(57)【要約】【課題】外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さいアクリル系透明樹脂基板にハードコート層を有する事で表面硬度を高めたアクリル系樹脂積層体上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成することにより、光学特性、透明導電膜との密着性、シート抵抗値の安定性および耐熱安定性の良好な透明導電性積層体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】アクリル系樹脂透明基板の片面もしくは両面に、１種以上のハードコート層が被覆されたアクリル系樹脂積層体上に、酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電性積層体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリル系樹脂透明基板の片面もしくは両面に、１種以上のハードコート層が被覆されたアクリル系樹脂積層体上に、酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電性積層体。
【請求項２】
アクリル系樹脂透明基板が、メタクリル酸メチル単位４０〜９０質量％、無水マレイン酸単位５〜２０質量％、及び芳香族ビニル化合物単位５〜４０質量％を共重合して得られる耐熱性樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体。
【請求項３】
アクリル系樹脂透明基板が、フィルム、もしくはシートであることを特徴とする請求項１又は２に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体。
【請求項４】
酸化亜鉛系透明導電膜が、ガリウム、アルミニウム、ホウ素、ケイ素、スズ、インジウム、ゲルマニウム、アンチモン、イリジウム、レニウム、セリウム、ジルコニウム、スカンジウム、及びイットリウムから選ばれる少なくとも１種を０．０５〜１５質量％含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体。
【請求項５】
酸化亜鉛系透明導電性積層体の比抵抗が、１．５×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１０−４Ω・ｃｍであることを特徴とする請求項１〜請求項４いずれか１項に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体。
【請求項６】
ハードコート層を被覆したアクリル系樹脂積層体上にイオンプレーティング法によって酸化亜鉛系透明導電膜を形成することを特徴とする酸化亜鉛系透明導電性積層体の製造方法。
【請求項７】
ハードコート層を被覆したアクリル系樹脂積層体上に圧力勾配型プラズマガンを用いてプラズマビームを供給し、酸化亜鉛を主成分とする蒸発材料の周囲に設けたビーム修正装置により該プラズマビームを該蒸発材料に集中させて、該蒸発材料を蒸発、イオン化させるイオンプレーティング法によって酸化亜鉛系透明導電膜を形成することを特徴とする請求項６に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体の製造方法。
【請求項８】
ハードコート層を被覆したアクリル系樹脂積層体上に圧力勾配型プラズマガンを用いてプラズマビームを供給し、酸化亜鉛を主成分とする蒸発材料の周囲に設けたビーム修正装置により該プラズマビームを該蒸発材料に集中させて、該蒸発材料を蒸発、イオン化させるイオンプレーティング法によって酸化亜鉛系透明導電膜を形成する際、該ハードコート層を被覆したアクリル系樹脂積層体の表面温度が酸化亜鉛系透明導電膜を形成する前にガラス転移温度以下の低温であり、かつ酸化亜鉛系透明導電性積層体の比抵抗が、１．５×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１０−４Ω・ｃｍであることを特徴とする請求項６又は７に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル、無機分散型ＥＬランプ、透明電磁波シールド等に好適で、光学特性、耐熱性に優れた酸化亜鉛系透明導電性積層体及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明導電膜は可視光透過性と電気伝導性を兼ね備えた膜として広く知られており、その代表的なものとして、スズ添加酸化インジウム膜（以下「ＩＴＯ膜」という）が挙げられる。ＩＴＯ膜を透明基材上に積層した積層体は、電極、通電による発熱体、電磁波の遮蔽材や透光体として広く用いられている。近年、酸化亜鉛（ＺｎＯ）系の透明導電膜は、著しく性能改善が進み、主要な特性のひとつの比抵抗値についてみると、実験室レベルではＩＴＯ  膜に比べて遜色のない低い値が得られるようになってきている。このため、資源の枯渇のおそれがあり、また、高価なインジウム等を成分とするＩＴＯ膜に代替し得る次世代の透明導電膜として、酸化亜鉛系透明導電膜に対する期待が高まっている。
しかしながら、実験室レベルの酸化亜鉛系透明導電膜の高い性能は、レーザビームアブレーションや分子線エピタキシー等の精密な成膜手法によって達成されたものであり、これらの手法は、量産性を考えた場合、成膜速度や成膜面積の点で不十分である。
【０００３】
これに対して、成膜速度や成膜面積の点で優れるスパッタリング法やイオンプレーティング法にて透明樹脂基板上によるＩＴＯ膜の製造が量産レベルで行われている一方、スパッタリング法によってポリエチレンテレフタレートやポリカーボネート上に酸化亜鉛系透明導電膜が発明されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
