(57)【要約】【課題】基板を圧力気体により浮上させるステージ部を備えつつ小型化を図るとともに、製造ライン内に設置可能な基板検査装置を提供する。【解決手段】基板１を浮上させて水平支持する浮上ステージ部６と、基板１の端部を保持し浮上ステージ部６上に浮上させ状態で搬送する第１の基板搬送手段９と、第１の基板搬送手段９により搬送された基板１を検査する検査部と、浮上ステージ部６の搬送面より出没可能に設けられ、基板１の裏面を支持して浮上ステージ部６内に搬入する回転駆動可能な回転体８ｂを浮上ステージ部６の端部に複数配置した第２の基板搬送手段８とを備える。【選択図】図２
2007248291.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を浮上させて水平支持する浮上ステージ部と、
前記基板の端部を保持し前記浮上ステージ部上に浮上させた状態で搬送する第１の基板搬送手段と、
前記第１の基板搬送手段により搬送された前記基板を検査する検査部と、
前記浮上ステージ部の搬送面より出没可能に設けられ、前記基板の裏面を支持して前記浮上ステージ部内に搬入する回転駆動可能な回転体を前記浮上ステージ部の端部に複数配置した第２の基板搬送手段とを備えたことを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
請求項１記載の基板検査装置において、
前記浮上ステージ部は、長方形状の浮上ブロックを所定の間隔で複数配置し、隣接する各浮上ブロックの間に前記第２の基板搬送手段の回転体を出没可能に設けることを特徴とする基板検査装置。
【請求項３】
請求項１記載の基板検査装置において、
前記浮上ステージ部は、前記基板を搬送する搬送面全体に前記基板を浮上させる気体を吐出する孔を分散配置し、この搬送面に前記回転体を出没させる開口を複数形成し、この開口を通して前記第２の基板搬送手段の回転体を前記搬送面より突出させることを特徴とする基板検査装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の基板検査装置において、
前記第２の基板搬送手段は、前記基板の搬送方向と直交する回転軸を有し、該回転軸に前記回転体が所定の間隔で複数配置されており、該回転軸を軸線回りに回転させる回転駆動手段が設けられていることを特徴とする基板検査装置。
【請求項５】
請求項４記載の基板検査装置において、
前記回転軸は、上下移動する軸支持部により回転自在に支持され、この軸支持部を上下駆動手段により上下移動させることを特徴とする基板検査装置。
【請求項６】
請求項１記載の基板検査装置において、
前記第２の基板搬送手段は、前記基板を前記浮上ステージ部に搬入する際に、前記回転体を前記浮上ステージ部の搬送面より上方に突出させ、前記第１の基板搬送手段により基板を強制搬送する際に、前記回転体を前記浮上ステージ部の搬送面よりも下方に移動させることを特徴とする基板検査装置。
【請求項７】
請求項６記載の基板検査装置において、
前記第２の基板搬送手段は、前記基板が前記浮上ステージ部に搬入されて前記第１の基板搬送手段により前記基板の端部が拘束された後、前記回転体を前記浮上ステージ部の搬送面よりも下方に移動させることを特徴とする基板検査装置。
【請求項８】
請求項１乃至７記のいずれかに載の基板検査装置において、
前記第２の基板搬送手段の前記回転体は、前記浮上ステージ部の前記搬送面に対し相対的に上下動可能とされていることを特徴とする基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばウェハや液晶ガラス基板等の検査に用いられる基板検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ウェハや液晶ガラス基板等の検査では、基板表面に照明光を照射し、その反射光もしくは透過光の光学的変化に応じた表面の画像を取り込み、これを画像処理することによって、表面に塗布されたレジストの膜むら、ピンホールなどの欠陥や、塵埃付着の有無などを確認している。また、基板表面に欠陥や塵埃付着など（欠陥）が認められる場合には、顕微鏡などを用いて拡大画像による詳細観察が行われている。
