(57)【要約】【課題】  浸漬法により薄膜を形成する際、薬液の液面の揺れに起因する膜厚むらの発生を確実に防止可能な磁気記録ディスクの製造方法および磁気記録ディスク製造用浸漬成膜装置を提案すること。【解決手段】  浸漬成膜装置１００を用いて磁気記録ディスク用基板１０の表面に潤滑層などの薄膜を成膜するにあたって、中心穴１１１に挿通させた基板支持具３００により複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を支持した状態で薬液２２中へ浸漬操作および薬液２２からの引き上げ操作を行う。その際、薬液槽２１の側面壁２１２に、複数の消波ブロック３１Ａを積み上げて消波構造体３Ａを構成しておく。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
貯留されている薬液の液面の上方から磁気記録ディスク用基板を前記液面に垂直な姿勢で当該薬液に浸漬した後、浸漬状態の前記磁気記録ディスク用基板を同一姿勢のまま前記液面の上方に引き上げることにより、前記磁気記録ディスク用基板に薄膜を形成し、
前記磁気記録ディスク用基板の引き上げ時には、前記液面に発生した波を減衰させることにより当該液面の波立ちを抑制することを特徴とする磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項２】
前記液面に消波部材を接触させた状態で前記磁気記録ディスク用基板の引き上げを行うことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項３】
前記消波部材として、凹凸部分を備えた消波構造体を用い、
当該消波構造体を、前記薬液が貯留されている薬液槽の内周面に沿って、前記凹凸部分が前記磁気記録ディスク用基板の引き上げ位置に向く状態に配置しておくことを特徴とする請求項２に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項４】
前記消波部材として、前記液面を覆う板状の消波構造体を用いることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項５】
前記薄膜は、前記磁気記録ディスク用基板の最表層に形成される潤滑層であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項６】
薄膜形成用の薬液が貯留された薬液槽と、前記薬液に対して磁気記録ディスク用基板を相対移動させて当該磁気記録ディスク用基板の前記薬液に対する浸漬操作および当該薬液からの引き上げ操作を行う浸漬引き上げ装置と、前記引き上げ操作の際に前記薬液の液面から波を消失させる消波手段とを有していることを特徴とする磁気記録ディスク製造用浸漬成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録ディスク用基板の表面に潤滑層などの薄膜を形成する際に浸漬法を採用した磁気記録ディスク（光磁気記録ディスクも含む）の製造方法、および磁気記録ディスク製造用浸漬成膜装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録ディスクは、中心孔を備えたガラス基板や金属基板などの非磁性基板の表面に少なくとも磁性層、保護層および潤滑層がこの順に積層された構造になっており、これらの薄膜のうち、潤滑層は浸漬法により形成されることが多い。このような浸漬法を採用する際には、複数枚の基板を一括処理できるように、中心穴に挿通させた基板支持具により複数枚の磁気記録ディスク用基板を一括して支持した状態で薬液中へ浸漬操作および薬液からの引き上げ操作を行うのが一般的である（特許文献１、２参照）。
【０００３】
また、特許文献２には、浸漬法によって、対向配置した複数の磁気記録ディスク用基板を一括して処理した際、最も外側に位置する磁気記録ディスク用基板は、薬液の液面に発生した波の影響を直接、受けて膜厚のむらが大きくなってしまうとして、両端にダミーの基板を配置することが提案されている。
【０００４】
ここで、潤滑層の厚さむらは、磁気ヘッドが浮上走行するのに必要な空気圧に変動を起こす原因となり、磁気ヘッドの浮上姿勢や浮上量に変調をきたす。このような不具合は、フライスティクション障害と呼ばれ、不規則な再生出力変動を伴うため、好ましくない。また、場合によっては浮上走行中の磁気ヘッドと磁気記録ディスクが接触し、クラッシュを起こすことにより、磁気記録ディスクに磨耗や損傷を発生させる可能性もある。
【特許文献１】特開平１０−３１０８７１号公報
