(57)【要約】【課題】光情報記録媒体毎に、反射率等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を得る。【解決手段】第１基板１８上に形成された第１情報記録層２０の反射率を、第１情報記録層２０の光学濃度と第１反射率特性（特定膜厚の半透過反射膜２２を形成した後での第１情報記録層の膜厚に対する前記記録層の反射率特性）に基づいて割り出し、さらに、第１情報記録層２０上に形成される半透過反射膜２２の膜厚を、割り出された第１情報記録層２０の反射率と第２反射率特性（半透過反射膜２２を形成した後における第１情報記録層２０の所望の光学濃度での半透過反射膜２２の膜厚に対する第１情報記録層２０の反射率特性）で割り出して、割り出した膜厚だけ半透過反射膜２２を形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光が透過する透明層又は基板と、該透明層又は基板上に形成された記録層と、該記録層上に形成された反射膜とを有し、前記記録層に対する前記レーザ光の照射によって情報の記録及び／又は再生が可能な光情報記録媒体の製造方法において、
前記透明層又は基板上に前記記録層を形成する工程と、
形成された前記記録層の第１特性を測定する工程と、
前記記録層上に前記反射膜を形成した後の前記記録層の第２特性が所定の特性になるように、前記測定された第１特性に基づいて前記反射膜の特性を調整しながら前記反射膜を形成する工程とを有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第１特性は、前記記録層の膜厚であり、
前記記録層の第２特性は、前記反射膜を形成した後の前記記録層の反射率であり、
前記反射膜の特性は、前記反射膜の膜厚であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
請求項２記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記反射膜の特性を決定するものであって、
前記第１反射率特性は、特定膜厚の反射膜を形成した後での前記記録層の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であり、
前記第２反射率特性は、前記反射膜を形成した後における前記記録層の特定の膜厚での前記反射膜の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
請求項２記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記記録層は色素を含み、
前記記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記反射膜の特性を決定するものであって、
前記第１反射率特性は、前記特定膜厚の反射膜を形成した後での前記記録層における色素の光学濃度に対する前記記録層の反射率特性であり、
前記第２反射率特性は、前記反射膜を形成した後における前記記録層の特定の光学濃度での前記反射膜の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】
基板と、該基板上に形成された反射膜と、該反射膜上に形成された記録層と、前記記録層上に形成され、レーザ光が透過する保護層とを有し、前記記録層に対する前記レーザ光の照射によって情報の記録及び／又は再生が可能な光情報記録媒体の製造方法において、
前記基板上に前記反射膜を形成する工程と、
前記反射膜上に前記記録層を形成する工程と、
前記保護層が形成される前の前記記録層の第１特性を測定する工程と、
前記記録層上に前記保護層を形成した後の前記記録層の第２特性が所定の特性になるように、前記測定された第１特性に基づいて前記保護層の特性を調整しながら前記保護層を形成する工程とを有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項６】
請求項５記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記記録層の第１特性は、前記記録層の膜厚であり、
前記記録層の第２特性は、前記保護層を形成した後の前記記録層の反射率であり、
前記保護層の特性は、前記保護層の膜厚であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記保護層の特性を決定するものであって、
前記第１反射率特性は、前記特定膜厚の保護層を形成した後における前記記録層の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であり、
前記第２反射率特性は、前記保護層を形成した後における前記記録層の特定の膜厚での前記保護層の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項８】
請求項６記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記記録層は色素を含み、
前記記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記保護層の特性を決定するものであって、
前記第１反射率特性は、前記特定膜厚の保護層を形成した後での前記記録層における色素の光学濃度に対する前記記録層の反射率特性であり、
前記第２反射率特性は、前記保護層を形成した後における前記記録層の特定の光学濃度での前記保護層の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項９】
レーザ光が透過する第１基板と、該第１基板上に形成された第１記録層と、該第１記録層上に形成された第１反射膜とを有する第１記録媒体部と、第２基板と、該第２基板上に形成された第２反射膜と、該第２反射膜上に形成された第２記録層と、前記第２記録層上に形成された保護層とを有する第２記録媒体部とが貼り合わされて構成され、前記第１記録層及び／又は前記第２記録層に対する前記レーザ光の照射によって情報の記録及び／又は再生が可能な光情報記録媒体の製造方法において、
前記第１基板上に前記第１記録層を形成する工程と、
形成された前記第１記録層の第１特性を測定する工程と、
前記第１記録層上に前記第１反射膜を形成した後の前記第１記録層の第２特性が所定の特性になるように、前記測定された第１特性に基づいて前記第１反射膜の特性を調整しながら前記第１反射膜を形成する工程と、
前記第２基板上に前記第２反射膜を形成する工程と、
前記第２反射膜上に前記第２記録層を形成する工程と、
前記保護層が形成される前の前記第２記録層の第３特性を測定する工程と、
