(57)【要約】【課題】煩雑な演算処理を要せず、流体中の所定の空間断面における浮遊粒子のサイズ、浮遊粒子の数、浮遊粒子の分布を好適に求めることができ、また、流体中の所定の空間断面における浮遊粒子の動きを具体的に把握することができるといった、優れた浮遊粒子測定装置を提供する。【解決手段】浮遊粒子Ｒを含む流体Ｔに対して低コヒーレント光Ｂ１を照射する低コヒーレント光源１と、低コヒーレント光Ｂ１を分離するビームスプリッタ４と、参照光Ｂ３と散乱光Ｂ５とが干渉する干渉光Ｂ６路上に配され、且つそれら参照光Ｂ３および散乱光Ｂ５によって生じる干渉光Ｂ６のスペクトル強度を検出しその干渉画像を得る撮像部６と、撮像部６で得た干渉画像に基づいて、浮遊粒子Ｒの数量、分布および大きさのうち少なくとも一つを求める演算部７ｄとを具備してなるようにした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
浮遊粒子を含む流体に対して低コヒーレント光を照射する低コヒーレント光源と、
前記低コヒーレント光源から照射される低コヒーレント光を、透過および反射して前記流体と参照鏡とに向けて分離するビームスプリッタと、
前記ビームスプリッタで分離されたのち前記参照鏡によって反射されてくる参照光と、分離されたのち前記浮遊粒子によって散乱されてくる散乱光とが、干渉する干渉光路上に配され、且つそれら参照光および散乱光によって生じる干渉光のスペクトル強度を検出することでその干渉光の干渉画像を得る撮像部と、
前記撮像部で得た干渉画像に基づいて、前記浮遊粒子の数量、分布および大きさのうち少なくとも一つを求める演算部とを具備してなることを特徴とする浮遊粒子測定装置。
【請求項２】
浮遊粒子を含む流体に対して低コヒーレント光を照射する低コヒーレント光源と、
前記低コヒーレント光源から照射される低コヒーレント光を、透過および反射して前記流体と参照鏡とに向けて分離するビームスプリッタと、
前記ビームスプリッタで分離されたのち前記参照鏡によって反射されてくる参照光と、分離されたのち前記浮遊粒子によって散乱されてくる散乱光とが、干渉する干渉光路上に配され、且つそれら参照光および散乱光によって生じる干渉光のスペクトル強度を検出することでその干渉光の干渉画像を得る撮像部と、
前記撮像部で得られる複数の干渉画像を、撮像時間順に連続的に画像出力する画像出力部とを具備して成ることを特徴とする浮遊粒子測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低コヒーレント光を流体に照射することで、その流体に含まれる浮遊粒子の数量、分布、或いは大きさを測定する浮遊粒子測定装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体素子などの製造時に使用される流体中に含まれる粒子を検出し、その特徴と大きさを調べることができるようにした流体検査装置が知られている。
【０００３】
具体的にこの種の流体検査装置は、例えば、レーザ光を照射するレーザ光源と、レーザ光源が照射したレーザ光をサンプル光および基準光に分割するビームスプリッタと、このビームスプリッタで分割されたサンプル光を粒子に対して集光照射する機能と該粒子で散乱された散乱光をビームスプリッタに向けて集光する機能とを備える対物レンズと、前記基準光と対物レンズおよびビームスプリッタを介して戻ってきた散乱光とを検出する検出器とを具備し、検出器で得られる検出信号を分析することで、粒子のサイズや、粒子が金属であるか誘電体であるかなどを区別できるように構成されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
また、大気中に浮遊する微粒子などの個数、粒径分布等を、遠隔において計測するリモートパーティクルカウンター装置が知られている。
