(57)【要約】【課題】基板上に描画点を形成する描画ヘッドを、基板に対して相対的に移動させ、その移動に応じて描画ヘッドにより基板上に画像を描画する描画装置において、コストアップを招くことなく、設置環境の振動の影響による画像品質の劣化を抑制する。【解決手段】画像の描画中における、基板および描画ヘッドの相対的な位置ずれを取得し、その取得した位置ずれに基づいて、描画ヘッドの描画点の形成位置を補正する。【選択図】図１４
2007058207.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力された描画点データに基づいて基板上に描画点を形成する描画ヘッドを、前記基板に対して相対的に移動させ、該移動に応じて前記描画ヘッドにより基板上に前記描画点を順次形成して画像を描画する描画方法において、
前記画像の描画中における、前記基板および前記描画ヘッドの相対的な位置ずれを取得し、
該取得した位置ずれに基づいて、前記描画ヘッドの前記描画点の形成位置を補正することを特徴とする描画方法。
【請求項２】
前記画像の描画中における、前記基板および前記描画ヘッドの前記移動方向についての相対的な位置ずれを取得するとともに、前記基板および前記描画ヘッドの前記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれを取得することを特徴とする請求項１記載の描画方法。
【請求項３】
前記画像の描画中における、前記基板が載置されたステージの前記移動方向についての位置と前記描画ヘッドの前記移動方向についての位置とを取得し、前記ステージの移動方向についての位置と前記描画ヘッドの移動方向についての位置とに基づいて前記移動方向についての相対的な位置ずれを取得することを特徴とする請求項２記載の描画方法。
【請求項４】
前記画像の描画中における、前記基板が載置されたステージの前記移動方向についての位置を取得した結果を、前記ステージの位置制御と前記移動方向についての相対的な位置ずれの取得との両方に用いることを特徴とする請求項３記載の描画方法。
【請求項５】
前記画像の描画中における、前記基板が載置されたステージの前記移動方向に直交する方向ついての位置と前記描画ヘッドの前記移動方向に直交する方向ついての位置とを取得し、前記ステージの移動方向に直交する方向ついての位置と前記描画ヘッドの移動方向に直交する方向ついての位置とに基づいて前記移動方向に直交する方向ついての相対的な位置ずれを取得することを特徴とする請求項２から４いずれか１項記載の描画方法。
【請求項６】
前記画像の描画中における、前記基板が載置されたステージの前記移動方向に直交する方向についての位置を取得した結果を、前記ステージの位置制御と前記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれの取得との両方に用いることを特徴とする請求項５記載の描画方法。
【請求項７】
前記移動方向についての相対的な位置ずれに基づいて前記描画ヘッドの前記描画点の形成タイミングを制御することにより前記描画点の形成位置の補正を行うことを特徴とする請求項１から６いずれか１項記載の描画方法。
【請求項８】
前記移動方向についての相対的な位置ずれを抑制するよう前記基板が載置されたステージを制御することを特徴とする請求項１から６いずれか１項記載の描画方法。
【請求項９】
前記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれに基づいて、前記描画点データからなる前記画像を表す画像データに対し、前記直交する方向に対応する方向についてシフト処理を施すことにより前記描画点の形成位置の補正を行うことを特徴とする請求項１から８いずれか１項記載の描画方法。
【請求項１０】
前記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれを抑制するよう前記基板が載置されたステージを制御することを特徴とする請求項１から８いずれか１項記載の描画方法。
【請求項１１】
前記描画ヘッドを、ビーム光を射出して該ビーム光を前記基板上に照射することによって前記描画点を形成するものとするとともに、前記描画ヘッドから射出されたビーム光の照射位置を前記移動方向に直交する方向について移動可能な光学系を設け、
前記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれに基づいて、前記光学系によって前記ビーム光の照射位置を前記移動方向に直交する方向に移動させることによって前記描画点の形成位置の補正を行うことを特徴とする請求項１から８いずれか１項記載の描画方法。
【請求項１２】
前記描画ヘッドを複数設け、
前記各描画ヘッドおよび前記基板の相対的な位置関係に基づいて、前記各描画ヘッド毎の前記相対的な位置ずれを取得することを特徴とする請求項１から１１いずれか１項記載の描画方法。
【請求項１３】
入力された描画点データに基づいて基板上に描画点を形成する描画ヘッドを、前記基板に対して相対的に移動させ、該移動に応じて前記描画ヘッドにより基板上に前記描画点を順次形成して画像を描画する描画装置において、
前記画像の描画中における、前記基板および前記描画ヘッドの相対的な位置ずれを取得する位置ずれ取得手段と、
該位置ずれ取得手段により取得された位置ずれに基づいて、前記描画ヘッドの前記描画点の形成位置を補正する補正手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項１４】
前記位置ずれ取得手段が、前記画像の描画中における、前記基板および前記描画ヘッドの前記移動方向についての相対的な位置ずれを取得するとともに、前記基板および前記描画ヘッドの前記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれを取得するものであることを特徴とする請求項１３記載の描画装置。
【請求項１５】
前記位置ずれ取得手段が、前記画像の描画中における、前記基板が載置されたステージの前記移動方向についての位置と前記描画ヘッドの前記移動方向についての位置とを取得し、前記ステージの移動方向についての位置と前記描画ヘッドの移動方向についての位置とに基づいて前記移動方向についての相対的な位置ずれを取得するものであることを特徴とする請求項１４記載の描画装置。
【請求項１６】
前記画像の描画中における、前記基板が載置されたステージの前記移動方向についての位置を取得した結果を、前記ステージの位置制御と前記移動方向についての相対的な位置ずれの取得との両方に用いることを特徴とする請求項１５記載の描画装置。
【請求項１７】
前記位置ずれ取得手段が、前記画像の描画中における、前記基板が載置されたステージの前記移動方向に直交する方向ついての位置と前記描画ヘッドの前記移動方向に直交する方向ついての位置とを取得し、前記ステージの移動方向に直交する方向ついての位置と前記描画ヘッドの移動方向に直交する方向ついての位置とに基づいて前記移動方向に直交する方向ついての相対的な位置ずれを取得するものであることを特徴とする請求項１４から１６いずれか１項記載の描画装置。
【請求項１８】
前記画像の描画中における、前記基板が載置されたステージの前記移動方向に直交する方向についての位置を取得した結果を、前記ステージの位置制御と前記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれの取得との両方に用いることを特徴とする請求項１７記載の描画装置。
【請求項１９】
前記補正手段が、前記移動方向についての相対的な位置ずれに基づいて前記描画ヘッドの前記描画点の形成タイミングを制御することにより前記描画点の形成位置の補正を行うものであることを特徴とする請求項１３から１８いずれか１項記載の描画装置。
【請求項２０】
