(57)【要約】  【課題】ステージ装置の耐久性及び位置決め精度の向上を図ることができるステージ装置、露光装置等を提供する。  【解決手段】電動部６０を搭載した移動ステージを有するステージ装置であって、移動ステージに対して非接触状態で電力を供給する電力供給部１０２と、移動ステージに設けられて電力供給部１０２からの電力を受給すると共に電動部６０に対して受給した電力を伝送する電力受給部１０４と、電動部６０を制御する制御部２０と、を備える。  【選択図】図４
2007123334.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電動部を搭載した移動ステージを有するステージ装置であって、
前記移動ステージに対して非接触状態で電力を供給する電力供給部と、
前記移動ステージに設けられて前記電力供給部からの電力を受給すると共に前記電動部に対して受給した電力を伝送する電力受給部と、
前記電動部を制御する制御部と、
を備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記移動ステージに対して非接触状態で前記移動ステージに向けて前記制御部からの信号を送信する第一信号発信部と、
前記移動ステージに設けられて前記第一信号発信部からの信号を受信すると共に前記電動部に対して受信した信号を受信する第一信号受信部と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記電動部は、前記移動ステージの戴置面上に載置された板状部材を吸着保持するための負圧を供給する真空機構であることを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記移動ステージに設けられて前記電動部の駆動量を計測する検出部と、
前記移動ステージに設けられて前記検出部からの信号を発信する第二信号発信部と、
前記移動ステージとは非接触状態で前記第二信号発信部からの信号を受信する第二信号受信部と、を備え、
前記制御部は、前記第二信号受信部からの信号に基づいて前記電動部を制御することを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記電動部は、前記移動ステージの戴置面上に載置された板状部材を前記載置面と交差する方向に移動させるリフト機構であり、
前記検出部は、前記リフト機構による前記板状部材の移動量を検出することを特徴とする請求項４に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記移動ステージは、前記電動部を複数搭載し、
前記電力供給部と前記電力受給部との間で複数の電力が重畳的に伝送されて、伝送された各電力は前記電動部にそれぞれ送られることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記電力供給部は、前記移動ステージの移動範囲内の複数箇所に設けられることを特徴とする請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記電力受給部は、前記移動ステージの複数箇所に設けられることを特徴とする請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項９】
前記電力供給部は、前記移動ステージに向けて移動する移動アームに設けられることを特徴とする請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項１０】
前記移動アームは、前記移動ステージの戴置面に向けて板状部材を搬送する搬送アームであることを特徴とする請求項９に記載のステージ装置。
【請求項１１】
ベースと、前記ベース上に移動自在に載置された第一ステージ及び第二ステージと、を有するステージ装置であって、
前記ベース側に設けられて前記第一ステージ又は前記第二ステージに対して電力の供給と電気信号の送受信を非接触に行う一次側伝送部と、
前記第一ステージに設けられて前記一次側伝送部からの電力の受給と電気信号の送受信を行う第一の二次側伝送部と、
前記第二ステージに設けられて前記一次側伝送部からの電力の受給と電気信号の送受信を行う第二の二次側伝送部と、
を備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項１２】
前記第一の二次側伝送部に接続されて前記第一ステージであることを示す第一識別部と、
前記第二の二次側伝送部に接続されて前記第二ステージであることを示す第二識別部と、
前記一次側伝送部に接続されて前記第一識別部と前記第二識別部とを識別する識別判断部と、
前記識別判断部の判断結果に基づいて前記一次側伝送部にから供給する電力及び／又は送信する電気信号を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする請求項１１に記載のステージ装置。
【請求項１３】
前記第一ステージは、感光基板を載置する基板ステージであり、
前記第二ステージは、当該第二ステージの基準位置を示す基準位置受光センサ、前記感光基板上に投影される照射光の照射量若しくは照射むらを計測する露光量検出センサ、投影される空間像を計測する空間像計測センサ、又は投影される波面収差を計測する波面収差測定センサの少なくとも１つを搭載する計測ステージであることを特徴とする請求項１１又は請求項１２に記載のステージ装置。
【請求項１４】
前記第一ステージと前記第二ステージと間において、電力の供受給及び／又は電気信号の送受信を非接触で行う第三伝送部を備えることを特徴とする請求項１１から請求項１３のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項１５】
感光基板を保持する基板ステージを有し、マスクに形成されたパターンを前記感光基板に露光する露光装置において、
前記基板ステージとして、請求項１から請求項１４のうちいずれか一項に記載のステージ装置を用いることを特徴とする露光装置。
【請求項１６】
リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程において請求項１５に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、非接触で電力伝送を行うステージ装置、そのステージ装置を備えた露光装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子、液晶表示素子、撮像装置（ＣＣＤ等）、薄膜磁気ヘッド等のデバイスの製造工程の一つであるリソグラフィ工程においては、マスクとしてのレチクルのパターンを、投影光学系を介して基板としてのフォトレジストが塗布されたウエハ（又はガラスプレート等）上に転写露光するために、露光装置が使用されている。この露光装置としては、ステッパ等の一括露光型（静止露光型）の投影露光装置、又はスキャニングステッパ等の走査露光型の投影露光装置（走査型露光装置）等が使用されている。
【０００３】
このような露光装置においては、基板搬送用アームを用いて基板ステージの基板ホルダ上に感光基板を搬送し、基板ホルダが感光基板を吸着保持するようにしている。基板ホルダには、基板搬送用アームと基板ホルダとの間で感光基板の引渡しを行うために、基板載置面から感光基板を一定量持ち上げて支持する上下動可能なリフトアップ機構が設けられている（特許文献１，２参照）。
