(57)【要約】【課題】流体移送路内に配置されたポンプの劣化やフィルタの目詰まり等による流体移送量の変化を迅速且つ高精度に検出できる流体移送路監視装置、流体移送路監視方法及び流体移送路監視装置を備えた研磨装置を提供する。【解決手段】研磨装置３０は、プラテン３４、研磨ヘッド３５と及びチューブポンプ３１を有する。チューブポンプ３１の前後のスラリ移送配管４１には圧力帯３２ａ，３２ｂが取り付けられている。スラリ移送配管４１のうち圧力帯３２ａ，３２ｂが取り付けられる部分は弾力性を有する素材により形成され、スラリの脈動により半径方向に膨縮する。この配管４１の膨縮を圧力帯３２ａ，３２ｂにより検出する。監視回路部３３は、圧力帯３２ａ，３２ｂの出力信号の振幅及び周期を監視し、チューブポンプ３１の異常の有無を判定する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体移送路の流れ方向に相互に離隔して配置され、前記流体移送路内を通る流体の脈動を検出する第１及び第２の検出部と、
前記第１及び第２の検出部から出力される信号の振幅及び周期を監視して前記流体移送路の異常の有無を判定する監視回路部と
を有することを特徴とする流体移送路監視装置。
【請求項２】
前記第１及び第２の検出部は、ポンプ又はフィルタを挟んで配置されていることを特徴とする請求項１に記載の流体移送路監視装置。
【請求項３】
前記流体移送路のうち前記第１及び第２の検出部が配置される部分には、前記流体の脈動にともなって半径方向に膨縮する素材により形成された配管が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の流体移送路監視装置。
【請求項４】
流体移送路の流れ方向に相互に離隔して前記流体移送路内を通る流体の脈動を検出する第１及び第２の検出部を配置し、
監視回路部により前記第１及び第２の検出部から出力される信号の振幅及び周期を監視して前記流体移送路の異常の有無を判定する
ことを特徴とする流体移送路監視方法。
【請求項５】
研磨パッドが装着されるプラテンと、
前記研磨パッドに向けて研磨物を押圧する研磨ヘッドと、
前記研磨パッド上にスラリを供給するスラリノズルと、
前記スラリノズルに向けてスラリを移送するポンプと、
前記ポンプの吸込み口側の配管に取り付けられて配管内を通るスラリの脈動を検出する第１の検出部と、
前記ポンプの吐出口側の配管に取り付けられて配管内を通るスラリの脈動を検出する第２の検出部と、
前記第１及び第２の検出部から出力される信号の振幅及び周期を監視して前記ポンプの異常の有無を判定する監視回路部と
を有することを特徴とする研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体移送路の異常の有無を監視する流体移送路監視装置、流体移送路監視方法及び研磨装置に関し、特に半導体ウエーハの化学的機械研磨に使用するスラリを移送する流体移送路の監視に好適な流体移送路監視装置、流体移送路監視方法及び流体移送路監視装置を備えた研磨装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造には、種々の工程で化学的機械研磨（chemical mechanical polishing ：以下、「ＣＭＰ」という）が使用されている。ＣＭＰに使用する研磨装置（以下、「ＣＭＰ装置」という）は、回転する研磨パッド（研磨布）の上にスラリを供給しつつ研磨物を研磨パッド上に押圧することにより研磨物を研磨する装置である。スラリには、通常、研磨物と化学反応を起こす成分を有する薬液と、砥粒とが含まれている。
【０００３】
ＣＭＰ装置にスラリを供給するポンプとして、例えば特許文献１に記載されているように、チューブポンプが使用されている。
【０００４】
図１は、チューブポンプの一例を示す模式図である。この図１に示すチューブポンプ１０は、円筒状のハウジング１１の内壁に沿ってＵ字状に湾曲して配置されたチューブ１２と、ハウジング１１内に配置され回転軸１３の回転に伴ってチューブ１２を押圧しながら回転軸１３の周囲を回転する複数（図では３個）のローラ１４とにより構成されている。チューブ１２の一方の端部は吸込み口１２ａとしてハウジング１１の外側に導出され、チューブ１２の他方の端部は吐出口１２ｂとしてハウジング１１の外側に導出されている。ここでは、吸込み口１２ａはスラリ貯留タンクに接続され、吐出口１２ｂはＣＭＰ装置に接続されているものとする。