前記補正手段が、前記移動方向についての相対的な位置ずれを抑制するよう前記基板が載置されたステージを制御するものであることを特徴とする請求項１３から１８いずれか１項記載の描画装置。
【請求項２１】
前記補正手段が、前記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれに基づいて、前記描画点データからなる前記画像を表す画像データに対し、前記直交する方向に対応する方向についてシフト処理を施すことにより前記描画点の形成位置の補正を行うものであることを特徴とする請求項１３から２０いずれか１項記載の描画装置。
【請求項２２】
前記補正手段が、前記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれを抑制するよう前記基板が載置されたステージを制御するものであることを特徴とする請求項１３から２０いずれか１項記載の描画装置。
【請求項２３】
前記描画ヘッドが、ビーム光を射出して該ビーム光を前記基板上に照射することによって前記描画点を形成するものであるとともに、前記描画ヘッドから射出されたビーム光の照射位置を前記移動方向に直交する方向について移動可能な光学系をさらに有し、
前記補正手段が、前記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれに基づいて、前記光学系によって前記ビーム光の照射位置を前記移動方向に直交する方向に移動させることによって前記描画点の形成位置の補正を行うものであることを特徴とする請求項１３から２０いずれか１項記載の描画装置。
【請求項２４】
前記描画ヘッドを複数有し、
前記位置ずれ取得手段が、前記各描画ヘッドおよび前記基板の相対的な位置関係に基づいて、前記各描画ヘッド毎の前記相対的な位置ずれを取得するものであることを特徴とする請求項１３から２３いずれか１項記載の描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入力された描画点データに基づいて基板上に描画点を形成する描画ヘッドを、基板に対して相対的に移動させ、その移動に応じて描画ヘッドにより基板上に描画点を順次形成して画像を描画する描画方法および装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板やフラットパネルディスプレイの基板に所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。
【０００３】
上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、配線パターンを表す露光画像データに基づいて変調することにより配線パターンを形成する露光装置が提案されている。
【０００４】
また、上記のような露光装置として、たとえば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下「ＤＭＤ」という。）等の空間光変調素子を利用し、露光画像データに応じて空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が提案されている。
【０００５】
そして、上記のようなＤＭＤを用いた露光装置としては、たとえば、ＤＭＤを露光面に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じてＤＭＤの多数のマイクロミラーに対応した多数の露光点データを入力し、ＤＭＤのマイクロミラーに対応した露光点群を時系列に順次形成することにより所望の露光画像を露光面に形成する露光装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。
【０００６】
ここで、上記のような露光装置を用いて基板上に所定の配線パターンなどを露光する際には、基板上の所望の位置に所望の配線パターンを露光する必要があり、高精度な位置あわせが必要となってくる。
【０００７】
しかしながら、たとえば、設置環境から露光装置に伝わる振動の影響などによって、露光面に対するＤＭＤの相対的な位置が一時的にずれる場合があり、露光画像の品質が劣化する問題がある。
【０００８】
そこでこの問題を解決するため、ＤＭＤの設置された露光ヘッドおよび基板を載置するステージをアクティブ型もしくはパッシブ型の除振装置の上に設置する方法が知られている（たとえば、特許文献２参照）。
【０００９】
【特許文献１】特開２００４−２３３７１８号公報
【特許文献２】特開平１１−３２７６５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、露光装置が大型になり重量が重くなると、除振装置のコストが非常に高くなるという問題がある。
【００１１】
本発明は、上記事情に鑑み、上記露光装置のような描画方法および装置において、コストアップを招くことなく、上記のような振動の影響による画像品質の劣化を抑制することができる描画方法および装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の描画方法は、入力された描画点データに基づいて基板上に描画点を形成する描画ヘッドを、基板に対して相対的に移動させ、その移動に応じて描画ヘッドにより基板上に描画点を順次形成して画像を描画する描画方法において、画像の描画中における、基板および描画ヘッドの相対的な位置ずれを取得し、その取得した位置ずれに基づいて、描画ヘッドの描画点の形成位置を補正することを特徴とする。
【００１３】
また、上記本発明の描画方法においては、画像の描画中における、基板および描画ヘッドの上記移動方向についての相対的な位置ずれを取得するとともに、基板および描画ヘッドの上記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれを取得するようにすることができる。  また、画像の描画中における、基板が載置されたステージの上記移動方向についての位置と描画ヘッドの上記移動方向についての位置とを取得し、上記ステージの移動方向についての位置と上記描画ヘッドの移動方向についての位置とに基づいて上記移動方向についての相対的な位置ずれを取得するようにすることができる。
【００１４】
また、画像の描画中における、基板が載置されたステージの上記移動方向についての位置を取得した結果を、上記ステージの位置制御と上記移動方向についての相対的な位置ずれの取得との両方に用いるようにすることができる。
【００１５】
また、画像の描画中における、基板が載置されたステージの上記移動方向に直交する方向ついての位置と上記描画ヘッドの上記移動方向に直交する方向ついての位置とを取得し、上記ステージの移動方向に直交する方向ついての位置と上記描画ヘッドの移動方向に直交する方向ついての位置とに基づいて上記移動方向に直交する方向ついての相対的な位置ずれを取得するようにすることができる。
【００１６】
また、画像の描画中における、基板が載置されたステージの上記移動方向に直交する方向についての位置を取得した結果を、上記ステージの位置制御と上記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれの取得との両方に用いるようにすることができる。
【００１７】
また、上記移動方向についての相対的な位置ずれに基づいて描画ヘッドの描画点の形成タイミングを制御することにより描画点の形成位置の補正を行うようにすることができる。
【００１８】
また、上記移動方向についての相対的な位置ずれを抑制するよう上記基板が載置されたステージを制御するようにすることができる。
【００１９】
また、上記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれに基づいて、描画点データからなる画像を表す画像データに対し、上記直交する方向に対応する方向についてシフト処理を施すことにより描画点の形成位置の補正を行うようにすることができる。
