(57)【要約】【課題】平坦度特性と分光特性にすぐれたＮＤフィルタを提供する。【解決手段】基板１０と、構造が０．４Ｍ３ＬｍＨ１．２５Ｌ０．２５Ｈ１．２５Ｌであって、基板１０の一方の面に形成される複数のフィルム層２０とによってなるＮＤフィルタ１であって、フィルム層構造におけるＨ層が鉄ニッケルクロム合金をフィルム材とする高屈折率フィルム層を表し、フィルム層構造におけるＬ層がＳｉＯ２を材質とする低屈折率フィルム層を表し、フィルム層構造におけるＭ層が基板１０に最初に形成するフィルム層として基板１０の一方の表面に直接形成し、屈折率が高屈折率フィルム層と基板１０との間の範囲にある中間フィルム層を表し、フィルム層構造におけるｍＨ層がＮＤフィルタ１の濃度調整層であって、かつｍがＮＤフィルタ１の濃度とスペクトル透過率によって確定される値である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、構造が０．４Ｍ３ＬｍＨ１．２５Ｌ０．２５Ｈ１．２５Ｌであって、前記基板の一方の面に形成される複数のフィルム層とによってなるＮＤフィルタであって、
前記フィルム層構造におけるＨ層が高屈折率フィルム層を表し、かつ前記高屈折率フィルム層が鉄ニッケルクロム合金をフィルム材とし、
前記フィルム層構造におけるＬ層が低屈折率フィルム層を表し、かつ前記低屈折率フィルム層がＳｉＯ２を材質とし、
前記フィルム層構造におけるＭ層が、屈折率が前記高屈折率フィルム層と前記基板との間の範囲にある中間フィルム層を表し、かつ前記中間フィルム層を前記基板に最初に形成するフィルム層として前記基板の一方の表面に直接形成し、
前記フィルム層構造におけるｍＨ層が前記ＮＤフィルタの濃度調整層であって、かつ前記ｍが前記ＮＤフィルタの濃度とスペクトル透過率によって確定される値であることを特徴とするＮＤフィルタ。
【請求項２】
前記基板の他方の面に構造が０．４Ｍ３ＬｍＨ１．２５Ｌ０．２５Ｈ１．２５Ｌであるフィルム層を形成することを特徴とする請求項１に記載のＮＤフィルタ。
【請求項３】
前記フィルム層構造におけるｍ値が前記ＮＤフィルタのスペクトル透過率と正比例の関係にあり、濃度が高くなるにつれて前記ｍ値が大きくなり、かつスペクトル透過率が低くなることを特徴とする請求項１、もしくは請求項２に記載のＮＤフィルタ。
【請求項４】
前記ＮＤレンズのスペクトル透過率値が２．５％下がった場合、前記ｍ値が本来の数値に１．４を掛けた数値であることを特徴とする請求項３に記載のＮＤフィルタ。
【請求項５】
前記中間フィルム層の材料の屈折率が、１．８〜２．２の間であることを特徴とする請求項１、もしくは請求項２に記載のＮＤフィルタ。
【請求項６】
前記ＮＤフィルタにおける前記高屈折率フィルム層の鉄、ニッケル、クロムの含有量が、それぞれ鉄≦１％、ニッケル≧７５％、クロム≦１９．２％であることを特徴とする請求項５に記載のＮＤフィルタ。
【請求項７】
前記ＮＤフィルタにおける前記基板が透過性プラスティック材によってなることを特徴とする請求項６に記載のＮＤフィルタ。
【請求項８】
前記ＮＤフィルタにおける前記基板がＰＥＴによってなることを特徴とする請求項６に記載のＮＤフィルタ。
【請求項９】
基板と、前記基板の両面に形成される複数のフィルム層とによってなるＮＤフィルタであって、
前記基板の両面に形成されるフィルム層は、それぞれ構造が同様であって、かついずれも材料の屈折率が１．８〜２．２の間である中間フィルム層を前記基板に最初に形成する層として直接前記基板の表面に形成し、さらに低屈折率フィルム層と、高屈折率フィルム層とを交互に前記中間層フィルム上に積層することを特徴とするＮＤフィルタ。
【請求項１０】
前記基板の両面に形成するフィルム層の構造が、いずれも０．４Ｍ３ＬｍＨ１．２５Ｌ０．２５Ｈ１．２５Ｌであって、
