(57)【要約】【課題】基板の表面に偏光用ワイヤーグリッドを形成することによってパネル厚を減少させることができる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】液晶を介在して合着された第１及び第２基板と、前記第１基板に形成された複数の偏光用第１ワイヤーグリッド（Wire Grid）と、前記第２基板に形成された複数の偏光用第２ワイヤーグリッドとを備える。各偏光用第１ワイヤーグリッドは、第１基板の前面に数μｍ間隔で第１方向にストライプ状に並んで形成され、各偏光用第２ワイヤーグリッドは、第２基板の背面に数μｍ間隔で第１方向あるいは第１方向と直交する第２方向にストライプ状に並んで形成される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶を介在して合着された第１及び第２基板と、
前記第１基板に形成された複数の偏光用第１ワイヤーグリッドと、
前記第２基板に形成された複数の偏光用第２ワイヤーグリッドと、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記各偏光用第１ワイヤーグリッドは、前記第１基板の前面に数μｍ間隔で第１方向にストライプ状に並んで形成され、
前記各偏光用第２ワイヤーグリッドは、前記第２基板の背面に数μｍ間隔で前記第１方向と直交する第２方向にストライプ状に並んで形成される
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記各偏光用第１ワイヤーグリッドは、前記第１基板の前面に数μｍ間隔で第１方向にストライプ状に並んで形成され、
前記各偏光用第２ワイヤーグリッドは、前記第２基板の背面に数μｍ間隔で前記第１方向にストライプ状に並んで形成される
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記偏光用第１ワイヤーグリッドは、数百〜数千Åの厚さと数μｍの幅を有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記偏光用第２ワイヤーグリッドは、数百〜数千Åの厚さと数μｍの幅を有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記複数の偏光用第１及び第２ワイヤーグリッドは、銅またはアルミニウムを含む金属材質からなることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
カラーフィルタアレイが形成された第１基板の前面に、複数の偏光用第１ワイヤーグリッドを形成する段階と、
薄膜トランジスタアレイが形成された第２基板の背面に、複数の偏光用第２ワイヤーグリッドを形成する段階と、
前記第１及び第２基板間に液晶層を形成する段階と
を備えたことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記各偏光用第１ワイヤーグリッドは、前記第１基板の前面に数μｍ間隔で第１方向にストライプ状に並んで形成され、
前記各偏光用第２ワイヤーグリッドは、前記第２基板の背面に数μｍ間隔で前記第１方向と直交する第２方向にストライプ状に並んで形成される
ことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記各偏光用第１ワイヤーグリッドは、前記第１基板の前面に数μｍ間隔で第１方向にストライプ状に並んで形成され、
前記各偏光用第２ワイヤーグリッドは、前記第２基板の背面に数μｍ間隔で前記第１方向にストライプ状に並んで形成される
ことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記各偏光用第１及び第２ワイヤーグリッドは、数百〜数千Åの厚さと数μｍの幅を有するように形成されることを特徴とする請求項７ないし９のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記複数の偏光用第１及び第２ワイヤーグリッドは、銅またはアルミニウムを含む金属材質からなることを特徴とする請求項７ないし１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記液晶層は、第１基板または第２基板のうち少なくとも一基板上に液晶注入口を有するシーリング剤を形成し、前記液晶注入口から液晶を注入して形成されることを特徴とする請求項７ないし１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記液晶層は、前記第１基板または第２基板のうちいずれか一基板の外周にシーリング剤を塗布し、前記シーリング剤の内側に液晶を滴下して形成されることを特徴とする請求項７ないし１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記液晶が滴下された第１基板または第２基板のうちいずれか一つを下側に配置し、前記第１基板または第２基板のうち残り一つを反転させ、第１基板及び第２基板を向かい合わせて合着することを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に係り、特に、基板の表面に偏光用ワイヤーグリッド（Wire Grid）を形成してパネルの厚さを減少させることができる液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近来、陰極線管（Cathode Ray Tube）の短所とされる重さと体積を低減できる各種の平板表示装置が台頭してきている。
【０００３】
平板表示装置には、液晶表示装置（Liquid Crystal Display）、電界放出表示装置（Field Emission Display）、プラズマ表示パネル（Plasma Display Panel）及び発光表示装置（Light Emitting Display）などがある。
【０００４】
通常の液晶表示装置は、電界を用いて液晶の光透過率を調節することによって画像を表示する。
【０００５】
このため、液晶表示装置は、液晶セルがマトリクス形態に配列された液晶パネルと、この液晶パネルを駆動するための駆動回路とを備える。
【０００６】
一方、液晶パネルには、液晶セルのそれぞれに電界を印加するための画素電極と共通電極が備えられる。
【０００７】
通常、画素電極は、下部基板上に液晶セルごとに形成され、共通電極は、上部基板の全面に一体として形成される。
【０００８】
各画素電極は、スイッチ素子として働く薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor；以下、“ＴＦＴ”という。）に接続され、薄膜トランジスタから供給されるデータ信号によって共通電極と共に液晶セルを駆動させる。
【０００９】
図１は、一般の液晶パネルを概略的に示す断面図である。
【００１０】
図１に示すように、一般の液晶パネルは、上部基板４２上に順に形成されたブラックマトリクス４４、カラーフィルタ４６、オーバーコート層４７、共通電極４８及び上部配向膜５０ａから構成されたカラーフィルタアレイ基板４と、下部基板１上に形成されたＴＦＴ、画素電極２２及び下部配向膜５０ｂで構成されたＴＦＴアレイ基板２と、これらカラーフィルタアレイ基板４とＴＦＴアレイ基板２間の空間に注入された液晶５２と、カラーフィルタアレイ基板４の前面に付着された上部偏光板６０ａと、ＴＦＴアレイ基板２の背面に付着された下部偏光板６０ｂと、を備える。
【００１１】
ここで、ＴＦＴアレイ基板２のＴＦＴは、ゲートラインに接続されたゲート電極６、データラインに接続されたソース電極８、及びドレインコンタクトホール２６を介して画素電極２２に接続されたドレイン電極１０を備える。
【００１２】
また、ＴＦＴは、ゲート電極６に供給されるゲート電圧によってソース電極８とドレイン電極１０間に導通チャンネルを形成するための半導体層１４，１６をさらに備える。
【００１３】
このようなＴＦＴは、ゲートラインからのゲート信号に応答してデータラインからのデータ信号を選択的に画素電極２２に供給する。
【００１４】
また、画素電極２２は、データラインとゲートラインとによって定義された画素領域に位置し、光透過率の高い透明伝導性物質からなる。
【００１５】
画素電極２２は、下部基板１の全面に塗布される保護膜１８上に形成され、この保護膜１８を貫通するドレインコンタクトホール２６を介してドレイン電極１０と電気的に接続される。
【００１６】
このような画素電極２２は、ＴＦＴから供給されるデータ信号によって、上部基板４２に形成される共通電極４８との電位差を発生させる。
【００１７】
