(57)【要約】【課題】防眩性を付与させる微粒子を使用せずに、凹凸形状の面を有する透明支持体フィルムを使用し、その上にハードコート層を設けた防眩性フィルムの製造方法、防眩性フィルム、防眩性フィルムのハードコート層の上に反射防止層を設けた防眩性反射防止フィルム、及び防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムを使用した画像表示装置の提供。【解決手段】凹凸表面を有する透明支持体フィルムの表面にハードコート層を設ける防眩性フィルムの製造方法において、ハードコート層形成用塗布液を前記透明支持体フィルムの表面に塗布工程で塗布し、ハードコート層形成用塗膜を形成した後、その後の乾燥処理行程から硬化処理工程迄の間で、少なくとも一部の間は前記ハードコート層形成用塗膜の面が重力方向に対して下向きから横向きの状態であり、且つ前記ハードコート層形成用塗膜の面に風の吹き付けがあることを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。【選択図】図１
2007233129.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸表面を有する透明支持体フィルムの表面にハードコート層を設ける防眩性フィルムの製造方法において、ハードコート層形成用塗布液を前記透明支持体フィルムの表面に塗布工程で塗布し、ハードコート層形成用塗膜を形成した後、その後の前記ハードコート層形成用塗膜の乾燥処理行程から硬化処理工程迄の間で、少なくとも一部の間は前記ハードコート層形成用塗膜の面が重力方向に対して下向きから横向きの状態であり、且つ前記ハードコート層形成用塗膜の面に風の吹き付けがあることを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記ハードコート層形成用塗布液は希釈溶媒を含有していることを特徴とする請求項１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記ハードコート層形成用塗布液は硬化成分を含有し、該硬化成分は紫外線硬化性樹脂であり、硬化処理工程で乾燥処理工程で形成されたハードコート層の面に窒素ガスを吹き付けながら紫外線照射が行われることを特徴とする請求項１又は２に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記乾燥処理工程が終了する迄の間はハードコート層形成用塗膜の面が重力方向に対して下向きから横向きの状態であり、且つ該乾燥処理工程の半分以上でハードコート層形成用塗膜の面に風の吹き付けが行われることを特徴とする請求項１〜３に記載の防眩性フィルムの製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４の何れが１項に記載の防眩性フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする防眩性フィルム。
【請求項６】
請求項５に記載の防眩性フィルムのハードコート層上に反射防止層を設けたことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
【請求項７】
請求項５に記載の防眩性フィルム、又は６に記載の防眩性反射防止フィルムを有することを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は防眩性フィルムの製造方法、防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルム及びそれを用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ノートパソコン、携帯電話等のフルカラー化或いはディスプレイの高精細化等に伴って反射防止機能、帯電防止機能等の付与された高機能の光学フィルムが求められている。例えば、視認性向上のために反射防止層を設けたり、又、写り込みを防いだり、ギラツキの少ない表示性能を得るために表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与した、コンピュータやワープロ等の液晶画像表示装置（液晶ディスプレイとも言う）が求められている。
【０００３】
反射防止層や防眩層は用途に応じて様々な種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々のフィルムを液晶ディスプレイの前面に配置することで、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能又は防眩機能等を付与する方法が用いられている。これら、前面板として用いられる光学用フィルムには、塗布又は、スパッタリング等で形成した反射防止層又は防眩層が設けられている。又、近年、防眩性と反射防止性を同時に兼ね備えた防眩性反射防止フィルムについても検討がされている。
【０００４】
防眩層は、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置などの使用時に反射像の写り込みが気にならないようにするものである。前面板として用いられる光学用フィルムにこの様な性質を付与させるには表面に適切な凹凸を設けることが知られている。
【０００５】
従来、この様な凹凸を形成する方法としては、例えば、特開２００１−２６４５０８号公報、特開２００３−１２１６２０号公報等で開示されているような微粒子を塗布液に添加する方法が用いられている。しかしながら、最近のフラットパネルデイスプレイ、特に大型ＴＶ用の防眩性反射防止フィルムとしては表示画面を暗くしないようにヘイズが小さいことが求められているが、十分な防眩性を持たせようとすると、微粒子を添加する量が増えるために必然的にヘイズ値は高くなると言った問題点がある。又、その他として添加することに伴う異物の混入の危険、微粒子の大きさに伴うギラツキの発生の危険が挙げられる。更に、特開２００３−２０７６０２号公報、特開２００５−８４１１３号公報には、支持体上に反射防止層を設けた後に、エンボス加工して防眩性反射防止フィルムを得る方法が開示されている。しかしながらこの方法では、防眩性反射防止フィルムを偏光子と貼合した後の偏光板の劣化や、ハードコート層、反射防止層に微細なクラックが入って湿度の影響を受け易く、特に偏光板の裏面に光学補償フィルムを設ける場合に、リターデーション値が変動し易くなり視野角特性が変動するため好ましくない。また、ハードコート層の膜厚を厚くするとフィルム表面の凹凸がハードコート層表面に反映されず平滑面に近いまたは目的の防眩性を得られないため、耐擦傷性が十分に得られる膜厚の厚さに出来ないという問題があった。
【０００６】
これらの方法に代わり、基体となる熱可塑性樹脂フィルム（本発明に係わる透明支持体フィルムに該当する）の製膜工程で、フィルム面に鋳型を押し当てて表面に凹凸を形成する前若しくは後にテンターにより延伸し、得られた凹凸面上にハードコート層形成用塗布液を塗布しハードコート層形成用塗膜を形成し、ハードコート層形成用塗膜を上向きにして乾燥した後、この上に反射防止層を設け防眩性反射防止フィルムを製造する製造方法が知られている（例えば、特許文献１を参照。）。
【０００７】
特許文献１に記載の方法は、微粒子を添加添加することに伴うヘイズ値の上昇、異物の混入の危険、微粒子の大きさに伴うギラツキ等がなくなるため有効な方法である。しかしながら、特許文献１に記載の方法は、熱可塑性樹脂フィルムの凹凸面の上にハードコート層形成用塗布液を塗布し、形成されたハードコート層形成用塗膜は流動性を有しているため、重力や表面張力でフィルム凹凸を埋めてしまう、所謂レベリング化現象が生じ、ハードコート層形成用塗膜の平準化が生じ、乾燥が終了する段階で凹凸面の形状がハードコート層に十分に反映されず、必要とする防眩性の機能が得られに難くなる問題を有している。又、レベリング化現象を抑えるため塗布液粘度を高くすると塗布時の筋ムラ等の別の問題を有している。これらの問題を有しているため、なかなか特許文献１に記載の方法に切り換えることが出来ないのが現状である。また、支持体フィルムの凹凸形成において視認的に凹凸ムラが発生し易く、凹凸ムラのない支持体フィルム形成が量産的に難しいといった問題もある。
【０００８】
この様な状況から、透明支持体フィルムを使用し、その上にハードコート層を形成し、この上に反射防止層を設け防眩性反射防止フィルムを製造する時、防眩性を付与させる微粒子を使用せずに、凹凸形状の面を有する透明支持体フィルムを使用し、その上にハードコート層を設けた防眩性フィルムの製造方法、防眩性フィルム、及び防眩性フィルムのハードコート層の上に反射防止層を設けた防眩性反射防止フィルムの開発が要望されている。
【特許文献１】特開２００５−１５６６１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は防眩性を付与させる微粒子を使用せずに、凹凸形状の面を有する透明支持体フィルムを使用し、その上にハードコート層を設けた防眩性フィルムの製造方法、防眩性フィルム、防眩性フィルムのハードコート層の上に反射防止層を設けた防眩性反射防止フィルム、及びこれらの防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムを使用した画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。
１．凹凸表面を有する透明支持体フィルムの表面にハードコート層を設ける防眩性フィルムの製造方法において、ハードコート層形成用塗布液を前記透明支持体フィルムの表面に塗布工程で塗布し、ハードコート層形成用塗膜を形成した後、その後の前記ハードコート層形成用塗膜の乾燥処理行程から硬化処理工程迄の間で、少なくとも一部の間は前記ハードコート層形成用塗膜の面が重力方向に対して下向きから横向きの状態であり、且つ前記ハードコート層形成用塗膜の面に風の吹き付けがあることを特徴とする防眩性フィルムの製造方法。
２．前記ハードコート層形成用塗布液は希釈溶媒を含有していることを特徴とする前記１に記載の防眩性フィルムの製造方法。
３．前記ハードコート層形成用塗布液は硬化成分を含有し、該硬化成分は紫外線硬化性樹脂であり、硬化処理工程で乾燥処理工程で形成されたハードコート層の面に窒素ガスを吹き付けながら紫外線照射が行われることを特徴とする前記１又は２に記載の防眩性フィルムの製造方法。
４．前記乾燥処理工程が終了する迄の間はハードコート層形成用塗膜の面が重力方向に対して下向きから横向きの状態であり、且つ該乾燥処理工程の半分以上でハードコート層形成用塗膜の面に風の吹き付けが行われることを特徴とする前記１〜３に記載の防眩性フィルムの製造方法。
５．前記１〜４の何れが１項に記載の防眩性フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする防眩性フィルム。
６．前記５に記載の防眩性フィルムのハードコート層上に反射防止層を設けたことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
７．前記５に記載の防眩性フィルム、又は６に記載の防眩性反射防止フィルムを有することを特徴とする画像表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
防眩性を付与させる微粒子を使用せずに、凹凸形状の面を有する透明支持体フィルムを使用し、その上にハードコート層を設けた防眩性フィルムの製造方法、防眩性フィルム、防眩性フィルムのハードコート層の上に反射防止層を設けた防眩性反射防止フィルム及びこれらの防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムを使用した画像表示装置を提供することが出来、ハードコート層膜厚を厚くした場合にも、透明支持体フィルム表面の凹凸形状をハードコート層表面に適度に反映して視認性に優れる凹凸表面となり、透明支持体フィルム表面の凹凸ムラによる防眩ムラを分かり難くする効果も有し、防幻性付与のための微粒子を使用しないことでヘイズが低く、ハードコート層膜厚を厚出来ることで耐擦傷性の高い、優れた防眩性を示す防眩性反射防止フィルムの製造が容易となり、フラットパネルデイスプレイ、特に大型ＴＶ用の防眩性反射防止フィルムの対応が可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の実施の形態を図１〜図５を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１３】
図１は防眩性フィルムの概略断面図である。
【００１４】
図中、１は防眩性フィルムを示し、１０１は透明支持体フィルムを示し、１０１ａは透明支持体フィルム１０１の凹凸形状の表面を示す。１０２はハードコート層を示す。ハードコート層１０２の表面１０２ａは透明支持体フィルム１０１の表面１０１ａの凹凸形状を反映した形状となっている。
【００１５】
本発明で言う凹凸形状としては、直円錐、斜円錐、角錐、斜角錐、楔型，凸多角体、半球状等から選ばれる構造、並びにそれらの部分形状を有する構造が挙げられる。尚、本発明で言う半球状は、必ずしもその表面形状は真球形状である必要はなく、楕円体形状や、より変形した凸曲面形状であってもよい。又、凹凸形状の稜線が線状に伸びた、プリズム形状、レンチキュラーレンズ形状、フレネルレンズ形状も挙げられる。その稜線から谷線にかけての斜面は平面状、曲面状、若しくは両者の複合的形状であってもよい。
【００１６】
視認側の表面平均粗さ（Ｒａ）ａは、防眩性の効果、視認性等を考慮し０．０５〜５．０μｍの範囲であればよく、より好ましくは０．１〜２．０μｍである。また、ユーザーに好まれるＲａレベルは変化しており、最近は０．１〜１．０μｍの細かい凹凸面が好まれる傾向にある。尚、表面平均粗さ（Ｒａ）はＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に準じて算出した値である。凹凸面の構成周期である表面の凹凸の平均間隔（μｍ）については特に限定はないが、例えば、液晶表示装置に用いる場合はモアレや輝度ムラの防止の観点から１〜２００μｍ程度が好ましく、より好ましくは１０〜５０μｍの範囲である。又、本図は表面に凹凸形状を設けた場合を示しているが、裏面側にも凹凸形状を設けてもよく、裏面側の表面平均粗さを（Ｒａ）ｂとした時、裏面側の表面平均粗さ（Ｒａ）ｂは視認側の表面平均粗さ（Ｒａ）ａより大きければよく、（Ｒａ）ｂ＝（Ｒａ）ａ×１．０５〜（Ｒａ）ａ×３の範囲であることが好ましく、より好ましくは（Ｒａ）ｂ＝（Ｒａ）ａ×１．１〜（Ｒａ）ａ×２．５の範囲である。
【００１７】
凹凸形状を形成する方法として、例えば、下記の方法等が挙げられる。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。
（１）ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、エンボスにて形状を付与する方法。
（２）ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、熱硬化性樹脂をネガ型に充填し、加熱硬化後ネガ型から剥離する方法。
（３）目的とする形状のネガ型を流延ベルトに形成しておき、キャスティング時に目的とする形状を付与する溶剤キャスト法。
（４）表面を工作機械等で切削加工する方法。
（５）光又は加熱により硬化する樹脂を透明基板上に凸版印刷し、光又は加熱により硬化して凹凸を形成する方法。
（６）透明基板表面に光又は加熱して硬化する樹脂をインクジェット法により印刷し、光又は加熱により硬化して基板表面を凹凸形状にする方法。
【００１８】
ハードコート層１０２の平均膜厚は、耐擦傷性、防眩性、取扱い性、耐屈曲性、透明性等を考慮し、３〜３０μｍの範囲が好ましく、更に５〜１５μｍがより好ましい。
【００１９】
図２は防眩性反射防止フィルムの概略断面図である。
