(57)【要約】      （修正有）【課題】  メッキ処理用タンクに搬送された製品を好適にメッキ処理する技術を提供する。【解決手段】メッキ処理液を貯留するタンク１４と、メッキ処理が施されるシート状短冊製品Ｗをタンク１４の上方から処理液中に垂下する治具２と、治具２をタンク１４に沿って案内するメッキ軌道１１とを有し、軌道１１に沿って治具２が案内されて処理液中を移動するシート状短冊製品Ｗへの給電により電気メッキする電気メッキ処理システムＳである。軌道１１は一対の平行なガイドレール１１１・１１１であって、当該ガイドレールを走行する走行部１１３が搭載され、走行部１１３には、治具２が前記一対のガイドレールの間に位置した状態で吊下される。一対のガイドレール１１１・１１１の各々は、ガイドレールを走行する走行部１１３との間に生じる摩擦によって生じる擦り屑がメッキ処理用タンク１４に落下するのを防止するダストカバー１１７を有する。【選択図】  図２
2007023348.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メッキ処理用の処理液を貯留するタンクと、
メッキ処理が施されるシート状短冊製品を前記タンクの上方から前記処理液中に垂下する治具と、
当該治具を前記タンクに沿って案内する軌道とを有し、
この軌道に沿って前記治具が案内されることにより前記処理液中を移動する前記シート状短冊製品への給電により、前記シート状短冊製品に電気メッキする電気メッキ処理システムにおいて、
前記軌道は一対の平行なガイドレールであって、これら一対のガイドレールには、これら一対のガイドレールを走行する走行部が搭載され、当該走行部には、前記治具が、前記一対のガイドレールの間に位置した状態で吊下され、
前記一対のガイドレールの各々は、それらの下方に位置しかつ当該ガイドレールを前記走行部が走行することで前記ガイドレールと前記走行部との間で生じる摩擦によって生じる擦り屑がメッキ処理用のタンクに落下するのを防止するダストカバーを有する電気メッキ処理システム。
【請求項２】
前記一対のガイドレールの各々には、前記カソード電極がそれぞれ配設され、前記タンクにはアノード電極が配設され、前記一対のガイドレールのうち一方のガイドレールに係る前記シート状短冊製品の一方の面及び他方のガイドレールに係る前記シート状短冊製品の他方の面は、それぞれカソード電極と通電されていることを特徴とする請求項１に記載の電気メッキ処理システム。
【請求項３】
メッキ処理用の処理液を貯留するタンクと、
メッキ処理が施されるシート状短冊製品を前記タンクの上方から前記処理液中に垂下する治具と、
当該治具を前記タンクに沿って案内する軌道とを有し、
この軌道に沿って前記治具が案内されることにより前記処理液中を移動する前記シート状短冊製品にメッキするメッキ処理システムにおいて、
前記軌道は一対の平行なガイドレールであって、これら一対のガイドレールには、これら一対のガイドレールを走行する走行部が搭載され、当該走行部には、前記治具が、前記一対のガイドレールの間に位置した状態で吊下され、
前記一対のガイドレールの各々は、それらの下方に位置しかつ当該ガイドレールを前記走行部が走行することで前記ガイドレールと前記走行部との間で生じる摩擦によって生じる擦り屑がメッキ処理用のタンクに落下するのを防止するダストカバーを有するメッキ処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気メッキ処理システムに関し、詳しくは、プリント基板その他シート状短冊製品をメッキ処理用タンク内の処理液中で移動させる際に用いる治具を備えた電気メッキ処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板などのシート状短冊製品Ｗのメッキ処理システムとして、メッキ処理用タンクに貯留されている処理液中を、製品を垂下した状態で製品に給電しながら移動させることにより、シート状短冊製品Ｗの表面に電気メッキを施すようにした電気メッキ処理システムが周知である（特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１に記載の電気メッキ処理システムは、図３〜図５に示すように、メッキ処理を行う前の処理工程である前処理工程Ａと、メッキ処理を行うメッキ処理工程Ｂと、メッキ処理を行った後の処理工程である後処理工程Ｃと、後処理工程Ｃを経由した後の工程であって処理を前処理工程Ａに戻すための戻し工程Ｄとからなる。
