(57)【要約】【課題】短波長のレーザ光でも良好に記録することができ、記録層に求める光学定数、中でも複素屈折率の実部（屈折率）の値、及び記録前後での屈折率の変化を明確にして、記録特性が良好な光記録媒体を提供する。【解決手段】第２基板２４と、該第２基板２４上に形成された第２追記型記録層２６と第２光反射層３０とを具備し、該第２追記型記録層２６に対して波長４５０ｎｍ以下のレーザ光４６を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う第２光記録媒体１０Ｂにおいて、レーザ光４６によって第２追記型記録層２６に情報を記録する前の第２追記型記録層２６の複素屈折率の実部が１．２〜１．５であり、レーザ光４６によって第２追記型記録層２６に情報を記録した後における第２追記型記録層２６の複素屈折率の実部が１．７〜１．９である。【選択図】図２
2007287298.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板上に形成された記録層と反射層とを具備し、前記記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光記録媒体において、
前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録する前における前記記録層の複素屈折率の実部が１．２〜１．５であり、
前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録した後における前記記録層の複素屈折率の実部が１．７〜１．９であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
請求項１記載の光記録媒体において、
前記記録層は、前記レーザ光によって情報を記録した後の反射率が、前記情報を記録する前の反射率よりも高くなる光学特性を有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項３】
請求項１又は２記載の光記録媒体において、
前記記録層は色素化合物を含有し、
前記色素化合物は、トリメチンオキソノールをアニオンとし、金属錯体をカチオンとする色素化合物であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項４】
請求項３記載の光記録媒体において、
前記色素化合物は、下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする光記録媒体。
一般式（１）
【化１】
2007287298.tif 000007
［一般式（１）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、ＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基であり、ＡとＢもしくはＣとＤは連結して環を形成していてもよく、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍ＝１、ｎは０〜２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙｔ＋はｔ価のカチオンを表し、ｔは１〜１０の整数を表す。］
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光記録媒体において、
前記基板の溝深さが３０〜１３０ｎｍであることを特徴とする光記録媒体。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光記録媒体において、
前記基板の溝幅が１４０〜２４０ｎｍであることを特徴とする光記録媒体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光記録媒体において、
前記反射層の厚みが５０〜２００ｎｍであることを特徴とする光記録媒体。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光記録媒体において、
前記レーザ光の波長が４０５ｎｍ、前記レーザ光を前記記録層に集光する対物レンズの開口数が０．６５、前記基板の端面から前記記録層までの距離が０．６ｍｍに対応したものであることを特徴とする光記録媒体。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれかの１項に記載の光記録媒体に、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射して位相差変調方式にて情報を記録することを特徴とする情報記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行うのに適したヒートモード型の光記録媒体及び該光記録媒体に対する情報記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近時、追記型ＤＶＤ（いわゆるＤＶＤ−Ｒ）よりもさらに短波長のレーザ光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が進められ、例えば４０５ｎｍの青色レーザを用いた光記録媒体が提案されている。
【０００３】
このような光記録媒体の記録層として用いられる色素には、記録後の反射率が低くなる色素（第１色素という）や、記録後の反射率が高くなる色素（第２色素という）がある。第１色素に対しては、該第１色素の極大吸収ピークλｍａｘよりも長波側の吸収波長で情報を記録される。また、第２色素に対しては、該第２色素の極大吸収ピークλｍａｘよりも短波側の吸収波長で情報を記録される。
【０００４】
そして、第１色素を含有する記録層において、良好な記録特性を得るためには、記録前における記録層の複素屈折率の実部（ｎ）を大きくする必要があることが一般に知られている。しかし、４０５ｎｍで記録再生される光記録媒体において、記録再生波長よりも短波に極大吸収を持つ第１色素では、複素屈折率の実部を大きいものを得るのが困難であり良好な記録特性が得にくいほか、光堅牢性との両立が困難であった。
【０００５】
一方、第２色素については、現在のところ、該第２色素の極大吸収ピークλｍａｘよりも短波側の吸収波長で情報を記録するために、記録層に求める光学定数及び記録前後の光学定数の変化が明確になっていない。
【０００６】
ところで、光記録媒体に対する短波長による情報の記録については、例えば特許文献１〜６等に開示があるが、光学定数に関する記載はない。
【０００７】
特許文献７及び８には、ｎ＜１．２、ｋ＞０．１５（ｋ：複素屈折率の虚部)という記載はあるが、記録前の色素に関する光学定数のみであり、記録前後の変化については、ｎが大きくなるというのみで具体的な数値の記載はない。また、特許文献７及び８記載の光記録媒体は、０．１ｍｍのカバー層を前提とした構成となっている。
【０００８】
