(57)【要約】【課題】簡単な工程で液晶を均一に分散させることができ、ギャップの不均一性や液晶の滴下痕等による表示不良も生じ難い液晶装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の液晶装置の製造方法は、一対の基板１ａ，１ｂ間に液晶層を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板１ａ上にシール材６ａを形成する工程と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板１ｂ上に前記シール材６ａの厚みよりも小さい厚みで液晶Ｌを印刷する工程と、前記一対の基板１ａ、１ｂを前記シール材６ａを介して貼り合わせる工程と、を有し、前記液晶Ｌを印刷する工程では、前記液晶Ｌが前記シール材との間に隙間を空けて印刷されることを特徴とする。【選択図】図５
2007248503.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に液晶層を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板上にシール材を形成する工程と、
前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板上に前記シール材の厚みよりも小さい厚みで液晶を印刷する工程と、
前記一対の基板を前記シール材を介して貼り合わせる工程と、を有し、
前記液晶を印刷する工程では、前記液晶が前記シール材との間に隙間を空けて印刷されることを特徴とする液晶装置の製造方法。
【請求項２】
前記液晶の印刷領域が、表示領域よりも大きいことを特徴とする請求項１記載の液晶装置の製造方法。
【請求項３】
前記液晶の印刷領域が、前記表示領域よりも小さい複数の領域に分割され、各領域に対して前記液晶が複数回に分けて印刷されることを特徴とする請求項２記載の液晶装置の製造方法。
【請求項４】
印刷された前記液晶の厚さは、貼り合わせた後の前記一対の基板間のギャップと略同じ厚みであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかの項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項５】
前記シール材を形成する基板と前記液晶を印刷する基板とが異なる基板であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかの項に記載の液晶装置の製造方法。
【請求項６】
前記シール材を形成する基板と前記液晶を印刷する基板とが同じ基板であり、
前記シール材を形成する工程が前記液晶を印刷する工程よりも後に行なわれることを特徴とする請求項１〜４のいずれかの項に記載の液晶装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶装置は、電極を備えた一対の基板と、該一対の基板を接着するシール材と、該一対の基板の間隙に封入された液晶層とを有する。従来、一対の基板間に液晶を封入する方法として真空注入法が知られている。真空注入法は、一対の基板をシール材によって貼り合わせ、シール材に開口した注入口を介して前記基板間に液晶を真空注入するものである。一方、最近では、より効率の良い注入方法としてＯＤＦ（One Drop Fill）方式と呼ばれる方法が注目されている。ＯＤＦ方式は、一方の基板に液晶を滴下し、他方の基板と貼り合わせることで、一対の基板の貼り合わせと、該基板間への液晶の注入とを同時に行なう方法である（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−２６６６８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、ＯＤＦ方式では基板の中央部に液晶を滴下するため、粘度の高い液晶材料を基板全体に均一に分散させることができず、基板の中央部と外周部とでギャップ（液晶層厚）の不均一性が生じるという問題があった。また、液晶を滴下すると、その滴下された部分に滴下痕と呼ばれる配向不良が生じる場合がある。さらに、ＯＤＦ方式の場合、液晶がシール材の厚みよりも大きく盛り上がった状態で塗布されるため、対向側の基板と接着する際に最初に液晶が対向側の基板と接触し、そのまま対向側の基板を伝わってシール材の外側に漏れ出してしまうという問題がある。液晶がシール材の外側に漏れ出すと、不足した液晶によってギャップに不均一性が生じたり、シール材の上部に付着した液晶によってシール材の接着強度が低下したりする等の問題が生じる。
