(57)【要約】【課題】培養室内の殺菌時間を短縮でき、且つ、ガス濃度測定センサ及びガス濃度測定装置に配設された配管内や、培養室内の隅々まで殺菌することができる培養装置を提供する。【解決手段】培養室４内に殺菌ガスを供給する殺菌ガス発生装置４２を備える。殺菌ガス発生装置４２は、殺菌剤溶液（過酸化水素水）を超音波振動子４６により霧化する。培養室４内のガスに紫外線を照射する紫外線発生装置（紫外線ランプ５０）を備える。培養室４の開口を開閉自在に閉塞する扉（外扉１４）と、この扉（外扉１４）の開放を禁止する施錠装置５２とを備える。殺菌工程の開始から分解工程が終了するまで、施錠装置５２により扉（外扉１４）の開放を禁止する制御装置６０を設ける。【選択図】図１
2007259715.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
培養室内にて細胞、微生物等の培養物を培養する培養装置において、
前記培養室内に殺菌ガスを供給する殺菌ガス発生装置を備えたことを特徴とする培養装置。
【請求項２】
前記殺菌ガス発生装置は、殺菌剤溶液を超音波振動子により霧化することを特徴とする請求項１に記載の培養装置。
【請求項３】
前記殺菌ガス発生装置は、殺菌剤溶液に吸水部材を浸漬することにより、当該殺菌剤溶液を蒸発させることを特徴とする請求項１に記載の培養装置。
【請求項４】
前記培養室内の殺菌ガス濃度を、０．１ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下とすることを特徴とする請求項１乃至請求項３に記載の培養装置。
【請求項５】
前記培養室内のガスに紫外線を照射する紫外線発生装置を備えたことを特徴とする請求項１乃至請求項４に記載の培養装置。
【請求項６】
前記培養室内に所定時間前記殺菌ガスを充満させる殺菌工程と、該殺菌工程の終了後、前記紫外線発生装置により前記培養室内のガスに紫外線を照射して前記殺菌ガスを分解する分解工程とを実行する制御装置を備えたことを特徴とする請求項５に記載の培養装置。
【請求項７】
前記培養室の開口を開閉自在に閉塞する扉と、該扉の開放を禁止する施錠装置とを備え、前記制御装置は、前記殺菌工程の開始から前記分解工程が終了するまで、前記施錠装置により前記扉の開放を禁止することを特徴とする請求項６に記載の培養装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、培養室内にて細胞、微生物等の培養物を培養する培養装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来よりインキュベータと称される培養装置は、培養室内の温度や二酸化炭素ガス（ＣＯ2）や酸素（Ｏ2）などのガス濃度を一定に維持し、培養室内部を無菌状態として培養対象としての細胞や微生物などの培養物（試料）を培養していた。該培養装置１００は、図４に示すように、一側を開口１０２Ａした金属製の外箱１１０と、この外箱１１０の内側に設けられたステンレス製の内箱１１６とから断熱箱本体１０２を構成している。そして、開口１０２Ａを開閉自在に閉塞する扉（内扉１１８）で囲まれる空間（内箱１１６内）に培養室１０４を形成している。培養室１０４内は、複数の棚１０６で上下に区画され、この棚１０６上に培養物が入れられた容器１０８が載置される。
【０００３】
また、培養装置１００には、培養室１０４内の環境を制御するための空気循環用ファン１２８がダクト１２４内に配設されると共に、図示しない二酸化炭素ガスや酸素などのガス濃度測定センサを備えたガス濃度測定装置１３０が配設されている。ガス濃度測定装置１３０には、ガス濃度測定センサに培養室１０４内のガスを導くための配管１３４、１３６が培養室１０４内に連通して接続されている。また、培養室１０４内に配設された紫外線ランプ１５０を照射して循環空気の殺菌を行うと共に、ゴム栓１４０で塞がれた測定孔１３８からガスが採取され培養室１０４内のガス濃度が測定されていた。
【０００４】
前記断熱箱本体１０２には、開口１０２Ａを開閉自在に閉塞する外扉１１４が設けられており、培養物は外扉１１４と内扉１１８との開閉により培養室１０４内へ出し入れされる。外箱１１０の内側には保温のための断熱材１１２を有しており、内箱１１６と外箱１１０との間には空気或いは水の循環路１２０が形成されている。循環路１２０には加熱用のヒータ１２２が配設されており、この加熱用ヒータ１２２の熱は、内箱１１６への熱伝導と、循環路１２０からの空気或いは水による熱伝達で培養室１０４内に伝わり、培養室１０４内は培養に適した温度に保持される。これによって、細胞、微生物等の培養物が培養室１０４内で培養されていた（特許文献１参照）。