前記第２記録層上に前記保護層を形成した後の前記第２記録層の第４特性が所定の特性になるように、前記測定された第３特性に基づいて前記保護層の特性を調整しながら前記保護層を形成する工程とを有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
請求項９記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第１記録層の第１特性は、前記第１記録層の膜厚であり、
前記第１記録層の第２特性は、前記第１反射膜を形成した後の前記第１記録層の反射率であり、
前記第１反射膜の特性は、前記第１反射膜の膜厚であり、
前記第２記録層の第３特性は、前記第２記録層の膜厚であり、
前記第２記録層の第４特性は、前記保護層を形成した後の前記第２記録層の反射率であり、
前記保護層の特性は、前記保護層の膜厚であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第１記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記第１反射膜の特性を決定し、
前記第２記録層の第３特性から予め測定された第３反射率特性と第４反射率特性に基づいて前記保護層の特性を決定するものであって、
前記第１反射率特性は、特定膜厚の前記第１反射膜を形成した後での前記第１記録層の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であり、
前記第２反射率特性は、前記第１反射膜を形成した後における前記第１記録層の特定の膜厚での前記第１反射膜の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であり、
前記第３反射率特性は、特定膜厚の前記保護層を形成した後での前記第２記録層の膜厚に対する前記第２記録層の反射率特性であり、
前記第４反射率特性は、前記保護層を形成した後における前記第２記録層の特定の膜厚での前記保護層の膜厚に対する前記第２記録層の反射率特性であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第１記録層及び前記第２記録層はそれぞれ色素を含み、
前記第１記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記第１反射膜の特性を決定し、
前記第２記録層の第３特性から予め測定された第３反射率特性と第４反射率特性に基づいて前記保護層の特性を決定するものであって、
前記第１反射率特性は、特定膜厚の前記第１反射膜を形成した後での前記第１記録層における色素の光学濃度に対する前記第１記録層の反射率特性であり、
前記第２反射率特性は、前記第１反射膜を形成した後における前記第１記録層の特定の光学濃度での前記第１反射膜の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であり、
前記第３反射率特性は、特定膜厚の前記保護層を形成した後での前記第２記録層における色素の光学濃度に対する前記第２記録層の反射率特性であり、
前記第４反射率特性は、前記保護層を形成した後における前記第２記録層の特定の光学濃度での前記保護層の膜厚に対する前記第２記録層の反射率特性であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１３】
レーザ光が透過する基板と、該基板上に形成された第１記録層と、該第１記録層上に形成された第１反射膜と、該第１反射膜上に形成された中間層と、該中間層上に形成された第２記録層と、該第２記録層上に形成された第２反射膜とを有し、前記第１記録層及び／又は前記第２記録層に対する前記レーザ光の照射によって情報の記録及び／又は再生が可能な光情報記録媒体の製造方法において、
前記基板上に前記第１記録層を形成する工程と、
形成された前記第１記録層の第１特性を測定する工程と、
前記第１記録層上に前記第１反射膜を形成した後の前記第１記録層の第２特性が所定の特性になるように、前記測定された第１特性に基づいて前記第１反射膜の特性を調整しながら前記第１反射膜を形成する工程と、
前記第１反射膜上に前記中間層を形成する工程と、
前記中間層上に前記第２記録層を形成する工程と、
前記第２記録層上に前記第２反射膜を形成する工程とを有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第１記録層の第１特性は、前記第１記録層の膜厚であり、
前記第１記録層の第２特性は、前記第１反射膜を形成した後の前記第１記録層の反射率であり、
前記第１反射膜の特性は、前記第１反射膜の膜厚であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第１記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記第１反射膜の特性を決定するものであって、
前記第１反射率特性は、特定膜厚の前記第１反射膜を形成した後での前記第１記録層の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であり、
前記第２反射率特性は、前記第１反射膜を形成した後における前記第１記録層の特定の膜厚での前記第１反射膜の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１６】
請求項１４記載の光情報記録媒体の製造方法において、
前記第１記録層は色素を含み、
前記第１記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記第１反射膜の特性を決定するものであって、
前記第１反射率特性は、特定膜厚の前記第１反射膜を形成した後での前記第１記録層における色素の光学濃度に対する前記第１記録層の反射率特性であり、
前記第２反射率特性は、前記第１反射膜を形成した後における前記第１記録層の特定の光学濃度での前記第１反射膜の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
高エネルギー密度のレーザ光を用いて情報の書き込み（記録）や読取り（再生）が可能なヒートモード型の光情報記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザ光により情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、１層の情報記録層を有するものや、２層の情報記録層を有するもの等がある。
【０００３】
１層の情報記録層を有する第１光ディスクは、表面にプリグルーブが形成された基板と、該基板の表面に沿って形成された反射層と、該反射層上に形成された情報記録層と、該情報記録層上に形成された保護層とを有する。
【０００４】
