(57)【要約】  【課題】透明材層の段差による着色材層流れ込みを利用したカラーフィルターにおいて、表示領域の中心と周縁部の内周での色特性が同等なカラーフィルタ、および均一な表示特性を示す半透過型液晶表示を得る。  【解決手段】透明基板上の表示領域には第１の領域と第２の領域からなる複数色の画素が形成され、表示領域を囲む非表示領域には遮光性の額縁層が形成され、第２の領域には透明基板上に透明材層と着色材層が積層され、額縁層上にも透明材層が積層されてなる半透過型液晶表示装置用カラーフィルター基板であって、  周縁部の内周から８００μｍ以内の第２の領域には、着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域を有することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルター。【選択図】図１１
2007271898.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に、着色材層が設けられた第１の領域と透明材層上に着色材層が設けられた第２の領域を１画素内に備え、該画素が２次元的に配列されて設けられており、該画素の群の周縁部は遮光材層上に透明材層が設けられた半透過表示に適した液晶表示装置用カラーフィルターであって、第２の領域のうち周縁部の内周から８００μm以内に存在するものについては、着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域が存在することを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルター。
【請求項２】
周縁部の内周から８００μm以内に存在する第２の領域の着色材層の膜厚が、該画素の群の中心部の第２の領域の着色材層の膜厚よりも厚いことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用カラーフィルター。
【請求項３】
第１の領域には複数の着色材層が積層されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置用カラーフィルター。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置用カラーフィルタを用いた半透過型液晶表示装置。
【請求項５】
透明基板上に、遮光材層、透明材層、非感光性着色材層、およびネガ型の感光性着色材層をこの順にパターン形成して、着色材層が設けられた第１の領域と透明材層上に着色材層が設けられた第２の領域を１画素内に備え、該画素が２次元的に配列されて設けられており、該画素の群の周縁部は遮光材層上に透明材層が設けられた半透過表示に適した液晶表示装置用カラーフィルターを製造する方法であって、ネガ型感光性着色材層を露光する際に用いるマスクが、周縁部の内周から８００μm以内に存在する第２の領域に対応する領域に遮光部を有することを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透過型液晶表示と反射型液晶表示の両方の方式を兼ね備えた半透過型液晶表示装置用カラーフィルター、およびその製造方法、並びにそれを用いた半透過型液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は軽量、薄型、低消費電力等の特性を生かし、ノートＰＣ、携帯情報端末、デスクトップモニタ、デジタルカメラなど様々な用途で使用されている。バックライトを使用した液晶表示装置においては、低消費電力化を進めるためにバックライト光の利用効率を高めることが求められ、カラーフィルターの高透過率化が要求されている。一方、カラーフィルターの透過率は年々向上しているが、透過率向上による消費電力の大幅な低下は望めなくなってきている。最近では電力消費量の大きなバックライト光源を必要としない反射型液晶表示装置の開発が進められており、透過型液晶表示装置にくらべ約１／７と大幅な消費電力の低減が可能であることが発表されている（例えば非特許文献１参照）。  反射型液晶表示装置は、透過型液晶表示装置に比べ低消費電力であり、屋外での視認性に優れるという利点はあるものの、十分な環境光強度が確保されない場所では表示が暗くなってしまい、視認性が極端に悪くなるという問題点がある。暗い環境下でも表示が視認されるようにするために、（１）バックライトを設け、反射膜の一部に切り欠きを入れ、一部が透過型表示方式、一部を反射型表示方式とした液晶表示装置、半透過半反射型表示方式（いわゆる半透過半反射型液晶表示装置、以降、単に半透過型液晶表示装置という。例えば、非特許文献２参照）、（２）フロントライトを設けた液晶表示装置などが考案されている。
【０００３】
反射膜の一部に切り欠きを入れ、バックライトを設けた半透過型液晶表示装置では、バックライト光を利用する透過表示と環境光を利用する反射表示が１画素内に共存するため、環境光強度によらず、視認性のよい表示を行うことが出来る（例えば、特許文献１参照）。しかし、図１に示すような従来の構成のカラーフィルター、すなわち、反射表示用の第２の領域と透過表示用の第１の領域が特別には設けられていない、１画素内での着色が均一なカラーフィルターを用いた場合には、鮮やかな透過表示を得ようとすると問題点が生じていた。具体的には透過色の色鮮やかさ（色純度）を向上させると、反射色もそれに伴いさらに色純度が高くなり、色純度とトレードオフの関係にある明るさが極端に低下し、十分な視認性が得られないというものである。この問題点は、透過表示を行うときにはバックライト光がカラーフィルターを１回透過するのに対して、反射表示では、環境光が入射時と反射時の２回カラーフィルターを透過することに起因する。
【０００４】
そこで、透過表示用の第１の領域と反射表示用の第２の領域の表示色を同一にする（色純度、明るさ、色調を同一にする）方法として、第２の領域に透明樹脂材層を形成して、第１の領域と第２の領域で着色材層の膜厚を変えることが記載されている（例えば、特許文献２参照）。図２は、従来知られている膜厚を調整する方式での半透過型液晶表示装置用カラーフィルターの断面図を模式的に示したものである。第２の領域６には透明樹脂材層３が形成され、第２の領域６の着色材層４の膜厚は、第１の領域７の着色材層４の膜厚に比べて、薄くなっている。このような構成とすることで、色鮮やかな透過表示と明るい反射表示を得ることが可能となる。
【０００５】
