(57)【要約】【課題】配線、回路等を効率よく配置することによって額縁サイズの増大を低減する表示装置を提供する。【解決手段】ＥＬ素子、トランジスタおよび電極を含む画素がマトリクス状に配置された表示領域１と、画素を駆動する駆動回路２，３と、映像信号や制御信号を入力したり電力を供給したりする端子部とを有する。また表示領域１の周囲を囲んで配置された共通配線５と、画素の電極と共通配線との接続をとるコンタクトホールと、共通配線と端子部の一部を接続する配線引出部と、を有する。配線引出部からの距離が遠い辺（Ｂ側）におけるコンタクトホールおよび共通配線は配線引出部からの距離が相対的に近い辺（Ａ側）のコンタクトホールおよび共通配線より幅が小さい。また、配線引出部からの距離が遠い辺の共通配線の付近に駆動回路を配置する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、電流駆動型素子と前記電流駆動型素子に流す電流を制御する素子制御回路とを備えた構成要素が複数配置された領域と、前記領域の周囲を囲んで配置された共通配線と、外部と電気的接続するための端子部と、前記共通配線と前記端子部とを接続する配線引出部と、を有する電流駆動型装置において、
前記電流駆動型素子は、前記基板に対して下層の第１電極と上層の第２電極との間に設けられ、前記第１電極は前記素子制御回路に電気的に接続され、
前記第２電極はコンタクトホールを介して前記共通配線に電気的に接続され、
前記配線引出部からの距離が遠い辺における前記共通配線の幅は、前記配線引出部からの距離が相対的に近い辺の前記共通配線の幅より小さいことを特徴とする電流駆動型装置。
【請求項２】
前記配線引出部からの距離が遠い辺における前記共通配線に接続される前記コンタクトホールの幅は、前記配線引出部からの距離が相対的に近い辺の前記共通配線に接続される前記コンタクトホールの幅より小さいことを特徴とする請求項１に記載の電流駆動型装置。
【請求項３】
前記配線引出部からの距離が遠い辺の前記共通配線の、前記領域から見て外側の第２の領域に、前記素子制御回路を駆動する駆動回路を配置することを特徴とする請求項１又は２に記載の電流駆動型装置。
【請求項４】
前記素子制御回路は少なくとも一つのトランジスタを含んでいる請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の電流駆動型装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の電流駆動型装置を用いた表示装置であって、前記電流駆動型素子は発光素子であることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
前記発光素子は、エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】
請求項５又は６に記載の表示装置と、被写体を撮像する撮像部と、前記撮像部で撮像された信号を処理する映像信号処理部と、を備え、前記映像信号処理部で信号処理された映像信号を前記表示装置で表示してなるカメラ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に、電流駆動型素子と前記電流駆動型素子に流す電流を制御する素子制御回路とを備えた構成要素が複数個配置された領域を有する電流駆動型装置、表示装置およびカメラに係わる。そして本発明は、電流を注入して発光するエレクトロルミネッセンス素子(以後EL素子と言う)を用いた表示装置に好適に用いられるものである。
【背景技術】
【０００２】
周辺回路又は信号処理回路を内蔵したアクティブマトリクス型EL表示装置においては、表示領域だけでなく周辺回路又は信号処理回路においてもアナログスイッチやインバータ等のトランジスタとして薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が使用されている。
【０００３】
周辺回路又は信号処理回路内のＴＦＴは、通常ポリシリコンTFTが用いられている。ポリシリコンTFTは低温結晶化技術により製造され、高性能・低価格の周辺駆動回路ＴＦＴの製造に用いられるものである。現在実用化されている代表的な結晶化技術はエキシマレーザを用いた低温結晶化法であり、エキシマレーザを用いることにより良質なシリコン結晶薄膜を低融点ガラス上に形成することが可能になる（特許文献１参照）。
