(57)【要約】【課題】青紫色レーザ露光システムを使用したときに高感度であり、廃棄時における環境への影響を考慮した感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。【解決手段】アルカリ可溶性感光性樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤又は光開始剤系化合物と、熱架橋性樹脂と、顔料とを含む感光性組成物であって、前記着色剤は、単一の色相を呈し、ハロゲン原子が含まれないトリアリールカルボニウム系顔料と、前記色相と同様の色相を呈し、１分子中のハロゲン原子の含有率が１５質量％以下の金属錯体系化合物と、前記色相と同様の色相を呈し、１分子中のハロゲン原子の含有率が４０質量％以下のハロゲン化フタロシアニン系化合物とのいずれかを少なくとも含むことを特徴とする感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ可溶性感光性樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤、及び光開始剤系化合物のいずれかと、熱架橋性樹脂と、着色剤とを含み、前記着色剤が、単一の色相を呈し、ハロゲン原子が含まれないトリアリールカルボニウム系顔料と、前記色相と同様の色相を呈し、１分子中のハロゲン原子の含有率が１５質量％以下の金属錯体系化合物と、前記色相と同様の色相を呈し、１分子中のハロゲン原子の含有率が４０質量％以下のハロゲン化フタロシアニン系化合物とのいずれかを少なくとも含むことを特徴とする感光性組成物。
【請求項２】
波長５００±５０ｎｍにおける最大透過率が２０〜８０％である請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項３】
着色剤が、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン２、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン４、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン８、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン４５、及びＣ．Ｉ．ピグメントブルー７６のいずれかから選択される請求項１から２のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項４】
該感光性組成物の固形分中に含有されるハロゲン原子が９００ｐｐｍ以下である請求項１から３のいずれかに記載の感光性組成物。
【請求項５】
着色剤の平均粒子径が１００〜１，０００ｎｍである請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の感光性組成物を支持体上に塗布し、その後、乾燥により得られる感光層を有する感光性フィルム。
【請求項７】
感光層の厚みが５〜１００μｍであり、波長４１０±５ｎｍにおいて吸光度が１以下である請求項６に記載の感光性フィルム。
【請求項８】
請求項１から５のいずれかに記載の感光性組成物を感光層として、基体の表面に積層した後、前記感光層に対し露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項９】
基体が、配線形成済みのプリント配線基板である請求項８に記載の永久パターン形成方法。
【請求項１０】
露光が、３５０〜４１５ｎｍの波長のレーザ光を用いて行われる請求項８から９のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１１】
感光層に対し、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、
前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、
前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、
前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて行われる請求項８から１０のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１２】
露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部を指定する請求項１１に記載の永久パターン形成方法。
【請求項１３】
露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域以外の領域におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部を指定する請求項１１に記載の永久パターン形成方法。
【請求項１４】
設定傾斜角度θが、Ｎ重露光数のＮ、描素部の列方向の個数ｓ、前記描素部の列方向の間隔ｐ、及び露光ヘッドを傾斜させた状態において該露光ヘッドの走査方向と直交する方向に沿った描素部の列方向のピッチδに対し、次式、ｓｐｓｉｎθｉｄｅａｌ≧Ｎδを満たすθｉｄｅａｌに対し、θ≧θｉｄｅａｌの関係を満たすように設定される請求項１１から１３のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１５】
使用描素部指定手段が、
描素部により生成されて被露光面上の露光領域を構成する描素単位としての光点位置を、被露光面上において検出する光点位置検出手段と、
前記光点位置検出手段による検出結果に基づき、Ｎ重露光を実現するために使用する描素部を選択する描素部選択手段と
を備える請求項１１から１４のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１６】
パターン情報が表すパターンの所定部分の寸法が、指定された使用描素部により実現できる対応部分の寸法と一致するように前記パターン情報を変換する請求項１１から１５のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１７】
現像が行われた後、感光層に対して硬化処理を行う請求項８から１６のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１８】
請求項８から１７のいずれかに記載の永久パターン形成方法により永久パターンが形成されることを特徴とするプリント基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線板等を覆う絶縁膜や保護膜としてのソルダーレジストを形成する、青紫色レーザ露光システムに好適な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線基板の分野では、半導体やコンデンサ、抵抗等の部品がプリント配線基板の上に半田付けされる。この場合、例えば、ＩＲリフロー等のソルダリング工程において、半田付けの不必要な部分に半田が付着するのを防ぐため、保護膜、絶縁膜として、前記半田付けの不要部分に相当する永久パターンを形成する方法が採用されている。また、保護膜の永久パターンとしては、ソルダーレジストが好適に用いられている。
【０００３】
前記永久パターンの形成方法としては、従来、感光性組成物溶液を前記プリント配線板に塗布して感光層を積層する液状レジストによる永久パターン形成方法が一般的であったが、近年では、より取り扱い易く、膜厚均一性に優れるために、該液状レジストのドライフィルム化が望まれている。
一方、前記感光層への露光としては、従来、フォトマスクを用いて露光を行うことが一般的であったが、近年では、プリント基板の高生産性や不良率の減少を追求するために、マスクレスのレーザ露光システムが注目を集めている。
【０００４】
ここで、ハロゲン原子を含む化合物は、焼却したときに、ダイオキシンなどの有害物質を発生することが知られており、ハロゲン原子を含まないプリント基板の要請が高まっている。
これまで、ハロゲン原子を含む素材の内、永久レジスト中のハロゲン原子含有率の大きな部分を占めているのは、着色剤としてのフタロシアニングリーン（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７やＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）等の緑色顔料であることが知られている。
【０００５】
そこで、ハロゲン含有率を低下させた感光性組成物として、前述のフタロシアニングリーンに代わって、ハロゲン原子を含まない青色顔料とハロゲン原子を含まない黄色又は橙色顔料を混合する技術などが開示されている（特許文献１〜５参照）。
【０００６】
特許文献１では、シアニングリーン系緑色と黄色顔料とを併用した感光性樹脂組成物に関する技術が開示されている。
【０００７】
また、特許文献２では、ハロゲン不含の青色と黄色顔料とを併用したプリント配線板用緑色インキ組成物に関する技術が開示されている。
【０００８】
また、特許文献３では、ハロゲン不含の顔料を使用し、ソルダーレジスト硬化物のハロゲン含有量が５００ｐｐｍ以下であるフォトソルダーレジストインクに関する技術が開示されている。
【０００９】
また、特許文献４では、ハロゲン不含の青色と黄色顔料とを併用したレジストインキ組成物に関する技術が開示されている。
【００１０】
また、特許文献５では、ハロゲン不含の青色と橙色顔料とを使用したソルダーレジストインクに関する技術が開示されている。
【００１１】
しかしながら、レジスト材料及び露光システムの近年の動向としては、高感度で膜厚均一性に優れた、青紫色レーザー（波長＝４０５±５ｎｍ）に対し高感度を示すレジスト材料の開発が盛んに行われており、上記特許文献１〜５に開示された感光性組成物は、青紫色レーザー光に対して求められるような高感度を示すことが困難であった。
【００１２】
したがって、ハロゲンフリーなど、廃棄時における環境への影響を考慮したレジスト材料は種々開発されてはいるが、青紫色レーザ露光システムを使用したときに高感度を示す感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板は未だ提供されていないのが現状である。
【００１３】
【特許文献１】特開平９−１３６９４２号公報
【特許文献２】特開２０００−７９７４号公報
【特許文献３】特開２０００−２３２２６４号公報
【特許文献４】特開２０００−２９０５６４号公報
【特許文献５】国際公開第ＷＯ０１／６７１７８号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、青紫色レーザ露光システムを使用したときに高感度であり、廃棄時における環境への影響を考慮した感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、前記課題に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、以下の知見を得た。即ち、青紫色レーザー光に対して高感度を示す感光性組成物として、着色剤（顔料）と、アルカリ可溶性感光性樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤又は光開始剤系化合物と、熱架橋性樹脂とを少なくとも含む感光性組成物であって、１分子中にハロゲン原子を含有しないトリアリールカルボニウム系顔料、１分子中のハロゲン原子の含有率が１５質量％以下の金属錯体系化合物、及び１分子中のハロゲン原子の含有率が４０質量％以下のハロゲン化フタロシアニン系化合物のいずれかを少なくとも含有する前記着色剤（顔料）を含む感光性組成物が目的を果たすことを知見し、本発明に至った。
【００１６】
本発明は、本発明者らの前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  アルカリ可溶性感光性樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤、及び光開始剤系化合物のいずれかと、熱架橋性樹脂と、着色剤とを含み、前記着色剤が、単一の色相を呈し、ハロゲン原子が含まれないトリアリールカルボニウム系顔料と、前記色相と同様の色相を呈し、１分子中のハロゲン原子の含有率が１５質量％以下の金属錯体系化合物と、前記色相と同様の色相を呈し、１分子中のハロゲン原子の含有率が４０質量％以下のハロゲン化フタロシアニン系化合物とのいずれかを少なくとも含むことを特徴とする感光性組成物である。
＜２＞  アルカリ可溶性感光性樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤、及び光開始剤系化合物のいずれかと、熱架橋性樹脂と、着色剤とを含み、前記着色剤が、単一の色相を呈し、ハロゲン原子が含まれないトリアリールカルボニウム系化合物と、前記色相と同様の色相を呈し、ハロゲン原子が含まれない金属錯体系化合物との少なくともいずれかを含むことを特徴とする感光性組成物である。
＜３＞  波長５００±５０ｎｍにおける最大透過率が２０〜８０％である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の感光性組成物である。
＜４＞  着色剤が、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン２、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン４、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン８、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン４５、及びＣ．Ｉ．ピグメントブルー７６のいずれかから選択される前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の感光性組成物である。
＜５＞  着色剤が、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン２、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン４、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン８、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１０、及びＣ．Ｉ．ピグメントグリーン４５の何れかから選択される前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の感光性組成物である。
＜６＞  該感光性組成物の固形分中に含有されるハロゲン原子が９００ｐｐｍ以下である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の感光性組成物である。
＜７＞  着色剤の平均粒子径が１００〜１，０００ｎｍである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の感光性組成物である。
【００１７】
＜８＞  支持体と、該支持体上に前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の感光性組成物からなる感光層とを有してなることを特徴とする感光性フィルムである。
＜９＞  感光性組成物を支持体上に塗布し、その後、乾燥により得られる感光層を有する前記＜８＞に記載の感光性フィルムである。
＜１０＞  支持体上に、熱可塑性樹脂層と感光層とをこの順に有する前記＜８＞から＜９＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜１１＞  前記＜８＞から＜１０＞のいずれかに記載の感光性フィルムが、長尺状であり、ロール状に巻かれてなる感光性フィルムである。
＜１２＞  感光層の厚みが５〜１００μｍであり、波長４１０±５ｎｍにおいて吸光度が１以下である前記＜８＞から＜１１＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜１３＞  支持体が、合成樹脂を含み、かつ透明である前記＜８＞から＜１２＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
＜１４＞  感光層上に保護フィルムを有する前記＜８＞から＜１３＞のいずれかに記載の感光性フィルムである。
【００１８】
＜１５＞  光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の感光性組成物を、基体の表面に塗布し、乾燥して形成した感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置である。該＜１５＞に記載のパターン形成装置においては、前記光照射手段が、前記光変調手段に向けて光を照射する。前記光変調手段が、前記光照射手段から受けた光を変調する。前記光変調手段により変調した光が前記感光層に対して露光させる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、高精細なパターンが形成される。露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法である。
＜１６＞  前記＜８＞から＜１４＞のいずれかに記載の感光性フィルムを備えており、光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記感光性フィルムにおける感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置である。該＜１６＞に記載のパターン形成装置においては、前記光照射手段が、前記光変調手段に向けて光を照射する。前記光変調手段が、前記光照射手段から受けた光を変調する。前記光変調手段により変調した光が前記感光層に対して露光させる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、高精細なパターンが形成される。
＜１７＞  光変調手段が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を更に有してなり、光照射手段から照射される光を該パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて変調させる前記＜１５＞から＜１６＞のいずれかに記載のパターン形成装置である。該＜１７＞に記載のパターン形成装置においては、前記光変調手段が前記パターン信号生成手段を有することにより、前記光照射手段から照射される光が該パターン信号生成手段により生成した制御信号に応じて変調される。
＜１８＞  光変調手段が、ｎ個の描素部を有してなり、該ｎ個の描素部の中から連続的に配置された任意のｎ個未満の前記描素部を、形成するパターン情報に応じて制御可能である前記＜１５＞から＜１７＞のいずれかに記載のパターン形成装置である。該＜１８＞に記載のパターン形成装置においては、前記光変調手段におけるｎ個の描素部の中から連続的に配置された任意のｎ個未満の描素部をパターン情報に応じて制御することにより、前記光照射手段からの光が高速で変調される。
＜１９＞  光変調手段が、空間光変調素子である前記＜１５＞から＜１８＞のいずれかに記載のパターン形成装置である。
＜２０＞  空間光変調素子が、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）である前記＜１９＞に記載のパターン形成装置である。
＜２１＞  描素部が、マイクロミラーである前記＜１８＞から＜２０＞のいずれかに記載のパターン形成装置である。
＜２２＞  光照射手段が、２以上の光を合成して照射可能である前記＜１５＞から＜２１＞のいずれかに記載のパターン形成装置である。該＜２２＞に記載のパターン形成装置においては、前記光照射手段が２以上の光を合成して照射可能であることにより、露光が焦点深度の深い露光光によって行われる。この結果、前記感光層への露光が極めて高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、極めて高精細なパターンが形成される。
＜２３＞  光照射手段が、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザ光を集光して前記マルチモード光ファイバに結合させる集合光学系とを有する前記＜１５＞から＜２２＞のいずれかに記載のパターン形成装置である。該＜２３＞に記載のパターン形成装置においては、前記光照射手段が、前記複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザ光が前記集合光学系により集光され、前記マルチモード光ファイバに結合可能であることにより、露光が焦点深度の深い露光光で行われる。この結果、前記感光層への露光が極めて高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、極めて高精細なパターンが形成される。
【００１９】
＜２４＞  前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の感光性組成物を感光層として、基体の表面に積層した後、前記感光層に対し露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法である。
＜２５＞  前記＜８＞から＜１４＞のいずれかに記載の感光性フィルムにおける感光層を、加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において基体の表面に積層した後、該感光層に対して露光を行うことを少なくとも含む前記＜２４＞に記載の永久パターン形成方法である。
＜２６＞  基体が、配線形成済みのプリント配線基板である前記＜２４＞から＜２５＞に記載の永久パターン形成方法である。
＜２７＞  露光が、３５０〜４１５ｎｍの波長のレーザ光を用いて行われる前記＜２４＞から＜２６＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜２８＞  露光が、形成するパターン情報に基づいて像様に行われる前記＜２４＞から＜２７＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜２９＞  感光層に対し、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて行われる前記＜２４＞から＜２８＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。該＜２９＞に記載の永久パターン形成方法においては、前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部が指定され、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部が制御される。前記露光ヘッドを、前記感光層に対し走査方向に相対的に移動させて露光が行われることにより、前記露光ヘッドの取付位置や取付角度のずれによる前記感光層の被露光面上に形成される前記パターンの解像度のばらつきや濃度のむらが均される。この結果、前記感光層への露光が高精細に行われ、その後、前記感光層を現像することにより、高精細なパターンが形成される。
＜３０＞  露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部を指定する前記＜２９＞に記載の永久パターン形成方法である。該＜３０＞に記載の永久パターン形成方法においては、露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部が指定されることにより、前記露光ヘッドの取付位置や取付角度のずれによる前記感光層の被露光面上のヘッド間つなぎ領域に形成される前記パターンの解像度のばらつきや濃度のむらが均される。この結果、前記感光層への露光が高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像することにより、高精細なパターンが形成される。
＜３１＞  露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域以外の領域におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部を指定する前記＜２９＞に記載の永久パターン形成方法である。該＜３１＞に記載の永久パターン形成方法においては、露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域以外におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部が指定されることにより、前記露光ヘッドの取付位置や取付角度のずれによる前記感光層の被露光面上のヘッド間つなぎ領域以外に形成される前記パターンの解像度のばらつきや濃度のむらが均される。この結果、前記感光層への露光が高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像することにより、高精細なパターンが形成される。
＜３２＞  設定傾斜角度θが、Ｎ重露光数のＮ、描素部の列方向の個数ｓ、前記描素部の列方向の間隔ｐ、及び露光ヘッドを傾斜させた状態において該露光ヘッドの走査方向と直交する方向に沿った描素部の列方向のピッチδに対し、次式、ｓｐｓｉｎθｉｄｅａｌ≧Ｎδを満たすθｉｄｅａｌに対し、θ≧θｉｄｅａｌの関係を満たすように設定される前記＜２９＞から＜３１＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜３３＞  Ｎ重露光のＮが、３以上の自然数である前記＜２９＞から＜３２＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。該＜３３＞に記載の永久パターン形成方法においては、Ｎ重露光のＮが、３以上の自然数であることにより、多重描画が行われる。この結果、埋め合わせの効果により、前記露光ヘッドの取付位置や取付角度のずれによる前記感光層の被露光面上に形成される前記パターンの解像度のばらつきや濃度のむらが、より精密に均される。
＜３４＞  使用描素部指定手段が、
描素部により生成されて被露光面上の露光領域を構成する描素単位としての光点位置を、被露光面上において検出する光点位置検出手段と、
前記光点位置検出手段による検出結果に基づき、Ｎ重露光を実現するために使用する描素部を選択する描素部選択手段と
を備える前記＜２９＞から＜３３＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜３５＞  使用描素部指定手段が、Ｎ重露光を実現するために使用する使用描素部を、行単位で指定する前記＜２９＞から＜３４＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
【００２０】
＜３６＞  光点位置検出手段が、検出した少なくとも２つの光点位置に基づき、露光ヘッドを傾斜させた状態における被露光面上の光点の列方向と前記露光ヘッドの走査方向とがなす実傾斜角度θ´を特定し、描素部選択手段が、前記実傾斜角度θ´と設定傾斜角度θとの誤差を吸収するように使用描素部を選択する前記＜３４＞から＜３５＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜３７＞  実傾斜角度θ´が、露光ヘッドを傾斜させた状態における被露光面上の光点の列方向と前記露光ヘッドの走査方向とがなす複数の実傾斜角度の平均値、中央値、最大値、及び最小値のいずれかである前記＜３６＞に記載の永久パターン形成方法である。
＜３８＞  描素部選択手段が、実傾斜角度θ´に基づき、ｔｔａｎθ´＝Ｎ（ただし、ＮはＮ重露光数のＮを表す）の関係を満たすｔに近い自然数Ｔを導出し、ｍ行（ただし、ｍは２以上の自然数を表す）配列された描素部における１行目から前記Ｔ行目の前記描素部を、使用描素部として選択する前記＜３４＞から＜３７＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜３９＞  描素部選択手段が、実傾斜角度θ´に基づき、ｔｔａｎθ´＝Ｎ（ただし、ＮはＮ重露光数のＮを表す）の関係を満たすｔに近い自然数Ｔを導出し、ｍ行（ただし、ｍは２以上の自然数を表す）配列された描素部における、（Ｔ＋１）行目からｍ行目の前記描素部を、不使用描素部として特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する前記＜３４＞から＜３８＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
【００２１】
＜４０＞  描素部選択手段が、複数の描素部列により形成される被露光面上の重複露光領域を少なくとも含む領域において、
（１）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積が最小となるように、使用描素部を選択する手段、
（２）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域の描素単位数と、露光不足となる領域の描素単位数とが等しくなるように、使用描素部を選択する手段、
（３）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域の面積が最小となり、かつ、露光不足となる領域が生じないように、使用描素部を選択する手段、及び
（４）理想的なＮ重露光に対し、露光不足となる領域の面積が最小となり、かつ、露光過多となる領域が生じないように、使用描素部を選択する手段
のいずれかである前記＜３４＞から＜３９＞に記載の永久パターン形成方法である。
＜４１＞  描素部選択手段が、複数の露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域において、
（１）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積が最小となるように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、
（２）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域の描素単位数と、露光不足となる領域の描素単位数とが等しくなるように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、
（３）理想的なＮ重露光に対し、露光過多となる領域の面積が最小となり、かつ、露光不足となる領域が生じないように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、及び、
（４）理想的なＮ重露光に対し、露光不足となる領域の面積が最小となり、かつ、露光過多となる領域が生じないように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、
のいずれかである前記＜３４＞から＜４０＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜４２＞  不使用描素部が、行単位で特定される前記＜４１＞に記載の永久パターン形成方法である。
【００２２】
＜４３＞  使用描素部指定手段において使用描素部を指定するために、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光のＮに対し、（Ｎ−１）列毎の描素部列を構成する前記描素部のみを使用して参照露光を行う前記＜２９＞から＜４２＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。該＜４３＞に記載の永久パターン形成方法においては、使用描素部指定手段において使用描素部を指定するために、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光のＮに対し、（Ｎ−１）列毎の描素部列を構成する前記描素部のみを使用して参照露光が行われ、略１重描画の単純なパターンが得られる。この結果、前記ヘッド間つなぎ領域における前記描素部が容易に指定される。
＜４４＞  使用描素部指定手段において使用描素部を指定するために、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光のＮに対し、１／Ｎ行毎の描素部行を構成する前記描素部のみを使用して参照露光を行う前記＜２９＞から＜４３＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。該＜４４＞に記載の永久パターン形成方法においては、使用描素部指定手段において使用描素部を指定するために、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光のＮに対し、１／Ｎ行毎の描素部列を構成する前記描素部のみを使用して参照露光が行われ、略１重描画の単純な永久パターンが得られる。この結果、前記ヘッド間つなぎ領域における前記描素部が容易に指定される。
【００２３】
＜４５＞  使用描素部指定手段が、光点位置検出手段としてスリット及び光検出器、並びに描素部選択手段として前記光検出器と接続された演算装置を有する前記＜２９＞から＜４４＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜４６＞  Ｎ重露光のＮが、３以上７以下の自然数である前記＜２９＞から＜４５＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
【００２４】
