(57)【要約】【課題】  特に、透明基板上にブラックマトリクス、着色層、透明導電膜、液晶間隔制御用の柱スペーサ、液晶の配向を制御するための配向制御用突起を、この順に、配設するカラーフィルタ形成基板において、透明導電膜を損傷することなく、柱状スペーサや配向制御用突起の黒欠陥（突起欠陥）の修正を、簡単に行えるレーザ欠陥修正方法と、そのような欠陥修正方法を実施できる欠陥修正装置とを提供する。【解決手段】  照射エリア、照射の回数、照射強度の１以上を制御して、該欠陥部を除去することにより欠陥修正を行う欠陥修正方法であって、前記レーザ光として波長３０８ｎｍ以下のレーザ光を用い、これを、カラーフィルタ形成基板もしくは該カラーフィルタ形成基板を作製するための中間工程の基板における突起欠陥に、照射して、該突起欠陥を除去する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
照射エリア、照射の回数、照射強度の１以上を制御して、レーザ光を欠陥部に照射して、該欠陥部を除去することにより欠陥修正を行う欠陥修正方法であって、前記レーザ光として波長３０８ｎｍ以下のレーザ光を用い、これを、カラーフィルタ形成基板もしくは該カラーフィルタ形成基板を作製するための中間工程の基板における突起欠陥に、照射して、該突起欠陥を除去することを特徴とするレーザ光による欠陥修正方法。
【請求項２】
請求項１に記載のレーザ光による欠陥修正方法であって、前記カラーフィルタ形成基板は、透明基板上にブラックマトリクス、着色層、透明導電膜、液晶間隔制御用の柱スペーサ、液晶の配向を制御するための配向制御用突起を、この順に、配設するもので、前記ブラックマトリクス、着色層、柱スペーサ、配向制御用突起のいずれかの突起欠陥を除去の対象とするものであることを特徴とするレーザ光による欠陥修正方法。
【請求項３】
請求項２に記載のレーザ光による欠陥修正方法であって、透明導電膜上の配向制御用突起の突起欠陥を除去の対象とするもので、０．５μｍ以下の厚さに、突起欠陥の残膜を残して、レーザ照射を止めるものであることを特徴とするレーザ光による欠陥修正方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載のレーザ光による欠陥修正方法であって、前記突起欠陥の除去に複数回のレーザ照射を行うことを特徴とするレーザ光による欠陥修正方法。
【請求項５】
請求項４に記載のレーザ光による欠陥修正方法であって、各照射回毎に、照射エリアをずらして照射することを特徴とするレーザ光による欠陥修正方法。
【請求項６】
請求項５に記載のレーザ光による欠陥修正方法であって、除去対象の突起欠陥部への照射を、同じ照射位置で、複数回行い、該突起欠陥部を除去する場合に、照射毎に照射エリアの外形寸法を狭めていくことを特徴とするレーザ光による欠陥修正方法。
【請求項７】
請求項５に記載のレーザ光による欠陥修正方法であって、除去対象の突起欠陥部の一部を、所定の一定面積で照射する各照射における照射エリアを合わせて、該突起欠陥部全域を照射して、該欠陥部の除去を行う場合に、各隣接する照射エリアの照射位置のずらし量は、同じ方向に所定の一定ピッチであることを特徴とするレーザ光による欠陥修正方法。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載のレーザ光による欠陥修正方法であって、レーザの出力を適宜変化させて照射することを特徴とするレーザ光による欠陥修正方法。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載のレーザ光による欠陥修正方法であって、レーザ照射に際し、予め、除去対象の、あるいは、除去途中の欠陥部の高さ、大きさの少なくとも一方を測定し、該測定結果に合わせて、レーザの出力、照射エリアを調整することを特徴とするレーザ光による欠陥修正方法。
【請求項１０】
