(57)【要約】      （修正有）【課題】メッシュ状の導電層上に均一な膜厚でメッキ層を形成して、電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法及びそのために有利な簡易なメッキ装置を提供する。【解決手段】透明基板２１上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドット２２を形成する工程（１）、ドット２２が形成された透明基板２１のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層２３を形成する工程（２−１）、第一防眩層２３上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層２４を形成する工程（３）、及びドット２２、第一防眩層２３及び金属導電層２４を有する透明基板２１の少なくともドット２２に、溶剤を接触させてドット２２及びドット２２上の二層を除去する工程（４−１）を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法；及び電磁波シールド性光透過窓材。【選択図】図２
2007142080.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、及び
ドット、第一防眩層及び金属導電層を有する透明基板に、前記溶剤を接触させてドット及びドット上の二層を除去する工程（４−１）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項２】
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
金属導電層上に、色が黒又は茶系の無機化合物を気相成膜することにより第二防眩層を形成する工程（２−２）、及び
ドット、第一及び第二防眩層及び金属導電層を有する透明基板に前記溶剤を接触させてドット及びドット上の三層を除去する工程（４−２）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項３】
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層を形成する工程（６−１）、及び
ドット、第一防眩層、金属導電層及び黒化処理層を有する透明基板に、前記溶剤を接触させてドット及びドット上の三層を除去する工程（４−３）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項４】
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
ドット、第一防眩層及び金属導電層を有する透明基板に、前記溶剤を接触させてドット及びドット上の二層を除去する工程（４−４）
金属導電層上に電気メッキによる金属メッキ層を形成する工程（７）、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層を形成する工程（６−２）、
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項５】
第一又は第二防眩層の無機化合物が、黒又は茶系の色を有する物請求項１〜４のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項６】
第一又は第二防眩層の無機化合物が、ＣｕＳ、Ｃｕ2Ｓ、ＮｉＳ、ＡｇＳ、ＳｎＳ、ＣｏＳからなる群から選択される少なくとも一種の金属硫化物である請求項１〜５のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項７】
第一又は第二防眩層の無機化合物が、ＴｉＣ及びＳｉＣからなる群から選択される少なくとも一種の金属炭化物である請求項１〜５のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項８】
第一又は第二防眩層の無機化合物が、黒鉛及びカーボンブラックからなる群から選択される少なくとも一種の炭素物質である請求項１〜５のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項９】
第一又は第二防眩層の無機化合物が、ＴｉＮの金属窒化物である請求項１〜５のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項１０】
第一又は第二防眩層の厚さが、１００〜１００００Åの範囲にある請求項１〜９のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項１１】
前記ドット間の幅が５〜４０μｍである請求項１〜１０のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項１２】
前記ドットの面積の、ドットを有する全表面積に対する割合が、７０〜９５％である請求項１〜１１のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項１３】
ドット状が印刷により形成される請求項１〜１２のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項１４】
溶剤に対して可溶な物質が、ポリビニルアルコールである請求項１〜１３のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項１５】
前記金属導電層が、金属からなる請求項１〜１４のいずれかにのいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項１６】
金属メッキ層の形成に使用する金属が、銅である請求項１〜１５のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項１７】
請求項１〜１５のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項１８】
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層を含む電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項１９】
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層上に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第二防眩層を含む電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２０】
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２１】
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、
金属導電層上に形成された電気メッキによる金属メッキ層、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２２】
第一又は第二防眩層が、無機化合物の気相成膜により形成されている請求項１８〜２１のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２３】
第一又は第二防眩層の無機化合物が、金属硫化物、金属炭化物及び／又は金属窒化物である請求項１８〜２２のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２４】
