(57)【要約】【課題】液晶分子の配向規制手段としての線状突起部や開口部の配置関係に多少のズレが生じても、視野角特性の変化が少ない液晶表示装置を提供すること。【解決手段】液晶層を挟んで互いに対向する１対の基板のうち一方の基板上には、液晶層の配向規制手段としての線状突起部が複数並んで形成されると共に、他方の基板上の電極には、液晶層の配向規制手段としてのスリット状の開口部が、隣り合う線状突起部の間に配置されるように形成され、隣り合う線状突起部と平行でかつ等距離にある中心線に対して、開口部の半分は、一方の線状突起部寄りにずらされて配置され、残りの半分は、他方の線状突起部寄りずらされて配置されている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層を挟んで互いに対向する１対の基板のうち一方の基板上には、第１の配向規制手段が複数並んで形成されると共に、他方の基板上には、第２の配向規制手段が、基板法線方向からみて隣り合う前記第１の配向規制手段の間に配置されるように形成された液晶表示装置において、隣り合う前記第１の配向規制手段と平行でかつ等距離にある中心線に対して、前記第２の配向規制手段の半分は一方の前記第１の配向規制手段寄りに配置され、残りの半分は他方の前記第１の配向規制手段寄りに配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１の配向規制手段は突起部又はスリット状の開口部であり、かつ、前記第２の配向規制手段は突起部又はスリット状の開口部であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示品位に優れた垂直配向モードの液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピュータやテレビなどの家電製品の表示部として、液晶表示装置が広く用いられている。液晶表示装置には、２枚のガラス基板のシール材で区画された領域内に液晶が封入された液晶パネルが使われている。
【０００３】
このような液晶表示装置としては、負の誘電率異方性を有する液晶層を、一対の相互に対向するガラス基板間に配置して液晶分子を垂直に配向させるとともに、液晶層に電圧を印加した時に、液晶分子のガラス基板に対する傾斜方向を複数の方向に規制する垂直配向モードの液晶表示装置が実用化されている。
【０００４】
この垂直配向モードの液晶表示装置では、非駆動状態である電圧を印加しない状態において、液晶分子が一対の相互に対向するガラス基板面に対して垂直に配向するため、光は、その偏光面をほとんど変化することなく液晶層内を通過する。このため、垂直配向モードの液晶表示装置では、ガラス基板の上下に偏光板をクロスニコルに配置することにより、電圧を印加しない状態においてほぼ完全な黒色表示が可能になり、高コントラストな画像が得られる。
【０００５】
このような垂直配向モードの液晶表示装置においても、従来のＴＮモードの液晶表示装置と同様の視野角依存性の問題があるが、これを解決する方法が提案されている。表示における視野角特性を良くするためには、垂直方向に配向される液晶分子を、１絵素内において、垂直方向に対してそれぞれ異なる方向に傾斜する複数の領域を作ることが有効であることから、このような領域を作るために、配向膜に突起部を設けたり、電極に開口部を設けたりすることが行われている。
【０００６】
図８に示すように、電極５１，５２間に印加電圧がかかると負の誘電率異方性を有する液晶分子５３は、電界方向５４に対して垂直の状態を取ろうとする。この場合、液晶分子の方位角方向を規制するものがなければ、図示されるように方位角方向はランダムになる。一方、図９に示すような突起部５５，５６や開口部５７があれば方位角方向が決定される。この場合、電圧印加時には突起部５５，５６及び開口部５７近傍の液晶分子５３が他の領域に先行して倒れ始め、その後、他の領域に伝播するようにして配向の方位角方向が規制されていく。
【０００７】
図示されるように、通常、開口部５７は隣り合う線状突起部５５，５６に平行でかつ等距離にある中心線Ｃ４位置に形成されているので、左の線状突起部５５と開口部５７によって液晶分子５３が配向規制される領域Ｌ３と、右の線状突起部５６と開口部５７によって液晶分子５３が配向規制される領域Ｒ３の面積は同じとなり、結果、表示における左右の視野角が同じになっている。