この電位差が発生すると、下部基板１と上部基板４２との間に位置する液晶５２は誘電率異方性に起因して回転することになる。
【００１８】
このように回転する液晶５２によって、光源から画素電極２２を経由して上部基板４２側に透過される光量が調節される。
【００１９】
また、カラーフィルタアレイ基板４のブラックマトリクス４４は、下部基板１のＴＦＴ領域と図示せぬゲートライン及びデータライン領域と重なって形成され、カラーフィルタ４６が形成される画素領域を区画する。
【００２０】
このようなブラックマトリクス４４は、光漏れを防止するとともに、外部光を吸収してコントラストを高める役割を担う。
【００２１】
また、カラーフィルタ４６は、ブラックマトリクス４４によって区画された画素領域に形成される。このカラーフィルタ４６は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）からなり、それぞれ赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の色を表現する。
【００２２】
オーバーコート層４７は、カラーフィルタ４６が形成された上部基板４２上に絶縁特性を持つ透明な樹脂を塗布してなり、一定の電圧が印加されるブラックマトリクス４４と共通電圧が印加される共通電極４８間を電気的に絶縁させる役割を果たす。
【００２３】
一方、オーバーコート層４７は、ＴＮモードの素子では形成しなくても良い。
【００２４】
また、共通電極４８は、液晶駆動時に基準となる共通電圧が印加され、下部基板１上に形成された画素電極２２と電位差を生じさせる。
【００２５】
ちなみに、ＩＰＳモードでは共通電極が下部基板１に形成される。
【００２６】
そして、カラーフィルタアレイ基板４とＴＦＴアレイ基板２には、液晶配向のための上／下部配向膜５０ａ，５０ｂが、ポリイミド（ＰＩ）などの配向物質を塗布した後にラビング工程を行うことによって形成される。
【００２７】
また、下部偏光板６０ｂは、下部基板１の背面に付着され、図示せぬバックライトユニットから入射する光ビームを偏光させる。
【００２８】
そして、上部偏光板６０ａは、上部基板４２の前面に付着され、液晶パネルから出射される光ビームを偏光させる役割を果たす。
【００２９】
ここで、上部及び下部偏光板６０ａ，６０ｂのそれぞれは、図示せぬ偏光子を介在して第１及び第２保護層が積層された構造を有する。
【００３０】
ここで、偏光子は、ポリビニルアルコール（Poly Vinyl Alcohol）フィルムを延伸してヨードと異色性染料溶液に浸し、ヨード分子を延伸方向に並んで配列させることによって形成される。
【００３１】
また、第１及び第２保護層は、トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）などからなり、延伸された偏光子の縮みを防止し且つ偏光子を保護する役割を担う。
【００３２】
このような上部及び下部偏光板６０ａ，６０ｂは、偏光板付着工程によって、合着された下部基板１の背面と上部基板４２の前面にそれぞれ付着される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３３】
しかしながら、一般の液晶パネルでは、偏光板付着工程によって次のような問題点が生じてきた。
【００３４】
第一に、偏光板付着工程時に液晶パネルと偏光板６０ａ，６０ｂとの間に侵入する異物によって不良が発生する。
【００３５】
第二に、偏光板付着工程時に偏光板６０ａ，６０ｂによって液晶パネルにスクラッチが発生する。
【００３６】
第三に、光ビームを偏光させる上部及び下部偏光板６０ａ，６０ｂは、非常に重要な高価の部品であるにもかかわらず、液晶パネルの前面及び背面に付着しなければならず、コスト及び厚さの増加を招く。
【００３７】
本発明は、上記の問題点を解決するためのもので、その目的は、基板の表面に偏光用ワイヤーグリッドを形成することによってパネルの厚さを減少させることができる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００３８】
上記目的を達成するために、本発明に係る液晶表示装置は、液晶を介在して合着された第１及び第２基板と、前記第１基板に形成された複数の偏光用第１ワイヤーグリッドと、前記第２基板に形成された複数の偏光用第２ワイヤーグリッドと、を備えることを特徴とする。
【００３９】
