(57)【要約】      （修正有）【課題】青色発光高分子、および前記青色発光高分子を発光成分として含む有機電界発光素子を提供する。【解決手段】  下記化学式（１）で表示される青色発光高分子：2007182568.tif 000059【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式（１）で表示される青色発光高分子：
【化１】
2007182568.tif 000040
前記化学式（１）中、
ｘは、０．００１〜０．９９の実数であり；
ｎは、１０〜１５０の整数であり；
Ａｒ１は、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０の２価の芳香環含有化合物残基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０の２価の複素環含有化合物残基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０の２価のヘテロ原子を含む飽和環を含む化合物残基、および置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０の２価のビニレン構造を含む基からなる群より選択される基であり；
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、水素原子、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０のアリール基、置換基を有していてもよいＣ４〜Ｃ２０のシクロアルキル基、またはＲ１およびＲ２は互いに連結されて炭素環を形成し；
Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、エステル基、シアノ基、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０のアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０のヘテロアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０のヘテロ環基、または置換基を有していてもよいＣ４〜Ｃ２０のシクロアルキル基であり；
Ｒ４は、水素原子、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ１２の直鎖状または分岐状のアルキル基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状または分岐状のアルコキシ基、エステル基、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０のアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０のヘテロアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０のヘテロ環基、および置換基を有していてもよいトリフェニルアミン基からなる群より選択される基である。
【請求項２】
前記化学式（１）のＡｒ１は、下記化学式（２）〜（１９）で表される基からなる群より選択されるいずれか１つであることを特徴とする、請求項１に記載の青色発光高分子：
【化２】
2007182568.tif 000041
【化３】
2007182568.tif 000042
【化４】
2007182568.tif 000043
【化５】
2007182568.tif 000044
【化６】
2007182568.tif 000045
【化７】
2007182568.tif 000046
【化８】
2007182568.tif 000047
【化９】
2007182568.tif 000048
【化１０】
2007182568.tif 000049
【化１１】
2007182568.tif 000050
【化１２】
2007182568.tif 000051
【化１３】
2007182568.tif 000052
【化１４】
2007182568.tif 000053
【化１５】
2007182568.tif 000054
【化１６】
2007182568.tif 000055
【化１７】
2007182568.tif 000056
【化１８】
2007182568.tif 000057
【化１９】
2007182568.tif 000058
前記化学式（２）〜（１９）中、Ｒ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、または置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０のアリール基である。
【請求項３】
前記化学式（１）のＡｒ１は、前記化学式（４）または前記化学式（１８）で表される基であることを特徴とする、請求項２に記載の青色発光高分子。
【請求項４】
前記化学式（１）において、Ｒ１およびＲ２が互いに連結されて炭素環を形成することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の青色発光高分子。
【請求項５】
前記炭素環がヘテロ原子を含むことを特徴とする、請求項４に記載の青色発光高分子。
【請求項６】
１対の電極間に有機膜を備え、前記有機膜が請求項１〜５のいずれか１項に記載の青色発光高分子を含むことを特徴とする、有機電界発光素子。
【請求項７】
前記有機膜は、発光層または正孔輸送層であることを特徴とする、請求項６に記載の有機電界発光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は青色発光高分子およびこれを用いる有機電界発光素子に関し、より詳細には、正孔輸送性を有するアクリジン構造を導入することによって、従来の青色発光高分子に比べて高色純度および優れた色安定性を有する青色発光高分子、および前記青色電界発光高分子を発光成分として含む有機電界発光素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機電界発光素子（以下、有機ＥＬ素子と称す）は、蛍光性または燐光性の有機化合物薄膜（以下、有機膜と称す）に電圧が印加されると、電子と正孔とが有機膜で結合して光が発生する現象を利用したアクティブマトリックス駆動の表示素子である。有機ＥＬ素子は軽量化が可能であり、部品が簡単であることから製造工程が簡単であり、高画質の画像の広視野角を提供しうる。また、有機ＥＬ素子は、完全な動画および高色純度の具現が可能であり、低消費電力および低電圧駆動が可能であることから、携帯用電子機器に適している。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、有機膜を形成する材料によって、低分子有機ＥＬ素子と高分子有機ＥＬ素子とに区別できる。
【０００４】
真空蒸着法によって形成される低分子有機ＥＬ素子に関して、発光物質が容易に精製され、高純度化が容易に得られ、カラー画素が容易に具現化されうる。
【０００５】
一方、高分子有機ＥＬ素子は、スピンコーティングまたは印刷法により有機膜を形成することによって、低コストで容易に製造することができ、かつ、有機膜の機械的特性が優秀である（例えば、特許文献１〜４参照）。
【特許文献１】米国特許第５，６２１，１３１号明細書
【特許文献２】米国特許第５，７６３，６３６号明細書
【特許文献３】国際公開第９９／５４３８５号パンフレット
【特許文献４】米国特許第５，７２８，８０１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上述のような長所を低分子有機ＥＬ素子が有しているにもかかわらず、実用的な応用のために、例えば、量子効率および色純度の向上、ならびに薄膜の結晶化防止などの改良が必要とされている。また、上述のような長所を有する高分子有機ＥＬ素子も、低色純度、高駆動電圧、低効率、および短寿命などの問題を有している。
【０００７】
そこで、本発明は、有機ＥＬ素子が高色純度、低駆動電圧、高効率、および長寿命の特性を有しうる手段を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記のような技術的課題を解決するために、本発明は、下記化学式（１）で表される青色発光高分子を提供する。
【０００９】
【化１】
2007182568.tif 000002
【００１０】
前記化学式（１）中、ｘは、０．００１〜０．９９の実数であり；ｎは、１０〜１５０の整数であり；Ａｒ１は、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０の２価の芳香環含有化合物残基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０の２価の複素環含有化合物残基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０の２価のヘテロ原子を含む飽和環を含む化合物の残基、および置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０の２価のビニレン構造を含む基からなる群より選択される基であり；Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、水素原子、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０のアリール基、置換基を有していてもよいＣ４〜Ｃ２０のシクロアルキル基、またはＲ１およびＲ２は互いに連結されて炭素環を形成し；Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、エステル基、シアノ基、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０のアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０のヘテロアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０のヘテロ環基、または置換基を有していてもよいＣ４〜Ｃ２０のシクロアルキル基であり；Ｒ４は、水素原子、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ１２の直鎖状または分岐状のアルキル基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状または分岐状のアルコキシ基、エステル基、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０のアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０のヘテロアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０のヘテロ環基、および置換基を有していてもよいトリフェニルアミン基からなる群より選択される基である。