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層を含む電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２５】
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層上に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第二防眩層を含む電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２６】
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２７】
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、
金属導電層上に形成された電気メッキによる金属メッキ層、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２８】
第一又は第二防眩層の無機化合物が、金属硫化物、金属炭化物及び／又は金属窒化物である請求項２４〜２７のいずれかに電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２９】
請求項１７〜２８のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材が透明基体に貼り合わされてなるディスプレイ用フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタや、病院などの電磁波シールドを必要とする建築物の窓材料（例えば貼着用フィルム）等として有用な電磁波シールド性光透過窓材、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及にともない、これらの機器から発生する電磁波によりもたらされる人体への影響が懸念されている。また、電磁波により精密機器の誤作動等を起こす場合もあり、電磁波が問題視されている。
【０００３】
従来から、ＯＡ機器のＰＤＰの前面フィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材としても利用されている。
【０００４】
上記電磁波シールド性光透過窓材としては、(1)金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明フィルム、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュを設けた透明フィルム、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００５】
(1)の透明導電薄膜は、例えば高屈折率透明薄膜と銀薄膜をスパッタリングにより交互積層したものであり、(2)の導電メッシュは、例えば有機繊維の網に銅メッキを施したものであり、そして(3)の網状の銅箔は、例えば銅箔をＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）に貼り付け、銅箔にレジスト材料を塗布し、特定形状のフォトマスクを介してレジストに露光、現像し、露出した銅箔をエッチングすることにより得られるものである（特許文献１：特開平１１−３３７７０２号公報、段落番号００１８参照）。(4)の導電性フィルムは、導電性微粒子をバインダに分散させたインクをフィルム上にメッシュパターン状に印刷したものである。
【０００６】
しかしながら、(1)の透明導電薄膜は導電性が十分得られない。また(2)の導電メッシュは、一般に、メッシュを構成する導電性繊維の線径が太いものは目が粗く、線径が細くなると目が細かくなっている。これは、線径の太い繊維であれば、目の粗いメッシュとすることは可能であるが、線径の細い繊維で目の粗いメッシュを形成することは非常に困難であることによる。このため、このような導電性メッシュを用いた従来の電磁波シールド性光透過窓材では、光透過率の良いものでも、高々７０％程度であり、良好な光透過性を得ることができないという欠点があった。
【０００７】
(3)のエッチング加工及び(4)パターン印刷により、所望のメッシュ状の導電層を形成することができることから、線幅や間隔、網目形状の自由度は導電性メッシュに比べて格段に大きく、線幅２００μｍ以下、開口率７５％以上という細線で開口率の高いメッシュ状の導電層であっても形成可能である。但し、(3)ではエッチング加工において設備が必要であり、また工程が煩雑でコスト高となるとの不利がある。一方、(4)メッシュ状のパターン印刷は上記導電層の形成が特に容易で有利であり、このような細線で目の粗い導電層を形成した導電性印刷膜であれば、良好な光透過性を得ることができると共に、モアレ現象を防止することができる。
【０００８】
しかしながら、(4)の導電性インクの印刷は、この導電性微粒子のインク中での分散状態を保つためにインクの粘性を十分に高くしておく必要があり、このため、インク線幅を著しく小さくすることはできず、開口率も著しく大きくすることはできなかった。
【０００９】
特許文献２（特開２００１−３３２８８９号公報）には、上記パターン印刷法を改良した、線幅が十分に小さく、開口率も著しく高いメッシュ状の導電層を有した電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法が、開示されている。その製造方法は、フィルム面に、溶剤に対して可溶な物質によってドットを形成し、該フィルム面に該溶剤に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層を形成し、該フィルム面を該溶剤と接触させて該ドット及び該ドット上の導電材料層を除去する方法である。
【００１０】
このようにして形成された線幅が十分に小さく、開口率も著しく高いメッシュ状の導電層は、膜厚が小さいため、電磁波シールド性光透過窓材に好適に使用できる高い導電性とするには、この導電層上にさらにメッキを行って、膜厚を大きくした方が望ましい。
【００１１】
上記のような開口率の高い電磁波シールド性光透過窓材であっても、ＰＤＰ等に用いた場合、その表示面が平面であることから、外光が差し込んだ際に広い範囲で反射した光が同時に観察者の目に入り、眩しさにより画面が見難くなることがあり、視認性が十分でないとの問題がある。従って、光透過性及び電磁波シールド性に優れると共に、防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材が求められている。
【００１２】
特許文献３（特開２００２−３７４０９４号公報）には、透明基板上に、溶剤に可溶な物質を用いてパターンを形成し、溶剤に不溶な防眩層を形成し、さらに該溶剤に不溶な導電層を形成した後、該溶剤により、パターンと、パターン上に形成された防眩層及び導電層とを除去することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法が記載されている。この防眩層は黒又は暗色系インキで形成されている。
【００１３】
【特許文献１】特開平１１−３３７７０２号公報
【特許文献２】特開２００１−３３２８８９号公報
【特許文献３】特開２００２−３７４０９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、上記の防眩層はインキを用いているため、十分な防眩性が得られない場合があることが明らかとなった。即ち、一般に、印刷インキはポリマー等の有機物質のバインダを用いているため、黒色密度が低く、防眩層性を高めるには膜厚を過度に大きくしなければならない。また、バインダ成分が有機物質のためＰＤＰから発生する電磁波により劣化することから耐久性が問題となる場合がある。