特許文献９には、記録前の複素屈折率の実部（屈折率ｎｂ）が２．３≦ｎｂ≦４．０であること、分解による記録後の複素屈折率の実部（屈折率ｎａ）と、記録前の複素屈折率の実部（屈折率ｎｂ）とが、０．１９≦｜ｎａ−ｎｂ｜／ｎｂ≦０．６２に選定されて成ること、分解による記録前の複素屈折率の虚部（吸収係数ｋ）が、０．０１≦ｋ＜０．１で、且つ、膜厚ｄが、５０ｎｍ≦ｄ≦２５０ｎｍとされたこと、分解による記録前の複素屈折率の虚部（吸収係数ｋ）が、０．０１≦ｋ≦０．２で、且つ、膜厚ｄが、１０ｎｍ≦ｄ≦５０ｎｍとされたことを特徴とする光学記録媒体が記載されている。しかし、この特許文献９記載の光記録媒体も０．１ｍｍのカバー層を前提とした構成となっている。しかも、反射率変調を利用した記録であり、反射層の厚みが２０ｎｍ以下であること等の特徴があり、位相差変調で信号振幅を得る方式とは根本的に原理が異なっている。
【０００９】
【特許文献１】特開２００５−２９３７７２号公報
【特許文献２】特開２００５−２９３７７３号公報
【特許文献３】特開２００５−２８８９７２号公報
【特許文献４】特開２００５−２９７４０６号公報
【特許文献５】特開２００５−２９７４０７号公報
【特許文献６】特開２００２−７４７４０号公報
【特許文献７】特開２００４−９８５４１号公報
【特許文献８】特開２００４−９８５４２号公報
【特許文献９】特開２００１−２７３６７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、短波長のレーザ光でも良好に記録することができ、記録層に求める光学定数、中でも複素屈折率の実部ｎ（以下、単に屈折率という）の値、及び記録前後での屈折率ｎの変化を明確にし、記録特性が良好な光記録媒体及び情報記録方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
第１の本発明に係る光記録媒体は、基板と、該基板上に形成された記録層と反射層とを具備し、前記記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光記録媒体において、前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録する前における前記記録層の複素屈折率の実部が１．２〜１．５であり、前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録した後における前記記録層の複素屈折率の実部が１．７〜１．９であることを特徴とする。
【００１２】
これにより、例えば４５０ｎｍ以下という短波長のレーザ光でも情報を良好に記録することができ、記録特性が良好な光記録媒体を得ることができる。
【００１３】
そして、第１の本発明において、前記記録層は、前記レーザ光によって情報を記録した後の反射率が、前記情報を記録する前の反射率よりも低くなる光学特性を有するようにしてもよい。
【００１４】
また、第１の本発明において、前記記録層は色素化合物を含有し、前記色素化合物は、トリメチンオキソノールをアニオンとし、金属錯体をカチオンとする色素化合物であってもよい。
【００１５】
この場合、前記色素化合物は、下記一般式（１）で表される化合物であることが好ましい。
【００１６】
一般式（１）
【００１７】
【化１】
2007287298.tif 000003
【００１８】
一般式（１）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、ＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基であり、ＡとＢもしくはＣとＤは連結して環を形成していてもよく、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍ＝１、ｎは０〜２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙｔ＋はｔ価のカチオンを表し、ｔは１〜１０の整数を表す。
【００１９】
また、第１の本発明において、前記基板の溝深さが３０〜１３０ｎｍであることが好ましい。前記基板の溝幅が１４０〜２４０ｎｍであることが好ましい。
【００２０】
また、第１の本発明において、前記反射層の厚みが５０〜２００ｎｍであることが好ましい。これにより、記録前後の反射率の変化がほとんどなくなり、位相差変調を実現することができる。
【００２１】
また、第１の本発明において、前記レーザ光の波長が４０５ｎｍ、前記レーザ光を前記記録層に集光する対物レンズの開口数が０．６５、前記基板の端面から前記記録層までの距離が０．６ｍｍに対応したものであってもよい。
【００２２】
次に、第２の本発明に係る情報記録方法は、上述した第１の本発明に係る光記録媒体に、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光を照射して位相差変調方式にて情報を記録することを特徴とする。
【００２３】
これにより、例えば４５０ｎｍ以下という短波長のレーザ光でも情報を良好に記録することができ、記録特性が良好なものとなる。
【発明の効果】
【００２４】
以上説明したように、本発明に係る光記録媒体及び情報記録方法によれば、例えば４５０ｎｍ以下という短波長のレーザ光でも情報を良好に記録することができ、記録特性が良好な光記録媒体を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明に係る光記録媒体及び情報記録方法の実施の形態例を図１〜図４を参照しながら説明する。
【００２６】
本発明の光記録媒体は、図１に示す第１の様態に係る光記録媒体（以下、単に第１光記録媒体１０Ａと記す）と、図２に示す第２の様態に係る光記録媒体（以下、単に第２光記録媒体１０Ｂと記す）であることが好ましい。
【００２７】
第１光記録媒体１０Ａは、図１に示すように、厚さ０．７〜２ｍｍの第１基板１２上に、色素を含有する第１追記型記録層１４と、厚さ０．０１〜０．５ｍｍのカバー層１６とをこの順に有する。具体的には、例えば第１基板１２上に、第１光反射層１８と、第１追記型記録層１４と、バリア層２０と、第１接着層２２と、カバー層１６とをこの順に有する。
【００２８】
第２光記録媒体１０Ｂは、図２に示すように、厚さ０．１〜１．０ｍｍの第２基板２４上に、色素を含有する第２追記型記録層２６と、厚さ０．１〜１．０ｍｍの保護基板２８とをこの順に有する。具体的には、例えば第２基板２４上に、第２追記型記録層２６と、第２光反射層３０と、第２接着層３２と、保護基板２８とをこの順に有する。
【００２９】
第１光記録媒体１０Ａにおいては、図１に示すように、第１基板１２に形成される第１プリグルーブ３４のトラックピッチが５０〜５００ｎｍ、溝幅が２５〜２５０ｎｍ、溝深さが５〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００３０】
第２光記録媒体１０Ｂにおいては、図２に示すように、第２基板２４に形成される第２プリグルーブ３６のトラックピッチが２００〜６００ｎｍ、溝幅が５０〜３００ｎｍ、溝深さが３０〜２００ｎｍであり、ウォブル振幅が１０〜５０ｎｍであることが好ましい。
【００３１】
第１光記録媒体１０Ａは、図１に示すように、少なくとも第１基板１２と、第１追記型記録層１４と、カバー層１６とを有する様態であり、先ず、これらに必須の部材について順に説明する。
【００３２】
〔第１光記録媒体１０Ａの第１基板１２〕