２層の情報記録層を有する第２光ディスクは、表面に第１プリグルーブが形成された基板と、該基板の表面の凹凸に沿って形成された半透過反射層と、該半透過反射層上に形成された第１情報記録層と、該第１情報記録層上に形成され、且つ、表面に凹凸が形成された中間層と、該中間層の表面の凹凸に沿って形成された第２情報記録層と、該第２情報記録層上に形成された反射層と、該反射層上に形成された保護層とを有する（例えば特許文献１〜３参照）。反射層は、中間層の凹凸に沿って形成され、これにより、該反射層の凹凸は、第２情報記録層の第２プリグルーブとして機能することになる。
【０００５】
上述した第１光ディスクのプリグルーブや、第２光ディスクの第１プリグルーブ及び第２プリグルーブには、アドレス検知のためのアドレスピットが形成されるほか、スピンドルモータのサーボ制御、ピックアップのトラッキング制御やフォーカス制御を行うためのサーボ用プリピットが形成される。
【０００６】
また、第１光ディスクのプリグルーブや、第２光ディスクの第１プリグルーブ及び第２プリグルーブをウォブリングさせる例もある（例えば特許文献４参照）。ウォブリングさせることで、セクタアドレス等のセクタ管理情報を持たせたり、記録時の回転制御情報を、ウォブリングされたプリグルーブを再生することで得ることができるため、専用のアドレスピットやサーボ用プリピットを設けることが不要になり、これらアドレスピットやサーボ用プリピットの分だけデータの書き込み効率を向上させることができる。しかも、ＣＬＶ回転制御等の連続データ書き込み時に有効な方式を採用することができるという利点もある。
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−４８０８号公報
【特許文献２】特開平１０−２８３６８２号公報
【特許文献３】特開平８−２０３１２５号公報
【特許文献４】特開平９−２１９０２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、情報記録層に色素を用いた場合、色素はスピンコートによって形成されるが、塗布された色素の膜厚により記録層の反射率が異なる。従って、光情報記録媒体の製造を行う場合は、塗布環境の影響で、塗布された色素の膜厚が光情報記録媒体毎にばらついてしまい、情報記録層の反射率が光情報記録媒体毎にばらついてしまうという問題があった。
【０００９】
本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、光情報記録媒体毎に、反射率等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
第１の本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、レーザ光が透過する透明層又は基板と、該透明層又は基板上に形成された記録層と、該記録層上に形成された反射膜とを有し、前記記録層に対する前記レーザ光の照射によって情報の記録及び／又は再生が可能な光情報記録媒体の製造方法において、前記透明層又は基板上に前記記録層を形成する工程と、形成された前記記録層の第１特性を測定する工程と、前記記録層上に前記反射膜を形成した後の前記記録層の第２特性が所定の特性になるように、前記測定された第１特性に基づいて前記反射膜の特性を調整しながら前記反射膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００１１】
これにより、光情報記録媒体毎に、反射率等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上を図ることができる。
【００１２】
そして、第１の本発明において、前記第１特性は、前記記録層の膜厚であり、前記記録層の第２特性は、前記反射膜を形成した後の前記記録層の反射率であり、前記反射膜の特性は、前記反射膜の膜厚であってもよい。
【００１３】
この場合、前記記録層の第１特性を、前記記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記反射膜の特性を決定するものであって、前記第１反射率特性は、特定膜厚の反射膜を形成した後での前記記録層の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であり、前記第２反射率特性は、前記反射膜を形成した後における前記記録層の特定の膜厚での前記反射膜の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であってもよい。
【００１４】
あるいは、前記記録層が色素を含む場合に、前記記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記反射膜の特性を決定するものであって、前記第１反射率特性は、前記特定膜厚の反射膜を形成した後での前記記録層における色素の光学濃度に対する前記記録層の反射率特性であり、前記第２反射率特性は、前記反射膜を形成した後における前記記録層の特定の光学濃度での前記反射膜の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であってもよい。
【００１５】
次に、第２の本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、基板と、該基板上に形成された反射膜と、該反射膜上に形成された記録層と、前記記録層上に形成され、レーザ光が透過する保護層とを有し、前記記録層に対する前記レーザ光の照射によって情報の記録及び／又は再生が可能な光情報記録媒体の製造方法において、前記基板上に前記反射膜を形成する工程と、前記反射膜上に前記記録層を形成する工程と、前記保護層が形成される前の前記記録層の第１特性を測定する工程と、前記記録層上に前記保護層を形成した後の前記記録層の第２特性が所定の特性になるように、前記測定された第１特性に基づいて前記保護層の特性を調整しながら前記保護層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００１６】
これにより、光情報記録媒体毎に、反射率等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上を図ることができる。
【００１７】
そして、第２の本発明において、前記記録層の第１特性は、前記記録層の膜厚であり、前記記録層の第２特性は、前記保護層を形成した後の前記記録層の反射率であり、前記保護層の特性は、前記保護層の膜厚であってもよい。
【００１８】
この場合、前記記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記保護層の特性を決定するものであって、前記第１反射率特性は、前記特定膜厚の保護層を形成した後における前記記録層の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であり、前記第２反射率特性は、前記保護層を形成した後における前記記録層の特定の膜厚での前記保護層の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であってもよい。