【０００４】
なお、便宜上、前処理工程Ａ，メッキ処理工程Ｂ及び後処理工程Ｃでの処理が実行される軌道１上での搬送路を往路と称し、治具戻し工程Ｄでの処理が実行される軌道１０上での搬送路を復路と称する。
【０００５】
工程Ａ−Ｂ−Ｃの場合、シート状短冊製品Ｗの搬送方向は軌道１上で同じであるが、工程Ｄの場合、工程Ａ−Ｂ−Ｃとは逆方向に軌道１０上で製品は搬送され、全工程Ａ−Ｂ−Ｃ−Ｄでの順でメッキ処理が実行される（図３に搬送方向を棒矢印で示す）。
【０００６】
往路である軌道１は、メッキ処理工程Ｂでの処理が実行されるメッキ軌道１１と、前処理工程Ａでの処理が実行される前軌道１２と、後処理工程Ｃでの処理が実行される後軌道１３とが連続して延びる軌道であり、前軌道１２−メッキ軌道１１−後軌道１３の順で直列されている。
これら各軌道は、実際にはレールであり、当該レール上をシート状短冊製品Ｗを垂下した治具２が摺動する（図４参照）。
【０００７】
メッキ処理工程Ｂでの処理は、メッキ処理用タンク１４で実行され、前処理工程Ａでの処理は前処理用タンク１５で実行され、後処理工程Ｃでの処理は後処理用タンク１６で実行される。
復路である軌道１０上では、治具戻し工程Ｄでの処理のみ実行される（図５参照）。
【０００８】
軌道１０と軌道１とは、所定の間隔を空けて平行である。そして、軌道１及び軌道１０の各両端部には、シート状短冊製品Ｗの搬送を往路において行う場合から復路において行う場合へと、又は復路において行う場合から往路において行う場合へと移動するように、軌道１及び軌道１０間でシート状短冊製品Ｗを平行移動して、シート状短冊製品Ｗの搬送路をそれまでの軌道１（１０）から他方の軌道１０（１）に乗り換えるための軌道乗換装置４０が設けられている（図３参照）。
【０００９】
なお、前処理工程Ａや後処理工程Ｃでは、図４及び図５に示すように、治具２の上端部に突出形成された係合片７と係合する押送体６を、これが係合片７と係合した状態で往路上又は復路上を搬送させることで、シート状短冊製品Ｗを吊下した治具２を搬送する。
【００１０】
詳しくは、メッキ処理工程Ｂの場合は、前処理工程Ａから又は後処理工程Ｃに向けて、治具２を搬送し、戻し工程Ｄの場合は、後処理工程Ｃから又は前処理工程Ａに向けて、治具２を搬送する。
シート状短冊製品Ｗを吊下した治具２の搬送は間欠的であり、当該搬送を行うに当たり、シート状短冊製品Ｗ同士の間には、所定の隙間が空けられる。
【００１１】
メッキ処理工程Ｂでは、メッキ処理用タンク１４に貯留されているメッキ液にシート状短冊製品Ｗを沈浸させて接触させる。そして、その状態で通電性のある治具２を介して、シート状短冊製品Ｗの縁部と接触しているカソード電極と、メッキ処理用タンク１４に設けられたアノード電極との間に電位差を与えることで、シート状短冊製品Ｗの所望箇所に形成した溝或いは接続孔に金属メッキを行う。
【００１２】
なお、カソード電極は、メッキ処理工程Ｂに配されているメッキ軌道１１に係るレールに配設されており、よって当該レールを、以後カソードレール１と呼称する。なお、アノード電極２２は、メッキ処理用タンク１４に配されている（図６又は図７参照）。カソード電極（図示せず）が配設されたカソードレール１に向けてアノード電極２２から電流が流れる。なお、これらの電極は図示しない電源から直流電流が供給されるようになっており、カソードレール電極にはマイナスの直流電源Ｐが、アノード電極２２にはプラスの直流電源Ｐがつなげられている。
【００１３】