図１に示すように、好ましい第１光記録媒体１０Ａの第１基板１２には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有する第１プリグルーブ３４（案内溝）が形成されていることが必須である。この第１プリグルーブ３４は、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、第１光記録媒体１０Ａを、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【００３３】
第１プリグルーブ３４のトラックピッチは、５０〜５００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が４２０ｎｍ以下であることが好ましく、３７０ｎｍ以下であることがより好ましく、３３０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、２００ｎｍ以上であることがより好ましく、２６０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
【００３４】
トラックピッチが５０ｎｍ未満では、第１プリグルーブ３４を正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、５００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【００３５】
第１プリグルーブ３４のグルーブ４０（第１基板１２において凹部）での溝幅（半値幅）は、１４０〜２４０ｎｍの範囲であり、好ましくは１４５〜２３０ｎｍであり、さらに好ましくは１５０〜２２０ｎｍである。溝幅が狭すぎると、溝部（グルーブ４０）の成形が困難になり、溝幅が広すぎると、溝間部（ランド３８）の成形が困難になる。
【００３６】
第１プリグルーブ３４の溝深さは、３０〜１３０ｎｍの範囲であり、好ましくは３３〜１１０ｎｍであり、さらに好ましくは３５〜８０ｎｍである。溝深さは深すぎると、成形が困難になるという問題があり、溝深さが浅すぎるとトラッキングが不安定になる。
【００３７】
また、第１プリグルーブ３４の溝傾斜角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７０°以下であることがより好ましく、６０°以下であることがさらに好ましく、５０°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることがさらに好ましい。
【００３８】
第１プリグルーブ３４の溝傾斜角度が２０°未満では、十分なトラッキングエラー信号振幅が得られないことがあり、８０°を超えると、第１基板１２の成形（射出成形等）が困難となる。
【００３９】
第１光記録媒体１０Ａにおいて用いられる第１基板１２としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
【００４０】
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
【００４１】
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
【００４２】
これらの樹脂を用いた場合、射出成形を用いて第１基板１２を作製することができる。
【００４３】
また、第１基板１２の厚さは、０．７〜２ｍｍの範囲であることを要し、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
【００４４】
なお、後述する第１光反射層１８が設けられる側の第１基板１２の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
【００４５】
下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
【００４６】
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法によって、第１基板１２の表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００４７】
〔第１光記録媒体１０Ａの第１追記型記録層１４〕
第１光記録媒体１０Ａの第１追記型記録層１４は、レーザ光４６によって情報を記録した後の反射率が、情報を記録する前の反射率よりも高くなる光学特性を有する。
【００４８】
第１追記型記録層１４は色素化合物を含有する。この色素化合物は、トリメチンオキソノールをアニオンとし、金属錯体をカチオンとする色素化合物であることが好ましい。
【００４９】
この場合、色素化合物は、下記一般式（１）で表される化合物であることが好ましい。
【００５０】
一般式（１）
【００５１】
【化２】
2007287298.tif 000004
【００５２】
一般式（１）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、ＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基であり、ＡとＢもしくはＣとＤは連結して環を形成していてもよく、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍ＝１、ｎは０〜２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｙｔ＋はｔ価のカチオンを表し、ｔは１〜１０の整数を表す。
【００５３】
また、好ましい第１光記録媒体１０Ａの第１追記型記録層１４は、色素化合物を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、基板上又は後述する第１光反射層１８上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。ここで、第１追記型記録層１４は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布液を塗布する工程が複数回行われることになる。
【００５４】
塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００５５】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
【００５６】
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００５７】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
【００５８】
塗布の際、塗布液の温度は２３〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２５〜３５℃の範囲であることが特に好ましい。
【００５９】
このようにして形成された第１追記型記録層１４の厚さは、グルーブ４０（第１基板１２において凹部）上で、２００ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましく、７０ｎｍ以下であることが特に好ましい。下限値としては１０ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、２５ｎｍ以上であることが特に好ましい。