【特許文献２】特開２０００−６７４３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、外径寸法が２．５インチ以下の磁気記録ディスク用基板のように軽い場合には、ダミーの基板を両側に配置しても、波によって磁気記録ディスク用基板が揺れてしまい、潤滑層に厚さむらを発生させるという問題点がある。また、特許文献２に記載の技術を採用した場合、両側に配置したダミーの基板では側方を周り込んできた波の影響を防止することができず、成膜後の磁気記録ディスク用基板に細かい横線模様が無数に発生するという問題が発生することがあり、このような横線模様も、潤滑層の厚さむらに起因するものである。ここで、潤滑層の厚さむらは、フライスティクション障害などの原因となるが、近年、磁気ヘッドの浮上距離がさらに短くなる傾向にあり、このような動作条件下では、従来は問題とならなかった膜厚むらでも不具合が発生する原因となる。なお、このような厚さむらは、潤滑層を形成する場合に限らず、浸漬法で保護膜などを形成しようとした場合にも同様に発生する問題である。
【０００６】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、浸漬法により薄膜を形成する際、薬液の液面の揺れに起因する膜厚むらの発生を確実に防止可能な磁気記録ディスクの製造方法および磁気記録ディスク製造用浸漬成膜装置を提案することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係る磁気記録ディスクの製造方法では、貯留されている薬液の液面の上方から磁気記録ディスク用基板を前記液面に垂直な姿勢で当該薬液に浸漬した後、浸漬状態の前記磁気記録ディスク用基板を同一姿勢のまま前記液面の上方に引き上げることにより、前記磁気記録ディスク用基板に薄膜を形成し、前記磁気記録ディスク用基板の引き上げ時には、前記液面に発生した波を減衰させることにより当該液面の波立ちを抑制することを特徴とする。
【０００８】
本発明に係る磁気記録ディスク製造用浸漬成膜装置では、薄膜形成用の薬液が貯留された薬液槽と、前記薬液に対して磁気記録ディスク用基板を相対移動させて当該磁気記録ディスク用基板の前記薬液に対する浸漬操作および当該薬液からの引き上げ操作を行う浸漬引き上げ装置と、前記引き上げ操作の際に前記薬液の液面から波を消失させる消波手段とを有していることを特徴とする。
【０００９】
本発明では、浸漬法により磁気記録ディスク用基板に薄膜を形成するにあたって、引き上げ操作を行う際、薬液の液面での波立ちを防止するため、外径寸法が２．５インチ以下の磁気記録ディスク用基板のように軽い場合でも波によって磁気記録ディスク用基板が揺れることがない。また、波を消失させるため、磁気記録ディスク用基板に細かい横線模様を発生させるような小さな厚さむらの発生も防止できる。
【００１０】
本発明においては、例えば、前記液面に消波部材を接触させた状態で前記磁気記録ディスク用基板の引き上げを行う。
【００１１】
本発明において、前記消波部材としては、例えば、凹凸部分を備えた消波構造体を用い、当該消波構造体を、前記薬液が貯留されている薬液槽の内周面に沿って、前記凹凸部分が前記磁気記録ディスク用基板の引き上げ位置に向く状態に配置しておく構成を採用することができる。
【００１２】
本発明において、前記消波部材としては、前記薬液が貯留されている薬液槽の内周面に沿う位置で前記液面を覆う板状の消波構造体を用いることができる。
【００１３】
本発明において、前記薄膜が前記磁気記録ディスク用基板の最表層に形成される潤滑層であることが好ましい。浸漬法により磁気記録ディスク用基板に薄膜として潤滑層を形成する際に本発明を適用すると、磁気記録ディスク用基板に形成した潤滑層に膜厚のむらが発生しない。従って、磁気ヘッドの浮上距離を短くした場合でも、磁気ヘッドの浮上姿勢や浮上量に変調をきたすことがない。また、浮上走行中の磁気ヘッドが磁気記録ディスクと接触してクラッシュを起こすこともない。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、浸漬法により磁気記録ディスク用基板に薄膜を形成するにあたって、引き上げ操作を行う際、薬液の液面での波立ちを防止するため、外径寸法が２．５インチ以下の磁気記録ディスク用基板のように軽い場合でも波によって磁気記録ディスク用基板が揺れることがない。また、波を消失させるため、磁気記録ディスク用基板に細かい横線模様を発生させるような小さな厚さむらの発生も防止できる。それ故、浸漬法により磁気記録ディスク用基板に潤滑層を形成した場合、潤滑層に厚さむらが発生しないので、磁気ヘッドの浮上距離を短くした場合でも、磁気ヘッドの浮上姿勢や浮上量に変調をきたすことがなく、浮上走行中の磁気ヘッドが磁気記録ディスクと接触してクラッシュを起こすこともない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、図面を参照して、本発明を適用した磁気記録ディスクの製造装置、および磁気記録ディスクの製造方法を説明する。なお、消波手段（消波部材）としては各種のものを用いることができるが、実施の形態１では、磁気記録ディスクの引き上げ位置に向けて凹凸部分を向けた状態で一部が液面から露出するように配置されるタイプの消波構造体を用いた形態を説明し、実施の形態２では、液面に被さるように配置されるタイプの消波構造体を用いた形態を説明する。
