(57)【要約】【課題】ＩＰＳ型液晶表示装置に適するカラーフィルタ基板であって、ブラックマトリクスと透明着色膜とを備え、表面が平坦なカラーフィルタ基板を、低コストで容易に製造する方法を提供すること。  【解決手段】ブラックマトリクス（ＢＭ）パターンを透光部として有する転写用平版に、光硬化型黒色塗料を塗布し、転写用平版を透して露光し、現像して、前記黒色塗料から構成される凸パターン状のＢＭを形成し、上記ＢＭの間に、透明着色インクを充填して透明着色膜を形成し、次に、接着剤を介して、一体的に転写用平版から透明基板へ転写してカラーフィルタ基板を製造する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面が平坦で離型性を有する転写用平版に、画素部位に位置する透明着色膜と、画素間部位に位置するブラックマトリクス（ＢＭ）とを形成し、透明基板に転写してカラーフィルタを製造する方法であって、少なくとも以下の工程を有することを特徴とする方法。
ＢＭパターンを透光部として有する裏面露光型の転写用平版を準備する転写用平版準備工程。
転写用平版に、光硬化型黒色塗料を塗布し、転写用平版を透して露光し、現像して、前記黒色塗料から構成される凸パターン状のＢＭを形成するＢＭ形成工程。
上記ＢＭの間に、透明着色インクを充填して透明着色膜を形成する透明着色膜形成工程。
上記ＢＭと透明着色膜とを、接着剤を介して、一体的に転写用平版から透明基板へ転写する転写工程。
【請求項２】
上記ＢＭ形成工程の前に、オーバーコート用の層を形成するオ−バーコート形成工程を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記透明着色膜形成工程が、形成された透明着色膜をプレスしてその表面を平坦化する平坦化工程を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
上記転写用平版が、基材と、この基材上に設けられ、前記ＢＭパターンを除く部位に選択的に設けられた遮光膜と、この遮光膜を覆って全面に設けられた離型層とを備え、
この遮光膜が光学濃度（ＯＤ）４．５以上の金属性遮光膜で構成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
上記遮光膜の表面と離型層との間が３μｍ未満であり、
前記ＢＭ形成工程において、散乱光を使用して光硬化型黒色塗料を露光することを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
上記遮光膜の表面と離型層との間が３μｍ以上であり、
前記ＢＭ形成工程において、平行光を使用して光硬化型黒色塗料を露光することを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項７】
上記転写用平版が可撓性を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
上記透明着色膜形成工程において、インクジェット法を使用して透明着色インクを充填することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に使用するカラーフィルタを、低コストで製造する方法に関するものである。特にＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型液晶表示装置に使用して好適なカラーフィルタの安価な製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、画面観察者側に位置する透明基板と、その反対側に位置する背面基板との間に液晶を封入し、電極間に電圧を印加して液晶を駆動して光透過を制御することによって画面表示するものである。カラー表示用の液晶表示装置においては、前記観察者側の基板に、透過光を着色する透明着色膜が、画素ごとに異なる色彩に設けられており、このため、これら透明着色膜を有する観察者側基板はカラーフィルタ基板と呼ばれている。なお、隣接する画素からの透過光が混合して混色を生じることを防止すると共に、不必要な光によって画面のコントラストが低下することを防ぐため、一般に、画素と画素との間には、光を吸収する黒色のブラックマトリクスが配置されている。
【０００３】
液晶駆動用の電極は、従来、観察者側基板と背面基板の双方に設けられており、この両電極間に電圧を印加することが通常であった。これに対し、近年、背面基板に両電極を設け、この両電極間に電圧を加えて液晶を駆動させる液晶表示装置が開発され、ＩＰＳ型液晶表示装置と呼ばれている。この方式の液晶表示装置では、電界は背面基板の表面に沿って発生し、液晶はこの面内で駆動する。
【０００４】
周知のように、液晶表示装置は、液晶テレビを用途として急速にその用途や市場が拡大しており、大型化と低価格化が厳しく要求されている。
【０００５】
ＩＰＳ型液晶表示装置は、表示コントラスト比特性の視野角依存性が少ないという特徴があり、大画面の液晶テレビとして、その画面全体を見やすいという利点がある。
【０００６】
しかしながら、上述のように、ＩＰＳ型液晶表示装置においては、電界は背面基板の表面に沿って発生するため、背面基板からの距離が遠くなるにつれてその電界が弱まり、液晶も駆動され難くなる。このため、この表示装置においては、観察者側基板と背面基板との距離、すなわち、液晶の厚さが均一であることが極めて重要である。
【０００７】
しかしながら、上述のように、カラー表示用の液晶表示装置のカラーフィルタ基板においては、画素ごとに透明着色膜が配置されており、また、画素と画素の間にはＢＭが配置されているため、その表面が平坦になり難く、このため、均一でムラのない画面表示が困難であった。
【０００８】
これを改善して、カラーフィルタ基板の表面を平坦化する方法が提案されている。例えば、特許文献１には、転写用基板の上にフォトリソ法でＢＭと透明着色膜とを形成し、接着剤を使用してカラーフィルタ用ガラス基板へ転写する方法が開示されている。このように、転写法によれば、表面が平坦なカラーフィルタを形成することができる。
【０００９】
また、特許文献２は、転写用基板の上に下地層を設け、その上に形成したＢＭ、透明着色膜を、接着剤を使用してカラーフィルタ用基板へ下地層の部分から一体的に転写する方法を開示している。この場合もＢＭパターンを形成する方法は通常のフォトリソ法である。一方、透明着色膜を形成する方法はフォトリソ法でなく、低コスト化に非常に有望であると言われているインクジェット法を使用している。
【００１０】
特許文献３には、インクジェット法と転写法を組み合わせたカラーフィルタの形成方法が開示されている。この場合、転写用基板の上にＢＭパターンを形成する方法は通常のフォトリソ法である。
【００１１】