【特許文献１】特開平１−２１４０４２号公報
【特許文献２】特開２００３−２５８０７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、基板ステージには、露光装置本体からリフトアップ機構に対して電力供給や各種電気信号の送受信を行うケーブル等が設けられている。これらのケーブル類は、ケーブルガイドに収納されて基板ステージとベース（露光装置本体）との間で接続されているため、余分なスペースを取ってしまう問題がある。また、ケーブル等は、基板ステージの動きによって断線などが生じやすく、メンテナンスが必要となる。さらに、基板ステージの位置制御の際に、ケーブルやケーブルガイド等の引張力が外乱力となり、基板ステージの位置決め精度に悪影響を与えてしまうという問題がある。
このような問題は、基板ステージに限ったことではなく、マスクステージ等においても同様である。
【０００５】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、ステージ装置の周辺のスペースを確保するとともに、耐久性及び位置決め精度の向上を図ることができるステージ装置、露光装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す各図に対応付けした以下の構成を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
【０００７】
第１の発明は、電動部（６０，７５）を搭載した移動ステージ（ＷＳＴ）を有するステージ装置（ＳＴ）であって、移動ステージに対して非接触状態で電力を供給する電力供給部（１０２）と、移動ステージに設けられて電力供給部からの電力を受給すると共に電動部に対して受給した電力を伝送する電力受給部（１０４）と、電動部を制御する制御部（２０）と、を備えるようにした。
この発明によれば、移動ステージに搭載した電動部への電力供給ケーブルが不要となるので、移動ステージの耐久性及び位置決め精度の向上を図ることができる。また、ステージ装置の周辺のスペースを確保することができる。
【０００８】
また、移動ステージ（ＷＳＴ）に対して非接触状態で移動ステージに向けて制御部（２０）からの信号を送信する第一信号発信部（１１０）と、移動ステージに設けられて第一信号発信部からの信号を受信すると共に電動部（６０，７５）に対して受信した信号を受信する第一信号受信部（１１２）と、を備えるものでは、電動部への信号ケーブルも不要となり、更に移動ステージの耐久性及び位置決め精度の向上を図ることができる。
また、電動部（７５）は、移動ステージ（ＷＳＴ）の戴置面（４０）上に載置された板状部材（Ｐ）を吸着保持するための負圧を供給する真空機構（７５）であるものでは、真空機構に対して電力と制御信号を非接触に伝送することができる。
【０００９】
また、移動ステージ（ＷＳＴ）に設けられて電動部（６０）の駆動量を計測する検出部（６８）と、移動ステージに設けられて検出部からの信号を発信する第二信号発信部（１１６）と、移動ステージとは非接触状態で第二信号発信部からの信号を受信する第二信号受信部（１１４）と、を備え、制御部（２０）は、第二信号受信部からの信号に基づいて電動部を制御するものでは、移動ステージに搭載された電動部の駆動及び制御を非接触に行うことができる。
【００１０】
また、電動部（６０）は、移動ステージ（ＷＳＴ）の戴置面（４０）上に載置された板状部材（Ｐ）を載置面と交差する方向に移動させるリフト機構（６０）であり、検出部（６８）は、リフト機構による板状部材の移動量を検出するものでは、リフト機構に対して電力と制御信号を非接触に伝送することができる。
また、移動ステージ（ＷＳＴ）は、電動部（６０，７０）を複数搭載し、電力供給部（１０２）と電力受給部（１０４，１０９）との間で複数の電力が重畳的に伝送されて、伝送された各電力は電動部にそれぞれ送られるものでは、移動ステージに複数の電動部が搭載された場合であっても、これらに対して非接触に電力を伝送することができる。また、電力が重畳して送られるので、電力供給部及び電力受給部の省スペース化を図ることができる。
【００１１】
電力供給部（１０２）は、移動ステージ（ＷＳＴ）の移動範囲内の複数箇所に設けられるものでは、移動ステージが移動した場合であっても、移動ステージに搭載された電動部に対して非接触に電力を伝送することができる。
電力受給部（１０４）は、移動ステージ（ＷＳＴ）の複数箇所に設けられるものでは、電力供給部及び電力受給部の設置場所の自由度が大きくなるので、移動ステージに搭載された電動部に対して非接触に電力を伝送できる場所を容易に増やすことができる。
【００１２】
電力供給部（１０２）は、移動ステージ（ＷＳＴ）に向けて移動する移動アーム（７０，７２，７４）に設けられるものでは、電力供給部を移動させることができるので、ベース付近に電力供給部設置スペースが確保できない場合であっても適用できる。
また、移動アーム（７２，７４）は、移動ステージ（ＷＳＴ）の戴置面（４０）に向けて板状部材（Ｐ）を搬送する搬送アーム（７２，７４）であるものでは、新たな移動アームを用いる必要がないので、設備コストの上昇を抑えることができる。
【００１３】
また、第１の発明は、ベース（２１）と、ベース上に移動自在に載置された第一ステージ（ＷＳＴ）及び第二ステージ（ＭＳＴ）と、を有するステージ装置（ＳＴ）であって、ベース側に設けられて第一ステージ又は第二ステージに対して電力の供給と電気信号の送受信を非接触に行う一次側伝送部（９２）と、第一ステージに設けられて一次側伝送部からの電力の受給と電気信号の送受信を行う第一の二次側伝送部（９４）と、第二ステージに設けられて一次側伝送部からの電力の受給と電気信号の送受信を行う第二の二次側伝送部（９５）と、を備えるようにした。
この発明によれば、複数の移動テーブル（第一ステージ，第二ステージ）を備える場合であっても、これらの移動テーブルに搭載した電動部等に非接触に電力や電気信号を伝送することができる。
【００１４】
また、第一の二次側伝送部（９２）に接続されて第一ステージ（ＷＳＴ）であることを示す第一識別部（１２３）と、第二の二次側伝送部（９５）に接続されて第二ステージ（ＭＳＴ）であることを示す第二識別部（１２４）と、一次側伝送部に接続されて第一識別部と第二識別部とを識別する識別判断部（１５０）と、識別判断部の判断結果に基づいて一次側伝送部にから供給する電力及び／又は送信する電気信号を制御する制御部（２０）と、を備えるものでは、移動テーブルの種類（第一ステージ，第二ステージ）に応じて、非接触に伝送する電力や電気信号を変更することができる。
【００１５】
また、第一ステージ（ＷＳＴ）は、感光基板（Ｐ）を載置する基板ステージ（ＷＳＴ）であり、第二ステージ（ＭＳＴ）は、第二ステージの基準位置を示す基準位置受光センサ（５３Ｓ）、感光基板上に投影される照射光の照射量若しくは照射むらを計測する露光量検出センサ（５５）、投影される空間像を計測する空間像計測センサ、又は投影される波面収差を計測する波面収差測定センサ（５４）の少なくとも１つを搭載する計測ステージ（ＭＳＴ）であるものでは、いわゆるツインステージに適用することができる。
【００１６】
