(57)【要約】【課題】  簡易な構成でセメント排ガス中の有害物質及び臭気物質を一緒に除去できる排ガス処理設備及び排ガス処理方法を提供する。【解決手段】排ガス処理設備１は、活性炭２を内部に有する活性炭収容塔４であって、窒素酸化物と有機系の臭気物質とを含んだ排ガスを活性炭に通すことによって窒素酸化物に触媒反応を生じせしめると共に臭気物質を活性炭に吸着させる活性炭収容塔と、活性炭収容塔に供給される排ガスにアンモニアガスを添加するアンモニアガス添加装置５と、を備える。そして、このガス処理設備１では、活性炭収容塔に供給される排ガスの温度は９０℃〜１２０℃であり、活性炭収容塔における空間速度は２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性炭を内部に有する活性炭収容塔であって、窒素酸化物と有機系の臭気物質とを含んだ排ガスを前記活性炭に通すことによって前記窒素酸化物に触媒反応を生じさせ、前記臭気物質を前記活性炭に吸着させる活性炭収容塔と、
前記活性炭収容塔に供給される前記排ガスにアンモニアガスを添加するアンモニアガス添加装置と、
を備え
前記活性炭収容塔に供給される前記排ガスの温度が９０℃〜１２０℃であり、
前記活性炭収容塔における空間速度が２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）であることを特徴とする排ガス処理設備。
【請求項２】
前記空間速度が２５０（１／ｈ）〜８００（１／ｈ）であることを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理設備。
【請求項３】
前記空間速度が２５０（１／ｈ）〜５００（ｌ／ｈ）であることを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理設備。
【請求項４】
窒素酸化物と有機系の臭気物質とを含んだ排ガスの温度を９０℃〜１２０℃に調整する温度調整工程と、
前記排ガスにアンモニアガスを添加する添加工程と、
前記温度調整工程及び前記添加工程を経た後の前記排ガスを、活性炭収容塔内に配置された活性炭に、空間速度を２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）として通すことによって、前記窒素酸化物に触媒反応を生じさせ、前記臭気物質を前記活性炭に吸着させる除去工程と、
を備える排ガス処理方法。
【請求項５】
前記空間速度が２５０（１／ｈ）〜８００（１／ｈ）であることを特徴とする請求項４に記載の排ガス処理方法。
【請求項６】
前記空間速度が２５０（１／ｈ）〜５００（１／ｈ）であることを特徴とする請求項４に記載の排ガス処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セメント製造時に発生する排ガスを好適に処理するための排ガス処理設備及び排ガスを処理する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、セメントの製造には、原料または燃料の一部として廃棄物が使用されてきている。この場合、セメント製造によって生じる排ガス（以下、「セメント排ガス」と称す）には、燃焼に伴い発生するＮＯｘ等の有害物質、及び、アセトアルデヒド等の有機系の臭気物質等が含まれている。よって、セメント排ガスの処理では、有害物質の除去のみならず、上記臭気物質の除去も求められている。
【０００３】
一般に、排ガスから有害物質（ＮＯｘ等）を除去する装置や、臭気物質（アセトアルデヒド等）を除去する装置としては、活性炭を利用したものがある。例えば、特許文献１に記載の装置では、排ガスにアンモニアガスを添加した後に、吸着塔（活性炭収容塔）内の活性炭に通す。これによって、排ガスに含まれる有害物質（例えば、ＮＯｘ）を触媒反応によって除去している。
【特許文献１】特開２００３−２８６０２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ＮＯｘ等の有害物質を除去する場合と臭気物質を除去する場合とでは、活性炭に通す排ガスの温度が異なっている。すなわち、有害物質を除去する場合には、排ガスの温度は１１０°以上を要するのに対して、臭気物質を取り除く場合には、排ガスの温度は、常温（例えば、５０℃以下）である。
