(57)【要約】【課題】  液体を循環して供給する機構における異物除去の構成を簡易かつ小型な者とする。【解決手段】  捕捉空間２０８は、循環時の液体の主な流れＡが存在する部分の下方に配置される。捕捉捉空間２０８の一部には、開口２０９が設けられる。これにより、その上方の異物が沈殿したときに捕捉空間２０８内に導くことができる。さらに、その開口２０９は、液体の主流れに対してその下流側が上向きに傾くように形成されている。これにより、流れる液体とともに運ばれる異物を捕捉空間２０８内に取り込み易くすることができる。【選択図】  図２
2007044649.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布媒体に液体を塗布する液体塗布装置において、
媒体に対して液体を塗布する塗布部と、
該塗布部に供給する液体を貯蔵する貯蔵部と、
該貯蔵部から前記塗布部に液体を供給するための供給側流路と前記塗布部から前記貯蔵部に液体を回収するための回収側流路を介して、前記貯蔵部と前記塗布部との間で前記液体を循環する手段と、を具え、
前記貯蔵部は、前記供給側流路に連通する流出口と前記回収側流路に連通する流入口を備え、
前記貯蔵部には、前記循環によって生じる前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れの下方に、開口を有し該開口より広い断面積を持つ捕捉空間部が形成されたことを特徴とする液体塗布装置。
【請求項２】
前記開口は前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れにおける下流側が鉛直上方に傾いていることを特徴とする請求項１に記載の液体塗布装置。
【請求項３】
前記開口の向きは前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れの方向と平行でないことを特徴とする請求項１または２に記載の液体塗布装置。
【請求項４】
前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れの中に設けられるフィルタをさらに具え、該フィルタの、前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れに対する上流側の面の法線ベクトルが鉛直下方成分を有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の液体塗布装置。
【請求項５】
前記貯蔵部には、前記フィルタの前記上流側面の下方に沈殿空間が形成されることを特徴とする請求項４に記載の液体塗布装置。
【請求項６】
前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れにおいて、前記フィルタは前記捕捉空間部より下流側に設けられることを特徴とする請求項４または５に記載の液体塗布装置。
【請求項７】
前記貯蔵部には、前記循環によって生じる前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れの上方に、開口を有し該開口より広い断面積を持つ第２の捕捉空間部がさらに形成されたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の液体塗布装置。
【請求項８】
前記流出口は当該貯蔵部の底面近傍に配置されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の液体塗布装置。
【請求項９】
塗布媒体に液体を塗布する液体塗布装置において、
媒体に対して液体を塗布する塗布部と、
該塗布部に供給する液体を貯蔵する貯蔵部と、
該貯蔵部から前記塗布部に液体を供給するための供給側流路と前記塗布部から前記貯蔵部に液体を回収するための回収側流路を介して、前記貯蔵部と前記塗布部との間で液体を循環する手段と、を具え、
前記貯蔵部は、前記供給側流路に連通する流出口と、前記回収側流路に連通する流入口と、前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れの中に設けられるフィルタとを備え、該フィルタの、前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れに対する上流側の面の法線ベクトルが鉛直下方成分を有することを特徴とする液体塗布装置。
【請求項１０】
前記貯蔵部には、前記フィルタの前記上流側面の下方に沈殿空間が形成されることを特徴とする請求項９に記載の液体塗布装置。
【請求項１１】
塗布媒体に液体を塗布する液体塗布装置において、