本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、カラーフィルタアレイが形成された第１基板の前面に、複数の偏光用第１ワイヤーグリッドを形成する段階と、薄膜トランジスタアレイが形成された第２基板の背面に、複数の偏光用第２ワイヤーグリッドを形成する段階と、前記第１及び第２基板間に液晶層を形成する段階と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００４０】
本発明に係る液晶表示装置及びその製造方法によれば、入射する光ビームを偏光させる直接偏光用ワイヤーグリッドを上部基板の前面と下部基板の背面に数μｍ間隔でパターニングするため、別の偏光板及びそれによる別途の偏光板付着工程を省くことが可能になる。
【００４１】
したがって、本発明によれば、高価の偏光板が省かれ、液晶表示装置の厚さ及び製造費用を減少させることができ、かつ、偏光板付着工程時に発生する異物による不良を根本的に解消することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下、添付の図面を参照しつつ、本発明に係る液晶表示装置及びその製造方法の好適な実施の形態について詳細に説明する。
【００４３】
図２は、本発明の一実施の形態による液晶表示装置を概略的に示す断面図である。
図２に示すように、本発明の一実施の形態による液晶表示装置は、液晶１５２を介在して合着されたカラーフィルタアレイ基板１０４及び薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor；以下“ＴＦＴ”という。）アレイ基板１０２と、カラーフィルタアレイ基板１０４に形成された複数の偏光用第１ワイヤーグリッド（Wire Grid）１６０ａと、ＴＦＴアレイ基板１０２に形成された複数の偏光用第２ワイヤーグリッド１６０ｂと、を備える。
【００４４】
ここで、ＴＦＴアレイ基板１０２は、下部基板１０１上に形成されたＴＦＴ、画素電極１２２、及び下部配向膜１５０ｂを備える。
【００４５】
ここで、ＴＦＴは、ゲートラインに接続されたゲート電極１０６、データラインに接続されたソース電極１０８、及びドレインコンタクトホール１２６を介して画素電極１２２に接続されたドレイン電極１１０を備える。
【００４６】
また、ＴＦＴは、ゲート電極１０６に供給されるゲート電圧によってソース電極１０８とドレイン電極１１０間に導通チャンネルを形成するための半導体層１１４，１１６をさらに備える。
【００４７】
このように構成されるＴＦＴは、ゲートラインからのゲート信号に応答してデータラインからのデータ信号を選択的に画素電極１２２に供給する。
ここで、画素電極１２２は、データラインとゲートラインとによって定義された画素領域に位置し、光透過率の高い透明伝導性物質からなる。
【００４８】
また、画素電極１２２は、下部基板１０１の全面に塗布される保護膜１１８上に形成され、保護膜１１８を貫通するドレインコンタクトホール１２６を介してドレイン電極１１０と電気的に接続される。
【００４９】
このような画素電極１２２は、ＴＦＴから供給されるデータ信号によって、上部基板１４２に形成される共通電極１４８との電位差を発生させる。
【００５０】
このように電位差が発生すると、下部基板１０１と上部基板１４２間に位置する液晶１５２は誘電率異方性に起因して回転することになる。
【００５１】
このように回転する液晶１５２によって、光源から画素電極１２２を経由して上部基板１４２側に透過する光量が調節される。
【００５２】
また、カラーフィルタアレイ基板１０４は、上部基板１４２上に順に形成されたブラックマトリクス１４４、カラーフィルタ１４６、オーバーコート層１４７、共通電極１４８及び上部配向膜１５０ａを備える。
【００５３】
また、カラーフィルタアレイ基板１０４のブラックマトリクス１４４は、下部基板１０１のＴＦＴ領域と図示せぬゲートライン及びデータライン領域と重なるように形成され、カラーフィルタ１４６の形成される画素領域を区画する。
【００５４】
このようなブラックマトリクス１４４は、光漏れを防止するとともに、外部光を吸収してコントラストを高める役割を担う。
【００５５】
