(57)【要約】【課題】テーブルＷＴＢの少なくとも重力方向に垂直な面内における移動を許容した状態で、重力方向に関する剛性を高く設定する。【解決手段】ステージ３１に接続された固定部９０に対して重力方向に移動可能な可動部１９０が、テーブルＷＴＢの一部を重力方向の両側から非接触で挟んだ状態でテーブルＷＴＢに接続される接続部（７０Ａ，７０Ｂ，７４Ａ，７４Ｂ，７２ａ〜７２ｄ）を含んでいるので、少なくとも重力方向に垂直な面内におけるテーブルＷＴＢの移動を許容した状態で、接続部の重力方向に関する剛性を高く設定することが可能となる。【選択図】図７
2007005669.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１物体に対して第２物体を支持する支持装置であって、
前記第１物体に接続された固定部と；
前記固定部に対して重力方向に移動可能な可動部と；を備え、
前記可動部は、前記第２物体の一部を重力方向の両側から非接触で挟んだ状態で前記第２物体に接続される接続部を含むことを特徴とする支持装置。
【請求項２】
前記可動部と前記固定部との一方に接続されたシリンダ部と、前記可動部と前記固定部との他方に接続された、前記シリンダ部の内部に挿入され該シリンダ部に沿って相対移動可能なピストン部とを更に備え、
前記ピストン部を重力方向に付勢する前記シリンダ部内部の圧力により、前記第２物体の自重を前記第１物体に対して支持することを特徴とする請求項１に記載の支持装置。
【請求項３】
前記接続部は、
前記第２物体の一部を前記重力方向一側及び他側から非接触で挟持する一対の第１挟持部材と、
該第１挟持部材を前記重力方向一側及び他側から挟持する一対の第２挟持部材と、を有し、
前記第１挟持部材と前記第２挟持部材とが対向する部分は、球面又は非球面とされていることを特徴とする請求項１又は２に記載の支持装置。
【請求項４】
前記第１挟持部材と前記第２物体の一部との間に所定のクリアランスを形成する第１クリアランス形成機構を更に備える請求項１〜３のいずれか一項に記載の支持装置。
【請求項５】
前記第２挟持部材と前記第１挟持部材との間に所定のクリアランスを形成する第２クリアランス形成機構を更に備える請求項１〜４のいずれか一項に記載の支持装置。
【請求項６】
前記可動部を前記固定部に対して前記重力方向に微小駆動する微動機構を更に備える請求項１〜５のいずれか一項に記載の支持装置。
【請求項７】
２次元面内を移動可能なステージと；
該ステージに対して、基板を保持するテーブルを支持する請求項１〜６のいずれか一項に記載の支持装置と；を備えるステージ装置。
【請求項８】
前記支持装置が、一直線上に無い３箇所に設けられていることを特徴とする請求項７に記載のステージ装置。
【請求項９】
前記第２物体を前記第１物体に対して２次元面内で微小駆動する駆動機構を更に備える請求項７又は８に記載のステージ装置。
【請求項１０】
物体を保持して少なくとも２次元面内を移動可能なステージと；
該ステージに向けて前記２次元面内の所定方向から複数の計測ビームを照射する計測装置と；を備え、
前記ステージは、前記計測装置からの複数の計測ビームに対して垂直な面を有する第１領域及び第２領域と、該第１、第２領域に前記重力方向に関して挟まれた第３領域とを有し、前記第１、第２領域の面は前記計測ビームを反射する第１反射面、第２反射面であることを特徴とするステージ装置。
【請求項１１】
前記第３領域には、前記計測ビームに対して所定角度だけ傾いた第３反射面が形成されていることを特徴とする請求項１０に記載のステージ装置。
【請求項１２】
前記第３反射面から所定距離離れた位置に、前記第３反射面で反射された計測ビームが略垂直に入射する反射面を有する反射部材が配置されていることを特徴とする請求項１１に記載のステージ装置。
【請求項１３】
２次元面内を移動可能なステージと；
該ステージと所定の位置関係に配置された板状のテーブルと；
前記テーブルの一側の面の吸着固定領域において吸着固定された、基板を保持する基板保持部材と；
前記テーブルを前記ステージに対して相対駆動する駆動機構と；を備え、
前記テーブルの前記吸着固定領域の外側の少なくとも一部に、所定深さの溝が形成されていることを特徴とするステージ装置。
【請求項１４】
請求項７〜１３のいずれか一項に記載のステージ装置を備え、
前記ステージに保持された基板を露光することを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は支持装置、ステージ装置及び露光装置に係り、更に詳しくは、第１物体に対して第２物体を支持する支持装置、２次元面内を移動可能なステージを備えるステージ装置及び該ステージ装置を備える露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ステッパやスキャニングステッパなどの投影露光装置では、ウエハを保持するテーブルと、該テーブルを保持して２次元面内で移動するステージと、このステージを駆動する駆動源としてのリニアモータと、を有するリニアモータ方式のステージ装置が主流となっている。
【０００３】
この種のステージ装置では、テーブルはステージに対し、例えば３つのボイスコイルモータあるいは３つの電磁石等の微動機構を介して支持されており、該微動機構によりテーブルがステージ上でそのステージの移動面に対する傾斜方向及び移動面に直交する方向の３自由度方向への微動が可能とされている。これら微動機構と前記リニアモータとによりテーブルの６自由度方向への駆動が実現されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
この種のステージ装置においては、テーブルの軽量化に加え、高加速でのテーブルの駆動を実現することが重要である。
【０００５】
これらの装置では、テーブルを支持する機構として、自重キャンセラを採用する提案がなされている（例えば、特許文献２参照）。しかるに、従来の自重キャンセラでは、テーブルの水平方向の移動を許容すると、必ずしも重力方向に関する剛性を十分に高くすることができなかった。
【０００６】
また、最近では、ステージの２次元面に対する傾斜方向の回転（ピッチング、ローリング）を干渉計を用いて計測するために、干渉計から重力方向に所定間隔をあけて平行に照射される２本の計測用ビームの計測結果を用いている。この場合、計測精度を向上するためには、反射面を大面積にして、その２本の計測用ビームの反射面上の照射位置の間隔を大きく取ることが望ましいが、反射面は面積が大きくなるほど高精度な加工が困難であり、高コスト化するおそれがある。
【０００７】
また、最近におけるデバイスパターンの微細化に伴って、テーブルをＸＹ平面内で駆動する駆動機構による推力がテーブルを介してウエハホルダに与える影響も無視できなくなってきている。
【０００８】
【特許文献１】国際公開第０２／０８０１８５号パンフレット
【特許文献２】特開２０００−５６４８３号公報
