(57)【要約】【課題】十分な強度、打抜き性、可撓性を有し、高温・高湿度環境下で寸法変化がなく高い光学性能を有し、かつ液晶表示装置やタッチパネル等に好適に利用できること。【解決手段】偏光板は、偏光子と、偏光子の一方の面に設けられる保護フィルムと、偏光子の他方の面に設けられる光学異方体とを備える。保護フィルムは、熱可塑性樹脂からなる複数の層を備え、その総厚みが２００μｍ以下であり、その透湿度が１０〜２００ｇ／ｍ２・２４ｈである。光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｅ（５５０）と波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００７以下である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子と、この偏光子の一方の面に設けられる保護フィルムと、前記偏光子の他方の面に設けられる光学異方体とを備える偏光板であって、
前記保護フィルムは、熱可塑性樹脂からなる複数の層を備えるとともに、その総厚みが２００μｍ以下であり、かつその透湿度が１０〜２００ｇ／ｍ２・２４ｈであり、
前記光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｅ（５５０）と波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００７以下であることを特徴とする偏光板。
【請求項２】
請求項１に記載の偏光板において、
前記保護フィルムは、共押出成形法により得られたものであることを特徴とする偏光板。
【請求項３】
請求項１または２に記載の偏光板において、
前記保護フィルムの表面は、線状凹部または線状凸部が実質的に形成されていない平坦な面であることを特徴とする偏光板。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板において、
前記保護フィルムは、その少なくとも１層の引張弾性率が３．０ＧＰａ以上であることを特徴とする偏光板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の偏光板において、
前記保護フィルムにおける前記偏光子とは反対側の面に設けられる反射防止層をさらに備えることを特徴とする偏光板。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の偏光板において、
前記光学異方体は、固有複屈折が負の材料により構成された層を含むことを特徴とする偏光板。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の偏光板において、
前記光学異方体は、１／４波長板であることを特徴とする円偏光板。
【請求項８】
反射板と、液晶セルと、出射側偏光板とをこの順に備える反射型の液晶表示装置であって、前記出射側偏光板が請求項７に記載の円偏光板であり、当該円偏光板の１／４波長板が、当該円偏光板の偏光子よりも前記液晶セル側に位置することを特徴とする反射型の液晶表示装置。
【請求項９】
入射側偏光板と、半透過型の液晶セルと、出射側偏光板とをこの順に備える半透過型の液晶表示装置であって、
前記入射側偏光板および出射側偏光板の少なくともいずれかの偏光板が請求項７に記載の円偏光板であり、当該円偏光板の１／４波長板が、当該円偏光板の偏光子よりも前記液晶セル側に位置することを特徴とする半透過型の液晶表示装置。
【請求項１０】
表示装置の表面に設けられるタッチパネルであって、
前記表面に設けられる第１透明基板と、この第１透明基板に間隔をあけて対向配置される第２透明基板とを備え、
前記第２透明基板の前記第１透明基板とは反対側の表面に設けられる請求項７に記載の円偏光板を備え、当該円偏光板の１／４波長板が、当該円偏光板の偏光子よりも前記第２基板側に位置することを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板に関し、特に、十分な表面強度を有し、高温・高湿度環境下においても寸法変化がなく高い光学性能を奏することができ、かつ液晶表示装置およびタッチパネルに好適に用いることができる偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置には、外光を利用することにより低消費電力を達成できる点で、反射型の液晶表示装置や、半透過型の液晶表示装置が用いられている。例えば、反射型の液晶表示装置は、反射板と、液晶セルと、出射側偏光板とをこの順に備えて構成され、出射側偏光板の液晶セル側には、円偏光と直線偏光とを変換可能な１／４波長板（例えば、１／２波長板と１／４波長板とを張り合わせた広帯域１／４波長板）等の光学異方体が設けられている。
【０００３】
ところで、前記偏光板は、偏光子と、偏光子の一方の面に設けられる第１の保護フィルムと、偏光子の他方の面に設けられる第２の保護フィルムとを備えて構成されている。各保護フィルムには、透明性に優れる、低複屈折性などの点で、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）が広く用いられている。
【０００４】
さらに、近年では、偏光板の液晶セル側に設けられる保護フィルムとしては、保護フィルムとしての機能に加えて前記光学異方体としての機能を併せ持ったフィルムを用いることにより、部材点数を減少させて装置の小型・軽量化を図ることが試みられている。例えば、特許文献１には、第１の保護フィルムに３層構成のＴＡＣフィルムを用い、第２の保護フィルムに光学異方体を用いた偏光板が提案されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１５６６１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に示すように、保護フィルムとしてＴＡＣフィルムを用いた場合には、その透湿度が高いことから、例えば高温・高湿度環境下では吸湿等によって寸法変化が生じ得る。このため、ＴＡＣフィルムの寸法変化により生じる応力によって光学異方体に新たな位相差が発現して、十分な光学補償機能を発揮できず、いわゆる額縁故障が生じるという問題があった。特に、偏光板の寸法が大きくなるほど前記問題が顕著になるため、ディスプレイの大型化・高精細化への障害となっていた。従って、高温・高湿度環境下でも寸法変化が生じず高い光学性能を有し、かつ、反射型もしくは半透過型の液晶表示装置に好適な偏光板が求められている。なお、このような問題は、表示装置の表面に設けられるタッチパネルにおいても同様であった。
【０００７】
本発明の目的は、十分な強度、打抜き性、可撓性を奏することができるとともに、高温・高湿度環境下においても寸法変化がなく高い光学性能を奏することができ、かつ反射型もしくは半透過型の液晶表示装置およびタッチパネルに好適に用いることができる偏光板を提供することにある。さらに、本発明の他の目的は、この偏光板を備え、光学性能の高い反射型もしくは半透過型の液晶表示装置またはタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するために、本発明は、偏光子と、この偏光子の一方の面に設けられる保護フィルムと、前記偏光子の他方の面に設けられる光学異方体とを備える偏光板であって、前記保護フィルムは、熱可塑性樹脂からなる複数の層を備えるとともに、その総厚みが２００μｍ以下であり、かつその透湿度が１０〜２００ｇ／ｍ２・２４ｈであり、前記光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｅ（５５０）と波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００７以下であることを特徴とする。
【０００９】
本発明の円偏光板は、前記偏光板において、前記光学異方体が１／４波長板であることを特徴とする。
【００１０】
本発明は、反射板と、液晶セルと、出射側偏光板とをこの順に備える反射型の液晶表示装置であって、前記出射側偏光板が前記円偏光板であり、当該円偏光板の１／４波長板が、当該円偏光板の偏光子よりも前記液晶セル側に位置することを特徴とする
【００１１】
本発明は、入射側偏光板と、半透過型の液晶セルと、出射側偏光板とをこの順に備える半透過型の液晶表示装置であって、前記入射側偏光板および出射側偏光板の少なくともいずれかの偏光板が前記円偏光板であり、当該円偏光板の１／４波長板が、当該円偏光板の偏光子よりも前記液晶セル側に位置することを特徴とする。
【００１２】
本発明は、表示装置の表面に設けられるタッチパネルであって、前記表面に設けられる第１透明基板と、この第１透明基板に間隔をあけて対向配置される第２透明基板とを備え、前記第２透明基板の前記第１透明基板とは反対側の表面に設けられる前記円偏光板を備え、当該円偏光板の１／４波長板が、当該円偏光板の偏光子よりも前記第２基板側に位置することを特徴とする。このようなタッチパネルに用いられる偏光板は反射防止用途などに用いられる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、十分な強度、打抜き性、可撓性を奏することができ、高温・高湿度環境下においても寸法変化がなく高い光学性能を奏することができ、かつ反射型もしくは半透過型の液晶表示装置およびタッチパネルに好適に用いることができるという効果がある。このため、このような偏光板を用いることにより、視認性に優れた反射型もしくは半透過型の液晶表示装置およびタッチパネルを提供できるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の偏光板は、偏光子と、この偏光子の一方の面に設けられる保護フィルムと、前記偏光子の他方の面に設けられる光学異方体とを備えている。
【００１５】
＜偏光子＞
本発明に用いる偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素もしくは二色性染料を吸着させた後、ホウ酸浴中で一軸延伸することによって得られるもの、またはポリビニルアルコールフィルムにヨウ素もしくは二色性染料を吸着させ延伸し、さらに分子鎖中のポリビニルアルコール単位の一部をポリビニレン単位に変性することによって得られるものなどが挙げることができる。また、偏光子としては、グリッド偏光子、多層偏光子、およびコレステリック液晶偏光子などの偏光を反射光と透過光に分離する機能を有する偏光子を挙げることもできる。この中でも、偏光子としては、ポリビニルアルコールを含んでなるものが好ましい。偏光子の偏光度は、好ましくは９８％以上、より好ましくは９９％以上である。偏光子の厚み（平均厚み）は、好ましくは５μｍ〜８０μｍである。
【００１６】
＜保護フィルム＞
本発明において、保護フィルムは、熱可塑性樹脂からなる層を複数備え、その総厚みが２００μｍ以下であり、かつその透湿度が１０〜２００ｇ／ｍ２・２４ｈである。このような構成とすることにより、当該保護フィルムを用いた偏光板において、高温・高湿度環境下でも吸湿等による寸法変化がなく、十分な光学性能を発揮できる。
【００１７】
このような保護フィルムとしては、例えば、透湿度の高い層と透湿度の低い層とを積層した積層体等とすることができる。このような積層体としては、例えば、複数の層のうちの少なくとも１層が親水性基を有する高分子化合物を含んでなる親水性樹脂層であり、親水性樹脂層以外の他の層が他の熱可塑性樹脂からなる層の構成とすることができる。このような積層体とすることにより、硬度や可撓性等の特性を十分に発揮できる。また、積層体とすることにより、偏光板を所定形状に打抜く際に、保護フィルムの端面に剥れ等が生じず、十分な打抜き性を奏することができる利点がある。
【００１８】
（親水性樹脂層）
前記親水性樹脂層を構成する高分子化合物の親水性基としては、親水性や水分散性機能を有する官能基であればよく、例えば、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、エステル基、アミド基、アミノ基、水酸基、グリシジル基、およびアセチル基などを挙げることができる。この中でも、親水性基としては、水酸基が好ましい。
【００１９】
親水性基を有する高分子化合物としては、例えば、親水性セルロース誘導体（メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、およびヒドロキシセルロース等）、ポリビニルアルコール誘導体（ポリビニルアルコール、酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリビニルホマール、およびポリビニルベンザール等）、天然高分子化合物（ゼラチン、カゼイン、およびアラビアゴム等）、親水性ポリエステル誘導体（部分的にスルホン化されたポリエチレンテレフタレート等）、およびポリビニル誘導体（ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、およびポリビニルピラゾール等）を挙げることができる。これらの親水性高分子化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。この中でも、親水性高分子化合物としては、セルロース誘導体が好ましい。
【００２０】
