(57)【要約】 【課題】  基板に機械的接触をすることなく、かつ少ない洗浄用液の使用量で基板表面に存在する異物を充分に除去することができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】  基板洗浄装置１は、基板２の一方の表面である被洗浄面２ａを臨んで設けられる洗浄液供給部４と、被洗浄面２ａを臨み洗浄液供給部４と略平行になるように設けられる洗浄ローラ５とを備える。洗浄液供給部４は、被洗浄面２ａに洗浄液３を供給し、洗浄ローラ５は、矢符１７方向へ回転することによって、供給された洗浄液３を被洗浄面２ａと洗浄ローラ５との間に形成される間隙６へ送込み、間隙６に洗浄液３のせん断流れを形成して被洗浄面２ａを洗浄する。【選択図】      図２
2007201186.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一方の面である被洗浄面に洗浄液を供給して洗浄する基板洗浄装置において、
基板の被洗浄面を臨んで設けられ、基板の被洗浄面に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
基板の被洗浄面を臨み洗浄液供給部と略平行になるように設けられる洗浄ローラであって、回転することによって洗浄液を基板の被洗浄面との間に形成される間隙へ送込む洗浄ローラとを含むことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
洗浄ローラを、基板の被洗浄面に対して接近させ、また離反させるローラ昇降手段を含むことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
基板を略水平方向に搬送する搬送手段を含むことを特徴とする請求項１または２記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
洗浄ローラは、その外周面が親水性を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
基板の被洗浄面に供給されて被洗浄面から離脱する洗浄液を回収する回収手段を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
洗浄ローラが最も被洗浄面に接近する部位と、被洗浄面との間隔が、３ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
基板の一方の面である被洗浄面に洗浄液を供給して洗浄する基板洗浄方法において、
基板の被洗浄面を臨んで設けられる洗浄液供給部から基板の被洗浄面に対して洗浄液を供給するステップと、
基板の被洗浄面を臨み洗浄液供給部と略平行になるように設けられる洗浄ローラの回転によって、洗浄液を基板の被洗浄面と洗浄ローラとの間に形成される間隙へ送込むステップとを含むことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項８】
洗浄される基板を略水平姿勢に保つことを特徴とする請求項７記載の基板洗浄方法。
【請求項９】
洗浄液には、比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以上の純水が用いられることを特徴とする請求項７または８記載の基板洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板洗浄装置および基板洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体などを用いる電子デバイスの製造においては、半導体基板の表面に異物が存在することによって、電子デバイス動作の不良につながるので、半導体基板の洗浄が必要不可欠である。また、液晶表示素子、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などのフラットパネルディスプレイの製造においても、基板上の汚れが表示性能を左右するので、ガラス基板などの洗浄が必要不可欠とされている。したがって、電子デバイスおよびフラットパネルディスプレイ製造工程では、多種多様な基板の洗浄装置および方法が開発されて実用化されている。
