(57)【要約】【課題】凸版反転オフセット印刷法で有機ＥＬ素子の有機発光媒体層を形成するに際し、印刷回数を重ねても、均一な厚みのインキを転写することができ、したがって、高精細で均一な厚みの有機発光材料層を形成することのできる有機ＥＬ素子の製造方法とその装置を提供すること。【解決手段】インキをブランケット胴２０のブランケット２１に供給して均一な厚みのインキ皮膜２２を形成し（積層用材料供給工程)、次に、凸刷版２３に接触させて不要部のインキ皮膜２２を凸刷版２３に転移させ（パターニング工程）、残存するパターニング済みのインキ皮膜２２を基板２１に転移させる。この積層用材料供給工程とパターニング工程とを連続した一連の工程として行うことにより、インキ皮膜２２の乾燥を防止する。【選択図】図２
2007087697.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、基板に支持されたパターン状の第一電極と、第一電極の上に配置された単数または複数の層から構成される有機発光媒体層と、有機発光媒体層の上に配置された第二電極とを具備し、第一電極と第二電極との間に電流を流して有機発光媒体層を発光させて画面表示する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
基板上にパターン状第一電極を形成して被転写体とする第一電極形成工程と、上記被転写体の第一電極上に、有機発光媒体層を構成する各層を、転写印刷法を使用して形成する有機発光媒体層形成工程と、有機発光媒体層の上に第二電極を形成する第二電極形成工程とを備える上記製造方法において、
有機発光媒体層を構成する各層のうち、少なくとも１層を形成する工程が、
仮の支持体を準備し、上記層を構成する積層用材料を、その支持体上に供給する積層用材料供給工程と、
積層用材料を備えた上記支持体を転写体とし、この転写体と、上記積層用材料の不要部に対応する凸部を備えた凸刷版とを、上記積層用材料と上記凸刷版の凸部とが対面するように接触させ、これを密着させて、上記転写体から上記積層用材料の不要部を除去することによって、積層用材料のパターニングを行うパターニング工程と、
上記支持体上にパターニング済みの積層用材料を備えた転写体と、上記被転写体とを、上記積層用材料と上記被転写体とが対面するように接触させ、これを密着させて、上記転写体からパターニング済みの上記積層用材料を上記被転写体上に転写する転写工程と、
から構成され、
かつ、上記積層用材料供給工程とパターニング工程とは、３０秒以内で行われることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項２】
基板と、基板に支持されたパターン状の第一電極と、第一電極の上に配置された単数または複数の層から構成される有機発光媒体層と、有機発光媒体層の上に配置された第二電極とを具備し、第一電極と第二電極との間に電流を流して有機発光媒体層を発光させて画面表示する有機エレクトロルミネッセンス素子の上記有機発光媒体層の製造装置であって、
仮の支持体を準備し、上記有機発光媒体層を構成する各層のうち少なくとも１層を構成する積層用材料を、その支持体上に供給する積層用材料供給機構と、
積層用材料を備えた上記支持体を転写体とし、この転写体と、上記積層用材料の不要部に対応する凸部を備えた凸刷版とを、上記積層用材料と上記凸刷版の凸部とが対面するように接触させ、これを密着させて、上記転写体から上記積層用材料の不要部を除去することによって、積層用材料のパターニングを行うパターニング機構と、
パターン状第一電極を有する基板を被転写体として、この被転写体と、上記支持体上にパターニング済みの積層用材料を備えた転写体とを、上記積層用材料と上記被転写体とが対面するように接触させ、これを密着させて、上記転写体からパターニング済みの上記積層用材料を上記被転写体上に転写する転写機構と、
を備え、
上記積層用材料供給機構とパターニング機構とは、これらの機構による工程を連続した一連の工程として行うように配置されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の有機発光媒体層の製造装置。
【請求項３】
上記支持体は円柱状であり、当該支持体と上記凸刷版は同期して移動可能であることを特徴とする請求項２記載の製造装置。
【請求項４】
上記凸刷版は円柱状または円柱の一部であることを特徴とする請求項2又は3記載の製造装置。
【請求項５】