【００１５】
本発明者等は、電磁波シールド性光透過窓材に優れた防眩性を付与するため検討を重ね、本発明に到達したものである。
【００１６】
従って、本発明は、優れた防眩性を有する電磁波シールド性光透過窓材を提供することを目的とする。
【００１７】
また本発明は、優れた防眩性及び高い透明性を有する電磁波シールド性光透過窓材を提供することを目的とする。
【００１８】
さらに本発明は、優れた防眩性を有する電磁波シールド性光透過窓材の製造方法を提供することを目的とする。
【００１９】
また、本発明は、優れた防眩性及び高い透明性を有する電磁波シールド性光透過窓材の製造方法を提供することを目的とする。
【００２０】
さらに本発明は上記電磁波シールド性光透過窓材を備えた電磁波シールド性のディスプレイ用フィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明者等の検討によれば、色が黒又は茶系の金属硫化物等の無機化合物を真空蒸着等の気相成膜法により薄膜で成膜することにより、極めて優れた防眩性を容易に且つ安定的に獲得することができることが明らかとなり本発明に到達した。
【００２２】
従って、本発明は、
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、及び
ドット、第一防眩層及び金属導電層を有する透明基板に、溶剤を接触させてドット及びドット上の二層を除去する工程（４−１）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法；
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
金属導電層上に、色が黒又は茶系の無機化合物を気相成膜することにより第二防眩層を形成する工程（２−２）、及び
ドット、第一及び第二防眩層及び金属導電層を有する透明基板に溶剤を接触させてドット及びドット上の三層を除去する工程（４−２）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法；
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層を形成する工程（６−１）、及び
ドット、第一防眩層、金属導電層及び黒化処理層を有する透明基板に、溶剤を接触させてドット及びドット上の三層を除去する工程（４−３）
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法；及び
透明基板上に、溶剤に対して可溶な物質からなるドットを形成する工程（１）、
ドットが形成された透明基板のその表面に、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物を気相成膜することにより第一防眩層を形成する工程（２−１）、
第一防眩層上に、導電性の金属、合金又は金属酸化物を気相成膜して、金属導電層を形成する工程（３）、
ドット、第一防眩層及び金属導電層を有する透明基板に、溶剤を接触させてドット及びドット上の二層を除去する工程（４−４）
金属導電層上に電気メッキによる金属メッキ層を形成する工程（７）、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層を形成する工程（６−２）、
を含む電磁波シールド性光透過窓材の製造方法（工程（４−４）を最後においても良い）；
にある。
【００２３】
上記の工程の番号における最初の番号は、共通の処理を行うことを意味し、例えば（２−１）、（２−２）は共に防眩層の形成の工程を意味する。
【００２４】
上記本発明の製造方法において、
第一又は第二防眩層の無機化合物が、黒又は茶系の色を有することが好ましい。また、無機化合物が、ＣｕＳ、Ｃｕ2Ｓ、ＮｉＳ、ＡｇＳ、ＳｎＳ、ＣｏＳからなる群から選択される少なくとも一種の金属硫化物；ＴｉＣ及びＳｉＣからなる群から選択される少なくとも一種の金属炭化物；黒鉛及びカーボンブラックからなる群から選択される少なくとも一種の炭素物質；或いはＴｉＮの金属窒化物であることが好ましい。防眩性としては、金属硫化物（特にＣｕ2Ｓ）がなかでも優れており、好ましい。
【００２５】
第一又は第二防眩層の厚さは、１００〜１００００Å、特に１００〜1０００Åが好ましい。
【００２６】
前記ドット間の幅が５〜４０μｍであること、前記ドットの面積の、ドットを有する全表面積に対する割合（開口率に対応）が、７０〜９５％であることが好ましい。ドットは一般に印刷により形成される。溶剤に対して可溶な物質としては、ポリビニルアルコールが好ましい。
【００２７】
金属導電層が、金属（特に銀、銅又はアルミニウム）からなることが好ましい。また金属メッキ層の形成に使用する金属が、銅であることが好ましい。優れた導電性が得られる。
【００２８】
また、本発明は、上記製造方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材にもある。
【００２９】
さらに本発明は、
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層を含む電磁波シールド性光透過窓材；
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層上に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第二防眩層を含む電磁波シールド性光透過窓材；
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材；及び
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、色が黒又は茶系の無機化合物からなる第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、
金属導電層上に形成された電気メッキによる金属メッキ層、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材；
にある。
【００３０】
第一又は第二防眩層は、一般に、無機化合物の気相成膜により形成されている。特に、第一又は第二防眩層は、金属硫化物、金属炭化物及び／又は金属窒化物からなることが好ましい。
【００３１】
上記窓材においても、前記製造方法の好適態様を適用することができる。
【００３２】
前記金属導電層のメッシュの線幅が５〜４０μｍ、その開口率が７０〜９５％であることが好ましい。優れた電磁波シールド性を有する光透過窓材を作製するのに好適である。
【００３３】
また本発明は、
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層を含む電磁波シールド性光透過窓材；
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層上に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第二防眩層を含む電磁波シールド性光透過窓材；
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、及び
金属導電層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材；
透明基板の表面にメッシュ状に形成された、無機化合物からなり、彩度が５．０以下である第一防眩層、及び
第一防眩層上に形成された、導電性の金属、合金又は金属酸化物からなる金属導電層、
金属導電層上に形成された電気メッキによる金属メッキ層、及び
金属メッキ層の少なくとも表面を黒化処理して形成された黒化処理層、