しかし、これらは、いずれも、フォトリソ法を使用してＢＭを形成している。このような方法によれば、ＢＭ形成のための専用の設備を必要としてコスト高となり、市場の低価格化の要請に応じることは困難である。
【００１２】
また、特許文献４、特許文献５は、転写基材上に設けられた樹脂層をプレスして、凸部及び底辺部を形成し、インクジェット法等で透明着色インクを、凸部で区画された底辺部へ充填し、次に接着剤を使用して前記樹脂層と透明着色膜とを一体的に転写する方法を開示している。しかし、この方法では、カラーフィルタ基板に必要な寸法精度の底辺部を形成することが難しいという問題点があった。特に、カラーフィルタ基板のサイズが一辺２ｍ以上と大型になると、３μｍ以下という実際上の寸法精度の仕様値を満足させることは、困難であった。また、凸部は底辺部と同一材料で構成されているため、凸部に遮光性を持たせることができないという問題点もあった。
【００１３】
次に、特許文献５は、ＢＭ部を凹部とする凹版転写版を使用し、インクジェット法等で凹部にＢＭ材料を充填してＢＭを形成し、次に凹版上に樹脂層を形成し、ＢＭと樹脂層を一体的に凹版から剥離してＢＭを形成し、ＢＭで構成される凸部の間に透明着色インクを充填する方法を、開示している。この場合、凹版転写版を作成する工程はエッチング法および電鋳法である。しかしエッチング法では凹部の深さを均一にすることは、大面積になると非常に困難である。また電鋳法では、金属の熱膨張率の点から、通常の電鋳法に使用される金属では必要な寸法精度をうることができない。また、凹版に離型性を付与することも困難である。
【特許文献１】特開平７−２９４７１７号公報
【特許文献２】特開平１０−１４８７１０号公報
【特許文献３】特開平２０００−２８８２２号公報
【特許文献４】特開平９−１７１１０７号公報
【特許文献５】特開平１１−２０２１１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、以上のような技術的背景の下でなされたもので、ＢＭと透明着色膜とを備え、表面が平坦なカラーフィルタ基板を、低コストで容易に製造する方法を提供することを目的とする。そして、本発明によって得られるカラーフィルタ基板は、特にＩＰＳ型液晶表示装置に適する。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
すなわち、請求項１に記載の発明は、表面が平坦で離型性を有する転写用平版に、画素部位に位置する透明着色膜と、画素間部位に位置するＢＭとを形成し、透明基板に転写してカラーフィルタを製造する方法であって、少なくとも以下の工程を有することを特徴とする方法である。
【００１６】
ＢＭパターンを透光部として有する転写用平版を準備する転写用平版準備工程。
【００１７】
転写用平版に、光硬化型黒色塗料を塗布し、転写用平版を透して露光し、現像して、前記黒色塗料から構成される凸パターン状のＢＭを形成するＢＭ形成工程。
【００１８】
上記ＢＭの間に、透明着色インクを充填して透明着色膜を形成する透明着色膜形成工程。
【００１９】
上記ＢＭと透明着色膜とを、接着剤を介して、一体的に転写用平版から透明基板へ転写する転写工程。
【００２０】
また、請求項２に記載の発明は、上記ＢＭ形成工程の前に、オーバーコート用の層を形成しするオ−バーコート形成工程を有することを特徴とする請求項１に記載の方法である。
【００２１】
また、請求項３に記載の発明は、上記透明着色膜形成工程が、形成された透明着色膜をプレスしてその表面を平坦化する平坦化工程を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の方法である。
【００２２】
また、請求項４に記載の発明は、上記転写用平版が、基材と、この基材上に設けられ、前記ＢＭパターンを除く部位に選択的に設けられた遮光膜と、この遮光膜を覆って全面に設けられた離型層とを備え、
この遮光膜が光学濃度（ＯＤ）４．５以上の金属性遮光膜で構成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の方法である。
【００２３】
また、請求項５に記載の発明は、上記遮光膜の表面と離型層との間が３μｍ未満であり、
前記ＢＭ形成工程において、散乱光を使用して光硬化型黒色塗料を露光することを特徴とする請求項４に記載の方法である。
【００２４】
また、請求項６に記載の発明は、上記遮光膜の表面と離型層との間が３μｍ以上であり、
前記ＢＭ形成工程において、平行光を使用して光硬化型黒色塗料を露光することを特徴とする請求項４に記載の方法である。
【００２５】
また、請求項７に記載の発明は、上記転写用平版が可撓性を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法である。
【００２６】
また、請求項８に記載の発明は、上記透明着色膜形成工程において、インクジェット法を使用して透明着色インクを充填することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の方法である。
【発明の効果】
【００２７】
請求項１に記載の発明によれば、転写用平版の表面にＢＭと透明着色膜とを形成して、これらを一体的に転写してカラーフィルタ基板を製造するので、このカラーフィルタ基板の表面は前記転写用平版の表面を反映したものになる。そして、この転写用平版の表面は平坦なので、得られるカラーフィルタ基板の表面も平坦である。
【００２８】
また、請求項１に記載の発明においては、転写用平版がＢＭパターンを透光部として有し、これを透して光硬化型黒色塗料を露光してＢＭを形成するから、ＢＭ独自の設備を必要とせず、その製造コストも極めて安価なものとなる。
【００２９】
そして、このため、特にＩＰＳ型液晶表示装置に適するカラーフィルタ基板を低コストで製造することが可能となり、このカラーフィルタ基板を適用したＩＰＳ型カラー液晶表示装置は、両基板の間隙が均一で正確であり、ムラのない高品質な画面表示が可能となる
のである。
【００３０】
次に、請求項２に記載の発明によれば、ＢＭ形成工程の前に、オーバーコート用の層を形成しするオ−バーコート形成工程を有するから、ＢＭ及び透明着色膜の双方を損傷から保護するオーバーコートを有するカラーフィルタ基板であって、しかも、その表面が平滑なカラーフィルタ基板を低コストで製造することが可能となる。
【００３１】
ところで、凸パターン状の土手で囲まれた画素内に透明着色インクを充填して透明着色膜を形成する場合には、画素領域とインクとの親和性やインク自体の表面張力に起因して、形成される透明着色膜の膜厚にムラが生じがちである。これに対し、請求項３に記載の発明によれば、透明着色膜形成工程が、形成された透明着色膜をプレスしてその表面を平坦化する平坦化工程を有するから、前記厚みムラを解消して、それぞれの透明着色膜の厚さが均一なカラーフィルタ基板を得ることができる。そして、このため、色ムラのない画面表示が可能となる。
