(57)【要約】      （修正有）【課題】高温での使用が可能で、装置の稼働率の低下を防止でき、かつ、異物除去性能および搬送性能に優れたクリーニングシートおよびクリーニング機能付搬送部材の提供。【解決手段】クリーニングシート１００は、支持体１０とクリーニング層２０とセパレータ３０を有し、該クリーニング層２０はポリアミドを含む。クリーニング機能付搬送部材は、被洗浄部位に接触・移動させるための搬送部材の少なくとも片面に前記クリーニング層２０を設ける。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアミドを含むクリーニング層を有する、クリーニングシート。
【請求項２】
前記クリーニング層の初期弾性率が１．５ＧＰａ以下である、請求項１に記載のクリーニングシート。
【請求項３】
前記クリーニング層の常態吸湿率が２．０％以下である、請求項１または２に記載のクリーニングシート。
【請求項４】
搬送部材と、該搬送部材の少なくとも片面に設けられた請求項１から３のいずれかに記載のクリーニング層とを有し、該クリーニング層が該搬送部材に粘着剤層を介して設けられている、クリーニング機能付搬送部材。
【請求項５】
搬送部材と、該搬送部材の少なくとも片面に設けられた請求項１から３のいずれかに記載のクリーニング層とを有し、該クリーニング層が該搬送部材に直接設けられている、クリーニング機能付搬送部材。
【請求項６】
請求項１から３のいずれかに記載のクリーニングシート、あるいは請求項４または５に記載のクリーニング機能付搬送部材を基板処理装置内に搬送することを含む、基板処理装置のクリーニング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クリーニングシートおよびクリーニング機能付搬送部材に関する。より詳細には、本発明は、高温での使用が可能で、装置の稼働率の低下を防止でき、かつ、異物除去性能および搬送性能に優れたクリーニングシートおよびクリーニング機能付搬送部材に関する。また、本発明は、このようなクリーニングシートおよびクリーニング機能付搬送部材を用いた基板処理装置のクリーニング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体、フラットパネルディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査装置など、異物を嫌う各種の基板処理装置では、各搬送系と基板とを物理的に接触させながら搬送する。その際、基板や搬送系に異物が付着していると、後続の基板をつぎつぎと汚染するため、定期的に装置を停止し、洗浄処理する必要があった。その結果、処理装置の稼動率が低下するという問題や装置の洗浄処理のために多大な労力が必要となるという問題があった。
【０００３】
このような問題を克服するため、板状部材を搬送することにより基板裏面に付着する異物を除去する方法（特許文献１参照）が提案されている。このような方法によれば、基板処理装置を停止させて洗浄処理を行う必要がないので、処理装置の稼動率が低下するという問題は解消される。しかし、この方法では、異物を十分に除去することはできない。
【０００４】
一方、粘着性物質を固着した基板をクリーニング部材として基板処理装置内に搬送することにより、当該処理装置内に付着した異物をクリーニング除去する方法（特許文献２参照）が提案されている。この方法は、特許文献１に記載の方法の利点に加えて異物の除去性にも優れるので、処理装置の稼動率が低下するという問題や装置の洗浄処理のために多大な労力が必要となるという問題はいずれも解消される。しかし、特許文献２に記載の方法によれば、粘着性物質と装置との接触部分が強く接着しすぎて離れないおそれがある。その結果、基板を確実に搬送できないという問題や、搬送装置を破損させるという問題が生じるおそれがある。
【０００５】
さらに、洗浄処理の対象となる基板処理装置内のウェハステージの温度は、その基板処理の種類に応じて室温から高温まで幅広く設定される。したがって、幅広い温度範囲で使用できるクリーニング部材が理想的である。特に、５０℃以上のウェハステージを洗浄処理する場合には、洗浄処理する際にステージ温度を室温まで下げなければならない。そのため、ステージの温度制御（降温／昇温）に多大な時間を要し、装置稼働率が低下するという問題がある。したがって、クリーニング部材には、このような装置においてもウェハステージを室温まで下げることなく洗浄処理が行えるような耐熱性が要求されている。