【０００４】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、簡単な工程で液晶を均一に分散させることができ、ギャップの不均一性や液晶の滴下痕等による表示不良も生じ難い液晶装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するため、本発明の液晶装置の製造方法は、一対の基板間に液晶層を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板上にシール材を形成する工程と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板上に前記シール材の厚みよりも小さい厚みで液晶を印刷する工程と、前記一対の基板を前記シール材を介して貼り合わせる工程と、を有し、前記液晶を印刷する工程では、前記液晶が前記シール材との間に隙間を空けて印刷されることを特徴とする。
この方法によれば、予め液晶が基板全体に広い面積で印刷されるため、基板を貼り合わせる際に液晶が基板の隅々まで容易に分散されるようになり、その結果、基板全体で均一なギャップが得られるようになる。また、液晶が広い面積で形成されるので、ＯＤＦ方式で液晶を塗布する場合に比べて、印刷する液晶の厚みを薄くすることができる。このように液晶を薄くすると、相対的にシール材の厚みが大きくなるため、対向側の基板を伝わる液晶の移動もシール材によって堰き止めることが可能になり、液晶の漏れ出し等の問題も生じ難くなる。特に、印刷される液晶の厚みが前記シール材の厚みよりも小さい場合には、液晶の印刷された基板と対向側の基板とを貼り合わせる際に、まず膜厚の大きいシール材が対向側の基板と接触し、その後膜厚の小さい液晶が対向側の基板と接触する。このため、対向側の基板を伝わる液晶の移動が、既に対向側と接触しているシール材によって堰き止められ、シール材の外側に漏れ出すことが防止される。また、シール材の上部に液晶が付着しないので、シール材の接着強度も良好なものとなる。
また、本発明ではＯＤＦ方式のように液晶を滴下しないので、滴下痕による表示品質の低下も生じない。さらに、液晶とシール材とが隙間を空けて配置されるため、少なくとも基板を貼り合わせるまでは、未硬化状態のシール材が液晶と接触することがない。このため、基板を貼り合わせた際にシール材の上部に直接液晶が付着することによる接着強度の低下は生じず、また、未硬化状態のシール材と液晶とが接触することによる液晶内への不純物の混入も最小限に抑えられる。
【０００６】
本発明においては、前記液晶の印刷領域が、表示領域よりも大きいことが望ましい。
この方法によれば、表示領域内のギャップの均一性がより良好なものとなる。
【０００７】
本発明においては、前記液晶の印刷領域が、前記表示領域よりも小さい複数の領域に分割され、各領域に対して前記液晶が複数回に分けて印刷されることが望ましい。
この方法によれば、液晶の印刷領域を複数の小さな領域に分割しているので、分割したそれぞれの領域について液晶の膜厚の均一性を高めることができる。大型の液晶装置を製造する場合など表示領域が広い場合には、一の印刷版で表示領域全体を一度に印刷しようとすると表示領域内で液晶の膜厚に不均一性が生じることがあるが、本発明では、このような領域を複数に分割し、個々の領域の膜厚均一性を高めているので、全体として形成される印刷領域の膜厚の均一性も良好なものとなる。
【０００８】
本発明においては、印刷された前記液晶の厚さは、貼り合わせた後の前記一対の基板間のギャップと略同じ厚みであることが望ましい。
この方法によれば、液晶が分散される面積が少なくなるので、より均一なギャップが得られるようになる。
