(57)【要約】【課題】液晶装置内部に浸入する水分等を低減する。【解決手段】ブロック層５８ａが設けられている分、第１シール部５２Ａ及び延在部１６Ａ間にブロック層５８ａの厚みに応じた段差が形成され、第１シール部５２Ａ及びＴＦＴアレイ基板１０を相互に接着する接着力を高めることができる。加えて、図中太い矢印で示したように、第１シール部５２Ａ及び第１延在部１６Ａの界面を介して水分等の異物が装置内部に浸入する浸入経路を複雑にすることができ、水分等の異物が装置内部に浸入し難くなる。よって、装置内部に設けられた液晶層５０等の構成要素が水分等の異物によって劣化することを低減でき、表示性能が経時的に低下することを抑制することが可能である。【選択図】図５
2007248832.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
前記第１基板及び第２基板間に挟持された液晶層と、
前記第１基板上の表示領域の周辺に位置するシール領域に設けられた第１シール部と、
前記シール領域において、前記第１シール部からみて前記表示領域に近い側に設けられた第２シール部と、
前記シール領域において、前記第１シール部及び前記第２シール部の一方のシール部に重なるように設けられており、（ｉ）前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板の基板面、及び（ｉｉ）前記一方のシール部における前記基板面に面する側の面、の夫々に接するブロック層と、
前記第１シール部及び前記第２シール部の他方のシール部内に含まれており、前記第１基板及び前記第２基板の夫々の基板面に接する第１ギャップ材と
を備えたことを特徴とする液晶装置。
【請求項２】
前記一方の基板の基板面において前記表示領域から前記シール領域の中程まで延びる無機配向膜を備えており、
前記ブロック層は、前記無機配向膜の一部を構成し、且つ前記表示領域から前記シール領域の中程まで延びる延在部の表面、及び前記一方のシール部における前記延在部の表面に面する側の面の夫々に接していること
を特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項３】
前記一方の基板の基板面において前記シール領域に設けられた無機膜を備えており、
前記ブロック層は、前記無機膜の表面、及び前記一方のシール部における前記無機膜の表面に面する側の面の夫々に接していること
を特徴とする請求項１に記載の液晶装置。
【請求項４】
前記ブロック層は、前記無機配向膜と同一材料、或いは有機材料から構成されていること
を特徴とする請求項１から３の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項５】
前記ブロック層は、前記一方のシール部からみて前記第１基板及び前記第２基板の夫々の側に配置された一対のブロック層であり、
前記他方のシール部は、前記一対のブロック層の夫々に接する第２ギャップ材を含んでいること
を特徴とする請求項１から４の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項６】
前記第２シール部は、前記第１シール部と間隔を隔てて前記表示領域に近い側に配置されていること
を特徴とする請求項１から５の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項７】
第１基板と、前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板及び第２基板間に挟持された液晶層と、前記第１基板上の表示領域の周辺に位置するシール領域に設けられた第１シール部と、前記シール領域において、前記第１シール部からみて前記表示領域に近い側に設けられた第２シール部と、前記シール領域において、前記第１シール部及び前記第２シール部の一方のシール部に重なるように設けられており、（ｉ）前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板の基板面、及び（ｉｉ）前記一方のシール部における前記基板面に面する側の面、の夫々に接するブロック層と、前記第１シール部及び前記第２シール部の他方のシール部内に含まれており、前記第１基板及び前記第２基板の夫々の基板面に接する第１ギャップ材とを備えた液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法であって、
前記シール領域において、前記第１シール部及び前記第２シール部の夫々を前記第１基板上に別々に形成する工程と、
前記第１シール部及び前記第２シール部を介して前記第１基板及び前記第２基板を互いに貼り合わせる工程と
を備えたことを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１から６の何れか一項に記載の液晶装置を具備してなること
を特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶プロジェクタのライトバルブとして用いられる液晶パネル等の液晶装置、及びその製造方法、並びにそのような液晶装置を備えた液晶プロジェクタ等の電子機器の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の液晶装置の一例である液晶パネルでは、相対向するように配置された一対の基板がシール材を介して相互に接着されている。これら基板間に介在する液晶層は、シール材によって基板間に封止されており、当該液晶層の駆動によって画像表示が行われる表示領域が構成される。このような液晶装置では、一対の基板間の間隔を当該基板上で一定にするために、接着剤で構成されたシール材からみて表示領域側に隔壁部が設けられた液晶装置も提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
他方、この種の液晶装置では、液晶分子の配向を規制するための液晶分子の配向モードとしては、電圧無印加状態で液晶分子が基板面に略平行で基板に垂直な方向にねじれた配向を持つツイステッド・ネマティック（Twisted Nematic）モードと、液晶分子が垂直に配向した垂直配向モードとが知られている。信頼性等の面から従来はＴＮモードが主流であったが、垂直配向モードがいくつかの優れた特性を持っているため、垂直配向モードの液晶装置が注目されている。垂直配向モードによって液晶分子を配向制御する場合、ポリイミド等の有機材料から形成された有機垂直配向膜だけでなく、ＳｉＯ又はＳｉＯ２等の無機材料を基板に斜方蒸着することによって形成された無機垂直配向膜が用いられる場合もある。  
【特許文献１】特開平１１−１３３４４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この種の液晶装置の一例である無機垂直配向膜を備える液晶パネルでは、一対の基板の夫々の最上層に形成されたＩＴＯ等からなる画素電極或いはボロンドープ酸化膜（ＢＳＧ膜）等の絶縁膜と、シール材とを直接密着させた場合には十分な密着力を得ることができず、シール材と、画素電極及び絶縁膜との界面を介して外部から水分等の異物が液晶パネル内に浸入してしまい、液晶パネル内部に形成された液晶層及び無機垂直配向膜等の各構成要素を劣化させてしまう問題点がある。
【０００５】
他方、無機垂直配向膜及びシール材の接着力は、シール材と、画素電極及び絶縁膜との接着力より高いため、シール材が形成される領域全体に無機垂直配向膜を形成し、当該シール領域全体に形成された無機垂直配向膜とシール材とを直接接着することも考えられる。