【００１１】
また、本発明は、１対の電極間に有機膜を備え、前記有機膜が前記化学式（１）で表される青色発光高分子を含むことを特徴とする、有機ＥＬ素子を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、高色純度および優れた色安定性を示す青色発光高分子、ならびに低駆動電圧、高効率、および長寿命の特性を有しうる有機ＥＬ素子が提供されうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１４】
本発明による青色発光高分子は、正孔輸送性を有するアクリジン構造を高分子主鎖に含む構造を有する。このような構造によって、本発明による青色発光高分子は、従来の青色発光高分子に比べて高色純度および優れた色安定性を示す。
【００１５】
本発明の一実施形態によれば、本発明は、下記化学式（１）で表される青色発光高分子を提供する。
【００１６】
【化２】
2007182568.tif 000003
【００１７】
前記化学式（１）中、ｘは、０．００１〜０．９９の実数であり；ｎは、１０〜１５０の整数であり；Ａｒ１は、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０の２価の芳香環含有化合物残基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０の複素環含有化合物残基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０のヘテロ原子を含む飽和環を含む化合物の残基、および置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０の２価のビニレン構造を含む基からなる群より選択される基であり；Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、水素原子、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状または分岐状のアルキル基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０のアリール基、置換基を有していてもよいＣ４〜Ｃ２０のシクロアルキル基、またはＲ１およびＲ２は互いに連結されて炭素環を形成し；Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、エステル基、シアノ基、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０のアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ２０のヘテロアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ２０のヘテロ環基、または置換基を有していてもよい置換基を有していてもよいＣ４〜Ｃ２０のシクロアルキル基であり；Ｒ４は、水素原子、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ１２の直鎖状または分岐状のアルキル基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状または分岐状のアルコキシ基、エステル基、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０のアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０のヘテロアリール基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０のヘテロ環基、および置換基を有していてもよいトリフェニルアミン基からなる群より選択される基である。
【００１８】
前記化学式（１）中のｎは、１０〜１５０の整数、好ましくは９０〜１３０の整数である。
【００１９】
この際、前記化学式（１）で表される青色発光高分子の各繰り返し単位は、同じものであってもまたは異なるものであってもよく、繰り返し単位が異なる場合、その繰り返し単位はランダム状に存在してもよいし、ブロック状に存在してもよい。
【００２０】
前記化学式（１）中のＡｒ１は、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０の２価の芳香環含有化合物残基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０の複素環含有化合物残基、置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０の２価のヘテロ原子を含む飽和環を含む化合物の残基、および置換基を有していてもよいＣ２〜Ｃ３０の２価のビニレン構造を含む基からなる群より選択される基である。具体的には、Ａｒ１は、下記化学式（２）〜（１９）で表される基からなる群より選択されるいずれか１つであることが好ましい。
【００２１】
【化３】
2007182568.tif 000004
【００２２】
【化４】
2007182568.tif 000005
【００２３】
【化５】
2007182568.tif 000006
【００２４】
【化６】
2007182568.tif 000007
【００２５】
【化７】
2007182568.tif 000008
【００２６】
【化８】
2007182568.tif 000009
【００２７】
【化９】
2007182568.tif 000010
【００２８】
【化１０】
2007182568.tif 000011
【００２９】
【化１１】
2007182568.tif 000012
【００３０】
【化１２】
2007182568.tif 000013
【００３１】
【化１３】
2007182568.tif 000014
【００３２】
【化１４】
2007182568.tif 000015
【００３３】
【化１５】
2007182568.tif 000016
【００３４】
【化１６】
2007182568.tif 000017
【００３５】
【化１７】
2007182568.tif 000018
【００３６】
【化１８】
2007182568.tif 000019
【００３７】
【化１９】
2007182568.tif 000020
【００３８】
【化２０】
2007182568.tif 000021
【００３９】
前記化学式（２）〜（１９）中、Ｒ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ基、または置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ３０のアリール基である。
【００４０】
特に、前記化学式（１）中のＡｒ１は、前記化学式（４）で表されるスピロビフルオレン構造を有する基、または前記化学式（１８）で表されるフルオレン構造を有する基であることがより好ましい。その理由は、前記化学式（１）で表される青色発光高分子の熱的安定性が高まり、隣接する鎖とのエキシマ形成が抑えられることによって、高効率および高色純度が得られるためである。
【００４１】
前記化学式（１）中の、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３で用いられうるアルキル基は、Ｃ１〜Ｃ２０の直鎖状または分岐状のアルキル基であり、その具体的な例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−アミル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、３−メチルペンタン−２−イル基、３−メチルペンタン−３−イル基、４−メチルペンチル基、４−メチルペンタン−２−イル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブタン−２−イル基、ｎ−ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、１−エチルペンチル基、１−（ｎ−プロピル）ブチル基、１，１−ジメチルペンチル基、１，４−ジメチルペンチル基、１，１−ジエチルプロピル基、１，３，３−トリメチルブチル基、１−エチル−２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキサン−２−イル基、２，４−ジメチルペンタン−３−イル基、１，１−ジメチルペンタン−１−イル基、２，２−ジメチルヘキサン−３−イル基、２，３−ジメチルヘキサン−２−イル基、２，５−ジメチルヘキサン−２−イル基、２，５−ジメチルヘキサン−３−イル基、３，４−ジメチルヘキサン−３−イル基、３，５−ジメチルヘキサン−３−イル基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル基、２−メチルヘプタン−２−イル基、３−メチルヘプタン−３−イル基、４−メチルヘプタン−３−イル基、４−メチルヘプタン−４−イル基、１−エチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、１−プロピルペンチル基、２−プロピルペンチル基、１，１−ジメチルヘキシル基、１，４−ジメチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、１−エチル−１−メチルペンチル基、１−エチル−４−メチルペンチル基、１，１，４−トリメチルペンチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、１−イソプロピル−１，２−ジメチルプロピル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、ｎ−ノニル基、１−メチルオクチル基、６−メチルオクチル基、１−エチルヘプチル基、１−（ｎ−ブチル）ペンチル基、４−メチル−１−（ｎ−プロピル）ペンチル基、１，５，５−トリメチルヘキシル基、１，１，５−トリメチルヘキシル基、２−メチルオクタン−３−イル基、ｎ−デシル基、１−メチルノニル基、１−エチルオクチル基、１−（ｎ−ブチル）ヘキシル基、１，１−ジメチルオクチル基、３，７−ジメチルオクチル基、ｎ−ウンデシル基、１−メチルデシル基、１−エチルノニル基、ｎ−ドデシル基、１−メチルウンデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、１−メチルトリデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、またはｎ−エイコシル基などが挙げられる。前記アルキル基の１つ以上の水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、−ＮＨ２基、−ＮＨ（Ｒ）基（ＲはＣ１〜Ｃ１０の直鎖状または分岐状のアルキル基である）、−Ｎ（Ｒ’）（Ｒ”）基、（Ｒ’およびＲ”は互いに独立して、Ｃ１〜Ｃ１０の直鎖状または分岐状のアルキル基である）、アミジノ基、ヒドラジン基、ヒドラゾン基、カルボキシル基、スルホン酸基、燐酸基、Ｃ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のハロゲン化アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキニル基、少なくとも１つのヘテロ原子を含むＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０のアリール基、Ｃ７〜Ｃ２０のアリールアルキル基、窒素原子、酸素原子、リン原子、および硫黄原子からなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含むＣ５〜Ｃ２０のヘテロアリール基、またはＣ６〜Ｃ２０の窒素原子、酸素原子、リン原子、および硫黄原子からなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含むヘテロアリールアルキル基で置換されうる。
