(57)【要約】【課題】ウェーハ中心と外周にて働く遠心力の差を無くすことで、ウェーハ中央部における膜の盛り上がりや、残渣の発生が防止できるスピンコータ装置及び回転処理方法並びにカラーフイルタの製造方法を提供する。【解決手段】被処理材となる基材Ｗを保持して回転するターンテーブル１を備えたスピンコータ装置１００であって、ターンテーブル１を回転駆動する回転駆動手段４と、基材Ｗの中心位置Ｐを回転の中心位置Ｏから、この中心位置Ｏから離れた偏心位置まで移動させる偏心スライド機構３とを備え、中心位置Ｏと偏心位置との間の複数の位置を中心として基材Ｗを回転駆動するように構成した。【選択図】図１
2007105617.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理材となる基材を保持して回転するターンテーブルを備えたスピンコータ装置であって、
前記ターンテーブルを回転駆動する回転駆動手段と、
前記基材の中心位置を前記回転の中心位置から該中心位置から離れた偏心位置まで移動させる偏心スライド機構とを備え、
前記中心位置と前記偏心位置との間の複数の位置を中心として前記基材を回転駆動することを特徴とするスピンコータ装置。
【請求項２】
前記ターンテーブルが、前記基材を回転駆動する回転軸に接続された第１ターンテーブルと、前記基材を保持して前記第１ターンテーブルに前記偏心スライド機構を介して接続された第２ターンテーブルと、を有することを特徴とする請求項１記載のスピンコータ装置。
【請求項３】
前記第２ターンテーブルが、該第２ターンテーブルに保持された前記基材を回転駆動する補助回転駆動手段を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２記載のスピンコータ装置。
【請求項４】
回転駆動された基材上に液体を供給して前記基材表面への成膜或いは前記基材表面の洗浄を行う遠心力を利用した回転処理方法であって、
前記基材の中心位置と前記回転の中心位置から離れた偏心位置との間の複数の位置をそれぞれ中心として、前記基材を順次回転駆動することを特徴とする回転処理方法。
【請求項５】
基板上にカラーフィルタ材料を形成する第１工程と、前記カラーフィルタ材料にレジスト材料をパターニングして重ねて形成する第２工程と、前記パターニングされたレジスト材料をマスクとして洗浄処理して前記カラーフィルタ材料を選択的に除去する第３工程と、を有する固体撮像素子のカラーフィルタの製造方法であって、
少なくとも前記第３工程における前記カラーフィルタの洗浄処理に請求項４記載の回転処理方法を用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェーハに薄膜塗布、或いは洗浄処理がなされるスピンコータ装置及び回転処理方法並びにカラーフイルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板、シリコンウェハー、光ディスク等の非可撓性の基材に対する精密塗布工程にはスピンコート方式が使用されることが多い。このスピンコート方式の塗布に用いられる従来のスピンコータ装置は、塗布すべき基材を支持して回転するターンテーブルと、そのターンテーブルの上面に、基材を吸着、保持することができるよう溝状に形成された真空流路と、ターンテーブルの中央に開口し且つ前記真空流路に連通する真空吸引孔と、中心に真空吸引路を備え、ターンテーブルを支持した支持軸と、真空吸引路に真空を供給するためのエアー・ロータリージョイント及び吸引用エアーチューブと、ターンテーブルを回転駆動するようカップリングを介して連結されたモータと、ターンテーブルを取り囲むように配置されたカップ及び天板等とを備える。
【０００３】
