(57)【要約】【課題】  インクの白抜けや、インクの混色といった品質不良の少ないカラーフィルタの製造に利用可能なプラズマ処理方法およびその方法を用いて製造したカラーフィルタを提供する。【解決手段】  プラズマ処理装置は、主に下部電極も兼ねるステージ１３、及び、上部電極が収納され、かつ、プラズマ原料ガスが噴出されるヘッド電極１１からなる。ヘッド電極１１からプラズマ原料ガスを噴出させ、ステージ１３とヘッド電極１１との間に交流電源１２により電圧をかけてプラズマ放電を起こさせつつ、ヘッド電極１１で被加工物（ガラス基板）１６上をスキャンしていくことにより被加工物（ガラス基板）１６のプラズマ処理を行う。プラズマ処理が終了し、被加工物（ガラス基板）１６を次工程に搬送する際には、被加工物（ガラス基板）１６周縁部の周縁部に当接するリフト用フレーム１４が用いられる。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部電極と下部電極とからなる対向電極間の、該下部電極上に被加工物を載置する工程と、
該上部電極と該下部電極間にプラズマ処理用のガスを導入し、該上部電極と該下部電極間に電圧を印加することで発生するプラズマで、該被加工物をプラズマ処理する工程と、
プラズマ処理された該被加工物を、載置されている該下部電極から挙上手段で挙上する工程と、からなるプラズマ処理方法において、
該挙上手段は該被加工物の有効利用領域以外の部分と当接することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２】
該挙上手段は該被加工物の有効利用領域以外の領域である該被加工物の周縁部に当接することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項３】
該挙上手段は該被加工物の有効利用領域以外の領域である該被加工物の周縁部のうち２辺に当接することを特徴とする請求項２に記載のプラズマ処理方法。
【請求項４】
該挙上手段は該被加工物の有効利用領域以外の領域である該被加工物の周縁部のうち４辺に当接することを特徴とする請求項２に記載のプラズマ処理方法。
【請求項５】
該挙上手段はプラズマ処理時に該被加工物と接触しないことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のプラズマ処理方法。
【請求項６】
該挙上手段には、該下部電極領域内で該被加工物と接触するリフトピンが含まれることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のプラズマ処理方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれかに記載のプラズマ処理方法を用いて製造したカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタの製造過程におけるプラズマ処理工程で用いるのに最適なプラズマ処理方法およびその方法を用いて製造したカラーフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
蛍光表示装置、プラズマディスプレイ、液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタを製造する際には、ガラス基板上に積層したブラックマトリクス等の格子間にインクジェット方式で、赤青緑の各色インクを塗膜することによって、色パターンを形成することが提案されている。このような方式でカラーフィルタを製造する技術については、例えば、特許文献１（特開平９−２３０１２７号公報）に、基材上に凸部を形成し、その凸部により区切られた凹部にインクジェット方式によってインクを吹きつけて凹部にインクを堆積させて着色層を形成するカラーフィルタの製造方法において、凸部を形成後、エッチング処理により凹部を親インク化し、その後インクジェット方式によってインクを吹きつけることを特徴とするカラーフィルタの製造方法が開示されている。
【０００３】
このようなカラーフィルタの製造方法においては、インクジェット方式によってインクを塗膜する前段の工程として、ガラス基板上のブラックマトリクスの格子部には撥インク性を付与し、ブラックマトリクスの格子間のガラス表面上には親インク性の付与する工程が設けられるが、この工程に常圧プラズマ処理を採用することが検討されている。常圧プラズマ処理装置としては、例えば、特許文献２（特開２００２−３２０８４５号公報）に、対向する一対の上部電極と下部電極と、当該一対の電極間にパルス化された電界を印加する電源からなる常圧プラズマ処理装置であって、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面が固体誘電体で被覆されており、上部電極が下部電極よりも小型の電極であり、下部電極が大判平板電極であることを特徴とする常圧プラズマ処理装置が開示されている。
