(57)【要約】【解決手段】パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを塵埃除去のための弾性粘着層としたことを特徴とするクリーニング板。【効果】本発明のクリーニング板は、耐溶剤性に優れるパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを粘着除塵層とすることで再生利用が容易であり、また、低分子成分の移行もないので、電気電子をはじめとしたクリーン化を必要とする幅広い分野で使用することができる。【選択図】図１
2007134528.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを塵埃除去のための弾性粘着層としたことを特徴とするクリーニング板。
【請求項２】
平面板の片面又は両面に上記パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを積層したことを特徴とする請求項１記載のクリーニング板。
【請求項３】
上記パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムの架橋サイトがＳｉ−ＣＨ＝ＣＨ2であり、架橋システムが付加反応架橋もしくはパーオキサイド架橋であることを特徴とする請求項１又は２記載のクリーニング板。
【請求項４】
上記パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムが、
（Ａ）（Ａ−１）分子中に少なくとも２個のアルケニル基を有し、かつ主鎖中に二価のパーフルオロアルキレン構造又は二価のパーフルオロポリエーテル構造を有するパーフルオロ化合物、又は（Ａ−１）成分の前記アルケニル基の一部に、分子中に少なくとも２個のヒドロシリル基を有するアルケニル基と付加反応可能な化合物が付加してなるポリマー、
（Ｂ）補強性フィラー、及び
（Ｃ）分子中にヒドロシリル基を有する付加反応可能な架橋剤又はパーオキサイド架橋剤を前記（Ａ）成分を硬化させるのに十分な量
を含有してなる架橋性フッ素ゴム組成物を硬化させてなるものであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載のクリーニング板。
【請求項５】
（Ａ−１）成分が、下記一般式（１）
【化１】
2007134528.tif 000010
［式中、Ｘは−ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＯＣＨ2−又は−Ｙ−ＮＲ−ＣＯ−（Ｙは−ＣＨ2−又は下記構造式（Ｚ）
【化２】
2007134528.tif 000011
（ｏ，ｍ又はｐ位）で示される基）
で表される基、Ｒは水素原子、メチル基、フェニル基又はアリル基、Ｘ’は−ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＯＣＨ2−又は−ＣＯ−ＮＲ−Ｙ’−（Ｙ’は−ＣＨ2−又は下記構造式（Ｚ’）
【化３】
2007134528.tif 000012
（ｏ，ｍ又はｐ位）で示される基）
で表される基であり、Ｒは上記と同じである。ａは独立に０又は１、Ｌは２〜６の整数、ｂ及びｃはそれぞれ０〜２００の整数である。］
で表される直鎖状フルオロポリエーテル化合物であることを特徴とする請求項４記載のクリーニング板。
【請求項６】
上記平面板が、金属、シリコン、ガラス、セラミックス、プラスチックのいずれか一つ又はそれらの複合物からなることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項記載のクリーニング板。
【請求項７】
上記平面板が、シリコンウエハー、石英ガラス板、アルミニウム板のいずれかであることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項記載のクリーニング板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐溶剤性、耐薬品性、耐熱性、低温特性が良好であり、粘着性を有するパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを塵埃除去部分に使用したクリーニング板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造における、いわゆるウエハープロセス工程には、エッチング工程、イオン注入工程、スパッタ薄膜形成工程などの真空装置内での処理工程がある。これらの工程においては、シリコンウエハーは装置内のウエハー支持部材上に保持されて処理されるが、ウエハー支持部材は装置に付属したものであり、通常は交換せずに使い続けることから、シリコンウエハーとの擦れにより発生する塵埃、シリコンウエハーが前工程から運んでくる塵埃、プロセスそのものから発生する塵埃などによって、ウエハー支持部材上には塵埃が蓄積してくる。このウエハー支持部材上に蓄積した塵埃は、シリコンウエハーの裏面に転写され、その後のプロセスで異物欠陥の原因となり、最終的な製造工程の歩留りを低下させることになる。
