(57)【要約】【課題】磁気ディスク用ガラス基板を製造し磁気ディスクを製造するときに、所期の性能が得られ、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができ、また、磁性層に良好な磁気異方性が付与された磁気ディスクの製造を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供し、また、良好な特性を有する磁気ディスクを製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供する。【解決手段】表面に線状のテクスチャを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の主表面を酸を含有する洗浄液によって洗浄してガラス基板の主表面における異物を除去した後、ガラス基板の主表面にテクスチャを形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に線状のテクスチャを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の主表面を酸を含有する洗浄液によって洗浄した後、前記ガラス基板の主表面にテクスチャを形成する
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記洗浄液は、塩酸を主成分として含むものである
ことを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記洗浄液は、塩酸濃度が０．００６モル％以上、０．０１モル％以下である
ことを特徴とする請求項２記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
円盤状ガラス基板の主表面に研磨テープを押圧させ、前記研磨テープとガラス基板とを相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の主表面に円盤の円周方向に配向する略規則的な筋状の凹凸を有するテクスチャを形成する処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の少なくとも前記研磨テープと接触する領域において、ガラス基板表面に存在する鉄元素の量を、全反射蛍光Ｘ線分析法に基づいて分析したときに、ガラス中に含有されるシリコン元素との比（Ｆｅ／Ｓｉ）で２×１０−５以下とし、
前記ガラス基板に対して、前記テクスチャを形成する処理を行う
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記研磨テープと接触する領域は、前記テクスチャの形成前に予め鏡面研磨処理されている
ことを特徴とする請求項４記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記研磨テープと接触する領域は、前記テクスチャの形成前に予め少なくとも鉄を含有する異物に対して可溶な処理液で洗浄処理されている
ことを特徴とする請求項４、または、請求項５記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造した磁気ディスク用ガラス基板の主表面部上に、少なくとも磁性層を形成する
ことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク装置であるハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に用いられる磁気ディスク用ガラス基板を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及びこの磁気ディスク用ガラス基板を用いて磁気ディスクを製造する磁気ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、情報記録技術、特に、磁気記録技術は、いわゆるＩＴ産業の発達に伴って飛躍的な技術革新が要請されている。そして、コンピュータ用ストレージとして用いられる磁気ディスク装置であるハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に搭載される磁気ディスクにおいては、磁気テープやフレキシブルディスクなどの他の磁気記録媒体と異なり、急速な情報記録密度の増大化が続けられている。パーソナルコンピュータ装置に収納することのできる情報容量は、このような磁気ディスクの情報記録密度の増大に支えられて、飛躍的に増加している。
【０００３】
このような磁気ディスクは、ガラス基板やアルミニウム系合金ディスク基板などの基板上に、磁性層等が成膜されて構成されている。特に、近年においては、ハードディスクドライブを携帯用機器（いわゆる「ノート型パーソナルコンピュータ装置」など）に搭載する要求が高まったことに伴い、高強度、かつ、高剛性であって高い耐衝撃性を有するガラス基板を用いた磁気ディスクが注目されている。
【０００４】
そして、ハードディスクドライブにおいては、高速回転される磁気ディスク上に磁気ヘッドを浮上飛行させながら、この磁気ヘッドにより、磁性層に対し磁化パターンとして情報信号を記録し、また、再生を行なう。ガラス基板を用いた磁気ディスクにおいては、平滑な表面が得られるので、磁気ヘッドの浮上量を狭隘化することが可能であり、高い情報記録密度を実現することができる。つまり、ガラス基板を用いることにより、磁気ヘッドの低浮上量対応性に優れた磁気ディスクを作製することができる。
【０００５】
一方、磁気ディスクにおける情報記録容量を増大させるためには、この磁気ディスクにおいて情報信号の記録がなされない無駄な領域の面積を小さくすることが必要である。そこで、ハードディスクドライブの起動停止方式として、従来より用いられているＣＳＳ方式（「コンタクトスタートストップ（Contact Start Stop）方式」）に代えて、情報記録容量の増大が可能なＬＵＬ方式（「ロードアンロード（Load Unload）方式」、別名「ランプロード方式」ともいう。）の導入が進められている。
【０００６】
ＣＳＳ方式においては、磁気ディスクの非使用状態（停止状態）において磁気ヘッドが載置されるＣＳＳゾーンを磁気ディスク上に設ける必要があり、このＣＳＳゾーンには情報信号の記録ができないため、その分、磁気ディスクにおいて情報信号の記録がなされる領域の面積が減少する。
【０００７】
これに対し、ＬＵＬ方式においては、磁気ディスクの非使用状態（停止状態）においては、磁気ヘッドは磁気ディスクの外周側に移動され磁気ディスク上より退避されて支持されるので、磁気ディスク上にＣＳＳゾーンのような情報信号の記録ができない領域を設ける必要がなく、磁気ディスクにおいて情報信号の記録がなされる領域の面積を最大限確保することができる。
