(57)【要約】【課題】生産性を低下することなくカラーフィルタの色の数を増やすことのできる液晶装置、およびこの液晶装置を備えた電子機器を提供すること。【解決手段】各色に対応する複数のサブ画素１ｅにより画素１ｆが構成された液晶装置において、複数のサブ画素１ｅには、複数色の着色層２６０（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）が各々、単層で形成されたカラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）により対応する色が規定された複数色分の第１のタイプのサブ画素１ｅ（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）と、複数色の着色層２６０（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）のうち、２色以上の着色層が積層されたカラーフィルタ２６（ＢＧ）により対応する色が規定された第２のタイプのサブ画素１ｅ（ＢＧ）とが含まれている。【選択図】図４
2007248695.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各色に対応する複数のサブ画素により画素が構成された電気光学装置において、
前記複数のサブ画素には、複数色の着色層が各々、単層で形成されたカラーフィルタにより、対応する色が規定された複数色分の第１のタイプのサブ画素と、前記複数色の着色層のうち、２色以上の着色層が積層されたカラーフィルタにより、対応する色が規定された第２のタイプのサブ画素とが含まれていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記第２のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さは、当該着色層と同色に対応する前記第１のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さより薄いことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記第２のタイプのサブ画素には、当該第２のタイプのサブ画素に形成された前記着色層に下層側で重なる透明樹脂層を備えたサブ画素が含まれていることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記透明樹脂層の厚さは、前記第１のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さ以下であることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記画素には、前記第１のタイプのサブ画素が３色分、形成されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
一対の基板の間に液晶が保持され、
前記第１のタイプのサブ画素および前記第２のタイプのサブ画素は各々、透過光により画像を表示する透過表示領域と、反射光により画像を表示する反射表示領域とを備え、
前記カラーフィルタの厚さは、前記反射表示領域より前記透過表示領域で厚いことを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
一対の基板の間に液晶が保持されているとともに、当該一対の基板の一方の基板に対してバックライト光を出射するバックライト装置が配置され、
当該バックライト装置は、前記第２のタイプのサブ画素が対応する色付近に強度ピークを備えた光を出射することを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の液晶装置。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか一項に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定色のカラーフィルタを備えた複数のサブ画素により画素が構成された電気光学装置、およびこの電気光学装置を備えた電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
各種の電気光学装置のうち、例えば、液晶ディスプレイ等に用いられる液晶装置は、一般に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の着色層からなるカラーフィルタにより、画素を構成するサブ画素を各々、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に対応させている。また、色再現性などといった表示品位を向上することを目的に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）に青緑色（ＢＧ）を加えて、計４色分のカラーフィルタを構成し、画素を構成するサブ画素を各々、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、青緑色（ＢＧ）に対応させることも提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００１−３０６０２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、基板上にカラーフィルタを形成するには、スピンコート法などにより液状の着色材を基板上に塗布した後、露光、現像して着色層を所定位置に形成する工程を繰り返す必要があるため、カラーフィルタの数を３種類から４種類に増やすと、その分、生産性が低下するという問題点がある。
【０００４】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、生産性を低下することなくカラーフィルタの色の数を増やすことのできる電気光学装置、およびこの電気光学装置を備えた電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明では、各色に対応する複数のサブ画素により画素が構成された電気光学装置において、前記複数のサブ画素には、複数色の着色層が各々、単層で形成されたカラーフィルタにより対応する色が規定された複数色分の第１のタイプのサブ画素と、前記複数色の着色層のうち、２色以上の着色層が積層されたカラーフィルタにより対応する色が規定された第２のタイプのサブ画素とが含まれていることを特徴とする。
【０００６】
