(57)【要約】      （修正有）【課題】電気伝導性金属粒子の表面が無機酸化物でコーティングされた電極形成用伝導性粉体および、前記電極形成用伝導性粉体の製造方法と、電極形成用伝導性粉体を利用した電極の形成方法、及び、前記電極形成用伝導性粉体を利用して製造された電極を含むプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】電気伝導性金属粒子及び前記電気伝導性金属粒子の表面を覆いながら形成された無機酸化物コーティング層を含む電極形成用伝導性粉体、その製造方法、これを利用したプラズマディスプレイパネルの電極形成方法及び、これを含むプラズマディスプレイパネルに関し、電極形成用伝導性粉体は、酸化及び硫化に代表される腐蝕現象とイオン化で表現される移動現象及びコロイド化で表現されるパネル電極の黄変現象を根源的に解決することができ、これから製造される電極の電気伝導度がそのまま維持される。【選択図】図６
2007100214.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気伝導性金属粒子と；
前記電気伝導性金属粒子の表面を被覆する無機酸化物被覆層とを含む電極形成用伝導性粉体。
【請求項２】
前記電気伝導性金属粒子は銀、金、パラジウム、白金、銅、アルミニウム、タングステン、モリブデン及び、これらのうちの二つ以上の合金からなる群より選択される１種以上を含む、請求項１に記載の電極形成用伝導性粉体。
【請求項３】
前記電気伝導性金属粒子は１０ｎｍ乃至５μｍの平均粒径を有する、請求項１に記載の電極形成用伝導性粉体。
【請求項４】
前記無機酸化物コーティング層は１μｍ以下の厚さを有する、請求項１に記載の電極形成用伝導性粉体。
【請求項５】
前記無機酸化物はシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア及びこれらの混合物からなる群より選択されるものである、請求項１に記載の電極形成用伝導性粉体。
【請求項６】
分散溶媒に無機酸化物粒子を分散させて無機酸化物分散液を製造する段階と；
前記無機酸化物分散液に電気伝導性金属粒子を添加且つ混合して混合液を製造する段階と；
前記混合液をコーティングした後、焼成する段階とを含む電極形成用伝導性粉体の製造方法。
【請求項７】
前記分散溶媒はエタノール、トリメチルペンタンジオールモノイソブチレート、ブチルカルビトール、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトールアセテート、テルピノールアイソマー、テルピネオール、トルエン、テキサノールからなる群より選択される１種以上である、請求項６に記載の電極形成用伝導性粉体の製造方法。
【請求項８】
前記無機酸化物粒子は分散溶媒１００重量部に対して５乃至３０重量部含まれる、請求項６に記載の電極形成用伝導性粉体の製造方法。
【請求項９】
前記無機酸化物粒子は前記電気伝導性金属粒子１００重量部に対して２乃至１０重量部含まれる、請求項６に記載の電極形成用伝導性粉体の製造方法。
【請求項１０】
前記電気伝導性金属粒子は銀、金、パラジウム、白金、銅、アルミニウム、タングステン、モリブデン、及びこれらのうちの二つ以上の合金からなる群より選択される１種以上である、請求項６に記載の電極形成用伝導性粉体の製造方法。
【請求項１１】
前記無機酸化物はシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア及びこれらの混合物からなる群より選択されるものである、請求項６に記載の電極形成用伝導性粉体の製造方法。
【請求項１２】
高分子樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤及び溶媒を混合してビークルを製造する段階と;
請求項１乃至５のうちのいずれか一項による電極形成用伝導性粉体を前記ビークルと混合して感光性組成物を製造する段階と;
前記製造された感光性組成物を基板に印刷する段階と;
前記印刷された感光性組成物を乾燥し、露光、現像及び焼成する段階とを含むプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。
【請求項１３】
前記感光性組成物は、前記電極形成用伝導性粉体と感光性ビークルを５０乃至８０:５０乃至２０の重量比で混合して製造される、請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。
【請求項１４】
前記感光性ビークルはビークル重量を基準に高分子樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤及び溶媒を１０乃至４０:５乃至２０:１乃至１０:３０乃至７０の重量比で混合して製造される、請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。
【請求項１５】
前記高分子樹脂はメタクリルポリマー、ポリエステルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレート及びクレゾールエポキシアクリレートからなる群より選択される１種以上である、請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。
【請求項１６】
