(57)【要約】【課題】真に観察したい部位に対して最適なＸ線条件に制御すること。【解決手段】モニタ装置２４のモニタ画面上で特定の点をポイント指示すると、システム制御部３６において、ポイント指示された特定の点の画素Ｇを含み、かつ特定の点の画素値に近似する複数の画素値を有する新たなＲＯＩを画像データ１から抽出し、この抽出された新たなＲＯＩ５７内の各画素値に基づいてＸ線発生部３７のＸ線条件を制御する。【選択図】図２
2007044355.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線発生部から放射されたＸ線を被検体に照射したときに前記被検体を透過したＸ線量に基づいて前記被検体の画像データを生成する画像データ生成部と、
前記画像データ生成部により生成された前記画像データを表示する表示部と、
前記表示部に表示されている前記画像上において前記被検体における特定の点をポイント指示するポイント指示部と、
前記ポイント指示部によりポイント指示された前記特定の点の画素を含み、かつ当該特定の点の画素値に近似する複数の画素値を有する関心領域を前記画像データから抽出する関心領域抽出部と、
前記関心領域抽出部により抽出された前記関心領域内の前記画素値に基づいて前記Ｘ線発生部のＸ線条件を制御し、前記関心領域に照射される前記Ｘ線量を所定量にするＸ線条件制御部と、
を具備したことを特徴とする画質最適化装置。
【請求項２】
前記関心領域抽出部により抽出された前記関心領域を前記被検体における新しい前記関心領域として設定する関心領域設定部、
を有することを特徴とする請求項１記載の画質最適化装置。
【請求項３】
前記関心領域抽出部は、前記特定の点の画素を中心にして互いに隣り合い、かつ前記特定の点の前記画素値に対して所定範囲の画素値を有する前記複数の画素からなる前記関心領域を抽出することを特徴とする請求項１記載の画質最適化装置。
【請求項４】
前記Ｘ線条件制御部は、前記関心領域内の前記各画素値の平均値に基づいて前記Ｘ線発生部の前記Ｘ線条件を求めることを特徴とする請求項１記載の画質最適化装置。
【請求項５】
前記Ｘ線条件制御部は、前記Ｘ線条件として少なくとも前記Ｘ線発生部から放射される前記Ｘ線の強度を制御することを特徴とする請求項１記載の画質最適化装置。
【請求項６】
前記関心領域検出部により抽出された前記関心領域以外の前記被検体の部位に対する前記Ｘ線の照射量を補償するＸ線補償部を有することを特徴とする請求項１記載の画質最適化装置。
【請求項７】
前記Ｘ線補償部は、前記Ｘ線条件制御部により制御された前記Ｘ線条件によって前記Ｘ線発生部から放射される前記Ｘ線量が増加した場合、当該増加した分の前記Ｘ線量を低減させることを特徴とする請求項５記載の画質最適化装置。
【請求項８】
前記Ｘ線補償部は、形状を可変可能な自由形状フィルタを有することを特徴とする請求項５記載の画質最適化装置。
【請求項９】
Ｘ線発生部から放射されたＸ線を被検体に照射したときに、コンピュータの演算処理によって前記被検体を透過したＸ線量に基づいて生成される前記被検体の画像データを表示部に表示し、
この状態で、前記表示部に表示されている前記画像上において特定の点をポイント指示部によりポイント指示すると、
当該ポイント指示された前記特定の点の画素を含み、かつ当該特定の点の画素値に近似する複数の画素値を有する関心領域を前記画像データから抽出し、この抽出された前記関心領域内の前記画素値に基づいて前記Ｘ線発生部のＸ線条件を制御し、前記関心領域に照射される前記Ｘ線量を所定量にする、
ことを特徴とする画質最適化方法。
【請求項１０】
