(57)【要約】【課題】ＴＦＴ基板の画素回路上にビーズスペーサが配置されてしまった場合でも，ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板のセルギャップばらつきの発生や，ビーズスペーサによって画素回路に無理な力が加わり，画素回路が破損するのを防止する。【解決手段】カラーフィルタ基板のＢＭ部分に色レジストを塗布する部分と塗布しない部分を作ることによって高さの差を作る。又は、カラーフィルタ基板のＢＭ上でＴＦＴ基板の画素回路と対向しない位置に台座を設ける。又は、ＴＦＴ基板の画素回路の無い配線部に台座を設ける。【選択図】図１（ｂ）
2007248576.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、
前記一対の基板に挟持された液晶と、
前記一対の基板の中の一方の基板の内面にマトリクス状に配設された複数の画素電極と、
前記複数の画素電極の各々に対応して、その近傍に配設され、その対応する画素電極を駆動する複数の画素回路と、
前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の映像信号線と、
前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に制御信号を供給する複数の制御信号線と、
前記一対の基板の中の他方の基板の内面に設けられて、前記複数の画素電極の各々に対応して設けられた原色フィルタを構成する複数の色レジストと、
前記他方の基板の内面と前記複数の色レジストとの間に配設されて，該複数の色レジストの各々の表示に有効な領域の輪郭を定める，遮光物質からなるブラックマトリクスと、
前記一対の基板の間に配設されて，該基板間間隔を決定する複数のビーズスペーサとからなる液晶表示パネルにおいて、
前記複数の画素回路，前記複数の映像信号線及び前記複数の制御信号線は、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、
前記複数のビーズスペーサは、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、
前記ブラックマトリクスの上に重畳されている前記複数の色レジストの領域の中で，前記複数の画素回路に対向する部分には、色レジストが存在しない開口又切り欠き部が設けられていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記複数の色レジストの前記開口又切り欠き部によりに形成される段差ｈが、前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスの領域に対向する前記一方の基板の内面の領域において、前記複数の映像信号線又は前記複数の制御信号線が配設される部分に対して前記複数の画素回路が形成する段差Ｈより大きいことを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
一対の基板と、
前記一対の基板に挟持された液晶と、
前記一対の基板の中の一方の基板の内面にマトリクス状に配設された複数の画素電極と、
前記複数の画素電極の各々に対応して、その近傍に配設され、その対応する画素電極を駆動する複数の画素回路と、
前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の映像信号線と、
前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に制御信号を供給する複数の制御信号線と、
前記一対の基板の中の他方の基板の内面に設けられて、前記複数の画素電極の各々に対応して設けられた複数の色フィルタと、
前記他方の基板の内面と前記複数の色フィルタとの間に配設されて，該複数の色フィルタの各々の表示に有効な領域の輪郭を定める，遮光物質からなるブラックマトリクスと、
前記複数の色フィルタを被覆するオーバーコート膜と、
前記一対の基板の間に配設されて，該基板間間隔を決定する複数のビーズスペーサとからなる液晶表示パネルにおいて、
前記複数の画素回路，前記複数の映像信号線及び前記複数の制御信号線は、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、
前記複数のビーズスペーサは、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、
前記オーバーコート膜の，前記複数の画素回路に対向する部分には、オーバーコート膜が存在しない開口又切り欠き部が設けられていることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項４】
前記オーバーコート膜の前記開口又切り欠き部によりに形成される段差hocが、前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスの領域に対向する前記一方の基板の内面の領域において、前記複数の映像信号線又は前記複数の制御信号線が配設される部分に対して前記複数の画素回路が形成する段差Ｈより大きいことを特徴とする請求項３記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
一対の基板と、
前記一対の基板に挟持された液晶と、
前記一対の基板の中の一方の基板の内面にマトリクス状に配設された複数の画素電極と、
前記複数の画素電極の各々に対応して、その近傍に配設され、その対応する画素電極を駆動する複数の画素回路と、
前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の映像信号線と、
前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に制御信号を供給する複数の制御信号線と、
前記一対の基板の中の他方の基板の内面に設けられて、前記複数の画素電極の各々に対応して設けられた複数の色フィルタと、
前記他方の基板の内面と前記複数の色フィルタとの間に配設されて，該複数の色フィルタの各々の表示に有効な領域の輪郭を定める，遮光物質からなるブラックマトリクスと、
前記一対の基板の間に配設されて，該基板間間隔を決定する複数のビーズスペーサとからなる液晶表示パネルにおいて、
前記複数の画素回路，前記複数の映像信号線及び前記複数の制御信号線は、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、
前記複数のビーズスペーサは、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、
前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスの領域内であって、前記他方の基板の内面で前記複数の画素回路に対向しない部分に、台座を配設したことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項６】
前記台座の高さが、前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスの領域に対向する前記一方の基板の内面の領域において、前記複数の映像信号線又は前記複数の制御信号線が配設される部分に対して前記複数の画素回路が形成する段差Ｈより大きいことを特徴とする請求項５記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
一対の基板と、
前記一対の基板に挟持された液晶と、
前記一対の基板の中の一方の基板の内面にマトリクス状に配設された複数の画素電極と、
前記複数の画素電極の各々に対応して、その近傍に配設され、その対応する画素電極を駆動する複数の画素回路と、