【０００６】
また、洗浄処理の対象となる基板処理装置が真空系装置である場合、真空チャンバー内の真空度は装置規定値に速やかに到達することが、稼働率の点などからも好ましい。したがって、クリーニング部材には、所望の真空度へ速やかに到達するような性質が要求されている。しかし、従来のクリーニング部材によれば、異物除去の際および異物除去後、装置を高真空雰囲気に到達させるまでに非常に時間がかかり、装置の稼働率が低下するという問題がある。
【特許文献１】特開平１１−８７４５８号公報
【特許文献２】特開平１０−１５４６８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、高温での使用が可能で、装置の稼働率の低下を防止でき、かつ、異物除去性能および搬送性能に優れたクリーニングシートおよびクリーニング機能付搬送部材（以下、これらをまとめてクリーニング部材と称することもある）を提供することにある。本発明の別の目的は、そのようなクリーニング部材を用いた基板処理装置のクリーニング方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは鋭意検討した結果、ポリアミドをクリーニング層に含むことにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
本発明のクリーニングシートは、ポリアミドを含むクリーニング層を有する。
【００１０】
好ましい実施形態においては、上記クリーニング層の初期弾性率は１．５ＧＰａ以下である。
【００１１】
好ましい実施形態においては、上記クリーニング層の常態吸湿率は２．０％以下である。
【００１２】
本発明の別の局面においては、クリーニング機能付搬送部材が提供される。好ましい実施形態においては、このクリーニング機能付搬送部材は、搬送部材と、該搬送部材の少なくとも片面に上記クリーニング層とを有し、該クリーニング層が該搬送部材に粘着剤層を介して設けられている。
【００１３】
別の好ましい実施形態においては、このクリーニング機能付搬送部材は、搬送部材と、該搬送部材の少なくとも片面に上記クリーニング層とを有し、該クリーニング層が該搬送部材に直接設けられている。
【００１４】
本発明のさらに別の局面においては、基板処理装置のクリーニング方法が提供される。この方法は、上記のクリーニング機能付搬送部材を基板処理装置内に搬送することを含む。
【発明の効果】
【００１５】
以上のように、本発明によれば、クリーニング層にポリアミドを含むことにより、高温での使用が可能で、装置の稼働率の低下を防止でき、かつ、異物除去性能および搬送性能に優れたクリーニング部材が得られる。その結果、高温のウェハステージを室温まで下げることなく洗浄処理を行うことが可能であり、基板処理装置が真空系装置の場合も効率的に洗浄処理を行うことができる。これは、ポリアミドが有する熱的性質、機械的特性および表面特性によると推定される。加えて、本発明の好ましい実施形態によると、クリーニング層の初期弾性率が１．５ＧＰａであり、常態吸湿率が２．０％以下である。このような特性を有するクリーニング層を形成することで、さらに好ましいクリーニング部材を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
図１（ａ）および（ｂ）は、本発明の好ましい実施形態における、クリーニングシートの概略断面図である。図１（ａ）によると、このクリーニングシート１００は、支持体１０と、クリーニング層２０とセパレーター３０とを有している。支持体１０および／またはセパレーター３０は、目的に応じて省略してもよい。図１（ｂ）によると、支持体１０のクリーニング層２０と反対側の面に、粘着剤層４０とセパレーター３０が配置されている。支持体１０を省略した場合、粘着剤層４０はクリーニング層２０に隣接して配置されてもよい。これら粘着剤層４０および／またはセパレーター３０は、目的に応じて省略してもよい。また、支持体１０とクリーニング層２０との間に、任意の適切な粘着剤層（図示せず）が設けられてもよい。
【００１７】