前記光重合性モノマーはエポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ-プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ-ブチルアクリレート、ｓｅｃ-ブチルアクリレート、ｓｅｃ-ブチルアクリレート、イソ-ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ-ブチルアクリレート、ｎ-ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニールアクリレート、２-エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、２-ヒドロキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２-ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２-メトキシエチルアクリレート及びメトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレートからなる群より選択される１種以上である、請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。
【請求項１７】
前記光重合開始剤はベンゾフェノン、ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４-ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４-ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４-ジクロロベンゾフェノン、４-ベンゾイル-４-メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２-ジエトキシアセトフェノン、２，２-ジメトキシ-２-フェニルアセトフェノン、２-ヒドロキシ-２-メチルプロピオフェノン、ｐ-ｔ-ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２-メチルチオキサントン、２-クロロチオキサントン、２-イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２-ｔ-ブチルアントラキノン、２-アミルアントラキノン、β-クロロアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４-アジドベンザルアセトフェノン、２，６-ビス（ｐ-アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６-ビス（ｐ-アジドベンジリデン）-４-メチルシクロヘキサノン、２-フェニル-１，２-ブタジオン-２-（ｏ-メトキシカルボニル）オキシム、２，３-ビス（４-ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６-ビス（４-ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６-ビス（４-ジメチルアミノベンザル）-４-メチルシクロヘキサノン、ミヒラケトン、４，４-ビス（ジエチルアミノ）-ベンゾフェノン、４，４-ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４-ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ-ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ-ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２-（ｐ-ジメチルアミノフェニルビニレン）-イソナフトチアゾール、１，３-ビス（４-ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３-カルボニル-ビス（４-ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３-カルボニル-ビス（７-ジエチルアミノクマリン）、Ｎ-フェニル-Ｎ-エチルエタノールアミン、Ｎ-フェニルエタノールアミン、Ｎ-トリルジエタノールアミン、Ｎ-フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３-フェニル-５-ベンゾイルチオ-テトラゾール、及び１-フェニル-５-エトキシカルボニルチオ-テトラゾールからなる群より選択される１種以上である、請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。
【請求項１８】
高分子樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、溶媒及び無機酸化物粒子を混合してビークルを製造する段階と;
電気伝導性金属粒子を前記ビークルと混合して感光性組成物を製造する段階と;
前記製造された感光性組成物を基板に印刷する段階と;
前記印刷された感光性組成物を乾燥し、露光、現像及び焼成する段階とを含むプラズマディスプレイパネルの電極形成方法。
【請求項１９】
アドレス電極、前記アドレス電極を覆う誘電体層、前記誘電体層上面に形成された隔壁及び、前記隔壁で区画された放電セル内に位置する蛍光体層を含む第１基板と;及び
透明電極及びバス電極を含む表示電極、前記表示電極を覆いながら全面に形成された透明誘電体層及び前記透明誘電体層上にコーティングされた保護膜を含む第２基板を含み、
前記アドレス電極またはバス電極のうちの少なくとも一つの電極は電気伝導性金属粒子及び無機酸化物粒子を含むプラズマディスプレイパネル。
【請求項２０】