前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の映像信号線と、
前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に制御信号を供給する複数の制御信号線と、
前記一対の基板の中の他方の基板の内面に設けられて、前記複数の画素電極の各々に対応して設けられた複数の色フィルタと、
前記他方の基板の内面と前記複数の色フィルタとの間に配設されて，該複数の色フィルタの各々の表示に有効な領域の輪郭を定める，遮光物質からなるブラックマトリクスと、
前記一対の基板の間に配設されて，該基板間間隔を決定する複数のビーズスペーサとからなる液晶表示パネルにおいて、
前記複数の画素回路，前記複数の映像信号線及び前記複数の制御信号線は、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、
前記複数のビーズスペーサは、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、
前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスと対向する前記一方の基板の内面の領域内であって、前記複数の画素回路が配設されていない部分に、台座を配設したことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項８】
前記台座の高さが、前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスの領域に対向する前記一方の基板の内面の領域において、前記複数の映像信号線又は前記複数の制御信号線が配設される部分に対して前記複数の画素回路が形成する段差Ｈより大きいことを特徴とする請求項７記載の液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，液晶表示パネルの構造及び製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
先ず、ビーズスペーサを用いた従来の液晶表示パネルの構造を図２（ａ）及び２（ｂ）を用いて説明する。液晶表示パネル９は、トランジスタが形成されたＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板１ａと、赤，青，緑の色を形成したＣＦ（Color Filter）基板１ｂの間に液晶５を挟み込み，それら基板１ａ，１ｂの周囲をシール材（図示せず）で囲み接着固定した構造となっている。図２（ａ）は、液晶表示パネル９からＴＦＴ基板１ａを取り除いた場合の斜視図であり、図２（ｂ）は、図２（a）における線II（ｂ）−II（ｂ）に沿った、液晶表示パネル９の断面図である。液晶表示パネル９では，液晶５が封入される２枚の基板１ａ，１ｂの間隔１０（以下セルギャップ呼ぶ）が表示品質を決定づける重要な要素である。特に，このセルギャップ１０の絶対寸法、及びセルギャップ１０の，液晶表示パネル９全面での均一性が重要となる。そのため、このような構成の液晶表示パネル９においては、２枚の基板１ａ，１ｂの間隔を一定に保つために、図２（ａ），２(ｂ)に示すように、粒径の均一な、ガラスまたは合成樹脂製の球形透明粒子スペーサ３（以下ビーズスペーサと呼ぶ）を基板１ａまたは１ｂ上に散布し利用するのが一般的である。
【０００３】
しかし，ビーズスペーサ３を基板上に散布し用いる方式の液晶表示パネルでは，ビーズスペーサ３を基板上に多数散布した後に組立作業を行うため，製造時にビーズスペーサ３がこぼれだして製造ラインを汚染するパーティクルとなり不良の原因となるばかりでなく，組立が完了した液晶表示パネルにおいても，表示画素内に液晶と一緒にビーズスペーサ３が入っていると，ビーズスペーサ３部分には液晶が無いため，ここでは所定の光の偏光が起こらず，例えばビーズスペーサ３に透明な粒子を使用した場合，液晶表示パネルを黒色表示に設定したときに，ビーズスペーサ３部分のみ光が透過し輝点となってしまう。また，ビーズスペーサ３近傍の液晶分子の配列が乱され，この部分に光りの漏れが発生し，これにより液晶表示パネルのコントラストが低下し表示品質に悪影響を及ぼす問題が発生してしまう。なお、図２（ａ）及び２（ｂ）において、参照番号１４は画素部、１５はブラックマトリクスを示す。
【０００４】
上記問題解決の為、ビーズスペーサ３の代わりに柱状スペーサを用いる方法が提案され利用されてきている。この従来の液晶表示パネルの構造を示す斜視図及び断面図を、それぞれ図３（ａ），３(ｂ)に示す。図３（ａ）は、液晶表示パネル９からＴＦＴ基板１ａを取り除いた場合の斜視図であり、図３（ｂ）は、図３（a）における線ＩII（ｂ）−ＩII（ｂ）に沿った、液晶表示パネル９の断面図である。図３（ａ），３(ｂ)に示すように、ＣＦ基板１ｂ上の、画素部１４と画素部１４の間の非表示エリア部１５（以下ＢＭ（Ｂｌａｃｋ Matrix）部と呼ぶ塗布部）に柱状のスペーサ４（以下フォトスペーサと呼ぶ）を設けている。このフォトスペーサ４は，一般的に基板上にスペーサとなる感光性樹脂をスピンコート法や矩形口のノズルを使用するスリットコート法あるいは印刷法等によって所定の厚みとなるよう調整しながら塗布したのち，スペーサの部分が基板上で凸形状に形成されるようなフォトマスクを用い，該フォトマスク越しに感光性樹脂を露光用光源を用いて露光する。その後現像処理を実施し，スペーサとしない部分に塗布されている感光性樹脂の除去と基板に付着している現像液の洗浄及び基板の乾燥を行うことによって、基板上に凸状のスペーサを完成される。このような方法にて作製されるフォトスペーサは，表示品質に影響を与えない画素部と画素部の間のＢＭ部１５の任意の位置に配置することが可能である為，ビーズスペーサで問題となっていた，フォトスペーサ部からの光抜けによる表示品質低下を防止することが出来る。
【０００５】
また同様の理由から、ビーズスペーサをインクジェット法や印刷法を用いて表示品質に影響を与えない画素部と画素部の間のＢＭ部にビーズスペーサを定点配置する技術も検討され始めている。以下、インクジェット法を用いてビーズスペーサを定点配置する方法を説明する。一般的にはビーズスペーサを含有したインクをインクジェットヘッドを介して、ＴＦＴ基板又はＣＦ基板あるいはその両方へ塗布する。図４（ａ）は、一枚の基板１から、液晶表示パネル２個分に相当する、ＴＦＴ基板又はＣＦ基板を形成する場合の基板１とインクジェットヘッド１６の関係を説明するための平面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）のガラス基板１のＡ部の拡大図、図５はインクジェット法を用いてビーズスペーサ３を定点配置する製造プロセスの手順を説明するための断面図である。図５は、ガラス基板１へ、ビーズスペーサ３を含有したインク６をインクジェットヘッド１６を介して塗布する場合を、時系列に示している。塗布されたインク６液滴の中には，ビーズスペーサ３が含まれている。基板１上に塗布されたインク６液滴は，基板の乾燥工程を通過する事によりインク６が蒸発し，最終的にインク６液滴が着弾した位置あるいは近傍に，ビーズスペーサ３のみが残る事になる。従って、図4（ａ）及び、そのＡ部の拡大詳細を示す図４（ｂ）に示すように、インク６液滴が着弾する位置が、表示領域に影響を与えない画素１４と画素１４の間のＢＭ部１５となるよう制御することにより，ビーズスペーサ３を定点配置することが可能となる。
【０００６】
ＴＦＴ基板側には，ＣＦ基板の画素と画素の間のＢＭ部（非表示領域）に相当する部分に，配線や画素回路（ＴＦＴ素子）が形成されている。図６（ａ）は、液晶表示パネルの一般的なＴＦＴ基板１ａを２枚分含んだ基板１の平面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＡ部の拡大詳細図である。
