(57)【要約】【課題】ＰＤＰにおいて、駆動回路で調整しなくても、各色の発光量バランスをとることによって、白色表示時において高い色温度が得られるようにする。【解決手段】  図７（ａ）では、誘電体層１０６に形成している溝６０１ａ，６０１ｂの溝幅は、赤色の放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル２０２Ｇ、青色の放電セル２０２Ｂの順に大きくなるように設定されている。図７（ｂ）では、島状の凹部６０２ａ，６０２ｂの面積が、赤色の放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル２０２Ｇ、青色の放電セル２０２Ｂの順に大きくなるように設定されている。【選択図】図７
2007123292.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板及び第２基板が間隔をおいて並設され、前記第１基板の対向面上に、対を成す第１表示電極及び第２表示電極と、当該第１表示電極及び第２表示電極を覆う誘電体層とが形成され、前記第２基板の対向面上に蛍光体層が形成され、対を成す第１表示電極及び第２表示電極に沿って、複数の放電セルが形成されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記誘電体層の表面には、前記各放電セル内に、第１凹部と第２凹部を含む２個以上の凹部が形成され、
前記放電セルには、複数色から選択された色の蛍光体層が形成されており、
前記第１凹部及び第２凹部は、対応する放電セル内の蛍光体層の色ごとに形状が異なっていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記放電セルには、ＲＧＢから選択された色の蛍光体層が形成されており、
放電セル内に形成されている第１凹部及び第２凹部の面積は、当該放電セル内に形成されている蛍光体層の色がＲＧＢの順に大きくなっていることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記放電セルには、ＲＧＢから選択された色の蛍光体層が形成されており、各放電セル内における第１凹部と第２凹部との間隔は、当該放電セルに形成されている蛍光体層の色がＲＧＢの順に大きくなっていることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示デバイスなどに用いるプラズマディスプレイパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年双方向情報端末として大画面、壁掛けテレビへの期待が高まっている。そのため、液晶ＴＶ、フィールドエミッションディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ等に代表されるディスプレイパネルが数多くあり、一部は市販され、一部は開発中である。
これらの中でもプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、自発光型で美しい画像表示ができ且つ大画面化が容易であるといった、他のデバイスにはない特徴を持っている。
【０００３】
一般的に、ＰＤＰは、各色放電セルがマトリックス状に配列された構成であって、交流面放電型ＰＤＰでは、フロントガラス基板とバックガラス基板とが、隔壁を介して平行に配され、フロントガラス基板上には表示電極対（走査電極と維持電極）が平行に配設され、その上を覆って誘電体ガラス層が形成され、バックガラス基板上には走査電極と直交してアドレス電極が配され、両プレート間における隔壁で仕切られた空間内には、赤，緑，青の蛍光体層が配設され、放電ガスが封入されることによって各色放電セルが形成されたパネル構造となっている。
【０００４】
そして、ＰＤＰを駆動する際には、駆動回路で各電極に電圧を印加する。これによって、各放電セル内で放電すると、紫外線が放出され、蛍光体層の蛍光体粒子（赤，緑，青）がこの紫外線を受けて励起発光することによって画像が表示される。
このようなＰＤＰにおいて、良好な画質を得るために、白色表示したときに高い色温度が得られるように、各色セルの発光量を調整する必要がある。一般的に、青色蛍光体は、他の２色に比べての発光強度が弱いため、従来のＰＤＰでは、青色セルにおける放電量が他の色のセルよりも大きくなるように駆動回路で調整することによって、各色の発光量バランスをとっている。
【特許文献１】特開２０００−３１５４５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、ＰＤＰにおいては、消費電力を低くすると共に、高輝度で画像表示できるようにすることが望まれている。
ＰＤＰを高輝度で発光させるには、誘電体層の膜厚を薄く設定することによって、放電強度を増加させることも有効と考えられる。しかし、単に誘電体層を薄くするだけでは発光効率は向上ぜず、むしろ、蛍光体層の発光効率は低くなる傾向もある。
【０００６】
本発明は、ＰＤＰにおいて、発光輝度と発光効率とを向上させることを第１の目的とする。
また、ＰＤＰにおいて、駆動回路で調整しなくても、各色の発光量バランスをとることによって、白色表示時において高い色温度が得られるようにすることを第２の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記第１の目的を達成するために、第１基板及び第２基板が間隔をおいて並設され、第１基板の対向面上に、対を成す表示電極と、当該表示を覆う誘電体層とが形成され、第２基板の対向面上に蛍光体層が形成され、対を成す表示電極に沿って、複数の放電セルが形成されたＰＤＰにおいて、誘電体層の表面に、各放電セル内に、２個以上の凹部を形成することとした。ここで、「誘電体層の表面」とは、誘電体層における第２基板側の表面、すなわち放電空間に臨む側の表面である。
【０００８】
従来のＰＤＰにおいては、表示電極対の放電ギャップ近傍に強い放電が集中しやすいため、放電ギャップ近傍において蛍光体の輝度飽和が発生しやすいが、この輝度飽和は、発光効率を低下させる要因である。
これに対して、上記本発明の構成によれば、誘電体層の容量は各凹部において局所的に大きくなるので、表示電極に電圧を印加したときに、各凹部には比較的大きな電荷が形成される。従って、放電開始電圧が低くなる。それと共に、各凹部を起点として放電が発生するので、放電ギャップ近傍だけでなく周辺にも強い放電が広がり、それによって、蛍光体の輝度飽和は抑制される。
【０００９】