そして、基材をターンテーブルの上に乗せ、吸引用エアーチューブに接続している真空ポンプ等の真空源を作動させて、ターンテーブルに真空を供給し、ターンテーブルの中心の真空吸引孔及び上面の真空流路によって基材をターンテーブルに吸着、保持し、基材上に一定量の塗布液（レジスト）を塗布した後、その基材をターンテーブルにより高速回転させることで、遠心力によって不要な塗布液を飛ばし、均一な膜厚での塗布を可能にしていた。
【０００４】
また、スピンコータ装置は、上記のレジスト膜形成の他、ウェーハ中心を軸とした円運動で不要物を飛ばすウェーハ上の異物洗浄にも用いられる。この異物洗浄としては、各色別フィルタ材料（Ｒ，Ｇ，Ｂ）を順番にウェーハに塗布し、必要な位置だけ残して、残りを遠心力によって除去する例えばカラーフィルタ製造工程における異物洗浄工程が挙げられる。
【特許文献１】特開２００５−２４６２２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のスピンコータ装置は、軸がウェーハ中心のみであるため、遠心力が自転軸からの距離と比例関係にあり、図１２に示すように、ウェーハＷの中心Ｐ近傍に遠心力の不十分な領域Ｓが生じ、中心と外周では膜厚に不均一が発生する。このため、レジスト膜の形成において、均一に塗布したい膜も中心が盛り上がる形となる。また、不要物を飛ばすウェーハ上の異物洗浄においても、ウェーハＷの中心Ｐ近傍に、残渣が発生する。特に、カラーフイルタ製造工程において、残渣が発生すれば、あるフイルタ色（Ｒ）に他のフイルタ色（Ｇ）が被ることとなる。
この場合、Ｒの感度が低くなり、画像はホワイトバランス調整時に画像全体に補正がかかるので、一部分のフイルタ色の被りが生じていると、部分的な色違いを生じさせることになる。このようなフイルタ色の被りが生じれば、固体撮像素子のカラーバランスが劣化し不良品を発生させることになる。一般的に、フォトリソグラフィでは高精度が得られるウェーハ中心領域であっても、このように異物洗浄工程でフイルタ製造不良が生じれば、良質な集積回路ＩＣが形成されているにもかかわらず、カラーフイルタのみの不良原因によって、固体撮像素子全体が不良となる問題へと発展してしまう。
本発明は上記状況に鑑みてなされたもので、ウェーハ中心と外周にて働く遠心力の差を無くすことで、ウェーハ中央部における膜の盛り上がりや、残渣の発生が防止できるスピンコータ装置及び回転処理方法並びにカラーフイルタの製造方法を提供し、半導体成膜工程における歩留まり向上を図ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る上記目的は、下記構成により達成される。
（１）被処理材となる基材を保持して回転するターンテーブルを備えたスピンコータ装置であって、前記ターンテーブルを回転駆動する回転駆動手段と、前記基材の中心位置を前記回転の中心位置から該中心位置から離れた偏心位置まで移動させる偏心スライド機構とを備え、前記中心位置と前記偏心位置との間の複数の位置を中心として前記基材を回転駆動することを特徴とするスピンコータ装置。
【０００７】
このスピンコータ装置によれば、偏心スライド機構によって回転中心が基材の中心位置と偏心位置との間で変化することとなり、従来、基材の中心のみが回転中心とされていた場合に作用の小さかった基材中心位置での遠心力が、他の部位と同様に大きくなる。
【０００８】
（２）前記ターンテーブルが、前記基材を回転駆動する回転軸に接続された第１ターンテーブルと、前記基材を保持して前記第１ターンテーブルに前記偏心スライド機構を介して接続された第２ターンテーブルと、を有することを特徴とする（１）項記載のスピンコータ装置。
【０００９】