【特許文献１】特開平９−２３０１２７号公報
【特許文献２】特開２００２−３２０８４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
インクジェット方式によってインクを塗膜する前段工程において、ガラス基板上のブラックマトリクスの格子部には撥インク性を付与し、ブラックマトリクスの格子間のガラス表面上には親インク性の付与するプラズマ処理を施すための常圧プラズマ処理装置につきさらに説明する。
【０００５】
図１０乃至図１２を参照しつつ、従来のこのような常圧プラズマ処理装置の概略について説明する。図１０は、カラーフィルタの製造工程に用いられる従来の常圧プラズマ処理装置５０の要部概略を示す図である。図１１は、従来の常圧プラズマ処理装置５０において、リフトピン５４が被加工物（ガラス基板）５６を挙上した様子を示す図である。図１２の（ａ）は、カラーフィルタの製造工程に用いられる従来の常圧プラズマ処理装置５０の斜視図であり、図１２の（ｂ）は、リフトピン５４周辺部のステージ（下部電極）５３上に載置された被加工物（ガラス基板）５６を拡大して示す図である。
【０００６】
図１０乃至図１２において、５６はプラズマ処理される被加工物であるガラス基板であり、この基板上には、不図示のブラックマトリクスが積層されるようにして形成されている。５３は、被加工物であるガラス基板を載置するアルミ製のステージであり、このステージはプラズマ処理持には下部電極としても機能する。５１はヘッド電極であり、プラズマ処理のための原料ガスであるテトラフルオロメタン（四フッ化炭素、ＣＦ4）、窒素ガスあるいはそれらの混合ガス等を噴出する機構が設けられると共に、下部電極と対応する上部電極が収納されており、この上部電極と下部電極との間に電源が印加されることにより、原料ガスをプラズマ化する。ヘッド電極５１は不図示の駆動源によって図示Ｘ方向に駆動され、被加工物であるガラス基板５６上を一様にスキャンしつつ、ガラス基板上にプラズマ処理を施し得るように構成されている。５２は、交流電源であり、概略１〜５０ｋＨｚの交流電圧を、ヘッド電極（上部電極）５１とステージ（下部電極）５３との間に印加することができるようになっている。５４はリフトピンであり、当該プラズマ処理装置５０によるプラズマ処理工程の前後に、被加工物（ガラス基板）５６を挙上するための機構であり、このリフトピン５４を挙上するための駆動源としてのアクチュエータ５５に接続されている。被加工物（ガラス基板）５６は、プラズマ処理装置５０によるプラズマ処理工程が終了した後には、インクジェットによるインク塗膜工程のための処理装置へと搬送されるが、この際、図１１に示されるように、リフトピン５４で挙上された被加工物（ガラス基板）５６の下方に、例えば、図中Fの方向に不図示の搬送用アームが挿入されて、被加工物（ガラス基板）５６はこの搬送用アーム上に載り次工程へと搬送される。
【０００７】
ところで、発明者らはこのたび、ステージ（下部電極）５３上に載置された被加工物（ガラス基板）５６において、リフトピン５４周辺部の被加工物（ガラス基板）５６はプラズマ処理によって不具合が発生しやすいという知見を得ることができた。以下、このことについて具体的に説明する。図１２の（ｂ）は、リフトピン５４周辺部のステージ（下部電極）５３上に載置された被加工物（ガラス基板）５６を拡大して示す図である。ステージ（下部電極）５３上の被加工物（ガラス基板）５６において、リフトピン５４上に置かれている被加工物（ガラス基板）５６の被加工面であるＡと、その他のステージ（下部電極）５３領域に置かれている被加工物（ガラス基板）５６の被加工面であるＢとでは、プラズマ処理時の放電特性が異なってくることが考えられる。このことに起因して、被加工面Ａの領域内に積層されている不図示のブラックマトリクスの格子部は、プラズマ処理によって適正な撥インク性を付与されないし、また被加工面Ａの領域内のブラックマトリクス格子間のガラス基板表面は、プラズマ処理によって適正な親インク性を付与されない。このために、プラズマ処理工程の後の、インクジェットによるインク塗膜工程において、被加工面Ａ領域内に存在するブラックマトリクス格子間のガラス基板表面には適正にインクが塗膜されない、という問題が生じることがわかった。具体的な事象としては、被加工面Ａ領域内に存在するブラックマトリクス格子間では、開口部にインクが十分に濡れ広がらず、色の欠けた箇所、いわゆる白抜けが起こったり、インク同士が混ざりあって適切な色性能が発揮できない状態いわゆる混色が起こったりしてしまう。