【０００３】
この種の基板検査装置には、基板を支持するステージ部上で、検査時に、基板にライン状の照明光を照射し、基板を１軸方向に定速移動することによって基板全面の画像取得を行うものがある。この基板の搬送手段としては、例えば、移動方向に直交するように所定の間隔で配列された複数の回転軸に複数のコロを固定して設け、回転軸を回転させる回転駆動手段を備えたローラコンベアがある。この基板搬送手段では、回転駆動手段の駆動により回転軸を回転させ、コロ上に載置された基板を１軸方向に移動させることができる。この種の基板搬送手段を備えたステージ部は、一般にローラコンベアステージと称されており、この基板搬送手段においては、それぞれの回転軸に固定された各コロの高さは、同一水平面上に配置され、基板を搬送する際に基板の平坦度を高く保つものとされている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、この基板搬送手段を備える基板検査装置では、ローラコンベアステージへの基板の搬入またはステージ部からの搬出を、搬入側と搬出側に、同一構成のローラコンベアステージを設け、各ローラコンベアステージの基板搬送速度の同期を図ることにより行えるようにしている。
【０００５】
一方、基板検査装置における基板搬送手段には、基板の搬入側と搬出側にシャフトにコロを回転自在に設けたローラコンベアステージを配置し、これらローラコンベアステージの間の検査領域で基板の下面を圧力気体により押圧して基板を浮上させるエア浮上ステージを配置し、浮上した基板を保持しつつ１軸方向に移動する把持機構を備えるものもある。この種の基板検査装置では、基板の端部が把持機構に保持され、この把持機構が１軸方向に移動可能とされていることによって、基板のステージ部上での定速移動を可能にしている。このエア浮上ステージは、検査時の基板を全面的に支持することにより基板の歪みを解消し、歪みの影響による欠陥の誤認を防止することができる（例えば、特許文献２参照。）。
【特許文献１】特開２００３−２６３６２７号公報
【特許文献２】特開２０００−９６６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ローラコンベアステージを備える基板検査装置では、基板の移動が基板の搬送方向と直交する１軸方向のみ可能とされる。このため、ローラコンベアステージに搬入された基板を１軸方向に直交する方向へ移動させることができず、基板の位置決めが困難となり、検出された欠陥の座標取得ができない場合がある。このような場合には、基板表面の欠陥位置を特定できないという問題があった。
【０００７】
また、検査装置外に設けられたローラコンベア搬送路から検査用ステージ上に基板を搬入するために、検査用ステージの両側に別途ローラコンベアステージを設置すると、検査装置が大型化し、占有スペースが大きくなるという問題があった。
【０００８】
また、近年、製造ライン内に基板検査装置を設置し、製造された基板の検査結果をできるだけ早く製造工程にフィードバックし、製造工程の制御を行うことが求められてきている。従来では、基板検査装置への基板の搬出入を搬送ロボットにより行っていたため、基板検査装置とこの搬送ロボットの占有スペースが必要となるとともに、製造ライン外に設置された検査装置に基板を移動させて検査を行うため、基板を製造してから検査結果が得られるまでに時間が掛かるという問題があった。
【０００９】
本発明は、上記事情を鑑み、基板を圧力気体により浮上させる浮上ステージ部を備えつつ小型化を図るとともに、製造ライン内に設置可能な基板検査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達するために、この発明は以下の手段を提供している。
【００１１】
