(57)【要約】【課題】設備費用及び運用費用を抑制できる濃度調整システム及び濃度調整方法を提供する。【解決手段】濃度調整システム１０は、第１の閉空間１１、第２の閉空間１２、外気供給器１３、第１の外気供給路１４、第２の外気供給路１５、第１のダンパ２０、濃度センサ２３及び制御部２４を備える。第２の閉空間１２は、第１の閉空間１１と開閉自在に連通している。外気供給器１３は、第１の外気供給路１４を通して第１の閉空間１１に外気を供給し、第２の外気供給路１５を通して第２の閉空間１２に外気を供給する。第１のダンパ２０は、第１の閉空間１１と第２の閉空間１２とを連通させる開位置と、第１の閉空間１１と第２の閉空間１２とを連通させない閉位置との間で変位する。制御部２４は、第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度が所定値より高いと濃度センサ２３によって測定した場合に、第１のダンパ２０を開位置に変位させる。【選択図】図３
2007120922.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の閉空間と、
前記第１の閉空間と開閉自在に連通した第２の閉空間と、
前記第１の閉空間に外気を供給する第１の外気供給機構と、
前記第１の閉空間の空気を排出する第１の排出機構と、
前記第２の閉空間に外気を供給する第２の外気供給機構と、
前記第２の閉空間の空気を排出する第２の排出機構と、
前記第１の閉空間と前記第２の閉空間とを連通させる開位置と前記第１の閉空間と前記第２の閉空間とを連通させない閉位置との間で変位する開閉部材と、
前記第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度を測定する濃度センサと、
前記第１の閉空間の空気中における前記特定物質の濃度が所定値より高いと前記濃度センサによって測定された場合に、前記開閉部材を前記開位置に変位させる制御部と、を備えたことを特徴とする濃度調整システム。
【請求項２】
前記開閉部材が前記開位置にあるときに前記第１の閉空間の空気を前記第２の閉空間へ強制排気する排気機構をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の濃度調整システム。
【請求項３】
前記制御部は、前記第１の閉空間の空気中における前記特定物質の濃度が前記所定値より高いと前記濃度センサによって測定された場合に、前記第１の外気供給機構による前記第１の閉空間への外気の供給量を増加させるとともに、前記第２の外気供給機構による前記第２の閉空間への外気の供給量を減少させることを特徴とする請求項１又は２に記載の濃度調整システム。
【請求項４】
前記第１の外気供給機構による前記第１の閉空間への外気の供給の増加量と、前記第２の外気供給機構による前記第２の閉空間への外気の供給の減少量とが、略同じであることを特徴とする請求項３に記載の濃度調整システム。
【請求項５】
前記第１の閉空間及び前記第２の閉空間のそれぞれは、クリーンルームを含むことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の濃度調整システム。
【請求項６】
前記第１の閉空間はクリーンルームを含み、前記第２の閉空間は補機室を含むことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の濃度調整システム。
【請求項７】
前記第１の閉空間は第１の装置内に配置され、前記第２の閉空間は第２の装置内に配置されていることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の濃度調整システム。
【請求項８】
前記第１の閉空間及び前記第２の閉空間は、単一の第３の装置内に配置されていることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の濃度調整システム。
【請求項９】
外気を供給する第１の外気供給機構及び内部の空気を外部に排出する第１の排出機構を備えた第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度を測定する濃度測定工程と、
前記濃度測定工程における測定結果に基づいて前記第１の閉空間の空気中における前記特定物質の濃度が所定値より高いか否かを判定する判定工程と、
前記判定工程において前記第１の閉空間の空気中における前記特定物質の濃度が前記所定値より高いと判定された場合に、外気を供給する第２の外気供給機構及び内部の空気を外部に排出する第２の排出機構を備えるともに前記第１の閉空間と開閉自在に連通した第２の閉空間と前記第１の閉空間とを連通させる連通工程と、を備えたことを特徴とする濃度調整方法。
【請求項１０】