【０００６】
しかしながら、無機垂直配向膜及びシール材の界面におけるシール性は、シール材及び画素電極等との界面より相対的に低く、水分等の異物が液晶パネル内部に浸入しやすくなる。したがって、接着力を高めるために、単に無機垂直配向膜をシール領域に形成するだけでは液晶パネルの表示性能の低下を抑制し、液晶パネルの信頼性を高めることは困難である問題点もある。
【０００７】
よって、本発明は上記問題点等に鑑みてなされたものであり、例えば、基板相互の接着力を高め、且つ水分等の異物の浸入によって生じる表示性能の低下を抑制できる液晶装置、及びその製造方法、並びにそのような液晶装置を具備してなる電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る液晶装置は上記課題を解決するために、第１基板と、前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板及び第２基板間に挟持された液晶層と、前記第１基板上の表示領域の周辺に位置するシール領域に設けられた第１シール部と、前記シール領域において、前記第１シール部からみて前記表示領域に近い側に設けられた第２シール部と、前記シール領域において、前記第１シール部及び前記第２シール部の一方のシール部に重なるように設けられており、（ｉ）前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板の基板面、及び（ｉｉ）前記一方のシール部における前記基板面に面する側の面、の夫々に接するブロック層と、前記第１シール部及び前記第２シール部の他方のシール部内に含まれており、前記第１基板及び前記第２基板の夫々の基板面に接する第１ギャップ材とを備える。
【０００９】
本発明に係る液晶装置では、第１基板及び第２基板は、例えば液晶等の液晶層を挟持しており、シール部によって相互に貼り合わせられている。複数の画素が配列されてなる画素領域、即ち画像が表示される表示領域は、第１基板の基板面のうちシール部の内側の領域に設けられている。ここで、本発明の「基板面」とは、当該基板の表面及び当該基板上に形成された絶縁膜、画素電極及び画素電極に対応配置される対向電極等を含む積層構造の表面の両方を含む広い概念であることに留意されたい。
【００１０】
第１シール部及び第２シール部は、第１基板及び第２基板を相互に貼り合わせているとともに、第１シール部及び第２シール部は、第１基板上において表示領域とされるべき領域の周囲において、該表示領域とされるべき領域の周囲を囲むように延在されている。即ち、第１シール部及び第２シール部のうち表示領域に近い側に設けられたシール部の内側の領域に液晶層が充填されおり、該充填された液晶層によって表示領域が形成されている。
【００１１】
ブロック層は、シール領域において、第１シール部及び第２シール部の一方のシール部に重なるように設けられており、第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板の基板面、及びこの一方のシール部における前記基板面に面する側の面の夫々に接している。したがって、ブロック層が設けられている分、一方のシール部及び一報の基板の基板面間にブロック層の厚みに応じた段差が形成され、一方のシール部及び一方の基板相互を接着する接着力を高めることができるとともに、一方のシール部及び一方の基板の基板面間の界面を介して装置内部に浸入する水分等の異物を低減することが可能である。より具体的には、一方のシール部の平坦な面に一方の基板の基板面を接着する場合に比べて、ブロック層及び一方の基板の基板面の接触面積が増えるため、ブロック層を介した一方のシール部及び一方の基板の基板面の接着力がより強固になる。加えて、例えばブロック層を、シール部に比べて一方の基板の基板面との接着力が高い材料を用いて形成すれば、一方のシール部及び一方の基板の基板面との接着力をより一層を高めることが可能である。
【００１２】
また、ブロック層を設けることによって、一方のシール部及び一方の基板の基板面との間に段差が形成されるため、一方のシール部及び一方の基板の基板面間において、装置外部から浸入する水分等の異物の浸入経路を複雑にすることが可能である。このような浸入経路によれば、一方のシール部及び一方の基板の基板面の夫々の平坦な面を相互に接着してなる平坦な界面に比べて、装置外部から内部に向かって水分等の異物の浸入方向を段差の存在によって互いに異なる方向に変えて複雑にすることができると共に、水分等の異物が装置内部に到達するまでの行程が長くなる。したがって、ブロック層によって、装置外部から内部に浸入する水分等の異物を低減できる。
【００１３】
したがって、ブロック層によれば、第１基板及び第２基板相互の接着力を高めることが可能になると共に、水分等の異物によって液晶層等の装置内部に設けられた各部が劣化することを低減できるため、液晶装置の表示性能が経時的に劣化することを抑制でき、信頼性に優れた液晶装置を提供できる。
【００１４】
尚、本発明に係る液晶装置では、第１基板及び前記第２基板の両方の基板の基板面、及び一方のシール部における、両方の基板の基板面の夫々に面する側の面のブロック層が設けられていれば、より一層液晶装置の信頼性を高めることが可能であるが、第１基板及び第２基板の少なくとも一方の基板の基板面、及び一方のシール部における一方の基板面に面する側の面間にブロック層が設けられていれば、第１基板及び第２基板相互の接着力の向上、及び装置内部へ浸入する水分等の異物を低減する効果は相応に得られる。
【００１５】
また、ブロック層は、例えば一方のシール部に比べて一方の基板の基板面との接着力が高い材料で形成されているほうが好ましい。このようなブロック層によれば、第１基板及び第２基板相互の接着力の向上、及び装置内部へ浸入する水分等の異物を低減する効果がより一層奏される。
【００１６】
第１ギャップ材は、第１シール部及び第２シール部の他方のシール部内に含まれており、第１基板及び第２基板の夫々の基板面に接している。より具体的には、ブロック層が設けられていない他方のシール部中に含まれる第１ギャップ材は、他方のシール部内に分散されており、第１基板及び第２基板を相互に貼り合わせた際に、これら基板の夫々の基板面に接し、基板間の間隔を第１基板上全体で一定に維持する。ここで、一方のシール部にギャップ材を分散させておくことも考えられる。しかしながら、一方のシール部は、ブロック層と接するため、一方のシール部を介したブロック層及び他方の基板の基板面との間隔と、一方のシール部を介した第１及び第２基板の夫々の基板面間の間隔が相互に異なる。よって、一方のシール部に均一なサイズのギャップ材を分散させただけでは、シール領域におけるこれら間隔の相違に応じて第１基板及び第２基板の間隔、即ちギャップを装置全体で均一に維持することができない。
【００１７】
そこで、本発明に係る液晶装置では、ブロック層に接していない、即ち第１基板及び第２基板の夫々の基板面のみに接する他のシール部が第１ギャップ材を含んでいるのである。このような第１ギャップ材によれば、液晶層が設けられた表示領域全体において第１基板及び第２基板間のギャップが一定に維持されるため、液晶装置の表示性能を高めることができる。
【００１８】
以上説明したように、本発明に係る液晶装置によれば、液晶装置の信頼性を高めることができると共に、表示性能が高められた液晶装置を提供することが可能である。
【００１９】
本発明に係る液晶装置の一の態様では、前記一方の基板の基板面において前記表示領域から前記シール領域の中程まで延びる無機配向膜を備えており、前記ブロック層は、前記無機配向膜の一部を構成し、且つ前記表示領域から前記シール領域の中程まで延びる延在部の表面、及び前記一方のシール部における前記延在部の表面に面する側の面の夫々に接していてもよい。