また、表示パネルの製造コストを下げるため、対角寸法１ｍ以上の大型ガラス基板上に多面取り方式が採用される。しかし、基板が大きいためにガラス基板自身のシュリンケージが大きく、パターン形成のための位置合わせ精度が１μｍ程度と高くはない。また、現状大型パターン加工装置（エッチング装置等）は２μｍ以下の加工精度で各メタル層パターンを形成することが困難である。このため、比較的緩いデザインルールで周辺回路又は信号処理回路を形成することが求められる。
【０００４】
一方、有機ＥＬ表示パネルにおけるＥＬ素子に水分が進入してしまうと、その画素が滅点欠陥となる。それだけでなく、画素に進入した水分が隣接する画素に次々と影響して非発光領域となるダークスポットが増え、最終的に1つのパネルすべてが表示できなくなるため、ＥＬ素子と外気および水分の遮断が求められる。
【０００５】
そのため、水分防止や物理的保護の観点から、内面に乾燥剤を塗布した封止基板を有機ＥＬ素子の配置された表示領域を覆い被せるように固着している。この固着にはシール剤と呼ばれるエポキシやアクリル系の接着剤を用いており、表示領域の外周を囲う接着領域に塗布して封止基板を貼り付ける（特許文献２参照）。
【０００６】
このような構造において封止能力を高め、水分透過量を減らす方法として、シール幅を太くすることでＥＬ素子への外気の進入を防ぐ構造も採用される。しかし、この場合には基板エッジからシール剤外周までは、信頼性の観点から一定のマージンを確保する必要がある。また、表示領域はシール剤の内側に配置されるので、パネル外形を同一のまま、封止能力を高めるためにシール剤の幅を太くすると、当然ながら広額縁になり、表示領域の面積が低減してしまう。
【０００７】
また、有機ＥＬパネルは、有機ＥＬ素子の陰極側に接続される共通の矩形形状の透明な共通電極の角にコンタクトホールを設けて共通配線と接続し、共通配線を外部端子につなげることの記載が特許文献３にある。
【特許文献１】特開平０９−０８２６４１号公報
【特許文献２】特開平０１−３１３８９２号公報
【特許文献３】特開２００１−１０９３９５号公報（米国特許第6690110号明細書）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、表示パネルには軽量化とコンパクト化の要求により、ますます狭額縁化が求められている。その額縁のサイズとしては、ガラス基板の縁から数ｍｍ程度の範囲であり、数百μｍの縮小であってもその効果は大きい。
この狭額縁化には、周辺回路又は信号処理回路の微細化、封止基板を固着させる接着領域の縮小が必要となってくる。しかし、周辺回路又は信号処理回路の微細化は、位置合わせ精度、加工精度等の製造上の問題から困難である。また、封止基板の接着領域を細くすると、封止能力が低下し、欠陥画素の増加による表示状態の悪化を招く可能性がある。
【０００９】
そこで、本発明の目的は、配線、回路等を効率よく配置することによって額縁サイズの増大を低減する表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の電流駆動型装置は、基板上に、電流駆動型素子と前記電流駆動型素子に流す電流を制御する素子制御回路とを備えた構成要素が複数配置された領域と、前記領域の周囲を囲んで配置された共通配線と、外部と電気的接続するための端子部と、前記共通配線と前記端子部とを接続する配線引出部と、を有する電流駆動型装置において、
前記電流駆動型素子は、前記基板に対して下層の第１電極と上層の第２電極との間に設けられ、前記第１電極は前記素子制御回路に電気的に接続され、
前記第２電極はコンタクトホールを介して前記共通配線に電気的に接続され、
前記配線引出部からの距離が遠い辺における前記共通配線の幅は、前記配線引出部からの距離が相対的に近い辺の前記共通配線の幅より小さいことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、電流駆動型素子と素子制御回路とを備えた構成要素が複数個配置された領域の周囲を囲んで配置された共通配線における電流量の少ない領域の幅を小さくし、レイアウト面積を縮小できる。したがって基板の額縁サイズを小さくすることが可能となる。また、電流経路を考慮した配線によって、素子制御回路を駆動する駆動回路を配置した側の共通配線幅を小さくし、回路面積による額縁サイズの拡大を抑制することが可能となる。こうして装置の軽量化とコンパクト化に向けて、額縁サイズの増大を低減する装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の電流駆動型装置において、電流駆動型素子は下層の第１電極と上層の第２電極との間に設けられる機能素子であればよく、発光素子、発熱素子（抵抗素子）等が挙げられる。特に電流駆動型素子として、有機ＥＬ素子に代表されるＥＬ素子（電流駆動型発光素子となる）が好適に用いられる。