【０００５】
具体的にこの種のリモートパーティクルカウンター装置は、パルスレーザー、レーザー出射光学系、散乱光の集光光学系、散乱光の検出部である高速ゲート機能を有するＣＣＤカメラ等の高感度２次元光検出器及び制御計測系を具備し、レーザー出射地点より遠方にある大気中の浮遊微粒子からのレーザー照射によって生じた微粒子個々からの後方散乱光を画像として検出することで、大気中に浮遊する微粒子等の個数、粒径分布等を遠隔において計測できるように構成されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平０１−２９２２３５号公報
【特許文献２】特開２００４−２３３０７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の構成、特に特許文献１の構成では、基準光と対物レンズおよびビームスプリッタを介して戻ってきた散乱光とを検出して、これから粒子のサイズや、粒子が金属であるか誘電体であるか等を区別できるとは言うものの、計測中の粒子が、どの空間断面に存在しているのかを知ることは困難である。これは、コヒーレントなレーザ光を、測定に用いているため、このレーザ光の進行方向で且つ波長の整数倍前後にずれた位置関係にある複数の粒子については、その前後関係を正確に知ることができず、結果、かかる空間断面における粒子の数や分布を正確に知ることができないからである。
【０００７】
また、特許文献２の構成では、微粒子群が存在する空間中に対してレーザ光を照射し、その空間中にある微粒子からの散乱光を測定するものであるため、出射するレーザの広がり角度、カメラの倍率およびシャッタの遅れ時間から微粒子の濃度を算出しなければならず、演算処理が煩雑になるといった問題点を有している。また、特許文献１における上記問題と同様に、ある空間断面における粒子の数や分布を正確に知ることができないといった問題点を有している。
【０００８】
さらに、特許文献１および特許文献２のいずれの構成でも、ある空間断面における粒子の動きを、具体的に把握できるものでは決して無い。
【０００９】
本発明は、このような課題に着目してなされたものであって、主たる目的は、煩雑な演算処理を要せず、流体中の所定の空間断面における浮遊粒子のサイズ、浮遊粒子の数、浮遊粒子の分布を好適に求めることができるといった、優れた浮遊粒子測定装置を提供すること、及び、煩雑な演算処理を要せず、流体中の所定の空間断面における浮遊粒子の動きを具体的に把握することができるといった、優れた浮遊粒子測定装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
すなわち本発明に係る浮遊粒子測定装置は、浮遊粒子を含む流体に対して低コヒーレント光を照射する低コヒーレント光源と、前記低コヒーレント光源から照射される低コヒーレント光を、透過および反射して前記流体と参照鏡とに向けて分離するビームスプリッタと、前記ビームスプリッタで分離されたのち前記参照鏡によって反射されてくる参照光と、分離されたのち前記浮遊粒子によって散乱されてくる散乱光とが、干渉する干渉光路上に配され、且つそれら参照光および散乱光によって生じる干渉光のスペクトル強度を検出することでその干渉光の干渉画像を得る撮像部と、前記撮像部で得た干渉画像に基づいて、前記浮遊粒子の数量、分布および大きさのうち少なくとも一つを求める演算部とを具備してなることを特徴とする。
【００１１】
ここで、「低コヒーレント光」とは、例えば、白色光やＬＥＤ光のように照射された光同士が互いに干渉することが少ない光または干渉し合わない光を言い、レーザ光のように高コヒーレント性を有する光は含まない。
【００１２】
