(57)【要約】【課題】  歩留まり及び生産性が良好であり、材料コストの低減が容易な反射型液晶表示素子の製造方法を提供する。【解決手段】  半導体ウエハ１及び光透過性を有する板状の透明母材１１を予め決められた所定の基準に基づいて検査し良否判定及びＮＧ位置の特定を行った後、半導体ウエハ１１から切り出された複数の半導体基板５の内、良品の半導体基板５を選別して、この良品の半導体基板５を透明母材１１のＮＧ位置をのぞく範囲のみに形成されたシール部３２に貼り付ける。その後、透明母材１１を切断することにより、複数の反射型液晶表示素子５０を得る。【選択図】      図６
2007093691.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を表示するための表示エリアを有する半導体基板と光透過性を有する透明基板とが、前記表示エリアよりも大きい空隙部を有する略枠状のシール部を介して貼り合わされてなり、前記空隙部には液晶が充填されてなる反射型液晶表示素子の製造方法において、
前記表示エリアがマトリクス状に複数形成された半導体ウエハを切断して、前記表示エリアを一つずつ有する前記半導体基板を複数得る第１切断工程と、
光透過性を有する板状であり切断されることによって複数の前記透明基板となる透明母材の一面に、未硬化の樹脂を含む接着剤を塗布し、この接着剤からなる前記シール部をマトリクス状に複数形成するシール部形成工程と、
前記半導体基板を、前記表示エリアが前記空隙部の内側に位置するようにして、各前記シール部にそれぞれマウントするマウント工程と、
前記樹脂を硬化させて、各前記半導体基板を、各前記シール部を介して前記透明母材に固着させる固着工程と、
前記透明母材を、前記半導体基板を一つずつ有するように切断して、複数の前記透明基板とする第２切断工程と、
を有することを特徴とする反射型液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】
画像を表示するための表示エリアを有する半導体基板と光透過性を有する透明基板とが、前記表示エリアよりも大きい空隙部を有する略枠状のシール部を介して貼り合わされてなり、前記空隙部には液晶が充填されてなる反射型液晶表示素子の製造方法において、
前記表示エリアがマトリクス状に複数形成された半導体ウエハを検査し、予め決められた所定の基準に基づいて各前記表示エリアの良否判定を行う第１検査工程と、
前記半導体ウエハを各前記表示エリア毎に切断することによって、前記表示エリアを有する前記半導体基板を複数得る第１切断工程と、
光透過性を有する板状であり切断されることによって複数の前記透明基板となる透明母材を予め決められた所定の基準に基づいて検査し、前記透明母材における不良位置を特定する第２検査工程と、
前記透明母材の一面に、未硬化の樹脂を含む接着剤を塗布してこの接着剤からなる前記シール部をマトリクス状に複数形成する際、前記透明母材の前記一面における少なくとも前記シール部の前記空隙部に対応する範囲内に前記不良位置が存在する場合には、前記範囲に対応する前記シール部を形成せずに、前記範囲以外の前記透明母材の前記一面に前記シール部を形成するシール部形成工程と、
前記第１検査工程で良品と判定された前記表示エリアを有する前記半導体基板のみを、前記表示エリアが前記空隙部の内側に位置するようにして、各前記シール部のみにそれぞれマウントするマウント工程と、
前記樹脂を硬化させて、各前記半導体基板を、各前記シール部を介して前記透明母材に固着させる固着工程と、
前記透明母材を、前記半導体基板を一つずつ有するように切断して、複数の前記透明基板とする第２切断工程と、
を有することを特徴とする反射型液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型液晶表示素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、反射型液晶表示素子は、プロジェクタ、プロジェクションテレビ、ヘッドマウントディスプレイ等のディスプレイ分野に広く採用されている。
ここで、一般的な反射型液晶表示素子の構造を、図９を用いて説明する。図９は、一般的な反射型液晶表示素子の構造を説明するための模式的断面図である。
