(57)【要約】【課題】ハウジングの洗浄を行う際に、低圧処理機器の運転を停止せず、基板処理の高生産歩留まりを実現できる低圧処理機器のハウジング移動装置等の提供を目的とする。【解決手段】この課題を達成するため、ベースをハウジングで覆い内部に基板を収容して低圧処理するための低圧処理機器のハウジングを移動させるための装置であって、第１エアーアクチュエータ、第２エアーアクチュエータ、前記第１エアーアクチュエータの一端側と第２エアーアクチュエータの一端側と間に設けた支持体、前記第１エアーアクチュエータの他端側に設ける少なくとも１つの第１滑動部材、前記第２エアーアクチュエータの他端側に設ける少なくとも１つの第２滑動部材、前記支持体に設け前記ハウジングに接続可能な少なくとも１つの第１接続部材を含む低圧処理機器のハウジング移動装置等を採用する。【選択図】図３
2007201461.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースをハウジングで覆い内部に基板を収容して低圧処理するための低圧処理機器のハウジングを移動させるための装置であって、
第１エアーアクチュエータ、第２エアーアクチュエータ、前記第１エアーアクチュエータの一端側と第２エアーアクチュエータの一端側と間に設けた支持体、前記第１エアーアクチュエータの他端側に設ける少なくとも１つの第１滑動部材、前記第２エアーアクチュエータの他端側に設ける少なくとも１つの第２滑動部材、前記支持体に設け前記ハウジングに接続可能な少なくとも１つの第１接続部材を含む低圧処理機器のハウジング移動装置。
【請求項２】
前記第１滑動部材は、ローラーである請求項１に記載のハウジング移動装置。
【請求項３】
前記第２滑動部材は、ローラーである請求項１に記載のハウジング移動装置。
【請求項４】
前記第１滑動部材は、前記第１エアーアクチュエータの下に設置される請求項１に記載のハウジング移動装置。
【請求項５】
前記第２滑動部材は、前記第２エアーアクチュエータの下に設置される請求項１に記載のハウジング移動装置。
【請求項６】
前記第１エアーアクチュエータ及び第２エアーアクチュエータが、前記支持体を第１基準位置と第２基準位置との間で縦方向に移動させるものである請求項１に記載のハウジング移動装置。
【請求項７】
前記第１接続部材は、フックである請求項１に記載のハウジング移動装置。
【請求項８】
請求項１にハウジング移動装置を用い、ベースをハウジングで覆い内部に基板を収容して低圧処理するための低圧処理機器のハウジング洗浄方法であって、
請求項１に記載のハウジング移動装置の前記第１接続部材を、前記ハウジングに連結し、
前記第１エアーアクチュエータと前記第２エアーアクチュエータとを動作させ、前記支持体を所定の第１基準位置から所定の第２基準位置に垂直方向に持ち上げることで、第１接続部材に連結した前記ハウジングを前記低圧処理機器から分離し、
前記ハウジング移動装置を水平方向にスライド移動し、前記ハウジングを清浄化処理台に移動することを特徴とした低圧処理機器のハウジング洗浄方法。
【請求項９】
基板の第１処理機器、前記低圧処理機器、基板の第２処理機器のそれぞれを配置した基板処理ラインであって、
当該第１処理機器と前記低圧処理機器と第２処理機器とは、直列方向（以下、「第２水平方向」と称する。）に配置し、
当該低圧処理機器から、当該第２水平方向に対する垂直方向（以下、「第１水平方向」と称する。）に前記ハウジング移動装置を水平方向にスライド移動するようにしたことを特徴とした基板処理ライン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低圧処理機器のハウジング移動装置及びハウジング洗浄方法並びに基板処理ラインに関する。特に、フォトレジストを乾燥する低圧処理機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
低圧処理機器は、特許文献１及び特許文献２等に開示されているように、種々の分野で使用されている。そして、これらはチャンバー内から製品を取り出したり、チャンバー内の清掃を行う際には、上部の開口部をオープンにして、行うものであり清掃作業の作業性が劣る。
【０００３】
これに対して、図９に示すような従来の低圧処理機器は、ベース１、ハウジング２、清浄化処理台３、支持体５、作動装置６と、排気パイプ７を含む構成を備えている。この図９に開示の低圧処理機器は、上記特許文献１及び特許文献２に開示の真空乾燥装置のチャンバー内の清掃よりも清掃作業性が向上している。基板台３は、ベース１の上に設置され、基板４を支持している。ハウジング２とベース１とは、チャンバー８を形成し、基板台３と基板４とを収容している。そして、排気パイプ７と支持体５とが、ベース１に設置されている。そして、作動装置６は、ベースの上に設置される。次に、図１０を参照しつつ説明すると、作動装置６は、支持体５とハウジング２とを押し上げ、ハウジング２をベース１から分離するように動作し、ロボット（図示を省略）が基板にアクセスして、基板を取り出す。