【０００９】
本発明においては、前記シール材を形成する基板と前記液晶を印刷する基板とが異なる基板であることが望ましい。
この方法によれば、液晶と未硬化状態のシール材とが分離して配置されるので、液晶と未硬化状態のシール材とが接触することによる液晶内への不純物の混入が確実に防止される。また、液晶の印刷工程とシール材の印刷工程とを別々に行なうことができるので、生産効率も向上する。
【００１０】
本発明においては、前記シール材を形成する基板と前記液晶を印刷する基板とが同じ基板であり、前記シール材を形成する工程が前記液晶を印刷する工程よりも後に行なわれることが望ましい。
この方法によれば、液晶の印刷がシール材の形成よりも先に行なわれるので、例えばフレキソ印刷等で液晶を印刷する場合に、印刷版（凸版）にシール材が付着する等の問題を回避することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を単純マトリクス方式の液晶パネル及び液晶装置を製造する場合を例に挙げて説明する。図１は、本発明に係る液晶パネルの製造方法の一実施形態を示している。ここに示す液晶パネルの製造方法においては、工程Ｐ１から工程Ｐ４に至る一連の工程によって図２に示す大判の第１基板１ａが形成される。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１４に至る一連の工程によって図３に示す大判の第２基板１ｂが形成される。
【００１２】
工程Ｐ１においては、図２に示すように、大判の第１基材２ａ上に液晶パネル複数分の第１電極３ａを形成する。なお、図２では、１つの第１基材２ａ上に形成する液晶パネルの数を４×４＝１６個としたが、液晶パネルの形成数は、第１基板２ａの大きさと製造する液晶パネルの大きさとの関係に応じて任意に設定される。第１電極３ａは、複数の直線状の電極を互いに平行に並べることによって全体としてストライプ状に形成されている。
【００１３】
次に、工程Ｐ２において、図２に示すように、各液晶パネル領域１０内に配向膜４ａを形成し、さらに、工程Ｐ３において、配向膜４ａに対してラビング処理を実行する。このラビング処理により、液晶分子が第１基板１ａ側から一方向に並べられる。
【００１４】
なお、第１基材２ａは、ガラス、プラスチック等によって形成される。また、第１電極３ａは、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を材料としてフォトリソグラフィー法を用いて形成される。また、配向膜４ａは、例えばポリイミドを塗布又は印刷することによって形成される。
【００１５】
その後、工程Ｐ４において、第１基材２ａ上の各液晶パネル領域１０にエポキシ樹脂等を環状に付着、例えば印刷、することによって第１シール材６ａを形成する。この第１シール材６ａは液晶注入用開口のない閉じた環状に形成される。また、第１基材２ａの外周部に複数の第１シール材６ａの外周を囲む閉じた環状の第２シール材６ｂを形成する。
【００１６】
以上により、液晶パネル複数分のパターンが形成された大判の第１基板１ａが作製される。なお、第１基板１ａ上には、必要に応じて、上記第１電極３ａ及び配向膜４ａ以外の光学的要素が形成されることもあるが、図２ではそれら付加的な光学的要素は省略してある。
【００１７】
一方、図１の工程Ｐ１１においては、図３に示すように、大判の第２基材２ｂ上に液晶パネル複数分の第２電極３ｂを形成する。第２電極３ｂは、複数の直線状の電極を互いに平行に並べることによって全体としてストライプ状に形成されている。なお、図３では、第２基材２ｂを通して第２電極３ｂを見た状態を示しており、さらに、第２基材２ｂは鎖線で仮想的に示してある。
【００１８】
第２電極３ｂは、各液晶パネル領域１０の中央部において、図２に示した第１電極３ａと直交している。そして、第１電極３ａと第２電極３ｂとが平面的に重なる領域がそれぞれドット（画素）となり、各液晶パネル領域１０においてこのようなドットがマトリクス状に配置された領域が表示領域となる。表示領域は液晶により光変調が行なわれる光変調領域であり、各画素を独立に駆動することによって任意の画像が表示される。
