(57)【要約】【課題】検査工程において装置を停止させる頻度を低下させて生産効率を向上させる。【解決手段】複数ヘッド顕微鏡装置１は、ガラス基板Ｗを搬送するステージ６を有し、ステージ６を跨ぐように門型フレーム２０が設置されている。門型フレーム２０には、２つの顕微鏡ヘッド３０，４０が移動自在に設けられている。各顕微鏡ヘッド３０，４０は、観察範囲４５内で移動可能であると共に、顕微鏡ヘッド３０は退避領域４６に、顕微鏡ヘッド４０は退避領域４７にそれぞれ移動させることができる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一平面内において、一軸方向に基板を移動可能な基板搬送部と、
一軸方向に略直交する他軸方向に前記基板搬送部を跨いで配置される支持部材と、
前記支持部材に他軸方向に沿って移動自在に複数配置される顕微鏡ヘッドと、
前記顕微鏡ヘッドのそれぞれを前記基板上の観察対象となる範囲内に移動させる駆動部と、
観察を停止した前記顕微鏡ヘッドが観察を継続する他の前記顕微鏡ヘッドの移動可能範囲から退避できる退避領域と、
を有することを特徴とする複数ヘッド顕微鏡装置。
【請求項２】
前記退避領域は、前記基板の搬送経路外に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の複数ヘッド顕微鏡装置。
【請求項３】
前記退避領域にある前記顕微鏡ヘッドによる検査を任意のタイミングで再開できるように構成された検査制御装置を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の複数ヘッド顕微鏡装置。
【請求項４】
前記退避位置にある前記顕微鏡ヘッドをオペレータに通知する通知手段を有することを特徴とする請求項１から請求項３にいずれか一項に記載の複数ヘッド顕微鏡装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の顕微鏡ヘッドを用いて基板上のパターンなどを観察する複数ヘッド顕微鏡装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）製造工場などでは、生産数増加を目的として通常２４時間生産ラインを稼動させることが多い。一枚の基板あたりのタクトタイムの遅延は、全体の生産効率に影響を与えるために、生産ラインにはタクトタイムを短縮できる工夫が常に求められている。例えば、液晶基板のレジストパターンニングを行うフォトリソグラフィー工程では、レジストパターンの欠陥検査を行う検査装置に顕微鏡ヘッドを１つ備えるものが用いられていたが、近年の急速な基板の大型化によって、顕微鏡ヘッドが１つではタクトタイムを短縮できなくなっていた。そこで、従来の検査装置には、一平面内で一軸方向又は他軸方向に移動可能なステージと、このステージをブリッジ状に跨ぐ支持部材を有し、支持部材に複数の顕微鏡ヘッドを相互間隔が調整可能に設けた複数ヘッド顕微鏡装置が用いられていた（例えば、特許文献１参照）。この複数ヘッド顕微鏡装置を使用すると、一度に複数の検査点を検査できるようになるので、大型の基板の外観検査をする際にタクトタイムが短縮されるようになった。
【特許文献１】特開平８−１７１０５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の複数ヘッド検査装置では、各顕微鏡ヘッドが基板全面にわたって移動できない構成であるので、いずれか１つの顕微鏡ヘッドが故障した場合には、残りに顕微鏡ヘッドで大型の基板の全面に対して検査を実施することはできなかった。このため、いずれか１つの顕微鏡ヘッドが故障した場合には、顕微鏡ヘッドの交換や修理をする間、検査を停止しなければならなかった。また、顕微鏡ヘッドは、照明用ランプなどの消耗品を有するので定期的に部品交換などのメンテナンスが必要になるが、このような場合にも検査を停止しなければならかった。