照射エリア、照射の回数、照射強度の１以上を制御して、レーザ光を欠陥部に照射して、該欠陥部を除去することにより欠陥修正を行う欠陥修正装置であって、前記レーザ光は、波長３０８ｎｍ以下のレーザ光であることを特徴とする欠陥修正装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の欠陥修正装置であって、欠陥部の状態を確認する確認手段と、欠陥部の高さ、もしくは、大きさの少なくとも一方を検出する検出手段とを、有することを特徴とする欠陥修正装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の欠陥修正装置であって、前記検出手段により得られた検出結果に合わせ、次の照射回のレーザの出力、照射エリアを自動調整する調整手段を備えていることを特徴とする欠陥修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照射エリア、照射の回数、照射強度の１以上を制御して、レーザ光を欠陥部に照射して、該欠陥部を除去することにより欠陥修正を行うレーザ光による欠陥修正方法および欠陥修正装置に関する。
特に、カラーフィルタ形成基板、もしくは、該カラーフィルタ形成基板を作製するための中間工程の基板における突起欠陥を修正する、レーザ欠陥修正方法およびレーザ欠陥修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、通常、電極を有する２枚の基板を対向させて、両基板間に液晶が狭持された構造とされているが、この両基板間の間隔を一定に保つために、粒径の均一なプラスチックビーズなどを間隔制御用のスペーサーとして両基板間に散在させている。
近年、液晶表示素子の大型化、高品質化にともない、散在させたビーズスペーサーに代えて、感光性樹脂のフォトリソグラフィーによって基板上の所定の位置に形成する、スペーサー用柱状構造物（以下、柱状スペーサー」とも言う）が提案されている。
この柱状スペーサーを形成方法としては、カラーフィルタ上に感光性樹脂を塗布し、フォトリソグラフィーにより形成する方法が挙げられている。
柱状スペーサーに代えることによって、ビーズスペーサーの欠点であった均一分布性、セル内でのビーズ移動、ビーズ周辺の配向の乱れで光が漏れることによるコントラスト低下などを、大幅に改善することができる。
このため、カラーフィルタ形成基板においても、柱状スペーサーを付けたカラーフィルタ形成基板の要求が高まってきている。
【０００３】
更に、より高品位表示の液晶表示素子として、上記柱状スペーサを用いたセル構造とし、且つ、配向制御用突起を設け、配向分割垂直配向型（以下、ＭＶＡモードあるいは複数配向分割型とも言う）とするものが提案されている。
ＭＶＡモードは、広視野角、高速応答を実行するために極めて有望で、カラーフィルタ形成基板において、カラーフィルタ表面に配向制御用突起を設けることによって、配向の乱れによる光が漏れることをほぼ完全に防ぐことができる。
【０００４】
これに伴い、ＭＶＡモードの液晶表示素子作製のために、上記柱状スペーサーと配向制御用突起とを配したカラーフィルタ形成基板の作製が求められている。
そして、例えば、図５（ａ）にその一部断面を示し、図５（ｂ）にその平面図を示す、透明基板１１１上に透明基板上にブラックマトリクス１１２、着色層１１３ａ〜１１３ｃ、透明導電膜１１５、液晶間隔制御用の柱スペーサ１１７、液晶の配向を制御するための配向制御用突起１１６を、この順に、配設する、カラーフィルタ形成基板１１０が作製されている。
尚、図５（ｂ）は図５（ａ）のＥ１側からみた図で、図５（ａ）は図５（ｂ）のＥ２−Ｅ３側における断面を示した図である。
図５中、１１４はオーバコート層で、１１３Ａ、１１３Ｂ、１１３Ｃはそれぞれ、第１の着色層１１３ａの領域、第２の着色層１１３ｂの領域、第３の着色層１１３ｃの領域を示すもので、太点線はこれらの領域の境界を示している。
そして、このようなカラーフィルタ形成基板を用いて、図６に示すような、ＭＶＡモードの液晶表示パネルが作製される。
