(57)【要約】【課題】液晶装置内部に浸入する水分等を低減する。【解決手段】第１延在部１６Ａは、シール材５２におけるＴＦＴアレイ基板１０の基板面、即ちシール領域１１０ａにおける積層構造９０の最上層を構成するＢＳＧ膜等の絶縁膜に臨む面の一部に接している。第１延在部１６Ａは、シール領域１１０ａのうち画像表示領域１０ａに近い側の領域でシール材５２及び積層構造９０に挟まれるようにして、シール材５２及び積層構造９０に密着している。このような第１延在部１６Ａによれば、無機配向膜１６の一部である第１延在部１６Ａがシール材５２と密着する密着力は、シール領域１１０ＡにおいてＢＳＧ膜等の絶縁膜から構成される積層構造９０とシール材５２とが密着する密着力より高く、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０をより強固に接着することが可能であり、且つ水分等の浸入も低減できる。【選択図】図５
2007248743.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板及び第２基板間に挟持された液晶層と、
前記第１基板上の表示領域の周辺に位置するシール領域に設けられたシール部と、
前記シール領域で前記シール部と部分的に重なるように、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板における前記液晶層に面する側の基板面において前記表示領域から前記シール領域に渡って延びており、且つ前記シール部における前記基板面側に臨む面に接する延在部を有しており、前記基板面に斜方蒸着法を用いて無機材料を蒸着させることによって形成された無機配向膜と
を備えたことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
第１基板と、
前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板及び第２基板間に挟持された液晶層と、
前記第１基板上の表示領域の周辺に位置するシール領域に設けられたシール部と、
前記シール領域で前記シール部と部分的に重なるように、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板における前記液晶層に面する側の基板面において前記シール領域から前記シール領域の外側の領域に渡って延びており、且つ前記シール部における前記基板面側に臨む面に接しており、前記基板面に斜方蒸着法を用いて無機材料を蒸着させることによって形成された無機配向膜と同一膜とされる無機膜と
を備えたことを特徴とする液晶装置。
【請求項３】
前記シール領域において前記シール部及び前記基板面間に介在しており、前記表示領域から前記外側の領域に向かう方向に沿って前記無機配向膜及び前記無機膜間で前記無機配向膜及び前記無機膜の夫々と間隔を隔てて配置されており、前記無機配向膜及び前記無機膜と同一膜とされる補助無機膜を備えたこと
を特徴とする請求項２に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記補助無機膜は、前記方向に沿って互いに間隔を隔てて配置された複数の第１補助無機膜であること
を特徴とする請求項３に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記無機配向膜は、前記シール領域において前記シール部の重なるように前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板における前記液晶層に面する側の基板面において前記表示領域から前記シール領域に渡って延びており、且つ前記シール部における前記基板面側に臨む面に接する延在部を有していること
を特徴とする請求項２から４の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記延在部は、前記表示領域から前記シール領域に向かう方向に沿って前記シール領域の中程まで延びていること
を特徴とする請求項１から５の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項７】
前記無機配向膜、前記無機膜、及び前記補助無機膜のうち少なくとも一の膜の表面は、シランカップリング剤を用いて表面処理されていること
を特徴とする請求項１から６の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項８】
第１基板と、前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板間に挟持された液晶層と、前記第１基板上の表示領域の周辺に位置するシール領域に設けられたシール部と、前記シール領域で前記シール部と部分的に重なるように、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板における前記液晶層に面する側の基板面において前記表示領域から前記シール領域に渡って延びており、且つ前記シール部における前記基板面側に臨む面に接する延在部を有する無機配向膜とを備えた液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法であって、
前記表示領域及び前記シール領域に渡って斜方蒸着法を用いて前記基板面に前記無機材料を蒸着させることによって蒸着膜を形成する蒸着工程と、
前記シール領域に前記延在部が残るように前記シール領域において前記前記蒸着膜を部分的に除去することによって、前記無機配向膜を形成する除去工程と
を備えたことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項９】
第１基板と、前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、第１基板及び第２基板間に挟持された液晶層と、前記第１基板上の表示領域の周辺に位置するシール領域に設けられたシール部と、前記シール領域で前記シール部と部分的に重なるように、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板における前記液晶層に面する側の基板面において前記シール領域から前記シール領域の外側の領域に渡って延びており、且つ前記シール部における前記基板面側に臨む面に接しており、前記表示領域に形成された無機配向膜と同一膜とされる無機膜とを備えた液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法であって、
前記表示領域から前記外側の領域に渡って前記基板面に斜方蒸着法を用いて無機材料を蒸着させることによって蒸着膜を形成する蒸着工程と、
前記シール領域に前記無機膜が残るように前記シール領域において前記蒸着膜を部分的に除去する除去工程と
を備えたことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１から７の何れか一項に記載の液晶装置を具備してなること
を特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶プロジェクタのライトバルブとして用いられる液晶パネル等の液晶装置、及びその製造方法、並びにそのような液晶装置を備えた液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の液晶装置の一例である液晶パネルでは、相対向するように配置された一対の基板がシール材を介して相互に接着されている。これら基板間に介在する液晶層は、シール材によって基板間に封止されており、当該液晶層の駆動によって画像表示が行われる表示領域が構成される。
【０００３】
他方、この種の液晶装置では、液晶分子の配向を規制するための液晶分子の配向モードとしては、電圧無印加状態で液晶分子が基板面に略平行で基板に垂直な方向にねじれた配向を持つツイステッド・ネマティック（Twisted Nematic）モードと、液晶分子が垂直に配向した垂直配向モードとが知られている。信頼性等の面から従来はＴＮモードが主流であったが、垂直配向モードがいくつかの優れた特性を持っているため、垂直配向モードの液晶装置が注目されている。
【０００４】
