(57)【要約】【課題】表示される画像に歪みが生じる等の問題の発生が十分に防止された透過型スクリーンおよびその製造方法を提供すること、また、前記透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタを提供すること。【解決手段】本発明の透過型スクリーンの製造方法は、マイクロレンズ基板と、フレネルレンズ基板とを備えた透過型スクリーンを製造する方法であって、前記マイクロレンズ基板および前記フレネルレンズ基板として、いずれも、レンズ部が設けられたレンズ面の周縁部付近にレンズ部が設けられていない平坦な非レンズ領域を有するものを用意し、前記マイクロレンズ基板と前記フレネルレンズ基板とを、互いのレンズ面が対向するように配置した状態で、前記非レンズ領域にスペーサーを配する工程と、当該スペーサーを介して、前記マイクロレンズ基板と前記フレネルレンズ基板とを接合する工程とを有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロレンズ基板と、フレネルレンズ基板とを備えた透過型スクリーンを製造する方法であって、
前記マイクロレンズ基板および前記フレネルレンズ基板として、いずれも、レンズ部が設けられたレンズ面の周縁部付近にレンズ部が設けられていない平坦な非レンズ領域を有するものを用意し、
前記マイクロレンズ基板と前記フレネルレンズ基板とを、互いのレンズ面が対向するように配置した状態で、前記非レンズ領域にスペーサーを配する工程と、
当該スペーサーを介して、前記マイクロレンズ基板と前記フレネルレンズ基板とを接合する工程とを有することを特徴とする透過型スクリーンの製造方法。
【請求項２】
前記スペーサーとして、前記マイクロレンズ基板が有するマイクロレンズの頂部付近と、前記フレネルレンズ基板が有するフレネルレンズの頂部付近とが接触するような、厚さのものを用いる請求項１に記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項３】
前記マイクロレンズ基板と前記フレネルレンズ基板とを、互いのレンズ面が対向するように配置した状態で、前記レンズ部が設けられた有効レンズ領域にレーザー光を照射することにより、前記マイクロレンズ基板と前記フレネルレンズ基板とを接合し、レーザー接合部を形成する工程を有する請求項１または２に記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項４】
前記レーザー光のビーム径は、１〜１００μｍである請求項３に記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項５】
前記レーザー光は、前記フレネルレンズ基板側から照射する請求項３または４に記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項６】
前記レーザー接合部を多数個形成する請求項３ないし５のいずれかに記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項７】
隣接する前記レーザー接合部間の距離は、２〜１００ｍｍである請求項６に記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項８】
前記マイクロレンズ基板は、前記レンズ面側に、着色部を有するものである請求項１ないし７のいずれかに記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項９】
前記着色部の厚さは、０．１〜１００μｍである請求項８に記載の透過型スクリーンの製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載の方法を用いて製造されたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１１】
請求項１０に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透過型スクリーンの製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタ（背面投射型プロジェクションテレビ）は、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタでは、入射した光を略平行光とするフレネルレンズ基板と、フレネルレンズ基板から出射された略平行光を拡散させる機能を有するマイクロレンズ基板とを備えた透過型スクリーンが広く用いられている。
このような透過型スクリーンにおいては、マイクロレンズ基板と、フレネルレンズ基板とが、略平行となるようにこれらを枠にはめ込み、保持することが行われてきた（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、上記のような方法では、精度良くレンズ基板を固定することが困難であり、スクリーンに表示される画像に歪みが生じたり、画像がぼけてしまう等の問題点があった。また、従来の透過型スクリーンでは、枠に固定されたレンズ基板のがたつきにより、搬送時等に、レンズ基板同士がぶつかり合い、レンズ面に欠陥を生じる等の問題点があった。
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−３１８４３０号公報（図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、表示される画像に歪みが生じる等の問題の発生が十分に防止された透過型スクリーンおよびその製造方法を提供すること、また、前記透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の透過型スクリーンの製造方法は、マイクロレンズ基板と、フレネルレンズ基板とを備えた透過型スクリーンを製造する方法であって、
前記マイクロレンズ基板および前記フレネルレンズ基板として、いずれも、レンズ部が設けられたレンズ面の周縁部付近にレンズ部が設けられていない平坦な非レンズ領域を有するものを用意し、
前記マイクロレンズ基板と前記フレネルレンズ基板とを、互いのレンズ面が対向するように配置した状態で、前記非レンズ領域にスペーサーを配する工程と、
当該スペーサーを介して、前記マイクロレンズ基板と前記フレネルレンズ基板とを接合する工程とを有することを特徴とする。
これにより、表示される画像に歪みが生じる等の問題の発生が十分に防止された透過型スクリーンを製造することができる製造方法を提供することができる。
【０００７】
本発明の透過型スクリーンの製造方法では、前記スペーサーとして、前記マイクロレンズ基板が有するマイクロレンズの頂部付近と、前記フレネルレンズ基板が有するフレネルレンズの頂部付近とが接触するような、厚さのものを用いることが好ましい。
これにより、搬送時等の衝撃により、マイクロレンズ基板やフレネルレンズ基板のレンズ面に欠陥が生じるのをより効果的に防止することができる。
【０００８】
本発明の透過型スクリーンの製造方法では、前記マイクロレンズ基板と前記フレネルレンズ基板とを、互いのレンズ面が対向するように配置した状態で、前記レンズ部が設けられた有効レンズ領域にレーザー光を照射することにより、前記マイクロレンズ基板と前記フレネルレンズ基板とを接合し、レーザー接合部を形成する工程を有することが好ましい。
これにより、フレネルレンズ基板とマイクロレンズ基板とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止しつつ、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ基板との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【０００９】
本発明の透過型スクリーンの製造方法では、前記レーザー光のビーム径は、１〜１００μｍであることが好ましい。
これにより、形成されるレーザー接合部が、表示される画像に対して悪影響を与えるのをより確実に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ基板との接合強度を特に優れたものとすることができる。また、フレネルレンズ基板とマイクロレンズ基板とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止することができ、表示される画像の安定性、信頼性を特に優れたものとすることができる。
【００１０】
本発明の透過型スクリーンの製造方法では、前記レーザー光は、前記フレネルレンズ基板側から照射することが好ましい。
これにより、目的とする部位にレーザー光をより確実に照射することができ、効率良くレーザー接合部を形成することができる。また、レーザー接合部を形成すべき部位以外に照射されたレーザー光のエネルギーをマイクロレンズで拡散させることができるため、マイクロレンズ基板の構成材料の劣化等をより確実に防止することができる。
【００１１】
本発明の透過型スクリーンの製造方法では、前記レーザー接合部を多数個形成することが好ましい。
これにより、フレネルレンズ基板とマイクロレンズ基板とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止しつつ、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ基板との接合強度を特に優れたものとすることができる。また、レーザー接合部を多数個形成することにより、１個当りのレーザー接合部の大きさや接合強度を比較的小さいものとした場合であっても、透過型スクリーン全体として、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ基板との位置ずれを確実に防止することができる。したがって、レーザー接合部の形成条件をより穏やかなものとすることができ、形成されるレーザー接合部が、表示される画像に対して悪影響を与えるのをより確実に防止することができる。
本発明の透過型スクリーンの製造方法では、隣接する前記レーザー接合部間の距離は、２〜１００ｍｍであることが好ましい。
これにより、表示される画像に与える影響を特に小さいものとしつつ、フレネルレンズ基板とマイクロレンズ基板との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【００１２】
本発明の透過型スクリーンの製造方法では、前記マイクロレンズ基板は、前記レンズ面側に、着色部を有するものであることが好ましい。
これにより、入射側から入射した光を十分に透過しつつ、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを効果的に防止することができる。したがって、このような着色部を有することにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。また、これにより、レーザー接合部を形成する場合において、レーザー光のエネルギーを着色部に効率良く吸収させることができ、その結果、好適なレーザー接合部を効率良く形成することができる。
【００１３】
