(57)【要約】  【課題】ＣＤやＤＶＤだけでなくＢｌｕ−ｒａｙ  ＤｉｓｃやＨＤ−ＤＶＤにおいても充分な収差補正を行うことができる液晶収差補正素子とその製造方法を提供すること。【解決手段】第１、第２の透明導電膜が形成された第１と第２の透明基板で液晶層を挟持してなる液晶収差補正素子において、第１の透明導電膜が、外部から給電を行うための複数個の引出電極と、当該引出電極の一部の表面をオーバーラップして、かつ引出電極と同じ材料で、引出電極よりも薄膜で形成された、光ビームの波面収差を補正するための第１の収差補正用分割電極とを有する構成とした。【選択図】図１(ａ)
2007248986.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１、第２の透明導電膜がそれぞれ形成された第１と第２の透明基板で液晶層を挟持してなる液晶収差補正素子において、
前記第１の透明導電膜は、外部から給電を行うための複数個の引出電極と、当該引出電極の一部の表面をオーバーラップして、前記引出電極と同じ材料で、かつ前記引出電極よりも薄い膜で形成された、光ビームの波面収差を補正するための第１の収差補正用分割電極とを有する
ことを特徴とする液晶収差補正素子。
【請求項２】
前記第１の収差補正用分割電極には、前記引出電極と同じ材料で、かつ同じ膜厚で形成された接続配線により、前記第１の収差補正用分割電極と同じ膜厚で形成された第２の収差補正用分割電極が接続されている
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶収差補正素子。
【請求項３】
内側に透明導電膜が形成された２枚の透明基板で液晶層を挟持してなる液晶収差補正素子の製造方法において、
前記透明基板の表面に厚膜透明導電膜を形成した後に、外部から給電を行うための複数個の引出電極と位置合わせマークのパターンを形成する厚膜電極形成工程と、
前記引出電極と同じ材料で、前記引出電極を被覆する薄膜透明導電膜を形成した後に、前記引出電極の一部の表面をオーバーラップして、かつ前記引出電極よりも薄膜で形成された、光ビームの波面収差を補正するための収差補正用分割電極のパターンを、前記位置合わせマークを用いて形成する薄膜電極形成工程と、を有する
ことを特徴とする液晶収差補正素子の製造方法。
【請求項４】
前記厚膜電極形成工程で形成された前記位置合わせマークを用いて、前記２枚の透明基板を貼り合わせ後に液晶を注入する液晶収差補正素子形成工程を、さらに有する
ことを特徴とする請求項３に記載の液晶収差補正素子の製造方法。
【請求項５】
前記厚膜透明導電膜と前記薄膜透明導電膜を、同じ成膜手段により形成することを特徴とする請求項３または４に記載の液晶収差補正素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスクの記録および再生時に発生する収差の補正を行うための液晶収差補正素子とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＤ、ＤＶＤなどの情報記録媒体に光ビームを照射して情報の再生又は記録を行う光ディスクが普及しているが、さらなる記録密度の向上及び大容量化の要求に応えるため、青紫色波長領域の光ビームを用いたＢｌｕ−ｒａｙ  ＤｉｓｃやＨＤ−ＤＶＤの開発が進んでいる。
【０００３】
光ディスクの記録密度を高めるために、光源からの出射光の波長を短くし、対物レンズの開口数を大きくすることが行われている。これにより、光ディスクのチルト（傾き）によって発生するコマ収差が大きくなる問題がある。このコマ収差が発生すると、光ディスクの情報記録面上に形成されるスポットが劣化するため、正常な記録再生動作が行えなくなる。光ディスクのチルトによって発生するコマ収差は、一般的に以下の式（１）で与えられる。
【０００４】
Ｗ３１＝（（ｎ２−１）／（２ｎ３））×（ｄ×ＮＡ３×θ／λ）        （１）
ここで、ｎは光記録媒体の透明基板の屈折率、ｄは透明基板の厚み、ＮＡは対物レンズの開口数、λは光源の波長、θは光記録媒体のチルト量を意味する。この式から、短波長、高ＮＡほど収差が大きくなることがわかる。
【０００５】
