(57)【要約】【課題】表面性を確保でき、しかも高温環境下の保存においても媒体の不均一な伸びが抑制され、寸度安定性が向上し、信頼性高くデータを記録・再生し得る磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】非磁性支持体上に少なくとも一層の磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記非磁性支持体が厚み６．５μｍ以下のポリエチレンナフタレートであり、かつ、前記磁気記録媒体に対し、６０℃で１５．７ＭＰａの引張応力を前記磁気記録媒体長手方向に５０時間加えたとき、前記長手方向のクリープ変形量が、０．３０％以下であることを特徴とする磁気記録媒体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上に少なくとも一層の磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記非磁性
支持体が厚み６．５μｍ以下のポリエチレンナフタレートであり、かつ、前記磁気記録媒
体に対し、６０℃で１５．７ＭＰａの引張応力を前記磁気記録媒体長手方向に５０時間加
えたとき、前記長手方向のクリープ変形量が、０．３０％以下であることを特徴とする磁
気記録媒体。
【請求項２】
前記磁性層の中心線平均表面粗さＲａが１〜３ｎｍであることを特徴とする請求項１に
記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記非磁性支持体に対し、６０℃で１５．７ＭＰａの引張応力を前記非磁性支持体長手
方向に５０時間加えたとき、前記長手方向のクリープ変形量が、０．３０％以下であるこ
とを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性層を有することを特徴とする請求項１〜３
のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、テープ寸度安定性、特に高温環境での寸度安定性が向上した磁気記録媒体に
関し、詳細には、表面性を確保でき、しかも高温環境下の保存においても媒体の不均一な
伸びが抑制され、信頼性高くデータを記録・再生し得る磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
データバックアップ用テープの分野ではバックアップの対象となるハードディスクの大
容量化に伴い、１巻当たり１００ＧＢ以上の記憶容量のものが商品化されており、今後ハ
ードディスクのさらなる大容量化に対応するためバックアップ用テープの高容量化は不可
欠である。
上述の高容量化と共にデータの記録および再生の信頼性は極めて重要な要素である。過
酷な環境下、例えば高温環境下での保存後であっても、データを正確に記録し、また、記
録されているデータを正確に再生することが必要である。しかしながら、このような環境
下においては、一般に磁気記録媒体を構成する各部材等がクリープ等により変形し、これ
に起因して寸法変化等が発生することがあるため、データの正確な記録・再生が出来なく
なる場合がある。
また、バックアップテープ１巻当たりの高容量化のためには、テープ全厚を薄くして１
巻当たりのテープ長を長くすることも必要である。薄型の磁気記録媒体をドライブで記録
再生すると、駆動テンションによって媒体に不均一な伸びが発生し走行安定性が低下する
。
【０００３】
この問題を解決するために、例えば特許文献１では、厚み７μｍ以下のポリエチレンテ
レフタレート支持体上に一層以上の磁性層を設け、５０℃で１９．１ＭＰａの引張応力を
媒体長手方向に２５分間加えたときの媒体長手方向のクリープ変形量が０．０４％未満で
ある磁気記録媒体を提案している。この磁気記録媒体は、過酷な環境下に保存または使用
しても不均一な伸びが発生せず、媒体の耐久性、特にサイクル耐久性が向上するとしてい
る。しかし本発明者の検討によれば、特許文献１の実施例にある熱処理条件で媒体を処理
したところ、表面粗さＲａが高くなり劣化し、近年のデータバックアップ用テープで使用
される高記録密度媒体に必要とされる表面性を満足させることができず、充分な磁気テー
プの再生出力を得ることができなかった。
【特許文献１】特開２０００−２５１２３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、表面性を確保でき、しかも高温環境下の保存においても媒体の不均一
な伸びが抑制され、寸度安定性が向上し、信頼性高くデータを記録・再生し得る磁気記録
媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、磁気記録媒体を構成する各材料のうち、非磁性支持体に着目し、その形状
安定性について検討を推し進めたところ、支持体としてポリエチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）を使用して、特定の熱処理を施すことにより、上記目的を達成し得る磁気記録媒体が
得られることを見出した。
本発明は、以下のとおりである。
１）非磁性支持体上に少なくとも一層の磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記非
磁性支持体が厚み６．５μｍ以下のポリエチレンナフタレートであり、かつ、前記磁気記
録媒体に対し、６０℃で１５．７ＭＰａの引張応力を前記磁気記録媒体長手方向に５０時
間加えたとき、前記長手方向のクリープ変形量が、０．３０％以下であることを特徴とす
る磁気記録媒体。
２）前記磁性層の中心線平均表面粗さＲａが１〜３ｎｍであることを特徴とする上記１
）に記載の磁気記録媒体。
３）前記非磁性支持体に対し、６０℃で１５．７ＭＰａの引張応力を前記非磁性支持体
長手方向に５０時間加えたとき、前記長手方向のクリープ変形量が、０．３０％以下であ
ることを特徴とする上記１）または２）に記載の磁気記録媒体。
４）前記非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性層を有することを特徴とする上記１）
〜３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、表面性を確保でき、しかも高温環境下の保存においても媒体の不均一
な伸びが抑制され、寸度安定性が向上し、信頼性高くデータを記録・再生し得る磁気記録
媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明をさらに詳しく説明する。
本発明の磁気記録媒体は、６０℃で１５．７ＭＰａの引張応力を長手方向に５０時間加
えたとき、この長手方向のクリープ変形量が、０．３０％以下であることを特徴としてい
る。
本発明のクリープ変形量を満足させるためには、塗膜前の非磁性支持体を、非磁性支持
体のガラス転移温度（Ｔｇ）より２５℃以上低い温度で予め熱処理する方法が好適である
。この熱処理は、非磁性支持体のＴｇより３０℃以上低い温度で実施するのが好ましく、
非磁性支持体のＴｇより３５℃以上低い温度で実施するのがさらに好ましい。熱処理の温
度の下限は、例えば５０〜７０℃である。熱処理時間は、例えば１〜２４０時間であり、
好ましくは５〜１６８時間であり、さらに好ましくは１０〜１２０時間である。５０℃よ
り低い熱処理の温度でもよいが、熱処理時間が長くなり過ぎる。熱処理後、室温まで徐冷
し、その後、各塗布層を形成するための塗布液を塗布し、乾燥する。なお、該塗布液を塗
布した後の乾燥温度は、ウエブ温度が非磁性支持体のＴｇを超えないように当該温度を設
定することが望ましい。このウエブ温度が非磁性支持体のＴｇを超えてしまうと、本発明
のクリープ変形量を満たさなくなる恐れがある。
なお、本発明でいうＴｇは、１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大値
の温度によって測定された値である。公知の動的粘弾性測定装置、例えば、セイコーイン
スツルメンツ社製、EXSTAR６０００ステーションに接続されたＤＭＳ６１００を用いて温
度１５℃〜２００℃の間で１０Ｈｚにて測定し、損失弾性率の極大値の温度を求める。
【０００８】
本発明のクリープ変形量は、磁気記録媒体に対し、６０℃で１５．７ＭＰａの引張応力
を長手方向に５０時間加えた時点で測定される。クリープ変形量の測定方法は次のように
して行う。公知のクリープ変形量測定装置、例えばアルバック理工社製、ＴＭ-９３００
を用い、長手方向から長さ１５ｍｍ、幅５ｍｍのサンプルを切り出す。このサンプルを前
記クリープ変形量測定装置にセットし、まず、測定温度６０℃で０．６ＭＰａの引張応力
を長手方向に３０分間加えた後、測定温度６０℃で、１５．７ＭＰａの引張応力を長手方
向に５０時間加え、得られたサンプルの伸長率を、引張応力を施す前のサンプル初期長（
測定温度６０℃で０．６ＭＰａの引張応力を長手方向に３０分間加えた後のサンプル長さ
）に対する百分率として、下記式により算出する。
クリープ変形量＝｛（引張応力を施した後のサンプル長手方向の長さ−サンプル初期長
）／サンプル初期長｝  ×  １００  （％）
本発明におけるクリープ変形量は、０．３０％以下であり、このクリープ変形量を満た
すことにより、表面性の確保および寸度安定性の向上を達成することができる。好ましい
クリープ変形量は、０．２０％以下、さらに好ましいクリープ変形量は、０．１５％以下
である。
【０００９】
１．非磁性支持体
本発明に用いることのできる非磁性支持体は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）で
ある。
一般的に、磁気記録媒体の非磁性支持体としては、ＰＥＮ以外にも、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等が知られているが、前
記熱処理によって本発明におけるクリープ変形量を達成し、所望の効果を奏するものは、
理由は明らかではないが、ＰＥＮのみである。
ＰＥＮはあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよ
い。また、ＰＥＮは二軸延伸を行ったものでもよい。
本発明においては、ＰＥＮの長手方向のクリープ変形量が、０．３０％以下であること
が好ましい。ＰＥＮのクリープ変形量は、前述の方法によって測定できる。ＰＥＮの好ま
しいクリープ変形量は、０．２０％以下、さらに好ましいクリープ変形量は、０．１５％
以下である。なお、このクリープ変形量は、ＰＥＮの表裏面に各塗布層を設け、乾燥し、
磁気記録媒体とされた後も、前記範囲を維持しているのが好ましい。磁気記録媒体作成後
のＰＥＮのクリープ変形量を確認する場合は、塗布層（バック層を含む）をメチルエチル
ケトンにより溶解して除去した後に行う。
ＰＥＮには、前述の熱処理が行われるが、熱処理前のＰＥＮの中心線平均表面粗さＲａ
は、１．０〜４．０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは２．０ 〜３．５ｎｍである。
【００１０】
２．磁性層および非磁性層
結合剤
本発明の磁性層、非磁性層、バック層に用いられる結合剤（バインダー）は、従来公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物である。熱可塑性樹脂とし
ては、例えば、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクルリ酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸
エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビ
ニルエーテル等を構成単位として含む重合体又は共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム
系樹脂を挙げることができる。
【００１１】
また、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネ
ートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等を挙げることができる。熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及び反応型樹脂については、いずれも朝倉書店発行の「プラス
チックハンドブック」に詳細に記載されている。
【００１２】
また、電子線硬化型樹脂を磁性層に使用すると、塗膜強度が向上し耐久性が改善される
だけでなく、表面が平滑され電磁変換特性もさらに向上する。これらの例とその製造方法
については、特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載されている。
【００１３】
以上の樹脂は単独又はこれらを組み合わせた態様で使用することができる。中でもポリ
ウレタン樹脂を使用することが好ましく、さらには水素化ビスフェノールＡ、水素化ビス
フェノールＡのポリプロピレンオキサイド付加物などの環状構造体と、アルキレンオキサ
イド鎖を有する分子量５００〜５０００のポリオールと、鎖延長剤として環状構造を有す
る分子量２００〜５００のポリオールと、有機ジイソシアネートとを反応させ、かつ極性
基を導入したポリウレタン樹脂、又はコハク酸、アジピン酸、セバシン酸などの脂肪族二
塩基酸と、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−２−ブチル−１
，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール等のアルキル分
岐側鎖を有する環状構造を持たない脂肪族ジオールからなるポリエステルポリオールと、
鎖延長剤として２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル
−１，３−プロパンジオール等の炭素数が３以上の分岐アルキル側鎖をもつ脂肪族ジオー
ルと、有機ジイソシアネート化合物とを反応させ、かつ極性基を導入したポリウレタン樹
脂、又はダイマージオール等の環状構造体と、長鎖アルキル鎖を有するポリオール化合物
と、有機ジイソシアネートとを反応させ、かつ極性基を導入したポリウレタン樹脂を使用
することが好ましい。
【００１４】
本発明で使用される極性基含有ポリウレタン系樹脂の平均分子量は、５，０００〜１０
０，０００であることが好ましく、さらには１０，０００〜５０，０００であることが好
ましい。平均分子量が５，０００以上であれば、得られる磁性塗膜が脆い等といった物理
的強度の低下もなく、磁気記録媒体の耐久性に影響を与えることはないため好ましい。ま
た、分子量が１００，０００以下であれば、溶剤への溶解性が低下することもないため、
分散性も良好である。また、所定濃度における塗料粘度も高くなることはないので、作業
性が良好で取り扱いも容易となる。
【００１５】
上記ポリウレタン系樹脂に含まれる極性基としては、例えば、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ
、−ＯＳＯ３Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２（以上につき、Ｍは水素
原子又はアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ２、−Ｎ＋Ｒ３（Ｒは炭化水素基）、エポ
キシ基、−ＳＨ、−ＣＮなどが挙げられ、これらの極性基の少なくとも１つ以上を共重合
又は付加反応で導入したものを用いることができる。また、この極性基含有ポリウレタン
系樹脂がＯＨ基を有する場合、分岐ＯＨ基を有することが硬化性、耐久性の面から好まし
く、１分子当たり２〜４０個の分岐ＯＨ基を有することが好ましく、１分子当たり３〜２
０個有することがさらに好ましい。また、このような極性基の量は１０−１〜１０−８モ
ル／ｇであり、好ましくは１０−２〜１０−６モル／ｇである。
【００１６】
結合剤の具体例としては、例えば、ダウケミカル社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、
ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、
ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−Ｔ
Ａ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ
、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３
、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、
ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３
０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−
５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、
東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２
８０、大日精化社製ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０
、９０２２、７０２０、三菱化学社製ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５
０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などを挙げることができる。
【００１７】
本発明の磁性層に用いられる結合剤の添加量は、強磁性粉末の質量に対して５〜５０質
量％の範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲である。本発明の非磁性層に用いられる
結合剤の添加量は、非磁性粉末の質量に対して５〜５０質量％の範囲、好ましくは１０〜
３０質量％の範囲である。ポリウレタンを用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソシアネ
ートは２〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、
微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合には、ポリウレタンのみ又はポリウレタンと
イソシアネートのみを使用することも可能である。その他の樹脂として塩化ビニル系樹脂
を用いる場合には５〜３０質量％の範囲であることが好ましい。本発明において、ポリウ
レタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃、破
断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．４９〜９８ＭＰａ（０．０５〜１０ｋｇ／
ｍｍ２）、降伏点は０．４９〜９８ＭＰａ（０．０５〜１０ｋｇ／ｍｍ２）が好ましい。
【００１８】
強磁性粉末
本発明の磁気記録媒体には、強磁性粉末として、平均長軸長が２０〜５０ｎｍの針状強
磁性体、平均板径１０〜５０ｎｍの平板状磁性体、または平均直径１０〜５０ｎｍの球状
または楕円状磁性体を使用することが好ましい。以下、それぞれについて説明する。
（１）針状強磁性体
本発明の磁気記録媒体に使用される強磁性粉末として、平均長軸長が２０〜５０ｎｍで
ある針状強磁性体を使用することができる。針状強磁性体としては、針状であるコバルト
含有強磁性酸化鉄又は強磁性合金粉末等の強磁性金属粉末が例示でき、ＢＥＴ比表面積（
ＳBET）が好ましくは４０〜８０ｍ2／ｇ、より好ましくは５０〜７０ｍ2／ｇである。結
晶子サイズは好ましくは１２〜２５ｎｍ、より好ましくは１３〜２２ｎｍであり、特に好
ましくは１４〜２０ｎｍである。長軸長は２０〜５０ｎｍであるが、好ましくは２０〜４
０ｎｍである。
【００１９】
強磁性粉末としては、イットリウムを含むＦｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｆｅが挙げられ、強磁性粉末中のイットリウム含有量は、鉄原子に対してイットリウム
原子の比、Ｙ／Ｆｅが０．５原子％〜２０原子％が好ましく、更に好ましくは、５〜１０
原子％である。０．５原子％よりも少ないと強磁性粉末の高σｓ化できないために磁気特
性が低下し、電磁変換特性が低下する。２０原子％よりも大きいと鉄の含有量が少なくな
るので磁気特性が低下し、電磁変換特性が低下する。さらに、鉄１００原子％に対して２
０原子％以下の範囲内で、アルミニウム、ケイ素、硫黄、スカンジウム、チタン、バナジ
ウム、クロム、マンガン、銅、亜鉛、モリブデン、ロジウム、パラジウム、錫、アンチモ
ン、ホウ素、バリウム、タンタル、タングステン、レニウム、金、鉛、リン、ランタン、
セリウム、プラセオジム、ネオジム、テルル、ビスマス等を含むことができる。また、強
磁性金属粉末が少量の水、水酸化物または酸化物を含むものなどであってもよい。
【００２０】
本発明に使用する、コバルト、イットリウムを導入した強磁性粉末の製造方法の一例を
示す。
第一鉄塩とアルカリを混合した水性懸濁液に、酸化性気体を吹き込むことによって得ら
れるオキシ水酸化鉄を出発原料とする例を挙げることができる。
このオキシ水酸化鉄の種類としては、α−ＦｅＯＯＨが好ましい。その製法としては、
第一鉄塩を水酸化アルカリで中和してＦｅ（ＯＨ）2の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸
化性ガスを吹き込んで針状のα−ＦｅＯＯＨとする第一の製法がある。一方、第一鉄塩を
炭酸アルカリで中和してＦｅＣＯ3の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性気体を吹き込
んで紡錘状のα−ＦｅＯＯＨとする第二の製法がある。このようなオキシ水酸化鉄は第一
鉄塩水溶液とアルカリ水溶液とを反応させて水酸化第一鉄を含有する水溶液を得て、これ
を空気酸化等により酸化して得られたものであることが好ましい。この際、第一鉄塩水溶
液にＮｉ塩や、Ｃａ塩、Ｂａ塩、Ｓｒ塩等のアルカリ土類元素の塩、Ｃｒ塩、Ｚｎ塩など
を共存させても良く、このような塩を適宜選択して用いることによって粒子形状（軸比）
などを調製することができる。
【００２１】
第一鉄塩としては、塩化第一鉄、硫酸第一鉄等が好ましい。またアルカリとしては水酸
化ナトリウム、アンモニア水、炭酸アンモニウム、炭酸ナトリウム等が好ましい。また、
共存させることができる塩としては、塩化ニッケル、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩
化ストロンチウム、塩化クロム、塩化亜鉛等の塩化物が好ましい。
【００２２】
次いで、鉄にコバルトを導入する場合は、イットリウムを導入する前に、硫酸コバルト
、塩化コバルト等のコバルト化合物の水溶液を前記のオキシ水酸化鉄のスラリーに撹拌混
合する。コバルトを含有するオキシ水酸化鉄のスラリーを調製した後、このスラリーにイ
ットリウムの化合物を含有する水溶液を添加し、撹拌混合することによって導入すること
ができる。
【００２３】
本発明の強磁性粉末には、イットリウム以外にもネオジム、サマリウム、プラセオジウ
ム、ランタン等を導入することができる。これらは、塩化イットリウム、塩化ネオジム、
塩化サマリウム、塩化プラセオジウム、塩化ランタン等の塩化物、硝酸ネオジム、硝酸ガ
ドリニウム等の硝酸塩などを用いて導入することができ、これらは、二種以上を併用して
も良い。
【００２４】
強磁性金属粉末の抗磁力（Ｈｃ）は、好ましくは１５９．２〜２３８．８ｋＡ／ｍ（２
，０００〜３，０００Ｏｅ）であり、さらに好ましくは１６７．２〜２３０．８ｋＡ／ｍ
（２，１００〜２，９００Ｏｅ）である。
また、飽和磁束密度は、好ましくは１５０〜３００ｍＴ（１，５００〜３，０００Ｇ）
であり、さらに好ましくは１６０〜２９０ｍＴ（１，６００〜２，９００Ｇ）である。ま