【０００５】
そのため、例えば、特許文献１に記載の排ガス処理設備を利用して、セメント排ガスを処理しようとすると、吸着塔（活性炭収容塔）の前段に、臭気物質を除去するための吸着塔を更に設ける必要があり、装置構成が複雑化していた。
【０００６】
そこで、本発明は、簡易な構成でセメント排ガス中の有害物質及び臭気物質を一緒に除去できる排ガス処理設備及び排ガス処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明者らは鋭意研究を実施し、活性炭収容塔に導入する排ガスの温度及び空間速度（SV：SpaceVelocity）が所定の条件を満たせば、活性炭を利用して排ガスから臭気物質と窒素酸化物とを一緒に除去できることを見出した。
【０００８】
すなわち、本発明に係る排ガス処理設備は、活性炭を内部に有する活性炭収容塔であって、窒素酸化物と有機系の臭気物質とを含んだ排ガスを活性炭に通すことによって窒素酸化物に触媒反応を生じせ、臭気物質を活性炭に吸着させる活性炭収容塔と、活性炭収容塔に供給される排ガスにアンモニアガスを添加するアンモニアガス添加装置と、を備え、活性炭収容塔に供給される排ガスの温度が９０℃〜１２０℃であり、活性炭収容塔における空間速度が２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）であることを特徴とする。
【０００９】
上記構成では、活性炭収容塔に供給される排ガスには、アンモニアガス添加装置によってアンモニアガスが添加される。これにより、活性炭収容塔には、アンモニアを含んでおり温度が９０℃〜１２０℃である排ガスが活性炭収容塔に供給されることになる。そして、活性炭収容塔に供給された排ガスは、空間速度２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）で活性炭を通される。
【００１０】
排ガスの温度が低いと窒素酸化物に触媒反応を起こしにくく、温度が高いと臭気物質が活性炭に吸着しにくい傾向にある。また、空間速度が大きくなると、窒素酸化物に触媒反応を起こしにくく臭気物質を活性炭へ吸着させることが困難になり、空間速度が小さいと設備が大きくなる傾向にある。これに対して、上記条件を満たした排ガスを活性炭に通すことによって、簡易な構成で排ガスに含まれる窒素酸化物に触媒反応を生じさせ且つ臭気物質を活性炭に吸着せることが効率よく、より確実に可能である。
【００１１】
上記空間速度は、２５０（１／ｈ）〜８００（１／ｈ）であることが好ましく、更に、２５０（１／ｈ）〜５００（ｌ／ｈ）であることが好ましい。
【００１２】
また、本発明に係る排ガス処理方法は、窒素酸化物と有機系の臭気物質とを含んだ排ガスの温度を９０℃〜１２０℃に調整する温度調整工程と、排ガスにアンモニアガスを添加する添加工程と、温度調整工程及び添加工程を経た後の排ガスを、活性炭収容塔内に配置された活性炭に、空間速度を２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）として通すことによって、窒素酸化物に触媒反応を生じさせ、臭気物質を活性炭に吸着させる除去工程と、を備えることを特徴とする。
【００１３】
上記構成では、アンモニアガスが添加されており、温度が９０℃〜１２０℃である排ガスが活性炭収容塔に導入される。そして、活性炭収容塔に導入された排ガスは、空間速度２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）で活性炭を通される。排ガスの温度が低いと窒素酸化物に触媒反応をしにくく、温度が高いと臭気物質が活性炭に吸着しにくい傾向にある。また、空間速度が大きくなると、窒素酸化物に触媒反応を起こしにくく臭気物質を活性炭へ吸着させることが困難になり、空間速度が小さいと設備が大きくなる傾向にある。これに対して、上記条件を満たした排ガスを活性炭に通すことによって、簡易な構成で排ガスに含まれる窒素酸化物に触媒反応を生じさせ且つ臭気物質を活性炭に吸着せることが効率よく、より確実に可能である。
【００１４】