【００１３】
電流駆動型発光素子とスイッチ素子とを組み合わせた構成要素を一次元状又は二次元状に配して表示装置を構成することができる。
【００１４】
表示装置としては、画像情報を表示する線状表示装置，アクティブマトリクス型表示装置等がある。画像情報を示す線状表示装置はスキャナとして感光体と組み合わせて光プリンタ、複写機等の画像記録装置を構成することができる。アクティブマトリクス型表示装置は平面型テレビ、デジタルカメラ，デジタルビデオカメラ等に用いられるビューア、携帯電話機の表示部等に用いることができる。
【００１５】
素子制御回路は上記電流駆動型素子に流す電流を制御する回路であり、最も簡単な構成は１つのトランジスタである。後述する実施形態においては、素子制御回路は電流駆動型素子に電流を流すトランジスタの制御電極（ゲート等）に予め流す電流値をプログラミングする回路構成となっている。そして、電流駆動型素子に電流を流すトランジスタと、その制御電極（ゲート等）に電流を書き込むためのトランジスタとを含んでいる。
【００１６】
電流駆動型素子に流れる電流は、コンタクトホールを通って共通配線に流れ、配線引出部から端子部へ向かう。また、電流駆動型素子に流れる電流は共通配線からコンタクトホールを通って電流駆動型素子に流入する場合もある。
【００１７】
電流駆動型素子と素子制御回路とを備えた構成要素が複数配置された領域に対して配線引出部とは反対の辺にある共通配線では流れる電流量が配線引出部のある側の辺の共通配線と比べて少ない。そのため、共通配線幅（又は共通配線幅とコンタクトホール幅）を小さくしてレイアウト面積を削減できる。このレイアウト面積を削減した辺にデータ線駆動回路、走査線駆動回路等の駆動回路を配置する。レイアウト面積の大きいデータ線駆動回路を配置する方がより好ましい。
【００１８】
本発明を実施するための最良の形態は、有機ＥＬ素子に代表されるＥＬ素子を用いたアクティブマトリクス型表示装置に適用される。以下、本発明に係わるアクティブマトリクス型表示装置の実施形態について図面を用いて説明する。
【００１９】
（実施形態１）
図１は本発明による表示装置の第１実施形態の概略レイアウト図を示している。
【００２０】
図１に示す表示装置は、有機ＥＬ素子等のＥＬ素子と、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含む画素回路（素子制御回路となる）とからなる画素（構成要素となる）が、マトリクス状に配置された表示領域１を有する。そして、画素列ごとに接続されるデータ線にデータ信号を出力するデータ線駆動回路２と、画素行ごとに走査線に走査信号を出力する走査線駆動回路３を有する。また、映像信号や制御信号を入力したり電力を供給したりする端子部７と、入力された制御信号を表示パネル内の動作電圧レベルに変化する入力回路４とを有する。さらに、封止基板を固着させる接着領域６と、各画素のEL素子と接続された共通配線５と、を有する。
【００２１】
共通配線５は表示領域１の周辺を囲んで配置されており、配線引出部８から配線を引いて端子部４の一部と接続される。入力回路４からの出力信号はデータ線駆動回路２や走査線駆動回路３へ伝送されるが、その配線は図１において省略している。電力供給線９は各画素回路に電力（電圧又は電流）を供給するものである。電力供給線９と各画素回路とは、まず画素行の各画素回路のトランジスタＭ１（図２に図示）のソースが画素行ごとに設けられた電力線に接続される。そして、この電力線が図１の領域１と共通配線５との間に設けられた電力供給線９に接続されることで電力供給線９と各画素回路と接続される。ここでは、電力線と電力供給線９とは、はしご状に接続され、電力供給線９は「コ」の字状になっている。
【００２２】
図２にEL素子を含んだ電流設定方式の画素回路を示す。走査線１０４、１０５に走査信号Ｐ１及びＰ２が入力され、データ線１０２に電流データＩｄａｔａが入力される。ＥＬ素子の陽極（Ａ）はトランジスタＭ４のドレインに接続されており、陰極（Ｋ）は接地電位ＣＧＮＤに接続されている。