【００２０】
また、移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれを抑制するよう基板が載置されたステージを制御するようにすることができる。
【００２１】
また、描画ヘッドを、ビーム光を射出してそのビーム光を基板上に照射することによって描画点を形成するものとするとともに、描画ヘッドから射出されたビーム光の照射位置を上記移動方向に直交する方向について移動可能な光学系を設け、上記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれに基づいて、光学系によってビーム光の照射位置を上記移動方向に直交する方向に移動させることによって描画点の形成位置の補正を行うようにすることができる。
【００２２】
また、描画ヘッドを複数設け、各描画ヘッドおよび基板の相対的な位置関係に基づいて、各描画ヘッド毎の上記相対的な位置ずれを取得するようにすることができる。
【００２３】
本発明の描画装置は、入力された描画点データに基づいて基板上に描画点を形成する描画ヘッドを、基板に対して相対的に移動させ、その移動に応じて描画ヘッドにより基板上に描画点を順次形成して画像を描画する描画装置において、画像の描画中における、基板および描画ヘッドの相対的な位置ずれを取得する位置ずれ取得手段と、位置ずれ取得手段により取得された位置ずれに基づいて、描画ヘッドの描画点の形成位置を補正する補正手段とを備えたことを特徴とする。
【００２４】
また、上記本発明の描画装置においては、位置ずれ取得手段を、画像の描画中における、基板および描画ヘッドの上記移動方向についての相対的な位置ずれを取得するとともに、基板および描画ヘッドの上記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれを取得するものとすることができる。  また、位置ずれ取得手段を、画像の描画中における、基板が載置されたステージの上記移動方向についての位置と描画ヘッドの上記移動方向についての位置とを取得し、上記ステージの移動方向についての位置と上記描画ヘッドの移動方向についての位置とに基づいて上記移動方向についての相対的な位置ずれを取得するものとすることができる。
【００２５】
また、画像の描画中における、基板が載置されたステージの上記移動方向についての位置を取得した結果を、上記ステージの位置制御と上記移動方向についての相対的な位置ずれの取得との両方に用いるようにすることができる。
【００２６】
また、位置ずれ取得手段を、画像の描画中における、基板が載置されたステージの上記移動方向に直交する方向ついての位置と上記描画ヘッドの上記移動方向に直交する方向ついての位置とを取得し、上記ステージの移動方向に直交する方向ついての位置と上記描画ヘッドの移動方向に直交する方向ついての位置とに基づいて上記移動方向に直交する方向ついての相対的な位置ずれを取得するものとすることができる。
【００２７】
また、画像の描画中における、基板が載置されたステージの上記移動方向に直交する方向についての位置を取得した結果を、上記ステージの位置制御と上記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれの取得との両方に用いるようにすることができる。
【００２８】
また、補正手段を、上記移動方向についての相対的な位置ずれに基づいて描画ヘッドの描画点の形成タイミングを制御することにより描画点の形成位置の補正を行うものとすることができる。  また、補正手段を、上記移動方向についての相対的な位置ずれを抑制するよう基板が載置されたステージを制御するものとすることができる。
【００２９】
また、補正手段を、上記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれに基づいて、描画点データからなる画像を表す画像データに対し、上記直交する方向に対応する方向についてシフト処理を施すことにより描画点の形成位置の補正を行うものとすることができる。  また、補正手段を、上記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれを抑制するよう基板が載置されたステージを制御するものとすることができる。
【００３０】
また、描画ヘッドを、ビーム光を射出してそのビーム光を基板上に照射することによって描画点を形成するものとするとともに、描画ヘッドから射出されたビーム光の照射位置を上記移動方向に直交する方向について移動可能な光学系をさらに有するものとし、補正手段を、上記移動方向に直交する方向についての相対的な位置ずれに基づいて、光学系によってビーム光の照射位置を上記移動方向に直交する方向に移動させることによって描画点の形成位置の補正を行うものとすることができる。
【００３１】
また、描画ヘッドを複数有するものとし、位置ずれ取得手段を、各描画ヘッドおよび基板の相対的な位置関係に基づいて、各描画ヘッド毎の上記相対的な位置ずれを取得するものとすることができる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の描画方法および装置によれば、画像の描画中における、基板および描画ヘッドの相対的な位置ずれを取得し、その取得した位置ずれに基づいて、描画ヘッドの描画点の形成位置を補正するようにしたので、たとえば、設置環境からの振動の影響などによって、基板および描画ヘッドの相対的な位置がずれた場合においても、その位置ずれ応じてリアルタイムに描画点の形成位置を補正し、基板上の所望の位置に画像を描画することができ、上記のような画像品質の劣化を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、図面を参照して本発明の描画方法および装置の第１の実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。
【００３４】
本発明の第１の実施形態を用いた露光装置は、基板を搬送する移動ステージの変位量を予め測定して求めておくとともに、基板上への露光中に、たとえば、外乱などによって生じた移動ステージの変位量をリアルタイムに測定し、上記予め測定された変位量とリアルタイムに測定された変位量との両方を考慮して、基板上の所望の位置に所望の露光画像が露光されるようにしたものである。
【００３５】
まずは、本発明の第１の実施形態を用いた露光装置の概略構成について説明する。図１は、本発明の第１の実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図である。
【００３６】
露光装置１０は、図１に示すように、基板１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。移動ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。そして、露光装置１０は、移動ステージ１４をステージ移動方向に移動させる移動機構（図示省略）と、移動ステージ１４の移動にともなってパルス信号を出力するリニアエンコーダ（図示省略）とを備えており、リニアエンコーダのパルス信号を検出することにより移動ステージ１４の位置情報および走査速度が検出可能になっている。
【００３７】
そして、移動ステージ１４の上面には、基板１２が位置決めされるようになっており、さらに、移動ステージ１４上面の基板１２の一方の脇には、Ｙ方向に沿って所定の間隔（本実施形態では、５０．０ｍｍ間隔）毎にマーキング１３が設けられている。
【００３８】