本発明の透過型スクリーンの製造方法では、前記着色部の厚さは、０．１〜１００μｍであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズの変形等を最小限にとどめつつ、レーザー接合部をより効率良く形成することができる。また、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明の透過型スクリーンは、本発明の方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、表示される画像に歪みが生じる等の問題の発生が十分に防止された透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、表示される画像に歪みが生じる等の問題の発生が十分に防止されたリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の透過型スクリーンの製造方法、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明の透過型スクリーンの構成について説明する。
図１は、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示す透過型スクリーンの分解斜視図、図３は、図１に示す透過型スクリーンを構成するマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な平面図である。なお、以下の説明では、図１中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００１６】
透過型スクリーン１０は、マイクロレンズ基板１と、フレネルレンズ基板３と、スペーサー４とを備えている。
フレネルレンズ基板３は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ３１を有している。
透過型スクリーン１０において、フレネルレンズ基板３は、光（画像光）の入射側に設置され、フレネルレンズ基板３を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。このフレネルレンズ基板３は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
また、フレネルレンズ基板３は、フレネルレンズ（レンズ部）３１が設けられたレンズ面３２の周縁部付近に、レンズ部が設けられていない平坦な非レンズ領域３３を有している。
【００１７】
マイクロレンズ基板１は、微小な凸レンズとしてのマイクロレンズ（レンズ部）２１を多数備えている。このようなマイクロレンズ２１を有することにより、マイクロレンズ基板１は、フレネルレンズ基板３からの平行光Ｌａを、マイクロレンズ２１により一旦集光させ、その後、拡散させる機能を有する。なお、本発明において、マイクロレンズとは、十分に微小なレンズ（より具体的には、平面視したときの幅が５００μｍ以下のレンズ）であればよく、平面視したときの形状が略円形、略六角形、略楕円形（扁平形状、略俵形）のもののほか、いわゆるレンチキュラレンズ等も含む概念である。
また、マイクロレンズ基板１は、マイクロレンズ（レンズ部）２１が設けられたレンズ面２３の周縁部付近に、レンズ部が設けられていない平坦な非レンズ領域２４を有している。
【００１８】
フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とは、レンズ面３２とレンズ面２３とが対向するように配置されている。
スペーサー４は、対向したフレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１との間であって、これらのレンズ基板の周縁部付近に設置されている。そして、スペーサー４は、非レンズ領域３３においてフレネルレンズ基板３と接合され、非レンズ領域２４においてマイクロレンズ基板１と接合された構成になっている。
また、スペーサー４は、一定の厚みを有している。これにより、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とを平行に配置することができ、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）を防止することができる。また、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とが相対的に移動してしまうことが効果的に防止される。したがって、透過型スクリーン１０に表示される画像に歪みが生じたり、画像がぼけてしまう等の問題の発生を効果的に防止することができ、好適な画像を表示することができる。
【００１９】
透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ基板３によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１のレンズ面（マイクロレンズ２１が設けられた面）２３側からに入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、その反対の面側から出射する。
このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。マイクロレンズ基板１から出射した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【００２０】
以下、透過型スクリーン１０および透過型スクリーン１０の構成部材についてより詳細に説明する。
［フレネルレンズ基板］
フレネルレンズ基板３は、いかなる材料で構成されたものであってもよい。
フレネルレンズ基板３の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料、各種ガラス材料等を用いることができるが、フレネルレンズ基板３の生産性、スペーサー４との接合性（接合のし易さ、接合強度の大きさ）等の観点から、樹脂材料が好ましい。
【００２１】
フレネルレンズ基板３を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができるが、中でも、透明性の観点から、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、アクリル系樹脂が好ましく、その中でも特にアクリル系樹脂が好ましい。アクリル系樹脂は、優れた透明性を有し、かつ、耐熱性、耐光性、加工性、成形した際の寸法精度、機械的強度等にも優れるため、フレネルレンズ基板３の構成材料に適している。また、アクリル系樹脂は、一般的に、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００２２】
アクリル系樹脂としては、例えば、アクリル酸またはその誘導体（例えば、アクリル酸エステル）を構成モノマーとしたアクリル樹脂、メタクリル酸またはその誘導体（例えば、メタクリル酸エステル）を構成モノマーとしたメタクリル樹脂の他に、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルアクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸エステル共重合体等の（メタ）アクリル酸またはその誘導体を構成モノマーとして含む共重合体等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２３】
フレネルレンズ基板３が有する非レンズ領域３３は、フレネルレンズ基板３の周縁部から３ｍｍ以上の幅で設けられているのが好ましく、３〜５０ｍｍの幅で設けられているのがより好ましい。これにより、デッドスペースとしての非レンズ領域３３が必用以上に大きくなるのを防止しつつ、スペーサー４との接合性を十分に優れたものとすることができる。
非レンズ領域３３は、平坦なものであればよいが、より具体的には、その表面粗さＲａが、１０μｍ以下であるのが好ましく、１μｍ以下であるのがより好ましい。非レンズ領域３３の表面粗さＲａが前記範囲内の値であると、フレネルレンズ基板３とスペーサー４との接合性を特に優れたものとすることができる。
【００２４】
［マイクロレンズ基板］
マイクロレンズ基板１は、基板本体２を備えている。また、マイクロレンズ基板１は、例えば、図示しない遮光部（例えば、ブラックマトリックス、ブラックストライプ等）、拡散部等を、基板本体２よりも光の出射側に備えていてもよい。
基板本体２の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料、各種ガラス材料等を用いることができるが、基板本体２の生産性、スペーサー４との接合性（接合のし易さ、接合強度の大きさ）等の観点から、樹脂材料が好ましい。
【００２５】
基板本体２を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができるが、中でも、透明性の観点から、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、アクリル系樹脂が好ましく、その中でも特にアクリル系樹脂が好ましい。アクリル系樹脂は、優れた透明性を有し、かつ、耐熱性、耐光性、加工性、成形した際の寸法精度、機械的強度等にも優れるため、マイクロレンズ基板１の構成材料に適している。また、アクリル系樹脂は、一般的に、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００２６】
アクリル系樹脂としては、例えば、アクリル酸またはその誘導体（例えば、アクリル酸エステル）を構成モノマーとしたアクリル樹脂、メタクリル酸またはその誘導体（例えば、メタクリル酸エステル）を構成モノマーとしたメタクリル樹脂の他に、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルアクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸エステル共重合体等の（メタ）アクリル酸またはその誘導体を構成モノマーとして含む共重合体等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
また、必要に応じて基板本体２の中には、光源からの入射光を拡散させるために、拡散材として、例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマー等が含まれていてもよい。なお、拡散材は樹脂の全体（基板本体２全体）に含まれるものであってもよいし、一部にのみに含まれるものであってもよい。
【００２７】
基板本体２を構成する樹脂材料のガラス転移点（Ｔｇ）は、特に限定されないが、３０〜１３０℃であるのが好ましく、４５〜１２０℃であるのがより好ましく、７０〜１１０℃であるのがさらに好ましい。基板本体２を構成する樹脂材料のガラス転移点が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１の耐久性を十分に優れたものとしつつ、マイクロレンズ基板１の製造時においては、後に詳述するような着色部２２を容易かつ確実に形成することができる。また、透過型スクリーン１０の製造時においては、レーザー接合部５を好適に形成することができる。なお、基板本体２が複数種の樹脂成分で構成されるものである場合、樹脂材料のガラス転移点は、これらの樹脂成分の混合物についてのガラス転移点となるが、混合物としてのガラス転移点の測定が困難である場合には、各樹脂成分のガラス転移点の加重平均値を、樹脂材料のガラス転移点として採用することができる。
【００２８】
マイクロレンズ基板１が有する非レンズ領域２４は、マイクロレンズ基板１の周縁部から１〜５０ｍｍの幅で設けられているのが好ましく、３〜５０ｍｍの幅で設けられているのがより好ましい。これにより、デッドスペースとしての非レンズ領域２４が必用以上に大きくなるのを防止しつつ、スペーサー４との接合性を十分に優れたものとすることができる。
