(57)【要約】【課題】レチクルに付着した異物を確実に除去する。【解決手段】レチクルに付着した異物を確実に除去するレチクルクリーニング装置は、クリーニング室２２内においてレチクル姿勢変更装置５０によって垂直状態に保持されたレチクル１に窒素ガスを噴射する複数個の噴射ノズル７６と、レチクル１に噴射した窒素ガスを異物と共に吸引して排気する排気ダクト７８とを備えており、クリーニングに際して、噴射ノズル７６群と排気ダクト７８とは往復水平移動しながら下降する。垂直状態に保持されたレチクルに窒素ガスを噴射するとともに、レチクルに噴射した窒素ガスを異物と共に吸引するので、レチクルに付着した異物の飛散を防止しつつ確実に除去できる。噴射ノズル群と排気ダクトがレチクルの全面をスキャニングするので、レチクルの全面の異物を確実に除去できる。【選択図】図１３
2007171730.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクルに付着した異物を除去するレチクルクリーニング装置であって、
クリーニング室において垂直状態に保持された前記レチクルに気体を噴射する噴射手段と、前記レチクルに噴射した前記気体を前記異物と共に吸引する吸引手段とを備えていることを特徴とするレチクルクリーニング装置。
【請求項２】
前記噴射手段および前記吸引手段と前記レチクルとは、相対的に平行移動するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のレチクルクリーニング装置。
【請求項３】
前記噴射手段および前記吸引手段は、前記レチクルの両面を同時にクリーニングするように構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のレチクルクリーニング装置。
【請求項４】
前記クリーニング室の雰囲気がイオナイザによって静電気的に中和されるとともに、前記クリーニング室にクリーンエアがダウンブローに供給されることを特徴とする請求項１、２または３に記載のレチクルクリーニング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レチクルクリーニング装置に関し、例えば、半導体集積回路装置（以下、ＩＣという。）が作り込まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に所望のパターンを転写する露光工程において使用されるレチクル（ホトマスク）をクリーニングするのに利用して有効なものに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣの高集積化やパターンの微細化が進んだ今日、ＩＣの製造方法におけるパターンをウエハに転写する露光工程においては、縮小投影露光装置（以下、ステッパという。）が多く使用されている。
このステッパが使用される場合には、ウエハに転写すべきパターンが５倍〜１０倍に拡大されて形成されたレチクル（拡大ホトマスク）が、使用される。
レチクルは所望のパターンの一部を拡大したホトマスクであるために、同一のＩＣを製造するのに複数種類のレチクルが使用されることになる。
しかも、最近のＩＣの生産形態は多品種少量生産が進んでいるために、その生産ラインで使用されるレチクルの種類および枚数は膨大なものとなる。
他方、きわめて高価であるステッパは膨大なレチクルの種類毎に一台ずつ用意することはできないために、レチクルのステッパに対する交換が頻繁に実施されることになる。
【０００３】
ところで、レチクルの上に塵埃（パーティクル）等の異物が付着すると、異物がウエハにステッパによって繰り返し投影されて転写されることになるために、所謂全チップ（全製品）不良が発生してしまい、ＩＣの生産に甚大な損失が発生してしまう。
そこで、レチクルをレチクルケースに収納して搬送することにより、レチクルに異物が付着するのを防止することが、従来から実施されている。
また、異物がレチクルに万一付着した場合のために、レチクルに窒素ガスやイオン化された気体を吹きかけてレチクルに付着した異物を剥離させるとともに、剥離した異物を気体と一緒に吸引するクリーニング技術が、提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平６−１６３３４４公報
