(57)【要約】【課題】  表面、裏面反射の少ないＮＤフィルタの製造において、吸収物質の光学特性が変化した場合においても、反射防止効果、透過率平坦性を高精度で維持できる膜構成と製造方法を提供する。【解決手段】  透過率を制御する光吸収膜を分割積層し、最基板側に設けられる吸収膜をそれぞれ反射光減衰膜として用い、各層の境界域からの反射光を直接減衰させる事により、光学定数や膜厚に対する敏感度を緩和する。これにより、膜厚制御や、光学定数制御の許容値を緩和し、高品質で安定生産を可能にする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に形成され、屈折率の異なる２つの膜を交互に積層した交互層からなるＮＤフィルタにおいて、前記交互層は、前記透明基板側から基板側反射光減衰多層膜、透過率調整多層膜の順に形成されており、該基板側反射光減衰多層膜の光吸収量は２０％以上３０％以下であることを特徴とするＮＤフィルタ。
【請求項２】
透明基板上に形成され、屈折率の異なる２つの膜を交互に積層した交互層からなるＮＤフィルタにおいて、前記交互層は、前記透明基板側から基板側反射光減衰多層膜、透過率調整多層膜、表面側反射光減衰多層膜の順に形成されており、該基板側反射光減衰多層膜及び表面側反射光減衰多層膜の光吸収量は２０％以上３０％以下であることを特徴とするＮＤフィルタ。
【請求項３】
前記交互層は誘電膜と金属酸化膜からなっていることを特徴とする請求項１または２に記載のＮＤフィルタ。
【請求項４】
前記誘電膜は、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２から選択された１つの膜であり、前記金属酸化膜は、ＴｉＯｘ、ＮｂＯｘから選択された１つの膜であることを特徴とする請求項３に記載のＮＤフィルタ。
【請求項５】
前記基板側反射光減衰多層膜における誘電膜の膜厚は、前記透過率調整多層内層における誘電膜の膜厚よりも厚いことを特徴とする請求項３に記載のＮＤフィルタ。
【請求項６】
可視全域（４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下）において、透過率が５％以上１５％以下であり、表面反射率および裏面反射率がともに１％以下であることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれかに記載のＮＤフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＮＤフィルタおよびその製造方法に関するもので、特にＮＤフィルタの表面および裏面反射率の軽減と安定生産に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、撮影光学系において、被写体輝度が高すぎると、いくら絞りを絞っても（開口径を小さくしても）、感光面へ所定量以上の光量が入射してしまう場合がある。この為、撮撮影光学系の一部にＮＤフィルターを装着して、感光面への入射光量を規制することが行なわれている。
【０００３】
このときのＮＤフィルターの分光特性は、単に入射光量を減少させるということから、可視領域全般にわたり均一な透過率を有することが必要となっている。ＮＤフィルターとしては、ガラス（透明基板）に吸収物質を入れて溶解して作ったガラスフィルターや、色素を入れてフィルム状にしたシートフィルター等が多く使用されている。
【０００４】
しかしながら、これらのＮＤフィルターは可視領域全般にわたり分光特性が均一（ニュートラリティ）でないことや、長時間の使用後に分光特性が変化したり、外観に異常が発生するといった耐久性の問題点があった。
【０００５】
このような問題を解決するため方法としては、真空成膜による薄膜型ＮＤフィルタの利用が以下の特許文献１に開示されている。この薄膜型ＮＤフィルタは、金属酸化物層と誘電膜層とを積層した多層膜の構成となっている。ここでは金属酸化物層を入射光に対する吸収層として使用している。また金属酸化物層と誘電膜層の層厚を調整する、反射防止膜としての機能を発現している。
【０００６】