【０００８】
また、ＬＵＬ方式においては、ＣＳＳ方式と異なり、磁気ヘッドと磁気ディスクとが接触することがないので、磁気ディスク上にＣＳＳゾーンにおけるような吸着防止用の凸凹形状を設ける必要がなく、磁気ディスクの主表面を極めて平滑化することが可能となる。したがって、ＬＵＬ方式用の磁気ディスクにおいては、ＣＳＳ方式用の磁気ディスクに比較して、磁気ヘッドの浮上量を一段と狭隘化させることができ、記録信号のＳ／Ｎ比（Signal Noise Ratio）の向上を図ることができ、高記録密度化が図られるという利点もある。
【０００９】
このような、ＬＵＬ方式の導入に伴う磁気ヘッド浮上量の非連続的な一段の狭隘化により、近年においては、１０ｎｍ未満の極狭な浮上量においても、磁気ヘッドが安定して動作することが求められるようになってきた。
【００１０】
ところで、磁気ディスク用ガラス基板は、研磨処理、洗浄処理等の複数の工程を経て製造されている。磁気ディスク用ガラス基板の表面に異物等が存在すると、磁気ディスク、あるいは、ハードディスクドライブの信頼性が低下し、場合によってはグライドヒットやクラッシュなどの障害が生ずる虞れもあるので、磁気ディスク用ガラス基板の表面は、平滑、かつ、清浄でなければならない。
【００１１】
そこで、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程においては、洗浄処理及び乾燥処理を含むものとなっている。磁気ディスク用ガラス基板の製造工程中における洗浄処理及び乾燥処理としては、例えば、特許文献１に記載されているように、化学強化工程の前工程、または、後工程において、ガラス基板を塩酸を用いて洗浄する技術が記載されている。
【００１２】
そして、磁気ディスクの製造においては、この磁気ディスク用ガラス基板上に、スバッタリング成膜等の方法により、磁性層等の薄膜を成膜して、磁気ディスクを製造する。
【００１３】
【特許文献１】特開平１０−２２８６４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
ところで、近年の磁気ディスクにおいては、前述したように、磁気ディスクと磁気ヘッドとの間のスペーシングロスを改善し、記録信号のＳ／Ｎ比を向上させた結果、情報記録密度が１平方インチ当り４０ギガビットを超えるまでに到っており、さらに、１平方インチ当り１００ギガビットを超えるような超高記録密度をも実現されようとしている。
【００１５】
磁気ディスクにおける超高記録密度化が可能になった背景の一つに、磁気ディスク用ガラス基板の平滑化が実現されていることが挙げられる、磁気ディスク用ガラス基板の表面は、平滑鏡面に仕上げることができるので、磁気ヘッドのフライングハイトを１０ｎｍ以下としても、問題なく記録再生できるのである。すなわち、磁気ディスク用ガラス基板は、表面を極めて平滑面に仕上げることができるので、磁気ヘッドの浮上量を狭隘化することができるのである。
【００１６】
また、磁気ディスク用ガラス基板の表面に、磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャが形成されるようになってきたことも、高記録密度化が実現された一つの理由である。このようなテクスチャが表面に形成された磁気ディスク用ガラス基板は、磁性層に優れた磁気異方性を付与できるので、高記録密度化が実現できるのである。このテクスチャは、磁気ディスク用ガラス基板の表面に対し、この磁気ディスク用ガラス基板の略々周方向に研磨テープを摺接させることによって形成される。
【００１７】
このように高い情報記録密度が実現できるようになった近年の磁気ディスクにおいては、従来の磁気ディスクに比較してずっと小さなディスク面積であっても、実用上十分な情報量を収納できるという特徴を有している。また、磁気ディスクは、他の情報記録媒体に比較して、情報の記録速度や再生速度（応答速度）が極めて敏速であり、情報の随時書き込み及び読み出しが可能であるという特徴も有している。
【００１８】
このような磁気ディスクの種々の特徴が注目された結果、近年においては、携帯用のいわゆるＭＰ３プレーヤ、携帯電話装置、デジタルカメラ、携帯情報機器（例えば、ＰＤＡ（personal digital assistant）：パーソナルデジタルアシスタント）、あるいは、「カーナビゲーションシステム」などのように、パーソナルコンピュータ装置よりも筐体がずっと小さく、かつ、高い応答速度が求められる機器に搭載できる小型のハードディスクドライブが求められるようになってきている。
【００１９】
しかしながら、前述のように磁気ヘッド浮上量を狭隘化して超高記録密度化を図った場合には、フライスティクション障害が頻発する虞れがある。フライスティクション障害とは、磁気ディスク上を浮上飛行している磁気ヘッドが、浮上姿勢や浮上量に変調をきたす障害であり、不規則な再生出力変動の発生を伴うことが多い。また、浮上飛行中の磁気ヘッドが磁気ディスクに接触してしまういわゆるヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害を生じてしまうことがある。
【００２０】
また、このような磁気ディスク用ガラス基板において、以下の問題が生じた。すなわち、表面にテクスチャが形成された磁気ディスク用ガラス基板を製造し、磁気ディスクを製造した場合に、必ずしも、所期の性能が得られない場合があった。すなわち、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができなかったり、磁性層における磁気異方性にばらつきを生じることがあった。
【００２１】
これは、テクスチャの形成工程の前に、磁気ディスク用ガラス基板の材料となるガラスディスクの表面に異物が付着し、この異物がテクスチャの形成工程において研磨テープに接触し、磁気ディスク用ガラス基板の表面に、帯状の傷を生じさせていることが原因と考えられる。
【００２２】
そこで、本発明は、前述のような実情に鑑みてなされたものであり、その第１の目的は、磁気ディスク用ガラス基板を製造し、磁気ディスクを製造するときに、所期の性能が得られ、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することにある。
【００２３】
また、本発明の第２の目的は、磁性層に良好な磁気異方性が付与された磁気ディスクの製造を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することにある。
【００２４】
さらに、本発明の第３の目的は、このような磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造される磁気ディスク用ガラス基板を用いることにより良好な特性を有する磁気ディスクを製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