また、図６中、２５０はカラーフィルタ形成基板、２５１は透明基板、２５２はブラックマトリクス、２５３ａ〜２５３ｃは着色層、２５４はオーバコート層、２５５は透明導電膜（ＩＴＯ）、２５８は柱状スペーサ、２５９は配向制御用突起、２６２は液晶、２６２ａ、２６２ｂは配向材、２７０は対向基板、２７１は透明基板、２７２は透明電極、２８０は拡散板、２８１はバックライトである。
【０００５】
このような、ＭＶＡモードの液晶表示素子作製のための、柱状スペーサーと配向制御用突起とを配したカラーフィルタ形成基板においては、柱状スペーサーと配向制御用突起の形成過程において突起欠陥（黒欠陥とも言う）が発生した場合、これを修正することが必要である。
これに対し、このようなカラーフィルタ形成基板におけるレーザ修正方法が、特開２００５−１７４８６号公報（特許文献１）等に提案されている。
特開２００５−１７４８６号公報に記載の方法は、透明導電膜を損傷することなく柱状スペーサや配向制御用突起の黒欠陥（以下、突起欠陥とも言う）を修正できる修正方法を提供しようとするもので、修正に用いるレーザ光の波長を吸収する吸収層が薄膜状に積層された転写フィルムを用いて、黒欠陥上に、吸収層を形成して、レーザ照射を行うものであるが、転写フィルムを用いて吸収層の配設が必要で欠陥修正の作業が煩雑となる問題がある。
【特許文献１】特開２００５−１７４８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のように、最近では、より高品位表示の液晶表示素子として、上記柱状スペーサを用いたセル構造とし、且つ、配向制御用突起を設け、配向分割垂直配向型（以下、ＭＶＡモードとも言う）とするものが提案され、特に、この型の液晶表示パネルに用いられる、透明基板上にブラックマトリクス、着色層、透明導電膜、液晶間隔制御用の柱スペーサ、液晶の配向を制御するための配向制御用突起を、この順に、配設するカラーフィルタ形成基板の作製においては、透明導電膜を損傷することなく、柱状スペーサや配向制御用突起の黒欠陥（突起欠陥）を修正できる修正方法で、より簡単に行える修正方法が求められている。
本発明はこれに対応するもので、特に、透明基板上にブラックマトリクス、着色層、透明導電膜、液晶間隔制御用の柱スペーサ、液晶の配向を制御するための配向制御用突起を、この順に、配設するカラーフィルタ形成基板において、透明導電膜を損傷することなく、柱状スペーサや配向制御用突起の黒欠陥（突起欠陥）の修正を、簡単に行えるレーザ光による欠陥修正方法と、そのような、修正方法を実施できる欠陥修正装置とを提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のレーザ光による欠陥修正方法は、照射エリア、照射の回数、照射強度の１以上を制御して、レーザ光を欠陥部に照射して、該欠陥部を除去することにより欠陥修正を行う欠陥修正方法であって、前記レーザ光として波長３０８ｎｍ以下のレーザ光を用い、これを、カラーフィルタ形成基板もしくは該カラーフィルタ形成基板を作製するための中間工程の基板における突起欠陥に、照射して、該突起欠陥を除去することを特徴とするものである。
。
そして、上記のレーザ光による欠陥修正方法であって、前記カラーフィルタ形成基板は、透明基板上にブラックマトリクス、着色層、透明導電膜、液晶間隔制御用の柱スペーサ、液晶の配向を制御するための配向制御用突起を、この順に、配設するもので、前記ブラックマトリクス、着色層、柱スペーサ、配向制御用突起のいずれかの突起欠陥を除去の対象とするものであることを特徴とするものであり、更には、透明導電膜上の配向制御用突起の突起欠陥を除去の対象とするもので、０．５μｍ以下の厚さに、突起欠陥の残膜を残して、レーザ照射を止めるものであることを特徴とするものである。
