(57)【要約】【課題】ウエハの端面を構造的に保護することにより、基盤に対するウエハ剥がれ等の処理不良を防止することができるウエハ端縁保護装置及びウエハ処理装置を提供する。【解決手段】二枚のウエハＷ及びＯリング２１，２３を挟んで積層された第１の保護部材５及び第２の保護部材７と円板状部材３の外周部を第１挟持片２９と第２挟持片３１で挟持すると、第１の保護部材５と第２の保護部材７とが積層される。第１係止機構３５と第２係止機構３７で第１挟持片２９と第２挟持片３１を固定することにより、第１の保護部材５及び第２の保護部材７並びに円板状部材３を確実に挟持できる。挟持機構９により挟持するという簡単な動作でウエハ端面保護装置１を二枚のウエハＷに取り付けることができ、効率的に処理できる。【選択図】図１
2007095922.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液にウエハを浸漬させてウエハの処理面を処理する際に、ウエハの非処理面及び端面を保護するウエハ端面保護装置において、
外径がウエハの外径より大きく、二枚のウエハの各々が非処理面側を面側に向けた姿勢で両面に配置される円板状部材と、
処理液に対する耐性を有し、一方のウエハの処理面においてほぼ円形を呈する処理部分を除いて一方のウエハの処理面を覆う第１の保護部材と、
処理液に対する耐性を有し、他方のウエハの処理面においてほぼ円形を呈する処理部分を除いて他方のウエハの処理面を覆う第２の保護部材と、
処理液に対する耐性を有し、前記第１の保護部材と一方のウエハの処理面との間に取り付けられた第１の液密シール材と、
処理液に対する耐性を有し、前記第２の保護部材と他方のウエハの処理面との間に取り付けられた第２の液密シール材と、
前記円板状部材の一方面に一方のウエハを配置し、前記第１の液密シール材を介して前記第１の保護部材を前記円板状部材の一方面に積層し、前記円板状部材の他方面に他方のウエハを配置し、前記第２の液密シール材を介して前記第２の保護部材を前記円板状部材の他方面に積層した状態で、前記第１の保護部材及び前記第２の保護部材並びに前記円板状部材を挟持する挟持機構と、
を備えていることを特徴とするウエハ端面保護装置。
【請求項２】
請求項１に記載のウエハ端面保護装置において、
前記第１の保護部材は、一方のウエハの中心部に向かって上向きに傾斜した上向き傾斜面を周縁部に備え、
前記第２の保護部材は、他方のウエハの中心部に向かって下向きに傾斜した下向き傾斜面を周縁部に備え、
前記挟持機構は、平面視で半円弧状を呈し、前記上向き傾斜面に外周側で対向する位置にて上向きに傾斜した上向き案内面、及び前記下向き傾斜面に外周側で対向する位置にて下向きに傾斜した下向き案内面を内周部に備えた第１挟持片と、前記上向き案内面及び前記下向き案内面を内周部に備えた第２挟持片と、前記第１挟持片の一端部に前記第２挟持片の一端部を軸支して、平面視で円形状に取り付ける軸支部材と、前記第１挟持片の他端部と前記第２挟持片の他端部とを着脱自在に連結する連結部と、
を備えていることを特徴とするウエハ端面保護装置。
【請求項３】
請求項１に記載のウエハ端面保護装置において、
前記第１の保護部材は、一方のウエハの中心部に向かって上向きに傾斜した上向き傾斜面を周縁部に備え、
前記第２の保護部材は、他方のウエハの中心部に向かって下向きに傾斜した下向き傾斜面を周縁部に備え、
前記挟持機構は、前記円板状部材の外径より大きな内径を有するリング状部材と、内周部で前記円板状部材の外周に接する向きに設けられた水平軸と、この水平軸周りで揺動自在の複数個の挟持片とを備え、
前記複数個の挟持片は、水平軸よりも外周側に設けられた錘と、前記上向き傾斜面に外周側で対向する位置にて上向きに傾斜した上向き案内面、及び前記下向き傾斜面に外周側で対向する位置にて下向きに傾斜した下向き案内面を水平軸より内側の内周部に備えた案内溝とを備え、
非挟持の状態では、前記案内溝が前記水平軸より上に位置していることを特徴とするウエハ端面保護装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載のウエハ端面保護装置において、
前記第１の保護部材及び前記第２の保護部材は、径が異なる少なくとも二つの溝が同心円状に、かつ積層した際にウエハが位置する合わせ面に形成されており、前記各溝にＯリングを備えていることを特徴とするウエハ端面保護装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載のウエハ端面保護装置において、
前記円板状部材は、ウエハの外径より若干大径で、ウエハの厚さと同程度の深さを有する浅溝が両面に形成されていることを特徴とするウエハ端面保護装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載のウエハ端面保護装置において、
前記円板状部材は、両面の少なくとも二箇所に位置合わせ穴を備え、前記第１の保護部材及び前記第２の保護部材は、合わせ面の一部位のうち少なくとも二箇所に、前記位置合わせ穴に挿通される位置合わせピンを突設されていることを特徴とするウエハ端面保護装置。
【請求項７】
処理液にウエハを浸漬させてウエハの処理面を処理する際に、ウエハの非処理面及び端面を保護するウエハ端面保護装置において、
外径がウエハの外径より大きく、二枚のウエハの各々が非処理面側を面側に向けた姿勢で両面に配置される円板状部材と、
処理液に対する耐性を有し、一方のウエハの処理面においてほぼ円形を呈する処理部分を除いて一方のウエハの処理面を覆う第１の保護部材と、
処理液に対する耐性を有し、他方のウエハの処理面においてほぼ円形を呈する処理部分を除いて他方のウエハの処理面を覆う第２の保護部材と、
処理液に対する耐性を有し、前記第１の保護部材と一方のウエハの処理面との間に取り付けられた第１のリップパッキンと、
処理液に対する耐性を有し、前記第２の保護部材と他方のウエハの処理面との間に取り付けられた第２のリップパッキンと、
前記円板状部材の一方面に一方のウエハを配置し、前記第１のリップパッキンを介して前記第１の保護部材を前記円板状部材の一方面に積層することによって、前記円板状部材と前記第１の保護部材及び前記第１のリップパッキンで閉塞される第１の空間に連通し、前記第１の空間の気体を排出したり、前記第１の空間の負圧を解消したりするための第１の連通口と、
前記円板状部材の他方面に他方のウエハを配置し、前記第２のリップパッキンを介して前記第２の保護部材を前記円板状部材の他方面に積層することによって、前記円板状部材と前記第２の保護部材及び前記第２のリップパッキンで閉塞される第２の空間に連通し、前記第２の空間の気体を排出したり、前記第２の空間の負圧を解消したりするための第２の連通口と、
を備えることを特徴とするウエハ端面保護装置。
【請求項８】
請求項７に記載のウエハ端面保護装置において、
前記第１の連通口及び前記第２の連通口は、それぞれ逆止弁を備えていることを特徴とするウエハ端面保護装置。
【請求項９】
請求項７または８に記載のウエハ端面保護装置において、