【特許文献２】特表２００４−５１９０１２公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来のレチクルクリーニング技術では、レチクルに付着した異物を確実に除去することができないという問題点がある。
【０００５】
本発明の目的は、レチクルに付着した異物に確実に除去することができるレチクルクリーニング装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通りである。
（１）レチクルに付着した異物を除去するレチクルクリーニング装置であって、
クリーニング室において垂直状態に保持された前記レチクルに気体を噴射する噴射手段と、前記レチクルに噴射した前記気体を前記異物と共に吸引する吸引手段とを備えていることを特徴とするレチクルクリーニング装置。
（２）前記噴射手段および前記吸引手段と前記レチクルとは、相対的に平行移動するように構成されていることを特徴とする前記（１）に記載のレチクルクリーニング装置。
（３）前記噴射手段および前記吸引手段は、前記レチクルの両面を同時にクリーニングするように構成されていることを特徴とする前記（１）または（２）に記載のレチクルクリーニング装置。
（４）前記クリーニング室の雰囲気がイオナイザによって静電気的に中和されるとともに、前記クリーニング室にクリーンエアがダウンブローに供給されることを特徴とする前記（１）または（２）に記載のレチクルクリーニング装置。
【発明の効果】
【０００７】
前記（１）によれば、クリーニング室において垂直状態に保持されたレチクルに気体を噴射するとともに、レチクルに噴射した気体を異物と共に吸引するので、レチクルに付着した異物を確実に除去することができる。
前記（２）によれば、噴射手段および吸引手段がレチクルの全面をスキャニングすることができるので、レチクルの全面の異物を確実に除去することができる。
前記（３）によれば、レチクルの両面を同時にクリーニングすることにより、クリーニングの作業性を向上させることができ、クリーニング時間を短縮することができる。
前記（４）によれば、クリーニング室の雰囲気が中和されることにより、レチクルに付着した異物を気体の噴射によって確実に剥離させることができる。
また、万一、異物が吸引手段によって直ちに回収されない場合でも、剥離した異物をダウンブローによってレチクル以外に吹き流すことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。
【０００９】
図１に示されているように、本実施の形態に係るレチクルクリーニング装置１０は、大略直方体の箱形状に形成された筐体１１を備えている。
筐体１１の四方の側壁のうち三方の側壁における上側の略半分の領域には、筐体１１の内部を外部から覗くための覗き部１２が形成されている。覗き部１２は帯電防止機能を有する透明の樹脂またはガラスが使用されて構築されている。
筐体１１の側壁の下側の略半分の領域には、ステンレス製のパンチング板（パンチング孔の図示は省略）からなる下側カバー１３が張られている。
筐体１１の一側壁（以下、正面壁とする。）における下側カバー１３の上端の中央部には、操作盤１４が前向きに突設されており、操作盤１４にはタッチパネル付きのディスプレイ１５と、操作用ハンドルとしてのジョイステック１６と、緊急停止ボタン１７とが配設されている。
【００１０】
図２〜図４に示されているように、筐体１１の内部空間２０は略中央高さに水平に架設されたベース板２１によって上下に仕切られている。筐体１１の内部空間２０における上側半分の空間によってクリーニング室２２が形成されており、下側半分の空間によって機械室２３が形成されている。
図４に示されているように、クリーニング室２２の底壁であるベース板２１の一部には、多数個のパンチング孔２１ａが開設されている。
また、機械室２３の底壁には通風口２３ａが大きく開設されている。
【００１１】