前記フィルム層構造におけるＭ層が、中間フィルム層を表し、
前記フィルム層構造におけるＨ層が高屈折率フィルム層を表し、
前記フィルム層構造におけるＬ層が低屈折率フィルム層を表し、
前記フィルム層構造におけるｍが、前記ＮＤフィルタの濃度とスペクトル透過率によって確定される値であることを特徴とする請求項９に記載のＮＤフィルタ。
【請求項１１】
前記高屈折率フィルム層が、鉄、ニッケル、クロムをフィルム材とすることを特徴とする請求高１０に記載のＮＤフィルタ。
【請求項１２】
前記高屈折率フィルム層における鉄、ニッケル、クロムの含有量が、鉄≦１％、ニッケル≧７５％、クロム≦１９．２％であることを特徴とする請求項１１に記載のＮＤフィルタ。
【請求項１３】
前記低屈折率フィルム層の材質がＳｉＯ２であることを特徴とする請求項１０に記載のＮＤフィルタ。
【請求項１４】
前記基板がＰＥＴか、ＰＣか、その他プラスティック材か、ガラス材か、もしくはその他透過性を有する材料から選択されることを特徴とする請求項１０に記載のＮＤフィルタ。
【請求項１５】
前記フィルム層構造におけるｍＨ層が前記ＮＤフィルタの濃度調整層であって、濃度が高くなるにつれて前記ｍ値が大きくなり、かつスペクトル透過率が低くなることを特徴とする請求項１、もしくは請求項１０に記載のＮＤフィルタ。
【請求項１６】
前記フィルム層構造におけるｍ値がスペクトル透過率と正比例の関係にあることを特徴とする請求項１５に記載のＮＤフィルタ。
【請求項１７】
前記ＮＤフィルタの透過率が１０％を上限値とし、かつｍ値は透過率が２．５％下がる毎に本来の数値に１．４を掛けて得ることを特徴とする請求項１６に記載のＮＤフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、光学フィルタに関し、特にスペクトル透過率の平坦度が、極めて好ましいＮＤフィルタ（Ｎｅｕｔｒａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ  Ｆｉｌｔｅｒ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学フィルタは、例えば、プロジェクタ、従来のスチールカメラ、デジタルカメラ、携帯電話機、天体観測用望遠鏡などの光学器材に幅広く応用されていて、これら光学器材にそれぞれ異なる光学的効果を付与する目的で使用されている。光学フィルタをスペクトル特性によって分類すると、バスフィルタ、カットフィルタ、２方向分光フィルタ、反射フィルタ、ＮＤフィルタなどに分けられる。ＮＤフィルタは、所定の光学的密度を具え、光学機器に入射し、感光フィルムもしくは電荷結合素子などの固体感光ユニットに至る光の量を減少させるものであって、その光学密度の違いによって、減光作用もそれぞれ異なる。但し、その密度の高さがどのように変わろうといずれも光線の色彩分布を変更するものではない。例えば、太陽の光線が強い環境下で撮影を行う場合、しぼり値を大きくしようとしても、シャッター速度の設定に制限があり、十分なシャッター速度が得られなければレンズにＮＤフィルタを取り付けることによって減光の作用が得られる。
【０００３】
密度が固定的なＮＤフィルタは、すべての波長の光線についてこれを一律減衰させる。即ち、可視光線の範囲内に存在するすべてのスペクトルはいずれも同様の透過率を有する。固定的な密度を具えるＮＤフィルタについてはアメリカ合衆国特許第５，７１５，１０３号、第６，８４２，３０２Ｂ２号、第６，８４２，３０１Ｂ２号に開示される内容を参考にすることができる。
【０００４】
