(57)【要約】      （修正有）【課題】半導体ウエハの欠陥を検出するフーリエフィルタが、環境に存在する通常の振動によりその出力が影響を受けない方法を提供する。【解決手段】フーリエフィルタ機構６００の減衰タブ６０６は磁石６１０間の中心に位置する。タブ６０６が磁界中で移動するとき、タブ６０６の電気ループを通過する磁束は変化し、タブ６０６に渦電流が誘発され、その渦電流により生じた磁気力ベクトルはＺ−スプリング６０８の振動を減衰させるように働く。【選択図】図６
2007123920.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウエハの繰返し特徴における欠陥を検出するためのフーリエフィルタリング機構であって：
間隔を変化させるように調整可能である実質的に同一平面にあるブロッケージのアレイと；
前記ブロッケージのアレイを支える複数のスプリングであって、前記ブロッケージのアレイ及び前記複数のスプリングは導電性スプリング材料のシートをエッチングすることにより製造される、複数のスプリングと；
前記複数のスプリングを伸縮するため及び前記ブロッケージのアレイを位置決めするための複数の位置決め装置と；
導電性材料から製造され、前記スプリングの減衰振動について永久磁石のアレイの近位に位置決めされる、複数の減衰タブと；
を有するフーリエフィルタリング機構。
【請求項２】
前記複数の減衰タブは永久磁石の近位に位置している、請求項１記載のフーリエフィルタリング機構。
【請求項３】
半導体構造物の繰返し特徴における欠陥を検査するためのフーリエフィルタリング機構であって：
間隔を変化させるように機械的に調整可能である実質的に同一平面にあるブロッケージのアレイと；
前記ブロッケージのアレイを支える複数のスプリングと；
前記複数のスプリングの振動を減衰するために前記複数のスプリングに取り付けられた複数の減衰タブであって、前記ブロッケージのアレイ、前記複数のスプリング及び前記複数の減衰タブは黒くされた導電性材料から製造される、複数の減衰タブと；
前記複数の減衰タブの近位に渦電流を誘発させるための交互に極性のある永久磁石のアレイと；
を有するフーリエフィルタリング機構。
【請求項４】
半導体ウエハの繰返し特徴における欠陥を検出するためのフーリエフィルタリング機構を製造するための方法であって：
導電性材料のシートの第１側においてパターンをマスキングする段階であって、前記パターンは複数のスプリングの間に接続されたブロッケージのアレイを規定し、減衰タブは前記複数のスプリングに取り付けられている、段階と；
前記導電性材料のシートの第２側において前記パターンをマスキングする段階と；
前記シートのマスキングされていない部分を取り除くために両方の側から前記導電性材料のシートをエッチングする段階であり、それにより、前記ブロッケージのアレイ、複数のスプリング及び前記フーリエフィルタリング機構の前記スプリングの振動を減衰するための減衰タブを形成する、段階と；
前記エッチングの後、前記フーリエフィルタリング機構の少なくとも一部を黒くする段階と；
を有する方法。
【請求項５】
半導体ウエハの繰返し特徴における欠陥を検出するためのフーリエフィルタリング機構であって：
間隔を変化させるように調整可能である実質的に同一平面にあるブロッケージのアレイと；
振動の影響を最小化させるように前記調整可能であるブロッケージに結合された減衰支持体と；
半導体ウエハの領域を照射するための実質的にコリメートされた光の光源と；
前記コリメートされた光を受けるための画像センサと；
前記半導体ウエハに照射される前記コリメートされた光により生じた回折オーダーを閉じ込めるように前記画像センサと前記半導体ウエハとの間のフーリエ平面において前記減衰支持体及び前記ブロッケージのアレイを位置決めするための位置決め装置と；
を有するフーリエフィルタリング機構。
【請求項６】
前記減衰支持体は、前記ブロッケージのアレイを支持し、減衰させる複数のスプリングを有する、請求項５記載のフーリエフィルタリング機構。
