(57)【要約】  【課題】  低コストで長期間安定した圧力の測定を可能とする圧力測定装置を提供することにある。【解決手段】  本発明の圧力測定装置は、腐食性ガスを含む気体の圧力を測定する装置において、圧力計と前記腐食性ガスを含む気体の間に、腐食性ガスの腐食成分を低減させる希釈手段を有する。前記希釈手段における圧力損失は、前記圧力測定装置が測定する圧力の絶対値の１０％以下であり、前記希釈手段は、吸収剤を通過させる、あるいは、圧力計の直前に不活性ガスを流すことである。  【選択図】  図１
2007271431.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
腐食性ガスを含む気体の圧力を測定する装置において、
圧力計と前記腐食性ガスを含む気体の間に、腐食性ガスの腐食成分を低減させる希釈手段を有することを特徴とする圧力測定装置。
【請求項２】
前記希釈手段における圧力損失は、前記圧力測定装置が測定する圧力の絶対値の１０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の圧力測定装置。
【請求項３】
前記希釈手段は、吸収剤を通過させることであることを特徴とする請求項１または２に記載の圧力測定装置。
【請求項４】
前記希釈手段は、圧力計の前段に不活性ガスを流すことであることを特徴とする請求項１または２に記載の圧力測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、腐食性ガスを含む気体の圧力を測定する装置に関するものであり、低コストで長期間安定した圧力の測定を可能とするものである。
【背景技術】
【０００２】
様々な製品の製造工程において、腐食性ガスを含む気体の圧力を測定する必要がある。その代表的な事例として、光ファイバ母材の製造工程が挙げられる。
光ファイバ母材の製造方法としては、各種のものが提案され、開発されているが、その一例として、以下のような製造方法がある。
まず、ＶＡＤ（Vapor-phase axial deposition）法でコアを含む多孔質母材を製造し、それを電気炉を用いて脱水・焼結してコアロッドを作成する。得られたコアロッドの外周にＯＶＤ（Outside vapor deposition）法によってさらに多孔質層を形成した後、さらに脱水・焼結することで光ファイバ母材を製造する。
【０００３】
このＶＡＤ法、ＯＶＤ法による光ファイバ母材の製造工程は、たとえば下記（１）式の反応により生成されたガラス微粒子（ＳｉＯ２）を出発材に堆積させて多孔質母材あるいは多孔質層を形成するものであり、反応容器内は腐食性のある塩素系のガスで満たされる。
ＳｉＣｌ４＋２Ｈ２＋Ｏ２→ＳｉＯ２＋４ＨＣｌ  ・・・（１）
また、前述した脱水・焼結工程においても脱水は塩素ガス雰囲気で行われるため、反応容器内は腐食性のあるガスで満たされる。
【０００４】
一方、これらの製造工程において、製品を安定して製造するためには圧力の監視、または制御が必要不可欠であり、たとえば、特許文献１にはＶＡＤ法において、反応容器内の圧力を測定し、その測定結果を元に圧力調整部材を移動させ、反応容器内の圧力を常時一定にする圧力調整装置が開示されている。また、特許文献２には、ＯＶＤ法において反応容器内の圧力を測定し、その測定結果を元に排気ダクトからの排気量を調整して反応容器内の圧力を変化させながら多孔質母材を製造する光ファイバ母材の製造方法が開示されている。また、特許文献３には、炉心管に圧力変動吸収容器を接続することで、炉心管内の圧力変動を抑制した脱水焼結装置が開示されている。
【０００５】
【特許文献１】実開平０６−０１２４４１号公報
【特許文献２】特開２００３−０７３１３８号公報
【特許文献３】特開平０６−１２７９６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
腐食性ガスの圧力測定装置としては、様々なものが開発され、販売されているが、非常に高価であったり、腐食性ガスの影響で長期間精度のよい測定を行うことが難しい、などの問題があった。
