(57)【要約】【課題】被覆部材のＳｉを含有した粒子状付着物を制限し、基体と皮膜との密着性、潤滑特性を改善する。【解決手段】物理蒸着により皮膜を被覆した被覆部材であって、該皮膜が金属元素としてＳｉを含有した化合物であり、該皮膜表面のＳｉを含有した粒子状付着物の面積率は、直径が０．１μｍ以上の該粒子状付着物につき、該皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲内に５％以下であり、該皮膜表面の該粒子状付着物の数は、直径が０．１μｍ以上の該粒子状付着物につき、該皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲内に１００個未満であることを特徴とする被覆部材である。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
物理蒸着により皮膜を被覆した被覆部材であって、該皮膜が金属元素としてＳｉを含有した化合物であり、該皮膜表面のＳｉを含有した粒子状付着物の面積率は、直径が０．１μｍ以上の該粒子状付着物につき、該皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲内に５％以下であることを特徴とする被覆部材。
【請求項２】
請求項１記載の被覆部材において、該皮膜表面の該粒子状付着物の数は、直径が０．１μｍ以上の該粒子状付着物につき、該皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲内に１００個未満であることを特徴とする被覆部材。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の被覆部材において、該物理蒸着がスパッタリング法、フィルター方式アークイオンプレーティング法、プラズマ化学蒸着法の何れか又はこれらの組み合せであることを特徴とする被覆部材の被覆方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、超硬合金、サーメット、高速度鋼、ダイス鋼等を基体とし、皮膜表面のＳｉを含有した粒子状付着物を低減化した被覆部材、被覆部材の被覆方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
物理蒸着被覆過程で不可避的に混入する粒子状付着物は、ドロップレット若しくはマクロパーティクルと呼ぶ場合もあるが、粒子状付着物は皮膜表面の面粗度を低下させ、皮膜の潤滑特性や摩耗特性を劣化させる。その結果、切り屑の排出性低下による工具の折損や局部摩耗を誘発し、近年の高精度加工に於いては問題点である。そこでこれら問題点に対して改善の検討がなされている。
被覆過程で不可避的に混入する粒子状付着物の低減化技術は、特許文献１から５に開示されている。特許文献１は、コーティング層の表面に存在する直径５μｍ以上のマクロパーティクルが、１０個／ｍｍ２以下とする技術が開示されている。特許文献２は被覆穴あけ工具の外周マージン部の算術平均粗さＲａ値を規定する技術が開示されている。特許文献３は、粒子状付着物を機械的に除去し、皮膜表面の耐摩耗性を改善する技術が開示されている。特許文献４は、粒子状付着物が生じないような成膜方法として、ホロカソード法とマグネトロンスパッタ法を併用する技術が開示されている。特許文献５は、被膜の表面において、高さ０．５μｍ以上の突起の個数を規定した被覆工具に関する技術が開示されている。
Ｓｉ化合物系の皮膜は、特許文献６に、（ＴｉａＳｉｂ）（ＣｘＮｙ）層からなる表面被覆切削工具が開示されている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−３４５０７８号公報
【特許文献２】特開２００５−２２０６４号公報
【特許文献３】特開２００５−１０８８号公報
【特許文献４】特開２００４−２８５４４０号公報
【特許文献５】特許３６３３８３７号公報
