(57)【要約】【課題】  セルロースパルプ製造の連続蒸解釜底部における冷却、希釈と洗浄の少なくとも１つのための改良設計を提供する。【解決手段】  最下位ストレーナ部上方に少なくとも１つのエキストラ・ストレーナ部（３０）を配置し、エキストラ・ストレーナ部と最下位ストレーナ部との間に洗浄流体又は希釈流体を添加することによって、チップカラムの流れを妨げずに、蒸解釜底部においてより多量の洗浄流体を添加することができ、これにより、製造能力の増加、チップカラムの流れの改良、あるいは蒸解釜底部における優れた冷却、洗浄及び希釈を保持しながらこれらの効果の組合せる。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
木材チップが蒸解釜の頂部の入口を介して連続的に供給され、蒸解されたセルロースパルプが蒸解釜底部の出口（１０）から連続的に排出される、セルロースパルプの連続蒸解に用いる蒸解釜への流体の添加又は抜き出し装置であって、前記蒸解釜内に、少なくとも１つのストレーナ部（２）を配置し、前記ストレーナ部は、消費蒸解流体の抜き出しのために円周方向に前記蒸解釜壁内のストレーナ部内に配置したストレーナ面（２２ａ、２２ｂ、２２ｃ）を備えた前記蒸解釜底部に結合され、希釈流体又は洗浄流体の添加用のノズル（４Ｖ、４Ｈ、４Ｓｃ）が、最下位ストレーナ部（２）の下部であって前記最下位ストレーナ部（２）と前記蒸解釜底部に配置された前記出口（１０）との間に配置され、
消費蒸解流体の抜き出し用の少なくとも１つのエキストラ・ストレーナ部（３０、３０ａ、３０ｂ）が、前記最下位ストレーナ部（２）上方に、前記最下位ストレーナ部（２）の最上部と前記エキストラ・ストレーナ部（３０、３０ａ、３０ｂ）の最下部との間に一定距離を置いて配置され、希釈流体又は洗浄流体の添加用の多数の添加位置（３４）が、前記最下位ストレーナ部の最上部と前記エキストラ・ストレーナ部の最下部との間に前記蒸解釜の円周周りに分配配置され、前記添加位置にポンプによって流体が供給され、流体がこれらの添加位置の出口を介してパルプカラム内に連続して添加されることを特徴とする前記装置。
【請求項２】
前記添加位置が、その開口部がパルプカラムに向けられる多数の添加用のエキストラ・ノズル（３４）によって構成され、前記蒸解釜の円周方向に配置されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記添加位置が、前記蒸解釜の円周方向に走る連続開口スリットによって構成されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記最下位ストレーナ部の最上部と前記エキストラ・ストレーナ部の最下部との間の距離（部分３１）が、前記蒸解釜底部の直径より小さいことを特徴とする請求項２又は３に記載の装置。
【請求項５】
前記最下位ストレーナ部の最上部と前記エキストラ・ストレーナ部の最下部との間の距離（部分３１）が２メートル未満、好適には１メートル未満であることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記エキストラ・ノズル（３４）は、それらの開口部が、前記最下位ストレーナ部（２）の最上部と前記エキストラ・ストレーナ部（３０、３０ａ、３０ｂ）の最下部との間で前記蒸解釜壁内に開口するように構成されていることを特徴とする請求項４又は５に記載の装置。
【請求項７】
前記最下位ストレーナ部のストレーナ面（２２ａ、２２ｂ、２２ｃ）、前記エキストラ・ストレーナ部のストレーナ面（２３，２３ａ、２３ｂ）、及び前記エキストラ・ノズル（３４）の開口部が、すべて前記蒸解釜壁内の基本的に同じ直径に位置決め、配置されることを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記最下位ストレーナ部のストレーナ面（２２ａ、２２ｂ、２２ｃ）及び前記エキストラ・ノズル（３４）の開口部が、ともに前記蒸解釜壁内の基本的に同じ直径に位置決め、配置され、前記エキストラ・ストレーナ部のストレーナ面（２３，２３ａ、２３ｂ）が、それよりも小さい直径にある前記蒸解釜の内部壁部内に位置決め、配置されることを特徴とする請求項４又は５に記載の装置。