近年、カメラの更なる小型化、センサのＣＣＤ化に伴い、レンズ系とＣＣＤセンサの位置関係が接近する傾向にある。そのため、入射した光の一部がＣＣＤ面より反射する戻り光が、ゴーストやフレアとなり画質に影響を及ぼすといった問題が発生している。即ち、ＮＤフィルターとしては、平坦な透過率特性と表面反射防止特性のみならず、裏面反射防止特性にも優れていることが要求されている。しかしながら、上記の特許文献１に記載の薄膜型ＮＤフィルタのうち、片面に多層膜を有するタイプでは、表面反射防止特性に優れるものの、裏面反射防止特性に関しては不充分なものであった。また、両面に多層膜を有するタイプでは、裏面反射防止特性も得ることが出来るものの、成膜回数が倍になり、コストも倍になるため、生産上現実的ではなかった。
【０００７】
特許文献２には、良好な表面反射特性、裏面反射防止特性と１０％以下の透過率を実現するＮＤフィルタの例が開示されている。しかしながら特許文献２において、屈折率２．０以上の屈折率を有する物質例として、用いられているＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２等は、屈折率の安定性や透明性の確保の為に酸素雰囲気での成膜が一般的に行われている。この場合、成膜後の酸素分圧の変化等により光吸収膜の光学定数が変化してしまい、特に裏面反射に大きなばらつきが発生してしまう。
【特許文献１】特許第３３５９１１４号公報
【特許文献２】特開２００３−３４４６１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年の撮像素子の高感度化や高集積化に伴う小絞りによる回折による画質低下等に対応する為に、光学濃度１〜２程度、即ち透過率５％以上１５％以下の高濃度のＮＤフィルタが求められるようになってきている。そのため入射光を吸収する吸収膜の総層厚を厚くする必要がある。
【０００９】
一般に、このような高濃度のＮＤフィルタに対応する為には、吸収膜の各層の膜厚を増加させれば良い。しかしながら、吸収膜を厚くすると、入射光が各層毎に減衰する為に、多層透明光学薄膜のような光干渉を用いた反射防止効果を得る事は難しい。また、光吸収膜自体の光学定数（屈折率、吸収係数）の変化の影響を受けやすく、光学性能が安定しない。そのため、また吸収膜の吸収係数の波長依存性により、透過光の平坦性の維持が困難になるという問題もある。
【００１０】
このような問題を解決する為に、吸収膜を複数層に分割し、反射防止効果や透過率平坦性を確保する事が可能である。しかしながらこの場合、全体の層数が大幅に増えるため、成膜時間の増加によるコストアップが問題となる。また、表面反射防止特性を考慮して設計された層構成は、裏面反射防止特性を満足させるものではないため、裏面反射防止特性は不充分なものとなる。
【００１１】
そこで本出願では、光吸収膜の光学定数の変化に対しても、可視領域全般に亙って安定した光学性能（透過率、表面反射率、裏面反射率）を維持しつつ、層数の増加を軽減可能なＮＤフィルタを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
このような課題を解決するため、本発明では、透明基板上に形成され、屈折率の異なる２つの膜を交互に積層した交互層からなるＮＤフィルタにおいて、前記交互層は、前記透明基板側から基板側反射光減衰多層膜、透過率調整多層膜の順に形成されており、該基板側反射光減衰多層膜の光吸収量は２０％以上３０％以下であるＮＤフィルタを提供している。
【００１３】
また本発明では、透明基板上に形成され、屈折率の異なる２つの膜を交互に積層した交互層からなるＮＤフィルタにおいて、前記交互層は、前記透明基板側から基板側反射光減衰多層膜、透過率調整多層膜、表面側反射光減衰多層膜の順に形成されており、該基板側反射光減衰多層膜及び表面側反射光減衰多層膜の光吸収量は２０％以上３０％以下であるＮＤフィルタを提供している。
【発明の効果】
【００１４】
本出願に係る発明の実施により、可視全域（４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下）に対して、５％以上１５％以下の透過率を維持したまま、良好な表面反射特性、裏面反射防止特性を有するＮＤフィルタを安定して得る事が可能になる。また、ゴースト、干渉等の防止といった光学性能の向上、また生産時においては歩留まりの向上やコストダウンといった効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明では金属酸化物層と誘電膜層とを積層した多層膜のうち、基板側に、誘電膜層の膜厚を厚く金属酸化物層の膜厚を薄くした反射光減衰多層膜１２ａを配置している。反射光減衰多層膜１２ａは、裏面からの入射光及び反射光を吸収するため、裏面反射防止特性を改善する。また、透過率の調製は透過率調整部分は１３ａの層厚さにより調製している。