本発明の電気光学装置において、画素は複数色に対応するサブ画素によって構成されているが、第２のタイプのサブ画素のカラーフィルタは、第１のタイプのサブ画素に用いた着色層と同一材料の着色層を複数、積層した構造を有しているため、例えば、３種類の着色層で４種類以上のカラーフィルタを形成できる。また、第２のタイプのサブ画素のカラーフィルタは、第１のタイプのサブ画素のカラーフィルタの製造工程を利用して形成できる。それ故、本形態によれば、生産性を低下することなくカラーフィルタの色の数を増やすことができ、色再現性に優れた電気光学装置を安価に提供することができる。
【０００７】
本発明では、前記第２のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さは、当該着色層と同色に対応する前記第１のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さより薄いことが好ましい。このように構成すると、第２のタイプのサブ画素に形成したカラーフィルタは、十分な透過率を備えているので、色再現性を向上することができる。
【０００８】
本発明において、前記第２のタイプのサブ画素には、当該第２のタイプのサブ画素に形
成された前記着色層に下層側で重なる透明樹脂層を備えたサブ画素が含まれている構成を採用することができる。このように構成すると、スピンコート法により、着色層を形成するための感光性樹脂を塗布した際、透明樹脂層の上層では感光性樹脂の膜厚が薄くなる。それ故、ハーフトーンマスクなどを用いなくても、膜厚の厚い着色層と薄い着色層とを同時に形成することができる。
【０００９】
本発明において、前記透明樹脂層の厚さは、前記第１のタイプのサブ画素に形成された前記着色層の厚さ以下であることが好ましい。
【００１０】
本発明において、前記画素には、前記第１のタイプのサブ画素が３色分、形成されている構成を採用することができる。
【００１１】
本発明は、一対の基板間に液晶層が保持された液晶装置（電気光学装置）に適用できる他、エレクトロルミネッセンス素子などの自発光素子から出射された白色光をカラーフィルタで着色するタイプの電気光学装置にも適用できる。また、液晶装置の場合には、透過型および反射型のいずれにも適用できる。さらに、本発明は、液晶装置が半透過反射型の場合でも適用でき、半透過反射型の場合、前記第１のタイプのサブ画素および前記第２のタイプのサブ画素は各々、透過光により画像を表示する透過表示領域と、反射光により画像を表示する反射表示領域とを備えている。このような半透過反射型の場合、前記カラーフィルタの厚さは、前記反射表示領域より前記透過表示領域で厚いことが好ましい。
【００１２】
また、透過型あるいは半透過反射型の液晶装置では、前記一対の基板の一方に対してバックライト光を出射するバックライト装置が配置され、本発明では、当該バックライト装置は、前記第２のタイプのサブ画素が対応する色付近に強度ピークを備えた光を出射することが好ましい。
【００１３】
本発明に係る液晶装置は、モバイルコンピュータや携帯電話機などの電子機器において表示部として用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明に用いた各図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を相違させてある。
【００１５】
［実施の形態１］
（液晶装置の全体構成）
図１（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、液晶装置（電気光学装置）をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。図２は、図１に示す液晶装置の素子基板の電気的な構成を示す説明図である。
【００１６】
図１（ａ）、（ｂ）において、本形態の液晶装置１は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、あるいはＶＡＮ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードの透過型のアクティブマトリクス型の液晶装置であり、シール材２２を介して素子基板１０（素子基板）と対向基板２０（対向基板）とが貼り合わされ、その間に液晶１ｋが保持されている。素子基板１０において、シール材２２の外側に位置する端部領域には、データ線駆動用ＩＣ６０、および走査線駆動用ＩＣ３０が実装されているとともに、基板辺に沿って実装端子１２が形成されている。シール材２２は、素子基板１０と対向基板２０とをそれらの周辺で貼り合わせるための光硬化樹脂や熱硬化性樹脂などからなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファイバー、あ
るいはガラスビーズ等のギャップ材が配合されている。なお、シール材２２には、その途切れ部分によって液晶注入口２５が形成され、液晶１ｋを注入した後、封止材２６により封止されている。
【００１７】
詳しくは後述するが、素子基板１０には、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ１ｃや画素電極２ａがマトリクス状に形成され、その表面に配向膜１９が形成されている。これに対して、対向基板２０には、シール材２２の内側領域に遮光性材料からなる額縁２４（図１（ｂ）では図示を省略）が形成され、その内側が画像表示領域１ａになっている。対向基板２０には、図示を省略するが、各画素の縦横の境界領域と対向する領域にブラックマトリクス、あるいはブラックストライプなどと称せられる遮光膜（図１（ｂ）には図示せず）が形成され、その上層側には、対向電極２８および配向膜２９が形成されている。また、図１（ｂ）では図示を省略するが、対向基板２０において、素子基板１０の各画素に対向する領域には、後述するカラーフィルタがその保護膜とともに形成され、それにより、液晶装置１をモバイルコンピュータ、携帯電話機、液晶テレビなどといった電子機器のカラー表示装置として用いることができる。
【００１８】
図２に示すように、液晶装置１では、画像表示領域１ａに相当する領域に複数のソース線６ａ（データ線）およびゲート線３ａ（走査線）が互いに交差する方向に形成され、これらの配線の交差部分に対応する位置に、表示の最小単位となるサブ画素１ｅが構成されている。ゲート線３ａは走査線駆動用ＩＣ３０から延びており、ソース線６ａはデータ線駆動用ＩＣ６０から延びている。また、素子基板１０には、液晶１ｋの駆動を制御するための画素スイッチング用の薄膜トランジスタ１ｃが各サブ画素１ｅに形成され、薄膜トランジスタ１ｃのソースにはソース線６ａが電気的に接続され、薄膜トランジスタ１ｃのゲートにはゲート線３ａが電気的に接続されている。素子基板１０には、ゲート線３ａと並行して容量線３ｂが形成されている。本形態では、薄膜トランジスタ１ｃに対して、対向基板２０との間に構成された液晶容量１ｇが直列に接続されているとともに、液晶容量１ｇに対して並列に保持容量１ｈが接続されている。ここで、容量線３ｂは、走査線駆動用ＩＣ３０に接続されているが、定電位に保持されている。このように構成した液晶装置１では、薄膜トランジスタ１ｃを一定期間だけそのオン状態とすることにより、ソース線６ａから供給される画像信号を各サブ画素１ｅの液晶容量１ｇに所定のタイミングで書き込む。このようにして液晶容量１ｇに書き込まれた所定レベルの画像信号は、液晶容量１ｇで一定期間保持されるとともに、保持容量１ｈは、液晶容量１ｇに保持された画像信号がリークするのを防止している。
