(57)【要約】【課題】待機室内に澱みや滞留のない雰囲気の流れを確保し続け、自然酸化膜を防止するだけでなく、パーティクルや有機物が待機室内に留まるのを防止する。【解決手段】ウエハ１をボート２１で保持しつつ処理する処理室２５と、ボート２１が処理室２５への搬入に待機する待機室１２と、ボート２１を待機室１２と処理室２５との間で昇降させるボートエレベータ１９と、待機室１２に窒素ガス３０とクリーンエア４０を供給するクリーンユニット４１とを備えている熱処理装置１０において、待機室１２に窒素ガスを循環させる循環路３１に、窒素ガスを供給する窒素ガス供給管４６と、新鮮なエアを供給する新鮮エア供給管４４と、窒素ガスおよびクリーンエアを排出する排出路４９とを設け、排出路４９にダンパ５２を設け、排出路４９にダンパ５２をバイパスするバイパス路５３を設ける。【選択図】図４
2007095879.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する処理室と、
前記基板を保持して前記処理室に搬入する基板保持具と、
前記基板保持具が前記処理室への搬入に待機する待機室と、
前記待機室に不活性ガスを循環させる循環路と、
前記循環路に設置され前記循環路を開閉する循環路開閉弁と、
前記循環路に前記不活性ガスを供給する不活性ガス供給路と、
前記循環路にクリーンエアを供給するクリーンエア供給路と、
前記循環路から前記不活性ガスおよび／または前記クリーンエアを排出する排出路と、  前記排出路に設置され前記排出路を開閉する排出路開閉弁と、
前記排出路に設置され前記排出路開閉弁をバイパスするバイパス路と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置に関し、特に、自然酸化膜の発生を防止する技術に係り、例えば、半導体集積回路装置（以下、ＩＣという。）の製造方法において半導体素子を含む半導体集積回路が作り込まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に熱処理（thermal treatment ）を施す熱処理装置（furnace ）に利用して有効なものに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣの製造方法においてウエハに絶縁膜や金属膜および半導体膜等のＣＶＤ膜を形成したり不純物を拡散したりする熱処理工程には、熱処理装置が広く使用されている。
従来のこの種の熱処理装置は、複数枚のウエハをボートに保持しつつバッチ処理する処理室と、ボートが処理室への搬入出前後に待機する待機室と、待機室に清浄雰囲気を供給するフィルタおよび送風機からなるクリーンユニットと、待機室にフィルタに対向するように設けられてボートを待機室と処理室との間で昇降させるボートエレベータとを備えており、ボートエレベータの駆動装置であるモータが待機室から隔離されたモータ設置室に設置されているのが、一般的である。
そして、従来のこの種の熱処理装置としては、不活性ガスとしての窒素ガスをクリーンユニットから待機室に吹き出して循環させることにより、自然酸化膜がウエハに大気中の酸素（Ｏ2 ）によって形成されるのを防止するように構成したものがある。例えば、特許文献１参照。
【特許文献１】特開２００４−１１９８８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、窒素ガスが待機室で循環される熱処理装置においても、フレームやパネルを組み合わせた筐体によって待機室が構築されている場合には、供給した窒素ガスがパネル等の隙間から漏洩するために、待機室内を陽圧に維持することができずに、外気の進入を防止することができないという問題点がある。
このような場合には、漏洩する窒素ガスの流量以上の流量を供給することにより、待機室の陽圧を維持することができる。
しかし、待機室内におけるボートに対して水平に流れるような澱みや滞留のない適正な雰囲気の流れ（エアフロー）を維持することができない。そして、待機室内に澱みや滞留が発生すると、ウエハへのパーティルや有機物等による汚染を発生させることになる。
また、循環路に比べて待機室内は縦長で容積も大きいために、循環路だけでの排気では排気容量不足による澱みや滞留の防止や適正なエアフローを維持することができなくなるという問題点が生じている。
【０００４】