請求項２〜４のいずれかに記載の装置を用いて製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機薄膜のエレクトロルミネッセンス現象を利用した有機薄膜有機ＥＬ素子（以下、有機ＥＬ素子という）、特に高分子材料を含む有機ＥＬ素子の製造方法と、その製造に用いる印刷装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、二つの対向する電極の間に有機発光層を含む有機発光媒体層が形成され、両電極間から有機発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには有機発光層の膜厚が重要であり、１００〜１０００ｎｍ程度の均一な薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。有機発光素子に用いられる有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は抵抗加熱蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出にくいという問題がある。
【０００３】
最近では有機発光材料として高分子材料を用い、この有機発光材料を溶媒に溶かして塗工液（インキ）にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたり、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３色に塗り分けしたりするにはこれらのウェットコーティング法では難しく、塗り分け、パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成が最も有効であると考えられる。
【０００４】
さらに、各種印刷法のなかでも、有機ＥＬ素子では、ガラス基板を基材として印刷することが多いため、ゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や感光性樹脂版を用いる凸版印刷法が好適である。実際にこれらの印刷法による試みとして、オフセット印刷による方法（例えば特許文献１）、凸版印刷による方法（例えば特許文献２）などが提唱されている。
【０００５】
オフセット印刷法には凹版オフセット印刷法や凸版反転オフセット印刷法と呼ばれるものがある。凹版オフセット印刷法と凸版反転オフセット印刷法はともに平滑なゴム層を印刷面に有するブランケットを用いて、このブランケット上にパターン化されたインキを被転写基板上に転写するものであるが、インキをパターン化する工程が異なる。凹版オフセット印刷法は、インキ供給手段から凹版にインキを供給して凹版の凹部にインキを満たすことによりインキをパターン化する工程と、凹版の凹部にあるパターン化されたインキをブランケットに転写する工程と、ブランケットを被転写基板に押圧し分離してブランケット上にあるインキパターンを被転写基板に印刷する工程からなる。
【０００６】
これに対して、凸版反転オフセット印刷法はインキ供給手段からブランケットの有効面全面にインキを塗工する工程と、凸部をネガパターンにした除去版にブランケットを押圧して分離することで、ブランケットからネガパターン状にインキを除去しブランケット上に所望のパターンを形成する工程と、ブランケットを被転写基板に押圧し分離してブランケット上にあるインキパターンを被転写基板に印刷する工程からなる（特許文献３）。この凸版反転オフセット印刷法は、インキの塗布状態とインキの転移状態とを独立して制御できるため、インキ膜厚の均一性がよいこと、糸引き現象が発生しない良好な転移を低印圧で実現できることから、高精細で歪みの少ない画像を形成する上で有利な方法である。
なお、凸版反転オフセット印刷法に用いられるブランケットの印刷面の用いられるゴム材料は印刷適性等を考慮するとシリコーンゴムが好適であり、シリコーンゴム層が最表層であるシリコーンブランケットが一般的である。
【０００７】
ところで、凸版反転オフセット印刷法において、インキ供給手段からシリコーンブランケットに均一に塗布されたインキ中の溶媒は、自然乾燥とシリコーンゴム層に吸収されることにより半乾燥状態に達する。このとき、インキ中の溶媒がシリコーンゴムに速やかに吸収されることでインキハジキが抑制され、均一な塗布が達成される。しかし、インキ膜の乾燥が進行してしまうとブランケット上のインキ膜が硬くなり、インキ膜を除去版によりパターニングする際に、除去版の凸部に接触する部分だけを選択的に分離することができなくなってしまう。したがって、ブランケット上に所望のインキパターンを形成することができないという問題が発生する。