この種の液晶装置において垂直配向モードによって液晶分子を配向制御する場合、ポリイミド等の有機材料から形成された有機垂直配向膜だけでなく、ＳｉＯ又はＳｉＯ２等の無機材料を基板に斜方蒸着することによって形成された無機垂直配向膜が用いられており、表示性能を高めるための各種技術開発も行われている。例えば、無機蒸着膜の外周端境界線の付近で生じる配向ムラ等の表示欠陥を低減し、表示性能を高める技術が開示されている（例えば、特許文献１参照。）
【特許文献１】特開２００５−１０７４０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
この種の液晶装置の一例である無機垂直配向膜を備える液晶パネルでは、一対の基板の夫々の最上層に形成されたＩＴＯ等からなる画素電極或いはボロンドープ酸化膜（ＢＳＧ膜）等の絶縁膜と、シール材とを直接密着させた場合には十分な密着力を得ることができず、シール材と、画素電極及び絶縁膜との界面を介して外部から水分等の異物が液晶パネル内に浸入してしまい、液晶パネル内部に形成された液晶層及び無機垂直配向膜等の各構成要素を劣化させてしまう問題点がある。
【０００６】
他方、無機垂直配向膜及びシール材の接着力は、シール材と、画素電極及び絶縁膜との接着力より高いため、シール材が形成される領域全体に無機垂直配向膜を形成し、当該シール領域全体に形成された無機垂直配向膜とシール材とを直接接着することも考えられる。
【０００７】
しかしながら、無機垂直配向膜及びシール材の界面におけるシール性は、シール材及び画素電極等との界面より相対的に低く、水分等の異物が液晶パネル内部に浸入しやすくなる。したがって、接着力を高めるために、単に無機垂直配向膜をシール領域に形成するだけでは液晶パネルの表示性能の低下を抑制し、液晶パネルの信頼性を高めることは困難である問題点もある。
【０００８】
よって、本発明は上記問題点等に鑑みてなされたものであり、例えば、基板相互の接着力を高め、且つ水分等の異物の浸入によって生じる表示性能の低下を抑制できる液晶装置、及びその製造方法、並びにそのような液晶装置を具備してなる電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１の発明に係る液晶装置は上記課題を解決するために、第１基板と、前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板及び第２基板間に挟持された液晶層と、前記第１基板上の表示領域の周辺に位置するシール領域に設けられたシール部と、前記シール領域で前記シール部と部分的に重なるように、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板における前記液晶層に面する側の基板面において前記表示領域から前記シール領域に渡って延びており、且つ前記シール部における前記基板面側に臨む面に接する延在部を有しており、前記基板面に斜方蒸着法を用いて無機材料を蒸着させることによって形成された無機配向膜とを備える。
【００１０】
本発明の第１の発明に係る液晶装置によれば、第１基板及び第２基板は、例えば液晶等の液晶層を挟持しており、シール部によって相互に貼り合わせられている。複数の画素が配列されてなる画素領域、即ち画像が表示される表示領域は、第１基板の基板面のうちシール部の内側の領域に設けられている。ここで、本発明の「基板面」とは、当該基板の表面及び当該基板上に形成された積層構造の表面の両方を含む広い概念であることに留意されたい。
【００１１】
第１基板及び第２基板の一方は、例えば液晶分子等の液晶層を駆動するための駆動回路を有している。第１基板及び第２基板の夫々は、画素電極及び画素電極と対向する対向電極を有しており、液晶分子等の液晶層に電圧を印加し、表示領域に画像を表示する。第１基板における液晶層に面する側の基板面には、画素電極が形成されており、第２基板における層に面する側の基板面には、対向電極が形成されている。加えて、第１基板及び第２基板の夫々の基板面には、これら電極を覆うように、例えばＳｉＯ或いはＳｉＯ２等の無機垂直配向膜を構成する無機材料として汎用されている材料を画素電極及び対向電極を覆うように斜方蒸着させることによって形成された無機配向膜が形成されている。尚、本発明の第１の発明に係る液晶装置では、後述するように第１基板及び第２基板の夫々に形成された無機配向膜の少なくとも一方が延在部を有していればよい。
【００１２】
これら無機配向膜のうち少なくとも一方の無機配向膜が延在部を有している。延在部は、シール領域でシール部と部分的に重なるように、例えば第１基板とされるＴＦＴアレイ基板における液晶層に面する側の基板面において表示領域からシール領域に渡って延びており、且つシール部における当該基板面側に臨む面に接している。より具体的には、延在部は、シール領域において、例えば第１基板の基板面とされる絶縁膜の表面と、シール部における絶縁膜の表面に臨む側の面、即ち下面とによって部分的に挟まれていることになる。ここで、「部分的に」とは、延在部がシール部のシール領域の途中まで延在部が延びていることによって、シール部の下面の一部と接していることを意味する。したがって、シール部の下面のうち無機配向膜と接着されている領域における接着力が、絶縁膜と接着されている領域における接着力より高くなり、シール部を介して第１基板及び第２基板を強固に接着できる。
【００１３】
また、シール部を介して第１基板及び第２基板の接着力をより一層高めるためには、延在部は、第１基板及び第２基板の夫々の基板面に形成された無機配向膜の両方に設けられていることが好ましい。より具体的には、例えば対向基板とされる第２基板における液晶層に面する側の基板面では、ＴＦＴアレイ基板等の第１基板に形成され画素電極と相対向するように形成された対向電極がシール領域まで延びている。このような対向電極はＩＴＯ等の透明材料から形成されており、シール領域においてこの対向電極を部分的に覆うように無機配向膜が形成されている。即ち、無機配向膜のうちシール領域において対向電極を部分的に覆う部分が延在部に相当する。対向電極及びシール部間の接着力は低いため、延在部及びシール部における液晶層に臨む側の面である上面の一部を接着することによって、シール部の上面全体を対向電極に接着する場合に比べて、シール部を介した第１基板及び第２基板の接着をより強固なものとすることが可能である。
【００１４】
ここで、第１基板及び第２基板をより強固に接着するためには、シール領域の全体、即ち、シール部の下面全体に延在部が接していることが好ましいが、無機配向膜及びシール部間の接着力が高くなる反面、無機配向膜及びシール部の界面から水分等の異物が浸入し易い。したがって、本発明の第１の発明に係る液晶装置では、シール領域の途中まで延在部を延在させておくことによって、シール部及び基板面の界面を介して装置内部に浸入する水分等の異物を低減する。より具体的には、延在部は、例えば第１基板上のシール領域の途中まで延びているため、シール部及び第１基板の基板面を構成する絶縁膜の表面の間に延在部に対応した段差が設けられることなる。
【００１５】
このような段差によれば、シール部の下面全体が延在部に接している場合に比べて、水分等の異物が浸入する浸入経路を複雑にすることが可能であり、その分水分等の異物が装置内部に浸入し難くなる。これにより、水分等の異物によって、液晶装置の表示性能が低下することを抑制できる。同様に、シール領域において、第１基板上に形成された無機配向膜と同様に、例えば第２基板に形成された無機配向膜をシール領域の途中まで延在させておけば、対向電極のうちシール領域に延びる部分全体がシール部の上面全体と接する場合に比べて、装置内部に浸入する水分等の異物を低減できる。
【００１６】
よって、本発明の第１の発明に係る液晶装置によれば、ＴＦＴアレイ基板等の第１基板、及び対向基板等の第２基板をシール部を介して強固に相接着できることに加え、装置内部に浸入する水分等の異物を低減できる。したがって、本発明の第１の発明に係る液晶装置によれば、水分等の浸入に起因する液晶等の劣化を低減でき、表示性能の低下を抑制することが可能となる。これにより、液晶装置の表示品位を長期間に亘って維持でき、信頼性の高い液晶装置を提供できる。
【００１７】
