(57)【要約】【課題】  一対の発磁ユニットを容易にステージの凹部に取り付けられるステージ製造方法を提供する。【解決手段】  凹部内に一対の発磁ユニット３１ａ、３１ｂが所定の隙間をあけて対向して固定される。一対の発磁ユニット３１ａ、３１ｂの間にスペーサ９０を介装するステップと、スペーサ９０が介装された一対の発磁ユニット３１ａ、３１ｂを凹部内に挿入するステップと、一対の発磁ユニット３１ａ、３１ｂをそれぞれステージに固定するステップと、スペーサ９０を一対の発磁ユニット３１ａ、３１ｂ間から離脱させるステップと、を有する。【選択図】      図３
2007053825.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹部内に一対の発磁ユニットが所定の隙間をあけて対向して固定されるステージの製造方法であって、
前記一対の発磁ユニットの間にスペーサを介装するステップと、
前記スペーサが介装された前記一対の発磁ユニットを前記凹部内に挿入するステップと、
前記一対の発磁ユニットをそれぞれ前記ステージに固定するステップと、
前記スペーサを前記一対の発磁ユニット間から離脱させるステップと、
を有することを特徴とするステージ製造方法。
【請求項２】
請求項１記載のステージ製造方法において、
前記一対の発磁ユニットは、前記スペーサと前記対向方向については移動自在に位置決めされた状態でそれぞれ前記ステージに固定されることを特徴とするステージ製造方法。
【請求項３】
請求項１または２記載のステージ製造方法において、
前記スペーサは、前記対向方向で分割された複数の分割体で構成され、
前記複数の分割体の一つを前記一対の発磁ユニット間から離脱させるステップと、
他の前記分割体を前記一対の発磁ユニット間から離脱させるステップとを有することを特徴とするステージ製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載のステージ製造方法において、
同一側からの操作により前記一対の発磁ユニットをそれぞれ前記ステージに固定することを特徴とするステージ製造方法。
【請求項５】
請求項４記載のステージ製造方法において、
前記一対の発磁ユニットのそれぞれと、前記ステージとの固定位置は、前記対向方向の同一軸線上に配置されることを特徴とするステージ製造方法。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載のステージ製造方法において、
前記スペーサは、前記所定の隙間とほぼ同一の隙間を形成するように介装されることを特徴とするステージ製造方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載のステージ製造方法において、
前記一対の発磁ユニットは、前記ステージを駆動する駆動装置を構成することを特徴とするステージ製造方法。
【請求項８】
ステージを有する露光装置の製造方法であって、
前記ステージを請求項１から７のいずれか一項に記載されたステージ製造方法により製造することを特徴とする露光装置製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ製造方法及び露光装置製造方法に関し、例えば、一対の発磁体を有するステージを製造する際に用いて好適なステージ製造方法及び露光装置製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体素子や液晶表示素子等の製造に使用される露光装置では、マスク（レチクル等）が載置されるレチクルステージや感光性の基板（ウエハ、ガラスプレート等）が載置されるウエハステージの駆動装置として、非接触で駆動できるリニアモータが多く使用されている。
この種のリニアモータは、一群のコイル体と、このコイル体を上下から挟む永久磁石（発磁体）の列とを有する構造体からなり、永久磁石はそれぞれを保持するとともに永久磁石からの磁束が通る磁路を形成する目的で磁性体のヨークに接着等で固定されている。そして、永久磁石が発生する磁場内に位置するコイル体に通電することにより、ローレンツ力で駆動力（推力）を得る構成となっている。
【０００３】
従来、この種のリニアモータでは、ウエハステージに設けられた凹部の内周に、一対の永久磁石を可動子として互いに隙間をあけて対向配置し、電機子を有する固定子をこれら一対の永久磁石間の隙間に配する構成が、特許文献１に一例として開示されている。
【特許文献１】国際公開第２００２／０８０１８５号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
一対の永久磁石同士の磁着力は、非常に大きいため、この磁着力に抗して各永久磁石をウエハステージに固定する作業は非常に手間がかかるという問題点があった。特に、ウエハステージの凹部の内周に永久磁石を固定する場合には、作業スペースが狭いため、より煩雑な作業となってしまう。
しかも、一対の永久磁石同士は、互いの位置関係を確保した状態でウエハステージに取り付ける必要があるため、上述した磁着力に抗してさらに永久磁石を位置決めしなければならず、作業の繁雑化が増すことになる。
【０００５】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、一対の発磁ユニットを容易にステージの凹部に取り付けられるステージ製造方法及び露光装置製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために本発明は、実施の形態を示す図１ないし図１１に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明のステージ製造方法は、凹部（３０ａ及び３０ｂ）内に一対の発磁ユニット（３１ａ、３１ｂ及び３２ａ、３２ｂ）が所定の隙間をあけて対向して固定されるステージの製造方法であって、一対の発磁ユニット（３１ａ、３１ｂ及び３２ａ、３２ｂ）の間にスペーサ（９０及び９５）を介装するステップと、スペーサ（９０及び９５）が介装された一対の発磁ユニット（３１ａ、３１ｂ及び３２ａ、３２ｂ）を凹部（３０ａ及び３０ｂ）内に挿入するステップと、一対の発磁ユニット（３１ａ、３１ｂ及び３２ａ、３２ｂ）をそれぞれステージ（２６）に固定するステップと、スペーサ（９０及び９５）を一対の発磁ユニット（３１ａ、３１ｂ及び３２ａ、３２ｂ）間から離脱させるステップと、を有することを特徴とするものである。