【特許文献６】特開２００４−９０１５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
Ｓｉ化合物系皮膜は、高硬度で耐熱性に優れることから工具等の耐摩耗性を改善することが知られるものの、Ｓｉ化合物系皮膜表面に発生するＳｉ含有粒子状付着物は、特に鉄系の被加工物との親和性が高いため、皮膜表面への溶着が著しく、仕上げ面精度の低下や加工面の光沢性の劣化が発生し易く、仕上げ加工品位が低下する。また上記現象は皮膜の耐剥離性を低下させている。従って、何れの特許文献も、Ｓｉ系皮膜におけるＳｉ含有粒子状付着物に関する改善検討はなされてはいない。また、被覆後に粒子状付着物を機械的に除去する方法では、コスト高になることに加え、被覆部材が複雑形状もしくは小型化、小径化することに対応できない。
本願発明の課題は、被覆部材のＳｉを含有した粒子状付着物を制限し、基体と皮膜との密着性、潤滑特性を改善する。更に、皮膜表面への溶着を抑制して、仕上げ面精度の低下や加工面の光沢性の劣化を低減させて、加工面品位を改善することができる、被覆部材、被覆部材の被覆方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本願発明は、物理蒸着により皮膜を被覆した被覆部材であって、該皮膜が金属元素としてＳｉを含有した化合物であり、該皮膜表面のＳｉを含有した粒子状付着物の面積率は、直径が０．１μｍ以上の該粒子状付着物につき、該皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲内に５％以下であることを特徴とする被覆部材である。本構成を採用することによって、被覆部材のＳｉを含有した粒子状付着物を制限し、基体と皮膜との密着性、潤滑特性が改善される。更に、皮膜表面への溶着を抑制して、仕上げ面精度の低下や加工面の光沢性の劣化を低減させて、加工面品位を改善することができる。
【０００６】
本願発明の被覆部材について、該皮膜表面の該粒子状付着物の数は、直径が０．１μｍ以上の該粒子状付着物につき、該皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲内に１００個未満であることが好ましい。被覆部材の被覆方法には物理蒸着法を採用し、この物理蒸着法はスパッタリング法（以下、ＳＰ法と言う。）、フィルター方式アークイオンプレーティング法（以下、ＦＡＩＰ法と言う。）、プラズマ化学蒸着法（以下、ＰＣＶＤ法と言う。）の何れか、又はこれらの組み合せにより被覆する。
【発明の効果】
【０００７】
本願発明の被覆部材のＳｉを含有した粒子状付着物を制限し、基体と皮膜との密着性、潤滑特性が改善される。更に、皮膜表面への溶着を抑制して、仕上げ面精度の低下や加工面の光沢性の劣化を低減させて、加工面品位を改善することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本願発明の被覆部材は、皮膜にＳｉを適正量含有することによって、皮膜の高硬度化をはかることができる。
次に、該皮膜表面のＳｉを含有した粒子状付着物は、直径が０．１μｍ以上の該粒子状付着物につき、その面積率が、該皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲内で５％以下とすることによって、鉄系の被加工物との親和性を下げ、耐摩耗皮膜表面への溶着を低減することができる。Ｓｉ含有粒子状付着物の直径を０．１μｍ以上に規定する技術的な意味は、０．１μｍ未満のＳｉ含有粒子状付着物は、耐摩耗性の観点からほとんど影響を及ぼさないことが確認されているためである。面積率を５％以下とすることにより、被加工物の仕上げ面精度の低下や加工面の白濁発生を抑制することを可能にし、仕上げ加工品位向上させることができる。面積率が５％を超えて大きい場合、鉄の凝着が著しく、摩擦係数が増加するという不都合が生じるため、回避しなければならない。この様な現象は、耐摩耗皮膜の少なくとも１層が、金属成分としてＳｉを含有し、残部がＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｂ、Ｗから選択される少なくとも１種以上の窒化物、炭化物、硫化物、硼化物、酸化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物で構成される場合において発揮される。
