(57)【要約】【課題】ハンドリングする総データ量を、現状のデータ処理システムの能力内で処理できる程度のデータ量を超えない範囲に収めて、現状のデータ処理システムにより処理が可能となる画像処理方法，画像処理装置およびこれを用いる描画装置を提供すること。【解決手段】パネル画像を複数配置してなる画像の描画データを生成するに際し、前記パネル画像を表記する繰り返しパターンを有する画像データと前記パネル画像の個々のレイアウト情報とを含む回路設計データから、前記画像データ中の繰り返しの単位パターンと前記レイアウト情報とを抽出し、前記画像データを前記描画データに対応するパネル描画データに変換した後に、前記レイアウト情報に基づいて前記パネル描画データを配置することにより、前記画像の描画データを生成することを特徴とする画像処理方法およびこれを具体化した装置、並びにこの方法および装置を用いる描画装置。【選択図】図１
2007271743.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パネル画像を複数配置してなる画像の描画データを生成するに際し、
前記パネル画像を表記する繰り返しパターンを有する画像データと前記パネル画像の個々のレイアウト情報とを含む回路設計データから、前記画像データ中の繰り返しの単位パターンの画像データと前記レイアウト情報とを抽出し、前記繰り返しの単位パターンの画像データを前記描画データに対応するパネル描画データに変換した後に、前記レイアウト情報に基づいて前記パネル描画データを配置することにより、前記画像の描画データを生成することを特徴とする画像処理方法。
【請求項２】
少なくとも前記画像データを抽出する際に、対象となる画像データを、パネルを構成する単位ごとに抽出する請求項１に記載の画像処理方法。
【請求項３】
前記レイアウト情報が、少なくとも前記画像上における各パネル画像の位置の情報を含む請求項１または２に記載の画像処理方法。
【請求項４】
前記レイアウト情報が、前記パネル画像の倍率情報および回転情報の少なくとも一方を含む請求項３に記載の画像処理方法。
【請求項５】
パネル画像を複数配置してなる画像の描画データを生成する装置であって、
前記パネル画像を表記する繰り返しパターンを有する画像データと前記パネル画像の個々のレイアウト情報とを含む回路設計データから、前記画像データ中の繰り返しの単位パターンの画像データと前記パネル画像の個々のレイアウト情報とを抽出する抽出手段と、
前記パネル画像を表記する繰り返しパターンの単位パターンの画像データを受け取り、記憶する記憶手段と、
前記記憶手段で記憶した前記画像データを前記描画データに対応するパネル描画データに変換するデータ変換手段と、
前記データ変換手段で変換した前記パネル描画データを前記レイアウト情報に基づいて配置し、前記画像の描画データを生成するデータ生成手段と
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項６】
前記抽出手段は、少なくとも前記画像データを抽出する際に、対象となる画像データを、パネルを構成する単位ごとに抽出するものである請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記レイアウト情報が、少なくとも前記画像上における各パネル画像の位置の情報を含む請求項５または６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記レイアウト情報が、前記パネル画像の倍率情報および回転情報の少なくとも一方を含む請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
請求項５〜８のいずれかに記載の画像処理装置が生成した前記画像の描画データに基づいて描画を行うことを特徴とする描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は画像処理方法，画像処理装置およびこれを用いる描画装置に関し、特に、非常に大きな容量の画像データを取り扱うのに好適な、画像処理方法，画像処理装置およびこれを用いる描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＲＴを用いるディスプレイに代わって液晶ディスプレイ，プラズマディスプレイ等のいわゆる薄型のディスプレイが多く用いられるようになっている。特に、大画面のディスプレイに関しては、省エネルギー並びに軽量化等が実現できることの理由もあって、その傾向が顕著である。