【０００３】
基板洗浄装置に係る従来技術として、基板にスリット状の吹き出し口を有するノズルから純水を供給し、円筒状のナイロン製ブラシを基板の表面に軽く押付けながら一定速度で回転することによって、基板の表面に付着した異物を除去するスクラブ洗浄が開発されている（特許文献１参照）。
【０００４】
特許文献１に開示される基板洗浄装置を用いる洗浄方法では、基板の表面にブラシを機械的に接触させるので、基板の表面を損傷するおそれがある。たとえば昨今の集積度が著しく増し微細な構造を有する基板表面の洗浄においては、ブラシの機械的接触がデバイス製品の良品率を低下させるという問題を惹起すると考えられる。
【０００５】
また、未だ表面構造が微細化されていない段階の基板の洗浄においては、ブラシ洗浄は非常に洗浄効果のある技術であるけれども、基板から除去された異物がブラシの中に取り込まれることによりブラシ自身が異物によって汚染され、汚染されたブラシで基板洗浄を行うと、ブラシ中の異物が基板を再汚染するおそれがある。したがって、特許文献１の基板洗浄装置では、ブラシを自己洗浄する構成を必要としている。
【０００６】
しかしながら、ブラシを自己洗浄したとしても、基板と長時間接触することによって、ブラシが摩耗してブラシの毛が切れたり、最悪の場合ブラシの毛が脱落して、ブラシ自身の毛が原因となって基板を汚染するという問題がある。
【０００７】
このような問題に対処する従来技術として、ブラシを用いるスクラブ洗浄とは異なり、基板の被洗浄面に対してノズルから洗浄液を噴出し、基板の被洗浄面の反対面である裏面に対して超音波ノズルから超音波を印加した液体を噴射させることによって、基板に機械的接触をすることなく、洗浄する洗浄装置が提案されている（特許文献２参照）。
【０００８】
特許文献２の従来技術では、超音波によって基板に付着している異物をリフトオフさせ、次に洗浄液の流れをリフトオフされた異物に作用させることによって、基板に機械的接触をすることなく、基板の洗浄を可能としている。
【０００９】
しかしながら、洗浄に使用する洗浄液をノズルから常に噴出させることが必要になるので、多量の洗浄液を必要とするという問題がある。また、基板の裏面から超音波を印加して異物をリフトオフさせる効果を発揮させるために、超音波の伝播媒体として超純水などの清浄液体を、常に超音波ノズルから基板へ供給しなければならないので、ノズルから噴出される洗浄液と同様に、多量の清浄液体を必要とするという問題がある。さらに、洗浄液として超純水をノズルから高速で噴出させる場合、流動の摩擦力で発生する静電気によって超純水が帯電し、最悪の場合、基板表面に形成されている微細な電気配線の構造が破壊されるおそれがある。
【００１０】
【特許文献１】特開平６−１３３５９号公報
【特許文献２】特開２００５−３３０９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上述のような問題点を鑑みてなされたものであり、その目的は、基板に機械的接触をすることなく、かつ少ない洗浄用液の使用量で基板表面に存在する異物を充分に除去することができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、基板の一方の面である被洗浄面に洗浄液を供給して洗浄する基板洗浄装置において、
基板の被洗浄面を臨んで設けられ、基板の被洗浄面に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
基板の被洗浄面を臨み洗浄液供給部と略平行になるように設けられる洗浄ローラであって、回転することによって洗浄液を基板の被洗浄面との間に形成される間隙へ送込む洗浄ローラとを含むことを特徴とする基板洗浄装置である。
【００１３】
また本発明は、洗浄ローラを、基板の被洗浄面に対して接近させ、また離反させるローラ昇降手段を含むことを特徴とする。
【００１４】
