(57)【要約】【課題】  基板を基板ホルダ上の正確な位置に隙間なく迅速に密着させることができる基板ステージ装置を提供する。【解決手段】  所定のパターンを転写する位置に基板を移動させる基板ステージを備えた基板ステージ装置において、前記基板Ｐを載置する基板ホルダ１４と、前記基板を前記基板ホルダ１４上に載置する際に、前記基板の外周部の少なくとも一部を一時的に支持する載置補助機構１５ａ〜１５ｄとを備える。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のパターンを転写する位置に基板を移動させる基板ステージを備えた基板ステージ装置において、
前記基板を載置する基板ホルダと、
前記基板を前記基板ホルダ上に載置する際に、前記基板の外周部の少なくとも一部を一時的に支持する載置補助機構と
を備えることを特徴とする基板ステージ装置。
【請求項２】
前記載置補助機構は、一時的に前記基板ホルダ上の前記基板の少なくとも一部を変形させることを特徴とする請求項１記載の基板ステージ装置。
【請求項３】
前記載置補助機構は、前記基板ホルダの保持面と交差する方向における前記基板の中央部と周辺部との位置関係を変位させることを特徴とする請求項１または請求項２記載の基板ステージ装置。
【請求項４】
前記載置補助機構は、前記基板ホルダ上の前記基板の上面が凹形状となるように反らせることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項５】
前記載置補助機構は、前記基板ホルダ上に前記基板を載置する際に、前記基板の中央部に比べ該基板の周辺部を遅れて前記基板ホルダ上に導くことを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項６】
前記基板は、矩形形状を有し、
前記載置補助機構は、前記矩形形状の基板の角部を持ち上げるように支持することを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項７】
前記載置補助機構は、前記基板の外周部に当接する当接部と、
前記当接部により支持される前記基板の周辺部を前記基板ホルダ上に導く可動部と
を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項８】
前記当接部は、前記基板によってかかる荷重により、前記基板を保持する前記基板ホルダの保持面と同等の位置もしくは下方に下降することを特徴とする請求項７記載の基板ステージ装置。
【請求項９】
前記当接部は、前記基板と接する転がり部材を含むことを特徴とする請求項７または請求項８記載の基板ステージ装置。
【請求項１０】
前記載置補助機構は、前記可動部の移動速度を制御する制御部を備えることを特徴とする請求項７乃至請求項９の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項１１】
前記基板ホルダは、前記基板ステージ上に設置された基板テーブル上に載置され、
前記載置補助機構は、前記基板テーブルに設置されることを特徴とする請求項１乃至請求項１０の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項１２】
前記載置補助機構は、前記基板ホルダに設置されることを特徴とする請求項１乃至請求項１０の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項１３】
前記載置補助機構は、前記基板の周辺部近傍に対応して複数設けられることを特徴とする請求項１乃至請求項１２の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項１４】
前記基板は、矩形形状を有し、
該基板は、該基板を搬送する搬送手段により前記基板の対向する２辺が保持された状態で前記基板ホルダ上に搬送され、
前記載置補助機構は、前記搬送手段により保持されていない辺の少なくとも２箇所を押し上げることを特徴とする請求項１乃至請求項１３の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項１５】
前記載置補助機構の前記基板に当接する当接部は、前記搬送手段により前記基板を搬送するための基板搬送用保持部材と一体的に搬送された前記基板を、該搬送用保持手段を介して支持することを特徴とする請求項１４記載の基板ステージ装置。
【請求項１６】
前記当接部は、前記基板搬送用保持部材によってかかる荷重により、前記基板を保持する前記基板ホルダの保持面と同等の位置または下方に下降することを特徴とする請求項１５記載の基板ステージ装置。
【請求項１７】
前記載置補助機構は、前記搬送手段が前記基板を前記基板ホルダに載置する載置動作に連動して、前記基板の周辺部を前記基板ホルダの載置面に導くことを特徴とする請求項１４乃至請求項１６の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項１８】