ところで、カソードレール１を治具２が摺動すると、カソードレール１と治具２との間の摩擦によってカソードレール１や治具２の微細な擦り屑が生じ、これが落下する。カソードレール１上を摺動する治具２がメッキ処理用タンク１４の上部に位置している時に当該擦り屑が生じると、当該擦り屑は不純物としてメッキ処理用タンク１４内のメッキ液に落下しメッキ液と混在してしまうことが考えられる。
【００１４】
そこで、不純物のメッキ液への落下を防止するために、図６に示すように、カソードレール１の下方部にカソードレール１に沿って延びる横断面Ｌ字形をした不純物落下防止具としてのダストカバー１７を配備することが考えられる。
【００１５】
しかし、その場合、図６からわかるように、治具２をクランク状に屈曲させてダストカバー１７を治具２が回避するようにしなければ、シート状短冊製品Ｗを処理液中に浸すことができない。そしてこのようにクランク状に屈曲された治具２にシート状短冊製品Ｗを吊下した場合と、治具２を真っ直ぐに垂下する形体にし、当該治具２にシート状短冊製品Ｗを吊下した場合とを比較すると、治具２をクランク状に屈曲した場合には、吊下されるシート状短冊製品Ｗが不安定な状態でであることがわかる。シート状短冊製品Ｗが不安定な状態で支持されるとメッキ処理の均一性を低下させる虞がある。
【００１６】
そこで、図７のように、メッキ処理用タンク１４の外部にカソードレール１を配置し、そこからメッキ処理用タンク１４に逆Ｌ字形に延びる強固な支持具２０を用い、当該支持具２０に治具２を介してシート状短冊製品Ｗを同タンク内のメッキ処理液中に浸すようにすることで、シート状短冊製品Ｗを真っ直ぐに垂下しかつ不純物のメッキ液への落下を防止することが考えられる。なお支持具２０にも通電性があることは勿論である。
【００１７】
しかし、この場合、装置が大掛かりになってしまうことと、カソード電極の配設されているカソードレール１からアノード電極２２が配設されているメッキ処理用タンク１４内のシート状短冊製品Ｗまでの距離が長くなる関係で、カソードレール１とシート状短冊製品Ｗとの間の回路抵抗（インピーダンス）が増大するという問題がある。回路抵抗が増大すると、メッキ処理の均一性を低下させる虞がある。
【００１８】
加えて、支持具２０を強固にしても支持具２０が片持ち梁状であると図７に二点鎖線で示すようにシート状短冊製品Ｗ及びこれを支える治具２や支持具２０も揺動することが考えられる。
当該揺動は、シート状短冊製品Ｗのメッキ処理の均一性を低下させる。
【特許文献１】特開２０００−５４１９７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
本発明は、このような実情に鑑みて発明されたものであり、その解決しようとする課題は、少なくともメッキ液へ不純物が落下するのを防止するためのダストカバーを装備しても製品を吊下する治具を真っ直ぐに垂下することができる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
上記目的を達成するために、本発明の電気メッキ処理システムは、メッキ処理用の処理液を貯留するタンクと、メッキ処理が施されるシート状短冊製品を前記タンクの上方から前記処理液中に垂下する治具と、当該治具を前記タンクに沿って案内する軌道とを有し、この軌道に沿って前記治具が案内されることにより前記処理液中を移動する前記シート状短冊製品への給電により、前記シート状短冊製品に電気メッキする電気メッキ処理システムにおいて、前記軌道は一対の平行なガイドレールであって、これら一対のガイドレールには、これら一対のガイドレールを走行する走行部が搭載され、当該走行部には、前記治具が、前記一対のガイドレールの間に位置した状態で吊下され、また、前記一対のガイドレールの各々は、それらの下方に位置しかつ当該ガイドレールを前記走行部が走行することで前記ガイドレールと前記走行部との間で生じる摩擦によって生じる擦り屑がメッキ処理用のタンクに落下するのを防止するダストカバーを有することを特徴とする。
