(57)【要約】【課題】  マクロ検査とミクロ検査と連続して行える基板検査装置の大型化を防ぎ、検査効率を向上させることである。【解決手段】  基板検査装置１は、ベース本体３上に基板Ｗをエアー浮上させる浮上ステージ４が敷設されている。さらに、ベース本体３の一端部から他端部に至る間に、自動マクロ検査部２１と、ミクロ検査部２２とが順番に配設されている。自動マクロ検査部２１は、ライン状の照明光を基板Ｗに照射する照明部２４を有し、照明光の反射光を反射部２５で折り返した後に、撮像部２６に入射するように構成されている。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラットパネルディスプレイ用基板を搬送するステージと、
前記基板の一辺を保持して前記ステージの搬送方向に搬送する搬送手段と、
前記ステージの上流側に配置され、前記搬送方向と交差する方向に延びるライン状照明光を出射するライン照明用光源と、前記ライン状照明光により照射される観察領域を撮像する撮像部を有するミクロ検査部と、
前記ステージの搬送方向に配置され、前記搬送方向と直交する方向に移動する対物レンズを有するミクロ検査部と、
前記ミクロ検査部にて検出された欠陥の座標を演算する欠陥座標演算部と、
前記欠陥座標演算部の各欠陥の座標データに基づき、前記欠陥のＸ座標が前記対物レンズの走査ラインに一致する位置に前記基板を移動させ、前記基板を停止させた状態で前記ミクロ検査部の前記対物レンズを前記欠陥のＹ座標に一致する位置まで移動させる制御部と、
前記対物レンズの走査ラインに対応する検査領域に配置され、前記基板を高精度に浮上させる精密浮上ブロックとを備え、
前記基板を浮上させた状態で前記ミクロ検査部により前記基板をミクロ検査することを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
前記ステージは、前記精密浮上ステージを挟んで搬送方向に沿って細長い搬送用浮上ブロックを所定の間隔をおいて複数配置したことを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記精密浮上ブロックは、エアー吹き出し孔とエアー排出孔を有し、前記基板を正圧と負圧とにより浮上高さを高精度に制御することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載に基板検査装置。
【請求項４】
前記ステージの基板搬入領域には、搬送された前記基板の４辺を挟むように複数の基準ピンと押し付けピンとからなる基板位置決め機構が配置され、前記基板を前記搬送用浮上ブロックにより浮上させた状態で前記基準ピンに前記基板を前記押し付けピンにより押し当てて位置決めすることを特徴とする請求項２に記載の基板検査装置。
【請求項５】
前記ライン照明用光源は、前記基板に対する入射角度をラインセンサカメラで干渉画像または回折画像が所得できる任意の角度に設定できるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項６】
前記ライン照明用光源は、前記基板に対する入射角度を任意に設定できるように回動可能に設けられ、前記搬送手段は、前記マクロ検査部のマクロ検査領域で前記基板を往復移動可能に設けられ、前記制御部により前記基板の往路又は復路で前記ライン照明用光源の入射角度を変更し、ラインカメラセンサにより前記往路又は前記復路で干渉画像又は回折画像を撮像することを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイのフラットパネルディスプレイ等の基板の検査に用いられる基板検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造工程では、基板の外観を検査する工程に、基板検査装置が使用されている。基板検査装置には、一軸ステージに沿って、欠陥検出部と、欠陥レビュー部とを配置したものがある（例えば、特許文献１参照）。欠陥検出部は、検出カメラと、透過照明とから構成され、欠陥レビュー部は、カラーカメラと、透過照明とから構成されている。
【０００３】