また、第一ステージ（ＷＳＴ）と第二ステージ（ＭＳＴ）と間において、電力の供受給及び／又は電気信号の送受信を非接触で行う第三伝送部（１０３，１０５）を備えるものでは、移動ステージ同士の間でも電力の供受給及び／又は電気信号の送受信を非接触に行うことができる。
【００１７】
第２の発明は、感光基板（Ｐ）を保持する基板ステージ（ＷＳＴ）を有し、マスク（Ｍ）に形成されたパターン（ＰＡ）を感光基板に露光する露光装置（ＥＸ）において、基板ステージとして、第１の発明のステージ装置（ＳＴ）を用いるようにした。
この発明によれば、基板ステージへの信頼性及び位置決め精度が向上するので、微細なパターンを効率よく露光することができる。
【００１８】
第３の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、リソグラフィ工程において第２の発明の露光装置（ＥＸ）を用いるようにした。この発明よれば、高性能なデバイスを効率よく製造することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、ステージ装置の耐久性の向上（保守点検の低減）、ステージ装置の位置決め精度の向上を達成することができる。また、ステージ装置の周辺のスペースを確保することができる。
したがって、微細なパターンが高精度に露光されたデバイスを効率よく製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
（露光装置及びステージ装置の説明）
以下、本発明の実施形態によるステージ装置及び露光装置について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の実施形態による露光装置の概略構成を示す側面図である。
露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬに対して、レチクル（マスク）Ｒとウエハ（基板）Ｗとを相対的に移動させつつ、レチクルＲに形成されたパターンＰＡをウエハＷに逐次転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の露光装置である。
なお、以下の説明においては、必要であれば図中にＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。図１に示すＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がウエハＷの移動面に平行な面に含まれるよう設定され、Ｚ軸が投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに沿う方向に設定されている。また、本実施形態ではレチクルＲ及びウエハＷを同期移動させる方向（走査方向）をＹ方向に設定している。
【００２１】
露光装置ＥＸは、図１に示すように、照明光学系ＩＬＳ、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、投影ユニットＰＵ、ウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとを有するステージ装置ＳＴ、及びこれらを統括的に制御する制御装置２０（不図示）を含んで構成される。
【００２２】
照明光学系ＩＬＳは、不図示のレチクルブラインドで規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域を照明光（露光光）ＩＬによってほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００２３】
レチクルステージＲＳＴ上には、パターン面（図１における−Ｚ側の面）にパターンＰＡが形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により保持されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータを含むレチクルステージ駆動部（不図示）によって、照明光学系ＩＬＳの光軸（後述する投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに一致）に垂直なＸＹ平面内で微小駆動可能であるとともに、走査方向（Ｙ方向）に指定された走査速度で駆動可能に構成されている。
レチクルステージＲＳＴのステージ移動面内の位置（Ｚ軸周りの回転を含む）は、レーザ干渉計（以下、レチクル干渉計という）１２によって、移動鏡１３（実際にはＹ軸に直交する反射面を有するＹ移動鏡とＸ軸に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられている）を介して、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。このレチクル干渉計１２の計測値は、制御装置２０（不図示）に出力され、制御装置２０は、このレチクル干渉計１２の計測値に基づいてレチクルステージＲＳＴのＸ方向、Ｙ方向及びθＺ方向（Ｚ軸周りの回転方向）の位置を算出するとともに、この算出結果に基づいてレチクルステージ駆動部１１を制御することで、レチクルステージＲＳＴの位置（及び速度）を制御する。
レチクルステージＲＳＴの上方には、露光波長の光を用いたＴＴＲ（Through The Reticle）アライメント系からなる一対のレチクルアライメント検出系１４ａ，１４ｂがＸ方向に所定距離隔てて設けられている。レチクルアライメント検出系１４ａ，１４ｂは、レチクルＲ上の一対のレチクルアライメントマークと、これらに対応する計測ステージＭＳＴ上の一対の基準マークの投影光学系ＰＬを介した共役像とを同時に観察するものである。これらのレチクルアライメント検出系１４ａ，１４ｂとしては、例えば特開平７−１７６４６８号公報等に開示されるものと同様の構成のものが用いられている。
【００２４】
投影ユニットＰＵは、鏡筒１５と、鏡筒１５内に所定の位置関係で保持された複数の光学素子を含む投影光学系ＰＬとを含んで構成されている。投影光学系ＰＬとしては、例えばＺ方向の共通の光軸ＡＸを有する複数のレンズ（レンズエレメント）からなる屈折光学系が用いられている。
【００２５】
また、露光装置ＥＸは、液浸法を適用した露光を行うため、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側（ウエハＷ側）の光学素子としてのレンズＧＬの近傍には、液浸装置１７を構成する液体供給ノズル１８ａと、液体回収ノズル１８ｂとが設けられている。
液体としては、ここではＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する超純水（以下、特に必要な場合を除いて、単に「水Ｌｑ」と記述する）を用いるものとする。超純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できるとともに、ウエハＷ上に塗布されたフォトレジスト及び光学レンズ等に対する悪影響を及ぼさないという利点がある。
ここで、水Ｌｑの屈折率ｎはほぼ１．４４であり、水Ｌｑの中では照明光ＩＬの波長は１９３ｎｍ×１／ｎ＝約１３４ｎｍに短波長化される。