また、設置台１８の中央部には、移動ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には基板１２の先端および後端と、移動ステージ１４上におけるマーキング１３とを撮像するための複数のカメラ２６が設けられている。
【００３９】
スキャナ２４およびカメラ２６はゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。
【００４０】
スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。
【００４１】
各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が設けられている。ＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８が直交する方向に２次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー３８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θ（０°＜θ＜９０°）をなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。そして、移動ステージ１４の移動に伴い、所定のタイミングで各露光ヘッド３０により基板１２上へ複数の光ビームを照射することによって、図３（Ａ）に示すように、露光ヘッド３０ごとの帯状の露光済み領域３４が形成される。なお、各露光ヘッド３０に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。
【００４２】
露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８単位でオン/オフ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８に対応したドットパターン（黒/白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域３４は、図４に示すマイクロミラー３８に対応した２次元配列されたドットによって形成される。また、上記のようにＤＭＤ３６を走査方向に対して傾斜することによって、上記走査方向に直交する方向に並ぶ露光点の間隔をより狭くすることができ、高解像度化を図ることができる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラー３８は常にオフ状態となる。
【００４３】
また、図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。
【００４４】
次に、露光装置１０の電気的構成について説明する。
【００４５】
露光装置１０は、図５に示すように、露光すべき露光画像を表す露光画像データが入力される露光画像データ入力部４０と、露光画像データ入力部４０に入力された露光画像データを、露光ヘッド３０毎の分割露光画像データに分割する露光画像データ分割部４１と、露光画像データ分割部４１により分割された各露光ヘッド３０毎の分割露光画像データをそれぞれ記憶する分割画像記憶メモリ４２と、分割画像記憶メモリ４２に記憶された各分割露光画像データに対しシフト処理を施す画像シフト処理部４３と、画像シフト処理部４３によってシフト処理の施された各分割露光画像データをＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８のビーム位置に対応したドットパターンからなるフレームデータに変換するドットパターン変換部４４と、ドットパターン変換部４４により変換された各露光ヘッド３０毎のフレームデータと後述するリセットタイミング算出部９５において算出されたリセットタイミングに基づいて各露光ヘッド３０の各ＤＭＤ３６に制御信号を出力する露光ヘッド制御部４５とを備えている。なお、リセットタイミングとは、露光制御部４５から露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に制御信号が出力されるタイミングであって、このタイミングでＤＭＤ３６におけるデータが書き換えられ、ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８の状態が切り替わるものとする。
【００４６】
また、露光装置１０は、予め測定されたＸ方向についての移動ステージ１４の変位量が記憶されたＸ方向変位量記憶メモリ５０と、予め測定されたＹ方向についての移動ステージ１４の変位量に基づいて求められた、後述するパルス補正数が記憶されたパルス補正数メモリ６０と、後述するステージ姿勢測定部７０によって測定された測定情報に基づいて、基板１２への露光中における移動ステージ１４のリアルタイム変位量を算出するリアルタイム変位量算出部８０と、リアルタイム変位量算出部８０により算出されたＸ方向についての移動ステージ１４のリアルタイム変位量とＸ方向変位量記憶メモリ５０に予め記憶された変位量とに基づいて、移動ステージ１４のＸ方向についての実変位量を算出するＸ方向変位量加算部９０と、リアルタイム変位量算出部８０により算出されたＹ方向についての移動ステージ１４のリアルタイム変位量に応じたパルス補正数とパルス補正数記憶メモリ６０に予め記憶されたパルス補正数とに基づいて、各露光ヘッド３０のリセットタイミングを算出するリセットタイミング算出部９５とを備えている。
【００４７】
また、ステージ姿勢測定部７０は、図６に示すように、Ｘ方向についての移動ステージ１４の位置情報を測定するＸ方向位置情報測定部７１と、Ｙ方向についての移動ステージ１４の位置情報を測定するＹ方向位置情報測定部７２と、Ｘ方向位置情報測定部７１により測定された位置情報とＹ方向位置情報測定部７２により測定された位置情報とに基づいて、移動ステージ１４のＸ方向およびＹ方向についてのリアルタイム変位量と回転量とを求めるステージ姿勢演算部７３とを備えている。
【００４８】
また、リアルタイム変位量算出部８０は、ステージ姿勢測定部７０により求められたＸ方向についてのリアルタイム変位量と回転量とに基づいて、各露光ヘッド３０に対する移動ステージ１４のＸ方向についてのリアルタイム変位量を算出するＸ方向変位量算出部８１と、ステージ姿勢測定部７０により求められたＹ方向についてのリアルタイム変位量と回転量とに基づいて、各露光ヘッド３０に対する移動ステージ１４のＹ方向についてのリアルタイム変位量を算出し、そのリアルタイム変位量に基づいて各露光ヘッド３０毎のリセットタイミングのパルス補正数を算出するリセットタイミング補正量算出部８２とを備えている。なお、本実施形態においては、ステージ姿勢測定部７０とリアルタイム変位量算出部８０とにより請求項における位置ずれ取得手段が構成されている。また、本実施形態においては、露光ヘッド３０とステージ姿勢測定部７０とが同じ筐体に固定されているものとし、請求項における位置ずれは上記リアルタイム変位量として取得されるものとする。
【００４９】
そして、図６に示すＸ方向位置情報測定部７１は、移動ステージ１４のその移動方向に延びる側面に設置された側面ミラー７１ａと、側面ミラー７１ａにレーザ光を射出するとともにその反射光を検出して側面ミラー７１ａまでの距離を測定するＸ方向レーザ測長部７１ｂとを備えている。また、Ｙ方向位置情報測定部７２は、移動ステージ１４のその移動方向に直交する方向に延びる側面に設置されたキューブミラー７２ａ，７２ｂと、キューブミラー７２ａにレーザ光を射出するとともにその反射光を検出してキューブミラー７２ａまでの距離を測定する第１のＹ方向レーザ測長部７２ｃと、キューブミラー７２ｂにレーザ光を射出するとともにその反射光を検出してキューブミラー７２ｂまでの距離を測定する第２のＹ方向レーザ測長部７２ｄとを備えている。なお、図６においては、Ｘ方向レーザ測長部７１ｂは１つしか設けられていないが、実際には、露光中における移動ステージ１４のＸ方向についてのリアルタイム変位量を求めるために十分な数のＸ方向レーザ測長部７１ｂが設けられているものとする。また、Ｘ方向レーザ測長部７１ｂを１つだけ設け、側面ミラー７１ａの長さを上記リアルタイム変位量を求めるために十分な長さとするようにしてもよい。