これにより、カラーフィルタとしての、品質不良、歩留まりの低下が発生する、という問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は以上のような課題を解決するためのもので、請求項１に係る発明は、上部電極と下部電極とからなる対向電極間の、該下部電極上に被加工物を載置する工程と、該上部電極と該下部電極間にプラズマ処理用のガスを導入し、該上部電極と該下部電極間との間に電圧を印加することで発生するプラズマで、該被加工物をプラズマ処理する工程と、プラズマ処理された該被加工物を、載置されている該下部電極から挙上手段で挙上する工程と、からなるプラズマ処理方法において、該挙上手段は該被加工物の有効利用領域以外の部分と当接することを特徴とする。
【０００９】
また、請求項２に係る発明は、請求項１に記載のプラズマ処理方法において、該挙上手段は該被加工物の有効利用領域以外の領域である該被加工物の周縁部に当接することを特徴とする。
【００１０】
また、請求項３に係る発明は、請求項２に記載のプラズマ処理方法において、該挙上手段は該被加工物の有効利用領域以外の領域である該被加工物の周縁部のうち２辺に当接することを特徴とする。
【００１１】
また、請求項４に係る発明は、請求項２に記載のプラズマ処理方法において、該挙上手段は該被加工物の有効利用領域以外の領域である該被加工物の周縁部のうち４辺に当接することを特徴とする。
【００１２】
また、請求項５に係る発明は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のプラズマ処理方法において、該挙上手段はプラズマ処理時に該被加工物と接触しないことを特徴とする。
【００１３】
また、請求項６に係る発明は、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のプラズマ処理方法において、該挙上手段には、該下部電極領域内で該被加工物と接触するリフトピンが含まれることを特徴とする。
【００１４】
また、請求項７に係る発明は、請求項１乃至請求項６のいずれかに記載のプラズマ処理方法を用いて製造したカラーフィルタである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のプラズマ処理方法では、被加工物を搬入出する際に、被加工物を挙上する挙上手段は、被加工物の有効利用領域以外の部分と当接するように構成されているので、インクの白抜けや、インクの混色といった品質不良の少ないカラーフィルタの製造に利用することができる。また、本発明のカラーフィルタは、このようなプラズマ処理方法が用いられているので、インクの白抜けや、インクの混色といった品質不良の少ないカラーフィルタとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。図１に、本発明の実施の形態に係るプラズマ処理方法に用いる常圧プラズマ処理装置１０の要部概略を示す図である。図２は、本発明の実施の形態に係る常圧プラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０の斜視図である。
【００１７】
図１及び図２において、１６はプラズマ処理される被加工物であるガラス基板である。この被加工物（ガラス基板）１６の上には、カラーフィルタを構成するために不図示のブラックマトリクスが積層されるようにして形成されている。図3は、この被加工物（ガラス基板）１６の一部断面を拡大し模式的に示した図である。図3に示すように、被加工物（ガラス基板）１６上にブラックマトリクス１が積層されるようにして形成されている。
【００１８】
このブラックマトリクス１は、赤緑青の各色インクの混色を防ぐための隔壁として用いるものであり、その厚みは０．５μｍ以上が望ましく、樹脂（光重合性モノマー、光重合開始剤を含む）、黒色遮光材、分散剤、溶媒等を主成分とする黒色の感光性樹脂組成物を用い、フォトリソグラフィ法によりパターニングして形成することが望ましい。なお、ブラックマトリクス１の形成方法としては、フォトリソグラフィ法に限定されるものではなく、例えば、熱転写法、印刷法などの種々の方法によっても形成することが可能である。
【００１９】
プラズマ処理装置１０によって、この被加工物（ガラス基板）１６をプラズマ処理するが、その目的は、インクジェット方式によってインクを塗膜する前段の工程として、ガラス基板上のブラックマトリクスの格子部表面（S）には撥インク性を付与し、ブラックマトリクスの格子間のガラス表面（P）上には親インク性の付与するためである。
【００２０】