【０００５】
このような培養装置１００は、培養室１０４内を常に清潔に保ちながら使用するものであるが、培養された細胞や微生物が細菌やウイルスなどに感染している場合、培養装置の培養室１０４内及び培養室１０４内の空気が汚染されてしまう。そこで培養室１０４内を清潔に保つために、培養室１０４内を綺麗に清掃するか、或いは、加熱ヒータ（図示せず）にて培養室１０４内の温度を９０℃以上の高温に加熱して殺菌していた。
【特許文献１】特開２００５−１１８０２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来では培養室内を清潔に保つためには、培養室内の清掃を行うか、或いは、加熱ヒータにて培養室内の温度を９０℃以上の高温に加熱するしかなかった。このため、ガス濃度測定センサ及びガス濃度測定装置に配設された配管内や、培養室内の隅々まで完全に殺菌することができなかった。
【０００７】
また、耐熱菌は、９０℃以上の高温でも殺菌が不完全な場合があり、また、殺菌のため加熱による培養室内の温度昇温から冷却工程を経て、培養を再開するために要する時間は、約８時間以上必要であった。このため、培養装置を培養に使用できない時間が長いという問題があった。
【０００８】
本発明は、係る従来技術の課題を解決するために成されたものであり、殺菌時間を短縮でき、且つ、ガス濃度測定センサ及びガス濃度測定装置に配設された配管内や、培養室内の隅々まで殺菌することができる培養装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
即ち、本発明の培養装置は、培養室内にて細胞、微生物等の培養物を培養するものであって、培養室内に殺菌ガスを供給する殺菌ガス発生装置を備えたことを特徴とする。
【００１０】
また、請求項２の発明の培養装置は、上記において、殺菌ガス発生装置は、殺菌剤溶液を超音波振動子により霧化することを特徴とする。
【００１１】
また、請求項３の発明の培養装置は、請求項１において、殺菌ガス発生装置は、殺菌剤溶液に吸水部材を浸漬することにより、当該殺菌剤溶液を蒸発させることを特徴とする。
【００１２】
また、請求項４の発明の培養装置は、請求項１乃至請求項３において、培養室内の殺菌ガス濃度を、０．１ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下とすることを特徴とする。
【００１３】
また、請求項５の発明の培養装置は、請求項１乃至請求項４に加えて、培養室内のガスに紫外線を照射する紫外線発生装置を備えたことを特徴とする。
【００１４】
また、請求項６の発明の培養装置は、請求項５に加えて、培養室内に所定時間殺菌ガスを充満させる殺菌工程と、該殺菌工程の終了後、紫外線発生装置により培養室内のガスに紫外線を照射して殺菌ガスを分解する分解工程とを実行する制御装置を備えたことを特徴とする。
【００１５】
また、請求項７の発明の培養装置は、請求項６において、培養室の開口を開閉自在に閉塞する扉と、該扉の開放を禁止する施錠装置とを備え、制御装置は、殺菌工程の開始から分解工程が終了するまで、施錠装置により扉の開放を禁止することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、培養室内にて細胞、微生物等の培養物を培養する培養装置において、培養室内に殺菌ガスを供給する殺菌ガス発生装置を備えているので、培養作業前、又は、培養作業後に殺菌ガスを培養室内に供給して充満させ、培養室を含む装置内部の雑菌を除去することが可能となる。これにより、培養室内における円滑な培養作業を実現することができるようになるものである。
【００１７】
請求項２の発明によれば、上記において、殺菌ガス発生装置は、殺菌剤溶液を超音波振動子により霧化するようにしたので、加熱して霧化させる場合に比して雑菌剤を分解させることなく霧化させ、ガスとして培養室内に充満させることが可能となる。これにより、装置内部を効率的に殺菌することができるようになるものである。
【００１８】
請求項３の発明によれば、請求項１において、殺菌ガス発生装置は、殺菌剤溶液に吸水部材を浸漬することにより、当該殺菌剤溶液を蒸発させるようにしたので、構成の簡素化を図りながら効果的に殺菌ガスを発生させて装置内部を殺菌することが可能となるものである。