【００６０】
また、第１追記型記録層１４の厚さは、ランド３８（第１基板１２において凸部）上で、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、７０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。下限値としては、３ｎｍ以上であることが好ましく、５ｎｍ以上であることがより好ましく、８ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
【００６１】
さらに、グルーブ４０上の第１追記型記録層１４の厚さｔ１と、ランド３８上の第１追記型記録層１４の厚さｔ２との比（ｔ１／ｔ２）は、０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましく、０．２５以上であることがさらに好ましく、０．７以上であることが特に好ましい。上限値としては、１未満であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることがさらに好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
【００６２】
塗布液が結合剤を含有する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。第１追記型記録層１４の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。
【００６３】
また、第１追記型記録層１４には、該第１追記型記録層１４の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
【００６４】
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００６５】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜２００質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜１８０質量％の範囲、さらに好ましくは、３〜１６０質量％の範囲、特に好ましくは５〜１４０質量％の範囲である。
【００６６】
ここで、色素を含有する第１追記型記録層１４の記録前及び記録後の光学特性について説明する。記録前とは、レーザ光４６によって第１追記型記録層１４に情報を記録する前の段階をいい、記録後とは、レーザ光４６によって第１追記型記録層１４に情報を記録した後の段階をいう。
【００６７】
そして、第１追記型記録層１４の光学特性としては、記録前における第１追記型記録層の複素屈折率の実部が１．２〜１．５であり、記録後における第１追記型記録層の複素屈折率の実部が１．７〜１．９であることが好ましい。
【００６８】
また、第１追記型記録層の記録前における複素屈折率の虚部の下限は０．１５以上が好ましく、さらに好ましくは０．１７以上であり、上限は０．５以下が好ましく、さらに好ましくは０．４以下である。複素屈折率の虚部が小さすぎると、感度が悪くなる傾向があり、反対に大きすぎると、反射率が低くなりすぎるという問題がある。記録後における複素屈折率の虚部は、０．２５以下が好ましく、さらに好ましくは０．２以下である。記録に伴って、屈折率の虚部が大きくなると、信号振幅が減少するため好ましくないほか、再生耐久性も悪くなる場合がある。
【００６９】
このように構成することによって、例えば４５０ｎｍ以下という短波長のレーザ光でも情報を良好に記録することができ、記録特性が良好な光記録媒体を得ることができる。
【００７０】
〔第１光記録媒体１０Ａのカバー層１６〕
好ましい第１光記録媒体１０Ａのカバー層１６は、上述した第１追記型記録層１４又は後述するバリア層２０上に、接着剤や粘着剤等からなる第１接着層２２を介して貼り合わされる。
【００７１】
第１光記録媒体１０Ａにおいて用いられるカバー層１６としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
【００７２】
なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
【００７３】
また、カバー層１６は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤及び／又は５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
【００７４】
さらに、カバー層１６の表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。
【００７５】
また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層１６の複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００７６】
カバー層１６の厚さは、記録及び再生のために照射されるレーザ光の波長や第１対物レンズ４２のＮＡにより、適宜、規定されるが、第１光記録媒体１０Ａにおいては、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内であり、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【００７７】
また、カバー層１６と第１接着層２２とを合わせた総厚は、０．０９〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることがより好ましい。
【００７８】
なお、カバー層１６の光入射面には、第１光記録媒体１０Ａの製造時に、光入射面が傷つくことを防止するためのハードコート層４４（保護層）が設けられていてもよい。
【００７９】
第１接着層２２に用いられる接着剤としては、例えばＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特にＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。
【００８０】
接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、若しくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサからバリア層２０の表面に供給してもよい。また、作製される第１光記録媒体１０Ａの反りを防止するため、第１接着層２２を構成するＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。
【００８１】
接着剤は、例えば、バリア層２０からなる被貼り合わせ面上に、所定量塗布し、その上に、カバー層１６を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層１６との間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。