プラズマ処理装置１０において、このようなプラズマ処理を行うための構成として、被加工物（ガラス基板）１６を載置するアルミ製のステージ１３及びヘッド電極１１がある。アルミ製のステージ１３は、下部電極としても機能し、またヘッド電極１１は、プラズマ処理のための原料ガスであるテトラフルオロメタン（四フッ化炭素、ＣＦ4）、窒素ガスあるいはそれらの混合ガス等を噴出する機構が設けられると共に、下部電極と対応する上部電極が収納されており、この上部電極と下部電極との間に高周波電圧が印加されることにより、原料ガスを放電させてプラズマ化する。１２は、交流電源であり、概略１〜５０ｋＨｚの交流電圧を、ヘッド電極（上部電極）１１とステージ（下部電極）１３との間に印加することができるようになっている。
【００２１】
ヘッド電極１１と被加工物（ガラス基板）１６との間には所定のギャップが設けられており、このギャップ空間で放電が行われ、原料ガスがプラズマ化し、被加工物（ガラス基板）１６がプラズマ処理されるようになっている。ヘッド電極１１は不図示の駆動源によって図示Ｘ方向に駆動され、被加工物であるガラス基板１６上を一様にスキャンしつつ、ガラス基板上にプラズマ処理を施し得るように構成されている。図4は、ヘッド電極１１が不図示の駆動源によって被加工物（ガラス基板）１６上をスキャンする様子の断面を拡大し模式的に示した図である。
【００２２】
本実施形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０でのプラズマ処理工程では、大気雰囲気中でテトラフルオロメタン（四フッ化炭素、ＣＦ4）、窒素ガスあるいはそれらの混合ガス等を反応ガスとするプラズマ処理（ＣＦ4プラズマ処理）を行う。なお、原料ガスは、テトラフルオロメタン（四フッ化炭素、ＣＦ4）に限らず、他のフッ素原子が含まれる化合物のガスを用いることができる。このようなフッ素原子が含まれる化合物のガスとしては、ＣＦ4、ＣＨＦ3、Ｃ2Ｆ6、Ｃ3Ｆ8、Ｃ5Ｆ8などがあり、このうちからから選択されるハロゲンガスの複数の組み合わせ、あるいは、Ｎ2ガス等の不活性ガスとハロゲンガスを複数組み合わせて用いることもできる。このＣＦ4プラズマ処理により、ブラックマトリクスの格子部表面（S）にフッ素基が導入されて、撥インク性が付与される。一方、ブラックマトリクスの格子間のガラス表面（P）もこのＣＦ4プラズマ処理によるエッチング作用で、親インク性が付与される。
【００２３】
ここで、ヘッド電極１１の構造について説明する。図6は、ステージ（下部電極）１３と対向配置されるヘッド電極１１の断面を拡大し模式的に示した図である。ヘッド電極１１は、プラズマ処理のための原料ガスであるテトラフルオロメタン（四フッ化炭素、ＣＦ4）、窒素ガスあるいはそれらの混合ガス等を、放電部へと噴出する噴出口２４、及び、プラズマ処理に使用された後のガスが排出される排出口２５が設けられている。２０はステージ（下部電極）１３と対向するステンレス製の上部電極であり、その外周はアルミニウム製のケース２２で覆われている。また、２１はセラミック板等からなる誘電体基板である。流路Pから導入されたプラズマ処理用の原料ガスであるテトラフルオロメタン（四フッ化炭素、ＣＦ4）、窒素ガスあるいはそれらの混合ガス等は、噴出口２４から被加工物（ガラス基板）１６上に噴出されて、上部電極２０とステージ（下部電極）１３との間の放電領域Dでプラズマ化し、被加工物（ガラス基板）１６上がプラズマ処理される。このプラズマ処理に使用された後のガスは排出口２５から、流路Qに示されるように排出される。
【００２４】
以上のように本実施形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０でプラズマ処理工程を経た被加工物（ガラス基板）１６は、次工程であるインクジェットによるインク塗膜工程のための処理装置へと搬送される。図5は、インクジェットによるインク塗膜工程を経た被加工物（ガラス基板）１６の一部断面を拡大し模式的に示した図である。図5に示すように、インクジェットによるインク塗膜工程では、プラズマ処理によって、前記したように撥インク性が付与されたブラックマトリクス１間の、親インク性が付与されたガラス基板１６上に、赤インク２、緑インク３、青インク４の各色インクをインクジェット方式によってインク塗膜を施す。インクジェット方式を用いたインク塗膜装置としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェット（登録商標）タイプ、あるいは圧電素子を用いたピエゾジェットタイプ等が使用可能である。
【００２５】