本発明におけるクリーニング層２０は、ポリアミド（ＰＡ）を含む。ポリアミドを用いることで、高温での使用が可能で、装置の稼働率の低下を防止でき、かつ、優れた異物除去性能および搬送性等を有するクリーニング部材を得ることができる。ポリアミドは、主鎖中に酸アミド結合（−ＣＯＮＨ−）を有するものであり、任意の適切なポリアミドが選択される。例えば、脂肪族骨格を有するナイロン（登録商標）や骨格が全て芳香族であるアラミドが挙げられる。好ましくは、ナイロンである。安価で、かつ、優れた耐熱性および柔軟性を有するからである。ナイロンの具体例としては、例えば、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン４６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン６Ｔ、ナイロン６Ｉ、ナイロン９Ｔ、ナイロンＭ５Ｔが挙げられる。これらのナイロンは単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。また、目的に応じて任意の適切な添加剤を加えてもよく、変性処理を行ってもよい。ポリアミドは、その種類に応じて任意の適切な方法により得られる。例えば、ナイロン６はカプロラクタムなどのラクタムを開環重縮合することにより得られる。また、ポリアミドは数多く市販されている。
【００１８】
ポリアミドは単独で用いても良く、目的に応じてポリアミドと任意の適切な樹脂を組み合わせて用いてもよい。組み合わせて用いる樹脂の具体例としては、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、変性ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）、ポリブチレンテレフタレー（ＰＢＴ）、ガラス繊維強化ポリエチレンテレフタレート（ＧＦ−ＰＥＴ）、超高分子ポリエチレン（ＵＨＰＥ）等の他に、ポリサルホン（ＰＳＵ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＢ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、液晶ポリマー（ＬＣＰ）やフッ素樹脂（ＦＲ）等を用いることが出来る。これらの樹脂を適切に組み合わせて用いることにより、粘着性および機械的強度のバランスを制御することができる。その結果、異物除去性能および搬送性能に優れたクリーニング部材を得ることができる。さらに、このような樹脂を用いることにより、耐熱性に優れたクリーニング部材を得ることができ、ステージ温度を下げることなく装置のクリーニング処理を行うことができる。これらの樹脂の添加量は、目的に応じて適宜設定される。好ましくは、ポリアミド１００重量部に対して０．０１〜１０重量部であり、さらに好ましくは０．１〜８重量部である。
【００１９】
上記クリーニング層の初期弾性率は、好ましくは１．５ＧＰａ以下、さらに好ましくは１〜１５００ＭＰａ、最も好ましくは３００〜１３００ＭＰａである。初期弾性率がこのような範囲であれば、装置内のクリーニング対象外の部分と接着することなく、クリーニング対象部分の異物を確実に除去することができる。初期弾性率は、ＡＳＴＭ  Ｄ６３８に準じて測定される。なお、本発明において、「初期弾性率」とは、クリーニング部材を使用する前のヤング率を意味する。
【００２０】
上記クリーニング層の常態吸湿率は、好ましくは２．０％以下である。さらに好ましくは、１．８％以下であり、最も好ましくは１．６％以下である。常態吸湿率の下限値は、小さければ小さいほど好ましく、実用的な下限は例えば０．０１％である。常態吸湿率が上記範囲を有することで、真空系装置にクリーニング部材を搬入する際、真空チャンバー内の真空度が装置規定値に達する時間が短くなり、装置の稼動率が高くなる。
【００２１】
