(57)【要約】【課題】ステージを所定の移動方向に高い移動精度で案内移動させることができ、ステージ上のワークの加工や被検査物の測定等を高精度に行う。【解決手段】ステージ装置１は、一対の案内部２をＸ軸方向に所定間隔をあけて設けた固定台（ベース）３と、Ｘ軸方向（一定方向）に延長された一条の被案内部４が固定台３の各案内部２に支持案内されてＸ軸方向に移動するＸ軸ステージ（ステージ）５とを備え、固定台３の案内部２が一対の傾斜した案内面２ａ，２ｂを交差させてなるＶ字状のガイド溝２ｃとして形成され、Ｘ軸ステージ５の被案内部４が傾斜した案内面４ａ，４ｂを交差させてなりガイド溝２ｃに整合するＶ字状の凸状ガイド４ｃとして形成され、かつガイド溝２ｃと凸状ガイド４ｃの各案内面２ａ，２ｂ、４ａ，４ｂの挟角θが６０°〜９０°未満に設定された構成とされている。【選択図】図３
2007136639.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の案内部をＸ軸方向に所定間隔をあけて設けたベースと、前記Ｘ軸方向に延長された一条の被案内部が前記ベースの各案内部に支持案内されてＸ軸方向に移動するＸ軸ステージとを備えたステージ装置であって、
前記ベースの案内部と前記Ｘ軸ステージの被案内部は、いずれか一方が傾斜した案内面を交差させてなるＶ字状のガイド溝として形成され、他方が傾斜した案内面を交差させてなり前記ガイド溝に整合するＶ字状の凸状ガイドとして形成され、かつ前記ガイド溝と凸状ガイドの各案内面の挟角が６０°〜９０°未満に設定されていることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記Ｘ軸ステージには、前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に間隔をあけて設けた一対の案内部に、一条の被案内部を支持案内されてＹ軸方向に移動するＹ軸ステージが搭載され、前記Ｘ軸ステージの案内部と前記Ｙ軸ステージの被案内部は、いずれか一方が傾斜した案内面を交差させてなるＶ字状のガイド溝として形成され、他方が傾斜した案内面を交差させてなり前記ガイド溝に整合するＶ字状の凸状ガイドとして形成され、かつ前記ガイド溝と凸状ガイドの各案内面の挟角が６０°〜９０°未満に設定されていることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記ベースとＸ軸ステージのうちの一方には、リテーナ係合部がＸ軸方向に沿って形成され、ベースとＸ軸ステージのうちの他方には、前記リテーナ係合部に係合してベースからのＸ軸ステージの浮き上がりを抑えるリテーナが着脱可能に取り付けられていることを特徴とする請求項１または２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記Ｘ軸ステージとＹ軸ステージのうちの一方には、リテーナ係合部がＹ軸方向に沿って形成され、Ｘ軸ステージとＹ軸ステージのうちの他方には、前記リテーナ係合部に係合してＸ軸ステージからのＹ軸ステージの浮き上がりを抑えるリテーナが着脱可能に取り付けられていることを特徴とする請求項２または３に記載のステージ装置。
【請求項５】
一対の案内部を一定方向に所定間隔をあけて設けたベースと、前記一定方向に延長された一条の被案内部が前記ベースの各案内部に接触して載置されるステージとを備えたステージ装置であって、