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上述した事情の下になされたものであり、第１の観点からすると、第１物体（３１）に対して第２物体（ＷＴＢ）を支持する支持装置であって、前記第１物体に接続された固定部（９０）と；前記固定部に対して重力方向に移動可能な可動部（１９０）と；を備え、前記可動部は、前記第２物体の一部を重力方向の両側から非接触で挟んだ状態で前記第２物体に接続される接続部（７４Ａ，７４Ｂ，７０Ａ，７０Ｂ，７２ａ〜７２ｄ）を含むことを特徴とする支持装置である。
【００１０】
これによれば、第１物体に接続された固定部に対して重力方向に移動可能な可動部が、第２物体の一部を重力方向の両側から非接触で挟んだ状態で第２物体に接続される接続部を含んでいるので、少なくとも重力方向に垂直な面内における第２物体の移動を許容した状態で、接続部の重力方向に関する剛性を高く設定することが可能となる。また、第２物体には支持装置が接触した状態で接続されないので、第２物体全体（第２物体に直接接続される構造体を含む）の重量を小さくすることが可能となる。
【００１１】
本発明は、第２の観点からすると、２次元面内を移動可能なステージ（３１）と；該ステージに対して、基板（Ｗ）を保持するテーブル（ＷＴＢ）を支持する本発明の支持装置と；を備える第１のステージ装置である。
【００１２】
これによれば、少なくともテーブルの重力方向に垂直な面内での移動を許容した状態で、テーブルを重力方向に関して高剛性で、ステージに対して支持することができるとともに、テーブルを重力方向に垂直な面内で駆動する場合にも高加速化を図ることが可能となる。
【００１３】
本発明は、第３の観点からすると、物体（Ｗ）を保持して少なくとも２次元面内を移動可能なステージ（ＷＳＴ）と；該ステージに向けて前記２次元面内の所定方向から複数の計測ビームを照射する計測装置（５８Ｘ1，５８Ｙ2）と；を備え、前記ステージは、前記計測装置からの複数の計測ビームに対して垂直な面を有する第１領域及び第２領域と、該第１、第２領域に前記重力方向に関して挟まれた第３領域とを有し、前記第１、第２領域の面は前記計測ビームを反射する第１反射面（５４ａ）、第２反射面（５４ｂ）であることを特徴とする第２のステージ装置である。
【００１４】
これによれば、ステージに、第１、第２、第３領域が重力方向に沿って設けられ、そのうちの第１、第２領域の面が計測装置からの計測ビームを反射する第１反射面、第２反射面とされているので、計測装置により、第１、第２反射面に計測ビームを照射することでステージの水平面に対する傾斜方向の回転を計測することができる。この場合、反射面の面積を大きくすることなく、計測ビームの反射面上の照射位置の重力方向に関するスパンを大きくとることができる。
【００１５】
本発明は、第４の観点からすると、２次元面内を移動可能なステージ（３１）と；該ステージと所定の位置関係に配置された板状のテーブル（ＷＴＢ）と；前記テーブルの一側の面の吸着固定領域において吸着固定された、基板を保持する基板保持部材（２５）と；前記テーブルを前記ステージに対して相対駆動する駆動機構（ＶＸ，ＶＹ1，ＶＹ2）と；を備え、前記テーブルの前記吸着固定領域の外側の少なくとも一部に、所定深さの溝（４１ａ，４１ｂ）が形成されていることを特徴とするステージ装置である。
【００１６】
これによれば、テーブルの吸着固定領域の外側の少なくとも一部に、所定深さの溝が形成されているので、駆動機構による推力がテーブルに伝達しても、その推力が溝を回り込んだ状態でテーブルに広がるようになるので、推力の影響を緩和することが可能となる。
【００１７】
本発明は、第５の観点からすると、本発明の第１〜第３のステージ装置を備え、前記ステージに保持された基板（Ｗ）を露光することを特徴とする露光装置である。
【００１８】
これによれば、本発明のステージ装置を備えていることにより、露光性能の向上を図ることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図７に基づいて説明する。
【００２０】
図１には、一実施形態に係る露光装置１０の概略的な構成が示されている。この露光装置１０は、ステッパ等の一括露光型の投影露光装置である。
【００２１】
この露光装置１０は、照明ユニットＩＯＰ、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、基板としてのウエハＷを保持してＸＹ平面内でＸＹ２次元方向に移動するウエハステージＷＳＴを含むステージ装置５０、及びこれらの制御系、並びに投影光学系ＰＬを保持するコラム３４等を備えている。
【００２２】
前記照明ユニットＩＯＰは、光源及び照明光学系を含み、その内部に配置された視野絞り（マスクキングブレード又はレチクルブラインドとも呼ばれる）で規定される矩形又は円弧状の照明領域にエネルギビームとしての照明光ＩＬを照射し、回路パターンが形成されたレチクルＲを均一な照度で照明する。ここでは、照明光ＩＬとしては、超高圧水銀ランプからの紫外域の輝線（波長４３６ｎｍのｇ線、波長３６５ｎｍのｉ線等）が用いられるものとする。ただし、それらに代えて、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）又はＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）あるいはＦ2レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光を用いることとしても良い。
【００２３】
前記レチクルステージＲＳＴは、照明ユニットＩＯＰの下方に配置されている。レチクルステージＲＳＴは、実際には、投影光学系ＰＬの上面に載置されている（ただし、図１では図示の便宜上、レチクルステージＲＳＴと投影光学系ＰＬとが離間して示されている）。具体的には、レチクルステージＲＳＴは、投影光学系ＰＬの上面に固定されたベース上で、レチクルＲを保持してＸ軸方向、Ｙ軸方向、θｚ方向に微小駆動可能とされている。なお、レチクルステージＲＳＴは、単にレチクルＲを保持するだけの機能を有するように構成し、レチクルＲの駆動は行わないようにしても良い。
【００２４】
レチクルＲの一部には、一対のアライメントマークが設けられている。本実施形態では、露光前に、この一対のアライメントマークを不図示のレチクルアライメント系を用いて計測し、位置決めを行う。
【００２５】
前記投影光学系ＰＬとしては、ここでは両側テレセントリックな縮小系、かつ共通のＺ軸方向の光軸を有する複数枚のレンズエレメントを含む屈折光学系が用いられている。この投影光学系ＰＬの投影倍率βは、例えば１／４あるいは１／５である。このため、前述の如く、照明ユニットＩＯＰからの照明光ＩＬによりレチクルＲが照明されると、レチクルＲに形成された前述の照明領域内の回路パターンが投影光学系ＰＬによりウエハＷ上の照明領域と共役な照明光ＩＬの照射領域（露光領域）に縮小投影され、回路パターンの縮小像（部分等立像）が転写形成される。
【００２６】
投影光学系ＰＬの鏡筒の高さ方向のほぼ中央部には、フランジＦＬＧが設けられている。
【００２７】