前記判定工程において前記第１の閉空間の空気中における前記特定物質の濃度が前記所定値より高いと判定された場合に、前記第１の閉空間の空気を前記第２の閉空間へ強制排気する排気工程を、さらに備えたことを特徴とする請求項９に記載の濃度調整方法。
【請求項１１】
前記判定工程において前記第１の閉空間の空気中における前記特定物質の濃度が前記所定値より高いと判定された場合に、前記第１の外気供給機構による前記第１の閉空間への外気の供給量を増加させるとともに、前記第２の外気供給機構による前記第２の閉空間への外気の供給量を減少させる外気供給量調整工程を、さらに備えたことを特徴とする請求項９又は１０に記載の濃度調整方法。
【請求項１２】
外気供給量調整工程では、前記第１の外気供給機構による前記第１の閉空間への外気の供給の増加量と、前記第２の外気供給機構による前記第２の閉空間への外気の供給の減少量とが、略同じであることを特徴とする請求項１１に記載の濃度調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、閉空間の空気中における特定物質の濃度を調整する濃度調整システム及び濃度調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、半導体製造工場では、半導体デバイスの歩留まりの向上を目的として、半導体製造装置が配置されたクリーンルーム等の閉空間の空気の温度、湿度及び清浄度の厳しい管理が行われている。
【０００３】
近年の半導体デバイスの微細化によって、形成される配線の幅及びチップサイズの縮小が進んでいる。これにともなって、クリーンルーム内の空気中におけるＦ−、Ｃｌ−、ＮＯ２−、ＮＯ３２−、ＮＨ３及び有機物等の特定物質が、半導体デバイスの電気特性に悪影響をより及ぼしやすくなっており、半導体デバイスの歩留まりの低下が顕在化している。
【０００４】
上述のような特定物質は、クリーンルーム内での作業者や、クリーンルーム内へ新規に搬入された物品等から発生する。クリーンルームには、空気中における特定物質の濃度が上昇した場合にその濃度を下げるための空調設備が必要とされる。そこで、クリーンルームの空気中における特定物質の濃度を低く維持するための設備費用や運用費用を抑制することが重要である。
【０００５】
図１及び図２は、従来の閉空間の空気中における特定物質の濃度調整システムの概略の構成を示す断面図である。
【０００６】
図１に示すように、従来の濃度調整システム１００は、第１の閉空間１０１と第２の閉空間１０２とを備えている。第１の閉空間１０１内には、半導体製造装置１０３Ａ，１０３Ｂ等が配置されるクリーンルーム１０３が設けられている。クリーンルーム１０３には、フィルタ１０４Ａ，１０４Ｂ，１０４Ｃによって清浄された空気が循環される。第２の閉空間１０２は、例えば半導体製造装置１０３Ａ，１０３Ｂの補機１０２Ａが配置された補機室であり、特定物質の濃度調整を行う必要性が低いため、第１の閉空間１０１と第２の閉空間１０２との間は、パネル１０５によって遮断されている（例えば、特許文献１参照。）。濃度調整システム１００では、第１の閉空間１０１と第２の閉空間１０２との間の気流の往来を遮断することで、閉空間毎に要求される仕様に応じた空調設備を設置及び運用し、これによって設備費用及び運用費用の抑制を図っている。
【０００７】
図２に示すように、他の従来の濃度調整システム１１０では、閉空間１１１内に、半導体製造装置１１２Ａ，１１２Ｂ等が配置されるクリーンルーム１１２が設けられている。クリーンルーム１１２の空気は、リターンチャンバ１１３に排出される。リターンチャンバ１１３の空気は、プレナムチャンバ１１４に送られ、フィルタ１１５Ａ，１１５Ｂ，１１５Ｃによって清浄されてクリーンルーム１１２に戻される。また、図示されていないが、平常時において、閉空間１１１内を循環する空気量に比べて少量の外気が、閉空間１１１内に供給されている。
【０００８】
濃度調整システム１１０では、リターンチャンバ１１３に濃度センサ１１６Ａが設けられ、クリーンルーム１１２から排出された空気中における特定物質の濃度が濃度センサ１１６Ａによって測定される。濃度調整システム１１０では、クリーンルーム１１２から排出された空気中における特定物質の濃度が高いことを濃度センサ１１６Ａによって検出すると、リターンチャンバ１１３の空気を、プレナムチャンバ１１４へ送らずに非常排気ダクト１１７から外部へ強制排気する（例えば、特許文献２参照。）。このとき、閉空間１１１内を循環している全ての空気が外部へ排気され、排気された空気量に応じた量の外気が閉空間１１１内に供給される。これによって、濃度調整システム１１０では、クリーンルーム１１２の空気中における特定物質の濃度を低く維持しようとしている。
【特許文献１】特開２０００−６５４０３公報
【特許文献２】特開平５−２２３３０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、従来の濃度調整システム１００のように、フィルタ１０４Ａ〜１０４Ｃで特定物質を漉し取るのみでは、クリーンルーム１１２内における特定物質の発生量が急激に上昇した場合、クリーンルーム１１２の空気中における特定物質の濃度を低く維持することができなかった。