【０００８】
特に、印刷面積が広くなると、インキ塗布から除去版によるパターン形成までに時間がかかってしまい、インキ溶媒のブランケットへの吸収及び揮発のためにインキ塗膜の半乾燥状態を維持するのが困難となる。
【０００９】
特許文献４では、ブランケット上に均一に塗布されたインキ層を半乾燥状態に保つために、インキに高沸点溶媒を５０％以上添加する方法が開示されている。
【００１０】
しかし、沸点が高い溶媒を大量に添加するとブランケット内に吸収された溶媒を乾燥などの簡便な手法で外に出すことが困難であり、印刷回数を重ねることでブランケットの膨潤状態が飽和し、均一な塗布が不可能となってしまう恐れがある。
【００１１】
また、ブランケットに吸収されにくい溶媒を用いてブランケットの膨潤を防ぐと、ブランケット上でのインキハジキが起きやすくなり、均一なインキ塗布が困難となる。
【００１２】
また、パターニング性や転写性を向上させ、パターニング可能な半乾燥状態の許容範囲を広げるために、様々な添加剤をインキに添加することも可能だが、有機発光材料にこの様な不純物を添加することは、有機ＥＬ素子の特性を著しく低下させる恐れがあり好ましくない。
【００１３】
このように、インキ膜の半乾燥状態を保つための解決策を部材のみに求めると、様々な制約が生じてしまう。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８号公報
【特許文献３】特開２００３−１７２４８号公報
【特許文献４】特開２００４−１８６１１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
したがって、本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決して、印刷回数を重ねても、均一な厚みのインキを転写することができ、したがって、高精細で均一な厚みの有機発光材料層を形成することのできる有機ＥＬ素子の製造方法とその装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
ところで、本発明者は、インキの塗布工程とパターン形成工程との時間の間隔を大幅に短縮することで、シリコーンブランケット上のインキ皮膜の乾燥状態を制御でき、したがって、均一な厚みのインキ皮膜を基板上に転写することができることを見出した。本発明
は、このような技術的背景に基づいてなされたものである。
すなわち、請求項１に係る発明は、基板と、基板に支持されたパターン状の第一電極と、第一電極の上に配置された単数または複数の層から構成される有機発光媒体層と、有機発光媒体層の上に配置された第二電極とを具備し、第一電極と第二電極との間に電流を流して有機発光媒体層を発光させて画面表示する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
基板上にパターン状第一電極を形成して被転写体とする第一電極形成工程と、上記被転写体の第一電極上に、有機発光媒体層を構成する各層を、転写印刷法を使用して形成する有機発光媒体層形成工程と、有機発光媒体層の上に第二電極を形成する第二電極形成工程とを備える上記製造方法において、
有機発光媒体層を構成する各層のうち、少なくとも１層を形成する工程が、
仮の支持体を準備し、上記層を構成する積層用材料を、その支持体上に供給する積層用材料供給工程と、
積層用材料を備えた上記支持体を転写体とし、この転写体と、上記積層用材料の不要部に対応する凸部を備えた凸刷版とを、上記積層用材料と上記凸刷版の凸部とが対面するように接触させ、これを密着させて、上記転写体から上記積層用材料の不要部を除去することによって、積層用材料のパターニングを行うパターニング工程と、
上記支持体上にパターニング済みの積層用材料を備えた転写体と、上記被転写体とを、上記積層用材料と上記被転写体とが対面するように接触させ、これを密着させて、上記転写体からパターニング済みの上記積層用材料を上記被転写体上に転写する転写工程と、
から構成され、
かつ、上記積層用材料供給工程とパターニング工程とは、３０秒以内で行われることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法である。
【００１６】
また、請求項２に係る発明は、基板と、基板に支持されたパターン状の第一電極と、第一電極の上に配置された単数または複数の層から構成される有機発光媒体層と、有機発光媒体層の上に配置された第二電極とを具備し、第一電極と第二電極との間に電流を流して有機発光媒体層を発光させて画面表示する有機エレクトロルミネッセンス素子の上記有機発光媒体層の製造装置であって、