図中、２は防眩性反射防止フィルムを示す。２０１は図１に示す防眩性フィルム１のハードコート層１０２の上に設けられた反射防止層を示す。反射防止層は低屈折率層のみの単層構成でも、又多層の屈折率層でもどちらでも構成することが出来る。通常、反射防止層はハードコート層１０２の表面上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層することが可能となっている。反射防止層は、透明支持体フィルム１０１よりも屈折率の高い高屈折率層と、透明支持体フィルム１０１よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成したり、特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、透明支持体フィルム１０１側から屈折率の異なる３層を、中屈折率層（透明支持体フィルム１０１又はハードコート層１０２よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているものが好ましい。ハードコート層１０２が高屈折率層を兼ねてもよい。
【００２０】
本発明に係わる反射防止層の好ましい層構成の例を下記に示す。ここで／は積層配置されていることを示している。
【００２１】
透明支持体フィルム／ハードコート層／低屈折率層
透明支持体フィルム／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
透明支持体フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
透明支持体フィルム／帯電防止層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
バックコート層／透明支持体フィルム／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
透明支持体フィルム／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層の平均膜厚は５０〜２００ｎｍであることが好ましく、６０〜１５０ｎｍであることがより好ましい。
【００２２】
本発明は、図１、図２に示す様に、防眩性を付与させる微粒子を使用せずに、凹凸形状の表面を有する透明支持体フィルムを使用し、その上にハードコート層を設けた防眩性フィルムの製造方法と、この方法により製造した防眩性フィルムと、この防眩性フィルムのハードコート層の上に反射防止層を設けた防眩性反射防止フィルム及びこれらの防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムを使用した画像表示装置に関するものである。
【００２３】
図３は本発明に係わる防眩性フィルムの製造工程の模式図である。図３（ａ）は塗布工程から乾燥処理工程の終了まで透明支持体フィルムの上に形成されたハードコート層形成用塗膜を下向きにし、その後上向きにして硬化処理工程で硬化処理し製造する場合を示す製造工程の模式図である。図３（ｂ）は塗布工程から硬化処理工程の終了まで透明支持体フィルムの上に形成されたハードコート層形成用塗膜を下向きにして製造する場合を示す製造工程の模式図である。図３（ｃ）は乾燥処理工程及び硬化処理工程内でのハードコート層形成用塗膜を有する透明支持体フィルムの搬送角度を示す概略図である。
【００２４】
図３（ａ）の場合に付き説明する。図中、３ａは製造工程を示す。製造工程３ａは、透明支持体フィルム４０１の供給工程４と、塗布工程５と、乾燥処理工程６と、硬化処理工程７と、巻き取り工程８とを有している。４０２は供給工程４に供給された巻芯に巻き取られたロール状透明支持体フィルムを示す。透明支持体フィルム４０１の塗布面は図１に示す様に透明支持体フィルム１０１の表面１０１ａと同じように凹凸形状の表面となっている。塗布工程５は、塗布装置５０１と供給工程４から繰り出された透明支持体フィルム４０１を保持するバックアップロール５０２とを有している。塗布工程５ではハードコート層形成用塗布液が塗布装置５０１によりバックアップロール５０２により保持された透明支持体フィルム４０１の凹凸形状の表面に塗布される。
【００２５】
塗布装置５０１としては特に限定はなく、例えば、グラビアコータ、スピナーコータ、ワイヤーバーコータ、ロールコータ、リバースコータ、押出コータ、エアードクターコータ等公知の方法を用いることが出来る。本図は押出コータを使用した場合を示している。塗布量はウェット膜厚で５μｍ〜３０μｍが好ましく、更に、好ましくは１０μｍ〜２０μｍである。ドライ膜厚は０．１〜２０μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。塗布速度は１０ｍ／分〜６０ｍ／分が好ましい。
【００２６】
ハードコート層形成用塗布液としては、活性エネルギー線硬化樹脂、各種添加剤等を有機溶媒に溶解・分散した溶液が使用される。使用される有機溶媒として、例えば、炭化水素類（トルエン、キシレン、）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中でもから適宜選択し、或いはこれらを混合し利用出来る。プロピレングリコールモノアルキルエーテル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）又はプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）等を５質量％以上、より好ましくは５〜８０質量％以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。
【００２７】
乾燥処理工程６は、乾燥用の風の供給口６０１ａと、ヘッダー６０１ｂと、排気口６０１ｃとを有する乾燥装置６０１を有している。６０１ｂ１はヘッダー６０１ｂに供給された乾燥風の吹き出し口を示す。乾燥装置６０１には、塗布工程５で透明支持体フィルム４０１の凹凸形状の表面に塗布されたハードコート層形成用塗膜４０１ａが下向きの状態で搬送され、ハードコート層形成用塗膜４０１ａに向けて吹き出し口６０１ｂ１から乾燥用の風が吹き付けられることでハードコート層形成用塗膜４０１ａの溶媒が除去される。
【００２８】
乾燥装置６０１における乾燥条件としては、吹き出し口６０１ｂ１から乾燥用の風の風速０．５〜３０ｍ／ｓｅｃ、吹き付け角度５〜９０°であることが好ましい。より好ましくは、風速２〜２０ｍ／ｓｅｃ、吹き付け角度１０〜９０°であり、安定した凹凸を作成し、レベリングによりフィルム表面凹凸がハードコート層で埋められて消えることを防止する。風量は、風速に併せて適宜設定することが好ましい。乾燥時の表面温度、乾燥風の温度はハードコート層形成用塗布液に使用している溶媒に合わせ適宜選択することが好ましく、通常は３０〜１２０℃の範囲で、温度バラツキ、温度変動幅が小さくなる様に調整することが好ましい。
【００２９】
本発明はハードコート層を塗布後の流動性の高い状態でそのまま上向きや下向きの状態で乾燥固化や、ＵＶ照射による固化を行なうと、支持体フィルム表面の凹凸がハードコート剤によりレベリングされ、埋まってしまい期待している防眩性が得られないことに対して、塗布面を横向きから下向きとして風の吹き付けを行なうことで重力によるレベリングを抑えて支持体フィルム凹凸がハードコート層表面に反映されて、好ましい防眩性を得ることが出来ることを見出したものである。このため、ハードコート層を塗布後の流動性の高い状態から流動性を失うまでの間について、塗布面を横向きから下向きとして風の吹き付けをする工程とする必要がある。このため、流動性の高い初期状態や、流動性を失った後の硬化時には、横向きから下向きとして風の吹き付けをする工程は必須ではない。しかし、流動性の変動や、流動性喪失ポイントは、塗布液組成のバラツキ変動や乾燥状態のバラツキの影響を受けて変動するため、好ましくはすべての乾燥処理工程を横向きから下向きとして風の吹き付けをする工程とすることが、安定な防眩性を得るために好ましい。また、風の吹き付けについては、常時吹き付け状態とすることが好ましいが、乾燥処理工程のなかで部分的に風の吹き付けが無い状態であっても、その前後の風の吹き付けの風速を上げるたり、風の吹き出し口の断面積を増加させる等により好ましい防眩性を得ることも可能である。
【００３０】
乾燥用の風は常に一定の風速として吹き付ける方式でも良いが、風速を細かく（１０〜１０００回／１分間）変動させて吹き付け風により凹凸を支持体フィルムの表面の凹凸形状と異なった形状の凹凸とさせる方法も特に好ましい方法である。特に支持体フィルムの表面の凹凸にバラツキがあり、目視でムラが観察される場合にこのムラを消失させて均一な防眩性表面とするために有効である。この場合、風速の変動は振動を伴うためフィルムをローラに押し当てた状態で行なうことが好ましい。
【００３１】
乾燥処理工程６で乾燥が終了した後、ハードコート層が形成され透明支持体フィルム４０１は硬化処理工程７に搬送され、ハードコート層を構成している活性エネルギー線硬化樹脂の硬化処理が行われる。本図では硬化処理工程７に搬送される時はハードコート層が上向きになるようになっている。
【００３２】
硬化処理工程７は硬化処理装置７０１を有している。硬化処理装置７０１の内部にはハードコート層面に照射する活性エネルギー線の照射装置７０２を備えており、ハードコート層面に活性エネルギー線を照射することで硬化処理が行われる。活性エネルギー線の照射時間は０．２秒〜５分が好ましく、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率等から更に好ましくは、１秒〜３０秒である。
【００３３】
活性エネルギー線としては、活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させるエネルギー源であれば特に限定はなく、例えば、紫外線、電子線、γ線等が挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られると言う点で紫外線が最も好ましい。紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。又、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、又はエキシマランプ等も用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜１００００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【００３４】
本発明でハードコート層の硬化樹脂主成分に紫外線硬化性樹脂を使用し、最終工程で紫外線照射を行なう場合に、架橋率を向上させるために行なう脱酸素手段としての窒素ガス雰囲気下で行なう方法について、窒素ガスを塗布面に送付として吹き付けると、本発明では膜強度の向上と併せて好ましいムラのない防眩性となり特に好ましい態様となる。また、硬化処理工程７で乾燥が終了した後、ハードコート層が形成され透明支持体フィルム４０１を大径のローラ（不図示）に１／４〜２／３周の範囲で巻き付けた状態で紫外線照射と窒素ガス吹き付けを行なうことも好ましい方法である。この場合、大径のローラ（不図示）は温度調節手段を有し、３０〜１００℃の範囲に一定温度に調整されることが好ましい。
【００３５】
硬化処理工程７でハードコート層の硬化処理が終了した後、巻き取り工程８で巻芯に巻き取られロール状ハードコート層形成済み透明支持体フィルム（ロール状防眩性フィルム）８０１として回収される。
【００３６】
図３（ｂ）の場合に付き説明する。図中、３ｂは製造工程を示す。図中の符号は図３（ａ）と同義であるため説明は省略する。製造工程３ｂと図３（ａ）に示す製造工程３ａとの違いは硬化処理工程７までがハードコート層側が下向きで搬送されていることである。これにより、乾燥処理工程で乾燥終了した時点でハードコート層に使用される活性エネルギー線硬化樹脂の種類により流動性があっても硬化処理工程７で硬化処理されることで透明支持体フィルム４０１の凹凸形状を反映したハードコート層の形成された防眩性フィルムの製造が可能になる。
【００３７】
図３（ｃ）に付き説明する。本図は乾燥処理工程及び硬化処理工程内でのハードコート層形成用塗膜を有する透明支持体フィルムの搬送角度を示す概略図である。図中、θ１は重力方向を基準としたときの時計方向の角度を示し、θ２は重力方向を基準としたときの反時計方向の角度を示す。角度θ１が９０°の時が図３（ａ）、図３（ｂ）に示すように水平方向に搬送している状態を示す。角度θ１は、０〜２２５°が好ましく、更には０〜１９５°がより好ましい。角度θ２は、０〜４５°が好ましく、更には０〜１５°がより好ましい。本発明の重力方向下向きから横向きの状態とは、本図に示す様に角度θ１と角度θ２の範囲の状態で搬送することを言う。
【００３８】
図３（ａ）、図３（ｂ）に示される製造工程で透明支持体フィルム４０１の上にハードコート層を形成した後、同じ製造工程でハードコート層の上に反射防止層形成用塗布液を塗布工程５で塗布し、乾燥処理工程６、硬化処理工程７を経ることで図２に示される層構成を有した反射防止層を有する防眩性反射防止フィルムを製造することが可能である。尚、反射防止層としては、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層が挙げられ。低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層をハードコート層の上に積層する順は図２の説明で記載してある如く必要に応じて適宜組み合わせて積層することが可能となっている。尚、図３（ａ）、図３（ｂ）に示される製造工程では反射防止層形成用塗布液を塗布工程５で塗布し乾燥処理工程での乾燥は反射防止層形成用塗膜が下向きになるが、上向きで乾燥する方式の別の製造工程で製造しても勿論構わない。
【００３９】
本図に示す本発明では、前記した発明の効果が得られる。又、図３（ａ）、図３（ｂ）に示される製造工程で透明支持体フィルム４０１の上にハードコート層を形成した後、反射防止層形成用塗布液を塗布して防眩性反射防止フィルムを製造するとき、ハードコート層の表面を大気圧プラズマ処理した後反射防止層形成用塗布液を塗布することが好ましい。又、高屈折率層及び／または中屈折率層を形成した後、大気圧プラズマ処理し、低屈折率層形成用塗布液を塗布することが好ましい。
【００４０】
大気圧プラズマ処理とは、低屈折率層の形成前に大気圧またはその近傍の圧力下で、対向する電極の間に周波数が５０ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚの高周波電圧を印加して放電を形成し、放電により形成された励起ガスを基材フィルム上のハードコート層、またはさらにその上に高屈折率層及び／または中屈折率層の表面に接触させることを言う。特に、周波数は５０ｋＨｚ〜２７ＭＨｚであることが好ましい。
【００４１】
対向する電極は、第１電極と第２電極とで構成され、何れか一方の電極に印加する高周波電圧の周波数が５０ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚであることが好ましい。また、前記第１電極に印加する高周波電圧の周波数が１〜２００ｋＨｚであり、かつ前記第２電極に印加する高周波電圧の周波数が８００ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚであることが好ましい。
【００４２】
具体的な処理として、ハードコート層、またはその上に高屈折率層及び／または中屈折率層を有する透明支持体フィルムを、大気圧もしくはその近傍の圧力下、第１電極と第２電極とで構成する対向電極間に、第１電極には第１の周波数ω１の電圧成分の高周波電圧を印加し、第２電極には第２の周波数ω２の電圧成分の高周波電圧を印加して放電を形成し、放電により形成された励起ガスに透明支持体フィルムの表面を接触させることであるる。
【００４３】
本発明に適用できる大気圧プラズマ処理としては、特開平１１−１３３２０５号公報、特開２０００−１８５３６２号公報、特開平１１−６１４０６号公報、特開２０００−１４７２０９号公報、同２０００−１２１８０４号公報等に開示されている技術を参考にすることができる。