【０００７】
ＴＦＴ基板には、その内面に、各々画素電極５００を備える複数のサブ画素（又はサブピクセル(subpixel)とも呼ばれる。通常は、赤（R）、緑（G）、青（B）の３原色を表示する３個のサブ画素１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂで一つの画素を構成する。）がマトリクス状に配設されている。そのサブ画素毎にその画素を駆動するための画素回路１１が形成されている。また、ＴＦＴ基板には内面には、図６（ｂ）において、垂直方向に延在し，水平方向に複数本配列されて、画素回路１１に映像信号を供給する複数の映像信号線と、水平方向に延在し，垂直方向に複数本配列されて、画素回路１１に制御信号を供給する複数の制御信号線とが形成されている。
【０００８】
この画素回路１１は，用途によって方式が異なる。その中でも液晶表示パネルの画素回路としては，図７に示す逆スタガ型a-Si TFTが多く用いられている。
【０００９】
図７において、ガラスからなるＴＦＴ基板１ａには、先ずゲート電極１１０が形成され、その上にゲート電極１１０を覆うゲート絶縁膜１２０が形成されている。このゲート絶縁膜１２０の上の画素回路１１形成部には、アモルファスシリコン（a−Si）層１３０が設けられ、次いでエッチング保護膜１４０が設けられる。さらに、後でソース電極１６０及びドレイン電極１７０が設けられる位置には、それぞれｎ＋ａ−Si １５０が設けられた後、ソース電極１６０及びドレイン電極１７０が形成される。次に、ガラス基板１aの上のほぼ全領域をパッシベーション（PAS）膜１８０で被覆する。
【００１０】
上記逆スタガ型a-Si TFT回路は，電極線や絶縁膜を積層して形成されているため，図７に示すように、画素回路１１の無い部分である画素回路非形成部分２００と、画素回路１１が有る部分である画素回路形成部分３００を比較すると高さに差Hが生じている。この差Ｈの値の一例を挙げると、６００〜７００ナノメートルである。ＣＦ基板１ｂの画素と画素の間のＢＭ部１５は，ＴＦＴ基板１ａではこの画素回路１１を含む電極線１２の部分と対向するため，このＢＭ部分１５或いは電極線部分１２にビーズスペーサ３を定点配置する場合には，高さに差が生じないよう，画素回路１１部分を避けた位置にビーズスペーサ３を定点配置しなければならない。もし画素回路１１の部分にビーズスペーサが配置されてしまった場合には，液晶パネルとして組立を行った場合，この部分のみセルギャップが大きくなってしまう事になる。また，画素回路１１に無理な力が加わり，画素回路の特性が変わったり，最悪の場合画素回路１１を破損してしまう可能性もある。
【００１１】
ＣＦ基板１ｂまたはＴＦＴ基板１ａは，図4（ａ）及び、そのＡ部の拡大詳細図である図４（ｂ）に示すように赤，青，緑のサブ画素14R, 14B, 14Gが横方向Ｇｘ，縦方向Ｇｙのピッチにて均等に配置されている。このサブ画素ピッチＧｘ，Ｇｙは，パネルサイズやパネルに要求される解像度によって必然的に決まってくる値であり，品種及びメーカによって値は様々である。前述したように，ＴＦＴ基板１ａには画素回路１１がこのサブ画素ピッチＧｘ, Ｇｙ毎に存在するため，画素回路１１部分を避けてビーズスペーサ３を定点配置するためには，理想的にはこのサブ画素ピッチＧｘ, Ｇｙとビーズスペーサ３の定点配置ピッチＰｘ，Ｐｙの関係を，以下の様にするのが望ましい。
【００１２】
Ｇｘ＝Ｐｘ（又はＧｘ＝ｎ・Ｐｘ），  Ｇｙ＝Ｐｙ（又はＧｙ＝ｎ・Ｐｙ）、但し、ｎは自然数。
【００１３】
インクジェット法に用いられるインクジェットヘッド１６は，図4（ａ）に示すように、上記インク６液滴を吐出するための吐出口が，複数個均等に並べられているのが一般的である。このようなインクジェットヘッド１６を用いて、ビーズスペーサ３を含有したインク６を所望の位置に定点配置するためには，インクジェットヘッド１６または基板１を一定量（Ｇｙ分）動かす度にインク６を吐出していくことにより，所望のピッチＰｙでインク６を滴下する方法が一般的である。従って通常，インクジェットヘッド１６又は基板１の送り方向のピッチＰｙに関しては，インクジェットヘッド１６又は基板１の送り量とインク６の吐出するタイミングを調整する事により，任意に調整する事が可能であるが，吐出口のピッチＰｘに関しては，使用するインクジェットヘッド１６の吐出口ピッチによって決まってしまうため固定となってしまう。サブ画素ピッチＧｘとインク液滴吐出ピッチＰｘを一致させるためには，生産する液晶パネルのサブ画素ピッチＧｘに合わせて，吐出口ピッチＰｘの同じインクジェットヘッドを準備する必要がある。しかし，通常液晶パネルの生産ラインでは，多種のパネルサイズ及び解像度の液晶表示パネルを生産するのが一般的であるため，生産する液晶パネルのサブ画素ピッチＧｘと使用するインクジェットヘッドの吐出口ピッチＰｘを同一にするのは，非常に難しいのが実情である。その為，インクジェット法を用いてビーズスペーサの定点配置を行うプロセスの量産適用がなかなか進んでいなかった。
【００１４】
特許文献１には、ビーズを接着剤に分散してなるビーズ入りスペーサ形成材をインクヘッドにより、ブラックマトリクス上に重複する領域に部分的に付与し、前記接着剤を硬化させてスペーサを形成する技術が開示されている。
【００１５】
特許文献２には、ブラックマトリクスに重複する領域内にインクジェットヘッドにより接着剤を付与し、ビーズを散布して接着剤に付着していないビーズを除去した後、接着剤を硬化させてビーズを固定してスペーサを形成する技術が開示されている。
【００１６】
特許文献３には、ゴム状のやわらかい突起物の先端にスペーサビーズを付着して、コントラストの低下しない位置にスペーサビーズを転写する技術が開示されている。
【００１７】
特許文献４には、ビーズスペーサを、基板上の縦方向信号線及び／又は横方向信号線上に、インクジェット方式で配置する技術が開示されている。
【００１８】
【特許文献１】特開平２００１−８３５２４号公報
【特許文献２】特開２００１−８３９０６号公報
【特許文献３】特開２００１−２４９３４２号公報
【特許文献４】特開２００２−３７２７１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
従来の液晶表示パネルにおいては，２枚の基板の間に封入される液晶層の厚みを所定の厚みにするため，球形のビーズスペーサを基板全面に散布，或いは予め基板上の画素部と画素部の間で表示品質に影響を与えない部分に，感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィー法にて柱状のスペーサを形成し，この基板を用いる方法が主に用いられている。しかし，最近はビーズスペーサを画素部と画素部の間で表示品質に影響を与えない部分に，インクジェット法を用いて定点配置する技術が検討されてきている。
【００２０】
一つのインクジェトヘッドにインク液を吐出するための吐出口を複数個設けてインクジェット法でビーズスペーサを定点配置する場合，画素ピッチの違う品種の液晶パネルを１つのヘッドにて対応させることは難しい。従って，
（１）液晶表示パネル毎に、サブ画素ピッチと同じピッチのインク液吐出口を備えたインクジェットヘッドを複数個準備し対応させる。
【００２１】
（２）インクジェットヘッドの液吐出口の配列方向と、インクジェットヘッド又は基板の移動方向との交叉角を、図８（ａ）に示すように９０度であったものを、図８（ｂ）に示すように９０度からずらせることによって、実質的な液吐出口ピッチ１７を調整する。又は
（３）インク吐出ピッチと液晶パネルのサブ画素ピッチは無視して一致させずに使用する。等の方法で対応するほか無かった。