を含む電磁波シールド性光透過窓材にもある。
【００３４】
上記彩度は、Ｌ*ａ*ｂ*表色系をａ*ｂ*をミノルタ分光側色計（ＣＭ−５０８ｉ）で測定した。測定はＪＩＳ−Ｚ−８７２９に従い測定した。
【００３５】
【数１】
2007142080.tif 000003
【００３６】
上記電磁波シールド性光透過窓材も、前述の電磁波シールド性光透過窓材における好適対応を適用することができる。
【００３７】
さらに本発明は、前記の製造方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材又は前記電磁波シールド性光透過窓材が透明基体に貼り合わされてなるディスプレイ用フィルタにもある。
【発明の効果】
【００３８】
本発明の製造方法により得られる電磁波シールド性光透過窓材は、優れた防眩性を示す防眩層を備えており、ＰＤＰ等に用いた場合、その表示面を見る人にとって反射光によるまぶしさをほとんどもたらすことがなく、鮮明な画像を見ることができる。従って、本発明の電磁波シールド性光透過窓材は視認性に優れたものであるということができる。
【００３９】
また、電磁波シールド性光透過窓材の製造方法において、防眩層と金属導電層とが気相成膜（ドライ製法）により製造されるので、簡便な製造方法であるといえる。従って、特に、第一防眩層及び金属導電層、或いは第一防眩層、金属導電層及び第二防眩層により窓材を作成した場合は、全てドライ製法で得られるので、極めて簡便な製造方法と言うことができる。
【００４０】
さらに本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、上記のように防眩性に優れ、電磁波シールド性も良好であり、さらにモアレの発生がほとんどなく、また開口率も高いことからも透明性にも優れている。このため、本発明の窓材は、プラズマディスプレーパネル（ＰＤＰ）の前面フィルタとして好適であり、また病院等の電磁波シールド性を必要とされる建築物の窓材料（例えば貼着用フィルム）等として有利に使用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
本発明の防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法及び電磁波シールド性光透過窓材について、以下に詳細に説明する。
【００４２】
本発明の製造方法によれば、メッシュの線幅が小さく、その開口率の大きい防眩層を備えた金属導電層を容易に得ることができ、従って得られる窓材は上記のように優れた透明性、防眩性を有するものである。
【００４３】
本発明の製造方法は、例えば以下のように行うことができる。図面を参照しながら説明する。
【００４４】
まず、図１に、本発明に従う防眩性に優れた窓材の作製方法の基本的な１例を説明するための概略断面図を示す。まず（１）に示すように透明基板１１上に水等の溶剤に対して可溶な材料（一般にポリマー）を用いてドット１２を印刷する。次いで、（２−１）に示すように、透明基板１１のドット１２の上及びドット１２の間の透明基板露出面のすべてを覆うように第１の防眩層１３をＣｕ2Ｓ等の無機化合物を真空蒸着等の気相成膜することにより形成する（但し、図１では、基板及びドットの全面に第１の防眩層が設けられているように描かれているが、実際は第１の防眩層は、主としてドットの表面及びドット間の基板表面に設けられ、ドット側面にはほとんど形成されていない）。その後、（３）に示すように、この第１防眩層１３の上に金属等を気相成膜することにより金属導電層１４を形成する。次いで、（４−１）に示すように、この透明基板１１上に形成された上記ドット及び２層を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。金属導電層１４を気相成膜で形成することにより、第１防眩層１３及び金属導電層１４の両方とも、ドライ処理により形成することができるので、製造が複雑化せず有利である。勿論、金属導電層を、金属等の微粒子を分散させた塗布液を塗布することにより形成することもできる。
【００４５】
上記洗浄により、（４−１）に示すように可溶性のドット１２が溶解し、このドット１２上の無機化合物の第１防眩層１３及び導電材料の金属導電層１４も透明基板１１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された金属導電層及び第１防眩層よりなる導電性パターン（導電層）が透明基板１１上に残る。この導電性パターンは、ドット１２間の領域を占めるものであるので、全体としてはメッシュ状（格子状）となる。これにより、本発明の窓材が得ることができる。
【００４６】
従って、ドット１２間の間隙を狭くしておくことにより、線幅の小さい格子状の導電性パターン（１３及び１４）を形成することができる。また、各ドット１２の面積を広くすることにより、開口率の大きなメッシュ状の導電性パターンが形成される。ドット１２を形成するための前記水等に対して可溶な印刷材料は、一般に微粒子を分散させる必要のないものであり、低粘性のものでも充分使用できる。この低粘性の印刷材料を使用することにより、微細なドットパターンとなるようにドットを印刷することができる。
【００４７】
なお、上記（４−１）の工程後、必要に応じ仕上げ洗浄（リンス）し、乾燥することにより、電磁波シールド性光透過窓材用の導電層が得られる。
【００４８】
このような導電層は、一般に、矩形の透明基板（一般にフィルム又はシート）上、或いは連続フィルム上に形成することができる。矩形の透明基板に導電層を形成した場合、各工程はバッチ式で行われ、連続フィルム上に形成された場合は、連続式、一般にロールトゥロール方式で行われる。
【００４９】
次ぎに、本発明本発明に従う防眩性に優れた窓材の作製方法における別の１例を説明するための概略断面図を図２に示す。ここでは、図１で得られた金属導電層にさらに第２の防眩層を設けて、よりいっそう防眩性を高めたものである。以下詳細に説明する。
【００５０】
まず（１）に示すように透明基板２１上に水等の溶剤に対して可溶な材料（一般にポリマー）を用いてドット２２を印刷する。次いで、（２−１）に示すように、透明基板２１のドット２２の上及びドット２２の間の透明基板露出面のすべてを覆うように第１の防眩層２３をＣｕ2Ｓ等の無機化合物を気相成膜することにより形成する。その後、（３）に示すように、この第１防眩層２３の上に金属等を気相成膜することにより金属導電層２４を形成する。次いで、（２−２）に示すように、金属導電層２４のすべてを覆うように第２の防眩層２５をＣｕ2Ｓ等の無機化合物を気相成膜することにより形成する。続いて、（４−２）に示すように、この透明基板２１上に形成された上記ドット及び３層を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。
【００５１】
上記洗浄により、（４−２）に示すように可溶性のドット２２が溶解し、このドット２２上の第１及び第２防眩層２３及び２５及び金属導電層２４も透明基板２１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された金属導電層及び第１及び第２防眩層よりなる導電性パターン（導電層）（２３、２４及び２５）が透明基板２１上に残る。この導電性パターンは、ドット２２間の領域を占めるものであるので、全体としてはメッシュ状（格子状）となる。これにより、本発明の窓材が得ることができる。
【００５２】
次ぎに、本発明本発明に従う防眩性に優れた窓材の作製方法における他の１例を説明するための概略断面図を図３に示す。ここでは、図１で得られた金属導電層を黒化処理して、よりいっそう防眩性を高めたものである。黒化処理により、一般に金属導電層の光沢を低下させる効果が得られる。以下詳細に説明する。