前記第１のリップパッキン及び前記第２のリップパッキンは、前記第１の保護部材及び前記第２の保護部材のうち、積層した際にウエハが位置する合わせ面に取り付けられていることを特徴とするウエハ端面保護装置。
【請求項１０】
請求項７から９のいずれかに記載のウエハ端面保護装置において、
前記円板状部材は、ウエハの外径より若干大径で、ウエハの厚さと同程度の深さを有する浅溝が両面に形成されていることを特徴とするウエハ端面保護装置。
【請求項１１】
請求項７から１０のいずれかに記載のウエハ端面保護装置において、
前記第１の連通口及び前記第２の連通口は、前記第１の空間及び前記第２の空間の負圧を解消する際に気体を供給されることを特徴とするウエハ端面保護装置。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれかに記載のウエハ端面保護装置が装着された複数枚のウエハを起立姿勢で保持する保持機構を備え、
処理槽内に貯留された処理液に前記保持機構によって保持された複数枚のウエハを浸漬させて処理を行うことを特徴とするウエハ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコン半導体や化合物半導体などのウエハを処理液に浸漬させて所定の処理を行う際に、ウエハの非処理面及び端面を保護するウエハ端面保護装置及びこれを用いてウエハを処理するウエハ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のウエハ処理として、ウエハの厚みを薄くする処理がある（シンニング）。この場合には、まず、基盤の上面にワックスを塗布して溶融させ、その上に、ウエハの回路等が形成された非処理面を下向きにして載置する。そして、冷却することによりウエハを基盤に固定し、水酸化カリウム(KOH)を含むエッチング液として貯留している処理槽にウエハを基盤とともに収容し、エッチング液中にウエハを浸漬する。これにより、ウエハの処理面を化学的に研磨して、ウエハの厚みを薄くする処理（シンニング）が行われている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−３４７２５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来のウエハ処理では、ワックスに水酸化カリウムへの耐性をもたせることが困難であるので、エッチング液中にワックスが溶け出し、処理途中にてウエハが基盤から剥離したり、非処理面側にあたるウエハの表面周縁部の一部がエッチングされたりする場合がある。
【０００４】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、ウエハの端面を構造的に保護することにより、基盤に対するウエハ剥がれ等の処理不良を防止することができるウエハ端縁保護装置及びウエハ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、処理液にウエハを浸漬させてウエハの処理面を処理する際に、ウエハの非処理面及び端面を保護するウエハ端面保護装置において、外径がウエハの外径より大きく、二枚のウエハの各々が非処理面側を面側に向けた姿勢で両面に配置される円板状部材と、処理液に対する耐性を有し、一方のウエハの処理面においてほぼ円形を呈する処理部分を除いて一方のウエハの処理面を覆う第１の保護部材と、処理液に対する耐性を有し、他方のウエハの処理面においてほぼ円形を呈する処理部分を除いて他方のウエハの処理面を覆う第２の保護部材と、処理液に対する耐性を有し、前記第１の保護部材と一方のウエハの処理面との間に取り付けられた第１の液密シール材と、処理液に対する耐性を有し、前記第２の保護部材と他方のウエハの処理面との間に取り付けられた第２の液密シール材と、前記円板状部材の一方面に一方のウエハを配置し、前記第１の液密シール材を介して前記第１の保護部材を前記円板状部材の一方面に積層し、前記円板状部材の他方面に他方のウエハを配置し、前記第２の液密シール材を介して前記第２の保護部材を前記円板状部材の他方面に積層した状態で、前記第１の保護部材及び前記第２の保護部材並びに前記円板状部材を挟持する挟持機構と、を備えていることを特徴とするものである。
【０００６】
［作用・効果］請求項1に記載の発明によれば、処理部分を除く一方のウエハの処理面が第１の保護部材により覆われ、処理部分を除く他方のウエハの処理面が第２の保護部材により覆われ、第１の液密シール材を介して第１の保護部材が一方のウエハ及び円板状部材に積層され、第２の液密シール材を介して第２の保護部材が他方のウエハ及び円板状部材に積層された状態で、挟持機構により第１の保護部材及び第２の保護部材と円板状部材が挟持されているので、二枚のウエハの各々の処理部分以外は処理液に触れることがない。したがって、ウエハの端面が処理液で処理されたり、基盤にウエハを接着しているワックス等が処理液に浸食されて剥がれたりする等の処理不良を防止することができる。その上、挟持機構により挟持するという簡単な動作でウエハ端面保護装置を二枚のウエハに取り付けることができ、効率的に処理を行うことができる。
【０００７】
本発明において、前記第１の保護部材は、一方のウエハの中心部に向かって上向きに傾斜した上向き傾斜面を周縁部に備え、前記第２の保護部材は、他方のウエハの中心部に向かって下向きに傾斜した下向き傾斜面を周縁部に備え、前記挟持機構は、平面視で半円弧状を呈し、前記上向き傾斜面に外周側で対向する位置にて上向きに傾斜した上向き案内面、及び前記下向き傾斜面に外周側で対向する位置にて下向きに傾斜した下向き案内面を内周部に備えた第１挟持片と、前記上向き案内面及び前記下向き案内面を内周部に備えた第２挟持片と、前記第１挟持片の一端部に前記第２挟持片の一端部を軸支して、平面視で円形状に取り付ける軸支部材と、前記第１挟持片の他端部と前記第２挟持片の他端部とを着脱自在に連結する連結部と、を備えていることが好ましい（請求項２）。一方のウエハ及び第１の液密シールを挟んで積層された第１の保護部材と円板状部材の外周部と、他方のウエハ及び第２の液密シールを挟んで積層された第２の保護部材と円板状部材の外周部とを第１挟持片と第２挟持片で挟持すると、これらの内周部に形成されている下向き案内面と上向き案内面が、第１の保護部材の上向き傾斜面と第２の保護部材の下向き傾斜面とを両ウエハの中心部側に案内するので、第１の保護部材と円板状部材と第２の保護部材とが積層方向に締め付けられる。したがって、連結部で第１挟持片と第２挟持片を固定することにより、第１の保護部材及び第２の保護部材並びに円板状部材を確実に挟持することができる。
【０００８】