【０００３】
従来、ウエハー支持部材上に蓄積した塵埃の除去は、人が発塵の少ない不織布に溶剤を染み込ませて拭取り作業をした後、きれいなダミーシリコンウエハーをかなりの枚数搬送する方法で行っていたが、この方法では、非常に手間がかかると共に、多数のきれいなダミーウエハーを準備しなくてはならず、コスト的にも問題があった。
【０００４】
この問題を解決するため、シリコンウエハーの片面に粘着付与剤を添加したブチルゴムやＮＢＲなどの合成ゴム層や、粘着性のある低硬度のシリコーンゴム層を設けたクリーニングウエハーを搬送し、ウエハー支持部材上に蓄積した塵埃の除去を行う方法も考えられている。この方法では、手間がかからず、多数のクリーニングウエハーを準備する必要もないため、高効率、低コストにて塵埃の除去が可能となったが、いくつかの問題点が残っていた。
【０００５】
即ち、クリーニングウエハーに塵埃が多量に付着し、粘着による塵埃付着能力を失った場合、ゴム部分を溶剤で洗浄するか、ゴムよりも強力な粘着性を有するアクリル系などの粘着シートに転写させて再生する必要がある。溶剤による洗浄の場合、従来の上記ゴム材料では耐溶剤性は不十分であり、洗浄特性に優れるケトン系、低級アルコール系、カルボニル系、有機酸系などの極性溶剤に対しては容易に劣化してしまい、耐久性に劣るという欠点を有していた。更に、粘着シートに塵埃を転写する場合には、ゴム材料中の粘着付与剤も同時に転写されて粘着力が徐々に低下してしまうという欠点を有していた。
【０００６】
また、シリコーンゴム系のクリーニングウエハーに関しては、シリコーンゴムから発生する低分子シロキサンが除塵工程中にウエハー支持部材上などに転写されることがあり、これが、処理されるシリコンウエハーの裏面に付着して問題を起こすなど、いわゆるシロキサントラブルが発生してしまう場合があった。
【０００７】
クリーニング板とは、前述したようにゴムの弾性と粘着力を利用してエッチング工程、イオン注入工程、スパッタ薄膜形成工程などの装置のワーク支持部材上に蓄積した塵埃を除去するものである。そして、クリーニング板に多量の塵埃が付着した時には洗浄もしくは転写することで再生使用が可能となる。
【０００８】
なお、本発明に関連する従来技術として、下記文献が挙げられる。
【特許文献１】特開２００４−２１４４２２号公報
【特許文献２】特開２００４−２５９７８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムの粘着性を利用した、塵埃付着による除塵作用と該含フッ素ゴムの耐溶剤性、耐薬品性に優れた特性による再生利用を可能にしたクリーニング板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、平面板上にパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム、特に充填補強材としてシリカを含有するパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを除塵層として設けたクリーニング板構造とすることで、理想的な効果を期待できることを見出し、本発明をなすに至った。
【００１１】
従って、本発明は、下記パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを用いたクリーニング板を提供する。
請求項１：
パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを塵埃除去のための弾性粘着層としたことを特徴とするクリーニング板。
請求項２：
平面板の片面又は両面に上記パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを積層したことを特徴とする請求項１記載のクリーニング板。
請求項３：
上記パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムの架橋サイトがＳｉ−ＣＨ＝ＣＨ2であり、架橋システムが付加反応架橋もしくはパーオキサイド架橋であることを特徴とする請求項１又は２記載のクリーニング板。
請求項４：
上記パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムが、
（Ａ）（Ａ−１）分子中に少なくとも２個のアルケニル基を有し、かつ主鎖中に二価のパーフルオロアルキレン構造又は二価のパーフルオロポリエーテル構造を有するパーフルオロ化合物、又は（Ａ−１）成分の前記アルケニル基の一部に、分子中に少なくとも２個のヒドロシリル基を有するアルケニル基と付加反応可能な化合物が付加してなるポリマー、
（Ｂ）補強性フィラー、及び
（Ｃ）分子中にヒドロシリル基を有する付加反応可能な架橋剤又はパーオキサイド架橋剤を前記（Ａ）成分を硬化させるのに十分な量
を含有してなる架橋性フッ素ゴム組成物を硬化させてなるものであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載のクリーニング板。
請求項５：
