(57)【要約】【課題】  消磁マスク用媒体、垂直媒体磁気転写／消磁方法、垂直記録媒体、及び、磁気ディスク装置に関し、サーボパターン転写部の間のデータ領域に対する消磁を簡単な構成により一括して行う。【解決手段】  予めサーボ情報がパターニングされているマスク媒体を用いて、垂直記録媒体１に密着させた状態で磁界印加することで垂直記録媒体１の媒体面垂直方向にサーボパターンを転写した後、消磁マスク用媒体３のマスク部４と転写パターン部との位置合わせを行なって密着または近接させた状態で、垂直記録媒体１におけるデータ部における垂直上下方向の磁化を消磁する。【選択図】          図１
2007200499.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直記録媒体のサーボパターン転写部を完全に覆うマスク部が磁性膜からなることを特徴とする消磁マスク用媒体。
【請求項２】
垂直記録媒体のサーボパターン転写部を完全に覆うマスク部が非磁性遮光部材からなるとともに、基材が透過性部材からなることを特徴とする消磁マスク用媒体。
【請求項３】
予めサーボ情報がパターニングされているマスク媒体を用いて、垂直記録媒体に密着させた状態で磁界印加することで前記垂直記録媒体の媒体面垂直方向にサーボパターンを転写した後、請求項１または２に記載の消磁マスク用媒体を用い、前記消磁マスク用媒体のマスク部と前記転写パターン部との位置合わせを行なって密着または近接させた状態で、前記垂直記録媒体におけるデータ部における垂直上下方向の磁化を消磁することを特徴とする垂直記録媒体磁気転写／消磁方法。
【請求項４】
請求項３記載の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法により、サーボパターンが記録されるとともに、データ部の垂直上下方向の磁化が消磁された垂直記録媒体。
【請求項５】
請求項４記載の垂直記録媒体を搭載したことを特徴とする磁気ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は消磁マスク用媒体、垂直媒体磁気転写／消磁方法、垂直記録媒体、及び、磁気ディスク装置に関するものであり、特に、垂直磁気記録媒体にサーボ情報を一括して記録する磁気転写方式におけるデータ領域の初期消磁方法のための構成に特徴のある消磁マスク用媒体、垂直媒体磁気転写／消磁方法、垂直記録媒体、及び、磁気ディスク装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録装置における高記録密度化が進むにつれ、従来のヘッド記録によるサーボ情報記録では、サーボライト時間の増大やサーボ記録精度劣化が懸念されている。
【０００３】
そこで、あらかじめサーボ情報がパターニングされているマスク媒体を用いて、一括してサーボ情報を記録する磁気転写方式が注目されている。
この磁気転写方式によれば、一括記録のため時間コストを大幅に削減できるとともに、静的な記録であるため高精度なサーボ記録を期待することができる。
【０００４】
一方、磁気記録媒体に関しては、従来の面内記録媒体に代わり垂直記録化が進んでおり、磁気転写方式も媒体に水平に磁界を印加する方式、垂直に印加する方式が存在する。
【０００５】
垂直に磁界を印加する転写方式は、初期化磁界を媒体面垂直方向に印加後、マスク媒体を密着させ初期化と逆方向に磁界を印加してサーボパターンを転写する方式である。
【０００６】
このとき転写部分以外の領域は広範囲に渡り、初期化磁界方向または転写磁界方向に磁化が一様に残留する。言い換えるとサーボ領域は所望のサーボパターンが転写されるが、データ領域はＤＣ消磁（ＤＣイレーズ）された状態になる。
【０００７】
このＤＣイレーズ部が広範囲に集中して存在すると、その部分から垂直方向に強力な磁場が発生し、一般に垂直記録磁気ディスク装置において、ヘッドでデータを記録する時にその磁場の悪影響を受け、記録精度が劣化することが課題となっている。
【０００８】
そのため、データ部は一方向の磁場が集中しないよう、ＡＣイレーズされていることが望ましい。