た飽和磁化（σｓ）は、好ましくは１００〜１７０Ａ・ｍ2／ｋｇ（１００〜１７０ｅｍ
ｕ／ｇ）であり、さらに好ましくは１１０〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇ（１１０〜１６０ｅｍ
ｕ／ｇ）である。
【００２５】
磁性体自体のＳＦＤ（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ  ｆｉｅｌｄ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）
は小さい方が好ましく、０．８以下であることが好ましい。ＳＦＤが０．８以下であると
、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また磁化反転がシャープでピークシフトが小さく
なり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃ分布を小さくするためには、強磁性金
属粉末においてはゲータイトの粒度分布を良くする、単分散α−Ｆｅ2Ｏ3を使用する、粒
子間の焼結を防止するなどの方法がある。
【００２６】
（２）平板状磁性体
本発明で用いることのできる平均板径が１０〜５０ｎｍである平板状磁性体としては六
方晶フェライト粉末が好ましい。
六方晶フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライ
ト、カルシウムフェライト、並びにそれらのＣｏ置換体等の置換体がある。具体的にはマ
グネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで
粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有した
マグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げら
れ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、
Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ
、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｚｎ
などの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ
、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−
Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物
を含有するものもある。
【００２７】
粒子サイズは平均板径で１０〜５０ｎｍであることが好ましい。さらに好ましくは１０
〜４０ｎｍであり、とくに好ましくは１０〜２５ｎｍである。
磁気抵抗ヘッドで再生する場合は、低ノイズにする必要があり、平均板径は４０ｎｍ以
下が好ましい。板径が上記範囲であると、熱揺らぎがなく安定な磁化が望める。また、ノ
イズも低くなるため高密度磁気記録に適する。
平均板状比は１〜１５が好ましく、２〜７がより好ましい。上記範囲であると配向性が
十分であり、粒子間のスタッキングが起こりにくくノイズが小さくなる。この粒子サイズ
範囲のＢＥＴ法による比表面積は１０〜２００ｍ2／ｇを示す。比表面積は概ね粒子板径
と板厚からの算術計算値と符号する。結晶子サイズは５０〜４５０Å、好ましくは１００
〜３５０Åである。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。分布は正規分布では
ない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均粉体サイズ＝
０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだ
け均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば
酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。
【００２８】
磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは３９．８〜３９８ｋＡ／ｍ（５００〜５，０００Ｏｅ
）程度まで作製できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で
制限される。通常６３．７〜３１８．４ｋＡ／ｍ（８００〜４，０００Ｏｅ）程度である
が、好ましくは１１９．４ｋＡ／ｍ（１，５００Ｏｅ）以上、２７８．６ｋＡ／ｍ（３，
５００Ｏｅ）以下である。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越える場合は、１５９．２
ｋＡ／ｍ（２，０００Ｏｅ）以上にすることが好ましい。
Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成
反応条件等により制御できる。飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ2／ｋｇ（４０〜８０ｅ
ｍｕ／ｇ）である。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。
σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、
含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方晶フェライトを用い
ることも可能である。
【００２９】
磁性体（磁性粉末）を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で
処理することも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な
化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤
、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して０．１〜１０％である
。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値
があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１０程度が選択される。磁性体に含まれ
る水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０
％が選ばれる。
【００３０】
六方晶フェライトの製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸
化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した
後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフ
ェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法。（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をア
ルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕
してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法。（３）バリウムフェライト組成金属
塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１，１００℃以下で処理し、粉
砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。
【００３１】
（３）球状または楕円状磁性体
球状または楕円状磁性体としては、Ｆｅ16Ｎ2を主相とする窒化鉄系の強磁性粉末が好
ましい。Ｆｅ、Ｎ原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、
Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ
、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの
原子を含んでもかまわない。Ｆｅに対するＮの含有量は１．０〜２０．０原子％が好まし
い。
窒化鉄は球状または楕円状が好ましく、平均針状比は１〜２が好ましい。ＢＥＴ比表面
積（ＳBET）が３０〜１００ｍ2／ｇであることが好ましく、より好ましくは５０〜７０ｍ
2／ｇである。結晶子サイズは１２〜２５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１
３〜２２ｎｍである。
飽和磁化σｓは５０〜２００Ａ・ｍ2／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）が好ましい。更に好ましく
は７０〜１５０Ａ・ｍ2／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）である。
球状または楕円状磁性体の平均粉体サイズ（平均直径または平均長軸長）は、好ましく
は１０〜５０ｎｍであり、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍであり、とくに好ましくは１
０〜２５ｎｍである。
【００３２】
なお、本明細書において、磁性体のサイズ（以下、「粉体サイズ」と言う）は、高分解
能透過型電子顕微鏡写真より求められる。即ち、粉体サイズは、（１）粉体の形状が針状
、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粉体を構成す
る長軸の長さ、即ち長軸長で表され、（２）粉体の形状が板状乃至柱状（ただし、厚さ乃
至高さが板面乃至底面の最大長径より小さい）場合は、その板面乃至底面の最大長径で表
され、（３）粉体の形状が球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粉体を構
成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求め
られるものを言う。
また、該粉体の平均粉体サイズは、上記粉体サイズの算術平均であり、約３５０個の一
次粒子について上記の如く測定を実施して求めたものである。一次粒子とは、凝集のない
独立した粉体をいう。
また、該粉体の平均針状比は、上記測定において粉体の短軸の長さ、即ち短軸長を測定
し、各粉体の（長軸長／短軸長）の値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粉体
サイズの定義で（１）の場合は、粉体を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、
厚さ乃至高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短
軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、粉体の形状が特定の場合、例えば、上記粉体サイズの定義（１）の場合は、平
均粉体サイズを平均長軸長と言い、同定義（２）の場合は平均粉体サイズを平均板径と言
い、（最大長径／厚さ乃至高さ）の算術平均を平均板状比という。同定義（３）の場合は
平均粉体サイズを平均直径という。粉体サイズ測定において、標準偏差／平均値をパーセ
ント表示したものを変動係数と定義する。
【００３３】
また、上記のように磁性体の平均粉体サイズを好ましい範囲（針状強磁性体は２０〜５
０ｎｍ；平板状磁性体は１０〜５０ｎｍ；球状または楕円状磁性体は１０〜５０ｎｍ）に
設定することにより、媒体の表面性が改善され、信号再生時の出力が大きく、かつ信号再