筐体１１の上にはクリーンユニット２４が設置されており、クリーンユニット２４はクリーニング室２２内にクリーンエア（図示せず）を垂直方向下向きに吹き出すように構成されている。
クリーンユニット２４から吹き出されたクリーンエアはクリーニング室２２を層流状態で流下し、ベース板２１のパンチング孔２１ａ等を流通して機械室２３に流れ込み、機械室２３から通風口２３ａを通ってクリーンルーム（図示せず）の床下の排気ダクトに排気される。
このように、クリーニング室２２内にクリーンエアをダウンブローに流すことにより、クリーニング室２２内や機械室２３内の雰囲気が巻き上がったり澱んだりする現象を防止することができるため、クリーニング室２２を常に清浄に維持することができる。
【００１２】
クリーニング室２２内のクリーンユニット２４の下方にはイオナイザ２５が水平に架設されており、イオナイザ２５はクリーニング室２２内の雰囲気を静電気的に中和することにより、帯電を防止して静電気の吸引力の発生を抑止する。
【００１３】
図１に示されているように、クリーニング室２２の左側の側壁には、レチクルケースを出し入れするレチクルケース出し入れ口（以下、出し入れ口という。）１８が開口されており、クリーニング室２２内の出し入れ口１８に隣接する位置には、レチクル出し入れ装置３０が設置されている。
【００１４】
次に、主として図５および図６に基づいてレチクル出し入れ装置３０を説明する。
レチクル出し入れ装置３０は図５に示された二つの機種のレチクルケースからレチクル１を出し入れすることができるように構成されている。
図５の上側に示された第一の機種のレチクルケース（以下、第一種ケースという。）２は、略正方形の皿形状に形成された本体３と、本体３に被せられる蓋体４とを備えており、本体３の底面および蓋体４の天井面にはレチクル１を上下から押さえる押さえ５が複数本、突設されている。
図５の下側に示された第二の機種のレチクルケース（以下、第二種ケースという。）６は、直方体の箱形状に形成された本体７を備えており、本体７の一側壁には蓋体８が上端辺において回動自在に枢支されて開閉自在に取り付けられている。本体７の底面にはレチクル１を下から支持する支柱９が複数本、突設されている。
【００１５】
図５および図６に示されているように、レチクル出し入れ装置３０は機枠３１を備えている。
機枠３１の上には第一種ケース２を水平に保持する第一種ケース受け３２が設置されており、第一種ケース受け３２には第一種ケース２が手作業でレチクルケース出し入れ口１８に対して抜き差しして着脱されるようになっている。
機枠３１の一対の側面には一対のエアシリンダ装置３３、３３がそれぞれ垂直方向上向きに設置されている。両エアシリンダ装置３３、３３のピストンロッドの上端には、一対の昇降台３４、３４がそれぞれ水平に支持されている。両昇降台３４、３４の上には一対のストッパ解除エアシリンダ装置３５、３５がそれぞれ設置されており、両ストッパ解除エアシリンダ装置３５、３５は第一種ケース受け３２に保持された第一種ケース２の蓋体４の係合部に下側からそれぞれ係合し、かつ、ストッパを解除するようになっている。
したがって、第一種ケース受け３２に保持された第一種ケース２は蓋体４を両エアシリンダ装置３３、３３によって昇降されることにより、開閉されるようになっている。
【００１６】
図５および図６に示されているように、機枠３１の中間高さ位置には第二種ケース６を水平に保持する第二種ケース受け３６が設置されており、第二種ケース受け３６には第二種ケース６が手作業でレチクルケース出し入れ口１８に対して抜き差しして着脱されるようになっている。
機枠３１の一側面にはロータリーアクチュエータ３７が第二種ケース受け３６側に向いて水平に設置されている。ロータリーアクチュエータ３７の回転軸には係合爪３８が突設されており、係合爪３８は第二種ケース受け３６に保持された第二種ケース６の蓋体８の係合部に係合するようになっている。したがって、第二種ケース受け３６に保持された第二種ケース６は蓋体８をロータリーアクチュエータ３７によって回動されることにより、開閉されるようになっている。
また、機枠３１の第二種ケース受け３６側の側面には、第二種ケース６を押さえる第二種ケース押さえ３９が設置されている。