本明細書において「常態吸湿率」とは、常態における本発明のクリーニング層に含まれる水分量が、当該クリーニング層全体に対して占める割合を意味する。この常態吸湿率の測定方法は例えば、カールフィッシャー方法を挙げることができる。具体的な測定方法は、まず、クリーニング層を３ｍｍ×３ｍｍの大きさに切り取り試料を作製し、該試料を温度２０℃、相対湿度５０％でクリーンルームに２４時間保存し、吸湿量を飽和状態とする。次いで、この飽和状態とした試料を加熱気化装置（三菱化学製、電量滴定式水分測定装置ＣＡ−０６型＋加熱気化装置ＶＡ−０６型）に投入し、ガラス板に任意の適切な粘着テープを用いて試料を固定する。次いで、１５０℃に加熱したガスを滴定セル内に導入し、試料に含まれる水分を蒸発させ、その水分量を測定する。常態吸湿率の算出は、上記飽和状態とした試料の全重量をＷ１、試料に含まれる水分量をＷ０とすると、以下の式（Ｉ）によって求められる。
「常態吸湿率」＝（Ｗ０／Ｗ１）×１００      （Ｉ）
【００２２】
上記クリーニング層の厚みは、好ましくは０．１〜２ｍｍ、さらに好ましくは０．２〜１ｍｍである。このような厚みであれば、クリーニング層単独でも搬送可能でかつ異物除去可能となるような自己支持性が得られる。また、クリーニングシートが支持体を有する場合のクリーニング層の厚みは、目的に応じて適宜設計され得る。好ましくは０．１〜１００μｍ、さらに好ましくは０．５〜５０μｍである。
【００２３】
上記クリーニング層は、好ましくは１２０℃以上、さらに好ましくは１４０℃以上、最も好ましくは１６０℃以上の融点を有する。このような融点を有することにより、高温での洗浄処理が可能な耐熱性を有し、かつ、異物除去性能および搬送性能に優れたクリーニング部材が得られる。なお、本発明において融点の上限は特に限定されないが、成形性等を考慮すると、実用的な上限は例えば２３０℃程度である。
【００２４】
上記クリーニング層は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤の具体例としては、界面活性剤、可塑剤、酸化防止剤、導電性付与材が挙げられる。用いる添加剤の種類および／または量を調整することにより、目的に応じた所望の特性を有するクリーニング部材を得ることができる。例えば、添加剤の添加量は、ポリアミド１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜１００重量部、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。
【００２５】
上記クリーニング層は、任意の適切な方法によって形成され得る。例えば、ポリアミドと目的に応じた添加剤とを含む組成物を所定の形状（代表的には、基板処理装置の搬送部材に対応した形状）に形成することにより、クリーニング層が作製され得る。形成方法の具体例としては、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法が挙げられる。
【００２６】
上記クリーニングシートは保護フィルムを有してもよい。保護フィルムは、代表的にはクリーニング層の形成時や、クリーニング層と搬送部材を貼り合わせる（圧着）する際、クリーニング層の保護を目的として使用される。また、保護フィルムはクリーニング部材の形成等を補助するために用いられるため、適切な段階で剥離される。保護フィルムは目的に応じて任意の適切なフィルムが採用される。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタン、エチレン酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン・（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネートなどからなるプラスチックフィルムやポリイミド、フッ素樹脂フィルムが挙げられる。保護フィルムは、目的に応じ剥離剤などで剥離処理が施されてもよい。剥離剤は、例えば、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、脂肪酸アミド系、シリカ系を挙げることができる。この保護フィルムの厚さは、好ましくは１〜１００μｍである。保護フィルムの形成方法は目的に応じて適宜選択され、例えば、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法により形成することができる。
【００２７】