このスピンコータ装置によれば、第１ターンテーブルの中心に第２ターンテーブルの中心が一致しているときには、第１ターンテーブルの回転によって、回転中心と、基材の中心位置とが一致する。偏心スライド機構によって、第２ターンテーブルが第１ターンテーブルの半径方向へ移動すると、第１ターンテーブルの回転中心から第２ターンテーブル、すなわち、基材の中心位置がその移動分ずれることとなり、遠心力がそのずれ量に比例して増大可能となる。
【００１０】
（３）前記第２ターンテーブルが、該第２ターンテーブルに保持された前記基材を回転駆動する補助回転駆動手段を備えたことを特徴とする（１）項又は（２）項記載のスピンコータ装置。
【００１１】
このスピンコータ装置によれば、ターンテーブルの回転中心から基材の中心位置がずれることにより、基材の中心位置に遠心力が作用するとともに、基材自身も自転することとなり、単に基材の中心位置がターンテーブルの半径方向外側にずらされた場合に生じるターンテーブルの半径方向外側での基材外縁の遠心力増大が他の部位と均一化されることとなる。
【００１２】
（４）回転駆動された基材上に液体を供給して前記基材表面への成膜或いは前記基材表面の洗浄を行う遠心力を利用した回転処理方法であって、前記基材の中心位置と前記回転の中心位置から離れた偏心位置との間の複数の位置をそれぞれ中心として、前記基材を順次回転駆動することを特徴とする回転処理方法。
【００１３】
この回転処理方法によれば、基材の中心位置と、この中心位置から離れた偏心位置との間で回転中心がずらされながら基材が順次回転駆動され、基材上の任意位置で遠心力が均一に作用するようになる。
【００１４】
（５）基板上にカラーフィルタ材料を形成する第１工程と、前記カラーフィルタ材料にレジスト材料をパターニングして重ねて形成する第２工程と、前記パターニングされたレジスト材料をマスクとして洗浄処理して前記カラーフィルタ材料を選択的に除去する第３工程と、を有する固体撮像素子のカラーフィルタの製造方法であって、少なくとも前記第３工程における前記カラーフィルタの洗浄処理に請求項４記載の回転処理方法を用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【００１５】
このカラーフィルタの製造方法によれば、パターニングされたレジスト材料をマスクとして洗浄処理してカラーフィルタ材料を選択的に除去する工程において、基材の中心位置と、この中心位置から離れた偏心位置との間の複数の位置をそれぞれ中心として、基材を順次回転駆動することで、従来、遠心力が作用し難かった基材の中心位置にも十分に遠心力が作用するようになり、基材の中心位置における残渣（レジスト材料残り）の発生、すなわち、他色のカラーフィルタ材料の被りがなくなる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係るスピンコータ装置によれば、基材の中心位置を回転の中心位置から離れた偏心位置まで移動させる偏心スライド機構を備え、中心位置と偏心位置との間の複数の位置を中心として基材を回転駆動するので、基材の中央にも遠心力が作用するようになり、基材の中心と外周にて働く遠心力の差を無くすことができる。
【００１７】
本発明に係る回転処理方法によれば、基材の中心位置と、この中心位置から離れた偏心位置との間の複数の位置をそれぞれ中心として、基材を順次回転駆動するので、基材上の任意位置で遠心力が均一に作用するようになり、基材中央部における膜の盛り上がりや、残渣の発生を防止することができる。
【００１８】