この排ガス処理方法では、空間速度が２５０（１／ｈ）〜８００（１／ｈ）であることが好ましく、空間速度が２５０（１／ｈ）〜５００（１／ｈ）であることが更に好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の排ガス処理設備及び排ガス処理方法では、簡易な構成でセメント排ガス中の窒素酸化物と臭気物質とを一緒に除去できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、本発明に係る排ガス処理設備及び排ガス処理方法の好適な実施形態について詳細に説明する。
【００１７】
図１は、本発明に係る排ガス処理設備の一実施形態の構成を示すブロック図である。排ガス処理設備１は、原料または燃料の一部として廃棄物を使用してセメントを製造することによって発生する排ガスを活性炭２を利用して処理する。
【００１８】
本明細書では、セメント製造によって発生する排ガスであって、少なくとも窒素酸化物（ＮＯｘ）及び有機系の臭気物質を含んでいる排ガスをセメント排ガスと称す。セメント排ガスに含まれる有機系の臭気物質としては、アセトアルデヒド、ホルムアルデヒド及びベンゼンなどが例示される。また、セメント排ガスとしては、水分：１０〜２０％、酸素濃度：８〜１５％、煤塵：０〜５０ｍｇ／ｍ３Ｎ、ＳＯ２：０〜１００ｐｐｍ、ＮＯｘ：２００〜５００ｐｐｍ、ＨＣｌ：０〜１０ｍｇ／ｍ３Ｎ、ＮＨ３：０〜６０ｐｐｍ、アセトアルデヒド：０〜２０ｐｐｍを含むものも例示される。
【００１９】
排ガス処理設備１は、活性炭２を通過するセメント排ガスの温度（以下、排ガス温度とも称す）、及び空間速度（SV : Space Velocity）を調整することによって、セメント排ガスに含まれるＮＯｘを含む有害物質と、有機系の臭気物質とを一緒に除去することを特徴とする。
【００２０】
排ガス処理設備１は、セメント排ガスの温度を調整する温度調整装置３を備える。温度調整装置３は、排ガスラインＬ１に接続されている。この排ガスラインＬ１を通してセメント製造用のプラントからの高温のセメント排ガスが温度調整装置３に導入される。温度調整装置３は、導入されたセメント排ガスを所定の温度に冷却する。温度調整装置３としては、空気（エアー）取り込み方式のものや、散水スプレー式のものが例示される。また、温度調整装置３には熱交換器等も使用することも可能である。温度調整装置３は、冷却したセメント排ガスを排ガスラインＬ２を通して活性炭収容塔４に導入する。排ガスラインＬ２には、アンモニアガス添加装置（以下、単に「添加装置」と称す）５が接続されており、添加装置５は、排ガスにＮＨ３ガスを添加する。これにより、活性炭収容塔４には、ＮＨ３ガスが添加されたセメント排ガスが導入されることになる。
【００２１】
活性炭収容塔４は、活性炭２を収容しており、セメント排ガスを活性炭２に通すことによってセメント排ガスに含有される有害物質に触媒反応を生じさせ且つ臭気物質を活性炭２に吸着させて除去する。この活性炭２は、有害物質（NOｘ等）と臭気物質とを一緒に除去するために、嵩比重が６５０±５０ｋｇ／ｍ３（６５０±５０ｇ／ｌ）であってＳＯ２吸着量が９０ｍｇ・ＳＯ２／ｇＡＣ以上であることが好ましい。
【００２２】
活性炭収容塔４は、セメント排ガスを水平方向に流しながら活性炭２を上下方向に移動させて活性炭２とセメント排ガスとを接触させる、いわゆる直交流型の移動層式のものである。この活性炭収容塔４の構成についてより具体的に説明する。
【００２３】
活性炭収容塔４の一側面には、排ガスラインＬ２に接続された排ガス入口４ａが設けられており、排ガス入口４ａと反対側の側面には、活性炭２を通過した排ガスを排出する排ガス出口４ｂが設けられている。排ガス出口４ｂは、排ガスラインＬ３によって煙突６と接続されている。これにより、排ガス出口４ｂから排出された排ガスは、煙突６を通して外部に放出される。
【００２４】
また、活性炭収容塔４の上部には、後述する脱離・再生塔７によって再生された活性炭２を活性炭収容塔４内に導入するためのバルブ４ｃが設けられており、活性炭収容塔４の下部には、使用された活性炭２を排出するためのバルブ４ｄが設けられている。この活性炭収容塔４内において、活性炭２は、バルブ４ｃ側からバルブ４ｄ側に向けて移動可能に収容されている。
