(57)【要約】【課題】ラジカルを利用し、水中に溶存する難分解性物質の分解効率を向上させることを可能とする。【解決手段】第１の処理部１０及び第２の処理部１１は、処理水槽１及び電極部をそれぞれ有し、階層化構成である。処理水槽（反応容器）１は、処理対象水２を内部に蓄える。電極部は、第１の電極（高電圧電極）３、第２の電極４（接地電極）及び本体５を含む。第１の電極３は、本体５に接続され、処理対象水２に対して放電ラジカル処理を行うための放電を発生する。第２の電極４は、処理対象水２の内部に配置される。電源部６は、第１の電極３及び第２の電極４に接続されており、高電圧を印加する。【選択図】      図１
2007307486.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電を利用してラジカル処理を実行するラジカル処理システムにおいて、
処理対象水を内部に蓄えることが可能な反応容器、及び前記処理対象水に対して放電ラジカル処理を行うための放電を発生する電極を含む電極手段をそれぞれ有する階層化構成の処理手段と、
前記電極に対して、高電圧を印加する電源手段と
を具備することを特徴とするラジカル処理システム。
【請求項２】
前記処理手段は、第１の処理手段と第２の処理手段に階層化されて、
前記第２の処理手段は、前記第１の処理手段によって処理された前記処理対象水を処理することを特徴とする請求項１に記載のラジカル処理システム。
【請求項３】
放電を利用してラジカル処理を実行するラジカル処理システムにおいて、
処理対象水を内部に蓄えることが可能な反応容器、及び前記処理対象水に対して放電ラジカル処理を行うための放電を発生する電極を含む電極手段をそれぞれ有する処理手段と、
前記電極に対して、高電圧を印加する電源手段とを具備し、
前記電極手段は、複数に分割されて配置された構成である
ことを特徴とするラジカル処理システム。
【請求項４】
前記処理手段は、階層化構成であることを特徴とする請求項３に記載のラジカル処理システム。
【請求項５】
放電を利用してラジカル処理を実行するラジカル処理システムにおいて、
処理対象水を内部に蓄えることが可能な反応容器、及び前記処理対象水に対して放電ラジカル処理を行うための放電を発生する電極を含む電極手段をそれぞれ有する処理手段と、
前記電極に対して、高電圧を印加する電源手段と、
前記処理対象水を前記反応容器に供給するポンプと、
前記ポンプから前記処理対象水を前記反応容器に供給する水路の供給口に設けられた金属メッシュ部材と
を具備することを特徴とするラジカル処理システム。
【請求項６】
前記金属メッシュ部材は、接地された構成であることを特徴とする請求項５記載のラジカル処理システム。
【請求項７】
前記処理手段は、階層化構成であることを特徴とする請求項５または６に記載のラジカル処理システム。
【請求項８】
放電を利用してラジカル処理を実行するラジカル処理システムにおいて、
処理対象水を内部に蓄えることが可能な反応容器、及び前記処理対象水に対して放電ラジカル処理を行うための放電を発生する電極を含む電極手段をそれぞれ有する処理手段と、
前記電極に対して、高電圧を印加する電源手段とを具備し、
前記電極は、複数のピン状の放電部を有し、
前記放電部は、複数のグループに分割されて配置された構成である
ことを特徴とするラジカル処理システム。
【請求項９】
前記処理手段は、階層化構成であることを特徴とする請求項８に記載のラジカル処理システム。
【請求項１０】
放電を利用してラジカル処理を実行するラジカル処理システムにおいて、
処理対象水を内部に蓄えることが可能な反応容器、及び前記処理対象水に対して放電ラジカル処理を行うための放電を発生する電極を含む電極手段をそれぞれ有する処理手段と、
前記電極に対して、高電圧を印加する電源手段と、
前記処理対象水の水面の揺れを低減する部材とを具備し、
前記部材は、前記反応容器の内部に配置された構成である
ことを特徴とするラジカル処理システム。
【請求項１１】
前記処理手段は、階層化構成であることを特徴とする請求項１０に記載のラジカル処理システム。
【請求項１２】
前記処理手段は、第１の処理手段と第２の処理手段に階層化されて、
前記第２の処理手段は、前記第１の処理手段によって処理された前記処理対象水を処理し、
前記部材は、前記第１の処理手段によって処理された前記処理対象水が前記第２の処理手段に遷移する際の流れの向きに対して上流側に配置された構成である
ことを特徴とする請求項１１に記載のラジカル処理システム。
【請求項１３】
放電を利用してラジカル処理を実行するラジカル処理システムにおいて、
