(57)【要約】【課題】  本発明では、ブラックマトリックスパターンやカラーフィルターを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として少量で高い洗浄効果を発揮する洗浄剤を提供する。【解決手段】  顔料分散型の感光性樹脂組成物を除去するための洗浄剤は、アルキルベンゼンを含有する芳香族系化合物を有することにより、上記課題の解決を図る。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
顔料分散型の感光性樹脂組成物を除去するための洗浄剤であって、アルキルベンゼンを含有する芳香族系化合物を有することを特徴とする洗浄剤。
【請求項２】
前記アルキルベンゼンは、少なくともプロピルベンゼン、エチルメチルベンゼン、及びトリメチルベンゼンを含有することを特徴とする請求項１に記載の洗浄剤。
【請求項３】
前記アルキルベンゼン中に含まれる前記プロピルベンゼンの割合が、ガスクロマトグラフィー測定において、３０％以上のエリア面積で示されることを特徴とする請求項２に記載の洗浄剤。
【請求項４】
前記アルキルベンゼン中に含まれる前記トリメチルベンゼンの割合が、ガスクロマトグラフィー測定において、４０％以下のエリア面積で示されることを特徴とする請求項３に記載の洗浄剤。
【請求項５】
前記洗浄剤は、前記アルキルベンゼンを１０〜３０質量％の範囲で含有することを特徴とする請求項１〜４のうちいずれか1項に記載の洗浄剤。
【請求項６】
前記芳香族系化合物は、さらに、ジメチルベンゼン、インダン、クメン、エチルメチルベンゼン、（１−メチル）プロピルベンゼン、（２−メチル）プロピルベンゼン、ジエチルベンゼン、エチルジメチルベンゼンから選ばれる１種以上が混合されていることを特徴とする請求項２に記載の洗浄剤。
【請求項７】
前記感光性樹脂組成物は、ネガ型であることを特徴とする請求項１〜６のうちいずれか1項に記載の洗浄剤。
【請求項８】
前記洗浄剤は、さらに、ケイ素系の界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１〜６のうちいずれか1項に記載の洗浄剤。
【請求項９】
前記洗浄剤は、前記感光性樹脂組成物を塗布する塗布装置のスリットノズル、プライミングローラー、またはスリットノズル洗浄装置のうち少なくとも１つに付着した前記感光性樹脂組成物を除去することを特徴とする請求項１〜８のうちいずれか1項に記載の洗浄剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物の洗浄除去する洗浄剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子や液晶表示素子の製造においては、フォトリソグラフイー技術が用いられているが、それらは、ポジ型やネガ型の感光性樹脂組成物が利用される。
当該感光性樹脂組成物は塗布液の形で、半導体基板や、ガラス基板等の基板上に塗布され、適宜乾燥処理を施し被膜を形成し、これに選択的露光を行い、次いで現像処理を行うことでパターン化された感光性樹脂被膜が形成される。
【０００３】
感光性樹脂組成物の基板への塗布方法としては、回転式塗布方法が一般的であるが、特に大型化が進む液晶表示素子製造の分野においては、コートアンドスピン方式、ノンスピン方式等の塗布手段が提案されてきている。
【０００４】
塗布工程においては、感光性樹脂組成物を吐出するノズルや、塗布装置内壁、基板周縁、基板裏面、その他配管系が感光性樹脂組成物により汚染されるため、定期的あるいは随時、洗浄処理を行う必要がある。
【０００５】
特に顔料が分散された材料、例えばカラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物は、洗浄除去が困難であり、洗浄性に優れた洗浄除去液の実現が求められていた。
【０００６】
なお、本発明に関連する文献としては、特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４がある。
【特許文献１】特開平７−７４１３６号公報
【特許文献２】特開平１０−２０４４９７号公報
【特許文献３】特開平１１−１７４６９１号公報
【特許文献４】特開２０００−４４９９４号公報
【特許文献５】特開２００４−１６７４７６号公報
【特許文献６】特開２０００−２８８４８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来の顔料分散型レジスト用の洗浄液は、特にカーボンを含有する顔料分散型ネガ型レジスト組成物を洗浄する場合に、洗浄性に問題があり、さらに洗浄性能の改善が求められていた。また、洗浄後の洗浄液中にカーボンが沈降する場合があり、カーボンの凝集、沈降が生じない洗浄液の開発が望まれていた。
【０００８】
上記の課題に鑑み、本発明では、ブラックマトリックスパターンやカラーフィルターを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として少量で高い洗浄効果を発揮する洗浄剤を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明にかかる、顔料分散型の感光性樹脂組成物を除去するための洗浄剤は、アルキルベンゼンを含有する芳香族系化合物を有することを特徴とする。