さらに、基板検査装置には、基板全体を巨視的に目視観察するマクロ検査と、顕微鏡を用いて比較的に小さい欠陥等の有無を検査するミクロ検査とを併用して外観検査する基板検査装置がある。このような外観検査装置は、マクロ検査部に配置され、搬送ロボットにより搬入されたガラス基板を目視観察に適した角度に設定するマクロ検査用の揺動ホルダと、この揺動ホルダからガラス基板を受け取りミクロ検査領域に移送するＸＹステージとを有し、マクロ検査部のマクロ照明領域から外れた位置にミクロ検査用の顕微鏡を設けたものが知られている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２０００−９６６１号公報
【特許文献２】特開２００１−３０５０６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に開示されているような基板検査装置では、検査対象であるガラス基板が大型化すると、目視による検査が困難になり、検査者にかかる負担が大きくなる。また、基板が大型化すると、欠陥等の位置を登録する際に、ジョイスティックなどの操作部を操作し、ポインタを発見した欠陥の上に移動させる距離が大きくなるので、検査時間が長くなる。さらに、大型の基板を揺動させるためには、大きなスペースと、頑丈な揺動機構を設ける必要があるので、装置が大型化してしまう。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的としては、マクロ検査とミクロ検査と連続して行える基板検査装置の大型化を防ぎ、検査効率を向上させることである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決する本発明は、フラットパネルディスプレイ用基板を搬送するステージと、前記基板の一辺を保持して前記ステージの搬送方向に搬送する搬送手段と、前記ステージの上流側に配置され、前記搬送方向と交差する方向に延びるライン状照明光を出射するライン照明用光源と、前記ライン状照明光により照射される観察領域を撮像する撮像部を有するミクロ検査部と、前記ステージの搬送方向に配置され、前記搬送方向と直交する方向に移動する対物レンズを有するミクロ検査部と、前記ミクロ検査部にて検出された欠陥の座標を演算する欠陥座標演算部と、前記欠陥座標演算部の各欠陥の座標データに基づき、前記欠陥のＸ座標が前記対物レンズの走査ラインに一致する位置に前記基板を移動させ、前記基板を停止させた状態で前記ミクロ検査部の前記対物レンズを前記欠陥のＹ座標に一致する位置まで移動させる制御部と、前記対物レンズの走査ラインに対応する検査領域に配置され、前記基板を高精度に浮上させる精密浮上ブロックとを備え、前記基板を浮上させた状態で前記ミクロ検査部により前記基板をミクロ検査することを特徴とする基板検査装置とした。
【０００６】
この基板検査装置では、マクロ検査部は、基板に対してライン状の照明光を照射し、その反射光から基板表面の巨視的な画像（マクロ画像）を取得する。この際に、移動手段が基板を移動させながら画像を取得すると基板表面の画像が自動的に得られる。また、ミクロ検査部は、基板と、対物レンズとをそれぞれ移動させることによって、基板の所定位置の拡大像（ミクロ画像）を取得する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、基板の移動経路に沿ってマクロ検査部と、ミクロ検査部とを設け、基板を移動させながらマクロ検査部で基板表面からの反射光を取り込んで巨視的な画像を自動的に取得し、ミクロ検査部で基板の拡大画像を取得するようにしたので、基板サイズによらずに外観検査を速やかに行うことが可能になる。マクロ検査部で取得した画像から欠陥等の有無を自動的に検出するようにすると、人手で検査を行う場合に比べて、迅速、かつ正確な結果が得られる。また、欠陥の位置を登録し、この位置に合わせてミクロ検査部を移動させるようにすると、必要な場所の拡大像が得られ、検査の精度が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明を実施するための最良の形態について以下に説明する。
