(57)【要約】【課題】微細物を分離して確実に除去することが可能で、かつ液きりがよく衛生的である。【解決手段】微細物Mを含む液体から微細物Mを除去する微細物除去装置1であって、隔壁で仕切られた複数の沈殿槽21,22を有する沈殿タンク2と、沈殿タンク2に備えられた微細物Mの排出部3と、を有し、沈殿タンク2は、排出部3に向けて傾斜する傾斜底部21a,22aを有し、排出部3は、複数の沈殿槽21,22に対応して微細物Mをかき出して排出する排出コンベア装置30を有する。循環処理システムは、微細物Mを含む液体から微細物Mを除去する循環系に、微細物除去装置1と、フィルタ装置100を配置し、微細物Mを含む液体を微細物除去装置1に供給し、微細物除去装置1において微細物Mを除去した液体をフィルタ装置100に供給し、フィルタ装置100において残りの微細物Mを分離して液体を戻して循環させ、フィルタ装置100において分離した微細物Mを微細物除去装置1に戻して除去する。【選択図】図1
2007136268.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微細物を含む液体から微細物を除去する微細物除去装置であって、
隔壁で仕切られた複数の沈殿槽を有する沈殿タンクと、
前記沈殿タンクに備えられた微細物の排出部と、
を有し、
前記沈殿タンクは、前記排出部に向けて傾斜する傾斜底部を有し、
前記排出部は、前記複数の沈殿槽に対応して沈殿する微細物をかき出して排出する排出コンベア装置を有することを特徴とする微細物除去装置。
【請求項２】
前記隔壁は、上流の沈殿槽から下流側の沈殿槽に液体を導くオーバーフロー部を有することを特徴とする請求項1に記載の微細物除去装置。
【請求項３】
前記オーバーフロー部は、高さが調節可能な調節板を有することを特徴とする請求項2に記載の微細物除去装置。
【請求項４】
前記オーバーフロー部の下流側の沈殿槽は、浮遊物を溜める止め板を有することを特徴とする請求項2または請求項3に記載の微細物除去装置。
【請求項５】
前記排出コンベア装置は、
複数の沈殿槽に対応して配置されるチェーンと、
前記チェーンに取り付けたスクレーパと、
前記チェーンを駆動する駆動手段と、
前記スクレーパによりかき出す微細物をガイドするガイド斜面部とを有することを特徴とする請求項1に記載の微細物除去装置。
【請求項６】
前記ガイド斜面部は、
微細物を落下させる排出口と、
前記排出口に対向する位置に前記スクレーパによりかき出す微細物を落下させる突き当て部材とを有することを特徴とする請求項5に記載の微細物除去装置。
【請求項７】
前記スクレーパの少なくとも前記ガイド斜面部の傾斜面と接触する部分に、弾性体を有することを特徴とする請求項5または請求項6に記載の微細物除去装置。
【請求項８】
前記弾性体に付着した水分または微細物を除去するクリーニング手段を備えることを特徴とする請求項7に記載の微細物除去装置。
【請求項９】
前記スクレーパによりかき出す微細物を加熱する加熱手段を有することを特徴とする請求項5乃至請求項8のいずれか１項に記載の微細物除去装置。
【請求項１０】
前記駆動手段を制御する制御手段を有し、
前記制御手段は、前記スクレーパを前記加熱手段により加熱する位置に所定時間停止させることを特徴とする請求項5乃至請求項9のいずれか1項に記載の微細物除去装置。
【請求項１１】
前記スクレーパによりかき出した微細物を加圧する加圧手段を有することを特徴とする請求項5乃至請求項10のいずれか１項に記載の微細物除去装置。
【請求項１２】
前記加圧手段は、多孔質の弾性体ローラと、この弾性体ローラに挿通された連通孔を有するパイプ軸とからなり、微細物を搬送して加圧する一対の加圧ローラで構成されることを特徴とする請求項11に記載の微細物除去装置。
【請求項１３】
前記加圧手段は、水を通す孔を有する受け台と、この受け台上の微細物を加圧する加圧シリンダで構成されることを特徴とする請求項11に記載の微細物除去装置。
【請求項１４】