本発明に係るカラーフィルタの製造方法によれば、パターニングされたレジスト材料をマスクとして洗浄処理してカラーフィルタ材料を選択的に除去する工程において、基材の中心位置と、この中心位置から離れた偏心位置との間の複数の位置をそれぞれ中心として、基材を順次回転駆動するので、基材中央部における残渣の発生を無くし、異物洗浄工程におけるフイルタ材料の被りを防止して、固体撮像素子の歩留まりを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明に係るスピンコータ装置及び回転処理方法並びにカラーフイルタの製造方法の好適な実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明に係るスピンコータ装置の分解斜視図である。
本実施の形態によるスピンコータ装置１００は、被処理材となる基材（以下、「ウェーハＷ」と言う）を保持して回転するターンテーブル１を備える。ターンテーブル１は、ウェーハＷを回転駆動するための回転軸２に接続された第１ターンテーブル１ａと、この第１ターンテーブル１ａの上面でウェーハＷを保持して第１ターンテーブル１ａに偏心スライド機構３を介して接続される第２ターンテーブル１ｂとからなる。
【００２０】
第１ターンテーブル１ａは、回転軸２が回転駆動手段であるスピンモータ４によって駆動される。なお、図示は省略するが、第１ターンテーブル１ａの外側には円筒状のスピンカップが設けられ、スピンカップはレジスト塗布中の排気やレジストの跳ね返りを考慮した形状・機構を備えている。第１ターンテーブル１ａの上面には回転中心Ｏから半径方向外側に向かって直線状のガイド溝３ａが形成される。このガイド溝３ａには第２ターンテーブル１ｂの中心を支持するスライダ５が摺動自在に設けられている。
【００２１】
スライダ５は、第１ターンテーブル１ａに内蔵された偏芯駆動モータ６によってスライド移動される。すなわち、偏芯駆動モータ６にはガイド溝３ａに沿って延在するネジ軸７が回転自在に支持され、このネジ軸７にはボールネジ機構を介してスライダ５が連結されている。したがって、偏芯駆動モータ６が駆動されれば、ネジ軸７が回転し、スライダ５がボールネジ機構を介してガイド溝３ａに沿って摺動されるようになっている。ガイド溝３ａ、スライダ５、偏芯駆動モータ６、ネジ軸７は、偏心スライド機構３を構成している。本実施の形態では、スライダ５に取り付けられる第２ターンテーブル１ｂは、非回転となる。
【００２２】
なお、偏芯駆動モータ６、ネジ軸７を収容する第１ターンテーブル１ａの収容室９にはカバー１０が取り付けられ、カバー１０はウェーハＷへの塵埃の付着を防止している。
【００２３】
第２ターンテーブル１ｂの上面には複数の吸着孔１１が配設され、吸着孔１１は統合エア配管１２に集約され、統合エア配管１２はスライダ５の軸部５ａ、回転軸２を貫通して装置外部のエア吸引部１３に接続されている。つまり、ウェーハＷは、エア吸引部１３による吸引によって第２ターンテーブル１ｂの上面に真空吸着可能となっている。
【００２４】
このように、スピンコータ装置１００は、偏心スライド機構３によって、ウェーハＷの中心位置Ｐを第１ターンテーブル１ａの回転中心Ｏから、離れた偏心位置まで移動させることで、回転中心Ｏと偏心位置との間の複数の位置を中心としてウェーハＷを回転駆動できるようになっている。
【００２５】
図２は図１に示したスピンコータ装置の制御系を表すブロック図である。
スピンコータ装置１００の制御部１４にはスピンモータ４、偏心スライド機構３、エア吸引部１３、駆動パターンテーブル１５が接続されている。なお、制御部１４には、後述する第２の実施の形態で説明する補助回転駆動部１６が接続されていてもよい。
【００２６】
制御部１４は、動作開始トリガ信号の入力によって、エア吸引部１３を作動させ、第２ターンテーブル１ｂの上面にウェーハＷを吸着保持可能とする。また、制御部１４は、スピンモータ４を回転駆動させ、第１ターンテーブル１ａを所定回転速度で回転させる。この際、偏心スライド機構３は、スライダ５を非スライド位置に配置し、第１ターンテーブル１ａの回転中心ＯとウェーハＷの中心位置Ｐとを一致させている。