【０００８】
このような液晶分子の配向規制手段としての突起部５５，５６及び開口部５７は、材料の堆積、フォトリソグラフィ処理、そして現像処理によって形成される。具体的には、材料となる有機絶縁膜や透明導電性膜が基板上に塗布され、プリベーク処理された後に、パターニングのための露光処理が施される。露光後は、現像液で現像処理されて不要物が除去されると、図示されるようなパターンの線状突起部５５，５６や開口部５７が形成される。
【０００９】
【特許文献１】特開２００３−２９２８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
近年、液晶テレビなどに用いられる液晶表示装置の大画面化に伴い製造装置にも大画面に対応するものが要求されている。露光については、画面を複数の領域に分けて露光する分割露光により、従来の小型の露光装置を用いて大画面に対応することが行われている。
【００１１】
しかしながら、分割露光時の各領域における露光のアライメントのバラツキを完全になくすことは難しく、パターニングがずれてしまう領域が出来てしまう場合がある。図１０は、図９のものと比べて、開口部５７が右にずれてパターニングされたものを示している。この場合、開口部５７は隣り合う線状突起部５５，５６に平行でかつ等距離にある中心線Ｃ４位置から右にずれた位置に形成されてしまっている。従って、配向方向が異なる領域Ｌ３，Ｒ３の面積に差が生じる結果、左右の視野角が同じでなくなってしまう。このような視野角特性が異なる部分が、液晶画面の一部に存在すると、ムラやスジとなって見えてしまい、表示品位を落とす原因となっていた。
【００１２】
そこで、本発明が解決する課題は、液晶分子の配向規制手段としての線状突起部や開口部の配置関係に多少のズレが生じても、視野角特性の変化が少ない液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するため、本発明に係る液晶表示装置は、液晶層を挟んで互いに対向する１対の基板のうち一方の基板上には、第１の配向規制手段が複数並んで形成されると共に、他方の基板上には、第２の配向規制手段が、基板法線方向からみて隣り合う前記第１の配向規制手段の間に配置されるように形成された液晶表示装置において、隣り合う前記第１の配向規制手段と平行でかつ等距離にある中心線に対して、前記第２の配向規制手段の半分は一方の前記第１の配向規制手段寄りに配置され、残りの半分は他方の前記第１の配向規制手段寄りに配置されていることを要旨とするものである。
【００１４】
この場合、前記第１の配向規制手段は突起部又はスリット状の開口部であり、かつ、前記第２の配向規制手段は突起部又はスリット状の開口部である構成にすると良い。
【発明の効果】
【００１５】
上記構成を有する液晶表示装置によれば、隣り合う第１の配向規制手段と平行でかつ等距離にある中心線に対して、第２の配向規制手段の半分は、一方の第１の配向規制手段寄りに配置され、残りの半分は、他方の配向規制手段寄りに配置されているので、一方の第１の配向規制手段と第２の配向規制手段によって液晶分子が配向規制される領域と、他方の第１の配向規制手段と第２の配向規制手段によって液晶分子が配向規制される領域の境界線の形状が階段状又はジグザグ状になる。つまり、従来技術のように隣り合う線状突起部とその間に位置する開口部との距離が一定ではなく、近い部分と遠い部分が混在した構成になる。
【００１６】
従って、パターニングのズレ量に対する第１の配向規制手段と第２の配向規制手段との距離の変化の割合が、従来技術のように線状突起部と開口部の間の距離が一定である構成に比べて少なくなる領域が形成されるので、結果、パターニングのズレに対する視野角特性の変化が少なくなるというものである。
【００１７】