＜４７＞  光変調手段が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を更に有してなり、光照射手段から照射される光を該パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて変調させる前記＜２９＞から＜４６＞に記載の永久パターン形成方法である。該＜４７＞に記載の永久パターン形成方法においては、前記光変調手段が前記パターン信号生成手段を有することにより、前記光照射手段から照射される光が該パターン信号生成手段により生成した制御信号に応じて変調される。
＜４８＞  光変調手段が、空間光変調素子である前記＜２９＞から＜４７＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜４９＞  空間光変調素子が、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）である前記＜４８＞に記載の永久パターン形成方法である。
＜５０＞  描素部が、マイクロミラーである前記＜２９＞から＜４９＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
＜５１＞  パターン情報が表すパターンの所定部分の寸法が、指定された使用描素部により実現できる対応部分の寸法と一致するように前記パターン情報を変換する変換手段を有する前記＜２９＞から＜５０＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
【００２５】
＜５２＞  光照射手段が、２以上の光を合成して照射可能である前記＜２９＞から＜５１＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。該＜５２＞に記載の永久パターン形成方法においては、前記光照射手段が２以上の光を合成して照射可能であることにより、露光が焦点深度の深い露光光によって行われる。この結果、前記感光性フィルムへの露光が極めて高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、極めて高精細な永久パターンが形成される。
＜５３＞  光照射手段が、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザ光を集光して前記マルチモード光ファイバに結合させる集合光学系とを有する前記＜２９＞から＜５２＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。該＜５３＞に記載の永久パターン形成方法においては、前記光照射手段が、前記複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザ光が前記集合光学系により集光され、前記マルチモード光ファイバに結合可能であることにより、露光が焦点深度の深い露光光で行われる。この結果、前記感光性フィルムへの露光が極めて高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、極めて高精細なパターンが形成される。
【００２６】
＜５４＞  露光が行われた後、感光層の現像を行う前記＜２４＞から＜５３＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。該＜５４＞に記載の永久パターン形成方法においては、前記露光が行われた後、前記感光層を現像することにより、高精細なパターンが形成される。
＜５５＞  現像が行われた後、永久パターンの形成を行う前記＜５４＞に記載の永久パターン形成方法である。
＜５６＞  現像が行われた後、感光層に対して硬化処理を行う前記＜５５＞に記載の永久パターン形成方法である。
＜５７＞  硬化処理が、全面露光処理及び１２０〜２００℃で行われる全面加熱処理の少なくともいずれかである前記＜５６＞に記載の永久パターン形成方法である。
＜５８＞  保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する前記＜５６＞から＜５７＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法である。
【００２７】
＜５９＞  前記＜２４＞から＜５８＞のいずれかに記載のパターン形成方法により形成されることを特徴とする永久パターンである。該＜５９＞に記載の永久パターンは、前記パターン形成方法により形成されるので、廃棄時における環境への影響が考慮され、かつ高精細であり、半導体や部品の多層配線基板やビルドアップ配線基板などへの高密度実装に有用である。
＜６０＞  保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかである前記＜５９＞に記載のパターンである。該＜６０＞に記載の永久パターンは、保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかであるので、該膜の有する絶縁性、耐熱性などにより、配線が外部からの衝撃や曲げなどから保護される。
【００２８】
＜６１＞  前記＜２４＞から＜５８＞のいずれかに記載の永久パターン形成方法により永久パターンが形成されることを特徴とするプリント基板である。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、従来における問題を解決することができ、青紫色レーザ露光システムを使用したときに高感度であり、廃棄時における環境への影響を考慮した感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
（感光性フィルム）
本発明の感光性フィルムは、支持体と、該支持体上に、感光層とを有してなり、好ましくは該感光層上に保護フィルムを有してなり、更に必要に応じてその他の構成を有してなる。
前記感光性フィルムの形態としては、支持体と、感光層とをこの順に備えたものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、支持体上に、酸素遮断層、感光層、保護フィルムをこの順に有してなる形態、支持体上に、クッション層、酸素遮断層、感光層、保護フィルムをこの順に有してなる形態などが挙げられる。なお、前記感光層は、単層であってもよいし、複数層であってもよい。
【００３１】
〔支持体〕
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記感光層を剥離可能であり、かつ光の透過性が良好であるのが好ましく、更に表面の平滑性が良好であるのがより好ましい。
【００３２】
前記支持体は、合成樹脂製で、かつ透明であるものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、セルロース系フィルム、ナイロンフィルムなどの各種のプラスチックフィルムが挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。これらは、１種で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、前記支持体としては、例えば、特開平４−２０８９４０号公報、特開平５−８０５０３号公報、特開平５−１７３３２０号公報、特開平５−７２７２４号公報などに記載の支持体を用いることもできる。
【００３３】
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、４〜３００μｍが好ましく、５〜１７５μｍがより好ましい。
前記支持体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、長尺状が好ましい。前記長尺状の支持体の長さとしては、特に制限はなく、例えば、１０ｍ〜２０，０００ｍの長さのものが挙げられる。
【００３４】
〔感光層〕
前記感光層は、感光性組成物から形成される。該感光性組成物としては、アルカリ可溶性感光性樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、着色剤（顔料）と、無機充填剤と、熱硬化促進剤と、必要に応じて適宜選択したその他の成分を含有してなる。
なお、前記感光性組成物は、波長５００±５０ｎｍにおける最大透過率が２０〜８０％であることが、プリント基板などに対して当該感光性組成物の被覆が識別できる点で好ましい。
【００３５】
＜アルカリ可溶性感光性樹脂＞
アルカリ可溶性感光性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記第一アルカリ可溶性感光性樹脂（以下、樹脂Ａと称す）と、下記第二アルカリ可溶性感光性樹脂（以下、樹脂Ｂと称す）とを、併用するのが好ましい。
樹脂Ａ：分子中にカルボキシル基を含有する共重合体であり、質量平均分子量が１，５００〜３０，０００であるアルカリ可溶性感光性樹脂。
樹脂Ｂ：（ａ）エポキシ樹脂に（ｂ）（メタ）アクリル酸及び（ｃ）多塩基酸無水物をこの順に反応して得られる共重合体であり、エポキシ当量が１０，０００以上であるアルカリ可溶性感光性樹脂。
前記樹脂Ａと前記樹脂Ｂの混合比としては、質量比で、樹脂Ａ：樹脂Ｂ＝１０〜９０：９０〜１０が好ましく、１５〜８５：８５〜１５がより好ましく、２５〜７５：７５〜２５が特に好ましい。
前記樹脂Ａの配合量が少なすぎて該混合比が１０：９０より小さいと、３０℃における溶融粘度が低下し、端部融着が起きやすくなることがあり、前記樹脂Ａの配合量が多すぎて該混合比が９０：１０より大きいと、８０℃における溶融粘度が高すぎるため、基板への埋め込み性や密着が劣り、無電解金メッキ耐性やＰＣＴ耐性が劣化することがある。
なお、本明細書では、「アクリル、メタクリル」の双方或いはいずれかを指す場合、「（メタ）アクリル」と表記することがある。
【００３６】
−第一アルカリ可溶性感光性樹脂（：樹脂Ａ）−
前記樹脂Ａは、分子中にカルボキシル基を含有する共重合体であり、好ましくは分子中に不飽和基とカルボキシル基とを含有する共重合体である。
前記分子中にカルボキシル基を含有する共重合体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、下記一般式（Ｉ）で表される、少なくともスチレン類及び二塩基性不飽和カルボン酸化合物由来の構造単位を有する共重合体が好ましい。
【００３７】
【化１】
2007248925.tif 000002
ただし、前記一般式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基又はハロゲン原子置換アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基のいずれかを表し、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ４は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基のいずれかを表し、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基、炭素数６〜１１のビシクロアルキル、トリシクロアルキル基、炭素数７〜１１のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、（メタ）アクリロイルオキシアルキル基のいずれかを表し、ｍは１〜５の整数を表す。
また、ｘ，ｙは繰り返し単位の組成比（モル比）を表し、ｘ＋ｙ＝１００であり、かつｘ：ｙ＝１０〜９０：１０〜９０である。
【００３８】
−−スチレン類−−
前記スチレン類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｏ−ブロモスチレン、ｍ−ブロモスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｏ−クロロメチルスチレン、ｍ−クロロメチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ｍ−トリクロロメチルスチレン、α−メチルスチレン、などが挙げられる。これらの中でも、スチレンが特に好ましい。
【００３９】
−−二塩基性不飽和カルボン酸化合物−−
前記二塩基性不飽和カルボン酸化合物としては、１分子中に少なくとも１個の不飽和基と含有する化合物であれば、特に制限はないが、例えば、二塩基性不飽和カルボン酸、二塩基性不飽和カルボン酸モノエステルが好ましい。
前記二塩基性不飽和カルボン酸又は二塩基性不飽和カルボン酸モノエステルとしては、具体的には、マレイン酸、マレイン酸モノエステル、フマル酸、フマル酸モノエステル類、イタコン酸、イタコン酸モノエステル、グルタコン酸、グルタコン酸モノエステル、シトラコン酸、シトラコン酸モノエステル、メサコン酸、メサコン酸モノエステル類、などが挙げられる。前記モノエステルとしては、炭素数１〜１２のアルキルエステル、炭素数６〜１０のアリールエステル、炭素数７〜１１のアラルキルエステル、（メタ）アクリロイルオキシアルキルエステル、などが挙げられる。
これらの中でも、マレイン酸モノメチルエステルが好ましく、マレイン酸モノ−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルエステルが特に好ましい。
【００４０】
前記樹脂Ａとしては、前記一般式（Ｉ）で表される共重合体の中でも、特に、下記一般式（ＩＩ）で表される、スチレン類、二塩基性不飽和カルボン酸化合物、及びエポキシ基含有不飽和化合物由来の構造単位を有する共重合体が好ましい。
【化２】
2007248925.tif 000003
ただし、前記一般式（ＩＩ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３，Ｒ４及びＲ５は前記一般式（Ｉ）中のものと同じ基を表し、Ｒ６はエポキシ基含有不飽和化合物中のエポキシ基と前記一般式（Ｉ）で表されるカルボキシル基含有共重合体中のカルボキシル基との付加反応後の残基を表し、ｍは１〜５の整数を表す。
また、ｘ，ｙ、ｚは繰り返し単位の組成比（モル比）を表し、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００であり、かつｘ：ｙ：ｚ＝１０〜８０：１０〜８０：１０〜８０である。
これらの中でも、硬化後の膜硬度、耐熱性、ＰＣＴ耐性を向上するため、Ｒ５として（メタ）アクリロイルオキシアルキル基を持つ共重合体が特に好ましい。
【００４１】
−−エポキシ基含有不飽和化合物−−
前記エポキシ基含有不飽和化合物としては、１分子中に１個のラジカル重合性の不飽和基とエポキシ基とを有する化合物であればよく、例えば、下記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−１４）で示される化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４２】
【化３】
2007248925.tif 000004
【００４３】
【化４】
2007248925.tif 000005
【００４４】
【化５】
2007248925.tif 000006
【００４５】
【化６】
2007248925.tif 000007
【００４６】
【化７】
2007248925.tif 000008
【００４７】
【化８】
2007248925.tif 000009
【００４８】
【化９】
2007248925.tif 000010
【００４９】
【化１０】
2007248925.tif 000011
【００５０】
【化１１】
2007248925.tif 000012
【００５１】
【化１２】
2007248925.tif 000013
【００５２】
【化１３】
2007248925.tif 000014
【００５３】
【化１４】
2007248925.tif 000015
【００５４】
【化１５】
2007248925.tif 000016
【００５５】
【化１６】
2007248925.tif 000017
ただし、前記一般式（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−１４）中、Ｒ１４は水素原子又はメチル基、Ｒ１５は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｒ１６は炭素数１〜１０の炭化水素基、ｐは０又は１〜１０の整数を表す。
【００５６】
前記エポキシ基含有不飽和化合物としては、具体的には、グリシジル（メタ）アクリレート、２−メチル−２，３−エポキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチル−２，３−エポキシプロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、グリシジル（メタ）アクリレートや３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５７】
−樹脂Ａの合成方法−
前記樹脂Ａの合成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記スチレン類と前記二塩基性不飽和カルボン酸化合物との通常のラジカル重合反応によって合成することができる。
前記重合方法としては、特に制限はなく、塊状重合法、溶液重合法などの通常用いられる共重合反応法を用いることができる。これらの中でも、該溶液重合法は、溶媒によるラジカルの連鎖移動の差を利用したり、重合開始剤量や反応温度を調節することで低分子量重合体又は共重合体を温和な条件で容易に得ることができるため好ましい。該塊状重合法は、高温で重合させて停止反応速度を早めることで可能であるが、反応をコントロールしにくいという問題点がある。
【００５８】
前記スチレン類と二塩基性不飽和カルボン酸化合物との共重合組成比としては、モル比で１０〜９０：９０〜１０が好ましく、２０〜８０：８０〜２０がより好ましく、４０〜７０：６０〜３０が特に好ましい。前記スチレン類の配合量が少なすぎて前記共重合組成比が１０：９０より小さいと、得られるアルカリ可溶性感光性樹脂を含有する感光層の現像時間が短すぎることがあり、また、逆に前記スチレン類の配合量が多すぎて前記共重合組成比が９０：１０より大きいと、得られるアルカリ可溶性感光性樹脂を含有する感光層の現像性が劣ることがある。
【００５９】
前記溶液重合法で用いる反応溶媒としては、特に制限はなく、重合反応生成物であるポリマーによって適宜選択することができ、例えば、キシレン、トルエン、クメン、酢酸セロソルブ、イソプロピルアルコール、ベンゼン、などが好ましい。これらの中でも、モノマーとしてスチレンを用いる場合には、キシレン、トルエン又はクメンが特に好ましい。該溶液重合法においては、溶媒１００質量部に対してビニルモノマー３０質量部〜４００質量部で行うのが好ましい。
また、前記溶液重合法においては、重合開始剤として、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ベンゾイルパーオキサイド、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、及び２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）の少なくともいずれかをビニルモノマー１００質量部に対して０．０５質量部以上（好ましくは０．１〜１５質量部）の濃度で用いることが好ましい。
前記溶液重合における反応温度としては、使用する溶媒、開始剤、得られるポリマー、によって異なるが、７０〜２３０℃で行うのが好ましい。
前記溶液重合法においては、更に、重合終了時に溶液中で他の重合体を混合することも好ましく、複数の重合体を混合してもよい。
【００６０】
また、前記スチレン類と前記二塩基性不飽和カルボン酸化合物との共重合体は、対応するスチレン類と二塩基性不飽和カルボン酸無水物との共重合体に水、又はアルコール類を付加し、無水物基を開環させることによっても得ることができる。
スチレン−二塩基性不飽和カルボン酸無水物共重合体との開環付加反応に好適なアルコール類としては、飽和アルコール類又は不飽和アルコール類が挙げられる。
前記飽和アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ドデカノール、シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ジシクロペンタニルアルコール、２−ジシクロペンタニルオキシエタノール、イソボルニルアルコール、アダマンチルアルコール、などが挙げられる。
【００６１】
前記不飽和基含有アルコール類としては、例えば、アリルアルコール、メタリルアルコール、クロチルアルコール、メタクリルアルコール、シンナミルアルコール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロバン（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルアルコール２−ジシクロペンテニルオキシエタノール、などが挙げられる。
また、前記開環付加反応はフェノール類を用いてもよく、好ましいフェノール類としては、フェノール、ｐ−クレゾール、α−ナフトールを挙げることができる。
【００６２】
前記スチレン−二塩基性不飽和カルボン酸無水物共重合体と水又はアルコール類との開環付加反応における反応温度としては、通常５０〜２００℃で行なうことができるが、ジエステルの生成及びゲル化を防止するために８０〜１５０℃がより好ましい。
【００６３】
前記スチレン−二塩基性不飽和カルボン酸無水物共重合体と水又はアルコール類との開環付加反応法としては、具体的には、まずスチレン−二塩基性不飽和カルボン酸酸無水物共重合体を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のグリコールモノエーテルエステル系等の適当な親水性の溶媒に溶解させる。次に前記水又はアルコール類を上述の反応温度にて４時間から４０時間程度反応させる。反応の進行及び反応の完結は赤外吸収スペクトルにより酸無水物の吸収の減少を追跡しこれが消失する事で判定できる。一方、アルコール類をスチレン−二塩基性不飽和カルボン酸酸無水物共重合体よりも過剰に用いる場合等は該アルコール類が溶媒ともなりうるので無溶媒で直接反応させる事も可能である。
なお、反応促進剤として、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、ペンタメチルジエチレントリアミン、などの第３級アミン類又は第４級アンモニウム塩などを使用することができる。また、反応中に重合物が生成するのを防止するために、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、フェノチアジン、などの公知の重合禁止剤を使用することもできる。
【００６４】
なお、上記スチレン−二塩基性不飽和カルボン酸酸無水物共重合体は、活性水素を含まない有機溶媒中で、スチレン類と二塩基性不飽和カルボン酸無水物とのラジカル共重合により得ることができるが、それらの酸無水物共重合体は市販のもの使用可能であり、例えば、スチレン−マレイン酸無水物共重合体としては、ＳＭＡ１０００（スチレン−無水マレイン酸の共重合モル比＝５０：５０、Ｔｇ＝４２８Ｋ、質量平均分子量＝５，０００）、ＳＭＡ２０００（スチレン−無水マレイン酸の共重合モル比＝６７：３３、Ｔｇ＝４０８Ｋ、質量平均分子量＝７，５００）、ＳＭＡ３０００（スチレン−無水マレイン酸の共重合モル比＝７５：２５、Ｔｇ＝３９８Ｋ、質量平均分子量＝９，５００）、などがＳａｔｏｍｅｒ社から入手可能である。
【００６５】
本発明のスチレン類と二塩基性不飽和カルボン酸化合物との共重合体のうち、特に好ましい具体例としては、スチレン−マレイン酸モノメチルエステル共重合体（スチレン：マレイン酸モノメチルエステル（モル比）＝５０：５０、Ｔｇ＝３９３Ｋ、質量平均分子量＝５，９００）、スチレン−マレイン酸モノメチルエステル共重合体（スチレン：マレイン酸モノメチルエステル（モル比）＝６７：３３、Ｔｇ＝３８８Ｋ、質量平均分子量＝６，４００）を挙げることができる。
【００６６】
前記樹脂Ａは、前記スチレン類と二塩基性不飽和カルボン酸化合物との共重合体合成後に、更に前記該エポキシ基含有不飽和化合物を開環付加反応させてもよい。
前記スチレン類と二塩基性不飽和カルボン酸化合物との共重合体と前記エポキシ基含有不飽和化合物との開環付加反応に用いる反応溶媒としては、モノマーおよび重合体を溶解するものであれば特に制限なく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン、メチルプロピレングリコール、メチルジプロピレングリコール等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸イソブチル、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノアルキルアセテート、ジプロピレングリコールモノアルキルアセテート、メチルプロピレングリコールアセテート等のエステル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類；四塩化炭素、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素；などが用いられる。これらの中でも、反応温度より高い沸点を有し、かつ原料及び生成物を溶解するものが特に好ましい。これらの反応溶媒は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記反応溶媒中の前記共重合体樹脂濃度としては、２０〜６０質量％が好ましい。該樹脂濃度が２０質量％未満であると、十分な反応速度が得られないことがあり、６０質量％を超えると、反応中にゲル化物が生じる恐れがある。
【００６７】
前記スチレン類と二塩基性不飽和カルボン酸化合物との共重合体と前記エポキシ基含有不飽和化合物との開環付加反応における反応温度としては、６０〜１３０℃が好ましく、９０〜１２０℃がより好ましい。該反応温度が６０℃未満であると、実用上十分な反応速度が得られないことがあり、１３０℃を超えると、熱によるラジカル重合によって二重結合部が架橋し、ゲル化物が生じる恐れがある。
【００６８】
前記スチレン類と二塩基性不飽和カルボン酸化合物との共重合体と前記エポキシ基含有不飽和化合物との開環付加反応は、十分な反応速度を得るために、触媒を用いて行うのが好ましい。該触媒としては、ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン等の３級アミン；テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイド等の４級アンモニウム塩；テトラメチル尿素等のアルキル尿素；テトラメチルグアニジン等のアルキルグアニジン；トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等のホスフィン類；ジメチルスルフィド、ジフェニルスルフィド等のスルフィド類及びこれらの塩；などが挙げられる。これらの中でも、トリフェニルホスフィンが特に好ましい。これらの触媒は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記触媒の含有量としては、エポキシ基含有不飽和化合物に対して、通常、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．５〜５．０質量％がより好ましい。該含有量がエポキシ基含有不飽和化合物に対して０．０１質量％未満であると、十分な反応速度が得られないことがあり、１０質量％を超えると、生成した樹脂の諸物性に悪影響を及ぼす恐れがある。
【００６９】
また、前記スチレン類と二塩基性不飽和カルボン酸化合物との共重合体と前記エポキシ基含有不飽和化合物との開環付加反応は、反応中のゲル化物の生成を防止するために、重合禁止剤の存在下で行うのが好ましい。該重合禁止剤は、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルメトキシフェノール、トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ターシャリーブチルフェニル）ブタン（商品名：トパノール）等のヒンダードフェノール類；フェノチアジン、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン・アンモニウム塩（商品名：クペロン）；などが挙げられる。
【００７０】
前記重合禁止剤の含有量としては、反応液全体に対して１〜１０，０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５，０００ｐｐｍがより好ましい。該含有量が反応液全体に対して１ｐｐｍ未満であると、十分な重合禁止効果が得られないことがあり、１０，０００ｐｐｍを超えると、生成した樹脂の諸物性に悪影響を及ぼす恐れがある。
また、前記スチレン類と前記二塩基性不飽和カルボン酸化合物との共重合体と前記エポキシ基含有不飽和化合物との開環付加反応は、同様の重合禁止効果の理由から、分子状酸素含有ガス雰囲気下で行うのが好ましい。本開環反応においては、特に、反応温度と酸素濃度及び重合禁止剤が反応のキーポイントとなる。酸素濃度は反応系中に爆発性混合物を形成しないような濃度であればよいが、通常は２〜２１容量％、好ましくは３〜７容量％になるように調整すればよい。
【００７１】
以上のようにして得られる前記樹脂Ａの質量平均分子量としては、１，５００〜３０，０００が好ましく、３，０００〜２０，０００がより好ましく、５，０００〜１０，０００が特に好ましい。該質量平均分子量が１，５００以下であると、タッキネスを十分抑制できないという問題や、端面融着などを起こしやすく保存安定性が劣るという問題や、露光後の塗膜の耐湿性が悪く現像時に膜減りが生じ、解像度が大きく劣るという問題が起こることがある。また、３０，０００を超えると、ラミネーション時の埋め込み性が悪くなる等の問題が起こることがある。
なお、前記質量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）により測定することができる。具体的には、予め反応生成物をサンプリングし、テトラヒドロフランに溶解した溶液を、昭和電工製Ａ−８０１，８０２，８０３，８０４，８０５，８０６及び８０７を連結した構成のカラムを用いて分離し、標準ポリスチレン樹脂の検量線を用い、分子量分布を測定することによりもとめることができる。
【００７２】
また、前記樹脂Ａのガラス転移温度（Ｔｇ）としては、３００〜５００Ｋが好ましく、３２０〜４７０Ｋがより好ましく、３５０〜４５０Ｋが特に好ましい。該Ｔｇが３００Ｋ未満であると、３０℃での溶融粘度が１×１０５〜１×１０７である感光層を得るのが困難になることがあり、５００Ｋを超えると８０℃での溶融粘度が１×１０２〜１×１０３である感光層を得るのが困難になることがある。
なお、前記ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ３４１８−８２に準じて測定することができる。具体的には、内熱式入力補償型の示差走査熱量計（パーキンエルマー社製のＤＳＣ−７）を用いて、試料を、室温から昇温速度２０℃／ｍｉｎで１５０℃まで加熱した後、１５０℃で１０分間放置、降温速度５０℃／ｍｉｎで０℃まで試料を冷却して１０分放置、窒素雰囲気（２０ｃｃ／ｍｉｎ）で再度１５０℃まで昇温速度２０℃／ｍｉｎで加熱してＤＳＣ測定を行い、解析ソフト〔Ｔｇジョブ〕を用い、ピーク立ち上がり温度を読み取ることによりもとめることができる。
【００７３】
また、前記樹脂Ａの酸価としては、５０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、７０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。該酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると、希アルカリ水溶液での未硬化膜の除去が難しくなることがあり、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、硬化皮膜の耐湿性、電気特性が劣ることがある。
なお、前記樹脂Ａの酸価とは、１ｇの樹脂Ａ中のカルボン酸の酸性を中和するのに必要な水酸化カリウムの質量（ｇ）であり、ＪＩＳ  Ｋ００７０に準じて通常の中和滴定法により測定することができる。
【００７４】
また、前記樹脂Ａの臭素価としては、２０〜５０ｇＢｒ２／１００ｇが好ましく、２５〜５０ｇＢｒ２／１００ｇがより好ましく、３５〜５０ｇＢｒ２／１００ｇが特に好ましい。該臭素価が２０ｇＢｒ２／１００ｇ未満であると、感光層の感度が低くなることがあり、５０ｇＢｒ２／１００ｇを超えると、安定性が劣ることがある。
なお、前記樹脂Ａの臭素価とは、１００ｇの樹脂Ａ中の不飽和基の臭素価に必要な臭素の質量（ｇ）であり、ＪＩＳ  Ｋ２６０５に準じて通常の電気滴定法によって測定することができる。
【００７５】
−第二アルカリ可溶性感光性樹脂（：樹脂Ｂ）−
前記樹脂Ｂは、（ａ）エポキシ樹脂に、（ｂ）（メタ）アクリル酸、及び（ｃ）多塩基酸無水物をこの順に反応して得られる反応生成物である。
【００７６】
−−（ａ）エポキシ樹脂−−
前記（ａ）エポキシ樹脂としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、東都化成（株）製  ＹＤＣＮ−７０１，ＹＤＣＮ−７０４；大日本インキ化学工業（株）製  Ｎ−６６５，Ｎ−６８０，Ｎ−６９５；日本化薬（株）製  ＥＯＣＮ−１０２，ＥＯＣＮ−１０４；旭化成工業（株）製  ＥＣＮ−２６５，ＥＣＮ−２９３，ＥＣＮ−２８５，ＥＣＮ−２９９；などのクレゾールノボラック型エポキシ樹脂や、東都化成（株）製  ＹＤＰＮ−６３８，ＹＤＰＮ−６０２；ダウ・ケミカル日本（株）製  ＤＥＮ−４３１，ＤＥＮ−４３８，ＤＥＮ−４３９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製  ＥＰＮ−１１３８，ＥＰＮ−１２３５，ＥＰＮ−１２９９；大日本インキ化学工業（株）製  Ｎ−７３０，Ｎ−７７０；などのフェノールノボラック型エポキシ樹脂などが挙げられる。
また、前記ノボラック型エポキシ樹脂の一部として、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、サリチルアルデヒド型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂も有利に使用できる。