【請求項９】
前記エキストラ・ノズル（３４）が、前記蒸解釜の円周周りに均等に分配され、円周方向の隣接するエキストラ・ノズル間の距離が３メートルを越えない、好適には２メートルを越えないような数だけ存在することを特徴とする請求項７又は８に記載の装置。
【請求項１０】
前記下位ストレーナ部が、少なくとも１列のストレーナ、好適には少なくとも２列のストレーナ（３ａ、３ｂ）で構成され、ストレーナの各列が、前記蒸解釜の円周周りに一方向に配置されたストレーナ板又はストレーナロッドで形成されたストレーナ面（２２ａ、２２ｂ、２２ｃ）から成り、ストレーナの各列内のストレーナを介して抜き出される蒸解流体のために、ストレーナのこの列に収集チャネル（２０）が配置され、各収集チャネルは抜き出された蒸解流体除去用の少なくとも１つの排出装置（２１）を有することを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記エキストラ・ストレーナ部（３０、３０ａ、３０ｂ）が、少なくとも１列のストレーナによって構成され、ストレーナの各列は、前記蒸解釜の円周周りに一方向に配置されたストレーナ板又はストレーナロッドで形成されたストレーナ面（２２ａ、２２ｂ、２２ｃ）と、ストレーナの各列内のストレーナを介して抜き出された蒸解流体のために、ストレーナのこの列に配置された収集チャネル（３９、３９ａ、３９ｂ）とから成り、各収集チャネルが、抜き出された蒸解流体用の少なくとも１つの排出装置（３５、３５ａ、３５ｂ、３６、３６ａ、３６ｂ）を有することを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記エキストラ・ストレーナ部（３０、３０ａ、３０ｂ）が、数個のストレーナ・セクタ（２３ａ、２３ｂ）を備えた少なくとも１列のストレーナから成り、前記ストレーナ・セクタが、その間にストレーナ面を持たない壁部（２３ｃ、２３ｄ）を有することを特徴とする請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記エキストラ・ストレーナ部（３０ａ、３０ｂ）内のストレーナ・セクタ（２３ａ、２３ｂ）が円形で、マンホール・ストレーナとして周知のタイプであることを特徴とする請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記エキストラ・ストレーナ部（３０）内のストレーナ・セクタが、正方形であり、前記蒸解釜の円周周りにチェスボードパターン（千鳥格子状スクリーンとして周知のパターン）を形成するように配置されることを特徴とする請求項１３に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は請求項１の前文に記載のセルロースパルプ製造の連続蒸解釜における流体の冷却、洗浄及び交換の改良に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１は連続蒸解釜下部の典型的設計を示している。下位ストレーナ部２はこの蒸解釜内に存し、そこから消費された蒸解流体が蒸解釜内のパルプカラムから抜き出される。希釈流体又は洗浄流体ＷＬは、垂直４Ｖ又は水平４Ｈ方向の希釈流体ノズル又は洗浄流体ノズルを介して蒸解釜底部内に導入される。一定量の希釈流体又は洗浄流体を回転底部スクレーパのアーム内のノズル４Ｓｃを介して、あるいは蒸解釜内のパルプカラムの中心で開口している通常の中心パイプ４Ｃを介して添加することもできる。
【０００３】
図１に示した先行技術の設計において、１つ又は複数列のストレーナ３ａ／３ｂが実ストレーナ部を形成し、ストレーナの各列はストレーナ面２２ａ／２２ｂと各ストレーナ面に配置された抜き出し領域２０，及びそこから消費蒸解流体が回収システムに導かれる抜き出し領域下の収集チャンバ２１を備え、この流れをＲＥＣで示した。収集チャンバ１２は周知の「外部ヘッダ（external header）」内の蒸解釜シェルの外側に配置することもできる。