このコマ収差等の波面収差を補正する方法の一つとして、光源と対物レンズとの間に液晶収差補正素子を用いる方法がある。従来の液晶収差補正素子は、特にＣＤやＤＶＤにおける収差を補正するものであって、光ディスクのチルト角に起因するコマ収差や光ディスクの基板の厚さに起因する球面収差を補正するための液晶収差補正素子が提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００６】
また、他の収差補正である、光学部品の精度、組み立て誤差、光軸のずれや光軸の傾き等に起因する非点収差を補正するための液晶収差補正素子が提案されている（例えば、特許文献２。）。
【０００７】
これらコマ収差、球面収差、非点収差等の収差補正を行うための液晶収差補正素子は、液晶等の複屈折物質に電圧を印加することにより複屈折物質の屈折率を変化させ、通過する光に適切な位相差を与えることによって発生した収差の補正を行う。なお、電圧を印加する電極材料としては、光の利用効率を最大とするために透明導電膜が使用されて透明電極を形成している。
【０００８】
これらの液晶収差補正素子における透明電極は、収差分布に対応した複数の分割電極から構成されている。そして、これら各分割電極には、独立に異なる電圧を印加することができるようになっており、所望の収差補正が可能となる。
【０００９】
【特許文献１】特開平１０−２８９４６５号公報（第１―１頁、第１―１１図）
【特許文献２】特開平１１−２５９８９２号公報（第１―４頁、第２、５、１１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、ＣＤやＤＶＤにおける従来技術の透明電極の構成のままでは、青紫色波長領域（例えば、４０５ｎｍ）の光ビームを用いたＢｌｕ−ｒａｙ  ＤｉｓｃやＨＤ−ＤＶＤにおいて、充分な収差補正機能を発揮することができない。それは、Ｂｌｕ−ｒａｙ
ＤｉｓｃやＨＤ−ＤＶＤにおいて使用される青紫色波長領域の光ビームは、ＣＤやＤＶＤなどで使用される赤色波長領域のレーザーに比べて透明電極に吸収されやすく、また光学材料の屈折率波長分散を増加させ、波面収差を増大させる傾向にあるからである。
【００１１】
ここで、従来の液晶収差補正素子における分割電極パターンにおいて、透明電極を薄膜化することで、透明電極による青紫色波長領域の光吸収量を減少させることが可能であり、素子全体の透過率を増加させて、光ビームの利用効率を増加させることができる。しかし、従来の電極パターンのまま単に透明電極の薄膜化を行うと、透明電極の抵抗が高抵抗となってしまい、分割された各電極パターン内において抵抗分布差が生じてしまうという問題が生じる。この様な形態のまま青紫色波長領域の光ビームに対する収差補正を行うと、収差補正に適切な位相量を発生させることが困難となることは容易に理解できよう。
【００１２】
そこで、本発明は上述の問題点を解決し、ＣＤやＤＶＤだけでなくＢｌｕ−ｒａｙ  ＤｉｓｃやＨＤ−ＤＶＤにおいても充分な収差補正を行うことができる液晶収差補正素子とその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するため、本発明の液晶収差補正素子は、基本的に下記記載の構成要件を採用する。
本発明の液晶収差補正素子は、第１、第２の透明導電膜がそれぞれ形成された第１と第２の透明基板で液晶層を挟持してなる液晶収差補正素子において、第１の透明導電膜が、外部から給電を行うための複数個の引出電極と、当該引出電極の一部の表面をオーバーラップして、引出電極と同じ材料で、かつ引出電極よりも薄膜で形成された、光ビームの波面収差を補正するための第１の収差補正用分割電極とを有することを特徴とするものである。
【００１４】
また、本発明の液晶収差補正素子は、前述した第１の収差補正用分割電極電極には、引出電極と同じ材料で、同じ膜厚に形成された接続配線により、第１の収差補正用分割電極と同じ膜厚の第２の収差補正用分割電極が接続されていることを特徴とするものである。
【００１５】
第１の収差補正用分割電極に低抵抗の引出電極および接続配線を直接接続させることで、透明導電膜の薄膜化による電極パターン内での抵抗分布差の発生を防ぐことができる。これにより、液晶収差補正素子の透過率は向上し、光の利用効率を高めることが可能となり、特に、青紫色波長領域の光ビームを用いるＢｌｕ−ｒａｙ  ＤｉｓｃおよびＨＤ−ＤＶＤにおいても充分な収差補正機能を発揮することができる。
【００１６】