非レンズ領域２４は、平坦なものであればよいが、より具体的には、その表面粗さＲａが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．１〜１μｍであるのがより好ましい。非レンズ領域２４の表面粗さＲａが前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１とスペーサー４との接合性を特に優れたものとすることができる。
【００２９】
また、マイクロレンズ２１が設けられた側（すなわち、フレネルレンズ基板３と対向する面側）の表面付近には、着色部２２が設けられている。このような着色部２２を有することにより、入射側から入射した光を十分に透過しつつ、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを効果的に防止することができる。したがって、このような着色部を有することにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。また、このような着色部２２を有することにより、後述するような方法により、好適なレーザー接合部５を効率良く形成することができる。
【００３０】
特に、着色部２２は、後に詳述するように、基板本体２に着色液（特に、組成に特徴を有する着色液）を付与することにより形成することができる。着色部２２が、このようにして形成されたものであると、基板本体２上に着色層（着色部）を積層（外付け）した場合に比べて、着色部の密着性が高くなる。その結果、例えば、界面付近での屈折率の変化等によるマイクロレンズ基板の光学特性への悪影響の発生をより確実に防止することができる。また、着色部２２が、基板本体２に着色液を付与することにより形成されたものであると、十分な着色濃度で着色された着色部２２を、厚さが比較的薄いものとして好適に形成することができる。その結果、後述するような方法により、マイクロレンズ２１の変形等を最小限にとどめつつ、レーザー接合部５を効率良く形成することができる。
【００３１】
また、着色部２２は、基板本体２に着色液を付与することにより形成されたものであると、各部位での厚さのばらつき（特に、基板本体の表面形状に対応しない厚さのばらつき）が小さい。これにより、投射される画像において、色ムラ等の不都合が発生するのを防止することができる。
また、着色部２２は、着色剤を含む材料で構成されているものの、通常、その主成分は、基板本体２（マイクロレンズ２１）の主成分と同一である。したがって、着色部２２と、それ以外の非着色部との境界付近での急激な屈折率の変化等が生じ難い。したがって、マイクロレンズ基板１全体としての光学特性を設計し易く、また、マイクロレンズ基板１としての光学特性は安定し、信頼性の高いものとなる。
【００３２】
着色部２２の厚さは、特に限定されないが、０．１〜３０μｍであるのが好ましく、０．１〜１０μｍであるのがより好ましい。着色部２２の厚さが前記範囲内の値であると、後述するような方法により、マイクロレンズ２１の変形等を最小限にとどめつつ、レーザー接合部５をより効率良く形成することができる。また、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３３】
着色部２２の濃度は、特に限定されないが、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）で２０〜９５％であるのが好ましく、３０〜８５％であるのがより好ましく、３５〜７５％であるのがさらに好ましい。着色部２２の濃度が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。また、透過型スクリーン１０の製造時においては、レーザー接合部５の形成をより好適に行うことができる。
【００３４】
着色部２２の色は、特に限定されないが、青色を基調とし、赤色あるいは茶色あるいは黄色を混色した着色剤を用い、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。また、透過型スクリーン１０の製造時においては、レーザー接合部５の形成をより好適に行うことができる。
【００３５】
前述したように、マイクロレンズ２１は、いかなる形状のものであってもよいが、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅（図中Ｌ１で示す長さ））が横幅（水平方向の幅（図Ｌ２で示す長さ））よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。また、投影される画像の輝度をより高いものとすることができる。
【００３６】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．７５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００３７】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１０〜１００μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１の視野角特性、投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、マイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の幅）が前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１の生産性をさらに高めることができる。
【００３８】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さは、１５〜１２０μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１の視野角特性、投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、マイクロレンズ２１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１の生産性をさらに高めることができる。
【００３９】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、５〜６０μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
また、マイクロレンズ２１の高さ（凸部としてのマイクロレンズ２１の高さ）は、５〜６０μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
【００４０】
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している（図３参照）。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００４１】
上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
なお、マイクロレンズ２１の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよい。
【００４２】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図３で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０〜１００％であるのが好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図３参照）。
【００４３】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述する着色部を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果（例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等）が得られる。
【００４４】
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、基板本体２の出射側の表面近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ基板３からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、基板本体２の出射側の表面近傍で焦点ｆを結ぶ。
またこのとき、焦点ｆの近傍を開口するようにブラックマトリックスを形成することにより、光の利用効率を十分に優れたものとしつつ、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００４５】
［スペーサー］
スペーサー４は、いかなる材料で構成されたものであってもよい。
スペーサー４の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料、各種ガラス材料、各種金属材料、各種セラミックス材料等を用いることができるが、スペーサー４の生産性、フレネルレンズ基板３、マイクロレンズ基板１との接合性（接合のし易さ、接合強度の大きさ）等の観点から、樹脂材料が好ましい。
【００４６】
スペーサー４を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができるが、中でも、透明性の観点から、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、アクリル系樹脂が好ましく、その中でも特にアクリル系樹脂が好ましい。アクリル系樹脂は、耐熱性、耐光性、加工性、成形した際の寸法精度、機械的強度等にも優れ、また、熱膨張係数が比較的小さいため、スペーサー４の構成材料に適している。また、アクリル系樹脂は、一般的に、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００４７】
アクリル系樹脂としては、例えば、アクリル酸またはその誘導体（例えば、アクリル酸エステル）を構成モノマーとしたアクリル樹脂、メタクリル酸またはその誘導体（例えば、メタクリル酸エステル）を構成モノマーとしたメタクリル樹脂の他に、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルアクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸エステル共重合体等の（メタ）アクリル酸またはその誘導体を構成モノマーとして含む共重合体等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４８】
また、スペーサー４は、少なくともその表面付近（マイクロレンズ基板１、フレネルレンズ基板３と接触する面）が着色された材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、後述するような方法において、マイクロレンズ基板１とスペーサー４との接合部、および、フレネルレンズ基板３とスペーサー４との接合部を、接合強度が特に高いものとして形成することができる。
【００４９】
スペーサー４の数は、特に限定されないが、複数個用いるのが好ましく、３個以上用いるのがより好ましく、４個以上用いるのがさらに好ましい。これにより、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップをより確実に規制することができる。