このようなカラーフィルターを製造する方法の一例について、図３を参照しながら説明する。まず、図３（ａ）に示すように、ブラックマトリクス２を設けた基板１上に透明樹脂材層３を設けることにより、段差を形成する。
【０００６】
次に、図３（ｂ）に示すように、着色材層４を形成するための感光性カラーレジストを塗布する。そして、フォトマスクを通して紫外線等を照射することにより、感光性カラーレジストの第１の領域６および第２の領域７に対応する領域を露光する。
【０００７】
その後、現像、加熱硬化することにより、図３（ｃ）に示すように、第２の領域６の着色材層４の膜厚が、第１の領域７の着色材層４の膜厚に比べて、薄くなったカラーフィルターが得られる。
【０００８】
また、第２の領域に透明樹脂材層を形成し、複数の着色材層を積層させ、ならびに積層させる着色材層の着色特性を異ならせることで、透過表示と反射表示のそれぞれで所望の色調を得ることが考案されている（例えば、特許文献３参照）。図４は、上記カラーフィルターの一例を示す模式図である。ここで、最上層に感光性カラーレジストを用いれば、下層着色材層との一括パターン加工ができ、製造工程の増加を抑えることが可能となる。パターン加工の際には、第２の領域の下層着色材層のみを現像時に溶解させ、第２の領域の着色材層については最上層の感光性カラーレジストのみとすることもできる。このような加工をすることでも、透過表示と反射表示のそれぞれで所望の特性を得ることが可能となる。
このようなカラーフィルターを製造する方法の一例について、図５を参照しながら説明する。まず、図５（ａ）に示すように、ブラックマトリクス２を設けた基板１上に透明樹脂材層３を設けることにより、段差を形成する。
【０００９】
次に、図５（ｂ）に示すように、第１の着色材層９ｂを形成するための非感光性着色被膜を形成し、続いてその上に第２の着色材層９ａを形成するための感光性カラーレジストを積層する。そして、フォトマスクを通して紫外線等を照射することにより、感光性カラーレジストの第１の領域６および第２の領域７に対応する領域を露光する。
【００１０】
次に、この基板を現像液で現像し、感光性カラーレジストの非露光部分を除去する。通常の現像条件で現像を行うと、感光性カラーレジストが除去されて露出した部分、すなわち非露光部分に対応する非感光性着色被膜がエッチングされて、いっしょに除去される。しかし、本発明においては、通常の現像条件よりも現像時間を長くするなどした、過現像条件で現像を行う。この場合、感光性カラーレジストについては、十分な露光量が照射されていれば、架橋が進行しており、現像条件によらず、一定のパターンを得ることができる。一方、非感光性着色被膜は、現像条件の影響を受けるので、現像時間が長くなると、エッチングがさらに進行する。非感光性着色被膜のエッチングが、透明樹脂材層により設けられた段差に到達すると、エッチング速度が非常に遅くなり、非感光性着色被膜のエッチングを段差を設けた位置で止めることができる。その後、加熱硬化することにより、図５（ｃ）に示すように、第１の領域６に第１の着色材層９ｂと第２の着色材層９ａが積層され、第２の領域７には、透明樹脂材層の上に第２の着色材層９ａのみが形成されたカラーフィルターが得られる。すなわち、一色の画素につき、１回の露光工程および１回の現像工程だけで、本発明の構造を有するカラーフィルターを製造することができる。
【００１１】
上記のような透明樹脂材層などの樹脂層を有する従来のカラーフィルターでは、表示領域と表示領域を囲む非表示領域とのセルギャップを均一にするように、つまり表示領域と表示領域を囲む非表示領域でのカラーフィルタ膜厚の差を小さくするように、非表示領域の遮光部分に透明材層を形成することが好ましい（図６〜１０）。しかしながら、表示領域を囲む非表示領域の遮光部分、いわゆる額縁部分に樹脂成分を含む遮光材層が用いられ、かつ透明樹脂材層が形成されていると、周縁部の内周（特に図９，１０）の段差が表示領域中心より大きくなるため、着色材層の流れ込み挙動が表示領域の中心と周縁部とで異なってしまう。そのため、表示領域の中心より、周縁部の方が膜厚が厚くなり、その結果、表示領域中心と周縁部での色特性が異なるという問題や、均一なカラーフィルタ加工が出来ないという問題があった。また、該カラーフィルタを用いた液晶表示装置において、周縁部の表示が暗くなるという問題があった。
【特許文献１】特開平１１−１０９４１７号公報（図１）
【特許文献２】特開２００１−３３７７８号公報（第３〜４頁、第２図、第８図）
【特許文献３】特開２００５−３５０８３０号公報（第１〜３図）
【非特許文献１】「日経マイクロデバイス別冊フラットパネル・ディスプレイ」、１９９８年、ｐ．１２６。
【非特許文献２】「ファインプロセステクノロジージャパン’９９、専門技術セミナーテキストＡ５」、１９９８年７月２日、ｐ．６。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、かかる従来技術の欠点に鑑み創案されたもので、透明樹脂材層の段差による着色材層流れ込みを利用したカラーフィルターにおいて、表示領域の中心と周縁部での色特性が同等なカラーフィルタ、および均一な表示特性を示す半透過型液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、従来技術の課題を解決するために鋭意検討した結果、以下のカラーフィルターによって、表示領域の中心と周縁部での色特性が同等であり、表示領域全面において明るい半透過型液晶表示装置を得ることが可能であることを見いだした。
【００１４】
本発明のカラーフィルタ、および半透過型液晶表示装置は、以下の構成を有するものである。
すなわち、
（１）透明基板上に、着色材層が設けられた第１の領域と透明材層上に着色材層が設けられた第２の領域を１画素内に備え、該画素が２次元的に配列されて設けられており、該画素の群の周縁部は遮光材層上に透明材層が設けられた半透過表示に適した液晶表示装置用カラーフィルターであって、第２の領域のうち周縁部の内周から８００μm以内に存在するものについては、着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域が存在することを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルター。