また、上記のアルキルベンゼンは、少なくともプロピルベンゼン、エチルメチルベンゼン、及びトリメチルベンゼンを含有することを特徴とする。
【００１０】
また、上記のアルキルベンゼン中に含まれる前記プロピルベンゼンの割合が、ガスクロマトグラフィー測定において、３０％以上のエリア面積で示されることを特徴とする。
また、上記のアルキルベンゼン中に含まれる前記トリメチルベンゼンの割合が、ガスクロマトグラフィー測定において、４０％以下のエリア面積で示されることを特徴とする。
【００１１】
また、前記洗浄剤は、前記アルキルベンゼンを１０〜３０質量％の範囲で含有することを特徴とする。
また、上記の芳香族系化合物は、さらに、ジメチルベンゼン、インダン、クメン、エチルメチルベンゼン、（１−メチル）プロピルベンゼン、（２−メチル）プロピルベンゼン、ジエチルベンゼン、エチルジメチルベンゼンから選ばれる１種以上が混合されていることを特徴とする。
【００１２】
また、上記の感光性樹脂組成物は、ネガ型であることを特徴とする。
また、上記の洗浄剤は、さらに、ケイ素系の界面活性剤を含有することを特徴とする。
また、上記の洗浄剤は、前記感光性樹脂組成物を塗布する塗布装置のスリットノズル、プライミングローラー、またはスリットノズル洗浄装置のうち少なくとも１つに付着した前記感光性樹脂組成物を除去することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明にかかる洗浄剤を用いることにより、従来品に比べ、少量の洗浄剤で同等以上の洗浄効果を得ることができる。また、本発明にかかる洗浄剤は環境への負荷も少なく、さらに、顔料の凝集、沈降が起こりにくいため、作業効率の面からも優れている。
【００１４】
また、アルキル基の炭素数に起因するものとして、炭素数が多いものほどその化合物を添加する量を少なくすることができる（すなわち、添加効率がよい）。したがって、本発明にかかる洗浄剤を用いることにより、少量の芳香族化合物の添加量で従来品と同等以上の洗浄効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明では、顔料分散型の感光性樹脂組成物を除去するための洗浄剤であって、アルキルベンゼンを含有する芳香族系化合物を有する洗浄剤を作成する。このアルキルベンゼンは、少なくともプロピルベンゼン、エチルメチルベンゼン、及びトリメチルベンゼンを含有するものである。
【００１６】
この洗浄剤は、アルキルベンゼンを１０〜３０質量％の範囲で含有する。当該アルキルベンゼンとは、具体的には市販されている石油留分（商品名：ソルベッソ１００、エクソン化学社製）が挙げられる。
【００１７】
アルキルベンゼン中のプロピルベンゼン、エチルメチルベンゼン、及びトリメチルベンゼンの合計した含有量は、ガスクロマトグラフィー分析において、５０％以上、好ましくは５０〜８０％のエリア面積を有する範囲である。それ以下では、石油留分としての構成成分を特徴づけにくいため、あえて特徴として記載する。
【００１８】
そのアルキルベンゼン中に含まれるプロピルベンゼンの割合は、ガスクロマトグラフィー測定において、３０％以上のエリア面積で示される。また、そのアルキルベンゼン中に含まれるトリメチルベンゼンの割合は、ガスクロマトグラフィー測定において、４０％以下のエリア面積で示される。
【００１９】
また、洗浄剤に含まれる芳香族系化合物には、さらに、ジメチルベンゼン、インダン、クメン、エチルメチルベンゼン、（１−メチル）プロピルベンゼン、（２−メチル）プロピルベンゼン、ジエチルベンゼン、エチルジメチルベンゼンから選ばれる１種以上が混合されている。
【００２０】
アルキルベンゼン中のプロピルベンゼンが主成分であると、洗浄性のみでなく、洗浄後の基材の乾燥性に優れたメリットを有する。アルキルベンゼン中のトリメチルベンゼンが４０％以下であると、生態系に対して有害とされているトリメチルベンゼンを少なくすることで環境負荷を低減できるメリットがある。
【００２１】
洗浄液中のアルキルベンゼンの含有量は、５〜３０重量％程度が好ましく、特には１０〜２５重量％の範囲内で用いることが好ましい。この範囲でアルキルベンゼンを用いることにより、顔料成分、ポリマー成分、低分子量の有機化合物成分等をバランスよく洗浄除去することができる。また、洗浄後の洗浄液中にカーボンやその他の顔料成分の沈降現象を抑制することができる。
【００２２】
また、本発明の洗浄液は、アルキルベンゼンと他の溶媒との混合系が好ましい。本発明の洗浄剤を他の溶媒と混合して用いることにより、洗浄性や速乾性などの特性をコントロールすることが容易となり、また顔料分散型の種類に応じた最適な組成制御も可能となる。
【００２３】
アルキルベンゼン以外の溶媒の成分としては、顔料分散型レジストを構成するポリマー成分や低分子量の有機化合物等の良溶媒が好ましく、たとえば、洗浄対象となる顔料分散型レジストの溶剤として、好ましいものの中から選択することができる。特には、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン（すなわちプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ＰＧＭＥＡ）や１−メトキシ−２−プロパノール（すなわちプロピレングリコールモノメチルエーテル、ＰＧＭＥ）等を選ぶことができる。
