(57)【要約】【課題】気体浮上型の基板搬送装置において、搬送の安定化を図ること。【解決手段】基板の搬送路部材に基板を浮上させるための吐出孔を多数を搬送方向に配列し、この搬送路部材を搬送方向に傾斜させる。例えば進行方向側が低いとすると、浮上した基板は自重により下って進もうとするが、搬送路に沿ってベルト機構により移動な押圧部材により、下ろうとする基板の前方側を押圧し、この押圧状態を保持したまま基板が傾斜している方向と同じ向きに押圧部材を移動させる。また進行方向が高い場合には基板の後方側を押圧して同様に押圧部材を移動させる。更にまた搬送路部材を水平に配置した場合には、気体の吐出方向を進行方向側あるいは逆側に向くように斜め上方に吐出させ、これにより基板を押圧部材に押圧させて同様にして基板を搬送する。【選択図】図１
2007182304.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の搬送方向に傾斜するように基板の搬送路を形成する搬送路部材と、
この搬送路部材に搬送路に沿って形成され、基板浮上用の気体を吐出する気体吐出孔と、
前記気体の吐出により浮上した基板の自重により低い位置に向かって移動しようとする基板の押圧力に抗して当該基板を押圧するための押圧部材と、
この押圧部材により基板を押圧している状態のまま基板が低い位置に向かってまたは高い位置に向かって移動するように前記押圧部材を移動させるための駆動機構と、を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
基板の搬送路を形成する搬送路部材と、
この搬送路部材に搬送路に沿って形成され、搬送路の一端側または他端側に向けて上方斜めに基板浮上用の気体を吐出する気体吐出孔と、
前記気体の吐出により浮上した基板が前記気体吐出孔からの気体の吐出により移動しようとする押圧力に抗して当該基板を押圧するための押圧部材と、
この押圧部材により基板を押圧している状態のまま基板が気体の吐出方向とは反対側にまたは気体の吐出方向と同じ向きに移動するように前記押圧部材を移動させるための駆動機構と、を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項３】
基板の搬送路を搬送方向に複数に分割して形成した各分割区域毎に気体吐出孔からの気体の吐出、停止を独立して行うための開閉手段と、
基板の搬送路上における搬送方向の位置を検出する位置検出手段と、
この位置検出手段による検出結果に基づいて、各分割区域の気体の吐出、停止を開閉手段を介して制御する制御部と、を備えたことを特徴とする請求項１または２記載の基板搬送装置。
【請求項４】
位置検出手段は、前記分割領域の各々に設けられ、基板の有無を検出する基板検出センサであることを特徴とする請求項３記載の基板搬送装置。
【請求項５】
搬送路からの基板の高さを検出する高さ検出手段と、
この高さ検出手段の検出結果に基づいて基板が予め設定した高さに位置しているか否かを判定する手段と、を備えたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
【請求項６】
基板の搬送路の中心線の両側に、浮上している基板が搬送路の中央に位置するように、当該中心線に向かって斜め上方に気体を吐出する中心位置合わせ用の気体吐出孔を備えたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
【請求項７】
搬送路が幅方向に傾斜し、
この傾斜により低い位置に向かって移動しようとする基板を受け止める規制部材と、この規制部材を前記押圧部材とともに移動させるための手段と、を備えたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一つに記載の基板搬送装置。
【請求項８】
規制部材は押圧部材に組み合わせて設けられていることを特徴とする請求項７記載の基板搬送装置。
【請求項９】
基板の搬送方向に傾斜するように基板の搬送路を形成する搬送路部材から基板浮上用の気体を吐出して基板を浮上させる工程と、
前記気体の吐出により浮上した基板の自重により低い位置に向かって移動しようとする基板の押圧力に抗して当該基板を押圧部材により押圧し、この押圧状態のまま基板が低い位置に向かってまたは高い位置に向かって移動するように前記押圧部材を移動させる工程と、を備えたことを特徴とする基板搬送方法。
【請求項１０】
基板の搬送路を形成する搬送路部材から搬送路の一端側または他端側に向けて上方斜めに基板浮上用の気体を吐出して基板を浮上させる工程と、
前記気体の吐出により浮上した基板が前記気体吐出孔からの気体の吐出により移動しようとする押圧力に抗して当該基板を押圧部材により押圧し、この押圧状態のまま基板が気体の吐出方向とは反対側にまたは気体の吐出方向と同じ向きに移動するように前記押圧部材を移動させる工程と、を備えたことを特徴とする基板搬送方法。
【請求項１１】
基板の搬送路上における搬送方向の位置を検出する工程と、
基板の搬送路を搬送方向に複数に分割して形成した各分割区域の気体の吐出、停止の制御を、前記工程による検出結果に基づいて行う工程と、を備えたことを特徴とする請求項９または１０に記載の基板搬送方法。
【請求項１２】
搬送路からの基板の高さを検出する工程と、
基板の高さの検出結果に基づいて基板が予め設定した高さに位置しているか否かを判定工程と、を備えたことを特徴とする請求項９ないし１１のいずれか一つに記載の基板搬送方法。
【請求項１３】
基板の搬送路の中心線の両側に形成された気体吐出孔から、浮上している基板が搬送路の中央に位置するように、当該中心線に向かって斜め上方に気体を吐出する工程を備えたことを特徴とする請求項９ないし１２のいずれか一つに記載の基板搬送方法。
【請求項１４】
搬送路が幅方向に傾斜し、
この傾斜により低い位置に向かって移動しようとする基板を規制部材により受け止めた状態で、この規制部材を前記押圧部材とともに移動させることを特徴とする請求項９ないし１３のいずれか一つに記載の基板搬送方法。
【請求項１５】
搬送路部材に搬送路に沿って形成され、基板浮上用の気体を吐出する気体吐出孔を備えた基板搬送装置に用いられるコンピュータプログラムであって、