このように、放電開始電圧が低下するだけでなく、放電領域内における放電の起点が分散されるので、発光輝度と発光効率を向上させることが可能となる。
誘電体層の表面に凹部を形成する際に、以下のような形態をとることが好ましい。
誘電体層の表面をテクスチャー構造とする。
また、各放電セル内において、第１凹部と第２凹部とを、放電セルの中央部を挟んで第１表示電極側と第２表示電極側とに分散して配置する。
【００１０】
ここで、誘電体層の表面に、表示電極が伸長する方向に沿って、複数の放電セルにまたがる第１溝及び第２溝を形成し、第１溝及び第２溝の一部が第１凹部及び第２凹部となるようにする。そして、第１溝及び第２溝を、各々波状またはギザ状に形成する。
あるいは、第１凹部及び第２凹部を、各放電セル内で島状に形成する。ここで、第１凹部及び第２凹部を、Ｕ字形またはＶ字形とし、端部もしくは頂部どうしが互いに向かい合うよう配置する。
【００１１】
第１凹部と第２凹部の間隔については、第１表示電極及び第２表示電極が伸長する方向に対して、各放電セルの中央部と比べて周辺部の方が大きくなるように設定する。
各放電セル内で、第１凹部と第２凹部とを、放電セルの中央部を挟んで、前記第１表示電極及び第２表示電極が伸長する方向に分散して配置する。
ここで、誘電体層の表面に、第１表示電極及び第２表示電極が伸長する方向に対して直交する方向に沿って、複数の放電セルにまたがる第１溝及び第２溝を形成し、第１溝及び第２溝の一部が、第１凹部及び第２凹部となるようにする。
【００１２】
あるいは、第１凹部及び第２凹部を、各放電セル内で、島状に形成する。
第１凹部及び第２凹部の少なくとも一方について、その内部において深さが互いに異なる領域を有するようにする。
上記構成のＰＤＰにおいて、放電セル内の蛍光体層の色ごとに凹部の形状を異ならせることによって、第２の目的も達成することができる。
【００１３】
具体的には、以下のような形態をとることが好ましい。
放電セル内に形成されている凹部の面積を、その放電セル内に形成されている蛍光体層の色がＲＧＢの順に大きくなるよう設定する。
各放電セル内における第１凹部と第２凹部の間隔を、その放電セルに形成されている蛍光体層の色がＲＧＢの順に大きくなるよう設定する。
【００１４】
上記第１の目的は、前面基板及び背面基板が間隔をおいて並設され、前面基板の対向面上に、表示電極対と、当該表示電極対を覆う誘電体層とが形成され、示電極対に沿って複数の放電セルが形成され、各放電セルの前面基板側に、当該放電セルで発する可視光を透過しやすい透過領域と当該可視光を透過しにくい遮蔽領域とを有するＰＤＰにおいて、誘電体層の厚みを、放電セルにおいて発生し遮蔽領域に向かう光束を透過領域に屈折させるように、領域ごとに異ならせることによっても達成できる。
【００１５】
具体的には、誘電体層を、放電セルにおいて発生する光を前記光遮蔽領域から光透過領域に集光させるレンズ状に形成することが好ましい。
本発明では、上記のように誘電体層の表面に凹部が形成されたＰＤＰを製造する際に、少ない工程数で、歩留まりをよくすることによって低コスト化を実現することを第３の目的とする。
【００１６】
そのため  複数対の表示電極が配された第１基板上に、表示電極を覆って誘電体層を形成する工程において、支持フイルム上に誘電体前駆体層を成形して転写フイルムを作製する転写フィルム作製ステップと、転写フィルムの誘電体前駆体層に凹部を形成する凹部形成ステップと、凹部形成ステップの後に、転写フィルムの誘電体前駆体層を第１基板上に転写する転写ステップとを設けることとした。
【００１７】
あるいは、支持フイルム上に誘電体前駆体層を成形して転写フイルムを作製する転写フィルム作製ステップと、転写フィルムの誘電体前駆体層を第１基板上に転写する転写ステップと、第１基板上に転写された誘電体前駆体層に凹部を形成する凹部形成ステップとを設けることとした。
ここで、「誘電体前駆体層に凹部を形成する」というのは、誘電体前駆体層の膜厚を部分ごとに変化させるという意味である。
【００１８】
上記凹部形成ステップでは、転写フィルムの表面に、凸形状を有する基体を押し付けることによって凹部を形成することが好ましい。
前記基体は、平板状でもローラー状でもよいが、ローラ状の方が、連続的に凹部を形成しやすく、誘電体前駆体層が偏肉していても、均一的な深さで凹部を形成できる点などで好ましい。
【００１９】
上記第３の目的は、ＰＤＰの誘電体層を形成するのに用いられ、ガラス粉末及び樹脂を含む誘電体前駆体から成る誘電体前駆体層が支持フィルム上に形成された転写フィルムにおいて、誘電体前駆体層に、各放電セルに相当する位置に合わせて凹部を形成しておくことによっても達成できる。
上記転写フィルムは、ガラス粉末及び樹脂を含む誘電体組成物から成る誘電体前駆体層を支持フィルム上に形成する誘電体前駆体層形成ステップと、誘電体前駆体層に凹部を形成する凹部形成ステップとを備えた製造方法によって製造することができる。
【００２０】
上記ＰＤＰの製造方法において、誘電体層を形成するための誘電体前駆体層を有する転写フィルムを基板上にラミネートするラミネート装置であって、転写フィルムの表面に凹部を形成するための突起を有するローラーが備え付けられているものを用いれば、誘電体前駆体層に容易に凹部を形成できる。
また、ＰＤＰの誘電体層を形成するための誘電体前駆体層を支持フイルム上に形成する転写フィルム作成装置において、膜形成材料層の表面に凹部を形成するための突起を有するローラーが備え付けられているものを用いることによっても、誘電体前駆体層に容易に凹部を形成できる。
【００２１】
あるいは、プラズディスプレイパネルの誘電体層を形成するのに用いられ、ガラス粉末及び樹脂を含む誘電体前駆体から成る誘電体前駆体層上を覆うフィルムを取り除く装置において、誘電体前駆体層の表面に凹部を作成するための突起を有するローラーを設けることによっても、誘電体前駆体層に容易に凹部を形成できる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、第１基板及び第２基板が間隔をおいて並設され、第１基板の対向面上に、対を成す表示電極と、当該表示を覆う誘電体層とが形成され、第２基板の対向面上に蛍光体層が形成され、対を成す表示電極に沿って、複数の放電セルが形成されたＰＤＰにおいて、誘電体層の表面に、各放電セル内に、２個以上の凹部を形成することによって、発光輝度と発光効率を向上させる。
【００２３】
また、上記構成のＰＤＰにおいて、放電セル内の蛍光体層の色ごとに凹部の形状を異ならせることによって、駆動回路で調整しなくても、各色の発光量バランスをとることによって、白色表示時において高い色温度が得られる。