【００２０】
この態様では、無機配向膜は、例えば、一方の基板の基板面に形成された画素電極或いは該画素電極に対向配置された対向電極を覆うように、ＳｉＯ或いはＳｉＯ２等の無機材料を該基板面に斜方蒸着させることによって形成されている。無機配向膜は、一方の基板の基板面において表示領域からシール領域の中程まで延びている。
【００２１】
より具体的には、無機配向膜は、一方の基板の基板面、及び一方のシール部における一方の基板の基板面に面する側の面に延びる延在部を有しており、この延在部は、ブロック層と同様に、一方の基板の基板面及び一方のシール部間に段差を形成する。このような段差によれば、ブロック層によって形成される段差と同様に、第１基板及び第２基板相互の接着力を高めることが可能である。
【００２２】
ここで、第１基板及び第２基板をより強固に接着するためには、一方のシール部の下面全体に延在部が接していることが好ましいが、無機配向膜及びシール部間の接着力が高くなる反面、無機配向膜及びシール部の界面から水分等の異物が浸入し易い。したがって、本発明に係る液晶装置では、シール領域の途中まで延在部を延在させておくことによって、一方のシール部及び基板面の界面を介して装置内部に浸入する水分等の異物を低減する。より具体的には、延在部は、例えばシール領域の途中まで延びているため、一方のシール部及び基板面を構成する絶縁膜の表面の間に延在部に対応した段差が設けられることなる。
【００２３】
このような段差によれば、シール部の下面全体が延在部に接している場合に比べて、水分等の異物が浸入する浸入経路を複雑にすることが可能であり、その分水分等の異物が装置内部に浸入し難くなる。これにより、水分等の異物によって、液晶装置の表示性能が低下することを抑制できる。
【００２４】
尚、シール領域において、第１基板上に形成された無機配向膜と同様に、例えば第２基板に形成された無機配向膜をシール領域の途中まで延在させておけば、対向電極のうちシール領域に延びる部分全体が一方のシール部の上面全体と接する場合に比べて、装置内部に浸入する水分等の異物を低減することも可能である。
【００２５】
この態様によれば、ブロック層及び無機配向膜の延在部の双方を設けることによって液晶装置の信頼性をより一層高めることが可能である。
【００２６】
本発明に係る液晶装置の他の態様では、前記一方の基板の基板面において前記シール領域に設けられた無機膜を備えており、前記ブロック層は、前記無機膜の表面、及び前記一方のシール部における前記無機膜の表面に面する側の面の夫々に接していてもよい。
【００２７】
この態様によれば、第１基板及び第２基板の少なくとも一方の基板面に、例えば無機配向膜と同一膜とされる無機膜が設けられている。無機膜は、一方の基板の基板面においてシール領域に設けられている。より具体的には、無機膜は、シール領域で第１シール部に重なっている。このような無機膜によれば、無機配向膜と同様に、無機膜の厚みに応じて形成された段差によって、第１基板及び第２基板を強固に接着できると共に、装置内部に浸入する水分等の異物を低減することも可能である。
【００２８】
本発明に係る液晶装置の他の態様では、前記ブロック層は、前記無機配向膜と同一材料、或いは有機材料から構成されていてもよい。
【００２９】
この態様にでは、例えば無機配向膜を斜方蒸着法で形成した後、続けて当該斜方蒸着法を用いて無機配向膜上にＳｉＯ又はＳｉＯ２等の無機材料を蒸着させることによってブロック層が形成される。また、無機配向膜を形成した後、ポリイミド（ＰＩ）等も有機材料を塗布することによってブロック層が形成されていてもよい。
【００３０】
この態様によれば、ブロック層を無機配向膜、或いは有機配向膜を形成する際に用いられる汎用の膜形成法を用いて簡便にブロック層を形成できる。
【００３１】
本発明に係る液晶装置の他の態様では、前記ブロック層は、前記一方のシール部からみて前記第１基板及び前記第２基板の夫々の側に配置された一対のブロック層であり、前記他方のシール部は、前記一対のブロック層の夫々に接する第２ギャップ材を含んでいてもよい。
【００３２】
この態様によれば、一方のシール部からみて一方の基板の基板面側にのみブロック層を形成する場合に比べてより一層第１基板及び第２基板を強固に接着できると共に、装置内部に浸入する水分等の異物を低減できる。
【００３３】
加えて、他方のシール部に含まれる第２ギャップ材は、一対のブロック層の夫々に接しているため、第１ギャップ材及び第２ギャップ材の両方のギャップ材によって第１基板及び第２基板の間隔、即ちギャップを基板上で一定に維持することが可能である。また、このような第２ギャップ材は、他のシール部に分散されており、第１基板及び第２基板を貼り合わせた際における、一対のブロック層の夫々の厚みに応じて、第１ギャップ材と共に第１基板及び第２基板間の間隔を一定に維持できるようにサイズが設定されている。
【００３４】
したがって、この態様によれば、第１シール意部及び第２シール部の夫々に含まれる第１ギャップ材及び第２ギャップ材によって、表示領域における第１基板及び第２基板間の間隔が一定に維持され、液晶装置の表示性能が高められる。
【００３５】
本発明に係る液晶装置の他の態様では、前記第２シール部は、前記第１シール部と間隔を隔てて前記表示領域に近い側に配置されていてもよい。
【００３６】
この態様によれば、第１シール部及び第２シール部の間隔に応じて設けられた空間によって、水分等の異物が装置内部に浸入し難くなる。したがって、この態様によれば、装置内部に浸入する水分等の異物をより一層低減できる。
【００３７】
本発明に係る液晶装置の製造方法は上記課題を解決するために、第１基板と、前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第１基板及び第２基板間に挟持された液晶層と、前記第１基板上の表示領域の周辺に位置するシール領域に設けられた第１シール部と、前記シール領域において、前記第１シール部からみて前記表示領域に近い側に設けられた第２シール部と、前記シール領域において、前記第１シール部及び前記第２シール部の一方のシール部に重なるように設けられており、（ｉ）前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方の基板の基板面、及び（ｉｉ）前記一方のシール部における前記基板面に面する側の面、の夫々に接するブロック層と、前記第１シール部及び前記第２シール部の他方のシール部内に含まれており、前記第１基板及び前記第２基板の夫々の基板面に接する第１ギャップ材とを備えた液晶装置を製造するための液晶装置の製造方法であって、  前記シール領域において、前記第１シール部及び前記第２シール部の夫々を前記第１基板上に別々に形成する工程と、前記第１シール部及び前記第２シール部を介して前記第１基板及び前記第２基板を互いに貼り合わせる工程とを備える。
【００３８】
本発明に係る液晶装置の製造方法では、第１シール部及び第２シール部は、並行して或いは相前後して、例えばディスペンサ等によって第１シール部及び第２シール部の夫々を構成する材料を塗り分けることによって形成される。
【００３９】
このような第１シール部及び第２シール部は、第１基板及び第２基板を貼り合わせる際に、紫外線硬化或いは熱硬化、若しくはこれら硬化法を組みあわせることによって硬化され、第１基板及び第２基板を相互に接着する。
【００４０】
本発明に係る液晶装置によれば、上述の液晶装置と同様に、液晶装置の信頼性を高めることができると共に、表示性能が高められた液晶装置を提供することが可能である。
