(57)【要約】      （修正有）【課題】各種飲食料品の製造設備に付着したフレーバー、特にパッキン等に付着したフレーバーを効率よく除去し、且つすすぎ性が良好なＣＩＰ用脱臭剤組成物およびＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物ならびにこれらを用いた脱臭洗浄方法を提供する。【解決手段】  （Ａ）シクロデキストリン、（Ｂ）エーテルカルボン酸またはそのアルカリ塩、（Ｃ）非イオン界面活性剤、（Ｄ）可溶化剤および（Ｅ）水を含有することを特徴とするＣＩＰ用脱臭剤組成物、さらに（Ｆ）無機酸および／または有機酸（ただし、高級脂肪酸を除く。）を含有するＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物を用いる。また、上記脱臭剤組成物と、市販の酸性ＣＩＰ洗浄剤とを混合調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液、あるいは、上記脱臭洗浄剤組成物を用いて、各種飲食料品の製造設備における酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行うことを特徴とする洗浄方法を用いる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）シクロデキストリン、（Ｂ）エーテルカルボン酸またはそのアルカリ塩、（Ｃ）非イオン界面活性剤、（Ｄ）可溶化剤および（Ｅ）水を含有することを特徴とするＣＩＰ用脱臭剤組成物。
【請求項２】
前記（Ａ）成分のシクロデキストリンが、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリンおよびシクロデキストリン誘導体から選ばれる少なくとも一種である、請求項１記載のＣＩＰ用脱臭剤組成物。
【請求項３】
前記（Ｂ）成分のエーテルカルボン酸またはそのアルカリ塩が、ポリオキシエチレン（１〜２０）オクチルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）デシルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）ラウリルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）ミリスチルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）パルミチルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）オレイルエーテル酢酸およびこれらのアルカリ塩から選ばれる少なくとも一種である、請求項１〜２のいずれか一項に記載のＣＩＰ用脱臭剤組成物。
【請求項４】
前記（Ｃ）成分の非イオン界面活性剤が、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、脂肪族アルコールアルコキシレート、プルロニック型非イオン界面活性剤、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステルおよびエチレンジアミンのポリオキシアルキレン付加物から選ばれる少なくとも一種である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のＣＩＰ用脱臭剤組成物。
【請求項５】
前記（Ｄ）成分の可溶化剤が、安息香酸，パラトルエンスルホン酸，メタキシレンスルホン酸，クメンスルホン酸、オクテニルコハク酸およびこれら酸のアルカリ塩、ならびに、アニオン界面活性剤、水溶性溶剤から選ばれる少なくとも一種である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のＣＩＰ用脱臭剤組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のＣＩＰ用脱臭剤組成物に、さらに（Ｆ）無機酸および／または有機酸（ただし、高級脂肪酸を除く。）を含有することを特徴とするＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のＣＩＰ用脱臭剤組成物と、酸性ＣＩＰ洗浄剤とを混合調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液を用いて、酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行うことを特徴とする飲料あるいは食品の製造設備の洗浄方法。
【請求項８】
請求項６に記載のＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物を希釈調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液を用いて、酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行うことを特徴とする飲料あるいは食品の製造設備の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は各種飲料または食品（以下、本明細書において「飲食料品」という。）の製造設備に付着したフレーバー、特にパッキン等に付着したフレーバーを効率よく除去するＣＩＰ用脱臭剤組成物およびＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物ならびにこれらを用いた洗浄方法に関する。
【０００２】
さらに詳しくは、この洗浄剤に各種酸を含有せしめることにより、酸洗浄と脱臭の両工程をワンステップで実施し得るＣＩＰ洗浄剤組成物に関する。また、本発明は、ＣＩＰ洗浄のみならず、飲食料品の製造装置の洗浄に有用な洗浄剤組成物にも関する。
【背景技術】
