(57)【要約】【課題】ブランケットの表面欠陥をブランケットの製造後に修正できるようにすることにより、高精細印刷物の印刷良品を得ることができる印刷ブランケットの欠陥面修正方法を提供する。【解決手段】印刷用ブランケットのゴム表面の非平坦状欠陥部をレーザー光の照射により平坦化して修正することを特徴とする印刷用ブランケットＡの欠陥面修正方法であり、レーザー光源Ｃ1 、Ｃ2 の照射をブランケットＡのゴム表面の凸状欠陥部に集中させることにより該凸状欠陥部を分解・蒸散させて平坦化し、ゴム表面の凹状欠陥部に充填剤供給手段Ｄにて適量の液状ゴムを滴下後、該凹状欠陥部に滴下した液状ゴムを乾燥固化させて凹凸欠陥面を平坦化して修正する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷用ブランケットのゴム表面の非平坦状欠陥部をレーザー光の照射により平坦化して修正することを特徴とする印刷用ブランケットの欠陥面修正方法。
【請求項２】
印刷機のブランケット胴に前記印刷用ブランケットを巻き付け固定した状態で、該ブランケットのゴム表面の非平坦状欠陥部の状態を観察して修正することを特徴とする請求項１記載の印刷用ブランケットの欠陥面修正方法。
【請求項３】
前記レーザー光の照射を印刷用ブランケットのゴム表面の凸状欠陥部に集中させることにより該凸状欠陥部を分解・蒸散させて平坦化することを特徴とする請求項１又は２記載の印刷用ブランケットの欠陥面修正方法。
【請求項４】
前記印刷用ブランケットのゴム表面の凹状欠陥部に適量の液状ゴムを滴下後、該凹状欠陥部に滴下した液状ゴムの乾燥固化により平坦化して修正することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の印刷用ブランケットの欠陥面修正方法。
【請求項５】
前記印刷用ブランケットのゴム表面の凹状欠陥部に適量の液状ゴムを滴下後、該凹状欠陥部に滴下した液状ゴムの乾燥固化をレーザー光の照射により促進させて平坦化して修正することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項記載の印刷用ブランケットの欠陥面修正方法。
【請求項６】
前記レーザー光として、波長の異なる複数のレーザー光源を使うことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載の印刷用ブランケットの欠陥面修正方法。
【請求項７】
前記印刷用ブランケットのゴム表面が、シリコーンゴムからなることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項記載の印刷用ブランケットの欠陥面修正方法。
【請求項８】
印刷用ブランケットを用いた高精細画像の印刷物の印刷工程に適用されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項記載の印刷用ブランケットの欠陥面修正方法。
【請求項９】
前記印刷用ブランケットを用いた高精細画像の印刷物の印刷工程が、凹版印刷版と印刷用ブランケットとを用いた凹版オフセット印刷工程であることを特徴とする請求項８記載の印刷用ブランケットの欠陥面修正方法。
【請求項１０】
前記印刷用ブランケットを用いた高精細画像の印刷物の印刷工程が、印刷用ブランケットの印刷有効面全面へのインキ膜塗工工程、前記印刷有効面全面に塗布されたインキ膜のうち非画線部のインキ膜をインキ除去用凸版に転移させて除去するインキ除去反転工程、前記印刷有効面全面に塗布されたインキ膜のうち除去されずに残ったインキ膜を印刷用ブランケットから被印刷体に転写する転写印刷工程からなる反転印刷工程であることを特徴とする請求項８記載の印刷用ブランケットの欠陥面修正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インキ転写用の印刷用ブランケットを用いた高精細画像の印刷物を印刷する印刷工程において、印刷用ブランケットの表面をインキ転写の欠陥を発生させない平坦性のある印刷用ブランケットのゴム表面に修正するための印刷用ブランケットの欠陥面修正方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、高精細画像を高精度に印刷形成する手段は各種検討されている。中でも高精細で高品質の画像が印刷法により安定して実現できれば、一般に短い工程でコストダウンが図れるため、高精細の印刷法による画像形成に対する期待が大きい。