例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に関しては、２０インチ相当程度のものから、５０インチ相当程度のものまでが、広く市場に出回ってきている。
【０００３】
ところで、上述の液晶ディスプレイを製造する場合を例に挙げると、生産効率を向上させる目的から、基本となる液晶パネルの製造に用いられる基材（ガラス板）のサイズが、近年、特に拡大される傾向にあり、最近では、２ｍ×２ｍを超える大サイズのものまで用いられるに至っている。このように大きなサイズの基材を用いる場合には、通常、４面〜８面以上というようないわゆる多面付けで扱われるようになる。
【０００４】
この場合には、基材（ガラス板）のハンドリングにも特別な機材が必要になるのはもちろんであるが、基材の大面積化に伴って、この面に記録される情報量、すなわち、液晶パネルであればブラックマトリクス（ＢＭ）や、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色フィルタ層等を、高精細に記録（描画）するための描画システムにおいても、改善が要望されるに至っている。
【０００５】
より具体的には、例えば２．４ｍ×２．４ｍというサイズの場合、この基材上に記録されるブラックマトリクス（ＢＭ）や、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色フィルタ層等の記録データ（ラスタデータ）の総量は、２．４テラ バイト（２．４Ｔbyte ）を超えるようなものとなるため、このような大量のデータの取り扱いに関しては、その処理時間の効率化を含めてシステムの構成を基本的な部分から見直す必要が出てきている。
【０００６】
従来、このような大サイズの基材上への記録に関しては、多面付けの場合であっても、１面分のサイズに相当するガラスマスク（フォトマスク）を作製して、これを上述の大サイズの基材上に順次露光（投影露光）するという方法で行われるのが普通であった。
しかし、この方法では、製品の仕様が変わるごとに異なるガラスマスクを作製する必要があるという問題があり、また、多面付けの場合であれば、ガラスマスクを移動させて異なる位置に露光するステップを繰り返す必要があり、効率的とはいえなかった（例えば、非特許文献１参照）。
【０００７】
【非特許文献１】岩井，和泉：液晶部品・材料ビジネス最前線  工業調査会（１９９５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
一方、近年では、プリント基板作製の分野において、比較的小サイズのプリント基板を多数面付けにして、ガラスマスクを用いない直接描画方式により作製することが検討されており、これに関しては、本出願人が、特願２００５−６３９８３号「画像処理方法、画像処理装置および描画システム」により、その具体的方法等を提案している。
【０００９】
上記出願に係る「描画システム」は、ＣＡＤ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ ａｉｄｅｄ ｄｅｓｉｇｎ）で設計された基本プリント配線パターンを編集してプリント配線基板となる基板に割り付けてなる描画パターンを表記した描画パターンデータ（ベクトルデータまたはガーバデータ）に編集するＣＡＭ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ａｉｄｅｄ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ）と、ＣＡＭで編集した描画パターンデータをラスタライズしてラスタデータを生成するＲＩＰ（Ｒａｓｔｅｒ Ｉｍａｇｅ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）等の処理装置と、処理装置でラスタライズしたラスタデータを用いて基板上に画像を描画（露光）する露光装置とを有して構成されるものである。
【００１０】
このような「画像処理方法、画像処理装置および描画システム」においては、個片画像を複数配置してなる多面付けされたプリント基板のパターン等の画像を、レーザビームを用いて記録することが可能になり、プリント基板のパターン形成の効率が大幅に向上するという大きな効果が得られる。
【００１１】
そこで、上述の構成を、前述のような大サイズの液晶ディスプレイを製造する場合に適用することも考えられるが、ここで問題になるのは、例えば前述のように、２．４ｍ×２．４ｍというサイズの場合、この基材上に記録されるブラックマトリクス（ＢＭ）や、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色フィルタ層等の記録データ（ラスタデータ）の総量は、２．４テラ バイト（２．４Ｔbyte ）を超えるようなものとなるということである。