前記載置補助機構は、前記搬送手段が前記基板を前記基板ホルダに載置する載置動作に連動するとともに、該載置動作に比べ遅いタイミングで前記基板の周辺部を前記基板ホルダの載置面に導くことを特徴とする請求項１４乃至請求項１７の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項１９】
前記基板ホルダは、外径が５００ｍｍよりも大きい前記基板を載置することを特徴とする請求項１乃至請求項１８の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項２０】
前記基板ホルダは、フラットパネルディスプレイ用の前記基板を載置することを特徴とする請求項１乃至請求項１９の何れか一項に記載の基板ステージ装置。
【請求項２１】
所定のパターンを基板上に露光する露光装置において、
請求項１乃至請求項２０の何れか一項に記載の基板ステージ装置を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２２】
請求項２１記載の露光装置を用いて所定のパターンを基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記基板を現像する現像工程と
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示素子等のフラットパネル表示素子等のマイクロデバイスをリソグラフィ工程で製造するための基板ステージ装置、該基板ステージ装置を備えた露光装置及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
マイクロデバイスの一つである液晶表示素子等を製造する場合において、マスク（レチクル、フォトマスク等）のパターンを、投影光学系を介してフォトレジスト等が塗布された大型基板（ガラスプレート、半導体ウエハ等）上に投影露光する投影露光装置が使用されている。投影露光装置において投影露光される際、大型基板は基板搬送装置により投影露光装置が備える基板ホルダ上に搬送され、基板ホルダ上に吸着保持される（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１１−６７８８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、ガラス基板は液晶表示素子の大型化に伴い大型化しており、現在では１ｍ角以上のガラス基板も用いられている。また、ガラス基板は、露光装置の基板ホルダ上に搬送され、基板ホルダ上に吸着保持されるが、ガラス基板と基板ホルダ面上との間に隙間を作ることなく、基板ホルダ面上の正確な位置に密着させる必要がある。しかしながら、ガラス基板は薄板であるためうねりや反りを有しており、ガラス基板が基板ホルダ上に吸着された際に、ガラス基板と基板ホルダ面との間に部分的に隙間が生じることがある。また、ガラス基板が基板ホルダ上に搬送され、基板ホルダ上に吸着保持される際に、ガラス基板が基板ホルダ面に対して回転または位置ずれし、基板ホルダ上の正確な位置に吸着されないという問題があった。したがって、基板を正確な位置に載置しなおす必要が生じ、露光処理のスループットを低下させていた。
【０００４】
この発明の課題は、基板を基板ホルダ上の正確な位置に隙間なく迅速に密着させることができる基板ステージ装置、該基板ステージ装置を備えた露光装置及び露光装置を用いたデバイスの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この発明の基板ステージ装置は、所定のパターンを転写する位置に基板（Ｐ）を移動させる基板ステージ（ＰＳＴ）を備えた基板ステージ装置において、前記基板（Ｐ）を載置する基板ホルダ（１４）と、前記基板（Ｐ）を前記基板ホルダ（１４）上に載置する際に、前記基板（Ｐ）の外周部の少なくとも一部を一時的に支持する載置補助機構（１５ａ〜１５ｄ）とを備えることを特徴とする。
【０００６】
また、この発明の露光装置は、所定のパターンを基板（Ｐ）上に露光する露光装置（１００）において、この発明の基板ステージ装置を備えることを特徴とする。
【０００７】
また、この発明のデバイスの製造方法は、この発明の露光装置（１００）を用いて所定のパターンを基板（Ｐ）上に露光する露光工程（Ｓ３０３）と、前記露光工程により露光された前記基板（Ｐ）を現像する現像工程（Ｓ３０４）とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
この発明の基板ステージ装置によれば、基板を基板ホルダ上に載置する際に、基板の外周部の少なくとも一部を一時的に支持する載置補助機構を備えているため、基板の中央部から周辺部に向かって徐々に基板を基板ホルダ上に吸着させることができ、基板を基板ホルダ上の正確な位置に隙間なく密着させることができる。