【０００３】
近年、嗜好の多様化に伴い、各種フレーバーを用いた飲料や食品が多く製造されている。
【０００４】
しかし、この種の飲食料品はフレーバー臭を有するため、この製造設備、特にパッキン等にフレーバー臭が強固に付着してしまい、その脱臭が大きな課題となっている。
【０００５】
特に、食品工場や、飲料工場では、製造設備を分解することなく、内部の洗浄を行うＣＩＰ洗浄（定置洗浄）が多く用いられるが、このＣＩＰ洗浄において、フレーバー臭の脱臭が課題となっている。
【０００６】
フレーバー臭の脱臭技術としては、従来、酸性洗浄剤および／またはアルカリ性洗浄剤を用いて、酸洗浄工程とアルカリ洗浄工程とを組み合わせる方法や繰り返し行う方法のほか、これらの方法で洗浄した後に、次亜塩素酸ナトリウム，過酢酸，過炭酸塩等の酸化剤やお茶エキス等を循環接触させて脱臭処理を行う方法等が採用されている。しかしながら、こうした洗浄方法や脱臭処理を行ってもなお、フレーバー臭に対する十分な脱臭効果が得られていない。
【０００７】
また、特開２００３−４９１９３号公報には、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル等の特定の非イオン界面活性剤を主成分として含有するＣＩＰ洗浄用脱臭剤組成物が提案されているが、製造設備への損傷が少なく、低泡ではあるものの、依然としてフレーバー臭に対する課題の解決に至っていない（特許文献１を参照）。
【０００８】
特開２００５−２０６７９４号公報には、特定の一般式で表される脂肪酸、エ−テルカルボン酸、ジグリセライド又はトリグリセライド及び脂肪酸エステルの群から選択される一種又は複数種を０．００５〜３０．０重量％或いはこれに無機酸及び／又は有機酸を０．０１重量％以上含有して構成され、さらに必要に応じて可溶化剤を０．００５〜３０重量％（いずれも純分換算）含有して構成されるＣＩＰ洗浄剤が記載されている。そして、食品、飲料等の製造設備に付着したフレーバー、特にパッキン等に付着したフレーバーを効率よく除去するとともに、低泡性で、さらに酸洗浄と脱臭の両工程をワンステップで実施し得るＣＩＰ洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法が開示されている（特許文献２を参照）。
【０００９】
特開２００５−２００６２７号公報には、所定のＳＰ値を有する溶剤Ａ及び非イオン界面活性剤等の界面活性剤Ｂを含有させ、ＣＩＰ（定置洗浄）洗浄において効率良く残存フレーバーを除去でき、洗浄後に溶剤臭が殆ど残存しないＣＩＰ用洗浄剤組成物が開示されている（特許文献３を参照）。さらに詳しくは、炭素数５〜２４の炭化水素化合物等の２５℃でのＳＰ値が６〜９である溶剤Ａ及び非イオン界面活性剤等の界面活性剤Ｂを含有するものであり、溶剤Ａ及び界面活性剤Ｂを含有する洗浄媒体１を被洗浄物に接触させ、並びに界面活性剤Ｂを含有し、溶剤Ａの濃度が０．５重量％未満である洗浄媒体２を被洗浄物に接触させるものである。上記溶剤Ａとしては、特に炭素数１０〜１４の脂肪族炭化水素が好ましく、デカン、イソデカン、ウンデカン、イソウンデカン、ドデカン、イソドデカン、トリデカン、イソトリデカン、テトラデカン、イソテトラデカン、Ｃ１２−α−オレフイン等が挙げられている。また、上記界面活性剤Ｂは、非イオン界面活性剤、特にポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、グリフィンの計算式によるＨＬＢ値が３以上８未満のものが好ましいとの記載がなされている。
【００１０】
シクロデキストリンを用いた殺菌剤組成物や食物の洗浄剤について、特開平６−２５６７９２号公報には、洗浄剤基材に、全体の０．８ｗｔ％以上の単環式テルペン（例えば、タイワンヒノキの精油、ヒノキチオ−ル、リモネン等）を配合し、被洗浄部に対して殺菌性及び抗菌性を有するサイクロデキストリンにより包接されたリモネンを含有する抗菌性薬用洗浄剤水溶液、抗菌性薬用石ケン、および抗菌性薬用乳液が開示されている（特許文献４を参照）。
【００１１】
また、特表２００２−５０４１７５号公報には、可溶化未複合シクロデキストリン０．０１〜２０ｗｔ％（以下％）と水性キヤリア及び、必要に応じてシクロデキストリン適合性界面活性剤０．０１〜５％またはシクロデキストリン適合性の水溶性抗微生物活性剤０．０００１〜０．８％とを含有し、必要に応じて，金属イオン封鎖剤／ビルダー０．０００５〜０．５％，親水性香料０．００３〜０．５％、低分子量ポリオール０．０１〜３％，アミノカルボキシレーター０．００１〜０．３％、消泡剤０．０１〜２％、臭気効果改善用金属塩０．１〜１０％、酵素０．００１〜０．５％、水溶性抗微生物保存剤０．００１〜５％、補助臭気抑制剤０．０１〜３％を添加したｐＨ３以上で、重量平均径１０〜１２０μｍの小滴を分散させたシクロデキストリンを含有した食品クリ−ニング組成物組成物が開示されている（特許文献５を参照）。
【特許文献１】特開２００３−４９１９３号公報
【特許文献２】特開２００５−２０６７９４号公報
【特許文献３】特開２００５−２００６２７号公報
【特許文献４】特開平６−２５６７９２号公報
【特許文献５】特表２００２−５０４１７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の課題は、各種飲食料品の製造設備に付着したフレーバー、特にパッキン等に付着したフレーバーを効率よく除去し、且つすすぎ性が良好なＣＩＰ用脱臭剤組成物およびＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物ならびにこれらを用いた脱臭洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討をおこなった結果、（Ａ）シクロデキストリン、（Ｂ）エーテルカルボン酸またはそのアルカリ塩、（Ｃ）非イオン界面活性剤、（Ｄ）可溶化剤および（Ｅ）水を含有することを特徴とするＣＩＰ用脱臭剤組成物（以下、「脱臭剤組成物」ともいう。）、さらに（Ｆ）無機酸および／または有機酸（ただし、高級脂肪酸を除く。）を含有するＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物（以下、「脱臭洗浄剤組成物」ともいう。）を提供できるに至った。