【００１２】
現在、通常用いられている業務用のコンピュータのハードディスク装置は、大きなものでもその容量が１００ギガバイト（１００Ｇbyte ）程度であることを考えると、この２．４テラ バイト（２．４Ｔbyte ）というデータ量は、容易に扱えるものではないことが理解されよう。
【００１３】
上述の描画システムにおいては、ＣＡＭが、ＣＡＤが設計した基本のプリント配線パターンを編集し、基材に割り付けて描画パターンを表記した描画パターンデータを生成し、この描画パターンデータを順次ＲＩＰに転送する。ＲＩＰは、描画パターンデータを露光装置で画像形成可能なラスタデータに変換し、順次、露光装置に転送する。露光装置は、ＲＩＰから供給されたラスタデータに基づいて露光を行い、基材上にプリント配線パターン等の画像を形成する。
【００１４】
これと同様に、大サイズの液晶ディスプレイを製造するための大サイズのブラックマトリクス（ＢＭ）や、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色フィルタ層等の画像を、高精細に記録（描画）する場合には、まず、ＣＡＭにおいて、ＧＤＳ２等のフォーマットを用いて、ＣＡＤで設計されたパネルの画像データ等を１ないし複数割り付けてなるパネル画像データ（パネルのベクトルデータ）と各パネル画像を基材上に割り付ける際に用いるレイアウト情報とを生成し、次いで、ＲＩＰにおいて、ＣＡＭで生成したパネルのベクトルデータをラスタデータ（ビットマップデータ）に変換し、多数のパネルのラスタデータをレイアウト情報に基づいて、基材上に割り付けてなる描画用ラスタデータを生成する技術が必要となる。
【００１５】
ここで、通常、多数のパネル画像（ラスタデータ）を基材上に割り付ける際に用いるレイアウト情報とは、基材上におけるパネル画像同士のＸ軸方向およびＹ軸方向の相対的な位置関係を表わすＸ・Ｙオフセット情報、および基材上に割り付けるパネル画像の数を表わすＳＴＥＰ＆ＲＥＰＥＡＴ数を含むものである。
【００１６】
前述のように、大サイズの液晶ディスプレイを製造するための大サイズのブラックマトリクス（ＢＭ）や、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色フィルタ層等を、高精細に記録（描画）する場合には、例示した２．４テラ バイト（２．４Ｔbyte ）というデータ量を有するパネル画像データを、ＣＡＭで生成したパネルのベクトルデータから変換して生成する必要がある。
ところが、このように大量のラスタデータをハンドリング（生成，変換，記憶等の操作を含む）することは、現状のデータ処理システムの能力をはるかに超えるものである。
【００１７】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、従来技術に基づく問題点を解消し、ハンドリングする総データ量を、現状のデータ処理システムの能力内で処理できる程度のデータ量を超えない範囲に収めて、現状のデータ処理システムによる処理を可能とする画像処理方法，画像処理装置およびこれを用いる描画装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記目的を達成するために、本発明に係る画像処理方法は、パネル画像を複数配置してなる画像の描画データを生成するに際し、前記パネル画像を表記する繰り返しパターンを有する画像データと前記パネル画像の個々のレイアウト情報とを含む回路設計データから、前記画像データ中の繰り返しの単位パターンの画像データと前記レイアウト情報とを抽出し、前記繰り返しの単位パターンの画像データを前記描画データに対応するパネル描画データに変換した後に、前記レイアウト情報に基づいて前記パネル描画データを配置することにより、前記画像の描画データを生成することを特徴とする（請求項１）。
【００１９】
本発明においては、少なくとも前記画像データを抽出する際に、対象となる画像データを、パネルを構成する単位ごとに抽出することが好ましい（請求項２）。
【００２０】
また、本発明においては、前記レイアウト情報が、少なくとも前記画像上における各パネル画像の位置の情報を含むこと（請求項３）、前記レイアウト情報が、前記パネル画像の倍率情報および回転情報の少なくとも一方を含むことが好ましい（請求項４）。
【００２１】