【００１９】
このように構成した液晶装置１においてカラー画像を表示するために、表示の最小単位となるサブ画素１ｅは各々、所定の色（赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ））に対応するサブ画素１ｅ（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）として形成されており、これらの複数のサブ画素１ｅによって、１つの画素１ｆが構成されている。
【００２０】
さらに、本形態では、詳しくは後述するように、複数のサブ画素１ｅには青緑色（ＢＧ）に対応するサブ画素１ｅ（ＢＧ）が含まれており、本形態では、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、および青緑色（ＢＧ）に対応する計４色のサブ画素１ｅ（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）によって１つの画素１ｆが構成されている。
【００２１】
（各画素の構成）
図３（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置の画素１つ分の平面図、およびそのＡ１−Ａ１′に相当する位置で液晶装置を切断したときの断面図である。なお、図３（ａ）では、画素電極を太くて長い点線で示し、ゲート線およびそれを同時形成された薄膜を実線で示し、ソース線およびそれを同時形成された薄膜を一点鎖線で示し、半導体膜を細くて短い点線で示してある。
【００２２】
図３（ａ）に示すように、素子基板１０では、ゲート線３ａとソース線６ａで囲まれた領域がサブ画素１ｅとして構成され、サブ画素１ｅには、ボトムゲート型の薄膜トランジスタ１ｃの能動層を構成するアモルファスシリコン膜からなる半導体層７ａが形成されている。また、ゲート線３ａからの突出部分によってゲート電極が形成されている。薄膜トランジスタ１ｃの能動層を構成する半導体層７ａのうち、ソース側の端部には、ソース線６ａがソース電極として重なっており、ドレイン側の端部にはドレイン電極６ｂが重なっている。また、ゲート線３ａと並列して容量線３ｂが形成されている。また、サブ画素１ｅには、容量線３ｂからの突出部分を下電極３ｃとし、ドレイン電極６ｂからの延設部分を上電極６ｃとする保持容量１ｈが形成されている。また、上電極６ｃに対しては、コンタクトホール８１、９１を介して、ＩＴＯ膜からなる画素電極２ａが電気的に接続されている。
【００２３】
このように構成した素子基板１０のＡ１−Ａ１′断面は、図３（ｂ）に示すように表される。まず、ガラス基板や石英基板からなる絶縁基板１１上には、ゲート線３ａ（ゲート電極）および容量線３ｂが形成されているとともに、ゲート電極（ゲート線３ａ）から側方にずれた位置には保持容量１ｈの下電極３ｃが形成されている。ゲート線３ａの上層側にはゲート線３ａを覆うようにゲート絶縁層４が形成されている。ここで、ゲート絶縁層４のうち、下電極３ｃと重なる部分は保持容量１ｈの誘電体膜４ｃとして用いられている。ゲート絶縁層４の表面のうち、ゲート線３ａの上層には、薄膜トランジスタ１ｃの能動層を構成する半導体層７ａ（アモルファスシリコン膜）が形成されている。半導体層７ａのうち、ソース領域の上層には、ドープトシリコン膜からなるオーミックコンタクト層７ｂ、およびアルミニウム膜やクロム膜からなるソース線６ａが形成され、ドレイン領域の上層にはオーミックコンタクト層７ｃ、およびアルミニウム膜やクロム膜からなるドレイン電極６ｂが形成され、薄膜トランジスタ１ｃが構成されている。また、ドレイン電極６ｂの延設部分によってアルミニウム膜やクロム膜からなる保持容量１ｈの上電極６ｃが形成されている。さらに、ソース線６ａ、ドレイン電極６ｂ、および上電極６ｃの上層側には、シリコン窒化膜などからなるパッシベーション膜８、および感光性樹脂層からなる平坦化膜９が各々、層間絶縁膜として形成されており、平坦化膜９の表面に形成された画素電極２ａは、平坦化膜９に形成されたコンタクトホール９１、およびパッシベーション膜８に形成されたコンタクトホール８１を介して上電極６ｃに電気的に接続し、この上電極６ｃおよびドレイン電極６ｂを介して薄膜トランジスタ１ｃのドレイン領域に電気的に接続している。なお、画素電極２ａの表面には配向膜１９が形成されている。
【００２４】
このように構成された素子基板１０に対向するように対向基板２０が配置され、素子基板１０と対向基板２０との間には液晶１ｋが保持されている。対向基板２０には、各色のカラーフィルタ２６、対向電極２８および配向膜２９が形成されており、画素電極２ａと対向電極２８との間に液晶容量１ｇ（図２参照）が構成される。なお、対向基板２０には隣接する画素１ｅの境界領域に沿ってブラックマトリクスと称せられる遮光膜２３が金属膜などにより構成されている。なお、カラーフィルタ２６の上層には保護膜が形成される場合もある。
【００２５】
なお、図３（ａ）、（ｂ）には、全透過型の液晶装置１の例を示してあるが、反射層をサブ画素１ｅの全面に形成すれば液晶装置１を全反射型として構成でき、この反射層に光透過用の開口部を形成すれば液晶装置１を半透過反射型として構成できる。なお、全透過型の液晶装置１の場合には、素子基板１０および対向基板２０のうちの一方の基板に対向するようにバックライト装置（図示せず）が配置され、この場合、他方の基板から表示光が出射される。全反射型の液晶装置１の場合には、素子基板１０および対向基板２０のうちの一方の基板に反射層が形成され、この場合、他方の基板から表示光が出射される。半透過反射型の液晶装置１の場合には、素子基板１０および対向基板２０のうちの一方の基
板に、開口部を備えた反射層が形成される。この場合、当該一方の基板に対向するようにバックライト装置（図示せず）が配置され、他方の基板から表示光が出射される。
【００２６】
（カラーフィルタの構成）
図４（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのＢ１−Ｂ１′線断面図である。図５は、本発明を適用した液晶装置に用いた着色層の波長−透過率特性を示すグラフである。なお、図４（ａ）には、サブ画素の範囲を理解しやすいようにゲート線およびソース線を点線および一点鎖線で示してあるが、遮光膜の図示は省略してある。
