(57)【要約】【課題】  荷電粒子線照明装置において、容易に照明の一様性を調整する方法を提供する。【解決手段】  アライナ１９Ａを用いて、荷電粒子線が開口絞り１４の中心を通るように調整した後、アライナ１９Ｂを調整して、照明一様性が最小（照明むらが最小）となる調整点を見つける。その後、再度アライナ１９Ａを用いて、荷電粒子線が開口絞り１４の中心を通るように調整した後、照明用レンズ１２Ｂを調整し、照明一様性が最小となる調整点を見つける。以上の動作を、照明一様性が仕様に入るか、繰り返し数が所定数になるまで繰り返す。【選択図】  図１
2007019168.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子光学系において照明の一様性をコンデンサーレンズと２組のアライナを使用して調整する方法であって、以下の（１）〜（５）のステップを、照明一様性が所定の値に達するまで、又は決められた回数の繰り返し計算が行われるまで、繰り返す工程を有することを特徴とする荷電粒子線光学系における照明一様性の調整方法。
（１）  1組のアライナを用いて、ブランキングアパーチャ中心を荷電粒子線が通るように調整する。
（２）  光軸をｚ軸とするｘ−ｙ−ｚ直交座標系において、もう１組のアライナにおける荷電粒子線のｘ方向位置操作値をＰｘ、ｙ軸方向位置操作値をＰｙとするとき、ＰｘとＰｙを、所定の中心値より、所定ピッチで２次元的に変化させて照明一様性を実測し、照明一様性が最小となる（Ｐｘ１，Ｐｙ１）の組み合わせを求める。ただし、前記所定ピッチの最小値は、あらかじめ設定しておき、それ以下にはならないようにしておく．
（３）  （２）で求めた（Ｐｘ１，Ｐｙ１）が所定の領域内にある場合には、照明一様性を表すパラメータを、（２）におけるｘ方向位置操作値Ｐｘ、ｙ軸方向位置操作値Ｐｙを変数として２次曲面フィッティングする。
その結果、上に凸な平面となったり、鞍点を持つ平面となったり、又は、２次曲面フィッティングした場合の最小値が、前記領域外にあった場合は、その最小値に対応する（Ｐｘ，Ｐｙ）を、次回に（２）のステップの計算を行うための領域の前記中心値とする。
その他の場合は、前記２次曲面の頂点を次回の計算を行うための領域の前記中心値として採用し、さらにこのとき、次回に（２）のステップの測定を行う所定のピッチを、現在のものより狭くする。しかし、前記所定ピッチの最小値を予め設定しておき、それ以下にはならないようにする。
（２）で求めた（Ｐｘ１，Ｐｙ１）が決められた所定の領域の境界上にある場合には、その最小値に対応する（Ｐｘ，Ｐｙ）を、次回に（２）のステップの計算を行うための領域の前記中心値とする。
（４）  （１）で用いたアライナを用いて、ブランキングアパーチャ中心を荷電粒子線が通るように調整する。
（５）  コンデンサーレンズに流す励磁電流、又は印加する電圧を、所定の中心値より、所定のピッチで変化させて、照明一様性を計測し、計測値をコンデンサーレンズの励磁電流又は印加電圧に関する２次曲線にフィッティングする。そして、前記２次曲線の最小値を次回の（１）〜（４）までのステップの計算を行うときの前記中心値に採用する。そして、変化させた領域内に最小値が存在し、かつ、（３）のステップにおいて、次回に（２）のステップの測定を行う所定のピッチを、現在のものより狭くした場合には、次回の（５）のステップで変化させるレンズの励磁電流又は印加電圧の所定のピッチを現在のものよりも狭くする。ただし、レンズの励磁電流、又は印加電圧の変化のステップの最小値に関しても、あらかじめ設定しておき，それ以下にはならないようにしておく。
【請求項２】
荷電粒子光学系において照明の一様性をコンデンサーレンズと２組のアライナを使用して調整する方法であって、以下の（１）〜（４）のステップを、照明一様性が所定の値に達するまで、又は決められた回数の繰り返し計算が行われるまで、繰り返す工程を有することを特徴とする荷電粒子線光学系における照明一様性の調整方法。
（１）1組のアライナを用いて、ブランキングアパーチャ中心を荷電粒子線が通るように調整する。