電流データＩｄａｔａはデータ信号線１０２を介してトランジスタＭ３のソースに入力され、トランジスタＭ３のゲートとトランジスタＭ４のゲートは走査線１０４に接続される。トランジスタＭ４のソースはトランジスタＭ３のドレインとトランジスタＭ２のドレイン、トランジスタＭ１のドレインと接続される。トランジスタＭ１のゲートは一端が電力供給線（電圧ＶＣＣ）に接続された容量Ｃ１の他端と、トランジスタＭ２のソースと接続され、トランジスタＭ２のゲートは走査線１０５、トランジスタＭ１のソースは電力供給線（電圧ＶＣＣ）に接続されている。電流をＥＬ素子に供給するトランジスタはトランジスタＭ１、Ｍ４であり、ＥＬ素子は共通電位線によりＧＮＤに接続されている。トランジスタＭ１のゲートにＥＬ素子に流す電流の電流値を書き込むトランジスタはトランジスタＭ２、Ｍ３である。トランジスタＭ１のゲートに電流値を書き込む電圧プログラミング期間にスイッチ素子となるトランジスタＭ２，Ｍ３をオン、スイッチ素子となるトランジスタＭ４をオフする。それに続くＥＬ素子に電流を供給する発光期間にスイッチ素子となるトランジスタＭ２，Ｍ３をオフ、スイッチ素子となるトランジスタＭ４をオンする。
【００２３】
本実施形態においては画素回路としては図２の構成を一例に挙げたが、これに限るものではなく、その他の電流設定方式の画素回路や電圧設定方式の画素回路にも適用できる。
【００２４】
本実施形態では、ＥＬ光の取出し面を陰極側とし、ＩＴＯ（酸化インジウム＋酸化スズ）やＩＺＯ（酸化インジウム＋酸化亜鉛）などの透明導電材で形成する。また、その陰極を図１の共通配線５と接続しており、ＥＬ素子の発光時の駆動電流は共通配線５へ流れて行く。
【００２５】
次に、共通配線５と各画素のＥＬ素子との接続について詳細に説明する。図２ではＥＬ素子、接地電位ＣＧＮＤは画素回路内部に含めて記述してあるが、図３を用いてその立体的な配置を含めて説明する。簡単のため、データ線駆動回路２、走査線駆動回路３、入力回路４、接着領域６、端子部７、配線引出部８は省略する。
【００２６】
表示領域１には画素回路、例えば図２のトランジスタＭ１〜Ｍ４と容量Ｃ１が形成されており、トランジスタ（ＴＦＴ）Ｍ４と接続したＥＬ素子の陽極（Ａ）が形成されている。その陽極上に画素配列に合わせてＥＬ素子９を蒸着し、陽極とＥＬ素子９を接合する。それからＥＬ素子９上に透明導電材による陰極１０を成膜している。陰極１０は表示領域１の周辺に配置された共通電極５の上にも形成される。その際、共通電極５上の絶縁層（不図示）はコンタクトホール（不図示）を形成して共通電極５の表面を剥き出し状態にする。こうしてＥＬ素子の陰極１０と共通電極５はコンタクトホールを介して電気的な接続が取られて接地されることになる。
【００２７】
図４を用いて共通配線５と陰極１０との接続部について説明する。図４（Ａ）は図１におけるＡ側の共通配線５の部分拡大図を示している。共通配線５の上にコンタクトホール２０が形成されており、その上に陰極１０が形成されている。共通配線幅ＷＬ１はコンタクトホール幅ＷＣ１よりもプロセスマージン分だけ大きくなっている。図４（Ｂ）は図１におけるＢ側の共通配線５の部分拡大図を示している。Ｂ側の共通配線５は、図１の概略レイアウト図によれば、表示領域１を挟んで配線引出部８と反対側に位置する。図４（Ａ）と同様の構成であるが、コンタクトホール幅ＷＣ２と共通配線幅ＷＬ２が異なっている。つまり、コンタクトホール幅ＷＣ１、ＷＣ２と共通配線幅ＷＬ１、ＷＬ２の関係は、ＷＣ１＞ＷＣ２、ＷＬ１＞ＷＬ２というようにＡ側に対してＢ側のコンタクトホール幅と共通配線幅が小さくなっている。なお、コンタクトホールは透明電極の四辺に沿って四角状に開口されていてもよい。
【００２８】
ここでＢ側のコンタクトホール幅と共通配線幅を小さくできる理由について説明する。ＥＬ素子を流れた電流は表示領域１上に形成された陰極１０、次に共通配線５、そして配線引出部８を通って端子部７へ流れて行く。陰極１０を流れる電流は配線引出部８に向かって流れ、またＢ側の共通配線は表示領域１から見て配線引出部８と反対側の辺に位置することを考慮すると、Ａ，Ｃ，Ｄ側へ流れる電流量よりも、Ｂ側へ流れる電流量は少なくなる。すなわち、Ｂ側の陰極１０と共通配線５のコンタクト部の電流量は少ないため、そのコンタクトホール幅を小さくすることが可能となる。それに伴って共通配線幅も小さくできるのである。
【００２９】
なお、図４において、共通配線幅及びコンタクトホール幅は、共に図１のＡ側よりもＢ側が小さくなっているが、共通配線幅のみ小さくてもよい。一般的には共通配線幅を小さくすればコンタクトホール幅も小さくなる。したがって、図１のＢ側の共通配線幅をＡ側の共通配線幅より小さくすれば、図１のＢ側のコンタクトホール幅もＡ側のコンタクト幅より小さくなる。しかし、例えば、コンタクトホール部分の抵抗値の増大が問題とならない場合や共通配線幅の差が小さい場合には、図１のＡ側のコンタクトホール幅をＢ側のコンタクトホール幅と同じにしておくこともできる。また、Ｂ側は共通配線のみを設けて、コンタクトホールを設けなくとも良い。