【００１７】
図２〜図４に示されているように、クリーニング室２２内におけるレチクル出し入れ装置３０の左側には、図７や図８に示されたレチクル移載装置４０が設置されている。
【００１８】
次に、レチクル移載装置４０について主として図７および図８に基づいて説明する。
レチクル移載装置４０はＸ軸リニアアクチュエータ４１を備えており、Ｘ軸リニアアクチュエータ４１は機械室２３内において左右方向に延在するように水平に架設されている（図２および図３参照）。Ｘ軸リニアアクチュエータ４１のスライダ４１ａにはＺ軸リニアアクチュエータ４２が機械室２３内において垂直に据え付けられている。
本実施の形態において、Ｘ軸リニアアクチュエータ４１およびＺ軸リニアアクチュエータ４２には、電動モータ駆動の送りねじ軸装置がそれぞれ使用されているが、エアシリンダ装置等の他のアクチュエータを使用してもよい。
Ｚ軸リニアアクチュエータ４２の昇降台４２ａには昇降バー４３が垂直に取り付けられており、昇降バー４３はＺ軸リニアアクチュエータ４２によって昇降され、かつ、Ｘ軸リニアアクチュエータ４１によって左右方向に水平移動されるようになっている。
【００１９】
昇降バー４３はベース２１に開設された挿通孔２１ｂを挿通してクリーニング室２２内に突き出されている（図２および図３参照）。クリーニング室２２内の昇降バー４３の上端部には受けアーム４４が前後方向に延在するように水平に支持されている。
受けアーム４４の上には一対の支持バー４５、４５が左右方向に延在するように水平に支持されており、両支持バー４５、４５はレチクル１の左右側縁部が載るようになっている。すなわち、レチクル１は所定の寸法だけはみ出た状態で両支持バー４５、４５に載るように設定されている。
両支持バー４５、４５の上には複数の突起部４５ａが突設されており、各突起部４５ａはレチクル１の下面に小面積で接触することにより、接触によるレチクル１への汚染を防止している。
各突起部４５ａには吸引口（図示せず）が開設されている。各吸引口は真空源に接続されており、突起部４５ａに載せられたレチクル１を真空吸着保持することにより、脱落を防止している。
【００２０】
図２〜図４に示されているように、クリーニング室２２内の中央部には、レチクル１を保持して姿勢を変更するレチクル姿勢変更装置５０が設置されている。
【００２１】
次に、レチクル姿勢変更装置５０について主として図９および図１０に基づいて説明する。
レチクル姿勢変更装置５０は垂直軸モータ５１を備えており、垂直軸モータ５１は機械室２３内においてベース２１の下面に垂直に据え付けられている。垂直軸モータ５１の回転軸には原動側プーリー５２が固定されている。
ベース２１の中央部には取付孔２１ｃが開設されており、取付孔２１ｃには軸受５３によって垂直回転軸５４が回転自在に支承されている。垂直回転軸５４の下端部には従動側プーリー５５が固定されており、従動側プーリー５５と原動側プーリー５２との間にはタイミングベルト５６が張設されている。したがって、垂直回転軸５４は垂直軸モータ５１によって回転駆動されるようになっている。
【００２２】
クリーニング室２２内における垂直回転軸５４の上端部にはアーム５７の一端部が固定されており、アーム５７は垂直回転軸５４によって旋回されるようになっている。アーム５７の自由端部には水平軸モータ５８が水平方向外向きに据え付けられている。水平軸モータ５８の回転軸には原動側プーリー５９が固定されている。
アーム５７の自由端部には垂直バー６０が垂直方向上向きに立脚されており、垂直バー６０の上端部には水平回転軸６１が回転自在に支承されている。水平回転軸６１の一端部には従動側プーリー６２が固定されており、従動側プーリー６２と原動側プーリー５９との間にはタイミングベルト６３が張設されている。したがって、水平回転軸６１は水平軸モータ５８によって回転駆動されるようになっている。
水平軸モータ５８はカバー６４によって被覆されており、原動側プーリー５９や従動側プーリー６２およびタイミングベルト６３はカバー６５によって被覆されている。
【００２３】