前記沈殿タンクに薬液を供給する薬液注入手段を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項13のいずれか1項に記載の微細物除去装置。
【請求項１５】
微細物を含む液体から微細物を除去する循環系に、請求項1乃至請求項14のいずれか1項に記載の微細物除去装置と、フィルタ装置を配置し、
微細物を含む液体を前記微細物除去装置に供給し、
前記微細物除去装置において微細物を除去した液体を前記フィルタ装置に供給し、
前記フィルタ装置において残りの微細物を分離して液体を戻して循環させ、分離した微細物を前記微細物除去装置に戻して除去することを特徴とする循環処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、流体に含まれる微粉末状クズ等の微細物を分離して除去する微細物除去装置及び循環処理システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、機械加工装置では、供給タンクから切削液を供給しながら切削加工が行なわれ、切削液には微粉末状の切削クズが含まれる。この微粉末状の切削クズが含まれる切削液を処理装置に供給し、この処理装置で切削クズを除去して切削液を供給タンクに戻しているものがある（例えば特許文献１）。
【特許文献１】特開２００１−79730号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
この処理装置は、箱形の本体からスクレーパによって切削チップを切削液から分離して排出しているが、箱形の本体の底面が水平であるから沈殿する切削チップが集中して集まらない。このため、スクレーパによって確実に切削チップを排出することができない。
【０００４】
また、切削チップの水切りが十分でなく、切削チップに切削液が付着したまま排出されることから切削チップの回収作業が困難で、かつ切削液で汚れるために不衛生である等の問題がある。
【０００５】
この発明は、かかる点に鑑みてなされたもので、微細物を分離して確実に除去することが可能で、かつ液きりがよく衛生的である微細物除去装置及び循環処理システムを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決し、かつ目的を達成するために、この発明は、以下のように構成されている。
【０００７】
請求項１に記載の発明は、微細物を含む液体から微細物を除去する微細物除去装置であって、
隔壁で仕切られた複数の沈殿槽を有する沈殿タンクと、
前記沈殿タンクに備えられた微細物の排出部と、
を有し、
前記沈殿タンクは、前記排出部に向けて傾斜する傾斜底部を有し、
前記排出部は、前記複数の沈殿槽に対応して沈殿する微細物をかき出して排出する排出コンベア装置を有することを特徴とする微細物除去装置である。
【０００８】
請求項2に記載の発明は、前記隔壁は、上流の沈殿槽から下流側の沈殿槽に液体を導くオーバーフロー部を有することを特徴とする請求項1に記載の微細物除去装置である。
【０００９】
請求項3に記載の発明は、前記オーバーフロー部は、高さが調節可能な調節板を有することを特徴とする請求項2に記載の微細物除去装置である。
【００１０】
請求項4に記載の発明は、前記オーバーフロー部の下流側の沈殿槽は、浮遊物を溜める止め板を有することを特徴とする請求項2または請求項3に記載の微細物除去装置である。
【００１１】
請求項5に記載の発明は、前記排出コンベア装置は、
複数の沈殿槽に対応して配置されるチェーンと、
前記チェーンに取り付けたスクレーパと、
前記チェーンを駆動する駆動手段と、
前記スクレーパによりかき出す微細物をガイドするガイド斜面部とを有することを特徴とする請求項1に記載の微細物除去装置である。
【００１２】
請求項6に記載の発明は、前記ガイド斜面部は、
微細物を落下させる排出口と、
前記排出口に対向する位置に前記スクレーパによりかき出す微細物を落下させる突き当て部材とを有することを特徴とする請求項5に記載の微細物除去装置である。