尚、ここで、突起欠陥とは、カラーフィルタ形成基板を形成するためのブラックマトリクス、着色層、透明導電膜、柱スペーサ、配向制御用突起等を形成する各材質を、正常な形成領域以外の箇所に余分に形成している欠陥部分で、黒欠陥ともよばれ、正常な形成領域に連続しているものや、形成領域から分離しているものも含む。
【０００８】
また、上記いずれかのレーザ光による欠陥修正方法であって、突起欠陥の除去に複数回のレーザ照射を行うことを特徴とするものである。
そして、上記のレーザ光による欠陥修正方法であって、各照射回毎に、照射エリアをずらして照射することを特徴とするものである。
また、上記のレーザ光による欠陥修正方法であって、除去対象の突起欠陥部への照射を、同じ照射位置で、複数回行い、該突起欠陥部を除去する場合に、照射毎に照射エリアの外形寸法を狭めていくことを特徴とするものである。
あるいは、上記のレーザ光による欠陥修正方法であって、除去対象の突起欠陥部の一部を、所定の一定面積で照射する各照射における照射エリアを合わせて、該突起欠陥部全域を照射して、該欠陥部の除去を行う場合に、各隣接する照射エリアの照射位置のずらし量は、同じ方向に所定の一定ピッチであることを特徴とするものである。
また、上記いずれか１項に記載のレーザ光による欠陥修正方法であって、レーザの出力を適宜変化させて照射することを特徴とするものである。
また、上記いずれか１項に記載のレーザ光による欠陥修正方法であって、レーザ照射に際し、予め、除去対象の、あるいは、除去途中の欠陥部の高さ、大きさの少なくとも一方を測定し、該測定結果に合わせて、レーザの出力、照射エリアを調整することを特徴とするものである。
【０００９】
本発明の欠陥修正装置は、照射エリア、照射の回数、照射強度の１以上を制御して、レーザ光を欠陥部に照射して、該欠陥部を除去することにより欠陥修正を行う欠陥修正装置であって、前記レーザ光は、波長３０８ｎｍ以下のレーザ光であることを特徴とするものである。
そして、上記の欠陥修正装置であって、欠陥部の状態を確認する確認手段と、欠陥部の高さ、もしくは、大きさの少なくとも一方を検出する検出手段とを、有することを特徴とするものであり、該検出手段により得られた検出結果に合わせ、次の照射回のレーザの出力、照射エリアを自動調整する調整手段を備えていることを特徴とするものである。
【００１０】
（作用）
本発明のレーザ光による欠陥修正方法は、このように、カラーフィルタ形成基板、もしくは、該カラーフィルタ形成基板を作製するための中間工程の基板における、突起欠陥を修正する際に、波長３０８ｎｍ以下の短波長のレーザを用いるため、表面での吸収のみで、吸収が深くなく、吸収域が限定されて堀り込みの分解能が高くなり、また、長波長の場合（３３５ｎｍ以上）の場合にみられる、熱による影響（ケロイド状となる）も無く、レーザによる堀り込み量を制御し易いものとしており、これにより、継続的に精度良く突起欠陥を修正できるものとしている。
具体的には、前記カラーフィルタ形成基板は、透明基板上にブラックマトリクス、着色層、透明導電膜、液晶間隔制御用の柱スペーサ、液晶の配向を制御するための配向制御用突起を、この順に、配設するもので、前記ブラックマトリクス、着色層、柱スペーサ、配向制御用突起のいずれかの突起欠陥を除去の対象とするものが挙げられる。
この場合、透明導電膜上の配向制御用突起の突起欠陥を除去の対象とするもので、０．５μｍ以下の厚さに、突起欠陥の残膜を残して、レーザ照射を止めるものである、請求項３の発明の形態とすることにより、確実に、透明導電膜の損傷をなくし、且つ、品質的にも十分対応できるものとすることができる。
【００１１】
波長３０８ｎｍ以下の短波長のレーザを用いるため、表面での吸収のみで、吸収が深くなく、吸収域が限定されて堀込みの分解能が高いが、通常、突起欠陥の除去に複数回のレーザ照射を行う、請求項４の発明の形態を採る。
更に、この場合、各照射回毎に、照射エリアをずらして照射する、請求項５の発明の形態が挙げられる。