【０００３】
印刷法による高精細画像形成方法としては、転写（オフセット）形式に代表されるように、凹版と印刷用ブランケットを用いた凹版オフセット印刷方式が有力な技術として確立されているが、さらに高精細で均一膜厚の画像形成方法として、反転印刷法と呼ばれる印刷方法も近年開発が進められている。
【０００４】
反転印刷法は、最初に、インキ塗布工程にてブランケットの有効面全面にインキを塗布し、続いて、インキ除去工程にて該ブランケットのインキ塗布面に、所定の形状に形成された凸部をパターン状に表面に備えたインキ除去用凸版を押圧して、そのインキ除去用凸版の凸部（頂部）にブランケット表面のインキを転写し、ブランケット表面からインキをパターン状に除去する。最後に、インキ転写工程にて、前記ブランケット表面のインキ塗布面に凸部のパターンの反転パターンとして残ったインキを、基板（被印刷体）に転写印刷する方法である。
【０００５】
この反転印刷法は、インキ塗布とインキ転移とを独立して制御できるために、転写印刷されるインキ膜厚の均一性が良く、粘性によるインキの糸引き現象が発生しない良好な転移を、低印圧で実現できるために、高精細で歪みの少ない画像を形成する上で有利な印刷法である。
【０００６】
上記のような凹版オフセット印刷法であれ、反転印刷法であれ、このような高精細画像の印刷法が、被印刷体としての基板サイズの大型化に適用できれば、コストダウンの効果がより顕著となる。しかも近年の液晶ディスプレイをはじめプラズマディスプレイ等の平面型電子ディスプレイの大型化と、その生産効率の向上に寄与する点で、上記の印刷技術の革新が望まれている。
【０００７】
従来の凹版オフセット印刷法においても、近年開発の進む反転印刷法においても、印刷工程中のインキ転写プロセスが、技術上の重要ポイントの一つとなり、従って、印刷用ブランケットが重要部材の一つとなる。
【０００８】
図４（ａ）は、凹版オフセット印刷法、反転印刷法等の高精細画像の印刷法において使用される印刷用ブランケットの一例を説明する側断面図であり、図４（ａ）に示すように例えば印刷用ブランケットＡは、支持体層１を挟んで、その裏面にクッション層２、表面にエラスティクなゴム製のインキ転写層３を積層接着したものである。
【０００９】
この印刷用ブランケットＡは、理想的には、図４（ａ）に示すようにインキ転写層３の表面（ブランケット表面）は、凹凸や損傷のない平坦表面３ａとなっている。このブランケットＡ表面のインキ転写層３は、塗布したインキが剥離除去されやすいインキ転写体と
してインキ剥離性を備え、インキ剥離性のあるゴムを使用した構成からなり、特に、高精細を狙う方式にはインキ剥離性の良いシリコーンゴムをインキ転写層３に用いることが多い。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
特に、大面積の印刷に使われる大サイズの平坦な表面を備えたブランケットの均一品及び無欠陥品を、実用的な歩留まりで製作することは工業的に難しく、図４（ｂ）に示すようにブランケットＡ表面のインキ転写層３の平坦表面３ａには、所々に部分的に凹凸状や損傷などによる非平坦状の欠陥表面３ｂが発生する場合がある。
【００１１】
実際に高精細印刷物を印刷する凹版オフセット印刷においては、この問題に対しては、印刷機のブランケット胴へのブランケット巻き付け位置を適宜に調整するなどの工夫をして、ブランケットのインキ転写層３の表面上の少数の欠陥個所である非平坦状の欠陥表面３ｂを、印刷有効領域外に回避させて対応することもある。
【００１２】