【００３２】
請求項４に記載の発明においては、遮光膜が光学濃度（ＯＤ）４．５以上の金属性遮光膜で構成されているから、その遮光性能が充分であるだけでなく、遮光膜の厚さを十分薄くすることが可能であり、転写用平版の表面を十分に平坦にすることができる。
【００３３】
次に、請求項５に記載の発明においては、遮光膜の表面と離型層との間が３μｍ未満であるため、ＢＭ形成工程における露光光として散乱光を使用しても、前記遮光膜のパターンを正確に反映したＢＭを形成することができる。このように散乱光を使用して露光することが可能となるため、その露光光源に対して転写用平版を移動しながら露光することが可能となり、その製造速度を著しく向上させることができる。
【００３４】
他方、請求項６に記載の発明においては、遮光膜の表面と離型層との間が３μｍ以上であるため、転写用平版の遮光膜の損傷を抑えることが可能となり、その耐久性を著しく向上させて製造コストの低下を図ることができる。
【００３５】
次に、請求項７に記載の発明によれば、転写用平版が可撓性を有するため、転写工程において転写用平版を透明基板の全面に十分に密着させることができ、しかも、その端部から両者を剥離することができる。
【００３６】
また、請求項８に記載の発明によれば、透明着色膜形成工程において、インクジェット法を使用して透明着色インクを充填するため、フォトリソ法を使用する場合に比較してその生産コストを大幅に低減させることができ、しかも、高品質のカラーフィルタ基板を製造することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
本発明は、転写用平版準備工程、ＢＭ形成工程、透明着色膜形成工程及び転写工程から構成されるものである。これら各工程の間に他の工程があっても良い。例えば、ＢＭ形成工程の前に、オーバーコート形成工程を設けることができる。
【００３８】
（転写用平版準備工程）
転写用平版１は、ＢＭパターンを透光部とし、その他の部位を遮光部とすると共に、その表面が平坦で、離型性を有することを必要とする。このような転写用平版１は、透明な基材上に遮光膜を前記遮光部に選択的に設けたものが利用できる。好ましくは、この遮光膜を覆って全面に設けられた離型層とを備えるものである。遮光膜と離型層との間に保護層を有するものであっても良い。
【００３９】
例えば、図１Ａに示した転写用平版１は、基板として裏面露光光を透過する基板１１を使用し、遮光膜１２があり、その上に全面に離型層１３がある構造である。離型層１３は、その上に形成するＢＭや透明着色膜が容易に剥離（離型）するためのものである。この層１３の性質として、光硬化型黒色塗料を塗布したり、透明着色インクを充填する場合、反発しないことも必要である。
【００４０】
また、図１Ｂに示した転写用平版１は、遮光膜１２の上全面にその保護のための保護層１４があり、その上全面に離型層１３がある構造である。
【００４１】
（基板１１）
基板１１は、裏面露光法によって光硬化型黒色塗料を露光硬化するので、裏面露光光をある程度以上透過するものであることが必要である。また、カラーフィルタのＢＭのパターンの寸法精度仕様は非常に厳しいので、基板１１の温度伸縮がごく少ないか、あるいは被転写体であるカラーフィルタ用透明基板と同じである必要がある。被転写体であるカラーフィルタ用ガラス基板と同一のものを使用することが、実際に入手が容易であるし、温度伸縮の点からも、大型になった場合に好都合である。厚さが０．７ｍｍ程度と薄いが、プラスチックフィルムを貼りあわせて補強することで、大型になっても使用することができる。
【００４２】
裏面露光光の波長は、通常の水銀灯やメタルハライドランプを使用する場合３５０〜４２０ｎｍの範囲である。カラーフィルタ用ガラス基板は上記の波長を７０％程度以上透過するので、好ましく使用することができる。
【００４３】
その他、基板１１として石英ガラスを使用することもできる。石英ガラスは上記の波長をほぼ完全に透過する。また、フォトマスクの基板材料としても使用されているので、かなり大型のものが入手可能である。
【００４４】
いずれにしても、本発明に使用する転写用平版１は可撓性があることが、転写工程において非常に有効であるので、基板１１の厚さは可撓性がある範囲にする。ガラス基板や石英ガラス板の場合には、サイズによるが、例えば２ｍ角程度の大型になった場合でも、せいぜい１０ｍｍ程度の厚さが限度である。これ以上の厚さでは、転写工程において、版を端から曲げながらカラーフィルタ用基板から引き剥がすことが難しい。実際には、重量の点からもこの程度が限界である。大型になって強度が不足する場合には、プラスチックフィルムを貼りあわせて、補強する。一方、薄い方の限界は、補強するとしても０．５ｍｍ程度がである。
【００４５】
（遮光膜１２）
次に、遮光膜１２は、ＢＭパターンを透光部とし、その他の部位を遮光部とするパターン形状を有する必要がある。光学濃度（ＯＤ）は４．５以上であることが好ましい。感光性樹脂に黒色顔料を添加した黒色感光性樹脂を基板１１上に塗布し、露光・現像して形成することもできるが、この場合には、十分な遮光性を得るため、厚さは２μｍ程度必要である。
【００４６】
遮光膜１２として、金属性の薄膜を利用することもできる。金属性薄膜とは、クロム等の遮光性金属や、酸化クロム等の遮光性金属化合物の薄膜を意味する。この薄膜は、真空蒸着法やスパッタリング法で形成することができ、１００〜２００ｎｍの厚さでＯＤ５以上の十分な遮光性を有する。このため、この遮光膜１２によって、転写用平版の表面に凹凸が生じることがない。なお、金属性薄膜として、アルミニウム膜、ニッケル膜、窒化鉄膜、酸化鉄膜、などを使用することもできる。
【００４７】
これら金属性薄膜を前記形状にパターニングするには、フォトリソ法を使用すればよい。すなわち、金属性薄膜の上に、ネガ型フォトレジスト膜を形成し、フォトマスクを介して露光し、現像する。また、いわゆるリフトオフ法でパターニングすることもできる
（保護層１４）
次に、保護層１４は、遮光膜１２が擦過等によって損傷することを保護するためのものである。例えば、離型層１３が破損した場合には、離型層１３を剥離して再成膜して、版を再生する。その際、保護層１４があれば、遮光膜１２を傷つけるおそれが減る。、保護層１４の材料は裏面露光透過性性があり、かつ強靱な膜であるものとして、例えば二酸化珪素、酸化マグネシウムが好ましい。厚さは厚いほど保護力は向上するが、擦りによるキズ発生対策には１００〜３００ｎｍでよい。保護層１４は遮光膜１２がアルミニウムなどの硬度の低い金属膜である場合に特に有効である。
【００４８】
（離型層１３）