処理対象水を内部に蓄えることが可能な反応容器、及び前記処理対象水に対して放電ラジカル処理を行うための放電を発生する電極を含む電極手段をそれぞれ有する処理手段と、
前記電極に対して、高電圧を印加する電源手段とを具備し、
前記電源手段は、複数に分割されて配置された構成である
ことを特徴とするラジカル処理システム。
【請求項１４】
前記処理手段は、階層化構成であることを特徴とする請求項１３に記載されるラジカル処理システム。
【請求項１５】
放電を利用してラジカル処理を実行するラジカル処理システムにおいて、
処理対象水を内部に蓄えることが可能な反応容器、及び前記処理対象水に対して放電ラジカル処理を行うための放電を発生する電極を含む電極手段をそれぞれ有する処理手段と、
前記電極に対して、高電圧を印加する電源手段と、
前記反応容器に蓄えられる処理対象水の水面に配置される複数の浮き部材とを具備し、
前記電極は、前記複数の浮き部材の上に配置された構成である
ことを特徴とするラジカル処理システム。
【請求項１６】
前記処理手段は、階層化構成であることを特徴とする請求項１５記載のラジカル処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ラジカル処理システムに関し、特に放電を利用して処理対象水に含まれる有機物を分解するラジカル処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、塩素を利用して処理対象水に含まれる有機物を分解処理する分解処理方法以外に、オゾン（Ｏ3）の酸化反応を利用した分解処理方法が適用されつつある。両方法とも、化学的に強い酸化力を利用して水中に溶存する有機物を分解することができる。
【０００３】
一般的に、それらの酸化力は、塩素が１．４電子ボルトであるのに対し、オゾンは２．０７電子ボルトと高い。また、塩素は高分子で形成される有機物と反応すると、クロロフェノール類やトリハロメタン、ハロ酢酸、ハロケトン、ハロアセトニトリルなどの消毒副生成物が生成される。これらの一部は、発ガン性物質である可能性が示唆されており、それ自身も人体に有害な物質である。
【０００４】
これに対して、オゾンは酸素原子のみで構成されているため、環境への影響が少なく、異臭味物質の分解に有効であることから、近年オゾンを利用した処理方法が普及している。
【０００５】
しかしながら、オゾンはダイオキシンや農薬、環境ホルモンなどの難分解性有機物との反応速度が遅く、これらを分解処理することは困難である。また、有機物との反応により例えばアルデヒドの生成などの懸念もある。
【０００６】
そこで、化学反応を利用して難分解性有機物を分解処理するために、オゾンよりも酸化力の高い化学物質を用いる方法がある。この方法で用いられる化学物質の酸化力は、高いほどよく、具体的にはヒドロキシルラジカル（ＯＨラジカル）や酸素原子ラジカル（Ｏラジカル）がある。これらの酸化力は、それぞれ２．８５電子ボルト、２．４２電子ボルトであり、オゾンより高い。更に、これらは、有機物に対する反応速度定数もオゾンより高い。このため、ＯＨラジカルやＯラジカルは、ダイオキシンなどの難分解性物質をすばやく分解することが可能である（例えば、特許文献１を参照）。ここで、前述したＯＨラジカル、Ｏラジカルなどを総称して、以下単にラジカルと表記する。
【特許文献１】特開２００１−７０９４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
先行技術に用いられるラジカルは、水分の多い気体中で放電を発生させることにより得られる。ラジカルは、反応性が非常に高く、発生した後すぐに消滅する。このラジカルにより水中に溶存する難分解性物質を分解するためには、ラジカルが発生するとすぐに、ラジカルを水中へ溶け込ませる必要がある。しかしながら、水中へ溶解されたラジカルは更に消滅確率が高くなるため、放電による分解処理効率は低くなる。
【０００８】
本発明の目的は、ラジカルを利用し、水中に溶存する難分解性物質の分解効率を向上させることが可能なラジカル処理システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の１つの態様によれば、放電を利用してラジカル処理を実行するラジカル処理システムが提供される。このラジカル処理システムは、処理対象水を内部に蓄えることが可能な反応容器及び前記処理対象水に対して放電ラジカル処理を行うための放電を発生する電極を含む電極手段をそれぞれ有する階層化構成の処理手段と、前記電極に対して、高電圧を印加する電源手段とを具備する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ラジカルを利用し、水中に溶存する難分解性物質の分解効率を向上させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。