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、その主な目的は、検査工程において装置を停止させる頻度を低下させて生産効率を向上させることである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記の課題を解決する本発明の請求項１に係る発明は、一平面内において、一軸方向に基板を移動可能な基板搬送部と、一軸方向に略直交する他軸方向に前記基板搬送部を跨いで配置される支持部材と、前記支持部材に他軸方向に沿って移動自在に複数配置される顕微鏡ヘッドと、前記顕微鏡ヘッドのそれぞれを前記基板上の観察対象となる範囲内に移動させる駆動部と、観察を停止した前記顕微鏡ヘッドが観察を継続する他の前記顕微鏡ヘッドの移動可能範囲から退避できる退避領域と、を有することを特徴とする複数ヘッド顕微鏡装置とした。
【０００５】
この複数ヘッド顕微鏡装置は、特定の顕微鏡ヘッドが観察を停止するときには、その顕微鏡ヘッドを退避領域に移動させる。その後に、残りの顕微鏡ヘッドが検査範囲内で移動して必要な検査を継続する。顕微鏡ヘッドを退避させる場合としては、故障や定期的なメンテナンスなどがあげられる。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、特定の顕微鏡ヘッドを退避領域に移動させて、残りの顕微鏡ヘッドで検査を継続することが可能になる。したがって、複数の顕微鏡ヘッドを備える構成において、検査効率の低下を最小限に止めることができる。その結果、生産ラインにおける生産効率を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の第１の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図１及び図２に示すように、複数ヘッド顕微鏡装置１は、ベース２を有し、ベース２上には一軸方向（以下、Ｘ方向という）に一対のガイドレール３が平行に敷設されている。これらガイドレール３の間には、モータ４の動力を伝達するボールネジ５が平行に配置されている。ボールネジ５には、ステージ６が連結されており、モータ４を駆動させると、ステージ６がガイドレール３に沿ってＸ方向に移動する。基板搬送部であるステージ６の上面には、例えば、１０００ｍｍ×１５００ｍｍのＬＣＤ用のガラス基板Ｗを位置決めして載置する位置決めピン９と、位置決めピン９にガラス基板Ｗを押し付けるように移動自在な押し付けピン１０とがそれぞれ複数突設されている。位置決めピン９と押し付けピン１０とは、ガラス基板Ｗ上のパターンの中心間を結ぶ線分が、Ｘ方向、又はＸ方向に直交するＹ方向（他軸方向）に平行になるように配置されている。また、ステージ６の一端部には、リフトピン１１が所定の間隔で突没自在に配設されている。これらリフトピン１１は、ガラス基板Ｗを搬入搬出する際に持ち上げるリフターを構成する。
【０００８】
さらに、ベース２には、支持部材である門型フレーム２０がＹ方向に平行にステージ６をブリッジ状に跨ぐように固定されている。門型フレーム２０は、ベース２に固定される一対の脚部２０Ａと、脚部２０Ａの上部を繋ぐようにステージ６と平行に延びる架設部２０Ｂとを有する。架設部２０Ｂの上面には、リニアガイドレールにスライドブロックをスライド可能に連結させたリニアガイド２１（駆動部）がＹ軸に平行に一対敷設されている。これらリニアガイド２１には、Ｙ軸ステージ２２が２つスライド自在に所定の距離をもって取り付けられている。Ｙ軸ステージ２２同士の干渉防止は、ソフトウェア制御によって行われるが、メカストッパーや、リミットセンサを併用した干渉防止機構を備えても良い。このようなＹ軸ステージ２２のそれぞれには、光学ヘッドである顕微鏡ヘッド３０，４０が１つずつ固定されている。
【０００９】