【００２４】
なお、洗浄剤中に含まれる溶媒は、１種だけから構成してもよいが、洗浄性、乾燥性、洗浄された顔料の沈降防止等の種々の特性を満足させるために複数種の溶媒を用いた混合溶媒の方が、バランスの取れた洗浄液を容易に設計することができて好ましい。
【００２５】
たとえば、溶媒には、１−メトキシ−２−アセトキシプロパン、１−メトキシ−２−プロパノール、シクロヘキサノン、１−（３−メトキシ）ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸ヘプチル、酢酸オクチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸ペンチル、乳酸ヘキシル、乳酸ヘキシル、乳酸オクチル、アセトン、４−メチル−２−ペンタノン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ジエチルエーテル、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、ジオキサン、オキセタン、フェノール、クレゾール、キシレノールから選ばれる１種以上を混合してもよい。
【００２６】
また、感光性樹脂組成物としては顔料分散型のものを用い、たとえば、ブラックマトリックスパターン系形成用の黒色顔料（カーボンブラック）を用いることができる。本発明の洗浄剤によれば、該洗浄剤によって洗浄除去された感光性樹脂組成物中に分散していたカーボン等の顔料粒子の凝集が抑えられ、洗浄除去用溶剤中に顔料が効率良く分散される。すなわち、洗浄剤中における顔料の分散性が悪いと、一旦洗浄除去された顔料粒子が凝集して被洗浄面に沈降し易くなるが、これを防止して洗浄残りをなくすことできる。
【００２７】
また、感光性樹脂組成物を塗布する塗布装置の吐出ノズル先端部分を洗浄する場合、洗浄液がノズル等に付着した状態のままでいると、洗浄後に再び感光性樹脂組成物を吐出する際、ノズル等に付着していた洗浄液が感光性樹脂組成物に溶け込み、感光性樹脂組成物の組成を変化させることになる。
【００２８】
このように感光性樹脂組成物の組成を変化させることは、感光性樹脂組成物の塗布性等の特性劣化につながるおそれがあり、例えば塗布ムラ発生の原因となる場合がある。特に、感光性樹脂組成物に界面活性剤が配合されている場合は、洗浄剤との接触によって該界面活性剤濃度が低下し、その結果、塗布ムラが発生し易い。
【００２９】
そこで、乾燥性（速乾性）にも優れている本発明の洗浄剤を用いることにより、感光性樹脂組成物への洗浄液の溶け込みを抑制することができる。特にプロピレングリコールモノアルキルエーテルを含有させると、乾燥性の向上に有効である。
【００３０】
さらに、界面活性剤を含有する洗浄剤によれば、感光性樹脂組成物に残留していた洗浄液が溶け込んでも、感光性樹脂組成物中における界面活性剤濃度の低下を抑えることができ、塗布ムラの発生を防止することができる。
【００３１】
また、感光性樹脂組成物はカーボンブラックに限定されず、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）のカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物を用いてもよい。特に、緑（Ｇ）のカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物について洗浄する場合には、ケイ素系の界面活性剤（たとえば、Ａｄｄｉｔｏｌ  ＸＬ  １２１（ソルーシア社製））を洗浄剤に添加するのが好ましい。
【００３２】
本願発明に係る洗浄剤が除去対象とする感光性樹脂組成物には特に制限は無く、従来より半導体、液晶、カラーフィルターなどに用いられてきたポジ型、ネガ型、化学増幅型、非化学増幅型のあらゆる感光性樹脂組成物を対象とすることができる。感光性樹脂組成物は、基本的には樹脂成分および光重合開始剤などの感光成分を必須成分として含有し、その他にモノマー成分、界面活性剤、酸成分、含窒素有機化合物、顔料、溶剤などを含有する場合がある。
【００３３】
本願発明に係る洗浄剤が特に洗浄効果を発揮する感光性樹脂組成物は、顔料が分散された感光性樹脂組成物であり、さらに好ましくは、赤（R）、緑（G）、青（B）のカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物、ブラックマトリックスパターン形成用感光性樹脂組成物である。
【００３４】
上記樹脂成分としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸などのカルポキシ基を有するモノマーから選ばれる一種以上と、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、N-ブチルアクリレート、N-ブチルメタクリレート、イソブチルアクリート、イソブチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、フェノキシアクリレート、フェノキシメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、スチレン、アクリルアミド、アクリロニトリルなどから選ばれる一種以上との共重合体、フェノールノボラック型エポキシアタリレート重合体、フェノールノボラック型エポキシメタクリレート重合体、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート重合体、クレゾールノポラック型エポキシメタクリレート重合体、ビスフェノールA型エポキシアクリレート重合体、ビスフェノールS型エポキシアタリレート重合体などの樹脂が挙げられる。