【００２７】
図４（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の液晶装置１は、１つの画素１ｆが赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、および青緑色（ＢＧ）に対応する計４色のサブ画素１ｅ（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）を備えており、かかる構成は、以下に説明する４種のカラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）によって実現されている。
【００２８】
まず、赤色（Ｒ）に対応するサブ画素１ｅ（Ｒ）は、対向基板２０に対して赤色の着色層２６０（Ｒ）が単層で形成されたカラーフィルタ２６（Ｒ）により、対応する色が赤色（Ｒ）に規定された第１のタイプのサブ画素である。
【００２９】
次に、緑色（Ｇ）に対応するサブ画素１ｅ（Ｇ）は、対向基板２０に対して緑色の着色層２６０（Ｇ）が単層で形成されたカラーフィルタ２６（Ｇ）により、対応する色が緑色（Ｇ）に規定された第１のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ２６（Ｇ）は、カラーフィルタ２６（Ｒ）よりも厚く形成されている。
【００３０】
次に、青色（Ｂ）に対応するサブ画素１ｅ（Ｂ）は、対向基板２０に対して青色の着色層２６０（Ｂ）が単層で形成されたカラーフィルタ２６（Ｂ）により、対応する色が青色（Ｂ）に規定された第１のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ２６（Ｂ）は、カラーフィルタ２６（Ｇ）よりも薄く、カラーフィルタ２６（Ｒ）と略等しい厚さに形成されている。
【００３１】
これに対して、青緑色（ＢＧ）に対応するサブ画素１ｅ（ＢＧ）は、対向基板２０に対して、サブ画素１ｅ（Ｇ）に用いた緑色の着色層２６０（Ｇ）と、サブ画素１ｅ（Ｂ）に用いた青色の着色層２６０（Ｂ）とをこの順に積層されたカラーフィルタ２６（ＢＧ）により、対応する色が青緑色（ＢＧ）に規定された第２のタイプのサブ画素である。
【００３２】
本形態において、カラーフィルタ２６（ＢＧ）の全体としての厚さは、他のカラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）よりも厚く形成されているが、カラーフィルタ２６（ＢＧ）の下層を構成する緑色の着色層２６０（Ｇ）は、緑色（Ｇ）のサブ画素１ｅ（Ｇ）においてカラーフィルタ２６（Ｇ）を単層で構成している緑色の着色層２６０（Ｇ）より膜厚が薄く、カラーフィルタ２６（ＢＧ）の上層を構成する青色の着色層２６０（Ｂ）は、青色（Ｂ）のサブ画素１ｅ（Ｂ）においてカラーフィルタ２６（Ｂ）を単層で構成している青色の着色層２６０（Ｂ）より膜厚が薄い。従って、サブ画素１ｅ（ＢＧ）では、緑色の着色層２６０（Ｇ）と青色の着色層２６０（Ｂ）との減法混色が起こるが、十分な透過率を備えている。
【００３３】
すなわち、サブ画素１ｅ（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）に形成されたカラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）の波長−透過率特性は各々、図５に実線Ｒ、実線Ｇ、実線Ｂで示すように表わされる一方、サブ画素１ｅ（ＢＧ）に形成されたカラーフィルタ２６（ＢＧ）の下層を構成する緑色の着色層２６０（Ｇ）は、厚さが薄いので、波長−透過率特性を図５に点線Ｇ′で示すように表わされ、透過率が高い。また、サブ画素１ｅ（ＢＧ）に形成さ
れたカラーフィルタ２６（ＢＧ）の上層を構成する青色の着色層２６０（Ｂ）も、厚さが薄いので、波長−透過率特性を図５に点線Ｂ′で示すように表わされ、透過率が高い。従って、サブ画素１ｅ（ＢＧ）では、緑色の着色層２６０（Ｇ）と青色の着色層２６０（Ｂ）とを積層してカラーフィルタ２６（ＢＧ）を構成したが、カラーフィルタ２６（ＢＧ）は、波長−透過率特性を図５に実線Ｂ′×Ｇ′で示すように、波長約４７０ｎｍ付近に比較的高い透過率のピークを有している。
【００３４】
（液晶装置１の製造方法）
本形態の液晶装置１の製造工程のうち、素子基板１０などの製造工程については周知の方法を採用できるので、以下、対向基板２０にカラーフィルタを製造する工程のみを説明する。
【００３５】
本形態では、まず、３色分の着色層２６０（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）のうち、膜厚が最も厚い着色層２６０（Ｇ）を形成する。この着色層２６０（Ｇ）の形成工程では、緑色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板２０の全面に塗布した後、ハーフトーンマスクを用いて露光、現像し、サブ画素１ｅ（Ｇ）に膜厚が厚い着色層２６０（Ｇ）からなるカラーフィルタ２６（Ｇ）を形成するとともに、サブ画素１ｅ（ＢＧ）には膜厚が薄い着色層２６０（Ｇ）を形成する。
【００３６】
次に、着色層２６０（Ｂ）の形成工程では、青色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板２０の全面に塗布する。その結果、サブ画素１ｅ（ＢＧ）には、既に着色層２６０（Ｇ）が形成されているので、感光性樹脂層は、サブ画素１ｅ（ＢＧ）では膜厚が薄く形成され、サブ画素１ｅ（Ｂ）では、膜厚が厚く形成される。従って、通常のマスクを用いて露光した後、現像するだけで、サブ画素１ｅ（Ｂ）に膜厚が厚い着色層２６０（Ｂ）が形成される一方、サブ画素１ｅ（ＢＧ）には、膜厚が薄い着色層２６０（Ｂ）が形成される。その結果、サブ画素１ｅ（ＢＧ）に、着色層２６０（Ｂ）、（Ｇ）が積層されたカラーフィルタ２６（ＢＧ）が形成され、サブ画素１ｅ（Ｂ）には、サブ画素１ｅ（ＢＧ）より膜厚が厚い着色層２６０（Ｂ）からなるカラーフィルタ２６（Ｂ）が形成される。
【００３７】
次に、着色層２６０（Ｒ）の形成工程では、赤色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板２０の全面に塗布した後、通常のマスクを用いて露光、現像し、サブ画素１ｅ（Ｒ）に着色層２６０（Ｒ）からなるカラーフィルタ２６（Ｒ）を形成する。
