(57)【要約】 【課題】  厚さが薄く、より均一な表面を有するガラス基板を処理するためのエッチング装置を提供する。【解決手段】  本発明は、エッチング液を収容する容器と、容器内に離隔、対向して複数個設置されるローラーと、を含み、離隔、対向するローラー間にガラス基板を挿入してエッチング液とローラーの回転によってエッチングを行い、各ローラーには、スポンジパッド、ブラシ、又は水流発生用部材を備えたパッドが設置され、各ローラーにスポンジパッド又はブラシが設置される場合には、スポンジパッド又はブラシは、ガラス基板と接触するように設置され、各ローラーに水流発生用部材を備えたパッドが設置される場合には、水流発生用部材を備えたパッドは、ガラス基板と接触しないように設置されることを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチング液を収容する容器と、
前記容器内に離隔、対向して複数個設置されるローラーと、
を含み、
離隔、対向する前記ローラー間にガラス基板を挿入して前記エッチング液と前記ローラーの回転によってエッチングを行うことを特徴とするガラス基板のエッチング装置。
【請求項２】
前記各ローラーには、スポンジパッド、ブラシ、又は水流発生用部材を備えたパッドが設置されたことを特徴とする請求項１記載のガラス基板のエッチング装置。
【請求項３】
前記各ローラーに前記スポンジパッド又はブラシが設置される場合には、前記スポンジパッド又はブラシは、前記ガラス基板と接触するように設置されることを特徴とする請求項２記載のガラス基板のエッチング装置。
【請求項４】
前記各ローラーに前記水流発生用部材を備えたパッドが設置される場合には、前記水流発生用部材を備えたパッドは、前記ガラス基板と接触しないように設置されることを特徴とする請求項２記載のガラス基板のエッチング装置。
【請求項５】
前記容器は、前記エッチング液を収容する内槽、及び前記内槽からオーバーフローされるエッチング液を収容する外槽を含み、
前記容器が前記内槽と外槽を含む場合、前記外槽から前記内槽に前記エッチング液を循環させる循環ラインを含み、前記循環ラインには前記エッチング液をフィルタリングするフィルター、前記エッチング液を臨時に貯蔵するバッファタンク及び前記エッチング液を循環させるためのポンピングを行うポンプが設置されることを特徴とする請求項１記載のガラス基板のエッチング装置。
【請求項６】
前記ローラーが前記容器に対して垂直に設置される場合、前記容器の底面に前記容器の底面から前記ローラー間に挿入された前記ガラス基板に前記エッチング液を噴霧するスプレーノズルが設置され、前記ローラーが前記容器に対して水平に設置される場合、前記容器の一側に前記容器の一側から前記ローラー間に挿入された前記ガラス基板に前記エッチング液を噴霧するスプレーノズルが設置されることを特徴とする請求項１記載のガラス基板のエッチング装置。
【請求項７】
前記ローラーが前記容器に対して垂直に設置される場合、前記容器の底面に前記容器の底面から前記ローラー間に挿入された前記ガラス基板に前記エッチング液をバブリングするバブラーが設置され、前記ローラーが前記容器に対して水平に設置される場合、前記容器の一側に前記容器の一側から前記ローラー間に挿入された前記ガラス基板に前記エッチング液をバブリングするバブラーが設置されることを特徴とする請求項１記載のガラス基板のエッチング装置。
【請求項８】
前記エッチング液は、フッ化物塩（ｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｓａｌｔ）、フッ酸（ＨＦ）、又はこれらの混合物を含むことを特徴とする請求項１記載のガラス基板のエッチング装置。
【請求項９】
エッチング液を収容する容器と、
前記容器内に設置され、回転可能なローラーと、
前記ローラーに設置され、前記ローラーが回転することにより前記エッチング液に水流を発生させる部材を備えたパッドと、を含み、
前記容器のエッチング液内にガラス基板を位置させ、前記ローラーの回転によって水流が発生したエッチング液を前記ガラス基板に提供して前記ガラス基板を均一にエッチングし、前記エッチングを行う時に生成される副産物は前記ガラス基板から剥離させることを特徴とするガラス基板のエッチング装置。