本発明の基板検査装置は、基板を浮上させて水平支持する浮上ステージ部と、前記基板の端部を保持し前記浮上ステージ部上に浮上させた状態で搬送する第１の基板搬送手段と、前記第１の基板搬送手段により搬送された前記基板を検査する検査ヘッドと、前記浮上ステージ部の搬送面より出没可能に設けられ、前記基板の裏面を支持して前記浮上ステージ部内に搬入する回転駆動可能な回転体を前記浮上ステージ部の端部に複数配置した第２の基板搬送手段とを備えたことを特徴とする。
【００１２】
この発明に係る基板検査装置においては、基板を浮上させる浮上ステージ部と、この基板を浮上させた状態で強制搬送する第１の基板搬送手段とに加え、浮上ステージ部の端部に出没自在に回転駆動する回転体を設けることにより、基板検査装置自ら基板を浮上ステージ部内に搬入もしくは浮上ステージ部内から搬出させることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、浮上ステージ部の端部に出没自在に回転駆動する回転体を設けることにより、基板検査装置に基板を搬入、搬出する搬送ロボットなどの他の基板搬送手段を必要とせず、基板検査装置を小型化することができるとともに、基板検査に要するスペースを省スペース化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図１から図５を参照し、本発明の一実施形態に係る基板検査装置について説明する。
【００１５】
本発明の一実施形態は、図１に示すような例えば液晶ガラス基板等の検査に用いられる基板検査装置Ａに関するものであり、この基板検査装置Ａは、基板１の観察を行う検査部２と、観察を行うために基板１を保持して移動させる検査ステージ３とに分けられる。図１に示す検査部２は、基板１の表面１ａに照明光を照射し、その反射光の光学的変化に応じた表面１ａの画像を取り込み、これを画像処理することによって、表面１ａに塗布されたレジストの膜むら、ピンホールなどの欠陥や、塵埃付着の有無などを確認するマクロ検査部４と、マクロ検査部４によって検出された欠陥を顕微鏡部５ａにより詳細観察するミクロ検査部５とを備えている。
【００１６】
マクロ検査部４は、門型の支柱４ａに取り付けられた照明部４ｂと、一方の支持アーム４ｃに取り付けられたミラー４ｄと、他方の支持アーム４ｅに取り付けられた撮像部４ｆとから構成されている。ここで、支柱４ａは、その下端が後述する検査ステージ３のベース部７に固定されており、後述するエア浮上ステージ部（浮上ステージ部）６を間にして対向に設けられた２本の支柱４ａの両上端に基板１の移動方向に対して直交する水平アームが連架されている。照明部４ｂは、例えば、棒状のロットレンズの端面に光源を配置したライン照明ユニットで検査ステージ３のエア浮上ステージ部６上を１軸方向に移動する基板１の移動方向（Ｘ方向）に対し直交方向（Ｙ方向）に、基板１の幅よりも若干長い範囲で基板１の表面１ａを線状に照明することを可能としている。ミラー４ｄは、照明部４ｂから照射された線状の照明光の基板１の表面１ａからの反射光を撮像部４ｆに向けて偏向させるためのものである。撮像部４ｆは、ミラー４ｄによって偏向された光を受光し、これを集光する図示せぬ結像レンズと、結像レンズによって集光された光を結像し、基板１の表面１ａの画像取得を行う図示せぬラインセンサカメラ（撮像素子）とを主な構成要素としている。
【００１７】
ミクロ検査部５は、マクロ検査部４に対して、基板１の搬送方向の下流側に設けられており、マクロ検査部４の門型の支柱４ａと平行する門型の支柱５ｂと、この支柱５ｂの間に連架された水平アームに沿って移動可能に設けられた検査ヘッド用ステージ５ｄと、この検査ヘッド用ステージ５ｄに設けられた顕微鏡部５ａと、エア浮上ステージ部６に基板１の移動方向に直交するように設けられた線状の間隙部６ａを介して、基板１の下面１ｂ方向から照明光を照射可能とする透過照明部５ｃとから構成される。
【００１８】