前記無機酸化物粒子はシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア及び、これらの混合物からなる群より選択されるものである、請求項１９に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電極形成用伝導性粉体、その製造方法、これを利用したプラズマディスプレイパネルの電極形成方法及び、これを含むプラズマディスプレイパネルに関し、より詳しくは、プラズマディスプレイパネルのアドレス電極及びバス電極の露出端子部の酸化防止効果を有する電極形成用伝導性粉体、その製造方法、これを利用したプラズマディスプレイパネルの電極形成方法及び、これを含むプラズマディスプレイパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネルはプラズマ現象を利用した表示装置であって、非真空状態の気体雰囲気で空間的に分離された二つの接点間にどれ以上の電位差が印加されれば放電が発生するが、これを気体放電現象と称する。
【０００３】
プラズマ表示素子は、このような気体放電現象を画像表示に応用した平板表示素子である。現在、一般に使用されているプラズマディスプレイパネルは反射型交流駆動プラズマディスプレイパネルであって、後面基板（以下、第１基板と言う）構造の場合、隔壁で区画された放電セル内に蛍光体層が形成されている。また、前面基板（以下、第２基板と言う）の場合には、表示電極と前記表示電極を覆う誘電体層を含んでいる。
【０００４】
このようなプラズマディスプレイパネルは蛍光表示管（ＶＦＤ）や電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）のような他の平板ディスプレイ装置と同様に、任意の距離をおいて第１基板と第２基板を実質的に平行に配置してその外観を形成しており、この時、前記基板はその周囲に沿って配置される接合材によって接合されることによって真空状態の放電セルを形成する。
【０００５】
現在までのプラズマディスプレイパネルは封合フリット（ｓｅａｌ ｆｒｉｔ）によって第１基板と第２基板が封着され、実装工程においてＴＣＰ（ｔａｐｅ ｃａｒｒｉｅｒ ｐａｃｋａｇｅ）等のようなドライバーＩＣパッケージ及び異方性伝導性フィルム（ＡＣＦ:ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ ｆｉｌｍ、以下、‘ＡＣＦ'と言う）と接着されている。
【０００６】
しかし、プラズマディスプレイパネルを組立てた後、モジュールと組み立てるまでは相当な時間の間隔が生じ、この期間の間にプラズマディスプレイパネルの露出電極が水分、異物、電界の印加または空気中の放置によって酸素または二酸化硫黄などの外部気体により容易に酸化または硫化され腐食される問題点がある。このような端子部の腐蝕は、結果的に露出電極（特に、銀）のイオン化を加速させ、そのために電極間にイオンの移動による短絡現象が発生する。一方、硫黄成分によっては銀電極で黄化銀物質が発生して、結果的に伝導性の銀電極が断線する現象が発生する。このような端子部の不良は、結局パネルの不良につながる。
【０００７】
このような不良を防止するために多様な方法が提示されているが、ほとんど外部の異物、水分、湿気及び外部流入ガスなどを遮断する間接的な方法であり、電極自体に耐腐食性を付与しようとする試みはあまりなかった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで、本発明は前記のような問題点を解決するためのものであって、本発明の目的は、電気伝導性金属粒子の表面が無機酸化物でコーティングされた電極形成用伝導性粉体を提供することにある。
【０００９】
本発明の他の目的は、前記電極形成用伝導性粉体の製造方法を提供することにある。
【００１０】
本発明の他の目的は、前記電極形成用伝導性粉体を利用した電極の形成方法を提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、前記電極形成用伝導性粉体を利用して製造された電極を含むプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は前記目的を達成するために、電気伝導性金属粒子及び前記電気伝導性金属粒子の表面を覆いながら形成された無機酸化物コーティング層を含む電極形成用伝導性粉体を提供する。
【００１３】
本発明はまた、分散溶媒に無機酸化物粒子を分散させて無機酸化物分散液を製造する段階と、前記無機酸化物分散液に電気伝導性金属粒子を添加且つ混合して混合液を製造 する段階と、前記混合液をコーティングした後、焼成する段階とを含む電極形成用伝導性粉体の製造方法を提供する。
【００１４】
本発明はまた、高分子樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤及び溶媒を混合して感光性ビークルを製造する段階と、前記電極形成用伝導性粉体を前記ビークルと混合して感光性組成物を製造する段階と、前記製造された感光性組成物を基板にコーティングする段階と、前記コーティングされた感光性組成物を乾燥し、露光、現像及び焼成する段階とを含むプラズマディスプレイパネルの電極形成方法を提供する。
【００１５】
本発明はまた、アドレス電極、前記アドレス電極を覆う誘電体層、前記誘電体層上面に形成された隔壁及び前記隔壁で区画された放電セル内に位置する蛍光体層を含む第１基板及び、透明電極及びバス電極を含む表示電極、前記表示電極を覆いながら全面に形成された透明誘電体層及び、前記透明誘電体層上にコーティングされた保護膜を含む第２基板を含み、前記アドレス電極またはバス電極のうちの少なくとも一つの電極は電気伝導性金属粒子及び無機酸化物粒子を含むプラズマディスプレイパネルを提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の電極形成用伝導性粉体は酸化及び硫化として代表される腐蝕現象とイオン化として表現される移動現象及びコロイド化として表現されるパネル電極の黄変現象を根本的に解決することができ、これから製造される電極の電気伝導度をそのまま維持することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明をより詳細に説明する。