生時の粒子性ノイズが小さいため、優れた電磁変換特性が得られる。
さらに、磁性体の平均粉体サイズを上記の好ましい範囲にすることにより、磁性体の分
散性が向上し、熱ゆらぎによる減磁が抑制され、電磁変換特性が優れたものとなる。なお
、平均粉体サイズが好ましい範囲の上限を超えると、表面性が粗くなり出力が小さくなっ
たり、粒子性ノイズが大きくなる傾向にあり、電磁変換特性が劣化する恐れがある。
【００３４】
本発明における磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤として
は、研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤、カー
ボンブラックなどを挙げることができる。
これら添加剤としては、例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイ
ト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基を持つシリコーン、脂肪酸変性
シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリ
オレフィン、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、ベンジルホ
スホン酸基、フェネチルホスホン酸、α−メチルベンジルホスホン酸、１−メチル−１−
フェネチルホスホン酸、ジフェニルメチルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、ベンジル
フェニルホスホン酸、α−クミルホスホン酸、トルイルホスホン酸、キシリルホスホン酸
、エチルフェニルホスホン酸、クメニルホスホン酸、プロピルフェニルホスホン酸、ブチ
ルフェニルホスホン酸、ヘプチルフェニルホスホン酸、オクチルフェニルホスホン酸、ノ
ニルフェニルホスホン酸等の芳香族環含有有機ホスホン酸およびそのアルカリ金属塩、オ
クチルホスホン酸、２−エチルヘキシルホスホン酸、イソオクチルホスホン酸、イソノニ
ルホスホン酸、イソデシルホスホン酸、イソウンデシルホスホン酸、イソドデシルホスホ
ン酸、イソヘキサデシルホスホン酸、イソオクタデシルホスホン酸、イソエイコシルホス
ホン酸等のアルキルホスホン酸およびそのアルカリ金属塩、リン酸フェニル、リン酸ベン
ジル、リン酸フェネチル、リン酸α−メチルベンジル、リン酸１−メチル−１−フェネチ
ル、リン酸ジフェニルメチル、リン酸ビフェニル、リン酸ベンジルフェニル、リン酸α−
クミル、リン酸トルイル、リン酸キシリル、リン酸エチルフェニル、リン酸クメニル、リ
ン酸プロピルフェニル、リン酸ブチルフェニル、リン酸ヘプチルフェニル、リン酸オクチ
ルフェニル、リン酸ノニルフェニル等の芳香族リン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩
、リン酸オクチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸イソオクチル、リン酸イソノニル
、リン酸イソデシル、リン酸イソウンデシル、リン酸イソドデシル、リン酸イソヘキサデ
シル、リン酸イソオクタデシル、リン酸イソエイコシル等のリン酸アルキルエステルおよ
びそのアルカリ金属塩、アルキルスルホン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、フッ素
含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リ
ノレン酸、エライジン酸、エルカ酸等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐し
ていてもよい一塩基性脂肪酸およびこれらの金属塩、またはステアリン酸ブチル、ステア
リン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ラウリル酸ブチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステア
レート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート
等の炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸と炭素
数２〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい１〜６価アルコール、炭素数１２
〜２２の不飽和結合を含んでも分岐していてもよいアルコキシアルコールまたはアルキレ
ンオキサイド重合物のモノアルキルエーテルのいずれか一つとからなるモノ脂肪酸エステ
ル、ジ脂肪酸エステルまたは多価脂肪酸エステル、炭素数２〜２２の脂肪酸アミド、炭素
数８〜２２の脂肪族アミンなどが使用できる。また、上記炭化水素基以外にもニトロ基お
よびＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＦ3、ＣＣｌ3、ＣＢｒ3等の含ハロゲン炭化水素等炭化水素基以
外の基が置換したアルキル基、アリール基、アラルキル基を持つものでもよい。
【００３５】
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフエノール
エチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四
級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム
類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル基等の酸性基を含
むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸また
はリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの
界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載され
ている。
【００３６】
上記分散剤、潤滑剤等は必ずしも純粋ではなく主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれても構わない。これらの不純分は３０質量％以下
が好ましく、さらに好ましくは１０質量％以下である。
これらの添加物の具体例としては、例えば、日本油脂社製：ＮＡＡ−１０２、ヒマシ油
硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、カチオンＳＡ、ナイミーンＬ−２０１、ノニオンＥ−２０８
、アノンＢＦ、アノンＬＧ、竹本油脂社製：ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理
化社製：エヌジェルブＯＬ、信越化学社製：ＴＡ−３、ライオン社製：アーマイドＰ、デ
ュオミンＴＤＯ、日清オイリオ社製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製：プロファン２０１２
Ｅ、ニューポールＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００等が挙げられる。
【００３７】
本発明の磁性層で用いられる有機溶剤は、公知のものが使用できる。有機溶剤は、任意
の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン
、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール
、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブ
チル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメ
チルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系
、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類
、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロ
ルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
ヘキサン等を使用することができる。
【００３８】
これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３
０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁
性層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわな
い。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の
安定性を上げる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が非磁性層溶剤組成の算術平均値
を上回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好
ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。
また、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。
【００３９】
本発明の磁性層で用いられるこれらの分散剤、潤滑剤、界面活性剤は磁性層および後述
する非磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、無論ここに
示した例のみに限られるものではないが、分散剤は極性基で吸着もしくは結合する性質を
有しており、磁性層においては主に強磁性粉末の表面に、また後述する非磁性層において
は主に非磁性粉末の表面に前記の極性基で吸着もしくは結合し、一度吸着した有機リン化
合物は金属あるいは金属化合物等の表面から脱着しがたいと推察される。したがって、本
発明の強磁性粉末表面あるいは後述する非磁性粉末表面は、アルキル基、芳香族基等で被
覆されたような状態になるので、強磁性粉末あるいは非磁性粉末の結合剤樹脂成分に対す
る親和性が向上し、さらに強磁性粉末あるいは非磁性粉末の分散安定性も改善される。ま
た、潤滑剤としては遊離の状態で存在するため非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を
用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじ
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の
添加量を非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなどが考えられる。また本発明で用い
られる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性層あるいは非磁性層用塗布液の製造時のい
ずれの工程で添加してもよい。例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性
粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に
添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
【００４０】
また、本発明における磁性層には、必要に応じてカーボンブラックを添加することがで
きる。
カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、ア
セチレンブラック等を用いることができる。放射線硬化層のカーボンブラックは所望する
効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。