セルロース誘導体としては、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、およびセルロースエーテル類などを挙げることができる。セルロース誘導体は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせてもよい。
【００２１】
セルロースエステル類としては、有機酸エステル類、無機酸エステル類、および有機酸と無機酸との混合酸エステル類を挙げることができる。有機酸エステル類としては、例えば、脂肪族有機酸エステル（セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースＣ２−Ｃ６アルキルカルボン酸エステル、アセチルアルキルセルロースなどのアルキルセルロースエステル、ジクロロメチルセルロースエステル、トリクロロメチルセルロースエステル、トリフルオロメチルセルロースエステルなどのハロアルキルセルロースエステルなど）、および芳香族有機酸エステル（セルロースフタレート、セルロースベンゾエート、セルロース−４−メチルベンゾエートなどのＣ７−Ｃ１２芳香族カルボン酸エステルなど）を挙げることができる。無機酸エステル類としては、例えば、リン酸セルロースおよび硫酸セルロースなどを挙げることができる。
【００２２】
セルロースカーバメート類としては、例えば、セルロースアリールカーバメート類（セルロースフェニルカーバメートなど）、およびセルロースエーテルカーバメート類（エチルセルロースフェニルカーバメートなど）などを挙げることができる。
【００２３】
セルロースエーテル類としては、例えば、シアノアルキルセルロース（シアノエチルセルロースなど）、Ｃ１−Ｃ１０アルキルセルロース（メチルセルロース、およびエチルセルロースなどのＣ１−Ｃ６アルキルセルロースなど）、アラルキルセルロース（ベンジルセルロースなどのＣ６−Ｃ１２アリール−Ｃ１−Ｃ４アルキルセルロースなど）などを挙げることができる。
【００２４】
好ましいセルロース誘導体としては、セルロースエステル類のうち、少なくともアセチル基を有するセルロースエステル、例えば、セルロースアセテート（セルロースモノアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、内部可塑化されたセルロース誘導体（アセチルＣ３−Ｃ６アシルセルロース（セルロースアセテートプロピオネート、およびセルロースアセテートブチレートなど）など）を挙げることができる。
【００２５】
セルロースエステル類の平均置換度は、例えば、１〜３程度、好ましくは１．３〜３程度、より好ましくは１．５〜３程度、さらに好ましくは２〜３程度である。なお、前記アセチルＣ３−Ｃ６アシルセルロースにおいて、アセチル基とＣ３−Ｃ６アシル基との割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝９０／１０〜５／９５程度、好ましくは７０／３０〜１０／９０程度、さらに好ましくは５０／５０〜１５／８５程度である。
【００２６】
セルロース誘導体において、セルロース誘導体の平均重合度は、特に制限されず、例えば、５０〜８，０００、好ましくは１００〜７，０００、さらに好ましくは２００〜６，０００程度である。
【００２７】
セルロース誘導体の可塑化としては、（ａ）セルロースアセテートに、軟質成分として、プロピオネート基およびブチレート基などのＣ３−Ｃ６アシル基を導入し、内部可塑化する方法、（ｂ）セルロース誘導体に、可塑剤を添加し外部可塑化する方法、（ｃ）これら（ａ）および（ｂ）の方法を組み合わせる方法などを挙げることができる。
【００２８】
可塑剤としては、例えば、フタル酸エステル、脂肪酸エステル、リン酸エステル、およびエポキシ誘導体などを挙げることができる。これらの可塑剤は、単独で用いてもよいし組み合わせて用いてもよい。
【００２９】
フタル酸エステルとしては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジ（２−エチルヘキシル）フタレート、ジノニルフタレート、ジイソデシルフタレートなどのジＣ１−Ｃ１０アルキルフタレート、ジシクロヘキシルフタレートなどのジＣ６−Ｃ８シクロアルキルフタレート、ブチルベンジルフタレートなどのアルキル−アラルキルフタレート、ジ（メトキシエチル）フタレートなどが挙げられる。
【００３０】
脂肪酸エステルとしては、アジピン酸ジエステル（ジオクチルアジペート、ジ（２−エチルヘキシル）アジペートなど）、アゼライン酸ジエステル（ジオクチルアゼレート、ジ（２−エチルヘキシル）アゼレートなど）、セバシン酸ジエステル（ジブチルセバケート、ジオクチルセバケート、ジ（２−エチルヘキシル）セバケートなど）、クエン酸トリエステル（アセチルクエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリブチルなどのアセチルクエン酸トリエステルなど）などのＣ６−Ｃ１２脂肪族ジ又はトリカルボン酸エステル（Ｃ６−Ｃ１２脂肪族ジ又はトリカルボン酸Ｃ２−Ｃ８アルキルエステル）；グリコール類（エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコールなど）のモノ又はジＣ２−Ｃ４アルキルカルボン酸エステル（トリエチレングリコールジアセテート、トリエチレングリコールジプロピオネートなど）、トリアセチンおよびジグリセリンテトラカプリレートなどのグリセリンアルキルカルボン酸エステルなど）などの多価アルコールのアルキルカルボン酸エステル；メチルアセチルリシノレートなどが挙げられる。
【００３１】
リン酸エステルとしては、トリアルキルフォスフェート（トリエチルフォスフェート、トリブチルフォスフェート、トリオクチルフォスフェートなどのトリＣ１−Ｃ１０アルキルフォスフェート、トリクロロエチルフォスフェートなどのハロゲン含有トリＣ１−Ｃ１０アルキルフォスフェートなど）、トリアリールフォスフェート（トリフェニルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、トリス（イソプロピルフェニル）フォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェートなどのトリＣ６−Ｃ１０アリールフォスフェートなど）、アルキル−ジアリールフォスフェート（オクチルジフェニルフォスフェートなど）、トリ（ブトキシエチル）フォスフェートなどを挙げることができる。
【００３２】
エポキシ誘導体としては、エポキシ化脂肪酸エステル（アルキルエポキシステアレート、ジイソデシル−４，５−エポキシテトラヒドロフタレートなど）などを挙げることができる。その他の可塑剤としては、ポリエステルなどのオリゴマー型可塑剤などを挙げることができる。好ましい可塑剤としては、フタル酸エステル（特にジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレートなどのジＣ１−Ｃ８アルキルフタレート）、Ｃ６−Ｃ１２アルカンジ又はトリカルボン酸Ｃ２−Ｃ１０アルキルエステル（特にジブチルセバケートなどのセバシン酸ジエステル、アセチルクエン酸トリエチルなどのクエン酸トリエステル）、多価アルコールのアルキルカルボン酸エステル（トリアセチンなど）、リン酸エステル（特にトリフェニルフォスフェートなどのトリアリールフォスフェート）を挙げることができる。
【００３３】
セルロース誘導体と可塑剤との割合は、セルロース誘導体の種類などに応じて選択でき、例えば、前者／後者（重量比）＝１００／０〜５０／５０程度、好ましくは１００／０〜６０／４０程度、１００／０〜７０／３０程度である。
【００３４】
（親水性樹脂層以外の他の層）
親水性樹脂層を含む複数の層からなる保護フィルムにおいて、親水性樹脂層以外の他の層に用いられる熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、および脂環式オレフィンポリマーなどを挙げることができる。この中でも、熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂が好ましい。なお、熱可塑性樹脂からなる層は、単層または複数層とすることができる。
【００３５】
アクリル樹脂としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステルや、アルキル基の水素がＯＨ基、ＣＯＯＨ基もしくはＮＨ２基などの官能基によって置換された（メタ）アクリル酸アルキルエステルなどの単独重合体、または（メタ）アクリル酸アルキルエステルと、スチレン、酢酸ビニル、α，β−モノエチレン性不飽和カルボン酸、ビニルトルエン、α−メチルスチレンなどの不飽和結合を有するビニル系モノマーとの共重合体を用いることができる。アクリル樹脂としては、これらのうち１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。アクリル樹脂としては、ポリメタクリル酸メチルおよびポリメタクリル酸ブチルがより好ましい。また、アクリル樹脂としては、ガラス転移温度Ｔｇが０〜１０５℃の範囲のものが好ましい。
【００３６】
保護フィルムの各層を構成する樹脂には、顔料や染料等の着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤が適宜配合されたものを用いることができる。
【００３７】
保護フィルムは、その残留溶剤含有量が０．０１重量％以下であることが好ましい。残留溶剤量が前記範囲であることにより、例えば、高温・高湿度環境下において保護フィルムから揮発した溶剤によって、当該保護フィルムが変形するのを防止できるとともに、偏光子の光学性能が劣化するのを防止できる。残留溶剤量が前記範囲となる保護フィルムは、例えば、複数の樹脂を共押出成形して得てもよいし、単層の熱可塑性樹脂層をドライラミネーション、熱ラミネーションにより貼り合わせ得てもよいが、生産性の点で共押出成形により得たものが好ましい。共押出成形の場合には、複雑な工程（例えば、乾燥工程や塗工工程）を経なくてもよいため、ゴミなどの外部異物の混入が少なく、優れた光学性能を発揮できる。
【００３８】
保護フィルムの透湿度は、１０〜２００ｇ／ｍ２・２４ｈである。保護フィルムの透湿度を前記範囲とすることにより、保護フィルムの寸法変化を抑えることができるとともに、保護フィルムを構成する各層間の密着性を向上できる。なお、透湿度は、４０℃、９２％ＲＨの環境下で、２４時間放置する試験条件で、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載のカップ法により測定できる。
【００３９】
保護フィルムの厚み（平均厚み）は２００μｍ以下である。また、保護フィルムの厚みは、４０μｍ〜１００μｍであることが好ましい。保護フィルムの厚みが前記範囲であることにより、偏光板の薄型化を図ることができる。また、保護フィルムにおいて、最も外側の層（外部に露出する層）の厚みは、通常５μｍ〜１００μｍであり、好ましくは１０μｍ以上であり、より好ましくは１０μｍ〜５０μｍである。
【００４０】
保護フィルムにおいて、一方の最表面側の層（一方の表面の外部に露出する層）の厚みと、他方の最表面側の層（他方の表面の外部に露出する層）の厚みとの差は、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、０に近づけば近づくほどさらに好ましい。
【００４１】
また、３層以上の層を含む構成の保護フィルムにおいて、その中間に位置する層（前記一方の最表面側の層および前記他方の最表面側の層以外の層であって、単層でも複数層でもよい）の厚みは、通常５μｍ〜１００μｍであり、好ましくは１０μｍ〜５０μｍである。前記３層以上の層を含む保護フィルムにおいて、前記中間に位置する層の厚みは、前記一方の最表面側の層または前記他方の最表面側の層の厚みとの比が、中間に位置する層の厚み／最表面側の層の厚み＝５／１〜１／５であることが好ましい。
【００４２】
ここで、前記一方の最表面側の層または前記他方の最表面側の層を構成する樹脂としては、硬いもの、具体的には、鉛筆硬度試験（試験荷重を５００ｇに変更した他は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に基づく）で２Ｈを超えるものが好ましい。このような樹脂としては、前述したアクリル樹脂が好ましい。この際、保護フィルムでは、比較的軟らかい親水性樹脂層が、アクリル樹脂等からなる他の層に挟まれた構成となることが好ましい。このような構成とすることにより、当該保護フィルムの表面の硬度を十分に確保しつつ、当該保護フィルムの可撓性を向上でき、これにより偏光板等を製造する際の取扱性を向上できる。この際、親水性樹脂層を構成する樹脂としては、前記偏光子との貼合工程で乾燥時間を短縮できて密着性を向上できる点で、前記セルロースエステル類が好ましい。
【００４３】
また、前記一方の最表面側の層を構成する樹脂と、前記他方の最表面側の層を構成する樹脂とは、同じ種類の樹脂であることが好ましい。このような構成とすることにより、偏光板とした際に、偏光板の反りや湾曲、丸まり等が生じるのを抑えることができる。
【００４４】