請求項１乃至８のうちいずれか１項記載の画質最適化装置を備え、前記ポイント指示される毎の前記特定の点を含む新しい前記関心領域の前記画像データを前記表示部に表示することを特徴とするＸ線診断装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被検体における特定の関心領域（Region Of Interest：以下、ＲＯＩと称する）内における画質を最適化する画質最適化装置及びその方法並びにＸ線診断装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図６に示すようにＸ線診断装置により被検体の画像データ１を取得する場合、ＲＯＩを設定し、このＲＯＩ内の画質が最適になるようにＸ線発生部のＸ線条件、例えばＸ線強度等を制御している。すなわち、被検体は、例えば頚部２又は顎部３などでそれぞれＸ線を照射したときのＸ線の吸収量が異なるので、頚部２と顎部３とではそれぞれ最適な画質とするための各Ｘ線強度等に制御している。このようなＸ線条件の最適値は、最適値自動計算手段によってＲＯＩの画素値を用い、ＲＯＩ内の画質が最適になるようなＸ線条件を自動計算する。
【０００３】
ＲＯＩは、通常、画像データの中心に設定される。従って、例えばＲＯＩが被検体の頚部２に設定されていると、頚部２の画質が最適になるようにＸ線発生部のＸ線条件が制御される。
【０００４】
しかしながら、ＲＯＩの設定位置は、上記の如く通常、画像データ１の中心すなわち被検体の頚部２に設定されているために、頚部２に対しては最適なＸ線条件に制御されているが、被検体中の真に観察したい部位、例えば図６に示すように顎部３に対してはＲＯＩが位置ずれてしまい、最適なＸ線条件に制御されていない。  
臨床側としては、真に観察したい部位が顎部３であるが、頚部２も同時に観察しておきたいというニーズがある。例えば、頚部２から顎部３にかけてカテーテル４を挿入した場合、カテーテル４の先端が存在する顎部３を観察したいというニーズがある。このようなニーズを有する臨床側がＲＯＩを被検体の頚部２に設定したＸ線診断装置を用いて被検体の頚部２と顎部４とを観察すると、Ｘ線発生部を移動させて頚部２を観察するときは頚部２の画像データを取得できるが、顎部３を観察するときには、例えばガイドやカテが顎部３の骨に重なってしまい、真に観察したい顎部３の画像を表示できなくなってしまう。この場合、顎部３を画像データの中心になるようにパニングすればよいが、顎部３を画像データの中心にすると、頚部２に対しては最適なＸ線条件に制御されない。上述の通り臨床側としては、真に観察したい部位が顎部３であるが、頚部２も同時に観察しておきたいというニーズがあるので、顎部３を画像データの中心にすることでも解決しない。
【０００５】
又、ＲＯＩは、その形状が例えば円形に設定されているために、ＲＯＩを例えば頚部２又は顎部３に設定したときに、ＲＯＩの形状が頚部２又は顎部３等の各複雑な形状にフィットしない。
【０００６】
以上のようにＲＯＩの設定位置が真に観察したい部位に対して位置ずれして最適なＸ線条件に制御されなかったり、又はＲＯＩの形状が頚部２又は顎部３等にフィットしなかったりするために、真に観察したい部位に対するＸ線条件が最適に制御されず、観察する画像が暗すぎたり、明るすぎたりする。
一方、被検体の例えば頚部２と顎部３とでは、それぞれ最適なＸ線条件が異なり、頚部２に対するＸ線強度よりも顎部３に対するＸ線強度の方が高い。このため、顎部３に対して最適なＸ線条件に制御した場合、被検体における顎部３以外の部位にも顎部３と同一のＸ線強度の高くなったＸ線が照射され、不要な部位にまでも不要な被曝を与えてしまう。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、被検体におけるＲＯＩ内における画質を最適化する際に、真に観察したい部位に対して最適なＸ線条件に制御できる画質最適化装置及びその方法並びにＸ線診断装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の主要な局面に係る画質最適化装置は、Ｘ線発生部から放射されたＸ線を被検体に照射したときに被検体を透過したＸ線量に基づいて被検体の画像データを生成する画像データ生成部と、画像データ生成部により生成された画像データを表示する表示部と、表示部に表示されている画像上において被検体における特定の点をポイント指示するポイント指示部と、ポイント指示部によりポイント指示された特定の点の画素を含み、かつ当該特定の点の画素値に近似する複数の画素値を有する関心領域を画像データから抽出する関心領域抽出部と、関心領域抽出部により抽出された関心領域内の画素値に基づいてＸ線発生部のＸ線条件を制御し、関心領域に照射されるＸ線量を所定量にするＸ線条件制御部とを具備する。