【００４１】
カーボンブラックの比表面積は１００〜５００ｍ2／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ2
／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ｍｌ／１０
０ｇである。カーボンブラックの粒子径は５〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さら
に好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．
１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。
【００４２】
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製  ＢＬＡＣ
ＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、Ｖ
ＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、三菱化学社製  ＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，
＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−
６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コロンビアンカーボン社製  ＣＯＮＤ
ＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，
３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、ケッチェン
・ブラック・インターナショナル社製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。
【００４３】
カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラック
を塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。本発明で使用できるカ
ーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考に
することができる。
【００４４】
これらのカーボンブラックは単独または組み合せで使用することができる。カーボンブ
ラックを使用する場合、磁性体の質量に対して０．１〜３０質量％で用いることが好まし
い。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上など
の働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。したがって本発明で使用
されるこれらのカーボンブラックは、磁性層でその種類、量、組み合せを変え、粒子サイ
ズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を基に目的に応じて使い分けることは
もちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。
【００４５】
また磁性層には、α−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウ
ム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト
、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の無機粉
末が単独又は組合せで使用される。これらは研磨剤として使用できる。また、これらの研
磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。
【００４６】
タップ密度は０．３〜２ｇ／ｍｌ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積
は１〜３０ｍ2 ／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイ
コロ状、のいずれでもよいが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。
【００４７】
具体的には、住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０
、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ６０、ＨＩＴ７０、
ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００、レイノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−
ＤＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１００００、上村工業社製、ＵＢ２０、日本化学工業社
製、Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製、ＴＦ１００、ＴＦ１
４０、イビデン社製、ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３などが挙
げられる。
【００４８】
本発明における磁性層の表面粗さは中心線平均表面粗さＲａとして、１〜３ｎｍ、好ま
しくは１．２〜２．８ｎｍ、さらに好ましくは１．５〜２．８ｎｍである。本発明でいう
磁性層の中心線平均表面粗さＲａは、ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶ
ｉｅｗ５０２２による走査型白色光干渉法にてＳｃａｎ Ｌｅｎｇｔｈを５μｍとし、対
物レンズ：２０倍、中間レンズ：１．０倍、測定視野：２６０μｍ×３５０μｍとし、測
定した表面をＨＰＦ：１．６５μｍ、ＬＰＦ：５０μｍのフィルター処理して求めること
ができる。
【００４９】
非磁性層
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末と結合剤を分散
させた少なくとも一層の非磁性層を有する。磁性層に使用する結合剤と同じ結合剤を非磁
性層にも使用することができる。
非磁性層に使用できる非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、非磁性層
には非磁性粉末と共に、必要に応じてカーボンブラックを混合してもよい。
【００５０】
（非磁性粉末）
非磁性層には、非磁性層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末を使用してもよいが、
非磁性粉末を用いることが好ましい。
非磁性層に使用できる非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カーボン
ブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金
属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物などが挙げられる。
【００５１】
具体的には二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステ
ン、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＳｉＯ2、Ｃｒ2Ｏ3、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−
アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカー
バイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、２硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ3、Ｃａ
ＣＯ3、ＢａＣＯ3、ＳｒＣＯ3、ＢａＳＯ4、炭化珪素、炭化チタンなどが単独又は２種類
以上を組み合わせて使用される。好ましいのは、α−酸化鉄、酸化チタンである。
【００５２】
非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれでもあってもよい。
非磁性粉末の結晶子サイズは、４ｎｍ〜１μｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに
好ましい。結晶子サイズが４ｎｍ〜１μｍの範囲であれば、分散が困難になることもなく
、また好適な表面粗さを有するため好ましい。
これら非磁性粉末の平均粒径は、５ｎｍ〜２μｍが好ましいが、必要に応じて平均粒径
の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くしたりして
同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒径は、１０〜
２００ｎｍである。５ｎｍ〜２μｍの範囲であれば、分散も良好で、かつ好適な表面粗さ
を有するため好ましい。
【００５３】
非磁性粉末の比表面積は、好ましくは１〜１００ｍ2／ｇであり、より好ましくは５〜
７０ｍ2／ｇであり、さらに好ましくは１０〜６５ｍ2／ｇである。比表面積が１〜１００
ｍ2／ｇの範囲内にあれば、好適な表面粗さを有し、かつ、所望の結合剤量で分散できる
ため好ましい。
ジブチルフタレート（ＤＢＰ）を用いた吸油量は、好ましくは５〜１００ｍｌ／１００
ｇ、より好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、さらに好ましくは２０〜６０ｍｌ／１０
０ｇである。
比重は好ましくは１〜１２、より好ましくは３〜６である。タップ密度は好ましくは０
．０５〜２ｇ／ｍｌ、より好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。タップ密度が０．
０５〜２ｇ／ｍｌの範囲であれば、飛散する粒子が少なく操作が容易であり、また装置に
も固着しにくくなる傾向がある。
【００５４】
非磁性粉末のｐＨは２〜１１であることが好ましいが、ｐＨは６〜９の間が特に好まし
い。ｐＨが２〜１１の範囲にあれば、高温、高湿下又は脂肪酸の遊離により摩擦係数が大
きくなることはない。
非磁性粉末の含水率は、好ましくは０．１〜５質量％、より好ましくは０．２〜３質量
％、さらに好ましくは０．３〜１．５質量％である。含水量が０．１〜５質量％の範囲で
あれば、分散も良好で、分散後の塗料粘度も安定するため好ましい。
強熱減量は、２０質量％以下であることが好ましく、強熱減量が小さいものが好ましい
。
【００５５】
また、非磁性粉末が無機粉末である場合には、モース硬度は４〜１０のものが好ましい
。モース硬度が４〜１０の範囲であれば耐久性を確保することができる。非磁性粉末のス
テアリン酸吸着量は、１〜２０μｍｏｌ／ｍ2であり、さらに好ましくは２〜１５μｍｏ
ｌ／ｍ2である。
非磁性粉末の２５℃での水への湿潤熱は、２０〜６０μＪ／ｃｍ2（２００〜６００ｅ
ｒｇ／ｃｍ2）の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用
することができる。
１００〜４００℃での表面の水分子の量は１〜１０個／１００Åが適当である。水中で
の等電点のｐＨは、３〜９の間にあることが好ましい。
【００５６】
これらの非磁性粉末の表面には表面処理することによりＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、
ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯが存在することが好ましい。特に分散性に好ましい
のはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2であるが、さらに好ましいのはＡｌ2Ｏ3、Ｓ
ｉＯ2、ＺｒＯ2である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもで
きる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナで処理
した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。ま
た、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般に
は好ましい。
【００５７】
本発明の非磁性層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、例えば、昭和電工製
ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製ＤＰＮ−２５０、Ｄ
ＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＢ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ
−５５０ＲＸ  石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ
、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、ＭＪ−７、α−酸
化鉄Ｅ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、チタン工業製ＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴ
Ｔ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ
、ＭＴ−５００Ｂ、Ｔ−６００Ｂ、Ｔ−１００Ｆ、Ｔ−５００ＨＤなどが挙げられる。堺
化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製Ｄ
ＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興
産製１００Ａ、５００Ａ、チタン工業製Ｙ−ＬＯＰ及びそれを焼成したものが挙げられる
。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
【００５８】
非磁性層には非磁性粉末と共に、カーボンブラックを混合し表面電気抵抗を下げ、光透
過率を小さくすると共に、所望のμビッカース硬度を得ることができる。非磁性層のμビ
ッカース硬度は、通常２５〜６０ｋｇ／ｍｍ2（０．２４５〜０．５８８ＧＰａ）、好ま
しくはヘッド当りを調整するために、３０〜５０ｋｇ／ｍｍ2（０．２９４〜０．４９０
ＧＰａ）であり、薄膜硬度計（日本電気製  ＨＭＡ−４００）を用いて、稜角８０度、先
端半径０．１μｍのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて測定することができる。
光透過率は一般に波長９００ｎｍ程度の赤外線の吸収が３％以下、たとえばＶＨＳ用磁気
テープでは０．８％以下であることが規格化されている。このためにはゴム用ファーネス
、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。
【００５９】
本発明の非磁性層に用いられるカーボンブラックの比表面積は１００〜５００ｍ2／ｇ
、好ましくは１５０〜４００ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好
ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は５〜８０ｎｍ
、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラック
のｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好まし
い。
【００６０】
本発明の非磁性層に用いることができるカーボンブラックの具体的な例としては、キャ
ボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、８００、
８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、三菱化学社製＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ
、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃
８５０Ｂ、ＭＡ−６００、コロンビアンカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶ
ＥＮ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２００
０、１８００、１５００、１２５５、１２５０、ケッチェン・ブラック・インターナショ
ナル社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。
【００６１】
また、カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用し
ても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブ
ラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボ
ンブラックは上記無機質粉末に対して５０質量％を越えない範囲、非磁性層総質量の４０
％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組み合せで使
用することができる。本発明の非磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボ
ンブラック便覧」カーボンブラック協会編、を参考にすることができる。
【００６２】
また非磁性層には目的に応じて有機質粉末を添加することもできる。このような有機質
粉末としては、例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラ
ミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポ
リエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチ
レン樹脂も使用することができる。その製法は、特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭
６０−２５５８２７号公報に記されているようなものが使用できる。
【００６３】
非磁性層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、磁性層の
それが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関して
は磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００６４】
３．バック層
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープ
に比較して繰り返し走行性が強く要求される。このような高い保存安定性を維持させるた
めに、非磁性支持体の非磁性層および磁性層が設けられた面とは反対の面にバック層を設
けることもできる。バック層形成用塗布液は、研磨剤、帯電防止剤などの粒子成分と結合
剤とを有機溶媒に分散させる。粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用
することができる。また、結合剤としては、例えば、ニトロセルロース、フェノキシ樹脂
、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独またはこれらを混合して使用すること
ができる。
【００６５】
４．平滑層
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と非磁性層あるいは磁性層との間に平滑層を設
けてもよい。このような平滑層は、例えば非磁性支持体の表面に、分子中に放射線硬化官
能基を有する化合物（放射線硬化型化合物）を含有した塗布液を塗布し、その後、放射線
を照射し、塗布液を硬化させて形成することができる。
放射線硬化型化合物の分子量は、２００〜２０００の範囲であることが好ましい。分子
量がこの範囲であると、比較的低分子量であるので、カレンダー工程において塗膜が流動
し易く成形性が高く、平滑な塗膜を形成することができる。
放射線硬化型化合物として好ましいものは、分子量２００〜２０００の２官能のアクリ
レート化合物であり、更に好ましいものはビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、水素化
ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦやこれらのアルキレンオキサイド付加物にア
クリル酸、メタクリル酸を付加させたものである。
【００６６】
本発明に使用される放射線硬化型化合物は、ポリマー型の結合剤と併用されてもよい。
併用される結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれ
らの混合物が使用される。放射線として、紫外線を用いる場合は、重合開始剤を併用する
ことが好ましい。重合開始剤としては、公知の光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開
始剤及び光アミン発生剤等を用いることができる。
【００６７】
５．層構成
本発明で用いられる磁気記録媒体の構成において、非磁性支持体の厚みは、６．５μｍ
以下であり、好ましくは、３．０〜６．０μｍ、さらに好ましくは３．０〜５．５μｍで
ある。非磁性支持体の厚みが６．５μｍを超えると、薄型の磁気記録媒体として、高容量
化を達成することができない。また、非磁性支持体の非磁性層および磁性層が設けられた
面とは反対側の面に設けられたバック層の厚さは、０．１〜１．０μｍ、好ましくは０．
２〜０．８μｍである。
【００６８】
磁性層の厚さは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域
により最適化されるものであるが、０．１５μｍ以下、例えば０．０１〜０．１０μｍで
あり、好ましくは０．０２μｍ〜０．０８μｍであり、更に好ましくは０．０３〜０．０
８μｍである。また、磁性層の厚さ変動率は±５０％以内が好ましく、さらに好ましくは
±４０％以内である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有
する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
【００６９】
本発明の非磁性層の厚さは、０．２〜３．０μｍであり、０．３〜２．５μｍであるこ
とが好ましく、０．４〜２．０μｍであることがさらに好ましい。なお、本発明の磁気記
録媒体の非磁性層は、実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば不
純物として、あるいは意図的に少量の磁性体を含んでいても、本発明の効果を示すもので
あり、本発明の磁気記録媒体と実質的に同一の構成とみなすことができる。なお、実質的
に同一とは、非磁性層の残留磁束密度が１０ｍＴ（１００Ｇ）以下または抗磁力が７．９
６ｋＡ／ｍ（１００ Ｏｅ）以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力を
持たないことを意味する。
【００７０】
６．製造方法
本発明で用いられる磁気記録媒体の磁性層塗布液を製造する工程は、少なくとも混練工