【００１６】
図１を用いて説明する。図１に示すように、本発明のＮＤフィルタは、透明基板１１ａ上に基板側反射光減衰膜１２ａ、透過率調整多層膜１３ａが順に積層された構成となっている。基板側反射光減衰膜１２ａ、透過率調整多層膜１３ａは共に、金属酸化膜と誘電体膜の繰り返しからなる多層膜である。基板側反射光減衰膜１２ａは金属酸化膜を薄くし誘電体膜を厚くすることにより、主に裏面からの反射光の減衰膜として機能する。また透過率調整多層膜１３ａは、金属酸化膜を厚くし誘電体膜を薄くすることにより、主に透過光の吸収膜として機能する。透過率調整多層膜１３ａの光吸収量は、２０％以上３０％いかが好ましい。また表面からの入射光に対しては、多層膜間の光干渉により反射防止効果が得られるように設計されている。
【００１７】
ここで、本発明におけるＮＤフィルタの裏面反射防止のメカニズムを説明する。説明を容易にするため、表面反射防止特性を考慮して設計された、従来の金属酸化物層と誘電膜層とを積層した多層膜からなるＮＤフィルタを図２に示し、それと比較して説明する。
【００１８】
図１に示す矢印Ａは、ＮＤフィルタの基板側からの入射光である。入射光Ａの一部は、透明基板１１ａと基板側反射光減衰膜１２ａの境界面で反射され反射光２０ａとなる。次に基板側反射光減衰膜１２ａの表面で反射されなかった入射光Ａは、基板側反射光減衰膜１２ａにより約３０％が吸収される。基板側反射光減衰膜１２ａを透過した入射光Ａの一部は、基板側反射光減衰膜１２と透過率調整多層膜１３ａとの境界面で反射され反射光１８ａとなる。この反射光１８ａは、ＮＤフィルタの表面からの反射光として出射する前に、基板側反射光減衰膜１２ａにより再度その約３０％が吸収される。
【００１９】
基板側反射光減衰膜１２ａと透過率調整多層膜１３ａの境界面で反射されなかった入射光Ｂは、基板側反射光減衰膜１２ａにより吸収され表面側に透過光１７ａとして透過する。尚、入射光Ａは表面側反射光減衰膜１３ａの各層の境界面でも反射光２１ａとして反射するが、その量は極僅かである。
【００２０】
従って、入射光Ｂに対するＮＤフィルタによる裏面反射光は反射光２０ａと反射光１８ａと２１ａを足した値となる。しかしながら反射光１８ａと２１ａは、入射光Ａが基板側反射光減衰膜１２ａを通過し３０％吸収された後の反射であり、また反射後に、再度基板側反射光減衰膜１２ａを通過し３０％吸収されるため、その量は極僅かである。従って、実質的には反射光２０ａが裏面反射光となる。
【００２１】
図２は従来の表面反射防止特性を考慮した多層膜からなるＮＤフィルタである。透明基板１１ｂ上に透過率調整多層膜１３ｂが積層された構成となっている。透過率調整多層膜１３ｂは、金属酸化膜と誘電体膜の繰り返しからなる多層膜である。透過率調整多層膜１３ｂは、複数の誘電体層を有しており、主に透過光の吸収膜として機能する。また表面からの入射光に対して、多層膜間の光干渉により反射防止効果が得られるように設計されている。透過率調整多層膜１３ｂは図１に示した透過率調整多層膜１３ａと、膜の構成は同じであり、透過率を等しくするために多層膜の層数が多くなっている。
【００２２】
図２に示す矢印Ｃは、ＮＤフィルタの基板側からの入射光である。入射光Ｃの一部は、透明基板１１ａと透過率調整多層膜１３ｂの境界面で反射され反射光２０ｂとなる。次に透明基板１１ａと透過率調整多層膜１３ｂの境界面で反射されなかった入射光Ｃは、透過率調整多層膜１３ｂの各層の境界面で反射光２１ｂとして反射される。反射光２１ｂは図１の場合と異なり、基板側反射光減衰膜を通過しているわけではないので、反射光２０ｂに比べて無視できるような僅かな値とはならない。反射光２１ｂは透過率調整多層膜１３ｂにより反射及び吸収されなかった入射光Ｃは、表面側に透過光１７ｂとして透過する。従って、入射光Ｂに対するＮＤフィルタによる裏面反射光は反射光２０ｂと透過率調整多層膜１３ｂの各層の境界面で反射された反射光２１ｂの和となる。
【００２３】
図１の裏面反射光である反射光２０ａと１８ａと２１ａ、図２の裏面反射光である反射光２０ｂと反射光２１ｂを比較する。反射光２０ａと反射光２０ｂはともにガラス基板との界面であり、ほぼ同様の値を示す。反射光１８ａと２１ａは前述したように、極僅かであり実質的には無視しても良い値である。これに対して反射光２１ｂは、反射光２０ｂに比べて無視できるような値ではない。従って、図１のＮＤフィルタの裏面反射防止特性は、図２のＮＤフィルタの裏面反射防止特性に比べて、大幅に向上することがわかる。しかも図１のＮＤフィルタは図２のＮＤフィルタに比べ層数が少ないため、生産時間も短くコストダウンを実現することができる。