【００４４】
最初に、本発明に有用な大気圧プラズマ処理方法及びその装置に付いて説明する。大気圧もしくはその近傍の圧力下で、放電空間（対向電極間）にガスを供給し、放電空間に高周波電圧を印加し、ガスを励起してプラズマ状態とし、この励起したプラズマ状態のガスに透明支持体フィルムの表面を晒すものである。対向電極間で形成する放電空間に印加する高周波電圧は、一つの周波数の高周波であってもよいし、二つあるいはそれ以上の周波数の高周波であってもよい。
【００４５】
大気圧プラズマ処理は、大気圧もしくはその近傍の圧力下で行われるが、大気圧もしくはその近傍の圧力とは２０〜１１０ｋＰａ程度であり、更には、９３〜１０４ｋＰａが好ましい。
【００４６】
対向電極間（放電空間）に供給するガスは、少なくとも、高周波電圧により励起する励起ガス、または、高周波電圧により励起する励起ガスとそのエネルギーを受け取ってプラズマ状態あるいは励起状態になるガスとを含んでいる。高周波とは、少なくとも０．５ｋＨｚの周波数を有するものを言う。
【００４７】
一つの周波数の高周波電圧でプラズマ放電処理する場合（１周波数高周波電圧印加方式という場合がある）、または二つの周波数の高周波電圧でプラズマ放電処理する場合（２周波数高周波電圧印加方式という場合がある）の電極は全く同じものが使用でき、装置自体は大きな違いはない。異なる点は、高周波電源が二つ、それに付随するフィルターがあること、さらに対向電極の両方の電極から高周波電圧を印加することである。次に、図４で２周波数高周波電圧印加方式の大気圧プラズマ処理装置を説明する。
【００４８】
図４は２周波数高周波電圧印加方式の大気圧プラズマ処理装置の一例を示す概略図である。
【００４９】
図中、９は大気圧プラズマ処理装置を示す。９ａはプラズマ放電容器を示し、プラズマ放電容器９ａの内部には、高周波電圧を印加する印加電極（角筒型電極・第１電極）９ａ１とその下側にある基材フィルムＦを巻き回すロール型アース電極（第２電極）９ａ２とを有し、印加電極（角筒型電極・第１電極）９ａ１とロール型アース電極（第２電極）９ａ２とで対向電極を形成している。印加電極（角筒型電極・第１電極）９ａ１は何個並べてもよい。ガス発生装置９ｄで発生したガスＧは、プラズマ放電容器９ａのガス供給口９ａ３から供給され、ガスＧを均一化するメッシュ（不図示）を通り、印加電極（角筒型電極・第１電極）９ａ１の間及び印加電極（角筒型電極・第１電極）９ａ１とプラズマ放電容器９ａの内壁に沿って通り、対向電極の間の放電空間９ａ４をガスＧで満たした後、排気口９ｅ１（９ｅ２）から排気される。９ｆ１（９ｆ２）は、放電空間９ａ４にガスＧを満たすための仕切り板を示す。９ｇ１（９ｇ２）は、基材Ｓのガイドロールを示し、９ｈ１（９ｈ２）はニップロールを示す。
【００５０】
ロール型アース電極（第２電極）９ａ２と第１電源９ｂ１との間には、第１電源９ｂ１からの電流がロール型アース電極（第２電極）９ａ２に向かって流れるように第１フィルター９ｂ１１が設置されており、第１フィルター９ｂ１１は第１電源９ｂ１からの電流を通過し難くし、第２電源９ｂ２からの電流を通過し易くするように設計されている。また、印加電極（角筒型電極・第１電極）９ａ１と第２電源９ｂ２との間には、第２電源９ｂ２からの電流が印加電極（角筒型電極・第１電極）９ａ１に向かって流れるように第２フィルター９ｂ２１が設置されており、第２フィルター９ｂ２１は、第２電源９ｂ２からの電流を通過し難くし、第１電源９ｂ１からの電流を通過し易くするように設計されている。ここで、通過し難いとは、好ましくは、電流の２０％以下、より好ましくは１０％以下しか通さないことをいう。逆に通過し易いとは、好ましくは電流の８０％以上、より好ましくは９０％以上を通すことをいう。
【００５１】
使用する第１フィルター、第２フィルターとしては、上記の様な性質のあるフィルターであれば制限なく使用できる。例えば、第１フィルターとしては、第２電源の周波数に応じて数１０〜数万ｐＦのコンデンサー、もしくは数μＨ程度のコイルを用いることができる。第２フィルターとしては、第１電源の周波数に応じて１０μＨ以上のコイルを用い、これらのコイルまたはコンデンサーを介してアース接地することでフィルターとして使用できる。
【００５２】
ロール型アース電極９ａ２と印加電極（角筒型電極・第１電極）９ａ１との間の放電空間（対向電極間）９ａ４に、ロール型アース電極（第２電極）９ａ２には印加電極（角筒型電極・第１電極）９ｂ１から周波数ω１であって高周波電圧Ｖ１を、また印加電極（角筒型電極・第１電極）９ａ１には第２電源９ｂ２から周波数ω２であって高周波電圧Ｖ２をかけるようになっている。
【００５３】
放電空間９ａ４で励起したガスＧに基材Ｓが晒される。印加する高周波電圧の周波数が５０ｋＨｚ以上であることが好ましい。より好ましくは、処理効果、放電形成、設備等を考慮し、５０ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚの範囲である。また、前記第１電極に印加する高周波電圧の周波数が１〜２００ｋＨｚであり、かつ前記第２電極に印加する高周波電圧の周波数が８００ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚであることが好ましい。
【００５４】
励起したガスＧに基材フィルムＦが晒される間、電極温度調節手段９ｃから配管９ｃ１を経て電極を加熱または冷却する。プラズマ放電処理の際の基材の温度によっては、得られる薄膜の物性や組成は変化することがあり、これに対して適宜制御することが望ましい。温度調節の媒体としては、蒸留水、油等の絶縁性材料が好ましく用いられる。プラズマ放電処理の際、幅手方向あるいは長手方向での基材の温度ムラができるだけ生じないように電極の内部の温度を均等に調節することが望まれる。
【００５５】
本図で基材Ｓは、図３（ａ）、図３（ｂ）に示される製造工程で製造された、ハードコート層を有する透明支持体フィルム４０１、またはその上に高屈折率層及び／または中屈折率層を有する透明支持体フィルム等が挙げられる。
【００５６】
図５は、本発明に係る凹凸形状面を有する透明支持体フィルムの製造する製造工程の模式図である。尚、本図は透明支持体フィルムとしてセルローストリアセテートフィルムを流延方式で製造する場合を示している。
【００５７】
図中、１０は製造工程を示す。製造工程１０は、流延工程１０Ａと、凹凸形状成形工程１０Ｂと、延伸工程１０Ｃと、乾燥処理工程１０Ｄと、巻き取り工程１０Ｅとを有している。
【００５８】
流延工程１０Ａは、２つの支持ロール１０Ａ１に保持され、２つの支持ロール１０Ａ１の間を連続的に移動（図中の矢印方向）する流延用ベルト１０Ａ２と、ダイス１０Ａ３とを有している。凹凸形状成形工程１０Ｂは、凹凸形状成形用ローラ１０Ｂ１と、バックロール１０Ｂ２とを有している。延伸工程１０Ｃは、延伸装置としてテンター（不図示）を有している。乾燥処理工程１０Ｄは、乾燥用空気の供給口１０Ｄ２と、排気口１０Ｄ３とを有する乾燥装置１０Ｄを有している。次に本図に示される製造工程１０を使用して、表面に凹凸形状を有するセルローストリアセテートフィルムを製造する概要を説明する。
予め調液されたセルローストリアセテート溶液（ドープとも言う）を流延工程１０Ａのダイス１０Ａ３より流延用ベルト１０Ａ２上に流延し、ウェブ（金属支持体上にドープを流延した以降の残留溶媒を含むフィルムをウェブと言う）を形成し、必要とする残留溶媒量になるまで溶媒を蒸発させる。この後、流延用ベルト１０Ａ２からウェブを剥離し、凹凸形状成形工程１０Ｂでバックロール１０Ｂ２上で凹凸形状成形用ローラ１０Ｂ１で押厚されることにより凹凸形状成形用ローラ１０Ｂ１の凹凸形状パターンがウェブの表面に転写され凹凸形状が形成される。尚、必要に応じて凹凸形状成形用ローラ１０Ｂ１と、バックロール１０Ｂ２との位置を逆にして裏面側にも凹凸形状を形成することが可能である。その後、延伸工程１０Ｃの延伸装置のテンター（不図示）によりウェブは延伸される。尚、延伸工程ではＴＤ方向（フィルムの搬送方向と直交する方向）に熱をかけて延伸し、次の乾燥処理工程１０Ｄの乾燥装置１０Ｄ１により乾燥され、表面に凹凸形状を有するセルローストリアセテートフィルム１００１が出来、巻き取り工程１０Ｅで巻き芯に巻き取られ、ロール状として保管される。尚、乾燥終了後に必要とする幅にスリットするスリット工程を設けてもよいし、セルローストリアセテートフィルム１００１の両端にナーリング加工を施すナーリング加工を設けることも可能である。
【００５９】
又、凹凸形状成形工程１０Ｂは、延伸工程１０Ｃと、乾燥処理工程１０Ｄとの間又は乾燥処理工程１０Ｄの中、乾燥処理工程１０Ｄの後で行うことも可能である。又、凹凸形状成形用ローラ１０Ｂ１と、バックロール１０Ｂ２の数も必要に応じて複数の凹凸型ローラとバックロールを用いることも可能である。凹凸形状も凹凸形状成形用ローラ１０Ｂ１の凹凸形状パターンを変えることで変化することが可能である。尚、本図に示される製造工程の凹凸形状成形工程１０Ｂで凹凸形状を形成する場合は、ウェブの剥離直後であるため、ウェブ中の残留溶媒量は通常２０〜１８０質量％での範囲であり、好ましい残留溶媒量は６０〜１５０質量％で、特に好ましくは８０〜１４０質量％である。尚、残留溶媒量は下記の式で計算で求めた値である。残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量、ＮはＭを１１０℃で３時間乾燥させた時の質量である。
【００６０】
次に本発明に係わる防眩性フィルム、防眩性反射防止フィルムを構成している材料に付き説明する。本発明の凹凸表面を有する透明支持体フィルムは、表面が平滑である透明支持体フィルムが軟化している状態で凹凸を有する凹凸型ローラで型押しする製造方法により得ることが出来る。また、フィルム状に流延する段階で各種の凹凸型に接して凹凸表面とする方法を用いても良い。前記軟化状態としては、溶融流延法でフィルムを形成する場合には冷却固化する前の加熱状態であり、溶液流延法でフィルムを形成する場合には溶剤が残留している状態である。具体的には、フィルム製造工程内で加熱されたフィルムを室温まで戻すことなく、フィルム面に凹凸型ローラを押し当てて表面に凹凸を形成する製造方法、透明支持体フィルムの製膜工程でフィルム面に凹凸型ローラを押し当てて表面に凹凸を形成する前もしくは後にテンターで延伸し、長尺方向に延伸した後フィルム面に凹凸型ローラを押し当てて表面に凹凸を形成する製造方法、製膜工程が溶液流延方式であり、透明支持体フィルムを有機溶剤に溶解したドープを平滑面を有する支持体上に流延し、剥離可能となるまで支持体上で有機溶剤を揮発させた後剥ぎ取った平滑面を有するフィルムを乾燥する工程のいずれかで、フィルム面に凹凸型ローラを押し当てて表面に凹凸を形成する製造方法、溶液流延製膜工程で、残留溶媒を含有する透明支持体フィルムに凹凸型ローラを押し当てて表面に凹凸を形成し、残留溶媒中の貧溶媒比率が１０質量％以上のときに凹凸型ローラにより凹凸を形成する製造方法、フィルム面に凹凸型ローラを押し当てて表面に凹凸を形成した後、１００℃以上で熱処理する工程を有すること、共流延または逐次流延若しくは塗布によって２層以上の多層構成とした透明支持体フィルムに凹凸型ローラを押し当てて表面に凹凸を形成する製造方法、凹凸型ローラによる凹凸付与部の前もしくは後に除電装置を設ける製造方法などが安定再現良く凹凸面を形成する上で好ましい態様である。また、凹凸を形成する際のフィルムの搬送速度は１０ｍ／ｍｉｎ〜１００ｍ／ｍｉｎが好ましい。
【００６１】
除電装置に関しては、特開２００１−１２９８３９号公報段落番号［００２８］〜［００３２］及び［００３４］〜［００３５］に記載されているものが好ましく用いられるが、例えば、キーエンス社製のＳＪ−Ｂ０１等の除電バーを凹凸形成用凹凸型ローラの近傍に設置することが静電気によるゴミ等の吸着を防ぎ、ウェブ上に均一な凹凸面を形成する上で好ましい。また、凹凸形成部でのフィルム破断が減るため好ましく用いられる。
【００６２】
（透明支持体フィルム）
一般に光学フィルムに用いられる透明支持体フィルムとしては、セルロースエステルフィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム又はアクリルフィルム等を挙げることが出来るが、本発明では、製造が容易であること、活性エネルギー線硬化樹脂層への接着性がよいこと、光学的に等方性であること、光学的に透明性であることから、透明支持体フィルムとしてセルロースエステルフィルムが好ましい。セルロースエステルフィルムの内では、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルムが、製造上、コスト面、透明性、等方性、接着性等の面から好ましい。具体的には、例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＸ２Ｍ、ＫＣ４ＵＸ２Ｍ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＴ、ＫＣ５ＵＮ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４（以上、コニカミノルタオプト（株）製）が好ましく用いられる。
【００６３】
（セルロースエステルフィルム）
本発明に用いられるセルロースエステルは、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、特開平１０−４５８０４号、同８−２３１７６１号、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独又は混合して用いることが出来る。
【００６４】
セルロースエステルの分子量が小さ過ぎると引裂強度が低下するが、分子量を上げ過ぎるとセルロースエステルの溶解液の粘度が高くなり過ぎるため生産性が低下する。セルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で７００００〜２０００００のものが好ましく、１０００００〜２０００００のものが更に好ましい。
【００６５】
セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度（結合酢酸量）５４．０〜６２．５％のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が５８．０〜６２．５％のセルローストリアセテートである。平均酢化度が小さいと寸法変化が大きく、又偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと溶剤に対する溶解度が低下し生産性が下がる。
【００６６】
セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。
【００６７】
式（Ｉ）  ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II）  ０≦Ｘ≦２．５
この内、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．９≦Ｘ≦２．５、０．１≦Ｙ≦０．９であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することが出来る。
【００６８】
セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独又は混合して用いることが出来る。特に綿花リンター（以下、単にリンターとすることがある）から合成されたセルロースエステルを単独又は混合して用いることが好ましい。
【００６９】
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは、溶液流延法で製造されるものでも、溶融流延法で製造されるものでもよいが、少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残留溶媒量が３〜４０質量％である時に幅手方向に１．０１〜１．５倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に２軸延伸することであり、剥離残留溶媒量が３〜４０質量％である時に幅手方向及び長手方向に、各々１．０１〜１．５倍に延伸されることが望ましい。こうすることによって、視認性に優れた反射防止フィルムを得ることが出来る。このときの延伸倍率としては１．０１〜１．５倍が好ましく、特に好ましくは、１．０３〜１．４５倍である。
