(57)【要約】【課題】対物レンズである静電レンズに微量な塵が付着してしまうことを防止し、静電レンズに高電圧を印加することが可能な荷電粒子ビーム装置を提供する。  【解決手段】荷電粒子ビーム装置１は、チャンバー内排気手段４によって内部２ａを排気可能なチャンバー２と、チャンバー２の内部２ａに配置された試料Ｓに対して荷電粒子ビームＢ１を照射する鏡筒３とを備えている。鏡筒３は、荷電粒子ビームＢ１が放出される照射口６が形成された筒体５と、筒体５の内部５ｂの基端５ｃ側に収容され、荷電粒子ビームＢ１を放出する荷電粒子供給部７と、筒体５の内部５ｂの先端５ａ側に収容され、電界を発生させ、荷電粒子供給部７から放出された荷電粒子ビームＢ１を集束させる静電レンズを有した対物レンズ１１とを備えている。鏡筒３の筒体５には、筒体５の内部５ｂにガスＧを供給可能な給気手段１２が、対物レンズ１１の基端側に設けられている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
チャンバー内排気手段によって内部を排気可能なチャンバーと、該チャンバーの内部に配置された試料に対して荷電粒子ビームを照射する鏡筒とを備えた荷電粒子ビーム装置であって、
前記鏡筒は、先端に前記チャンバーと連通して前記荷電粒子ビームが放出される照射口が形成された筒体と、
該筒体の内部の基端側に収容され、前記荷電粒子ビームを放出する荷電粒子供給部と、
前記筒体の内部の先端側に収容され、電圧を印加することで電界を発生させ、前記荷電粒子供給部から放出された前記荷電粒子ビームを集束させる静電レンズを有した対物レンズとを備え、
前記鏡筒の前記筒体には、前記筒体の内部にガスを供給可能な給気手段が、前記対物レンズの基端側に設けられていることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
【請求項２】
請求項１に記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記給気手段は、先端部が前記対物レンズの基端側に設けられた給気管と、
該給気管の基端部に接続され、前記ガスを供給するガス供給部と、
前記給気管を開閉可能な給気バルブとを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
【請求項３】
請求項２に記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記給気手段の前記給気管には、前記ガス供給部から供給される前記ガスに混入した塵を除去可能なフィルタが設けられていることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記給気手段の前記給気管のうち、少なくとも前記筒体の内部に配置された前記先端部は、金属で形成されていることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
【請求項５】
請求項２から請求項４のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記給気手段の前記給気管のうち、少なくとも前記筒体の内部に配置された前記先端部には、真空焼き出し処理が施されていることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記給気手段と前記荷電粒子供給部との間には、前記筒体の内部の先端側と基端側とを開閉可能な筒体バルブが設けられているとともに、
前記筒体の基端側には、前記荷電粒子供給部が収容された前記筒体の基端側を前記チャンバーの真空状態よりも高い超高真空に維持することが可能な供給部排気手段が設けられていることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の荷電粒子ビーム装置において、
前記対物レンズは、前記静電レンズが発生させる電界に対して重畳的に磁界を発生させて前記荷電粒子ビームを集束させる磁界レンズをさらに有することを特徴とする荷電粒子ビーム装置