以上説明した通り、露光装置ＥＸが備える液浸装置１７は、液体供給装置、液体回収装置、供給管、回収管、液体供給ノズル１８ａ及び液体回収ノズル１８ｂ等を含んで構成された局所液浸装置である。なお、投影ユニットＰＵの下方に計測ステージＭＳＴが位置する場合にも、上記と同様に計測テーブルＭＴＢとレンズＧＬとの間に水Ｌｑを満たすことが可能である。
【００２６】
ステージ装置ＳＴは、例えば半導体工場の床面ＦＬ上に配置されたフレームキャスタＦＣ、フレームキャスタＦＣ上に設けられたベース盤２１、ベース盤２１の上方に配置されベース盤２１の上面（移動面）２１ａに沿って移動するウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴ、これらのステージＷＳＴ，ＭＳＴの位置を検出する干渉計２２，２３、並びにステージＷＳＴ，ＭＳＴを駆動するＸ軸駆動系２８，４８及びＹ軸駆動系２７，４７（図１では不図示、図２参照）を含んで構成される。
ウエハステージＷＳＴは、レチクルＲのパターンをウエハＷに露光転写するためにウエハＷを保持して移動するものである。一方、計測ステージＭＳＴは、ウエハステージＷＳＴがウエハＷの交換のためにローディングポジションに位置している間に投影光学系ＰＬの下方に位置して各種の計測を行うものである。
【００２７】
次に、ステージ装置ＳＴの構成について詳細に説明する。図２は、ステージ装置ＳＴの構成を示す斜視図である。
ウエハステージＷＳＴは、ベース盤２１上に配置されたウエハステージ本体２６とウエハステージ本体２６上に搭載されたウエハテーブルＷＴＢとを含んで構成されている。ウエハステージ本体２６は、断面矩形枠状でＸ方向に延びる中空部材によって構成されている。
また、ウエハステージＷＳＴは、ウエハステージ本体２６をＸ方向にロングストロークで駆動するとともに、Ｙ方向、Ｚ方向、θｘ（Ｘ軸周りの回転方向）、θｙ（Ｙ軸周りの回転方向）、θｚ（Ｚ軸周りの回転方向）に微小駆動するＸ軸駆動系２７と、ウエハステージ本体２６及びＹ軸駆動系２７をＹ方向にロングストロークで駆動するＹ軸駆動系２８とを備えている。
【００２８】
ウエハテーブルＷＴＢ上には、ウエハＷを保持するウエハホルダ４０が設けられている。ウエハホルダ４０は、板状の本体部と、この本体部の上面に固定されその中央にウエハＷの直径よりも大きな円形開口が形成された撥液性（撥水性）を有する補助プレートとを備えている。そして、ウエハＷが真空吸着されている。ウエハＷが真空吸着された状態では、そのウエハＷの表面と補助プレートの表面との高さがほぼ同一の高さとなるように形成されている。また、ウエハホルダ４０には、露光装置ＥＸから外部へ、及び外部から露光装置ＥＸへウエハＷを搬送する受け渡しの際に、ウエハＷを上下動させるリフトピン６１（リフト機構６０）が設けられている。
【００２９】
計測ステージＭＳＴは、図２に示すように、ベース盤２１上に配置された計測ステージ本体４６と、計測ステージ本体４６上に搭載された計測テーブルＭＴＢとを備えている。また、計測ステージ本体４６をＸ方向にロングストロークで駆動するとともに、Ｙ方向、Ｚ方向、θｘ、θｙ、θｚに微小駆動するＸ軸駆動系４７と、計測ステージ本体４６及びＹ軸駆動系４７をＹ方向にロングストロークで駆動するＹ軸駆動系４８とを備えている。
計測テーブルＭＴＢは、低熱膨張材料から形成されており、その上面は撥液性（撥水性）を有している。この計測テーブルＭＴＢは、例えば真空吸着によって計測ステージ本体４６上に保持されており、交換可能に構成されている。計測テーブルＭＴＢの表面の高さは、ウエハテーブルＷＴＢ上に設けられたウエハホルダ４０の表面の高さとほぼ同一となるように設定されている。
【００３０】
計測ステージＭＳＴは、露光に関する各種計測を行うための計測器群を備えている。この計測器群としては、例えば空間像計測センサ（不図示）、波面収差測定センサ５４及び露光量検出センサ５５等がある。
空間像計測センサは、投影光学系ＰＬにより水を介して計測テーブルＭＴＢ上に投影される空間像を計測するものである。また、波面収差測定センサ５４としては、例えば国際公開第９９／６０３６１号パンフレット等に開示される波面収差測定装置を用いることができる。
露光量検出センサ５５は、投影光学系ＰＬを介して計測テーブルＭＴＢ上に照射される露光光の露光エネルギーに関する情報（光量、照度、照度むら等）を検出する検出センサであり、例えば特開昭５７−１１７２３８号公報等に開示される照度むら計測器、及び、例えば特開平１１−１６８１６号公報等に開示される照度モニタを用いることができる。
また、計測ステージＭＳＴ表面上にはベースラインの変動量を計測するためのフィディシャルマーク（Fiducial Mark）が形成された基準板５３が取り付けられて、計測ステージＭＳＴ内部に受光センサ５３Ｓ（図２においては不図示、図９等参照）が設けられている。この基準板５３は、低熱膨張材料から形成されているとともに、上面が撥液性（撥水性）を有しており、計測テーブルＭＴＢに対して交換可能に構成されている。レチクルＲのアライメント時には、計測ステージＭＳＴを駆動することによって、基準板５３上の一対の基準マークの中心がほぼ投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに合致するように位置決めされる。
【００３１】
次に、ウエハステージＷＳＴに設けられたリフト機構６０（リフトピン６１）に対して、非接触で電力及び信号を伝達する非接触伝送部９０について、図３，図４を参照しながら説明する。なお、説明を簡単にするために図３，図４では、計測ステージＭＳＴを省略して描いている。
図３はウエハステージＷＳＴを模式的に示す断面図、図４は非接触伝送部９０の構成を示すブロック図である。なお、図４の一点鎖線は、非接触又は分離状態であることを示している。
ウエハステージＷＳＴには、ウエハＷを上下動（Ｚ方向）する３本のリフトピン６１とリフトピン６１を上下動させる駆動モータ６２を備えるリフト機構６０が設けられている。駆動モータ６２はブレーキ６４（スイッチ６６）を備え、ブレーキ６４によって駆動モータ６２の不要な動きを抑える。また、リフトピン６１の移動量（Ｚ方向のリフト量）を検出する位置検出センサ６８を備える。
そして、リフト機構６０には、非接触伝送部９０を介して電力及び制御信号が非接触に伝送される。
【００３２】
非接触伝送部９０は、ベース盤２１側に設けられた一次側伝送部９２と、ウエハステージＷＳＴに設けられた二次側伝送部９４とから構成される。
一次側伝送部９２は、電源部１５２と、電源部１５２に接続されて電力供給を行う電力供給部１０２と、制御信号を送る信号送信部１１０と、信号を受信する信号受信部１１４と、一次側伝送部９２を制御する演算部１５０とから構成されている。なお、演算部１５０は、制御装置２０に接続されている。
電源部１５２は、商用電源２００Ｖ又は１００Ｖをパワートランジスタースイッチなどで高周波励磁させる。高周波励磁された電圧は、電力供給部１０２である一次コイルに送られる。一次コイルとしては、Ｅ型コア又はポットコアが適用できる。なお、電圧は２００Ｖ又は１００Ｖ以外でも構わない。
信号送信部１１０と信号受信部１１４は、赤外線等を用いたフォトカプラー又は微弱電波を使用した電波送受信機で構成される。赤外線等を用いたフォトカプラー又は微弱電波を使用した電波送受信機は、二種類以上の周波数を用いたり、周波数変調を与えたりして、信号を重畳して送受信することができる。
【００３３】