また、本発明において、前記第１の保護部材は、一方のウエハの中心部に向かって上向きに傾斜した上向き傾斜面を周縁部に備え、前記第２の保護部材は、他方のウエハの中心部に向かって下向きに傾斜した下向き傾斜面を周縁部に備え、前記挟持機構は、前記円板状部材の外径より大きな内径を有するリング状部材と、内周部で前記円板状部材の外周に接する向きに設けられた水平軸と、この水平軸周りで揺動自在の複数個の挟持片とを備え、前記複数個の挟持片は、水平軸よりも外周側に設けられた錘と、前記上向き傾斜面に外周側で対向する位置にて上向きに傾斜した上向き案内面、及び前記下向き傾斜面に外周側で対向する位置にて下向きに傾斜した下向き案内面を水平軸より内側の内周部に備えた案内溝とを備え、非挟持の状態では、前記案内溝が前記水平軸より上に位置していることが好ましい（請求項３）。一方のウエハ及び第１の液密シールを挟んで円板状部材の一方面に積層された第１の保護部材と、他方のウエハ及び第２の液密シールを挟んで円板状部材の他方面に積層された第２の保護部材と、円板状部材とを積層した状態でリング状部材に載置すると、上を向いている複数個の挟持片の案内溝に第１の保護部材及び第２の保護部材と円板状部材の外周部が係止され、挟持片の内周部に形成されている下向き案内面と上向き案内面が、第１の保護部材の上向き傾斜面と第２の保護部材の下向き傾斜面とを両ウエハの中心部側に案内するので、第１の保護部材と円板状部材と第１の保護部材とが積層方向に締め付けされる。したがって、第１の保護部材及び第２の保護部材並びに円板状部材を容易に挟持することができる。
【０００９】
また、本発明において、前記第１の保護部材及び前記第２の保護部材は、径が異なる少なくとも二つの溝が同心円状に、かつ積層した際にウエハが位置する合わせ面に形成されており、前記各溝にＯリングを備えていることが好ましい（請求項４）。二重にＯリングを備えているので、処理液がウエハの端面に到達することを確実に防止できる。
【００１０】
また、本発明において、前記円板状部材は、ウエハの外径より若干大径で、ウエハの厚さと同程度の深さを有する浅溝が両面に形成されていることが好ましい（請求項５）。ウエハを浅溝に収容させる構成により、挟持機構で挟持することによりウエハに加わる荷重を軽減することができる。
【００１１】
また、本発明において、前記円板状部材は、両面の少なくとも二箇所に位置合わせ穴を備え、前記第１の保護部材及び前記第２の保護部材は、合わせ面の一部位のうち少なくとも二箇所に、前記位置合わせ穴に挿通される位置合わせピンを突設されていることが好ましい（請求項６）。位置合わせピンを位置合わせ穴に挿通することにより、保護部材と円板状部材との位置合わせを容易に行うことができる。
【００１２】
また、請求項７に記載の発明は、処理液にウエハを浸漬させてウエハの処理面を処理する際に、ウエハの非処理面及び端面を保護するウエハ端面保護装置において、外径がウエハの外径より大きく、二枚のウエハの各々が非処理面側を面側に向けた姿勢で両面に配置される円板状部材と、処理液に対する耐性を有し、一方のウエハの処理面においてほぼ円形を呈する処理部分を除いて一方のウエハの処理面を覆う第１の保護部材と、処理液に対する耐性を有し、他方のウエハの処理面においてほぼ円形を呈する処理部分を除いて他方のウエハの処理面を覆う第２の保護部材と、処理液に対する耐性を有し、前記第１の保護部材と一方のウエハの処理面との間に取り付けられた第１のリップパッキンと、処理液に対する耐性を有し、前記第２の保護部材と他方のウエハの処理面との間に取り付けられた第２のリップパッキンと、前記円板状部材の一方面に一方のウエハを配置し、前記第１のリップパッキンを介して前記第１の保護部材を前記円板状部材の一方面に積層することによって、前記円板状部材と前記第１の保護部材及び前記第１のリップパッキンで閉塞される第１の空間に連通し、前記第１の空間の気体を排出したり、前記第１の空間の負圧を解消したりするための第１の連通口と、前記円板状部材の他方面に他方のウエハを配置し、前記第２のリップパッキンを介して前記第２の保護部材を前記円板状部材の他方面に積層することによって、前記円板状部材と前記第２の保護部材及び前記第２のリップパッキンで閉塞される第２の空間に連通し、前記第２の空間の気体を排出したり、前記第２の空間の負圧を解消したりするための第２の連通口と、を備えることを特徴とするものである。
【００１３】
［作用・効果］請求項７に記載の発明によれば、処理部分を除く一方のウエハの非処理面が第１の保護部材により覆われ、処理部分を除く他方のウエハの非処理面が第２の保護部材で覆われ、第１のリップパッキンを介して第１の保護部材が一方のウエハ及び円板状部材に積層され、第２のリップパッキンを介して第２の保護部材が他方のウエハ及び円板状部材に積層された状態で、円板状部材と第１の保護部材と第１のリップパッキンで閉塞される第１の空間の気体を第１の連通口から排出し、円板状部材と第２の保護部材と第２のリップパッキンで閉塞される第２の空間の気体を第２の連通口から排出する。これにより、第１の保護部材と第２の保護部材が円板状部材の両面に吸着されるので、二枚のウエハの各々の処理部分以外は処理液に触れることがない。したがって、ウエハの端面が処理液で処理されたり、基盤にウエハを接着しているワックス等が処理液に浸食されて剥がれたりする等の処理不良を防止することができる。その上、連通口から排出するだけという簡単な動作でウエハ端面保護装置を二枚のウエハに取り付けることができる。
【００１４】
なお、「リップパッキン」とは、流体に圧力がかかるとリップパッキンのリップ先端に流体圧よりも大きな圧力がかかり、当接面に圧着する部分が生じ、セルフシール作用によって圧着が維持される種類のパッキンをいう。このようなリップパッキンとしては、Ｕパッキン、Ｖパッキン、Ｌパッキン、Ｊパッキン等が挙げられ、ダストシールやスクレーパとも呼ばれる。
【００１５】
また、本発明において、前記第１の連通口及び前記第２の連通口は、それぞれ逆止弁を備えていることが好ましい（請求項８）。第１の空間及び第２の空間内の気体を第１の連通口及び第２の連通口から排出した後、排出動作を止めても逆止弁で第１の空間及び第２の空間の内部の負圧が維持できる。
【００１６】
また、本発明において、前記第１のリップパッキン及び前記第２のリップパッキンは、前記第１の保護部材及び前記第２の保護部材のうち、積層した際にウエハが位置する合わせ面に取り付けられていることが好ましい（請求項９）。
【００１７】
また、本発明において、前記円板状部材は、ウエハの外径より若干大径で、ウエハの厚さと同程度の深さを有する浅溝が両面に形成されていることが好ましい（請求項１０）。ウエハを浅溝に収容させるので、ウエハに余分な荷重が加わることを防止できる。
【００１８】
また、本発明において、前記第１の連通口及び前記第２の連通口は、前記第１の空間及び前記第２の空間の負圧を解消する際に気体を供給されることが好ましい（請求項１１）。第１の空間及び第２の空間に気体を供給することにより、第１のリップパッキン及び第２のリップパッキンがウエハに強固に粘着していたとしても容易にウエハから取り外すことができる。
【００１９】