本発明の目的は、待機室内に澱みや滞留のない雰囲気の流れを確保し続け、自然酸化膜を防止するだけでなく、パーティクルや有機物が待機室内に留まるのを防止することができる基板処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記した課題を解決するための手段は、次の通りである。
基板を処理する処理室と、
前記基板を保持して前記処理室に搬入する基板保持具と、
前記基板保持具が前記処理室への搬入に待機する待機室と、
前記待機室に不活性ガスを循環させる循環路と、
前記循環路に設置され前記循環路を開閉する循環路開閉弁と、
前記循環路に前記不活性ガスを供給する不活性ガス供給路と、
前記循環路にクリーンエアを供給するクリーンエア供給路と、
前記循環路から前記不活性ガスおよび／または前記クリーンエアを排出する排出路と、  前記排出路に設置され前記排出路を開閉する排出路開閉弁と、
前記排出路に設置され前記排出路開閉弁をバイパスするバイパス路と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【発明の効果】
【０００６】
前記した手段によれば、基板を基板保持具に移載している間や処理室にボートを搬入搬出する際等に、不活性ガス供給路から新しい不活性ガスを供給するとともに、循環路によって待機室の雰囲気を循環しつつ、バイパス路から待機室内の雰囲気を排気することにより、待機室内に澱みや滞留のない雰囲気の流れを確保し続け、自然酸化膜を防止するだけでなく、パーティクルや有機物が待機室内に留まり、基板を汚染させることを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。
【０００８】
本実施の形態において、本発明に係る基板処理装置は、熱処理装置１０として図１〜図４に示されているように構成されている。
ところで、ウエハを収容して搬送するためのキャリア（搬送治具）としては、互いに対向する一対の面が開口された略立方体の箱形状に形成されているオープンカセットと、一つの面が開口された略立方体の箱形状に形成され開口面にキャップが着脱自在に装着されているＦＯＵＰ（front opening unified pod 。以下、ポッドという。）とがある。
ウエハのキャリアとしてポッドが使用される場合には、ウエハが密閉された状態で搬送されることになるため、周囲の雰囲気にパーティクル等が存在していたとしてもウエハの清浄度（クリーン度）は維持することができる。
そこで、本実施の形態においては、ウエハ１のキャリアとしてはポッド２が使用されている。
【０００９】
本実施の形態に係る熱処理装置１０は、大気圧程度の気密性能を有する気密構造に構築された筐体１１を備えており、筐体１１は基板保持具が処理室への搬入に対して待機する待機室１２を構成している。
筐体１１はフレームやパネルが組み合わせられることにより構築されており、パネル同士の召し合わせ面間や重ね合わせ面間等は、漏洩源となる極微小の隙間を形成する可能性がある。
筐体１１の正面壁には取付板１３が当接されて締結されている。この筐体１１と取付板１３との当接面は、漏洩源となる極微小の隙間を形成する可能性がある。
取付板１３にはウエハ１をローディングおよびアンローディング（搬入搬出）するためのポート（以下、ウエハローディングポートという。）１４が、上下で一対開設されている。ウエハローディングポート１４、１４に対応する位置には、ポッド２のキャップ３（図１参照）を着脱してポッド２を開閉するポッドオープナ１５が設置されている。
【００１０】
筐体１１の背面壁にはメンテナンス口１６が開設されており、メンテナンス口１６にはメンテナンス扉１７が開閉可能に取り付けられている。メンテナンス口１６の開口縁辺部の筐体１１の背面とメンテナンス扉１７との当接面は、漏洩源となる極微小の隙間を形成する可能性がある。
【００１１】
待機室１２の前側の空間にはウエハ移載装置（wafer transfer equipment )１８Ａを昇降させるエレベータ１８が設置されている。ウエハ移載装置１８Ａはウエハ移載装置エレベータ１８によって昇降されることにより、ウエハローディングポート１４とボート２１との間でウエハ１を搬送してポッド２およびボート２１に受け渡すようになっている。
【００１２】
待機室１２の後側の空間には、基板保持具エレベータであるボートエレベータ１９が垂直に設置されており、ボートエレベータ１９は基板保持具としてのボート２１を支持したシールキャップ２０を垂直方向に昇降させるように構成されている。