【０００９】
また、この発明の露光装置によれば、この発明の基板ステージ装置を備えているため、基板を基板ホルダ上の正確な位置に迅速に隙間なく密着させることができ、スループットを低下させることなく良好な露光を行うことができる。
【００１０】
また、この発明のデバイスの製造方法によれば、この発明の基板ステージを備えた露光装置を用いて露光を行うため、高スループットで良好なデバイスを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、この発明の第１の実施の形態にかかる液晶露光装置（露光装置）について説明する。図１は、実施の形態にかかる液晶露光装置１００及び搬送ロボット２０の概略構成を示す斜視図である。なお、以下の説明においては、図１中に示す直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がプレートホルダ１４の表面に対して平行となるよう設定され、Ｚ軸がプレートホルダ１４の表面に対して直交する方向に設定されている。図中のＸＹＺ直交座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直方向に設定される。
【００１２】
この液晶露光装置１００は、マスクＭを露光用照明光ＩＬで照明する図示しない照明光学系、マスクＭを保持する図示しないマスクステージ、マスクステージの下方に配置された投影光学系ＰＬ、及び投影光学系ＰＬの下方でベース１２上をＸＹ２次元方向に移動するプレートステージＰＳＴ等により構成されるプレートステージ装置（基板ステージ装置）を備えている。プレートステージ装置は、プレートステージＰＳＴ、プレートステージＰＳＴ上に設置されている基板テーブルとしてのプレートテーブル（以下、テーブルという。）１３、テーブル１３上に載置されている基板ホルダとしてのプレートホルダ（以下、ホルダという。）１４、及びプレートＰをホルダ１４上に載置する際にプレートＰの外周部を一時的に上方に支持するための載置補助機構１５ａ〜１５ｄを備えている。
【００１３】
この液晶露光装置１００では、ホルダ１４の表面上に基板としてのガラスプレート（以下、プレートという。）Ｐが載置された状態で、ステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われる。すなわち、図示しない照明系からの露光用照明光ＩＬにより、マスクＭ上に形成されるスリット状の照明領域が照明された状態で、マスクＭを保持する図示しないマスクステージとプレートＰをホルダ１４を介して保持するプレートステージＰＳＴとを同期して所定の走査方向（Ｙ方向）に移動させることにより、プレートＰ上にマスクＭのパターンが逐次転写される。プレートＰは、フラットパネルディスプレイ用の矩形形状を有する基板であって、外径が５００ｍｍよりも大きい。ここで、外径が５００ｍｍよりも大きいとは、プレートＰの一辺または対角線が５００ｍｍよりも大きいということである。
【００１４】
また、この液晶露光装置１００に近接して、水平関節型の搬送ロボット（搬送手段）２０が設けられている。この搬送ロボット２０は、アーム部２２と、２本の爪部２３を有する搬送アーム２４と、アーム部２２を駆動する駆動装置２５とを備えている。プレートＰを保持する基板搬送用保持部材としての基板搬送用トレイ（以下、トレイという。）２６の両端にそれぞれ設けられた４つのつば部２７が２本の爪部２３によって下方から保持され、搬送アーム２４によってトレイ２６が保持される。トレイ２６は、プレートＰより一回り大きな矩形の外枠２８と、この外枠２８の内部に所定間隔で格子状に張り巡らされた複数本の線状部材３２とを備えている。これらの複数本の線状部材３２によって構成される各格子の内部には矩形の開口部３３が複数形成されている。
【００１５】
ホルダ１４の上面には、ホルダ１４の表面とプレートＰとが接するようにトレイ２６を収納する収納部が設けられている。即ち、ホルダ１４の表面には、トレイ２６を構成する格子状の線状部材３２に対応して線状部材３２が埋没する程度の深さを有した格子状の溝１４ａが形成されている。また、ホルダ１４の表面はプレートＰが載置された際に該プレートＰの撓みを除去するように平面度が高く仕上げられている。また、ホルダ１４の表面には、プレートＰをホルダ１４の表面に倣わせて密着するための吸気孔（図示せず）が複数の矩形の開口部３３に対応して多数設けられている。
【００１６】