【０００３】
ガラス基板１０１の一面には透明電極１０２が形成され、他面には反射防止膜１０３が形成されている。
また、シリコン基板１０５の一面には、画素電極１０６がマトリクス状に複数形成された表示エリア１０７が形成されている。そして、この表示エリア１０７を囲うように、表示エリア１０７の外周に沿って、シール接着剤１０８が塗布されている。ここで、シール接着剤１０８とは、所定の直径を有する略球状のスペーサ１０９を含有した接着剤１１０を示す。
そして、この反射型液晶表示素子１５０は、透明電極１０２と表示エリア１０７とが対向するようにして、ガラス基板１０１とシリコン基板１０５とがシール接着剤１０８を介して貼り合わされたものである。
また、ガラス基板１０１とシリコン基板１０５とのギャップｄ１１０は、スペーサ１０９の直径により設定され、このギャップｄ１１０部には液晶１１２が充填されている。
【０００４】
次に、上述したガラス基板１０１及びシリコン基板１０５の形成方法及び貼り合わせ方法について説明する。
【０００５】
まず、ガラス基板１０１及びシリコン基板１０５の形成方法について説明する。
一般に、ガラス基板１０１は、例えばガラス板などのガラス母材にマトリクス状に複数形成されている。また、シリコン基板１０５は、シリコンウエハなどのシリコン母材にマトリクス状に複数形成されている。
そして、このガラス母材及びシリコン母材をそれぞれ所定のサイズに切断することによって、ガラス基板１０１及びシリコン基板１０５を複数得ることができる。
【０００６】
次に、ガラス基板１０１とシリコン基板１０５との貼り合わせ方法について説明する。ガラス基板１０１とシリコン基板１０５との貼り合わせ方法は、大別して、２つの方法がある。
【０００７】
第１の貼り合わせ方法は、ガラス母材及びシリコン母材をそれぞれ切断してガラス基板１０１及びシリコン基板１０５をそれぞれ複数得た後、このガラス基板１０１とシリコン基板１０５とをそれぞれ個別に貼り合わせる方法である。
この方法は、良品のガラス基板１０１及び良品のシリコン基板１０５をそれぞれ選別して貼り合わせることができるので、良好な高い歩留まりが得られる方法である。ここで、良品とは、外観上及び電気的特性上、所定の検査基準を満たしているものをいう。
しかしながら、第１の貼り合わせ方法は、複数のガラス基板１０１と複数のシリコン基板１０５とをそれぞれ個別に位置合わせして貼り合わせるため、貼り合わせ工程における生産性が悪い。
【０００８】
また、第１の貼り合わせ方法において、切断後のガラス基板１０１にはこの切断によって発生したガラスカレットが付着している場合がある。このガラスカレットは、洗浄によってある程度除去することはできるが、その一部は除去しきれずに残ってしまう場合がある。また、洗浄後にガラス基板１０１の端部から剥がれたガラスカレットがガラス基板１０１に付着する場合がある。これらのガラスカレットが表示エリアに対応する範囲に残存していると、このようなガラスカレットが残存する反射型液晶表示素子を用いて得られた画像には、輝点や黒点が発生する。
【０００９】
そこで、このガラスカレットを除去する方法として、切断後の複数のガラス基板１０１の各端面をそれぞれ個別に研磨する工程、この研磨によって発生したガラスカレットを洗浄除去する工程、及び洗浄後の各ガラス基板１０１を外観検査する工程がさらに必要となるため、第１の貼り合わせ方法を用いた場合、生産性が悪いという問題がある。
【００１０】
一方、第２の貼り合わせ方法は、ガラス母材とシリコン母材とを貼り合わせることにより、複数のガラス基板１０１と複数のシリコン基板１０５とをそれぞれ同時に貼り合わせる方法である。そして、この貼り合わせ後にガラス母材及びシリコン母材をそれぞれ所定のサイズに切断することによって、反射型液晶表示素子を複数得るものである。
この方法は、複数のガラス基板１０１と複数のシリコン基板１０５とをそれぞれ同時に貼り合わせることができるので、生産性に優れた方法である。
【００１１】
この第２の貼り合わせ方法の一例が、特許文献１に記載されている。
