(57)【要約】【課題】  磁気記録ディスク用基板に浸漬工程を行う際、薬液の液面に波紋が発生するのを防止可能な磁気記録ディスクの製造方法、および磁気記録ディスク製造用浸漬装置を提案すること。【解決手段】  磁気記録ディスク用基板１０の表面に浸漬法によって潤滑層などの薄膜を成膜する際、磁気記録ディスク用基板１０の中心穴１１１に挿通させた基板支持具３００と上側に配置した基板受け具４００との間に磁気記録ディスク用基板１０を垂直な姿勢で挟持し、この状態で磁気記録ディスク用基板１０の略下半部を薬液２２に浸漬するとともに、基板支持具３００および基板受け具４００を軸線周りに回転させて磁気記録ディスク用基板１０の全周を薬液に浸漬する。【選択図】  図２
2007095202.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録ディスク用基板の中心穴に通した基板支持具により当該磁気記録ディスク用基板を支持した状態で薬液槽に貯留された薬液への浸漬を行う浸漬工程を有する磁気記録ディスクの製造方法において、
前記基板支持具を前記薬液の液面より上方に位置させ、かつ、前記磁気記録ディスク用基板の下半部の少なくとも一部を前記薬液に浸漬した状態で前記磁気記録ディスク用基板を周方向に回転させて前記磁気記録ディスク用基板の全周を前記薬液に浸漬することを特徴とする磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項２】
磁気記録ディスク用基板の中心穴に通した基板支持具により当該磁気記録ディスク用基板を支持した状態で薬液槽に貯留された薬液への浸漬を行う浸漬工程を有する磁気記録ディスクの製造方法において、
前記基板支持具より上方位置で前記磁気記録ディスク用基板の外周端部に当接して前記基板支持具との間に前記磁気記録ディスク用基板を挟持する基板受け具を配置し、
前記基板支持具および前記基板受け具を前記薬液の液面より上方に位置させ、かつ、前記磁気記録ディスク用基板の下半部の少なくとも一部を前記薬液に浸漬した状態で前記基板受け具および前記基板支持具のうちの少なくとも一方を前記磁気記録ディスク用基板の基板面に垂直な軸線周りに回転させることにより前記磁気記録ディスク用基板を周方向に回転させて前記磁気記録ディスク用基板の全周を前記薬液に浸漬することを特徴とする磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項３】
磁気記録ディスク用基板の中心穴に通した基板支持具により当該磁気記録ディスク用基板を支持した状態で薬液槽に貯留された薬液への浸漬を行う浸漬工程を有する磁気記録ディスクの製造方法において、
前記薬液槽内に前記磁気記録ディスク用基板の下半部の少なくとも一部を当該薬液に浸漬したときに前記薬液中で当該前記磁気記録ディスク用基板の外周端部を受ける下側基板受け具を配置する一方、前記基板支持具より上方位置で前記磁気記録ディスク用基板の外周端部に当接して前記下側基板支持具との間に磁気記録ディスク用基板を挟持する上側基板受け具を配置し、
前記基板支持具および前記上側基板受け具を前記薬液の液面より上方に位置させ、かつ、前記磁気記録ディスク用基板の下半部の少なくとも一部を前記薬液に浸漬した状態で前記基板支持具、前記上側基板受け具および前記下側基板受け具のうちの少なくとも一つを前記磁気記録ディスク用基板の基板面に垂直な軸線周りに回転させることにより前記磁気記録ディスク用基板を周方向に回転させて前記磁気記録ディスク用基板の全周を前記薬液に浸漬することを特徴とする磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項４】
センサにより前記磁気記録ディスク用基板と前記薬液の液面との相対位置を監視することを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項５】
前記浸漬工程では、前記薬液として潤滑層形成用の薬液を用い、前記磁気記録ディスク用基板の表面に潤滑層を形成することを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項６】
前記磁気記録ディスク用基板の下半部の前記薬液への浸漬度合いを変えて前記浸漬工程を少なくとも２回、行うことを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項７】
前記薬液として潤滑層形成用の薬液を用いて前記磁気記録ディスク用基板の略下半部を当該薬液に浸漬した状態で前記浸漬工程を行った後、
前記薬液として潤滑層除去用の薬液を用いて前記磁気記録ディスク用基板の下半部の下端側のみを当該薬液に浸漬した状態で前記浸漬工程を行い、
半径方向の内側で潤滑層を厚く形成し、半径方向の外側で潤滑層を薄く形成したことを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の磁気記録ディスクの製造方法。
【請求項８】