しかし、大面積の高精細印刷を実現するには、このような工夫では限界がある。また、上述した反転印刷法では、インキ除去用凸版により除去した後にブランケット表面に残る反転パターンである画像部以外の領域（インキ除去版の凸部によって転写除去されたパターン領域）にブランケットの表面に凹凸状の欠陥がある場合でも、ブランケットへのインキの全面塗布、インキ除去版による除去パターンの転写、基板（被印刷体）への転写の三つのプロセスの結果として、最終的に基板上に印刷欠陥が残ることもある。
【００１３】
通常の印刷用ブランケットは、印刷物に影響を与えるようなブランケット表面欠陥を製造時から全く有しないか、実用上有効エリア外に欠陥部を回避できるか、印刷物の少数の欠陥を印刷後に修正するか、印刷中に劣化したブランを新しい良品ブランに取り替えるかを選択できるのみであり、ブランケットの表面欠陥を直接、修正して使える状態を作り出すことは実施されていなかった。
【００１４】
そのために、反転印刷を含めた大面積の高精細印刷を実現する上で、大サイズのブランケットの表面欠陥のない均一品や無欠陥品を実用的な歩留まりで製作する必要性が増大しているにも拘らず、その問題に対しては充分に対応できていないのが現状である。
【００１５】
本発明の課題は、上記のようなブランケットの表面欠陥を、ブランケットの製造後に修正できるようにすることにより、高精細印刷物の印刷良品を得ることができる印刷ブランケットの欠陥面修正方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の請求項１に係る発明は、印刷用ブランケットのゴム表面の非平坦状欠陥部をレーザー光の照射により平坦化して修正することを特徴とする印刷用ブランケットの欠陥面修正方法である。
【００１７】
本発明の請求項２に係る発明は、上記請求項１に係る印刷用ブランケットの欠陥面修正方法において、印刷機のブランケット胴に前記印刷用ブランケットを巻き付け固定した状態で、該ブランケットのゴム表面の非平坦状欠陥部の状態を観察して修正することを特徴とする印刷用ブランケットの欠陥面修正方法である。
【００１８】
本発明の請求項３に係る発明は、上記請求項１又は２に係る印刷用ブランケットの欠陥面修正方法において、前記レーザー光の照射を印刷用ブランケットのゴム表面の凸状欠陥部に集中させることにより該凸状欠陥部を分解・蒸散させて平坦化することを特徴とする
印刷用ブランケットの欠陥面修正方法である。
【００１９】
本発明の請求項４に係る発明は、上記請求項１乃至３のいずれか１項に係る印刷用ブランケットの欠陥面修正方法において、前記印刷用ブランケットのゴム表面の凹状欠陥部に適量の液状ゴムを滴下後、該凹状欠陥部に滴下した液状ゴムの乾燥固化により平坦化して修正することを特徴とする印刷用ブランケットの欠陥面修正方法である。
【００２０】
本発明の請求項５に係る発明は、上記請求項１乃至４のいずれか１項に係る印刷用ブランケットの欠陥面修正方法において、前記印刷用ブランケットのゴム表面の凹状欠陥部に適量の液状ゴムを滴下後、該凹状欠陥部に滴下した液状ゴムの乾燥固化をレーザー光の照射により促進させて平坦化して修正することを特徴とする印刷用ブランケットの欠陥面修正方法である。
【００２１】
本発明の請求項６に係る発明は、上記請求項１乃至５のいずれか１項に係る印刷用ブランケットの欠陥面修正方法において、前記レーザー光として、波長の異なる複数のレーザー光源を使うことを特徴とする印刷用ブランケットの欠陥面修正方法である。
【００２２】
本発明の請求項７に係る発明は、上記請求項１乃至６のいずれか１項に係る印刷用ブランケットの欠陥面修正方法において、前記印刷用ブランケットのゴム表面が、シリコーンゴムからなることを特徴とする印刷用ブランケットの欠陥面修正方法である。
【００２３】
本発明の請求項８に係る発明は、上記請求項１乃至７のいずれか１項に係る印刷用ブランケットの欠陥面修正方法において、印刷用ブランケットを用いた高精細画像の印刷物の印刷工程に適用されることを特徴とする印刷用ブランケットの欠陥面修正方法である。
【００２４】