【００３８】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の液晶装置１において、画素１ｆは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、および青緑色（ＢＧ）に対応する計４色のサブ画素１ｅ（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）によって構成されているが、サブ画素１ｅ（ＢＧ）のカラーフィルタ２６（ＢＧ）は、サブ画素１ｅ（Ｇ）に用いた着色層２６０（Ｇ）と同一材料の着色層２６０（Ｇ）と、サブ画素１ｅ（Ｂ）に用いた着色層２６０（Ｂ）と同一材料の着色層２６０（Ｂ）とを積層した構造を有している。従って、３種類の着色層２６０（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）で４種類のカラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）を形成できる。また、サブ画素１ｅ（ＢＧ）のカラーフィルタ２６（ＢＧ）は、サブ画素１ｅ（Ｂ）、（Ｇ）のカラーフィルタ２６（Ｂ）、（Ｇ）の製造工程を利用して形成できる。それ故、本形態によれば、生産性を低下することなくカラーフィルタの色の数を増やすことができる。それ故、本形態によれば、色再現性に優れた液晶装置１を安価に提供することができる。
【００３９】
しかも、カラーフィルタ２６（ＢＧ）の下層を構成する緑色の着色層２６０（Ｇ）は、
緑色（Ｇ）のサブ画素１ｅ（Ｇ）に形成した着色層２６０（Ｇ）より膜厚が薄く、カラーフィルタ２６（ＢＧ）の上層を構成する青色の着色層２６０（Ｂ）は、サブ画素１ｅ（Ｂ）に形成した着色層２６０（Ｂ）より膜厚が薄いので、カラーフィルタ２６（ＢＧ）は、十分な透過率を備えている。それ故、本形態によれば、色再現性に極めて優れた液晶装置１を安価に提供することができる。
【００４０】
［実施の形態２］
図６（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態２に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのＢ２−Ｂ２′線断面図である。なお、図６（ａ）には、サブ画素の範囲を理解しやすいようにゲート線およびソース線を点線および一点鎖線で示してある。また、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。
【００４１】
図６（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の液晶装置１は、実施の形態１と同様、１つの画素１ｆが赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、および青緑色（ＢＧ）に対応する計４色のサブ画素１ｅ（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）を備えており、かかる構成は、以下に説明する４種のカラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）によって実現されている。
【００４２】
まず、赤色（Ｒ）に対応するサブ画素１ｅ（Ｒ）は、対向基板２０に対して赤色の着色層２６０（Ｒ）が単層で形成されたカラーフィルタ２６（Ｒ）により、対応する色が赤色（Ｒ）に規定された第１のタイプのサブ画素である。
【００４３】
次に、緑色（Ｇ）に対応するサブ画素１ｅ（Ｇ）は、対向基板２０に対して緑色の着色層２６０（Ｇ）が単層で形成されたカラーフィルタ２６（Ｇ）により、対応する色が緑色（Ｇ）に規定された第１のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ２６（Ｇ）は、カラーフィルタ２６（Ｒ）と略等しい厚さに形成されている。
【００４４】
次に、青色（Ｂ）に対応するサブ画素１ｅ（Ｂ）は、対向基板２０に対して青色の着色層２６０（Ｂ）が単層で形成されたカラーフィルタ２６（Ｂ）により、対応する色が青色（Ｂ）に規定された第１のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ２６（Ｇ）、（Ｒ）と略等しい厚さに形成されている。
【００４５】
これに対して、青緑色（ＢＧ）に対応するサブ画素１ｅ（ＢＧ）は、対向基板２０に対して、サブ画素１ｅ（Ｇ）に用いた緑色の着色層２６０（Ｇ）と、サブ画素１ｅ（Ｂ）に用いた青色の着色層２６０（Ｂ）とをこの順に積層されカラーフィルタ２６（ＢＧ）により、対応する色が青緑色（ＢＧ）に規定された第２のタイプのサブ画素である。
【００４６】
ここで、サブ画素１ｅ（ＢＧ）では、このサブ画素１ｅ（ＢＧ）に形成された着色層２６０（Ｒ）、（Ｇ）に下層側に透明樹脂層２５が形成されている。かかる透明樹脂層２５の膜厚は、カラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）の厚さ寸法以下であるが、十分な厚さに形成されている。
【００４７】
また、カラーフィルタ２６（ＢＧ）の下層を構成する着色層２６０（Ｇ）は、サブ画素１ｅ（Ｇ）においてカラーフィルタ２６（Ｇ）を単層で構成している着色層２６０（Ｇ）より膜厚が薄く、カラーフィルタ２６（ＢＧ）の上層を構成する着色層２６０（Ｂ）は、サブ画素１ｅ（Ｂ）においてカラーフィルタ２６（Ｂ）を単層で構成している着色層２６０（Ｂ）より膜厚が薄い。従って、サブ画素１ｅ（ＢＧ）では、着色層２６０（Ｇ）と着色層２６０（Ｂ）との減法混色が起こるが、十分な透過率を備えている。
【００４８】
本形態の液晶装置１の製造工程においても、素子基板１０などの製造工程については周知の方法を採用できるので、以下、対向基板２０にカラーフィルタを製造する工程のみを説明する。
【００４９】
本形態では、まず、透明樹脂層２５の形成工程を行う。それには、まず、無色透明な感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板２０の全面に塗布した後、通常のマスクを用いて露光、現像し、サブ画素１ｅ（ＢＧ）に膜厚が厚い透明樹脂層２５を形成する。
【００５０】
次に、着色層２６０（Ｇ）の形成工程では、緑色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板２０の全面に塗布する。その結果、サブ画素１ｅ（ＢＧ）には、既に膜厚が厚い透明樹脂層２５が形成されているので、感光性樹脂層は、サブ画素１ｅ（ＢＧ）では膜厚が薄く形成され、サブ画素１ｅ（Ｇ）では、膜厚が厚く形成される。従って、通常のマスクを用いて露光した後、現像するだけで、サブ画素１ｅ（Ｇ）に膜厚が厚い着色層２６０（Ｇ）からなるカラーフィルタ２６（Ｇ）が形成される一方、サブ画素１ｅ（ＢＧ）には、サブ画素１ｅ（Ｇ）より膜厚が厚い着色層２６０（Ｇ）が形成される。
【００５１】