これらの中でも、質量平均分子量が５，０００以下のものが好ましい。
【００７７】
−−（ｃ）多塩基酸無水物−−
前記（ｃ）多塩基酸無水物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、マレイン酸無水物、コハク酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、３−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、４−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、３−エチルヘキサヒドロフタル酸無水物、４−エチルヘキサヒドロフタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、３−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、４−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、３−エチルテトラヒドロフタル酸無水物、４−エチルテトラヒドロフタル酸無水物、フタル酸無水物、などの、分子中に１個の酸無水物基を有する飽和又は不飽和の脂肪族、脂環族又は芳香族化合物が好ましい。これらの中でも、テトラヒドロフタル酸無水物が特に好ましい。
【００７８】
−樹脂Ｂの製造方法−
前記樹脂Ｂの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、製造の際の（ａ）エポキシ樹脂と（ｂ）（メタ）アクリル酸との反応において、エポキシ樹脂のエポキシ基１当量に対して、（メタ）アクリル酸が０．８〜１．０５当量となる比率で反応させることが好ましく、０．９〜１．０当量がより好ましい。
【００７９】
前記（ａ）エポキシ樹脂と（ｂ）（メタ）アクリル酸との反応に用いる有機溶剤としては、例えば、エチルメチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート等のエステル類、オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素類、石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤などが挙げられる。
【００８０】
前記（ａ）エポキシ樹脂と（ｂ）（メタ）アクリル酸との反応における反応温度としては、６０〜１５０℃が好ましく、８０〜１２０℃がより好ましい。
【００８１】
前記（ａ）エポキシ樹脂と（ｂ）（メタ）アクリル酸との反応は、反応を促進させるために触媒を用いるのが好ましい。該触媒としては、例えば、トリエチルアミン、ベンジルメチルアミン、メチルトリエチルアンモニウムクロライト、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライト、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルメチルアンモニウムアイオタイド、トリフェニルホスフィンなどが挙げられる。
前記触媒の含有量としては、（ａ）エポキシ樹脂と（ｂ）（メタ）アクリル酸との合計１００質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。
【００８２】
また、前記（ａ）エポキシ樹脂と（ｂ）（メタ）アクリル酸との反応は、反応中の重合体の生成を防止する日的で、重合禁止剤を使用するのが好ましい。該重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、カテコール、ピロガロール、などが挙げられる。
前記重合禁止剤の含有量としは、（ａ）エポキシ樹脂と（ｂ）ビニル基含有モノカルボン酸との合計１００質量部に対して、０．０１〜１質量部が好ましい。
【００８３】
前記の樹脂Ｂは、こうして得られた反応生成物に（ｃ）多塩基酸無水物を反応させて得られる。前記反応生成物と（ｃ）多塩基酸無水物との反応温度としては、６０〜１２０℃が好ましい。
前記の樹脂Ｂは、前記反応生成物中のヒドロキシル基１当量に対して、（ｃ）多塩基酸無水物を０．１〜１．０当量反応させることで、前記第二アルカリ可溶性感光性樹脂の酸価を調整できる。
【００８４】
以上のようにして得られる前記樹脂Ｂのエポキシ当量としては、１０，０００以上が好ましく、１５，０００〜４５，０００がより好ましい。該エポキシ当量が１０，０００未満であると、保存時の安定性に欠け、現像性が劣化することがある。
なお、前記アルカリ可溶性感光性樹脂Ｂのエポキシ当量はＪＩＳ  Ｋ７２３６の４．２に準じて通常の指示薬滴定法によって測定することができる。
【００８５】
また、前記樹脂Ｂの質量平均分子量としては、５００〜５，０００が好ましく、１，０００〜４，０００がより好ましく、１，５００〜３，５００が特に好ましい。該質量平均分子量が５００以下であると、得られるアルカリ可溶性感光性樹脂を含有する感光層の粘着性が高すぎて、保護フィルムの剥離が困難になることがあり、５，０００を超えると該アルカリ可溶性感光性樹脂の製造が困難になることがある。
【００８６】
また、前記樹脂Ｂの酸価としては、３０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。該酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると、感光性樹脂組成物の希アルカリ溶液への溶解性が低下することがあり、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、硬化膜の電気特性が低下する傾向がある。
【００８７】
感光性組成物に使用されるアルカリ可溶性感光性樹脂の配合割合は、これらの全固形分量に対して、好ましくは１０〜８０質量％、より好ましくは２０〜６０質量％、さらに好ましくは２５〜５０質量％である。該アルカリ可溶性感光性樹脂が少なくなりすぎると顔料の分散安定性が低下する傾向があり、多すぎると感光層塗布液にしたときの粘度が高くなり、塗布性が低下する傾向がある。
【００８８】
＜重合性化合物＞
前記重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、分子中に少なくとも１個の付加重合可能な基を有し、沸点が常圧で１００℃以上である化合物が好ましく、例えば、（メタ）アクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも１種が好適に挙げられる。
【００８９】
前記（メタ）アクリル基を有するモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノールなどの多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号公報、特公昭５０−６０３４号公報、特開昭５１−３７１９３号公報などの各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報、特公昭５２−３０４９０号公報などの各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類などの多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００９０】
感光性組成物に使用される重合性化合物の配合割合は、これらの全固形分量に対して、好ましくは１〜５０質量％、より好ましくは５〜４０質量％、特に好ましくは１０〜３０質量％である。該重合性化合物が少なくなりすぎると光感度が低くなる傾向があり、多すぎると顔料の分散安定性が低下する傾向がある。
【００９１】
＜光重合開始剤又は光重合開始系化合物＞
前記光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができ、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましく、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、前記光重合開始剤は、約３００〜８００ｎｍ（より好ましくは３３０〜５００ｎｍ）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分を少なくとも１種含有していることが好ましい。
【００９２】
前記光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するものなど）、ホスフィンオキサイド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテルなどが挙げられる。
【００９３】
前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、Ｆ．Ｃ．ＳｃｈａｅｆｅｒなどによるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２−５８２４１号公報記載の化合物、特開平５−２８１７２８号公報記載の化合物、特開平５−３４９２０号公報記載化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されている化合物、などが挙げられる。
【００９４】
前記若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物としては、例えば、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００９５】
前記英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物としては、例えば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
前記特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物としては、例えば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００９６】
前記独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物としては、例えば、２−（４−スチリルフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシスチリル）フェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（１−ナフチルビニレンフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−クロロスチリルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−３−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−フラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（４−ベンゾフラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００９７】
前記Ｆ．Ｃ．ＳｃｈａｅｆｅｒなどによるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物としては、例えば、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリ（ブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロロメチル−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００９８】
前記特開昭６２−５８２４１号公報記載の化合物としては、例えば、２−（４−フェニルエチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ナフチル−１−エチニルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−トリルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシフェニル）エチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−イソプロピルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−エチルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００９９】
前記特開平５−２８１７２８号公報記載の化合物としては、例えば、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジフルオロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジクロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジブロモフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【０１００】
前記特開平５−３４９２０号公報記載化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−１，３，５−トリアジン、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、更に２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジンなどが挙げられる。
【０１０１】
前記米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されている化合物としては、例えば、オキサジアゾール骨格を有する化合物（例えば、２−トリクロロメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロロフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール；２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−ｎ−ブトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリプロモメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾールなど）などが挙げられる。
【０１０２】
本発明で好適に用いられるオキシム誘導体としては、例えば、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−（４−トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン−２−オン、及び２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる。
【０１０３】
また、上記以外の光重合開始剤として、アクリジン誘導体（例えば、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９、９’−アクリジニル）ヘプタンなど）、Ｎ−フェニルグリシンなど、ポリハロゲン化合物（例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトンなど）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン、７−ベンゾトリアゾール−２−イルクマリン、また、特開平５−１９４７５号公報、特開平７−２７１０２８号公報、特開２００２−３６３２０６号公報、特開２００２−３６３２０７号公報、特開２００２−３６３２０８号公報、特開２００２−３６３２０９号公報などに記載のクマリン化合物など）、アミン類（例えば、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ｎ−ブチル、４−ジメチルアミノ安息香酸フェネチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−フタルイミドエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−メタクリロイルオキシエチル、ペンタメチレンビス（４−ジメチルアミノベンゾエート）、３−ジメチルアミノ安息香酸のフェネチル、ペンタメチレンエステル、４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、２−クロル−４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、４−ジメチルアミノベンジルアルコール、エチル（４−ジメチルアミノベンゾイル）アセテート、４−ピペリジノアセトフェノン、４−ジメチルアミノベンゾイン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−フェネチジン、トリベンジルアミン、ジベンジルフェニルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルベンジルアミン、４−ブロム−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トリドデシルアミン、アミノフルオラン類（ＯＤＢ，ＯＤＢＩＩなど）、クリスタルバイオレットラクトン、ロイコクリスタルバイオレットなど）、アシルホスフィンオキサイド類（例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフェニルホスフィンオキサイド、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯなど）、メタロセン類（例えば、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフロロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、η５−シクロペンタジエニル−η６−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフロロホスフェート（１−）など）、特開昭５３−１３３４２８号公報、特公昭５７−１８１９号公報、同５７−６０９６号公報、及び米国特許第３６１５４５５号明細書に記載された化合物などが挙げられる。
【０１０４】
前記ケトン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−エトキシカルボニルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、４，４’−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン類（例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビスジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジヒドロキシエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロル−チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、２−ベンジル−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキシー２−メチル−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類（例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール）、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドンなどが挙げられる。
【０１０５】
＜＜増感剤＞＞
また、後述する感光層への露光における露光感度や感光波長を調整する目的で、前記光重合開始剤に加えて、増感剤を添加することが可能である。
前記増感剤は、後述する光照射手段としての可視光線や紫外光レーザ、可視光レーザなどにより適宜選択することができる。
前記増感剤は、活性エネルギー線により励起状態となり、他の物質（例えば、ラジカル発生剤、酸発生剤など）と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動など）することにより、ラジカルや酸などの有用基を発生することが可能である。
【０１０６】
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知の増感剤の中から適宜選択することができ、例えば、公知の多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、インドカルボシアニン、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、アクリドン類（例えば、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドンなど）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリンなどがあげられ、他に特開平５−１９４７５号公報、特開平７−２７１０２８号公報、特開２００２−３６３２０６号公報、特開２００２−３６３２０７号公報、特開２００２−３６３２０８号公報、特開２００２−３６３２０９号公報などの各公報に記載のクマリン化合物など）が挙げられる。
【０１０７】
前記光重合開始剤と前記増感剤との組合せとしては、例えば、特開２００１−３０５７３４号公報に記載の電子移動型開始系［（１）電子供与型開始剤及び増感色素、（２）電子受容型開始剤及び増感色素、（３）電子供与型開始剤、増感色素及び電子受容型開始剤（三元開始系）］などの組合せが挙げられる。
【０１０８】
前記増感剤の含有量としては、前記感光性組成物中の全成分に対し、０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．２〜１０質量％が特に好ましい。該含有量が、０．０５質量％未満であると、活性エネルギー線への感度が低下し、露光プロセスに時間がかかり、生産性が低下することがあり、３０質量％を超えると、保存時に前記感光層から前記増感剤が析出することがある。
【０１０９】
前記光重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤の特に好ましい例としては、後述する露光において、波長が４０５ｎｍのレーザ光に対応可能である、前記ホスフィンオキサイド類、前記α−アミノアルキルケトン類、前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物と後述する増感剤としてのアミン化合物とを組合せた複合光開始剤、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、あるいは、チタノセンなどが挙げられる。
【０１１０】
感光性組成物に使用される光重合開始剤又は光重合開始系化合物の配合割合は、これらの全固形分量に対して、好ましくは０．０１〜２０質量％、より好ましくは１〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％である。該光重合開始剤又は光重合開始系化合物が少なすぎると光感度が低くなる傾向があり、多すぎると密着性が低下する傾向がある。
【０１１１】
＜熱架橋剤＞
前記熱架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記感光性組成物を用いて形成される感光層の硬化後の膜強度を改良するために、現像性等に悪影響を与えない範囲で、例えば、１分子内に少なくとも２つのオキシラン基を有するエポキシ化合物、１分子内に少なくとも２つのオキセタニル基を有するオキセタン化合物を用いることができる。
【０１１２】
前記１分子中に少なくとも２つのオキシラン基を有するエポキシ化合物としては、例えば、ビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ樹脂（「ＹＸ４０００、ジャパンエポキシレジン（株）製」等）又はこれらの混合物、イソシアヌレート骨格等を有する複素環式エポキシ樹脂（「ＴＥＰＩＣ；日産化学工業（株）製」、「アラルダイトＰＴ８１０；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製」等）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾ−ルノボラック型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂（例えば、低臭素化エポキシ樹脂、高ハロゲン化エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂など）、アリル基含有ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジフェニルジメタノール型エポキシ樹脂、フェノールビフェニレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂（「ＨＰ−７２００，ＨＰ−７２００Ｈ；大日本インキ化学工業（株）製」等）、グリシジルアミン型エポキシ樹脂（ジアミノジフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジグリシジルアニリン、トリグリシジルアミノフェノール等）、グリジジルエステル型エポキシ樹脂（フタル酸ジグリシジルエステル、アジピン酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸ジグリシジルエステル等）ヒダントイン型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ジシクロペンタジエンジエポキシド、「ＧＴ−３００、ＧＴ−４００、ＺＥＨＰＥ３１５０；ダイセル化学工業製」等）、イミド型脂環式エポキシ樹脂、トリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、グリシジルフタレート樹脂、テトラグリシジルキシレノイルエタン樹脂、ナフタレン基含有エポキシ樹脂（ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、４官能ナフタレン型エポキシ樹脂、市販品としては「ＥＳＮ−１９０，ＥＳＮ−３６０；新日鐵化学（株）製」、「ＨＰ−４０３２，ＥＸＡ−４７５０，ＥＸＡ−４７００；大日本インキ化学工業（株）製」等）、フェノール化合物とジビニルベンゼンやジシクロペンタジエン等のジオレフィン化合物との付加反応によって得られるポリフェノール化合物と、エピクロルヒドリンとの反応物、４−ビニルシクロヘキセン−１−オキサイドの開環重合物を過酢酸等でエポキシ化したもの、線状含リン構造を有するエポキシ樹脂、環状含リン構造を有するエポキシ樹脂、α―メチルスチルベン型液晶エポキシ樹脂、ジベンゾイルオキシベンゼン型液晶エポキシ樹脂、アゾフェニル型液晶エポキシ樹脂、アゾメチンフェニル型液晶エポキシ樹脂、ビナフチル型液晶エポキシ樹脂、アジン型エポキシ樹脂、グリシジルメタアクリレート共重合系エポキシ樹脂（「ＣＰ−５０Ｓ，ＣＰ−５０Ｍ；日本油脂（株）製」���）、シクロヘキシルマレイミドとグリシジルメタアクリレートとの共重合エポキシ樹脂、ビス（グリシジルオキシフェニル）フルオレン型エポキシ樹脂、ビス（グリシジルオキシフェニル）アダマンタン型エポキシ樹脂などが挙げられるが、これらに限られるものではない。これらのエポキシ樹脂は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１３】
また、１分子中に少なくとも２つのオキシラン基を有する前記エポキシ化合物以外に、β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも１分子中に２つ含むエポキシ化合物を用いることが出来、β位がアルキル基で置換されたエポキシ基（より具体的には、β−アルキル置換グリシジル基など）を含む化合物が特に好ましい。
前記β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも含むエポキシ化合物は、１分子中に含まれる２個以上のエポキシ基のすべてがβ−アルキル置換グリシジル基であってもよく、少なくとも１個のエポキシ基がβ−アルキル置換グリシジル基であってもよい。
【０１１４】
前記β位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物は、室温における保存安定性の観点から、前記感光性組成物中に含まれる前記エポキシ化合物全量中における、全エポキシ基中のβ−アルキル置換グリシジル基の割合が、７０％以上であることが好ましい。
前記β−アルキル置換グリシジル基としては、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、β−メチルグリシジル基、β−エチルグリシジル基、β−プロピルグリシジル基、β−ブチルグリシジル基、などが挙げられ、これらの中でも、前記感光性樹脂組成物の保存安定性を向上させる観点、及び合成の容易性の観点から、β−メチルグリシジル基が好ましい。
【０１１５】
前記β位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物としては、例えば、多価フェノール化合物とβ−アルキルエピハロヒドリンとから誘導されたエポキシ化合物が好ましい。
【０１１６】
前記β−アルキルエピハロヒドリンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、β−メチルエピクロロヒドリン、β−メチルエピブロモヒドリン、β−メチルエピフロロヒドリン等のβ−メチルエピハロヒドリン；β−エチルエピクロロヒドリン、β−エチルエピブロモヒドリン、β−エチルエピフロロヒドリン等のβ−エチルエピハロヒドリン；β−プロピルエピクロロヒドリン、β−プロピルエピブロモヒドリン、β−プロピルエピフロロヒドリン等のβ−プロピルエピハロヒドリン；β−ブチルエピクロロヒドリン、β−ブチルエピブロモヒドリン、β−ブチルエピフロロヒドリン等のβ−ブチルエピハロヒドリン；などが挙げられる。これらの中でも、前記多価フェノールとの反応性及び流動性の観点から、β−メチルエピハロヒドリンが好ましい。
【０１１７】
前記多価フェノール化合物としては、１分子中に２以上の芳香族性水酸基を含有する化合物であれば、特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール化合物、ビフェノール、テトラメチルビフェノール等のビフェノール化合物、ジヒドロキシナフタレン、ビナフトール等のナフトール化合物、フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物等のフェノールノボラック樹脂、クレゾール−ホルムアルデヒド重縮合物等の炭素数１〜１０のモノアルキル置換フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物、キシレノール−ホルムアルデヒド重縮合物等の炭素数１〜１０のジアルキル置換フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物、ビスフェノールＡ−ホルムアルデヒド重縮合物等のビスフェノール化合物−ホルムアルデヒド重縮合物、フェノールと炭素数１〜１０のモノアルキル置換フェノールとホルムアルデヒドとの共重縮合物、フェノール化合物とジビニルベンゼンの重付加物などが挙げられる。これらの中でも、例えば、流動性及び保存安定性を向上させる目的で選択する場合には、前記ビスフェノール化合物が好ましい。
【０１１８】
前記β位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡのジ−β−アルキルグリシジルエーテル、ビスフェノールＦのジ−β−アルキルグリシジルエーテル、ビスフェノールＳのジ−β−アルキルグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物のジ−β−アルキルグリシジルエーテル；ビフェノールのジ−β−アルキルグリシジルエーテル、テトラメチルビフェノールのジ−β−アルキルグリシジルエーテル等のビフェノール化合物のジ−β−アルキルグリシジルエーテル；ジヒドロキシナフタレンのジ−β−アルキルグリシジルエーテル、ビナフトールのジ−β−アルキルグリシジルエーテル等のナフトール化合物のβ−アルキルグリシジルエーテル；フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル；クレゾール−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル等の炭素数１〜１０のモノアルキル置換フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル；キシレノール−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル等の炭素数１〜１０のジアルキル置換フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル；ビスフェノールＡ−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル等のビスフェノール化合物−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル；フェノール化合物とジビニルベンゼンの重付加物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテル；などが挙げられる。