【請求項７】
前記減衰支持体は、前記減衰タブにおいて渦電流を発生させ、それにより、
前記ブロッケージのアレイにおける振動を減衰させるように磁場において備えられた複数の導電性タブを有する、請求項５記載のフーリエフィルタリング機構。
【請求項８】
前記減衰支持体は、前記ブロッケージのアレイにおける振動を減衰させるように前記ブロッケージの動く動作に沿って配置される粘性流体を有する、請求項５記載のフーリエフィルタリング機構。
【請求項９】
前記ブロッケージは１つの方向におけるフィルタリングするための機械的にフレキシブルなワイヤを有する、請求項５記載のフーリエフィルタリング機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は製造される半導体装置の検査に係り、より詳細には、繰返し特徴のある半導体ウエハの欠陥を検出するためのフーリエフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハの欠陥を検出するための検査装置を製造するためには、周知の方法が存在する。通常、これらの検査装置は、半導体ウエハの所望のパターニングをフィルターにかける数多の手段を利用して欠陥を検出する。先行技術には、検査装置において利用されてきた液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を基礎とするフィルタや写真を基礎とするフィルタのような光学的フィルタが使用されている。Evansらへの米国特許第５、５３７、６６９号明細書には、空間ドメイン及び周波数ドメインの混成、つまり「フーリエ様」変換を利用するランダム若しくは繰返しパターンの別の検査方法及び装置が開示されている。上記先行技術のフィルタリング実施は、光学的ゆがみ、コントラスト不良や工程の複雑さのようなさまざまな欠点を有している。
【０００３】
欠陥検出の基礎は、名目上同じ特徴の画像と欠陥として確認される差異との比較を行うために、ウエハにパターニングの繰返し特性を利用する。一般には、ウエハパターンは二つのスケールでの繰返し性があり：粗いスケールでは、単一のダイ、つまり機能性装置がウエハにわたり何度も繰り返され；上記ダイはその後離れ、別々にパーケージされる。ダイスはサイドに４と２５ｍｍとの間にあり、矩形である。微細なスケールでは、多くの装置は、メモリセルのアレイのようなダイ内に繰返しの幾何学的形状を有し、繰返しパターンは数ミクロン、典型的には２から２０μｍの周期を有している。このアレイ領域はフーリエフィルタが特に有用である部分である。
【０００４】
欠陥を検出するために、ウエハダイのアレイがコヒーレントで、平行光で照射されると、そのアレイは反射性回折格子として働き、その格子はイメージングシステムのピューピル（フーリエ）平面にはっきりと分かる回折スポットが生じる。
【０００５】
図１は、ウエハ１１０の繰返しパターニング（図示せず）により発生した回折パターンを閉じ込める（block）従来のフーリエフィルタ機構１００を示す。ウエハ１１０に入射するレーザ光ビーム１０１により、回折オーダ１０２と鏡のような反射１０３が生じる。対物レンズ１０４は、フーリエ平面に位置するＬＣＤを基礎とする若しくは写真を基礎とするフィルタを経由して回折光線を導き直し、第二のレンズ１０６を介して画像センサ１０７に画像を集束させる。
【０００６】
図２Ａはウエハ画像平面に位置する繰返しアレイを示し、図２Ｂはアレイから回折された平行レーザビームにより生じたフーリエスポット２００の平行及び直線アレイを示す。
【０００７】
回折スポットを閉塞する閉じ込め機構（blocking  mechanism）をフーリエ平面に置くことにより、フーリエ平面の残りの部分を邪魔させないようにしながら、画像のアレイ領域からの非繰返し内容（欠陥）を除去せずに、繰返し内容を除去することが可能である。アレイの繰返し内容を除去することは、繰返し内容は二つの理由で好ましい。
【０００８】