【０００４】
低圧処理機器１０が、フォトレジスト材料（例えば、樹脂）で被覆した基板を乾燥する場合には、揮発性薬品、粒子等が、ハウジング２と排気パイプ７との内壁に付着する。よって、ハウジング２と排気パイプ７とは、定期的な洗浄を必要とすることになる。従来、ハウジング２と排気パイプ７とは、ハウジング７が持ち上げられた状態で、手動で洗浄するのが一般的である。即ち、上記特許文献１及び上記特許文献２に開示のチャンバー構造と比べれば、清掃作業性は向上するが、未だ清掃作業は困難で、時間が掛かるものである。また、ハウジング２と排気パイプ７とを洗浄する場合、低圧処理機器１０の運転は停止して、基板処理の歩留まりの低下要因となっている。
【０００５】
【特許文献１】特開平６−３３７１９３号公報
【特許文献２】特開平５−１６１５１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、ハウジングの洗浄を行う際に、低圧処理機器１０の運転を停止せずに済み、基板処理の高生産歩留まりを実現できる低圧処理機器のハウジング移動装置、ハウジング洗浄方法及び基板処理ラインの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本件発明に係るハウジング移動装置：  本件発明に係るハウジング移動装置は、ベースをハウジングで覆い内部に基板を収容して低圧処理するための低圧処理機器のハウジングを移動させるための装置であって、第１エアーアクチュエータ、第２エアーアクチュエータ、前記第１エアーアクチュエータの一端側と第２エアーアクチュエータの一端側と間に設けた支持体、前記第１エアーアクチュエータの他端側に設ける少なくとも１つの第１滑動部材、前記第２エアーアクチュエータの他端側に設ける少なくとも１つの第２滑動部材、前記支持体に設け前記ハウジングに接続可能な少なくとも１つの第１接続部材を含むことを特徴とする。
【０００８】
本件発明に係るハウジング移動装置において、前記第１滑動部材は、ローラーであることが好ましい。
【０００９】
本件発明に係るハウジング移動装置において、前記第２滑動部材は、ローラーであることが好ましい。
【００１０】
本件発明に係るハウジング移動装置において、前記第１滑動部材は、前記第１エアーアクチュエータの下に設置することが好ましい。
【００１１】
本件発明に係るハウジング移動装置において、前記第２滑動部材は、前記第２エアーアクチュエータの下に設置することが好ましい。
【００１２】
本件発明に係るハウジング移動装置において、前記第１エアーアクチュエータ及び第２エアーアクチュエータが、前記支持体を第１基準位置と第２基準位置との間で縦方向に移動させるものであることが好ましい。
【００１３】
本件発明に係るハウジング移動装置において、前記第１接続部材には、フックを用いることが好ましい。
【００１４】
本件発明に係るハウジング洗浄方法：  本件発明に係るハウジング洗浄方法は、上述のハウジング移動装置を用い、ベースをハウジングで覆い内部に基板を収容して低圧処理するための低圧処理機器のハウジング洗浄方法であって、上述のハウジング移動装置の前記第１接続部材を、前記ハウジングに連結し、前記第１エアーアクチュエータと前記第２エアーアクチュエータとを動作させ、前記支持体を所定の第１基準位置から所定の第２基準位置に垂直方向に持ち上げることで、第１接続部材に連結した前記ハウジングを前記低圧処理機器から分離し、前記ハウジング移動装置を水平方向にスライド移動し、前記ハウジングを清浄化処理台に移動することを特徴とした低圧処理機器のハウジング洗浄方法である。
【００１５】
本件発明に係る基板処理ライン：  本件発明に係る基板処理ラインは、基板の第１処理機器、前記低圧処理機器、基板の第２処理機器のそれぞれを配置した基板処理ラインであって、当該第１処理機器と前記低圧処理機器と第２処理機器とは、直列方向（以下、「第２水平方向」と称する。）に配置し、当該低圧処理機器から、当該第２水平方向に対する垂直方向（以下、「第１水平方向」と称する。）に前記ハウジング移動装置を水平方向にスライド移動するようにしたことを特徴としたものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のハウジング移動装置は、基板の低圧処理機器のハウジングをベースから取り外し、製造ラインの外に出して清浄するためのものである。よって、使用済みの元のハウジング（第１ハウジング）が清浄されていても、他のハウジング（第２ハウジング）をベースの上に設置して、低圧処理を連続して行うことが可能である。よって、低圧処理機器の運転停止時間が短縮化され、生産歩留まりが飛躍的に向上し、基板の生産コストが向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の目的、特徴、長所が、より一層明確に理解できるよう、以下に図面を参照しつつ、その実施形態を例示して詳細に説明する。