【０００９】
本発明の主要な局面に係る画質最適化方法は、Ｘ線発生部から放射されたＸ線を被検体に照射したときに、コンピュータの演算処理によって被検体を透過したＸ線量に基づいて生成される被検体の画像データを表示部に表示し、この状態で、表示部に表示されている画像上において特定の点をポイント指示部によりポイント指示すると、当該ポイント指示された特定の点の画素を含み、かつ当該特定の点の画素値に近似する複数の画素値を有する関心領域を画像データから抽出し、この抽出された関心領域内の画素値に基づいてＸ線発生部のＸ線条件を制御し、関心領域に照射されるＸ線量を所定量にする。
【００１０】
本発明の主要な局面に係るＸ線診断装置は、上記画質最適化装置を用い、ポイント指示される毎の特定の点を含む新しい関心領域の画像データを表示部に表示する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、真に観察したい部位に対して最適なＸ線条件に制御できる画質最適化装置及びその方法並びにＸ線診断装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の一実施の形態について図面を参照して説明する。
【００１３】
図１はバイプレーンのＸ線診断装置の外観構成図を示す。第１の支柱１０には、寝台１１が設けられている。一方、天井には、例えば２本のスライドレール１２、１３が敷設されている。これらスライドレール１２、１３には、第１のスライダ１４が移動可能に設けられている。この第１のスライダ１４には、Ωアーム１５が設けられ、このΩアーム１５の各端部にそれぞれ第１のＸ線発生部１６、第１のＸ線検出部１７が対向して設けられている。第２の支柱１８には、アーム支持部１９を介してＣアーム２０が設けられている。このＣアーム２０の各端部には、それぞれ第２のＸ線発生部２１、第２のＸ線検出部２２が対向して設けられている。なお、第１のＸ線発生部１６及び第１のＸ線検出部１７のアイソセンタと、第２のＸ線発生部２１及び第２のＸ線検出部２２のアイソセンタとは、交わるように設けられている。又、スライドレール１２、１３には、第２のスライダ２３が移動可能に設けられ、この第２のスライダ２３に表示部としての複数のモニタ装置２４が保持されている。
【００１４】
図２は同装置のブロック構成図を示す。なお、Ωアーム１５の第１のＸ線発生部１６及び第１のＸ線検出部１７から検出系は、省略してある。寝台１１には、天板３０が設けられ、この天板３０上に被検体３１が載置される。Ｃアーム２０及び天板３０には、機構部３２が設けられている。この機構部３２は、Ｃアーム２０と天板３０とをそれぞれ移動制御するもので、Ｃアーム回動・移動機構３３と、天板移動機構３４と、Ｃアーム・天板機構制御部３５とを有する。Ｃアーム回動・移動機構３３は、Ｃアーム２０をＸ軸を中心として回動させると共に、Ｘ軸方向に移動させる。天板移動機構３４は、天板３０をＸ軸方向に移動させる。Ｃアーム・天板機構制御部３５は、システム制御部３６からの移動指令を受けてＣアーム回動・移動機構３３と天板移動機構３４とに対してそれぞれ各移動制御信号を送出する。
【００１５】
第２のＸ線発生部２１には、高電圧発生部３７が接続されている。この高電圧発生部３７は、第２のＸ線発生部２１に対して高電圧を印加するもので、Ｘ線制御部３８と高電圧発生器３９とを有する。Ｘ線制御部３８は、システム制御部３６からのＸ線条件指令を受け、当該Ｘ線条件指令により指示されたＸ線強度に対応する高電圧の印加制御信号を高電圧発生器３９に送出する。高電圧発生器３９は、Ｘ線制御部３８から受けた高電圧の印加制御信号に応じた高電圧を発生し、当該高電圧を第２のＸ線発生部２１に印加する。この第２のＸ線発生部２１は、Ｘ線管４０とＸ線絞り器４１とを有し、第２のＸ線発生部２１から印加された高電圧によってＸ線管４０からＸ線を放射する。
【００１６】