ついで、検査ステージ３について図２から図５を参照して説明する。検査ステージ３は、ベース部７と、長方形板状に形成された複数のエア浮上ブロック６ｅと精密エア浮上ブロック６ｂを、その上面が水平面を形成するよう並列したエア浮上ステージ部６と、エア浮上ステージ部６のＸ方向の一方の端部６ｃ側と他方の端部６ｄ側に設けられローラ駆動により基板１を搬送する第２の基板搬送手段（ローラコンベア）８と、基板１の少なくとも搬送方向に沿う一辺を吸着保持して基板１を強制搬送する第１の基板搬送手段９と、基板１の端部１ｃ、１ｄ、１ｅに当接して基板１を基準位置に位置決めする位置決め機構１０とから構成されている。
【００１９】
エア浮上ステージ部６は、長方形状のエア浮上ブロック６ｅと精密エア浮上ブロック６ｂが複数配置されて形成されたもので、各エア浮上ブロック６ｅと精密エア浮上ブロック６ｂは、ベース部７の支持フレーム７ａに支持されている。精密エア浮上ブロック６ｂは、ミクロ検査部５の検査領域（対物レンズの走査ライン）となる間隙部６ａに沿って両側にそれぞれ複数連結して配置されている。エア浮上ブロック６ｅは、精密エア浮上ブロック６ｂの両側に基板１の搬送方向（Ｘ方向）に沿って所定の間隔をおいて複数配置されている。ここで、各エア浮上ブロック６ｅを等間隔で設置することにより形成される隣り合う浮上ブロック６ｅとの間には、エアを排出するための開口部６ｆが形成されている。このエア浮上ステージ部６を形成する精密エア浮上ブロック６ｂとエア浮上ブロック６ｅには、その上面に気体を吐出する孔６ｈが分散配置されている。精密エア浮上ブロック６ｂとエア浮上ブロック６ｅは、図示せぬ例えば減圧弁や流量計などの制御手段と配管とを介して、コンプレッサーなどの圧力気体吐出手段と接続され、各孔６ｈにより定圧の圧力気体を吐出可能とされている。精密エア浮上ブロック６ｂは、エア浮上ブロック６ｅに比べて孔６ｈが密に配置したものや、孔６ｈの他にエアを吸い込むための排出用の孔を設けて、エア吐出力（正圧）とエア吸引力（負圧）により基板１の浮上高さを高精度に制御できるようにしてもよい。
【００２０】
第２の基板搬送手段８は、エア浮上ステージ部６の外部から搬入された基板１の裏面を支持してエア浮上ステージ部６に搬入する回転駆動可能な回転体８ｂを備え、エア浮上ステージ部６の一方の端部６ｃ側と他方の端部６ｄ側に配置される。それぞれの第２の基板搬送手段８は、軸線Ｏ１が基板１の移動方向（Ｘ方向）に直交しつつＸ方向に並列配置された回転軸８ａと、各回転軸８ａに環装される複数の円板やコロ等の回転体８ｂと、回転軸８ａを回転駆動する例えばモータなどの回転駆動手段８ｃと、各回転軸８ａを軸支するとともに、回転体８ｂをエア浮上ステージ部６の上面（搬送面）に対して出没させるように上下動可能に支持する軸支部材８ｄと、軸支部材８ｄを上下動させる上下動駆動手段８ｅとから構成されている。ここで、回転駆動手段８ｃと上下動駆動手段８ｅとを合わせて、駆動部８ｆとされる。第２の基板搬送手段８は、エア浮上ステージ部６の基板搬入側と基板搬出側の端部に３セットずつ配置しているが、基板１を十分に搬送する駆動力があれば１セットでもよく、エア浮上ステージ部６の一方の端部に配置してもよい。
【００２１】
回転軸８ａは、エア浮上ステージ部６の両外側方を結ぶように延設されており、一方の端部が回転駆動手段８ｃと連結されつつ支持され、他方の端部までの間が適宜間隔で軸支部材８ｄに回転可能に支持されている。
【００２２】
回転体８ｂは、例えばポリエーテルエーテケトン（ＰＥＥＫ）、ポリイミド樹脂などの耐磨耗性樹脂によりリング状に形成されており、この外周面８ｇには、適度な弾性と、基板１に対して適度な相対摩擦係数とを有する例えばシリコンゴムなどが被覆されている。１本の回転軸８ａには、５枚の回転体８ｂがビス等により固定され、これらの回転体８ｂは、エア浮上ステージ部６の開口部６ｆに位置される。このとき、３本の回転軸８ａがＸ方向に並列配置されているため、エア浮上ステージ部６の開口部６ｆには、Ｘ方向に３枚の回転体８ｂが並列配置されている。
【００２３】