【０００７】
従って、本発明のステージ製造方法では、一対の発磁ユニット（３１ａ、３１ｂ及び３２ａ、３２ｂ）の磁着力によりスペーサ（９０及び９５）を介して隙間を確保した状態で、これらを一体化できる。そのため、これらスペーサ（９０及び９５）が介装されて一体化された発磁体を磁着力の影響を受けることなくステージ（２６）の凹部（３０ａ及び３０ｂ）に挿入して、それぞれステージに容易、且つ安全性が向上した状態で固定することができる。また、発磁体のステージへの固定が完了すると、スペーサ（９０及び９５）を一対の発磁ユニット（３１ａ、３１ｂ及び３２ａ、３２ｂ）間から離脱させてステージ（２６）の凹部（３０ａ及び３０ｂ）から引き抜くことにより、発磁体のステージ（２６）への取付が完了する。
【０００８】
また、本発明の露光装置製造方法は、ステージ（ＷＳＴ）を有する露光装置の製造方法であって、ステージ（ＷＳＴ）を先に記載されたステージ製造方法により製造することを特徴とするものである。
【０００９】
従って、本発明の露光装置製造方法では、容易に発磁体をステージに取り付けられる上記ステージ製造方法でステージを製造するため、露光装置を容易、且つ安全性が向上した状態で製造することができる。
【００１０】
なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００１１】
本発明では、磁着力が大きい発磁体を用いる場合でも、容易、且つ安全にステージに固定することが可能になり、作業性の向上に寄与できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明のステージ製造方法及び露光装置製造方法の実施の形態を、図１ないし図１３を参照して説明する。
尚、以下の説明においては、必要であれば図中にＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。図１に示すＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がウエハＷの移動面に平行な面に含まれるよう設定され、Ｚ軸がこの移動面と直交する方向に設定されている。
【００１３】
まず、ステージ装置について説明する。
図１は、ステージ装置ＳＴの外観斜視図である。
ステージ装置ＳＴは、例えば半導体工場の床面ＦＬ上に配置されたフレームキャスタＦＣ、フレームキャスタＦＣ上に設けられたベース盤２１、ベース盤２１の上方に配置されベース盤２１の上面（移動面）２１ａに沿って移動するウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴ、これらのステージＷＳＴ，ＭＳＴの位置を検出する干渉計４２，４３を含む干渉計システム２４（図１２参照）、並びにステージＷＳＴ，ＭＳＴを駆動するステージ駆動部２５（図１２参照）を含んで構成される。上記のウエハステージＷＳＴは、レチクルＲのパターンをウエハＷに露光転写するためにウエハＷを保持して移動するものである。一方、計測ステージＭＳＴは、ウエハステージＷＳＴがウエハＷの交換のためにローディングポジションに位置している間に各種の計測を行うものである。
【００１４】
フレームキャスタＦＣは、Ｘ方向の一側と他側との端部近傍にＹ方向を長手方向として上方に突出した突部ＦＣａ，ＦＣｂが一体的に形成された概略平板状からなるものである。ベース盤（定盤）２１は、フレームキャスタＦＣの突部ＦＣａ，ＦＣｂに挟まれた領域上に配置されている。ベース盤２１の上面２１ａは平坦度が極めて高く仕上げられ、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴのＸＹ平面に沿った移動の際のガイド面とされている。
【００１５】
ウエハステージＷＳＴは、セラミックス等の非導電性材料で形成されており、図１に示す通り、ベース盤２１上に配置されたウエハステージ本体２６とウエハステージ本体２６上に搭載されたウエハテーブルＷＴＢとを含んで構成されている。ウエハステージ本体２６は、断面矩形枠状でＸ方向に延びる中空部材によって構成されている。このウエハステージ本体２６の下面には、本願出願人が先に出願した特願２００４−２１５４３９号に記載されているような自重キャンセラ機構が設けられている。この自重キャンセラ機構は、ベローズに内圧をかけてウエハステージＷＳＴを支える支持部と、ガイド面としての移動面２１ａに対向してウエハステージＷＳＴを移動面２１ａに対して浮上させるエアベアリング部とを有している。
【００１６】
また、ウエハステージＷＳＴは、ウエハステージ本体２６をＸ方向にロングストロークで駆動するとともに、Ｙ方向、Ｚ方向、θｘ（Ｘ軸周りの回転方向）、θｙ（Ｙ軸周りの回転方向）、θｚ（Ｚ軸周りの回転方向）に微小駆動する第１駆動系（駆動装置）２７と、ウエハステージ本体２６及び第１駆動系２７をＹ方向にロングストロークで駆動する第２駆動系２８ａ，２８ｂとを備えている。更に、ウエハステージＷＳＴは、Ｘ方向に等速運動をして、真空又はエア等の用力をウエハステージ本体２６に伝達するチューブキャリア２９を備えている。
【００１７】
図２は、ウエハステージＷＳＴに設けられる第１駆動系２７を説明するための斜視図である。図２（ａ）に示す通り、ウエハステージ本体２６の＋Ｘ方向の端面には３つの開口（凹部）３０ａ〜３０ｃが設けられており、ウエハステージ本体２６の−Ｘ方向の端面には開口３０ａ〜３０ｃの各々に対応する不図示の３つの開口が設けられている。開口３０ａの内周部にはＹ軸用の一対の可動子３１ａ，３１ｂが設けられている。また、開口３０ｂの内周部にはＸ軸用の一対の可動子３２ａ，３２ｂが設けられており、同様に開口３０ｃの内周部にはＸ軸用の一対の可動子３２ｃ，３２ｄが設けられている。