（２）周縁部の内周から８００μm以内に存在する第２の領域の着色材層の膜厚が、該画素の群の中心部の第２の領域の着色材層の膜厚よりも厚いことを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置用カラーフィルター。
（３）第１の領域には複数の着色材層が積層されていることを特徴とする（１）または（２）に記載の液晶表示装置用カラーフィルター。
（４）（１）〜（３）のいずれかに記載の液晶表示装置用カラーフィルタを用いた半透過型液晶表示装置。
（５）透明基板上に、遮光材層、透明材層、非感光性着色材層、およびネガ型の感光性着色材層をこの順にパターン形成して、着色材層が設けられた第１の領域と透明材層上に着色材層が設けられた第２の領域を１画素内に備え、該画素が２次元的に配列されて設けられており、該画素の群の周縁部は遮光材層上に透明材層が設けられた半透過表示に適した液晶表示装置用カラーフィルターを製造する方法であって、ネガ型感光性着色材層を露光する際に用いるマスクが、周縁部の内周から８００μm以内に存在する第２の領域に対応する領域に遮光部を有することを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルターの製造方法。
第１の領域第２の領域第２の領域透明材層透明材層第２の領域第２の領域第２の領域第１の領域遮光材層透明材層第１の領域第２の領域第２の領域                
【発明の効果】
【００１５】
本発明は上述のごとく構成したので、表示領域の中心と周縁部での色特性が同等なカラーフィルタ、および均一な表示特性を示す半透過型液晶表示装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
外光を利用するための反射膜が形成される基板は、カラーフィルター側基板、カラーフィルターに対向する基板のいずれでもよい。カラーフィルター側に反射膜が形成されている場合は、色材料が形成されている画素領域の内、反射膜が形成されている領域が第２の領域となり、画素領域の中で反射膜が形成されていない領域が第１の領域となる。反射膜がカラーフィルターに対向する基板上に形成されている場合は、該基板の反射膜形成領域に対応するカラーフィルター画素領域が第２の領域となり、該基板の反射膜が形成されていない領域に対応するカラーフィルター画素領域が第１の領域となる。
【００１７】
本発明においては、第２の領域と第１の領域の配置について特に限定はないが、第１の領域が第２の領域に囲まれる配置（図１、図２、図４の配置）、もしくは画素の短辺方向を上下とした場合に上下で第２の領域、第１の領域と分割される配置（図７の配置）が好ましい。
【００１８】
本発明でいう額縁層とは、表示領域を囲む非表示領域に形成される遮光材層のことを指し、少なくとも遮光機能を有していればよい。従って、金属薄膜ブラックマトリックス、樹脂ブラックマトリックスなどいずれも好適に用いることができるが、樹脂ブラックマトリクスは、金属薄膜ブラックマトリックスに比べて膜厚が厚く、周縁部の段差を大きくするため、本発明は、特に樹脂ブラックマトリックスを用いたカラーフィルターで効果が大きい。ここで、周縁部とは、表示領域内の画素と遮光材層の境界部分（図７の１２で示される部分）の内周のことをいう。
【００１９】
本発明は、画素内に基板と着色材層の間に透明材層が形成され、透明材層上に１層以上の着色材層が塗布されたカラーフィルターにおいて、その効果が発揮される。ここでいう透明材層とは、透明樹脂材層、光拡散膜などを指し、好ましく用いられるが、基板と着色材層の間に凸形状の層を形成することができればこれらに限定されるものではない。また、透明材層は積層されていてもよい。例えば、透明樹脂材層上に光拡散膜を積層したり、反射膜上に透明樹脂材層を積層したものも好ましく用いることができる。着色材層とは、液晶表示装置の発色のために用いられる層を指し、例えば透明樹脂材層、遮光材層などは含まないものとする。
【００２０】
透明材層が透明樹脂材層、光拡散膜である場合は、第１の領域と第２の領域の境界部のみに形成されていてもよく、第２の領域全体にわたって形成されていてもよい。
【００２１】
第２の領域の全体に渡って、透明材層を形成する場合は、透明材層は透明であることが好ましい。ここで「透明」とは、具体的には可視光領域の平均透過率が８０％以上であることをいう。第２の領域に形成した透明材層によって、第２の領域の着色膜の膜厚を第１の領域より薄くし、第２の領域の着色を第１の領域の着色より薄く、明るくすることができ、好ましい。
【００２２】
上記のように、基板上の第２の領域に透明材層を形成すると第２の領域は透明材層の膜厚分凸になるため、凸のある基板上に非感光性カラーペーストおよび／または感光性カラーレジストを塗布し着色材層を形成すると、凸が形成されている第２の領域の膜厚は、非感光性カラーペーストや感光性カラーレジストによる流れ込みによって第１の領域の着色材層の膜厚に比べて薄くなる。
【００２３】
着色塗液の流れ込みの程度は、塗液の粘度、固形分濃度により調整することが出来る。塗液の粘度が低いとより流れ込みやすくなり、また塗液中の固形分濃度が低いとより流れ込みやすい。透明材層上に塗布する着色材層の固形分濃度は感光性カラーレジストの場合、１０重量％から３０重量％であることが好ましく、非感光性カラーペーストの場合は、３重量％から１５重量％であることが好ましい。
【００２４】
基板と着色材層の間に形成される透明材層の膜厚は、第２の領域と第１の領域の色純度、明るさ、色調が所望の特性となるように選択させる。透明材層の膜厚が大きいほど、流れ込みによる着色材層の膜厚差が大きくなるため、本発明の効果が大きい。しかしながら、透明材層の膜厚があまりに大きくなると表示エリア内の段差が大きくなり、液晶配向に悪影響を及ぼし表示品位が悪化するので透明材層の膜厚は１０μｍ以下が好ましい。特に、透明材層の膜厚が５μm以下であると、オーバーコートなどの平坦化膜による平坦化が容易にできるため、より好ましい。
【００２５】
透明材層として透明樹脂層を形成する場合は感光性レジストを使用することができる。感光性樹脂材料としてはポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等の材料が使用でき、アクリル系樹脂が好ましく用いられる。感光性アクリル系樹脂としては、感光性を持たせるため、少なくともアクリル系ポリマー、アクリル系多官能モノマーあるいはオリゴマー、光重合開始剤を含有させた構成を有するのが一般的であるがエポキシモノマーを加えたいわゆるアクリルエポキシ樹脂としてもよい。透明樹脂材層を感光性レジストで形成した場合は、フォトリソ加工の露光工程で、露光マスクと透明樹脂材層を形成する基板の距離を変えることで透明樹脂材層の表面の丸みや平坦性を制御することが可能である。