【００５０】
そして、露光装置１０は、本露光装置全体を制御するコントローラ（図示省略）を備えている。
【００５１】
なお、上記各構成要素の詳細な作用については後で詳述する。
【００５２】
次に、露光装置１０の作用について図面を参照しながら説明する。
【００５３】
露光装置１０は、上述したように、基板１２を搬送する移動ステージ１４の変位量を予め測定して設定しておくとともに、基板１２上への露光中に、たとえば、外乱などによって生じた移動ステージ１４の変位量をリアルタイムに測定し、上記予め測定された変位量とリアルタイムに測定された変位量との両方を考慮して、基板１２上の所望の位置に所望の露光画像が露光されるようにしたものである。
【００５４】
ここで、まず、移動ステージ１４の変位量を予め測定して設定する方法について説明する。
【００５５】
まず、移動ステージ１４が、移動機構により図１に示す位置から上流側へ移動する。なお、上記上流側とは、図１における右側、つまりゲート２２に対してスキャナ２４が設置されている側のことであり、上記下流側とは、図１における左側、つまりゲート２２に対してカメラ２６が設置されている側のことである。
【００５６】
そして、移動ステージ１４は上流側端部まで移動した後、下流側に所望の一定速度で移動する。そして、その移動ステージ１４の移動にともなって、リニアエンコーダからパルス信号が出力されコントローラに入力される。
【００５７】
そして、コントローラは、リニアエンコーダからのパルス信号をカウントし、１００００００パルスをカウントする毎に、カメラ２６に制御信号を出力し、カメラ２６によって移動ステージ１４上に設けられたマーキング１３を撮像する。なお、本実施形態におけるリニアエンコーダは、移動ステージ１４が０．１μｍ移動する毎にパルス信号を出力するものであり、調整分解能を上げるため、０．１μｍピッチのパルスを２逓倍し、０．０５μｍピッチのパルス信号を出力する。したがって、上記のように１００００００パルス毎にカメラ２６によりマーキング１３を撮像することによってマーキング１３の間隔に応じた撮像が可能となる（０．０５μｍ/１パルス×１００００００パルス＝５０ｍｍ）。
【００５８】
そして、上記のようにしてカメラ２６によってマーキング１３を撮像した撮像画像データは、コントローラに出力され、コントローラは入力された撮像画像データに基づいて移動ステージ１４のＸ方向についての変位量を求める。
【００５９】
具体的には、コントローラにおいては、図７に示すように、カメラ２６によって撮像された撮像画像におけるマーキング画像のＸ方向についての位置を判別可能なＸ方向基準線（Ｘ＝０の線）が設定されており、マーキング画像のＸ方向基準線からの位置ずれ量を求めることによってマーキング１３のＸ方向についての変位量を求めることができる。なお、マーキング画像の位置ずれ量は、たとえば、マーキング画像の重心のＸ方向基準線からのずれを求めることによって求めることができる。
【００６０】
そして、カメラ２６によって撮像された各マーキング１３の撮像画像データに基づいて、各マーキング１３の変位量が順次取得される。そして、各マーキング１３の変位量が、図８に示すようにプロットされ、そのプロットされた変位量（×印）を補間することによって図８に示すような蛇行曲線が求められる。そして、上記のようにして求められた蛇行曲線は、Ｘ方向変位量記憶メモリ５０に記憶される。
【００６１】
また、コントローラは、マーキング１３の撮像画像データに基づいて上記のようにして移動ステージ１４のＸ方向についての変位量を求めるとともに、移動ステージ１４のＹ方向についての変位量も求める。
【００６２】
具体的には、コントローラにおいては、図９に示すように、カメラ２６によって撮像された撮像画像におけるマーキング画像のＹ方向についての位置を判別可能なＹ方向基準線（Ｙ＝０の線）が設定されており、このＹ方向基準線からのマーキング画像の位置ずれ量を求める。なお、マーキング画像の位置ずれ量は、たとえば、マーキング画像の重心のＹ方向基準線からのずれを求めることによって求めることができる。
【００６３】
そして、上記のようにして各マーキング画像の位置ずれ量が求められ、各マーキング画像の位置ずれ量が１回前に撮像されたマーキング画像の位置ずれ量に対し、どれだけずれが増減したかが求められ、その増減した位置ずれ量を補正するために必要なリニアエンコーダによる２逓倍のパルス数を算出する。すなわち、図１０に示すように、たとえば、５０ｍｍの位置にあるマーキング１３を撮像した場合に＋４．５μｍの位置ずれ量が算出され、１００ｍｍの位置にあるマーキング１３を撮像した場合に＋５．３μｍの位置ずれ量が算出された場合には、５０ｍｍ〜１００ｍｍの区間に５．５μｍ−４．５μｍ＝０．８μｍだけが大きくなっていることになる。つまり、５０ｍｍ〜１００ｍｍの区間の移動ステージ１４の変位量が０．８μｍということになる。そして、本実施形態のリニアエンコーダでは、０．０５μｍ移動する毎に２逓倍されたパルスが検出されるため、０．８μｍ/０．０５μｍ＝１６パルス分減らす補正を行うことにより５０〜１００ｍｍ区間の間に生じたＹ方向の変位量を補正することができる。
【００６４】
上記のようにして各マーキング画像のＹ方向についての位置ずれ量に基づき、マーキング１３の各区間毎について移動ステージ１４の変位量に応じたパルス補正数が求められ、図１１に示すようなテーブルとされ、パルス補正数記憶メモリ６０に記憶される。なお、パルス補正数のテーブルは、マーキング１３を撮像したカメラ２６のＸ方向についての位置情報と各露光ヘッド３０の位置情報とに基づいて、その相対的な位置関係に対応して補正され、各露光ヘッド３０毎のパルス補正数のテーブルが求められ、パルス補正数記憶メモリ６０に記憶される。
【００６５】
そして、上記のようにして予め移動ステージ１４のＸ方向についての変位量が求められるとともに、移動ステージ１４のＹ方向についての変位量に基づいてパルス補正数が求められた後、再び、移動ステージ１４は、図１に示す位置から上流側に移動し、上流側端部まで移動した後、所望の一定速度で下流側に移動する。
【００６６】
そして、移動ステージ１４の下流側への移動にともなって、各露光ヘッド３０により基板１２上への露光が開始されるとともに、その露光中における移動ステージ１４のリアルタイムの変位量が測定されるが、まずは、そのリアルタイム変位量の測定方法について説明する。
【００６７】
上記のように移動ステージ１４が下流側へ移動するとともに、図６に示す第１のＹ方向レーザ測長部７２ｃと第２のＹ方向レーザ測長部７２ｄからそれぞれキューブミラー７２ａ,７２ｂにレーザ光が射出され、Ｘ方向レーザ測長部７１ｂから側面ミラー７１ａにレーザ光が射出される。
【００６８】
そして、第１および第２のＹ方向レーザ測長部７２ｃ，７２ｄから射出されたレーザ光はキューブミラー７２ａ,７２ｂにより反射され、その反射光がそれぞれ第１および第２のＹ方向レーザ測長部７２ｃ，７２ｄにより検出されてキューブミラー７２ａ,７２ｂまでの距離がそれぞれ測定される。また、Ｘ方向レーザ測長部７１ｂから射出されたレーザ光は側面ミラー７１ａにより反射され、その反射光がＸ方向レーザ測長部７１ｂにより検出されて側面ミラー７１ａまでの距離が測定される。
【００６９】
そして、その測定結果がステージ姿勢演算部７３に出力され、ステージ姿勢演算部７３において、Ｘ方向レーザ測定部７１ｂの測定結果に基づいて移動ステージ１４のＸ方向についての位置情報Ｘ１が測定され、Ｙ方向レーザ測長部７２ｃ，７２ｄの測定結果に基づいて移動ステージ１４のＹ方向についての位置情報Ｙ１，Ｙ２がそれぞれ測定される。