本発明者は、前記課題を解決すべく研究を進めた結果、テクスチャの形成工程の前に磁気ディスク用ガラス基板の材料となるガラスディスクの表面に付着し、テクスチャの形成工程において研磨テープに接触して磁気ディスク用ガラス基板の表面に帯状の傷を生じさせる要因となる、本来あってはならない異物（例えば、鉄（Ｆｅ）を含む異物であり、ステンレスや酸化鉄などが挙げられる。以下、これを鉄コンタミともいう。）が存在しているとの知見を得た。本発明はこのような知見に基づいて完成されたものであり、テクスチャの形成工程の前に、鉄コンタミを除去するために有効と考えられる洗浄を行うことにより、テクスチャの形成工程における磁気ディスク用ガラス基板の表面に傷が発生することを防止することによって、低グライドハイトの磁気ディスクを提供できるものである。
【００２６】
すなわち、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、以下の構成の少なくとも一を有するものである。
【００２７】
〔構成１〕
表面に線状のテクスチャを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板の主表面を酸を含有する洗浄液によって洗浄した後、ガラス基板の主表面にテクスチャを形成することを特徴とするものである。
【００２８】
〔構成２〕
構成１を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄液は、塩酸を主成分として含むものであることを特徴とするものである。
【００２９】
〔構成３〕
構成２を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄液は、塩酸濃度が０．００６モル％以上、０．０１モル％以下であることを特徴とするものである。
【００３０】
なお、洗浄液による洗浄後、テクスチャを形成する工程の前において、ガラスディスクの主表面におけるガラス成分中のシリコン（Ｓｉ）に対する鉄（Ｆｅ）の比（Ｆｅ／Ｓｉ）が、２×１０−５以下となっていることが好ましい。
【００３１】
〔構成４〕
円盤状ガラス基板の主表面に研磨テープを押圧させ、研磨テープとガラス基板とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の主表面に円盤の円周方向に配向する略規則的な筋状の凹凸を有するテクスチャを形成する処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、ガラス基板の少なくとも研磨テープと接触する領域において、ガラス基板表面に存在する鉄元素の量を、全反射蛍光Ｘ線分析法に基づいて分析したときに、ガラス中に含有されるシリコン元素との比（Ｆｅ／Ｓｉ）で２×１０−５以下とし、ガラス基板に対して、テクスチャを形成する処理を行うことを特徴とするものである。
【００３２】
〔構成５〕
構成４を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨テープと接触する領域は、テクスチャの形成前に予め鏡面研磨処理されていることを特徴とするものである。
【００３３】
〔構成６〕
構成４、または、構成５を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨テープと接触する領域は、テクスチャの形成前に予め少なくとも鉄を含有する異物に対して可溶な処理液で洗浄処理されていることを特徴とするものである。
〔構成７〕
構成１乃至構成６のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造した磁気ディスク用ガラス基板の主表面部上に、少なくとも磁性層を形成する
ことを特徴とするものである。磁気ディスクの製造方法において、
【発明の効果】
【００３４】
構成１を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、ガラス基板の主表面を酸を含有する洗浄液によって洗浄した後、ガラス基板の主表面にテクスチャを形成するので、ガラスディスクの表面における異物を効果的に除去することができ、テクスチャの形成工程における磁気ディスク用ガラス基板の表面の傷の発生が防止され、低グライドハイトの磁気ディスクを製造できる磁気ディスク用ガラス基板を提供することができる。
【００３５】
また、構成２を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、洗浄液は、塩酸を主成分として含むものであるので、磁気ディスク用ガラス基板の表面における異物を効果的に除去することができる。
【００３６】
構成３を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、洗浄液は、塩酸濃度が０．００６モル％以上、０．０１モル％以下であることにより、磁気ディスク用ガラス基板の表面における異物を効果的に除去し、テクスチャの形成工程における磁気ディスク用ガラス基板の表面の傷の発生を良好に防止することができる。
【００３７】
そして、構成４を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板においては、テクスチャを形成する処理においてガラス基板の少なくとも研磨テープと接触する領域において、ガラス基板表面に存在する鉄元素の量を、ガラス中に含有されるシリコン元素との比（Ｆｅ／Ｓｉ）で２×１０−５以下としているので、テクスチャの形成工程における磁気ディスク用ガラス基板の表面の傷の発生を良好に防止することができる。
【００３８】
構成５を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板においては、研磨テープと接触する領域をテクスチャの形成前に予め鏡面研磨処理しているので、テクスチャの形成工程における磁気ディスク用ガラス基板の表面の傷の発生を良好に防止することができる。
【００３９】
構成６を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板においては、研磨テープと接触する領域をテクスチャの形成前に予め少なくとも鉄を含有する異物に対して可溶な処理液で洗浄処理しているので、テクスチャの形成工程における磁気ディスク用ガラス基板の表面の傷の発生を良好に防止することができる。
【００４０】
そして、構成７を有する本発明に係る磁気ディスクの製造方法においては、構成１乃至構成６のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造した磁気ディスク用ガラス基板の主表面部上に少なくとも磁性層を形成するので、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害の発生が抑止された磁気ディスクを製造することができる。