次に、着色層２６０（Ｂ）の形成工程では、青色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板２０の全面に塗布する。その結果、サブ画素１ｅ（ＢＧ）には、既に透明樹脂層２５および着色層２６０（Ｇ）が形成されているので、感光性樹脂層は、サブ画素１ｅ（ＢＧ）では膜厚が薄く形成され、サブ画素１ｅ（Ｂ）では、膜厚が厚く形成される。従って、通常のマスクを用いて露光した後、現像するだけで、サブ画素１ｅ（Ｂ）に膜厚が厚い着色層２６０（Ｂ）が形成される一方、サブ画素１ｅ（ＢＧ）には、膜厚が薄い着色層２６０（Ｂ）が形成される。その結果、サブ画素１ｅ（ＢＧ）に、着色層２６０（Ｂ）、（Ｇ）が積層されたカラーフィルタ２６（ＢＧ）が形成され、サブ画素１ｅ（Ｂ）には、サブ画素１ｅ（ＢＧ）より膜厚が厚い着色層２６０（Ｂ）からなるカラーフィルタ２６（Ｂ）が形成される。
【００５２】
次に、着色層２６０（Ｒ）の形成工程では、赤色の顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板２０の全面に塗布した後、通常のマスクを用いて露光、現像し、サブ画素１ｅ（Ｒ）に着色層２６０（Ｒ）からなるカラーフィルタ２６（Ｒ）を形成する。
【００５３】
以上説明したように、本形態の液晶装置１においても、実施の形態１と同様、３種類の着色層２６０（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）で４種類のカラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）を形成でき、かつ、サブ画素１ｅ（ＢＧ）のカラーフィルタ２６（ＢＧ）は、サブ画素１ｅ（Ｂ）、（Ｇ）のカラーフィルタ２６（Ｂ）、（Ｇ）の製造工程を利用して形成できる。それ故、本形態によれば、生産性を低下することなくカラーフィルタの色の数を増やすことができる。それ故、本形態によれば、色再現性に優れた液晶装置１を安価に提供することができる。
【００５４】
また、サブ画素１ｅ（ＢＧ）に予め透明樹脂層２５を形成しておくので、それ以降、スピンコート法で、着色層２６０（Ｂ）、（Ｇ）を形成するための感光性樹脂を塗布するだけで、かかる感光性樹脂は、サブ画素１ｅ（ＢＧ）で薄く形成される。従って、ハーフトーンマスクを用いなくても、通常のマスクを用いた露光により、サブ画素１ｅ（ＢＧ）に膜厚の薄い着色層２６０（Ｂ）、（Ｇ）を形成することができる。
【００５５】
［実施の形態３］
（液晶装置の全体構成）
図７（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形態３に係る液晶装置の画素１つ分の
平面図、およびそのＡ２−Ａ２′に相当する位置で液晶装置を切断したときの断面図である。図８（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態３に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのＢ３−Ｂ３′線断面図である。なお、図６（ａ）には、サブ画素の範囲を理解しやすいようにゲート線およびソース線を点線および一点鎖線で示してある。また、本形態の基本的な構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付して図示することにしてそれらの説明を省略する。
【００５６】
図７（ａ）、（ｂ）に示すように、本形態の液晶装置１では、薄膜トランジスタ１ｃの上層側に感光性樹脂層からなる平坦化膜９が形成され、この平坦化膜９の上層側にＩＴＯ膜からなる画素電極２ａが形成されている。
【００５７】
但し、本形態の液晶装置１は、実施の形態１と違って、半透過反射型の液晶装置であり、素子基板１０では、平坦化膜９と画素電極２ａとの層間にアルミニウム膜などからなる反射層１１が形成されている。従って、矢印Ｌ１で示すように、対向基板２０の側から入射してきた外光を反射層１１で反射して再び、対向基板２０から出射する間に光変調を行い、反射モードで画像を表示することができる。それ故、反射層１１が形成されている領域は、反射表示領域１ｅ′とみなすことができる。
【００５８】
ここで、画素電極２ａはサブ画素１ｅ内の全面に形成されている一方、反射層１１には開口部１１０が形成されている。このため、矢印Ｌ２で示すように、素子基板１０の側から入射してきたバックライト光が対向基板２０の側から出射する間に光変調を行い、透過モードで画像を表示することができる。従って、反射層１１の開口部１１０に相当する領域は、透過表示領域１ｅ″とみなすことができる。
【００５９】
なお、本形態では、平坦化膜９の表面に凹凸が形成されており、かかる凹凸は、反射層１１の表面に光散乱用の凹凸として反映されている。また、平坦化膜９において、透過表示領域１ｅ″に相当する領域には凹部９０が形成されている。このため、透過表示領域１ｅ″における液晶１ｋの層厚は、反射表示領域１ｅ′における液晶１ｋの層厚の約２倍になっている。従って、反射モードでは表示光が液晶１ｋの層中を２回通過するのに対して、透過モードでは表示光が液晶１ｋの層中を１回しか通過しないとしても、するリターデション（Δｎ・ｄ）と、透過モードにおける表示光に対するリターデション（Δｎ・ｄ）とを略一致させることができる。なお、本形態では、凹部９０の底部に平坦化膜９が薄く残っているが、凹部９０の底部に平坦化膜９が残っていない構成を採用してもよい。
【００６０】
また、本形態の液晶装置１でも、実施の形態１と同様、１つの画素１ｆが赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、および青緑色（ＢＧ）に対応する計４色のサブ画素１ｅ（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）を備えており、かかる構成は、以下に説明する４種のカラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）によって実現されている。
【００６１】
まず、赤色（Ｒ）に対応するサブ画素１ｅ（Ｒ）は、対向基板２０に対して赤色の着色層２６０（Ｒ）が単層で形成されたカラーフィルタ２６（Ｒ）により、対応する色が赤色（Ｒ）に規定された第１のタイプのサブ画素である。
【００６２】
次に、緑色（Ｇ）に対応するサブ画素１ｅ（Ｇ）は、対向基板２０に対して緑色の着色層２６０（Ｇ）が単層で形成されたカラーフィルタ２６（Ｇ）により、対応する色が緑色（Ｇ）に規定された第１のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ２６（Ｇ）は、カラーフィルタ２６（Ｒ）よりも厚く形成されている。
【００６３】