【０１１９】
これらの中でも、下記一般式（ＩＶ）で表されるビスフェノール化合物、及びこれとエピクロヒドリンなどから得られる重合体から誘導されるβ−アルキルグリシジルエーテル、及び下記一般式（Ｖ）で表されるフェノール化合物−ホルムアルデヒド重縮合物のポリ−β−アルキルグリシジルエーテルが好ましい。
【化１７】
2007248925.tif 000018
ただし、前記一般式（ＩＶ）中、Ｒは水素原子及び炭素数１〜６のアルキル基のいずれかを表し、ｎは０〜２０の整数を表す。
【化１８】
2007248925.tif 000019
ただし、前記一般式（Ｖ）中、Ｒ及びＲ’は同じでも異なってもよく、水素原子及び炭素数１〜６のアルキル基のいずれかを表し、ｎは０〜２０の整数を表す。
【０１２０】
これらβ位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また１分子中に少なくとも２つのオキシラン基を有するエポキシ化合物、及びβ位にアルキル基を有するエポキシ基を含むエポキシ化合物を併用することも可能である。
【０１２１】
前記オキセタン化合物としては、例えば、ビス［（３−メチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エーテル、ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エーテル、１，４−ビス［（３−メチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、（３−メチル−３−オキセタニル）メチルアクリレート、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルアクリレート、（３−メチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート又はこれらのオリゴマーあるいは共重合体等の多官能オキセタン類の他、オキセタン基を有する化合物と、ノボラック樹脂、ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）、カルド型ビスフェノール類、カリックスアレーン類、カリックスレゾルシンアレーン類、シルセスキオキサン等の水酸基を有する樹脂など、とのエーテル化合物が挙げられ、この他、オキセタン環を有する不飽和モノマーとアルキル（メタ）アクリレートとの共重合体なども挙げられる。
【０１２２】
また、前記熱架橋剤としては、特開平５−９４０７号公報記載のポリイソシアネート化合物を用いることができ、該ポリイソシアネート化合物は、少なくとも２つのイソシアネート基を含む脂肪族、環式脂肪族又は芳香族基置換脂肪族化合物から誘導されていてもよい。具体的には、２官能イソシアネート（例えば、１，３−フェニレンジイソシアネートと１，４−フェニレンジイソシアネートとの混合物、２，４−及び２，６−トルエンジイソシアネート、１，３−及び１，４−キシリレンジイソシアネート、ビス（４−イソシアネート−フェニル）メタン、ビス（４−イソシアネートシクロヘキシル）メタン、イソフォロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）、該２官能イソシアネートと、トリメチロールプロパン、ペンタリスルトール、グリセリン等との多官能アルコール；該多官能アルコールのアルキレンオキサイド付加体と、前記２官能イソシアネートとの付加体；ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネート又はその誘導体等の環式三量体やビュレット体；ノルボルナンジイソシアネート；などが挙げられる。
【０１２３】
更に、本発明の感光性組成物の保存性を向上させることを目的として、前記ポリイソシアネート及びその誘導体のイソシアネート基にブロック剤を反応させて得られる化合物を用いてもよい。
前記イソシアネート基ブロック剤としては、アルコール類（例えば、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等）、ラクタム類（例えば、ε−カプロラクタム等）、フェノール類（例えば、フェノール、クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｓｅｃ−ブチルフェノール、ｐ−ｓｅｃ−アミルフェノール、ｐ−オクチルフェノール、ｐ−ノニルフェノール等）、複素環式ヒドロキシル化合物（例えば、３−ヒドロキシピリジン、８−ヒドロキシキノリン等）、活性メチレン化合物（例えば、ジアルキルマロネート、メチルエチルケトキシム、アセチルアセトン、アルキルアセトアセテートオキシム、アセトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等）などが挙げられる。これらの他、特開平６−２９５０６０号公報記載の分子内に少なくとも１つの重合可能な二重結合及び少なくとも１つのブロックイソシアネート基のいずれかを有する化合物などを用いることができる。
【０１２４】
また、前記熱架橋剤として、メラミン誘導体を用いることができる。該メラミン誘導体としては、例えば、メチロールメラミン、アルキル化メチロールメラミン（メチロール基を、メチル、エチル、ブチルなどでエーテル化した化合物）などが挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、保存安定性が良好で、感光層の表面硬度あるいは硬化膜の膜強度自体の向上に有効である点で、アルキル化メチロールメラミンが好ましく、ヘキサメチル化メチロールメラミンが特に好ましい。
【０１２５】
また、その他の熱架橋剤として、メラミン以外のアルデヒド縮合生成物、樹脂前駆体などを用いることができる。具体的には、Ｎ，Ｎ’−ジメチロール尿素、Ｎ，Ｎ’−ジメチロールマロンアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチロールスクシンイミド、１，３−Ｎ，Ｎ’−ジメチロールテレフタルアミド、２，４，６−トリメチロールフェノール、２，６−ジメチロール−４−メチロアニソール、１，３−ジメチロール−４，６−ジイソプロピルベンゼン、などが挙げられる。また、これらのメチロール化合物の代わりに、対応するエチルもしくはブチルエーテル、又は酢酸あるいはプロピオン酸のエステルを使用してもよい。
【０１２６】
感光性組成物に使用される前記熱架橋剤の配合割合は、これらの全固形分量に対して、好ましくは１〜３０質量％、より好ましくは２〜２５質量％、特に好ましくは５〜１５質量％である。該熱架橋剤が少なくなりすぎると硬化膜の基板への密着性が低くなる傾向があり、多すぎると保存安定性が低下する傾向がある。
【０１２７】
＜着色剤＞
本発明に係る感光性組成物には、着色剤（顔料）として、ハロゲン原子を分子中に含有しないトリアリールカルボニウム系化合物及び金属錯体系化合物の少なくともいずれかの有機顔料が含まれる。特に、該着色剤（顔料）は、２色以上の着色剤（顔料）を混練するものではなく、着色剤（顔料）として単一の色相を呈する一種類以上の化合物によって構成される。したがって、例えば、当該着色剤（顔料）の色相として緑色が選択されたとすると、従来のように、青色の着色剤（顔料）と黄色の着色剤（顔料）とを混練して作製するのではなく、緑色を呈するトリアリールカルボニウム系化合物又は、緑色を呈する金属錯体系化合物によって構成されるか、若しくは、緑色を呈するトリアリールカルボニウム系化合物と緑色を呈する金属錯体系化合物とを混練して構成される。
ここで、トリアリールカルボニウム系化合物は、下記構造式（１）で表される化合物である。なお、下記構造式（１）中、Ｒ１はアルキル基、Ｒ２は芳香族基、Ａ（−）は、リンモリブデン酸、リンタングステン酸、リンタングステンモリブデン酸、シリコモリブデン酸、及びヘキサシアン鉄酸から選ばれたアニオンを表す。
【０１２８】
上記着色剤（顔料）のうち、緑色を呈する着色剤（顔料）を具体的に例示すると、トリアリールカルボニウム系化合物としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１（下記構造式（２））、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン２（下記構造式（３））、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン４（下記構造式（４））及び、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン４５（下記構造式（５））が挙げられる。なお、下記構造式（２）〜（４）中、ＰＭ（−）は、リンモリブデン酸アニオンを表し、ＰＴＭ（−）は、リンタングステンモリブデン酸アニオンを表す。
【０１２９】
また、金属錯体系化合物として緑色を呈する代表的な着色剤（顔料）は、ニッケル錯体系緑色顔料が挙げられ、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン８（下記構造式（６））、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１０（下記構造式（７））、及びＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７６（下記構造式（８））が挙げられる。これらの着色剤（顔料）のうち、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン８（下記構造式（６））、及びＣ．Ｉ．ピグメントグリーン１０（下記構造式（７））は１分子中にハロゲン原子を含まない金属錯体系化合物であり、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７６（下記構造式（８））は、１分子中のハロゲン含有率が３９重量％の金属錯体系の化合物である。
【０１３０】
【化１９】
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【０１３１】
【化２０】
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【０１３２】
【化２１】
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【０１３３】
【化２２】
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【０１３４】
【化２３】
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【０１３５】
【化２４】
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【０１３６】
【化２５】
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【０１３７】
【化２６】
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【０１３８】
また、前記着色剤の配合量は特に限定されないが、該着色剤に有機溶剤が含まれる場合には、該有機溶剤を除く本発明の感光性組成物の全成分中に、０．０１〜２０質量％の前記着色剤を含むことが好ましく、前記感光性組成物の全成分中に０．１〜１０質量％の前記着色剤を含むことがさらに好ましく、前記感光性組成物の全成分中に０．２〜５質量％の前記着色剤を含むことが最も好ましい。
前記着色剤の配合量が上記の範囲にある場合において、紫外線透過率の減少による樹脂硬化性の低下を抑制しつつ、目視検査時の視認性が良好な永久保護膜を形成できる。
【０１３９】
また、前記着色剤の平均粒子径としては、特に制限されるものではないが、１０〜１，０００ｎｍが好ましく、５０〜１，０００ｎｍがより好ましく、１００〜５００ｎｍが最も好ましい。
また、感光層塗布液のコーティング時には、１，０００ｎｍ以上、好ましくは５００ｎｍ以上の粗大粒子は、塗布面状を損なうので遠心分離法、焼結フィルター、メンブレンフィルター濾過法などにより除去することが好ましい。
顔料の平均粒子径は、１，０００ｎｍを超えると、分散安定性を欠き、光散乱の影響で十分な解像度が得られない。また、顔料の平均粒子径が１００ｎｍ未満だと、分散安定性が低下し、感光域の吸光度が高くなり、十分な感度が得られないばかりか、着色度（光学濃度）が低下するため、必要な着色度を得るために添加量を増やさねばならず、コストが高くなる。
【０１４０】
本発明に係る感光性組成物に含まれる着色剤（顔料）の分散法としては、粉末状の顔料粒子を、分散用バインダーと、必要に応じて分散助剤の有機溶剤溶液中に混合し、公知の方法が適用可能である。例えば、ペイントシェイカー、超音波分散機、三本ロール、ボールミル、サンドミル、ビーズミル、ホモジナイザー、ニーダー等の分散・混練装置を用いて混練することにより分散処理することが好ましい。
このとき、分散用樹脂としては、カルボン酸基を有する樹脂が使用可能であるが、本発明の場合は前記アルカリ可溶性感光性樹脂を用いることができる。
分散用樹脂の使用量は、前記顔料の０．１〜２００質量％が好ましく、１〜１００質量％がより好ましく、２〜５０質量％が特に好ましい。樹脂が少なすぎると顔料の分散安定性が低下する傾向がある。
前記有機溶剤は、分散時の顔料及び樹脂の全量に対して、分散時に少なくとも１００質量％用いることが好ましい。１００質量％未満では分散時の粘度が高すぎて、特にボールミル、サンドミル、ビーズミルなどで分散する場合には分散が困難になる可能性がある。
また有機溶剤としては、前記分散用樹脂を溶解し、使用する顔料への湿潤性に富む溶剤が好ましく、芳香族炭化水素類、酢酸エステル類、エーテル類、アルコール類、グリコールモノエーテル類、グリコールモノエーテルアセテート類、ケトン類が好ましい。
【０１４１】
前記分散処理に際して、分散用樹脂は、その全量を分散処理時に顔料と共に用いてもよく、樹脂の一部を分散処理後に加えてもよい。同様に有機溶剤もその全量を分散処理時に顔料と共に用いてもよく、有機溶剤の一部を分散処理後に加えてもよい。
前記分散助剤としては、ポリカルボン酸型高分子界面活性剤、ポリスルホン酸型高分子界面活性剤等のアニオン系分散剤、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックポリマー等のノニオン系分散剤、アントラキノン系、ペリレン系、フタロシアニン系、キナクドリン系等の有機色素にカルボキシル基、スルホン酸塩基、カルボン酸アミド基、水酸基等の置換基を導入した有機色素の誘導体などがあり、これら分散助剤を用いることによって顔料の分散性や分散安定性が向上し、好ましい。また、これら顔料分散剤や有機色素の誘導体は、顔料に対して５０質量％以下で用いることが好ましい。５０質量％を超えると色度がずれる傾向がある。
【０１４２】
なお、本発明に係る感光性組成物を作製する場合には、該着色剤に加えて、前述したアルカリ可溶性感光性樹脂、光重合性化合物、熱架橋剤、及び光重合開始剤又は光重合開始系化合物、並びに、後述する熱硬化促進剤、無機充填剤、及びその他の成分を混合するが、これらは、該着色剤の分散処理の前に混合してもよく、分散処理後に混合してもよい。
前記分散用樹脂は分散時に全量使用せず、残りを後で、特に感光層塗布液の作製時に混合してもよい。各成分の使用量は最終的に前記した感光性組成物における配合割合になるように前記感光性組成物の作製時から調整される。
【０１４３】
＜熱硬化促進剤＞
前記熱硬化促進剤は、前記エポキシ樹脂化合物や前記多官能オキセタン化合物の熱硬化を促進する機能があり、前記感光性樹脂に好適に添加される。感光性組成物に対する熱架橋促進剤の含有量（固形分量比）は、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がさらに好ましく、０．５〜３質量％が最も好ましい。熱架橋促進剤が少なくなりすぎると硬化膜の基板への密着性が低くなる傾向があり、多すぎると保存安定性が低下する傾向がある。
前記熱硬化促進剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルアミン、４−（ジメチルアミノ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、４−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンなどのアミン化合物；トリエチルベンジルアンモニウムクロリドなどの４級アンモニウム塩化合物；ジメチルアミンなどのブロックイソシアネート化合物；イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、４−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−（２−シアノエチル）−２−エチル−４−メチルイミダゾールなどのイミダゾール誘導体二環式アミジン化合物及びその塩；トリフェニルホスフィンなどのリン化合物；メラミン、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミンなどのグアナミン化合物；２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−Ｓ−トリアジン、２−ビニル−２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン、２−ビニル−４，６−ジアミノ−Ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−Ｓ−トリアジン・イソシアヌル酸付加物などのＳ−トリアジン誘導体、三フッ化ホウ素−アミンコンプレックス、有機ヒドラジド累、無水フタル酸、無水トリメリット酸、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、グリセロールトリス（アンヒドロトリメリテート）、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などの芳香族酸無水物、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸などの脂肪族酸無水物類、ポリビニルフェノール、ポリビニルフェノール臭素化物、フェノールノボラック、アルキルフェノールノボラックなどのポリフェノール類などなどを用いることができる。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。なお、前記エポキシ樹脂化合物や前記多官能オキセタン化合物の硬化触媒、あるいは、これらとカルボキシル基の反応を促進することができるものであれば、特に制限はなく、上記以外の熱硬化を促進可能な化合物を用いてもよい。
前記エポキシ樹脂、前記多官能オキセタン化合物、及びこれらとカルボン酸との熱硬化を促進可能な化合物の前記感光性組成物溶液の固形分中の固形分含有量は、通常０．０１〜２０質量％である。
【０１４４】
＜無機充填剤＞
前記無機充填剤は、永久パターンの表面硬度を向上でき、線膨張係数を低く抑えることができ、硬化層自体の誘電率や誘電正接を低く抑えることができる機能がある。
前記無機充填剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、カオリン、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化ケイ素粉、微粉状酸化ケイ素、気相法シリカ、無定形シリカ、結晶性シリカ、溶融シリカ、球状シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、マイカなどが挙げられる。
【０１４５】
前記無機充填剤の平均粒子径は、３μｍ未満が好ましく、０．１〜２μｍがより好ましい。該平均粒子径が３μｍ以上であると、光錯乱により解像度が劣化することがある。
【０１４６】
また、感光性組成物に使用される無機充填剤の配合割合は、これらの全固形分量に対して、好ましくは５〜６０質量％、より好ましくは１０〜５０質量％、さらに好ましくは１５〜４０質量％である。該無機充填剤が少なくなりすぎると硬化膜の硬度が低くなる傾向があり、多すぎると光感度が低下する傾向がある。
【０１４７】
さらに必要に応じて有機微粒子を添加することも可能である。好適な有機微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂などが挙げられる。また、平均粒子径が０．１〜２μｍ、吸油量１００〜２００ｍ２／ｇ程度のシリカ、架橋樹脂からなる球状多孔質微粒子などを用いることができる。
【０１４８】
前記無機充填剤に、平均粒子径が０．１〜２μｍの粒子を含有していることから、永久パターンをプリント配線基板の薄型化にともなって、厚み５〜２０μｍに薄層化したとしても、無機充填剤粒子が永久パターンの表裏両面を架橋することはなく、その結果、高加速度試験（ＨＡＳＴ）においてもイオンマイグレーションの発生がなく、耐熱性、耐湿性に優れた永久パターンとすることができる。
【０１４９】
＜その他の成分＞
本発明に係る感光性組成物（感光層塗布液）には、暗反応を抑制するための熱重合禁止剤（ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール等）、基板との密着性を向上させるためのチタネートカップリング剤（ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基等を有したシランカップリング剤やイソプロピルトリメタクリロイルチタネート、ジイソプロピルイソステアロイル−４−アミノベンゾイルチタネート等）、膜の平滑性を向上させるための界面活性剤（フッ素系、シリコン系、炭化水素系等）及びその他、紫外線吸収剤、酸化防止剤などの各種添加剤を必要に応じて適宜使用することができる。
【０１５０】
有機溶剤は、感光性組成物（感光層塗布液）中の有機顔料、アルカリ可溶性感光性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤又は光重合開始系化合物、熱架橋剤、熱硬化促進剤及び無機充填剤を含む全固形分が５〜４０質量％の範囲になるように用いられることが好ましい。全固形分が４０質量％を超えると粘度が高くなり、塗布性が悪くなる傾向がある。また、全固形分が５質量％未満であると粘度が低くなり、塗布性が悪くなる傾向がある。
【０１５１】
〔保護フイルム〕
前記保護フイルムは、前記感光層の汚れや損傷を防止し、保護する機能を有する。
前記保護フイルムの前記感光性フィルムにおいて設けられる箇所としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、通常、前記感光層上に設けられる。
前記保護フイルムとしては、例えば、前記支持体に使用されるもの、シリコーン紙、ポリエチレン、ポリプロピレンがラミネートされた紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオルエチレンシート、などが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンフイルム、ポリプロピレンフイルムが好ましい。
前記保護フイルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５〜１００μｍが好ましく、８〜３０μｍがより好ましい。
【０１５２】
前記保護フイルムを用いる場合、前記感光層及び前記支持体の接着力Ａと、前記感光層及び保護フイルムの接着力Ｂとが、接着力Ａ＞接着力Ｂの関係であることが好ましい。
前記支持体と保護フイルムとの組合せ（支持体／保護フイルム）としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレン、ポリ塩化ビニル／セロフアン、ポリイミド／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。また、支持体及び保護フイルムの少なくともいずれかを表面処理することにより、上述のような接着力の関係を満たすことができる。前記支持体の表面処理は、前記感光層との接着力を高めるために施されてもよく、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザ光線照射処理などを挙げることができる。
【０１５３】
また、前記支持体と前記保護フイルムとの静摩擦係数としては、０．３〜１．４が好ましく、０．５〜１．２がより好ましい。
前記静摩擦係数が、０．３未満であると、滑り過ぎるため、ロール状にした場合に巻ズレが発生することがあり、１．４を超えると、良好なロール状に巻くことが困難となることがある。
【０１５４】
前記保護フイルムは、前記保護フイルムと前記感光層との接着性を調整するために表面処理してもよい。前記表面処理は、例えば、前記保護フイルムの表面に、ポリオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン、ポリビニルアルコールなどのポリマーからなる下塗層を形成させる。該下塗層の形成は、前記ポリマーの塗布液を前記保護フイルムの表面に塗布した後、３０〜１５０℃（特に５０〜１２０℃）で１〜３０分間乾燥させることにより形成させることができる。
【０１５５】
〔その他の層〕
本発明の感光性フィルムは、前記感光層、前記支持体、前記保護フイルムの他に、クッション層、酸素遮断層（ＰＣ層）、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層などのその他の層を有してもよい。
前記その他の層の前記感光性フィルムにおける配置、厚み等は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記クッション層は、常温ではタック性が無く、真空及び加熱条件で積層した場合に溶融し、流動する層であることが好ましい。
前記ＰＣ層は、ポリビニルアルコールを主成分として形成された１．５μｍ程度の被膜であることが好ましい。
【０１５６】
前記感光性フィルムは、例えば、円筒状の巻芯に巻き取って、長尺状でロール状に巻かれて保管されるのが好ましい。前記長尺状の感光性フィルムの長さとしては、特に制限はなく、例えば、１０〜２０，０００ｍの範囲から適宜選択することができる。また、ユーザーが使いやすいようにスリット加工し、１００〜１，０００ｍの範囲の長尺体をロール状にしてもよい。なお、この場合には、前記支持体が一番外側になるように巻き取られるのが好ましい。また、前記ロール状の感光性フィルムをシート状にスリットしてもよい。保管の際、端面の保護、エッジフュージョンを防止する観点から、端面にはセパレーター（特に防湿性のもの、乾燥剤入りのもの）を設置するのが好ましく、また梱包も透湿性の低い素材を用いるのが好ましい。
【０１５７】
本発明の感光性フィルムは、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐薬品性、表面硬度、耐熱性などを発揮する感光性組成物が積層された感光層を有してなる。このため、プリント配線板、カラーフィルタや柱材、リブ材、スペーサー、隔壁などのディスプレイ用部材、ホログラム、マイクロマシン、プルーフなどの製造に好適に使用することができ、特に、プリント基板の永久パターン形成用に好適に使用することができる。
特に、本発明の感光性フィルムは、該フィルムの厚みが均一であるため、永久パターンの形成に際し、永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、ソルダーレジストなど）を薄層化しても、高加速度試験（ＨＡＳＴ）においてイオンマイグレーションの発生がなく、耐熱性、耐湿性に優れた高精細な永久パターンが得られるため、基体への積層がより精細に行われる。
【０１５８】
（永久パターンの形成方法）
本発明に係る永久パターンの形成方法によれば、加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において、基体の表面に本発明の感光性フィルムを積層した後、該感光性フィルムに対して露光し、現像することによって永久パターンが形成される。
以下、本発明に係る永久パターンの形成方法の説明を通じて、該方法によって作製される永久パターンの詳細も明らかにする。
【０１５９】
−基体−
前記基体としては、特に制限はなく、公知の材料の中から表面平滑性の高いものから凸凹のある表面を有するものまで適宜選択することができ、板状の基体（基板）が好ましく、具体的には、公知のプリント配線板形成用基板（例えば、銅張積層板）、ガラス板（例えば、ソーダガラス板など）、合成樹脂性のフイルム、紙、金属板などが挙げられ、これらの中でも、プリント配線板形成用基板（プリント基板）が好ましく、多層配線基板やビルドアップ配線基板などへの半導体などの高密度実装化が可能となる点で、該プリント配線板形成用基板が配線形成済みであるのが特に好ましい。
【０１６０】
前記積層体は、基体上に前記感光層が形成されてなり、該感光層に対し、後述する露光工程により露光した領域を硬化させ、後述する現像工程により永久パターンを形成することができる。
【０１６１】
［積層工程］
前記積層体の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記保護フイルムを剥離し、前記基体上に前記感光性フィルムを加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら前記感光層が重なるようにして積層するのが好ましい。
前記加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、７０〜１３０℃が好ましく、８０〜１１０℃がより好ましい。
前記加圧の圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．０１〜１．０ＭＰａが好ましく、０．０５〜１．０ＭＰａがより好ましい。
【０１６２】
前記加熱及び加圧の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ヒートプレス、ヒートロールラミネータ（例えば、大成ラミネータ（株）製、ＶＰ−ＩＩ）、真空ラミネータ（例えば、ニチゴーモートン（株）製、ＶＰ１３０）などが好適に挙げられる。
【０１６３】
［露光工程］
前記露光工程は、前記積層工程において形成された前記積層体の前記感光層に対し、露光を行う工程である。
前記露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、デジタル露光、アナログ露光等が挙げられるが、これらの中でもデジタル露光が好ましい。
【０１６４】
前記デジタル露光としては、例えば、光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、
前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、
前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、
前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う方法が好ましい。
【０１６５】
前記「Ｎ重露光」とは、前記感光層の被露光面上の露光領域の略すべての領域において、前記露光ヘッドの走査方向に平行な直線が、前記被露光面上に照射されたＮ本の光点列（画素列）と交わるような設定による露光を指す。ここで、「光点列（画素列）」とは、前記描素部により生成された描素単位としての光点（画素）の並びうち、前記露光ヘッドの走査方向となす角度がより小さい方向の並びを指すものとする。なお、前記描素部の配置は、必ずしも矩形格子状でなくてもよく、たとえば平行四辺形状の配置等であってもよい。  ここで、露光領域の「略すべての領域」と述べたのは、各描素部の両側縁部では、描素部列を傾斜させたことにより、前記露光ヘッドの走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数が減るため、かかる場合に複数の露光ヘッドをつなぎ合わせるように使用したとしても、該露光ヘッドの取付角度や配置等の誤差により、走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数がわずかに増減することがあるため、また、各使用描素部の描素部列間のつなぎの、解像度分以下のごくわずかな部分では、取付角度や描素部配置等の誤差により、走査方向と直交する方向に沿った描素部のピッチが他の部分の描素部のピッチと厳密に一致せず、走査方向に平行な直線と交わる使用描素部の描素部列の数が±１の範囲で増減することがあるためである。なお、以下の説明では、Ｎが２以上の自然数であるＮ重露光を総称して「多重露光」という。さらに、以下の説明では、本発明の露光装置又は露光方法を、描画装置又は描画方法として実施した形態について、「Ｎ重露光」及び「多重露光」に対応する用語として、「Ｎ重描画」及び「多重描画」という用語を用いるものとする。
前記Ｎ重露光のＮとしては、２以上の自然数であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３以上の自然数が好ましく、３以上７以下の自然数がより好ましい。
【０１６６】
＜パターン形成装置＞
本発明のパターン形成方法に係るパターン形成装置の一例について図面を参照しながら説明する。
前記パターン形成装置としては、いわゆるフラットベッドタイプの露光装置とされており、図１に示すように、前記感光性転写材料における少なくとも前記感光層が積層されてなるシート状の感光材料１２（以下、「感光層１２」ということがある）を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。なお、このパターン形成装置１０には、ステージ１４をガイド２０に沿って駆動するステージ駆動装置（図示せず）が設けられている。
【０１６７】