【００４１】
すなわち、本発明は、磁気ディスク用ガラス基板を製造し、磁気ディスクを製造するときに、所期の性能が得られ、磁気ヘッドのグライドハイトを十分に狭隘化することができ、また、磁性層に良好な磁気異方性が付与された磁気ディスクの製造を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することができるものである。
【００４２】
また、本発明は、このような磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造される磁気ディスク用ガラス基板を用いることにより良好な特性を有する磁気ディスクを製造することができる磁気ディスクの製造方法を提供することができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００４４】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、後述するように、複数の工程を経由して製造される磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。すなわち、この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造される磁気ディスク用ガラス基板は、板状ガラスの主表面を研削（ラッピング）処理してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出し、このガラスディスクの主表面に対して研磨（ポリッシング）処理を行い、さらに、化学強化処理及びテクスチャ加工、洗浄処理及び乾燥処理を経て製造される。
【００４５】
（１）板状ガラスの製造
まず、磁気ディスク用ガラス基板の材料となる板状ガラスを用意する。本発明において、磁気ディスク用ガラス基板の材料となる板状ガラスとしては、様々な形状の板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスの形状は、矩形状であっても、ディスク状（円盤状）であってもよい。ディスク状の板状ガラスは、従来の磁気ディスク用ガラス基板の製造において用いられている研削装置を用いて研削処理を行うことができ、信頼性の高い加工を安価にて行うことができる。
【００４６】
この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、または、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらのうち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
【００４７】
また、本発明において用いる板状ガラスの材料としては、ガラスであれば、特に制限は設けないが、アルミノシリケートガラスを好ましく挙げることができる。特に、リチウムを含有するアルミノシリケートガラスが好ましい。このようなアルミノシリケートガラスは、イオン交換型化学強化処理、特に、低温イオン交換型化学強化処理により、好ましい圧縮応力を有する圧縮応力層及び引張応力を有する引張応力層を精密に得ることができるので、磁気ディスク用の化学強化ガラス基板の材料として特に好ましい。
【００４８】
このようなアルミノシリケートガラスの組成比としては、ＳｉＯ２を、５８乃至７５重量％、Ａｌ２Ｏ３を、５乃至２３重量％、Ｌｉ２Ｏを、３乃至１０重量％、Ｎａ２Ｏを、４乃至１３重量％、主成分として含有することが好ましい。
【００４９】
このようなアルミノシリケートガラスは、化学強化処理を施すことによって、抗折強度が増加し、ヌープ硬度にも優れたものとなる。
【００５０】
（２）研削処理
研削処理は、板状ガラスの主表面の形状精度（例えば、平坦度）や寸法精度（例えば、板厚の精度）を向上させることを目的とする加工である。この研削処理は、板状ガラスの主表面に、砥石、あるいは、定盤を押圧させ、これら板状ガラス及び砥石または定盤を相対的に移動させることにより、板状ガラスの主表面を研削することにより行われる。このような研削処理は、遊星歯車機構を利用した両面研削装置を用いて行うことができる。
【００５１】
そして、ガラス母材を切断してガラスディスクを切り出す。次に、円筒状の砥石を用いて、ガラスディスクの中央部分に所定の直径の円孔を形成するとともに、外周端面の研削をして所定の直径とした後、外周端面及び内周端面において、主表面の周縁に沿った面取り面を形成する面取り加工を施す。
【００５２】
（３）研磨処理
そして、本発明においては、ガラス母材から切り出されたガラスディスクに対して、少なくとも研磨処理を施し、ガラスディスクの主表面を鏡面化する。この研磨処理以降の工程は、クリーンルーム内で行うことが好ましい。
【００５３】
この研磨処理を施すことにより、ガラスディスクの主表面のクラックが除去され、主表面の表面粗さは、例えば、Ｒmaxで１０ｎｍ以下となされる。ガラスディスクの主表面がこのような鏡面となっていれば、このガラスディスクを用いて製造される磁気ディスクにおいて、磁気ヘッドの浮上量が、例えば、１０ｎｍである場合であっても、いわゆるクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害の発生を防止することができる。また、ガラスディスクの主表面がこのような鏡面となっていれば、後述する化学強化処理において、ガラスディスクの微細領域において均一に化学強化処理を施すことができ、また、微小クラックによる遅れ破壊を防ぐことができる。
【００５４】
この研磨処理は、例えば、ガラスディスクの主表面に、研磨パッド（研磨布）が貼り付けられた定盤を押圧させ、ガラスディスクの主表面に研磨液を供給しながら、これらガラスディスク及び定盤を相対的に移動させ、ガラスディスクの主表面を研磨することにより行われる。このとき、研磨液には、研磨砥粒を含有させておくとよい。研磨砥粒としては、コロイダルシリカ研磨砥粒、または、酸化セリウム砥粒を用いることができる。
【００５５】
なお、本発明においては、ガラスディスクを研磨する前に、研削処理をしておくことが好ましい。このときの研削処理は、前述した板状ガラスに対する研削処理と同様の手段により行うことができる。ガラスディスクを研削処理してから研磨処理を行うことにより、より短時間で、鏡面化された主表面を得ることができる。
【００５６】