また、上記脱臭剤組成物と、市販の酸性ＣＩＰ洗浄剤あるいは（Ｆ）無機酸および／または有機酸（ただし、高級脂肪酸を除く。）とを混合調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液を用いて、酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行うことを特徴とする飲料あるいは食品の製造設備の洗浄方法、さらに、上記脱臭洗浄剤組成物を用いて、飲食料品の製造設備における酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行うことを特徴とする洗浄方法を提供できるに至った。
【００１４】
すなわち、本発明は、（Ａ）シクロデキストリン、（Ｂ）エーテルカルボン酸またはそのアルカリ塩、（Ｃ）非イオン界面活性剤、（Ｄ）可溶化剤および（Ｅ）水を含有するＣＩＰ用脱臭剤組成物を第１の要旨とする。
【００１５】
なかでも、上記（Ａ）成分のシクロデキストリンが、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリンおよびシクロデキストリン誘導体から選ばれる少なくとも一種であるＣＩＰ用脱臭剤組成物を第２の要旨とし、上記（Ｂ）成分のエーテルカルボン酸またはそのアルカリ塩が、ポリオキシエチレン（１〜２０）オクチルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）デシルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）ラウリルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）ミリスチルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）パルミチルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）オレイルエーテル酢酸およびこれらのアルカリ塩から選ばれる少なくとも一種であるＣＩＰ用脱臭剤組成物を第３の要旨とする。
【００１６】
また、上記（Ｃ）成分の非イオン界面活性剤が、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、脂肪族アルコールアルコキシレート、プルロニック型非イオン界面活性剤、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステルおよびエチレンジアミンのポリオキシアルキレン付加物から選ばれる少なくとも一種であるＣＩＰ用脱臭剤組成物を第４の要旨とし、上記（Ｄ）成分の可溶化剤が、安息香酸，パラトルエンスルホン酸，メタキシレンスルホン酸，クメンスルホン酸、オクテニルコハク酸およびこれら酸のアルカリ塩、ならびに、アニオン界面活性剤、水溶性溶剤から選ばれる少なくとも一種であるＣＩＰ用脱臭剤組成物を第５の要旨とする。
【００１７】
そして、上記のＣＩＰ用脱臭剤組成物に、さらに（Ｆ）無機酸および／または有機酸（ただし、高級脂肪酸を除く。）を含有するＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物を第６の要旨とする。
【００１８】
また、上記のＣＩＰ用脱臭剤組成物と、酸性ＣＩＰ洗浄剤とを混合調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液を用いて、酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行う各種飲料あるいは食品の製造設備の洗浄方法を第７の要旨とする。
【００１９】
そしてまた、上記のＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物を希釈調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液を用いて、酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行うことを特徴とする各種飲料あるいは食品の製造設備の洗浄方法を第９の要旨とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、（Ａ）シクロデキストリン、（Ｂ）エーテルカルボン酸またはそのアルカリ塩、（Ｃ）非イオン界面活性剤、（Ｄ）可溶化剤および（Ｅ）水を含有するＣＩＰ脱臭剤組成物、さらに（Ｆ）無機酸および／または有機酸（ただし、高級脂肪酸を除く。）を含有するＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物を用いることにより、洗浄性、低泡性、スケール防止性および貯蔵安定性に優れることはもとより、特に各種飲食料品の製造設備に付着したフレーバー、特にパッキン等に付着したフレーバーを効率よく除去し、且つ優れたすすぎ性が得られる。特に、（Ａ）シクロデキストリン、および（Ｂ）エーテルカルボン酸またはそのアルカリ塩の併用により、優れた脱臭性を得ることができる。
【００２１】