二次側伝送部９４は、電力供給部１０２からの電力を受給する電力受給部１０４と、信号送信部１１０からの制御信号を受信してブレーキ６４（スイッチ６６）に送信する信号受信部１１２と、位置検出センサ６８からの信号を一次側伝送部９２に送るための検出信号発信部１１６とから構成されている。
電力受給部１０４である電磁誘導コイルから高周波は、整流回路で整流されパワースイッチ等を経て駆動モータ６２の駆動電力となる。電力受給部１０４の二次コイルとしては、電力供給部１０２の一次コイルに対応して、Ｅ型コア又はポットコアが適用できる。
電力供給部１０２（１次側）は、矩形波（あるいは正弦波）インバータにより高周波励磁されることで、１次コイルと２次コイルの巻線比に応じた矩形波（あるいは正弦波）電圧が電力受給部１０４（２次側）に生じる。この電圧は整流回路（不図示）によって全波整流され、駆動モータ６２の主電源となる。なお、電力受給部１０４で受給された電力は、ウエハステージＷＳＴ内の制御回路用電源にも用いることができる。
信号受信部１１２と検出信号発信部１１６は、信号送信部１１０と信号受信部１１４に対応して、赤外線等を用いたフォトカプラー又は微弱電波を使用した電波送受信機で構成される。
【００３４】
次に、非接触伝送部９０の動作について説明する。
露光処理が施されたウエハＷは、ウエハステージＷＳＴに載置された状態でロード／アンロード位置へ搬送される。ロード／アンロード位置では、ウエハステージＷＳＴは、電力供給部１０２及び電力受給部１０４、信号送信部１１０及び信号受信部１１２並びに信号受信部１１４及び検出信号発信部１１６が所定距離だけ離れて向かい合うように位置決めされる。
次に、一次側伝送部９２の演算部１５０は、電源部１５２に対して電力伝送を開始するように指令し、電力供給部１０２が高周波励磁される。これにより、電力受給部１０４が誘導され、さらに整流されて駆動モータ６２に電力が供給される。
駆動モータ６２が駆動すると、３本のリフトピン６１が上昇し、これによりウエハＷがウエハホルダ４０から持ち上がる。ウエハＷの上昇量は、位置検出センサ６８により検出され、その検出信号が検出信号発信部１１６から信号受信部１１４に非接触に伝送され、演算部１５０に送られる。
演算部１５０では、ウエハＷの上昇量が所定量となった際に、演算部１５０から駆動モータ６２に対してブレーキ６４を作動させるための制御信号を送る。この制御信号は、信号送信部１１０と信号受信部１１２との間で非接触に送信される。そして、スイッチ６６が入りブレーキ６４が作動すると同時に、電源部１５２からの高周波励磁も止められる。
【００３５】
次に、ロボットアーム７２（図７参照）が、リフトピン６１上に載置されたウエハＷをアンロードし、更に新たなウエハＷをリフトピン６１上にロードする。
そして、演算部１５０から、電源部１５２に対する電力伝送指令と、駆動モータ６２のブレーキ６４に対する解除制御信号が送られる。これにより、３本のリフトピン６１が下降して、ウエハＷがウエハホルダ４０上に載置される。ウエハＷの位置情報は、位置検出センサ６８により検出され、この検出信号に基づいて演算部１５０は電源部１５２の高周波励磁を停止させる。
その後、ウエハＷは、ウエハステージＷＳＴに載置された状態で投影光学系ＰＬの直下に移動し、露光が再開される。
【００３６】
ウエハステージＷＳＴの二次側伝送部９４には、リフト機構６０の他に、ウエハＷを真空吸着するための真空吸着機構７５を接続してもよい。
図５はウエハステージＷＳＴを模式的に示す断面図、図６は非接触伝送部９０の他の構成を示すブロック図である。なお、図６の一点鎖線は、非接触又は分離状態であることを示している。説明を簡単にするために計測ステージＭＳＴを省略して描いている。また、リフト機構６０も省略してある。また、図３，図４と異なる箇所について説明し、同一箇所の説明は省略する。
ウエハステージＷＳＴの電力受給部１０４のコイルには、全波整流回路（不図示）が接続され、さらにその下流には駆動モータ６２と真空ポンプ（又は真空モータ）７６が接続される。
真空ポンプ７６は、ウエハＷをウエハホルダ４０上で真空吸着するための負圧を与えるものである。ウエハステージＷＳＴの高速移動に際に、ウエハＷがウエハホルダ４０上でズレないように、また、ウエハＷがウエハホルダ４０の表面に倣ってＺ方向で均一面になるようにするために、ウエハＷは真空吸着されている。
真空ポンプ７６の配管途中には、開閉の２ポートを有する電磁弁７８が配置されている。電源が入力されているとき付勢バネに抗して電磁弁７８は開となり、電源が入力されていないとき付勢バネにより電磁弁７８が閉となる。同様な機能を有するものであれば、３ポート以上の電磁弁を使用し、そのうち２ポートを上記のように使用することができる。
ウエハステージＷＳＴの二次側伝送部９４は、電力受給部１０４に隣接して、電力受給部１０９のコイルが配置される。電力受給部１０９のコイルは、Ｅ型コア又はポットコアが適用できる。電力受給部１０９は、全波整流回路（不図示）を介して電磁弁７８に接続される。
なお、一次側伝送部９２の電力供給部１０２から二次側伝送部９４の電力受給部１０４及び電力受給部１０９に対しては、複数の電力が重畳的に伝送されるようになっている。具体的には、電力供給部１０２に複数の変調回路（不図示）を設け、電力受給部１０４及び電力受給部１０９にそれぞれ複調回路（不図示）を設ける。電力供給部１０２から電力受給部１０４に対しては単相或いは三相交流を変調して供給する。そして、電力受給部１０４において変調された電力を複調することで、単相或いは三相交流を受給する。また、電力供給部１０２から電力受給部１０９に対しては低電圧の直流を上記とは異なる周波数に変調して供給する。そして、電力受給部１０９において変調された電力を複調することで、低電圧の直流を受給する。
【００３７】
このような構成により、非接触伝送部９０は、次のように動作する。
まず、ロード／アンロード位置にウエハステージＷＳＴが移動すると、一次側伝送部９２（電力供給部１０２、信号送信部１１０、信号受信部１１４）と二次側伝送部９４（電力受給部１０４、信号受信部１１２、検出信号発信部１１６）が所定距離だけ離れて向かい合うように位置決めされる。
そして、まず、電力供給部１０２から電力受給部１０９に対して電力が非接触に伝送される。これにより、電磁弁７８が開放されて、ウエハホルダ４０上のウエハＷの真空吸着が解除される。そして、電力供給部１０２から電力受給部１０９への電力伝送を停止して、電磁弁７８が閉じることで、ウエハＷの真空吸着が解除された状態を維持される。
次いで、電力供給部１０２から電力受給部１０４に対して電力が非接触に伝送される。電力受給部１０４に伝送された電力は、整流されて駆動モータ６２及び真空ポンプ７６にも供給される。この際、電磁弁７８は閉じているので、ウエハＷがウエハホルダ４０上に真空吸着されずに戴置されたままである。したがって、駆動モータ６２が駆動して３本のリフトピン６１が上昇すると、これによりウエハＷが持ち上げられる。
そして、ウエハＷが所定距離だけ持ち上げられたところでブレーキ６４が作動し、ロボットアーム７２（図７参照）により露光されたウエハＷが取り出され、新たなウエハＷが３本のリフトピン６１に載置される。次いで、ブレーキ６４が解除され、さらにリフトピン６１が下降する。