程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々
の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる六方晶フ
ェライト強磁性粉末または強磁性金属粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研
磨材、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加し
てもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。
例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割
して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の
工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ
、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。これらの混練処
理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に記載
されている。また、磁性層用液および非磁性層用液を分散させるには、ガラスビーズを用
いることができる。このようなガラスビーズは、高比重の分散メディアであるジルコニア
ビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充
填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。
【００７１】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、例えば、走行下にある非磁性支持体の表面に磁性
層用塗布液を所定の膜厚となるように塗布する。ここで複数の磁性層用塗布液を逐次ある
いは同時に重層塗布してもよく、下層の磁性層用塗布液と上層の磁性層用塗布液とを逐次
あるいは同時に重層塗布してもよい。上記磁性層用塗布液もしくは下層の磁性層用塗布液
を塗布する塗布機としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押
出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、
トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイ
コート、スピンコート等が利用できる。これらについては例えば（株）総合技術センター
発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にできる。
【００７２】
磁性層用塗布液の塗布層は、磁気テープの場合、磁性層塗布液の塗布層中に含まれる強
磁性粉末にコバルト磁石やソレノイドを用いて長手方向に磁場配向処理を施す。ディスク
の場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知のラ
ンダム配向装置を用いることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の場合、一般
的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせて３次元ランダムとすること
もできる。六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直方向の３次元ランダムにな
りやすいが、面内２次元ランダムとすることも可能である。また異極対向磁石など公知の
方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる
。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配
向としてもよい。
乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できるようにす
ることが好ましく、塗布速度は２０〜１，０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好
ましい。また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともできる。
【００７３】
乾燥された後、通常、塗布層に表面平滑化処理やサーモ処理が施される。表面平滑化処
理には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用される。表面平滑化処理を行うこと
により、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率
が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。
カレンダ処理ロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等
の耐熱性プラスチックロールを使用する。また金属ロールで処理することもできる。カレ
ンダ処理条件としては、カレンダーロールの温度を６０〜１００℃の範囲、好ましくは７
０〜１００℃の範囲、特に好ましくは８０〜１００℃の範囲であり、圧力は１００〜５０
０ｋｇ／ｃｍ（９８〜４９０ｋＮ／ｍ）の範囲、好ましくは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍ（
１９６〜４４１ｋＮ／ｍ）の範囲であり、特に好ましくは３００〜４００ｋｇ／ｃｍ（２
９４〜３９２ｋＮ／ｍ）の範囲の条件で作動させることによって行われることが好ましい
。ここで、カレンダ処理温度は、支持体のＴｇ以下とすることが好ましく、ウエブ温度が
Ｔｇ以下となるように当該温度を設定することがより好ましい。
【００７４】
熱収縮率低減手段として、低テンションでハンドリングしながらウエッブ状で熱処理す
る方法と、バルクまたはカセットに組み込んだ状態などテープが積層した形態で熱処理す
る方法（サーモ処理）があり、両者が利用できる。前者は、バック層表面の突起写りの影
響が少ないが、熱収縮率を大きく下げることができない。一方、後者のサーモ処理は、熱
収縮率を大幅に改善できるが、バック層表面の突起写りの影響を強く受けるため、磁性層
が面荒れし、出力低下およびノイズ増加を引き起こす。特に、サーモ処理を伴う磁気記録
媒体で、高出力、低ノイズの磁気記録媒体を供給することができる。得られた磁気記録媒
体は、裁断機、打抜機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。
【００７５】
７．物理特性
本発明に用いられる磁気記録媒体の磁性層の飽和磁束密度は、１００〜３００ｍＴ（１
，０００〜３，０００Ｇ）である。また磁性層の抗磁力（Ｈｃ）は、１４３．３〜３１８
．４ｋＡ／ｍ（１，８００〜４，０００Ｏｅ）であるが、好ましくは１５９．２〜２７８
．６ｋＡ／ｍ（２，０００〜３，５００Ｏｅ）である。抗磁力の分布は狭い方が好ましく
、ＳＦＤおよびＳＦＤｒは０．６以下、さらに好ましくは０．２以下である。
【００７６】
本発明で用いられる磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は、温度−１０〜４０℃、
湿度０〜９５％の範囲において０．５以下であり、好ましくは０．３以下である。また、
帯電位は−５００〜＋５００Ｖ以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は、面
内各方向で好ましくは０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００〜２，０００ｋｇ／ｍｍ2）、
破断強度は、好ましくは９８〜６８６ＭＰａ（１０〜７０ｋｇ／ｍｍ2）、磁気記録媒体
の弾性率は、面内各方向で好ましくは０．９８〜１４．７ＧＰａ（１００〜１，５００ｋ
ｇ／ｍｍ2）、残留のびは、好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での
熱収縮率は、好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、最も好ましくは０．
１％以下である。
【００７７】
磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点
）は５０〜１８０℃が好ましく、非磁性層のそれは０〜１８０℃が好ましい。損失弾性率
は１×１０7〜８×１０8Ｐａ（１×１０8〜８×１０9ｄｙｎｅ／ｃｍ2）の範囲にあるこ
とが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘
着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向において１０％以
内でほぼ等しいことが好ましい。
磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2以下、さらに好ましくは１
０ｍｇ／ｍ2以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは３０
容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには
小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、
繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が保存安定性は好ましいこ
とが多い。
【００７８】
磁性層の最大高さＲmaxは、０．５μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．３μｍ以下、中
心面山高さＲｐは０．３μｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率Ｓ
ｒは２０〜８０％、平均波長λａは５〜３００μｍが好ましい。磁性層の表面突起は０．
０１〜１μｍの大きさのものを０．１ｍｍ２当たり０〜２，０００個の範囲で任意に設定することが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロールや磁性層に添加する粉末の粒径と量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。
【００７９】
本発明の磁気記録媒体における非磁性層と磁性層と間では、目的に応じ非磁性層と磁性
層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、
磁性層の弾性率を高くし保存安定性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より
低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りをよくするなどである。
【００８０】
本発明の磁気記録媒体は、特にリニア記録の磁気記録媒体の高密度化を図る上において
有効なので、本発明の磁気記録媒体を固定ヘッド方式で記録・再生を行う場合には、トラ
ック幅を２５μｍ以下、好ましくは０．１〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜６μｍ、
線記録密度を１００ｋＦＣＩ以上、好ましくは１００〜５００ｋＦＣＩ、より好ましくは
２００〜４００ｋＦＣＩに設定できる。なお、固定ヘッド方式による記録装置中の記録再
生用磁気ヘッドは適宜複数個配置することもでき、磁気記録媒体の長手方向に対して、所
定の角度をつけて配置することもできる。
【００８１】
本発明の磁気記録媒体は、磁気記録媒体に磁気記録された信号を再生するヘッドについ
ては特に制限はないが、ＭＲヘッドのために用いることが好ましい。本発明の磁気記録媒