また、本発明では、前面基板及び背面基板が間隔をおいて並設され、前面基板の対向面上に、表示電極対と、当該表示電極対を覆う誘電体層とが形成され、示電極対に沿って複数の放電セルが形成され、各放電セルの前面基板側に、当該放電セルで発する可視光を透過しやすい透過領域と当該可視光を透過しにくい遮蔽領域とを有するＰＤＰにおいて、誘電体層の厚みを、放電セルにおいて発生し遮蔽領域に向かう光束を透過領域に屈折させるように、領域ごとに異ならせることによっても、発光輝度と発光効率を向上させることを可能とする。
【００２４】
また、本発明では、誘電体層の表面に凹部が形成されたＰＤＰを製造する際に、複数対の表示電極が配された第１基板上に、表示電極を覆って誘電体層を形成する工程において、支持フイルム上に誘電体前駆体層を成形して転写フイルムを作製し、転写フィルムの誘電体前駆体層に凹部を形成し、その後に、転写フィルムの誘電体前駆体層を第１基板上に転写する。あるいは、支持フイルム上に誘電体前駆体層を成形して転写フイルムを作製し、転写フィルムの誘電体前駆体層を第１基板上に転写し、第１基板上に転写された誘電体前駆体層に凹部を形成する。
【００２５】
それによって、少ない工程数で、歩留まりを良くし、低コスト化を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明に係る実施の形態について図面を参照しながら説明する。以下に示す実施の形態および図面は、例示を目的とし、本願発明はこれらに限定されるものではない。
図１は、実施の形態に係るＡＣ面放電型ＰＤＰを示す要部斜視図である。
このＰＤＰは、前面パネル１０１と背面パネル１１１とが、互いに平行に間隔をおいて配されて構成されている。
【００２７】
前面パネル１０１は、前面ガラス基板１０２の対向面上に、表示電極対（第１表示電極１０３ａ，第２表示電極１０３ｂ）、誘電体層１０６、保護層１０７が順に配されてなる。一方、背面パネル１１１は、背面ガラス基板１１２の対向面上に第２電極としてのアドレス電極１１３、誘電体層１１４、隔壁１１５が順に配され、隔壁１１５どうしの間に蛍光体層１１６が配設されている。なお、蛍光体層１１６は、赤，緑，青の順で繰返し並べられている。
【００２８】
前面パネル１０１と背面パネル１１１とは、周辺シール材（図示略）によって貼り合わせられ、両パネル板の間隙は、ストライプ状の隔壁１１５で仕切られることによって放電空間が形成され、当該放電空間内には放電ガスが封入されている。
図２は、表示電極対１０３ａ，１０３ｂと、アドレス電極１１３及び隔壁１１５が配置されている状態を示している。
【００２９】
上記表示電極対１０３ａ，１０３ｂはマトリクス表示の行方向に沿ってストライプ状に配されている。なお、図中のラインＡは、表示電極対１０３ａ，１０３ｂどうしの間隙（放電ギャップ）２０１の中央ラインを表している。
隔壁１１５とアドレス電極１１３は、列方向に沿って、ストライプ状に配されている。
そして、表示電極対１０３ａ，１０３ｂとアドレス電極１１３とが交差するところに、赤，緑，青の各色を発光する放電セル（単位発光領域）２０２が形成されたパネル構成となっている。
【００３０】
表示電極１０３ａ，１０３ｂの各々は、抵抗の低い金属（例えばＣｒ／Ｃｕ／ＣｒまたはＡｇなど）だけで形成することもできるが、図２に示すように、ＩＴＯ，ＳｎＯ2，ＺｎＯ等の導電性金属酸化物からなる幅広の透明電極１０４の上に、この透明電極１０４よりも十分に幅が狭いバス電極１０５を積層させた電極構成とすることもできる。表示電極１０３に幅広の透明電極１０４を設けると、セル内の放電面積を広く確保する上で好ましいが、精細なセル構造の場合は、表示電極１０３ａ，１０３ｂの幅を小さく、例えば５０μｍ以下に設定する必要があるため、金属電極だけで形成するのが適している。
【００３１】
誘電体層１０６は、前面ガラス基板１０２における表示電極１０３ａ，１０３ｂが配された表面全体を覆って配設された誘電物質からなる層であって、一般的に、鉛系低融点ガラスが用いられているが、ビスマス系低融点ガラス、或は鉛系低融点ガラスとビスマス系低融点ガラスの積層物で形成しても良い。
保護層１０７は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる薄層であって、誘電体層１０６の放電空間に臨む表面全体を覆っている。
【００３２】
一方、背面パネル１１１において、アドレス電極１１３は銀電極膜で形成されている。
誘電体層１１４は、誘電体層１０６と同様のものであるが、可視光を反射する反射層としての働きも兼ねるようにＴｉＯ2粒子が混合されている。
隔壁１１５は、ガラス材料からなり、背面パネル１１１の誘電体層１１４の表面上に突設されている。
【００３３】
蛍光体層１１６を構成する蛍光体材料として、ここでは、
青色蛍光体：ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ
緑色蛍光体：Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ
赤色蛍光体：（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ
を用いることとする。
【００３４】
このＰＤＰの表示電極対１０３ａ，１０３ｂ及びアドレス電極１１３に、駆動回路（不図示）が接続されることによってＰＤＰ表示装置が構成される。そして、当該駆動回路で、表示電極１０３ａとアドレス電極１１３とにアドレス放電パルスを印加することによって、発光させようとするセルに壁電荷を蓄積し、その後、表示電極対１０３ａ，１０３ｂに維持放電パルスを印加することによって壁電荷が蓄積されたセルで維持放電を行うという動作を繰り返すことによって、画像表示を行う。
【００３５】
上記誘電体層１０６は、その膜厚が部分ごとに変化している。
以下、実施の形態１〜３で詳しく説明する。
〔実施の形態１〕
本実施形態では、誘電体層１０６において、各放電セル２０２内に、凹部１０８が複数形成されている。そして、保護層１０７は、誘電体層１０６の表面に沿ってこれを被覆しており、凹部１０８の内面も覆っている。
【００３６】
このように、誘電体層１０６の放電セル内に凹部を形成することにより、誘電体層１０６の容量Ｃは凹部１０８において局所的に大きくなる。すなわち、誘電体層において、凹部は、相対的に膜厚が小さいため、容量が大きくなる。従って、表示電極対１０３ａ，１０３ｂ間に電圧を印加したときに、凹部には比較的大きな電荷が形成される。
このように局所的に大きな電荷が形成されると、表示電極に印加される電圧は比較的低くても、凹部に形成された電荷が大きいので放電が開始される。
【００３７】