【００１８】
図１は本発明のプラズマディスプレイパネルの一例を示す部分分解斜視図である。図面に示されているように、プラズマディスプレイパネルは第１基板１上に一方向（図面のＹ方向）に沿って複数のアドレス電極３が形成され、アドレス電極３を覆いながら第１基板１の全面に誘電体層５が形成される。この誘電体層５上に各アドレス電極３の間に隔壁７が形成され、前記隔壁７は必要に応じて開放型または閉鎖型に形成され得る。各々の隔壁７の間には赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）色の蛍光体層９が位置する。
【００１９】
なお、第１基板１に対向する第２基板１１の一面にはアドレス電極３と直交する方向（図面のＸ方向）に沿って一対の透明電極１３ａとバス電極１３ｂで構成される複数の表示電極１３が形成され、表示電極１３を覆いながら、第２基板１１全体に透明誘電体層１５と保護膜１７が位置する。その結果、アドレス電極３と表示電極１３の交差地点が放電セルを構成し、放電セルは放電ガスで充填されている。
【００２０】
このような構成により、アドレス電極３といずれか一つの表示電極１３との間にアドレス電圧Ｖａを印加してアドレス放電を行い、再び一対の表示電極１３の間に維持電圧Ｖｓを印加すれば、維持放電時に発生する真空紫外線が当該蛍光体層９を励起させて透明な前面基板１１を通って可視光を放出する。
【００２１】
前記プラズマディスプレイパネルは封合フリットによって第１基板と第２基板が封着され、ドライバーＩＣパッケージ及びＡＣＦがアドレス電極の端子部と圧着固定される。
【００２２】
図２は本発明が適用可能なプラズマディスプレイパネルのアドレス電極の端子部、ドライバーＩＣパッケージ及びＡＣＦの連結部の断面を示す模式図である。図２に示されているように、第１基板１と第２基板１１が封合フリット２１によって接合され、この時、アドレス電極３の端子部とドライバーＩＣパッケージ２４及びＡＣＦ２５が圧着され、接着剤２３が前記ドライバーＩＣパッケージ２４及びＡＣＦ２５を支持する。この時、場合によっては第１基板１及び第２基板１１とドライバーＩＣパッケージ２４及びＡＣＦ２５の間に不要な空間２６が生じることもあり、前記空間に露出された電極が酸化または硫化される場合も発生する。
【００２３】
ただし、プラズマディスプレイパネルのアドレス電極の端子部、ドライバーＩＣパッケージ及びＡＣＦの連結部の断面が図２の構成にのみ限定されるわけではない。
前記プラズマディスプレイパネルの前記アドレス電極、及びバス電極は銀、金、パラジウム、白金、銅、アルミニウム、タングステン、モリブデン及び、これらのうちの二つ以上の合金からなる群より選択される１種以上の金属を含むのが好ましい。その中でも銀は電気伝導性に優れていてアドレス電極及びバス電極に最も好ましい。
【００２４】
下記反応式１乃至５は銀電極の酸化過程と、それによる銀移動現状のメカニズムを示す。
[反応式１]
Ａｇ->Ａｇ+
[反応式２]
Ｈ２Ｏ->Ｈ++ＯＨ-
[反応式３]
Ａｇ++ＯＨ-->ＡｇＯＨ
[反応式４]
２ＡｇＯＨ->Ａｇ２Ｏ+Ｈ２Ｏ
[反応式５]
Ａｇ２Ｏ+Ｈ２Ｏ->２ＡｇＯＨ->２Ａｇ++２ＯＨ-
【００２５】
プラズマディスプレイパネルの組立て工程中に、外部へ露出された電極の端子部は印加電圧と湿気などによって容易にイオン化される（反応式１）。一方、空気中の水分は水素イオン（Ｈ+）と水酸化イオン（ＯＨ-）で容易に分離され（反応式２）、この中で水酸化イオンは銀イオン（Ａｇ+）と結合して水酸化銀（ＡｇＯＨ）に変化する（反応式３）。
【００２６】
水酸化銀（ＡｇＯＨ）は非常に不安定な状態であるので、容易に黄色あるいは黒色の酸化銀（Ａｇ２Ｏ）を形成し（反応式４）、このように生成された酸化銀は持続的な可逆反応を進め（反応式５）、銀が次第に移動する銀移動（ｓｉｌｖｅｒ ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）現象が現れる。
【００２７】
黄化銀の生成メカニズムも前記酸化銀の生成メカニズムと非常に類似している。
【００２８】
このようにアドレス電極の酸化または硫化によって生じた腐食層は、露出端子部の抵抗を増加させ、端子部不良及びパネルの不良を招くおそれがある。
【００２９】
したがって、本発明はこのような腐蝕現象を防止できる電極形成用伝導性粉体を提供し、前記電極形成用伝導性粉体は電気伝導性金属粒子及び前記電気伝導性金属粒子の表面を覆いながら形成された無機酸化物コーティング層を含む。
【００３０】
前記電気伝導性金属粒子は電気伝導性に優れた金属粒子であればいずれも使用できるが、銀、金、パラジウム、白金、銅、アルミニウム、タングステン、モリブデン及び、これらのうちの二つ以上の合金からなる群より選択される１種以上を含むことが好ましく、その中でも銀は電気伝導性に優れていて最も好ましい。
【００３１】
前記電気伝導性金属粒子は１０ｎｍ乃至５μｍの平均粒径を有するのが好ましい。電気伝導性金属粒子の平均粒径が１０ｎｍ未満である場合には経済的に好ましくなく、５μｍを超える場合には表面積が減少して所望する電気伝導性を示すことができない。
【００３２】
前記無機酸化物としてはシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニアまたはこれらの混合物を用いることができる。
【００３３】