【００２６】
透明樹脂材層は非感光性ペーストを使用しても形成することができる。非感光性樹脂材料としてはポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等の材料が使用でき、ポリイミド系樹脂が好ましく用いられる。透明樹脂材層を非感光性ペーストで形成した場合は、透明樹脂材層の上部表面が平坦な構造になり、より小さな面積の透明樹脂材層を形成することが可能である。
【００２７】
第２の領域に透明材層として透明樹脂層を形成する場合、透明樹脂材層には光散乱のための粒子を含んでもよい（光拡散膜）。透明樹脂材層に光拡散の粒子を含むことで、正反射成分による表示のギラツキを押さえ、良好な表示特性を得ることができ、かつ第１の領域には透明樹脂材層は存在しないので光散乱せずに効率的にバックライトを使用することができる。光散乱のための粒子としてはシリカ、アルミナ、チタニアなどの無機酸化物粒子、金属粒子、アクリル、スチレン、シリコーン、フッ素含有ポリマーなどの樹脂粒子などの材料を使用することができ、シリカ粒子を用いることが好ましい。光散乱粒子の粒径としては０．１〜１０μｍの範囲で用いることができる。光拡散の粒子径が透明樹脂材層の厚み以下である場合は透明樹脂材層が平坦になるのでより好ましい。
【００２８】
非感光性ペーストを用いて透明樹脂材層を形成する例としては、透明基板上に非感光性ペーストを塗布し、ホットプレート、オーブン、真空乾燥などを用いて加熱乾燥（セミキュア）する。セミキュア膜上にポジ型フォトレジストを塗布し、加熱乾燥（プリベーク）する。プリベーク後にマスク露光し、アルカリ現像し、フォトレジストを溶剤で剥離することで透明樹脂材層を形成し加熱硬化させる。
【００２９】
感光性レジストを用いて透明樹脂材層を形成する方法としては、透明基板上に感光性レジストを塗布し、ホットプレート、オーブン、真空乾燥を用いて加熱乾燥（プリベーク）する。プリベーク後にマスク露光し、アルカリ現像し、後に加熱硬化することで、透明樹脂材層を得る。
【００３０】
透明材層が形成される画素には特に限定はなく、赤、緑、青のいずれか１色でもよく、または全ての色でもよい。透過型と反射型の色特性の向上という観点から考えると、全ての色において透明材層を形成することが特に好ましい。
透明材層は、表示領域を囲む非表示領域の遮光材層上に形成すると、表示領域と非表示領域との膜厚差が小さくなり、セルギャップの均一性を確保する点で好ましい。しかし、非表示領域の遮光材層上に土台を形成することで、非表示領域、いわゆる額縁部分と表示領域との境界、ここでいう周縁部の段差が大きくなり、カラーペーストの流れ込みも大きくなる。そのため、周縁部周縁部の表示領域透明材層上に塗布される着色材層の膜厚が、表示領域の中心に比べ厚くなり、表示領域中心と周縁部周縁部とで着色特性が異なってしまう。特に、図４に示すような複数の着色材層を積層させ、第２の領域の下層着色材層のみを現像時に溶解させて得られるカラーフィルタの場合、周縁部周縁部で着色材層が厚くなると、下層着色材層の現像が進まずに残存し、大幅に膜厚が厚くなった状態となる。
【００３１】
本発明においては、着色材層膜厚が厚くなる周縁部の着色材層において着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域を形成することで、表示領域中央との着色特性の違いを補償できることを見出した。また、複数の着色材層を積層させ、第２の領域の下層着色材層のみを現像時に溶解させて得られるカラーフィルタの場合には、周縁部の着色材層において着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域を形成することで、下層着色材層への現像液の浸透が促進され、速やかに現像が進むことにより、安定したカラーフィルター製造が可能になることを見出した。
【００３２】
本発明においては、着色材層厚みが実質的に薄くなること、または第２の領域の下層非感光性ペーストからなる着色材層への現像液の浸透が促進されることが重要であり、ここでいう着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域とは、その目的を達するものであれば、その形状については特に限定されない。
【００３３】
例えば、着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域の平面形状については、スリット形状、長方形、円形などいずれであってもよい。複数の着色材層を積層させ、第２の領域の下層着色材層のみを現像時に溶解させて得られるカラーフィルタにおいて、着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域がスリット形状である場合は、そのスリット間隙が１０μｍ以下であることが好ましく、７μｍ以下であることがさらに好ましい。１０μｍより大きなスリット間隙の場合、現像時に着色パターンの欠け、剥がれなどが起こる可能性があり、好ましくない。
【００３４】
着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域の位置、個数などは各色毎に変えてもよい。例えば、１色目に比べ、下層の非感光性ペースト層の現像が進みにくい２色目、３色目の着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域は、１色目に比べ、数を増やす、面積を大きくするなどがあげられる。より具体的には、２色目の着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域については、１色目と色重なりの可能性があるストライプ片側の端面に該領域を形成し、３色目については、ストライプ両側の端面に該領域を形成することなどである。
【００３５】
本発明における着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域の位置の例について、図１１、図１２に示す。図１１は、膜厚を調整する方式での半透過型液晶表示装置用カラーフィルターにおいて、着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域１３をスリット状に形成した例である。図１２は、第２の領域に透明樹脂材層を形成し、透過領域に複数の着色材層を積層させた半透過型液晶表示装置用カラーフィルターにおいて、着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域１３を円形に形成した例である。図１３，図１４には、それぞれ図１１，図１２のカラーフィルタのｃ線での断面図を示す。