特に、除去対象の突起欠陥部への照射を、同じ照射位置で、複数回行い、該突起欠陥部を除去する場合に、照射毎に照射エリアの外形寸法を狭めていく、請求項６の発明の形態とすることにより、レーザの照射エリアにおける強度分布が、図４（ａ）に示すようになり、その周辺付近で強度が突出するという特性となるが、これを考慮して、修正対象の突起欠陥全体を均一の積算強度で照射することを可能としている。
また、除去対象の突起欠陥部の一部を、所定の一定面積で照射する各照射における照射エリアを合わせて、該突起欠陥部全域を照射して、該欠陥部の除去を行う場合に、各隣接する照射エリアの照射位置のずらし量は、同じ方向に所定の一定ピッチである、請求項７の発明の形態とすることにより、簡単に均一な堀込みを可能としている。
また、上記のように、波長３０８ｎｍ以下の短波長のレーザを用いるため、表面での吸収のみで、吸収が深くなく、吸収域が限定され、堀込みの分解能が高いため、容易に、レーザの出力を適宜変化させて照射する、請求項８の発明の形態を採り、照射回毎に堀込み量を調整することができる。
レーザ照射に際し、予め、除去対象の、あるいは、除去途中の欠陥部の高さ、大きさの少なくとも一方を測定し、該測定結果に合わせて、レーザの出力、照射エリアを調整する、請求項９の発明の形態を採る場合には、確実な突起欠陥の除去を可能としている。
【００１２】
本発明の欠陥修正装置は、このような構成にすることにより、レーザによる堀り込み量を制御し易く、継続的に精度良く突起欠陥を修正できる、レーザ光による欠陥修正方法を、実施できる欠陥修正装置の提供を可能としている。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は、上記のように、レーザによる堀り込み量を制御し易く、継続的に精度良く突起欠陥を修正できる、レーザ光による欠陥修正方法と、そのような欠陥修正方法を実施できる欠陥修正装置の提供を可能とした。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１は本発明のレーザ光による欠陥修正方法の実施の形態の１例を示したの概略図で、  図２（ａ）は修正するカラーフィルタ形成基板の１断面を示した図で、図２（ｂ）は図２（ａ）のＢ１側からみた図で、図３（ａ）は欠陥修正装置の一部を示した概略図で、図３（ｂ）は欠陥修正装置の概略構成を示した図で、図４（ａ）はレーザ照射エリアにおけるレーザ強度分布を示したグラフで、図４（ｂ）、図４（ｃ）はそれぞれレ−ザ照射エリアの外形を太点線で示した図である。
尚、図１は、図５（ａ）と同じ構造のカラーフィルタ形成基板の一部を示した図で、図２（ａ）は図２（ｂ）のＢ２−Ｂ３における断面を示した図である。
図１〜図４中、１０はカラーフィルタ形成基板、１１は透明基板（ここでは石英基板）、１２はブラックマトリクス、１３ａは第１の着色層、１３ｂは第２の着色層、１３ｃは第３の着色層、１４はオーバコート層（平坦化層とも言う）、１５は透明導電膜（ここではＩＴＯ膜）、１６は配向制御用突起、１８は突起欠陥（黒欠陥とも言う）、２０は基板ホルダー、３０はＸＹステージ、４０はレーザ光（ここでは２６６ｎｍ波長のＹＡＧレーザ）、５０はレーザ照射手段、５１は対物レンズ、６０はＺ方向移動用ガイドレールである。
【００１５】
はじめに、本発明のレーザ光による欠陥修正方法の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例のレーザ光による欠陥修正方法は、図５に示すような、透明基板上にブラックマトリクス、着色層、透明導電膜、液晶間隔制御用の柱スペーサ、液晶の配向を制御するための配向制御用突起を、この順に、配設する、ＭＶＡモードの液晶表示パネル形成用のカラーフィルタ形成基板１０（図１に示す１０で、図５の１１０に相当）における、配向制御用突起１６の突起欠陥１８を、ＹＡＧレーザの第４高調波（２６６ｎｍ）であるレーザ光４０にて照射して、該欠陥部を除去することにより欠陥修正を行う欠陥修正方法である。  ここでは、透明基板１１として二酸化ケイ素１００％の石英ガラスを用いているが、プラスチック基板、無アルカリガラスが用いられている。