【００２７】
不図示のレジスト材料滴下手段によりウェーハＷ上にレジスト材料が低下され、所定時間回転がなされると、制御部１４は、偏心スライド機構３へ偏芯駆動信号を出力する。偏心スライド機構３の偏芯駆動モータ６は、制御部１４からの偏芯制御信号によって駆動制御され、スライダ５を第１ターンテーブル１ａの半径方向外側へと徐々に移動させる。この際の移動は、レジスト材料の種類、第１ターンテーブル１ａの回転数、ウェーハＷのサイズ等によって異なる。これらのパラメータは、予め設定された制御データとして、駆動パターンテーブル１５に記憶される。すなわち、制御部１４は、これらレジスト材料の種類、第１ターンテーブル１ａの回転数、ウェーハＷのサイズごとに、駆動パターンテーブル１５の制御データを読み込みながら、スピンモータ４、偏芯駆動モータ６を駆動制御するようになっている。
【００２８】
次に、上記構成のスピンコータ装置１００の作用を説明する。
図３は図１に示したスピンコータ装置の基材中心偏芯前を（ａ）、偏芯後を（ｂ）に表した動作説明図、図４は基材の偏芯と共に増大する遠心力を模式的に表した説明図である。
このスピンコータ装置１００では、図３（ａ）に示すように、第１ターンテーブル１ａの回転中心Ｏに、第２ターンテーブル１ｂの中心位置Ｐが一致しているときには、第１ターンテーブル１ａの回転によって、回転中心Ｏと、ウェーハＷの中心位置Ｐとが一致する。
【００２９】
一方、図３（ｂ）に示すように、偏心スライド機構３によって、第２ターンテーブル１ｂが第１ターンテーブル１ａの半径方向へ移動すると、第１ターンテーブル１ａの回転中心Ｏから第２ターンテーブル１ｂ、すなわち、ウェーハＷの中心位置がその移動分ずれることとなり、図４に示すように、遠心力Ｆがそのずれ量Ｌに比例してＦ０、Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３（Ｆ０＜Ｆ１＜Ｆ２＜Ｆ３）と増大することとなる。
【００３０】
このように、偏心スライド機構３によって回転中心ＯがウェーハＷの中心位置Ｐと偏心位置との間で変化することとなり、従来、ウェーハＷの中心位置Ｐのみが回転中心Ｏとされていた場合に、作用の小さかったウェーハＷの中心位置Ｐでの遠心力Ｆが、他の部位と同様に大きくなる。
【００３１】
したがって、本実施の形態によるスピンコータ装置１００によれば、ウェーハＷの中心位置Ｐを回転の中心位置Ｏから離れた偏心位置まで移動させる偏心スライド機構３を備え、中心位置Ｐと偏心位置との間の複数の位置を中心としてウェーハＷを回転駆動するので、ウェーハＷの中央にも遠心力が作用するようになり、ウェーハＷの中心位置Ｐと外周にて働く遠心力の差を無くすことができる。
【００３２】
図５は基材の保持手段としてピンが用いられた変形例１の平面図、図６は偏心スライド機構に揺動アームを用いた変形例２の平面図である。
なお、上記の実施の形態では、ウェーハＷが真空吸着により第２ターンテーブル１ｂに吸着保持される場合を例に説明したが、本発明に係るスピンコータ装置は、図５に示すように、第１ターンテーブル１ａの上面に、ウェーハＷの外周に当接して、ウェーハＷの半径方向外側の移動を規制するピン１７を植設してもよい。このような保持手段を設けることにより、第１ターンテーブル１ａ上で移動される第２ターンテーブル１ｂで大きな遠心力の作用するウェーハＷの保持をより確実なものとすることができる。
【００３３】
また、上記の実施の形態では、第１ターンテーブル１ａにネジ軸７、偏芯駆動モータ６等からなる偏心スライド機構３を設けたが、図６に示すように、第１ターンテーブル１ａの周縁に回動軸１８ａを介して揺動アーム１８を設け、この揺動アーム１８の先端に第２ターンテーブル１ｂを保持させる構造としてもよい。この場合、揺動アーム１８は、不図示の付勢手段によって、非回転状態で、ウェーハＷの中心位置Ｐを第１ターンテーブル１ａの回転中心Ｏと一致させるように、第２ターンテーブル１ｂを揺動配置するように構成する。