請求項９ないし１４のいずれか一つに記載の基板搬送方法を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とするコンピュータプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、空気などの気体により基板を浮上させながら搬送する基板搬送装置及び基板搬送方法並びにこの方法を実施するためのコンピュータプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造プロセスにおける基板の搬送機構としては、搬送アームが主流であるが、搬送アームを進退する機構及び搬送路に沿って搬送するための機構などが必要である。基板サイズが大型化するとそれらの機構も大型化し、例えば半導体ウエハのサイズが１２インチあるいは１６インチにもなると、駆動部分も可成り大掛かりになり、また専用の排気流の形成など発塵対策にも工夫が必要になってくる。一方半導体製造装置も基板の大口径化にともなって大型化してくることから、できるだけ構造の簡素化を図る要請が大きくなっている。
【０００３】
こうした観点からすれば、基板の搬送機構としてエアーにより浮上させて搬送させる手法は装置を薄型にできることから得策である。この手法は広く知られているが、基板を安定して搬送することが難しく、現実には採用しにくい構成と言われている。例えば特許文献１には、搬送路を形成する扁平構造体の上面に多数の細孔を搬送路に沿って形成してここから気体を吹き出すことで基板を浮上させ、そしてこの搬送路を傾斜させることでその自重により基板を移動させる構成が記載されている。
【０００４】
しかし浮上した基板は摩擦力が作用していないため不安定な状態であり、僅かな力の作用により移動中に左右方向に位置ずれを起こしやすく、位置決めされた安定した状態で搬送することが難しく、また設定位置に停止させることも困難である。
【０００５】
例えば基板に対してレジストの塗布及び現像を行う塗布、現像装置においては、処理ユニットの数が多いことから例えば処理ブロックを積層すると共に、運用の都合上処理ユニットの配置されたブロック内を直通搬送することも検討されており、このように長い距離を搬送する場合には気体浮上型の搬送機構は薄型であることから有利であると考えられるが、上述の課題があることから適用が阻まれている。
【０００６】
【特許文献１】特開昭５７−１２８９４０号公報：第２頁左下欄第１２行〜１７行
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、このような事情のもとになされたものであり、その目的は、基板を安定して搬送することのできる気体浮上型の基板搬送装置及び基板搬送方法を提供することにある。  
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る基板搬送装置は、基板の搬送方向に傾斜するように基板の搬送路を形成する搬送路部材と、
この搬送路部材に搬送路に沿って形成され、基板浮上用の気体を吐出する気体吐出孔と、
前記気体の吐出により浮上した基板の自重により低い位置に向かって移動しようとする基板の押圧力に抗して当該基板を押圧するための押圧部材と、
この押圧部材により基板を押圧している状態のまま基板が低い位置に向かってまたは高い位置に向かって移動するように前記押圧部材を移動させるための駆動機構と、を備えたことを特徴とする。  
他の発明に係る基板搬送装置は、基板の搬送路を形成する搬送路部材と、
この搬送路部材に搬送路に沿って形成され、搬送路の一端側または他端側に向けて上方斜めに基板浮上用の気体を吐出する気体吐出孔と、
前記気体の吐出により浮上した基板が前記気体吐出孔からの気体の吐出により移動しようとする押圧力に抗して当該基板を押圧するための押圧部材と、
この押圧部材により基板を押圧している状態のまま基板が気体の吐出方向とは反対側にまたは気体の吐出方向と同じ向きに移動するように前記押圧部材を移動させるための駆動機構と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
この発明においては、基板の搬送路を搬送方向に複数に分割して形成した各分割区域毎に気体吐出孔からの気体の吐出、停止を独立して行うための開閉手段と、基板の搬送路上における搬送方向の位置を検出する位置検出手段と、この位置検出手段による検出結果に基づいて、各分割区域の気体の吐出、停止を開閉手段を介して制御する制御部と、を備えた構成とすることが好ましい。この場合、例えば位置検出手段は、前記分割領域の各々に設けられ、基板の有無を検出するセンサである。また制御部は、基板が通過した後の分割区域の気体の吐出を停止するために開閉手段を制御するようにしてもよいし、基板が通過する前の分割区域の気体の吐出を停止するために開閉手段を制御するようにしてもよい。
【００１０】
更に本発明では、搬送路からの基板の高さを検出する高さ検出手段と、この高さ検出手段の検出結果に基づいて基板が予め設定した高さに位置しているか否かを判定する手段と、設けることが好ましい。また本発明では、基板の搬送路の中心線の両側に、浮上している基板が搬送路の中央に位置するように、当該中心線に向かって斜め上方に気体を吐出する中心位置合わせ用の気体吐出孔を備えた構成としてもよい。
【００１１】
更にまた本発明では、搬送路が幅方向に傾斜し、
この傾斜により低い位置に向かって移動しようとする基板を受け止める規制部材と、この規制部材を前記押圧部材とともに移動させるための手段と、を備えた構成としてもよく、この場合、規制部材は押圧部材に組み合わせて設けられているようにしてもよい。
【００１２】
本発明の基板搬送方法は、基板の搬送方向に傾斜するように基板の搬送路を形成する搬送路部材から基板浮上用の気体を吐出して基板を浮上させる工程と、
前記気体の吐出により浮上した基板の自重により低い位置に向かって移動しようとする基板の押圧力に抗して当該基板を押圧部材により押圧し、この押圧状態のまま基板が低い位置に向かってまたは高い位置に向かって移動するように前記押圧部材を移動させる工程と、を備えたことを特徴とする  。  
他の発明の基板搬送方法は、基板の搬送路を形成する搬送路部材から搬送路の一端側または他端側に向けて上方斜めに基板浮上用の気体を吐出して基板を浮上させる工程と、
前記気体の吐出により浮上した基板が前記気体吐出孔からの気体の吐出により移動しようとする押圧力に抗して当該基板を押圧部材により押圧し、この押圧状態のまま基板が気体の吐出方向とは反対側にまたは気体の吐出方向と同じ向きに移動するように前記押圧部材を移動させる工程と、を備えたことを特徴とする。また本発明方法においては、搬送路が幅方向に傾斜し、この傾斜により低い位置に向かって移動しようとする基板を規制部材により受け止めた状態で、この規制部材を前記押圧部材とともに移動させるようにしてもよい。  