【００１２】
［第１の実施形態］
まず、図１を参照して、本発明の第１の実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図である。
【００１３】
このラジカル処理システムには、第１の処理部１０、第２の処理部１１及び電源部６が設けられている。
【００１４】
第１の処理部１０及び第２の処理部１１は、処理対象水２に含まれる例えば難分解性有機物を分解するためのラジカル処理を実行する。
【００１５】
このラジカル処理システムでは、処理対象水２は、まず第１の処理部１０によって処理された後、更に第２の処理部１１によって処理される。つまり、本実施形態に係るラジカル処理システムは、処理部が第１の処理部１０及び第２の処理部１１からなる階層化構成である。
【００１６】
第１の処理部１０及び第２の処理部１１は、処理水槽１と電極部とをそれぞれ有する。処理水槽１は、処理対象水２を内部に蓄えることが可能な反応容器である。処理水槽１は、例えばステンレス材質によって構成される。
【００１７】
処理水槽１に蓄えられる処理対象水２は、難分解性有機物や廃棄物、最終処分場の浸出水、ダイオキシン類、工場の排水、家庭排水等を含有した排水である。なお、通常、処理水槽１内の処理対象水２は、例えば難分解性物質を効率良く分解するために攪拌されている。
【００１８】
電極部は、第１の電極（高電圧電極）３、第２の電極（接地電極）４及び本体５を含む。第１の電極３は、処理対象水２の表面（水面）に対して対向方向に、本体５に接続されている。第１の電極３は、複数のピン状の放電部３０を有し、当該放電部３０が処理対象水２と一定の距離を置いて配置されている。第２の電極４は、処理水槽１の処理対象水２の中に配置されている。また、本体５は、処理水槽１とは例えば絶縁部（図示せず）を介して取り付けられている。
【００１９】
電源部６は、第１の電極３及び第２の電源４に接続されている例えば高電圧パルスを発生するパルス電源である。電源部６は、第１の電極３と第２の電極４との間に高電圧を印加する。第１の電極３は、高電圧が印加されると、処理対象水２に対して放電ラジカル処理を行うための放電例えばコロナ放電を、放電部３０で発生する。この放電により、例えばヒドロキシラジカル（以下、ＯＨラジカルと表記）のようなラジカルが発生する。
【００２０】
次に、本実施形態に係るラジカル処理システムにおける放電によるラジカルの生成の動作について説明する。
【００２１】
電源部６から高電圧が印加されると、これに応じて、放電が発生する。この放電が酸素（Ｏ原子）を含有する雰囲気中で発生した場合、放電内では電子ｅと気体分子の衝突により基底状態の酸素原子Ｏ（３Ｐ）や励起状態の酸素原子Ｏ（１Ｄ）が発生する。これを下記の化学式（１）で表現する。
【００２２】
ｅ＋Ｏ２→Ｏ（１Ｄ）＋Ｏ（３Ｐ）  …（１）
ここで、Ｏ（１Ｄ）は、水分子と反応し、ＯＨラジカルを発生する。すなわち、下記の化学式（２）が成立する。
【００２３】
Ｏ（１Ｄ）＋Ｈ２Ｏ→２ＯＨ・  …（２）
Ｏ（３Ｐ）原子からは、Ｏ２分子と中性分子Ｍとの３体衝突によりオゾンＯ３が発生する。すなわち、下記の化学式（３）が成立する。
【００２４】
Ｏ（３Ｐ）＋Ｏ２＋Ｍ→Ｏ３＋Ｍ  …（３）
また、水分子に直接電子が衝突することによっても、Ｈ原子及びＯＨラジカルが発生する。これを下記の化学式（４）で表現する。
【００２５】
ｅ＋Ｈ２Ｏ→Ｈ＋ＯＨ・  …（４）
また、ＯＨラジカルからは過酸化水素Ｈ２Ｏ２も発生する。これを、下記の化学式（５）で表現する。
【００２６】
ＯＨ・＋ＯＨ・→Ｈ２Ｏ２  …（５）
このようにして生成されたＯ原子、ＯＨラジカル、オゾン及び過酸化水素が、ラジカルとして、熱運動、拡散、ガス流により処理水中へ溶け込むことによって処理される。
【００２７】
直接処理では、放電から発生したＯＨラジカルが処理対象水２の水中へと溶解し、すぐに難分解性有機物と反応し、水Ｈ２Ｏと二酸化炭素ＣＯ２と過酸化水素に分解する。これを、下記の化学式（６）で表現する。
【００２８】
ＯＨ・＋Ｒ→Ｈ２Ｏ＋ＣＯ２＋Ｈ２Ｏ２  …（６）
これに対し、間接処理では、放電から発生したオゾンと過酸化水素との反応によりＯＨラジカルが発生し難分解性有機物を分解する。
【００２９】
過酸化水素は水中に溶解すると解離してＨＯ２−と水素イオンＨ＋を形成する。これを、下記の化学式（７）で表現する。
