(57)【要約】【課題】本発明は、シート状体の凹凸ローラによる凹凸の転写形状を均一にできる凹凸状シートの製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】本発明のエンボスシートの製造装置１０では、エンボスローラ１３の回転速度をロータリエンコーダ２１によって検出し、検出されたエンボスローラ１３の回転数に基づき、エンボスローラ１３のモータ２０を、モータドライバ２２を介してコントローラ２３により制御することにより、シートＷの走行速度を制御する。これにより、エンボスローラ１３とシートＷとの間でスリップが生じないようにエンボスローラ１３の回転速度を高精度に制御可能なので、塗布液Ｆによる樹脂層の膜厚が変動した場合であっても、シートＷのエンボスローラ１３による凹凸の転写形状を均一にできる。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂層がその表面に形成されたシート状体を複数のローラを介して走行案内させてシート状体の表面を凹凸ローラの表面に接触させることにより、凹凸ローラ表面の凹凸をシート状体の表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法において、
前記凹凸ローラの回転速度を制御することにより、前記シート状体の走行速度を制御することを特徴とする凹凸状シートの製造方法。
【請求項２】
樹脂層がその表面に形成されたシート状体を複数のローラを介して走行案内する案内手段と、走行中のシート状体の表面に接触されてシート状体の表面に凹凸を転写形成する凹凸ローラとを備えた凹凸状シートの製造装置において、
前記凹凸ローラを回転駆動する駆動手段と、前記凹凸ローラの回転速度を検出する検出手段と、前記検出手段によって検出された凹凸ローラの回転数に基づき前記駆動手段を制御することによって前記シート状体の走行速度を制御する制御手段とを有することを特徴とする凹凸状シートの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸状シートの製造方法及び製造装置に係り、特に、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された反射防止効果等を有するエンボスシート等の凹凸状シートを、欠陥なく高品質で製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法及び製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有するエンボスシートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート等のエンボスシートが使用されている。このようなエンボスシートとしては、従来から、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたものが公知である。このような規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを製造する装置としては、従来から各種の装置が知られている（特許文献１〜４参照）。
【０００３】
たとえば、図６に示されるような構成の装置においては、表面に規則的な凹凸パターンが形成されている凹凸ローラ１の表面に塗布装置２により樹脂を塗布し、連続走行されるシート状体３を凹凸ローラ１とニップローラ４とによって挟み込み、凹凸ローラ１に塗布された樹脂をシート状体３に接触させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート状体３をリリースローラ５に巻き掛けて凹凸ローラ１より剥離させることにより凹凸状シートを製造する（特許文献１〜３参照）。
【０００４】
また、図７に示す構成の装置においては、連続走行されるシート状体３の表面に電離放射線硬化樹脂組成物を塗布して樹脂層をあらかじめ形成し、このシート状体３を、規則的な凹凸パターンが形成されている凹凸ローラ１とニップローラ４とによって挟み込み、凹凸ローラ１の表面の凹凸パターンを樹脂層に転写させた状態で、電離放射線を樹脂層に照射して硬化させ、その後シート状体３をリリースローラ５に巻き掛けて凹凸ローラ１より剥離させることにより凹凸状シートを製造する（特許文献３、４参照）。
【０００５】
ところで、このような凹凸状シートの製造装置では、シート状体の走行速度を制御する方法として、ある基準のローラの回転速度を制御することにより行い、それ以外の駆動ローラは、シート状体のテンション等を測定してドロー制御されていた。また、従来は、走行速度制御用の前記基準のローラとして、塗布均一性を保つことを目的として塗布部のコーティングローラガ採択されていた。
【特許文献１】特許第２５３３３７９号公報
【特許文献２】特開２０００−１４１４８１号公報
【特許文献３】特開２００２−３３３５０８号公報
【特許文献４】特許第３２１８６６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、塗布部のコーティングローラを速度制御用の基準のローラとしていた前記従来の製造装置は、シート状体の凹凸ローラによる転写形状が変形し、特に樹脂層の膜厚が変動した場合には、その現象が顕著に発生するという問題があった。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、シート状体の凹凸ローラによる凹凸の転写形状を均一にできる凹凸状シートの製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、前記目的を達成するために、樹脂層がその表面に形成されたシート状体を複数のローラを介して走行案内させてシート状体の表面を凹凸ローラの表面に接触させることにより、凹凸ローラ表面の凹凸をシート状体の表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法において、前記凹凸ローラの回転速度を制御することにより、前記シート状体の走行速度を制御することを特徴とする凹凸状シートの製造方法を提供する。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、前記目的を達成するために、樹脂層がその表面に形成されたシート状体を複数のローラを介して走行案内する案内手段と、走行中のシート状体の表面に接触されてシート状体の表面に凹凸を転写形成する凹凸ローラとを備えた凹凸状シートの製造装置において、前記凹凸ローラを回転駆動する駆動手段と、前記凹凸ローラの回転速度を検出する検出手段と、前記検出手段によって検出された凹凸ローラの回転数に基づき前記駆動手段を制御することによって前記シート状体の走行速度を制御する制御手段とを有することを特徴とする凹凸状シートの製造装置を提供する。