また、離型層１３は、裏面露光光をある程度以上透過する材質であって、その上に塗布されるオーバーコート材や黒色感光性樹脂や透明着色インクが固化または硬化した場合に充分な剥離性を有するものであることが必要である。また、機械強度が高い材料であることが好ましい。実際の材料としては、６価クロムで硬化したポリビニルアルコール系樹脂、アクリル系樹脂、アクリル・メラミン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂（ＥＶＡ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロポリオレフィン等の樹脂がある。
【００４９】
これらの樹脂は硬化した黒色感光性樹脂や透明着色インクに対して離型性がよいだけでなく、有機溶剤系の黒色感光性樹脂や透明着色インクこれらに対して、濡れ性がよいので、黒色感光性樹脂の塗布や透明着色インクの充填に際して、はじきを発生することがなく、均一な厚さに塗布、充填することができる。
【００５０】
なお、この、離型層１３上に直接黒色感光性樹脂をを塗布して加熱硬化する場合には、加熱によってこの黒色感光性樹脂が離型層と固着して剥離し難くなることがある。このような固着を防止するため、離型層として、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリシクロオレフィン、６価クロムで硬化したポリビニルアルコール系樹脂を使用することが好ましい。
【００５１】
次に、離型層１３の表面の平坦性はカラーフィルタ基板表面の平坦性に直接反映するので、できる限り平坦であることが好ましい。そのためには、離型層１３は平坦化し易いものであることが必要である。アクリル系樹脂、アクリル−メラミン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂は、溶液状態のものを塗布し、硬化する方法を用いることができるので、たとえ遮光層１１の厚さが多少厚くても、平坦にすることができる。しかし、遮光膜は薄い方がよい。
【００５２】
一方、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリシクロオレフィンは溶液にできず、フィルム状である。これを基板１１や保護層１４へ接着するためプライマーを使用してもよい。たとえば、離型層１３をポリプロピレンとした場合には、塩素化ポリプロピレンをプライマーとして使用することができる。
【００５３】
また、離型層１３がＥＶＡ系樹脂、ポリエチレン等の熱可塑性樹脂の場合には、溶融状態で成膜することができる。
【００５４】
なお、ＢＭ形成工程の裏面露光は、その露光装置の価格の点から、散乱光で行うことが望ましい。しかし、遮光膜の上の保護層や離型層が厚い場合、散乱光で露光すると、解像性が低下する。解像性は、少なくともＢＭパターンの寸法仕様程度は必要である。すなわ
ち、遮光膜の表面と離型層との間の距離は３μｍ未満である必要がある。例えば、保護層１４と離型層１３の双方を有する転写用平版の場合には、保護層１４と離型層１３の合計の厚さは３μｍが限度である。なお、離型層１３は遮光層１４が機械的に破壊されることを防ぐ保護作用もあるので、保護層がない場合には、３μｍを限界として厚いほうが好ましい。一方、露光を平行光または平行に近い光で行う場合は、合計厚さは３μｍ以上であってよく、例えば１０μｍ程度まで厚くすることができる。
【００５５】
（転写用平版の製造方法）
以下に、図２に基づいて、保護層１４を有する転写用平版を製造する方法を説明する。
【００５６】
すなわち、まず、基板１１に金属性薄膜１２を形成する（図２Ａ）。成膜方法としては、スパッタリングや真空蒸着等の真空成膜法が好ましいが、大サイズの場合には、無電解メッキ等の液中成膜法を使用してもよい。この場合は、ニッケル、銅、等が成膜される。いずれも、１００〜２００ｎｍの厚さでよい。また、そのパターンニングにはフォトリソ法を使用して可能である。すなわち、金属性薄膜１２の上にフォトレジスト膜１５を通常の方法で形成し（図２Ｂ）、フォトマスク１６を介して、紫外線１７で露光し（図２Ｃ）、所定の現像液１８を適用して、現像する（図２D）。この結果、露光部のフォトレジスト膜が硬化して、パターンとして基板上に残る。次に、金属性薄膜１２をエッチング液１９でエッチングして、露出している金属性薄膜１２を除去する。次にフォトレジストを所定の剥膜液で除去する（図２Ｅ）。フォトレジストの除去により、遮光膜が形成できる。
【００５７】
次に、保護層１４を形成する（図２Ｆ）。保護層１４が酸化珪素、酸化マグネシウムの場合には通常の真空成膜法（蒸着法、スパッター法等）を使用する。また、大サイズの場合には、ゾルゲル法を使用することが好ましい。
【００５８】
次に、離型層１３を形成する（図２Ｇ）。材料が溶液の場合、スピンコータ、大型の場合にはナイフコータ、スロットコータ等の塗布機で塗布し、溶剤を揮発させて固化し、さらに加熱処理等によって硬化する。材料がフィルムである場合、ラミネータを使用して、加熱溶着したり、接着剤を使用して接着する。厚さムラはＩＰＳ用のカラーフィルタの場合、Ｒ＜０，３μｍ程度に抑えることが必要である。このため、離型層が熱可塑性の材料の場合、必要に応じて、加熱ロールプレスすることが好ましい。
【００５９】
（オーバーコート形成工程及びＢＭ形成工程）
次に、図３を参照して、ＢＭ形成工程を説明する。なお、図３は、ＢＭ形成工程の前にオーバーコート形成工程を設けた場合を示しており、このため、両工程を併せて説明する。
【００６０】
すなわち、まず、前記転写用平版の離型層１３の全面に、オーバーコート層用の透明材料２１を塗布し、溶剤を揮発させて、固化する（図３Ａ）。この透明材料が紫外線硬化型樹脂の場合には、紫外線２２を照射して固化すればよい（図３Ｂ）。
【００６１】
次に、このオーバーコート層２１の全面に黒色感光性樹脂２３を塗布する。厚さは、インクジェットによるＣＦ形成の場合の土手として必要な高さとする。通常は、２〜４μｍである（図３Ｃ）。次に、転写用平版の裏面から散乱光２４を照射して、遮光膜１２のない部分の上の黒色感光性樹脂２３を露光・硬化する（図３Ｄ）。そして、現像液２５を適用して現像し、未硬化の黒色感光性樹脂２３を除去し、水洗、乾燥することによって、ＢＭ２を形成することができる（図３Ｅ）。なお、必要に応じて加熱または電子線を照射して硬化させ、ＢＭ２の耐溶剤性を上げることも可能である。
【００６２】
（オーバーコート層２１）
オーバーコート層用の透明材料２１としては、透明着色層と親和性の高いものが好ましく使用できる。また、加熱硬化によって溶融し、その表面が平坦化するものが好ましい。このようなオーバーコート材としては、例えば、 酸基を有するモノマーと化学式（１）で表されるモノマーとの共重合体（Ａ成分）と、分子内に少なくともエポキシ基を１以上有する化合物（Ｂ成分）を主成分とするものが利用できる。また、これに光開始剤を添加して紫外線硬化型としたものを使用することもできる。