必要に応じて、図１（ａ）に記載のように支持体１０が設けられる。支持体１０の厚さは適宜選択でき、好ましくは５００μｍ以下、さらに好ましくは３〜３００μｍ、最も好ましくは５〜２５０μｍである。支持体の表面は、隣接する層との密着性、保持性などを高めるために、慣用の表面処理、例えば、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理などの化学的または物理的処理、下塗剤（例えば、上記粘着性物質）によるコーティング処理が施されていてもよい。なお、支持体は単層であっても多層体であってもよい。
【００２８】
支持体１０は、任意の適切な支持体が採用される。例えば、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、アセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリアミドなどのプラスチックフィルムが挙げられる。分子量などの諸物性は、目的に応じて適宜選択され得る。また、支持体の形成方法は目的に応じて適宜選択され得る。
【００２９】
上記セパレーター３０は、クリーニング部材が実用に供されるまでの間、必要に応じて上記クリーニング層２０の表面および／または上記粘着剤層４０の表面に設けられ得る。セパレーターを設けることにより、クリーニング層に異物が付着することを防止できるので、クリーニング部材のクリーニング性能低下が防止される。セパレーターは任意の適切なセパレーターが採用される。セパレーターとしては、例えば樹脂フィルムが挙げられる。具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタン、エチレン酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン・（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリエステル、ポリスチレン、ポリカーボネートなどからなるプラスチックフィルム、ポリイミドなどの耐熱樹脂フィルムが挙げられる。また、セパレーターには目的に応じて剥離剤等の処理を施してもよい。好ましくは、非シリコーン系の剥離剤が用いられ、例えば、長鎖アルキル系、フッ素系、脂肪酸アミド系の剥離剤が挙げられる。セパレーターの形成方法は、目的に応じて適宜選択される。セパレーターの厚みは、好ましくは、５〜１００μｍである。
【００３０】
上記粘着剤層４０は、支持体１０のクリーニング層２０と反対側の面に配置されてもよい。（図１（ｂ）参照）。当該接着剤層を介して、クリーニングシートの搬送部材（後述）に貼り合わせられる。該粘着剤層は、例えばシリコンウェハのミラー面に対する１８０度引き剥がし粘着力が、好ましくは０．０１〜１０Ｎ／１０ｍｍ幅、さらに好ましくは０．０５〜５Ｎ／１０ｍｍ幅である。粘着力が高すぎると、剥離除去する際に、クリーニング層などが裂ける恐れがある。また、粘着剤層の厚さは、目的に応じて適宜設定される。好ましくは１〜１００μｍ、さらに好ましくは５〜３０μｍである。
【００３１】
粘着剤層の材料構成については特に限定されず、例えば、アクリル系やゴム系など通常の粘着剤からなるものが使用される。好ましくは、アクリル系の粘着剤である。アクリル系粘着剤の主成分は、目的に応じて適宜選択される。例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーに必要に応じ共重合可能な他のモノマーを加えた混合物（混合比は目的に応じて適宜設計される）を、重合反応させることにより得ることができる。さらに、粘着剤層は目的に応じて添加剤を含んでもよい。粘着剤層の主成分の重量平均分子量は目的に応じて適宜選択され、好ましくは１０万〜１３０万である。これらの範囲を有することで、所望の粘着性を有することができる。また、粘着剤層の主成分の含有率は目的に応じて適宜選択される。好ましくは粘着剤層全体の９０重量％以上である。
【００３２】
本発明のクリーニングシートは、上記クリーニング層を単独でクリーニングシートとして使用してもよく、任意の適切な基材（例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリイミドフィルムなどの耐熱性フィルム）上に配置して使用してもよく、搬送部材上に設けられたクリーニング層として（すなわち、本発明のクリーニング機能付搬送部材のクリーニング層として）使用してもよい。以下、本発明の好ましい実施形態によるクリーニング機能付搬送部材について説明する。