【０００５】
このように構成されたチューブポンプ１０において、回転軸１３の回転に伴ってローラ１４が移動を開始すると、吸込み口１２ａの近傍のチューブ１２は、ローラ１４により一旦押し潰された後、チューブ１２の有する復元力により断面が元の形状（円形）に復元される。このとき、チューブ１２内には負圧が発生し、スラリ貯留タンクからチューブポンプ１０に向けてスラリが移送される。運転開始時にスラリ貯留タンクとチューブポンプとの間の配管内に空気が入っている場合は、空気が抜けるまでチューブポンプ１０を空運転する必要がある。
【０００６】
ハウジング１１の内側のチューブ１２内に移送されたスラリは、２つのローラ１４の間に挟まれ、それらのローラ１４の移動とともに吐出口１２ｂ側に移動する。そして、吐出口１２ｂから押し出され、ＣＭＰ装置に移送される。
【０００７】
チューブポンプ１０では、上述したようにチューブ１２の有する復元力を利用して流体を移送するため、チューブ１２は弾力性を有する素材で形成することが必要である。なお、チューブポンプは、スラリの移送だけでなく、種々の流体の移送に使用されている。例えば、医療分野では、特許文献２及び特許文献３に記載されているように、血液の移送などに使用されている。
【０００８】
チューブポンプの利点としては、（１）自給式であること、（２）弁構造がなく、粘性の高い液体の移送が可能であること、（３）チューブ素材の変更のみで各種薬液に容易に対応できること、（４）空運転しても故障しないこと、（５）消耗品がチューブのみであり、メンテンナンス性が優れていること、などがある。
【０００９】
一方、チューブポンプの欠点として、（１）脈動があること、（２）移送する流体によっては、チューブが破損しやすくなったりチューブからパーティクルが発生することがあること、（３）後述するようにスラリをＣＭＰ装置に移送する場合に移送量の管理が困難であること、などがある。
【００１０】
チューブポンプをＣＭＰ用スラリの移送に使用する場合、例えば特許文献４に記載されているように、チューブからスラリ中にチューブ製造時に使用された可塑剤などが溶出して、スラリ（砥粒）を凝集させることがある。そのため、実際にＣＭＰに使用する前にチューブポンプを長時間空運転してチューブ内にスラリを通し可塑剤などを十分に排出するか、又はスラリを凝集させる成分が溶出するおそれがない素材で形成されたチューブを使用することが重要である。
【００１１】
しかしながら、スラリが凝集する原因はチューブの可塑剤だけではなく、上述した対策を施してもスラリ中の凝集物を完全になくすことは極めて困難である。また、何らかの原因によりスラリ中に異物が混入することもある。スラリ中に凝集物や異物が含まれていると、半導体ウエーハをＣＭＰしたときに半導体ウエーハにスクラッチ（引っかき疵）が発生し、半導体装置の不良の原因となる。特に、近年、半導体装置の高密度化及び高集積化に伴って配線材料に銅が使用されるようになったが、銅は比較的柔らかい金属であるため、スラリ中に凝集物や異物が含まれていると容易にスクラッチが発生して、配線抵抗の増加や断線等の原因となる。
【００１２】
このため、従来から、スラリ移送路内に複数のフィルタを直列に接続して配置したり、ＣＭＰ装置の内部のスラリノズルの近傍に小型のフィルタ（カプセルフィルタ）を配置するなどの対策がとられている。
【００１３】
上述したように、スラリをＣＭＰ装置に移送する場合は、スラリ供給量が約２００〜２５０ｍｌ／分と少ないことに加えて、移送路内に配置されたフィルタによる移送量の低下が発生するので、移送量を自動的に管理することは困難である。このため、従来は、例えば作業者がメスシリンダーとストップウォッチとを用いて定期的に流量を測定するなどの方法がとられている。
【００１４】