位置検出センサ６８によりウエハＷがウエハホルダ４０上に載置されたことが確認されると、電力供給部１０２から電力受給部１０９に対して電力が再度、伝送される。これにより、電磁弁７８が開放されて、真空ポンプ７６の真空圧によりウエハＷがウエハホルダ４０の表面に密着（真空吸着）する。
その後、ウエハステージＷＳＴは投影光学系ＰＬの直下に移動する。これにより、一次側伝送部９２と二次側伝送部９４との間の電力伝送が終了するので、真空ポンプ７６の電源が切れ、電磁弁７８が閉ポートに切り替わる。したがって、ウエハＷの露光の期間中は、ウエハＷがウエハホルダ４０上に真空吸着された状態が維持される。
【００３８】
図７は、非接触伝送部９０の配置を説明するための図である。
図７（ａ）においては、ロード／アンロード位置が図面右上にあり、この位置でウエハＷがロード／アンロードされる。この位置のベース盤２１の端部には、一次側伝送部９２が設けられている。
ウエハステージＷＳＴがロード／アンロード位置に移動すると、一次側伝送部９２の電力供給部１０２、信号送信部１１０、信号受信部１１４と、ウエハステージＷＳＴに設けた二次側伝送部９４の電力受給部１０４、信号受信部１１２、検出信号発信部１１６が、それぞれ所定距離だけ離れて向かい合うようになっている。これにより、ベース盤２１とウエハステージＷＳＴとの間で、電力の供給及び電気信号が非接触に伝送される。
【００３９】
図７（ｂ）では、図７（ａ）の場合と同様に、ロード／アンロード位置が図面右上にあり、この位置でウエハＷがロード／アンロードされる。図７（ａ）の場合とは異なり、一次側伝送部９２（電力供給部１０２、信号送信部１１０及び信号受信部１１４）は、移動アーム７０に設けられている。
図１からも理解できるように、ベース盤２１の周辺は、多くの装置が設けられているので、一次側伝送部９２を設けるスペースが確保できない場合が少なくない。そこで、ウエハステージＷＳＴがロード／アンロード位置に移動した際に、移動アーム７０がロード／アンロード位置まで延びて、ウエハステージＷＳＴに設けた二次側伝送部９４（電力受給部１０４、信号受信部１１２及び検出信号発信部１１６）と所定距離だけ離れて向かい合うようになっている。
なお、移動アーム７０を設けるスペースさえ確保できない場合には、ウエハＷを搬送するロボットアーム７２に一次側伝送部９２を設けるようにしてもよい。
【００４０】
図７（ｃ）は、ウエハＷのロード位置とアンロード位置とが別々の場所に設けられている場合を示す図である。図７（ｃ）において、右上がウエハＷのロード位置であり、左上がアンロード位置である。
ベース盤２１のロード位置の端部には一次側伝送部９２ａが設けられ、アンロード位置のベース盤２１には一次側伝送部９２ｂが設けられている。一方、ウエハステージＷＳＴには、二次側伝送部９４ａ，９４ｂが設けられている。
まず、ウエハステージＷＳＴがロード位置（図面右上）に移動すると、ベース盤２１の一次側伝送部９２ａと、ウエハステージＷＳＴの二次側伝送部９４ａとが所定距離だけ離れて向かい合う。そして、電力の供給及び信号のやり取りが非接触に行われる。また、ウエハＷのロードがロボットアーム７２により行われる。
ウエハＷが載置されると、ウエハステージＷＳＴは投影光学系ＰＬの下方に移動して、露光処理を開始する。
その後、ウエハステージＷＳＴがアンロード位置（図面左上）に移動すると、ベース盤２１の一次側伝送部９２ｂと、ウエハステージＷＳＴの二次側伝送部９４ｂとが所定距離だけ離れて向かい合う。そして、電力の供給及び信号のやり取りが非接触に行われる。また、ウエハＷのアンロードがロボットアーム７４により行われる。
なお、図７（ｃ）において、右上をウエハＷのロード位置とし、右下をアンロード位置とした場合には、ウエハステージＷＳＴには一つの二次側伝送部９４ａのみを設ければ足りる。つまり、ウエハステージＷＳＴの二次側伝送部９４ａは、ロード位置ではベース盤２１の一次側伝送部９２ａと所定距離だけ離れて向かい合って電力の供給及び信号のやり取りを非接触に行い、アンロード位置ではベース盤２１の一次側伝送部９２ｂと所定距離だけ離れて向かい合って電力の供給及び信号のやり取りを非接触に行うようにしてもよい。
また、一次側伝送部９２ａ，９２ｂを移動アーム７０（図７（ｂ）参照）やロボットアーム７２，７４に設けるようにしてもよい。
【００４１】
次に、２つのステージ（ウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴ）に対して、非接触伝送部９０により電力及び電気信号を非接触に伝送する場合について、図８，図９を参照しながら説明する。
図８は、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを模式的に示す断面図である。図９は、非接触伝送部９０の他の構成を示すブロック図である。なお、図９の一点鎖線は、非接触又は分離状態であることを示している。
ベース盤２１の端部に設けられる一次側伝送部９２は、演算部１５０、電源部１５２、電力供給部１０２、信号送信部１１０、信号受信部１１４の他に、ウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとを識別するための識別リーダー１２２が接続されている。識別リーダー１２２は、いわゆるバーコードリーダー又は磁気センサなどが適用できる。
また、一次側伝送部９２には、計測ステージＭＳＴから送られてくる計測信号を受信する計測信号受信部１２６が接続されている。計測信号受信部１２６は、赤外線等を用いたフォトカプラー又は微弱電波を使用した電波送受信機で構成される。
【００４２】
ウエハステージＷＳＴは、二次側伝送部９４の他に、第一識別部である識別子１２３を有している。識別子１２３は、ウエハステージＷＳＴであることを示すバーコード等であって、一次側伝送部９２の識別リーダー１２２によって非接触に識別情報が読み取られる。ウエハステージＷＳＴは軽量であった方が移動速度を速めることができるので、軽量な識別子１２３であればどのようなものでもよい。
計測ステージＭＳＴに設けられる二次側伝送部９５は、二次コイルである電力受給部１０３、計測ステージＭＳＴに設けられた各種センサの計測情報を発信する計測信号発信部１２８を有する。また、計測ステージＭＳＴは、二次側伝送部９５の他に、第二識別部である識別子１２４を有している。識別子１２４は、識別子１２３と同一種類のものが用いられる。
電力受給部１０３の二次コイルとしては、電力供給部１０２の一次コイルに対応して、Ｅ型コア又はポットコアが適用できる。電力受給部１０３には、全波整流回路（不図示）を経てバッテリー１３０が接続される。整流されて直流となっているため、バッテリー１３０は、充電可能なリチウムイオン電池又はニッケル水素電池を使用することができる。
計測ステージＭＳＴには、フィディシャルマーク又は基準板５３の受光センサ５３Ｓ、波面収差測定センサ５４、露光量検出センサ５５、又は空間像計測センサ（不図示）が設けられている。基準板５３の受光センサ５３Ｓ、波面収差測定センサ５４又は露光量検出センサ５５は、バッテリー１３０から電力が供給される。基準板５３の受光センサ５３Ｓ、波面収差測定センサ５４又は露光量検出センサ５５は、信号処理回路１３２に接続され、各センサからの出力が信号処理回路１３２で処理される。信号処理回路１３２は、ＲＯＭなどの記憶手段も備えており、バッテリー１３０から電源を受ける。