シールキャップ２０は円盤形状に形成されており、シールキャップ２０の中心線上にはボート２１が垂直に立脚されている。
ボート２１は基板としてのウエハ１を多数枚、中心を揃えて水平に配置した状態で保持するように構成されている。
【００１３】
筐体１１の後端部における上部にはヒータユニット２２が同心円に配されており、ヒータユニット２２は筐体１１に支持されている。
ヒータユニット２２内にはアウタチューブ２３およびインナチューブ２４が同心円に設置されている。アウタチューブ２３は石英または炭化シリコン等の耐熱性材料から形成されており、内径がインナチューブ２４の外径よりも大きく上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されている。インナチューブ２４は石英または炭化シリコン等の耐熱性材料から形成されており、上端および下端が開口した円筒形状に形成されている。
インナチューブ２４の筒中空部には処理室２５が形成されており、ボート２１を収容可能に構成されている。
【００１４】
アウタチューブ２３の下方には、アウタチューブ２３と同心円状にマニホールド２６が配設されている。マニホールド２６はステンレス等から形成されており、上端および下端が開口した円筒形状に形成されている。マニホールド２６はアウタチューブ２３とインナチューブ２４とに係合しており、これらを支持するように構成されている。
マニホールド２６の下端部開口（炉口）はシャッタ２７によって開閉されるようになっている。
【００１５】
マニホールド２６の側壁部には処理室２５を真空排気するための排気管２８が、アウタチューブ２３とインナチューブ２４との間の空間に連通するように接続されている。
シールキャップ２０にはガス導入部としてのガス供給管２９が処理室２５内に連通するように接続されている。
【００１６】
筐体１１には待機室１２に不活性ガスとしての窒素ガス３０を循環させる循環路３１を構成した循環ダクト３２が、図１〜図４に示されているように敷設されている。
循環ダクト３２は吸込側ダクト部３４を備えており、吸込側ダクト部３４は吸込口３３がボートエレベータ１９のアーム１９ｄおよびウエハ移載装置エレベータ１８のアームの昇降移動範囲に開設されている。吸込側ダクト部３４は待機室１２における一方の側面である右側面にウエハ移載装置エレベータ１８およびボートエレベータ１９を移載室から隔離するように（但し、両方のアームが可動する部分は連通している。）、かつ、略全体面にわたって垂直に延在するように敷設されている。
【００１７】
吸込側ダクト部３４の下端部における前端にはメイン連絡ダクト部３５の吸込側端が接続されており、メイン連絡ダクト部３５は待機室１２の外部におけるポッドオープナ１５の下方を横切るように水平に敷設されている。メイン連絡ダクト部３５の待機室１２に面する側壁には吸込口３６が横長に大きく開設されている。
吸込側ダクト部３４の下端部における略中央位置には、サブ連絡ダクト部３７の吸込側端が接続されており、サブ連絡ダクト部３７は待機室１２内の底面上で左右方向に横切るように敷設されている。
【００１８】
メイン連絡ダクト部３５およびサブ連絡ダクト部３７の各吹出側端には、吹出側ダクト部３９の下端部がそれぞれ接続されており、吹出側ダクト部３９には吹出口３８が略全面にわたって大きく開設されている。吹出側ダクト部３９は待機室１２における吸込側ダクト部３４の反対側である左側面に垂直に敷設されている。
【００１９】
吹出側ダクト部３９の吹出口３８には、クリーンエア４０もしくは不活性ガスを供給するクリーンユニット４１が建て込まれている。
クリーンユニット４１はパーティクルを捕集するフィルタ４２と、清浄化したクリーンエア４０を送風する複数の送風機４３とを備えており、フィルタ４２が待機室１２に露出するとともに、送風機４３群の下流側になるように構成されている。
【００２０】
図２に示されているように、吹出側ダクト部３９のクリーンユニット４１よりも上流側には、新鮮なエアを供給する新鮮エア供給管４４が接続されており、新鮮エア供給管４４には開閉弁としてのダンパ４５が介設されている。
また、吹出側ダクト部３９には循環路３１に不活性ガスを供給する不活性ガス供給路としての窒素ガス供給管４６が接続されており、窒素ガス供給管４６には流量制御弁としてのダンパ４７が介設されている。
