(57)【要約】【課題】均一な機能膜を備えた電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器を提供すること。【解決手段】隣接する隔壁内領域３６ｃについては、一の隔壁内領域３６ｃの端部が、他の隔壁内領域３６ｃの端部に対して長手方向にずれた位置に設けられているので、隣接する隔壁内領域３６ｃにおいて、端部同士が短手方向に隣接するのを回避することができる。したがって、隣接する隔壁内領域３６ｃの短手方向の距離をより小さくすることができる。これにより、基体上に隔壁内領域３６ｃを高密度化させることができる。あるいは、一定の画素数を有する電気光学装置においては、隔壁内領域３６ｃの占める基体上のスペースを縮小することができるので、有機ＥＬ装置を小型化することが可能となる。【選択図】図５
2007115563.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素領域を有する基板と、
前記複数の画素領域を囲むように前記基板上に設けられた隔壁と、
前記基板上のうち前記隔壁で囲まれた隔壁内領域の前記各画素領域上に設けられた複数
の機能膜と
を具備し、
前記隔壁内領域が、長手方向と当該長手方向に交差する短手方向とを有しており、
前記基板上には、前記隔壁内領域が少なくとも前記短手方向に複数設けられており、
前記各隔壁内領域のうち、前記長手方向の端部には、前記長手方向の中央部よりも前記
短手方向の寸法が大きい拡幅部が設けられており、
隣接する前記隔壁内領域は、一の隔壁内領域の前記拡幅部が、他の隔壁内領域の前記拡
幅部に対して前記長手方向にずれた位置に設けられている
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記複数の隔壁内領域のうちの第１の隔壁内領域に対して、前記第１の隔壁内領域に前
記短手方向に隣接する第２の隔壁内領域が、前記長手方向のうち一方向にずれるように配
置されており、
前記第２の隔壁内領域に対して、前記第２の隔壁内領域に前記短手方向に隣接する第３
の隔壁内領域が、前記一方向にずれるように配置されている
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
隣接する前記一の隔壁内領域の前記拡幅部が、前記他の隔壁内領域の前記拡幅部の長手
方向の長さだけずれるように配置されている
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記基板上の複数の画素領域には、異なる色の光を射出する機能膜が設けられており、
前記隔壁内領域ごとに、単一の色を射出する複数の機能膜が設けられている
ことを特徴とする請求項１乃至請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記基板上の複数の画素領域には、赤色、緑色及び青色の光を射出する機能膜が含まれ
ていることを特徴とする
ことを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記隔壁内領域のうち、前記拡幅部に挟まれた領域にのみ前記画素領域が設けられてい
る
ことを特徴とする請求項１乃至請求項５のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記複数の隔壁内領域のうち一の隔壁内領域の前記拡幅部が、他の隔壁内領域に配置さ
れた機能膜よりも前記基板の前記長手方向外側の領域に設けられている
ことを特徴とする請求項１乃至請求項６のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記機能膜が、有機エレクトロルミネセンス膜であることを特徴とする請求項１乃至請
求項７のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
基板上に機能膜が複数設けられた電気光学装置の製造方法であって、
長手方向と当該長手方向に交差する短手方向とを有する領域が、前記基板上の前記短手
方向に複数設けられ、各領域のうち、前記長手方向の端部が前記長手方向の中央部よりも
前記短手方向の寸法が大きい拡幅部となり、隣接する前記領域は、一の領域の前記拡幅部
が、他の領域の前記拡幅部に対して前記長手方向にずれた位置に設けられるように、隔壁
を基板上に形成する隔壁形成工程と、
前記機能膜を構成する機能材料を溶媒に溶解又は分散させた液状組成物を、前記隔壁に
よって区画された前記領域に配置する液状組成物配置工程と、
前記領域に配置された前記液状組成物に含まれる前記溶媒を蒸発させる溶媒蒸発工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項８のうちいずれか一項に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴
とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気光学装置のうち、例えば有機エレクトロルミネセンス装置（以下、「有機ＥＬ装置
」という。）の発光層や、液晶装置のカラーフィルタ層等の機能膜を形成する際に、液滴
吐出法と呼ばれる方法が用いられている。液滴吐出法は、複数種類の液体を混合した溶媒
に機能膜を形成する機能材料を溶解させてなるインクを基板上の画素領域に塗布し、この
インクの溶媒を蒸発させインクを乾燥することで機能膜を形成する手法である。液滴吐出
法を行う際には、各画素領域の周囲に隔壁を設けるようにしている。この隔壁によって、