また本発明は、基板を略水平方向に搬送する搬送手段を含むことを特徴とする。
また本発明は、洗浄ローラは、その外周面が親水性を有することを特徴とする。
【００１５】
また本発明は、基板の被洗浄面に供給されて被洗浄面から離脱する洗浄液を回収する回収手段を含むことを特徴とする。
【００１６】
また本発明は、洗浄ローラが最も被洗浄面に接近する部位と、被洗浄面との間隔が、３ｍｍ以下であることを特徴とする。
【００１７】
本発明は、基板の一方の面である被洗浄面に洗浄液を供給して洗浄する基板洗浄方法において、
基板の被洗浄面を臨んで設けられる洗浄液供給部から基板の被洗浄面に対して洗浄液を供給するステップと、
基板の被洗浄面を臨み洗浄液供給部と略平行になるように設けられる洗浄ローラの回転によって、洗浄液を基板の被洗浄面と洗浄ローラとの間に形成される間隙へ送込むステップとを含むことを特徴とする基板洗浄方法である。
【００１８】
また本発明は、洗浄される基板を略水平姿勢に保つことを特徴とする。
また本発明は、洗浄液には、比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以上の純水が用いられることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、基板の被洗浄面に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、基板の被洗浄面を臨み洗浄液供給部と略平行になるように設けられる洗浄ローラとを備え、洗浄液供給部から供給される洗浄液を、洗浄ローラの回転によって基板の被洗浄面との間に形成される間隙へ送込んで被洗浄面を洗浄するので、基板に機械的接触をすることなく、かつ少ない洗浄用液体の使用量で基板表面に存在する異物を充分に除去することができる基板洗浄装置が提供される。
【００２０】
また本発明によれば、洗浄ローラを基板の被洗浄面に対して接近させ、また離反させるローラ昇降手段を含み、基板の厚さに応じて洗浄ローラを昇降させることができるので、洗浄ローラと基板の被洗浄面とで形成される間隙を最適な距離になるように容易に設定できる。
【００２１】
また本発明によれば、基板を略水平方向に搬送する搬送手段を含み、基板を搬送手段によって搬送しながら洗浄処理することができるので、多量の基板を容易に洗浄処理することが可能になる。
【００２２】
また本発明によれば、洗浄ローラはその外周面が親水性を有するので、洗浄ローラの表面と洗浄液との粘性摩擦を大きくすることができる。このことによって、回転する洗浄ローラから伝達されて、洗浄ローラの外周面に接する洗浄液を移動させるように作用する力が大きくなるので、洗浄ローラの回転により間隙へと送込まれる洗浄液の被洗浄面付近における流速を速めて洗浄効果を向上することができる。
【００２３】
また本発明によれば、基板の被洗浄面に供給されて被洗浄面から離脱する洗浄液を回収する回収手段を含むので、装置内における洗浄液の不要な飛散および滞留を防止できる。また、回収手段とともに、たとえば浄化装置を含む循環手段を設けることによって、回収した洗浄液を無駄なく繰返し使用することが可能になる。
【００２４】
また本発明によれば、洗浄ローラが最も被洗浄面に接近する部位と被洗浄面との間隔が３ｍｍ以下に設定される。このことによって、洗浄ローラの回転により間隙へと送込まれる洗浄液の被洗浄面付近における流速を速めて洗浄効果を向上することができる。
【００２５】
本発明によれば、基板の被洗浄面を臨んで設けられる洗浄液供給部から基板の被洗浄面に対して洗浄液を供給し、供給される洗浄液を、基板の被洗浄面を臨み洗浄液供給部と略平行になるように設けられる洗浄ローラの回転によって、基板の被洗浄面と洗浄ローラとの間に形成される間隙へ送込んで被洗浄面を洗浄するので、基板に機械的接触をすることなく、かつ少ない洗浄液の使用量で基板表面に存在する異物を充分に除去することができる基板洗浄方法が実現される。
【００２６】
また本発明によれば、洗浄される基板を略水平姿勢に保つので、被洗浄面をほぼ均質に充分清浄な状態に洗浄することができる。