【００１０】
また、従来の濃度調整システム１１０では、上述のように、クリーンルーム１１２内において特定物質の濃度が高まったことが濃度センサ１１６Ａによって検出されると、閉空間１１１内を循環している全ての空気が外部へ排気され、排気された空気量に応じた量の外気が閉空間１１１内に供給される。このときの閉空間１１１内への外気の供給量は、平常時の外気の供給量に比べて膨大な量となる。
【００１１】
このため、濃度調整システム１１０は、平常時に必要な量に比べて膨大な量の外気を供給できるだけの余剰能力を持った外気の供給器を備える必要がある。したがって、濃度調整システム１１０では、外気の供給器の設置費用及び運用費用が高騰する。
【００１２】
この発明の目的は、設備費用及び運用費用を抑制できる濃度調整システム及び濃度調整方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
この発明の濃度調整システムは、上述の課題を解決するために以下のように構成される。
【００１４】
（１）この発明の濃度調整システムは、第１の閉空間と、第２の閉空間と、第１の外気供給機構と、第１の排出機構と、第２の外気供給機構と、第２の排出機構と、開閉部材と、濃度センサと、制御部と、を備えている。第２の閉空間は、第１の閉空間と開閉自在に連通している。第１の外気供給機構は、第１の閉空間に外気を供給する。第１の排出機構は、第１の閉空間の空気を排出する。第２の外気供給機構は、第２の閉空間に外気を供給する。第２の排出機構は、第２の閉空間の空気を排出する。開閉部材は、第１の閉空間と第２の閉空間とを連通させる開位置と第１の閉空間と第２の閉空間とを連通させない閉位置との間で変位する。濃度センサは、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度を測定する。制御部は、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が所定値より高いと濃度センサによって測定した場合に、開閉部材を開位置に変位させる。
【００１５】
この構成においては、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が所定値より高いと濃度センサによって測定された場合、開閉部材が開位置に変位し、第１の閉空間の空気が第２の閉空間へ流動する。このとき、第１の閉空間へは第１の外気供給機構によって外気が供給される。また、第２の閉空間にも第２の外気供給機構によって外気が供給される。第１の閉空間への外気の供給量と第２の閉空間への外気の供給量とを調整することで、第１の閉空間及び第２の閉空間への外気の供給量の総量を大幅に増加させることなく、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が低く維持される。
【００１６】
なお、この明細書において、閉空間とは、少なくとも一対の壁で挟まれた空間であればよく、密閉空間を意味するものではない。
【００１７】
（２）この発明の濃度調整システムは、排気機構をさらに備えている。排気機構は、開閉部材が開位置にあるときに第１の閉空間の空気を第２の閉空間へ強制排気する。
【００１８】
この構成においては、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が高まって第１の閉空間と第２の閉空間とが連通されたときに、第１の閉空間の空気が第２の閉空間へ強制排気される。このため、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が効率よく低下する。
【００１９】
（３）この発明の濃度調整システムの制御部は、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が所定値より高いと濃度センサによって測定された場合に、第１の外気供給機構による第１の閉空間への外気の供給量を増加させるとともに、第２の外気供給機構による第２の閉空間への外気の供給量を減少させる。
【００２０】
この構成においては、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が所定値より高いと濃度センサによって測定された場合に、第１の外気供給機構による第１の閉空間への外気の供給量を増加させるとともに、第２の外気供給機構による第２の閉空間への外気の供給量を減少させることで、第１の閉空間及び第２の閉空間への外気の供給量の総量を大幅に増加させることなく、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が低く維持される。