【００１９】
あるいは、前記記録層が色素を含む場合に、前記記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記保護層の特性を決定するものであって、前記第１反射率特性は、前記特定膜厚の保護層を形成した後での前記記録層における色素の光学濃度に対する前記記録層の反射率特性であり、前記第２反射率特性は、前記保護層を形成した後における前記記録層の特定の光学濃度での前記保護層の膜厚に対する前記記録層の反射率特性であってもよい。
【００２０】
次に、第３の本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、レーザ光が透過する第１基板と、該第１基板上に形成された第１記録層と、該第１記録層上に形成された第１反射膜とを有する第１記録媒体部と、第２基板と、該第２基板上に形成された第２反射膜と、該第２反射膜上に形成された第２記録層と、前記第２記録層上に形成された保護層とを有する第２記録媒体部とが貼り合わされて構成され、前記第１記録層及び／又は前記第２記録層に対する前記レーザ光の照射によって情報の記録及び／又は再生が可能な光情報記録媒体の製造方法において、前記第１基板上に前記第１記録層を形成する工程と、形成された前記第１記録層の第１特性を測定する工程と、前記第１記録層上に前記第１反射膜を形成した後の前記第１記録層の第２特性が所定の特性になるように、前記測定された第１特性に基づいて前記第１反射膜の特性を調整しながら前記第１反射膜を形成する工程と、前記第２基板上に前記第２反射膜を形成する工程と、前記第２反射膜上に前記第２記録層を形成する工程と、前記保護層が形成される前の前記第２記録層の第３特性を測定する工程と、前記第２記録層上に前記保護層を形成した後の前記第２記録層の第４特性が所定の特性になるように、前記測定された第３特性に基づいて前記保護層の特性を調整しながら前記保護層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２１】
これにより、光情報記録媒体毎に、反射率等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上を図ることができる。
【００２２】
そして、第３の本発明において、前記第１記録層の第１特性は、前記第１記録層の膜厚であり、前記第１記録層の第２特性は、前記第１反射膜を形成した後の前記第１記録層の反射率であり、前記第１反射膜の特性は、前記第１反射膜の膜厚であり、前記第２記録層の第３特性は、前記第２記録層の膜厚であり、前記第２記録層の第４特性は、前記保護層を形成した後の前記第２記録層の反射率であり、前記保護層の特性は、前記保護層の膜厚であってもよい。
【００２３】
この場合、前記第１記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記第１反射膜の特性を決定し、前記第２記録層の第３特性から予め測定された第３反射率特性と第４反射率特性に基づいて前記保護層の特性を決定するものであって、前記第１反射率特性は、特定膜厚の前記第１反射膜を形成した後での前記第１記録層の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であり、前記第２反射率特性は、前記第１反射膜を形成した後における前記第１記録層の特定の膜厚での前記第１反射膜の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であり、前記第３反射率特性は、特定膜厚の前記保護層を形成した後での前記第２記録層の膜厚に対する前記第２記録層の反射率特性であり、前記第４反射率特性は、前記保護層を形成した後における前記第２記録層の特定の膜厚での前記保護層の膜厚に対する前記第２記録層の反射率特性であってもよい。
【００２４】
あるいは、前記第１記録層及び前記第２記録層がそれぞれ色素を含む場合に、前記第１記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記第１反射膜の特性を決定し、前記第２記録層の第３特性から予め測定された第３反射率特性と第４反射率特性に基づいて前記保護層の特性を決定するものであって、前記第１反射率特性は、特定膜厚の前記第１反射膜を形成した後での前記第１記録層における色素の光学濃度に対する前記第１記録層の反射率特性であり、前記第２反射率特性は、前記第１反射膜を形成した後における前記第１記録層の特定の光学濃度での前記第１反射膜の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であり、前記第３反射率特性は、特定膜厚の前記保護層を形成した後での前記第２記録層における色素の光学濃度に対する前記第２記録層の反射率特性であり、前記第４反射率特性は、前記保護層を形成した後における前記第２記録層の特定の光学濃度での前記保護層の膜厚に対する前記第２記録層の反射率特性であってもよい。
【００２５】
次に、第４の本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、レーザ光が透過する基板と、該基板上に形成された第１記録層と、該第１記録層上に形成された第１反射膜と、該第１反射膜上に形成された中間層と、該中間層上に形成された第２記録層と、該第２記録層上に形成された第２反射膜とを有し、前記第１記録層及び／又は前記第２記録層に対する前記レーザ光の照射によって情報の記録及び／又は再生が可能な光情報記録媒体の製造方法において、前記基板上に前記第１記録層を形成する工程と、形成された前記第１記録層の第１特性を測定する工程と、前記第１記録層上に前記第１反射膜を形成した後の前記第１記録層の第２特性が所定の特性になるように、前記測定された第１特性に基づいて前記第１反射膜の特性を調整しながら前記第１反射膜を形成する工程と、前記第１反射膜上に前記中間層を形成する工程と、前記中間層上に前記第２記録層を形成する工程と、前記第２記録層上に前記第２反射膜を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２６】
これにより、光情報記録媒体毎に、反射率等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上を図ることができる。
【００２７】
そして、第４の本発明において、前記第１記録層の第１特性は、前記第１記録層の膜厚であり、前記第１記録層の第２特性は、前記第１反射膜を形成した後の前記第１記録層の反射率であり、前記第１反射膜の特性は、前記第１反射膜の膜厚であってもよい。
【００２８】