なお、スペーサーは、１個のみ用いてもよい。このような場合、マイクロレンズ基板１、フレネルレンズ基板３の周縁部付近に設けられた非レンズ領域に対応するような枠状の形状を有するものであってもよい。
【００５０】
スペーサー４の高さ（マイクロレンズ基板１、フレネルレンズ基板３の主面の垂線方向（法線方向）についての長さ）は、通常、フレネルレンズ基板３が有するフレネルレンズ３１の高さとマイクロレンズ基板１が有するマイクロレンズ２１の高さとの和と同等かそれ以上であるが、フレネルレンズ３１の高さとマイクロレンズ２１の高さとの和と同等であるのが好ましい。すなわち、スペーサー４としては、マイクロレンズ２１の頂部付近と、フレネルレンズ３１の頂部付近とが接触するような、厚さのものであるのが好ましい。より具体的には、フレネルレンズ３１の高さをＨｆ［μｍ］、マイクロレンズ２１の高さをＨｍ［μｍ］、スペーサー４の高さをＨｓ［μｍ］としたとき、０≦Ｈｓ−（Ｈｆ＋Ｈｍ）≦１０の関係を満足するのが好ましく、０≦Ｈｓ−（Ｈｆ＋Ｈｍ）≦１の関係を満足するのがより好ましい。これにより、搬送時等の衝撃により、マイクロレンズ基板１が有するマイクロレンズ２１やフレネルレンズ基板３が有するフレネルレンズに欠陥が生じるのをより効果的に防止することができる。
【００５１】
スペーサー４の幅（マイクロレンズ基板１の非レンズ領域２４、フレネルレンズ基板３の非レンズ領域３３の幅方向についての長さ）は、通常、非レンズ領域２４の幅、非レンズ領域３３の幅と同等かそれ以下であるのが好ましい。より具体的には、非レンズ領域３３の幅とスペーサー４の幅との差、非レンズ領域２４の幅とスペーサー４の幅との差は、０．１〜１００μｍであるのが好ましく、０．１〜１０μｍであるのがより好ましい。
【００５２】
スペーサー４の表面（フレネルレンズ基板３、マイクロレンズ基板１と接触する面）は、平坦なものであるのが好ましく、より具体的には、その表面粗さＲａが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．１〜１μｍであるのがより好ましい。スペーサー４の表面粗さＲａが前記範囲内の値であると、フレネルレンズ基板３やマイクロレンズ基板１との接合性を特に優れたものとすることができる。
【００５３】
［レーザー接合部］
また、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ基板３、マイクロレンズ基板１の有効レンズ領域に、レーザー光の照射により、マイクロレンズ２１とフレネルレンズ３１とが接合することにより形成されたレーザー接合部５を有している。
このようなレーザー接合部５を有することにより、フレネルレンズ基板３、マイクロレンズ基板１の周縁部付近においてのみ、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１との位置関係を規制する場合に比べて、より確実に、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１との位置関係を規制することができる。
【００５４】
レーザー接合部５は、後に詳述するように、レーザー光の照射により形成されたものであり、通常、十分に小さいものである。レーザー接合部５は、通常、マイクロレンズ２１、フレネルレンズ３１の頂部付近において形成されたものである。したがって、透過型スクリーン１０を平面視したときのレーザー接合部５の大きさは、マイクロレンズ２１、フレネルレンズ３１に比べて小さいものである。通常、上記のような構成においては、２０〜５００個のマイクロレンズ２１で１画素を形成するものであり、１画素中におけるレーザー接合部５の大きさは十分に小さいものである。したがって、有効レンズ領域内に、レーザー接合部５を有していても、表示される画像に与える影響は極めて小さく、通常、無視できる。
【００５５】
レーザー接合部５の具体的な大きさは、特に限定されないが、その幅（レーザー接合部５の形状が略円形である場合には、その直径）が、１〜５０μｍであるのが好ましく、１〜１０μｍであるのがより好ましい。レーザー接合部５の大きさ（幅）が前記範囲内の値であると、表示される画像に与える影響を特に小さいものとしつつ、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【００５６】
レーザー接合部５は、有効レンズ領域内に多数形成されているのが好ましい。これにより、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１との接合強度を特に優れたものとすることができる。
多数個のレーザー接合部５を有する場合、隣接するレーザー接合部５間の距離は、２〜１００ｍｍであるのが好ましく、３０〜５０ｍｍであるのがより好ましい。隣接するレーザー接合部５間の距離が前記範囲内の値であると、表示される画像に与える影響を特に小さいものとしつつ、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【００５７】
次に、前述した透過型スクリーン１０の製造方法の一例について説明する。
図４は、図３に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図、図５は、図１に示す透過型スクリーンの製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図４中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
また、マイクロレンズ基板（基板本体）の製造においては、実際には多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００５８】
まず、透過型スクリーンの製造方法の説明に先立ち、透過型スクリーンの構成部材であるマイクロレンズ基板の製造方法について説明する。
＜Ａ１＞まず、図４（ａ）に示すように、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の組成物２７（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与し、その上に、基材フィルム２８を載せ、この基材フィルム２８を介して、組成物２７を平板（押圧部材）１１で押圧する（押圧工程）。
【００５９】
凹部付き部材６は、マイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式（転写された位置関係）で配列した、複数個の凹部６１を備えている。そして、これらの凹部６１は、マイクロレンズ２１が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ２１に対応する形状（転写された形状である以外は実質的に同一の形状）、寸法を有している。凹部付き部材６は、例えば、ガラス等の材料で構成された板状の部材に、所定のパターンで開口部が形成されたマスクを被覆し、当該マスクで被覆された板状の部材にエッチング処理を施し、その後、マスクを除去することにより得ることができる。また、凹部付き部材６の凹部６１が設けられている面側には、離型処理が施されていてもよい。これにより、後述する工程において、基板本体２が有するマイクロレンズ２１にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、凹部付き部材６を容易に取り外すことができ、結果として、マイクロレンズ基板１において、マイクロレンズ２１の欠陥を防止することができる。離型処理としては、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。
【００６０】
基材フィルム２８は、組成物２７（固化後の組成物２７）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、基材フィルム２８の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２７の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。基材フィルム２８は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。また、基材フィルム２８は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
【００６１】
＜Ａ２＞次に、組成物２７を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、マイクロレンズ２１を備えた基板本体２を得る（固化工程。図４（ｂ）参照）。
組成物２７の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
なおここで、必要に応じて組成物２７および／または基材フィルム２８の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物２７および／または基材フィルム２８全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。
【００６２】
＜Ａ３＞次に、形成された基板本体２から、平板１１および凹部付き部材６を取り除く（押圧部材・凹部付き部材除去工程。図４（ｃ）参照）。本工程で除去された平板１１、凹部付き部材６は、マイクロレンズ基板１の製造に繰り返し使用することができる。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１の品質の安定性を高めることができるとともに、製造コスト面でも有利となる。
【００６３】
＜Ａ４＞次に、基板本体２のマイクロレンズ２１が設けられた面側に着色液（染色液）を付与する（着色液付与工程。図４（ｄ）参照）。これにより、基板本体２は、レンズ面２３の表面付近が着色（染色）され、着色部２２が形成され、マイクロレンズ基板１が得られる。
着色液は、いかなるものであってもよいが、本実施形態では、着色剤とベンジルアルコールとを含むものである。このような着色液を用いることにより、基板本体の染色を容易かつ確実に行うことができることを、本発明者は見出した。特に、アクリル系樹脂のように、従来、着色が困難であった材料で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に染色を施すことができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【００６４】
すなわち、ベンジルアルコールを含む着色液を用いることにより、着色液中のベンジルアルコールが基板本体中に侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、ベンジルアルコールと着色剤が置換することにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が染色される。
また、上記のような着色液を用いることにより、均一な厚さで着色濃度も均一な着色部２２を容易かつ確実に形成することができる。特に、着色されるべき領域が大面積のものであっても、均一な厚さで（色ムラなく）着色部２２を形成することができる。
【００６５】