ブラックマトリクス１２、着色層１３ａ〜１３ｃとしては、ここでは、顔料分散法によりフォトリソ形成された着色層を用いているが、これに限定されない。
透明導電膜１５としては、スパッタ形成されたＩＴＯ膜が用いられている。
ここでは、液晶間隔制御用の柱スペーサ（図５の１１７参照）、配向制御用突起１６は、それぞれ、ネガ型の感光剤を製版して形成したものである。
【００１６】
例えば、図３（ａ）に示すようにして、ＸＹステージ３０上にカラーフィルタ形成基板１０を載置し、図１に示すように、突起欠陥１８をレーザ４０にて照射して除去する。
図示していないが、レーザ照射手段５０はレーザ光発生部、レーザ光の照射ショットを制御するシャッタ、フィルタ、ハーフミラー、全反射ミラー、レーザ光を成形するアパーチャ、対物レンズ５１等を備えて、光学系を形成しており、成形されたレーザ光は対物レンズ５１により集光され照射される。
明示していないが、ここでの欠陥修正装置には、欠陥部の状態を確認する確認手段として表示用のモニターと、該モニターの画像データを処理して欠陥部の大きさを検出するサイズ把握画像処理部と、突起欠陥部の高さを検出する高さ測定部とを備えており、図３（ｂ）に示すように、高さ測定部により得られた欠陥部の高さ情報、サイズ把握画像処理部により得られた欠陥部のサイズ情報に基づいて、駆動系、レーザ照射手段は制御されて、所定の照射動作を行う。
即ち、前記高さ測定部、サイズ把握画像処理部により得られた検出結果に合わせ、次の照射回のレーザの出力、照射エリアや、以降の、照射回数を含めた照射条件を自動調整することもできる。
ここでは、レーザ照射手段５０の光学系中のハーフミラーを介して、観察あるいは表示モニター用画像を得ることができるように、そのための光源、撮像装置が組み込まれている。
また、高さ測定部としては、例えば、共焦点変位計等が用いられる。
また、サイズ把握画像処理部は、例えば、欠陥部を含む画像データの各画素毎に輝度値（色の濃度値）を付与して、各画素毎にその輝度値を所定の閾値で２値化し、欠陥部領域を求め、欠陥部のＸ方向、Ｙ方向のサイズを求める。
尚、必要に応じて、各画素毎に、ノイズ除去のため、その周辺の画素を含む近傍領域について、輝度値を平均化する平均化処理等を施す。
【００１７】
ここでは、図２（ａ）に示す、配向制御用突起１６の突起欠陥１８が、図２（ｂ）に示すように丸状で、正常な配向制御用突起１６形成領域から分離し、図３に示す欠陥レーザ修正装置のレーザ照射エリア内におさまる程度に小である場合、例えば、照射エリアの外形が四角であれば図４（ｂ）に示すように、また、照射エリアの外形が丸形であれば図４（ｃ）に示すように、照射位置を固定して、レーザ照射エリアの外形を照射毎に所定のピッチで狭めていく、修正方法が採られる。
尚、照射エリアの外形形状は、図示していない、照射手段のレーザを成形するアパーチャの形状により決まる。
このようにする修正する理由は、照射されるレーザの照射エリアにおける強度分布は、図４（ａ）に示すように、その外周付近（図ではＣ１、Ｃ２部）で突出して強度が大であるため、この強度分布の特性に合わせて、照射毎に所定のピッチで照射領域の外形を内側とするものである。
尚、透明導電膜１５上の配向制御用突起１６の突起欠陥１８を除去の対象とするが、０．５μｍ以下の厚さに、突起欠陥の残膜を残して、レーザ照射を止めることにより、品質的に悪影響を与えずに、且つ、確実に透明導電膜１５に損傷を与えることはない。
【００１８】
もし、配向制御用突起１６の突起欠陥１８が、図３に示す欠陥修正装置のレーザ照射エリア内におさまらない程度に大である場合には、除去対象の突起欠陥部の一部を、所定の一定面積で照射する各照射における照射エリアを合わせて、該突起欠陥部全域を照射して、該欠陥部の除去を行うが、こうすることにより、各隣接する照射エリアの照射位置のずらし量を、同じ方向に所定の一定ピッチとすることにより、欠陥部の均一な除去を可能とする。