【００５３】
まず（１）に示すように透明基板３１上に水等の溶剤に対して可溶な材料（一般にポリマー）を用いてドット３２を印刷する。次いで、（２−１）に示すように、透明基板３１のドット３２の上及びドット３２の間の透明基板露出面のすべてを覆うように第１の防眩層３３をＣｕ2Ｓ等の無機化合物を気相成膜することにより形成する。その後、（３）に示すように、この第１防眩層３３の上に金属等を気相成膜することにより金属導電層３４を形成する。次いで、（５−１）に示すように、金属導電層３４の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層３６を形成する。図３では、金属導電層３４の極く薄い表面層部分（０．０１〜５μｍ）が黒化処理層３６となっている。（４−３）に示すように、この透明基板３１上に形成された上記ドット及び３層を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。
【００５４】
上記洗浄により、（４−３）に示すように可溶性のドット３２が溶解し、このドット３２上の第１防眩層３３、金属導電層３４及び黒化処理層３６も透明基板３１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された第１防眩層、金属導電層及び金属導電層よりなる導電性パターン（導電層）（３３、３４及び３６）が透明基板３１上に残る。この導電性パターンは、ドット３２間の領域を占めるものであるので、全体としてはメッシュ状（格子状）となる。これにより、本発明の窓材が得ることができる。
【００５５】
次ぎに、本発明本発明に従う防眩性に優れた窓材の作製方法における他の１例を説明するための概略断面図を図４に示す。ここでは、図１で得られた金属導電層をメッキ処理及び黒化処理して、よりいっそう防眩性を高めたものである。以下詳細に説明する。
【００５６】
まず（１）に示すように透明基板４１上に水等の溶剤に対して可溶な材料（一般にポリマー）を用いてドット４２を印刷する。次いで、（２−１）に示すように、透明基板４１のドット４２の上及びドット４２の間の透明基板露出面のすべてを覆うように第１の防眩層４３をＣｕ2Ｓ等の無機化合物を気相成膜することにより形成する。その後、（３）に示すように、この第１防眩層４３の上に金属等を気相成膜することにより金属導電層４４を形成する。次いで、この透明基板４１上に形成された上記ドット及び２層を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。
【００５７】
前記洗浄により、（４−４）に示すように可溶性のドット４２が溶解し、このドット４２上の第１防眩層４３及び金属導電層４４も透明基板４１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された第１防眩層及び金属導電層によりなる導電性パターン（導電層）（４３、４４）が透明基板４１上に残る。
【００５８】
続いて、（６）に示すように、金属導電層４４上に電気メッキによる金属メッキ層４７を形成する。そして、（５−２）に示すように、金属メッキ層４７の少なくとも表面を黒化処理して黒化処理層４６を形成する。これにより、本発明の窓材が得ることができる。図４では、金属メッキ層４７の極く薄い表面層部分（０．０１〜５μｍ）が黒化処理層４６となっている。なお、前記（４−４）の３層を水等による除去を、工程（６）、又は工程（５−２）の後に行っても良いが、一般に除去が困難となる。
【００５９】
前記洗浄により、（４−４）に示すように可溶性のドット４２が溶解し、このドット４２上の第１防眩層４３及び金属導電層４４も透明基板４１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された第１防眩層及び金属導電層によりなる導電性パターン（導電層）（４３、４４）が透明基板４１上に残る。
【００６０】
この方法では、透明基板４１上に残った導電性パターン（導電層）（４３、４４）に、さらにこの上に金属メッキ層４７及び黒化処理層４６が形成されている。従って、導電性パターンの厚さは一般に大きく、導電性に優れている。このようにして最終的に得られる導電性パターンは、ドット４２間の領域を占めるものであるので、全体としてはメッシュ状（格子状）となり、且つ導電性に優れたパターンと言うことができる。
【００６１】
以上説明した本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法によれば、導電層パターンの開口率が高く、光透過性、電磁波シールド性、及び、防眩性、視認性に優れた電磁波シールド性光透過窓材を効率良く得ることができる。
【００６２】
本発明の電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法に使用される材料について以下に説明する。
【００６３】
透明基板は、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にポリマーが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。
【００６４】
前記透明基板の厚さとしては、電磁波シールド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜５ｍｍ程度が好ましい。
【００６５】
前記工程（１）で行われるパターンの形成は、溶剤に可溶な物質を用いて形成される。本発明においては、前記のように、このような溶剤に可溶な物質を用いて、透明基板上にドットを形成した後、該溶剤に不溶な防眩層及び金属導電層を形成し、前記溶剤を用いて、ドットと、ドット上に形成された防眩層及び金属導電層とを除去する。
【００６６】
このようなドットの形成に使う材料としては、後の除去に用いる溶剤に溶解又は膨潤するものから選択する。例えば、溶剤として水系溶剤を用いる場合には水溶性材料が用いられ、溶剤として油系溶剤を用いる場合には油溶性材料が用いられる。前記溶剤としては、公知の有機溶媒等も挙げられるが、安価で、環境への影響を考慮すると、水が特に好ましい。水としては、通常の水（水道水、蒸留水、イオン交換水等）のほか、酸、アルカリ、界面活性剤等を含んだ水溶液であってもよい。
【００６７】
前記溶剤が水である場合、前記ドットの形成に使う材料としては、水溶性樹脂（例、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリル酸ナトリウム）等が好ましく、特に、良好な水溶性を有する点で、ポリビニルアルコールが好ましい。ドットの形成に用いる溶剤には、所望により、仕上がり状況を確認し易くするために顔料や染料等を混合してもよい。
【００６８】
前記ドットの形成方法としては、特に制限はなく、印刷、塗布、蒸着等の公知のドット形成方法が挙げられる。これらの中でも、より好適に、線幅が小さくかつ開口率の高い導電層等を形成可能な点で、印刷が好ましい。印刷手法としては、グラビア印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷等が挙げることができ、これらの中でも、より導電層等の細線化が可能な点で、グラビア印刷が特に好ましい。印刷においては、格子状の防眩層及び導電層をより好適に形成可能な点で、ネガ印刷により形成するのが特に好ましい。尚、「開口率」とは、透明基板の表面積に対する導電層の無い部分の面積の合計の面積比である。
【００６９】