仮の支持体を準備し、上記有機発光媒体層を構成する各層のうち少なくとも１層を構成する積層用材料を、その支持体上に供給する積層用材料供給機構と、
積層用材料を備えた上記支持体を転写体とし、この転写体と、上記積層用材料の不要部に対応する凸部を備えた凸刷版とを、上記積層用材料と上記凸刷版の凸部とが対面するように接触させ、これを密着させて、上記転写体から上記積層用材料の不要部を除去することによって、積層用材料のパターニングを行うパターニング機構と、
パターン状第一電極を有する基板を被転写体として、この被転写体と、上記支持体上にパターニング済みの積層用材料を備えた転写体とを、上記積層用材料と上記被転写体とが対面するように接触させ、これを密着させて、上記転写体からパターニング済みの上記積層用材料を上記被転写体上に転写する転写機構と、
を備え、
上記積層用材料供給機構とパターニング機構とは、これらの機構による工程を連続した一連の工程として行うように配置されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の有機発光媒体層の製造装置である。
【００１７】
また、請求項３に係る発明は、上記支持体は円柱状であり、当該支持体と上記凸刷版は同期して移動可能であることを特徴とする請求項２記載の製造装置である。
【００１８】
また、請求項４に係る発明は、上記凸刷版は円柱状または円柱の一部であることを特徴とする請求項2又は3記載の製造装置である。
【００１９】
また、請求項５に係る発明は、請求項２〜４のいずれかに記載の装置を用いて製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子である。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１に係る発明においては、上記積層材料供給工程とパターニング工程とは、３０秒以内の短時間で行われ、また、請求項２に係る発明においては、積層用材料供給機構とパターニング機構とが、これらの機構による工程を連続した一連の工程として行うように配置されているため、仮の支持体上で積層用材料の乾燥が進むことがなく、このため、繰り返して印刷を行った後にも、均一な厚みの積層用材料を被転写体に転写することができる。
【００２１】
そして、このため、高精細で均一な厚みの有機発光材料層を形成することが可能となるのである。
【００２２】
なお、仮の支持体上で積層用材料の乾燥が進むことがないため、この積層用材料の溶媒の選択の幅も広くなった。
【００２３】
また、請求項３に係る発明においては、仮の支持体が円柱状であり、当該支持体と上記凸刷版が同期して移動するため、より正確で素早い印刷を行うことが可能となった。
【００２４】
また、請求項４に係る発明においては、凸刷版は円柱状または円柱の一部であるため、有機発光媒体層製造装置のサイズを小型化することが可能となった。
【００２５】
また、請求項５に係る発明においては、請求項２〜４に記載の製造装置で有機発光媒体層を製造するため、溶媒の選択の幅が広がり、高性能且つ高品質の有機ＥＬ素子を作成することが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明による有機ＥＬ素子の一例を図面に基づいて説明する。この例に係る有機ＥＬ素子は、図１の断面説明図に示すように、透光性基板１と、基板１に支持されたパターン状の第一電極２と（但し、図１では、説明の便のため、全面に示している）、第一電極２の上に配置された単数または複数の層から構成される有機発光媒体層３と、有機発光媒体層の上に配置された第二電極４とを具備するもので、第一電極２と第二電極４との間に電流を流して有機発光媒体層を発光させて画面表示する。
【００２７】
透光性基板１としては、透光性があり、ある程度の強度がある基材なら制限はないが、具体的にはガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。０．２ｍｍから１ｍｍの薄いガラス基板を用いれば、バリア性が非常に高い薄型の有機ＥＬ素子を作製することができる。
【００２８】
また、透光性基板１として可撓性のあるプラスチック製のフィルムを用いれば、巻き取りにより有機ＥＬ素子の製造が可能であり、安価に素子を提供することができる。プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等を用いることができる。また、第一電極２の反対側にガスバリア性フィルムを積層すれば、よりバリア性が向上し、寿命の長い有機ＥＬ素子とすることができる。ガスバリア性フィルムとしては、セラミック蒸着フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物フィルム等が使用できる。