また、前記一方の最表面側の層または他方の最表面側の層には、線状凹部や線状凸部が実質的に形成されず、その表面が平坦な面であることが好ましい。実質的に形成されないとは、仮に、線状凹部や線状凸部が形成されたとしても、深さが５０ｎｍ未満もしくは幅が５００ｎｍより大きい線状凹部、および高さが５０ｎｍ未満もしくは幅が５００ｎｍより大きい線状凸部であることである。より好ましくは、深さが３０ｎｍ未満、または、幅が７００ｎｍの線状凹部であり、高さが３０ｎｍ未満、または、幅が７００ｎｍより大きい線状凸部である。このような構成とすることにより、線状凹部や線状凸部での光の屈折等に基づく、光の干渉や光漏れの発生を防止でき、光学性能を向上できる。
【００４５】
上述した線状凹部の深さ、線状凸部の高さ、及びこれらの幅は、次に述べる方法で求めることができる。保護フィルムに光を照射して、透過光をスクリーンに映し、スクリーン上に現れる光の明又は暗の縞の有る部分（この部分は凹部の深さ及び凸部の高さが大きい部分である。）を３０ｍｍ角で切り出す。切り出したフィルム片の表面を三次元表面構造解析顕微鏡（視野領域５ｍｍ×７ｍｍ）を用いて観察し、これを３次元画像に変換し、この３次元画像からＭＤ方向の断面プロファイルを求める。断面プロファイルは、視野領域で１ｍｍ間隔で求める。この断面プロファイルに、平均線を引き、この平均線から凹部の底までの長さが凹部深さ、または平均線から凸部の頂までの長さが凸部高さとなる。平均線とプロファイルとの交点間の距離が幅となる。これら凹部深さ及び凸部高さの測定値からそれぞれ最大値を求め、その最大値を示した凹部又は凸部の幅をそれぞれ求める。以上から求められた凹部深さ及び凸部高さの最大値、その最大値を示した凹部の幅及び凸部の幅を、そのフィルムの線状凹部の深さ、線状凸部の高さ及びそれらの幅とする。
【００４６】
保護フィルムにおいて、隣接する各層同士は、直接に接していてもよいし、接着剤（粘着剤を含む）からなる接着層を介して接していてもよい。接着層の平均厚みは、通常０．０１μｍ〜３０μｍ、好ましくは０．１μｍ〜１５μｍである。前記接着層は、ＪＩＳ  Ｋ７１１３による引張破壊強度が４０ＭＰａ以下となる層である。この接着層を構成する接着剤としては、アクリル接着剤、ウレタン接着剤、ポリエステル接着剤、ポリビニルアルコール接着剤、ポリオレフィン接着剤、変性ポリオレフィン接着剤、ポリビニルアルキルエーテル接着剤、ゴム接着剤、塩化ビニル・酢酸ビニル接着剤、スチレン・ブタジエン・スチレン共重合体（ＳＢＳ共重合体）接着剤、その水素添加物（ＳＥＢＳ共重合体）接着剤、エチレン・酢酸ビニル共重合体およびエチレン−スチレン共重合体などのエチレン接着剤、および、エチレン・メタクリル酸メチル共重合体、エチレン・アクリル酸メチル共重合体、エチレン・メタクリル酸エチル共重合体、およびエチレン・アクリル酸エチル共重合体などのアクリル酸エステル接着剤などを挙げることができる。なお、偏光子と前記保護フィルムとを直接に接して積層する場合には、偏光子と積層する前に、保護フィルムの表面にコロナ処理およびプラズマ処理等の表面処理を施してもよい。
【００４７】
保護フィルムは、全光線透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。また、当該保護フィルムは、ヘーズが２％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましい。
【００４８】
保護フィルムは、その光弾性係数の絶対値が３０×１０−１３ｃｍ２／ｄｙｎ以下であることが好ましく、１０×１０−１３ｃｍ２／ｄｙｎ以下であることがより好ましく、５×１０−１３ｃｍ２／ｄｙｎ以下であることがさらに好ましい。光弾性係数が前記数値よりも大きくなると、当該保護フィルムが貼付された偏光子の収縮応力により、保護フィルムに位相差が発現しやすくなり、偏光フィルムの光学性能を低下させるおそれがある。
【００４９】
保護フィルムは、面内レターデーションＲｅ（Ｒｅ＝ｄ×（ｎｘ−ｎｙ）で定義される値、ｎｘ、ｎｙは、当該保護フィルムの面内主屈折率；ｄは当該保護フィルムの平均厚み）が小さいものが好ましい。具体的には、当該保護フィルムの面内レターデーションＲｅは、波長５５０ｎｍにおいて５０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００５０】
保護フィルムは、ある層の引張弾性率と、この層に隣接する層（接着層を除く）の引張弾性率との差の絶対値が０．５ＧＰａ以上であることが好ましい。このような構成とすることにより、干渉縞等による光学性能の低下を抑えつつ、偏光板の強度および可撓性を高めることができる。また、保護フィルムは、その少なくとも１層の引張弾性率が３．０ＧＰａ以上であることが好ましい。
【００５１】
保護フィルムは、親水性樹脂層における３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率をｎａ（λ）、この親水性樹脂層に隣接する層における３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長λにおける屈折率をｎｂ（λ）として、式（１）の関係を満たすことが好ましい。
｜ｎａ（λ）−ｎｂ（λ）｜  ≦  ０．０５            （１）
特に、｜ｎａ（λ）−ｎｂ（λ）｜≦０．０４５であることがより好ましい。なお、ｎａ（λ）及びｎｂ（λ）は、波長λにおける主屈折率の平均値である。｜ｎａ（λ）−ｎｂ（λ）｜の値が前記値を超える場合には、界面での屈折率差によって生じる界面反射により、保護層表面に干渉縞が生じるおそれがある。
【００５２】
＜機能層＞
本発明の偏光板は、保護フィルムにおける前記偏光子とは反対側の表面に下記機能を有する機能層を備えていてもよい。このような機能層としては、例えば、ハードコート層、反射防止層、帯電防止層、防眩層、および防汚層などを挙げることができる。これらの機能層は、１種類であってもよいし、複数種類であってもよい。
【００５３】
（ハードコート層）
ハードコート層は、保護フィルムの硬度を補強するための層であり、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４で示す鉛筆硬度試験（試験板はガラス板を用いる）で「Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。このようなハードコート層が設けられた保護フィルムは、その鉛筆硬度が４Ｈ以上になることが好ましい。ハードコート層を形成する材料（ハードコート材料）としては、熱や光硬化性の材料であることが好ましく、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系などの有機ハードコート材料；二酸化ケイ素などの無機系ハードコート材料；などを挙げることができる。これらの中でも、ハードコート材料としては、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系および多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。
【００５４】
ハードコート層は、所望により、屈折率の調整、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、並びに耐熱性、帯電防止性、および防眩性などの向上を図る目的で、各種フィラーを含有できる。また、ハードコート層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、および消泡剤などの添加剤を含有できる。
【００５５】
ハードコート層の屈折率や帯電防止性を調整するためのフィラーとしては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、五酸化アンチモン、錫をドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンをドープした酸化錫（ＩＺＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、およびフッ素をドープした酸化錫（ＦＴＯ）等を挙げることができる。フィラーとしては、透明性を維持できる点で、五酸化アンチモン、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＴＯ、ＦＴＯが好ましい。これらフィラーの一次粒子径は、通常１ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１ｎｍ〜３０ｎｍである。
【００５６】
防眩性を付与するためのフィラーとしては、平均粒径が０．５μｍ〜１０μｍのものが好ましく、１．０μｍ〜７．０μｍのものがより好ましく、１．０μｍ〜４．０μｍがさらに好ましい。防眩性を付与するフィラーの具体例としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、フッ化ビニリデン樹脂およびその他のフッ素樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの有機樹脂からなるフィラー；または酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化錫、酸化ジルコニウム、ＩＴＯ、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素などの無機化合物からなるフィラーを挙げることができる。
【００５７】
ハードコート層は、その屈折率ｎＨが、その上に積層される後述の反射防止層の屈折率ｎＬとの間に、ｎＨ≧１．５３、及びｎＨ１／２−０．２＜ｎＬ＜ｎＨ１／２＋０．２、の関係を有することが、反射防止機能を発現させるために好ましい。
【００５８】
（反射防止層）
反射防止層は、外光の移りこみを防止するための層であり、保護フィルムにおける前記偏光子とは反対側の表面に直接または前記ハードコート層等の他の層を介して積層される。反射防止層を有する保護フィルムは、入射角５°、波長４３０ｎｍ〜７００ｎｍにおける反射率が２．０％以下であることが好ましく、波長５５０ｎｍにおける反射率が１．０％以下であることが好ましい。
【００５９】
反射防止層の厚みは、０．０１μｍ〜１μｍが好ましく、０．０２μｍ〜０．５μｍがより好ましい。反射防止層は、当該反射防止層が積層される基材となる層（保護フィルムやハードコート層など）の屈折率よりも小さい、好ましくはその屈折率が１．３０〜１．４５である低屈折率層を積層したもの、無機化合物からなる低屈折率層と無機化合物からなる高屈折率層とを繰り返し積層したもの、などを挙げることができる。
【００６０】
前記低屈折率層を形成する材料（低屈折率形成用材料）は、被積層体の屈折率の低いものであれば特に制限されない。低屈折率層の形成法は、特に制限されないが、湿式塗工法が、真空蒸着法等に比べて簡易な方法であるため好ましい。低屈折率形成用材料としては、例えば、紫外線硬化型アクリル樹脂等の樹脂材料、樹脂中にコロイダルシリカ等の無機微粒子を分散させたハイブリッド材料、テトラエトキシシラン等の金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル材料等を挙げることができる。これらの低屈折率層を形成する材料は、重合済みのポリマーであってもよいし、前駆体となるモノマーやオリゴマーであってもよい。また、それぞれの材料は、表面の防汚染性付与するために、フッ素基を含有する化合物を含むことが好ましい。
【００６１】
ゾル−ゲル材料としては、フッ素基を含有するゾル−ゲル材料を用いることができる。フッ素基を含有するゾル−ゲル材料としては、パーフルオロアルキルアルコキシシランを例示できる。パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、たとえば、一般式（１）：ＣＦ３（ＣＦ２）ｎＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＲ）３（式中、Ｒは、炭素数１〜５個のアルキル基を示し、ｎは０〜１２の整数を示す）で表される化合物を挙げることができる。具体的には、パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、およびヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン等を挙げることができる。この中でも、パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、前記ｎが２〜６の化合物が好ましい。
【００６２】
また、低屈折率層は、熱硬化性含フッ素化合物または電離放射線硬化型の含むフッ素化合物の硬化物からなるものとすることができる。前記硬化物は、その動摩擦係数が０．０３〜０．１５であることが好ましく、水に対する接触角が９０〜１２０度であることが好ましい。硬化性含フッ素化合物としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体を挙げることができる。
【００６３】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）を挙げることができる。後者は、共重合の後、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号公報および特開平１０−１４７７３９号公報に開示されている。
【００６４】