（２）光軸をｚ軸とするｘ−ｙ−ｚ直交座標系において、もう１組のアライナにおける荷電粒子線のｘ方向位置操作値をＰｘ、ｙ軸方向位置操作値をＰｙとするとき、Ｐｘを所定ピッチで、所定の中心値より、変化させて照明一様性を実測し、２次曲線にフィッティングして、照明一様性が最小となるＰｘを求める。Ｐｘをこの値にセットし、Ｐｙを、所定の中心値より、所定ピッチで変化させて照明一様性を実測し、２次曲線にフィッティングして、照明一様性が最小となるＰｙを求める。そして、ＰｘとＰｙを、それぞれ次回の計算を行うときの、前記中心値として採用する。Ｐｘ、Ｐｙの双方が、変化させた領域の内部（端でない部分）にあるときは、次回の（２）のステップで変化させる前記所定ピッチを、現在の所定ピッチより小さくする。ただし、前記所定ピッチの最小値は、あらかじめ設定しておき、それ以下にはならないようにしておく。
（３）  （１）で用いたアライナを用いて、ブランキングアパーチャ中心を荷電粒子線が通るように調整する。
（４）コンデンサーレンズに流す励磁電流、又は印加する電圧を、所定の中心値より、所定のピッチで変化させて、照明一様性を計測し、計測値をコンデンサーレンズの励磁電流又は印加電圧に関する２次曲線にフィッティングする。そして、前記２次曲線の最小値を次回の（１）〜（３）までのステップの計算を行うときの前記中心値に採用する。そして、変化させた領域内に最小値が存在し、かつ、（２）のステップにおいて、次回に（２）のステップの測定を行う所定のピッチを、現在のものより狭くした場合には、次回の（４）のステップで変化させるレンズの励磁電流又は印加電圧の所定のピッチを現在のものよりも狭くする。ただし、レンズの励磁電流、又は印加電圧の変化のステップの最小値に関しても、あらかじめ設定しておき，それ以下にはならないようにしておく。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、荷電粒子線光学系における照明一様性の調整方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの高密度化に伴い、その製造工程においてレチクルからウエハに露光転写すべきパターンが微細化している。このような微細なパターンを露光転写するには、光学式露光転写装置ではその解像度が不足しており、光学式露光転写装置に変わるものとして、電子線等の荷電粒子線を使用した露光転写装置の開発が進められている。
【０００３】
荷電粒子線露光装置においては、荷電粒子線源から放出された荷電粒子を、照明光学系を介してレチクル上に照射して照明し、レチクルに形成されたパターンを、投影光学系を介してウエハ上に結像させることにより、露光転写を行っている。
【０００４】
又、従来から用いられている写像型電子顕微鏡においては、電子線によって試料を照明し、反射電子、２次電子等を電子線結像光学系で電子線撮像素子面に結像させ、電光変換を行うことにより試料の観察、検査を行っている。
【０００５】
これら、荷電粒子線露光装置、荷電粒子線観察・検査装置においては、レチクル面や試料面に到達する荷電粒子線の線量（「照度」と称する）が一様（この一様性を「照明一様性」と称する）でないと、正確な露光転写が行われなかったり、観察、検査に支障を来すことがある。よって、通常は照明光学系を構成する荷電粒子線照明装置におけるレンズやアライナを調整することにより、できるだけ照明領域の照度が一様になるようにしている。
【０００６】