【００１６】
［実施の形態１］
（磁気記録ディスクおよびその製造方法の概略）
図１（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、磁気記録ディスクを示す平面図、および磁気記録ディスクの概略断面図である。これらの図に示すように、本形態の磁気記録ディスク１は、中心穴１１１を備えた円形の非磁性基板１１の表面１１０に下地層１２、磁性層１３、保護層１４、および潤滑層１５をこの順に積層した構造を有している。非磁性基板１１は、例えば、アルミノシリケートガラスなどの化学強化ガラスからなり、非磁性基板１１の表面１１０は、例えば、表面粗さがＲａで０．３ｎｍ以下、Ｒｍａｘで３ｎｍ以下となるように鏡面研磨が施されている。また、非磁性基板１１において内周端部１１２および外周端部１１３は各々、面取り加工が施されている。
【００１７】
このような磁気記録ディスク１の製造工程の概略を説明しながら、各薄膜の構成を以下に説明する。磁気記録ディスク１を製造するには、まず、非磁性基板１１の表面１１０に対してスパッタ法などにより下地層１２を形成する。下地層１２は、例えば厚さが１０ｎｍのＣｒＷ薄膜であり、磁性層１３の結晶構造を良好にするために形成される。
【００１８】
次に、下地層１２の上層に対してスパッタ法などにより磁性層１３を形成する。磁性層１３は、例えば厚さが１５ｎｍのＣｏＣｒＰｔＢ合金からなり、厚さは１５ｎｍである。この磁性層１３のＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｂの各含有量は、例えば、Ｃｏ：６２ａｔ％、Ｃｒ：２０ａｔ％、Ｐｔ：１２ａｔ％、Ｂ：６ａｔ％である。
【００１９】
次に、磁性層１３の上層に対してスパッタ法により保護層１４を形成する。保護層１４は、例えば、厚さが５ｎｍの水素化カーボンからなり、耐摩耗性を向上させて磁性層１３を保護する機能を担っている。
【００２０】
次に、詳しくは後述するように、保護層１４の表面に潤滑層１５を浸漬法により形成する。潤滑層１５は、磁気ヘッドと接触した際の衝撃を緩和するなどの機能を担っており、厚さが１０ｎｍ以下の薄いパーフルオロポリエーテル層などから構成されている。ここで、潤滑層１５は、２ｎｍ以下、例えば、１．０ｎｍ位まで薄膜化される傾向にある。
【００２１】
（潤滑層形成の浸漬成膜装置）
図２は、本発明の実施の形態１に係る磁気記録ディスク製造用浸漬成膜装置の構成を模式的に示す説明図である。
【００２２】
本形態においては、非磁性基板１１の表面に下地層１２、磁性層１３および保護層１４を順に積層した製造途中品（以下、磁気記録ディスク用基板１０という）に潤滑層１５を形成するにあたって、図２に示す浸漬成膜装置１００が用いられる。この浸漬成膜装置１００は、潤滑層１５を形成するための薬液２２を貯留しておく薬液槽２１と、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入されて複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を一括して支持する腕状の基板支持具３００を備えた基板処理具２００とを有している。また、浸漬成膜装置１００は、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０と薬液２２とを相対移動させて、磁気記録ディスク用基板１０の薬液２２への浸漬操作、および薬液２２からの引き上げ操作を行うための浸漬引き上げ装置（矢印Ｄで示す）を有している。このような浸漬引き上げ装置として、本形態では、磁気記録ディスク用基板１０の薬液２２中へ浸漬操作、および薬液２２からの引き上げ操作を行う際、基板処理具２００を上下方向に駆動する昇降装置が用いられている。
【００２３】
ここで、浸漬引き上げ装置としては、後述するように、磁気記録ディスク用基板１０の薬液２２中への浸漬操作、および薬液２２からの引き上げ操作を行う際、薬液槽２１を上下方向に駆動する昇降装置や、薬液槽２１内の薬液２２の液面２２０を上下させる液面上下装置を用いることができる。なお、浸漬引き上げ装置として、薬液槽２１内の薬液２２の液面を上下させる液面上下装置を用いた場合でも、磁気記録ディスク用基板１０を薬液槽２１に出し入れする装置は必要である。