特許文献１の記載によれば、ガラス母材とシリコン母材とを貼り合わせた後、点灯検査に必要な端子線部をむき出しにすることによって、母材の状態で点灯検査が行えるので、効率的な生産を実現できるとしている。
【特許文献１】特開２００４−１１８１３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、特許文献１に記載されているような第２の貼り合わせ方法は、以下に示す問題を有しているため、その改善が望まれている。
【００１３】
一般的に、ガラス母材及びシリコン母材にマトリクス状に形成された複数のガラス基板及び複数のシリコン基板の内、その一部のガラス基板及びシリコン基板は不良品である場合がある。ここで、不良品とは、外観上または電気的特性上、所定の検査基準を満たしていないものをいう。このようなガラス母材とシリコン母材とを貼り合わせて作製された複数の反射型液晶表示素子の内、そのガラス基板及びシリコン基板のいずれか一方が不良品である場合、他方が良品であってもこのような反射型液晶表示素子は当然不良品となる。
従って、反射型液晶表示素子の製造方法において、第２の貼り合わせ方法を用いた場合、歩留まりが悪くなるという問題がある。
【００１４】
また、上述した不良品である反射型液晶表示素子が、例えば、不良品のガラス基板と良品のシリコン基板とにより構成されている場合、良品のシリコン基板は無駄になってしまうため、材料コストが高くなるという問題がある。
【００１５】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、上述の問題を鑑みてなされたものであり、歩留まり及び生産性が良好であり、材料コストの低減が容易な反射型液晶表示素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記の課題を解決するために、本願各発明は次の手段を有する。
１）画像を表示するための表示エリア（２）を有する半導体基板（５）と光透過性を有する透明基板（４８）とが、前記表示エリア（２）よりも大きい空隙部（３６）を有する略枠状のシール部（３２）を介して貼り合わされてなり、前記空隙部（３６）には液晶（４０）が充填されてなる反射型液晶表示素子の製造方法において、前記表示エリア（２）がマトリクス状に複数形成された半導体ウエハ（１）を切断して、前記表示エリア（２）を一つずつ有する前記半導体基板（５）を複数得る第１切断工程と、光透過性を有する板状であり切断されることによって複数の前記透明基板（４８）となる透明母材（１１）の一面に、未硬化の樹脂（３３）を含む接着剤（３１）を塗布し、この接着剤（３１）からなる前記シール部（３２）をマトリクス状に複数形成するシール部形成工程と、前記半導体基板（５）を、前記表示エリア（２）が前記空隙部（３６）の内側に位置するようにして、各前記シール部（３２）にそれぞれマウントするマウント工程と、前記樹脂（３３）を硬化させて、各前記半導体基板（５）を、各前記シール部（３２）を介して前記透明母材（１１）に固着させる固着工程と、前記透明母材（１１）を、前記半導体基板（５）を一つずつ有するように切断して、複数の前記透明基板（４８）とする第２切断工程と、を有することを特徴とする反射型液晶表示素子（５０）の製造方法である。
２）画像を表示するための表示エリア（２）を有する半導体基板（５）と光透過性を有する透明基板（４８）とが、前記表示エリア（２）よりも大きい空隙部（３６）を有する略枠状のシール部（３２）を介して貼り合わされてなり、前記空隙部（３６）には液晶（４０）が充填されてなる反射型液晶表示素子の製造方法において、前記表示エリア（２）がマトリクス状に複数形成された半導体ウエハ（１）を検査し、予め決められた所定の基準に基づいて各前記表示エリア（２）の良否判定を行う第１検査工程と、前記半導体ウエハ（１）を各前記表示エリア（２）毎に切断することによって、前記表示エリア（２）を有する前記半導体基板（５）を複数得る第１切断工程と、光透過性を有する板状であり切断されることによって複数の前記透明基板（４８）となる透明母材（１１）を予め決められた所定の基準に基づいて検査し、前記透明母材（１１）における不良位置を特定する第２検査工程と、前記透明母材（１１）の一面に、未硬化の樹脂（３３）を含む接着剤（３１