次に、青色（Ｂ）に対応するサブ画素１ｅ（Ｂ）は、対向基板２０に対して青色の着色層２６０（Ｂ）が単層で形成されたカラーフィルタ２６（Ｂ）により、対応する色が青色
（Ｂ）に規定された第１のタイプのサブ画素である。本形態において、カラーフィルタ２６（Ｂ）は、カラーフィルタ２６（Ｇ）よりも薄く、カラーフィルタ２６（Ｒ）と略等しい厚さに形成されている。
【００６４】
これに対して、青緑色（ＢＧ）に対応するサブ画素１ｅ（ＢＧ）は、対向基板２０に対して、サブ画素１ｅ（Ｇ）に用いた緑色の着色層２６０（Ｇ）と、サブ画素１ｅ（Ｂ）に用いた青色の着色層２６０（Ｂ）とをこの順に積層されカラーフィルタ２６（ＢＧ）により対応する色が青緑色（ＢＧ）に規定された第２のタイプのサブ画素である。
【００６５】
本形態において、カラーフィルタ２６（ＢＧ）は、他のカラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｂ）よりも厚く形成されているが、カラーフィルタ２６（ＢＧ）の下層を構成する緑色の着色層２６０（Ｇ）は、緑色（Ｇ）のサブ画素１ｅ（Ｇ）においてカラーフィルタ２６（Ｇ）を単層で構成している緑色の着色層２６０（Ｇ）より膜厚が薄く、カラーフィルタ２６（ＢＧ）の上層を構成する青色の着色層２６０（Ｂ）は、青色（Ｂ）のサブ画素１ｅ（Ｂ）においてカラーフィルタ２６（Ｂ）を単層で構成している青色の着色層２６０（Ｂ）より膜厚が薄い。従って、青緑色（ＢＧ）に対応するサブ画素１ｅ（ＢＧ）では、緑色の着色層２６０（Ｇ）と青色の着色層２６０（Ｂ）との減法混色が起こるが、十分な透過率を備えている。
【００６６】
また、本形態では、４色分のサブ画素１ｅ（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）のいずれにおいても、透過表示領域１ｅ″における着色層２６０（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）の膜厚は、反射表示領域１ｅ′における着色層２６０（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）の膜厚の約２倍になっている。このため、反射モードでは表示光がカラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）を２回通過するのに対して、透過モードでは表示光がカラーフィルタ２６（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）を１回しか通過しないとしても、反射モードと透過モードとの間で表示光の色度を略一定にすることができる。
【００６７】
このような液晶装置１のカラーフィルタを製造するにあたっては、各着色層２６０（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）を形成する際、顔料を含有する感光性樹脂層をスピンコート法により対向基板２０の全面に塗布した後、ハーフトーンマスクを用いて露光、現像し、その厚さを制御すればよい。
【００６８】
［色の種類］
上記実施の形態１〜３では、１つの画素１ｆが赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）、および青緑色（ＢＧ）に対応する計４色のサブ画素１ｅ（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）、（ＢＧ）を備えている例であったが、例えば、以下の（１）〜（５）に示す組み合わせ
（１）赤色、青色、緑色、黄色
（２）赤色、青色、深緑色、黄色
（３）赤色、青色、エメラルド色、黄色
（４）赤色、青色、深緑色、黄緑色
（５）赤色、青緑色、深緑色、黄緑色
を採用してもよい。すなわち、４色については、波長に応じて色相が変化する可視光（波長３８０〜７８０ｎｍ）のうち、青色系の色相の着色領域、赤色系の色相の着色領域、青色から黄色までの色相の中で選択された２種の色相の着色領域である。ここで、「系」という用語を用いているが、例えば、青色系の色相であれば、純粋の青色に限定されるものではなく、青紫色や青緑色を含むものである。赤色系の色相であれば、赤色に限定されるものではなく、橙色も含むものである。また、これらの着色領域は、色相で述べているが、当該色相は、彩度、明度を適宜変更し、色を設定し得るものである。
【００６９】
具体的な色相の範囲は、青色系の色相の着色領域は青紫色から青緑色であり、より好ま
しくは藍色から青色である。赤色系の色相の着色領域は橙色から赤色である。青色から黄色までの色相の中で選択された２種の色相の着色領域のうち、一方の色相の着色領域は、青色から緑色であり、より好ましくは青緑色から緑色である。青色から黄色までの色相の中で選択された２種の色相の着色領域のうち、他方の色相の着色領域は、緑色から橙色であり、より好ましくは緑色から黄色、若しくは緑色から黄緑色である。ここで、各着色領域は、同じ色相を用いる必要はない。例えば、青色から黄色までの色相で選択される２つの着色領域で緑色を用いる場合、他方は一方の緑色に対して青色系若しくは黄緑色系を用いる。これにより、赤色、緑色、青色を３色を用いた場合よりも広範囲の色再現性を実現することができる。
【００７０】
このような条件を波長で表現すれば以下の通りとなる。まず、青色系の色相の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが４１５〜５００ｎｍにある着色領域、好ましくは、４３５〜４８５ｎｍにある着色領域である。赤色系の色相の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが６００ｎｍ以上にある着色領域、好ましくは、６０５ｎｍ以上にある着色領域である。青色から黄色までの色相の中で選択された２種の色相の着色領域のうち、一方の色相の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが４８５〜５３５ｎｍにある着色領域、好ましくは、４９５〜５２０ｎｍにある着色領域である。青色から黄色までの色相の中で選択された２種の色相の着色領域のうち、他方の色相の着色領域は、該着色領域を透過した光の波長のピークが５００〜５９０ｎｍにある着色領域、好ましくは、５１０〜５８５ｎｍにある着色領域、若しくは５３０〜５６５ｎｍにある着色領域である。ここに示す波長は、透過表示の場合は、バックライト装置からのバックライト光がカラーフィルタを通して得られた数値である。反射表示の場合、外光を反射して得られた数値である。
【００７１】