【００２１】
本発明によれば、一対のガイドレールの各々についているダストカバーは、当該ガイドレールが平行であるので、ガイドレール同士の間に間隙が生じるのと同様、ダストカバーの間にも間隙が生じる。したがって、前記治具が、当該間隙を経由して前記一対のガイドレールの間に位置した状態で吊下されるに当たり、治具の延長方向にダストカバーが存在しない。このため、治具は一対のガイドレールの間を真っ直ぐ垂下させることができる。
【００２２】
治具を真っ直ぐに垂下できれば、治具が垂下するシート状短冊製品は、最短距離でタンクの処理液中に沈浸するようになる。治具が短ければ治具に垂下されるシート状短冊製品の揺動は少なくかつ回路抵抗が低減する。また、ダストカバーが付いているので、ガイドレールをタンクから離してその外部に配置し、もって擦り屑がメッキ処理用タンク１４に入らないようにする必要がない。この関係で、従来技術で既述したタンク外部からタンク内部に延びる支持具に相当するものは不要である。よって装置の小型化が可能である。
【００２３】
なお、処理液は、電位差を与えてシート状短冊製品に液処理を施せるものであれば、どのような処理液であってもよい。このような処理液としては、例えば、メッキ液および電解エッチング液が挙げられる。シート状短冊製品としては、例えば、ウエハ、液晶用のＬＣＤガラス基板が挙げられるが、特に限定されない。
【００２４】
前記一対のガイドレールの各々には、前記カソード電極がそれぞれ配設され、前記タンクにはアノード電極が配設され、前記一対のガイドレールのうち一方のガイドレールに係る前記シート状短冊製品の一方の面及び他方のガイドレールに係る前記シート状短冊製品の他方の面は、それぞれカソード電極と通電されるようにしてもよい。
【００２５】
このようにすると、一方のガイドレールに係るカソード電極から流れる電流をシート状短冊製品Ｗの一方の面にのみ流れる電流とし、他方のガイドレールに係るカソード電極か
ら流れる電流をシート状短冊製品Ｗの他方の面にのみ流れる電流とすることができるため、シート状短冊製品の片面にのみ電気メッキすることができる。
【００２６】
また、本発明は、電気メッキ処理システムの場合に限らず、レール上を走行し、かつそこから異物落下が懸念されるケースにも適用できる。
すなわち、メッキ処理用の処理液を貯留するタンクと、メッキ処理が施されるシート状短冊製品を前記タンクの上方から前記処理液中に垂下する治具と、当該治具を前記タンクに沿って案内する軌道とを有し、この軌道に沿って前記治具が案内されることにより前記処理液中を移動する前記シート状短冊製品にメッキするメッキ処理システムにおいて、前記軌道は一対の平行なガイドレールであって、これら一対のガイドレールには、これら一対のガイドレールを走行する走行部が搭載され、当該走行部には、前記治具が、前記一対のガイドレールの間に位置した状態で吊下され、前記一対のガイドレールの各々は、それらの下方に位置しかつ当該ガイドレールを前記走行部が走行することで前記ガイドレールと前記走行部との間で生じる摩擦によって生じる擦り屑がメッキ処理用のタンクに落下するのを防止するダストカバーを有するメッキ処理システムでもある。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の電気メッキ処理システムによれば、装置の小型化が可能である。また製品を真っ直ぐに垂下すると共に不純物のメッキ液への落下を防止することができる。このため、メッキ処理の均一性を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
本発明に係る電気メッキ処理システムＳが既述した従来技術と相違する点のみ説明し、同一部分には、同一符号を付して説明を省略する。
【００２９】
図１は、本実施形態に係る電気メッキ処理システムＳの要部横断面図であって、図６に相当する図であり、図２は図１の斜視図である。