（Ａ−１）成分が、下記一般式（１）
【化１】
2007134528.tif 000003
［式中、Ｘは−ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＯＣＨ2−又は−Ｙ−ＮＲ−ＣＯ−（Ｙは−ＣＨ2−又は下記構造式（Ｚ）
【化２】
2007134528.tif 000004
（ｏ，ｍ又はｐ位）で示される基）
で表される基、Ｒは水素原子、メチル基、フェニル基又はアリル基、Ｘ’は−ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＯＣＨ2−又は−ＣＯ−ＮＲ−Ｙ’−（Ｙ’は−ＣＨ2−又は下記構造式（Ｚ’）
【化３】
2007134528.tif 000005
（ｏ，ｍ又はｐ位）で示される基）
で表される基であり、Ｒは上記と同じである。ａは独立に０又は１、Ｌは２〜６の整数、ｂ及びｃはそれぞれ０〜２００の整数である。］
で表される直鎖状フルオロポリエーテル化合物であることを特徴とする請求項４記載のクリーニング板。
請求項６：
上記平面板が、金属、シリコン、ガラス、セラミックス、プラスチックのいずれか一つ又はそれらの複合物からなることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項記載のクリーニング板。
請求項７：
上記平面板が、シリコンウエハー、石英ガラス板、アルミニウム板のいずれかであることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項記載のクリーニング板。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のクリーニング板は、耐溶剤性に優れるパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを粘着除塵層とすることで再生利用が容易であり、また、低分子成分の移行もないので、電気電子をはじめとしたクリーン化を必要とする幅広い分野で使用することができ、その工業的な利用価値が大きい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明のクリーニング板は、パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを塵埃除去のための弾性粘着層としたもので、この場合、特に平面板の片面又は両面に該含フッ素ゴムを積層したものが好ましいが、上記パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムとしては、架橋サイトがＳｉ−ＣＨ＝ＣＨ2であり、架橋システムが付加反応架橋もしくはパーオキサイド架橋のパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム組成物の硬化物を好適に用いることができる。
【００１４】
本発明に使用される架橋サイトがＳｉ−ＣＨ＝ＣＨ2であるパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム組成物としては、特許第２９９０６４６号公報、特開２０００−００７８３５号公報、特開２００１−１０６８９３号公報、特開２００３−２０１４０１号公報等により詳しく記載されているものが挙げられ、信越化学工業（株）製商品名ＳＩＦＥＬシリーズとして一般的に入手可能なものである。
【００１５】
上記パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム組成物としては、特に
（Ａ）（Ａ−１）分子中に少なくとも２個のアルケニル基を有し、かつ主鎖中に二価のパーフルオロアルキレン構造又は二価のパーフルオロポリエーテル構造を有するパーフルオロ化合物、又は（Ａ−１）成分の前記アルケニル基の一部に、分子中に少なくとも２個のヒドロシリル基を有するアルケニル基と付加反応可能な化合物が付加してなるポリマー、
（Ｂ）補強性フィラー、及び
（Ｃ）分子中にヒドロシリル基を有する付加反応可能な架橋剤又はパーオキサイド架橋剤を前記（Ａ）成分を硬化させるのに十分な量
を含有する組成物が好適に用いられる。
【００１６】
この場合、（Ａ−１）成分としては、下記一般式（１）
【化４】
2007134528.tif 000006
［式中、Ｘは−ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＯＣＨ2−又は−Ｙ−ＮＲ−ＣＯ−（Ｙは−ＣＨ2−又は下記構造式（Ｚ）
【化５】
2007134528.tif 000007
（ｏ，ｍ又はｐ位）で示される基）
で表される基、Ｒは水素原子、メチル基、フェニル基又はアリル基、Ｘ’は−ＣＨ2−、−ＯＣＨ2−、−ＣＨ2ＯＣＨ2−又は−ＣＯ−ＮＲ−Ｙ’−（Ｙ’は−ＣＨ2−又は下記構造式（Ｚ’）
【化６】
2007134528.tif 000008
（ｏ，ｍ又はｐ位）で示される基）
で表される基であり、Ｒは上記と同じである。ａは独立に０又は１、Ｌは２〜６の整数、ｂ及びｃはそれぞれ０〜２００の整数である。］