本発明の第２の発明に係る液晶装置は上記課題を解決するために、第１基板と、前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板及び第２基板間に挟持された液晶層と、前記第１基板上の表示領域の周辺に位置するシール領域に設けられたシール部と、前記シール領域で前記シール部と部分的に重なるように、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板における前記液晶層に面する側の基板面において前記シール領域から前記シール領域の外側の領域に渡って延びており、且つ前記シール部における前記基板面側に臨む面に接しており、前記基板面に斜方蒸着法を用いて無機材料を蒸着させることによって形成された無機配向膜と同一膜とされる無機膜とを備える。
【００１８】
本発明の第２の発明に係る液晶装置では、第１基板及び第２基板の少なくとも一方の機基板面に、無機配向膜と同一膜とされる無機膜が無機配向膜とは別に設けられている点に特徴を有する。無機膜は、シール領域でシール部と部分的に重なるように、例えば第１基板における液晶層に面する側の基板面においてシール領域からシール領域の外側の領域に渡って延びており、且つシール部における基板面側に臨む面に接している。より具体的には、無機膜は、シール領域でシール部と部分的に重なっているため、シール領域でシール部における基板面側に臨む面の一部に接していることになる。このような無機膜によれば、上述の液晶装置と同様に、シール部及び基板面間に、無機膜の厚み応じて段差が設けられることになる。したがって、シール部における基板面側に臨む面、即ち、シール部における第１基板に臨む側の面である下面全体が無機膜を接する場合に比べて、水分等の異物の浸入経路を複雑にすることができ、水分等の浸入を低減することが可能である。加えて、ＳｉＯ或いはＳｉＯ２等の無機材料を斜方蒸着させてなる無機配向膜と同一とされる無機膜及びシール部との密着力は、第１基板の基板面を構成する絶縁膜等の表面及びシール部の密着力より高いため、シール部を介してより強固に第１基板及び第２基板を相接着することが可能である。
【００１９】
無機膜は、例えば無機材料を基板面に蒸着させることによって形成された蒸着膜のうちシール領域に延びる部分を除去することによって形成される。この際、蒸着膜のうちシール領域に延びる部分は無機配向膜とされる。したがって、無機膜は、無機配向膜と同一膜として形成される。
【００２０】
尚、本発明の第２の発明に係る液晶装置では、第１基板及び第２基板の夫々の基板面に無機膜が形成されていてもよい。第１基板及び第２基板の両方に無機膜を形成することによって、第１基板及び第２基板の一方に無機膜を形成する場合に比べてより一層基板同士の接着力を高めることができるとともに、装置内部に浸入する水分等の異物も低減できる。
【００２１】
以上説明したように、本発明の第２の発明に係る液晶装置によれば、本発明の第１の発明に係る液晶装置と同様に、表示品位を長期間に亘って維持でき、信頼性の高い液晶装置を提供できる。
【００２２】
本発明の第２の発明に係る液晶装置の一の態様では、前記シール領域において前記シール部及び前記基板面間に介在しており、前記表示領域から前記外側の領域に向かう方向に沿って前記無機配向膜及び前記無機膜間で前記無機配向膜及び前記無機膜の夫々と間隔を隔てて配置されており、前記無機配向膜及び前記無機膜と同一膜とされる補助無機膜を備えていてもよい。
【００２３】
この態様によれば、シール部及び補助無機膜が接している分、シール部を介した第１基板及び第２基板の接着力を高めることが可能である。より具体的には、補助無機膜は、無機膜及び無機配向膜と同一膜であるため、シール領域において第１基板の基板面を構成する絶縁膜等の表面よりシール部との密着力が高い。したがって、密着力が相対的に高い部分が増えることによって、シール部を介した第１基板及び第２基板の接着力が高められる。加えて、補助無機膜が設けられた分、シール領域における段差の個数が増えるため、水分等の異物の浸入経路がより複雑となり、装置内部に浸入する水分等をより一層低減することが可能である。
【００２４】
この態様では、前記補助無機膜は、前記方向に沿って互いに間隔を隔てて配置された複数の第１補助無機膜であってもよい。
【００２５】
この態様によれば、水分等の異物の浸入経路が更に複雑となり、装置内部に浸入する水分等の異物を低減できる。
【００２６】
本発明の第２の発明に係る液晶装置の他の態様では、前記無機配向膜は、前記シール領域において前記シール部の重なるように前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板における前記液晶層に面する側の基板面において前記表示領域から前記シール領域に渡って延びており、且つ前記シール部における前記基板面側に臨む面に接する延在部を有していてもおい。
【００２７】
この態様によれば、延在部がシール領域に延びている分、一方の基板及びシール部の間に形成される段差が増えることになり、装置内部に浸入する水分等の異物の浸入経路をより一層複雑にできる。これにより、水分等の浸入を低減できる。
【００２８】
本発明の第１及び第２の発明に係る液晶装置の他の態様では、前記延在部は、前記表示領域から前記シール領域に向かう方向に沿って前記シール領域の中程まで延びていてもよい。
【００２９】
この態様によれば、第１基板及び第２基板をシール部を介して相互に接着する接着力の向上、及び装置内部への浸入する水分等をシールするシール性の向上を実使用上支障内範囲で両立できる。ここで、「シール領域の中程」とは、表示領域からシール領域に向かう方向に沿ったシール領域の幅の中間付近を意味する。より具体的には、「中程」とは、シール領域の幅の中央から一定の幅を持った範囲であり、理論的、実験的、或いはシミュレーションによってシール領域の幅に沿って延在部の端を適切な位置に設定すればよい。
【００３０】
本発明の第１及び第２の発明に係る液晶装置の他の態様では、前記無機配向膜、前記無機膜、及び前記補助無機膜のうち少なくとも一の膜の表面は、シランカップリング剤を用いて表面処理されていてもよい。
【００３１】
この態様によれば、前記無機配向膜、前記無機膜、及び前記補助無機膜のうち少なくとも一の膜の表面とシール部との密着力を、未処理の場合に比べて高めることが可能であり、シール部を介した第１基板及び第２基板の接着をより強固にできる。
部分的に除去することによって、前記無機配向膜を形成する除去工程と方法であって、前記表示領域及び前記シール領域に渡って斜方蒸着法を用いて前記基板面に前記無機材料を蒸着させることによって蒸着膜を形成する蒸着工程と、前記シール領域に前記延在部が残るように前記シール領域において前記前記蒸着膜を部分的に除去することによって、前記無機配向膜を形成する除去工程とあって、前記表示領域及び前記シール領域に渡って斜方蒸着法を用いて前記基板面に前記無機材料を蒸着させることによって蒸着膜を形成する蒸着工程と、前記シール領域に前記延在部が残るように前記シール領域において前記前記蒸着膜を部分的に除去することによって、前記無機配向膜を形成する除去工程と面に前記無機材料を蒸着させることによって蒸着膜を形成する蒸着工程と、前記シール領域に前記延在部が残るように前記シール領域において前記前記蒸着膜を部分的に除去することによって、前記無機配向膜を形成する除去工程とシール領域に前記延在部を備える。
【００３２】
本発明の第３の発明に係る液晶装置の製造方法によれば、蒸着工程では、例えばＴＦＴアレイ基板とされる第１基板の基板面に斜方蒸着法を用いてＳｉＯ２等の無機材料を蒸着させることによって、基板面全体に蒸着膜を形成する。尚、第１基板だけでなく、第２基板の基板面にも同様の蒸着法を用いて蒸着膜を形成してもよい。第１基板及び第２基板の両方の蒸着膜を形成する場合には、後述する除去工程を経てこれら基板の両方に形成された無機配向膜の夫々が延在部を有することになる。
【００３３】
除去工程では、シール領域に延在部が残るように、例えば蒸着膜のうちシール領域に延びる部分を部分的に除去することにより、無機配向膜が形成される。より具体的には、例えば、基板面全体に蒸着膜を形成した後、プラズマ照射、ドライエッチング、或いはフォトエッチング等の汎用の除去法を用いてシール領域に延びる蒸着膜を除去することによって、延在部を有する無機配向膜を形成する。
【００３４】
本発明の第１の発明に係る液晶装置と同様に、水分等の浸入に起因する液晶等の劣化を低減でき、表示性能の低下を抑制可能な液晶装置を製造できる。表示品位を長期間に亘って維持でき、信頼性の高い液晶装置を製造できる。
【００３５】