本発明の請求項９に係る発明は、上記請求項８に係る印刷用ブランケットの欠陥面修正方法において、前記印刷用ブランケットを用いた高精細画像の印刷物の印刷工程が、凹版印刷版と印刷用ブランケットとを用いた凹版オフセット印刷工程であることを特徴とする印刷用ブランケットの欠陥面修正方法である。
【００２５】
本発明の請求項１０に係る発明は、上記請求項８に係る印刷用ブランケットの欠陥面修正方法において、前記印刷用ブランケットを用いた高精細画像の印刷物の印刷工程が、印刷用ブランケットの印刷有効面全面へのインキ膜塗工工程、前記印刷有効面全面に塗布されたインキ膜のうち非画線部のインキ膜をインキ除去用凸版に転移させて除去するインキ除去反転工程、前記印刷有効面全面に塗布されたインキ膜のうち除去されずに残ったインキ膜を印刷用ブランケットから被印刷体に転写する転写印刷工程からなる反転印刷工程であることを特徴とする印刷用ブランケットの欠陥面修正方法である。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の印刷用ブランケットの欠陥面修正方法によれは、表面欠陥の修正された印刷用ブランケットが得られ、印刷用ブランケットを使用するインキ転写工程を含む印刷において、インキの転写欠陥を発生させない高精細画像の印刷物を得ることができる。
【００２７】
ブランケットからのインキの転写欠陥は、ブランケット表面の凹凸などによる表面欠陥に大きく依存し、また、インキの特性や印刷プロセス条件によっても影響度は変化するものであるが、少なくとも、本発明方法によれば、ブランケットの表面に対して、レーザー光を使って表面欠陥である凸状欠陥を削り、凹状欠陥を液状ゴムを滴下して埋設することにより、凹凸欠陥の平坦化修正を図ることができ、印刷品質の改善に直結させることができる。
【００２８】
また、本発明方法によれば、ブランケットの表面を、印刷機のブランケット胴に巻き付けた実使用に近い状態で観察し、レーザー光を使って、凹凸欠陥の平坦化修正を図り、印刷品質の改善に直結させることができる。
【００２９】
本発明方法は、特に、大型サイズのブランケットを実使用位置で観察して、修正することにより、特別の作業スペースを必要としないものであり、小型サイズの場合よりも、その効果が顕著となる。
【００３０】
凹版オフセット印刷法や反転印刷法等の高精細印刷法により高精細画像を印刷する場合に、ブランケットの表面欠陥の影響を大きく受け易いが、ブランケットの表面ゴムとして使用するシリコーンゴムの凹凸形状の平坦化には、特に、本発明方法によるレーザー光の照射が有用である。
【００３１】
ブランケットの平坦化のための加工手段は、表面ゴムの対象欠陥により異なるが、ブランケット表面の表面欠陥である凸状欠陥部を削って修正し、平坦化するためのレーザービーム径として大きい径が必要な場合は、炭酸ガスレーザー等の長波長レーザーを使用し、レーザービーム径として小さい径が必要な場合は、紫外線レーザービームを使用することが適当である。
【００３２】
凹状欠陥部に液状ゴムを滴下して、該凹状欠陥部を埋めて修正し、平坦化するための液状ゴムの乾燥固化用（又は硬化用）にも、修正対象サイズに応じたレーザービームを選定すると共に、液状ゴムとしての材料の加熱温度に応じて発振出力と照射時間を調節するなど、非接触加工であるレーザービームの照射条件を自由に組み合わせることにより、使用状態に近い環境でのブランケット表面の欠陥修正の完成度を高めて、高品質の印刷物の製造を可能にすることができる。
【００３３】
このように、本発明によるブランケットの表面欠陥の修正により、ブランケットの表面は凹凸のない平坦な均一面になり、無欠陥な状態になり、印刷物の品質レベルが向上するとともに、上記のインキ特性や印刷プロセス条件のマージンも拡大し、総合的に高精細画像の印刷品質の向上に寄与できるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
本発明の印刷用ブランケットの欠陥面修正方法の実施の形態を図面に従って詳細に説明する。
【００３５】
図１（ａ）は、印刷用ブランケットの表面欠陥の状態を模式的に示す側断面図、図１（ｂ）は、印刷用ブランケットの表面欠陥を修正して平坦化した状態を説明する側断面図である。