また、引出電極および接続配線に第１の収差補正用分割電極よりも低抵抗な透明導電膜を用いることにより、電極間のマージンを減少させることが可能となり、収差補正領域を有効に活用することができる。
【００１７】
本発明の液晶収差補正素子の製造方法は、内側に透明導電膜が形成された２枚の透明基板で液晶層を挟持してなる液晶収差補正素子の製造方法において、透明基板の表面に厚膜透明導電膜を形成した後に、外部から給電を行うための複数個の引出電極と位置合わせマークのパターンを形成する厚膜電極形成工程と、引出電極と同じ材料で、引出電極を被覆する薄膜透明導電膜を形成した後に、引出電極の一部の表面をオーバーラップして、かつ引出電極よりも薄膜で形成された、光ビームの波面収差を補正するための収差補正用分割電極のパターンを、位置合わせマークを用いて形成する薄膜電極形成工程とを有すること
を特徴とするものである。
【００１８】
また、本発明の液晶収差補正素子の製造方法は、前述した厚膜電極形成工程で形成された位置合わせマークを用いて、２枚の透明基板を貼り合わせ後に液晶を注入する液晶収差補正素子形成工程をさらに有することを特徴とするものである。
【００１９】
また、本発明の液晶収差補正素子の製造方法は、前述した厚膜透明導電膜と薄膜透明導電膜を、同じ成膜手段により形成することを特徴とするものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の液晶収差補正素子は、液晶層を挟持する内の一方の透明導電膜である第１の透明導電膜が、厚膜透明導電膜で形成された引出電極と、この引出電極と同じ材料からなる薄膜透明導電膜で形成された第１の収差補正用分割電極とを有する。そして、この引出電極の一部の表面と、第１の収差補正用分割電極とが、オーバーラップ（積層）して電気的な接続を取る形態としているので、Ｂｌｕ−ｒａｙ対応の液晶収差補正素子として機能するものとなる。
【００２１】
以下に、上記構成とした理由について説明する。
引出電極は、給電先から第１の収差補正用分割電極に至るまでの間に抵抗損失が生じない低抵抗の膜で形成とするのが望ましい。それに対して、第１の収差補正用分割電極は、Ｂｌｕ−ｒａｙ対応とするために、使用する波長（４０５ｎｍ）の光ビームを十分透過するだけの薄膜とする必要がある。また、引出電極と第１の収差補正用分割電極は、異なるパターン形状となっており、かつ上述した様に、膜厚がそれぞれ異なっているので、２回のフォトリソ工程を経てそれぞれのパターンを形成しなくてはならない。ここで、１回目のフォトリソ工程で、薄膜透明導電膜で形成しなくてはならない第１の収差補正用分割電極とともに位置合わせマークを形成すると、１回目のフォトリソ工程にて薄膜透明導電膜で形成された位置合わせマークを用いて、２回目のフォトリソ工程にてこの引出電極のパターンと、先のパターン（第１の収差補正用分割電極）とを精度良く位置合わせをすることができなくなる。
【００２２】
それは、薄膜透明導電膜で形成された位置合わせマークは、フォトリソ工程における露光装置では視認するのが困難となり、結果として、１回目のフォトリソ工程で形成したパターンと、２回目のフォトリソ工程で形成したパターンとのパターンずれが生じるからである。この様に、両パターンの位置合わせを精度よく行えないと、引出電極と第１の収差補正用分割電極との電気的な接続に支障をきたすこととなる。したがって、本発明の液晶収差補正素子の様に、引出電極と位置合わせマークを厚膜透明導電膜で形成した後に、第１の収差補正用分割電極を薄膜透明導電膜で形成する構成とすることにより、課題の欄で記載した問題点を解消したＢｌｕ−ｒａｙ対応の液晶収差補正素子を得ることができる。なお、接続配線を介して第１の収差補正用分割電極に接続する第２の収差補正用分割電極と、この接続配線との関係も、上記した第１の収差補正用分割電極と引出電極との関係と同じである。以下に、本発明の液晶収差補正素子とその製造方法について図面に基づいて詳細に説明する。
【実施例１】
【００２３】
まず、実施例１における本発明の液晶収差補正素子の構成例について説明する。以下の説明では、収差補正用のパターンに非点収差パターンを採用した場合の、本発明の液晶収差補正素子の構成を例に挙げて説明する。図１(ａ)は、本実施の形態に係る液晶収差補正素子の一構成例として示す非点収差補正用電極パターンを示す平面図である。図１(ｂ)は、本発明の実施の形態に係る液晶収差補正素子の構成を示す断面図である。なお、特に、図１(ｂ)に示される各要素は、便宜上誇張して図示されており、実際の厚さの比とは異な