更にまた他の発明は、搬送路部材に搬送路に沿って形成され、基板浮上用の気体を吐出する気体吐出孔を備えた基板搬送装置に用いられるコンピュータプログラムであって、本発明の基板搬送方法を実施するようにステップ群が組まれていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、搬送路部材に形成された気体吐出孔からの気体により基板を浮上させて搬送するにあたり、搬送路部材を傾斜させたりあるいは気体の吐出方向を搬送方向側に向けて基板に移動する作用を与えると共に、この作用に抗して当該基板を押圧部材により押圧し、この状態で基板を搬送するようにしているので、基板を安定して搬送することができる。
【００１４】
また基板の搬送路を搬送方向に複数に分割し、基板の搬送路上における搬送方向の位置を検出してその検出結果に基づいて各分割区域の気体の吐出、停止を制御するようにしているので、気体の消費量を抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１は、本発明の実施の形態に係る基板搬送装置を示す図であり、同図中１は基板の搬送路を形成する搬送路部材である長尺な搬送路プレートである。この搬送路プレート１は、一端側（図１中左端側）及び他端側が夫々搬入用の受け渡し台２及び搬出用の受け渡し台３をなすものである。搬入用の受け渡し台２は、外部の馬蹄形の搬送アーム２０から基板である半導体ウエハＷ（以下ウエハという）が搬入される部位であり、搬送アーム２０と受け渡し台２との間でウエハの受け渡しができるように３本の昇降ピン２１が突出、没入自在に設けられている。また搬出用の受け渡し台３についても同様に３本の昇降ピン３１が突出、没入自在に設けられており、図示しない搬送アームと受け渡し台３との間でウエハＷの受け渡しができるように構成されている。
【００１６】
搬送路プレート１の上面（搬送面）は、図１では水平に記載してあるが、図２に示すように他端側が低くなっていていてウエハＷの進行方向側に傾斜しており、この例では搬出用の受け渡し台３については水平に配置されている。搬送路プレート１の水平ラインからの傾斜角は例えば０．３度程度である。また搬送路プレート１は搬送方向に複数に分割されており、図１では受け渡し台２、３も含めて８個に分割されている。この分割された領域を分割区域と呼ぶことにすると、搬送路プレート１の一端側から８つの分割区域Ｓ１〜Ｓ８が配列されていることになる（分割区域Ｓ１、Ｓ８は夫々受け渡し台２、３に相当する）。
【００１７】
搬送路プレート１には、厚さ方向に貫通する気体吐出孔４が幅方向に複数配列されており（図１では便宜上４個としてある）、この気体吐出孔４の配列群が長さ方向つまり搬送方向に沿って多数配列されている。搬送路プレート１の幅方向に配列された気体吐出孔４についてみると、図３に示すように搬送路の中心に対して左右対称に形成されており、例えば最も外側に位置する気体吐出孔４（４ａ）については搬送路の中心に向かって斜め上方に気体を吐出するように形成され、中央側に位置する気体吐出孔４（４ｂ）については真上に気体を吐出するように形成されている。
【００１８】
気体吐出孔４ａは、ウエハＷを浮上させる役割の他に、浮上しているウエハＷに対して左右両側から中心に向かう力を作用させることでウエハＷを搬送路の中央に寄せて位置させる役割も持っている。気体吐出孔４ａ、４ｂは、いずれもウエハＷ浮上用の気体を吐出させるためのものであって、気体吐出孔４ａが中心位置合わせ用の気体吐出孔を兼用している。なお気体吐出孔４ａは、真上に気体を吐出するように構成してもよい。
【００１９】
なお搬送路の終端部である搬出用の受け渡し台３は、図１及び図４に示すようにリング状の溝（リング溝）４１と、このリング溝４１から放射状に周方向等間隔に伸びる４個の溝４１ａと、を備え、４つの溝４１ａには、各々気体吐出孔４３が形成されると共に、リング溝４１における各溝４１ａに臨む部位には吸引孔４２が形成されている。受け渡し台３の下面側には吸引孔４２及び気体吐出孔４３に夫々連通する環状の通気室が設けられている。吸引孔４２は、環状の通気室及び吸引路を介して吸引手段に接続されているが、吸引孔４２と気体吐出孔４３との位置を逆にしてもよい。
【００２０】
気体吐出孔４、４１は、分割区域Ｓ１〜Ｓ７毎に独立して気体を吐出、制御できるよう構成されている。即ち、図２に示すように搬送路プレート１の下面側には各分割区域Ｓ１〜Ｓ７毎に通気室形成部材４４ａにより中空領域である通気室４４が形成され、気体吐出孔４の入り口側がこの通気室４４に開口している。分割領域Ｓ１に関しては、図４に示すように通気室４４における昇降ピン２１の設置位置に対応する部位にスリーブ２２ａが配置されていて、通気室４４の下方から昇降ピン２１が、スリーブ２２ａ内及び受け渡し台２に形成された孔を介して昇降できるようになっている。図４中、２３は、昇降ピン２１を支持部材２４を介して昇降させる昇降機構である。  
更にまた分割領域Ｓ８（受け渡し台３）に関しては、下方側から３本の昇降ピン３１が受け渡し台３に形成された孔を介して昇降できるようになっている。図４中、３３は、昇降ピン３１を支持部材３４を介して昇降させる昇降機構である。  
また搬送路プレート１は一体のプレートで構成してもよいが、各分割区域Ｓ１〜Ｓ８を構成するプレートを連結した構造であってもよい。
【００２１】
図２に示すように各通気室４４には、気体供給管４５が接続されており、各気体供給管４５には、気体の供給、停止を行うための開閉手段であるバルブＶ１〜Ｖ７が介設されている。なおＦはパーティクル除去用のフィルタである。各気体供給管４５は、基端側が共通の配管４６に接続されていて、流量調整部であるマスフローコントローラＭＦＣ及びバルブＶを介してエアーの供給源である気体供給源４７に接続されている。また分割領域Ｓ８の気体吐出孔４３にもバルブＶ８が介設された気体供給管４５が接続されており、マスフローコントローラＭＦＣ及びバルブＶを介してエアーの供給源である気体供給源４７に接続されている。
【００２２】