【０００４】
蒸解釜の製造能力を増大しようとするとき、すなわち１日あたりの蒸解パルプのトン数を増加させようとするとき、チップとパルプカラムが蒸解釜内を下降していく速度を増加し、同時にストレーナ部からより多量の消費蒸解流体とより多量の添加希釈流体又は洗浄流体を抜き出す必要がある。
【０００５】
その結果、チップとパルプカラムの下降傾向に拮抗して底部にできた流体の上昇流から揚力が発生し、パルプカラムが容易に固着して、蒸解釜底部からの排出が困難になり、ときには完全に停止することさえある。
【０００６】
蒸解パルプのトンあたりの一定程度の希釈と洗浄を維持することを目的として、製造能力の増加に比例して、底部に配置されたノズル４Ｖ/４Ｈ/４Ｓｃ/４Ｃでの単位時間あたり添加する希釈流体又は洗浄流体の量を増加させることで、チップとパルプカラムに対する上昇揚力が製造能力の増加に比例して確実に増大する。
【０００７】
このように、抜き出し部２と希釈流体又は洗浄流体の添加を伴う従来の設計の底部を備えた各蒸解釜については製造能力の上限がある。
【０００８】
連続蒸解釜の他のタイプのストレーナ設計も既知であるが、それらは特定の理由のために実施されたものであり、それらが解決するのは全く別の問題である。
【０００９】
米国特許第５，２３６，５５４号では、代替としてチップカラムの周囲の蒸解釜壁の外周に配置された４つのセクタのうちの１つの中に化学薬品を濃縮した新しい蒸解流体を添加し、反対側のセクタから蒸解流体を抜き出すことが所望されるストレーナ設計を明らかにしている。これら４つのセクタの特定の添加セクタ及び特定の抜き出しセクタは経時的に変化して、径方向温度勾配を低減し、チップカラムの全断面にわたってチップの均一な蒸解が得られる。添加セクタはストレーナ面に隣接する壁部として設計し、ノズルをこれらの壁部内に配置することができる。
【００１０】
この技術は、蒸解釜の高い位置での実施が最適である。この位置は、内部循環とアルカリプロフィールの調整をすることが望ましく、どの時点においても蒸解釜の円周方向に見られるストレーナ面の２５％しか抜き出しストレーナとして積極的に活用されないという欠点がある。そうではなくて、主として、過負荷蒸解釜内の底部ストレーナ部の場合のように、ストレーナに全蒸解釜にわたるきわめて大きな要求（すなわち、ストレーナ単位面積あたりの多量の抜き出し蒸解流体）が課される抜き出し部には、この技術は適していない。
【００１１】
このように米国特許第５，２３６，５５４号に開示しているのは、中心パイプを介して化学薬品を濃縮した新しい蒸解流体を添加し、蒸解釜壁内のストレーナから消費蒸解流体を抜き出すだけのものとは全く異なり、この技術はパルプカラムの中心のチップだけが新鮮な蒸解流体に曝され、蒸解釜壁にそったパルプカラム内のチップは曝された蒸解流体にだけ曝される。蒸解釜壁の周囲の添加と抜き出しがクロスされ、あるいは添加と抜き出しを交互に行う技術は、スエーデン国特許第１４５，２５７号（１９５２年）にも開示されている。
【００１２】
米国特許第６，１２３，８０８号には蒸解釜底部での希釈流体又は洗浄流体添加の別の変形が記載されている。円周にわたる分散ストレーナ領域は、この場合、添加された希釈流体又は洗浄流体の分配器として用いられ、この分散ストレーナ領域は最下位抜き出しストレーナの真下に配置されている。ここでの目的は、局部の希釈流体ノズル又は洗浄流体ノズルによって達成できる分配とは全く異なる仕方で、蒸解釜の全周にわたって希釈流体又は洗浄流体のより均一な分配を得ることである。この解決法の重要な側面は、当該の分散ストレーナ領域がその上方に位置決めされた抜き出しストレーナのストレーナ領域の直径よりも大きな直径でなければならないことである。この設計の欠点は、分散ストレーナ領域を介して添加された希釈流体又は洗浄流体からパルプカラム内への流体注入圧力がきわめて低くなることである。添加された希釈流体又は洗浄流体が、実際にはパルプカラム内の有意量のパルプ又はチップを全く通過しないで、分散ストレーナ領域上方にあるストレーナに直接抜き取られるおそれもある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の主たる目的は、連続蒸解釜内の主として蒸解釜底部における冷却、希釈と洗浄を改善することにある。