【００２４】
なお、基板処理具２００は、一点鎖線で示すように、基板支持具３００に平行に伸びて複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の真下位置を通る液溜まり除去具５００を備えている場合がある。この場合、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０は、中心穴１１１の内周端部１１２が基板支持具３００により支持された状態で薬液２２中へ浸漬操作および薬液からの引き上げ操作が行われる間、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の真下位置には液溜まり除去具５００が配置された状態となる。このような液溜まり除去具５００は、引き上げ操作において磁気記録ディスク用基板１０が薬液２２の液面２２０から離れる際に磁気記録ディスク用基板１０から薬液２２を引き寄せることにより、磁気記録ディスク用基板１０の下端部に液溜まりが形成されるのを防止する機能を有している。
【００２５】
また、本形態の浸漬成膜装置１００では、薬液槽２１には、引き上げ操作の際に薬液２２の液面２２０で波を減衰させて波立ちを抑制する消波手段（消波部材）として、薬液槽２１の側面壁２１２の内周面に沿って消波構造体３Ａが配置されている。
【００２６】
本形態において、消波構造体３Ａは、一部が薬液２２の液面２２０から露出するように配置されており、磁気記録ディスク用基板１０が浸漬、引き上げされる中央領域に凹凸を向けている。このような消波構造体３Ａとして、本形態では、薬液槽２１の底面２１１から薬液２２の液面２２０のやや上方位置まで積み上げられた複数の消波ブロック３１Ａが用いられている。
【００２７】
ここで、図２には、消波ブロック３１Ａとして、複数の脚が所定の方向に伸びた星形のものを表してあるが、消波ブロック３１Ａとしては、星形ブロックの他にも、テトラポッド（株式会社テトラの商品名）のような４脚ブロックや、６脚ブロック、８脚ブロック、中空三角ブロック、ドーム型ブロック、アクモン（防災工業株式会社の商品名）などの異形ブロックを用いることができる。これらいずれの消波ブロック３１Ａを用いた場合にも、磁気記録ディスク用基板１０が浸漬される薬液槽２１の中央領域に凹凸を向けて一部が薬液２２の液面２２０から露出するように配置されることになる。このため、液面２２０に発生した波Ｗが側面壁２１２に向かう際、波Ｗの振動は消波構造体３Ａの凹凸で分散、吸収されるので、波Ｗが減衰、消失する。
【００２８】
なお、消波ブロック３１Ａは、薬液２２に浸漬した状態にあるので、例えば、ＰＴＦＥ（テトラフルオロエチレン）樹脂、ＦＥＰ（パーフロロエチレンプロペン共重合）樹脂、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシ）樹脂などの耐薬液性の樹脂製のもの、金属製やセラミックス製のものが用いられている。
【００２９】
（浸漬成膜工程）
このように構成した浸漬成膜装置１００を用いて磁気記録ディスク用基板１０の表面に潤滑層１５を形成するにあたって、薬液２２としては、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤などをＨＦＣ（ハイドロフルオロカーボン）、ＰＦＣ（パーフルオロカーボン）等のフッ素系溶媒などに分散溶解させた溶液を用いる。ここで、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤としては、例えば、Ｓｏｌｖａｙ  Ｓｏｌｅｘｉｓ社製のＦｏｍｂｌｉｎ−Ｚ−ＤＯＬ（商標名）、Ｆｏｍｂｌｉｎ−Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ（商標名）などを用いることができる。
【００３０】
一方、基板処理具２００においては、基板支持具３００を複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入し、この基板支持具３００により複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を垂直姿勢に支持した状態とする。
【００３１】
そして、薬液槽２１において薬液２２の液面２２０の高さ位置を一定に保っておく一方、昇降装置によって、基板処理具２００を下降させて、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を一括して薬液２２に浸漬する（浸漬操作）。