第一に、ウエハの「同じ」特徴を明確にし、比較することは、繰返しパターンの正確な程度を明確にしなければならず、さらに画像を正確に取得し減算しなければならないので、本来誤差が生じやすい。仮に、繰返し内容が光学的に除去されれば、アレイ領域は非パターン化されたウエハとして現れるであろう。隣接繰返しセルの鮮明度、画像取得及び比較により、繰返しパターンがフーリエフィルタの使用により除去されるときに回避される光学的混乱が生じる。
【０００９】
第二に、前述した比較を実行するために、繰返しパターンの正確な画像が必要であり、このことは画像が検出器の飽和に接近する点を超えてイメージングシステムのゲインが増大できないことを意味する。これにより、観察可能な欠陥サイズが限定される。イメージングシステムゲインが更に増大するならば、より小さな欠陥が検出可能となるが、繰返しパターンは飽和するであろうから、アレイの特徴は十分に解像されず、結果として、隣接繰返しセルの比較は、小さな欠陥からの信号が入り込む大量のノイズを含むことになるであろう。フーリエフィルタを利用して繰返しパターンを光学的に除去できるならば、繰返し画像が検出器に達する前に除去されるので、システムゲインは自由に増すであろう。したがって、フーリエフィルタはアレイ領域で利用されるべき一層大きなゲインを可能し、結果してより高感度に欠陥が検出できる。
【００１０】
実用的フーリエフィルタは、半導体ウエハの欠陥を素早く検出できなければならならず、このことは、そのフィルタが製造環境に存在する通常の振動によりフィルタ出力が影響を受けないことを意味する。したがって、必要なものは、低コストなフーリエフィルタ機構であり、振動の減衰は最小限の時間を要求され、減衰手段はフーリエフィルタ自体の有用性を無意味なものにしないことである。
【特許文献１】米国特許第５、５３７、６６９号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、ブロッケージのアレイと、そのブロッケージのアレイを支持するための導電性材料から製造された少なくとも二つのスプリングのあるフーリエフィルター機能に関する。このフーリエフィルタ機構は、ベリリウム銅のようなスプリング材料の単一シートからエッチングされる。これにより、ブロッケージの幅と二つのスプリングのスプリング速度を厳密に合わせることができる非常に厳しい許容度で、フィルタ製造が高価でなく容易になる。厳密な許容度により、ブロッケージ幅を非常に小さく維持できるようになり、光学的効率が最適化され、スプリングの予測可能で、一様であり、繰返し可能な伸縮にスプリングを十分に合わせることが可能となり、ブロッケージを一様に配設させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
次に、問題は、フーリエ平面で回折スポットをいかに効率良くフィルタにかけるかである。目標は閉じ込められた領域と閉じ込められていない領域との間で、できるだけコントラストを高いし、できるだけ光学的効率を高くする、つまりできるだけ平面のほとんどを閉じ込めることである。更に、関心があることは、このフィルタを利用する検査機械は、ウエハへの二つの入射レーザビームを有し、回折スポットの二つの組が生じることである（図３参照）。これらの回折パターンの双方を閉じ込める配置が好ましいであろう。
【００１３】
図３を参照するに、アレイから生じたフーリエスポットパターン３００の線図は、二つのレーザビームの照射により発生したものとして示され、各ビームはコヒーレントで、平行な光ビームである。入射レーザ光‘Ａ’のビーム３０１がウエハに当たり、‘Ａ’回折オーダ３０２と‘Ａ’の鏡のような反射３０３が生じる。入射光レーザ‘Ｂ’のビーム３０４がウエハに当たり、‘Ｂ’回折オーダ３０５と‘Ｂ’の鏡のような反射３０６が生じる。‘Ａ’及び‘Ｂ’の回折パターンをサンプリングするフーリエ平面開口部３０７を示す。
【００１４】
留意点：図３、図４及び図５は回折スポットの強度を表わすために大きさを利用し、実際には、スポットは図示するように大きさは変化していないが、スポットは強度が変化する。二つの陰影は、回折スポットを二つの入射ビームから区別するために利用する。