Ｘ線絞り器４１は、Ｘ線管４０の前面側に設けられ、Ｘ線管４０から放射されたＸ線を絞る。このＸ線絞り器４１は、例えば被検体３１のＲＯＩ以外の部位に対するＸ線の照射量を補償するＸ線補償部として機能する。すなわち、Ｘ線絞り器４１は、被検体３１に対して例えば新たなＲＯＩを設定した場合、当該ＲＯＩの設定によりＸ線量が増加した場合、当該増加した分のＸ線量を低減させる。このＸ線絞り器４１は、Ｘ線を通過させる領域すなわちＲＯＩに対応して形状を可変可能な自由形状フィルタ、例えば液体フィルタを用いる。このＸ線絞り器４１は、システム制御部３６から発せられるＸ線絞り指示によりＸ線を通過させる形状が制御される。
【００１７】
第２のＸ線検出部２２は、Ｘ線管４０から放射され、被検体３１を透過したＸ線量を検出するもので、例えば平面検出器（Flat Panel Detector：ＦＰＤ）４２と投影データ生成部４３とを有する。なお、平面検出器４２に限らず、Ｉ.Ｉ.（Image Intensifier）を用いてもよい。平面検出器４２は、半導体からなる複数の受光素子を有し、ゲートドライバ４４によって各受光素子に蓄積された各電荷を読み出される。投影データ生成部４３は、平面検出器４２から読み出された各電荷をＸ線検出量に応じたデジタル画像信号として出力するもので、電荷・電圧変換器４５と、Ａ／Ｄ変換器４６とを有する。電荷・電圧変換器４５は、平面検出器４２から読み出された各電荷を電圧信号に変換する。Ａ／Ｄ変換器４６は、電荷・電圧変換器４５から変換出力された電圧信号をデジタル変換して投影データとして出力する。
【００１８】
画像データ生成部４７は、投影データ生成部４３から出力された投影データを逐次受け取り、例えば図３に示すような被検体３１の画像データ１を生成するもので、画像データ記憶回路４８と画像演算回路４９とを有する。画像データ記憶回路４８には、投影データ生成部４３から出力された投影データを順次記憶して被検体３１の画像データ１として記憶する。この画像データ記憶回路４８には、複数のモニタ装置２４を有する表示部５０が接続されている。この表示部５０は、画像データ生成部４７により生成された被検体３１の画像データ１を各モニタ装置２４において表示するもので、表示用データ生成回路５１と、変換回路５２と、複数のモニタ装置２４とを有する。表示用データ生成回路５１は、画像データ記憶回路４８に記憶されている被検体３１の画像データ１を受け取り、各モニタ装置２４で表示させるための表示用データを生成する。変換回路５２は、表示用データ生成回路５１により生成された表示用データを映像信号に変換して各モニタ装置２４に送る。
画像演算回路４９は、画像データ記憶回路４８に記憶されている被検体３１の画像データ１を読み出し、この被検体３１の画像データ１に対する各画素値を読み取る等の演算処理を行う。
システム制御部３６は、Ｘ線診断装置全体を制御するもので、機構部３２のＣアーム・天板機構制御部３５に対して移動指令を発し、Ｘ線制御部３８に対してＸ線強度等を制御するための電圧、電流、Ｘ線の放射時間等からなるＸ線条件指令を発すると共に、第２のＸ線発生部２１に対してＸ線照射指令を発し、第２のＸ線検出部２２におけるゲートドライバ４４の駆動指令を発すると共にＡ／Ｄ変換器４６にＡ／Ｄ変換指令を発し、画像データ生成部４７の画像算回路４９に対して各種演算指令を発し、表示部５０に対して表示指令を発する。
システム制御部３６には、ポイント指示部としての操作部５３が接続されている。この操作部５３は、例えばマウス、ジョイステック又はドラックボール等であり、これらマウス等の操作に応じた操作信号を出力する。システム制御部３６は、操作部５３からの操作信号を受け、この操作信号に応じてモニタ装置２４のモニタ画面上にポインタＰを移動させる。又、システム制御部３６には、ＥＣＧ（心電図）計測部５４が接続されている。
【００１９】
システム制御部３６は、画像データ記憶回路４８に記憶されている被検体３１の画像データ１を画像演算回路４９を通して読み出り、図３に示すように予め設定された被検体３１の画像データ１の中心部に対してＲＯＩを設定し、このＲＯＩ内の各画素値に基づいて最適な画質とするためのＸ線強度等を制御するための電圧、電流、Ｘ線の放射時間等からなるＸ線条件を決定する。