一の画素領域に塗布された液状組成物が他の位置に塗布された液状組成物と混ざり合うの
を回避することができ、高精細なパターニングが可能となる。
【０００３】
この液滴吐出法で液状組成物を乾燥させる場合において、塗布された液状組成物の溶媒
の蒸発は極めて速い。とりわけ、基板の外周付近に塗布された液状組成物は、基板の中央
部に塗布された液状組成物よりも溶媒分子分圧が低く、最も速く蒸発する。このため、基
板の外周付近に塗布された液状組成物と基板の中央部に塗布された液状組成物とでは、そ
の乾燥時間に差が生じる。液状組成物の乾燥時間の差があると、画素領域内あるいは異な
る画素毎に膜厚ムラが生じ、輝度ムラ等や表示ムラの原因となってしまう。
【０００４】
これに対して、基板上の外周に表示に関与しないダミーの塗布領域を設けることで塗布
領域を広げた有機ＥＬ素子に関する技術が開示されている（例えば、特許文献１参照。）
。この技術によれば、基板の表示領域における溶媒分子分圧を均一にすることができ、表
示に関与する発光層の膜厚ムラを防止することができる。  
【特許文献１】特開２００２−２２２６９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、液状組成物の乾燥状態は、各隔壁の表面状態によっても影響を受けてし
まう。したがって、上記のようにダミーの塗布領域を設けても、各隔壁の表面状態が均一
にならない場合、均一な膜を形成することは困難である。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、均一な機能膜を備えた電気光学装置
、電気光学装置の製造方法及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る発光装置は、複数の画素領域を有する基板と、
前記複数の画素領域を囲むように前記基板上に設けられた隔壁と、前記基板上のうち前記
隔壁で囲まれた隔壁内領域の前記各画素領域上に設けられた複数の機能膜とを具備し、前
記隔壁内領域が、長手方向と当該長手方向に交差する短手方向とを有しており、前記基板
上には、前記隔壁内領域が少なくとも前記短手方向に複数設けられており、前記各隔壁内
領域のうち、前記長手方向の端部には、前記長手方向の中央部よりも前記短手方向の寸法
が大きい拡幅部が設けられており、隣接する前記隔壁内領域は、一の隔壁内領域の前記拡
幅部が、他の隔壁内領域の前記拡幅部に対して前記長手方向にずれた位置に設けられてい
ることを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、複数の画素領域を囲むように基板上に設けられた隔壁と、基板上のう
ち隔壁で囲まれた隔壁内領域に設けられ、各画素領域上に設けられた複数の機能膜とを有
しており、複数の機能膜が一つの隔壁内領域に設けられているので、これらの機能膜を液
滴吐出法によって形成する場合、吐出された液状組成物の乾燥時間が隔壁の表面状態によ
って機能膜毎に異なることは無い。しかも、本発明では、隔壁内領域が少なくとも短手方
向に複数設けられているので、各隔壁内領域に塗布された液状組成物から蒸発する溶媒が
複数の隔壁内領域全体を覆うことになる。これにより、個々の隔壁内領域から蒸発する溶
媒の蒸発速度を均一にすることもできる。
【０００９】
また、本発明によれば、隔壁内領域が、長手方向と当該長手方向に交差する短手方向と
を有しており、各隔壁内領域のうち、長手方向の端部では、長手方向の中央部よりも、短
手方向の寸法が大きい拡幅部が設けられているので、例えば液滴吐出法によって機能膜を
形成する場合に、長手方向の中央部よりも拡幅部の方が単位面積当たり液状組成物が多く
供給されることになる。したがって、吐出された液状組成物の乾燥速度が短手方向より長
手方向の方が速くても、機能膜が形成されている部分においては乾燥速度をほぼ同程度に
することができる。これにより、機能膜の膜厚は、隔壁内領域の長手方向の拡幅部では厚
くなっていても、長手方向の中央部ではほぼ均一になる。
【００１０】
ここで、本発明では、基板上には隔壁内領域が少なくとも短手方向に複数設けられてお
り、各隔壁内領域には短手方向の寸法が大きくなっている拡幅部が形成されている。電気
光学装置は画質の向上が求められており、また、画素数を維持したまま小型化することも
求められている。画質を向上させるためには、より多くの隔壁内領域を基板上に設ける必
要がある。また、画素数を維持したまま小型化するためには、一定の隔壁内領域をできる
だけ小さな基板に設ける必要がある。しかし、拡幅部が中央部よりも広くなっている分、
そのスペースが隔壁内領域の高密度化を妨げるおそれがある。
【００１１】
これに対して、本発明では、隣接する隔壁内領域については、一の隔壁内領域の拡幅部
が、他の隔壁内領域の拡幅部に対して長手方向にずれた位置に設けられているので、隣接
する隔壁内領域において、拡幅部の位置が短手方向に干渉するのを回避することができる
。したがって、隣接する隔壁内領域の短手方向の距離をより小さくすることができる。こ
れにより、基板上に隔壁内領域を高密度化させることができる。あるいは、一定の画素数
を有する電気光学装置においては、隔壁内領域の占める基板上のスペースを縮小すること
ができるので、電気光学装置を小型化することが可能となる。
【００１２】
また、前記複数の隔壁内領域のうちの第１の隔壁内領域に対して、前記第１の隔壁内領
域に前記短手方向に隣接する第２の隔壁内領域が、前記長手方向のうち一方向にずれるよ