前記ベースの案内部と前記ステージの被案内部は、いずれか一方が傾斜した案内面を交差させてなるＶ字状のガイド溝として形成され、他方が傾斜した案内面を交差させてなり前記ガイド溝に整合するＶ字状の凸状ガイドとして形成され、かつ前記ガイド溝と凸状ガイドの各案内面の挟角が６０°〜９０°未満に設定されていることを特徴とするステージ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークや被検査物等を工具や測定器械等に対してＸ軸方向または直交するＸ軸、Ｙ軸方向に案内移動させて、工具によるワークの加工や測定器による被検査物の測定等を行う際に前記ワークや被検査物等を載置する作業台を構成するステージ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種のステージ装置として、上面に、Ｘ軸方向に間隔をあけＹ軸方向に沿って平行に形成したフラットガイドとＶ字溝ガイドとを設けたベースと、下面に前記フラットガイドとＶ字溝ガイドに整合するフラット部とＶ字状凸部からなる一対の被ガイド部を有し前記ベース上をＹ軸方向に案内移動される第１ステージと、該第１ステージの上面にＹ軸方向に間隔をあけＸ軸方向に沿って平行に形成されたフラットガイドとＶ字溝ガイドに整合するフラット部とＶ字状凸部からなる一対の被ガイド部を下面に有し、前記第１ステージ上をＸ軸方向に案内移動される第２ステージとを備えたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平８−３２３５６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、前記従来のステージ装置においては、第１ステージがベースに対してＹ軸方向に移動する場合や第２ステージが第１ステージに対してＸ軸方向に移動する場合、第１、第２ステージのＶ字状凸部からなる被ガイド部が、それぞれ、ベース、第１ステージのＶ字溝ガイドを基準にして案内され、一対の被ガイド部の略中間部を駆動力に牽引されて移動するのであるが、フラットガイド側とＶ字溝ガイド側とでは移動抵抗に差があり、前記牽引部の両側に作用する力のバランスが悪くなるうえ、前記フラットガイド側は第１、第２ステージの移動方向に直角な方向への動きを規制されていないために、各ステージが移動方向に直角な方向へ微小揺動するおそれがあり、そのため、各ステージの移動精度を向上させることができない不満がある。
また、前記ステージ装置では、第１、第２ステージが、それらのＶ字状凸部である被案内部を、ベースと第１ステージのＶ字溝ガイドに全長で接触されて案内移動されるようになっているが、それらのＶ字溝ガイドやＶ字状凸部である被案内部は、高精度に仕上げ加工されているといっても仕上げ誤差を皆無とすることができないので、被案内部がその全長でＶ字溝ガイドに密接され真直に移動される保証はなく、各ステージがそれらの移動方向に直角な方向への微小揺動するおそれがあり、この点からも、各ステージの移動精度の向上を図ることは困難である。
【０００４】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、ステージを所定の移動方向に高い移動精度で案内移動させたり、所定の位置に安定した状態で支持させることができ、ステージ上のワークの加工や被検査物の測定等を高精度に行うことができるステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、前記課題を解決するために、以下の点を特徴としている。
すなわち、本発明の請求項１に係るステージ装置は、一対の案内部をＸ軸方向に所定間隔をあけて設けたベースと、前記Ｘ軸方向に延長された一条の被案内部が前記ベースの各案内部に支持案内されてＸ軸方向に移動するＸ軸ステージとを備えたステージ装置であって、前記ベースの案内部と前記Ｘ軸ステージの被案内部は、いずれか一方が傾斜した案内面を交差させてなるＶ字状のガイド溝として形成され、他方が傾斜した案内面を交差させてなり前記ガイド溝に整合するＶ字状の凸状ガイドとして形成され、かつ前記ガイド溝と凸状ガイドの各案内面の挟角が６０°〜９０°未満に設定されていることを特徴としている。
【０００６】