【００７０】
本発明においては長尺フィルムを用いることが好ましく、長尺とは具体的には１００〜５０００ｍ程度のものを言う。又、フィルムの幅は１．３ｍ以上が好ましく、１．３〜４ｍ、好ましくは１．３〜２ｍであることがより好ましい。本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは、光透過率が９０％以上、より好ましくは９３％以上であることが好ましい。
【００７１】
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは、その厚さが１０〜１００μｍのものが好ましく、透湿性は、２５℃、９０±２％ＲＨにおいて、２００ｇ／ｍ2・２４時間以下であることが好ましく、更に好ましくは、１０〜１８０ｇ／ｍ2・２４時間以下であり、特に好ましくは、１６０ｇ／ｍ2・２４時間以下である。特には、膜厚２０〜７０μｍで透湿性が上記範囲内であることが好ましい。ここで、支持体の透湿性は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法に準じて、各試料の透湿性を測定することが出来る。
【００７２】
（可塑剤）
セルロースエステルフィルムには、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることが出来る。
【００７３】
リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることが出来る。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。
【００７４】
ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることが出来る。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることが出来る。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることが出来る。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
【００７５】
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールであることが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることが出来る。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上持つ芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に安息香酸であることが好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【００７６】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。又、多価アルコール中のＯＨ基はカルボン酸で全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【００７７】
これらの可塑剤は単独又は併用するのが好ましい。これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３〜１３質量％である。
【００７８】
（紫外線吸収剤）
本発明では、透明支持体フィルムに紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００７９】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式（Ａ）で示される化合物が好ましく用いられる。
【００８０】
【化１】
2007233129.tif 000003
【００８１】
式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基又は５〜６員の複素環基を表し、Ｒ4とＲ5は閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。又、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。
【００８２】
以下に本発明に用いられる紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【００８３】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、チバスペシャルティケミカルズ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、チバスペシャルティケミカルズ製）
又、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式（Ｂ）で表される化合物が好ましく用いられる。
【００８４】
【化２】
2007233129.tif 000004
【００８５】
式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基又は−ＣＯ（ＮＨ）n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ｍ及びｎは１又は２を表す。
【００８６】
上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数２４までの直鎖又は分岐の脂肪族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までのアルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数１６までのアルケニル基でアリル基、２−ブテニル基等を表す。又、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基又はハロゲン原子等を置換していてもよい）等が挙げられる。
【００８７】
以下に一般式（Ｂ）で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【００８８】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
【００８９】
又、特開平６−１４８４３０号の一般式（１）又は一般式（２）、特願２０００−１５６０３９の一般式（３）、（６）、（７）記載の高分子紫外線吸収剤（又は紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学（株）製）等が市販されている。
【００９０】
（微粒子）
本発明において、セルロースエステルフィルム中に防眩性を付与しない程度に微粒子を含有していることが好ましく、微粒子としては、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さく出来るので好ましい。微粒子の２次粒子の平均粒径は０．０１〜１．０μｍの範囲で、その含有量はセルロースエステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子には有機物により表面処理されている場合が多いが、この様なものはフィルムのヘイズを低下出来るため好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類（特にメチル基を有するアルコキシシラン類）、シラザン、シロキサン等が挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方がマット効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍで、より好ましくは７〜１６ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、通常、凝集体として存在しセルロースエステルフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としてはアエロジル社製のＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることが出来、好ましくはＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することが出来る。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えばＡＥＲＯＳＩＬ（アエロジル）２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９：０．１の範囲で使用出来る。本発明において、微粒子はドープ調製時、セルロースエステル、他の添加剤及び有機溶媒とともに含有させて分散してもよいが、セルロースエステル溶液とは、別に微粒子分散液のような十分に分散させた状態でドープを調製するのが好ましい。微粒子を分散させるために、前もって有機溶媒にひたしてから高剪断力を有する分散機（高圧分散装置）で細分散させておくのが好ましい。その後により多量の有機溶媒に分散して、セルロースエステル溶液と合流させ、インラインミキサーで混合してドープとすることが好ましい。この場合、微粒子分散液に紫外線吸収剤を加え紫外線吸収剤液としてもよい。
【００９１】
上記の劣化防止剤、紫外線吸収剤及び／又は微粒子は、セルロースエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
【００９２】
（有機溶媒）
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムを溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル、芳香族環を少なくとも２つ有し、かつ少なくとも２つの芳香族環が平面構造を有する化合物、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることが出来る。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、蟻酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。特に酢酸メチルが好ましい。
【００９３】
ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、又、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることが出来る。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。
【００９４】
ドープ中のセルロースエステルの濃度は１５〜４０質量％、ドープ粘度は１０〜５０Ｐａ・ｓの範囲に調整されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。
【００９５】
（ハードコート層）
本発明のハードコート層は、活性エネルギー線硬化樹脂層であることが好ましく、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層を言う。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。
【００９６】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
【００９７】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）一部との混合物等が好ましく用いられる。
【００９８】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。
【００９９】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。
【０１００】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、用いられるエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を示す。
【０１０１】
（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエーテル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノールＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得られる）
（ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイド及び／又はプロピレンオキサイドを反応させ末端にグリシジルエーテル基を有する化合物
（ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジルエーテル
（ｄ）ノボラック樹脂又はレゾール樹脂のフェノールフォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物
（ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン
（ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグリシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート
（ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
（ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリアクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグリシジルエステル
（ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル
（ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグリシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例と同様のもの
（ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物等を挙げることが出来る。
【０１０２】
上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子量として２０００以下で、好ましくは１０００以下である。
【０１０３】
上記のエポキシ化合物を活性エネルギー線により硬化する場合、より硬度を上げるためには、（ｈ）又は（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合物を混合して用いると効果的である。
【０１０４】
エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物をカチオン重合させる光重合開始剤又は光増感剤は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出するオニウム塩の一群の複塩である。
【０１０５】
活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造又は網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。
【０１０６】