【００２７】
また本発明よれば、洗浄液として比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以上の純水を用いるので、入手が容易な洗浄液によって高い洗浄効果を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
図１は本発明の実施の第１形態である基板洗浄装置１の構成を簡略化して示す上面図であり、図２は図１に示す基板洗浄装置１の側面図である。
【００２９】
基板洗浄装置１は、基板２の一方の面である被洗浄面２ａを臨んで設けられ、基板２の被洗浄面２ａ（以後、単に被洗浄面２ａと呼ぶ）に洗浄液３を供給する洗浄液供給部４と、被洗浄面２ａを臨み洗浄液供給部４と略平行になるように設けられる洗浄ローラ５であって、回転することによって洗浄液２を被洗浄面２ａとの間に形成される間隙６へ送込む洗浄ローラ５とを含んで構成される。基板洗浄装置１は、被洗浄面２ａに洗浄液３を供給し、被洗浄面２ａに付着しているパーティクルなどの微細な異物を除去洗浄することに用いられる。
【００３０】
基板洗浄装置１によって洗浄される基板２としては、ガラス基板、半導体基板、シリコンウエハなどが挙げられる。基板２は、不図示の搬送手段の上に略水平に戴置され、予め定める１方向（図１および図２中に示す矢符Ｓ方向）に搬送される途上において、被洗浄面２ａが洗浄される。本実施の形態において、基板２の平面形状は矩形であるけれども、これに限定されることなく、さらなる多角形であってもよく、輪郭が曲線で形成されているものであってもよい。
【００３１】
洗浄液供給部４は、本実施形態では金属製の直管から成る供給本体部１１と、供給本体部１１の被洗浄面２ａを臨む側に設けられる洗浄液供給口１２とを含む。洗浄液供給部４は、基板２の搬送方向であるＳ方向に直交する方向（以後、この方向を幅方向と呼ぶ）に延び、被洗浄面２ａに対して平行になるように、すなわち水平になるように設けられる。この洗浄液供給部４の幅方向の長さＬ３は、少なくとも基板２の幅寸法Ｌ２よりも長くなるように形成される。このことによって、洗浄液供給部４から基板２の幅方向全体に洗浄液３を供給することができる。
【００３２】
洗浄液供給部４には、不図示の配管が接続され、配管はさらに洗浄液供給源に接続される。洗浄液供給源は、たとえば洗浄液貯留槽と、洗浄液貯留槽に貯留される洗浄液を配管へと圧送するポンプと、ポンプを駆動させる電源とを含んでなる。洗浄液供給部４と、配管と、洗浄液供給源とは、洗浄液供給手段を構成する。洗浄液供給源から配管へ圧送される洗浄液３は、中空の供給本体部１１を通り、洗浄液供給口１２から吐出されて被洗浄面２ａへと供給される。
【００３３】
本実施形態では、洗浄液供給部４から被洗浄面２ａに対して供給される洗浄液３として、比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以上の純水、より好ましくは比抵抗が１８ＭΩ・ｃｍ以上の超純水が用いられる。
【００３４】
なお、洗浄液としては、純水に限定されることなく、純水または超純水に二酸化炭素および／またはアンモニアを添加させた液体、いわゆる機能水が用いられてもよい。これらの清浄な洗浄液、または清浄でありかつ化学的作用を有する洗浄液が用いられることによって、良好な洗浄効果を発揮することが可能になる。
【００３５】
洗浄ローラ５は、ローラ本体部１３と、ローラ本体部１３を回転駆動させる回転動力部１４とを含む。洗浄ローラ５は、アーム部１５に回転自在に支持される。アーム部１５は、一種の軸受部材であり、軸受部で洗浄ローラ５を回転自在に支持し、軸受部と反対側の端部が、基板洗浄装置１における不図示のフレーム部材などに装着される。回転動力部１４は、たとえば電動機とピンチローラとを含み、アーム部１５に支持される洗浄ローラ５の回転軸（不図示）に、電動機で回転されるピンチローラを圧接させて回転駆動させる。回転動力部１４は、上記の例に限定されるものではなく、他の回転駆動手段を用いるものであってもよい。
【００３６】