（第１の実施の形態）
図１及び図２に示すように、基板検査装置１は、床面に除振装置２を介して設置されるベース本体３を備え、ベース本体３上には、基板搬送手段としてエアーを吹き出してＦＰＤ用ガラス基板（ガラス基板Ｗ）を浮上させる浮上ステージ４が敷設されている。浮上ステージ４は、ベース本体３の長手方向（Ｘ方向）の一端部側から、ガラス基板Ｗの搬送方向（長手方向）に沿って細長の浮上ブロック（搬送用浮上ブロック）５，６が所定の間隔をおいて複数配設されており、この浮上ステージ４の中間に浮上ブロック５，６の長手方向に直交する幅方向（Ｙ方向）にガラス基板Ｗの浮上高さを高精度に制御可能な精密浮上ブロック（検査用浮上ブロック）７，９が所定の隙間８をおいて配置されている。これら浮上ブロック５，６と、精密浮上ブロック７，９には、その上面に開口するエアー吹き出し孔１０（図１には一部のみ図示されている）が、等間隔に複数配設されている。これらエアー吹き出し孔１０は、エアコンプレッサなどの流体供給源１１に接続されている。
【０００９】
精密浮上ブロック７，９は、浮上ブロック５，６に比べてエアー吹き出し孔１０が密に配置されたものや、エアー吹き出し孔１０の他にエアー排出孔を設け、エアー吐出力（正圧）と、エアー吸引力（負圧）とによりガラス基板Ｗの浮上高さを高精度に制御するものであれば良い。
【００１０】
さらに、ベース本体３上で、長手方向に平行な一方の側縁部には、ガイドレール１２が浮上ステージ４と平行に敷設されており、このガイドレール１２には、基板吸着テーブル１３が移動自在に取り付けられている。基板吸着テーブル１３は、ガイドレール１２に沿って自走可能なリニアモータなどのスライド部１４に、ガラス基板Ｗを吸着する吸着部１５が上下移動可能に支持されている。吸着部１５は、ベース本体３の長手方向に沿って等間隔に複数配設されている。各吸着部１５の先端には、樹脂性の吸着パッドが設けられ、この吸着パッドには上下に貫通する貫通孔が形成されており、この貫通孔は吸引ポンプ１７に接続されている。さらに、ベース本体３のガラス基板Ｗの搬入領域には、ガラス基板Ｗを挟むように、位置決め機構である基準ピン１８と押し付けピン１９が複数配設されている。基準ピン１８は、浮上ステージ４の上面に対して出没可能に上下移動自在になっており、押し付けピン１９は、ガラス基板方向に移動自在になっている。なお、ベース本体３のガラス基板Ｗの搬入領域の浮上ステージ４の下方には、基板Ｗをリフトアップして、搬送用ロボットによる基板交換を可能にする基板リフト部が設けられている。基板リフト部は、上下移動するリフトピン２０が搬送用ロボットのロボットハンドと干渉しないように複数配置されている。
【００１１】
ここで、ベース本体３には、その一端部から他端部に至るまでの間に、第１の検査部である自動マクロ検査部２１と、第２の検査部であるミクロ検査部２２とが浮上ステージ４の基板搬送方向に沿って上流側から下流側に順番に配設されている。自動マクロ検査部２１は、浮上ステージ４をＹ方向に平行に跨ぐようにベース本体３に取り付けられた門型フレーム２３を有し、門型フレーム２３の水平フレーム部の一方の側面に沿って照明部２４が取り付けられており、門型フレーム２３の水平フレーム部の上面には照明部２４よりも高い位置に反射部２５と、撮像部２６が取り付けられている。照明部２４は、Ｙ方向に平行な細長の照明光を基板表面に向かって照射するライン照明用光源２７を有している。ライン照明用光源２７としては、例えば、棒状のロッドレンズの端面に光源を配したものがあげられる。反射部２５は、照明光の反射光の光路上に配置されており、反射光を撮像部２６に向かって折り返すミラー２８を備えている。撮像部２６は、カメラレンズ２９と、カメラレンズ２９よりも他端部側に配置されたラインセンサカメラ３０とを備えている。照明部２４と、反射部２５と、撮像部２６との配置は、基板Ｗの観察領域で反射した光が収束しつつ像を結ぶように設定されており、基板Ｗ表面の干渉像、及び回折像を取得するために、任意の入射角度に設定できるようにライン照明用光源２７が回動可能に設けられている。このような自動マクロ検査部２１は、マクロ用制御部３１に接続されている。マクロ用制御部３１は、ライン照明用光源２７の発光制御と、撮像部２６からの画像データの取り込みとを行い、画像データを画像処理してマクロ画像を作成し、このマクロ画像と予め登録されている設計パターンとのパターンマッチングを行う画像処理部と、パターンマッチングの結果に応じて欠陥の有無を判定する判定部と、欠陥の重心位置から欠陥の位置を算出する欠陥座標演算部と、欠陥の位置を登録する登録手段であるメモリとを有している。