信号処理回路１３２に接続された計測信号発信部１２８は、赤外線等を用いたフォトカプラー又は微弱電波を使用した電波送受信機で構成され、二種類以上の周波数を用いたり、周波数変調を与えたりして、信号を重畳して送受信することができる。
【００４３】
一次側伝送部９２の電力供給部１０２である一次コイルは、ウエハステージＷＳＴの電力受給部１０４である二次コイル、及び計測ステージＭＳＴの電力受給部１０３である二次コイルとに対して、非接触に電力を供給することができる。なお、計測ステージＭＳＴには、モータなどの駆動手段がなく、受光センサ５３Ｓ等のセンサ類及びその信号処理回路などしかないので、低電圧の電力で足りる。そのため、計測ステージＭＳＴの電力受給部１０３である二次コイルの巻線は、ウエハステージＷＳＴの電力受給部１０４である二次コイルの巻線よりも少なくてよい。
計測ステージＭＳＴは、上述したようにバッテリー１３０を有している。基準板５３、波面収差測定センサ５４、露光量検出センサ５５、又は空間像計測センサなどは、投影光学系ＰＬの直下で測定される。そのため、ベース盤２１の周辺に設けられた電力供給部１０２と計測ステージＭＳＴの電力受給部１０３との間で、電力を伝送することはできない。また、移動アーム７０等も、投影光学系ＰＬ、液体供給装置、液体回収装置などがあるため、投影光学系ＰＬの直下の計測ステージＭＳＴまで延ばすことができない。このため、投影光学系ＰＬの直下において、波面収差測定センサ５４等を動作させるために、バッテリー１３０を備えている。
また、計測信号受信部１２６と計測信号発信部１２８との送受信も、計測ステージＭＳＴが投影光学系ＰＬの直下にあるときに行われる。赤外線等を用いたフォトカプラー又は微弱電波を使用した電波送受信機は、距離が離れていても容易に送受信できる。もちろん、スループットに影響がなければ、計測ステージＭＳＴがベース盤２１の縁部に移動して計測信号受信部１２６と計測信号発信部１２８とが近接してから送受信してもよい。近接して送受信すれば、送受信のエラーが生じにくい。
ウエハステージＷＳＴが第１識別部である識別子１２３を有し、計測ステージＭＳＴが第２識別部である識別子１２４を有しているため、演算部１５０の処理を識別子１２３又は識別子１２４に応じて変更することができる。なお、本実施形態では、識別部を専用に設けたが、識別部を計測信号発信部と兼用し、計測信号に識別番号を含めて発信するようにしても構わない。
【００４４】
ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴの動作について説明する。
ウエハステージＷＳＴ上に保持されたウエハＷの露光処理が終了すると、ウエハステージＷＳＴはウエハＷの交換のためにロード／アンロード位置に移動し、計測ステージＭＳＴは各種計測のために投影光学系ＰＬの直下に移動する。計測ステージＭＳＴは、蓄えられたバッテリー１３０で露光量検出センサ５５等の各種センサを駆動し、センサからの信号を信号処理回路１３２で処理して、計測信号発信部１２８から信号を送受信する。
ウエハステージＷＳＴがロード／アンロード位置に移動すると、演算部１５０は、最初に、識別子１２３又は識別子１２４を有しているかを判断する。識別子１２３であることが確認されると、一次側伝送部９２と二次側伝送部９４との間で、電力の供給及び信号の送受信動作が行われる。そして、ウエハステージＷＳＴに対するウエハＷのアンロード、ロードが行われる。
【００４５】
ウエハステージＷＳＴに対する電力の供給と信号の送受信動作、及び計測ステージＭＳＴからの各種計測信号の送受信が終わると、ウエハステージＷＳＴはロード／アンロード位置から投影光学系ＰＬの直下に移動し、先ほど計測ステージＭＳＴで計測された計測結果に基づいて露光動作に移行する。
一方、計測ステージＭＳＴは、二次側伝送部９５が一次側伝送部９２と対向する位置に移動する。演算部１５０は、識別子１２３又は識別子１２４を有しているかを判断する。識別子１２４であることが確認されると、一次側伝送部９２の電力供給部１０２と計測ステージＭＳＴの二次側伝送部９５の電力受給部１０３との間で、電圧が非接触に伝送される。これにより、バッテリー１３０が充電される。なお、この間に、計測信号受信部１２６と計測信号発信部１２８との間で露光量検出センサ５５等の検出情報を送受信してもよい。
【００４６】
なお、計測ステージＭＳＴのバッテリー１３０を充電する動作は、バッテリー１３０の充電具合に応じて変更することができる。すなわち、バッテリー１３０が充電されている場合には、計測ステージＭＳＴは充電のための所定位置に移動する必要はなく、ウエハステージＷＳＴが投影光学系ＰＬの直下に移動してくるのに障害とならない位置に待避していればよい。
また、図８では、ベース盤２１の一カ所に電力供給部１０２が設けられているが、図７で開示したように、複数の位置に電力供給部１０２を用意してもよい。
例えば、計測ステージＭＳＴが計測位置にいる時に、二次側伝送部９５と対向する位置に第二の一次側伝送部９２（電力供給部１０２）を用意してもよい。また、一次側伝送部９２の位置は、ベース盤２１の端部に限られず、計測ステージＭＳＴの上部、例えば投影光学系ＰＬの近傍に設けても構わない。
【００４７】
次に、２つのステージ（ウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴ）の間で、非接触伝送部９０により電力を非接触に伝送する場合について、図１０を参照しながら説明する。
図１０は、非接触伝送部９０の他の構成を示すブロック図である。なお、図９と異なる箇所について説明し、同じ箇所は説明を省略する。
ウエハステージＷＳＴに設けられた二次側伝送部９４の電力受給部１０４には、全波整流回路（不図示）が接続され、さらにその下流には駆動モータ６２等が接続される。更に、電力受給部１０４には、補助電力給電部１０５が接続されている。補助電力給電部１０５はコイル（３次コイル）で構成され、その巻線数は計測ステージＭＳＴの要求電圧に応じて適宜決められる。補助電力給電部１０５のコイルは、Ｅ型コア又はポットコアが適用できる。そして、電力供給部１０２から電力受給部１０４を介して受給した電力は補助電力給電部１０５に送られる。
計測ステージＭＳＴに設けられた二次側伝送部９５は、図９の場合と同一構成であるが、電力受給部１０３の向きが異なっている。つまり、ウエハステージＷＳＴの補助電力給電部１０５に接近して向かい合うことができるように配置されている。電力受給部１０３には、全波整流回路（不図示）が接続され、さらにバッテリー１３０が接続される。
このような構成により、電力供給部１０２であるコイルが１次側、ウエハステージＷＳＴの電力受給部１０４であるコイルが２次側、ウエハステージＷＳＴの補助電力給電部１０５であるコイルが３次側、及び計測ステージＭＳＴの電力受給部１０３であるコイルが４次側となり、電力供給部１０２（一次コイル）と電力受給部１０４（二次コイル）との間、補助電力給電部１０５（三次コイル）と電力受給部１０３（四次コイル）との間で、非接触に電力の伝送が行われる。
【００４８】
ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴの動作は、次のようになる。
ウエハステージＷＳＴ上に保持されたウエハＷの露光処理が終了すると、ウエハステージＷＳＴはウエハＷの交換のためにロード／アンロード位置に移動し、計測ステージＭＳＴは各種計測のために投影光学系ＰＬの直下に移動する。計測ステージＭＳＴは、露光量検出センサ５５等の各種センサを駆動し、センサからの信号を計測信号発信部１２８で送受信する。