【００６３】
【化１】
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酸基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ビニル安息香酸又は（メタ）アクリル酸のカプロラクトン付加物、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートに無水フタル酸等の酸無水物を付加させたものが例示できる。酸基を有するモノマーと化学式（１）に表されるモノマーの共重合体（Ａ成分）における配合比は、酸基を有するモノマーの配合量が共重合体（Ａ成分）の１０〜７０重量％であることが望ましい。また、共重合体（Ａ成分）は、そのガラス転移点が１００℃以下となるように２つのモノマーを配合することが望ましい。ガラス転移点を低くすることにより、加熱硬化の際の熱によって皮膜表面が溶融し、その表面を平坦化して硬化させることができる。
【００６４】
また、前記Ｂ成分としては、脂環型エポキシ樹脂、ポリアルコール型エポキシ樹脂、ポリグリコール型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ又はＦ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルエタン型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック系エポキシ樹脂、メチレンシクロヘキサンオキシド、シクロヘプテンエポキシド、１、２−エポキシシクロヘキサン等が例示できる。そして、Ａ成分とＢ成分とは、Ａ成分１００重量部に対し、Ｂ成分３０〜２００重量部を混合することが望ましい。
【００６５】
そして、これらＡ成分とＢ成分にさらに溶剤を加えて、塗工することによってオーバーコート層を形成することができる。溶剤としては、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジオキサン、プロピオングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸エチル、エチルベンゼン、酢酸イソペンチル、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ等が利用できる。また、塗工方法としては、ロールコート、スピンコート等の方法が適用できる。そして、１５０℃〜２５０℃の温度で、０．５〜２時間程度硬化させて、オーバーコート層を形成することができる。
【００６６】
また、光開始剤としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン系光開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系、ベンゾフェノン系光開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン系光開始剤、チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系光開始剤、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４
，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリルｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン系光開始剤、カルバゾール系光開始剤、イミダゾール系光開始剤等を用いることができる。
【００６７】
（ＢＭ２）
ＢＭの材料として使用する黒色感光性樹脂２３は、透明着色インク２４に対する親和性の小さいものが好ましく使用できる。このような撥インク性の黒色感光性樹脂２３としては、例えば、エチレン性不飽和二重結合およびフルオロアルキル基を有するビニル重合体、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、光開始剤、黒色顔料を含有するものが使用できる。
【００６８】
エチレン性不飽和二重結合およびフルオロアルキル基を有するビニル重合体は、例えば、エチレン性不飽和二重結合およびフルオロアルキル基を有するモノマー（ａ）と、エチレン性不飽和二重結合と反応性官能基を有する（ａ）以外のモノマー（ｂ）とを重合させ、得られた重合体に、前記反応性官能基と反応可能な官能基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物（ｃ）を反応させて製造することができる。
【００６９】
このエチレン性不飽和二重結合およびフルオロアルキル基を有するモノマー（ａ）としては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ、１Ｈ、７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ、１Ｈ、９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート等が例示できる。
【００７０】
エチレン性不飽和二重結合および反応性官能基を有する（ａ）以外のモノマー（ｂ）としては、エチレン性不飽和二重結合の他に、ヒドロキシル基、カルボキシル基、イソシアネート基、エポキシ基等を有する化合物が例示できる。具体的には、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、１−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルシンナメート、グリシジルアリルエーテル、グリシジルビニルエーテル、ビニルシクロヘキサンモノエポキサイド、１、３−ブタジエンモノエポキサイドが例示できる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートと、トルエンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のポリイソシアネートとを反応させて得られる生成物であっても良い。
【００７１】
また、前記化合物（ｃ）としては、モノマー（ｂ）の反応性官能基がヒドロキシル基である場合には、イソシアネート基、ハロゲン基、カルボキシル基又はエポキシ基を有する化合物が好適である。また、モノマー（ｂ）の反応性官能基がカルボキシル基である場合には、エポキシ基又はヒドロキシル基を有する化合物が好適に用いられる。また、モノマー（ｂ）の反応性官能基がイソシアネート基である場合には、ヒドロキシル基、あるいはアミノ基を有する化合物を好適に用いることがえきる。また、モノマー（ｂ）の反応性官能基がエポキシ基である場合には、カルボキシル基、あるいはヒドロキシル基を有する化合物が好適である。