）を塗布してこの接着剤（３１）からなる前記シール部（３２）をマトリクス状に複数形成する際、前記透明母材（１１）の前記一面における少なくとも前記シール部（３２）の前記空隙部（３６）に対応する範囲内に前記不良位置が存在する場合には、前記範囲に対応する前記シール部（３２）を形成せずに、前記範囲以外の前記透明母材（１１）の前記一面に前記シール部（３２）を形成するシール部形成工程と、前記第１検査工程で良品と判定された前記表示エリア（２）を有する前記半導体基板（５）のみを、前記表示エリア（２）が前記空隙部（３６）の内側に位置するようにして、各前記シール部（３２）のみにそれぞれマウントするマウント工程と、前記樹脂（３３）を硬化させて、各前記半導体基板（５）を、各前記シール部（３２）を介して前記透明母材（１１）に固着させる固着工程と、前記透明母材（１１）を、前記半導体基板（５）を一つずつ有するように切断して、複数の前記透明基板（４８）とする第２切断工程と、を有することを特徴とする反射型液晶表示素子（５０）の製造方法である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、半導体ウエハ及び透明母材を予め決められた所定の基準に基づいて検査して各表示エリアの良否判定及びＮＧ位置の特定を行った後、半導体ウエハから切り出した複数の半導体基板の内、良品の半導体基板を選別し、この良品の半導体基板のみを、透明母材のＮＧ位置以外の範囲のみにシール部を形成して貼り付けるようにしたので、歩留まり及び生産性が良好であり、材料コストの低減が容易であるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の実施の形態を、好ましい実施例により図１〜図８を用いて説明する。
以下に、本発明の反射型液晶表示素子の製造方法の実施例を、第１工程〜第７工程として、図１〜図７を用いて順に説明する。
図１〜図７は、本発明の反射型液晶表示素子の製造方法の実施例における第１工程〜第７工程をそれぞれ説明するための図であり、各図と各工程とはそれぞれ対応している。
また、図１（ａ）、図３、図４（ａ）、図５（ａ）、及び図６（ａ）は斜視図であり、図１（ｂ），（ｃ）、図２、図４（ｂ）、図５（ｂ）、図６（ｂ）、及び図７は模式的断面図である。
【００１９】
＜実施例＞
（第１工程）［図１参照］
図１（ａ），（ｂ）に示すように、半導体ウエハであるシリコン（Ｓｉ）ウエハ１に、複数の表示エリア２を所定のピッチｐ１，ｐ２でマトリクス状に形成する。
表示エリア２とは、複数の画素電極３をマトリクス状に配置した領域をいう。また、シリコンウエハ１には、各表示エリア２に対応して、複数の画素電極３を個別に制御するシフトレジスタ（図示せず）が設けられている。
ところで、実施例では、直径が約６インチ（約１５２ｍｍに相当する）であり厚さが約０．６２５ｍｍであるシリコンウエハ１を使用した。
【００２０】
次に、このシリコンウエハ１を洗浄した後、各表示エリア２毎に外観検査及び電気検査を行って、所定の検査基準に則ってＯＫ／ＮＧ判定を行い、ＮＧとなった表示エリアにマーキングインク４を塗布する。このマーキングインク４は市販のものを用いることができる。
【００２１】
図（ｃ）に示すように、この外観検査及び電気検査後のシリコンウエハ１を、各表示エリア２に対応して、所定のピッチｐ１，ｐ２で切断することによって、表示エリア２を有する半導体基板であるシリコン基板５を複数得る。
【００２２】
（第２工程）［図２参照］
光透過性を有する透明母材であるガラス板１１の一面側に、透明電極１２及び配向膜１３を順次積層し、他面側に、反射防止膜１４を形成する。
実施例では、厚さが約０．７ｍｍである約１５０ｍｍ角のガラス板１１を使用した。
【００２３】
（第３工程）［図３参照］
第２工程により得たガラス板１１を洗浄した後、外観検査を行う。この外観検査によって、ガラス板１１における、洗浄で除去できなかった異物やキズなどのディフェクト１８が残存する位置を特定する。
実施例では、専用の外観検査装置２０を用いて、ガラス板１１の外観検査、及び、ディフェクト１８が残存する位置の特定を行った。
【００２４】
この外観検査装置２０の構成について、図３を用いて説明する。