しかし、それでも定期的な流量測定から次の流量測定までの間に、チューブポンプのチューブの劣化や破損が発生してスラリの流量が低下したり、フィルタが目詰まりして流量が低下する可能性がある。そこで、メスシリンダーとストップウォッチとを用いた定期的な流量測定に加えて、チューブポンプやフィルタの出口側配管に圧力計を取り付け、作業員が圧力計を見て異常の有無を判断するなどの対策がとられることもある。また、チューブポンプやフィルタの前後の配管に圧力計を取り付け、作業員が差圧を調べて異常の有無を判断することもある。
【特許文献１】米国特許第４７１４７８６号明細書
【特許文献２】特開平６−１９７９６４号公報
【特許文献３】特許第３５８１３２３号公報
【特許文献４】特開２００４−２０７４２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
しかしながら、前述したように、チューブポンプから吐出されるスラリは脈動するのに加えて、ＣＭＰ装置に供給するスラリの量が約２００〜２５０ｍｌ／分と少ないため、作業員が圧力計を目視で監視しても、チューブポンプの僅かな異常やフィルタの目詰まりによる流量の変化を検出することは難しい。
【００１６】
本発明の目的は、流体移送路内に配置されたポンプの劣化やフィルタの目詰まり等による流体移送量の変化を迅速且つ高精度に検出できる流体移送路監視装置、流体移送路監視装置及び流体移送路監視装置を備えた研磨装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の一観点によれば、流体移送路の流れ方向に相互に離隔して配置され、前記流体移送路内を通る流体の脈動を検出する第１及び第２の検出部と、前記第１及び第２の検出部から出力される信号の振幅及び周期を監視して前記流体移送路の異常の有無を判定する監視回路部とを有する流体移送路監視装置が提供される。
【００１８】
本発明の他の観点によれば、流体移送路の流れ方向に相互に離隔して前記流体移送路内を通る流体の脈動を検出する第１及び第２の検出部を配置し、監視回路部により前記第１及び第２の検出部から出力される信号の振幅及び周期を監視して前記流体移送路の異常の有無を判定する流体移送路監視方法が提供される。
【００１９】
本発明においては、流体移送路の流れ方向に相互に離隔して、流体移送路内を通る流体の脈動を検出する第１及び第２の検出部が配置されている。そして、監視回路部は、第１及び第２の検出部から出力される信号の振幅及び周期を監視して、流体移送路の異常の有無を判定する。例えば、第１及び第２の検出部の間にポンプ又はフィルタが設けられているものとする。ポンプ又はフィルタが正常な場合は、第１及び第２の検出部から出力される信号は同期しており、それらの信号の振幅比はある一定の範囲内となる。しかし、ポンプの異常やフィルタの目詰まりが発生すると、第１及び第２の検出部から出力される信号のタイミングがずれたり、それらの信号の振幅比が前記一定の範囲から外れる。これにより、ポンプの異常やフィルタの目詰まりを迅速且つ高精度に検出することができる。
【００２０】
第１及び第２の検出部により配管内を通る流体の脈動を検出する場合、例えば配管の一部を弾力性を有する素材により形成し、流体の脈動により配管が半径方向に膨縮するようにしておくことが好ましい。この配管に第１及び第２の検出部として、例えば血圧の測定に使用される圧力帯（カフ）と同様に、圧力センサと、空気を注入することにより圧力センサを配管の周面に押圧する袋部と、配管の外周に巻き付けて袋部を配管に止着する帯状の止着部とにより構成される検出装置を取り付けることにより、配管内を通る流体の脈動を検出することができる。
【００２１】
本発明の更に別の観点によれば、研磨パッドが装着されるプラテンと、前記研磨パッドに向けて研磨物を押圧する研磨ヘッドと、前記研磨パッド上にスラリを供給するスラリノズルと、前記スラリノズルに向けてスラリを移送するポンプと、前記ポンプの吸込み口側の配管に取り付けられて配管内を通るスラリの脈動を検出する第１の検出部と、前記ポンプの吐出口側の配管に取り付けられて配管内を通るスラリの脈動を検出する第２の検出部と、前記第１及び第２の検出部から出力される信号の振幅及び周期を監視して前記ポンプの異常の有無を判定する監視回路部とを有する研磨装置が提供される。
【００２２】