【００８２】
このような接着剤からなる第１接着層２２の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、さらに好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【００８３】
また、第１接着層２２に用いられる粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート等を主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等と、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。
【００８４】
上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。
【００８５】
粘着剤は、バリア層２０からなる被貼り合わせ面上に、所定量、均一に塗布し、その上に、カバー層１６を載置した後、硬化させてもよいし、予め、カバー層１６の片面に、所定量を均一に塗布して粘着剤の塗膜を形成しておき、該塗膜を被貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。
【００８６】
また、カバー層１６に、予め、粘着剤層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。
【００８７】
このような粘着剤からなる第１接着層２２の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、さらに好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【００８８】
〔第１光記録媒体１０Ａにおけるその他の層〕
好ましい第１光記録媒体１０Ａは、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。他の任意の層としては、例えば、第１基板１２の裏面（第１追記型記録層１４の形成面に対する裏面）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、第１基板１２と第１追記型記録層１４との間に設けられる第１光反射層１８（後述）、第１追記型記録層１４とカバー層１６との間に設けられるバリア層２０（後述）、第１光反射層１８と第１追記型記録層１４との間に設けられる界面層等が挙げられる。ここで、レーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂等を用いて形成される。
【００８９】
なお、これら必須及び任意の層は、いずれも単層でもよいし、多層構造を有してもよい。
【００９０】
〔第１光記録媒体１０Ａにおける第１光反射層１８〕
第１光記録媒体１０Ａにおいて、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、第１基板１２と第１追記型記録層１４との間に、第１光反射層１８を形成することが好ましい。
【００９１】
第１光反射層１８は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
【００９２】
第１光反射層１８の層厚は、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
【００９３】
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは２種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。さらに好ましくはＡｇを５０ａｔｍ％以上含む金属にて構成されていることである。
【００９４】
〔第１光記録媒体１０Ａにおけるバリア層２０（中間層）〕
第１光記録媒体１０Ａにおいては、第１追記型記録層１４とカバー層１６との間にバリア層２０を形成することが好ましい。
【００９５】
バリア層２０は、第１追記型記録層１４の保存性を高める、第１追記型記録層１４とカバー層１６との接着性を向上させる、反射率を調整する、熱伝導率を調整する、等のために設けられる。
【００９６】
バリア層２０に用いられる材料としては、記録及び再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に、制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。
【００９７】
具体的には、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、ＺｎＳ、ＭｏＯ2、ＧｅＯ2、ＴｅＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｕＯ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3が好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3がより好ましい。
【００９８】
なお、第１光反射層１８の材料としてＡｇ（銀）を含んでいる場合、バリア層２０は、Ｓ（硫黄）を含まないことが望ましい。Ｓ（硫黄）を含むと、第１光反射層１８の構成材料である例えばＡｇ（銀）を腐食させるからである。また、バリア層２０は、水に腐食しない素材であることが望ましい。水に腐食する素材は、湿熱保存性が悪くなる傾向にあるからである。
【００９９】
また、バリア層２０は、真空蒸着、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、イオンプレーティング等の真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましく、ＤＣスパッタリングを用いることがさらに好ましい。
【０１００】
バリア層２０の厚さは、１〜８０ｎｍ、好ましくは１〜５０ｎｍ、より好ましくは１．５〜３０ｎｍである。薄すぎると膜質が均一でなくなりバリア特性が悪化し、厚すぎると成膜に時間がかかり効率が悪くなる。
【０１０１】
バリア層２０の成膜条件は、以下のとおりである。
【０１０２】
成膜時の圧力は１Ｅ−０２〜１Ｅ−０５ｔｏｒｒ、レートは０．１〜１０ｎｍ／ｓｅｃ、ガス流量は１〜５０ｓｃｃｍ、ガス種類はＡｒである。スパッタ電力は０．２〜４ｋＷ、好ましくは０．４〜３ｋＷ、さらに好ましくは０．５〜２．５ｋＷである。
【０１０３】
ＲＦスパッタ法により成膜する場合は、そのチューニング（マッチング）を調整して、ターゲットから分離した成膜材料のワーク（第１基板１２に第１追記型記録層１４及び第１光反射層１８が形成された段階のもの）に向かう量（ＦＷＤ）に対するターゲットから分離した成膜材料がターゲットに向かう量（ＲＥＦ）は、１０％以下、好ましくは５％以下、さらに好ましくは２．５％以下である。なお、酸化物や窒化物の場合、それらのガスをスパッタガス中に混合して反応性スパッタにより成膜することがある。
【０１０４】