【請求項１０】
前記パッドが設置されたローラーは、前記容器に対して水平に設置されるか、又は垂直に設置されることを特徴とする請求項９記載のガラス基板のエッチング装置。
【請求項１１】
前記パッドが設置されたローラーと連結され、前記ローラーを上下又は左右に移動させる第１移動部を更に含むことを特徴とする請求項９記載のガラス基板のエッチング装置。
【請求項１２】
前記容器のエッチング液内にガラス基板を位置させる時、前記ガラス基板の一側を把持して、前記ガラス基板を上下又は左右に移動させる第２移動部を更に含むことを特徴とする請求項９記載のガラス基板のエッチング装置。
【請求項１３】
前記容器は、前記エッチング液を収容する内槽及び前記内槽からオーバーフローされるエッチング液を収容する外槽を含み、
前記容器が前記内槽と外槽を含む場合、前記外槽から前記内槽に前記エッチング液を循環させる循環ラインを含み、前記循環ラインには前記エッチング液をフィルタリングするフィルター、前記エッチング液を臨時に貯蔵するバッファタンク、及び前記エッチング液を循環させるためのポンピングを行うポンプが設置されることを特徴とする請求項９記載のガラス基板のエッチング装置。
【請求項１４】
前記エッチング液は、フッ化物塩（ｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｓａｌｔ）、フッ酸（ＨＦ）、又はこれらの混合物を含むことを特徴とする請求項９記載のガラス基板のエッチング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はガラス基板のエッチング装置に係り、詳しくは、平板ディスプレイに使用されるガラス基板を均一にエッチングするための装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、ＥＬＤ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＶＦＤ（Ｖａｃｕｕｍ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ）等のような平板ディスプレイは、その構成要素としてシリコン酸化物からなるガラス基板を含む。ガラス基板の場合には、平板ディスプレイに占める重量が最も大きいので、平板ディスプレイ集積化の一環としてガラス基板の重量を減少させる研究が活発に行なわれている。ガラス基板の重量を減少させる方法の例としては、ガラス基板の厚みを薄くする薄板化が挙げられる。
特に、ガラス基板のうち、ＬＣＤに含まれるガラス基板の場合には、その厚みが従来は約１．２ｍｍに管理されたが、最近には約０．８ｍｍに管理されており、より集積度を要求するガラス基板の場合には約０．６ｍｍ以下に管理されている状況である。
【０００３】
ガラス基板薄板化のために、従来は主にエッチング液を収容する容器内にガラス基板を沈積してガラス基板の表面をエッチングする方法を選択していた。特に、ガラス基板薄板化のためのエッチング工程で、ガラス基板の表面が柔らかくないと、ガラス基板を含む平板ディスプレイの画質に重大な欠陥を生じるため、ガラス基板を薄く形成するとともに、均一に形成する必要がある。
【０００４】
このために、容器の底面にバブラー、スプレーノズル等を設置し、エッチング処理を行う時、容器内で容器底面から垂直状態置いたガラス基板にエッチング液をバブリングさせるか、噴霧させる方法を適用している。即ち、バブラー、スプレーノズル等を使用してガラス基板にエッチング液を均一に塗布する。特に、ガラス基板をエッチングする時、エッチング液をバブリングさせる方法の例は特許文献１に開示されており、エッチング液を噴霧させる方法についての例は特許文献２に開示されている。しかし、バブラー又はスプレーノズル等を使用してガラス基板をエッチングしても塗膜の均一性が良好な表面のガラス基板を得るのは容易ではない。
【０００５】
最近では、ガラス基板の薄板化のみならず、均一化のために、エッチング処理右を行った後、ガラス基板を研磨処理する場合もある。しかし、ガラス基板を研磨する場合には、ガラス基板に圧力が加わるため、ガラス基板自体が損傷する恐れがある。