この場合、前記第１の配向規制手段は突起部又はスリット状の開口部であり、かつ、前記第２の配向規制手段は突起部又はスリット状の開口部である構成にすれば、液晶分子の配向規制を効率良く行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。図１は本発明の一実施形態である液晶表示装置の１絵素の概略構成を表す平面図、図２（ａ）は図１のＡ−Ａ断面、図２（ｂ）は図１のＢ−Ｂ断面を示した図である。図示されるように、下側基板４１の上には下側電極４２、上側基板４４には上側電極４５が形成されており、両電極間に封入された液晶分子４８に電圧を印加することができるようになっている。また、下側電極４１には斜め電界を発生させて液晶分子４８を配向規制するためのスリット状の開口部４３が形成されており、上側電極４５の下には電圧無印加時の液晶分子４８を配向規制するための直線状の線状突起部４６，４７が下側に突出して形成されている。
【００１９】
線状突起部４６，４７は互いに平行に配置されており、下側電極４２にスリット状に開口形成された開口部４３は、これら線状突起部４６，４７の間に配置されている。この場合、線状突起部４６，４７と平行でかつ等距離にある中心線Ｃ１に対して、開口部４３の上半分は、左の線状突起部４６寄りにずらされて配置され、残りの下半分は、右の線状突起部４７寄りずらされて配置されており、全体として階段形状又は凸凹形状を有している。
【００２０】
開口部４３がこのような形状を有しているため、左の線状突起部４６と開口部４３によって液晶分子４８が配向規制される領域は、大きさが異なる上下２つの領域Ｌ１，Ｌ２となり、右の線状突起部４７と開口部４３によって液晶分子４８が配向規制される領域は、大きさが異なる上下２つの領域Ｒ１，Ｒ２となっている。
【００２１】
例えばこの場合、左上の配向規制領域Ｌ１における線状突起部４６と開口部４３の距離は、従来技術で説明した図９の線状突起部５５，５６と開口部５７との距離を１００とした場合、５０となっている。同様に、左下の配向規制領域Ｌ２における線状突起部４６と開口部４３との距離は１５０、右上の配向規制領域Ｒ１における線状突起部４７と開口部４３との距離は１５０、右下の配向規制領域Ｒ２における線状突起部４７と開口部４３との距離は５０となっており、配向領域Ｌ１，Ｌ２，Ｒ１，Ｒ２全体としての左右の視野角は同じとなっている。
【００２２】
図３は、パターニングのズレ等により、図１の状態から開口部４３が右方向に距離１０ずれて配置された場合を示している。従来技術で説明した図９と図１０におけるズレの場合、ズレ量１０に対する左の線状突起部５５と開口部５７との距離の変化の割合は、１００→１１０で１０％増、右の線状突起部５６と開口部５７の距離の変化の割合は、１００→９０で１０％減となっている。
【００２３】
これに対し、本発明に係る図１と図３におけるズレの場合、左下の配向規制領域Ｌ２の距離の変化の割合は１５０→１６０で６．７％増、右上の配向形成領域Ｒ１の距離の変化の割合は１５０→１４０で６．７％減となり、これらの配向規制領域Ｌ２，Ｒ１においては、ズレ量に対する線状突起部４６，４７と開口部４３の距離の変化の割合が、従来技術の場合よりも少なくなっている。
【００２４】
尚、左上の配向規制領域Ｌ１の距離の変化の割合は５０→６０で２０％増、右下の配向規制領域Ｒ２の距離の変化の割合は５０→４０で２０％減と、上述した配向規制領域Ｌ２，Ｒ１の場合と比べて大きいが、図示されるように、これら配向規制領域Ｌ１，Ｒ２の面積は、配向規制領域Ｌ２，Ｒ１の面積よりも小さいため、全体としての視野角特性に与える影響は、配向規制領域Ｌ２，Ｒ１と比べて十分に小さい。したがって、全体としての視野角特性は、配向規制領域Ｌ２，Ｒ１によってほぼ決定されるので、ズレに対する左右の視野角の変化は、従来技術の場合と比べて少なくなる。
【００２５】
次に上述した実施形態の他に、本発明のより具体的な適用例について説明する。図４は本発明が適用される液晶表示装置の１絵素の概略を拡大して示す平面図、図５は図４のＤ−Ｄ線における断面図である。
【００２６】
この液晶表示装置１には、図５に示すように、一対の相互に対向するガラス基板（ＴＦＴ側基板）１０とガラス基板（カラーフィルター側基板）３０の間に、液晶層４０が設けられており、下側のガラス基板１０上には、絵素電極１７がマトリクス状に形成されている。
【００２７】