【００７２】
次に、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、モノマー、オリゴマー、感光性樹脂などを用いることができる。モノマーとしては、２−ヒドロキシ（メタ）アクリレート、β−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンサクシネート等の１官能モノマー、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス〔４−（メタクリロキシエトキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−アクリロキシ・ジエトキシ〕フェニル〕プロパン等の２官能モノマー、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等の３官能以上のモノマーが挙げられる。一方、オリゴマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールのカプロラクトン付加物のヘキサアクリレート、メラミンアクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートプレポリマ等が挙げられる。
【００７３】
また、光開始剤としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン系光開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系、ベンゾフェノン系光開始剤、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン系光開始剤、チオキサンソン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系光開始剤、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリルｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン系光開始剤、カルバゾール系光開始剤、イミダゾール系光開始剤等を用いることができる。
【００７４】
また、撥インク性の黒色感光性樹脂２３として、前記エチレン性不飽和二重結合およびフルオロアルキル基を有するビニル重合体の代わりに、架橋性の官能基およびポリオルガノシロキサン鎖を有するビニル重合体を使用したものを利用することもできる。すなわち、架橋性の官能基およびポリオルガノシロキサン鎖を有するビニル重合体、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、光開始剤を含有する発インク性感光性材料である。
【００７５】
架橋性の官能基およびポリオルガノシロキサン鎖を有するビニル重合体は、例えば、エチレン性二重結合とポリオルガノシロキサン鎖を有するモノマー（ｄ）と、エチレン性二重結合と架橋性の官能基を有するモノマー（ｅ）とを重合することにより製造することができる。
【００７６】
モノマー（ｄ）としては、例えば、東芝シリコーン（株）製のＴＳＬ９７０５などの片末端ビニル基含有ポリオルガノシロキサン化合物、チッソ（株）製のサイラプレーンＦＭ−０７１１、ＦＭ−０７２１、ＦＭ−０７２５などの片末端（メタ）アクリロキシ基含有ポリオルガノシロキサン化合物等が挙げられる。
【００７７】
また、モノマー（ｅ）の架橋性の官能基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、イソシアノ基、エポキシ基等が挙げられる。
【００７８】
ヒドロキシル基を有するモノマー（ｅ）としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、１−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシスチレン等が例示できる。
【００７９】
カルボキシル基を有するモノマー（ｅ）としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等が例示できる。
【００８０】
また、イソシアノ基を有するモノマー（ｅ）としては、（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルイソシアネート等や、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートを、トルエンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のポリイソシアネートと反応させて得られるものが例示できる。
【００８１】
また、エポキシ基を有するモノマー（ｅ）としては、グリシジルメタクリレート、グリシジルシンナメート、グリシジルアリルエーテル、グリシジルビニルエーテル、ビニルシクロヘキサンモノエポキサイド、１、３-ブタジエンモノエポキサイド等が例示できる。
【００８２】
（透明着色膜形成工程）
次に、図４を参照して、透明着色膜３形成工程を説明する。
【００８３】
すなわち、まずＢＭ２間に透明着色インク３１を充填する（図４Ａ）。この透明着色インク３１として、赤色（３Ｒ）、緑色（３Ｇ）及び青色（３Ｂ）の三色のインクを使用して、画素ごとに異なる色彩の透明着色インク３１を充填することが望ましい。充填する方法としては、例えば、インクジェット印刷機を使用する方法、ノズルからこれらインクを滴下して充填する方法があるが、ドット状の画素に充填する場合にはインクジェット印刷機３２を使用することが望ましい。なお、ストライプ状に充填する場合にはノズル法で十分である。
【００８４】
次に、必要に応じて、このインクが柔軟なうちにプレスして、ＣＦ表面を平坦化する（図４Ｂ）。プレスの方法は、平プレスよりロールプレスのほうが、強い線圧を印加することができ、また大型サイズ基板に対応することが容易である。プレス表面の材質にはシリコーン樹脂、ポリアミド樹脂等を用いることができる。
【００８５】
次に、溶剤を揮発させて固化することにより、透明着色膜３を形成することができる（
図４Ｃ）。固化しただけでは、後述する接着剤に溶解してしまう場合、紫外線を照射したり、加熱硬化して接着剤耐性を向上させることができる。
【００８６】
この透明着色インクとしては、例えば、着色剤、樹脂、溶剤及び必要な添加剤を混合したインクを使用することができる。
【００８７】
樹脂としては、例えば、カルボキシル基とフェノール性水酸基のいずれか一方又は両方を有するアミノ樹脂を好ましく使用することができる。例えば、（１）とフェノール性水酸基のいずれか一方又は両方を有するアミノ化合物と、アルデヒド化合物とを縮合させる方法、又は（２）とフェノール性水酸基のいずれか一方又は両方を有するアルデヒド化合物と、アミノ化合物とを縮合させる方法で製造することができる。