る。
【００２４】
図１(ｂ)において、液晶収差補正素子１００は、内側に透明導電膜１１、１２を有する透明基板１、２との間に、光ビームの波面を変化させるための異方性光学媒質（液晶）３を挟持し、その液晶３の外周にシール剤４、５を配することで、透明基板１、２を所定の間隙を持って接着固定する。
【００２５】
この透明基板１の表面には、図１(ａ)に示すように、位置合わせマーク６Ａ〜６Ｄが低抵抗の厚膜透明導電膜から形成されており、第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｅおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｄは、高抵抗の薄膜透明導電膜により形成されている。
【００２６】
また、外部からの給電を行うための引出電極９Ａ〜９Ｅは、低抵抗の厚膜透明導電膜により形成されており、高抵抗の薄膜透明導電膜からなる第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｅに直接接続する。引出電極９Ａ〜９Ｅに直接接続されない第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｄは、引出電極９Ａ〜９Ｅと同材料の透明導電膜で形成された、厚膜透明導電膜からなる接続配線１０Ａ〜１０Ｄによってそれぞれ薄膜透明導電膜からなる第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｄに接続され、間接的に外部からの給電を受けることができるようになっている。
【００２７】
この様にして、上述した第１の収差補正用分割電極７Ａは、接続配線１０Ａを介して第２の収差補正用分割電極８Ａと接続される。また、第１の収差補正用分割電極７Ｂは、接続配線１０Ｂを介して第２の収差補正用分割電極８Ｂと接続され、第１の収差補正用分割電極７Ｃは、接続配線１０Ｃを介して第２の収差補正用分割電極８Ｃと接続され、第１の収差補正用分割電極７Ｄは、接続配線１０Ｄを介して第２の収差補正用分割電極８Ｄと接続される。
【００２８】
なお、上記位置合わせマーク６Ａ〜６Ｄ、第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｅ、第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｄ、引出電極９Ａ〜９Ｅ、接続配線１０Ａ〜１０Ｄが、図１（ｂ）に示す透明電極１１となる。
【００２９】
また、図１(ｂ)に示す様に、透明基板２には、対向する透明基板１上の透明導電膜１１との間に電圧を印加するための透明導電膜１２が形成されている。この透明導電膜１２は、薄膜の対向透明電極と、厚膜の引出電極を有する。さらに、この対向透明電極は、厚膜の引出電極により導出されて、シール剤５に混入された導電性ビーズ１５により、透明基板１上の引出電極と電気的な導通をとる。また、透明導電膜１１、１２上には、異方性光学媒質（液晶３）を配向させるための配向膜１３、１４（図示せず）がそれぞれ形成されている。
【００３０】
ここで、本発明の液晶収差補正素子１００の製造方法について説明する。本発明の液晶収差補正素子の製造方法は、厚膜電極形成工程と、薄膜電極形成工程と、液晶収差補正素子形成工程とを有するものである。
【００３１】
まず、先に示した１回目のフォトリソ工程を含む厚膜電極形成工程について説明する。最初に、透明基板１、２の表面に透明導電膜を形成する。この透明導電膜には、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等を用いることができる。
【００３２】
具体的には、透明導電膜１１を構成する、透明基板１上の位置合わせマーク６Ａ〜６Ｄと、引出電極９Ａ〜９Ｅおよび接続配線１０Ａ〜１０Ｄを構成する厚膜透明導電膜を、ＣＶＤ法（化学気相成長法）等の手段によって形成する。その後、フォトリソエッチング工
程を経て、厚膜透明導電膜からなる、位置合わせマーク６Ａ〜６Ｄ、引出電極９Ａ〜９Ｅ、接続配線１０Ａ〜１０Ｄのパターンを形成する。