【００４１】
本発明に係る電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の液晶装置を具備してなる。
【００４２】
本発明に係る電子機器によれば、上述した本発明に係る液晶装置を具備してなるので、高品位の表示が可能であり、且つ信頼性に優れた投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明に係る電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置等も実現することが可能である。
【００４３】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
以下、図面を参照しながら本発明に係る液晶装置、及び本発明に係る液晶装置の製造方法、並びに本発明に係る電子機器の各実施形態を説明する。
【００４５】
＜１−１：液晶装置の構成＞
図１は、本発明に係る「第１基板」の一例であるＴＦＴアレイ基板１０を、その上に形成された各構成要素と共に本発明に係る「第２基板」の一例である対向基板２０の側から見た液晶装置の平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´断面図である。本実施形態では、液晶装置の一例として、駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置１を例に挙げる。
【００４６】
図１及び図２において、液晶装置１は、ＴＦＴアレイ基板１０、対向基板２０、液晶層５０、シール部５２、封止部５６、液晶封止部１５６を備えている。
【００４７】
液晶装置１では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、複数の画素部が設けられる、本発明の「表示領域」の一例である画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール部５２により相互に接着されている。
【００４８】
シール部５２は、本発明の「第１シール部」の一例である第１シール部５２Ａ、及び本初発明の「第２シール部」の一例である第２シール部５２Ｂを備えている。第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域において、シール領域が延びる方向に沿って夫々延在されている。より具体的には、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂは、画像表示領域１０ａを囲むようにＴＦＴアレイ基板１０の平面形状を規定する各辺に沿って延在されている。尚、以下では、第１シール部５２Ａが、本発明の「一方のシール部」の一例とされる場合を例に挙げる。
【００４９】
第１シール部５２Ａは、画像表示領域１０ａの中央から外側に向かう方向に沿って、第２シール部５２Ｂの外側に位置しており、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂは、空間５５によって相互に隔てられている。
【００５０】
第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂの端は、液晶装置１の製造時に画像表示領域に液晶を注入するための注入口に臨む端において、封止部５６によって相互に連結されるように接続されることによって、空間５５を封止する。したがって、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂ、並びに封止部５６からなる構造体は、空間５５を囲む閉じた平面形状を有している。液晶封止部１５６は、液晶注入口を挟んで相対向する封止部５６の間に設けられており、液晶層５０を封止する。
【００５１】
シール部５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化されている。
【００５２】
図２に示すように、第１シール部５２Ａ及び２シール部５２Ｂの夫々は、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等の第１ギャップ材５４Ｂ及び第２ギャップ材５４Ａを含んでいる。第１ギャップ材５４Ｂ及び第２ギャップ材５４Ａの夫々は、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂの夫々に散布されている。加えて、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂは、画像表示領域１０ａの周囲に延在されているため、第１ギャップ材５４Ｂ及び２ギャップ材５４Ａによって、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の夫々の周縁部に沿ってこれら基板間のギャップが一定に維持される。これに伴い、画像表示領域１０ａにおけるＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０のギャップも一定に維持され、基板面内におけるギャップの不均一性に起因する画質の低下を抑制できる。
【００５３】
尚、第１ギャップ材５４Ｂ及び第２ギャップ材５４Ａの夫々のサイズは、後述するように、シール領域においてＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０のギャップと、ブロック層のギャップとに応じて夫々設定されている。
【００５４】
空間５５は、ＴＦＴアレイ基板１０の基板面内において封止部５６、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂに囲まれており、封止部５６、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂを介してＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を貼り合わせた状態で、液晶装置１の外部から密閉された密閉空間である。
【００５５】
空間５５は、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂ、及び封止部５６、並びにＴＦＴアレイ基板１０基板及び対向基板２０によって囲まれた３次元的に密閉された空間であり、外部と隔絶されている。したがって、空間５５は、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂが接している場合、或いはこれらシール部が一体として形成される場合に比べて装置内部に浸入する水分等の異物を低減する。
【００５６】
シール部５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜５３の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。尚、画像表示領域１０ａの周辺に位置する周辺領域が存在する。言い換えれば、本実施形態においては特に、ＴＦＴアレイ基板１０の中心から見て、この額縁遮光膜５３より以遠が周辺領域として規定されている。
【００５７】
周辺領域のうち、シール部５２が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路１０４は、この一辺に隣接する２辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿い、且つ、額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線が設けられている。