【００３３】
図２は、本発明の好ましい実施形態における、クリーニング機能付搬送部材の概略断面図である。図２によると、クリーニング機能付搬送部材２００は、搬送部材５０の少なくとも片面にクリーニング層２０を有する。クリーニング層２０の厚みは、目的に応じて適宜設計され得る。好ましくは０．１〜１００μｍ、さらに好ましくは０．５〜５０μｍである。搬送部材５０とクリーニング層２０の間には目的に応じて上記支持体および／または上記粘着剤層を配してもよい。さらに、クリーニング層２０の搬送部材５０と反対側の面には、必要に応じてセパレーターを配してもよい。このクリーニング機能付搬送部材を装置内で搬送し、被洗浄部位に接触・移動させることにより、上記装置内に付着する異物による搬送トラブルを生じることなく簡便かつ確実にクリーニング除去することができる。  
【００３４】
上記搬送部材５０としては、異物捕集の対象となる基板処理装置の種類に応じて任意の適切な基板が用いられる。具体例としては、半導体ウェハ（例えば、シリコンウェハ、石英ウェハ）、ＬＣＤ、ＰＤＰなどのフラットパネルディスプレイ用基板、コンパクトディスク、ＭＲヘッドなどの基板が挙げられる。
【００３５】
本発明のクリーニング機能付搬送部材は、目的に応じて任意の適切な方法で作製される。例えば、クリーニングシートと搬送部材を熱圧着する方法、および粘着剤層を介して貼り合わせる方法が挙げられる。好ましくは、熱圧着する方法である。搬送部材に直接クリーニングシートを貼り合わせることができるので、軽量で、かつ、優れた異物除去性および搬送性を有するクリーニング機能付搬送部材を得られるからである。以下、代表的なクリーニング機能付搬送部材の作製方法を記載するが、この方法等に限定されるものではない。
【００３６】
上記クリーニングシートを保護フィルムと搬送部材（例えばシリコンウェハ）との間に配置する。このとき、クリーニング層と搬送部材が隣接するように配置する。次いで、クリーニングシートと搬送部材とを熱圧着する。熱圧着の条件としては目的に応じて任意の適切な条件が採用され、好ましくは、クリーニング層に含まれるポリアミドの融点以下の温度で熱圧着される。さらに好ましくは、クリーニング層が所望の範囲の初期弾性率および常態吸湿率を有し得る条件下（例えば加熱時間）で熱圧着される。熱圧着が終了し、搬送部材の外周に沿って裁断加工を行い、保護フィルムを剥離することで、本発明のクリーニング機能付搬送部材が得られる。なお、必要に応じてセパレーター等を配置してもよい。
【００３７】
本発明の好ましい実施形態によるクリーニング方法は、上記クリーニングシートまたは上記クリーニング機能付搬送部材を所望の基板処理装置内に搬送して、その被洗浄部位に接触させることにより、当該被洗浄部位に付着した異物を簡便かつ確実にクリーニング除去することができる。本発明のような耐熱性に優れたクリーニング部材を用いることにより、例えばオゾンアッシャー、レジストコーター、酸化拡散炉、常圧ＣＶＤ装置、減圧ＣＶＤ装置、プラズマＣＶＤ装置などの高温下で使用される基板処理装置に用いることができる。さらに、本発明のような真空度が装置規定値に速やかに到達するクリーニング部材を用いることにより、洗浄処理の対象となる基板処理装置が真空系装置である場合にも用いることができる。したがって、本発明のクリーニング部材には、ウェハステージの温度を室温まで下げることなく、真空度が装置規定値に速やかに到達し、かつ、搬送時に処理装置内での搬送不良や汚染を発生させることなく使用できるという利点がある。
【００３８】
上記クリーニング方法により洗浄される基板処理装置は、特に限定されない。基板処理装置の具体例としては、本明細書ですでに記載した装置に加えて、回路形成用の露光照射装置、レジスト塗布装置、スパッタリング装置、イオン注入装置、ドライエッチング装置、ウエハプローバなどの各種の製造装置や検査装置などが挙げられる。
【００３９】
以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。実施例における評価方法は以下の通りである。また、実施例における「部」は重量基準である。
（１）引張弾性率
ＡＳＴＭ  Ｄ６３８に準じて測定した。
（２）常態吸湿率