本発明の第４の発明に係る液晶装置の製造方法は上記課題を解決するために、第１基板と、前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、第１基板及び第２基板間に挟持された液晶層と、前記第１基板上の表示領域の周辺に位置するシール領域に設けられたシール部と、前記シール領域で前記シール部と部分的に重なるように、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板における前記液晶層に面する側の基板面において前記シール領域から前記シール領域の外側の領域に渡って延びており、且つ前記シール部における前記基板面側に臨む面に接しており、前記表示領域に形成された無機配向膜と同一膜とされる無機膜とを備えた液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法であって、  前記表示領域から前記外側の領域に渡って前記基板面に斜方蒸着法を用いて無機材料を蒸着させることによって蒸着膜を形成する蒸着工程と、前記シール領域に前記無機膜が残るように前記シール領域において前記蒸着膜を部分的に除去する除去工程とを備える。
【００３６】
本発明の第４の発明に係る液晶装置の製造方法によれば、蒸着工程では、本発明の第３の発明に係る液晶装置の製造方法と同様に、基板面全体、即ち、基板面上の表示領域からシール領域の外側に領域に渡って蒸着膜を形成する。
【００３７】
除去工程では、シール領域に無機膜が残るように前記シール領域において前記蒸着膜を部分的に除去する。これにより、シール領域で互いに離間された無機配向膜及び無機膜が形成される。尚、シール領域において蒸着膜をする際には、プラズマ照射、ドライエッチング、或いはフォトエッチング等の汎用の除去法を用いればよい。
【００３８】
本発明の第４の発明に係る液晶装置によれば、本発明の第２の発明に係る液晶装置と同様に、シール部を介して第１基板及び第２基板を強固に接着でき、且つ水分等の浸入に起因する液晶層の劣化を低減できる。これにより、液晶装置の表示性能の低下を抑制することが可能となる。
【００３９】
本発明に係る電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の液晶装置を具備してなる。
【００４０】
本発明に係る電子機器によれば、上述した本発明に係る液晶装置を具備してなるので、高品位の表示が可能であり、且つ信頼性に優れた投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明に係る電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置等も実現することが可能である。
【００４１】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下、図面を参照しながら本発明の第１及び第２の発明に係る液晶装置、及び本発明の第３及び第４の発明に係る液晶装置の製造方法、並びに本発明に係る電子機器の各実施形態を説明する。
【００４３】
（第１実施形態）
先ず、図１乃至図５を参照しながら本発明の第１の発明に係る液晶装置の実施形態を説明する。
【００４４】
＜１−１：液晶装置の構成＞
先ず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。図１は、ＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素とともに対向基板の側からみた平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´断面図である。尚、以下で参照する各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならしめてある。本実施形態では、液晶装置の一例として、駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置１を例に挙げる。
【００４５】
図１及び図２において、本実施形態の液晶装置１では、本発明の「第１基板」の一例であるＴＦＴアレイ基板１０、及び、ＴＦＴアレイ基板１０と対向配置された、本発明の「第２基板」の一例である対向基板２０を備えている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、複数の画素部が配列されてなる表示領域の典型である画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。
【００４６】
シール材５２は、本発明の「シール部」の一例であり、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂、又は紫外線・熱併用型硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール材５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。
【００４７】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００４８】
周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。この一辺に沿ったシール領域よりも内側に、サンプリング回路７が額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。また、走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿ったシール領域の内側に、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。
【００４９】
ＴＦＴアレイ基板１０上には、対向基板２０の４つのコーナー部に対向する領域に、両基板間を上下導通材１０７で接続するための上下導通端子１０６が配置されている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００５０】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、駆動素子である画素スイッチング用のＴＦＴ（Thin Film Transistor）や走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図２には図示を省略してあるが、画像表示領域１０ａでは、この積層構造の最上層に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明材料からなる画素電極９ａが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。画素電極９ａは、後述する対向電極２１に対向するように、ＴＦＴアレイ基板１０上の画像表示領域１０ａに形成されている。画像表示領域１０ａの外側では、絶縁膜等の画素電極以外の他の部分が積層構造の最上層を構成する。ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０の面する側の表面、即ち画素電極９ａ上には、無機配向膜１６が画素電極９ａを覆うように形成されている。無機配向膜１６は、斜方蒸着法を用いて、例えばシリカ（ＳｉＯ２）等の無機材料をＴＦＴアレイ基板１０に蒸着させることによって形成されている。尚、配向膜１６及び後述する配向膜２２は、液晶装置１の動作時に液晶層５０を構成する液晶分子を垂直配向モードで配向制御する。尚、本実施形態では、無機配向膜１６及び２２の夫々が、本発明の第１の発明に係る「無機配向膜」の一例である。
【００５１】
対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上に、遮光膜が形成されていてもよい。この遮光膜は、例えば対向基板２０における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板２０において、この遮光膜によって非開口領域が規定され、遮光膜によって区切られた領域がバックライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜をストライプ状に形成し、この遮光膜と、ＴＦＴアレイ基板１０側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。