前記電気伝導性金属粒子の表面にコーティングされる無機酸化物コーティング層は１μｍ以下の厚さを有することができ、１０ｎｍ乃至５００ｎｍの厚さを有するのが好ましく、１０乃至５０ｎｍの厚さを有するのがさらに好ましい。無機酸化物コーティング層の厚さが１μｍを超える場合には、電気伝導性能が低下することがあり、１０ｎｍ未満である場合には、腐蝕防止性能が落ちることがある。この場合、無機酸化物コーティング層は無機酸化物粒子が断層で形成されているのが好ましい。
【００３４】
前記伝導性粉体の無機酸化物コーティング層は絶縁性を有し、プラズマディスプレイパネルの電極製造工程中に持続的に維持されて電極の腐食を防止し、実装工程でドライバーＩＣパッケージなどと接着される時、圧着によって無機酸化物コーティング層が壊れて電気伝導性が回復する。
【００３５】
前記電極形成用伝導性粉体は分散溶媒に無機酸化物粒子を分散させて無機酸化物分散液を製造する段階と、前記無機酸化物分散液に電気伝導性金属粒子を添加且つ混合して混合液を製造する段階と、前記混合液をコーティングした後、焼成する段階とを含む電極形成用伝導性粉体の製造方法によって製造することができる。この時、前記コーティング工程としてはスプレー噴霧工程が好ましく、この中でもサーマルスプレー法を利用することがさらに好ましい。
【００３６】
前記無機酸化物分散液を製造する段階において、前記無機酸化物粒子は分散溶媒１００重量部に対して５乃至３０重量部で含まれるのが好ましい。無機酸化物粒子の含有量が５重量部未満である場合には、十分な厚さのコーティング層を形成することが難しく、３０重量部を超える場合には、コーティング性が悪くなり得る。
【００３７】
前記分散溶媒はエタノール、トリメチルペンタンジオールモノイソブチレート（ＴＰＭ）、ブチルカルビトール（ＢＣ）、ブチルセロソルブ（ＢＣ:ｂｕｔｙｌ ｃｅｌｌｏｓｏｌｖｅ）、ブチルカルビトールアセテート（ＢＣＡ:ｂｕｔｙｌ ｃａｒｂｉｔｏｌ ａｃｅｔａｔｅ）、テルピノールアイソマー、テルピネオール（ＴＰ:ｔｅｒｐｉｎｅｏｌ）、トルエン、テキサノールからなる群より選択される１種以上であるのが好ましい。
【００３８】
また、前記無機酸化物粒子は前記電気伝導性金属粒子１００重量部に対して２乃至１０重量部で含まれるのが好ましい。前記無機酸化物粒子の含量が２重量部未満である場合には、十分なコーティング厚さを有することができず、１０重量部を超える場合には、コーティング層の厚さが必要以上に厚くなり得る。
【００３９】
前記電極形成用伝導性粉体の製造方法に使用される電気伝導性金属粒子としては電気伝導性に優れた金属粒子であればいずれも使用できるが、銀、金、パラジウム、白金、銅、アルミニウム、タングステン、モリブデン及び、これらのうちの二つ以上の合金からなる群より選択される１種以上を使用するのが好ましく、その中でも銀は電気伝導性に優れていて最も好ましい。
【００４０】
また、前記無機酸化物粒子は１μｍ以下の平均粒径を有することができる。また、前記無機酸化物粒子は１０乃至５００ｎｍの平均粒径を有するのが好ましく、１０乃至５０ｎｍの平均粒径を有するのがさらに好ましい。無機酸化物粒子の平均粒径は小さいほど好ましいが、１０ｎｍ未満の無機酸化物粒子を求めることは難しく、５００ｎｍを超える場合には均一なコーティング層を形成することが難しい。
【００４１】
前記混合液の焼成段階は５００乃至６００℃で４０乃至１００分間処理することが好ましく、５５０乃至５８０℃で６０乃至８０分間処理することがさらに好ましい。
【００４２】
前記方法で製造される電極形成用伝導性粉体はプラズマディスプレイパネルの電極形成方法であるインク-ジェット法、オフ-セット法、感光性ペースト法、直接印刷法またはＴＭＴ（Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）法などに用いることができる。
【００４３】
その中でも感光性ペースト法は薄膜工程で利用された技術を厚膜に適用した技術であって、基板上に感光性組成物を塗布した後、フォトマスクによって紫外線を照射した後、現像過程を経て硬化されていない部分を除去することによってパターンを形成する工程である。
【００４４】
本発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成方法は高分子樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤及び溶媒を混合してビークルを製造する段階と、前記電極形成用伝導性粉体を前記ビークルと混合して感光性組成物を製造する段階と、前記製造された感光性組成物を基板に印刷する段階と、前記印刷された感光性組成物を乾燥し、露光、現像及び焼成する段階とを含む。
【００４５】
図３は前記感光性組成物の製造工程を示す工程図である。以下の印刷、乾燥、露光、現像段階は通常のプラズマディスプレイパネルの電極製造方法と同一であるので、詳細な説明を省略し、前記焼成段階は５００乃至６００℃で４０乃至１００分間処理することが好ましく、５５０乃至５８０℃で６０乃至８０分間処理することがさらに好ましい。
【００４６】
前記感光性組成物は前記電極形成用伝導性粉体と感光性ビークルを５０乃至８０:５０乃至２０の重量比で混合して製造することができ、前記感光性ビークルはビークル全量を基準に高分子樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤及び溶媒を１０乃至４０:５乃至２０:１乃至１０:３０乃至７０の重量％の比率で混合して製造されることが好ましい。
【００４７】
前記高分子樹脂はバインダーの役割を果たし、炭素-炭素不飽和結合を有する化合物のうちの少なくとも１種類を重合して得られた重量平均分子量５００乃至１００，０００の高分子樹脂であるのが好ましく、より具体的には、メタクリルポリマー、ポリエステルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレート、クレゾールエポキシアクリレート、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）-ポリメチルアクリレート（ＰＭＡＡ）共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）及びポリイソブチルメタクリレート（ＰＩＢＭＡ）からなる群より選択される１種以上であるのがさらに好ましい。