【００１９】
次に、工程Ｐ１２において、図３に示すように、各液晶パネル領域１０内に配向膜４ｂを形成し、さらに、工程Ｐ１３において、配向膜４ｂに対してラビング処理を実行する。このラビング処理により、液晶分子が第２基板１ｂ側から一方向に並べられる。
【００２０】
その後、工程Ｐ１４において、第２基材２ｂ上の各液晶パネル領域１０に液晶材料を印刷することによって、液晶Ｌの塗膜を形成する。液晶Ｌは各液晶パネル領域１０の中央部、すなわち第１基材２ａ上に形成される第１シール材６ａの内側に対応する領域に配置される。
【００２１】
図４は、液晶Ｌの印刷工程を示す説明図である。
図４に示すように、液晶Ｌの印刷工程は印刷装置４０を用いて行なわれる。印刷装置４０として本実施形態ではフレキソ印刷装置を用いる。印刷装置４０は、塗液供給装置４８、ドクターローラ４６、アニロックスローラ４５、ブラン胴４２、凸版４１等から構成される。ブラン胴４２の外周面には凸版４１が捲着されている。凸版４１の表面には、第２基材２１ｂに塗液４７を転写する図示略の複数の凸部が所定のパターンで形成されている。該凸部は、第２基材２ｂの各液晶パネル領域１０に対応して、ブラン胴４２の軸方向及びそれに直交する方向にそれぞれ４つずつ設けられている。
【００２２】
アニロックスローラ４５は、その外周面に塗液供給装置４８から液晶形成用の塗液４７を供給されるとともにブラン胴４２の外周面（凸版４１の表面）に接触しながら回転することにより、凸版４１の表面に塗液４７を転移供給するものである。ブラン胴４２の下方には、支持体４９上に支持された第２基材２ｂが配置されており、ブラン胴４２の回転に伴ってブラン胴４２（凸版４１）と支持体４９との間に第２基材２ｂが挟み込まれ、凸版４１により第２基材２ｂ上に塗液４７の膜が印刷されるようになっている。
【００２３】
アニロックスローラ４５の上部には、塗液供給装置４８が配置されている。塗液供給装置４８は、アニロックスローラ４５の軸方向に沿って往復移動し、図示略の塗液タンク内に保持される塗液４７をアニロックスローラ４５上に供給する。ここで、塗液４７としては液晶Ｌの原液が使用されるが、液晶Ｌの原液を溶剤で希釈したものを塗液４７として使用してもよい。
【００２４】
塗液供給装置４８から供給された塗液４７は、アニロックスローラ４５の回転に伴い、このアニロックスローラ４５の外周面へ直接的に接触して付着した後、ドクターローラ４６により均一に掻き取られて所定厚の被膜に調整されて下流側のブラン胴４２へ送り出される。そして、アニロックスローラ４５が、ブラン胴４２の外周面の凸版４１に接触しながら回転することにより、アニロックスローラ４２の外周面に付着した塗液４７が、凸版４１の表面に転移供給される。被印刷体である第２基材２ｂは、ブラン胴体４２の回転に伴ってブラン胴４２（凸版４１）と支持体４９との間に挟み込まれ、この部分を通過しながら、塗液４７を供給された凸版４１に転接することにより、印刷を施される。
【００２５】
ここで、ブラン胴４２の軸方向は第２基材２ｂの端辺方向（図３の左右方向）と平行に配置され、ブラン胴４２の回転に伴って、被印刷体である第２基材２ｂがブラン胴４２の軸方向と直交する方向に搬送される。そして、ブラン胴４２の一回の回転により第２基材２ｂの各液晶パネル領域１０に対応した１６個の塗液４７のパターン（液晶Ｌ）が印刷される。
【００２６】
図３に示すように、液晶Ｌは液晶パネル領域１０毎にパターニングされており、各液晶パネル領域１０において、液晶Ｌは表示領域全体を覆うように配置されている。また、液晶Ｌは、第１基板１ａと第２基板１ｂとを貼り合わせる際に、第１基板１ａ上の第１シール材６ａと接触しないように第１シール材６ａとの間に隙間を空けて印刷されている。なお、図３では、第１基材２ａ上の第１シール材６ａを点線で仮想的に示してある。
【００２７】
液晶Ｌは、基材２ａ，２ｂと第１シール材６ａとに囲まれる空間の体積に応じて必要な面積及び厚みだけ印刷される。本実施形態の場合、液晶Ｌの印刷領域は表示領域よりも大きいため、液晶Ｌの厚みは本来の基材２ａ，２ｂ間のギャップと略同じ厚みとされている。
【００２８】