請求項２に係るステージ装置は、請求項１に記載のステージ装置において、前記Ｘ軸ステージには、前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に間隔をあけて設けた一対の案内部に、一条の被案内部を支持案内されてＹ軸方向に移動するＹ軸ステージが搭載され、前記Ｘ軸ステージの案内部と前記Ｙ軸ステージの被案内部は、いずれか一方が傾斜した案内面を交差させてなるＶ字状のガイド溝として形成され、他方が傾斜した案内面を交差させてなり前記ガイド溝に整合するＶ字状の凸状ガイドとして形成され、かつ前記ガイド溝と凸状ガイドの各案内面の挟角が６０°〜９０°未満に設定されていることを特徴としている。
【０００７】
請求項３に係るステージ装置は、請求項１または２に記載のステージ装置において、前記ベースとＸ軸ステージのうちの一方に、リテーナ係合部がＸ軸方向に沿って形成され、ベースとＸ軸ステージのうちの他方に、前記リテーナ係合部に係合してベースからのＸ軸ステージの浮き上がりを抑えるリテーナが着脱可能に取り付けられていることを特徴としている。
【０００８】
請求項４に係るステージ装置は、請求項２または３に記載のステージ装置において、前記Ｘ軸ステージとＹ軸ステージのうちの一方に、リテーナ係合部がＹ軸方向に沿って形成され、Ｘ軸ステージとＹ軸ステージのうちの他方に、前記リテーナ係合部に係合してＸ軸ステージからのＹ軸ステージの浮き上がりを抑えるリテーナが着脱可能に取り付けられていることを特徴としている。
【０００９】
請求項５に係るステージ装置は、一対の案内部を一定方向に所定間隔をあけて設けたベースと、前記一定方向に延長された一条の被案内部が前記ベースの各案内部に接触して載置されるステージとを備えたステージ装置であって、前記ベースの案内部と前記ステージの被案内部は、いずれか一方が傾斜した案内面を交差させてなるＶ字状のガイド溝として形成され、他方が傾斜した案内面を交差させてなり前記ガイド溝に整合するＶ字状の凸状ガイドとして形成され、かつ前記ガイド溝と凸状ガイドの各案内面の挟角が６０°〜９０°未満に設定されていることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、以下の優れた効果を奏する。
すなわち、請求項１に係るステージ装置によれば、Ｘ軸ステージの一条の被案内部がＸ軸ステージの移動方向に間隔をあけ配置されたベースの案内部に支持されているので、前記被案内部の案内面が、前記案内部の案内面に片当たりすることなく密接して案内され、これにより、Ｘ軸ステージをＸ軸方向に直角なＹ軸方向に揺動させることなく、円滑に、かつ高精度に移動させることができる。
また、前記ベースの案内部とＸ軸ステージの被案内部の各案内面の挟角θが６０°〜９０°未満に設定されているので、Ｘ軸ステージにローリング作用が生じた場合であっても、被案内部の案内面の交差部が案内部の案内面によって規制されて、Ｘ軸ステージのＹ軸方向への変位を阻止されるため、Ｘ軸ステージがベースの案内部の案内面から浮き上がるのを確実に防止することができる。
したがって、前記Ｘ軸ステージを、Ｙ軸方向に傾くことなく、ベースの案内部の案内面に沿ってＸ軸方向に高い移動精度で移動させることができ、Ｘ軸ステージ上のワークや被検査物の測定等を高精度に行うことができる。
【００１１】
また、請求項２に係るステージ装置によれば、Ｘ軸ステージ上のＹ軸ステージを、Ｙ軸方向に直角なＸ軸方向に揺動させることなく、円滑に、かつ高精度に移動させることができると共に、ローリング作用によるＹ軸ステージのＸ軸ステージからの浮き上がりを確実に防止することができるので、Ｙ軸ステージ上に載置されたワークや被検査物をＸ軸、Ｙ軸方向に高い移動精度で移動させることができて、それらの測定等を一層的確に行うことができる。
【００１２】
また、請求項３に係るステージ装置によれば、万一、Ｘ軸ステージにローリング作用が生じても、リテーナによってＸ軸ステージの浮き上がりを確実に抑えることができるので、安全であり、Ｘ軸ステージの移動精度を保証することができる。