【００４８】
前記光重合性モノマーは紫外線照射によって重合されて、感光性組成物を硬化させるもので、光重合性モノマーの含量がビークル重量を基準に５重量％未満である場合には、感光性組成物を十分に硬化することができず、２０重量％を超える場合には電極の電気伝導性に影響を与えることがある。
【００４９】
前記光重合性モノマーとしてはアクリレート系モノマーなどを用いることができ、より具体的には、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ-プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ-ブチルアクリレート、ｓｅｃ-ブチルアクリレート、ｓｅｃ-ブチルアクリレート、イソ-ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ-ブチルアクリレート、ｎ-ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２-エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、２-ヒドロキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２-ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２-メトキシエチルアクリレート及びメトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレートからなる群より選択される１種以上であるのが好ましい。
【００５０】
前記光重合開始剤は光重合性モノマーの光重合反応を起こすもので、光重合開始剤の含量が１重量％未満である場合には光重合速度が遅くなり、１０重量％を超過する場合には光重合速度が必要以上に速くなって、パターンの均一性及び物性が低下することがある。
【００５１】
前記光重合開始剤はベンゾフェノン、ｏ-ベンゾイル安息香酸メチル、４，４-ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４-ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４-ジクロロベンゾフェノン、４-ベンゾイル-４-メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２-ジエトキシアセトフェノン、２，２-ジメトキシ-２-フェニルアセトフェノン、２-ヒドロキシ-２-メチルプロピオフェノン、ｐ-ｔ-ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２-メチルチオキサントン、２-クロロチオキサントン、２-イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２-ｔ-ブチルアントラキノン、２-アミルアントラキノン、β-クロロアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４-アジドベンザルアセトフェノン、２，６-ビス（ｐ-アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６-ビス（ｐ-アジドベンジリデン）-４-メチルシクロヘキサノン、２-フェニル-１，２-ブタジオン-２-（ｏ-メトキシカルボニル）オキシム、２，３-ビス（４-ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６-ビス（４-ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６-ビス（４-ジメチルアミノベンザル）-４-メチルシクロヘキサノン、ミヒラケトン、４，４-ビス（ジエチルアミノ）-ベンゾフェノン、４，４-ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４-ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ-ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ-ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２-（ｐ-ジメチルアミノフェニルビニレン）-イソナフトチアゾール、１，３-ビス（４-ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３-カルボニル-ビス（４-ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３-カルボニル-ビス（７-ジエチルアミノクマリン）、Ｎ-フェニル-Ｎ-エチルエタノールアミン、Ｎ-フェニルエタノールアミン、Ｎ-トリルジエタノールアミン、Ｎ-フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３-フェニル-５-ベンゾイルチオ-テトラゾール及び１-フェニル-５-エトキシカルボニルチオ-テトラゾールからなる群より選択される１種以上であるのが好ましい。
【００５２】
