(57)【要約】【課題】広範囲へのワニスの飛散を抑制することができるワニス処理方法およびワニス処理装置を提供すること。【解決手段】ワニス処理装置１は、ワニスを滴下する滴下ノズル７Ｕ，７Ｖ，７Ｗ，８Ｕ，８Ｖ，８Ｗと、滴下ノズル７Ｖ，８Ｖから滴下されたワニスをＶ相コイル２Ｖのコイルエンド部端面に付着させるためにエアブローを行うエアブローノズル９，１０と、エアブローノズル９から噴射されるエアの風量を可変制御する制御装置１２とを備え、制御装置１２は、中性点部５０が存在する回転位相にてエアブローノズル９から噴射されるエアの風量が小さくなるように、ステータ３の回転速度に応じてエアブローノズル９から噴射されるエアの風量を周期的に増減させる。【選択図】図７
2007166712.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
巻線体を回転させながら前記巻線体に対してワニスを滴下するとともに、滴下されたワニスを前記巻線体に吹き付けるためにエアブローを併用するワニス処理方法において、
前記巻線体のうちワニス含浸が不必要な所定の回転位相では、前記エアブローの風量を前記所定の回転位相以外におけるエアブローの風量よりも小さくすることを特徴とするワニス処理方法。
【請求項２】
請求項１に記載するワニス処理方法において、
前記所定の回転位相は、前記巻線体のうちワニスをはじく絶縁材が配設されている部分に対応することを特徴とするワニス処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載するワニス処理方法において、
前記所定の回転位相にて前記エアブローの風量が小さくなるように、前記エアブローの風量を前記巻線体の回転速度に応じて周期的に増減することを特徴とするワニス処理方法。
【請求項４】
巻線体を回転させながら前記巻線体に対してワニスを滴下するとともに、滴下されたワニスを前記巻線体に吹き付けるためにエアブローを併用するワニス処理装置において、
ワニスを滴下する滴下ノズルと、
前記滴下ノズルから滴下されたワニスを前記巻線体に付着させるためにエアブローを行うエアブローノズルと、
前記エアブローノズルから噴射されるエアの風量を可変制御する風量制御手段とを備え、
前記風量制御手段は、前記巻線体のうちワニス含浸が不必要な所定の回転位相にて前記エアブローの風量が小さくなるように、前記風量を前記巻線体の回転速度に応じて周期的に増減することを特徴とするワニス処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載するワニス処理装置において、
前記所定の回転位相は、前記巻線体のうちワニスをはじく絶縁材が配設されている部分に対応することを特徴とするワニス処理装置。
【請求項６】
請求項４または請求項５に記載するワニス処理装置において、
前記エアブローノズルからのエア噴射開始時に前記所定の回転位相が常に同一位置に配置されるように、前記巻線体の位相を決定する位相決定手段を有することを特徴とするワニス処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、巻線体に対してワニス処理を行うワニス処理方法およびワニス処理装置に関する。より詳細には、ワニスを滴下するとともにエアブローを併用してワニス処理を行うワニス処理方法およびワニス処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、巻線体（例えば、ステータコアに装着された固定子コイル）に対するワニス処理を行う技術に関して種々提案されている。例えば、そのうちの１つとして特開２００４−１９４３９８号公報に開示されたものがある。ここには、エア吹き付け手段によってステータの内周部の軸方向両端縁表面部に外周部へ向かう方向のエアを噴射することにより、回転手段によってステータを回転させつつ、ワニス滴下手段によって固定子コイルにワニスを滴下して含浸させ、この含浸されたワニスを加熱してゲル化させる際に、このステータの軸方向両端面部の表面に付着する粘性の低い状態のワニスを吹き飛ばす技術が開示されている。
【０００３】