前記ドットの形状としては、特に制限はなく、円、楕円、角形（四角形など）等を挙げることができるが、格子状の導電層が好適に形成され、開口率がより高く格子の線幅がより均一となる点で、四角形のドット状が好ましく、正方形のドット状が特に好ましい。該ドットが四角形の場合、その一辺の長さとしては、１００〜５００μｍ程度が好ましく、ドット間の間隙としては、より線幅の小さい格子状の導電層等を形成し得る点で、狭いのが好ましく、１〜５０μｍ程度が好ましく、得られる格子状の導電層等における線幅が３０μｍ以下となる程度の間隙が特に好ましい。前記パターンの厚さとしては、特に制限はないが、０．１〜５μｍ程度が好ましい。
【００７０】
前記ドットの形成に用いる材質には、導電性微粒子等を分散させる必要がないため、ドットの形成に用いる材質は低粘度である。従って、前述のようにドット間の間隙を極めて小さくしたドットが形成される。ドット間の領域は、防眩層及び導電層が形成される領域となるため、本発明においては、線幅が小さく、微細で精密で、開口率の高い格子状の防眩層及び金属導電層が好適に形成される。
【００７１】
前記第１又は第２防眩層の形成に使用される材料としては、形成された防眩層が前記溶剤に不溶であって、ＰＤＰ等の前面にフィルタとして用いた際に、外光の反射を低減可能であるように、金属硫化物、金属炭化物、炭素物質及び金属窒化物から選択される少なくとも１種の無機化合物が用いられる。色が茶及び／又は黒系の無機化合物（一般に黒、又は黒と茶色若しくは青色との混合色の無機化合物）が好ましい。無機化合物としては、金属硫化物、金属炭化物、金属窒化物が好ましく、特に金属硫化物が好ましい。防眩性、導電性、耐久性に優れている。
【００７２】
金属硫化物の好ましい例としては、ＣｕＳ（色：黒褐色）、Ｃｕ2Ｓ（色：黒褐色）、ＮｉＳ（色：黒色）、ＡｇＳ（色：黒色）、ＳｎＳ（色：暗褐色）、ＣｏＳ（色：黒色）を挙げることができる。中でもＣｕ2Ｓが、良好な防眩性が得られやすく好ましい。金属炭化物の好ましい例としては、ＴｉＣ（色：灰色）及びＳｉＣ（色：青黒色）を挙げることができる。中でもＣｕＳが、良好な防眩性が得られやすく好ましい。好ましい炭素物質としては黒鉛及びカーボンブラックを挙げることができる。好ましい金属窒化物としては、ＴｉＮ（色：黒色）を挙げることができる。これらは単独でも組み合わせて使用しても良い。
【００７３】
また、電磁波のシールド性により優れる点で、防眩層が導電性となるよう導電性物質を用いるのが特に好ましい。
【００７４】
上記防眩層の形成は、気相成膜により行われる。気相成膜法としては、通常の物理的真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着、ＣＶＤ法またはプラズマＣＶＤ法を挙げることができる。電子ビーム蒸着法が好ましい。電子ビーム蒸着は、４〜６×１０-6torrの条件で蒸着することが好ましい。
【００７５】
前記防眩層の厚さとしては、１００〜１００００Åが好ましく、１００〜１０００Åがより好ましい。前記厚さが、１００Å未満であると、光の反射防止効果が充分でないことがあり、一方１００００Åを超えると、ドットを除去するのが困難となり、又、斜視した際の見かけ上の開口率が低下することがある。
【００７６】
また、無機化合物の気相成膜により形成された防眩層は、一般に彩度が５．０以下である。これにより優れた防眩性が得られる。このような彩度の防眩層は、上記無機化合物を用いて、上記厚さに形成した場合に有利に得ることができる。彩度は、Ｌ*ａ*ｂ*表色系をａ*ｂ*をミノルタ分光側色計（ＣＭ−５０８ｉ）で測定した。測定はＪＩＳ−Ｚ−８７２９に従い測定した。
【００７７】
【数２】
2007142080.tif 000004
【００７８】
金属導電層としては、前記溶剤に不溶であれば特に制限はないが、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金、或いはＩＴＯ等の導電性酸化物等を含んでいるのが好ましい。特に金属が好ましい。導電性が優れ、防眩性にも有効である。
【００７９】
前記金属導電層の厚さとしては、０．５〜１００μｍ程度が好ましい。前記厚さが、０．５μｍ未満であると、電磁波シールド性能が充分でないことがあり、一方１００μｍを超えると、得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚さに影響を及ぼすと共に、視野角を狭くしてしまうことがある。
【００８０】
金属導電層の形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗布等が挙げることができるが、気相製膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。電子ビーム蒸着法が生産性が高く好ましい。電子ビーム蒸着は、４〜６×１０-6torrの条件で蒸着することが好ましい。前記導電層の形成の後、所望により、導電層上に前記防眩層を更に形成することにより、導電層の両側に防眩層が形成された電磁波シールド性光透過窓材を製造してもよい。
【００８１】
金属メッキ層は、導電性を向上させるためは設けることが好ましい。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００８２】
電気メッキ槽で使用されるメッキ液は、公知のメッキ液を使用することができ、一般に硫酸銅、シアン化銅、ピロリン酸銅及び硫酸ニッケル等の水溶液等を使用することが可能であり、好ましくは、硫酸銅又はピロリン酸銅の水溶液であり、特に経済性の点から、硫酸銅水溶液を使用することが好ましい。
【００８３】
金属メッキ層の厚さは、一般に０．２〜１０μｍの範囲であり、２〜８μｍの範囲が好ましい。厚さが１μｍ未満では電磁波シールド性が不十分であり、１０μｍを超えるとメッキ層が幅方向に広がりやすくなり、線幅が太くなるために開口率を低下させる傾向にある。
【００８４】
本発明では、黒化処理は、金属導電層或いは金属メッキ層に対して行われる。黒化処理としては、例えば、酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及びスズ−ニッケル等の合金メッキ処理を挙げることができる。金属導電層或いは金属メッキ層の金属が銅である場合には、酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及びスズ−ニッケル等の合金メッキ処理が一般的で、特に廃液処理の簡易性及び環境安全性の点から、酸化処理が好ましい。
【００８５】
上記黒化処理として酸化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には次亜塩素酸塩又は亜塩素酸塩と水酸化ナトリウム
の混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、次亜塩素酸塩又は亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液を使用することが好ましい。
【００８６】
上記黒化処理として硫化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には硫酸カリウム、硫酸バリウム及び硫酸アンモニウム等の水溶液を使用することが可能であり、好ましくは、硫酸カリウム及び硫酸アンモニウムであり、特に低温で使用可能である点から、硫酸アンモニウムを使用することが好ましい。
【００８７】
上記黒化処理として、クロムメッキ処理を行う場合には、黒化処理液として、一般にはクロム酸と酢酸の水溶液、及びクロム酸とケイフッ化水素酸の水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、クロム酸と酢酸の水溶液を使用することが好ましい。
【００８８】