以上により、液晶パネル複数分のパターンが形成された大判の第２基板１ｂが作製される。なお、第２基板１ｂ上には、必要に応じて、上記第２電極３ｂ及び配向膜４ｂ以外の光学的要素が形成されることもあるが、図３ではそれら付加的な光学的要素は省略してある。
【００２９】
なお、第２基材２ｂは、ガラス、プラスチック等によって形成される。また、第２電極３ｂは、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を材料としてフォトリソグラフィー法を用いて形成される。また、配向膜４ｂは、例えばポリイミドを塗布又は印刷することによって形成される。
【００３０】
以上により、図２の第１基板１ａ及び図３の第２基板１ｂが形成されると、図１の工程Ｐ２１において、第１基板１ａ及び第２基板１ｂが真空チャンバ内に入れられる。そして、第１基板１ａと第２基板２ｂとが第１シール材６ａ及び第２シール材６ｂを間に挟んで真空環境下で貼り合わされる。このとき、液晶Ｌは第１基板１ａ、第２基板１ｂ及び第１シール材６ａで囲まれた空間内（基板間のギャップ）に広がり、液晶層を形成する。また、液晶Ｌは第１シール材６ａによって堰き止められるため、第１シール材６ａを超えて外部に漏れ出ることはない。したがって、第１シール材６ａと第２シール材６ｂとに囲まれる領域は真空領域となる。なお、両基板１ａ及び１ｂは、第１電極３ａと第２電極３ｂとがほぼ直交するように互いに貼り合わされる。
【００３１】
次に、第１基板１ａ及び第２基板１ｂが真空チャンバから取り出され、大気中に解放される。このとき、真空領域は真空状態を保持されるため、第１基板１ａ及び第２基板１ｂは大気圧によって均一に加圧される。そして、第１シール材６ａと第２シール材６ｂが十分に潰され、第１基板１ａと第２基板１ｂとの間に均一なギャップが形成される。その後、第１シール材６ａ及び第２シール材６ｂを硬化することにより、液晶パネル複数分を有した大判のパネル構造体が形成される。
【００３２】
図５は、貼り合わせの工程を説明するための断面図である。
図５に示すように、第１基材２ａ上の第１シール材６ａはディスペンサ等で印刷され、本来のギャップ（基板１ａ，１ｂ間の間隔）よりも大きく盛り上がった状態で配置されている。一方、第２基材２ｂ上の液晶Ｌは表示領域を覆って広い面積で形成され、本来のギャップと略同じ厚みに形成されている。したがって、第１基板１ａと第２基板１ｂとを貼り合わせると、まず最初に第１シール材６ａが対向側の第１基板１ｂと接触する。そして、基板１ａ，１ｂを加圧して第１シール材６ａを潰すと、液晶Ｌが対向側の第１基板１ａと接触し、第１基板１ａ上を伝わって液晶パネル領域１０全体に広がる。また、第１シール材１ｂが潰されて幅が広がり、液晶Ｌに接触して、図７に示す液晶層５を形成する。このとき、第１基板１ａを伝わる液晶Ｌの移動は、既に第１基板１ａと接触している第１シール材６ａによって堰き止められるため、液晶Ｌが第１シール材６ａを乗り越えて外部に漏れ出す虞はない。
【００３３】
また、液晶Ｌの印刷領域Ｅ１は、第１シール材６ａの内側の領域Ｅ２に第１シール材６ａと隙間を空けた状態で配置されるため、少なくとも第１基板１ａと第２基板２ｂとを貼り合わせるまでは、未硬化状態の第１シール材６ａが液晶Ｌと接触することがない。このため、基板１ａ，１ｂを貼り合わせた際に第１シール材６ａの上部に直接液晶が付着することによる接着強度の低下は生じず、また、未硬化状態の第１シール材６ａと液晶Ｌとが接触することによる液晶Ｌ内への不純物の混入も最小限に抑えられる。
【００３４】
次に、工程２２において、図２に示す溝Ｇ１を第１基材２ａ上に形成し、さらに図３に示す溝Ｇ２、Ｇ３及びＧ４を第２基材２ｂ上に形成すると共に、それらの溝に従ってパネル構造体を切断して個々に分離することにより、図６に示すような液晶パネル１２が、複数、作製される。この液晶パネル１２において、第１基板１ａは第２基板１ｂの外側へ張り出す張出し部１ｃを有し、この張出し部１ｃ上には、外部回路との間で信号や電力の授受を行うための端子１３が形成される。
【００３５】
第１基板１ａ上に形成された第１電極３ａは第１シール材６ａを通過して外部へ張り出して端子１３となっている。一方、第２基板１ｂ上に形成された第２電極３ｂは、第１シール材６ａの内部に混入された導通材１４を介して配線１６に接続し、その配線１６が端子１３につなげられている。