また、テーブル１３には、図２に示すように、矩形のホルダ１４のＸ方向に平行な２辺の近傍に、トレイ２６を介してプレートＰの外周部を上方（Ｚ方向）に押し上げる複数（この実施の形態においては４つ）の載置補助機構１５ａ〜１５ｄが設置されている。即ち、載置補助機構１５ａ〜１５ｄは、搬送ロボット２０によりプレートＰがホルダ１４上に搬送され、ホルダ１４上に載置される際に、トレイ２６の外枠２８を一時的に支持することにより、プレートＰの外周部を中央部に比べ相対的に上方（Ｚ方向）に押し上げる。この際、載置補助機構１５ａ〜１５ｄのそれぞれは、搬送アーム２４の２本の爪部２３により保持されていない２辺を支持する。
【００１７】
図３は載置補助機構１５ａの構成を示す正面図、図４は載置補助機構１５ａの構成を示す側面図である。なお、載置補助機構１５ｂ〜１５ｄは、載置補助機構１５ａの構成と同様の構成を有している。図３及び図４に示すように、載置補助機構１５ａは、Ｘ軸方向に延びるベース台１７上にＸ軸方向に延びるレール１８、及びレール１８上をＸ軸方向に移動する可動部１９を備えている。可動部１９上には取付部材４６を介して支持部材４３が設置されている。支持部材４３の一端４３ａは取付部材４６に回動可能に軸支されており、他端には外枠２８を支持する転がり部材としてのローラ１６が取り付けられている。ローラ１６は、外枠２８と当接する部分が弾性体により形成されており、かつＹ方向を軸として回転可能に構成されている。支持部材４３のほぼ中央には支持部材４４の一端４４ａが回動可能に軸支されており、支持部材４４の他端４４ｂはベース台１７上に設置されている取付部材４７に回動可能に軸支されている。
【００１８】
また、取付部材４６の−Ｘ方向側の側面には磁気を有する部材（以下、磁気部材という。）４１が配設されており、取付部材４７の＋Ｘ方向側の側面には鉄等により構成される金属部材４２が衝撃を吸収する粘弾性素材４５を介して配設されている。また、レール１８の＋Ｘ方向のベース台１７上には取付部材４８を介して緩衝器４０が設置されている。
【００１９】
ここで、プレートＰ、アーム２４の２本の爪部２３、トレイ２６の少なくとも１つがたわんでいる場合、プレートＰは、図５に示すように、たわんだ状態でホルダ１４上に載置されるため、プレートＰの中央部より外周部が先にホルダ１４上の所望の位置とは異なった位置に吸着される。したがって、プレートＰがゆがんだ状態でホルダ１４上に吸着されることになり、プレートＰを再載置する必要が生じ、スループットが低下していた。また、プレートＰがホルダ１４に対して回転したり、位置ずれしたりした場合においても、プレートＰがホルダ１４上の所望の位置とは異なる位置に吸着されるため、プレートＰを再載置する必要があり、スループットが低下していた。
【００２０】
この実施の形態にかかるプレートステージ装置においては、載置補助機構１５ａ〜１５ｄによりトレイ２６の外枠２８を介して矩形形状であるプレートＰの角部を持ち上げることにより、プレートＰがホルダ１４に対して回転、位置ずれを生じることなく、プレートＰをホルダ１４上の正確な位置に隙間なく迅速に吸着させることができる。具体的には、トレイ２６に載置されたプレートＰが搬送アーム２４によりホルダ１４の上方に搬送され、搬送アーム２４を下降させた際、ホルダ１４上にプレートＰが吸着される前に、まず、ローラ１６がトレイ２６の外枠２８の一部に当接する。即ち、載置補助機構１５ａ〜１５ｄはトレイ２６の外枠２８を介してプレートＰの外周部の一部を支持することにより、プレートＰの少なくとも一部を変形させ、図６に示すように、プレートＰの上面を凹形状に反らせる。即ち、プレートＰの中央部（図中ドットで示す領域）Ｃと、中央部Ｃ以外の周辺部とのＺ方向における位置関係を相対的にフラットでない状態に変位させる。そして、プレートＰの中央部Ｃがホルダ１４に最初に吸着されるようにする。なお、図６中の上矢印は、載置補助機構１５ａ〜１５ｄの支持点の一例を模式的に示したものである。
【００２１】
なお、ローラ１６は回転可能に構成されているため、外枠２８とローラ１６とが接触することにより生じる衝撃を最小限に抑えることができる。また、プレートＰの中央部Ｃがホルダ１４に吸着された際に、ローラ１６がトレイ２６の外枠２８の一部に当接するようにしてもよい。
【００２２】
このとき、金属部材４２は磁気部材４１に引き付けられているため、可動部１９は移動しない。可動部１９は移動しないが、トレイ２６及びプレートＰを保持している搬送アーム２４は下降を続け、プレートＰの中央部Ｃを中心としてプレートＰの周辺部に拡がるように少しずつプレートＰがホルダ１４上に吸着される。即ち、載置補助機構１５ａ〜１５ｄは、搬送ロボット２０がプレートＰをホルダ１４上に載置する載置動作に連動するとともに、プレートＰの中央部Ｃに比べ、プレートＰの周辺部を遅れてホルダ１４上に導くよう制御する。また、搬送ロボット２０の載置動作に比べ遅いタイミングでプレートＰの周辺部をホルダ１４上に導くよう制御する。
【００２３】