【００３３】
次に、先に示した２回目のフォトリソ工程を含む薄膜電極形成工程について説明する。
まず、この引出電極９Ａ〜９Ｅおよび接続配線１０Ａ〜１０Ｄ上に薄膜透明導電膜を、先と同様にしてＣＶＤ法等の手段によって形成する。
【００３４】
その後、前述した位置合わせマーク６Ａ〜６Ｄの内の少なくとも２つを用いて先に形成した厚膜透明導電膜からなるパターンに合わせて、フォトリソエッチング工程を経て、第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｅ、および第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｄのパターンを形成する。この様に、本発明の製造方法では、厚膜透明導電膜で形成された位置合わせマーク６Ａ〜６Ｄを用いて２回目のフォトリソ工程にてパターンの位置合わせを行っているので、引出電極９Ａ〜９Ｅと第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｅのパターン合わせと、引出電極９Ａ〜９Ｅと、接続配線１０Ａ〜１０Ｄと、第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｄとのパターン合わせを正確に行うことができる。
【００３５】
また、上述した圧膜電極形成工程と薄膜電極形成工程における成膜手段は、各成膜工程において統一することが望ましい。２つの成膜手段を各工程において統一することにより、透明導電膜１１を構成する結晶粒子の形状を均一化することができる。これにより、透明基板１上に成膜する厚膜透明導電膜からなる引出電極９Ａ〜９Ｅおよび接続配線１０Ａ〜１０Ｄと、これら引出電極９Ａ〜９Ｅおよび接続配線１０Ａ〜１０Ｄの一部とオーバーラップさせて形成する、薄膜透明導電膜からなる第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｅおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｄとの間の密着性を高めることが可能となり、各膜間で発生する電気的な断線を防ぐことができる。
【００３６】
次に液晶収差補正素子形成工程について説明する。第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｅおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｄのパターンが形成された透明基板１に、図示しない配向膜を成膜し、ラビングにより配向処理を行う。もう一方の透明基板２にも同様に配向膜を形成する。
【００３７】
そして、透明基板１の外周にシール剤４、５を塗布し、対向する透明基板１、２を、位置合わせマーク６Ａ〜６Ｄを用いて位置合わせをして重ね合わせた後、シール剤４、５を硬化させてセルを作成する。このセルに液晶３を真空注入法によって図示しない液晶注入口から注入して、封口剤を用いて液晶注入口を封止し、目的の液晶収差補正素子１００を得ることができる。
【００３８】
以上のように、液晶収差補正素子１００の製造方法において、収差を補正するための第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｅおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｄと、外部からの給電を行うための引出電極９Ａ〜９Ｅと、接続配線１０Ａ〜１０ＤとをＩＴＯ等の透明導電材料により形成する。また、引出電極９Ａ〜９Ｅおよび接続配線１０Ａ〜１０Ｄは、第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｅおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｄに比べ厚膜の透明導電膜により形成する。さらに、第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｅおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｄを、引出電極９Ａ〜９Ｅおよび接続配線１０Ａ〜１０Ｄが形成された後に引出電極９Ａ〜９Ｅおよび接続配線１０Ａ〜１０Ｄの一部とオーバーラップして形成する。この様にして製造された液晶収差補正素子１００とすることで、Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ、ＨＤ−ＤＶＤなどの青紫色波長領域での収差補正に必要な透明電極膜の薄膜化を、問題なく行うことが可能となる。