低屈折率層を形成するための材料としては、耐傷性を向上できる点で、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム等の微粒子をアルコール溶媒に分散したゾルが含まれたものを用いることができる。この際、前記微粒子は、反射防止性の観点から、屈折率が低いほど好ましい。このような微粒子としては、空隙を有するものであってもよく、特にシリカ中空微粒子が好ましい。中空微粒子の平均粒径は、５ｎｍ〜２，０００ｎｍが好ましく、２０ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましい。ここで、平均粒径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。
【００６５】
なお、含フッ素化合物の硬化物からなる低屈折率層では、その硬化物の屈折率を下げていくと低屈折率層の耐傷性が低下する傾向にあるため、硬化物のみの屈折率と微粒子の添加量とを最適化することにより、耐傷性と低屈折率を両立できる。
【００６６】
ここで、低屈折率層を形成する方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、およびグラビアコート法等の塗工法を挙げることができる。低屈折率層の厚さは、０．０５μｍ〜０．３μｍ程度、特に０．１μｍ〜０．３μｍが好ましい。
【００６７】
（防汚層）
防汚層は、被積層体の表面に撥水性、撥油性、耐汗性、および防汚性などを付与できる層である。防汚層を形成するために用いる材料としては、フッ素含有有機化合物が好適である。フッ素含有有機化合物としては、フルオロカーボン、パーフルオロシラン、又はこれらの高分子化合物などを挙げることができる。また、防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法、ＣＶＤ等の化学的気相成長法、湿式コーティング法等を用いることができる。防汚層の平均厚みは、好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍ、より好ましくは３ｎｍ〜３５ｎｍである。
【００６８】
以上のような機能層を形成する場合には、被積層体の表面に親水化処理を施すことができる。親水化処理の手段としては、例えば、コロナ放電処理、スパッタ処理、低圧ＵＶ照射、およびプラズマ処理などの表面処理法を採用できる。
【００６９】
＜光学異方体＞
本発明で用いる光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（５５０）と波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００７以下であり、好ましくは１．００６以下である。比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の下限は、好ましくは０．５、より好ましくは０．７である。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が前記範囲に入る光学異方体を備えることにより、本発明の偏光板を用いた液晶表示装置やタッチパネル等において、表示性能を高めることができる。
【００７０】
なお、レターデーションには、フィルム面内のレターデーション（Ｒｅ）と、フィルム厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）とがある。フィルム面内のレターデーション（Ｒｅ）は、フィルム面内の主屈折率をｎｘ、ｎｙとし、フィルムの厚さをｄ（ｎｍ）とすると、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで求めることができる。フィルム厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、フィルム厚さ方向の屈折率をｎｚとすると、Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄで求めることができる。Ｒｅ及びＲｔｈは、市販の自動複屈折計（王子計測社製、「ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ」）を用いて測定できる。
【００７１】
前記光学異方体は、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅ（５５０）が１２５〜１５０ｎｍであることが好ましい。また、前記光学異方体は、波長λでのレターデーションＲｅ（λ）と波長λとの比Ｒｅ（λ）／λが通常０．２２〜０．２８、好ましくは０．２３〜０．２７、より好ましくは０．２４〜０．２６である。
【００７２】
前記光学異方体は、前記特性を有するものであれば、単層構造であって、積層構造であってもよい。例えば、好適な光学異方体としては、１／４波長板や、１／４波長板と１／２波長板とをその遅相軸の方向をずらして重ね合わせた広帯域１／４波長板などを挙げることができる。広帯域１／４波長板において、１／４波長板と１／２波長板との遅相軸交差角は、好ましくは５６°〜６２°、より好ましくは５７°〜６１°である。交差角を前記のようにすることにより、広帯域性に優れた光学異方体を得ることができる。なお、遅相軸とは、直線偏光を入射させた際に、位相の遅れが最大になる方向である。なお、１／４波長板は、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅが１２５〜１５０ｎｍの光学異方体である。１／２波長板は、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅが２５０〜３００ｎｍの光学異方体である。
【００７３】
（ｉ）１／４波長板や１／２波長板は、例えば透明樹脂フィルムを延伸配向することによって得ることができる。光学異方体の遅相軸は、通常、その延伸方向、またはそれと直交する方向に生じる。フィルムを構成する透明樹脂は、１ｍｍ厚の成形体にしたときの全光線透過率が８０％以上の樹脂であれば特に制限なく使用することができる。透明樹脂の具体例としては、脂環式構造を有する重合体樹脂、ポリエチレンやポリプロピレンなどの鎖状オレフィン重合体、ポリカーボネート重合体、ポリエステル重合体、ポリスルホン重合体、ポリエーテルスルホン重合体、およびポリビニルアルコール重合体などの正の固有複屈折を有する樹脂；ビニル芳香族重合体、ポリアクリロニトリル重合体、ポリメチルメタクリレート重合体、およびセルロースエステル重合体、などの負の固有複屈折を有する樹脂を挙げることができる。これらは２種を組み合わせて、あるいは単独で使用できる。
【００７４】
正の固有複屈折を有する樹脂の中では、脂環式構造を有する重合体樹脂及び鎖状オレフィン重合体が好ましく、特に透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などに優れるので脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましい。
脂環式構造を有する重合体としては、例えば、ノルボルネン重合体、単環の環状オレフィン重合体、およびビニル脂環式炭化水素重合体を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン重合体は、透明性と成形性が良好なので好適に用いることができる。ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネン単量体の開環重合体、ノルボルネン単量体と他の単量体との開環共重合体及びこれら重合体の水素添加物；ノルボルネン単量体の付加重合体、ノルボルネン単量体と他の単量体との付加共重合体及びこれらの重合体の水素添加物などを挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン単量体の開環重合体又は開環共重合体の水素添加物は、透明性に優れるので、特に好ましい。
【００７５】
負の固有複屈折を有する樹脂の中では、ビニル芳香族重合体、ポリアクリロニトリル重合体およびポリメチルメタクリレート重合体の中から選択される少なくとも１種が好ましい。中でも複屈折発現性が高いという観点から、ビニル芳香族重合体がより好ましい。
ビニル芳香族重合体とは、ビニル芳香族単量体の重合体、又はビニル芳香族単量体と共重合可能な単量体との共重合体をいう。ビニル芳香族単量体としては、スチレン；４−メチルスチレン、４−クロロスチレン、３−メチルスチレン、４−メトキシスチレン、４−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン誘導体；などが挙げられる。これらを単独で使用しても２種以上併用してもよい。ビニル芳香族単量体と共重合可能な単量体としては、プロピレン、ブテン等のオレフィン；アクリロニトリル等のα，β―エチレン性不飽和ニトリル単量体；アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等のα，β―エチレン性不飽和カルボン酸；アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル；マレイミド；酢酸ビニル；塩化ビニル；などが挙げられる。ビニル芳香族重合体の中でも、耐熱性が高い観点から、スチレン又はスチレン誘導体と無水マレイン酸との共重合体が好ましい。
【００７６】
前記透明樹脂としては、耐熱性に優れる点から、そのガラス転移温度Ｔｇが９０℃以上であるものが好ましく、１００℃以上であるものが特に好ましい。
【００７７】
前記透明樹脂フィルムの形成方法は特に制限されず、例えば、溶液流延法や溶融押出法などの従来公知の方法が挙げられる。中でも、溶剤を使用しない溶融押出法は、揮発性成分の含有量を少なくでき、１００μｍ以上で、Ｒｔｈの大きいフィルムが作製しやすく、製造コストの観点からも好ましい。溶融押出法としては、Ｔダイを用いる方法やインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。
【００７８】
Ｔダイを用いたフィルムの製造方法においては、透明樹脂を、Ｔダイを有する押出機に投入し、透明樹脂のガラス転移温度よりも通常８０〜１８０℃高い温度に、好ましくはガラス転移温度よりも１００〜１５０℃高い温度にして透明樹脂を融解させ、該融解樹脂をＴダイから押し出し、冷却ロール等にて樹脂を冷やしフィルムに形成する。樹脂の融解温度は、過度に低いと透明樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に過度に高いと透明樹脂が劣化する可能性がある。
【００７９】
延伸する方法に特に制限はなく、例えば、ロール間の周速の差を利用して縦方向に一軸延伸する方法、テンターを用いて横方向に一軸延伸する方法などの一軸延伸法；フィルムを把持するクリップの間隔が開いて縦方向の延伸と同時にガイドレールの広がり角度により横方向に延伸する同時二軸延伸法、ロール間の周速の差を利用して縦方向に延伸したのち、両端部をクリップにより把持してテンターを用いて横方向に延伸する逐次二軸延伸法などの二軸延伸法；横又は縦方向に左右異なる速度の送り力若しくは引っ張り力又は引き取り力を付加し得るテンター延伸機や、横又は縦方向に左右等速度の送り力若しくは引っ張り力又は引き取り力を付加することができ、移動する距離が同じで延伸角度を固定し得る又は移動する距離が異なるテンター延伸機を用いて斜め延伸する方法；などを挙げることができる。
【００８０】
光学異方体のレターデーションは、例えば、フィルムの材質や、延伸前のフィルムの厚み、延伸倍率や延伸温度等の延伸条件を適宜設定することによって制御できる。
前記フィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をＴｇとするとき、好ましくはＴｇ−３０℃からＴｇ＋６０℃の温度範囲、より好ましくはＴｇ−１０℃からＴｇ＋５０℃の温度範囲にて、好ましくは１．０１〜２倍の延伸倍率で行う。延伸速度は、好ましくは５〜１０００ｍｍ／秒、より好ましくは１０〜７５０ｍｍ／秒である。延伸速度が前記範囲にあると、延伸制御が容易となり、さらに面精度やレターデーションのバラツキが小さい光学異方体が得られる。
【００８１】
前記光学異方体の厚み方向屈折率ｎｚは特に制限されない。例えば、ｎｚと他の主屈折率ｎｘ及びｎｙとが、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙ、ｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙ、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙなる関係になるものが挙げられる。
光学異方体は、その厚みが、好ましくは１０〜５００μｍ、より好ましくは２０〜２５０μｍ、特に好ましくは２０〜１２０μｍである。
【００８２】
（ｉｉ）１／４波長板および１／２波長板は、液晶性化合物を配向固定することによって得ることもできる。
液晶性化合物は光学異方性を有しており、これを一定方向に配列し固定することによって光学異方性のあるフィルムを得ることができる。具体的には、重合開始剤又は架橋剤の存在下で紫外線又は熱により重合もしくは架橋する性質を有する低分子量又は高分子量の液晶性化合物、あるいはそれらの混合物を、実質的に均一に配向させた状態で重合又は架橋反応により固定化させて得ることができる。