【００１８】
図３は、可動子３１ａ、３１ｂの外観斜視図である。
この図に示すように、可動子３１ａは、Ｙ軸方向に複数配列された永久磁石７０と、永久磁石７０を支持して開口部３０ａの＋Ｚ側内周部に固定される矩形板状のヨーク７１とから構成されている。同様に、可動子３１ｂは、Ｙ軸方向に複数配列された永久磁石７５と、永久磁石７５を支持して開口部３０ａの−Ｚ側内周部に固定される矩形板状のヨーク７６とから構成されている。これら可動子３１ａ、３１ｂは、永久磁石７０、７５がＺ軸方向に隙間をあけるように対向配置される。
【００１９】
ヨーク７１の上面（＋Ｚ側の面）には、Ｙ軸方向の両側端縁に＋Ｚ方向へ突出する突部７２がＸ軸方向に間隔をあけてそれぞれ複数（ここでは４つ）設けられている。各突部７２には、ウエハステージ本体２６に固定するための固定部７３が設けられている。図４に示すように、固定部７３は止めネジ（例えば六角穴付きボルト）５０の雄ネジ部５０ａがＺ方向に沿って挿通される貫通孔で形成されている。なお、図４においては、永久磁石７０、７５の図示を省略している。
【００２０】
この止めネジ５０は、雄ネジ部５０ａがウエハステージ本体２６に設けられた雌ネジ部２６ａと螺合し、ヘッド部５０ｂが−Ｚ側からヨーク７１に係合する構成となっている。雌ネジ部２６ａは、実際にはウエハステージ本体２６に埋設されたブッシュに形成されているが、ここではウエハステージ本体２６に設けられているものとして図示している。
また、ヨーク７１のＸ軸方向両端側に位置する突部７２の間には、位置決め孔７４がＺ方向に貫通して形成されている。
【００２１】
ヨーク７６は、ヨーク７１と同様の構成を有しており、その下面（−Ｚ側の面）には、Ｙ軸方向の両側端縁に−Ｚ方向へ突出する突部７７がＸ軸方向に間隔をあけてそれぞれ複数（ここでは４つ）設けられている。各突部７７には、ウエハステージ本体２６に固定するための固定部７８と、ヨーク７１の固定部７３と同軸で、且つ止めネジ５０のヘッド部５０ｂが挿通する大きさでＺ方向に貫通する貫通孔７９とがそれぞれ形成されている。また、ヨーク７６のＸ軸方向両端側に位置する突部７７の間には、位置決め孔８０がＺ方向に貫通して形成されている。この位置決め孔８０は、前述の位置決め孔７４と同軸になるように形成されている。
【００２２】
固定部７８には、止めネジ５１の雄ネジ部５１ａが螺合する雌ネジが形成されている。また、ウエハステージ本体２６には、止めネジ５１の雄ネジ部５１ａが貫通する貫通孔２６ｂと、貫通孔２６ｂと連通し、且つ−Ｚ側に開口し、止めネジ５１のヘッド部５１ｂが係合する段部２６ｃを有する孔部２６ｄとが形成されている。
【００２３】
また、ヨーク７６は、ウエハステージ本体２６に着脱自在に設けられた位置決め工具５３によって、ウエハステージ本体２６に対してＸ軸方向及びＹ軸方向に位置決めされる。この位置決め工具５３は、図５に示すように、ウエハステージ本体２６の−Ｙ側の側面２６ｅを基準面として当接する基準部５３ａ、基準部５３ａの一端からウエハステージ本体２６の＋Ｘ側端面２６ｆに沿って延びる腕部５３ｂ、腕部５３ｂから開口部３０ａ内に延出する延出部５３ｃを有している。延出部５３ｃには、−Ｘ側へ突出してヨーク７６の＋Ｘ側の端面７６ａに当接してＸ軸方向の位置決めを行う位置決め部５３Ｘ（図４参照）がＹ軸方向に間隔をあけて２箇所設けられるとともに、ヨーク７６の＋Ｙ側の側面７６ｂに当接してＹ軸方向の位置決めを行う位置決め部５３Ｙが延出して設けられている。
【００２４】
また、これらの可動子３１ａ、３１ｂは、ウエハステージ本体２６に組み込まれる際には、図３に示すように、スペーサ９０が介装されて、ウエハステージ本体２６に取り付けられた際の隙間とほぼ同一の隙間（より詳細には僅かに狭い隙間（可動子３１ａ、３１ｂが円滑に開口部３０ａ内に挿入される程度の隙間））で離間した状態で開口部３０ａ内に挿入される。スペーサ９０は、ヨーク７１、７６のＹ軸方向の両側縁に沿って配置されており、ヨーク７１、７６及びウエハステージ本体２６からＸ軸方向の両側に突出する長さを有している（図４では、＋Ｘ側のみが突出している様子を図示）。
【００２５】
また、スペーサ９０は、アルミニウムやステンレス等の非磁性材料で形成され、図４に示すように、それぞれヨーク７１、７６と当接する支柱９１、９２と、支柱９１、９２間に挟持される支柱９３とがＺ軸方向に積み重ねられ、長さ方向の両側のウエハステージ本体２６から突出する位置において固定ビス５４により解除自在に一体的に締結固定される構成となっている。
【００２６】
支柱９１のヨーク７１と対向する面には、ヨーク７１の位置決め孔７４に嵌合するピン部９１Ａがヨーク７１の突部７２における厚さよりも短い長さで突設されている。同様に、支柱９２のヨーク７６と対向する面には、ヨーク７６の位置決め孔８０に嵌合するピン部９２Ａがヨーク７６の突部７７における厚さよりも短い長さで突設されている。
そして、これらの支柱９１〜９３には、支柱９１のピン部９１Ａが位置決め孔７４に嵌合し、支柱９２のピン部９２Ａが位置決め孔８０に嵌合した状態で固定ビス５４によって固定されたときに、止めネジ５０のヘッド部５０ｂが挿通可能な大きさの貫通孔９１ｈ〜９３ｈがＺ軸方向に連通する同軸でそれぞれ形成されている。また、ウエハステージ本体２６にも同様に、止めネジ５０のヘッド部５０ｂが挿通可能な大きさの貫通孔２６ｇが貫通孔９１ｈ〜９３ｈと同軸でそれぞれ形成されている。
【００２７】
続いて、可動子３２ａ、３２ｂ及び可動子３２ｃ、３２ｄについて説明する。
なお、可動子３２ｃ、３２ｄは、可動子３２ｄが可動子３２ａと同様に外側（可動子３１ａ、３１ｂ（開口部３０ａ）と逆側）に配置され、可動子３２ｃが可動子３２ｂと同様に内側（可動子３１ａ、３１ｂ（開口部３０ａ）側）に配置されるものであるため、ここでは、可動子３２ａ、３２ｂについてのみ説明する。
【００２８】
図６は、可動子３２ａ、３２ｂの外観斜視図である。