【実施例２】
【００３９】
次に、実施例２における本発明の液晶収差補正素子の構成例について説明する。図２
は、本実施の形態に係る液晶収差補正素子の一構成例として示す球面収差補正用電極パターンを示す平面図である。
【００４０】
本実施例の液晶収差補正素子２００は、光ディスクの記録および再生時に発生する球面収差を補正するための収差補正機能を備えている。この、液晶収差補正素子２００の構造は、実施例１で示した構成（図１(ｂ)参照）と同じであり、電極パターンのみが異なるものである。
【００４１】
図２に示すように、本実施例における液晶収差補正素子２００の電極構成は、実施例１と同様に、位置合わせマーク６Ａ〜６Ｄを有する。また、この液晶収差補正素子２００は、球面収差を補正するための第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃと、この第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃに直接接続する引出電極９Ａ〜９Ｃとを有する。さらに、第１の収差補正用分割電極７Ａと接続配線１０Ａを介して接続する第２の収差補正用分割電極８Ａと、第１の収差補正用分割電極７Ｂと接続配線１０Ｂを介して接続する第２の収差補正用分割電極８Ｂと、第１の収差補正用分割電極７Ｃと接続配線１０Ｃを介して接続する第２の収差補正用分割電極８Ｃとを有する。
【００４２】
なお、本実施例においても、実施例１と同様に、位置合わせマーク６Ａ〜６Ｄと、引出電極９Ａ〜９Ｃ、接続配線１０Ａ〜１０Ｃは、厚膜透明導電膜により形成されており、第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｃは、薄膜透明導電膜により形成されている。
【００４３】
そして、各第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃの一部と、引出電極９Ａ〜９Ｃとは、オーバーラップして形成されて電気的な導通を取っている。また、他の第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃの一部と接続配線１０Ａ〜１０Ｃとの接続、および第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｃと接続配線１０Ａ〜１０Ｃとの接続も同様である。
【００４４】
上記本発明の液晶収差補正素子２００の製造方法は、実施例１と同様であるので、ここでの説明は割愛する。
【００４５】
以上のように、本発明の液晶収差補正素子２００の製造方法において、収差を補正するための第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｃと外部からの給電を行うための引出電極９Ａ〜９Ｃと接続配線１０Ｃ〜１０Ｃとを透明導電膜により形成する。また、引出電極９Ａ〜９Ｃおよび接続配線１０Ａ〜１０Ｃは、第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃおよび第２の収差補正用分割電極８Ｂ〜８Ｃに比べ厚膜の透明導電膜により形成する。さらに、第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ〜８Ｃを、引出電極９Ａ〜９Ｃおよび接続配線１０Ａ〜１０Ｃが形成された後に引出電極９Ａ〜９Ｃおよび接続配線１０Ａ〜１０Ｃの一部とオーバーラップして形成する。この様にして製造された液晶収差補正素子２００とすることで、Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ、ＨＤ−ＤＶＤなどの青紫色波長領域での収差補正に必要な透明電極膜の薄膜化を、問題なく行うことが可能となる。
【実施例３】
【００４６】
次に、実施例３における本発明の液晶収差補正素子の構成例について説明する。図３は、本実施の形態に係る液晶収差補正素子の一構成例として示すコマ収差補正用電極パターンを示す平面図である。