【００２４】
尚、図１において反射光減衰膜は基盤側にのみ設けられている。しかしながら本発明はこれに限ったものではなく、図３に示すように、ＮＤフィルタの表面（媒体側）に設けることもできる。図３において１４ａは、表面側反射光減衰膜である。表面側反射光減衰膜１４ａの構成としては、基板側反射光減衰膜１２ａと同じである。
【００２５】
図３に示す矢印Ｂは、ＮＤフィルタの表面側からの入射光である。入射光Ｂの一部は、表面側反射光減衰膜１４ａの表面で反射され反射光１９ａとなる。反射光１９ａの反射光量は、表面側反射光減衰膜１４ａの誘電膜が厚いため、通常の反射防止膜よりも多少大きくなる。次に基板側反射光減衰膜１４ａの表面で反射されなかった入射光Ｂは、表面側反射光減衰膜１４ａにより約３０％が吸収される。表面側反射光減衰膜１４ａを透過した入射光Ｂの一部は、表面側反射光減衰膜１４ａと透過率調整多層膜１３ａとの境界面で反射され反射光１６ａとなる。この反射光１６ａは、ＮＤフィルタの表面からの反射光として出射する前に、基板側反射光減衰膜１４ａにより再度その約３０％が吸収される。
【００２６】
基板側反射光減衰膜１４ａと透過率調整多層膜１３ａの境界面で反射されなかった入射光Ｂは、基板側反射光減衰膜１４ａにより吸収され基板側に１０％以下の透過光１５ａとして透過する。尚、入射光Ｂは表面側反射光減衰膜１３ａの各層の境界面でも反射するが、その量は極僅かである。従って図３の場合の表面反射防止特性は、図１の場合の表面反射防止特性とほぼ同等であると言える。
【００２７】
本発明の第１の特徴としては、透過率を制御目的で用いられる光吸収性膜を割積層し、最表面側、最基板側の吸収膜をそれぞれ反射光減衰膜とした点である。一般に干渉を利用した光学多層膜は、多層膜系全体の光学定数の影響を受ける為、成膜途中の層の学定数が変化した場合、多層膜系全体の光学特性が変化してしまうという問題がある。この事は特に不完全金属酸化物を吸収膜として利用した場合には、生産安定性や歩留まりを左右する大きな問題である。これに対して反射光減衰多層膜を使用した場合、入射光Ａおよび基板側反射光減衰膜１２ａと透過率調整多層膜１３ａとの境界面からの反射光２０ａは反射光減衰多層膜１２ａにより直接減光される為に、透過率調整多層膜１３ａの光学定数の変化の影響を軽減できる事である。
【００２８】
次に本発明の第２の特徴としては、基板側からみた最初の光吸収膜および表面（媒質）側からみた最初の光吸収膜のそれぞれの層における光吸収量が２０％以上３０％以下になるように設定した事である。光吸収量が３０％を越えると、該当膜部分からの反射率を十分に軽減する事が出来ず、残存反射率の悪化をもたらす。また、光吸収量が２０％よりも小さいと、透過率調整多層膜１３ａの光学定数の変化の影響を十分に軽減する事が出来ない。
【００２９】
例えば、吸収膜としてＴｉＯを使用した場合のＴｉＯ単層での分光特性図を図４に示す。図４より、例えば吸収膜ＴｉＯを使用した場合、膜厚が約６ｎｍで透過率６０％、反射率１０％で該当膜の吸収量が３０％になる事が確認出来る。この場合、基板側からみた最初の光吸収膜および基板側からみた最初の光吸収膜単膜からの反射率は１０％と低く、光吸収膜の前後に設けられた透明誘電体膜との光干渉により十分に反射光を軽減出来る事がシミュレーションおよび実験により確認されている。
【００３０】
更に、外部から入射した光が、透過率調整多層膜１３ａで反射し、外部に戻る場合には、光は該光吸収膜の中を往復する為、その影響量は（１００％−３０％）×（１００％−３０％）＝４９％となる。従って反射光における透過率調整多層膜１３ａの影響量を半分以下に軽減できる為に、本出願では該当膜の吸収量を３０％以下、望ましくは２０％以上３０％以下と設定した。
【００３１】
次に本発明の第３の特徴としては、本発明が対象としているＮＤフィルタの透過率を２５％以下とする事である。前述の様に、反射光減衰多層膜１２ａ、１４ａでの光減衰量を各々３０％と設定した場合、この反射光減衰多層膜１２ａ、１４ａだけで全体光量を４９％までに減衰させるものである。そのために、透過率調整多層膜１３ａによる透過率調整の範囲が少なくなる事を考慮した結果、反射光減衰多層膜１２ａ、１４ａによる吸収量と同等の吸収量を透過率調整多層膜１３ａで調整可能になるように設定した。その結果として本発明が対象とするＮＤフィルタの透過率を２５％以下に設定したものである。