本発明に有用な活性エネルギー線反応性エポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出する光重合開始剤又は光増感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。
【０１０７】
係る代表的なものは下記一般式（ａ）で表される化合物である。
【０１０８】
一般式（ａ）
〔（Ｒ1）a（Ｒ2）b（Ｒ3）c（Ｒ4）dＺ〕w+〔ＭｅＸv〕w-
式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、Ｂｒ、Ｃｌ）、又はＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属又は半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
【０１０９】
上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸv〕w-の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ4-）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ4-）等を挙げることが出来る。
【０１１０】
又、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン（ＣｌＯ4-）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ3ＳＯ3-）、トルエンスルホン酸イオン等を挙げることが出来る。
【０１１１】
この様なオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でもＶＩＡ族芳香族オニウム塩、オキソスルホキソニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、チオピリリュム塩等が好ましい。又、アルミニウム錯体や光分解性ケイ素化合物系重合開始剤等を挙げることが出来る。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することが出来る。
【０１１２】
又、エポキシアクリレート基を有する活性エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤を用いることが出来る。この活性エネルギー線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫外線反応性化合物１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好ましくは１質量部〜１０質量部である。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。
【０１１３】
本発明に有用な活性エネルギー線硬化樹脂組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネルギー線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質量部に対して０．１質量部〜１５質量部の使用が好ましく、更に好ましくは、１質量部〜１０質量部の範囲の添加が好ましい。
【０１１４】
又、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリレート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併用することも出来、この場合、活性エネルギー線ラジカル重合開始剤と活性エネルギー線カチオン重合開始剤を併用することが好ましい。
【０１１５】
又、本発明に係る活性エネルギー線硬化樹脂層には、オキセタン化合物を用いることも出来る。
【０１１６】
本発明に係る活性エネルギー線硬化樹脂層には、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又はゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを上記記載の活性エネルギー線硬化樹脂に混合して使用することが出来る。これらの樹脂は、その分子中に極性基を持っていることが好ましい。極性基としては、−ＣＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ2、−ＮＲ3Ｘ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＰＯ3Ｍ2、−ＯＰＯ3Ｍ（ここで、Ｍは水素原子、アルカリ金属又はアンモニウム基を、Ｘはアミン塩を形成する酸を、Ｒは水素原子、アルキル基を表す）等を挙げることが出来る。
【０１１７】
本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性化させるエネルギー源であれば制限なく使用出来るが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られると言う点で紫外線が最も好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。又、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、又はエキシマランプ等も用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍＪ／ｃｍ2以上が好ましく、更に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜１００００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは、５０ｍＪ／ｃｍ2〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【０１１８】
又、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよい。
【０１１９】
本発明に使用する上記活性エネルギー線硬化樹脂を光重合又は光架橋反応を開始させるには、上記活性エネルギー線硬化樹脂のみでも開始するが、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったりするため、光増感剤や光開始剤を用いることが好ましく、それにより重合を早めることが出来る。
【０１２０】
（光反応開始剤、光増感剤）
本発明に係る活性エネルギー線硬化樹脂は、活性エネルギー線の照射時において光反応開始剤、光増感剤を用いることが出来る。
【０１２１】
具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。又、エポキシアクリレート系樹脂の合成に光反応剤を使用する際に、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤及び／又は光増感剤の使用量は、組成物の１質量％〜１０質量％が好ましく、特に好ましくは２．５質量％〜６質量％である。
【０１２２】
又、活性エネルギー線硬化樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いる場合、前記紫外線硬化性樹脂の光硬化を妨げない程度に、後述する紫外線吸収剤を紫外線硬化性樹脂組成物に含ませてもよい。
【０１２３】
（酸化防止剤）
活性エネルギー線硬化樹脂層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることが出来る。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることが出来る。具体的には、例えば、４，４′−チオビス（６−ｔｅｒｔ−３−メチルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシチレン、ジ−オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることが出来る。
【０１２４】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アデカオプトマーＫＲ、ＢＹシリーズのＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（以上、旭電化工業（株）製）、コーエイハードのＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上、広栄化学工業（株）製）、セイカビームのＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上、大日精化工業（株）製）、ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上、ダイセル・ユーシービー（株））、ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）、サンラッド  Ｈ−６０１（三洋化成工業（株）製）、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（以上、昭和高分子（株）製）、ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、又はその他の市販のものから適宜選択して利用することが出来る。
【０１２５】
活性エネルギー線硬化樹脂を含む塗布組成物は、固形分濃度は１０質量％〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法により適当な濃度が選ばれる。
【０１２６】
（界面活性剤）
本発明に係る活性エネルギー線硬化樹脂層は界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、シリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。
【０１２７】
シリコーン系界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。
【０１２８】
非イオン面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない界面活性剤を総称して言うが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、又、ポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン）等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、又ポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシエチレン鎖）が長くなるに従って強くなる。本発明に係わる非イオン界面活性剤は疎水基としてジメチルポリシロキサンを有することに特徴がある。
【０１２９】
疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、活性エネルギー線硬化樹脂層や低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。他の界面活性剤を用いることでは得られない効果である。
【０１３０】
これらの非イオン活性剤の具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤  ＳＩＬＷＥＴ  Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｌ−７６０４、Ｙ−７００６、ＦＺ−２１０１、ＦＺ−２１０４、ＦＺ−２１０５、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１１８、ＦＺ−２１２０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１２３、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１５４、ＦＺ−２１６１、ＦＺ−２１６２、ＦＺ−２１６３、ＦＺ−２１６４、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１等が挙げられる。
【０１３１】
又、ＳＵＰＥＲＳＩＬＷＥＴ  ＳＳ−２８０１、ＳＳ−２８０２、ＳＳ−２８０３、ＳＳ−２８０４、ＳＳ−２８０５等が挙げられる。
【０１３２】
又、これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン系の界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。主鎖骨格の鎖長が長く、直鎖状の構造であることから、優れている。親水基と疎水基が交互に繰り返したブロックコポリマーであることにより、シリカ微粒子の表面を１つの活性剤分子が、複数の箇所で、これを覆うように吸着することが出来るためと考えられる。
【０１３３】
これらの具体例としては、例えば、日本ユニカー（株）製、シリコーン界面活性剤  ＡＢＮ  ＳＩＬＷＥＴ  ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７、ＦＺ−２２０８等が挙げられる。
【０１３４】
フッ素系界面活性剤としては、疎水基がパーフルオロカーボンチェインを持つ界面活性剤を用いることが出来る。種類としては、フルオロアルキルカルボン酸、Ｎ−パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、３−（フルオロアルキルオキシ）−１−アルキルスルホン酸ナトリウム、３−（ω−フルオロアルカノイル−Ｎ−エチルアミノ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−（３−パーフルオロオクタンスルホンアミド）プロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチレンアンモニウムベタイン、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、Ｎ−プロピル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキルスルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル−Ｎ−エチルスルホニルグリシン塩、リン酸ビス（Ｎ−パーフルオロオクチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノエチル）等が挙げられる。本発明では非イオン界面活性剤が好ましい。
【０１３５】
これらのフッ素系界面活性剤はメガファック、エフトップ、サーフロン、フタージェント、ユニダイン、フローラード、ゾニール等の商品名で市販されている。
【０１３６】
好ましい添加量は活性エネルギー線硬化樹脂層の塗布液に含まれる固形分当たり０．０１〜３．０％であり、より好ましくは０．０２〜１．０％である。
【０１３７】
しかしながら、他の界面活性剤も併用して用いてもよく、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、又、ポリオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等を併用してもよい。
【０１３８】
本発明に係る活性エネルギー線硬化樹脂層の屈折率は、低反射性フィルムを得るための光学設計上から屈折率が１．５〜２．０、特に１．６〜１．７であることが好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂層の屈折率は添加する微粒子或いは無機バインダーの屈折率や含有量によって調製することが出来る。
【０１３９】