水平回転軸６１の他端部にはホルダ６６が軸芯と直交して固定されており、ホルダ６６の両端部には一対のグリップ６７、６７が互いに接近かつ離脱自在に支承されている。両グリップ６７、６７はホルダ６６に設置されたチャッキング装置６８によって対称形に開閉駆動されるように構成されており、チャッキング装置６８の閉じる作動により、レチクル１を両脇から挟み込んで保持するようになっている。
このように、一対のグリップ６７、６７がレチクル１を両側から挟んで保持することにより、保持によるレチクル１の表面の汚染を防止している。
ちなみに、チャッキング装置６８はエアシリンダ装置やピニオン・ラック機構およびスプリング等が使用されて、両グリップ６７、６７を対称形に開閉作動するように構成されている。
ホルダ６６およびチャッキング装置６８はカバー６９によって被覆されている。
【００２４】
図２〜図４に示されているように、クリーニング室２２内の中央部には、レチクル１に付着した異物を除去する異物除去装置７０がレチクル姿勢変更装置５０に近接して設置されている。
【００２５】
次に、異物除去装置７０について主として図１１、図１２および図１３に基づいて説明する。
異物除去装置７０はＸ軸リニアアクチュエータ７１を備えており、Ｘ軸リニアアクチュエータ７１は機械室２３内において左右方向に延在するように水平に架設されている（図２および図３参照）。Ｘ軸リニアアクチュエータ７１のスライダ７１ａにはＺ軸リニアアクチュエータ７２が機械室２３内において垂直に据え付けられている。
本実施の形態において、Ｘ軸リニアアクチュエータ７１およびＺ軸リニアアクチュエータ７２には送りねじ軸装置がそれぞれ使用されているが、エアシリンダ装置等の他のアクチュエータを使用してもよい。
Ｚ軸リニアアクチュエータ７２の昇降台７２ａには昇降バー７３が垂直に取り付けられており、昇降バー７３はＺ軸リニアアクチュエータ７２によって昇降され、かつ、Ｘ軸リニアアクチュエータ７１によって左右方向に水平移動されるようになっている。
【００２６】
昇降バー７３はベース２１に開設された挿通孔２１ｄを挿通してクリーニング室２２内に突き出されている。クリーニング室２２内の昇降バー７３の上端部には、側面視が略正方形の取付板７４が前後方向に延在するように垂直に固定されている。
【００２７】
取付板７４の上端部には前後で一対の窒素ガス供給管７５、７５が、互いに対向する位置にて左右方向に延在するように水平に片持ち支持されている。両窒素ガス供給管７５、７５の先端側には噴射手段としての噴射ノズル７６が複数個ずつ（図示例では、４個ずつ）、横一列に並べられて取り付けられている。両窒素ガス供給管７５、７５の噴射ノズル７６群同士は、窒素ガスを互いに向かい合う斜め下方向に対称形に噴射するようにそれぞれ構成されている。
両窒素ガス供給管７５、７５の固定端には窒素ガス供給チューブ７７、７７がそれぞれ接続されており、窒素ガス供給チューブ７７、７７は窒素ガス供給源（図示せず）にそれぞれ接続されるようになっている。
【００２８】
取付板７４の下端部には吸引手段としての排気ダクト７８が前後で一対、互いに対向する位置にて左右方向に延在するように水平に片持ち支持されている。両排気ダクト７８、７８には窒素ガスを吸引する吸引口７９、７９がそれぞれ略全長にわたって一連に開設されている。
前後の排気ダクト７８、７８は前後の窒素ガス供給管７５、７５と上下で対になっている。すなわち、前側の窒素ガス供給管７５の噴射ノズル７６群からレチクル１に向かって噴射されてレチクル１で反射した窒素ガスを前側の排気ダクト７８の吸引口７９が吸引するようになっており、後側の窒素ガス供給管７５の噴射ノズル７６群からレチクル１に向かって噴射されてレチクル１で反射した窒素ガスを後側の排気ダクト７８の吸引口７９が吸引するようになっている。
両排気ダクト７８、７８の固定端には排気チューブ８０、８０がそれぞれ接続されており、排気チューブ８０、８０は送風機等の負圧源（図示せず）にそれぞれ接続されるようになっている。
【００２９】
図１〜図４に示されているように、筐体１１の前端部にはレチクル１に付着した異物を手動で除去する手動式異物除去装置８１がクリーニング室２２の内外にわたって設置されている。