先ず、ガラス基板（ＴＦＴ側基板）１０について説明する。図４に示すように、絵素電極１７の周囲には、アルミニウム等からなるゲートバスライン１１とソースバスライン１２とが相互に直交するように形成されている。ゲートバスライン１１とソースバスライン１２とは、その交差部において、ソースバスライン１２が上側、ゲートバスライン１１が下側となるように交差しており、交差部においてゲートバスライン１１とソースバスライン１１は電気的に絶縁されている。
【００２８】
絵素電極１７を取り囲む横方向に延びる一対のゲートバスライン１１の下側と、縦方向に延びる一対のソースバスライン１２の左側との交差部には、ゲートバスライン１１の一部であるゲート電極１１ａに接続されたスイッチング素子としてのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１３が形成されている。
【００２９】
このゲートバスライン１１及びゲート電極１１ａは、同じ配線層（第１配線層）に形成されている。つまり、ゲートバスライン１１及びゲート電極１１ａは同一の導電膜をパターニングすることにより形成されたものである。そして、これらゲートバスライン１１及びゲート電極１１ａは、窒化シリコン等からなるゲート絶縁膜１４に覆われている（図５参照）。
【００３０】
ＴＦＴ１３位置のゲート絶縁膜１４の上には、アモルファスシリコン等からなる図示しない半導体層が、ゲート電極１１ａに重畳するように形成されている。そのゲート絶縁膜１４の上には、ＴＦＴ１３のソース電極１３ａ及びドレイン電極１３ｂが形成されている。ソース電極１３ａ及びドレイン電極１３ｂは、ゲート電極１１ａ上の半導体層の両側に相互に離隔して形成されている。ソース電極１３ａはソースバスライン１２に接続され、ドレイン電極１３ｂはコンタクトホール部１７ａを介して絵素電極１７に接続されている。これらソースバスライン１２、ソース電極１３ａ及びドレイン電極１３ｂは、図５には示されないが、ゲート絶縁膜１４上の同じ配線層（第２の配線層）に形成されている。
【００３１】
ＴＦＴ１３は、ゲートバスライン１１のゲート電極１１ａより供給される走査信号電圧によってオン／オフ制御される。また、ソースバスライン１２を介してソース電極１３ａより供給される表示信号電圧は、ドレイン電極１３ｂ及び絵素電極１７のコンタクトホール部１７ａを介して絵素電極１７に供給される。
【００３２】
そして、ソースバスライン１２及びＴＦＴ１３は、ゲート絶縁膜１４の上に形成された層間絶縁膜１９に覆われている。この層間絶縁膜１９は感光性アクリル樹脂（感光性有機膜）材料からなり、ＴＦＴ１３や前述した第１及び第２配線層（ゲートバスライン１１，ソースバスライン１２等）と絵素電極１７との間に配置されて、両導電体間を絶縁するものである（図５参照）。
【００３３】
層間絶縁膜１９の上には、各絵素領域毎に、絵素電極１７が形成されている。この絵素電極１７は例えばＩＴＯ（indium-tin oxide：インジウム酸化スズ）材料等の透明導電体により形成される。
【００３４】
絵素電極１７には、斜め方向に延びるスリット形状の開口部１８が開口形成されている。この開口部１８は電圧印加時に斜め電界（フリンジフィールド）を発生させて視野角特性を向上させるためのものである。この実施の形態では、図示されるように所定の角度に傾斜した開口部１８が一つの絵素電極１７内で上下対称形となるように配置されている。そして、この絵素電極１７の上側には下側配向膜２１が形成されている。下側配向膜２１には、例えばポリイミド樹脂が用いられている。
【００３５】
このような構成のＴＦＴ側基板１０の製造方法について説明する。まず、ガラス基板１０表面に、タングステン、チタン、アルミニウム、クロムなどからなる単層または多層の導体膜を形成する。この導体膜の形成方法には、公知の各種スパッタリング法などが適用できる。そして、形成した導体膜を、フォトリソグラフィ法などを用いて所定のパターンに形成する。これにより、所定のパターンのゲートバスライン１１、ゲート電極１１ａを得る。
【００３６】
次に、ゲート絶縁膜１４を形成する。このゲート絶縁膜１４は、たとえば窒化シリコンなどからなり、プラズマＣＶＤ法などを用いて形成する。そして、このゲート絶縁膜１４の上には、ＴＦＴ１３の図示しない半導体層やソースバスライン１２、ソース電極１３ａ、ドレイン電極１３ｂを形成する。
【００３７】