【００１３】
請求項7に記載の発明は、前記スクレーパの少なくとも前記ガイド斜面部の傾斜面と接触する部分に、弾性体を有することを特徴とする請求項5または請求項6に記載の微細物除去装置である。
【００１４】
請求項8に記載の発明は、前記弾性体に付着した水分または微細物を除去するクリーニング手段を備えることを特徴とする請求項7に記載の微細物除去装置である。
【００１５】
請求項9に記載の発明は、前記スクレーパによりかき出す微細物を加熱する加熱手段を有することを特徴とする請求項5乃至請求項8のいずれか１項に記載の微細物除去装置である。
【００１６】
請求項１0に記載の発明は、前記駆動手段を制御する制御手段を有し、
前記制御手段は、前記スクレーパを前記加熱手段により加熱する位置に所定時間停止させることを特徴とする請求項5乃至請求項9のいずれか1項に記載の微細物除去装置である。
【００１７】
請求項１1に記載の発明は、前記スクレーパによりかき出した微細物を加圧する加圧手段を有することを特徴とする請求項5乃至請求項10のいずれか１項に記載の微細物除去装置である。
【００１８】
請求項１2に記載の発明は、前記加圧手段は、多孔質の弾性体ローラと、この弾性体ローラに挿通された連通孔を有するパイプ軸とからなり、微細物を搬送して加圧する一対の加圧ローラで構成されることを特徴とする請求項11に記載の微細物除去装置である。
【００１９】
請求項１3に記載の発明は、前記加圧手段は、水を通す孔を有する受け台と、この受け台上の微細物を加圧する加圧シリンダで構成されることを特徴とする請求項11に記載の微細物除去装置である。
【００２０】
請求項１4に記載の発明は、前記沈殿タンクに薬液を供給する薬液注入手段を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項13のいずれか1項に記載の微細物除去装置である。
【００２１】
請求項１5に記載の発明は、微細物を含む液体から微細物を除去する循環系に、請求項1乃至請求項14のいずれか1項に記載の微細物除去装置と、フィルタ装置を配置し、
微細物を含む液体を前記微細物除去装置に供給し、
前記微細物除去装置において微細物を除去した液体を前記フィルタ装置に供給し、
前記フィルタ装置において残りの微細物を分離して液体を戻して循環させ、分離した微細物を前記微細物除去装置に戻して除去することを特徴とする循環処理システムである。
【発明の効果】
【００２２】
前記構成により、この発明は、以下のような効果を有する。
【００２３】
請求項１に記載の発明では、複数の沈殿槽では沈殿する微細物が排出部に向けて傾斜する傾斜底部によって集中して集められ、複数の沈殿槽に対応して沈殿する微細物を確実にかき出して排出することができ、かつ液きりがよく衛生的である。
【００２４】
請求項2に記載の発明では、上流の沈殿槽から下流側の沈殿槽に液体がオーバーフロー部からオーバーフローして流れ、微細物が下流側の沈殿槽に流れ込むことが軽減される。
【００２５】
請求項3に記載の発明では、調節板によりオーバーフローの高さを調節することで、液体に応じて微細物が下流側の沈殿槽に流れ込むことを調節することができる。
【００２６】
請求項4に記載の発明では、オーバーフロー部の下流側で止め板によって浮遊物を溜めて集めることができ、沈殿槽から浮遊物を簡単、かつ確実に除去することができる。
【００２７】
請求項5に記載の発明では、複数の沈殿槽の傾斜底部によって集中して集められた微細物をスクレーパによりガイド斜面部に沿って確実にかき出すことができ、かつガイド斜面部により液きりが行われて衛生的である。
【００２８】
請求項6に記載の発明では、突き当て部材にスクレーパが突き当たることで、スクレーパによりかき出される微細物が落下して排出口から回収することができる。
【００２９】
請求項7に記載の発明では、スクレーパの弾性体によりガイド斜面部の傾斜面に付着する微細物をより確実にかき出すことができる。
【００３０】