前記コラム３４は、床面Ｆにその下端部が固定された３本の脚部３２ｂ（紙面奥側の脚部は不図示）と、該脚部３２ｂにより床面Ｆ上方で支持された天板部３２ａとを備えている。天板部３２ａの中央部に上下方向（Ｚ軸方向）に貫通した状態で開口３４ａが形成されている。
【００２８】
投影光学系ＰＬは、コラム３４を構成する天板部３２ａの下面側に一端が固定された３つの吊り下げ支持機構３７（ただし紙面奥側の吊り下げ支持機構は不図示）を介して、そのフランジＦＬＧ部分にて吊り下げ支持されている。これら吊り下げ支持機構３７のそれぞれは、柔構造の連結部材であるコイルばね３６とワイヤ３５とを含む。前記コイルばね３６は、光軸に垂直な方向には振り子のように振動するため、投影光学系ＰＬの光軸に垂直な方向の除振性能（床の振動が投影光学系ＰＬに伝達するのを防止する性能）を有している。また、光軸に平行な方向に関しても、高い除振性能を有している。
【００２９】
また、コラム３４の脚部３２ｂそれぞれのＺ軸方向に関する中央部近傍には凸部１３４ａが形成され、凸部１３４ａそれぞれと投影光学系ＰＬのフランジの外周部との間には、駆動機構４０が設けられている。この駆動機構は、投影光学系ＰＬを鏡筒の半径方向に駆動するボイスコイルモータと、投影光学系ＰＬを光軸方向（Ｚ軸方向）に駆動するボイスコイルモータとを含んでいる。これら駆動機構により、投影光学系ＰＬを６自由度方向に移動できる構成となっている。
【００３０】
投影光学系ＰＬのフランジＦＬＧには、投影光学系ＰＬの６自由度方向の加速度を検出するための不図示の加速度センサが設けられており、該加速度センサで検出される加速度情報に基づいて、不図示の主制御装置が、投影光学系ＰＬがコラム３４及び床面Ｆに対して静止した状態となるように駆動機構４０のボイスコイルモータの駆動を制御する。
【００３１】
投影光学系ＰＬのフランジＦＬＧの下面からは、リング状の計測マウント５１が３本の支持部材５３（ただし、紙面奥側の支持部材は不図示）を介して吊り下げ支持されている。３本の支持部材５３は、実際には、その両端部に支持部材５３の長手方向以外の５自由度の変位が可能なフレクシャー部を有するリンク部材を含んで構成され、計測マウント５１とフランジＦＬＧとの間に応力がほとんど生じることなく計測マウント５１を支持することができるようになっている。
【００３２】
計測マウント５１では、ウエハ干渉計５８や、不図示のアライメント系、不図示の多点焦点位置検出系などが保持されている。アライメント系としては、画像処理方式のセンサを用いることができ、この画像処理方式のセンサは、例えば特開平４−６５６０３号公報に開示されている。また、多点焦点位置検出系としては、例えば特開平４−２１５０１５号公報等に開示されるフォーカスセンサを用いることができる。
【００３３】
前記ステージ装置５０は、ウエハステージＷＳＴと、該ウエハステージＷＳＴを駆動するウエハステージ駆動系と、を備えている。
【００３４】
前記ウエハステージＷＳＴは、投影光学系ＰＬの下方に水平に配置されたステージ定盤ＢＳの上面に、その底面に設けられたエアベアリングなどを介して浮上支持されている。
【００３５】
ここで、ステージ定盤ＢＳは、直接的に床面Ｆ上に据え付けられており、その＋Ｚ側の面（上面）は、その平坦度が非常に高くなるように加工されており、ウエハステージＷＳＴの移動基準面（ガイド面）とされている。
【００３６】
ウエハステージＷＳＴは、図２に示されるように、ステージ３１と、該ステージ３１上の一直線上にない３箇所に設けられた３つの自重キャンセラ１５０を介して搭載されたウエハテーブルＷＴＢとを備えている。３つの自重キャンセラ１５０は、ステージ３１上でウエハテーブルＷＴＢを３点で支持し、それぞれが駆動機構（ボイスコイルモータ等）等を含んで構成されている。各駆動機構により、ウエハテーブルＷＴＢがＺ軸方向、θｘ方向（Ｘ軸回りの回転方向）、θｙ方向（Ｙ軸回りの回転方向）の３自由度方向に微小駆動される。なお、自重キャンセラ１５０の構成等については後に更に詳述する。
【００３７】
また、ウエハテーブルＷＴＢとステージ３１との間には、Ｘ微動機構ＶＸと一対のＹ微動機構ＶＹ1，ＶＹ2とが設けられている。これらＸ、Ｙ微動機構は、それぞれ例えば電機子ユニットを含む固定子と磁極ユニットを含む可動子とを含んで構成されるボイスコイルモータ等であり、それぞれの固定子がステージ３１の上面に固定され、それぞれの可動子がウエハテーブルＷＴＢの側面に固定されている。これらのうち、Ｘ微動機構ＶＸによって、ウエハテーブルＷＴＢがＸ軸方向に駆動され、一対のＹ微動機構ＶＹ1，ＶＹ2によって、ウエハテーブルＷＴＢがＹ軸方向及びθｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）の２自由度方向について微小駆動される。したがって、ウエハテーブルＷＴＢは、３つの自重キャンセラ１５０のそれぞれに設けられた前記駆動機構、Ｘ微動機構ＶＸ、一対のＹ微動機構ＶＹ1，ＶＹ2によってステージ３１に対して６自由度方向に移動可能となっている。
【００３８】
前記ステージ３１は、ＸＺ断面が長方形の枠状部材を含んで構成され、該枠状部材の内部空間には不図示のＹ可動子が設けられている。枠状部材の下面には、不図示のエアベアリングが複数設けられ、これらのエアベアリングを介してウエハステージＷＳＴが前述のガイド面の上方に数μｍ程度のクリアランスを介して浮上支持されている。
【００３９】
前記Ｙ可動子は、Ｙ軸方向を長手方向とするＹ固定子１３４Ｙとともに、Ｙ軸リニアモータを構成し、ステージ３１をウエハテーブルＷＴＢ、ウエハＷとともにＹ軸方向に駆動する。以下においては、このＹ軸リニアモータをＹ固定子と同一の符号を用いて、Ｙ軸リニアモータ１３４Ｙとも呼ぶものとする。
【００４０】
Ｙ固定子１３４ＹのＹ軸方向一端部及び他端部には、Ｘ可動子１３２Ｘ1，１３２Ｘ2が固定されている。Ｘ可動子１３２Ｘ1は、ステージ定盤ＢＳの＋Ｙ側近傍に設けられた、Ｘ軸方向を長手方向とするＸ固定子１３４Ｘ1とともに、第１のＸ軸リニアモータを構成し、Ｘ可動子１３２Ｘ1は、ステージ定盤ＢＳの−Ｙ側近傍に設けられた、Ｘ軸方向を長手方向とするＸ固定子１３４Ｘ2とともに、第２のＸ軸リニアモータを構成する。以下においては、これら第１のＸ軸リニアモータと第２のＸ軸リニアモータをそのＸ固定子と同一の符号を用いて、第１のＸ軸リニアモータ１３４Ｘ1、第２のＸ軸リニアモータ１３４Ｘ2とも呼ぶものとする。
【００４１】
本実施形態では、第１、第２のＸ軸リニアモータ１３４Ｘ1、１３４Ｘ2によって、Ｙ軸リニアモータ１３４Ｙとともに、ウエハステージＷＳＴがＸ軸方向に沿って駆動される。また、第１、第２のＸ軸リニアモータ１３４Ｘ1、１３４Ｘ2がそれぞれ発生するＸ軸方向の電磁力（駆動力）を僅かに異ならせることにより、ウエハステージＷＳＴをθｚ方向に回転させることもできる。
【００４２】
これまでの説明から分かるように、本実施形態ではＹ軸リニアモータ１３４Ｙと、第１、第２のＸ軸リニアモータ１３４Ｘ1、１３４Ｘ2と、３つの自重キャンセラ１５０と、Ｘ微動機構ＶＸ、一対のＹ微動機構ＶＹ1、ＶＹ2とにより、ウエハステージ駆動系の少なくとも一部が構成されている。このウエハステージ駆動系の構成各部は、不図示の主制御装置により制御される。
【００４３】