常態吸湿率の測定方法は、カールフィッシャー方法を用いた。まず、クリーニング層を３ｍｍ×３ｍｍの大きさに切り取り試料を作製し、該試料を温度２０℃、相対湿度５０％でクリーンルームに２４時間保存し、吸湿量を飽和状態とした。次いで、この飽和状態にある試料を加熱気化装置（三菱化学製、電量滴定式水分測定装置ＣＡ−０６型＋加熱気化装置ＶＡ−０６型）に投入し、ガラス板に任意の適切な粘着テープを用いて試料を固定した。次いで、１５０℃に加熱したガスを滴定セル内に導入し、試料に含まれる水分を蒸発させ、その水分量を測定する。常態吸湿率の算出は、上記飽和状態とした試料の全重量をＷ１、試料に含まれる水分量をＷ０とすると、以下の式（Ｉ）によって求められる。
「常態吸湿率」＝（Ｗ０／Ｗ１）×１００      （Ｉ）
（３）異物数測定
シリコンウェハミラー面上の０．２００μｍ以上の異物数は、異物検査装置（ＫＬＡ Ｔｅｎｃｏｒ製、ＳＦＳ６２００）(以下、装置Ａとする)を用いて測定した。
（４）クリーニング性能評価方法
クリーニング性能は、クリーニング機能付き搬送部材を、クリーニングシート製造用のライナーフィルム剥離装置（日東精機製、ＨＲ−３００ＣＷ）(以下、装置Ｂとする)に搬送し、クリーニング機能付き搬送部材の搬送前後の異物数を測定する事で評価した。具体的な方法は以下のとおりである。
装置Ｂへ、まず新品のシリコンウェハミラー面を下向きにしてミラー面が搬送アームやチャックテーブルに接触するように自動搬送した(フェイスダウン搬送)。そしてミラー面に付着した異物数を、装置Ａを用いて測定した（この時の異物数を「異物数１」とする。）。その後、装置Ｂに本発明のクリーニング機能付き搬送部材を搬送してクリーニング処理を行った後、再度新品ウェハをフェイスダウン搬送し、その時付着した異物数を装置Ａを用いて測定した（この時の異物数を「異物数２」とする）。クリーニング機能付き搬送部材のクリーニング効果のパラメータとして異物除去率を以下の式（ＩＩ）により算出した。
異物除去率＝[１００−（異物数２）／（異物数１）×１００]％        （ＩＩ）
（５）搬送性
搬送性については、装置Ｂにてチャックテーブル上に搬送し、真空吸着を行い、真空を解除した後、リフトピンにてクリーニング部材をチャックテーブルから剥離できるかどうかで評価した。
【実施例】
【００４０】
（実施例１）
非変性ナイロン６（東レ製、アラミンＵ１４１、融点２２５℃）を含むクリーニング層（３００ｍｍ×３００ｍｍ×２５μｍ）を、長尺ポリエステルフィルム（保護フィルムＡ、３００ｍｍ×３００ｍｍ×２５μｍ）と８ｉｎｃｈのシリコンウェハ（搬送部材Ａ）で挟み込んだ。これらを１５０℃、加熱時間５分の条件下でクリーニング層とシリコンウェハとを熱圧着した。その後、カッター刃（日東精機社製、ＮＥＬ-ＤＲ３０００）を用い、シリコンウェハ外周に沿って裁断加工し、保護フィルムＡを剥離し、クリーニング機能付き搬送部材Ａを得た。このクリーニング層の初期弾性率は、１．５ＧＰａであり、常態吸湿率は１．３％であった。
パーティクル管理された新品の８ｉｎｃｈシリコンウェハのミラー面における０．２００μｍ以上の異物数を、装置Ａを用いて測定したところ１個であった（初期異物数１）。このウェハを装置Ｂにフェイスダウン搬送し、０．２００μｍ以上の異物数を、装置Ａを用いて測定したところ、１５４６２個であった（異物数１）。また、クリーニング機能付き搬送部材Ａを、装置Ｂに搬送してクリーニング処理を行ったところ、支障なく搬送できた。なお、装置Ｂのステージ温度は１００℃であった。
別の新品の８ｉｎｃｈシリコンウェハのミラー面における０．２００μｍ以上の異物数を測定したところ1個であった（初期異物数２）。このウェハを上記クリーニング処理を行った装置Ｂにフェイスダウン搬送した後、０．２００μｍ以上の異物数を、装置Ａを用い測定したところ、３０５４個であった（異物数２）。異物数１、異物数２から算出した異物除去率は、全体で８０．３％であった。異物除去率の結果を実施例２および比較例１の結果と共に表１に示す。
【００４１】
【表１】
2007123663.tif 000003
【００４２】
（実施例２）