設置台１８の中央部には、ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には感光材料１２の先端及び後端を検知する複数（たとえば２個）のセンサ２６が設けられている。スキャナ２４及びセンサ２６はゲート２２に各々取り付けられて、ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４及びセンサ２６は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されている。
【０１６８】
ここで、説明のため、ステージ１４の表面と平行な平面内に、図１に示すように、互いに直交するＸ軸及びＹ軸を規定する。
【０１６９】
ステージ１４の走査方向に沿って上流側（以下、単に「上流側」ということがある。）の端縁部には、Ｘ軸の方向に向かって開く「く」の字型に形成されたスリット２８が、等間隔で１０本形成されている。各スリット２８は、上流側に位置するスリット２８ａと下流側に位置するスリット２８ｂとからなっている。スリット２８ａとスリット２８ｂとは互いに直交するとともに、Ｘ軸に対してスリット２８ａは−４５度、スリット２８ｂは＋４５度の角度を有している。
【０１７０】
スリット２８の位置は、前記露光ヘッド３０の中心と略一致させられている。また、各スリット２８の大きさは、対応する露光ヘッド３０による露光エリア３２の幅を十分覆う大きさとされている。また、スリット２８の位置としては、隣接する露光済み領域３４間の重複部分の中心位置と略一致させてもよい。この場合、各スリット２８の大きさは、露光済み領域３４間の重複部分の幅を十分覆う大きさとする。
【０１７１】
ステージ１４内部の各スリット２８の下方の位置には、それぞれ、後述する使用描素部指定処理において、描素単位としての光点を検出する光点位置検出手段としての単一セル型の光検出器（図示せず）が組み込まれている。また、各光検出器は、後述する使用描素部指定処理において、前記描素部の選択を行う描素部選択手段としての演算装置（図示せず）に接続されている。
【０１７２】
露光時における前記パターン形成装置の動作形態はとしては、露光ヘッドを常に移動させながら連続的に露光を行う形態であってもよいし、露光ヘッドを段階的に移動させながら、各移動先の位置で露光ヘッドを静止させて露光動作を行う形態であってもよい。
【０１７３】
＜＜露光ヘッド＞＞
各露光ヘッド３０は、後述する内部のデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６の各描素部（マイクロミラー）列方向が、走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように、スキャナ２４に取り付けられている。このため、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。ステージ１４の移動に伴い、感光層１２には露光ヘッド３０ごとに帯状の露光済み領域３４が形成される。図２及び図３Ｂに示す例では、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッドが、スキャナ２４に備えられている。
なお、以下において、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド３０ｍｎと表記し、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドによる露光エリアを示す場合は、露光エリア３２ｍｎと表記する。
【０１７４】
また、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔（露光エリアの長辺の自然数倍、本実施形態では２倍）ずらして配置されている。このため、１行目の露光エリア３２１１と露光エリア３２１２との間の露光できない部分は、２行目の露光エリア３２２１により露光することができる。
【０１７５】
露光ヘッド３０の各々は、図４及び図５に示すように、入射された光を画像データに応じて描素部ごとに変調する光変調手段（描素部ごとに変調する空間光変調素子）として、ＤＭＤ３６（米国テキサス・インスツルメンツ社製）を備えている。このＤＭＤ３６は、データ処理部とミラー駆動制御部とを備えた描素部制御手段としてのコントローラに接続されている。このコントローラのデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、露光ヘッド３０ごとに、ＤＭＤ３６上の使用領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。また、ミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、露光ヘッド３０ごとに、ＤＭＤ３６の各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。
【０１７６】
図４に示すように、ＤＭＤ３６の光入射側には、光ファイバの出射端部（発光点）が露光エリア３２の長辺方向と一致する方向に沿って一列に配列されたレーザ出射部を備えたファイバアレイ光源３８、ファイバアレイ光源３８から出射されたレーザ光を補正してＤＭＤ上に集光させるレンズ系４０、このレンズ系４０を透過したレーザ光をＤＭＤ３６に向けて反射するミラー４２がこの順に配置されている。なお図４では、レンズ系４０を概略的に示してある。
【０１７７】
上記レンズ系４０は、図５に詳しく示すように、ファイバアレイ光源３８から出射されたレーザ光を平行光化する１対の組合せレンズ４４、平行光化されたレーザ光の光量分布が均一になるように補正する１対の組合せレンズ４６、及び光量分布が補正されたレーザ光をＤＭＤ３６上に集光する集光レンズ４８で構成されている。
【０１７８】
また、ＤＭＤ３６の光反射側には、ＤＭＤ３６で反射されたレーザ光を感光層１２の被露光面上に結像するレンズ系５０が配置されている。レンズ系５０は、ＤＭＤ３６と感光層１２の被露光面とが共役な関係となるように配置された、２枚のレンズ５２及び５４からなる。
【０１７９】
本実施形態では、ファイバアレイ光源３８から出射されたレーザ光は、実質的に５倍に拡大された後、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラーからの光線が上記のレンズ系５０によって約５μｍに絞られるように設定されている。
【０１８０】
‐光変調手段‐
前記光変調手段としては、ｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された前記描素部を有し、前記パターン情報に応じて前記描素部を制御可能なものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、空間光変調素子が好ましい。
【０１８１】
前記空間光変調素子としては、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ；Ｓｐａｔｉａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）、液晶光シャッタ（ＦＬＣ）などが挙げられ、これらの中でもＤＭＤが好適に挙げられる。
【０１８２】
また、前記光変調手段は、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を有することが好ましい。この場合、前記光変調手段は、前記パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて光を変調させる。
前記制御信号としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、デジタル信号が好適に挙げられる。
【０１８３】
以下、前記光変調手段の一例について図面を参照しながら説明する。
ＤＭＤ３６は図６に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）５６上に、各々描素（ピクセル）を構成する描素部として、多数のマイクロミラー５８が格子状に配列されてなるミラーデバイスである。本実施形態では、１０２４列×７６８行のマイクロミラー５８が配されてなるＤＭＤ３６を使用するが、このうちＤＭＤ３６に接続されたコントローラにより駆動可能すなわち使用可能なマイクロミラー５８は、１０２４列×２５６行のみであるとする。ＤＭＤ３６のデータ処理速度には限界があり、使用するマイクロミラー数に比例して１ライン当りの変調速度が決定されるので、このように一部のマイクロミラーのみを使用することにより１ライン当りの変調速度が速くなる。各マイクロミラー５８は支柱に支えられており、その表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。なお、本実施形態では、各マイクロミラー５８の反射率は９０％以上であり、その配列ピッチは縦方向、横方向ともに１３．７μｍである。ＳＲＡＭセル５６は、ヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのものであり、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。
【０１８４】
ＤＭＤ３６のＳＲＡＭセル（メモリセル）５６に、所望の２次元パターンを構成する各点の濃度を２値で表した画像信号が書き込まれると、支柱に支えられた各マイクロミラー５８が、対角線を中心としてＤＭＤ３６が配置された基板側に対して±α度（たとえば±１０度）のいずれかに傾く。図７Ａは、マイクロミラー５８がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図７Ｂは、マイクロミラー５８がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。このように、画像信号に応じて、ＤＭＤ３６の各ピクセルにおけるマイクロミラー５８の傾きを、図６に示すように制御することによって、ＤＭＤ３６に入射したレーザ光Ｂはそれぞれのマイクロミラー５８の傾き方向へ反射される。
【０１８５】
図６には、ＤＭＤ３６の一部を拡大し、各マイクロミラー５８が＋α度又はα度に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー５８のオンオフ制御は、ＤＭＤ３６に接続された上記のコントローラによって行われる。また、オフ状態のマイクロミラー５８で反射したレーザ光Ｂが進行する方向には、光吸収体（図示せず）が配置されている。
【０１８６】
‐光照射手段‐
前記光照射手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（超）高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、ハロゲンランプ、複写機用などの蛍光管、ＬＥＤ、半導体レーザ等の公知光源、又は２以上の光を合成して照射可能な手段が挙げられ、これらの中でも２以上の光を合成して照射可能な手段が好ましい。
前記光照射手段から照射される光としては、例えば、支持体を介して光照射を行う場合には、該支持体を透過し、かつ用いられる光重合開始剤や増感剤を活性化する電磁波、紫外から可視光線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられ、これらの中でもレーザ光が好ましく、２以上の光を合成したレーザ（以下、「合波レーザ」と称することがある）がより好ましい。また支持体を剥離してから光照射を行う場合でも、同様の光を用いることができる。
【０１８７】
前記紫外から可視光線の波長としては、例えば、３００〜１５００ｎｍが好ましく、３２０〜８００ｎｍがより好ましく、３３０ｎｍ〜６５０ｎｍが特に好ましい。
前記レーザ光の波長としては、例えば、２００〜１５００ｎｍが好ましく、３００〜８００ｎｍがより好ましく、３３０ｎｍ〜５００ｎｍが更に好ましく、４００ｎｍ〜４５０ｎｍが特に好ましい。
【０１８８】
前記合波レーザを照射可能な手段としては、例えば、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射したレーザビームを集光して前記マルチモード光ファイバに結合させる集合光学系とを有する手段が好ましい。
【０１８９】
以下、前記合波レーザを照射可能な手段（ファイバアレイ光源）について図を参照しながら説明する。
ファイバアレイ光源３８は、図８に示すように、複数（たとえば１４個）のレーザモジュール６０を備えており、各レーザモジュール６０には、マルチモード光ファイバ６２の一端が結合されている。マルチモード光ファイバ６２の他端には、マルチモード光ファイバ６２より小さいクラッド径を有する光ファイバ６４が結合されている。図９に詳しく示すように、光ファイバ６４のマルチモード光ファイバ６２と反対側の端部は走査方向と直交する方向に沿って７個並べられ、それが２列に配列されてレーザ出射部６６が構成されている。
【０１９０】
光ファイバ６４の端部で構成されるレーザ出射部６６は、図９に示すように、表面が平坦な２枚の支持板６８に挟み込まれて固定されている。また、光ファイバ６４の光出射端面には、その保護のために、ガラス等の透明な保護板が配置されるのが望ましい。光ファイバ６４の光出射端面は、光密度が高いため集塵しやすく劣化しやすいが、上述のような保護板を配置することにより、端面への塵埃の付着を防止し、また劣化を遅らせることができる。
【０１９１】
このような光ファイバは、例えば、図２５に示すように、クラッド径が大きいマルチモード光ファイバ６２のレーザ光出射側の先端部分に、長さ１〜３０ｃｍのクラッド径が小さい光ファイバ６４を同軸的に結合することにより得ることができる。２本の光ファイバは、光ファイバ６４の入射端面が、マルチモード光ファイバ６２の出射端面に、両光ファイバの中心軸が一致するように融着されて結合されている。上述した通り、光ファイバ６４のコア６４ａの径は、マルチモード光ファイバ６２のコア６２ａの径と同じ大きさである。
【０１９２】
また、長さが短くクラッド径が大きい光ファイバにクラッド径が小さい光ファイバを融着させた短尺光ファイバを、フェルールや光コネクタ等を介してマルチモード光ファイバ６２の出射端に結合してもよい。コネクタ等を用いて着脱可能に結合することで、クラッド径が小さい光ファイバが破損した場合等に先端部分の交換が容易になり、露光ヘッドのメンテナンスに要するコストを低減できる。なお、以下では、光ファイバ６４を、マルチモード光ファイバ６２の出射端部と称する場合がある。
【０１９３】
マルチモード光ファイバ６２及び光ファイバ６４としては、ステップインデックス型光ファイバ、グレーテッドインデックス型光ファイバ、及び複合型光ファイバの何れでもよい。例えば、三菱電線工業株式会社製のステップインデックス型光ファイバを用いることができる。本実施の形態では、マルチモード光ファイバ６２及び光ファイバ６４は、ステップインデックス型光ファイバであり、マルチモード光ファイバ６２は、クラッド径＝１２５μｍ、コア径＝５０μｍ、ＮＡ＝０．２、入射端面コートの透過率＝９９．５％以上であり、光ファイバ６４は、クラッド径＝６０μｍ、コア径＝５０μｍ、ＮＡ＝０．２である。
【０１９４】
一般に、赤外領域のレーザ光では、光ファイバのクラッド径を小さくすると伝搬損失が増加する。このため、レーザ光の波長帯域に応じて好適なクラッド径が決定されている。しかしながら、波長が短いほど伝搬損失は少なくなり、ＧａＮ系半導体レーザから出射された波長４０５ｎｍのレーザ光では、クラッドの厚み｛（クラッド径−コア径）／２｝を８００ｎｍの波長帯域の赤外光を伝搬させる場合の１／２程度、通信用の１．５μｍの波長帯域の赤外光を伝搬させる場合の約１／４にしても、伝搬損失は殆ど増加しない。従って、クラッド径を６０μｍと小さくすることができる。
【０１９５】
但し、光ファイバのクラッド径は６０μｍには限定されない。従来のファイバアレイ光源に使用されている光ファイバのクラッド径は１２５μｍであるが、クラッド径が小さくなるほど焦点深度がより深くなるので、光ファイバのクラッド径は８０μｍ以下が好ましく、６０μｍ以下がより好ましく、４０μｍ以下が更に好ましい。一方、コア径は少なくとも３〜４μｍ必要であることから、光ファイバ６４のクラッド径は１０μｍ以上が好ましい。
【０１９６】
レーザモジュール６０は、図２６に示す合波レーザ光源（ファイバアレイ光源）によって構成されている。この合波レーザ光源は、ヒートブロック１１０上に配列固定された複数（例えば、７個）のチップ状の横マルチモード又はシングルモードのＧａＮ系半導体レーザＬＤ１、ＬＤ２、ＬＤ３、ＬＤ４、ＬＤ５、ＬＤ６、及びＬＤ７と、ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７の各々に対応して設けられたコリメータレンズＬ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４、Ｌ５、Ｌ６及びＬ７と、１つの集光レンズ２００と、１本のマルチモード光ファイバ６２と、から構成されている。なお、半導体レーザの個数は７個には限定されない。例えば、クラッド径＝６０μｍ、コア径＝５０μｍ、ＮＡ＝０．２のマルチモード光ファイバには、２０個もの半導体レーザ光を入射することが可能であり、露光ヘッドの必要光量を実現して、且つ光ファイバ本数をより減らすことができる。
【０１９７】
ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７は、発振波長が総て共通（例えば、４０５ｎｍ）であり、最大出力も総て共通（例えば、マルチモードレーザでは１００ｍＷ、シングルモードレーザでは３０ｍＷ）である。なお、ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７としては、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲で、上記の４０５ｎｍ以外の発振波長を備えるレーザを用いてもよい。
【０１９８】
前記合波レーザ光源は、図２７及び図２８に示すように、他の光学要素と共に、上方が開口した箱状のパッケージ４００内に収納されている。パッケージ４００は、その開口を閉じるように作成されたパッケージ蓋４１０を備えており、脱気処理後に封止ガスを導入し、パッケージ４００の開口をパッケージ蓋４１０で閉じることにより、パッケージ４００とパッケージ蓋４１０とにより形成される閉空間（封止空間）内に上記合波レーザ光源が気密封止されている。
【０１９９】
パッケージ４００の底面にはベース板４２０が固定されており、このベース板４２０の上面には、前記ヒートブロック１１０と、集光レンズ２００を保持する集光レンズホルダー４５０と、マルチモード光ファイバ６２の入射端部を保持するファイバホルダー４６０とが取り付けられている。マルチモード光ファイバ６２の出射端部は、パッケージ４００の壁面に形成された開口からパッケージ外に引き出されている。
【０２００】
また、ヒートブロック１１０の側面にはコリメータレンズホルダー４４０が取り付けられており、コリメータレンズＬ１〜Ｌ７が保持されている。パッケージ４００の横壁面には開口が形成され、この開口を通してＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７に駆動電流を供給する配線４７０がパッケージ外に引き出されている。
【０２０１】
なお、図２８においては、図の煩雑化を避けるために、複数のＧａＮ系半導体レーザのうちＧａＮ系半導体レーザＬＤ７にのみ番号を付し、複数のコリメータレンズのうちコリメータレンズＬ７にのみ番号を付している。
【０２０２】
図２９は、前記コリメータレンズＬ１〜Ｌ７の取り付け部分の正面形状を示すものである。コリメータレンズＬ１〜Ｌ７の各々は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取った形状に形成されている。この細長形状のコリメータレンズは、例えば、樹脂又は光学ガラスをモールド成形することによって形成することができる。コリメータレンズＬ１〜Ｌ７は、長さ方向がＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７の発光点の配列方向（図２９の左右方向）と直交するように、上記発光点の配列方向に密接配置されている。
【０２０３】
一方、ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７としては、発光幅が２μｍの活性層を備え、活性層と平行な方向、直角な方向の拡がり角が各々例えば１０°、３０°の状態で各々レーザビームＢ１〜Ｂ７を発するレーザが用いられている。これらＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７は、活性層と平行な方向に発光点が１列に並ぶように配設されている。
【０２０４】
したがって、各発光点から発せられたレーザビームＢ１〜Ｂ７は、上述のように細長形状の各コリメータレンズＬ１〜Ｌ７に対して、拡がり角度が大きい方向が長さ方向と一致し、拡がり角度が小さい方向が幅方向（長さ方向と直交する方向）と一致する状態で入射することになる。つまり、各コリメータレンズＬ１〜Ｌ７の幅が１．１ｍｍ、長さが４．６ｍｍであり、それらに入射するレーザビームＢ１〜Ｂ７の水平方向、垂直方向のビーム径は各々０．９ｍｍ、２．６ｍｍである。また、コリメータレンズＬ１〜Ｌ７の各々は、焦点距離ｆ１＝３ｍｍ、ＮＡ＝０．６、レンズ配置ピッチ＝１．２５ｍｍである。
【０２０５】
集光レンズ２００は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取って、コリメータレンズＬ１〜Ｌ７の配列方向、つまり水平方向に長く、それと直角な方向に短い形状に形成されている。この集光レンズ２００は、焦点距離ｆ２＝２３ｍｍ、ＮＡ＝０．２である。この集光レンズ２００も、例えば、樹脂又は光学ガラスをモールド成形することにより形成される。
【０２０６】
また、ＤＭＤを照明する光照射手段に、合波レーザ光源の光ファイバの出射端部をアレイ状に配列した高輝度のファイバアレイ光源を用いているので、高出力で且つ深い焦点深度を備えたパターン形成装置を実現することができる。更に、各ファイバアレイ光源の出力が大きくなることで、所望の出力を得るために必要なファイバアレイ光源数が少なくなり、パターン形成装置の低コスト化が図られる。
【０２０７】
また、光ファイバの出射端のクラッド径を入射端のクラッド径よりも小さくしているので、発光部径がより小さくなり、ファイバアレイ光源の高輝度化が図られる。これにより、より深い焦点深度を備えたパターン形成装置を実現することができる。例えば、ビーム径１μｍ以下、解像度０．１μｍ以下の超高解像度露光の場合にも、深い焦点深度を得ることができ、高速且つ高精細な露光が可能となる。したがって、高解像度が必要とされる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の露光工程に好適である。
【０２０８】
また、前記光照射手段としては、前記合波レーザ光源を複数備えたファイバアレイ光源に限定されず、例えば、１個の発光点を有する単一の半導体レーザから入射されたレーザ光を出射する１本の光ファイバを備えたファイバ光源をアレイ化したファイバアレイ光源を用いることができる。
【０２０９】
また、複数の発光点を備えた光照射手段としては、例えば、図３０に示すように、ヒートブロック１１０上に、複数（例えば、７個）のチップ状の半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７を配列したレーザアレイを用いることができる。また、図３１Ａに示す、複数（例えば、５個）の発光点１１１ａが所定方向に配列されたチップ状のマルチキャビティレーザ１１０が知られている。マルチキャビティレーザ１１１は、チップ状の半導体レーザを配列する場合と比べ、発光点を位置精度良く配列できるので、各発光点から出射されるレーザビームを合波し易い。但し、発光点が多くなるとレーザ製造時にマルチキャビティレーザ１１１に撓みが発生し易くなるため、発光点１１１ａの個数は５個以下とするのが好ましい。
【０２１０】
前記光照射手段としては、このマルチキャビティレーザ１１１や、図３１Ｂに示すように、ヒートブロック１１０上に、複数のマルチキャビティレーザ１１１が各チップの発光点１１１ａの配列方向と同じ方向に配列されたマルチキャビティレーザアレイを、レーザ光源として用いることができる。
【０２１１】
また、合波レーザ光源は、複数のチップ状の半導体レーザから出射されたレーザ光を合波するものには限定されない。例えば、図３２に示すように、複数（例えば、３個）の発光点１１１ａを有するチップ状のマルチキャビティレーザ１１１を備えた合波レーザ光源を用いることができる。この合波レーザ光源は、マルチキャビティレーザ１１１と、１本のマルチモード光ファイバ６２と、集光レンズ２００と、を備えて構成されている。マルチキャビティレーザ１１１は、例えば、発振波長が４０５ｎｍのＧａＮ系レーザダイオードで構成することができる。
【０２１２】
前記構成では、マルチキャビティレーザ１１１の複数の発光点１１１ａの各々から出射したレーザビームＢの各々は、集光レンズ２００によって集光され、マルチモード光ファイバ６２のコア６２ａに入射する。コア６２ａに入射したレーザ光は、光ファイバ内を伝搬し、１本に合波されて出射する。
【０２１３】
マルチキャビティレーザ１１１の複数の発光点１１１ａを、上記マルチモード光ファイバ６２のコア径と略等しい幅内に並設すると共に、集光レンズ２００として、マルチモード光ファイバ６２のコア径と略等しい焦点距離の凸レンズや、マルチキャビティレーザ１１１からの出射ビームをその活性層に垂直な面内のみでコリメートするロッドレンズを用いることにより、レーザビームＢのマルチモード光ファイバ６２への結合効率を上げることができる。
【０２１４】
また、図３３に示すように、複数（例えば、３個）の発光点を備えたマルチキャビティレーザ１１１を用い、ヒートブロック１１０上に複数（例えば、９個）のマルチキャビティレーザ１１１が互いに等間隔で配列されたレーザアレイ１４０を備えた合波レーザ光源を用いることができる。複数のマルチキャビティレーザ１１１は、各チップの発光点１１１ａの配列方向と同じ方向に配列されて固定されている。
【０２１５】
この合波レーザ光源は、レーザアレイ１４０と、各マルチキャビティレーザ１１１に対応させて配置した複数のレンズアレイ１１４と、レーザアレイ１４０と複数のレンズアレイ１１４との間に配置された１本のロッドレンズ１１３と、１本のマルチモード光ファイバ１３０と、集光レンズ１２０と、を備えて構成されている。レンズアレイ１１４は、マルチキャビティレーザ１１０の発光点に対応した複数のマイクロレンズを備えている。
【０２１６】
上記の構成では、複数のマルチキャビティレーザ１１１の複数の発光点１１１ａの各々から出射したレーザビームＢの各々は、ロッドレンズ１１３により所定方向に集光された後、レンズアレイ１１４の各マイクロレンズにより平行光化される。平行光化されたレーザビームＬは、集光レンズ２００によって集光され、マルチモード光フアイバ６２のコア６２ａに入射する。コア６２ａに入射したレーザ光は、光フアイバ内を伝搬し、１本に合波されて出射する。
【０２１７】
更に他の合波レーザ光源の例を示す。この合波レーザ光源は、図３４Ａ及び図３４Ｂに示すように、略矩形状のヒートブロック１８０上に光軸方向の断面がＬ字状のヒートブロック１８２が搭載され、２つのヒートブロック間に収納空間が形成されている。Ｌ字状のヒートブロック１８２の上面には、複数の発光点（例えば、５個）がアレイ状に配列された複数（例えば、２個）のマルチキャビティレーザ１１１が、各チップの発光点１１１ａの配列方向と同じ方向に等間隔で配列されて固定されている。
【０２１８】
略矩形状のヒートブロック１８０には凹部が形成されており、ヒートブロック１８０の空間側上面には、複数の発光点（例えば、５個）がアレイ状に配列された複数（例えば、２個）のマルチキャビティレーザ１１０が、その発光点がヒートブロック１８２の上面に配置されたレーザチップの発光点と同じ鉛直面上に位置するように配置されている。
【０２１９】
マルチキャビティレーザ１１１のレーザ光出射側には、各チップの発光点１１１ａに対応してコリメートレンズが配列されたコリメートレンズアレイ１８４が配置されている。コリメートレンズアレイ１８４は、各コリメートレンズの長さ方向とレーザビームの拡がり角が大きい方向（速軸方向）とが一致し、各コリメートレンズの幅方向が拡がり角が小さい方向（遅軸方向）と一致するように配置されている。このように、コリメートレンズをアレイ化して一体化することで、レーザ光の空間利用効率が向上し合波レーザ光源の高出力化が図られると共に、部品点数が減少し低コスト化することができる。
【０２２０】
また、コリメートレンズアレイ１８４のレーザ光出射側には、１本のマルチモード光ファイバ６２と、このマルチモード光ファイバ６２の入射端にレーザビームを集光して結合する集光レンズ２００と、が配置されている。
【０２２１】
前記構成では、レーザブロック１８０、１８２上に配置された複数のマルチキヤビティレーザ１１１の複数の発光点１１１ａの各々から出射したレーザビームＢの各々は、コリメートレンズアレイ１８４により平行光化され、集光レンズ２００によって集光されて、マルチモード光フアイバ６２のコア６２ａに入射する。コア６２ａに入射したレーザ光は、光フアイバ内を伝搬し、１本に合波されて出射する。
【０２２２】
前記合波レーザ光源は、上記の通り、マルチキャビティレーザの多段配置とコリメートレンズのアレイ化とにより、特に高出力化を図ることができる。この合波レーザ光源を用いることにより、より高輝度なファイバアレイ光源やバンドルファイバ光源を構成することができるので、本発明のパターン形成装置のレーザ光源を構成するファイバ光源として特に好適である。
【０２２３】
なお、前記各合波レーザ光源をケーシング内に収納し、マルチモード光ファイバ６２の出射端部をそのケーシングから引き出したレーザモジュールを構成することができる。
【０２２４】
また、合波レーザ光源のマルチモード光ファイバの出射端に、コア径がマルチモード光ファイバと同一で且つクラッド径がマルチモード光ファイバより小さい他の光ファイバを結合してファイバアレイ光源の高輝度化を図る例について説明したが、例えば、クラッド径が１２５μｍ、８０μｍ、６０μｍ等のマルチモード光ファイバを、出射端に他の光ファイバを結合せずに使用してもよい。
【０２２５】
＜＜使用描素部指定手段＞＞
前記使用描素部指定手段としては、描素単位としての光点の位置を被露光面上において検出する光点位置検出手段と、前記光点位置検出手段による検出結果に基づき、Ｎ重露光を実現するために使用する描素部を選択する描素部選択手段とを少なくとも備えることが好ましい。
以下、前記使用描素部指定手段による、Ｎ重露光に使用する描素部の指定方法の例について説明する。
【０２２６】
（１）単一露光ヘッド内における使用描素部の指定方法
本実施形態（１）では、パターン形成装置１０により、感光材料１２に対して２重露光を行う場合であって、各露光ヘッド３０の取付角度誤差に起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的な２重露光を実現するための使用描素部の指定方法を説明する。
【０２２７】
露光ヘッド３０の走査方向に対する描素部（マイクロミラー５８）の列方向の設定傾斜角度θとしては、露光ヘッド３０の取付角度誤差等がない理想的な状態であれば、使用可能な１０２４列×２５６行の描素部を使用してちょうど２重露光となる角度θｉｄｅａｌよりも、若干大きい角度を採用するものとする。
この角度θｉｄｅａｌは、Ｎ重露光の数Ｎ、使用可能なマイクロミラー５８の列方向の個数ｓ、使用可能なマイクロミラー５８の列方向の間隔ｐ、及び露光ヘッド３０を傾斜させた状態においてマイクロミラーによって形成される走査線のピッチδに対し、下記式１、
ｓｐｓｉｎθｉｄｅａｌ≧Ｎδ（式１）
により与えられる。本実施形態におけるＤＭＤ３６は、上記のとおり、縦横の配置間隔が等しい多数のマイクロミラー５８が矩形格子状に配されたものであるので、
ｐｃｏｓθｉｄｅａｌ＝δ（式２）
であり、上記式１は、
ｓｔａｎθｉｄｅａｌ＝Ｎ（式３）
となる。本実施形態（１）では、上記のとおりｓ＝２５６、Ｎ＝２であるので、前記式３より、角度θｉｄｅａｌは約０．４５度である。したがって、設定傾斜角度θとしては、たとえば０．５０度程度の角度を採用するとよい。パターン形成装置１０は、調整可能な範囲内で、各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の取付角度がこの設定傾斜角度θに近い角度となるように、初期調整されているものとする。
【０２２８】
図１０は、上記のように初期調整されたパターン形成装置１０において、１つの露光ヘッド３０の取付角度誤差、及びパターン歪みの影響により、被露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。以下の図面及び説明においては、各描素部（マイクロミラー）により生成され、被露光面上の露光領域を構成する描素単位としての光点について、第ｍ行目の光点をｒ（ｍ）、第ｎ列目の光点をｃ（ｎ）、第ｍ行第ｎ列の光点をＰ（ｍ，ｎ）とそれぞれ表記するものとする。
【０２２９】
図１０の上段部分は、ステージ１４を静止させた状態で感光材料１２の被露光面上に投影される、使用可能なマイクロミラー５８からの光点群のパターンを示し、下段部分は、上段部分に示したような光点群のパターンが現れている状態でステージ１４を移動させて連続露光を行った際に、被露光面上に形成される露光パターンの状態を示したものである。
なお、図１０では、説明の便宜のため、使用可能なマイクロミラー５８の奇数列による露光パターンと偶数列による露光パターンを分けて示してあるが、実際の被露光面上における露光パターンは、これら２つの露光パターンを重ね合わせたものである。
【０２３０】