このワニス処理技術では、ステータの軸方向両端面部の表面にはワニスが付着して硬化しないため、ステータの軸方向端面部の表面へのワニス付着を防止することが可能となっている。また、ボルト頭部やモータケース本体の底面部に当接するステータの軸方向両端面部表面へのワニスの付着を防止することが可能となるため、ステータの軸方向両端面部や取付用孔の周辺部の表面に付着して硬化したワニスを手作業で除去する必要がなくなり、作業効率の向上および製造コストの削減化を図ることができるようになっている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−１９４３９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記したワニス処理技術では、ワニスの滴下位置およびエアブロー位置は、巻線体に干渉しないところとなる。そして、エアブローの風量は、エアブロー位置から最も離れた部分にもワニスを吹き付けられるように設定される。このため、巻線体の一部に絶縁材などが配設されていると、その部分とエアブロー位置との距離が短くなる。そうすると、絶縁材などが配設されている部分に対しては、必要以上の風量を設定していることになる。その結果として、絶縁材などに吹き付けられてはじかれたワニスが広範囲に飛散してしまうという問題があった。
【０００６】
そして、ワニスが飛散してしまうと、巻線体のうちワニス含浸が不必要な部分（例えば、モータケース装着部分など）に対してもワニスが付着してそのまま硬化する。そのため、不必要な部分に付着して硬化したワニスを手作業で除去しなければならず、作業効率の向上および製造コストの削減化を図ることができなくなる。
【０００７】
そこで、本発明は上記した問題点を解決するためになされたものであり、広範囲へのワニスの飛散を抑制することができるワニス処理方法およびワニス処理装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するためになされた本発明に係るワニス処理方法は、巻線体を回転させながら前記巻線体に対してワニスを滴下するとともに、滴下されたワニスを前記巻線体に吹き付けるためにエアブローを併用するワニス処理方法において、前記巻線体のうちワニス含浸が不必要な所定の回転位相では、前記エアブローの風量を前記所定の回転位相以外におけるエアブローの風量よりも小さくすることを特徴とする。
そして、前記所定の回転位相は、前記巻線体のうちワニスをはじく絶縁材が配設されている部分に対応している。
【０００９】
このワニス処理方法では、巻線体に対してワニスを滴下して、ワニスを巻線体の内周面あるいは外周面に付着させる。このとき、エアブローが併用される。このエアブローによって、滴下されたワニスは巻線体に吹き付けられて、巻線体の端面（例えば、三相ステータのＶ相コイル）にも付着する。そして、巻線体に付着したワニスは、巻線体に内部に浸透していく。その後、巻線体に含浸したワニスが硬化させられる。
【００１０】
ここで、巻線体にはワニス含浸が不必要な部分がある。具体的には、ワニスをはじく絶縁材が配設されている部分である。このような部分に対しても、他の部分（ワニス含浸が必要な部分）と同様にワニス含浸処理を行うと、必要以上の風量によってエアブローが行われるために絶縁材に吹き付けられたワニスがはじかれて広範囲に飛散してしまう。
【００１１】
このため、このワニス処理方法では、巻線体のうちワニス含浸が不必要な所定の回転位相（巻線体のうちワニスをはじく絶縁材が配設されている部分に対応する）では、エアブローの風量を前記所定の回転位相以外におけるエアブローの風量よりも小さくするようにしている。これにより、ワニス含浸が不必要な部分に対して吹き付けられるワニスが減少するため、はじかれるワニスがほとんどなくなるので、ワニスの広範囲への飛散を抑制することができる。その結果、ワニスを除去する後処理の手間が軽減され、作業効率の向上および製造コストの削減化を図ることができる。
【００１２】
なお、エアブローの風量を小さくする代わりに、あるいは風量を小さくするとともに、ワニスの滴下量を減少させることもできる。しかしながら、ワニスの滴下量を制御するには、応答性の関係から滴下ノズル（出口近傍）に調節手段が必要になるし、例え調節手段を設けたとしても、所定の回転位相において正確にワニスの滴下量を減少させることは困難である。滴下という供給形態をとる限り、回転中の巻線体への付着量を精度良く制御することができないからである。そして、ワニスの滴下量が減少する位置がずれると、巻線体へのワニス含浸量が不足してしまう。