【００２１】
図２に示されているように、吹出側ダクト部３９の下端部には、冷却器４８が前後方向に延在するように敷設されており、冷却器４８はメイン連絡ダクト部３５およびサブ連絡ダクト部３７から吹出側ダクト部３９に回収された雰囲気を冷却するように構成されている。
本実施の形態において、冷却器４８は水冷式熱交換器によって構成されている。
冷却器４８の下流側には流量制御弁としてのダンパ５７が介設されており、ダンパ５７はメイン連絡ダクト部３５およびサブ連絡ダクト部３７から吹出側ダクト部３９のクリーンユニット４１の上流側に循環させる循環路３１を開閉するように構成されている。
【００２２】
図３および図４に示されているように、吸込側ダクト部３４の後端部には、待機室１２および循環路３１から窒素ガス３０およびクリーンエア４０を排出する排出路４９が形成されている。
吸込側ダクト部３４と排出路４９との間および待機室１２と排出路４９との間には、排出口５８がそれぞれ上下方向に複数個開設されており、これら排出口５８は吸込側ダクト部３４および待機室１２から排出口５８を経由して、窒素ガス３０およびクリーンエア４０を排出路４９に排出するように構成されている。
なお、図４に示されているように、吸込側ダクト部３４と排出路４９との間には３個の排出口５８が形成されており、上側の排出口５８の最上端は吸込側ダクト部３４の最上端と略同じ高さとなるように形成されている。
また、待機室１２と排出路４９との間には２個の排出口５８が形成されており、上側の排出口５８の最上端は待機室１２の最上端と略同じ高さとなるように形成されている。
図４に示されているように、排出路４９の上端には排出ダクト５０が接続されており、排出ダクト５０の下流側端部にはメイン排出路５１が形成されている。メイン排出路５１には開閉弁としてのダンパ５２が介設されている。
メイン排出路５１にはダンパ５２を迂回するバイパス路５３が接続されており、バイパス路５３の流量はメイン排出路５１の流量よりも少なくなるように設定されている。
なお、バイパス路５３には流量計やニードル弁等の流量調整手段を設けるようにし、バイパス路５３の流量を調整することができるようにしてもよい。
【００２３】
図２〜図４に示されているように、ボートエレベータ１９は垂直に立脚されて回転自在に支承された送りねじ軸１９ａと、送りねじ軸１９ａを正逆回転させる駆動装置としてのモータ１９ｂと、送りねじ軸１９ａに螺合して正逆回転に伴って昇降する昇降台１９ｃと、昇降台１９ｃに片持ち支持されて先端部にボート２１がシールキャップ２０を介して設置されたアーム１９ｄとを備えている。
図３および図４に示されているように、ウエハ移載装置エレベータ１８は垂直に立脚されて回転自在に支承された送りねじ軸１８ａと、送りねじ軸１８ａを正逆回転させる駆動装置としてのモータ１８ｂと、送りねじ軸１８ａに螺合して正逆回転に伴って昇降する昇降台１８ｃと、昇降台１８ｃに片持ち支持されてウエハ移載装置１８Ａが設置されたアーム１８ｄとを備えている。
【００２４】
図４に示されているように、吸込側ダクト部３４の真上にはモータ設置室５４が設定されており、モータ設置室５４にはボートエレベータ１９のモータ１９ｂとウエハ移載装置エレベータ１８のモータ１８ｂとが設置されている。モータ設置室５４はモータ１９ｂおよびモータ１８ｂよりも充分に大きな容積を有する直方体の箱形状に形成されている。
モータ設置室５４と待機室１２とを隔てる隔壁５５には、連通口５６がモータ設置室５４内と吸込側ダクト部３４の内部とを連通させるように開設されている。
この隔壁５５や連通口５６およびモータ設置室５４は、漏洩源となる極微小の隙間を形成する可能性がある。
【００２５】
次に、前記構成に係る熱処理装置の作用を説明する。
【００２６】
図１〜図３に示されているように、ウエハ搬入ステップでは、ポッドオープナ１５の載置台に移載されたポッド２は、ポッドオープナ１５によってキャップ３（図１参照）を外されることにより開放される。
ポッドオープナ１５によってポッド２が開放されると、ポッド２に収納された複数枚のウエハ１はウエハ移載装置１８Ａによってボート２１に移載されて装填（チャージング）される。
予め指定された枚数のウエハ１が装填されると、ボート２１はボートエレベータ１９によって上昇されることにより、処理室２５に搬入（ボートローディング）される。