また分割区域Ｓ２〜Ｓ８には、ウエハＷの搬送方向の位置を検出する位置検出手段をなす光センサである反射型センサあるいは静電容量センサからなるウエハ検出センサ５が設けられており、この例では分割領域Ｓ２〜Ｓ８における幅方向中央部かつ上流端に配置されている。各ウエハ検出センサ５は、図２に示すように制御部５０に接続されており、制御部５０は、これらウエハ検出センサ５からの検出信号に基づいてウエハＷの位置を判断し、その判断結果（検出結果）に基づいてバルブＶ１〜Ｖ８を制御するプログラムを備えている。またこのプログラムは、基板を搬送するために必要なステップ群が含まれたプログラムを備えており、コンパクトディスクなどの記憶媒体により制御部５０をなすコンピュータにインストールされる。
【００２３】
例えばこのプログラムは、分割区域Ｓ２〜Ｓ７において、一の分割区域のウエハ検出センサ５がウエハＷを検出したときに当該分割区域に対応するバルブが開いて気体が吐出し、当該分割区域の一つ下流側の分割区域のウエハ検出センサ５がウエハＷを検出しなくなったときに前記一の分割区域に対応するバルブが閉じて気体の吐出が停止するようにステップ群が組まれている。従って例えば分割区域Ｓ２に着目すると、この分割領域Ｓ２の入り口に設けられたウエハ検出センサ５がオンになったときにバルブＶ２が開き、一つ下流側の分割領域Ｓ３の入り口のウエハ検出センサ５がオンからオフになったときにバルブＶ２が閉じることになる。
【００２４】
また分割区域Ｓ１（搬入用の受け渡し台２）については、例えば昇降ピン２１が上昇位置にありつまりウエハＷが載置されている状態にあり、かつ搬出用の受け渡し台３にウエハＷが存在しないときに例えば当該受け渡し台３の昇降ピン３１が下降位置にあるときに、バルブＶ１が開かれて気体吐出孔４から気体が吐出すると共に、分割領域Ｓ２の入り口のウエハ検出センサ５がオンからオフになったときにバルブＶ１が閉じられて気体の吐出が停止する。更に分割領域Ｓ８（搬出用の受け渡し台３）については、当該分割区域Ｓ８の入り口のウエハ検出センサ５がオンになったときにバルブＶ８が開かれて気体吐出孔４から気体が吐出すると共に、昇降ピン３１が上昇位置にあるときにバルブＶ８が閉じられる。前記プログラムは、このようなシーケンスが組まれるように構成されている。
【００２５】
搬送路プレート１における分割区域Ｓ２〜Ｓ８においては、図１及び図３に示すようにウエハＷの軌道が左右に外れたときに落下しないように両側縁に夫々ガイド部材１１、１２が設けられており（図１では、片方のガイド部材１１は省略してある）、これらガイド部材１１、１２には、例えば分割区域Ｓ２〜Ｓ８毎にウエハＷの浮上高さを検出するための高さ検出手段が設けられている。この例では、図５に示すようにウエハＷが正常に浮上しているときの高さ例えば０．３ｍｍよりも低いレベルＨ１と高いレベルＨ２との夫々に光軸を有する高さ検出センサである透過型の光センサ１３、１４が配置されている。なお光センサ１３（１４）における発光部１３ａ（１４ａ）及び受光部１３ｂ（１４ｂ）は、夫々ガイド部材１１、１２に設けられている。  
これら光センサ１３あるいは１４は、実際には、ウエハＷの厚さよりも小さい間隔で上下に複数配列されていて、ウエハＷがある高さゾーンに位置しているときに検出できるように構成される。
【００２６】
前記受光部１３ｂ（１４ｂ）の出力は制御部５０に送られ、制御部５０は、いずれかの受光信号が検出されたときに、アラームを出力する機能を有している。また制御部５０は、その受光信号に応じた表示、例えば受光部１３ｂによりウエハＷを検出したときには浮上力低下に応じた信号或いは表示を行い、また受光部１４ｂによりウエハＷを検出したときには浮上力が大きすぎた旨の信号或いは表示を行う機能を備えた構成としてもよい。  
そしてこの実施の形態では、図１及び図３に示すようにウエハＷの進行方向前方側を押圧するための押圧部材６を備えており、この押圧部材６の押圧面６ａは、ウエハＷの周縁形状に対応する円弧形状に作られている。一方、搬送路プレート１の横には搬送路に沿って押圧部材６を移動させるためのベルト駆動機構６０が配置されている。このベルト駆動機構６０は、搬送路の両端に夫々位置する駆動プーリ６１及び従動プーリ６２に掛けられた駆動ベルト６３を含み、押圧部材６は、支持部材６４を介して駆動ベルト６３に取り付けられていて、駆動ベルト６３と共に移動するようになっている。押圧部材６の役割について述べると、気体の吐出により浮上したウエハＷは、その自重により傾斜している方向、即ち搬出用の受け渡し台３側に移動しようとするが、押圧部材６は、ウエハＷの自重における搬送方向の力に抗してウエハＷを押圧した状態で、言い換えればこのウエハＷの移動を前方側で規制した状態で前方側に移動する。即ち、押圧部材６の移動速度は、ウエハＷがフリーで搬送路プレート１上を前方に下って向かっていくときの速度よりも小さい速度で移動することになる。
【００２７】
次に上述実施の形態の作用について説明する。今、図１に示すように外部から搬送アーム２０によりウエハＷが保持されて、搬送路プレート１の一端側の搬入用の受け渡し台２の上方に位置したとすると、昇降ピン２１が突出して搬送アーム２０上のウエハＷを突き上げて保持し、続いて搬送アーム２０が退避し、昇降ピン２１が下降してウエハＷが受け渡し台２上に載置される。続いて搬送路プレート１の他端側の搬出用の受け渡し台３にウエハＷが載置されていないことを条件にバルブＶ１（図２参照）が開かれて受け渡し台２の気体吐出孔４からエアーが吐出し、ウエハＷが浮上する。図２に示したように搬送路プレート１はこの例では受け渡し台３も含めて他端側に傾斜しており、浮上したウエハＷには摩擦が働いていないことからその自重により他端側に向けて移動し始める。
【００２８】
ここで押圧部材６は、受け渡し台２の真上にウエハＷが浮上したときに僅かにウエハＷの進行方向前方であって、ウエハＷの浮上位置にて待機されており、このためウエハＷは僅かに滑り落ちたときにこの押圧部材６により受け止められる。そしてウエハＷが押圧部材６を押した格好でつまり押圧部材６がウエハＷの自重により下に向かおうとする力に抗して押圧しながら、ベルト駆動機構６０の駆動により搬送路プレート１の他端側に向けて移動する。ウエハＷが搬入用の受け渡し台２の上に位置しているときには、他の分割区域Ｓ２〜Ｓ８におけるバルブＶ２〜Ｖ８は閉じていてエアーの吐出は行われていないが、ウエハＷが分割区域Ｓ２の入り口を通過すると、そこに位置しているウエハ検出センサ５によりウエハＷの通過を検出され、その結果分割区域Ｓ２におけるバルブＶ２が開かれて気体吐出孔４からエアーが吐出される。
【００２９】
こうしてウエハＷは、分割区域Ｓ２におけるエアーの上を滑り落ちて進んでいく。搬送路プレート１からのウエハＷの浮上高さは既述のように例えば０．３ｍｍである。ここで図６及び図７は、ウエハＷが押圧部材６により押圧されながら（位置規制されながら）搬送路プレート１上を下っていく様子を示している。また