また、請求項４に係るステージ装置によれば、万一、Ｙ軸ステージにローリング作用が生じても、リテーナによってＹ軸ステージの浮き上がりを確実に抑えることができるので、安全であり、Ｙ軸ステージの移動精度を保証することができる。
【００１３】
さらに、請求項５に係るステージ装置によれば、固定台から取り外した状態のステージ上にワーク、被検査物等を設置して、ステージと一緒に前記固定台上に移載した場合に、前記ステージの被案内部が固定台の案内部に接触して、それらの案内面間の挟角の設定角度にもとづく作用により、前記ステージが固定台に安定して支持される。これにより、ステージ上のワーク、被検査物等が正しい設置状態を維持されて固定台上に載置されるので、前記ワークの工作機械による加工や治具による作業、被検査物等の測定器械による測定、検査等を正確に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態に係るステージ装置について図面を参照して説明する。
図１〜図３は本発明の第１の実施の形態に係るステージ装置１を示す。
前記ステージ装置１は、案内部２，２を有し、Ｘ軸方向（一定方向）ｘに所定間隔をあけて配置された一対の固定台（ベース）３，３と、Ｘ軸方向ｘに延長された一条の被案内部４が前記固定台３，３の各案内部２，２に支持案内されてＸ軸方向ｘに移動するＸ軸ステージ（ステージ）５とを備えている。
【００１５】
前記固定台３は、Ｘ軸方向ｘに直角なＹ軸方向ｙにおける両端の下部に床面へ据え付ける脚部３ａ，３ａを設けたＶ溝型ブロック状部材からなり、上面の中央に、前記案内部２がＸ軸方向ｘに向けて固定台３の幅（Ｘ軸方向ｘの長さ）の全長にわたって形成されている。前記案内部２は、下端で交差する一対の傾斜面（案内面）２ａ，２ｂを有し、上方が広く開放された側面視（図３）でＶ字状をなすガイド溝２ｃとして形成されている。前記各固定台３，３はそれらの案内部２，２がＸ軸方向ｘに一直線上に正確に整列するように床面に設置される。なお、各固定台３，３は、図１，２に鎖線で示すように接合板３ｂによって一体に連結してもよい。
【００１６】
また、前記Ｘ軸ステージ５は、側面視（Ｙ軸方向ｙに沿う断面視）で五角形状に形成され、Ｘ軸方向ｘに延長された長尺のステージ部材からなり、上面５ａがワークや被検査物を載置する平坦な作業面として形成され、下部に前記被案内部４がＸ軸方向ｘの全長にわたって設けられている。前記被案内部４は、一対の交差された傾斜面（案内面）４ａ，４ｂによって下方に突出した頂部を有し、側面視でＶ字状をなす凸状ガイド４ｃとして形成されている。
【００１７】
前記凸状ガイド４ｃは、その一方の傾斜面４ａと他方の傾斜面４ｂが、前記固定台３のガイド溝２ｃにおける一方の傾斜面２ａと他方の傾斜面２ｂにそれぞれ整合して密着され、前記被案内部４がガイド溝２ｃによって案内されてＸ軸方向ｘに摺動されるようになっている。なお、図示しないが、前記固定台３とＸ軸ステージ５との間には、固定台３に対してＸ軸ステージ５をＸ軸方向ｘに往復移動させる直線移動手段が設けられている。
そして、前記ガイド溝２ｃの傾斜面２ａ，２ｂ、凸状ガイド４ｃの傾斜面４ａ，４ｂの各挟角θは、６０°〜９０°未満の鋭角に設定されている。その場合、各傾斜面２ａ，２ｂ、４ａ，４ｂは、図３に示すように、それらの交差点を通る鉛直線Ｌに対して左右に同一の角度θ／２で傾斜し、かつ左右に同一の斜面長Ａを有するように設定されている。
【００１８】
なお、各挟角θは、前記凸状ガイド４ｃに加わる荷重が大きい場合に大きくし、荷重が小さい場合には小さくすることにより、各傾斜面２ａ，２ｂ、４ａ，４ｂに作用する面圧の上昇を抑えて、前記ガイド溝２ｃと凸状ガイド４ｃの摺動面の摩耗を可及的に減少させるようにする。前記ガイド溝２ｃの傾斜面２ａ，２ｂ、凸状ガイド４ｃの傾斜面４ａ，４ｂの各挟角θを６０°より小さくすると、凸状ガイド４ｃの楔作用によって各傾斜面２ａ，２ｂ、傾斜面４ａ，４ｂに垂直に加わる力（面圧）が増大し、ガイド溝２ｃと凸状ガイド４ｃとの間の摺動抵抗が増すので好ましくない。