透明導電膜の基材としては、これまでガラスが主に用いられてきたが、需要や用途が増えるにつれ、加工性や生産性の向上が求められるようになってきた。そのため近年、ガラスに比べ軽量で加工性・生産性に優れたプラスチックが注目され、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、環状オレフィン樹脂等が用いられるようになってきた。液晶ディスプレイに用いられる電極基板では、全光線透過率が同じであっても複屈折がより小さい高分子材料成形体が必要とされ、さらに近年、液晶ディスプレイが大型化し、それに必要な高分子光学材料成形品が大型化するにつれて、外力の偏りによって生じる複屈折の分布を小さくするために、外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さい材料が求められている。
【０００４】
中でもアクリル系樹脂は、その透明性の高さから幅広く用いられており、基材に使用する場合、基材とＩＴＯ膜との密着力不足を補うために、アクリル系樹脂基材とＩＴＯ膜との間に３次元架橋したアクリル系樹脂系の中間層を介することが知られている（例えば、特許文献３、特許文献４参照）。しかし、アクリル系樹脂基材にＩＴＯ膜を成膜した透明導電性基板は、シート抵抗値が経時的に変化して安定しないといわれている。
液晶ディスプレイに用いられる電極基板においては、全光線透過率が同じであっても複屈折がより小さい高分子材料成形体が必要とされ、さらに近年、液晶ディスプレイが大型化し、それに必要な高分子光学材料成形品が大型化するにつれて、外力の偏りによって生じる複屈折の分布を小さくするために、外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さい材料が求められている。透明な光等方性ベースシートとしてポリアリレート、ポリカーボネートに酸化ケイ素の層を設けた電極基板が知られている（例えば、特許文献５参照）。しかしながら、透明性、光弾性係数が小さい等光学特性に優れたアクリル系樹脂基材に酸化亜鉛系の透明導電膜を成膜した透明導電性基板の例は見当たらない。
【０００５】
【特許文献１】特開平４−１７６８５７号公報
【特許文献２】特開２００３−３４８６０号公報
【特許文献３】特開昭６２−７１１１１号公報
【特許文献４】特開平１０−２４４６２９号公報
【特許文献５】特許第３３０５０２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さいアクリル系透明樹脂基板にハードコート層を有する事で表面硬度を高めたアクリル系樹脂積層体上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成することにより、光学特性、透明導電膜との密着性、シート抵抗値の安定性および耐熱安定性の良好な透明導電性積層体及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
これらの問題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、アクリル系透明樹脂基板にハードコート層を有するアクリル系樹脂積層体に酸化亜鉛系透明導電膜を形成することにより光学特性、透明導電膜との密着性、シート抵抗値の安定性および耐熱安定性に優れた酸化亜鉛系透明導電性積層体が出来ることを見出した。
すなわち、本発明は以下の通りである。
（１）アクリル系樹脂透明基板の片面もしくは両面に、１種以上のハードコート層が被覆されたアクリル系樹脂積層体上に、酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電性積層体。
【０００８】
（２）アクリル系樹脂透明基板が、メタクリル酸メチル単位４０〜９０質量％、無水マレイン酸単位５〜２０質量％、及び芳香族ビニル化合物単位５〜４０質量％を共重合して得られる耐熱性樹脂であることを特徴とする（１）に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体。（３）アクリル系樹脂透明基板が、フィルム、もしくはシートであることを特徴とする（１）又は（２）に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体。
（４）酸化亜鉛系透明導電膜が、ガリウム、アルミニウム、ホウ素、ケイ素、スズ、インジウム、ゲルマニウム、アンチモン、イリジウム、レニウム、セリウム、ジルコニウム、スカンジウム、及びイットリウムから選ばれる少なくとも１種を０．０５〜１５質量％含むことを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体。
【０００９】
（５）酸化亜鉛系透明導電性積層体の比抵抗が、１．５×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１０−４Ω・ｃｍであることを特徴とする（１）〜（４）いずれか１項に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体。
（６）ハードコート層を被覆したアクリル系樹脂積層体上にイオンプレーティング法によって酸化亜鉛系透明導電膜を形成することを特徴とする酸化亜鉛系透明導電性積層体の製造方法。
（７）ハードコート層を被覆したアクリル系樹脂積層体上に圧力勾配型プラズマガンを用いてプラズマビームを供給し、酸化亜鉛を主成分とする蒸発材料の周囲に設けたビーム修正装置により該プラズマビームを該蒸発材料に集中させて、該蒸発材料を蒸発、イオン化させるイオンプレーティング法によって酸化亜鉛系透明導電膜を形成することを特徴とする（６）に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体の製造方法。
【００１０】
（８）ハードコート層を被覆したアクリル系樹脂積層体上に圧力勾配型プラズマガンを用いてプラズマビームを供給し、酸化亜鉛を主成分とする蒸発材料の周囲に設けたビーム修正装置により該プラズマビームを該蒸発材料に集中させて、該蒸発材料を蒸発、イオン化させるイオンプレーティング法によって酸化亜鉛系透明導電膜を形成する際、該ハードコート層を被覆したアクリル系樹脂積層体の表面温度が酸化亜鉛系透明導電膜を形成する前
にガラス転移温度以下の低温であり、かつ酸化亜鉛系透明導電性積層体の比抵抗が、１．５×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１０−４Ω・ｃｍであることを特徴とする（６）又は（７）に記載の酸化亜鉛系透明導電性積層体の製造方法、