上記により得られる黒化処理層は、極く薄い表面層であり、その厚さは、金属導電層又は金属メッキ層の厚さの表面から一般に０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍの範囲である。上記範囲より黒化処理層が薄くなると得られる黒色の度合いが十分でなく、また厚くなりすぎると電磁波シールド性が低下する。
【００８９】
前記のドット除去においては、溶剤により、通常、前記パターンと、前記パターン上に形成された防眩層及び金属導電層とを除去する。前記除去の方法としては、前記パターンと、前記パターン上に形成された防眩層及び金属導電層とを好適に取り除くことができれば特に制限はないが、例えば、前記溶媒による洗浄等が挙げられる。該洗浄の際には、所望により、超音波照射ブラシ、スポンジ等の溶解促進手段等を併用してもよい。前記除去により、溶媒に可溶な物質で形成されたパターンが溶解し、更に、パターン上に形成された防眩層及び導電層がパターンの溶解に伴い剥離し、パターン間の領域に形成された防眩層及び金属導電層のみが剥離せずに残存し、所望により仕上げ洗浄（リンス）し、乾燥させることにより、格子状の防眩層及び導電層が透明基板上に形成された電磁波シールド性光透過窓材が得られる。
【００９０】
本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、前記本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法により有利に得ることができる。本発明の窓材においても、透明基板、第１、第２防眩層及び金属導電層、さらに金属メッキ層としては、前記本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法において述べたのと同様のものを使用することができる。本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、導電層等における開口率が高いため光透過性が高く、防眩層を有するため反射が防止され視認性に優れる。また、モアレ現象が防止され、電磁波シールド性に優れる。
【００９１】
また本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、透明基板上に、少なくとも、防眩層及び金属導電層を有し、一般に防眩層及び導電層が、開口率７５％以上の格子状の層である。本発明の電磁波シールド性光透過窓材を得る方法としては、製造効率、及び、得られる電磁波シールド性光透過窓材における、防眩層及び導電層の開口率に優れる点で、前記本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法が特に好ましい。前記開口率としては、７５％以上であることが一般的であり、９０％以上が好ましい。前記開口率が、７５％に満たないと、光透過性が不充分となる。
【００９２】
図５は、本発明の電磁波シールド性光透過窓材を正面から見た概略構成図である。図５で、電磁波シールド性光透過窓材５０は、透明基板５１上に、例えば格子状の第１防眩層（不図示）、金属導電層５４及び黒化処理層５６をこの順に有する。
【００９３】
本発明の窓材の金属メッキ層（黒化処理層）上の表面抵抗率は、３Ω／□以下が好ましく、特に１Ω／□以下が好ましい。表面抵抗率が３Ω／□を超えると導電性が不充分で電磁シールド効果が満足でるものではない。
【００９４】
本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、前述のように開口率が高いため光透過性に優れ、防眩層を有するため防眩性、視認性に優れる。更に、モアレ現象が防止され、電磁波シールド性、熱線（近赤外線）カット性に優れるため、特に、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタや、病院等の電磁波シールドを必要とする建築物の窓材料（例えば貼着用フィルム）等として有用である。前記電磁波シールド性光透過窓材を、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）として用いる場合には、視認性の点で、防眩層が、透明基板上において観察者側に配されるよう使用するのが好ましい。
【００９５】
本発明のＰＤＰ等のディスプレー用フィルタは、上記電磁波シールド性光透過窓材を、ガラス板等の透明基体に貼り合わせることにより得ることができる。
【実施例】
【００９６】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００９７】
［実施例１］
＜電磁波シールド性光透過窓材の製造＞
厚さ５００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明基板）上に、ポリビニルアルコールの２０質量％水溶液を用いてドット状にパターンをグラビア印刷し、図２の（１）に示すように、透明基板２１上に、ドット２２を形成した。形成されたドットは、１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット間の間隙は２０μｍ、ドットの厚さは約５μｍであった。また、ドットは、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、正方格子状に規則的に配列させた。
【００９８】
次に、その上に、防眩性材料である黒褐色のＣｕ2Ｓを電子ビーム蒸着して、平均膜厚１０００Åの第１防眩層２３（図２の（２−１））を形成し、さらにその上にＣｕを電子ビーム蒸着して平均膜厚１０μｍの金属導電層２４（図２の（３））を形成した。さらに、その上に防眩性材料である黒褐色のＣｕ2Ｓを電子ビーム蒸着して平均膜厚１０００Åの第２防眩層２５（図２の（２−２））を形成した。
【００９９】
第１防眩層２３及び第２防眩層２５のＣ*（彩度）はともに３．５３０であった。
【０１００】
上記電子ビーム蒸着は、いずれも電子ビーム蒸着装置（ＥＧＬ−３５Ｍ；（株）アルバック製）を用いて、５×１０-6torrの条件で蒸着を行った。
【０１０１】
その後、得られた第１防眩層２３及び金属導電層２４を有するフィルムを、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット２２と、ドット上に形成された第１防眩層２３及び金属導電層２４とを除去し、図２の（４−２）に示すような電磁波シールド性光透過窓材を得た。
【０１０２】
得られた窓材を下記のようにして評価した。
【０１０３】
１．開口率の測定
前記電磁波シールド性光透過窓材における導電層の開口率（％）を以下のように測定・計算した。日立分光光度計（Ｕ−４０００；日立製作所社製）を用い、波長５５０ｎｍの光線透過率を測定し、空気界面での反射によるロスをキャンセルし、開口率とした。
【０１０４】
２．反射率の測定
前記電磁波シールド性光透過窓材の可視光反射率を以下のように測定した。結果を表１に示す。日立分光光度計（Ｕ−４０００；「日立製作所社製」）を用い、波長５５０ｎｍの光の５°正反射測定を行い、鏡面ミラーの反射率を１００％としてサンプルの可視光反射率を求めた。
【０１０５】
実施例１で得られた表面が防眩性を有する窓材は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅２０μｍ、開口率７７％で、金属導電層の厚さは１０μｍであった。また反射率は１５％であった。
【０１０６】
３．彩度の測定
得られた防眩層の彩度は、以下のように測定した。
【０１０７】
Ｌ*ａ*ｂ*表色系のａ*ｂ*をミノルタ分光側色計（ＣＭ−５０８ｉ）で測定した。測定はＪＩＳ−Ｚ−８７２９に準拠した。このａ*ｂ*の値に基づき下記の計算式より彩度を求めた：
【０１０８】
【数３】
2007142080.tif 000005