【００８８】
カルボキシル基を有するアミノ化合物としては、例えば、２−、３−又は４−（４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン−２−イル）安息香酸、５−メチル−２−（４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン−２−イル）安息香酸、４−メトキシ−２−（４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン−２−イル）安息香酸、２−メチル−４−（４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン−２−イル）安息香酸、２−クロロ−４−（４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン−２−イル）安息香酸、などが挙げられる。
【００８９】
フェノール性水酸基を有するアミノ化合物としては、例えば、２−、３−又は４−（４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン−２−イル）フェノール、４−メチル−２−（４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン−２−イル）フェノール、２−メトキシ−４−（４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン−２−イル）フェノール、３−クロロ−４−（４，６−ジアミノ−１，３，５−トリアジン−２−イル）フェノール、などが挙げられる。
【００９０】
カルボキシル基を有するアルデヒド化合物としては、例えば、グリオキシル酸およびその水和物、スクシンセミアルデヒド、などが挙げられる。
【００９１】
フェノール性水酸基を有するアルデヒド化合物としては、例えば、２−、３−又は４−ヒドロキシベンズアルデヒド、３，４−、３，５−、２，５−又は２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，４，６−トリヒドロキシベンズアルデヒド、などが挙げられる。
【００９２】
アルデヒド化合物としては、上記したカルボキシル基又はフェノール性水酸基を有するアルデヒド化合物のほか、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、グリオキザール、；トリオキサン、パラホルムアルデヒドのようなホルムアルデヒド縮合体；ホルムアルデヒド水溶液のような水溶液；メチルヘミホルマール、ｎ−ブチルヘミホルマール又はイソブチルヘミホルマール、などが挙げられる。
【００９３】
アミノ化合物としては、上記したカルボキシル基又はフェノール性水酸基を有するアミノ化合物のほか、例えば、尿素、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン、シクロヘキサンカルボグアナミン、フタログアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、などが挙げられる。
【００９４】
また、着色剤としては、カラーフィルター用として通常使用されている染料、顔料が特に支障なく用いることができるが、耐熱性、耐光性の点から顔料が好適に用いられる。
【００９５】
顔料の平均粒径は０．００５〜３μｍの範囲にあるのが好ましい。より好ましくは０．０１〜１μｍである。平均粒径がこれ以下であるとチクソトロピーがでやすく良好な塗布
性が得られず、また、これより大きいと塗膜の透明性に欠けるようになる。このような粒径にするためには、ボールミル、サンドミル、ピーズミル、３本ロール、ペイントシエーカー、アトライター、分散攪拌機、超音波等の分散処理が有効である。
【００９６】
また、溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、メトキシベンゼンの如き芳香族系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートの如き酢酸エステル系溶剤；エトキシエチルプロピオネートの如きプロピオネート系溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールの如きアルコール系溶剤；ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルの如きエーテル系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンの如きケトン系溶剤；ヘキサンの如き脂肪族炭化水素系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクタム、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アニリン、ピリジンの如き窒素化合物系溶剤；γ−ブチロラクトンの如きラクトン系溶剤；カルバミン酸メチルとカルバミン酸エチルの４８：５２の混合物のようなカルバミン酸エステル；水、などが挙げられる。これらの溶剤の中でも、沸点が８０℃〜２００℃の範囲にあるものが好ましく、また、これらの溶剤は単独で用いることも、２種以上を混合して用いることもできる。
【００９７】
次に、添加物としては、例えば、分散剤や光重合性官能基を有する化合物が例示できる。分散剤は前記顔料を微細な粒径の状態で分散させるものであり、光重合性官能基を有する化合物は、透明着色膜３形成後にこの透明着色膜３に紫外線を照射して硬化させ、その耐久性をい向上させるものである。
【００９８】
分散剤としては、例えば、界面活性剤、顔料の中間体、染料の中間体、ポリエステル系化合物、ポリアミド系化合物やポリウレタン系化合物のような樹脂型分散剤、などが挙げられる。この樹脂型分散剤の市販品としては、例えば、ビックケミー社製の「ディスパービック１３０」、「ディスパービック１６１」、「ディスパービック１６２」、「ディスパービック１６３」、「ディスパービック１７０」、エフカーケミカルズ社製の「エフカ４６」、「エフカ４７」、ゼネカ社製の「ソルスパース３２５５０」、「ソルスパース２４０００」、味の素社製の「アジスパーＰＢ８１１」、「アジスパーＰＢ８１４」等が挙げられる。また、アクリル系、ポリエチレン系のような樹脂型分散剤等も使用可能である。
【００９９】
また、光重合性官能基を有する化合物としては、（メタ）アクリル化合物、マレイミド化合物等が例示できる。
【０１００】