図１０の例では、設定傾斜角度θを上記の角度θｉｄｅａｌよりも若干大きい角度を採用した結果として、また露光ヘッド３０の取付角度の微調整が困難であるために、実際の取付角度と上記の設定傾斜角度θとが誤差を有する結果として、被露光面上のいずれの領域においても濃度むらが生じている。具体的には、奇数列のマイクロミラーによる露光パターン及び偶数列のマイクロミラーによる露光パターンの双方で、複数の描素部列により形成された、被露光面上の重複露光領域において、理想的な２重露光に対して露光過多となり、描画が冗長となる領域が生じ、濃度むらが生じている。
【０２３１】
さらに、図１０の例では、被露光面上に現れるパターン歪みの一例であって、被露光面上に投影された各画素列の傾斜角度が均一ではなくなる「角度歪み」が生じている。このような角度歪みが生じる原因としては、ＤＭＤ３６と被露光面間の光学系の各種収差やアラインメントずれ、及びＤＭＤ３６自体の歪みやマイクロミラーの配置誤差等が挙げられる。
図１０の例に現れている角度歪みは、走査方向に対する傾斜角度が、図の左方の列ほど小さく、図の右方の列ほど大きくなっている形態の歪みである。この角度歪みの結果として、露光過多となっている領域は、図の左方に示した被露光面上ほど小さく、図の右方に示した被露光面上ほど大きくなっている。
【０２３２】
上記したような、複数の描素部列により形成された、被露光面上の重複露光領域における濃度むらを軽減するために、前記光点位置検出手段としてスリット２８及び光検出器の組を用い、露光ヘッド３０ごとに実傾斜角度θ´を特定し、該実傾斜角度θ´に基づき、前記描素部選択手段として前記光検出器に接続された前記演算装置を用いて、実際の露光に使用するマイクロミラーを選択する処理を行うものとする。
実傾斜角度θ´は、光点位置検出手段が検出した少なくとも２つの光点位置に基づき、露光ヘッドを傾斜させた状態における被露光面上の光点の列方向と前記露光ヘッドの走査方向とがなす角度により特定される。
以下、図１１及び１２を用いて、前記実傾斜角度θ´の特定、及び使用画素選択処理について説明する。
【０２３３】
−実傾斜角度θ´の特定−
図１１は、１つのＤＭＤ３６による露光エリア３２と、対応するスリット２８との位置関係を示した上面図である。スリット２８の大きさは、露光エリア３２の幅を十分覆う大きさとされている。
本実施形態（１）の例では、露光エリア３２の略中心に位置する第５１２列目の光点列と露光ヘッド３０の走査方向とがなす角度を、上記の実傾斜角度θ´として測定する。具体的には、ＤＭＤ３６上の第１行目第５１２列目のマイクロミラー５８、及び第２５６行目第５１２列目のマイクロミラー５８をオン状態とし、それぞれに対応する被露光面上の光点Ｐ（１，５１２）及びＰ（２５６，５１２）の位置を検出し、それらを結ぶ直線と露光ヘッドの走査方向とがなす角度を実傾斜角度θ´として特定する。
【０２３４】
図１２は、光点Ｐ（２５６，５１２）の位置の検出手法を説明した上面図である。
まず、第２５６行目第５１２列目のマイクロミラー５８を点灯させた状態で、ステージ１４をゆっくり移動させてスリット２８をＹ軸方向に沿って相対移動させ、光点Ｐ（２５６，５１２）が上流側のスリット２８ａと下流側のスリット２８ｂの間に来るような任意の位置に、スリット２８を位置させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標を（Ｘ０，Ｙ０）とする。この座標（Ｘ０，Ｙ０）の値は、ステージ１４に与えられた駆動信号が示す上記の位置までのステージ１４の移動距離、及び、既知であるスリット２８のＸ方向位置から決定され、記録される。
【０２３５】
次に、ステージ１４を移動させ、スリット２８をＹ軸に沿って図１２における右方に相対移動させる。そして、図１２において二点鎖線で示すように、光点Ｐ（２５６，５１２）の光が左側のスリット２８ｂを通過して光検出器で検出されたところでステージ１４を停止させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標（Ｘ０，Ｙ１）を、光点Ｐ（２５６，５１２）の位置として記録する。
【０２３６】
次いで、ステージ１４を反対方向に移動させ、スリット２８をＹ軸に沿って図１２における左方に相対移動させる。そして、図１２において二点鎖線で示すように、光点Ｐ（２５６，５１２）の光が右側のスリット２８ａを通過して光検出器で検出されたところでステージ１４を停止させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標（Ｘ０，Ｙ２）を光点Ｐ（２５６，５１２）の位置として記録する。
【０２３７】
以上の測定結果から、光点Ｐ（２５６，５１２）の被露光面上における位置を示す座標（Ｘ，Ｙ）を、Ｘ＝Ｘ０＋（Ｙ１−Ｙ２）／２、Ｙ＝（Ｙ１＋Ｙ２）／２の計算により決定する。同様の測定により、Ｐ（１，５１２）の位置を示す座標も決定し、それぞれの座標を結ぶ直線と、露光ヘッド３０の走査方向とがなす傾斜角度を導出し、これを実傾斜角度θ´として特定する。
【０２３８】
‐使用描素部の選択‐
このようにして特定された実傾斜角度θ´を用い、前記光検出器に接続された前記演算装置は、下記式４
ｔｔａｎθ´＝Ｎ（式４）
の関係を満たす値ｔに最も近い自然数Ｔを導出し、ＤＭＤ３６上の１行目からＴ行目のマイクロミラーを、本露光時に実際に使用するマイクロミラーとして選択する処理を行う。これにより、第５１２列目付近の露光領域において、理想的な２重露光に対して、露光過多となる領域と、露光不足となる領域との面積合計が最小となるようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。
【０２３９】
ここで、上記の値ｔに最も近い自然数を導出することに代えて、値ｔ以上の最小の自然数を導出することとしてもよい。その場合、第５１２列目付近の露光領域において、理想的な２重露光に対して、露光過多となる領域の面積が最小になり、かつ露光不足となる領域が生じないようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。
また、値ｔ以下の最大の自然数を導出することとしてもよい。その場合、第５１２列目付近の露光領域において、理想的な２重露光に対して、露光不足となる領域の面積が最小になり、かつ露光過多となる領域が生じないようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。
【０２４０】
図１３は、上記のようにして実際に使用するマイクロミラーとして選択されたマイクロミラーが生成した光点のみを用いて行った露光において、図１０に示した被露光面上のむらがどのように改善されるかを示した説明図である。
この例では、上記の自然数ＴとしてＴ＝２５３が導出され、第１行目から第２５３行目のマイクロミラーが選択されたものとする。選択されなかった第２５４行目から第２５６行目のマイクロミラーに対しては、前記描素部制御手段により、常時オフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイクロミラーは、実質的に露光に関与しない。図１３に示すとおり、第５１２列目付近の露光領域では、露光過多及び露光不足は、ほぼ完全に解消され、理想的な２重露光に極めて近い均一な露光が実現される。
【０２４１】
一方、図１３の左方の領域（図中のｃ（１）付近）では、前記角度歪みにより、被露光面上における光点列の傾斜角度が中央付近（図中のｃ（５１２）付近）の領域における光線列の傾斜角度よりも小さくなっている。したがって、ｃ（５１２）を基準として測定された実傾斜角度θ´に基づいて選択されたマイクロミラーのみによる露光では、偶数列による露光パターン及び奇数列による露光パターンのそれぞれにおいて、理想的な２重露光に対して露光不足となる領域がわずかに生じてしまう。
しかしながら、図示の奇数列による露光パターンと偶数列による露光パターンとを重ね合わせてなる実際の露光パターンにおいては、露光量不足となる領域が互いに補完され、前記角度歪みによる露光むらを、２重露光による埋め合わせの効果で最小とすることができる。
【０２４２】
また、図１３の右方の領域（図中のｃ（１０２４）付近）では、前記角度歪みにより、被露光面上における光線列の傾斜角度が、中央付近（図中のｃ（５１２）付近）の領域における光線列の傾斜角度よりも大きくなっている。したがって、ｃ（５１２）を基準として測定された実傾斜角度θ´に基づいて選択されたマイクロミラーによる露光では、図に示すように、理想的な２重露光に対して露光過多となる領域がわずかに生じてしまう。
しかしながら、図示の奇数列による露光パターンと偶数列による露光パターンとを重ね合わせてなる実際の露光パターンにおいては、露光過多となる領域が互いに補完され、前記角度歪による濃度むらを、２重露光による埋め合わせの効果で最小とすることができる。
【０２４３】
本実施形態（１）では、上述のとおり、第５１２列目の光線列の実傾斜角度θ´が測定され、該実傾斜角度θ´を用い、前記式（４）により導出されたＴに基づいて使用するマイクロミラー５８を選択したが、前記実傾斜角度θ´の特定方法としては、複数の描素部の列方向（光点列）と、前記露光ヘッドの走査方向とがなす複数の実傾斜角度をそれぞれ測定し、それらの平均値、中央値、最大値、及び最小値のいずれかを実傾斜角度θ´として特定し、前記式４等によって実際の露光時に実際に使用するマイクロミラーを選択する形態としてもよい。
前記平均値又は前記中央値を実傾斜角度θ´とすれば、理想的なＮ重露光に対して露光過多となる領域と露光不足となる領域とのバランスがよい露光を実現することができる。例えば、露光過多となる領域と、露光量不足となる領域との合計面積が最小に抑えられ、かつ、露光過多となる領域の描素単位数（光点数）と、露光不足となる領域の描素単位数（光点数）とが等しくなるような露光を実現することが可能である。
また、前記最大値を実傾斜角度θ´とすれば、理想的なＮ重露光に対して露光過多となる領域の排除をより重要視した露光を実現することができ、例えば、露光不足となる領域の面積を最小に抑え、かつ、露光過多となる領域が生じないような露光を実現することが可能である。
さらに、前記最小値を実傾斜角度θ´とすれば、理想的なＮ重露光に対して露光不足となる領域の排除をより重要視した露光を実現することができ、例えば、露光過多となる領域の面積を最小に抑え、かつ、露光不足となる領域が生じないような露光を実現することが可能である。
【０２４４】
一方、前記実傾斜角度θ´の特定は、同一の描素部の列（光点列）中の少なくとも２つの光点の位置に基づく方法に限定されない。例えば、同一描素部列ｃ（ｎ）中の１つ又は複数の光点の位置と、該ｃ（ｎ）近傍の列中の１つ又は複数の光点の位置とから求めた角度を、実傾斜角度θ´として特定してもよい。
具体的には、ｃ（ｎ）中の１つの光点位置と、露光ヘッドの走査方向に沿って直線上かつ近傍の光点列に含まれる１つ又は複数の光点位置とを検出し、これらの位置情報から、実傾斜角度θ´を求めることができる。さらに、ｃ（ｎ）列近傍の光点列中の少なくとも２つの光点（たとえば、ｃ（ｎ）を跨ぐように配置された２つの光点）の位置に基づいて求めた角度を、実傾斜角度θ´として特定してもよい。
【０２４５】
以上のように、パターン形成装置１０を用いた本実施形態（１）の使用描素部の指定方法によれば、各露光ヘッドの取付角度誤差やパターン歪みの影響による解像度のばらつきや濃度のむらを軽減し、理想的なＮ重露光を実現することができる。
【０２４６】
（２）複数露光ヘッド間における使用描素部の指定方法＜１＞
本実施形態（２）では、パターン形成装置１０により、感光材料１２に対して２重露光を行う場合であって、複数の露光ヘッド３０により形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域において、２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）のＸ軸方向に関する相対位置の、理想的な状態からのずれに起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的な２重露光を実現するための使用描素部の指定方法を説明する。
【０２４７】
各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の設定傾斜角度θとしては、露光ヘッド３０の取付角度誤差等がない理想的な状態であれば、使用可能な１０２４列×２５６行の描素部マイクロミラー５８を使用してちょうど２重露光となる角度θｉｄｅａｌを採用するものとする。
この角度θｉｄｅａｌは、上記の実施形態（１）と同様にして前記式１〜３から求められる。本実施形態（２）において、パターン形成装置１０は、各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の取付角度がこの角度θｉｄｅａｌとなるように、初期調整されているものとする。
【０２４８】
図１４は、上記のように初期調整されたパターン形成装置１０において、２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）のＸ軸方向に関する相対位置の、理想的な状態からのずれの影響により、被露光面上のパターンに生じる濃度むらの例を示した説明図である。各露光ヘッドのＸ軸方向に関する相対位置のずれは、露光ヘッド間の相対位置の微調整が困難であるために生じ得るものである。
【０２４９】
図１４の上段部分は、ステージ１４を静止させた状態で感光材料１２の被露光面上に投影される、露光ヘッド３０１２と３０２１が有するＤＭＤ３６の使用可能なマイクロミラー５８からの光点群のパターンを示した図である。図１４の下段部分は、上段部分に示したような光点群のパターンが現れている状態でステージ１４を移動させて連続露光を行った際に、被露光面上に形成される露光パターンの状態を、露光エリア３２１２と３２２１について示したものである。
なお、図１４では、説明の便宜のため、使用可能なマイクロミラー５８の１列おきの露光パターンを、画素列群Ａによる露光パターンと画素列群Ｂによる露光パターンとに分けて示してあるが、実際の被露光面上における露光パターンは、これら２つの露光パターンを重ね合わせたものである。
【０２５０】
図１４の例では、上記したＸ軸方向に関する露光ヘッド３０１２と３０２１との間の相対位置の、理想的な状態からのずれの結果として、画素列群Ａによる露光パターンと画素列群Ｂによる露光パターンとの双方で、露光エリア３２１２と３２２１の前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な２重露光の状態よりも露光量過多な部分が生じてしまっている。
【０２５１】
上記したような、複数の前記露光ヘッドにより被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域に現れる濃度むらを軽減するために、本実施形態（２）では、前記光点位置検出手段としてスリット２８及び光検出器の組を用い、露光ヘッド３０１２と３０２１からの光点群のうち、被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域を構成する光点のいくつかについて、その位置（座標）を検出する。該位置（座標）に基づいて、前記描素部選択手段として前記光検出器に接続された演算装置を用いて、実際の露光に使用するマイクロミラーを選択する処理を行うものとする。
【０２５２】
−位置（座標）の検出−
図１５は、図１４と同様の露光エリア３２１２及び３２２１と、対応するスリット２８との位置関係を示した上面図である。スリット２８の大きさは、露光ヘッド３０１２と３０２１による露光済み領域３４間の重複部分の幅を十分覆う大きさ、すなわち、露光ヘッド３０１２と３０２１により被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域を十分覆う大きさとされている。
【０２５３】
図１６は、一例として露光エリア３２２１の光点Ｐ（２５６，１０２４）の位置を検出する際の検出手法を説明した上面図である。
まず、第２５６行目第１０２４列目のマイクロミラーを点灯させた状態で、ステージ１４をゆっくり移動させてスリット２８をＹ軸方向に沿って相対移動させ、光点Ｐ（２５６，１０２４）が上流側のスリット２８ａと下流側のスリット２８ｂの間に来るような任意の位置に、スリット２８を位置させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標を（Ｘ０，Ｙ０）とする。この座標（Ｘ０，Ｙ０）の値は、ステージ１４に与えられた駆動信号が示す上記の位置までのステージ１４の移動距離、及び、既知であるスリット２８のＸ方向位置から決定され、記録される。
【０２５４】
次に、ステージ１４を移動させ、スリット２８をＹ軸に沿って図１６における右方に相対移動させる。そして、図１６において二点鎖線で示すように、光点Ｐ（２５６，１０２４）の光が左側のスリット２８ｂを通過して光検出器で検出されたところでステージ１４を停止させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標（Ｘ０，Ｙ１）を、光点Ｐ（２５６，１０２４）の位置として記録する。
【０２５５】
次いで、ステージ１４を反対方向に移動させ、スリット２８をＹ軸に沿って図１６における左方に相対移動させる。そして、図１６において二点鎖線で示すように、光点Ｐ（２５６，１０２４）の光が右側のスリット２８ａを通過して光検出器で検出されたところでステージ１４を停止させる。このときのスリット２８ａとスリット２８ｂとの交点の座標（Ｘ０，Ｙ２）を、光点Ｐ（２５６，１０２４）として記録する。
【０２５６】
以上の測定結果から、光点Ｐ（２５６，１０２４）の被露光面における位置を示す座標（Ｘ，Ｙ）を、Ｘ＝Ｘ０＋（Ｙ１−Ｙ２）／２、Ｙ＝（Ｙ１＋Ｙ２）／２の計算により決定する。
【０２５７】
−不使用描素部の特定−
図１４の例では、まず、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，１）の位置を、上記の光点位置検出手段としてスリット２８と光検出器の組により検出する。続いて、露光エリア３２２１の第２５６行目の光点行ｒ（２５６）上の各光点の位置を、Ｐ（２５６，１０２４）、Ｐ（２５６，１０２３）・・・と順番に検出していき、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，１）よりも大きいＸ座標を示す露光エリア３２２１の光点Ｐ（２５６，ｎ）が検出されたところで、検出動作を終了する。そして、露光エリア３２２１の光点光点列ｃ（ｎ＋１）からｃ（１０２４）を構成する光点に対応するマイクロミラーを、本露光時に使用しないマイクロミラー（不使用描素部）として特定する。
例えば、図１４において、露光エリア３２２１の光点Ｐ（２５６，１０２０）が、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，１）よりも大きいＸ座標を示し、その露光エリア３２２１の光点Ｐ（２５６，１０２０）が検出されたところで検出動作が終了したとすると、図１７において斜線で覆われた部分７０に相当する露光エリア３２２１の第１０２１行から第１０２４行を構成する光点に対応するマイクロミラーが、本露光時に使用しないマイクロミラーとして特定される。
【０２５８】
次に、Ｎ重露光の数Ｎに対して、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，Ｎ）の位置が検出される。本実施形態（２）では、Ｎ＝２であるので、光点Ｐ（２５６，２）の位置が検出される。
続いて、露光エリア３２２１の光点列のうち、上記で本露光時に使用しないマイクロミラーに対応する光点列として特定されたものを除き、最も右側の第１０２０列を構成する光点の位置を、Ｐ（１，１０２０）から順番にＰ（１，１０２０）、Ｐ（２，１０２０）・・・と検出していき、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，２）よりも大きいＸ座標を示す光点Ｐ（ｍ，１０２０）が検出されたところで、検出動作を終了する。
その後、前記光検出器に接続された演算装置において、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，２）のＸ座標と、露光エリア３２２１の光点Ｐ（ｍ，１０２０）及びＰ（ｍ−１，１０２０）のＸ座標とが比較され、露光エリア３２２１の光点Ｐ（ｍ，１０２０）のＸ座標の方が露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，２）のＸ座標に近い場合は、露光エリア３２２１の光点Ｐ（１，１０２０）からＰ（ｍ−１，１０２０）に対応するマイクロミラーが本露光時に使用しないマイクロミラーとして特定される。
また、露光エリア３２２１の光点Ｐ（ｍ−１，１０２０）のＸ座標の方が露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，２）のＸ座標に近い場合は、露光エリア３２２１の光点Ｐ（１，１０２０）からＰ（ｍ−２，１０２０）に対応するマイクロミラーが、本露光に使用しないマイクロミラーとして特定される。
さらに、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，Ｎ−１）すなわち光点Ｐ（２５６，１）の位置と、露光エリア３２２１の次列である第１０１９列を構成する各光点の位置についても、同様の検出処理及び使用しないマイクロミラーの特定が行われる。
【０２５９】
その結果、たとえば、図１７において網掛けで覆われた領域７２を構成する光点に対応するマイクロミラーが、実際の露光時に使用しないマイクロミラーとして追加される。これらのマイクロミラーには、常時、そのマイクロミラーの角度をオフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイクロミラーは、実質的に露光に使用されない。
【０２６０】
このように、実際の露光時に使用しないマイクロミラーを特定し、該使用しないマイクロミラーを除いたものを、実際の露光時に使用するマイクロミラーとして選択することにより、露光エリア３２１２と３２２１の前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な２重露光に対して露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積を最小とすることができ、図１７の下段に示すように、理想的な２重露光に極めて近い均一な露光を実現することができる。
【０２６１】
なお、上記の例においては、図１７において網掛けで覆われた領域７２を構成する光点の特定に際し、露光エリア３２１２の光点Ｐ（２５６，２）のＸ座標と、露光エリア３２２１の光点Ｐ（ｍ，１０２０）及びＰ（ｍ−１，１０２０）のＸ座標との比較を行わずに、ただちに、露光エリア３２２１の光点Ｐ（１，１０２０）からＰ（ｍ−２，１０２０）に対応するマイクロミラーを、本露光時に使用しないマイクロミラーとして特定してもよい。その場合、前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な２重露光に対して露光過多となる領域の面積が最小になり、かつ露光不足となる領域が生じないようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。
また、露光エリア３２２１の光点Ｐ（１，１０２０）からＰ（ｍ−１，１０２０）に対応するマイクロミラーを、本露光に使用しないマイクロミラーとして特定してもよい。その場合、前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な２重露光に対して露光不足となる領域の面積が最小になり、かつ露光過多となる領域が生じないようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。
さらに、前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な２重描画に対して露光過多となる領域の描素単位数（光点数）と、露光不足となる領域の描素単位数（光点数）とが等しくなるように、実際に使用するマイクロミラーを選択することとしてもよい。
【０２６２】
以上のように、パターン形成装置１０を用いた本実施形態（２）の使用描素部の指定方法によれば、複数の露光ヘッドのＸ軸方向に関する相対位置のずれに起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的なＮ重露光を実現することができる。
【０２６３】
（３）複数露光ヘッド間における使用描素部の指定方法＜２＞
本実施形態（３）では、パターン形成装置１０により、感光材料１２に対して２重露光を行う場合であって、複数の露光ヘッド３０により形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域において、２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）のＸ軸方向に関する相対位置の理想的な状態からのずれ、並びに各露光ヘッドの取付角度誤差、及び２つの露光ヘッド間の相対取付角度誤差に起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的な２重露光を実現するための使用描素部の指定方法を説明する。
【０２６４】
各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の設定傾斜角度としては、露光ヘッド３０の取付角度誤差等がない理想的な状態であれば、使用可能な１０２４列×２５６行の描素部（マイクロミラー５８）を使用してちょうど２重露光となる角度θｉｄｅａｌよりも若干大きい角度を採用するものとする。
この角度θｉｄｅａｌは、前記式１〜３を用いて上記（１）の実施形態と同様にして求められる値であり、本実施形態では、上記のとおりｓ＝２５６、Ｎ＝２であるので、角度θｉｄｅａｌは約０．４５度である。したがって、設定傾斜角度θとしては、たとえば０．５０度程度の角度を採用するとよい。パターン形成装置１０は、調整可能な範囲内で、各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の取付角度がこの設定傾斜角度θに近い角度となるように、初期調整されているものとする。
【０２６５】
図１８は、上記のように各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の取付角度が初期調整されたパターン形成装置１０において、２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）の取付角度誤差、並びに各露光ヘッド３０１２と３０２１間の相対取付角度誤差及び相対位置のずれの影響により、被露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。
【０２６６】
図１８の例では、図１４の例と同様の、Ｘ軸方向に関する露光ヘッド３０１２と３０２１の相対位置のずれの結果として、一列おきの光点群（画素列群Ａ及びＢ）による露光パターンの双方で、露光エリア３２１２と３２２１の被露光面上の前記露光ヘッドの走査方向と直交する座標軸上で重複する露光領域において、理想的な２重露光の状態よりも露光量過多な領域７４が生じ、これが濃度むらを引き起こしている。
さらに、図１８の例では、各露光ヘッドの設定傾斜角度θを前記式（１）を満たす角度θｉｄｅａｌよりも若干大きくしたことによる結果、及び各露光ヘッドの取付角度の微調整が困難であるために、実際の取付角度が上記の設定傾斜角度θからずれてしまったことの結果として、被露光面上の前記露光ヘッドの走査方向と直交する座標軸上で重複する露光領域以外の領域でも、一列おきの光点群（画素列群Ａ及びＢ）による露光パターンの双方で、複数の描素部列により形成された、被露光面上の重複露光領域である描素部列間つなぎ領域において、理想的な２重露光の状態よりも露光過多となる領域７６が生じ、これがさらなる濃度むらを引き起こしている。
【０２６７】
本実施形態（３）では、まず、各露光ヘッド３０１２と３０２１の取付角度誤差及び相対取付角度のずれの影響による濃度むらを軽減するための使用画素選択処理を行う。
具体的には、前記光点位置検出手段としてスリット２８及び光検出器の組を用い、露光ヘッド３０１２と３０２１のそれぞれについて、実傾斜角度θ´を特定し、該実傾斜角度θ´に基づき、前記描素部選択手段として光検出器に接続された演算装置を用いて、実際の露光に使用するマイクロミラーを選択する処理を行うものとする。
【０２６８】
−実傾斜角度θ´の特定−
実傾斜角度θ´の特定は、露光ヘッド３０１２ついては露光エリア３２１２内の光点Ｐ（１，１）とＰ（２５６，１）の位置を、露光ヘッド３０２１については露光エリア３２２１内の光点Ｐ（１，１０２４）とＰ（２５６，１０２４）の位置を、それぞれ上述した実施形態（２）で用いたスリット２８と光検出器の組により検出し、それらを結ぶ直線の傾斜角度と、露光ヘッドの走査方向とがなす角度を測定することにより行われる。
【０２６９】
−不使用描素部の特定−
そのようにして特定された実傾斜角度θ´を用いて、光検出器に接続された演算装置は、上述した実施形態（１）における演算装置と同様、下記式４
ｔｔａｎθ´＝Ｎ（式４）
の関係を満たす値ｔに最も近い自然数Ｔを、露光ヘッド３０１２と３０２１のそれぞれについて導出し、ＤＭＤ３６上の第（Ｔ＋１）行目から第２５６行目のマイクロミラーを、本露光に使用しないマイクロミラーとして特定する処理を行う。
例えば、露光ヘッド３０１２についてはＴ＝２５４、露光ヘッド３０２１についてはＴ＝２５５が導出されたとすると、図１９において斜線で覆われた部分７８及び８０を構成する光点に対応するマイクロミラーが、本露光に使用しないマイクロミラーとして特定される。これにより、露光エリア３２１２と３２２１のうちヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な２重露光に対して露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積を最小とすることができる。
【０２７０】
ここで、上記の値ｔに最も近い自然数を導出することに代えて、値ｔ以上の最小の自然数を導出することとしてもよい。その場合、露光エリア３２１２と３２２１の、複数の露光ヘッドにより形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な２重露光に対して露光量過多となる面積が最小になり、かつ露光量不足となる面積が生じないようになすことができる。
あるいは、値ｔ以下の最大の自然数を導出することとしてもよい。その場合、露光エリア３２１２と３２２１の、複数の露光ヘッドにより形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な２重露光に対して露光不足となる領域の面積が最小になり、かつ露光過多となる領域が生じないようになすことができる。
複数の露光ヘッドにより形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な２重露光に対して、露光過多となる領域の描素単位数（光点数）と、露光不足となる領域の描素単位数（光点数）とが等しくなるように、本露光時に使用しないマイクロミラーを特定することとしてもよい。
【０２７１】
その後、図１９において斜線で覆われた領域７８及び８０を構成する光点以外の光点に対応するマイクロミラーに関して、図１４から１７を用いて説明した本実施形態（３）と同様の処理がなされ、図１９において斜線で覆われた領域８２及び網掛けで覆われた領域８４を構成する光点に対応するマイクロミラーが特定され、本露光時に使用しないマイクロミラーとして追加される。
これらの露光時に使用しないものとして特定されたマイクロミラーに対して、前記描素部素制御手段により、常時オフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイクロミラーは、実質的に露光に関与しない。
【０２７２】
以上のように、パターン形成装置１０を用いた本実施形態（３）の使用描素部の指定方法によれば、複数の露光ヘッドのＸ軸方向に関する相対位置のずれ、並びに各露光ヘッドの取付角度誤差、及び露光ヘッド間の相対取付角度誤差に起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的なＮ重露光を実現することができる。
【０２７３】
以上、パターン形成装置１０による使用描素部指定方法ついて詳細に説明したが、上記実施形態（１）〜（３）は一例に過ぎず、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変更が可能である。
【０２７４】
また、上記の実施形態（１）〜（３）では、被露光面上の光点の位置を検出するための手段として、スリット２８と単一セル型の光検出器の組を用いたが、これに限られずいかなる形態のものを用いてもよく、たとえば２次元検出器等を用いてもよい。
【０２７５】
さらに、上記の実施形態（１）〜（３）では、スリット２８と光検出器の組による被露光面上の光点の位置検出結果から実傾斜角度θ´を求め、その実傾斜角度θ´に基づいて使用するマイクロミラーを選択したが、実傾斜角度θ´の導出を介さずに使用可能なマイクロミラーを選択する形態としてもよい。さらには、たとえばすべての使用可能なマイクロミラーを用いた参照露光を行い、参照露光結果の目視による解像度や濃度のむらの確認等により、操作者が使用するマイクロミラーを手動で指定する形態も、本発明の範囲に含まれるものである。
【０２７６】
なお、被露光面上に生じ得るパターン歪みには、上記の例で説明した角度歪みの他にも、種々の形態が存在する。
一例としては、図２０Ａに示すように、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラー５８からの光線が、異なる倍率で露光面上の露光エリア３２に到達してしまう倍率歪みの形態がある。
また、別の例として、図２０Ｂに示すように、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラー５８からの光線が、異なるビーム径で被露光面上の露光エリア３２に到達してしまうビーム径歪みの形態もある。これらの倍率歪み及びビーム径歪みは、主として、ＤＭＤ３６と被露光面間の光学系の各種収差やアラインメントずれに起因して生じる。