【００１４】
第２の目的は、希釈流体又は洗浄流体の効果を基本的に一定に維持しながら、製造能力の増加に比例して蒸解釜底部に添加された希釈流体又は洗浄流体の量が増加したときに、蒸解釜内のチップカラムの流れに伴う問題なしに既存の蒸解釜の製造能力の増加を可能にすることにある。
【００１５】
さらに別の目的は、底部洗浄中のチップカラムに対する揚力を低減することにある。底部に添加された流体からの上昇流は、蒸解釜の同一断面に形成される数層の上昇流ではなく、互いの上面に数層の上昇流が作られることで低減することができる。
【００１６】
さらに別の目的は、蒸解釜の中心パイプの改造を必要とせずに蒸解釜の下部にさらにもう１つの洗浄ゾーンを成立させることができることにある。中心パイプは別個に常に従来の様式で使用され、蒸解釜の最下部に位置するストレーナ列上方における蒸解釜の循環を付加させる。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は、請求項１に記載の特徴によってより詳細に特徴付けられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の概念、好適実施形態及びその変形の概念は添付図面を参照して説明する。
図２は本発明の第1実施形態を示し、底部設計がセルロースパルプの連続蒸解に用いられる蒸解釜への流体の添加又は抜き出しの装置を備えている。木材チップは蒸解釜の頂部の入口（図示せず）を介して連続的に供給され、蒸解されたセルロースパルプは蒸解釜底部の出口１０を介して連続的に排出される。少なくとも１つのストレーナ部２が蒸解釜内に配置され、消費蒸解流体の抜き出しのために蒸解釜壁の円周方向に配置されたストレーナ部内に配置されたストレーナ面２２ｃ（また同様に図１の２２ａ、２２ｂ）を備えた蒸解釜底部に結合させる。希釈流体又は洗浄流体の添加用のノズル４Ｖ、４Ｈ、４Ｓｃは最下位ストレーナ部２の下部であって最下位ストレーナ部２と蒸解釜底部に配置された出口１０との間に配置されている。多数の垂直方向ノズル４Ｖは円周周りに均一に分配され、蒸解釜の曲面底端壁内に通常は位置付けられる。それらの垂直方向ノズル４Ｖの数は、直径８メートルの蒸解釜内で、典型的には１０−３０以上にしてもよい。
【００１９】
垂直ノズル４Ｖには、曲面底壁の真上だがストレーナの最下列の下部の蒸解釜壁内に開口している水平方向に向けられた多数の希釈ノズル４Ｈが追加される。典型的にこれらのノズルの数は、直径８メートルの蒸解釜内で１０−３０にしてもよい。
【００２０】
希釈流体又は洗浄流体の添加は、一部の蒸解釜では回転底部スクレーパを介し、底部スクレーパ内に配置されたノズル４Ｓｃを通しても行われる。図面に各アーム上に１つの出口が図示されているが、これらの出口の数個は、底部スクレーパの中心から底部スクレーパのアームの外端まで底部スクレーパのアーム全体に設けてもよい。蒸解釜底部のこれらの希釈ノズルに加えて、ストレーナ２の最下列の高さに位置決めされた中央パイプからの出口もあり、これはこの列のストレーナの真上にあることが多い。この中央パイプからの流れは蒸解釜底部で希釈又は洗浄プロセスに役立つ。図２は、チェスボードの正方形パターン、「千鳥格子状スクリーン」として知られているパターンで位置付けされたストレーナ面２２ｃによって構成されるストレーナ部を図示している。ストレーナ３ａ、３ｂの各列内のこれらのストレーナ面は、各ストレーナ面の間に盲板２２ｄを有し、この盲板２２ｄの表面積は周囲のストレーナ面２ｃの表面積に基本的に一致する。これらのタイプのストレーナ列は複数列のストレーナ列を備えるストレーナ部内に通常は位置付けされ、１つのストレーナ列上方又は下方にあるストレーナ列は、チェスボードパターンが形成されるように、ずらして配置されたストレーナ面を有する。この設計が選択されるのは、ストレーナ部のコストを抑えると同時に、高い抜き出し能力が所望される場合が多い。なぜならこのような場合、各ストレーナ面２２ｃは盲板に隣接して位置付けされた部分でもチップカラムを抜き取る能力を有するからである。すなわち、ストレーナ面は円周方向のチップカラムを多量に、円周方向の隣接盲板の半分の範囲に抜き取るからである。本発明は、もちろん、ストレーナの各列が円周方向に走る連続ストレーナ面によって構成される図１に示したタイプのストレーナ部にも使用できる。本明細書内の全てのストレーナ面は「ロッド・ストレーナ」と呼ばれるもので構成してもよい、あるいはスリット付きの簡素な板としてもよい。