【００１２】
ミクロ検査部２２は、浮上ステージ４をＹ方向に平行に跨ぐようにベース本体３に取り付けられた門型フレーム４０と、門型フレーム４０の水平フレーム部の一方の側面に沿って敷設されたガイドレール４１と、ガイドレール４１に沿って移動自在な自走式の検査ヘッド用ステージ４２と、検査ヘッド用ステージ４２に支持された顕微鏡４３とを有する。この顕微鏡４３は精密浮上ブロック７，９間に形成される隙間８の上方に配置されており、この隙間８の下方には、ガイドレール４４に沿って顕微鏡４３の移動に追従する照明部４５が設けられている。顕微鏡４３は、対物レンズと、ＣＣＤ（固体撮像素子）とを有し、自動マクロ検査部２１の撮像部２６に干渉しないように、撮像部２６よりも低い位置に設けられている。顕微鏡４３のＣＣＤの出力は、ミクロ用制御部４６に接続されている。なお、ミクロ用制御部４６には、ステージ４２と、照明部４５と、マクロ用制御部３１とが接続されている。
【００１３】
なお、基板検査装置１の全体の制御は、装置制御部５０により統括して行われるようになっている。装置制御部５０は、浮上ステージ４、基板吸着テーブル１３、押し付けピン１９、基板リフト部、マクロ用制御部３１、及びミクロ用制御部４６に接続されている。さらに、装置制御部５０には、画像を表示したりするモニタ５１と、観察者の操作を受け付ける操作部５２とが接続されている。
また、基板Ｗは、ガラス製の平面基板が用いられ、この基板Ｗ上に配線や、フィルタなどのパターンが半導体技術を用いて作製される。基板Ｗの欠陥とは、パターンの一部が切れていたり、パターン同士が短絡したり、異物が付着している微視的なものと、フィルタの膜や、製造過程で一時的に塗布されるレジスト膜などのパターン自体に膜ムラが発生しているような巨視的なものとがあげられる。したがって、これらパターンが、この実施の形態における検査対象となる。
【００１４】
次に、この実施の形態の作用について説明する。
まず、浮上ステージ４の各エアー吹き出し孔１０からエアーを上向きに吹き出させ、搬送用ロボットによって搬送されるガラス基板Ｗを浮上ステージ４上に移載する。具体的には、各基準ピン１８を浮上ステージ４の上面より突出させるように上昇させた後、基板リフト部を上方に移動させた状態で、リフトピン２０により搬送用ロボットからガラス基板Ｗを受け取って、基板リフト部をリフトダウンする。その結果、ガラス基板Ｗがエアーによって浮上ステージ４上に浮上させられる。ガラス基板Ｗを浮上させた状態で、各押し付けピン１９をＸ方向、又はＹ方向に移動させ、ガラス基板Ｗを各基準ピン１８に当て付けて位置決めを行ってから、吸引ポンプ１７を駆動させてガラス基板Ｗを基板吸着テーブル１３の吸着パッド１６で吸着保持する。
【００１５】
基板Ｗを位置決めして吸着保持したら、各基準ピン１８を基板吸着テーブル１３及びガラス基板Ｗと干渉しない退避位置に下降させた後、基板吸着テーブル１３をガイドレール１２に沿って他端部（Ｘ方向）に向かって等速度で移動させる。このガラス基板Ｗ上にライン照明用光源２７からライン照明光が照射され、ガラス基板Ｗ表面での反射光が撮像部２６により撮像される。この場合、基板吸着テーブル１３をマクロ検査領域でガラス基板Ｗを往復移動させ、往路と復路でライン照明用光源２７の入射角度を撮像部２６で回折光又は干渉光が撮像される角度に変更し、回折画像と干渉画像とを撮像する。
【００１６】