また、上記ＣＩＰ用脱臭剤組成物と、酸性ＣＩＰ洗浄剤とを混合調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液を用いるか、あるいは、ＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物を希釈調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液を用いることにより、酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行うことを特徴とする各種飲料あるいは食品の製造設備の洗浄方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
つぎに、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。
【００２３】
本発明に用いられる（Ａ）成分であるシクロデキストリンとしては、特に制限はないが、広く公知のシクロデキストリンを用いることができる。例えば、６〜１２個のグルコース単位を含有する未置換シクロデキストリン、特にα−シクロデキストリン、β−シクロデキストリンおよびγ−シクロデキストリン等、および／またはそれらの誘導体、および／またはそれらの混合物が挙げられる。
ドーナツ形の環に配置されたグルコース単位をα−シクロデキストリンは６個、β−シクロデキストリンは７個、そしてγ−シクロデキストリンは８個含んでおり、グルコース単位の特定のカップリングおよび配置により、シクロデキストリンは、特定の容積の内部中空を有する硬い円錐分子構造を有している。
【００２４】
シクロデキストリン誘導体では、主に、いくつかのＯＨ基がＯＲ基に変えられているシクロデキストリン分子からなる。
【００２５】
シクロデキストリン誘導体の例としては、短鎖アルキル基を有するものとしては、例えばＲがメチルまたはエチル基であるメチル化シクロデキストリンおよびエチル化シクロデキストリンが、また、ヒドロキシアルキル置換基を有するものとしては、例えばＲが−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ３または−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＨ基であるヒドロキシプロピルシクロデキストリンおよび／またはヒドロキシエチルシクロデキストリンが、そして枝分かれシクロデキストリンとしては、例えばマルトース結合シクロデキストリンが、さらに陽イオンシクロデキストリンとしては、例えば低ｐＨで陽イオン性である、Ｒが−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）２である２−ヒドロキシ−３−（ジメチルアミノ）プロピルエーテルを含むものが、また第４アンモニウム誘導体としては、例えばＲが−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−Ｎ+（ＣＨ３）３Ｃｌ−である２−ヒドロキシ−３−（トリメチルアンモニオ）プロピルエーテルクロリド基を含むものが、そしてまた陰イオンシクロデキストリンとしては、例えばカルボキシメチルシクロデキストリン、硫酸シクロデキストリン、およびシクロデキストリンサクシニレートが、両性シクロデキストリンとしては、例えばカルボキシメチル／第４アンモニウムシクロデキストリンが挙げられる。
これらは、単独で用いても、あるいは二種以上を併用して用いることもできる。
なかでも、飲食料品のフレーバーに対する脱臭性能の点から、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリンが好ましい。
【００２６】
上記（Ａ）成分のシクロデキストリンの組成物中における含有量は、純分換算で０．１〜２．０質量％、好ましくは０．５〜１．５質量％である。０．１質量％未満では、所望の脱臭性能に乏しく、また、すすぎ性能向上が充分に発揮されない場合があり、また、２．０質量％を超えると、他の成分とのバランスから、貯蔵安定性に乏しい場合がある。
【００２７】
本発明に用いられる（Ｂ）成分であるエーテルカルボン酸およびそのアルカリ塩としては、ポリオキシエチレン（１〜２０）オクチルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）デシルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）ラウリルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）ミリスチルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）パルミチルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１〜２０）オレイルエーテル酢酸およびこれらのナトリウム塩，カリウム塩等が挙げられる。
これらは、単独で用いても、あるいは二種以上を併用して用いることもできる。
そして、これらのなかでも、ポリオキシエチレン（３．０）オレイルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（５．０）ミリスチルエーテル酢酸、ポリオキシエチレン（１０．０）オレイルエーテル酢酸が好ましく用いられる。
【００２８】
上記（Ｂ）成分のエーテルカルボン酸およびそのアルカリ塩の組成物中における含有量は純分換算で０．２〜１５質量％、好ましくは０．６〜１０質量％、さらに好ましくは１．２〜５質量％である。０．２質量％未満ではフレーバーの脱臭性能が充分に発揮されない場合があり、また、１５質量％を超えると、フレーバーの脱臭性能は飽和となる場合があり、さらに経済的にも好ましくない。
【００２９】
本発明に用いられる（Ｃ）成分である非イオン界面活性剤としては、例えば、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、脂肪族アルコールアルコキシレート、プルロニック型非イオン界面活性剤、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステルおよびエチレンジアミンのポリオキシアルキレン付加物等が挙げられる。