である。
【発明の効果】
【００１１】
アクリル系透明樹脂基板にハードコート層を有することで表面硬度を高めたアクリル系樹脂積層体上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成することにより、光学特性、透明導電膜との密着性、シート抵抗値の安定性および耐熱安定性の良好な透明導電性積層体を得る事ができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下本発明をさらに詳細に説明する。
本発明は、アクリル系樹脂透明基板の片面もしくは両面に、１種以上のハードコート層が被覆されたアクリル系樹脂積層体上に、酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電性積層体である。
本発明におけるアクリル系樹脂透明基板のアクリル系樹脂とは、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ｔ−ブチルシクロヘキシル、メタクリル酸メチル等のメタクリル酸エステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸２−エチルヘキシル等のアクリル酸エステルより選ばれる１種以上の単量体を重合したものである。なかでも、メタクリル酸メチルの単独重合体または他の単量体との共重合体が好ましい。
【００１３】
メタクリル酸メチルと共重合可能な単量体としては、他のメタリル酸アルキルエステル類、アクリル酸アルキルエステル類、スチレン及びｏ−メチルスチレン，ｐ−メチルスチレン，２，４−ジメチルスチレン，ｏ−エチルスチレン，ｐ−エチルスチレン，ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン等の核アルキル置換スチレン、α−メチルスチレン，α−メチル−ｐ−メチルスチレン等のα−アルキル置換スチレン等の芳香族ビニル化合物類、アクリロニトリル、メタクリルニトリル等のシアン化ビニル類、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物類、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和酸類等が挙げられる。
【００１４】
メタクリル酸メチルと共重合可能な単量体の中でも、特にアクリル酸アルキルエステル類は耐熱分解性に優れ、又アクリル酸アルキルエステル類を共重合させて得られるメタクリル系樹脂は成形加工時の流動性が高く好ましい。メタクリル酸メチルにアクリル酸アルキルエステル類を共重合させる場合のアクリル酸アルキルエステル類の使用量は、耐熱分解性の観点から０．１質量％以上であることが好ましく、耐熱性の観点から１５質量％以下であることが好ましい。０．２〜１４質量％であることがさらに好ましく、１〜１２質量％であることがとりわけ好ましい。このアクリル酸アルキルエステル類の中でも、特にアクリル酸メチル及びアクリル酸エチルは、それを少量メタクリル酸メチルと共重合させても上記改良効果は著しく最も好ましい。上記メタクリル酸メチルと共重合可能な単量体は一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
【００１５】
本発明で好ましく用いられる耐熱アクリル系樹脂には、メタクリル酸エステルおよびまたはアクリル酸エステルと、スチレン及びｏ−メチルスチレン，ｐ−メチルスチレン，２，４−ジメチルスチレン，ｏ−エチルスチレン，ｐ−エチルスチレン，ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン等の核アルキル置換スチレン、α−メチルスチレン，α−メチル−ｐ−メチルスチレン等のα−アルキル置換スチレン等の芳香族ビニル化合物類、アクリロニトリル、メタクリルニトリル等のシアン化ビニル類、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド類、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物類、アク
リル酸、メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和酸類との共重合体等があげられる。共重合体中のメタクリル酸メチル単位が４０〜９０質量％、無水マレイン酸単位が５〜２０質量％、芳香族ビニル化合物単位が５〜４０質量％、かつ無水マレイン酸単位に対する芳香族ビニル化合物単位の割合が１〜３倍であることが耐熱性、光弾性係数の点から好ましい。さらに好ましくは、共重合体中のメタクリル酸メチル単位が４２〜８３質量％、無水マレイン酸単位が５〜１８質量％、芳香族ビニル化合物単位が１２〜４０質量％であり、とりわけ好ましくは、共重合体中のメタクリル酸メチル単位が４５〜７８質量％、無水マレイン酸単位が６〜１５質量％、芳香族ビニル化合物単位が１６〜４０質量％である。好ましいものとしてはメタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体があり、この樹脂は、耐熱性はもちろん、耐湿性、ガス・水蒸気バリア性、光学特性、耐溶剤性に優れている。
【００１６】
アクリル系樹脂の重量平均分子量は５万〜２０万のものが望ましい。重量平均分子量は成形品の強度の観点から５万以上が望ましく、成形加工性、流動性の観点から２０万以下が望ましい。さらに望ましい範囲は７万〜１５万である。また、本発明においてはアイソタクチックポリメタクリル酸エステルとシンジオタクチックポリメタクリル酸エステルを同時に用いることもできる。アクリル系樹脂を製造する方法として、例えばキャスト重合、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、アニオン重合等の一般に行われている重合方法を用いることができるが、光学用途としては微小な異物の混入はできるだけ避けるのが好ましく、この観点からは懸濁剤や乳化剤を用いない塊状重合や溶液重合が望ましい。溶液重合を行う場合には、単量体の混合物をトルエン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素の溶媒に溶解して調整した溶液を用いることができる。塊状重合により重合させる場合には、通常行われるように加熱により生じる遊離ラジカルや電離性放射線照射により重合を開始させることができる。