【００３２】
次に本発明の第４の特徴としては、前記ＮＤフィルタを真空蒸着もしくはスパッタリングにより形成する事である。加工雰囲気を真空状態にする事により、成膜中の酸素量を軽減させる事により、本発明で使用する吸収膜材料である金属酸化物の酸化状態を一定に保つ事が可能となり、成膜中の光学定数の安定化を可能にした。
【００３３】
次に本発明の第５の特徴としては、反射光減衰効果を有する層の透過率（Ｔ１、Ｔｎ）の膜厚制御を透過光量制御により行う事を特徴とした事である。一般的に真空成膜による薄膜の膜厚制御方法としては、水晶振動子を用いる方法や薄膜の光学特性の変化を監視する方法等が多用されている。しかしながら、本発明では透過光量の制御精度を高める事を目的として吸収膜の透過率変化、例えば透過率９０％スタートで７０％終了等の方法が最も再現性が良好である事を実験により検証した。
【実施例】
【００３４】
以下に、本発明の実施例について説明する。
［実施例１］
本実施例は、図３に膜構成を有するＮＤフィルタであり、透明基板１１ａを光学ガラスとし、光吸収性多層反射防止膜１２ａをＡｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３の３層構成としている。透過率調整多層膜１３ａはＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＯの５層構成とし、さらに光吸収性多層反射防止膜１４ａをＡｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／ＭｇＦ２の３層構成としている。光吸収性多層反射防止膜１２ａ、１４ａにおけるＴｉＯの膜厚は６ｎｍと設定した。この時の、光吸収性多層反射防止膜１２ａおよび光吸収性多層反射防止膜１４ａにおける光吸収量は２５％であった。各層の膜厚は図５に示したとおりである。このＮＤフィルタの分光特性を図６に示す。
【００３５】
図６より、可視全域（４００ｎｍ−７００ｎｍ）において透過率が約１０％と一定で、なおかつ表面反射率、裏面反射率ともに１％以下と、ＮＤフィルタとして十分な性能を実現していることがわかる。また、本発明の特徴である光吸収性多層反射防止膜１２ａ、１４ａに使用される吸収膜として、ＴｉＯを一定膜厚にする事が可能であり、これにより膜厚制御精度の向上が期待できる。
【００３６】
［実施例２］
本実施例は、図３に膜構成を有するＮＤフィルタであり、透明基板１１ａを光学ガラスとし、光吸収性多層反射防止膜１２ａをＡｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３の３層構成としている。透過率調整多層膜１３ａはＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＯの５層構成とし、さらに光吸収性多層反射防止膜１４ａをＡｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／ＭｇＦ２の３層構成としている。光吸収性多層反射防止膜１２ａ、１４ａにおけるＴｉＯの膜厚は６ｎｍと設定した。この時の、光吸収性多層反射防止膜１２ａおよび光吸収性多層反射防止膜１４ａにおける光吸収量は２５％であった。各層の膜厚は図７に示したとおりである。このＮＤフィルタの分光特性を図８に示す。
【００３７】
図８より、可視全域（４００ｎｍ−７００ｎｍ）において透過率が約１０％と一定で、なおかつ表面反射率、裏面反射率ともに１％以下と、ＮＤフィルタとして十分な性能を実現していることがわかる。また、本発明の特徴である光吸収性多層反射防止膜１２ａ、１４ａに使用される吸収膜として、ＴｉＯを一定膜厚にする事が可能であり、これにより膜厚制御精度の向上が期待できる。
【００３８】
実施例２では、実施例１で示した膜構成の内、透過率調整多層膜（１３）内のＴｉＯ膜部の膜厚変更のみにより、透過率を自由に制御出来る事を示しており、本発明の有効性が確認出来る。
【００３９】
［実施例３］