又、システム制御部３６は、被検体３１の画像データ１の中心部に対して設定するＲＯＩ以外に、新たなＲＯＩを設定するための関心領域抽出部５４と、関心領域設定部５５と、Ｘ線条件制御部５６とを有する。  
関心領域抽出部５４は、図３に示すように操作部５３によりモニタ装置２４のモニタ画面上でポインタＰを移動させて被検体３１の画像データ中の特定の点がポイント指示されると、このポイント指示された被検体３１の画像データ中の特定の点の画素を含み、かつ当該特定の点の画素値に近似する複数の画素値を有する図４に示すような新たなＲＯＩ５７を被検体３１の画像データ１から抽出する。  
具体的に関心領域抽出部５４は、例えば図５に示すように被検体３１の画像データ１中に特定の点がポイント指示されると、この特定の点の画素Ｇの画素値ａを読み取り、この特定の点の画素Ｇに対して隣り合う８つの各画素値が所定の範囲内の画素値ａ±ｂを有するか否かを判断する。例えば、特定の点の画素Ｇの画素値ａが例えば「３０」であり、画素値±ｂを例えば「±５」とすれば、所定の範囲内の画素値「３０±５」内の画素値を有する画素が新たなＲＯＩ５７内として抽出され、画素値「３０±５」外の画素値を有する画素が新たなＲＯＩ５７から除外される。例えば図５であれば、斜線部分の領域が新たなＲＯＩ５７内として抽出される。
【００２０】
関心領域設定部５５は、関心領域抽出部５４により抽出されたＲＯＩを被検体３１における新たなＲＯＩ７５として設定する。
【００２１】
Ｘ線条件制御部５６は、関心領域抽出部５４により抽出された被検体３１における新たなＲＯＩ内の各画素値の平均値に基づいてＸ線発生部２１のＸ線条件を制御し、新たなＲＯＩに照射されるＸ線量を所定量、すなわち新たなＲＯＩの画像を最適な画質とするためのＸ線強度等を制御するための電圧、電流、Ｘ線の放射時間等からなるＸ線条件に制御する。
【００２２】
次に、上記の如く構成された装置の透視撮影時における動作について説明する。  
寝台１１の天板３０上に被検体３１が載置される。システム制御部３６から機構部３２のＣアーム・天板機構制御部３５に対して移動指令が発せられると、このＣアーム・天板機構制御部３５は、Ｃアーム回動・移動機構３３と天板移動機構３４とに対してそれぞれ各移動制御信号を送出する。これにより、Ｃアーム２０は、Ｃアーム回動・移動機構３３によってＸ軸を中心として回動すると共に、Ｘ軸方向に移動する。天板３０は、天板移動機構３４によってＸ軸方向に移動する。
【００２３】
システム制御部３６は、Ｘ線制御部３８に対してＸ線強度等を制御するための電圧、電流、Ｘ線の放射時間等からなるＸ線条件指令を発すると共に第２のＸ線発生部２１に対してＸ線照射指令を発する。これにより、Ｘ線制御部３８は、システム制御部３６からのＸ線条件指令により指示されたＸ線強度に対応する高電圧の印加制御信号を高電圧発生器３９に送出する。高電圧発生器３９は、Ｘ線制御部３８からの高電圧の印加制御信号に応じた高電圧を発生し、当該高電圧を第２のＸ線発生部２１に印加する。この第２のＸ線発生部２１は、第２のＸ線発生部２１から印加された高電圧によってＸ線管４０からＸ線を放射する。
【００２４】
Ｘ線管４０から放射されたＸ線は、Ｘ線絞り器４１を通過し、被検体３１を透過して平面検出器４２に入射する。この平面検出器４２は、ゲートドライバ４４によって各受光素子に蓄積された各電荷を読み出す。電荷・電圧変換器４５は、平面検出器４２から読み出された各電荷を電圧信号に変換し、Ａ／Ｄ変換器４６は、電荷・電圧変換器４５から変換出力された電圧信号をデジタル変換して投影データとして出力する。
【００２５】
画像データ生成部４７は、投影データ生成部４３から出力された投影データを逐次受け取り、例えば図３に示すような被検体３１の画像データ１を生成して画像データ記憶回路４８に記憶する。これと共に、表示用データ生成回路５１は、画像データ記憶回路４８に記憶される被検体３１の画像データ１を受け取り、各モニタ装置２４で表示させるための表示用データを生成する。変換回路５２は、表示用データ生成回路５１により生成された表示用データを映像信号に変換して各モニタ装置２４に送る。これにより、各モニタ装置２４には、例えば図３に示すような被検体３１の画像データ１が表示される。