照明領域における照度の分布を調べるには、例えば、照明領域又はそれと共役な面上においてピンホールを走査させ、ピンホールを透過する荷電粒子線の量を測定するか、照明領域面又はそれと共役な面に固定したピンホールを設け、照明領域の位置を移動させてピンホールを透過する荷電粒子線の量を測定することによって行う。一般に、照明一様性は、このようにして測定された照度の分布の標準偏差σを求め、３σの値で表示する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、照明一様性は上記のような方法で測定できるものの、それを調整するのは容易なことでない。調整は、前述のようにレンズやアライナを調整することにより行われるが、試行錯誤的である。例えば１個の電磁レンズ（コンデンサーレンズ）と２セットの電磁アライナで調整しようとすると、これらに流す励磁電流は５種類ある。これら５種類の励磁電流を試行錯誤的に調整して照明一様性を満足させるためには、莫大な時間を必要としていた。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、荷電粒子線照明装置において、容易に照明の一様性を調整する方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するための第１の手段は、荷電粒子光学系において照明の一様性をコンデンサーレンズと２組のアライナを使用して調整する方法であって、以下の（１）〜（５）のステップを、照明一様性が所定の値に達するまで、又は決められた回数の繰り返し計算が行われるまで、繰り返す工程を有することを特徴とする荷電粒子線光学系における照明一様性の調整方法である。
（１）  1組のアライナを用いて、ブランキングアパーチャ中心を荷電粒子線が通るように調整する。
（２）  光軸をｚ軸とするｘ−ｙ−ｚ直交座標系において、もう１組のアライナにおける荷電粒子線のｘ方向位置操作値をＰｘ、ｙ軸方向位置操作値をＰｙとするとき、ＰｘとＰｙを、所定の中心値より、所定ピッチで２次元的に変化させて照明一様性を実測し、照明一様性が最小となる（Ｐｘ１，Ｐｙ１）の組み合わせを求める。ただし、前記所定ピッチの最小値は、あらかじめ設定しておき、それ以下にはならないようにしておく．
（３）  （２）で求めた（Ｐｘ１，Ｐｙ１）が所定の領域内にある場合には、照明一様性を表すパラメータを、（２）におけるｘ方向位置操作値Ｐｘ、ｙ軸方向位置操作値Ｐｙを変数として２次曲面フィッティングする。
【００１０】
その結果、上に凸な平面となったり、鞍点を持つ平面となったり、又は、２次曲面フィッティングした場合の最小値が、前記領域外にあった場合は、その最小値に対応する（Ｐｘ，Ｐｙ）を、次回に（２）のステップの計算を行うための領域の前記中心値とする。
【００１１】
その他の場合は、前記２次曲面の頂点を次回の計算を行うための領域の前記中心値として採用し、さらにこのとき、次回に（２）のステップの測定を行う所定のピッチを、現在のものより狭くする。しかし、前記所定ピッチの最小値を予め設定しておき、それ以下にはならないようにする。
【００１２】
（２）で求めた（Ｐｘ１，Ｐｙ１）が決められた所定の領域の境界上にある場合には、その最小値に対応する（Ｐｘ，Ｐｙ）を、次回に（２）のステップの計算を行うための領域の前記中心値とする。
（４）  （１）で用いたアライナを用いて、ブランキングアパーチャ中心を荷電粒子線が通るように調整する。
（５）  コンデンサーレンズに流す励磁電流、又は印加する電圧を、所定の中心値より、所定のピッチで変化させて、照明一様性を計測し、計測値をコンデンサーレンズの励磁電流又は印加電圧に関する２次曲線にフィッティングする。そして、前記２次曲線の最小値を次回の（１）〜（４）までのステップの計算を行うときの前記中心値に採用する。そして、変化させた領域内に最小値が存在し、かつ、（３）のステップにおいて、次回に（２）のステップの測定を行う所定のピッチを、現在のものより狭くした場合には、次回の（５）のステップで変化させるレンズの励磁電流又は印加電圧の所定のピッチを現在のものよりも狭くする。ただし、レンズの励磁電流、又は印加電圧の変化のステップの最小値に関しても、あらかじめ設定しておき，それ以下にはならないようにしておく。
【００１３】
前記課題を解決するための第２の手段は、荷電粒子光学系において照明の一様性をコンデンサーレンズと２組のアライナを使用して調整する方法であって、以下の（１）〜（４）のステップを、照明一様性が所定の値に達するまで、又は決められた回数の繰り返し計算が行われるまで、繰り返す工程を有することを特徴とする荷電粒子線光学系における照明一様性の調整方法である。