また、本発明において、請求項１から１１のいずれかに記載のウエハ端面保護装置が装着された複数枚のウエハを起立姿勢で保持する保持機構を備え、処理槽内に貯留された処理液に前記保持機構によって保持された複数枚のウエハを浸漬させて処理を行うことが好ましい（請求項１２）。ウエハ端面保護装置を装着した複数枚のウエハを保持機構で保持した状態で処理液に浸漬させることにより、一度に多くのウエハを処理することができ、処理効率を高めることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係るウエハ端面保護装置によれば、処理部分を除く一方のウエハの処理面が第１の保護部材により覆われ、処理部分を除く他方のウエハの処理面が第２の保護部材により覆われ、第１の液密シール材を介して第１の保護部材が一方のウエハ及び円板状部材に積層され、第２の液密シール材を介して第２の保護部材が他方のウエハ及び円板状部材に積層された状態で、挟持機構により第１の保護部材及び第２の保護部材と円板状部材が挟持されているので、二枚のウエハの各々の処理部分以外は処理液に触れることがない。したがって、ウエハの端面が処理液で処理されたり、基盤にウエハを接着しているワックス等が処理液に浸食されて剥がれたりする等の処理不良を防止できる。その上、挟持機構により挟持するという簡単な動作でウエハ端面保護装置を二枚のウエハに取り付けることができ、効率的に処理を行える。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明は、ウエハの端面を保護するウエハ端面保護装置と、これを装着されたウエハを処理するためのウエハ処理装置であるが、以下の説明では、実施例１〜３においてウエハ端面保護装置について説明し、実施例４においてウエハ処理装置について説明する。なお、以下の説明においては、オリエンテーション・フラットやノッチを省略した平面視円形状のウエハを例に採って説明する。
【実施例１】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明の実施例1を説明する。
図１は、実施例１に係るウエハ端面保護装置の概略構成を示す分解斜視図であり、図２は、実施例１に係るウエハ端面保護装置の概略構成を示す平面図であり、図３は、円板状部材と保護部材の一部を拡大した縦断面図である。
【００２３】
ウエハ端面保護装置１は、シリコン半導体や化合物半導体などの処理対象であるウエハＷを保持し、回路等が形成されている非処理面Ｓ１側とは反対側の面である処理面Ｓ２側をエッチングして薄くする際に、非処理面Ｓ１及び端面を処理液から保護するものである。ウエハ端面保護装置１は、二枚のウエハＷを両面に配置される円板状部材３を備え、円板状部材３の一方面（図１の上面）に一方のウエハＷを載置した状態で、さらに第１の保護部材５を積層して備えるとともに、円板状部材３の他方面（図１の下面）に他方のウエハＷを載置した状態で、さらに第２の保護部材７を積層して備える。また、円板状部材３、二枚のウエハＷ、第１の保護部材５及び第２の保護部材７を挟持するための挟持機構９を備えている。
【００２４】
円板状部材３は、その外径がウエハＷの外径より大きく形成されている。その両面には、浅溝１１が形成されている。この浅溝１１は、非処理面Ｓ１側を円板状部材３側に向けた姿勢のウエハＷを収容するとともに、ウエハＷの水平方向における位置ずれを抑制するために設けられている。また、この浅溝１１が円板状部材３に形成されているので、挟持機構９で挟持することによりウエハＷに加わる過剰な荷重を軽減することができる。この浅溝１１は、ウエハＷの外径より若干大径であり、その深さがウエハＷの厚さとほぼ同じ程度である。円板状部材３の浅溝１１より外周側にあたる両面には、径方向で対向する位置に位置合わせ穴１３が一対ずつ形成されている。
【００２５】
第１の保護部材５と第２の保護部材７は、上下が逆であるだけで同じ構成であるので、ここでは主に第１の保護部材５を例に採って説明する。第１の保護部材５は、ウエハＷの処理面Ｓ２において平面視ほぼ円形状を呈する処理部分の円Ｃを除いて、ウエハＷの処理面Ｓ２側の端面を覆う。つまり、第１の保護部材５は、平面視環状を呈するとともに、円板状部材３の外径と同じ外径を有する。第１の保護部材５の円板状部材３側（下面）には、円板状部材３の位置合わせ穴１３に応じた外周側の二箇所に位置合わせピン１５が突設されている。また、第１の保護部材５のうち円板状部材３側（下面）には、縦断面が逆台形状を呈し、面方向の直径が異なる二つの溝１７，１９が同心円状に形成されている。これらの溝１７，１９には、Ｏリング２１，２３（液密シール材）が嵌め付けられている。第１の保護部材５のうち円板状部材３が位置する反対側の周縁部（上面周縁部）には、ウエハＷの中心部に向かって上向きに傾斜した上向き傾斜面２５を全周にわたって備えている。また、第２の保護部材７のうち円板状部材３が位置する反対側の周縁部（下面周縁部）には、ウエハＷの中心部に向かって下向きに傾斜した下向きに傾斜した下向き傾斜面２７を全周にわたって備えている。
【００２６】
なお、上述したＯリング２１，２３は、処理液の一例である水酸化カリウムに対する耐性を備えた材料で構成されていることが好ましい。例えば、パーフロロエラストマーに分類される高分子材料（フッ素樹脂と同様の化学構造式を有する）等が好ましく、具体的には、カルレッツ（登録商標：デュポンダウエラストマー社）や、パーフロ（登録商標：ダイキン工業）や、ＥＰＤＭ（エチレン・プロピレンゴム）が例示される。
【００２７】
挟持機構９は、平面視でアルファベットのＣ字状を呈する第１挟持片２９と、この第１挟持片２９とほぼ同形状を呈する第２挟持片３１と、第１挟持片２９の一端部に第２挟持片３１の一端部を軸支するための軸支部材３３と、第１挟持片２９の他端部に設けられた第１係止機構３５と、第２挟持片３１の他端部に設けられた第２係止機構３７とを備えている。本発明における「連結部」に相当する第１係止機構３５と第２係止機構３７は、第１挟持片２９の他端部と第２挟持片３１の他端部とを着脱自在に連結する機能を備えている。
【００２８】
第１挟持片２９及び第２挟持片３１は、第２の保護部材７の下向き傾斜面２７に外周側で対向する位置に、下向きに傾斜した下向き案内面３９と、第１の保護部材５の上向き傾斜面２５に外周側で対向する位置に、上向きに傾斜した上向き案内面４１とを内周部に備えている。第１係止機構３５は、外周側に開口部を有する軸支部４３を備え、この軸支部４３には蝶ネジ４５が、鉛直軸周りに揺動自在に取り付けられている。第２係止機構３７は、外周側に開口部を有する係止溝４７を備え、蝶ネジ４５が第２係止機構３７側で閉められることにより、第２係止機構３７が第１係止機構３５側に押圧される。
【００２９】
なお、上述した円板状部材３と、第１の保護部材５、第２の保護部材７と、挟持機構９は、処理液に対する耐性を備えている金属材料で構成されている。このような金属材料としては、例えば、ステンレス鋼板が挙げられる。
【００３０】
上述したように構成されたウエハ端面保護装置１のウエハＷへの装着について図４を参照して説明する。なお、図４は、円板状部材と二つの保護部材を挟持機構で挟持した状態の縦断面図である。
【００３１】