【００４２】
前記化学式（１）中のＲ４および前記Ａｒ１中のＲ５で用いられうるアルキル基は、Ｃ１〜Ｃ１２の直鎖状または分岐状のアルキル基であり、その具体的な例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−アミル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、３−メチルペンタン−２−イル基、３−メチルペンタン−３−イル基、４−メチルペンチル基、４−メチルペンタン−２−イル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブタン−２−イル基、ｎ−ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、１−エチルペンチル基、１−（ｎ−プロピル）ブチル基、１，１−ジメチルペンチル基、１，４−ジメチルペンチル基、１，１−ジエチルプロピル基、１，３，３−トリメチルブチル基、１−エチル−２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキサン−２−イル基、２，４−ジメチルペンタン−３−イル基、１，１−ジメチルペンタン−１−イル基、２，２−ジメチルヘキサン−３−イル基、２，３−ジメチルヘキサン−２−イル基、２，５−ジメチルヘキサン−２−イル基、２，５−ジメチルヘキサン−３−イル基、３，４−ジメチルヘキサン−３−イル基、３，５−ジメチルヘキサン−３−イル基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル基、２−メチルヘプタン−２−イル基、３−メチルヘプタン−３−イル基、４−メチルヘプタン−３−イル基、４−メチルヘプタン−４−イル基、１−エチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、１−プロピルペンチル基、２−プロピルペンチル基、１，１−ジメチルヘキシル基、１，４−ジメチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、１−エチル−１−メチルペンチル基、１−エチル−４−メチルペンチル基、１，１，４−トリメチルペンチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、１−イソプロピル−１，２−ジメチルプロピル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、ｎ−ノニル基、１−メチルオクチル基、６−メチルオクチル基、１−エチルヘプチル基、１−（ｎ−ブチル）ペンチル基、４−メチル−１−（ｎ−プロピル）ペンチル基、１，５，５−トリメチルヘキシル基、１，１，５−トリメチルヘキシル基、２−メチルオクタン−３−イル基、ｎ−デシル基、１−メチルノニル基、１−エチルオクチル基、１−（ｎ−ブチル）ヘキシル基、１，１−ジメチルオクチル基、３，７−ジメチルオクチル基、ｎ−ウンデシル基、１−メチルデシル基、１−エチルノニル基、またはｎ−ドデシル基などが挙げられる。前記アルキル基の１つ以上の水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、−ＮＨ２基、−ＮＨ（Ｒ）基（ＲはＣ１〜Ｃ１０の直鎖状または分岐状のアルキル基である）、−Ｎ（Ｒ’）（Ｒ”）基、（Ｒ’およびＲ”は互いに独立して、Ｃ１〜Ｃ１０の直鎖状または分岐状のアルキル基である）、アミジノ基、ヒドラジン基、ヒドラゾン基、カルボキシル基、スルホン酸基、燐酸基、Ｃ１〜Ｃ２０の直鎖状または分岐状のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のハロゲン化アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキニル基、Ｃ６〜Ｃ２０のアリール基、Ｃ７〜Ｃ２０のアリールアルキル基、窒素原子、酸素原子、リン原子、および硫黄原子からなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含むＣ５〜Ｃ２０のヘテロアリール基、または窒素原子、酸素原子、リン原子、および硫黄原子からなる群より選択される少なくとも１つのヘテロ原子を含むＣ６〜Ｃ２０のヘテロアリールアルキル基で置換されうる。
【００４３】
前記化学式（１）中の、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、および前記Ａｒ１中のＲ５で用いられうるアルコキシ基は、Ｃ１〜Ｃ２０の直鎖状または分岐状のアルコキシ基であり、その具体的な例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、１，２−ジメチル−プロポキシ基、ｎ−へキシルオキシ基、３−メチルペンタン−２−イルオキシ基、３−メチルペンタン−３−イルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、４−メチルペンタン−２−イルオキシ基、１，３−ジメチルブチルオキシ基、３，３−ジメチルブチルオキシ基、３，３−ジメチルブタン−２−イルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、１−メチルヘキシルオキシ基、３−メチルヘキシルオキシ基、４−メチルヘキシルオキシ基、５−メチルヘキシルオキシ基、１−エチルペンチルオキシ基、１−（ｎ−プロピル）ブチルオキシ基、１，１−ジメチルペンチルオキシ基、１，４−ジメチルペンチルオキシ基、１，１−ジエチルプロピルオキシ基、１，３，３−トリメチルブチルオキシ基、１−エチル−２，２−ジメチルプロピルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、２−メチルヘキサン−２−イルオキシ基、２，４−ジメチルペンタン−３−イルオキシ基、１，１−ジメチルペンタン−１−イルオキシ基、２，２−ジメチルヘキサン−３−イルオキシ基、２，３−ジメチルヘキサン−２−イルオキシ基、２，５−ジメチルヘキサン−２−イルオキシオキシ基、２，５−ジメチルヘキサン−３−イルオキシ基、３，４−ジメチルヘキサン−３−イルオキシ基、３，５−ジメチルヘキサン−３−イルオキシ基、１−メチルヘプチルオキシ基、２−メチルヘプチルオキシ基、５−メチルヘプチルオキシ基、２−メチルヘプタン−２−イルオキシ基、３−メチルヘプタン−３−イルオキシ基、４−メチルヘプタン−３−イルオキシ基、４−メチルヘプタン−４−イルオキシ基、１−エチルヘキシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、１−プロピルペンチルオキシ基、２−プロピルペンチルオキシ基、１，１−ジメチルヘキシルオキシ基、１，４−ジメチルヘキシルオキシ基、１，５−ジメチルヘキシルオキシ基、１−エチル−１−メチルペンチルオキシ基、１−エチル−４−メチルペンチルオキシ基、１，１，４−トリメチルペンチルオキシ基、２，４，４−トリメチルペンチルオキシ基、１−イソプロピル−１，２−ジメチルプロピルオキシ基、１，１，３，３−テトラメチルブチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、１−メチルオクチルオキシ基、６−メチルオクチルオキシ基、１−エチルヘプチルオキシ基、１−（ｎ−ブチル）ペンチルオキシ基、４−メチル−１−（ｎ−プロピル）ペンチルオキシ基、１，５，５−トリメチルヘキシルオキシ基、１，１，５−トリメチルヘキシルオキシ基、２−メチルオクタン−３−イルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、１−メチルノニルオキシ基、１−エチルオクチルオキシ基、１−（ｎ−ブチル）ヘキシルオキシ基、１，１−ジメチルオクチルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、１−メチルデシルオキシ基、１−エチルノニルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、１−メチルウンデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、１−メチルトリデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、ｎ−ヘプタデシルオキシ基、ｎ−オクタデシルオキシ基、ｎ−ノナデシルオキシ基、またはｎ−エイコシルオキシ基などが挙げられる。前記アルコキシ基中の１つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換されうる。
【００４４】
前記化学式（１）中の、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、および前記Ａｒ１中のＲ５で用いられうるアリール基は、Ｃ６〜Ｃ３０の芳香族単環または芳香族縮合環を有する基である。前記アリール基の具体的な例としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、テトラヒドロナフチル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、または９−フェナントリル基などが挙げられる。前記アリール基中の１つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換されうる。
【００４５】
前記化学式（１）中の、Ｒ１およびＲ２で用いられうるシクロアルキル基は、Ｃ４〜Ｃ２０のシクロアルキル基であり、その具体的な例としては、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、シクロテトラデシル基、シクロヘキサデシル基、シクロオクタデシル基、またはシクロエイコシル基などが挙げられる。前記シクロアルキル基中の１つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換されうる。