【００２１】
（４）この発明の濃度調整システムでは、第１の外気供給機構による第１の閉空間への外気の供給の増加量と、第２の外気供給機構による第２の閉空間への外気の供給の減少量とを、略同じにしてもよい。
【００２２】
この構成においては、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が所定値より高いと濃度センサによって測定された場合における、第１の閉空間への外気の供給の増加量と第２の閉空間への外気の供給の減少量とを略同じにすることで、第１の閉空間及び第２の閉空間への外気の供給量の総量を増加させることなく、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が低く維持される。
【発明の効果】
【００２３】
この発明によれば、以下の効果を奏することができる。
【００２４】
（１）第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が所定値より高いと濃度センサによって測定された場合に、第１の閉空間の空気を第２の閉空間へ流動させることで、第１の閉空間及び第２の閉空間への外気の供給量の総量を大幅に増加させることなく、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度を低く維持できる。このため、外気を供給するための設備費用及び運用費用を抑制することができる。
【００２５】
（２）第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が高まって第１の閉空間と第２の閉空間とが連通されたときに、第１の閉空間の空気を第２の閉空間へ強制排気することで、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度を効率よく低下させることができる。
【００２６】
（３）第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が所定値より高いと濃度センサによって測定された場合に、第１の外気供給機構による第１の閉空間への外気の供給量を増加させるとともに、第２の外気供給機構による第２の閉空間への外気の供給量を減少させることで、第１の閉空間及び第２の閉空間への外気の供給量の総量を大幅に増加させることなく、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度を低く維持できる。このため、外気を供給するための設備費用及び運用費用を抑制することができる。
【００２７】
（４）第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が所定値より高いと濃度センサによって測定された場合における、第１の閉空間への外気の供給の増加量と第２の閉空間への外気の供給の減少量とを略同じにすることで、第１の閉空間及び第２の閉空間への外気の供給量の総量を増加させることなく、第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度を低く維持できる。このため、外気を供給するための設備費用及び運用費用を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下に、この発明を実施するための最良の形態について、図面に基づいて説明する。図３は、この発明の実施形態に係る濃度調整システム１０の概略の構成を示す断面図である。
【００２９】
濃度調整システム１０は、第１の閉空間１１、第２の閉空間１２、外気供給器１３、第１の外気供給路１４、第２の外気供給路１５、ケミカルフィルタ１６、第１の排出器１７、第２の排出器１８、流路１９、第１のダンパ２０、第２のダンパ２１、第３のダンパ２２、濃度センサ２３、及び、制御部２４等を備えている。
【００３０】
外気供給器１３及び第１の外気供給路１４は、この発明の第１の外気供給機構に相当する。外気供給器１３及び第２の外気供給路１５は、この発明の第２の外気供給機構に相当する。第１の排出器１７は、この発明の第１の排出機構に相当する。第２の排出器１８は、この発明の第２の排出機構に相当する。第１のダンパ２０は、この発明の開閉部材に相当する。
【００３１】
この実施形態では、第１の閉空間１１と第２の閉空間１２とは互いに上下階の関係に配置され、第１の閉空間１１は２階に配置され、第２の閉空間は２階に配置されている。第１の閉空間１１と第２の閉空間１２とは、パネル２５によって遮断されるとともに、流路１９によって連通されている。流路１９は、第１のダンパ２０によって開閉自在にされている。第１のダンパ２０は、第１の閉空間１１と第２の閉空間１２とを連通する開位置と、第１の閉空間１１と第２の閉空間１２とを連通させない閉位置との間で変位自在に形成されている。第１のダンパ２０の開度によって、流路１９を流れる空気の流量が調整される。