【０００６】
又、ガラス基板のエッチング工程では、エッチング液として主にフッ酸水溶液を使用している。フッ酸水溶液を使用してガラス基板をエッチングする方法についての例は、特許文献３に開示されている。しかし、フッ酸水溶液を使用するガラス基板のエッチングでは、フッ酸水溶液がガラス基板と反応し、その結果、珪フッ化水素酸等のような反応副産物が頻繁に発生する。特に、反応副産物として珪フッ化水素酸が生成される場合には、珪フッ化水素酸がガラス基板に吸着して、ガラス基板の均一度を低下させる。又、反応副産物がエッチング液に継続的に残留する場合には、スプレーノズル等の使用に影響を及ぼす場合もある。又、フッ酸水溶液は揮発性が強く、猛毒性であるため、その使用が非常に制限され、危険である。
【特許文献１】韓国特許出願第１９９８−３７０００号
【特許文献２】韓国特許出願第１９９６−２３７７９号
【特許文献３】韓国特許出願第１９９８−４１５１４号
【特許文献４】特開２００６−０３２６０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、厚さが薄く、より均一な表面を有するガラス基板を処理するためのエッチング装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、エッチング液を収容する容器と、前記容器内に離隔、対向して複数個設置されるローラーと、を含み、離隔、対向する前記ローラー間にガラス基板を挿入して前記エッチング液と前記ローラーの回転によってエッチングを行うことを特徴とする。
【０００９】
前記各ローラーには、スポンジパッド、ブラシ、又は水流発生用部材を備えたパッドが設置され、前記各ローラーに前記スポンジパッド又はブラシが設置される場合には、前記スポンジパッド又はブラシは、前記ガラス基板と接触するように設置され、前記各ローラーに前記水流発生用部材を備えたパッドが設置される場合には、前記水流発生用部材を備えたパッドは、前記ガラス基板と接触しないように設置されることを特徴とする。
【００１０】
前記容器は、前記エッチング液を収容する内槽、及び前記内槽からオーバーフローされるエッチング液を収容する外槽を含み、前記容器が前記内槽と外槽を含む場合、前記外槽から前記内槽に前記エッチング液を循環させる循環ラインを含み、前記循環ラインには前記エッチング液をフィルタリングするフィルター、前記エッチング液を臨時に貯蔵するバッファタンク及び前記エッチング液を循環させるためのポンピングを行うポンプが設置されることを特徴とする。
【００１１】
前記ローラーが前記容器に対して垂直に設置される場合、前記容器の底面に前記容器の底面から前記ローラー間に挿入された前記ガラス基板に前記エッチング液を噴霧するスプレーノズルが設置され、前記ローラーが前記容器に対して水平に設置される場合、前記容器の一側に前記容器の一側から前記ローラー間に挿入された前記ガラス基板に前記エッチング液を噴霧するスプレーノズルが設置されることを特徴とする。
【００１２】
前記ローラーが前記容器に対して垂直に設置される場合、前記容器の底面に前記容器の底面から前記ローラー間に挿入された前記ガラス基板に前記エッチング液をバブリングするバブラーが設置され、前記ローラーが前記容器に対して水平に設置される場合、前記容器の一側に前記容器の一側から前記ローラー間に挿入された前記ガラス基板に前記エッチング液をバブリングするバブラーが設置されることを特徴とする。
【００１３】
前記エッチング液は、フッ化物塩（ｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｓａｌｔ）、フッ酸（ＨＦ）、又はこれらの混合物を含むことを特徴とする。
【００１４】
また、本発明は、エッチング液を収容する容器と、前記容器内に設置され、回転可能なローラーと、前記ローラーに設置され、前記ローラーが回転することにより前記エッチング液に水流を発生させる部材を備えたパッドと、を含み、前記容器のエッチング液内にガラス基板を位置させ、前記ローラーの回転によって水流が発生したエッチング液を前記ガラス基板に提供して前記ガラス基板を均一にエッチングし、前記エッチングを行う時に生成される副産物は前記ガラス基板から剥離させることを特徴とする。