【００１０】
本発明は、凹凸ローラの回転精度が高精度でないがために凹凸ローラとシート状体との間にスリップが生じ、これが原因で転写形状が変形することを実験により確かめた。この結果に基づき本願発明は、凹凸ローラの回転速度を検出手段によって検出し、検出された凹凸ローラの回転数に基づき、凹凸ローラの駆動手段を制御手段によって制御することにより、シート状体の走行速度を制御する。これにより、凹凸ローラとシート状体との間でスリップが生じないように凹凸ローラの回転速度を高精度に制御可能なので、また樹脂層の膜厚が変動した場合であっても、シート状体の凹凸ローラによる凹凸の転写形状を均一にできる。
【００１１】
なお、本明細書において「凹凸ローラ」とは、円柱状のローラの表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたエンボスローラのみならず、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものをも含むものとする。このようなベルト状体であっても、円柱状のエンボスローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
【００１２】
また、請求項１、２の発明おいて、樹脂層の樹脂が放射線硬化樹脂であり、樹脂層の硬化が樹脂層に放射線照射を施すことによりなされることが好ましい。このような放射線硬化樹脂を使用することにより、樹脂の硬化が容易となる。なお、放射線硬化樹脂の詳細については、後で詳述する。また、樹脂の塗布が、エクストルージョンタイプホッパ又はスライドタイプホッパによりなされることが好ましい。このような塗布方式は、本発明の樹脂の塗布に好適である。
【発明の効果】
【００１３】
以上説明したように本発明によれば、凹凸ローラとシート状体との間でスリップが生じないように凹凸ローラの回転速度を高精度に制御可能なので、樹脂層の膜厚が変動した場合であっても、シート状体の凹凸ローラによる凹凸の転写形状を均一にできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、添付図面に基づいて、本発明の凹凸状シートの製造方法及び装置の好ましい実施の態様について説明する。
【００１５】
図１は、本発明が適用されるエンボスシートの製造装置１０の構成を示す概念図である。このエンボスシートの製造装置１０はシート状体供給装置（案内手段）１１、塗布装置１２、エンボスローラ（凹凸ローラ）１３、ニップローラ１４、樹脂硬化装置１５、剥離ローラ１６、保護フィルム供給装置１７、シート巻取装置１８、及び乾燥装置１９等より構成される。
【００１６】
また、この製造装置１０は、エンボスローラ１３を回転駆動するモータ（駆動手段）２０、エンボスローラ１３の回転速度を検出するロータリエンコーダ（検出手段）２１、及びモータドライバ２２を制御することによりエンボスローラ１３の回転速度を制御するコントローラ２３を有している。
【００１７】
シート供給装置１１は、シート（シート状体）Ｗを送り出すもので、シートＷが巻回された送り出しロール等より構成される。
【００１８】
塗布装置１２は、シートＷの表面に放射線硬化樹脂（塗布液）を塗布する装置であり、放射線硬化樹脂が溜められたタンク１２Ａ、供給装置（ポンプ）１２Ｂ、塗布ヘッド１２Ｃ、塗布の際にシートＷを巻き掛けて支持するコーティングローラ１２Ｄ、及びタンク１２Ａから塗布ヘッド１２Ｃまで配設された配管より構成される。なお、図１では塗布ヘッド１２Ｃとしてエクストリュージョン型のダイコータの塗布ヘッドが用いられている。
【００１９】
乾燥装置１９は、塗布装置１２とエンボスローラ１３との間に設けられている。この乾燥装置１９は図１の如くトンネル状に構成されたものであるが、図２の如くシートＷに塗布された塗布液Ｆを均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものが採用できる。例えば、ヒータによる輻射加熱方式のもの、熱風循環方式のもの、真空方式のもの等が採用できる。
【００２０】
図１のエンボスローラ１３としては、シートＷの表面に、ローラ表面の凹凸を転写形成できる、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このようなエンボスローラ１３としては、金属製のローラが好ましい。
【００２１】
図３の如くエンボスローラ１３の外周面１３Ａには、規則的な微細凹凸パターンが形成されている。このような規則的な微細凹凸パターンは、製品としてのエンボスシート表面の微細凹凸パターンを反転した形状であることが求められる。
【００２２】
製品としてのエンボスシートとしては、微細凹凸パターンが二次元配列された、たとえばレンチキュラーレンズやプリズムレンズ、微細凹凸パターンが三次元配列された、たとえばフライアイレンズ、円錐、角錐等の微細な錐体をＸＹ方向に敷きつめた平板レンズ等が対象となり、エンボスローラ１３の外周面１３Ａの規則的な微細凹凸パターンは、これに対応させる。
【００２３】