このように、ワニスの滴下量を可変制御するよりも、エアブローの風量を可変制御する方が、簡単であり、かつ精度良くワニスの広範囲への飛散を抑制することができ、またワニス含浸量が不足することもない。
【００１３】
本発明に係るワニス処理方法においては、前記所定の回転位相にて前記エアブローの風量が小さくなるように、前記エアブローの風量を前記巻線体の回転速度に応じて周期的に増減することが望ましい。
【００１４】
こうすることにより、ワニス含浸が不必要な所定の回転位相を常に把握（検出）しなくても、ワニス含浸が不必要な所定の回転位相においてエアブローの風量を小さくすことができる。従って、非常に簡単な風量制御によって、ワニスの広範囲への飛散を抑制することができる。
【００１５】
上記課題を解決するためになされた本発明に係るワニス処理装置は、巻線体を回転させながら前記巻線体に対してワニスを滴下するとともに、滴下されたワニスを前記巻線体に吹き付けるためにエアブローを併用するワニス処理装置において、ワニスを滴下する滴下ノズルと、前記滴下ノズルから滴下されたワニスを前記巻線体に付着させるためにエアブローを行うエアブローノズルと、前記エアブローノズルから噴射されるエアの風量を可変制御する風量制御手段とを備え、前記風量制御手段は、前記巻線体のうちワニス含浸が不必要な所定の回転位相にて前記エアブローの風量が小さくなるように、前記風量を前記巻線体の回転速度に応じて周期的に増減することを特徴とする。
そして、前記所定の回転位相は、前記巻線体のうちワニスをはじく絶縁材が配設されている部分に対応している。
【００１６】
このワニス処理装置では、滴下ノズルからワニスが滴下される。滴下されたワニスは、そのまま重力により落下して巻線体の内周面あるいは外周面に付着する。また、エアブローによって吹き飛ばされたワニスはその向きを変えて巻線体の端面に付着する。そして、巻線体に付着したワニスは、巻線体に内部に浸透していく。その後、巻線体に含浸したワニスが硬化させられる。
【００１７】
ここで、風量制御手段によって、巻線体のうちワニス含浸が不必要な所定の回転位相ではエアブローの風量が小さくなるように、風量が巻線体の回転速度に応じて周期的に増減させられる。このため、ワニス含浸が不必要な所定の回転位相では、他の回転位相に比べてエアブローの風量が小さくなる。これにより、巻線体のうちワニスをはじく絶縁材が配設されている部分に吹き付けられるワニスの量が減少する。その結果、ワニスの広範囲への飛散を防止することができる。従って、ワニスを除去する後処理の手間が軽減され、作業効率の向上および製造コストの削減化を図ることができる。
【００１８】
本発明に係るワニス処理装置においては、前記エアブローノズルからのエア噴射開始時に前記所定の回転位相が常に同一位置に配置されるように、前記巻線体の位相を決定する位相決定手段を有することが望ましい。
【００１９】
このような位相決定手段を有することにより、エアブローノズルからのエア噴射開始時における巻線体の位相（回転開始時における位相）を常に同じにすることができる。つまり、エアブローノズルと巻線体における所定の回転位相との相対的な位置関係を調節することができる。このため、巻線体のうちワニス含浸が不必要な所定の回転位相において、エアブローの風量を確実に小さくすることができる。従って、巻線体のうちワニスをはじく絶縁材が配設されている部分に吹き付けられるワニスの量が確実に減少するため、ワニスの広範囲への飛散を防止することができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係るワニスの処理方法およびワニスの処理装置によれば、ワニス含浸が不必要な巻線体の回転位相において、エアブローの風量が小さくされるので、ワニス含浸が不要な部分に吹き付けられるワニスが減少するため、ワニスの広範囲への飛散を抑制することができる。その結果、ワニスを除去する後処理の手間が軽減され、作業効率の向上および製造コストの削減化を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明のワニス処理装置およびワニス処理方法を具体化した最も好適な実施の形態について、図面に基づき詳細に説明する。そこで、まず、本実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成について、図１〜図３を参照しながら説明する。図１は、本実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成を示す正面図である。図２は、本実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成を示す側面図である。図３は、図１に示すステータ保持部の要部拡大図である。