【００４６】
前記化学式（１）中の、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４で用いられうるヘテロアリール基は、窒素原子、酸素原子、リン原子、および硫黄原子からなる群より選択される少なくとも１個のヘテロ原子を含む単環複素環または縮合複素環を有するＣ２〜Ｃ３０の基である。前記へテロアリール基の具体的な例としては、フリル基、ピラニル基、ベンゾフラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、イソクロメニル基、チエニル基、ベンゾチエニル基、チオピラニル基、チオクロメニル基、イソチオクロメニル基、チオキサンテニル基、チアントレニル基、フェノキサチイニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアジニル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、フラザニル基、ピリジニル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、インドリル基、インダゾリル基、プリニル基、キノリジニル基、キノリニル基、ナフチジニル基、フタラジニル基、キノキサリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、カルバゾリル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェノテルラジニル基、フェノセレナジニル基、フェノチアジニル基、フェノキサジニル基、アンチリジニル基、ホスフィンドリニジル基、２Ｈ−イソホスフィンドリル基、ホスフィンドリル基、２Ｈ−ホスフィノリジニル基、イソホスフィノリニル基、またはホスフィノリニル基などが挙げられる。前記ヘテロアリール基中の１つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換されうる。
【００４７】
前記化学式（１）中の、Ｒ３およびＲ４で用いられうるエステル基の具体的な例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、１，２−ジメチル−プロポキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、３−メチルペンタン−２−イルオキシカルボニル基、３−メチルペンタン−３−イルオキシカルボニル基、４−メチルペントキシカルボニル基、４−メチルペンタン−２−イルオキシカルボニル基、１，３−ジメチルブトキシカルボニル基、１−イソプロピルプロポキシカルボニル基、３，３−ジメチルブトキシカルボニル基、３，３−ジメチルブタン−２−イルオキシカルボニル基、２−メチルヘキサン−２−イルオキシカルボニル基、２，４−ジメチルペンタン−３−イルオキシカルボニル基、１，１−ジメチルペンタン−１−イルオキシカルボニル基、２，２−ジメチルヘキサン−３−イルオキシカルボニル基、２，３−ジメチルヘキサン−２−イルオキシカルボニル基、２，５−ジメチルヘキサン−２−イルオキシカルボニル基、２，５−ジメチルヘキサン−３−イルオキシカルボニル基、３，４−ジメチルヘキサン−３−イルオキシカルボニル基、３，５−ジメチルヘキサン−３−イルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、２−メチルヘプトキシカルボニル基、２−メチルヘプタン−２−イルオキシカルボニル基、３−メチルヘプタン−３−イルオキシカルボニル基、４−メチルヘプタン−３−イルオキシカルボニル基、４−メチルヘプタン−４−イルオキシカルボニル基、２−メチルオクタン−３−イルオキシカルボニル基、ｎ−デシルオキシカルボニル基、ｎ−ドデシルオキシカルボニル基、ｎ−トリデカオキシカルボニル基、ｎ−テトラデシルオキシカルボニル基、ｎ−ペンタデシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキサデシルオキシカルボニル基、ヘプタデシルオキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基、ｎ−ノナデカオキシカルボニル基、またはｎ−エイコシルオキシカルボニル基が挙げられる。
【００４８】
前記化学式（１）中の、Ｒ３およびＲ４で用いられうるヘテロ環基は、窒素原子、酸素原子、リン原子、および硫黄原子からなる群より選択される少なくとも１個のヘテロ原子を含む飽和環を有するＣ２〜Ｃ３０の基である。前記へテロ環基の具体的な例としては、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチエニル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピラゾリジニル基、チアゾリジニル基、イソチアゾリジニル基、オキサゾリジニル基、イソオキサゾリジニル基、ピペリジニル基、ピペラジニル基、チオモルホリニル基、モルホリニル基、ヘキサヒドロピロリジニル基、オクタヒドロインドリジニル基、オクタヒドロイソインドリル基、オクタヒドロインドリル基、テトラヒドロオキサジアジニル基、ヘキサヒドロトリアジニル基などが挙げられる。前記ヘテロ環基中の１つ以上の水素原子は、前記アルキル基の場合と同様の置換基で置換されうる。
【００４９】
前記化学式（１）中の、Ｒ３およびＲ４で用いられうる置換基を有していてもよいトリフェニルアミン基の例としては、トリフェニルアミン基、２−フルオロトリフェニルアミン基、３−フルオロトリフェニルアミン基、４−フルオロトリフェニルアミン基、２−クロロトリフェニルアミン基、３−クロロトリフェニルアミン基、４−クロロトリフェニルアミン基、２−ブロモトリフェニルアミン基、３−ブロモトリフェニルアミン基、４−ブロモトリフェニルアミン基、２−ヨードトリフェニルアミン基、３−ヨードトリフェニルアミン基、４−ヨードトリフェニルアミン基、２−ニトロトリフェニルアミン基、３−ニトロトリフェニルアミン基、４−ニトロトリフェニルアミン基、２−ヒドロキシトリフェニルアミン基、３−ヒドロキシトリフェニルアミン基、４−ヒドロキシトリフェニルアミン基、２−メチルトリフェニルアミン基、３−メチルトリフェニルアミン基、４−メチルトリフェニルアミン基、２，３−ジメチルトリフェニルアミン基、２，４−ジメチルトリフェニルアミン基、２，５−ジメチルトリフェニルアミン基、２，６−ジメチルトリフェニルアミン基、２−メチルトリフェニルアミン基、２−フルオロ−２’−メチルトリフェニルアミン基、３−フルオロ−２’−メチルトリフェニルアミン基、４−フルオロ−２’−メチルトリフェニルアミン基、２−クロロ−２’−メチルトリフェニルアミン基、３−クロロ−２’−メチルトリフェニルアミン基、４−クロロ−２’−メチルトリフェニルアミン基、２−ブロモ−２’−メチルトリフェニルアミン基、３−ブロモ−２’−メチルトリフェニルアミン基、４−ブロモ−２’−メチルトリフェニルアミン基、２−ヨード−２’−メチルトリフェニルアミン基、３−ヨード−２’−メチルトリフェニルアミン基、４−ヨード−２’−メチルトリフェニルアミン基、２−ニトロ−２’−メチルトリフェニルアミン基、３−ニトロ−２’−メチルトリフェニルアミン基、４−ニトロ−２’−メチルトリフェニルアミン基、２−ヒドロキシ−２’−メチルトリフェニルアミン基、３−ヒドロキシ−２’−メチルトリフェニルアミン基、４−ヒドロキシ−２’−メチルトリフェニルアミン基、２−メチル−２’−メチルトリフェニルアミン基、３−メチル−２’−メチルトリフェニルアミン基、４−メチル−２’−メチルトリフェニルアミン基、２，３，２’−トリメチルトリフェニルアミン基、２，４，２’−トリメチルトリフェニルアミン基、２，５，２’−トリメチルトリフェニルアミン基、２，６，２’−トリメチルトリフェニルアミン基、３−メチルトリフェニルアミン基、２−フルオロ−３’−メチルトリフェニルアミン基、３−フルオロ−３’−メチルトリフェニルアミン基、４−フルオロ−３’−メチルトリフェニルアミン基、２−クロロ−３’−メチルトリフェニルアミン基、３−クロロ−３’−メチルトリフェニルアミン基、４−クロロ−３’−メチルトリフェニルアミン基、２−ブロモ−３’−メチルトリフェニルアミン基、３−ブロモ−３’−メチルトリフェニルアミン基、４−ブロモ−３’−メチルトリフェニルアミン基、２−ヨード−３’−メチルトリフェニルアミン基、３−ヨード−３’−メチルトリフェニルアミン基、４−ヨード−３’−メチルトリフェニルアミン基、２−ニトロ−３’−メチルトリフェニルアミン基、３−ニトロ−３’−メチルトリフェニルアミン基、４−ニトロ−３’−メチルトリフェニルアミン基、２−ヒドロキシ−３’−メチルトリフェニルアミン基、３−ヒドロキシ−３’−メチルトリフェニルアミン基、４−ヒドロキシ−３’−メチルトリフェニルアミン基、２−メチル−３’−メチルトリフェニルアミン基、３−メチル−３’−メチルトリフェニルアミン基、４−メチル−３’−メチルトリフェニルアミン基、２，３，３’−トリメチルトリフェニルアミン基、２，４，３’−トリメチルトリフェニルアミン基、２，５，３’−トリメチルトリフェニルアミン基、２，６，３’−トリメチルトリフェニルアミン基、４−メチルトリフェニルアミン基、２−フルオロ−４’−メチルトリフェニルアミン基、３−フルオロ−４’−メチルトリフェニルアミン基、４−フルオロ−４’−メチルトリフェニルアミン基、２−クロロ−４’−メチルトリフェニルアミン基、３−クロロ−４’−メチルトリフェニルアミン基、４−クロロ−４’−メチルトリフェニルアミン基、２−ブロモ−４’−メチルトリフェニルアミン基、３−ブロモ−４’−メチルトリフェニルアミン基、４−ブロモ−４’−メチルトリフェニルアミン基、２−ヨード−４’−メチルトリフェニルアミン基、３−ヨード−４’−メチルトリフェニルアミン基、４−ヨード−４’−メチルトリフェニルアミン基、２−ニトロ−４’−メチルトリフェニルアミン基、３−ニトロ−４’−メチルトリフェニルアミン基、４−ニトロ−４’−メチルトリフェニルアミン基、２−ヒドロキシ−４’−メチルトリフェニルアミン基、３−ヒドロキシ−４’−メチルトリフェニルアミン基、４−ヒドロキシ−４’−メチルトリフェニルアミン基、２−メチル−４’−メチルトリフェニルアミン基、３−メチル−４’−メチルトリフェニルアミン基、４−メチル−４’−メチルトリフェニルアミン基、２，３，４−トリメチルトリフェニルアミン基、２，４，４’−トリメチルトリフェニルアミン基、２，５，４’−トリメチルトリフェニルアミン基、２，６，４’−トリメチルトリフェニルアミン基、１，１’、１”−トリメチルトリフェニルアミン基、１，１’，２”−トリメチルトリフェニルアミン基、１，１’，３”−トリメチルトリフェニルアミン基、１，１’，４”−トリメチルトリフェニルアミン基、１，２’，２”−トリメチルトリフェニルアミン基、１，２’，３”トリメチルトリフェニルアミン基、１，２’，４”−トリメチルトリフェニルアミン基、１，３’，４”−トリメチルトリフェニルアミン基、２，２’，２”−トリメチルトリフェニルアミン基、２，２’，３”−トリメチルトリフェニルアミン基、２，２’，４”−トリメチルトリフェニルアミン基、２，３’，３”−トリメチルトリフェニルアミン基、２，３’，４”−トリメチルトリフェニルアミン基、３，３’，３”−トリメチルトリフェニルアミン基、３，３’，４”−トリメチルトリフェニルアミン基、３，４’，４”−トリメチルトリフェニルアミン基、または４，４’，４”−トリメチルトリフェニルアミン基などが挙げられる。