ＴＦＴ１３の半導体層は、たとえばｎ＋型のアモルファスシリコンなどからなり、プラズマＣＶＤ法などを用いて形成する。そして、ゲート絶縁膜１４の上に、先のゲートバスラインと同様の方法で、ソースバスライン１２、ソース電極１３ａ、ドレイン電極１３ｂを形成する。
【００３８】
次に、感光性アクリル樹脂（感光性有機膜）材料からなる層間絶縁膜１９を形成する。そして、形成した層間絶縁膜１９に、コンタクトホールを形成する。このコンタクトホールは、フォトリソグラフィ法などを用いて形成する。そして、この層間絶縁膜１９の表面に、ＩＴＯ材料からなる透明導電膜をスパッタリング法などを用いて形成する。その後、形成したＩＴＯ膜を、フォトリソグラフィ法などを用いて、所定のパターンに形成する。これにより、所定のパターンの絵素電極１７とコンタクトホール部１７ａを得る。
【００３９】
次に、絵素電極１７を形成した後に、下側配向膜２１を形成する。円圧式印刷装置やインクジェット式印刷装置を用い、ポリイミドなどからなる液状の配向材を塗布する。その後、配向膜焼成装置などを用いて基板を加熱し、塗布した配向材を焼成する。これにより絵素電極１７の上に、固体の下側配向膜２１を得る。以上の工程を経て、ＴＦＴ側基板１０を得る。
【００４０】
次に、ガラス基板（カラーフィルター側基板）３０について説明する。図５に示すように、ガラス基板３０の下にはブラックマトリクス３１が形成されている。このブラックマトリクス３１により、ガラス基板１０のゲートバスライン１１、ソースバスライン１２及びＴＦＴ１３が形成された領域の外側の領域を遮光するようになっている。また、ガラス基板３０の下には、各絵素毎に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）のうちのいずれか１色の着色層３２が形成されている。この実施の形態では、水平方向に赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の着色層３２が順番に繰り返し並び、垂直方向には同色の着色層３２が並んでいる。
【００４１】
この着色層３２の下には、各絵素共通の共通電極３３が形成されている。この共通電極３３も、ＩＴＯ材料等の透明導電体により形成されている。共通電極３３の下には、線状突起部３４，３５が形成されている。図示されるように所定の角度に傾斜した線状突起部３４，３５が一つの絵素電極１７内で上下対称形となるように配置されている。この突起部３４，３５は、液晶分子を垂直方向に対して所定の傾斜方向となるように配向させて視野角特性を向上させるためのものである。そして、共通電極３３の下には線状突起部３４，３５を覆うように上側配向膜３６が形成されている。この上側配向膜３６には、例えばポリイミド樹脂が用いられている。
【００４２】
このような構成のカラーフィルタ側基板３０の製造方法について説明する。まず、ガラス基板３０の表面にＢＭレジスト（黒色着色剤を含有する感光性樹脂組成物）などを塗布する。次いで、塗布したＢＭレジストを、フォトリソグラフィ法などを用いて、所定のパターンに形成する。これにより、所定のパターンのブラックマトリクス３１を得る。
【００４３】
次に、赤色、緑色、青色の各色の着色感材（感光性樹脂に所定の色の顔料を分散させた溶液）からなる着色インクを塗布し、フォトリソグラフィ法などを用いて、所定のパターンに形成する。これにより、所定のパターンの着色層３２を得る。そして、着色層３２の表面に、ＩＴＯ材料からなる透明導電膜をスパッタリング法などを用いて形成し、共通電極３３を得る。
【００４４】
次に、共通電極３３の表面に、レジスト（感光性樹脂組成物）などを塗布する。塗布したレジストを、フォトリソグラフィ法などを用いて、所定のパターンに形成する。これにより、所定のパターンの線状突起部３４，３５を得る。
【００４５】
そして、線状突起部３４，３５を形成した後に、上側配向膜３６を形成する。円圧式印刷装置やインクジェット式印刷装置を用い、ポリイミドなどからなる液状の配向材を塗布する。その後、配向膜焼成装置などを用いて基板を加熱し、塗布した配向材を焼成する。これにより共通電極３３の上に、固体の上側配向膜３６を得る。以上の工程を経て、カラーフィルタ側基板３０を得る。
【００４６】