更に、本実施形態にかかる誘電体層１０６においては、各放電セルの放電領域内に複数の凹部１０８が形成されているが、これによって、発光効率を向上できる。
すなわち、従来のＰＤＰにおいて、一般的に、放電ギャップの近傍で放電が開始されるので、放電ギャップ近傍に強い放電が集中しやすい。そのため、この放電ギャップ近傍において蛍光体の輝度飽和（励起された蛍光体層が発光し切らないうちに次の放電による紫外線が蛍光体層にあたり、紫外線が有効に利用されていない。）が生じやすく、それが発光効率を低下させる原因となる。
【００３８】
ここで、誘電体層を全体的に薄く形成したり、誘電体層の放電ギャップ近傍を薄く形成した場合、放電開始電圧は低下するものの、強い放電が放電ギャップ付近に集中するのを緩和することはできず、放電強度も増加するので、蛍光体の輝度飽和はより発生しやすくなる。
これに対して、上記誘電体層１０６のように、各放電セルの放電領域内に形成された複数の凹部１０８の各々に、局所的に電荷量が多く形成され、各凹部１０８を起点として放電が発生する。
【００３９】
従って、放電の起点が放電領域内で分散されるので、放電ギャップ２０１近傍に強い放電が集中するのが緩和され、よって蛍光体の輝度飽和が抑制される。
このように、上記誘電体層１０６によれば、放電開始電圧が低下するだけでなく、放電領域内における放電の起点が分散するので、発光輝度及び発光効率を大きく向上させることが可能となる。
【００４０】
ところで、図２に示すように、隔壁１１５は、表示電極対１０３ａ，１０３ｂの伸長方向に対して直交する方向に配置され、放電セル２０２は隔壁１１５の伸長方向に長い形状である。
従って、放電セル２０２内において、複数の凹部（第１凹部１０８ａ，第２凹部１０８ｂ）を、中央ラインＡを挟んで、表示電極１０３ａ側と表示電極１０３ｂ側とに分散して配置すれば、放電セル２０２の長手方向に放電の起点が分散される点で好ましい。
【００４１】
（凹部を形成する形態について）
以下、誘電体層１０６の各放電セル２０２内に、複数の凹部を形成する様々な形態について説明する。
まず、図３に示すように誘電体層１０６の表面をテクスチャー構造（Texturized  surface）とする形態がある。
【００４２】
一般的に「テクスチャー構造」は、ピラミッド状の凹凸を持つ構造のことをいう。例えば、図４に示すように誘電体層１０６の表面は、ピラミッド状の凸部３０２がマトリックス状に配置され、凸部３０２どうしの間に凹部３０１が形成された構造でもよいし、逆にピラミッド状の凹部がマトリックス状に配置され、その凹部どうしの間に凸部が形成された構造でもよいし、両者が混在していてもよい。
【００４３】
なお、凸部や凹部の形状は、必ずしもピラミッド状でなくてもよく、半球状等であってもよい。
また、凸部・凹部の大きさは必ずしも均一でなくてもよく、大きさがばらついていてもよい。
凸部の高さ、あるいは凹部の深さとしては、１μｍ〜３０μｍが望ましく、中で５μｍ〜２０μｍ、更に５μｍ〜１０μｍが望ましい。
【００４４】
なお、図３に示す例では、誘電体層１０６の表面全体にわたる連続した領域にテキスチャ構造が形成されているが、各放電セル内の島状領域にだけテキスチャ構造を形成してもよい。
上記のように誘電体層１０６の表面にテキスチャ構造を形成すると、放電セル２０２内に放電開始点が多数分散して形成されることになる。
【００４５】
従って、放電セル２０２内において、中央部だけでなく周辺部でも分散して開始されると共に、一旦放電が開始されると、凹部を伝ってすばやく放電が広がる。従って、放電セル内の広範囲にわたって強い放電が均一的に分布することになる。
またこれらの効果は、表示電極１０３ａ，１０３ｂと凹部３０１との位置関係が多少ずれたとしても大きく損なわれることはないので、両者の位置合わせを厳密に行わなくてもよく、この点で製造が容易である。
【００４６】
次に、複数の放電セルにまたがって溝を形成し、その溝の一部が凹部になっている形態について説明する。
図５（ａ）〜（ｅ）に、誘電体層１０６に、複数の放電セルにまたがる溝４０１ａ，４０１ｂ〜４０５ａ，４０５ｂが形成されている例を示す。
図５に示す（ａ）〜（ｅ）に示す溝４０１ａ，４０１ｂ〜４０５ａ，４０５ｂは、いずれも表示電極１０３ａ，１０３ｂ（行電極）に沿って伸長している。
【００４７】
そして、溝４０１〜４０５の一部が、各放電セル２０２の凹部１０８に相当することになる。
ただし、図５（ａ）に示す溝４０１ａ，４０１ｂは、表示電極１０３ａ，１０３ｂに平行な直線状である。従って、放電セル２０２における行方向中央部２０２ａでも行方向周辺部２０２ｂでも、溝４０１ａと溝４０１ｂ間の距離は同じである。
【００４８】
これに対して、図５（ｂ）〜（ｄ）に示す溝４０２ａ，４０２ｂ〜４０５ａ，４０５ｂはいずれも蛇行しているが、各々が以下の特徴を備えている。
この中、（ｂ）に示す溝４０２ａ，４０２ｂ及び（ｄ）に示す溝４０４ａ，４０４ｂは、放電セルの行方向中央部２０２ａでは互いに接近し、行方向周辺部２０２ｂでは互いに離れている。
【００４９】
この場合、放電ギャップの行方向中央部２０２ａ近くで、溝どうしが互いに接近しているので、放電の開始は行方向中央部２０２ａに近いところでなされるが、溝に沿って行方向周辺部２０２ｂにも強い放電が広がる。
一方、（ｃ）に示す溝４０３ａ，４０３ｂ及び（ｅ）に示す溝４０５ａ，４０５ｂは、放電セルの行方向中央部２０２ａでは溝どうしが互いに離れ、行方向周辺部２０２ｂでは溝どうしが互いに接近している。
【００５０】
この場合、放電ギャップの行方向中央部２０２ａ近くでは、溝どうしが互いに離れているので、放電が、行方向中央部２０２ａだけでなく行方向周辺部２０２ｂでも分散して開始される。従って、放電セル内の広い範囲にわたって放電の起点が分布することになる。
また、上記の中、（ｂ）に示す溝４０２ａ，４０２ｂ及び（ｃ）に示す溝４０３ａ，４０３ｂは曲線的に変化する波状に形成されているが、（ｄ）に示す溝４０４ａ，４０４ｂ及び（ｅ）に示す溝４０５ａ，４０５ｂはギザ状に形成されている。
【００５１】
なお、図５の（ａ）〜（ｅ）に示した各溝は、中央部と周辺部と溝幅が同等（すなわち溝幅が均一的）であるが、溝幅が中央部と周辺部とで異なっても（すなわち溝幅が不均一であっても）よい。
次に、図６（ａ）〜（ｅ）を参照しながら、第１凹部５０１ａ，第２凹部５０１ｂ〜第１凹部５０５ａ，第２凹部５０５ｂが、放電セル２０２ごとに独立して島状に形成されている形態について説明する。この（ａ）〜（ｅ）では、各々１つの放電セル２０２に相当する部分だけを示している。
【００５２】