【００５８】
対向基板２０の４つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導通材１０６が配置されている。他方、ＴＦＴアレイ基板１０にはこれらのコーナー部に対向する領域において上下導通端子が設けられている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００５９】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極９ａ上に、無機配向膜１６が形成されている。他方、対向基板２０上には、対向電極２１の他、格子状又はストライプ状の遮光膜、更には最上層部分に無機配向膜２２が形成されている。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【００６０】
ＴＦＴアレイ基板１０は例えば石英基板、ガラス基板、シリコン基板等の透明基板である。対向基板２０もＴＦＴアレイ基板１０と同様に透明基板である。
【００６１】
ＴＦＴアレイ基板１０には、画素電極９ａが設けられている。対向基板２０には、その全面に渡って対向電極２１が設けられている。画素電極９ａ及び対向電極２１は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜などの透明導電性膜からなる。
【００６２】
このように構成され、画素電極９ａと対向電極２１とが対面するように配置されたＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には、液晶層５０が形成される。液晶層５０は、画素電極９ａからの電界が印加されていない状態で配向膜により所定の配向状態をとる。
【００６３】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等の駆動回路に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
【００６４】
次に、図３を参照しながら、無機配向膜１６の構成を詳細に説明する。図３は、図２に対応する断面の構成について、特に、ＴＦＴアレイ基板１０上に形成された配向膜１６による液晶の配向について模式的に示した図である。
【００６５】
図３において、ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０と対向する側の基板面上に、ＴＦＴ等の各種構成要素を備えた積層構造９０が形成されており、積層構造９０の最上層に画素電極９ａが画素毎に形成されている。より具体的には、積層構造９０の最上層は、ボロンドープ酸化膜（ＢＳＧ膜）等から構成される絶縁膜である。画素電極９ａ上に、ＳｉＯ或いはＳｉＯ２等の無機材料の柱状構造物１６ａがＴＦＴアレイ基板１０の基板面に対して所定の角度をなして配列することにより、液晶分子を垂直配向モードで配向制御するための無機垂直配向膜として無機配向膜１６が形成されている。このように形成された無機配向膜１６は、表面形状効果により、液晶分子５０ａの配向状態を垂直配向モードによって規制できる。
【００６６】
尚、無機配向膜２２は、基本的には無機配向膜１６と同様の構成を有しているが、無機配向膜２２を構成する無機材料からなる柱上構造物が対向基板２０の基板面及び対向電極２１となす角度が、無機材料の柱状構造物１６ａがＴＦＴアレイ基板１０の基板面に対してなす所定の角度と異なっていてもよい。
【００６７】
液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなる、誘電率異方性が負である液晶分子５０ａからなる。液晶層５０は、画素電極９ａからの電界が印加されていない状態で、配向膜１６及び２２の夫々の表面で互いに異なるプレチルト角をなし、液晶装置１の動作時に垂直配向モードで配向制御される。
【００６８】
＜１−２：液晶装置の画像表示領域における回路構成＞
次に、図４を参照しながら、液晶装置１の画像表示領域１０ａにおける回路構成及びその動作を説明する。図４は、液晶装置１の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路である。
【００６９】
図４において、液晶装置１の画像表示領域１０ａを構成するマトリクス状に形成された複数の画素には、それぞれ、画素電極９ａと当該画素電極９ａをスイッチング制御するためのＴＦＴ３０とが形成されており、サンプリング回路７を介して画像信号ＶＩＤｉ（ｉ＝１、２、・・・、ｎ）が供給されるデータ線６ａが当該ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号ＶＩＤｉは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
【００７０】
ＴＦＴ３０のゲートにゲート電極３ａが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線１１ａ及びゲート電極３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、・・・、Ｇｍを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されている。スイッチング素子であるＴＦＴ３０は一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓｎに応じた画素電位が画素電極９ａに所定のタイミングで書き込む。容量電極３００は、上下導通端子１０６に直接、或いは間接的に電気的に接続されている。対向電極２１には、容量電極３００に電気的に接続されており、固定電位である共通電位ＬＣＣＯＭが供給されている。
【００７１】
画素電極９ａを介して液晶層に書き込まれた所定レベルの画像信号ＶＩＤ１、ＶＩＤ２、・・・、ＶＩＤｎは、対向基板２０に形成された対向電極２１との間で一定期間保持される。液晶層５０は、印加される電圧レベルにより液晶分子の分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。
【００７２】
尚、ここで保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極９ａと対向電極２１との間に形成される液晶層容量と並列に蓄積容量７０を付加する。この蓄積容量７０は、走査線１１ａに並んで設けられ、固定電位側容量電極を含むとともに定電位に固定された容量電極３００を含んでいる。
【００７３】
以上の各回路部等の動作によって液晶装置１の動作時に画像が表示される。
【００７４】
＜１−３：液晶装置の詳細な構成＞
次に、図５を参照しながら液晶装置１の詳細な構成を説明する。図５は、図２に示した液晶装置１の断面上における領域Ｃ１を拡大して示した拡大図である。
【００７５】
図５において、液晶装置１は、第１シール部５２Ａ、第２シール部５２Ｂ、及びブロック層５８を備えている。
【００７６】
第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂは、画像表示領域１０ａの周辺に位置するシール領域１１０ａに形成されている。第２シール部５２Ｂは、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域１１０ａにおいて、第１シール部５２Ａからみて画像表示領域１０ａに近い側に設けられている。したがって、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂは、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を相互に貼り合わせているとともに、第１シール部５２Ａより画像表示領域１０ａに近い側に設けられた第２シール部５２Ｂの内側の領域に液晶層５０が形成されている。