媒体に対して液体を塗布する塗布部と、
該塗布部に供給する液体を貯蔵する貯蔵部と、
該貯蔵部から前記塗布部に液体を供給するための供給側流路と前記塗布部から前記貯蔵部に液体を回収するための回収側流路を介して、前記貯蔵部と前記塗布部との間で液体を循環する手段と、を具え、
前記貯蔵部は、前記供給側流路に連通する流出口と、前記回収側流路に連通する流入口と、前記液体中の不純物を補足するためのフィルタとを備え、当該フィルタの面は、前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れに対して平行に設けられることを特徴とする液体塗布装置。
【請求項１２】
塗布媒体に液体を塗布する液体塗布装置において、
媒体に対して液体を塗布する塗布部と、
該塗布部に供給する液体を貯蔵する貯蔵部と、
該貯蔵部から前記塗布部に液体を供給するための供給側流路と前記塗布部から前記貯蔵部に液体を回収するための回収側流路を介して、前記貯蔵部と前記塗布部との間で前記液体を循環する手段と、を具え、
前記貯蔵部は、前記供給側流路に連通する流出口と、前記回収側流路に連通する流入口と、前記流入口の重力方向下方に設けられた、前記液体中の不純物を補足するための捕捉空間部とを備え、
前記捕捉空間部は開口を有し、当該開口は前記流入口から前記流出口に向かって流れる液体中の不純物を取り込むものであることを特徴とする液体塗布装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれかに記載の液体塗布装置と、
前記液体塗布装置により前記液体が塗布された媒体に対して、記録ヘッドからインクを吐出して前記媒体に画像を記録する記録手段と、
を備えることを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項１４】
記録媒体にインクを吐出して記録を行うインクジェット記録装置において、
記録媒体に対してインクを吐出する記録ヘッドと、
該記録ヘッドに供給するインクを貯蔵する貯蔵部と、
該貯蔵部から前記塗布部にインクを供給するための供給側流路と前記記録ヘッドから前記貯蔵部にインクを回収するための回収側流路を介して、前記貯蔵部と前記塗布部との間でインクを循環する手段と、を具え、
前記貯蔵部は、前記供給側流路に連通する流出口と前記回収側流路に連通する流入口とを備え、
前記貯蔵部には、前記循環によって生じる前記流入口から前記流出口に向かうインクの流れの下方に、開口を有し該開口より広い断面積を持つ捕捉空間が形成されたことを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項１５】
記録媒体にインクを吐出して記録を行うインクジェット記録装置において、
記録媒体に対してインクを吐出する記録ヘッドと、
該記録ヘッドに供給するインクを貯蔵する貯蔵部と、
該貯蔵部から前記塗布部にインクを供給するための供給側流路と前記記録ヘッドから前記貯蔵部にインクを回収するための回収側流路を介して、前記貯蔵部と前記塗布部との間でインクを循環する手段と、を具え、
前記貯蔵部は、前記供給側流路に連通する流出口と、前記回収側流路に連通する流入口と、前記流入口から前記流出口に向かうインクの流れの中に設けられるフィルタとを備え、該フィルタの、前記流入口から前記流出口に向かうインクの流れに対する上流側の面の法線ベクトルが鉛直下方成分を有することを特徴とするインクジェット記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体塗布装置および記録装置に関する。詳しくは、塗布装置や記録装置で所定の目的で媒体に液体を塗布したりインクなどの記録剤を付与したりする機構にその液体などを供給し、また、その供給した液体を回収するための循環路に混入する異物を除去する構成に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液体の循環供給機構は、部品洗浄装置や液体塗布装置等、様々な分野において利用されている。また、インクジェット記録装置の分野では、記録ヘッドに対してインクを循環供給することは一般に知られている。図１は、液体循環機構の従来例を示す模式図である。なお、同図では、液体の供給対象の図示は省略されている。一般に、循環供給機構１００は、液体を蓄える貯蔵槽１０１と、循環の駆動源となるポンプ１０２と、貯蔵槽１０１と供給対象部材（不図示）との間で循環路を形成する流路１０３と、を備えている。流路１０３の一方の端部には液体を供給対象部材へ供給する口である供給口１０４が設けられ、流路１０３の他方の端部には供給対象部材から液体を回収する回収口１０５が設けられる。供給対象部材は、液体塗布装置や記録装置における液体塗布機構の場合塗布ローラであったり、インクジェット記録装置において液体としてのインクが供給される記録ヘッドであったりする。