【００４７】
本実施例の液晶収差補正素子３００は、光ディスクの記録および再生時に発生するコマ収差を補正するための収差補正機能を備えている。この、液晶収差補正素子３００の構造は、実施例１で示した構成（図１（ｂ））参照）と同じであり、収差補正の電極パター
ンのみが異なるものである。
【００４８】
図３に示すように、本実施例における液晶収差補正素子３００の電極構成は、実施例１と同様に、位置合わせマーク６Ａ〜６Ｄを有する。また、本構成は、コマ収差を補正するための第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃと、この第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃに直接接続する引出電極９Ａ〜９Ｃとを有し、さらに、第１の収差補正用分割電極７Ａと接続配線１０Ａを介して接続する第２の収差補正用分割電極８Ａと、第１の収差補正用分割電極７Ｂと接続配線１０Ｂを介して接続する第２の収差補正用分割電極８Ｂとを有する。
【００４９】
なお、本実施例でも、実施例１、実施例２と同様に、位置合わせマーク６Ａ〜６Ｄと、引出電極９Ａ〜９Ｃ、接続配線１０Ａ、１０Ｂは、厚膜透明導電膜により形成されており、第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ、８Ｂは、薄膜透明導電膜により形成されている。
【００５０】
そして、各第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃの一部と、引出電極９Ａ〜９Ｃとは、オーバーラップして形成されて電気的な導通を取っている。また、他の第１の収差補正用分割電極７Ａ、７Ｂの一部と接続配線１０Ａ、１０Ｂとの接続、および第２の収差補正用分割電極８Ａ、８Ｂと接続配線１０Ａ、１０Ｂとの接続も同様である。
【００５１】
上記本発明の液晶収差補正素子３００の製造方法は、実施例１と同様であるので、ここでの説明は割愛する。
【００５２】
以上のように、液晶収差補正素子３００の製造方法において、収差を補正するための第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ、８Ｂと外部からの給電を行うための引出電極９Ａ〜９Ｃと接続配線１０Ａ、１０Ｂとを透明導電膜により形成する。また、引出電極９Ａ〜９Ｃおよび接続配線１０Ａ、１０Ｂは、第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ、８Ｂに比べ厚膜の透明導電膜により形成する。さらに、第１の収差補正用分割電極７Ａ〜７Ｃおよび第２の収差補正用分割電極８Ａ、８Ｂを、引出電極９Ａ〜９Ｃおよび接続配線１０Ａ、１０Ｂが形成した後に引出電極９Ａ〜９Ｃおよび接続配線１０Ａ、１０Ｂの一部とオーバーラップして形成する。この様にして製造された液晶収差補正素子３００とすることで、Ｂｌｕ−ｒａｙ
Ｄｉｓｃ、ＨＤ−ＤＶＤなどの青紫色波長領域での収差補正に必要な透明電極膜の薄膜化を、問題なく行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１（ａ）】本発明の液晶収差補正装置の構成例を示す平面図である。
【図１（ｂ）】本発明の液晶収差補正素子の構成例を示す断面図である。
【図２】本発明の液晶収差素子の他の構成例を示す平面図である。
【図３】本発明の液晶収差素子のさらに他の構成例を示す平面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１  第１の透明基板
２  第２の透明基板
３  液晶
４、５  シール剤
６Ａ〜６Ｄ  位置合わせマーク
７Ａ〜７Ｅ  第１の収差補正用分割電極  
８Ａ〜８Ｅ  第２の収差補正用分割電極
９Ａ〜９Ｅ  引出電極
１０Ａ〜１０Ｄ  接続配線
１１、１２  透明導電膜
１５  導電性ビーズ
１３、１４  配向膜
１００、２００、３００  液晶収差補正素子
【図１（ａ）】
2007248986.tif 000003
【図１（ｂ）】
2007248986.tif 000004
【図２】
2007248986.tif 000005
【図３】
2007248986.tif 000006