【０００７】
本発明は、低コストで長期間安定した圧力の測定を可能とする圧力測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成すべく本発明の請求項１記載の圧力測定装置は、腐食性ガスを含む気体の圧力を測定する装置において、圧力計と前記腐食性ガスを含む気体の間に、腐食性ガスの腐食成分を低減させる希釈手段を有することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の請求項２記載の圧力測定装置は、請求項１に記載の圧力測定装置において、前記希釈手段における圧力損失は、前記圧力測定装置が測定する圧力の１０％以下であることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の請求項３記載の圧力測定装置は、請求項１または２に記載の圧力測定装置において、前記希釈手段は、吸収剤を通過させることであることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の請求項４記載の圧力測定装置は、請求項１または２記載の圧力測定装置において、前記希釈手段は、圧力計の前段に不活性ガスを流すことであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
以上に述べたように、本発明の圧力測定装置によれば、低コストで長期間安定した圧力の測定を可能とする圧力測定装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面を用いて本発明の圧力測定装置を詳細に説明する。
［実施形態１］
まず、本発明の実施形態１として、本発明の圧力測定装置を、図１に示すＶＡＤ装置１００の反応容器内の圧力測定に適用した例を説明する。
ＶＡＤ装置１００は、反応容器１２、反応容器１２内の使用済のガスを図示しない排ガス処理装置に排出する排気筒１７、反応容器１２内の圧力を測定する圧力計１８、排気筒１７の後段に設置された圧力制御装置１９、多孔質母材８を形成するコアバーナ４およびクラッドバーナ６を有する。
反応容器１２の上部からはクリーンエアーが供給され、クリーンエアーの供給量と、排気筒１７により排気される使用済のガスの量とのバランスを変化させることにより、反応容器１２内の圧力を変化させる。本実施形態例においては、圧力計１８により測定された圧力を元に圧力制御装置１９にて排気筒１７から排気する使用済のガスの量を調整することで、反応容器１２内の圧力を制御する。
【００１４】
コアバーナ４およびクラッドバーナ６において火炎加水分解反応により形成されたガラス微粒子をターゲットロッドに向かって吹き付けることにより、多孔質母材８を作製する。このとき、前述した（１）式の反応により、反応容器１２内に腐食性のある塩素系のガスが生成される。
反応容器１２と圧力計１８の間には、腐食性ガスの腐食成分を低減させる希釈手段１０として、吸収剤の入った容器が設置されており、圧力計１８は希釈手段１０を介して反応容器１２内の圧力を測定する。なお、本実施形態においては、吸収剤として活性炭を用いたが、腐食成分を吸収できるものであればこれ以外のものでもよい。
【００１５】
このように反応容器１２と圧力計１８の間に、腐食性ガスの腐食成分を低減させる希釈手段１０を設置することにより、既存の装置をそのまま使用でき、簡単に長期間安定した圧力の測定を可能とする圧力測定装置を実現できる。
【００１６】
［実施形態２］
次に、本発明の実施形態２として、本発明の圧力測定装置を、図２に示す脱水焼結装置２００の反応容器内の圧力測定に適用した例を説明する。
脱水焼結装置２００は、脱水焼結すべき多孔質母材８を収容する石英ガラス製の反応容器２２と、該反応容器２２の外部から多孔質母材８を加熱するヒータ２３と、該反応容器２２の外周を覆い、断熱材２４を介してヒータ２３を収容する炉体２５とを備えている。
【００１７】