また、上記目的を達成するために、本発明に係る画像処理装置は、パネル画像を複数配置してなる画像の描画データを生成する装置であって、前記パネル画像を表記する繰り返しパターンを有する画像データと前記パネル画像の個々のレイアウト情報とを含む回路設計データから、前記画像データ中の繰り返しの単位パターンの画像データと前記パネル画像の個々のレイアウト情報とを抽出する抽出手段と、前記パネル画像を表記する繰り返しパターンの単位パターンの画像データを受け取り、記憶する記憶手段と、前記記憶手段で記憶した前記画像データを前記描画データに対応するパネル描画データに変換するデータ変換手段と、前記データ変換手段で変換した前記パネル描画データを前記レイアウト情報に基づいて配置し、前記画像の描画データを生成するデータ生成手段とを有することを特徴とする（請求項５）。
【００２２】
本発明においては、前記抽出手段が、少なくとも前記画像データを抽出する際に、対象となる画像データを、パネルを構成する単位ごとに抽出するものであることが好ましい（請求項６）。
【００２３】
また、本発明においては、前記レイアウト情報が、少なくとも前記画像上における各パネル画像の位置の情報を含むこと（請求項７）、前記レイアウト情報が、前記パネル画像の倍率情報および回転情報の少なくとも一方を含むことが好ましい（請求項８）。
【００２４】
また、上記目的を達成するために、本発明に係る描画装置は、請求項４〜６のいずれかに記載の画像処理装置が生成した前記画像の描画データに基づいて描画を行うことを特徴とする（請求項９）。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の画像処理方法、画像処理装置およびこれを用いる描画装置は、少なくとも、個々のパネル画像を基材上のどの位置に割り付けるかを表記した各パネル画像の位置情報を含むレイアウト情報に基づいて、個々のパネル画像を基材上に割り付けるように構成したことにより、大きなラスタデータ量からなるパネルを描画装置によって直接描画可能とすることができるという効果を奏する。
【００２６】
なお、必要に応じて、各パネル画像の位置情報に加え、各パネル画像を基材上に割り付ける際の各パネル画像の画像倍率を表わした各パネル画像の倍率情報および／または各パネル画像を基材上に割り付ける際のパネル画像の回転情報を表わした各パネル画像の回転情報を含んでもよい。
また、大きさの異なるパネル画像を組み入れたり、パネル画像の位置を適宜変更する等の仕様変更が、容易に行えるようになるという実用上大きな効果も得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明に係る画像記録システムを詳細に説明する。
【００２８】
図２は、本発明に係る画像処理方法の概要を説明するための、パネル単位で部品とその配置情報の分割を示す模式図であり、図２中、Ａは回路設計データ、Ｂはパネルデータ、×はアクセサリデータ、Ｃは上記各データの配置情報を示している。アラインメントマークや製品情報テキストなどのアクセサリデータも露光されるガラス基板上に配置されるため、本発明においては、パネルデータ以外のデータも別途ラスタデータ化し、配置情報を取得する。なお、配置情報としては、部品がガラス基板上のどこに配置されるのかを、配置Ｘ座標、配置Ｙ座標を対象データ名とともに記録する。
【００２９】
図１は、本発明に係る画像記録システムの一実施形態を示す概略ブロック構成図である。
画像記録システム１０は、液晶製造用ガラス基板（以下、単にガラス基板という）に画像を描画するシステムであり、図１に示すように、ＣＡＭ１２とＲＩＰ１４と露光装置１６とを有して構成される。なお、後に詳述するが、レイアウト情報については、図示しない外部装置から受け取る態様をも可能としている。
ＣＡＭ１２およびＲＩＰ１４，ＲＩＰ１４および露光装置１６は、各々、公知の通信手段やネットワークを介して互いに接続されている。
【００３０】
ＣＡＭ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ａｉｄｅｄ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ）１２は、所定のフォーマット（ここでは、一例として、ＧＤＳ２フォーマットを用いる）を用いて、ＣＡＤで設計された液晶パネルのパターン（前述の、ブラックマトリクス（ＢＭ）や、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色フィルタ層のパターン）を複数割り付けてなる回路設計パターンを表わすデータを生成する装置である。なお、以下の説明では、上述の複数割り付けられるパターン（繰り返しパターン）のそれぞれを単位パターンと呼ぶことにする。