請求項8に記載の発明では、スクレーパの弾性体に付着した水分または微細物を除去し、弾性体をクリーニングすることができる。
【００３１】
請求項9に記載の発明では、スクレーパによりかき出す微細物を加熱し、乾燥することでより衛生的に回収することができる。
【００３２】
請求項10に記載の発明では、スクレーパを加熱手段により加熱する位置に所定時間停止させ、効率的に微細物を乾燥することでより衛生的に回収することができる。
【００３３】
請求項11に記載の発明では、スクレーパによりかき出した微細物を加圧し、水分を除去して微細物を回収することができる。
【００３４】
請求項12に記載の発明では、一対の加圧ローラで微細物を搬送しながら加圧し、水分を除去して微細物を回収することができる。
【００３５】
請求項13に記載の発明では、加圧シリンダで受け台上の微細物を加圧し、水分を除去して微細物を回収することができる。
【００３６】
請求項14に記載の発明では、沈殿タンクに薬液を供給し、薬液によって臭気を除去，あるいは液体の耐久性を向上させ、また微細物の沈殿を促進させることなどが可能である。
【００３７】
請求項15に記載の発明では、微細物を含む液体から微細物を除去する循環系に、請求項1乃至請求項14のいずれか1項に記載の微細物除去装置と、フィルタ装置を配置することで、微細物を効率よく除去し、液体の純度が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
以下、この発明の微細物除去装置及び循環処理システムの実施の形態について説明するが、この発明の実施の形態は、発明の最も好ましい形態を示すものであり、この発明はこれに限定されない。
【００３９】
この実施の形態では、微細物除去装置を備える循環処理システムについて、図1乃至図4に基づいて説明する。図1は微細物除去装置を破断して循環処理システムの概略側面図、図2は微細物除去装置を上方から見た循環処理システムの概略平面図、図3は排出部の拡大断面図、図4は図2のIV-IV線に沿う断面図である。
【００４０】
この実施の形態の循環処理システムでは、微細物を含む液体から微細物を除去する循環系に、微細物除去装置1と、フィルタ装置100を配置し、例えば切削加工機械、水浄化装置などの処理装置101から微細物を含む液体を微細物除去装置1に供給する。微細物除去装置1において微細物を除去した液体は、循環ポンプ110の駆動によりフィルタ装置100に供給され、フィルタ装置100において残りの微細物を分離し、浄化した液体を処理装置101に戻して循環させ、フィルタ装置100において分離した微細物を微細物除去装置1に送り除去する。
【００４１】
この実施の形態の循環処理システムでは、処理装置101が切削加工機械の場合には、微粉末状の切削クズが含まれる切削液から切削クズを除去し、切削液を浄化する。また、処理装置101が水浄化装置の場合には、異物やヘドロが含まれる水から異物やヘドロを除去し、水を浄化する。
【００４２】
この発明の微細物除去装置1は、沈殿タンク2と排出部3とを有し、微細物を含む液体から微細物を除去する。沈殿タンク2は、箱型に形成され、隔壁20で仕切られた複数の沈殿槽21,22を有する。この実施の形態では、2個の沈殿槽21,22を設けているが、2個以上であればとくに限定されない。沈殿タンク2に沈殿槽を多く設けることで、浄化精度が向上し好ましい。
【００４３】
2個の沈殿槽21,22は、それぞれ排出部3に向けて傾斜する傾斜底部21a,22aを有し、沈殿する微細物Mは傾斜底部21a,22aによってそれぞれ排出部3に向けて集中して集められる。
【００４４】
隔壁20は、上流の沈殿槽21から下流側の沈殿槽22に液体を導くオーバーフロー部23を有する。このオーバーフロー部23は、隔壁20に形成した切り欠き部20aと、切り欠き部20aに対向して設けた調節板24とで構成される。調節板24の両側には、上下方向に長孔24aが形成され、この長孔24aに設けた止めビス25によって調節板24を所定の位置に止めることができる。