【００３６】
以上のようにして液晶パネル１２が作製された後、工程Ｐ２３において、図７に示すように、第１基材２ａ及び第２基材２ｂの外側表面に偏光板１７ａ及び１７ｂを貼着する。
【００３７】
さらに、工程Ｐ２４において、図７に示す第１基板１ａの張出し部１ｃに形成した端子１３に、例えば、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）等を介して液晶駆動用ＩＣを実装する。これにより、目標とする液晶装置が完成する。こうして製造された液晶装置は、アクティブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶パネルである。第１電極３ａと第２電極３ｂとはドットマトリクス状に配列する複数の点で交差し、それらの交点の１つによって像形成のための１ドットが形成され、これらドットの集まりによって表示領域が形成される。
【００３８】
この液晶装置では、各ドットに印加される電圧を制御することにより、それらのドットに存在する液晶の配向がドットごとに制御される。この配向制御により、各ドットを通過する光が変調されて図７の偏光板１７ａ又は１７ｂを通過するものと通過しないものとが選択され、これにより、第１基板２ａの外側又は第２基板２ｂの外側に文字、数字等といった像が表示される。
【００３９】
なお、図７において、液晶層５へ供給する光は、反射方式又は透過方式によって与えられる。反射方式というのは、第１基板２ａ又は第２基板２ｂのいずれかの液晶層５側の表面又は液晶層５と反対側の表面に反射膜（図示せず）を形成し、外部からの光、例えば太陽光、室内光等をその反射膜によって反射して液晶層５へ供給する方式である。他方、透過方式というのは、第１基板２ａ又は第２基板２ｂのいずれかの液晶層５と反対側の表面に照明装置を配設し、この照明装置からの光を第１基板２ａ又は第２基板２ｂを透過させて液晶層５へ供給する方式である。
【００４０】
以上に説明したように、本実施形態の液晶装置の製造方法においては、予め液晶Ｌが基板全体に広い面積で印刷されるため、基板を貼り合わせる際に液晶Ｌが基板の隅々まで容易に分散されるようになり、その結果、基板全体で均一なギャップが得られるようになる。また、液晶Ｌが広い面積で形成されるので、ＯＤＦ方式の場合に比べて印刷する液晶Ｌの厚みを薄くすることができる。このように液晶Ｌを薄くすると、相対的に第１シール材６ａの厚みが大きくなるため、対向側の基板を伝わる液晶Ｌの移動も第１シール材６ａによって堰き止めることが可能になり、液晶Ｌの漏れ出し等の問題も生じ難くなる。また、ＯＤＦ方式のように液晶Ｌを滴下しないので、滴下痕による表示品質の低下も生じない。さらに、液晶Ｌと第１シール材６ａとが隙間を有した状態で配置されるため、未硬化状態の第１シール材６ａと液晶Ｌとが接触することによる液晶Ｌ内への不純物の混入も生じない。
【００４１】
また、本実施形態では、第１シール材６ａを形成する基板と液晶Ｌを印刷する基板とが異なるため、液晶Ｌと未硬化状態の第１シール材６ａとが接触することによる液晶Ｌ内への不純物の混入が確実に防止される。また、液晶Ｌの印刷工程と第１シール材６ａの印刷工程とを別々に行なうことができるので、生産効率も向上する。
【００４２】
なお、本実施形態では液晶Ｌと第１シール材６ａとを異なる基板上に形成したが、これらは同じ基板上に形成することも可能である。この場合、第１シール材６ａを先に形成してしまうと、液晶Ｌを印刷するときに凸版４１が第１シール材６ａに接触する虞があるため、第１シール材６ａよりも先に液晶Ｌを印刷し、その後でディスペンサ等で第１シール材６ａを印刷する必要ことが必要である。
【００４３】