本実施形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０でプラズマ処理工程を経た被加工物（ガラス基板）１６を、不図示の搬送用アームにて、上述のインクジェットによるインク塗膜工程へと搬送する際、被加工物（ガラス基板）１６を挙上するための手段として、リフト用フレーム１４が設けられている。このリフト用フレーム１４は、図示するように、被加工物（ガラス基板）１６の周縁部を支点として、被加工物（ガラス基板）１６を挙上する。また、このリフト用フレーム１４は、リフト用フレーム１４を挙上するための駆動源としてのアクチュエータ１５に接続されている。リフト用フレーム１４は、被加工物（ガラス基板）１６がプラズマ処理されている際には、被加工物（ガラス基板）１６に接触しないように配される。また、被加工物（ガラス基板）１６をリフト用フレーム１４で挙上する際には、ヘッド電極１１は退避するようになっている。図２に示すようにリフト用フレーム１４は、不図示の搬送用アームが挿通されるための空間である部分を除いた、被加工物（ガラス基板）１６の４辺ほぼ全周縁部に配されているが、リフト用フレーム１４は被加工物（ガラス基板）１６の２辺のみで挙上するような配置としてもよい。
【００２６】
図７は、本実施形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０において、リフト用フレーム１４が被加工物（ガラス基板）１６を挙上した様子を示す図である。被加工物（ガラス基板）１６は、プラズマ処理装置１０によるプラズマ処理工程が終了した後には、インクジェットによるインク塗膜工程のための処理装置へと搬送されるが、この際、図７に示されるように、リフト用フレーム１４で挙上された被加工物（ガラス基板）１６の下方に、例えば、図中Eの方向に不図示の搬送用アームが挿入されて、被加工物（ガラス基板）１６はこの搬送用アーム上に載り次工程へと搬送される。
【００２７】
図７に示すように、被加工物（ガラス基板）１６を挙上する際に、リフト用フレーム１４が当接する箇所は、被加工物（ガラス基板）１６周縁部であり、この周縁部は、被加工物（ガラス基板）１６のブラックマトリクスが形成されている有効活用領域外の箇所である。被加工物（ガラス基板）１６をカラーフィルタとする際には、このような周縁部から、ブラックマトリクスが形成されている有効活用領域が切り出されて用いられる。
【００２８】
上記のようにリフト用フレーム１４及び搬送用アームにて、被加工物（ガラス基板）１６が、インクジェット方式のインク塗膜工程へと搬送された後には、ステージ（下部電極）１３上には新たな被加工物（ガラス基板）１６がセットされ、リフト用フレーム１４はアクチュエータ１５により再び元の位置に戻されて、新たな被加工物（ガラス基板）１６に対して、プラズマ処理の準備がなされる。本実施形態のプラズマ処理装置１０では、以上のような順序で被加工物（ガラス基板）１６のプラズマ処理が進められる。
【００２９】
ところで、本実施形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０には、従来のプラズマ処理装置５０のように、ステージ（下部電極）１３に被加工物（ガラス基板）１６を挙上するためのリフトピンが設けられてはいない。このために、ステージ（下部電極）１３上のどの領域でもプラズマ処理において均一な放電特性が得られる。従って、ステージ（下部電極）１３上に載置されプラズマ処理された被加工物（ガラス基板）１６は、均一なプラズマ処理が施されることとなり、被加工物（ガラス基板）１６上のブラックマトリクスの格子部表面（S）には適正な撥インク性が付与され、ブラックマトリクスの格子間のガラス表面（P）上には適正な親インク性が付与される。以上の通りであるから、本実施形態に係るプラズマ処理装置１０で処理した被加工物（ガラス基板）１６によりなるカラーフィルタは、インクの白抜けが起こったり、インクの混色が起こったり、という品質不良を起こすことが少ない。
【００３０】
次に、本発明の他の実施の形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置につき図面を参照しつつ説明する。図８は、本発明の他の実施の形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０’の要部概略を示す図である。また、図９は、本発明の他の実施の形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０’の斜視図である。
【００３１】
本実施形態が先の実施形態と異なる点は、ステージ（下部電極）１３にリフトピン１７が設けられている点である。このリフトピン１７は、リフト用フレーム１４と同期しながら、被加工物（ガラス基板）１６を挙上するための機構であり、このリフトピン１７を挙上するための駆動源としてのアクチュエータ１５に接続されている。
【００３２】