アメリカ合衆国特許第５，７１５，１０３号に開示されるＮＤフィルタは、基板上に多層反射防止フィルム層によって構成される絶縁フィルム層を形成してなる。該多層反射防止フィルム層は、Ａｌ２Ｏ３（酸化アルミニウム）、ＭｇＦ２（フッ化マグネシウム）、ＳｉＯ２（二酸化ケイ素）などの材料から選択される。また、フィルタの空気と接触する側の面にはＭｇＦ２フィルム層が形成される。
【０００５】
アメリカ合衆国特許第６，８４２，３０２Ｂ２号、第６，８４２，３０１Ｂ２号に開示されるＮＤフィルタは、透過性のプラスティック基板上にニッケルクロム合金フィルム層とＳｉＯ２フィルム層を設け、且つ上面にＭｇＦ２フィルム層を設けてなる。該ニッケルクロム合金フィルム層は、９０％のニッケルと、１０％のクロムを含んでなる。また、ＳｉＯ２フィルム層は、反射防止フィルム層とする。しかしながら、ニッケルクロム合金フィルム層と、ＳｉＯ２フィルム層とを結合させて構成したＮＤフィルタは安定性に欠けるのみならず、対応する製造工程が比較的複雑である。
【０００６】
上述するＮＤフィルタの製造過程における鍍金工程は、酸素が不充分な雰囲気でＴｉＯ２（酸化チタン）の吸収効果を発生させた後、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＦ２を互いに組み合わせて完成させる方式を採用する。但し、上述する従来の技術においてはフィルムの配列構造が対象をなすか、否かについては言及していない。また、係る鍍金工程は、製造工程が複雑になるのみならず、酸素の不足によって、ＴｉＯ２の吸収量が不安定になることを考慮し、詳細に計算しなければならない。これは製品の分光効果に対して負の影響を容易に発生させることになる。
【０００７】
近来、撮影器材の敏感性が高まるにつれて、ＮＤフィルタの濃度が高められるようになってきた。これは、ＮＤフィルタの濃度を高めることによって、光線の透過率をさらに低くし、しぼりの開口を増大させるためである。
【０００８】
既存するＮＤフィルタについて言えば、その透過率と平坦度に対する要求は、最大透過率値（Ｔｍａｘ）と最少透過率値（Ｔｍｉｎ）の差値が平均透過率値（Ｔａｖｇ）×８％である。即ち、（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）＜Ｔａｖｇ＊８％である。しかも、入射光線の波長範囲を４００〜７００ｎｍとして計算した場合、高濃度のＮＤフィルタは平均透過率値（Ｔａｖｇ）が低濃度のＮＤフィルタの平均透過率値（Ｔａｖｇ）に比して低くなる。よって、高濃度ＮＤフィルタにおける（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）の差値が、低濃度ＮＤフィルタにおける（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）の差値に比して更に低くなる。たとえばＮＤフィルタの密度が０．８とした場合、その平均透過率値（Ｔａｖｇ）が１５．８であって、その平坦度（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）の差値が１．２５％より低くなる。ＮＤフィルタの密度が１．６であって、透過率値が（Ｔａｖｇ）が２．５である場合、その平坦度（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）の差値は０．２％より低くなる。
【特許文献１】アメリカ合衆国特許第５，７１５，１０３号
【特許文献２】アメリカ合衆国特許第６，８４２，３０２Ｂ２号
【特許文献３】アメリカ合衆国特許第６，８４２，３０１Ｂ２号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
この発明は、平坦度特性と分光特性にすぐれたＮＤフィルタを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