顕微鏡ヘッド３０，４０は、ガラス基板Ｗに形成されたパターンを結像する結像光学系と、パターンを照明する照明光学系と、像を観察するための観察系と、パターンにピントを合わせるための準焦装置等を有する。結像光学系は、複数の対物レンズ３１が装着されたレボルバ３２を転換させる転換機能と準焦機能とを有している。照明光学系は、落射照明機能を有し、観察系は、結像を可視化する観察装置（例えば、ＣＣＤ（Charge Coupled Devices））３３を備えている。また、対物レンズ３１の転換・準焦は電動化されており、リモート制御できるようになっている。さらに、照明光学系の明るさ絞り（ＡＳ）、視野絞り（ＦＳ）、明視野／暗視野用の光学系の挿脱、微分干渉プリズム、アナライザなどの光学素子の挿脱も必要に応じて電動、空圧動等でリモート制御できるようになっている。
【００１０】
なお、リニアガイド２１は、顕微鏡ヘッド３０，４０のいずれか一方のみでもガラス基板Ｗ上で検査対象となる範囲（観察範囲）を網羅できるように敷設されている。例えば、図４に示すように、顕微鏡ヘッド３０を観察範囲４５外の退避領域４６に退避し、顕微鏡ヘッド４０のみでも検査を実施できるようになっている。退避領域４６は、基板搬送部であるステージ６によってガラス基板Ｗが搬送される搬送経路外に設けられている。また、顕微鏡ヘッド４０を観察範囲４５外の退避領域４７に退避させると、顕微鏡ヘッド３０のみでも検査を実施できるようになっている。つまり、各顕微鏡ヘッド３０，４０の移動範囲は、観察範囲４５において重複し、退避領域４６，４７は、いずれかの顕微鏡ヘッド３０，４０のみが移動可能な範囲になる。
【００１１】
図３に複数ヘッド顕微鏡装置１の制御系のブロック図を示す。複数ヘッド顕微鏡装置１の全体の制御を司る検査制御装置５０には、ローダ制御ユニット５１が接続されている。ローダ制御ユニット５１は、ロボットアームを備えた搬送ロボット５２の制御を司る。搬送ロボット５２は、ローダ制御ユニット５１によって、例えば、ＰＬＣ（Programmable Logic Controller）制御される。また、顕微鏡ヘッド３０，４０の制御ユニット５３Ａ，５３Ｂや、観察装置３３も接続されており、光学系の調整や、観察装置３３で取得した像を取り込めるようになっている。検査制御装置５０には、画像処理ボード（不図示）が搭載されており、観察装置３３から取り込んだ画像データは、表示手段であるモニタ５４に表示される。さらに、検査制御装置５０には、制御ユニット５５が接続されている。制御ユニット５５は、リフター（リフトピン１１）と、ステージ６を移動させるモータ４のモータドライバ５６と、顕微鏡ヘッド３０，４０をＹ方向に移動させる一対のリニアガイド２１のモータドライバ５７，５８（駆動部）とが接続されており、例えば、ＰＬＣ制御される。なお、検査制御装置５０が、通知手段にもなるモニタ５４と、キーボード５９、マウス６０などの入力手段とを備える汎用のコンピュータである場合には、検査制御装置５０と制御ユニット５５とは、例えば、イーサネット（登録商標）接続により通信可能に構成される。顕微鏡ヘッド３０，４０の制御ユニット５３Ａ，５３Ｂは、例えば、ＲＳ−２３２Ｃ接続により通信が行われる。
【００１２】
次に、本実施の形態の作用について説明する。なお、以下において、複数ヘッド顕微鏡装置１は、液晶パネルの製造におけるフォトリソ工程において、数種類の配線をガラス基板Ｗ上に形成するために線種と同数の成膜、レジスト塗布、パターン焼付け、現像、エッチングを行う際に、１サイクル毎に検査をする際に用いるものとして説明する。また、ガラス基板Ｗには、Ｘ方向に２つのパターンが形成される場合を例にして説明するが、パターンの配置や数、検査対象となる工程などは、これに限定されずに任意に選択できる。
【００１３】