軸支部材８ｄは、平板状の支持フレーム部８ｈと、支持フレーム部８ｈの上面８ｉから垂直に突設された軸受部８ｊとから構成され、支持フレーム部８ｈの端部が回転駆動手段８ｃとともに駆動部８ｆに格納された上下動駆動手段８ｅに支持されている。軸受部８ｊは、支持フレーム部８ｈの上面８ｉに回転軸８ａの軸線Ｏ１と直交する方向で突設されており、回転軸８ａの軸線Ｏ１に沿って、回転軸８ａを好適に支持できる適宜間隔を持ちつつ複数配置されている。軸受部８ｊの回転軸８ａが当接する部分には、回転軸８ａの円柱形状に係合する半円形状の凹部８ｋが形成されており、この半円形状の凹部８ｋにおいて回転軸８ａが回転可能に支持されている。また、軸受部８ｊの先端に回転軸８ａを回転自在に支持する軸受け部材としてベアリングを設けると、回転軸８ａの揺れを防止でき好ましい。
【００２４】
駆動部８ｆは、回転駆動手段８ｃと上下動駆動手段８ｅとが、回転軸８ａの回転および支持フレーム部８ｈの上下動を可能としつつ１つの箱体８ｌに格納され、エア浮上ステージ部６の外側方のベース部７に設置されている。上下駆動手段８ｃは、支持フレーム部８ｈの両端に設けてもよい。
【００２５】
第１の基板搬送手段９は、図２から図４に示すように、ベース部７に設置された２条の軌道部９ａと、矩形板状の支持板部９ｂと、支持板部９ｂと軌道部９ａとを接続し、軌道部９ａに沿って自走可能なリニアモータ等のスライド部９ｃと、支持板部９ｂの上面９ｄに対して垂直に突設され、軌道方向に線状配列された３枚の矩形板状の保持部９ｅと、それぞれの保持部９ｅの側面に上下動自在に支持された矩形箱状の支持部９ｈと、支持部９ｈの上面９ｆに長手方向に線状配列された複数の吸着部９ｋとから構成されている。ここで、円筒部材９ｇと吸着パッド９ｊを合わせて吸着部９ｋとされている。さらに、支持部９ｈには、真空吸引および負圧開放可能な適宜手段が備えられ、真空吸引を行うことにより基板１の裏面に吸着部９の吸着パッド９ｊが吸着し、基板１を基準の浮上高さになるように降下させる。
この構成においては、吸着パッド９ｊの上方に配された基板１に、吸着パッド９ｊを当接させ、吸着部９ｋで真空吸引することによって、吸着パッド９ｊが負圧状態となり基板１の下面１ｂに吸着され、基板１がしっかりと保持される。上記の第１の基板搬送手段９は、軌道部９ａ上を適宜手段によって滑動させることにより基板１を１軸方向（Ｘ方向）に定速で移動させることができる。支持部９ｈは、上下動自在に支持されているため、基板１が搬入された際に、支持部９ｈを上昇させ基板１を吸着パッド９ｊ上に支持させる。これにより、エア浮上した基板１は、吸着パッド９ｊとの小さな摩擦力により基板１がエア浮上ステージ部６上に静止し、位置決め機構１０により安全に位置決めできる。また、基板１を搬入又は搬出する際に、支持部９ｈから下降させて基板１から吸着パッド９ｊを離すことにより、基板１と吸着パッド９ｊとの間の摩擦力が小さくなるため、基板１を第１の基板搬送手段９により搬送方向に向けて真っ直ぐに搬入・搬出することができる。
【００２６】
位置決め機構１０は、図２に示すように、外周面１０ａがガラスより柔らかい耐磨耗性樹脂で被覆された基準ピン１０ｂと、耐磨耗性樹脂で被覆された円柱状の当接部１０ｃを基板１側に移動可能とする例えばエアシリンダーなどの図示せぬ移動手段を有する押付けピン１０ｅとから構成されている。ここで、基板１の端部１ｅに当接可能な位置に配置された一対の基準ピン１０ｂは、上下方向に出没可能に設けられ、基板１が搬入される際にエア浮上ステージ６部の上面よりも高く上昇し、位置決め後にエア浮上ステージ部６の上面より下方に下降するようになっている。他の一対の基準ピン１０ｂは、基板１の端部１ｄを当接可能な位置に設けられ、一対の押付けピン１０ｅは、基板１の端部１ｃに沿う保持部９ｅの間に設けられている。
【００２７】
ついで、上記の構成からなる基板検査装置Ａを用い基板１の検査を行う手順について、図１から図５を参照し説明する。
【００２８】
はじめに、搬入側に配置された第２の基板搬送手段８の支持フレーム部８ｈを上下動駆動手段８ｅによって上昇させ、回転軸８ａに固定された回転体８ｂの一部が、エア浮上ステージ部６の上面よりも上方に突出するように調整する。
【００２９】