軌道１（１０）は、一対の平行なガイドレール１１１・１１１であって、これら一対のガイドレール１１１・１１１には、走行部１１３が搭載され、走行部１１３には、その下面から治具２が吊下されている。
【００３０】
走行部１１３は、細長い板状体をその端面を垂直に立てた状態で、ガイドレール１１１の上縁１１１ａをスライドできるようにしたものである。そのために、走行部１１３は、その下縁が凹状に刳り抜かれて横断面形状で門構えをした如き形状をしている（図２参照）。刳り抜き凹部を符号１１４で示す。
【００３１】
治具２は、下方に延びるアーム２ａに、シート状短冊製品Ｗを把持する把持部２ｂが取り付けられてなるものである。
アーム２ａは、前記一対のガイドレール１１１・１１１の間の間隙ｒに位置した状態で吊下されている。
【００３２】
そして一対のガイドレール１１１・１１１の各々は、それらの下方にダストカバー１１５を有する。ダストカバー１１５は、ガイドレール１１１・１１１を走行部１１３が走行することでガイドレール１１１と走行部１１３との間に生じる摩擦によって生じる擦り屑１１２が、メッキ処理用タンク１４に落下するのを防止するためのものであり、ガイドレール１１１の長手方向に沿って延びかつガイドレール１１１を下から包み込むように横断面でチャネル状をして上方に開口するようにされた長細い箱状体である。
【００３３】
次にこのような構成の電気メッキ処理システムＳの作用効果を説明する。
一対のガイドレール１１１の各々についているダストカバー１１５は、ガイドレール１１１が平行であるので、ガイドレール同士の間に間隙が生じるのと同様、ダストカバー１１５の間にも間隙ｒを生じる。
【００３４】
したがって、治具２が、間隙ｒを経由して一対のガイドレール１１１・１１１同士の間に位置した状態で吊下されるに当たり、治具２の延長方向である下方にダストカバー１１５が存在しない。このため、治具２は一対のガイドレール１１１・１１１の間を真っ直ぐ垂下する。治具２を真っ直ぐに垂下できれば、治具２が垂下するシート状短冊製品Ｗは、最短距離でメッキ処理用タンク１４の処理液中に沈浸するようになる。治具２が短ければカソード電極の配設されているカソードレール１とシート状短冊製品Ｗとの間の回路抵抗は低減する。
【００３５】
また、ダストカバー１１５が付いているので、ガイドレール１１１をメッキ処理用タンク１４から離してその外部に配置し、もって擦り屑がメッキ処理用タンク１４に入らないようにする必要がない。この関係で、従来技術で既述した支持具２０に相当するものが不要である。よってシステムの小型化が可能である。
【００３６】
本電気メッキ処理システムＳによれば、均一な厚みのメッキになるからメッキされたシート状短冊製品Ｗの品質が向上する。
【００３７】
さらに、一対のガイドレール１１１・１１１の各々には、カソード電極２１がそれぞれ配設されているので、一方のガイドレール１１１に係るカソード電極２１から流れる電流がシート状短冊製品Ｗの一方の面にのみ流れる電流とし、他方のガイドレール１１１に係るカソード電極２１から流れる電流がシート状短冊製品Ｗの他方の面にのみ流れる電流とすれば、シート状短冊製品Ｗの片面にのみ電気メッキすることができるので、メッキの応用範囲を広げられる。
【００３８】
なお、本実施形態の場合、その電気システムは、今まで一本のガイドレールを２本にし、それぞれのカイドレール１１１，１１１にカソード電極２１をそれぞれ繋ぎ、一方のガイドレール１１１に係るカソード電極２１から流れる電流がシート状短冊製品Ｗの一方の面にのみ流れる電流とし、他方のカイドレール１１１に係るカソード電極から流れる電流がシート状短冊製品Ｗの他方の面にのみ流れる電流としただけであって、ガイドレール１１１に係るカソード電極２１と、メッキ処理用タンク１４に設けられたアノード電極２２との間に電位差を与えることで、シート状短冊製品Ｗの所望箇所（この場合は所望面）に形成した溝或いは接続孔に金属メッキを行うという点ではこれまでの技術と同様であり、当業者であれば利用できる範疇であるため、電気回路は省略する。
