(57)【要約】【課題】  再生時の記録情報の再現性を向上させることが可能な光メモリを提供する。【解決手段】  光メモリ１０は、光導波路１７が複数個積層されて構成されている。この光導波路１７は、樹脂製のコア層１３と、このコア層１３の上下に積層された樹脂製のクラッド層１４とからなり、コア層１３とクラッド層１４との一方の界面には、情報再生用の凹凸部が形成されている。また、コア層１３及びクラッド層１４は、紫外線硬化樹脂で形成されている。また、コア層１３に用いられる紫外線硬化樹脂は、硬化収縮率が６％以下にされている。このため、紫外線を照射して硬化させた時に、コア層に発生する膜厚変動が抑制されるので、記録情報再生時のＢＥＲを低くすることができ、記録情報の再現性が向上する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂製のコア層と、前記コア層の上下に積層された樹脂製のクラッド層とからなり、前記コア層と前記クラッド層との一方の界面に情報再生用の凹凸部が形成されたスラブ型の光導波路を１個または複数個積層させて構成される光メモリにおいて、
前記コア層は、硬化収縮率が６％以下の樹脂で形成されていることを特徴とする光メモリ。
【請求項２】
前記コア層及び前記クラッド層は、紫外線硬化樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１記載の光メモリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路型の光メモリに関し、特に記録情報再生時の再現性を向上させた光導波路型の光メモリに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、樹脂製のコア層と、このコア層の上下に積層された樹脂製のクラッド層とからなり、コア層とクラッド層との一方の界面に再生像を得るための情報を含む情報用凹凸部を形成したスラブ型の光導波路を、１個又は複数個積層させた光メモリ（情報記録媒体）が提案されている（例えば、特許文献１〜特許文献３、及び非特許文献１参照）。
【０００３】
このような光メモリは、例えば、図６に示すように、コア層１０１とクラッド層１０２とが交互に積層されており、光メモリに記録された情報を読み出す際には、光メモリ１００の側部に形成された光導入面１０３に対して、シリンドリカルレンズ１０４によって縦幅約５μｍに絞った光（例えばレーザ光）を入射させ、所望のコア層１０１に光を導入する。コア層１０１に導入された光は、コア層１０１とクラッド層１０２との界面に形成された情報用凹凸部で回折しながら伝播する。この時、情報用凹凸部で回折された回折光（再生光）は、導波面に対して直交方向（上下方向）に伝播し、光メモリ１００内の積層体の上部を透過し、最終的に、同位相の回折光は干渉し合い、イメージセンサ１０５の表面に再生像を形成する。
【０００４】
この再生像は、イメージセンサ１０５によって受光される。そして、この再生像を画像補正し、デジタル信号化することで、凹凸パターンによって光メモリに記録された元の情報が復元される。
【特許文献１】特開２００２−１２０２８６号公報
【特許文献２】特開２００１−２７７１４号公報
【特許文献３】特開２００１−１０８８５５号公報
【非特許文献１】ナノメータ制御光ディスクシステムの研究開発（NEDO  平成10年成果報告書）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