体の再生にＭＲヘッドを用いる場合、ＭＲヘッドには特に制限はなく、例えばＧＭＲヘッ
ドやＴＭＲヘッドを用いることもできる。また、磁気記録に用いるヘッドは特に制限され
ないが、飽和磁化量が１．０Ｔ以上であり、１．５Ｔ以上であることが好ましい。
【実施例】
【００８２】
以下に本発明を実施例により具体的に説明する。ここで示す成分、割合、操作順序等は
、本発明の精神から逸脱しない範囲において変更しうるものであることは当業者にとって
は、容易に理解されることである。従って本発明は下記の実施例に制限されるべきではな
い。なお、実施例中の部は質量部を示す。
【００８３】
〔実施例１〕
［上層磁性層形成用塗布液および下層非磁性層形成用塗布液の調製］
＜上層磁性層形成用成分＞
強磁性金属粉末  組成  Ｆｅ／Ｃｏ＝１００／３０（原子比）        １００部
Ｈｃ：１８９．６ｋＡ／ｍ（２４００  Ｏｅ）
ＢＥＴ法による比表面積：７０ｍ２／ｇ
平均長軸長：６０ｎｍ
結晶子サイズ：１３ｎｍ（１３０Å）
飽和磁化量σｓ：１２５Ａ・ｍ２／ｋｇ（１２５ｅｍｕ／ｇ）
表面処理層：Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３
塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン（株）製ＭＲ−１１０）            １２部
−ＳＯ３Ｎａ含有量：５×１０−６ｅｑ／ｇ、重合度：３５０
エポキシ基含有量：モノマー単位で３．５重量％
ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡製ＵＲ−８２００）              ３部
α−アルミナ（平均粒子径：０．１μｍ）                              ３部
カーボンブラック（平均粒子径：０．０８μｍ）                    ０．５部
ステアリン酸                                                        ２部
メチルエチルケトン                                                ９０部
シクロヘキサン                                                    ３０部
トルエン                                                          ６０部
【００８４】
＜下層非磁性層形成用成分＞
非磁性粉体  α−Ｆｅ２Ｏ３  ヘマタイト                              ８０部
平均長軸長  ０．１５μｍ
ＢＥＴ法による比表面積  １１０ｍ２／ｇ
ｐＨ  ９．３
タップ密度  ０．９８ｇ／ｍｌ
表面処理層Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２
カーボンブラック（三菱化学（株）製）                              ２０部
平均一次粒子径  １６ｎｍ
ＤＢＰ吸油量  ８０ｍｌ／１００ｇ
ｐＨ  ８．０
ＢＥＴ法による比表面積  ２５０ｍ２／ｇ
揮発分  １．５％
塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン（株）製ＭＲ−１１０）            １２部
ポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡製ＵＲ−８２００）            １２部
ステアリン酸                                                        ２部
メチルエチルケトン                                              １５０部
シクロヘキサン                                                    ５０部
トルエン                                                          ５０部
【００８５】
上記上層磁性層形成用塗布液及び下層非磁性層を形成する各成分をそれぞれニーダーで
混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得られた上層用分散液にセカンダリーブ
チルステアレート(sec-BS)を１．６部加え、下層分散液に上記ポリイソシアネート（日本
ポリウレタン（株）製コロネートL）を３部加え、更にそれぞれの分散液にメチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン混合溶液を４０部加え、１μｍの平均孔径を有するフィルター
を用いて濾過し、上層形成用塗布液および下層形成用塗布液をそれぞれ調製した。
【００８６】
［バック層形成用塗布液の調製］
＜バック層形成用成分＞
微粒子カーボンブラック                                          １００部
平均粒子径：２０ｎｍ
粗粒子カーボンブラック                                            １０部
平均粒子径：２７０ｎｍ
ニトロセルロース樹脂                                            １００部
ポリエステルポリウレタン樹脂                                      ３０部
分散剤
オレイン酸銅                                                  １０部
銅フタロシアニン                                              １０部
硫酸バリウム（沈降性）                                          ５部
メチルエチルケトン                                            ５００部
トルエン                                                      ５００部
α−アルミナ（平均粒子径：０．１３μｍ）                      ０．５部
【００８７】
上記各成分を連続ニーダーで混練したのち、サンドミルを用いて２時間分散させた。得
られた分散液をポリイソシアネート４０部[（コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株
）(製）]、メチルエチルケトン１０００部を添加した後、１μｍの平均孔径を有するフィ
ルターを用いて濾過し、バック層形成用塗布液を調製した。
【００８８】
＜磁気テープの作成、及び製造方法＞
厚さ６μｍのＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）製非磁性支持体（Ｔｇ：１２０℃）
を、９０℃にて１日間、熱処理室で熱処理した。熱処理後、室温まで冷却し、その後、上
記支持体上に、上層磁性層形成用塗布液と下層非磁性層形成用塗布液を乾燥後の下層の厚
さが１．３μmとなるように、またこの上に乾燥後の磁性層の厚みが０．２μmとなるよう
に同時重層塗布を行った。次いで両層がまだ湿潤状態にあるうちに、３０００ガウス（３
００ｍＴ）の磁束密度を持つコバルト磁石と１５００ガウス（１５０ｍＴ）の磁束密度を
持つソレノイドを用いて配向処理を行った。その後、８０℃の温風を吹き付け乾燥させる
ことにより、非磁性層及び磁性層を形成した。
その後、該支持体の他方の側に、上記バック層形成用塗布液を乾燥後の厚さが０．５μ
ｍとなるように塗布し、９０℃の温風を吹き付け乾燥してバック層を設けて、支持体の一
方の面に下層非磁性層と上層磁性層とが、そして他方の面にバック層がそれぞれ設けられ
た磁気記録積層体ロールを得た。
得られた磁気記録積層体ロールを加熱金属ロールと熱硬化性樹脂を芯金に被覆した弾性
ロールから構成される７段のカレンダ処理機（温度９０℃、速度３００ｍ／分）に通して
カレンダ処理を行った。次いでカレンダ処理後の磁気記録積層体ロールを０．５インチ幅
にスリットして、ＬＴＯ−Ｇ３用カートリッジに６５０ｍ巻き込み、磁気テープカートリ
ッジを得た。
【００８９】
〔実施例２〕
実施例１において、支持体の熱処理を８０℃２日間に設定した以外は実施例１と同様に
磁気テープカートリッジを作成した。
【００９０】
〔実施例３〕
実施例１において、支持体の厚みを４．５μｍとした以外は実施例１と同様に磁気テー
プカートリッジを作成した。
【００９１】
〔実施例４〕
実施例２において、支持体の厚みを４．５μｍとした以外は実施例２と同様に磁気テー
プカートリッジを作成した。
〔実施例５〕
実施例１において、支持体の厚みを３μｍとした以外は実施例１と同様に磁気テープカートリッジを作成した。
【００９２】
〔比較例１〕
実施例１において、支持体の熱処理を行わなかったこと以外は実施例１と同様に磁気テ
ープカートリッジを作成した。
【００９３】
〔比較例２〕
実施例３において、支持体の熱処理を行わなかったことなしとした以外は実施例３と同
様に磁気テープカートリッジを作成した。
【００９４】
〔比較例３〕
実施例１において、支持体をＰＥＴ(ポリエチレンテレフタレート)製非磁性支持体(Ｔ
ｇ：９０℃)とした以外は実施例１と同様に磁気テープカートリッジを作成した。
【００９５】
〔比較例４〕
実施例３において、支持体をＰＥＴ(ポリエチレンテレフタレート)製非磁性支持体(Ｔ
ｇ：９０℃)とした以外は実施例３と同様に磁気テープカートリッジを作成した。
【００９６】
＜評価法＞
〔中心線平均表面粗さＲａ〕
ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅｗ５０２２による走査型白色光
干渉法にてＳｃａｎ Ｌｅｎｇｔｈを５μｍで測定した。対物レンズ：２０倍、中間レン
ズ：１．０倍、測定視野は２６０μｍ×３５０μｍである。測定した表面をＨＰＦ：１．
６５μｍ、ＬＰＦ：５０μｍのフィルター処理して、中心線平均表面粗さＲａ値を求めた
。
【００９７】
〔クリープ変形量〕
磁気テープカートリッジより、長手方向から長さ１５ｍｍ、幅５ｍｍのサンプルを切り
出し磁気テープサンプルとした。また、溶剤（メチルエチルケトン）を用いて上下層およ
びバック層を磁気テープから除去して非磁性支持体のみを取り出し、この非磁性支持体の
長手方向から長さ１５ｍｍ、幅５ｍｍのサンプルを切り出し非磁性支持体サンプルとした
。測定はアルバック理工社製、ＴＭ-９３００を用いて行った。測定温度を６０℃とした
。前記サンプルの長手方向に対し、引張応力を、第１ステップ０．６ＭＰａ３０分間、第
２ステップ１５．７ＭＰａ５０時間の２段階で与えた。第１ステップ０．６ＭＰａ３０分
間の引張応力が負荷されたサンプル長をサンプル初期長として、第２ステップ５０時間経
過後のサンプル伸び率（百分率）を算出して、これをクリープ変形量とした。０．３０％
以下を良好とした。
【００９８】
〔磁気テープの評価方法〕
ＬＴＯ-Ｇ３ドライブを用いて、上記(実施例１)〜(実施例４)および(比較例１)〜(比較
例４)の各磁気テープカートリッジサンプルのリール外側と芯側の記録・再生を行い、比
較例１のリール外側の特性を０ｄＢとし、リール外側と芯側で小さい方の値を保存初期の
再生特性とした。そして、その各磁気テープカートリッジを６０℃、９０％ＲＨの雰囲気
中に３３６時間保存した後、リール外側と芯側（保存前と同じ位置）の記録信号の再生を
行い、比較例１の保存前のリール外側の特性を０ｄＢとし、リール外側と芯側とで小さい
方の値を保存後再生特性とする。初期値については−１ｄＢより小さいものをＮＧとした
。保存後再生特性は−３ｄＢより小さいものをＮＧとした。
結果を下記表１に示す。
【００９９】
【表１】
2007294075.tif 000002
【０１００】
表１から、支持体がポリエチレンナフタレートであり、かつクリープ変形量が０．３０
％以下であるときに限り、初期および保存後の再生特性が優れることが分かる。