この図に示すように、可動子３２ａは、Ｘ軸方向に複数配列された永久磁石８１と、永久磁石８１を支持して開口部３０ｂの−Ｙ側内周部に固定される矩形板状のヨーク８２とから構成されている。同様に、可動子３２ｂは、Ｘ軸方向に複数配列された永久磁石８６と、永久磁石８６を支持して開口部３０ｂの＋Ｙ側内周部に固定される矩形板状のヨーク８７とから構成されている。これら可動子３２ａ、３２ｂは、永久磁石８１、８６がＹ軸方向に隙間をあけるように対向配置される。
【００２９】
ヨーク８７の＋Ｙ側の面には、Ｚ軸方向の両側端縁に＋Ｙ方向へ突出する突部８３がＸ軸方向に間隔をあけてそれぞれ複数（ここでは４つ）設けられている。図７に示すように、各突部８３には、ウエハステージ本体２６に固定するための固定部８４が設けられている。固定部８４は止めネジ（例えば六角穴付きボルト）５５の雄ネジ部５５ａがＹ軸方向に貫通する貫通孔で形成されている。なお、図７においては、永久磁石８１、８６の図示を省略している。
【００３０】
この止めネジ５５は、アルミニウムやステンレス等の非磁性材で形成され、雄ネジ部５５ａがウエハステージ本体２６に設けられた雌ネジ部２６ｈと螺合し、ヘッド部５５ｂが−Ｙ側からヨーク８７に係合する構成となっている。雌ネジ部２６ｈは、実際にはウエハステージ本体２６に埋設されたブッシュに形成されているが、ここではウエハステージ本体２６に設けられているものとして図示している。
また、ヨーク８７のＸ軸方向両端側（図７では＋Ｘ側のみ図示）に位置する突部８３には、−Ｙ側に向けて開口する有底の位置決め孔８５が形成されている。
【００３１】
ヨーク８２は、ヨーク８７と同様の構成を有しており、その−Ｙ側の面には、Ｚ軸方向の両側端縁に−Ｙ方向へ突出する突部８８がＸ軸方向に間隔をあけてそれぞれ複数（ここでは４つ）設けられている（図６参照）。各突部８８には、ウエハステージ本体２６に固定するための固定部８９が形成されている。固定部８９は、ヨーク８７の固定部８４と同軸で配置され、止めネジ５６の雄ネジ部５６ａが螺合する雌ネジで形成されている。この雌ネジの大きさは、止めネジ５５のヘッド部５５ｂが挿通する大きさとしてもよい。また、止めネジ５５は、スペーサ９５の切欠部９９を利用してウエハステージ本体２６の開口部３０ｂの＋Ｚ側から挿入してもよい。
また、ウエハステージ本体２６には、止めネジ５６の雄ネジ部５６ａが貫通する貫通孔２６ｊと、貫通孔２６ｊと連通し、且つ−Ｙ側に開口し、止めネジ５６のヘッド部５６ｂが係合する段部２６ｋを有する孔部２６ｍとが形成されている。
【００３２】
また、Ｘ軸方向両端側（図７では＋Ｘ側のみ図示）に位置する突部８８には、ヨーク８７の位置決め孔８５と同軸で、且つ同径で位置決め孔９４が形成されている。これら位置決め孔８５及び９４には、位置決めピン５７が挿抜自在に嵌合する。位置決めピン５７の先端側（−Ｙ側；外側）には、雌ネジ部５７ａが形成されている。
そして、ウエハステージ本体２６には、ヨーク８２の位置決め孔９４と対向する位置に、位置決めピン５７が挿通可能な大きさで貫通孔２６ｎが形成されている。
【００３３】
また、ヨーク８２は、ウエハステージ本体２６に着脱自在に設けられた位置決め工具５８によって、ウエハステージ本体２６に対してＸ軸方向及びＺ軸方向に位置決めされる。この位置決め工具５８は、図８に示すように、ウエハステージ本体２６の−Ｚ側の側面２６ｐを基準面として当接する基準部５８ａ、基準部５８ａの一端からウエハステージ本体２６の＋Ｘ側端面２６ｆに沿って延びる腕部５８ｂ、腕部５８ｂから開口部３０ｂ内にＸ軸方向に延出する位置決め部５８Ｘ、５８Ｚを有している。位置決め部５８Ｚは、ヨーク８２の−Ｚ側の側面と当接することで、当該ヨーク８２をＺ軸方向に位置決めするものである。また、位置決め部５８Ｘは、ヨーク８２の突部８８の＋Ｘ側端面と当接することにより、当該ヨーク８２をＸ軸方向に位置決めするものである（図７参照）。
なお、位置決め工具５８は、開口部３０ｂの端部両側に装着されてヨーク８２可動子３２ａの位置決めを行うが、図８においては、開口部３０ｂの＋Ｘ側端部のみを図示している。
【００３４】
また、可動子３２ａ、３２ｂ（及び可動子３２ｃ、３２ｄ）はウエハステージ本体２６に組み込まれる際には、図６に示すように、スペーサ９５が介装されて、ウエハステージ本体２６に取り付けられた際の隙間とほぼ同一の隙間（より詳細には僅かに狭い隙間（可動子３２ａ、３２ｂ及び可動子３２ｃ、３２ｄが円滑に開口部３０ｂ、３０ｃ内に挿入される程度の隙間））で離間した状態で開口部３０ｂ内に挿入される。スペーサ９５の長さ方向の両端には、磁石保護カバー９６が着脱自在に設けられ、可動子３２ａ、３２ｂを開口部３２ｂに挿入、抜き出す際に永久磁石８１、８６が保護される構成となっている。
【００３５】
スペーサ９５は、アルミニウムやステンレス等の非磁性材料で形成され、ヨーク８２、８７のＺ軸方向の両側縁に沿って配置されており、ヨーク８２、８７及びウエハステージ本体２６からＸ軸方向の両側に突出する長さを有している（図７では、＋Ｘ側のみが突出している様子を図示）。このスペーサは、ウエハステージ本体２６の開口部３０ｂに挿入される際以外は、止めネジ９７によってそれぞれヨーク８２、８７に解除自在に固定された状態で保管される。また、スペーサ９５には、ヨーク８７の固定部８４及びヨーク８２の固定部８９と同軸で止めネジ５５のヘッド部５５ｂよりも大径の貫通孔９８が形成されるとともに、貫通孔９８と連通し、且つヨーク８７の固定部８４に臨む位置に切欠部９９が形成されている。さらに、スペーサ９５には、ヨーク８２の位置決め孔９４及びヨーク８７の位置決め孔８５と同軸で、且つ位置決めピン５７よりも大径の貫通孔１００が形成されている。
【００３６】
続いて、上記構成のウエハステージＷＳＴに対して可動子３１ａ、３１ｂ及び可動子３２ａ、３２ｂの中、まず可動子３１ａ、３１ｂを取り付ける手順について説明する。
（スペーサ介装ステップ）
まず、永久磁石７０、７５を対向させた状態で、当該永久磁石７０、７５を支持するヨーク７１、７６間にスペーサ９０を介装させる。