【００２６】
ここで、システム制御部３６は、画像データ記憶回路４８に記憶されている被検体３１の画像データ１を画像演算回路４９を通して読み出り、図３に示すように予め設定された被検体３１の画像データ１の中心部に対してＲＯＩを設定し、このＲＯＩ内の各画素値に基づいて最適な画質とするためのＸ線強度等を制御するための電圧、電流、Ｘ線の放射時間等からなるＸ線条件を決定する。このシステム制御部３６は、当該決定したＸ線条件のＸ線条件指令をＸ線制御部３８に対して発すると共に第２のＸ線発生部２１に対してＸ線照射指令を発する。これにより、Ｘ線制御部３８は、ＲＯＩ内のＸ線条件に対応する高電圧の印加制御信号を高電圧発生器３９に送出するものとなり、Ｘ線管４０は、ＲＯＩ内の画質を最適とするＸ線強度を有するＸ線を放射する。この結果、各モニタ装置２４には、例えば図３に示すような被検体３１における頚部２の画像データ１が最適な画質で表示される。
【００２７】
この状態で、図３に示すように操作部５３によりモニタ装置２４のモニタ画面上に表示されるポインタＰを移動させ、被検体３１の画像データ中の特定の点、例えば被検体３１の顎部３がポイント指示されると、関心領域抽出部５４は、ポイント指示された被検体３１の顎部３における特定の点の画素Ｇの画素値ａを読み取り、この特定の点の画素Ｇに対して隣り合う８つの各画素値が所定の範囲内の画素値ａ±ｂを有するか否かを判断し、特定の点の画素Ｇの画素値に近似する複数の画素値を有する図４に示すような新たなＲＯＩ５７を被検体３１の画像データ１から抽出する。なお、新たなＲＯＩ５７の抽出作用は、上記図５を参照しての動作説明と同様である。
【００２８】
このように抽出された新たなＲＯＩ５７は、ポイント指示された被検体３１の顎部３における特定の点の画素Ｇの画素値ａに対して所定の範囲内の画素値ａ±ｂを有する複数の画素値からなるので、顎部３の略全体を抽出可能である。すなわち、顎部３のＸ線吸収量は、当該顎部３の全体に亘って均一であり、顎部３以外の部位ではＸ線吸収量が異なる。従って、被検体３１の画像データ１において顎部３に対応する部分の画素値は、所定の範囲内の画素値ａ±ｂ内になる。
【００２９】
関心領域設定部５５は、関心領域抽出部５４により新たに抽出されたＲＯＩ５７を被検体３１における新たなＲＯＩ７５として設定する。
【００３０】
システム制御部３６は、図４に示すように新たなＲＯＩ５７内の各画素値に基づいて最適な画質とするためのＸ線強度等のＸ線条件を決定する。このシステム制御部３６は、当該決定したＸ線条件のＸ線条件指令をＸ線制御部３８に対して発すると共に第２のＸ線発生部２１に対してＸ線照射指令を発する。これにより、Ｘ線制御部３８は、ＲＯＩ内のＸ線条件に対応する高電圧の印加制御信号を高電圧発生器３９に送出するものとなり、Ｘ線管４０は、ＲＯＩ内の画質を最適とするＸ線強度を有するＸ線を放射する。この結果、各モニタ装置２４には、例えば図４に示すような被検体３１における顎部３の画像データ１が最適な画質で表示される。
【００３１】
一方、被検体３１の頚部２に対するＲＯＩの設定から被検体３１の顎部３に対する新たなＲＯＩの設定に変更されると、頚部２に対するＲＯＩと顎部３に対する新たなＲＯＩとでは、最適な画質の画像を得るためのＸ線条件が異なる。この場合、顎部３に対する新たなＲＯＩ５７のＸ線強度の方が頚部２対するＲＯＩのＸ線強度よりも高くなる。
従って、Ｘ線絞り器４１は、被検体３１に対して例えば新たなＲＯＩ５７を設定した場合、新たなＲＯＩ５７以外の領域において、当該ＲＯＩ５７の設定により増加した分のＸ線量を低減させる。すなわち、Ｘ線絞り器４１は、システム制御部３６から発せられるＸ線絞り指示を受け、自由形状フィルタ、例えば液体フィルタによって新たなＲＯＩ５７に対応する領域だけＸ線を通過させ、他の領域のＸ線を低減させる。
【００３２】