又、活性エネルギー線硬化樹脂層組成物塗布液には、特にシリコーン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイル等が好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、１，０００〜１００，０００、好ましくは、２，０００〜５０，０００が適当であり、数平均分子量が１，０００未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が１００，０００を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。
【０１４０】
シリコーン化合物の市販品としては、ＤＫＱ８−７７９（ダウコーニング社製商品名）、ＳＦ３７７１、ＳＦ８４１０、ＳＦ８４１１、ＳＦ８４１９、ＳＦ８４２１、ＳＦ８４２８、ＳＨ２００、ＳＨ５１０、ＳＨ１１０７、ＳＨ３７４９、ＳＨ３７７１、ＢＸ１６−０３４、ＳＨ３７４６、ＳＨ３７４９、ＳＨ８４００、ＳＨ３７７１Ｍ、ＳＨ３７７２Ｍ、ＳＨ３７７３Ｍ、ＳＨ３７７５Ｍ、ＢＹ−１６−８３７、ＢＹ−１６−８３９、ＢＹ−１６−８６９、ＢＹ−１６−８７０、ＢＹ−１６−００４、ＢＹ−１６−８９１、ＢＹ−１６−８７２、ＢＹ−１６−８７４、ＢＹ２２−００８Ｍ、ＢＹ２２−０１２Ｍ、ＦＳ−１２６５（以上、東レ・ダウコーニングシリコーン社製商品名）、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１００Ｔ、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４、ＫＦ３５５、ＫＦ６１５、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５、ＫＦ６００４、シリコーンＸ−２２−９４５、Ｘ２２−１６０ＡＳ（以上、信越化学工業社製商品名）、ＸＦ３９４０、ＸＦ３９４９（以上、東芝シリコーン社製商品名）、ディスパロンＬＳ−００９（楠本化成社製）、グラノール４１０（共栄社油脂化学工業（株）製）、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４１、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（ＧＥ東芝シリコーン製）、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３６１（ビックケミ−ジャパン社製）日本ユニカー（株）製のＬシリーズ、Ｙシリーズ、ＦＺシリーズ等が挙げられ、好ましく用いられる。
【０１４１】
これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦傷性にも効果を発揮する。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１〜３質量％の範囲で添加することが好ましい。
【０１４２】
本発明の活性エネルギー線硬化樹脂層には導電性を有する金属酸化物微粒子を含有することも出来る。導電性を有する金属酸化物微粒子としては、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｓ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ａｌから選択される金属酸化物微粒子が好ましく、具体的には、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ（インジウムティンオキサイド）、酸化亜鉛、ケイ酸アルミニウムを挙げることが出来る。特に、ＩＴＯ等が好ましく用いられる。
【０１４３】
又、活性エネルギー線硬化樹脂層は、２層以上の重層構造を有していてもよく、その中の１層は例えば前記導電性微粒子、或いは、イオン性ポリマーを含有する所謂帯電防止層としてもよいし、又、種々の表示素子に対する色補正用フィルタとして色調調整機能を有する色調調整剤を含有させてもよいし、又電磁波遮断剤或いは赤外線吸収剤等を含有させそれぞれの機能を有するようにすることも出来る。
【０１４４】
〈低屈折率層〉
本発明に用いられる低屈折率層では以下の中空シリカ系微粒子が好ましく用いられる。
【０１４５】
（中空シリカ系微粒子）
中空微粒子は、（Ｉ）多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、又は（II）内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体又は多孔質物質で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率層には（Ｉ）複合粒子又は（II）空洞粒子の何れかが含まれていればよく、又双方が含まれていてもよい。
【０１４６】
尚、空洞粒子は内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体又は多孔質物質等の内容物で充填されている。この様な中空球状微粒子の平均粒子径が５〜３００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲にあることが望ましい。使用される中空球状微粒子は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層等の透明被膜の膜厚の２／３〜１／１０の範囲にあることが望ましい。これらの中空球状微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール）及びケトン（例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、ケトンアルコール（例えばジアセトンアルコール）が好ましい。
【０１４７】
複合粒子の被覆層の厚さ又は空洞粒子の粒子壁の厚さは、１〜２０ｎｍ、好ましくは２〜１５ｎｍの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが１ｎｍ未満の場合は、粒子を完全に被覆することが出来ないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマー等が容易に複合粒子の内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。又、被覆層の厚さが２０ｎｍを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性（細孔容積）が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。又空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが１ｎｍ未満の場合は、粒子形状を維持出来ないことがあり、又厚さが２０ｎｍを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。
【０１４８】
複合粒子の被覆層又は空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。又、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｐ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＭｏＯ3、ＺｎＯ2、ＷＯ3等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、ＣａＦ2、ＮａＦ、ＮａＡｌＦ6、ＭｇＦ等からなるものが挙げられる。この内特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、Ｐ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＭｏＯ3、ＺｎＯ2、ＷＯ3等との１種又は２種以上を挙げることが出来る。この様な多孔質粒子では、シリカをＳｉＯ2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算（ＭＯX）で表した時のモル比ＭＯX／ＳｉＯ2が、０．０００１〜１．０、好ましくは０．００１〜０．３の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比ＭＯX／ＳｉＯ2が０．０００１未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。又、多孔質粒子のモル比ＭＯX／ＳｉＯ2が、１．０を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、更に屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。
【０１４９】
この様な多孔質粒子の細孔容積は、０．１〜１．５ｍｌ／ｇ、好ましくは０．２〜１．５ｍｌ／ｇの範囲であることが望ましい。細孔容積が０．１ｍｌ／ｇ未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、１．５ｍｌ／ｇを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。尚、この様な多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることが出来る。又、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。又多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例表した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。
【０１５０】
この様な中空球状微粒子の製造方法としては、例えば特開平７−１３３１０５号公報の段落番号［００１０］〜［００３３］に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。
【０１５１】
この様にして得られた中空微粒子の屈折率は、内部が空洞であるので屈折率が低く、それを用いた本発明に用いられる低屈折率層の屈折率は、１．３０〜１．５０であることが好ましく、１．３５〜１．４４であることが更に好ましい。
【０１５２】
外殻層を有し、内部が多孔質又は空洞である中空シリカ系微粒子の低屈折率層塗布液中の含量（質量）は、１０〜８０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜６０質量％である。
【０１５３】
（テトラアルコキシシラン化合物又はその加水分解物）
本発明に用いられる低屈折率層には、ゾルゲル素材としてテトラアルコキシシラン化合物又はその加水分解物が含有されることが好ましい。
【０１５４】
本発明に用いられる低屈折率層用の素材として、前記無機ケイ素酸化物以外に有機基を有するケイ素酸化物を用いることも好ましい。これらは一般にゾルゲル素材と呼ばれるが、金属アルコレート、オルガノアルコキシ金属化合物及びその加水分解物を用いることが出来る。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等）、アルキルトリアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等）、アリールトリアルコキシシラン（フェニルトリメトキシシラン等）、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。
【０１５５】
本発明に用いられる低屈折率層は前記ケイ素酸化物と下記シランカップリング剤を含むことが好ましい。
【０１５６】
具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン等が挙げられる。
【０１５７】
又、ケイ素に対して２置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。
【０１５８】
シランカップリング剤の具体例としては、信越化学工業株式会社製ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＥ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３等が挙げられる。
【０１５９】
これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、前述のケイ素酸化物粒子及び有機基を有するケイ素酸化物の表面が反応し易く、より強固な膜が形成される。又、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えてもよい。
【０１６０】
又、低屈折率層は、５〜５０質量％の量のポリマーを含むことも出来る。ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持出来るように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の１０〜３０質量％であることが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するためには、（１）微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、（２）微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成するか、或いは（３）微粒子間のバインダーとして、ポリマーを使用することが好ましい。
【０１６１】
バインダーポリマーは、飽和炭化水素又はポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。２以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼン及びその誘導体（例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例えば、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例えば、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが挙げられる。
【０１６２】
又、本発明に用いられる低屈折率層が、熱又は電離放射線により架橋する含フッ素樹脂（以下、「架橋前の含フッ素樹脂」とも言う）の架橋からなる低屈折率層であってもよい。
【０１６３】
架橋前の含フッ素樹脂としては、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることが出来る。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えば、ビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内に予め架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー（例えば、（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等）が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう１つ以上の反応性基を持つ化合物を加えることにより、架橋構造を導入出来ることが特開平１０−２５３８８号、同１０−１４７７３９号に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、若しくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤若しくはエポキシ基と熱酸発生剤等の相み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤若しくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光（好ましくは紫外線、電子ビーム等）の照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。