【００３０】
Ｈ２Ｏ２⇔ＨＯ２−＋Ｈ＋  …（７）
発生したＨＯ２−は、Ｏ３と反応しＯ３−とＨＯ２ラジカルを形成する。これを、下記の化学式（８）で表現する。
【００３１】
ＨＯ２−＋Ｏ３→Ｏ３−＋ＨＯ２・  …（８）
発生したＨＯ２・は、解離し、Ｏ２−とＨ＋を形成する。これを、下記の化学式（９）で表現する。
【００３２】
ＨＯ２・⇔Ｏ２−＋Ｈ＋  …（９）
発生したＯ２−は、オゾンと反応し、Ｏ３−を形成する。これを、下記の化学式（１０）で表現する。
【００３３】
Ｏ２−＋Ｏ３→Ｏ３−＋Ｏ２  …（１０）
Ｏ３−は、Ｈ＋と反応し、ＨＯ３を形成する。これを、下記の化学式（１１）で表現する。
【００３４】
Ｏ３−＋Ｈ＋→ＨＯ３  …（１１）
ＨＯ３は解離し、ＯＨラジカルを形成する。これを、下記の化学式（１２）で表現する。
【００３５】
ＨＯ３→ＯＨ・＋Ｏ２  …（１２）
以上のようにして、放電により発生したラジカルを処理対象水２に溶解させて、当該ラジカルによる直接処理及び間接処理の２段階により、処理対象水２に対する分解処理を行う。
【００３６】
図１に示すように、第１の処理部１０によって上記したような処理が実行されると、処理された処理対象水２は、第２の処理部１１に移される。移された処理対象水２は、第２の処理部１１によって処理される。なお、前述したように第２の処理部１１の構成は第１の処理部１０と同様であり、ここで実行される処理は、上記した第１の処理部１０の処理と同様である。
【００３７】
上述したように本実施形態においては、第１の処理部１０と第２の処理部１１とを階層構造とすることで、処理対象水２を連続的に処理することができるため、難分解性物質の分解効率を向上することが可能となる。また、本実施形態によれば、処理対象水２が第１の処理部１０から第２の処理部１１に移される際、処理対象水２が攪拌されるため、特に攪拌素子を用いて攪拌することなく例えばＯＨラジカルの反応の効率が向上する。このため、水中に溶存する難分解性物質の分解効率を向上させることが可能となる。
【００３８】
［第２の実施形態］
次に、図２を参照して、本発明の第２の実施形態について説明する。図２は、本実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図である。なお、図１と同様の部分には同一参照符号を付してその詳しい説明を省略する。また、図２では、第２の処理部１１についての記載は省略されており、図１に示す第２の処理部１１と構成は同様である。
【００３９】
本実施形態の特徴は、前述した第１の実施形態に係るラジカル処理システムの電極部が複数、例えば２つに分割されて配置されている点にある。なお、前述した第１の実施形態における第１の処理部１０または第２の処理部１１に配置される電極部のうち、いずれか一方が分割されて配置される構成でもよいし、その両方が分割されて配置される構成であっても構わない。
【００４０】
上述したように本実施形態においては、電極部を複数に分割して配置することによって、例えば電極部の一部に不具合が発生した場合であっても、その一部のみを交換するだけでよく、電極部全体を交換する手間を省くことが可能となる。また、本実施形態においては、例えば分割された電極部の電極にかかる負荷を変化させることによって、処理対象水２の処理量をコントロールすることが可能となる。これにより、安定した処理を確保することが可能となる。また、本実施形態においては、処理対象水２の処理容量に応じて、分割された電極部の稼動数を変化させることでコストを下げることが可能となる。
【００４１】
［第３の実施形態］
次に、図３を参照して、本発明の第３の実施形態について説明する。図３は、本実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図である。なお、図１と同様の部分には同一参照符号を付してその詳しい説明を省略する。また、図３では、第２の処理部１１についての記載は省略されており、図１に示す第２の処理部１１と構成は同様である。
【００４２】
本実施形態の特徴は、前述した第１の実施形態に係るラジカル処理システムの処理水槽１の内部に処理対象水２を供給する際にポンプ８を用いる場合、ポンプ８から処理対象水２を供給する水路の供給口に金属メッシュ部材７が設けられている点にある。
【００４３】
金属メッシュ部材７は、処理対象水２が処理水槽１に供給される際、当該処理対象水２をろ過するために設けられる。また、金属メッシュ部材７は、接地されており、耐腐食性を有する金属から構成される。
【００４４】