まず、図１に示すように、非処理面Ｓ１を上方に向けたウエハＷを第２の保護部材７の上に載置する。その上に、位置合わせ穴１３に位置合わせピン１５が挿通されるように位置合わせしつつ円板状部材３を載置するが、この時、下面の浅溝１１にウエハＷが収まるようにする。そして、非処理面Ｓ１を下方に向けたウエハＷを円板状部材３の上面の浅溝１１に載置する。次いで、その上方から第１の保護部材５を近づけ、位置合わせピン１５が円板状部材３の位置合わせ穴１３に挿通されるように載置する。図２に示すように、蝶ネジ４５を緩めて第１挟持片２９の他端部と第２挟持片３１の他端部を開放した状態にするとともに、第１挟持片２９と第２挟持片３１を軸支部材３３を中心として拡げた状態とする。そして、第１挟持片２９と第２挟持片３１で囲まれている中に円板状部材３及び第１の保護部材５並びに第２の保護部材７で積層された二枚のウエハＷを載置するとともに、第１挟持片２９と第２挟持片３１の両他端部を近づけて当接させ、蝶ネジ４５を第２係止機構３７側に旋回させるとともに締め付けて第２係止機構３７を第１係止機構３５に対して押圧する。これにより、図４に示すように、第１挟持片２９と第２挟持片３１の下向き案内面３９が、第２の保護部材７の下向き傾斜面２７をウエハＷの中心方向に向かって押圧する。さらに、上向き案内面４１が、第１の保護部材５の上向き傾斜面２５をウエハＷの中心方向に向かって押圧する。これらの押圧により、第１の保護部材５と第２の保護部材７は、積層されている二枚のウエハＷの方向へと押圧され、二枚のウエハＷの処理面Ｓ１のうち、処理部分の円Ｃに相当する領域を除いて液密に保持される。
【００３２】
このように構成されたウエハ端面保護装置１を装着された二枚のウエハＷは、処理槽（図示省略）に貯留された、所定温度（例えば、７０℃）にされた処理液に浸漬され、例えば、３０分〜６０分程度その状態を維持される。すると、二枚のウエハＷの処理面Ｓ２側が化学的に研磨され、例えば、６インチ径のウエハＷでは厚さが５０μｍ以下にまで薄くされる。
【００３３】
このように、二枚のウエハＷ及びＯリング２１，２３を挟んで積層された第１の保護部材５及び第２の保護部材７と円板状部材３の外周部を第１挟持片２９と第２挟持片３１で挟持すると、これらの内周部に形成されている下向き案内面３９と上向き案内面４１が、第１の保護部材５の上向き傾斜面２５と第２の保護部材７の下向き傾斜面２７をウエハＷ側に案内するので、第１の保護部材５と第２の保護部材７とが積層方向に締め付けられる。その上、第１係止機構３５と第２係止機構３７で第１挟持片２９と第２挟持片３１を固定することにより、第１の保護部材５及び第２の保護部材７並びに円板状部材３を確実に挟持できる。したがって、挟持機構９により挟持するという簡単な動作でウエハ端面保護装置１を二枚のウエハＷに取り付けることができ、効率的に処理を行うことができる。
【実施例２】
【００３４】
次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。
図５は、実施例２に係るウエハ端面保護装置の概略構成を示す平面図であり、図６は、挟持機構の一部を拡大した平面図であり、図７は、図６のＡ−Ａ矢視断面図である。なお、本実施例２は、ウエハ端面保護装置のうちの円形状部材３及び第１の保護部材５並びに第２の保護部材７が上述した実施例１と共通であるので、以下の説明においては挟持機構９Ａについてのみ詳細に説明する。
【００３５】
本実施例２におけるウエハ端面保護装置１Ａは、円形状部材３と、二枚のウエハＷと、第１の保護部材５と、第２の保護部材７を積層して挟持するための挟持機構９Ａとを備えている。
【００３６】
挟持機構９Ａは、平面視でほぼ円形状を呈し、円板状部材３及び第１の保護部材５並びに第２の保護部材７の外径より若干大なる内径を有するリングフレーム４９を備えている。このリングフレーム４９（リング状部材）は、内周部に、平面視等間隔で円形状に配置された係止部５１（本実施例２では８個）を備えている。各係止部５１は、次のように構成されている。
【００３７】
係止部５１は、内周側（ウエハＷの外周側）へ凹状に形成された凹部５３と、凹部５３にてウエハＷの外周に接する向きに配設された水平軸５５と、この水平軸５５周りに揺動自在に取り付けられた挟持片５７とを備えている。この挟持片５７は、第２の保護部材７の下向き傾斜面２７に外周側で対向する位置に、下向きに傾斜した下向き案内面５９と、第１の保護部材５の上向き傾斜面２５に外周側で対向する位置に、上向きに傾斜した上向き案内面６１とを水平軸５５よりも内側に備えた案内溝６３を備えている。また、係止部５１の水平軸５５よりも外周側には、案内溝６３側よりも重くなるように形成された錘６５が設けられている。
【００３８】
上記のように構成されたウエハ端面保護装置１Ａを、リングフレーム４９の外周側だけが当接するように図示しない載置台に載置すると、図８に示すように、錘６５が垂れ下がるとともに反対側の案内溝６３が上方に向けられた状態となる。挟持片５７は、その上面が係止部５１の上部で規制され、ウエハＷの中心部に案内溝６３を向けた傾斜姿勢となる。図８のように、二枚のウエハＷを挟持した円板状部材３及び第１の保護部材５並びに第２の保護部材７をその上方から移動させ、さらに下方に移動させると、図９に示すように円板状部材３及び第１の保護部材５並びに第２の保護部材７とが案内溝６３にはまり込む。なお、挟持片５７の揺動が、錘６５が係止部５１で規制されることにより制限されているので、それ以上に案内溝６３が下降できないようになっている。
【００３９】
このように、二枚のウエハＷ及びＯリング２１，２３を挟んで積層された円板状部材３と第１の保護部材５と第２の保護部材７とを載置すると、上を向いている複数個の挟持片５７の案内溝６３に円板状部材３と第１の保護部材５と第２の保護部材７との外周部が係止され、挟持片５７の内周部に形成されている下向き案内面５９と上向き案内面６１が、第２の保護部材７の下向き傾斜面２７と第１の保護部材５の上向き傾斜面２５をウエハＷ側に案内するので、第１の保護部材５と第２の保護部材７と円板状部材３とが積層方向に締め付けされる。したがって、第１の保護部材５と第２の保護部材７と円板状部材３を容易に挟持することができる。本実施例２によると、円板状部材３と第１の保護部材５と第２の保護部材７とで積層された二枚のウエハＷをウエハ端面保護装置１Ａの上方から載置するだけで、ウエハ端面保護装置１Ａを取り付けることができるので、自動化を図る際に有効である。
【００４０】
なお、本発明は、上述した各実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００４１】
（１）実施例１及び実施例２では、第２の保護部材７に下向き傾斜面２７と第１の保護部材５に上向き傾斜面２５を備え、挟持機構９で側方から挟持することによりウエハＷを円板状部材３と第１の保護部材５及び第２の保護部材７で積層方向に挟持しているが、これらの傾斜面２５，２７によらず、積層方向に直接挟持する機構を採用してもよい。
【００４２】
（２）実施例１及び実施例２では、第１の保護部材５及び第２の保護部材７の下面に二つのＯリング２１，２３を備えているが、一つとしてもよい。また、第１の保護部材５及び第２の保護部材７をＯリング２１，２３と同様の部材で構成するとともに、下面にＯリング２１，２３状の突起を設け、Ｏリング２１，２３を省略する構成を採用してもよい。