【００３１】
すなわち、回路設計パターンを表わすデータは、単位パターンのデータとそのレイアウト情報，アクセサリデータ等から構成される。ここで、ＣＡＭ１２からは、上述のＧＤＳ２フォーマットを用いる場合、通常は、上記単位パターンのデータはベクトルデータとして、また、レイアウト情報、アクセサリデータ等はテキストデータとして出力される。
【００３２】
本実施形態に係る画像記録システム１０において用いるＣＡＭ１２は、基本的に、プリント配線基板，液晶パネル等の製造に用いられる公知のＣＡＭと同様のものである。
なお、ＣＡＭ１２で用いられるデータフォーマットとしては、例示するＧＤＳ２以外にも、ＯＡＳＹＳフォーマット等も利用可能であり、その他にも、通常のＣＡＭで出力可能な各種のデータフォーマットが利用可能である。
また、ＣＡＭ１２が処理するデータは、ＣＡＤで設計され、ＣＡＤから受け取るのが一般的ではあるが、本発明はこれに限定されず、他の情報源から受け取ってもよい。
【００３３】
ＣＡＭ１２は、回路設計パターンのデータを、順次、ＲＩＰ１４に送る。ＣＡＭ１２では、ＲＩＰ１４に送ったデータについては、メモリの有効利用等のため、必要に応じてこれを消去してもよい。
【００３４】
ＲＩＰ（Ｒａｓｔｅｒ Ｉｍａｇｅ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）１４は、本発明の画像処理方法を実施する本発明の画像処理装置の一例であって、ＣＡＭ１２から取得した回路設計パターンのデータを露光装置１６における画像記録（露光＝ガラス基板への焼付）に対応するラスタデータ（ビットマップデータとも呼ばれる）に変換し、複数の単位パターンのラスタデータをレイアウト情報に基づいて基板上に割り付けてなる描画用ラスタデータを生成する装置である。図示例において、本発明のＲＩＰ１４は、取得手段１８，メモリ２０，抽出手段２２，変換手段２４および配置手段２６を有する。
【００３５】
前述の通り、ＣＡＭ１２は、単位パターンのデータ（ベクトルデータ）とそのレイアウト情報，アクセサリデータ等（テキストデータ）から構成される回路設計パターンを表わすデータを、ＲＩＰ１４に送る。
ＲＩＰ１４では、ＣＡＭ１２から送られたデータを、一旦メモリ２０に格納する。そして、ここから必要に応じて対象とするデータを随時読み出して、以下に詳細に説明するような本発明の特徴的動作、すなわち、メモリ２０に格納されている回路設計データから、単位パターンの画像データ，レイアウト情報とを抽出し、単位パターンの画像データ（ベクトルデータ）を描画データに対応するパネル描画データに変換した後に、レイアウト情報に基づいてパネル描画データを配置することにより、画像の描画データを生成する処理を行う。
【００３６】
なお、前述のように、ガラス基板上には、上述のパネル描画データの他にも、このガラス基板のアラインメントマークや製品情報を示すテキスト情報などのアクセサリデータも描画されるが、これらのデータについても、ＲＩＰ１４で処理される（詳細については、後述する）。
【００３７】
なお、取得手段１８は、複数の単位パターンのラスタデータをガラス基板に割り付ける際に必要な個々の単位パターンのレイアウト情報を、図示しない外部装置から取得する機能を有するものである。
ここで、個々の単位パターンのレイアウト情報とは、少なくとも各単位パターンをガラス基板のどの位置に割り付けるかを表記した各単位パターンの位置情報を含み、さらに、必要に応じて、各単位パターンの位置情報に加え、各単位パターンをガラス基板に割り付ける際の単位パターンの描画倍率を表わした各単位パターンの倍率情報および／または各単位パターンをガラス基板に割り付ける際の単位パターンの回転情報を表わした各単位パターンの回転情報等を含む。
【００３８】
本発明におけるレイアウト情報の取得方法は、通常は、前述の通り、ＣＡＭ１２から送られたデータ中に、単位パターンの画像データ，アクセサリデータとともに含まれているものを利用するが、本発明では、これ以外に、オペレータがＲＩＰ１４の有するキーボード等の入力手段（図示せず）を用いて入力する方法も可能としている。
さらに、以前に同一の画像を描画したことがある場合には、その際に用いた情報（各単位パターンの位置情報，倍率情報および回転情報等）を、ＲＩＰ１４に記憶させておき、これを利用する方法も可能としている。
【００３９】
上に例示した付加的な方法は、ガラス基板を製造するに際しては、非常に高度な位置精度が要求されるため、位置精度とスループットとの両方をバランスよく達成する場合等、目的に応じて選択すればよく、さらに、上記に例示した方法を並列で用いてもよい。