ついで、エア浮上ステージ部６の孔６ｈから圧力気体を吐出させた状態で、基板検査装置Ａ外の上流に配置されたローラコンベアにより基板１を搬入する。この基板１の搬入時に、駆動部８ｆの上下動駆動手段８ｅを駆動させて第２の基板搬送手段８を上昇させ、エア浮上ステージ部６の一方の端部６ｃ側に位置する第２の基板搬送手段８の回転体８ｂをエア浮上ステージ部６の上面より上方に突出させる。この状態で、上流側に配置されたローラコンベアに同期させて回転軸８ａを回転駆動手段８ｃにより回転させることで、上流側に配置されたローラコンベアにより送られてきた基板１がエア浮上ステージ部６の内方に搬送される。このとき、上流のローラコンベアの回転に同期させて回転軸８ａを回転駆動手段８ｃにより回転させることで、ローラコンベアと第２の基板搬送手段８により基板１がエア浮上ステージ部６内に搬入される。基板１がエア浮上ステージ部６上に全て搬入されると同時に、第２の基板搬送手段８の回転駆動手段８ｃを停止する。このとき、基板１の後端部は、第２の基板搬送手段８の各回転体８ｂとの摩擦力によりエア浮上ステージ部８上に拘束された状態となる。この拘束状態で、第１の基板搬送手段９の支持部９ｈを上昇させ、吸着部９ｋの吸着パッド９ｊを基板１の裏面１ｂに当接させることにより、エア浮上ステージ部６上に浮上した基板１は、吸着パッド９ｊにより拘束されることになる。このとき、基板１は、エア浮上ステージ部６上に浮上するが、第１の基板搬送手段９の吸着パッド９ｊとの摩擦力により基板１が拘束されるため、エア浮上ステージ部６上を移動することなく静止する。この後、上下動駆動手段８ｅによって回転体８ｂをエア浮上ステージ部６の上面よりも下方に位置まで下降させて待機させる。ここで、例えば図１に示した基板検査装置Ａを基板１の製造ライン内に設置する場合には、基板検査装置Ａに連結される既存の搬送装置と基板移動速度を合わせるよう回転軸８ａの回転を既存の搬送装置と同期させる。これにより、既存の搬送装置によって搬送されてきた基板１の先端部１ｅがそのまま回転体８ｂに乗り移り、回転体８ｂの回転によってエア浮上ステージ部６内に基板１を搬入することができる。
【００３０】
ついで、図２に示す位置決め機構１０の基準ピン１０ｂが基板１の水平位置に配されるよう、位置決め機構１０を上昇させるとともに、押付けピン１０ｅを水平移動させ、基板１の原点座標取得が可能な基準位置に基板１を位置決めする。
【００３１】
この位置決めの後、真空吸引を開始し、第１の基板搬送部９の吸着パッド９ｊにより基板１を吸着保持させる。基板１がしっかりと吸着保持された段階で、位置決め機構１０の基準ピン１０ｂと押付けピン１０ｅが元の位置に戻され基板１を解離させる。これにより、圧力気体の吐出で浮上した基板１は、吸着パッド９ｊに端部が保持され水平支持された状態となる。ここで、位置決め機構１０は、基板１検査の支障とならない所定の位置に移動され、この段階で、基板１の原点座標取得が行われる。
【００３２】
ついで、図１に示すマクロ検査部４の照明部４ｂにより基板１の表面１ａに入射角θ１で線状の光束（照明光）を照射しつつ、基板１を保持した第１の基板搬送手段９を軌道部９ａ上で、一定速度で移動する。第１の基板搬送手段９に従動される基板１の表面１ａに照明光が照射され、表面１ａから反射角θ２で反射される反射光を、ミラー４ｄによって偏向しつつ撮像部４ｆに取り込む。第１の基板搬送部９により基板１がＸ方向に一定速度で移動されているため、順次基板１の表面１ａの画像を取り込むことができ、取り込まれた画像を処理することによって基板１全表面１ａの欠陥の有無が検査される。また、基板１の原点座標を基に、欠陥の位置座標が取得される。
【００３３】
マクロ検査部４で検出され、その座標位置が取得された基板１の表面１ａの欠陥は、第１の基板搬送部９によりエア浮上ステージ部６の間隙部６ａと重なるように配置される。さらに、ミクロ検査部５の顕微鏡部５ａをこの欠陥の観察ができる位置に移動しつつ、エア浮上ステージ部６の下面側に配された透過照明部５ｃにより、間隙部６ａに位置する基板１に照明光が照射される。そして、顕微鏡部５ａによって欠陥の拡大画像による詳細観察が行われる。
【００３４】