そして、プレートＰの中央部Ｃを中心とする所定の領域がホルダ１４上に吸着され、トレイ２６及びプレートＰによってローラ１６にかかる荷重が大きくなったとき、磁気部材４１に引き付けられていた金属部材４２が磁気部材４１から離れる。プレートＰの中央部Ｃを中心とする所定の領域がホルダ１４上に吸着された後は、プレートＰの回転や位置ずれ、及びゆがみ等が生じた状態でホルダ１４上に吸着されるおそれがほぼないため、スループットを向上させるためにホルダ１４上にプレートＰが吸着される速度を増加させることが望ましい。したがって、プレートＰの中央部Ｃを中心とする所定の領域がホルダ１４上に吸着されたときに金属部材４２が磁気部材４１から離れるように磁気部材４１の磁力の大きさ、支持部材４３，４４の長さ、支持部材４３，４４の接続点等を設定しておき、金属部材４２が磁気部材４１から離れた後、ローラ１６が下降し始める。このとき、緩衝器４０は、支持部材４３及び取付部材４６を介したトレイ２６及びプレートＰによってかかる荷重の衝撃を吸収することにより、可動部１９の移動速度を制御する。
【００２４】
搬送アーム２４は下降を続け、ホルダ１４の収納部にトレイ２６が収納され、ホルダ１４上にプレートＰの全面が吸着される。このとき、載置補助機構１５ａ〜１５ｄを構成するローラ１６のＺ方向における高さは、プレートＰを保持するホルダ１４の表面（保持面）と同等の位置または下方に下降している。
【００２５】
第１の実施の形態にかかる液晶露光装置によれば、プレートステージ装置によりプレートＰの中央部から周辺部に向かって徐々にプレートＰがホルダ１４上に載置される。したがって、プレートＰをホルダ１４上の正確な位置に隙間なく迅速に密着させることができ、スループットを低下させることなく良好な露光を行うことができる。
【００２６】
次に、この発明の第２の実施の形態にかかる液晶露光装置について説明する。なお、この第２の実施の形態にかかる液晶露光装置は、第１の実施の形態にかかる載置補助機構１５ａ〜１５ｄに代えて、４つの載置補助機構５５（図７，８参照）を備えている。第２の実施の形態にかかる載置補助機構以外の構成は、第１の実施の形態にかかる液晶露光装置１００の構成と同一である。したがって、第２の実施の形態の説明においては、第１の実施の形態にかかる液晶露光装置の構成と同一の構成の詳細な説明は省略する。また、この第２の実施の形態にかかる液晶露光装置の説明においては、第１の実施の形態にかかる液晶露光装置と同一の構成には第１の実施の形態で用いたものと同一の符号を付して説明を行なう。
【００２７】
載置補助機構５５は、第１の実施の形態にかかる載置補助機構１５ａ〜１５ｄと同一の位置に配置されている。図７は載置補助機構５５の構成を示す正面図、図８は載置補助機構５５の構成を示す側面図である。図７及び図８に示すように、載置補助機構５５は、Ｘ軸方向に延びるベース台５７上にＺ軸方向に延びるレール５８、及びレール５８上をＺ方向に移動する可動部５９、可動部５９の上部に取り付けられている球体（当接部）６０、可動部５９の下部に取り付けられている球体６１を備えている。球体６０及び６１は、それぞれの位置で回転可能に構成されている。また、球体６１は、ベース台５７上に設置されている支持部材６２の斜面６２ａに当接されている。支持部材６２は、±Ｘ方向に移動可能に構成されており、エアシリンダ装置６３によりその移動位置、移動速度が制御されている。
【００２８】
トレイ２６に載置されたプレートＰが搬送アーム２４によりホルダ１４の上方に搬送され、搬送アーム２４を下降した際、ホルダ１４上にプレートＰが吸着される前に、まず、球体６０がトレイ２６の外枠２８の一部に当接する。即ち、球体６０は、外枠２８を介して、トレイ２６上に載置されているプレートＰの外周部の一部を支持する。支持部材６２には、トレイ２６及びプレートＰによって荷重がかかるが、エアシリンダ装置６３を構成する図示しないシリンダ内の空気圧は高く設定されており、球体６０のＺ方向の位置は、ほとんど変化しない。そのため、プレートＰは、中央部Ｃが所望の形状にくぼむように支持され、中央部Ｃの部分がホルダ１４に接し吸着される。吸着が確認された後、プレートＰに衝撃がないように、球体６０の位置を下降させるように、エアシリンダ装置６３のシリンダ内の空気圧が下げられる。このとき中央部Ｃを中心としてプレートＰの周辺部に拡がるようにプレートＰがホルダ１４上に吸着される。
【００２９】
なお、載置補助機構５５は、搬送ロボット２０がプレートＰをホルダ１４上に載置する載置動作に連動するとともに、プレートＰの中央部Ｃに比べ、プレートＰの周辺部を遅いタイミングで導くようにしてもよい。このとき搬送ロボットのZ方向の位置をトリガとして載置補助機構５５を動作させて、球体６０の位置を下降させるようにしても良く、また、下降のさせ方としては、球体６０とプレートＰが接してから徐々に下降させるようにして、プレートＰの周辺部をホルダ１４上に導くように制御しても良い。なお、エアシリンダ装置６３に代わるものとして、電動式の昇降装置を用いても良い。また、中央部Ｃがホルダ１４に接する状態になったか否かは、別のプレート位置センサで検出するようにしても良い。