エンボスローラ１３の外周面１３Ａの規則的な微細凹凸パターンの形成方法としては、エンボスローラ１３の表面をダイヤモンドバイト（シングルポイント）で切削加工する方法、エンボスローラ１３の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法が採用でき、また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法が採用できる。その他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法も採用できる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、１つの原版（マザー）より複数の同一形状の板状体が得られるという特徴がある。
【００２４】
エンボスローラ１３の外周面１３Ａには、離型処理を施すことが好ましい。このように、エンボスローラ１３の外周面１３Ａに離型処理を施すことにより、微細凹凸パターンの形状が良好に維持できる。離型処理としては、公知の各種方法、たとえば、フッ素樹脂によるコーティング処理が採用できる。
【００２５】
このエンボスローラ１３はモータ２０によって回転され、モータ２０は、ロータリエンコーダ２１から出力されたエンボスローラ１３の回転数に基づいてコントローラ２３がモータドライバ２２をフィードバック制御することにより制御されている。エンボスローラ１３は、モータ２０によって図示の矢印の如く反時計方向（ＣＣＷ）に回転される。
【００２６】
図１に示すニップローラ１４は、エンボスローラ１３と対をなしシートＷを押圧しながらロール成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。ニップローラ１４の表面の縦弾性係数（ヤング率）は、小さ過ぎるとロール成形加工が不十分となり、大き過ぎるとゴミ等の異物の巻き込みに敏感に反応し欠点を生じやすいことより、適宜の値とすることが好ましい。なお、ニップローラ１４には駆動装置が設けられていることが好ましい。ニップローラ１４は、図示の矢印の如く時計方向（ＣＷ）に回転される。
【００２７】
エンボスローラ１３とニップローラ１４との間に所定の押圧力を付与するべく、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに加圧手段を設けることが好ましい。同様に、エンボスローラ１３とニップローラ１４との隙間（クリアランス）や圧力を正確に制御できるような微調整手段を、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに設けることが好ましい。
【００２８】
樹脂硬化装置１５は、ニップローラ１４の下流側においてエンボスローラ１３に対向して設けられる放射線照射装置である。この樹脂硬化装置１５は、放射線照射によってシートＷを透過して樹脂層を硬化をさせるもので、樹脂の硬化特性に応じた放射線を照射でき、シートＷの搬送速度に応じた量の放射線を照射することが好ましい。樹脂硬化装置１５として、シートＷの幅と略同一長さの円柱状照射ランプが採用できる。また、この円柱状照射ランプを複数本平行に設けることもでき、この円柱状照射ランプの背面に反射板を設けることもできる。
【００２９】
剥離ローラ１６は、エンボスローラ１３と対をなしエンボスローラ１３からシートＷを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、エンボスローラ１３の外周面１３Ａに巻き掛けられたシートＷを、回転するエンボスローラ１３と剥離ローラ１６とで挟みながら、シートＷをエンボスローラ１３から剥離させて剥離ローラ１６に巻き掛ける。この動作を確実にすべく、剥離ローラ１６には駆動装置が設けられていることが好ましい。剥離ローラ１６は、図示の矢印ように時計方向（ＣＷ）に回転される。
【００３０】
なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時にシートＷを冷却させて剥離を確実にすべく、剥離ローラ１６に冷却装置を設ける構成も採用できる。
【００３１】
また、図示は省略したが、エンボスローラ１３の押圧箇所（９時の位置）から剥離箇所（３時の位置）までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとエンボスローラ１３とでシートＷを押圧しながら硬化処理を行う構成も採用できる。
【００３２】
シート巻取装置１８は、剥離後のシートＷを収納するもので、シートＷを巻き取る巻取ローラ等より構成される。このシート巻取装置１８において、隣接して設けられる保護フィルム供給装置１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、保護フィルムＨとシートＷとが重なった状態で、シート巻取装置１８に収納される。
【００３３】
エンボスシートの製造装置１０において、塗布装置１２とエンボスローラ１３との間、剥離ローラ１６とシート巻取装置１８との間等に、シートＷの搬送路を形成するガイドローラ等を設けてもよく、その他、必要に応じてシートＷの搬送中の弛みを吸収すべく、テンションローラ等を設けることもできる。
【００３４】
次に、本発明に適用される各材料について説明する。シートＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。なお、実施の形態のシートＷは、二酸化炭素ガスの透過性のよいポリカーボネート製である。
【００３５】
シートＷの幅としては、０. １〜３ｍが、シートＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、シートＷの厚さとしては、１〜３００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。
【００３６】
これらのシートＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理等を行っておいてもよい。シートＷの表面粗さＲａは、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００３７】
また、シートＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの等を用いてもよい。同様に、シートＷとして１層構成のもののみならず、２層以上の構成のものも採用できる。また、シートＷは、光が透過できるような透明体、反透明体であることが好ましい。