前記ウエハテーブルＷＴＢの上面には、ウエハホルダ２５を介してウエハＷが真空吸着（又は静電吸着）等により吸着保持されている。ウエハホルダ２５は、ウエハテーブルＷＴＢ上で、その裏面側の全面を真空吸着により吸着保持されている。
【００４４】
図３（Ａ）は、ウエハテーブルＷＴＢ近傍を拡大して示す平面図であり、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）のＡ−Ａ線断面図である。これら図３（Ａ）、図３（Ｂ）に示されるように、本実施形態では、ウエハホルダ２５外周部近傍のウエハテーブルＷＴＢ上面には、所定深さの溝（非貫通のスリット）４１ａ、４１ｂが形成されている（図２では不図示）。溝４１ａは、平面視（上方から見て）においてＹ軸方向を長手方向とする部分と、Ｘ軸及びＹ軸に交差する方向を長手方向とする部分と、Ｘ軸方向を長手方向とする部分とを有している。また、溝４１ｂは、Ｘ軸方向を長手方向とした平面視（上方から見て）においてＸ軸方向を長手方向とした非常に細長い矩形状の形状を有している。
【００４５】
これらの溝４１ａ，４１ｂは、Ｘ微動機構ＶＸ、一対のＹ微動機構ＶＹ1，ＶＹ2とウエハホルダ２５との間に位置するように形成されており、Ｘ微動機構ＶＸ、一対のＹ微動機構ＶＹ1，ＶＹ2による駆動力の伝播が溝４１ａ，４１ｂの下部を回り込んでウエハテーブルＷＴＢに広がるため、その影響を緩和することが可能となっている。
【００４６】
これについて更に説明すると、図３（Ｃ）に示されるようにウエハテーブルＷＴＢ上に溝４１ａ，４１ｂが形成されていない場合には、Ｘ微動機構ＶＸ（及び一対のＹ微動機構ＶＹ1，ＶＹ2）による駆動力をウエハテーブルＷＴＢに作用させた際に、その駆動力がウエハホルダ２５の外周部（吸着領域の外縁部）に直接伝播することとなるが、本実施形態のようにウエハテーブルＷＴＢ上に溝４１ａ，４１ｂを形成することにより、図３（Ｄ）に示されるように、Ｘ微動機構ＶＸ（一対のＹ微動機構ＶＹ1，ＶＹ2）により発生した駆動力が、溝４１ａ，４１ｂの下部を回り込んでウエハテーブルＷＴＢに伝播するようになっている。
【００４７】
図１に戻り、ウエハステージＷＳＴの位置情報は、ウエハテーブルＷＴＢの側面に設けられた反射面に測長ビームを照射するウエハ干渉計５８によって、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。
【００４８】
これを更に詳述すると、ウエハ干渉計５８は、図４に示されるように、３つのダブルパス方式の干渉計ユニット５８Ｙ、５８Ｘ1，５８Ｘ2を含んで構成され、各干渉計ユニット５８Ｙ、５８Ｘ1，５８Ｘ2内部に設けられた固定鏡の反射面を基準とするウエハテーブルＷＴＢの反射面の位置の情報、すなわち、各干渉計ユニット内で分岐された測長ビームと参照ビームとの分岐点からの光路長の差の情報を用いて、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）の位置情報を計測する。各干渉計ユニット５８Ｙ、５８Ｘ1，５８Ｘ2は、前述の計測マウント５１にて吊り下げ状態で支持されている。
【００４９】
干渉計ユニット５８Ｘ1，５８Ｘ2に対向するウエハテーブルＷＴＢの側面（−Ｘ側の側面）は、図４に示されるように、Ｚ軸方向（上下方向）に関して３つの領域に分割され、その最上部の領域（第１領域）と最下部の領域（第２領域）はＹＺ面に平行な平面とされ、その表面が鏡面加工されている（以下、それぞれの平面を第１反射面５４ａ、第２反射面５４ｂと呼ぶ）。また、中央部の領域（第３領域）は、計測ビームＷＸＦ3、ＷＸ3（これについては後述する）に対して所定角度α°（０＜α＜９０）だけ傾いた平面とされ、その表面が鏡面加工されている（以下、第３領域の鏡面加工された面を、第３反射面５４ｃと呼ぶ）。
【００５０】
干渉計ユニット５８Ｘ1は、第１反射面５４ａに対してＸ軸に平行な測長ビームＷＸＦ1を照射し、第２反射面５４ｂに対してＸ軸に平行な測長ビームＷＸＦ2を照射し、第３反射面５４ｃに対してＸ軸に平行な測長ビームＷＸＦ3を照射する。
【００５１】
また、干渉計ユニット５８Ｘ1には、固定鏡５６ａが設けられており、その反射面（＋Ｘ側の面）は、第３反射面５４ｃで反射した測長ビームＷＸＦ3がほぼ垂直に入射するような角度に設定されている。
【００５２】
干渉計ユニット５８Ｘ2は、第１反射面５４ａに対してＸ軸に平行な測長ビームＷＸ1を照射し、第２反射面５４ｂに対してＸ軸に平行な測長ビームＷＸ2を照射し、第３反射面５４ｃに対してＸ軸に平行な測長ビームＷＸ3を照射する。
【００５３】
また、干渉計ユニット５８Ｘ2には、固定鏡５６ｂが設けられており、その反射面（＋Ｘ側の面）は、第３反射面５４ｃで反射した測長ビームＷＸ3が垂直に入射するような角度に設定されている。
【００５４】
一方、干渉計ユニット５８Ｙに対向するウエハテーブルＷＴＢの側面（−Ｙ側の側面）は、不図示ではあるが、上端部近傍の第１領域と下端部近傍の第２領域と第１、第２領域に挟まれた第３領域とに分けられ、そのうちの第１領域と第２領域とが鏡面加工されている。干渉計ユニット５８Ｙは、その第１領域側の反射面に対してＹ軸に平行な測長ビームＷＹ1、ＷＹ3を照射し、第２領域側の反射面に対してＹ軸に平行な測長ビームＷＹ2を照射する。
【００５５】
なお、−Ｙ側の側面については、全面を鏡面加工しても良いが、第１領域、第２領域に相当する部分を精度良く鏡面加工することが望ましい。
【００５６】
アライメント中においては、干渉計ユニット５８Ｘ1の測長ビームＷＸＦ1、ＷＸＦ2を用いて、ウエハテーブルＷＴＢのＸ軸方向の位置、及びθｙ方向（Ｙ軸回りの回転方向）の位置を計測するとともに、測長ビームＷＸＦ1〜ＷＸＦ3を用いて、ウエハテーブルＷＴＢのＺ軸方向の位置を計測する。また、干渉計ユニット５８Ｙの測長ビームＷＹ1，ＷＹ2を用いて、ウエハテーブルＷＴＢのＹ軸方向の位置及びθｘ方向（Ｘ軸回りの回転方向）の位置を計測することができるとともに、測長ビームＷＹ1、ＷＹ3によりθｚ方向の位置を計測することができる。
【００５７】
一方、露光中においては、干渉計ユニット５８Ｘ2の測長ビームＷＸ1、ＷＸ2、を用いて、ウエハテーブルＷＴＢのＸ軸方向の位置、及びθｙ方向（Ｙ軸回りの回転方向）の位置を計測するとともに、測長ビームＷＸＦ1〜ＷＸＦ3を用いて、ウエハテーブルＷＴＢのＺ軸方向の位置を計測する。また、アライメント中と同様に、干渉計ユニット５８Ｙの測長ビームＷＹ1，ＷＹ2を用いて、ウエハテーブルＷＴＢのＹ軸方向の位置及びθｘ方向（Ｘ軸回りの回転方向）の位置を計測することができるとともに、測長ビームＷＹ1、ＷＹ3によりθｚ方向の位置を計測することができる。
【００５８】
なお、ウエハテーブルＷＴＢのＺ軸方向に関する位置計測方法については、特開２０００−４９０６６号公報に開示されているので、詳細な説明は省略する。
【００５９】
