した。この溶液を０℃まで冷却し、これにトリフェニルクロロメタン ０
．６９ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を溶解した脱水トルエン溶液１０ｍｌを滴下した。滴下後、室温で１２時間攪拌することにより、触媒成分の溶液Ｂを調製した。
［実施例３］
触媒成分の溶液Ｃの調製
充分に窒素置換したフラスコ内のトリイソブチルアルミニウム ５ｍｍｏｌを溶解した
脱水トルエン溶液２０ｍｌを０℃で攪拌しながら、乾燥窒素に蒸留水０．０４５ｍｌを含ませた含水窒素を系内にバブリングしながら導入した。導入後、室温で３時間攪拌した。この溶液を０℃まで冷却し、ペンタフルオロ安息香酸 ２．１２ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）
の脱水トルエン溶液１０ｍｌを滴下した。滴下後、室温で１２時間攪拌し、その後６０℃で５時間攪拌した。この溶液を０℃まで冷却し、これにトリフェニルクロロメタン ０．
６９ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を溶解した脱水トルエン溶液１０ｍｌを滴下した。滴下後、室温で１２時間攪拌することにより、触媒成分の溶液Ｃを調製した。
［実施例４］
触媒成分の溶液Ｄの調製
充分に窒素置換したフラスコ内のトリエチルアルミニウム １７ｍｍｏｌを溶解した脱
水o-キシレン溶液４０ｍｌを室温で攪拌しながら、2,3,4,5,6-ペンタフルオロアニリン１．５６ｇ（８．５ｍｍｏｌ）の脱水o-キシレン溶液３０ｍｌをゆっくり滴下した。滴下後、１３０℃で３５時間加熱攪拌を行った。この溶液の溶媒を除去した後、脱水トルエン５０ｍｌを加えた。この溶液を０℃まで冷却し、ペンタフルオロフェノール１２．５２ｇ（６８ｍｍｏｌ）の脱水トルエン溶液７０ｍｌを滴下した。滴下後、室温で１２時間攪拌した。これを６０℃で２時間攪拌した。この溶液を０℃まで冷却し、これにトリフェニルクロロメタン２．３７ｇ（８．５ｍｍｏｌ）を溶解した脱水トルエン溶液５０ｍｌを滴下した。滴下後、室温で１２時間攪拌することにより、触媒成分の溶液Ｄを調製した。
［実施例５］
触媒成分の溶液Ｅの調製
充分に窒素置換したフラスコ内のトリノルマルオクチルアルミニウム ５ｍｍｏｌを溶
解した脱水トルエン溶液２０ｍｌを０℃で攪拌しながら、乾燥窒素に蒸留水０．０４５ｍｌを含ませた含水窒素を系内にバブリングしながら導入した。導入後、室温で５時間攪拌した。この溶液を０℃まで冷却し、これにトリフェニルクロロメタン０．６９ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を溶解した脱水トルエン溶液１０ｍｌを滴下した。滴下後、室温で１２時間攪拌することにより、触媒成分の溶液Ｅを調製した。
［実施例６］
エチレン重合
充分に窒素置換した内容量５００ｍｌのガラス製オートクレーブにトルエン４００ｍｌを装入し、エチレンを１００リットル／時間の量で流通させ、７５℃で１０分間保持させておいた。これに、トリイソブチルアルミニウムを０．２８ミリモル添加し、次いで、rac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド０．０００８ミリモルを添加し、最後にＡｌ原子換算で０．００３２ミリモルの触媒成分の溶液Ａを加え重合を開始した。エチレンガスを１００リットル／時間の量で連続的に供給し、常圧下、７５℃で６分間重合を行った後、少量のメタノールを添加し重合を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノールに加え、ポリマーを析出させ、８０℃で１２時間、
減圧乾燥を行った結果、ポリマー８．００ｇが得られた。重合活性は１００ｋｇ−ＰＥ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリマーの［η］は６．１０ｄｌ／ｇであった。［実施例７］
エチレン重合
実施例６において触媒成分の溶液Ａに代えて、実施例２で調製した触媒成分の溶液Ｂを用いたこと以外は実施例６と同様にしてエチレンを重合した結果、ポリマー１．４４ｇが得られた。重合活性は１８ｋｇ−ＰＥ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリマーの［η］は３．５０ｄｌ／ｇであった。
［実施例８］
エチレン重合
実施例６において触媒成分の溶液Ａに代えて、実施例４で調製した触媒成分の溶液Ｄを用いて、Ａｌ原子換算で０．００３２ミリモルの触媒成分の溶液を加えていたところをＡｌ原子換算で０．０１６ミリモルの触媒成分の溶液Ｄを加えたこと以外は実施例６と同様にしてエチレン重合をした結果、ポリマー０．５０ｇが得られた。重合活性は６．２５ｋｇ−PE／ｍｍｏｌ −Zr・ｈｒであり、得られたポリマーの［η］は３．４８ｄｌ／ｇで