うに配置されており、前記第２の隔壁内領域に対して、前記第２の隔壁内領域に前記短手
方向に隣接する第３の隔壁内領域が、前記一方向にずれるように配置されていることが好
ましい。  
本発明によれば、第１の隔壁内領域に対して、第２の隔壁内領域が長手方向のうち一方
向にずれるように配置されており、さらにこの第２の隔壁内領域に対して第３の隔壁内領
域が当該一方向にずれるように配置されているので、短手方向に隣接する隔壁内領域が長
手方向に広がるように配置されることになる。このため、隔壁内領域に吐出された液滴組
成物が基板の広い範囲で蒸発するため、各隔壁内領域における蒸発環境を均一にすること
ができる。
【００１３】
また、隣接する前記一の隔壁内領域の前記拡幅部が、前記他の隔壁内領域の前記拡幅部
の長手方向の長さだけずれるように配置されていることが好ましい。  
本発明によれば、隣接する隔壁内領域のずれを、当該隔壁内領域に設けられる拡幅部の
長さにすることにより、隣接する隔壁内領域のずれを最小限にしながら拡幅部同士の位置
が干渉しないようにすることができる。
また、前記基板上の複数の画素領域には、異なる色の光を射出する機能膜が設けられて
おり、前記隔壁内領域ごとに、単一の色を射出する複数の機能膜が設けられていることが
好ましい。  
本発明によれば、基板上の複数の画素領域に、異なる色の光を射出する機能膜が設けら
れており、各隔壁内領域に、単一の色を射出する機能膜が設けられているので、複数の色
の光を射出する機能膜について、画素領域内あるいは異なる画素毎に膜厚ムラが生じるの
を回避することができる。これにより、輝度ムラや色ムラ等の表示不良の無い電気光学装
置を得ることができる。
【００１４】
また、前記基板上の複数の画素領域には、赤色、緑色及び青色の光を射出する機能膜が
設けられていることが好ましい。  
赤色、緑色、青色の３色によりカラー表示を行う電気光学装置は、極めて広く用いられ
ている。本発明によれば、基板上の複数の画素領域には、赤色、緑色及び青色の光を射出
する機能膜が設けられているので、かかる３色の光を射出する機能膜について、画素領域
内あるいは異なる画素毎に膜厚ムラが生じるのを回避することができる。これにより、輝
度ムラや色ムラ等の表示不良の無い電気光学装置を得ることができる。
【００１５】
また、前記赤色の光を射出する機能膜が設けられた隔壁内領域に対して、前記緑色の光
を射出する機能膜が設けられた隔壁内領域が前記端部の長手方向の長さだけずれるように
配置されており、前記緑色の光を射出する機能膜が設けられた隔壁内領域に対して、前記
青色の光を射出する機能膜が設けられた隔壁内領域が前記端部の長手方向の長さだけ更に
ずれるように配置されていることが好ましい。  
本発明によれば、同一色の機能膜が設けられた隔壁内領域を、それぞれ基板上の長手方
向の同じ位置に配置することによって、例えば液滴吐出法で機能膜を形成する場合に、乾
燥工程における乾燥の環境が、赤色、緑色、青色のそれぞれ色においてほぼ同一の環境に
することができる
また、前記隔壁内領域のうち、前記拡幅部に挟まれた領域にのみ前記画素領域が設けら
れていることが好ましい。  
本発明では、拡幅部に挟まれた領域、すなわち、膜厚が均一な中央部にのみ画素領域が
設けられているため、輝度ムラや色ムラ等の表示不良を一層確実に回避することができる
。
【００１６】
また、前記複数の隔壁内領域のうち一の隔壁内領域の前記拡幅部が、他の隔壁内領域に
配置された機能膜よりも前記基板の前記長手方向外側の領域に設けられていることが好ま
しい。  
上述したように、本発明では複数の隔壁内領域が短手方向に設けられているため、液滴
吐出法により吐出された液状組成物を蒸発させる際には短手方向に隣接する隔壁内領域の
蒸発の影響を受けやすい。本発明によれば、複数の隔壁内領域のうち一の隔壁内領域の拡
幅部が、他の隔壁内領域に配置された機能膜よりも基板の長手方向外側の領域に設けられ
ているので、機能膜が配置される領域での蒸発の環境を均一にすることができる。機能膜
の膜厚を確実に均一にすることができる。
【００１７】
また、前記機能膜が、有機エレクトロルミネセンス膜であることが好ましい。  
本発明では、有機ＥＬ装置を構成する有機ＥＬ膜の膜厚について、画素領域内あるいは
異なる画素毎に膜厚ムラが生じるのを回避することができる。これにより、輝度ムラや色
ムラ等の表示不良の無い電気光学装置（有機ＥＬ装置）を得ることができる。ここで、有
機ＥＬ膜については、有機ＥＬ装置を構成する要素のうち有機ＥＬ材料によって形成され
た発光膜（発光層）等が挙げられる。
【００１８】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、基板上に機能膜が複数設けられた電気光学装
置の製造方法であって、長手方向と当該長手方向に交差する短手方向とを有する領域が、
前記基板上の前記短手方向に複数設けられ、各領域のうち、前記長手方向の端部が前記長
手方向の中央部よりも前記短手方向の寸法が大きい拡幅部となり、隣接する前記領域は、
一の領域の前記拡幅部が、他の領域の前記拡幅部に対して前記長手方向にずれた位置に設
けられるように、隔壁を基板上に形成する隔壁形成工程と、前記機能膜を構成する機能材
料を溶媒に溶解又は分散させた液状組成物を、前記隔壁によって区画された前記領域に配
置する液状組成物配置工程と、前記領域に配置された前記液状組成物に含まれる前記溶媒
を蒸発させる溶媒蒸発工程とを具備することを特徴とする。
【００１９】
本発明によれば、長手方向と当該長手方向に交差する短手方向とを有する領域が、基板