【００１５】
図４を参照するに、アレイから生じたフーリエスポットパターン４００の線図を、二つのレーザビームの照射により生じたものとして示す。図４は、照射仰角θでの回折スポット及びフィルタブロッケージの線図を示す。入射レーザ光‘Ａ’のビーム４０１がウエハに当たり、フィルタブロッケージ４０３として働くワイヤ又はスプリングにより閉じ込められた‘Ａ’の回折オーダ４０２が生じる。入射レーザ光‘Ｂ’のビーム４０４がウエハに当たり、フィルタブロッケージ４０３により閉じ込められた‘Ｂ’回折オーダ４０５が生じる。回折パターン‘Ａ’及び‘Ｂ’をサンプリングするフーリエ平面開口部４０６を示す。
【００１６】
図５を参照するに、アレイから生じたフーリエスポットパターン５００の線図を、二つのレーザビームの照射により発生したものとして示す。図５は照射仰角（θプラスν）での回折スポット及びフィルタブロッケージの線図である。入射レーザ光‘Ａ’のビーム５０１がウエハに当たり、フィルタブロッケージ５０３として働くワイヤ又はスプリングにより閉じ込められた‘Ａ’回折オーダ５０２が生じる。入射レーザ光‘Ｂ’のビーム５０４がウエハに当たり、フィルタブロッケージ５０３により閉じ込められた‘Ｂ’回折オーダ５０５が生じる。‘Ａ’及び‘Ｂ’の回折パターンをサンプリングするフーリエ平面開口部５０６を示す。
【００１７】
かかるフーリエフィルタ機構の使用に潜む一つの基本的仮定は、フーリエフィルタ機構の振動がほとんどないことである。フーリエフィルタ機構の減衰時定数はかなり大きい。フィルタ自体のスプリング支持体は、衝撃を受ける又は移動した後の長時間、振動する傾向にある十分に減衰しない機構である。この問題を回避するために、通常、減衰は、物理的に接触し、フーリエフィルタの使用を制限するクランプにより生じる。しかし、かかる減衰がなければ、振動がほとんど無視できるところまで減衰するのを待つには、かなりの時間が必要である。この時間により、各ウエハの欠陥を光学的に検査するのを非常に遅らせ、よって決まった時間で検査できるウエハ数は著しく減少し、検査コストの増大が招来する。
【００１８】
本発明はフーリエフィルタを利用し、その機構からは非繰返し欠陥のみの光学的回折パターンが生じ、クランプなしに容易に減衰する。図６Ａは圧縮されたフーリエフィルタ機構６００の一つの実施態様の線図であり、図６Ｂは非圧縮のフーリエフィルタ機構６００の線図であり、機械的に誘導された渦電流減衰用の減衰タブ６０６を示す。フィルターブロッケージ６０４、減衰タブ６０６及び「Ｚ‐スプリング」６０８を二つのピッチの設定に示す。Ｚ‐スプリング６０８が垂直であるときに、頂部でよりも底部でより幅広い間隔であることが好ましく、Ｚ‐スプリングの重量は底部のＺ‐スプリングの間隔を圧縮し、頂部でのＺ‐スプリングの間隔とおおよそ等しくなる。フィルタ６０４自体は、二つの平坦なＺ‐スプリング６０８間に接続されたブロッケージのアレイである。ブロッケージの間隔は、スプリングが伸びる、又は緩和するにつれて変化する。この全体のフィルタ組立体は、ベリリウム‐銅又はステンレス鋼のようなスプリング材料の単一シートからエッチングされる。これにより、ブロッケージの幅と二つのＺ‐スプリング６０８のスプリング速度と密接な合わせることが達成可能な非常に厳密な許容度で、コストがかからず容易な製造のフィルタを確立することが可能となる。厳密な許容度により、ブロッケージ幅を非常に小さく維持することが可能となり、光学的効率が最適化され、Ｚ‐スプリング６０８をスプリングの予測可能で、一様で、繰返し可能である伸縮に十分に合わせることができ、その結果ブロッケージは一様に配設される。
【００１９】