【００８３】
光学異方体を得るために用いる液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物、あるいはこれらの混合物などを挙げることができる。
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキノン類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、トラン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類などが挙げられる。また、以上のような低分子液晶性化合物だけでなく、高分子棒状液晶性化合物も用いることができる。さらに、棒状液晶性化合物の具体例として、特開平７−２９４７３５号公報（米国特許第５８６３４５７号明細書）、特開２００２−１７４７２４号公報及び特開平８−２８３７４８号公報に記載されている重合性液状組成物等が挙げられる。棒状液晶性化合物を用いた光学異方体の例として、液晶を垂直配向させた膜でｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙの関係を示すもの、および傾斜配向させた膜でｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの関係を示すものがあげられる。傾斜配向させた膜として、商品名ＮＨフィルム（新日本石油社製）等の市販品も使用できる。
【００８４】
ディスコティック液晶性化合物としては、種々の文献（例えば、Ｃ．Ｄｅｓｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ１１１（１９８１年）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２，液晶の化学、第５章第１０章第２節（１９９４年）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ    ｅｔａｌ．，ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．ｐａｇｅ１７９４（１９８５年）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ    ｅｔａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ２６５５（１９９４年）；等）に記載されたものが挙げられる。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、連結基を介して重合性基を結合させる必要がある。このようなディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２０００−２８４１２６号公報（米国特許６４００４３３号明細書）に記載されたものが挙げられる。ディスコティック液晶性化合物を用いた光学異方体として、商品名ＷＶフィルム（富士写真フィルム社製）等の市販品も使用できる。
【００８５】
液晶性化合物の配向は、通常、配向膜に液晶性化合物を塗布することによって行うことができる。配向膜は、通常、光学的に等方性を有する高分子化合物で形成される。高分子化合物としてはセルロース系樹脂、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリエーテルイミド、ポリエステル、ポリアリレート、ポリビニルアルコール、およびゼラチン等が挙げられる。これらは、２種類以上を組み合わせて用いても良い。
【００８６】
また、液晶性化合物としてディスコティック液晶を用いる場合には、ディスコティック液晶分子を実質的にフィルム又は積層体の面に対して垂直（５０°から９０°の範囲の平均傾斜角）に配向させるのが好ましい。そのためには、配向膜を構成するポリマーの官能基によって配向膜の表面エネルギーを低下させ、これによりディスコティック液晶性化合物を立てた状態にする。配向膜の表面エネルギーを低下させる官能基としては、フッ素原子や、炭素原子数が１０以上の炭化水素基が好ましく例示できる。フッ素原子又は炭化水素基を配向膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖よりも側鎖にフッ素原子又は炭化水素基を導入するのが好ましい。フッ素原子を含有するポリマーのフッ素原子含有量は、好ましくは０．０５〜８０重量％、より好ましくは０．５〜６５重量％、さらに好ましくは１〜６０重量％である。炭化水素基としては、脂肪族基、芳香族基又はこれらの組合せが挙げられる。脂肪族基は、環状、分岐状、直鎖状のいずれであってもよいが、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基又はシクロアルケニル基が好ましい。炭化水素基の炭素原子数は、好ましくは１０〜１００、より好ましくは１０〜５０さらに好ましくは１０〜４０である。このようなポリマーの主鎖は、ポリイミド構造又はポリビニルアルコール構造を有するものであるのが好ましい。ポリイミドは、一般にテトラカルボン酸とジアミンとの縮合反応により合成することができる。ポリイミドに炭化水素基を導入する場合、ポリイミドの主鎖又は側鎖にステロイド構造を形成するのが好ましい。側鎖に存在するステロイド構造は、炭素原子数が１０以上の炭化水素基に相当し、ディスコティック液晶性化合物を垂直に配向させる機能を有する。また、ポリビニルアルコールとしては、例えば、フッ素原子を含む繰り返し単位を５〜８０モルの範囲で含むフッ素変性ポリビニルアルコール、炭素数が１０以上の炭化水素基を有する変性ポリビニルアルコールなどが挙げられる。
【００８７】
配向膜を形成するためには、前記高分子化合物を製膜し、その高分子膜に配向処理を行う。配向処理としてはラビング処理が好適に用いられる。高分子膜をラビング処理する方法は特に制約されず、従来公知の方法により行うことができる。例えば、レーヨン、ナイロン等の布又はロールを用いて、高分子膜の表面を所定方向に擦する（ラビング）ことにより高分子膜表面に配向性を付与する方法が挙げられる。また、ラビング処理以外の配向処理としては、高分子膜上に直線偏光紫外線等の光を所定方向から照射する方法、高分子膜を延伸する方法等が挙げられる。また、高分子膜以外に、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）などの斜方蒸着層等も配向膜として用いることもできる。配向膜の厚さは、通常０．００５〜１０μｍ、好ましくは０．０１〜１μｍである。
【００８８】
１／４波長板又は１／２波長板などの光学異方体の上に、該光学異方体の遅相軸とのなす角度が５０°〜７０°となる方向に配向処理された配向膜を形成し、該配向膜上に波長５５０ｎｍで測定したレターデーションが２５０〜３００ｎｍである液晶性化合物の固定化膜（１／２波長板相当）又は波長５５０ｎｍで測定したレターデーションが１２５〜１５０ｎｍである液晶性化合物の固定化膜（１／４波長板相当）を形成することで、１／４波長板と１／２波長板とを重ね合わせたものに相当する光学異方体を得ることができる。配向処理の方向は、基材となる光学異方体の遅相軸の方向に対して５０°〜７０°、好ましくは５５°〜６５°、より好ましくは５８°〜６２°の範囲で交差するようにする。配向膜上に塗布された液晶性化合物は、配向膜の配向方向と一致する方向に配向する。従って、配向処理を前記のような角度で行うことによって、基材の光学異方体の遅相軸と、液晶性化合物で形成される光学異方体とが所定角度で交差する積層体にすることができる。
【００８９】
液晶性化合物の配向固定化膜の厚みは特に制限されないが、入射光に対して１／４波長のレターデーションを与える１／４波長板として十分な機能を付与する上では、通常０．５〜５０μｍであるのが好ましい。液晶性化合物の固定化膜の種類と液晶性化合物の固定化膜層の厚みを所定のものに設定することで、液晶性化合物の固定化膜の層からなる所望の位相差を持つ波長板を得ることができる。
【００９０】
液晶性化合物の固定化膜からなる光学異方体を形成するには、具体的には次のように行うことができる。先ず、光学異方体上に、該光学異方体の延伸方向と該光学異方体の遅相軸とのなす角度が５０°〜７０°となる方向に配向処理された配向膜を形成する。次に、液晶性化合物の有機溶剤溶液を該光学異方体の配向膜上に塗布し、加熱により溶剤を除去する。次いで、液晶性化合物が液晶状態となる温度まで冷却することにより、液晶性化合物を所定方向に配向させることができる。さらに、液晶性化合物が紫外線又は熱により重合もしくは架橋する場合には、液晶状態が保持された環境下で重合開始剤又は架橋剤の存在下、紫外線又は熱により重合若しくは架橋することにより、液晶性化合物の固定化膜を形成することができる。
【００９１】
１／４波長板と１／２波長板とを積層する方法は、粘接着剤により貼り合せる方法、熱溶着や超音波融着により貼り合せる方法、共押出法などの、波長板を貼り合せる公知の方法を用いることができるが、広帯域な波長板としてより広い波長領域で使用でき、耐久性にも優れたものとするためには、粘接着剤を用いて積層するのが好ましい。
【００９２】
本発明の液晶表示装置には、視野角を広くするなどの目的のために、前記光学異方体以外に、他の光学異方性を有するフィルムを任意の枚数で任意の場所に配置することができる。光学異方性を有するフィルムとしては、一軸性を有する位相差フィルム、二軸性を有する位相差フィルム、またはこれらの積層体が挙げられる。例えば、一軸性を有する位相差フィルムとしては、ＣプレートやＡプレートが挙げられる。
【００９３】
Ｃプレートは、面内のレターデーションがないかまたは極めて小さく、厚さ方向にのみ位相差を有する位相差層のことをいい、光軸がその面内方向に垂直な厚さ方向に存在する。前記Ｃプレートは、その光学特性条件が、下記式（１）を満たす場合はポジティブＣプレート、下記式（２）を満たす場合はネガティブＣプレートと呼ばれる。下記ｎｘ、ｎｙ及びｎｚは、前記位相差フィルム等におけるＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向の屈折率を表し、前記Ｘ軸方向とは、前記層の面内での屈折率が最大となる方向（面内遅相軸方向）であり、前記Ｙ軸方向とは、前記層の面内で前記Ｘ軸方向に垂直な方向（面内進相軸方向）であり、前記Ｚ軸方向とは、前記Ｘ軸方向及び前記Ｙ軸方向に垂直な層の厚さ方向である。
ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ            （１）
ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ            （２）
【００９４】
Ａプレートは、厚さ方向のレターデーションがないかまたは極めて小さく、面内のみレターデーションを有するレターデーション層のことをいい、光軸が面内方向に存在する。前記Ａプレートは、その光学特性が、下記式（３）を満たす場合はポジティブＡプレート、下記式（４）を満たす場合はネガティブＡプレートと呼ばれる。
ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ          （３）
ｎｘ≒ｎｚ＞ｎｙ          （４）
【００９５】
また、二軸性を有する位相差フィルムとしては、ポジティブ二軸位相差フィルム（ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙ）、ネガティブ二軸位相差フィルム（ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ）が挙げられる。
【００９６】
一軸性を有する位相差フィルムや二軸性を有する位相差フィルムとしては、固有複屈折値が正である材料からなるフィルムを延伸したフィルム、ポリスチレン樹脂などの固有複屈折値が負である材料からなる層の両面にノルボルネン系樹脂などの固有複屈折性が正である材料からなる層が積層されている積層体を延伸したもの、ディスコティック液晶を面に平行配向又は垂直配向させたものなどが挙げられる。複屈折性を示す層の面内のレターデーションＲｅや面と垂直方向のレターデーションであるＲｔｈは、使用する液晶モードに応じて適宜調整すればよい。
【００９７】
＜反射型の液晶表示装置＞
次に、前記偏光板を用いた反射型の液晶表示装置の構成について説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る反射型の液晶表示装置を模式的に示す図である。図１に示すように、反射型の液晶表示装置１０は、反射板１と、反射型の液晶セル２と、出射側偏光板３とをこの順に備えている。出射側偏光板３は、円偏光板４と、円偏光板４の液晶セル２とは反対側の面に設けられる保護フィルム５とを備えている。
【００９８】
円偏光板４は、光学異方体６と、偏光子７とを備えている。光学異方体６は、１／４波長板６Ａと１／２波長板６Ｂとを積層した広帯域１／４波長板であり、１／４波長板６Ａが液晶セル２に面している。１／４波長板６Ａと１／２波長板６Ｂとは、約６０°の角度で遅相軸が交差している。
【００９９】