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、試料に荷電粒子ビームを照射して、試料の加工、観察を行う荷電粒子ビーム装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、真空雰囲気内で試料に荷電粒子ビームを照射することで、試料表面の加工や観察などを行う荷電粒子ビーム装置が提供されている。図３は、このような荷電粒子ビーム装置５０の概略を示すものであり、試料Ｓが配置されるチャンバー５１と、チャンバー５１の内部に配置された試料Ｓに荷電粒子ビームＢを照射する鏡筒５２とを備えている。鏡筒５２は、荷電粒子源５３ａを有する荷電粒子供給部５３と、電圧を印加可能な静電レンズであるコンデンサレンズ５４及び対物レンズ５５とを備えている。また、チャンバー５１には、内部を排気可能な排気手段５６と、内部にＮ２などのガスを給気可能な給気手段５７とが設けられている。このような、荷電粒子ビーム装置５０においては、排気手段５６によってチャンバー５１及び鏡筒５２の内部を高真空雰囲気として、対物レンズ５５に電圧を印加する。この状態で、荷電粒子供給部５３の荷電粒子源５３ａから引き出された荷電粒子は、加速されて荷電粒子ビームＢ５０として放出される。そして、放出された荷電粒子ビームＢ５０がコンデンサレンズ５４及び対物レンズ５５のそれぞれによって形成される電界によって集束され、試料Ｓに照射されることで、試料Ｓの表面の加工や観察が行われる。このようにして、試料Ｓの加工や観察が完了した後、試料Ｓは図示しない試料搬送口から外部へ搬送される。この際、チャンバー５１及び鏡筒５２の内部は、高真空雰囲気であり、試料搬送口を開放すれば、外気とともに外気中の塵が大量に侵入してしまう。このため、給気手段５７によってチャンバー５１及び鏡筒５２の内部にガスを充填して大気圧に近い状態とした後に、試料搬送口から試料Ｓの搬送を行う。
【０００３】
このような荷電粒子ビーム装置５０としては、より具体的には、例えば、荷電粒子源としてイオン源を用いて、イオンビームを試料に照射する集束イオンビーム装置がある（例えば、特許文献１参照）。このような集束イオンビーム装置５０においては、試料にイオンビームを照射することで試料表面のエッチングを行い、あるいは、同時にアシストガスを供給することで試料表面にデポジションを行うことなどができる。また、荷電粒子源として電子源を用いて、電子源から引き出して加速した電子ビームを試料に照射して、試料表面の観察を行う走査電子顕微鏡などもある。これらの荷電粒子ビームにおいては、対物レンズとして使用される静電レンズに高電圧を印加することによって、収差を小さくして効果的に荷電粒子ビームを集束させることができる。このように効果的に荷電粒子ビームを集束させることで、集束イオンビーム装置においては試料表面をより正確に加工することが可能となり、また、走査電子顕微鏡においては、高分解能の観察像を得ることができるようになる。近年、加工、観察の対象となる試料がさらに微小なものとなり、より正確な加工及び観察を行うために、静電レンズに、より高電圧を印加して加工、観察を行う方法が試みられている。
【特許文献１】特開２００２−２５１９７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、静電レンズに、より高電圧を印加することで、従来問題とならなかった微量な塵が静電レンズに付着してしまうだけで、静電レンズで放電が発生してしまう問題があった。上述のように、従来、外部からの塵の侵入を防ぐため、チャンバーから外部へ試料を搬送する際には給気手段によるガスの供給を行っていたが、塵の侵入を完全に防ぐことはできない。また、試料に付着した塵も存在するため、チャンバーの内部には常に微量の塵が存在する。そして、高真空雰囲気にあるチャンバーの内部に給気手段によってガスを供給することで、このような塵はガスとともに舞い上がり、鏡筒の内部に流入して対物レンズに付着し、放電の原因となってしまう。
【０００５】
この発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって、対物レンズである静電レンズに微量な塵が付着してしまうことを防止し、静電レンズに高電圧を印加することが可能な荷電粒子ビーム装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