ローラ本体部１３は、たとえばステンレス鋼などの金属製であり、円柱形状であってもよく、また軽量化するために円筒形状にして軸線方向両端部を閉じて回転軸部材を設けるようにしてもよい。
【００３７】
本実施形態のローラ本体部１３において注目すべきは、その外周面が親水性を有するように、親水処理層１６が形成されることである。ローラ本体部１３の外周面に親水処理層１６を形成する方法は、特に限定されるものではなく、シリカ系親水被膜を形成する方法、またレーザ照射して粗面化する処理であってもよい。シリカ系親水被膜としては、たとえば珪酸ソーダにポリアクリル酸を添加した塗料を塗布したもの、またシリコーン樹脂に光触媒である酸化チタンを添加した塗料を塗布したものなどが挙げられる。なお、酸化チタンを添加した樹脂被膜は、紫外線を受けることによって親水性を発現する。
【００３８】
洗浄ローラ５は、基板２の搬送方向Ｓに関して洗浄液供給部４よりも上流側に、被洗浄面２ａを臨み洗浄液供給部４と略平行になるように設けられる。この洗浄ローラ５におけるローラ本体部１３の幅方向すなわち軸線方向の寸法Ｌ１は、少なくとも基板２の幅寸法Ｌ２よりも長くなるように形成される。このことによって、洗浄ローラ５は、基板２の幅方向全体を洗浄することができる。
【００３９】
図３は、被洗浄面と洗浄ローラとで形成される間隙における洗浄液の流れの状態を説明する図である。以下、図２および図３を参照し、洗浄液３による被洗浄面２ａの洗浄について説明する。
【００４０】
基板２は、不図示の搬送部によって矢符Ｓの方向に略水平姿勢を保って搬送される。基板２がＳ方向に搬送される状態で、洗浄液供給部４から洗浄液３を基板２の被洗浄面２ａに供給し、洗浄ローラ５のローラ本体部１３を矢符１７方向に回転させる。このことによって、ローラ本体部１３の外周面と洗浄液３との粘性摩擦により、ローラ本体部１３が被洗浄面２ａとローラ本体部１３との間に形成される間隙６へ洗浄液３を送込むように作用するので、間隙６のローラ本体部１３の被洗浄面２ａに対する最近接位置の基板搬送方向Ｓの下流側と上流側とにおいて、基板搬送方向Ｓに逆行する矢符１８と矢符１９とで示す洗浄液３の流れが発生する。
【００４１】
このとき、間隙６における洗浄液３には、矢符Ｓの方向へ搬送される基板２の被洗浄面２ａの移動と、ローラ本体部１３の矢符１７方向へ回転とによって付加されるせん断力が作用するので、せん断流れ２０が形成される。このせん断流れ２０が形成されることによって、被洗浄面２ａのごく近傍における洗浄液３の流れ２０ａが発生するので、被洗浄面２ａに付着する微細な異物が流れ２０ａから力を受け、被洗浄面２ａから除去される。
【００４２】
基板洗浄装置１では、以下のような方法によって洗浄効果を一層向上することができる。一つの方法は、ローラ本体部１３の矢符１７方向の回転速度を速くすることである。ローラ本体部１３の矢符１７方向の回転速度を速くすることによって、ローラ本体部１３の外周面近傍に形成される洗浄液３の流れ２０ｂの速度が一層速くなり、せん断流れ２０の速度勾配が大きくなる。
【００４３】
速度勾配は、定性的には、ローラ本体部１３の外周面近傍に形成される洗浄液３の流れ２０ｂと、被洗浄面２ａの近傍に形成される洗浄液３の流れ２０ａとの速度差を、被洗浄面２ａとローラ本体部１３が被洗浄面２ａに最接近する部位とで成す間隔、すなわち間隙６の最短部分の距離ｈ（以後、間隙距離ｈと呼ぶ）で除したものと考えられる。ここでは、洗浄液３の流れ２０ｂと洗浄液３の流れ２０ａとの速度差が大きい場合を速度勾配が大きいと呼び、洗浄液３の流れ２０ｂと洗浄液３の流れ２０ａとの速度差が小さい場合を速度勾配が小さいと呼ぶことにする。
【００４４】
せん断流れ２０の速度勾配が大きくなる、すなわち洗浄液３の流れ２０ｂの速度が速くなるのに伴って、被洗浄面２ａの近傍における洗浄液３の流れ２０ａの速度も速められることになるので、被洗浄面２ａに付着する微細な異物が、流れから受ける力を大きくして除去効果を向上することができる。
【００４５】