マクロ用制御部３１は、画像処理により形成される実際のパターンと、設計パターンとのパターンマッチングを行い、パターンと一致しない欠陥部分の重心位置を、予め設定されている基板Ｗの基準位置に対する座標として算出し、これをメモリに登録すると共に、欠陥座標のデータをミクロ用制御部４６に受け渡す。なお、基板ＷがＸ方向に移動するタイミングと同期してマクロ用制御部３１の画像処理部で１ラインずつデータを積み重ねることによって、基板Ｗ表面全体のマクロ画像を形成し、その各々についてパターンマッチングを行う。その結果、欠陥が複数存在すると判定された場合には、判定された全ての欠陥座標が順番に登録される。そして、基板Ｗのマクロ画像と、欠陥を示すマークとがモニタ５１に出力される。検査者は、自動マクロ検査で判定された各欠陥に対してミクロ検査を行うが、この際に、操作部５２を操作して、その欠陥位置を指定する。指定方法としては、例えば、マウスで画面上のマークをクリックして欠陥座標を取得したり、欠陥として登録されている座標を登録順又は距離の近い順に読み出す。
【００１７】
そして、ミクロ検査部２２は、検査者によって指定された欠陥のミクロ画像を取得する。すなわち、検査対象となる欠陥のＸ座標が顕微鏡４３の対物レンズの走査ライン（隙間８）と一致する位置で基板吸着テーブル１３を停止させると共に、顕微鏡４３と、照明部４５とを検査対象となる欠陥のＹ方向の座標に合わせる。このとき、ガラス基板Ｗは、精密浮上ブロック７，９により浮上高さが高精度に制御され、この状態でオートフォーカスが実行される。これによって、照明部４５から出射した照明光が隙間８を通過し、基板Ｗを透過して顕微鏡４３に入射され、顕微鏡４３で取得したミクロ画像が、モニタ５１に表示される。なお、ミクロ検査部２２は、検査者の操作を待たずに、自動マクロ検査部２１で欠陥と判定された位置のミクロ画像を自動的に取得するようにしても良い。
【００１８】
自動マクロ検査部２１と、ミクロ検査部２２の間で搬送することにより検査が終了したら、基板吸着テーブル１３を浮上ステージ４の一端部側の受け渡し位置（ガラス基板Ｗの搬入領域）まで搬送し、基板Ｗの吸着保持を解除してから、基板リフト部で基板Ｗをリフトアップする。この際、基板吸着テーブル１３上に配置された各吸着部１５の吸着パッドがガラス基板Ｗの裏面に接触し、この吸着パッドの摩擦力によりエアー浮上したガラス基板Ｗの移動力が規制される。これにより、ガラス基板Ｗは、位置決めされた状態でリフト部の各リフトピン２０に受け渡される。他の基板Ｗの検査を行う場合には、ロボットによって基板Ｗが交換され、次の基板Ｗについて同様の検査を行う。
【００１９】
この実施の形態によれば、ライン照明光下で基板ＷをＸ方向に移動させながら、回折光、干渉光を撮像部２６により撮像するようにしたので、基板全体に対するマクロ検査を自動で行うことができる。したがって、大型の基板Ｗであっても速やかに効率良く検査することができる。また、基板Ｗを揺動させて起き上がらせる必要がなくなるので、大掛かりな揺動機構や、揺動のためのスペースを設ける必要がない。さらに、欠陥の判定をパターンマッチングによって自動的に行うことで、検査者による検査のバラツキを防止することができる。パターンマッチングを行ったときに、欠陥と判定された箇所の座標を登録することができるので、欠陥の情報を他の検査に利用しやすくなる。
また、同一装置内で、同一の基板吸着テーブル１３により位置決めされたガラス基板Ｗを自動マクロ検査部２１とミクロ検査部２２との間に搬送することができるため、従来のように基板を載せ換えたり、アライメントのし直しを行う必要がなく、検査時間を短縮することができる。かつマクロ検査部２１で抽出された各欠陥をミクロ検査部２２に対して高い精度で位置合わせできる。この際に、自動マクロ検査部２１から取得した座標の情報に基づいて、基板ＷのＸ方向の移動と、顕微鏡４３のＹ方向の移動とを行うようにしたので、簡単な構成で大型基板のミクロ検査が可能になる。
さらに、自動マクロ検査部２１の撮像部２６の高さと、ミクロ検査部２２の顕微鏡４３の高さを異ならせることで、両検査部２１，２２の位置を近接させたので、基板検査装置１を小型化できる。
【００２０】
（第２の実施の形態）
基板検査装置１の他の形態としては、以下のような装置構成があげられる。
自動マクロ検査部２１の検査データを利用する第２の検査部としてミクロ検査部２２の他に自動線幅測定部を設けても良い。自動線幅測定部は、線幅を測定する対象として予め登録されたパターンのミクロ画像を顕微鏡４３で取得し、このミクロ画像を画像処理して、パターンの線幅を演算する。