本願発明のＳｉ含有粒子状付着物の面積率を規定する部位は、被加工物に接する部材表面のうち、どの部位であってもその効果を発揮することができ、必ずしも部材全体にわたって本発明を満足する必要もない。例えば、切削工具においては、逃げ面、すくい面の一部において満足する場合に効果がある。
【０００９】
本願発明の皮膜表面に存在するＳｉ含有粒子状付着物の数は、直径が０．１μｍ以上の該粒子状付着物について、耐摩耗皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲内に１００個未満である場合、特に優れた耐摩耗効果を発揮するため好ましい。耐摩耗皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲に１００個以上の場合、Ｓｉ含有粒子状付着物の直径が小さくても、鉄の凝着が増加する傾向にあるからである。
本願発明の皮膜の金属成分は、例えば、ＴｉＳｉ、ＣｒＳｉ、ＡｌＳｉ、ＮｂＳｉ、ＡｌＣｒＳｉ、ＴｉＡｌＳｉ、ＮｂＡｌＳｉ、ＴｉＳｉＢ、ＳｉＢ、ＣｒＳｉＢ、ＴｉＣｒＡｌＳｉの何れかであることが好ましい。化合物としては、（ＴｉＳｉ）Ｎ、（ＣｒＳｉ）Ｎ、（ＡｌＣｒＳｉ）Ｎ、（ＴｉＡｌＳｉ）Ｎ、（ＡｌＮｂＳｉ）Ｎ、（ＣｒＮｂＳｉ）Ｎ、（ＡｌＳｉ）Ｎ、ＳｉＮ、Ｓｉ（ＣＮ）、Ｓｉ（ＮＢＣ）、Ｓｉ（ＮＢＣＯ）等が挙げられる。
被覆部材の用途は、切削工具、金型、軸受け、ダイス、ロール等、高硬度が要求される耐摩耗部材である。切削工具としてはエンドミル、ドリル、ホブ、リーマ、ルーター、カッター、クリスマスカッター、ブローチ、刃先交換型切削インサート等の切削工具が最適である。これらの被覆部材は特に耐摩耗性の改善効果が大きく工具寿命が向上する。特に切削工具が転削工具であり、その部材直径が１ｍｍ未満の工具において、耐摩耗性の改善が著しく好ましい。
被覆部材の基体は、特に限定するものではないが超硬合金、サーメット、高速度鋼の何れかが好ましい。
【実施例】
【００１０】
（実施例１）
基体として、Ｃｏ含有量：８重量％、Ｃｒ含有量：０．７重量％、ＶＣ含有量：０．２重量％、硬度がＨＲＡ９４．１の超硬合金を用い、ボールエンドミル、ドリルを製作した。上記ボールエンドミル、ドリルは脱脂洗浄を実施し、ＳＰ装置の容器内の冶具に配置した。冶具は３回転／分で自公転する。基体の温度は５５０℃となるよう加熱、排気を行った。Ａｒガスを容器内に導入し、容器内に設けられたカソード電極とアノード電極の間で放電することによってＡｒのイオン化を行った。同時に基体にパルス状のバイアス電圧を印加した。このパルス状のバイアス電圧は、負バイアス電圧が２００Ｖ、９０％、正バイアス電圧が０Ｖ、１０％、周波数を２０ｋＨｚとした。イオン化されたＡｒは基体に衝突し、基体のクリーニング、活性化処理を行った。このとき、基体のクリーニング効率や活性度をより高めるためにＸｅ、Ｋｒ、Ｈ２等を複合的に用いることも有効である。Ａｒ、Ｋｒ、反応ガスとして窒素を容器内に導入し、全体の圧力を０．６Ｐａ、バイアス電圧を−８０Ｖに設定した。容器内に複数配置したＳＰ蒸発源に設置された皮膜の金属成分となるターゲット１個あたり４ｋＷの電力を供給し、ターゲット上で放電を行い、パルス状のバイアス電圧が印加された基体に約３μｍの皮膜を形成した。このとき必要に応じ最下層を形成した。
ターゲット材１、ターゲット材２は、原子％比でＴｉ／Ｓｉ＝７５／２５のターゲットを設置し、ターゲット材３、ターゲット材４は、原子％比でＡｌ／Ｔｉ＝５５／４５のターゲットを設置した。まずターゲット材３、ターゲット材４により（ＡｌＴｉ）Ｎを２μｍ、続いてターゲット材１、ターゲット材２により（ＴｉＳｉ）Ｎを１μｍ積層した皮膜を被覆し、これを本発明例１とした。表１、２に本発明例１の皮膜組成、膜厚、成膜方法、Ｓｉ含有粒子状付着物の面積率、数、硬度、面粗さ、最下層の情報、層構造等を示す。最下層は、必要に応じて皮膜の下地層として採用した。