ウエハステージＷＳＴがロボットアーム７２でウエハＷのロード／アンロードを行っている最中に、計測ステージＭＳＴによる計測を終了する。そして、計測ステージＭＳＴは、ウエハステージＷＳＴの側方に移動し、ウエハステージＷＳＴの補助電力給電部１０５に電力受給部１０３とを対向させる。これにより、電力供給部１０２から電力受給部１０４及び補助電力給電部１０５を介して、電力受給部１０３に電力が伝送され、バッテリー１３０が充電される。
バッテリー１３０に充電及びウエハＷのロードが終了すると、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴは、共に投影光学系ＰＬ方向に移動する。
なお、ウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとの間で電力を非接触に伝送する場合に限らず、電気信号を非接触に伝送するようにしてもよい。
【００４９】
以上、露光装置のウエハステージを主な実施例として説明してきたが、露光装置のレチクルステージに適用してもよい。また、露光装置以外でも本発明を使用することができる。例えば、精度が要求される工作機械のステージなどにも本発明は有効である。
また、上述した実施の形態において示した動作手順、あるいは各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。本発明は、例えば以下のような変更をも含むものとする。
【００５０】
上述した各実施形態では、電力供給部及び受給部と、信号送信部及び受信部とを分けて構成したが、送受信する信号を変調して、電力供給部に重畳することにより、信号送信部及び受信部を省略した構成とすることもできる。
【００５１】
各実施形態の基板としては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００５２】
露光装置としては、マスクと基板とを同期移動してマスクのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクと基板とを静止した状態でマスクのパターンを一括露光し、基板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【００５３】
また、上述の実施形態においては、投影光学系と基板との間に局所的に液体を満たす露光装置を採用しているが、本発明は、特開平６−１２４８７３号公報、特開平１０−３０３１１４号公報、米国特許第５，８２５，０４３号などに開示されているような露光対象の基板の表面全体が液体中に浸かっている状態で露光を行う液浸露光装置にも適用可能である。
【００５４】
露光装置の種類としては、基板に半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００５５】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号公報に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスクを用いてもよい。
【００５６】
また、国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板上に形成することによって、基板上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【００５７】
基板ステージやマスクステージにリニアモータ（ＵＳＰ５，６２３，８５３またはＵＳＰ５，５２８，１１８参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００５８】
各ステージの駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニットと、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージを駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージの移動面側に設ければよい。
【００５９】
本実施形態の露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６０】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１１に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に露光する露光処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の実施形態による露光装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】ステージ装置ＳＴの構成を示す斜視図である。
【図３】ウエハステージＷＳＴを模式的に示す断面図である。
【図４】非接触伝送部９０の構成を示すブロック図である。
【図５】ウエハステージＷＳＴを模式的に示す断面図である。
【図６】非接触伝送部９０の他の構成を示すブロック図である。
【図７】非接触伝送部９０の配置を説明するための図である。
【図８】ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを模式的に示す図である。
【図９】非接触伝送部９０の他の構成を示すブロック図である。
【図１０】非接触伝送部９０の他の構成を示すブロック図である。
【図１１】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
【００６２】
２０…制御装置（制御部）
２１…ベース盤
４０…ウエハホルダ（戴置面）
５３Ｓ…受光センサ（基準位置受光センサ）
５４…波面収差測定センサ
５５…露光量検出センサ
６０…リフト機構（電動部）
６８…位置検出センサ（検出部）
７０…移動アーム
７２，７４…ロボットアーム（搬送アーム）
７５…真空吸着装置（電動部）
７６…真空ポンプ
９２（９２ａ，９２ｂ）…一次側伝送部（一次側伝送部）
９４（９４ａ，９４ｂ）…二次側伝送部（第一の二次側伝送部）
９５…二次側伝送部（第二の二次側伝送部）
１０２…電力供給部
１０３…電力受給部（第三伝送部）
１０４，１０９…電力受給部
１０５…補助電力給電部（第三伝送部）
１１０…信号送信部（第一信号発信部）
１１２…信号受信部（第一信号受信部）
１１４…信号受信部（第二信号受信部）
１１６…検出信号発信部（第二信号発信部）
１２３…識別子（第一識別子）
１２４…識別子（第二識別子）
１２６…計測信号受信部
１２８…計測信号発信部
１５０…演算部（識別判断部）
ＥＸ…露光装置
ＭＳＴ…計測ステージ（移動ステージ、第二ステージ）
ＰＡ…パターン
Ｒ…レチクル（マスク）
ＳＴ…ステージ装置
Ｗ…ウエハ（板状部材、感光基板）
ＷＳＴ…ウエハステージ（移動ステージ、第一ステージ、基板ステージ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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