ここで、アライメント中、露光中のいずれにおいても、測長ビームＷＸＦ1、ＷＸＦ2（又はＷＸ1，ＷＸ2）の計測結果の差と各測長ビームのＺ軸方向に関する距離とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢのθｙ方向の位置を計測するようになっているが、本実施形態においては、第１反射面５４ａと第２反射面５４ｂとが第３反射面５４ｃを挟んで離れた位置に配置されていることから、第１、第２反射面の面積を大きくすることなく、各測長ビームのＺ軸方向に関する距離を大きく取ることが可能である。これにより、第１、第２反射面をコスト高を招くことなく高精度に加工することができ、また、測長ビームのＺ方向に関する距離を大きくとることで、ウエハテーブルＷＴＢのθｙ方向の位置を高精度に計測することが可能となっている。また、ウエハテーブルＷＴＢのθｘ方向の計測に用いられるウエハテーブルＷＴＢの＋Ｙ側側面も同様に第１、第２反射面が分離されているので、コスト高を招くことなく高精度に鏡面加工することができ、また、測長ビームのＺ方向に関する距離を大きくとることで、ウエハテーブルＷＴＢのθｘ方向の位置を高精度に計測することが可能となっている。
【００６０】
次に、本実施形態の自重キャンセラ１５０の構成等について、図５〜図７に基づいて詳細に説明する。
【００６１】
図５の斜視図に示されるように、本実施形態の自重キャンセラ１５０は、様々な構造の部品が組み合わさった状態とされ、大きく分けて、ステージ３１の上面に固定される固定部９０と、該固定部９０に対してＺ方向に移動可能とされ、ウエハテーブルＷＴＢの下面に固定される固定部材６０にその一部が接続される可動部１９０と、可動部１９０を固定部９０に対してＺ軸方向に駆動する駆動機構ＶＭと、を備えている。
【００６２】
ウエハテーブルＷＴＢに固定される固定部材６０は、図６の分解斜視図に点線にて示されるように、円板部分６０ｃと該円板部分の±Ｙ側に固定された一対のＬ字状部分６０ａ，６０ｂとを有している。このうち円板部分６０ｃの上下面は、平坦度が高く設定されている。また、Ｌ字状部分６０ａ，６０ｂの上端面がウエハテーブルＷＴＢの下面に固定される（図７参照）。
【００６３】
前記固定部９０は、図６に示されるように、概略立方体状の枠部材９２と、その一部（Ｙ軸方向中央部）に円柱部分９４ａを有するピストン部９４とを備えている。ピストン部９４は、その＋Ｙ側端部及び−Ｙ側端部において枠部材９２に固定された状態となっている。
【００６４】
前記可動部１９０は、図６、図７に示されるように、固定部材６０の円板部分６０ｃを上下方向から挟んだ状態の一対の第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂと、該一対の第１挟持部材を上下方向から挟んだ状態の一対の第２挟持部材７０Ａ，７０Ｂと、該一対の第２挟持部材７０Ａ，７０ＢをＺ軸方向に関して所定間隔を維持するための４つのスペーサ部材７２ａ〜７２ｄと、下側の第２挟持部材７０Ｂの下面が固定される概略立方体状のシリンダ部材８０と、を含んで構成されている。
【００６５】
前記一方の第１挟持部材７４Ａは、その下面が平面１７４ｂで、その上面が球面１７４ａとされており、不図示の気体静圧軸受（第１クリアランス形成機構）により、固定部材６０の円板部分６０ｃの上面に対して、所定のクリアランス９４Ａ（図７参照）が維持されている。
【００６６】
前記他方の第１挟持部材７４Ｂも、上下対称ではあるが一方の第１挟持部材７４Ａと同様の構成であり、その上面が平面２７４ａで、その下面が球面２７４ｂとされ、不図示の気体静圧軸受（第１クリアランス形成機構）により、固定部材６０の円板部分６０ｃの下面に対して所定のクリアランス９４Ｂ（図７参照）が維持されている。
【００６７】
前記一方の第２挟持部材７０Ａは、図７に示されるように、その下面側に、第１挟持部材７４Ａの球面１７４ａと対応する形状の凹面１７０ａが形成され、不図示の気体静圧軸受（第２クリアランス形成機構）により、第１挟持部材７４Ａの上面に対して所定のクリアランス９６Ａが維持されている。また、他方の第２挟持部材７０Ｂも、上下対称ではあるが、一方の第２挟持部材７０Ｂと同様に構成されており、その上側の面には第１挟持部材７４Ｂの球面２７４ｂと対応する形状の凹面２７０ａ（図６、図７参照）が形成されている。これらの球面２７４ｂと球状の凹面２７０ａとの間には、不図示の気体静圧軸受（第２クリアランス形成機構）により、所定のクリアランス９６Ｂ（図７参照）が維持されている。
【００６８】
前記スペーサ部材７２ａ〜７２ｄは、その全てが同一のＺ方向長さを有し、その上端が第２挟持部材７０Ａの下面の四隅部分に固定され、その下端が第２挟持部材７０Ｂの上面の四隅部分に固定されている。
【００６９】
上述した、第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂと第２挟持部材７０Ａ，７０Ｂとを固定部材６０に対して組み付けた状態では、固定部材６０に対する一対の第１挟持部材７４Ａ，７４ＢのＸＹ面内方向の移動、及び一対の第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂに対する一対の第２挟持部材７０Ａ，７０ＢのＸ軸回り及びＹ軸回りの回転が非接触の状態で許容される。
【００７０】
前記シリンダ部材８０は、概略板状の第１板状部材８２Ａ及び第２板状部材８２Ｂと、各板状部材８２Ａ，８２Ｂの間を所定間隔に維持する４本の角柱部材８４とを備えている。
【００７１】
第１板状部材８２Ａには、そのほぼ中央部に上面側から、ＸＹ断面が円形の凹部１８２ａが形成され、該凹部１８２ａの底面のほぼ中央部には、貫通孔１８２ｂ（図７参照）が形成されている。凹部１８２ａの上側は、第２挟持部材７０Ｂの下面側で閉塞され、貫通孔１８２ｂには、前述した固定部９０のピストン部９４に設けられた円柱部分９４ａが挿入されるようになっている。円柱部分９４ａ外周面と貫通孔１８２ｂの内壁との間には、気体静圧軸受等により所定のクリアランスが形成されており、凹部１８２ａ内の気体が漏れるのが防止されるようになっている。したがって、第２挟持部材７０Ｂと第１板状部材８２Ａとピストン部９４の円柱部分９４ａとにより形成される空間は気密空間ＡＲとされている。気密空間ＡＲ内には、不図示の気体供給管、及び供給管路等を介して、気体（例えば、空気、窒素ガス等）が供給されるようになっている。これにより、気密空間ＡＲ内は、陽圧空間となる。以下においては、気密空間ＡＲを陽圧空間ＡＲとも呼ぶものとする。なお、陽圧空間ＡＲ内に気体の代わりに液体等を供給し、この液体により陽圧が発生するようにしても良い。
【００７２】
第２板状部材８２Ｂには、そのほぼ中央部にＸＹ断面が円形の開口２８２ａが形成されている。この開口２８２ａには、後述する駆動機構ＶＭの一部が挿入されるようになっている（図５、図７参照）。また、第１板状部材８２Ａと第２板状部材８２Ｂとは、ピストン部材９４を間に挟んだ状態で４本の角柱部材８４により接続されるようになっている（図７参照）。
【００７３】
前記駆動機構ＶＭは、図７に示されるように、ステージ３１上に固定される固定子８８Ａと、固定子８８Ａとの間の電磁相互作用により、固定子８８Ａに対してＺ軸方向に移動する可動子８８Ｂとを備えるボイスコイルモータ等から構成されている。可動子８８Ｂの一部は、第２板状部材８２Ｂの底面と接続され、駆動機構ＶＭの駆動力により、可動部１９０全体をＺ軸方向に駆動するようになっている。