【００４３】
（３）実施例１における連結部（第１係止機構３５、第２係止機構３７）として、蝶ネジ４５等を用いることなく、Ｌ字状の係止フックにより係止する機構を採用してもよい。
【００４４】
（４）実施例１及び実施例２では、位置合わせ穴１３と位置合わせピン１５に代えて、位置合わせ突起リング及び凹部リングや、一対の切り欠きなどを用いて位置合わせするようにしてもよい。また、治具により円板状部材３と第１の保護部材５及び第２の保護部材７の位置合わせを行った上でウエハＷを積層する場合には、必ずしも位置合わせのための構成を備える必要はない。
【実施例３】
【００４５】
次に、図面を参照して本発明の実施例３を説明する。
図１０は、実施例３に係るウエハ端面保護装置の概略構成を示す分解斜視図であり、図１１は、円板状部材と二つの保護部材の一部を拡大した縦断面図であり、図１２は、円板状部材と二つの保護部材とを積層吸着した状態の縦断面図であり、図１３は、円板状部材と保護部材との積層吸着を解除した状態の縦断面図である。
【００４６】
ウエハ端面保護装置１Ｂは、円板状部材３Ｂの両面側にウエハＷを位置させた状態で、さらにその両面側に第１の保護部材５Ｂ及び第２の保護部材７Ｂを備えている。第１の保護部材５Ｂ及び第２の保護部材７Ｂは、積層された円板状部材３Ｂを吸着するためのリップパッキン６７を備えている。さらに、第１の保護部材５Ｂは、吸引を行うための連通口６９を備えている。
【００４７】
円板状部材３Ｂは、その外径がウエハＷの外径より大きく形成されている。その両面側には、浅溝７１がそれぞれ形成されている。これらの浅溝７１は、非処理面Ｓ１側を円板状部材３Ｂ側に向けた状態のウエハＷをそれぞれ収容するとともに、位置ずれを抑制するとともに、後述するようにして積層した際に各ウエハＷに加わる荷重を軽減することができる。これらの浅溝７１の深さは、ウエハＷの厚さとほぼ同じ程度であることが好ましい。
【００４８】
第１の保護部材５Ｂは、ウエハＷの処理面Ｓ２において平面視ほぼ円形状を呈する処理部分の円Ｃを除いて、ウエハＷの処理面Ｓ２側を覆う。つまり、第１の保護部材５Ｂは、平面視環状を呈するとともに、円板状部材３Ｂの外径とほぼ同じ外径を有する。その円板状部材３Ｂ側（下面）には、同心円状の凹溝７３，７５が形成されており、これらにリップパッキン６７（内パッキン６７ａ及び外パッキン６７ｂ）が嵌め付けられている。内側の凹溝７３は、その内径がウエハＷの外径より小さく、外側の凹溝７５は、その内径がウエハＷの外径より大きく、かつ円板状部材３Ｂの外径より小さい。つまり、凹溝７３に取り付けられた内パッキン６７ａ部分は、ウエハＷの処理面Ｓ２側における外周部に当接し、凹溝７５に取り付けられた外パッキン６７ｂは、円板状部材３Ｂの上面外周部に当接する。また、第１の保護部材５Ｂの上面の一部位には、リップパッキン６７（内パッキン６７ａ及び外パッキン６７ｂ）の間、つまり、円板状部材３Ｂに第１の保護部材５Ｂを積層し、リップパッキン６７で閉塞される空間ｓｐ１（第１の空間）に連通した連通口６９が形成されている。
【００４９】
なお、第１の保護部材５Ｂのリップパッキン６７が本発明における第１のリップパッキンに相当し、空間ｓｐ１が第１の空間に相当し、連通口６９が第１の連通口に相当する。
【００５０】
第２の保護部材７Ｂは、上述した第１の保護部材５Ｂとほぼ同様の構成を備えている。但し、連通口６９は形成されていない。円板状部材３Ｂの一部位には、両面に貫通した連絡通路７７が形成されており、ここを通して第２の保護部材７Ｂの空間ｓｐ２（第２の空間）の気体を連通口６９から排出可能になっており、これが本発明における「第２の連通口」に相当する。なお、第２の保護部材７Ｂにも第１の保護部材５Ｂと同様に連通口６９（第２の連通口）を備えるようにしてもよい。この場合には、円板状部材３Ｂの連通通路７７を設ける必要はない。
【００５１】
なお、第２の保護部材７Ｂのリップパッキン６７が本発明における第２のリップパッキンに相当し、空間ｓｐ２が第２の空間に相当する。
【００５２】
連通口６９は、第１の保護部材５Ｂの上面側に管継手７９を備えている。図１２，図１３に示すように、この管継手７９は、逆止弁８１と制御弁８３を内蔵し、いずれか一方に切り換え自在となっている。管継手７９には、三方弁８５を介して一端側が真空源８７と気体供給源８９に連通接続された配管９１の他端側が着脱自在となっている。なお、配管９１のうち、排気時における三方弁８５の上流側には、圧力計９３と流量調整弁９５が配設されている。真空源８７は、クリーンルームに設けられている真空ユーティリティであり、一般的にその吸引圧が一定の負圧となっている。流量調整弁９５は、後述する吸着時における排出圧を、その吸引圧より弱めるように調整するために用いられるものである。これにより、吸引圧が強すぎてリップパッキン６７がウエハＷに強固に粘着してしまう不都合を防止できる。気体供給源８９は、例えば、クリーンエアを供給するクリーンルームのユーティリティである。なお、クリーンエアに代えて窒素ガスを供給するようにしてもよい。
【００５３】
なお、リップパッキン６７は、上述した実施例１におけるＯリング２１，２３の材料と同様に、処理液の一例である水酸化カリウムに対する耐性を備えた材料で構成されていることが好ましい。
【００５４】
また、上述した円板状部材３Ｂと、第１の保護部材５Ｂと、第２の保護部材７Ｂと、管継手７９は、処理液に対する耐性を備えている金属材料で構成されている。このような金属材料としては、例えば、ステンレス鋼板が挙げられる。
【００５５】
上記のように構成されているウエハ端面保護装置１は、次のようにしてウエハＷを積層する。なお、流量調整弁９５を調整して、真空源８７による排気圧が予め適切に調整されており、三方弁８５が真空源８７側に切り換えられ、制御弁８３が閉止されているものとする。
【００５６】
まず、第２の保護部材７Ｂの上面に一枚のウエハＷを載置し、次いで、その上に円板状部材３Ｂを載置する。さらに円板状部材３Ｂの上面の浅溝７１に一枚のウエハＷを載置する。各ウエハＷは、その非処理面Ｓ１が円板状部材３Ｂ側に向けられた状態である。このとき円板状部材３Ｂと第１の保護部材５Ｂと第２の保護部材７Ｂの外周が横方向で一致するように位置合わせした状態で載置するのが好ましい。そのためには、例えば、円板状部材３Ｂと第１の保護部材５Ｂと第２の保護部材７Ｂの外径より若干大径の穴を形成した治具を用い、その穴に第２の保護部材７Ｂ、ウエハＷ、円板状部材３Ｂ、ウエハＷ、第１の保護部材５Ｂを順に収容して載置する。または、円板状部材３Ｂと第１の保護部材５Ｂと第２の保護部材７Ｂの外径に合わせた位置に複数本の位置合わせピンを立設した治具を用いる。
【００５７】