例えば、従来のヘッド記録によるサーボ情報記録方式においては、垂直記録媒体において、サーボパターン転写部の間のデータ領域に対してライトヘッドを用いてＡＣイレーズを行っている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−２３０７３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、垂直磁気記録媒体が殆ど市販されていない現状では、市販されている垂直磁気記録装置に搭載されている垂直磁気記録媒体の消磁方法が不明であり、また、文献上も磁気転写方式において、適当な消磁方法が提案されていないという問題がある。
【００１０】
仮に、磁気転写方式においてもライトヘッドを用いてサーボパターン転写部の間のデータ領域に対してＡＣイレーズを行った場合には、磁気転写方式の特徴である時間コストの大幅な削減という特長が失われてしまうという問題がある。
【００１１】
したがって、本発明は、サーボパターン転写部の間のデータ領域に対する消磁を簡単な構成により一括して行うことを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
図１は本発明の原理的構成図であり、ここで図１を参照して、本発明における課題を解決するための手段を説明する。
図１参照
上記課題を解決するために、本発明は、消磁マスク用媒体３において、垂直記録媒体１のサーボパターン転写部２を完全に覆うマスク部５が磁性膜からなることを特徴とする。
【００１３】
このように、垂直記録媒体１のサーボパターン転写部２を完全に覆うマスク部５を磁性膜から構成することによって、サーボパターン転写部２を磁気的にシールドすることができ、従って、磁場を一括して印加してデータ部を消磁してもサーボパターン転写部２の転写データが消磁されることはないので、消磁工程を短時間で低コストで行うことが可能になる。
【００１４】
この場合の消磁マスク用媒体３を構成する基材４は、不透明な部材で良いが、透過性部材を用いることによって、後述のレーザ照射による消磁と磁場印加による消磁を合わせて行うことができ、より、ＡＣ消磁に近い状態を実現することができる。
【００１５】
また、垂直記録媒体１のサーボパターン転写部２を完全に覆うマスク部５が非磁性遮光部材からなるとともに、基材４が透過性部材からなる消磁マスク用媒体３でも良く、この場合には、レーザ照射による加熱によりデータ部が消磁されるとともに、サーボパターン転写部２では非磁性遮光部材によりレーザ光が吸収されるのでサーボパターン転写部２が消磁されることはない。
【００１６】
また、サーボパターン転写部２を完全に覆うマスク部５は、サーボパターンデータから自動生成されたマスクデータを用いて作成することによりマスク部５の作成工程が簡単になり、それによって、サーボパターン転写部２の輪郭部の内部を塗り潰すベタパターンが構成される。
【００１７】
この場合、マスク部５は、マスク部５の両端に各々サーボパターン転写部２の輪郭部の最短幅の１０％以下のマージン部を有するように構成しても良く、それによって、サーボパターン転写部２のサーボ情報がマスク合わせ誤差により誤って消去されることがない。
【００１８】
また、垂直記録媒体磁気転写／消磁方法としては、予めサーボ情報がパターニングされているマスク媒体を用いて、垂直記録媒体１に密着させた状態で磁界印加することで垂直記録媒体１の媒体面垂直方向にサーボパターンを転写した後、上述のいずれかの消磁マスク用媒体３を用い、消磁マスク用媒体３のマスク部５と転写パターン部との位置合わせを行なって密着または近接させた状態で、垂直記録媒体１におけるデータ部における垂直上下方向の磁化を消磁すれば良い。
【００１９】
この場合、サーボ情報を転写する前に、垂直記録媒体１の磁化方向がサーボパターン転写部２の磁化方向と反対になるように初期化することが望ましく、それによって、サーボ情報の磁気的なコントラストを向上することができる。
【００２０】
具体的には、マスク部５を磁性体で構成した消磁マスク用媒体３を用いた場合には、消磁マスク用媒体３を垂直記録媒体１に密着させた状態で、媒体面平行方向に磁界印加すれば良い。
【００２１】
また、マスク部５を非磁性不透明部材で構成した消磁マスク用媒体３を用いた場合には、消磁マスク用媒体３を垂直記録媒体１に密着または近接させた状態で、媒体面垂直方向に消磁マスク用媒体３側からレーザ照射して加熱すれば良い。
【００２２】
また、マスク部５が磁性体からなり基材４が透明部材で構成した消磁マスク用媒体３を用いた場合には、消磁マスク用媒体３を垂直記録媒体１に密着させた状態で、媒体面平行方向に磁界印加するとともに媒体面垂直方向に消磁マスク用媒体３側からレーザ照射して加熱すれば良い。
【００２３】