また、本発明においては、ガラスディスクの端面において、主表面の周縁に沿った略々４５°の面取り面を形成し、かつ、この端面を鏡面研磨しておくことが好ましい。ガラスディスクの端面は、面取り面が形成された部分の間の部分が切断形状となっているので、この端面を鏡面に研磨しておくことにより、パーティクルの発生を抑制することができ、この磁気ディスク用ガラス基板を用いて製造された磁気ディスクにおいて、いわゆるサーマルアスペリティ障害を良好に防止することができるからである。
【００５７】
（４）化学強化処理
そして、本発明においては、ガラスディスクの研磨工程の後に、化学強化処理を施す。化学強化処理を行うことにより、磁気ディスク用ガラス基板の表面に高い圧縮応力を生じさせることができ、耐衝撃性を向上させることができる。特に、ガラスディスクの材料としてアルミノシリケートガラスを用いている場合には、好適に化学強化処理を行うことができる。
【００５８】
ガラスディスクの化学強化処理は、例えば、加熱した化学強化塩に、ガラスディスクを接触させ、ガラスディスクの表層のイオンが化学強化塩のイオンでイオン交換されることによって行われる。
【００５９】
ここで、イオン交換法としては、低温型イオン交換法、高温型イオン交換法、表面結晶化法、ガラス表面の脱アルカリ法などが知られているが、本発明においては、ガラスの徐冷点を超えない温度領城でイオン交換を行う低温型イオン交換法を用いることが好ましい。
【００６０】
なお、ここでいう低温型イオン交換法は、ガラスの徐冷点以下の温度領域において、ガラス中のアルカリイオンをこのアルカリイオンよりもイオン半径の大きいアルカリイオンと置換し、イオン交換部の容積増加によってガラス表層に圧縮応力を発生させ、ガラス表層を強化する方法のことをさす。
【００６１】
また、本発明において、化学強化処理を行うための処理漕の材料としては、耐食性に優れるとともに、低発塵性の材料であれば、特に限定されない。化学強化塩や化学強化溶融塩は酸化性があり、かつ、処理温度が高温なので、耐食性に優れた材料を選定することにより、損傷や発塵を抑制し、もって、サーマルアスペリティ障害や、ヘッドクラッシュを抑制する必要がある。この観点からは、処理漕の材料としては、石英材が特に好ましいが、ステンレス材や、特に耐食性に優れるマルテンサイト系、または、オーステナイト系ステンレス材も用いることができる。なお、石英材は、耐食性に優れるが、高価なので、採算性を考慮して、適宜選択することができる。
【００６２】
本発明における化学強化塩の材料としては、硝酸ナトリウム、及び／又は、硝酸カリウムを含有する化学強化塩材料であることが好ましい。このような化学強化塩は、ガラス、特に、アルミノシリケートガラスを化学強化処理したときに、磁気ディスク用ガラス基板としての所定の剛性及び耐衝撃性を実現することができるからである。
【００６３】
（４）テクスチャ加工
次に、本発明においては、ガラスディスクの主表面に対して、テクスチャを形成するテクスチャ加工を施す。このテクスチャは、この磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成したときに、磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャである。
【００６４】
このテクスチャ加工を行うにあたっては、まず、ガラスディスクの主表面を酸を含有する洗浄液によって洗浄する。この洗浄液としては、塩酸を主成分として含むものであることが好ましい。
【００６５】
この洗浄液における酸の濃度は、ガラスディスクの主表面上の異物（鉄コンタミ）が十分に除去される濃度であることを要するが、濃度が高すぎると、ガラスディスクの主表面の表面粗さが酸によって荒れる虞れがある。したがって、洗浄液における酸の濃度は、異物が十分に除去される濃度であって、ガラスディスクの主表面の表面粗さが劣化しない程度の濃度であることが好ましく、例えば、塩酸濃度が０．００６モル％以上、０．０１モル％以下であることが好ましい。
【００６６】
そして、この洗浄液による洗浄後、テクスチャ加工の前において、ガラスディスクの主表面におけるガラス成分中のシリコン（Ｓｉ）に対する鉄（Ｆｅ）の比（Ｆｅ／Ｓｉ）が、２×１０−５以下となっていることが好ましい。このようなガラスディスク表面のシリコン元素の量に対する鉄元素の量の比（Ｆｅ／Ｓｉ）は、公知の全反射蛍光Ｘ線分析装置（ＴＸＲＦ：Total X-ray Reflection Flurescence Analyzer）を用いることにより得られる。
【００６７】
そして、テクスチャ加工においては、ガラスディスクを、中央部分の円孔においてテクスチャ加工装置のチャッキング軸の先端側に装着する。このチャッキング軸は、先端側をガラスディスクの円孔に挿入して拡径させることにより、ガラスディスクを保持する。このチャッキング軸は、所定の回転速度によって軸回りに回転操作されるとともに、軸に直交する方向に所定の周囲及び振幅にて往復移動されるようになっている。
【００６８】
そして、このテクスチャ加工装置においては、一対の研磨テープが所定の速度で送り操作されるようになっている。これら研磨テープは、互いに重ね合わされた状態で、等しい速度で送り操作される。チャッキング軸に保持されたガラスディスクは、主表面となる部分を、送り操作される一対の研磨テープの間に挿入される。そして、これら研磨テープは、加圧ローラにより、ガラスディスクの両面側の主表面に対してそれぞれ所定の圧力にて押接される。すなわち、ガラスディスクは、両主表面を、一対の研磨テープによって挟持されることとなる。
【００６９】
この状態において、チャッキング軸をガラスディスクとともに軸回りに回転させるとともに、このチャッキング軸を軸に直交する方向に所定の周囲及び振幅にて往復移動させる。このとき、チャッキング軸の往復移動の方向は、一対の研磨テープの送り操作方向に直交する方向となっている。また、このとき、ガラスディスクと各研磨テープとの間には、液体状の研磨剤を供給する。このとき、液体状の研磨剤には、研磨砥粒を含有させておくとよい。研磨砥粒としては、ダイヤモンド砥粒を用いることができる。このとき、ガラスディスクと各研磨テープとは、相対的に摺接移動される。
【００７０】
各研磨テープの送り操作の速度は極めて遅いので、ガラスディスクと各研磨テープとの相対的摺動は、ガラスディスクの回転速度及び往復移動の周期及び振幅によって決まる。そして、ガラスディスクに対する各研磨テープの相対的摺動は、このガラスディスクの周方向（接線方向）の移動を基本としつつ、この周方向に対して、サインカーブを描いて揺動する移動となる。このようにしてガラスディスクの主表面に形成されるテクスチャは、このガラスディスクの周方向（接線方向）に対するクロス角が、主表面の外周側から内周側に向かって増大するように形成される。これは、ガラスディスクの主表面においては、外周側よりも内周側の接線速度が遅いからである。
【００７１】
（５）磁気ディスクの製造