保護フィルム５は、基材フィルム８と、基材フィルム８の外表面に積層される機能層９とを備えている。基材フィルム８は、親水性樹脂層８Ａと、親水性樹脂層８Ａの両表面にそれぞれ設けられる熱可塑性樹脂層８Ｂとを備えた３層構成である。機能層９は、基材フィルム５の表面に設けられるハードコート層９Ａと、ハードコート層９Ａの表面に設けられる低屈折率層９Ｂとを備えている。
【０１００】
＜半透過型の液晶表示装置＞
次に、前記偏光板を用いた半透過型の液晶表示装置の構成について説明する。
図２は、本発明に係る半透過型の液晶表示装置２０を模式的に示す図である。なお、前記反射型の液晶表示装置における、同様または相当する構成品には同じ符号を付して、その説明を省略または簡略化する。図２に示すように、半透過型の液晶表示装置２０は、バックライト装置２１と、入射側偏光板２２と、半透過型の液晶セル２３と、出射側偏光板３とをこの順に備えている。
【０１０１】
バックライト装置２１には、直下型またはサイドライト型等の各種バックライト装置を用いることができる。入射側偏光板２２は、バックライト装置２１側に設けられる保護フィルム２５と、液晶セル２３に面するように配置される円偏光板４とを備えている。保護フィルム２５は、前記基材フィルム８のみで構成されたものであり、親水性樹脂層８Ａと、親水性樹脂層８Ａの両表面にそれぞれ設けられる熱可塑性樹脂層８Ｂとを備えた３層構成である。半透過型の液晶セル２３は、図示を省略するが、一対の透明電極と、これらの透明電極間の液晶層とを備え、バックライト装置側の透明電極には、一部に反射機能が設けられている。
【０１０２】
以上のような反射型もしくは半透過型の液晶表示装置において、前記液晶セルとしては、例えば、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ    Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶セル、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ    Ｔｗｉｓｔｅｄ    Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶セル、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ    Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ    Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶セル、ＩＰＳ（Ｉｎ    Ｐｌａｎｅ    Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型液晶セル、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ    Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型液晶セル、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ    Ｖｅｒｔｉｃａｌ    Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ型液晶セル、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ    Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ    Ｂｅｎｄ）型液晶セルなどを用いることができる。
【０１０３】
＜タッチパネル＞
前記偏光板を用いたタッチパネルの構成について説明する。
本タッチパネルは、液晶表示装置等の表示装置の表面に設けられる第１透明基板と、第１透明基板に間隔をあけて対向配置される第２透明基板とを備えている。第１透明基板と第２透明基板には、互いに対向する面に透明導電膜がそれぞれ形成されている。また、本タッチパネルは、第２透明基板の表面に設けられる前記円偏光板４をさらに備え、前記円偏光板４を構成する広帯域１／４波長板が、円偏光板４の偏光子よりも第２透明基板側に位置している。
【実施例】
【０１０４】
本発明について、実施例および比較例により、より詳細に説明する。
実施例および比較例に示す偏光板、液晶表示装置、およびタッチパネルは、下記の方法により評価を行った。
【０１０５】
＜ハードコート層および低屈折率層の屈折率＞
高速分光エリプソメトリ（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、Ｍ−２０００Ｕ）を用い，温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で、入射角度５５度、６０度、及び６５度で、波長領域４００〜１０００ｎｍのスペクトルを測定し、これらの測定結果から算出した。
【０１０６】
＜各樹脂層の屈折率＞
熱可塑性樹脂を単層にて成形し、プリズムカプラ−（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製、ｍｏｄｅｌ２０１０）を用い、温度２０℃±２℃、湿度６０±５％の条件下で、波長６３３ｎｍ、４０７ｎｍ、５３２ｎｍにおける屈折率の値から、Ｃａｕｃｙの分散式により、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの屈折率を算出した。
【０１０７】
＜各樹脂層の引張弾性率＞
熱可塑性樹脂を単層にて成形して、１ｃｍ×２５ｃｍの試験片を切り出し、ＡＳＴＭ８８２に基づき、引張試験機（東洋ボールドウィン社製、テンシロンＵＴＭ−１０Ｔ−ＰＬ）を用いて引張速度２５ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定した。同様の測定を５回行い、その算術平均値を引張弾性率の代表値とした。
【０１０８】
＜各樹脂層の膜厚＞
保護フィルムをエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム（大和工業社製、ＲＵＢ−２１００）を用いてスライスし、走査電子顕微鏡を用いて断面を観察し測定した。
【０１０９】
＜保護フィルムの透湿度＞
４０℃、９２％ＲＨの環境下に２４時間放置する試験条件で、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載のカップ法に準じた方法で測定した。透湿度の単位はｇ／ｍ２・２４ｈである。
【０１１０】
＜線状凹部の深さ、線状凸部の高さ及びそれらの幅の測定方法＞
前述した方法により、線状凹部の深さ、線状凸部の高さ、およびこれらの幅を測定した。得られた凹部深さ及び凸部高さの最大値、その最大値を示した凹部の幅及び凸部の幅を、そのフィルムの線状凹部の深さ、線状凸部の高さ及びそれらの幅とし、以下の基準で評価した。
◎：線状凹部の深さ、または凸部の高さが２０ｎｍ未満で，且つ幅が８００ｎｍ以上
○：線状凹部の深さ、または凸部の高さが２０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下で、且つ幅が５００ｎｍ以上、８００ｎｍ未満
×：線状凹部の深さ、または凸部の高さが５０ｎｍを超え、且つ幅が５００ｎｍ未満
【０１１１】
＜光学異方体におけるＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＞
光学異方体において、波長５５０ｎｍおよび波長４５０ｎｍにおける正面方向の面内レターデーションＲｅをそれぞれ求めることにより、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を求めた。正面方向の面内レターデーションＲｅは、自動複屈折計（王子計測器社製、ＫＯＢＲＡ−２１）を用いて測定した。
【０１１２】
＜密着性＞
作製した偏光板を温度６０℃、湿度９０％で３００時間放置し、放置後の偏光板端面の界面剥離を目視観察した。
○：剥離なし
×：端面に剥離が見られる
【０１１３】
＜鉛筆硬度＞
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４を参考にして、上から５００ｇの荷重を掛けるとともに、４５度の角度に傾けた鉛筆で、偏光板を構成する保護フィルムの表面（偏光子側とは反対側の面）を５ｍｍ程度引っかき、傷の付き具合を確認した。
【０１１４】
＜干渉縞観察＞
暗幕のような光を通さない黒布の上に偏光板を置き、三波長蛍光灯（松下電器社製、ナショナル蛍光灯：ＦＬ２０ＳＳ・ＥＮＷ／１８）で照らして、偏光板の表面を目視観察し、以下の基準で評価した。
○：干渉縞が見えない
△：干渉縞がうっすらと見える
×：干渉縞が目立つ
【０１１５】
＜可撓性試験＞
偏光板を１ｃｍ×５ｃｍに打抜いて試験フィルムを得た。得られた試験フィルム３ｍｍφのスチール製の棒に巻きつけ、巻きつけたフィルムが棒のところで折れるか否かをテストした。合計１０回テストを行い、折れなかった回数によって下記指標で可撓性を表した。
○：割れたフィルム片が１枚以下
×：割れたフィルム片が２枚以上
【０１１６】
＜偏光度変化＞
偏光板を１０インチ四方の大きさに切り出し、ガラス板の片面に、感圧性接着剤を介して、偏光板を構成する一方の保護フィルム（後述する保護フィルムＡ）の面がガラス板側になるように貼り合わせ、試験用偏光板を作製した。この試験用偏光板を温度６０℃、湿度９０％の恒温槽に５００時間放置し、試験用偏光板の対角線交点（図３中、（５）の位置）における高温高湿下の放置前後での偏光度の変動幅を測定した。
○：偏光度の変動幅が０．５以下
×：偏光度の変動幅が０．５より大きい
【０１１７】
＜カール性の評価＞
偏光板を１０ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出し、温度６０℃、湿度９０％の恒温槽に５００時間放置した後取り出し、水平盤上に置き、試験片のカール状態を観察して次の基準にてカール性を評価した。
◎：全くカールが認められず、良好である
○：殆ど目立たないが、わずかにカールが認められる
×：明らかにカールが認められ、実用上問題がある
【０１１８】
＜打抜き性＞
偏光板を、直径３５ｍｍの円形刃を用いて、裁断機（トーコー社製、ＴＣＭ−５００Ａ）にて打抜きを行い、下記の基準で打抜き性を評価した。
○：端面に割れが生じない
×：端面に割れが観察された
【０１１９】
＜液晶表示装置での色むら評価＞
作製した液晶表示装置を暗室内で明表示した表示画面全体を真正面から観察し、以下の指標で評価した。
○：全体的に均一な白表示になっており、色づきがない
×：画面上に虹むらが見られる
【０１２０】
＜液晶表示装置でのコントラスト＞
作製した液晶表示装置について、温度６０℃、湿度９０％で３００時間の環境試験に対するコントラスト変動を求めた。コントラスト値は、液晶表示装置の中心部正面に対し５度傾いた角度から輝度を色彩輝度計（トプコン社製、色彩輝度計ＢＭ−７）を用い、明表示の輝度と暗表示の輝度の比（＝明表示の輝度／暗表示の輝度）を計算した。コントラスト変動は、試験前のコントラストをＣＲ１とし、同様に試験後の値をＣＲ２として、次式で算出する。
コントラスト変動（ΔＣＲ）＝（ＣＲ１−ＣＲ２）／ＣＲ１×１００  （％）
○：１０％未満
×：１０％以上
【０１２１】
＜製造例１：セルロースアセテートブチレートの製造＞
親水性基を有する高分子化合物であるアセチルアシルセルロースとしてのセルロースアセテートブチレート（アセチル基の置換度：１．０、ブチリル基の置換度：１．７、重量平均分子量：１５．５万；イーストマンケミカル社製ＣＡＢ−３８１−２０）９１重量％と、可塑剤であるジグリセリンテトラカプリレート９重量％を二軸エクストルーダーを用いて１９０℃で混練し、５ｍｍ程度にカッティングしてセルロースアセテートブチレートを得た。
【０１２２】
＜製造例２：マレイミド・オレフィン共重合体の製造＞
攪拌機、窒素導入管、温度計および脱気管の付いた反応釜にＮ−メチルマレイミド１００重量部に対し、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート０．６７重量部およびトルエンとメタノールの混合溶媒（１：１重量比）１０５０重量部を仕込み、窒素で数回パージした後、イソブテン４００重量部を仕込み、６０℃で６時間反応を行った。得られたＮ−メチルマレイミド・イソブテン共重合体粒子を遠心分離後乾燥した。得られたＮ−メチルマレイミド・イソブテン共重合体の元素分析結果（Ｃ；６４．７重量％、Ｈ；７．８重量％、Ｎ；８．４重量％）より、生成Ｎ−メチルマレイミド・イソブテン共重合体中のＮ−メチルマレイミド単位及びイソブテン単位は、それぞれ５０モル％であった。上記Ｎ−メチルマレイミド・イソブテン共重合体８０重量％およびアクリロニトリル含量３０重量％のアクリロニトリル・スチレン共重合体２０重量％をドライブレンドした後、３０ｍｍφ２軸押出機（株式会社日本製鋼所製、商品名ＴＥＸ３０）に供し、溶融混練の後、ペレット化した。得られた樹脂組成物ペレットのガラス転移温度は１４０℃であった。
【０１２３】
＜製造例３：保護フィルム１の作製＞
ポリメチルメタクリレート樹脂（表中ＰＭＭＡと表記、吸水率０．３％）を、目開き１０μｍのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置した第１のダブルフライト型一軸押出機に投入し、押出機出口温度２６０℃で溶融樹脂を、マルチマニホールドダイを構成する、ダイスリップの表面粗さＲａが０．１μｍである第１のマニホールドダイに供給した。