【００１９】
請求項４の発明によれば、請求項１乃至請求項３において、培養室内の殺菌ガス濃度を、０．１ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下とするようにしたので、装置内部を確実に殺菌することができるようになるものである。
【００２０】
請求項５の発明によれば、請求項１乃至請求項４に加えて、培養室内のガスに紫外線を照射する紫外線発生装置を備えているので、殺菌ガスによる装置内部の殺菌後、紫外線により殺菌ガスを分解し、人体に安全な濃度まで殺菌ガス濃度を迅速に低下させることが可能となる。これにより、次回の培養作業を開始するまでの待ち時間を短縮することができるようになるものである。
【００２１】
請求項６の発明によれば、請求項５に加えて、培養室内に所定時間殺菌ガスを充満させる殺菌工程と、この殺菌工程の終了後、紫外線発生装置により培養室内のガスに紫外線を照射して殺菌ガスを分解する分解工程とを実行する制御装置を備えているので、殺菌ガスを用いた装置内の殺菌から当該殺菌ガスの分解までを自動化し、作業性を著しく改善することが可能となるものである。
【００２２】
請求項７の発明によれば、請求項６において、培養室の開口を開閉自在に閉塞する扉と、この扉の開放を禁止する施錠装置とを備え、制御装置は、殺菌工程の開始から分解工程が終了するまで、施錠装置により扉の開放を禁止するようにしたので、殺菌ガスによる装置内部の殺菌後、紫外線により殺菌ガス濃度が人体に危険な値に低下する以前に誤って扉が開放される不都合を未然に防止し、安全性を確保することができるようになるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明は、培養室内の隅々まで完全に殺菌することができると共に、培養室内の殺菌開始から殺菌終了までの時間を短縮するということを最も主要な特徴とする。培養室内の隅々まで完全に殺菌することができて、殺菌開始から殺菌終了までの時間を短縮するという目的を培養室内に殺菌ガス発生装置を備えるだけの簡単な構成で実現した。
【実施例１】
【００２４】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の一実施例を示す培養装置１の構造を示す縦断側面図、図２は本発明の培養装置１を制御する制御回路のブロック図をそれぞれ示している。
【００２５】
本実施形態における培養装置１は、図１に示すように一側を開口２Ａした金属製の外箱１０と、ステンレス製の内箱１６とから断熱箱本体２を構成すると共に、内箱１６の開口２Ａには、その右側がヒンジにより断熱箱本体２に開閉自在に支持される透明な内扉１８が設けられている。内扉１８は、断熱箱本体２の開口２Ａ部分に設けられたガスケット（図示せず）によって気密的に開口２Ａを閉塞している。
【００２６】
そして、開口２Ａを開閉自在に閉塞する内扉１８で囲まれる空間（内箱１６内）に培養室４を形成している。培養室４内には複数の棚６（実施例では２段）が設けられており、この棚６で培養室４内は上下に区画されている。係る、培養室４内に収納された培養物は外扉１４と内扉１８との開閉により培養室４内へ出し入れされる。尚、棚６上には培養物が入れられる容器（図示せず）が載置される。
【００２７】
外箱１０の内側には保温のための断熱材１２が設けられると共に、内箱１６と外箱１０との間には空気或いは水の循環路２０が形成され、この循環路２０内（培養室４の下部）には加熱用のヒータ２２が配置されている。そして、この加熱用ヒータ２２が加熱されることにより、ヒータ２２の熱は内箱１６へ熱伝導と、循環路２０からの空気或いは水による熱伝達で培養室４内に伝わり、これによって培養室４内は培養に適した所定の温度に保持される。
【００２８】
また、培養室４の背面側には後壁２３が設けられており、この後壁２３と内箱１６との間にダクト２４が設けられている。このダクト２４の上部には培養室４内に連通する吸込口２６が設けられると共に、下部には吹出口２７が設けられている。また、ダクト２４内には、培養室４内の環境を制御するための空気循環用ファン２８が配設されており、このファン２８は、吸込口２６に対応した位置に設けられている。そして、ファン２８によって培養室４内の空気が吸込口２６からダクト２４内に吸い込まれ、吸い込まれた空気はダクト２４下部の吹出口２７から培養室４内に吹き出される（図１矢印）。これによって、培養室４内の空気は強制循環されるように構成している。