そして、本発明に係る磁気ディスクの製造方法においては、前述のような磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁性層を形成する。
【００７２】
磁気ディスク用ガラス基板上に形成される磁性層としては、例えば、コバルト（Ｃｏ）系強磁性材料からなるものを用いることができる。特に、高い保磁力が得られるコバルト−プラチナ（Ｃｏ−Ｐｔ）系強磁性材料や、コバルト−クロム（Ｃｏ−Ｃｒ）系強磁性材料からなる磁性層として形成することが好ましい。なお、磁性層の形成方法としては、バイアススパッタリング法、ＤＣマグネトロンスパッタリング法や、バイアスＣＶＤ法を用いることができる。
【００７３】
ガラス基板と磁性層との間には、適宜、下地層等を介挿させることが好ましい。これら下地層の材料としてはＡｌ−Ｒｕ系合金や、Ｃｒ系合金などを用いることができる。
【００７４】
また、磁性層上には、磁気ヘッドの衝撃から磁気ディスクを防護するための保護層を設けることができる。この保護層としては、硬質な水素化炭素保護層を好ましく用いることができる。この保護層の形成には、プラズマＣＶＤ法を用いることができる。
【００７５】
さらに、この保護層上に、ＰＦＰＥ（パーフルオロポリエーテル）化合物からなる潤滑層を形成することにより、磁気ヘッドと磁気ディスクとの干渉を緩和することができる。この潤滑層は、例えば、ディップ法により、塗布成膜することにより形成することができる。
【実施例】
【００７６】
以下、実施例及び比較例を挙げることにより、具体的に説明する。なお、本発明は、これら実施例の構成に限定されるものではない。
【００７７】
〔実施例１〕
以下に述べる本実施例における磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクは、以下の（１）乃至（１０）の工程により作成される。
（１）ガラス母材を得る工程
（２）粗研削工程
（３）形状加工工程
（４）精研削工程
（５）端面研磨加工工程
（６）第１研磨工程
（７）第２研磨工程
（８）化学強化工程
（９）テクスチャ加工
（１０）磁気ディスクの製造工程（成膜工程）
【００７８】
（１）ガラス母材を得る工程
まず、アモルファスのアルミノシリケートガラスからなるディスク状のガラス母材を用意した。このアルミノシリケートガラスは、リチウムを含有している。このアルミノシリケートガラスの組成は、ＳｉＯ２を、６３．６重量％、Ａｌ２Ｏ３を、１４．２重量％、Ｎａ２Ｏを、１０．４重量％、Ｌｉ２Ｏを、５．４重量％、ＺｒＯ２を、６．０重量％、Ｓｂ２Ｏ３を、０．４重量％含むものである。
【００７９】
（２）粗研削工程
アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２を、５８乃至７５重量％、Ａｌ２Ｏ３を、５乃至２３重量％、Ｎａ２Ｏを、４乃至１３重量％、Ｌｉ２Ｏを、３乃至１０重量％、含有するものであればよい。
【００８０】
次に、ガラスディスクに対し、寸法精度及び形状精度の向上のために、粗研削工程を施した。この粗研削工程は、両面研削装置を用いて、粒度＃４００の砥粒を用いて行なった。
【００８１】
具体的には、始めに粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、荷量を１００ｋｇ程度に設定して、サンギアとインターナルギアを回転させることによって、キャリア内に収納したガラスディスクの両面を、面精度０乃至１μｍ、表面粗さ（Ｒmax）６μｍ程度に研削した。
【００８２】
（３）形状加工工程
次に、円筒状の砥石を用いて、ガラスディスクの中央部分に円孔を形成するとともに、外周端面及び内周端面において主表面の周縁に沿って略々４５°の面取り加工を施した。このときのガラスディスクの端面の表面粗さは、Ｒmaxで４μｍ程度であった。
【００８３】
（４）精研削工程
次に、砥粒の粒度を＃１０００に替え、ガラスディスクの主表面を研削することにより、主表面の表面粗さを、Ｒmaxで２μｍ程度、Ｒａで０．２μｍ程度とした。
【００８４】
この精研削工程を行うことにより、前工程である粗研削工程や形状加工工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を除去することができる。
【００８５】
このような精研削工程を終えたガラスディスクを、超音波を印加した中性洗剤及び水の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄を行なった。
【００８６】
（５）端面研磨加工工程
次いで、従来より用いられているブラシ研磨により、ガラスディスクを回転させながらガラスディスクの端面の研磨を行い、このガラスディスクの端面（内周端面及び外周端面）の表面の粗さを、Ｒmaxで１μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度に研磨した。
【００８７】
そして、端面研磨加工を終えたガラスディスクの主表面を水洗浄した。
【００８８】
なお、この端面研磨加工工程においては、ガラスディスクを重ね合わせて端面を研磨するが、この際に、ガラスディスクの主表面にキズ等が付くことを避けるため、後述する第１研磨工程よりも前、あるいは、第２研磨工程の前後に行うことが好ましい。
【００８９】
この端面研磨加工工程により、ガラスディスクの端面は、パーティクル等の発塵を防止できる鏡面状態に加工された。
【００９０】
（６）第１研磨工程
次に、前述した精研削工程において残留した傷や歪みを除去するため、両面研磨装置を用いて、第１研磨工程を行なった。
【００９１】
画面研磨装置においては、研磨パッドが貼り付けられた上下定盤の間に、キャリアにより保持させたガラスディスクを密着させ、このキャリアを、サンギア及びインターナルギアに噛合させるとともに、ガラスディスクを上下定盤によって挟圧する。その後、研磨パッドとガラスディスクの研磨面（主表面）との間に研磨液を供給しながら、サンギアを回転させることによって、ガラスディスクは、定盤上で自転しながらインターナルギアの回りを公転して、両主表面を同時に研磨加工される。
【００９２】
以下の研磨工程で使用する両面研磨装置としては、同一の装置を用いている。具体的には、ポリッシャとして硬質ポリシヤ（硬質発泡ウレタン）を用いて、第１研磨工程を実施した。研磨条件は、酸化セリウム（平均粒径１．３μｍ）及びＲＯ水からなる研磨液を用い、荷重を１００ｇ／ｃｍ２、研磨時間を１５分とした。そして、この第１研磨工程を終えたガラスディスクを、中性洗剤、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。
【００９３】
（７）第２研磨工程
次に、第１研磨工程で使用した両面研磨装置と同様の両面研磨装置を用いて、ポリッシャを軟質ポリッシャ（スウェードパット）に替えて、主表面の鏡面研磨工程として、第２研磨工程を実施した。