ＤＣスパッタ法による成膜の場合は、パルススパッタ法等により瞬間的にターゲットの帯電を除去する手法を組み合わせることが好ましい。なお、酸化物や窒化物の場合、それらのガスをスパッタガス中に混合して反応性スパッタにより成膜することがある。
【０１０５】
バリア層２０の光透過率は５０〜９９％が好ましく、５５〜９８％が好ましく、６０〜９５％がより好ましい。光透過率が低いと記録感度が悪化する、媒体反射率が低くなる等の弊害が生じる。光透過率が高いと、耐光性試験時の保存性が悪くなる傾向にある。バリア層２０に用いられる無機物層は、記録再生波長である４０５ｍより短い領域では光吸収性が４０５ｎｍでの吸収より大きく、耐光性試験時に照射される〜３５０ｎｍの光から色素を保護する働きも有していると推定される。
【０１０６】
次に、第２光記録媒体１０Ｂについて説明する。
【０１０７】
ここで、第２光記録媒体１０Ｂは、貼り合わせ型の層構成を有する光記録媒体であり、その代表的な層構成としては、下記の通りである。
【０１０８】
（１）  第１の層構成は、図２に示すように、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、第２接着層３２を順次形成し、第２接着層３２上に保護基板２８を設ける構成である。
【０１０９】
（２）  第２の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、保護層、第２接着層３２を順次形成し、第２接着層３２上に保護基板２８を設ける構成である。
【０１１０】
（３）  第３の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、保護層、第２接着層３２、保護層を順次形成し、該保護層上に保護基板２８を設ける構成である。
【０１１１】
（４）  第４の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、保護層、第２接着層３２、保護層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板２８を設ける構成である。
【０１１２】
（５）  第５の層構成は、図示しないが、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、第２接着層３２、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板２８を設ける構成である。
【０１１３】
なお、上記（１）〜（５）の層構成は単なる例示であり、当該層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよいし、一部を省略してもかまわない。また、第２追記型記録層２６は、保護基板２８側にも形成されていてもよく、その場合、両面からの記録、再生が可能な光記録媒体となる。さらに、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。
【０１１４】
ここでは、第２光記録媒体１０Ｂとして、図２に示すように、第２基板２４上に、第２追記型記録層２６、第２光反射層３０、第２接着層３２、保護基板２８をこの順に有する構成のものを例にとって、以下にその説明をする。
【０１１５】
〔第２光記録媒体１０Ｂの第２基板２４〕
第２光記録媒体１０Ｂにおける第２基板２４には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有する第２プリグルーブ３６（案内溝：グルーブ５０、ランド５２）が形成されていることが必須である。この第２プリグルーブ３６は、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、第２光記録媒体１０Ｂを、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【０１１６】
第２プリグルーブ３６のトラックピッチは、２００〜６００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が５００ｎｍ以下であることが好ましく、４５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４３０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、３００ｎｍ以上であることが好ましく、３３０ｎｍ以上であることがより好ましく、３７０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
【０１１７】
トラックピッチが２００ｎｍ未満では、第２プリグルーブ３６を正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、６００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【０１１８】
第２プリグルーブ３６のグルーブ５０（第２基板２４において凹部）の溝幅（半値幅）は、５０〜３００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１８０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１２０ｎｍ以上であることがより好ましく、１４０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
【０１１９】
第２プリグルーブ３６の溝幅が５０ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、３００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【０１２０】
第２プリグルーブ３６の溝深さは、３０〜２００ｎｍの範囲であることが必須であり、上限値が１７０ｎｍ以下であることが好ましく、１４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、４０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、６０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
【０１２１】
第２プリグルーブ３６の溝深さが３０ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、２００ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【０１２２】
第２光記録媒体１０Ｂにおいて用いられる第２基板２４としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができ、具体例及び好ましい例は、第１光記録媒体１０Ａの第１基板１２と同様である。
【０１２３】
また、第２基板２４の厚さは、０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【０１２４】