本発明は、チャンバー内排気手段によって内部を排気可能なチャンバーと、該チャンバーの内部に配置された試料に対して荷電粒子ビームを照射する鏡筒とを備えた荷電粒子ビーム装置であって、前記鏡筒は、先端に前記チャンバーと連通して前記荷電粒子ビームが放出される照射口が形成された筒体と、該筒体の内部の基端側に収容され、前記荷電粒子ビームを放出する荷電粒子供給部と、前記筒体の内部の先端側に収容され、電圧を印加することで電界を発生させ、前記荷電粒子供給部から放出された前記荷電粒子ビームを集束させる静電レンズを有した対物レンズとを備え、前記鏡筒の前記筒体には、前記筒体の内部にガスを供給可能な給気手段が、前記対物レンズの基端側に設けられていることを特徴としている。
【０００７】
この発明に係る荷電粒子ビーム装置によれば、チャンバーの内部にガスを充填する際に、ガスは、筒体の内部において対物レンズの基端側から給気手段によって供給される。このため、ガスは、まず筒体の内部に充填され筒体の気圧を高めるとともに、筒体の照射口からチャンバーへ流入し、チャンバーの内部に充填される。すなわち、給気手段から供給されるガスは、対物レンズである静電レンズが収容された筒体からチャンバーに向って流入するので、チャンバーの内部に存在する微量な塵が舞い上がることがなく、静電レンズに塵が付着するのを防ぐことができる。このため、静電レンズに高電圧を印加したとしても放電することが無く、荷電粒子供給部から放出された荷電粒子ビームを静電レンズによって効果的に集束し、チャンバーの内部に配置された試料に照射することができる。
【０００８】
また、上記の荷電粒子ビーム装置において、前記給気手段は、先端部が前記対物レンズの基端側に設けられた給気管と、該給気管の基端部に接続され、前記ガスを供給するガス供給部と、前記給気管を開閉可能な給気バルブとを備えることがより好ましいとされている。
この発明に係る荷電粒子ビーム装置によれば、給気バルブを開放することで、ガス供給部から供給されるガスは、供給管を介して、供給管の先端部が設けられた対物レンズの基端側に放出される。
【０００９】
さらに、上記の荷電粒子ビーム装置において、前記給気手段の前記給気管には、前記ガス供給部から供給される前記ガスに混入した塵を除去可能なフィルタが設けられていることがより好ましいとされている。
この発明に係る荷電粒子ビーム装置によれば、給気管にフィルタが設けられていることで、ガス供給部から供給されるガスに混入した微量な塵も排除することができ、より確実に対物レンズである静電レンズの放電を防止することができる。
【００１０】
また、上記の荷電粒子ビーム装置において、前記給気手段の前記給気管のうち、少なくとも前記筒体の内部に配置された前記先端部は、金属で形成されていることがより好ましいとされている。
この発明に係る荷電粒子ビーム装置によれば、給気管の先端部を金属で形成することで、高真空雰囲気における給気管の先端部からの脱ガスを抑え、チャンバー及び筒体の内部の高真空状態を保つことができる。
【００１１】
また、上記の荷電粒子ビーム装置において、前記給気手段の前記給気管のうち、少なくとも前記筒体の内部に配置された前記先端部には、真空焼き出し処理が施されていることがより好ましいとされている。
この発明に係る荷電粒子ビーム装置によれば、給気管の先端部に真空焼き出し処理が施されていることで、高真空雰囲気における給気管の先端部からの脱ガスを抑え、チャンバー及び筒体の内部の高真空状態を保つことができる。
【００１２】
また、上記の荷電粒子ビーム装置において、前記給気手段と前記荷電粒子供給部との間には、前記筒体の内部の先端側と基端側とを開閉可能な筒体バルブが設けられているとともに、前記筒体の基端側には、前記荷電粒子供給部が収容された前記筒体の基端側を前記チャンバーの真空状態よりも高い超高真空に維持することが可能な供給部排気手段が設けられていることがより好ましいとされている。
この発明に係る荷電粒子ビーム装置によれば、給気手段によってガスを供給する際に、筒体バルブを閉塞することで、荷電粒子供給部が収容された筒体の基端側にガスが流入するのを防ぐことができる。さらに、筒体バルブを閉塞した状態で、筒体の基端側をチャンバー内排気手段と別の供給部排気手段によって排気することができる。このため、試料を加工または観察する際にチャンバー及び筒体の内部を効率良く排気し、筒体の基端側を超高真空に維持することができるともに、加工、観察が完了した後は給気手段によって給気する範囲を必要最小限にして、効率良く給気することができる。
【００１３】