で表される直鎖状フルオロポリエーテル化合物であるものが好ましい。
【００１７】
（Ｂ）成分の補強性フィラーは、塵埃が付着した後の再生過程での耐久性に関連する成分である。フィラーとしては、ヒュームドシリカ、湿式シリカ、粉砕シリカ、炭酸カルシウム、珪藻土、カーボンブラック、各種金属酸化物粉末等を挙げることができ、また、これらを各種表面処理剤で処理したものであってもよい。この中で、機械的強度の向上の点から、特にヒュームドシリカが好ましく、更に、分散性の向上の点から、ヒュームドシリカをシラン系表面処理剤で処理したものが好ましい。
【００１８】
（Ｂ）成分の補強性フィラーの添加量としては、（Ａ）成分１００質量部に対して、１〜２００質量部が好ましい。特に、機械的特性の安定の点から５〜１００質量部が好ましい。
【００１９】
（Ｃ）成分は、（Ａ）成分のポリマーを硬化させる架橋剤であり、（１）分子中にヒドロシリル基を有する付加反応可能な架橋剤、もしくは（２）パーオキサイド架橋剤に大別できる。
【００２０】
（Ｃ）成分として付加反応架橋を用いる場合は、１分子中にケイ素原子に結合した水素原子（ＳｉＨ基）を少なくとも２個有する有機ケイ素化合物が必要であり、（Ａ）成分との相溶性、分散性、硬化後の均一性の観点から、１分子中に１個以上のフッ素含有基を有するものが好ましい。更に、この場合、（Ａ）成分中のアルケニル基とヒドロシリル基との付加反応を促進する触媒が必要であり。このヒドロシリル化反応触媒は、一般に貴金属の化合物であり、高価格であることから、比較的入手しやすい白金又は白金化合物がよく用いられる。
【００２１】
（Ｃ）成分として有機過酸化物を使用する場合、該有機過酸化物は、通常、過酸化物硬化型ゴム組成物を硬化させるために使用されているものを特に制約なく使用することができ、具体的には、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ビス（２，４−ジクロロベンゾイル）パーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサン、ｔ−ブチルパーベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ジクミルパーオキサイド等が挙げられる。これらは、１種単独でも２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００２２】
（Ｃ）成分の添加量は、（Ａ）成分のポリマーを硬化させるのに十分な量であればよく、通常、付加架橋の場合はヒドロシリル基（ＳｉＨ基）／アルケニル基の比率が０．５〜２．０が好ましく、更に好ましくは０．８〜１．５であり、またヒドロシリル化反応触媒は、（Ａ）成分に対し白金金属換算で０．１〜１，０００ｐｐｍである。有機過酸化物を使用する場合は、（Ａ）成分のポリマー１００質量部に対して０．０１〜５質量部、好ましくは０．０５〜３質量部を配合する。
【００２３】
上記含フッ素ゴム組成物は、その組成物形態が液状ゴム組成物とミラブルゴム組成物の２種類あるが、両者とも補強剤としてシリカ粉末が配合されているために、本発明に適用する成形品としての粘着及び再生特性は同等である。
【００２４】
次に、上記のゴム材料を粘着部材として得られる本発明のクリーニング板の実施例について図を用いて説明する。
【００２５】
図１（Ａ）は、平面板２としてシリコンウエハーを使用し、その片面にパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層１を設けたクリーニング板を示したものであり、図１（Ｂ）はその断面図を示したものである。
【００２６】
図２（Ａ）は、平面板２として石英ガラス板を使用し、その両面にパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層１，１を設けたクリーニング板であり、図２（Ｂ）はその断面図を示したものである。
【００２７】
本発明のクリーニング板に使用する平面板の材質は、上記の例に限定されず、金属、シリコン、ガラス、セラミックス、プラスチックのいずれか一つ又はそれらの複合物などから選ぶことができ、平面度が確保できれば、特に限定されるものではないが、具体的には、シリコンウエハー、石英ガラス板、アルミニウム板等が比較的簡単に調達することができ、好適である。
【００２８】
本発明のクリーニング板の形状は、特に限定はないが、塵埃を除去されるべきワーク支持部材の形状に合わせたものであることが好ましい。例えば、φ３００ｍｍシリコンウエハーの支持部材に対応するクリーニング板であれば、このウエハーと同じφ３００ｍｍのクリーニング板であることが好ましい。
【００２９】
本発明のクリーニング板の全体の厚さは、０．１〜５ｍｍが好ましく、更に０．３〜２ｍｍであることが好ましい。０．１ｍｍより薄いとクリーニング板の強度が不十分であり、取り扱い難いものとなるし、５ｍｍより厚いと重くなるため、自動装置での搬送ができなくなってしまう場合が発生することがある。
【００３０】