【０００３】
ポンプ１０２が駆動されることにより流路１０３内などに発生した正圧もしくは負圧によって、流路１０３内を液体が循環し、供給口１０４から液体塗布機構や記録ヘッドに液体を供給する。なお、図１は液体が循環する方向においてポンプ１０２が供給対象部材の上流側に配置されることから、供給対象部材に対して加圧供給となる例を示している。供給対象部材において、例えば、用紙への液体塗布やインク吐出が行われた後、それらによって消費されない液体は回収口１０５を介して流路１０３内に取り込まれる。
【０００４】
ところで、図１に示すような循環による供給機構では、供給対象部材などを介して混入することがある異物は液体とともに循環する。このため、このような異物によって循環供給機構や供給対象部材の本来の機能が損なわれないように、循環路から異物を除去するための種々の構成が従来から採られている。
【０００５】
特許文献１には、貯蔵槽内で螺旋状の流れを発生させ、遠心力を利用して異物を貯蔵槽の内面に押し付けて液体から分離し、この分離した異物を下方の沈殿槽に集めることが記載されている。この構成によれば、渦の中央から液体を汲み取ることで異物の少ない液体を供給することが可能となる。また、特許文献２には、異物を直接除去するフィルタと遠心分離とを組み合わせた異物分離装置が記載されている。しかし、特許文献１、２に記載される遠心分離の構成を用いたものは、装置自体が比較的大規模になり、また、構造も複雑になる問題がある。特に、プリンタなどのインクジェット記録装置では、重量や大きさ、コストなどを考慮すると、小型化された装置には上記各文献に記載の遠心分離機構などをそのまま適用するのは難しい。また、遠心分離による除去機構は、ある程度の流速が必要である上に、比重の軽い異物の分離効果が低いという本質的な問題もある。
【０００６】
これに対し、特許文献３には、インクを吐出する記録ヘッドの循環供給路に存在する気泡を、比較的簡易な構成であるフィルタを用いて分離する装置が記載されている。また、特許文献４には、液体塗布装置における循環路において、同様に紙粉など外部から侵入する異物をフェルトなどのフィルタを用いて分離することが記載されている。このフィルタは、容器に密着もしくは微小な密閉空間を形成することによって、姿勢差に強い異物除去を可能としている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−２１０９０８号公報
【特許文献２】特開平６−３１２１１１号公報
【特許文献３】特開２００４−３５１６４１号公報
【特許文献４】特開２００４−１３０６１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、フィルタといった比較的簡易な異物除去機構を用いる場合は、フィルタに目詰まりが生じ、異物除去の機能が低下したり、液体の循環の流抵抗が大きくなったりする問題がある。特に、フィルタの目の細かいものを用いた場合、除去能力が比較的高くなるものの、上記の問題はより顕著となる。
【０００９】
ところで、異物はその比重に応じて液体中で沈殿したり浮遊したりする。液体塗布装置やインクジェット記録装置における異物の多くは紙粉であり、これは一般には沈殿する。特に、液体が流動していないとき沈殿は顕著となる。一方、貯蔵槽内の液体を最後まで使用するため、流路への流出口は貯蔵槽の底面近くに配置されることが多い。このため、底部に沈殿した異物は液体とともに流路内に運ばれ、上述したように、供給対象部材である塗布機構や記録ヘッドの機能を損なうことがある。
【００１０】
このような沈殿する異物の対策として、沈殿物を溜める沈殿槽を１つ以上経由させ、上澄み液のみを循環させる方法が知られている。しかし、この構成は沈殿槽内の液体を最後まで消費することができず、特に、液体を消耗品として使用する場合には無駄が多いものとなる。沈殿槽を別個設けることは装置構成の簡易化に反するものでもある。
【００１１】
液体中に浮遊する異物も、沈殿する異物と同様に塗布機能や記録ヘッドの機能を損なわせることがある。例えば、貯蔵槽内を浮遊する異物が循環する液体の流れに伴って循環路中に送られ、塗布機構などに悪影響を及ぼすこともある。
【００１２】
本発明は、上述した従来の問題を解決するためになされたものであり、その目的は、液体を循環して供給する機構における簡易かつ小型な異物除去の構成を備えた液体塗布装置およびインクジェット記録装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