【０１０９】
なお、実施例１では、防眩層の形成を１．８ｍ／分の蒸着速度で行ったが、速度が大きすぎると彩度が５．０を超え、防眩性も低下し、好ましくなかった。
【０１１０】
蒸着速度とａ*ｂ*及び彩度（Ｃ*）の値を下記に示す：
【０１１１】
【表１】
2007142080.tif 000006
【０１１２】
［実施例２］
＜電磁波シールド性光透過窓材の製造＞
厚さ５００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明基板）上に、ポリビニルアルコールの２０質量％水溶液を用いてドット状にパターンをグラビア印刷し、図３の（１）に示すように、透明基板３１上に、ドット３２を形成した。形成されたドットは、１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット間の間隙は２０μｍ、ドットの厚さは５μｍであった。また、ドットは、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、正方格子状に規則的に配列させた。
【０１１３】
次に、その上に、防眩性材料である黒褐色のＣｕ2Ｓを電子ビーム蒸着して、平均膜厚１０００Åの第１防眩層３３（図３の（２−１））を形成し、さらにその上にＣｕを電子ビーム蒸着して平均膜厚１０μｍの金属導電層３４（図３の（３））を形成した。第１防眩層３３のＣ*（彩度）は３．５３０であった（彩度は実施例１と同様にして測定した）。
【０１１４】
上記電子ビーム蒸着は、いずれも電子ビーム蒸着装置（ＥＧＬ−３５Ｍ；（株）アルバック製）を用いて、５×１０-6torrの条件で蒸着を行った。
【０１１５】
次いで、得られた第１防眩層３３及び金属導電層３４を有するフィルムを、亜塩素酸ナトリウムの２０質量％水溶液（Ａ）、水酸化ナトリウムの２０質量％水溶液（Ｂ）及び水を、Ａ：Ｂ：水＝８：１３：７９の質量比で混合して得た黒化処理液に浸漬し、６０℃で５分間放置し、金属導電層３４に黒化処理を施した。黒化処理層の厚さは０．３μｍであった。
【０１１６】
その後、得られた第１防眩層３３、金属導電層３４及び黒化処理層３６を有するフィルムを、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット３２と、ドット上に形成された第１防眩層３３、金属導電層３４及び黒化処理層３６とを除去し、図３の（４−３）に示すような電磁波シールド性光透過窓材を得た。
【０１１７】
得られた窓材を下記のようにして評価した。
【０１１８】
開口率の測定及び反射率の測定を実施例１と同様にして測定した。
【０１１９】
実施例２で得られた表面が防眩性を有する窓材は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅２０μｍ、開口率７７％で、金属導電層の厚さは９．９μｍであった。また反射率は３％であった。
【０１２０】
［実施例３］
＜電磁波シールド性光透過窓材の製造＞
厚さ５００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（透明基板）上に、ポリビニルアルコールの２０質量％水溶液を用いてドット状にパターンをグラビア印刷し、図４の（１）に示すように、透明基板４１上に、ドット４２を形成した。形成されたドットは、１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット間の間隙は２０μｍ、ドットの厚さは５μｍであった。また、ドットは、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、正方格子状に規則的に配列させた。
【０１２１】
次に、その上に、防眩性材料である黒褐色のＣｕ2Ｓを電子ビーム蒸着して、平均膜厚１０００Åの第１防眩層４３（図４の（２−１））を形成し、さらにその上にＣｕを電子ビーム蒸着して平均膜厚１０μｍの金属導電層４４（図４の（３））を形成した。第１防眩層１３のＣ*（彩度）は３．５３０であった（彩度は実施例１と同様にして測定した）。
【０１２２】
上記電子ビーム蒸着は、いずれも電子ビーム蒸着装置（ＥＧＬ−３５Ｍ；（株）アルバック製）を用いて、５×１０-6torrの条件で蒸着を行った。
【０１２３】
その後、得られた第１防眩層４３及び金属導電層４４を有するフィルムを、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット１２と、ドット上に形成された第１防眩層４３及び金属導電層４４とを除去し、そして水でリンスした後、乾燥した（図４の（４−４））。
【０１２４】
次いで、得られた第１防眩層４３及び金属導電層４４がパターン状に形成されたフィルムを、メッキ液（ＣｕＳＯ4・５Ｈ2Ｏ：２２０ｇ／Ｌ；Ｈ2ＳＯ4：６０ｇ／Ｌ；塩素イオン：５０ｍｇ／Ｌ）を用いて５０℃にて電気メッキを行い、金属導電層４４上に厚さ１０μｍのＣｕの金属メッキ層４７を形成した（図４の（６））。
【０１２５】
亜塩素酸ナトリウムの２０質量％水溶液（Ａ）、水酸化ナトリウムの２０質量％水溶液（Ｂ）及び水を、Ａ：Ｂ：水＝８：１８：７９の質量比で混合して得た黒化処理液に浸漬し、６０℃で５分間放置し、金属メッキ層４７に黒化処理を施し、黒化処理層４６を形成した（図４の（５−２））。黒化処理層の厚さは０．３μｍであった。
【０１２６】
これにより図４の（５−２）に示すような電磁波シールド性光透過窓材を得た。
【０１２７】
得られた窓材を下記のようにして評価した。
【０１２８】
開口率の測定及び反射率の測定を実施例１と同様にして測定した。
【０１２９】
実施例３で得られた表面が防眩性を有する窓材は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅２０μｍ、開口率７７％で、金属導電層の厚さは１９．９μｍであった。また反射率は３％であった。
【０１３０】
上記実施例から、本発明により得られる電磁波シールド性光透過窓材は、優れた防眩性を有し、線幅が小さく、開口率の高い導電性パターンを有するものであることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【０１３１】
【図１】本発明に従う防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材の作製方法の基本的な１例を説明するための概略断面図である。
【図２】本発明に従う防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材の作製方法の別の１例を説明するための概略断面図である。
【図３】本発明本発明に従う防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材の作製方法における他の１例を説明するための概略断面図である。
【図４】本発明本発明に従う防眩性に優れた電磁波シールド性光透過窓材の作製方法における他の１例を説明するための概略断面図である。
【図５】本発明の電磁波シールド性光透過窓材の概略の正面図である。
【符号の説明】
【０１３２】
１１、２１、３１、４１、５１  透明基板
１２、２２、３２、４２  ドット
１３、２３、３３、４３  第１防眩層
１４、２４、３４、４４  金属導電層
２５  第２防眩層
３６、４６、５６  黒化処理層
４７  金属メッキ層
５０  電磁波シールド性光透過窓材
【図１】
2007142080.tif 000007
【図２】
2007142080.tif 000008
【図３】
2007142080.tif 000009
【図４】
2007142080.tif 000010
【図５】
2007142080.tif 000011