【００３４】
これにより、第１ターンテーブル１ａが回転すると、第２ターンテーブル１ｂは、遠心力によって不図示の付勢手段の付勢力に抗して揺動アーム１８を図６の時計回りに回転させる方向に揺動し、これにより、ウェーハＷの中心位置Ｐが第１ターンテーブル１ａの回転速度に応じて移動されることとなる。このような揺動アーム１８を用いることで、偏心スライド機構を簡素に構成することができる。
【００３５】
次に、本発明に係るスピンコータ装置の第２の実施の形態を説明する。
図７は本発明に係るスピンコータ装置の基材を自転させる第２の実施の形態の平面図である。
この第２の実施の形態によるスピンコータ装置２００は、第２ターンテーブル１ｂが、第２ターンテーブル１ｂに保持されたウェーハＷを回転駆動する補助回転駆動手段（モータ）１９を備える。補助回転駆動手段１９は、制御部１４によって駆動制御される。他の構成は、スピンコータ装置１００と同様である。
このスピンコータ装置２００によれば、第１ターンテーブル１ａの回転中心ＯからウェーハＷの中心位置Ｐがずれることにより、ウェーハＷの中心位置Ｐに遠心力が作用するとともに、ウェーハＷ自身も自転することとなり、単にウェーハＷの中心位置Ｐが第１ターンテーブル１ａの半径方向外側にずらされた場合に生じる第１ターンテーブル１ａの半径方向外側でのウェーハＷ外縁の遠心力増大が他の部位と均一化されることとなる。
【００３６】
次に、本発明に係る回転処理方法を用いたカラーフィルタの製造方法を説明する。
図８は本発明に係る回転処理方法及びカラーフィルタの製造方法によって製造される固体撮像素子の平面模式図、図９は図８のＡ−Ａ線断面模式図である。
先ず、上記方法の説明に先立ち、この方法によって製造される固体撮像素子について説明する。
図８、図９に示す固体撮像素子１９は、ｎ型のシリコン基板２１表面部に光電変換部であるフォトダイオード２３が多数形成され、各フォトダイオード２３で発生した信号電荷を列方向（図９中のＹ方向：紙面に垂直方向）に転送するための電荷転送部２５が、列方向に配設された複数のフォトダイオード２３からなる複数のフォトダイオード列の間を蛇行して形成される。
【００３７】
電荷転送部２５は、複数のフォトダイオード列の各々に対応してシリコン基板２１表面部の列方向に形成された複数本の電荷転送チャネル２７と、電荷転送チャネル２７の上層に形成された電荷転送電極２９（第１の電極２９ａ、第２の電極２９ｂ）と、フォトダイオード２３で発生した電荷を電荷転送チャネル２７に読み出すための電荷読み出し領域３１とを含む。電荷転送電極２９は、行方向に配設された複数のフォトダイオード２３からなる複数のフォトダイオード行の間を全体として行方向（図９中のＸ方向）に延在する蛇行形状となっている。
【００３８】
シリコン基板２１の表面部にはｐウェル層３３が形成され、ｐウェル層３３の表面部にはｐ領域３５ａが形成され、ｐ領域３５ａの下にはｎ領域３５ｂが形成され、ｐ領域３５ａとｎ領域３５ｂがフォトダイオード２３を構成し、フォトダイオード２３で発生した信号電荷は、ｎ領域３５ｂに蓄積される。
【００３９】
ｐ領域３５ａの右側には、少し離間してｎ領域からなる電荷転送チャネル２７が形成される。ｎ領域３５ｂと電荷転送チャネル２７の間のｐウェル層３３には電荷読み出し領域３１が形成される。
【００４０】
シリコン基板２１表面にはゲート酸化膜３７が形成され、電荷読み出し領域３１と電荷転送チャネル２７の上には、ゲート酸化膜３７を介して、第１の電極２９ａと第２の電極２９ｂが形成される。第１の電極２９ａと第２の電極２９ｂの間は電極間絶縁膜３９によって絶縁される。垂直転送チャネル２７の右側にはｐ＋領域からなるチャネルストップ４１が設けられ、隣接するフォトダイオード２３との分離が図られる。