また、カラーフィルタ１４６は、ブラックマトリクス１４４によって区画された画素領域に形成される。このカラーフィルタ１４６は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）からなり、それぞれ赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の色を表現する。
【００５６】
また、オーバーコート層１４７は、カラーフィルタ１４６が形成された上部基板１４２上に絶縁特性を持つ透明な樹脂を塗布してなり、一定の電圧が印加されるブラックマトリクス１４４と共通電圧が印加される共通電極１４８間を電気的に絶縁させる役割を果たす。
【００５７】
ちなみに、オーバーコート層１４７は、ＴＮモードの素子では形成しなくても良い。
【００５８】
また、共通電極１４８は、液晶駆動時に基準となる共通電圧が印加され、下部基板１０１上に形成された画素電極１２２と電位差を生じさせる。
【００５９】
ちなみに、ＩＰＳモードでは共通電極が下部基板１０１に形成される。
【００６０】
そして、カラーフィルタアレイ基板１０４とＴＦＴアレイ基板１０２には、液晶配向のための上／下部配向膜１５０ａ，１５０ｂが、ポリイミド（ＰＩ）などの配向物質を塗布した後にラビング工程を行うことによって形成される。
【００６１】
一方、複数の偏光用第２ワイヤーグリッド１６０ｂは、図３に示すように、下部基板１０１の背面に、数μｍ間隔ｄで第１方向を有するようにストライプ状に並んで形成される。
【００６２】
ここで、複数の偏光用第２ワイヤーグリッド１６０ｂのそれぞれは、数百〜数千Åの厚さｔと、数μｍの幅Ｗを有する。
【００６３】
一方、複数の偏光用第２ワイヤーグリッド１６０ｂは、隣接するワイヤーグリッド間のライン間隔ｄ、ライン幅Ｗ及びライン厚さｔによって偏光効率と特性が異なってくる。
【００６４】
このような複数の偏光用第２ワイヤーグリッド１６０ｂは、数μｍ間隔ｄでパターニングされたワイヤーグリッド同士間の隙間を介して、図示せぬバックライトユニットから入射する乱偏光の光ビームを第１方向の線偏光として偏光させる。
【００６５】
また、複数の偏光用第２ワイヤーグリッド１６０ｂは、銅（Ｃｕ）またはアルミニウム（Ａｌ）などの金属材質からなり、ホログラムリソグラフィ（Hologram Lithography）または電子ビームリソグラフィ（E-beam Lithography）及びリフト・オフ（Lift-Off）方式によって下部基板１０１の背面に形成される。
【００６６】
また、複数の偏光用第１ワイヤーグリッド１６０ａは、図４に示すように、上部基板１４２の前面に数μｍ間隔ｄで第１方向と直交する第２方向を有するようにストライプ状に並んで形成される。
【００６７】
ここで、複数の偏光用第１ワイヤーグリッド１６０ａのそれぞれは、数百〜数千Åの厚さｔと、数μｍの幅Ｗを有する。
【００６８】
一方、複数の偏光用第１ワイヤーグリッド１６０ａは、隣接するワイヤーグリッド間のライン間隔ｄ、ライン幅Ｗ及びライン厚さｔによって偏光効率と特性が異なってくる。
【００６９】
このような複数の偏光用第１ワイヤーグリッド１６０ａは、数μｍ間隔ｄでパターニングされたワイヤーグリッド間の隙間を介して、液晶表示装置から出射される光ビームを第２方向の線偏光として偏光させる。
【００７０】
また、複数の偏光用第１ワイヤーグリッド１６０ａは、銅（Ｃｕ）またはアルミニウム（Ａｌ）などの金属材質からなり、ホログラムリソグラフィ（Hologram Lithography）または電子ビームリソグラフィ（E-beam Lithography）及びリフト・オフ（Lift-Off）方式によって上部基板１４２の前面に形成される。
【００７１】
一方、複数の偏光用第２ワイヤーグリッド１６０ｂは、複数の偏光用第１ワイヤーグリッド１６０ａのワイヤーグリッド方向、すなわち第２方向に形成されても良い。
【００７２】
このように構成される本発明の一実施形態による液晶表示装置は、上部基板１４２の前面と下部基板１０１の背面に、入射する光ビームを偏光させる直接偏光用ワイヤーグリッド１６０ａ，１６０ｂを数μｍ間隔ｄでパターニングしており、よって、別の偏光板及びそれによる別途の偏光板付着工程が要らなくなる。
【００７３】
図５は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を段階的に示す順序図である。
【００７４】
以下、図５及び図２を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を順に説明する。