【００７０】
そして、ステージ姿勢演算部７３には、移動ステージ１４が理想的に移動した場合の基準となる位置情報が予め設定されており、その位置情報と上記のようにして取得された位置情報Ｘ，Ｙ１，Ｙ２とに基づいて、移動ステージ１４のＸ方向についてのリアルタイム変位量Ｘと、Ｙ方向についてのリアルタイム変位量Ｙと、移動ステージ１４の回転量θが求められる。
【００７１】
そして、上記のようなＸ方向についてのリアルタイム変位量Ｘ、Ｙ方向についてのリアルタイム変位量Ｙおよび回転量θの取得は、たとえば、露光制御部４５から露光ヘッド３０にリセットタイミングが出力される、予め設定されたパルス数（本実施形態では４０パルス数）毎に行うようにすればよい。
【００７２】
そして、移動ステージ１４が移動するとともに、リアルタイム変位量Ｘ，Ｙおよび回転量θが上記のようにして順次求められ、Ｙ方向についてのリアルタイム変位量Ｙと回転量θとがリセットタイミング補正量算出部８２に出力され、Ｘ方向についてのリアルタイム変位量Ｘと回転量θとがＸ方向変位量算出部８１に出力される。
【００７３】
そして、リセットタイミング補正量算出部８２においては、順次入力されるＹ方向についてのリアルタイム変位量Ｙと回転量θに基づいて、各露光ヘッド３０に対する移動ステージ１４のリアルタイム変位量Ｙ１〜ＹＮが順次求められる。なお、上記リアルタイム変位量Ｙ１〜ＹＮは、各露光ヘッド３０毎の移動ステージ１４に対する位置情報と移動ステージ１４のリアルタイム変位量Ｙおよび回転量θとに基づいて求められるものである。
【００７４】
そして、各露光ヘッド３０毎のリアルタイム変位量Ｙ１〜ＹＮに基づいて、各露光ヘッド３０について、上記と同様にして、パルス補正数が順次算出され、その各露光ヘッド３０についてのパルス補正数が順次リセットタイミング算出部９５に出力される。
【００７５】
一方、Ｘ方向変位量算出部８１においては、順次入力されるＸ方向についてのリアルタイム変位量Ｘと回転量θに基づいて、各露光ヘッド３０に対する移動ステージ１４のリアルタイム変位量Ｘ１〜ＸＮが順次求められる。なお、上記リアルタイム変位量Ｘ１〜ＸＮは、各露光ヘッド３０毎の移動ステージ１４に対する位置情報と移動ステージ１４のリアルタイム変位量Ｘおよび回転量θとに基づいて求められるものである。
【００７６】
そして、上記のようにして順次求められた各露光ヘッド３０毎のリアルタイム変位量Ｘ１〜ＸＮは、Ｘ方向変位量加算部９０に順次出力される。
【００７７】
次に、上記のようにしてＸ方向変位量算出部８１において算出された各露光ヘッド３０毎の移動ステージ１４のリアルタイム変位量Ｘ１〜ＸＮとＸ方向変位量記憶メモリ５０に記憶された蛇行曲線とに基づいて、各露光ヘッド３０のＸ方向についての露光位置を補正するとともに、上記のようにしてリセットタイミング補正量算出部８２において算出されたパルス補正数とパルス補正数記憶メモリ６０に記憶されたパルス補正数とに基づいて、各露光ヘッド３０のリセットタイミングを制御することによって、基板１２上の所望の位置に露光画像を露光する方法について説明する。
【００７８】
まず、露光画像データ入力部４０に基板１２上に露光すべき露光画像を表す露光画像データが入力される。そして、その露光画像データは露光画像データ入力部４０から露光画像データ分割部４１に出力される。
【００７９】
そして、露光画像データ分割部４１は、入力された露光画像データを、図１２に示すように各露光ヘッド３０毎の分割露光画像データに分割し、その各露光ヘッド３０毎の分割露光画像データをそれぞれ分割画像記憶メモリ４２に記憶する。
【００８０】
そして、上記のようにして分割画像記憶メモリ４２に各露光ヘッド３０毎の分割露光画像データが記憶されるとともに、基板１２が設置された移動ステージ１４が上流側から下流側に向けて所望の一定速度により移動する。
【００８１】
そして、カメラ２６により基板１２の先端が検出されると所定のリセットタイミングにより各露光ヘッド３０により基板１２への露光が開始されるが、このとき、以下のような処理が行われる。
【００８２】
基板１２の先端が検出されると、画像シフト処理部４３は分割画像記憶メモリ４２から移動ステージ１４に対する各露光ヘッド３０の位置に応じた分割露光画像データを読み出す。そして、上記のようにして各露光ヘッド３０毎に読み出された分割露光画像データに対しそれぞれシフト処理が施される。
【００８３】
具体的には、Ｘ方向変位量加算部９０が、Ｘ方向変位量記憶メモリ８１に記憶された蛇行曲線に基づいて、移動ステージ１４の位置（本実施形態においては４０パルス×０．０５μｍ＝０．２μｍ）毎のＸ方向についての移動ステージ１４の変位量を求め、その変位量をＸ方向変位量算出部８１において算出された各露光ヘッド３０のリアルタイム変位量Ｘ１〜ＸＮに加算して加算変位量を求め、その加算変位量を画像シフト処理部４３にそれぞれ出力する。
【００８４】
そして、画像シフト処理部４３は、入力された各露光ヘッド３０毎の分割露光画像データに対し、上記各露光ヘッド３０毎の加算変位量に基づいてシフト処理を施す。
【００８５】
より具体的には、画像シフト処理部４３は、図１３（Ａ）に示す入力された分割露光画像データに対し、図１３（Ｂ）に示すように上記加算変位量の幅に対応したマージン画像データを付加し、そのマージン画像データの付加された分割画像データに対し、図１３（Ｃ）に示すように上記加算変位量に基づいてシフト処理を施し、そのシフト処理の施された分割露光画像データに対し、つなぎ目位置でのトリミング処理を施し、そのトリミング処理の施された分割露光画像データをドットパターン変換部４４に出力する。
【００８６】
そして、ドットパターン変換部４４は、上記のようにしてシフト処理の施された各露光ヘッド３０毎の分割露光画像データから、各露光ヘッド３０の各ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８のビーム位置に対応する露光点データを取り出し、その露光点データからなるフレームデータを生成する。
【００８７】
そして、露光制御部４５は、以下のようにしてリセットタイミング算出部９５において求められたリセットタイミングで、上記のようにしてドットパターン変換部４４で生成されたフレームデータに基づく制御信号を各露光ヘッド３０の各ＤＭＤ３６に出力する。
【００８８】
リセットタイミング算出部９５においては、リニアエンコーダから出力されるパルス信号が４０パルス数カウントされる毎にリセットタイミングを各露光ヘッド３０に出力するよう予め設定されている。つまり、移動ステージ１４が２.０μｍ移動する毎にリセットタイミングが１回出力されるように予め設定されている。
【００８９】
そして、この予め設定された４０パルス数を、パルス補正数記憶メモリに記憶されたパルス補正数と、リセットタイミング補正量算出部８２において求められたパルス補正数とに基づいて増減させることによってリセットタイミングを各露光ヘッド３０毎に制御し、基板１２上のＹ方向についての所望の位置に所望の露光画像が露光されるようにする。
【００９０】
具体的には、たとえば、図１０に示す５０ｍｍ〜１００ｍｍの区間におけるリセットタイミングを算出する際には、パルス補正数記憶メモリ６０に記憶されたテーブルに基づいて、各露光ヘッド３０について、それぞれ５０ｍｍ〜１００ｍｍの区間におけるパルス補正数が読み出される。そして、たとえば、５０ｍｍ〜１００ｍｍの区間におけるパルス補正数が−１６である場合には、５０ｍｍ〜１００ｍｍの区間の間に、リセットタイミングは１００００００パルス/４０パルス＝２５０００回あるので、この２５０００回のリセットタイミングの中の１６回の所定のリセットタイミングについて４０パルスから３９パルスに補正する。そして、さらに、リセットタイミング補正量算出部８２において算出されたパルス補正数に基づいてリセットタイミングを出力するパルス数を補正する。具体的には、リセットタイミング補正量算出部８２において、各露光ヘッド３０について、４０パルス数毎に求められたパルス補正数がリセットタイミング算出部９５に出力され、上記のようにして補正されたパルス数に対し、さらにリセット補正量算出部８２において算出されたパルス補正数分だけ増減され、その増減されたパルス数に応じたタイミングでリセットタイミングが各露光制御部４５毎に出力される。