【００２２】
ワニス処理装置１には、図１および図３に示すように、Ｕ相コイル２Ｕ、Ｖ相コイル２Ｖ、およびＷ相コイル２Ｗとからなるコイル２が装着されたステータ３を保持するとともに回転させるステータ保持部４と、ワニスを吐出するワニス供給ポンプ５と、このワニス供給ポンプ５に配管６を介して接続されるＵ相滴下ノズル７Ｕ，８Ｕ、Ｖ相滴下ノズル７Ｖ，８Ｖ、およびＷ相滴下ノズル７Ｗ，８Ｗと、エアブローノズル９，１０とが配設されている。Ｕ相滴下ノズル７Ｕ，８Ｕは、Ｕ相コイル２Ｕに含浸させるワニスを滴下するものであり、Ｖ相滴下ノズル７Ｖ，８Ｖは、Ｖ相コイル２Ｖに含浸させるワニスを滴下するものであり、Ｗ相滴下ノズル７Ｗ，８Ｗは、Ｗ相コイル２Ｗに含浸させるワニスを滴下するものである。
【００２３】
また、ワニス処理装置１の背面部には、図２に示すように、外気を送風するファンモータ１５と、このファンモータ１５から供給される外気を所定温度（本実施の形態では、約６０℃〜１６０℃）に加熱するヒータ１６とが配設されている。これにより、カバー１７で覆われる装置内に（矢印１８方向に）熱風を供給するようになっている。
【００２４】
また、図１に示すように、ステータ保持部４の反対側には、フィルタ２０が収納された排気ダクト２１が設けられ、ファンモータ２２により装置内の熱風の排気がなされるようになっている（矢印２３方向）。さらに、ステータ保持部４の上方には操作を行うための操作パネル１１と、後述のようにステータ保持部４、ワニス供給ポンプ５、エアブローノズル９からの風量、ヒータ１６等を制御する制御装置１２とが設けられている。そして、ワニス処理装置１は各脚部材２４を介して床等の上に配置されている。
【００２５】
そして、ステータ保持部４には、一端側にステータ３の内径部が嵌挿され、着脱可能に取り付けられるワーク回転軸２５と、この回転軸２５を水平に且つ回転自在に支持する一対のベアリング２６と、ワーク回転軸２５の他端側に固設される従動プーリ２７と、モータ２８と、このモータ２８の軸に固設される駆動プーリ２９と、駆動プーリ２９と従動プーリ２７との間に張設されるベルト３０とが備わっている。また、ワーク回転軸２５にはチャック２５ａが備わっており（図３参照）、ステータ３を内径部で保持することができるようになっている。
【００２６】
また、図３に示すように、Ｕ相滴下ノズル７Ｕ，８Ｕは、それぞれステータ３の軸方向両端部に突出したコイル２のコイルエンド部の外周最上部から少し手前側の位置に対応する位置に配設され、Ｕ相コイル２Ｕにワニスを滴下するようになっている。また、Ｖ相滴下ノズル７Ｖ，８Ｖは、それぞれステータ３の軸方向両端部に突出したコイル２のコイルエンド部の端面から少し離れた位置に配設され、後述するエアブローノズル９，１０から噴射されるエアにより、Ｖ相コイル２Ｖにワニスを付着させるようになっている。さらに、Ｗ相滴下ノズル７Ｗ，８Ｗは、それぞれステータ３の軸方向両端部に突出したコイル２のコイルエンドの内周最下部から少し奥側の位置に対応する位置に配設され、Ｗ相コイル２Ｗにワニスを滴下するようになっている。
【００２７】
そして、Ｖ相滴下ノズル７Ｖ，８Ｖの近傍位置に、外部から不図示の電磁弁を介して圧縮空気が供給される各エアブローノズル９，１０が配設されている。詳細には、Ｖ相滴下ノズル７Ｖの近傍位置にエアブローノズル９が配設され、Ｖ相滴下ノズル８Ｖの近傍位置にエアブローノズル１０が配設されている。これらエアブローノズル９，１０の各吹き出し口は、ステータ３の軸方向（略水平方向）に向けてエアを噴射するように配設されている。これにより、Ｖ相滴下ノズル７Ｖ，８Ｖから滴下されたワニスは、各エアブローノズル９，１０から噴射されたエアによって、Ｖ相コイル２Ｖにおけるコイルエンド部両端面に向けて飛ばされる。このようにして、Ｖ相滴下ノズル７Ｖ，８Ｖから滴下されたワニスは、Ｖ相コイル２Ｖにおけるコイルエンド部両端面に付着するようになっている。
【００２８】