表１、２に示す様に、種々組成、膜厚等に変更を施した本発明例２から３０を作成した。これらは特に断りがない限り、本発明例１に準ずる方法により作成した。
【００１１】
【表１】
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【００１２】
【表２】
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【００１３】
比較例も表１、２に併記する。比較例のうちＡＩＰ法による被覆方法を述べる。上記ボールエンドミル、ドリルは脱脂洗浄を十分に実施し、ＡＩＰ装置の容器内の冶具に配置した。冶具は３回転／分で自公転する。基体の温度は５５０℃となるよう加熱、排気を行った。Ａｒガスを容器内に導入し、容器内に設けられたカソード電極とアノード電極の間で放電によってＡｒのイオン化を行った。同時に基体に２００Ｖの負バイアス電圧を印加した。イオン化されたＡｒは基体に衝突し、基体のクリーニング、活性化処理を行う。窒素ガスを容器内に導入し、全体の圧力を３Ｐａ、バイアス電圧を−７０Ｖに設定した。容器内に複数配置したＡＩＰ蒸発源に設置された皮膜の金属成分となるターゲット１つあたり１５０Ａの電流を供給し、ターゲット上でアーク放電を行い、バイアス電圧が印加された基体上に総厚で約３μｍの皮膜の形成を行った。ターゲット材１、ターゲット材２には、原子％比でＴｉ／Ｓｉ＝７５／２５のターゲットを設置し、ターゲット材３、ターゲット材４には、原子％比でＡｌ／Ｔｉ＝５５／４５のターゲットを設置した。ターゲット３、ターゲット４により（ＡｌＴｉ）Ｎを２μｍ、続いてターゲット材１、ターゲット材２により（ＴｉＳｉ）Ｎを１μｍ積層し、これを比較例３１とした。更に、表１、２に示す様に、種々組成、膜厚等に変更を施した比較例３２から３５を作成した。これらは特に断りがない限り、本発明例１、比較例３１に準ずる方法により作成した。
【００１４】
Ｓｉ含有粒子状付着物の面積率を規定する手法は、図１に比較例３４のＴｉＳｉ系皮膜の任意に選択した１２１６μｍ２の走査型電子顕微鏡写真を示す。図１には複数の粒子状付着物が存在することが認められる。図１の視野において、粒子状付着物のうちＳｉ含有粒子状付着物を特定するには、粒子状付着物を電子線プローブ微小部分析法、Ｘ線光電子分光分析法、エネルギー分散型Ｘ線分析法等により定性、定量分析することにより判定できる。本願発明では、Ｓｉ含有粒子状付着物の面積率を測定するために、Ｍｅｄｉａ  Ｃｙｂｅｒｎｅｔｉｃｓ，Ｌ．Ｐ．社製のＩｍａｇｅ−Ｐｒｏ  Ｐｌｕｓ  Ｔｈｅ  Ｐｒｏｖｅｎ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ  Ｖｅｒｓｉｏｎ  ３．０．０１．００  Ｆｏｒ  Ｗｉｎｄｏｗｓ  ９５／ＮＴ（登録商標）を用いた。
粒子状付着物の直径の算出方法は、以下の様にして求めた。第１に、走査型電子顕微鏡写真に写された略円形状をした粒子状付着物について、その中心付近を通る直線を引いた。第２に、この直線が略円形状の輪郭線と交わる２点を求め、この２点間の距離を測定した。第３に、上記第１、第２の方法を同一の粒子状付着物について３回行い、その測定値の平均値から粒子状付着物の直径を算出した。このようにして求めた粒子状付着物の直径の値が０．１μｍ以上のものについて、その面積を測定した。図２に図１の走査型電子顕微鏡写真におけるＳｉ含有粒子状付着物を白抜きで示した。
図３は潤滑特性を評価するため鋼に対する摩擦係数を測定した結果を示す。各プロット点は、本発明例１から本発明例５、比較例３１から比較例３４を示し、各種Ｓｉ含有粒子状付着物の面積率が異なる試料である。評価条件は、ボールオンディスク型摩耗試験機を用い、ボール材を直径６ｍｍのＳ４５Ｃ、ディスク材を予め鏡面加工した超硬基材に各種Ｓｉ含有粒子状付着物の面積率の異なる（ＴｉＳｉ）Ｎを被覆したものを用い、荷重を２Ｎ、回転速度を３０ｍｍ／ｍｉｎ、回転半径を１．５ｍｍ、摺動距離を２５ｍとし、摺動距離５ｍ以降の摩擦係数の平均値を鋼に対する摩擦係数として採用した。