また、上記の荷電粒子ビーム装置において、前記対物レンズは、前記静電レンズが発生させる電界に対して重畳的に磁界を発生させて前記荷電粒子ビームを集束させる磁界レンズをさらに有することがより好ましいとされている。
この発明に係る荷電粒子ビーム装置によれば、静電レンズによって電界を発生させるとともに、磁界レンズによって重畳的に磁界を発生させることで、効果的に荷電粒子ビームを集束させることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の荷電粒子ビーム装置によれば、チャンバー及び鏡筒の筒体の内部にガスを給気する給気手段が対物レンズよりも基端側に設けられていることで、微量な塵が対物レンズである静電レンズに付着するのを防ぐことができる。このため、静電レンズに高電圧を印加したとしても、微量な塵に起因する放電を防ぐことができ、試料に照射される荷電粒子ビームを効果的に集束させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（第１の実施形態）
図１は、この発明に係る第１の実施形態を示している。図１に示すように、荷電粒子ビーム装置である集束イオンビーム装置（ＦＩＢ）１は、試料Ｓに荷電粒子ビームであるイオンビームＢ１を照射することによって、試料Ｓの表面の加工等を行うものである。例えばウエハを試料Ｓとして配置し、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）観察用の試料を作製することができる。また、フォトリソグラフィ技術におけるフォトマスクを試料Ｓとして、フォトマスクの修正などを行うことができる。以下、本実施形態における集束イオンビーム装置１の詳細について説明する。
【００１６】
図１に示すように、集束イオンビーム装置１は、内部２ａに試料Ｓを配置可能な試料台２ｂが設けられたチャンバー２と、試料Ｓに対してイオンビームＢ１を照射する鏡筒３とを備える。チャンバー２には、チャンバー内排気手段４が設けられており、チャンバー２の内部２ａを排気して、高真空雰囲気にすることが可能である。チャンバー内排気手段４は、例えばロータリポンプ、ターボポンプなどの真空ポンプであり、排気バルブ４ａによって開閉可能となっている。
【００１７】
また、鏡筒３は、先端５ａにチャンバー２と連通する照射口６が形成された筒体５と、筒体５の内部５ｂにおいて、基端５ｃ側に収容された荷電粒子供給部であるイオン供給部７とを備える。イオン供給部７は、イオンを供給するイオン源８を備え、イオン源８からイオンを引き出し加速させて、イオンビームＢ１を放出する。イオン源８を構成するイオンとしては、例えばガリウムイオン（Ｇａ＋）などである。また、筒体５の内部５ｂにおいて、イオン供給部７よりも先端側には、イオン供給部７から放出されたイオンビームＢ１を集束させる光学系９が設けられている。光学系９は、コンデンサレンズ１０と、対物レンズ１１とを備える。コンデンサレンズ１０は、イオン供給部７よりも先端側に配置され、イオン供給部７から放出されたイオンビームＢ１を集束させる。また、対物レンズ１１は、コンデンサレンズ１０よりもさらに先端側に配置され、コンデンサレンズ１０で集束されたイオンビームＢ１をさらに集束させて、試料Ｓの所定の照射位置に照射させる。コンデンサレンズ１０及び対物レンズ１１は、中心にイオンビームＢ１が通過する貫通孔１０ａ、１１ａが形成された３枚の電極で形成されている。そして、両端の電極に対して中間の電極の電位を変化させることによって、貫通孔１０ａ、１１ａの内部に電界を発生させて、通過するイオンビームＢ１を集束させることが可能である。なお、図示しないが、光学系９として、さらにブランキング電極、偏向電極等を備えるものとしても良い。
【００１８】