上の短手方向に複数設けられ、各領域のうち、長手方向の端部では、長手方向の中央部よ
りも短手方向の寸法が大きい拡幅部となるように隔壁を形成することによって、液状組成
物配置工程において液状組成物を配置したときに、当該領域の長手方向の中央部よりも拡
幅部の方が単位面積当たり液状組成物は多く供給されることになる。これにより、溶媒蒸
発工程において液状組成物の乾燥速度が短手方向よりも長手方向の方が速くても、機能膜
が形成されている部分においては乾燥速度をほぼ同程度にすることができる。この結果、
機能膜が囲まれている領域における長手方向の端部では発光層の膜厚が厚くなっていても
、機能膜が形成されている中央部においてはほぼ均一にすることができる。
【００２０】
また、隣接する領域においては、一の領域の拡幅部が、他の領域の拡幅部に対して長手
方向にずれた位置に設けられるように隔壁を形成することによって、隣接する領域の短手
方向の距離をより小さくすることができる。これにより、基板上に当該領域を高密度化さ
せることができる。あるいは、一定の画素数を有する電気光学装置においては、当該領域
の占める基板上のスペースを縮小することができるので、電気光学装置を小型化すること
が可能となる。
【００２１】
本発明に係る電子機器は、上記の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。  
本発明によれば、機能膜の膜厚が均一であり、輝度ムラや色ムラ等の表示不良の無い電
気光学装置を搭載したので、表示性能の高い電子機器を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。  
（有機ＥＬ装置）  
図１は、有機ＥＬ装置１の全体構成を概略的に示す斜視図である。以下の図では、各部
材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。
【００２３】
有機ＥＬ装置１は、基板２に配線や絶縁層等が形成された基体１０と、この基体１０上
に形成された有機ＥＬ素子部３と、基体１０の端部２ａに取り付けられた駆動部４と、有
機ＥＬ素子部３及び基体１０を覆う封止部材５とを有しており、駆動部４から供給される
電気信号に応じて有機ＥＬ素子部３が発光することで、画像や動画等を表示できるように
なっている。本実施形態では、薄膜トランジスタ（Thin film Transistor：ＴＦＴ）が形
成されたアクティブマトリクス型であり、有機ＥＬ素子部３により発生した光が基体１０
を透過して取り出されるボトムエミッション型である有機ＥＬ装置１を例に挙げて説明す
る。
【００２４】
図２は、有機ＥＬ装置１の平面図である。この図では、有機ＥＬ素子部３及び封止部材
５を省略している。  
同図に示すように、基体１０は、画素部７（一点鎖線内の領域）と周縁部８（当該一点
鎖線の外の領域）とに区画されており、画素部７内では、実表示領域Ｐ（二点鎖線内の領
域）とダミー領域Ｑ（一点鎖線と二点鎖線との間の領域）とに更に区画されている。画素
部７の実表示領域Ｐには、当該発光領域１４からの光が通過する画素領域Ｋがマトリクス
状に設けられている。画素領域Ｋの間の領域には、図中Ｘ方向に延在する走査線１５ａと
、図中Ｙ方向に延在するデータ線１７ａとが形成されている。
【００２５】
図３は、有機ＥＬ装置１のＡ−Ａ断面を概略的に示す図である。図４は、有機ＥＬ装置
１のＢ−Ｂ断面を概略的に示す図である。  
図３及び図４に示すように、基体１０の構成要素である基板２は、例えば、ガラス、石
英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等からなる透明基板である。本実施形
態に係る有機ＥＬ装置１はボトムエミッション型のものであり、光を取り出すには基板２
を透明にする必要がある。基板２の表面２ｂには、下地として例えばＳｉＯ２等の透明な
下地保護層１１が形成されている。
【００２６】
画素部７の実表示領域Ｐでは、下地保護層１１上に、シリコン膜１２、第１絶縁層（ゲ
ート絶縁層）１３、ゲート電極１５、第２絶縁層１６、ソース電極１７、ドレイン電極１
８、第３絶縁層１９が形成されている。また、画素部７のダミー領域Ｑでは、下地保護層
１１上に、走査駆動回路２０、データ駆動回路２１等が形成されており、駆動部４に接続
されるように電源線（図示せず）が形成されている。
【００２７】
シリコン膜１２は、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を有する駆動用トラン
ジスタである。シリコン膜１２のうち、ゲート絶縁層１３を挟んでゲート電極１５と重な
る領域がチャネル領域１２ａである。チャネル領域１２ａのソース側には、低濃度ソース
領域１２ｂ及び高濃度ソース領域１２ｓが形成され、チャネル領域１２ａのドレイン側に
は、低濃度ドレイン領域１２ｃ及び高濃度ドレイン領域１２ｄが形成されている。このよ
うにシリコン膜１２は、ＬＤＤ（Lightly Doped Drain）構造になっている。
【００２８】
高濃度ソース領域１２ｓ及び高濃度ドレイン領域１２ｄには、ゲート絶縁層１３と第２
絶縁層１６とを連通して開孔されたコンタクトホール２３、２４が形成されている。一方
、高濃度ドレイン領域１２ｄ側には、ドレイン電極１８に接続されるように、第３絶縁層
１９を貫通してコンタクトホール２５が形成されている。  
ゲート絶縁層１３は、例えばＳｉＯ２やＳｉＮ等で形成された透明な層であり、シリコ
ン膜１２とゲート電極１５とを絶縁している。