ここで、エアブローノズル９から噴射されるエアの風量は、制御装置１２によって可変制御されるようになっている。なお、本実施の形態では、風量が２段階（風量大と風量小）に切替制御される。この風量制御についての詳細は後述する。
【００２９】
次に、上記した構成を備えるワニス処理装置１によるコイル２に対するワニス処理方法について説明する。まず、ステータ３がワーク回転軸２５のチャック２５ａに取り付けられて固定される。そして、カバー１７が閉じられて、操作パネル１１のスタートボタンが押されると、制御装置１２によりモータ２８が駆動される。そうすると、モータ２８の回転が駆動プーリ２９、ベルト３０および従動プーリ２８を介してワーク回転軸２５に伝達される。これにより、ワーク回転軸２５が矢印４６（図３参照）方向に回転して、ステータ３が回転する。
【００３０】
また、制御装置１２によりファンモータ１５が駆動され、ヒータ１６を介して加熱された所定温度（本実施の形態では、約１６０℃）の熱風が装置内（図１の矢印１８方向）に送風される。これとともに、ファンモータ２２が駆動され、装置内の熱い空気はフィルタ２０等を介して排気ダクト２１から外部に排気される（図１の矢印２３方向）。これにより、ステータ３が予備加熱される。ステータ３を予備加熱するのは、滴下されたワニスがコイル２に浸透しやすくする（ワニスの粘性を下げる）ためである。
【００３１】
予備加熱が終了すると、モータ２８が停止させられる。これにより、ワーク回転軸２５が停止し、ステータ３の回転が停止する。そして、ワニス滴下開始時におけるステータ３の位相決めが行われる。具体的には、位相決定治具４０を用いてステータ３の位相決めが行われる。
【００３２】
ここで、位相決定治具４０は、図４に示すように、ステータ３を保持する面がＶ字形状になっており、そのＶ字底部にボルト締結部３ｂを嵌め合わせる凹部４１が形成されている。なお、図４は、位相決定治具の概略構成を示す側面図である。そして、この凹部４１にステータ３のボルト締結部３ｂを嵌め合わせることにより、ワニス滴下開始時におけるステータ３の回転位相を決定することができる。具体的には、エアブローノズル９からステータ３の回転方向（図５中の矢印方向）とは逆方向へ約９０度の範囲内に中性点部５０が配置された位相にすることができる（図４および図５参照）。
【００３３】
なぜなら、ステータ３の外周には、図４に示すように、等間隔で３つのボルト締結部３ａ，３ｂ，３ｃが形成されている。これらのボルト締結部３ａ〜３ｃは、ステータ３にモータケースを取り付けるためのものである。そして、ボルト締結部３ａ付近に、各相コイル２Ｕ，２Ｖ，２Ｗをスター結線させた中性点部５０が取り付けられている。この中線点部５０は、コイル２から絶縁する必要があるため、シリコン樹脂（絶縁材）によって覆われており、コイル２に対してレーシング糸によって縛られて固定されている。そして、モータケースとの嵌め合わせの関係から、中性点部５０は常にボルト締結部３ａ付近に取り付けられる。従って、ボルト締結部３ｂを位相決定治具４０の凹部４１に嵌め合わせれば、図４および図５に示すように、エアブローノズル９からステータ３の回転方向（図５中の矢印方向）とは逆方向へ約９０度の範囲内に中性点部５０が配置された位相にすることができるのである。なお、図５は、エアブロー開始時におけるステータの回転位相を説明する説明図である。
【００３４】
その後、位相決定治具４０が取り外され、制御装置１２により、モータ２８が再度駆動される。このとき、制御装置１２によりワニス供給ポンプ５も作動させられる。これにより、ワニス供給ポンプ５から吐出されたワニスが、配管６を介して、Ｕ相滴下ノズル７Ｕ，８Ｕ、Ｖ相滴下ノズル７Ｖ，８Ｖ、およびＷ相滴下ノズル７Ｗ，８Ｗに供給される。そして、Ｕ相滴下ノズル７Ｕ，８ＵからＵ相コイル２Ｕにワニスが滴下される。また、Ｖ相滴下ノズル７Ｖ，８ＶからＶ相コイル２Ｖにワニスが滴下される。さらに、Ｗ相滴下ノズル７Ｗ，８ＷからＷ相コイル２Ｗにワニスが滴下される。すなわち、コイル２へのワニス含浸が開始される。
【００３５】
また、モータ２８の駆動と同時に、制御装置１２により不図示の電磁弁が開放されて、各エアブローノズル９，１０への圧縮空気の供給が開始される。そして、各エアブローノズル９，１０の吹き出し口から、コイル２のコイルエンド部両端部へ水平方向のエアが噴射される。このとき、エアブローノズル９から噴射されるエア風量ついては可変制御が行われ、エアブローノズル１０から噴射されるエア風量は一定である。