このようなものであれば、浮遊粒子で散乱される散乱光のうち、ビームスプリッタから参照鏡と等距離にある浮遊粒子からの後方散乱光は、参照光に対して時間上も空間上もコヒーレントな関係となる。一方、ビームスプリッタから参照鏡と等距離にない浮遊粒子からの散乱光は、参照光に対してコヒーレントな関係とはならない。したがって、かかる後方散乱光のみが、参照光との干渉により、輝点となって干渉画像に現れる。
【００１３】
ここで、比較のために、流体に対して照射する光をレーザ光として考えてみる。例えば、２つの浮遊粒子のうち、一方が、ビームスプリッタから参照鏡と等距離にあるものであり、他方がレーザ光の照射方向で且つその波長の整数倍分前後にずれた場所にある場合には、レーザ光のコヒーレント性により、両方の浮遊粒子からの後方散乱光が、参照光と干渉し、干渉画像に現れてしまう。
【００１４】
このように、流体に対して照射する光がレーザ光であれば、浮遊粒子の前後位置を確実に知ることができなくなってしまい、結果、ビームスプリッタから参照鏡と等距離にある空間断面において、浮遊粒子が存在するか否か等を正確に求めることができない。
【００１５】
一方、本発明のように、流体に対して照射する光が低コヒーレント光であれば、かかる空間断面に浮遊粒子が存在するか否かを精度よく知ることができる。
【００１６】
しかして、本発明の浮遊粒子測定装置によれば、ビームスプリッタから参照鏡と等距離にある空間断面において、浮遊粒子が存在するか否かを、輝点の有無によって知ることができ、輝点の数を数えれば、その空間断面に存在する浮遊粒子の数量を知ることができる。また、輝点の面積によって、浮遊粒子の大きさを把握することができる。また、その空間断面における浮遊粒子の分布も知ることができる。
【００１７】
すなわち、煩雑な演算処理を要せず、ビームスプリッタから参照鏡と等距離にある流体の空間断面における浮遊粒子のサイズ、浮遊粒子の数、浮遊粒子の分布を好適に求めることができるといった、優れた浮遊粒子測定装置を提供することができる。
【００１８】
本発明に係る浮遊粒子測定装置の他の望ましい態様としては、この浮遊粒子測定装置が、浮遊粒子を含む流体に対して低コヒーレント光を照射する低コヒーレント光源と、前記低コヒーレント光源から照射される低コヒーレント光を、透過および反射して前記流体と参照鏡とに向けて分離するビームスプリッタと、前記ビームスプリッタで分離されたのち前記参照鏡によって反射されてくる参照光と、分離されたのち前記浮遊粒子によって散乱されてくる散乱光とが、干渉する干渉光路上に配され、且つそれら参照光および散乱光によって生じる干渉光のスペクトル強度を検出することでその干渉光の干渉画像を得る撮像部と、前記撮像部で得られる複数の干渉画像を、撮像時間順に連続的に画像出力する画像出力部とを具備して成るものが挙げられる。
【００１９】
このようなものであれば、流体に対して照射する光を低コヒーレント光としているため、上述したように、ビームスプリッタから参照鏡と等距離にある空間断面において、浮遊粒子が存在するか否か等を、干渉画像に表れる輝点により正確に求めることができる。
【００２０】
しかして、本発明の浮遊粒子測定装置によれば、画像出力部が、撮像部で得らた複数の干渉画像を、撮像時間順に連続的に画像出力するので、その干渉画像に現れる輝点の動きを動的に観ることができ、かかる空間断面における浮遊粒子の動きを具体的に把握することができる。
【００２１】
すなわち、煩雑な演算処理を要せず、ビームスプリッタから参照鏡と等距離にある流体の空間断面における浮遊粒子の動きを具体的に把握することができるといった、優れた浮遊粒子測定装置を提供することができる。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように本発明の浮遊粒子測定装置によれば、流体に対して照射する光を低コヒーレント光としているため、ビームスプリッタから参照鏡と等距離にある空間断面において、浮遊粒子が存在するか否か等を、干渉画像に表れる輝点により正確に求めることができる。