磁気記録用ディスク基板の中心穴を挿通して当該磁気記録用ディスク基板を支持する基板支持具と、薬液が貯留された薬液槽と、前記薬液の液面と前記基板支持具とを相対移動させて前記磁気記録ディスクの前記薬液への浸漬操作および当該薬液からの引き上げ操作を行う浸漬引き上げ機構とを有する磁気記録ディスク製造用浸漬装置において、
前記浸漬引き上げ機構により前記薬液に下半部の少なくとも一部が浸漬した状態にされた前記磁気記録ディスク用基板を周方向に回転させて前記磁気記録ディスク用基板の全周を前記薬液に浸漬する基板回転装置を有することを特徴とする磁気記録ディスク製造用浸漬装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録ディスク用基板の表面に潤滑層などの薄膜を形成する際、浸漬法を採用した磁気記録ディスク（光磁気記録ディスクも含む）の製造方法、および磁気記録ディスク製造用浸漬装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録ディスクは、中心孔を備えたガラス基板や金属基板などの非磁性基板の表面に少なくとも磁性層、保護層、および潤滑層がこの順に積層された構造になっており、これらの薄膜のうち、潤滑層は浸漬法により形成されることが多い。このような浸漬法を採用する際には、複数枚の基板を一括処理できるように、中心穴に挿通させた基板支持具により複数枚の磁気記録ディスク用基板を一括して支持した状態で、基板支持具ごと磁気記録ディスク用基板全体を薬液中へ浸漬操作し、しかる後に、薬液からの引き上げ操作を行うのが一般的である（特許文献１、２参照）。
【特許文献１】特開平１０−３１０８７１号公報
【特許文献２】特開２０００−６７４３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、特許文献１、２に開示の技術のように、中心穴に挿通させた基板支持具により磁気記録ディスク用基板を支持した状態で、基板支持具および磁気記録ディスク用基板を薬液中に浸漬した後、引き上げると、薬液の液面には、基板支持具が薬液に浸漬することに起因する波紋、基板支持具が薬液から引き上げられることに起因する波紋、引き上げられた基板支持具から液滴が薬液に落下することに起因する波紋が発生する。その結果、磁気記録ディスク用基板に面外方向への揺れや、基板支持具による支持位置を垂直に通る軸線周りの揺れなどが発生し、このような揺れにより、薄膜に膜厚のむらが発生するという問題点がある。特に、このような振れは、磁気記録ディスクの外径寸法が３．５インチや３．０インチ、さらには２．５インチ、１．０インチと小型化された場合には、磁気記録ディスク用基板が軽くなる分、発生しやすいことになる。また、磁気記録ディスク用基板を引き上げる際に液面に波紋が発生していると、基板上に細かい横線模様が無数に発生することがあり、このような横線模様も潤滑層の厚さむらに起因するものである。ここで、潤滑層の厚さむらは、磁気ヘッドが浮上走行するのに必要な空気圧に変動を起こす原因となり、磁気ヘッドの浮上姿勢や浮上量に変調をきたす。このような不具合は、フライスティクション障害と呼ばれ、不規則な再生出力変動を伴うため、好ましくない。また、場合によっては浮上走行中の磁気ヘッドと磁気記録ディスクが接触し、クラッシュを起こすこともある。また、このような厚さむらは、潤滑層を形成する場合に限らず、浸漬法で保護膜などを形成しようとした場合にも同様に発生する問題である。
【０００４】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、磁気記録ディスク用基板に浸漬工程を行う際、薬液の液面に波紋が発生するのを防止可能な磁気記録ディスクの製造方法、および磁気記録ディスク製造用浸漬装置を提案することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明では、磁気記録ディスク用基板の中心穴に通した基板支持具により当該磁気記録ディスク用基板を支持した状態で薬液槽に貯留された薬液への浸漬を行う浸漬工程を有する磁気記録ディスクの製造方法において、前記浸漬操作を行う際には、前記基板支持具を前記薬液の液面より上方に位置させ、かつ、前記磁気記録ディスク用基板の下半部の少なくとも一部を前記薬液に浸漬した状態で前記磁気記録ディスク用基板を周方向に回転させて前記磁気記録ディスク用基板の全周を前記薬液に浸漬することを特徴とする。
【０００６】
本発明では、磁気記録用ディスク基板の中心穴を挿通して当該磁気記録用ディスク基板を支持する基板支持具と、薬液が貯留された薬液槽と、前記薬液の液面と前記基板支持具とを相対移動させて前記磁気記録ディスクの前記薬液への浸漬操作および当該薬液からの引き上げ操作を行う浸漬引き上げ機構とを有する磁気記録ディスク製造用浸漬装置において、前記浸漬引き上げ機構により前記薬液に下半部の少なくとも一部が浸漬した状態にされた前記磁気記録ディスク用基板を周方向に回転させて前記磁気記録ディスク用基板の全周を前記薬液に浸漬する基板回転装置を有することを特徴とする。
【０００７】