【００３０】
そして、プレートＰの中央部Ｃを中心とする所定の領域がホルダ１４上に吸着されたときに、エアシリンダ装置６３を構成する図示しないシリンダ内の空気圧を低く設定し、支持部材６２のトレイ２６及びプレートＰによってかかる荷重による−Ｘ方向へ移動速度を増加させる。支持部材６２の移動速度の増加に伴い、球体６０の下降速度も増加し、外枠２８及びプレートＰの下降速度も増加するため、プレートＰの周辺部は迅速にホルダ１４上に吸着される。
【００３１】
搬送アーム２４は下降を続け、ホルダ１４の収納部にトレイ２６が収納され、ホルダ１４上にプレートＰの全面が吸着される。このとき、載置補助機構５５を構成する球体６０のＺ方向における高さは、プレートＰを保持するホルダ１４の表面（保持面）と同等の位置または下方に下降している。
【００３２】
第２の実施の形態にかかる液晶露光装置によれば、プレートステージ装置によりプレートＰの中央部から周辺部に向かって徐々にプレートＰがホルダ１４上に載置される。したがって、プレートＰをホルダ１４上の正確な位置に隙間なく迅速に密着させることができ、スループットを低下させることなく良好な露光を行うことができる。
【００３３】
なお、上述の各実施の形態においては、プレートテーブルに載置補助機構を設置しているが、プレートホルダに載置補助機構を設置するようにしてもよい。例えば、プレートホルダの外周部の複数箇所に収容部を設け、収容部に載置補助機構を収容する。
【００３４】
また、上述の各実施の形態においては、液晶表示素子を製造するための露光装置を例に挙げて説明しているが、液晶露光装置に限定されることなく、例えば、ウエハ上に集積回路パターンを転写する半導体製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置であっても良い。
【００３５】
また、本実施の形態に係る露光装置では、プレートＰやトレイ２６の重さで載置補助機構を押し下げているが、感光性基板であるプレートＰはホルダ１４に吸着された後は、ローラ１６や球体６０を押し上げる力を解除して下に下げ切るようにしても良い。また、プレートＰがない状態でステージを移動させる際や、ホルダ１４上方に搬送アームでプレートPを移動させる際や、逆にホルダ１４上方から移動させる際には、予めローラ１６や球体６０をホルダ１４内に下げてステージの移動やプレート搬送の妨げにならないように退避（ホルダに格納）するようにしても良い。
【００３６】
なお、トレイの形状については、載置補助機構が円滑に動作するようにトレイが載置補助機構と接する部分の形状について、つまりローラが当たる部分にフラットな面を設けるようにしても良い。この構成により円滑に下降動作を行なわせることが可能となる。
【００３７】
また、本実施の形態に係る露光装置では、感光性基板の搬送の際に、トレイ２６を用いてホルダ１４上に搬送しているが、感光性基板を直接搬送アームで搬送するものに適用しても良い。その際には、載置補助機構は、感光性基板を一時的に支持して感光性基板の重さで下降することになる。
【００３８】
また、本実施の形態においては、受け渡しの際に、搬送アームを下降させてホルダ上にプレートを載置しているが、搬送アームに対してホルダを上昇させてホルダ上に受け渡すようにする場合にも、ホルダに載置補助機構を設けるようにすれば、同様の効果を得ることができる。
【００３９】
また、予め載置補助機構のローラ１６や球体６０は、ホルダ内に格納させておき、搬送アームの下降にあわせて上面から突出させた後、所定のタイミングで、ローラ１６や球体６０を下降させるようにしても良い。
【００４０】
また、載置補助機構のローラ１６や球体６０や緩衝器４０は、劣化するため、載置補助機構をユニット化し、テーブルに勘合部を設け、嵌め込むようにすれば、簡単に補修作業を行うことができる。
【００４１】
上述の各実施の形態にかかる露光装置では、投影光学系を用いてレチクル（マスク）により形成された転写用のパターンを感光性基板（プレート）に露光する（露光工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて感光性基板としてのプレート等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図９のフローチャートを参照して説明する。
【００４２】
先ず、図９のステップＳ３０１において、１ロットのプレート上に金属膜が蒸着される。次のステップＳ３０２において、その１ロットのプレート上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップＳ３０３において、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて、マスクのパターンの像が投影光学系を介して、その１ロットのプレート上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップＳ３０４において、その１ロットのプレート上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップＳ３０５において、その１ロットのプレート上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスクのパターンに対応する回路パターンが、各プレート上の各ショット領域に形成される。