Ｚ‐スプリング自体は、衝撃を受けたり、移動した後、長時間振動する傾向にある十分に減衰しない機構である。図６Ａ及び図６Ｂの減衰タブ６０６は、フーリエフィルタ実行の一部として、磁界に配されたスプリング材料の簡単な矩形をしている。たとえ矩形で示されていても、多角形であれば十分である。好ましい実施態様には、図６Ｃから分かるように、タブのサイズにおおよそ等しい磁石の空間がある。減衰タブ６０６は磁石６１０間の中心に位置し、減衰タブ６０６の平面幅として、相互に及び減衰タブ６０６からおおよそ同じ分離距離を有する。
【００２０】
磁界は、交互に極性のある小さな永久磁石６１０のアレイにより発生する。タブ６０６が磁界中で移動するとき、タブの電気ループを通過する磁束は変化し、タブ６０６に渦電流が誘発され、その渦電流により生じた磁気力ベクトルはＺ−スプリング６０８の振動を減衰させるように働く。このようにして、上記フーリエフィルタ機構が通常環境下での振動を受けた際に、振動の減衰は非常に速く起こり、その結果検査時間の期間は実質的に影響を受けない。
【００２１】
タブ６０６は、機械的に誘発される渦電流が発生させるため、導電性材料から製造されなければならず、スプリング６０８のベリリウム‐銅若しくはステンレス鋼材料は導電性である。タブ６０６は、スプリング６０８及びブロッケージ６０４を製造する同じ工程の一部としてエッチングされ、したがって、実質的に付加的製造コストを必要としない。エッチングは導電性シートの両側で同時に行われることが好ましい。スプリング、ブロッケージ及びタブを製造する別の方法として、レーザカッティングがある。エッチング又はレーザカッティングが終了した後に、導電性材料の表面は酸化されることが好ましい。フィルタの表面を酸化する目的は、フィルタを黒くすることであるが、フィルタ表面を黒くさせる別の適当な方法も利用可能である。
【００２２】
タブ６０６及び磁石６１０の最終的な効果は、振動の時定数を、減衰なしでの約１０秒から減衰ありでの１秒以下へその大きさを減少させることである。この減衰はいつでもその恩恵があり、フーリエフィルタに隣接する振動源だけでなく、慎重なフィルタ調整により生じる振動からのランダムな振動を減衰させるのに役に立つ。この減衰技術は、ブロッケージの使用を制限し、クランプによる物理的接触を必要とするクランプなどの振動を阻止する方法よりは非常に効果がある。
【００２３】
フィルタの残り部分はモータとスライド機構に達し、Ｚ‐スプリング６０８を伸縮させ、全体としてブロッケージ及びスプリング組立体を位置決めする。一つの実施態様では、これはステッパモータと親ねじで達成される。
【００２４】
減衰タブの使用は好ましいことであるが、スプリングのエッジ近くのトラックに沿って粘度のある液体を配置することを含む他の減衰方法も利用可能であり、その粘度のある液体がスプリング運動を減衰させる。あるいは、僅かな摩擦カップリングがスプリングのエッジと上記トラックとの間に維持され、スプリング運動を減衰させる。上記方法は互いに組合わせて利用することも可能であり、本願で開示していない他の減衰方法と組合わせることも可能である。減衰のある形態は商業的に成功した装置にはすこぶる有用であるが、仮に、その装置が短時間のうちに平行に達する必要がないのなら、並びにその装置が振動源から離れていれば、減衰機構は必要ない。
【００２５】
図７はフィルタブロッケージ７０４の実施を示し、減衰タブ７０６及び「Ｚ‐スプリング」７０８は検査システム７００にある。フィルタの位置を調整する装置には二つのステッパモータが含まれる。第一のステッパモータ７１０（図７の中心）はスプリングの圧縮を、若しくは平行四辺形のワイヤ間の相対的間隔を変化させる。第二のステッパモータ７１２は、ユニットとして全体のフィルタを、圧縮を変化させることなく移動させる。フーリエフィルタリング機構が必要ない場合は、全体のフィルタを光学経路から移動させることにも利用できる。
【００２６】
フーリエフィルタリング機構の別の実施態様は、機械的ワイヤを使用して、一次元のフィルタリングを実現させる。なぜならば、歪み、無限コントラストは余分なコストと工程の複雑さなしに調整できないからである。直線ワイヤは双方の入射レーザビームからの回折スポットが単一のフィルタにより閉じ込められることを可能にする。かかるフィルタブロッケージの使用では、レーザビームの仰角は調整可能であり、フーリエパターンの対角線上の移動を生じさせるが、同じフィルタブロッケージが双方の回折パターンをカバーする（図４及び図５を参照）。