【００１５】
前記パッドが設置されたローラーは、前記容器に対して水平に設置されるか、又は垂直に設置され、前記パッドが設置されたローラーと連結され、前記ローラーを上下又は左右に移動させる第１移動部を更に含むことを特徴とする。
【００１６】
前記容器のエッチング液内にガラス基板を位置させる時、前記ガラス基板の一側を把持して、前記ガラス基板を上下又は左右に移動させる第２移動部を更に含むことを特徴とする。
【００１７】
前記容器は、前記エッチング液を収容する内槽及び前記内槽からオーバーフローされるエッチング液を収容する外槽を含み、前記容器が前記内槽と外槽を含む場合、前記外槽から前記内槽に前記エッチング液を循環させる循環ラインを含み、前記循環ラインには前記エッチング液をフィルタリングするフィルター、前記エッチング液を臨時に貯蔵するバッファタンク、及び前記エッチング液を循環させるためのポンピングを行うポンプが設置されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によると、前記ローラーを回転させることにより、前記ガラス基板にはより均一にエッチング液が塗布される。また、前記エッチング液に水流を発生させる部材が付着されたパッドを使用して水流が発生したエッチング液を提供する場合にも前記ガラス基板に前記エッチング液がより均一に塗布される。
すなわち、本発明の前記エッチング装置を使用して、前記ガラス基板をエッチングすると、より均一な表面が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付図面を参照して、本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【実施例１】
【００２０】
図１は、本発明の実施例１によるガラス基板のエッチング装置を示す概略的な構成図である。
図１に示す通り、実施例１によるエッチング装置１００は、ガラス基板１２をエッチングするためのエッチング液を収容する容器１０を含む。
ガラス基板１２は平板ディスプレイに使用するので、シリコン酸化物からなることが好ましい。エッチング装置１００を使用したガラス基板１２のエッチングでは、エッチング液をオーバーフローさせる方式を選択する。これは、エッチング液の円滑な循環を図るためである。
【００２１】
従って、容器１０は、エッチング液を収容する内槽１０ａと内槽１０ａの上側を取り囲むように形成され、内槽１０ａからオーバーフローするエッチング液を収容する外槽１０ｂを含む。そして、容器１０内には、離隔、対向して複数個のローラー１４が設置される。ローラー１４は、１つのラインに少なくとも２つが連続的に設置され、連続的に設置されるローラー１４は互いに離隔、対向して設置される。
【００２２】
エッチング装置１００を使用してエッチング処理を行う時、ガラス基板１２は、連続的に設置されるローラー１４が離隔、対向して配置されるローラー間に挿入される。エッチング装置１００を使用したガラス基板１２のエッチングは、エッチング液とローラー１４の回転によってなされる。このように、ガラス基板１２をエッチングする時、各ローラー１４を回転させることにより、ガラス基板１２にエッチング液をより均一に付着させることができる。また、各ローラー１４を回転させる場合には、ガラス基板１２の表面に生成され再吸着される反応副産物を容易に除去することができる。
すなわち、エッチング装置１００を使用して、均一な表面を有するガラス基板１２が得られる。
【００２３】
そして、各ローラー１４には、パッドを設置することが好ましい。その理由は、ローラー１４によってガラス基板１２に加わる圧力の影響を少なくするためである。パッドの例としては、図２に示すスポンジパッド２００、図３に示すブラシ２０３、図４に示す水流発生用部材２０５ａを備えたパッド２０５等が挙げられる。これらは、単独で設置するか、２以上を混合して設置する。
【００２４】