この場合、磁界印加とレーザ照射は同時に行っても良いし、或いは、一方を先に行い他方を次いで行う逐次方式で行っても良い。
【００２４】
上述の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法により、サーボパターンが記録されるとともに、データ部の垂直上下方向の磁化が消磁された垂直記録媒体１を構成することによって、安価な垂直記録媒体１を提供することができる。
【００２５】
また、このような垂直記録媒体１を搭載することによって、高記録密度の磁気ディスク装置を安価で提供することができる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、サーボパターン転写部間のデータ領域の消磁を一括して行うことができるので、磁気転写方式の利点を十分生かしたサーボパターン転写が可能になり、それによって、高密度記録が可能な垂直記録媒体或いはそれを搭載した磁気ディスク装置を安価に提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
本発明は、予めサーボ情報がパターニングされているマスク媒体を用いて、垂直記録媒体１に密着させた状態で磁界印加することで垂直記録媒体の媒体面垂直方向にサーボパターンを転写した後、サーボパターン転写部を完全に覆うマスク部が磁性膜或いは非磁性遮光部材からなる消磁マスク用媒体を用い、消磁マスク用媒体のマスク部と転写パターン部との位置合わせを行なって密着または近接させた状態で、消磁マスク用媒体の構成に応じて媒体面平行方向への磁界印加或いは媒体面垂直方向への消磁マスク用媒体側からレーザ照射の少なくとも一方を行って、垂直記録媒体におけるデータ部における垂直上下方向の磁化を消磁するものである。
【００２８】
この場合、サーボ情報を転写する前に、垂直記録媒体の磁化方向がサーボパターン転写部２の磁化方向と反対になるように初期化することが望ましい。
【００２９】
また、サーボパターン転写部を完全に覆うマスク部は、サーボパターンデータから自動生成されたマスクデータを用いて作成することが好ましく、このように作成したサーボパターン転写部の輪郭部の内部を塗り潰すベタパターン、特に、マスク部の両端に各々サーボパターン転写部の輪郭部の最短幅の１０％以下のマージン部を有するように構成したベタパターンを用いる。
【実施例１】
【００３０】
ここで、図２及び図６を参照して、本発明の実施例１の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法を説明する。
図２参照  
図２は、サーボ記録用マスク媒体の構成説明図であり、上図は概略的平面図であり、下図は概略的要部断面図である。
このサーボ記録用マスク媒体１０は、シリコン基板１１にレジストパターン（図示を省略）を利用してサーボパターン１２を形成するための深さが数１００ｎｍの溝１３を形成したのち、高透磁率の磁性体膜、例えば、ＣｏＦｅ膜１４をスパッタして堆積したのち、不要部分をリフトオフにより除去して、溝１３にＣｏＦｅ膜１４を埋め込んで形成したものである。
【００３１】
このサーボパターン１２はサーボセクタに対応する弧を連ねて描くように配置されており、各弧は微細なサーボデータパターン１５から構成されており、予め作成したサーボデータを反転したデータパターンをレジスト上に露光してレジストパターンが形成される。
【００３２】
図３参照  
図３は、サーボ部マスク用媒体の構成説明図であり、上図は概略的平面図であり、下図は概略的要部断面図である。
このサーボ部マスク用媒体２０は、シリコン基板２１にレジストパターン（図示を省略）を利用してサーボパターン１２をマスクする位置に深さが数１００ｎｍの溝２３を形成したのち、高透磁率の磁性体膜、例えば、ＣｏＦｅ膜２４をスパッタして堆積したのち、不要部分をリフトオフにより除去して、溝２３にＣｏＦｅ膜２４を埋め込んでマスクパターン２２を形成したものである。
【００３３】
この場合のＣｏＦｅ膜２４の厚さは磁気シールド効果のためには厚ければ厚いほうが良いが、厚すぎると表面の平坦性が失われて、垂直磁気記録媒体に密着させることが困難になるので、これらのバランスにより消磁条件が最適化される深さとする。
【００３４】
このマスクパターン２２は、サーボデータの外輪郭に沿うマスクデータパターンから構成されるものであり、必要に応じてマスク領域２５の両脇に各々マスク領域２５の幅の１０％以下のマージン領域２６を設ける。
【００３５】