図８は、ウエハＷの位置とエアーの吐出との対応を示す図である。今分割区域Ｓ３にウエハＷが収まっているとすると、当該分割区域Ｓ３においてのみエアーが吐出している。そしてウエハＷが前進してその一部が分割区域Ｓ４にさしかかると、その入り口のウエハ検出センサ５がオフからオンになり、当該分割区域Ｓ４においてもバルブＶ４が開かれてエアーが吐出し、ウエハＷは分割区域Ｓ３及びＳ４から吐出するエアーにより浮上した状態になっている。更にウエハＷが前進して分割区域Ｓ３を通過し終えて分割区域Ｓの入り口のウエハ検出センサ５がオンからオフに変わると、分割区域Ｓ３におけるバルブＶ３が閉じてエアーの吐出が停止する。
【００３０】
このように分割区域Ｓ１〜Ｓ８では、ウエハＷの移動に伴って必要な区域についてだけエアーの吐出がなされ、ウエハＷは押圧部材６によりその前端を受け止められながら即ち位置規制されながら下っていき、搬出用の受け渡し台３まで搬送される。この受け渡し台３においては、入り口のウエハ検出センサ５がオフからオンになると、バルブＶ８が開いて気体吐出孔４１からエアーが吐出され、ウエハＷは、搬送路プレート１が分割区域Ｓ７まで傾斜していることから、自重による推力が受け渡し台３に進入しても保たれており、押圧部材６を予め設定した位置に停止させることで、ウエハＷが受け渡し台３における予定された位置にてエアーにより浮上した状態で静止する。続いて昇降ピン３１がこのウエハＷを突き上げ、バルブＶ８を閉じてエアーの吐出を停止し、その後昇降ピン３１が下降してウエハＷが受け渡し台３上に載置されることになる。しかる後、図示しない搬送アームにより昇降ピン３１との協働作用で当該ウエハＷが受け取られて搬出される。
【００３１】
またこうしたウエハＷの一連の搬送中において気体吐出系統などに不具合が生じてウエハＷの浮力が足りなくなり、ウエハＷの高さレベルがＨ１になったとすると、高さ検出センサ１３によりウエハＷが検出されてオンになり、この結果制御部５０は、ウエハＷの浮力が足らないと判断してアラームを発する。またウエハＷの浮力が大きすぎて、ウエハＷの高さレベルがＨ２になったとすると、高さ検出センサ１３によりウエハＷが検出され、この結果制御部５０は、ウエハＷの浮力が大きすぎると判断してアラームを発する。なお高さレベルＨ１、Ｈ２は、既述のように各々１点の高さではなく、ある高さゾーンのウエハＷを検出できるように設定されている。  
このような一連の動作は、制御部５０に記憶されているコンピュータプログラムのステップ群を実行することにより実施される。
【００３２】
上述の実施の形態によれば、搬送路部材１に形成された気体吐出孔４からの気体によりウエハＷを浮上させて搬送するにあたり、搬送路部材１をウエハＷの進行方向側が低くなるように傾斜させ、これによりウエハＷを自重により前方側に（低い位置に向かって）滑らせると共に、ウエハＷの前方側を押圧部材６により押さえつけ、ウエハＷが滑り落ちようとする力に抗してウエハＷを押圧（規制）し、この押圧状態（規制状態）を保ったままウエハＷを搬送するようにしているため、ウエハＷを安定して搬送することができ、このためウエハＷが左右にふらつくといったことが抑えられ、予定している軌道に沿って搬送され、また予定している停止位置を通り過ぎることなくその位置に確実に停止させることができる。
【００３３】
また搬送路プレート１を搬送方向に複数に分割し、ウエハ検出センサ５によりウエハＷの搬送路上における搬送方向の位置を検出してその検出結果に基づいて各分割区域Ｓ１〜Ｓ８のうちウエハＷの搬送に寄与する区域についてのみエアーを吐出するようにしているので、即ちウエハＷが通過する区域について順次エアーを吐出し、通過した後はその区域のエアーの吐出を停止するようにしているのでエアーの消費量を抑えることができる。
【００３４】
更に押圧部材６は、搬送路部材１の側方に配置されたベルト駆動機構６０に支持部材６により支持される構造とする代わりに、搬送路部材１の幅方向中央部に搬送路に沿って溝を形成し、この溝の下方に駆動機構を設けてそこから押圧部材６の支持部材を前記溝を介して搬送路部材１の上側に突出するように設け、この溝に沿って支持部材が移動することで押圧部材６が移動する構成としてもよい。
【００３５】
更にまた本発明では、搬送路部材１を傾斜させると共に搬送路部材１の低い側から高い側に向かってウエハＷを搬送するようにしてもよい。この例は図９に示すように上述の実施の形態において、搬送路部材１の他端側（搬出用の受け渡し台３）から搬送路部材１の一端側（搬入用の受け渡し台２）に向かって、ウエハＷの後端側を押圧部材１を搬送する例に相当する。この場合においても、押圧部材６は、ウエハＷの自重により低い位置に向かって移動しようとする押圧力に抗してウエハＷを押圧し、その状態でウエハＷを高い位置に向かって移動させるので、同様の効果が得られる。
【００３６】
次に本発明の他の実施の形態を図１０及び図１１に示す。先の実施の形態では、搬送路部材１を傾斜させてウエハＷに移動する作用を与えていたが、この例では、気体吐出孔４を真上に向けずに、搬送路部材１の一端側または他端側に向けて上方斜めにエアーを吐出するように構成し、この斜めに吐出するエアーによりウエハＷにその吐出方向に向かう推進力を与え、この推進力に抗して押圧部材６によりウエハＷを押圧するようにする。気体吐出孔４のレイアウトに関しては、例えば先の実施の形態の気体吐出孔４のレイアウトと同様にし、外側に配列された中心位置合わせ用の気体吐出孔４ａについては、搬送路の中心側に向けかつ一端側あるいは他端側に向けるように構成してもよいが、中心位置合わせ用の気体吐出孔４として構成せずに、全ての気体吐出孔４を鉛直軸に対して搬送路部材１の一方側に傾ける構成であってもよい。
【００３７】
この場合、押圧部材６は、ウエハＷが気体吐出孔４からのエアーにより進む側に配置され、ウエハＷの推力に抗してウエハＷを押圧した状態で押圧部材６が搬送路部材１の一端側または他端側に移動することになる。図１０では、図中左側を一端側とすると、エアーは気体吐出孔４から一端側に向けて吐出し、押圧部材１は、ウエハＷの一端側を押圧してこの押圧状態を維持したままウエハＷを搬送路部材１の他端側に搬送するように駆動される。また図１１では、図１０の例において、押圧部材１がウエハＷの一端側を押圧した状態で当該ウエハＷを搬送路部材１の他端側に搬送するように駆動される。  
この実施の形態においても、搬送路部材１を傾斜した実施の形態と同様に、ウエハＷを安定して搬送できる効果がある。  