この場合、前記第１記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記第１反射膜の特性を決定するものであって、前記第１反射率特性は、特定膜厚の前記第１反射膜を形成した後での前記第１記録層の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であり、前記第２反射率特性は、前記第１反射膜を形成した後における前記第１記録層の特定の膜厚での前記第１反射膜の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であってもよい。
【００２９】
あるいは、前記第１記録層が色素を含む場合に、前記第１記録層の第１特性から予め測定された第１反射率特性と第２反射率特性に基づいて前記第１反射膜の特性を決定するものであって、前記第１反射率特性は、特定膜厚の前記第１反射膜を形成した後での前記第１記録層における色素の光学濃度に対する前記第１記録層の反射率特性であり、前記第２反射率特性は、前記第１反射膜を形成した後における前記第１記録層の特定の光学濃度での前記第１反射膜の膜厚に対する前記第１記録層の反射率特性であってもよい。
【発明の効果】
【００３０】
以上説明したように、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法によれば、光情報記録媒体毎に、反射率等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法の実施の形態例を図１〜図１１を参照しながら説明する。
【００３２】
まず、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａは、図１に示すように、第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとが中間層１４を介して貼り合わされた構成を有する。
【００３３】
第１記録媒体部１２Ａは、表面に第１プリグルーブ１６が形成された第１基板１８を有する。そして、図２に示すように、第１基板１８の表面には、第１プリグルーブ１６の凹凸に沿って第１情報記録層２０が形成され、該第１情報記録層２０上に半透過反射膜２２が形成されている。
【００３４】
第２記録媒体部１２Ｂは、表面に第２プリグルーブ２４が形成された第２基板２６を有する。そして、図３に示すように、第２基板２６の表面には、第２プリグルーブ２４の凹凸に沿って反射膜２８が形成され、該反射膜２８上に第２情報記録層３０が形成され、該第２情報記録層３０上に保護層３２が形成されている。
【００３５】
そして、第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとを貼り合わせる際に、図１に示すように、第１基板１８上に形成された第１情報記録層２０と第２基板２６上に形成された第２情報記録層３０とを対向させ、さらに、これら第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとの間に中間層１４を介在させて貼り合わせることで、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａが構成される。
【００３６】
第１情報記録層２０に対して情報を記録する場合は、第１基板１８の端面１８ａから第１情報記録層２０に向かう方向に記録用のレーザ光３４を照射し、レーザ光３４を第１情報記録層２０に結像させて情報（ピット）を記録する。このとき、第１情報記録層２０のうち、第１プリグルーブ１６のグルーブ３６に対応した部分に情報が記録される。記録用のレーザ光３４としては、６００ｎｍ〜７００ｎｍ（好ましくは６２０〜６８０ｎｍ、さらに好ましくは、６３０〜６７０ｎｍ）の範囲の発振波長を有する半導体レーザビームが用いられる。
【００３７】
第２情報記録層３０に対して情報を記録する場合は、第１基板１８の端面１８ａから第２情報記録層３０に向かう方向に記録用のレーザ光３４を照射し、レーザ光３４を第２情報記録層３０に結像させて情報（ピット）を記録する。このとき、第２情報記録層３０のうち、第２プリグルーブ２４のランド３８に対応した部分に情報が記録される。
【００３８】
従って、第１情報記録層２０と第２情報記録層３０との間に中間層１４を介在させることによって、第１情報記録層２０に記録された情報と第２情報記録層３０に記録された情報の干渉を防ぎ、第１情報記録層２０及び第２情報記録層３０で良好な記録再生信号を得ることができる。
【００３９】
次に、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａの製造方法について図１〜図６を参照しながら説明する。
【００４０】
まず、図４のステップＳ１において、例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形することによって、表面に第１プリグルーブ１６を有する第１基板１８を作製する。その後、ステップＳ２において、第１基板１８を冷却した後、ステップＳ３において、第１基板１８の表面に、後に第１情報記録層２０となる色素を塗布する。例えば、色素を含む塗布液（色素塗布液）を調製し、この色素塗布液をスピンコート法によって、第１基板１８のうち、第１プリグルーブ１６が形成されている表面に塗布し、第１情報記録層２０を形成する。
【００４１】
その後、ステップＳ４において、第１基板１８の表面に塗布された色素層（第１情報記録層２０）の欠陥検査及び色素層の光学濃度を測定する。例えばＣＣＤカメラ等を使用して塗布層の欠陥を検出し、さらに、分光光度計を使用して第１情報記録層２０の光学濃度を測定する。このとき、光学濃度の測定値は、例えば５８０ｎｍの値を使用する。
【００４２】
この製造方法では、図５に示すように、第１情報記録層２０上に、特定膜厚、例えば１４ｎｍの半透過反射膜２２を形成した後における第１情報記録層２０の反射率を、色素層の光学濃度との関係でプロットした第１反射率特性４０ａを利用する。つまり、図５に示す第１反射率特性４０ａは、半透過反射膜２２を形成した後における色素層の光学濃度に対する第１情報記録層２０の反射率特性を示す。この第１反射率特性４０ａは、例えば波長が６５０ｎｍのレーザ光で再生したときの反射率の変化を示す。
【００４３】
この第１の実施の形態では、所望の光学濃度として例えば０．６５を目標としており、この場合、反射率として例えば１７．４％が得られる。しかし、実際の色素塗布工程では、色素の膜厚が光ディスク毎に厚くなったり薄くなったりする。膜厚が厚くなる、すなわち、色素の光学濃度が高くなる場合、目標とする反射率（目標反射率）１７．４％に比べ反射率は高くなる。反対に、膜厚が薄くなる、すなわち、色素の光学濃度が低くなる場合、目標反射率１７．４％に比べ反射率は低くなる。
【００４４】
そこで、この第１の実施の形態では、後述するように、半透過反射膜２２の膜厚を調整して、第１記録媒体部１２Ａ全体の反射率が目標反射率になるように調整する。