図６（ａ）に示す凹部５０１ａ，５０１ｂは、表示電極１０３ａ，１０３ｂに平行な直線状である。従って、上記の第１溝４０１ａ，第２溝４０１ｂと同様に、放電セル２０２における行方向中央部２０２ａでも行方向周辺部２０２ｂでも、凹部５０１ａと凹部５０１ｂ間の距離は同じである。
これに対して、図６（ｂ）〜（ｄ）に示す凹部５０２ａ，５０２ｂ〜５０５ａ，５０５ｂは、Ｕ字形またはＶ字形であって、凹部間の距離が場所によって異なっている。
【００５３】
この中、（ｂ）に示す凹部５０２ａ，５０２ｂ及び（ｄ）に示す凹部５０４ａ，５０４ｂは、Ｕ字形状またはＶ字形状であって谷側を互いに向合わせて（端部どうしを対向させて）、配置されている。
この場合、上記溝４０３ａ，４０３ｂ及び溝４０５ａ，４０５ｂと同様に、放電セルの行方向中央部２０２ａでは互いに離れ、行方向周辺部２０２ｂでは互いに接近しているので、放電が、中央部だけでなく周辺部でも分散して開始される。従って、放電セル内の広い範囲にわたって強い放電が分布することになる。
【００５４】
一方、（ｃ）に示す凹部５０３ａ，５０３ｂ及び（ｅ）に示す凹部５０５ａ，５０５ｂは、Ｕ字形状またはＶ字形状であって、山側（頂部）を互いに向合わせて配置されている。
この場合、上記溝４０２ａ，４０２ｂ及び溝４０４ａ，４０４ｂと同様に、放電セルの行方向中央部２０２ａでは互いに接近し、行方向周辺部２０２ｂでは互いに離れているので、放電の開始は中央部でなされるが、その後、溝に沿って周辺部に強い放電が広がっていく。  
【００５５】
なお、図６では、凹部の形状が直線状，Ｕ字形及びＶ字形である例を示したが、円形、楕円、三角形、菱形、多角形、Ｙ字形、Ｔ字形等の形状とすることもできる。また、第１凹部と第２凹部とは同一形状でなくてもよい。
また、以上の説明では、図２の第１凹部１０８ａ，第２凹部１０８ｂに示されるように、第１表示電極１０３ａ側と第２表示電極１０３ｂ側とに凹部を分散させて配置したが、表示電極１０３ａ，１０３ｂが伸長する方向に分散させて配置してもよい。この場合、放電セル内で放電の起点が放電セル２０２の長手方向と直交する方向に分散されるので、発光輝度及び発光効率の向上効果をある程度奏する。
【００５６】
また、上記図５，図６に示した例では、各放電セル内に形成する凹部の数は２個であるが、３個以上形成しても同様の効果を奏する。
（凹部の深さについての考察）
上記図５，６に示す形態の凹部の深さに関しては、浅すぎると凹部に局所的に電荷を形成する作用が得られず、一方深すぎるとアドレスが難しくなる。その点を考慮して、適当な深さは５μ〜５０μｍであり、中でも１０μｍ〜４０μｍの範囲が好ましく、更に２０μｍ〜３０μｍの範囲が好ましい。
【００５７】
また、放電セル内において各凹部の深さを一様に設定してもよいが、深さを部分的に変えることによって、放電強度を変化させたり、放電の発生形態を制御することができる。
例えば、凹部の中の一部分を局所的に深くすることによって、その部分で放電開始の種火を容易に形成することもできる。
〔実施の形態２〕
本実施の形態では、誘電体層１０６の表面に、ＲＧＢ各色セルごとに異なる形態で凹部を形成している。
【００５８】
図７（ａ）では、誘電体層１０６に、表示電極１０３に平行に溝６０１ａ，６０１ｂを形成しているが、この溝６０１ａ，６０１ｂの溝幅は、赤色の放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル２０２Ｇ、青色の放電セル２０２Ｂの順に大きくなるように設定されている。図７（ｂ）では、島状の凹部６０２ａ，６０２ｂの面積が、赤色の放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル２０２Ｇ、青色の放電セル２０２Ｂの順に大きくなるように設定されている。
【００５９】
いずれも、凹部の面積（体積）が、赤色の放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル２０２Ｇ、青色の放電セル２０２Ｂの順に大きくなるように設定されている。
表示電極１０３ａ，１０３ｂ間に電圧印加したときに各色放電セルで発生する放電の広がりは、凹部の面積（体積）が大きいほど大きくなるので、上記のように凹部の面積（体積）を調整することによって、放電の広がりを赤色の放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル２０２Ｇ、青色の放電セル２０２Ｂの順に大きくすることができる。
【００６０】
ＲＧＢ各色の中、ブルー（Ｂ）は、もっとも短い波長であって、同じ強度でも最もエネルギーが大きい。そのため、ＲＧＢ各色蛍光体に同様の条件で紫外線を照射すると、Ｂ色の蛍光体では、他の色と比べて発光強度が得られない。
これに対して、上記図７（ａ），（ｂ）に示すように、凹部の面積または体積を変化させることによって、各色発光量のバランスを調整することができる。
【００６１】
すなわち、青色セルの発光量が少ないのを補い、それによって白色表示時の色温度も高く調整することができる。
なお、ＲＧＢ各色の発光量バランスをとるために、従来技術として、ＲＧＢのそれぞれの隔壁の間隔（セルピッチ）を変更して色温度を高める方法などが知られているが、上記のように凹部の面積（体積）を調整すれば、各色セル幅（セルピッチ）を同等に設定しても、ＲＧＢ各色の発光量バランスをとることができる。
【００６２】
図８に示す溝６０３ａ，６０３ｂにおいては、赤色の放電セル２０２Ｒ、緑色の放電セル２０２Ｇ、青色の放電セル２０２Ｂの順に、溝６０３ａ，６０３ｂどうし間隔が広がるように形成されている。
この場合、放電セル２０２Ｒにおいては、溝６０３ａ，６０３ｂによって形成される凹部が放電ギャップ２０１から近い位置にあるが、放電セル２０２Ｇ、放電セル２０２Ｂでは、溝６０３ａ，６０３ｂによって形成される凹部が放電ギャップ２０１から順次遠く離れている。
【００６３】
凹部の位置が放電ギャップから遠くなるにつれて、表示電極１０３ａ，１０３ｂ間に電圧を印加するときに放電が大きく広がるので、放電セル２０２Ｒ、放電セル２０２Ｇ、放電セル２０２Ｂの順に放電規模が大きくなる。
従って、図７と同様に、各色発光量のバランスを調整することができる。
なお、上記説明では、放電の広がりがＲＧＢの順に大きくなるように凹部の形状を調整することとしたが、放電の広がりは、必ずしもＲＧＢの順ということではなく、蛍光体層における可視光変換効率の大小に応じて調整すればよい。すなわち、蛍光体層の可視光変換効率が小さい色の放電セルについて、放電の広がりが大きくなるように凹部の形状を調整すればよい。
【００６４】
〔実施の形態３〕
本実施の形態では、光遮蔽領域から光透過領域に集光させるように誘電体層の厚みを変化させることによって、発光効率を向上させている。