【００３０】
ポリオキシアルキレンアルキルエーテルとしては、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンパルミチルエーテル、ポリオキシエチレンミリスチルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンパルミチルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンミリスチルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンラウリルエーテル等が挙げられ、さらに詳しくは、商品名「エマルミンＣＯ−５０」（三洋化成工業社製）、商品名「ノイゲンＸＬ−８０」（第一工業製薬社製）、商品名「エマルミン４０」（三洋化成工業社製）等が挙げられる。
【００３１】
また、脂肪族アルコールアルコキシレートとしては、例えば、商品名「プルラファックＬＦ４３１」（ＢＡＳＦ社製）や、末端の水酸基の一部をアルキル基（例えば、メチル基等）で封鎖した脂肪族アルコールアルコキシレートである、商品名「プルラファックＬＦ４０３」（ＢＡＳＦ社製）、商品名「プルラファックＬＦ２３１」（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【００３２】
そして、プルロニック型非イオン界面活性剤としては、例えば、商品名「プルロニックＬ６１」（旭電化工業社製）、商品名「プルロニックＬ２５Ｒ−２」（旭電化工業社製）、商品名「Ｐｌｕｒｏｎｉｃ  ＰＥ−６１００」（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【００３３】
そしてまた、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステルとしては、例えば、商品名「ソルボンＴ４０」（東邦化学工業社製）、商品名「ソルボンＴ６０」（東邦化学工業社製）、商品名「ソルボンＴ８０」（東邦化学工業社製）、商品名「ソルボンＴ８５」（東邦化学工業社製）、商品名「レオドールＴＷ−Ｌ１２０」（花王社製）、商品名「レオドールＴＷ−Ｌ１０６」（花王社製）、商品名「レオドールＴＷ−Ｓ１０６」（花王社製）、商品名「レオドールＴＷ−Ｏ１０６Ｖ」（花王社製）、商品名「レオドールＴＷ−ＩＳ３９９Ｃ」（花王社製）等が挙げられる。
【００３４】
さらに、エチレンジアミンのポリオキシアルキレン付加物としては、エチレンジアミンのポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリマー付加物が挙げられ、例えば、商品名「テトロニックＴＲ７０」（旭電化工業社製）、商品名「テトロニックＴＲ９１３Ｒ」（旭電化工業社製）等が挙げられる。
【００３５】
上記（Ｃ）非イオン界面活性剤におけるポリオキシアルキレンとしては、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン、ポリオキシアミレン等が挙げられる。上記非イオン界面活性剤において、エチレンオキサイドの付加モル数は１〜３０であり、また、プロピレンオキサイドの付加モル数は１〜３０であって、且つ、ＨＬＢ値は１〜１８の範囲であることが好ましく、特にすすぎ性と低泡性の点から３〜１０の範囲であることが好ましい。
【００３６】
これらは、単独で用いても、あるいは二種以上を併用して用いることもできる。
【００３７】
上記（Ｃ）成分の非イオン界面活性剤の組成物中における含有量は純分換算で０．３〜８質量％、好ましくは０．５〜６質量％、さらに好ましくは１〜４質量％である。０．３質量％未満では所望の脱臭性能に乏しい場合があり、また、８質量％を超えると、すすぎ性に劣る場合がある。
【００３８】
本発明に用いられる（Ｄ）成分である可溶化剤としては、例えば、アニオン界面活性剤、水溶性溶剤、安息香酸、パラトルエンスルホン酸、メタキシレンスルホン酸、クメンスルホン酸およびこれら酸のアルカリ塩等が挙げられる。
【００３９】
さらに詳しくは、アニオン活性剤としては、アルキル硫酸塩、アルファオレフインスルホン酸塩、アルキル燐酸エステル塩、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフエニルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸塩、Ｎ−ラウロイルサルコシン塩、オレオイルサルコシン塩、ポリオキシエチレン脂肪酸アミドエーテル硫酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩等が挙げられる。また、水溶性溶剤としては、エタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコールエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルプロピレングリコール、ヘキシレングリコール等が挙げられる。そして、安息香酸、パラトルエンスルホン酸、メタキシレンスルホン酸、クメンスルホン酸、オクテニルコハク酸およびこれら酸のアルカリ塩としては、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、パラトルエンスルホン酸ナトリウム、パラトルエンスルホン酸カリウム、メタキシレンスルホン酸ナトリウム、メタキシレンスルホン酸カリウム、クメンスルホン酸ナトリウム、クメンスルホン酸カリウム、オクテニルコハク酸ナトリウム、オクテニルコハク酸カリウム等が挙げられる。
これらは、これらは、単独で用いても、あるいは二種以上を併用して用いることもできる。
【００４０】