このような光重合性官能基を有する（メタ）アクリル化合物としては、例えば、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート；フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物等；エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノールＡのポリエトキシジオール、ポリエステルポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリ
カーボネートポリオール等のポリオール類と有機ポリイソシアネート類（例えば、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート類（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート等）の反応物等が挙げられる。
【０１０１】
また、光重合性官能基を有するマレイミド化合物としては、脂肪族基によってマレイミド基が結合された化合物が好ましく、具体的には、Ｎ−へキシルマレイミドやＮ，Ｎ’−４，９−ジオキサ−１，１２−ビスマレイミドドデカンのようなアルキル又はアルキルエーテルマレイミド、エチレングリコールビス（マレイミドアセテート）、ポリ（テトラメチレングリコール）ビス（マレイミドアセテート）、テトラ（エチレングリコール変性）ペンタエリスリトールテトラ（マレイミドアセテート）等のマレイミドカルボン酸（ポリ）アルキレングリコールエステル、ビス（２−マレイミドエチル）カーボネート等のカーボネートマレイミド、イソホロンビスウレタンビス（Ｎ−エチルマレイミド）等のウレタンマレイミド等が挙げられる。
【０１０２】
これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ’−４，９−ジオキサ−１，１２−ビスマレイミドドデカン、エチレングリコールビス（マレイミドアセテート）、ポリ（テトラメチレングリコール）ビス（マレイミドアセテート）、（エチレングリコール変性）ペンタエリスリトールテトラ（マレイミドアセテート）、ビス（２−マレイミドエチル）カーボネート、イソホロンビスウレタンビス（Ｎ−エチルマレイミド）等の、多官能（メタ）アクリレート類や多官能マレイミド類が、紫外線や可視光線等の照射時における硬化の点で特に好ましい。
【０１０３】
（転写工程）
次に、図５を参照して、転写工程を説明する。
【０１０４】
まず、転写用平版１の上に、カラーフィルタ用ガラス基板５を置き、隙間の端に紫外線硬化型の接着剤４を入れ、プレスロール５１で端から順次加圧して、接着剤を全面に所定に厚さに広げる（図５Ａ）。次に、紫外線光源５２から紫外線を照射して、接着剤４を硬化する（図５Ｂ）。紫外線としては、通常、拡散光で充分である。そして、転写用平版１と基板５とを、端から引き剥がすことにより、離型層１３とオーバーコート層２１の間から離型する（図５Ｃ）。必要に応じて、ＢＭ２と透明着色膜３加熱硬化処理等の後処理を行って、カラーフィルタが完成する（図５Ｄ）。
【０１０５】
（接着剤４）
接着剤４としては、例えば、エチレン性二重結合とカルボキシル基を有するアクリル系共重合体樹脂と、希釈モノマーと、光増感剤を主成分とする感光性無溶剤型の接着剤を使用することができる。
【０１０６】
アクリル系共重合体としては、グリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）のようなグリシジル基とエチレン性二重結合を有するモノマーのアクリル系共重合体にアクリル酸のようなエチレン性二重結合とカルボキシル基を有するモノマーを付加した後、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸のような酸無水物を付加させた物や、アクリル酸のようなエチレン性二重結合とカルボキシル基を有するモノマーのアクリル系共重合体にＧＭＡのようなグリシジル基とエチレン性二重結合を有するモノマーを付加した樹脂が挙げられる。
【０１０７】
また、フェノールノボラック樹脂やクレゾールノボラック樹脂、ビスフェノールタイプ
等のエポキシ樹脂にアクリル酸の様なエチレン性二重結合を有するカルボン酸を付加した後、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸を付加させた物であっても良い。
【０１０８】
また、希釈モノマーとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能モノマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能モノマー、１．６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレートネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の２官能モノマー、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデシル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルモノフタレート等の単官能モノマー、水酸基を２個以上有するポリオール化合物、イソシアネート化合物及び水酸基を有する（メタ）アクリレートからなるウレタンアクリレートやエポキシアクリレート等が例示できる。
【０１０９】
また、光増感剤としては、ベンゾフェノン、ジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸メチル、ベンゾインイソプロピルエーテル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−メチル｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルフォリノ−１−プロパノン等が例示できる。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】本発明で作成し使用する転写用平版の断面説明図。
【図２】転写用平版準備工程の説明図。
【図３】ＢＭ形成工程の説明図。
【図４】透明着色膜形成工程の説明図。
【図５】転写工程の説明図。
【符号の説明】
【０１１１】
１    転写用平版
１１  基板
１２  遮光膜
１３  離型層
１４  保護層
２    ＢＭ
２１  オーバーコート層
２３  黒色感光性樹脂
３    透明着色膜
３１  透明着色インク
４    接着剤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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