【００４５】
この実施の形態では、上流の沈殿槽21へ微細物Mを含む液体が供給され、この上流の沈殿槽21において微細物Mが沈殿する。液体がオーバーフロー部23からオーバーフローして下流側の沈殿槽22に流れ込むが、オーバーフローすることで残りの微細物Mが下流側の沈殿槽22に流れ込むことが軽減される。また、調節板24によりオーバーフローの高さを調節することで、液体に応じて残りの微細物Mが下流側の沈殿槽22に流れ込むことを調節することができる。
【００４６】
下流側の沈殿槽22には、オーバーフロー部23の下流側の位置に止め板26が設けられ、この止め板26の下部26aは液面Hから所定距離K液体の中に入り込んだ位置にある。このように、オーバーフロー部23の下流側の沈殿槽22には、浮遊物Pを溜める止め板26を有しているため、オーバーフロー部23の下流側で止め板26によって浮遊物Pを溜めて集めることができ、沈殿槽22から浮遊物Pを簡単、かつ確実に除去することができる。この下流側の沈殿槽22でも残りの微細物Mが沈殿し、微細物Mがほとんど除去された液体が下流側の沈殿槽22からフィルタ装置100へ戻される。
【００４７】
排出部3は、複数の沈殿槽21,22に対応して微細物Mをかき出して排出する排出コンベア装置30を有する。排出コンベア装置30は、かき出す微細物Mをガイドするガイド斜面部40の下部に配置された従動軸31と、上部に配置された駆動軸32とを有し、従動軸31には従動スプロケット33が固定され、駆動軸32には駆動スプロケット34が固定されている。
【００４８】
それぞれの従動スプロケット33と駆動スプロケット34とにはチェーン35が掛け渡され、チェーン35が複数の沈殿槽21,22に対応して配置されている。それぞれのチェーン35には、スクレーパ36が取り付けられている。スクレーパ36は、断面がL字形状のプレートが用いられ、一端部36aをチェーン35に溶接などで固定し、他端部36bは先端がガイド斜面部40の斜面40aに接するようになっている。
【００４９】
駆動軸32には、駆動手段として駆動モータ50が接続され、駆動モータ50は制御手段55により制御される。この制御手段55は、マイクロコンピュータで構成され、検知センサSの検知情報に基づき駆動モータ50の停止、始動、あるいは回転速度などの制御が行われる。
【００５０】
この駆動モータ50の駆動によって駆動軸32が回転してチェーン35が矢印方向に回転し、スクレーパ36がそれぞれの沈殿槽21,22に沈殿して堆積する微細物Mをガイド斜面部40の斜面40aに沿ってかき出す。このスクレーパ36が微細物Mをガイド斜面部40の斜面40aに沿ってかき出すときに、他端部36bの先端と斜面40aとの間から水分が下方に流れて徐々に水切りが行われる。このように、複数の沈殿槽21,22の傾斜底部21a、22aによって集中して集められた微細物Mをスクレーパ36によりガイド斜面部40に沿って確実にかき出すことができ、かつガイド斜面部40により液きりが行われて衛生的である。
【００５１】
ガイド斜面部40の上部には、微細物Mを落下させる排出口40bが形成されている。この排出口40bに対向する位置には、排出口40bの上側に突き当て部材41が配置されている。図3に示すように、スクレーパ36が微細物Mをガイド斜面部40の傾斜面40aに沿ってかき出すときに、スクレーパ36の一端部36aが突き当て部材41の先端に当たると、チェーン35が上側に持ち上げられて他端部36bが持ち上げられるように傾き、さらにチェーン35が移動することで突き当て部材41が他端部36bに付着する微細物Mをかき出し落下させる。そして、スクレーパ36が突き当て部材41を乗り越えて移動し、微細物Mは排出口40bから落下して回収ボックス52に回収される。
【００５２】
また、微細物除去装置1には、スクレーパ36によりかき出す微細物を加熱する加熱手段53を備えることができ、この加熱手段53は例えばヒータで構成され、ガイド斜面部40の斜面40aを加熱し、乾燥することでより衛生的に回収することができる。