【０１２４】
また、製造例１で得られたセルロースアセテートブチレート（表中ＣＡＢと表記、吸水率１．６％）を、目開き１０μｍのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置した第２のダブルフライト型の一軸押出機に導入し、押出機出口温度２６０℃で溶融樹脂を、マルチマニホールドダイを構成する、ダイスリップの表面粗さＲａが０．１μｍである第２のマニホールドダイに供給した。そして、溶融状態のポリメチルメタクリレート樹脂、セルロースアセテートブチレート、接着剤としてエチレン−酢酸ビニル共重合体のそれぞれをマルチマニホールドダイから２６０℃で吐出させ、１３０℃に温度調整された冷却ロールにキャストし、その後、５０℃に温度調整された冷却ロールに通して、ポリメチルメタクリレート樹脂層（２０μｍ：樹脂層Ａ）−接着層（４μｍ）−セルロースアセテートブチレート層（３２μｍ：樹脂層Ｂ）−接着層（４μｍ）−ポリメチルメタクリレート樹脂層（２０μｍ：樹脂層Ｃ）の３層構成からなる、幅６００ｍｍ、厚さ８０μｍの保護フィルム１を共押出成形により得た。保護フィルム１は、その透湿度が８４．０ｇ／ｍ２・２４ｈであり、その残留溶剤含有量が０．０１重量％以下であり、光弾性係数が２×１０−１３ｃｍ２／ｄｙｎであった。また、保護フィルム１の表面の、線状凹部の深さまたは凸部の高さは、２０ｎｍ以下であり、かつ幅が８００ｎｍ以上の範囲であった。
【０１２５】
＜製造例４：保護フィルム２の作成＞
製造例３で用いたマルチマニホールドダイを２層構成のフィルムを得るためのマルチマニホールドダイに置き換えて、実施例１と同様にしてポリメチルメタクリレート樹脂層（３２μｍ：樹脂層Ａ）−接着層（４μｍ）−セルロースアセテートブチレート層（４４μｍ：樹脂層Ｂ）の２層構成（接着層を除く）からなる、幅６００ｍｍ、厚さ８０μｍの保護フィルム２を得た。保護フィルム２は、その透湿度が９２．０ｇ／ｍ２・２４ｈであり、その残留溶剤含有量が０．０１重量％以下であり、光弾性係数が４．５×１０−１３ｃｍ２／ｄｙｎであった。また、保護フィルム２の表面の、線状凹部の深さまたは凸部の高さは、２０ｎｍ以下であり、かつ幅が８００ｎｍ以上の範囲であった。
【０１２６】
＜製造例５：保護フィルム３の作成＞
製造例３においてポリメチルメタクリレート樹脂の代わりに製造例２で得られたマレイミド・オレフィン共重合体（表中、ＭＩＯと表記）を用いる他は、製造例３と同様にして保護フィルム３を作製した。保護フィルム３は、その透湿度が７９．０ｇ／ｍ２・２４ｈであり、その残留溶剤含有量が０．０１重量％以下であり、光弾性係数が９．５×１０−１３ｃｍ２／ｄｙｎであった。また、保護フィルム３の表面の、線状凹部の深さまたは凸部の高さは、２０ｎｍ以下であり、かつ幅が８００ｎｍ以上の範囲であった。
【０１２７】
＜製造例６：保護フィルム４の作成＞
厚み３２μｍの脂環式オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン社製、ゼオノアフィルム、表中ＣＯＰと表記）の両面に、ポリスチレン樹脂（表中、ＰＳと表記）からなる厚み２０μｍの単層押出成形フィルムを圧着ラミネートより貼り合せ保護フィルム４を作製した。保護フィルム４は、その透湿度が３．２ｇ／ｍ２・２４ｈであり、その残留溶剤含有量が０．０１重量％以下であり、光弾性係数が６．０×１０−１３ｃｍ２／ｄｙｎであった。また、保護フィルム４の表面の、線状凹部の深さまたは凸部の高さは、２０ｎｍ以下であり、かつ幅が８００ｎｍ以上の範囲であった。
【０１２８】
＜製造例７：原反フィルム１の作製＞
ノルボルネン系重合体（商品名：ＺＥＯＮＯＲ    １４２０Ｒ、日本ゼオン社製、ガラス転移温度：１３６℃、飽和吸水率：０．０１重量％未満）のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて１１０℃で４時間乾燥した。そしてリーフディスク形状のポリマーフィルター（ろ過精度３０μｍ）が設置され、ダイリップの先端部がクロムめっきされた平均表面粗さＲａ＝０．０４μｍのリップ幅６５０ｍｍのコートハンガータイプのＴダイを有する短軸押出機を用いて、前記ペレットを２６０℃で溶融押出しして厚み１００μｍ、幅６００ｍｍの原反フィルム１を得た。原反フィルム１の、波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値Ｒｅ（５５０）は、３ｎｍであった。
【０１２９】
＜製造例８：原反フィルム２の作製＞
製造例７で用いたノルボルネン系重合体からなる層（ＩＩ層）、スチレン−マレイン酸共重合体（ノヴァ・ケミカル社製、商品名「Ｄａｙｌａｒｋ    Ｄ３３２」、ガラス転移温度１３０℃、オリゴマー成分含有量３重量％）からなる層（Ｉ層）、及び変性したエチレン−酢酸ビニル共重合体（三菱化学社製、商品名「モディックＡＰ  Ａ５４３」、ビカット軟化点８０℃）からなる接着剤層（ＩＩＩ層）が、ＩＩ層（３０μｍ）−ＩＩＩ層（６μｍ）−Ｉ層（１５０μｍ）−ＩＩＩ層（６μｍ）−ＩＩ層（３０μｍ）の順に積層された原反フィルム２を共押出し成形により得た。
【０１３０】
＜製造例９：光学異方体Ｃ１、Ｃ２及びＣ３の作製＞
製造例７で得られた原反フィルム１を、延伸機を使用して、オーブン温度（予熱温度、延伸温度、熱固定温度）１４０℃、延伸速度６ｍ／分、縦延伸倍率１．５倍と１．３倍で延伸処理を行い、それぞれ光学異方体Ｃ１及びＣ２を得た。得られた光学異方体Ｃ１及びＣ２の波長５５０ｎｍのレターデーション値Ｒｅ（５５０）は、それぞれ、２６５ｎｍ、１３２．５ｎｍであった。
【０１３１】
上記の光学異方体Ｃ１の片面に、上記の光学異方体Ｃ２をアクリル系接着剤（住友スリーエム社製、ＤＰ−８００５クリア）を介して、それぞれの遅相軸の交差角が５９°になるように貼り合わせ光学異方体Ｃ３を得た。この光学異方体Ｃ３のＲｅ（５５０）と、波長４５０ｎｍのレターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．００５であった。
【０１３２】
＜製造例１０：光学異方体Ｃ４の作製＞
光学異方体Ｃ１の片面に、他の光学異方体（日本石油社製  商品名ＮＨフィルム）をアクリル系接着剤（住友スリーエム社製、ＤＰ−８００５クリア）を介して、それぞれの遅相軸の交差角が５９°になるように貼り合わせ光学異方体Ｃ４を得た。この光学異方体Ｃ４のＲｅ（５５０）と波長４５０ｎｍのレターデーション値Ｒｅ（４５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８６であった。
【０１３３】
＜製造例１１：光学異方体Ｃ５、Ｃ６の作製＞
原反フィルム２を、テンター延伸機を用いて、延伸温度１３８℃、延伸倍率１．５倍、延伸速度１１５％／ｍｉｎで幅方向に対して−１３°方向へ傾けた斜め延伸を行い、これを３０００ｍに渡ってロール状に巻き取って光学異方体Ｃ５を得た。得られた光学異方体Ｃ５の波長５５０ｎｍにおけるリターデーションＲｅ（５５０）を測定したところ１３７．２ｎｍであった。上記の光学異方体Ｃ５の片面に、製造例９で得られた光学異方体Ｃ１をアクリル系接着剤（住友スリーエム社製、ＤＰ−８００５クリア）を介して、それぞれの遅相軸の交差角が５９°になるように貼り合わせ光学異方体Ｃ６を得た。この光学異方体Ｃ６のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８１であった。
【０１３４】
＜製造例１２：＞光学異方体Ｃ７、Ｃ８及びＣ９の作製＞
原反フィルム１を、延伸機を使用して、オーブン温度（予熱温度、延伸温度、熱固定温度）１７０℃、フィルム繰り出し速度６ｍ／分、縦延伸倍率１．７５倍と１．４５倍で延伸処理を行い、それぞれ光学異方体Ｃ７及びＣ８を得た。得られた光学異方体Ｃ７及びＣ８の波長５５０ｎｍのレターデーション値Ｒｅ（５５０）は、それぞれ、２６５ｎｍ、１３２．５ｎｍであった。上記の光学異方体Ｃ７の片面に、上記の光学異方体Ｃ８をアクリル系接着剤（住友スリーエム社製、ＤＰ−８００５クリア）を介して、それぞれの遅相軸の交差角が５９°になるように貼り合わせ光学異方体Ｃ９を得た。この光学異方体Ｃ９のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は１．０１０であった。
【０１３５】
＜製造例１３：偏光子Ｐの作製＞
波長３８０ｎｍにおける屈折率が１．５４５、波長７８０ｎｍにおける屈折率が１．５２１で、厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、２．５倍に一軸延伸し、ヨウ素０．２ｇ／Ｌ及びヨウ化カリウム６０ｇ／Ｌを含む３０℃の水溶液中に２４０秒間浸漬し、次いでホウ酸７０ｇ／Ｌ及びヨウ化カリウム３０ｇ／Ｌを含む水溶液に浸漬すると同時に６．０倍に一軸延伸して５分間保持した。最後に、室温で２４時間乾燥し、平均厚さ３０μｍで、偏光度．９９．９５％の偏光子Ｐを得た。
【０１３６】
＜製造例１４：ハードコート材料Ｈの調製＞
６官能ウレタンアクリレートオリゴマー３０部、ブチルアクリレート４０部、イソボロニルメタクリレート３０部、および２，２−ジフェニルエタン−１−オン１０部を、ホモジナイザーで混合し、五酸化アンチモン微粒子（平均粒子径２０ｎｍ、水酸基がパイロクロア構造の表面に現れているアンチモン原子に１つの割合で結合している。）の４０％メチルイソブチルケトン溶液を、五酸化アンチモン微粒子の重量がハードコート層形成用組成物全固形分の５０重量％を占める割合で混合して、ハードコート材料Ｈを調製した。
【０１３７】
＜製造例１５：低屈折率形成用材料Ｌの調製＞
含フッ素モノマーである、フッ化ビニデリン７０重量部およびテトラフルオロエチレン３０重量部をメチルイソブチルケトンに溶解した。次に、この溶解物に、中空シリカイソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業社製、固形分２０重量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ）を、含フッ素モノマー固形分に対して中空シリカ固形分で３０重量％、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（信越化学社製）を前記固形分に対して３重量％、光ラジカル発生剤イルガキュア１８４（チバ・スペシャリティケミカルズ社製）を前記固形分に対して５重量％添加し、低屈折率形成用材料Ｌを調製した。
【０１３８】
＜実施例１＞
（反射防止層の形成）
製造例３で得られた保護フィルム１の両面に、高周波発信機（出力０．８ＫＷ）を用いてコロナ放電処理を行い、表面張力が０．０５５Ｎ／ｍの保護フィルム１Ａを得た。次に、保護フィルム１Ａの片面に、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの環境下で、ダイコーターを用いてハードコート材料Ｈを塗工し、８０℃の乾燥炉の中で５分間乾燥させて被膜を得た。さらに、この皮膜に紫外線を照射（積算照射量３００ｍＪ／ｃｍ２）して、厚さ５μｍのハードコート層を形成し、ハードコート層付き保護フィルム１Ｂを得た。ハードコート層の屈折率は１．６２であり、ハードコート層側の鉛筆硬度が４Ｈを越えるものであった。ハードコート層付き保護フィルム１Ｂのハードコート層側に、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの環境下でワイヤーバーコーターを用いて低屈折率層形成用材料Ｌを塗工し、１時間放置して乾燥させ、得られた被膜を１２０℃で１０分間、酸素雰囲気下で熱処理し、次いで出力１６０Ｗ／ｃｍ、照射距離６０ｍｍの条件で紫外線を照射して厚さ１００ｎｍの低屈折率層（屈折率１．３７）を形成し、反射防止層付き保護フィルム１Ｃを得た。
【０１３９】
（観察者側偏光板の作成）
偏光子Ｐの両面にポリビニルアルコール系接着剤を塗布し、偏光子Ｐの一面に、製造例９で得られた光学異方体Ｃ３を、偏光子の透過軸と光学異方体Ｃ３に積層されている光学異方体Ｃ１の遅相軸の交差角が１５°になり、かつ光学異方体Ｃ３のＣ１側と偏光子Ｐの偏光子側が接する様に重ね、偏光子Ｐのもう一方の面に反射防止層付き保護フィルム１の反射防止層が形成されていない面を向けて重ね、ロールトゥロール法により貼り合わせ観察者側偏光板ＦＰ１を得た。
【０１４０】
（バックライト側偏光板の作製）
偏光子Ｐの両面にポリビニルアルコール系接着剤を塗布し、偏光子Ｐの一面に、製造例９で得られた光学異方体Ｃ３を、偏光子Ｐの透過軸と光学異方体Ｃ３に積層されている光学異方体Ｃ１の遅相軸の交差角が１５°になり、かつ光学異方体Ｃ３のＣ１側と偏光子Ｐの偏光子側が接する様に重ね、偏光子Ｐのもう一方の面に基材フィルム１の一面を向けて重ね、ロールトゥロール法により貼り合わせバックライト側偏光板ＢＰ１を得た。
【０１４１】
（液晶表示装置１の作製）
ＴＮモードの半透過型液晶セルとして、基盤両界面のプレチルト角が２度、ツイスト角が左ねじれ７０度、Δｎｄが反射表示部で２３０ｎｍ、透過表示部で略２６２ｎｍのものを用いた。液晶膜厚は反射電極領域（反射表示部）で３．５μｍ、透明電極領域（透過表示部）で４．０μｍとした。製造例１４で得られた観察者側偏光板ＦＰ１、上記液晶セル、および製造例１５で得られたバックライト側偏光板ＢＰ１を、この順序にて積層し、次にバックライト側偏光板に接する様に拡散シート、導光板、バックライトをこの順序にて組み込み、液晶表示装置１を作製した。