【００３８】
本発明に使用可能な樹脂は（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。  特に硬化の速さからは、（メタ）アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも（メタ）アクリレ−ト、ウレタン（メタ）アクリレ−ト、エポキシ（メタ）アクリレ−ト、ポリエステル（メタ）アクリレ−トなどの（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。この（メタ）アクロイル基含有化合物としては（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。
【００３９】
このような、（メタ）アクロイル基含有化合物としては、例えば、（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−としてイソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００４０】
さらに芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４１】
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００４２】
また、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００４３】
ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４４】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００４５】
さらに、３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、例えばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００４６】
加えてウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、本発明の硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。
【００４７】
これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、例えばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。
【００４８】
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。
【００４９】
以上の不飽和モノマ−は単独で用いても良く、必要に応じて複数種を混合して用いても良い。
【００５０】
光ラジカル重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００５１】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。
【００５２】
光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。
【００５３】
本発明の組成物にはさらに光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、例えばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、例えばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００５４】
さらにまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【００５５】
ここで、酸化防止剤としては、例えばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ  Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、例えばＴｉｎｕｖｉｎ  Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、例えばＴｉｎｕｖｉｎ  ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、例えばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、例えばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ  コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上  ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08（以上  大日本インキ（株）製）挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００５６】
本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、上記の樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一なく混合できるものであれは良く、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、２−メトキシエタノ−ル、シクロヘキサノ−ル、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いても良い。有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製品の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼしたりする懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。従って、有機溶剤の沸点としては５０℃以上から１５０℃以下が好ましく、さらに好ましくは７０℃から１２０℃の間である。素材の溶解性や、沸点の観点から有機溶剤としてはメチルエチルケトン（ｂｐ．７９．６℃）、1−プロパノ−ル（ｂｐ．９７．２℃）などが好ましい。