外観検査装置２０は、被検査物２１（実施例ではガラス板１１である）を固定しｘ方向及びｙ方向（図３中の双方向の矢印で表示）に移動可能なステージ２２と、ステージ２２を駆動するステージ駆動部２３と、ステージ駆動部２３に電源を供給すると共にこのステージ駆動部２３を制御するステージ制御部２４と、ステージ２２上に設けられ被検査物２１の位置決めを行うための位置決め部２５と、被検査物２１の表面にレーザ光Ｌを所定の角度θで照射するレーザ照射部２６と、被検査物２１の表面に残存するディフェクト１８を検出するディフェクト検出部２７と、このディフェクト検出部２７からの検出信号とステージ制御部２４からの位置情報とからそのディフェクト１８のｘ−ｙ座標位置を特定する位置検出部２８とにより、主に構成されている。
【００２５】
次に、この外観検査装置２０を用いて、ガラス板１１の表面に残存するディフェクト１８を検出してその残存位置を特定する方法について、説明する。
【００２６】
まず、被検査物２１であるガラス板１１をステージ２２に固定する。詳しくは、ガラス板１１の側面１１ｘ，１１ｙがステージ２２上に設けられているＬ字状の位置決め部２３の内側の側面ａｘ，ａｙに接するようにして、ガラス板１１をステージ２２に固定する。
次に、レーザ照射部２４からガラス板１１の表面に向かってレーザ光Ｌを所定の角度θで照射する。そして、レーザ光Ｌがガラス板１１の表面に隈なく照射されるように、ステージ２２をｘ方向及びｙ方向に移動させる。
ガラス板１１の表面にディフェクト１８が残存している場合、このディフェクト１８にレーザ光Ｌが照射されると、レーザ光Ｌはこのディフェクト１８によって散乱するため、この散乱光Ｌｘが生じるとディフェクト検出部２７で検出される。そして、このディフェクト検出部２７からの検出信号とステージ制御部２４からの位置情報とから、ガラス板１１におけるディフェクト１８のｘ−ｙ座標位置を特定することができる。
【００２７】
ここで、この外観検査装置２０により得たディフェクト位置情報と、後工程である第４工程〜第６工程との関係について、図８を用いて説明する。図８は、外観検査装置２０により得たディフェクト位置情報と第４工程〜第６工程との関係を説明するためのフローチャートである。
【００２８】
第４工程において、外観検査装置２０により得たディフェクト位置情報は、後述する自動ディスペンサ塗布装置に入力される。この情報により、自動ディスペンサ塗布装置は、ガラス板１１のディフェクト１８が残存する位置を除く範囲にシール接着剤３１を塗布してシール部３２を形成する。
【００２９】
第５工程において、外観検査装置２０により得たディフェクト位置情報は、後述する自動液晶滴下装置に入力される。この情報により、自動液晶滴下装置は、ガラス板１１のディフェクト１８が残存する位置を除く範囲に形成されたシール部３２に液晶４１を滴下する。
【００３０】
第６工程において、外観検査装置２０により得たディフェクト位置情報は、後述する自動マウント装置に入力される。この情報により、自動マウント装置は、ガラス板１１のディフェクト１８が残存する位置を除く範囲に形成されたシール部３２に良品のシリコン基板５をマウントする。
【００３１】
以下に、後工程である第４工程以降の工程について説明する。
【００３２】
（第４工程）［図４参照］
外観検査装置２０により得たディフェクト位置情報に基づき、ガラス板１１の配向膜１３の表面におけるディフェクト１８が残存する位置を除く範囲に、上述した自動ディスペンサ塗布装置（図示せず）を用いてシール接着剤３１を塗布することにより、シリコン基板５の表示エリア２よりも大きい開口部３６を有するシール部３２を、所定のピッチｐ３，ｐ４でマトリクス状に複数形成する。
また、シール接着剤３１とは、樹脂接着剤３３に所定の直径Ｄを有するスペーサ３４が含有されたものを示す。実施例では、この樹脂接着剤３３として、紫外線硬化型の樹脂接着剤を用いた。
【００３３】
また、上述したように、この第４工程において、複数のシール部３２を形成する際、上述したディフェクト２５が残存する領域には、このシール部３２を形成しない。その理由は、ディフェクト２５が残存する領域を有する反射型液晶表示素子は不良品となるため、この領域にシール部３２を形成しても材料面及び工数面において無駄になるからである。