【００９４】
この第２研磨工程は、前述した第１研磨工程により得られた平坦な主表面を維持しつつ、この主表面の表面粗さＲａを、例えば、０．５乃至０．３ｎｍ程度以下まで低減させることを目的とするものである。
【００９５】
研磨条件は、コロイダルシリカ（平均粒径８０ｎｍ）及びＲＯ水からなる研磨液を用い、荷重を１００ｇ／ｃｍ２、研磨時間を５分とした。
【００９６】
そして、この第２研磨工程を終えたガラスディスクを、酸、純水(1)、中性洗剤、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄処理し、次に、ＩＰＡ蒸気により乾燥処理した。
【００９７】
（８）化学強化工程
次に、洗浄を終えたガラスディスクに対し、化学強化処理を施した。化学強化処理は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとを混合させた化学強化液を用いて行い、強化処理されたガラスディスクから溶出されるリチウム含有量をＩＣＰ発光分析装置を用いて測定した。
【００９８】
この化学強化溶液を、３４０°Ｃ乃至３８０°Ｃに加熱し、洗浄及び乾燥を終えたガラスディスクを、約２時間乃至４時間浸漬して、化学強化処理を行なった。この浸漬の際には、ガラスディスクの表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラスディスクが外周端面で保持されるように、ホルダーに収納した状態で行った。
【００９９】
化学強化処理を終えたガラスディスクを、２０°Ｃの水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。
【０１００】
そして、急冷を終えたガラスディスクを、約４０°Ｃに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えた磁気ディスク用ガラス基板を、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。
【０１０１】
次に、洗浄を終えたガラスディスクの主表面及び端面について、目視検査を行い、さらに、光の反射、散乱及び透過を利用した精密検査を実施した。その結果、ガラスディスクの主表面及び端面には、付着物による突起や、傷等の欠陥は発見されなかった。
【０１０２】
また、前述のような工程を経たガラスディスクの主表面の表面粗さは、原子間カ顕微鏡（ＡＦＭ）によって測定したところ、Ｒmaxで２．５ｎｍ、Ｒａで０．３０ｎｍと、超平滑な表面となっていることが確認された。なお、表面粗さの数値は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）によって測定した表面形状について、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１にしたがって算出したものである。
【０１０３】
さらに、このガラスディスクの円孔の内周端面の表面粗さは、面取り面においてＲmaxで０．４μｍ、Ｒａで０．０４μｍ、面取り面以外の部分においてＲmaxで０．４μｍ、Ｒａで０．０５μｍであった。外周端面における表面粗さＲａは、面取り面において０．０４μｍ、面取り面以外の部分において０．０７μｍであった。このように、内周端面は、外周端面と同様に、鏡面状に仕上がっていることを確認した。
【０１０４】
また、このガラスディスクの表面に異物やサーマルアスペリティの原因となるパーティクルは認められず、円孔の内周端面にも異物やクラックは認められなかった。
【０１０５】
（９）テクスチャ加工
テクスチャ加工を先だって、まず、ガラスディスクの主表面を酸を含有する洗浄液によって洗浄した。洗浄液としては、塩酸を主成分として含むものを使用した。
【０１０６】
この洗浄液における塩酸の濃度は、０．００６モル％とした。そして、この洗浄液による洗浄後、テクスチャ加工の前において、ガラスディスクの表面におけるシリコン元素の量に対する鉄元素の量の比（Ｆｅ／Ｓｉ）は、約２×１０−５となっていた。
【０１０７】
なお、この実施例及び後述する他の実施例、比較例におけるテクスチャ加工の前におけるガラスディスクの表面の異物（鉄コンタミ）の量を、図１に示す。
【０１０８】
次に、テクスチャ加工を行った。このテクスチャ加工は、テクスチャ加工装置を用いて、ガラスディスクとこのガラスディスクの両主表面を挟持する研磨テープとを所定の状態で相対的に摺接移動させる「メカニカルテクスチャ加工」によって、主表面及び端面に対して行った。これらガラスディスクと各研磨テープとの相対的摺動は、ガラスディスクの周方向（接線方向）の移動を基本としつつ、この周方向に対して、サインカーブを描いて揺動する移動として行った。また、このとき、ガラスディスクと各研磨テープとの間に、研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒を含有する液体状の研磨剤を供給した。
【０１０９】
このテクスチャ加工が終了した後、ガラスディスクをスクラブ洗浄し、磁気ディスク用ガラス基板を得た。
【０１１０】
なお、この実施例及び後述する他の実施例、各比較例における磁気ディスク用ガラス基板の主表面の表面粗さを、図２に示す。
【０１１１】
（１０）磁気ディスクの製造工程（成膜工程）
次に、以下の工程を経て、本発明に係る磁気ディスクを製造した。
【０１１２】
前述の工程により得た磁気ディスク用ガラス基板の両主表面に、静止対向型のＤＣマグネトロンスパッタリング装置を用いて、Ａｌ−Ｒｕ合金のシード層、Ｃｒ−Ｗ合金の下地層、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ合金の磁性層、水素化炭素保護層を順次成膜した。シード層は、磁性層の磁性グレインを微細化させる作用を奏し、下地層は、磁性層の磁化容易軸を面内方向に配向させる作用を奏する。
【０１１３】
この磁気ディスクは、非磁性基板である磁気ディスク用ガラス基板と、この磁気ディスク用ガラス基板上に形成された磁性層と、この磁性層上に形成された保護層と、この保護層上に形成された潤滑層とを少なくとも備えて構成される。
【０１１４】
そして、磁気ディスク用ガラス基板と磁性層との間には、シード層及び下地層からなる非磁性金属層（非磁性下地層）が形成されている。この磁気ディスクにおいて、磁性層以外は、全て非磁性体からなる層である。この実施例においては、磁性層及び保護層、保護層及び潤滑層は、それぞれ接した状態で形成した。
【０１１５】