【００３６】
本発明における着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域は、少なくとも周縁部の内周から４００μｍまでの範囲に形成することが好ましく、周縁部の内周から８００μｍまでの範囲に形成することがより好ましい。この範囲よりも広い場合には、流れ込みによる厚膜化の影響のすくない領域にまで着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域が形成されてしまい、画素欠落などの欠点が発生してしまう。一方、この範囲よりも狭い場合は、十分な効果が得られない。
【００３７】
ここで、周縁部の内周からの距離とは、表示領域と非表示領域の境界線から、着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域までの鉛直方向の距離のうち最短のものを指す。また、反射領域の膜厚は、着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域、すなわちフォトマスクの遮光部に対応する領域以外での反射領域の任意の場所において測定される。表示領域中央の着色材層と周縁部の着色材層の反射領域の膜厚を比較する場合は、互いに対応する箇所での膜厚を比較するものとする。
【００３８】
本発明のカラーフィルターは、半透過型液晶表示装置に組み込まれて使用される。ここで、半透過型液晶表示装置とは、対向基板あるいはカラーフィルターの反射領域にはアルミニウム膜や銀膜等から成る反射膜を備え、透過領域にはそのような反射膜がないことを特徴とする液晶表示装置である。本発明のカラーフィルターは、液晶表示装置の駆動方法、表示方式にも限定されず、アクティブマトリクス方式、パッシブマトリクス方式、ＴＮモード、ＳＴＮモード、ＥＣＢモード、ＯＣＢ、ＶＡモードなど種々の液晶表示装置に適用される。また、液晶表示装置の構成、例えば偏光板の数、散乱体の位置等にも限定されずに使用することができる。
【００３９】
本発明のカラーフィルター作製方法の一例を述べる。
【００４０】
透明基板上にポリアミック酸と溶剤からなる非感光性ペーストを全面に塗布し、ホットプレートを使用し、６０〜２００℃の範囲で１〜６０分間加熱乾燥する。次にこのようにして得られたポリアミック酸被膜にポジ型フォトレジストを塗布し、ホットプレートを使用して６０〜１５０℃の範囲で１〜３０分加熱乾燥させる。露光装置を用いて、紫外線を照射し目的のパターンを焼き付け、アルカリ現像して所望位置に所望パターンで透明樹脂材層を得る。透明樹脂材層は２００〜３００℃で加熱硬化させる。
【００４１】
次に、少なくとも１色について、第２の領域に透明樹脂材層が形成され、第２の領域と第１の領域の着色材層膜厚が異なる画素を形成する。少なくともアクリル系ポリマー、アクリル系多官能モノマー、光重合開始剤からなる感光性アクリル樹脂、着色剤、溶剤からなる感光性カラーレジストを塗布した後、風乾、加熱乾燥、真空乾燥などにより、感光性アクリル着色被膜を形成する。加熱乾燥の場合、オーブン、ホットプレートなどを使用し、６０〜２００℃の範囲で１分〜３時間行うのが好ましい。続いて周縁部の反射領域に対応する箇所に遮光部を含むマスクを感光性アクリル着色被膜に上に置き、露光装置を用いて紫外線を照射する。露光後、アルカリ現像液により、感光性アクリル着色被膜のエッチングを行う。感光性アクリル着色被膜は、その後加熱硬化を行う。加熱硬化は通常、空気中、窒素雰囲気中、あるいは、真空中などで、１５０〜３５０℃、好ましくは１８０〜２５０℃の温度のもとで、０．５〜５時間、連続的または段階的に行われる。
【００４２】
感光性アクリル着色被膜の膜厚を部分的に薄くする場合は、遮光パターンを露光機の解像度以下、例えば２μｍ以下に形成したフォトマスクを用いてもよく、また対応する箇所の透過率が０％より大きく１００％より小さいグレートーンマスクを用いてもよい。感光性アクリル着色被膜を部分的に除去する場合は、対応する箇所に露光機の解像度よりも十分大きな形状の遮光材層からなるフォトマスクを用いる。
【００４３】
また、第２の領域に透明樹脂材層が形成され、かつ第１の領域に複数の着色材層が積層され、第２の領域には少なくとも１層の着色材層を含む画素を形成してもよい。感光性カラーレジストを塗布する前に、少なくともポリアミック酸、着色剤、溶剤からなる非感光性カラーペーストを塗布する。非感光性カラーペーストの塗布後に、風乾、加熱乾燥、真空乾燥などを行い、ポリアミック酸着色被膜を形成する。加熱乾燥の場合、オーブン、ホットプレートなどを使用し、６０〜２００℃の範囲で１分〜６０分行うのが好ましい。このようにして得られたポリアミック酸着色被膜に、感光性カラーレジストを塗布し、風乾、加熱乾燥、真空乾燥などにより、感光性アクリル着色被膜を積層させる。続いて周縁部の反射領域に対応する箇所に遮光部を含むマスクを感光性アクリル着色被膜に上に置き、露光装置を用いて紫外線を照射する。露光後、アルカリ現像液により、感光性アクリル着色被膜とポリアミック酸着色被膜の同時エッチングを行う。このとき、過現像条件とすることで、反射領域の下層ポリアミック酸着色被膜をエッチングすることが出来る。
【００４４】
ポリアミック酸着色被膜は、その後、加熱硬化することによって、ポリイミド着色被膜に変換される。加熱硬化は通常、空気中、窒素雰囲気中、あるいは、真空中などで、１５０〜３５０℃、好ましくは１８０〜２５０℃の温度のもとで、０．５〜５時間、連続的または段階的に行われる。
【００４５】
以上の工程を赤、緑、青の画素（必要に応じてブラックマトリックス）について行うと、液晶表示装置用カラーフィルターが作製できる。
【００４６】