このように上記一実施の形態によれば、モニタ装置２４のモニタ画面上で特定の点をポイント指示すると、このポイント指示された特定の点の画素Ｇを含み、かつ特定の点の画素値に近似する複数の画素値を有する新たなＲＯＩを画像データ１から抽出し、この抽出された新たなＲＯＩ５７内の各画素値に基づいてＸ線発生部３７のＸ線条件を制御するので、真に観察したい例えば顎部３等の部位に対して最適なＸ線条件に制御できる。  
これにより、ＲＯＩが画像データ１の中心、例えば被検体の頚部２に設定されてる場合、臨床側として、例えば頚部２から顎部３にかけてカテーテル４を挿入したときに、カテーテル４の先端が存在する顎部３も同時に観察したいというニーズがある。このような場合でも、モニタ装置２４のモニタ画面上で顎部３の部位をポインタＰでポイント指示することで、顎部３のみを抽出した新たなＲＯＩ５７を設定でき、この新たなＲＯＩ５７に対して最適なＸ線条件に制御できる。この結果、例えばカテーテル４の先端が存在する顎部３を最適な画質でモニタ装置２４に表示できる。
【００３３】
この場合、新たなＲＯＩ５７は、その形状を例えば頚部２又は顎部３等の各複雑な形状にフィットさせることができ、真に観察したい例えば顎部３等の部位のみを最適な画質で観察できる。
【００３４】
又、被検体３１の頚部２に対するＲＯＩの設定から被検体３１の顎部３に対する新たなＲＯＩの設定に変更された場合、顎部３に対する新たなＲＯＩ５７のＸ線強度の方が頚部２対するＲＯＩのＸ線強度よりも高くなっても、液体フィルタ等のＸ線絞り器４１によりＸ線を照射する部位を新たなＲＯＩ５７の形状に合わせることがてき、新たなＲＯＩ５７に対応する領域だけＸ線を通過させ、他の領域のＸ線を低減させることができる。これにより、被検体における顎部３以外の部位に顎部３と同一のＸ線強度の高くなったＸ線が照射されることはなく、不要な部位への不要な被曝をなくすことができる。
【００３５】
なお、本発明は、上記一実施の形態に限定されるものではなく、次のように変形してもよい。  
例えば、上記一実施の形態のように透視撮影時に限らず、ＤＡ（デジタル・アンジオ・グラフィック）撮影時において新たなＲＯＩを設定するのにも適用可能である。  
バイプレーンのＸ線診断装置に限らず、他の機種のＸ線診断装置にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明に係るバイプレーンのＸ線診断装置の第１の実施の形態を示す外観構成図。
【図２】同装置のブロック構成図。
【図３】同装置において新たなＲＯＩの設定のためのボイン指示を示す図。
【図４】同装置による新たなＲＯＩの設定を示す図。
【図５】同装置における関心領域抽出部による新たなＲＯＩの抽出作用を示す模式図。
【図６】従来における画像データに対するＲＯＩの設定を示す図。
【符号の説明】
【００３７】
１：画像データ、２：頚部、３：顎部、４：カテーテル、１０：第１の支柱、１１：寝台、１２，１３：スライドレール、１４：第１のスライダ、１５：Ωアーム、１６：第１のＸ線発生部、１７：第１のＸ線検出部、１８：第２の支柱、１９：アーム支持部、２０：Ｃアーム、２１：第２のＸ線発生部、２２：第２のＸ線検出部、２３：第２のスライダ、２４：モニタ装置、３０：天板、３１：被検体、３２：機構部、３３：Ｃアーム回動・移動機構、３４：天板移動機構、３５：Ｃアーム・天板機構制御部、３６：システム制御部、３７：高電圧発生部、３８：Ｘ線制御部、３９：高電圧発生器、４０：Ｘ線管、４１：Ｘ線絞り器、４２：平面検出器、４３：投影データ生成部、４４：ゲートドライバ、４５：電荷・電圧変換器、４６：Ａ／Ｄ変換器、４７：画像データ生成部、４８：画像データ記憶回路、４９：画像演算回路、５０：表示部、５１：表示用データ生成回路、５２：変換回路、５３：操作部、５４：関心領域抽出部、５５：ポイント指示部、５６：Ｘ線条件制御部、５７：新たなＲＯＩ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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