【００３９】
さらに、本発明は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
例えば、上記実施形態では電気メッキ処理システムの場合を例示したが、レール上を走行し、かつそこから異物落下が懸念されるケースにも適用できる。一例としては、無電解メッキ装置に適用する場合を例示できる。この場合、シート状短冊製品への給電はなされない。すなわち、一対のガイドレールであるカソードレールにカソード電極が配設されることも、メッキ処理用タンクにアノード電極が配設されることもない。
【００４０】
要するにこの場合のメッキ処理システムは、メッキ処理用の処理液を貯留するタンクと、メッキ処理が施されるシート状短冊製品を前記タンクの上方から前記処理液中に垂下する治具と、当該治具を前記タンクに沿って案内する軌道とを有し、この軌道に沿って前記治具が案内されることにより前記処理液中を移動する前記シート状短冊製品にメッキするメッキ処理システムにおいて、前記軌道は一対の平行なガイドレールであって、これら一
対のガイドレールには、これら一対のガイドレールを走行する走行部が搭載され、当該走行部には、前記治具が、前記一対のガイドレールの間に位置した状態で吊下され、前記一対のガイドレールの各々は、それらの下方に位置しかつ当該ガイドレールを前記走行部が走行することで前記ガイドレールと前記走行部との間で生じる摩擦によって生じる擦り屑がメッキ処理用のタンクに落下するのを防止するダストカバーを有するメッキ処理システムということができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明に係る電気メッキ処理システムの要部横断面図であって、図６に相当する図である。
【図２】図１の概略斜視図である。
【図３】従来の電気メッキ処理システムを説明するための平面図である。
【図４】図３の電気メッキ処理システムのＩＶ−ＩＶ線視図である。
【図５】図３の電気メッキ処理システムのＶ−Ｖ線視図である。
【図６】図４の横断面図である。
【図７】図６に相当する別の従来例を説明するための図である。
【符号の説明】
【００４２】
１  カソードレール（軌道）
２  治具
２ａ  アーム
２ｂ  把持部
６  押送体
７  係合片
１０  軌道
１１  メッキ軌道
１２  前軌道
１３  後軌道
１４  メッキ処理用タンク
１５  前処理用タンク
１６  後処理用タンク
１７  ダストカバー
２０  支持具
２１  カソード電極
２２  アノード電極
４０  軌道乗換装置
１１１  ガイドレール
１１１ａ  上縁
１１２  擦り屑
１１３  走行部
１１４  刳り抜き凹部
１１７  ダストカバー
Ａ  前処理工程
Ｂ  メッキ処理工程
Ｃ  後処理工程
Ｄ  戻し工程
Ｐ  直流電源
Ｓ  電気メッキ処理システム
Ｗ  シート状短冊製品
ｒ  間隙
【図１】
2007023348.tif 000003
【図２】
2007023348.tif 000004
【図３】
2007023348.tif 000005
【図４】
2007023348.tif 000006
【図５】
2007023348.tif 000007
【図６】
2007023348.tif 000008
【図７】
2007023348.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成18年1月16日(2006.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メッキ処理用の処理液を貯留するタンクと、
メッキ処理が施されるシート状短冊製品を前記タンクの上方から前記処理液中に垂下する治具と、
当該治具を前記タンクに沿って案内する軌道とを有し、
この軌道に沿って前記治具が案内されることにより前記処理液中を移動する前記シート状短冊製品への給電により、前記シート状短冊製品に電気メッキする電気メッキ処理システムにおいて、