初期段階では、複数ヘッド顕微鏡装置を立ち上げたら、制御系の初期化を実施し、各ユニット間の通信を確立する。この段階では、ガラス基板Ｗは搬入されていないので、リフトピン１１はステージ６の上面から突出した位置で待機している。装置の立ち上げが終了したら、図５に示すようなフローチャートに従って検査を開始する。まず、検査制御装置からの通信によってローダ制御ユニット５１が搬送ロボット５２を駆動させてガラス基板Ｗを搬入する（ステップＳ１０１）。搬送ロボット５２は、ガラス基板Ｗをリフトピン１１に受け渡したら退避するので、リフトピン１１を下げてガラス基板Ｗをリフトダウンする（ステップＳ１０２）。ガラス基板Ｗは、ステージ６の上面に載せられるので、押し付けピン１０を移動させて、位置決めピン９にガラス基板Ｗの側面を押し付け、位置決めピン９と押し付けピン１０とでガラス基板Ｗを挟むようにして位置決めしてホールドする（ステップＳ１０３）。
【００１４】
この際、予め検査制御装置５０へ記録媒体等を通じて入力される基板情報や、ローダ制御ユニット５１又は上位システム（サーバ、ＣＩＭ（Computer Integrated Manufacturing））から基板情報が検査制御装置５０に受け渡されるので、基板情報に基づいた検査条件から検査制御装置５０のアプリケーションソフトが不図示のメモリやサーバからそのガラス基板Ｗについての検査レシピファイルを選択して読み込む（ステップＳ１０４）。このとき読み込まれるレシピには、基板上の検査ポイントの座標、検査順序、検査に使用する顕微鏡ヘッド３０，４０、検査時の対物レンズ３１の倍率などが含まれる。次に、レシピに登録されている検査対象座標の数だけ検査処理を行う検査ループ（ステップＳ１０５〜Ｓ１１１）に入る。
【００１５】
検査ループでは、最初に顕微鏡ヘッド３０，４０の１番目の検査ポイントのＸ座標にステージ６を移動する（ステップＳ１０６）。Ｘ座標は、２つの顕微鏡ヘッド３０，４０にとって共通の座標であるので、ステージ６を移動させるだけで同時にＸ方向の位置合わせが行える。次に、顕微鏡ヘッド３０，４０を移動させてＹ座標を１番目の検査ポイントのＹ座標に合わせる（ステップＳ１０７Ａ，Ｓ１０７Ｂ）。各顕微鏡ヘッド３０，４０ごとに対物倍率を変更し（ステップＳ１０８Ａ，Ｓ１０８Ｂ）、ピント調整（ＡＦ）をする（ステップＳ１０９Ａ，Ｓ１０９Ｂ）。観察条件が整ったら、ガラス基板Ｗ表面の画像を観察装置３３で撮像して保存する（ステップＳ１１０Ａ，Ｓ１１０Ｂ）。画像は、検査制御装置５０で画像処理されてモニタ５４に表示される。作業者は、モニタ５４の画面を観察して、欠陥等の有無を確認する。なお、設計ＣＡＤデータや良品の同じ位置同士のパターンマッチング等の画像処理によって判定を行っても良い。また、検査の内容は、欠陥検出やパターン検出に限らず、パターンの線幅測定等を行っても良い。ここまでの処理は、全ての検査ポイントについての検査が終了するまで繰り返して実施される。
【００１６】
検査が終了したら、ステップＳ１１２に進んで、ステージ６を搬出位置まで移動させる。ホールドを解除したら（ステップＳ１１３）、リフトピン１１を上昇させてガラス基板Ｗをリフトアップする（ステップＳ１１４）。検査制御装置５０は、ローダ制御ユニット５１に通信を行って搬送ロボット５２を駆動させる。搬送ロボット５２がガラス基板Ｗを搬出したら（ステップＳ１１５）、ここでの処理を終了する。
【００１７】
ここで、図６に、検査の際に使用するアプリケーションソフトによって提供され、モニタ５４に表示される画面の一例を示す。なお、画面のレイアウト等は、任意に変更して使用することが可能である。
メイン画面８０は、顕微鏡ヘッド３０のライブ画像を表示する画像表示領域８１を有する。画像表示領域８１の下には、切り離しボタン８２と、復旧ボタン８３とが配設されている。切り離しボタン８２は、顕微鏡ヘッド３０の観察を中止して退避領域４６（図４参照）に切り離して運用する際に選択される。復旧ボタン８３は、切り離し後に顕微鏡ヘッド３０での観察を再開するときに選択される。ここでは、顕微鏡ヘッド３０が観察中であるので、復旧ボタン８３は操作できない状態になっている。復旧ボタン８３は、切り離しボタン８２を選択して切り離し運用中には、有効になる。また、顕微鏡ヘッド４０についても同様に、画像表示領域８５と、切り離しボタン８６と、復旧ボタン８７とが配設されている。