上記（Ｄ）成分の可溶化剤の組成物中における含有量は純分換算で１〜４０質量％、好ましくは３〜３５質量％、さらに好ましくは５〜３０質量％である。１質量％未満では所望の貯蔵安定性が得られない場合があり、また、４０質量％を超えると、さらなる貯蔵安定性の向上は認められない場合があり、また、他の成分とのバランスから好ましくない場合がある。
【００４１】
本発明に用いられる（Ｅ）成分である水としては、例えば、純水、イオン交換水、軟水、蒸留水、水道水等が挙げられる。これらは、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも、経済性及び貯蔵安定性の点から、水道水、イオン交換水が好ましく用いられる。なお、「水」は、本発明のＣＩＰ用消臭剤組成物およびＣＩＰ用脱臭洗浄剤組成物を構成する各成分に由来する結晶水や水溶液の形で含まれる水と、その他の外から加えられる水との総和であり、組成物全体が１００質量％となるように配合される。
【００４２】
本発明に用いられる（Ｆ）成分である無機酸および／または有機酸としては、例えば、無機酸では、スルファミン酸、燐酸、硝酸、硫酸、塩酸等が挙げられ、また、有機酸としては、ギ酸、酢酸、ヒドロキシ酢酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、アジピン酸、琥珀酸、乳酸、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、ヘプトン酸等が挙げられる。
これらは、単独で用いても、あるいは二種以上を併用して用いることもできる。
【００４３】
上記（Ｆ）成分の無機酸および／または有機酸の組成物中における含有量は純分換算で５〜５０質量％、好ましくは１５〜４０質量％、さらに好ましくは２０〜３０質量％である。５質量％未満では、酸による所望の洗浄性能に乏しい場合があり、また、４０質量％を超えると、更なる洗浄性能の向上が認められない場合があり、また経済的にも好ましくない。
【００４４】
また、本発明に用いられる酸性ＣＩＰ洗浄剤としては、市販のものを使用することができ、例えば、商品名：パンケレートＭＳ１（大三工業社製）、商品名：パンケレートＶＣ（大三工業社製）、商品名：パンケレートＶ４０（大三工業社製）、商品名：パンケレートＶＰ（大三工業社製）、商品名：パンケレートＭＳ２（大三工業社製）、商品名：パンケレートＶＳ１０（大三工業社製）などが挙げられる。
【００４５】
本発明のＣＩＰ用脱臭剤組成物およびＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物には、必要に応じて、殺菌剤、消泡剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、脂肪酸、キレート剤等を任意に含有することもできる。
【００４６】
上記任意成分であるカチオン界面活性剤としては、カチオン系界面活性剤としては、各種第四級アンモニウム塩が好ましく、具体的には、アルキルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムアジペート、ジデシルジメチルアンモニウムグルコネート、ジデシルモノメチルハイドロキシエチルアンモニウムクロライド、ジデシルモノメチルハイドロキシエチルアンモニウムアジペート、ジデシルモノメチルハイドロキシエチルアンモニウムグルコネート、ジデシルモノメチルハイドロキシエチルアンモニウムスルホネート、ジデシルジメチルアンモニウムプロピオネート、ヘキサデシルトリブチルフォスフォニウムが挙げられる。特に殺菌力の強さの点からアルキル基の炭素数は１０〜１６に設定することが好ましい。また、ビグアナイド系カチオン界面活性剤としては、ポリヘキサメチレンビグアナイドなどが挙げられる。
【００４７】
そして、両性界面活性剤としては、両性イオン界面活性剤としては、ラウリルベタインなどのアルキルベタイン型両性界面活性剤、ラウロイルアミドプロピルベタイン等のアミドベタイン型両性イオン界面活性剤、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチルイミダゾリニウムベタイン、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチルイミダゾリニウムベタイン等のイミダゾリン型両性イオン界面活性剤、アルキルスルホベタイン型両性イオン界面活性剤、ヤシ脂肪酸アミドジメチルヒドロキシプロピルスルホベタインなどのアミドスルホベタイン型両性界面活性剤、Ｎ−アルキル−β−アミノプロピオン酸塩、Ｎ−アルキル−β−イミノジプロピオン酸塩、β−アラニン型両性界面活性剤、グリシンｎ−（３−アミノプロピル）−Ｃ10〜16誘導体等のアルキルポリアミノエチルグリシンのナトリウム塩や塩酸塩などが挙げられる。
【００４８】
また、脂肪酸としては、炭素数６〜２２の直鎖または分岐鎖の脂肪酸が挙げられ、さらに詳しくは、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ウンデシレン酸等が挙げられる。
【００４９】
本発明のＣＩＰ用脱臭剤組成物およびＣＩＰ用脱臭洗浄剤組成物の製造方法としては、特に制限はなく、各成分を攪拌混合すること等の、通常の方法で製造することができる。
【００５０】
本発明における洗浄方法としては、本発明のＣＩＰ用脱臭剤組成物と酸性ＣＩＰ洗浄剤とを混合調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液を用いて、各種飲料あるいは食品の製造設備における酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行うことができる。
【００５１】
また、これに換えて、本発明のＣＩＰ用酸性脱臭洗浄剤組成物を希釈調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液を用いて、各種飲料あるいは食品の製造設備における酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行うこともできる。