また、さらに、本発明においては、ガラス基板を製造するに際し、上層と下層とで単位パターンの描画位置を意図的に異ならせる場合には、上記レイアウト情報に、所望の処理を施すための割り付け情報を加えてもよい。
【００４０】
メモリ２０は、ＣＡＭ１２で生成した回路設計データ（前述のように、ここではＧＤＳ２フォーマットのデータ）を格納するものである。
メモリ２０には、特に限定はなく、ＣＡＭ１２から送られるデータを格納するに十分な記憶容量があれば、公知のものを用いることができる。
【００４１】
次に、抽出手段２２について説明する。この抽出手段２２は次に説明する変換手段２４とともに、本発明の画像処理方法を実施する画像処理装置の中核をなすものである。
前述の通り、大サイズの液晶ディスプレイを製造する際には、膨大な量の描画データを用いて、ガラス基板上に露光装置による露光を行うことが必要になり、この場合、この膨大な量の描画データを、ＣＡＭから送られるデータ（ＧＤＳ２フォーマットの場合、ベクトルデータ）から描画用のラスタデータに変換する過程がネックになっていた。
【００４２】
本発明では、この問題を、前述のように、ＣＡＭ１２から送られるデータ中から、抽出手段２２により、単位パターンのデータとレイアウト情報のような必要最小限の情報のみを抽出し、このうちの単位パターンのデータを変換手段２４に送って、ここで描画に用いるラスタデータに変換して、レイアウト情報に基づいて配置することにより、ベクトルデータからラスタデータへの変換データ量を大幅に減少させている。
【００４３】
抽出手段２２は、上述の、ＣＡＭ１２から送られるデータ中から単位パターンのデータとレイアウト情報のような必要最小限の情報のみを抽出するためのものであり、後述するような手順によりこの処理を実行するものである。
また、変換手段２４は、抽出手段２２の後段において、抽出手段２２により抽出されたデータのうちの単位パターンのデータを描画用のラスタデータに変換するためのものであり、後述するような手順によりこの処理を実行するものである。
なお、単位パターンのデータをラスタデータに変換する処理は、基本的には公知の方法で行えばよい。また、例えば、必要に応じて、単位パターンのデータをラスタデータに変換した後に、圧縮処理を行ってもよい。
【００４４】
配置手段２６は、変換手段２４から単位パターンのラスタデータを、抽出手段２２もしくは取得手段１８から単位パターンのレイアウト情報を、各々受け取り、単位パターンのラスタデータをレイアウト情報に基づいてガラス基板に割り付けてなる描画用ラスタデータを生成するものである。
【００４５】
本発明のＲＩＰ１４は、基本的に以上のように構成されるが、以下、ＲＩＰ１４の作用を説明することにより、本発明について、より詳細に説明する。
【００４６】
本発明のＲＩＰ１４において、メモリ２０は、ＲＩＰ１４がＣＡＭ１２から受け取った、単位パターンのデータとそのレイアウト情報，アクセサリデータ等から構成される回路設計パターンを表わすデータを記憶する。
抽出手段２２は、メモリ２０から、上述のデータ中の単位パターンのデータとレイアウト情報のような必要最小限の情報のみを抽出し、抽出した単位パターンのデータは変換手段２４に、また、レイアウト情報は配置手段２６に供給する。
【００４７】
変換手段２４は、抽出手段２２から送られた単位パターンのデータをラスタデータに変換し、配置手段２６に供給する。
配置手段２６は、変換手段２４が生成した単位パターンのラスタデータと、このデータに対応するレイアウト情報とを取得する。前述のように、このレイアウト情報の取得は、抽出手段２２もしくは取得手段１８から行われる。配置手段２６は、変換手段２４から供給された単位パターンのラスタデータを抽出手段２２もしくは取得手段１８から供給されたレイアウト情報に基づいてガラス基板に割り付け、基板描画用のラスタデータを生成して、順次、露光装置１６に転送する。
【００４８】
露光装置１６は、ＲＩＰ１４から、順次、供給される基板描画ラスタデータを用いて、基板に画像を形成する装置である。
本発明に係る画像記録システム１０において、露光装置１６は、基本的に、ガラス基板等の製造に用いられる公知の露光装置と同様のものである。
【００４９】
以下、さらに、具体例に基づいて、ＲＩＰ１４中の抽出手段２２，変換手段２４並びに配置手段２６における処理の詳細を説明する。
まず、ＧＤＳ２フォーマットの回路設計データから部品および配置情報を抽出する処理について説明する。
この処理の流れは、概略、図３のようになる。
【００５０】