【００２７】
図８Ａ及び図８Ｂは、平行四辺形アームに張られた可撓性ワイヤのある折畳み平行四辺形機構８００を利用するフーリエフィルタの別の実施態様を示す。図９は、上記フーリエフィルタ機構が検査システム９００でどのように利用されるかを示す。フィルタ位置決め装置は二つのステッパモータを具備する。第一のステッパモータ９０２（図９の左側）はスプリングの圧縮を、若しくは平行四辺形のワイヤ間の相対的間隔を変化させる。第二のステッパモータ９０４は、圧縮を変化させずに、ユニットとして全体のフィルタを移動させる。フーリエフィルタが必要ない場合には、全体のフィルタを光学経路から移動させることに利用することも可能である。
【００２８】
フーリエフィルタリングが必要な場合には、スプリングはスポットと整列させる。いったん整列させ、その後各新しいサンプルに対して同じ設定へ戻る、若しくは各新しい画像と再び整列される。後者の方法では、入射光の全量が検出器で測定され、その量が最小（繰返し画像により発生した回折スポットが閉じ込められる位置に対応する）であるまでに、スプリングの位置が調整される。
【００２９】
当業者には、前述したフーリエフィルタ機構は、応用に応じてさまざまなフィルタで実施可能であることは認識できるであろう。したがって、本発明は特許請求の範囲のみで限定させる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】図１は、入射レーザビームがウエハの表面に打ち当たることにより生じた回折オーダを閉じ込めるのに利用される典型的先行技術でのフーリエフィルタの線図である。
【図２】図２Ａはウエハ画像面での典型的な繰返しアレイの線図であり、図２Ｂは図２Ａの繰返しアレイからの典型的なフーリエスポットパターンである。
【図３】図３は、二つの入射レーザビームの利用の結果生じたフーリエ平面での回折スポットの線図である。
【図４】図４は、照射仰角（θ）での回折スポット及びフィルタブロッケージの線図である。
【図５】図５は、照射仰角（θプラスν）での回折スポット及びフィルタブロッケージの線図である。
【図６】図６Ａは圧縮されたフーリエフィルタ機構の一つの実施態様の線図であり、図６Ｂは非圧縮のフーリエフィルタの線図であり、図６Ｃは磁石とタブの相対的位置及び間隔を示す図６Ｂでのタブの折畳み側面図である。
【図７】図７は、検査システムでのフーリエフィルタの一つの実施態様の実施を示す。
【図８】図８Ａ及び図８Ｂは、平行四辺形アームのピン間に張った可撓性ワイヤのある平行四辺形機構のフーリエフィルタの別の実施態様を示す。
【図９】図９は、検査システムでのフーリエフィルタの別の実施態様を示す。
【図１】
2007123920.tif 000003
【図２】
2007123920.tif 000004
【図３】
2007123920.tif 000005
【図４】
2007123920.tif 000006
【図５】
2007123920.tif 000007
【図６】
2007123920.tif 000008
【図７】
2007123920.tif 000009
【図８】
2007123920.tif 000010
【図９】
2007123920.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成19年1月5日(2007.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フーリエフィルタリング機構において調整可能なブロッケージを用いて半導体ウエハの繰返し特徴における欠陥を検出するための時間を短縮するためのシステムであって：
実質的に同一平面にある調整可能なブロッケージのアレイと；