【００５７】
本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、十分に塗布性が改善されるためには、１０重量％から４０重量％の間であり、好ましくは15重量％からから３０重量％である。あまり少量だと粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく塗布性が十分に改良されない。しかし多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液がまわったりするなどの問題が発生する。また、乾燥工程にて十分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼしたりする懸念が生じる。
【００５８】
本発明の樹脂液は、前記各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。
【００５９】
このようにして調製される本発明の樹脂液の粘度は、通常１０〜５０,０００ｍＰａ・ｓ/２５℃である。基材やエンボスロ−ルに樹脂液を供給する場合は、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を十分に発揮できない。特に、ラインスピ−ドを高速化したときにその傾向が顕著になる。従ってこの場合は液粘度は低い方が好ましく、１０〜１００ｍＰａ・ｓであり、さらに好ましくは、１０〜５０ｍＰａ・ｓである。このような低い粘度は前記の有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。又、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎるとエンボスロ−ルで型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合があり、好ましい粘度は１００〜３,０００ｍＰａ・ｓである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスロ−ルで型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスロ−ルで型押しする際は、有機溶剤を乾燥させより高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。
【００６０】
次に、図１に示したエンボスシートの製造装置１０の作用について説明する。シート状体供給装置１１より、一定速度でシートＷを送り出す。シートＷは塗布装置１２へ送り込まれ、シートＷの表面に樹脂（塗布液Ｆ）が塗布されることにより、樹脂層が形成される。次いで、シートＷはエンボスローラ１３とニップローラ１４からなる成形装置へ送り込まれる。これにより、連続走行するシートＷを、エンボスローラ１３の９時の位置において、回転するエンボスローラ１３とニップローラ１４とで押圧しながらロール成形加工がなされる。すなわち、シートＷを、回転するエンボスローラ１３に巻き掛け、樹脂層にエンボスローラ１３表面の凹凸を転写する。
【００６１】
次いで、シートＷがエンボスローラ１３に巻き掛けられている状態で、樹脂硬化装置１５によりシートＷを透過して樹脂層と接着剤層とに放射線照射を行い、樹脂層と接着剤層を硬化させる。その後、エンボスローラ１３の３時の位置において、シートＷを剥離ローラ１６に巻き掛けることによりエンボスローラ１３から剥離する。
【００６２】
なお、図１には示していないが、シートＷを剥離した後、硬化を更に促進させるため、再度放射線照射を行うこともできる。
【００６３】
剥離されたシートＷは、シート巻き取り装置１８に搬送され、保護フィルム供給装置１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態でシート巻き取り装置１８の巻き取りローラにより巻き取られ、収納される。
【００６４】
ところで、本願出願人は、エンボスローラ１３の回転精度が高精度でないがためにエンボスローラ１３とシートＷとの間にスリップが生じ、これが原因で転写形状が変形することを実験により確かめた。
【００６５】
この結果に基づき実施の形態のエンボスシートの製造装置１０では、エンボスローラ１３の回転速度をロータリエンコーダ２１によって検出し、検出されたエンボスローラ１３の回転数に基づき、エンボスローラ１３のモータ２０を、モータドライバ２２を介してコントローラ２３により制御することにより、シートＷの走行速度を制御する。これにより、エンボスローラ１３とシートＷとの間でスリップが生じないようにエンボスローラ１３の回転速度を高精度に制御可能なので、塗布液Ｆによる樹脂層の膜厚が変動した場合であっても、シートＷのエンボスローラ１３による凹凸の転写形状を均一にできる。
【００６６】
このように、実施の形態の製造装置１０では、転写形状の均一な凹凸状シートを製造可能なので、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で製造することができる。
【００６７】
以上、本発明に係るの製造方法及び製造装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００６８】
たとえば、本実施形態の例では、ローラ状のエンボスローラ１３を使用する態様を採用したが、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものを使用する態様も採用できる。このようなベルト状体であっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