さらに別の例として、ＤＭＤ３６上の各マイクロミラー５８からの光線が、異なる光量で被露光面上の露光エリア３２に到達してしまう光量歪みの形態もある。この光量歪みは、各種収差やアラインメントずれのほか、ＤＭＤ３６と被露光面間の光学要素（たとえば１枚レンズである図５のレンズ５２及び５４）の透過率の位置依存性や、ＤＭＤ３６自体による光量むらに起因して生じる。これらの形態のパターン歪みも、被露光面上に形成されるパターンに解像度や濃度のむらを生じさせる。
【０２７７】
上記の実施形態（１）〜（３）によれば、本露光に実際に使用するマイクロミラーを選択した後の、これらの形態のパターン歪みの残留要素も、上記の角度歪みの残留要素と同様、多重露光による埋め合わせの効果で均すことができ、解像度や濃度のむらを、各露光ヘッドの露光領域全体にわたって軽減することができる。
【０２７８】
＜＜参照露光＞＞
上記の実施形態（１）〜（３）の変更例として、使用可能なマイクロミラーのうち、（Ｎ−１）列おきのマイクロミラー列、又は全光点行のうち１／Ｎ行に相当する隣接する行を構成するマイクロミラー群のみを使用して参照露光を行い、均一な露光を実現できるように、前記参照露光に使用されたマイクロミラー中、実際の露光時に使用しないマイクロミラーを特定することとしてもよい。
前記参照露光手段による参照露光の結果をサンプル出力し、該出力された参照露光結果に対し、解像度のばらつきや濃度のむらを確認し、実傾斜角度を推定するなどの分析を行う。前記参照露光の結果の分析は、操作者の目視による分析であってもよい。
【０２７９】
図２１Ａ及び図２１Ｂは、単一露光ヘッドを用い、（Ｎ−１）列おきのマイクロミラーのみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。
この例では、本露光時は２重露光とするものとし、したがってＮ＝２である。まず、図２１Ａに実線で示した奇数列の光点列に対応するマイクロミラーのみを使用して参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記サンプル出力された参照露光結果に基づき、解像度のばらつきや濃度のむらを確認したり、実傾斜角度を推定したりすることで、本露光時において使用するマイクロミラーを指定することができる。
例えば、図２１Ｂに斜線で覆って示す光点列に対応するマイクロミラー以外のマイクロミラーが、奇数列の光点列を構成するマイクロミラー中、本露光において実際に使用されるものとして指定される。偶数列の光点列については、別途同様に参照露光を行って、本露光時に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、奇数列の光点列に対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。
このようにして本露光時に使用するマイクロミラーを指定することにより、奇数列及び偶数列双方のマイクロミラーを使用した本露光においては、理想的な２重露光に近い状態が実現できる。
【０２８０】
図２２は、複数の露光ヘッドを用い、（Ｎ−１）列おきのマイクロミラーのみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。
この例では、本露光時は２重露光とするものとし、したがってＮ＝２である。まず、図２２に実線で示した、Ｘ軸方向に関して隣接する２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）の奇数列の光点列に対応するマイクロミラーのみを使用して、参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記出力された参照露光結果に基づき、２つの露光ヘッドにより被露光面上に形成されるヘッド間つなぎ領域以外の領域における解像度のばらつきや濃度のむらを確認したり、実傾斜角度を推定したりすることで、本露光時において使用するマイクロミラーを指定することができる。
例えば、図２２に斜線で覆って示す領域８６及び網掛けで示す領域８８内の光点列に対応するマイクロミラー以外のマイクロミラーが、奇数列の光点を構成するマイクロミラー中、本露光時において実際に使用されるものとして指定される。偶数列の光点列については、別途同様に参照露光を行って、本露光時に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、奇数列目の画素列に対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。
このようにして本露光時に実際に使用するマイクロミラーを指定することにより、奇数列及び偶数列双方のマイクロミラーを使用した本露光においては、２つの露光ヘッドにより被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域以外の領域において、理想的な２重露光に近い状態が実現できる。
【０２８１】
図２３は、単一露光ヘッドを用い、全光点行数の１／Ｎ行に相当する隣接する行を構成するマイクロミラー群のみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。
この例では、本露光時は２重露光とするものとし、したがってＮ＝２である。まず、図２３Ａに実線で示した１行目から１２８（＝２５６／２）行目の光点に対応するマイクロミラーのみを使用して参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記サンプル出力された参照露光結果に基づき、本露光時において使用するマイクロミラーを指定することができる。
例えば、図２３Ｂに斜線で覆って示す光点群に対応するマイクロミラー以外のマイクロミラーが、第１行目から第１２８行目のマイクロミラー中、本露光時において実際に使用されるものとして指定され得る。第１２９行目から第２５６行目のマイクロミラーについては、別途同様に参照露光を行って、本露光時に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、第１行目から第１２８行目のマイクロミラーに対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。
このようにして本露光時に使用するマイクロミラーを指定することにより、全体のマイクロミラーを使用した本露光においては、理想的な２重露光に近い状態が実現できる。
【０２８２】
図２４は、複数の露光ヘッドを用い、Ｘ軸方向に関して隣接する２つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド３０１２と３０２１）について、それぞれ全光点行数の１／Ｎ行に相当する隣接する行を構成するマイクロミラー群のみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。
この例では、本露光時は２重露光とするものとし、したがってＮ＝２である。まず、図２４に実線で示した第１行目から第１２８（＝２５６／２）行目の光点に対応するマイクロミラーのみを使用して、参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記サンプル出力された参照露光結果に基づき、２つの露光ヘッドにより被露光面上に形成されるヘッド間つなぎ領域以外の領域における解像度のばらつきや濃度のむらを最小限に抑えた本露光が実現できるように、本露光時において使用するマイクロミラーを指定することができる。
例えば、図２４に斜線で覆って示す領域９０及び網掛けで示す領域９２内の光点列に対応するマイクロミラー以外のマイクロミラーが、第１行目から第１２８行目のマイクロミラー中、本露光時において実際に使用されるものとして指定される。第１２９行目から第２５６行目のマイクロミラーについては、別途同様に参照露光を行って、本露光に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、第１行目から第１２８行目のマイクロミラーに対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。
このようにして本露光時に使用するマイクロミラーを指定することにより、２つの露光ヘッドにより被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域以外の領域において理想的な２重露光に近い状態が実現できる。
【０２８３】
以上の実施形態（１）〜（３）及び変更例においては、いずれも本露光を２重露光とする場合について説明したが、これに限定されず、２重露光以上のいかなる多重露光としてもよい。特に３重露光から７重露光程度とすることにより、高解像度を確保し、解像度のばらつき及び濃度むらが軽減された露光を実現することができる。
【０２８４】
また、上記の実施形態及び変更例に係る露光装置には、さらに、画像データが表す２次元パターンの所定部分の寸法が、選択された使用画素により実現できる対応部分の寸法と一致するように、画像データを変換する機構が設けられていることが好ましい。そのように画像データを変換することによって、所望の２次元パターンどおりの高精細なパターンを被露光面上に形成することができる。
【０２８５】
［現像工程］
前記現像工程は、前記露光工程により前記感光層を露光し、該感光層の露光した領域を硬化させた後、未硬化領域を除去することにより現像し、永久パターンを形成する工程である。
【０２８６】
前記未硬化領域の除去方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、現像液を用いて除去する方法などが挙げられる。
【０２８７】
前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物若しくは炭酸塩、炭酸水素塩、アンモニア水、４級アンモニウム塩の水溶液などが好適に挙げられる。これらの中でも、炭酸ナトリウム水溶液が特に好ましい。
【０２８８】
前記現像液は、界面活性剤、消泡剤、有機塩基（例えば、ベンジルアミン、エチレンジアミン、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、ジエチレントリアミン、トリエチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミンなど）や、現像を促進させるため有機溶剤（例えば、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラクトン類など）などと併用してもよい。また、前記現像液は、水又はアルカリ水溶液と有機溶剤を混合した水系現像液であってもよく、有機溶剤単独であってもよい。
【０２８９】
［硬化処理工程］
本発明に係る永久パターンの形成方法は、更に、硬化処理工程を含むことが好ましい。
前記硬化処理工程は、前記現像工程が行われた後、形成された永久パターンにおける感光層に対して硬化処理を行う工程である。
【０２９０】
前記硬化処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。
【０２９１】
前記全面露光処理の方法としては、例えば、前記現像工程の後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を露光する方法が挙げられる。該全面露光により、前記感光層を形成する感光性組成物中の樹脂の硬化が促進され、前記永久パターンの表面が硬化される。
前記全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、超高圧水銀灯などのＵＶ露光機が好適に挙げられる。
【０２９２】
前記全面加熱処理の方法としては、前記現像工程の後に、前記永久パターンが形成された前記積層体上の全面を加熱する方法が挙げられる。該全面加熱により、前記永久パターンの表面の膜強度が高められる。
前記全面加熱における加熱温度としては、１２０〜２５０℃が好ましく、１２０〜２００℃がより好ましい。該加熱温度が１２０℃未満であると、加熱処理による膜強度の向上が得られないことがあり、２５０℃を超えると、前記感光性組成物中の樹脂の分解が生じ、膜質が弱く脆くなることがある。
前記全面加熱における加熱時間としては、１０〜１２０分が好ましく、１５〜６０分がより好ましい。
前記全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーターなどが挙げられる。
【０２９３】
なお、前記基体が多層配線基板などのプリント配線板（プリント基板）である場合には、該プリント配線板上に永久パターンを形成し、更に、以下のように半田付けを行うことができる。
即ち、前記現像工程により、前記永久パターンである硬化層が形成され、前記プリント配線板の表面に金属層が露出される。該プリント配線板の表面に露出した金属層の部位に対して金メッキを行った後、半田付けを行う。そして、半田付けを行った部位に、半導体や部品などを実装する。このとき、前記硬化層による永久パターンが、保護膜あるいは絶縁膜（層間絶縁膜）としての機能を発揮し、外部からの衝撃や隣同士の電極の導通が防止される。
【０２９４】
本発明に係る永久パターンの形成方法においては、保護膜及び層間絶縁膜の少なくともいずれかを形成するのが好ましい。前記永久パターンの形成方法により形成される永久パターンが、前記保護膜又は前記層間絶縁膜であると、配線を外部からの衝撃や曲げから保護することができ、特に、前記層間絶縁膜である場合には、例えば、多層配線基板やビルドアップ配線基板などへの半導体や部品の高密度実装に有用である。
【０２９５】
本発明に係る永久パターンの形成方法は、高速でパターン形成が可能であるため、各種パターンの形成に広く用いることができ、特に配線パターンの形成に好適に使用することができる。
また、本発明に係る永久パターンの形成方法により形成される永久パターンは、優れた表面硬度、絶縁性、耐熱性、耐湿性などを有し、保護膜、層間絶縁膜、ソルダーレジストパターン、などの各種パターン形成、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の結晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフなどの製造に好適に使用することができ、特に、プリント基板の永久パターン形成に好適に使用することができる。
【実施例】
【０２９６】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
【０２９７】
（合成例１）
−第一アルカリ可溶性感光性樹脂（Ａ−１）の合成−
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えた２Ｌセパラブルフラスコ内で、酸素濃度７％混気雰囲気下、ＳＭＡ１０００（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製、スチレン−無水マレイン酸共重合体（モル比＝５０／５０、質量平均分子量＝５，０００））１０１ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１０２ｇに溶解し、メタノール１６ｇを添加して、６４℃で６時間反応継続後、室温まで冷却し共重合体モノエステルを得た。
得られた共重合体モノエステルの一部をサンプリングして、ＧＰＣで分子量分布を測定し、標準単分散ポリスチレンで較正したところ、質量平均分子量は５，９００と求められた。また、Ｔｇは３９３Ｋであり、固形分酸価は２３９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【０２９８】
次に、得られた共重合体モノエステル溶液に、ハイドロキノンモノメチルエーテル１．０ｇと、トリフェニルホスフィン２．０ｇとを添加し、１００℃に昇温した。次いで、グリシジルメタクリレート３５．５ｇを加えて、更に１００℃で１０時間反応させて樹脂（Ａ１）溶液（固形分濃度：６０質量％）を得た。
得られた樹脂（Ａ１）の固形分酸価は９２ｍｇＫＯＨ／ｇ、臭素価は２５ｇＢｒ２／１００ｇ、質量平均分子量は７，８００、Ｔｇは３６３Ｋであった。
【０２９９】
（分散例１）
下記顔料分散組成と、直径２ｍｍのガラスビーズ３０部を容量２００ｍｌのポリエチレン製容器に入れて、ペイントシェーカー（東洋精機（株）製）で１時間分散して、緑色顔料の分散液１を得た。
得られた分散液１の粒子をレーザー散乱方式の粒度分布測定器を用いて測定したところ、平均粒子径は８００ｎｍであった。
【０３００】
〔顔料分散組成〕                                                              
・リポキシＰＲ３００＊１）（昭和高分子（株）製、酸価＝８１、固形分濃度６８％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）・・・・・・・・・・・６．７質量部
・ピグメントグリーンＢ（ＳＡＲＦ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ（株）製，Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン８、下記構造式（６））・・・・・・・・・・・・１０質量部
・ソルスパースＳ−２００００（ＩＣＩ（株）製）・・・・・・・・・・・０．２８質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・・・・・５０．４質量部
＊１）リポキシＰＲ３００は、クレゾールノボラックエポキシ樹脂をアクリル酸で開環付加し、その後、テトラヒドロフタル酸無水物を付加反応して得られる樹脂である。
【０３０１】
【化２７】
2007248925.tif 000028
【０３０２】
（分散例２）
分散時間を１．５時間にした以外は、分散例１と同様にして分散液を作製した。結果を表１に示す。平均粒子径は２３０ｎｍであった。
【０３０３】
（分散例３）
分散時間を２時間にした以外は、分散例１と同様にして分散液を作製した。結果を表１に示す。平均粒子径は１３０ｎｍであった。
【０３０４】
（分散例４）
分散時間を０．７５時間にした以外は、分散例１と同様にして分散液を作製した。結果を表１に示す。平均粒子径は１，１００ｎｍであった。
【０３０５】
（分散例５）
表１に示すように、分散例３と同じ組成の液を予め混合した後、モーターミルＭ−２００（アイガー（株）製）で、直径１．０ｍｍのジルコニアビーズを用い、周速９ｍ／ｓにて２４時間分散して、緑色顔料の分散液を調製した。結果を表１に示す。透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察と、その写真から、任意に２０ヶの粒子のサイズを測定し、平均粒子径は、３０ｎｍであることが分かった。
【０３０６】
（分散例６）
表１に示すように、下記顔料分散組成と、直径２ｍｍのガラスビーズ３０部を容量２００ｍｌのポリエチレン製容器に入れて、ペイントシェーカー（東洋精機（株）製）で２時間分散して、緑色顔料の分散液６を得た。結果を表１に示す。平均粒子径は１７０ｎｍであった。なお、この分散液６に含まれる顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）の１分子中に含まれるハロゲン原子の含有率（質量％）は、８７．７％であった。
【０３０７】
〔顔料分散組成〕                                                              
・リポキシＰＲ３００＊１）（昭和高分子（株）製、酸価＝８１、固形分濃度６８％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）・・・・・・・・・・・６．７質量部
・シアニングリーン５３７０（大日精化工業（株）製，Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・ソルスパースＳ−２００００（ＩＣＩ（株）製）・・・・・・・・・・０．２８質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・・・・・・５０．４質量部
【０３０８】
（分散例７）
表１に示すように、下記顔料分散組成と、直径２ｍｍのガラスビーズ３０部を容量２００ｍｌのポリエチレン製容器に入れて、ペイントシェーカー（東洋精機（株）製）で２時間分散して、青色顔料の分散液７を得た。結果を表１に示す。平均粒子径は３４０ｎｍであった。
【０３０９】
〔顔料分散組成〕                                                            
・リポキシＰＲ３００＊１）（昭和高分子（株）製、酸価＝８１、固形分濃度６８％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）・・・・・・・・・・・６．７質量部
・ＨＥＬＩＯＧＥＮ  ＢＬＵＥ  Ｄ７０７ＰＢ（ＢＡＳＦ（株）製，Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・ソルスパースＳ−２００００（ＩＣＩ（株）製）・・・・・・・・・・０．２８質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・・・・・５０．４質量部
【０３１０】
（分散例８）
表１に示すように、下記顔料分散組成と、直径２ｍｍのガラスビーズ３０部を容量２００ｍｌのポリエチレン製容器に入れて、ペイントシェーカー（東洋精機（株）製）で２時間分散して、黄色顔料の分散液８を得た。結果を表１に示す。平均粒子径は４３０ｎｍであった。
【０３１１】
〔顔料分散組成〕                                                              
・リポキシＰＲ３００＊１）（昭和高分子（株）製、酸価＝８１、固形分濃度６８％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）・・・・・・・・・・６．７質量部
・ＰＡＬＩＯＴＯＬ  ＹＥＬＬＯＷ  Ｄ１１５５（ＣＬＡＲＩＡＮＴ（株）製，Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・ソルスパースＳ−２００００（ＩＣＩ（株）製）・・・・・・・・・・０．２８質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・・・・・・５０．４質量部
【０３１２】
（分散例９）
表１に示すように、下記顔料分散組成と、直径２ｍｍのガラスビーズ３０部を容量２００ｍｌのポリエチレン製容器に入れて、ペイントシェーカー（東洋精機（株）製）で２時間分散して、緑色顔料の分散液６を得た。結果を表１に示す。平均粒子径は１７０ｎｍであった。なお、この分散液９に含まれる顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー７６）の１分子中に含まれるハロゲン原子の含有率（質量％）は、３８．５％であった。
【０３１３】
〔顔料分散組成〕                                                              
・リポキシＰＲ３００＊１）（昭和高分子（株）製、酸価＝８１、固形分濃度６８％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）・・・・・・・・・・６．７質量部
・ＦａｓｔｇｅｎＢｌｕｅ１０ＧＮ（ＤＩＣ（株）製，Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー７６、下記構造式（８））・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・ソルスパースＳ−２００００（ＩＣＩ（株）製）・・・・・・・・・・０．２８質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・・・・・・５０．４質量部
【０３１４】
【化２８】
2007248925.tif 000029
【０３１５】
（分散例１０）
表１に示すように、下記顔料分散組成と、直径２ｍｍのガラスビーズ３０部を容量２００ｍｌのポリエチレン製容器に入れて、ペイントシェーカー（東洋精機（株）製）で２時間分散して、緑色顔料の分散液６を得た。結果を表１に示す。平均粒子径は１７０ｎｍであった。なお、この分散液１０に含まれる顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１０）の１分子中に含まれるハロゲン原子の含有率（質量％）は、１０．８％であった。
【０３１６】
〔顔料分散組成〕                                                              
・リポキシＰＲ３００＊１）（昭和高分子（株）製、酸価＝８１、固形分濃度６８％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）・・・・・・・・・・６．７質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１０（下記構造式（７））・・・・・・・・・・１０質量部
・ソルスパースＳ−２００００（ＩＣＩ（株）製）・・・・・・・・・・０．２８質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・・・・・・５０．４質量部
【０３１７】
【化２９】
2007248925.tif 000030
【０３１８】
（分散例１１）
表１に示すように、下記顔料分散組成と、直径２ｍｍのガラスビーズ３０部を容量２００ｍｌのポリエチレン製容器に入れて、ペイントシェーカー（東洋精機（株）製）で２時間分散して、緑色顔料の分散液６を得た。結果を表１に示す。平均粒子径は１７０ｎｍであった。
【０３１９】
〔顔料分散組成〕                                                              
・リポキシＰＲ３００＊１）（昭和高分子（株）製、酸価＝８１、固形分濃度６８％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）・・・・・・・・・・６．７質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・ソルスパースＳ−２００００（ＩＣＩ（株）製）・・・・・・・・・・０．２８質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・・・・・・５０．４質量部
【０３２０】
（分散例１２）
表１に示すように、下記顔料分散組成と、直径２ｍｍのガラスビーズ３０部を容量２００ｍｌのポリエチレン製容器に入れて、ペイントシェーカー（東洋精機（株）製）で２時間分散して、緑色顔料の分散液６を得た。結果を表１に示す。平均粒子径は１７０ｎｍであった。なお、この分散液１２に含まれる顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７）の１分子中に含まれるハロゲン原子の含有率（質量％）は、５０．６％であった。
【０３２１】
〔顔料分散組成〕                                                              
・リポキシＰＲ３００＊１）（昭和高分子（株）製、酸価＝８１、固形分濃度６８％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）・・・・・・・・・・６．７質量部
・シアニングリーン２ＧＮ（大日精化（株）製、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・ソルスパースＳ−２００００（ＩＣＩ（株）製）・・・・・・・・・・０．２８質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート・・・・・・・・５０．４質量部
【０３２２】
【表１】
2007248925.tif 000031
【０３２３】
（実施例１）
分散例１の分散液１（緑色顔料分散液）を含む、下記組成からなる感光性組成物溶液を調製し、１６μｍ厚ポリエチレンテレフタレート支持体（東レ（株）製１６ＦＢ５０）に塗布し、乾燥後膜厚で３５μｍの感光層を形成し、次いで、該感光層の上に、保護フィルムとしてポリプロピレンフィルム（王子製紙（株）製：アルファンＥ２００、膜厚２０μｍ）をラミネーションにより積層し、ワインダーで巻き取り、感光性フィルムを作製した。
【０３２４】
〔感光性組成物溶液の組成〕                                                  
・分散液１（緑色顔料）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・７．５質量部
・アルカリ可溶性感光性樹脂１（合成例１）・・・・・・・・・・・・５２．７５質量部
・ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製，ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７６質量％希釈品）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２２．２質量部
・下記一般式（ＶＩ）で表されるビスフェノールＡ型β―メチルエポキシ樹脂（エポキシ当量：２１４ｇ／ｅｑ、粘度：６２Ｐａ・ｓ）・・・・・・・・・・・・１８．８質量部
・Ｎ−フェニルグリシン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．２質量部
・下記一般式（ＶＩＩ）で表される増感剤・・・・・・・・・・・・・・０．２０質量部
・イルガキュア３２５（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、下記一般式（ＶＩＩＩ）表されるオキシム誘導体）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．３質量部
・ジシアンジアミド（熱硬化促進剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・０．９３質量部
・トリアジン・イソシアヌル酸付加物（熱硬化促進剤）
（２ＭＡＯＫ、四国化成（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．５３質量部
・硫酸バリウム分散液＊２）（４９．４質量％）・・・・・・・・・・・・・８１．４質量部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル・・・・・・・・・・・・・・・・０．０６質量部
・塗布助剤（フッ素系界面活性剤Ｆ７８０Ｆ、３０質量％ＭＥＫ溶液）・・０．２４質量部
・メチルエチルケトン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４５．４質量部
＊２）硫酸バリウム分散液は、硫酸バリウム（堺化学工業（株）製、Ｂ３０）２９．２質量部と、上記リポキシＰＲ３００＊１）（６８質量％）溶液１５．４質量部と、１−メトキシ−２−プロピルアセテート３６質量部とを予め混合した後、モーターミルＭ−２００（アイガー社製）で、直径１．０ｍｍのジルコニアビーズを用い、周速９ｍ／ｓにて３．５時間分散して調製した。
【０３２５】
【化３０】
2007248925.tif 000032
【０３２６】
【化３１】
2007248925.tif 000033
【０３２７】
【化３２】
2007248925.tif 000034
【０３２８】
−感光性積層体の調製−
前記基体として、配線形成済みの銅張積層板（スルーホールなし、銅厚み１２μｍ）の表面に化学研磨処理を施して調製した。該銅張積層板上に、前記感光性フィルムの感光層が前記銅張積層板に接するようにして前記感光性フィルムにおける保護フィルムを剥がしながら、真空ラミネーター（ニチゴーモートン（株）製、ＶＰ１３０）を用いて積層させ、前記銅張積層板と、前記感光層と、前記ポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）とがこの順に積層された感光性フィルムを調製した。
圧着条件は、真空引き時間４０秒、圧着温度７０℃、圧着圧力０．２ＭＰａ、加圧時間１０秒とした。
【０３２９】
−−露光工程−−
前記調製した積層体における感光層に対し、支持体側から、レーザ露光装置を用いて、４０５ｎｍのレーザ光を、２０μｍから１００μｍまで１０μｍ刻みで、直径の異なる穴部が形成されるパターンが得られるように露光パターンを照射して露光し、前記感光層の一部の領域を硬化させた。
【０３３０】
＜パターン形成装置＞
前記光照射手段として図８〜９及び図２５〜２９に示した合波レーザ光源と、前記光変調手段として図６に概略図を示した主走査方向にマイクロミラー５８が１０２４個配列されたマイクロミラー列が、副走査方向に７６８組配列された内、１０２４個×２５６列のみを駆動するように制御したＤＭＤ３６と、図５に示した光を前記感光性転写材料に結像する光学系とを有する露光ヘッド３０を備えたパターン形成装置１０を用いた。
【０３３１】
各露光ヘッド３０すなわち各ＤＭＤ３６の設定傾斜角度としては、使用可能な１０２４列×２５６行のマイクロミラー５８を使用してちょうど２重露光となる角度θｉｄｅａｌよりも若干大きい角度を採用した。この角度θｉｄｅａｌは、Ｎ重露光の数Ｎ、使用可能なマイクロミラー５８の列方向の個数ｓ、使用可能なマイクロミラー５８の列方向の間隔ｐ、及び露光ヘッド３０を傾斜させた状態においてマイクロミラーによって形成される走査線のピッチδに対し、下記式１、
ｓｐｓｉｎθｉｄｅａｌ≧Ｎδ（式１）
により与えられる。本実施形態におけるＤＭＤ３６は、上記のとおり、縦横の配置間隔が等しい多数のマイクロミラー５８が矩形格子状に配されたものであるので、
ｐｃｏｓθｉｄｅａｌ＝δ（式２）
であり、上記式１は、
ｓｔａｎθｉｄｅａｌ＝Ｎ（式３）