即ち、サーボ部ではパターン密集度が高く、データ部では基本的にゼロであるので、この特徴を利用して、サーボパターン部の開始位置および終了位置をサーチすることにより全描画データ上でマスクすべき領域（弧状の帯範囲）自動認識し、マスクデータを自動で生成すれば良い。
【００３６】
次に、上述のサーボ記録用マスク媒体及びサーボ部マスク用媒体を用いた垂直記録媒体磁気転写／消磁工程を説明する。
図４参照  
まず、スピンドルモータ３１に固定した垂直磁気記録媒体４０に対して、垂直磁気記録媒体４０の面に垂直方向の磁界を印加するための電磁石３２，３３を設けて、垂直磁気記録媒体４０の磁気記録層４１の保磁力Ｈc の２倍以上の磁界を印加して磁気記録層４１を垂直方向（図においては上向）に初期化する。
【００３７】
図５参照  
次いで、磁気記録層４１の初期化面に上述のサーボ記録用マスク媒体１０のＣｏＦｅ膜２４を設けた側が接するように密着させたのち、電磁石３２，３３に流す電流を反転させて初期化方向とは反対方向の磁界を印加して磁気記録層４１にサーボパターン１２を転写してサーボパターン書込領域４２を形成する。
この場合の磁界強度は、例えば、磁気記録層４１の保磁力Ｈc と同じにする。
【００３８】
図６参照  
次いで、磁気記録層４１のサーボパターン書込領域４２に対してサーボ部マスク用媒体２０に設けたマスクパターン２２がサーボパターン書込領域４２を完全に覆うように位置合わせして密着させたのち、垂直磁気記録媒体を低速度で回転させながら電磁石３４を用いて媒体面水平方向に磁界を印加してデータ部４３の磁界をＡＣイレーズに近いランダムな状態として消磁を行う。
【００３９】
この場合の磁界強度は、例えば、磁気記録層４１の保磁力Ｈc の１〜２倍とする。
なお、この場合の位置合わせは、磁気記録層４１とサーボ部マスク用媒体２０との双方に位置合わせ用マークを設けておき、光学的に確認しながら位置合わせを行う。
【００４０】
この消磁工程においては、サーボパターン書込領域４２はサーボパターン書込領域４２に密着するマスクパターン２２によって磁気的にシールドされるので、サーボパターン書込領域４２の情報が消磁されることはない。
【００４１】
なお、図においては、図示の都合上、電磁石３４を一本のサーボパターン書込領域４２の一部を覆う大きさにしているが、全体を覆う大きさにしても良いし、或いは、小さな電磁石３４を垂直磁気記録媒体４０の放射方向に移動させながら消磁しても良い。
【００４２】
このように、本発明の実施例１においては、マスクパターン２２を有するサーボ部マスク用媒体２０を用いて一括消磁しているので、従来のドライブ磁気ヘッドにてデータ部を消磁する方法に比べ、転写工程の簡潔な延長で済み、時間的コスト削減が可能になる。
【実施例２】
【００４３】
次に、図７及び図８を参照して、本発明の実施例２の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法を説明する。
図７参照  
図７は、実施例２に用いるサーボ部マスク用媒体の構成説明図であり、上図は概略的平面図であり、下図は概略的要部断面図である。
このサーボ部マスク用媒体５０は、透明ガラス基板５１にフォトレジストを塗布し、予めサーボパターンから自動的に生成したサーボデータの外輪郭に沿うデータパターンを露光・現像して遮光性のマスクパターン５２としたものであり、必要に応じてマスク領域５３の両脇に各々マスク領域５３の幅の１０％以下のマージン領域５４を設ける。
【００４４】
次に、上述のサーボ記録用マスク媒体及びサーボ部マスク用媒体を用いた垂直記録媒体磁気転写／消磁工程を説明する。
まず、上述の実施例１と全く同様に、スピンドルモータ３１に固定した垂直磁気記録媒体４０に対して、垂直磁気記録媒体４０の面に垂直方向の磁界を印加するための電磁石を設けて、垂直磁気記録媒体４０の磁気記録層４１の保磁力Ｈc の２倍以上の磁界を印加して磁気記録層４１を垂直方向に初期化する。
【００４５】
次いで、磁気記録層４１の初期化面に上述のサーボ記録用マスク媒体のＣｏＦｅ膜を設けた側が接するように密着させたのち、電磁石に流す電流を反転させて初期化方向とは反対方向の磁界を印加して磁気記録層４１にサーボパターンを転写してサーボパターン書込領域４２を形成する。
この場合の磁界強度は、例えば、磁気記録層４１の保磁力Ｈc と同じにする。
【００４６】
図８参照  