【００５３】
この実施の形態では、検知センサSがスクレーパ36を検知し、この検知情報に基づき制御手段55が駆動モータ50を所定時間駆動し、スクレーパ36を加熱手段53により加熱する位置に所定時間停止させ、スクレーパ36によりかき出す微細物Mを加熱し、効率的に微細物Mを乾燥することでより衛生的に回収することができる。
【００５４】
また、微細物除去装置1には、パックアップ電源200を備え、システム電源が遮断されてもパックアップ電源200によって駆動可能であり、微細物Mをスクレーパ36によりガイド斜面部40に沿ってかき出すことができ、沈殿する微細物Mが傾斜底部21a,22aに堆積して固化しないようになっている。
【００５５】
また、沈殿タンク2に薬液を供給する薬液注入手段70を備え、この薬液注入手段70によって薬液を定量供給し、沈殿タンクに薬液を供給し、薬液によって臭気を除去，あるいは液体の耐久性を向上させ、また微細物の沈殿を促進させることなどが可能である。薬液として、例えば凝集剤を供給することができ、この凝集剤によって微細物を凝集させて沈殿を促進することができる。その際の凝集剤は、無機凝集剤、高分子凝集剤など、特に制限される物ではないが、価格の点、後処理への影響の点などから、例えば硫酸アルミニウムなどを使用することができる。
【００５６】
次に、微細物除去装置1の他の実施の形態を、図5乃至図7に示す。図5はスクレーパを説明する斜視図、図6はスクレーパによるかき出し状態を示す図、図7はスクレーパのクリーニング状態を示す図である。
【００５７】
この実施の形態では、スクレーパ36の少なくともガイド斜面部40aの傾斜面40a1と接触する部分に、弾性体71を有する。弾性体71として、例えば発泡材、スポンジ、ゴムなどがあるが特に限定されない。図5（a）では、弾性体71が板状に形成されて、スクレーパ36の他端部36bの全面に設けられ、弾性体71の一端部71aが他端部36bの先端部36b1より突出している。図5（b）では、弾性体71がコ字状に形成されて、スクレーパ36の他端部36bの外周に設けられ、弾性体71の両側の端部71bが他端部36bの先端部36b1より突出している。
【００５８】
図5（a）の弾性体71が設けられたスクレーパ36は、図6に示すように、スクレーパ36の弾性体71の一端部71aがガイド斜面部40の傾斜面40a1と接触し、ガイド斜面部40の傾斜面40a1に付着する微細物Mをより確実にかき出すことができる。
【００５９】
また、この実施の形態では、図7に示すように、排出口40bの上側にクリーニング手段72が図1乃至図4の実施例の突き当て部材41に代えて配置されている。クリーニング手段72は絞り軸、あるいはこすり軸などの棒状部材72aによって構成され、スクレーパ36が移動してかき出すときに、スクレーパ36の弾性体71が棒状部材72aによって絞られたり、こすられたりすることで、弾性体71に付着した水分または微細物が除去でき、弾性体71をクリーニングすることができる。
【００６０】
図5（b）の弾性体71が設けられたスクレーパ36も同様に、図6に示すようにして、スクレーパ36の弾性体71の両側の端部71bがガイド斜面部40の傾斜面40a1と接触し、両側の端部71bで壁を作り、他端部36bにガイド斜面部40の傾斜面40a1に付着する微細物Mが集まるようにしてより確実にかき出すことができる。
【００６１】
次に、微細物除去装置1の他の実施の形態を、図8及び図9に示す。図8は微細物の加圧手段の配置を説明する図、図9は微細物の加圧手段を示す図である。
【００６２】
この実施の形態の微細物除去装置1は、排出口40bの下方位置に、スクレーパ36によりかき出した微細物Mを加圧する加圧手段80を有する。排出口40bの上方位置には、かき出された微細物Mを排出口40bに導く導入部材81が配置されている。
【００６３】
この実施の形態の加圧手段80は、多孔質の弾性体ローラ80aと、この弾性体ローラ80aに挿通された連通孔80b1を有するパイプ軸80bとからなり、微細物Mを搬送して加圧する1対の加圧ローラAで構成される。