次に、このカラーフィルターを用いて作成した半透過型液晶表示装置の一例について述べる。このカラーフィルター基板と、金属蒸着膜などがパターニングされた半透過反射膜、半透過反射膜上の透明絶縁膜、さらにその上にＩＴＯ膜などの透明電極が形成された半透過反射基板とを、さらにそれらの基板上に設けられた液晶配向のためのラビング処理を施した液晶配向膜、およびセルギャップ保持のための固定スペーサーを介して、対向させてシールし貼りあわせる。なお、半透過反射基板上には、反射膜、透明電極以外に、光拡散用の突起物、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子や薄膜ダイオード（ＴＦＤ）素子、および走査線、信号線などを設け、ＴＦＴ液晶表示装置や、ＴＦＤ液晶表示装置を作成することができる。次に、シール部分に設けられた注入口から液晶を注入した後に、注入口を封止する。つぎに、ＩＣドライバー等を実装することによりモジュールが完成する。
【実施例】
【００４７】
＜測定法＞
画素の膜厚は（株）東京精密製表面粗さ計“サーフコム１３０Ａ”を用いて測定した。
【００４８】
透過率、色座標：大塚電子（株）製、“ＭＣＰＤ−２０００”顕微分光光度計を用い、カラーフィルター上に製膜されているものと同一製膜条件により作製されるＩＴＯを製膜したガラスをリファレンスとして測定した。
【００４９】
ここでいう反射領域色度とは、上述のカラーフィルターの反射表示用領域を顕微分光光度計などで測定したときに得られる分光スペクトルを各波長にについて自乗することにより求められるものである。着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域がある場合には、反射領域中の着色領域と着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域の分光スペクトルをそれぞれ各波長について、自乗し、反射領域中の着色領域と除去部との面積についての加重平均を取ることにより求められるものである。
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００５０】
なお、以下の実施例、比較例では、特に断りがない場合は画素領域に対する反射板の形成領域（第２の領域）の割合は５０％とし、画素ピッチは５０μｍとする。また、透明樹脂材層を形成する領域は、各画素の第２の領域とする。
【００５１】
実施例１
Ａ．感光性カラーレジストの作製
ピグメントレッドＰＲ２０９、３１．７ｇ、ピグメントオレンジＰO３８、３．５ｇを３−メチル−３−メトキシブタノール５０ｇとともに仕込み、ホモジナイザーを用い、７０００ｒｐｍで５時間分散後、ガラスビーズを濾過し、分散液を得た。アクリル共重合体溶液（ダイセル化学工業株式会社製サイクロマーＰ、ＡＣＡ−２５０、４３ｗｔ％溶液）３５．００ｇ、多官能モノマーとしてペンタエリスリトールテトラメタクリレート１５．００ｇ、光重合開始剤として“イルガキュア”３６９  ７．５０ｇにシクロペンタノン１３０．００ｇを加えた濃度２０重量％の感光性樹アクリル樹脂溶液（ＡＣ）を得た。赤分散液２０ｇと感光性樹アクリル樹脂溶液（ＡＣ）６０ｇを加え、赤レジスト（ＲＡＣ）を得た。同様にして、表１に示す割合で、緑レジスト（ＧＡＣ）、青レジスト（ＢＡＣ）を得た。
【００５２】
【表１】
2007271898.tif 000003
【００５３】
Ｂ．ポリアミック酸溶液の作成
４，４′−ジアミノジフェニルエーテル ９５．１ｇおよびビス(３−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン ６．２ｇをγ−ブチロラクトン ５２５ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２２０ｇと共に仕込み、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 １４４．１ｇを添加し、７０℃で３時間反応させた後、無水フタル酸 ３．０ｇを添加し、さらに７０℃で２時間反応させ、２５重量％のポリアミック酸溶液（ＰＡＡ）を得た。
【００５４】
Ｃ．ポリマー分散剤の合成
４，４′−ジアミノベンズアニリド １６１．３ｇ、３，３′−ジアミノジフェニルスルホン １７６．７ｇ、およびビス(３−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン １８．６ｇをγ−ブチロラクトン ２６６７ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン５２７ｇと共に仕込み、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 ４３９．１ｇを添加し、７０℃で３時間反応させた後、無水フタル酸２．２ｇを添加し、さらに７０℃で２時間反応させ、２０重量％のポリアミック酸溶液であるポリマー分散剤（ＰＤ）を得た。
【００５５】
Ｄ．非感光性カラーペーストの作成
ピグメントレッドＰＲ２０９、１．８ｇ、ピグメントオレンジＰＯ３８、２．７ｇとポリマー分散剤（ＰＤ） ２２．５ｇおよびγ−ブチロラクトン ４２．８ｇ、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール ２０．２ｇをガラスビーズ ９０ｇとともに仕込み、ホモジナイザーを用い、７０００ｒｐｍで５時間分散後、ガラスビーズを濾過し、除去した。このようにしてＰＲ２０９とＰＯ３８からなる分散液５％溶液（ＲＤ）を得た。
【００５６】
分散液（ＲＤ） ６５．０ｇにポリアミック酸溶液（ＰＡＡ） １１．０ｇをγ−ブチロラクトン ９０．０ｇで希釈した溶液を添加混合し、赤色カラーペースト（ＲＰＩ）を得た。同様にして、表１に示す割合で緑ペースト（ＧＰＩ）、青ペースト（ＢＰＩ）を得た。
【００５７】
Ｅ．非感光性ペースト（透明樹脂材層に用いる）の作製
ポリアミック酸溶液（ＰＡＡ） １６．０ｇをγ−ブチロラクトン ３４．０ｇで希釈し非感光性透明ペースト（ＴＰＩ−１）を得た。
【００５８】
Ｆ．着色塗膜の作成と評価
ブラックマトリクスがパターン加工されたガラス基板上に非感光性ペースト（ＴＰＩ−１）をスピンナーで塗布した。
該塗膜を、１２０℃のオーブンで２０分乾燥し、この上にポジ型フォトレジスト（東京応化株式会社製ＯＦＰＲ−８００）を塗布し、９０℃で１０分オーブン乾燥した。キャノン株式会社製紫外線露光機ＰＬＡ−５０１Ｆを用い、フォトマスクパターンを介して赤、緑、青の各画素の第２の領域に透明樹脂材層が残るように６０ｍＪ/ｃｍ２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの１．６％の水溶液からなる現像液に浸漬し、フォトレジストの現像、ポリアミック酸の塗膜のエッチングを同時に行った。エッチング後不要となったフォトレジスト層をアセトンで剥離し、２４０℃で３０分熱処理し、各画素の第２の領域に透明樹脂材層を得た。このときの透明樹脂材層の膜厚は４．０μｍであった。