このとき、スペーサ９０は、支柱９１のピン部９１Ａをヨーク７１の位置決め孔７４に嵌合させるとともに、支柱９２のピン部９２Ａをヨーク７６の位置決め孔８０に嵌合させ、且つ固定ビス５４によりピン部９１Ａとピン部９２Ａとが同軸となるように支柱９１〜９３を積み重ねた状態で固定することにより、可動子３１ａ、３１ｂを位置合わせした状態で、対向する永久磁石７０、７５間の隙間を開口部３０ａ内で取り付けられた際に形成される隙間よりも僅かに小さく形成させる。
【００３７】
（可動子挿入ステップ）
次に、ウエハステージ本体２６の＋Ｘ側端部に位置決め工具５３を取り付けた後に、例えば−Ｘ側の開口部３０ａが上方に向くようにウエハステージ本体２６を載置し、クレーン等を用いて＋Ｘ側の端部から可動子３１ａ、３１ｂをスペーサ９０とともに下降させて開口部３０ａに挿入する。このとき、可動子３１ａ、３１ｂの円滑な挿入及びウエハステージ本体２６との摺動による損傷を防止するために、摺動部にフッ素樹脂等の樹脂シート材を敷設してもよい。
【００３８】
また、スペーサ９０により可動子３１ａ、３１ｂ間の距離は、ウエハステージ本体２６へ取り付けられるときの距離よりも短くなっているため、可動子３１ａ、３１ｂは円滑に開口部３０ａ内に挿入される。可動子３１ａ、３１ｂの挿入が進むと、ヨークの７６の端面７６ａが位置決め工具５３の位置決め部５３Ｘに当接することで、ウエハステージ本体２６に対して可動子３１ａ、３１ｂのＸ軸方向の位置が位置決めされ、さらに可動子３１ａ、３１ｂを＋Ｙ側に寄せてヨーク７６の側面７６ｂを位置決め部５３Ｙに当接させることで、ウエハステージ本体２６に対して可動子３１ａ、３１ｂのＹ軸方向の位置が位置決めされる。
【００３９】
（可動子固定ステップ）
可動子３１ａ、３１ｂがウエハステージ本体２６に対して位置決めされると、例えばヘクスキー等の工具に止めネジ５０のヘッド部５０ｂを保持させた状態で、ウエハステージ本体２６の−Ｚ側から止めネジ５０を貫通孔２６ｇ、貫通孔９１ｈ〜９３ｈを介して挿入し、雄ネジ部５０ａをヨーク７１の固定部７３に挿通させた後にウエハステージ本体２６の雌ネジ部２６ａと螺合させる。雄ネジ部５０ａが雌ネジ部２６ａに＋Ｚ側に螺入するのに従って、ヨーク７１に−Ｚ側から係合する止めネジ５０のヘッド部５０ｂがヨーク７１をウエハステージ本体２６の開口部３０ａ内の＋Ｚ側内周部に固定する。
【００４０】
続いて、ウエハステージ本体２６の−Ｚ側から止めネジ５１を孔部２６ｄを介して挿入し、雄ネジ部５１ａをウエハステージ本体２６の貫通孔２６ｂを挿通させた後に、ヨーク７６の固定部７８に螺入させることにより、ヨーク７６をピン部９１Ａ、９２Ａの軸に沿って−Ｚ側に引き込んで、ウエハステージ本体２６の開口部３０ａ内の−Ｚ側内周部に固定する。
これにより、可動子３１ａ、３１ｂが永久磁石７０、７５を互いに対向させた状態で、ウエハステージ本体２６の開口部３０ａの内周部に固定される。
【００４１】
（スペーサ離脱ステップ）
可動子３１ａ、３１ｂがウエハステージ本体２６に固定されると、位置決め工具５３を外すとともに、固定ビス５４による支柱９１〜９３の一体化固定を解除する。
次に、図９に示すように、固定ビス５４による一体化が解除された支柱９３を＋Ｘ側へ移動させて開口部３０ａ（支柱９１、９２の間）から引き抜く。続いて、図１０に示すように、支柱９３が除かれて生じたスペースに支柱９１、９２を移動させる。
より詳細には、止めネジ５０のヘッド部５０ｂが貫通孔９１ｈから外れるとともに、ピン部９１Ａが位置決め孔７４から外れるまで支柱９１を−Ｚ側まで移動させ、その後＋Ｘ側へ移動させて開口部３０ａから引き出す。
このようにして、可動子３１ａ、３１ｂのウエハステージ本体２６への取り付けが完了する。
【００４２】
続いて、可動子３２ａ、３２ｂをウエハステージ本体２６（ウエハステージＷＳＴ）に取り付ける手順について説明する。
（スペーサ介装ステップ）
まず、永久磁石８１、８６を対向させた状態で、当該永久磁石８１、８６を支持するヨーク８２、８７間にスペーサ９５を介装させる。
このとき、可動子３２ａ、３２ｂは、図７に示すように、ヨーク８２、８７の位置決め孔９４、８５において、スペーサ９５の貫通孔１００に挿通された位置決めピン５７が嵌合することで互いに位置合わせされている。また、スペーサ９５の両端部には、可動子３２ａ、３２ｂを開口部３２ｂに挿入する際の永久磁石８１、８６の損傷を防ぐために磁石保護カバー９６を取り付けておく。
なお、可動子３２ａ、３２ｂは、保管時においては止めネジ９７によりスペーサ９５に対して固定されている。
【００４３】
（可動子挿入ステップ）
次に、止めネジ９７を外してヨーク８２、８７とスペーサ９５との締結固定を解除する。このとき、ヨーク８２、８７は、対向する永久磁石８１、８６の磁着力によりスペーサ９５を挟持するため、スペーサ９５を介した可動子３２ａ、３２ｂの一体化は維持される。また、ヨーク８２、８７は位置決めピン５７が嵌合して位置合わせされているため、互いにずれることはなく、永久磁石８１、８６の磁着力が作用しても安全性が低下することはない。
【００４４】
続いて、ウエハステージ本体２６の＋Ｘ端部にのみ位置決め工具５８を取り付けた後に、開口部３０ｂの−Ｘ側の端部から可動子３２ａ、３２ｂを挿入する。このときも、スペーサ９５により可動子３２ａ、３２ｂ間の距離は、ウエハステージ本体２６へ取り付けられるときの距離よりも短くなっているため、可動子３２ａ、３２ｂは円滑に開口部３０ｂ内に挿入される。
なお、可動子３２ａ、３２ｂの挿入時にも、可動子３２ａ、３２ｂとウエハステージ本体２６との摺動部にフッ素樹脂等の樹脂シート材を敷設することが好ましい。
【００４５】
可動子３２ａ、３２ｂの挿入が進むと、ヨークの８２の突部８８の＋Ｘ側端面と当接することで、ウエハステージ本体２６に対して可動子３２ａ、３２ｂのＸ軸方向の位置が位置決めされ、さらにウエハステージ本体２６の−Ｘ側端部にも位置決め工具５８を取りつけ、可動子３２ａ、３２ｂを−Ｚ側に寄せてヨーク８２の側面を位置決め部５８Ｚに当接させることで、ウエハステージ本体２６に対して可動子３２ａ、３２ｂのＺ軸方向の位置が位置決めされる。