また、本発明では、磁気記録ディスク用基板の中心穴に通した基板支持具により当該磁気記録ディスク用基板を支持した状態で薬液槽に貯留された薬液への浸漬を行う浸漬工程を有する磁気記録ディスクの製造方法において、前記基板支持具より上方位置で前記磁気記録ディスク用基板の外周端部に当接して前記基板支持具との間に前記磁気記録ディスク用基板を挟持する基板受け具を配置し、前記基板支持具および前記基板受け具を前記薬液の液面より上方に位置させ、かつ、前記磁気記録ディスク用基板の下半部の少なくとも一部を前記薬液に浸漬した状態で前記基板受け具および前記基板支持具のうちの少なくとも一方を前記磁気記録ディスク用基板の基板面に垂直な軸線周りに回転させることにより前記磁気記録ディスク用基板を周方向に回転させて前記磁気記録ディスク用基板の全周を前記薬液に浸漬することを特徴とする。ここで、前記浸漬操作を行う際には、前記基板受け具および前記基板支持具の双方を前記磁気記録ディスク用基板の基板面に垂直な軸線周りに回転させることにより前記磁気記録ディスク用基板を周方向に回転させて前記磁気記録ディスク用基板の全周を前記薬液に浸漬することが好ましい。
【０００８】
また、本発明の別の形態では、磁気記録ディスク用基板の中心穴に通した基板支持具により当該磁気記録ディスク用基板を支持した状態で薬液槽に貯留された薬液への浸漬を行う浸漬工程を有する磁気記録ディスクの製造方法において、前記薬液槽内に前記磁気記録ディスク用基板の下半部の少なくとも一部を当該薬液に浸漬したときに前記薬液中で当該前記磁気記録ディスク用基板の外周端部を受ける下側基板受け具を配置する一方、前記基板支持具より上方位置で前記磁気記録ディスク用基板の外周端部に当接して前記下側基板支持具との間に磁気記録ディスク用基板を挟持する上側基板受け具を配置し、前記基板支持具および前記上側基板受け具を前記薬液の液面より上方に位置させ、かつ、前記磁気記録ディスク用基板の下半部の少なくとも一部を前記薬液に浸漬した状態で前記基板支持具、前記上側基板受け具および前記下側基板受け具のうちの少なくとも一つを前記磁気記録ディスク用基板の基板面に垂直な軸線周りに回転させることにより前記磁気記録ディスク用基板を周方向に回転させて前記磁気記録ディスク用基板の全周を前記薬液に浸漬することを特徴とする。ここで、前記浸漬操作を行う際には、前記基板支持具、前記上側基板受け具および前記下側基板受け具のうちの２つ、あるいは３つを前記磁気記録ディスク用基板の基板面に垂直な軸線周りに回転させることにより前記磁気記録ディスク用基板を周方向に回転させて前記磁気記録ディスク用基板の全周を前記薬液に浸漬することが好ましい。
【０００９】
本発明において、少なくとも前記基板支持具には、前記磁気記録ディスク用基板の面外方向での位置を規定しておく位置決め部が形成されていることが好ましい。
【００１０】
本発明において、センサにより前記磁気記録ディスク用基板と前記薬液の液面との相対位置を監視することが好ましい。
【００１１】
本発明では、前記浸漬工程において、前記薬液として潤滑層形成用の薬液を用い、前記磁気記録ディスク用基板の表面に潤滑層を形成することが好ましい。
【００１２】
本発明では、前記磁気記録ディスク用基板の下半部の前記薬液への浸漬度合いを変えて前記浸漬工程を少なくとも２回、行う方法を採用してもよい。このように構成すると、磁気記録ディスク用基板の半径方向において異なる浸漬処理を行うことができる。従って、磁気記録ディスク用基板の半径方向の全体にわたって潤滑層を形成する工程と、磁気記録ディスク用基板の半径方向の外周側のみに潤滑層を形成する工程とを行い、半径方向内側で潤滑層が薄く、半径方向外側で潤滑層が厚い磁気記録ディスクを形成することができる。このような構成の磁気記録ディスクをＬＵＬ（ローディング・アンローディング）方式のディスク駆動装置に用いると、磁気ヘッドが磁気記録ディスクの外側に退避するたびにディスク外周側に磁気ヘッドが潤滑層に接しても潤滑層が消失するのを防止できる。
【００１３】
前記薬液として潤滑層形成用の薬液を用いて前記磁気記録ディスク用基板の略下半部を当該薬液に浸漬した状態で前記浸漬工程を行った後、前記薬液として潤滑層除去用の薬液を用いて前記磁気記録ディスク用基板の下半部の下端側のみを当該薬液に浸漬した状態で前記浸漬工程を行えば、半径方向の内側で潤滑層が厚く、半径方向の外側で潤滑層を薄くした磁気記録ディスクを形成することができ、半径方向で潤滑層の厚さを容易に変えることができる。このような構成の磁気記録ディスクは、ＬＵＬ方式のディスク駆動装置において、磁気ヘッドを磁気記録ディスクの外周側に退避させる際、磁気ヘッドと潤滑層との接触を避けたい場合に好適である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、磁気記録ディスク用基板の略下半部を薬液に浸漬した状態で磁気記録ディスク用基板を周方向に回転させて磁気記録ディスク用基板の全周を薬液に浸漬するため、基板支持具を薬液に浸漬させなくてもよい。このため、薬液の液面には、基板支持具が薬液に浸漬することに起因する波紋、基板支持具が薬液から引き上げられることに起因する波紋、引き上げられた基板支持具から液滴が薬液に落下することに起因する波紋が発生しない。このため、引き上げ操作の際、磁気記録ディスク用基板が波紋によって揺れることがないので、例えば、潤滑層を形成するのに本発明を適用すると、薄膜に膜厚むらが発生しない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。なお、参照する各図において、図面上で認識容易とするために各層や各部材ごとに縮尺や倍率を相違させてある。