【００３０】
さらに図１のレイアウトの場合、Ｂ側にはデータ線駆動回路２が配置されている。データ線駆動回路２を配置することで額縁領域の面積の拡大につながるが、Ｂ側の共通配線幅を小さくできるので額縁サイズの拡大を抑制することにもなる。
【００３１】
（実施形態２）
また、図５に本発明による表示装置の第２実施形態の概略レイアウト図を示す。
【００３２】
図５に示す表示装置は、有機ＥＬ素子等のＥＬ素子と、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含む画素回路（素子制御回路となる）とからなる画素（構成要素となる）が、マトリクス状に配置された表示領域１１を有する。画素の構成は図２に示した構成と同じである（後述する各実施形態の画素も同様に図２に示した構成と同じである）。そして、画素列ごとに接続されるデータ線にデータ信号を出力するデータ線駆動回路１２と、画素行ごとに走査線に走査信号を出力する走査線駆動回路１３を有する。また、映像信号や制御信号を入力したり電力を供給したりする端子部１７と、入力された制御信号を表示パネル内の動作電圧レベルに変化する入力回路１４とを有する。さらに、封止基板を固着させる接着領域１６と、各画素のＥＬ素子と接続された共通配線１５と、を有する。
【００３３】
共通配線１５は表示領域１１の周辺を囲んで配置されており、配線引出部１８から配線を引いて端子部１４の一部と接続される。入力回路１４からの出力信号はデータ線駆動回路１２や走査線駆動回路１３へ伝送されるが、その配線は図５において省略している。
【００３４】
図５の構成が図１と異なる点は、端子部１７および配線引出部１８が図５のＣ側に配置されているところである。この場合、表示領域１１を挟んでＣ側と反対側の辺に位置するＤ側の共通配線１５の電流量は少なくなる。そのためＤ側の共通配線１５の電流供給量は少なくて良いため、その幅を小さくすることが可能となる。
【００３５】
さらに図５のレイアウトの場合、Ｄ側には走査線駆動回路１３が配置されている。走査線駆動回路１３を配置することで額縁領域の面積の拡大につながるが、Ｄ側の共通配線幅を小さくできるので額縁サイズの拡大を抑制することにもなる。
【００３６】
（実施形態３）
また、図６に本発明による表示装置の第３実施形態の概略レイアウト図を示す。本実施形態の図１に示す第１実施形態との違いは、表示領域１を挟んで配線引出部８と反対側の辺に位置する、Ｂ側の共通配線５が切断されていてつながっていない点である。このように、Ｂ側の共通配線５の一部が切断されてつながれなくても、A,C,D側へ流れる電流量よりも、B側へ流れる電流量は少ないためその影響は少ない。
【００３７】
（実施形態４）
また、図７に本発明による表示装置の第４実施形態の概略レイアウト図を示す。本実施形態の図１に示す第１実施形態との違いは、図７のＡ側の共通配線５と接続する配線引出部８が２つ（３以上でもよい）設けられている点である。このように、配線引出部８を２つ（３以上でもよい）設けることで、配線引出部に流れる電流密度を低減できる。
【００３８】
（実施形態５）
また、図８に本発明による表示装置の第５実施形態の概略レイアウト図を示す。本実施形態の図１に示す第１実施形態との違いは、配線引出部８，８’が図８のＡ側、Ｃ側に設けられ、共通配線幅及びコンタクトホール幅は、図８のＡ側，Ｃ側よりもＢ側，Ｄ側が小さくなっている点である。
【００３９】
本実施形態においても、第４実施形態と同様に配線引出部を２つ（３以上でもよい）設けることで、配線引出部に流れる電流密度を低減できる。また、共通配線幅及びコンタクトホール幅を、図８のＡ側，Ｃ側よりもＢ側，Ｄ側が小さくなるようにすることで、図８のＢ方向及びＤ方向の額縁サイズの拡大を抑制することができる。
【００４０】
以上説明した各実施形態１〜５において、表示装置の構成は、図１、図５〜図８の概略レイアウト図に示した例に限るものではない。表示領域を挟んで配線引出部と反対側の辺に共通配線幅（又は共通配線幅とコンタクトホール幅）を小さくする形態であれば良い。さらには共通配線の引き回し、配線引出部、端子部の位置に依って電流量が少なくなる共通配線の幅を小さくする形態であれば良い。
【００４１】