【実施例】
【００６９】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００７０】
［樹脂液の調整］
図２の表に示す化合物を記載の重量比にて混合し、５０°Ｃに加熱して攪拌溶解し、樹脂液を得た。なお、各化合物の名称と内容は以下の通りである。
【００７１】
ＥＢ３７００：エベクリル３７００、ダイセルＵＣ（株）製、
ビスフェノールＡタイプエポキシアクリレート、
（粘度：２２００ｍＰａ・ｓ／６５°Ｃ）
ＢＰＥ２００：ＮＫエステルＢＰＥ−２００、新中村化学（株）製、
エチレンオキシド付加ビスフェノールＡメタクリル酸エステル、
（粘度：５９０ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃ）
ＢＲ３１  ：ニューフロンティアＢＲ−３１、第一工業製薬工業（株）製、
トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
（常温で固体、融点５０°Ｃ以上）
ＬＲ８８９３Ｘ：ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘ、ＢＡＳＦ（株）製の北ラジカル発生剤、
エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルオスフィンオキシド
ＭＥＫ      ：メチルエチルケトン
［エンボスシートの製造］
図１に示される構成のエンボスシートの製造装置１０を使用してエンボスシートの製造を行った。
【００７２】
実施例１及び比較例１のシートＷとして、幅５００ｍｍ、厚さ１００μｍの透明なＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）のフィルムを使用した。
【００７３】
エンボスローラ１３として、長さ（シートＷの幅方向）が７００ｍｍ、直径が３００ｍｍのＳ４５Ｃ製で表面の材質をニッケルとしたローラを使用した。ローラの表面の略５００ｍｍ幅の全周に、ダイヤモンドバイト（シングルポイント）を使用した切削加工により、ローラ軸方向のピッチが５０μｍの溝を形成した。溝の断面形状は、頂角が９０度の三角形状で、溝の底部も平坦部分のない９０度の三角形状である。すなわち、溝幅は５０μｍであり、溝深さは約２５μｍである。この溝は、ローラの周方向に継ぎ目がないエンドレスとなるので、このエンボスローラ１３により、シートＷに断面が三角形のレンチキュラーレンズ（プリズムシート）が形成できる。ローラの表面には、溝加工後にニッケルメッキを施した。
【００７４】
塗布装置１２としてダイコータを使用した。塗布装置１２の塗布ヘッド１２Ｃとして、エクストルージョンタイプのものを使用した。
【００７５】
塗布液Ｆ（樹脂液）として、図４の表に記載の液を使用した。なお、図５の表に示される樹脂液と走行速度との組み合わせにて比較例１のサンプルを製造した。なお、実施例１の樹脂液と走行速度との組み合わせは比較例１と同じであるが、実施例１は、エンボスローラ１３の速度を制御した実施の形態の製造装置１０により製造されたシートＷであり、比較例１は、コーティングローラ１２Ｄを速度制御する従来の製造装置により製造されたシートである。
【００７６】
また、塗布液Ｆ（樹脂液）の湿潤状態の厚さは、有機溶剤乾燥後の膜厚が２０μｍになるように、塗布ヘッド１２Ｃへの塗布液Ｆの供給量を液供給装置（送液ポンプ）１２Ｂにより制御した。
【００７７】
乾燥装置１９として、熱風循環方式の装置を用いた。熱風の温度は１００°Ｃに設定した。
【００７８】
ニップローラ１４として、直径が２００ｍｍで、表面にゴム硬度が９０のシリコンゴムの層を形成したローラを使用した。エンボスローラ１３とニップローラ１４とでシートＷを押圧するニップ圧（実効のニップ圧）は、０．５Ｐａとした。
【００７９】
樹脂硬化装置１５として、メタルハライドランプを使用し、１０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで照射を行った。以上の条件により、凹凸パターンが形成されたシートＷを得る。
【００８０】
［エンボス形状の評価］
シートＷを切断し、凹凸パターンの複数箇所における断面形状をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を使用して測定することによりエンボス形状の評価を行った。
【００８１】
実施例１において、コーティングローラ１２Ｄの速度変動は±２．０％であったにもかかわらず、エンボスローラ１３の速度変動を±０．５％に制御したので、シートＷに転写された凹凸の転写形状は略均一となった。
【００８２】
これに対して比較例１では、コーティングローラ１２Ｄの速度変動を±０．５％で制御したが、エンボスローラ１３の速度変動が±２．５％であったため、シートＷに転写された凹凸の転写形状は所々不均一となった。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明に適用される凹凸状シートの製造装置の構成を示す概念図
【図２】図１の製造装置に適用されたエンボスローラの断面図
【図３】製造された凹凸状シートの断面図
【図４】シート状体に塗布された樹脂成分を示した表図
【図５】凹凸状シートの製造スペックを示した表図
【図６】従来の凹凸状シートの製造装置の一例を示した要部説明図
【図７】従来の凹凸状シートの製造装置の一例を示した要部説明図
【符号の説明】
【００８４】
１０…エンボスシートの製造装置、１１…シート供給装置、１２…塗布装置、１３…エンボスローラ、１４…ニップローラ、１５…樹脂硬化装置、１６…剥離ローラ、１７…保護フィルム供給装置、１８…シート巻取装置、１９…乾燥装置、２０…モータ、２１…ロータリエンコーダ、２２…モータドライバ、２３…コントローラ、Ｈ…保護フィルム、Ｗ…シート
【図１】
2007076185.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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