【００３２】
次に、所定の時間経過後、昇降装置によって、基板処理具２００を上昇させて、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を薬液２２から一定の速度、例えば、０．５ｍｍ／ｓｅｃの速度で引き上げる（引き上げ操作）。その際、磁気記録ディスク用基板１０では、薬液２２の液面２２０から出た部分で溶媒の蒸発が起こる。また、磁気記録ディスク用基板１０の引き上げ操作を行った際、磁気記録ディスク用基板１０を薬液２２の液面から引き上げる時の液面２２０の揺れや、基板処理具２００に付着した薬液２２の液滴が落下することによる液面２２０の揺れによって、薬液２２の表面に波Ｗが発生したとしても、かかる波Ｗは、薬液槽２１の側面壁２１２に到達して反射する前に、消波構造体３Ａの消波機能により減衰、消失し、液面２２０は安定した状態にある。
【００３３】
このようにして引き上げた磁気記録ディスク用基板１０に対しては所定の条件で加熱処理が施され、潤滑層１５が磁気記録ディスク用基板１０に定着する。
【００３４】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、浸漬法により磁気記録ディスク用基板１０の表面に潤滑層１５を形成するにあたって、薬液槽２１に消波手段（消波部材／消波構造体３Ａ、消波ブロック３１Ａ）を配置して波Ｗを消失させる。このため、外径寸法が２．５インチ以下の磁気記録ディスク用基板１０のように軽い場合でも波Ｗによって磁気記録ディスク用基板１０が揺れることがない。また、波Ｗを消失させるため、磁気記録ディスク用基板１０に細かい横線模様を発生させるような小さな厚さむらの発生も防止できる。従って、磁気ヘッドの浮上距離を短くした場合でも、磁気ヘッドの浮上姿勢や浮上量に変調をきたすことがなく、浮上走行中の磁気ヘッドが磁気記録ディスク１と接触してクラッシュを起こすこともない。それ故、本形態によれば、磁気記録ディスク１の耐久性、ＬＵＬ試験やＣＦＴ試験における耐久性などが向上する。
【００３５】
［実施の形態１の変形例１］
実施の形態１では、消波構造体３Ａとして、複数の消波ブロック３１Ａを積み上げることにより構成したが、全体が一体の消波構造体を用いてもよい。このような消波構造体を用いた場合も、消波構造体は、磁気記録ディスク用基板１０に凹凸を向けて一部が薬液２２の液面２２０から露出するように配置されるため、消波機能を発揮する。
【００３６】
また、消波手段としては、薬液槽２１の側面壁２１２の内周面に凹凸を形成し、この凹凸を消波構造体として利用してもよい。このような消波手段であっても、磁気記録ディスク用基板１０に凹凸を向けて一部が薬液２２の液面２２０から露出するように配置されることになるため、消波機能を発揮する。
【００３７】
さらに、実施の形態１では、消波構造体３Ａを薬液槽２１の底面２１１から薬液２２の液面２２０の上方位置にまで配置したが、消波構造体３Ａを薬液２２の液面２２０付近のみに配置した構成を採用してもよい。すなわち、消波ブロック３１Ａからなる消波構造体３Ａを薬液２２の液面付近のみに配置した構成、全体が一体の消波構造体を薬液２２の液面付近のみに配置した構成、消波手段としての凹凸を薬液槽２１の側面壁２１２に対して薬液２２の液面付近のみに形成した構成を採用してもよい。
【００３８】
さらにまた、磁気記録ディスク用基板１０と薬液槽２１の側面壁２１２との間で浮かぶ凹凸付きのフロート状の消波構造体を用いてもよい。ここで、フロート状の消波構造体は、複数のフロート状の消波ブロックからなるもの、あるいは全体が一体のもののいずれであってもよい。いずれも場合も、消波構造体は、磁気記録ディスク用基板１０に凹凸を向けて一部が薬液２２の液面２２０から露出するように配置されるため、消波機能を発揮する。
【００３９】
また、実施の形態１では、磁気記録ディスク用基板１０を四方で囲むように消波構造体を配置したが、例えば、磁気記録ディスク用基板１０と薬液槽２１の側面壁との距離が短い部分では大きな波Ｗが発生しやすいので、磁気記録ディスク用基板１０を囲む四方のうち、波Ｗが発生しやすい領域のみに消波構造体を配置してもよい。
【００４０】
［実施の形態１の変形例２］
実施の形態１では、浸漬引き上げ装置として、基板処理具２００を上下方向に駆動する昇降装置が用いたが、薬液槽２１を上下方向に駆動する昇降装置を用いてもよい。この場合、薬液２２の液面２２０から波を消失させる消波手段（消波部材）としては実施の形態１と同様なものを使用できる。
【００４１】
［実施の形態１の変形例３］