【００１８】
本発明においては、低圧処理機器のハウジングを輸送する方法とその移動装置を提供することを目的としている。そして、当該ハウジングが、ベースから取り外し可能で、容易に洗浄出来るように構成されている。
【００１９】
図１から、本発明の低圧処理機器１００のハウジング１１０を輸送する移動装置２００の関係が分かる。低圧処理機器１００は、ハウジング１１０、ベース１２０と、２つのエアーアクチュエータ１３０を含んでいる。そして、排気パイプ１１２が、ハウジング１１０の内部に設置されている。また、一例として言えば、環状構造を備える第１接続部材１１１を、ハウジング１１０の外表面に設ける。本発明の低圧処理機器１００は、以上のような構成要素を備え、ハウジング１１０がベース１２０の上に設置されたときに、ハウジング１１０とベース１２０とでチャンバー１４０を形成し、このチャンバー１４０内に基板１５０を入れて、排気パイプ１１２で強制排気して低圧雰囲気を作り、基板の低圧処理を行う。
【００２０】
次に、図２を参照しつつ説明する。前記チャンバー１４０の内で基板１５０の低圧処理が終了すると、前記チャンバー１４０内にエアーをスローリークして大気雰囲気に戻し、エアーアクチュエータ１３０を用いて、ハウジング１１０を開放する。そして、基板１２０を取り外し分離可能な状態とし、ロボット（図示せず）を基板１５０にアクセスさせて、基板１２０を取り出す。
【００２１】
ここでは、図３を参照して説明する。移動装置２００は、第１エアーアクチュエータ２１０、第２エアーアクチュエータ２２０、複数の第１滑動部材２１１、複数の第２滑動部材２２１、支持体２３０と、複数の第２接続部材２３１を含む構造を備えている。そして、支持体２３０は、第１エアーアクチュエータ２１０と第２エアーアクチュエータ２２０と連結して支持されるものである。また、第１滑動部材２１１は、第１エアーアクチュエータ２１０の下面に設置する。そして、同様に第２滑動部材２２１は、第２エアーアクチュエータ２２０の下面に設置する。第１滑動部材２１１と第２滑動部材２２１とは、例えばローラーを用いる。また、第２接続部材２３１には、鉤状のフックとして、支持体２３０に固定設置する。そして、ハウジング１１０を清浄するためには、ハウジング１１０とベース１２０とが分離したときに、先ず、エアーアクチュエータ１３０が動作して、ハウジング１１０が持ち上げられ、続いて第１エアーアクチュエータ２１０と第２エアーアクチュエータ２２０とが動作して、支持体２３０を第１基準位置Ａ１まで下げ、第２接続部材２３１と第１接続部材１１１とを連結させる。
【００２２】
次に、図４を参照して説明する。第２接続部材２３１と第１接続部材１１１とが連結した後、第１エアーアクチュエータ２１０と第２エアーアクチュエータ２２０とは、支持体２３０を第２基準位置Ａ２に持ち上げる。この結果、ハウジング１１０が、エアーアクチュエータ１３０と分離して、ベース１２０から完全に分離した状態になる。
【００２３】
更に、図５には、低圧処理機器１００と移動装置２００との側面図を示している。支持体２３０がハウジング１１０を第２基準位置Ａ２に持ち上げた後、移動装置２００が、滑動部材２１１と滑動部材２２１とによって、第１水平方向ｙに向けてスライド移動する。そして、図６に示すように、移動装置２００は、ハウジング１１０を清浄化処理台２５０に向けて移動して、ハウジング１１０の洗浄を行う。
【００２４】
図７は、基板処理ライン３００に設置された低圧処理機器１００を表している。基板処理ライン３００は、複数のストッカー３１０、洗浄ユニット（第１処理機器）３２０、フォトレジストコーティングユニット（第２処理機器）３３０、低圧処理機器１００、露光ユニット３４０と、ロボット３５０を含んでいる。洗浄ユニット（第１処理機器）３２０、フォトレジストコーティングユニット（第２処理機器）３３０と、低圧処理機器１００とは、第２水平方向ｘの方向に沿って配列する。そして、図８から分かるように、移動装置２００が、取り外したハウジング１１０を、第１水平方向ｙの方向に、清浄化処理台２５０まで移動させる。このときの第１水平方向ｙは、第２水平方向ｘに対して垂直の方向である。このような本発明に係る実施形態では、当該低圧処理機器１００は、フォトレジスト材料（例えば、樹脂）の有機溶剤を乾燥させることを目的とした場合を示している。
【００２５】
