(57)【要約】【課題】  オーバーフィールド光学系を採用した合成マルチビームスキャナの光量分布の適正化。【解決手段】  合成形のマルチビーム光源の少なくとも一方を天地逆取り付け可能な構成として、一方のレーザ光源の光軸傾き方向と、もう一方のレーザ光源の光軸傾き方向が、同じ側になるように天地を決定して設置する。さらに前記合成光源ユニット全体を光量プロファイルが画像中心と一致する位置に調整配置する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレーザ光源と、光源の合成手段と、前記複数の光源と光源の合成手段を載置するレーザ筐体と、偏向器と光学素子とこれらを収納する光学箱から構成されるオーバフィールド光学系の走査光学装置において、前記複数のレーザ光源の、それぞれの発光点の光軸角度Δθ並行について、少なくとも傾き方向が同一方向となるように設置する設置手段を備えたことを特徴とする走査光学装置。
【請求項２】
前記レーザ光源の少なくとも一方は天地逆に設置可能で、前記レーザ光源の発光点の光軸角度Δθ並行に応じて設置方向を選択して設置されることを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項３】
前記、レーザ筐体は光学箱上で、出射光軸にたいして、垂直な面内の水平方向に移動可能に保持されていることを特徴とする請求項１、又は請求項２に記載の走査光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主に複写機、レ−ザビ−ムプリンタ等の画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
複写機、レ−ザビ−ムプリンタ等の画像形成装置の走査光学装置においては、回転多面鏡により偏向されたレーザビームを、走査光学装置に設けたレーザ出射口から感光ドラムに向けて出射し、感光ドラムを走査し、静電潜像を形成する。この静電潜像は現像装置によってトナ−像に顕像化され、このトナ−像が記録紙に転写され、この後前記トナ−像の転写後の記録紙に定着装置によってトナ−が加熱定着されることによってプリントが行われる。
【０００３】
一般に走査光学装置は、光源のレーザ、偏向器、光学レンズ、ミラー、これらを収納する光学箱から構成されている。
【０００４】
また、光学構成としては、近年走査光学装置の高精細化、高速化が望まれていることから、オーバーフィールド光学系がある。偏向器のポリゴンミラーの反射面より主走査方向で長いビームを光源から照射して偏向動作を行うもので、ポリゴンミラーの各反射面の必要長さが短くて済む為、ポリゴンミラーの面数を多くすることが可能となる。このことは、偏向用モータの回転数を高くしなくても、例えば、アンダーフィールド光学系の6面のポリゴンミラーをオーバーフィールド光学系の12面にすることで、2倍の走査回数が達成されるということで、走査光学装置の高精細化、高速化には非常に有利な光学系と言える。また、同時にポリゴンミラーの外形を小さくすることが、可能となる為、偏向器の仕事量に占める割合が最も大きい、ポリゴンミラーの回転に因る風損が小さくて済み、騒音の減少、モータ駆動電流の減少といった環境、省エネルギー対応の面でも有効な光学系である。
【０００５】
さらに、レーザ光源のマルチビーム化によって、一度の走査で複数のスポットを形成する方法も、走査光学装置の高精細化、高速化には有効な技術である。
【０００６】
しかし、オーバーフィールド光学系の欠点として挙げられるものに、主走査方向での像高位置に因る光量ムラがあげられる。
【０００７】
この原因は、例えばポリゴンミラーの一反射面が光源と正対しているときは、その反射光の光量は、反射面長さに対応した量となるが、ポリゴンミラーの一反射面に、光源がある角度θで入射する時、その反射光量は、反射面長さのCOSθとなるためである。すなわち、画像中心部よりも、画像端部での光量が低くなる。
【０００８】
この現象はレーザ光源をマルチビーム化するとき、更に複雑となる。それは、先に説明した光量ムラは、正確には、レーザ光源の発光点の光軸方向がコリメート軸と一致している場合で、その時は、光量が最大となるのは正確に画像中心となるが、実際には、レーザ光源の発光点の光軸は傾いている為、光量が最大となるのは、画像中心から所定量シフトした位置となる。光量の最大ポイントが画像中心からシフトすると、先に説明したCOS曲線が左右非対称となるため画像最端部での光量の低下量が増える。
【０００９】
レーザ光源がマルチビーム化されると、それぞれのレーザ光源が各々の光軸傾き角を持つ為、複数の光量プロファイルが形成されることになる。
【００１０】
この欠点を緩和する対策の実施例として、
（１）特許文献１では、グラデーションNDフィルタを使う方法
（２）特許文献２では、電気補正を行う方法
（３）特許文献３では、レーザの光軸角度と放射角を規定の数値とする方法
が挙げられている。
【特許文献１】特開平１１―１４９２３号公報
【特許文献２】特開平４−２５５８７４号公報
【特許文献３】特開２００４−２９７５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、前記（１）、（２）の方法は単一の光量プロファイルにおける光量補正には有効であるが、複数の異なった光量プロファイルに対応することは困難となる。
【００１２】
また、前記（３）の方法は基本的にレーザチップの選別を前提とする為、その際、必然的に歩留まりの問題が発生する。
【００１３】
マルチビームのレーザ光源を使用しても、光量ムラに因る、画像不良が発生しない走査光学装置を提供することが本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、走査光学装置の複数のレーザ光源を光軸傾き方向が同じ側になるように設置し、前記レーザ光源を配置したレーザ筐体を、出射光軸に対して垂直な面内の水平方向に移動可能に保持したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