【００２３】
そして、演算部で、輝点の数を数えれば、その空間断面に存在する浮遊粒子の数量を知ることができ、輝点の面積によって、浮遊粒子の大きさを把握することができ、その空間断面における浮遊粒子の分布も知ることができる。
【００２４】
また、画像出力部が、撮像部で得らた複数の干渉画像を、撮像時間順に連続的に画像出力するので、その干渉画像に現れる輝点の動きを動的に観ることができ、かかる空間断面における浮遊粒子の動きを具体的に把握することができる。
【００２５】
すなわち、煩雑な演算処理を要せず、流体中の所定の空間断面における浮遊粒子のサイズ、浮遊粒子の数、浮遊粒子の分布を好適に求めることができるといった、優れた浮遊粒子測定装置を提供することができ、また、煩雑な演算処理を要せず、流体中の所定の空間断面における浮遊粒子の動きを具体的に把握することができるといった、優れた浮遊粒子測定装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
【００２７】
本実施形態に係る浮遊粒子測定装置Ａは、図１に示すように、セルＳに閉じ込めた流体Ｔに含まれる浮遊粒子Ｒを測定するためのものであって、図１に示すように、低コヒーレント光Ｂ１を照射する低コヒーレント光源１と、この低コヒーレント光源１が照射した低コヒーレント光Ｂ１を平行光にするコリメート部２と、後述するビームスプリッタ４で分離反射されたのち入射してくる反射光Ｂ２を参照光Ｂ３として反射する参照鏡３と、コリメート部２で平行光化された平行光を、透過および反射してセルＳの流体Ｔと参照鏡３とに向けて分離するビームスプリッタ４と、ビームスプリッタ４と参照鏡３との間に配した光アッテネータ５と、ビームスプリッタ４の反参照鏡側に配置したＣＣＤカメラ６（本発明の「撮像部」に相当）と、ＣＣＤカメラ６で得た干渉画像に基づいて、浮遊粒子Ｒの大きさなどを求める処理を行う情報処理部７とを具備して成る。なお、セルＳは、透明壁Ｓ１とこの透明壁Ｓ１で囲まれ流体Ｔを内部に収容する内部空間Ｓ２を有した、筒状のものとしているが、その形状は任意でよい。例えば、その奥行き方向を大きくしたり小さくしたりすることを妨げない。以下、具体的に各部を説明する。
【００２８】
低コヒーレント光源１は、白色光、すなわち、少なくとも可視帯域で連続したスペクトルを有する低コヒーレント光Ｂ１を照射するものである。なお、本実施形態では、この低コヒーレント光源１には、閃光時間がおよそ数万分の１秒間程度の短い白色光を、１秒間に複数回繰り返し発光させることができるキセノンフラッシュランプを用いている。
【００２９】
コリメート部２は、向かい合う２枚の凸レンズ２１、２２などを具備し、これら凸レンズ２１、２２の屈折作用を利用して、低コヒーレント光源１から入射される低コヒーレント光Ｂ１である白色光を、平行光にして、ビームスプリッタ４に向けて出射するものである。この平行光は、低コヒーレント性を有する光であることは言うまでもない。
【００３０】
参照鏡３は、該参照鏡３をビームスプリッタ４に対して接離動作させる図示しないアクチュエータに支持されてなるものである。そして、情報処理部７がかかる接離動作命令をアクチュエータに対して出力することで、この参照鏡３とビームスプリッタ４との距離を、情報処理部７で管理しながら変更できるようにしている。
【００３１】
ビームスプリッタ４は、少なくとも可視領域において、該ビームスプリッタ４に入射する光の波長に係らず、一定の比率で反射光Ｂ２と透過光Ｂ４とに分離するものであって、本実施形態では、プレート状のものを用いている。
【００３２】