着色液の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、捺染、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２のマイクロレンズ２１が設けられた面側を着色液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、ディッピング（特に、浸染）が好ましい。これにより、容易かつ確実に着色部２２（特に、均一な厚さで着色濃度が均一な着色部２２）を形成することができる。また、特に、着色液の付与を浸染により行う場合、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色（染色）することができる。これは、浸染に用いることができる染料が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）との親和性が高いためであると考えられる。
【００６６】
着色液を付与する工程（着色液付与工程）を、以下のような温度条件で行うのが好ましい。すなわち、着色液付与工程に供される基板本体を構成する樹脂材料のガラス転移点をＴｇ［℃］としたとき、着色液付与工程における処理温度が（Ｔｇ＋３０）℃以下であるのが好ましく、（Ｔｇ−７０）〜（Ｔｇ＋３０）℃であるのがより好ましく、（Ｔｇ−６０）〜（Ｔｇ＋２０）℃であるのがさらに好ましく、（Ｔｇ−６０）〜（Ｔｇ）℃であるのがもっとも好ましい。このような条件で着色液を付与することにより、均一な厚さで、かつ、着色濃度のムラが抑制された遮光部を形成することができる。これに対し、着色液付与工程における処理温度が前記上限値を超えると、樹脂の軟化が急激に始まり、軟化し始めた部分は、基板本体の分子結合を著しく緩められることで、着色液が早く含浸するため、基板面内における着色液の含浸の程度に大きな差を生じる。このために形成される遮光部の濃度のばらつきが急激に大きくなるために着色濃度のムラが発生する。なお、Ｔｇを超えたあたりから、基板本体の分子結合を基板全体で樹脂の軟化現象自体は始まり、基板本体の分子結合が緩まり、着色液が含浸し易くはなるが、軟化の程度の差がまだ大きくないために、着色濃度のばらつきを視認できるほど顕著ではない。しかしながら、前記上限値を超えると、軟化のレベルの差が面内で生じ始めるため、着色濃度のばらつきが視認できるようになる。また、着色液付与工程における処理温度が高すぎると、基板本体の変形が生じ、レンズ基板において所望の光学特性が得られない可能性や、著しい染色ムラが発生する可能性がある。また、着色液付与工程における処理温度が低すぎると、遮光部の形成の効率が低下する傾向を示す。
【００６７】
また、着色液付与工程における処理温度は、４０〜１００℃であるのが好ましい。処理温度が前記下限値未満では、著しく染色速度が低下する傾向を示す。また、処理温度が前記上限値を超えると、基板の樹脂が変形したり、成形したレンズ形状が変形し、光学特性に影響を与えたり、画質の低下を招く可能性がある。
また、着色液を付与する工程は、例えば、雰囲気圧を高めた状態（加圧した状態）で行ってもよい。これにより、着色液の基板本体２内部への侵入を促進することができ、結果として、着色部２２を短時間で効率良く形成することができる。
【００６８】
なお、着色液の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべき着色部２２の厚さが比較的大きい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
また、着色液の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の加圧、減圧等の処理を施してもよい。これにより、着色部２２の定着（安定化）を促進することができる。
【００６９】
以下、本工程で用いる着色液についてより詳細に説明する。
着色液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．０１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜８．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【００７０】
着色液中に含まれる着色剤は、各種染料、各種顔料等、いかなるものであってもよいが、染料であるのが好ましく、分散染料および／またはカチオン系染料であるのがより好ましく、分散染料であるのがさらに好ましい。これにより、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部２２を形成することができる。特に、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色（染色）することができる。これは、上記のような着色剤が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）を染着座席とするために、より染色しやすいためであると考えられる。
【００７１】
また、本実施形態で用いる着色液は、少なくとも、着色剤およびベンジルアルコールを含むものであるが、さらに界面活性剤を含むものであるのが好ましい。これにより、着色剤をベンジルアルコールの存在下においても、安定的に、均一に分散させることができ、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色（染色）することができる。界面活性剤としては、例えば、非イオン系（ノニオン系）、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。非イオン系（ノニオン系）界面活性剤としては、例えば、エーテル系界面活性剤、エステル系界面活性剤、エーテルエステル系界面活性剤、含窒素系界面活性剤等が挙げられ、より具体的には、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙げられる。また、アニオン系界面活性剤としては、例えば、各種ロジン、各種カルボン酸塩、各種硫酸エステル塩、各種スルホン酸塩、各種リン酸エステル塩等が挙げられ、より具体的には、ガムロジン、重合ロジン、不均一化ロジン、マレイン化ロジン、フマール化ロジン、マレイン化ロジンペンタエステル、マレイン化ロジングリセリンエステル、トリステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩等の金属塩等）、ジステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩、バリウム塩等の金属塩等）、ステアリン酸塩（例えば、カルシウム塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、リノレン酸塩（例えば、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、オクタン酸塩（例えば、アルミニウム塩、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、オレイン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、パルミチン酸塩（例えば、亜鉛塩等の金属塩等）、ナフテン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、レジン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、ポリアクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリメタクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリマレイン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アクリル酸−マレイン酸共重合体塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、セルロース、ドデシルベンゼンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩）、アルキルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）等が挙げられる。また、カチオン系界面活性剤としては、例えば、１級アンモニウム塩、２級アンモニウム塩、３級アンモニウム塩、４級アンモニウム塩等の各種アンモニウム塩等が挙げられ、より具体的には、（モノ）アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、トリアルキルアミン塩、テトラアルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン、スルホベタイン等の各種ベタイン、各種アミノカルボン酸、各種リン酸エステル塩等が挙げられる。
【００７２】
また、例えば、着色液中には、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が含まれていてもよい。これにより、上述したような効果がより顕著なものとして発揮される。より具体的には、例えば、基板本体２の染色をさらに容易かつ確実に行うことができ、特に、アクリル系樹脂のように、従来の着色方法では着色が困難であった材料で構成された基板本体２に対しても、容易かつ確実に染色を施すことができる。また、本工程での処理温度をより低いものとした場合であっても、短時間で効率良く好適な着色部２２を形成することができる。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを併用することにより、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとが相補的に作用し合い、その結果として、これらを併用することによる顕著な効果（相乗的な効果）が発揮されるものであると考えられる。より具体的には、以下のような理由（メカニズム）によるものであると考えられる。
【００７３】
すなわち、まず第一に、着色液中のベンジルアルコールが基板本体を構成する樹脂の分子の結合を緩め、他の分子が入りこむための空間を確保する。第二にベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が、着色剤に優先して、この空間に侵入し深く拡散する。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物が、ベンジルアルコールと同様に、基板本体を構成する樹脂の分子の結合を緩め、他の分子が入りこむための空間を確保する働きがあり、このためベンジルアルコールにより確保された空間を利用して、さらに深く、広く、その空間を広げる作用があることによる。なお着色剤にはこの働きがない。第三に、第二の作用と併行して着色剤が前記空間に入りこみ、保持される。あるいは一部、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物と置換する。このように、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物を、ベンジルアルコールと併用することにより、着色剤が基板本体中に、効率良く、さらに深く、比較的短時間で拡散でき、均一に染色することが可能となる。
【００７４】
ベンゾフェノン系化合物としては、下記式（Ｉ）またはこれに対応する他の限界構造式で示されるようなベンゾフェノン骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体（以下、単に「式（Ｉ）で示されるベンゾフェノン骨格を有する化合物」という）、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
【００７５】
【化１】
2007139830.tif 000002