【０１６４】
架橋前の含フッ素共重合体を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合は、含フッ素ビニルモノマーが好ましくは２０〜７０モル％、より好ましくは４０〜７０モル％、架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは１〜２０モル％、より好ましくは５〜２０モル％、併用されるその他のモノマーが好ましくは１０〜７０モル％、より好ましくは１０〜５０モル％の割合である。
【０１６５】
本発明に用いられる低屈折率層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号）により、塗布により形成することが出来る。又、２以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２，７６１，７９１号、同２，９４１，８９８号、同３，５０８，９４７号、同３，５２６，５２８号及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【０１６６】
本発明に用いられる低屈折率層の膜厚は５０〜２００ｎｍであることが好ましく、６０〜１５０ｎｍであることがより好ましい。
【０１６７】
〈高屈折率層及び中屈折率層〉
本発明においては、反射率の低減のために凹凸形状の透明支持体、ハードコート層と低屈折率層との間に、高屈折率層を設けることが好ましい。又、該透明支持体と高屈折率層との間に中屈折率層を設けることは、反射率の低減のために更に好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．５５〜２．３０であることが好ましく、１．５７〜２．２０であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、透明支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．８０であることが好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．２μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．１μｍであることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０１６８】
本発明に用いられる中、高屈折率層は下記一般式（１）で表される有機チタン化合物のモノマー、オリゴマー又はそれらの加水分解物を含有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させた屈折率１．５５〜２．５の層であることが好ましい。
【０１６９】
一般式（１）  Ｔｉ（ＯＲ1）4
式中、Ｒ1としては炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基がよいが、好ましくは炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基である。又、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマー又はそれらの加水分解物は、アルコキシド基が加水分解を受けて−Ｔｉ−Ｏ−Ｔｉ−のように反応して架橋構造を作り、硬化した層を形成する。
【０１７０】
本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーとしては、Ｔｉ（ＯＣＨ3）4、Ｔｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7）4の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4の２〜１０量体等が好ましい例として挙げられる。これらは単独で、又は２種以上組み合わせて用いることが出来る。中でもＴｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4の２〜１０量体が特に好ましい。
【０１７１】
本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマー又はそれらの加水分解物は、塗布液に含まれる固形分中の５０．０質量％〜９８．０質量％を占めていることが望ましい。固形分比率は５０質量％〜９０質量％がより好ましく、５５質量％〜９０質量％が更に好ましい。この他、塗布組成物には有機チタン化合物のポリマー（予め有機チタン化合物の加水分解を行って架橋したもの）或いは酸化チタン微粒子を添加することも好ましい。
【０１７２】
本発明に好ましく用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、金属酸化物微粒子を固形成分として２０〜９０％（質量比率）の範囲で含有し、更にバインダーポリマーを含むことが好ましい。微粒子として金属酸化物粒子を含み、更にバインダーポリマーを含むことが好ましい。
【０１７３】
上記塗布液調製法で加水分解／重合した有機チタン化合物と金属酸化物粒子を組み合わせると、金属酸化物粒子と加水分解／重合した有機チタン化合物とが強固に接着し、粒子の持つ硬さと均一膜の柔軟性を兼ね備えた強い塗膜を得ることが出来る。
【０１７４】
高屈折率層及び中屈折率層に用いる金属酸化物粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０であることが好ましく、１．９０〜２．８０であることが更に好ましい。金属酸化物粒子の一次粒子の質量平均径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることが更に好ましく、１〜８０ｎｍであることが最も好ましい。層中での金属酸化物粒子の質量平均径は、１〜２００ｎｍであることが好ましく、５〜１５０ｎｍであることがより好ましく、１０〜１００ｎｍであることが更に好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。金属酸化物粒子の平均粒径は、２０〜３０ｎｍ以上であれば光散乱法により、２０〜３０ｎｍ以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。金属酸化物粒子の比表面積は、ＢＥＴ法で測定された値として、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることが更に好ましく、３０〜１５０ｍ2／ｇであることが最も好ましい。
【０１７５】
金属酸化物粒子の例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも１種の元素を有する金属酸化物であり、具体的には二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化ジルコニウムが挙げられる。中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。金属酸化物粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことが出来る。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳ等が挙げられる。
【０１７６】
金属酸化物粒子は表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物又は有機化合物を用いて実施することが出来る。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。
【０１７７】
高屈折率層及び中屈折率層中の金属酸化物粒子の割合は、５〜９５体積％であることが好ましく、より好ましくは２０〜９０体積％であり、更に好ましくは４０〜８５体積％である。
【０１７８】
上記金属酸化物粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層及び中屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。
【０１７９】
又金属酸化物粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。又、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。
【０１８０】
本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、架橋構造を有するポリマー（以下、架橋ポリマーとも言う）をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。
【０１８１】
前記バインダーポリマーに用いられるモノマーとしては、２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーが最も好ましいが、その例としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼン及びその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミド等が挙げられる。アニオン性基を有するモノマー、及びアミノ基又は４級アンモニウム基を有するモノマーは市販のモノマーを用いてもよい。好ましく用いられる市販のアニオン性基を有するモノマーとしては、ＫＡＹＡＭＡＲＰＭ−２１、ＰＭ−２（日本化薬（株）製）、ＡｎｔｏｘＭＳ−６０、ＭＳ−２Ｎ、ＭＳ−ＮＨ４（日本乳化剤（株）製）、アロニックスＭ−５０００、Ｍ−６０００、Ｍ−８０００シリーズ（東亞合成化学工業（株）製）、ビスコート＃２０００シリーズ（大阪有機化学工業（株）製）、ニューフロンティアＧＸ−８２８９（第一工業製薬（株）製）、ＮＫエステルＣＢ−１、Ａ−ＳＡ（新中村化学工業（株）製）、ＡＲ−１００、ＭＲ−１００、ＭＲ−２００（第八化学工業（株）製）等が挙げられる。又、好ましく用いられる市販のアミノ基又は４級アンモニウム基を有するモノマーとしてはＤＭＡＡ（大阪有機化学工業（株）製）、ＤＭＡＥＡ，ＤＭＡＰＡＡ（興人（株）製）、ブレンマーＱＡ（日本油脂（株）製）、ニューフロンティアＣ−１６１５（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【０１８２】
ポリマーの重合反応は、光重合反応又は熱重合反応を用いることが出来る。特に光重合反応が好ましい。重合反応のため、重合開始剤を使用することが好ましい。例えば、活性エネルギー線硬化樹脂層のバインダーポリマーを形成するために用いられる熱重合開始剤、及び光重合開始剤が挙げられる。
【０１８３】
重合開始剤として市販の重合開始剤を使用してもよい。重合開始剤に加えて、重合促進剤を使用してもよい。重合開始剤と重合促進剤の添加量は、モノマーの全量の０．２〜１０質量％の範囲であることが好ましい。
【０１８４】
反射防止層の各層又はその塗布液には、前述した成分（金属酸化物粒子、ポリマー、分散媒体、重合開始剤、重合促進剤）以外に、重合禁止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤や接着付与剤を添加してもよい。
【０１８５】
本発明に用いられる中〜高屈折率層及び低屈折率層の塗設後、金属アルコキシドを含む組成物の加水分解又は硬化を促進するため、活性エネルギー線を照射することが好ましい。より好ましくは、各層を塗設するごとに活性エネルギー線を照射することである。
【０１８６】
前記活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性させるエネルギー源であれば制限なく使用出来るが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られると言う点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。又、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、更に好ましくは、１００ｍＪ／ｃｍ2〜２，０００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは、４００ｍＪ／ｃｍ2〜２，０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【０１８７】
〔偏光板〕
本発明に用いられる偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明に係る防眩性反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＶ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＶ８ＵＸ−ＲＨＡ、以上コニカミノルタオプト（株）製）が好ましく用いられる。本発明に係る防眩性反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションＲｏが５９０ｎｍで、２０〜７０ｎｍ、Ｒｔが１００〜４００ｎｍの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開２００２−７１９５７、同２００３−１７０４９２記載の方法で作製することが出来る。又は、更にディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明に係る防眩性反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。
【０１８８】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明に係る防眩性反射防止フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
【０１８９】
従来の防眩性反射防止フィルムを使用した偏光板は平面性に劣り、反射像を見ると細かい波打ち状のムラが認められ、６０℃、９０％ＲＨの条件での耐久性試験により、波打ち状のムラが増大したが、これに対して本発明に係る防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板は、平面性に優れていた。又、６０℃、９０％ＲＨの条件での耐久性試験によっても波打ち状のムラが増加することはなかった。
【０１９０】
（画像表示装置）
本発明の防眩性反射防止フィルム若しくは偏光板を画像表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することが出来る。本発明に係る防眩性反射防止フィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ又はＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。又、本発明に係る防眩性反射防止フィルムは平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が３０型以上、特に３０型〜５４型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜け等もなく、その効果が長期間維持され、特にＭＶＡ型画像表示装置では顕著な効果が認められる。又、色ムラ、ギラツキや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないと言う効果があった。
【実施例】
【０１９１】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１９２】
実施例１
（透明支持体フィルムの作製）