また図１０及び図１１に示す実施の形態においても、搬送路プレート１を搬送方向に複数に分割し、ウエハ検出センサ５によりウエハＷの搬送路上における搬送方向の位置を検出してその検出結果に基づいて各分割区域Ｓ１〜Ｓ８のエアーの吐出、停止を制御する手法やウエハＷの浮上高さ位置を検出してアラームを出す手法を適用してもよい。
【００３８】
上述の実施の形態では、搬送路プレート１の搬送面が進行方向（前後方向）に沿って傾斜しているが、前記搬送面を左右方向（短辺方向あるいは幅方向）に例えば０．５度から１度傾斜させてもよい。このように搬送面を傾斜させると、気体の吐出により浮上したウエハＷは、その自重により左右のうち低い側に移動しようとするので、ウエハＷの左右側部のうち搬送面が低い側の側部を押圧部材により押圧した状態、例えば搬送面が左側に傾いているとする（左側が低いとする）と、ウエハＷの左側を規制した状態でウエハＷを搬送するようにする。
【００３９】
図１２及び図１３は、このような実施の形態を示す図である。なお図では傾斜の程度を実際よりも大きく描いている。この例では搬送面が図１に示す実施の形態のように受け渡し台３側に傾斜していると共に、左側に傾いている。そして押圧部材６は、ウエハＷにおける受け渡し台３側の端部（前端部）を規制する第１部分６ａと、ウエハＷにおける左側端部を規制する第２部分６ｂとを備えたＬ字形状をしており、ウエハＷは前端部及び左側端部が規制された状態で矢印のように前方側に進行することになる。この例では、第２部分６ｂは、ウエハＷを受け止める規制部材に相当し、押圧部材６に組み合わせている構成となっている。
【００４０】
このような実施の形態によれば、ウエハＷが左右の一方に滑り落ちようとする力に抗して押圧部材６の第２の部分６ｂによりウエハＷを押圧し、この押圧状態を保ったままウエハＷを搬送するようにしているため、ウエハＷの左右のふらつきをより一層抑えることができ、安定した搬送を実現できる。また左右方向に並ぶ気体吐出孔４は、左端に位置する孔から右端に位置する孔まで同じ口径として同じ流量の気体が吐出するように構成してもよいが、搬送面の高い側に位置している孔よりも低い側に位置している孔の口径が大きくなっていて流量が多くなるように構成してもよい。なおこのように搬送面を左右方向に傾ける構成は、図１から図１１に記載した実施の形態に組み合わせることが好ましい。
【００４１】
次いで本発明の基板搬送装置を半導体製造装置に適用した例について図１４〜図１７を参照しながら述べておく。この半導体製造装置は、ウエハにレジストを塗布し、露光後のウエハに対して現像液により現像する塗布、現像装置である。
図１４は、このシステムの一実施の形態における平面図を示し、図１５は同概略斜視図、図１６は同概略側面図である。この塗布、現像装置は、大気雰囲気中のクリーンルーム内に設置されており、基板例えばウエハであるウエハＷが１３枚密閉収納されたキャリア１２０を搬入出するためのキャリアブロックＳ１と、複数個例えば４個のブロックＢ１〜Ｂ４及び搬送ブロックＭ１を縦に配列して構成された処理ブロックＳ２と、インターフェイスブロックＳ３と、露光装置Ｓ４と、を備えている。
【００４２】
前記キャリアブロックＳ１には、前記キャリア１２０を複数個載置可能な載置台１２１と、この載置台１２１から見て前方の壁面に設けられる開閉部１２２と、開閉部１２２を介してキャリア１２０からウエハＷを取り出すためのトランスファーアームＣとが設けられている。このトランスファーアームＣは、後述するブロックＢ１及びＢ２の受け渡しステージＴＲＳ１〜２との間でウエハＷの受け渡しを行うように、進退自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在、キャリア２０の配列方向に移動自在に構成されている。
【００４３】
キャリアブロックＳ１の奥側には筐体１２４にて周囲を囲まれる処理ブロックＳ２が接続されている。処理ブロックＳ２は、この例では下方側から、現像処理を行うための第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１、搬送ブロックＭ１、レジスト膜の上層側に形成される反射防止膜（以下「上部反射防止膜」という）の形成処理を行うための第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、レジスト液の塗布処理を行うための第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３、レジスト膜の下層側に形成される反射防止膜（以下「下部反射防止膜」という）の形成処理を行うための第４のブロック（ＴＣＴ層）Ｂ４、として割り当てられている。これらブロックＢ１〜Ｂ４及び搬送ブロックＭ１はキャリアブロックＳ１からインターフェイスブロックＳ３へ向かって伸びている。ここで前記ＤＥＶ層Ｂ１が現像用のブロック、ＢＣＴ層Ｂ２、ＣＯＴ層Ｂ３、ＴＣＴ層Ｂ４、が感光材料例えばレジストからなる塗布膜を形成するための塗布膜形成用のブロックに相当する。なお各ブロック間は仕切り板（ベース体）により区画されている。
【００４４】
続いて第１〜第４のブロックＢ（Ｂ１〜Ｂ４）の構成について説明するが本実施形態においてこれらのブロックＢ１〜Ｂ４には共通部分が多く含まれており、各ブロックＢは略同様のレイアウトで構成されている。そこでＤＥＶ層Ｂ１を例として図１７を参照しながら説明する。このＤＥＶ層Ｂ１の中央部には、横方向、詳しくはＤＥＶ層Ｂ１の長さ方向（図中Ｙ方向）に、キャリアブロックＳ１とインターフェイスブロックＳ３とを接続するためのウエハＷの搬送用通路Ｒ１が形成されている。
【００４５】
この搬送用通路Ｒ１のキャリアブロックＳ１側から見て、手前側（キャリアブロックＳ１側）から奥側に向かって右側には、液処理ユニットとして現像液の塗布処理を行うための複数個の塗布部を備えた現像ユニット３が搬送用通路Ｒ１に沿って設けられている。またＤＥＶ層Ｂ１の手前側から奥側に向かって左側には、順に加熱・冷却系の熱系処理ユニットを多段化した４個の棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３，Ｕ４、排気ユニット５が搬送用通路Ｒ１に沿って設けられている。即ち現像ユニット３と棚ユニットＵ１〜Ｕ４とが搬送用通路Ｒ１を介して対向して配列されている。棚ユニットＵ１〜Ｕ４は現像ユニット３００にて行われる処理の前処理及び後処理を行うための熱系処理ユニットが２段に積層されている。  