前記感光性ビークルの製造に使用される溶媒は通常のビークル用溶媒を用いることができ、好ましくは、エタノール、トリメチルペンタンジオールモノイソブチレート（ＴＰＭ）、ブチルカルビトール（ＢＣ）、ブチルセロソルブ（ＢＣ:ｂｕｔｙｌ ｃｅｌｌｏｓｏｌｖｅ）、ブチルカルビトールアセテート（ＢＣＡ）、テルピノールアイソマー、テルピネオール（ＴＰ）、トルエン、テキサノールからなる群より選択される１種以上を使用することができる。
【００５３】
前記感光性組成物は電極形成用伝導性粉体、高分子樹脂、光重合性モノマー及び光重合開始剤の分散性能を良くするために分散剤を追加的に含むことができ、追加される分散剤の含量は全感光性組成物１００重量部に対して０．１乃至５重量部であるのが好ましい。
【００５４】
また、前記感光性組成物は消泡剤、酸化防止剤、重合禁止剤、可塑剤、金属粉末などの添加剤をさらに含むことができる。これら添加剤は必ず使用されるわけでなく、必要に応じて使用することができ、添加する時には一般に知られた量を適切に調節して使用することができる。また、前記感光性組成物はエポキシ系樹脂またはニトロセルロースのようなセルロース系樹脂などの非感光性樹脂をさらに含むこともできる。
【００５５】
本発明のプラズマディスプレイパネルの電極形成方法は、また、高分子樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、溶媒及び無機酸化物粒子を混合してビークルを製造する段階と、電気伝導性金属粒子を前記ビークルと混合して感光性組成物を製造する段階と、前記製造された感光性組成物を基板に印刷する段階と、前記印刷された感光性組成物を乾燥し、露光、現像及び焼成する段階とを含む。
【００５６】
前記感光性組成物に含まれる成分及び含量は前述した事項と同一であるので、以下では詳細な説明を省略する。
【００５７】
本発明のプラズマディスプレイパネルはアドレス電極、前記アドレス電極を覆う誘電体層、前記誘電体層の上面に形成された隔壁及び前記隔壁で区画された放電セル内に位置する蛍光体層を含む第１基板、及び透明電極及びバス電極を含む表示電極、前記表示電極を覆いながら、全面に形成された透明誘電体層及び前記透明誘電体層上にコーティングされた保護膜を含む第２基板を含み、前記アドレス電極、またはバス電極のうちの少なくとも一つの電極は電気伝導性金属粒子及び無機酸化物粒子を含む。
【００５８】
また、前記プラズマディスプレイパネルのアドレス電極またはバス電極のうちの少なくとも一つの電極は電気伝導性金属粒子の表面が前記無機酸化物でコーティングされている前記電極形成用伝導性粉体を含むことがさらに好ましい。
【００５９】
前記アドレス電極またはバス電極のうちの少なくとも一つの電極はインク-ジェット法、オフ-セット法、感光性ペースト法、直接印刷法またはＴＭＴ（Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）法の中で選択される方法で製造されるのが好ましい。
【００６０】
以下、本発明の好ましい実施例を記載する。ただし、下記の実施例は本発明の好ましい一実施例にすぎず、本発明が下記の実施例によって制限されるわけではない。
【００６１】
［実施例］
［比較例１］
通常の方法によってパネルガラスの上にアドレス電極、前記アドレス電極を覆う誘電体層、及び前記誘電体層上に配置される隔壁を形成し、前記隔壁で区画された放電セル内に赤色、緑色及び青色蛍光体層を形成して第１基板を製造した。
【００６２】
また、前記第１基板と別途に他のパネルガラス上に酸化インジウム錫（ＩＴＯ）をスパッタリングした後、パターニングして透明電極を形成した。
【００６３】
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）-ポリメチルアクリレート（ＰＭＡＡ）共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、エチルセルロース（ＥＣ）及びポリイソブチルメタクリレート（ＰＩＢＭＡ）を含む混合バインダー３０重量部、トリメチルペンタンジオールモノイソブチレート（ＴＰＭ）、ブチルカルビトール（ＢＣ）、ブチルカビトラセテイトゥ（ＢＣＡ）及びテルピノールアイソマーを含む溶媒５０重量部、光重合開始剤である２，２-ジメトキシ-２-フェニルアセトフェノン３重量部、光重合性モノマーであるエポキシアクリレート１７重量部を含む感光性ビークルを製造した。
【００６４】
前記感光性ビークル２９．８重量％と平均粒径１．５乃至３μｍ分布を有する電極形成用非晶質銀粉末（ＤＯＷＡ社製品、粒子球形）６５重量％、ＰｂＯ３重量％、Ｂ２Ｏ３２重量％、シリカ０．２重量％を混合し、３-ロールミリングして感光性ペーストを製造した。
【００６５】
図４はシリカコーティングされていない電極形成用銀粉末の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真である。
【００６６】
スクイーザーを利用して透明電極上に前記ペーストを全面印刷して乾燥した。前記製造された乾燥ペースト上に所定のパターンが形成されたフォトマスク及び露光装置を利用して４５０ｍＪ/ｃｍ２に露光した後、３５℃の０．４重量％炭酸ナトリウム水溶液をノズルを通じて１．２ｋｇｆ/ｃｍ２の噴射圧力で２５秒間現像して、露光されていない部位を除去して所定のパターンを形成した。次いで、５５０℃で６０分間焼成して膜の厚さが４μｍであるパターン化されたバス電極を得た。
【００６７】
前記透明電極及びバス電極を覆いながら透明誘電体層を形成し、前記透明誘電体層上に再びＭｇＯ保護膜を形成して第２基板を製造した。
【００６８】
前記製造された第１基板及び第２基板を合着した後、排気、ガス注入及び封入して、プラズマディスプレイパネルを製造した。
【００６９】
図５は比較例１によって製造されたアドレス電極の焼成後の表面を示す走査電子顕微鏡写真である。
【００７０】
［実施例１］