【００３２】
第１の閉空間１１は、内部にクリーンルーム２６を有する。クリーンルーム２６内には、例えば半導体製造装置３１Ａ，３１Ｂが配置されている。この実施形態では、半導体製造装置３１Ｂは、第１の排出器１７を通じてクリーンルーム２６内の空気を外部へ排出する。
【００３３】
クリーンルーム２６の床は例えば、グレーティングパネルを敷設したフリーアクセスフロアで形成されている。クリーンルーム２６の床下にはリターンチャンバ２７が設けられ、クリーンルーム２６の天井裏にはプレナムチャンバ２８が設けられている。リターンチャンバ２７とプレナムチャンバ２８とは、側壁内に設けられたリターンダクト２９で連通されている。また、クリーンルーム２６の天井には、パーティクルフィルタ３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃが設けられている。
【００３４】
クリーンルーム２６内の空気は、リターンチャンバ２７に排出され、リターンダクト２９、プレナムチャンバ２８、パーティクルフィルタ３０Ａ〜３０Ｃの順に経由して、クリーンルーム２６に戻される。このようにして第１の閉空間１１内を循環する空気は、パーティクルフィルタ３０Ａ〜３０Ｃによって清浄される。
【００３５】
リターンチャンバ２７には、Ｆ−、Ｃｌ−、ＮＯ２−、ＮＯ３２−、ＮＨ３及び有機物等の特定物質の濃度を測定する濃度センサ２３が配置されている。濃度センサ２３は、空気中における特定物質の濃度を測定し、それによって得られた濃度データを制御部２４に出力する。
【００３６】
この実施形態では、第２の閉空間１２は、補機室である。第２の閉空間１２には、クリーンルーム２６内に配置された半導体製造装置３１Ａ，３１Ｂ等の補機３２、及び、制御部２４が配置されている。補機３２は、第２の排出器１８を通じて第２の閉空間１２内の空気を外部へ排出する。第１の閉空間１１には、高度な空調管理が要求されるのに対して、第２の閉空間１２には、高度な空調管理は要求されない。
【００３７】
第１の外気供給路１４によって、外気供給器１３と第１の閉空間１１のプレナムチャンバ２８とが連通されている。第１の外気供給路１４の経路中に、第２のダンパ２１及びケミカルフィルタ１６が配置されている。外気供給器１３は、第１の外気供給路１４及びケミカルフィルタ１６を経由して第１の閉空間１１へ外気を供給する。外気は、ケミカルフィルタ１６によって清浄される。外気供給器１３から第１の閉空間１１への外気の供給量は、第２のダンパ２１の開度によって調整される。
【００３８】
第２の外気供給路１５によって、外気供給器１３と第２の閉空間１２とが連通されている。第２の外気供給路１５の経路中に、第３のダンパ２２が配置されている。外気供給器１３は、第２の外気供給路１５を経由して第２の閉空間１２へ外気を供給する。外気供給器１３から第２の閉空間１２への外気の供給量は、第３のダンパ２２の開度によって調整される。
【００３９】
図４に示すように、制御部２４は、濃度センサ２３から入力された濃度データに基づいて、第１のダンパ２０、第２のダンパ２１及び第３のダンパ２２の開度を調整する。
【００４０】
図５は、濃度調整システム１０の制御部２４の処理手順の一部を示すフローチャートである。
【００４１】
制御部２４は、クリーンルーム２６から排気された空気中における特定物質の濃度を濃度センサ２３で測定することで、濃度データを取得する（Ｓ１）。
【００４２】
制御部２４は、第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度が上述の所定値以下であるか否かを濃度データに基づいて判定する（Ｓ２）。
【００４３】
制御部２４は、第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度が上述の所定値以下である平常時に、第１のダンパ２０を閉位置に配置する（Ｓ３）。
【００４４】
制御部２４は、第２のダンパ２１及び第３のダンパ２２のそれぞれを、所定の開度に配置する。平常時における第２のダンパ２１の開度は、クリーンルーム２６内に配置された半導体製造装置３１Ｂの外部への空気の排出量に応じて決定される。平常時における第３のダンパ２２の開度は、第２の閉空間１２内に配置された補機３２の外部への空気の排出量に応じて決定される。
【００４５】
クリーンルーム２６内の特定物質の量は、クリーンルーム２６内の人員、及び、クリーンルーム２６に新規に搬入された物品からの発生、並びに、半導体製造装置３１Ａ，３１Ｂのメンテナンス等による特定物質の発生によって、増加する。また、クリーンルーム２６内の特定物質の量は、パーティクルフィルタ３０Ａ〜３０Ｃによる空気の清浄、外気供給器１３による第１の閉空間１１への外気の供給、及び、第１の排出器１７からの空気の排出によって、減少する。単位時間あたりの特定物質の増加量と減少量とが同じであるとき、クリーンルーム２６の空気中における特定物質の濃度は、平衡状態となる。