【００１６】
［磁気記録ディスクおよびその製造方法の概略］
図１（ａ）および（ｂ）はそれぞれ、磁気記録ディスクを示す平面図、および磁気記録ディスクの概略断面図である。これらの図に示すように、本形態の磁気記録ディスク１は、中心穴１１１を備えた円形の非磁性基板１１の表面１１０に下地層１２、磁性層１３、保護層１４、および潤滑層１５をこの順に積層した構造を有している。非磁性基板１１は、例えば、アルミノシリケートガラスなどの化学強化ガラスからなり、非磁性基板１１の表面１１０は、例えば、表面粗さがＲａで０．３ｎｍ以下、Ｒｍａｘで３ｎｍ以下となるように鏡面研磨が施されている。また、非磁性基板１１において内周端部１１２および外周端部１１３は各々、面取り加工が施されている。
【００１７】
このような磁気記録ディスク１の製造工程の概略を説明しながら、各薄膜の構成を以下に説明する。磁気記録ディスク１を製造するには、まず、非磁性基板１１の表面１１０に対してスパッタ法などにより下地層１２を形成する。下地層１２は、例えば厚さが１０ｎｍのＣｒＷ薄膜であり、磁性層１３の結晶構造を良好にするために形成される。
【００１８】
次に、下地層１２の上層に対してスパッタ法などにより磁性層１３を形成する。磁性層１３は、例えばＣｏＣｒＰｔＢ合金からなり、厚さは１５ｎｍである。この磁性層１３のＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｂの各含有量は、例えば、Ｃｏ：６２ａｔ％、Ｃｒ：２０ａｔ％、Ｐｔ：１２ａｔ％、Ｂ：６ａｔ％である。
【００１９】
次に、磁性層１３の上層に対してスパッタ法により保護層１４を形成する。保護層１４は、例えば、厚さが５ｎｍの水素化カーボンからなり、耐摩耗性を向上させて磁性層１３を保護する機能を担っている。
【００２０】
次に、詳しくは後述するように、保護層１４の表面に潤滑層１５を浸漬法により形成する。潤滑層１５は、磁気ヘッドとの接触した際の衝撃を緩和するなどの機能を担っており、厚さが３ｎｍ以下の薄いパーフルオロポリエーテル層などから構成されている。ここで、潤滑層１５は、２ｎｍ以下、例えば、１．０ｎｍ位まで薄膜化される傾向にある。
【００２１】
［実施の形態１］
（磁気記録ディスク製造用浸漬装置）
図２は、本発明の実施の形態１に係る浸漬法に用いた浸漬装置の構成を模式的に示す説明図である。図３は、図２に示す浸漬装置を正面からみたときの説明図である。
【００２２】
本形態においては、非磁性基板１１の表面１１ａに下地層１２、磁性層１３および保護層１４を順に積層した製造途中品（以下、磁気記録ディスク用基板１０という）に潤滑層１５を形成するにあたって、以下に説明する浸漬装置が用いられる。図２および図３に示すように、浸漬装置１００は、潤滑層１５を形成するための薬液２２を貯留しておく薬液槽２１と、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を一括処理するための基板処理具２００とを備えている。また、浸漬装置１００には、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の薬液２２中への浸漬操作、および薬液２２からの引き上げ操作を行う浸漬引き上げ機構（矢印Ｄで示す）として、基板処理具２００を上下方向に駆動する昇降装置が構成されている。ここで、浸漬引き上げ機構としては、薬液２２が貯留された薬液槽２１を上下方向に駆動する昇降装置、あるいは薬液槽２１内の薬液２２の液面２２０を上下させる液面上下装置を採用でき、薬液槽２１を上下方向に駆動する昇降装置や、薬液槽２１内の液面を上下させる液面上下装置を採用した場合には、駆動部分の振動が磁気記録ディスク用基板１０に直接、伝わることがないので、潤滑層１５に膜厚むらが発生しにくいという利点がある。なお、浸漬引き上げ機構として、薬液槽２１内の薬液２２の液面２２０を上下させる液面上下装置を採用した場合でも、浸漬引き上げ機構は、基板処理具２００を上下動させて磁気記録ディスク用基板１０を薬液槽２１に出し入れする機構を備えている必要がある。
【００２３】
基板処理具２００は、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入されて内周端部１１２に当接する基板支持具３００を備えており、この基板支持具３００により複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を垂直姿勢に支持した状態で薬液２２中へ浸漬操作および薬液２２からの引き上げ操作を行う。
【００２４】