ポンプ８は、処理対象水２を処理水槽１に供給することによって、処理水槽１の処理対象水２を所定の高さに上げる機能を有する。これにより、処理対象水２と第１の電極３の放電部３０との間隔が例えば一定に調整される。
【００４５】
上述したように本実施形態においては、ポンプ８から処理対象水２を供給する水路の供給口に金属メッシュ部材７を設けることによって、処理水槽１に供給される処理対象水２がろ過されるため、難分解性物質の分解処理の効率を向上させることが可能となる。また、金属メッシュ部材７は、接地されているため、ポンプ８への漏電等を防ぐことが可能となり、安定した処理を実行することが可能となる。また、本実施形態においては、金属メッシュ部材７が耐腐食性を有することで、当該金属メッシュ部材７の寿命が長く、長期にわたって安定した処理を実行することが可能となる。
【００４６】
［第４の実施形態］
次に、図４を参照して、本発明の第４の実施形態について説明する。図４は、本実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図である。なお、図１と同様の部分には同一参照符号を付してその詳しい説明を省略する。また、図４では、第２の処理部１１についての記載は省略されており、図１に示す第２の処理部１１と構成は同様である。
【００４７】
本実施形態の特徴は、前述した第１の実施形態に係るラジカル処理システムの第１の電極３の放電部３０が複数、例えば３つのグループに分割されて配置されている点にある。図４に示すように、本実施形態では、第１の実施形態の第１の電極３は、電極３１、３２及び３３の３つのグループに分割されている。この電極３１、３２及び３３は、１つの本体５に接続されている。なお、前述した第２の実施形態と同様に、第１の処理部１０または第２の処理部１１に配置される第１の電極３のうち、いずれか一方が複数のグループに分割されて配置される構成でもよいし、その両方が複数のグループに分割されて配置される構成であっても構わない。
【００４８】
上述したように本実施形態においては、第１の電極３を複数のグループに分割して配置することによって、例えば第１の電極３の一部（複数のグループのうちの１つ）に不具合が発生した場合であっても、その一部のみを交換するだけでよいため、第１の電極３の全部を交換する手間を省くことができる。そのため、メンテナンス時間が短縮され、コストを下げることが可能となる。また、大きな電極はコストが高いため、分割された小さな電極を用いることでコストを下げることが可能となる。
【００４９】
［第５の実施形態］
次に、図５を参照して、本発明の第５の実施形態について説明する。図５は、本実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図である。なお、図１と同様の部分には同一参照符号を付してその詳しい説明を省略する。また、図５では、第２の処理部１１についての記載は省略されており、図１に示す第２の処理部１１と構成は同様である。
【００５０】
本実施形態の特徴は、前述した第１の実施形態に係るラジカル処理システムの処理水槽１の内部に、処理対象水２の水面の揺れを低減する部材９が配置される点にある。この部材９は、例えば耐腐食性を有する金属から構成される。部材９は、第１の処理部１０に備えられる処理水槽１の処理対象水２が第２の処理部１１の処理水槽１に遷移する際の流れの向きに対して、処理水槽１の上流側に配置されるのが好ましい。なお、部材９は、前述した第１の実施形態における第１の処理部１０または第２の処理部１１に設けられる処理水槽１のうち、いずれか一方に配置される構成でもよいし、両方に配置される構成であっても構わない。
【００５１】
上述したように本実施形態においては、処理水槽１に部材９を配置することによって、処理対象水２の水面の揺れが低減されるため、第１の電極３と第２の電極４との間での放電が均一化され、処理効率を上げることが可能となる。また、部材９を処理水槽１の上流側に配置すれば、処理対象水２の水面の揺れを全体的に低減することが可能となるため、より放電を均一化できる。また、本実施形態においては、耐腐食性を有する金属から構成される部材９を配置することで、長期にわたって安定した処理を実施することが可能となる。
【００５２】
なお、本実施形態では、部材９は、例えば耐腐食性を有する金属として説明したが、この部材９として無機物を使用する構成であっても構わない。
【００５３】
［第６の実施形態］