（１）1組のアライナを用いて、ブランキングアパーチャ中心を荷電粒子線が通るように調整する。
（２）光軸をｚ軸とするｘ−ｙ−ｚ直交座標系において、もう１組のアライナにおける荷電粒子線のｘ方向位置操作値をＰｘ、ｙ軸方向位置操作値をＰｙとするとき、Ｐｘを所定ピッチで、所定の中心値より、変化させて照明一様性を実測し、２次曲線にフィッティングして、照明一様性が最小となるＰｘを求める。Ｐｘをこの値にセットし、Ｐｙを、所定の中心値より、所定ピッチで変化させて照明一様性を実測し、２次曲線にフィッティングして、照明一様性が最小となるＰｙを求める。そして、ＰｘとＰｙを、それぞれ次回の計算を行うときの、前記中心値として採用する。Ｐｘ、Ｐｙの双方が、変化させた領域の内部（端でない部分）にあるときは、次回の（２）のステップで変化させる前記所定ピッチを、現在の所定ピッチより小さくする。ただし、前記所定ピッチの最小値は、あらかじめ設定しておき、それ以下にはならないようにしておく。
（３）  （１）で用いたアライナを用いて、ブランキングアパーチャ中心を荷電粒子線が通るように調整する。
（４）コンデンサーレンズに流す励磁電流、又は印加する電圧を、所定の中心値より、所定のピッチで変化させて、照明一様性を計測し、計測値をコンデンサーレンズの励磁電流又は印加電圧に関する２次曲線にフィッティングする。そして、前記２次曲線の最小値を次回の（１）〜（３）までのステップの計算を行うときの前記中心値に採用する。そして、変化させた領域内に最小値が存在し、かつ、（２）のステップにおいて、次回に（２）のステップの測定を行う所定のピッチを、現在のものより狭くした場合には、次回の（４）のステップで変化させるレンズの励磁電流又は印加電圧の所定のピッチを現在のものよりも狭くする。ただし、レンズの励磁電流、又は印加電圧の変化のステップの最小値に関しても、あらかじめ設定しておき，それ以下にはならないようにしておく。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、荷電粒子線照明装置において、容易に照明の一様性を調整する方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態の例を、図を用いて説明する。図１は、荷電粒子露光装置の光学系の概要図である。図１において、１１は荷電粒子線源、１２Ａ〜１２Ｃは照明用レンズ、１３はビーム成形アパーチャ、１４は開口絞りでブランキングアパーチャを兼ねている。１５はマスク、１６Ａ、１６Ｂは投影用レンズ、１７は散乱アパーチャ、１８はウエハ、１９Ａ、１９Ｂはアライナである。
【００１６】
荷電粒子線源１１から放出された荷電粒子線は、照明用レンズ１２Ａ、１２Ｂにより開口絞り１４の開口面を均一に照明し、レンズ１２Ｃにより開口絞り１４の開口面の像をマスク１５上に形成する。この像の領域が照明領域となる。マスク１５上に形成されたパターンの像は、投影用レンズ１６Ａ、１６Ｂによりウエハ１８上に結像し、ウエハ１８上のレジストを感光させる。照明荷電粒子線の開口角を制限するために開口絞り１４が設けられ、マスク１５で散乱された散乱線をカットするために散乱アパーチャ１７が設けられている。アライナ１９Ａ、１９Ｂにより、開口絞り１４を照明する荷電粒子線の位置と方向が調整される。この実施の形態においては、アライナ１９Ａ、１９Ｂと照明用レンズ１２Ｂを照明一様性の調整に使用している。
【００１７】
このような荷電粒子線露光装置を例として、照明光学系の照明一様性を調整する、本発明の実施の形態の例について説明する。なお、以下の説明においては、レンズやアライナは、コイルに電流を流すことによって駆動する電磁型のものとして説明する。レンズやアライナには、電極に電圧を印加することによって駆動する静電型ものもあるが、これらにおいては、以下の説明における電流を電圧と読み替えることにより、当業者は容易にその調整方法を理解することができるであろう。
【００１８】