そのために本発明の第１の形態は、塗布媒体に液体を塗布する液体塗布装置において、媒体に対して液体を塗布する塗布部と、該塗布部に供給する液体を貯蔵する貯蔵部と、該貯蔵部から前記塗布部に液体を供給するための供給側流路と前記塗布部から前記貯蔵部に液体を回収するための回収側流路を介して、前記貯蔵部と前記塗布部との間で液体を循環する手段と、を具え、前記貯蔵部は、前記供給側流路に連通する流出口と前記回収側流路に連通する流入口とを備え、前記貯蔵部には、前記循環によって生じる前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れの下方に、開口を有し該開口より広い断面積を持つ捕捉空間が形成されたことを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の第２の形態は、塗布媒体に液体を塗布する液体塗布装置において、媒体に対して液体を塗布する塗布部と、該塗布部に供給する液体を貯蔵する貯蔵部と、該貯蔵部から前記塗布部に液体を供給するための供給側流路と前記塗布部から前記貯蔵部に液体を回収するための回収側流路を介して、前記貯蔵部と前記塗布部との間で液体を循環する手段と、を具え、前記貯蔵部は、前記供給側流路に連通する流出口と、前記回収側流路に連通する流入口と、前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れの中に設けられるフィルタとを備え、該フィルタの、前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れに対する上流側の面の法線ベクトルが鉛直下方成分を有することを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の第３の形態は、塗布媒体に液体を塗布する液体塗布装置において、媒体に対して液体を塗布する塗布部と、該塗布部に供給する液体を貯蔵する貯蔵部と、該貯蔵部から前記塗布部に液体を供給するための供給側流路と前記塗布部から前記貯蔵部に液体を回収するための回収側流路を介して、前記貯蔵部と前記塗布部との間で液体を循環する手段と、を具え、前記貯蔵部は、前記供給側流路に連通する流出口と、前記回収側流路に連通する流入口と、前記液体中の不純物を補足するためのフィルタとを備え、当該フィルタの面は、前記流入口から前記流出口に向かう液体の流れに対して平行に設けられることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の第４の形態は、塗布媒体に液体を塗布する液体塗布装置において、媒体に対して液体を塗布する塗布部と、該塗布部に供給する液体を貯蔵する貯蔵部と、該貯蔵部から前記塗布部に液体を供給するための供給側流路と前記塗布部から前記貯蔵部に液体を回収するための回収側流路を介して、前記貯蔵部と前記塗布部との間で前記液体を循環する手段と、を具え、前記貯蔵部は、前記供給側流路に連通する流出口と、前記回収側流路に連通する流入口と、前記流入口の重力方向下方に設けられた、前記液体中の不純物を補足するための捕捉空間部とを備え、前記捕捉空間部は開口を有し、当該開口は前記流入口から前記流出口に向かって流れる液体中の不純物を取り込むものであることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の第５の形態は、上記形態の液体塗布装置と、前記液体塗布装置により前記液体が塗布された媒体に対して、記録ヘッドからインクを吐出して前記媒体に画像を記録する記録手段と、を備えることを特徴とするインクジェット記録装置である。
【発明の効果】
【００１８】
以上の構成によれば、貯蔵槽や流路内などに存在する異物は、液体の流れている間に沈殿して開口を介して捕捉空間に導かれて液体中から除去される。また、流れが生じていないときも同様に開口を介して捕捉空間内に導かれる。また、流れの中に存在する異物はフィルタによって除去されるが、このフィルタは液体の流れに対する上流側の面の法線ベクトルが鉛直下方成分を有することによって、異物による目詰まりを生じがたいものとなる。
【００１９】
この結果、液体を循環して供給する機構における簡易かつ小型な異物除去の構成を備えた液体塗布装置およびインクジェット記録装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。
（第１実施形態）
図２は、本発明の第一の実施形態に係わる液体循環供給機構を示す模式図である。同図も図１と同様、液体の供給対象である機構の図示を省略している。
【００２１】