また、本実施形態では液晶Ｌをフレキソ印刷で印刷したが、フレキソ印刷は印刷方法の一例であって、他の印刷方法で印刷することも勿論可能である。図８は、印刷方法の一例としてスクリーン印刷法を用いた場合を示す断面図である。スクリーン印刷法は、成膜パターンに対応した開口部が形成されたスクリーン版を用い、塗液を該開口部から押し出して、基板上に印刷する方法である。スクリーン印刷法で印刷する場合には、まず図８（ａ）に示すように、平面ステージ５１上に被印刷体である第２基材２ｂを載置し、その上に、版枠５２に一定のテンションで張られたスクリーン版５３を、第２基材２ｂとの間に適度な隙間を設けて設置する。スクリーン版５３には、液晶Ｌを形成する領域に開口部が形成されている。そして、スキージ５４をスクリーン版５３に向かって押圧することにより、スクリーン版５３の裏面を第２基材２ｂの表面に押し当て、スキージ５４の前方に置かれた塗液５５を押し出しながらスキージ５４を移動させる。これにより、図８（ｂ）に示すように、スクリーン版５３の開口部から塗液５５が押し出され、第２基材２ｂ上に塗液５５の膜を形成することができる。
【００４４】
また、本実施形態では、第２基材２ｂ上に液晶Ｌを印刷するに際し、一の印刷版（凸版４１）を用いて各液晶パネル領域に対して一括して液晶Ｌの塗膜を形成した。しかしながら、大型の液晶装置を製造する場合など表示領域が広い場合には、一の印刷版（凸版４１）で表示領域全体を一度に印刷しようとすると表示領域内で液晶Ｌの膜厚に不均一性が生じることがある。このため、このような場合には、一の液晶Ｌの印刷領域を複数に分割し、分割された各領域に対して液晶Ｌを複数回に分けて印刷することが望ましい。
【００４５】
図９は、大型液晶パネルを製造する場合の液晶の印刷工程を示す部分斜視図である。図９では、一の大型基材２ｂ上に一の液晶パネル領域のみが作製される。液晶Ｌの印刷領域は、表示領域内で第２基材２ｂの搬送方向（ブラン胴４２の軸方向と直交する方向）及びそれに直交する方向に複数に分割されており、一回のブラン胴４２の回転でブラン胴４２の軸方向に配列する一列分の塗液のパターンＬ（図９では４つのパターン）が印刷される。そして、ブラン胴４２を複数回回転させることで、基板の搬送方向に配列する複数列の塗液のパターンＬが印刷される。この方法によれば、液晶Ｌの印刷領域を複数の小さな領域に分割し、個々の領域の膜厚均一性を高めているので、全体として形成される印刷領域の膜厚の均一性も良好なものとなる。
【００４６】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００４７】
例えば、以上の実施形態では、本発明を単純マトリクス方式の液晶パネルに適用したが、本発明は、その他の任意の構造の液晶パネル、例えば、ＴＤＦ（ThinFilm Diode）素子等とった２端子型のスイッチング素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶パネルや、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子等といった３端子型のスイッチング素子を用いるアクティブマトリクス方式の液晶パネル等にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】液晶パネルの製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図２】図１の製造方法で製造される第１基板の平面図である。
【図３】図１の製造方法で製造される第２基板の平面図である。
【図４】液晶の印刷工程を説明するための部分斜視図である。
【図５】基板の貼り合わせ工程を説明するための部分断面図である。
【図６】図１の製造方法で製造される液晶パネルを一部破断して示す平面図である。
【図７】図６のＡ−Ａ′線に沿う断面図である。
【図８】液晶の印刷工程の他の例を示す断面図である。
【図９】液晶の印刷工程の他の例を示す部分斜視図である。
【符号の説明】
【００４９】
１ａ…第１基板、１ｂ…第２基板、２ａ…第１基材、２ｂ…第２基材、５…液晶層、６ａ…第１シール材、６ｂ…第２シール材、Ｅ１…液晶の印刷領域、Ｅ２…第１シール材によって囲まれる領域、Ｌ…液晶
【図１】
2007248503.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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