詳細観察を終えた段階で、図２から図５に示すエア浮上ステージ部６の他方の端部６ｄに設けられた第２の基板搬送手段８の上下動駆動手段８ｅを上昇させ、回転体８ｂの一部をエア浮上ステージ部６の上面よりも上方に突出させる。ついで、第１の基板搬送手段９により保持された基板１の先端部１ｅが回転体８ｂ上に当接される位置まで搬送され、負圧開放を行い、吸着パッド９ｊと基板１とを解離させる。
【００３５】
最後に、第２の基板搬送手段８の回転軸８ａを回転駆動手段８ｃにより回転させ、基板１を基板検査装置Ａ外に搬出する。この一連の、基板１の搬入から検査、搬出までの操作が基板検査装置Ａで自動に行われる。
【００３６】
したがって、上記の構成からなる基板検査装置Ａにおいては、エア浮上ステージ部６の一方の端部６ｃ側に設けられた第２の基板搬送手段８によって、基板１をエア浮上ステージ部６内に搬入できる。このとき、第２の基板搬送手段８の回転体８ｂの一部がエア浮上ステージ部６の上面が形成する水平面よりも上方に突出されるよう上下動駆動手段８ｅによって調整できるため、エア浮上ステージ部６により浮上した基板１を第２の基板搬送手段８の回転体８ｂの摩擦力により拘束した状態で確実に基板１をエア浮上ステージ部６内に搬入することができる。また、エア浮上ステージ部６上に搬送された基板１は、孔６ｈから吐出される圧力気体によって浮上されるとともに、基板１の一辺１ｃが第１の基板搬送手段９の吸着パッド９ｊの摩擦力により拘束された状態で位置決め機構１０により基準位置に確実に位置決めすることができる。さらに、検査を終えた基板１は、第１の基板搬送手段９によって、エア浮上ステージ部６の他方の端部６ｄ側に設けられた第２の基板搬送手段８の回転体８ｂに当接する位置まで搬送することができ、この第２の基板搬送手段８によって、基板１を基板検査装置Ａ外に搬出することができる。このとき、上下動駆動手段８ｅによって回転体８ｂの位置を調整できるため、浮上した状態の基板１を確実に基板検査装置Ａ外に搬出することができる。
【００３７】
これにより、上記の構成からなる基板検査装置Ａにおいては、エア浮上ステージ部６の一方の端部６ｃから他方の端部６ｄまでの範囲内で、基板検査装置Ａ自ら基板１をエア浮上ステージ部６内に搬入およびエア浮上ステージ部６内から搬出させることができる。
【００３８】
よって、上記の構成からなる基板検査装置Ａによれば、検査ステージ３のエア浮上ステージ部６に第２の基板搬送手段８を一体に組み込み、第２の基板搬送手段８の回転体８ｂをエア浮上ステージ６の搬送面に対して出没可能に設けることにより、基板検査装置Ａとして、基板１を浮上させ水平支持するエア浮上ステージ部６の両側に、別途ローラコンベアステージを設ける必要がなく、基板検査装置Ａの小型化を図ることができる。また、基板検査装置Ａを製造ラインのローラコンベアの搬送路の途中に配置することが可能になるため、従来のように基板検査装置Ａから基板１を搬出する場合に使用される搬送ロボットを必要とせず、検査に要するスペースの省スペース化を図ることができる。さらに、基板検査装置Ａが小型化され、自ら基板１の搬入、搬出が可能とされることで、製造ラインの既存の搬送装置などの間に基板検査装置Ａをそのまま直列配置して使用することが可能となり、既存の搬送装置が占有するスペースで検査を行うことができる。
【００３９】
なお、本発明は上記の一実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、第２の基板搬送手段８は、エア浮上ステージ部６の一方の端部６ｃ側と他方の端部６ｄ側に設置されるものとしたが、この限りではなく、どちらか一方に設けられてもよく、その設置位置や設置数が限定されるものではない。また、回転軸８ａは３本設置されるものとしたが、少なくとも１本の回転軸８ａが設けられていればよいものである。さらに、回転軸８ａに環装される回転体８ｂは、プラスティック製のリング状に形成され、その外周面８ｇに適度な弾性と、適度な相対摩擦係数とを有するシリコンゴムなどが被覆されるものとしたが、基板１に当接され、基板１を搬送できるように、例えば外周面８ｇに凹凸形状が形成されていてもよいものであり、特に材質や外周面の形状が限定されるものではない。