また、基板処理具２００は、基板支持具３００に平行に伸びて複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の真上位置を通る基板受け具４００を備えている。基板受け具４００は、磁気記録ディスク用基板の外周端部１１３に当接しており、基板支持具３００との間に磁気記録ディスク用基板１０を挟持することが可能である。なお、基板受け具４００は、基板処理具２００上で移動可能であり、基板支持具３００を磁気記録ディスク用基板１０の中心穴１１１に通す際には、基板支持具３００の上から退避するようになっている。
【００２５】
本形態において、基板支持具３００は円形断面を備えており、一方の端部分が基板処理具２００のプレート６００に回転可能に支持され、かつ、その一方端部は、減速歯車列などを介してモータ（図示せず）の出力軸に連結されて軸線周り（磁気記録ディスク用基板１０の基板面に垂直な軸線周り）に回転可能である。
【００２６】
また、基板受け具４００は、基板支持具３００よりも外径が大きい円形断面を備えており、基板支持具３００と同様、一方の端部分が基板処理具２００のプレート６００に回転可能に支持され、かつ、その一方端部は、減速歯車列などを介してモータ（図示せず）の出力軸に連結されて軸線周り（磁気記録ディスク用基板１０の基板面に垂直な軸線周り）に回転可能である。
【００２７】
従って、基板受け具４００と基板支持具３００との間に磁気記録ディスク用基板１０を挟持した状態で、モータを起動させて、基板受け具４００および基板支持具３００を各々軸線周りに反対方向に回転させると、磁気記録ディスク用基板１０は周方向に回転する。このようにして本形態では、基板支持具３００、基板受け具４００およびモータなどによって磁気記録ディスク用基板１０を周方向に回転させる基板回転装置が構成されている。
【００２８】
ここで、基板支持具３００および基板受け具４００は、薬液２２に接触することがあるため、ＰＴＦＥ（テトラフルオロエチレン）樹脂、ＦＥＰ（パーフロロエチレンプロペン共重合）樹脂、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシ）樹脂などの耐薬液性の樹脂、ステンレスなどの金属、セラミックスなどにより構成されている。
【００２９】
また、図示を省略するが、基板支持具３００および基板受け具４００には、複数の磁気記録ディスク用基板１０が各々当接する箇所に位置決め溝が形成されており、この溝によって、磁気記録ディスク用基板１０の面外方向への位置ずれを防止するようになっている。また、基板支持具３００および基板受け具４００に支持糸を張設し、支持糸の交差部分からなる谷部分で磁気記録ディスク用基板１０の端部を支持する構成を採用してもよい。
【００３０】
さらに、本形態では、液面２２０と磁気記録ディスク用基板１０との相対位置を監視するセンサとして、光学センサ３５が配置されている。図２には、光学センサ３５をプレート６００の下端部に配置した構成を表してあるが、磁気記録ディスク用基板１０と薬液２２の液面２２０との相対位置を監視可能な位置であれば、いずれの位置に配置してもよく、例えば、薬液槽２１に形成した窓から薬液槽２１の内部を監視するように構成してもよい。また、液面２２０と磁気記録ディスク用基板１０との相対位置を監視可能であれば、光学センサ３５以外のセンサを用いてもよい。また、他の機構により、液面２２０と磁気記録ディスク用基板１０との相対位置を規定できる場合には、センサを省略してもよい。
【００３１】
（浸漬工程）
このように構成した浸漬装置１００を用いて磁気記録ディスク用基板１０の表面に潤滑層１５を形成するにあたって、薬液２２としては、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤などをＨＦＣ(ハイドロフルオロカーボン)、ＰＦＣ(パーフルオロカーボン)等のフッ素系溶媒に分散溶解させた溶液を用いる。ここで、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤としては、例えば、Solvay  Solexis社製のFomblin−Ｚ−DOL（商品名）、Fomblin−Ｚ−Tetraol（商品名）などを用いる。そして、薬液槽２１に対して、液面２２０が所定の高さ位置になるまで薬液２２を貯留しておく。
【００３２】
一方、基板処理具２００において、基板支持具３００を複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入するとともに、上から基板受け具４００によって磁気記録ディスク用基板１０の外周端部１１３を押えて、長手方向（軸線方向）に複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を一定の間隔を開けて垂直な姿勢で保持した状態とする。
【００３３】
次に、モータを駆動して、基板支持具３００および基板受け具４００を軸線周りに所定の速度で回転させ、磁気記録ディスク用基板１０を周方向に所定の速度で定速で回転させた状態のまま、基板処理具２００を降下させ、液面２２０と磁気記録ディスク用基板１０との相対位置を光学センサ３５で監視しながら、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の略下半部を薬液２２に浸漬する。この状態で、基板支持具３００および基板受け具４００は薬液２２の液面２２０の上方に位置し、薬液２２には浸漬されていない。但し、磁気記録ディスク用基板１０は周方向に回転しているのでその全周が薬液２２に浸漬されることになる（浸漬操作）。