【００２９】
この例では第一電極２は透明な陽極であり、有機発光層で発生した光はこの第一電極２をとおして出射する。この第一電極２としては、透明または半透明の電極を形成することのできる導電性物質なら特に制限はない。具体的にはインジウムと錫の複合酸化物（以下ＩＴＯという）を好ましく用いることができる。この第一電極２は、上記透光性基板１上に蒸着またはスパッタリング法により製膜することができる。また、オクチル酸インジウムやアセトンインジウムなどの前駆体を透光性基板１上に塗布後、熱分解して酸化物を生成する塗布熱分解法等により形成することもできる。あるいは、アルミニウム、金、銀等の金属を半透明状に蒸着して、第一電極２とすることもできる。また、ポリアニリン等の有機半導体も用いることができる。
【００３０】
上記第一電極２は、例えばエッチングによってパターニングすることが可能である。また、紫外線照射処理、プラズマ処理などの処理を施して、表面の活性化を行ってもよい。
【００３１】
なお、この第一電極２に加えて、一画素電極ごとに駆動回路に接続して、アクティブ駆動可能な画素電極を設けても良い。
【００３２】
次に、有機発光媒体層３は、有機発光層のみの単層構造であっても良いが、この有機発光層に発光補助層を積層させた積層構造であってもよい。発光補助層としては、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層等が例示できる。各層の厚みは任意であるが好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍである。また、有機ＥＬ層３の総膜厚としては１００ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましい。
【００３３】
有機発光層は、発光性を有する材料を有する層である。有機発光層を構成する発光体材料としては、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系、白金錯体系、ユーロピウム錯体系等の低分子発光性色素を、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）等の高分子中に溶解させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリフルオレン系等の高分子発光体を用いることができる。
【００３４】
また、発光補助層のうち、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層は、正孔輸送性や電子ブロック性を有する層であり、それぞれ透明導電層２から有機ＥＬ層３への正孔注入の障壁を下げたり、第一電極（陽極）２から注入された正孔を第二電極（陰極）４の方向へ進めたり、正孔を通しながらも電子が第一電極２の方向へ進行するのを妨げたりする役割を担う層である。
【００３５】
これらの層を構成する材料としては、一般に正孔輸送材料として用いられているものであれば良く、銅フタロシアニンやその誘導体、１，１―ビス（４―ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ’―ジフェニル―Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）―１，１’―ビフェニルー４，４’―ジアミン、Ｎ，Ｎ’―ジ（１―ナフチル）―Ｎ，Ｎ’―ジフェニルー１，１’―ビフェニルー４，４’―ジアミン等の芳香族アミン系などの低分子も用いることができるが、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ＰＶＫ誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物等の高分子材料が成膜性の点から好ましい。また、ポリパラフェニレン（ＰＰＰ）等のポリアリーレン系、ポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）等のポリアリーレンビニレン系等の導電性高分子若しくはＰＳ等の高分子に、アリールアミン類、カルバゾール誘導体、アリールスルフィド類、チオフェン誘導体、フタロシアニン誘導体等の低分子の正孔輸送性、電子ブロック性を示す材料を混合した物を用いても良い。