また、図１に示すように、対物レンズ１１の基端側には給気手段１２が設けられている。給気手段１２は、先端部１３ａが対物レンズ１１の基端側に設けられた給気管１３と、給気管１３の基端部１３ｂに接続され、ガスＧを供給するガス供給部１４とを備えている。ガスＧとしては、例えばＮ２であり、不活性な物質で形成されたドライガスであることが好ましい。給気管１３のうち、筒体５の内部５ｂに配置された先端部１３ａは、真空焼き出し処理が施された金属で形成されており、筒体５と同電位となるように電気的に接続されている。なお、真空焼き出し処理とは、真空雰囲気下において、１５０℃程度の温度で焼き出す処理のことであり、被処理材の脱ガスを行うことができるものである。また、給気管１３には、給気管１３を開閉可能な給気バルブ１５と、ガス供給部１４から供給されるガスＧに混入した塵を除去可能なフィルタ１６が設けられている。さらに、筒体５の内部５ｂにおいて、給気管１３の先端部１３ａとコンデンサレンズ１０との間には、先端５ａ側と基端５ｃ側とを開閉可能な筒体バルブ１７が設けられているとともに、基端５ｃ側においてイオン供給部７の側方には、供給部排気手段１８が設けられている。供給部排気手段１８は、例えばイオンポンプであり、筒体５の内部５ｂのうち、イオン供給部７が収容された基端５ｃ側をチャンバー２の真空状態よりも高い真空度に維持することが可能である。
【００１９】
次に、集束イオンビーム装置１の作用について説明する。図１に示すように、まず、試料台２ｂに試料Ｓを配置するとともに、チャンバー２の内部２ａ及び筒体５の内部５ｂを排気して高真空雰囲気とさせる。すなわち、筒体バルブ１７を閉塞した状態で、チャンバー内排気手段４によってチャンバー２の内部２ａ、及び筒体５の内部５ｂのうち、先端５ａ側を排気する。さらに、供給部排気手段１８によって筒体５の基端５ｃ側を排気する。このように筒体バルブ１７を閉塞して、チャンバー内排気手段４及び供給部排気手段１８で排気することで、効率良く排気することができる。この際、給気管１３の先端部１３ａが、金属で形成され、また真空焼き出し処理が施されていることで、高真空雰囲気における給気管１３の先端部１３ａからの脱ガスを抑え、チャンバー２の内部２ａ及び筒体５の内部５ｂを高真空状態に保つことができる。そして、この状態で筒体バルブ１７を開放して、イオンビームＢ１による試料Ｓの加工を開始する。すなわち、光学系９のコンデンサレンズ１０及び対物レンズ１１に電圧を印加して、各貫通孔１０ａ、１１ａに電界を発生させる。そして、イオン供給部７のイオン源８から引き出され加速したイオンビームＢ１は、コンデンサレンズ１０によって集束され、さらに対物レンズ１１によって集束されることで、試料Ｓの所定の照射位置に照射される。集束されたイオンビームＢ１を図示されていない偏向手段によって試料Ｓ上を走査し、図示されていない二次荷電粒子を検出することで試料表面の観察が可能となる。また、試料Ｓ内の特定領域を走査することで、試料Ｓの加工を行うことが可能である。
【００２０】
次に、試料Ｓの加工が完了したら、試料Ｓを図示しない試料搬送口からチャンバー２の外部へ搬送する。まず、筒体バルブ１７を閉塞するとともに、給気手段１３によって、チャンバー２の内部２ａ及び筒体５の内部５ｂに大気圧となるようにガスＧを充填させて、試料搬送口から外部の塵が侵入しないように処置を行う。より詳しくは、給気手段１３の給気バルブ１５を開放し、ガス供給部１４のガスＧを、フィルタ１６を介して対物レンズ１１の基端側に供給する。そして、供給されたガスＧは、筒体５の内部５ｂのうち、筒体バルブ１７よりも先端５ａ側に充填され、筒体５の内部５ｂの気圧を高めるとともに、筒体５の照射口６からチャンバー２へ流入し、チャンバー２の内部２ａに充填される。このように、給気手段１２から供給されるガスＧが対物レンズ１１である静電レンズが収容された筒体５からチャンバー２に向って流入することで、チャンバー２の内部２ａに微量な塵が存在したとしても、このような塵が舞い上がることがなく、対物レンズ１１である静電レンズに付着してしまうことが無い。
【００２１】
以上のように、給気手段１２が対物レンズ１１よりも基端側に設けられていることで、微量な塵等に起因する静電レンズの放電を防ぐことができる。このため、対物レンズ１１である静電レンズに、より高電圧を印加して、試料Ｓに照射されるイオンビームＢ１を効果的に集束させて試料Ｓに照射することができ、試料Ｓをより正確に加工することができる。また、給気手段１２において、フィルタ１６を設けることで、ガス供給部１４から供給されるガスＧに微量な塵が混入していたとしても排除することができ、より確実に対物レンズ１１である静電レンズの放電を防ぐことができる。さらに、筒体バルブ１７及び供給部排気手段１８が設けられていることによって、試料Ｓを加工する際には、チャンバー２の内部２ａ及び筒体５の内部５ｂを効率良く排気することができる。また、給気手段１２によってガスＧを供給する際には、イオン供給部７が収容された筒体５の基端５ｃ側にガスＧが流入するのを防ぎ、給気する範囲を必要最小限にして、効率良く給気することができる。