上述の熱系処理ユニットの中には、例えば露光後のウエハＷを加熱処理したり、現像処理後のウエハＷのを乾燥させるために加熱処理したりする加熱ユニットや、この加熱ユニットにおける処理の後にウエハＷを所定温度に調整するための冷却ユニット等が含まれている。なお本実施形態では当該ＤＥＶ層Ｂ１における棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３として加熱ユニットが２段に積層され、棚ユニットＵ４として冷却ユニットが２段に積層されている。
【００４６】
ここで搬送ブロックＭ１には、ウエハＷをキャリアブロックＳ１からインターフェイスブロックＳ３へ直行して搬送する直通搬送手段である本発明の基板搬送装置１０が設けられている。この基板搬送装置１０は、既述のエアー浮上型の基板搬送装置により構成されており、例えば図１に示したと同様に構成されており、既述の搬入用の受け渡し台２に相当する受け渡しステージＴＲＳＢ１から搬出用の受け渡し台３に相当する受け渡しステージＴＲＳＢ５にウエハＷを搬送する役割を持っている。
【００４７】
搬送用通路Ｒ１及び搬送領域Ｍ２におけるキャリアブロックＳ１と隣接する領域は、第１のウエハ受け渡し領域Ｒ２となっていて、この領域Ｒ２には、図１２及び図１４に示すようにメインアームＡ１と、基板搬送装置１０と、及びトランスファーアームＣとがアクセスできる位置に棚ユニットＵ５が設けられると共に、この棚ユニットＵ５に対してウエハＷの受け渡しを行うための昇降搬送手段である受け渡しアームＤ１を備えている。
【００４８】
この棚ユニットＵ５において、ブロックＢ１には受け渡しステージＴＲＳ１Ｂ、受け渡しステージＴＲＳ１が上段からこの順に設けられており、受け渡しステージＴＲＳ１ＢにはトランスファーアームＣ、受け渡しアームＤ１がアクセスできるように構成されている。受け渡しステージＴＲＳ１はメインアームＡ１、トランスファーアームＣ、及び受け渡しアームＤ１がアクセスできるように構成されている。当該受け渡しステージＴＲＳ１及び受け渡しステージＴＲＳ１Ｂの構造としては例えば方形の筺体内を備え、当該筺体内にはウエハＷを載置することでウエハＷの温度を予定した温度に調節する機構を備えたステージが設けられ、また当該ステージ上を突没自在なピンが設けられている。例えば筺体の各アームに向かう側面に設けられた搬送口を介して各アームが前記筺体内に進入し、前記ピンを介してステージから浮いたウエハＷの裏面を各アームが保持することができる、または前記ピンを介してプレート上に各アームにより搬送されたウエハＷが載置されるような構造を備えている。
【００４９】
なおこの例では図１６に示すようにブロックＢ２〜Ｂ４には各２基の受け渡しステージＴＲＳ２〜ＴＲＳ４が設けられているが各ＴＲＳは総て既述のような構造を有しており、受け渡しステージＴＲＳ２〜ＴＲＳ４は各層に設けられたメインアームＡ２〜Ａ４、及び受け渡しアームＤ１とウエハＷの受け渡しができるように構成されている。またＴＲＳ２にはこれらのアームの他にトランスファーアームＣともウエハの受け渡しができるように構成されている。ところで各ＴＲＳの数は限定されるものではなく、各ブロックに対応して２基以上設けられていてもよい。
【００５０】
前記受け渡しアームＤ１はＢ１からＢ４の各層を移動して、各層に設けられた受け渡しステージＴＲＳ１〜ＴＲＳ４及び受け渡しステージＴＲＳ１Ｂに対してウエハＷの受け渡しを行うことができるように、進退自在及び昇降自在に構成されている。また前記受け渡しステージＴＲＳ１、ＴＲＳ２及び受け渡しステージＴＲＳ１Ｂは、この例ではトランスファーアームＣとの間でウエハＷの受け渡しが行われるように構成されている。
【００５１】
さらにＤＥＶ層Ｂ１の搬送用通路Ｒ１及び搬送ブロックＭ１の搬送領域Ｍ２のインターフェイスブロックＳ３と隣接する領域は、第２のウエハ受け渡し領域Ｒ３となっていて、この領域Ｒ３には、図３に示すように棚ユニットＵ６が設けられている。棚ユニットＵ６は図３に示すように、受け渡しステージであるＴＲＳ５Ｂ，ＴＲＳ５が上からこの順に設けられており、受け渡しステージＴＲＳ５Ｂは基板搬送装置１０とインターフェイスアームＢとの間でウエハＷの受け渡しが行えるように構成されている。また受け渡しステージＴＲＳ５はメインアームＡ１及びインターフェイスアームＢとの間でウエハＷの受け渡しが行えるように構成されている。受け渡しステージＴＲＳ５Ｂ，ＴＲＳ５は例えば既述の受け渡しステージＴＲＳ１Ｂと同様の構造を有しており、ウエハＷの冷却機能を備え、受け渡されたウエハＷの温調管理ができるように構成されている。
【００５２】
また処理ブロックＳ２における棚ユニットＵ６の奥側には、インターフェイスブロックＳ３を介して露光装置Ｓ４が接続されている。インターフェイスブロックＳ３には、処理ブロックＳ２の棚ユニットＵ６と露光装置Ｓ４とに対してウエハＷの受け渡しを行うためのインターフェイスアームＢが備えられている。このインターフェイスアームＢは例えば図８に示すように、ウエハＷの裏面側中央領域を支持するための１本のアーム２０１が基台２０２に沿って進退自在に設けられている。前記基台２０２は、昇降台２０３に回転機構２０４により鉛直軸回りに回転自在に取り付けられ、昇降レール２０５に沿って昇降自在に設けられている。こうしてアーム２０１は、進退自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在に構成されている。
【００５３】
なお既述の受け渡しアームＤ１も、鉛直軸回りに回転しない他は、インターフェイスアームＢと同様に構成されている。
【００５４】
このインターフェイスアームＢは、処理ブロックＳ２と露光装置Ｓ４との間に介在するウエハＷの搬送手段をなすものであり、この実施形態では、ブロックＢ１の受け渡しステージＴＲＳ５からウエハＷを受け取り露光装置Ｓ４へ搬入する一方で、露光装置Ｓ４からウエハＷを受け取り、ステージＴＲＳ５Ｂに受け渡すように構成されている。
【００５５】
ここでこの塗布、現像装置における作用について先ずレジスト膜の上下に夫々反射防止膜を形成する場合におけるウエハＷの流れの例について説明する。外部からキャリア１２０がキャリアブロックＳ１に搬入され、トランスファーアームＣによりこのキャリア１２０内からウエハＷが取り出される。ウエハＷは、トランスファーアームＣから、棚ユニットＵ５の受け渡しステージＴＲＳ２を介してＢＣＴ層Ｂ２のメインアームＡ２に受け渡される。そしてＢＣＴ層Ｂ２では、メインアームＡ２により、冷却ユニット→反射防止膜形成ユニット（図示していないが、現像ユニット３００に対応するユニットである）→加熱ユニット→棚ユニットＵ５の受け渡しステージＴＲＳ２の順序で搬送されて、下部反射防止膜が形成される。