【００２９】
また、培養装置１には、培養室４内に供給された二酸化炭素ガス（ＣＯ2）或いは酸素（Ｏ2）などの濃度を測定するため、内部にガス濃度測定センサ３２（図２に図示）を備えたガス濃度測定装置３０が設けられると共に、培養室４内の過酸化水素水ガスを測定するための過酸化水素水測定センサ３９が設けられている。このガス濃度測定装置３０には、培養室４内（ダクト２４内）のガスをガス濃度測定センサ３２に導くため、２本の配管３４、３６が培養室４内に連通して接続されている。また、ガス濃度測定装置３０には、培養室４内のガスを吸入してガス濃度を測定した後、ダクト２４内に戻すためのファン３３（図２に図示）が接続されている。
【００３０】
即ち、ガス濃度測定センサ３２は、一方の配管３４からダクト２４内（培養室４内）のガスを吸い込み、吸い込んだガスを他方の配管３６からダクト２４内に排出することにより、培養室４内のガス濃度を検出できるように構成されている。また、培養装置１には、培養室４内のガス濃度を測定するために、ゴム栓４０で塞がれた測定孔３８が設けられている。この測定孔３８のゴム栓４０がオペレータにより着脱されることにより、培養室４内のガス濃度や成分などを調べられるように構成されている。
【００３１】
培養装置１には培養室４内に二酸化炭素ガスや酸素などの培養ガスを供給するため、図示しない二酸化炭素ガス供給装置、或いは、酸素供給装置などが配管接続されている。また、培養室４内には、過酸化水素水（本発明の殺菌剤溶液に相当）を霧化させる殺菌ガス発生装置４２が設置されている。
【００３２】
該殺菌ガス発生装置４２は、例えば培養室４内の殺菌剤溶液としての過酸化水素水を超音波により霧化してガスを発生させるもので、内箱１６の底壁上に設けられたステンレス製の容器４４（一般的にバットと称している）と、超音波振動子４６とから構成されている。尚、二酸化炭素ガス供給装置、酸素供給装置に接続された配管には開閉によりそれぞれ二酸化炭素ガス、酸素、殺菌ガスの供給量を制御する電磁弁６６（図２に図示）が設けられている。
【００３３】
容器４４は、上面を開口し、所定量の過酸化水素水を収容可能な大きさにて構成されると共に、ダクト２４の吹出口２７前側（培養室４内）近傍に設けられている。また、容器４４の底壁は循環路２０内に所定寸法陥没しており、超音波振動子４６はその陥没した容器４４内に設けられている。この容器４４内には、殺菌剤としての過酸化水素ガス（本発明の殺菌ガスに相当）が、オペレータにより所定量供給される。尚、現在良く使われている加熱式加湿器の方式で過酸化水素水を気化させた場合、過酸化水素（殺菌剤）が分解されてしまうため、本発明では培養室４の底壁の外面（循環路２０内）に超音波振動子４６を取り付けている。この超音波振動子４６は、過酸化水素を加熱することなく霧化できるものであり、超音波振動子４６が過酸化水素を低温で霧化する技術については従来より周知の技術であるため詳細な説明を省略する。
【００３４】
更に、培養装置１には、紫外線を発生する紫外線ランプ５０（本発明の紫外線発生装置に相当）が配設されており、この紫外線ランプ５０の光が照射されることによってダクト２４内を循環する殺菌ガスが分解され、無害化される。尚、紫外線ランプ５０による殺菌ガスの無害化については後で詳しく説明する。
【００３５】
そして、超音波により過酸化水素水を霧化し、ガス化して培養装置１内の殺菌を行う際、不注意で外扉１４が開かれてしまうと、培養室４内から外に殺菌ガスが漏れ出て人体に危険が生じてしまう。そこで、本発明では、過酸化水素水で培養室４内を殺菌中に外扉１４の解放を禁止する施錠装置５２を備えている。該施錠装置５２は、断熱箱本体２の上面に設けられると共に、外箱１０と外扉１４間に渡って設けられている。この施錠装置５２は、外箱１０に固定され、この状態で、外扉１４は開閉可能に構成されると共に、施錠装置５２にて外扉１４を施錠可能に構成されている。
【００３６】
他方、培養装置１には図２に示すように制御装置６０が設けられている。該制御装置６０は、例えば汎用マイクロコンピューターにて構成されると共に種々のデータを記憶可能な記憶部（メモリ）やタイマなどを備えている。制御装置６０には、図示しない電源スイッチや殺菌開始スイッチなどの操作スイッチ６２、ガス濃度測定装置３０内に設けられたガス濃度測定センサ３２、培養室４内の温度を検出する温度センサ６４、及び、過酸化水素水測定センサ３９などが接続されている。
【００３７】