【００５２】
対向基板２０における液晶層５０に面する側には、ＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極２１が複数の画素電極９ａと対向するように形成されている。対向電極２１は、画素電極と同様にスパッタリング法等の汎用の薄膜形成法を用いて形成されるため、画像表示領域１０ａの周辺に位置するシール領域１１０ａにも対向電極２１と同一膜とされる薄膜が形成される。尚、以下では、説明の便宜上、対向電極２１と同一膜としてシール領域１１０ａに形成される薄膜も対向電極として称することにする。
【００５３】
対向基板２０の対向面上における、これら各種の構成要素が作り込まれた積層構造上には、例えばシリカ（ＳｉＯ２）等の無機材料からなる無機配向膜２２が形成されている。対向電極２１は、対向基板２０上の積層構造の最上層に配置されている。無機配向膜２２は、対向電極２１上に形成されている。
【００５４】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
【００５５】
次に、図３を参照しながら、配向膜１６の構成を詳細に説明する。図３は、図２に対応する断面の構成について、特に、ＴＦＴアレイ基板１０上に形成された配向膜１６による液晶の配向について模式的に示した図である。
【００５６】
図３において、ＴＦＴアレイ基板１０において液晶層５０と対向する側の基板面上に、ＴＦＴ等の各種構成要素を備えた積層構造９０が形成されており、積層構造９０の最上層に画素電極９ａが画素毎に形成されている。より具体的には、積層構造９０の最上層は、ボロンドープ酸化膜（ＢＳＧ膜）等から構成される絶縁膜である。画素電極９ａ上に、ＳｉＯ或いはＳｉＯ２等の無機材料の柱状構造物１６ａがＴＦＴアレイ基板１０の基板面に対して所定の角度をなして配列することにより、液晶分子を垂直配向モードで配向制御するための無機垂直配向膜として配向膜１６が形成されている。このように形成された配向膜１６は、表面形状効果により、液晶分子５０ａの配向状態を垂直配向モードによって規制できる。
【００５７】
尚、無機配向膜２２は、基本的には無機配向膜１６と同様の構成を有しているが、無機配向膜２２を構成する無機材料からなる柱上構造物が対向基板２０の基板面及び対向電極２１となす角度が、無機材料の柱状構造物１６ａがＴＦＴアレイ基板１０の基板面に対してなす所定の角度と異なっていてもよい。
【００５８】
液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなる、誘電率異方性が負である液晶分子５０ａからなる。液晶層５０は、画素電極９ａからの電界が印加されていない状態で、配向膜１６及び２２の夫々の表面で互いに異なるプレチルト角をなし、液晶装置１の動作時に垂直配向モードで配向制御される。
【００５９】
＜１−２：液晶装置の画像表示領域における回路構成＞
次に、図４を参照しながら、液晶装置１の画像表示領域１０ａにおける回路構成及びその動作を説明する。図４は、液晶装置１の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路である。
【００６０】
図４において、液晶装置１の画像表示領域１０ａを構成するマトリクス状に形成された複数の画素には、それぞれ、画素電極９ａと当該画素電極９ａをスイッチング制御するためのＴＦＴ３０とが形成されており、サンプリング回路７を介して画像信号ＶＩＤｉ（ｉ＝１、２、・・・、ｎ）が供給されるデータ線６ａが当該ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号ＶＩＤｉは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
【００６１】
ＴＦＴ３０のゲートにゲート電極３ａが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線１１ａ及びゲート電極３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｍを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されている。スイッチング素子であるＴＦＴ３０は一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎに応じた画素電位が画素電極９ａに所定のタイミングで書き込む。容量電極３００は、上下導通端子１０６に直接、或いは間接的に電気的に接続されている。対向電極２１には、容量電極３００に電気的に接続されており、固定電位である共通電位ＬＣＣＯＭが供給されている。
【００６２】
画素電極９ａを介して液晶層に書き込まれた所定レベルの画像信号ＶＩＤ１、ＶＩＤ２、・・・、ＶＩＤｎは、対向基板２０に形成された対向電極２１との間で一定期間保持される。液晶層５０は、印加される電圧レベルにより液晶分子の分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。
【００６３】
尚、ここで保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極９ａと対向電極２１との間に形成される液晶層容量と並列に蓄積容量７０を付加する。この蓄積容量７０は、走査線１１ａに並んで設けられ、固定電位側容量電極を含むとともに定電位に固定された容量電極３００を含んでいる。
【００６４】
以上の各回路部等の動作によって液晶装置１の動作時に画像が表示される。
【００６５】
＜１−３：液晶装置の詳細な構成＞
次に、図５を参照しながら液晶装置１の詳細な構成を説明する。図５は、図２に示した液晶装置１の断面上における領域Ｃ１を拡大して示した拡大図である。
【００６６】
図５において、液晶装置１が備える無機配向膜１６及び２２の夫々は、画像表示領域１０ａからシール領域１１０ａに延びる、本発明の第１の発明に係る「延在部」の夫々一例である第１延在部１６Ａ及び第２延在部２２Ａを夫々有している。
【００６７】
第１延在部１６Ａは、シール領域１１０ａでシール材５２と部分的に重なるように、ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０に面する側の基板面において画像表示領域１０ａからシール領域１１０ａに渡って延びている。したがって、第１延在部１６Ａは、シール領域１１０ａにおける画像表示領域１０ａに近い側の領域でシール材５２と部分的に重なっている。より具体的には、第１延在部１６Ａは、シール材５２におけるＴＦＴアレイ基板１０の基板面、即ちシール領域１１０ａにおける積層構造９０の最上層を構成するＢＳＧ膜等の絶縁膜に臨む面の一部に接している。第１延在部１６Ａは、シール領域１１０ａのうち画像表示領域１０ａに近い側の領域でシール材５２及び積層構造９０に挟まれるようにして、シール材５２及び積層構造９０に密着している。
【００６８】
このような第１延在部１６Ａによれば、無機配向膜１６の一部である第１延在部１６Ａがシール材５２と密着する密着力は、シール領域１１０ＡにおいてＢＳＧ膜等の絶縁膜から構成される積層構造９０とシール材５２とが密着する密着力より高く、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０をより強固に接着することが可能である。
【００６９】
シール材５２及びＴＦＴアレイ基板１０上の積層構造９０の密着力を高める観点からみれば、第１延在部１６Ａをシール領域１１０ａ全体に延在させておき、シール材５２の下面全体を第１延在部１６Ａに密着させることが好ましいとも考えられる。しかしながら、無機配向膜１６の一部である第１延在部１６Ａ及びシール材５２間の密着力が高くなる反面、第１延在部１６Ａ及びシール材５２の界面から水分等の異物が浸入し易くなる傾向にあることを本願発明者は確認している。したがって、本実施形態に係る液晶装置１では、シール領域１１０ａの途中まで第１延在部１６Ａを延在させておくことによって、シール材５２及び積層構造９０の界面を介して装置内部に浸入する水分等の異物を低減する。より具体的には、第１延在部１６Ａは、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域１１０ａの途中まで延びているため、シール材５２及び積層構造９０の表面の間において第１延在部１６Ａに対応した段差が形成されることになる。このような段差によれば、シール材５２の下面全体が第１延在部１６Ａに接している場合に比べて、水分等の異物が浸入する浸入経路を複雑にすることが可能であり、その分水分等の異物が装置内部に浸入し難くなる。したがって、第１延在部１６Ａに応じて形成される段差によって、装置内部に浸入する水分等の異物を低減でき、液晶装置１の表示性能が水分等によって劣化することを抑制することが可能である。