【００７５】
まず、上部基板１４２の前面に数百〜数千Åの厚さｔ、数μｍの幅Ｗ及び数μｍ間隔ｄで第１方向にストライプ状の複数の偏光用第１ワイヤーグリッド１６０ａを形成する（Ｓ１１）。
【００７６】
そして、下部基板１０１の背面に数百〜数千Åの厚さｔ、数μｍの幅Ｗ及び数μｍ間隔ｄで複数の偏光用第１ワイヤーグリッド１６０ａの第１方向と直交する第２方向にストライプ状の複数の偏光用第２ワイヤーグリッド１６０ｂを形成する（Ｓ１２）。
【００７７】
このとき、複数の偏光用第２ワイヤーグリッド１６０ｂは、第１ワイヤーグリッド１６０ａの第１方向と同方向にしても良い。
【００７８】
その後、複数の偏光用第１ワイヤーグリッド１６０ａが形成された上部基板１４２の背面に、ブラックマトリクス１４４、カラーフィルタ１４６、オーバーコート層１４７、共通電極１４８及び上部配向膜１５０ａを順に形成することで、カラーフィルタアレイ基板１０４を製造する（Ｓ２１）。
【００７９】
そして、複数の偏光用第２ワイヤーグリッド１６０ｂが形成された下部基板１０１の前面に、ＴＦＴ、画素電極１２２及び下部配向膜１５０ｂを順に形成することで、ＴＦＴアレイ基板１０２を製造する（Ｓ２２）。
【００８０】
その後、別の工程によって製造されたカラーフィルタアレイ基板１０２とＴＦＴアレイ基板１０４のうち少なくともいずれか一つにシーリング剤を塗布する。
【００８１】
ここで、液晶を注入方式で注入する場合、両アレイ基板１０２，１０４のうち少なくとも一つに塗布されたシーリング剤には液晶注入口が形成される。
【００８２】
続いて、シーリング剤及び液晶注入口が形成された両アレイ基板１０２，１０４を仮合着し、液晶注入口から仮合着された両アレイ基板１０２，１０４間に液晶を注入する（Ｓ３）。
【００８３】
その後、液晶が注入された両アレイ基板１０２，１０４を本合着することで、液晶表示装置を完成する。
【００８４】
一方、液晶を滴下方式で注入する場合、両アレイ基板１０２，１０４のいずれか一つに塗布されたシーリング剤内に液晶を滴下する。続いて、液晶の滴下された両アレイ基板１０２，１０４のいずれか一つを下側に配置し、両アレイ基板１０２、１０４のうち残り一つを反転させて両基板を向かい合わせ、これらアレイ基板１０２，１０４を合着することで、液晶表示装置を完成する。
【００８５】
このような本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法は、上部基板１４２の前面と下部基板１０１の背面に入射する光ビームを偏光させる直接偏光用ワイヤーグリッド１６０ａ，１６０ｂを数μｍ間隔ｄでパターニングするため、以後の液晶表示装置の組み合わせ工程時に両アレイ基板１０２，１０４に付着される偏光板を別途に付着しなくてすみ、それによる別途の偏光板付着工程も要らなくなる。
【００８６】
以上説明してきた実施の形態及び添付の図面に本発明が限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で種々の置換、変形及び変更が可能であるということは、本発明の属する技術分野における通常の知識を持つ者にとって明白である。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】一般の液晶パネルを概略的に示す断面図である。
【図２】本発明の一実施の形態による液晶表示装置を概略的に示す断面図である。
【図３】図２に示す複数の偏光用第２ワイヤーグリッドが形成された下部基板を示す斜視図である。
【図４】図２に示す複数の偏光用第１ワイヤーグリッドが形成された上部基板を示す斜視図である。
【図５】本発明の一実施の形態による液晶表示装置の製造方法を段階的に示す流れ図である。
【符号の説明】
【００８８】
１，１０１  下部基板、２，１０２  ＴＦＴアレイ基板、４，１０４  カラーフィルタアレイ基板、４２，１４２  上部基板、６０ａ  上部偏光板、６０ｂ  下部偏光板、１６０ａ  偏光用第１ワイヤーグリッド、１６０ｂ  偏光用第１ワイヤーグリッド。
【図１】
2007102174.tif 000003
【図２】
2007102174.tif 000004
【図３】
2007102174.tif 000005
【図４】
2007102174.tif 000006
【図５】
2007102174.tif 000007