次いで、磁気記録層４１のサーボパターン書込領域４２に対してサーボ部マスク用媒体５０に設けたマスクパターン５２がサーボパターン書込領域４２を完全に覆うように位置合わせしたのち、垂直磁気記録媒体を低速度で回転させながらレーザ光３５を照射してデータ部４３の磁界をＡＣイレーズに近いランダムな状態として消磁を行う。
なお、この場合の位置合わせは、磁気記録層４１とサーボ部マスク用媒体２０との双方に位置合わせ用マークを設けておき、光学的に確認しながら位置合わせを行う。
【００４７】
この消磁工程においては、パルスレーザを用いて８５ｍＪ／ｃｍ2 以上のレーザパワーを照射する。
使用するレーザは、ＹＡＧレーザの第２高調波、第３高調波、或いは、エキシマレーザ、Ａｒレーザ、ルビーレーザ等の各種のレーザを用いることができる。
【００４８】
この消磁工程においては、マスクパターン５２で覆われているサーボパターン書込領域４２はレーザ光３５が遮光されるため、先に転写したサーボパターンはそのまま保持される。
一方遮光部が存在しないデータ部４３にはレーザ光３５が照射されるため、その部分に熱が印加され、磁気記録層４１を構成する磁性膜がキュリー点に達することにより、ＡＣイレーズに近い媒体磁化状態になる。
【実施例３】
【００４９】
次に、図９及び図１０を参照して、本発明の実施例３の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法を説明する。
図９参照  
図９は、実施例３に用いるサーボ部マスク用媒体の構成説明図であり、上図は概略的平面図であり、下図は概略的要部断面図である。
このサーボ部マスク用媒体６０は、透明ガラス基板６１に予めサーボパターンから自動的に生成したサーボデータの外輪郭に沿うデータパターンを反転させたパターンを露光・現像してレジストパターン（図示を省略）とし、このレジストパターンを利用してマスクパターン６２を形成するための深さが数１００ｎｍの溝６３を形成したのち、高透磁率の磁性体膜、例えば、ＣｏＦｅ膜６４をスパッタして堆積したのち、不要部分をリフトオフにより除去して、溝６３にＣｏＦｅ膜６４を埋め込んで形成したものである。
なお、この場合も、必要に応じてマスク領域６５の両脇に各々マスク領域６５の幅の１０％以下のマージン領域６６を設ける。
【００５０】
次に、上述のサーボ記録用マスク媒体及びサーボ部マスク用媒体を用いた垂直記録媒体磁気転写／消磁工程を説明する。
まず、上述の実施例１と全く同様に、スピンドルモータ３１に固定した垂直磁気記録媒体４０に対して、垂直磁気記録媒体４０の面に垂直方向の磁界を印加するための電磁石を設けて、垂直磁気記録媒体４０の磁気記録層４１の保磁力Ｈc の２倍以上の磁界を印加して磁気記録層４１を垂直方向に初期化する。
【００５１】
次いで、磁気記録層４１の初期化面に上述のサーボ記録用マスク媒体のＣｏＦｅ膜を設けた側が接するように密着させたのち、電磁石に流す電流を反転させて初期化方向とは反対方向の磁界を印加して磁気記録層４１にサーボパターンを転写してサーボパターン書込領域４２を形成する。
この場合の磁界強度は、例えば、磁気記録層４１の保磁力Ｈc と同じにする。
【００５２】
図１０参照  
次いで、磁気記録層４１のサーボパターン書込領域４２に対してサーボ部マスク用媒体６０に設けたマスクパターン６２がサーボパターン書込領域４２を完全に覆うように位置合わせして密着させたのち、垂直磁気記録媒体を低速度で回転させながら電磁石３４を用いて媒体面水平方向に磁界を印加するとともに、レーザ光３５を照射してデータ部４３の磁界をＡＣイレーズに近いランダムな状態として消磁を行う。
【００５３】
なお、この場合の位置合わせは、磁気記録層４１とサーボ部マスク用媒体２０との双方に位置合わせ用マークを設けておき、光学的に確認しながら位置合わせを行う。
また、この場合の磁界強度は、例えば、磁気記録層４１の保磁力Ｈc の１〜２倍とするとともに、パルスレーザを用いて８５ｍＪ／ｃｍ2 以上のレーザパワーを照射する。
【００５４】
この消磁工程においては、遮光性で且つ磁性膜からなるマスクパターン６２で覆われているサーボパターン書込領域４２はレーザ光３５が遮光されるとともに磁気的にもシールドされているので、先に転写したサーボパターンはそのまま保持される。
一方、遮光部及び磁気シールド部が存在しないデータ部４３にはレーザ光３５が照射されるとともに、水平方向の磁界が印加されるため、より短時間の消磁工程でＡＣイレーズに近い媒体磁化状態になる。
【実施例４】
【００５５】
次に、図１１を参照して、本発明の実施例４の磁気デイスク装置を説明する。