【００７６】
このような化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンゾフェノンアニル、ベンゾフェノンオキシム、ベンゾフェノンクロリド（α，α’−ジクロルジフェニルメタン）等が挙げられる。中でも、上記式（Ｉ）で表されるベンゾフェノン骨格を有する化合物であるのが好ましく、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンがより好ましい。このようなベンゾフェノン系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。なお、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの構造式（化学式）を、ぞれぞれ、下記式（II）、式（III）として示す。
【００７７】
【化２】
2007139830.tif 000003
【００７８】
【化３】
2007139830.tif 000004
【００７９】
また、ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記式（IV）またはこれに対応する他の限界構造式で表されるようなベンゾトリアゾール骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体（以下、単に「式（IV）で示されるベンゾトリアゾール骨格を有する化合物」という）、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
【００８０】
【化４】
2007139830.tif 000005
【００８１】
このような化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。中でも、上記式（IV）で表されるベンゾトリアゾール骨格を有する化合物であるのが好ましく、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールがより好ましい。このようなベンゾトリアゾール系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。なお、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの構造式（化学式）を、ぞれぞれ、下記式（Ｖ）、式（VI）として示す。
【００８２】
【化５】
2007139830.tif 000006
【００８３】
【化６】
2007139830.tif 000007
【００８４】
着色液中には、上記のようなベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が含まれていればよいが、２種以上の化合物（特に、１種以上のベンゾフェノン系化合物と、１種以上のベンゾトリアゾール系化合物）が含まれていてもよい。これにより、これらの化合物同士が相補的に作用し合うとともに、これらの化合物がベンジルアルコールと相補的に作用し合うことにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
また、上記のようなベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物とベンジルアルコールを含む前処理液に浸漬した後、前記着色液に浸漬しても同様の効果が得られる。
【００８５】
着色液または前処理液がベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものである場合、着色液または前処理液中におけるベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、特に限定されないが、０．００１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．００５〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．０１〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【００８６】
また、着色液または前処理液中における、ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ／Ｙ≦１００００の関係を満足するのが好ましく、０．０５≦Ｘ／Ｙ≦１０００の関係を満足するのがより好ましく、０．２５≦Ｘ／Ｙ≦５００の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物と、ベンジルアルコールとを併用することによる相乗効果がより顕著に発揮され、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に、また高速に好適な着色部２２を形成することができる。
【００８７】
次に、上述したマイクロレンズ基板１を用いて、透過型スクリーン１０を製造する方法について説明する。
＜Ｂ１＞まず、前述したようなマイクロレンズ基板１、および、フレネルレンズ基板３を用意し、これらを、互いのレンズ面、すなわち、レンズ面２３とレンズ面３２が対向するように配置した状態で、マイクロレンズ基板１の非レンズ領域２４、フレネルレンズ基板３の非レンズ領域３３に対応する部位にスペーサー４を配置する（図５（ａ）参照）。
フレネルレンズ基板３としては、公知の方法を適用して製造したものを用いることができる。
【００８８】
＜Ｂ２＞次に、スペーサー４を介して、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３とを接合する（スペーサー接合工程。図５（ｂ）参照）。
本工程は、マイクロレンズ基板１とスペーサー４、フレネルレンズ基板３とスペーサー４を、接合するものであれば、いかなる方法で行ってもよく、接合方法としては、接着剤による接着、溶接、融着等が挙げられるが、レーザー光を照射することによる融着であるのが好ましい。これにより、マイクロレンズ基板１、フレネルレンズ基板３を介して、レーザー光を照射することにより、マイクロレンズ基板１、フレネルレンズ基板３をスペーサー４と接合することができるため、本工程を容易かつ確実に行うことができる。また、本工程をレーザー光の照射により行うことにより、スペーサー４の変形を最小限にとどめることができ、透過型スクリーン１０の各部位における、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止することができる。
【００８９】
本工程をレーザー光の照射により行う場合、使用するレーザー光の種類は、例えば、ルビーレーザ、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザー、Ｎｅ−Ｈｅレーザー、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザー、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザーのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使ってもよい。
また、レーザー光のビーム径は、１〜１００μｍであるのが好ましく、１〜３０μｍであるのがより好ましい。レーザー光のビーム径が前記範囲内の値であると、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止しつつ、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【００９０】
また、レーザー出力は、特に限定されないが、１〜１０Ｗであるのが好ましく、１〜３Ｗであるのがより好ましい。レーザー出力が前記範囲内の値であると、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止しつつ、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【００９１】
また、レーザー光は、スペーサー４の両面側（マイクロレンズ基板１と接触する側、および、フレネルレンズ基板３と接触する側）について、それぞれ、複数の箇所に照射するのが好ましい。これにより、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止しつつ、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【００９２】
また、レーザー光の照射時間は、１箇所につき、０．０１〜０．５秒であるのが好ましく、０．０１〜０．１秒であるのがより好ましい。レーザー光の照射時間が前記範囲内の値であると、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止しつつ、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【００９３】
また、照射するレーザー光の波長は、スペーサー４の構成材料等によるが、４００〜１５００ｎｍであるのが好ましく、５００〜９００ｎｍであるのがより好ましい。レーザー光の波長が前記範囲内の値であると、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止しつつ、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【００９４】
また、本工程をレーザー光の照射により行う場合、スペーサー４が、少なくともその表面付近（マイクロレンズ基板１と接触する面およびフレネルレンズ基板３と接触する面の表面付近）が着色剤を含む材料で構成されたものであると、レーザー光のエネルギーを効率良く吸収することができ、マイクロレンズ基板１、フレネルレンズ基板３との接合に効率良く利用することができる。したがって、比較的低エネルギーで本工程を行うことができる。
【００９５】
＜Ｂ３＞次に、レンズ部（マイクロレンズ２１およびフレネルレンズ３１）が設けられた有効レンズ領域にレーザー光を照射することにより、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３とを接合し、レーザー接合部５を形成する（レーザー接合部形成工程。図５（ｃ）参照）。これにより、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止しつつ、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【００９６】
本工程で形成されるレーザー接合部５は、前述したように、通常、十分に小さいものであり、マイクロレンズ２１、フレネルレンズ３１の頂部付近において形成されるものである。したがって、有効レンズ領域内に、レーザー接合部５を形成しても、透過型スクリーン１０を用いて表示される画像に与える影響は極めて小さく、通常、無視できる。
また、本実施形態においては、マイクロレンズ基板１は、レンズ面２３の表面付近に着色部２２が設けられている。このため、照射したレーザー光のエネルギーを着色部２２付近で、選択的に、かつ、効率良く吸収することができる。その結果、形成されるレーザー接合部５による接合強度を特に優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板１が着色部２２を有するものであることにより、レーザー光の照射条件（レーザー接合部５の形成条件）を比較的温和なものとした場合であっても、十分な接合強度を得ることができる。したがって、マイクロレンズ基板１やフレネルレンズ基板３の構成材料の劣化等をより効果的に防止することができる。