照明一様性は、図１に示すような荷電粒子線露光装置の光学系において、マスク１５を使用せず、成形開口１４の像をマスク１５の位置に形成するようにする。そして、マスクステージ（図示せず）にマスク１５の代わりにピンホールが形成された基板を搭載し、マスクステージをｘ−ｙ方向（以下の説明においては、光軸をｚ軸とするｘ−ｙ−ｚ直交座標系を基準として説明を行う）に駆動して、各位置（ｘ，ｙ）においてピンホールを通過する荷電粒子線の量を検出器で測定し、それにより、各位置（ｘ，ｙ）における荷電粒子線の量（照度）を測定する。この量の分布が、成形開口１４の位置における照度の分布に対応する。
【００１９】
以下、本発明の第１の実施の形態の例である荷電粒子線光学系における照明一様性の調整方法を図１、及び図２に示すフローチャートを使用して説明する。まず、第１のアライナであるアライナ１９Ａを調整して、荷電粒子線が開口絞り１４の中心を通るようにする（ステップＳ１）。続いて、第２のアライナであるアライナ１９Ｂを調整して、光軸をｚ軸とするｘ−ｙ−ｚ直交座標系で、荷電粒子線が通過する位置をｘ方向、ｙ方向に調整するコイルの励磁電流を所定間隔で２次元的に変化させ、前述の方法により照明一様性を測定する。すなわち、荷電粒子線が通過する位置をｘ方向に変化させるコイルの励磁電流をＰｘ、荷電粒子線が通過する位置をｙ方向に変化させるコイルの励磁電流をＰｙとすると、（Ｐｘ，Ｐｙ）の組み合わせの各々について、そのときの照明一様性を測定し、照明一様性が最小となる（Ｐｘ，Ｐｙ）の組み合わせを求める（ステップＳ２）。なお、本明細書及び請求の範囲において、照明一様性が小さいとは、照明むらが小さいことを意味する。
【００２０】
そして、照明一様性が最小となる（Ｐｘ，Ｐｙ）の組み合わせが、定められた領域の内部にあるか、その周縁部にあるかを判断する（ステップＳ３）。この領域は任意に決めることができるが、通常は、（Ｐｘ，Ｐｙ）を変化させた領域とする。もし、内部にある場合には、照明一様性を示すパラメータを（Ｐｘ，Ｐｙ）の関数として、２次元曲面にフィッティングして、その２次元曲面において、照明一様性が最小となる（Ｐｘ，Ｐｙ）の組み合わせを求め、それを次回の計算における中心値とする（ステップＳ４）。
【００２１】
そして、その２次曲面が上に凸か、鞍部があるか、あるいは最小値を与える（Ｐｘ，Ｐｙ）の組み合わせが領域外にあるかを求める（ステップＳ６）。これらのいずれもが成り立たないときには、次回に計算するときに変化させるＰｘとＰｙの刻み（ステップ幅）を現在の値より小さく設定する（ステップＳ７）。
【００２２】
ステップＳ３で、照明一様性が最小となる（Ｐｘ，Ｐｙ）の組み合わせが、定められた領域の周縁部にある場合には、その（Ｐｘ，Ｐｙ）の組み合わせを次回の計算における中心値とする（ステップＳ５）。
【００２３】
続いて、再び、アライナ１９Ａを調整して、荷電粒子線が開口絞り１４の中心を通るように設定する（ステップＳ９）。そして、照明用レンズ１２Ｂに流す励磁電流を、所定の中心値より、所定間隔で変化させ、そのときの照明一様性を測定する。そして、照明一様性を示すパラメータを、励磁電流の関数として２次曲線にフィッティングし、その最小値を与える励磁電流を磁界の計算の中心値に設定する（ステップＳ１０）。
【００２４】
最小値を与える電流が領域内（すなわち、変化させた領域の端でない場所）にあり、かつ、ステップＳ７を実行したかどうかを判断し（ステップＳ１１）、答がイエスであれば、次回の計算に使用する励磁電流の変化の刻み（ステップ幅）を、現在の値よりも小さくする（ステップＳ１２）。
【００２５】
最後に、照明一様性（ステップＳ１０で求められた最小値）が所定の仕様に入ったかどうか、又は所定回数の繰り返し計算を行ったかどうかを判断し、いずれかが満足されていれば、そのときの条件を解として処理を終了する。もし、どちらの条件も成り立たないときは、ステップＳ１に戻って、繰り返し計算を行う（ステップＳ１３）。なお、ステップＳ１１、Ｓ１２の前にＳ１３の判断を行って、条件が成り立てば、ステップＳ１１、Ｓ１２を行わずに計算を終了にするようにしてもよく、このような方法が、図１に示す方法と均等であることは言うまでもない。