【００２２】
そこで本発明の目的は，液晶パネルのサブ画素ピッチに，インクジェットヘッドの液吐出口ピッチが合っていないために，結果的に画素回路上にビーズスペーサが配置されてしまった状態で液晶パネルの組立が行われてしまった場合であっても，ＴＦＴ基板とＣＦ基板の間のセルギャップのばらつき発生や，ビーズスペーサによって画素回路に無理な力が加わったための、画素回路の特性の変動や画素回路の破損を防止する事が可能な基板構造や製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本書において開示される発明のうち、代表的なものの概要を説明すれば、下記のとおりである。
（１）  一対の基板と、前記一対の基板に挟持された液晶と、前記一対の基板の中の一方の基板の内面にマトリクス状に配設された複数の画素電極と、前記複数の画素電極の各々に対応して、その近傍に配設され、その対応する画素電極を駆動する複数の画素回路と、前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の映像信号線と、前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に制御信号を供給する複数の制御信号線と、前記一対の基板の中の他方の基板の内面に設けられて、前記複数の画素電極の各々に対応して設けられた原色フィルタを構成する複数の色レジストと、前記他方の基板の内面と前記複数の色レジストとの間に配設されて，該複数の色レジストの各々の表示に有効な領域の輪郭を定める，遮光物質からなるブラックマトリクスと、前記一対の基板の間に配設されて，該基板間間隔を決定する複数のビーズスペーサとからなる液晶表示パネルにおいて、前記複数の画素回路，前記複数の映像信号線及び前記複数の制御信号線は、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、前記複数のビーズスペーサは、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、前記ブラックマトリクスの上に重畳されている前記複数の色レジストの領域の中で，前記複数の画素回路に対向する部分には、色レジストが存在しない開口又切り欠き部が設けられていることを特徴とする液晶表示パネル。
（２）  （１）に記載された液晶表示パネルにおいて、前記複数の色レジストの前記開口又切り欠き部によりに形成される段差ｈが、前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスの領域に対向する前記一方の基板の内面の領域において、前記複数の映像信号線又は前記複数の制御信号線が配設される部分に対して前記複数の画素回路が形成する段差Ｈより大きいことを特徴とする液晶表示パネル。
（３）  一対の基板と、前記一対の基板に挟持された液晶と、前記一対の基板の中の一方の基板の内面にマトリクス状に配設された複数の画素電極と、前記複数の画素電極の各々に対応して、その近傍に配設され、その対応する画素電極を駆動する複数の画素回路と、前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の映像信号線と、前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に制御信号を供給する複数の制御信号線と、前記一対の基板の中の他方の基板の内面に設けられて、前記複数の画素電極の各々に対応して設けられた複数の色フィルタと、前記他方の基板の内面と前記複数の色フィルタとの間に配設されて，該複数の色フィルタの各々の表示に有効な領域の輪郭を定める，遮光物質からなるブラックマトリクスと、前記複数の色フィルタを被覆するオーバーコート膜と、前記一対の基板の間に配設されて，該基板間間隔を決定する複数のビーズスペーサとからなる液晶表示パネルにおいて、前記複数の画素回路，前記複数の映像信号線及び前記複数の制御信号線は、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、前記複数のビーズスペーサは、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、前記オーバーコート膜の，前記複数の画素回路に対向する部分には、オーバーコート膜が存在しない開口又切り欠き部が設けられていることを特徴とする液晶表示パネル。
（４）  （３）に記載された液晶表示パネルにおいて、前記オーバーコート膜の前記開口又切り欠き部によりに形成される段差hocが、前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスの領域に対向する前記一方の基板の内面の領域において、前記複数の映像信号線又は前記複数の制御信号線が配設される部分に対して前記複数の画素回路が形成する段差Ｈより大きいことを特徴とする液晶表示パネル。
（５）  一対の基板と、前記一対の基板に挟持された液晶と、前記一対の基板の中の一方の基板の内面にマトリクス状に配設された複数の画素電極と、前記複数の画素電極の各々に対応して、その近傍に配設され、その対応する画素電極を駆動する複数の画素回路と、前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の映像信号線と、前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に制御信号を供給する複数の制御信号線と、前記一対の基板の中の他方の基板の内面に設けられて、前記複数の画素電極の各々に対応して設けられた複数の色フィルタと、前記他方の基板の内面と前記複数の色フィルタとの間に配設されて，該複数の色フィルタの各々の表示に有効な領域の輪郭を定める，遮光物質からなるブラックマトリクスと、前記一対の基板の間に配設されて，該基板間間隔を決定する複数のビーズスペーサとからなる液晶表示パネルにおいて、前記複数の画素回路，前記複数の映像信号線及び前記複数の制御信号線は、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、前記複数のビーズスペーサは、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスの領域内であって、前記他方の基板の内面で前記複数の画素回路に対向しない部分に、台座を配設したことを特徴とする液晶表示パネル。
（６）  （５）に記載された液晶表示パネルにおいて、前記台座の高さが、前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスの領域に対向する前記一方の基板の内面の領域において、前記複数の映像信号線又は前記複数の制御信号線が配設される部分に対して前記複数の画素回路が形成する段差Ｈより大きいことを特徴とする液晶表示パネル。
（７）  一対の基板と、前記一対の基板に挟持された液晶と、前記一対の基板の中の一方の基板の内面にマトリクス状に配設された複数の画素電極と、前記複数の画素電極の各々に対応して、その近傍に配設され、その対応する画素電極を駆動する複数の画素回路と、前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に映像信号を供給する複数の映像信号線と、前記一方の基板の内面に設けられ，前記複数の画素回路に制御信号を供給する複数の制御信号線と、前記一対の基板の中の他方の基板の内面に設けられて、前記複数の画素電極の各々に対応して設けられた複数の色フィルタと、前記他方の基板の内面と前記複数の色フィルタとの間に配設されて，該複数の色フィルタの各々の表示に有効な領域の輪郭を定める，遮光物質からなるブラックマトリクスと、前記一対の基板の間に配設されて，該基板間間隔を決定する複数のビーズスペーサとからなる液晶表示パネルにおいて、前記複数の画素回路，前記複数の映像信号線及び前記複数の制御信号線は、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、前記複数のビーズスペーサは、前記ブラックマトリクスと光学的に重なり合う位置に配設され、前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスと対向する前記一方の基板の内面の領域内であって、前記複数の画素回路が配設されていない部分に、台座を配設したことを特徴とする液晶表示パネル。