【００２５】
排ガス処理設備１では、有害物質と臭気物質とを一緒に活性炭２に吸着させる観点から、活性炭収容塔４における空間速度（SV : Space Velocity）を２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）としている。このＳＶは、２５０（１／ｈ）〜８００（１／ｈ）がより好ましく、２５０（１／ｈ）〜５００（１／ｈ）が更に好適である。
【００２６】
ＳＶは、１時間当たりに活性炭２に流れるセメント排ガス量（ｍ３Ｎ／ｈ）を有効活性炭容量（ｍ３）で除したものであり、１時間当たりに流れるセメント排ガス量が有効活性炭容量の何倍であるかを示している。この有効活性炭容量とは、セメント排ガスと接触する活性炭２の容量である。言い換えれば、排ガス入口４ａから排ガス出口４ｂに向かうセメント排ガスの流路上に位置する活性炭２の容量であって、例えば、図１の活性炭収容塔４では、一点鎖線で囲まれた領域内の活性炭２の容量である。上記定義から明らかなように、ＳＶは、活性炭収容塔４に導入されるセメント排ガス量を調整するか、又は、有効活性炭容量を変えることで調整することができる。
【００２７】
排ガス処理設備１は、活性炭収容塔４で使用された活性炭２を再生するための脱離・再生塔７を備える。
【００２８】
脱離・再生塔７は、上部及び下部に配置されたバルブ７ａ及びバルブ７ｂを有する。バルブ７ａは、活性炭２を搬送する活性炭搬送ラインＬ４によってバルブ４ｄと接続されており、バルブ７ｂは、活性炭搬送ラインＬ５によってバルブ４ｃと接続されている。活性炭搬送ラインＬ４，Ｌ５は、例えばベルトコンベヤである。脱離・再生塔７は、バルブ７ａを通して導入された活性炭２を、不活性ガス（例えば、窒素ガス）雰囲気中で活性炭２を加熱して活性炭２に吸着した物質を脱離・分解することで再生する。そして、再生した活性炭２を冷却した後、バルブ７ｂを通して排出し、活性炭搬送ラインＬ５を通して活性炭収容塔４に搬送する。
【００２９】
次に、排ガス処理設備１を利用してセメント排ガスを処理する方法について説明する。
【００３０】
セメント製造用のプラントで発生したセメント排ガスは、排ガスラインＬ１を通って温度調整装置３に導入される。そして、温度調整装置３によって、９０℃〜１２０℃に冷却された後（温度調整工程）、排ガスラインＬ２及び排ガス入口４ａを通って活性炭収容塔４内に導入される。セメント排ガスが排ガスラインＬ２を流れているとき、セメント排ガスには、添加装置５によりＮＨ３ガスが添加される（添加工程）。これにより、活性炭収容塔４内には、ＮＨ３ガスが添加された温度９０〜１２０℃のセメント排ガスが導入されることになる。
【００３１】
活性炭収容塔４内に導入されたセメント排ガスは、ＳＶが２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）の何れかの値、好ましくは２５０（１／ｈ）〜８００（１／ｈ）の何れかの値、更に好ましくは２５０（１／ｈ）〜５００（１／ｈ）の何れかの値で、活性炭２を通過する。これにより、セメント排ガス内の有害物質に触媒反応が生じ、臭気物質が活性炭２に吸着することになる（除去工程）。活性炭２を通過した排ガスは、排出ラインＬ３を通して煙突６から外部に排出される。
【００３２】
また、活性炭収容塔４内で、臭気物質等が吸着した活性炭２は、バルブ４ｄを通して排出され、活性炭搬送ラインＬ４によって、脱離・再生塔７に搬送される。バルブ７ａを通して脱離・再生塔７内に導入された活性炭２は、不活性ガス雰囲気中で加熱されることで、活性炭２に吸着した物質が脱離・分解されて再生された後、冷却される。そして、バルブ７ｂ及び活性炭搬送ラインＬ５によって活性炭収容塔４に搬送され、バルブ４ｃを通して活性炭収容塔４内に再度導入されることになる。
【００３３】
ここで、排ガスの温度を９０℃〜１２０℃とし、ＳＶを２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）とすることで、有害物質と臭気物質とを一緒に除去できることを、実験結果に基づいて説明する。この実験では、有害物質としては、セメント排ガスに常に含まれているＮＯｘとした。
【００３４】