【００４３】
その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行ない、プレートから複数のデバイスに切断され、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、上述の各実施の形態にかかる露光装置を用いて露光を行なっているため、良好な半導体デバイスを得ることができる。なお、ステップＳ３０１〜ステップＳ３０５では、プレート上に金属を蒸着し、その金属膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチングの各工程を行っているが、これらの工程に先立って、プレート上にシリコンの酸化膜を形成後、そのシリコンの酸化膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチング等の各工程を行っても良いことはいうまでもない。
【００４４】
また、上述の実施の形態にかかる露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図１０のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。まず、図１０において、パターン形成工程Ｓ４０１では、上述の各実施の形態にかかる露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２へ移行する。
【００４５】
次に、カラーフィルタ形成工程Ｓ４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルタを形成する。そして、カラーフィルタ形成工程Ｓ４０２の後に、セル組み立て工程Ｓ４０３が実行される。セル組み立て工程Ｓ４０３では、パターン形成工程Ｓ４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程Ｓ４０３では、例えば、パターン形成工程Ｓ４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程Ｓ４０２にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。
【００４６】
その後、モジュール組み立て工程Ｓ４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、上述の各実施の形態にかかる露光装置を用いて露光を行なっているため、良好な液晶表示素子を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】第１の実施の形態にかかる液晶露光装置及び搬送ロボットの概略構成を示す斜視図である。
【図２】第１の実施の形態にかかるプレートホルダの構成を示す図である。
【図３】第１の実施の形態にかかる載置補助機構の構成を示す正面図である。
【図４】第１の実施の形態にかかる載置補助機構の構成を示す側面図である。
【図５】プレートのたわみについて説明するための図である。
【図６】載置補助機構により上方に押し上げた場合におけるプレートの形状を説明するための図である。
【図７】第２の実施の形態にかかる載置補助機構の構成を示す正面図である。
【図８】第２の実施の形態にかかる載置補助機構の構成を示す側面図である。
【図９】この発明の実施の形態にかかるマイクロデバイスとしての半導体デバイスの製造方法を示すフローチャートである。
【図１０】この発明の実施の形態にかかるマイクロデバイスとしての液晶表示素子の製造方法を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００４８】
１２…ベース、１４…プレートホルダ、１５ａ〜１５ｄ，５５…載置補助機構、２０…搬送ロボット、２２…アーム部、２３…爪部、２４…搬送アーム、２５…駆動装置、２６…保持部材、２７…つば部、２８…外枠、３２…線状部材、３３…開口部、１００…液晶露光装置、ＩＬ…露光用照明光、Ｒ…レチクル、ＰＬ…投影光学系、Ｐ…プレート、ＰＳＴ…プレートステージ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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