図１１参照  
図１１は、本発明の実施例４の磁気ディスク装置の概念的平面図であり、上記の実施例１乃至実施例３のいずれかの垂直記録媒体磁気転写／消磁方法でサーボパターンが転写された垂直磁気記録媒体４０は、スピンドルモータ７１の回転軸に取り付けられるとともに、ディスククランプリング７２によって固定される。
【００５６】
また、ヘッドアーム７３の先端部にはサスペンション７４を介して磁気センサを備えたスライダー７５が取付けられており、垂直磁気記録媒体４０の放射方向にシーキング動作を行う。
【００５７】
以上、本発明の各実施例を説明してきたが、本発明は各実施例に記載された構成・条件等に限られるものではなく各種の変更が可能であり、例えば、各実施例においてはマスクパターンにマージン領域を設けているが、位置合わせを高精度で行えば、必ずしも必要がないものである。
【００５８】
また、上記の各実施例においては、サーボパターンのコントラストを明瞭にするために初期化処理をしているが、この初期化処理は必ずしも必要がないものである。
【００５９】
また、上記の実施例１においては、基板として加工精度の観点からシリコン基板を用いているが、シリコン基板に限られるものではなく、実施例２と同様にガラス基板等を用いても良いものであり、また、埋め込む磁性膜もＣｏＦｅに限られるものではなく、ＮｉＦｅやＣｏＮｉＦｅ等の他の磁性膜を用いても良いものである。
【００６０】
また、上記の実施例２においては、基板としてガラス基板を用いているが、ガラス基板に限られるものではなく、照射するレーザ光に対して透明であれば良く、例えば、透明樹脂フィルム等を用いても良いものである。
【００６１】
また、上記の実施例２においては、遮光部材としてフォトレジストを用いているがフォトレジストに限られるものではなく、反射性部材、例えば、Ａｌ等の金属膜を用いても良いものであり、その場合には、リフトオフ法等を用いてマスクパターンを形成すれば良い。
【００６２】
また、上記の実施例２においては、磁気記録層４１とサーボ部マスク用媒体２０とを位置合わせたのち、密着させた状態でレーザ照射しても良いし、或いは、多少間隙をもって対向させた状態でレーザ照射しても良いものである。
【００６３】
また、上記の実施例１及び実施例３においては、マスクパターンを磁性膜を埋め込んで形成しているが、実施例２と同様に、リフトオフを利用して基板上に堆積させたものでも良い。
【００６４】
また、上記の実施例３においては、磁界印加とレーザ照射を同時に行っているが、必ずしも同時である必要はなく、先に磁界印加したのちレーザ照射しても良いし、或いは、レーザ照射したのち磁界印加しても良いものである。
【００６５】
ここで再び図１を参照して、本発明の詳細な特徴を改めて説明する。
再び、図１参照  
（付記１）  垂直記録媒体１のサーボパターン転写部２を完全に覆うマスク部５が磁性膜からなることを特徴とする消磁マスク用媒体。
（付記２）  基材４が透過性部材からなることを特徴とする付記１記載の消磁マスク用媒体。
（付記３）  垂直記録媒体１のサーボパターン転写部２を完全に覆うマスク部５が非磁性遮光部材からなるとともに、基材４が透過性部材からなることを特徴とする消磁マスク用媒体。
（付記４）  上記サーボパターン転写部２を完全に覆うマスク部５が、サーボパターンデータから自動生成されたマスクデータを用いて作成され、サーボパターン転写部２の輪郭部の内部を塗り潰すベタパターンからなることを特徴とする付記１乃至３のいずれか１に記載の消磁マスク用媒体。
（付記５）  上記マスク部５が、前記マスク部５の両端に各々上記サーボパターン転写部２の輪郭部の最短幅の１０％以下のマージン部を有することを特徴とする付記４記載の消磁マスク用媒体。
（付記６）  予めサーボ情報がパターニングされているマスク媒体を用いて、垂直記録媒体１に密着させた状態で磁界印加することで前記垂直記録媒体１の媒体面垂直方向にサーボパターンを転写した後、付記１乃至５のいずれか１に記載の消磁マスク用媒体３を用い、前記消磁マスク用媒体３のマスク部５と前記転写パターン部との位置合わせを行なって密着または近接させた状態で、前記垂直記録媒体１におけるデータ部における垂直上下方向の磁化を消磁することを特徴とする垂直記録媒体磁気転写／消磁方法。
（付記７）  上記サーボ情報を転写する前に、上記垂直記録媒体１の磁化方向が前記サーボパターン転写部２の磁化方向と反対になるように初期化することを特徴とする付記６記載の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法。