そして、このビームスプリッタ４の中心を、セルＳと光源とを結ぶ最短の線路上に配置するとともに、該ビームスプリッタ４を、その線路に対して約４５度に傾けて配置している。これにより、コリメート部２から入射してくる光Ｂ１を、ビームスプリッタ４を通過してセルＳにそのまま向かう透過光Ｂ４と、ビームスプリッタ４で該線路に対して９０度を成す方向へ反射して参照鏡３に向かう反射光Ｂ２とに分離させている。
【００３３】
光アッテネータ５は、該光アッテネータ５を通過する光（参照鏡３からビームスプリッタ４に向かう光Ｂ３、および、ビームスプリッタ４から参照鏡３に向かう光Ｂ４）の透過光量を適宜減衰させることで、参照光Ｂ３の光量を調整できるようにしたものである。
【００３４】
ＣＣＤカメラ６は、ビームスプリッタ４で分離されたのち参照鏡３によって反射されてくる参照光Ｂ３と、分離されたのち前記浮遊粒子Ｒによって散乱されてくる散乱光Ｂ５とが干渉する干渉光Ｂ６路上に配されるものであって、それら参照光Ｂ３および散乱光Ｂ５によって生じる干渉光Ｂ６のスペクトル強度を検出し、検出して得られた干渉光Ｂ６の干渉画像を、電気信号に変換し、情報処理部７に対して出力するものである。
【００３５】
情報処理部７は、図２に示すように、ＣＰＵ１０１、内部メモリ１０２、ＨＤＤなどの外部記憶装置１０３、マウスやキーボードなどの入力装置１０４、液晶ディスプレイなどの表示装置１０５、ＣＣＤカメラ６と通信するための通信インタフェース１０６等を具備してなるものであって、本実施形態では、一般的な情報処理機能を有するパソコンを用いている。
【００３６】
そして、本実施形態では、この情報処理部７が、例えば内部メモリ１０２に記憶しているプログラムにしたがって、ＣＰＵ１０１やその周辺機器を協働動作させることにより、この情報処理部７が、図３に示すように、参照鏡位置指定命令受付部７ａ、参照鏡位置指定命令出力部７ｂ、干渉画像受付部７ｃ、演算部７ｄ、演算結果記憶部７ｅ、画像出力部７ｆとしての機能を少なくとも発揮するように構成している。
【００３７】
参照鏡位置指定命令受付部７ａは、参照鏡３位置を指定する命令を受け付けるものであって、入力装置１０４などを利用して構成している。なお、ここで、「参照鏡３位置」の具体例としては、例えば、参照鏡３のビームスプリッタ４に対する位置が挙げられる。また、これに限らず、参照鏡３のＣＣＤカメラ６に対する位置としても良い。さらに、このように参照鏡３の他に対する距離を指定する命令を受け付けるのではなく、参照鏡３自身の移動距離を指定する命令を受け付けること等を妨げない。
【００３８】
参照鏡位置指定命令出力部７ｂは、参照鏡位置指定命令受付部７ａで受け付けた参照鏡位置指定命令を、参照鏡３を支持するアクチュエータに対して出力するものであって、通信インタフェース１０６などを利用して構成している。
【００３９】
干渉画像受付部７ｃは、ＣＣＤカメラ６から干渉画像を受け付けるものであって、通信インタフェース１０６などを利用して構成している。
【００４０】
演算部７ｄは、干渉画像受付部７ｃに記憶している干渉画像に基づいて、浮遊粒子Ｒの数量、大きさ、および分布を求めるものである。具体的には、浮遊粒子Ｒの数量については、例えば、所定以上の面積を有する輝点の数を数えることで、後述する空間断面Ｔ１に存在する浮遊粒子Ｒの数量を知ることができるようにしている。また、浮遊粒子Ｒの大きさについては、輝点の面積を個々に求めることで、個々の浮遊粒子Ｒの大きさを知ることができるようにしている。また、浮遊粒子Ｒの分布については、空間断面Ｔ１の全部または一部を切り出した分布画像を生成することで、浮遊粒子Ｒの分布を知ることができるようにしている。つまり、演算部７ｄでは、空間断面における浮遊粒子の分布などを演算可能である。
【００４１】
演算結果記憶部７ｅは、演算部７ｄから出力される演算結果と、参照鏡位置指定命令で示される参照鏡位置情報とを関連付けて一時的に記憶するものであって、例えば、内部メモリ１０２の所定領域に形成して成る。