本発明の研磨装置は、研磨パッドが装着されるプラテンと、研磨パッドに向けて研磨物を押圧する研磨ヘッドと、研磨パッド上にスラリを供給するスラリノズルと、スラリノズルに向けてスラリを移送するポンプとを有するのに加えて、ポンプの吸込み口側及び吐出口側の配管に取り付けられて配管内を通るスラリの脈動を検出する第１及び第２の検出部と、それらの第１及び第２の検出部から出力される信号の振幅及び周期を監視する監視回路部とを有している。
【００２３】
ポンプが正常な場合は第１及び第２の検出部から出力される信号は同期しており、それらの信号の振幅比は圧一定の範囲内となる。しかし、ポンプに異常が発生すると、第１及び第２の検出部から出力される信号のタイミングがずれたり、それらの信号の振幅比が前記一定の範囲から外れる。監視回路部は、このような信号の変化を検出すると、例えば警報ランプや警報ブザーにより作業者にポンプの異常を知らせる。これにより、研磨不良を回避することができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、チューブの伸びや亀裂及びフィルタの詰まりなどによる液体移送路の異常を早期に検出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態について、添付の図面を参照して説明する。
【００２６】
（第１の実施形態）
図２は、本発明の第１の実施形態に係る流体移送路監視装置及びその流体移送路監視装置を備えたＣＭＰ装置を示す模式図である。
【００２７】
ＣＭＰに使用するスラリ２１は、スラリ貯留タンク２０内に貯留される。この貯留タンク２０の近傍にはポンプ２２が配置されている。このポンプ２２の吸込み口側の配管はスラリ貯留タンク２０の下部に接続されており、吐出口側はリターン配管２４に接続されている。このポンプ２２が稼動すると、貯留タンク２０内のスラリ２１はポンプ２２に吸込まれ、リターン配管２４を通って上側から貯留タンク２０に戻される。これにより、貯留タンク２０内のスラリ２１が撹拌され、スラリ２１の濃度が均一化される。
【００２８】
リターン配管２４から分岐したスラリ移送配管２５にはフィルタ２３が設けられている。このフィルタ２３によりスラリ２１内に混入した凝集物及び異物等が除去され、凝集物及び異物等を含まないスラリ２１がＣＭＰ装置３０に供給される。なお、フィルタ２３はＣＭＰ装置３０の外側に配置されるものであり、比較的大型のものが使用される。例えば、フィルタ２３として、長さが１０インチ、メッシュが５〜１０μｍのものが使用される。
【００２９】
ＣＭＰ装置３０は、チューブポンプ３１、スラリ移送配管４１、圧力帯３２ａ，３２ｂ、監視回路部３３、プラテン３４、研磨ヘッド３５及びスラリノズル３６を有している。本実施形態において、流体移送路監視装置は、圧力帯３２ａ，３２ｂ及び監視回路部３３により構成されている。
【００３０】
プラテン３４は円盤状の部材であり、第１の回転機構により駆動されて回転する。このプラテン３４の上には研磨パッド（研磨布）３４ａが装着され、ＣＭＰ時にはチューブポンプ３１により移送されたスラリがスラリ移送配管４１及びスラリノズル３６を介して研磨パッド３４ａの上に供給される。
【００３１】
研磨ヘッド３５はプラテン３４の上方に配置されている。研磨物である半導体ウエーハは、研磨面を研磨パッド３４ａに向けて研磨ヘッド３５の下側に保持される。この研磨ヘッド３５は、第２の回転機構により回転するとともに、ＣＭＰ時には半導体ウエーハを所定の圧力で研磨パッド３４ａに押圧する。
【００３２】
圧力帯３２ａはチューブポンプ３１の吸込み口側のスラリ移送配管４１に取り付けられており、圧力帯３２ｂはチューブポンプ３１の吐出口側のスラリ移送配管４１に取り付けられている。監視回路部３３は、これらの圧力帯３２ａ，３２ｂから出力される信号に基づいてチューブポンプ３１の異常の有無を判定する。
【００３３】
圧力帯３２ａ，３２ｂは、例えば血圧の測定に使用される圧力帯（カフ）と同様の構造を有している。図３はスラリ移送配管４１に装着された圧力帯３２ａを示す断面図である。なお、圧力帯３２ｂの構造も圧力帯３２ａと同じであるので、ここでは圧力帯３２ｂの説明は省略する。
【００３４】