【００３５】
上記光重合開始剤としては、1-ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキンエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-(4-ドデシルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、ビス(4-ジメチルアミノフェニル)ケトン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-ベンゾイル-4'-メチルジメチルスルフィド、4-ジメチルアミノ安息香酸、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4-ジメチルアミノ-2-エチルヘキシル安息香酸、4-ジメチルアミノ-2-イソアミル安息香酸、ベンジル-β-メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルポニル)オキシム、o-ベンゾイル安息香酸メチル、2,4-ジエチルチオキサントン、2-タロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2-クロロチオキサンテン、2,4-ジエチルチオキサンテン、2-メチルチオキサンテン、2-イソプロピルチオキサンテン、2-エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン、2,3-ジフェニルアントラキノン、アゾビス(イソプチロ)ニトリル、ベンゾイルペルオキシド、クメンペルオキシド、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジ(m-メトキシフェニル)-イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、2-クロロベンゾフェノン、p,p'-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、3．3-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロビルエーテル、ペンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、p-ジメチルアセトフェノン、p-ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p-tert-ブチルアセトフェノン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、p-tert-ブチルトリクロロアセトフェノン、p-tert-ブチルジクロロアセトフェノン、α,α-ジクロロ-4-フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-イノプロビルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル-4-ジメチルアミノベンゾェート、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス-(9-アクリジニル)ヘプタン、1,5-ビス-(9-アクリジニル)ペンタン、1,3-ビス(9-アクリジニル)プロパン、p-メトキシトリアジン、2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(5-メチルフラン-2-イル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(フラン-2-イル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(3,4-ジメトキシフェニル)エテニル］-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-エトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-n-ブトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(3-ブロモ-4-メトキシ)フェニル-s-トリアジン 、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(2-ブロモ-4-メトキシ)フェニル-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(3-ブロモ-4-メトキシ)スチリルフェニル-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-(2-ブロモ-4-メトキシ)スチリルフェニル-s-トリアジンなどを挙げることができる。