【００５９】
次に、透明樹脂材層を形成したガラス基板上に赤レジスト（ＲＡＣ）をスピンナーで基板上に塗布し、該塗膜を８０℃のオーブンで１０分熱処理した。紫外線露光機を用い、赤画素の第１の領域と第２の領域は光が透過するクロム製フォトマスクを介して、１００mJ／ｃｍ２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。このとき用いたフォトマスクは、周縁部の内周から４画素（６００μｍ）について、第２の領域内内、画素ストライプ短辺方向に並行に幅４μｍの遮光部を２箇所に形成したものである。露光後にテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの１．６％の水溶液からなる現像液に浸漬し、着色材層を現像した。現像後に２４０℃のオーブンで３０分熱処理をし、赤画素を得た。表示領域中央での第２の領域の着色材層膜厚は１．０μｍで、Ｄ６５光源を通したときの反射領域色度（ｘ、ｙ）は（０．５１２、０．３０５）であった。また、周縁部の内周から１画素目、フォトマスクの遮光部に対応しない箇所の第２の領域の着色材層膜厚は１．３μｍであった。フォトマスクの遮光部に対応する箇所の着色材層膜厚は０．９μｍであり部分的に薄膜化されていた。
【００６０】
同様にして、緑レジスト（ＧＡＣ）をスピンナーで基板上に塗布し、着色塗膜を作製した。このとき用いたフォトマスクは、周縁部の内周から４画素（６００μｍ）について、第２の領域内、画素ストライプ短辺方向に並行に幅４μｍの遮光部を３箇所に形成したものである。表示領域中央での第２の領域の着色材層膜厚は１．０μｍで、Ｄ６５光源を通したときの色度（ｘ、ｙ）は（０．３３１、０．４４６）であった。また、周縁部の内周から１画素目、フォトマスクの遮光部に対応しない箇所の第２の領域の着色材層膜厚は１．３μｍであった。フォトマスクの遮光部に対応する箇所の着色材層膜厚は０．９μｍであり部分的に薄膜化されていた
同様にして、青レジスト（ＢＡＣ）をスピンナーで基板上に塗布し、着色塗膜を作製した。このとき用いたフォトマスクは、周縁部の内周から４画素（６００μｍ）について、第２の領域内、画素ストライプ短辺方向に並行に幅５μｍの遮光部を２箇所に形成したものである。表示領域中央での第２の領域の着色材層膜厚は１．０μｍで、Ｄ６５光源を通したときの色度（ｘ、ｙ）は（０．１４６、０．１７７）であった。また、周縁部の内周から１画素目、フォトマスクの遮光部に対応しない箇所の第２の領域の着色材層膜厚は１．３μｍであった。フォトマスクの遮光部に対応する箇所の着色材層膜厚は０．９μｍであり部分的に薄膜化されていた
このようにして得られた画素膜上にオーバーコート層（ＪＳＲ社製”オプトマーＳＳ６５００／ＳＳ０５００”）を２μｍの厚みで製膜した。さらにもう一度オーバーコート層（ＪＳＲ社製”オプトマーＳＳ６５００／ＳＳ０５００”）を２μｍの厚みで製膜し、その上にＩＴＯ膜を膜厚０．１μｍとなるようにスパッタリングした。
【００６１】
この様にして得られたカラーフィルター基板について、表示領域中央部の１つの画素、周縁部の内周から１画素目の４つの画素について、分光スペクトルを測定した。測定した画素スペクトルを各測定部について平均し、色度を求めた。Ｄ６５光源での反射領域色度を表２に示す。
【００６２】
【表２】
2007271898.tif 000004
【００６３】
比較例１
赤画素、緑画素、青画素それぞれについて、反射領域内に遮光部を形成しないフォトマスクを用いたこと以外は実施例１と同様にカラーフィルターを作成した。
【００６４】
この様にして得られたカラーフィルター基板について、表示領域中央部の１つの画素、周縁部の内周から１画素目の４つの画素について、分光スペクトルを測定した。測定した画素スペクトルを各測定部について平均し、色度を求めた。Ｄ６５光源での反射領域色度を表３に示す。
【００６５】
【表３】
2007271898.tif 000005
【００６６】
実施例２
ブラックマトリクスがパターン加工されたガラス基板上に実施例１と同様に非感光性ペースト（ＴＰＩ−１）を塗布し、各画素の第２の領域に４．０μｍの透明樹脂材層を形成した。
【００６７】
次に、第１の領域の画素の中央での熱処理後の膜厚が１．５μｍになるように赤ペースト（ＲＰＩ）をスピンナーで基板上に塗布し、該塗膜を１２０℃のオーブンで２０分乾燥した。該塗膜の上に赤レジスト（ＲＡＣ）をスピンナーで基板上に塗布し、該塗膜を８０℃のオーブンで１０分熱処理した。紫外線露光機を用い、実施例１で用いたフォトマスクを介して、１００mJ／ｃｍ２（３６５ｎｍの紫外線強度）で露光した。露光後にテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの１．６％の水溶液からなる現像液に浸漬し、ＲＰＩおよびＲＡＣを積層した着色材層を現像した。このとき、表示領域中央の画素について下層に形成した赤ペースト（ＲＰＩ）のうち反射領域に形成した赤ペーストのみが現像されるよう現像時間を調整した。現像後に２４０℃のオーブンで３０分熱処理をし、赤画素を得た。表示領域中央での第２の領域の着色材層膜厚は１．０μｍで、Ｄ６５光源を通したときの反射領域色度（ｘ、ｙ）は（０．５１２、０．３０５）であった。また、周縁部の内周から１画素目、フォトマスクの遮光部に対応しない箇所の第２の領域の着色材層膜厚は１．３μｍであった。フォトマスクの遮光部に対応する箇所の着色材層膜厚は０．９μｍであり部分的に薄膜化されていた。
【００６８】
次に赤画素と同様にして、ＧＰＩ、ＧＡＣからなる緑画素を作製した。このとき用いたフォトマスクは、周縁部の内周部から４画素（６００μｍ）について、第２の領域内、画素ストライプ短辺方向に並行に幅４μｍの遮光部を３箇所に形成したものである。表示領域中央での第２の領域の着色材層膜厚は１．０μｍで、Ｄ６５光源を通したときの色度（ｘ、ｙ）は（０．３３１、０．４４６）であった。また、周縁部の内周から１画素目、フォトマスクの遮光部に対応しない箇所の第２の領域の着色材層膜厚は１．３μｍであった。フォトマスクの遮光部に対応する箇所の着色材層膜厚は０．９μｍであり部分的に薄膜化されていた