【００４６】
他方、クリーンルーム２６内における単位時間あたりの特定物質の増加量が増えた場合は、クリーンルーム２６内の空気中における特定物質の濃度が高くなる。クリーンルーム２６から排気された空気中における特定物質の濃度は、濃度センサ２３によって測定され、その濃度データが制御部２４に出力される。
【００４７】
制御部２４は、濃度データに基づいて、クリーンルーム２６から排気された空気中における特定物質の濃度が所定値より高くなったと判定した場合（Ｓ２）、第１のダンパ２０を開位置に変位させることで、リターンチャンバ２７を流れる空気を、流路１９を経由して第２の閉空間１２へ流動させる（Ｓ５）。これによって、第１の兵空間１１の空気中の特定物質の一部が、第２の閉空間１２へ逃がされる。
【００４８】
また、制御部２４は、第２のダンパ２１の開度を上げることで、第１の閉空間１１への外気の供給量を増やし、第３のダンパ２２の開度を下げることで、第２の閉空間１２への外気の供給量を減らす（Ｓ６）。
【００４９】
これによって、第１の閉空間１１では、特定物質の濃度が高い空気が第２の閉空間１２へ排気されるとともに、清浄な空気の供給量が増加するので、空気中における特定物質の濃度が低下する。
【００５０】
このとき、第１の閉空間１１への外気の供給の増加量と、第２の閉空間１２への外気の供給の減少量とを略同じにすることで、外気供給器１３による外気の供給の総量は変わらない。このため、外気供給器１３に膨大な余剰能力を持たせる必要がない。
【００５１】
クリーンルーム２６内における単位時間あたりの特定物質の発生量が減少し、クリーンルーム２６から排気された空気中における特定物質の濃度が所定値以下であると制御部２４が判定した場合（Ｓ２）、制御部２４は、第１のダンパ２０を閉位置に変位させるとともに（Ｓ３）、第２のダンパ２１及び第３のダンパ２２を、平常時の開度に戻す（Ｓ４）。
【００５２】
図６は、上述の実施形態に係る濃度調整システム１０における第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度と、第１の閉空間１１の内部で発生した特定物質の濃度（以下、内部発生濃度という。）との関係を示す説明図である。
【００５３】
図６において、実線４１は、この実施形態に係る濃度調整システム１０によって空調された場合の第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度を示す。破線４２は、比較例に係る従来の濃度調整システムによって空調された場合の第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度を示す。２点鎖線４３は、第１の閉空間の空気中における特定物質の許容濃度を示す。１点鎖線４４は、内部発生濃度を示す。
【００５４】
ここで、第１の閉空間１１の容積と第２の閉空間の容積とは同一で、その容積は２００００ｍ３、第１の閉空間１１内を循環する空気量は３０００００ｍ３／時間、第１の閉空間１１及び第２の閉空間１２のそれぞれへの外気の供給量は３００００ｍ３／時間である。
【００５５】
図６は、平常時における特定物質の濃度が１０μｇ／ｍ３である第１の閉空間１１内において、内部発生濃度が１μｇ／ｍ３から２μｇ／ｍ３へと上昇し、所定時間経過後に元の１μｇ／ｍ３に減少した場合について記載している。
【００５６】
比較例に係る従来の濃度調整システムによる場合を示す破線４２は、内部発生濃度（１点鎖線４４参照）の上昇に応じて、第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度は２０μｇ／ｍ３へと上昇している。その後、内部発生濃度の下降によって、第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度は、元の１０μg／ｍ３へと緩やかに戻る。
【００５７】
これに対して、この実施形態に係る濃度調整システム１０（実線４１参照）では、制御部２４は、濃度センサ２３によって取得した濃度データに基づいて第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度が許容濃度４３（予め設定された上述の所定値）を超えたと判定するとすぐに、以下の処理を行う。制御部２４は、第１のダンパ２０の開度を調整することで、第１の閉空間１１から第２の閉空間１２へ３００００ｍ３／時間の空気を流動させるとともに、第２のダンパ２１の開度を調整することで、第１の閉空間１１への外気の供給量を３００００ｍ３／時間から６００００ｍ３／時間へと増加させる。
【００５８】