【００９７】
レーザー光は、いかなる方向から照射するものであってもよいが、フレネルレンズ基板側から照射するのが好ましい。これにより、目的とする部位にレーザー光をより確実に照射することができ、効率良くレーザー接合部５を形成することができる。また、レーザー接合部５を形成すべき部位以外に照射されたレーザー光のエネルギーをマイクロレンズ２１で拡散させることができるため、マイクロレンズ基板１の構成材料の劣化等をより確実に防止することができる。
本工程で使用するレーザー光の種類は、例えば、ルビーレーザ、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザー、Ｎｅ−Ｈｅレーザー、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザー、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザーのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使ってもよい。
【００９８】
本工程においては、レーザー接合部５を多数個形成するのが好ましい。フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止しつつ、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との接合強度を特に優れたものとすることができる。また、レーザー接合部５を多数個形成することにより、１個当りのレーザー接合部５の大きさや接合強度を比較的小さいものとした場合であっても、透過型スクリーン１０全体として、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との位置ずれを確実に防止することができる。したがって、レーザー接合部５の形成条件をより穏やかなものとすることができ、形成されるレーザー接合部５が、表示される画像に対して悪影響を与えるのをより確実に防止することができる。
【００９９】
また、レーザー光の照射時間は、１箇所につき、０．０１〜０．５秒であるのが好ましく、０．０１〜０．１秒であるのがより好ましい。レーザー光の照射時間が前記範囲内の値であると、形成されるレーザー接合部５が、表示される画像に対して悪影響を与えるのをより確実に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との接合強度を特に優れたものとすることができる。また、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止することができ、表示される画像の安定性、信頼性を特に優れたものとすることができる。
また、また、レーザー光の照射は、隣接するレーザー接合部５間の距離が、２〜１００ｍｍとなるように行うのが好ましい。これにより、表示される画像に与える影響を特に小さいものとしつつ、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【０１００】
また、レーザー光のビーム径は、１〜１００μｍであるのが好ましく、１〜３０μｍであるのがより好ましい。レーザー光のビーム径が前記範囲内の値であると、形成されるレーザー接合部５が、表示される画像に対して悪影響を与えるのをより確実に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との接合強度を特に優れたものとすることができる。また、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止することができ、表示される画像の安定性、信頼性を特に優れたものとすることができる。
【０１０１】
また、レーザー出力は、特に限定されないが、１〜１０Ｗであるのが好ましく、１〜３Ｗであるのがより好ましい。レーザー出力が前記範囲内の値であると、レンズ部（マイクロレンズ２１、フレネルレンズ３１）の変形をより確実に防止しつつ、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との接合強度を特に優れたものとすることができる。また、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止することができ、表示される画像の安定性、信頼性を特に優れたものとすることができる。
【０１０２】
また、照射するレーザー光の波長は、４００〜１５００ｎｍであるのが好ましく、５００〜９００ｎｍであるのがより好ましい。レーザー光の波長が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１、フレネルレンズ基板３の構成材料の劣化等を十分に防止しつつ、より効率良くレーザー接合部５を形成することができる。また、フレネルレンズ基板３とマイクロレンズ基板１とのギャップのばらつき（レンズ面の凹凸を無視した場合のギャップのばらつき）の発生をより確実に防止しつつ、マイクロレンズ基板１とフレネルレンズ基板３との接合強度を特に優れたものとすることができる。
【０１０３】
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図６は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、表示される画像に歪みが生じる等の問題の発生が十分に防止されたものである。さらに、上記のようなマイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）を備えているので、視野角特性等も特に優れたものとなる。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
【０１０４】
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材として板状（またはフィルム状）の部材（凹部付き基板）を用いるものとして説明したが、凹部付き部材は、このような形態のものに限定されず、例えば、ロール形状をなし、その周面に凹部を有するものであってもよい。
また、着色液付与工程に先立ち、例えば、基板本体の着色のされ易さを向上させる等の目的で、基板本体に対して、前処理を行ってもよい。このような前処理としては、例えば、ベンジルアルコール、ベンゾフェノンおよびベンゾトリアゾールよりなる群から選択される少なくとも１種を含む液体を、基板本体に付与する処理等が挙げられる。
【０１０５】
また、透過型スクリーンの製造方法等の各工程は、前述したような順に行うものに限定されず、各工程の順序を変更してもよい。例えば、前述した実施形態では、スペーサー接合工程の後にレーザー接合部形成工程を有するものとして説明したが、レーザー接合部形成工程の後にスペーサー接合工程を有するものであってもよいし、スペーサー接合工程とレーザー接合部形成工程とを同時に行うものであってもよい。
また、前述した実施形態では、着色部がマイクロレンズ基板の光の入射側の全面に設けられているものとして説明したが、着色部は、光の入射面側の一部のみに設けられるものであってもよい。また、マイクロレンズ基板は、着色部を有していなくてもよい。
【０１０６】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板におけるマイクロレンズは、平面視したときの形状が楕円形であるものとして説明したが、マイクロレンズの形状は、いかなるものであってもよく、例えば、円形、略四角形、略六角形等であってもよい。また、マイクロレンズは、いわゆる、レンチキュラレンズであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板におけるマイクロレンズは、千鳥状に配列したものとして説明したが、マイクロレンズの配列はいかなるものであってもよく、例えば、正方格子状、ハニカム状に配列したものであってもよい。また、マイクロレンズ、凹部は、ランダムに形成されたものであってもよい。
【０１０７】
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、
これ以外の構成部材を備えるものであってもよい。例えば、透過型スクリーンは、マイクロレンズ基板の光の出射側に、前面板（保護板）、反射防止膜等を備えるものであってもよい。
【実施例】
【０１０８】
［マイクロレンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
マイクロレンズ基板の製造に先立ち、以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横１２０ｃｍ×縦７０ｃｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【０１０９】
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたのマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１１０】
次に、マスク形成用膜に対してレーザー加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザー加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度１．２Ｊ／ｃｍ２、加工点でのビーム直径２μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、所定の長さを有する初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の平均幅は２μｍであり、平均長さは２μｍであった。
【０１１１】
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は４０μｍ、深さは４０μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は１００％であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
【０１１２】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、図３に示すような、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。得られた凹部付き部材を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。
【０１１３】
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された組成物を付与し、その上に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成された基材フィルム（厚さ：０．５ｍｍ）を載せた。基材フィルムを構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５０であった。
【０１１４】
次に、ソーダガラスで構成された平板で、基材フィルムを介して、前記組成物を押圧した。この際、基材フィルムと組成物との間に、空気が侵入しないようにした。