【００３６】
ここで、Ｕ相滴下ノズル７Ｕ，８Ｕ、およびＷ相滴下ノズル７Ｗ，８Ｗからそれぞれ滴下されたワニスは、その自重により下方へ落下して、コイル２のうちＵ相コイル２ＵおよびＷ相コイル２Ｗのそれぞれに当たり付着する。そして、Ｕ相コイル２ＵおよびＷ相コイル２Ｗに付着したワニスは、Ｕ相コイル２ＵおよびＷ相コイル２Ｗの表面を覆うとともに各巻線間に毛細管現象によって含浸させられる。
【００３７】
また、Ｖ相滴下ノズル７Ｖ，８Ｖから滴下されたワニスは、エアブローノズル９，１０から噴射されたエアによって、コイル２のうちＶ相コイル２Ｖにおけるコイルエンド部両端面に向けて飛ばされる。これにより、Ｖ相滴下ノズル７Ｖ，８Ｖから滴下されたワニスは、Ｖ相コイル２Ｖにおけるコイルエンド部両端面に当たり付着する。そして、Ｖ相コイル２Ｖにおけるコイルエンド部両端面に付着したワニスは、コイルエンド部端面を覆うとともにＶ相コイル２Ｖを構成する巻線間に毛細管現象によって含浸させられる。
【００３８】
そして、ステータ３は、ワーク回転軸２５の回転に伴って回転させられている。このため、各滴下ノズルから滴下されたワニスが当たる部分が常に変化し、ワニスはコイル２の各相に一様に含浸させられる。
【００３９】
ここで、エアブローノズル９から噴射されるエアの風量が一定であると、中性点部５０が存在する回転位相では、中性点部５０を覆う絶縁材がワニスをはじくことと、風量が必要以上に大きくなってしまうこととにより、Ｖ相滴下ノズル７Ｖから滴下されたワニスが広範囲に飛散してしまう。このため、本実施の形態では、中性点部５０が存在する回転位相では、エアブローノズル９から噴射されるエアの風量を小さくしている。具体的には、例えば、ステータ３を１０ｒｐｍで回転させる場合であれば、中性点部５０の配置範囲が９０度であるから、図６に示すように、ワニス滴下開始から１．５秒間はエアブローノズル９から噴射されるエア風量が小さくされる（風量小にされる）。そして、１．５秒経過すると、それから４．５秒間はエアブローノズル９から噴射されるエアの風量が大きくされる（風量大にされる）。その後、同様の風量小から風量大の変化パターンが繰り返される。なお、図６は、エアブローノズル９から噴射されるエアの風量の変化を示すタイムチャートである。
【００４０】
このような風量制御が実行されることにより、図７に示すように、中性点部５０が存在する回転位相では、エアブローノズル９における風量が小さくなる（風量小になる）。このため、Ｖ相滴下ノズル７Ｖから滴下されて中性点部５０へ吹き付けられるワニスの量が減少する。従って、ワニスが中線点部５０ではじかれて広範囲へ飛散しにくくなる。なお、図７は、エアブローノズルからの風量が小さくなったときにおけるワニス滴下の状態を示す説明図である。
【００４１】
一方、中性点部５０が存在しない回転位相では、図８に示すように、エアブローノズル９における風量が大きくなる（風量大になる）。このため、Ｖ相滴下ノズル７Ｖから滴下されたワニスは吹き飛ばされて、Ｖ相コイル２Ｖのコイルエンド部端面に当たり付着する。これにより、中性点部５０が存在しない回転位相では、Ｖ相コイル２Ｖに対して不足なくワニスを含浸させることができる。なお、図８は、エアブローノズルからの風量が大きいときにおけるワニス滴下の状態を示す説明図である。
【００４２】
そして、ワニス滴下開始時において、中性点部５０の位置とエアブローノズル９との相対位置関係とが調整されている。このため、ステータ３の回転数に応じてエアブローノズル９からの風量を周期的に増減させるという非常に簡単な制御により、センサなどを使用することなく、中性点部５０が存在する回転位相においてのみ、エアブローノズル９における風量を小さくすることができる。
【００４３】
続いて、ワニス供給ポンプ５の駆動開始から所定時間（本実施の形態では、約１３分間）経過後、制御装置１２によりワニス供給ポンプ５の作動が停止させられる。これにより、各滴下ノズルからのワニスの滴下が停止させられ、コイル２へのワニスの含浸工程が終了する。
【００４４】
また、制御装置１２によりヒータ１６の加熱温度が所定温度（本実施の形態では、約１６０℃）に上昇させられてステータ３が加熱され、コイル２に含浸させられたワニスがゲル化・乾燥される。このときも、ステータ３は回転させられているため、吹き付けられる所定温度の温風によって加熱される部分が常に変化し、コイル２に含浸させられたワニスは一様にゲル化され乾燥させられる。