また、上記特許文献に記載されている光メモリでは、コア層及びクラッド層が紫外線硬化樹脂で形成されており、この紫外線硬化樹脂を塗布した後、紫外線を照射して硬化させている。しかしながら、紫外線を照射して紫外線硬化樹を硬化させた時に、硬化収縮によってコア層に膜厚変動が発生し、この膜厚変動によって、光メモリの記録情報を再生する際にビットエラーレートが高くなり、記録情報の再現性が低下するという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、コア層の膜厚変動の発生を抑制して、再生時の記録情報の再現性を向上させた光メモリを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の光メモリは、樹脂製のコア層と、前記コア層の上下に積層された樹脂製のクラッド層とからなり、前記コア層と前記クラッド層との一方の界面に情報再生用の凹凸部が形成されたスラブ型の光導波路を１個または複数個積層させて構成される光メモリであり、前記コア層は、硬化収縮率が６％以下の樹脂で形成されていることを特徴とするものである。
【０００８】
また、前記コア層及び前記クラッド層は、紫外線硬化樹脂で形成されていることが好ましい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光メモリによれば、コア層が硬化収縮率が６％以下の樹脂で形成されており、硬化収縮によって、コア層に発生する膜厚変動が抑制される。このため、光メモリの記録情報を再生する際に、ビットエラーレートが低くなり、記録情報の再現性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
図１に示す積層導波路型の光メモリ（以下、光メモリと称する）１０は、２つのユニット１１が接着層１２を介して上下に貼り合わされた構成となっている。ユニット１１は、コア層１３とクラッド層１４とがフイルム１５ａ上に交互に積層されており、最上層には、フイルム１５ｂが貼着されている。
【００１１】
コア層１３及びクラッド層１４は、紫外線硬化樹脂で形成されており、この紫外線硬化樹脂としては、アクリル系のラジカル開始系や、エポキシ系またはオキセタン系の開環重合系などの樹脂が適当である。なお、光メモリ１０の光導波路はシングルモードであるため、コア層の厚さａは、下記式１の条件を満たす必要がある。例えば、波長６８０ｎｍのレーザ光を入射光源として使用し、ｎ１＝１．５２、ｎ２＝１．５１とした場合、コア層の厚さａは、１．８μｍ以下の必要がある。また、クラッド層の厚みは、クロストークを防止するために、入射ビームサイズより大きくする必要がある。また、使用する樹脂は、入射波長に対する透過率が、９５％以上（厚さ１０μｍの時）である材料とする。このため、コア層１３の厚さは、１．０〜１．６μｍ程度が適当であり、例えば、１．４μｍにされている。また、クラッド層１４の厚さは、７〜９μｍ程度が適当であり、例えば、８μｍにされている。
ａ＜（λ／２）×（ｎ１2−ｎ２2）1/2・・・・（式１）
但し、ａ：コア層の厚さ
λ：入射光の波長
ｎ１：コア層の屈折率
ｎ２：クラッド層の屈折率
【００１２】
なお、コア層１３の屈折率は１．５２、クラッド層１４の屈折率は１．５１にされている。さらに、コア層１３は、硬化収縮率が６％以下の紫外線硬化樹脂で形成されている。この硬化収縮率とは、紫外線硬化樹脂によって形成された塗布膜における硬化前後の膜厚減少率である。
【００１３】
また、コア層１３とクラッド層１４との一方の界面には、情報再生用の凹凸部である情報用凹凸部１６が形成されている。この情報用凹凸部１６の高さ方向の差は、０．１μｍ程度であり、導波方向への凹凸の配列周期は、コア層１３に入射されるレーザ光の波長（６６０ｎｍ）をコア層の屈折率（１．５２）で割った値によって決定され、約４４０ｎｍである。この情報用凹凸部１６は、光メモリ１０に記録すべき情報を２次元符号化し、その符号化された情報を元に計算機によって合成されたパターン（計算機ホログラムと称される）が転写されたものである。
【００１４】
また、コア層１３は、前述したように、上下に積層されたクラッド層１４よりも屈折率が高くされており、１つのコア層１３と、その上下に積層された２つのクラッド層１４とにより、１つの情報再生用の光導波路１７が構成される。ただし、ユニット１１の最下層のコア層１３ａには、情報用凹凸部１６が形成されていないので、情報再生用の光導波路としては機能しない。一方、各ユニット１１の最上層に形成されたコア層１３ｂの上にはクラッド層１４が形成されていないが、その上に形成されたフイルム１５ｂがクラッド層１４と略同一の屈折率（１．５１）で形成されているため、最上層のコア層１３ｂは情報再生用の光導波路として機能する。