次に、図６を参照して、本発明の第６の実施形態について説明する。図６は、本実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図である。なお、図１と同様の部分には同一参照符号を付してその詳しい説明を省略する。また、図６では、第２の処理部１１についての記載は省略されており、図１に示す第２の処理部１１と構成は同様である。
【００５４】
本実施形態の特徴は、前述した第１の実施形態に係るラジカル処理システムの電源部６が複数、例えば２つに分割されて配置されている点にある。この場合、図６に示すように分割された電源部６の各々に対応する電極部が備えられる。この電極部は、分割された電源部６のうち、対応する電源部６から高電圧が印加される。なお、前述した第２または第４の実施形態と同様に、第１の処理部１０または第２の処理部１１に配置される電源部６のうち、いずれか一方が分割されて配置される構成でもよいし、その両方が分割されて配置される構成であっても構わない。
【００５５】
上述したように本実施形態においては、電源部６を分割して配置することによって、例えば電源部６の一部に不具合が発生した場合であっても、その一部のみを交換するだけでよいため、電源部６の全部を交換する手間を省くことができ、メンテナンス時間が短縮され、コストを下げることが可能となる。
【００５６】
［第７の実施形態］
次に、図７を参照して、本発明の第７の実施形態について説明する。図７は、本実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図である。なお、図１と同様の部分には同一参照符号を付してその詳しい説明を省略する。また、図７では、第２の処理部１１についての記載は省略されており、図１に示す第２の処理部１１と構成は同様である。
【００５７】
本実施形態の特徴は、前述した第１の実施形態に係るラジカル処理システムの処理水槽１に蓄えられる処理対象水２の水面に複数の浮き部材１００が配置され、第１の電極３及び本体５が浮き部材１００の上に配置される点にある。また、浮き部材１００は、絶縁体で構成される方が好ましい。なお、前述した第１の実施形態における第１の処理部１０または第２の処理部１１のうち、いずれか一方が上記したような浮き部材１００を備える構成でもよいし、その両方が上記したような構成であっても構わない。
【００５８】
上述したように本実施形態においては、本体５及びそれに接続されている第１の電極３を浮き部材１００等で処理対象水２の水面に対して浮かせて配置することで、常に第１の電極３が処理対象水２に対して一定の間隔で配置されるため、安定した処理が可能となる。また、本実施形態において、浮き部材１００が絶縁体で構成されていれば、高電圧による漏電を防止することが可能となる。
【００５９】
なお、本願発明は、上記各実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記各実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組合せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図。
【図２】本発明の第２の実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図。
【図３】本発明の第３の実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図。
【図４】本発明の第４の実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図。
【図５】本発明の第５の実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図。
【図６】本発明の第６の実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図。
【図７】本発明の第７の実施形態に係るラジカル処理システムの構成を示す図。
【符号の説明】
【００６１】
１…処理水槽、２…処理対象水、３…第１の電極、４…第２の電極、５…本体、６…電源部、７…金属メッシュ部材、８…ポンプ、９…部材、１０…第１の処理部、１１…第２の処理部、３０…放電部、１００…浮き部材。
【図１】
2007307486.tif 000003
【図２】
2007307486.tif 000004
【図３】
2007307486.tif 000005
【図４】
2007307486.tif 000006
【図５】
2007307486.tif 000007
【図６】
2007307486.tif 000008
【図７】
2007307486.tif 000009