【００２６】
次に、本発明の第２の実施の形態の例である荷電粒子線光学系における照明一様性の調整方法を図１、及び図３に示すフローチャートを使用して説明する。まず、第１のアライナであるアライナ１９Ａを調整して、荷電粒子線が開口絞り１４の中心を通るようにする（ステップＳ２１）。続いて、第２のアライナであるアライナ１９Ｂにおける、荷電粒子線が通過する位置をｘ方向に変化させるコイルの励磁電流Ｐｘを所定の中心値から所定ステップで変化させて、前述の方法で照明一様性を測定し、照明一様性を与えるパラメータを励磁電流の関数として２次曲線にフィッティングし、この２次曲線で照明一様性の最小値を与えるＰｘ１を求める（ステップＳ２２）。
【００２７】
さらに、Ｐｘ１をこの値に固定し、アライナ１９Ｂにおける、荷電粒子線が通過する位置をｙ方向に変化させるコイルの励磁電流Ｐｙを所定の中心値から所定ステップで変化させて、前述の方法で照明一様性を測定し、照明一様性を与えるパラメータを励磁電流の関数として２次曲線にフィッティングし、この２次曲線で照明一様性の最小値を与えるＰｙ１を求める（ステップＳ２３）。そして、このときのＰｙと先に固定したＰｘの値の組み合わせ（Ｐｘ１，Ｐｙ１）を次回の計算を行う場合の中心値とする（ステップＳ２４）。
【００２８】
そして、この（Ｐｘ１，Ｐｙ１）が、所定の領域にあるかどうかを判断する。所定の領域は任意に決めることができるが、通常は、励磁電流Ｐｘの変化範囲と励磁電流Ｐｙの変化範囲で決まる矩形内の範囲を領域とする。（ステップＳ２５）。そして、前記最小値を与える（Ｐｘ１，Ｐｙ１）がこの領域内（境界を除く）にある場合には、次回の計算に用いるＰｘとＰｙの変化の刻み（ステップ幅）を現在のものより小さくする（ステップＳ２６）。
【００２９】
続いて、再び、アライナ１９Ａを調整して、荷電粒子線が開口絞り１４の中心を通るように設定する（ステップＳ２７）。そして、照明用レンズ１２Ｂに流す励磁電流を、所定の中心値より、所定間隔で変化させ、そのときの照明一様性を測定する。そして、照明一様性を示すパラメータを、励磁電流の関数として２次曲線にフィッティングし、その最小値を与える励磁電流を磁界の計算の中心値に設定する（ステップＳ２８）。
【００３０】
最小値を与える電流が領域内（すなわち、変化させた領域の端でない場所）にあり、かつ、ステップＳ２６を実行したかどうかを判断し（ステップＳ２９）、答がイエスであれば、次回の計算に使用する励磁電流の変化の刻み（ステップ幅）を、現在の値よりも小さくする（ステップＳ３０）。
【００３１】
最後に、照明一様性（ステップＳ２８で求められた最小値）が所定の仕様に入ったかどうか、又は所定回数の繰り返し計算を行ったかどうかを判断し、いずれかが満足されていれば、そのときの条件を解として処理を終了する。もし、どちらの条件も成り立たないときは、ステップＳ２１に戻って、繰り返し計算を行う（ステップＳ３１）。なお、ステップＳ２９、Ｓ３０の前にＳ３１の判断を行って、条件が成り立てば、ステップＳ２９、Ｓ３０を行わずに計算を終了にするようにしてもよく、このような方法が、図３に示す方法と均等であることは言うまでもない。
【実施例１】
【００３２】
本発明の第１の実施の形態の方法を用いて、図１に示すような電子線露光装置における照明一様性の調整を行った。照明一様性の目標は３σで２％以下とした。初期状態として、第１のアライナ１９Ａを調整して電子線が成形開口１４の中心を通るようにしたときの状態は、表１に示すようなものであった。すなわち、第２のアライナ１９Ｂのｘ方向調整用励磁電流Ｉｐｘは０ｍＡ、ｙ方向調整用励磁電流Ｉｐｙは０ｍＡ、照明レンズ１２Ｂの励磁電流Ｉｌｅｎｓは、−２５０ｍＡであった。これらの点を中心値として、第２のアライナ１９Ｂのｘ方向調整用励磁電流Ｉｐｘ、ｙ方向調整用励磁電流ＩｐｙをそれぞれΔＩｐｘ＝１０ｍＡ、ΔＩｐｙ＝１０ｍＡだけ、プラス方向、マイナス方向に変化させて照明一様性の３σを計算した。
【００３３】