実施例１として、排ガス処理設備１を利用してセメント排ガスの処理を実施した。使用した活性炭２は、セメント排ガス用活性炭（住友重機械工業株式会社製）である。この活性炭２は、嵩比重が６５０±５０ｋｇ／ｍ３（６５０±５０ｇ／ｌ）であり、ＳＯ２吸着量が９０ｍｇ・ＳＯ２／ｇＡＣ以上のものである。実施例１では、先ず、排ガスラインＬ１を通って流れてくるセメント排ガスを温度調整装置３で１１０℃に冷却した。次いで、排ガスラインＬ２を流れるセメント排ガスに添加装置５によってＮＨ３ガスをＮＯｘに対して同当量を添加した後、活性炭収容塔４内の活性炭２に通すことでセメント排ガスの処理を実施した。活性炭収容塔４におけるセメント排ガスのＳＶは、表１に示すように、３００（１／ｈ）とした。
【００３５】
そして、活性炭２の通過前後、より具体的には、活性炭収容塔４の前後でのセメント排ガスに含まれる臭気濃度及びＮＯｘ濃度を使用して、臭気除去率及びＮＯｘ除去率をそれぞれ算出した。その結果は、表１に示すように、臭気除去率は７６．２９％であり、ＮＯｘ除去率は５１．４６％であった。
【表１】
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【００３６】
また、実施例２及び実施例３として、セメント排ガスの温度及びＳＶを実施例１の条件から表１に示したように変えた点以外は実施例１の場合と同じ条件で、排ガス処理設備１を利用してセメント排ガスの処理を実施した。実施例２及び実施例３での、臭気除去率及びＮＯｘ除去率は表１に示した通りである。
【００３７】
更に、比較例１、比較例２及び比較例３として、セメント排ガスの温度及びＳＶを実施例１の条件から表１に示したように変えた点以外は実施例１の場合と同じ条件で、排ガス処理設備１を利用してセメント排ガスの処理を実施した。比較例１及び比較例２では、実施例１と同様にＮＯｘ除去率を算出した。算出結果は表１に示した通りである。また、比較例３では、実施例１と同様にして臭気除去率及びＮＯｘ除去率を算出した。比較例３の臭気除去率及びＮＯｘ除去率は、表１に示した通りである。
【００３８】
図２は、ＳＶに対する臭気除去率を示すグラフである。図２において、横軸はセメント排ガスのＳＶ（１／ｈ）を示しており、縦軸は臭気除去率（％）を示している。図２では、実施例１〜３及び比較例３の結果について示している。図３は、ＳＶに対するＮＯｘ除去率を示すグラフである。図３において、横軸はセメント排ガスのＳＶ（１／ｈ）を示しており、縦軸はＮＯｘ除去率（％）を示している。図３では、図２と同様に、実施例１〜３及び比較例３の結果について示している。図４は、排ガス温度に対するＮＯｘ除去率の変化を示すグラフである。横軸はセメント排ガスの温度（℃）を示し、縦軸はＮＯｘ除去率（％）を示している。図４では、実施例１及び比較例１，２の実験結果を示している。
【００３９】
図２及び表１に示すように、ＳＶを変化させた場合、臭気除去率は、実施例１〜実施例３の方が、比較例３に対して高く、より多くの臭気物質を除去できている。また、図２に示した実験結果より、ＳＶを調整することによって、排ガス温度が１１０℃でも臭気物質を活性炭２に吸着させて除去できていることがわかる。
【００４０】
更に、図３及び表１に示すように、排ガス温度が１１０℃であってもＳＶが１２００（１／ｈ）の場合には、ＮＯｘ除去率は３０％未満であった。これに対して、実施例１〜３でのＮＯｘ除去率は、４０％を超えており、実施例１〜３の方が比較例３に対してより多くのＮＯｘを除去できている。
【００４１】
また、図４及び表１に示すように、排ガス温度が１１０℃である実施例１の場合ではＮＯｘ除去率は５０％を超えている。これに対して、排ガス温度が７５℃の場合（比較例１及び比較例２の場合）には、ＮＯｘ除去率が３０％未満となっていた。これにより、温度の高い実施例１の方が、比較例１及び比較例２の場合よりも多くのＮＯｘを除去できることが分かる。なお、比較例１及び比較例２では、表１に示すように、ＳＶは２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）の範囲内の３００（１／ｈ）である。
【００４２】