【００１５】
また、ユニット１１は、光導波路１７が一定数積層された積層体の上下をフイルム１５ａ，１５ｂで支持して構成されているが、これは、紫外線硬化樹脂であるコア層１３及びクラッド層１４のみでは、積層体にカール（反り）が発生するため、フイルム１５ａ，１５ｂによって支持してカールを防止するためである。
【００１６】
また、フイルム１５ａ，１５ｂは樹脂フイルムであり、ＪＳＲ社製のアートン（登録商標）等の非晶質ポリオレフィン、ポリカーボネート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）などによって形成されている。また、前述したように、フイルム１５ａ，１５ｂの屈折率は、クラッド層１４と略同一であり、その厚さは１００〜２００μｍ程度にされている。
【００１７】
また、各ユニット１１を接着する接着層１２としては、コア層１３やクラッド層１４に用いられている紫外線硬化樹脂が用いられる。接着層１２の屈折率が、フイルム１５ａ，１５ｂの屈折率と大きく異なると、接着層１２とフイルム１５ａ，１５ｂとの界面で再生光の再生角や、回折効率が変化するため、光量やＳ／Ｎ比が低下してしまう。このため、接着層１２とフイルム１５ａ，１５ｂとの屈折率は略等しくされている。なお、接着層１２としては、紫外線硬化樹脂材などの光硬化型のものには限られず、熱硬化型、熱可塑性型などを用いることが可能であり、材質としては、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系、オレフィン系などが挙げられる。
【００１８】
各ユニット１１の端部に形成された光導入面１８からコア層１３に光が導入されると、導入光は、クラッド層１４との界面で反射されながらコア層１３を伝播するとともに、一部が情報用凹凸部１６によって回折される。また、光メモリ１０を構成するコア層１３、クラッド層１４、フイルム１５ａ，１５ｂ、及び接着層１２は、情報用凹凸部１６で回折された回折光（再生光）の波長に対して透明である。
【００１９】
このため、各光導波路１７から上下に放出される再生光は、光メモリ１０内の各層を透過し、光メモリ１０の上面及び下面から外部へ放出される。なお、光導波路１７から上下に放出された再生光は、別の光導波路１７を横切ることになるが、コア層１３とクラッド層１４との屈折率の差が極めて小さく、さらに、情報用凹凸部１６の厚みが極めて小さいため、光路長差が極めて小さいので、この再生光が別の光導波路１７に形成された情報用凹凸部１６で再度回折されることは殆どなく（１０-4未満）、外部に結像される再生像に対する影響は無視できる。
【００２０】
以下に、上記構成の光メモリ１０の製造方法について説明する。光メモリ１０は、前処理工程と、積層工程と、後処理工程との３つの工程で製造される。
【００２１】
前処理工程では、基板としてガラス基板２１を用意する。このガラス基板２１は、厚さが約０．５ｍｍ〜３ｍｍ程度、好ましくは約１ｍｍ程度のものを用い、その上面及び下面は凹凸がなく平坦である。なお、基板としては、ガラス基板に限らず、例えば、シリコンウェハーや、金属板や、厚みのあるポリカーボネート等の基板を用いても良い。
【００２２】
ガラス基板２１の表面には、スピンコータによって、硬化後の屈折率が１．５１の紫外線硬化樹脂が塗布され、図２（Ａ）に示すように接着層１２ａが形成される。この接着層１２ａの厚さは、約３μｍにされる。スピンコータとは、円盤上に設置した基板上に塗布液を滴下し、円盤を回転させることにより均一な厚さの塗布層を形成する塗布装置である。
【００２３】
その後、接着層１２ａとフイルム１５ａとの間に気泡が入らないように、図２（Ｂ）に示すように、ローラ２２によって、一定の圧力でフイルム１５ａを加圧しながら接着層１２ａ上にフイルム１５ａをラミネートする。
【００２４】