【００５０】
また、前記化学式（１）中のＲ１とＲ２とは、互いに連結されて炭素環を形成してもよい。前記炭素環の例としては、シクロへキサン環、シクロへプタン環、シクロオクタン環、シクロノナン環、シクロデカン環、シクロウンデカン環、シクロドデカン環、シクロトリデカン環、シクロテトラデカン環、シクロペンタデカン環、シクロヘキサデカン環、シクロヘプタデカン環、シクロオクタデカン環、シクロノナデカン環、もしくはシクロエイコサン環などの置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ２０のシクロアルキル環、置換基を有していてもよいノルボルネン環、または置換基を有していてもよいアダマンタン環などが挙げられる。この際、前記炭素環は、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、およびリン原子からなる群より選択される少なくとも１つヘテロ原子を含んでいてもよい。
【００５１】
本発明による青色発光高分子の重量平均分子量（Ｍｗ）は、薄膜形成特性および有機ＥＬ素子の寿命に対して、重要な因子となりうる。このような観点から、本発明による青色発光高分子の重量平均分子量は、好ましくは約１０，０００〜２，０００，０００、より好ましくは２００，０００〜１，０００，０００である。なお、本発明において、前記重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定した値を採用するものとする。
【００５２】
本発明による青色発光高分子の重量平均分子量が１０，０００未満であると、素子の製造および素子の駆動時に薄膜の結晶化が起こる場合がある。本発明による青色発光高分子の重量平均分子量が２，０００，０００を超えると、Ｐｄ（０）またはＮｉ（０）により媒介されるアリールカップリング反応の、一般的な合成条件において、本発明の青色発光高分子を実質的に製造し難くなる場合があり、有機ＥＬ素子の発光特性の点で好ましくない場合がある。
【００５３】
また、本発明による青色発光高分子の分子量分布（ＭＷＤ）は、なるべく広くないことが電界発光特性、特に、素子の寿命の観点から好ましい。具体的には、本発明による青色発光高分子の分子量分布は１〜５であることが好ましい。
【００５４】
本発明による青色発光高分子の製造方法は、特に制限されず、従来公知の方法例えば、鈴木カップリング（Ｓｕｚｕｋｉ  Ｃｏｕｐｌｉｎｇ）法と山本カップリング（Ｙａｍａｍｏｔｏ  Ｃｏｕｐｌｉｎｇ）法との組み合わせなど、従来公知の方法によって製造されうる。
【００５５】
また、本発明は、１対の電極間に有機膜を備える有機ＥＬ素子において、前記有機膜が前記化学式（１）で表される青色発光高分子を含むことを特徴とする、有機ＥＬ素子を提供する。
【００５６】
以下、１対の電極間に有機膜を備える有機ＥＬ素子において、前記有機膜が前記化学式（１）で表される青色発光高分子を含む特徴とする、有機ＥＬ素子を提供する。
前記化学式（１）で表される本発明の青色発光高分子を用いる有機ＥＬ素子と、その製造方法を説明すれば次の通りである。
【００５７】
図１Ａ〜図１Ｆは、本発明の実施形態による有機ＥＬ素子の積層構造を示す断面概略図である。
【００５８】
図１Ａを参照すれば、第１電極１０の上部に前記化学式（１）で表される青色発光高分子を含む発光層１２が積層され、前記発光層１２の上部には第２電極１４が形成されている。
【００５９】
図１Ｂを参照すれば、第１電極１０の上部に前記化学式（１）で表される青色発光高分子を含む発光層１２が積層され、前記発光層１２の上部に正孔ブロッキング層（ＨＢＬ）１３が積層されており、その上部には第２電極１４が形成されている。
【００６０】
図１Ｃの有機ＥＬ素子は、第１電極１０と発光層１２との間に正孔注入層（ＨＩＬ）（またはバッファ層とも称す）１１が形成されている。
【００６１】
図１Ｄの有機ＥＬ素子は、正孔ブロッキング層（ＨＢＬ）１３の代わりに、発光層１２の上部に電子輸送層（ＥＴＬ）１５が形成されていることを除いては、図１Ｃの有機ＥＬ素子と同様の積層構造を有する。
【００６２】
図１Ｅの有機ＥＬ素子は、前記化学式（１）で表される青色発光高分子を含有する発光層１２の上部に形成される正孔ブロッキング層（ＨＢＬ）１３の代わりに、正孔ブロッキング層（ＨＢＬ）１３と電子輸送層１５とが順次に積層されていることを除いては、図１Ｃの場合と同様の積層構造を有する。
【００６３】
図１Ｆの有機ＥＬ素子は、正孔注入層１１と発光層１２との間に正孔輸送層１６をさらに形成したことを除いては、図１Ｅの有機ＥＬ素子と同様の構造を有している。この際、正孔輸送層１６は、正孔注入層１１から発光層１２への不純物の侵入を抑える役割を果たす。
【００６４】
前述の図１Ａ〜図１Ｆの積層構造を有する有機ＥＬ素子は、一般的な方法によって製造可能であり、その製造方法が限定されるものではない。
【００６５】
以下、本発明の望ましい一実施形態による有機ＥＬ素子の製造方法を説明する。
【００６６】
まず、基板（図示せず）の上部にパターニングされた第１電極１０を形成する。前記基板は有機ＥＬ素子で使われる一般的な基板が使用されるが、透明性、表面平滑性、および防水性に優れ、取扱いが容易であることを考慮すると、ガラス基板または透明プラスチック基板が好ましい。前記基板の厚さは０．３〜１．１ｍｍであることが好ましい。
【００６７】
前記第１電極１０の形成材料は特に制限されない。もし、第１電極が正極であるならば、正極は正孔の注入が容易である導電性金属またはその酸化物から形成されることが好ましく、具体的な例としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、またはイリジウム（Ｉｒ）などが、好ましく挙げられる。
【００６８】
前記第１電極１０が形成された基板を洗浄し、ＵＶ／オゾン処理を行う。洗浄は、イソプロパノール（ＩＰＡ）、またはアセトンなどの有機溶媒を用いて行う。
【００６９】
洗浄された基板の第１電極１０の上部に、正孔注入層１１が選択的に形成される。このように正孔注入層１１が形成されると、第１電極１０および発光層１２の接触抵抗を低減させると同時に、発光層１２に対する第１電極１０の正孔輸送能力が向上して、素子のターンオン電圧および寿命特性を改良させる。正孔注入層１１の形成材料は、有機ＥＬ素子の分野で一般的に用いられる物質であれば、いかなる物質でも使用可能であり、具体的な例としては、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））／ＰＳＳ（ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ  ｐａｒａｓｕｌｆｏｎａｔｅ）、スターバースト系の化合物、銅フタロシアニン、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、またはこれらの誘導体などが好ましく挙げられる。ここに例示したような物質が、第１電極１０の上部にスピンコートされた後、これを乾燥して正孔注入層１１が形成される。前記正孔注入層１１の厚さは、好ましくは３０〜２００ｎｍ（３００〜２０００Å）であり、より好ましくは、５０〜１１０ｎｍ（５００〜１１００Å）である。正孔注入層１１の厚さが前記範囲を外れる場合、正孔注入特性が不良となる場合がある。前記正孔注入層１１を形成する際の乾燥温度は、１００〜２５０℃であることが好ましい。
【００７０】
前記正孔注入層１１の上部に、発光層形成用の組成物がコートされて発光層１２が形成される。ここで、前記の発光層形成用の組成物は、前記化学式（１）で表される青色発光高分子の濃度が好ましくは０．０１〜１０質量％である溶液である。
【００７１】
前記溶液の溶媒は、前記青色発光高分子を溶解させうるものであれば、いかなるものでも使用可能であり、具体的な例としては、トルエン、クロロベンゼンなどが挙げられる。
【００７２】
場合によっては、前記発光層形成用の組成物に、ドーパントがさらに加えられる。この際、ドーパントの含有量は発光層の形成材料によって変化するが、一般的に、発光層の形成材料（ホストとドーパントとの総質量）１００質量部に対して３０〜８０質量部であることが好ましい。ドーパントの含有量が前記範囲を外れれば、有機ＥＬ素子の発光特性が低下する場合がある。前記ドーパントの具体的な例としては、アリールアミン、フェリル化合物、ピロール化合物、ヒドラゾン化合物、カルバゾール化合物、スチルベン化合物、スターバースト系化合物、またはオキサジアゾール系化合物などが挙げられる。
【００７３】
前記発光層１２の厚さは、発光層形成用の組成物の濃度およびスピンコート時のスピン速度を調節することによって、好ましくは１０〜１００ｎｍ（１００〜１０００Å）、より好ましくは、５０〜１００ｎｍ（５００〜１０００Å）に設定されうる。発光層１２の厚さが１０ｎｍ（１００Å）未満である場合には、有機ＥＬ素子の発光効率が低下する場合があり、１００ｎｍ（１０００Å）を超える場合には、有機ＥＬ素子の駆動電圧が上昇する場合がある。
【００７４】
前記正孔注入層１１と前記発光層１２との間には、正孔輸送層１６が選択的に形成される。ここで、正孔輸送層の形成材料は、正孔を輸送できる物質であればいかなるものでも使用可能であり、具体的な例としては、例えば、ポリトリフェニルアミン、フルオレンとフェニレンジアミンとの共重合体、スピロビフルオレンとフェノキサジンとの共重合体、またはＢＦＥ（ダウケミカル社製）などが挙げられ、これらは単独でもまたは２種以上混合しても用いることができる。前記正孔輸送層１６の厚さは、１０〜１００ｎｍ（１００〜１０００Å）であることが好ましい。
【００７５】
前記発光層１２の上部には、蒸着またはスピンコーティングによって、正孔ブロッキング層１３および／または電子輸送層１５が形成される。前記正孔ブロッキング層１３は、発光物質から発生する励起子が電子輸送層１５に移動することを防ぐか、または正孔が電子輸送層１５に移動することを防ぐ役割を果たす。
【００７６】
前記正孔ブロッキング層１３は、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、または下記化学式（２０）で表されるフェナントロリン系化合物（例えばＵＤＣ社製の２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（ＢＣＰ））、イミダゾール系化合物、トリアゾール系化合物、オキサジアゾール系化合物（例えば２−（４−ビフェニルイル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）１，３，４−オキサジアゾール）（ＰＢＤ））、もしくはアルミニウム錯体（例えばＵＤＣ社製のＢＡｌｑ）などから形成されうる。
【００７７】