【００４２】
画像出力部７ｆは、撮像部で得られ演算結果記憶部７ｅに記憶している複数の干渉画像を、撮像時間順に連続的に画像出力するものであって、表示装置１０５などを利用して構成している。
【００４３】
なお、この画像出力部７ｆは、空間断面Ｔ１における平面的な画像として出力するだけでなく、演算結果記憶部７ｅに記憶している参照鏡位置情報に基づいて立体的な画像としても出力することができる。
【００４４】
以下、本実施形態の浮遊粒子測定装置Ａについて、その動作を説明する。
【００４５】
まず、低コヒーレント光源１が照射した低コヒーレント光Ｂ１がコリメート部２に入射されると、該コリメート部２によってその低コヒーレント光Ｂ１は平行光にされる。
【００４６】
そして、平行光になった低コヒーレント光Ｂ１が、ビームスプリッタ４に入射されると、この平行光の低コヒーレント光Ｂ１は、該ビームスプリッタ４で反射して参照鏡３に向かう反射光Ｂ２と透過してセルＳに向かう透過光Ｂ４とに分離される。
【００４７】
参照鏡３に向かった反射光Ｂ２は、参照鏡３で反射され、参照光Ｂ３としてビームスプリッタ４に向けて戻ってくる。一方、セルＳに向かった透過光Ｂ４は、そのセルＳ内にある浮遊粒子Ｒで散乱され、その一部がビームスプリッタ４に向かって戻ってくる。（図１では、作図の都合上、散乱光Ｂ５のうち、ビームスプリッタ４に戻ってこない散乱光などを適宜省略している。）
【００４８】
このようにして、ビームスプリッタ４にそれぞれ戻ってきた参照光Ｂ３と散乱光Ｂ５とは、ビームスプリッタ４で透過及び反射されＣＣＤカメラ６に向かう。
【００４９】
このとき、浮遊粒子Ｒで散乱される散乱光Ｂ５のうちビームスプリッタ４から参照鏡３と等距離（空間断面Ｔ１）にある浮遊粒子Ｒ１からの後方散乱光Ｂ５ａは、参照光Ｂ３に対して時間上も空間上もコヒーレントな関係となる。一方、ビームスプリッタ４から参照鏡３と等距離（空間断面Ｔ１）にない浮遊粒子Ｒ２からの散乱光Ｂ５ｂは、参照光Ｂ３に対してコヒーレントな関係とはならない。したがって、かかる後方散乱光Ｂ５ａのみが、参照光Ｂ３と干渉するので、ＣＣＤカメラ６では、干渉画像の輝点として現れ、これを該ＣＣＤカメラ６が電気信号として出力する。
【００５０】
なお、本実施形態では、低コヒーレント光源１の照射タイミングと同期させて干渉画像を撮像するようにしており、これにより撮像感度の精度を向上を図っている。
【００５１】
このようにして、ＣＣＤカメラ６が出力した電気信号に変換された干渉画像は、情報処理部７で、適宜演算され、空間断面Ｔ１にある浮遊粒子Ｒの数量、浮遊粒子Ｒの大きさ、および浮遊粒子Ｒの分布を、視覚的に知ることができる。
【００５２】
したがって、以上のように構成した本実施形態に係る浮遊粒子測定装置Ａによれば、流体Ｔに対して照射する光を低コヒーレント光Ｂ１としているため、ビームスプリッタ４から参照鏡３と等距離にある空間断面Ｔ１において、浮遊粒子Ｒが存在するか否か等を、干渉画像に表れる輝点により正確に求めることができる。
【００５３】
そして、演算部７ｄで、輝点の数を数えるので、その空間断面Ｔ１に存在する浮遊粒子Ｒの数量を知ることができ、輝点の面積によって、浮遊粒子Ｒの大きさを把握することができ、さらにその空間断面Ｔ１における浮遊粒子Ｒの分布も知ることができる。
【００５４】
また、画像出力部７ｆが、ＣＣＤカメラ６で得らた複数の干渉画像を、撮像時間順に連続的に画像出力するので、その干渉画像に現れる輝点の動きを動的に観ることができ、かかる空間断面Ｔ１における浮遊粒子Ｒの動きを具体的に把握することができる。
【００５５】
すなわち、煩雑な演算処理を要せず、流体Ｔ中の所定の空間断面Ｔ１における浮遊粒子Ｒのサイズ、浮遊粒子Ｒの数、浮遊粒子Ｒの分布を好適に求めることができ、また、流体Ｔ中の所定の空間断面Ｔ１における浮遊粒子Ｒの動きを具体的に把握することができるといった、優れた浮遊粒子測定装置Ａを提供することができる。