反応容器２２は、石英製の炉心管からなり、反応容器２２内には、その下部に設けたガス供給口２６から脱水焼結に必要なヘリウムガス等の不活性ガスと例えば塩素等のハロゲンを含んだ脱水ガスとが供給されるようになっている。一方、反応容器２２の上部には、使用済みのガスを図示しない排ガス処理装置に排出する排気口２７が設けられている。
一方、炉体２５内には、図示しないガス供給口から所定量の窒素などの不活性ガスが供給され、炉体２５内の圧力を外気圧よりも高く保つようになっている。これは、外気に含まれる水分等によるヒータ２３の腐食や消耗を防止するためである。
【００１８】
さらに、脱水焼結装置２００は、反応容器（炉心管）２２内の圧力と炉体２５内の圧力差を測定する圧力計２８、排気口２７の後段に設置される圧力制御装置２９、が設けられている。
一般的には、反応容器２２内への外気の混入を防止するため、および、反応容器２２の変形を防ぐため、反応容器２２内の圧力は炉体２５内の圧力よりもやや高い値に保ちつつ、脱水焼結が行われる。つまり、外気圧<炉体２５内の圧力<反応容器２２内の圧力、の状態で脱水焼結が行われる。
本実施形態例においては、圧力計２８により測定された炉体２５内の圧力と反応容器２２内の圧力の圧力差を元に圧力制御装置２９にて排気口２７から排気する使用済のガスの量を調整することで、反応容器２２内の圧力を制御する。
【００１９】
また、反応容器２２と圧力計２８の間には、腐食性ガスの腐食成分を低減させる希釈手段２０として、吸収剤の入った容器が設置されており、圧力計２８は希釈手段２０を介して反応容器２２内の圧力を測定する。なお、本実施形態においては、吸収剤として活性炭を用いたが、腐食成分を吸収できるものであればこれ以外のものでもよい。
【００２０】
このように反応容器２２と圧力計２８の間に、腐食性ガスの腐食成分を低減させる希釈手段２０を設置することにより、既存の装置をそのまま使用でき、簡単に長期間安定した圧力の測定を可能とする圧力測定装置を実現できる。
【００２１】
以下、実施例を用いて本発明の圧力測定装置をさらに詳細に説明する。
［実施例１］
図３に示すＶＡＤ装置１１０において、希釈手段１０の圧力損失を種々に変化させ、多孔質母材を製造した。
図３に示すＶＡＤ装置は、図１に示すＶＡＤ装置１００と同様の装置であり、圧力計として、希釈手段１０を介して圧力を測定する圧力計１８ａと希釈手段１０を介さずに圧力を測定する圧力計１８ｂとが設置されている点が異なる。
圧力計１８ａ、１８ｂとしては、いずれも横河電気製ＥＪ１１０を用いた。
【００２２】
反応容器１２内の圧力制御は、圧力計１８ａで測定された圧力を元に行った。圧力計１８ｂは各条件の製造開始時に圧力計１８ａと圧力計１８ｂで測定される圧力の差すなわち希釈手段１０の圧力損失を調べるために用い、それ以外のときは、圧力計１８ｂと排気筒１７の間に設置されたバルブ１１を閉じ、未使用状態とした。
反応容器１２内の圧力の設定を大気圧に対して−５０Ｐａとし吸収剤の圧力損失をそれぞれ０〜２０Ｐａの間で種々に変化させた条件１−１〜６にて、多孔質母材８を製造した。なお、圧力損失は、吸収剤の量や粒径を変化させることにより調整が可能である。結果を表１に示す。
【００２３】
【表１】
2007271431.tif 000003
【００２４】
表１において、圧力損失は、各条件における製造開始時に圧力計１８ａと圧力計１８ｂで測定される圧力の差により求めたものである。また、形成率は、多孔質母材８の形成率であり、合格本数／製造本数×１００により計算された値である。なお、多孔質母材８の製造を正常に完了できたものを合格とした。圧力変動σは、多孔質母材１本を製造中に、０．１秒間隔で圧力データを採取し、その数値の標準偏差を示している。以降、本明細書における圧力変動σは、この意味で用いるものとする。故障までの期間は圧力計１８ａが使用開始から故障するまでの期間を示す。
なお、条件１−１は希釈手段１０の容器内に吸収剤を全く入れない、すなわち希釈手段１０を設置しない場合と同じ状態としたものであり、条件１−２〜６は希釈手段１０の吸収剤の圧力損失を変化させた場合である。