フイルム１５ａを接着層１２ａ上にラミネートした後、紫外線照射装置によって、図２（Ｃ）に示すように、フイルム１５ａに向けて紫外線を照射する。この時、接着層１２ａは、ガラス基板２１とフイルム１５ａとで挟まれており、酸素の影響がないので、紫外線を照射する時に、窒素パージ等によって酸素を遮断する必要はない。このフイルム１５ａは、紫外光を透過させるため、フイルム１５ａを透過した紫外線が接着層１２ａに照射されて硬化する。このため、フイルム１５ａが、接着層１２ａによってガラス基板２１上に接着される。
【００２５】
次に、積層工程について説明する。この積層工程では、最初に、フイルム１５ａ上に、硬化後の屈折率が１．５２の紫外線硬化樹脂であるコア材（コア樹脂モノマー）を塗布して塗布層（コア層）１３ａを形成する。この塗布層１３ａには、図３（Ａ）に示すように、紫外線が照射されて塗布層１３ａが硬化してコア層１３ａが形成される。この時、窒素パージ等によって酸素を遮断した状態で、紫外線を塗布層１３ａに照射する。なお、このコア材は、硬化収縮率が６％以下にされている。このため、紫外線を照射して硬化された時に、硬化収縮によってコア層に発生する膜厚変動を抑制できる。
【００２６】
さらに、このコア層１３ａ上には、硬化後の屈折率が１．５１の紫外線硬化樹脂であるクラッド材（クラッド樹脂モノマー）が塗布されて塗布層（クラッド層）１４が形成される。その後、図３（Ｂ）に示すように、ローラ３５によって、一定の圧力でスタンパ３６を加圧しながら、スタンパ３６を塗布層１４上にラミネートする。
【００２７】
このスタンパ３６は、紫外線に対して透過性を有し、かつ可撓性を有するフイルム状の樹脂材で形成されており、表面には、クラッド層１４の表面に形成する情報用凹凸部１６に対応する凹凸パターン３６ａが形成されている。このスタンパ３６は、例えば、特開２００２−１２０２８６号公報に記載されているように、情報用凹凸部１６に対応する凹凸パターンが表面に刻まれたスタンパ層と、樹脂フイルムと、これらを接着する接着層とで構成すれば良い。また、凹凸パターン３６ａの高さは、０．１μｍ程度にされている。
【００２８】
このスタンパ３６を塗布層１４上にラミネートする際は、凹凸パターン３６ａが形成された表面がクラッド層１４の上面に対面するようにラミネートする。その後、塗布層１４上にスタンパ３６がラミネートされたまま、図３（Ｃ）に示すように、スタンパ３６の裏面側から紫外線を照射する。この時、スタンパ３６を透過した紫外線が塗布層１４に照射されて硬化する。なお、塗布層１４は、コア層１３ａとスタンパ３６とで挟まれており、酸素の影響を受けないので、紫外線を照射する時に、窒素パージ等によって酸素を遮断する必要はない。
【００２９】
塗布層１４が硬化された後、スタンパ３６が塗布層１４から剥離されて、図３（Ｄ）に示すように、クラッド層１４が形成される。このクラッド層１４の表面には、スタンパ３６の表面に形成された凹凸パターン３６ａが転写されて情報用凹凸部１６が形成される。この凹凸部の高さは、０．１μｍ程度で形成される。
【００３０】
このように、フイルム１５ａ上に、コア層１３とクラッド層１４とが積層される。その後、前述と同様に、コア層１３とクラッド層１４の積層工程が繰り返し行われて、図４（Ａ）に示すように、光導波路１７が積層される。
【００３１】
次に、後処理工程について説明する。後処理工程では、最初に、クラッド層１４上に、コア材を塗布して塗布層１３ｂを形成する。この塗布層上には、前述のフイルム１５ａと同様のフイルム１５ｂがラミネートされる。このフイルム１５ｂには、図４（Ｂ）に示すように紫外線が照射され、塗布層１３ｂが硬化してコア層１３ｂが形成される。フイルム１５ｂは、コア層１３ｂによって接着される。このフイルム１５ｂ上には、硬化後の屈折率が１．５１である紫外線硬化樹脂が塗布されて接着層１２ｂが形成され、さらに、紫外線が照射されて接着層１２ｂが硬化される。これにより、ユニット１１が作製される。
【００３２】