であり、ｓ＝２５６、Ｎ＝２であるので、角度θｉｄｅａｌは約０．４５度である。したがって、設定傾斜角度θとしては、たとえば０．５０度を採用した。
【０３３２】
まず、２重露光における解像度のばらつきと露光むらを補正するため、被露光面の露光パターンの状態を調べた。結果を図１８に示した。図１８においては、ステージ１４を静止させた状態で感光性転写材料１２の被露光面上に投影される、露光ヘッド３０１２と３０２１が有するＤＭＤ３６の使用可能なマイクロミラー５８からの光点群のパターンを示した。また、下段部分に、上段部分に示したような光点群のパターンが現れている状態でステージ１４を移動させて連続露光を行った際に、被露光面上に形成される露光パターンの状態を、露光エリア３２１２と３２２１について示した。なお、図１８では、説明の便宜のため、使用可能なマイクロミラー５８の１列おきの露光パターンを、画素列群Ａによる露光パターンと画素列群Ｂによる露光パターンとに分けて示したが、実際の被露光面上における露光パターンは、これら２つの露光パターンを重ね合わせたものである。
【０３３３】
図１８に示したとおり、露光ヘッド３０１２と３０２１の間の相対位置の、理想的な状態からのずれの結果として、画素列群Ａによる露光パターンと画素列群Ｂによる露光パターンとの双方で、露光エリア３２１２と３２２１の前記露光ヘッドの走査方向と直交する座標軸上で重複する露光領域において、理想的な２重露光の状態よりも露光過多な領域が生じていることが判る。
【０３３４】
前記光点位置検出手段としてスリット２８及び光検出器の組を用い、露光ヘッド３０１２ついては露光エリア３２１２内の光点Ｐ（１，１）とＰ（２５６，１）の位置を、露光ヘッド３０２１については露光エリア３２２１内の光点Ｐ（１，１０２４）とＰ（２５６，１０２４）の位置を検出し、それらを結ぶ直線の傾斜角度と、露光ヘッドの走査方向とがなす角度を測定した。
【０３３５】
実傾斜角度θ´を用いて、下記式４
ｔｔａｎθ´＝Ｎ（式４）
の関係を満たす値ｔに最も近い自然数Ｔを、露光ヘッド３０１２と３０２１のそれぞれについて導出した。露光ヘッド３０１２についてはＴ＝２５４、露光ヘッド３０２１についてはＴ＝２５５がそれぞれ導出された。その結果、図１９において斜線で覆われた部分７８及び８０を構成するマイクロミラーが、本露光時に使用しないマイクロミラーとして特定された。
【０３３６】
その後、図１９において斜線で覆われた領域７８及び８０を構成する光点以外の光点に対応するマイクロミラーに関して、同様にして図１９において斜線で覆われた領域８２及び網掛けで覆われた領域８４を構成する光点に対応するマイクロミラーが特定され、本露光時に使用しないマイクロミラーとして追加された。
これらの露光時に使用しないものとして特定されたマイクロミラーに対して、前記描素部素制御手段により、常時オフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイクロミラーは、実質的に露光に関与しないように制御した。
これにより、露光エリア３２１２と３２２１のうち、複数の前記露光ヘッドで形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な２重露光に対して露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積を最小とすることができる。
【０３３７】
−−現像工程−−
室温にて１０分間静置した後、前記積層体から支持体を剥がし取り、銅張積層板上の感光層の全面に、アルカリ現像液として、１質量％炭酸ソーダ水溶液を用い、３０℃にて最短現像時間の２倍の時間シャワー現像し、未硬化の領域を溶解除去した。（別途、未硬化の基板上の感光層が溶解されるまでの時間を測定して最短現像時間と定義した。）
その後、水洗し、乾燥させ、永久パターンを形成した。
【０３３８】
−−硬化処理工程−−
前記永久パターンが形成された積層体の全面に対して、１５０℃で６０分間、加熱処理を施し、永久パターンの表面を硬化し、膜強度を高めた。
【０３３９】
＜評価＞
次に、得られた各感光性フィルム及び、各永久パターンについて、着色度、色相、感光領域吸光度、ハロゲン含有量、露光感度、解像度、保存性及び硬化後のレジスト性能の評価を行った。
【０３４０】
＜＜着色度・色相の評価＞＞
作製した感光性フィルムの着色度をマクベス光度計に赤色フィルターをかけて測定して得られるマクベス光学濃度で表した。評価基準としては、本発明のように、感光層の膜厚を３５μｍ程度とした場合、０．３４±０．１の範囲が好ましい。また、色相は目視で判定した。結果を表３に示す。表３中、「Ｒ」は赤色フィルターを示す。
【０３４１】
＜＜感光領域における吸光度の評価＞＞
また、スペクトロフォトメータを用いて作製した感光性フィルムの吸収スペクトルを測定し、４０５ｎｍにおける感光領域の吸光度を測定した。感光域の吸光度は低いほど感度にとって有利であり、特に、前記色相や着色度を揃えたときの吸光度が低いほど感度にとってさらに有利であが、低すぎると、形成する永久パターンの断面形状が台形となり、好ましくない。したがって、本実施例の評価基準としては、０．３〜１．０の範囲が好ましい。結果を表３に示す。
【０３４２】
＜＜分散安定性の評価＞＞
また、感光性層塗布液を４０℃で７日間保存し、顔料の凝集の有無を観察した。顔料分散液を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターで無圧濾過したときに、該フィルター上に全く残渣が残らない場合を○、少量残る場合は△、多量に残る場合は×と表示する。結果を表３に示す。
【０３４３】
＜＜ハロゲン含有量の測定・評価＞＞
作製した前記感光性フィルムの前記感光層（１０ｇ）を、燃焼フラスコ内で燃焼し、発生したガスを純水に吸収させ、得られた吸収液の中のハロゲン含有量を、イオンクロマトグラフィーにより検出し、定量した。結果を表３に示す。
【０３４４】
＜＜露光感度の評価＞＞
前述のようにして、パターン露光・現像・水洗により得られた永久パターンにおいて、残った前記感光層の硬化領域の厚みを測定した。次いで、レーザ光の照射量と、硬化層の厚さとの関係をプロットして感度曲線を得る。こうして得た感度曲線から配線上の硬化領域の厚さが３０μｍとなり、硬化領域の表面が光沢面である時の光エネルギー量を、感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量とした。結果を表３に示す。
【０３４５】
＜＜解像度＞＞
得られた前記永久パターン形成済みのプリント配線基板の表面を光学顕微鏡で観察し、硬化層パターンの穴部に残膜が無い、最小の穴径を測定し、これを解像度とした。該解像度は数値が小さいほど良好である。結果を表３に示す。
【０３４６】
＜＜エッジラフネス＞＞
得られた前記積層体のポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）上から、前記パターン形成装置を用いて、前記露光ヘッドの走査方向と直交する方向の横線パターンが形成されるように照射して２重露光し、ライン／スペース＝１／１でライン幅３０μｍで線幅の露光を行う。
この際の露光量は、前記露光感度の評価で測定した前記感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量である。室温にて１０分間静置した後、前記積層体からポリエチレンテレフタレートフィルム（支持体）を剥がし取る。
銅張積層板上の感光層の全面に３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧０．１５ＭＰａにて前記現像時間の評価で求めた最短現像時間の２倍の時間スプレーし、未硬化領域を溶解除去する。
このようにして得られた永久パターンのうち、ライン幅３０μｍのラインの任意の５箇所について、レーザ顕微鏡（ＶＫ−９５００、キーエンス（株）製；対物レンズ５０倍）を用いて観察し、視野内のエッジ位置のうち、最も膨らんだ箇所（山頂部）と、最もくびれた箇所（谷底部）との差を絶対値として求め、観察した５箇所の平均値を算出し、これをエッジラフネスとした。該エッジラフネスは、値が小さい程、良好な性能を示すため好ましい。結果を表３に示す。
【０３４７】
＜＜保存安定性＞＞
次に、経時的な現像性変化の評価のため、前記の各種保護シートを挟み、遮光性防湿袋（東海アルミ箔（株）製ＢＦ３Ｘ）で包装しブッシュで両端を塞いだロール状のサンプルを加速条件下（３０℃、９０％ＲＨ）の恒温恒湿槽中で３日間保存し、現像性の変化を測定した。
保存性は、初期の最短現像時間ｔ０と、前記加速条件後の最短現像時間ｔ３ｄとを比較してその比（ｔ０／ｔ３ｄ）の値から、下記基準で評価した。
○：１倍以上２倍未満
△：２倍以上３倍未満（実使用可能なレベル）
×：３倍以上
結果を表３に示す。
【０３４８】
−硬化後レジスト性能−
上記の感光性積層体を、保護フィルムを剥離後、回路パターンの無い銅張り積層板上に真空ラミネートした。これを室温まで冷却した後、露光量２３ｍＪ／ｃｍ２の条件で露光し、熱風循環式乾燥炉で硬化を１５０℃で６０分間行ない、その後室温まで冷却し、鉛筆硬度及び密着性試験用評価サンプルを得た。この評価サンプルを用いて、硬化膜の性能評価を以下の項目で行った。結果を表４に示す。
【０３４９】
＜＜鉛筆硬度＞＞
ＪＩＳ  Ｋ−５４００の試験方法に従って鉛筆硬度試験機を用い、上記サンプルに荷重１ｋｇをかけた際の皮膜にキズが付かない最も高い硬度を求めた。
【０３５０】
＜＜密着性＞＞
ＪＩＳ  Ｄ−０２０２の試験方法に従って上記評価サンプルにクロスカットを入れ、次いでセロハン粘着テープによるピーリングテスト後の剥がれの状態を目視判定した。判定基準は以下のとおりである。
○：全く剥がれが認められないもの
△：ほんの僅か剥がれたもの
×：完全に剥がれたもの
【０３５１】
＜＜電気絶縁性＞＞
ＩＰＣ−Ｂ−２５の櫛型電極Ｂクーポンに、前記感光性フィルムから保護フィルムを剥離後、真空ラミネーターで積層し、室温まで冷却した後、露光量２３ｍＪ／ｃｍ２の条件で露光し、熱風循環式乾燥炉で硬化を１５０℃で６０分間行ない、評価サンプルを得た。この櫛型電極にＤＣ５００Ｖのバイアス電圧を印加し、絶縁抵抗値を測定した。
【０３５２】
＜＜耐酸性試験＞＞
前記＜＜電気絶縁性＞＞に用いたのと同じ評価サンプルを１０容量％硫酸水溶液に２０℃で３０分間浸漬後取り出し、塗膜の状態と密着性とを総合的に判定評価した。判定基準は以下のとおりである。
○：変化が認められないもの
△：ほんの僅か変化しているもの
×：塗膜にフクレあるいは膨満脱落があるもの
【０３５３】
＜＜耐アルカリ性試験＞＞
１０容量％硫酸水溶液を１０容量％水酸化ナトリウム水溶液に変えた以外は、前記＜＜耐酸性試験＞＞と同様に試験評価した。
【０３５４】
＜＜無電解金めっき耐性＞＞
後述する工程に従って前記プリント基板に無電解金めっきを行ない、そのプリント基板について外観の変化及びセロハン粘着テープを用いたピーリング試験を行ない、レジスト皮膜の剥離状態を以下の基準で評価した。
○：外観変化もなく、レジスト皮膜の剥離も全くない。
△：外観の変化はないが、レジスト皮膜にわずかに剥れがある。
×：レジスト皮膜の浮きが見られ、めっき潜りが認められ、ピーリング試験でレジスト皮膜の剥れが大きい。
【０３５５】
−無電解金めっき工程−
−−脱脂−−
プリント基板を、３０℃の酸性脱脂液（（株）日本マクダーミッド製、ＭｅｌｔｅｘＬ−５Ｂの２０容量％水溶液）に３分間、浸漬した。
−−水洗−−
プリント基板を、流水中に３分間、浸漬した。
−−ソフトエッチ−−
プリント基板を、１４．３質量％の過硫酸アンモン水溶液に室温で３分間、浸漬した。
−−水洗−−
プリント基板を、流水中に３分間、浸漬した。
−−酸浸漬−−
プリント基板を、１０容量％の硫酸水溶液に室温で１分間、浸漬した。
−−水洗−−
プリント基板を、流水中に３０秒〜１分間、浸漬した。
−−触媒付与−−
プリント基板を、３０℃の触媒液（（株）メルテックス製、メタルプレートアクチベ一タ３５０の１０容量％水溶液）に７分間、浸漬した。
−−水洗−−
プリント基板を、流水中に３分間、浸漬した。
−−無電解ニッケルめっき−−
プリント基板を、８５℃、ｐＨ＝４．６のニッケルめっき液（（株）メルテックス製、メルプレートＮｉ−８６５Ｍ、２０容量％水溶液）に２０分間、浸漬した。
−−酸浸漬−−
プリント基板を、１０容量％の硫酸水溶液に室温で１分間、浸漬した。
−−水洗−−
プリント基板を、流水中に３０秒〜１分間、浸漬した。
−−無電解金めっき−−
プリント基板を、９５℃、ｐＨ＝６の金めっき液（（株）メルテックス製、オウロレクトロレスＵＰ１５容量％、シアン化金カリウム３容量％の水溶液）に１０分間、浸漬した。
−−水洗−−
プリント基板を、流水中に３分間、浸漬した。
−−湯洗−−
プリント基板を、６０℃の温水に浸漬し、３分間充分に水洗後、水をよくきり、乾燥した。
以上のような工程を経て、無電解金めっきしたプリント基板を得た。
【０３５６】
＜＜ＰＣＴ耐性＞＞
プリント配線板に前記の各積層体から保護フィルムを剥離後、真空ラミネーターで積層し、室温まで冷却した後、露光量９０ｍＪ／ｃｍ２の条件で露光し、熱風循環式乾燥炉で硬化を１５０℃で６０分間行ない、評価サンプルを得た。
これを室温まで冷却した後、ＰＣＴ試験装置（ＴＡＢＡＩ  ＥＳＰＥＣ  ＨＡＳＴ  ＳＹＳＴＥＭ  ＴＰＣ−４１２ＭＤ）を用いて１２１℃、２気圧の条件で１６８時間処理し、硬化皮膜の状態を評価した。判定基準は以下のとおりである。
○：剥がれ、変色そして溶出なし。
△：剥がれ、変色そして溶出のいずれかあり。
×：剥がれ、変色そして溶出が多く見られる。
【０３５７】
【表２】
2007248925.tif 000035
【０３５８】
（実施例２）
表２に示すように、分散例２の分散液２（緑色顔料分散液）を含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を実施例２として調製し、支持体に塗布した。
前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。また前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、感光層着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３５９】
（実施例３）
表２に示すように、分散例３の分散液３（緑色顔料分散液）を含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を実施例３として調製し、支持体に塗布した。
前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。また前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３６０】
（実施例４）
表２に示すように、分散例４の分散液４（緑色顔料分散液）を含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を実施例４として調製し、支持体に塗布した。塗布液は４０℃、７日後に凝集物が見えたが、調製直後では問題なく、塗布に使用した。
前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。また前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３６１】
（実施例５）
表２に示すように、分散例５の分散液５（緑色顔料分散液）を含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を実施例５として調製し、支持体に塗布した。塗布液は４０℃、７日後に凝集物が見えたが、調製直後には問題なく、塗布に使用した。
前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。また前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３６２】
（実施例６）
表２に示すように、分散例９の分散液９（青色顔料分散液）を含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を実施例６として調製し、支持体に塗布した。
また、前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。
また、前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、感光層着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３６３】
（実施例７）
表２に示すように、分散例１０の分散液１０（緑色顔料分散液）を含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を実施例７として調製し、支持体に塗布した。
また、前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。
また、前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、感光層着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３６４】
（実施例８）
表２に示すように、分散例１１の分散液１１（緑色顔料分散液）を含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を実施例８として調製し、支持体に塗布した。
また、前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。
また、前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、感光層着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３６５】
（実施例９）
表２に示すように、分散例１の分散液１（緑色顔料分散液）と分散例１１の分散液１１（緑色顔料分散液）とを含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を実施例９として調製し、支持体に塗布した。
また、前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。
また、前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、感光層着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３６６】
（実施例１０）
実施例１のパターン形成装置において、前記式３に基づき、Ｎ＝１として設定傾斜角度θを算出し、前記式４に基づきｔｔａｎθ´＝１の関係を満たす値ｔに最も近い自然数Ｔを導出し、Ｎ重露光（Ｎ＝１）を行ったこと以外は、実施例１と同様にして、得られた感光性フィルムロール及び、積層体、永久パターンについて、着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３６７】
（比較例１）
表２に示すように、分散例６の分散液６（緑色顔料分散液）を含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を比較例１として調製し、支持体に塗布した。塗布液は４０℃、７日後に凝集物が見えたが、調製直後には問題なく、塗布に使用した。
前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。また前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３６８】
（比較例２）
表２に示すように、分散例７の分散液７（青色顔料分散液）と分散例８の分散液８（黄色顔料分散液）とを含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を比較例２として調製し、支持体に塗布した。
前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。また前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３６９】
（比較例３）
表２に示すように、分散例７の分散液７（青色顔料分散液）を含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を比較例３として調製し、支持体に塗布した。
前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。また前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３７０】
（比較例４）
表２に示すように、分散例１２の分散液１２（緑色顔料分散液）を含む組成の感光性組成物（感光層塗布液）を比較例４として調製し、支持体に塗布した。
また、前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。また、前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、感光層着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し結果を表４に表す。
【０３７１】
（比較例５）
表２に示すように、顔料を含まない組成の感光性組成物（感光層塗布液）を比較例５として調製し、支持体に塗布した。
前記感光層塗布液の安定性を実施例１と同様に評価した。また前記感光性フィルム、及び感光性積層体を用い、実施例１と同様にして、着色度、色相、４０５ｎｍでの吸光度、ハロゲン原子の含有量、感度、解像度、エッジラフネス、及び現像時間の経時変化を評価した。結果を表３に示す。硬化膜の性能も同様に評価し、結果を表４に表す。
【０３７２】
【表３】
2007248925.tif 000036
【０３７３】
【表４】
2007248925.tif 000037
【０３７４】
表１〜４の結果より、分散安定性も良好で、感光性組成物中のハロゲン原子の含有率が９００ｐｐｍ以下で、感光層の露光感度が３０ｍＪ／ｃｍ２である実施例１〜１０の感光性組成物及び感光性フィルムは、廃棄時における環境への影響が考慮され、青紫色レーザ露光システムを使用したときに高精細な永久パターンが得られることが確認された。
また、実施例４の結果により、多重露光を採用した実施例１０が「エッジラフネス」の点で特に優れていることが認められた。
【０３７５】
一方、表３に示す結果によれば、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６（シアニングリーン５３７０）を緑色顔料として含有する比較例１は、分散安定性、及び感光領域における吸光度が好ましくない結果となった。
また、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３（ＨＥＬＩＯＧＥＮ  ＢＬＵＥ  Ｄ７０７ＰＢ）と、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５（ＰＡＬＩＯＴＯＬ  ＹＥＬＬＯＷ  Ｄ１１５５）とを混合させて緑色顔料として含有する比較例２は、分散安定性、及び感光領域における吸光度に加え、解像度も好ましくない結果となった。
また、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３（ＨＥＬＩＯＧＥＮ  ＢＬＵＥ  Ｄ７０７ＰＢ）を緑色顔料として含有する比較例３は、分散安定性が好ましくないのに加え、光学濃度が著しく低いので、形成される永久パターンの断面形状が台形となる可能性が高く、好ましくない結果となった。
さらに、ピグメントグリーン７（銅フタロシアニン）を緑色顔料として含有する比較例４は、感光領域における吸光度及び露光感度が好ましくなく、比較例５は、色相が無色であるため、プリント基板などに対して当該感光性組成物の被覆が識別できず、好ましくない結果となった。
加えて、着色剤を構成する顔料１分子中に４０％以上の含有率でハロゲン原子を含む比較例１及び比較例４は、感光性組成物（硬化物）中のハロゲン含有率が著しく高く、環境保全の観点で好ましくない結果となった。
【０３７６】
【産業上の利用可能性】
【０３７７】
本発明の感光性組成物及び感光性フィルムは、廃棄時における環境への影響が考慮され、青紫色レーザ露光システムを使用したときに高精細な永久パターンが得られるため、保護膜、層間絶縁膜として好適に使用することができ、プリント配線板（多層配線基板、ビルドアップ配線基板など）、カラーフィルタや柱材、リブ材、スペーサー、隔壁などのディスプレイ用部材、ホログラム、マイクロマシン、プルーフ、プリント基板などの永久パターン形成用として広く用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【０３７８】
【図１】図１は、パターン形成装置の一例の外観を示す斜視図である。
【図２】図２は、パターン形成装置のスキャナの構成の一例を示す斜視図である。
【図３Ａ】図３Ａは、感光層の被露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図である。
【図４】図４は、露光ヘッドの概略構成の一例を示す斜視図である。
【図５Ａ】図５Ａは、露光ヘッドの詳細な構成の一例を示す上面図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、露光ヘッドの詳細な構成の一例を示す側面図である。
【図６】図６は、図１のパターン形成装置のＤＭＤの一例を示す部分拡大図である。
【図７Ａ】図７Ａは、ＤＭＤの動作を説明するための斜視図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、ＤＭＤの動作を説明するための斜視図である。
【図８】図８は、ファイバアレイ光源の構成の一例を示す斜視図である。
【図９】図９は、ファイバアレイ光源のレーザ出射部における発光点の配列の一例を示す正面図である。
【図１０】図１０は、露光ヘッドの取付角度誤差及びパターン歪みがある際に、被露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。
【図１１】図１１は、１つのＤＭＤによる露光エリアと、対応するスリットとの位置関係を示した上面図である。
【図１２】図１２は、被露光面上の光点の位置を、スリットを用いて測定する手法を説明するための上面図である。
【図１３】図１３は、選択されたマイクロミラーのみが露光に使用された結果、被露光面上のパターンに生じるむらが改善された状態を示す説明図である。
【図１４】図１４は、隣接する露光ヘッド間に相対位置のずれがある際に、被露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。
【図１５】図１５は、隣接する２つの露光ヘッドによる露光エリアと、対応するスリットとの位置関係を示した上面図である。
【図１６】図１６は、被露光面上の光点の位置を、スリットを用いて測定する手法を説明するための上面図である。
【図１７】図１７は、図１４の例において選択された使用画素のみが実動され、被露光面上のパターンに生じるむらが改善された状態を示す説明図である。
【図１８】図１８は、隣接する露光ヘッド間に相対位置のずれ及び取付角度誤差がある際に、被露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。
【図１９】図１９は、図１８の例において選択された使用描素部のみを用いた露光を示す説明図である。
【図２０Ａ】図２０Ａは、倍率歪みの例を示した説明図である。
【図２０Ｂ】図２０Ｂは、ビーム径歪みの例を示した説明図である。
【図２１Ａ】図２１Ａは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第一の例を示した説明図である。
【図２１Ｂ】図２１Ｂは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第一の例を示した説明図である。
【図２２】図２２は、複数露光ヘッドを用いた参照露光の第一の例を示した説明図である。
【図２３Ａ】図２３Ａは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第二の例を示した説明図である。
【図２３Ｂ】図２３Ｂは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第二の例を示した説明図である。
【図２４】図２４は、複数露光ヘッドを用いた参照露光の第二の例を示した説明図である。
【図２５】図２５は、マルチモード光ファイバの構成を示す図の一例である。
【図２６】図２６は、合波レーザ光源の構成を示す平面図の一例である。
【図２７】図２７は、レーザモジュールの構成を示す平面図の一例である。
【図２８】図２８は、図２７に示すレーザモジュールの構成を示す側面図の一例である。
【図２９】図２９は、図２７に示すレーザモジュールの構成を示す部分側面図である。
【図３０】図３０は、レーザアレイの構成を示す斜視図の一例である。
【図３１Ａ】図３１Ａは、マルチキャビティレーザの構成を示す斜視図の一例である。
【図３１Ｂ】図３１Ｂは、図３１Ａに示すマルチキャビティレーザをアレイ状に配列したマルチキャビティレーザアレイの斜視図の一例である。
【図３２】図３２は、合波レーザ光源の他の構成を示す平面図の一例である。
【図３３】図３３は、合波レーザ光源の他の構成を示す平面図の一例である。
【図３４Ａ】図３４Ａは、合波レーザ光源の他の構成を示す平面図の一例である。
【図３４Ｂ】図３４Ｂは、図３４Ａの光軸に沿った断面図の一例である。
【符号の説明】
【０３７９】
Ｂ１〜Ｂ７            レーザビーム
Ｌ１〜Ｌ７            コリメータレンズ
ＬＤ１〜ＬＤ７        ＧａＮ系半導体レーザ
１０                  パターン形成装置
１２                  感光層（感光材料）
１４                  移動ステージ
１８                  設置台
２０                  ガイド
２２                  ゲート
２４                  スキャナ
２６                  センサ
２８                  スリット
３０                  露光ヘッド
３２                  露光エリア
３６                  デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）
３８                  ファイバアレイ光源
５８                  マイクロミラー（描素部）
６０                  レーザモジュール
６２                  マルチモード光ファイバ
６４                  光ファイバ
６６                  レーザ出射部
１１０                ヒートブロック
１１１                マルチキャビティレーザ
１１３                ロッドレンズ
１１４                レンズアレイ
１４０                レーザアレイ
２００                集光レンズ
【図２６】
2007248925.tif 000038
【図２７】
2007248925.tif 000039
【図２８】
2007248925.tif 000040
【図２９】
2007248925.tif 000041
【図３０】
2007248925.tif 000042
【図３２】
2007248925.tif 000043
【図３３】
2007248925.tif 000044
【図１】
2007248925.tif 000045
【図２】
2007248925.tif 000046
【図３Ａ】
2007248925.tif 000047
【図３Ｂ】
2007248925.tif 000048
【図４】
2007248925.tif 000049
【図５Ａ】
2007248925.tif 000050
【図５Ｂ】
2007248925.tif 000051
【図６】
2007248925.tif 000052
【図７Ａ】
2007248925.tif 000053
【図７Ｂ】
2007248925.tif 000054
【図８】
2007248925.tif 000055
【図９】
2007248925.tif 000056
【図１０】
2007248925.tif 000057
【図１１】
2007248925.tif 000058
【図１２】
2007248925.tif 000059
【図１３】
2007248925.tif 000060
【図１４】
2007248925.tif 000061
【図１５】
2007248925.tif 000062
【図１６】
2007248925.tif 000063
【図１７】
2007248925.tif 000064
【図１８】
2007248925.tif 000065
【図１９】
2007248925.tif 000066
【図２０Ａ】
2007248925.tif 000067
【図２０Ｂ】
2007248925.tif 000068
【図２１Ａ】
2007248925.tif 000069
【図２１Ｂ】
2007248925.tif 000070
【図２２】
2007248925.tif 000071
【図２３Ａ】
2007248925.tif 000072
【図２３Ｂ】
2007248925.tif 000073
【図２４】
2007248925.tif 000074
【図２５】
2007248925.tif 000075
【図３１Ａ】
2007248925.tif 000076
【図３１Ｂ】
2007248925.tif 000077
【図３４Ａ】
2007248925.tif 000078
【図３４Ｂ】
2007248925.tif 000079