前記のブロッケージのアレイを支える複数のスプリングであって、前記の調整可能なブロッケージのアレイ及び前記複数のスプリングは導電性スプリング材料のシートをエッチングすることにより製造される、複数のスプリングと；
前記複数のスプリングを伸縮することにより前記アレイにおける前記調整可能なブロッケージの間の間隔を調整する第１位置決め装置と；
前記の調整可能なブロッケージのアレイの位置を調整する第２位置決め装置と；
前記アレイにおいて前記調整可能なブロッケージに結合された複数の減衰タブであって、  導電性材料から製造された、複数の減衰タブと；
前記複数の減衰タブの近位に位置している永久磁石のアレイであって、前記複数の減衰タブにおいて電流を誘起する、永久磁石のアレイであり、前記スプリングの電流減衰振動は前記第１又は第２位置決め装置による調整からもたらされ、それにより、前記フーリエフィルタリング機構における前記の調整可能なブロッケージの前記アレイについて減衰時間を短縮する、永久磁石のアレイと；
を有するシステム。
【請求項２】
前記の永久磁石のアレイの極性は交互に変わっている、請求項１記載のシステム。
【請求項３】
半導体構造のそれぞれの特徴における欠陥を検査するために用いられるフーリエフィルタリング機構において調整可能なブロッケージの間の間隔を変えるために減衰時間を短縮するためのシステムであって：
実質的に同一平面にある機械的に調整可能なブロッケージのアレイであって、前記機械的に調整可能なブロッケージの間の間隔は調整されることが可能である、ブロッケージのアレイと；
前記の機械的に調整可能なブロッケージのアレイを支える複数のスプリングと；
前記複数のスプリングに取り付けられた複数の減衰タブであって、前記複数のスプリングの振動を減衰する複数の減衰タブであり、前記の機械的に調整可能なブロッケージのアレイ、前記複数のスプリング及び前記複数の減衰タブは黒くされた導電性材料から製造された、複数の減衰タブと；
極性が交互に変わっている永久磁石のアレイであって、前記複数の減衰タブの近位の前記の永久磁石のアレイであり、前記複数の減衰タブにおいて渦電流を誘起し、それにより、前記フーリエフィルタリング機構の調整可能なブロッケージの間の前記間隔を変えて前記減衰時間を短縮する、永久磁石のアレイと；
を有するシステム。
【請求項４】
半導体ウエハの繰返し特徴における欠陥を検出するためのフィルタを製造するための方法であって：
導電性材料のシートの少なくとも１つの側においてパターンをマスキングする段階であって、前記パターンは、複数のスプリング、前記複数のスプリングの間に接続されたブロッケージのアレイ及び前記複数のスプリングに取り付けられた減衰タブを規定する、段階と；
前記の導電性材料のシートのマスキングされていない部分を取り除くために前記少なくとも１つの側から前記の導電性材料のシートをエッチングする段階であって、それにより、前記複数のスプリング、前記のブロッケージのアレイ及び前記減衰タブを形成する、段階と；
前記のブロッケージのアレイの間の間隔を調整するように前記複数のスプリング、ブロケージのアレイ及び減衰タブを複数の位置決め装置に結合する段階であって、前記複数の位置決め装置は更に、前記複数のスプリング、ブロッケージのアレイ及び前記半導体ウエハに関係する減衰タブの位置を調整し、前記フィルタは前記半導体ウエハにおけるそれぞれの繰り返し特徴を検出することが可能である、段階と；
を有する方法。
【請求項５】
前記のパターンをマスキングする段階は、前記の導電性材料のシートの他の側において前記パターンをマスキングする段階を更に有する、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記の導電性材料のシートをエッチングする段階は、前記シートのマスキングされていない部分を取り除くように前記他の側から前記の導電性材料のシートをエッチングする段階を更に有する、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記の導電性材料のシートの残っている部分の少なくとも一部を黒くする段階であって、それにより、前記の導電性材料のシートの残っている部分の前記黒くされた一部からの反射を減少する、段階を更に有する、請求項４記載の方法。