また、条件１−５と条件１−６は不良率が増加したため、１ヶ月で製造を中断しているが、製造を継続すれば故障までの期間は６ヶ月以上となることが推定される。
【００２５】
表１に示すように、希釈手段１０を設置していない条件１−１と条件１−２では圧力計１８ａが故障するまでの期間に大きな差があり、希釈手段１０を設置するだけで圧力計１８ａの寿命を大きく延ばすことができた。なお、本結果は吸収剤の交換を行わなかった場合の結果であり、吸収剤を定期的（条件１−２では２ヶ月以内、１−３〜６では６ヶ月以内）に交換することで、さらに圧力計１８ａの寿命を延ばすことができる。
しかしながら、条件１−２と条件１−３では圧力変動σが、希釈手段１０を設置しない条件１−１と同じ２Ｐａであったのに対して、条件１−４〜６では、圧力変動σの増加がみられる。
設定圧力の絶対値が５０Ｐａに対して吸収剤の圧力損失が５Ｐａ以下、すなわち設定圧力の１０％以下であれば、希釈手段１０を設置しない場合と同等の圧力変動σが保てるが、圧力損失がそれより大きくなると圧力変動σが増加する傾向にある。これにともない、不良率も増加している。
【００２６】
［実施例２］
図４に示すＶＡＤ装置１２０は、図３に示すＶＡＤ装置１１０にと同様の装置であり、希釈手段１０ｂとし吸収剤の入った容器の変わりに圧力計１８ａの直前に不活性ガスである窒素をＭＦＣ（マスフローコントローラ）を介して流した点が異なる。なお、反応容器１２と圧力計１８ａをつなぐ配管５２の配管径は１／４インチとした。図４に示すＶＡＤ装置１２０において、圧力計１８ａの直前に流す窒素の流量を種々に変化させ、多孔質母材を製造した。
【００２７】
反応容器１２内の圧力制御は、圧力計１８ａで測定された圧力を元に行った。圧力計１８ｂは各条件の製造開始時に圧力計１８ａと圧力計１８ｂで測定される圧力の差すなわち希釈手段１０ｂの圧力損失を調べるために用い、それ以外のときは、圧力計１８ｂと排気筒１７の間に設置されたバルブ１１を閉じ、未使用状態とした。
反応容器１２内の圧力の設定を大気圧に対して−５０Ｐａとし、窒素の流量を０〜１０ＳＬＭの間で種々に変化させた条件２−１〜６にて、多孔質母材８を製造した。結果を表２に示す。
【００２８】
【表２】
2007271431.tif 000004
【００２９】
表２における各項目の定義は表１と同様である。また、条件２−１はＭＦＣから窒素を流さない、すなわち希釈手段１０ｂを設置しない場合と同じ状態としたものである。
また、条件２−５と条件２−６は不良率が増加したため、１ヶ月で製造を中断しているが、製造を継続すれば故障までの期間は６ヶ月以上となることが推定される。
表２に示すように、希釈手段１０ｂを設置していない条件２−１と条件２−２では圧力計１８ａが故障するまでの期間に大きな差があり、希釈手段１０ｂを設置するだけで圧力計１８ａの寿命を大きく延ばすことができた。
【００３０】
しかしながら、条件２−２〜４では圧力変動σが、希釈手段１０ｂを設置しない条件２−１と同じ２Ｐａであったのに対して、条件２−５と条件２−６では、圧力変動σの増加がみられる。
設定圧力の絶対値が５０Ｐａに対して不活性ガスを流すことによる圧力損失が５Ｐａ以下、すなわち設定圧力の１０％以下であれば、希釈手段１０ｂを設置しない場合と同等の圧力変動σが保てるが、圧力損失がそれより大きくなると圧力変動σが増加する傾向にある。これにともない、不良率も増加している。
なお、本実施例においては、配管５２の配管径を１／４インチとしているが、配管径を２倍とした場合は、不活性ガスの流量を４倍に増やすことで、本実施例と同じ効果が得られる。
【００３１】
［実施例３］
図５に示す脱水焼結装置２１０において、希釈手段２０の圧力損失を種々に変化させ、多孔質母材を脱水焼結し、ガラスロッドを製造した。
図５に示す脱水焼結装置は、図１に示す脱水焼結装置２００と同様の装置であり、圧力計として、希釈手段２０を介して圧力を測定する圧力計２８ａと希釈手段２０を介さずに圧力を測定する圧力計２８ｂとが設置されている点が異なる。