【００７０】
尚、装置内部に浸入する水分等の異物を低減、或いは防止する効果と、ＴＦＴアレイ基板１０及びシール材５２の密着力を高める効果のトレードオフを考慮すると、第１延在部１６Ａはシール領域１１０ａの中央まで延在されているのが好ましい。
【００７１】
このような第１延在部１６Ａを有する無機配向膜１６と同様に、無機配向膜２２はシール領域１１０ａに延びる第２延在部２２Ａを有している。対向基板２０側に形成された無機配向膜２２の一部であって、シール領域１１０ａに延びる部分である第２延在部２２Ａは、第１延在部１６Ａ及びシール材５２の下面の関係と同様に、シール領域１１０ａに延びる対向電極２１と部分的に接することによって、シール材５２の上面全体が第２延在部２２Ａに接する場合に比べて、対向電極２１及びシール材５２の間から装置内部に浸入する水分等の異物を低減でき、且つシール材５２及び対向基板２０の密着力を高めることが可能である。
【００７２】
また、無機配向膜１６及び２２のうち少なくとも一の膜の表面をシランカップリング剤を用いて表面処理しておけば、未処理の場合に比べてこれらの膜とシール材５２との密着力を高めることが可能であり、シール材５２を介したＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の接着をより強固にすることが可能である。
【００７３】
このように本実施形態に係る液晶装置１によれば、無機配向膜１６及び２２の夫々がシール領域１１０ａに延びる第１延在部１６Ａ及び第２延在部２２Ａを有しているため、シール材５２の上面及び下面の夫々でＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０とシール材５２の密着力が高められているとともに、装置内部に浸入する水分等の異物が低減されている。したがって、液晶装置１の表示性能の低下を抑制することが可能となり、液晶装置１の信頼性を高めることができる。
【００７４】
尚、本実施形態に係る液晶装置１は、無機配向膜１６及び２２の夫々が、第１延在部１６Ａ及び第２延在部２２Ａの夫々を有している場合を説明したが、第１延在部１６Ａが無機配向膜１６に設けられている場合だけでもよいし、第２延在部２２Ａが無機配向膜２２に設けられている場合だけでもよく、無機配向膜１６及び２２の少なくとも一方の無機配向膜が、シール領域１１０ａで部分的にシール材５２に重なる延在部を有していれば、水分等の異物を低減、或いは防止する効果は相応に得られる。
＜１−４：液晶装置の製造方法＞
次に図６乃至図８を参照しながら、本発明の第３の発明に係る液晶装置の製造方法の実施形態を説明する。尚、本実施形態に係る液晶装置の製造方法では、上述の液晶装置１を製造する場合を例に挙げる。図６は、液晶装置１の製造プロセスの各工程を説明するためのフローチャートである。図７は、斜方蒸着法によって蒸着膜を形成するために用いられる蒸着装置の構成を模式的に示した模式図である。図８は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の工程の一部を示した工程断面図である。尚、以下では上述の液晶装置１と共通する部分共通の参照符号を付し、詳細な説明を省略する。
【００７５】
図６において、ＴＦＴアレイ基板１０上に、例えば蒸着やスパッタリング等による成膜、エッチングやフォトグラフィ等によるパターンニング、熱処理などによって、データ線６ａや走査線１１ａ、ＴＦＴ３０等が作り込まれた積層構造９０（図３参照）の最上層に、例えばスパッタリングによりＩＴＯ等の透明導電材料からなる画素電極９ａを形成する（ステップＳ１１）。
【００７６】
続いて、斜方蒸着法を用いてシリカ（ＳｉＯ２）等の無機材料をＴＦＴアレイ基板１０に蒸着することで、ＴＦＴアレイ基板１０における画素電極９ａが形成された基板面上にシリカ（ＳｉＯ２）からなる無機配向膜１６を例えば約４０ｎｍの膜厚で形成する（ステップＳ１２）。この際、蒸着源から発生したシリカ（ＳｉＯ２）等の無機材料の蒸気流が、ＴＦＴアレイ基板１０の基板面上において、積層構造９０の最表面と接触することにより、積層構造９０上に無機材料が蒸着する。基板面上に蒸着した無機材料の柱状構造物１６ａが基板面に対して所定の角度をなして配列することで、無機材料が画素電極を覆うように基板面上に堆積する。
【００７７】
ここで、図７を参照しながらＴＦＴアレイ基板１０上に蒸着膜を形成する過程を詳細に説明する。尚、以下では、ＴＦＴアレイ基板１０上に蒸着膜を形成する場合を例に挙げるが、対向基板２０上に形成される蒸着膜も同様の方法を用いて形成される。
【００７８】
図７において、蒸着装置３００は、蒸着源３０２と、蒸着源３０２及び無機材料の被蒸着体であるＴＦＴアレイ基板１０を収容するチャンバー３０１を備えている。
【００７９】
ＴＦＴアレイ基板１０上の形成される蒸着膜のうち画像表示領域１０ａに延びる部分は、後述する工程を経て配向膜１６になる部分である。このような蒸着膜を構成する柱状構造物１６ａは、ＴＦＴアレイ基板１０の基板面に対する法線ＮＬと蒸着源３０２から無機材料が堆積される第１蒸着方向とがなす角（θａ）を調整することによって、基板面に対して伸びる角度が設定される。また、対向基板２０に蒸着膜を形成する場合には、第１蒸着方向と対向基板２０の基板面とがなす角（θｂ）を調整することによって、無機配向膜２２を構成する柱状構造物が対向基板２０の基板面となす角を調整できる。
【００８０】
再び図６において、上述のようにして得られる無機斜方蒸着膜のうち、シール領域に延びる部分の一部を除去することによって、画像表示領域１０ａからシール領域１１０ａの途中まで延びる第１延在部１６Ａを有する無機配向膜１６を形成する。
【００８１】
ここで、図８を参照しながら、蒸着膜形成工程（Ｓ１２）から、当該蒸着膜のうちシール領域に延びる部分を除去する除去工程（Ｓ１３）を詳細に説明する。
【００８２】
図８（ａ）において、ＴＦＴアレイ基板１０上の積層構造９０の表面に斜方蒸着法を用いて蒸着膜２１６を形成する。次に、図８（ｂ）において、シール領域１１０ａにおける画像表示領域１０ａに近い側の領域から画像表示領域１０ａに渡ってレジスト２００を形成し、レジスト２００の外側に露出する蒸着膜２１６をドライエッチング等の汎用のエッチング法を用いて除去する。その後、レジスト２００を除去することによって、ＴＦＴアレイ基板１０上における画像表示領域１０ａからシール領域１１０ａの途中まで延びる無機配向膜１６を形成する。尚、蒸着膜２１６を除去する際には、プラズマ照射、或いはフォトエッチング等の汎用の除去法を用いてもよい。
【００８３】
このようにして形成される無機配向膜１６は、表面形状効果により液晶層５０の液晶分子を配向させることができる。加えて、無機配向膜１６及び２２は、無機材料からなることで耐光性や耐熱性に優れ、ライトバルブとしての液晶装置の耐久性向上に寄与する。
【００８４】
再び図６において、無機配向膜１６及び２２の夫々の表面をシラン化合物を用いて表面処理する（Ｓ１４）。より具体的には、例えばシラン化合物を溶剤に溶解させたシラン化合物溶液を用いてＴＦＴアレイ基板１０が備える配向膜１６の液晶層５０に面する側の表面を処理する。この表面処理によって、配向膜１６の耐光性を高めることができる。この際、第１延在部１６Ａの表面もシラン化合物によって処理しておけば、第１延在部１６Ａ及びシール材５２の密着力を高めることが可能である。
【００８５】
次に、溶剤等の洗浄液を用いて、表面処理された無機配向膜１６を洗浄し（ステップ１５）、無機配向膜１６を乾燥させる（ステップ１５）。尚、対向基板２０には、ステップ１１乃至１６と並行して、或いは相前後して遮光膜５３及び対向電極２１が形成される（ステップ２１）と共に、無機配向膜２２が形成される（ステップ２２）。そして、ＴＦＴアレイ基板１０の場合と同様に、対向基板２０に形成された無機配向膜２２も、シール領域１１０ａにおいて当該対向基板２０に形成された蒸着膜のうちシール領域１１０ａに延びる部分を除去することによって第２延在部２２Ａが形成され、無機配向膜１６と同様に表面処理される（ステップ２４）。表面処理された無機配向膜２２は、洗浄（ステップ２５）及び乾燥（Ｓ２６）される。