そこで、本発明の発明者は従来の技術に見られる欠点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、基板と、該基板の表面に形成される複数のフィルム層とによってなり、かつ該フィルム層の構造が０．４Ｍ３ＬｍＨ１．２５Ｌ０．２５Ｈ１．２５Ｌであって、該フィルム層構造におけるＨ層が高屈折率フィルム層を表し、かつ該高屈折率フィルム層が鉄ニッケルクロム合金をフィルム材とし、該フィルム層構造におけるＬ層が低屈折率フィルム層を表し、かつ該低屈折率フィルム層がＳｉＯ２を材質とし、該フィルム層構造におけるＭ層が、屈折率が該高屈折率フィルム層と該基板との間の範囲にある中間フィルム層を表し、かつ該中間フィルム層を該基板に最初に形成するフィルム層として該基板の一方の表面に直接形成し、該フィルム層構造におけるｍＨ層が該ＮＤフィルタの濃度調整層であって、かつ該ｍが該ＮＤフィルタの濃度とスペクトル透過率によって確定される値であるＮＤフィルタによって課題を解決できる点に着眼し、かかる知見に基づいて本発明を完成させた。
【００１１】
以下、この発明について具体的に説明する。
請求項１に記載する記載するＮＤフィルタは、基板と、構造が０．４Ｍ３ＬｍＨ１．２５Ｌ０．２５Ｈ１．２５Ｌであって、前記基板の一方の面に形成される複数のフィルム層とによってなるＮＤフィルタであって、前記フィルム層構造におけるＨ層が高屈折率フィルム層を表し、かつ前記高屈折率フィルム層が鉄ニッケルクロム合金をフィルム材とし、前記フィルム層構造におけるＬ層が低屈折率フィルム層を表し、かつ前記低屈折率フィルム層がＳｉＯ２を材質とし、前記フィルム層構造におけるＭ層が、屈折率が前記高屈折率フィルム層と前記基板との間の範囲にある中間フィルム層を表し、かつ前記中間フィルム層を前記基板に最初に形成するフィルム層として前記基板の一方の表面に直接形成し、前記フィルム層構造におけるｍＨ層が前記ＮＤフィルタの濃度調整層であって、かつ前記ｍが前記ＮＤフィルタの濃度とスペクトル透過率によって確定される値である。
【００１２】
請求項２に記載するＮＤフィルタは、請求項１における基板の他方の面に構造が０．４Ｍ３ＬｍＨ１．２５Ｌ０．２５Ｈ１．２５Ｌであるフィルム層を形成する。
【００１３】
請求項３に記載するＮＤフィルタは、請求項１、もしくは請求項２におけるフィルム層構造のｍ値が前記ＮＤフィルタのスペクトル透過率と正比例の関係にあり、濃度が高くなるにつれて前記ｍ値が大きくなり、かつスペクトル透過率が低くなる。
【００１４】
請求項４に記載するＮＤフィルタは、請求項３におけるＮＤレンズのスペクトル透過率値が２．５％下がった場合、前記ｍ値が本来の数値に１．４を掛けた数値である。
【００１５】
請求項５に記載するＮＤフィルタは、請求項１、もしくは請求項２における中間フィルム層の材料の屈折率が、１．８〜２．２の間である。
【００１６】
請求項６に記載するＮＤフィルタは、請求項５におけるＮＤフィルタの高屈折率フィルム層の鉄、ニッケル、クロムの含有量が、それぞれ鉄≦１％、ニッケル≧７５％、クロム≦１９．２％である。
【００１７】
請求項７に記載するＮＤフィルタは、請求項６におけるＮＤフィルタの基板が透過性プラスティック材によってなる。
【００１８】
請求項８に記載するＮＤフィルタは、請求項６におけるＮＤフィルタの基板がＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）によってなる。
【００１９】