特に、各ローラー１４にスポンジパッド２００又はブラシ２０３を設置する場合には、スポンジパッド２００又はブラシ２０３がガラス基板１２と接触するように設置することが好ましい。これは、スポンジパッド２００又はブラシ２０３によってガラス基板１２に加わる圧力が小さいためである。しかし、各ローラー１４に水流発生用部材２０５ａを備えたパッド２０５を設置する場合には、水流発生用部材２０５ａを備えたパッド２０５がガラス基板１２に直接的に接触しないことが好ましい。
【００２５】
これは、水流発生用部材２０５ａ自体がガラス基板１２に接触すると、ガラス基板に影響を及ぼす恐れがあるためである。水流発生用部材２０５ａを備えたパッド２０５を使用する場合には、ガラス基板１２に近接した状態で水流発生用部材２０５ａを備えたパッド２０５を回転させ、エッチング液に強い水流を誘導して、水流によってガラス基板１２に均一にエッチング液を供給する。ガラス基板１２で生成され、更に吸着されることができる反応副産物は除去する。
【００２６】
また、エッチング装置１００を使用したガラス基板１２のエッチングでは、ローラー１４によってガラス基板１２が支持されるため、ガラス基板１２の撓みや、割れを大幅に減少できる。従って、エッチング装置１００を使用すると、より薄い厚みのガラス基板１２の処理が可能となる。
【００２７】
そして、エッチング装置１００には、エッチング液を容器１０の外槽１０ｂから容器１０の内槽１０ａに循環させる循環ライン１６を含むことが好ましい。これは、エッチング液の再使用を図り、エッチング装置１００を使用したガラス基板１２のエッチングでの価格競争力を確保するためである。上記の通り、エッチング装置１００に循環ライン１６を設置する場合、循環ライン１６には、エッチング液をフィルタリングするフィルター１８、エッチング液を臨時に貯蔵するバッファタンク２０、及びエッチング液を循環させるためのポンプ２２を設置することが好ましい。
【００２８】
フィルター１８は、循環が行われるエッチング液に残留する反応副産物を除去するために設置され、バッファタンク２０は、循環が行われるエッチング液の流量を適切に調節するために設置する。また、ポンプ２２は、エッチング液の円滑な提供を図るために設置される。
又、エッチング装置１００には、容器１０の内槽１０ａ内に収容されたエッチング液を噴霧するスプレーノズル２４を設置することが好ましい。その理由は、スプレーノズル２４を使用することにより、エッチング液をより均一にガラス基板１２に供給するためである。
【００２９】
エッチング装置１００を使用したガラス基板１２のエッチング処理では、エッチング液としてフッ化物塩を使用することが好ましい。フッ化物塩は、フッ酸水溶液に比して取り扱いが容易であるだけでなく、反応副産物の継続的な生成と残留によるスプレーノズル２４等への影響を減少させることができる。
ガラス基板をエッチングするためのエッチング液としてフッ化物塩を用いるときの化学反応式と、フッ酸水溶液を用いるときの化学反応式は下記の通りである。
【００３０】
まず、フッ酸（ＨＦ）水溶液を用いたガラス基板（ＳｉＯ２）エッチングの化学反応式は、
４ＨＦ＋ＳｉＯ２＝ＳｉＦ４（ガス）＋２Ｈ２Ｏ  または
２ＨＦ＋ＳｉＦ４＝Ｈ２ＳｉＦ６（沈殿物）で示される。
また、フッ化物塩（ｆｌｕｏｒｉｄｅ  ｓａｌｔ）を用いたガラス基板（ＳｉＯ２）エッチングの化学反応式は、
２ＮＨ４ＨＦ２＋ＳｉＯ２＋Ｈ２Ｏ＝（ＮＨ４）２ＳｉＦ６（沈殿物）＋ＮＨ４ＯＨ＋２Ｈ２Ｏで示される。
【００３１】
上記化学反応式で、フッ酸水溶液を用いたときの反応生成物としての沈殿物であるＨ２ＳｉＦ６と、フッ化物塩を用いるときの反応生成物としての沈殿物である（ＮＨ４）２ＳｉＦ６との性状は著しく異なる。
Ｈ２ＳｉＦ６は、非常に粘性が高く、ガラス基板とエッチング装置の部材に付着しやすいほか、長い間放置すると、固化して溶解されない性質がある。（ＮＨ４）２ＳｉＦ６は、付着性がＨ２ＳｉＦ６に比べて著しく低いので、容易に除去でき、長時間放置しても固まらないのでＨ２ＳｉＦ６に比べて溶解して除去することも容易である。
【００３２】
したがって、実施例１では、フッ化物塩をエッチング液として用いることでスプレーノズル２４を支障なく用いることができる長所がある。また、スプレーノズル２４の代わりにエッチング液をバブリングするバブラー（図示せず）を用いることができる。