本発明の移動装置２００は、低圧処理機器１００のハウジング１１０を、ベース１２０から取り外して洗浄する際に用いるものである。よって、既に使用した元のハウジング（第１ハウジング）の清浄を行う際には、ベース上に洗浄対象のハウジングが存在しない。従って、１つのハウジングは洗浄を行いつつ、他のハウジング（第２ハウジング）をベースの上に設置して、基板の低圧処理を続けることが可能で、洗浄処理と低圧処理とを同時に行うことができる。よって、低圧処理機器の運転停止時間の短縮化が可能であり、生産歩留まりが高く及び生産コストの削減が可能になる。
【００２６】
その他の実施形態としては、移動装置２００は、第２エアーアクチュエータを省略して、第１エアーアクチュエータのみを用いてハウジングを持ち上げるようにすることも可能である。この実施例では、第１エアーアクチュエータに高い出力と支持体に対し高剛性が高められる。
【００２７】
以上、本発明の好適な実施形態を例示したが、これは本発明の技術的思想に限定を行うためのものではなく、本発明の技術的思想及び範囲を逸脱しない限りにおいて、当業者であれば行い得る多少の変更、修飾要素の付加を行うことが可能である。従って、本発明が保護を請求する範囲は、特許請求の範囲を基準とする。
【産業上の利用可能性】
【００２８】
本発明のハウジング移動装置は、基板の低圧処理機器のハウジングをベースから取り外し、製造ラインの外に出して清浄するためのものである。しかも、洗浄対象となる使用済みのハウジング（第１ハウジング）の清浄化を行いと同時に、他のハウジング（第２ハウジング）をベースの上に設置して、低圧処理を連続して行うことが可能である。この結果、当該ハウジングを洗浄しようとしたときの低圧処理機器の運転休止時間が短縮化されできる。従って、本発明のハウジング移動装置及びハウジングの洗浄方法は、プリント配線板の液体レジスト等の乾燥を必要とするレジストレーション工程等の一貫した製造ラインに適用することが好適で、基板製品の生産歩留まりが飛躍的に向上し、基板の生産コストが向上する。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明に係るハウジング移動装置と低圧処理機器を表す模式図である。
【図２】本発明に係るハウジング移動装置で低圧処理機器のベースからハウジングを分離した状態を示す模式図である。
【図３】本発明に係るハウジング移動装置でハウジングを持ち上げ、第１基準位置にあるときの様子を示した模式図である。
【図４】本発明に係るハウジング移動装置でハウジングを持ち上げ、第２基準位置にあるときの様子を示した模式図である。
【図５】本発明に係るハウジング移動装置を用いてハウジングを第１水平方向にスライド移動したときの様子を示す模式図である。
【図６】本発明に係るハウジング移動装置を用いて、ハウジングを第１水平方向にスライド移動し、清浄化処理台に移動したときの様子を示す模式図である。
【図７】基板処理ラインの中に配置した本発明に係る低圧処理機器を示す模式図である。
【図８】基板処理ラインの中で、ハウジングを第１水平方向に移動した様子を示す模式図である。
【図９】従来の低圧処理機器を表している。
【図１０】従来の低圧処理機器のベースから、ハウジングを分離した状態を示す模式図である。
【符号の説明】
【００３０】
１      ベース
２      ハウジング
３      基板台
４      基板
５      支持体
６      作動装置
７      排気パイプ
８      チャンバー
１０    低圧処理機器
１００  低圧処理機器
１１１  接続構造
１１２  排気パイプ
１２０  ベース
１３０  エアーアクチュエータ
１４０  チャンバー
１５０  基板
２００  移動装置
２１０  第１エアーアクチュエータ
２１１  第１滑動部材
２２０  第２エアーアクチュエータ
２２１  第２滑動部材
２３０  支持体
２３１  接続部材
２５０  清浄化処理台
３００  基板処理ライン
３１０  ストッカー
３２０  洗浄ユニット（第１処理機器）
３３０  フォトレジストコーティングユニット（第２処理機器）
３４０  露光ユニット
３５０  ロボット
【図１】
2007201461.tif 000003
【図２】
2007201461.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2007201461.tif 000008
【図７】
2007201461.tif 000009
【図８】
2007201461.tif 000010
【図９】
2007201461.tif 000011
【図１０】
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