【００３６】
図１（ａ）に示すように、印刷用ブランケットＡは、支持体層１を挟んで、その裏面にクッション層２、表面にエラスティクなゴム製のインキ転写層３を積層接着したものである。
【００３７】
この印刷用ブランケットＡの支持体層１としては、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム等の均一性の良いプラスチックフィルムが使用され、ブランケットシートとしてのシート支持機能と、印刷機のブランケット胴への巻き付け容易性（取扱いにおける柔軟性など）を考慮して、例えば、厚さは０．２〜０．４ｍｍ程度であるが、特に限定されるものではない。また、支持体として機能する一定の剛性と柔軟性があれば、金属薄板を使うことも可能である。
【００３８】
クッション層２は、支持体層１の裏面にて、印刷時の印圧を均一にかけることに寄与させるものであり、低硬度のゴムや、多孔性（気泡性）のスポンジなどを適宜選択することができる。
【００３９】
インキ転写層３は、支持体層１の表面にて、ブランケットＡの表面のインキ転写体層として機能するもので、シリコーンゴムに代表されるインキ剥離性の良いゴムを使う。例えば、シロキサンをポリマー化したシリコーンオイルをベースにもつ付加反応型の液状シリコーンゴムは、乾燥固化（ゴムとしての硬度と柔軟性と復元性とをもって乾燥硬化）時の収縮率が小さいという利点をもつので、本発明の目的には最適である。
【００４０】
図１（ａ）の模式図に示すように、高精細画像の印刷には、印刷用ブランケットＡのインキ転写層３の平坦表面３ａに部分的に発生している非平坦状の欠陥表面３ｂ（凹凸状の表面欠陥部）が品質上の問題となる。インキ転写層３の平坦表面３ａには、欠陥表面３ｂとして部分的に、凸状欠陥部３ｂ1 や凹状欠陥部３ｂ2 が発生している。
【００４１】
本発明方法は、インキ転写層３の表面の非平坦状の欠陥表面３ｂを平坦表面３ａと同様の平坦な表面に修正して平坦化するものであり、凸状欠陥部３ｂ1 の突出しているインキ転写層３のゴム部分を除去することである。そして、凸状欠陥部３ｂ1 の除去過程にて新たに発生する凹状部、又は最初から存在する凹状欠陥部３ｂ2 に、インキ転写層３と同質の均質なゴムを埋め込むことである。
【００４２】
この２つの手段を組み合わせて修正することにより図１（ｂ）に示すように凸状欠陥部３ｂ1 及び凹状欠陥部３ｂ2 の表面が平坦表面４として平坦化されたインキ転写層３を備えた印刷用ブランケットＡを作成するものである。
【００４３】
図２は、本発明方法の修正手段を模式的に示す概念図であり、凹版オフセット方式又は反転印刷方式の高精細画像を印刷するための印刷機のブランケット胴１０に巻き付けたブランケットＡの表面の近傍に、凸状欠陥部修正用のレーザー光源Ｃ1 、Ｃ2 を設置する。例えばレーザー光源Ｃ1 、Ｃ2 は、適宜駆動手段にてブランケット胴１０の回転軸１１の方向に平行なガイドレール１２に沿ってスライド移動可能に設ける。
【００４４】
また、ブランケット胴１０に巻き付けた前記ブランケットＡの表面の近傍には、凹状欠陥部修正用の充填剤供給手段Ｄを設置する。例えば充填剤供給手段Ｄは、適宜駆動手段にてブランケット胴１０の回転軸１１の方向に平行なガイドレール１３に沿ってスライド移動可能に設ける。
【００４５】
本発明方法においては、ブランケットＡのインキ転写層３表面の平坦表面３ａにおける非平坦状の欠陥表面３ｂの発生位置（修正個所）の観察、確認は、目視にて行うことができるが、必要に応じて、撮像手段と該手段からの撮像信号により出力する画像ディスプレイ手段を備えたブランケット表面観察用ユニットを用いて行うことができる。
【００４６】
例えば、図２に示すように、照明光源とＣＣＤカメラなどの撮像手段を具備したブランケット表面観察用ユニットＥを、ブランケットＡの表面の近傍に設置する。前記表面観察用ユニットＥを、適宜駆動手段にてブランケット胴１０の回転軸１１の方向に平行なガイドレール１３に沿ってスライド移動可能に設け、その観察用ユニットＥをスライド移動させる。