そして、配管９１を管継手７９に連結すると、予め設定された適切な排気圧で二つの空間ｓｐ１，ｓｐ２内の空気が真空源８７に排出される。すると、図１２に示すように、リップパッキン６７が変形して第１の保護部材５Ｂ及び第２の保護部材７ＢがウエハＷ側へと吸着され、ウエハＷの端面がシールされる。これにより、ウエハＷの処理面Ｓ２のうち、処理部分の円Ｃに相当する領域を除いて液密に保持される。そして、処理液に浸漬する際には、配管９１を管継手７９から取り外すが、配管９１を通して排気圧がかからない状態となっても、逆止弁８１及びリップパッキン６７のセルフシール作用により第１の保護部材５Ｂ及び第２の保護部材７Ｂを円板状部材３Ｂに吸着させたままにできる。
【００５８】
このように構成されたウエハ端面保護装置１Ｂを装着されたウエハＷは、処理槽（図示省略）に貯留された、所定温度（例えば、７０℃）にされた処理液に浸漬され、例えば、３０分〜６０分程度その状態を維持される。すると、二枚のウエハＷの処理面Ｓ２側が化学的に研磨され、例えば、６インチ径のウエハＷでは厚さが５０μｍ以下にまで薄くされる。
【００５９】
そして、所定の処理時間が経過すると、ウエハ端面保護装置１Ｂを処理液が取り出すとともに、図１３に示すように管継手７９に配管９１を連結する。そして、三方弁８５を気体供給源８９側に切り換えるとともに制御弁８３を開放する。これにより、二つの空間ｓｐ１，ｓｐ２の負圧が空気の加圧によって積極的に解消され、負圧によってリップパッキン６７が張り付いていたとしても容易に第１の保護部材５Ｂ及び第２の保護部材７Ｂを円板状部材３Ｂから分離することができる。
【００６０】
このように処理部分の円Ｃを除く各ウエハＷの処理面Ｓ２が第１の保護部材５Ｂ及び第２の保護部材７Ｂにより覆われ、リップパッキン６７を介して第１の保護部材５Ｂ及び第２の保護部材７Ｂが各ウエハＷ及び円板状部材３Ｂに積層された状態で、円板状部材３Ｂと第１の保護部材５Ｂと第２の保護部材７Ｂとリップパッキン６７で閉塞される各空間ｓｐ１，ｓｐ２の気体を連通口６９から排出する。これにより、第１の保護部材５Ｂ及び第２の保護部材７Ｂが円板状部材３Ｂに吸着されるので、各ウエハＷの処理部分の円Ｃ以外は処理液に触れることがない。したがって、各ウエハＷの端面が処理液で処理されたり、基盤にウエハＷを接着しているワックス等が処理液に浸食されて剥がれたりする等の処理不良を防止することができる。その上、連通口６９から排気するだけという簡単な動作でウエハ端面保護装置１ＢをウエハＷに取り付けることができるとともに、各空間ｓｐ１，ｓｐ２内の負圧を解消するだけで、取り外すことができる。
【００６１】
なお、本発明は、上述した実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００６２】
（１）実施例３においては、円板状部材３Ｂと第１の保護部材５Ｂと第２の保護部材７Ｂに位置合わせ穴と位置合わせピンを形成し、これらにより位置合わせを容易に行えるように構成してもよい。また、これらに代えて位置合わせ突起リング及び凹部リングや、一対の切り欠きなどを用いて位置合わせするように構成してもよい。
【００６３】
（２）実施例３では、ウエハ端面保護装置１Ｂを処理液に浸漬する際には配管９１を取り外すようにしているが、配管９１を管継手７９に接続して排気を維持したままとしてもよい。この場合には、逆止弁８１と制御弁８３を省略することができる。
【００６４】
（３）上述した実施例３では、負圧を解消するのにクリーンエアを供給しているが、単に制御弁８３を開放して大気圧に戻すようにしてもよい。これにより配管系の構成を簡単化することができる。
【実施例４】
【００６５】
次に、図面を参照して本発明の実施例４を説明する。
図１４は、実施例４に係るウエハ処理装置の概略構成を示す縦断面図であり、図１５は、  図１４を側面から見た縦断面図である。
【００６６】
本実施例４に係るウエハ処理装置は、上述した実施例１〜３に係るウエハ端面保護装置１，１Ａ，１Ｂが装着された複数枚のウエハＷを起立姿勢で収容するカセット９７を備え、カセット９７ごと処理液に浸漬させて処理を行う装置である。なお、カセット９７が本発明における保持機構に相当する。
【００６７】
カセット９７は、図１４の紙面方向に複数箇所のスロット９８を備え、各スロット９８の間には、スロット９８へ挿入されてきたウエハ端面保護装置１，１Ａ，１Ｂをスロット９８に案内するための案内面を備えた案内部９９が形成されている。このカセット９７は、ウエハＷだけを収納するカセットに比較すると、ウエハ端面保護装置１，１Ａ，１Ｂの厚みがあるだけに収納枚数は少なくなる。カセット９７は、図１４における前後面（図１５における左右面）に取付部１００を備えており、この取付部１００を介して後述する保持機構１１５に取り付けられる。
【００６８】
このウエハ処理装置は、処理液を貯留する内槽１０１と、この内槽１０１から溢れた処理液を回収するための外槽１０２とを備えた処理槽１０３を備えている。内槽１０１の底面には、処理液を導入するための導入口１０４が形成されており、その上方には、整流板１０５が配設されている。この整流板１０５は、複数の細かい孔が全面にわたって形成されており、導入口１０４から導入された処理液の流れを整えて内槽１０１に導く。
【００６９】
外槽１０２の一部位には、排出口１０６が形成されている。この排出口１０６と上記の導入口１０４には、供給配管１０７が連通接続されている。供給配管１０７には、上流側から三方弁１０８と、ポンプ１０９と、インラインヒータ１１０と、フィルタ１１１とが設けられている。三方弁１０８には、さらに処理液供給源１１２が連通接続されている。また、排出口１０６と三方弁１０８との間付近の供給配管１０７には、分岐管１１３が設けられ、この分岐管１１３に取り付けられた開閉弁１１４の操作によって外槽１０２に貯留した処理液が排液される。
【００７０】
この装置は、上記の構成に加えて保持機構１１５を備えている。この保持機構１１５は、図１４及び図１５に示す処理位置と、この処理位置及び処理槽１０３よりも上方にあたる待機位置とにわたって昇降機構１１６により昇降される。
【００７１】
保持機構１１５は、一対の保持フレーム１１７を備えている。この保持フレーム１１７の各先端部は、上述したカセット９７の取付部１００に着脱自在に構成されている。但し、カセット９７と保持フレーム１１７との間における相対的な位置が固定されている。
【００７２】
駆動機構１１８は、内槽１０１中において上述した保持機構１１５を、基板Ｗの整列方向に沿った水平軸周りに公転させる機能を備えている。以下に、この駆動機構１１８について詳細に説明する。
【００７３】
駆動機構１１８は、前フレーム１１９と、後フレーム１２０と、これらを下部において補強する補強カバー１２１とを備えている。前フレーム１１９と後フレーム１２０の下部には、軸穴１２２が形成されている。この軸穴１２２には、基板Ｗの整列方向に沿う軸心Ｐに合わせて第１の回転軸１２３が緩挿されている。第１の回転軸１２３の両端部は、前フレーム１１９および後フレーム１２０から突出している。この第１の回転軸１２３の両端部には、軸心Ｐから基板Ｗの面方向に向けられた回転片１２５がネジ止めされて固定されている。また、各々の回転片１２５の先端部には、上述した保持フレーム１１７の上端部が、基板Ｗの面方向に沿って回転可能にネジ１２７によって取り付けられている。第１の回転軸１２３の中間部には、ギア１２８が固定的に取り付けられている。