ボート２１が上限に達すると、ボート２１を保持したシールキャップ２０の上面の周辺部がマニホールド２６の下面にシール状態に当接するために、処理室２５は気密に閉じられた状態になる。
【００２７】
処理室２５は気密に閉じられた状態で、所定の真空度に排気管２８によって真空排気されるとともに、ヒータユニット２２によって所定の温度に加熱される。
次いで、所定の処理ガスが処理室２５にガス供給管２９から供給される。
これにより、所望の熱処理がウエハ１に施される。
【００２８】
このウエハ搬入ステップに先立って、待機室１２および循環路３１を窒素ガス３０雰囲気に置換しておき、その後、ウエハ搬入ステップおよび熱処理中に、窒素ガス３０のうちの大半が待機室１２に循環路３１によって循環されている。
すなわち、窒素ガス供給管４６から循環路３１に供給された窒素ガス３０のうちの大半、例えば、窒素ガス供給管４６から循環路３１に供給された窒素ガス３０量の約８０％は、図２に示されているように、循環ダクト３２における吹出側ダクト部３９に建て込まれたクリーンユニット４０から待機室１２に吹き出し、循環路３１の一部である待機室１２を流通して吸込口３３から吸込側ダクト部３４に吸い込まれる。
吸込側ダクト部３４に吸い込まれた窒素ガス３０は、メイン連絡ダクト部３５およびサブ連絡ダクト部３７を経由して吹出側ダクト部３９に戻り、クリーンユニット４０から待機室１２に再び吹き出す。
以降、窒素ガス３０は以上の流れを繰り返すことにより、待機室１２と循環路３１とを循環する。
一方、待機室１２および吸込側ダクト部３４から排出口５８を経由して排出路４９に流れた少量（例えば、窒素ガス供給管４６から循環路３１に供給された窒素ガス３０量の約１５％）の窒素ガス３０は、排出ダクト５０を経由し、バイパス路５３を流れて排出される。
また、微量（例えば、窒素ガス供給管４６から循環路３１に供給された窒素ガス３０量の約５％）の窒素ガス３０は、筐体１１や筐体１１と取付板１３との当接面や筐体１１とメンテナンス扉１７との当接面等の隙間から筐体１１外へ排出される。
このとき、バイパス路５３および筐体１１等の隙間から排出される窒素ガス３０の流量分に相当する窒素ガス３０の流量が、窒素ガス供給管４６から補給される。
この窒素ガス３０の循環ステップにおいては、メイン排出路５１のダンパ５２および新鮮エア供給管４４のダンパ４５は閉じられており、窒素ガス供給管４６のダンパ４７および循環路３１にあるダンパ５７は開かれている。
【００２９】
そして、予め設定された処理時間が経過すると、ボート２１がボートエレベータ１９によって下降されることにより、処理済みウエハ１を保持したボート２１が待機室１２における元の待機位置に搬出（ボートアンローディング）される。
ボート２１が処理室２５から搬出されると、処理室２５はシャッタ２７によって閉じられる。
【００３０】
処理済みのウエハ１を保持したボート２１が搬出される際（ボートアンローディングステップ時）には、ダンパ５２が開かれることにより、待機室１２および循環路３１の殆どの窒素ガス３０、例えば、窒素ガス供給管４６から循環路３１に供給された窒素ガス量の約９５％が、排出口５８を経由して排出路４９に流れ、その後、排出ダクト５０を経由し、メイン排出路５１およびバイパス路５３によって排出される。
また、微量（例えば、窒素ガス供給管４６から循環路３１に供給された窒素ガス量の約５％）の窒素ガス３０は、筐体１１や筐体１１と取付板１３との当接面や筐体１１とメンテナンス扉１７との当接面等の隙間から筐体１１外へ排出される。このとき、メイン排出路５１およびバイパス路５３および筐体１１等の隙間から排出される窒素ガス３０の流量分に相当する窒素ガス３０の流量が、窒素ガス供給管４６から補給される。
すなわち、窒素ガス供給管４６によって循環路３１に供給された窒素ガス３０は、吹出側ダクト部３９に建て込まれたクリーンユニット４０から待機室１２に吹き出し、待機室１２を流通して吸込側ダクト部３４の吸込口３３を通じ排出口５８を経由して排出路４９に流れ、その後、排出ダクト５０を経由し、メイン排出路５１およびバイパス路５３および筐体１１等の隙間によって排出される。
【００３１】
待機室１２を流通する間に、窒素ガス３０は熱処理されて高温になったウエハ１群およびこれを保持したボート２１に接触して熱交換することにより、これらを冷却する。
この際に、窒素ガス３０は窒素ガス供給管４６によって供給された直後の冷えた新鮮な窒素ガス３０であるので、ウエハ１群およびボート２１を高い熱交換効率をもって冷却することができる。