【００２１】
少なくとも１つのエキストラ・ストレーナ部３０が、最下位ストレーナ部２の最上部とエキストラ・ストレーナ部３０の最下部との間に一定距離をおいて、最下位ストレーナ部２上方に、本発明による消費蒸解流体の抜き出しのために配置される。さらに、多数のエキストラ・ノズル３４が、最下位ストレーナ部２の最上部とエキストラ・ストレーナ部３０の最下部との間で、蒸解釜の円周周りに分配された希釈流体又は洗浄流体の添加のために配置される。エキストラ・ノズルはポンプによって流体３３が供給され、流体はこれらのノズル３４の出口を介してパルプカラム内に連続して添加される。
【００２２】
最下位ストレーナ部２の最上部とエキストラ・ストレーナ部３０の最下部との間の距離は図２に示す距離３１であり、これはエキストラ・ノズル３４が配置された盲板の小さい部分に対応し、この距離は蒸解釜の底部直径より小さい。この距離は典型的には０−８メートルの間隔内である。この距離がゼロである変形においては、ノズルが最下位ストレーナ部２の最上部とエキストラ・ストレーナ部３０の最下部との接触面に位置付けされることを意味する。
【００２３】
１つの有利な実施形態において、最下位ストレーナ部２の最上部とエキストラ・ストレーナ部３０の最下部との間の距離は、エキストラ・ストレーナ部３０の高さよりかなり小さく、その距離は２メートル未満であり、好適には１メートル未満である。エキストラ・ストレーナ部をつくることができる標準のストレーナ列は、１日当たり１，５００−３，０００トンの製造能力を有する蒸解釜内では、通常１．５メールから２メールの間の高さを有する。
【００２４】
洗浄及び希釈ゾーン上方に位置する蒸解ゾーンへの侵入度を最小にするこの方法で、蒸解釜の洗浄及び希釈ゾーンを小さく改造できる。しかしながら、蒸解工程への移行が同時に行われる場合、十分に長い蒸解ゾーンを保持しながらも、この距離は場合によっては増大させることができる。これが適用できるのは、主に長い「ハイヒート」洗浄として周知の洗浄が蒸解釜底部で行われる蒸解釜であり、その場合その工程は移行して、元のハイヒートゾーンの一部が蒸解ゾーンとして用いられる。このゾーンは蒸解釜内、ハイヒート洗浄を伴う古い蒸解釜内でのチップの全滞留時間の３０％以上に対応してもよい。
【００２５】
図３と図４は、エキストラ・ノズル３４と抜き出し空間３０を備えた設計をより詳細に示している。エキストラ・ノズル３４は、それらの開口部が最下位ストレーナ部２の最上部とエキストラ・ストレーナ部３０の最下部との間で、蒸解釜壁４０内にその出口を有するように位置付け、配置されている。各エキストラ・ノズル３４は、蒸解釜の周囲を走る共通分配チャネル３８から希釈流体又は洗浄流体を接続パイプ３７によって供給され、共通分配チャネル３８はその一周にわたって、図４に概略的に示したポンプによって希釈流体又は洗浄流体を供給される。
【００２６】
好適には最下位ストレーナ部２のストレーナ面、エキストラ・ストレーナ部３０のストレーナ面、及びエキストラ・ノズル３４の開口部は、蒸解釜壁内の基本的に同じ直径にすべて配置され、後付けされたマンホール・ストレーナが使用されている場合にはそれが通常当てはまる。
【００２７】
あるいは、エキストラ・ストレーナを、上部ストレーナ部から下方に延長している壁部を構成する内部蒸解釜壁内に取り付けてもよい、これは最下位ストレーナ部２のストレーナ面とエキストラ・ノズル３４の開口部がともに蒸解釜壁内の基本的に同じ直径に配置され、エキストラ・ストレーナ部３０のストレーナ面が下方に延長されたこの壁部内のより小さな直径に位置付けることを意味する。