【００８６】
その後、乾燥工程まで夫々終了したＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を、ＴＦＴアレイ基板１０において無機配向膜１６が形成された側と、対向基板２０において無機配向膜２２が形成された側とをシール材５２を介して貼り合わせる（ステップＳ３１）。
【００８７】
続いて、互いに貼り合わされた状態のＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に液晶を注入し（ステップＳ３２）、液晶装置１が形成される。
【００８８】
以上説明したように、本実施形態の液晶装置の製造方法によれば、上述した液晶装置１を製造することができる。
（第２実施形態）
＜２−１：液晶装置の構成＞
次に、図９乃至図１１を参照しながら、本発明の第２発明に係る液晶装置、及び本発明の第４の発明に係る液晶装置の製造方法の各実施形態を説明する。尚、本実施形態に係る液晶装置、及び液晶装置の製造方法は、シール領域１１０ａにおける構造が第１実施形態に係る液晶装置、及び液晶装置の製造方法と異なっている。このため、以下では、シール領域１１０ａにおける構造について詳細に説明し、第１実施形態に係る液晶装置に共通する他の部分の詳細な説明を省略する。
【００８９】
図９において、本実施形態に係る液晶装置は、無機膜１１７及び１２３を備えている点で第１実施形態に係る液晶装置１と異なる。無機膜１１７は、シール領域１１０ａでシール材５２と部分的に重なっている。無機膜１１７は、無機配向膜１６と同一膜であり、一旦ＴＦＴアレイ基板１０上に形成された一枚の蒸着膜のうちシール領域１１０ａに延びる部分を部分的に除去することによって形成されている。無機膜１１７は、ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０に面する側の基板面においてシール領域１１０ａからシール領域１１０ａの外側の領域に渡って延びており、且つシール材５２におけるＴＦＴアレイ基板１０の基板面側に臨む面に接している。より具体的には、無機膜１１７は、シール領域１１０ａでシール材５２と部分的に重なっているため、シール領域１１０ａにおいて、シール材５２におけるＴＦＴアレイ基板１０の基板面側に臨む面の一部に接していることになる。
【００９０】
このような無機膜１１７によれば、第１実施形態で説明した第１延在部１６Ａと同様に、シール材５２の下面及び積層構造９０の表面間に、無機膜１１７の厚み応じて段差が形成されることになる。したがって、シール材５２における積層構造９０の表面側に臨む面、即ち、シール材５２におけるＴＦＴアレイ基板１０に臨む側の面である下面全体が無機膜１１７に接する場合に比べて、水分等の異物の浸入経路を複雑にすることができ、水分等の浸入を低減することが可能である。加えて、ＳｉＯ或いはＳｉＯ２等の無機材料を斜方蒸着させてなる無機配向膜１６と同一膜とされる無機膜１１７及びシール材５２との密着力は、積層構造９０の表面とされる、例えばＢＳＧ膜等の絶縁膜の表面及びシール材の密着力より高いため、シール材５２を介してＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０をより強固に相接着することが可能である。
【００９１】
また、無機配向膜１６の一部がシール領域１１０ａにおいてシール材５２及び積層構造９０間に介在しているため、シール材５２及び積層構造９０の密着力向上、及び装置内部に浸入する水分等の異物の低減がより一層効果的に実現される。
【００９２】
尚、無機膜１２３も、無機膜１１７と同様に、無機配向膜２２と同一膜として形成されており、シール材５２の上面及び対向電極２１間の密着力を高めるとともに、水分等の異物が装置内部に浸入する浸入経路を複雑にすることによって、装置内部に水分等が浸入し難くなっている。加えて、無機配向膜２２の一部がシール領域１１０ａにおいて、シール材５２の上面及び対向電極２１間に介在しているため、シール材５２及び対向電極２１の密着力が向上している。
【００９３】
よって、本実施形態に係る液晶装置によれば、第１実施形態に係る液晶装置と同様に、シール材５２を介してＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を強固に接着でき、且つ水分等の浸入に起因する液晶層等の劣化を低減できる。これにより、液晶装置の表示性能の低下を抑制することが可能となり、液晶装置の信頼性を高めることが可能である。
【００９４】
尚、本実施形態に係る液晶装置では、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の夫々に無機膜１１７及び１２３の夫々が形成されているが、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の少なくとも一方に無機膜が形成されていれば、装置内部に浸入する水分等の異物の低減と、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板の接着力の向上効果は相応に得られえる。また、本実施形態では、無機配向膜１６及び２２の一部が、シール領域１１０ａに延びていることによって、装置内部に浸入する水分等の異物の低減と、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板の接着力の向上とがより一層発揮されるように形成されているが、無機配向膜１６及び２２の夫々がシール領域１１０ａに延びていない場合でも、無機膜１１７及び１２３の少なくとも一方が設けられていればよいことは言うまでもない。
【００９５】
加えて、無機配向膜１６及び２２は、シール領域１１０ａに延びる第１延在部１６Ａ及び第２延在部２２Ａの夫々を有しているため、無機配向膜１６及び２２が画像表示領域１０ａのみに形成されている場合に比べて、基板相互の接着力、及び装置内部への水分等の異物の浸入がより一層低減されている。
【００９６】
また、無機配向膜１６及び２２、並びに無機膜１１７及び１２３のうち少なくとも一の膜の表面をシランカップリング剤を用いて表面処理しておけば、未処理の場合に比べてこれらの膜とシール材５２との密着力を高めることが可能であり、シール材５２を介したＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の接着をより強固にすることが可能である。
【００９７】
このように、本実施形態に係る液晶装置によれば、第１実施形態に係る液晶装置１と同様に、表示品位を長期間に亘って維持でき、信頼性の高い液晶装置を提供できる。
【００９８】
（変形例）
次に、図１０を参照しながら本実施形態に係る液晶装置の変形例を説明する。本例に係る液晶装置は、無機配向膜及び無機膜間に補助無機膜を備えている点で上述の液晶装置と異なる。
【００９９】
図１０において、本例に係る液晶装置は、ＴＦＴアレイ基板１０上の積層構造９０の表面に形成された補助無機膜１１８と、対向基板２０上の対向電極２１の表面に形成された補助無機膜１２４を備えている。補助無機膜１１８及び１２４は、無機配向膜１６及び２２と同一膜と形成されており、無機材料を斜方蒸着法を用いて蒸着させてなる蒸着膜をシール領域１１０ａで部分的に除去することによって形成されている。
【０１００】
補助無機膜１１８は、シール領域１１０ａにおいてシール材５２及び積層構造９０の表面間に介在し、且つ画像表示領域１０ａからシール領域１１０ａの外側に向かう方向に沿って無機配向膜１６及び無機膜１１７の夫々と間隔を隔てて配置されており、シール材５２の下面に密着している。加えて、補助無機膜１１８は、無機配向膜１６及び無機膜１１７と同一膜であるため、シール領域１１０ａにおいて積層構造９０表面よりシール材５２との密着力が高い。したがって、積層構造９０との密着力が相対的に高い面積が増えることによって、シール材５２を介したＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の接着力を高めることが可能である。加えて、補助無機膜１１８の厚みに応じてシール領域１１０ａにおける段差の個数が増えるため、水分等の異物が装置内部に浸入する浸入経路が一層複雑となり、装置内部に浸入する水分等の異物を格段に低減できる。