【００４６】
（可動子固定ステップ）
可動子３２ａ、３２ｂがウエハステージ本体２６に対して位置決めされると、スペーサ９５とウエハステージ本体２６との隙間を介してスペーサ９５の切欠部９９に側方（Ｚ軸方向）から止めネジ５５を挿入する。このとき、切欠部９９の中、開口部３０ｂの端部近傍の切欠部９９に対しては、作業者が直接止めネジ５５を把持して挿入可能であるが、開口部３０ｂの端部から離れた位置（奥側）の切欠部９９については作業者の把持による挿入が困難であるため、例えば先端部で止めネジ５５を保持可能な薄板長尺の保持工具を用いて挿入することが好ましい。
【００４７】
止めネジ５５が切欠部９９に挿入されたら、六角レンチ等の締結工具をウエハステージ本体２６の−Ｙ側から貫通孔２６ｊ、ヨーク８２の固定部（雌ネジ）８９及びスペーサ９５の貫通孔９８を挿通して、止めネジ５５の雄ネジ部５５ａをウエハステージ本体２６の雌ネジ部２６ｈに螺着させることにより、ヨーク８７をウエハステージ本体２６の開口部３０ｂ内の＋Ｙ側内周部に固定する。
【００４８】
続いて、同様に、止めネジ５６の雄ネジ部５６ａをウエハステージ本体２６の−Ｙ側から貫通孔２６ｊを挿通し、ヨーク８２の固定部８９に螺入させることにより、永久磁石８１、８６の磁着力に抗してヨーク８２を−Ｙ側に引き込んで、ウエハステージ本体２６の開口部３０ｂ内の−Ｙ側内周部に固定する。上記止めネジ５５、５６を用いたヨーク８２、８７のウエハステージ本体２６への固定に際しては、ヨーク８２、８７が位置決めピン５７に対してＹ軸方向に相対移動自在に嵌合して位置決めされているため、ヨーク８２、８７間（すなわち永久磁石８１、８６間）のＸ方向、Ｚ方向の位置合わせが維持された状態で可動子３２ａ、３２ｂをウエハステージ本体２６の内周部に固定することができる。
【００４９】
（スペーサ離脱ステップ）
可動子３２ａ、３２ｂがウエハステージ本体２６に固定されると、位置決めピン５７の雌ネジ部５７ａと螺合するネジ部が先端に設けられた抜き工具を用いて位置決めピン５７を引き抜く。具体的には、抜き工具の先端をウエハステージ本体２６の貫通孔２６ｎから挿入してネジ部を雌ネジ部５７ａと螺合させた後に、抜き工具を移動させることにより、位置決めピン５７をヨーク８２、８７から引き抜くことができる。
この後、位置決め工具５８をウエハステージ本体２６から取り外すとともに、保護カバー９６をスペーサ９５から取り外す。そして、スペーサ９５を＋Ｘ側へ移動させて開口部３０ｂから引き出す。
このようにして、可動子３２ａ、３２ｂのウエハステージ本体２６への取り付けが完了する。
【００５０】
そして、図２（ｂ）に示す通り、開口３０ａを介してウエハステージ本体２６をＸ方向に貫通するように複数のコイルを備えるＹ軸用固定子３３が設けられており、開口３０ｂ、３０ｃの各々を介してウエハステージ本体２６をＸ方向に貫通するように複数のコイルを備えるＸ軸用固定子３４ａ、３４ｂが設けられている。上記のＹ軸用固定子３３は、上述したステージ製造方法により開口３０ａに設けられた一対の可動子３１ａ、３１ｂと協働してウエハステージ本体２６をＹ方向に微小駆動する。
【００５１】
また、上記のＸ軸用固定子３４ａ、３４ｂは、一対の可動子３２ａ，３２ｂ及び一対の可動子３２ｃ、３２ｄとそれぞれ協働してウエハステージ本体２６をＸ方向に長いストロークで駆動する。更に、上述した一対の永久磁石３２ａ、３２ｂとＸ軸用固定子３４ａとによって発生するローレンツ力と、一対の可動子３２ｃ、３２ｄとＸ軸用固定子３４ｂとによって発生するローレンツ力とを異ならせることにより、ウエハステージ本体２６をθｚ方向に回転させることができる。
【００５２】
以上、説明したように、本実施形態では、スペーサ９０または９５を介装させたまま可動子３１ａ、３１ｂまたは３２ａ、３２ｂをウエハステージ本体２６の開口部３０ａまたは３０ｂに挿入し、可動子３１ａ、３１ｂまたは３２ａ、３２ｂをウエハステージ本体２６に取り付けるので、磁着力が大きい永久磁石７０、７５または８１、８６を用いる場合でも、容易、且つ安全にウエハステージ本体２６の開口部３０ａ、３０ｂの内周部に固定することが可能になり、作業性の向上に寄与できる。
特に、本実施形態では、可動子３１ａ、３１ｂ及び３２ａ、３２ｂにいずれに対しても同一側からの操作により、ウエハステージ本体２６に固定することができるため、作業性を大幅に向上させることができる。
【００５３】
また、本実施形態では、永久磁石８１、８６の対向方向で分割された支柱９１〜９３によりスペーサ９５が構成されているため、スペーサを開口部３０ｂから引き抜くために十分なスペースを確保できない場合でも、可動子の間にスペーサを介装させて作業性を向上させることが可能になる。
さらに、本実施の形態では、永久磁石７０、７５及び８１、８６がウエハステージ本体２６に取り付けられる際の隙間とほぼ同一の隙間を形成するようにスペーサ９０、９５を介装させるため、ウエハステージ本体２６に取り付ける前の保管中に、永久磁石７０、７５及び８１、８６の磁気特性が変動する可能性を抑制できる。
【００５４】
続いて、上記のステージ装置ＳＴを備えた露光装置について説明する。
図１１は、本発明の一実施形態による露光装置の概略構成を示す側面図である。図１１に示す露光装置ＥＸは、図１１中の投影光学系ＰＬに対してマスクとしてのレチクルＲと基板としてのウエハ（物体）Ｗとを相対的に移動させつつ、レチクルＲに形成されたパターンをウエハＷに逐次転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の露光装置である。
【００５５】
本実施形態の露光装置ＥＸは、照明光学系ＩＬＳ、マスクとしてのレチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、投影ユニットＰＵ、ウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴと計測ステージＭＳＴとを有する上述したステージ装置ＳＴ、及びこれらの制御系を含んで構成される。照明光学系ＩＬＳは、不図示のレチクルブラインドで規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域を照明光（露光光）ＩＬによってほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００５６】