透明支持体フィルムとして、表面の凹凸形状を有するセルローストリアセテートフィルムを図５に示す製造工程を使用し以下に示す方法で、幅１５００ｍｍ×５００ｍを作製した。下記に示すドープを調製し、次に、このドープ組成物を濾過し、冷却して３３℃に保ちステンレス製の流延用ベルト上に均一に流延した。流延用ベルトの上で、残留溶媒量が１００％になるまで溶媒を蒸発させ、流延用ベルトの上から剥離し、剥離したセルローストリアセテートフィルムのウェブを凹凸形状成形工程で凹凸形状成形用ローラを押し付けてハードコート層が形成される面に凹凸形状を形成した。その後、テンターでＴＤ方向（フィルムの搬送方向と直交する方向）に１２０℃で１．１倍に延伸した。テンターで延伸を始めた時の残留溶剤量は２０％であった。更に乾燥処理工程で搬送しながら残留溶剤量が０．１％になるまで高温処理した後、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端にナーリング加工を施して巻き取り、平均膜厚８０μｍ、表面平均粗さ０．９μｍ、平均凹凸周期２８μｍのセルローストリアセテートフィルムを作製した。
【０１９３】
尚、残留溶媒量は下記の式で計算で求めた値である。
【０１９４】
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量、ＮはＭを１１０℃で３時間乾燥させた時の質量である。
【０１９５】
表面平均粗さ（Ｒａ）はＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−９４に準じて算出した値である。
凹凸形状成形用ローラは、サンドブラスト法にて凹凸形状を加工した、直径２００ｍｍ、表面平均粗さ１．１μｍ、平均凹凸周期２５μｍの金属製エンボスローラを使用した。
【０１９６】
〈ドープ組成物〉
セルローストリアセテート（平均酢化度６２．０％）                １００質量部
可塑剤（トリメチロールプロパントリベンゾエート）                    ５質量部
可塑剤（エチルフタリルエチルグリコレート）                          ５質量部
紫外線吸収剤（２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル−６−（ｔ−ブチル）フェノール）                                  １質量部
紫外線吸収剤（２−〔（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェノール）                                                  １質量部
微粒子（アエロジルＲ９７２Ｖ、日本アエロジル（株）製）          ０．３質量部
メチレンクロライド                                              ４３０質量部
エタノール                                                        ９０質量部
上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物を得た。
【０１９７】
〔防眩性フィルムの作製〕
（ハードコート層の塗設）
前記の表面凹凸を有するセルローストリアセテートフィルムを２００ｍｍ幅に裁断してロール状に巻き、搬送速度１ｍ／分のテストプラント（図３（ａ）に示す製造工程）で、表１に記した条件で、下記に示すハードコート層形成用塗布液を塗布し、各３０ｍ分の防眩性フィルムを作製し、試料Ｎｏ．１０１〜１３２とした。尚、表中の乾燥処理工程、硬化処理工程の搬送角度は図３（ｃ）に示す重力方向を基準としたときの時計方向の角度θ１と反時計方向の角度θ２を示す。硬化処理工程は紫外線を照射して行った。
【０１９８】
〈ハードコート層形成用塗布液〉
下記材料を攪拌、混合しハードコート層形成用塗布液とした。
【０１９９】
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                          ７０質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート                            ３０質量部
光反応開始剤（イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製））
４質量部
酢酸エチル                                                      １５０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          １５０質量部
シリコン化合物（ＢＹＫ−３０７（ビックケミージャパン社製））    ０．４質量部
【０２００】
【表１】
2007233129.tif 000005
【０２０１】
評価
作製した各試料Ｎｏ．１０１〜１３２に付き、防眩性・蛍光灯の写り込み防止性、視認性・ムラ、鉛筆硬度（耐擦傷性）を以下に示す評価方法で評価し、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表２に示す。
【０２０２】
防眩性・蛍光灯の写り込み防止性の評価方法
試料を平坦で水平な台に置き、４０Ｗ蛍光灯（松下電器製ＦＬＲ４０Ｓ−ＥＸ−Ｄ／Ｍ）を５本並べて試料台に斜めから照らせるように高さ１．５ｍの高さに固定し、その写り込みを目視にて判定した。
【０２０３】
防眩性・蛍光灯の写り込み防止性の評価ランク
◎：蛍光灯の輪郭がぼけて写り込みが全く気にならない
○：蛍光灯の輪郭がぼけて写り込みが気にならない
△：蛍光灯の輪郭が僅かに認められる
×：蛍光灯の輪郭が分かり写り込みが気になる
視認性・ムラの評価方法
２０〜２５ｍの塗布の安定している部分に於ける写り込み防止性を目視にて観察した。
【０２０４】
ムラの評価ランク
◎：５ｍの長さに、写り込み防止性にムラがほとんど認められない
○：５ｍの長さに、写り込み防止性に１／１０以下の面積でムラが認められる
△：５ｍの長さに、写り込み防止性に１／３〜１／１０の面積でムラが認められる
×：５ｍの長さに、写り込み防止性に１／３以上の面積でムラが認められる
鉛筆硬度（耐擦傷性）の評価方法
異なる硬度の鉛筆を用い、１ｋｇ荷重下でＪＩＳ  Ｋ５４００で示される試験法に基づき硬度試験を行った。各々の防眩性フィルムの進行方向中央の１０〜２０ｍ長さの部分で２ｍ間隔で各位置での鉛筆硬度を測定し、その平均値を求めた。
【０２０５】
【表２】
2007233129.tif 000006
【０２０６】
本発明の有効性が確認された。
【０２０７】
実施例２
実施例１の試料Ｎｏ．１０２、１０５、１０９、１１８の防眩性フィルムについて、ハードコート層表面を、図４に示す大気圧プラズマ処理装置を用い、プラズマ処理を行った。電極間隙を０．５ｍｍとして、以下に示す放電ガスを放電空間に供給し、神鋼電機社製高周波電源を使用して、第１電極の周波数３ｋＨｚ、印加電圧Ｖｐ＝９．５ｋＶ及び出力密度１．５Ｗ／ｃｍ2、第２電極の周波数８００ｋＨｚ、印加電圧Ｖｐ＝９．５ｋＶ及び出力密度１．５Ｗ／ｃｍ2として放電を形成させて表面処理を行った。
（放電ガス）
窒素ガス              ８０．０体積％
酸素ガス              ２０．０体積％
プラズマ処理したハードコート層表面に、下記の高屈折率層、低屈折率層を塗布法により形成し、防眩性反射防止フィルムを作製し試料Ｎｏ．２０１〜２０４とした。
【０２０８】
（高屈折率層の塗布液処方）
下記材料を攪拌、混合し高屈折率層塗布液とした。
【０２０９】
導電性アンチモン酸亜鉛微粒子分散液（セルナックスＣＸ−Ｚ６１０Ｍ−Ｆ２、日産化学社製、溶媒ＭｅＯＨ、固形分６０％）                                ５２質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（マトリックス）            ９質量部
イルガキュア１８４（光重合開始剤）                              １．５質量部
イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ製；光重合開始剤）
０．８質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）              ２５０質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）                                ５００質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                    １８０質量部
ＢＹＫ−ＵＶ３５１０（ビックケミ−ジャパン社製）                ０．３質量部
高屈折率層の厚さは１２０ｎｍ、屈折率は１．６２であった。
【０２１０】
〈低屈折率層形成用塗布液〉
下記材料を攪拌、混合し低屈折率層塗布液した。
下記テトラエトキシシラン加水分解物Ａ                              １２３質量部
下記中空シリカ系微粒子分散液                                        １８質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製、ＫＢＭ５０３）
４質量部
ＦＺ−２２２２（日本ユニカー製、１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液）                                                                ０．２質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）                                  ４２５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）                ４２５質量部
アルミニウムエチルアセトアセテートジイソプロピレート              ０．３質量部
低屈折率層の厚さは９５ｎｍ、屈折率は１．３７であった。
〈テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製〉
テトラエトキシシラン２３０ｇとエタノール４４０ｇを混合し、これに酢酸水溶液（１０％）を１００ｇ添加した後に、２５℃で２８時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Ａを調製した。
【０２１１】
〈中空シリカ系微粒子分散液の調製〉
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として０．９８％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として１．０２％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、ほとんど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。（工程（ａ））
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ2濃度３．５％）３０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。（工程（ｂ））
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、更に濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3多孔質粒子の分散液を調製した（工程（ｃ））。上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１，７５０ｇ及び２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ2２８％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０％の中空シリカ系微粒子分散液を調製した。
【０２１２】
この中空シリカ系微粒子の第１シリカ被覆層の厚さは３ｎｍ、平均粒径は４７ｎｍ、ＭＯｘ／ＳｉＯ2（モル比）は０．００１７、屈折率は１．２８であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。
【０２１３】
評価
得られた各試料Ｎｏ．２０１〜２０４について、反射率、ギラツキ感に付き下記の方法で評価し、下記の評価ランクに従って評価した結果を表３に示す。
【０２１４】
反射率の評価方法
ハードコートフィルム上に塗設した試料を、試料の測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて、分光光度計（日立製作所（株）製  Ｕ−４０００型）を用いて、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率の測定を行った。
【０２１５】
ギラツキ感の評価方法
ルーバーを有する蛍光灯の拡散光を映し、表面のギラツキ感を目視で評価した。
【０２１６】
ギラツキ感の評価ランク
◎：ギラツキが全く認められない
○：ほとんどギラツキが認められない
△：わずかにギラツキが認められる
×：明らかに、ギラツキが認められる
【０２１７】
【表３】
2007233129.tif 000007
【０２１８】
本発明の有効性が確認された。
実施例３
市販の液晶表示パネル（ＮＥＣ製  カラー液晶ディスプレイ  ＭｕｌｔｉＳｙｎｃ  ＬＣＤ１５２５Ｊ：型名  ＬＡ−１５２９ＨＭ）の最表面フィルムを注意深く剥がし、実施例１の試料Ｎｏ．２、５、９、１８の防眩性フィルムと、実施例２の試料Ｎｏ．２０１、２０２、２０３、２０４の防眩性反射防止フィルム（それぞれを幅方法１００ｍｍ×進行方法２００ｍｍのサイズ）を貼り、ムラ、視認性を実施例１と同じ方法で確認した結果、本発明の防眩性フィルム（試料Ｎｏ．５、９、１８）、本発明の防眩性反射防止フィルム（試料Ｎｏ．２０２、２０３、２０４）は比較品に比べムラが無く、画像の視認性が良好であることを確認した。
【図面の簡単な説明】
【０２１９】
【図１】防眩性フィルムの概略断面図である。
【図２】防眩性反射防止フィルムの概略断面図である。
【図３】本発明に係わる防眩性フィルムの製造工程の模式図である。
【図４】２周波数高周波電圧印加方式の大気圧プラズマ処理装置の一例を示す概略図である。
【図５】本発明に係る凹凸形状面を有する透明支持体フィルムの製造する製造工程の模式図である。
【符号の説明】
【０２２０】
１  防眩性フィルム
１０１ａ、１０２ａ  表面
１０２  ハードコート層
２  防眩性反射防止フィルム
２０１  反射防止層
３ａ、３ｂ、９、１０  製造工程
４  供給工程
５  塗布工程
５０１  塗布装置
５０２  バックアップロール
６、９Ｄ  乾燥処理工程
６０１  乾燥装置
７  硬化処理工程
７０１  硬化処理装置
８、１０Ｅ  巻き取り工程
９  大気圧プラズマ処理装置
９ａプラズマ放電容器
９ａ１  印加電極（角筒型電極・第１電極）
９ａ２  ロール型アース電極（第２電極）
１０Ａ  流延工程
１０Ａ１  支持ロール
１０Ａ２  流延用ベルト
１０Ａ３  ダイス
１０Ｂ  凹凸形状成形工程
１０Ｂ１  凹凸形状成形用ローラ
１０Ｂ２  バックロール
１０Ｃ  延伸工程
１０１、４０１、１００１  透明支持体フィルム
４０２、１００２  ロール状透明支持体フィルム
９０１  セルローストリアセテートフィルム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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