【００３４】
次に、所定の時間経過後、基板支持具３００および基板受け具４００を軸線周りに所定の速度で回転させ、磁気記録ディスク用基板１０を周方向に所定の速度で回転させた状態のまま、基板処理具２００を上昇させ、薬液２２の液面２２０から複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を引き上げる（引き上げ操作）。その際、磁気記録ディスク用基板１０では、薬液２２の液面から出た部分で溶媒の蒸発が起こる。このように本形態において、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０は、基板支持具３００と基板受け具４００との間で垂直姿勢に挟持され、かつ、回転した状態のまま引き上げられる。
【００３５】
そして、引き上げた磁気記録ディスク用基板１０に対しては所定の条件で加熱処理が施され、潤滑層１５が磁気記録ディスク用基板１０の最表層に定着する。
【００３６】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、磁気記録ディスク用基板１０の中心穴１１１に挿通させた基板支持具３００、およびその上方に位置する基板受け具４００を薬液２２に一切、浸漬させずに、磁気記録ディスク用基板１０を周方向に回転させることにより、磁気記録ディスク用基板１０の全周を薬液２２に浸漬し、潤滑層１５を形成する。このため、薬液２２の液面２２０には、基板支持具３００が薬液２２に浸漬することに起因する波紋、基板支持具２００が薬液２２から引き上げられることに起因する波紋、引き上げられた基板支持具２２０から液滴が薬液２２に落下することに起因する波紋が発生しない。しかも、本形態では、基板支持具３００と基板受け具４００との間に磁気記録ディスク用基板１０を挟持している状態で浸漬操作および引き上げ操作を行うので、磁気記録ディスク用基板１０が揺れることがない。このため、磁気記録ディスク用基板１０が例えば、２．５インチ以下と外径寸法が小さいために軽い場合でも、引き上げ操作の際、磁気記録ディスク用基板１０が波紋によって揺れることがなく、かつ、液面２２０が常に安定しているので、潤滑層１５に膜厚むらが発生しない。
【００３７】
（実施の形態１の変形例）
上記形態では、磁気記録ディスク用基板１０を上下させる方式を採用したが、液面２２０を上下させる方式、あるいは予め薬液が貯留されている薬液槽２１を上下させる方式を採用した場合でも、基板支持具３００と基板受け具４００を薬液２２に浸漬させることなく、潤滑層１５を形成することができる。
【００３８】
なお、上記形態では、基板支持具３００および基板受け具４００の双方を軸線周りに回転させたが、磁気記録ディスク用基板１０を周方向に回転できるのであれば、その一方のみが回転駆動するように構成してもよい。また、上記形態では、基板受け具４００が１本の例であったが、２本の基板受け具４００を用いれば、磁気記録ディスク用基板１０をより確実に挟持でき、かつ、より確実に周方向に回転させることができる。さらに、基板受け具４００の周面を弾性をもった材質とした場合、あるいは、基板受け具４００を基板支持具３００に向けて付勢した場合には、磁気記録ディスク用基板１０をより確実に挟持でき、かつ、より確実に周方向に回転させることができる。
【００３９】
［実施の形態２］
（磁気記録ディスク製造用浸漬装置）
図４は、本発明の実施の形態２に係る浸漬法に用いた浸漬装置の構成を模式的に示す説明図である。図５は、図４に示す浸漬装置を正面からみたときの説明図である。なお、本例の浸漬装置は、基本的な構成が実施の形態１と共通しているので、対応する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
【００４０】
図４および図５に示すように、本形態の浸漬装置１００も、実施の形態１と同様、薬液２２を貯留しておく薬液槽２１と、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を一括処理するための基板処理具２００と有している。基板処理具２００は、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入されて内周端部１１２に当接する基板支持具３００と、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の真上位置で磁気記録ディスク用基板の外周端部１１３に当接する基板受け具４００（上側基板受け具）とを備えている。
【００４１】
本形態では、さらに、薬液槽２１の内部には基板受け具４００と平行に基板受け具８００（下側基板受け具）が配置されており、この基板受け具８００は、磁気記録ディスク用基板１０の略下半部を薬液２２に浸漬したとき、磁気記録ディスク用基板１０の外周端部１１３に当接可能である。