図２において、循環供給機構２００は、液体を蓄える貯蔵槽２０１と、循環の駆動源となるポンプ２０２と、貯蔵槽２０１から供給対象部材へ液体を供給し、また、供給対象部材から貯蔵槽２０１へ液体を戻すための流路２０３と、を備える。供給側の流路２０３には供給対象部材へ液体を供給するための接続口となる供給口２０４と、貯蔵槽２０１内で液体を取り込むための流出口２０７が設けられる。また、戻し側の流路２０３には、供給対象部材から液体を循環経路内に取り込むための接続口となる回収口２０５と貯蔵槽２０１内で戻した液体流入させるための流入口２０６が設けられる。
【００２２】
さらに、貯蔵槽２０１内には、紙粉など沈殿する異物を細くするための補捉空間２０８が形成される。捕捉空間２０８は、図２に示すように供給側流路２０３の流出口２０７が配置される部分の近傍を除いた部分の貯蔵槽２０１の底面全体を覆うように、プレートなどの部材によって形成される。なお、この捕捉空間２０８は、図２では貯蔵槽の高さに対して比較的高いものとして示されているが、これは図示を簡略化するためである。実際は、捕捉空間２０８の高さは図に示すより低いものである。好ましくは、空間２０８の最頂部を供給側流路２０３の流出口２０７の高さ方向の位置とほぼ同じ位置とする。これにより、貯蔵槽２０１内の液体を流出口２０７から供給するとき、空間２０８内部に残留して使用できない液体をできるだけ少なくすることができる。加えて、流出口２０７は貯蔵層の底面に近い位置に配置される。以上の構成によって、液体貯蔵槽２０１内の液体をほぼ使い切ることが可能となる。
【００２３】
捕捉空間２０８は、図２において矢印Ａで示す循環時の液体の主な流れ（すなわち、循環の方向に沿った流れ）が存在する部分の下方に配置される。もちろん、貯蔵する量が減って液面の位置が捕捉空間２０８を形成する上面の部材より下になったときは、上述の主な流れは存在せず、流入口２０６から流入した液体は捕捉空間２０８を形成する部材の上面を伝って貯蔵槽内を流れる。しかし、この時点では、上述したように、貯蔵槽２０１内の液体はほぼ使用された状態である。従って、貯蔵槽２０１内の液体のほとんどが使用される時点まで、矢印Ａに示すような主な流れを生じさせることができ、また、その下方に捕捉空間２０８が配置される関係を維持することができる。
【００２４】
捕捉空間２０８の一部には、開口２０９が設けられる。これにより、その上方の異物が沈殿したときに捕捉空間２０８内に導くことができる。さらに、その開口２０９は、矢印Ａで示す方向の主流れに対してその下流側が上向きに傾くように形成されている。これにより、流れる液体とともに運ばれる異物を捕捉空間２０８内に取り込み易くすることができる。
【００２５】
なお、貯蔵槽が、例えばバッファタンクないし脱気タンクのように、メインの貯蔵タンクから液体が供給されてそれを一時的に貯蔵する形態のものである場合は、上述した液体の使い切りの点を考慮しなくてもよいことはもちろんである。すなわち、このような形態の貯蔵槽は常に一定の液位を保つように構成されるので、その液面より下側に捕捉空間が位置するようにすればよい。
【００２６】
以上の構成において、ポンプ２０２を駆動することにより、貯蔵槽２０１内の液体は供給側流路２０３を介して汲み上げられ、供給口２０４を介して塗布機構などの供給対象部材に液体を供給する。そして、供給対象部材から回収口２０５を介して戻し側流路１０３内に液体を取り込み、流入口２０６から貯蔵槽２０１に流入させる。再び、その流入した液体が前記流出口２０７より供給され、液体が前記流路２０３内を循環する。
【００２７】
捕捉空間２０８は、上記の循環による液体の主流れに対して鉛直下側に設置されている。従って、液体を循環すると液体内に存在する異物のうち沈殿するものは開口２０９を介して捕捉空間２０８内に取り込まれていく。上述したように、捕捉空間２０８の開口２０９は、水平よりも循環の主流れの下流側が鉛直上側に傾斜しており、異物を取り込みやすい形状となっている。また、循環を行っていない休止時も、沈殿する異物は開口２０９を介して捕捉空間２０８内に向かう。さらに、液体の主流れは捕捉空間２０８内部に生じないため、一度沈殿した異物を巻き上げることはない。
【００２８】
なお、捕捉空間２０８内に沈殿した異物は、貯蔵槽２０１がカートリッジ式で取替えることができる形態である場合は、貯蔵槽の交換とともに廃棄することができる。また、交換式でない場合は、例えば、クリーニング用の比較的大きな開口を設け、その開口を介して異物を取り除くクリーニングを行うことができる。
【００２９】
本実施形態で想定する異物は、主に紙粉であり、そのほとんどが水溶液中で沈殿するものである。
【００３０】