【００３２】
また、ウエハ１群およびボート２１を冷却して温度が上昇した殆どの窒素ガス３０は、排出口５８を経由して排出路４９に流れ、その後、排出ダクト５０を経由し、メイン排出路５１およびバイパス路５３によって循環路３１から直ちに排気されることにより、循環路３１に介設されたクリーンユニット４０を通過することがなくなるために、クリーンユニット４０を温度上昇させることはない。したがって、クリーンユニット４０から有機汚染物質が発生することもない。
さらに、高温になったウエハ１に接触するのは不活性ガスである窒素ガス３０であるので、ウエハ１の表面に自然酸化膜が生成されることはない。
このボートアンロードステップにおいては、メイン排出路５１のダンパ５２および窒素ガス供給管４６のダンパ４７は開かれており、新鮮エア供給管４４のダンパ４５および循環路３１にあるダンパ５７は閉じられている。
なお、循環路３１の温度上昇が少ない範囲では、温度が上昇した窒素ガス３０の一部を循環路３１で循環させてもよい。
【００３３】
待機室１２に搬出されたボート２１の処理済みウエハ１は、ボート２１からウエハ移載装置１８Ａによってピックアップされて、ウエハローディングポート１４に予め搬送されてキャップ３を外されて開放された空のポッド２に収納される。
ポッド２が処理済みウエハ１によって満たされると、ポッド２はポッドオープナ１５によってキャップ３を装着されて閉じられた後に、ウエハローディングポート１４から他の場所へ移送される。
【００３４】
以降、前述した作用が繰り返されることにより、ウエハ１が熱処理装置１０によってバッチ処理されて行く。
【００３５】
ところで、待機室１２に供給される窒素ガス３０の流量が一定であり、待機室１２から排気される窒素ガス３０の排気量が、待機室１２に供給される窒素ガス３０の流量と同じ量である場合には、待機室１２の雰囲気（窒素ガス）が漏洩すると、待機室１２内の圧力が低下してしまう。
待機室１２内の圧力が低下すると、待機室１２の外部の雰囲気（大気）が待機室１２内に流入し易くなるために、待機室１２内の酸素濃度が上昇してしまい、酸素濃度の管理が困難になってしまう。
【００３６】
本実施の形態においては、ウエハ搬入ステップおよび熱処理中等のような窒素ガスを循環路３１にて循環させるステップでは、窒素ガス供給管４６からバイパス路５３および筐体１１等の隙間から排出される排気量と同じ量の窒素ガス３０を供給し、排出路４９によって窒素ガス３０を排出する際に、ダンパ５２によってメイン排出路５１を閉じて、バイパス路５３を通じて窒素ガス３０を排出することにより、待機室１２内の圧力が低下する現象が発生するのを防止する。
このように待機室１２内の圧力の低下を防止することにより、待機室１２の外部の雰囲気が待機室１２内に流入するのを防止することができるので、酸素濃度は一定に維持することができる。
【００３７】
さらに、ウエハ搬入ステップおよび熱処理中等のような窒素ガスを循環路３１にて循環させるステップでも、バイパス路５３によって排気することにより、待機室１２と排出路４９との間の上下方向に設けられた複数の排出口５８および吸込側ダクト部３４と排出路４９との間の上下方向に設けられた複数の排出口５８からも排出される窒素ガスの流れを確保することができるので、特に、排出口５８付近の待機室１２内の澱みや滞留を防ぐことができ、自然酸化膜を防止するだけでなく、パーティクルや有機物が待機室１２内に滞留するのを防止することができる。
このとき、待機室１２と排出路４９との間の排出口５８をクリーンユニット４１と対向するように上下方向に複数開設することにより、吸込側ダクト部３４に接続されたメイン連絡ダクト部３５およびサブ連絡ダクト部３７によってはスムーズに（澱みや滞留なしでは）排出することができない待機室１２内の窒素ガス３０を排出することができるので、適正なエアフローを形成することができる。
【００３８】
なお、前述した熱処理が繰り返して実施されると、ボート２１や処理室２５の表面に反応生成物等が堆積するため、メンテナンス作業がボート２１やアウタチューブ２３およびインナチューブ２４等について定期または不定期に実施される。
このメンテナンス作業の安全性を確保するために、メンテナンス作業に際しては、待機室１２の窒素ガス３０は除去される。