【００２９】
ゲート電極１５は、例えばアルミニウムや銅等により形成されており、走査線１５ａに
接続されている。ソース電極１７は、ゲート電極１５と同様にアルミニウムや銅等により
形成されており、データ線１７ａに接続されている。ソース電極１７は、コンタクトホー
ル２３を介して高濃度ソース領域１２ｓに接続されている。また、ドレイン電極１８は、
高濃度ドレイン領域１２ｄに接続されている。
【００３０】
第２絶縁層１６は、主にＳｉＯ２からなる透明な層であり、ゲート電極１５、ソース電
極１７及びドレイン電極１８をそれぞれ絶縁している。  
第３絶縁層１９は、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とし、ソース電極１７とドレイ
ン電極１８及びコンタクトホール２５とを絶縁している。なお、アクリル系の絶縁膜以外
の材料、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ２などを用いることもできる。  
また、ダミー領域Ｑに設けられる走査駆動回路２０は、シフトレジスタ等のメモリや信
号レベルを変換するレベルシフタ等の回路を有しており、走査線１５ａに接続されている
。
【００３１】
データ駆動回路２１は、このシフトレジスタ、レベルシフタの他、ビデオラインやアナ
ログシフタ等の回路を有しており、データ線１７ａに接続されている。走査駆動回路２０
及びデータ駆動回路２１は、駆動制御信号線２８ａ、２８ｂを介して駆動部４に接続され
ており、当該駆動部４の制御により走査線１５ａ及びデータ線１７ａに電気信号を出力す
るようになっている。走査駆動回路２０及びデータ駆動回路２１は、駆動電源線２９ａ、
２９ｂを介して電源に接続されている。  
周縁部８には、有機ＥＬ素子部３に接続する接続用配線２７が形成されている。この接
続用配線２７は駆動部４に接続されており、当該接続用配線２７を介して駆動部４からの
電気信号を有機ＥＬ素子部３に供給することができるようになっている。
【００３２】
一方、有機ＥＬ素子部３は、陽極３１と、正孔注入層３２と、発光層３３と、共通電極
（陰極）３４と、隔壁３６とを有している。これらは上述した基体１０上に積層されてい
る。
【００３３】
陽極３１は、正孔注入層３２に正孔を注入する透明な電極であり、例えばＩＴＯ（Indi
um Tin Oxide）等から形成されている。当該陽極３１は、第３絶縁膜１９上に形成されて
おり、コンタクトホール２５を介してドレイン電極１８に接続されている。正孔注入層３
２は、例えば、ポリオレフィン誘導体である３、４−ポリエチレンジオキシチオフェン／
ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）等の材料により形成されている。
【００３４】
発光層３３は、正孔注入層３２からの正孔と陰極３４からの電子とが結合して光を発す
る層である。この発光層３３には、例えば分子量が１０００以上の高分子材料が用いるこ
とが好ましい。具体的には、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニル
カルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、
クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、９、１０−ジフェニル
アントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等
をドープしたものが用いられる。
【００３５】
発光層３３には、赤色光を発する層（３３Ｒ）、緑色光を発する層（３３Ｇ）、青色光
を発する層（３３Ｂ）の３種類がある（図５参照）。このような発光層３３からの光が正
孔注入層３２、陽極３１及び基体１０を透過することで、基板２の実表示領域Ｐに画像や
動画等が表示されるようになっている。
【００３６】
陰極３４は、駆動部４からの電気信号に応じて発光層３３に電子を注入する層であり、
例えばカルシウムやアルミニウム等の金属により形成されている。陰極３４は、実表示領
域Ｐおよびダミー領域Ｑの総面積より広い面積を備え、それぞれの領域を覆うように形成
されたもので、有機ＥＬ素子部３の外側を覆った状態で基体１０上に形成されている。こ
の陰極３４は、接続用配線２７に接続されており、当該接続用配線２７を介して駆動部４
に接続されている。製造時の陰極３４の腐食防止のため、陰極３４の上層部に例えばアル
ミニウム等の保護層を形成してもよい。
【００３７】
隔壁３６は、図３及び図４に示すように、陽極３１上に形成されており、親液性を有す
る親液性隔壁３６ａと、当該親液性隔壁３６ａ上に形成され撥液性を有する撥液性隔壁３
６ｂとから構成されている。親液性隔壁３６ａを構成する材料としては、親液性を備えた
材料、例えば、酸化珪素（ＳｉＯ２）を用いることが好ましい。なお、親液性を備えてい
ない材料であっても、通常用いられる公知の親液化処理を施すことで表面を親液化するこ
とができるものであれば、親液性隔壁３６ａの材料として用いても構わない。
【００３８】
一方、撥液性隔壁３６ｂを構成する材料は、撥液性を備えた材料、例えば、フッ素系樹
脂で構成された材料を用いることが好ましい。なお、撥液性を備えていない材料であって
も、例えばアクリル樹脂やポリイミド樹脂等の有機樹脂をパターン形成し、ＣＦ４プラズ
マ処理等により表面を撥液化したものを用いても構わない。
【００３９】
図５は、有機ＥＬ装置１の隔壁３６の構成を示す平面図である。  