【００１９】
前記のように構成された実施の形態に係るステージ装置４においては、例えば、前記Ｘ軸ステージ５の上面に治具等を介してエンドミル等の被検査物を載置して、図示しないがＸ軸ステージ５の上方に配置した顕微鏡等の測定器械によって、前記被検査物をＸ軸ステージ５をＸ軸方向に移動させながらその形状、寸法、欠陥等を検査する。その場合、Ｘ軸ステージ５がＸ軸方向ｘへの移動時に発生する何らかの力によって、前記Ｘ軸ステージ５にその軸回りの（Ｘ軸方向ｘに垂直な面内における）ローリング作用が生じたときには、図４に示すように、例えば、Ｘ軸ステージ５は、前記ガイド溝２ｃの一方の傾斜面２ａと凸状ガイド４ｃの一方の傾斜面４ａの上端の接触点ｅを支点にして他方の傾斜面２ｂ，４ｂ側が浮き上がろうとする。
【００２０】
その際、前記傾斜面２ａ，２ｂ、４ａ，４ｂの挟角θが９０°以上に設定されている場合には、前記Ｘ軸ステージ５は、その凸状ガイド４ｃの傾斜面４ａ，４ｂの交差部（頂部）４ｄが、図４（ａ）または同図Ｅ部の拡大図である図４（ｂ）に示すように、前記接触点ｅを支点とする半径Ａの円弧軌跡を通って、前記ガイド溝２ｃの傾斜面２ａから離れ、傾斜面２ａ，４ａ間に隙間Ｄがあくように変位し、前記Ｘ軸ステージ５がＹ軸方向ｙに傾いてしまう。その結果、該Ｘ軸ステージ５がＸ軸方向ｘにガイド溝２ｃに沿って正確に案内移動されなくなり、測定器械による被検査物の検査精度が低下することとなる。
【００２１】
しかし、前記実施の形態に係るステージ装置１においては、前記傾斜面２ａ，２ｂ、４ａ，４ｂの挟角θが６０°〜９０°未満に設定されているので、前記ローリング作用が生じた場合に、前記Ｘ軸ステージ５が前記接触点ｅを支点にして他方の傾斜面２ｂ，４ｂ側が浮き上がろうとしても、図５（ａ）とそのＥ部拡大図である図５（ｂ）に示すように、前記Ｘ軸ステージ５は、その凸状ガイド４ｃの傾斜面４ａ，４ｂの交差部（頂部）４ｄが、前記ガイド溝２ｃの傾斜面２ｂを押し付ける方向へ半径Ａの円弧軌跡を通るため、該傾斜面２ｂによって前記交差部４ｄの変位が抑えられ、Ｘ軸ステージ５の傾斜面４ｂ側の浮き上がりが防止される。その結果、前記Ｘ軸ステージ５は、Ｙ軸方向ｙに傾くことなく、ガイド溝２ｃに沿ってＸ軸方向ｘに正確に案内移動され、測定器械による被検査物の検査精度が向上される。
【００２２】
次に、図６は本発明の第２の実施の形態に係るステージ装置１Ａを示す。このステージ装置１Ａは、前記ステージ装置１が固定台３に案内部２としてＶ字状のガイド溝２ｃを設け、Ｘ軸ステージ５に被案内部４としてＶ字状の凸状ガイド４ｃを設けたのに対して、固定台（ベース）３Ａに案内部２としてＶ字状をなす凸状ガイド２ｃ’を設け、Ｘ軸ステージ５Ａに被案内部４としてＶ字状をなすガイド溝４ｃ’を設けたものである。その他の構成は、前記ステージ装置１と同じであるので、同一または同様な構成部分には同一の符号を付してそれらの説明は省略する。
【００２３】
前記固定台３Ａは、矩形状の台板３ｃのＸ軸方向ｘに間隔を隔てられた両端部に案内部材３ｄ，３ｄが立設され、該案内部材３ｄ，３ｄの上部に前記案内部２，２（２ｃ’、２ｃ’）がＸ軸方向ｘに沿って一直線状に整列して設けられて構成されている。また、前記Ｘ軸ステージ５Ａは、Ｘ軸方向ｘに延長された長尺のステージ部材の下部の中央に前記固定第３Ａの凸状ガイド２ｃ’に整合する前記ガイド溝４ｃ’をＸ軸方向ｘに沿って設けられて構成されている。このステージ装置１Ａにおいても、Ｘ軸ステージ５Ａの上面５ａに設置した被検査物の検査を行うに際して、前記ステージ装置１と同様な作用、効果を奏することができる。
【００２４】