チューブポンプ３１に接続されるスラリ移送配管４１は、耐薬品性及び耐磨耗性に優れた素材（例えば、ＰＦＡ（パープルオロアルコキシ樹脂））により形成されている。但し、図３に示すように、スラリ移送配管４１のうち圧力帯３２ａを装着する部分の配管４１ａは、弾力性を有する素材（例えば塩ビ系樹脂又は合成ゴム）により形成されていることが要求される。
【００３５】
圧力帯３２ａは、空気を注入すると膨張する袋部４４と、膨張した袋部４４により配管４１ａの周面に密着される圧力センサ４５と、袋部４４の外側に巻き付けて袋部４４をスラリ移送配管４１の外周面に止着する帯状の止着部４６とにより構成されている。圧力帯３２ａは、図３に示すように、止着部４６をスラリ移送配管４１に巻き付けた後、袋部４４内に空気を注入して膨張させ、圧力センサ４５を弾力性を有する配管４１ａに密着させて固定する。
【００３６】
このようにして圧力帯３２ａ，３２ｂをチューブポンプ３１の前後のスラリ移送配管４１に取り付けた後、チューブポンプ３１を稼動させると、チューブポンプ３１によるスラリの脈動に伴って弾力性を有する配管４１ａが半径方向に膨縮する。この配管４１ａの膨縮に伴って圧力センサ４５に歪みが発生し、歪みに応じた信号が圧力センサ４５から出力される。図４は、チューブポンプ３１が正常な場合の圧力帯３２ａ，３２ｂの出力を示す模式図である。この図４に示すように、チューブポンプ３１が正常な場合は、圧力帯３２ａ，３２ｂから同じ周期でパルス状の信号が出力される。この場合、圧力帯３２ａ，３２ｂから出力される信号の振幅比は所定の範囲となる。
【００３７】
チューブの劣化（伸びや亀裂等）によりチューブポンプ３１に異常が発生すると、図５（ａ）に示すように、圧力帯３２ａ，３２ｂから出力される信号の振幅比が変化したり、図５（ｂ）に示すように、波形飛びやピッチのずれが発生する。監視回路部３３は、圧力帯３２ａ，３２ｂから出力される信号を監視し、図４に示す状態から図５（ａ）又は図５（ｂ）に示すような状態に変化したことを検出すると、警報ランプや警報ブザー等により異常の発生を作業者に知らせる。
【００３８】
本実施形態においては、上述したように、スラリ移送配管４１のうち弾力性を有する配管４１ａの膨縮を圧力帯３２ａ，３２ｂにより検出し、それらの圧力帯３２ａ，３２ｂから出力される信号に基づいて監視回路部３３がチューブポンプ３１の異常の有無を判定するので、チューブポンプ３１の異常の有無を迅速且つ高精度に検出し、作業者に知らせることができる。これにより、半導体ウエーハの研磨不良の発生を未然に回避できる。
【００３９】
図６は、第１の実施形態の変形例を示す模式図である。この図６に示す例では、リターン配管２４とフィルタ２３との間に、直前混合スラリ供給装置４８を配置している。
【００４０】
大型のスラリ貯留タンクではスラリの成分を均一に混合することが困難な場合や、混合してから研磨パッド上に供給するまでの時間が長いと砥粒が凝集しやすくなる成分を含むスラリを使用する場合、この図６に示すように直前混合スラリ供給装置４８を使用することが好ましい。
【００４１】
（第２の実施形態）
図７は、本発明の第２の実施形態に係る流体移送路監視装置及びその流体移送路監視装置を備えたＣＭＰ装置を示す模式図である。本実施形態が第１の実施形態と異なる点は、ＣＭＰ装置内にスラリ中の凝集物や異物を除去するためのカプセルフィルタが設けられていることにあり、その他の構成は基本的に第１の実施形態と同様であるので、ここでは重複する部分の説明を省略する。
【００４２】
本実施形態の研磨装置５０は、図７に示すように、チューブポンプ３１とスラリノズル３６との間のスラリ移送配管４１に、カプセルフィルタ５１が取り付けられている。このカプセルフィルタ５１はＣＭＰ装置５０の外側に設けられた大型フィルタ２３（図２参照）で除去できなかった異物等を除去するためのものであり、例えば長さが２〜４インチ、メッシュが２〜５μｍである。
【００４３】
本実施形態では、図７に示すように、チューブポンプ３１の吸込み口側のスラリ移送配管４１に圧力帯３２ａが配置され、チューブポンプ３１の吐出口側とカプセルフィルタ５１の入口側との間のスラリ移送配管４１に圧力帯３２ｂが配置され、カプセルフィルタ５１の出口側のスラリ移送配管４１に圧力帯３２ｃが配置されている。監視回路部５３は、これらの圧力帯３２ａ，３２ｂ，３２ｃから出力される信号に基づいて、チューブポンプ３１及びカプセルフィルタ５１の異常の有無を監視する。