レチクルステージＲＳＴ上には、パターン面（図１１における−Ｚ側の面）にパターンが形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により保持されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータを含むレチクルステージ駆動部１１（図１１では不図示、図１２参照）によって、照明光学系ＩＬＳの光軸（後述する投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに一致）に垂直なＸＹ平面内で微小駆動可能であるとともに、走査方向（Ｙ方向）に指定された走査速度で駆動可能に構成されている。
【００５７】
レチクルステージＲＳＴのステージ移動面内の位置（Ｚ軸周りの回転を含む）は、レーザ干渉計（以下、レチクル干渉計という）１２によって、移動鏡１３（実際にはＹ軸に直交する反射面を有するＹ移動鏡とＸ軸に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられている）を介して、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。このレチクル干渉計１２の計測値は主制御装置２０（図１１では不図示、図１２参照）に出力され、主制御装置２０は、このレチクル干渉計１２の計測値に基づいてレチクルステージＲＳＴのＸ方向、Ｙ方向、及びθＺ方向（Ｚ軸周りの回転方向）の位置を算出するとともに、この算出結果に基づいてレチクルステージ駆動部１１を制御することで、レチクルステージＲＳＴの位置（及び速度）を制御する。
【００５８】
レチクルステージＲＳＴの上方には、露光波長の光を用いたＴＴＲ（Through The Reticle）アライメント系からなる一対のレチクルアライメント検出系１４ａ，１４ｂがＸ方向に所定距離隔てて設けられている。レチクルアライメント検出系１４ａ，１４ｂは、レチクルＲ上の一対のレチクルアライメントマークと、これらに対応する計測ステージＭＳＴ上の一対の基準マーク（以下、第１基準マークという）の投影光学系ＰＬを介した共役像とを同時に観察するものである。これらのレチクルアライメント検出系１４ａ，１４ｂとしては、例えば特開平７−１７６４６８号公報（対応する米国特許第５，６４６，４１３号）等に開示されるものと同様の構成のものが用いられている。
【００５９】
投影ユニットＰＵは、鏡筒１５と、鏡筒１５内に所定の位置関係で保持された複数の光学素子を含む投影光学系ＰＬとを含んで構成されている。投影光学系ＰＬとしては、例えばＺ方向の共通の光軸ＡＸを有する複数のレンズ（レンズエレメント）からなる屈折光学系が用いられている。
また、投影ユニットＰＵを保持する保持部材には、オフアクシス型のアライメント系４５が設けられており、対象マーク（ウエハＷに形成されたアライメントマーク等）の位置を計測する。
【００６０】
上記の液体としては、ここではＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する超純水（以下、特に必要な場合を除いて、単に「水」と記述する）を用いるものとする。超純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できるとともに、ウエハＷ上に塗布されたフォトレジスト及び光学レンズ等に対する悪影響を及ぼさないという利点がある。ここで、水の屈折率ｎはほぼ１．４４であり、この水の中では照明光ＩＬの波長は１９３ｎｍ×１／ｎ＝約１３４ｎｍに短波長化される。
【００６１】
液体供給ノズル１８ａは、主制御装置２０からの指示に応じて先玉ＧＬとウエハＷとの間に水を供給する。また、液体回収ノズル１８ｂは、主制御装置２０からの指示に応じて先玉ＧＬとウエハＷとの間から水を回収する。
【００６２】
以上説明した通り、本実施形態の露光装置が備える液浸装置１７は、液体供給ノズル１８ａ、及び液体回収ノズル１８ｂ等を含んで構成された局所液浸装置である。尚、投影ユニットＰＵの下方に計測ステージＭＳＴが位置する場合にも、上記と同様に計測テーブルＭＴＢと先玉ＧＬとの間に水を満たすことが可能である。
【００６３】
図１２は、露光装置ＥＸの制御系の構成を示すブロック図である。図１２に示す制御系は、露光装置ＥＸの全体的な動作を統括的に制御するマイクロコンピュータ（又はワークステーション）からなる主制御装置２０を中心として構成されている。また、主制御装置２０には、メモリ６５、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイ（又は液晶ディスプレイ）等のディスプレイ６６が接続されている。メモリ６５は、露光装置ＥＸの動作を制御する上で必要な情報、例えばベースライン量、ＥＧＡ演算を行って得られたショット配列、露光量の履歴等を記憶し、ディスプレイ６６は主制御装置２０から出力される露光装置ＥＸの装置状態を示す情報及びエラー情報等の各種情報を表示する。
【００６４】
上記の露光装置ＥＸによりウエハＷに対して露光処理を実施する際には、液体供給ノズル１８ａによりウエハＷ上に液体Ｌｑを供給しつつ、液体回収ノズル１８ｂによりウエハＷ上の液体Ｌｑを回収して液浸領域を形成する。
そして、主制御装置２０は、投影光学系ＰＬと液体Ｌｑとを介してウエハＷに露光光ＩＬを照射させ、ウエハＷを支持したウエハステージＷＳＴを移動させながらレチクルＲのパターン像をウエハＷ上に投影し、ウエハＷを露光する液浸露光を行う。
【００６５】
上記構成の露光装置ＥＸは、上述したステージ装置ＳＴ等の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。尚、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６６】