なお、後述する第２追記型記録層２６が設けられる側の第２基板２４の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましく、該下塗層の材料、塗布法及び層厚の具体例及び好ましい例は、第１光記録媒体１０Ａの下塗層と同様である。
【０１２５】
〔第２光記録媒体１０Ｂの第２追記型記録層２６〕
好ましい第２光記録媒体１０Ｂの第２追記型記録層２６に関する詳細な説明は、第１光記録媒体１０Ａの第１追記型記録層１４に関するものと同様である。
【０１２６】
従って、この第２光記録媒体１０Ｂにおいても、上述した第１光記録媒体１０Ａと同様に、レーザ光４６による繰り返し再生があっても、光吸収率の増加が抑制されることとなる。つまり、第２追記型記録層２６の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光４６の出力を下げることなく、再生耐久性を向上させることができる。
【０１２７】
〔第２光記録媒体１０Ｂの第２光反射層３０〕
第２光記録媒体１０Ｂにおいて、レーザ光４６に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、第２追記型記録層２６上に第２光反射層３０を形成することがある。第２光記録媒体１０Ｂの第２光反射層３０に関する詳細は、第１光記録媒体１０Ａの第１光反射層１８と同様である。
【０１２８】
〔第２光記録媒体１０Ｂの第２接着層３２〕
好ましい第２光記録媒体１０Ｂにおける第２接着層３２は、第２光反射層３０と、保護基板２８との密着性を向上させるために形成される任意の層である。
【０１２９】
第２接着層３２を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インキ社製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、第２接着層３２の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【０１３０】
〔第２光記録媒体１０Ｂの保護基板２８〕
好ましい第２光記録媒体１０Ｂにおける保護基板２８（ダミー基板）は、上述した第２基板２４と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。保護基板２８の厚さとしては、０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【０１３１】
〔第２光記録媒体１０Ｂの保護層（図示せず）〕
第２光記録媒体１０Ｂは、その層構成によっては、第２光反射層３０や第２追記型記録層２６等を物理的及び化学的に保護する目的で保護層が設けられることがある。
【０１３２】
保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
【０１３３】
保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して光反射層上に貼り合わせることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
【０１３４】
また、保護層として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
【０１３５】
〔第２光記録媒体１０Ｂにおけるその他の層〕
第２光記録媒体１０Ｂは、本発明の効果を損なわない範囲において、上述の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。このような他の任意の層の詳細な説明は、第１光記録媒体１０Ａにおけるその他の層と同様である。
【０１３６】
＜光情報記録方法＞
本発明の光情報記録方法は、第１光記録媒体１０Ａ又は第２光記録媒体１０Ｂを用いて、例えば、次のように行われる。
【０１３７】
第１光記録媒体１０Ａにおいては、先ず、第１光記録媒体１０Ａを定線速度（０．５〜１０ｍ／秒）又は定角速度にて回転させながら、カバー層１６側から半導体レーザ光等の記録用のレーザ光４６を、開口数ＮＡが例えば０．８５の第１対物レンズ４２を介して照射する。このレーザ光４６の照射により、第１追記型記録層１４がレーザ光４６を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
【０１３８】
このとき、第１追記型記録層１４に対して、反射率の大きく、且つ、厚みの大きい第１光反射層１８をレーザ光４６の入射面とは反対側に形成するようにしているため、入射されたレーザ光４６はその大半が第１光反射層１８の表面で反射されて検出器にもどる。
【０１３９】
第１追記型記録層１４のうち、記録されたマーク（ピット情報）と記録されない部分とでは光学定数（複素屈折率）が異なるため、第１光反射層１８まで往復する間の光路長が異なってくる。その結果、第１追記型記録層１４に記録されたピット情報を位相差変調方式により検出することが可能になる。
【０１４０】
同様に、第２光記録媒体１０Ｂにおいては、先ず、第２光記録媒体１０Ｂを定線速度（０．５〜１０ｍ／秒）又は定角速度にて回転させながら、第２基板２４側から半導体レーザ光等の記録用のレーザ光４６を、開口数ＮＡが例えば０．６５の第２対物レンズ４８を介して照射する。このレーザ光４６の照射により、第２追記型記録層２６がレーザ光４６を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
【０１４１】
この第２光記録媒体１０Ｂにおいても、第２追記型記録層２６に対して、反射率の大きく、且つ、厚みの大きい第２光反射層３０をレーザ光４６の入射面とは反対側に形成するようにしているため、入射されたレーザ光４６はその大半が第２光反射層３０の表面で反射されて検出器にもどる。
【０１４２】
第２追記型記録層２６のうち、記録されたマーク（ピット情報）と記録前の部分とでは光学定数（複素屈折率）が異なるため、第２光反射層３０まで往復する間の光路長が異なってくる。その結果、第２追記型記録層２６に記録されたピット情報を位相差変調方式により検出することが可能になる。
【０１４３】
本実施の形態においては、記録用のレーザ光４６として３９０〜４５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザ光が用いられる。好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザ光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ光を挙げることができる。特に、記録密度の点で３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、第１光記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザ光を基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【実施例１】
【０１４４】
以下、代表的に第２光記録媒体１０Ｂと同様の構成を有する実施例１及び２を作製して、それぞれの記録前の屈折率、記録後の屈折率、変調度及びＰＲ（パーシャルレスポンス）のＳＮ値を求めた。
【０１４５】
［モデル計算の実施］