【００１７】
重合反応に用いられる開始剤としては、一般にラジカル重合において用いられる任意の開始剤を使用することができ、例えばアゾビスイソブチルニトリル等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−  ２−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物が用いられ、又特に９０℃以上の高温下で重合を行わせる場合には、溶液重合が一般的であるので、１０時間半減期温度が８０℃以上でかつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤等が好ましく、具体的には１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、２，５−ジメ  チル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、１，１−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル等を挙げることができる。これらの開始剤は０．００５〜５質量％の範囲で用いられる。重合反応に必要に応じて用いられる分子量調節剤は、一般的なラジカル重合において用いる任意のものが使用され、例えばブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸２−エチルヘキシル等のメルカプタン化合物が特に好ましいものとして挙げられる。これらの分子量調節剤は、重合度が上記の範囲内に制御されるような濃度範囲で添加される。耐熱アクリル系樹脂の製造方法は、特公昭６３−１９６４等に記載されている方法等を用いることができる。アクリル系樹脂は、分子量、組成等がことなる２種以上のものを同時に用いることができる。
【００１８】
本発明におけるアクリル系樹脂透明基板を製造するには、必要に応じて染料、顔料、ヒンダードフェノール系やリン酸塩等の熱安定剤、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系、サリチル酸フェニルエステル系等の紫外線吸収剤、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系等の可塑剤、高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸のモノ、ジ、またはトリグリセリド系等の離型剤、高級脂肪酸エステル、ポリオレフィン系等の滑剤、ポリエーテル系、ポリエーテルエステル系、ポリエーテルエステルアミド系、アルキルスフォン酸塩、ア
ルキルベンゼンスルフォン酸塩等の帯電防止剤、リン系、リン／塩素系、リン／臭素系等の難燃剤、反射光のぎらつきを防止するためにメタクリル酸メチル／スチレン共重合体ビーズ等の有機系光拡散剤、硫酸バリウム、酸化チタン、炭酸カルシウム、タルク等の無機系光拡散剤、補強剤として多段重合で得られるアクリル系ゴム等を使用しても良い。これらの添加剤を配合するときには、公知の方法で実施しうる。例えば、単量体混合物にあらかじめ添加剤を溶解しておき重合する方法や、溶融状態、ビーズ状あるいはペレット状の樹脂に添加剤をミキサー等でドライブレンドし、押出し機を用いて混練、造粒する方法等が挙げられる。
【００１９】
本発明におけるハードコート層は、アクリル系樹脂透明基板に耐スクラッチ性、表面硬度、耐透湿性、耐熱性、耐溶剤性等の性質を付与するのに貢献する。
本発明のハードコート層としては、例えば、分子中に少なくとも２個の官能基を有する化合物からなる被膜を硬化したもの等が挙げられる。ハードコート層を形成するための官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基のような不飽和二重結合を有する基、エポキシ基やシラノール基のような反応性の置換基等が挙げられる。なかでも、不飽和二重結合を有する基は、紫外線や電子線のような活性化エネルギー線の照射により容易に硬化しうるので、好ましく用いられる。不飽和二重結合を有する基を分子中に少なくとも２個有する化合物としては、例えば、多官能アクリレート化合物等が挙げられる。ここで、多官能アクリレート化合物とは、分子中に少なくとも２個のアクリロイルオキシ基及び／又はメタクロイルオキシ基を有する化合物をいう。以下、アクリロイルオキシ基とメタクロイルオキシ基とをまとめて（メタ）アクリロイルオキシ基と呼ぶ。
【００２０】
多官能アクリレート化合物としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ホスファゼン化合物のホスファゼン環に（メタ）アクリロイルオキシ基が導入されたホスファゼン系（メタ）アクリレート化合物、分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物と少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基及び少なくとも１個の水酸基を有するポリオール化合物とを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物、分子中に少なくとも２個のカルボニル基を有するカルボン酸ハロゲン化物と少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有するポリオール化合物とを反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート化合物等である。
これらの化合物は、それぞれ単独で又は２種以上混合して用いることができる。またこれら各化合物の２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。
【００２１】