複数のレーザの光量プロファイルのずれが少なくなる為、プロファイルの中心移動、電気的なプロファイルの逆補正についても、簡単に行える為、光量ムラの少ない走査光学装置が実現出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
次に、本発明の詳細を実施例の記述に従って説明する。
【実施例１】
【００１７】
図１は本発明の実施例の構成を説明するための部分説明図であり、図２は全体構成の斜視図である。図３、図４は実施例の効果を説明する為の説明図である。
【００１８】
図２で走査光学装置は、光学箱１０、レーザ光源ユニット１、シリンダレンズ２、反射ミラー３、偏向器６、Fθレンズ４，５、９０度ミラー７ａ，７ｂ,トーリックレンズ８、折返しミラー９、蓋部材２０から構成されている。
【００１９】
光学箱１０の上側の片面において、レーザ光源ユニット１から、コリメート光として出射されたレーザビームは、シリンダレンズ２を経て水平面に対して垂直な方向に設置された反射ミラー３で折り返された後、Fθレンズ４，５の中央部を透過し光軸中心方向から正対して偏向器６へ向かう、偏向器へ向かうレーザビームは走査方向で偏向器の一反射面より長い線状のビームで、偏向器の反射面位置で副走査方向に結像される。偏向器で偏向走査されたレーザビームは、再びFθレンズ４，５を通過する。このとき、走査光はFθレンズによって、ドラム面での主走査速度が等速になるようにFθ補正が行われる。その後走査光は９０度ミラー７ａ，７ｂによって光学箱１０の下側の片面に誘導される。さらに、トーリックレンズ８を経て副走査方向に収束しながら、折り返しミラー９で、感光ドラムの方向に光路修正され、感光ドラムの感光面上を収束したレーザビームが定速度で走査する。
【００２０】
レーザ光源ユニット１については、レーザ光源１１ａ，１１ｂ，レーザ光源がそれぞれ圧入固定されるレーザ基台１２ａ，１２ｂ，コリメートレンズ１３ａ，１３ｂ、合成プリズム１４、1/2波長板１５、1/4波長板１６これらを収納するレーザ筐体１７から構成されている。
【００２１】
レーザ基台１２ａは上下対称で、レーザ光軸略中心部に設けられた円管状のリブ形状をレーザ筐体１７の穴形状１７ａに嵌合して、設置される。
【００２２】
即ち、レーザ基台１２はレーザ筐体１７に対して、天地どちら側にも設置可能な構成としている。
【００２３】
以上の構成で、レーザ光源１１ａから出射したレーザビームＡはコリメートレンズ１３ａによって平行光束化され、1/2波長板で、９０°偏光方向が回転される。次に合成プリズム１４の反射面１４ａを経て、偏光スプリッタ面１４ｂでさらに反射され1/4波長板１６を通過してシリンダレンズ２の方向に向かう。
【００２４】
レーザ光源１１ｂから出射したレーザビームＢはコリメートレンズ１３ｂによって平行光束化され、偏光スプリッタ面１４ｂを透過し，更に1/4波長板１６を通過してシリンダレンズ２の方向に向かう。
【００２５】
レーザ光源ユニット１はレーザ光源１１とレーザ光源１１を合成プリズム１４で、例えば６００ｄｐｉの時、感光ドラム面上で約４２μのビーム間ピッチを持つ一体のマルチビームとなるように合成するもので、ビーム間ピッチの調整は（本発明では説明を省略するが）合成プリズム１４を移動することによって行う。
【００２６】
レーザ基台１２ａ及びレーザ基台１２ｂに圧入固定された、レーザ光源１１ａ、１１ｂはそれぞれの発光光軸の傾きＡ，Ｂを持っていて、一般にその角度は、２°程度以下である場合が多いが、傾き方向が図３で示したように反対方向にずれていると、図４（イ）で示すように、ＡレーザとＢレーザで、光量プロファイルにプロファイルズレが生じる。
【００２７】
そこで、その場合は、レーザ基台１２を１８０°回転して、天地逆の状態で設置すると、発光光軸の傾き方向が同方向となる為、図４（ロ）で示すように、光量プロファイルのズレ量は小さくなる。しかしながら、このままでは光量プロファイルのピーク位置が画像中心にたいして、偏芯している為、光源ユニット１全体を右方向に移動する。その時の光量プロファイルが図４（ハ）に示すもので、光量プロファイルのピーク位置が画像中心と一致する為、画像域での光量ムラが最小に出来る。
【００２８】
尚、本実施例では、各レーザ光源の発光点数が１ビームの場合について説明したが、発光点数が複数の1チップマルチレーザを光源とした時も、同様な方法で同等の効果が期待できる。それは、1チップマルチレーザの場合チップ内での複数発光点の光軸傾きの相対差は小さい為である。
【００２９】
また、本実施例では、光軸傾きの調整を,合成プリズムに対して、反射側のレーザ基台１２ａを天地逆とする方法で実施したが、合成プリズムに対して、透過側となるレーザ基台１２ｂを天地逆とすることでも、同様の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の実施例の構成を説明するための部分説明図。
【図２】本発明の実施例の構成を説明するための全体構成斜視図。
【図３】本発明の実施例の効果を説明する為の部分説明図。
【図４】本発明の実施例の効果を説明する為の説明図。
【符号の説明】
【００３１】
１  レーザ光源ユニット
２  シリンダレンズ
３  反射ミラー
４  Fθレンズ1
５  Fθレンズ2
６  偏向器
７ａ，７ｂ  ９０度ミラー
１０  光学箱
１１ａ，ｂ  レーザ光源
１２ａ，ｂ  レーザ基台
１４  合成プリズム
２０  蓋部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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