その後、図４（Ｃ）に示すように、ユニット１１がガラス基板２１から剥離され、さらに、ユニット１１の側端部（４面）が切断される。なお、この切断は、ダイシング加工によって行う。これは、レーザ光（入射光）が、所望のコア層１３に確実に入射されるように、光導入面１８の平面粗さを小さくするためである。その後、２つのユニット１１を積重して、加圧及び加熱を施すことにより、接着層１２を介して互いのユニット１１が接着され、図１に示す光メモリ１０が完成する。
【００３３】
前述したように、コア層に用いるコア材として、硬化収縮率が６％以下の紫外線硬化樹脂を用いているので、紫外線を照射して硬化された時に、コア層に発生する膜厚変動が抑制される。このため、記録情報再生時に、光メモリ１０のビットエラーレートが低くなり、記録情報の再現性が向上する。
【００３４】
なお、上記実施形態において、各ユニット１１が３層の光導波路１７で構成される場合を例に説明したが、光導波路１７の積層数は３層に限るものではなく、例えば、１層や２層でも良いし、４層以上でも良い。２０層積層した場合、ユニット１１の厚さは、０．４ｍｍ程度となる。
【００３５】
また、上記実施形態において、光メモリ１０が２個のユニット１１で構成される場合を例に説明したが、ユニット１１の数は２個に限らず、例えば、１個でも良いし、３個以上のユニット１１を積重して接着しても良い。
【００３６】
さらに、上記実施形態において、ガラス基板２１上に接着されたフイルム１５ａ上に、コア層１３及びクラッド層１４を交互に積層する場合を例に説明したが、フイルム１５ａを設けずに、ガラス基板２１上にコア層１３及びクラッド層１４を直接積層しても良い。
【００３７】
また、上記実施形態において、クラッド層１４の上面に情報用凹凸部１６を形成する場合を例に説明したが、これに限るものではなく、コア層１３の上面に情報用凹凸部１６を形成しても良い。
【実施例１】
【００３８】
本発明の光メモリを製造して、ビットエラーレートの測定を行った。なお、実験３は、実験１及び実験２に対する比較実験として実施したものである。なお、実験１〜実験３において、下記の作製方法によって作製されたスタンパ３６を用いた。
【００３９】
[スタンパの作製方法]
結像したい画像情報に応じた所望の凹凸パターンが表面に形成されたシリコンウェハー（マスタースタンパ）の上に、スピンコータによって、下記組成のコア材Ａを約２μｍの膜厚になるように塗布して、塗布層を形成する。その後、この塗布層上に気泡が入らないように樹脂フイルム（ＪＳＲ社製のアートンフィルム  厚み２００μｍ）をラミネートする。この状態で、樹脂フイルムの裏側より紫外線を照射（高圧水銀灯、約2000mJ/cm2 at 365nm）して塗布層を硬化させた。その後、シリコンウェハーから塗布層を剥離し、空気中にて、塗布層にさらに紫外線を照射（高圧水銀灯、約2000mJ/cm2 at 365nmで４回露光）して、塗布層を硬化させることによって作製した。なお、コア材Ａとして、下記組成のものを使用した。
[コア材Ａ]
ライトアクリレ−ト1,6-HX-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）    ４０質量部
ライトアクリレ−トＴＭＰ−Ａ（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）  ２０質量部
ライトアクリレ−トＤＣＰ-Ａ（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）   ２０質量部
カラヤッドＲ-712（日本化薬(株)製アクリレ−トモノマ−）                ２０質量部
ダロキュア１１７３（チバ・ガイギー(株)製光重合開始剤）               ０．５質量部
【００４０】
[実験１]
ガラス基板２１にフイルム１５ａを接着させた後、スピンコータによって、約１．４μｍの膜厚になるように、フイルム１５ａ上にコア材Ｂを塗布し、窒素雰囲気下で紫外線を照射（高圧水銀灯、紫外線積算光量：約1500mJ/cm2  at  365nm）することによって完全に硬化させ、コア層１３ａを形成した。なお、硬化後のコア層１３ａの屈折率は１．５２、であった。その後、このコア層１３ａの表面にクラッド材Ｃをスピンコータで約８μｍの膜厚になるように塗布した。