次に、図７は本発明の第３の実施の形態に係るステージ装置１Ｂを示す。このステージ装置１Ｂは、前記ステージ装置１における固定台３，３が接合板３ｂで一体に連結されると共に、Ｘ軸ステージ５の中間にＸ軸方向ｘに直交するＹ軸方向（一定方向）ｙに向けて延長されたスライド台６を固定して設けられ、さらに、該スライド台６上に、そのＹ軸方向ｙに間隔をあけて設けた一対の案内部７，７によって、一条の被案内部８を支持案内されてＹ軸方向ｙに移動するＹ軸ステージ（ステージ）９が搭載された構成とされている。
【００２５】
前記スライド台６の一対の案内部７，７は、前記ステージ装置１の固定台３，３の案内部２，２と同様に、傾斜面（案内面）７ａ，７ｂが交差してその挟角θが６０°〜９０°未満のＶ字状のガイド溝７ｃとして形成されている。また、前記Ｙ軸ステージ９の被案内部８は、前記ステージ装置１のＸステージ５の被案内部４と同様に、傾斜面（案内面）８ａ，８ｂが交差してその挟角θが６０°〜９０°未満とされ、前記案内部７，７の傾斜面７ａ，７ｂに整合して密着されるＶ字状の凸状ガイド８ｃとして形成されている。そして、Ｙ軸ステージ９の上面９ａがワークや被検査物を載置する平坦な作業面として形成されている。
その他の構成は、前記ステージ装置１と同様であるので、同一または同様な構成部分には同一の符号を付してそれらの説明は省略する。
【００２６】
第３の実施の形態に係るステージ装置１Ｂにおいては、前記Ｙステージ９の上面にワークや被検査物が載置され、Ｘ軸ステージ５とＹ軸ステージ９がＸ軸、Ｙ軸方向ｘ，ｙに適宜に移動されながら、図示しない測定器械によって前記ワークや被検査物が検査される。その際、前記ステージ装置１の場合と同様にＸ軸ステージ５が固定台３，３の案内部２、２によってＸ軸方向ｘに円滑に、かつ高精度に案内移動されると共に、前記Ｙ軸ステージ９が、固定台３，３に対するＸ軸ステージ５の移動と同様に、スライド台６の案内部７，７によってＹ軸方向ｙに円滑に、かつ高精度に案内移動される。したがって、前記ステージ装置１，１Ａの場合に比べて、ワークや被検査物を載置する作業台としてのＹ軸ステージ９がＸ軸、Ｙ軸方向ｘ、ｙに正確に案内移動され、ワークや被検査物の測定器械による測定等が一層的確に行われる。
【００２７】
以上説明したように、本発明の第１、第２の実施の形態に係るステージ装置１，１Ａは、一対の案内部２，２をＸ軸方向ｘに所定間隔をあけて設けた固定台３，３Ａと、Ｘ軸方向ｘに延長された一条の被案内部４（凸４状ガイド４ｃ、ガイド溝４ｃ’）が前記固定台３，３Ａの各案内部２，２に支持案内されてＸ軸方向ｘに移動するＸ軸ステージ５，５Ａとを備え、前記固定台３，３Ａの案内部２，２と前記Ｘ軸ステージ５，５Ａの被案内部４は、いずれか一方が傾斜した案内面２ａ，２ｂ（４ａ，４ｂ）を交差させてなるＶ字状のガイド溝２ｃ（４ｃ’）として形成され、他方が傾斜した案内面４ａ，４ｂ（２ａ，２ｂ）を交差させてなり、前記ガイド溝２ｃ（４ｃ’）に整合するＶ字状の凸状ガイド４ｃ（２ｃ’）として形成され、かつ前記ガイド溝２ｃ，４ｃ’と凸状ガイド４ｃ，２ｃ’の各案内面の挟角が６０°〜９０°未満に設定された構成とされている。
【００２８】
したがって、前記実施の形態に係るステージ装置１，１Ａによれば、前記Ｘ軸ステージ５，５Ａの一条の被案内部４がＸ軸ステージ５，５ＡのＸ軸方向ｘ（移動方向）に間隔をあけ配置された固定台３，３Ａの案内部２，２に支持されているので、前記被案内部４の案内面４ａ，４ｂが、前記案内部２，２の案内面２ａ，２ｂに片当たりすることなく密接して案内され、これにより、Ｘ軸ステージ５，５ＡをＹ軸方向ｙに揺動させることなく、円滑に、かつ高精度に移動させることができる。
【００２９】