【００４５】
なお、コンピュータ等によって第１反射率特性４０ａを管理する場合は、取得した第１反射率特性４０ａをデータ列にしてメモリに情報テーブルとして記憶させる等の方法が好ましく行われる。
【００４６】
そして、ステップＳ５において、測定した色素層の光学濃度から、半透過反射膜２２を形成した後における反射率を図５の第１反射率特性４０ａから割り出す。
【００４７】
その後、図４のステップＳ６において、第１情報記録層２０を乾燥するためのアニール処理を行う。例えば温度８０℃で３時間のアニール処理等が施される。
【００４８】
特に、この製造方法では、図６に示すように、所望の光学濃度を有する色素層からなる第１情報記録層２０上に半透過反射膜２２を形成した後における第１情報記録層２０の反射率を半透過反射膜２２の膜厚との関係でプロットした第２反射率特性４０ｂを利用する。つまり、図６に示す第２反射率特性４０ｂは、半透過反射膜２２を形成した後における第１情報記録層２０の所望の光学濃度での半透過反射膜２２の膜厚に対する第１情報記録層２０の反射率特性を示す。この第２反射率特性４０ｂにおいても、例えば波長が６５０ｎｍのレーザ光で再生したときの反射率の変化を示す。この場合も、取得した第２反射率特性４０ｂを情報テーブルとしてメモリに記憶して管理すればよい。
【００４９】
第１情報記録層２０を形成した後、図４のステップＳ７において、前記ステップＳ５にて割り出した反射率（半透過反射膜２２を１４ｎｍ形成した後の反射率）と図６の第２反射率特性４０ｂに基づいて、該第１情報記録層２０上に形成すべき半透過反射膜２２の膜厚を割り出す。
【００５０】
割り出し方の一手法を説明すると、まず、図６に示す第２反射率特性４０ｂの特性線４２を今回の光学濃度の測定値から第１反射率特性によって決定した反射率に応じて上下に平行移動させる。具体的には、目標反射率を例えば１７．４％とし、光学濃度の測定値から第１反射率特性４０ａを元に算出される反射率を例えば１６％としたとき、目標反射率を示す基準線４４が反射率１６％となる位置まで特性線４２を平行移動する。この場合、下方に平行移動される。平行移動した後の特性線４２ａを基準に目標反射率１７．４％に対する半透過反射膜２２の膜厚を割り出す。今回の光学濃度の測定値を元に第１反射率特性４０ａから算出される反射率が１６％以外であっても同様に行うことができる。
【００５１】
つまり、第１情報記録層２０における色素の光学濃度が所望の光学濃度（例えば０．６５）を有する場合、図６の第２反射率特性から半透過反射膜２２の膜厚を例えば１４ｎｍとすることによって、第１記録媒体部１２Ａ全体の反射率は目標反射率１７．４％を得ることができる。
【００５２】
そして、第１情報記録層２０における色素の光学濃度の測定値が目標の０．６５より低い場合には、半透過反射膜２２の膜厚を１４ｎｍより厚く調整することで目標反射率にすることができる。反対に、第１情報記録層２０における色素の光学濃度の測定値が目標の０．６５より高い場合には、半透過反射膜２２の膜厚を１４ｎｍより薄く調整することで目標反射率にすることができる。
【００５３】
そして、ステップＳ８において、第１情報記録層２０の表面に半透過反射膜２２を、割り出した膜厚だけ例えばスパッタ法にて形成する。この段階で第１記録媒体部１２Ａが完成する。
【００５４】
一方、図４のステップＳ１０１において、例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形することによって、表面に第２プリグルーブ２４を有する第２基板２６を作製する。その後、ステップＳ１０２において、第２基板２６を冷却した後、ステップＳ１０３において、第２基板２６の表面に、反射膜２８を例えばスパッタ法にて形成する。
【００５５】
その後、ステップＳ１０４において、第２情報記録層３０となる色素を塗布する。例えば、色素を含む塗布液（色素塗布液）を調製し、この色素塗布液をスピンコート法によって、反射膜の表面に塗布する。
【００５６】
その後、ステップＳ１０５において、反射膜２８の表面に塗布された色素層（第２情報記録層３０）の欠陥検査及び色素層の光学濃度を測定する。例えばＣＣＤカメラ等を使用して色素層の欠陥を検出し、さらに、分光光度計を使用して色素層の光学濃度を測定する。
【００５７】
この製造方法では、図５の第１反射率特性４０ａの場合と同様に、予め特定膜厚の保護層３２を形成した後における反射率を色素層の光学濃度との関係でプロットした第３反射率特性４０ｃを利用する。つまり、第３反射率特性４０ｃは、仮に決定した特定膜厚の保護層３２を形成した後における色素層の光学濃度に対する反射率特性を示す。この場合も、取得した第３反射率特性４０ｃを情報テーブルとしてメモリに記憶して管理すればよい。
【００５８】
そして、ステップＳ１０６において、分光光度計にて測定した色素層の光学濃度から、反射率を第３反射率特性４０ｃから割り出す。
【００５９】
その後、ステップＳ１０７において、第２情報記録層３０を乾燥するためのアニール処理を行う。例えば温度８０℃で３時間のアニール処理等が施される。
【００６０】
特に、この製造方法では、図６の第２反射率特性４０ｂの場合と同様に、所望の光学濃度を有する第２情報記録層３０上に保護層３２を形成した後における第２情報記録層３０の反射率を保護層３２の膜厚との関係でプロットした第４反射率特性４０ｄを取得する。つまり、第４反射率特性４０ｄは、保護層３２を形成した後における第２情報記録層３０の所望の光学濃度での保護層３２の膜厚に対する第２情報記録層３０の反射率特性を示す。この場合も、取得した第４反射率特性４０ｄを情報テーブルとしてメモリに記憶して管理すればよい。
【００６１】
第２情報記録層３０を形成した後、次のステップＳ１０８において、前記ステップＳ１０６にて割り出した反射率（光学濃度の測定値から第３反射率特性４０ｃに基づいて算出される反射率）と第４反射率特性４０ｄに基づいて、該第２情報記録層３０上に形成すべき保護層３２の膜厚を割り出す。この割り出し方法も、上述したように、図６に示す第２反射率特性４０ｂを使用した場合と同様の手法を用いることができる。
【００６２】
そして、図４のステップＳ１０９において、第２情報記録層３０の表面に保護層３２を、割り出した膜厚だけ例えばスパッタ法にて形成する。この段階で第２記録媒体部１２Ｂが完成する。
【００６３】
その後、図４のステップＳ２０１において、第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂを貼り合わせる。このとき、第１記録媒体部１２Ａ上に形成された半透過反射膜２２と第２記録媒体部１２Ｂ上に形成された保護層３２とを対向させ、さらに、これら第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとの間に中間層１４を介在させて貼り合わせる。この貼り合わせによって、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａが完成する。