【００９１】
そして、移動ステージ１４の移動にともなって、上記のように補正された各露光制御部４５毎のパルス数毎に、リセットタイミング算出部９５から各露光制御部４５にリセットタイミングが出力され、各露光制御部４５はそのリセットタイミングに応じて制御信号を各露光ヘッド３０に出力する。
【００９２】
そして、各露光ヘッド３０は、各露光制御部４５から出力された制御信号に基づいてマイクロミラーをＯＮ/ＯＦＦさせ、基板１２上に露光画像を露光する。
【００９３】
図１４に、上記のようにして各露光ヘッド３０毎について、その分割露光画像データにシフト処理を施すとともに、そのリセットタイミングを制御した場合の露光画像の一例を示す。なお、図１４における濃い部分がシフト処理およびリセットタイミングの制御を行わなかった場合における露光画像の位置を示し、薄い部分がシフト処理およびリセットタイミングの制御を行った場合における露光画像の位置を示している。
【００９４】
そして、基板上１２の後端がカメラ２６により撮像された時点で露光処理が終了し、再び、移動ステージ１４が上流側端部まで移動する。
【００９５】
上記第１の実施形態を用いた露光装置によれば、露光画像の露光中における、基板１２および露光ヘッド３０の相対的な位置ずれを移動ステージ１４のリアルタイム変位量として取得し、その取得したリアルタイム変位量に基づいて、露光ヘッド３０の露光点の形成位置を補正するようにしたので、たとえば、設置環境からの振動の影響などによって、基板１２および露光ヘッド３０の相対的な位置が一時的にずれた場合においても、その位置ずれ応じてリアルタイムに露光点の形成位置を補正し、基板１２上の所望の位置に露光画像を露光することができ、上記振動による画像品質の劣化を抑制することができる。
【００９６】
また、上記第１の実施形態を用いた露光装置においては、移動ステージ１４のリアルタイム変位量だけでなく、予め測定された移動ステージ１４の変位量も考慮して補正処理を行うようにしたので、設置環境からの振動による一時的な位置ずれだけでなく、移動ステージ１４のピッチング振動や蛇行による位置ずれに対しても補正処理を施すことができ、より高精度な露光画像の位置合わせを行うことができる。
【００９７】
また、Ｙ方向についてのリアルタイム変位量に基づいてリセットタイミングを制御することによって露光画像の露光位置を補正するようにしたので、たとえば、露光画像データに対し、Ｙ方向に対応する方向についてシフト処理を施して補正する場合と比較すると、露光画像データの解像度に制約を受けることなく、高分解能な補正を行うことができる。
【００９８】
また、各露光ヘッド３０毎についてそれぞれリアルタイム変位量を求め、この露光ヘッド３０毎のリアルタイム変位量に基づいて補正を行うようにしたので、全ての露光ヘッド３０について同じリアルタイム変位量を求めて補正する場合と比較するとより高精度な位置合わせを行うことができる。
【００９９】
次に、本発明の描画方法および描画装置の第２の実施形態を用いた露光装置について説明する。
【０１００】
本発明の第２の実施形態を用いた露光措置１５は、本発明の第１の実施形態を用いた露光装置１０とは、移動ステージ１４のＸ方向についてのリアルタイム変位量に応じた補正の方法が異なる。本発明の第１の実施形態を用いた露光装置においては、移動ステージのＸ方向についてのリアルタイム位量に基づいて、各露光ヘッド３０毎についての分割露光画像データにシフト処理を施すようにしたが、本実施形態の露光措置１５においては、分割露光画像データに対するシフト処理はＸ方向変位量記憶メモリ５０に記憶された蛇行曲線のみに基づいて行う。そして、Ｘ方向変位量算出部８１において算出された各露光ヘッド３０毎のリアルタイム変位量Ｘ１〜ＸＮについては以下のようにして補正処理を行う。
【０１０１】
露光措置１５においては、図１５に示すように、各露光ヘッド３０毎に、ガラスなどから形成された平行平板１００が設置されている。平行平板１００は、露光ヘッド３０の光軸に対して直交し、Ｙ方向に平行な軸回りに回転可能に支持されている。そして、平行平板１００のＸ方向についての一方の端部には板バネ１０１が設けられ、その板バネ１０１の一端は露光措置１５の筐体の一部に固定されている。また、板バネ１０１には歪ゲージ１０２が設けられ、平行平板１００の他方の端部にはピエゾアクチュエータ１０３が設けられている。なお、本実施形態においては、上記平行平板１００、板バネ１０１、歪ゲージ１０２およびピエゾアクチュエータ１０３によって請求項における光学系が構成されている。
【０１０２】
そして、ピエゾアクチュエータ１０３は、入力された制御信号と歪ゲージ１０２による出力結果に基づいて図１５（Ｂ）に示す矢印Ａ方向に伸縮し、ピエゾアクチュエータ１０３が矢印Ａ方向に伸縮することにより平行平板１００が矢印Ｂ方向に回動する。
【０１０３】
そして、上記のようにして平行平板１００を矢印Ｂ方向に回動させることによって、露光ヘッド３０から射出されたレーザ光のＸ方向についての基板１２上への照射位置を、図３（Ｂ）に示すように移動させることができる。
【０１０４】
したがって、露光措置１５においては、各露光ヘッド毎に求められたリアルタイム変位量Ｘ１〜ＸＮに基づいて、各露光ヘッド３０毎に、上記リアルタイム変位量Ｘ１〜ＸＮに応じたピエゾアクチュエータ１０３の制御信号が生成され、その生成された制御信号が順次ピエゾアクチュエータ１０３に入力される。
【０１０５】
そして、上記のように生成された制御信号に応じて各ピエゾアクチュエータ１０３が伸縮することによって、露光ヘッド３から射出されたレーザ光をリアルタイム変位量Ｘ１〜ＸＮに応じた量だけＸ方向について移動させることができる。
【０１０６】
上記のような処理を行うことにより本発明の第１の実施形態を用いた露光装置１０と同様の効果を得ることができる。
【０１０７】
また、上記第２の実施形態を用いた露光装置１５のように、光学系を用いてＸ方向についての補正を行うようにした場合には、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０のように露光画像データにシフト処理を施して補正を行う場合と比較すると、露光画像データの解像度に制約を受けることなく、高分解能な補正を行うことができる。
【０１０８】
なお、上記実施形態においては、移動ステージ１４上に設けられたマーキング１３を予め撮像することによって移動ステージ１４のＸ方向およびＹ方向についての変位量を予め求めるようにしたが、マーキング１３を設けることなく、レーザ測長器によって移動ステージ１４のＸ方向およびＹ方向についての変位量を予め求め、Ｘ方向変位量記憶メモリ５０にＸ方向についての変位量を記憶するとともに、パルス補正数記憶メモリ６０にパルス補正数を記憶するようにしてもよい。
【０１０９】
また、上記実施形態においては、予めＸ方向変位量記憶メモリ５０にＸ方向についての移動ステージ１４の変位量を記憶するとともに、予めパルス補正数記憶メモリ６０にパルス補正数を記憶し、これらの予め記憶された情報と、基板１２への露光中における移動ステージ１４のリアルタイム変位量とに基づいて補正処理を行うようにしたが、必ずしも予めＸ方向について移動ステージ１４の変位量や補正パルス数を取得しておく必要はなく、基板１２への露光中における移動ステージ１４のリアルタイム変位量のみを用いて補正処理を行うようにしてもよい。