【００１８】
メイン画面８０の左下側には、検査座標マップ９０が設けられている。検査座標マップ９０は、四角形のパネル表示９１が４つ表示されている。パネル表示９１は、ガラス基板Ｗ上のＬＣＤパネル領域（ＬＣＤモニタとして使用される部分）の範囲を示すものである。パネル表示９１内の丸印は、ガラス基板Ｗ内で検査を行う検査ポイントを示す座標ポイント９２である。ここでは、レシピに登録されている座標に基づいて表示がなされているが、例えば、上位システムから取得した定義データを用いても良い。検査座標マップ９０には、直交する点線９３，９４が重ねて表示されており、これら点線９３，９４は２つの交点９５，９６を形成している。交点９５は顕微鏡ヘッド３０の現在座標を示し、交点９６は顕微鏡ヘッド４０の現在座標を示す。
【００１９】
メイン画面８０の右上には、基板情報１００などが設けられている。基板情報１００は、基板搬入時に取得した基板情報が表示される。一時停止ボタン１０１は、検査ループ（図６のステップＳ１０１〜Ｓ１０５）に入っている状態で、次の検査ポイントに顕微鏡ヘッド３０，４０が自動的に移動する処理を一時的に停止するためのボタンである。再開ボタン１０２は、一時停止状態を解除して顕微鏡ヘッド３０，４０の移動を再開するためのボタンで、一時停止中のみ有効になる。次ワークボタン１０３は、現在のガラス基板Ｗを搬出し、次のガラス基板Ｗの搬入を開始するためのボタンであり、検査ループが終了した場合と一時停止中のみ有効になる。
【００２０】
メイン画面８０の右下には、検査座標リスト１１０が設けられている。検査座標リスト１１０は、レシピで定義された検査座標（Ｘ座標、Ｙ座標）と、各顕微鏡ヘッド３０，４０に割り当てられた番号（例えば、顕微鏡ヘッド３０が「１」で、顕微鏡ヘッド４０が「２」）と、検査状況とが、検査ポイント（Ｎｏ）ごとに関連付けて表示されている。ここでは、Ｎｏ．０５の検査ポイントと、Ｎｏ．０６の検査ポイントとに相当する情報に強調表示１１１，１１２がなされているが、これは現在検査中であることを示す。なお、判定は、検査が未完了の場合には空欄となり、検査が終了した場合に「完了」の文字が表示される。また、検査ポイントの数が多い場合は、スクロールして表示させることができる。
【００２１】
切り離しボタン８２，８６を操作した際の動作を説明する。顕微鏡ヘッド３０に対応した切り離しボタン８２を押すと、顕微鏡ヘッド３０が図４に示すように退避領域４６に退避する。顕微鏡ヘッド３０に故障などの不具合があったり、定期的に行うメンテナンスを行ったりするときには、交換や修理などの必要な作業を実施する。この間は、観察範囲４５に残っている顕微鏡ヘッド４０のみで検査が継続される。顕微鏡ヘッド３０が退避している間は、図７に例示するような画面にモニタ５４の表示が切り替わる。顕微鏡ヘッド３０に対応する画像表示領域８１は、切り離し中を示す画面として、例えば「切り離し中」との文字が表示される。したがって、モニタ５４が通知手段となって、オペレータに顕微鏡ヘッド３０が退避領域４６にあることが通知される。切り離しボタン８２は、操作不可状態となり、代わりに復旧ボタン８３が操作可能になる。検査座標マップ９０上では、顕微鏡ヘッド４０の現在位置を示す交点９６のみが表示され、検査座標リスト１１０の未検査の検査ポイントは、符号Ｃで示すように強制的に稼動中の顕微鏡ヘッド４０に割り当てられた番号に変更される。交換や修理が完了したら、復旧ボタン８３を押す。顕微鏡ヘッド３０が検査を実施可能な位置まで戻るので、以降は２つの顕微鏡ヘッド３０，４０による検査が再開される。
【００２２】