紙粉が混入した時の異物の大きさの一例を以下に示す。紙粉には、主にパルプと填料（炭酸カルシウム、カオリン、タルク等）が含まれている。
パルプ          １０〜５０μｍ
炭酸カルシウム  １０μｍ以下
カオリン        １０μｍ前後
タルク          ４０〜５０μｍ程度
なお、本発明の適用において異物は、上記のものに限られないことはもちろんである。
【００３１】
また、異物が液体中を浮遊する物質、つまり比重が１以下の異物が混入する場合も、本発明を適用することができる。例えば、上述した液体の主流れに対して鉛直上方に液体捕捉空間を設けることにより、異物を除去することが可能となる。具体的には、図２に示す開口２０９を含めた捕捉空間２０８と上下方向で対称になる捕捉空間を主流れの上方に設けたものである。但し、この場合には、液面の位置が常に捕捉空間内にあるようにする必要がある。そのため、例えば、別の貯蔵槽を設け、この貯蔵槽と貯蔵槽２０１との水頭差および貯蔵槽２０１内の上記別の貯蔵槽からの供給口の位置とによって、常に液面を一定に保つようにする。
【００３２】
（第２実施形態）
図３は、本発明の第二の実施形態に係る液体循環供給機構の貯蔵槽の部分を示す図である。本実施形態の液体循環系の構成および循環経路は上記第１実施形態と同様である。異なる点は、貯蔵槽３０１内に異物除去用のフィルタ３０２と、除去した紙粉を溜める沈殿空間３０３とを備える。
【００３３】
上記第１実施形態と同様、流路３０６は円管状のチューブによって形成されており、チューブの端部に形成される流出口３０５は、貯蔵槽３０１の底部もしくは底部に近い位置に配置されている。これにより、貯蔵槽３０１内の液体をほぼ総て消費し得るようになっている。
【００３４】
フィルタ３０２は、その上流側の面の法線ベクトルが鉛直下方に向かう成分を含むように、本実施形態では４５度傾けて設置されている。そして、フィルタ３０２の上流側でかつ鉛直下側に異物を溜めるための沈殿空間３０３が設けられている。これにより、フィルタ３０２部直前において、液体の主流れのベクトルは鉛直下向き成分を有するものとなる。すなわち、フィルタ３０２の面は、液体の主流れと平行となり、クロスフロー構造となるため、フィルタ３０２の目詰まりが起きにくくなる。すなわち、フィルタ面に対して平行に液体を流し、フィルタ面への付着物を剥離させながらろ過する構造ため、フィルタの目詰まりが起こりにくく、安定したろ過が行える。これにより、フィルタ３０２の下流側の液体内の異物は少なくなり、その液体が再び流出口３０５より循環流路内に送れられる。その結果、異物の少ない液体を供給することが可能となる。なお、フィルタ３０２およびその下方の沈殿空間３０３の高さ方向の位置は、上記第１実施形態で説明したように、貯蔵槽内の液体を使い切る観点から、供給側流路３０６の流出口３０５とできるだけ同じ高さとすることが好ましい。あるいは、上述したバッファタンク形態の場合は、その一定に保たれる液面より下側にフィルタなどが存在すればよい。
【００３５】
なお、長期の使用などによってフィルタ３０２に目詰まりが生じたときは、ポンプの循環を短時間逆転させることにより、目詰まりした異物を上流側に排出する。このとき、フィルタ３０２の上流側の面の法線に鉛直下向きの成分があることにより、目詰まりをから回復しやすくしている。さらに、沈殿空間３０３は上記回復処理で排出された異物を沈殿させて収集する。
【００３６】
また、装置における何らかの振動が貯蔵槽３０１に伝達された場合、フィルタ３０２から異物が振り落とされることがある。この場合、沈殿空間３０３が前記フィルタ３０２の上流側でかつ鉛直下側に配置されているため、振り落とされた異物は、沈殿空間３０３に沈殿して収集される。  
なお、本実施形態では、貯蔵槽２０１のサイズは、７０ｍｍ×５０ｍｍ×３０ｍｍとし、フィルタ３０２の材質がステンレスで金網状（ろ過精度約２００−４００μｍ）とした。また、フィルタとしてステンレス繊維の焼結体などを用いる場合は、流抵抗が大きいため、流入速度との関係に注意が必要である。
【００３７】
なお、本発明の適用において、フィルタおよび沈殿空間の形成位置および数は、上記実施形態に限定されない。例えば、ろ過精度の異なるフィルタを粗、中、密という順に配置し、それぞれに沈殿空間を設けても良い。また、フィルタの傾きについても４５度である必要はなく、フィルタの上流側の面の法線ベクトルが少しでも鉛直下側を向くように設置されていればよい。
【００３８】
（第３実施形態）
図４は、本発明の第三の実施形態に係る液体循環供給機構の貯蔵槽の部分を示す図である。
【００３９】