従って、このディフェクト２５が残存する領域にシール部３２を形成しないことにより、材料面においてはシール接着剤３１の使用量を低減できるのでコスト削減の効果が得られ、また、工数面においてはシール接着剤３１のトータルの塗布時間を短縮できるので、生産性が向上する効果が得られる。
【００３４】
（第５工程）［図５参照］
上述した自動ディスペンサ塗布装置（図示せず）を用いて、外観検査装置２０により得たディフェクト位置情報に基づき、ガラス母材１１のディフェクト１８が残存する位置を除く範囲に形成された各シール部３２の開口部３６に液晶４０を滴下して、各開口部３６を液晶４０で充填させる。
この第５工程では、ディフェクト１８が残存する領域を除いて、選択的に液晶４０を滴下するので、材料面においては液晶４０の使用量を低減できるのでコスト削減の効果が得られ、また、工数面においては液晶４０のトータルの滴下時間を短縮できるので、生産性が向上する効果が得られる。
【００３５】
（第６工程）［図６参照］
まず、図６（ａ）に示すように、上述した自動マウント装置（図示せず）を用いて、第１工程により得た複数のシリコン基板５をそれぞれ画像認識を行って、マーキングインク４が塗布されていないシリコン基板５、即ち、良品のシリコン基板５を、選別しながら、外観検査装置２０により得たディフェクト位置情報に基づき、順次シール部３２にマウントする。
詳細には、この良品のシリコン基板５の表示エリア２と、ガラス母材１１の配向膜１３とが対向し、かつ、シリコン基板５の表示エリア２がシール部３２の開口部３６内に位置するようにして、良品のシリコン基板５をシール部３２にマウントする。
【００３６】
次に、図６（ｂ）に示すように、平坦な面Ｓを有する板状治具３５を用いて、上方から圧力を加えて、良品のシリコン基板５を、シール部３２及び液晶４０を介してガラス板１１に押し付けると共に、ガラス板１１の反射防止膜１４側からシール部３２に向かって紫外線Ｍを照射することによって、シール部３２のシール接着剤３１を硬化させ、シール部３２を介して良品のシリコン基板５を一括してガラス板１１に固着させる。
また、シリコン基板５とガラス板１１とのギャップｄ５は、シール接着剤３１中のスペーサ３４の直径Ｄにより決定される。
実施例では、紫外線Ｍの積算光量を３〜５Ｊ・ｃｍ−２とし、ギャップｄ５を２μｍとした。
【００３７】
この第６工程において、良品のシリコン基板５をシール部３２にマウントする際、ディフェクト１８が残存する領域を除いて、選択的に良品のシリコン基板５をマウントするので、材料面においては良品のシリコン基板５が無駄にならないのでコスト削減の効果が得られ、また、工数面においては良品のシリコン基板５のトータルのマウント時間を短縮できるので、生産性が向上する効果が得られる。
また、良品のシリコン基板５のみをマウントするので、良好な歩留まりを得ることができる。
【００３８】
（第７工程）［図７参照］
第６工程を経たガラス板１１を、各シリコン基板５に対応して所定のピッチｄ３，ｄ４で切断することによって、反射型液晶表示素子５０を複数得る。また、切断後のこのガラス板１１は、複数のガラス基板４８となる。
【００３９】
この反射型液晶表示素子５０は、シフトレジスタを制御して所定の画素電極３に対応した液晶４０部を動作させ、外部から反射防止膜１４を透過して入射した読み出し光をこの所定の画素電極３で反射させることにより、所定の映像を得るものである。
【００４０】
上述した反射型液晶表示素子の製造方法は、良品のガラス基板４８が得られるガラス板１１の範囲のみに、シール部３２を形成し、この形成されたシール部３２のみに液晶４０を滴下し、このシール部３２のみに選別された良品のシリコン基板５のみをマウントするので、歩留まり及び生産性が良好であり、材料コストの低減が容易な方法である。
【００４１】
また、上述した反射型液晶表示素子の製造方法は、第７工程でガラス板１１を切断する際、シリコン基板５の表示エリア２とこの表示エリア２に対向するガラス板１１の配向膜１３の表面はシール部３２によって遮断されているので、このシール部３２により、切断によって発生したガラスカレットがシリコン基板５の表示エリア２及び表示エリア２に対向するガラス板１１の配向膜１３の表面に付着することを防止できる。