【００４７】
それと共にブランケット胴１０を回転させて、ブランケット表面観察用ユニットＥの撮像手段により、ブランケットＡのインキ転写層３表面の平坦表面３ａにおける非平坦状の欠陥表面３ｂの発生位置（修正個所）を撮影し、画像ディスプレイ手段により観察、確認
を行い、また、その欠陥表面３ｂが凸状欠陥部３ｂ1 であるか、凹状欠陥部３ｂ2 であるかを観察、確認するものである。
【００４８】
本発明の修正方法を順を追って説明すれば、まず、図１（ａ）に示した欠陥を有するブランケットＡを、その表面（インキ転写層３側）を外側にして、凹版オフセット方式又は反転印刷方式の印刷機のブランケット胴１０に巻き付け装着固定する。
【００４９】
次に、目視にて、又はブランケット表面観察用ユニットＥの撮像手段にて、ブランケットＡのインキ転写層３表面の平坦表面３ａにおける非平坦状の欠陥表面３ｂの発生位置（修正個所）の観察、確認を行い、また、その欠陥表面３ｂが凸状欠陥部３ｂ1 であるか、凹状欠陥部３ｂ2 であるかを観察、確認する。
【００５０】
観察した前記ブランケットＡにおける凸状欠陥部３ｂ1 の発生している修正が必要な個所に対しては、図１（ａ）にて示した凸状欠陥部３ｂ1 の位置上に、レーザー光源Ｃ１（長波長レーザー光源）、Ｃ２（短波長レーザー光源）を位置合わせする。レーザー光源の選択は、対象欠陥の大きさにより異なるが、凸状欠陥部３ｂ1 を削るためにレーザービーム径を大きくする必要がある場合は、炭酸ガスレーザー等の長波長レーザーによるレーザービームを使用し、レーザービーム径を小さくする必要がある場合は、短波長レーザーによるレーザービームを使用する。
【００５１】
具体的には、１０．６μｍ波長の炭酸ガスレーザーでは、欠陥サイズの径が１００μｍ以上の欠陥を対象として凸状欠陥部３ｂ1 の熱分解、熱蒸散を行う。また、欠陥サイズの径が１００μｍ以下の凸状欠陥部３ｂ1 の分解、蒸散には、エキシマレーザーや半導体レーザー等の１μｍ以下の短波長のレーザービームを、数μｍ〜数十μｍのスポット径に絞り、照射する。照射光の強度を決める発振出力と照射時間（または照射パルス数）は、インキ転写層３の材料と欠陥形状に応じて適宜設定することができる。
【００５２】
観察した前記ブランケットＡにおける凹状欠陥部３ｂ2 の発生している修正が必要な個所に対しては、図１（ａ）で示した凹状欠陥部３ｂ2 の位置上に、充填剤供給手段Ｄを移動させ、付加反応型の液状シリコーンゴム等の液状ゴムを適量滴下する。
【００５３】
前記液状ゴムが２液反応硬化型の場合は、後処理無しでも乾燥固化（硬化）が進み、凹状欠陥部を埋めることもできるが、印刷機のブランケット胴１０にセットされた状態では短時間で修正を終わらせる方が実際的である。そのため、加熱による乾燥固化の促進を図る。この手段としては、図２に示す凸状欠陥部の分解、蒸散に用いたレーザー光源Ｃ１又はＣ２を兼用することができる。
【００５４】
但し、レーザー光源Ｃ１又はＣ２は、液状ゴムの乾燥固化（硬化）促進のための加熱手段として使うため、上記分解、蒸散におけるレーザー光源や使用条件とは別に、適度に弱いパワーで処理することが適当である。また、レーザー光源は２つに限定されるものではなく、必要に応じて追加することができる。なお、その際に、液状ゴムの充填された凹状欠陥部３ｂ2 上に、乾燥固化後のゴムに対して剥離性のある平滑なシート（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチックフィルム）を被覆した後、レーザー光源を照射して乾燥固化（硬化）することにより平坦化させるようにしてもよい。
【００５５】
このように非接触加工を自由に組み合わせることにより、使用状態に近い環境でのブランケットＡ表面のインキ転写層３の平坦性の完成度を高め、高品質の印刷を可能にするものである。
【００５６】
図３は、本発明方法の適用に適した反転印刷法を原理的に示す反転印刷機の概念図である。本発明方法は、一般的に高い精度の表面平坦性を必要とするブランケットを使用するインキ転写工程を含む印刷に適用できるものであるが、大面積、高精度が期待され、ブランケット表面へのインキ全面塗工を含む反転印刷法には特に有効である。