実施の形態１では、浸漬引き上げ装置として、基板処理具２００を上下方向に駆動する昇降装置が用いられたが、薬液槽２１内の薬液２２の液面を上下させる液面上下装置を用いてもよい。この場合、実施の形態１のように、消波構造体３Ａとして、複数の消波ブロック３１Ａを薬液槽２１の底面２１１から積み上げておけば、液面２２０がいずれの位置にあっても、引き上げ操作を行っている全てのタイミングにおいて波Ｗの消去を行うことができる。また、消波手段として薬液槽２１の側面壁２１２の内周面に凹凸を形成する場合でも、側面壁２１２の下端から凹凸を形成しておけば、引き上げ操作を行っている全てのタイミングにおいて波Ｗの消去を行うことができる。いずれの場合も、薬液槽２１の深さ方向のうち、引き上げ操作を行う際に液面２２０が移動する所定の範囲にわたって消波構造体３Ａを配置しておけばよい。
【００４２】
これに対して、消波ブロック３１Ａを液面２２０付近のみに配置した場合や、フロート式の消波構造体を用いる場合には、液面位置の上下変化に対応させて、消波ブロック３１Ａやフロート式の消波構造体を上下させればよい。
【００４３】
［実施の形態２］
図３は、本発明の実施の形態２に係る磁気記録ディスク製造用浸漬成膜装置の構成を模式的に示す説明図である。
【００４４】
本形態でも、図１（ａ）、（ｂ）を参照して説明した磁気記録ディスク１を製造するにあたって、非磁性基板１１の表面に下地層１２、磁性層１３および保護層１４を順に積層した製造途中品（以下、磁気記録ディスク用基板１０という）に潤滑層１５を形成する浸漬成膜工程に本発明を適用した浸漬成膜装置を用いる。なお、本形態は、基本的な構成が実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して説明する。
【００４５】
図３に示す浸漬成膜装置１００は、実施の形態１と同様、潤滑層１５を形成するための薬液２２を貯留しておく薬液槽２１と、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入されて複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を一括して支持する基板支持具３００を備えた基板処理具２００とを有している。ここで、基板処理具２００は、液溜まり除去具５００を有する場合もある。
【００４６】
また、浸漬成膜装置１００は、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０と薬液２２とを相対移動させて、磁気記録ディスク用基板１０の薬液２２への浸漬操作、および薬液２２からの引き上げ操作を行うための浸漬引き上げ装置（矢印Ｄで示す）を有している。このような浸漬引き上げ装置としては、本形態では、磁気記録ディスク用基板１０の薬液２２中へ浸漬操作、および薬液２２からの引き上げ操作を行う際、基板処理具２００を上下方向に駆動する昇降装置が用いられている。
【００４７】
また、本形態の浸漬成膜装置１００では、薬液槽２１には、引き上げ操作の際に薬液２２の液面２２０で波を減衰させて波立ちを抑制する消波手段（消波部材）として、薬液槽２１の側面壁２１２に沿う矩形枠状の消波構造体３Ｂが用いられている。この消波構造体３Ｂは、磁気記録ディスク用基板１０が浸漬される薬液槽２１の中央領域と側面壁２１２との間で薬液２２の液面２２０に被さるように配置され、薬液槽２１の側面壁２１２に短めのワイヤ３０Ｂなどで繋がれて、所定の高さ位置に保持されている。このような消波構造体３Ｂでは、波Ｗが発生したとき、波頭が消波構造体３Ｂの下面に突き当たることにより波Ｗが消失する。なお、本形態でも、消波構造体３Ｂは、薬液２２に接触するので、ＰＴＦＥ（テトラフルオロエチレン）樹脂、ＦＥＰ（パーフロロエチレンプロペン共重合）樹脂、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシ）樹脂などの耐薬液性の樹脂製のもの、金属製やセラミックス製のものを用いる。
【００４８】
このように構成した浸漬成膜装置１００を用いて磁気記録ディスク用基板１０の表面に潤滑層１５を形成するにあたっても、実施の形態１と同様、基板処理具２００においては、基板支持具３００を複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入し、この基板支持具３００により複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を垂直姿勢に支持した状態とする。そして、本形態では、薬液２２の液面２２０を一定位置に保っておく一方、昇降装置によって、基板処理具２００を下降させて、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を一括して薬液２２に浸漬する（浸漬操作）。
【００４９】