請求項９に記載するＮＤフィルタは、基板と、前記基板の両面に形成される複数のフィルム層とによってなるＮＤフィルタであって、前記基板の両面に形成されるフィルム層は、それぞれ構造が同様であって、かついずれも材料の屈折率が１．８〜２．２の間である中間フィルム層を前記基板に最初に形成する層として直接前記基板の表面に形成し、さらに低屈折率フィルム層と、高屈折率フィルム層とを交互に前記中間層フィルム上に積層する。
【００２０】
請求項１０に記載するＮＤフィルタは、基板の両面に形成するフィルム層の構造が、いずれも０．４Ｍ３ＬｍＨ１．２５Ｌ０．２５Ｈ１．２５Ｌであって、前記フィルム層構造におけるＭ層が、中間フィルム層を表し、前記フィルム層構造におけるＨ層が高屈折率フィルム層を表し、前記フィルム層構造におけるＬ層が低屈折率フィルム層を表し、前記フィルム層構造におけるｍが、前記ＮＤフィルタの濃度とスペクトル透過率によって確定される値である。
【００２１】
請求項１１に記載するＮＤフィルタは、請求項１０における高屈折率フィルムが、鉄、ニッケル、クロムをフィルム材とする。
【００２２】
請求項１２に記載するＮＤフィルタは、請求項１１における高屈折率フィルムの鉄、ニッケル、クロムの含有量が、鉄≦１％、ニッケル≧７５％、クロム≦１９．２％である。
【００２３】
請求項１３に記載のＮＤフィルタは、請求項１０における低屈折率フィルム層の材質がＳｉＯ２である。
【００２４】
請求項１４記載するＮＤフィルタは、請求項１０における基板がＰＥＴか、ＰＣ（ポリカーボネート）か、その他プラスティック材か、ガラス材か、もしくはその他透過性を有する材料から選択される。
【００２５】
請求項１５記載するＮＤフィルタは、請求項１、もしくは１０におけるフィルム層構造のｍＨ層が前記ＮＤフィルタの濃度調整層であって、濃度が高くなるにつれて前記ｍ値が大きくなり、かつスペクトル透過率が低くなる。
【００２６】
請求項１６記載するＮＤフィルタは、請求項１５におけるフィルム層構造のｍ値がスペクトル透過率と正比例の関係にある。
【００２７】
請求項１７記載するＮＤフィルタは、請求項１６におけるＮＤフィルタの透過率が１０％を上限値とし、かつｍ値は透過率が２．５％下がる毎に本来の数値に１．４を掛けて得る。
【発明の効果】
【００２８】
この発明のＮＤフィルタは、好ましい平坦度特性と分光特性を得ることができ、異なるスペクトルの透過率のもとで優れたスペクトル特性をえることができるという利点を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
この発明は、平坦度特性と分光特性にすぐれたＮＤフィルタを提供するものであって、基板と、構造が０．４Ｍ３ＬｍＨ１．２５Ｌ０．２５Ｈ１．２５Ｌであって、該基板の一方の面に形成される複数のフィルム層とによってなる。該フィルム層構造におけるＨ層は高屈折率フィルム層を表し、かつ該高屈折率フィルム層が鉄ニッケルクロム合金をフィルム材とし、該フィルム層構造におけるＬ層は低屈折率フィルム層を表し、かつ該低屈折率フィルム層がＳｉＯ２を材質とし、該フィルム層構造におけるＭ層は、屈折率が該高屈折率フィルム層と該基板との間の範囲にある中間フィルム層を表し、かつ該中間フィルム層を該基板に最初に形成するフィルム層として該基板の一方の表面に直接形成し、該フィルム層構造におけるｍＨ層は該ＮＤフィルタの濃度調整層であって、かつ該ｍが該ＮＤフィルタの濃度とスペクトル透過率によって確定される値である。
かかるＮＤフィルタの構造と特徴を詳述するために具体的な実施例を挙げ、図示を参照にして以下に説明する。
【実施例】
【００３０】
図１に開示するように、この発明によるＮＤフィルタ１は、高濃度のＮＤフィルタであって、基板１０と、基板１０上に鍍金される複数のフィルム層２０とを含む。この発明を実際に実施する場合、フィルム層は基板１０の１面のみに形成するか、もしくは両面に形成してもよい。説明を簡略化するために、図１においては基板の一方の面のみにフィルム層を形成する実施例を開示する。