従って、上述した反射型液晶表示素子の製造方法によれば、良好な歩留まりを得ることができる。
【００４２】
本発明の実施例は、上述した構成及び手順に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において変形例としてもよいのは言うまでもない。
【００４３】
例えば、実施例の第２工程及び第３工程では、ガラス板の一面側に透明電極及び配向膜を順次積層し、他面側に反射防止膜を形成し、このガラス板を洗浄した後、外観検査を行ったが、これに限定されるものではなく、予め一面側に透明電極が形成され他面側に反射防止膜が形成されたガラス板を準備し、このガラス板を洗浄した後、透明電極の表面に配向膜を形成し、その後外観検査を行ってもよい。
【００４４】
また、実施例の第４工程〜第６工程において、自動ディスペンサ塗布装置、自動液晶滴下装置、及び自動マウント装置それぞれに、シール部の開口部の範囲に相当する位置情報を予め入力しておき、外観検査装置から入力されたディフェクト位置情報とこの開口部の範囲の位置情報とより、少なくともシール部の開口部の範囲に相当するガラス板の一面の領域にディフェクトが存在する場合に、その領域には、シール部を形成せず、液晶を滴下せず、シリコン基板をマウントしないようにしてもよい。
【００４５】
また、変形例として、シール部３２の一部に液晶４０を注入するための注入口を設け、シール部３２を介してシリコン基板５をガラス母材１１に固着させた後に、注入口から液晶４０を注入してシール部３２の内部をこの液晶４０で充填させ、その後この注入口を封止するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の反射型液晶表示素子の製造方法の実施例における第１工程を説明するための模式的断面図である。
【図２】本発明の反射型液晶表示素子の製造方法の実施例における第２工程を説明するための模式的断面図である。
【図３】本発明の反射型液晶表示素子の製造方法の実施例における第３工程を説明するための模式的断面図である。
【図４】本発明の反射型液晶表示素子の製造方法の実施例における第４工程を説明するための模式的断面図である。
【図５】本発明の反射型液晶表示素子の製造方法の実施例における第５工程を説明するための模式的断面図である。
【図６】本発明の反射型液晶表示素子の製造方法の実施例における第６工程を説明するための模式的断面図である。
【図７】本発明の反射型液晶表示素子の製造方法の実施例における第７工程を説明するための模式的断面図である。
【図８】外観検査装置により得たディフェクト位置情報と第４工程〜第６工程との関係を説明するためのフローチャートである。
【図９】従来例である反射型液晶表示素子の構造を説明するための模式的断面図である。
【符号の説明】
【００４７】
１  シリコンウエハ、  ２  表示エリア、  ３  画素電極、  ４  マーキングインク、  ５  シリコン基板、  １１  ガラス板、  １１ｘ，１１ｙ，ａｘ，ａｙ  側面、  １２  透明電極、  １３  配向膜、  １４  反射防止膜、  １８  ディフェクト、  ２０  外観検査装置、  ２１  被検査物、  ２２  ステージ、  ２３  ステージ駆動部、  ２４  ステージ制御部、  ２５  位置決め部、  ２６  レーザ照射部、  ２７  ディフェクト検出部、  ２８  位置検出部、  ３１  シール接着剤、  ３２  シール部、  ３３  接着剤、  ３４  スペーサ、  ３５  板状治具、  ３６  開口部、  ４０  液晶、  ４８  ガラス基板、  ５０  反射型液晶表示素子、  ｐ１，ｐ２，ｐ３，ｐ４  ピッチ、  ｄ５  ギャップ、  Ｄ  直径、  Ｌ  レーザ光、  Ｌｘ  散乱光、  θ  角度、  Ｍ  紫外線、  Ｓ  面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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