【００４４】
本実施形態において圧力帯３２ａ，３２ｂから出力される信号によるチューブポンプ３１の異常の有無の判定は第１の実施形態と同様であるので、ここではカプセルフィルタ５１の異常の有無の判定についてのみ説明する。
【００４５】
図８は、カプセルフィルタ５１が正常な場合の圧力帯３２ｂ，３２ｃの出力を示す模式図である。この図８に示すように、カプセルフィルタ５１が正常な場合は、圧力帯３２ｂ，３２ｃから同じ周期でパルス状の信号が出力される。この場合、圧力帯３２ｂ，３２ｃから出力される信号の振幅比は所定の範囲となる。
【００４６】
カプセルフィルタ５１にある程度以上の詰まりが発生すると、図９（ａ）に示すように、圧力帯３２ｂ，３２ｃから出力される信号の振幅比が変化したり、図９（ｂ）に示すように、波形のずれやピッチのずれが発生する。監視回路部５３は、圧力帯３２ｂ，３２ｃから出力される信号を監視し、図８に示す状態から図９（ａ）又は図９（ｂ）に示す状態に変化したことを検出すると、警報ランプやブザー等により異常の発生を作業者に知らせる。
【００４７】
本実施形態においては、チューブポンプ３１の前後に圧力帯３２ａ，３２ｂを配置するとともに、カプセルフィルタ５１の前後にも圧力帯３２ｂ，３２ｃを配置し、それらの圧力帯３２ａ，３２ｂ，３２ｃから出力される信号に基づいて監視回路部５３によりチューブポンプ３１及びカプセルフィルタ５１の異常の有無を判定するので、チューブポンプ３１及びカプセルフィルタ５１の異常の有無を迅速且つ高精度に検出し、作業者に知らせることができる。これにより、半導体ウエーハの研磨不良の発生を未然に回避できる。
【００４８】
なお、上述した第１及び第２の実施形態ではいずれもチューブポンプにより流体を移送する流体移送路監視装置に本発明を適用した例について説明したが、本発明は流体の移送時に脈動が発生するその他のポンプ（例えばベローズポンプやダイヤフラムポンプ等）による流体移送路の監視にも適用することができる。
【００４９】
また、上記第１及び第２の実施形態では本発明に係る流体移送路監視装置をＣＭＰ時にスラリを移送する流体移送路の監視に適用した場合について説明したが、本発明の流体移送路監視装置は、スラリ以外の流体を移送する流体移送路の監視に適用できることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】図１は、チューブポンプの一例を示す模式図である。
【図２】図２は、本発明の第１の実施形態に係る流体移送路監視装置及びその流体移送路監視装置を備えたＣＭＰ装置を示す模式図である。
【図３】図３は、スラリ移送配管に装着された圧力帯を示す断面図である。
【図４】図４は、チューブポンプが正常な場合の圧力帯の出力を示す模式図である。
【図５】図５（ａ），（ｂ）は、いずれもチューブポンプに異常が発生したときの圧力帯から出力される信号を示す模式図である。
【図６】図６は、第１の実施形態の変形例を示す模式図である。
【図７】図７は、本発明の第２の実施形態に係る流体移送路監視装置及びその流体移送路監視装置を備えたＣＭＰ装置を示す模式図である。
【図８】図８は、カプセルフィルタが正常な場合の圧力帯の出力を示す模式図である。
【図９】図９（ａ），（ｂ）は、いずれもカプセルフィルタに詰まりが発生したときの圧力帯から出力される信号を示す模式図である。
【符号の説明】
【００５１】
１０，３１…チューブポンプ、
１１…ハウジング、
１２…チューブ、
１３…回転軸、
１４…ローラ、
２０…スラリ貯留タンク、
２１…スラリ、
２２…ポンプ、
２３…フィルタ、
２４…リターン配管、
２５，４１…スラリ移送配管、
３０，５０…ＣＭＰ装置、
３２ａ，３２ｂ，３２ｃ…圧力帯、
３３，５３…監視回路部、
３４…プラテン、
３４ａ…研磨パッド、
３５…研磨ヘッド、
３６…スラリノズル、
４１ａ…弾力性を有する配管、
４４…袋部、
４５…圧力センサ、
４６…止着部、
５１…カプセルフィルタ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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