図３に示すように、本発明の画像処理装置においては、実際の露光が行われる単位であるレイヤごとに、データも扱われる。
具体的には、抽出したレイヤごとにＧＤＳ２データを生成し、これから、パネルＧＤＳ２データ，アクセサリＧＤＳ２データを抽出して、抽出したＧＤＳ２データを圧縮ラスタデータに変換する処理を行うものである。
以下、上記処理の詳細を説明する。
【００５１】
（１）部品化に必要なデータの入力：
入力するデータとしては、
＊  パネルを構成するトップストラクチャ名
＊  対象レイヤ番号
等がある。ここで、レイヤとは、回路設計データが記述される単位であり、より具体的には、液晶パネルを構成する単位（ＢＭ，ＲＧＢフィルタ層さらにはＴＦＴ（制御用電極）等）で、データもこの単位ごとに扱う。
【００５２】
（２）レイヤ情報抽出：
（１）で入力されたレイヤ番号のエレメントのみを、該当ＧＤＳ２データから抽出する。図４に、この処理の詳細を示すが、ここでは、レイヤ番号５のＢＭ図形が露光の対象となる場合を示す。なお、図４において、左側（ＧＤＳ２−１）は回路設計データの全体の構成を、右側（ＧＤＳ２−２）はここで抽出されるデータを示している。
【００５３】
図４は、ガラス基板全面の回路設計データ（ＧＤＳ２）を解析して、ここでの抽出対象であるレイヤ番号５に属するストラクチャ（図形データ）を抽出することを示している。抽出結果は、図中の太枠部分である。この場合は、ガラス基板全体にレイアウトされる、ＢＭのパネルデータ（ストラクチャＣに属するストラクチャ）と、ＢＭを構成するパネルデータ以外のアクセサリデータ（アライメントマーク，カッティングマークなど）を残し、他のストラクチャを削除することになる。
【００５４】
（３）配置情報抽出：
配置情報については、上記（２）の段階で、各ストラクチャがどのように配置されているのかを、トップストラクチャ（ストラクチャＡ）から取得する。パネル名が複数指定されている場合には、パネル名ごとに抽出を行う。
【００５５】
（４）パネルデータ抽出：
パネルを構成するストラクチャを、（２）で抽出したデータからさらに抽出する。この抽出を行うためには、予めパネルデータとして指定されているストラクチャＢに属さないもののデータを削除する。図５で周辺データに該当するものは、ストラクチャＥとなり、削除されている（図５右側：ＧＤＳ２−３参照）。これで、部品化データの一つであるパネルデータの抽出が完了したことになる。なお、トップストラクチャに、パネルの引用にＡＲＥＦが使用されている場合は、ロウ数とカラム数をそれぞれ１にすることによって、回転があった場合に対応できるようにすることが好ましい。
【００５６】
（５）アクセサリデータ抽出：
最後に、外枠，アラインメントマーク等の、パネル以外のアクセサリデータを構成するストラクチャの抽出を行う（図６参照）。ここでも、レイヤ情報抽出で作成したデータを利用するが、パネルデータ抽出の場合とは逆に、パネルデータのストラクチャＢに属するデータを削除していき、残ったものをアクセサリデータ（図６右側：ＧＤＳ２−４参照）とする。これで、パネルデータ以外の部品化データの抽出が完了したことになる。
【００５７】
（６）フラクチャリング／圧縮１：
パネルを構成するＧＤＳ２データを圧縮ラスタデータに変換する。パネル名が複数指定の場合は、ＧＤＳ２データごとに、圧縮ラスタデータに変換する。
（７）フラクチャリング／圧縮２：
パネル以外を構成するＧＤＳ２データを圧縮ラスタデータに変換する。
【００５８】
変換された圧縮ラスタデータは、露光機に出力する際に、この圧縮ラスタデータと配置情報とを用いて合成処理を行い、露光機出力用のラスタデータを生成する。
図７に、上述の露光機出力用のラスタデータ合成の概念を模式的に示す。図７の示すところは、部品化データとして抽出されたアクセサリデータ，パネルデータおよび配置情報に基づいて、ガラス基板上に実際に露光（描画）される露光機用の画像データが合成される状況を模式化したものである。
【００５９】
また、図８は、配置情報に基づいてパネルデータをガラス基板上に配置する過程を模式的に示すものであり、ここでは、パネルＡを、位置（Ｘ：７２０，Ｙ：８００）に配置する場合を例に挙げて説明しているものである。
【００６０】
以上が、本発明の画像処理装置におけるデータ処理動作である。
本発明の描画装置は、上述のような処理により画像処理装置が生成した露光機用の画像描画データに基づいて描画を行うものである。
【００６１】
この描画装置（露光装置）の動作は、描画に用いる画像データにのみ違いがあるものの、動作全体としては通常の液晶パネルガラス基板の露光機の動作と違いはないので、詳細な説明は省略するが、概要は、下記の通りである。