本実施形態は、基本的に上記第１実施形態および第２実施形態の構造を組み合わせた構造であり、貯蔵槽４０１内に、異物除去用の捕捉空間４０２、フィルタ４０３、および除去した異物を溜める沈殿空間４０４が設けられる。
【００４０】
この実施形態においても、流路４０７は円管状のチューブによって形成されており、チューブの端部に形成される流出口４０６は、貯蔵槽４０１の底部もしくは底部に近い位置に配置され、貯蔵槽４０１内の液体をほぼ総て消費できるようになっている。
【００４１】
捕捉空間４０２は、液体の主流れに対して鉛直下側に設置されている。液体を間欠的に循環を行うと液体内に存在する異物のうち沈殿するものは捕捉空間に取り込まれていく。捕捉空間４０２の開口部４０９は、主流れの下流側が高い階段状の部分に形成されており、異物を取り込みやすい形状となっている。また、液体の主流れは前記捕捉空間４０２に直接当たらないため、一度沈殿した不純物を巻き上げることはない。
【００４２】
また、フィルタ４０３は、その上流側の面の法線ベクトルが鉛直下方を向く成分を含むように、鉛直より４５度傾けて設置されている。フィルタ４０３の上流側でかつ鉛直下側に異物を溜めるための沈殿空間４０４が設けられる。以上の構成により、フィルタ４０３部直前で、液体の主流れのベクトルが鉛直下向き成分を有するように流路が形成される。これにより、フィルタ４０３の面は、液体の主流れと平行となり、クロスフロー構造となるため、フィルタの目詰まりが起きにくくなる。
【００４３】
貯蔵槽４０１内において、捕捉空間４０２およびフィルタ４０３を共に配置し、また、捕捉空間４０２をフィルタ４０３の上流側に配置する。これにより、前者で粗く異物除去を行い、後者で細かく異物除去離を行うことができ、除去精度の高い貯蔵槽を構成することができる。
【００４４】
なお、本発明の適用において、捕捉空間およびフィルタの形成位置および数は、上記実施形態に限定されない。例えば、一つまたは複数の捕捉空間と一つまたは複数のフィルタを連立させても良い。また、フィルタの傾きについても４５度である必要はなく、それぞれのフィルタの上流側の面の法線ベクトルが少しでも鉛直下側を向くように設置されていればよい。
【００４５】
（第４実施形態−液体塗布装置の実施形態−）
図５は、本発明の第四の実施形態にかかる液体の循環供給機構を備えた液体塗布装置の概略構成を示す図である。本実施形態の液体塗布装置５００は、塗布媒体Ｐに液体を塗布する塗布ローラ５０１と、塗布ローラに対向して従動するカウンタローラ５０２とを備える。また、塗布ローラ５０１の外周面に液体を供給する液体保持部材５０３と、液体保持部材５０３に液体を供給する液体供給機構５０４とを備える。
【００４６】
液体供給機構５０４は、液体を蓄える貯蔵槽５０５と、循環の駆動源となるポンプ５０６と、液体が流れる流路５０７とを備える。流路５０７は、液体保持部材５０３において保持部材に液体を供給するための供給口５０８と、保持部材から液体を回収するための回収口５０９と接続する。
【００４７】
貯蔵槽５０５は、異物除去のための捕捉空間５１２、フィルタ５１１、および除去した異物を溜める沈殿空間５１０を備える。また、捕捉空間５１２（捕捉部５１５）は、フィルタ５１１および沈殿空間５１０（フィルタ部５１６）よりも上流側に配置される。液体が少なくなると、不図示の供給槽より液体が適時補充される。
【００４８】
カウンタローラ５０２は、不図示の付勢手段によって塗布ローラ５０１の周面に向けて付勢されている。そして、塗布ローラ５０１を図中、時計方向に回転させることにより、両ローラの間に塗布液を塗布すべき塗布媒体Ｐを挟持し得ると共に、塗布媒体Ｐを図中の矢印方向に搬送することができる。
【００４９】
本実施形態では、塗布ローラ５０１の材質はゴム硬度２０度の液状シリコンとし、表面粗さはＲａ０．８μｍとし、直径２３．１６９ｍｍとした。カウンタローラ５０２の材質はステンレスとし、直径は１４ｍｍとし，表面はブラスト加工を施してある。
【００５０】
また、液体保持部材５０３は、不図示の押圧手段の付勢力によって塗布ローラ５０１の周面に対して付勢されて当接するとき、塗布ローラ５０１による液体塗布領域全体に亘って延在する長尺な液体保持空間を形成する。この液体保持空間内には、前記供給口５０８から液体保持部材５０３を介して塗布液が供給されるが、液体保持部材５０３は、塗布ローラ５０１の停止状態において、液体保持空間から外方へ不用意に塗布液が漏出するのを防止することができる。塗布ローラ５０１はローラ駆動モータの回転によって図中時計周り方向に回転し、塗布媒体Ｐを搬送しながら塗布液を記録媒体Ｐの記録面に塗布する。また、本実施形態は液体保持部材５０３に対して液体を負圧供給するので、漏出に強い機構となっている。
【００５１】