【化２１】
2007182568.tif 000022
【００７８】
前記電子輸送層１５は、例えば、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール系化合物、トリアゾール系化合物、イソチアゾール系化合物、オキサジアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、または下記化学式（２１）で表されるペリレン系化合物、アルミニウム錯体（例えばＡｌｑ３、ＢＡｌｑ、ＳＡｌｑ、もしくはＡｌｍｑ３）、もしくはガリウム錯体（例えばＧａｑ’２ＯＰｉｖ、Ｇａｑ’２ＯＡｃ、もしくは２（Ｇａｑ’２））などから形成されうる。
【００７９】
【化２２】
2007182568.tif 000023
【００８０】
前記正孔ブロッキング層の厚さは１０〜１００ｎｍ（１００〜１０００Å）であることが好ましく、前記電子輸送層の厚さは１０〜１００ｎｍ（１００〜１０００Å）であることが好ましい。前記正孔ブロッキング層の厚さおよび前記電子輸送層の厚さが前記範囲を外れる場合は、電子輸送能力および正孔ブロッキング能力が低下する場合がある。
【００８１】
次いで、前記のようにして得られた積層物上に第２電極１４を形成し、その後封止して有機ＥＬ素子が完成する。
【００８２】
前記第２電極１４の形成材料は特に制限されず、Ｌｉ、Ｃａ、Ｃａ／Ａｌ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ｍｇ、またはＭｇ合金などの仕事関数の小さないかなる金属でも、前記第２電極１４の形成材料として使用することができ、蒸着により、第２電極１４が形成される。前記第２電極１４の厚さは、５〜３００ｎｍ（５０〜３０００Å）であることが好ましい。前記化学式（１）で表される本発明による青色発光高分子は、有機ＥＬ素子の発光層の形成材料として使われうるが、前記正孔輸送層１６の形成材料としても用いられうる。また、バイオテクノロジー分野の中間体としても用いられうる。
【００８３】
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、特別の装置や方法を必要とせず、本発明の有機ＥＬ素子は、通常の電界発光高分子を利用した有機ＥＬ素子の製造方法によって製造されうる。
【実施例】
【００８４】
以下、本発明を、下記実施例を通じてさらに詳細に説明するが、下記の実施例は、単に説明のためのものであり、本発明を限定するためのものではない。
【００８５】
（実施例１）本発明の青色発光高分子１〜３の作製
下記反応式（１）〜（４）で表される反応によって、本発明による青色発光高分子を作製した。
【００８６】
【化２３】
2007182568.tif 000024
【００８７】
１．モノマーの合成
１−１．アクリジンの還元
１Ｌの２口の丸底フラスコに、アクリジン４５ｇ（０．２５１ｍｏｌ）、シアノ水素化ホウ素ナトリウム（Ｎａ（ＣＮ）ＢＨ３）３１．６ｇ（０．５０２ｍｏｌ）を入れ、真空乾燥後窒素雰囲気とした。蒸留したテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４５０ｍｌを加えて、三フッ化ホウ素エーテラート（ＢＦ３Ｅｔｈｅｒａｔｅ）６３．６ｍｌ（０．５０２ｍｏｌ）を加えた後、温度を上げて還流して１２時間反応させた。反応を薄膜クロマトグラフィで確認した後、氷浴で温度を下げ、２８％アンモニア水１５０ｍｌを徐々に加えて系内をアルカリ性とした後、炭酸ナトリウム水溶液１００ｍｌを入れて有機層を抽出した。その後、水層を酢酸エチル１００ｍｌで抽出し、有機層を集めて食塩水３００ｍｌで洗浄した。有機層をＭｇＳＯ４で乾燥した後にろ過して濃縮して、さらに真空乾燥させて粗生成物４９ｇを得た（収率：理論値を超えた、黄緑色結晶）。得られた粗生成物の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは下記表１の通りであった。
【００８８】
【表１】
2007182568.tif 000025
【００８９】
１−２．  １−ブロモ−４−ブチルベンゼンとのカップリング
前記１−１．で作製した８ａ，９，１０，１０ａ−テトラヒドロアクリジン粗生成物４９ｇ（０．２５１ｍｏｌ）、１−ブロモ−４−ブチルベンゼン５３．１ｍｌ（０．３０１ｍｏｌ）、ナトリウム−ｔ−ブトキシド（ＮａＯｔ−Ｂｕ）４８．２ｇ（０．５０２ｍｏｌ）、および酢酸パラジウム（ＩＩ）（Ｐｄ（ＯＡｃ）２）３ｇ（０．０１３ｍｏｌ）を２口フラスコに入れて窒素で満たした後、トルエン５００ｍｌを入れ温度を６０℃まで上げた。その後、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（Ｐ（ｔ−ｂｕｔｙｌ）３）の濃度が５０質量％であるトルエン溶液２４．２ｍｌ（０．０５０２ｍｏｌ）を加え１時間還流して反応させた。反応を薄層クロマトグラフィで確認した後、室温まで温度を下げ、酢酸エチル５０ｍｌ、および水５０ｍｌを加え攪拌した後、セライトパッドを通してろ過した。ろ液を水５００ｍｌで２回洗浄し、食塩水５００ｍｌで洗浄した後に、ＭｇＳＯ４で乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を取り除いてろ液を濃縮した。濃縮された残留物に、エーテル８００ｍｌを入れて１時間懸濁攪拌し、ろ過して、生成物を結晶として５８．１ｇ得た（収率：７３．８％、薄ピンク色結晶）。得られた生成物の１Ｈ−ＮＭＲは下記表２の通りであった。
【００９０】
【表２】
2007182568.tif 000026
【００９１】
１−３．酸化
１Ｌの２口の丸底フラスコに、前記１−２．で得られた１０−（４−ブチルフェニル）−８ａ，９，１０，１０ａ−テトラヒドロアクリジン１３ｇ（０．０４１５ｍｏｌ）、および水２５０ｍｌを入れ、さらに６０％硝酸（ＨＮＯ３）２５０ｍｌを入れて、温度を上げ８０℃で２時間反応させた。反応液を薄層クロマトグラフィで確認した後、室温まで温度を下げ、反応混合物に塩化メチレン５００ｍｌを加えて攪拌し抽出した。水層を塩化メチレン２００ｍｌおよび塩化メチレン１００ｍｌで抽出し、有機層を集めて炭酸ナトリウム水溶液５００ｍｌで系内をアルカリ性とし、洗浄した。その後、有機層を食塩水５００ｍｌで洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、ろ過によりＭｇＳＯ４を取り除いてろ液を濃縮した。濃縮された残留物に少量の塩化メチレンを加えて溶かし、ｎ−へキサンで結晶化させて、１次再結晶４．４１ｇを得た。ろ液を濃縮し、エーテルで懸濁攪拌して、２次再結晶５．４３ｇを得た（生成物の総収量９．８４ｇ、収率：７２．５％、黄緑色結晶）。得られた生成物の１Ｈ−ＮＭＲは下記表３の通りであった。
【００９２】
【表３】
2007182568.tif 000027
【００９３】
１−４．臭素化
前記１−３．で得られた１０−（４−ブチルフェニル）−１０，１０ａ−ジヒドロアクリジン−９（８ａＨ）−オン９．８ｇ（０．０３１４ｍｏｌ）、および塩化メチレン（ＭＣ）１００ｍｌを、２５０ｍｌの１口の丸底フラスコに入れて攪拌した。Ｎ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）１１．２ｇ（０．０６２８ｍｏｌ）を徐々に添加した後に常温で２４時間攪拌して反応させた。薄層クロマトグラフィで反応を確認した後、溶媒を一部濃縮しメチルアルコール１５０ｍｌを入れて懸濁攪拌した。生成した固体をろ過して、真空乾燥させて、生成物である２，７−ジブロモ−１０−（４−ブチルフェニル）−１０，１０ａ−ジヒドロアクリジン−９（８ａＨ）−オン１０．３９ｇを得た（収率：６８．３％、黄色結晶）得られた生成物の１Ｈ−ＮＭＲは下記表４の通りであった。
【００９４】
【表４】
2007182568.tif 000028
【００９５】
１−５．モノマーの合成
１−５−１．化合物１の合成
１Ｌの２口の丸底フラスコを真空乾燥後に窒素雰囲気にした後、ＴｉＣｌ３懸濁液４ｇ（２０．１ｍｍｏｌ）とＬｉＡｌＨ４  ３８３ｍｇ（１０．１ｍｍｏｌ）とを入れて１０分間攪拌した。その後、トリエチルアミン（Ｅｔ３Ｎ）０．７４ｍｌ（１０．１ｍｍｏｌ）を入れて１時間攪拌した後、２，７−ジブロモ−１０−（４−ブチルフェニル）−１０，１０ａ−ジヒドロアクリジン−９（８ａＨ）−オン０．１ｇ（２．０５ｍｍｏｌ）と２−アダマンタン３０８ｍｇ（２．０５ｍｍｏｌ）とをＴＨＦ１５ｍｌに加えて１５時間還流させた。その後、反応液を水で希釈し酢酸エチルで抽出した後、シリカゲルカラムで分離し、前記反応式（１）に示す化合物１を得た（生成物の収率：４５％、薄黄色粉末）。得られた化合物１の１Ｈ−ＮＭＲは下記表５の通りであった。
【００９６】
【表５】
2007182568.tif 000029
【００９７】
１−５−２．化合物２の合成
１Ｌの２口の丸底フラスコを真空乾燥後に窒素雰囲気にした後、ＴｉＣｌ３懸濁液４ｇ（２０．１ｍｍｏｌ）とＬｉＡｌＨ４  ３８３ｍｇ（１０．１ｍｍｏｌ）とを入れて１０分間攪拌した。その後、トリエチルアミン（Ｅｔ３Ｎ）０．７４ｍｌ（１０．１ｍｍｏｌ）を入れて１時間攪拌した後、２，７−ジブロモ−１０−（４−ブチルフェニル）−１０，１０ａ−ジヒドロアクリジン−９（８ａＨ）−オン０．１ｇ（２．０５ｍｍｏｌ）とシクロヘキサノン２０１ｍｇ（２．０５ｍｍｏｌ）とをＴＨＦ１５ｍｌに加えて１５時間還流させた。その後、反応液を水で希釈し酢酸エチルで抽出した後、シリカゲルカラムで分離し、前記反応式（１）に示す化合物２を得た（生成物の収率：４０％、薄黄色粉末）。得られた化合物２の１Ｈ−ＮＭＲは下記表６の通りであった。
【００９８】
【表６】
2007182568.tif 000030
【００９９】
１−５−３．化合物３の合成
１Ｌの２口の丸底フラスコを真空乾燥後に窒素雰囲気にした後、ＴｉＣｌ３懸濁液４ｇ（２０．１ｍｍｏｌ）とＬｉＡｌＨ４  ３８３ｍｇ（１０．１ｍｍｏｌ）とを入れて１０分間攪拌した。その後、トリエチルアミン（Ｅｔ３Ｎ）０．７４ｍｌ（１０．１ｍｍｏｌ）を入れて１時間攪拌した後、２，７−ジブロモ−１０−（４−ブチルフェニル）−１０，１０ａ−ジヒドロアクリジン−９（８ａＨ）−オン０．１ｇ（２．０５ｍｍｏｌ）とベンズアルデヒド２１０ｍｇ（２．０５ｍｍｏｌ）とをＴＨＦ１５ｍｌに加えて１５時間還流させた。その後、反応液を水で希釈し酢酸エチルで抽出した後、シリカゲルカラムで分離し、前記反応式（１）に示す化合物３を得た（生成物の収率：５０％、薄黄色粉末）。得られた化合物３の１Ｈ−ＮＭＲは下記表７の通りであった。
【０１００】
【表７】
2007182568.tif 000031
【０１０１】
１−６．青色発光高分子の合成
１−６−１．青色発光高分子１の合成（実施例１−ａ）
【０１０２】
【化２４】
2007182568.tif 000032
【０１０３】
シュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返して、シュレンクフラスコ内部の水分を完全に除去した後、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）（以下Ｎｉ（ＣＯＤ）２と表す）８８０ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）と、２，２−ビピリジン（ｂｐｙ）５００ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）とをグローブボックス中に投入し、再びシュレンクフラスコの内部を真空化し窒素を流す操作を数回繰り返した。次いで、窒素雰囲気下で、無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０ｍｌ、１，５−シクロオクタジエン（ＣＯＤ）３４６ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）、および無水トルエン１０ｍｌを添加した。８０℃で３０分間攪拌した後、２，７−ジブロモ−２’，３’，６’，７’−テトラオクチルオキシスピロフルオレン１．０５ｇ（１．４４ｍｍｏｌ）、および前記１−５−１．で得られた化合物１  １９６．５ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を、トルエン１０ｍｌで希釈して添加した。
【０１０４】
次いで、シュレンクフラスコの内壁についている物質を洗いながらトルエン１０ｍｌを添加した後、８０℃で４日間攪拌した。攪拌が終了した後、反応液の温度を６０℃まで下げ、ＨＣｌ水溶液：アセトン：メタノール＝１：１：２(体積比)の混合溶液に反応液を注いで沈殿を形成させた。沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで再び沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を行って、前記反応式（２）中に示す青色発光高分子１を４５０ｍｇ得た。
【０１０５】
１−６−２．青色発光高分子２の合成（実施例１−ｂ）
【０１０６】
【化２５】
2007182568.tif 000033
【０１０７】
シュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返して、シュレンクフラスコ内部の水分を完全に除去した後、Ｎｉ（ＣＯＤ）２  ８８０ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）と２，２−ビピリジン５００ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）とをグローブボックス中に投入し、再びシュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返した。次いで、窒素雰囲気下で、無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０ｍｌ、１，５−シクロオクタジエン（ＣＯＤ）３４６ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）、および無水トルエン１０ｍｌを添加した。８０℃で３０分間攪拌した後、２，７−ジブロモ−２’，３’，６’，７’−テトラオクチルオキシスピロフルオレン１．０５ｇ（１．４４ｍｍｏｌ）、および前記１−５−２．で得られた化合物２  ２９０ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）をトルエン１０ｍｌで希釈して添加した。
【０１０８】
次いで、シュレンクフラスコの内壁についている物質を洗いながらトルエン１０ｍｌを添加した後、８０℃で４日間攪拌した。攪拌が終了後、反応液の温度を６０℃まで下げ、ＨＣｌ水溶液：アセトン：メタノール＝１：１：２（体積比）の混合溶液に反応液を注いで沈殿を形成させた。沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで再び沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を行って、前記反応式（３）中に示す青色発光高分子２を４８０ｍｇ得た。
【０１０９】
１−６−３．青色発光高分子３の合成（実施例１−ｃ）
【０１１０】
【化２６】
2007182568.tif 000034
【０１１１】
シュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返して、シュレンクフラスコ内部の水分を完全に除去した後、Ｎｉ（ＣＯＤ）２  ８８０ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）と２，２’−ビピリジン（ｂｐｙ）５００ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）とをグローブボックス中に投入し、再びシュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返した。次いで、窒素雰囲気下で、無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０ｍｌ、１，５−シクロオクタジエン（ＣＯＤ）３４６ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）、および無水トルエン１０ｍｌを添加した。８０℃で３０分間攪拌した後、２，７−ジブロモ−２’，３’，６’，７’−テトラオクチルオキシスピロフルオレン１．０５ｇ（１．４４ｍｍｏｌ）、および前記１−５−３．で得られた化合物３  ３９７ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）をトルエン１０ｍｌで希釈して添加した。
【０１１２】
次いで、シュレンクフラスコの内壁についている物質を洗いながらトルエン１０ｍｌを添加した後、８０℃で４日間攪拌した。攪拌が終了後、反応液の温度を６０℃まで下げ、ＨＣｌ水溶液：アセトン：メタノール＝１：１：２（体積比）の混合溶液に反応液を注いで沈殿を形成させた。沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで再び沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を行って、前記反応式（４）中に示す青色発光高分子３を４７０ｍｇ得た。
【０１１３】
（実施例２）本発明の青色発光高分子４の作製
【０１１４】
【化２７】
2007182568.tif 000035
【０１１５】
シュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返して、シュレンクフラスコ内部の水分を完全に除去した後、Ｎｉ（ＣＯＤ）２  ８８０ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）と、２，２’−ビピリジン（ｂｐｙ）５００ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）とをグローブボックス中に投入し、再びシュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返した。次いで、窒素雰囲気下で、無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０ｍｌ、１，５−シクロオクタジエン（ＣＯＤ）３４６ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）、および無水トルエン１０ｍｌを添加した。８０℃で３０分間攪拌した後、２，７−ジブロモ−３’，７’−ジオクチルオキシビフェニルフルオレン１．０５ｇ（１．４４ｍｍｏｌ）および前記１−５−１．で得られた化合物１  １９７ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）をトルエン１０ｍｌに希釈して添加した。
【０１１６】
次いで、シュレンクフラスコの内壁についている物質を洗いながらトルエン１０ｍｌを添加した後、８０℃で４日間攪拌した。攪拌終了後、反応液の温度を６０℃まで下げ、ＨＣｌ水溶液：アセトン：メタノール＝１：１：２（体積比）の混合溶液に反応液を注いで沈殿を形成させた。沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで再び沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を行って、前記反応式（５）中に示す青色発光高分子４を３００ｍｇ得た。
【０１１７】
（比較例１）従来の有機ＥＬ素子に用いられている高分子の作製
下記反応式（６）で表される反応によって、従来の有機ＥＬ素子に用いられている高分子５を作製した。
【０１１８】
【化２８】
2007182568.tif 000036
【０１１９】
シュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返して、シュレンクフラスコ内部の水分を完全に除去した後、Ｎｉ（ＣＯＤ）２  ８８０ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）と、２，２’−ビピリジン（ｂｐｙ）５００ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）とをグローブボックス中に投入し、再びシュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返した。次いで、窒素雰囲気下で無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０ｍｌ、１，５−シクロオクタジエン（ＣＯＤ）３４６ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）、および無水トルエン１０ｍｌを添加した。８０℃で３０分間攪拌した後、２，７−ジブロモ−２’，３’，６’，７’−テトラオクチルオキシスピロフルオレン１．０５ｇ（１．４４ｍｍｏｌ）および前記反応式（６）中に示す化合物４  ８０ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）をトルエン１０ｍｌに希釈して添加した。
【０１２０】
次いで、シュレンクフラスコの内壁についている物質を洗いながらトルエン１０ｍｌを添加した後、８０℃で４日間攪拌した。攪拌終了後、反応液の温度を６０℃まで下げ、ＨＣｌ水溶液：アセトン：メタノール＝１：１：２（体積比）の混合溶液に反応液を注いで沈殿を形成させた。沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで再び沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を行って、前記反応式（６）中に示す高分子５を３９０ｍｇ得た。
【０１２１】
（比較例２）従来の有機ＥＬ素子に用いられている高分子の作製
下記反応式（７）で表される反応によって、従来の有機ＥＬ素子に用いられている高分子６を作製した。
【０１２２】
【化２９】
2007182568.tif 000037