あった。
［実施例９］
エチレン重合
充分に窒素置換した内容量５００ｍｌのガラス製オートクレーブにトルエン４００ｍｌを装入し、エチレンを１００リットル／時間の量で流通させ、７５℃で１０分間保持させておいた。これに、トリイソブチルアルミニウムを０．２８ミリモル添加し、次いで、エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド０．０００８ミリモルを添加し、最後にＡｌ原子換算で０．００３２ミリモルの触媒成分の溶液Ａを加え重合を開始した。エチレンガスを１００リットル／時間の量で連続的に供給し、常圧下、７５℃で６分間重合を行った後、少量のメタノールを添加し重合を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノールに加え、ポリマーを析出させ、８０℃で１２時間、減圧乾燥を行った結果、ポリマー５．８０ｇが得られた。重合活性は７２．５ｋｇ−ＰＥ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリマーの［η］は１．８ｄｌ／ｇであった。
［実施例１０］
エチレン重合
実施例９において触媒成分の溶液Ａに代えて、実施例２で調製した触媒成分の溶液Ｂを用い、重合時間を１０分間としたこと以外は実施例９と同様にしてエチレンを重合した結果、ポリマー１．４４ｇが得られた。重合活性は１０．８ｋｇ−ＰＥ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリマーの［η］は１．４３ｄｌ／ｇであった。
［実施例１１］
エチレン重合
実施例１０において触媒成分の溶液Ｂに代えて、実施例３で調製した触媒成分の溶液Ｃを用いたこと以外は実施例１０と同様にしてエチレンを重合した結果、ポリマー０．８０ｇが得られた。重合活性は６．０ｋｇ−ＰＥ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリマーの［η］は１．５８ｄｌ／ｇであった。
［実施例１２］
プロピレン重合
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製オートクレーブにトルエン４００ｍｌを装入し、プロピレンを１００リットル／時間の量で流通させ、５０℃で２０分間保持させておいた。これにトリイソブチルアルミニウムを０．２８ミリモル添加し、次いでrac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド０．０００８ミリモルを添加し、最後にAl原子換算で０．００３２ミリモルの触媒成分の溶液Ａを加え重合を開始した。プロピレンガスを１００リットル／時間の量で連続的に供給し、常圧下、５０℃で３０分間重合を行った後、少量のメタノールを添加し重合を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノールに加え、ポリマーを析出させ、８０℃で１２時間、
減圧乾燥を行った結果、ポリマー２．４０ｇが得られた。重合活性は６．００ｋｇ−PP／ｍｍｏｌ−Zr・ｈｒであり、得られたポリマーの［η］は３．６０ｄｌ／ｇであった。
［実施例１３］
プロピレン重合
実施例１２において触媒をrac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリドからエチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリドに代えたこと以外は実施例１２と同様にしてプロピレン重合をした結果、ポリマー０．２４ｇが得られた。重合活性は０．６０ｋｇ−PP／ｍｍｏｌ−Zr・ｈｒであり、得られたポリマーの［η］は０．４５ｄｌ／ｇであった。
［実施例１４］
エチレン・プロピレン共重合
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製オートクレーブにトルエン４００ｍｌを装入し、エチレン４０リットル／時間とプロピレン６０リットル／時間の混合ガスを流通させ、５０℃で２０分間保持させておいた。これにトリイソブチルアルミニウムを０．２８ミリモル添加し、次いでrac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド０．０００８ミリモルを添加し、最後にＡｌ原子換算で０．００３２ミリモルの触媒成分の溶液Ａを加え重合を開始した。エチレン４０リットル／時間とプロピレン６０リットル／時間の混合ガスを連続的に供給し、常圧下、５０℃で３０分間重合を行った後、少量のメタノールを添加し重合を停止した。ポリマー溶液を塩酸水溶液で洗浄し、溶液を濃縮することによりポリマーを析出させ、１３０℃で１２時間、減圧乾燥を行った結果、ポリマー２．８０ｇが得られた。重合活性は７．００ｋｇ−ホ゜リマー／ｍｍｏｌ−Zr・ｈｒであり、得られたポリマーの［η］は０．６７ｄｌ／ｇであり、密度は０．８６４ｇ／ｃｍ3 であった。