同図に示すように、親液性隔壁３６ｂは、複数の画素領域Ｋを囲んでおり（隔壁内領域
３６ｃ）、図中Ｙ方向に長手方向を有しＸ方向に短手方向を有する形状である。隔壁内領
域３６ｃには、長手方向のほぼ中央部であり画素領域Ｋが配置された画素形成領域３９ａ
と、長手方向の端部であり短手方向の幅Ｌ２が画素形成領域３９ａの短手方向の幅Ｌ１よ
りも広くなっている液溜部３９ｂとが設けられている。
【００４０】
また、隔壁内領域３６ｃは図中Ｘ方向（隔壁内領域３６ｃの短手方向）に複数形成され
ており、隣接する隔壁内領域３６ｃについては、図中右下部分に破線部で示すように、一
の隔壁内領域３６ｃの端部（液溜部３９ｂ）が、他の隔壁内領域３６ｃの端部（液溜部３
９ｂ）に対して長手方向（図中Ｙ方向）にずれた位置に設けられている。具体的には、Ｘ
方向に隣接する隔壁内領域３６ｃが、ほぼ液溜部３９ｂの長手方向の長さだけずれるよう
に配置されており、これが図中Ｘ方向に繰り返すように、千鳥状に形成されている。また
、この千鳥状の隔壁内領域３６ｃの配置は、短手方向にも複数形成されている（一部図示
省略）。
【００４１】
撥液性隔壁３６ｂによって囲まれた隔壁内領域３６ｃ内のうち、画素形成領域３９ａに
は、隔壁内領域３６ｃの長手方向に沿うように、開口領域３７が形成されている。この開
口領域３７は、親液性隔壁３６ａによって囲まれた矩形の開口部であり、当該開口領域３
７が画素領域Ｋに相当する。画素領域Ｋには、赤色、緑色、青色の光を発光する発光層３
３が設けられる。画素領域Ｋは、図５中Ｘ方向に隣接する隔壁内領域３６ｃのうち、画素
形成領域３９ａが図５中Ｙ方向に重なった部分に設けられている。
【００４２】
なお、図５においては、１つの隔壁内領域３６ｃに、画素領域Ｋが長手方向に３個ずつ
配列された状態で示されているが、実際には隔壁内領域３６ｃの長手方向に数十〜千個程
度配列されている。また、隣接する隔壁内領域３６ｃに設けられる画素領域Ｋは、長手方
向の位置が揃った状態になっている。
【００４３】
また、赤色の光を射出する発光層３３が設けられた隔壁内領域３６ｃと、緑色の光を射
出する発光層３３が設けられた隔壁内領域３６ｃと、青色の光を射出する発光層３３が設
けられた隔壁内領域３６ｃとが順に配列されている。このように、一つの隔壁内領域３６
ｃには、単一の光を発光する発光層３３が形成されるようにするのが好ましい。陽極３１
のうち開口領域３７に平面的に重なる領域が画素電極３８である。画素電極３８の平面形
状は、開口領域３７と同様、矩形である。
【００４４】
図３〜図５に示すように、有機ＥＬ素子部３は、開口領域３７の画素電極３８上に正孔
注入層３２が形成され、当該正孔注入層３２上に発光層３３が形成され、当該発光層３３
上に陰極３４が形成された構成になっている。発光層３３は、親液性隔壁３６ａを覆うよ
うに形成されていると共に、撥液性隔壁３６ｂに囲まれるように形成されている。また、
陰極３４は、撥液性隔壁３６ｂ及び発光層３３上のほぼ全面に形成されている。有機ＥＬ
素子部３では、画素電極３８と、当該画素電極３８と相対して形成した陰極３４と、当該
画素電極３８と陰極３４との間に形成された正孔注入層３２及び発光層３３とによって個
々の有機ＥＬ素子が構成されている。
【００４５】
（有機ＥＬ装置の製造方法）  
次に、このように構成された有機ＥＬ装置１を製造する工程を説明する。以下、基体１
０及び有機ＥＬ素子部３の画素部７の領域を形成する工程を中心に説明し、周縁部８を形
成する工程の説明は省略する。本実施形態において正孔注入層３２及び発光層３３を形成
する際には、正孔注入層３２の材料及び発光層３３の材料を溶媒に溶解させ、所定の場所
に滴下するインクジェット法を行う。
【００４６】
まず、基板２にＴＦＴ素子や絶縁膜等を形成することにより、基体１０を形成する工程
について説明する。  
公知の方法により基板２に下地保護層１１を形成する。当該下地保護層１１の上に、シ
リコン膜１２を形成し、レーザーアニールしてポリシリコン化する。ポリシリコン化され
たシリコン膜１２をゲート絶縁層１３で覆った後、ゲート電極１５を形成し、その上に再
びゲート絶縁層１３を形成する。また、ソース側のコンタクトホール２３をパターニング
して形成する。
【００４７】
次に、第２絶縁層１６を形成し、コンタクトホール２４及びこのコンタクトホール２４
に接続するソース電極１７をパターニングして形成する。第２絶縁層１６上には、ソース
電極１７及びドレイン電極１８をパターニングして形成する。当該ソース電極１７及びド
レイン電極１８上には第３絶縁層１９を形成し、ドレイン側のコンタクトホール２５をパ
ターニングして形成する。  
このように、基体１０が形成される。
【００４８】
次に、有機ＥＬ素子部３を形成する工程を説明する。  
基体１０のほぼ全面を覆うように透明な導電膜を形成し、陽極３１が所定の領域に形成
されるようにこの導電膜をパターニングする。同時にダミー領域Ｑのダミーパターン（図
示せず）も形成する。画素領域Ｋでコンタクトホール２５と陽極３１とを接続し、陽極と
ドレイン電極１８とを導通させる。
【００４９】
次に、隔壁３６を形成する（隔壁形成工程）。まず、第３絶縁層１９をパターニングし
て親液性隔壁３６ａを形成する。このとき、画素領域Ｋに平面的に重なる領域では、開口
領域３７が形成されるようにする。その後、形成した親液性隔壁３６ａ上に、当該親液性
隔壁３６ａの一部が張り出すようにフッ素系樹脂を高さが例えば１〜２μｍ程度になるよ
うにパターニングして撥液性隔壁３６ｂを形成する。このとき、画素領域Ｋを囲む隔壁内