【０１２３】
シュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返して、シュレンクフラスコ内部の水分を完全に除去した後、Ｎｉ（ＣＯＤ）２  ８８０ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）と２，２’−ビピリジン（ｂｐｙ）５００ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）とをグローブボックス中に投入した後、再びシュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返した。次いで、窒素雰囲気下で無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０ｍｌ、１，５−シクロオクタジエン（ＣＯＤ）３４６ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）、および無水トルエン１０ｍｌを添加した。８０℃で３０分間攪拌した後、２，７−ジブロモ−２’，３’，６’，７’−テトラオクチルオキシスピロフルオレン１．０５ｇ（１．４４ｍｍｏｌ）、および前記反応式（７）中に示す化合物５  １２４ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）をトルエン１０ｍｌに希釈して添加した。
【０１２４】
次いで、シュレンクフラスコの内壁についている物質を洗いながらトルエン１０ｍｌを添加した後、８０℃で４日間攪拌した。攪拌終了後、反応液の温度を６０℃まで下げ、ＨＣｌ水溶液：アセトン：メタノール＝１：１：２（体積比）の混合溶液に反応液を注いで沈殿を形成させた。沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで再び沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を行って、前記反応式（７）中に示す高分子６を５２０ｍｇ得た。
【０１２５】
（比較例３）従来の有機ＥＬ素子に用いられている高分子の作製
下記反応式（８）で表される反応によって、従来の有機ＥＬ素子に用いられている高分子７を作製した。
【０１２６】
【化３０】
2007182568.tif 000038
【０１２７】
シュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返して、シュレンクフラスコ内部の水分を完全に除去した後、Ｎｉ（ＣＯＤ）２  ８８０ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）と２，２’−ビピリジン（ｂｐｙ）５００ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）とをグローブボックス中に投入した後、再びシュレンクフラスコの内部を真空化し、窒素を流す操作を数回繰り返した。次いで、窒素雰囲気下で無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１０ｍｌ、１，５−シクロオクタジエン（ＣＯＤ）３４６ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）、および無水トルエン１０ｍｌを添加した。８０℃で３０分間攪拌した後、２，７−ジブロモ−２’，３’，６’，７’−テトラオクチルオキシスピロフルオレン１．０５ｇ（１．４４ｍｍｏｌ）、および前記反応式（８）中に示す化合物６  ９６ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）をトルエン１０ｍｌに希釈して添加した。
【０１２８】
次いで、シュレンクフラスコの内壁についている物質を洗いながらトルエン１０ｍｌを添加した後、８０℃で４日間攪拌した。攪拌終了後、反応液の温度を６０℃まで下げ、ＨＣｌ水溶液：アセトン：メタノール＝１：１：２（体積比）の混合溶液に反応液を注いで沈殿を形成させた。沈殿物をクロロホルムに溶解させた後、メタノールで再び沈殿を形成させ、ソックスレー抽出を行って、前記反応式（８）中に示す高分子７を４００ｍｇ得た。
【０１２９】
図２は、前記実施例１−ａで作製した本発明による青色発光高分子１の光化学的安定性を示すグラフであり、図３は、前記実施例２で作製した本発明による青色発光高分子４の光化学的安定性を示すグラフであり、それぞれ、経過時間に対する発光スペクトルの変化を示したグラフである。
【０１３０】
図２および図３からわかるように、本発明による青色発光高分子１および４は、発光スペクトルの経過時間による変化がほとんどなく、寿命特性に優れていることがわかる。
【０１３１】
（実施例３）本発明の有機ＥＬ素子の作製
前記実施例１−ａによって作製した青色発光高分子１を用いて、次のように有機ＥＬ素子を作製した。
【０１３２】
まず、ＩＴＯをガラス基板上にコーティングした透明電極基板を洗浄した後、ＩＴＯを感光性樹脂およびエッチング液を用いて所望の形態にパターニングし、再び洗浄した。その上に、正孔注入層としてＰＥＤＯＴを約５０ｎｍの厚さにコーティングした後、１１０℃で約１時間ベークした。次いで、ｍ−キシレン９９．２質量％に、実施例１−ａによって作製した青色発光高分子１  ０．８質量％を溶解させて調製した発光層形成用の組成物を、前記正孔注入層上にスピンコートし、ベーク後真空オーブン内で溶媒を完全に除去して高分子薄膜を形成させた。この際、前記発光層形成用の組成物はスピンコートを行う前に、０．４５μｍフィルターでろ過され、高分子薄膜（発光層）の厚さは、前記発光層形成用の組成物の濃度およびスピン速度を調節することによって、約８０ｎｍになるように調節した。
【０１３３】
次いで、前記高分子薄膜（発光層）上に、真空蒸着機を用いて真空度を５．３３×１０−４Ｐａ（４×１０−６Ｔｏｒｒ）以下に維持しながら、２．７ｎｍの厚さを有するＣａ層およびＡｌ層を順次に蒸着させた。蒸着時の膜厚および膜の成長速度は、クリスタルセンサーを用いて調節した。
【０１３４】
（実施例４）本発明の有機ＥＬ素子の作製
ＰＥＤＯＴ層上に中間層としてＰＦＢ（フルオレンとフェニレンジアミンとの共重合体）層を１０ｎｍの厚さで積層し、その上に青色発光高分子１を含む発光層形成用の組成物をスピンコートし、発光層を形成させたこと以外は、実施例３と同様の方法によって有機ＥＬ素子を作製した。
【０１３５】
（実施例５）本発明の有機ＥＬ素子の作製
青色発光高分子１の代わりに、実施例２によって作製した青色発光高分子４を用いたということ以外は、実施例３と同様の方法によって有機ＥＬ素子を作製した。
【０１３６】
（実施例６）本発明による有機ＥＬ素子の作製
ＰＥＤＯＴ層上に中間層としてＨ５（スピロビフルオレンとフェノキサジンとの共重合体）層を１０ｎｍの厚さで積層し、その上に青色発光高分子２を含む発光層形成用の組成物をスピンコートし、発光層を形成させたこと以外は、実施例５と同様の方法によって有機ＥＬ素子を作製した。
【０１３７】
（実施例７）本発明の有機ＥＬ素子の作製
ＰＥＤＯＴ層上に中間層としてＢＦＥ（ダウケミカル社製）層を１０ｎｍの厚さで積層し、その上に青色発光高分子２を含む発光層形成用の組成物をスピンコートし、発光層を形成させたこと以外は、実施例５と同様の方法によって有機ＥＬ素子を作製した。
【０１３８】
（比較例４）従来技術の有機ＥＬ素子の作製
青色発光高分子１の代わりに、比較例１で作製した高分子５を用いた以外は、実施例３と同じ方法によって有機ＥＬ素子を作製した。
【０１３９】
（比較例５）従来技術の有機ＥＬ素子の作製
青色発光高分子１の代りに、比較例２で作製した高分子６を用いた以外は、実施例３と同様の方法によって有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４０】
（比較例６）従来技術の有機ＥＬ素子の作製
青色発光高分子１の代りに、比較例２で作製した高分子６を用いた以外は、実施例４と同様の方法によって有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４１】
（比較例７）従来技術の有機ＥＬ素子の作製
青色発光高分子１の代りに、比較例３で作製した高分子７を用いた以外は、実施例３と同様の方法によって有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４２】
（比較例８）従来技術の有機ＥＬ素子の作製
青色発光高分子１の代りに、比較例３で作製した高分子７を用いた以外は、実施例４と同様の方法によって有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４３】
実施例３〜７および比較例４〜８で得られた有機ＥＬ素子の素子特性および寿命特性の測定結果を、下記表８に示す。
【０１４４】
【表８】
2007182568.tif 000039
【０１４５】
評価時、直流で順方向バイアス電圧が評価に用いられ、それぞれの有機ＥＬ素子は、いずれも典型的な整流ダイオードの特性を示した。特に、実施例１−ａおよび２で作製した青色発光高分子１および４を含む有機ＥＬ素子（実施例３〜７の有機ＥＬ素子）は、優れた色純度および色安定性を示し、発光効率および輝度が優れていることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【０１４６】
本発明は、有機ＥＬ素子関連の技術分野に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０１４７】
【図１Ａ】本発明の好ましい実施形態による有機ＥＬ素子の積層構造を示す断面概略図である。
【図１Ｂ】本発明の好ましい実施形態による有機ＥＬ素子の積層構造を示す断面概略図である。
【図１Ｃ】本発明の好ましい実施形態による有機ＥＬ素子の積層構造を示す断面概略図である。
【図１Ｄ】本発明の好ましい実施形態による有機ＥＬ素子の積層構造を示す断面概略図である。
【図１Ｅ】本発明の好ましい実施形態による有機ＥＬ素子の積層構造を示す断面概略図である。
【図１Ｆ】本発明の好ましい実施形態による有機ＥＬ素子の積層構造を示す断面概略図である。
【図２】本発明の一実施形態による青色発光高分子の発光スペクトルを示すグラフである。
【図３】本発明の一実施形態による青色発光高分子の発光スペクトルを示すグラフである。
【符号の説明】
【０１４８】
１０    第１電極、
１１    正孔注入層、
１２    発光層、
１３    正孔ブロッキング層、
１４    第２電極、
１５    電子輸送層、
１６    正孔輸送層。
【図１Ａ】
2007182568.tif 000060
【図１Ｂ】
2007182568.tif 000061
【図１Ｃ】
2007182568.tif 000062
【図１Ｄ】
2007182568.tif 000063
【図１Ｅ】
2007182568.tif 000064
【図１Ｆ】
2007182568.tif 000065
【図２】
2007182568.tif 000066
【図３】
2007182568.tif 000067