【００３６】
また、発光補助層のうち、正孔ブロック層、電子輸送層は、電子輸送性や正孔ブロック
性を有する材料を有する層であり、それぞれ第二電極（陰極）４から注入された電子を第一電極（陽極）２の方向へ進めたり、電子を通しながらも正孔が第二電極（陰極）４の方向へ進行するのを妨げたりする役割を担う層である。
【００３７】
これらの層を構成する材料としては、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）誘導体の電荷移動錯体、シロール誘導体、アリールボロン誘導体、ビスフェナントロリン等のピリジン誘導体、パーフルオロ化されたオリゴフェニレン誘導体、オキサジアゾール誘導体等の低分子系のものを用いても良いが、成膜性の点から、電子輸送性ポリシラン、ポリシロール、含ボロンポリマー等の電子輸送性を有するものが好ましい。また、ＰＰＰ等のポリアリーレン系、ＰＰＶ等のポリアリーレンビニレン系等の導電性高分子若しくはポリスチレン等の高分子に、前述の電子輸送性若しくは正孔ブロック性を有する材料を混合した物を用いても良い。
【００３８】
また、発光補助層のうち、電子注入層は、電子注入性を有する材料を有する層であり、第二電極（陰極）４から有機ＥＬ層３への電子の注入障壁を下げる役割を担う層である。この層を構成する材料としては、前述の電子輸送層に用いられるのと同様な材料の他に、フッ化リチウムや酸化リチウム等のアルカリ金属やアルカリ土類金属の塩や酸化物をポリスチレン等の高分子材料に混合した物を用いても良い。
【００３９】
また、これら有機発光層や発光補助層の主成分を溶解若しくは分散させるための溶媒としては、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族溶媒や、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等を単独若しくは混合して用いることができる。
【００４０】
次に、第二電極（陰極）４としてはＭｇ、Ａｌ、Ｙｂ等の金属単体を用いたり、有機発光媒体層３と接する界面にＬｉやＬｉＦ等の化合物を１ｎｍ程度はさんで、安定性・導電性の高いＡｌやＣｕを積層して用いたりすることができる。また、電子注入効率と安定性を両立させるため、仕事関数の低い金属と安定な金属との合金系、例えばＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＣｕＬｉ等の合金が使用できる。
【００４１】
次に、この有機ＥＬ素子の製造方法を、その装置と共に説明する。
【００４２】
すなわち、まず、透光性基板１にパターン状第一電極２を形成する（第一電極形成工程）。第一電極２の形成方法はその材質により異なるが、例えば、ＩＴＯであれば、蒸着またはスパッタリング法により形成することができる。また、そのパターニングはエッチングによって可能である。
【００４３】
次に、この第一電極２上に、有機発光媒体層３を構成する各層を、転写印刷法を使用して形成する（有機発光媒体層形成工程）。有機発光媒体層３が積層構造を有する場合には、有機発光媒体層を構成する各層のすべてを、転写印刷法で形成する必要はないが、平滑性の観点から、少なくともそのうち１層を転写印刷法で形成すべきである。中でも、有機発光層は、その膜面の平滑性および膜厚均一性が非常に重要であるため、凸版反転オフセット印刷で印刷する必要がある。
【００４４】
次に、有機発光媒体層３を形成する際の凸版反転オフセット印刷法について、図２を参照して説明する。すなわち、まず、パターン状第一電極２を有する透光性基板１を用意する。次いで、この透光性基板上１に、導電性高分子材料を含有するインキを印刷して正孔注入層を設ける。このようにして、透光性基板１と第一電極２と正孔注入層とを有する被転写基板２５を得る（図２ａ）。
【００４５】
次に、有機発光層を構成する積層用材料を仮に支持する支持体を準備する。この例では、積層用材料は、有機発光層を構成する上記発光体材料に溶剤を加えてインキ化したものである。また、仮の支持体は、図２ｂに示すように、ブランケット２１を巻回した円柱状のブランケット胴２０である。また、この装置は、上記インキをブランケット胴２０のブランケット２１に供給するインキ供給機構(積層用材料供給機構）２６を備えており、このインキ供給機構(積層用材料供給機構）２６からブランケット２１にインキを供給して、その周囲に均一な厚みのインキ皮膜２２を形成する（積層用材料供給工程)。
【００４６】