【００３６】
上記顔料としては、例えば
C.I.Pigment Yellow 11,24,31,53,83,99,108,109,139,150,151,154,167,180,185,193；
C.I.Pigment Orange 36,38,43；
C.I.Pigment Red 105,122,149,150,155,171,175,176,177,209,224,254,264；
C.I.Pigment Violet 19,23,32,39；
C.I.Pigment Blue 1,2,15:1,15:2,15:3,16,22,60,66；
C.I.Pigment Green 7,36,37；
C.I.Pigment Brown 25,28；
C.I.Pigment Black 1,7；
カーボンブラック などが挙げられる。
【００３７】
このようなカラーフィルター形成用、またはブラックマトリックスパターン形成用の感光性樹脂組成物については多くの提案がなされており、例えば特開２００４−６９７５４号公報、特開平１１−２３１５２３号公報、特開平１１−８４１２５号公報、特開平１０−２２１８４３号公報、特開平９−２６９４１０号公報、特開平１０−９０５１６号公報等に記載の感光性材料等が好ましく用いられる。
【００３８】
そして、この洗浄剤は、たとえば、半導体基板等に感光性樹脂組成物を塗布する塗布装置のノズル、プライミングローラー（回転ローラ）、またはノズル洗浄装置のうち少なくとも１つに塗布された前記感光性樹脂組成物を除去するために使用することができる。
【００３９】
また、洗浄剤の組成を調整することで洗浄剤の共沸点が変動するため、芳香族化合物または溶剤の選択に際して高沸点または低沸点の化合物を考慮して混合することで、乾燥性に関して調整することもできる。
【実施例】
【００４０】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。以下の実施例では、芳香族炭化水素のソルベッソ１００を使用した。ソルベッソ１００の成分を表１に示す。
【００４１】
【表１】
2007002101.tif 000002
【００４２】
上記の表１は、ソルベッソ１００をガスクロマトグラフィー測定により分析して、その結果得られた各成分のエリア面積比（％）を表したものである。
【００４３】
［実施例１］
ソルベッソ１００：ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ＝２０：６０：２０の重量比で洗浄液を調製した。
この洗浄剤を用いて次の洗浄試験を行った。まず、ポリエチレン製チューブにＣＦＰＲ  ＢＫ−５００５ＳＬ（東京応化製フォトレジスト）を１ｍｌ通して、チューブ内にこのレジストを付着させた。本実施例１で調製した洗浄液１ｍｌを使用して同じＰＥチューブを通過させた。ＰＥチューブの透明性が回復するまでこの操作を繰り返したところ、１ｍｌ×８回＝８ｍｌでＰＥチューブの透明性が回復したため、これを洗浄の終了点とした。
【００４４】
［実施例２］
まず、ソルベッソ１００にトルエンを加えて、プロピルベンゼンとエチルメチルベンゼンとトリメチルベンゼンの合計した割合を３０％に低減したアルキルベンゼンの溶液を調製した。そして、当該アルキルベンゼンの溶液：ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ＝２０：６０：２０の重量比で洗浄剤を調製した。
実施例１と同様に洗浄試験を実施したところ、洗浄終了にこの洗浄剤は１ｍｌ×９回＝９ｍｌが必要だった。
【００４５】
［実施例３］
プロピルベンゼン：ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ＝２０：６０：２０の重量比で洗浄剤を調製した。
実施例１と同様に洗浄試験を実施したところ、洗浄終了にこの洗浄剤は１ｍｌ×８回＝８ｍｌが必要だった。
【００４６】
［実施例４］
ソルベッソ１００：酢酸ブチル：メチルアミルケトン＝２０：６０：２０の重量比で洗浄剤を調製した。
実施例１と同様に洗浄試験を実施したところ、洗浄終了にこの洗浄剤は１ｍｌ×１０回＝１０ｍｌが必要だった。
【００４７】
［実施例５］
ソルベッソ１００：ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ＝５０：３７．４：１２．５の重量比で洗浄剤を調製した。
実施例１と同様に洗浄試験を実施したところ、洗浄終了に洗浄剤は１ｍｌ×２０回＝２０ｍｌが必要だった。
【００４８】
［実施例６］
トルエン：ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ＝２０：６０：２０の重量比で洗浄剤を調製した。
実施例１と同様に洗浄試験を実施したところ、洗浄終了に洗浄剤は１ｍｌ×２０回＝２０ｍｌが必要だった。
【００４９】
［比較例１］
ソルベッソ１００：ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥ＝０（この比較例１では、ソルベッソ１００は加えていない）：７５：２５の重量比で洗浄剤を調製した。