（８）  （７）に記載された液晶表示パネルにおいて、前記台座の高さが、前記複数のビーズスペーサと光学的に重なり合う前記ブラックマトリクスの領域に対向する前記一方の基板の内面の領域において、前記複数の映像信号線又は前記複数の制御信号線が配設される部分に対して前記複数の画素回路が形成する段差Ｈより大きいことを特徴とする記載の液晶表示パネル。
【発明の効果】
【００２４】
本発明を用いることにより，画素回路上にビーズスペーサが配置されてしまうことによって発生する画素回路の特性の変動や画素回路の破損を防止する事が可能である。また，同様の理由から、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の間のセルギャップのばらつき発生を防止する事が可能である。
【００２５】
さらに，画素回路上にビーズスペーサが配置されてしまうことを防止する目的で，液晶パネルのサブ画素ピッチにインクジェットヘッドの液吐出口ピッチを合わせることによってインク吐出ピッチを一致させることも必要なくなる。液吐出口ピッチを１種類しか備えない，インクジェット法によるビーズスペーサの定点配置設備であっても，多種類のサブ画素ピッチの液晶表示パネルに対応することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明の実施例を、図面を参照して詳細に説明する。なお、実施例を説明する全図において、同一機能を有するものは同一参照番号を付し、その説明の繰り返しは省略する。また、明瞭化のため、図中の各要素が、実際の表示装置の場合とは異なる縮尺比率を用いて描かれている場合がある。
【実施例１】
【００２７】
第１の実施例を図１（ａ）〜１（ｆ），図６（ａ）〜６（ｂ）、図９(a)〜9(e)及び図１０（ａ）〜１０（ｅ）を用いて説明する。
【００２８】
図６（ａ）は、液晶表示パネルの従来のＴＦＴ基板１ａを２枚分含んだ基板１の平面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＡ部の拡大詳細図である。図９（ａ）は、液晶表示パネルの従来のＣＦ基板１ｂを２枚分含んだ基板１の平面図であり、図９（ｂ）は、図９（ａ）のＡ部の拡大詳細図であり、図９（ｃ）は、図９（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線ＩＸ（ｃ）−ＩＸ（ｃ）断面図であり、図９（ｄ）は、図９（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線ＩＸ（ｄ）−ＩＸ（ｄ）断面図であり、図９（ｅ）は、図９（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線ＩＸ（ｅ）−ＩＸ（ｅ）断面図である。さらに、図１０（ａ）は、液晶表示パネルの従来のＣＦ基板１ｂを２枚分含んだ基板１の平面図であり、図１０（ｂ）は、図１０（ａ）のＡ部の拡大詳細図であり、図１０（ｃ）は、図１０（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｘ（ｃ）−Ｘ（ｃ）断面図であり、図１０（ｄ）は、図１０（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｘ（ｄ）−Ｘ（ｄ）断面図であり、図１０（ｅ）は、図１０（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｘ（ｅ）−Ｘ（ｅ）断面図である。なお、図中、参照番号１８は、例えばアクリル系樹脂からなるオーバーコート（OC）膜である。
【００２９】
ビーズスペーサ３をＴＦＴ基板１ａとＣＦ基板１ｂの間の間隔を一定に保つためのスペーサとして利用する場合，ビーズスペーサ３は，図６（ｂ），図９(ｂ)〜9(e)，図１０（ｂ）〜１０（ｅ）に示すように液晶パネルの表示品質に影響の無い，Ｒサブ画素１４R，・Ｇサブ画素１４G，・Ｂサブ画素１４Bの間，具体的にはＴＦＴ基板１ａでは画素回路１１や電極線部１２が有る配線パターン上に配置し，一方ＣＦ基板１ｂではＢＭ（Ｂｌａｃｋ Matrix） １５パターン上に配置しなければならないと言う制約がある。
【００３０】
しかしＴＦＴ基板１ａの配線上には，サブ画素の駆動制御を行うための画素回路１１が設けられている。前に説明したように、図７に、一例として、液晶パネルの画素回路１１として多く用いられている逆スタガ型ａ−Ｓｉ ＴＦＴの構造を示した。図７に示したように、逆スタガ型ａ−Ｓｉ ＴＦＴは電極線や絶縁膜を積層して形成されているため、この画素回路形成部分３００は、画素回路１１が無い電極線部１２のみの部分である，画素回路非形成部分２００と比較すると，ガラス面を基準にした総高さに差Hが生じてくる。従って，この画素回路形成部分３００にビーズスペーサ３が配置されてしまうと，画素回路形成部分３００以外の部分に配置されたビーズスペーサと高さの差H分だけ高さが揃わず，液晶パネルを組み立てた際，ＴＦＴ基板１ａとＣＦ基板１bの間隔であるセルギャップにばらつきが発生し，このセルギャップのばらつきが液晶パネルの表示不良の原因となってしまう。また，ＴＦＴ基板の画素回路１１にビーズスペーサ3を介して力が加わると，画素回路１１の特性が変化したり，最悪の場合画素回路１１が破損し，その画素回路１１によって制御されるはずのサブ画素１４が制御不能となり，これが輝点や黒点不良の原因となって液晶パネル自体の品質を低下させてしまう結果になる恐れがあった。
【００３１】
本発明では，液晶表示パネルとして組立を行った時発生する問題点を解決するため，ＴＦＴ基板１ａ及びこれと対向するＣＦ基板１bの構造を下記に示す構造とすることにした。以下に詳細を述べる。  
ＣＦ基板１bは一般的には，コントラストの向上，カラーフィルタを構成する色レジスト材同士の混色防止，ＴＦＴ基板１ａの配線部分（非駆動部）の遮光の目的から，図９（ｂ）〜９（ｅ），図１０（ｂ）〜１０（ｅ）に示すようにＢＭ １５にてサブ画素１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ間を区切った構造となっている。品種によっては，図９（ｂ）〜９（ｅ）に示すように，ＢＭ １５上にも赤色レジスト１４ＲＥＳＲ, 緑色レジスト１４ＲＥＳＧ, 青色レジスト１４ＲＥSBを塗布する場合と，図１０（ｂ）〜１０（ｃ）に示すように、ＢＭ １５上には赤色レジスト１４ＲＥＳＲ, 緑色レジスト１４ＲＥＳＧ, 青色レジスト１４ＲＥＳBを塗布しない場合とがある。
【００３２】
ＴＦＴ基板１ａとＣＦ基板１bを用いて液晶パネルを作製する場合，ＴＦＴ基板１ａの画素回路１１や配線部分は，ＣＦ基板１bのＢＭ部分と対向することになる。
【００３３】