ブランケット２１としては、通常のオフセット印刷に用いられているものを使用しても良いが、高い剥離性を有するものが良く、特にシリコーンゴムを最表層に有するものが好ましい。
【００４７】
インキ供給機構(積層用材料供給機構）２６としては、ワイヤーバーコーター、グラビアロール、ダイコーター、キャップコーターなど一般的なインキ塗布法を用いても良いが、インキ塗膜の平滑度を上げるためにはグラビアロール、ダイコーター、キャップコーターを用いることが好ましく、また、インキ垂れを防ぐためにはブランケット胴２０の回転中心よりも下方に設置することが好ましい。
【００４８】
次に、図２に示す装置は、こうしてインキ皮膜２２の形成されたブランケット胴２０を転写体として、この転写体を凸刷版２３に接触させ、かつ、密着させる機構（パターニング機構）を有している。凸刷版２３は上記インキ皮膜２２の不要部に対応する凸部を備えており、この凸部と上記インキ皮膜２２とが対面するように密着させることにより、不要部のインキ皮膜２２を凸刷版２３に転移させて、ブランケット胴２０から除去することができる（パターニング工程）。図中、２４は、凸刷版２３を支持するステージであり、図の左右方向に移動可能に構成されている。
【００４９】
なお、ブランケット胴２０は回転可能に構成されており、この回転に同期して積層用材料供給工程と積層用材料供給工程とが連続した一連の工程として行うように、上記インキ供給機構(積層用材料供給機構）２６とパターニング機構とが、ブランケット胴２０の周囲に配置されている。すなわち、ブランケット胴２０を回転させながら、インキ供給機構(積層用材料供給機構）２６からブランケット胴２０のブランケット２１にインキを塗布し、それと同時に、ステージ２４をブランケット胴２０の回転に同期して移動させ、この凸刷版２３をブランケット２１に密着させて、不要部のインキ皮膜２２をブランケット胴２０から除去することができる。この積層用材料供給工程と積層用材料供給工程とは、３０秒以内で行われる必要がある。これを越えると、インキ皮膜２２の乾燥が進んで、インキ皮膜２２を凸刷版２３によりパターニングする際に、凸刷版２３の凸部に接触する不要部を選択的に転移することができなくなることがある。
【００５０】
次に、図２に示す装置は、パターニング済みのインキ皮膜２２を備えたブランケット胴２０と被転写体とを、上記インキ皮膜２２と上記被転写体とが対面するように接触させ、これを密着させて、上記インキ皮膜２２を被転写体上に転写する転写機構を有している。すなわち、ステージ２４に上記被転写体を固定すると共に、ブランケット胴２０を回転させ、ブランケット胴２０と被転写体とを、上記インキ皮膜２２と上記被転写体とが対面するように接触させ、これを密着させて、上記ブランケット胴２０からパターン状インキ皮膜２２を上記被転写体上に転写する（転写工程、図２ｃ参照）。得られたものの断面図を図２ｄに示す。
【００５１】
なお、この後、有機発光媒体層の上に、第二電極（陰極）４を形成して有機ＥＬ素子を製造することができる（第二電極形成工程）。なお、第二電極４は、抵抗加熱蒸着法、電
子ビーム法、スパッタリング法を用いて形成することができる。厚さは、１０ｎｍから１０００ｎｍ程度が望ましい。
【００５２】
最後に、この有機ＥＬ素子を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止することができる。また、透光性基板が可撓性を有する場合は封止剤と可撓性フィルムを用いて密閉封止を行うことも可能である。
【００５３】
次に、図３は、本発明の別の例を示すものである。図２においては、ステージ２４に固定された凸刷版２３を使用したが、図３においては、円柱状の凸刷版２３を使用している（図３ｂ参照）。その他は、図２に示す例と同様である。そして、この例では、ブランケット胴２０を回転させながら、それに同期して円柱状の凸刷版２３を回転させる構造となっている。
【００５４】
なお、円柱状の凸刷版２３に代えて、円柱の一部の形状を有する凸刷版２３を使用することも可能である。すなわち、断面扇形の凸刷版２３である。
【００５５】
最後にこれらの有機ＥＬ積層体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、有機ＥＬ素子を得ることができる。また、透光性基板が可撓性を有する場合は封止剤と可撓性フィルムを用いて密閉封止をおこなう。
【実施例】
【００５６】
＜実施例１＞