塵埃を粘着捕獲するためのパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層の厚さは、０．０１〜３ｍｍ、更には０．０３〜１ｍｍであることが好ましい。０．０１ｍｍよりも薄いと粘着力が十分ではなくなると共に、塵埃を除去されるべきワーク支持部材の面に追従できなくなるため、塵埃の粘着捕獲性能が極端に悪くなる。３ｍｍより厚くなると重くなるし、成形が困難になる。
【００３１】
また、パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層の中心線表面粗さＲａは、１０μｍ以下、更には２μｍ以下であることが好ましい。粘着層であるゴム層の表面の凹凸が大きいと、微視的に見た場合、塵埃を除去されるべきワーク支持部材の面との接触面積が小さくなり、除塵効率が悪くなる。
【００３２】
本発明のクリーニング板の成形方法は、（１）平面板上の中心部分に液状のパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層材料を滴下、スピンコートした後、８０〜２００℃で加熱・架橋する方法、（２）離型剤を塗布したプラスチックフィルム上にパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層材料をコーティング成形したものを、未加硫のまま真空中で平面板とラミネートした後、８０〜２００℃で加熱・架橋し、プラスチックフィルムを剥離・除去する方法、（３）予め薄いシート状に成形、８０〜２００℃で加熱・架橋したパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムシートを接着剤を介して、真空中で平面板に貼り付ける方法などが挙げられるが、これらの方法に特に限定されるものではない。
【００３３】
また、パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層と平面板との接着を向上させるため、プライマーを併用してもよい。必要に応じて、２００℃、４時間などの条件で、クリーニング板を熱処理（ポストキュアー）してもよい。
【００３４】
本発明のクリーニング板は、最外層がパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層であればよく、接着向上や弾力性付与のため、パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層を複数層設けてもよいし、例えば、シリコーンゴム層などの別の材質のゴム層をパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層と平面板の間に設けてもよい。
【００３５】
本発明のクリーニング板は、表面のパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層の粘着性を利用して、塵埃を粘着・除去するものであるが、その具体的な用途は、エッチング装置、イオン注入装置、スパッタ装置などの真空装置内に配置されたワーク支持部材上の塵埃除去などが考えられる。ワーク支持部材としては、具体的には、静電チャックやメカニカルチャックを設けたものなどが挙げられる。特に静電チャックの場合には、クリーニング板の平面板に用いられる材質は、静電吸着できるものであることが望ましい、また、メカニカルチャックの場合には、クリーニング板の寸法が通常処理されるワークの寸法とほぼ同等なものが望ましい。このことにより、クリーニング板を自動搬送することで、ワーク支持部材の除塵を行うことが可能となる。上記の用途説明は、考えられる例を示したものであり、特にこれらの用途に限定されるものではない。
【実施例】
【００３６】
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【００３７】
実施例及び比較例で用いられるゴム材料及びプライマーと平面板
（パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム材料）
・含フッ素ゴム組成物（Ｉ）：ＳＩＦＥＬ３４００（Ａ／Ｂ）（信越化学工業（株）製、液状２液タイプ組成物標準配合）：付加反応架橋、（Ｉ）架橋サイトＳｉ−ＣＨ＝ＣＨ2
・含フッ素ゴム組成物（ＩＩ）：ＳＩＦＥＬ３１５５（信越化学工業（株）製、液状１液タイプ組成物標準配合）：付加反応架橋、（ＩＩ）架橋サイトＳｉ−ＣＨ＝ＣＨ2
・含フッ素ゴム組成物プライマー：プライマーＳＦ−１（信越化学工業（株）製）
（シリコーンゴム）
・シリコーンゴム（Ｉ）：ＫＥ１９５０−３０（Ａ／Ｂ）（信越化学工業（株）製、液状２液タイプ組成物標準配合）
・シリコーンゴム（ＩＩ）：ＫＥ９７１（信越化学工業（株）製）
・シリコーンゴム用有機過酸化物架橋剤：Ｃ−２３（信越化学工業（株）製）
・シリコーンゴム用プライマー：プライマーＣ（信越化学工業（株）製）
・シリコーンゴム用プライマー：プライマーＮｏ．２３Ｔ（信越化学工業（株）製）
（平面板）
・φ３００ｍｍシリコンウエハー、厚さ７７５μｍ
・φ３００ｍｍ石英ガラスウエハー、厚さ１ｍｍ