ところで、臭気物質を活性炭で除去する観点からは、排ガス温度は、従来、常温程度が良いとされていた。しかしながら、図４に示したように、ＮＯｘを除去する観点からは、セメント排ガスの温度は７５℃より高い方が好ましい。本発明者らは、図２に示したように、ＳＶを調整することによって、常温より高い１１０℃近傍であってもＮＯｘを除去しながら脱臭も可能であることを見出した。
【００４３】
このように１１０℃において、臭気物質を活性炭２に吸着させることが可能であることから、排ガス温度が１１０℃より低ければ臭気物質をより多く活性炭２に吸着可能である。そして、ＮＯｘ除去の観点から高温が好ましい点も考慮すると、ＮＯｘと臭気物質とを一緒に除去するためには、セメント排ガスの温度は、９０℃〜１２０℃である必要がある。
【００４４】
また、図２及び図３から理解されるように、ＳＶは、１２００（１／ｈ）より小さい方が臭気物質及びＮＯｘをより多く除去できる傾向にあるが、ＳＶが２５０（１／ｈ）より小さくなると、臭気物質及びＮＯｘのさらなる除去性能の向上が望めない傾向にある。そのため、臭気物質とＮＯｘとを一緒に活性炭２に吸着させるには、上記傾向を考慮すると、ＳＶは、２５０（１／ｈ）〜１０００（１／ｈ）である必要がある。そして、図２及び図３に示されているように、臭気物質及びＮＯｘをより多く除去する観点から、ＳＶは、２５０（１／ｈ）〜８００（１／ｈ）がより好ましく、２５０（１／ｈ）〜５００（１／ｈ）が更に好ましい。
【００４５】
以上説明したように、ＳＶが２５０〜１０００（１／ｈ）の範囲内の値であって、排ガス温度が９０℃〜１２０℃の範囲内の値とすることによって、ＮＯｘに触媒反応を生じさせ且つ臭気物質を活性炭２に吸着させることが可能である。そして、実際、上記範囲を満たす実施例１〜３では、比較例１〜３よりも大きい除去率で、臭気物質とＮＯｘとを一緒に除去できている。ここでは、有害物質の一例としてセメント排ガスに含まれるＮＯｘの除去率について説明したが、セメント排ガスに含まれるＮＯｘ以外の有害物質（例えば、ＳＯｘ）を除去する場合の条件は、ＮＯｘとほぼ同様である。そのため、上記温度条件及びＳＶ条件でＮＯｘ以外の有害物質も除去可能である。
【００４６】
従来、活性炭を利用することによって、排ガスからＮＯｘ等の有害物質を除去する場合と臭気物質を除去する場合とでは、活性炭に通す排ガスの温度が相違するため、有害物質を除去するための活性炭収容塔と、臭気物質を除去するための活性炭収容塔とをそれぞれ用意しなければならないと考えられていた。
【００４７】
これに対して、排ガス処理設備１では、ＳＶ及び排ガス温度を調整することによって、１つの活性炭収容塔４を利用して、セメント排ガスに含まれるＮＯｘ等の有害物質と臭気物質とを除去可能である。この排ガス処理設備１では、従来のように２つの活性炭収容塔を利用しなくてもよいため、簡易な構成となっている。その結果として、排ガス処理設備１の製造コストの低減も図れている。
【００４８】
以上、本発明に係る排ガス処理設備及び排ガス処理方法の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。活性炭は、炭素を利用しており、臭気物質及び窒素酸化物（ＮＯｘ）を吸着できるものであればよい。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明に係る排ガス処理設備の一実施形態の構成を示すブロック図である。
【図２】空間速度（ＳＶ）に対する臭気除去率を示すグラフである。
【図３】空間速度（ＳＶ）に対するＮＯｘ除去率を示すグラフである。
【図４】排ガス温度に対するＮＯｘ除去率を示すグラフである。
【符号の説明】
【００５０】
１…排ガス処理設備、２…活性炭、３…温度調整装置、４…活性炭収容塔、４ａ…排ガス入口、４ｂ…排ガス出口、４ｃ…バルブ、４ｄ…バルブ、５…アンモニアガス添加装置、６…煙突、７…脱離・再生塔、７ａ…バルブ、７ｂ…バルブ、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３…排ガスライン、Ｌ４，Ｌ５…活性炭搬送ライン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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