実施例１と同様に洗浄試験を実施したところ、洗浄終了にこの洗浄剤は１ｍｌ×３０回＝３０ｍｌが必要だった。
【００５０】
実施例１〜６、及び比較例１の結果を表２に示す。
【表２】
2007002101.tif 000003
【００５１】
上記結果から明らかなように、実施例１〜６の洗浄剤は、比較例１のいずれよりも少ない量で洗浄効果を発揮することができた。また、ソルベッソ１００は、沸点１５２〜１７１℃であるため、速乾性に優れている。
【００５２】
［用途］
以下では、本発明にかかる洗浄剤の使用方法の一例として、半導体等の基板材料に感光性樹脂組成物を塗布及び洗浄する装置（たとえば、特許文献５、特許文献６）での使用方法を示す。
【００５３】
図１は、半導体等の基板材料に感光性樹脂組成物を塗布及び洗浄する装置の一例である。同図の装置は、スリットノズル１、プライミングローラー（回転ローラ）２、洗浄槽３、スリットノズル洗浄装置５、洗浄剤供給槽７、塗布液供給槽９、配管４，６，８，１０から構成される。
【００５４】
洗浄剤供給槽７には、本発明にかかる洗浄剤が充填されており、配管８を通してスリットノズル１に供給される。塗布液供給槽９には、塗布液（たとえば、カラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物）が充填されており、配管１０を通してスリットノズル１に供給される。
【００５５】
スリットノズル１は細長い形状をしており、たとえば水平面内において短手方向に移動する。スリットノズルの下面には、塗布液供給槽９より供給された塗布液や洗浄剤供給槽７より供給された洗浄剤を噴出するための孔が複数設けてある。スリットノズル１の下方には、たとえば半導体基板や液晶パネル用基板（以下、基板１１という）が設置されており、スリットノズル１は移動しながらその基板１１の表面の一面に、塗布液を噴出する。
【００５６】
洗浄槽３には、円筒形状のプライミングローラー２が設置されている。また、洗浄槽３は配管４から本発明にかかる洗浄剤が供給される。この供給量を調整することにより、洗浄槽３は所定量の洗浄剤で常に満たされている。プライミングローラー２は、塗布直前のスリットノズル１からの噴出される塗布液の噴出コンディションを調整するためのものである。すなわち、プライミングローラー２の上部方向からスリットノズル１が近接して、余分な塗布液をスリットノズル１から引き出して、プライミングローラー２の表面に付着させて除去することができる。
【００５７】
また、プライミングローラー２は回転しながら洗浄槽３内の洗浄剤に接触することで、プライミングローラー２の表面に塗布された塗布液を洗浄することができる。
スリットノズル洗浄装置５は、塗布後のスリットノズル１に付着した塗布液を洗浄したり、塗布を休止する場合にスリットノズル１に付着した塗布液が乾燥固着するのを防止するためにスリットノズル１を待機させておいたりするためのものである。スリットノズル洗浄装置（たとえば特許文献６）は、スリットノズル１を待機させておくためにスリットノズルを支持するスリットノズル待機部（詳細は不図示）が設けられている。そのスリットノズル待機部の中央に、スリットノズル先端部を洗浄したり、乾燥を防いだりするためのノズルディップ洗浄部（詳細は不図示）が設けられている。スリットノズル洗浄装置５には、配管６から本発明にかかる洗浄剤が供給されている。
【００５８】
従来は、スリットノズル１、洗浄槽３、スリットノズル洗浄装置５に供給される洗浄剤の種類は、各装置のタクトタイムに応じて（たとえば、乾燥性、凝集性、洗浄性等）、それぞれ異なっていた。たとえば、スリットノズル１及び洗浄槽３に関しては、速乾性が高く、凝集しないもので、洗浄能力が高い洗浄剤が求められていた。また、たとえば、スリットノズル洗浄装置５に関しては、速乾性が高く、凝集しない洗浄剤が求められ、特に、スリットノズル内の塗布液に浸透して凝集を起こさないように、凝集せずかつ高い表面張力が求められていた。
【００５９】
本発明にかかる洗浄剤は、高い速乾性、凝集しない、高い洗浄力、及び高い表面張力を有しており、従来における要求に全て応えることができる。そのため、本発明にかかる洗浄剤１種類だけで、スリットノズル１、洗浄槽３、スリットノズル洗浄装置５のすべてに適用することができる。
【００６０】
また、ケイ素系の界面活性剤（たとえば、Ａｄｄｉｔｏｌ  ＸＬ  １２１（ソルーシア社製））を本発明にかかる洗浄剤に所定量添加（たとえば、実施例１〜６で調製した各洗浄剤にＡｄｄｉｔｏｌ  ＸＬ  １２１を５０ｐｐｍ配合する）することにより、カラーフィルター（特にＧ（緑））を形成する顔料分散型感光性樹脂組成物を塗布液に用いた場合でも、本発明にかかる洗浄剤を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】半導体等の基板材料に感光性樹脂組成物を塗布及び洗浄する装置の一例を示す図である。
【符号の説明】
【００６２】
１      スリットノズル
２      プライミングローラー
３      洗浄槽
５      スリットノズル洗浄装置
７      洗浄剤供給槽
９      塗布液供給槽
４，６，８，１０  配管
１１    基板
【図１】
2007002101.tif 000004