ハードコート層は、通常の方法、例えば、ハードコート剤を樹脂基材の表面に塗布することにより被膜とし、これに活性化エネルギー線を照射すること等により設けることができる。塗布方法としては、例えば、マイクログラビアコート法、ロールコート法、ディッピングコート法、スピンコート法、ダイコート法、フローコート法、スプレーコート法等が挙げられる。ハードコート層の厚みは、０．５〜５０μｍ  が好ましく、さらに好ましくは１〜２０μｍで、より好ましくは２〜１０μｍである。その厚みが０．５〜５０μｍであると、耐擦傷性が良く、亀裂の発生が起こりにくくなる。
【００２２】
本発明のハードコート層は、帯電防止性のハードコート層であってもよい。帯電防止性のハードコート層としては、例えば、導電性粒子が分散されたハードコート層、界面活性剤を含有するハードコート層等が挙げられる。導電性粒子が分散されたハードコート層としては、不飽和二重結合を少なくとも２個有する化合物が硬化されてなる硬化被膜に、導電性粒子が分散されてなる層等が挙げられる。導電性粒子としては、例えば、スズ、アンチモン、チタン、インジウムの如き金属の酸化物や、これらの金属の複合酸化物、例えば、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）やアンチモンドープ酸化スズ等の粒子が挙げられる。導電性粒子の粒子径は、一次粒子径で通常、０．００１〜０．１μｍ  程度が好ましい。この範囲内では、透明性が維持される傾向にある。
【００２３】
塗膜の耐摩耗性の向上と硬化時における体積収縮率の減少のために、無機微粒子を含有させても構わない。無機微粒子としては、シリカ、酸化チタン等の金属酸化物よりなる微粒子が好ましい。かかる無機微粒子の含有量は２０〜６０質量％が好ましく、無機微粒子の平均粒径は１００μｍ以下のものが好ましい。この含有量の範囲内では、製品フィルムのカール発生を抑えられ、ハードコート樹脂の伸縮性不良と屈曲によるクラックの発生も低減できる。また、この平均粒径は１００ｎｍ以上であることが好ましい。
反射防止層のハードコート性（傷防止性）向上のために、無機微粒子表面に光重合反応性を有する感光性基を導入したものが好ましい。この感光性基としては単官能性または多官能性アクリレートが好ましい。
本発明におけるハードコート層は、その表面が鉛筆硬度で４Ｈ以上の硬さを有することが好ましい。
【００２４】
アクリル系樹脂透明基板は、フィルム、もしくはシートであることが好ましい。
本発明におけるアクリル系樹脂透明基板のフィルム・シートは、厚さの違いのみであり、フィルムは３００μｍ以下の厚さのものを言い、シートは３００μｍを超えるものである。アクリル系透明樹脂基板の厚さは、０．０１〜１０．０ｍｍの範囲のフィルムまたはシートであることが好ましい。０．０１〜１０．０ｍｍの範囲のフィルムまたはシートは、パネル加工時に変形しにくく取り扱いやすい。また、基板の荷重による変形も生じにくくなるので、液晶表示素子を組み立てた際に、二重像が顕著になり表示品位が損なわれにくくなる。さらに好ましい厚さは０．１〜５．０ｍｍの範囲である。
アクリル系樹脂透明基板のフィルムまたはシートは透明性が必須であり、その透明性の指標として全光線透過率が８０％以上、ヘイズ値が５％以下であることが好ましい。さらに好ましくは全光線透過率が８５％以上、ヘイズ値が２％以下である。
【００２５】
アクリル系樹脂透明基板のフィルムまたはシートは光学等方性が優れるものが好ましく、リタデーション値が３０ｎｍ以下、遅相軸のバラツキが４０度以内、より好ましくはリタデーション値が２０ｎｍ以下、遅相軸のバラツキが２０度以内のものが好適である。ここで、リタデーション値は、公知の測定装置を用いて測定した波長５９０ｎｍにおける複屈折の屈折率の差△ｎと膜厚ｄとの積△ｎ・ｄで表されるものである。
アクリル系樹脂透明基板のフィルムまたはシートはその表面にスパッタ法や真空蒸着法等により金属蒸着膜を形成する際に、その操作温度に耐え得る耐熱性を有していることが必要である。その耐熱性の指標として、温度８０℃の雰囲気下で約３０分間静置した際、
そり・変形がないことが好ましい。さらに好ましくは、温度９０℃の雰囲気下で約１時間静置した際、そり・変形がないことが好ましい。
【００２６】
本発明における耐熱アクリル系樹脂透明基板のフィルムまたはシートは光弾性係数の絶対値が３．０×１０−１２／Ｐａ未満であることが好ましい。光弾性係数がこの範囲内であれば、応力による複屈折の変化が少ないため、液晶表示装置等に使用した場合にコントラストや画面の均一性に優れる。
光弾性係数に関しては種々の文献に記載があり（例えばＭａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ
２００４，３７，１０６２−１０６６参照）、下式により定義されるものである。
｜ＣＲ｜＝｜Δｎ｜／σＲ      ｜Δｎ｜＝｜ｎ１−ｎ２｜
（式中、｜ＣＲ｜：光弾性係数の絶対値、σＲ：伸張応力、｜Δｎ｜：複屈折の絶対値、ｎ１：伸張方向の屈折率、ｎ２：伸張方向と垂直な屈折率）
光弾性係数の値がゼロに近いほど外力による複屈折の変化が小さいことを示しており、各用途において設計された複屈折の変化が小さいことを意味する。
【００２７】
本発明における酸化亜鉛系透明導電膜に用いる材料としては、アルミニウム，ガリウム，ホウ素，ケイ素、スズ、インジウム、ゲルマニウム、アンチモン、イリジウム、レニウム、セリウム、ジルコニウム、スカンジウム、及びイットリウムから選ばれる少なくとも１種類以上を含む酸化亜鉛系透明導電膜を利用することができる。
酸化亜鉛系透明導電膜に添加されるアルミニウム，ガリウム，ホウ素，ケイ素、スズ、インジウム、ゲルマニウム、アンチモン、イリジウム、レニウム、セリウム、ジルコニウム、スカンジウム、イットリウムの含有量は、これらのうち１種類を添加する場合は、亜鉛に対するこれらの材料の原子比がいずれも０．０５〜１５％の範囲が好ましい。このような比率で添加すると、膜の導電性及び透明性を良好に維持できる。また、これらの材料の複数種類を添加する場合は、添加する材料の全体の添加量を亜鉛に対して１５％以下の範囲が好ましい。これらの材料の中でも三酸化二ガリウムを添加した酸化亜鉛であると膜の導電性及び透明性がより好適である。
【００２８】
上記酸化亜鉛系透明導電性積層体は、全光線透過率が７０％以上、ヘイズ値が１０％以下であることが好ましく、この範囲では、透明感が良好である。さらに好ましくは全光線透過率が８０％以上、ヘイズ値が５％以下である。