【００５７】
図３に示すように、反転印刷法は、最初にインキ塗布工程にて、定位置にて回転するブランケット胴１０に巻き付け装着固定したブランケットＡ（インキ転写層３）周面のうちの印刷有効面全面に、塗工ヘッド２０（インキ供給手段）を用いて均一膜厚にインキを塗布する。塗工ヘッドとしては、使用するインキの性質により、均一膜厚を得やすいタイプを選定することができるが、一般的には、ダイコーター（インキ吐出用ダイコーター）を使うことができる。
【００５８】
次いで、インキ除去工程にて、前記ブランケット胴１０を矢印方向に回転させながら、所定の形状で形成された凸版であるインキ除去版２１（印刷すべきポジ画像に対してネガ画像版）上に移動させる。そして、該ブランケットＡ（インキ転写層３）のインキ塗布面にインキ除去版２１を押圧して、そのインキ除去版２１の凸部（頂部）にインキを転移させ、ブランケットＡ（インキ転写層３）の印刷有効面全面に塗布されたインキのうち、インキ除去版２１の凸部（頂部）に転移したインキのみを除去する。
【００５９】
最後にインキ転写工程にて、前記ブランケット胴１０を矢印方向に回転させながら被印刷体２２（例えば基板）面上に移動させ、ブランケットＡ（インキ転写層３）上のインキ塗布面にインキ除去版２１の凸部に対して反転したポジパターン状に転写用印刷画像として残ったインキを被印刷体２２（例えば、ガラス基板、プラスチック基板等）面に転写するものである。
【００６０】
インキの塗布（ブランケットＡの有効面への全面塗布）と、インキの転移（印刷すべきポジ画像に対してネガ画像版によるインキ転移）とを独立に制御できるために、印刷された印刷物のインキ膜厚の均一性が良く、インキ粘性による糸引き現象が発生しない良好な転移を低印圧で実現できるために、高精細で歪みの少ない印刷画像を形成するために有利な印刷法である。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明方法は、ブランケットを使用する転写工程を含む印刷において、被印刷体である大面積の基板に対して、多種多様なインキを繰り返し印刷する際の再現性が良く、高精度で印刷することを可能にする。凹版オフセット印刷法だけでなく、特に高精度が期待される反転印刷には有効であり、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用カラーフィルタ（ＣＦ）や、有機ＥＬディスプレイなどの電子ディスプレイ用画素パターンを始めとする高精細な画像をガラス基板やプラスチック基板などの被印刷体に印刷方式で形成するための具体的手段を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】（ａ）は本発明方法を適用する印刷用ブランケットの積層側断面及び表面欠陥状態を説明する模式的概念図、（ｂ）は修正後の印刷用ブランケットの積層側断面を説明する模式的概念図。
【図２】本発明方法を実現するための手段を説明する全体斜視図。
【図３】本発明方法を適用する反転印刷法を説明する反転印刷機の概要斜視図。
【図４】（ａ）は一般的な印刷用ブランケットの積層側断面図、（ｂ）は表面欠陥のある印刷用ブランケットの積層側断面図。
【符号の説明】
【００６３】
Ａ…ブランケット
Ｂ…印刷機基体
Ｃ1 、Ｃ2 …レーザー光源
Ｄ…充填剤供給手段
Ｅ…ブランケット表面観察用ユニット
１…支持体層
２…クッション層
３…インキ転写層
３ａ…平坦表面
３ｂ…欠陥表面
３ｂ1 …凸状欠陥部
３ｂ2 …凹状欠陥部
４…修正平坦表面
１０…ブランケット胴
１１…回転軸
１２、１３、１４…ガイドレール
２０…インキ塗工ヘッド
２１…インキ除去版
２２…被印刷体（基板）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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