また、第２の基板搬送手段８は、回転駆動手段８ｃと上下動駆動手段８ｅとを１つの筐体８ｌに格納して駆動部８ｆとし、且つ回転軸８ａや支持フレーム部８ｈをこの駆動部８ｆにて支持するものとしたが、この限りではなく、回転体８ｂが回転され、この回転体８ｂに当接される基板１が搬送可能とされればよいものであるため、回転軸８ａの支持手法や回転駆動手段８ｃの設置位置が限定されるものではない。さらに、１つの第２の基板搬送手段８が備える３本の回転軸８ａには、それぞれ回転駆動手段８ｃが接続されているものとしたが、例えば図６に示すように１本の回転軸８ａに回転駆動手段を接続し、その他の回転軸８ａは例えば回転軸８ａにベルト８ｍなどを巻きまわし、１本の回転軸８ａの回転力を他の回転軸８ａに伝達させて全ての回転軸８ａを回転させてもよいものである。
【００４０】
また、前記エア浮上ステージ部６は、長方形状に形成されたエア浮上ブロック６ｅに限定されるものではなく、基板１を搬送する搬送面全体に基板１を浮上させる気体を吐出する孔６ｈを分散配置し、この搬送面に回転体８ｂを出没させる開口を複数形成し、この開口を通して回転体８ｂを前記搬送面より突出させるようにしてもよい。また、第２の基板搬送手段８の回転体８ｂは、その一部をエア浮上ステージ部６の基板１側の上面よりも上方に位置させる際に、上下動駆動手段８ｅによって回転体８ｂを上下させるものとしたが、この限りではなく、エア浮上ステージ部６の上面に対して相対的に上下動されて回転体８ｂの一部が上面よりも上方に突出されればよいため、回転体８ｂを固定し、エア浮上ステージ部６を上下動させてもよいものである。
【００４１】
さらに、本発明は、圧力気体により基板１の下面１ｂを押圧し基板１を浮上させる構成としたが、基板１を浮上できる静電浮上や超音波浮上など非接触による浮上手段であってもよく、この非接触で浮上した基板１を搬送する第１の基板搬送手段９もこれに限定されるものではない。
【００４２】
さらに、上記の一実施形態に示す基板検査装置Ａは、マクロ検査部４とミクロ検査部５とを備える構成としたが、この限りではなく、エア浮上ステージ部６内に第２の基板搬送手段８によって基板１を搬送可能とされればよいものであるため、例えばマクロ検査部４とミクロ検査部５のどちらか一方を備える基板検査装置に適用されてもよいものであるとともに、一実施形態に示したマクロ検査部４とミクロ検査部５の構成とは異なる構成の検査部やレーザリペアなどを備える基板検査装置に適用されてもよいものである。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板検査装置の側面図である。
【図２】図１に示した基板検査装置の基板搬送部を示す平面図である
【図３】図２に示した基板搬送部の正面図である。
【図４】図２に示した基板搬送部の左側面図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る基板検査装置の第２の基板搬送部を示した斜視図である。
【図６】本発明の基板検査装置の第２の基板搬送部の回転軸に回転駆動力を与える例を示す側面図である。
【符号の説明】
【００４４】
１    基板
１ｂ  基板の下面
３    検査ステージ
６    エア浮上ステージ部
６ｂ  精密浮上ブロック
６ｃ  ステージ部の一方の端部
６ｄ  ステージ部の他方の端部
６ｅ  エア浮上ブロック
６ｈ  孔
８    第２の基板搬送手段
８ａ  回転軸
８ｂ  回転体
８ｃ  回転駆動手段
９    第１の基板搬送手段
Ａ    基板検査装置
Ｏ１  軸線
【図１】
2007248291.tif 000003
【図２】
2007248291.tif 000004
【図３】
2007248291.tif 000005
【図４】
2007248291.tif 000006
【図５】
2007248291.tif 000007
【図６】
2007248291.tif 000008