【００４２】
本形態では、基板支持具３００、基板受け具４００、および基板受け具８００のうちの１つが軸線周りに回転駆動される構造になっており、本形態では、基板支持具３００、基板受け具４００、および基板受け具８００のうち、基板受け具４００、８００が軸線周りに回転駆動される構造になっている。
【００４３】
すなわち、本形態でも、実施の形態１と同様、基板受け具４００は円形断面を備えており、一方の端部分が基板処理具２００のプレート６００に回転可能に支持され、かつ、その一方端部は、減速歯車列などを介してモータ（図示せず）の出力軸に連結されて軸線周り（磁気記録ディスク用基板１０の基板面に垂直な軸線周り）に回転可能である。
【００４４】
また、基板受け具８００は円形断面を備えており、その両端部が薬液槽２１に回転可能に支持されている。また、基板受け具８００は、下側基板受け具８００の一方端部が薬液槽２１の側壁を回転自在の状態で貫通し、減速歯車列などを介してモータ（図示せず）の出力軸に連結されている。従って、基板受け具８００は、軸線周り（磁気記録ディスク用基板１０の基板面に垂直な軸線周り）に回転可能である。
【００４５】
なお、基板支持具３００も、実施の形態１と同様、軸線周りに回転駆動されるように構成してもよいが、本形態では、このような回転を行わない構造になっている。
【００４６】
ここで、基板受け具８００は常時、薬液２２に浸漬された状態にあり、かつ、基板支持具３００および基板受け具４００は、薬液２２に接触することがある。このため、基板支持具３００、基板受け具４００、および基板受け具８００はいずれも、ＰＴＦＥ（テトラフルオロエチレン）樹脂、ＦＥＰ（パーフロロエチレンプロペン共重合）樹脂、ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシ）樹脂などの耐薬液性の樹脂、ステンレスなどの金属、セラミックスなどにより構成されている。また、図示を省略するが、基板支持具３００、基板受け具４００、および基板受け具８００には、複数の磁気記録ディスク用基板１０が各々当接する箇所に位置決め溝が形成されており、この溝によって、磁気記録ディスク用基板１０の面外方向への位置ずれを防止するようになっている。また、基板支持具３００、基板受け具４００、および基板受け具８００に支持糸を張設し、支持糸が交差して形成された谷部分で磁気記録ディスク用基板１０の端部を支持する構成を採用してもよい。
【００４７】
（浸漬工程）
このように構成した浸漬装置１００を用いて磁気記録ディスク用基板１０の表面に潤滑層１５を形成するにあたって、基板処理具２００において基板支持具３００を複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の各中心穴１１１に挿入するとともに、上から基板受け具４００によって磁気記録ディスク用基板１０の外周端部１１３を押えて、長手方向（軸線方向）に複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を一定の間隔を開けて垂直な姿勢で保持した状態とする。
【００４８】
次に、モータを駆動して、基板支持具３００および基板受け具４００を軸線周りに所定の速度で回転させ、磁気記録ディスク用基板１０を周方向に所定の速度で回転させた状態のまま、基板処理具２００を降下させ、液面２２０と磁気記録ディスク用基板１０との相対位置を光学センサ３５で監視しながら、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０の略下半部を薬液２２に浸漬する。その結果、軸線周りに回転していた基板受け具８００は、磁気記録ディスク用基板１０の外周端部１１３に当接する。この状態で、基板支持具３００および基板受け具４００は薬液２２の液面２２０の上方に位置し、薬液２２には浸漬されていない。但し、磁気記録ディスク用基板１０は周方向に回転しているのでその全周が薬液２２に浸漬されることになる（浸漬操作）。
【００４９】
次に、所定の時間経過後、基板受け具４００を軸線周りに所定の速度で回転させ、磁気記録ディスク用基板１０を周方向に所定の速度で回転させた状態のまま、基板処理具２００を上昇させ、薬液２２の液面２２０から複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を引き上げる（引き上げ操作）。その際、磁気記録ディスク用基板１０では、薬液２２の液面から出た部分で溶媒の蒸発が起こる。このようにして引き上げた磁気記録ディスク用基板１０に対しては所定の条件で加熱処理が施され、潤滑層１５が磁気記録ディスク用基板１０に定着する。