次に、このことを前提にして、本発明について説明する。図１（ａ）は、本発明の一実施例による液晶表示パネルのＣＦ基板１ｂを２枚分含んだ基板１の平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ部の拡大詳細図であり、図１（ｃ）は、図１（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｉ（ｃ）−Ｉ（ｃ）断面図であり、図１（ｄ）は、図１（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｉ（ｄ）−Ｉ（ｄ）断面図であり、図１（ｅ）は、図１（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｉ（ｅ）−Ｉ（ｅ）断面図であり、図１（ｆ）は、図１（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｉ（ｆ）−Ｉ（ｆ）断面図である。なお、図中、参照番号１８は、例えばアクリル系樹脂からなるオーバーコート（OC）膜である。
【００３４】
本実施例においては，図１（ｂ）〜１（ｆ）に示すように、ＣＦ基板１bのＢＭ １５部分に意図的に色レジスト１４Ｒ、１４G、１４Bを塗布する部分２０と、色レジスト１４ＲＥＳＲ、１４ＲＥＳG、１４ＲＥＳBを塗布しない部分２１とを形成することによって、ビーズスペーサが配置される面に、高さの差ｈを生じるようにした。
【００３５】
具体的には，ＴＦＴ基板１ａの画素回路11と対向するＣＦ基板１bの領域２１では，ＢＭ１５上に色レジスト１４ＲＥＳＲ，１４ＲＥＳG，１４ＲＥＳBを塗布しない構造とし，一方，画素回路１１が存在せず，配線のみが存在するＴＦＴ基板１ａの領域と対向するＣＦ基板１bの領域２０では，ＢＭ１５の上に色レジスト１４ＲＥＳＲ、１４ＲＥＳG、１４ＲＥＳBを塗布する構造とするものである。すなわち、図１（ｂ）に示すように、ＴＦＴ基板１ａの画素回路11と対向するＣＦ基板１bの領域２１においては、色レジスト１４ＲＥＳＲ、１４ＲＥＳG、１４ＲＥＳBに開口あるいは切り欠き部を設け、配線のみが存在するＴＦＴ基板１ａの領域と対向するＣＦ基板１bの領域２０においては，ＢＭ１５の上に色レジスト１４ＲＥＳＲ、１４ＲＥＳG、１４ＲＥＳBが連続して設けられている。  
上記で述べた高さの差ｈとは，（色レジスト膜厚＋オーバーコート(以下OCと称す)膜１８の膜厚）−（OC膜１８の膜厚）によって決定する。液晶表示パネル用ＣＦ基板１ｂでは，製品の仕様によっては，Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の色レジストの膜厚が同一でない場合が発生する。この場合，各サブ画素毎に下記の様な高さの差が発生する。
【００３６】
ｈＲ＝（赤色レジスト膜厚＋OC膜１８の膜厚）−（OC膜１８の膜厚）
ｈＧ＝（緑色レジスト膜厚＋OC膜１８の膜厚）−（OC膜１８の膜厚）
ｈＢ＝（青色レジスト膜厚＋OC膜１８の膜厚）−（OC膜１８の膜厚）
この様な場合，必要な高さの差ｈとは，ｈＲ，ｈＧ，ｈＢの最小値が基準となる。
【００３７】
本発明のＣＦ基板１bを用いて作製された液晶表示パネル９の断面を図１（ｇ）に示す。ＣＦ基板１ｂ側の色レジスト１４ＲＥＳＲ、１４ＲＥＳG、１４ＲＥＳBパターンには開口又は切り欠き部が設けられているので、ＣＦ基板１bにおいては、上記領域２０と領域２１の高さに差ｈが生じている。一方、ＴＦＴ基板１ａにおいては、画素回路11が設けられている領域と配線（図1(ｇ)には図示せず、図7参照）のみが存在する領域との高さの差はH（図７及び図1(ｇ)参照）である。  
図１（ｇ）に示したように、万が一画素回路１１の存在する位置にビーズスペーサ３が配置されてしまったとしても、これに対応するＣＦ基板１ｂ側の色レジスト１４ＲＥＳＲ、１４ＲＥＳG、１４ＲＥＳBパターンには開口又は切り欠き部が設けられているので、ＣＦ基板１bの領域２０と領域２１の高さに、値Ｈより大きな差ｈが生じているので，ビーズスペーサ３によって画素回路１１に力が加わることが無い。そのため問題となっていたセルギャップのばらつきや画素回路１１の破損による表示不良の発生を抑えることが出来る。従って本発明を用いることにより，インクジェットノズルの液吐出口ピッチ（Ｐｘ）をサブ画素ピッチ（Ｇｘ）に合わせなくとも液晶パネルの表示不良発生を抑えることが出来る。
【実施例２】
【００３８】
第２の実施例を図１１（ａ）〜１１（ｅ）及び１２を用いて説明する。図１１（ａ）は、本実施例のＣＦ基板１ｂを２枚分含んだ基板１の平面図であり、図１１（ｂ）は、図１１（ａ）のＡ部の拡大詳細図である。図11（ｃ）は、図11（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線ＸI（ｃ）−ＸI（ｃ）断面図であり、図11（ｄ）は、図11（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線ＸI（ｄ）−ＸI（ｄ）断面図であり、図11（ｅ）は、図11（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線ＸI（ｅ）−ＸI（ｅ）断面図である。なお、図中、参照番号１８は、例えばアクリル系樹脂からなるオーバーコート（OC）膜である。図１２は、本実施例のＣＦ基板１bを用いて作製された液晶表示パネル９の断面図である。  
上述の第１の実施例は、ＢＭ １５上の色レジストのパターンに開口又は切り欠き部を設けることによってＣＦ基板１b側に、画素回路１１によってＴＦＴ基板1aに形成される段差以上の段差を設ける構成であった。本実施例は，色レジストのパターン形状によって段差を設けるのではなく，通常ＣＦ基板１bの最上層に塗布されるＯＣ（オーバーコート）膜１８をパターニングすることによって，ＯＣ膜１８が塗布される部分と塗布されない部分を作り出し，このＯＣ膜１８の塗布部と未塗布部によって，画素回路１１によってＴＦＴ基板1aに形成される段差以上の段差hoc (OC膜１８の厚さ)を，ＣＦ基板１bに設けることとした。
【００３９】
ＣＦ基板１bには，ＢＭ１５やＲ, Ｇ, Ｂの色レジスト１４ＲＥＳＲ，１４ＲＥＳＧ，１４ＲＥＳＢを塗布した後に，各色レジストの液晶材料への影響や，ラビング処理による各色レジストへの影響を防止するため，また平坦化の目的からＯＣ膜１８が塗布されている場合が多い。通常の場合，ＯＣ膜１８は基板１ｂ全面にベタ塗布されている。そこで本発明では，従来、この基板１ｂ全面にベタ塗布されているＯＣ膜１８に，図１１（ｂ），１１（ｃ）及び１１（ｅ）に示した如く、組立時にＴＦＴ基板１ａの画素回路と対向する部分のみＯＣ膜１８を初めから塗布しないか或いは全面塗布後に除去した，開口あるいは切り欠き領域２１０を設けることによって、ＣＦ基板１b側に、画素回路11によってＴＦＴ基板1aに形成される段差Ｈ以上の段差ｈｏｃを設ける事とした。図１２は、本実施例のＣＦ基板１bを用いて作製された液晶表示パネル９の断面図である。
【実施例３】
【００４０】
第３の実施例を図１３（ａ）〜１３（ｅ）及び図１４を用いて説明する。図１３（ａ）は、本実施例のＣＦ基板１ｂを２枚分含んだ基板１の平面図であり、図１３（ｂ）は、図１３（ａ）のＡ部の拡大詳細図である。図1３（ｃ）は、図1３（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線ＸIII（ｃ）−ＸIII（ｃ）断面図であり、図13（ｄ）は、図13（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線ＸIII（ｄ）−ＸIII（ｄ）断面図であり、図13（ｅ）は、図13（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線ＸIII（ｅ）−ＸIII（ｅ）断面図である。なお、図中、参照番号１８は、例えばアクリル系樹脂からなるオーバーコート（OC）膜である。図１4は、本実施例のＣＦ基板１bを用いて作製された液晶表示パネル９の断面図である。  