【００４１】
電荷転送電極２９の上には酸化シリコン膜４３が形成され、更にその上に中間層４５が形成される。中間層４５のうち、４７は遮光膜、４９はＢＰＳＧ（borophospho  silicate  glass）からなる絶縁膜、５１はＰ−ＳｉＮからなる絶縁膜（パッシベーション膜）、５３は透明樹脂膜からなる平坦化層である。遮光膜４７は、フォトダイオード２３の開口部分を除いて設けられる。中間層４５上方には、カラーフィルタ５５とマイクロレンズ５７が設けられる。カラーフィルタ５５とマイクロレンズ５７との間は、絶縁性の透明樹脂等からなる平坦化層５９が充填される。
【００４２】
撮像素子チップ１９は、フォトダイオード２３で発生した信号電荷がｎ領域３５ｂに蓄積され、ここに蓄積された信号電荷が、電荷転送チャネル２７によって列方向に転送され、転送された信号電荷が図示しない電荷転送路（ＨＣＣＤ）によって行方向に転送され、転送された信号電荷に応じた色信号が図示しないアンプから出力される構成である。
【００４３】
図１０はカラーフィルタ製造時の塗布液塗布手順を（ａ）〜（ｄ）に表した成膜工程説明図、図１１はカラーフィルタ製造時の手順を（ａ）〜（ｄ）に表した洗浄工程説明図である。
固体撮像素子１９に用いるカラーフイルタの製造工程では、図１１（ａ）に示すように、シリコン基板２１上に積層された平坦化層５３上に、カラーフィルタ材料６１を形成する。図例では、例えば緑色（Ｇ）のカラーフィルタ材料６１を塗布する。
【００４４】
カラーフィルタ材料６１の塗布は、図１０（ａ）に示すように、スピンコータ装置１００の第２ターンテーブル１ｂに真空吸着したシリコン基板２１上に、滴下手段６２によってカラーフィルタ材料６１を滴下する。カラーフィルタ材料６１は、第１ターンテーブル１ａの回転によって、平坦化されるが、遠心力の作用し難い回転中心Ｏの近傍では、図１０（ｂ）に示す盛り上がり６５の生じることがある。
【００４５】
第１ターンテーブル１ａの所定時間の回転の後、偏心スライド機構３の駆動によって、図１０（ｃ）に示すように、シリコン基板２１の中心位置Ｐが、第１ターンテーブル１ａの回転中心Ｏから離れた偏心位置へと移動される。これにより、盛り上がり６５のカラーフィルタ材料６１が他の部位へと遠心力によって移動され、図１０（ｄ）に示すように、平坦化されたカラーフィルタ材料６１の膜が得られる。次いで、シリコン基板２１をホットプレート上に乗せ、Ｇのカラーフィルタ材料６１を加熱するプリベークを行う。
【００４６】
その後、図１１（ｂ）に示すように、レジスト材料６３を塗布し、フォトリソグラフィによって、Ｇのカラーフィルタ材料６１を所定の形状にパターニングする。すなわち、パターニングされたレジスト材料６３をマスクとして洗浄処理して図１１（ｃ）に示すように、カラーフィルタ材料６１を選択的に除去する。
【００４７】
この洗浄処理工程においても、回転駆動されたシリコン基板２１上に洗浄液体を供給して、遠心力によりシリコン基板２１表面の洗浄を行う回転処理方法が行われる。この回転処理方法では、シリコン基板２１の中心位置と回転の中心位置から離れた偏心位置との間の複数の位置をそれぞれ中心として、シリコン基板２１が順次回転駆動される。これにより、シリコン基板２１の中心位置と、この中心位置から離れた偏心位置との間で回転中心がずらされながらシリコン基板２１が順次回転駆動され、シリコン基板２１上の任意位置で遠心力が均一に作用するようになる。
【００４８】