【００７７】
無機配向膜１６及び２２の夫々は、画像表示領域１０ａからシール領域１１０ａに延びており、シール領域１１０ａに重なる第１延在部１６Ａ及び第２延在部２２Ａの夫々を有している。
【００７８】
ブロック層５８は、第１シール部５２Ａの上面に接するブロック層５８ｂ、及び第１シール部５２Ｂの下面に接するブロック層５８ａから構成されている。ブロック層５８ａ及び５８ｂの夫々は、例えば無機配向膜１６及び２２を構成するＳｉＯ２等の無機材料、或いはポリイミド等の有機材料から形成されており、無機配向膜１６及び２２が形成された後、斜方蒸着方、或いは塗布法等の汎用の膜形成法を用いて簡便に形成されている。
【００７９】
ブロック層５８ａは、シール領域１１０ａにおいて、第１シール部５２Ａに重なるように設けられており、ＴＦＴアレイ基板１０上に延びる第１延在部１６Ａの上面、及び第１シール部５２Ａにおける第１延在部１６Ａの上面に面する側の面の夫々に接している。より具体的には、ブロック層５８ａは、第１シール部５２Ａ及び第１延在部１６Ａ間に介在し、シール領域１１０ａにおいて、第１シール部５２Ａ及び第１延在部１６Ａの夫々に密着している。
【００８０】
したがって、ブロック層５８ａが設けられている分、第１シール部５２Ａ及び第１延在部１６Ａ間にブロック層５８ａの厚みに応じた段差が形成され、第１シール部５２Ａ及びＴＦＴアレイ基板１０を相互を接着する接着力を高めることができる。即ち、ブロック層５８ａに応じた段差が形成されることによって、第１シール部５２Ａの平坦な下面に第１延在部１６Ａを接着する場合に比べて、ブロック層５８ａ及び第１延在部１６Ａの接触面積が増えるため、ブロック層５８ａを介した第１シール部５２Ａ及び第１延在部１６Ａの接着力がより強固になる。尚、ブロック層５８ａを、第１シール部５２Ａに比べて第１延在部１６Ａとの接着力が高い材料を用いて形成すれば、第１シール部５２Ａ及び第１延在部１６Ａとの接着力をより一層を高めることが可能である。
【００８１】
加えて、図中太い矢印で示したように、第１シール部５２Ａ及び第１延在部１６Ａの界面を介して水分等の異物が装置内部に浸入する浸入経路を複雑にすることができる。したがって、平坦な界面に比べて、水分等の異物が浸入する浸入経路は長くなり、水分等の異物が装置内部に浸入し難くなる。よって、装置内部に設けられた液晶層５０等の構成要素が水分等の異物によって劣化することを低減でき、表示性能が経時的に低下することを抑制することが可能である。これにより、表示性能の低下が抑制された、信頼性に優れる液晶装置を提供できる。
【００８２】
尚、ブロック層５８ｂも、ブロック層５８ａと同様に、第１シール部５２Ａの上面及び第２延在部２２Ａ間の接着力を高めることができると共に、装置内部に浸入する水分等の異物を低減できる。したがって、第１シール部５２Ａから見てＴＦＴアレイ基板１０側及び対向基板２０側の夫々にブロック層５８ａ及び５８ｂの夫々を設けることによって、基板間の接着力を向上させる効果、及び水分等の浸入を低減する効果がより一層効果的に発揮されることになる。
【００８３】
尚、本実施形態では、ブロック層５８ａ及び５８ｂを設けた場合を説明したが、ブロック層５８ａ及び５８ｂの少なくとも一方が設けられていれば、基板間の接着力を向上させる効果、及び水分等の浸入を低減する効果は相応に得られる。
【００８４】
第１ギャップ材５２Ｂは、第２シール部５２Ｂ内に分散されており、無機配向膜１６及び２２の表面に接することによって、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０のギャップをＴＦＴアレイ基板１０上で一定に維持する。
【００８５】
ここで、第１シール部５２Ａ中に第１ギャップ材５４Ｂと同じサイズのギャップ材を分散させておくことも考えられる。しかしながら、第１シール部５２Ａは、ブロック層５８と接しているため、第１シール部５２Ａを介したブロック層５８ａ及び５８ｂの間隔と、無機配向膜１６及び２２間の間隔とは相互に異なる。よって、第１シール部５２Ａ中に第１ギャップ材５４Ｂのサイズと同じサイズで、且つ均一なサイズのギャップ材を分散させただけでは、シール領域におけるこれら間隔の相違に応じてＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の間隔、即ちギャップを装置全体で均一に維持することができない。
【００８６】
そこで、本実施形態に係る液晶装置１では、第２シール部５２Ｂが、第１ギャップ材５２Ｂを含んでいるのである。このような第１ギャップ材５２Ｂによれば、液晶層５０が設けられた画像表示領域１０ａ全体においてＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間のギャップが一定に維持されるため、液晶装置１の表示性能を高めることができる。
【００８７】
加えて、本実施形態では、第２ギャップ材５４Ａが、第１シール部５２Ａ中に分散されている。第２ギャップ材５４Ａは、ブロック層５８ａ及び５８ｂの厚み分だけ第１ギャップ材５４Ｂより小さめのサイズに形成されている。したがって、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂを介してＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を貼り合わせた際に、シール領域１１０ａ全体でＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０のギャップが一定に維持され、これに伴い、画像表示領域１０ａのおけるＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０のギャップも一定に維持される。
【００８８】
このような第１ギャップ材５２Ｂ及び第２ギャップ材５２Ａの両方を第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂの夫々に設けることによって、第１ギャップ材５４Ｂのみを設ける場合に比べてより一層基板間のギャップが一定に維持され、液晶装置１の表示性能を高めることが可能である。
【００８９】
また、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂとの間に介在する空間５５によって水分等の異物が装置内部に浸入し難くなり、水分等によって液晶層５０等が劣化することを低減できる。
【００９０】
第１延在部１６Ａは、シール領域１１０ａで第１シール部５２Ａと部分的に重なるように、ＴＦＴアレイ基板１０における液晶層５０に面する側の基板面において画像表示領域１０ａからシール領域１１０ａに渡って延びている。より具体的には、第１延在部１６Ａは、第１シール部５２ＡにおけるＴＦＴアレイ基板１０の基板面、即ちシール領域１１０ａにおける積層構造９０の最上層を構成するＢＳＧ膜等の絶縁膜に臨む面の一部に接している。第１延在部１６Ａは、ブロック層５８ａ及び積層構造９０に挟まれるようにして、ブロック層５８ａ及び積層構造９０に密着している。
【００９１】