【００７４】
ここで、図５のように組み上げられた状態では、４本の角柱部材８４と枠部材９２とが対向する位置には、不図示の気体静圧軸受により、所定のクリアランスが形成されている。これにより、固定部９０に対して可動部１９０が摩擦を生じることなく移動することができるようになっている。
【００７５】
このようにして構成される３つの自重キャンセラ１５０によると、陽圧空間ＡＲ内の陽圧によりウエハテーブルＷＴＢを支持することができるとともに、ウエハテーブルＷＴＢがＸＹ面内及びＸＹ面に傾斜する方向に微小量移動する場合であっても、クリアランス９４Ａ，９４Ｂ，９６Ａ，９６Ｂが形成されていることにより、その移動を許容することができる。また、駆動機構ＶＭにより、Ｚ軸方向、及びθｘ、θｙ方向にウエハテーブルＷＴＢを微小駆動することが可能である。本実施形態の場合、各自重キャンセラ１５０は、駆動機構ＶＭで発生した駆動力がウエハテーブルＷＴＢに作用する位置と、前記陽圧空間ＡＲで発生する陽圧がウエハテーブルＷＴＢに作用する位置は、Ｚ軸に関して略同軸上に位置するように構成されている。また、駆動機構ＶＭの駆動力と陽圧空間ＡＲによる陽圧（ウエハテーブルＷＴＢの自重の支持力）とは、ウエハテーブルＷＴＢに対して互いに並列に作用するようになっている。ただし本発明はこのような構成に限定されるものではない。
【００７６】
本実施形態の露光装置では、従来と同様、照明光ＩＬのもとで、レチクルＲのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上の１つのショット領域に投影する動作と、ウエハステージＷＳＴを介してウエハＷをＸ軸方向、Ｙ軸方向にステップ移動する動作とが、ステップ・アンド・リピート方式で繰り返される。この場合のステップ移動は、ウエハ干渉計５８（干渉計ユニット５８Ｘ1，５８Ｘ2、５８Ｙ）の計測結果に基づいて、ステージ駆動系（Ｘ軸リニアモータ１３４Ｘ1、１３４Ｘ2、Ｙ軸リニアモータ１３４Ｙ、Ｘ微動機構ＶＸ、Ｙ微動機構ＶＹ1，ＶＹ2、自重キャンセラ１５０の駆動機構ＶＭを含んで構成される）を介して駆動される。
【００７７】
以上詳細に説明したように、本実施形態の露光装置では、自重キャンセラ１５０を備えており、該自重キャンセラ１５０によると、ステージ３１に接続された固定部９０に対して重力方向に移動可能な可動部１９０が、ウエハテーブルＷＴＢの一部（固定部材６０）を重力方向の両側から非接触で挟んだ状態でウエハテーブルＷＴＢに接続される接続部（第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂ）を含んでいるので、少なくとも水平面内の動作が許容されるとともに、重力方向に関する剛性を高くすることが可能となる。また、ウエハテーブルＷＴＢには自重キャンセラ１５０の少なくとも一部が接触した状態では接続されないので、ウエハテーブルＷＴＢ全体（ウエハテーブルＷＴＢに直接接続される構造を含む）の重量を小さくすることが可能である。
【００７８】
これにより、ウエハテーブルＷＴＢと自重キャンセラ１５０の可動部１９０とが非接触となるため、ウエハテーブルＷＴＢ全体（ウエハテーブルに接続される構造を含む）の重量を小さくすることができ、ウエハテーブルＷＴＢを水平面内で駆動する場合にも高加速化を図ることができる。また、自重キャンセラ１５０がウエハテーブルＷＴＢの一部（固定部材６０）を上下方向から非接触で挟持した状態で接続されるので、ステージ３１とウエハテーブルＷＴＢの間をＺ軸方向に関して高剛性で支持することが可能となる。これにより、高加速でウエハテーブルを移動することができるので、スループットを向上することが可能となる。
【００７９】
また、本実施形態では、可動部１９０側にシリンダ部材８０が設けられ、固定部９０側にシリンダ部材８０の内部に挿入され、該シリンダ部材８０に沿って、相対移動可能な円柱部分９４ａを有するピストン部材９４が設けられているので、ピストン部材９４の円柱部分９４ａを重力方向に付勢する気密空間ＡＲ内の気体の陽圧により、ウエハテーブルＷＴＢを支持することができる。したがって、ウエハテーブルＷＴＢを低剛性で支持することができるとともに、ウエハテーブルＷＴＢを支持するために駆動機構ＶＭによるＺ軸方向の駆動力を常時発生する必要がないので、熱の発生等によるウエハＷ近傍雰囲気のゆらぎの発生、ひいては露光精度の低下等を抑制することが可能となる。
【００８０】
また、本実施形態では、陽圧空間ＡＲ内の陽圧を用いて、ステージ３１に対するウエハテーブルＷＴＢの支持を行っていることにより、床面Ｆからの振動の伝達を、陽圧空間ＡＲにて吸収することができる。これにより、ステージ定盤ＢＳと床面Ｆとの間に防振機構を設ける必要がなく、低コストで、高精度な露光を実現することが可能となる。
【００８１】
また、本実施形態では、ウエハテーブルＷＴＢの一部（固定部材６０）を上下方向の両側から非接触で挟持する一対の第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂと第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂを上下方向からから挟持する一対の第２挟持部材７０Ａ，７０Ｂとを有し、第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂと第２挟持部材７０Ａ，７０Ｂとが対向する部分は、球面とされているので、ウエハテーブルＷＴＢが水平面に傾斜する方向に傾こうとする場合であっても、第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂと第２挟持部材７０Ａ，７０Ｂとの相対的な位置関係が変更されることにより、ウエハテーブルＷＴＢの傾きを許容することができる。これにより、ウエハテーブルＷＴＢをθｘ、θｙ方向に関しても微小駆動することが可能となる。
【００８２】
また、本実施形態では、第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂと固定部材６０との間、第２挟持部材７０Ａ，７０Ｂと第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂとの間が、気体静圧軸受により所定のクリアランスが形成されているので、各部材間を非接触に維持することができ、摩擦等の影響を受けることなく、ウエハテーブルＷＴＢの水平面内及びθｘ、θｙ方向の移動を許容することができる。
【００８３】
また、本実施形態の露光装置で１０は、ステージ装置５０において、ウエハテーブルＷＴＢの側面に第１、第２、第３領域がＺ軸方向に沿って設けられ、そのうちの第１、第２領域の面がウエハ干渉計５８からの計測ビームを反射する第１反射面５４ａ、第２反射面５４ｂとされているので、ウエハテーブルＷＴＢのθｙ方向の回転を計測するに際して第１、第２反射面５４ａ，５４ｂに計測ビームを照射することにより、計測ビームのＺ軸方向に関する距離を大きくすることができる。これにより、反射面全体の面積を大きくすることなく、計測ビームのＺ方向に関する距離を大きくできるので、コスト高を招くことなく、高精度な鏡面加工を行うことができるとともに、高精度な計測を実現することが可能である。そのため、ウエハテーブルＷＴＢのθｙ方向の回転を精度良く計測することが可能である。