［実施例１５］
エチレン・オクテン共重合
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製オートクレーブにトルエン３８０ｍｌを装入し、これに1-オクテン２０ｍｌを入れた後、エチレン１００リットル／時間の量で流通させ、５０℃で２０分間保持させておいた。これにトリイソブチルアルミニウムを０．２８ミリモル添加し、次いでrac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド０．０００８ミリモルを添加し、最後にＡｌ原子換算で０．００３２ミリモルの触媒成分の溶液Ａを加え重合を開始した。エチレンガスを１００リットル／時間の量で連続的に供給し、常圧下、５０℃で３０分間重合を行った後、少量のメタノールを添加し重合を停止した。
【０４７５】
ポリマー溶液を塩酸水溶液で洗浄し、溶液を濃縮することによりポリマーを析出させ、１３０℃で１２時間、減圧乾燥を行った結果、ポリマー０．３６ｇが得られた。重合活性は０．９０ｋｇ−ポリマー／ｍｍｏｌ−Zr・ｈｒであり、得られたポリマーの［η］は０．８９ｄｌ／ｇであり、密度は０．８５８ｇ／ｃｍ3であった。
［実施例１６］
エチレン重合
充分に窒素置換した内容量５００ｍｌのガラス製オートクレーブにトルエン２５０ｍｌを装入し、エチレンを１００リットル／時間の量で流通させ、２５℃で１０分間保持させておいた。これに、トリイソブチルアルミニウムを０．０６２５ミリモル添加し、次いで、下記Ｎｉ触媒０．００２５ミリモルを加え、最後にＡｌ原子換算で０．００５ミリモルの触媒成分の溶液Ａを添加し重合を開始した。エチレンガスを１００リットル／時間の量で連続的に供給し、常圧下、２５℃で１５分間重合を行った後、少量のメタノールを添加し重合を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノールに加え、ポリマーを析出させ、８０℃で１２時間、減圧乾燥を行った結果、ポリマー０．２０ｇが得られた。重合活性は０．３２ｋｇ−ＰＥ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであった。
【０４７６】
【化１５９】
2007126686.tif 000162
【０４７７】
［実施例１７］
エチレン重合
充分に窒素置換した内容量５００ｍｌのガラス製オートクレーブにトルエン２５０ｍｌを装入し、エチレンを１００リットル／時間の量で流通させ、２５℃で１０分間保持させておいた。これに、トリイソブチルアルミニウムを０．８３３ミリモル添加し、次いで、2,2'-チオビス（4-メチル-6-t-ブチルフェノキシ）チタニウムジクロリド０．０１０５ミリモルを加え、最後にＡｌ原子換算で０．０２１ミリモルの触媒成分の溶液Ａを添加し重合を開始した。エチレンガスを１００リットル／時間の量で連続的に供給し、常圧下、２５℃で６０分間重合を行った後、少量のメタノールを添加し重合を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノールに加え、ポリマーを析出させ、８０℃で１２時間、減圧乾燥を行った結果、ポリマー４．５０ｇが得られた。重合活性は０．４３ｋｇ−ＰＥ／ｍｍｏｌ−Ｚｒ・ｈｒであった。
【０４７８】
以上の結果を表３に示す。表中、Ｚｒ濃度、Ａｌ濃度とあるのは、それぞれＺｒ原子換算、Ａｌ原子換算である。
【０４７９】
【表３】
2007126686.tif 000163
【０４８０】
［実施例１８］
触媒成分の溶液Ｆの調製
充分に窒素置換したフラスコ内のジエチルアルミニウムクロライド２０ｍｍｏｌを溶解した脱水o-キシレン溶液２０ｍｌを室温で攪拌しながら、2,3,4,5,6-ペンタフルオロアニリン１．８３ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）の脱水o-キシレン溶液３０ｍｌをゆっくり滴下した。滴下後、１２５℃で４０時間加熱攪拌を行った。続いてこの溶液中の溶媒を除去した後
、ヘキサン５０ｍｌを加えて攪拌した。この溶液部のみをデカンテーションで取り除き、不溶部に脱水トルエンを１００ｍｌ加えてトルエン溶液（溶液ｆ-1）とした。
【０４８１】
次に別の充分に窒素置換したフラスコ内のペンタフルオロベンゼン０．５７ｍｌ（４．５６ｍｍｏｌ）の脱水トルエン溶液２０ｍｌを−７８℃で攪拌しながら、n-ＢｕＬｉのヘキサン溶液２．９５ｍｌ（４．６９ｍｍｏｌ）を添加し、−７８℃で７時間攪拌して溶液（溶液ｆ-2)を得た 。
【０４８２】