【０１０１】
補助無機膜１２４は、シール領域１１０ａにおいてシール材５２及び対向電極２１の表面間に介在し、且つ画像表示領域１０ａからシール領域１１０ａの外側に向かう方向に沿って無機配向膜２２及び無機膜１２３の夫々と間隔を隔てて配置されており、シール材５２の上面に密着している。したがって、無機補助膜１１８と同様に、無機補助膜１２４によれば、シール材５２を介したＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の接着力を高め、且つ装置内部に浸入する水分等の異物を低減できる。
【０１０２】
尚、本例では、シール材５２からみてＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の夫々の側に無機補助膜１１８及び１２４の夫々が形成されているが、無機補助膜１１８及び１２４の少なくとも一方が形成されていれば、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の接着力の向上、及び水分等の浸入を低減する効果は相応に得られる。
【０１０３】
また、無機配向膜１６及び２２、無機膜１１７及び１２３、並びに補助無機膜１１８のうち少なくとも一の膜の表面をシランカップリング剤を用いて表面処理しておけば、未処理の場合に比べてこれらの膜とシール材５２との密着力を高めることが可能であり、シール材５２を介したＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の接着をより強固にすることが可能である。
【０１０４】
次に、図１１を参照しながら、本実施形態に係る液晶装置の他の変形例を説明する。
【０１０５】
図１１において、本例に係る液晶装置は、複数の第１補助無機膜１８Ａからなる補助無機膜１８と、複数の第１補助無機膜１２４Ａからなる補助無機膜１２４を備えている点に特徴を有する。
【０１０６】
第１補助無機膜１８Ａは、画像表示領域１０ａからシール領域１１０ａの外側に向かう方向に沿って互いに間隔を隔てて配置されている。したがって、一つの補助無機膜１８を設ける場合に比べて、第１補助無機膜１８Ａ及び積層構造９０の表面によって形成される段差の個数が増え、装置内部に浸入する水分等の異物の浸入経路がより一層複雑になる。このような段差を増やすことによって、装置内部に浸入する水分等の異物を低減することが可能となる。
【０１０７】
第１補助無機膜１２４Ａによれば、第１補助無機膜１１８Ａと同様に、第１補助無機膜１２４Ａ及び対向電極の表面によって形成される段差の個数を増やすことができ、装置内部に浸入する水分等の異物を低減することが可能となる。
【０１０８】
このように、本例に係る液晶装置によれば、無機配向膜及び無機膜間に一つの補助無機膜を形成する場合に比べて水分等の浸入を低減するシール性をより一層高めることが可能である。
【０１０９】
＜２−２：液晶装置の製造方法＞
次に、図１２を参照しながら、本発明に係る液晶装置の製造方法の実施形態を説明する。図１２は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の工程の一部を示した工程断面図である。尚、本実施形態に係る液晶装置の製造方法は、無機配向膜となるべき蒸着膜を除去する工程が第１実施形態に係る液晶装置の製造方法と異なるだけであり、他の工程は第１実施形態に係る液晶装置の製造方法と共通である。したがって、以下では、蒸着膜を形成する蒸着工程及び当該蒸着膜を部分的に除去する除去工程を詳細に説明し、その他の工程については詳細な説明を省略する。
【０１１０】
図１２（ａ）において、積層構造９０上に斜方蒸着法を用いてＳｉＯ２等の無機材料を蒸着させ、蒸着膜２１６を形成する。次に、図１２（ｂ）において、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域１１０ａとなるべき領域で部分的に開口する開口部２００ａを備えたレジスト２００を形成し、開口部２００ａから露出する蒸着膜２１６をドライエッチング等の除去法を用いて除去する。その後、レジスト２００を除去することによって、無機配向膜１６及び無機膜１１７が形成される。
【０１１１】
尚、補助無機膜１１８、或いは複数の第１補助無機膜１１８Ａからなる補助無機膜１１８を形成する場合には、これら補助無機膜、或いは第１補助無機膜のサイズ及び形成位置に応じて開口部２００ａのサイズ、及び開口数を設定しておけばよい。尚、対向基板２０側に形成される無機膜１２３、補助無機膜１２４及び第１補助無機膜１２４Ａも同様の工程で形成可能である。
【０１１２】
このように、本実施形態に係る液晶装置の製造方法によれば、上述したように基板相互の接着力が高められ、且つ装置内部への水分等の浸入を抑制されることによって信頼性が高められた液晶装置を製造できる。
【０１１３】
＜電子機器＞
次に、図１３を参照しながら上述した液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。本実施形態に係る電子機器は、上述の液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタである。図１３は、上述した液晶装置を備えた電子機器の一例であるプロジェクタの構成例を示す平面図である。図１３に示すように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６および２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇに入射される。
【０１１４】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、ＲおよびＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【０１１５】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転される。尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
【０１１６】
尚、本実施形態に係る電子機器によれば、上述の液晶装置を具備してなるので、信頼性に優れた投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】第１実施形態に係る液晶装置の平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】図２に対応する断面の構成について、無機配向膜１６による液晶の配向状態を模式的に示した図である。
【図４】第１実施形態に係る液晶装置の画像表示領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等の等価回路である。
【図５】図２に示した領域Ｃ１を拡大して示した拡大図である。
【図６】第１実施形態に係る液晶装置の製造方法のフローチャートである。
【図７】蒸着膜を形成するための蒸着装置の構成を模式的に示した模式図である。
【図８】第１実施形態に係る液晶装置の製造方法の工程の一部を示した工程断面図である。
【図９】第２実施形態に係る液晶装置における、図２の領域Ｃ１に対応する領域を拡大して示した拡大図である。
【図１０】第２実施形態に係る液晶装置の変形例における、図２の領域Ｃ１に対応する領域を拡大して示した拡大図である。
【図１１】第２実施形態に係る液晶装置の変形例の他の例における、図２の領域Ｃ１に対応する領域を拡大して示した拡大図である。
【図１２】第２実施形態に係る液晶装置の製造方法の工程の一部を示した工程断面図である。
【図１３】本実施形態に係る電子機器の一例の構成を示した平面図である。
【符号の説明】
【０１１８】
１・・・液晶装置、１０・・・ＴＦＴアレイ基板、１０ａ・・・画像表示領域、１６、２２・・・無機配向膜、１６Ａ・・・第１延在部、２２Ａ・・・第２延在部、２０・・・対向基板、５２・・・シール材、１１０ａ・・・シール領域
【図１】
2007248743.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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