【００２８】
添加用エキストラ・ノズル３４は蒸解釜の円周周りに均等に分配され、円周周りに、隣接するエキストラ・ノズル間の距離が３メートル未満、好適には２メートル未満になるような数だけ存在する。
【００２９】
ノズルは集中噴流をパルプカラム内に送る開口部を有することが適切であるが、円周方向に長円形の開口部又はスリットを有してもよい。エキストラ・ストレーナ部と下位ストレーナ部との間でより多量の流体の添加を達成することが望ましい１つの極端な変形において、流体添加は、円周周りに基本的に単一の連続スリットを介しても行われる。パルプカラム内への最良の透過効果を得るためには、ノズル開口部のスリットが、パルプカラムへの流体の高い注入速度を成立させる制御加圧滴下を受けることが有利である。
【００３０】
下位ストレーナ部２は図２に示したように、少なくとも１列のストレーナ、好適には少なくとも２列のストレーナで構成され、ストレーナの各列３ａ、３ｂは蒸解釜周囲の円周方向に配置されたストレーナ板又はロッド・ストレーナから成る。ストレーナの各列３ａ、３ｂ内のストレーナを介して抜き出された蒸解流体のために、このストレーナの各列に収集チャネル２０が配置され、各収集チャネルは抜き出された蒸解流体の除去のために少なくとも１つの排出装置２１を有する。
【００３１】
エキストラ・ストレーナ部３０は少なくとも１列のストレーナ２３によって構成され、ストレーナの各列は蒸解釜周囲の円周方向に配置されたストレーナ板又はロッド・ストレーナから成る。ストレーナの各列内のストレーナを介して抜き出された蒸解流体のために、このストレーナの各列に収集チャネル３９が配置され、各収集チャネルは抜き出された蒸解流体の除去のために少なくとも１つの排出装置３５、３６を有する。
【００３２】
またエキストラ・ストレーナ部２３は、いくつものストレーナ部２３ｂを備えた少なくとも１列のストレーナ２３によって構成してもよく、ストレーナ・セクタはストレーナ面を持たない盲板２３ｄの形の壁部をそのセクタ間に有する。図５に示した変形において、ストレーナ・セクタは円形で、マンホール・ストレーナとして周知のタイプであり、２列３０ａ、３０ｂに配列されている。エキストラ・ストレーナ部２３もストレーナ列３ａ、３ｂとして図２に示した、蒸解釜の円周周りにチェスボードを形成するパターンに配置された（千鳥格子状スクリーンとして周知の配置）タイプの正方形のストレーナ・セクタで構成することもできる。
【００３３】
本発明は特許請求の範囲内で多くの変更が可能である。エキストラ・ストレーナ部３０及びノズル部３１を何部も、例えば、互いに上下に位置付けし、蒸解釜底部のさまざまな高さにおいて、さまざまな希釈流体添加の位置を得ることができる。
【００３４】
エキストラ・ノズル部も図２に示した変形において、ストレーナ３０のエキストラ列上方に位置付けることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】連続蒸解釜底部に希釈流体を追加した底部ストレーナの従来設計を示す図。
【図２】既存の底部ストレーナの真上にエキストラ・ストレーナ列を配置した本発明の第１実施形態を示す図。
【図３】図２の設計の拡大図。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ断面図。
【図５】既存の底部ストレーナの真上に配置した２列のエキストラ・ストレーナ列を備えた代替実施形態を示し、これらのエキストラ・ストレーナ列は、「マンホール・ストレーナ」として知られるタイプの円形ストレーナにより構成されている図。
【符号の説明】
【００３６】
２  ：ストレーナ部
１０：蒸解釜底部の出口
２２ａ、２２ｂ、２２ｃ：ストレーナ面
４Ｖ、４Ｈ、４Ｓｃ：希釈流体又は洗浄流体の添加用のノズル
３０、３０ａ、３０ｂ：エキストラ・ストレーナ部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【外国語明細書】
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