第１の実施例及び第２の実施例と同様に第３の実施例では，ＣＦ基板１ｂ側に高さの差を付ける方法として，ＢＭ１５上で且つ組立時にＴＦＴ基板1aの画素回路11と対向しない部分に，フォトレジスト材料を塗布することによって，台座13を作製しこの台座13によって実現する事とした。一例として，フォトスペーサの材料として用いられている紫外線硬化型のフォトレジストを用いてＢＭ１５上の画素回路11が存在せず配線のみの部分と対向する位置に，フォトレジストを用いて台座１３を作製する。この台座１３の高さｈCFreは，図７に示したＴＦＴ基板の画素回路１１形成部分３００と電極線部１２ある画素回路非形成部分２００の間の段差Ｈより大きくする。このような形状のＣＦ基板１ｂを用いることによって，万が一画素回路１１上にビーズスペーサ３が配置されてしまったとしても対向するＣＦ基板１ｂ側に段差を設けてあるため，ビーズスペーサ３によって画素回路１１に力が加わることが無く，そのため問題となっていたセルギャップのばらつきや画素回路１１の破損による表示不良の発生を抑えることが出来る特徴が有している。
【実施例４】
【００４１】
第４の実施例を図１５(a)〜１５（ｃ）及び図１６を用いて説明する。図１５（ａ）は、本実施例のＴＦＴ基板１ａを２枚分含んだ基板１の平面図であり、図１５（ｂ）は、図１５（ａ）のＡ部の拡大詳細図である。図１５（ｃ）は、図１５（ｂ）のＴＦＴ基板１ａの線ＸV（ｃ）−ＸV（ｃ）断面図であり、図１６は本実施例のTFT基板１ａを用いて作製された液晶表示パネル９の断面図である。
【００４２】
上記第３の実施例では、ＣＦ基板１ｂ上にフォトレジストなどを用いて，ＣＦ基板１ｂ側に、ＴＦＴ基板１ａの画素回路１１に対向する部分と，ＴＦＴ基板１ａの電極線のみの部分と対向する部分との間に段差を設けた構造であった。本実施例では，図１５(ｂ)に示す如く、ＴＦＴ基板１ａ側の，画素回路１１が無く，電極線のみの部分１２の上に、台座１３を設けることにした。具体的には，フォトスペーサの材料として用いられている紫外線硬化型のフォトレジストを用いて、ＴＦＴ基板１ａの画素回路１１が無く電極線のみの部分１２に台座１３を形成する。この台座１３の高さhTFTreは，図７に示したＴＦＴ基板の画素回路形成部分３００と画素回路非形成部分２００との間の段差Ｈより大きくする必要がある。図１６に示すように、このようなＴＦＴ基板１ａを用いることによって，万が一画素回路１１上にビーズスペーサ３が配置されてしまったとしても画素回路１１よりも高くなる位置に台座１３が設けられてあるため，ビーズスペーサ３によって画素回路１１に力が加わることが無く，そのため問題となっていたセルギャップのばらつきや画素回路破損による表示不良の発生を抑えることが出来る特徴が有している。
【００４３】
ここで，表示不良を発生させないためには、上述の ｈ，hoc，hCFre，hTFTreは，基本的には，ＴＦＴ基板1aにおける、駆動回路１１部と電極線部１２の間の段差Ｈより大きくなっている必要がある（ｈ＞Ｈ，hoc＞Ｈ，hCFre＞Ｈ，hTFTre＞Ｈ）。実験の結果，ビーズスペーサとして圧縮弾性率が０．５N／ｍｍ2程度の高分子材料製ビーズスペーサを用いた場合ｈ（又はhoc，hCFre，hTFTre）が１０％程度上記段差Ｈより小さい場合であっても，表示品質には問題ないことが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１（ａ）】本発明の第１の実施例による液晶表示パネルのＣＦ基板１ｂを２枚分含んだ基板の平面図である。
【図１（ｂ）】図１（ａ）のＡ部の拡大詳細図である。
【図１（ｃ）】図１（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｉ（ｃ）−Ｉ（ｃ）断面図である。
【図１（ｄ）】図１（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｉ（ｄ）−Ｉ（ｄ）断面図である。
【図１（ｅ）】図１（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｉ（ｅ）−Ｉ（ｅ）断面図である。
【図１（ｆ）】図１（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｉ（ｆ）−Ｉ（f）断面図である。
【図１（ｇ）】本発明の第１の実施例による液晶表示パネルのＣＦ基板１ｂを用いて作製された液晶表示パネルの断面図である。
【図２（ａ）】ビーズスペーサを用いた従来の液晶表示パネルからＴＦＴ基板を取り除いた場合の斜視図である。
【図２（ｂ）】図２（a）の液晶表示パネルの線II（ｂ）−II（ｂ）に沿った断面図である。
【図３（ａ）】柱状スペーサを用いた従来の液晶表示パネルからＴＦＴ基板を取り除いた場合の斜視図である。
【図３（ｂ）】図３（a）の液晶表示パネルの線ＩII（ｂ）−ＩII（ｂ）に沿った断面図である。
【図４（ａ）】一枚の基板から、液晶表示パネル２個分に相当する、ＴＦＴ基板又はＣＦ基板を形成する場合に、インクジェット法を用いてビーズスペーサを定点配置する場合の条件を説明するＣＦ基板の平面図である。
【図４（ｂ）】図４(ａ)の基板のＡ部拡大詳細図である。
【図５】インクジェット法を用いてビーズスペーサを定点配置する製造プロセスにおいて、滴下されたビーズスペーサを含有したインクが乾燥していく状態を示す模式断面図である。
【図６（ａ）】液晶表示パネルの従来のＴＦＴ基板を２枚分含んだ基板の平面図である。
【図６（ｂ）】図６（ａ）の基板のＡ部の拡大詳細図である。
【図７】逆スタガ型ＴＦＴ回路の層構造を示す模式断面図である。
【図８（ａ）】インクジェットヘッドの液吐出口の配列方向と、インクジェットヘッド又は基板の移動方向との交叉角が90度の場合を示す模式平面図である。
【図８（ｂ）】インクジェットヘッドの液吐出口の配列方向と、インクジェットヘッド又は基板の移動方向との交叉角を変化させることによって、１つのインクジェットヘッドを使って塗布するピッチを変更する方法を示す模式平面図である。
【図９（ａ）】液晶表示パネルの従来のＣＦ基板を２枚分含んだ基板の平面図である。
【図９（ｂ）】図９（ａ）の基板のＡ部の拡大詳細図である。
【図９（ｃ）】図９（ｂ）のＣＦ基板の線ＩＸ（ｃ）−ＩＸ（ｃ）断面図である。
【図９（ｄ）】図９（ｂ）のＣＦ基板の線ＩＸ（ｄ）−ＩＸ（ｄ）断面図である。
【図９（ｅ）】図９（ｂ）のＣＦ基板の線ＩＸ（ｅ）−ＩＸ（ｅ）断面図である
【図１０（ａ）】液晶表示パネルの従来のＣＦ基板を２枚分含んだ基板１の平面図である。
【図１０（ｂ）】図１０（ａ）のＣＦ基板のＡ部の拡大詳細図である。
【図１０（ｃ）】図１０（ｂ）のＣＦ基板の線Ｘ（ｃ）−Ｘ（ｃ）断面図である。
【図１０（ｄ）】図１０（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｘ（ｄ）−Ｘ（ｄ）断面図である。
【図１０（ｅ）】図１０（ｂ）のＣＦ基板１ｂの線Ｘ（ｅ）−Ｘ（ｅ）断面図である。
【図１１（ａ）】本発明の第２の実施例のＣＦ基板を２枚分含んだ基板の平面図である。
【図１１（ｂ）】図１１（ａ）のＣＦ基板のＡ部の拡大詳細図である。
【図１１（ｃ）】図11（ｂ）のＣＦ基板の線ＸI（ｃ）−ＸI（ｃ）断面図である。
【図１１（ｄ）】図11（ｂ）のＣＦ基板の線ＸI（ｄ）−ＸI（ｄ）断面図である。
【図１１（ｅ）】図11（ｂ）のＣＦ基板の線ＸI（ｅ）−ＸI（ｅ）断面図である。
【図１２】本発明の第２の実施例のＣＦ基板を用いて作製された液晶表示パネルの断面図である。
【図１３（ａ）】本発明の第３の実施例によるＣＦ基板を２枚分含んだ基板の平面図である。
【図１３（ｂ）】図１３（ａ）のＣＦ基板のＡ部の拡大詳細図である。
【図１３（ｃ）】図1３（ｂ）のＣＦ基板の線ＸIII（ｃ）−ＸIII（ｃ）断面図である。
【図１３（ｄ）】図13（ｂ）のＣＦ基板の線ＸIII（ｄ）−ＸIII（ｄ）断面図である。