その結果、表１に示すように、Ｉｐｘ＝０ｍＡ、Ｉｐｙ＝２０ｍＡ点で照明一様性が最小となった。この点は、変化させた領域の端部にあるので、この点を、次回計算の中心値として使用することにし、かつ、次回計算の変化ピッチは１０ｍＡのままとした、この状態で、照明レンズ１２Ｂの励磁電流Ｉｌｅｎｓを５ｍＡ刻みでプラス方向、マイナス方向に変化させた。照明一様性を２次曲線にフィッティグさせて最小値を与える励磁電流Ｉｌｅｎｓを計算したところ、Ｉｌｅｎｓ＝-246.94ｍＡとなり、そのときの照明一様性（３σ）は、4.46％となった。
【００３４】
【表１】
2007019168.tif 000003
【００３５】
これは、目標値に入っていないので、再度計算を行うことにした。その際、前述のように、Ｉｐｘ＝０ｍＡ、Ｉｐｙ＝２０ｍＡを中心値として、第２のアライナ１９Ｂのｘ方向調整用励磁電流Ｉｐｘ、ｙ方向調整用励磁電流ＩｐｙをそれぞれΔＩｐｘ＝１０ｍＡ、ΔＩｐｙ＝１０ｍＡだけ、プラス方向、マイナス方向に変化させて照明一様性の３σを計算した。
【００３６】
その結果、表２に示すように、Ｉｐｘ＝２０ｍＡ、Ｉｐｙ＝４０ｍＡ点で照明一様性が最小となった。この点は、変化させた領域の端部にあるので、この点を、次回計算の中心値として使用することにし、かつ、次回計算の変化ピッチは１０ｍＡのままとした、この状態で、照明レンズ１２Ｂの励磁電流ＩｌｅｎｓをＩｌｅｎｓ＝-246.94ｍＡを中心として、５ｍＡ刻みでプラス方向、マイナス方向に変化させた（アライナの調整の際のピッチを変えていないので、レンズの調整のときのピッチも元のままである。）。照明一様性を２次曲線にフィッティグさせて最小値を与える励磁電流Ｉｌｅｎｓを計算したところ、Ｉｌｅｎｓ＝-245.422ｍＡとなり、そのときの照明一様性（３σ）は、4.19％となった。
【００３７】
【表２】
2007019168.tif 000004
【００３８】
これは、目標値に入っていないので、再度計算を行うことにした。その際、前述のように、Ｉｐｘ＝２０ｍＡ、Ｉｐｙ＝４０ｍＡを中心値として、第２のアライナ１９Ｂのｘ方向調整用励磁電流Ｉｐｘ、ｙ方向調整用励磁電流ＩｐｙをそれぞれΔＩｐｘ＝１０ｍＡ、ΔＩｐｙ＝１０ｍＡだけ、プラス方向、マイナス方向に変化させて照明一様性の３σを計算した。
【００３９】
その結果、表３に示すように、Ｉｐｘ＝４０ｍＡ、Ｉｐｙ＝６０ｍＡ点で照明一様性が最小となった。この点は、変化させた領域の端部にあるので、この点を、次回計算の中心値として使用することにし、かつ、次回計算の変化ピッチは１０ｍＡのままとした、この状態で、照明レンズ１２Ｂの励磁電流ＩｌｅｎｓをＩｌｅｎｓ＝-245.422ｍＡを中心として、５ｍＡ刻みでプラス方向、マイナス方向に変化させた（アライナの調整の際のピッチを変えていないので、レンズの調整のときのピッチも元のままである。）。照明一様性を２次曲線にフィッティグさせて最小値を与える励磁電流Ｉｌｅｎｓを計算したところ、Ｉｌｅｎｓ＝-243.138ｍＡとなり、そのときの照明一様性（３σ）は、3.95％となった。
【００４０】
【表３】
2007019168.tif 000005
【００４１】
これは、目標値に入っていないので、再度計算を行うことにした。その際、前述のように、Ｉｐｘ＝４０ｍＡ、Ｉｐｙ＝６０ｍＡを中心値として、第２のアライナ１９Ｂのｘ方向調整用励磁電流Ｉｐｘ、ｙ方向調整用励磁電流ＩｐｙをそれぞれΔＩｐｘ＝１０ｍＡ、ΔＩｐｙ＝１０ｍＡだけ、プラス方向、マイナス方向に変化させて照明一様性の３σを計算した。
【００４２】
その結果、表４に示すように、Ｉｐｘ＝６０ｍＡ、Ｉｐｙ＝７０ｍＡの点で照明一様性が最小となった。この点は、変化させた領域の端部にあるので、この点を、次回計算の中心値として使用することにし、かつ、次回計算の変化ピッチは１０ｍＡのままとした、この状態で、照明レンズ１２Ｂの励磁電流ＩｌｅｎｓをＩｌｅｎｓ＝-243.138ｍＡを中心として、５ｍＡ刻みでプラス方向、マイナス方向に変化させた（アライナの調整の際のピッチを変えていないので、レンズの調整のときのピッチも元のままである。）。照明一様性を２次曲線にフィッティグさせて最小値を与える励磁電流Ｉｌｅｎｓを計算したところ、Ｉｌｅｎｓ＝-242.835ｍＡとなり、そのときの照明一様性（３σ）は、2.53％となった。