また、顕微鏡４３に、ＣＣＤの代わりに、又はＣＣＤに加えて分光測定ユニットを取り付けても良い。分光測定ユニットは、可視光を分光する分光器であって、主にカラーフィルタの分光感度を測定するために取り付けられる。分光測定をする対象は、予め登録した位置に限定しても良いし、全てのカラーフィルタでも良い。
自動線幅測定部や、分光測定ユニットを備えることで、マクロ検査や、ミクロ検査の他にも、線幅測定や、分光感度測定が可能になる。さらに、パターンの良不良を判定するための線幅の閾値や、分光感度をミクロ用制御部４６に登録しておき、測定結果と比較するように構成すると、検査者を介さずに自動的に検査を行わせることもできる。
【００２１】
（第３の実施の形態）
図３に示す基板検査装置１の自動マクロ検査部２１の概念図のように、ライン照明用光源２７が駆動機構６０を介して門型フレーム２３（図２参照）に角度変更可能に支持され、撮像部２６は、レンズ２９の前に干渉フィルタ６１が光路上に挿抜自在に配置されている。この基板検査装置１では
、基板Ｗを自動マクロ検査部２１で設定された検査条件に従って往復移動させ、例えば、往路で干渉像を取得し、復路で回折像を取得する。干渉像を取得するときには、駆動機構６０を駆動させて、照明光の基板Ｗへの入射角度θ１が、基板Ｗからの反射光の撮像部２６への入射角度θ２と同じ角度になるようにライン照明用光源２７を門型フレーム２２に対して回動させる。さらに、干渉フィルタ６１をレンズ２９の直前の光路上から挿入する。これによって、前記と同様に、基板Ｗの移動に伴って画像データが蓄積され、干渉像が取得される。また、回折像を取得するときには、入射角度θ１が、撮像部２６への入射角度θ２とはｎ次光の回折角度になるようにライン照明用光源２７の角度を設定し、干渉フィルタ６１を光路上から退避させる。その結果、基板Ｗの移動に伴って回折画像データが蓄積され、回折像が取得される。
【００２２】
この実施の形態では、基板Ｗの往復移動が終了するのと略同時に干渉像、及び回折像が取得できる。そして、その後には、予め設定された条件に応じて、ミクロ検査に移行したり、基板Ｗの交換を実施する。なお、画像処理を行う場合には、干渉像の処理は、回折像を取得する復路中に行い、回折像の処理は、次の工程への移行前に行われる。この実施の形態によれば、干渉像から膜厚ムラの有無を検出することが可能になり、回折像から微細パターンの異常などを検出することができ、自動でマクロ検査を行う場合でも目視検査に近い精度を達成することができる。
【００２３】
なお、本発明は前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
例えば、基板検査装置１は、浮上ステージ４の代わりに、フリーローラなどの公知のステージを備える構成にしても良い。また、基板吸着テーブル１３は、一方の側縁部だけでなく、他方の側縁部にも設け、基板Ｗの両側縁を吸着保持させても良い。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の平面図である。
【図２】基板検査装置の側面図である。
【図３】自動マクロ検査部の概念図である。
【符号の説明】
【００２５】
１      基板検査装置
３      ベース本体
４      浮上ステージ（ステージ、搬送手段）
５，６    搬送用浮上ブロック
７，９    精密浮上ブロック
１０    エアー吹き出し孔
１３    基板吸着テーブル（テーブル、搬送手段）
１８    基準ピン
１９    押し付けピン
２１    自動マクロ検査部
２２    ミクロ検査部
２４    照明部
２６    撮像部（撮像手段）
２７    ライン照明用光源
３１    マクロ用制御部
４３    顕微鏡
４５    照明部
４６    ミクロ用制御部
６０    駆動機構
６１    干渉フィルタ
Ｗ      ガラス基板（フラットパネルディスプレイ用基板）
θ１，θ２    入射角度
【図１】
2007107945.tif 000003
【図２】
2007107945.tif 000004
【図３】
2007107945.tif 000005