【００４５】
そして、ヒータ１６の加熱温度が所定温度に上昇してから所定時間（本実施の形態では、約３０分間）経過し、コイル２に含浸させられたワニスのゲル化工程が終了すると、制御装置１２によりヒータ１６の温度が通常時の温度に下降される。また、不図示の電磁弁が閉じられて各エアブローノズル９，１０への圧縮空気の供給が停止され、各エアブロノズル９，１０の吹き出し口からのエアの噴射が停止される。
【００４６】
その後、制御装置１２により、モータ２８の作動が停止させられて、ステータ３の回転が停止する。そして、カバー１７が開けられてワニスの含浸工程およびゲル化・乾燥工程が終了したステータ３がワーク回転軸２５から取り外され、別に設けられる乾燥炉でこのゲル化・乾燥工程を終了したステータ３の硬化乾燥処理が行われて、コイル２に含浸させられたワニスが硬化させられる。
【００４７】
そして、ワニスが硬化した後、ステータ３のコア表面に付着した不要なワニスが除去される。ここで、上記したようにしてワニスの広範囲への飛散が抑制されているから、従来に比べて除去するワニスの量を減少させることができる。これにより、ワニス除去の後処理の手間が軽減され、作業効率向上および製造コストの削減を図ることができる。
【００４８】
以上、詳細に説明したように本実施の形態に係るワニス処理装置１によるワニス処理方法では、制御装置１２により、中性点部５０が存在する回転位相ではエアブローノズル９における風量が小さくされ、中性点部５０が存在する回転位相ではエアブローノズル９における風量が大きくされる。これにより、Ｖ相滴下ノズル７Ｖから滴下されて中性点部５０へ吹き付けられるワニスの量が減少するため、ワニスが中線点部５０ではじかれて広範囲へ飛散することを抑制することができる。その一方、中性点部５０が存在しない回転位相では、Ｖ相コイル２Ｖに対して不足なくワニスを含浸させることができる。
【００４９】
なお、上記した実施の形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良、変形が可能であることはもちろんである。例えば、上記した実施の形態では、ステータ３を予備加熱した後に、中性点部５０の位置とエアブローノズル９との相対位置関係を調整しているが、ステータ３をワーク回転軸２５に取り付ける際に、中性点部５０の位置とエアブローノズル９との相対位置関係の調整を行うこともできる。ただし、この場合には、予備加熱時からエアブローノズル９の風量制御を開始しておくことが必要である。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成を示す正面図である。
【図２】実施の形態に係るワニス処理装置の概略構成を示す側面図である。
【図３】図１に示すステータ保持部の要部拡大図である。
【図４】位相決定治具の概略構成を示す側面図である。
【図５】エアブロー開始時におけるステータの回転位相を説明する説明図である。
【図６】エアブローノズル９から噴射されるエアの風量の変化を示すタイムチャートである。
【図７】エアブローノズルからの風量が小さくなったときにおけるワニス滴下の状態を示す説明図である。
【図８】エアブローノズルからの風量が大きいときにおけるワニス滴下の状態を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５１】
１  ワニス処理装置
２  コイル
２Ｕ  Ｕ相コイル
２Ｖ  Ｖ相コイル
２Ｗ  Ｗ相コイル
３  ステータ
４  ステータ保持部
７Ｕ，８Ｕ  Ｕ相滴下ノズル
７Ｖ，８Ｖ  Ｖ相滴下ノズル
７Ｗ，８Ｗ  Ｗ相滴下ノズル
９，１０  エアブローノズル
４０  位相決定治具
４１  凹部
５０  中性点部
【図１】
2007166712.tif 000003
【図２】
2007166712.tif 000004
【図３】
2007166712.tif 000005
【図４】
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【図５】
2007166712.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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