【００３１】
ＮＤフィルタ１における基板１０は、ガラス基板か、透過性のプラスティック基板か、アクリル材による基板か、もしくはその他透過性の基板を用いる。実施例において基板１０は、ＰＥＴ基板を採用する。基板１０の厚さは、約１００μｍである。但し、すでに述べたように基板１０は、ＰＣ、もしくはその他プラスティック材料か、ガラス材か、またはその他透明の材料を用いることができる。
【００３２】
上述するフィルム層２０は、０．４Ｍ３ＬｍＨ１．２５Ｌ０．２５Ｈ１．２５Ｌの積層方式で基板１０上に鍍金される。該Ｈ層は、高屈折率フィルム層を表し、鉄ニッケルクロム合金をフィルム材とする。また、該Ｈによって表されるフィルム層における鉄、ニッケル、クロムの含有量は、鉄≦１％、ニッケル≧７５％、クロム≦１９．２％である。また、１Ｈの光学的厚さは、０．２０ｎｍであって、物理的厚さが４０ｎｍ、中心波長が４４０ｎｍである。Ｌ層は、低屈折率フィルム層を表す。該低屈折率フィルム層は、ＳｉＯ２を材質とし、１Ｌの光学的厚さが、０．２０ｎｍ、物理的厚さが６０ｎｍ、中心波長が４４０ｎｍである。また、Ｍ層は、屈折率がＨで表される高屈折率フィルム層とＰＥＴによってなる基板１０との間の範囲にある中間フィルム層Ｍを表し、その屈折率ｎは、１．８〜２．２となる。
【００３３】
実施例において中間フィルム層Ｍを最初に形成する層とし、基板１０上に直接鍍金する。さらに、低屈折率フィルム層Ｌと、高屈折率フィルム層Ｈとを交互に該中間フィルム層Ｍ上に積層する。係る方式によって形成されるフィルム層２０の構造は、第１フィルム層が中間フィルム層Ｍであって、第２フィルム層が低屈折率フィルム層Ｌであって、第３フィルム層が高屈折率フィルム層Ｈであって、第４フィルム層が低屈折率フィルム層Ｌであり、第５フィルム層が高屈折率フィルム層Ｈであり、第６フィルム層が低屈折率フィルム層Ｌである。
【００３４】
第１フィルム層（０．４Ｍ）の中間フィルム層Ｍは、０．４倍の４分の１波長フィルムを基板上に鍍金する。第２フィルム層（３Ｌ）の低屈折率フィルム層Ｌは、３倍の４分の１波長フィルムを第１フィルム層上に鍍金する。第３フィルム層（ｍＨ）の高屈折率フィルム層Ｈは、ｍ倍の４分の１波長フィルムを第２フィルム層上に鍍金する。該フィルム層（ｍＨ）は、フィルタ濃度調整層であって、ｍ値は、濃度の必要、及びスペクトル透過率の要求に基づいて決める（後述する）。第４フィルム層（１．２５Ｌ）の低屈折率フィルム層Ｌは、１．２５倍の４分の１波長フィルムを第３フィルム層上に鍍金する。第５フィルム層（０．２５Ｈ）の高屈折率フィルム層Ｈは、０．２５倍の４分の１波長フィルムを第４フィルム層上に鍍金する。第６フィルム層（１．２５Ｌ）の低屈折率フィルム層Ｌは、１．２５倍の４分の１波長フィルムを第５フィルム層上に鍍金する。係る方式でフィルム層を積層することによって、好ましいスペクトル特性のＮＤフィルタを得ることができる。
【００３５】
上述するフィルム層２０におけるそれぞれのフィルム層は膜厚の具体的な数値を具体的な要求と応用する環境によって設定する。
【００３６】
上述するフィルム層２０における第３フィルム層（ｍＨ）は、濃度調整層であって、濃度が高くなるにつれてｍ値も大きくなり、また、濃度が濃くなるにつれてスペクトル透過率Ｔ（％）も低くなる。Ｔ（％）とｍ値は、正比例の関係にあり、Ｔ（％）値が２．５％下がった場合、ｍ値は本来の数値に１．４を掛ける。好ましくは、フィルム層の設計値を入力するプログラムを用いて計算しＮＤフィルタが好ましい透過率の平坦度を得られるようにする。
【００３７】
Ｔ＝１０％を基準とし、両者の間の比例関係を説明すると、次に掲げる通りである。