一般的にＰＤＰにおいて、セル内で発生した可視光が前面基板をとおって外部に放出されるが、前面基板においては、この可視光が透過しやすい透過領域と、透過しにくい遮蔽領域が存在する。
【００６５】
図９に示すＰＤＰにおいて、具体的には、遮蔽領域は、不透明な金属からなるバス電極１０５や、ブラックストライプ７０１が存在する領域であり、透過領域はそれ以外の領域である。
図９において、白抜矢印は、放電セル内で発生して前面ガラス基板１０２を通過して外部に向かう可視光の光束を示している。
【００６６】
このＰＤＰにおいて、誘電体層１０６の表面は、遮蔽領域（バス電極１０５やブラックストライプ７０１が配されている領域）に向かう光束７０２ａが、透過領域の方に屈折するように曲折している。
すなわち、誘電体層１０６は、セル内で発生する可視光を、遮蔽領域から透過領域に集光させるレンズ形状を有している。
【００６７】
保護層１０７は、誘電体層１０６の表面に沿って曲折しながらこれを被覆している。
誘電体層１０６の表面が前面ガラス基板１０２と平行であるとすれば、光束７０２ａは、バス電極１０５やブラックストライプ７０１で遮蔽されてしまうが、上記のように光束７０２ａが透過領域に屈折することによって、遮られる光量が抑えられるので、発光効率を向上させることができる。
【００６８】
〔ＰＤＰの製造方法について〕
以下、上記ＰＤＰの製造方法について説明する。
まず、前面パネル１０１を製造する方法について、特に誘電体層１０６を形成する工程（転写フィルム作製工程、転写工程、焼成工程）について説明する。
電極形成工程：
前面ガラス基板１０２として、フロート法により製造されたガラス板を用いる。この前面ガラス基板１０２上に、通常の薄膜形成法で透明電極１０４を形成する。
【００６９】
透明電極１０４上に、銀粉末、有機バインダー、ガラスフリット、有機溶剤などを含む銀ペーストを用いて、バス電極１０５の前駆体である銀電極前駆体層を形成する。
この銀ペーストを、スクリーン印刷法を用いて、バス電極１０５のパターン形状に塗布し乾燥してもよいし、スクリーン印刷法やダイコート法などを用いてベタで塗布し乾燥した後、フォトリソグラフィー法（或はリフトオフ法）でパターニングを行っても良い。
【００７０】
一方、銀電極転写フィルムを用いる場合、上記銀ペーストと同様の成分をフィルム状に加工して銀電極転写フィルムを作製し、当該フィルムを透明電極１０４上にラミネートすることによって銀電極前駆体層を形成する。
銀電極前駆体層は、焼成せずに、次の誘電体層を形成する工程で、誘電体前駆体層と同時に焼成する。ただし、電極前駆体を焼成し、次の誘電体層を形成する工程に移ってもよい。
【００７１】
なお、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ電極を形成する場合は、薄膜を蒸着する方法を用いて形成する。
転写フィルム作製工程：
まず、誘電体前駆体層を有する転写フィルムを以下のようにして作製する。
ガラス粉末、樹脂および溶剤を含有するペースト状のガラス粉末含有組成物（ガラスペースト組成物）を調製する。
【００７２】
ここで使用するガラス粉末としては、ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系、ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系、ＰｂＯ−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系、ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系などが挙げられ、軟化点が焼成温度付近のものを使用することが好ましい。樹脂としては、エチルセルロース、アクリル樹脂等が挙げられる。溶剤としては、酢酸ｎ−ブチル、ＢＣＡ、ターピネオールなどが挙げられる。
【００７３】
次に、このガラスペースト組成物を支持フィルム上に塗布し、乾燥する。これによって、誘電体前駆体からなる膜が形成され、転写フィルムが作製される。
支持フィルムの材料となる材質としては、可撓性を有する樹脂が好ましく、例えばポリエチレン，ポリプロピレン，ポリスチレン，ポリイミド，ポリビニルアルコール，ポリ塩化ビニルなどが挙げられ、支持フィルムの厚さは例えば２０〜１００μｍである。
【００７４】
この塗布に際しては、ローラーコーターによる塗布方法、ドクターブレードなどのブレードコーターによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法などを用いることができる。
誘電体前駆体層の表面上に、可撓性を有する樹脂からなるカバーフィルムを圧着して積層しておくことによって、転写フィルムの取り扱いがしやすくなる。
【００７５】
なお、支持フィルム及びカバーフィルムは、転写時に容易に剥離できるように表面に離型処理を施しておくことが好ましい。
転写工程：
このように作製した転写フィルムを用い、上記工程で電極前駆体が形成された前面ガラス基板１０２上に、誘電体前駆体層を熱転写するが、この転写の前または後で、誘電体前駆体層に型押しすることによって凹部を形成する。
【００７６】
ここで、「凹部を形成する」というのは、「層の厚みを部分ごとに変化させる」という意味であって、層に溝や凹部を形成するだけでなく、テクスチャ構造を形成することや上記実施の形態３のように層の厚みを変化させることも含んでいる。
上記のように作製した転写フィルムの誘電体前駆体層は、やわらかい粘土のような粘着性および適度な形状保持性を有する。
【００７７】
従って、この誘電体前駆体層は、ガラス基板上に熱圧着することによって容易に熱転写されるし、鋳型や突起を有する型を誘電体前駆体層に圧着することにより、凹部を形成することができる。
この型押しに際して、誘電体前駆体層に形成しようとする凹部の形状と同形状の凸部を有する型を用いる。
【００７８】
ただし、誘電体前駆体層は、焼成することによって収縮し、凹部もそれに伴って収縮するので、誘電体前駆体層に型押しで凹部の深さは、この収縮率を考慮して設定する。
また、支持フィルムの上から誘電体前駆体層を型押しをすることによって、凹部形成時に誘電体前駆体層にダストが混入するのを防ぐことができる。
ここで、支持フィルムも可撓性を有するので、支持フィルムの上から誘電体前駆体層を型押ししても、誘電体前駆体層に凹部を形成することができる。
【００７９】
この転写並びに型押し工程について、具体的に説明する。
図１０（ａ），（ｂ）は、型押しと転写とを合わせて行うラミネート装置の概略構成図である。