平均粒径５０ｎｍのシリカ粒子を１５重量％含むシリカ液（水ガラス）（Ｆｅｒｒｏ社製造）１００重量部に対して平均粒径１．５乃至３μｍ分布を有する電極形成用非晶質銀粉末（ＤＯＷＡ社製品、粒子球形）３００重量部を混合して攪拌し、これをサーマルスプレーで噴射した後、５８０℃で６０分間焼成して電極形成用伝導性粉体を製造した。
【００７１】
図６はシリカコーティング層が形成された電極形成用伝導性粉体の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真である。
【００７２】
比較例１の感光性ビークル２９．８重量％と、前記製造された伝導性粉体６５重量％、ＰｂＯ３重量％、Ｂ２Ｏ３２重量％及びシリカ０．２重量％を混合してペーストを製造したことを除いては、比較例１と同様な方法でアドレス電極とプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７３】
［実施例２］
平均粒径５０ｎｍのシリカ粒子を１５重量％含むシリカ液（水ガラス）（Ｆｅｒｒｏ社製造）５重量％、及び前記比較例１で製造された感光性ペースト９５重量％を混合して感光性ビークルを製造したことを除いては、比較例１と同様な方法でアドレス電極とプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７４】
図７は実施例２によって製造されたアドレス電極の焼成後の表面を示す走査電子顕微鏡写真である。
【００７５】
［実施例３］
平均粒径２００ｎｍのシリカ粒子を１５重量％含むシリカ液（水ガラス）（Ｆｅｒｒｏ社製造）を５重量％使用したことを除いては、実施例２と同様な方法でアドレス電極とプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７６】
［実施例４］
平均粒径１５０ｎｍのアルミナ粒子を１５重量％含むアルミナ液（水ガラス）（Ｆｅｒｒｏ社製造）を５重量％使用したことを除いては、実施例２と同様な方法でアドレス電極とプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７７】
［実施例５］
平均粒径１５０ｎｍのジルコニア粒子を１５重量％含むアルミナ液（水ガラス）（Ｆｅｒｒｏ社製造）を５重量％使用したことを除いては、実施例２と同様な方法でアドレス電極とプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００７８】
図８は実施例３によって製造されたアドレス電極の焼成後の表面を示す走査電子顕微鏡写真である。
【００７９】
図６に示したように、本発明の実施例１によって製造された電極形成用伝導性粉体はシリカ皮層が形成されていることが分かる。
【００８０】
また、図５及び図７乃至８の電子走査顕微鏡写真を比較すると、比較例１によって製造されたアドレス電極である図５は、焼成段階で銀粒子間の結合による粒子成長が起こって相対的に粒子サイズが大きい反面、実施例２乃至３によって製造された図７及び図８の電極は、シリカ層が焼成過程で銀粒子を隔離して銀の粒子成長を妨害することによって、粒子が小さくて均一であることが分かる。このように銀粒子のサイズが小さくて均一な場合には、電極の解像度が優れている長所が得られる。
【００８１】
また、比較例１、実施例２及び実施例３によって製造された電極端子と隣接したパネルガラスの色指数値をＣＭ-２６００Ｄ（ミノルタ）で測定しており、前記アドレス電極を圧着させてシリカ皮層を破った後の電気伝導度を測定して、その結果を下記表１に示した。
【００８２】
【表１】
2007100214.tif 000003
【００８３】
前記表１に示されているように、本発明の電極を含むプラズマディスプレイパネルの色指数が優れていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明のプラズマディスプレイパネルの一例を示す部分分解斜視図である。
【図２】本発明が適用可能なプラズマディスプレイパネルのアドレス電極の端子部、ドライバーＩＣパッケージ及びＡＣＦ連結部の断面を示す模式図である。
【図３】感光性組成物の製造工程を示す工程図である。
【図４】シリカコーティングされていない電極形成用銀粉末の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真である。
【図５】比較例１によって製造されたアドレス電極の焼成後の表面を示す光学顕微鏡写真である。
【図６】本発明の実施例１によって製造されたシリカコーティング層が形成された電極形成用伝導性粉体の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真である。
【図７】本発明の実施例２によって製造されたアドレス電極の焼成後の表面を示す光学顕微鏡写真である。
【図８】本発明の実施例３によって製造されたアドレス電極の焼成後の表面を示す光学顕微鏡写真である。
【符号の説明】
【００８５】
１  第１基板
３  アドレス電極
５  誘電体層
７  隔壁
９  蛍光体層
１１  第２基板
１３  表示電極
１５  透明誘電体層
１７  保護膜
２１  封合フリット
２４  ドライバーＩＣパッケージ
２５  ＡＣＦ
２６  空間
Ｖａ  アドレス電圧
Ｖｓ  維持電圧
【図１】
2007100214.tif 000004
【図２】
2007100214.tif 000005
【図３】
2007100214.tif 000006
【図４】
2007100214.tif 000007
【図５】
2007100214.tif 000008
【図６】
2007100214.tif 000009
【図７】
2007100214.tif 000010
【図８】
2007100214.tif 000011