該制御装置６０には、二酸化炭素ガス供給装置、或いは、酸素供給装置などの配管に設けられた複数の電磁弁６６、循環空気殺菌用の紫外線ランプ５０、培養室４内の環境を制御するための空気循環用ファン２８などが接続されている。更に、制御装置６０には培養室４内を好適な培養温度に加熱する加熱用のヒータ２２、過酸化水素水を霧化する超音波振動子４６、外扉１４の解放を禁止する施錠装置５２などが接続されている。
【００３８】
また、制御装置６０には、培養室４内を殺菌する殺菌工程と、殺菌工程の終了後に紫外線ランプ５０により培養室４内の殺菌ガスを分解する分解工程のプログラムを有しており、これらはマイクロコンピューターのメモリに記憶格納されて実行されるように構成されている。
【００３９】
以上の構成で次に、培養装置１の動作を説明する。尚、本実施例では特に培養装置１の殺菌工程と分解工程について説明を行う。培養装置１の殺菌工程は、オペレータにより操作スイッチ６２（殺菌開始スイッチ）が押されると、制御装置６０は施錠装置５２を駆動して外扉１４を施錠すると共に、ファン２８を駆動する。これによって、培養室４内の空気は、吸込口２６からダクト２４内に吸い込まれ、ダクト２４の下部から培養室４内に吹き出されて培養室４内を循環する（図１矢印）。
【００４０】
また、制御装置６０は、配管に設けられた電磁弁６６を開き、ファン３３を運転する。更に、制御装置６０はヒータ２２を発熱させ、温度センサ６４にて収納室４内の温度を検出し、所定の温度（この場合、培養温度）に保持する。尚、制御装置６０は、分解工程終了後に自動的にヒータ２２の発熱を遮断する。
【００４１】
次に、制御装置６０は、予め設定されたタイマにより所定時間超音波振動子４６を駆動し、容器４４内の過酸化水素水を霧化して培養室４４内に飛散させる。該培養室４４内は、ヒータ２２により所定温度に加熱されているので、霧化して培養室４内に飛散した過酸化水素水は、短時間で蒸発して過酸化水素ガスとなり、培養室４４内に充満する。このとき容器４４内には所定量の過酸化水素水が入れてあるので、培養室４内は０．１ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下の過酸化水素ガス濃度となる。尚、容器４４内には、培養室４内の過酸化水素ガス濃度が０．１ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下になるように予め実験で求められた量が入れられる。
【００４２】
係る培養室４内は、ファン２８により循環する過酸化水素ガスにて殺菌されると共に、運転するファン３３によってダクト２４内のガスは配管３４からガス濃度測定装置３０内に吸入された後、配管３６からダクト２４内に戻される。これによって、培養室４内の隅々及びガス濃度測定装置３０内と両配管３４、３６内が殺菌されると共に、培養室４を含む培養装置１内部全てを殺菌することができるので、培養装置１内部を効率的に殺菌することができる。
【００４３】
また、容器４４内に供給され貯留された過酸化水素水を霧化させてから気化させているので、培養装置１内部を確実、且つ、効率的に殺菌することができる。尚、過酸化水素水を霧化する超音波振動子４６は、加熱して蒸発させるものではないので、加熱して霧化させる場合に比して雑菌剤を分解させることなく霧化させることができる。
【００４４】
そして、制御装置６０は、殺菌工程を所定時間実行した後、超音波振動子４６を停止し、代わりにダクト２４内に設けられた紫外線ランプ５０を点灯させて分解工程に移行する。これらの殺菌工程と分解工程を制御装置６０は、自動的にシーケンシャルで実行している。また、分解工程で制御装置６０は、ファン２８、３３などを運転すると共に、紫外線ランプ５０を点灯させているので、培養装置１内部の過酸化水素ガスは紫外線ランプ５０に循環され、この紫外線の照射によって分解される。この過酸化水素の分解反応は、Ｈ2Ｏ2→ＯＨラジカル→Ｈ2Ｏとなって、最終的には水になり無害化される。
【００４５】
係る制御装置６０は、過酸化水素水測定センサ３９が検出する培養室４内の過酸化水素ガスの濃度が人体に安全な値に低下するまで、紫外線ランプ５０の紫外線による過酸化水素ガスの分解工程を実行する。これにより、培養装置１内部の過酸化水素ガス濃度を人体に安全な値まで迅速に低下させることができるので、次回の培養作業を開始するまでの待ち時間を大幅に短縮することができるようになる。
【００４６】