なお、実施例１では、ローラー１４が容器１０に対して垂直に設置される場合について説明している。したがって、実施例１におけるスプレーノズル２４は、容器１０の内槽１０ａの底面に設定されることが望ましい。同様に、バブラーも、容器１０の内槽１０ａの底面に設置されることが望ましい。
【００３３】
但し、ローラー１４が容器１０に対して水平に設置される他の実施例の場合には、スプレーノズル２４またはバブラーが容器１０の内槽１０ａの一側に設置されることが望ましい。
上記の通り、実施例１では、、エッチング装置１００を用いたガラス基板１２のエッチングで、より均一な表面と薄い厚さを有するガラス基板の処理が可能である。
【実施例２】
【００３４】
以下実施例２として、水流発生用部材を備えたパッドがローラーに設置されたガラス基板のエッチング装置について具体的に説明する。
図５は、本発明の実施例２によるガラス基板のエッチング装置を示す概略的な構成図である。実施例２のガラス基板のエッチング装置は、実施例１のガラス基板のエッチング装置とほぼ類似の構成を有する。したがって、以下、実施例１と重複する構成についてはその説明を省略し、同一符号を付与する。
【００３５】
図５に示す通り、実施例２のエッチング装置２００もエッチング液を収容する容器１０を含む。容器１０内には、ローラー５０が設置される。ローラー５０には図４に示したパッド２０５が設置される。即ち、実施例２の場合には、ローラー５０に、水流を発生させる部材２０５ａを備えたパッド２０５が取り付けられる。
したがって、実施例２におけるエッチング装置２００は、ローラー５０を回転させることによって、パッド２０５に取り付けられた部材２０５ａによってエッチング液に水流を発生させる構造を有する。
【００３６】
ここで、ローラー５０は、容器１０に対して水平に設置することもでき、垂直に設置することもできる。なお、ローラー５０は、単独に設置することも、複数個を設置することもでき、エッチング対象物であるガラス基板１２の大きさによって、ローラー５０の数を適切に調節することが可能である。また、ガラス基板１２を容器１０のエッチング液内に複数枚配置する場合は、ローラー５０がガラス基板と互いに向い合うように設置される。
【００３７】
特に、図４で説明したように、実施例２は水流発生用部材２０５ａを備えたパッド２０５を用いるので、パッド２０５を取り付けたローラー５０は、ガラス基板１２と多少間隔をあけて設置する。これは、パッド２０５を備えたローラー５０をガラス基板１２と多少間隔をあけて設置することでエッチング液に強い水流を発生させ、エッチング液をガラス基板１２に供給することができるためである。
【００３８】
そして、パッド２０５が設置されたローラー５０には、ローラーを上下または左右に移動できる第１移動部５２が設置される。ガラス基板１２をエッチングするときには、第１移動部５２を用いてローラー５０を前述した方向に往復運動させてエッチング液をガラス基板１２により均一に供給できる。
【００３９】
また、エッチング装置１００には容器１０のエッチング液内のガラス基板１２を位置させるときにガラス基板１２の一側を把持し、ガラス基板１２を把持した状態でガラス基板１２を上下または左右に移動させる第２移動部５４が設置される。ガラス基板１２をエッチングさせるときには、第２移動部５４を用いてガラス基板１２を前述した方向に往復運動させることでエッチング液をガラス基板１２に、より均一に供給することができる。
【００４０】
特に、パッド２０５が設置されたローラー５０が容器１０に対して水平に設置される場合、第１移動部５２は、ローラー５０を上下に往復運動するように設置することがより望ましい。パッド２０５を備えたローラー５０が容器１０に対して垂直に設置される場合、第１移動部５２は、ローラー５０を左右に往復運動するように設置することがより望ましい。
【００４１】