本実施の形態の露光装置ＥＸの製造方法では、上述したステージ装置ＳＴを備えているため、容易、且つ安全に組立・製造を行うことができ、作業性の向上に寄与することができる。
【００６７】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００６８】
例えば、上記実施形態では、本発明をステージ装置ＳＴにおけるウエハステージＷＳＴに適用するものとして説明したが、計測ステージＭＳＴに対しても適用可能であることは言うまでもない。
また、上記実施形態では、本発明を露光装置ＥＸにおけるステージ装置ＳＴに適用したが、レチクルステージＲＳＴに対しても適用可能である。
【００６９】
また、本発明は上記実施形態に制限されず、液浸法を適用しない露光装置にも用いることができる。また、上記実施形態ではＡｒＦエキシマレーザ光を用いる場合を例に挙げて説明したが、これ以外に、例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、又はＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）、Ｆ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）、Ｋｒ２レーザ光（波長１４６ｎｍ）、ＹＡＧレーザ光、若しくは半導体レーザの高周波を用いることができる。
【００７０】
また、本発明は、ウエハステージが複数設けられるツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平１０−１６３０９９号公報及び特開平１０−２１４７８３号公報（対応米国特許６，３４１，００７号、６，４００，４４１号、６，５４９，２６９号及び６，５９０，６３４号）、特表２０００−５０５９５８号（対応米国特許５，９６９，４４１号）或いは米国特許６，２０８，４０７号に開示されている。更に、本発明を本願出願人が先に出願した特願２００４−１６８４８１号のウエハステージに適用してもよい。
【００７１】
尚、上記各実施形態で移動ステージに保持される基板としては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、或いは露光装置で用いられるマスク又はレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。露光装置ＥＸとしては、液浸法を用いない走査型露光装置やレチクルＲとウエハＷとを静止した状態でレチクルＲのパターンを一括露光し、ウエハＷを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。また、本発明はウエハＷ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。露光装置ＥＸの種類としては、ウエハＷに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）或いはレチクル又はマスク等を製造するための露光装置等にも広く適用できる。
【００７２】
ウエハステージＷＳＴの移動により発生する反力は、投影光学系ＰＬに伝わらないように、特開平８−１６６４７５号公報（USP5,528,118）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。レチクルステージＲＳＴの移動により発生する反力は、投影光学系ＰＬに伝わらないように、特開平８−３３０２２４号公報（US S/N08/416,558）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。
【００７３】
図１３は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造工程の一例を示すフローチャートである。半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１３に示す通り、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板（ウエハ）を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置ＥＸによりマスクのパターンを基板に転写する露光処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】ステージ装置の構成を示す斜視図である。
【図２】ウエハステージに設けられる第１駆動系を説明するための斜視図である。
【図３】可動子３１ａ、３１ｂの外観斜視図である。
【図４】図３における要部拡大図である。
【図５】可動子が位置決め工具によりウエハステージ本体に位置決めされた図である。
【図６】可動子３２ａ、３２ｂの外観斜視図である。
【図７】図６における要部拡大図である。
【図８】可動子が位置決め工具によりウエハステージ本体に位置決めされた図である。
【図９】可動子の組立手順を示す図である。
【図１０】可動子の組立手順を示す図である。
【図１１】本発明の一実施形態による露光装置の概略構成を示す側面図である。
【図１２】露光装置ＥＸの制御系の構成を示すブロック図である。
【図１３】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
【００７５】
Ｒ…レチクル（マスク）、  ＳＴ…ステージ装置、  ＭＳＴ…計測ステージ、  Ｗ…ウエハ、  ＷＳＴ…ウエハステージ、  ２７…第１駆動系（駆動装置）、  ７０、７５、８１、８６…永久磁石、  ９０、９５…スペーサ、  ９１〜９３…支柱
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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