【００５０】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態でも、実施の形態１と同様、磁気記録ディスク用基板１０の中心穴１１１に挿通させた基板支持具３００、およびその上方に位置する基板受け具４００を薬液２２に一切、浸漬させずに、磁気記録ディスク用基板１０を周方向に回転させることにより、磁気記録ディスク用基板１０の全周を薬液２２に浸漬し、潤滑層１５を形成する。このため、薬液２２の液面２２０には、基板支持具３００が薬液２２に浸漬することに起因する波紋、基板支持具２００が薬液２２から引き上げられることに起因する波紋、引き上げられた基板支持具２２０から液滴が薬液２２に落下することに起因する波紋が発生しない。しかも、本形態では、基板支持具３００と基板受け具４００との間に磁気記録ディスク用基板１０を挟持している状態で浸漬操作および引き上げ操作を行うので、磁気記録ディスク用基板１０が傾くことがない。このため、磁気記録ディスク用基板１０が例えば、２．５インチ以下と外径寸法が小さいために軽い場合でも、引き上げ操作の際、磁気記録ディスク用基板１０が波紋によって揺れることがなく、かつ、液面２２０が常に安定しているので、潤滑層１５に膜厚むらが発生しない。
【００５１】
（実施の形態２の変形例）
上記形態では、磁気記録ディスク用基板１０を上下させる方式を採用したが、液面２２０を上下させる方式、あるいは予め薬液が貯留されている薬液槽２１を上下させる方式を採用した場合でも、基板支持具３００と基板受け具４００を薬液２２に浸漬させることなく、潤滑層１５を形成することができる。
【００５２】
なお、本形態では、基板受け具４００、８００の双方を軸線周りに回転させたが、少なくとも、薬液２２に磁気記録ディスク用基板１０の略下半部を浸漬した状態で磁気記録ディスク用基板１０を周方向に回転できるのであれば、基板支持具３００、基板受け具４００、および基板受け具８００のうちの１つを回転駆動すればよい。また、基板支持具３００、基板受け具４００、および基板受け具８００の全てを回転駆動するように構成してもよい。また、上記形態では、基板受け具４００、８００が１本の例であったが、２本の基板受け具４００、８００を用いれば、磁気記録ディスク用基板１０をより確実に挟持でき、かつ、より確実に周方向に回転させることができる。さらに、基板受け具４００、８００の周面を弾性をもった材質とした場合、あるいは、基板受け具４００、８００を付勢した場合には、磁気記録ディスク用基板１０をより確実に挟持でき、かつ、より確実に周方向に回転させることができる。
【００５３】
［その他の実施の形態］
上記形態では、薬液２２として潤滑層形成用の薬液を用いて浸漬工程を１回、行ったが、磁気記録ディスク用基板１０の下半部の薬液２０への浸漬度合いを変えて浸漬工程を少なくとも２回、行ってもよい。例えば、磁気記録ディスク用基板１０の半径方向の全体にわたって潤滑層１５を形成する工程と、磁気記録ディスク用基板１０の半径方向の外周側のみに潤滑層を形成する工程とを行えば、半径方向内側で潤滑層１５が薄く、半径方向外側で潤滑層１５が厚い磁気記録ディスク１を形成することができ、半径方向で潤滑層の厚さを容易に変えることができる。このような構成の磁気記録ディスク１は、ＬＵＬ方式のディスク駆動装置において、磁気ヘッドを磁気記録ディスク１の外周側に退避する度にディスク外周側で磁気ヘッドが潤滑層１５に接触しても、潤滑層１５が消失してしまうことを防止できる。
【００５４】
また、薬液２２として潤滑層形成用の薬液を用いて磁気記録ディスク用基板１０の略下半部を薬液２２に浸漬した状態で浸漬工程を行った後、薬液２２として潤滑層除去用の薬液を用いて磁気記録ディスク用基板１０の下半部の下端側のみを薬液２２に浸漬した状態で浸漬工程を行えば、半径方向の内側で潤滑層１５が厚く、半径方向の外側で潤滑層１５が薄い磁気記録ディスク１０を形成することができる。このような構成の磁気記録ディスク１は、ＬＵＬ方式のディスク駆動装置において、磁気ヘッドを磁気記録ディスク１の外周側に退避させる際、磁気ヘッドと潤滑層１５との接触を避けたい場合に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】(ａ)および(ｂ)はそれぞれ、磁気記録ディスクを示す平面図、および磁気記録ディスクの概略断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る浸漬法に用いた浸漬装置の構成を模式的に示す説明図である。
【図３】図２に示す浸漬装置を正面からみたときの説明図である。
【図４】本発明の実施の形態２に係る浸漬法に用いた浸漬装置の構成を模式的に示す説明図である。
【図５】図４に示す浸漬装置を正面からみたときの説明図である。
【符号の説明】
【００５６】
１  磁気記録ディスク
１０  磁気記録ディスク用基板
１１  非磁性基板
１２  下地層
１３  磁性層
１４  保護層
１５  潤滑層
２１  薬液槽
２２  薬液
３５  光学センサ（センサ）
１００  浸漬装置
２００  基板処理具
２２０  液面
３００  基板支持具
４００  上側基板受け具
８００  下側基板受け具
【図１】
2007095202.tif 000003
【図２】
2007095202.tif 000004
【図３】
2007095202.tif 000005
【図４】
2007095202.tif 000006
【図５】
2007095202.tif 000007