【００３０】
次に、手動式異物除去装置８１について主として図１４および図１５に基づいて説明する。
手動式異物除去装置８１は支持台８２を備えており、支持台８２はクリーニング室２２外においてベース２１の上に据え付けられている。支持台８２の中央部には回転軸８３が垂直に配されて回転自在に支承されており、回転軸８３の上端部には長方形の箱形状のガイドレール８４が水平に固定されている。ガイドレール８４にはスライダ８５が長手方向に摺動自在に支承されている。
【００３１】
スライダ８５には細長い噴射ノズル８６の一端部が固定されており、噴射ノズル８６の他端部はクリーニング室２２内に挿入されている。噴射ノズル８６には窒素ガスを供給するための窒素ガス供給チューブ８７が接続されている。
また、スライダ８５にはロッド８８の一端部が平面視において噴射ノズル８６と一直線になるように配されて固定されており、ロッド８８の他端には球形状の握り８９が固定されている。
【００３２】
支持台８２の一端部にはエアシリンダ装置９０が垂直方向上向きに設置されており、エアシリンダ装置９０は位置決めピン９１を昇降駆動するようになっている。ガイドレール８４の位置決めピン９１と対向する位置には位置決めリング９２が固定されており、位置決めリング９２の内径には位置決めピン９１が嵌入するように構成されている。
【００３３】
図２〜図４に示されているように、クリーニング室２２内の後端部の左側寄りの位置には、スタンド９３が垂直に立脚されており、スタンド９３の上端部には照明装置９４がクリーニング室２２内の略中央部を照らすように設置されている。
照明装置９４には排気ダクト９５の一端部が接続されており、排気ダクト９５の他端部はクリーニング室２２外に引き出されている。排気ダクト９５の引き出し端は送風機等の排気装置（図示せず）に接続されるようになっている。
排気ダクト９５は照明装置９４を空冷するためのファン（図示せず）から発生する塵埃を外部に排出するように構成されている。
【００３４】
なお、レチクル出し入れ装置３０、レチクル移載装置４０、レチクル姿勢変更装置５０、異物除去装置７０および手動式異物除去装置８１における各種の駆動装置（アクチュエータやエアシリンダ装置）は、パーソナルコンピュータ等によって構成されたコントローラ（図示せず）によってシーケンス制御されるように構成されているとともに、適宜に配設された各種の位置センサ（ホトセンサやリミットスイッチ等）の検出に基づいて自動的に制御されるように構成されている。
【００３５】
次に、以上の構成に係るレチクルクリーニング装置１０の使用方法および作用ならびに効果を、クリーニング室２２内のレイアウトを示す図１６を参照して説明する。
【００３６】
予め、クリーンユニット２４からクリーンエアがクリーニング室２２内に層流状態でダウンブローされるとともに、クリーニング室２２内の雰囲気がイオナイザ２５によって静電気的に中和される。
【００３７】
クリーニング室２２内の雰囲気が安定した状態で、クリーニングすべきレチクル１を収納したレチクルケースがレチクルケース出し入れ口１８からクリーニング室２２内に挿入されて、レチクル出し入れ装置３０に手作業によってセットされる。
この際、レチクル１が適用されるステッパの機種に対応したレチクルケースがレチクル出し入れ装置３０にセットされることになる。
ここでは、第二種ケース６が第二種ケース受け３６にセットされるものとする。
【００３８】
操作盤１４のディスプレイ１５に表示された起動のボタンを作業者が押すと、レチクル出し入れ装置３０のロータリーアクチュエータ３７が作動して、係合爪３８が第二種ケース６の蓋体８を回動させて第二種ケース６のレチクル出し入れ口を開放する。
【００３９】
第二種ケース６のレチクル出し入れ口が開放すると、レチクル移載装置４０のＸ軸リニアアクチュエータ４１が左方向に前進作動して、一対の支持バー４５、４５を第二種ケース６内のレチクル１の下方に挿入する。
続いて、Ｚ軸リニアアクチュエータ４２が作動して一対の支持バー４５、４５が第二種ケース６内のレチクル１を掬い取る。