【００６４】
このように、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａの製造方法においては、第１記録媒体部１２Ａの反射率を、第１情報記録層２０の光学濃度と第１反射率特性４０ａに基づいて割り出し、さらに、第１情報記録層２０上に形成される半透過反射膜２２の膜厚を、割り出された第１記録媒体部１２Ａの反射率と第２反射率特性４０ｂで割り出して、割り出した膜厚だけ半透過反射膜２２を形成するようにしたので、製造する第１記録媒体部１２Ａごとの反射率等の特性ばらつきを低減することができ、第１記録媒体部１２Ａを有する光ディスクの特性の向上並びに歩留まりの向上を図ることができる。
【００６５】
また、第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａの製造方法においては、第２記録媒体部１２Ｂの反射率を、第２情報記録層３０の光学濃度と第３反射率特性４０ｃに基づいて割り出し、さらに、第２情報記録層３０上に形成される保護層３２の膜厚を、割り出された第２記録媒体部１２Ｂの反射率と第４反射率特性４０ｄで割り出して、割り出した膜厚だけ保護層３２を形成するようにしたので、製造する第２記録媒体部１２Ｂごとの反射率等の特性ばらつきを低減することができ、第２記録媒体部１２Ｂを有する光ディスクの特性の向上並びに歩留まりの向上を図ることができる。
【００６６】
しかも、この第１の実施の形態では、特性ばらつきの少ない第１記録媒体部１２Ａと同じく特性ばらつきの少ない第２記録媒体部１２Ｂを貼り合わせるようにしたので、第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとを有する光ディスク１０Ａの全体の特性ばらつきを低減することができ、該光ディスク１０Ａの特性の向上並びに歩留まりの向上を図ることができる。
【００６７】
次に、第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂについて図７を参照しながら説明する。
【００６８】
この第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂは、上述した第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａとほぼ同様の構成を有するが、第２基板２６の表面は平坦面で、代わりに中間層１４と第２情報記録層３０との界面に凹凸が形成され、この凹凸が反射膜２８の表面に反映されて第２情報記録層３０の第２プリグルーブ２４として機能している点と、反射膜２８と第２基板２６との間に接着層４６が介在されている点で異なる。
【００６９】
ここで、第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂの製造方法について図７及び図８を参照しながら説明する。
【００７０】
まず、図８のステップＳ３０１〜Ｓ３０８は、上述した図４に示すステップＳ１〜Ｓ８と同様の工程を踏むため、ここではその説明を省略する。
【００７１】
そして、図８のステップＳ３０８を経て、第１記録媒体部１２Ａを作製した後、ステップＳ３０９において、半透過反射膜２２上に中間層１４を形成する。
【００７２】
中間層１４の形成方法としては、フォトポリマーを用いる２Ｐプロセスが用いられる。すなわち、第１記録媒体部１２Ａと透明スタンパをフォトポリマー（ＵＶ硬化樹脂）により貼り合せ、その後、ステップＳ３１０において、スタンパを剥離することで中間層１４となるＵＶ硬化樹脂上にスタンパの凹凸を転写させる。
【００７３】
その後、ステップＳ３１１において、中間層１４上に、第２情報記録層３０となる色素を塗布する。例えば、色素を含む塗布液（色素塗布液）を調製し、この色素塗布液をスピンコート法によって、中間層１４の表面に塗布して第２情報記録層３０を形成する。
【００７４】
その後、ステップＳ３１２において、中間層１４の表面に塗布された第２情報記録層３０の欠陥検査を実施する。例えばＣＣＤカメラ等を使用して塗布液の欠陥を検出する。
【００７５】
その後、ステップＳ３１３において、第２情報記録層３０を乾燥するためのアニール処理を行う。例えば温度８０℃で３時間のアニール処理等が施される。
【００７６】
そして、ステップＳ３１４において、第２情報記録層３０の表面に反射膜２８を、スパッタ法にて形成する。
【００７７】
その後、ステップＳ３１５において、反射膜２８上に接着層４６を形成し、次いで、接着層４６上に第２基板２６を接着することにより、第２記録媒体部１２Ｂが完成すると共に、第１記録媒体部１２Ａと第２記録媒体部１２Ｂとを有する第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂが完成する。
【００７８】
このように、第２の実施の形態に係る光ディスク１０Ｂの製造方法においては、第１の実施の形態と同様に、第１記録媒体部１２Ａの反射率を、第１情報記録層２０の光学濃度と第１反射率特性４０ａに基づいて割り出し、さらに、第１情報記録層２０上に形成される半透過反射膜２２の膜厚を、割り出された第１記録媒体部１２Ａの反射率と第２反射率特性４０ｂで割り出して、割り出した膜厚だけ半透過反射膜２２を形成するようにしたので、製造する第１記録媒体部１２Ａごとの反射率等の特性ばらつきを低減することができ、第１記録媒体部１２Ａを有する光ディスクの特性の向上並びに歩留まりの向上を図ることができる。結果として、該光ディスク１０Ｂの特性の向上並びに歩留まりの向上を図ることができる。
【実施例１】
【００７９】
ここで、実施例１〜２０と比較例１〜２０について、反射率についての評価を行った実験例を説明する。
【００８０】
まず、実施例１〜２０、比較例１〜２０の内容は以下のとおりである。
【００８１】
（実施例１）
図４に示す第１の実施の形態に係る光ディスク１０Ａの製造方法のうち、ステップＳ１〜Ｓ８の工程と同様の工程（図１０のステップＳ４０１〜Ｓ４０９）を踏んで実施例１に係る光ディスクを作製した。
【００８２】
具体的には、まず、図９のステップＳ４０１において、第１基板１８の成形を行った。この場合、射出成形により第１基板１８を成形した。この成形では、ポリカーボネート樹脂をスパイラル状の第１プリグルーブ１６（深さ１２０ｎｍ、溝幅３６５ｎｍ、トラックピッチ０．７４μｍ）を有する厚さ０．５７０ｍｍ、直径１２０ｍｍの第１基板１８に成形し、これを第１情報記録層２０を形成するための基板とした。
【００８３】
その後、ステップＳ４０２において、第１基板１８の冷却を行った。
【００８４】