圧力計２８ａ、２８ｂとしては、いずれも横河電気製ＥＪ１１０を用いた。
【００３２】
反応容器２２内の圧力制御は、圧力計２８ａで測定された圧力を元に行った。圧力計２８ｂは各条件の製造開始時に圧力計２８ａと圧力計２８ｂで測定される圧力の差すなわち希釈手段２０の圧力損失を調べるために用い、それ以外のときは、圧力計２８ｂと排気口２７の間に設置されたバルブ２１を閉じ、未使用状態とした。
炉体２５内と大気との圧力差を５０Ｐａ、反応容器２２内と炉体２５内の圧力差を３００Ｐａに設定し、吸収剤の圧力損失を０〜１００Ｐａの間で種々に変化させた条件３−１〜７にて、多孔質母材８を脱水焼結しガラスロッドを製造した。なお、圧力損失は、吸収剤の量や粒径を変化させることにより調整が可能である。結果を表３に示す。
【００３３】
【表３】
2007271431.tif 000005
【００３４】
表３において、圧力損失は、各条件における製造開始時に圧力計２８ａと圧力計２８ｂで測定される圧力の差により求めたものである。また、圧力変動σは、多孔質母材１本を脱水焼結中に、０．１秒間隔で圧力データを採取し、その数値の標準偏差を示している。故障までの期間は圧力計２８ａが使用開始から故障するまでの期間を示す。
なお、条件３−１は希釈手段２０の容器内に吸収剤を全く入れない、すなわち希釈手段２０を設置しない場合と同じ状態としたものであり、条件３−２〜７は希釈手段２０の吸収剤の圧力損失を変化させた場合である。
また、条件３−６と条件３−７は圧力変動σが増加したため、１ヶ月で製造を中断しているが、製造を継続すれば故障までの期間は６ヶ月以上となることが推定される。
【００３５】
表３に示すように、希釈手段２０を設置していない条件３−１と条件３−２では圧力計２８ａが故障するまでの期間に大きな差があり、希釈手段２０を設置するだけで圧力計２８ａの寿命を大きく延ばすことができた。なお、本結果は吸収剤の交換を行わなかった場合の結果であり、吸収剤を定期的（条件３−２では２ヶ月以内、３−３〜７では６ヶ月以内）に交換することで、さらに圧力計２８ａの寿命を延ばすことができる。
しかしながら、条件３−２〜５では圧力変動σが、希釈手段２０を設置しない条件１と同じ２Ｐａであったのに対して、条件３−６と条件３−７では、圧力変動σの増加がみられる。
設定圧力の絶対値が３００Ｐａに対して吸収剤の圧力損失が３０Ｐａ以下、すなわち設定圧力の１０％以下であれば、希釈手段１０を設置しない場合と同等の圧力変動σが保てるが、圧力損失がそれより大きくなると圧力変動σが増加する傾向にある。
【００３６】
さらに詳細に圧力損失と圧力の制御性の関係を調査するために、炉体２５内と大気との圧力差を５０Ｐａに固定し、反応容器２２内と炉体２５内の設定圧力差を５０Ｐａ〜５００Ｐａ、圧力損失を２〜１００Ｐａの間でそれぞれ変化させ、圧力変動σを調べた。結果を表４に示す。
【００３７】
【表４】
2007271431.tif 000006
【００３８】
表４において、「○」は圧力変動σが希釈手段２０を設置しないときと同等の３Ｐａ以下、「△」は３Ｐａより大きく５Ｐａ以下、「×」は５Ｐａより大きい、「−」は測定しなかったことを意味する。
表４に示すように、圧力損失が、圧力計２８ａが測定する圧力の絶対値の１０％以下であれば希釈手段２０を設置しても圧力変動σを悪化させることがない。
【００３９】
［実施例４］
図６に示す脱水焼結装置２２０は、図５に示す脱水焼結装置２１０にと同様の装置であり、希釈手段２０ｂとし吸収剤の入った容器の変わりに圧力計２８ａの直前に不活性ガスである窒素をＭＦＣを介して流した点が異なる。なお、反応容器２２と圧力計２８ａをつなぐ配管６２の配管径は１／４インチとした。図６に示す脱水焼結装置２２０において、圧力計２８ａの直前に流す窒素の流量を種々に変化させ、多孔質母材を脱水焼結し、ガラスロッドを製造した。
【００４０】
反応容器２２内の圧力制御は、圧力計２８ａで測定された圧力を元に行った。圧力計２８ｂは各条件の製造開始時に圧力計２８ａと圧力計２８ｂで測定される圧力の差すなわち希釈手段２０の圧力損失を調べるために用い、それ以外のときは、圧力計２８ｂと排気口２７の間に設置されたバルブ２１を閉じ、未使用状態とした。