【０１１０】
また、上記実施形態においては、各露光ヘッド３０のリセットタイミングを制御することにより移動ステージ１４のＹ方向についてのリアルタイム変位量を補正するようにしたが、Ｙ方向についてのリアルタイム変位量に応じて分割露光画像データに対し、Ｙ方向についてのシフト処理を施すようにしてもよい。
【０１１１】
また、上記第１および第２の実施形態においては、移動ステージ１４の位置情報に基づいてリアルタイム変位量を取得し、そのリアルタイム変位量に基づいて補正を施すようにしたが、移動ステージ１４の位置情報だけでなく、露光ヘッド３０の位置情報も測定し、移動ステージ１４の位置情報と露光ヘッド３０の位置情報とに基づいて、Ｘ方向とＹ方向についての相対的なリアルタイム変位量を取得し、この相対的リアルタイム変位量に基づいて補正を施すようにしてもよい。
【０１１２】
具体的には、図１６に示すように、露光ヘッド３０のＸ方向についての位置情報を取得する露光ヘッド用Ｘ方向レーザ測長部７５と露光ヘッド３０のＹ方向についての位置情報を取得する露光ヘッド用Ｙ方向レーザ測長部７４ａ，７４ｂを設け、露光ヘッド３０のＸ方向とＹ方向についての位置情報を露光ヘッド位置情報取得部７６により取得するようにすればよい。なお、図１６においては、各レーザ測長部に対応するミラーは図示省略してある。
【０１１３】
そして、Ｘ方向については、露光ヘッド位置情報取得部７６により取得された露光ヘッド３０の位置情報とステージ姿勢演算部７３において取得された移動ステージ１４の位置情報に基づいて、下式により相対的リアルタイム変位量Ｘを算出し、上記第１の実施形態または第２の実施形態のように補正処理を施すようにすればよい。
【０１１４】
Ｘ＝（Ｘ１−ＸＨ）×Ａ
Ｘ１：Ｘ方向レーザ測長部７１ｂにより測定された移動ステージ１４のＸ方向についての      位置情報
ＸＨ：露光ヘッド用Ｘ方向レーザ測長部７５により測定された露光ヘッド３０のＸ方向に      ついての位置情報
Ａ：任意の定数  また、Ｙ方向については、露光ヘッド位置情報取得部７６により取得された露光ヘッド３０の位置情報とステージ姿勢演算部７３において取得された移動ステージ１４の位置情報とに基づいて、下式により相対的リアルタイム変位量Ｙを露光ヘッド３０毎に算出し、その相対的リアルタイム変位量Ｙに基づいて、図１７に示すように、各露光ヘッド３０Ｎの露光タイミングを早くしたり遅くしたりして補正処理を行うようにすればよい。なお、図１７のパルス波形は、各露光ヘッド２３０Ｎの露光タイミングを示しており、図１７における点線は、移動ステージ１４と露光ヘッドとの相対的な位置ずれがない場合における露光ヘッド３０Ｎの露光タイミングを示しており、実線は位置ずれがある場合の露光ヘッド３０Ｎの露光タイミングを示している。
【０１１５】
Ｙ＝（Ｙ１＋Ｙ２）／２＋（Ｙ１−Ｙ２）×Ａ（Ｎ）＋（ＹＨ１−ＹＨ２）×Ｂ（Ｎ）
Ｙ１：Ｙ方向レーザ測長部７２ｄにより測定された移動ステージ１４のＹ方向についての      位置情報
Ｙ２：Ｙ方向レーザ測長部７２ｃにより測定された移動ステージ１４のＹ方向についての      位置情報
ＹＨ１：露光ヘッド用Ｙ方向レーザ測長部７４ａにより測定された露光ヘッド３０のＹ方        向についての位置情報
ＹＨ２：露光ヘッド用Ｙ方向レーザ測長部７４ｂにより測定された露光ヘッド３０のＹ方        向についての位置情報
なお、Ａ（Ｎ）、Ｂ（Ｎ）は露光ヘッド３０Ｎ毎に与えられる定数であって、露光ヘッド３０１〜露光ヘッド３０Ｎ間の中心位置に対する、計算対象の露光ヘッド３０Ｎの位置に基づいて決められる定数で、中心位置に近いほど小さい値で遠いほど大きな値となる。
【０１１６】
また、上記実施形態においては、移動ステージ１４と露光ヘッド３０との相対的な位置ずれに基づいて、画像データにシフト処理を施したり、露光タイミングを制御するようにしたが、これに限らず、たとえば、上記相対的な位置ずれを抑制するように、移動ステージ１４をＸ方向、Ｙ方向、θ方向に移動させるようにしてもよい。
【０１１７】
なお、Ｘ方向レーザ測長部７１ｂにより取得された移動ステージ１４のＸ方向についての位置情報とＹ方向レーザ測長部７２ｄ、７２ｃにより取得された移動ステージ１４のＹ方向についての位置情報とは、上記のように相対的リアルタイム変位量の取得に利用してもよいし、移動ステージ１４の位置制御に利用するようにしてもよい。
【０１１８】
また、上記実施形態では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。
【０１１９】
また、上記実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの露光装置としてもよい。
【０１２０】
また、上記実施形態の露光対象である基板１２は、プリント配線基板だけでなく、フラットパネルディスプレイの基板であってもよい。また、基板１２の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよい。
【０１２１】
また、本発明における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタにおける描画にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】本発明の描画方法および装置の第１および第２の実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図
【図２】露光装置のスキャナの構成を示す斜視図
【図３】（Ａ）は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図
【図４】露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す図
【図５】露光装置の電気的構成を示すブロック図
【図６】露光装置のＸ方向位置情報測定部とＹ方向位置情報測定部とを示す図
【図７】移動ステージのＸ方向についての変位量を求める方法を説明するための図
【図８】移動ステージのＸ方向についての変位量から求められる蛇行曲線を示す図
【図９】移動ステージのＹ方向についての変位量を求める方法を説明するための図
【図１０】移動ステージのＹ方向についての変位量を示す図
【図１１】移動ステージのＹ方向についての変位量に基づいて求められたリセットタイミングのパルス補正数を示す図
【図１２】分割露光画像データを示す図
【図１３】分割露光画像データにシフト処理を施す方法を説明するための図
【図１４】各露光ヘッド毎について分割露光画像データにシフト処理を施すとともに、そのリセットタイミングを制御した場合の露光画像の一例を示す図
【図１５】本発明の描画方法および装置の第２の実施形態を用いた露光装置の一部を示す図
【図１６】本発明の描画方法および装置のその他の実施形態を用いた露光装置の一部を示す図
【図１７】露光ヘッドの露光タイミングを示す図
【符号の説明】
【０１２３】
１０,１５    露光装置
１２    基板
１３    マーキング
１４    移動ステージ
１８    設置台
２０    ガイド
２２    ゲート
２４    スキャナ
２６    カメラ
３０    露光ヘッド（描画ヘッド）
３２    露光エリア
３６    ＤＭＤ
３８    マイクロミラー
７０    ステージ姿勢測定部（位置ずれ取得手段）
８０    リアルタイム変位量算出部（位置ずれ取得手段）
４３    画像シフト処理部（補正手段）
９５    リセットタイミング算出部（補正手段）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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