また、上記の条件をＣＩＥ標準表色系のｘ、ｙ色度図で表現すると、まず、青色系の色相の着色領域は、ｘ≦０．１５１、ｙ≦０．２００にある着色領域、好ましくは、０．１３４≦ｘ≦０．１５１、０．０３４≦ｙ≦０．２００にある着色領域である。赤色系の色相の着色領域は、０．５２０≦ｘ、ｙ≦０．３６０にある着色領域、好ましくは、０．５５０≦ｘ≦０．６９０、０．２１０≦ｙ≦０．３６０にある着色領域である。青色から黄色までの色相の中で選択された２種の色相の着色領域のうち、一方の色相の着色領域は、ｘ≦０．２００、０．２１０≦ｙにある着色領域、好ましくは、０．０８０≦ｘ≦０．２００、０．２１０≦ｙ≦０．７５９にある着色領域である。青色から黄色までの色相の中で選択された２種の色相の着色領域のうち、他方の色相の着色領域は、０．２５７≦ｘ、０．４５０≦ｙにある着色領域、好ましくは、０．２５７≦ｘ≦０．５２０、０．４５０≦ｙ≦０．７２０にある着色領域である。ここに示すｘ、ｙ色度図は、透過表示の場合は、バックライト装置からのバックライト光がカラーフィルタを通して得られた数値である。反射表示の場合、外光を反射して得られた数値である。
【００７２】
［バックライトの構成］
本発明を適用した液晶装置１を全透過型あるいは半透過反射型として用いる場合、素子基板１０あるいは対向基板２０に対向するようにバックライト装置が配置される。この場合のＲＧＢ光源としては、ＬＥＤ、蛍光管、有機エレクトロルミネッセンス型発光装置を用いることができる。また、白色光源を用いてもよく、白色光源は、青色の発光体とＹＧＡ蛍光体により生成される白色光源を用いてもよい。
【００７３】
これらの光源のうち、ＲＧＢ光源としては、「Ｂ」は光の波長のピークが４３５〜４８５ｎｍのもの、「Ｇ」は光の波長のピークが５２０〜５４５ｎｍのもの、「Ｂ」は光の波長のピークが６１０〜６５０ｎｍのものが好ましい。そして、ＲＧＢ光源の波長によって、カラーフィルタを適宜選定すれば、広範囲の色再現性を得ることができる。また、波長が例えば、４５０ｎｍと、５６５ｎｍにピークがくるような光源を用いてもよい。
【００７４】
さらに本発明では、第１のタイプのサブ画素で用いた複数の着色層を第２のタイプのサブ画素で積層して、第２のタイプのサブ画素のカラーフィルタを構成するため、第２のタイプのサブ画素のカラーフィルタについては制約が大きいので、このカラーフィルタに対応する色付近に強度ピークを備えた光を出射するバックライト装置を用いれば、かかる制約に起因する問題を解消することができる。
【００７５】
［その他の実施の形態］
また、上記実施の形態では、４色分のサブ画素１ｅを構成したが、５色以上のサブ画素１ｅを構成してもよい。また、上記形態では、カラーフィルタ２６の配置にストライプ配列を採用したが、これに限らず、モザイク配列などを採用した場合でも本発明を適用することができる。
【００７６】
さらに、上記実施の形態では、ＴＮモード、ＥＣＢモード、ＶＡＮモードのアクティブマトリクス型の液晶装置を例に説明したが、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードの液晶装置に本発明を適用してもよい。
【００７７】
さらにまた、本発明は、液晶装置の他、エレクトロルミネッセンス素子などの自発光素子から出射された白色光をカラーフィルタで着色するタイプの電気光学装置にも適用できる。
【００７８】
［電子機器の実施形態］
図９は、本発明に係る液晶装置を各種の電子機器の表示装置として用いる場合の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、パーソナルコンピュータや携帯電話機などであり、表示情報出力源１７０、表示情報処理回路１７１、電源回路１７２、タイミングジェネレータ１７３、そして液晶装置１を有する。また、液晶装置１は、パネル１７５および駆動回路１７６を有しており、前述した液晶装置１を用いることができる。表示情報出力源１７０は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリ、各種ディスク等といったストレージユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１７３によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１７１に供給する。表示情報処理回路１７１は、シリアル−パラレル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１７６へ供給する。電源回路１７２は、各構成要素に所定の電圧を供給する。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明が適用される液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのＨ−Ｈ′断面図である。
【図２】図１に示す液晶装置の素子基板の電気的な構成を示す説明図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置の画素１つ分の平面図、およびそのＡ１−Ａ１′に相当する位置で液晶装置を切断したときの断面図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態１に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのＢ１−Ｂ１′線断面図である。
【図５】本発明を適用した液晶装置に用いた着色層の波長−透過率特性を示すグラフである。
【図６】（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態２に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのＢ２−Ｂ２′線断面図である。
【図７】（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、本発明の実施の形態３に係る液晶装置の画素１つ分の平面図、およびそのＡ２−Ａ２′に相当する位置で液晶装置を切断したときの断面図である。
【図８】（ａ）、（ｂ）は、本発明の実施の形態３に係る液晶装置におけるカラーフィルタの平面的な配置を示す説明図、およびそのＢ３−Ｂ３′線断面図である。
【図９】本発明に係る液晶装置を各種の電子機器の表示装置として用いた場合の説明図である。
【符号の説明】
【００８０】
１・・液晶装置、１ｃ・・薄膜トランジスタ、１ｅ・・サブ画素、１ｆ・・画素、１ｇ・・液晶容量、１ｈ・・保持容量、１ｋ・・液晶、２ａ・・画素電極、３ａ・・ゲート線（ゲート電極／走査線）、６ａ・・ソース線（データ線）、６ｂ・・ドレイン電極、２６・・カラーフィルタ、２６０・・着色層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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