これらのラミネート装置には、加熱ローラ８１０の他に型押しローラ８２０が備えられており、転写フィルム８００と、電極前駆体が形成された前面ガラス基板１０２が送り込まれるようになっている。
【００８０】
送り込まれる転写フィルム８００は、カバーフィルムが剥離されたものであって、支持フィルム８０１上に誘電体前駆体層８０２が形成されたものである。
そして、前面ガラス基板１０２の電極前駆体が形成された表面に、誘電体前駆体層８０２の表面が接するように転写フィルム８００を重ね合わせながら、支持フィルム８０１の上から加熱ローラ８１０により熱圧着することによって、誘電体前駆体層８０２を基板１０２上に転写する。
【００８１】
熱転写の条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が６０〜１２０℃、そのローラ圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ2、加熱ローラの移動速度が０．２〜１０．０ｍ／分である。供給する基板１０２は、例えば４０〜１００℃に予熱しておいてもよい。
図１０（ａ）のラミネート装置では、加熱ローラ８１０で誘電体前駆体層８０２を転写した後、続いて、前面ガラス基板１０２上に転写された誘電体前駆体層８０２に、型押しローラ８２０を圧着することにより、誘電体前駆体層８０２の表面に凹部を形成する。なお、この型押しローラ８２０は加熱しなくても良い。
【００８２】
図１１に示すように、型押しローラ８２０には、誘電体前駆体層８０２の表面に形成しようとする凹部と同形状の凸部８２２が形成されている。
図１１に示すものでは、円筒ローラ８２１の外周面上に、回転方向に沿って環状の凸部８２２が形成されている。この型押しローラ８２０を用いると、図５（ａ）に示すような平行な溝を形成することができるが、凸部８２２を波状あるいはギザ状に蛇行されることによって図５（ｂ）、（ｃ）あるいは（ｄ）、（ｅ）に示すような形状の溝も形成できる。また、凸部８２２を島状に形成することによって、図６に示すような島状の凹部を形成することができる。
【００８３】
この型押しに際して、誘電体前駆体層６０２に形成される凹部の位置と、表示電極１０３ａ，１０３ｂとが、所定の位置関係となるように、凸部８２２が誘電体前駆体層６０２を押圧する位置と、表示電極１０３ａ，１０３ｂとの位置を合わせながら行う。
なお、この方法で凹部を形成する場合、図６のように島状の凹部を形成するよりも、図５のように溝を形成する方が、型押しで凹部を形成した後に型を抜くのが容易であるし、位置合わせもしやすいので、製造上有利である。
【００８４】
支持フィルム８０１の剥離については、型押しの前で行っても後で行ってもよい。
例えば、図１０（ａ）に示すように、型押しローラ８２０による型押しを支持フィルム８０１の上から行って、次の焼成工程の直前に支持フィルム８０１の剥離を行ってもよく、この場合、支持フィルム８０１によって誘電体前駆体層８０２の表面が保護されるので、異物の影響を受けにくいという利点がある。
【００８５】
一方、転写された誘電体前駆体層８０２から支持フィルム８０１を剥離した後に型押しローラ８２０による型押しを行ってもよく、この場合、支持フィルム８０１を介さず直接型押しされるので、凹部の形状をより精密に形成することができる。
一方、図１０（ｂ）に示すラミネート装置では、型押しローラ８２０を加熱ローラ８１０の前に配置して、転写フィルムの誘電体前駆体層に対して、型押しローラ８２０で凹部を形成した後、前面ガラス基板１０２に熱転写するようになっている。
【００８６】
上記図１０（ａ）のように前面ガラス基板１０２上に誘電体前駆体層８０２を転写した後に型押しローラ８２０で凹部を形成する方法の場合、前面ガラス基板１０２の厚みが一様でないと全体に均一的に凹部を形成することが難しいが、図１０（ｂ）のように、転写フィルムに対して転写前に型押しローラ８２０で凹部を形成する方法を用いれば、前面ガラス基板１０２のの厚みが一様でなかったとしても、全体に均一的に凹部を形成することが可能である。
【００８７】
なお、ここでは、型押しローラ８２０をラミネート装置に設置する例を示したが、予め転写フィルムに対して型押しローラ８２０で凹部を形成しておき、その凹部を形成した転写フィルムをラミネート装置に供給して、前面ガラス基板１０２に熱転写するようにしてもよい。
その他、転写工程において、誘電体前駆体層に凹部を形成する方法として、以下のような方法も可能である。
【００８８】
図１０（ａ），（ｂ）の装置では、加熱ローラ８１０と型押しローラ８２０とが別々に備えられているが、転写ローラ自体に凸部を形成することによって、型押しローラとしての働きを兼ね備えるようにすることもできる。
また、誘電体前駆体層を前面ガラス基板１０２に熱転写する工程では、誘電体前駆体層に凹部を形成することなく、後述するように、誘電体前駆体層を焼成する直前に、支持フィルムを除去する際に凹部を形成することもできる。
【００８９】
また、上記説明では、誘電前駆体層に、型押しローラを用いて凹部を形成したが、平板状の型を用いて凹部を形成することもできる。ただし、転写フィルムを連続的に繰り出しながら連続的に凹部を形成することを考慮すると、型押しローラを用いる方が容易である。また、型押しローラを用いる方が、前面ガラス基板１０２もしくは誘電体前駆体層が偏肉していても、均一的な深さで凹部を形成できる。
【００９０】
焼成工程：
型押しされた誘電体前駆体層８０２を有する前面ガラス基板１０２を、焼成炉に入れて焼成する。
ただし、誘電体前駆体層８０２を支持フィルム８０１が覆っている場合、支持フィルム８０１を剥離する装置（支持フィルムピーラー）を焼成炉の入口に設け、支持フィルムを剥離除去してから基板を焼成炉に入れて焼成する。
【００９１】
焼成炉では、電極前駆体及び誘電体前駆体層に含まれるガラス成分の軟化点以上の温度で、数分〜数十分間、基板を放置し、その後、降温する。この操作により、電極前駆体は電極に、誘電体前駆体層は誘電体層に変化する。
それによって、凹部を有する誘電体層１０６が、前面ガラス基板１０２上に形成される。
【００９２】
保護層形成工程：
誘電体層１０６の上に、電子ビーム蒸着などによりＭｇＯからなる保護層１０７を形成する。保護層は、誘電体層１０６の凹部内面にも形成する。
以上で前面パネルができあがる。
背面パネルの製造方法：
背面ガラス基板１１２上に、銀電極用のペーストをスクリーン印刷しその後焼成することによってアドレス電極１１３を形成し、その上に、誘電体ペーストをスクリーン印刷法で塗布して焼成することによって誘電体層１１４を形成する。
【００９３】