また各実施形態において、電流の制御を行う画素回路を構成するトランジスタを介してＥＬ素子に電流を流し、共通電位線を介して電流を流出するものとした。しかし、共通電位線からＥＬ素子に電流を流し、その電流を制御を行う画素回路を構成するトランジスタを介して電力供給線に電流を流してもよい。例えば、図２の画素回路において、トランジスタＭ１はここではＰＭＯＳトランジスタを用いている。しかし、ＮＭＯＳトランジスタを用い、ＥＬ素子の陰極側をトランジスタＭ４に接続し、陽極側を電位ＶＣＣとされた共通電位線に接続し、トランジスタＭ１を接地された電力供給線に接続してもよい。
【００４２】
また、本発明の表示装置ではEL素子を用いた例を挙げたが、これに限るものではない。
【００４３】
また、上記の各実施形態の表示装置は、トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置であるが、画素回路が形成された透明基板側から光を取り出すボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置でも適用可能である。この場合、基板に対して下層の第１電極となる画素電極は透明電極が用いられる。上層の第２電極は透明電極であってもよいが、反射光を用いる場合にはアルミ等の金属の電極が用いられる。
【００４４】
（実施形態６）
上述した各実施形態の表示装置は情報表示装置を構成できる。この情報表示装置は携帯電話、携帯コンピュータ、スチルカメラもしくはビデオカメラ等、もしくはそれらの各機能の複数を実現する装置である。情報表示装置は情報入力部を備えている。例えば、携帯電話の場合には情報入力部はアンテナを含んで構成される。ＰＤＡや携帯パソコンの場合には情報入力部はネットワークに対するインターフェース部を含んで構成される。スチルカメラやムービーカメラの場合には情報入力部はＣＣＤやＣＭＯＳなどによるセンサ部を含んで構成される。
【００４５】
以下本発明の好適な実施形態として、上述した実施形態１〜５のいずれかの表示装置を用いたデジタルカメラについて説明する。
図９はデジタルスチルカメラの一例のブロック図である。図中、１２９はシステム全体、１２３は被写体を撮像する撮影部、１２４は映像信号処理回路、１２５は表示パネル、１２６はメモリ、１２７はＣＰＵ、１２８は操作部を示す。撮像部１２３で撮影した映像または、メモリ１２６に記録された映像を、映像信号処理回路１２４で信号処理し、表示パネル１２５で見ることができる。ＣＰＵ１２７では、操作部１２８からの入力によって、撮影部１２３、メモリ１２６、映像信号処理回路１２４などを制御して、状況に適した撮影、記録、再生、表示を行う。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明の電流駆動型装置は電流駆動型素子としては例えば有機ＥＬ素子に代表されるＥＬ素子（電流駆動型発光素子となる）を用いることができ、これらを用いて表示装置を構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明による表示装置の第１実施形態の概略レイアウト図である。
【図２】EL素子を含んだ電流設定方式の画素回路の例を示す図である。
【図３】EL素子と陰極の立体的な配置を説明する図である。
【図４】共通配線の部分拡大図である。
【図５】本発明による表示装置の第２実施形態の概略レイアウト図である。
【図６】本発明による表示装置の第３実施形態の概略レイアウト図である。
【図７】本発明による表示装置の第４実施形態の概略レイアウト図である。
【図８】本発明による表示装置の第５実施形態の概略レイアウト図である。
【図９】デジタルスチルカメラの一例のブロック図である。
【符号の説明】
【００４８】
１，１１  表示領域
２，１２  データ線駆動回路
３，１３  走査線駆動回路
４，１４  入力回路
５，１５  共通配線
６，１６  接着領域
７，１７  端子部
８，１８  配線引出部
９  ＥＬ素子
１０  陰極
２０  コンタクトホール
２１  走査信号
２２  データ信号
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2007139967.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2007139967.tif 000009
【図８】
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【図９】
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