また、前記固定台３，３Ａの案内部２，２とＸ軸ステージ５，５Ａの被案内部４の各案内面２ａ，２ｂ、４ａ，４ｂの挟角θが６０°〜９０°未満に設定されているので、Ｘ軸ステージ５，５Ａにローリング作用が生じた場合であっても、被案内部４の案内面４ａ，４ｂの交差部が案内部２，２の案内面２ａ，２ｂによって規制されて、Ｘ軸ステージ５，５ＡのＹ軸方向ｙ方向への変位を阻止されるため、Ｘ軸ステージ５，５Ａが固定台３，３Ａの案内部２，２の案内面２ａ，２ｂから浮き上がるのを確実に防止することができる。
したがって、前記Ｘ軸ステージ５，５Ａを、Ｙ軸方向ｙに傾くことなく、固定台３，３Ａの案内部２，２の案内面２ａ，２ｂに沿ってＸ軸方向ｘに高い移動精度で移動させることができ、Ｘ軸ステージ５，５Ａ上のワークや被検査物の測定等を高精度に行うことができる。
【００３０】
また、本発明の第３の実施の形態に係るステージ装置１Ｂは、前記Ｘ軸ステージ５において、前記Ｘ軸方向ｘに直交するＹ軸方向ｙに間隔をあけて設けた一対の案内部７，７に、一条の被案内部８を支持案内されてＹ軸方向ｙに移動するＹ軸ステージ９が搭載され、前記Ｘ軸ステージ５の案内部７，７が傾斜した案内面７ａ，７ｂを交差させてなるＶ字状のガイド溝７ｃとして形成され、前記Ｙ軸ステージ９の被案内部８が傾斜した案内面８ａ，８ｂを交差させてなり前記ガイド溝７ｃに整合するＶ字状の凸状ガイド８ｃとして形成され、かつ前記ガイド溝７ｃと凸状ガイド８ｃの各案内面７ａ，７ｂ、８ａ，８ｂの挟角θが６０°〜９０°未満に設定された構成とされている。
【００３１】
したがって、Ｘ軸ステージ５上のＹ軸ステージ９を、Ｙ軸方向ｙに直角なＸ軸方向ｘに揺動させることなく、円滑に、かつ高精度に移動させることができると共に、ローリング作用によるＹ軸ステージ９のＸ軸ステージ５からの浮き上がりを確実に防止することができるので、Ｙ軸ステージ９上に載置されたワークや被検査物をＸ軸、Ｙ軸方向に高い移動精度で移動させることができて、それらの測定等を一層的確に行うことができる。
【００３２】
なお、前記実施の形態に係るステージ装置１Ｂにおいては、固定台３，３とスライド台６の案内部２，２、７，７に、それぞれガイド溝４ｃ、７ｃを形成し、Ｘ軸、Ｙ軸ステージ５，９に凸状ガイド４ｃ，８ｃを形成したが、これとは逆に、固定台３，３とスライド台６にそれぞれ凸状ガイド（案内部）を形成し、Ｘ軸、Ｙ軸ステージ５，９にそれぞれガイド溝（被案内部）を形成するようにしてもよい。
【００３３】
また、前記実施の形態に係るステージ装置１，１Ａ，１Ｂにおいては、前記固定台３，３Ａ上にＸ軸ステージ５，５Ａを単に載置した構成として示されているが、本発明はこれに限らず、例えば、図１〜図３に破線で示すように、前記Ｘ軸ステージ５の両側に切欠き段部としてリテーナ係合部５ｂをＸ軸方向ｘに沿って形成し、前記固定台３の両側上端に前記リテーナ係合部の上面に係合してＸ軸ステージ５の上方への移動を規制するリテーナ１０をボルト等によって着脱可能に取り付けた構成とすることができる。このように構成すると、万一、Ｘ軸ステージ５にローリング作用が生じても、リテーナ１０によってＸ軸ステージ５の浮き上がりを確実に抑えることができるので、安全であり、Ｘ軸ステージ５の移動精度を保証することができる。
【００３４】
前記リテーナ係合部５ｂとリテーナ１０は、図１〜図３に破線で示す構成に限らず、前記固定台３，３ＡとＸ軸ステージ５，５Ａのうちの一方に、リテーナ係合部５ｂがＸ軸方向ｘに沿って形成され、固定台３，３ＡとＸ軸ステージ５，５Ａのうちの他方に、前記リテーナ係合部５ｂに係合して固定台３，３ＡからのＸ軸ステージ５，５Ａの浮き上がりを抑えるリテーナが着脱可能に取り付けられた構成であればよい。
さらに、同様に、前記スライド台６とＹ軸ステージ９のうちの一方に、リテーナ係合部がＹ軸方向に沿って形成され、前記スライド台６とＹ軸ステージ９のうちの他方に、前記リテーナ係合部に係合してＸ軸ステージからのＹ軸ステージの浮き上がりを抑えるリテーナが着脱可能に取り付けられた構成とすることができる。このように構成すると、万一、Ｙ軸ステージ９にローリング作用が生じても、リテーナによってＹ軸ステージ５のスライド台６からの浮き上がりを確実に抑えることができるので、安全であり、Ｙ軸ステージ９の移動精度を保証することができる。