【００５６】
前記ビームスプリッタ４と前記参照鏡３との間に、透過光量を調整可能な光アッテネータ５を配置しているので、この光アッテネータ５の透過光量の調整により参照光Ｂ３の強度を調整し、干渉光Ｂ６の干渉度合いを変化させて、干渉画像のコントラストを調節することができる。そして、コントラストが調整された干渉画像によって、浮遊粒子Ｒ１の数量、浮遊粒子Ｒ１の分布を、浮遊粒子Ｒ１の大きさを精度良く知ることができる。
【００５７】
セルＳとビームスプリッタ４との間に、コリメート部２を配しているので、コリメート部２により低コヒーレント光Ｂ１を平行光化して、流体Ｔに対して面的に照射できるので、ビームスプリッタ４から参照鏡３と等距離にある空間断面Ｔ１にある浮遊粒子Ｒの数量、浮遊粒子Ｒの分布、浮遊粒子Ｒの大きさを、一度に知ることができる。
【００５８】
前記参照鏡３を、ビームスプリッタ４またはＣＣＤカメラ６に対して接離動作可能に構成しているので、参照鏡３を接離動作させてビームスプリッタ４と参照鏡３との距離を変更することができ、その変更後の距離と等距離の空間断面Ｔ１にある浮遊粒子Ｒの数量、浮遊粒子Ｒの分布を、浮遊粒子Ｒの大きさを知ることができる。すなわち、流体Ｔの奥行き方向にある浮遊粒子Ｒの数量、浮遊粒子Ｒの分布を、浮遊粒子Ｒの大きさを知ることができ、三次元的な解析に資する。
【００５９】
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
【００６０】
例えば、セルＳは、流体をその中に留めて測るバッチ型であっても、流体を流し続ける流通型であっても、それらの併用型であってもよい。
【００６１】
また、セルＳは光を透過する必要があるが、全体が透明であっても、一部あるいは広い範囲に光透過部分（窓）を設けてものでもよい。
【００６２】
また、セルＳへの光の入射部分は、その表面反射が撮像部に戻らないようにする構成とすることができる。具体的には、例えば、その面への入射光角度を０度以外（垂直以外）とする、あるいは反射防止コーティングを施す、あるいはそれらを併用するといったものが挙げられる。
【００６３】
また、セルＳ内の流体Ｔに含まれる浮遊粒子Ｒを測定するようにしているが、流体ＴがセルＳ内に閉じ込められたものでなくても良い。例えば、大気中に含まれる浮遊粒子を測定することもできる。
【００６４】
また、透過光量調整部として、光量を減衰させる光アッテネータ５を用いているが、光量を増幅させるものを用いることを妨げない。また、透過光量調整部を用いない構成とすることもできる。
【００６５】
また、コリメート部の構成も実施態様に応じて適宜変更可能である。
【００６６】
また、セルＳと参照鏡３との配置位置を入れ替えても良い。
【００６７】
その他、各部の具体的構成についても上記実施形態に限られるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の一実施形態である浮遊粒子測定装置を概略的に示す全体図。
【図２】同実施形態における情報処理部の機器構成図。
【図３】同実施形態における情報処理部の機能構成図。
【符号の説明】
【００６９】
Ａ・・・・浮遊粒子測定装置
Ｂ１・・・低コヒーレント光
Ｂ３・・・参照光
Ｂ５・・・散乱光
Ｂ６・・・干渉光
Ｒ・・・・浮遊粒子
Ｔ・・・・流体
１・・・・低コヒーレント光源
２・・・・コリメート部
３・・・・参照鏡
４・・・・ビームスプリッタ
５・・・・透過光量調整部（光アッテネータ）
６・・・・撮像部（ＣＣＤカメラ）
７ｄ・・・演算部
７ｆ・・・画像出力部
【図１】
2007333409.tif 000003
【図２】
2007333409.tif 000004
【図３】
2007333409.tif 000005