周知のように、カラーフィルタの製造工程においては、一枚のガラス基板に同一のブラックマトリクスのパターンを複数形成しておき、プラズマ処理工程、インク塗膜工程を経て、ガラス基板上に複数のカラーフィルタを形成した後、これらのカラーフィルタを切り出すことが一般的に行われる。このような場合には、一枚のガラス基板の中で、カラーフィルタとして利用する有効利用領域と、それ以外の利用されない領域とが存在することとなる。本実施形態においては、被加工物（ガラス基板）１６をステージ（下部電極）１３に載置した際に、被加工物（ガラス基板）１６の有効利用領域以外の領域の下部にリフトピン１７がくるような配置とする。図８は、一枚のガラス基板に同一のブラックマトリクスのパターンを４つ形成する例を示しており、被加工物（ガラス基板）１６の中で、ブラックマトリクスのパターンが形成され、カラーフィルタに加工される有効利用領域はCとして示される４つの領域である。本実施形態では、このような有効利用領域C以外の領域の下部にリフトピン１７が配置されており、例え、プラズマ処理工程中において、リフトピン１７上の被加工物（ガラス基板）１６表面での放電特性が、他の領域と変わっていたとして、有効利用領域Cにおいては適正な撥インク性、親インク性の処理が行われる。従って、本実施形態においても、最終製品であるカラーフィルタのインクの白抜けが起こったり、インクの混色が起こったり、という品質不良を起こすことが少ない。また、本実施形態では、リフト用フレーム１４に加えて、リフトピン１７も用いて被加工物（ガラス基板）１６を挙上するというように、多点で被加工物（ガラス基板）１６を支持する構成とされているので、被加工物（ガラス基板）１６にかかる応力が少ないというメリットがある。
【００３３】
以上の説明においては、プラズマ処理装置は、常圧プラズマ処理を行うことを前提として説明したが、本発明のプラズマ処理方法は減圧プラズマ処理装置に対しても適用することができることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施の形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０の要部概略を示す図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０の斜視図である。
【図３】被加工物（ガラス基板）１６の一部断面を拡大し模式的に示した図である。
【図４】ヘッド電極１１が不図示の駆動源によって被加工物（ガラス基板）１６上をスキャンする様子の断面を拡大し模式的に示した図である。
【図５】インクジェットによるインク塗膜工程を経た被加工物（ガラス基板）１６の一部断面を拡大し模式的に示した図である。
【図６】ステージ（下部電極）１３と対向配置されるヘッド電極１１の断面を拡大し模式的に示した図である。
【図７】本実施形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０において、リフト用フレーム１４が被加工物（ガラス基板）１６を挙上した様子を示す図である。
【図８】本発明の他の実施の形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０’の要部概略を示す図である。
【図９】本発明の他の実施の形態に係るプラズマ処理方法に用いるプラズマ処理装置１０’の斜視図である。
【図１０】カラーフィルタの製造工程に用いられていた従来の常圧プラズマ処理装置５０の要部概略を示す図である。
【図１１】従来の常圧プラズマ処理装置５０において、リフトピン５４が被加工物（ガラス基板）５６を挙上した様子を示す図である。
【図１２】（ａ）カラーフィルタの製造工程に用いられる従来の常圧プラズマ処理装置５０の斜視図。（ｂ）リフトピン５４周辺部のステージ（下部電極）５３上に載置された被加工物（ガラス基板）５６を拡大して示す図である。
【符号の説明】
【００３５】
１・・・ブラックマトリクス、２・・・赤インク、３・・・緑インク、４・・・青インク、１０、１０’・・・プラズマ処理装置、１１・・・ヘッド電極、１２・・・交流電源、１３・・・ステージ（下部電極）、１４・・・リフト用フレーム、１５・・・アクチュエータ、１６・・・被加工物（ガラス基板）、１７・・・リフトピン、２０・・・上部電極、２１・・・誘電体基板、２２・・・ケース、２４・・・噴出口、２５・・・排気口、５０・・・プラズマ処理装置、５１・・・ヘッド電極、５２・・・交流電源、５３・・・ステージ（下部電極）、５４・・・リフトピン、５５・・・アクチュエータ、５６・・・被加工物（ガラス基板）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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