酸化亜鉛系透明導電性積層体において酸化亜鉛系透明導電膜の膜厚は、１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲が好ましい。この膜厚の範囲では、用途によって異なるが、可撓性が保たれた連続的な膜を得る事が出来る。
酸化亜鉛系透明導電性積層体のシート抵抗値は、用途によって異なるが、５〜１００００Ω／□の範囲のものが導電性材料として好ましい。さらに好ましくは１０〜３００Ω／□の範囲のものが好ましい。
【００２９】
樹脂基板上に酸化亜鉛を形成する前の基板の温度はガラス転移温度以下の低温であるのが好ましく、酸化亜鉛系透明導電性積層体の比抵抗値は、１．５×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１０−４Ω・ｃｍの範囲が好ましい。さらには１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１０−４Ω・ｃｍの範囲のものが導電性材料として好ましい。また酸化亜鉛を形成する前の基板の温度がガラス転移温度以下の低温である場合、このハードコート層を被覆したアクリル系樹脂積層体上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成する場合と同様、ガラス基板上においても酸化亜鉛系透明導電膜の膜厚に対する比抵抗値の値はほぼ同等のものが得られる。さらに、酸化亜鉛系透明導電膜を形成する前の基板の温度がガラス転移温度以下の低温である場合も酸素導入量によって酸化亜鉛系透明導電性積層体の比抵抗値を最小化することができる。
【００３０】
酸化亜鉛系透明導電膜を形成してなる酸化亜鉛系透明導電性積層体の製造方法において
、成膜法は、特に限定するものではなく、スパッタ法や、真空蒸着法、ＣＶＤ法を用いることもできるが、最も好適な方法は、イオンプレーティング法によるものである。
イオンプレーティング法とは、成膜室に配設した電極部としてのハース等に、成膜材料として、ドーパントを含有する酸化亜鉛を配置し、この酸化亜鉛に例えばアルゴンプラズマを照射して酸化亜鉛を加熱し、蒸発させ、プラズマを通過した酸化亜鉛の各粒子をハース等に対向する位置に置かれた透明樹脂フィルムまたはシートに成膜する方法である。
イオンプレーティング法は、例えばスパッタ法に比べて、粒子の持つ運動エネルギーが小さいため、粒子が衝突するときに基板や基板に積層して成膜される酸化亜鉛膜に与えるダメージが小さく、結晶性の良好な膜が得られることが知られている。さらに、高速で成膜が可能で工業的に利用されている。
【００３１】
本発明に係る酸化亜鉛系透明導電膜の成膜方法（以下、単に成膜方法という。）を実施するのに好適なイオンプレーティング装置について図１を参照して説明する。
イオンプレーティング装置１０は、成膜室である真空容器１２と、真空容器１２中にプラズマビームＰＢを供給するプラズマ源であるプラズマガン（プラズマビーム発生器）１４と、真空容器１２内の底部に配置されてプラズマビームＰＢが入射する陽極部材１６と、成膜の対象である基板Ｗを保持する基板保持部材ＷＨを陽極部材１６の上方で適宜移動させる搬送機構１８とを備える。
【００３２】
プラズマガン１４は、圧力勾配型であり、その本体部分は真空容器  １２の側壁に備えられる。  プラズマガン１４の陰極１４ａ、中間電極１４ｂ、１４ｃ、電磁石コイル１４ｄ  およびステアリングコイル１４ｅへの給電を調整することにより、真空容器１２  中に供給されるプラズマビームＰＢの強度や分布状態が制御される。
なお、参照符号２０ａは、プラズマビームＰＢのもととなる、Ａｒ等の不活性ガスからなるキャリアガスの導入路を示す。
【００３３】
陽極部材１６は、プラズマビームＰＢを下方に導く主陽極であるハース１６ａと、その周囲に配置された環状の補助陽極１６ｂとからなる。
ハース１６ａは、適当な正電位に制御されており、プラズマガン１４から出射したプラズマビームＰＢを下方に吸引する。ハース１６ａは、プラズマビームＰＢが入射する中央部に貫通孔ＴＨが形成されており、貫通孔ＴＨに蒸着材料２２が装填されている。蒸着材料２２は、柱状若しくは棒状に成形されたタブレットであり、プラズマビームＰＢからの電流によって加熱されて昇華し、蒸着物質を生成する。ハース１６ａは蒸着材料２２を徐々に上昇させる構造を有しており、蒸着材料２２の上端は常に一定量だけハース１６ａの貫通孔ＴＨから突出している。
【００３４】
補助陽極１６ｂは、ハース１６ａの周囲に同心に配置された環状の容器で構成され、容器内には、永久磁石２４ａとコイル２４ｂとが収容されている。これら永久磁石２４ａおよびコイル２４ｂは、磁場制御部材であり、ハース１６ａの直上にカスプ状磁場を形成し、これにより、ハース１６ａに入射するプラズマビームＰＢの向きが制御され、修正される。
搬送機構１８は、搬送路１８ａ内に水平方向に等間隔で配列されて基板保持部材ＷＨを支持する多数のコロ１８ｂと、コロ１８ｂを回転させて基板保持部材ＷＨを所定の速度で水平方向に移動させる図示しない駆動装置とを備える。基板保持部材ＷＨに基板Ｗが保持される。この場合、基板Ｗを搬送する搬送機構１８を設けることなく、真空容器１２の内部の上方に基板Ｗを固定して配置してもよい。真空容器１２には、酸素ガス容器１９中の酸素ガスがマスフローメータ２１によって流量を所定量に調整されながら供給される。
なお、参照符号２０ｂは酸素以外の雰囲気ガスを供給するための供給路を示し、また、参照符号２０ｃはＡｒ等の不活性ガスをハース１６ａに供給するための供給路を示し、また、参照符号２０ｄは排気系を示す。
【００３５】
上記のように構成したイオンプレーティング装置１０を用いたイオンプレーティング方法を説明する。
まず、真空容器１２の下部に配置されたハース１６ａの貫通孔ＴＨに蒸着材料２２を装着する。一方、ハース１６ａの上方の対向する位置に基板Ｗを配置する。次に、成膜条件に応じたプロセスガスを真空容器１２の内部に導入する。プラズマガン１４の陰極１４ａおよびハース１６ａ間に直流電圧を印加する。そして、プラズマガン１４の陰極１４ａとハース１６ａとの間で放電を生じさせ、これにより、プラズマビームＰＢを生成する。