【００６４】
図9に示すように、かき出された微細物Mは、1対の加圧ローラAの弾性体ローラ80aに間に落下し、1対の加圧ローラAの回転によって搬送して加圧される。この搬送して加圧されることで、水分が弾性体ローラ80aからパイプ軸80bの連通孔80b1から軸孔80b２を通り、回収パイプ８２を介して沈殿槽21に戻される。このようにして、スクレーパ36によりかき出した微細物Mを一対の加圧ローラAで搬送しながら加圧し、水分を除去して回収することができる。
【００６５】
次に、微細物除去装置1の他の実施の形態を、図10及び図11に示す。図10は微細物の加圧手段の動作を説明する図、図11は微細物の加圧を示す図である。
【００６６】
この実施の形態の微細物除去装置1は、排出口40bの下方位置に、スクレーパ36によりかき出した微細物Mを加圧する加圧手段85を有する。この実施の形態の加圧手段85は、水を通す孔85a1を有する受け台85aと、この受け台85a上の微細物Mを加圧する加圧シリンダ85bで構成される。さらに、受け台85a上の微細物Mを排出口40bへ落下させる掃除用シリンダ８６が配置されている。
【００６７】
受け台85aは、例えば金網で構成され、この受け台85aの下方位置に水ガイド板８７が設けられている。図11に示すように、受け台85aの上にかき出された微細物Mは、加圧シリンダ85bで加圧され、水分は受け台85a の孔85a1から落下し、水ガイド板８７によってガイド斜面部40aに形成された戻し孔40eから傾斜面40a1を通り、沈殿槽21、22に戻される。このようにして、加圧シリンダ85bでかき出された微細物Mを受け台85a上で加圧することで、水分を除去して回収することができる。
【００６８】
このように、微細物を含む液体から微細物を除去する循環系に、微細物除去装置1と、フィルタ装置100を配置することで、微細物を効率よく除去し、液体の純度が向上する。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
この発明は、流体に含まれる微粉末状クズ等の微細物を分離して除去する微細物除去装置及び循環処理システムに適用でき、微細物を分離して確実に除去することが可能で、かつ液きりがよく衛生的である。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】微細物除去装置を破断して循環処理システムの概略側面図である。
【図２】微細物除去装置を上方から見た循環処理システムの概略平面図である。
【図３】排出部の拡大断面図である。
【図４】図2のIV-IV線に沿う断面図である。
【図５】スクレーパを説明する斜視図である。
【図６】スクレーパによるかき出し状態を示す図である。
【図７】スクレーパのクリーニング状態を示す図である。
【図８】微細物の加圧手段の配置を説明する図である。
【図９】微細物の加圧手段を示す図である。
【図１０】微細物の加圧手段の動作を説明する図である。
【図１１】微細物の加圧を示す図である。
【符号の説明】
【００７１】
1  微細物除去装置
2  沈殿タンク
3  排出部
21,22 沈殿槽
21a,22a 傾斜底部
30 排出コンベア装置
100 フィルタ装置
M 微細物
【図１】
2007136268.tif 000003
【図２】
2007136268.tif 000004
【図３】
2007136268.tif 000005
【図４】
2007136268.tif 000006
【図５】
2007136268.tif 000007
【図６】
2007136268.tif 000008
【図７】
2007136268.tif 000009
【図８】
2007136268.tif 000010
【図９】
2007136268.tif 000011
【図１０】
2007136268.tif 000012
【図１１】
2007136268.tif 000013