上記溶液ｆ−１からＡｌ原子換算で２．２８ｍｍｏｌの溶液を分取した後、この溶液を−７８℃で攪拌しながら溶液ｆ-2全量をゆっくり滴下した。得られた混合液を自然昇温した後、１２時間室温で攪拌した。このスラリーをグラスフィルターで濾過し、濾液を分取し溶液（溶液ｆ-3）を得た。
【０４８３】
充分に窒素置換したフラスコ内に上記溶液ｆ-3からＡｌ原子換算で０．８５２ｍｍｏｌの溶液を分取した後、この溶液を−７８℃で攪拌しながら、トリフェニルクロロメタン０．２４ｇ（０．８６ｍｍｏｌ）の脱水トルエン溶液１０ｍｌを滴下した。得られた混合液を自然昇温した後、１２時間室温で攪拌することにより、触媒成分の溶液Ｆを調整した。［実施例１９］
触媒成分の溶液Ｇの調製
充分に窒素置換したフラスコ内のジフェニルシランジオール１．００ｇ（４．６２ｍｍｏｌ）と脱水トルエン５０ｍｌを室温で攪拌した後、攪拌しながら−７８℃に冷却し、続いてジエチルアルミニウムクロライド９．２４ｍｍｏｌを溶解した脱水トルエン溶液３０ｍｌをゆっくり滴下した。滴下後、得られた混合液を室温まで自然昇温して１２時間で攪拌し、その後、１００℃で６時間加熱攪拌を行った。得られた溶液中の溶媒を除去した後、ヘキサン５０ｍｌを加えて攪拌した。この溶液部のみをデカンテーションで取り除き、不溶部に脱水トルエンを１００ｍｌ加えてトルエン溶液（溶液ｇ-1）とした。
【０４８４】
次に別の充分に窒素置換したフラスコ内のペンタフルオロベンゼン２．３０ｍｌ（１８．５０ｍｍｏｌ）の脱水トルエン溶液２０ｍｌを、−７８℃で攪拌しながらn-ＢｕＬｉのヘキサン溶液１１．５０ｍｌ（１８．５０ｍｍｏｌ）を添加し、−７８℃で７時間攪拌して溶液（溶液ｇ-2）を得た。
【０４８５】
上記溶液ｇ-1を−７８℃で攪拌しながら、溶液ｇ-2をゆっくり滴下した。得られた混合液を自然昇温した後、１２時間室温で攪拌した。このスラリーをグラスフィルターで濾過し、濾液を分取して溶液（溶液ｇ-3）を得た。
【０４８６】
この溶液ｇ-3を−７８℃で攪拌しながら、トリフェニルクロロメタン１．２８ｇ（４．６０ｍｍｏｌ）の脱水トルエン溶液３０ｍｌを滴下した。鰓得た混合液を自然昇温した後、１２時間室温で攪拌することにより、触媒成分の溶液Ｇを調整した。
［実施例２０］
エチレン重合
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製オートクレーブにトルエン４００ｍｌを装入し、エチレンを１００リットル／時間の量で流通させ、７５℃で１０分間保持した。これに、トリイソブチルアルミニウムを０．２８ミリモル添加し、次いでrac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド０．０００８ミリモルを添加し、最後にＡｌ原子換算で０．００３２ミリモルの触媒成分の溶液Ｆを加え重合を開始した。エチレンガスを１００リットル／時間の量で連続的に供給し、常圧下、７５℃で６分間重合を行った後、少量のメタノールを添加し重合を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノールに加え、ポリマーを析出させ、８０℃で１２時間、減圧乾燥を行った結果、ポリマー５．９０ｇが得られた。重合活性は７３．７５ｋｇ-ＰＥ／ｍｍｏ
ｌ-Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリマーの極限粘度［η］は５．６３ｄｌ／ｇであった
。
［実施例２１］
エチレン重合
実施例２０において、rac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリドに代えて、エチレン-ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリ
ドを使用したこと以外は同様にしてエチレン重合を行った結果、ポリマー７．２０ｇが得られた。重合活性は９０．００ｋｇ-ＰＥ／ｍｍｏｌ-Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリマーの極限粘度［η］は１．７５ｄｌ／ｇであった。
［実施例２２］
エチレン重合
実施例２０において触媒成分の溶液Ｆに代えて、触媒成分の溶液Ｇを使用したこと以外は同様にしてエチレン重合を行った結果、ポリマー４．５７ｇが得られた。重合活性は５７．１３ｋｇ-ＰＥ／ｍｍｏｌ-Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリマーの極限粘度［η］は６．９１ｄｌ／ｇであった。
［実施例２３］
エチレン重合
実施例２０において、rac-ジメチルシリレン-ビス（2-メチル-4-フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリドに代えて、エチレン-ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリ
ドを使用し、触媒成分の溶液Ｆに代えて、触媒成分の溶液Ｇを使用したこと以外は同様にしてエチレン重合を行った結果、ポリマー１０．６４ｇが得られた。重合活性は１３３．００ｋｇ-ＰＥ／ｍｍｏｌ-Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリマーの極限粘度［η］は１．４８ｄｌ／ｇであった。
［実施例２４］
エチレン重合
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製オートクレーブにトルエン２５０ｍｌを装入し、エチレンを１００リットル／時間の量で流通させ、２５℃で１０分間保持させておいた。これに、トリイソブチルアルミニウムを０．２５ミリモル添加し、次いで下記式で表されるジルコニウム化合物０．００５ミリモルを添加し、最後にＡｌ原子換算で０．０１２ミリモルの触媒成分の溶液Ｇを加え重合を開始した。エチレンガスを１００リットル／時間の量で連続的に供給し、常圧下、２５℃で５分間重合を行った後、少量のメタノールを添加し重合を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノールに加え、ポリマーを析出させ、８０℃で１２時間、減圧乾燥を行った結果、ポリマー２．１０ｇが得られた。重合活性は５．０４ｋｇ-ＰＥ／ｍｍｏｌ-Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリマーの極限粘度［η］は０．１５ｄｌ／ｇであった。
【０４８７】
【化１６０】
2007126686.tif 000164
【０４８８】
［実施例２５］
エチレン重合
実施例２４において上記式で表されるジルコニウム化合物に代えて、下記式で表されるチタン化合物を使用したこと以外は同様にしてエチレン重合を行った結果、ポリマー０．４０ｇが得られた。重合活性は０．４８ｋｇ-ＰＥ／ｍｍｏｌ-Ｔｉ・ｈｒであり、得られ
たポリマーの極限粘度［η］は６．３２ｄｌ／ｇであった。
【０４８９】
【化１６１】
2007126686.tif 000165
【０４９０】
［実施例２６］
エチレン重合
実施例２４において上記式で表されるジルコニウム化合物に代えて、下記式で表されるジルコニウム化合物を使用したこと以外は同様にしてエチレン重合を行った結果、ポリマー２．１５ｇが得られた。重合活性は５．１６ｋｇ-ＰＥ／ｍｍｏｌ-Ｚｒ・ｈｒであり、得られたポリマーの極限粘度［η］は１．１７ｄｌ／ｇであった。
【０４９１】
【化１６２】
2007126686.tif 000166
【０４９２】
［実施例２７］
エチレン重合
実施例２４において上記式で表されるジルコニウム化合物に代えて、下記式で表されるチタン化合物を使用したこと以外は同様にしてエチレン重合を行った結果、ポリマー０．１５ｇが得られた。重合活性は０．１８ｋｇ-ＰＥ／ｍｍｏｌ-Ｔｉ・ｈｒであり、得られたポリマーの極限粘度［η］は６．３１ｄｌ／ｇであった。
【０４９３】
【化１６３】
2007126686.tif 000167
【０４９４】
［実施例２８］
エチレン重合
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのガラス製オートクレーブにトルエン２５０ｍｌを装入し、エチレンを１００リットル／時間の量で流通させ、２５℃で１０分間保持させておいた。これに、トリイソブチルアルミニウムを０．１００ミリモル添加し、次いで下記式で表される鉄化合物０．００５ミリモルを添加し、最後にＡｌ原子換算で０．０１０ミリモルの触媒成分の溶液Ｇを加え重合を開始した。エチレンガスを１００リットル／時
間の量で連続的に供給し、常圧下、２５℃で５分間重合を行った後、少量のメタノールを添加し重合を停止した。ポリマー溶液を大過剰のメタノールに加え、ポリマーを析出させ、８０℃で１２時間、減圧乾燥を行った結果、ポリマー０．４５ｇが得られた。重合活性は１０．８０ｋｇ-ＰＥ／ｍｍｏｌ-Ｆｅ・ｈｒであり、得られたポリマーの極限粘度［η］は３．０１ｄｌ／ｇであった。
【０４９５】
【化１６４】
2007126686.tif 000168
【０４９６】
実施例２０〜２８の結果を表４に示す。表中、濃度あるのは、それぞれ対応する金属の原子換算である。
【０４９７】
【表４】
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【図面の簡単な説明】
【０４９８】
【図１】本発明に係るエチレン性不飽和モノマー重合用触媒成分を含む触媒の調製工程を示す説明図である。
【図１】
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