その後、平板で押圧した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き基板が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状（略楕円形状）をなすものであり、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３６μｍ、高さが３６μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は１００％であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５であった。
【０１１５】
次に、平板および凹部付き基板を取り除いた。
その後、基板本体に対して、浸染により着色液を付与した（着色液付与工程）。このとき、マイクロレンズが形成された面側全体が着色液に接触し、裏面側には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、７０℃に調整した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：２０重量部、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン（ベンゾフェノン系化合物）：３重量部、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（ベンゾトリアゾール系化合物）：３重量部、および、界面活性剤：２重量部を、純水：１０００重量部に溶解した混合物を用いた。
【０１１６】
上記のような条件で、基板本体と着色液とを１２０分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、十分水洗した後、乾燥させた。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、着色部が形成されたマイクロレンズ基板を得た（図３参照）。形成された着色部の濃度は、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）で５２％であった。また、得られたマイクロレンズ基板は、横１２０ｃｍ×縦７０ｃｍ角の大きさを有するものであり、その周縁部付近にマイクロレンズが設けられていない非レンズ領域を有するものであった。非レンズ領域の幅は、左右の両辺（短辺）で３５ｍｍ、上下の両辺（長辺）２５ｍｍであった。また、マイクロレンズ基板が有する非レンズ領域の表面粗さＲａは、０．１μｍであった。
【０１１７】
次に、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板を用いて、以下のようにして、透過型スクリーンを製造した。
まず、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板、および、フレネルレンズ基板を用意し、これらを、互いのレンズ面が対向するように配置した。
フレネルレンズ基板としては、公知の方法を用いて製造された、アクリル系樹脂性の物を用意した。このフレネルレンズ基板は、横１．２０ｃｍ×縦７０ｃｍ角の大きさを有するものであり、その周縁部付近にフレネルレンズが設けられていない非レンズ領域を有するものであった。非レンズ領域の幅は、左右の両辺（短辺）で３５ｍｍ、上下の両辺（長辺）２５ｍｍであった。また、フレネルレンズ基板が有する非レンズ領域の表面粗さＲａは、０．１μｍであった。また、フレネルレンズの高さは、１００μｍであった。
【０１１８】
次に、マイクロレンズ基板、フレネルレンズ基板の非レンズ領域に対応する部位に、多数個のスペーサーを配置した。スペーサーの設置は、隣接するスペーサー間のピッチが０〜１ｃｍとなるようにして行った。また、スペーサーとしては、高さ：１３６μｍ×３５ｍｍ×２５ｍｍの直方体をなし、黒色顔料で着色されたアクリル系樹脂で構成されたものを用いた。また、スペーサーの各面の表面粗さＲａは、０．１μｍであった。
【０１１９】
次に、スペーサーを介して、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ基板とを密着させた状態で、マイクロレンズ基板側、およびフレネルレンズ基板側から、各スペーサーの接触面の中央部付近にレーザー光を照射することにより、スペーサーを介して、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ基板とを接合した。本工程では、レーザー光として、波長が８００ｎｍの半導体レーザーを用いた。また、照射したレーザー光のビーム径は、５００μｍ、レーザー出力は、５Ｗであった。また、レーザー光の照射時間は、１箇所につき１秒とした。
【０１２０】
次に、フレネルレンズ基板側から、レンズ部（マイクロレンズおよびフレネルレンズ）が設けられた有効レンズ領域にレーザー光を照射することにより、多数のレーザー接合部を形成し、これにより、図１、図２に示すような透過型スクリーンを得た。本工程では、マイクロレンズの頂部とフレネルレンズの頂部とが接触する部位に、レーザー光が照射されるようにした。本工程では、レーザー光として、波長が８００ｎｍの半導体レーザーを用いた。また、照射したレーザー光のビーム径は、５００μｍ、レーザー出力は、５Ｗであった。また、レーザー光の照射時間は、１箇所につき、１秒とした。これにより、レーザー光を照射したのに対応する部位に、直径が１００μｍのレーザー接合部が形成された。
また、本工程では、形成されるレーザー接合部について、隣接するレーザー接合部間の距離が５ｍｍとなるように、有効レンズ領域全体にわたってレーザー光を照射した。
【０１２１】
（実施例２）
マイクロレンズ基板として着色部を形成しなかったものを用いるとともに、スペーサー接合工程、レーザー接合部形成工程におけるレーザー出力を変更した以外は、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。
（実施例３）
スペーサー接合工程におけるレーザー出力を変更するともに、有効レンズ領域内にレーザー接合部を形成しなかった以外は、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。
【０１２２】
（実施例４〜６）
マイクロレンズ基板の非レンズ領域の表面粗さＲａ、フレネルレンズ基板の非レンズ領域の表面粗さＲａ、スペーサーの表面粗さＲａ、スペーサー接合工程、レーザー接合部形成工程でのレーザー光の照射条件を表１に示すようにした以外は、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。
【０１２３】
（比較例）
レーザー光の照射による接合を行わず、図７に示すように、フレネルレンズ基板として、その周縁部付近全体に突起体を有するものとして製造し、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ基板とを枠部材で固定した以外は、前記実施例２と同様にして透過型スクリーンを製造した。このとき、フレネルレンズ基板が有する突起体の高さは、マイクロレンズの頂点とフレネルレンズの頂点とが接触する高さとなるようにした。また、枠部材としては、プラスチックで構成され、そのギャップが、図７に示すようにマイクロレンズ基板とフレネルレンズ基板とを密着させた状態での厚さに等しくなるように設計したものを用いた。
前記各実施例について、スペーサー接合工程、レーザー接合部形成工程の処理条件、形成されたレーザー接合部の直径等を表１にまとめて示す。
【０１２４】
【表１】
2007139830.tif 000008
【０１２５】
［コントラストの評価］
前記各実施例で作製された透過型スクリーンについて、コントラストの評価を行った。コントラストは、暗室において４１０ｌｘの全白光が入射したときの白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ（ｃｄ／ｍ２）と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ（ｃｄ／ｍ２）との比、ＬＷ／ＬＢを求め、以下の４段階の基準に従い評価した。なお、明室は、外光照度１８５ｌｘ（明室）の部屋で測定した。輝度の測定にはトプコン製輝度計ＢＭ−７を用いた。
◎：ＬＷ／ＬＢが４００以上。
○：ＬＷ／ＬＢが１００以上４００未満。
△：ＬＷ／ＬＢが５０以上１００未満。
×：ＬＷ／ＬＢが５０未満。
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例の透過型スクリーン（各２００枚）を用いて、図６に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
【０１２６】
［画面の歪み（映像のボケ）の評価］
前記各実施例および比較例の透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタにサンプル画像を表示し、画面の歪み（映像のボケ）についての不良の発生率を確認し、以下の５段階の基準に従い評価した。
◎◎：不良の発生率が３％未満。
◎：不良の発生率が３％以上１０％未満。
○：不良の発生率が１０％以上３０％未満。
△：不良の発生率が３０％以上５０％未満。
×：不良の発生率が５０％以上。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１２７】
【表２】
2007139830.tif 000009
【０１２８】
表２から明らかなように、本発明では、画面の歪み（映像のボケ）の発生が効果的に防止され、優れた画像を表示することができた。また、マイクロレンズ基板として、着色部を有するものを用いた実施例では、比較的温和な条件で、好適なレーザー接合部を形成することができるとともに、透過型スクリーンに表示される画像のコントラストにも特に優れていた。
これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１２９】
【図１】本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。
【図３】図１に示す透過型スクリーンを構成するマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な平面図である。
【図４】図３に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図５】図１に示す透過型スクリーンの製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図６】本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【図７】比較例の透過型スクリーンを模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
【０１３０】
１…マイクロレンズ基板  ２…基板本体  ２１…マイクロレンズ（レンズ部）  ２１１…中心  ２２…着色部（外光吸収部）  ２３…レンズ面  ２４…非レンズ領域  ２５…第１の行  ２６…第２の行  ２７…組成物  ２８…基材フィルム  ３…フレネルレンズ基板  ３１…フレネルレンズ（レンズ部）  ３２…レンズ面  ３３…非レンズ領域  ４…スペーサー  ５…レーザー接合部  ６…凹部付き部材  ６１…凹部  １０…透過型スクリーン  １１…平板（押圧部材）  ３００…リア型プロジェクタ  ３１０…投写光学ユニット  ３２０…導光ミラー  ３４０…筐体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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