すなわち、まず、スパッタリングターゲットとして、Ａｌ−Ｒｕ（アルミニウム−ルテニウム）合金（Ａｌ：５０ａｔ％、Ｒｕ：５０ａｔ％）を用いて、磁気ディスク用ガラス基板上に、膜厚３０ｎｍのＡｌ−Ｒｕ合金からなるシード層をスパッタリングにより成膜した。次に、スパッタリングターゲットとして、Ｃｒ−Ｗ（クロム−タングステン）合金（Ｃｒ：８０ａｔ％、Ｗ：２０ａｔ％）を用いて、シード層５上に、膜厚２０ｎｍのＣｒ−Ｗ合金からなる下地層をスパッタリングにより成膜した。次いで、スパッタリングターゲットとして、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ（コバルト−クロム−プラチナ−タンタル）合金（Ｃｒ：２０ａｔ％、Ｐｔ：１２ａｔ％、Ｔａ：５ａｔ％、残部Ｃｏ）からなるスパッタリングターゲットを用いて、下地層上に、膜厚１５ｎｍのＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ合金からなる磁性層をバイアススパッタリングにより形成した。
【０１１６】
次に、磁性層上に水素化炭素からなる保護層をバイアスＣＶＤ法により形成し、さらに、ＰＦＰＥ（パーフロロポリエーテル）からなる潤滑層をディップ法で成膜した。保護層は、磁気ヘッドの衝撃から磁性層を保護する作用を奏する。このようにして、磁気ディスクを得た。
【０１１７】
〔実施例２〕
この実施例２においては、テクスチャ加工に先だつガラスディスクの主表面の洗浄において、洗浄液として用いる塩酸の濃度を０．０１Ｍ％とした。そして、この洗浄液による洗浄後、テクスチャ加工の前において、ガラスディスクの表面におけるシリコン元素の量に対する鉄元素の量の比（Ｆｅ／Ｓｉ）は、約１．６×１０−５となっていた。
【０１１８】
他は前述の実施例１と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作成した。
【０１１９】
〔実施例３〕
この実施例３においては、テクスチャ加工に先だつガラスディスクの主表面の洗浄において、洗浄液として用いる塩酸の濃度を０．００２Ｍ％とした。そして、この洗浄液による洗浄後、テクスチャ加工の前において、ガラスディスクの表面におけるシリコン元素の量に対する鉄元素の量の比（Ｆｅ／Ｓｉ）は、約１．７×１０−５となっていた。
【０１２０】
他は前述の実施例１と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作成した。
【０１２１】
〔実施例４〕
この実施例４においては、テクスチャ加工に先だつガラスディスクの主表面の洗浄において、洗浄液として用いる塩酸の濃度を０．０２Ｍ％とした。そして、この洗浄液による洗浄後、テクスチャ加工の前において、ガラスディスクの表面におけるシリコン元素の量に対する鉄元素の量の比（Ｆｅ／Ｓｉ）は、約３×１０−５となっていた。
【０１２２】
他は前述の実施例１と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作成した。
【０１２３】
〔比較例１〕
この比較例１においては、テクスチャ加工に先だつガラスディスクの主表面の洗浄を行わなかった。テクスチャ加工の前において、ガラスディスクの表面におけるシリコン元素の量に対する鉄元素の量の比（Ｆｅ／Ｓｉ）は、約７×１０−５となっていた。
【０１２４】
なお、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）を用いてガラス表面を観察したところ、鉄コンタミが多数残留していた。
【０１２５】
他は前述の実施例１と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作成した。
【０１２６】
〔比較例２〕
この比較例２においては、テクスチャ加工に先だつガラスディスクの主表面の洗浄において、洗浄液として、水酸化カリウム（ＫＯＨ）溶液を使用した。この洗浄液による洗浄後、テクスチャ加工の前において、ガラスディスクの表面におけるシリコン元素の量に対する鉄元素の量の比（Ｆｅ／Ｓｉ）は、約４×１０−５となっていた。
【０１２７】
なお、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）を用いてガラス表面を観察したところ、鉄コンタミが多数残留していた。
【０１２８】
他は前述の実施例１と同様にして、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、磁気ディスクを作成した。
【０１２９】
〔各実施例及び比較例の対比〕
前述の各実施例及び比較例の磁気ディスク用ガラス基板を用いて作製した磁気ディスクについて、浮上量が６ｎｍのグライドヘッドによりグライド検査を行った。この結果を以下の〔表１〕に示す。このグライド検査は、磁気ヘッドに衝突する異物等の検出により、磁気ヘッドが安定した浮上状態を維持しているかを判別するものである。
【０１３０】
【表１】
2007095238.tif 000003
【０１３１】
グライド試験良品率は９０％以上であることが望まれるが、実施例１乃至実施例４における磁気ディスクについては、グライド検査において、いずれも９０％以上の良好な合格率となっている。ただし、実施例３及び実施例４では、ガラス基板表面におけるシリコン元素の量に対する鉄元素の量の比が、洗浄なしの比較例２と比べて大幅に減少しているが、図２に示すように、ここで求められる仕様範囲Ｒmax３ｎｍ乃至１０ｎｍ、Ｒａ０．４ｎｍ乃至１．７ｎｍから外れていることから、表面粗さがやや劣化しており、これがグライド試験良品率に影響しているものと思われる。
【０１３２】
これに対し、各比較例における磁気ディスクについては、グライド検査において、６５％という低い合格率となっている。比較例１及び比較例２では、ガラスディスク主表面におけるシリコン元素の量に対する鉄元素の量の比が各実施例におけるガラスディスクよりも大きく、これがグライド試験良品率に影響しているものと思われる。
【０１３３】
なお、実施例１及び実施例２における磁気ディスクでは、磁気異方性１．５以上の良好な結果が得られた。
【０１３４】
また、実施例１乃至実施例４において得られた磁気ディスクについてロードアンロード耐久試験を行った。すなわち、得られた磁気ディスクをハードディスクドライブに搭載して連続してロードアンロード動作を繰り返し行った。その結果は、ロードアンロード耐久性として、６０万回以上のロードアンロード動作に耐久することができ、充分な耐久性となっていることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【０１３５】
【図１】本発明に係る各実施例及び各比較例のガラスディスクの表面におけるシリコン元素の量に対する鉄元素の量の比を示すグラフである。
【図２】本発明に係る各実施例及び各比較例の磁気ディスク用ガラス基板の主表面の表面粗さを示すグラフである。
【図１】
2007095238.tif 000004
【図２】
2007095238.tif 000005