【００７４】
第１の回転軸１２３の上方には、第２の回転軸１２９が配設され、その後端は処理槽１０３の後側に延出されている。第２の回転軸１２９には、第１の回転軸１２３に取り付けられているギア１２８と螺合するようにギア１３１が取り付けられている。第２の回転軸１２９の延出された部分には、昇降機構１１６が配備されている。
【００７５】
この昇降機構１１６は、上述した待機位置と処理位置とにわたって伸縮可能な作動片１３３を備えたアクチュエータ１３４と、この作動片１３３の上端に取り付けられ、処理槽１０３側に延出された昇降片１３５とを備えている。この昇降片１３５の処理槽１０３側には、モータ１３７が配設されており、その回転軸には第２の回転軸１２９の他端側が連結されている。
【００７６】
上述したモータ１３７の回転軸を、図１４に示すように正面から見て時計回りに駆動すると、第２の回転軸１２９が時計回りに回転し、ギア１３１，１２８を介して第１の回転軸１２３が反時計回りに回転する。すると、第１の回転軸１２３に取り付けられている回転片１２５が反時計回りに、回転片１２５の先端部側が軸心Ｐ周りに公転する。したがって、回転片１２５の先端部側で回転可能に取り付けられた保持フレーム１１７は、鉛直姿勢を保ったままその上端部が軸心Ｐの周囲を回転し、これに伴い保持フレーム１１７の下端部に固定されているカセット９７が内槽１０１中において公転運動することになる。
【００７７】
このように構成された装置では、次のようにして処理が行われる。
【００７８】
なお、初期状態としては、アクチュエータ１３４が伸長動作して、保持機構１１５が処理槽１０３の上方にあたる図示しない待機位置にあるものとする。そして、この状態にて、ウエハ端面保護装置１，１Ａ，１Ｂが装着されたウエハＷが収納されたカセット９７を、図示しない搬送手段から保持機構１１５に受け渡す。
【００７９】
次いで、開放弁１１４を閉止するとともに、三方弁１０８を処理液供給源１１２に切り替え、ここから処理液を供給するためにポンプ１０９を作動させる。さらに、インラインヒータ１１０を作動させて、処理液を所定の温度に加熱して供給配管１０７に流通させる。なお、処理液としては、例えば、半導体シリコンに対するエッチングレートが高い水酸化カリウムが挙げられる。このようにして供給された処理液が内槽１０１から溢れ、外槽１０２に貯留した後、三方弁１０８を切り換えて、処理液供給源１１２からの供給を停止するとともに、外槽１０２の処理液を供給配管１０７に循環させる。この循環を行いつつ、インラインヒータ１１０による加熱で処理液の温度が安定した場合には、昇降機構１１６を作動させて、保持機構１１５を待機位置から処理位置に下降させる。これと同時に、モータ１３７を作動させて、保持機構１１５を公転運動させる。なお、モータ１３７の回転による保持機構１１５の公転回転数は、例えば、９０ｒｐｍ程度であるが、この公転回転数は処理内容に応じて適宜に調整すればよい。
【００８０】
上記の動作により、ウエハ端面保護装置１，１Ａ，１Ｂが装着されたウエハＷに対して、処理液による処理が行われる。さらに、モータ１３７の作動により保持機構１１５が公転するので、ウエハ端面保護装置１，１Ａ，１Ｂが装着された複数枚のウエハＷを内槽１０１中において水平軸ＶＰ周りに公転運動させることができる。したがって、ウエハＷを公転運動させることになるので、ウエハＷの処理部分の円Ｃの全面にわたって処理液を均一に接触させることができる。その結果、ウエハＷの全面にわたって均一に処理を行うことができ、しかも処理が遅い部分に処理時間を合わせる必要がないので、処理の短時間化を図ることができる。
【００８１】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００８２】
（１）上述した実施例４では、第１及び第２の回転軸１２３，１２９と、ギア１２８，１３１などとを処理槽１０３の上方に備えた駆動機構１１８を例示したが、本発明はこのような構成の駆動機構に限定されるものではない。例えば、駆動機構１１８を処理槽１０３の底部に配置して下方から公転駆動するように構成してもよい。また、公転させるのが処理の均一性の観点から好ましいが、必ずしも公転させる必要はなく、処理槽１０３に静止させた状態で浸漬させてもよく、自転させるあるいは昇降する構成としてもよい。
【００８３】
（２）上述した実施例４では、処理液として水酸化カリウムを例に採り、処理として基板の裏面研磨を例に挙げたが、例えば、燐酸によるアルミエッチング等の処理等においても本発明を適用することができる。
【００８４】
（３）上述した実施例４では、カセット９７に案内部９９を備えているが、これを省略して、単にカセット９７間に所定の隙間を隔てて整列させる小突起を設けた構成を採用してもよい。これにより、収納枚数を増加させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】実施例１に係るウエハ端面保護装置の概略構成を示す分解斜視図である。
【図２】実施例１に係るウエハ端面保護装置の概略構成を示す平面図である。
【図３】円板状部材と保護部材の一部を拡大した縦断面図である。
【図４】円板状部材と二つの保護部材を挟持機構で挟持した状態の縦断面図である。
【図５】実施例２に係るウエハ端面保護装置の概略構成を示す平面図である。
【図６】挟持機構の一部を拡大した平面図である。
【図７】図６のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図８】挟持動作の説明図である。
【図９】挟持動作の説明図である。
【図１０】実施例３に係るウエハ端面保護装置の概略構成を示す分解斜視図である。
【図１１】円板状部材と保護部材の一部を拡大した縦断面図である。
【図１２】円板状部材と保護部材とを積層吸着した状態の縦断面図である。
【図１３】円板状部材と保護部材との積層吸着を解除した状態の縦断面図である。
【図１４】実施例４に係るウエハ処理装置の概略構成を示す縦断面図である。
【図１５】図１４を側面から見た縦断面図である。
【符号の説明】
【００８６】
１，１Ａ，１Ｂ  …  ウエハ端面保護装置
Ｗ  …  ウエハ
Ｓ１  …  非処理面
Ｓ２  …  処理面
３  …  円板状部材
５  …  第１の保護部材
７  …  第２の保護部材
９  …  挟持機構
１１  …  浅溝
１３  …  位置合わせ穴
Ｃ  …  処理部分の円
１５  …  位置合わせピン
２１，２３  …  Ｏリング
２５  …  上向き傾斜面
２７  …  下向き傾斜面
２９  …  第１挟持片
３１  …  第２挟持片
３３  …  軸支部材
３５  …  第１係止機構
３７  …  第２係止機構
３９  …  下向き案内面
４１  …  上向き案内面
４３  …  軸支部
４５  …  蝶ネジ
４７  …  係止溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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