【００２２】
また、本実施形態の変形例の荷電粒子ビームとしては、図１に示すように、イオン源８を電子源２２と置き換えることで、荷電粒子供給部を電子供給部２１とした、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）２０としても良い。このような走査電子顕微鏡２０においても同様に、給気手段１２が対物レンズ１１よりも基端側に設けられていることで、コンデンサレンズ１０及び対物レンズ１１に、より高電圧を印加することができる。このため、電子供給部２１から放出された電子ビームＢ２０を効果的に集束させて試料Ｓに照射することができ、高分解能の観察像を提供することができる。
【００２３】
（第２の実施形態）
図２は、この発明に係る第２の実施形態を示している。この実施形態において、前述した実施形態で用いた部材と共通の部材には同一の符号を付して、その説明を省略する。
【００２４】
図２に示すように、荷電粒子ビーム装置である走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）３０は、光学系３１として、コンデンサレンズ３２と、対物レンズ３３とを備えている。コンデンサレンズ３２は、磁界レンズとして作用するコイル３４を有している。また、対物レンズ３３は、磁界レンズとして作用するコイル３５と、コイル３５に挿通された静電レンズとして作用する電極３６とを有している。コンデンサレンズ３２においては、コイル３４に電流を流すことによって磁界を発生させることができる。また、対物レンズ３３においては、電極３６に電圧を印加して電界を発生させるとともに、コイル３５に電流を流すことで重畳的に磁界を発生させることができる。すなわち、電子供給部２１から放出された電子ビームＢ３０は、コンデンサレンズ３２において磁界が作用することで集束される。さらに、対物レンズ３３において電界と磁界が重畳的に作用することで、給気手段１２を対物レンズ３３の基端側に設けることによる効果と相まって、より効果的に荷電粒子ビームである電子ビームＢ３０を集束させることができる。
【００２５】
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【００２６】
なお、荷電粒子ビーム装置として、集束イオンビーム装置及び走査電子顕微鏡を例に挙げたがこれらに限られるものは無い。イオンビームを照射する鏡筒と電子ビームを照射する鏡筒を両方備えたＦＩＢ・ＳＥＭ複合機としても良い。少なくとも、荷電粒子を加速させた荷電粒子ビームを、静電レンズによって集束させる装置であれば、同様の効果を期待することができる。また、荷電粒子ビームを集束させる光学系として、コンデンサレンズ及び対物レンズを備えるものとしたが、これに限られるものでは無い。少なくとも鏡筒の筒体の先端側に対物レンズが設けられていれば、荷電粒子ビームを集束させて、試料の所定の照射位置に照射することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】この発明の第１の実施形態の荷電粒子ビーム装置の構成図である。
【図２】この発明の第２の実施形態の荷電粒子ビーム装置の構成図である。
【図３】従来の荷電粒子ビーム装置の構成図である。
【符号の説明】
【００２８】
１  集束イオンビーム装置（荷電粒子ビーム装置）
２  チャンバー
２ａ  内部
３  鏡筒
４  チャンバー内排気手段
５  筒体
５ａ  先端
５ｂ  内部
５ｃ  基端
６  照射口
７  イオン供給部（荷電粒子供給部）
８  イオン源
１１、３３  対物レンズ
１２  給気手段
１３  給気管
１３ａ  先端部
１３ｂ  基端部
１４  ガス供給部
１５  供給バルブ
１６  フィルタ
１７  筒体バルブ
１８  供給部排気手段
２０、３０  走査電子顕微鏡（荷電粒子ビーム装置）
２１  電子供給部（荷電粒子供給部）
２２  電子源
３５  コイル（磁界レンズ）
３６  電極（電界レンズ）
Ｂ１  イオンビーム（荷電粒子ビーム）
Ｂ２０、Ｂ３０  電子ビーム（荷電粒子ビーム）
Ｇ  ガス
Ｓ  試料
【図１】
2007200648.tif 000003
【図２】
2007200648.tif 000004
【図３】
2007200648.tif 000005