【００３６】
プラズマビームＰＢは、ステアリングコイル１４と補助陽極１６ｂ内の永久磁石２４ａ等とによって決定される磁界に案内されてハース１６ａに到達する。この際、蒸着材料２２の周囲にアルゴンガスが供給されるので、容易にプラズマビームＰＢがハース１６ａに引き寄せられる。プラズマに曝された蒸着材料２２は、徐々に加熱される。蒸着材料２２が十分に加熱されると、蒸着材料２２が昇華し、蒸着物質が蒸発（出射）する。蒸着物質は、プラズマビームＰＢによりイオン化され、基板Ｗに付着（入射）し、成膜される。なお、永久磁石２４ａおよびコイル２４ｂによってハース１６ａの上方の磁場を制御することにより、蒸着物質の飛行方向を制御することができるため、ハース１６ａの上方におけるプラズマの活性度分布や基板Ｗの反応性分布に合わせて基板Ｗの上の成膜速度分布を調整でき、広い面積にわたって均一な膜質の薄膜を得ることができる。
【００３７】
上記のイオンプレーティング装置１０を用いた本実施の形態例に係る酸化亜鉛系透明導電膜の製造法は、蒸発材料２２として三酸化二ガリウム（Ｇａ２Ｏ３）をガリウム源として添加した酸化亜鉛（ＺｎＯ）を用い、真空容器１２の酸素分圧を０．０１２Ｐａ以下に調整しながらイオンプレーティングするものである。また、必要に応じてプラズマビームを複数個用意して、区画された複数の真空室で、連続的に成膜を行ってもよい。
この酸化亜鉛系透明導電膜の製造法によれば、透明性と比抵抗とのバランスが良好で、また、膜の均一性に優れる大面積の酸化亜鉛系透明導電膜を速い成膜速度で得ることができる。
【００３８】
特に透明樹脂フィルムまたはシート上に成膜する際、プラズマビームによる耐性と熱耐性等の影響を大きく受けるため透明樹脂フィルムまたはシートが変形することもある。ここで透明樹脂フィルムまたはシートの搬送速度が、１．０ｍ／ｍｉｎ以上で高速移動することでプラズマビームから受ける影響（プラズマ、熱）を最短かつ最小に抑えることができる。放電電流値を下げることにおいても影響を抑えることができる。また、酸化亜鉛系透明導電膜を形成する際、あらかじめ基板Ｗの表面温度をガラス転移温度以下の低温にすることで影響を抑えることができる。具体的には、−２０℃から５０℃の温度範囲が好ましい。
【００３９】
特にプラズマビームから受ける影響（プラズマ、熱）を短時間とするための透明樹脂フィルムまたはシートの搬送速度の高速化が最も効果的であり、この場合は放電電流値が高く、成膜する透明樹脂フィルムまたはシートと該蒸発材料との距離が短い場合でも成膜が可能となり、工業的プロセスとしては有利である。
さらに透明樹脂フィルムに成膜する場合、工業的に行われているロールツーロールの成膜で透明樹脂フィルムに受けたダメージを分散均一化するために巻き出し速度と巻取り速度をコントロールしながら引張応力をかけた状態で成膜することが好ましく、さらにあらかじめ透明樹脂フィルムまたはシートを加熱した状態で成膜する場合もある。あるいは、成膜最中に透明樹脂フィルムまたはシートを冷却する場合もある。
【実施例】
【００４０】
以下に実施例、比較例を用いて本発明をさらに具体的に説明する。単位を部で表示して
いるところは、質量部を表す。
＜評価法＞
（１）全光線透過率、ヘイズ
ＪＩＳ  Ｋ  ６７１１に準拠して評価した。
（２）面内レタデーション（Ｒｅ）の測定
大塚電子（株）社製複屈折測定装置ＲＥＴＳ−１００を用いて、回転検光子法により２３℃における面内レタデーション（Ｒｅ）を測定した。
【００４１】
（３）酸化亜鉛膜の外観評価
酸化亜鉛系透明導電性積層体表面を顕微鏡で８００倍に拡大し、酸化亜鉛膜の亀裂が認められない場合は「○」（良好）と評価し、亀裂が認められる場合は「×」（不良）と評価した。
（４）密着性評価
密着性の評価方法として粘着テープ（ニチバン製１．８ｃｍ幅のセロテープ（登録商標））の粘着面を透明導電性積層体の酸化亜鉛膜に密着させ、引き剥がす剥離テストにより評価する。酸化亜鉛膜が全く剥離しない場合を「○」（良好）とし、全面剥離した場合を「×」（不良）と表示した。
【００４２】
（５）シート抵抗値の経時変化測定
４探針法（接触型）：ＪＩＳ  Ｒ  １６３７に準拠して評価した。
酸化亜鉛系系透明導電性積層体のシート抵抗値は、成膜直後と数日実験室内で静置したものについて測定した。
（６）耐久性試験１：耐熱試験後のシート抵抗値の経時変化測定
８０℃の恒温室槽で３００時間静置した後、室温に戻してから（５）と同様の方法にて測定した。
【００４３】
（７）耐久性試験２：耐寒試験後のシート抵抗値の経時変化測定
−２０℃の冷凍庫で５００時間静置した後、室温に戻してから（５）と同様の方法にて測定した。
（８）基板の変形評価１：熱オーブンテスト
温度８０℃の雰囲気下、約３０分間静置して目視でそり・変形を評価した。透明導電性積層体が全く変形・そりがない場合を「○」（良好）、変形・そりがわずかに認められる場合を「△」（可）とし、変形・そりが認められる場合を「×」（不良）と表示する。
（９）基板の変形評価２：熱オーブンテスト
温度９０℃の雰囲気下、約１時間静置して目視でそり・変形を評価した。透明導電性積層体が全く変形・そりがない場合を「○」（良好）、変形・そりがわずかに認められる場合を「△」（可）とし、変形・そりが認められる場合を「×」（不良）と表示する。
【００４４】
（１０）光弾性係数の測定
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ  ２００４，３７，１０６２−１０６６に詳細の記載のある複屈折測定装置を用いた。レーザー光の経路にシート片の引張装置を配置し、２３℃で伸張応力をかけながら複屈折を測定した。伸張時の歪速度は２０％／分（チャック間：３０ｍｍ、チャック移動速度：６ｍｍ／分）、試験片幅は７ｍｍで測定を行った。複屈折（Δｎ）と伸張応力（σＲ）の関係から、最小二乗近似により線形領域の直線の傾きをもとめ光弾性係数（ＣＲ）を計算し、光弾性係数の絶対値（｜ＣＲ｜）を求めた。傾きの絶対値が小さいほど光弾性係数が０に近いことを示し、好ましい光学特性であることを示す。
｜ＣＲ｜＝｜Δｎ｜／σＲ        ｜Δｎ｜＝｜ｎ１−ｎ２｜
（ＣＲ：光弾性係数、σＲ：伸張応力、Δｎ：複屈折、ｎ１：伸張方向の屈折率、ｎ２：伸張方向と垂直な屈折率）
【００４５】