Ｔ＝１０％  →  ｍ＝０．４
Ｔ＝７．５％  →  ｍ＝０．５５
Ｔ＝５％  →  ｍ＝０．７５
Ｔ＝２．５％  →  ｍ＝１．０５
Ｔ＝１％  →  ｍ＝１．５
【００３８】
図２に、スペクトル透過率をＴ＝１０％でＮＤフィルタ１のフィルム層２０を設計した場合、波長の範囲が４００〜７００ｎｍの間で得られるスペクトル透過率特性のグラフを開示する。スペクトル反射率の特性に係るグラフを図３に、開示する。当然のことながら、スペクトル透過率が例えば、７．５％、５％、２．５％、１％、もしくはその他値であっても、好ましいスペクトル透過率の平坦度特性が得られる。これらに関するグラフは省略する。
【００３９】
上述する鍍金の過程においては一般的な蒸着方式を採用して鍍金する。鍍金の工程においては、製造工程の条件に基づきこの発明によるＮＤフィルタの分光平坦度を調整することができる。例えば、ＮＤフィルタの第１面に鍍金を行うことによって、（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）＜１％及びＲ＜２％が得られる。Ｔｍａｘは、入射光線がＮＤフィルタを通過する最大透過率値であって、Ｔｍｉｎは、入射する光線がＮＤフィルタを通過する最少透過率値を表す。Ｒは、反射率を表す。波長の範囲が４００〜７００ｎｍの間の実際の透過率の平坦度特性は、図４に開示するとおりである。
【００４０】
上述する設計値によってさらに一歩進んで好ましい平坦度特性を得るために、この発明においては両面に鍍金したＮＤフィルタ１としてもよい。係る形式によって、（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）＜０．５％の平坦度特性（図５参照）及びＲ＜２％の反射率特性（図６参照）が得られる。即ち、基板１０の他方の面にフィルム層２０と同様の構造を有するフィルム層を形成し、両面にフィルム層を形成する設計によって互いに分光スペクトルを補うことによって更に好ましい透過光線の平坦度特性が得られる。
【００４１】
以上は、この発明の好ましい実施例であって、この発明の実施の範囲を限定するものではない。よって、当業者のなし得る修正、もしくは変更であって、この発明の精神の下においてなされ、この発明に対して均等の効果を有するものは、いずれもこの発明の特許請求の範囲に属するものとする。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】この発明のＮＤフィルタの断面構造を示した説明図である。
【図２】図１に開示するＮＤフィルタのフィルム層のスペクトルに透過率をＴ＝１０％とした場合、波長の範囲が４００〜７００ｎｍの間で得られるスペクトル透過率特性を示したグラフである。
【図３】図１に開示するＮＤフィルタのスペクトル反射率の特性を示したグラフである。
【図４】図１に開示するＮＤフィルタの波長の範囲が４００〜７００ｎｍの間の実際の透過率の平坦度特性を示したグラフである。
【図５】図１に開示するＮＤフィルムを両面に鍍金した場合の平坦度特性を示したグラフである。
【図６】図１に開示するＮＤフィルムを両面に鍍金した場合の反射率特性を示したグラフである。
【符号の説明】
【００４３】
１          ＮＤフィルタ
１０        基板
２０        フィルム層
【図１】
2007058184.tif 000003
【図２】
2007058184.tif 000004
【図３】
2007058184.tif 000005
【図４】
2007058184.tif 000006
【図５】
2007058184.tif 000007
【図６】
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