両支持バー４５、４５が第二種ケース６内のレチクル１を掬い取ると、突起部４５ａの吸引口に負圧が供給され、レチクル１が両支持バー４５、４５に真空吸着保持される。
この状態で、Ｘ軸リニアアクチュエータ４１が後退作動して、レチクル１をクリーニング室２２内の中央部の所定の位置に搬送する。
【００４０】
レチクル１が所定の位置に搬送されると、レチクル姿勢変更装置５０のチャッキング装置６８が作動して、両支持バー４５、４５に保持されたレチクル１を一対のグリップ６７、６７が両脇から挟み込んで保持する。
レチクル１がレチクル姿勢変更装置５０の両グリップ６７、６７によって保持されると、レチクル移載装置４０のＺ軸リニアアクチュエータ４２が作動して、両支持バー４５、４５を両グリップ６７、６７に干渉しない位置まで下降させる。
続いて、レチクル姿勢変更装置５０の水平軸モータ５８が作動して、水平回転軸６１を９０度回動させることにより、図１１や図１３に示されているように、レチクル１を水平姿勢から垂直姿勢に変更する。
【００４１】
次いで、異物除去装置７０のＺ軸リニアアクチュエータ７２が作動して昇降バー７３を上昇させ、図１１および図１２に想像線で示されているように、窒素ガス供給管７５および排気ダクト７８をレチクル１の上方に上昇させる。
【００４２】
続いて、図１３に示されているように、異物除去装置７０のＸ軸リニアアクチュエータ７１が往復作動して窒素ガス供給管７５および排気ダクト７８を左右方向に往復動させながら、異物除去装置７０のＺ軸リニアアクチュエータ７２が作動して窒素ガス供給管７５および排気ダクト７８を下降させる。
この往復動および下降中に、窒素ガスが窒素ガス供給管７５の噴射ノズル７６からレチクル１の表面に向けて噴射されるとともに、レチクル１で反射した窒素ガスが排気ダクト７８の吸引口７９から吸引される。
【００４３】
レチクル１の表面に付着した異物は、この窒素ガスのレチクル１の表面への噴射によって強制的に剥離されるとともに、排気ダクト７８の吸引口７９によって吸引されて直ちに捕捉されるので、クリーニング室２２内に飛散することはない。
万一、レチクル１から剥離した異物が排気ダクト７８の吸引口７９によって直ちに吸引されなくても、クリーニング室２２内にはクリーンエアがダウンブローされているので、異物は流下されてクリーニング室２２内から排出されて行く。
また、クリーニング室２２内はイオナイザ２５によって中和されているので、レチクル１の表面に付着した異物は、窒素ガスの噴射によって確実に剥離させることができる。
さらに、窒素ガス供給管７５および排気ダクト７８は前後に一組ずつ配設されているので、レチクル１の両面を同時にクリーニングすることができる。
しかも、窒素ガス供給管７５および排気ダクト７８は左右方向に往復動されているので、レチクル１の全面の異物を確実にクリーニングすることができる。
また、レチクル１の表面のクリーニングは窒素ガスの噴射によって実行されるので、レチクル１の表面にペリクル１ａ（図８の想像線参照）が張設されている場合であっても、ペリクルを損傷することなく、安全にクリーニングすることができる。
【００４４】
異物除去装置７０によるクリーニングが終了すると、レチクル姿勢変更装置５０の水平軸モータ５８が作動して、水平回転軸６１を９０度回動させることにより、レチクル１を垂直姿勢から水平姿勢に戻す。
次いで、照明装置９４によってレチクル１が照明される。
この照明下で、レチクル姿勢変更装置５０がジョイステック１６の操作によって制御されることにより、レチクル１の姿勢が適宜に変更される。
レチクル１の表面に異物が残存していた場合には、この姿勢変更時のレチクル１への照明具合によって異物での乱反射が発生するために、残存した異物は目視によって容易に発見することができる。
万一、レチクル１の表面に異物が残存していた場合には、手動式異物除去装置８１によって窒素ガスを発見した異物に噴射して除去する。
【００４５】
クリーニング状況の確認作業が終了すると、前述とは逆の作動により、レチクル移載装置４０がレチクル姿勢変更装置５０からレチクル１を受け取って、レチクル出し入れ装置３０に搬送し、レチクル出し入れ装置３０で待機している元の第二種ケース６内に挿入して戻す。