ＴＳＥ３０３２（Ａ）（ＧＥ東芝シリコーン製２液型シリコーンゴム主剤）１００重量部と、ＴＳＥ３０３２（Ｂ）（ＧＥ東芝シリコーン製２液型シリコーンゴム硬化剤）１０重量部とを混合し、シリコーンゴム組成物を得た。この組成物をＰＥＴ基材上にナイフコーターを用い塗布し、７０℃で２時間加熱し硬化反応をさせて、厚さ０．２ｍｍのシリコーンゴム層を有するシリコーンブランケットを得た。
【００５７】
一方、ＩＴＯ付きガラス基板を用意し、そのＩＴＯを所定のパターンにエッチングした。次いで、エッチングしたＩＴＯ上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物を、スピンコート法により塗布して、厚さ５０ｎｍの正孔注入層を設けた。このようにして、透光性基板１と第一電極２と正孔注入層とを有する被転写基板２５を得た。
【００５８】
他方、ポリアリーレンビニレン系高分子発光体であるポリ（２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシロキシ）−１，４−フェニレンビニレン）をトルエンに溶解し、有機発光インキ２２を得た。
【００５９】
次に、上記シリコーンブランケット２１を直径３０ｃｍの円筒状のブランケット胴２０に巻き付けた。また、不要部が凸部になるようパターン形成された樹脂製の凸版を直径３０ｃｍの円柱に巻き付け、凸刷版２３とした。
【００６０】
シリコーンブランケット２１を凸刷版２３に圧着させた状態で、キャップコーターをシリコーンブランケット２１の下方より接触させ、ブランケット胴２０を回転させインキの塗布を行った。また、ブランケット胴２０の回転と同期させて凸刷版２３を回転させ、不要部のインキ皮膜２２を凸刷版２３の凸部に転移させて、シリコーンブランケット２１から除去し、パターニングを行った。なお、インキの塗布とパターニングとの間の時間は、３０秒である。
【００６１】
次に、シリコーンブランケット２１上の有機発光層を上記被転写基板２５に密着させ、
ブランケット胴２０を回転させながら圧着させ、有機発光層を転写した。
【００６２】
この印刷工程を、３０枚の基板に対して行ったが、３０枚目の印刷においても良好な印刷結果を得た。
【００６３】
次に、ロータリーポンプを使用して、減圧下１００℃にて１０ｍｉｎの間、乾燥を行い有機発光層を形成した。
【００６４】
更に、有機発光層が形成された基板に対し、リチウムおよびアルミニウムを真空蒸着により、それぞれ、０．５ｎｍ、２００ｎｍの厚さに、順次設けて、有機ＥＬ素子を得た。得られたＥＬ素子に８Ｖの電圧を印可したところ、１００ｃｄ／ｍ2のパターン化された発光を示した。
【００６５】
＜比較例１＞
インキ塗布工程と、パターニング工程とを別々に順次行った。
【００６６】
実施例１において、有機発光インキをシリコーンブランケット２１に塗布してから１ｍｉｎの待機時間を経た後に、シリコーンブランケット２１を凸刷版２３へ圧着し、パターニングした。
【００６７】
その結果、インキ膜が乾燥してしまい、凸刷版２３の凸部でないところでもインキ皮膜２２が除去されてしまった。その結果、所望のパターンが形成されず、有機ＥＬ素子を製造することはできなかった。
【００６８】
＜比較例２＞
有機発光インキの溶剤組成がトルエン５０％とｎ−ブチルベンゼン５０％であること以外は、比較例１と同様の条件で、印刷を行った。
【００６９】
その結果、待機時間１ｍｉｎを経た後にも良好なパターニング結果を得ることができた。しかし、同様な印刷を１０回行ったところ、シリコーンブランケット２１が膨潤しきってしまいインキハジキが発生したため良好な印刷結果を得られなかった。
【００７０】
印刷できた基板を用い、有機ＥＬ素子を作製した。その素子に８Ｖの電圧を印可したところ、５０ｃｄ／ｍ2のパターン化された発光を示した。また、乾燥時間を３０ｍｉｎに延ばしたが、８Ｖの印可電圧で８０ｃｄ／ｍ2のパターン化された発光しか得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の高分子有機ＥＬ素子の断面図である。
【図２】図２ａ〜ｄは本発明の高分子有機ＥＬ素子の製造工程を示す説明図である。
【図３】図３ａ〜ｅは本発明の高分子有機ＥＬ素子の製造工程を示す説明図である。
【符号の説明】
【００７２】
１．  透光性基板
２．  第一電極（陽極）
３．  有機発光媒体層
４．  第二電極（陰極）
２０．  ブランケット胴
２１．  シリコーンブランケット
２２．  積層用材料インキ
２３．  凸刷版
２４．  ステージ
２５．  被転写基板
２６．  インキ供給手段
【図１】
2007087697.tif 000003
【図２】
2007087697.tif 000004
【図３】
2007087697.tif 000005