【００５２】
このほか、上記酸性脱臭洗浄剤希釈液を、スポンジ、たわし、ブラシ等を用いた手洗いあるいは浸漬による各種食品・飲料等の製造工程に用いられる機械器具の分解された部品の洗浄に用いることもできる。また、高圧洗浄機用としても用いることができる。
【実施例】
【００５３】
つぎに、実施例について比較例と併せて記載し説明する。
【００５４】
後記表１〜１２に示す実施例１〜５０および比較例１〜１０の組成（各表の数値の単位は質量％である。）の供試ＣＩＰ用脱臭剤組成物および供試ＣＩＰ用脱臭洗浄剤組成物を調整し、その脱臭性、すすぎ性、低泡性、スケール防止性、貯蔵安定性および洗浄性の６項目について試験し評価した。表中における各成分の配合量は有り姿で示すとともに、各成分の有効成分量（質量％、「％」と略して示す。）について後記のとおり示した。また、各種試験の結果を後記表１〜１２に併せて示した。
なお、各試験項目の試験方法、評価基準は、以下に示すとおりである。
【００５５】
〔脱臭性試験〕
・試験方法
（１）着香テストピースの調整
脱臭試験に供される着香テストピースは次のようにして調製した。
まず、ＥＰＤＭパッキン（日阪製作所ＥＸ１５ＰＫＧ）を長さ４０ｍｍに裁断し、次いで、この裁断片をアップル飲料にそれぞれ全浸漬し、９５℃の温度で８時間加熱した。その後、裁断片を取り出し、６０℃の温度の流水で５分間濯いだ後、室温で乾燥し、アップル飲料のフレーバー臭の移った着香テストピースとした。
（２）操作
上記着香テストピースを、供試ＣＩＰ用脱臭剤組成物または供試ＣＩＰ用脱臭洗浄剤組成物の３質量％希釈液を２００ｍｌに１本づつ投入し、７０℃の温度で保温しながら２０分間攪拌した。その後、着香テストピースを取り出し、６０℃の温度の流水で２０分間濯いだ後、室温で乾燥し、フレーバー臭の臭気判定を行った。
（３）判定
臭気判定は１０名のパネラーによる官能テストにより、各着香テストピースのフレーバー臭の度合いを以下の５段階の評価基準で評価し、その最頻値を求めた。
【００５６】
・評価基準
◎：フレーバー臭なし
○：僅かにフレーバー臭あり
△：ややフレーバー臭あり
×：フレーバー臭強い
××：フレーバー臭著しく強い
とし、◎、○および△を実用性のあるものと判定した。
【００５７】
〔すすぎ性試験〕
・試験方法
３００ｍｌ容量のトールビーカーに８０℃に加温した供試ＣＩＰ用脱臭剤組成物または供試ＣＩＰ用脱臭洗浄剤組成物の３質量％希釈液を用意した。
攪拌した各種希釈液中に秤量したステンレス板（５ｃｍ×８ｃｍ×１ｍｍ；約２９．７ｇ）を浸漬し、１分後に攪拌を停止し、その後も３０秒間浸漬しつづけた後引き上げた。
直ちに８０℃の温水にて、浸漬と引き上げを１０回繰り返してすすぎを行った後、ステンレス板を一晩乾燥させた。
乾燥後のステンレス板を秤量し、すすぎ不良による重量増加の有無について以下の評価基準で評価した。
【００５８】
・評価基準
○：重量増加は認められない。
△：重量増加が５ｍｇ未満。
×：重量増加が５ｍｇ以上。
とし、評価基準が○および△を実用性ありと判定した。
【００５９】
〔スケール防止性試験〕
・試験方法
１０ｍｇの供試ＣＩＰ用脱臭剤組成物または供試ＣＩＰ用脱臭洗浄剤組成物を、０．２質量％水酸化ナトリウム水溶液１００ｍｌの入った２００ｍｌ容量のガラス容器に添加した。これに、さらに３質量％の塩化カルシウム水溶液１ｍｌを加えて、７０℃にて２４時間配置後、目視にてスケールの付着の有無を観察し、以下の評価基準で評価した。
【００６０】
・評価基準
○：スケールの付着は認められない。
△：ごく僅かなスケールの付着が認められる。
×：スケールの付着がはっきりと認められる。
とし、評価基準が○および△を実用性ありと判定した。
【００６１】
〔低泡性試験〕
・試験方法
供試ＣＩＰ用脱臭剤組成物または供試ＣＩＰ用脱臭洗浄剤組成物の３質量％希釈液を、１００ｍｌ容量の有栓メスシリンダーに５０ｍｌ量り取り、７０℃の温浴中に１０分間配置した後、取り出して上下に１０回振とうさせ静置した。そして、静置１分後の泡量（ｍｌ）を量り、以下の評価基準で評価した。
【００６２】
・評価基準
○：泡量が１０ｍｌ未満。
△：泡量が１０ｍｌ以上、２０ｍｌ未満。
×：泡量が２０ｍｌ以上。
とし、評価基準が○および△を実用性ありと判定した。
【００６３】
〔洗浄性試験〕
・試験方法
（１）供試脱臭洗浄剤希釈液の調整
１．水量（１００ｍｌ）に対して、本発明のＣＩＰ用脱臭剤組成物（実施例１〜２０、実施例４１〜４５および比較例１〜５）の３質量％相当量と、酸性ＣＩＰ洗浄剤（商品名：「パンケレートＶＣ」）の２質量％相当量とを溶解して、脱臭洗浄剤希釈液とした。
２．本発明のＣＩＰ用脱臭洗浄剤組成物（実施例２１〜４０、実施例４６〜５０および比較例６〜１０）の３質量％水溶液を脱臭洗浄剤希釈液とした。
（２）操作
上記各種脱臭洗浄剤希釈液１００ｍｌを２００ｍｌビーカーにとり、これに炭酸カルシウム１００ｍｇを加えて２０℃にて５分間攪拌した。
攪拌後、濾過し、濾液中のカルシウム量をＥＤＴＡ標準溶液およびＮＮ試薬を用いてキレート滴定して、炭酸カルシウムの溶解量を算出し、以下の評価基準で評価した。
【００６４】
・評価基準
○：脱臭洗浄剤希釈液１，０００ｍｌ当たりの炭酸カルシウム溶解量が１００ｍｇ以上。
△：脱臭洗浄剤希釈液１，０００ｍｌ当たりの炭酸カルシウム溶解量が５ｍｇ以上、１００ｍｇ未満。
×：脱臭洗浄剤希釈液１，０００ｍｌ当たりの炭酸カルシウム溶解量が５ｍｇ未満。
とし、評価基準が○および△を実用性ありと判定した。
【００６５】
〔貯蔵安定性〕
・試験方法
供試ＣＩＰ用脱臭剤組成物および供試ＣＩＰ用脱臭洗浄剤組成物について、貯蔵安定性試験を次のようにして行った。