【００３５】
なお、前記実施の形態に係るステージ装置１，１Ａ，１Ｂにおいては、固定台３，３Ａの案内部２，２に被案内部４を介してＸ軸ステージ５，５Ａを支持して、固定台３，２Ａに対してＸ軸ステージ５，５ＡをＸ軸方向ｘに案内して往復移動させ、また、Ｙ軸ステージ９に対して固定台となるＸ軸ステージ５の案内部７，７に被案内部８を介してＹ軸ステージ９を支持して、Ｘ軸ステージ５に対してＹ軸ステージ９をＹ軸方向ｙに案内して往復移動させるように構成されているが、本発明はこれに限らず、前記Ｘ軸ステージ５，５Ａ、Ｙ軸ステージ９は、固定台３，３Ａ、固定台としてのＸ軸ステージ５に対して往復移動する可動体としてではなく、それら対して案内部を介して静止状態で載置される設置台、治具として機能させることもできる。
【００３６】
この場合には、例えば、前記固定台３，３Ａ、Ｘ軸ステージ５から取り外した状態のＸ軸ステージ５，５Ａ、Ｙ軸ステージ９上に工具、ワークや被検査物等を設置して、Ｘ軸ステージ５，５Ａ、Ｙ軸ステージ９と一緒に固定台３，３Ａ、固定台としてのＸ軸ステージ５に移載した場合に、前記Ｘ軸ステージ５，５Ａ、Ｙ軸ステージ９の被案内部４が前記固定台３，３Ａ、固定台としてのＸ軸ステージ５の前記案内部２，２、７，７に接触して、前記ステージ装置１，１Ａ，１Ｂの場合と略同様に、案内面２ａ，２ｂ間および案内面４ａ，４ｂ間の挟角θの設定角度にもとづく作用により、前記Ｘ軸ステージ５，５Ａ、Ｙ軸ステージ９が前記固定台３，３Ａ、Ｘ軸ステージ５に安定して支持される。これにより、Ｘ軸ステージ５，５Ａ、Ｙ軸ステージ９上の被検査物等が正しい設置状態を維持されて固定台３，３Ａ、Ｘ軸ステージ５上に載置されるので、前記ワークの工作機械による加工や治具による作業、工具、ワークや被検査物等の測定器械による測定、検査等を正確に行うことができる。
【００３７】
本発明の実施の形態に係るステージ装置１，１Ａ，１Ｂを工具、ワークや被検査物を測定器等に対してＸ軸方向または直交するＸ軸，Ｙ軸方向ｘ，ｙに案内移動させて、測定器械による工具、ワークや被検査物の測定、検査を行う場合について示したが、本発明はこれに限らず、ワークの工作機械による加工や治具による作業を行う場合、電子回路基板の欠陥部を補修する場合等におけるステージ装置として適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の一実施の形態に係るステージ装置を示す平面図である。
【図２】同じく正面図である。
【図３】同じく左側面図である。
【図４】同じく固定台の案内部に対する移動体の被案内部の挙動（その１）を示す説明図である。
【図５】同じく固定台の案内部に対する移動体の被案内部の挙動（その２）を示す説明図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態に係るステージ装置を示す斜視図である。
【図７】本発明の第３の実施の形態に係るステージ装置を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００３９】
１，１Ａ，１Ｂ  ステージ装置
２，７  案内部
２，２ｂ，４ａ，４ｂ，７ａ，７ｂ  傾斜面（案内面）
２ｃ，４ｃ’  ガイド溝
２ｃ’，４ｃ  凸状ガイド
３  固定台（ベース）
４，８  被案内部
５  Ｘ軸ステージ（ステージ）
５ｂ  リテーナ係合部
６  スライド台
９  Ｙ軸ステージ（ステージ）
１０  リテーナ
θ  狭角
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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