この実施の形態によれば、２つの顕微鏡ヘッド３０，４０のそれぞれを観察範囲４５内に重複可能に、かつ独立に移動可能に構成し、不具合などが生じた顕微鏡ヘッド３０，４０の検査を任意のタイミングで中止して退避位置に移動できるようにしたので、顕微鏡ヘッド３０，４０が故障等したときに復旧するまでの間に残りの顕微鏡ヘッド３０，４０で検査を継続することが可能になる。不具合が生じた顕微鏡ヘッド３０，４０の修理や交換作用は、残りの顕微鏡ヘッド３０，４０で検査を継続している間に行える。したがって、２つの顕微鏡ヘッド３０，４０を備える構成において、検査効率の低下を最小限に止めることができる。その結果、生産ラインにおける生産効率を向上させることができる。
【００２３】
次に、本発明の第２の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。この実施の形態に係る複数ヘッド顕微鏡装置は、第１の実施の形態と同じ構成を有し、顕微鏡ヘッドの切り離し処理が異なることを特徴とする。したがって、第１の実施の形態と同じ構成要素には同一の符号を付してある。重複する説明は、省略する。
【００２４】
この実施の形態における検査の処理フローを図８に示す。なお、図８には主に顕微鏡ヘッド３０についての処理が示されているが、顕微鏡ヘッド４０についても同様の処理が行われる。
図８に示すように、検査を開始したら、検査準備を実施する（ステップＳ２０１）。ここでの検査準備は、第１の実施の形態のステップＳ１０１からステップＳ１０４の処理に相当する。ガラス基板Ｗの検査が可能な状態になったら、検査が完了していない検査ポイントが存在するか否か調べる（ステップＳ２０２）。未完了の検査ポイントが存在しない場合には（ステップＳ２０２でＮｏ）、検査準備（ステップＳ２０１）に戻る。ただし、検査終了の場合は、第１の実施の形態のステップＳ１１２からステップＳ１１５が行われて終了する。検査ポイントが存在する場合には（ステップＳ２０２でＹｅｓ）、顕微鏡ヘッド３０が有効であるか判断する（ステップＳ２０３）。顕微鏡ヘッド３０が無効である場合には（ステップＳ２０３でＮｏ）、既に切り離しが行われ、顕微鏡ヘッド４０のみで検査を継続している状態である。この場合には、後述するステップＳ２０９に進む。
【００２５】
顕微鏡ヘッド３０が有効である場合には（ステップＳ２０３でＹｅｓ）、顕微鏡ヘッド３０の検査準備動作を実施し（ステップＳ２０４）、指定座標への移動と、顕微鏡ヘッド３０の倍率変更、ピント調整を行う。顕微鏡ヘッド３０の検査準備動作が正常終了したら（ステップＳ２０５でＹｅｓ）、その検査ポイントにおける検査を行う（ステップＳ２１２）。その後、他の検査ポイントの検査をするためにステップＳ２０２に戻る。
【００２６】
ここで、顕微鏡ヘッド３０の検査準備動作に異常が発生したときには（ステップＳ２０５でＮｏ）、復旧方法自動選択を実施し、発生したエラーの種類（エラーコード）によって後の処理を振り分ける（ステップＳ２０６）。
例えば、Ｘ軸方向やＹ軸方向への移動が不能になった場合のように、継続不能なエラーが生じたときには、ステップＳ２１３の復旧不能オペレータコールを実行し、オペレータに異常発生を報告し、オペレータによる復旧を促す。異常発生の報告は、モニタ５４や、警報機などの通知手段によってなされる。
例えば、顕微鏡との通信エラーやオートフォーカスの失敗が生じた場合のように、リトライ可能なエラーが生じたときには、ステップＳ２０４に戻り、検査準備動作を再度実施する。
例えば、顕微鏡ヘッド３０の移動は可能であるが、顕微鏡ヘッド４０の切り替えや、ピント調整に不具合が発生し、リトライをしたが同じエラーが繰り返される場合には、顕微鏡ヘッド３０の切り離しを行うためにステップＳ２０７に移動して顕微鏡ヘッド３０の退避位置移動を実施する。
【００２７】