炉体２５内と大気との圧力差を５０Ｐａ、反応容器２２内と炉体２５内の設定圧力差を３００Ｐａとし、窒素の流量を０〜１０ＳＬＭの間で種々に変化させた条件４−１〜７にて、多孔質母材８を脱水焼結し、ガラスロッドを製造した。結果を表５に示す。
【００４１】
【表５】
2007271431.tif 000007
【００４２】
表５における各項目の定義は表３と同様である。また、条件４−１は窒素を流さない、すなわち希釈手段２０ｂを設置しない場合と同じ状態としたものである。
表５に示すように、圧力計２８ａの直前に窒素を流していない、すなわち、希釈手段２０を設置していない条件４−１と条件４−２では圧力計２８ａが故障するまでの期間に大きな差があり、希釈手段２０ｂを設置するだけで圧力計２８ａの寿命を大きく延ばすことができた。
しかしながら、条件４−２〜５では圧力変動σが、希釈手段２０を設置しない条件１と同程度の２〜３Ｐａであったのに対して、条件４−６と条件４−７では、圧力変動σの増加がみられる。
設定圧力の絶対値が３００Ｐａに対して不活性ガスを流すことによる圧力損失が３０Ｐａ以下、すなわち設定圧力の１０％以下であれば、希釈手段２０ｂを設置しない場合と同等の圧力変動σが保てるが、圧力損失がそれより大きくなると圧力変動σが増加する傾向にある。
【００４３】
さらに詳細に圧力損失と圧力の制御性の関係を調査するために、炉体２５内と大気との圧力差を５０Ｐａに固定したまま、反応容器２２内と炉体２５内の設定圧力差を５０Ｐａ〜５００Ｐａ、圧力損失を２〜１００Ｐａ（窒素流量２〜１０ＳＬＭ）の間でそれぞれ変化させ、圧力変動σを調べた。結果を表６に示す。
【００４４】
【表６】
2007271431.tif 000008
【００４５】
表６において、「○」は圧力変動σが希釈手段２０ｂを設置しないときと同等の３Ｐａ以下、「△」は３Ｐａより大きく５Ｐａ以下、「×」は５Ｐａより大きい、「−」は測定しなかったことを意味する。
表６に示すように、圧力損失が、圧力計２８ａが測定する圧力の絶対値の１０％以下であれば希釈手段２０ｂを設置しても圧力変動σを悪化させることがない。
【００４６】
本発明の実施形態として、ＶＡＤ装置、脱水焼結装置に本発明の圧力測定装置を適用した実施例を示したが、本発明の圧力測定装置は、ＯＶＤ装置や、光ファイバの製造装置以外の腐食性ガスを含む気体の圧力測定にも好適に用いることができる。
また、本発明の圧力測定装置は測定する圧力が−１ｋＰａ以上１ｋＰａ以下の場合に、特に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の圧力測定装置をＶＡＤ装置に適用した一例を示す模式図である。
【図２】本発明の圧力測定装置を脱水焼結装置に適用した一例を示す模式図である。
【図３】本発明の圧力測定装置をＶＡＤ装置に適用した他の一例を示す模式図である。
【図４】本発明の圧力測定装置をＶＡＤ装置に適用したさらに他の一例を示す模式図である。
【図５】本発明の圧力測定装置を脱水焼結装置に適用した他の一例を示す模式図である。
【図６】本発明の圧力測定装置を脱水焼結装置に適用したさらに他の一例を示す模式図である。
【符号の説明】
【００４８】
８  多孔質母材
１０、１０ｂ  希釈手段
１１  バルブ
１２  反応容器
１７  排気筒
１８、１８ａ、１８ｂ  圧力計
１９  圧力制御装置
２０、２０ｂ  希釈手段
２１  バルブ
２２  反応容器
２５  炉体
２６  ガス供給口
２７  排気口
２８、２８ａ、２８ｂ  圧力計
２９  圧力制御装置
【図１】
2007271431.tif 000009
【図２】
2007271431.tif 000010
【図３】
2007271431.tif 000011
【図４】
2007271431.tif 000012
【図５】
2007271431.tif 000013
【図６】
2007271431.tif 000014