【００５６】
続いて受け渡しステージＴＲＳ２のウエハＷは受け渡しアームＤ１により、ＣＯＴ層Ｂ３の受け渡しステージＴＲＳ３に搬送され、次いで当該ＣＯＴ層Ｂ３のメインアームＡ３に受け渡される。そしてＣＯＴ層Ｂ３では、メインアームＡ３により、ウエハＷは冷却ユニット→レジスト塗布ユニット→加熱ユニットの順序で搬送されて下部反射防止膜の上層にレジスト膜が形成された後、周縁露光ユニットに搬送されて周縁部が露光され、さらに棚ユニットＵ５の受け渡しステージＴＲＳ３に搬送される。
【００５７】
次いで受け渡しステージＴＲＳ３のウエハＷは受け渡しアームＤ１により、ＴＣＴ層Ｂ４の受け渡しステージＴＲＳ４に搬送され、当該ＴＣＴ層Ｂ４のメインアームＡ４に受け渡される。そしてＴＣＴ層Ｂ４では、メインアームＡ４により、冷却ユニット→第２の反射防止膜形成ユニット（図示していないが、現像ユニット３００に対応するユニットである）→加熱ユニットの順序で搬送されてレジスト膜の上層に上部反射防止膜が形成された後に、棚ユニットＵ５の受け渡しステージＴＲＳ４に搬送される。
【００５８】
受け渡しステージＴＲＳ４のウエハＷは受け渡しアームＤ１により、受け渡しステージＴＲＳ１Ｂに搬送される。次いでウエハＷは本発明の基板搬送装置により既述のように浮上してインターフェイスブロックＳ３側に移動し、受け渡しステージＴＲＳ５Ｂに搬送される。なおこのステージＴＲＳ５Ｂは、ウエハＷを露光装置における露光時の温度に調整するための温度調整プレートである冷却プレートとして構成してもよい。ステージＴＲＳ５Ｂ上上に載置されたウエハＷはインターフェイスアームＢにより露光装置Ｓ４に搬送され、ここで所定の露光処理が行われる。
【００５９】
露光処理後のウエハＷはインターフェイスアームＢにより棚ユニットＵ６の受け渡しステージＴＲＳ５に搬送され、このステージＴＲＳ５上のウエハＷは、ＤＥＶ層Ｂ１のメインアームＡ１に受け取られ、当該ＤＥＶ層Ｂ１にて、棚ユニットＵ１〜Ｕ４に含まれる加熱ユニット→冷却ユニット→現像ユニット３→加熱ユニット→冷却ユニットの順序で搬送され、所定の現像処理が行われる。こうして現像処理が行われたウエハＷは棚ユニットＵ５の受け渡しステージＴＲＳ１に搬送されトランスファーアームＣにより、キャリアブロックＳ１に載置されている元のキャリア１２０に戻される。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の基板搬送装置の実施の形態を示す斜視図である。
【図２】上記実施の形態を示す縦断面図である。
【図３】上記実施の形態を示す横断面図である。
【図４】搬送路部材の両端部を示す縦断面図である。
【図５】基板の高さを検出する様子を示す説明図である。
【図６】基板の搬送の様子を示す略解側面図である。
【図７】基板の搬送の様子を示す斜視図である。
【図８】基板の搬送位置に応じて気体の吐出位置が変わっていく様子を示す説明図である。
【図９】上記実施の形態において、基板の搬送の他の例の様子を示す略解側面図である。
【図１０】本発明の他の実施の形態における基板の搬送の一例の様子を示す縦断面図である。
【図１１】本発明の他の実施の形態における基板の搬送の他の例の様子を示す縦断面図である。
【図１２】本発明の更に他の実施の形態における基板の搬送の一例の様子を示す縦断面図である。
【図１３】本発明の他の実施の形態における基板の搬送の一例の様子を示す縦断面図である。
【図１４】本発明に係る基板搬送装置を塗布、現像装置に適用した実施の形態を示す平面図である。
【図１５】前記塗布、現像装置を示す斜視図である。
【図１６】前記塗布、現像装置を示す側部断面図である。
【図１７】前記塗布、現像装置におけるＤＥＶ層の塗布ユニット、棚ユニット、メインアーム及び排気ユニットを示す斜視図である。
【符号の説明】
【００６１】
Ｗ          半導体ウエハ
１          搬送路部材
１３、１４  ウエハ高さ検出センサ        
２          搬入用の受け渡し台
３          搬出用の受け渡し台
２１、３１  昇降ピン
Ｓ１〜Ｓ８  分割区域
４、４１    気体吐出孔
４４        通気室
４５        ガス供給管
Ｖ１〜Ｖ８  バルブ
５          ウエハ検出センサ
６          押圧部材
６０        ベルト駆動機構    
【図１】
2007182304.tif 000003
【図２】
2007182304.tif 000004
【図３】
2007182304.tif 000005
【図４】
2007182304.tif 000006
【図５】
2007182304.tif 000007
【図６】
2007182304.tif 000008
【図７】
2007182304.tif 000009
【図８】
2007182304.tif 000010
【図９】
2007182304.tif 000011
【図１０】
2007182304.tif 000012
【図１１】
2007182304.tif 000013
【図１２】
2007182304.tif 000014
【図１３】
2007182304.tif 000015
【図１４】
2007182304.tif 000016
【図１５】
2007182304.tif 000017
【図１６】
2007182304.tif 000018
【図１７】
2007182304.tif 000019
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月20日(2006.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
2007182304.tif 000020
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2007182304.tif 000021
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2007182304.tif 000022
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１７】
2007182304.tif 000023