領域３６ｃが、図５に示すような長手方向及び短手方向を有すると共に、隔壁内領域３６
ｃの端部に液溜部３９ｂが形成されるように撥液性隔壁３６ｂを形成する。
【００５０】
ここで、撥液性隔壁３６ｂの形成材料としては、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、オレ
フィン樹脂、メラミン樹脂等の高分子材料、ポリシラザン、ポリシロキサン等を含有した
有機・無機ハイブリッド材料等が用いられる。バンクＢの形成方法としては、リソグラフ
ィ法や印刷法等、任意の方法を用いることができる。例えば、リソグラフィ法を使用する
場合は、スピンコート、スプレーコート、ロールコート、ダイコート、ディップコート等
所定の方法で、撥液性隔壁３６ｂの形成材料からなる層を形成した後、エッチングやアッ
シング等によりパターニングすることにより、所定のパターン形状のバンクが得られる。
【００５１】
続いて、開口領域３７内に発光層３３を液体プロセスとしての液滴吐出法によって形成
する（液状組成物配置工程）。即ち、図６（ｂ）に示す通り、発光層３３を構成する組成
物としての発光材料を所定の溶媒に溶解又は分散させて形成された液状組成物５０を吐出
ヘッド４０のノズルＮから吐出させる。このとき、吐出ヘッド４０に設けられたガイドレ
ール４１に沿って吐出ヘッド４０を移動させながら液状組成物５０を順次吐出することで
開口領域３７内に複数回液状組成物５０を吐出する。これにより、開口領域３７内全面に
液状組成物５０を塗布させる。
【００５２】
ここで、液溜部３９ｂの短手方向の幅が画素形成領域３９ａの短手方向の幅よりも広い
ため、液状組成物５０の表面張力により画素形成領域３９ａよりも液溜部３９ｂに多くの
液状組成物５０が供給される。つまり、液状組成物５０の表面張力によって液溜部３９ｂ
で液状組成物５０がより盛り上がった状態になり、これにより画素形成領域３９ａよりも
液溜部３９ｂの方が単位面積当たりより多くの液状組成物５０が供給される。
【００５３】
ここで、液状組成物５０は、導電性微粒子を溶媒に分散させた分散液や有機銀化合物や
酸化銀ナノ粒子を溶媒に分散させた溶液からなるものである。導電性微粒子としては、例
えば、金、銀、銅、パラジウム、及びニッケルのうちの何れかを含有する金属微粒子の他
、これらの酸化物、並びに有機銀化合物や導電性ポリマーや超電導体の微粒子等を用いる
ことができる。
【００５４】
液状組成物５０に含まれる溶媒としては、発光層３３を得るための溶質を分散できるも
ので、凝集を起こさないものであれば特に限定されない。例えば、水の他に、メタノール
やエタノール等のアルコール類、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン等の炭化水素系化合物、ま
たエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル等のエー
テル系化合物等が挙げられる。
【００５５】
次に、液状組成物５０の周囲を減圧し、当該液状組成物５０中の溶媒を蒸発させる（図
６（ｃ）参照）。ここで、溶媒の蒸発速度（乾燥速度）は、液状組成物５０の中央部より
も液状組成物５０の端部の方が速くなるが、画素形成領域３９ａよりも液溜部３９ｂの方
が単位面積当たりより多くの液状組成物５０が供給されているため、画素形成領域３９ａ
においては乾燥速度をほぼ均一になる。
【００５６】
その後、隔壁３６及び発光層３３上に、カルシウム層及びアルミニウム層等を蒸着方法
等により積層して陰極３４を形成する。続いて、陰極３４の上部に光透過性を有する、例
えば樹脂等で構成された封止部材５を形成する。  
このように、有機ＥＬ装置１を製造する。
【００５７】
図７は、発光層３３の厚さのばらつきの一例を示す図である。図７（ａ）は、隔壁内領
域３６ｃの端部に液溜部３９ｃを形成しない構成における発光層の膜厚のばらつきを示す
図である。また、図７（ｂ）は、隔壁内領域３６ｃの端部に液溜部３９ｂを形成した構成
（本実施形態の構成）における発光層３３の膜厚のばらつきを示す図である。
【００５８】
なお、上述したように、画素領域Ｋは、実際には隔壁内領域３６ｃの長手方向（例えば
、図５のＹ方向）に数十〜千個程度配列されている。当該長手方向に沿って画素領域Ｋの
各々に連続番号を付し、長手方向の一端に形成された画素領域Ｋの素子番号を「１」とし
ている。図６においては、横軸にこの画素番号をとり、縦軸に当該画素番号に対応する画
素領域Ｋ上に設けられた発光層３３の膜厚を示しており、膜厚の単位は［Å］である。
【００５９】
図７（ａ）に示すように、液溜部３９ｂを形成しない構成では、端部に近づくにつれて
発光層３３の膜厚が厚くなっている。これに対して、図７（ｂ）に示すように、液溜部３
９ｂが形成されている本実施形態の構成では、発光層３３の膜厚は、多少のばらつきがあ
るものの、ほぼ均一であるということができる。
【００６０】
このように、本実施形態によれば、複数の画素領域Ｋを囲むように基板上に設けられた
隔壁３６と、基体１０のうち隔壁３６で囲まれた隔壁内領域３６ｃに設けられ、各画素領
域Ｋ上に設けられた複数の発光層３３とを有しており、複数の発光層３３が一つの隔壁内
領域３６ｃに設けられているので、これらの発光層３３を液滴吐出法によって形成する場
合、吐出された液状組成物５０の乾燥時間が隔壁３６の表面状態によって発光層３３毎に
異なることは無い。
【００６１】
しかも、本実施形態では、隔壁内領域３６ｃが基体１０の短手方向に複数設けられてい