赤画素、緑画素と同様にして、ＢＡＣ、ＢＰＩからなる青画素を作製した。このとき用いたフォトマスクは、周縁部の内周から４画素（６００μｍ）について、第２の領域内、画素ストライプ短辺方向に並行に幅５μｍの遮光部を２箇所に形成したものである。表示領域中央での第２の領域の着色材層膜厚は１．０μｍで、Ｄ６５光源を通したときの色度（ｘ、ｙ）は（０．１４６、０．１７７）であった。また、周縁部の内周から１画素目、フォトマスクの遮光部に対応しない箇所の第２の領域の着色材層膜厚は１．３μｍであった。フォトマスクの遮光部に対応する箇所の着色材層膜厚は０．９μｍであり部分的に薄膜化されていた
この様にして得られたカラーフィルター基板について、表示領域中央部の１つの画素、周縁部の内周から１画素目の４つの画素について、分光スペクトルを測定した。測定した画素スペクトルを各測定部について平均し、色度を求めた。Ｄ６５光源での反射領域色度を表４に示す。
【００６９】
【表４】
2007271898.tif 000006
【００７０】
比較例２
赤画素、緑画素、青画素それぞれについて、反射領域内に遮光部を形成しないフォトマスクを用いたこと以外は実施例２と同様にカラーフィルターを作成した。周縁部の内周の画素の第２の領域については、積層したポリイミド樹脂からなる着色材層の現像のこりがみられた。
【００７１】
この様にして得られたカラーフィルター基板について、表示領域中央部の１つの画素、額縁境界から１画素目の４つの画素について、分光スペクトルを測定した。測定した画素スペクトルを各測定部について平均し、色度を求めた。Ｄ６５光源での反射領域色度を表５に示す。
【００７２】
【表５】
2007271898.tif 000007
【００７３】
比較例３
赤画素、緑画素、青画素それぞれについて周縁部の内周から１０画素（１５００μｍ）について、フォトマスクの遮光部に対応しないを形成するフォトマスクを用いたこと以外は実施例２と同様にカラーフィルターを作製した。この様にして得られたカラーフィルター基板は、周縁部の内周から８画素から１０画素目について、部分的に反射領域の画素欠落が観察された。
（液晶表示装置の作製）
カラーフィルター基板と、金属蒸着膜などがパターニングされた半透過反射膜、半透過反射膜上の透明絶縁膜、さらにその上にＩＴＯ膜などの透明電極が形成された半透過反射基板とを、さらにそれらの基板上に設けられた液晶配向のためのラビング処理を施した液晶配向膜、およびセルギャップ保持のための固定スペーサーを介して、対向させてシールし貼りあわせる。なお、半透過反射基板上には、反射膜、透明電極以外に、光拡散用の突起物、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子や薄膜ダイオード（ＴＦＤ）素子、および走査線、信号線などを設けることができる。また、固定スペーサー形成部は、対向基板上で遮光部となるようにした。次に、シール部に設けられた注入口から液晶を注入した後に、注入口を封入する。つぎに、ＩＣドライバー等を実装することにより液晶表示装置が完成する。
【００７４】
比較例で作製したカラーフィルターを用いた半透過型液晶表示装置と実施例のカラーフィルターを用いた液晶表示装置との表示特性の違いを反射表示について屋外の環境光下で評価した。
【００７５】
実施例１、２のカラーフィルターを用いた液晶表示装置は、画面中央、周縁部の内周ともほぼ同等の表示を示し、均一な反射表示であった。
【００７６】
一方、比較例１のカラーフィルターを用いた液晶表示装置は、画面中央に比べ、周縁部の内周では色濃く、やや暗めの表示を示し、不均一な反射表示であった。
【００７７】
また、比較例２のカラーフィルターを用いた液晶表示装置は、画面中央に比べ、周縁部の内周では非常に色が濃く、暗い表示を示し、不均一な反射表示であった。
【００７８】
比較例３のカラーフィルターを用いた液晶表示装置は、周縁部の内周に画素欠落による白抜けが観察され、欠点のある反射表示であった。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】従来のカラーフィルターの模式断面図
【図２】カラーフィルターの模式断面図
【図３】図２のカラーフィルタの加工工程図
【図４】カラーフィルターの模式断面図
【図５】図３のカラーフィルタの加工工程図
【図６】カラーフィルターの全体図
【図７】図６のＡの拡大図
【図８】非表示領域の遮光材層に透明材層を形成した場合の図７のａ線での断面図
【図９】非表示領域の遮光材層に透明材層を形成した場合の図７のｂ線での断面図
【図１０】非表示領域の遮光材層に透明材層を形成した場合の図７のｃ線での断面図
【図１１】周縁部の内周の着色材層に着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域を形成した膜厚を調整する方式でのカラーフィルタ平面図
【図１２】周縁部の内周の着色材層に着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域を形成した透過領域に複数の着色材層を積層するカラーフィルタでの平面図
【図１３】図１１のｃ線での断面図
【図１４】図１２のｃ線での断面図
【符号の説明】
【００８０】
１  ：透明基板
２  ：ブラックマトリックス
３  ：透明樹脂材層  
４  ：着色材層
５  ：第２の領域
６  ：第１の領域
７Ｂ：青画素領域
７Ｇ：緑画素領域
７Ｒ：赤画素領域
８  ：オーバーコート層
９ａ：感光性樹脂からなる着色材層
９ｂ：非感光性樹脂からなる着色材層
１０：非表示領域の遮光材層
１１：表示領域
１２：表示領域と非表示領域の境界
１３：着色材層が部分的に設けられていない領域または着色材層の厚みが他の部分に比べて８０％以下の厚みとなっている領域
１４：露光部
１５：未露光部
【図１】
2007271898.tif 000008
【図２】
2007271898.tif 000009
【図３】
2007271898.tif 000010
【図４】
2007271898.tif 000011
【図５】
2007271898.tif 000012
【図６】
2007271898.tif 000013
【図７】
2007271898.tif 000014
【図８】
2007271898.tif 000015
【図９】
2007271898.tif 000016
【図１０】
2007271898.tif 000017
【図１１】
2007271898.tif 000018
【図１２】
2007271898.tif 000019
【図１３】
2007271898.tif 000020
【図１４】
2007271898.tif 000021