【００４１】
このクラッド材Ｃで形成された塗布層上に、スタンパ３６をラミネートし、この状態でスタンパ３６の裏側から紫外線を照射（高圧水銀灯、約1500mJ/cm2  at  365nm）して塗布層を硬化させた。その後、スタンパ３６を剥離し、表面に情報用凹凸部１６を有するクラッド層１４を形成した。なお、硬化後のクラッド層１４の屈折率は１．５１であった。
【００４２】
このクラッド層１４上に、コア材Ｂをスピンコータで約１．４μｍの膜厚になるように塗布して塗布層を形成し、窒素パージ等によって酸素を遮断した状態で、紫外線を照射（高圧水銀灯、約1500mJ/cm2  at  365nm）して、塗布層を硬化させた。このコア層は、硬化後の屈折率が１．５２であった。
【００４３】
その後、クラッド層１４とコア層１３とを交互に積層して、複数の光導波路１７が積層されたユニット１１を作製し、さらに、このユニット１１を積重して光メモリ１０を製造した。
【００４４】
コア材Ｂとしては、下記に示すコア層用ＵＶ硬化型アクリル系モノマーを用いた。このコア材Ｂは、硬化後の屈折率が１．５２であり、硬化収縮率が４．２％である。また、クラッド材Ｃとしては、下記に示すクラッド層用ＵＶ硬化型アクリル系モノマーを用いた。このクラッド材Ｃは、硬化後の屈折率が１．５１である
【００４５】
[コア材Ｂ]
ライトアクリレ−ト1,6-HX-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）    ４０質量部
アロニックスＭ３２０（東亜合成(株)製アクリレ−トモノマ−）            ２０質量部
ライトアクリレ−トＤＣＰ-Ａ（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）    １０質量部
カラヤッドＲ-712（日本化薬(株)製アクリレ−トモノマ−）                 ３０質量部
ダロキュア１１７３（チバ・ガイギー(株)製光重合開始剤）              ０．５質量部
【００４６】
[クラッド材Ｃ]
ライトアクリレ−トＴＭＰ−Ａ（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）  ２０質量部
ライトアクリレ−ト1,6-HX-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）    ４０質量部
ＵＶ６１００Ｂ（日本合成化学(株)製ウレタンアクリレ−トオリゴマ−）    ４０質量部
ダロキュア１１７３（チバ・ガイギー(株)製光重合開始剤）              ０．５質量部
【００４７】
なお、コア層の硬化収縮率の測定は、下記の方法にて行った。また、光メモリ１０のビットエラーレート（ＢＥＲ）を以下に示す測定方法で測定した。この時、ＢＥＲが１０-4未満の領域率（エラーフリー領域率）は、１００％であった。
【００４８】
[硬化収縮率測定方法]
コア材をシリコンウェハー、或いはガラス基板に約１．４μｍの膜厚になるように塗布してコア層を形成し、同様にクラッド材を約８μｍの膜厚になるように塗布してクラッド層を形成した。この時、大塚電子社製のMCPD-3000を用いて、コア層の膜厚を硬化前後で測定した。その後、硬化前後でのコア材膜厚減少率を算出して、この減少率を収縮率とした。
【００４９】
[ビットエラーレート測定方法]
発振波長６６０ｎｍ、パワー１０ｍＷのレーザ光をコア層１３に入射し、回折光の２次元干渉パターンを撮像素子で取り込んでデジタル情報に復調して、元の情報と比較することにより、ビットエラーレート（ＢＥＲ）を測定した。このＢＥＲ測定では、イメージセンサ１０５で取り込まれたデータをエリア毎に元の情報と比較し、再生データ全体対して、ＢＥＲが１０-4未満の領域率を百分率で算出する。つまり、この領域率が大きい方が再生された情報にエラーが少ない。
【００５０】
[実験２]