すなわち、メンテナンス作業の前に、窒素ガス供給管４６からの窒素ガス３０の供給および循環路３１の循環は、ダンパ４７およびダンパ５７を閉じて停止され、新鮮エア供給管４４のダンパ４５が開かれて、新鮮なエアが新鮮エア供給管４４によって吹出側ダクト部３９に導入される。
吹出側ダクト部３９に導入された新鮮なエアはクリーンユニット４１を通って清浄化されて、クリーンエアとなって待機室１２に吹き出し、待機室１２を流通して吸込側ダクト部３４の吸込口３３および排出口５８等を通じて排出路４９によって排気される。これにより、待機室１２の窒素ガス３０は安全なクリーンエアに置換される。
この際には、メイン排出路５１のダンパ５２が全開されることにより、待機室１２内の窒素ガス３０はメイン排出路５１およびバイパス路５３によりクリーンエア４０に急速に置き換えられる。したがって、メンテナンス時の作業効率を高めることができる。
【００３９】
前記実施の形態によれば、次の効果が得られる。
【００４０】
1)  ウエハをボートに移載している間や処理室にボートを搬入搬出する際等に、窒素ガス供給路から新しい不活性ガスを供給するとともに、循環路によって待機室の雰囲気を循環しつつ、排出口を経由してバイパス路から待機室内の雰囲気を排気することにより、待機室内に澱みや滞留のない雰囲気の流れを確保し続け、自然酸化膜を防止するだけでなく、パーティクルや有機物が待機室内に留まるのを防止することができる。
【００４１】
2)  メンテナンスに際しては、排出路のダンパを全開することにより、待機室内の窒素ガスをクリーンエアに急速に置き換えられるので、メンテナンス時の作業効率を高めることができる。
【００４２】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【００４３】
例えば、待機室に圧力計を設置することにより、ダンパの流量を調整自在に構成してもよい。
【００４４】
クリーンユニットに設置するフィルタは、パーティクルを除去し、清浄化するタイプであればよいが、好ましくは、パーティクルを除去するタイプと有機物を除去するタイプとの両方を設置するようにするとよい。
【００４５】
例えば、不活性ガスとしては、窒素ガスを使用するに限らない。
【００４６】
前記実施の形態ではバッチ式縦形熱処理装置の場合について説明したが、本発明はこれに限らず、バッチ式縦形拡散装置等の基板処理装置全般に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施の形態である熱処理装置を示す側面断面図である。
【図２】一部切断正面図である。
【図３】待機室を示す平面断面図である。
【図４】図３のIV−IV線に沿う側面断面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１…ウエハ（基板）、２…ポッド（ウエハキャリア）、３…キャップ、１０…熱処理装置（基板処理装置）、１１…筐体、１２…待機室、１３…取付板、１４…ウエハローディングポート、１５…ポッドオープナ、１６…メンテナンス口、１７…メンテナンス扉、１８…ウエハ移載装置エレベータ、１８ａ…送りねじ軸、１８ｂ…モータ（駆動装置）、１８ｃ…昇降台、１８ｄ…アーム、１８Ａ…ウエハ移載装置、１９…ボートエレベータ、１９ａ…送りねじ軸、１９ｂ…モータ（駆動装置）、１９ｃ…昇降台、１９ｄ…アーム、２０…シールキャップ、２１…ボート（基板保持台）、２２…ヒータユニット、２３…アウタチューブ、２４…インナチューブ、２５…処理室、２６…マニホールド、２７…シャッタ、２８…排気管、２９…ガス供給管、３０…窒素ガス（不活性ガス）、３１…循環路、３２…循環ダクト、３３…吸込口、３４…吸込側ダクト部、３５…メイン連絡ダクト部、３６…吸込口、３７…サブ連絡ダクト部、３８…吹出口、３９…吹出側ダクト部、４０…クリーンエア、４１…クリーンユニット、４２…フィルタ、４３…送風機、４４…新鮮エア供給管（クリーンエア供給路）、４５…ダンパ、４６…窒素ガス供給管（不活性ガス供給路）、４７…ダンパ、４８…冷却器、４９…排出路、５０…排出ダクト、５１…メイン排出路、５２…ダンパ（開閉弁）、５３…バイパス路、５４…モータ設置室、５５…隔壁、５６…連通口、５７…ダンパ、５８…排出口。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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