２５０ｍｌ容量のポリエチレン製容器に、供試ＣＩＰ用脱臭剤組成物または供試ＣＩＰ用脱臭洗浄剤組成物２００ｍｌを入れて、３０℃に設定されたインキュベーター（型式：バイテック５００／島津製作所社製）に、１週間配置後の浮遊物、沈殿および濁りの有無について、以下の基準により評価した。
【００６６】
・評価基準
○：浮遊物、沈殿および分離もなく良好である。
△：僅かな浮遊物が認められる。
×：明らかに浮遊物、沈殿および分離が認められる。
【００６７】
（Ａ）成分
・α−シクロデキストリン
商品名：「カバマックスＷ６  Ｆｏｏｄ」、ワッカーケミー社製（有効成分９８％）
・β−シクロデキストリン
商品名：「カバマックスＷ７  Ｐｈａｒｍａ」、ワッカーケミー社製（有効成分９８％）
・γ−シクロデキストリン
商品名：「カバマックスＷ８  Ｆｏｏｄ」、ワッカーケミー社製（有効成分９８％）
・メチル化−β−シクロデキストリン
商品名：「カバゾールＷ７Ｍ」、ワッカーケミー社製（有効成分９５％）
【００６８】
（Ｂ）成分
・エーテルカルボン酸−１
ポリオキシエチレン（３．０）オレイルエーテル酢酸
商品名：「ビューライトＯＣＡ−３０ＮＨ」、三洋化成工業（株）製
・エーテルカルボン酸−２
ポリオキシエチレン（５．０）ミリスチルエーテル酢酸
商品名：「ビューライトＭＣＡ−５０ＮＨ」、三洋化成工業（株）製
・エーテルカルボン酸−３
ポリオキシエチレン（１０．０）オレイルエーテル酢酸
商品名：「ＡｋｙｐｏＲＯ９０ＶＧ」Ｋａｏ  ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｃａｎａｄａ社製
【００６９】
（Ｃ）成分
・非イオン界面活性剤−１
ポリオキシアルキレン（５．０）アルキルエーテル（ＨＬＢ＝９．０）
商品名：「エマルミンＣＯ−５０」、三洋化成工業社製
・非イオン界面活性剤−２
ポリオキシアルキレンアルキルエーテル
商品名：「ノイゲンＸＬ−８０」、第一工業製薬（株）製
・非イオン界面活性剤−３
ポリオキシエチレン（４．０）アルキルエーテル（ＨＬＢ＝８．０）
商品名：「エマルミン４０」、三洋化成工業社製
・非イオン界面活性剤−４
脂肪族アルコールアルコキシレート
商品名：「プルラファックＬＦ−４３１」、ＢＡＳＦ社製
・非イオン界面活性剤−５
プルロニック型非イオン界面活性剤
商品名：「プルロニックＬ−６１」、旭電化工業（株）製
・非イオン界面活性剤−６
ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル
商品名：「ソルボンＴ８５」、東邦化学工業（株）製
・非イオン界面活性剤−７
脂肪族アルコールアルコキシレート
商品名：「プルラファックＬＦ４０３」、ＢＡＳＦ社製
【００７０】
（Ｄ）成分
・アニオン界面活性剤−１
アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム
商品名：「エレミノールＭＯＮ−２Ｄ」、三洋化成工業社製
・アニオン界面活性剤−２
α−オレフィンスルホン酸ナトリウム
商品名：「リポランＰＢ−８００」、ライオン社製
・アニオン界面活性剤−３
ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル（有効成分２７％）
商品名：「エマールＥ−２７Ｃ」、花王社製
・ＭＸＳ
メタキシレンスルホン酸ナトリウム
商品名：「メタキシレンスルホン酸ソーダ」、三菱瓦斯化学社製
・ＰＴＳ
パラトルエンスルホン酸ナトリウム
商品名：「パラトルエンスルホン酸ナトリウム」、関東化学社製
・ＨＧ
ヘキシレングリコール
商品名：「ヘキシレングリコール」、エルフ・アトケム・ジャパン社製
・ＥＧＢＥ
ジエチレングリコールモノブチルエーテル
商品名：「ブチセノール２０」、協和発酵ケミカル社製
・ＯＳＡ
オクテニルコハク酸
商品名：「オクテニルコハク酸」、ミリケン社製（有効成分８０％）
【００７１】
（Ｆ）成分
・リン酸
商品名：「リン酸」、東ソー社製（有効成分７５％）
・硝酸
商品名：「乳酸」、太平化学産業社製（有効成分８０％）
・スルファミン酸
商品名：「スルファミン酸」、日産化学工業社製（有効成分１００％）
・ヒドロキシ酢酸
商品名：「グリコール酸」、大塚化学社製（有効成分１００％）
・クエン酸
商品名：「クエン酸（結晶）」、扶桑化学工業社製（有効成分１００％）
・リンゴ酸
商品名：「ＤＬ−リンゴ酸」、扶桑化学工業社製（有効成分１００％）
【００７２】
任意成分
・オレイン酸
商品名：「エキストラオレイン９０」、日本油脂社製（有効成分９３％）
・ミリスチン酸
商品名：「ミリスチン酸（試薬１級）」、関東化学社製（有効成分９７％）
・カプリン酸
商品名：「カプリン酸（試薬１級）」、関東化学社製（有効成分９８％）
・リノール酸
商品名：「リノール酸（試薬１級）」、関東化学社製（有効成分５５％）
【００７３】
表１〜５０の結果より、本発明のＣＩＰ用脱臭剤組成物およびＣＩＰ用脱臭洗浄剤組成物は、いずれも、脱臭性、すすぎ性、低泡性、スケール防止性、貯蔵安定性および洗浄性の全ての評価項目において、優れた性能を有していることがわかる。
【００７４】
【表１】
2007077290.tif 000002
【００７５】
【表２】
2007077290.tif 000003
【００７６】
【表３】
2007077290.tif 000004
【００７７】
【表４】
2007077290.tif 000005
【００７８】
【表５】
2007077290.tif 000006
【００７９】
【表６】
2007077290.tif 000007
【００８０】
【表７】
2007077290.tif 000008
【００８１】
【表８】
2007077290.tif 000009
【００８２】
【表９】
2007077290.tif 000010
【００８３】
【表１０】
2007077290.tif 000011
【００８４】
【表１１】
2007077290.tif 000012
【００８５】
【表１２】
2007077290.tif 000013