前記軌道は一対の平行なガイドレールであって、このガイドレール上にはガイドレールに沿って走行可能な走行部を搭載し、当該走行部には、前記治具を一対のガイドレールの間に位置する状態で吊下し、
前記一対のガイドレールの各々にはカソード電極が接続され、また、前記タンクにはアノード電極が配設されて、前記一対のガイドレールと前記走行部とが通電可能に接触し、
前記一対のガイドレールの各々の下方には、前記ガイドレールと前記走行部との間の摩擦によって生じる擦り屑がメッキ処理用のタンクに落下するのを防止するダストカバーが設置されている電気メッキ処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
上記目的を達成するために、本発明の電気メッキ処理システムは、メッキ処理用の処理液を貯留するタンクと、メッキ処理が施されるシート状短冊製品を前記タンクの上方から前記処理液中に垂下する治具と、当該治具を前記タンクに沿って案内する軌道とを有し、
この軌道に沿って前記治具が案内されることにより前記処理液中を移動する前記シート状短冊製品への給電により、前記シート状短冊製品に電気メッキする電気メッキ処理システムにおいて、前記軌道は一対の平行なガイドレールであって、このガイドレール上にはガイドレールに沿って走行可能な走行部を搭載し、当該走行部には、前記治具を一対のガ
イドレールの間に位置する状態で吊下し、前記一対のガイドレールの各々にはカソード電極が接続され、また、前記タンクにはアノード電極が配設されて、前記一対のガイドレールと前記走行部とが通電可能に接触し、前記一対のガイドレールの各々の下方には、前記ガイドレールと前記走行部との間の摩擦によって生じる擦り屑がメッキ処理用のタンクに落下するのを防止するダストカバーが設置されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
そして一対のガイドレール１１１・１１１の各々は、それらの下方にダストカバー１１５を有する。ダストカバー１１７は、ガイドレール１１１・１１１を走行部１１３が走行することでガイドレール１１１と走行部１１３との間に生じる摩擦によって生じる擦り屑１１２が、メッキ処理用タンク１４に落下するのを防止するためのものであり、ガイドレール１１１の長手方向に沿って延びかつガイドレール１１１を下から包み込むように横断面でチャネル状をして上方に開口するようにされた長細い箱状体である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
次にこのような構成の電気メッキ処理システムＳの作用効果を説明する。
一対のガイドレール１１１の各々についているダストカバー１１７は、ガイドレール１１１が平行であるので、ガイドレール同士の間に間隙が生じるのと同様、ダストカバー１１７の間にも間隙ｒを生じる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
したがって、治具２が、間隙ｒを経由して一対のガイドレール１１１・１１１同士の間に位置した状態で吊下されるに当たり、治具２の延長方向である下方にダストカバー１１７が存在しない。このため、治具２は一対のガイドレール１１１・１１１の間を真っ直ぐ垂下する。治具２を真っ直ぐに垂下できれば、治具２が垂下するシート状短冊製品Ｗは、最短距離でメッキ処理用タンク１４の処理液中に沈浸するようになる。治具２が短ければカソード電極の配設されているカソードレール１とシート状短冊製品Ｗとの間の回路抵抗は低減する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
また、ダストカバー１１７が付いているので、ガイドレール１１１をメッキ処理用タン
ク１４から離してその外部に配置し、もって擦り屑がメッキ処理用タンク１４に入らないようにする必要がない。この関係で、従来技術で既述した支持具２０に相当するものが不要である。よってシステムの小型化が可能である。