同様に、シリコン基板２１の中心位置と、この中心位置から離れた偏心位置との間で回転中心がずらされながら、シリコン基板２１が順次回転駆動され、図１１（ｄ）に示すように、レジスト材料６３が除去される。これにより、パターニングされたレジスト材料６３をマスクとして洗浄処理してカラーフィルタ材料６１を選択的に除去する工程において、シリコン基板２１の中心位置Ｐと、この中心位置Ｐから離れた偏心位置との間の複数の位置をそれぞれ中心として、シリコン基板２１を順次回転駆動することで、従来、遠心力が作用し難かったシリコン基板２１の中心位置Ｐにも十分に遠心力が作用するようになり、シリコン基板２１の中心位置Ｐにおける残渣（レジスト材料残り）の発生、すなわち、他色のカラーフィルタ材料６１の被りがなくなる。
【００４９】
次に、シリコン基板２１を再びホットプレート上に乗せて、シリコン基板２１から伝わってくる伝導熱によってＧのカラーフイルタ材料６１を加熱するポストベイクを行い、パターニングされたＧのカラーフイルタ材料６１を固着させて、Ｇのカラーフイルタを形成する。
【００５０】
したがって、本実施の形態による回転処理方法によれば、シリコン基板２１の中心位置と、この中心位置Ｐから離れた偏心位置との間の複数の位置をそれぞれ中心として、シリコン基板２１を順次回転駆動するので、シリコン基板２１上の任意位置で遠心力が均一に作用するようになり、シリコン基板２１中央部における膜の盛り上がりや、残渣の発生を防止することができる。
【００５１】
また、本実施の形態によるカラーフィルタの製造方法によれば、パターニングされたレジスト材料６３をマスクとして洗浄処理してカラーフィルタ材料６１を選択的に除去する工程において、シリコン基板２１の中心位置Ｐと、この中心位置Ｐから離れた偏心位置との間の複数の位置をそれぞれ中心として、シリコン基板２１を順次回転駆動するので、シリコン基板２１中央部における残渣の発生を無くし、異物洗浄工程におけるフイルタ材料６１の被りを防止して、固体撮像素子１９の歩留まりを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明に係るスピンコータ装置の分解斜視図である。
【図２】図１に示したスピンコータ装置の制御系を表すブロック図である。
【図３】図１に示したスピンコータ装置の基材中心偏芯前を（ａ）、偏芯後を（ｂ）に表した動作説明図である。
【図４】基材の偏芯と共に増大する遠心力を模式的に表した説明図である。
【図５】基材の保持手段としてピンが用いられた変形例１の平面図である。
【図６】偏心スライド機構に揺動アームを用いた変形例２の平面図である。
【図７】本発明に係るスピンコータ装置の基材を自転させる第２の実施の形態の平面図である。
【図８】本発明に係る回転処理方法及びカラーフィルタの製造方法によって製造される固体撮像素子の平面模式図である。
【図９】図８のＡ−Ａ線断面模式図である。
【図１０】カラーフィルタ製造時の塗布液塗布手順を（ａ）〜（ｄ）に表した成膜工程説明図である。
【図１１】カラーフィルタ製造時の手順を（ａ）〜（ｄ）に表した洗浄工程説明図である。
【図１２】従来装置に生じる遠心力の不十分な領域を表した基材の平面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１  ターンテーブル
１ａ  第１ターンテーブル
１ｂ  第２ターンテーブル
２  回転軸
３  偏心スライド機構
４  スピンモータ（回転駆動手段）
１９  補助回転駆動手段
２１  シリコン基板（基材）
６１  カラーフィルタ材料
６３  レジスト材料
１００  スピンコータ装置
Ｐ  基材の中心位置
Ｗ  ウェーハ（基材）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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