【請求項８】
フーリエフィルタリング機構を用いて半導体ウエハを検査するための時間を短縮するための方法であって：
実質的にコリメートされた光の光源を用いて前記半導体ウエハの領域を照明する段階と；
前記半導体ウエハと画像センサとの間のフーリエ平面において実質的に同一平面にある調整可能なブロッケージのアレイを有するフーリエフィルタリング機構を備える段階と；
前記画像センサで前記半導体ウエハから反射された光を受ける段階と；
前記画像センサに入る前記半導体ウエハから反射された前記光の回折オーダーをブロックするように、前記複数の位置決め装置を用いて前記フーリエフィルタリング機構の位置を調整する段階と；
前記フーリエフィルタリング機構における前記の調整可能なブロッケージのアレイの振動時間を短縮するように、それにより前記半導体ウエハを検査するための時間を短縮するように、前記の調整可能なブロッケージのアレイにおける前記調整可能なブロッケージに減衰支持体を結合させる段階と；
を有する方法。
【請求項９】
磁場において複数の導電性タブを備えることにより前記減衰支持体において渦電流を生成し、それにより前記の調整可能なブロッケージのアレイにおける振動を減衰する段階を更に有する、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
複数のスプリングを用いることにより前記の調整可能なブロッケージのアレイを支え且つ振動を減衰させる段階を更に有する、請求項８記載の方法。
【請求項１１】
フレキシブルな機械的ワイヤを有する機械的ブロッケージを用いることにより１つの方向においてフィルタリングを与える段階を更に有する、請求項８記載の方法。
【請求項１２】
折り畳み式アームを有する、それにより前記の調整可能なブロッケージのアレイを構成する、平行四辺形状にフレキシブルなワイヤを張る段階を更に有する、請求項８記載の方法。
【請求項１３】
フーリエフィルタリング機構を用いて半導体ウエハを検査するための時間を短縮するためのシステムであって：
前記半導体ウエハの領域を照明する実質的にコリメートされた光の光源と；
前記コリメートされた光を受ける画像センサと；
実質的に同一平面にある調整可能なブロッケージのアレイを有するフーリエフィルタリング機構であって、前記の調整可能なブロッケージのアレイは前記半導体ウエハと前記画像センサとの間のフーリエ平面において備えられている、フーリエフィルタリング機構と；
前記アレイの前記調整可能なブロッケージの間の間隔を調整し、前記半導体ウエハに入る前記コリメートされた光により生成される回折オーダーをブロックするように前記の調整可能なブロッケージのアレイを位置決めする１つ又はそれ以上の位置決め装置と；
前記の調整可能なブロッケージのアレイに結合され、そして前記フーリエフィルタリング機構における前記の調整可能なブロッケージのアレイの振動時間を短縮し、それにより前記半導体ウエハを検査するための時間を短縮する減衰支持体と；
を有するシステム。
【請求項１４】
前記減衰支持体は磁場において備えられている複数の導電性タブを有し、前記磁場は、前記タブにおいて渦電流を生成し、それにより前記の調整可能なブロッケージのアレイにおいて振動を減衰する、請求項１３記載のシステム。
【請求項１５】
前記減衰支持体は調整可能なブロッケージのアレイを支持し、振動を減衰する複数のスプリングを有する、請求項１３記載のシステム。
【請求項１６】
前記の調整可能なブロッケージのアレイは１つの方向においてフィルタリングを与えるために１つ又はそれ以上のフレキシブルな機械的ワイヤを有する、請求項１３記載のシステム。
【請求項１７】
前記減衰支持体は折り畳み式アームを有する平行四辺形形状を有し、前記の調整可能なブロッケージのアレイは前記平行四辺形形状の前記折り畳み式アームにおいて張られた１つ又はそれ以上のフレキシブルなワイヤを有する、請求項１３記載のシステム。