顕微鏡ヘッド３０を退避領域４６に移動させたときには、測定ヘッド割付変更（ステップＳ２０８）を実施し、残りの検査ポイントの全てを顕微鏡ヘッド４０で実施するように設定変更を行う。以降は、顕微鏡ヘッド４０のみで検査を継続するため、顕微鏡ヘッド４０の検査準備動作が実施される（ステップＳ２０９）。この検査準備動作は、ステップＳ２０４の検査準備動作と同様の処理が実施される。顕微鏡ヘッド４０についても、同様にして異常発生判断を実施し（ステップＳ２１０）、正常に動作が終了したときには検査（ステップＳ２１２）を実施する。その一方で、エラーが発生したらステップＳ２１１で復旧方法自動選択を実施する。リトライすべきエラーの場合には、ステップＳ２０９に戻り、継続不可なエラーの場合には、ステップＳ２１３に進んで復旧不能オペレータコールを実施する。なお、この場合には、顕微鏡ヘッド３０を退避領域４６に移動させて残った顕微鏡ヘッド４０についてのエラーであるので、他に切り替え可能な顕微鏡ヘッドが無い。したがって、本来であれば顕微鏡ヘッドを切り替えれば検査を継続できるエラーであっても継続不可と判断される。
【００２８】
この実施の形態によれば、エラーの種類に応じてリトライと、オペレータによる復旧処理と、顕微鏡ヘッドの切り離しとを選択するようにしたので、顕微鏡ヘッド３０，４０の不具合に起因して検査を中断する頻度が低下する。切り離した顕微鏡ヘッド３０，４０には交換や修理作業を行え、この間にも他の顕微鏡ヘッド３０，４０で検査を継続できる。これらのことから、生産効率の低下を最小限に止めることができる。
【００２９】
なお、本発明は、前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
光学ヘッドである顕微鏡ヘッドの数は、３つ以上でも良い。
顕微鏡ヘッドの構成は、実施の形態に示すものに限定されない。標本もガラス基板Ｗに限定されない。
基板搬送部は、Ｘ方向にスライド移動するステージ６に限定されない。例えば、ガラス基板Ｗをエアーの吹き出しによって浮上させるベース部をＸ方向に沿って設けると共に、エアー浮上させたガラス基板Ｗを保持し、Ｘ方向に沿って移動させるスライダを配設したエアー浮上ステージであっても良い。
【００３０】
門型フレーム２０をＸ軸方向に複数平行に配置し、各門型フレーム２０に複数の顕微鏡ヘッド３０，４０を配設しても良い。検査に必要なガラス基板ＷのＸ方向へのストローク量を少なくすることができるので、装置の小型化や、検査のスループット向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の実施の形態に係る複数ヘッド顕微鏡装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】図１のＡ矢視図である。
【図３】複数ヘッド顕微鏡装置の制御ブロックを示す図である。
【図４】一方の顕微鏡ヘッドが退避位置に退避した状態を示す図である。
【図５】検査時の処理を示すフローチャートである。
【図６】アプリケーションソフトによって提供される画面例を示す図である。
【図７】一方の顕微鏡ヘッドが退避位置に退避したときの画面例を示す図である。
【図８】検査時の処理を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００３２】
１      複数ヘッド顕微鏡装置
４      モータ（基板搬送部）
５      軸（基板搬送部）
６      ステージ（基板搬送部）
２０      門型フレーム（支持部材）
３０，４０      顕微鏡ヘッド
２１      リニアガイド（駆動部）
４５      観察範囲
４６，４７      退避領域
５０      基板検査装置
５４      モニタ（通知手段）
５７，５８    モータドライバ（駆動部）
Ｗ      ガラス基板（基板）
【図１】
2007248714.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2007248714.tif 000007
【図６】
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【図７】
2007248714.tif 000009
【図８】
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