これによって、濃度調整システム１０によって空調された場合の第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度の上昇幅（約２μg／ｍ３）は、従来の濃度調整システムによって空調された第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度の上昇幅（約１０μg／ｍ３）に比べて、約５分の１に抑制される。
【００５９】
濃度調整システム１０によれば、内部発生濃度が上昇したときに第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度を急速に下げることができる。この実施形態では、比較例に係る濃度調整システムによる場合に比べて約３分の１の時間に短縮できる。このため、濃度調整システム１０によって空調した場合、第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度を、許容濃度４３をほとんど超えることがないように制御できる。
【００６０】
第２の閉空間１２への外気の供給量を、平常時の３００００ｍ３／時間から０ｍ３／時間へと減少させることで、外気供給器１３による外気の供給量の総量の増加を防ぐことができる。このため、外気供給器１３として、高い供給能力を有する機器を備える必要がないので、外気を供給するための設備費用及び運用費用を抑制することができる。
【００６１】
なお、流路１９に、第１の閉空間１１の空気を第２の閉空間１２へ強制排気するファン３３を設けてもよい。ファン３３として、排気する空気量を調整可能なものを採用することが望ましい。これによれば、第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度が高まって第１の閉空間１１と第２の閉空間１２とが連通されたときに、第１の閉空間１１の空気を第２の閉空間１２へ強制排気することで、第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度を効率よく低下させることができる。
【００６２】
また、上述の実施形態では、１個の外気供給器１３によって、第１の閉空間１１及び第２の閉空間１２のそれぞれへ外気を供給しているが、第１の閉空間１１に外気を供給する外気供給器と第２の閉空間１２へ外気を供給する外気供給器とを別個に設けてもよい。
【００６３】
さらに、上述の実施形態では、第１の閉空間１１と第２の閉空間１２とが上下に配置されているが、第１の閉空間１１と第２の閉空間１２とが同一階層に配置されている場合についてもこの発明を適用できる。
【００６４】
また、上述の実施形態では第２の閉空間１２を補機室としているが、第２の閉空間１２内にクリーンルームが配置されている場合でも、第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度を低く維持することができる。
【００６５】
さらに、第１の閉空間１１が複数設けられ、それぞれの第１の閉空間１１が第２の閉空間に開閉自在に連通されている場合でも、第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度を効率よく低下させることができるので外気を供給するための設備費用及び運用費用を抑制でいるというこの発明の効果は発揮される。
【００６６】
また、第２の閉空間が複数設けられ、第１の閉空間１１が複数の第２の閉空間１２のそれぞれに開閉自在に連通されている場合でも、上述のようなこの発明の効果は発揮される。
【００６７】
さらに、クリーンルーム２６内の空間は複数のエリアに区分されていてもよく、第２の閉空間１２内の空間も複数のエリアに区分されていてもよい。
【００６８】
また、上述の実施形態では、第１の閉空間１１の空気中における特定物質の濃度を所定値以下に低く維持する場合について記載したが、濃度調整システム１０によれば、第１の閉空間１１内の空気の温度、湿度、又は、清浄度等を調整することもできる。この場合にも、外気を供給するための設備費用及び運用費用を抑制することができる。
【００６９】
図７は、他の実施形態に係る濃度調整システム１０Ａの概略の構成を示す断面図である。濃度調整システム１０Ａは、第１の装置５１内の空間が第１の閉空間１１Ａであり、第２の装置５２内の空間が第２の閉空間１２Ａであることを除いて、濃度調整システム１０と同様に構成されている。この実施形態では、第１の装置５１と第２の装置５２とは別個の装置である。第１の装置５１及び第２の装置５２のそれぞれは例えば、物品の洗浄、加工、熱処理、又は、物品の備える特性値の測定を行う装置である。
【００７０】
濃度調整システム１０Ａは、第１の装置５１内に設けられた第１の閉空間１１Ａ、第２の装置５２内に設けられた第２の閉空間１２Ａ、外気供給器１３、第１の外気供給路１４、第２の外気供給路１５、ケミカルフィルタ１６、第１の排出器１７、第２の排出器１８、流路１９、第１のダンパ２０、第２のダンパ２１、第３のダンパ２２、濃度センサ２３、及び、図示されていない制御部等を備えている。
【００７１】