このような第１延在部１６Ａによれば、無機配向膜１６の一部である第１延在部１６Ａがブロック層５８ａと密着する密着力は、シール領域１１０ａにおいてＢＳＧ膜等の絶縁膜から構成される積層構造９０と第１シール部５２Ａとが密着する密着力より高く、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０をより強固に接着することが可能である。
【００９２】
ここで、第１シール部５２Ａ及びＴＦＴアレイ基板１０上の積層構造９０の密着力を高める観点からみれば、第１延在部１６Ａをシール領域１１０ａ全体に延在させておき、第１シール部５２Ａの下面全体を第１延在部１６Ａに密着させることが好ましいとも考えられる。しかしながら、無機配向膜１６の一部である第１延在部１６Ａ及び第１シール部５２Ａ間の密着力が高くなる反面、第１延在部１６Ａ及び第１シール部５２Ａの界面から水分等の異物が浸入し易くなる傾向にあることを本願発明者は確認している。
【００９３】
したがって、本実施形態に係る液晶装置１では、シール領域１１０ａの途中まで第１延在部１６Ａを延在させておくことによって、第１シール部５２Ａ及び積層構造９０の界面を介して装置内部に浸入する水分等の異物を低減する。より具体的には、第１延在部１６Ａは、ＴＦＴアレイ基板１０上のシール領域１１０ａの途中まで延びているため、第１シール部５２Ａ及び積層構造９０の表面の間において第１延在部１６Ａに対応した段差が形成されることになる。このような段差によれば、第１シール部５２Ａの下面全体が第１延在部１６Ａに接している場合に比べて、水分等の異物が浸入する浸入経路を複雑にすることが可能であり、その分水分等の異物が装置内部に浸入し難くなる。したがって、第１延在部１６Ａに応じて形成される段差によって、装置内部に浸入する水分等の異物を低減でき、液晶装置１の表示性能が水分等によって劣化することを抑制することが可能である。
【００９４】
尚、装置内部に浸入する水分等の異物を低減、或いは防止する効果と、ＴＦＴアレイ基板１０及び第１シール部５２Ａの密着力を高める効果のトレードオフを考慮すると、第１延在部１６Ａはシール領域１１０ａの中央まで延在されているのが好ましい。
【００９５】
このような第１延在部１６Ａを有する無機配向膜１６と同様に、無機配向膜２２はシール領域１１０ａに延びる第２延在部２２Ａを有している。対向基板２０側に形成された無機配向膜２２の一部であって、シール領域１１０ａに延びる部分である第２延在部２２Ａは、第１延在部１６Ａ及び第１シール部５２Ａの下面の関係と同様に、シール領域１１０ａに延びる対向電極２１と部分的に接することによって、第１シール部５２Ａの上面全体が第２延在部２２Ａに接する場合に比べて、対向電極２１及び第１シール部５２Ａの間から装置内部に浸入する水分等の異物を低減でき、且つ第１シール部５２Ａ及び対向基板２０の接着力を高めることが可能である。
【００９６】
また、無機配向膜１６及び２２のうち少なくとも一の膜の表面をシランカップリング剤を用いて表面処理しておけば、未処理の場合に比べてこれらの膜と第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂとの密着力を高めることが可能であり、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂを介したＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の接着をより強固にすることが可能である。
【００９７】
以上説明したように、本実施形態に係る液晶装置１によれば、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０、並びに第１シール部５２Ａの密着力が高められているとともに、装置内部に浸入する水分等の異物が低減されている。したがって、液晶装置１の表示性能の低下を抑制することが可能となり、液晶装置１の信頼性を高めることができる。
＜１−４：液晶装置の製造方法＞
次に図６乃至図８を参照しながら、本発明に係る液晶装置の製造方法の実施形態を説明する。尚、本実施形態に係る液晶装置の製造方法では、上述の液晶装置１を製造する場合を例に挙げる。図６は、液晶装置１の製造プロセスの各工程を説明するためのフローチャートである。図７は、斜方蒸着法によって無機配向膜を形成するために用いられる蒸着装置の構成を模式的に示した模式図である。図８は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の工程の一部を示した工程断面図である。尚、以下では上述の液晶装置１と共通する部分共通の参照符号を付し、詳細な説明を省略する。
【００９８】
図６において、ＴＦＴアレイ基板１０上に、例えば蒸着やスパッタリング等による成膜、エッチングやフォトグラフィ等によるパターンニング、熱処理などによって、データ線６ａや走査線１１ａ、ＴＦＴ３０等が作り込まれた積層構造９０（図３参照）の最上層に、例えばスパッタリングによりＩＴＯ等の透明導電材料からなる画素電極９ａを形成する（ステップＳ１１）。
【００９９】
続いて、斜方蒸着法を用いてシリカ（ＳｉＯ２）等の無機材料をＴＦＴアレイ基板１０に蒸着することで、ＴＦＴアレイ基板１０における画素電極９ａが形成された基板面上にシリカ（ＳｉＯ２）からなる無機配向膜１６を例えば約４０ｎｍの膜厚で形成する（ステップＳ１２）。この際、蒸着源から発生したシリカ（ＳｉＯ２）等の無機材料の蒸気流が、ＴＦＴアレイ基板１０の基板面上において、積層構造９０の最表面と接触することにより、積層構造９０上に無機材料が蒸着する。基板面上に蒸着した無機材料の柱状構造物１６ａが基板面に対して所定の角度をなして配列することで、無機材料が画素電極を覆うように基板面上に堆積する。
【０１００】
ここで、図７を参照しながらＴＦＴアレイ基板１０上に蒸着膜を形成する過程を詳細に説明する。尚、以下では、ＴＦＴアレイ基板１０上に無機配向膜１６を形成する場合を例に挙げるが、対向基板２０上に形成される無機配向膜２２も同様の方法を用いて形成される。
【０１０１】
図７において、蒸着装置３００は、蒸着源３０２と、蒸着源３０２及び無機材料の被蒸着体であるＴＦＴアレイ基板１０を収容するチャンバー３０１を備えている。
【０１０２】
ＴＦＴアレイ基板１０上の形成される無機配向膜１６を構成する柱状構造物１６ａは、ＴＦＴアレイ基板１０の基板面に対する法線ＮＬと蒸着源３０２から無機材料が堆積される第１蒸着方向とがなす角（θａ）を調整することによって、基板面に対して伸びる角度が設定される。
【０１０３】
また、対向基板２０に無機配向膜２２を形成する場合には、第１蒸着方向と対向基板２０の基板面とがなす角（θｂ）を調整することによって、無機配向膜２２を構成する柱状構造物が対向基板２０の基板面となす角を調整できる。
【０１０４】
このようにして形成される無機配向膜１６及び２２は、表面形状効果により液晶層５０の液晶分子を配向させることができる。加えて、無機配向膜１６及び２２は、無機材料からなることで耐光性や耐熱性に優れ、ライトバルブとしての液晶装置の耐久性向上に寄与する。
【０１０５】
再び、図６において、シール領域１１０ａにおいて無機配向膜１６上に斜方蒸着法を用いてＳｉＯ２等の無機材料を部分的に蒸着させることによってブロック層５８ａを形成する（ステップＳ１３）。尚、ブロック層５８ａは、ポリイミド等の有機材料を無機配向膜１６上に塗布することによって形成してもよい。
【０１０６】
次に、シラン化合物を用いて無機配向膜１６の表面を表面処理する（ステップＳ１４）。この表面処理によって、配向膜１６の耐光性を高めることができる。この際、第１延在部１６Ａの表面もシラン化合物によって処理しておけば、第１延在部１６Ａ及び第１シール部５２Ａ間の密着力を高めることが可能である。次に、溶剤等の洗浄液を用いて、表面処理された無機配向膜１６を洗浄し（ステップ１５）、無機配向膜１６を乾燥させる（ステップ１６）。