【０１４２】
＜実施例２＞
実施例１における光学異方体Ｃ３に代えて、製造例１０で得られた光学異方体Ｃ４を用いた他は実施例１と同様の方法で観察者側偏光板ＦＰ２を得た。次に、実施例１において、光学異方体Ｃ３に代えて製造例１０で得られた光学異方体Ｃ４を用いた他は、実施例１と同様の方法でバックライト側偏光板ＢＰ２を得た。さらに、実施例１において、観察者側偏光板ＦＰ１に代えて、観察者側偏光板ＦＰ２を用い、バックライト側偏光板ＰＢ１に代えて、バックライト側偏光板ＢＰ２を用いた他は実施例１と同じ方法で液晶表示装置２を作製した。
【０１４３】
＜実施例３＞
（観察者側偏光板の作製）
偏光子Ｐの両面にポリビニルアルコール系接着剤を塗布し、偏光子Ｐの一面に、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８６であるポリカーボネートフィルム（帝人社製  商品名ピュアエース  ＷＲ−Ｗ：表中ＰＣと表記）を、偏光子の透過軸とポリカーボネートフィルムの遅相軸の交差角が４５°になる様に重ね、偏光子Ｐのもう一方の面に反射防止層付き保護フィルム１Ｃの反射防止層が形成されていない面を向けて重ね、ロールトゥロール法により貼り合わせ観察者側偏光板ＦＰ３を得た。
【０１４４】
（バックライト側偏光板の作製）
偏光子Ｐの両面にポリビニルアルコール系接着剤を塗布し、偏光子Ｐの一面に、上記ポリカーボネートフィルムを、偏光子Ｐの透過軸とポリカーボネートフィルムの遅相軸の交差角が４５°になる様に重ね、偏光子Ｐのもう一方の面に基材フィルム１の一面を向けて重ね、ロールトゥロール法により貼り合わせバックライト側偏光板ＢＰ３を得た。
【０１４５】
さらに、実施例１において、観察者側偏光板ＦＰ１に代えて観察者側偏光板ＦＰ３を用い、バックライト側偏光板ＢＰ１に代えてバックライト側偏光板ＢＰ３を用いた他は、実施例１と同じ方法で液晶表示装置３を作製した。
【０１４６】
＜実施例４＞
実施例１において、光学異方体Ｃ３に代えて製造例１１で得られた光学異方体Ｃ６を用いた他は製造例１４と同様の方法で観察者側偏光板ＦＰ４を得た。次に実施例１において、光学異方体Ｃ３に代えて製造例１１で得られた光学異方体Ｃ６を用いた他は、製造例１５と同様の方法でバックライト側偏光板ＢＰ４を得た。さらに、実施例１において、観察者側偏光板ＦＰ１に代えて観察者側偏光板ＦＰ４を用い、バックライト側偏光板ＢＰ１に代えてバックライト側偏光板ＢＰ４を用いた他は、実施例１と同じ方法で液晶表示装置４を作製した。
【０１４７】
＜実施例５＞
保護フィルム１に代えて製造例４で得られた保護フィルム２を用い、保護フィルム２のＰＭＭＡ層の面に、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの環境下で、ダイコーターを用いてハードコート材料Ｈを塗工し、８０℃の乾燥炉の中で５分間乾燥させて被膜を得た。さらに、この皮膜に紫外線を照射（積算照射量３００ｍＪ／ｃｍ２）して、厚さ５μｍのハードコート層を形成し、ハードコート層付き保護フィルム２Ｂを得た。ハードコート層の屈折率は１．６２であり、ハードコート層側の鉛筆硬度が４Ｈであった。ハードコート層付き保護フィルム２Ｂのハードコート層側に、温度２５℃、湿度６０％ＲＨの環境下でワイヤーバーコーターを用いて低屈折率層形成用材料Ｌを塗工し、１時間放置して乾燥させ、得られた被膜を１２０℃で１０分間、酸素雰囲気下で熱処理し、次いで出力１６０Ｗ／ｃｍ、照射距離６０ｍｍの条件で紫外線を照射して厚さ１００ｎｍの低屈折率層（屈折率１．３７）を形成し、反射防止層付き保護フィルム２Ｃを得た。
【０１４８】
反射防止層付き保護フィルム２Ｃを用いる以外は、実施例１と同様にして観察者側偏光板ＦＰ５を得た。保護フィルム１に代えて製造例４で得られた保護フィルム２を用いる他は、実施例１と同様にしてバックライト側偏光板ＢＰ５を得た。そして、観察者側偏光板ＢＰ１に代えて観察者側偏光板ＢＰ５を用い、バックライト側偏光板ＢＰ１に代えてバックライト側偏光板ＢＰ５を用いて、液晶表示装置５を得た。
【０１４９】
＜実施例６＞
保護フィルム１に代えて製造例５で得られた保護フィルム３を用いる以外は、実施例１と同様にして反射防止層付き保護フィルム３Ｃを得た。反射防止層付き保護フィルム２Ｃを用いる他は実施例１と同様にして観察者側偏光板ＦＰ６を得た。保護フィルム１に代えて保護フィルム３を用いる他は、実施例１と同様にしてバックライト側偏光板ＢＰ６を得た。そして、観察者側偏光板ＢＰ１に代えて観察者側偏光板ＢＰ６を用い、バックライト側偏光板ＢＰ１に代えてバックライト側偏光板ＢＰ６を用いて、液晶表示装置６を得た。
【０１５０】
＜比較例１＞
保護フィルム１に代えて、製造例６で得られた保護フィルム４を用いる他は、実施例１と同様にして反射防止層付き保護フィルム４Ｃを得た。反射防止層付き保護フィルム４Ｃを用いる以外は、実施例１と同様にして観察者側偏光板ＦＰ７を得た。保護フィルム１に代えて、保護フィルム４を用いる以外は、実施例１と同様にしてバックライト側偏光板ＢＰ７を得た。そして、観察者側偏光板ＢＰ１に代えて、観察者側偏光板ＢＰ７を用い、バックライト側偏光板ＢＰ１に代えてバックライト側偏光板ＢＰ７を用いて液晶表示装置７を得た。
【０１５１】
＜比較例２＞
光学異方体Ｃ３に代えて製造例１２で得られた光学異方体Ｃ９を用い、偏光子の透過軸と光学異方体Ｃ９に積層されている光学異方体Ｃ７の遅相軸の交差角が１５°になる様に重ねた以外は実施例１と同様にして、観察者側偏光板ＦＰ８を作製した。光学異方体Ｃ３に代えて、  製造例１２で得られた光学異方体Ｃ９を用い、偏光子の透過軸と光学異方体Ｃ９に積層されている光学異方体Ｃ７の遅相軸の交差角が１５°になる様に重ねた以外は実施例１と同様にして、バックライト側偏光板ＢＰ８を作製した。さらに実施例１において、観察者側偏光板ＦＰ１に代えて、観察者側偏光板ＦＰ８を用い、バックライト側偏光板ＢＰ１に代えて、バックライト側偏光板ＢＰ８を用いた他は実施例１と同じ方法で液晶表示装置８を作製した。
【０１５２】
＜比較例３＞
保護フィルム１に代えて、ポリメチルメタクリレート樹脂からなる厚み８０μｍの単層押出成形フィルムを保護フィルム５として用いる他は、実施例１と同様にして反射防止層付き保護フィルム５Ｃを作製した。基材フィルム５の透湿度は４１ｇ／ｍ２・２４ｈであった。反射防止層付き保護フィルム１Ｃに代えて、反射防止層付き保護フィルム５Ｃを用いる他は、実施例１と同様にして観察者側偏光板ＦＰ９を得た。保護フィルム１に代えて保護フィルム５を用いる以外は、実施例１と同様にしてバックライト側偏光板ＢＰ９を得た。そして、観察者側偏光板ＢＰ１に代えて、観察者側偏光板ＢＰ９を用い、バックライト側偏光板ＢＰ１に代えてバックライト側偏光板ＢＰ９を用いて液晶表示装置９を得た。
【０１５３】
＜比較例４＞
保護フィルム１に代えてトリアセチルセルロースからなる厚み８０μｍの単層キャスト成形フィルムを保護フィルム６として用い、ハードコート層の厚みを１５μｍとした他は実施例１と同様にして反射防止層付き保護フィルム６Ｃを作製した。保護フィルム６の透湿度は２５０ｇ／ｍ２・２４ｈであった。反射防止層付き保護フィルム１Ｃに代えて、反射防止層付き保護フィルム６Ｃを用いる他は、実施例１と同様にして観察者側偏光板ＦＰ１０を得た。保護フィルム１に代えて、保護フィルム６を用いる以外は、実施例１と同様にしてバックライト側偏光板ＢＰ１０を得た。そして、観察者側偏光板ＢＰ１に代えて、観察者側偏光板ＢＰ１０を用い、バックライト側偏光板ＢＰ１に代えてバックライト側偏光板ＢＰ１０を用いて液晶表示装置１０を得た。
【０１５４】
【表１】
2007233215.tif 000002
【０１５５】
表１に示すように、実施例１〜６の偏光板では、偏光度変化がほとんどなく、干渉縞がなく、密着性、表面硬度（鉛筆硬度）、カール性、打抜き性、および可撓性に優れていることがわかった。また、実施例１〜６の液晶表示装置は、コントラストおよび色むらがなく、視認性に優れていることがわかった。従って、高い光学性能を有し、かつ強度に優れることがわかった。
【０１５６】
これに対して、比較例１の偏光板は、偏光度変化や干渉縞が生じ、密着性に劣り、かつ鉛筆硬度がやや低下していた。また、比較例２の偏光板を用いた液晶表示装置は、コントラストが不十分であり、色むらが生じていた。また、比較例３の偏光板は、打抜き性および可撓性が不十分であった。また、比較例４の偏光板は、偏光度変化や干渉縞が生じ、打抜き性および可撓性が不十分である点で劣っていた。また、この比較例４の偏光板を用いた液晶表示装置は、コントラストが不十分であり、色むらが生じていた。
【０１５７】
＜実施例７：タッチパネル付き液晶表示装置＞
（タッチパネルの作製）
実施例１で得られた観察者側偏光板ＦＰ１（円偏光板）を用いて、図４に示すタッチパネル１００を作製した。観察者側偏光板ＦＰ１は、偏光子Ｐと、偏光子Ｐの一方の面に設けられる光学異方体Ｃ３（広帯域１／４波長板）と、偏光子Ｐの他方の面に設けられる反射防止層付き保護フィルムＡ（実施例１における反射防止層付き保護フィルム１に相当する）とを備えている。
【０１５８】
まず、観察者側偏光板ＦＰ１の光学異方体Ｃ３を有する面に、厚み３μｍのハードコート膜１１１を形成し、次いで、ＤＣマグネトロンスパッタ法にて、ハードコート膜１１１の上に厚み２５ｎｍのＩＴＯ膜からなる透明導電膜１１２を成膜して上部電極１１０（第２透明基板）を得た。上部電極１１０は、透明導電膜１１２側の表面抵抗率を、４端子法にて２５℃、２０％ＲＨの環境で測定した結果、３００Ω／□であった。次に、ガラス板１２１の片面にＤＣマグネトロンスパッタ法にて表面抵抗率が４００Ω／□の、ＩＴＯ膜からなる透明導電膜１２２を成膜して下部電極１２０（第１透明基板）を得た。ガラス板１２１の透明導電膜１２２が設けられた面に１ｍｍピッチのドットスペーサ１２３を形成した。上部電極１１０の透明導電膜１１２と下部電極１２０の透明導電膜１２２同士が対向するようにして、上部電極１１０と下部電極１２０とを接着して、タッチパネル１００を作製した。
【０１５９】
（タッチパネル付き液晶表示装置の作製および評価）
実施例１で得られた液晶表示装置１の表示面に、前記タッチパネル１００を、下部電極１２０のガラス板１２１側を液晶セル（図示略）に向けて配置し、タッチパネル付き液晶表示装置を作製した。本実施例に係るタッチパネル付き液晶表示装置に、白表示１．５Ｖ、黒表示４．５Ｖとして正面から目視で表示特性を評価したところ、白表示においても、黒表示においても、色味が無く、文字の鮮明度も良好であった。
【０１６０】
＜比較例５：タッチパネル付き液晶表示装置＞
本比較例５に係るタッチパネル付き液晶表示装置は、実施例７に係るタッチパネル付き液晶表示装置とは、観察者側偏光板ＦＰ１を比較例２で得られた観察者側偏光板ＦＰ８（円偏光板）に変更した点が相違している。本比較例に係るタッチパネル付き液晶表示装置に用いられるタッチパネル２００について図４を参照して説明する。図４に示すように、本比較例では、実施例７において、観察者側偏光板ＦＰ１に代えて比較例２で得られた観察者側偏光板ＦＰ８を用い、観察者側偏光板ＦＰ８の光学異方体Ｃ９（１／４波長板）が設けられた面に透明導電膜１１２を成膜した他は、実施例７と同様にして上部電極２１０を得た。実施例７の上部電極１１０に代えて本上部電極２１０を用いた他は、実施例７と同様にしてタッチパネル２００を作製し、このタッチパネル２００を用いてタッチパネル付き液晶表示装置を作製した。作製したタッチパネル付き液晶表示装置の表示特性を評価したところ、全体的に色づきが見られ、文字ぼけが見られた。
【図面の簡単な説明】
【０１６１】
【図１】本発明の実施形態に係る反射型の液晶表示装置を模式的に示す図である。
【図２】本発明の実施形態に係る半透過型の液晶表示装置を模式的に示す図である。
【図３】本発明の実施例において、測定点の位置を説明するための図である。
【図４】実施例７および比較例５に係るタッチパネルを模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１６２】
１      反射板
２      反射型の液晶セル
３      出射側偏光板
４      円偏光板
５，２５      保護フィルム
６      光学異方体
６Ａ      １／４波長板
６Ｂ      １／２波長板
７      偏光子
８      基材フィルム
８Ａ      親水性樹脂層
８Ｂ      熱可塑性樹脂層
９      機能層
９Ａ      ハードコート層
９Ｂ      低屈折率層
１０，２０      液晶表示装置
２１      バックライト装置
２２      入射側偏光板
２３      半透過型の液晶セル
１００，２００      タッチパネル
１１０，２１０      上部電極
１１１      ハードコート膜
１１２，１２２      透明導電膜
１２０      下部電極
１２１      ガラス板
１２３      ドットスペーサ
Ａ      反射防止層付き保護フィルム
Ｃ３，Ｃ９      光学異方体
ＦＰ１，ＦＰ８      観察者側偏光板
【図１】
2007233215.tif 000003
【図２】
2007233215.tif 000004
【図３】
2007233215.tif 000005
【図４】
2007233215.tif 000006