（付記８）  上記消磁工程が、付記１記載の消磁マスク用媒体３を上記垂直記録媒体１に密着させた状態で、媒体面平行方向に磁界印加する工程であることを特徴とする付記６または７に記載の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法。
（付記９）  上記消磁工程が、付記３記載の消磁マスク用媒体３を上記垂直記録媒体１に密着または近接させた状態で、媒体面垂直方向に前記消磁マスク用媒体３側からレーザ照射して加熱する工程であることを特徴とする付記６または７に記載の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法。
（付記１０）  上記消磁工程が、付記２記載の消磁マスク用媒体３を上記垂直記録媒体１に密着させた状態で、媒体面平行方向に磁界印加するとともに媒体面垂直方向に前記消磁マスク用媒体３側からレーザ照射して加熱する工程であることを特徴とする付記６または７に記載の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法。
（付記１１）  上記磁界印加とレーザ照射を同時に行うことを特徴とする付記１０記載の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法。
（付記１２）  上記磁界印加とレーザ照射を逐次行うことを特徴とする付記１０記載の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法。
（付記１３）  付記６乃至１２のいずれか１に記載の垂直記録媒体磁気転写／消磁方法により、サーボパターンが記録されるとともに、データ部の垂直上下方向の磁化が消磁された垂直記録媒体。
（付記１４）  付記１３記載の垂直記録媒体１を搭載したことを特徴とする磁気ディスク装置。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の原理的構成の説明図である。
【図２】サーボ記録用マスク媒体の構成説明図である。
【図３】本発明の実施例１のサーボ部マスク用媒体の構成説明図である。
【図４】本発明の実施例１の途中までの垂直記録媒体磁気転写／消磁工程の説明図である。
【図５】本発明の実施例１の図４以降の途中までの垂直記録媒体磁気転写／消磁工程の説明図である。
【図６】本発明の実施例１の図５以降の垂直記録媒体磁気転写／消磁工程の説明図である。
【図７】実施例２に用いるサーボ部マスク用媒体の構成説明図である。
【図８】本発明の実施例２の垂直記録媒体磁気転写／消磁工程の説明図である。
【図９】実施例３に用いるサーボ部マスク用媒体の構成説明図である。
【図１０】本発明の実施例３の垂直記録媒体磁気転写／消磁工程の説明図である。
【図１１】本発明の実施例４の磁気ディスク装置の概念的平面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１  垂直記録媒体
２  サーボパターン転写部
３  消磁マスク用媒体
４  基材
５  マスク部
１０  サーボ記録用マスク媒体
１１  シリコン基板
１２  サーボパターン
１３  溝
１４  ＣｏＦｅ膜
１５  サーボデータパターン
２０  サーボ部マスク用媒体
２１  シリコン基板
２２  マスクパターン
２３  溝
２４  ＣｏＦｅ膜
２５  マスク領域
２６  マージン領域
３１  スピンドルモータ
３２  電磁石
３３  電磁石
３４  電磁石
３５  レーザ光
４０  垂直磁気記録媒体
４１  磁気記録層
４２  サーボパターン書込領域
４３  データ部
５０  サーボ部マスク用媒体
５１  透明ガラス基板
５２  マスクパターン
５３  マスク領域
５４  マージン領域
６０  サーボ部マスク用媒体
６１  透明ガラス基板
６２  マスクパターン
６３  溝
６４  ＣｏＦｅ膜
６５  マスク領域
６６  マージン領域
７１  スピンドルモータ
７２  ディスククランプリング
７３  ヘッドアーム
７４  サスペンション
７５  スライダー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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