【００４３】
【表４】
2007019168.tif 000006
【００４４】
これは、目標値に入っていないので、再度計算を行うことにした。その際、前述のように、Ｉｐｘ＝６０ｍＡ、Ｉｐｙ＝７０ｍｍＡを中心値として、第２のアライナ１９Ｂのｘ方向調整用励磁電流Ｉｐｘ、ｙ方向調整用励磁電流ＩｐｙをそれぞれΔＩｐｘ＝１０Ａ、ΔＩｐｙ＝１０ｍＡだけ、プラス方向、マイナス方向に変化させて照明一様性の３σを計算した。
【００４５】
その結果、表５に示すように、Ｉｐｘ＝７０ｍＡ、Ｉｐｙ＝９０ｍＡの点で照明一様性が最小となった。この点は、変化させた領域の端部にあるので、この点を、次回計算の中心値として使用することにし、かつ、次回計算の変化ピッチは１０ｍＡのままとした、この状態で、照明レンズ１２Ｂの励磁電流ＩｌｅｎｓをＩｌｅｎｓ＝-242.835ｍＡを中心として、５Ａ刻みでプラス方向、マイナス方向に変化させた（アライナの調整の際のピッチを変えていないので、レンズの調整のときのピッチも元のままである。）。照明一様性を２次曲線にフィッティグさせて最小値を与える励磁電流Ｉｌｅｎｓを計算したところ、Ｉｌｅｎｓ＝-244.036ｍＡとなり、そのときの照明一様性（３σ）は、0.27％となった。
【００４６】
【表５】
2007019168.tif 000007
【００４７】
これは、目標値に入っていないので、再度計算を行うことにした。その際、前述のように、Ｉｐｘ＝７０ｍＡ、Ｉｐｙ＝９０ｍＡを中心値として、第２のアライナ１９Ｂのｘ方向調整用励磁電流Ｉｐｘ、ｙ方向調整用励磁電流ＩｐｙをそれぞれΔＩｐｘ＝１０ｍＡ、ΔＩｐｙ＝１０ｍｍＡだけ、プラス方向、マイナス方向に変化させて照明一様性の３σを計算した。
【００４８】
その結果、表６に示すように、Ｉｐｘ＝９０Ａ、Ｉｐｙ＝１１０ｍＡの点で照明一様性が最小となった。この点は、変化させた領域の端部にあるので、この点を、次回計算の中心値として使用することにし、かつ、次回計算の変化ピッチは１０ｍＡのままとした、この状態で、照明レンズ１２Ｂの励磁電流ＩｌｅｎｓをＩｌｅｎｓ＝-244.036ｍＡを中心として、５Ａ刻みでプラス方向、マイナス方向に変化させた（アライナの調整の際のピッチを変えていないので、レンズの調整のときのピッチも元のままである。）。照明一様性を２次曲線にフィッティグさせて最小値を与える励磁電流Ｉｌｅｎｓを計算したところ、Ｉｌｅｎｓ＝-245.1ｍＡとなり、そのときの照明一様性（３σ）は、1.86％となった。
【００４９】
【表６】
2007019168.tif 000008
【００５０】
これは、仕様を満足する値であるので、この時点で計算を打ち切った。得られた条件は、Ｉｐｘ＝９０ｍＡ、Ｉｐｙ＝１１０ｍＡ、Ｉｌｅｎｓ＝-245.1ｍＡである。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】荷電粒子露光装置の光学系の概要図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態の例である荷電粒子線光学系における照明一様性の調整方法を示す図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態の例である荷電粒子線光学系における照明一様性の調整方法を示す図である。
【符号の説明】
【００５２】
１１…荷電粒子線源、１２Ａ〜１２Ｃ…照明用レンズ、１３…ビーム成形アパーチャ、１４…開口絞り、１５…マスク、１６Ａ、１６Ｂ…投影用レンズ、１７…散乱アパーチャ、１８…ウエハ、１９Ａ、１９Ｂ…アライナ
【図１】
2007019168.tif 000009
【図２】
2007019168.tif 000010
【図３】
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