洗浄効果を一層向上させるもう一つの方法は、間隙距離ｈを小さくすることである。間隙距離ｈを小さくすることによって、ローラ本体部１３の外周面と洗浄液３との粘性摩擦によって洗浄液３のせん断流れ２０を形成する力を、より被洗浄面２ａに近い側の洗浄液３にまで及ぼすことができるので、被洗浄面２ａの近傍における洗浄液３の流れ２０ａの速度を速め、被洗浄面２ａに付着する微細な異物が、流れから受ける力を大きくして除去効果を向上することができる。
【００４６】
このように洗浄効果に寄与する間隙距離ｈは、３ｍｍ以下になるように設定されることが好ましく、より好ましくは１ｍｍ以下である。間隙距離ｈが３ｍｍを超えると、ローラ本体部１３と洗浄液３との粘性摩擦によって洗浄液３のせん断流れ２０を形成する力が、被洗浄面２ａの近傍にまで及びにくくなるので、被洗浄面２ａの近傍に形成されるせん断流れ２０ａの速度が遅く、微細な異物を充分に除去することができない。
【００４７】
間隙距離ｈは、小さいほど、ローラ本体部１３と洗浄液３との粘性摩擦によって洗浄液３のせん断流れ２０を形成する力が、被洗浄面２ａの近傍にまで及び易くなるので好ましい。しかしながら、間隙距離ｈが小さ過ぎると、ローラ本体部１３の外周面が被洗浄面２ａに接触するおそれがあるので、約５０μｍ以上に設定されることが好ましい。
【００４８】
また本実施形態では、洗浄液３として純水または超純水を用い、洗浄ローラ５のローラ本体部１３には親水処理層１６が形成されるので、ローラ本体部１３の外周面と洗浄液３との粘性摩擦を大きくすることができる。したがって、ローラ本体部１３の矢符１７の方向への回転速度を速くしなくても、また間隙距離ｈを小さくしなくても、ローラ本体部１３の外周面と洗浄液３との粘性摩擦の増大によって、ローラ本体部１３の外周面近傍の洗浄液３の流れ２０ｂの速度を速くすることができ、速度勾配を大きくすることができるので、被洗浄面２ａの近傍における洗浄液３の流れ２０ａの速度も速められ、被洗浄面２ａに付着する微細な異物が、流れから受ける力を大きくして除去効果を向上することができる。
【００４９】
また本発明の基板洗浄装置１においては、洗浄ローラ５の矢符１７方向の回転によって、基板２の搬送方向上流側へ流れる洗浄液３は、矢符Ｓ方向に搬送される基板２の被洗浄面２ａとの表面張力の作用によって、洗浄ローラ５の方向へ戻される。この洗浄ローラ５の方向へ戻る洗浄液３は、洗浄液供給部４から供給される洗浄液３を間隙６に貯留するように一種の堰として作用するので、洗浄液供給部４から供給され、間隙６において洗浄に寄与する洗浄液３の量を少量に抑えることが可能になる。
【００５０】
図４は、本発明の実施の第２形態である基板洗浄装置２１の構成を簡略化して示す側面図である。本実施形態の基板洗浄装置２１は、実施の第１形態の基板洗浄装置１に類似し、対応する部分については同一の参照符号を付して説明を省略する。
【００５１】
基板洗浄装置２１において注目すべきは、洗浄ローラ５を、被洗浄面２ａに対して接近させ、また離反させるローラ昇降手段２２と、基板２を略水平方向に搬送する搬送手段２３と、被洗浄面２ａに供給されて被洗浄面２ａから離脱する洗浄液３を回収する回収手段２４とを含むことである。
【００５２】
ローラ昇降手段２２は、たとえばボールねじと、ボールねじのねじ軸を回転駆動させる電動機とを含んで構成され、基板洗浄装置２１の不図示のフレームに装着される。ローラ昇降手段２２のボールねじのナットは、アーム部１５に装着される。ナットに螺合するボールねじのねじ軸は、上記装置のフレームに回転自在に装着される。
【００５３】
ボールねじのナットに螺合されるねじ軸が回転駆動されることによって、ナットはねじ軸に対して相対的に往復運動する。このボールねじのナットの往復運動に従って、ナットが装着されるアーム部１５に支持される洗浄ローラ５が、被洗浄面２ａに接近し、また被洗浄面２ａから離反するように移動、すなわち昇降することができる。
【００５４】
洗浄される基板２の厚さに応じ、ローラ昇降手段２２で洗浄ローラ５を昇降させることによって、上記間隙距離ｈを３ｍｍ以下の所望の大きさに設定することが可能である。
【００５５】