次に、所定の時間経過後、昇降装置によって、基板処理具２００を上昇させて、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を薬液２２から一定の速度、例えば、０．５ｍｍ／ｓｅｃの速度で引き上げる（引き上げ操作）。その際、磁気記録ディスク用基板１０では、薬液２２の液面２２０から出た部分で溶媒の蒸発が起こる。また、磁気記録ディスク用基板１０の引き上げ操作を行った際、磁気記録ディスク用基板１０を薬液２２の液面から引き上げる時の液面２２０の揺れや、基板処理具２００に付着した薬液２２の液滴が落下することによる液面２２０の揺れによって、薬液２２の表面に波Ｗが発生したとしても、かかる波Ｗは、薬液槽２１の側面壁２１２に到達して反射する前に、消波構造体３Ｂの消波機能により減衰、消失し、液面２２０は安定した状態にある。
【００５０】
このようにして引き上げた磁気記録ディスク用基板１０に対しては所定の条件で加熱処理が施され、潤滑層１５が磁気記録ディスク用基板１０に定着する。
【００５１】
このように本形態でも、実施の形態１と同様、浸漬法により磁気記録ディスク用基板１０の表面に潤滑層１５を形成するにあたって、薬液２２に対しては、薬液２２の液面２２０から波Ｗを消失させる消波手段（消波部材／消波構造体３Ｂ）を配置しておくため、２．５インチ以下の磁気記録ディスク用基板１０であっても、潤滑層１５に膜厚のむらが発生することを回避できるなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。
【００５２】
［実施の形態２の変形例１］
実施の形態２では、消波構造体３Ｂとして、全体が一体の枠体を用いたが、複数の部材を枠状に配置してもよい。また、実施の形態２では、消波構造体３Ｂをワイヤ３０Ｂにより側面壁２１２に繋いだ構成を採用したが、枠状の消波構造体３Ｂが側面壁２１２に完全に固定されている構成を採用してもよい。さらに、実施の形態２では、磁気記録ディスク用基板１０を四方で囲むように消波構造体３Ｂを配置したが、例えば、磁気記録ディスク用基板１０と薬液槽２１の側面壁との距離が短い部分では大きな波Ｗが発生しやすいので、磁気記録ディスク用基板１０を囲む四方のうち、波Ｗが発生しやすい領域のみに消波構造体Ｂを配置してもよい。
【００５３】
［実施の形態２の変形例２］
実施の形態２では、浸漬引き上げ装置として、基板処理具２００を上下方向に駆動する昇降装置が用いられたが、薬液槽２１を上下方向に駆動する昇降装置を用いてもよい。この場合、薬液２２の液面２２０から波を消失させる消波手段（消波部材）としては実施の形態２と同様なものを使用できる。
【００５４】
［実施の形態２の変形例３］
実施の形態２では、浸漬引き上げ装置として、基板処理具２００を上下方向に駆動する昇降装置が用いられたが、薬液槽２１内の薬液２２の液面を上下させる液面上下装置を用いてもよい。この場合には、液面２２０の上下変化に対応させて、消波構造体３Ｂを上下させればよい。また、消波構造体３Ｂを下面が斜め下向きになるように構成しておけば、消波構造体３Ｂを固定した場合であっても、液面２２０がいずれの位置にあるときでも消波構造体３Ｂが液面２２０を覆った状態になるので、常に消波機能を発揮させることができる。
【００５５】
［その他の実施の形態］
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上記形態では、浸漬法により磁気記録ディスク用基板表面に潤滑層１５を形成する場合を説明したが、保護層１４を浸漬法により形成する場合に本発明を適用してもよい。また、非磁性基板１１としてガラス基板の他、金属基板を用いた場合に本発明を適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、磁気記録ディスクを示す平面図、および磁気記録ディスクの概略断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る浸漬成膜装置の構成を模式的に示す説明図である。
【図３】本発明の実施の形態２に係る浸漬成膜装置の構成を模式的に示す説明図である。
【符号の説明】
【００５７】
１  磁気記録ディスク
３Ａ、３Ｂ  消波構造体（消波手段／消波部材）
１０  磁気記録ディスク用基板
１１  非磁性基板
１２  下地層
１３  磁性層
１４  保護層
１５  潤滑層
２１  薬液槽
２２  薬液
３１Ａ  消波ブロック
１００  浸漬成膜装置
２００  基板処理具
２１２  側面壁
３００  基板支持具
【図１】
2007095209.tif 000003
【図２】
2007095209.tif 000004
【図３】
2007095209.tif 000005