このような構成のガラス基板（ＴＦＴ側基板）１０とガラス基板（カラーフィルター側基板）３０との間には、負の誘電率異方性を有する液晶層４０が形成されている。また、ガラス基板１０の下側及びガラス基板３０の上側にはそれぞれ偏光板（図示せず）が配置されている。
【００４７】
ガラス基板（ＴＦＴ側基板）１０とガラス基板（カラーフィルター側基板）３０の貼り合わせの際には、いずれか一方の基板に、シールパターニング装置などを用いて、紫外線硬化型のシール材とコモン転移材を塗布する。そして、液晶滴下装置などを用いて、基板の表示領域に液晶を滴下する。その後、減圧雰囲気下で基板同士を貼り合わせ、シール材に紫外線を照射して硬化させることで、液晶表示パネル１を得る。
【００４８】
図４に示されるように、線状突起部３４，３５と平行でかつ等距離にある中心線Ｃ２に対して、開口部１８中央の半分は、左の線状突起部３４寄りにずらされて配置され、残りの上下の半分は、右の線状突起部３５寄りずらされて配置されている。従って、上述した図１及び図３で説明したものと同様に、パターニングのズレ等によって、線状突起部３４，３５と開口部１８の配置にズレが生じても、ズレに対する視野角特性の変化が少なくなるようになっている。
【００４９】
尚、図６に示すように、線状突起部３４，３５と平行でかつ等距離にある中心線Ｃ２に対して、開口部１８中央の半分は、右の線状突起部３５寄りにずらされて配置され、残りの上下の半分は、左の線状突起部３４寄りずらされて配置されている構成でも良く、図４に示したものと同様の作用・効果を奏する。
【００５０】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施できることは勿論である。例えば、図７に示すように、隣り合う開口部２２，２３と平行でかつ等距離にある中心線Ｃ３に対して、線状突起部３７の中央の半分は、一方の開口部２２寄りにずらされて配置され、残りの上下の半分は、他方の開口部２３寄りずらされて配置されるという構成でも良く、上記実施の形態に限定されない。また、配向規制手段として、一方の基板の電極に突起部、他方の基板の電極に開口部という構成について、本発明を適用した例を示したが、双方の基板の電極に突起部という構成や、双方の基板の電極に開口部という構成にも適用できること言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の一実施形態である液晶表示装置の１絵素の概略を拡大して示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線における断面図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ線における断面図である。
【図４】本発明の他の実施形態である液晶表示装置の１絵素の概略を拡大して示す平面図である。
【図５】図４のＤ−Ｄ線における断面図である。
【図６】図４に示した本発明の実施の形態の第１の変形例を示した図である。
【図７】図４に示した本発明の実施の形態の第２の変形例を示した図である。
【図８】配向規制手段が設けられていない場合における電圧印加時の液晶分子の配向状態を模式的に示した図である。
【図９】配向規制手段としての線状突起部と開口部が設けられている場合における電圧印加時の液晶分子の配向状態を模式的に示した図である。
【図１０】図９の線状突起部と開口部の配置がズレた場合を示した図である。
【符号の説明】
【００５２】
１  液晶表示パネル
１０  ガラス基板（ＴＦＴ側基板）
１１  ゲートバスライン
１２  ソースバスライン
１３  ＴＦＴ
１４  ゲート絶縁膜
１７  絵素電極
１７ａ  コンタクトホール部
１８  開口部
３０  ガラス基板（カラーフィルター側基板）
３１  ブラックマトリックス
３２  着色層
３３  共通電極
３４，３５  線状突起部
４０  液晶層
４１  下側基板
４２  下側電極
４３  開口部
４４  上側基板
４５  上側電極
４６，４７  線状突起部
４８  液晶分子
Ｃ１，Ｃ２  中心線
Ｌ１，Ｌ２，Ｒ１，Ｒ２  配向規制領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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