【０１０７】
尚、対向基板２０には、ステップ１１乃至１６と並行して、或いは相前後して遮光膜５３及び対向電極２１が形成される（ステップ２１）と共に、無機配向膜２２が形成される（ステップ２２）。そして、ＴＦＴアレイ基板１０の場合と同様に、対向基板２０に形成された無機配向膜２２上にブロック層５８ｂを形成し（ステップＳ２３）、無機配向膜２２は無機配向膜１６と同様に表面処理される（ステップ２４）。表面処理された無機配向膜２２は、洗浄（ステップ２５）及び乾燥（Ｓ２６）される。
【０１０８】
次に、無機配向膜１６のうちシール領域１１０ａに延びる部分の表面に相前後して、又は同時に第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂの夫々を形成する（ステップＳ１７Ａ及び１７Ｂ）。第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂは、ディスペンサ等の供給手段から供給された有機材料を、画像表示領域１０ａの周囲を囲むように所定のパターンで塗布する。
【０１０９】
ここで、図８を参照しながら、第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂを形成する工程を詳細に説明する。
【０１１０】
図８（ａ）において、ＴＦＴアレイ基板１０上の積層構造９０上に形成された無機配向膜１６上に、ディスペンサ６１から有機材料を塗布し、第１シール部５２Ａを形成する。次に、図８（ｂ）に示すように、シール領域１１０ａにおいて、第１シール部５２Ａより内側の領域にディスペンサ６１から有機材料を塗布し、第２シール部５２Ｂを形成する。
【０１１１】
その後、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を、ＴＦＴアレイ基板１０において無機配向膜１６が形成された側と、対向基板２０において無機配向膜２２が形成された側とを第１シール部５２Ａ及び第２シール部５２Ｂを介して貼り合わせる（ステップＳ３１）。この際、各シール部は、紫外線硬化或いは熱硬化によって硬化される。
【０１１２】
続いて、互いに貼り合わされた状態のＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に液晶を注入し（ステップＳ３２）、液晶装置１が形成される。
【０１１３】
（変形例）
次に、図９を参照しながら、本実施形態に係る液晶装置の変形例を説明する。尚、本例に係る液晶装置は、シール領域１１０ａにおける構造が上述の液晶装置と異なっている。このため、以下では、シール領域１１０ａにおける構造について詳細に説明し、上述の液晶装置と共通する他の部分の詳細な説明を省略する。
【０１１４】
図９において、本例に係る液晶装置は、無機膜１１７及び１２３、並びにこれら無機膜上に形成されたブロック層５８ａ及び５８ｂを備えている。
【０１１５】
無機膜１１７は、Ｔシール領域１１０ａにおいて第１シール部５２Ａに重なっている。ブロック層５８ａは、無機膜１１７及び第１シール部５２Ａ間に介在し、無機膜１１７及び第１シール部５２Ａに密着している。
【０１１６】
このような無機膜１１７によれば、無機配向膜１６と同様に、無機膜の厚みに応じて形成された段差によって、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を強固に接着できると共に、装置内部に浸入する水分等の異物を低減することも可能である。
【０１１７】
また、第１シール部５２Ａから見て対向基板２０側に設けられた無機膜１２３も無機膜１１７と同様に、第１シール部５２Ａ及び対向基板２０間に段差を形成し、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を強固に接着できると共に、図中太線の矢印で示すように、水分等の浸入経路が複雑となり、装置内部に浸入する水分等の異物をより一層低減することが可能である。加えて、このような無機膜１１７及び１２３上にブロック層５８ａ及び５８ｂの夫々が形成されているため、無機膜１１７及び１２３を設けない場合に比べて基板間の接着力を高めることが可能である。
【０１１８】
以上説明したように、本実施形態に係る液晶装置によれば、信頼性に優れた液晶装置を提供できる。
【０１１９】
＜２：電子機器＞
次に、図１０を参照しながら上述した液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。本実施形態に係る電子機器は、上述の液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタである。図１０は、上述した液晶装置を備えた電子機器の一例であるプロジェクタの構成例を示す平面図である。図１０に示すように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６および２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇに入射される。
【０１２０】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、ＲおよびＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【０１２１】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転される。尚、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
【０１２２】
尚、本実施形態に係る電子機器によれば、上述の液晶装置を具備してなるので、信頼性に優れた投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】本実施形態に係る液晶装置の平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´線断面図である。
【図３】図２に対応する断面の構成について、無機配向膜１６による液晶の配向状態を模式的に示した図である。
【図４】本実施形態に係る液晶装置の画像表示領域を構成する複数の画素における各種素子、配線等の等価回路である。
【図５】図２に示した領域Ｃ１を拡大して示した拡大図である。
【図６】本実施形態に係る液晶装置の製造方法のフローチャートである。模式的に示した模式図である。
【図７】無機配向膜を形成するための蒸着装置の構成を模式的に示した模式図である。
【図８】本実施形態に係る液晶装置の製造方法の工程の一部を示した工程断面図である。
【図９】本実施形態の変形例に係る液晶装置における、図２の領域Ｃ１に対応する領域を拡大して示した拡大図である。
【図１０】本実施形態に係る電子機器の一例の構成を示した平面図である。
【符号の説明】
【０１２４】
１・・・液晶装置、１０・・・ＴＦＴアレイ基板、１０ａ・・・画像表示領域、１６、２２・・・無機配向膜、１６Ａ・・・第１延在部、２２Ａ・・・第２延在部、２０・・・対向基板、５２ａ・・・第１シール部、５２ｂ・・・第２シール部、１１０ａ・・・シール領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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