図３より、摩擦環境下において皮膜表面のＳｉ含有粒子状付着物の面積率が鋼に対する摩擦係数に及ぼす影響が大きく、特にＳｉ含有粒子状付着物の面積率が５％未満において顕著である。摩耗試験後の皮膜表面の観察結果から、Ｓｉ含有粒子状付着物の面積率が５％以上においてはボール材成分である鉄の凝着が著しく、摩擦係数が増加した結果である。一方、Ｓｉ含有粒子状付着物の面積率が５％未満の皮膜表面には鉄の凝着、溶着が減少し、安定して低い摩擦係数を示した。
【００１５】
本発明例１から３０、比較例３１から３５の皮膜について、切削評価を実施した。切削評価条件を以下に示す。切削評価結果は、逃げ面摩耗幅が０．１ｍｍに達した時、もしくは不安定な加工状態に達した時の切削長、開口穴数を切削寿命として示した。ここで、不安定な加工状態とは、例えば火花発生、異音、加工面のむしれ、焼け、折損等などの状態になったことを言う。表２では、１０ｍ又は１０穴以下を切り捨てて表示した。
（切削試験１）
工具：Ｒ０．１ｍｍ、２枚刃ボールエンドミル
切削方法：底面超高速仕上げ加工
被削材：冷間ダイス鋼、ＨＲＣ６１
切り込み：軸方向、０．０１ｍｍ、径方向、０．０１ｍｍ
主軸回転数：５０ｋｍｉｎ−１
テーブル送り：１ｍ／ｍｉｎ
切削油：無し、ドライ切削
（切削試験２）
工具：Ｒ５ｍｍ、２枚刃ボールエンドミル
切削方法：底面超高速仕上げ加工
被削材：冷間ダイス鋼、ＨＲＣ６１
切り込み：軸方向、０．０１ｍｍ、径方向、０．０１ｍｍ
主軸回転数：３０ｋｍｉｎ−１
テーブル送り：５ｍ／ｍｉｎ
切削油：無し、ドライ切削
（切削試験３）
工具：φ６ｍｍ、２枚刃ソリッドドリル
切削方法：止まり穴加工
被削材：ＳＣＭ４４０、ＨＲＣ３１
切削速度：１５０ｍ／ｍｉｎ
送り速度：０．１ｍｍ／ｒｅｖ
切削油：水溶性切削液の外部給油
【００１６】
本発明例１と比較例３１、本発明例１２と比較例３２、本発明例１９と本発明例３３は、ＡＩＰ法で被覆した比較例３１から３３はＳｉ含有粒子状付着物の面積率が５％以上であり、数も多く、面粗さの数値も高かった。その結果、摩擦抵抗が増大し、被加工物が皮膜表面に多数付着し、潤滑特性、耐摩耗性に大きな差が生じる結果となった。これらは特に切削試験１、切削試験３において顕著に工具寿命が優れる結果となった。
本発明例１から本発明例５、比較例３４は、皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲に存在する０．１μｍ以上の直径を有したＳｉ含有粒子状付着物の面積率が変化した場合の工具性能を比較することができる。特に切削試験１においてはＳｉ含有粒子状付着物の面積率が増加するに従い、皮膜表面に凝着や溶着が発生する傾向にあった。加工面品位の低下と伴に、切削寿命に関しても急激に低下する傾向を示した。
切削試験２、３においても同様な傾向が確認できた。Ｓｉ含有粒子状付着物の面積率が５％を超えると、比較例３４の５．８％であっても、比較例３１の１９％であっても同様な傾向を示した。従って、Ｓｉ含有粒子状付着物の面積率を５％以下の範囲に設定することが極めて重要であることが明らかとなった。同様に皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲に存在する０．１μｍ以上の直径を有したＳｉ含有粒子状付着物の数についても比較することができる。これら本発明例１から５、比較例から、皮膜の表面に存在するＳｉ含有粒子状付着物の数が、皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲に１００個未満であることが、工具の長寿命化にとって好ましい。