【図１３（ｅ）】図13（ｂ）のＣＦ基板の線ＸIII（ｅ）−ＸIII（ｅ）断面図である。
【図１４】本発明の第３の実施例によるＣＦ基板を用いて作製された液晶表示パネルの断面図である。
【図１５（ａ）】本発明の第４の実施例によるＴＦＴ基板を２枚分含んだ基板の平面図である。
【図１５（ｂ）】図１５（ａ）のＴＦＴ基板のＡ部の拡大詳細図である。
【図１５（ｃ）】図１５（ｂ）のＴＦＴ基板の線ＸV（ｃ）−ＸV（ｃ）断面図である。
【図１６】本発明の第４の実施例によるTFT基板を用いて作製された液晶表示パネルの断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１…基板、１ａ…ＴＦＴ基板、１ｂ…ＣＦ基板、３…ビーズスペーサ、４…フォトスペーサ、５…液晶、６…インク、９…液晶表示パネル、１０…セルギャップ、１１…画素回路、１２…電極線部、１３…台座、１４…画素、１４Ｒ…赤色サブ画素、１４Ｇ…緑色サブ画素、１４Ｂ…青色サブ画素、１４ＲＥＳＲ…赤色レジスト、１４ＲＥＳＧ…緑色レジスト、１４ＲＥＳＢ…青色レジスト、１５…BM、１６…インクジェットヘッド、１７…液吐出口ピッチ、１８…OC膜、２０…ＴＦＴ基板の配線のみが存在する領域と対向するＣＦ基板の領域、２１…ＴＦＴ基板の画素回路と対向するＣＦ基板の領域、１１０…ゲート電極、１２０…ゲート絶縁膜、１３０…ａ−Ｓｉ層、１４０…エッチング保護膜、１５０…ｎ＋ａ−Ｓｉ層、１６０…ソース電極、１７０…ドレイン電極、１８０…ＰＡＳ膜、２００…画素回路非形成部分、３００…画素回路形成部分、５００…画素電極。
【図１（ａ）】
2007248576.tif 000003
【図１（ｂ）】
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【図１（ｃ）】
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【図１（ｄ）】
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【図１（ｅ）】
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【図１（ｆ）】
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【図１（ｇ）】
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【図２（ａ）】
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【図２（ｂ）】
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【図３（ａ）】
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【図３（ｂ）】
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【図４（ａ）】
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【図４（ｂ）】
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【図５】
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【図６（ａ）】
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【図６（ｂ）】
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【図７】
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【図８（ａ）】
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【図８（ｂ）】
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【図９（ａ）】
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【図９（ｂ）】
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【図９（ｃ）】
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【図９（ｄ）】
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【図９（ｅ）】
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【図１０（ａ）】
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【図１０（ｂ）】
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【図１０（ｃ）】
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【図１０（ｄ）】
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【図１０（ｅ）】
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【図１１（ａ）】
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【図１１（ｂ）】
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【図１１（ｃ）】
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【図１１（ｄ）】
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【図１１（ｅ）】
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【図１２】
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【図１３（ａ）】
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【図１３（ｂ）】
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【図１３（ｃ）】
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【図１３（ｄ）】
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【図１３（ｅ）】
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【図１４】
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【図１５（ａ）】
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【図１５（ｂ）】
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【図１５（ｃ）】
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【図１６】
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