【００４６】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【００４７】
例えば、レチクル出し入れ装置３０は第一種ケース２と第二種ケース６とを取り扱えるように構成するに限らず、第一種ケース２と第二種ケース６とのいずれかを取り扱えるように構成してもよい。
【００４８】
異物除去装置によってレチクルを確実にクリーニングすることができるので、照明装置や手動異物除去装置は省略してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の一実施の形態であるレチクルクリーニング装置の外観を示す斜視図である。
【図２】その正面断面図である。
【図３】その側面断面図である。
【図４】その平面断面図である。
【図５】レチクル出し入れ装置を示す斜視図である。
【図６】（ａ）はその正面図、（ｂ）はその平面図、（ｃ）はその側面図である。
【図７】レチクル移載装置を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。
【図８】同じく、側面図である。
【図９】レチクル姿勢変更装置を示しており、（ａ）は正面断面図、（ｂ）は一部切断平面図である。
【図１０】同じく、（ａ）は側面図、（ｂ）は（ａ）のｂ−ｂ矢視図である。
【図１１】異物除去装置を示す正面図である。
【図１２】同じく側面断面図である。
【図１３】同じく斜視図である。
【図１４】手動式異物除去装置を示しており、（ａ）は正面図、（ｂ）は平面図、（ｃ）は側面断面図である。
【図１５】同じく斜視図である。
【図１６】全体のレイアウトを示す斜視図である。
【符号の説明】
【００５０】
１…レチクル（拡大ホトマスク）、２…第一種ケース（第一機種のレチクルケース）、３…本体、４…蓋体、５…押さえ、６…第二種ケース（第二機種のレチクルケース）、７…本体、８…蓋体、９…支柱、１０…レチクルクリーニング装置、１１…筐体、１２…覗き部、１３…下側カバー、１４…操作盤、１５…ディスプレイ、１６…ジョイステック、１７…緊急停止ボタン、１８…レチクルケース出し入れ口、２０…筐体の内部空間、２１…ベース板、２１ａ…パンチング孔、２１ｂ…挿通孔、２１ｃ…取付孔、２１ｄ…挿通孔、２２…クリーニング室、２３…機械室、２３ａ…通風口、２４…クリーンユニット、２５…イオナイザ、３０…レチクル出し入れ装置、３１…機枠、３２…第一種ケース受け、３３…エアシリンダ装置、３４…昇降台、３５…ストッパ解除エアシリンダ装置、３６…第二種ケース受け、３７…ロータリーアクチュエータ、３８…係合爪、３９…第二種ケース押さえ、４０…レチクル移載装置、４１…Ｘ軸リニアアクチュエータ、４１ａ…スライダ、４２…Ｚ軸リニアアクチュエータ、４２ａ…昇降台、４３…昇降バー、４４…受けアーム、４５…支持バー、４５ａ…突起部、５０…レチクル姿勢変更装置、５１…垂直軸モータ、５２…原動側プーリー、５３…軸受、５４…垂直回転軸、５５…従動側プーリー、５６…タイミングベルト、５７…アーム、５８…水平軸モータ、５９…原動側プーリー、６０…垂直バー、６１…水平回転軸、６２…従動側プーリー、６３…タイミングベルト、６４、６５、６９…カバー、６６…ホルダ、６７…グリップ、６８…チャッキング装置、７０…異物除去装置、７１…Ｘ軸リニアアクチュエータ、７１ａ…スライダ、７２…Ｚ軸リニアアクチュエータ、７２ａ…昇降台、７３…昇降バー、７４…取付板、７５…窒素ガス供給管、７６…噴射ノズル（噴射手段）、７７…窒素ガス供給チューブ、７８…排気ダクト（吸引手段）、７９…吸引口、８０…排気チューブ、８１…手動式異物除去装置、８２…支持台、８３…回転軸、８４…ガイドレール、８５…スライダ、８６…噴射ノズル、８７…窒素ガス供給チューブ、８８…ロッド、８９…握り、９０…エアシリンダ装置、９１…位置決めピン、９２…位置決めリング、９３…スタンド、９４…照明装置、９５…排気ダクト。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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