るので、各隔壁内領域３６ｃに塗布された液状組成物５０から蒸発する溶媒が複数の隔壁
内領域３６ｃ全体を覆うことになる。これにより、個々の隔壁内領域３６ｃから蒸発する
溶媒の蒸発速度を均一にすることもできる。
【００６２】
また、本実施形態によれば、隔壁内領域３６ｃが、長手方向と当該長手方向に交差する
短手方向とを有しており、各隔壁内領域３６ｃのうち、長手方向の端部では、長手方向の
中央部よりも、短手方向の間隔が広くなっているので、例えば液滴吐出法によって発光層
３３を形成する場合に、長手方向の中央部よりも端部の方が単位面積当たり液状組成物５
０が多く供給されることになる。したがって、吐出された液状組成物５０の乾燥速度が短
手方向より長手方向の方が速くても、発光層３３が形成されている部分においては乾燥速
度をほぼ同程度にすることができる。これにより、発光層３３の膜厚は、隔壁内領域３６
ｃの長手方向の端部では厚くなっていても、長手方向の中央部ではほぼ均一になる。
【００６３】
また、本実施形態では、隣接する隔壁内領域３６ｃについては、一の隔壁内領域３６ｃ
の端部が、他の隔壁内領域３６ｃの端部に対して長手方向にずれた位置に設けられている
ので、隣接する隔壁内領域３６ｃにおいて、端部同士が短手方向に隣接するのを回避する
ことができる。したがって、隣接する隔壁内領域３６ｃの短手方向の距離をより小さくす
ることができる。これにより、基体１０上に隔壁内領域３６ｃを高密度化させることがで
きる。あるいは、一定の画素数を有する電気光学装置においては、隔壁内領域３６ｃの占
める基体１０上のスペースを縮小することができるので、有機ＥＬ装置１を小型化するこ
とが可能となる。
【００６４】
（電子機器）  
次に、本発明に係る電子機器について、携帯電話を例に挙げて説明する。  
図８は、携帯電話３００の全体構成を示す斜視図である。  
携帯電話３００は、筺体３０１、複数の操作ボタンが設けられた操作部３０２、画像や
動画、文字等を表示する表示部３０３を有する。表示部３０３には、本発明に係る有機Ｅ
Ｌ装置１、１０１、２０１が搭載される。  
このように、機能膜の膜厚が均一であり、輝度ムラや色ムラ等の表示不良の無い有機Ｅ
Ｌ装置１が搭載されているので、表示性能の高い表示部を有する電子機器を得ることがで
きる。
【００６５】
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しな
い範囲で適宜変更を加えることができる。  
例えば、上記実施形態においては、隣接する隔壁内領域３６ｃのずれを、短手方向の交
互に、ほぼ液溜部３９ｂの長手方向の幅だけずらすように配置する構成としたが、これに
限られることは無く、例えば、図９に示すように、赤色の光を発光する発光層３３が配置
される隔壁内領域３６ｃに対して、緑色の光を発光する発光層３３が配置される隔壁内領
域３６ｃを液溜部３９ｂの長手方向の幅だけずれるように配置し、この緑色の光を発光す
る発光層３３が配置される隔壁内領域３６ｃに対して、青色の光を発光する発光層３３が
配置される隔壁内領域３６ｃを液溜部３９ｂの長手方向の幅だけ同じ方向にずれるように
配置する構成としても良い。このように同一色の発光層３３が配置された隔壁内領域３６
ｃを、基体１０上の長手方向で同じ位置に配置することによって、乾燥工程における乾燥
の環境が、赤色、緑色、青色の各色毎にほぼ同一の環境にすることができる。
【００６６】
また、本実施形態では、電気光学装置として有機ＥＬ装置１を例に挙げ、機能膜として
発光層３３を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えば電気光学装置と
して液晶装置やプラズマディスプレイ装置を挙げることも可能である。この場合、液晶装
置及びプラズマディスプレイ装置に設けられるカラーフィルタ層が機能膜に相当する。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明の実施の形態に係る有機ＥＬ装置の全体構成を示す図である。
【図２】本実施形態に係る有機ＥＬ装置の平面構成を示す図である。
【図３】本実施形態に係る有機ＥＬ装置の断面構成を示す図である。
【図４】同、断面構成図である。
【図５】有機ＥＬ装置の隔壁の構成を示す平面図である。
【図６】有機ＥＬ装置の製造工程を示す図である。
【図７】有機ＥＬ装置の発光層の膜厚を比較した図である。
【図８】本発明に係る電子機器（携帯電話）の構成を示す図である。
【図９】本発明に係る有機ＥＬ装置の隔壁の別の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００６８】
１…有機ＥＬ装置  ３…有機ＥＬ素子部  ３１…陽極  ３２…正孔注入層  ３３…発光
層  ３４…陰極  ３６…隔壁  ３６ａ…親液性隔壁  ３６ｂ…撥液性隔壁  ３６ｃ…隔壁
内領域  ３７…開口領域  ３８…画素電極  ３９ａ…画素形成領域  ３９ｂ…液溜部  ３
９ｃ…液溜部  ５０…液状組成物  ３００…携帯電話
【図１】
2007115563.tif 000003
【図２】
2007115563.tif 000004
【図３】
2007115563.tif 000005
【図４】
2007115563.tif 000006
【図５】
2007115563.tif 000007
【図６】
2007115563.tif 000008
【図７】
2007115563.tif 000009
【図８】
2007115563.tif 000010
【図９】
2007115563.tif 000011