本実施形態において、塗布媒体による紙粉などの異物が塗布ローラ５０１と液体保持部材５０３の当接部から循環流路５０７内に混入すると、貯蔵槽５０５内の液体が白濁する。そして、この液体が、再びその液体がポンプ５０６によって液体保持部材５０３まで汲み上げられることがある。
【００５２】
これに対し、本実施形態の貯蔵槽５０５は、粗く紙粉を除去する捕捉部５１５と細かく紙粉を除去するフィルタ部５１６とを備え、捕捉部５１５はフィルタ部よりも上流に配置されている。
【００５３】
図６は、捕捉部５１５をフィルタ部５１６側から見た図である。同図に示すように、捕捉部５１５にはほぼ山型の部材が設けられており、その頂点に向かって回収口５０９を介して回収した液体を滴下する。滴下された液体は、両側の捕捉空間５１２に向かう流れを形成する。この流れにおける異物や、循環が停止しているときに上記山型の上方の液体中の異物は沈殿する。フィルタ部５１６の構成は、上述した第３実施形態と同様である。
【００５４】
捕捉部５１５を通過した後、液体は前記フィルタ部５１６を通り、さらに細かく異物が除去され流出口５１４から再び循環路を循環する。貯蔵槽５０１内において、捕捉部５１５およびフィルタ部５１６を共に設けることにより、除去精度の高い貯蔵槽を構成することができる。
【００５５】
また、この実施形態で用いる塗布液は、顔料を色材とするインクで記録した際に顔料の凝集を早める処理液である。この実施形態では、塗布液として処理液を用いることにより、この処理液とこの処理液が塗布された記録媒体に吐出されるインクの色材である顔料を反応させて顔料の凝集を早めさせる。そして、この不溶化により、記録濃度の向上を図ることができる。さらに、ブリーディングの軽減または防止が可能となる。なお、インクジェット記録装置において用いる塗布液としては、上述の例に限られないことはもちろんである。
【００５６】
なお、液体保持部材を塗布ローラに当接ことで密閉空間を形成する形態を示したが，液槽にローラを浸漬し、そのローラより塗布ローラに塗布液を転写することによって塗布液を供給する形態でもよい。また、ここでは塗布装置として、ローラを用いて塗布を行う形態を示したが、本発明はこれに限定されず、媒体に塗布液を吐出して塗布行う塗布機構を構成することも可能である。
【００５７】
（他の実施形態）
上述した各実施形態は、液体を塗布する装置あるいはインクジェット記録装置の液体塗布機構における循環供給の構成について説明したが、本発明の適用はこのような構成に限られない。例えば、インクジェット記録装置におけるインクの供給にかかる循環路に生じる紙粉や気泡などの異物の除去に上述した各実施形態で説明した循環供給機構を用いてもよい。また、洗浄機構などにおける液体循環供給系に本発明を適用しても同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】液体循環機構の一従来例を示す模式図である。
【図２】本発明の第一の実施形態に係わる液体循環供給機構を示す模式図である。
【図３】本発明の第二の実施形態に係る液体循環供給機構の貯蔵槽の部分を示す図である。
【図４】本発明の第三の実施形態に係る液体循環供給機構の貯蔵槽の部分を示す図である。
【図５】本発明の第四の実施形態にかかる液体の循環供給機構を備えた液体塗布装置の概略構成を示す図である。
【図６】図５に示した捕捉部をフィルタ部側から見た図である。
【符号の説明】
【００５９】
２００    循環供給機構
２０１    貯蔵槽
２０２    ポンプ
２０３    流路
２０４    供給口
２０５    回収口
２０６    流入口
２０７    流出口
２０８    捕捉空間
２０９    開口
３０１    貯蔵槽
３０２    フィルタ
３０３    沈殿空間
３０４    流入口
３０５    流出口
３０６    流路
４０１    貯蔵槽
４０２    捕捉空間
４０３    フィルタ
４０４    沈殿空間
４０５    流入口
４０６    流出口
４０７    流路
５００    液体塗布装置
５０１    塗布ローラ
５０２    カウンタローラ
５０３    液体保持部材
５０４    液体供給機構
５０５    貯蔵槽
５０６    ポンプ
５０７    流路
５０８    供給口
５０９    回収口
５１０    沈殿空間
５１２    捕捉空間
５１１    フィルタ
５１３  流入口
５１４  流出口
５１５  捕捉部
５１６  フィルタ部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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