本実施例は、図３に膜構成を有するＮＤフィルタであり、透明基板１１ａを光学ガラスとし、光吸収性多層反射防止膜１２ａをＡｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３の３層構成としている。透過率調整多層膜１３ａはＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＯの３層構成とし、さらに光吸収性多層反射防止膜１４ａをＡｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／ＭｇＦ２の３層構成としている。光吸収性多層反射防止膜１２ａ、１４ａにおけるＴｉＯの膜厚は６ｎｍと設定した。この時の、光吸収性多層反射防止膜１２ａおよび光吸収性多層反射防止膜１４ａにおける光吸収量は２５％であった。各層の膜厚は図９に示したとおりである。このＮＤフィルタの分光特性を図１０に示す。
【００４０】
図１０より、可視全域（４００ｎｍ−７００ｎｍ）において透過率が約１０％と一定で、なおかつ表面反射率、裏面反射率ともに１％以下と、ＮＤフィルタとして十分な性能を実現していることがわかる。また、本発明の特徴である光吸収性多層反射防止膜１２ａ、１４ａに使用される吸収膜として、ＴｉＯを一定膜厚にする事が可能であり、これにより膜厚制御精度の向上が期待できる。
【００４１】
実施例３では、実施例１で示した膜構成に比べより簡単な膜構成でありながら反射率３％以下を実現しており、また、ＴｉＯ膜厚も制御が容易な構成とする事が可能であり、本発明の有効性が確認出来る。
【００４２】
（比較例１）
比較例として、図２に膜構成を有するＮＤフィルタであり、Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３／ＴｉＯ／Ａｌ２Ｏ３の９層構成としている。各層の膜厚は図１１に示したとおりである。このＮＤフィルタの分光特性を図１２に示す。
【００４３】
図１２より、可視全域（４００ｎｍ−７００ｎｍ）において透過率は１０％とほぼ一定で、なおかつ表面反射率は１％以下であり、ＮＤフィルタとして十分な性能を実現していることがわかる。しかしながら裏面反射率は３％以〜７％と非常に大きな値となり、必要な特性を満足することができない。また図１１から明らかなように、比較例１では吸収膜であるＴｉＯの膜厚が全層でばらばらになる為に、膜厚制御誤差の影響を受けやすく、また光学濃度の変更時に条件設定が複雑になる。
【００４４】
本発明の場合は、反射率の調整を光吸収性多層反射防止膜で行い、透過率の調整を透過率調整多層膜で行う構成の為、例えば透過率の調整が用意である。しかしながら、比較例の場合はこれに該当する部分が無い為、透過率を調整する為にＴｉＯ膜厚を修正した場合には同時に反射率の悪化を招くことになる。
【００４５】
なお、同様に光吸収性を有する膜としてＮｂＯｘ等を使用し、誘電体部分をＳｉＯ２で構成した場合においても本発明の効果は有効である。図１３にＮｂＯｘとＳｉＯ２による実施例の膜構成を、図１４に分光特性図を示す。以上のように本発明を実施する事により、光学性能を向上させたＮＤフィルタの安定的な生産が実現出来る為、製造不良率の減少やコストダウンが期待できる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明におけるＮＤフィルタの断面図。
【図２】従来におけるＮＤフィルタの断面図。
【図３】本発明におけるＮＤフィルタの断面図。
【図４】本発明におけるＮＤフィルタの分光特性図。
【図５】実施例１におけるＮＤフィルタの膜構成を示す図。
【図６】実施例１におけるＮＤフィルタの分光特性図。
【図７】実施例２におけるＮＤフィルタの膜構成を示す図。
【図８】実施例２におけるＮＤフィルタの分光特性図。
【図９】実施例３におけるＮＤフィルタの膜構成を示す図。
【図１０】実施例３におけるＮＤフィルタの分光特性図。
【図１１】比較例１におけるＮＤフィルタの膜構成を示す図。
【図１２】比較例１におけるＮＤフィルタの分光特性図。
【図１３】ＮｂＯｘ、ＳｉＯ２の多層膜により構成したＮＤフィルタの膜構成を示す図。
【図１４】ＮｂＯｘ、ＳｉＯ２の多層膜により構成したＮＤフィルタの分光特性図。
【符号の説明】
【００４７】
１１ａ、１１ｂ  透明基板
１２ａ、１２ｂ  基板側反射光減衰膜
１３ａ、１３ｂ  多層透過率調整膜
１４ａ、１４ｂ  表面側反射光減衰膜
１５ａ、１５ｂ  表面透過光線
１６ａ、１６ｂ  表面反射光線
１７ａ、１７ｂ  裏面透過光線
１８ａ  裏面反射光線
１９ａ  裏面反射光線
２０ａ、２０ｂ  裏面反射光線
２１ａ  裏面反射光線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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