また、パッド２０５を備えたローラー５０が容器１０に対して水平に設置される場合、第２移動部５４は、ガラス基板１２を上下に往復運動するように設置することがより望ましく、パッド２０５が設置されたローラー５０が容器１０に対して垂直に設置される場合、第２移動部５４は、ガラス基板１２を左右に往復運動するように設置することがより望ましい。その理由は、前述したような方向にローラー５０とガラス基板１２それぞれを往復運動させると、エッチング液がガラス基板１２に、より均一に供給されるためである。
【００４２】
しかし、第１移動部５２と第２移動部５４それぞれを用いたローラー５０とガラス基板１２の移動方向は制限的ではなく、場合によって任意に変更してもよい。
なお、実施例２のエッチング装置１００を用いたガラス基板１２のエッチング工程においてもエッチング液としてフッ化物塩を用いることが望ましい。
【００４３】
前述したように、エッチング装置１００を用いたガラス基板１２のエッチングにおいては、エッチング液に水流を発生させ、第１移動部５２と第２移動部５４それぞれを用いてローラー５０とガラス基板１２それぞれを往復運動させることでエッチング液をガラス基板１２により均一に供給することができる。
したがって、エッチング装置を用いると、より均一な表面と薄い厚さを有するガラス基板の処理が可能である。
【００４４】
次に、エッチング液の種類による反応副産物の生成量について説明する。
反応副産物を生成するために、試料１としてフッ化物塩２００ｍｌを用いてガラス基板と同一材質のシリコン酸化物約５ｇをエッチングしたエッチング液を準備し、試料２として約１８％のフッ酸水溶液２００ｍｌを用いてガラス基板と同一材質のシリコン酸化物約５ｇをエッチングしたエッチング液を準備した。試料１のエッチング液と試料２のエッチング液いずれも約２時間大気中に放置した。
【００４５】
反応副産物の生成量を確認した結果、図６に示したように試料１の場合には、反応生成物の生成量が約５０ｍｌであり、試料２の場合には、反応性生物の生成量が約１５０ｍｌであることがわかった。
したがって、本発明のそれぞれのエッチング装置にエッチング液としてフッ化物塩を用いることにより、反応副産物が少なく、ガラス基板に吸着される反応副産物をより容易に除去することができる。
【００４６】
次に、反応副産物の状態を評価するために、試料１のエッチング液と試料２のエッチング液それぞれを濾紙を用いて濾過し、反応副産物を取得して約２４時間大気状態で乾燥した。
反応副産物の状態を評価した結果、試料１から取得した反応副産物は、図７に示したように粉末形態で存在し、試料２から取得した反応副産物は、図８に示したように塊形態で存在することが分かった。
【００４７】
したがって、本発明のエッチング装置にエッチング液としてフッ化物塩を用いる場合には、反応副産物が粉末形態で存在する可能性が高いので、反応副産物の後処理がより容易である。したがって、エッチング装置を用いたガラス基板のエッチングをより効率的に行うことができる。
【００４８】
次に、ガラス基板の均一度評価について説明する。
ガラス基板のエッチングによる均一度を評価するために、基準試料としてエッチングを行う前のガラス基板を準備した。それから、基準試料としてのガラス基板の表面均一度を測定した。測定の結果、図９に示したように、ガラス基板の表面均一度（表面粗さの平均値）は約０．０１μｍであった。
【００４９】
従来法であるバブリングを行った約１８％のフッ酸水溶液に約３０分間浸漬させる方法で基準試料であるガラス基板をエッチングした。それから、従来法によってエッチングしたガラス基板の表面均一度を測定した。測定の結果、図１０に示したようにガラス基板の表面均一度は約０．０４μｍであった。
【００５０】
本発明の第１方法としてバブリングが行われるフッ化物塩に約３０分間浸漬させる方法で基準試料であるガラス基板をエッチングした。それから、本発明の第１方法によってエッチングしたガラス基板の表面均一度を測定した。測定の結果、図１１に示したように、ガラス基板の表面均一度は約０．０１μｍであった。
【００５１】
本発明の第２方法としてフッ化物塩に約３０分間浸漬させ、スポンジパッドを用いる方法で基準試料であるガラス基板をエッチングした。それから、本発明の第２方法によってエッチングしたガラス基板の表面均一度を測定した。測定の結果、図１２に示したようにガラス基板の表面均一度は約０．０１μｍであった。