本発明例１、本発明例６の比較によって、皮膜の酸素含有の有無について考察することができる。酸素含有の効果は、切削寿命に優れ好ましい。本発明例１、本発明例７、本発明例８の比較によって、Ｓｉ含有皮膜の皮膜硬度について考察することができる。皮膜のＳｉ含有量によって押し込み硬さ測定における皮膜硬度を３０ＧＰａ以上、７５ＧＰａの範囲に制御することができる。本発明例１、本発明例９、本発明例１０の比較によって、Ｓｉ含有皮膜の面粗さについて考察することができる。Ｓｉ含有の皮膜の面粗さとしては、Ｒｙ値で０．５μｍ未満、Ｒａ値で０．０５μｍの範囲に制御することができる。本発明例１と本発明例１１、本発明例１２と本発明例１３を比較すると、最下層の有無が及ぼす耐摩耗性について考察することができる。最下層を用いた方がより切削寿命が長く、耐摩耗性に優れる結果となった。本発明例１４は、最下層を約２００ｎｍ被覆した後、膜厚が約２０００ｎｍに達するまでの層厚部分は、ナノ厚さの積層膜構造となっている。即ち、最下層皮膜用の蒸発源と皮膜用用の蒸発源の両蒸発源を同時に稼動させた。基体冶具は回転機構を有していることから、両蒸発源の前面を交互に通過することによって、ナノメートルオーダーの厚さの積層膜となっている。その後１０００ｎｍの皮膜を被覆した。総膜厚は、本発明例１に等しい場合である。本発明例１４から、ナノメートルオーダーの厚さの積層膜を用いることにより、潤滑特性、耐摩耗性を更に改善することが可能であり、好ましい形態である。本発明例２１も、本発明例１４と同様な成膜方法により作成した。本発明例２０よりも潤滑特性、耐摩耗性に優れていた。この場合のナノメートルオーダーの厚さは２ｎｍ以上、１００ｎｍ未満の範囲が最適であった。本発明例１５の皮膜組成は（ＳｉＷ）Ｎの場合、本発明例１６は（ＳｉＣｒ）Ｎの場合、本発明例１７は（ＳｉＴｉ）Ｎの場合、本発明例１８は（ＳｉＡｌＣｒ）（ＮＯ）の場合、本発明例２２は（ＳｉＮｂ）Ｎの場合、本発明例２３、本発明例２４は、（ＳｉＣｒＢ）Ｎの場合、本発明例２５は（ＳｉＢ）（ＮＯＣ）の場合、本発明例２６は（ＳｉＡｌ）（ＮＯ）の場合、本発明例２７は（ＳｉＴｉＭｏ）（ＮＯＳ）の場合を示す。これらは何れも潤滑特性、耐摩耗性に優れ、本願発明の効果が十分に確認できた。本発明例２７の（ＳｉＴｉＭｏ）（ＮＯＳ）の被覆方法は、被覆装置内に複数配置したターゲットのうちＳｉＴｉターゲットとＭｏＳ２ターゲットを設置し、両蒸発源を同時に稼動させて成膜を行った。この場合、実際にはＳｉＴｉを高濃度で含有する層とＭｏＳを高濃度で含有する層との積層構造になっていると考えられる。本発明例２８は、基体にＶを含有しない場合を示す。本発明例１と比較しても明らかにＶを含有した方が耐摩耗性に優れる結果であった。本願発明の皮膜との密着性が向上することにより相乗効果が確認され、潤滑特性と耐摩耗性を改善した結果である。基体のＶ、／又はＣｒ含有量が２．６重量％以上含有する場合は、切削初期でチッピングが発生し、潤滑特性、耐摩耗性の評価ができなかった。
比較例３５は、Ｓｉを含有しない組成系の皮膜であり、皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ２の範囲に存在する０．１μｍ以上の直径を有したＳｉ含有粒子状付着物の面積率が５％以下の場合である。この結果から、Ｓｉを含有しない系においては、面積率を５％以下に制限しても何ら効果を示さないことが確認された。これはＳｉを含有した組成系で且つ、本願発明の構成を満足することが重要であることを示すものである。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、比較例３４の走査型電子顕微鏡写真を示す。
【図２】図２は、図１におけるＳｉ含有粒子状付着物を白抜きで示す。
【図３】図３は、各種Ｓｉ含有粒子状付着物の面積率に対する摩擦係数測定結果を示す。
【図３】
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【図１】
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【図２】
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