【００８４】
また、本実施形態の露光装置１０では、ステージ装置５０において、ウエハテーブルＷＴＢのウエハホルダ２５を吸着する吸着固定領域の外側の少なくとも一部に、所定深さの溝４１ａ、４１ｂが形成されており、Ｘ微動機構ＶＸ、Ｙ微動機構ＶＹ1、ＶＹ2による駆動力が、溝４１ａ，４１ｂを回り込んだ状態で、ウエハテーブルに広がるようになっているので、その影響を緩和することが可能である。これにより、高精度な露光を実現することが可能である。
【００８５】
なお、上記実施形態では、自重キャンセラ１５０の固定部９０側にピストン部材を設け、可動部１９０側にシリンダ部材を設けることとしたが、本発明がこれに限られるものではなく、固定部９０側にシリンダ部材を設け、可動部１９０側にピストン部材を設けることとしても良い。
【００８６】
なお、上記実施形態では、自重キャンセラ１５０の気密空間ＡＲの内部を陽圧にすることでウエハテーブルＷＴＢの自重を支持するように構成したが、これに限定されるものではない。気密空間ＡＲ内の圧力によってウエハテーブルＷＴＢを支持する＋Ｚ方向の力が発生するように構成すれば良い。例えば、気密空間ＡＲ内を負圧（真空）にし、この気密空間ＡＲと周囲の気圧（例えば、大気圧）との差圧によって、ウエハテーブルＷＴＢを支持する＋Ｚ方向の力を発生するように構成しても良い。真空を用いて物を支持する力を発生させる構成については、例えば、特開昭６０−７８１２５号公報に開示されている。また、発熱の影響が小さい場合には、駆動機構ＶＭで発生する駆動力によってウエハテーブルＷＴＢの自重を支持するようにしても良い。
【００８７】
なお、上記実施形態では、第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂと第２挟持部材７０Ａ，７０Ｂとが対向する部分を球面とする場合について説明したが、これに限らず、非球面とすることとしても良い。また、固定部材６０の円板部分６０ｃの上下面と第１挟持部材７４Ａ、７４Ｂとが対向する部分を球面又は非球面とすることとしても良い。更には、上記実施形態では、第１挟持部材７４Ａの上面及び第１挟持部材７４Ｂの下面を凸状に設定し、第２挟持部材７０Ａの下面及び第２挟持部材７０Ｂの上面を凹状に設定することとしたが、これに限らず、第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂ側を凹状に設定し、第２挟持部材７０Ａ，７０Ｂ側を凸状に設定することとしても良い。
【００８８】
なお、上記実施形態では、第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂと固定部材６０との間、第２挟持部材７０Ａ，７０Ｂとの間のそれぞれに、所定のクリアランスを形成するために気体静圧軸受を設けているが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、気密空間ＡＲに供給されたウエハテーブルＷＴＢの自重を支持するための陽圧を発生させる気体と、所定のクリアランスを形成するために各部材間に供給される気体とを共通にしても良い。その場合、各部材に気密空間ＡＲと連通させた気体が流通可能な管路を設け、この管路を介して各部材間の隙間に噴出される気体の静圧を利用して、所定のクリアランスを形成することができる。
【００８９】
また、所定のクリアランスを形成するために気体を用いたが、磁力を用いた軸受等を用いても良い。更に、真空や磁力等で予圧を発生させるタイプの軸受を用いても良い。
【００９０】
また、上記実施形態では、固定部材６０と第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂとの間が非接触であれば、第１挟持部材７４Ａ，７４Ｂと第２挟持部材７０Ａ，７０Ｂとの間は非接触でなくても良い。
【００９１】
なお、上記実施形態では、固定部材６０をウエハテーブルＷＴＢの下面に固定した場合について説明したが、これに限らず、ウエハテーブルＷＴＢの側面に固定することとしても良い。この場合、固定部材６０を板状部材とすることとしても良い。
【００９２】
なお、上記実施形態では、自重キャンセラ１５０に微動機構ＶＭを設ける場合について説明したが、これに限らず、微動機構ＶＭを自重キャンセラ１５０と分離し、別々にウエハテーブルＷＴＢとステージ３１との間に設けることとしても良い。
【００９３】
なお、上記実施形態では、自重キャンセラ１５０の固定部９０がステージ３１の上面に固定される場合について説明したが、これに限らず、ステージ３１の側面に固定されるようにすることもできる。
【００９４】
なお、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴに自重キャンセラ１５０を設けた場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなく、レチクルステージＲＳＴ側に設けることとしても良い。また、露光装置に限らず、第１物体に対して第２物体を支持する場合（例えば、露光装置の光学系等を支持するための防振装置の一部等）であれば、種々の装置に適用することが可能である。
【００９５】
なお、上記実施形態では、ウエハテーブルＷＴＢ上で、かつウエハホルダ２５とは機械的に干渉しない位置に溝４１ａ，４１ｂを形成する場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなく、ウエハホルダ２５の吸着領域を狭くして、ウエハホルダ２５の下側に溝４１ａ，４１ｂが位置するようにしても良い。このようにすることで、ウエハテーブルＷＴＢの小型化を図ることが可能となる。
【００９６】
なお、上記実施形態では、照明光ＩＬとしてＫｒＦエキシマレーザ光などの遠紫外光、Ｆ2レーザ、ＡｒＦエキシマレーザ等の真空紫外域光、あるいは超高圧水銀ランプからの紫外域の輝線（ｇ線、ｉ線等）などを用いるものとしたが、これに限らずＡｒ2レーザ光（波長１２６ｎｍ）などの他の真空紫外光を用いても良い。また、例えば、真空紫外光として上記各光源から出力されるレーザ光に限らず、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（Ｅｒ）（又はエルビウムとイッテルビウム（Ｙｂ）の両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。
【００９７】
更に、照明光ＩＬとしてＥＵＶ光、Ｘ線、あるいは電子線やイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置、投影光学系を用いない、例えばプロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー、及び例えば国際公開ＷＯ９９／４９５０４号などに開示される、投影光学系ＰＬとウエハとの間に液体が満たされる液浸型露光装置などにも本発明を適用しても良い。