その後、ステップＳ４０３において、第１基板１８の表面に、後に第１情報記録層２０となる色素を塗布した。この場合、以下の化学式（化１）で示されるオキソノール色素と、以下の化学式（化２）で示されるオキソノール色素を９０：１０の比率で混合し、この混合色素１．００ｇを２，２，３，３−テトラフルオロ−プロパノール１００ｍｌに溶解した塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により第１基板１８の第１プリグルーブ１６が形成されている面上に塗布した。色素の光学濃度は波長５８０ｎｍで０．６５を目標としている。
【００８５】
【化１】
2007257741.tif 000003
【化２】
2007257741.tif 000004
【００８６】
その後、ステップＳ４０４において、第１基板１８の表面に塗布された色素層（第１情報記録層２０）の欠陥検査及び色素層の光学濃度を測定した。例えばＣＣＤカメラ等を使用して色素層の欠陥を検出し、さらに、分光光度計を使用して色素塗布液の光学濃度を測定した。この実施例１での色素の光学濃度は０．６５１であった。
【００８７】
その後、ステップＳ４０５において、濃度計にて測定した色素塗布液の光学濃度から、第１情報記録層２０の反射率を図５の第１反射率特性４０ａから割り出した。
【００８８】
その後、ステップＳ４０６において、第１情報記録層２０を乾燥するためのアニール処理を行った。例えば温度８０℃で３時間のアニール処理を施した。
【００８９】
その後、ステップＳ４０７において、第１情報記録層２０上に形成すべき半透過反射膜２２の膜厚を、割り出した今回の第１情報記録層２０の反射率と図６の第２反射率特性４０ｂから割り出した。割り出した半透過反射膜２２の膜厚は１４．０ｎｍであった。
【００９０】
その後、ステップＳ４０８において、第１情報記録層２０の表面に半透過反射膜２２を、割り出した膜厚だけスパッタ法にて形成した。半透過反射膜２２としてＡｇＮｄＣｕ合金（ターゲット組成Ａｇ９８．４ａｔ％：Ｎｄ０．７ａｔ％：Ｃｕ０．９ａｔ％）を用いた。
【００９１】
その後、ステップＳ４０９において、半透過反射膜２２上に接着剤を介してポリカーボネート製のダミー基板を貼り合わせて、実施例１に係る光ディスクを作製した。接着剤は、紫外線硬化樹脂（ダイキュアクリアＳＤ６４０  大日本インキ化学工業製）を用いた。
【００９２】
（実施例２〜２０）
上述した実施例１と同様に、半透過反射膜の膜厚を調整しながら実施例２〜２０を作製した。実施例２〜２０における第１情報記録層の色素の光学濃度、半透過反射膜の膜厚の内訳を図１０に示す。
【００９３】
（比較例１〜２０）
基本的には上述した実施例１と同様に比較例１〜２０を作製したが、半透過反射膜の膜厚を、第１情報記録層の色素の光学濃度に拘わらず一定（１４．０ｎｍ）とした。比較例１〜２０における第１情報記録層の色素の光学濃度、半透過反射膜の膜厚の内訳を図１１に示す。
【００９４】
（評価）
実施例１〜２０並びに比較例１〜２０に係る光ディスクの反射率を測定した。この測定では、ＤＤＵ−１０００（パルステック社製、レーザ波長＝６６０ｎｍ、対物レンズ開口数＝０．６０）を用い、線速度を３．８ｍ／ｓとして、再生を行うことにより、実施例１〜２０並びに比較例１〜２０に係る光ディスクの反射率を測定した。
【００９５】
図１０に実施例１〜２０に係る光ディスクの反射率の結果を示し、図１１に比較例１〜２０に係る光ディスクの反射率の結果を示す。
【００９６】
図１０に示すように、実施例１〜２０においては、第１情報記録層２０における色素の光学濃度の平均値は０．６４９であり、標準偏差は０．０２１であった。
【００９７】
実施例１〜２０の内訳（第１情報記録層２０の色素の光学濃度、半透過反射膜２２の膜厚）からもわかるように、半透過反射膜２２の膜厚調整により、半透過反射膜２２の膜厚は光学濃度が０．６５より高い場合には１４ｎｍより薄く、逆に、光学濃度が０．６５より低い場合には１４ｎｍより厚く調整されている。これにより、実施例１〜２０の反射率の平均値は、１７．３３％であり、標準偏差は０．０５％となっている。しかも、実施例１〜２０に係る光ディスク全てが、反射率１７．４％±０．３％に納まっている。
【００９８】
一方、図１１に示すように、比較例１〜２０においては、第１情報記録層２０における色素の光学濃度の平均値は０．６４９であり、標準偏差は０．０２１であった。
【００９９】
また、比較例１〜２０の反射率の平均値は１７．３７％であり、標準偏差は０．３３％であった。比較例１〜２０に係る光ディスクのうち、反射率が１７．４％±０．３％となった枚数は２０枚中、１４枚であった。
【０１００】
以上のように、実施例１〜２０は、比較例１〜２０に比べて反射率の変動が小さいことがわかる。
【０１０１】
なお、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】第１の実施の形態に係る光ディスクを一部省略して示す断面図である。
【図２】第１記録媒体部を示す断面図である。
【図３】第２記録媒体部を示す断面図である。
【図４】第１の実施の形態に係る光ディスクの製造方法を示す工程図である。
【図５】第１反射率特性を示す図である。
【図６】第２反射率特性を示す図である。
【図７】第２の実施の形態に係る光ディスクを一部省略して示す断面図である。
【図８】第２の実施の形態に係る光ディスクの製造方法を示す工程図である。
【図９】実施例１に係る光ディスクの製造方法を示す工程図である。
【図１０】実施例１〜２０に係る光ディスクの内訳（第１情報記録層の色素の光学濃度、半透過反射膜の膜厚）と、反射率の測定値を示す表図である。
【図１１】比較例１〜２０に係る光ディスクの内訳（第１情報記録層の色素の光学濃度、半透過反射膜の膜厚）と、反射率の測定値を示す表図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１０Ａ、１０Ｂ…光ディスク              １２Ａ…第１記録媒体部
１２Ｂ…第２記録媒体部                  ２０…第１情報記録層
２２…半透過反射膜                      ２８…反射膜
３０…第２情報記録層                    ３２…保護層
４０ａ〜４０ｄ…第１反射率特性〜第４反射率特性
【図１】
2007257741.tif 000005
【図２】
2007257741.tif 000006
【図３】
2007257741.tif 000007
【図４】
2007257741.tif 000008
【図５】
2007257741.tif 000009
【図６】
2007257741.tif 000010
【図７】
2007257741.tif 000011
【図８】
2007257741.tif 000012
【図９】
2007257741.tif 000013
【図１０】
2007257741.tif 000014
【図１１】
2007257741.tif 000015