【００１９】
ここでは、ＹＡＧの第４高調波（波長２６６ｎｍ）を用いたが、レーザ照射の際に熱によりケロイド状になる加工部のやけが発生せずに、突起欠陥が分解能良く除去される、且つ、数回のレーザ照射によって除去されるものが作業面からは好ましく、表１に示すように、波長３０８ｎｍ以下の短波長のレーザであれば、特に、ＹＡＧの第４高調波（波長２６６ｎｍ）に限定はされない。  
尚、表１において、ショットをパルスと言うこともある。
また、表１におけるレーザ光の照射は、必要に応じて減衰フィルタを用いて行ったもので、いずれの波長においても、基本的には、加工部を除去できる程度に合わせて照射を行ったものである。
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明のレーザ光による欠陥修正方法の実施の形態の１例を示したの概略図である。
【図２】図２（ａ）は修正するカラーフィルタ形成基板の１断面を示した図で、図２（ｂ）は図２（ａ）のＢ１側からみた図である。
【図３】図３（ａ）は欠陥修正装置の一部を示した概略図で、図３（ｂ）は欠陥修正装置の概略構成を示した図である。
【図４】図４（ａ）はレーザ照射エリアにおけるレーザ強度分布を示したグラフで、図４（ｂ）、図４（ｃ）はそれぞれレ−ザ照射エリアの外形を太点線で示した図である。
【図５】図５（ａ）はカラーフイルタ形成基板の１例の一部断面を示し、図５（ｂ）は図５（ａ）のＥ１側からみた図である。
【図６】図５に示すカラーフイルタ形成基板を用いたＭＶＡモードの液晶表示パネルの断面図である。
【符号の説明】
【００２１】
１０            カラーフィルタ形成基板
１１            透明基板（ここでは石英基板）
１２            ブラックマトリクス
１３ａ          第１の着色層
１３ｂ          第２の着色層
１３ｃ          第３の着色層
１４            オーバコート層（平坦化層とも言う）
１５            透明導電膜（ここではＩＴＯ膜）
１６            配向制御用突起
１８            突起欠陥（黒欠陥とも言う）
２０            基板ホルダー
３０            ＸＹステージ
４０            レーザ光（ここでは２６６ｎｍ波長のＹＡＧレーザ）
５０            レーザ照射手段
５１            対物レンズ
６０            Ｚ方向移動用ガイドレール
１１０          カラーフィルタ形成基板
１１１          透明基板
１１２          ブラックマトリクス
１１３ａ〜１１３ｃ  着色層
１１３Ａ        第１の着色層の領域
１１３Ｂ        第２の着色層の領域
１１３Ｃ        第３の着色層の領域
１１４          オーバコート層
１１５          透明導電膜
１１６          配向制御用突起
１１７          液晶間隔制御用の柱スペーサ
２５０          カラーフィルタ形成基板
２５１          透明基板
２５２          ブラックマトリクス
２５３ａ〜２５３ｃ  着色層
２５４          オーバコート層
２５５          透明導電膜（ＩＴＯ）
２５８          柱状スペーサ
２５９          配向制御用突起
２６２          液晶
２６２ａ、２６２ｂ  配向材
２７０          対向基板
２７１          透明基板
２７２          透明電極
２８０          拡散板
２８１          バックライト
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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