【００９８】
なお、上記実施形態では、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、本発明の適用範囲がこれに限定されないことは勿論である。すなわちステップ・アンド・スキャン方式等の走査型露光装置にも本発明は好適に適用できる。
【００９９】
なお、複数のレンズから構成される照明光学系、投影光学系を露光装置本体に組み込み、光学調整をするとともに、多数の機械部品からなるレチクルステージやウエハステージを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合調整（電気調整、動作確認等）をすることにより、上記実施形態の露光装置を製造することができる。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１００】
なお、本発明は、半導体製造用の露光装置に限らず、液晶表示素子などを含むディスプレイの製造に用いられる、デバイスパターンをガラスプレート上に転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられるデバイスパターンをセラミックウエハ上に転写する露光装置、及び撮像素子（ＣＣＤなど）、マイクロマシン、有機ＥＬ、ＤＮＡチップなどの製造に用いられる露光装置などにも適用することができる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、ＤＵＶ（遠紫外）光やＶＵＶ（真空紫外）光などを用いる露光装置では一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、螢石、フッ化マグネシウム、又は水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のＸ線露光装置、又は電子線露光装置などでは透過型マスク（ステンシルマスク、メンブレンマスク）が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
【０１０１】
本発明は、例えば、特開平１０−１６３０９９号公報、特開平１０−２１４７８３号公報及びこれらに対応する米国特許第６，４００，４４１号と、特表２０００−５０５９５８号公報及びこれらに対応する米国特許第５，９６９，４４１号及び米国特許第６，２６２，７９６号に記載されているツインステージ型の露光装置にも適用できる。
【０１０２】
また、本発明は、特開平１１−１３５４００号公報に開示されるように、ウエハ等の被処理基板を保持して移動可能な露光ステージと、各種の計測部材やセンサを備えた計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。
【０１０３】
また、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（または位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク、あるいは光反射性の基板上に所定の反射パターンを形成した光反射型マスクを用いたが、それらに限定されるものではない。例えば、そのようなマスクに代えて、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（光学系の一種とする）を用いるようにしても良い。このような電子マスクは、例えば米国特許第６，７７８，２５７号公報に開示されている。なお、上述の電子マスクとは、非発光型画像表示素子と自発光型画像表示素子との双方を含む概念である。
【０１０４】
また、例えば、２光束干渉露光と呼ばれているような、複数の光束の干渉によって生じる干渉縞を基板に露光するような露光装置にも適用することができる。そのような露光方法及び露光装置は、例えば、国際公開第０１／３５１６８号パンフレットに開示されている。
【０１０５】
さらに、本発明は、液体を介して基板に露光光を照射する液浸露光装置にも適用可能である。そのような液浸露光装置としては、例えば投影光学系と基板との間を局所的に液体で満たす方式として、国際公開第２００４／０５３９５８号パンフレットに開示されているものが知られている。また、露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる液浸露光装置や、ステージ上に所定厚の液体層を形成しその中で基板を保持する液浸露光装置にも本発明を適用可能である。例えば、特開平６−１２４８７３号公報、特開平１０−３０３１１４号公報及び米国特許第５，８２５，０４３号にそれらの構成が開示されている。また、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、投影光学系の終端光学部材の出射側と入射側のそれぞれの光路空間を液体で満たすような液浸露光装置に適用しても良い。
【０１０６】
半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置を用いて前述の方法によりレチクルのパターンをウエハに転写するステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
以上説明したように、本発明の支持装置は、第１物体に対して第２物体を支持するのに適している。また、本発明のステージ装置は、ステージを少なくとも２次元面内で駆動するのに適している。また、本発明の露光装置は、基板を露光するのに適している。
【図面の簡単な説明】
【０１０８】
【図１】一実施形態に係る露光装置を示す概略図である。
【図２】図１のステージ装置を示す概略平面図である。
【図３】図３（Ａ）〜図３（Ｄ）は、ウエハテーブルに形成された溝の配置、及びその作用を説明するための図である。
【図４】ウエハ干渉計システムの構成、及びウエハテーブルの−Ｘ側の側面に設けられた反射面について説明するための図である。
【図５】自重キャンセラを示す斜視図である。
【図６】図５の自重キャンセラの分解斜視図である。
【図７】図５の自重キャンセラの断面図である。
【符号の説明】
【０１０９】
１０…露光装置、２５…ウエハホルダ（基板保持部材）、３１…ステージ（第１物体）、４１ａ，４１ｂ…溝、５０…ステージ装置、５４Ａ…第１領域（第１反射面）、５４Ｂ…第２領域（第２反射面）、５４Ｃ…第３領域（第３反射面）、５８…ウエハ干渉計システム（計測装置）、７０Ａ，７０Ｂ…第２挟持部材（接続部の一部）、７４Ａ，７４Ｂ…第１挟持部材（接続部の一部）、８０…シリンダ部材（シリンダ部）、９０…固定部、９４…ピストン部、１５０…自重キャンセラ（支持装置）、１９０…可動部、ＶＭ…駆動機構（微動機構）、ＶＸ…Ｘ微動機構（駆動機構）、ＶＹ1、ＶＹ2…Ｙ微動機構、Ｗ…ウエハ（基板）、ＷＴＢ…ウエハテーブル（第２物体、テーブル）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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