先ず、実施例１及び２に係る光記録媒体に対する諸特性の測定に先立って、２つのモデル計算（第１モデル計算及び第２モデル計算）を行い、記録前における複素屈折率の実部の値として好ましい値を求めた。
【０１４６】
第１モデル計算では、第２光記録媒体１０Ｂにおける第２追記型記録層２６のグルーブ５０上の厚みを８０ｎｍ、ランド５２上の厚みを６０ｎｍとして、第２追記型記録層の屈折率変化に伴う変調度を計算した。
【０１４７】
第２モデル計算では、第２追記型記録層２６のグルーブ５０上の厚みを４０ｎｍ、ランド５２上の厚みを１０ｎｍとして、第２追記型記録層の屈折率変化に伴う変調度を計算した。
【０１４８】
これら第１モデル計算及び第２モデル計算には、日本アールソフトデザイン社の計算ソフトｄｉｆｆｒａｃｔＭＯＤを用いた。
【０１４９】
また、第１モデル計算及び第２モデル計算では、以下のパラメータを用いた。すなわち、第２プリグルーブ３６の溝幅＝１８０ｎｍ、第２プリグルーブ３６の溝深さ＝９０ｎｍ、第２プリグルーブ３６の溝傾斜角＝４５ｄｅｇ、第２光反射層３０の屈折率ｎ＝０．２１５、吸収係数ｋ＝１．９４、第２光反射層３０の厚み＝８０ｎｍ、第２基板２４の屈折率ｎ＝１．６、吸収係数ｋ＝０、計算対象エリア＝８００ｎｍ、分解後の色素の複素屈折率の実部＝１．８、虚部＝０．１とした。第１モデル計算の結果を図３に示し、第２モデル計算の結果を図４に示す。
【０１５０】
いずれの場合も、記録前の複素屈折率の実部が１．２〜１．５の範囲で０．１を超える変調度が得られることが示されている。なお、計算結果で０．１の変調度が得られていれば、実際の第２光記録媒体１０Ｂでも十分な変調度が得られることがわかっている。
【０１５１】
［実施例１］
（第２基板２４の作製）
帝人化成株式会社製のポリカーボネート樹脂（パンライトＡＤ５５０３)を用いて、射出成形により厚さ０．６ｍｍの第２基板２４を成形した。第２基板２４の第２プリグルーブ３６のトラックピッチは４００ｎｍ、グルーブ５０の半値幅は１９０ｎｍ、溝深さは９０ｎｍであった。
【０１５２】
（第２追記型記録層２６の形成）
下記化合物１を２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌに対し２ｇの比率になるよう秤量して溶解させた。該溶解液に超音波を２時間照射して色素を溶解させた後、温度２３℃、湿度５０％の環境下に０．５時間以上静置し、０．２μｍのフィルタで濾過して塗布液を得た。この塗布液を、スピンコート法で第２基板２４のうち、第２プリグルーブ３６が形成された表面上に塗布して、厚さ５５ｎｍの第２追記型記録層２６を形成した。このとき、色素の複素屈折率の実部は１．３４、虚部は０．２３であった。
【０１５３】
【化３】
2007287298.tif 000005
【０１５４】
その後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、第２基板２４を垂直のスタックポールにスペーサで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【０１５５】
（第２光反射層３０の形成）
第２追記型記録層２６上に、Ａｇ：９８．４ａｔ％、Ｎｄ：０．７ａｔ％、Ｃｕ：０．９ａｔ％からなるターゲットを用いて、真空成膜法により第２光反射層３０を１００ｎｍの厚みで成膜した。投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は５ｓｃｃｍで行った。
【０１５６】
（保護基板２８の貼り合わせ）
第２光反射層３０上に、スピンコートにより、紫外線硬化性樹脂（大日本インキ社製  ＳＤ６４０）を滴下、塗布し、その上に、保護基板２８を載せた後、３６００ｒ．ｐ．ｍ．で回転させて紫外線硬化性樹脂を延展させた後に、紫外線を照射することで、紫外線硬化性樹脂を硬化させて、２枚の基板（第２基板２４及び保護基板２８）を貼り合わせることで、第２光記録媒体１０Ｂと同様の構成を有する実施例１に係る光記録媒体を得た。
【０１５７】
［実施例２］
前記化合物１の代わりに下記化合物２を用いて第２追記型記録層２６を形成したこと以外は、実施例１と全く同様な方法で第２光記録媒体１０Ｂと同様の構成を有する実施例２に係る光記録媒体を作製した。記録前の色素の複素屈折率の実部は１．２４、虚部は０．４であった。
【０１５８】
【化４】
2007287298.tif 000006
【０１５９】
＜評価＞
作製した実施例１及び２を、波長：４０６ｎｍ、ＮＡ＝０．６５のレーザ光学系を搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック工業社製）にセットして、クロック周波数６４．８ＭＨｚ、線速６．６１ｍ／ｓにて１１Ｔ信号（１．１２２μｍ長）を４〜１０ｍＷの記録パワーで記録し、変調度を測定した。変調度は１１Ｔ信号記録後の信号振幅を、１１Ｔ信号の高い方の反射率で除して求めた。
【０１６０】
また、８−１２変調されたランダム信号を記録してＰＲ（パーシャルレスポンス）のＳＮ比（ＰＲＳＮＲ）を求めた。記録は、発光波形を最適化して行った。
【０１６１】
そして、実施例１に係る光記録媒体においては、記録前の複素屈折率の実部が１．３４、記録後の複素屈折率の実部が１．７５、変調度が０．３８、ＰＲＳＮＲが２５であった。
【０１６２】
一方、実施例２に係る光記録媒体においては、記録前の複素屈折率の実部が１．２４、記録後の複素屈折率の実部が１．８、変調度が０．５１、ＰＲＳＮＲが２３であった。
【０１６３】
このようなことから、記録前の複素屈折率の実部が１．２４、１．３４と、大きくない色素でも、十分な変調度が得られることが示された。また、記録特性も良好であった。
【０１６４】
なお、本発明に係る光記録媒体及び情報記録方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【０１６５】
【図１】本実施の形態に係る光記録媒体のうち、第１光記録媒体を一部省略して示す断面図である。
【図２】本実施の形態に係る光記録媒体のうち、第２光記録媒体を一部省略して示す断面図である。
【図３】第１モデル計算の結果を示す図である。
【図４】第１モデル計算の結果を示す図である。
【図５】実施例１及び２の記録前の屈折率、記録後の屈折率、変調度及びＰＲＳＮＲを示す表図である。
【符号の説明】
【０１６６】
１０Ａ…第１光記録媒体                  １０Ｂ…第２光記録媒体
１２…第１基板                          １４…第１追記型記録層
１６…カバー層                          １８…第１光反射層
２０…バリア層                          ２２…第１接着層
２４…第２基板                          ２６…第２追記型記録層
２８…保護基板                          ３０…第２光反射層
３２…第２接着層                        ４４…ハードコート層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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