搬送手段２３は、幅方向に回転軸が延び、回転自在に設けられる複数の搬送ローラ２５と、搬送ローラ２５を矢符２６方向に回転駆動させる不図示の搬送ローラ駆動手段とを含んで構成される。搬送ローラ駆動手段は、個々の搬送ローラごとに駆動源が設けられる構成であってもよく、また１個または数個の駆動源の駆動力が、チェーンまたはベルトなどで複数の搬送ローラ２５に伝達される構成であってもよい。
【００５６】
複数の搬送ローラ２５は、洗浄ローラ５および洗浄液供給部４の下方において、回転頂部を連ねる仮想平面２７が水平面と略平行になるように配置され、前記回転頂部を連ねる仮想平面２７が基板２のパスラインを構成する。基板２は、複数の搬送ローラ２５の上に戴置され、搬送ローラ２５が回転駆動されることによって、予め定める１方向である矢符Ｓで示す方向に、水平姿勢を保って搬送される。
【００５７】
回収手段２４は、複数の搬送ローラ２５の下方に設けられる洗浄液回収槽２８と、洗浄液回収槽２８に接続される回収配管２９と、回収配管に接続される不図示の使用済み洗浄液貯留槽とを含んで構成される。洗浄液回収槽２８は、たとえばステンレス鋼などからなるパレット状の槽であり、その洗浄ローラ５の下方に位置する部分には、洗浄液回収槽２８の底壁部を貫通して排水口３０が形成され、排水口３０に回収配管２９が接続される。
【００５８】
洗浄液供給部４から被洗浄面２ａに供給された洗浄液３は、ある程度の量が被洗浄面２ａ上に滞留すると、余剰分が基板２から離脱、すなわちこぼれ始め、基板２から離脱した洗浄液３が洗浄液回収槽２８に回収される。洗浄液回収槽２８に回収された洗浄液３は、洗浄液回収槽２８の底壁部に形成される排水口３０から回収配管２９へと流過し、回収配管２９を通って基板洗浄装置２１の本体外に設けられる使用済み洗浄液貯留槽に貯留される。
【００５９】
なお、回収配管２９の途中または使用済み洗浄液貯留槽に隣り合うようにして、フィルタなどを含む洗浄液の浄化装置を設けるようにしてもよい。浄化装置を設け、浄化された洗浄液を洗浄液供給手段の洗浄液貯留槽へ戻すことによって、洗浄液の繰返し使用が可能になり、洗浄液コストを節減することができる。
【００６０】
基板洗浄装置２１では、洗浄される基板２が、搬送ローラ２５によって矢符Ｓ方向に水平姿勢を保った状態で搬送され、洗浄ローラ５および洗浄液供給部４の下方を通過するように移動する。基板２が搬送されて洗浄ローラ５および洗浄液供給部４の下方に位置するとき、洗浄液供給部４から被洗浄面２ａに供給された洗浄液３が、洗浄ローラ５のローラ本体部１３の回転によって間隙６へ送込まれる。
【００６１】
間隙６へ送込まれる洗浄液３は、ローラ本体部１３の外周面との粘性摩擦によってせん断流れ２０が形成される。被洗浄面２ａの近傍に形成されるせん断流れ２０ａによって、被洗浄面２ａに付着する微細な異物が除去洗浄される。さらに基板２が、矢符Ｓ方向に搬送され、洗浄ローラ５の下方を被洗浄面２ａの全面が通過することによって、その全面が洗浄される。
【００６２】
以上に述べたように、本実施の形態では、洗浄液として純水を用いる場合を例示するけれども、これに限定されることなく、洗浄液として機能水、アルカリ水素水、オゾン水、過酸化水素水、酸などが用いられてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明の実施の第１形態である基板洗浄装置１の構成を簡略化して示す上面図である。
【図２】図１に示す基板洗浄装置１の側面図である。
【図３】被洗浄面と洗浄ローラとで形成される間隙における洗浄液の流れの状態を説明する図である。
【図４】本発明の実施の第２形態である基板洗浄装置２１の構成を簡略化して示す側面図である。
【符号の説明】
【００６４】
１，２１  基板洗浄装置
２  基板
３  洗浄液
４  洗浄液供給部
５  洗浄ローラ
６  間隙
２２  ローラ昇降手段
２３  搬送手段
２４  回収手段
【図１】
2007201186.tif 000003
【図２】
2007201186.tif 000004
【図３】
2007201186.tif 000005
【図４】
2007201186.tif 000006