濃度調整システム１０Ａでは、平常時は、第１のダンパ２０は閉位置に配置され、第１の閉空間１１Ａと第２の閉空間１２Ａとは連通されていない。
【００７２】
制御部は、濃度センサ２３によって第１の閉空間１１Ａ内の空気中における特定物質の濃度を測定して濃度データを取得する。制御部は、濃度データに基づいて、第１の閉空間１１Ａ内の空気中における特定物質の濃度が予め設定した所定値より高くなったと判定した場合、次の処理を行う。制御部は、ダンパ２０を開位置に変位させることで第１の閉空間１１Ａと第２の閉空間１２Ａとを連通させて第１の閉空間１１Ａの空気を第２の閉空間１２Ａへ排気し、第２のダンパ１４の開度を大きくすることで第１の閉空間１１Ａへの外気の供給量を増加させるとともに、第３のダンパ１５の開度を小さくすることで第２の閉空間１２Ａへの外気の供給量を減少させる。
【００７３】
濃度調整システム１０Ａによれば、濃度調整システム１０と同様に、外気供給器１３として高い供給能力を有する機器を備える必要がないので、外気を供給するための設備費用及び運用費用を抑制することができる。
【００７４】
図８は、さらに他の実施形態に係る濃度調整システム１０Ｂの概略の構成を示す断面図である。濃度調整システム１０Ｂは、第１の閉空間１１Ｂ及び第２の閉空間１２Ｂがともに、単一の第３の装置５３内に配置された空間であることを除いて、濃度調整システム１０と同様に構成されている。
【００７５】
濃度調整システム１０Ｂは、第１の閉空間１１Ｂ、第２の閉空間１２Ｂ、外気供給器１３、第１の外気供給路１４、第２の外気供給路１５、ケミカルフィルタ１６、第１の排出器１７、第２の排出器１８、流路１９、第１のダンパ２０、第２のダンパ２１、第３のダンパ２２、濃度センサ２３、及び、図示されていない制御部等を備えている。
【００７６】
上述のように、第１の閉空間１１Ｂ及び第２の閉空間１２Ｂはともに、単一の第３の装置５３内に配置された空間である。
【００７７】
濃度調整システム１０Ｂでは、平常時は、第１のダンパ２０は閉位置に配置され、第１の閉空間１１Ｂと第２の閉空間１２Ｂとは連通されていない。
【００７８】
制御部は、濃度センサ２３によって第１の閉空間１１Ｂ内の空気中における特定物質の濃度を測定して濃度データを取得する。制御部は、濃度データに基づいて、第１の閉空間１１Ｂ内の空気中における特定物質の濃度が予め設定した所定値より高くなったと判定した場合、次の処理を行う。制御部は、ダンパ２０を開位置に変位させることで第１の閉空間１１Ｂと第２の閉空間１２Ｂとを連通させて第１の閉空間１１Ｂの空気を第２の閉空間１２Ｂへ排気し、第２のダンパ１４の開度を大きくすることで第１の閉空間１１Ｂへの外気の供給量を増加させるとともに、第３のダンパ１５の開度を小さくすることで第２の閉空間１２Ｂへの外気の供給量を減少させる。
【００７９】
濃度調整システム１０Ｂによれば、濃度調整システム１０と同様に、外気供給器１３として高い供給能力を有する機器を備える必要がないので、外気を供給するための設備費用及び運用費用を抑制することができる。
【００８０】
最後に、上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】閉空間の空気中における特定物質の従来の濃度調整システムの概略の構成を示す断面図である。
【図２】閉空間の空気中における特定物質の他の従来の濃度調整システムの概略の構成を示す断面図である。
【図３】この発明の実施形態に係る濃度調整システムの概略の構成を示す断面図である。
【図４】濃度調整システムの概略の構成を示すブロック図である。
【図５】濃度調整システムの制御部の処理手順の一部を示すフローチャートである。
【図６】濃度調整システムにおける第１の閉空間の空気中における特定物質の濃度と、第１の閉空間の内部で発生した特定物質の濃度（内部発生濃度）との関係を示す説明図である。
【図７】他の実施形態に係る濃度調整システムの概略の構成を示す断面図である。
【図８】さらに他の実施形態に係る濃度調整システムの概略の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００８２】
１０，１０Ａ，１０Ｂ  濃度調整システム
１１，１１Ａ，１１Ｂ  第１の閉空間
１２，１２Ａ，１２Ｂ  第２の閉空間
１３  外気供給器
１４  第１の外気供給路
１５  第２の外気供給路
１６  ケミカルフィルタ
１７  第１の排出器（第１の排出機構）
１８  第２の排出器（第２の排出機構）
１９  流路
２０  第１のダンパ（開閉部材）
２１  第２のダンパ
２２  第３のダンパ
２３  濃度センサ
２４  制御部
２５  パネル
２６  クリーンルーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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