【００５２】
本発明の第３方法としてフッ化物塩に約３０分間浸漬させ、ブラシを用いる方法で基準試料であるガラス基板をエッチングした。それから、本発明の第３方法によってエッチングしたガラス基板の表面均一度を測定した。測定の結果、図１３に示したようにガラス基板の表面均一度は約０．０１μｍであった。
【００５３】
本発明の第４方法としてフッ化物塩に約３０分間浸漬させ、水流発生用部材を備えたパッドを用いる方法で基準試料であるガラス基板をエッチングした。それから、本発明の第４方法によってエッチングしたガラス基板の表面均一度を測定した。測定の結果、図１４に示したようにガラス基板の表面均一度は、約０．０１μｍであった。
このように、本発明のエッチング装置を用いてガラス基板をエッチングする場合には、より良好な表面均一度を得ることが出来る。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明によると、より薄い厚さを有し、かつ、より良好な表面均一度を有するガラス基板の処理が可能である。なお、ガラス基板をエッチングするとき、ローラーがガラス基板を支持する構造を有するので、ガラス基板のエッチング工程をより安定的に行うことができる。そして、水流が発生したエッチング液をガラス基板に供給することで、より均一な表面を有するガラス基板のエッチングが可能である。また、エッチング液としてフッ化塩を用いることで、エッチング液取り扱いの負担を十分減少できる。
したがって、本発明のエッチング装置を用いてガラス基板をエッチングする場合には、信頼度が優秀で、生産性が良好な結果を得ることができる。
【００５５】
以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明は前記実施例に限定されず、本発明の属する技術範囲を逸脱しない範囲での全ての変更が含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の実施例１によるガラス基板のエッチング装置を示す概略的な構成図である。
【図２】図１の各ローラーに設置されるスポンジパッドを示す概略的な構成図である。
【図３】図１の各ローラーに設置されるブラシを示す概略的な構成図である。
【図４】図１の各ローラーに設置される水流発生用部材を備えたパッドを示す概略的な構成図である。
【図５】本発明の実施例２によるガラス基板のエッチング装置を示す概略的な構成図である。
【図６】本発明のエッチング装置に適用するためのエッチング液を使用したエッチングで反応副産物の生成量を評価した結果を示す写真である。
【図７】図６の試料１に該当する反応副産物の状態を示す写真である。
【図８】図６の試料２に該当する反応副産物の状態を示す写真である。
【図９】エッチングを行う前のガラス基板の表面均一度を示すグラフである。
【図１０】従来の方法によってエッチング行ったガラス基板の表面均一度を示すグラフである。
【図１１】図１のエッチング装置を使用してエッチング行ったガラス基板の表面均一度を示すグラフである。
【図１２】図１のエッチング装置を使用してエッチング行ったガラス基板の表面均一度を示すグラフである。
【図１３】図１のエッチング装置を使用してエッチング行ったガラス基板の表面均一度を示すグラフである。
【図１４】図１のエッチング装置を使用してエッチング行ったガラス基板の表面均一度を示すグラフである。
【符号の説明】
【００５７】
１０    容器
１０ａ    内槽
１０ｂ    外槽
１２    ガラス基板
１４、５０    ローラー
１６    循環ライン
１８    フィルター
２０    バッファタンク
２２    ポンプ
２４    スプレーノズル
５０    ローラー
５２    第１移動部
５４    第２移動部
１００    エッチング装置
２００    スポンジパッド
２０３    ブラシ
２０５    水流発生用部材を備えたパッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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