【００３８】
［実施例１］
離型剤を塗布したＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム上に、ＳＩＦＥＬ３４００をバーコートし、ＰＥＴフィルム上に厚さ２００μｍの未加硫のＳＩＦＥＬ３４００を得た。この未加硫のＳＩＦＥＬ３４００を、プライマーＳＦ−１を片面に塗布したφ３００ｍｍシリコンウエハーに真空中で界面にエアが入らないように密着させ、引き続き１７０℃で１５分間架橋させて、シリコンウエハーの片面にパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層を設けた図１に示す構造の成形品を得た。これを更に２００℃で４時間ポストキュアして、本発明のクリーニング板を得た。
【００３９】
［実施例２］
プライマーを塗布したφ３００ｍｍ石英ガラスウエハー上に、ＳＩＦＥＬ３１５５を５０μｍの厚さとなるようスピンコートした後、１７０℃で１５分間架橋させてシリコンウエハーの片面にパーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層を設けた図１に示す構造の本発明のクリーニング板を得た。
【００４０】
［比較例１］
離型剤を塗布したＰＥＴフィルム上に、シリコーンゴム組成物：ＫＥ１９５０−３０（Ａ／Ｂ）をバーコートし、ＰＥＴフィルム上に厚さ２００μｍの未加硫のシリコーンゴム組成物層を得た。この未加硫のシリコーンゴム組成物層を、プライマーＣを片面に塗布したφ３００ｍｍシリコンウエハーに真空中で界面にエアが入らないように密着させ、引き続き１５０℃で１５分間架橋させてシリコンウエハーの片面にシリコーンゴム層を設けたクリーニング板を得た。
【００４１】
［比較例２］
離型剤を塗布したＰＥＴフィルム上に、トルエンで希釈したシリコーンゴム組成物：ＫＥ９７１  １００質量と有機過酸化物架橋剤：Ｃ−２３  ２質量部の実質的に均一な混合物をバーコートし、７０℃で１５分間加熱し、トルエンを蒸発させ、ＰＥＴフィルム上に厚さ２００μｍの未加硫のシリコーンゴム組成物層を得た。この未加硫のシリコーンゴム組成物層を、プライマーＮｏ．２３Ｔを片面に塗布したφ３００ｍｍシリコンウエハーに真空中で界面にエアが入らないように密着させ、引き続き１７０℃で１５分間架橋させた後、２００℃で４時間ポストキュアして、シリコンウエハーの片面にシリコーンゴム層を設けたクリーニング板を得た。
【００４２】
［除塵性能評価方法］
ウエハー支持台として、セラミック静電チャックを配置したイオン注入装置を用いて除塵性能を比較した。除塵は、実施例及び比較例で得られたクリーニング板の粘着層が静電チャック面に接触するように配置して、５枚のクリーニング板を自動搬送することにより行った。クリーニング板による塵埃の除去前後でのφ３００ｍｍのシリコンウエハーの０．１６μｍ以上のバックサイドパーティクルを、レーザー散乱式の異物検査装置によりカウントし、その減少率で評価を行った。
○：減少率７０％以上
×：減少率３０％以下
【００４３】
［再生耐久性評価方法］
超音波洗浄装置内のイソプロピルアルコール中に１０分間浸漬させ、付着した塵埃を除去後、１０分間乾燥させたときのゴム材料の安定性を確認した。
○：膨潤や変形が一切なく、すぐに再生利用可能。
×：膨潤、変形してしまい、再生利用が困難。
【００４４】
［移行物の評価方法］
実施例及び比較例で得られたクリーニング板の粘着層面を、清浄なφ３００ｍｍシリコンウエハー鏡面に密着させ、合計１０ｋｇｆの荷重を全面に均一になるようにかけて、２４時間加圧した。φ３００ｍｍシリコンウエハー鏡面へのクリーニング板からの移行物の量を、高輝度ランプを照射しながら目視観察により判定した。
○：移行物がほとんどない。
△：移行物はあるが、それほど多くない。
×：移行物の量が非常に多い。
【００４５】
また、上記実施例、比較例で得られたゴム硬化物のゴム物性をＪＩＳ  Ｋ６２４９に準拠して測定した。
結果を下記の表にまとめた。
【００４６】
【表１】
2007134528.tif 000009
【００４７】
これらの結果から、パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴムを粘着層とした構造の本発明によるクリーニング板は、除塵性能に優れると共に、溶剤による再生耐久性にも優れ、更には、被除塵物に対して移行物が非常に少ないことがわかる。一方、比較例に示したように、シリコーンゴムでは、除塵性能はあっても、溶剤による膨潤変形が激しく、再生耐久性に劣り、移行物も多いことがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明のクリーニング板の一実施例を示し、（Ａ）は斜視図、（Ｂ）はその断面図を示す。
【図２】本発明のクリーニング板の他の実施例を示し、（Ａ）は斜視図、（Ｂ）はその断面図を示す。
【符号の説明】
【００４９】
１  パーフルオロポリエーテル系含フッ素ゴム層
２  平面板
【図１】
2007134528.tif 000013
【図２】
2007134528.tif 000014