【００６２】
前述のように、露光に用いる描画用ラスタデータは、ＲＩＰ１４から、順次、露光装置１６に供給される。一方、画像露光を行うガラス基板は、手動または自動で、露光装置１６の有するステージ（図示せず）の所定位置に載置される。
露光に際してのガラス基板の載置位置の確認等の準備操作の終了後、この露光位置の設定に応じて、描画用ラスタデータを用いて、ガラス基板の露光が開始される。
ガラス基板の画像露光が完了すると、ステージはそのまま露光方向の下流側へ駆動されて露光方向の最下流側にある原点に復帰する。
以上により、露光装置１６によるガラス基板に対する露光動作が終了する。
【００６３】
以上、説明したように、本発明によれば、従来はガラス基板全面分のフラクチャリングデータが必要であったものを、パネルやアクセサリなどの構成部品のみをフラクチャリングするだけで済ませられるようにしたことにより、特にフラクチャリングから露光機用データ合成までの生成されるラスタデータ量が大幅に減少し、データ処理時間も大幅に短縮することが可能になった。
なお、多面付けの場合には、同じ部品が配置されていることから、複数配置されている個所のフラクチャリングは不要になることも、処理時間の短縮につながる。
【００６４】
また、本発明の画像処理方法ないし画像処理装置においては、パネルデータの編集が必要になった場合にも、処理に用いるパネルデータを任意に差し換えるか、必要に応じて調整（主として、配置の微調整）するだけで、従来のようにガラスマスク（フォトマスク）を作り直すというような手間を要さずに、容易に対応することが可能になるため、全体として、液晶パネル作製のコストを大幅に削減できる。
図９に、この処理の概要を模式的に示した。
【００６５】
同様に、異種面付けを行う場合にも、上と同様にパネルデータの差し換え、配置位置の調整等を行うことにより、複数の生産品種を、１つのマスクデータとして露光することが可能になるので、ガラス基板を無駄なく利用することができ、生産効率の大幅な向上が可能になる。
図１０に、この処理の概要を模式的に示した。
【００６６】
また、ＬＣＤの製造ラインでは、後工程の装置によっては、形成される回路の線幅が局所的に変化する場合があり、そのために、事前に（すなわち、実際の露光前に）線幅の調整を行う必要が生ずる場合がある。
本発明の画像処理方法ないし画像処理装置においては、このような問題に対しても、露光用のラスタデータを作成する際に、線幅補正済みのパネルデータを組み合わせることで、従来のようにガラスマスク（フォトマスク）を作り直すというような手間を要さずに、容易に対応することが可能になるため、全体として、液晶パネル作製のコストを大幅に削減できる。
図１１に、この処理の概要を模式的に示した。
【００６７】
以上、本発明について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるべきものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更を行ってもよいことはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明に係る画像記録システムの一実施形態を示す概略ブロック構成図である。
【図２】本発明に係る画像処理方法の概要を説明するための、パネル単位で部品とその配置情報の分割を示す模式図である。
【図３】一実施形態におけるＧＤＳ２フォーマットの回路設計データから部品および配置情報を抽出する処理の概要を説明するフロー図である。
【図４】図３に示した処理のうちのレイヤ情報抽出処理を説明する図である。
【図５】同、パネルデータ抽出処理を説明する図である。
【図６】同、アクセサリデータ抽出処理を説明する図である。
【図７】同、ラスタデータ合成処理を説明する図である。
【図８】配置情報に基づいてパネルデータをガラス基板上に配置する過程を説明する図である。
【図９】パネルデータの編集が必要になった場合における処理を説明する図である。
【図１０】異種面付けを行う場合における処理を説明する図である。
【図１１】線幅補正を行う場合における処理を説明する図である。
【符号の説明】
【００６９】
１０  画像記録システム
１２  ＣＡＭ
１４  ＲＩＰ
１６  露光装置
１８  取得手段
２０  メモリ
２２  抽出手段
２４  変換手段
２６  配置手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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