実験２では、下記組成のコア材Ｄを用いた。このコア材Ｄは、硬化後の屈折率が１．５２、硬化収縮率が２．０％である。また、クラッド材として、実験１と同様のクラッド材Ｃを使用した。また、コア層を硬化させる時に、実験１とは異なる条件（高圧水銀灯、約1350mJ/cm2  at  365nmで２回）で、大気下にて紫外線を照射して硬化させた。その他の条件は、実験１と同様であり、同様に光メモリ１０を製造した。また、実験１と同様に、コア層の硬化収縮率の測定、及び光メモリ１０のＢＥＲを測定した。この時、エラーフリー領域率は、１００％であった。
【００５１】
[コア材Ｄ]
ライトアクリレ−ト1,6-HX-A（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）    ４０質量部
ライトアクリレ−トＴＭＰ−Ａ（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）  ２０質量部
ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ（共栄社化学(株)製アクリレ−トモノマ−）  ２０質量部
カラヤッドＲ-712（日本化薬(株)製アクリレ−トモノマ−）                 ２０質量部
ダロキュア１１７３（チバ・ガイギー(株)製光重合開始剤）              ７．５質量部
【００５２】
[実験３]
実験３では、コア材として、上記コア材Ａを使用した。このコア材Ａは、コア層用ＵＶ硬化型アクリル系モノマーであり、硬化後の屈折率が１．５２、硬化収縮率が７．８％である。また、クラッド材として、実験１と同様のクラッド材Ｃを使用した。また、コア層及びクラッド層を形成させるために、紫外線を照射（高圧水銀灯、約1500mJ/cm2  at  365nm）して硬化させた。その他の条件は、実験１及び実験２と同じであり、同様に光メモリ１０を製造した。また、実験１及び実験２と同様に、コア層の硬化収縮率、及び光メモリ１０のＢＥＲを測定した。この時、エラーフリー領域率は、２０％であった。
【００５３】
以上の実験１〜実験３によって得られた結果を下表１に示す。表１に示すように、硬化収縮率が４．２％のコア材Ｂ、及び硬化収縮率が２．０％のコア材Ｄを用いてコア層を形成した場合、エラーフリー領域が１００％であり、硬化収縮率が７．８％のコア材Ａを用いてコア層を形成した場合、エラーフリー領域が２０％である。このため、硬化収縮率が４．２％以下のコア材を用いてコア層を形成すると、光メモリのＢＥＲが良くなり、記録情報の再現性が向上することが分かる。
【００５４】
【表１】
2007058944.tif 000003
【００５５】
また、図５に示すグラフは、コア層の硬化収縮率とエラーフリー領域率との関係を示している。このグラフにおいて、横軸はコア層の硬化収縮率（％）、縦軸はエラーフリー領域率（ＢＥＲが１０-4未満の領域率）を示している。このグラフより、硬化収縮率が６％より大きい場合は、硬化収縮率が増加するに従って、エラーフリー領域率が低下するが、硬化収縮率が６％以下の場合、エラーフリー領域率が１００％である。このため、コア層の硬化収縮率を６％以下にすることによって、光メモリのＢＥＲが良くなり、記録情報の再現性が向上することが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】光メモリの構成を示す断面図である。
【図２】光メモリの製造方法（前処理工程）を示す断面図である。
【図３】光メモリの製造方法（積層工程）を示す断面図である。
【図４】光メモリの製造方法（後処理工程）示す断面図である。
【図５】コア層の硬化収縮率とエラーフリー領域率との関係を示すグラフである。
【図６】従来の光メモリとその動作原理を説明する斜視図である。
【符号の説明】
【００５７】
１０  光メモリ
１１  ユニット
１３  コア層
１４  クラッド層
１６  情報用凹凸部
１７  光導波路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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