温度計、攪拌機、窒素導入管および還流冷却管を備えた内容量が５００ｍｌの３つ口フラスコ型反応器内に、アクリル酸２−エチルへキシル７３部、アクリル酸ｎ−ブチル１０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド１５部、およびアクリル酸５部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１５部と酢酸エチル１００部を、全体が２００ｇになるように配合して投入した。窒素ガスを約１時間導入しながら攪拌し、内部の空気を窒素で置換した。その後、内部の温度を５８℃に保ち、この状態で約４時間重合を行い、ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液１００部にポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業製、商品名、コロネートＬ）３部を均一に混合し、粘着剤溶液を得た。片面が非シリコーン系剥離剤にて処理された長尺ポリエステルフィルム（厚さ３８μｍ、幅２５０ｍｍ）からなる保護フィルムＢの剥離処理面に、粘着剤溶液を乾燥後（すなわち、本発明の粘着剤層）の厚みが７μｍがとなるように塗布し、その粘着剤溶液層上に非変性ナイロン６（東レ製、アラミンＵ１４１、融点２２５℃）を含むクリーニング層（厚さ２５μｍ、幅２５０ｍｍ）を配置した。その後、５０℃で２４時間エージングし、粘着剤層付きクリーニングシートを得た。保護フィルムＢを剥離し、クリーニングシートの粘着剤層側とシリコンウェハを隣接して配置し、ラミネーターを用いて貼り合わせた。最後にカッター刃（日東精機社製、ＮＥＬ-ＤＲ３０００）を用いウェハ外周に沿って裁断加工し、クリーニング機能付き搬送部材Ｂを得た。
パーティクル管理された新品の８ｉｎｃｈシリコンウェハのミラー面における初期異物数１を測定したところ３個であった。このシリコンウェハを装置Ｂにフェイスダウン搬送した後、実施例１と同様にして異物数１測定したところ、１２３５６個であった。また、クリーニング機能付き搬送部材Ｂを、装置Ｂに搬送してクリーニング処理を行ったところ、支障なく搬送できた。
別の新品の８ｉｎｃｈシリコンウェハのミラー面における初期異物数２を測定したところ２個であった。このウェハを上記クリーニング処理を行った装置Ｂにフェイスダウン搬送した後、実施例１と同様にして異物数２測定したところ、２６５４個であった。異物数１、異物数２から算出した異物数除去率は、全体で７８．５％であった。異物除去率の結果を実施例２および比較例１の結果と共に表１に示す。
【００４３】
（比較例１）
搬送部材Ｃとして、パーティクル管理された新品の８ｉｎｃｈシリコンウェハを用いた。実施例１と同様に初期異物数１を測定したところ３個であった。このウェハを装置Ｂにフェイスダウン搬送した後、実施例１と同様に異物数１を測定したところ、１８９３２個であった。尚、搬送部材Ｃを、装置Ｂに搬送したところ、支障なく搬送できた。
別の新品の８ｉｎｃｈシリコンウェハのミラー面における初期異物数２を測定したところ０個であった。この新たな新品ウェハを装置Ｂにフェイスダウン搬送した後、実施例１と同様にして異物数２を測定したところ、１０１５３個であった。異物数１、異物数２から算出した異物除去率は、全体で４６．４％であった。異物除去率の結果を実施例１および実施例２の結果と共に表１に示す。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明のクリーニング部材は、各種の製造装置や検査装置のような基板処理装置のクリーニングに好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】図１（ａ）は、本発明の好ましい実施形態によるクリーニングシートの概略断面図であり、図１（ｂ）は、本発明の別の好ましい実施形態によるクリーニングシートの概略断面図である。
【図２】図２は本発明の好ましい実施形態によるクリーニング機能付搬送部材の概略断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１０    支持体
２０    クリーニング層
３０    セパレーター
４０    粘着剤層
５０    搬送部材
１００  クリーニングシート
２００  クリーニング機能付搬送部材
【図１】
2007123663.tif 000004
【図２】
2007123663.tif 000005