誘電体層１１４の上に、隔壁１１５を形成する。隔壁１１５は、隔壁用のガラスペーストをスクリーン印刷法で塗布した後、焼成することによって、もしくはベタ膜を形成、乾燥したあとフォトリソグラフィーとサンドブラストを用いて形成する。
そして、赤色，緑色，青色の各色蛍光体ペースト（または蛍光体インキ）を作製し、これを隔壁１１５どうしの間隙に塗布し、空気中で焼成することによって各色蛍光体層１１６を形成する。以上で、背面パネル１１１ができあがる。
【００９４】
上記のように作製した前面パネル１０１及び背面パネル１１１を、表示電極１０３ａ，１０３ｂとアドレス電極１１３が交差するように位置合わせをして重ね合わせ、周辺部をシール材によって封着する。そして、隔壁１１５で仕切られた内部空間からガス排気を行い、次にＮｅ−Ｘｅ等の放電ガスを封入し、内部空間を封止する。以上でＰＤＰが完成する。
【００９５】
（本製造方法による効果について）
上記製造方法において、使用する型押しローラ８２０の凸部形状を調整することによって、誘電体層に、上記図５〜８に示す形状の凹部や、図３，４に示すようなテクスチャ構造を形成することができる。また、図９に示すように誘電体層の厚みを変化させることもできる。
【００９６】
特に、テクスチャ構造については、型押しローラで型押しする方法を用いることによって容易に形成することができる。
また、上記型押し方法を用いれば、誘電体層の表面に形成する凹部の形状については、上記図３〜８に示したものに限らず、任意の形状で形成することができる。また、セル内における凹部の数についても、２個に限らず、１以上の任意の数で形成できる。
【００９７】
以上説明したように、本製造方法によれば、比較的少ない工程数で且つ歩留まりも良く、誘電体層表面に凹部を形成することができる。
つまり、誘電体層の膜厚を領域ごとに変える方法として、まず誘電体ガラスペーストを全体領域に一様に塗布し、その上に、スクリーン印刷法などによって、凹部形成予定領域を除く領域に、誘電体ガラスペーストをパターン塗布するという方法もある。
【００９８】
しかし、この方法では、誘電体ガラスペーストの塗布を２回行う必要があり、それに伴ってコストもかかる。
更に、スクリーン印刷法を用いてパターン塗布する場合、スクリーン版の伸びや劣化によって形成される凹部の形状が変わったり、ガラスペーストの特性変化によってペーストの塗布状態にばらつき生じるので、歩留まりが悪くなる。
【００９９】
なお、誘電体層の表面に凹部を形成するには、フォトリソ法を用い、誘電体前駆体層の凹部を形成しようとする部分を現像によって除去することによって、誘電体前駆体層をパターニングするという方法をとることもできるが、この方法では、細かい領域を現像によって除去することは難しいので、テキスチャ構造や図６に示す島状の凹部を正確に形成するのは難しく、製造不良が発生しやすい。
【０１００】
これに対して、本実施形態の方法によれば、誘電体ガラスペースト組成物の塗布回数は１回で済み、また型押しによって一定形状の凹部が形成されるので歩留まりも良好であり、細かい形状の凹部も比較的正確に形成することができる。従って、歩留まりが良好となる。
よって、誘電体層の表面に凹部が形成されたＰＤＰを、比較的低コストで製造できる。
【０１０１】
（誘電体前駆体層に凹部を形成する方法の変形例）
上記説明では、転写フィルムを基板上に転写する転写装置に型押しローラを設け、その型押しローラで誘電体前駆体層に凹部を形成したが、誘電体前駆体層に凹部を形成する方法として、以下のような方法をとることもできる。
転写装置とは別の装置において、型押しローラを用いて、転写フィルムに凹部を形成してもよい。
【０１０２】
また、誘電体前駆体層を基板上に転写する工程では誘電体前駆体層に凹部を形成せず、焼成工程で用いる剥離装置に型押しローラを設置しておいて、基板に転写された誘電体前駆体層上の支持フィルムを剥がす直前又は直後に、型押しローラで、当該誘電体前駆体層の表面に凹部を形成してもよい。
【産業上の利用可能性】
【０１０３】
本発明にかかるＰＤＰは、大画面、壁掛けテレビに利用できる。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】実施の形態にかかるＰＤＰを示す要部斜視図である。
【図２】表示電極対、アドレス電極及び隔壁が配置されている状態を示す図である。
【図３】誘電体層の表面をテクスチャー構造とした例を示す断面図である。
【図４】誘電体層の表面をテクスチャー構造とした例を示す斜視図である。
【図５】誘電体層の表面に、複数の放電セルにまたがる溝が形成されている例を示す図である。
【図６】誘電体層の表面に、第１凹部，第２凹部が、放電セルごとに独立して島状に形成されている例を示す図である。
【図７】誘電体層の表面に、ＲＧＢ各色セルごとに異なる形態で凹部を形成する例を示す図である。
【図８】誘電体層の表面に、ＲＧＢ各色セルごとに異なる形態で凹部を形成する別の例を示す図である。
【図９】光遮蔽領域から光透過領域に集光させるように誘電体層の厚みを変化させる例を示す図である。
【図１０】型押しと転写とを行うラミネート装置の概略構成図である。
【図１１】型押しローラの構造を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１０５】
１０１    前面パネル
１０２    前面ガラス基板
１０３ａ，１０３ｂ  表示電極
１０６    誘電体層
１０７    保護層
１０８    凹部
１０８ａ  第１凹部
１０８ｂ  第２凹部
１１１    背面パネル
１１２    背面ガラス基板
１１３    アドレス電極
１１４    誘電体層
１１５    隔壁
１１６    蛍光体層
２０１    放電ギャップ
２０２    放電セル
３０１    凹部
３０２    凸部
４０１〜４０５  溝
５０１ａ，５０１ｂ〜５０５ａ，５０５ｂ  凹部
６０２    誘電体前駆体層
８００    転写フィルム
８０１    支持フィルム
８０２    誘電体前駆体層
８１０    加熱ローラ
８２０    型押しローラ
８２２    凸部
【図１】
2007123292.tif 000003
【図２】
2007123292.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2007123292.tif 000009
【図８】
2007123292.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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