＜用いた原材料＞
（ａ）アクリル系樹脂
メタクリル酸メチル９６．７質量部、アクリル酸メチル２．１質量部、及びキシレン１質量部からなる単量体混合物に、１，１−ジ−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，３−トリメチルシクロヘキサン０．０２９４質量部、及びｎ−オクチルメルカプタン０．２８質量部を添加し、均一に混合する。この溶液を内容積１０リットルの密閉耐圧反応器に連続的に供給し、攪拌下に平均温度１３０℃、平均滞留時間２時間で重合した後、反応器に接続された貯層に連続的に送り出し、一定条件下で揮発分を除去し、さらに押出機に連続的に溶融状態で移送し、以下の実施例に使用したアクリル系樹脂である（メタクリル酸メチル／アクリル酸メチル）共重合体ペレットを得た。得られた共重合体のアクリル酸メチル含量は２．０％、重量平均分子量は１０２，０００、ＡＳＴＭ−Ｄ１２３８に準拠して測定した２３０℃３．８ｋｇ荷重のメルトフロー値は２．０ｇ／分であった。
【００４６】
（ｂ）耐熱アクリル系樹脂
特公昭６３−１９６４に記載の方法で、メタクリル酸メチル−無水マレイン酸−スチレン共重合体を得た。得られた共重合体の組成は、メタクリル酸メチル７４質量％、無水マレイン酸１０質量％、スチレン１６質量％であり、共重合体メルトフローレート値（ＡＳＴＭ−Ｄ１２３８；２３０℃、３．８ｋｇ荷重）は１．６ｇ／１０分であった。
（ｃ）各樹脂透明基板の作成
クロックナー社製  Ｆ４０の射出成形機を利用し、各樹脂について平板（８０ｍｍ×８０ｍｍ×２ｍｍｔ）を作成した。それぞれの樹脂の成形温度は、耐熱アクリル系樹脂：２７０℃、アクリル系樹脂：２６０℃で行った。
【００４７】
［実施例１］
（ａ）アクリル系樹脂を射出成形したアクリル系透明樹脂基板のシート（８０ｍｍ×８０ｍｍ×２ｍｍｔ）について、市販のＪＰＣ製ハードコート液ＴＫＨ−３６Ａに、シートを浸漬し、引き上げて、紫外線を照射し、ハードコート層をシート表面に形成した。ハードコート層の膜厚は約４μｍに調整した。
このハードコート層を被覆したアクリル系樹脂積層体を、成膜前にあらかじめ真空乾燥機で６０℃、約１時間乾燥し、水分等の微量不純物を除去した。
【００４８】
（成膜条件）
タブレット：三酸化二ガリウムを３質量％添加した酸化亜鉛焼結体
アクリル系樹脂積層体シートのサイズ：８０ｍｍ×８０ｍｍ×２ｍｍｔ平板
アクリル系樹脂積層体シートの温度：約２０℃（室温）
放電電圧：６５Ｖ
放電電流：１４３Ａ
アクリル系樹脂積層体シートの搬送速度：２０ｍｍ／ｓｅｃ
成膜中圧力：６．０×１０−１Ｐａ
雰囲気ガス条件：導入Ａｒ流量／導入酸素流量＝２０／１
イオンプレーティング法により透明導電膜として酸化亜鉛をアクリル系樹脂積層体上に成膜を行い、酸化亜鉛系透明導電性積層体を得た。透明導電膜の膜厚は約４５ｎｍに調整した。酸化亜鉛系透明導電性積層体の比抵抗値は、１．１２×１０−３Ω・ｃｍであった。また、酸化亜鉛系透明導電性積層体の評価結果を表１に併記した。さらに酸化亜鉛膜の外観評価用顕微鏡写真（８００倍）を図２に示した。  
【００４９】
［実施例２］
（ｂ）耐熱アクリル系樹脂を用いた以外は、実施例１と同様にして酸化亜鉛系透明導電性積層体を得た。酸化亜鉛系透明導電性積層体の比抵抗値は、１．０５×１０−３Ω・ｃ
ｍであった。また、酸化亜鉛系透明導電性積層体の評価結果を表１に併記した。さらに酸化亜鉛膜の外観評価用顕微鏡写真（８００倍）を図２に示した。
［実施例３］
（ｂ）耐熱アクリル系樹脂を用い、実施例１と同様の成膜条件で３回繰返し成膜をして酸化亜鉛系透明導電性積層体を得た。透明導電膜の膜厚は約１３６ｎｍであった。酸化亜鉛系透明導電性積層体の比抵抗値は、６．２１×１０−４Ω・ｃｍであった。
［比較例１］
（ａ）アクリル系樹脂を射出成形したアクリル系透明樹脂基板のシート（８０ｍｍ×８０ｍｍ×２ｍｍｔ）上に直接実施例１と同じ成膜条件で成膜し、酸化亜鉛系透明導電性積層体を得た。酸化亜鉛系透明導電性積層体の評価結果を表１に併記した。
【００５０】
【表１】
2007113110.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明の酸化亜鉛系透明導電膜を形成した酸化亜鉛系透明導電性基板、すなわち光学特性、透明導電膜密着性、耐熱性に優れ、かつ各種機能（導電性、電磁波シールド製、近赤外線吸収性、紫外線カット性等）を有する酸化亜鉛系透明導電性積層体であり、液晶ディスプレイ・プラズマディスプレイ・無機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）ディスプレイ・有機ＥＬディスプレイ・電子ペーパー等の透明電極、太陽電池の光電変換素子の窓電極、透明タッチパネル等の入力装置の電極、電磁シールドの電磁遮蔽膜、透明電波吸収体、紫外線吸収体、さらには透明半導体デバイスとして他の金属膜／金属酸化膜と組み合わせて活用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の実施例で用いたイオンプレーティング装置の概略説明図である。
【図２】アクリル系樹脂透明基板表面上の酸化亜鉛系透明導電膜の顕微鏡写真の図である。比較例１の顕微鏡写真（倍率：８００倍）には亀裂を示す細かい線が走っているのが見える。
【符号の説明】
【００５３】
１０  イオンプレーティング装置
１２  真空容器
ＰＢ  プラズマビーム
１４  プラズマガン（プラズマビーム発生器）
１４ａ  プラズマガンの陰極
１４ｂ、１４ｃ  中間電極
１４ｄ  電磁石コイル
１４ｅ  ステアリングコイル
１６  陽極部材
１６ａ  主陽極であるハース
１６ｂ  環状の補助陽極
Ｗ    基板
ＷＨ  基板保持部材
１８  搬送機構
１８ａ  搬送路
１８ｂ  コロ
１９  酸素ガス容器
２０ａ  Ａｒ等の不活性ガスからなるキャリアガスの導入路
２０ｂ  酸素以外の雰囲気ガスを供給するための供給路
２０ｃ  Ａｒ等の不活性ガスをハースに供給するための供給路
２０ｄ  排気系
ＴＨ  貫通口
２１  マスフローメータ
２２  蒸着材料
２４ａ  永久磁石
２４ｂ  コイル
【図１】
2007113110.tif 000003
【図２】
2007113110.tif 000004