また、制御装置６０は、分解工程が終了すると施錠装置５２を駆動して外扉１４の施錠を解除する。この場合、培養室４内の過酸化水素ガス（殺菌ガス）を紫外線で強制的に分解することで、自然分解に任せる場合に比して次回の培養作業までの待ち時間を大幅に短縮することができる。これにより、培養作業前、又は、培養作業後に培養室４を含む装置内部の雑菌を除去することが可能となり、培養室４内における円滑な培養作業を実現することができるようになる。
【００４７】
また、制御装置６０は、培養装置１内の殺菌工程の開始から分解工程が終了するまでの間、施錠装置５２により外扉１４の開放を禁止するようにしている。これにより、殺菌ガスによる培養装置１内部の殺菌後、紫外線により殺菌ガス濃度が人体に危険な値に低下する以前に、誤って外扉１４が開放される不都合を未然に防止することができる。これにより、殺菌ガスで培養室４内の殺菌を行った場合にも、培養装置１の大幅な安全性を確保することが可能となる。
【実施例２】
【００４８】
次に、図３には本発明の他の実施例の培養装置１を示している。該培養装置１は、前述の実施例と略同じ構成を有している。以下、異なる部分について説明する。尚、前述の実施例と同じ部分にはこれと同じ符号を付し、説明を省略する。培養装置１は、図３に示すように実施例１の殺菌ガス発生装置４２を、超音波振動子４６から吸水部材５６に換え、この吸水部材５６を過酸化水素水に浸漬することにより、当該過酸化水素水を蒸発させるようにしている。
【００４９】
即ち、殺菌ガス発生装置４２には、底壁が平面の容器４４内に立設された吸水部材５６が設けられている。この吸水部材５６は、周囲にステンレス、或いは、合成樹脂などの枠（図示せず）が設けられており、この枠内に過酸化水素水を毛管現象で吸い上げることが可能な、所定の広い面積の不織布などが固定されている。
【００５０】
詳しくは、容器４４が前述同様吹出口２７前側（培養室４内）近傍に設けられると共に、容器４４の底壁に吸水部材５６が取り付けられた枠が立設固定されている。これにより、ダクト２４の吹出口２７から吹き出された空気が、吸水部材５６に直接当たって、吸水部材５６から過酸化水素水が蒸発して、培養室４内を好適に殺菌できるように構成されている。また、培養室４内の過酸化水素ガス濃度は、培養室４内に過酸化水素ガス測定用の試験紙を入れ、その試験紙にて過酸化水素ガスの濃度が測定される。
【００５１】
このように、殺菌ガス発生装置４２は、吸水部材５６を過酸化水素水に浸漬し、制御装置６０にてタイマにより所定時間循環空気を吸水部材５６に当てている。これにより、過酸化水素水を蒸発させて培養室４内に充満させている。従って、殺菌ガスを効果的に発生させ培養装置１内部を殺菌することが可能となる。特に、吸水部材５６を、過酸化水素水を入れた容器４４内に立設しているだけなので、殺菌ガス発生装置４２の大幅な簡素化を図ることができる。
【００５２】
尚、各実施例では殺菌ガス発生装置４２を培養装置１の培養室４内に設けたが、殺菌ガス発生装置４２は培養室４内に限らず、培養装置１の外側に設けられていても良い。また、殺菌剤として過酸化水素を用いたが、殺菌剤は過酸化水素に限らずそれ以外のものでも差し支えない。
【００５３】
また、勿論本発明は、上記各実施例のみに限定されるものではなく、この発明の範囲を逸脱することなく他の様々な変更を行っても本発明は有効である。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の一実施例を示す培養装置の構造を示す縦断側面図である（実施例１）。
【図２】本発明の培養装置を制御する制御回路のブロック図である。
【図３】本発明の他の一実施例を示す培養装置の構造を示す縦断側面図である（実施例２）。
【図４】従来の培養装置の構造を示す縦断側面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１  培養装置
２  断熱箱本体
４  培養室
１０  外箱
１４  外扉
１６  内箱
１８  内扉
２０  循環路
２４  ダクト
２８  ファン
３０  ガス濃度測定装置
３２  ガス濃度測定センサ
３３  ファン
４２  殺菌ガス発生装置
４４  容器
４６  超音波振動子
５０  紫外線ランプ
５２  施錠装置
５６  吸水部材
６０  制御装置
６２  操作スイッチ
６４  温度センサ
６６  電磁弁
【図１】
2007259715.tif 000003
【図２】
2007259715.tif 000004
【図３】
2007259715.tif 000005
【図４】
2007259715.tif 000006