(57)【要約】【課題】情報記録時にノイズの発生を防止して正確な情報記録を行うことができる薄膜磁気ヘッドを提供すること。【解決手段】Ｇｄ規定層４において、幅広部１３ａに対応する、Ｇｄ規定層４の外形を画する線Ｂと、幅広部１３ａの外形を画する線Ａとが略平行である。また、長尺部１３ｂの長手方向に略垂直な方向に長尺部１３ｂから伸びる第１直線部Ｃと、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる、長尺部１３ｂの長手方向に対して傾斜した第２直線部Ｄと、第１直線部Ｃ及び第２直線部Ｄ間の湾曲部Ｅとを有する。また、第１直線部Ｃの長さＬ２が０．１〜０．５μｍであり、第１直線部Ｃに対する湾曲部Ｅの接触角θが３０°以下である。【選択図】図４
2007172678.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対のコア層と、この一対のコア層の間に設けられており、非磁性層を介在させた一対の磁極層で構成され、平面視方向において記録媒体側と反対側に向って幅が広がる幅広部を有する積層体構造と、前記積層体構造の前記幅広部の下に形成されており、前記非磁性層の記録媒体側から奥に向う深さを規定するギャップデプス規定層と、を備えた薄膜磁気ヘッドであって、平面視方向において前記ギャップデプス規定層は、前記幅広部の外形を画する線と略平行な線で外形の少なくとも一部が画定されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項２】
一対のコア層と、この一対のコア層の間に設けられており、非磁性層を介在させた一対の磁極層で構成され、平面視方向において記録媒体側と反対側に向って幅が広がる幅広部及び記録媒体側から前記幅広部まで延在する長尺部を有する積層体構造と、前記積層体構造の前記幅広部の下に形成されており、前記非磁性層の記録媒体側から奥に向う深さを規定するギャップデプス規定層と、を備えた薄膜磁気ヘッドであって、平面視方向において前記ギャップデプス規定層は、前記長尺部の長手方向に略垂直な方向に前記長尺部から伸びる第１直線部と、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる第２直線部と、前記第１及び第２直線部との間で記録媒体側に凸である湾曲部とを有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項３】
一対のコア層と、この一対のコア層の間に設けられており、非磁性層を介在させた一対の磁極層で構成され、平面視方向において記録媒体側と反対側に向って幅が広がる幅広部及び記録媒体側から前記幅広部まで延在する長尺部を有する積層体構造と、前記積層体構造の前記幅広部の下に形成されており、前記非磁性層の記録媒体側から奥に向う深さを規定するギャップデプス規定層と、を備えた薄膜磁気ヘッドであって、平面視方向において前記ギャップデプス規定層は、前記長尺部の長手方向に略垂直な方向に前記長尺部から伸びる第１直線部と、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる第２直線部と、前記第１及び第２直線部との間で記録媒体側に凸である湾曲部とを有し、前記第１直線部が０．１〜０．５μｍであり、前記第１直線部に対する前記湾曲部の接触角が３０°以下であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば浮上式薄膜磁気ヘッドなどに使用される記録用の薄膜磁気ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
浮上式薄膜磁気ヘッドなどに使用される記録用の薄膜磁気ヘッドとしては、図７に示す磁極部を備えたものがある（特許文献１参照）。この薄膜磁気ヘッドは、図７に示すように、下部コア層１０１上に、下部磁極層１０２、非磁性層１０３及び上部磁極層１０４を順次積層してなる磁極部を有する。また、この薄膜磁気ヘッドは、記録媒体との対向面からの磁極部の長さ（深さ）を規定するギャップデプス（Ｇｄ）規定層１０５を有する。このＧｄ規定層１０５の形状は、磁極部形成のための加工の際に位置確認を容易にするために、略矩形状としており、これにより磁極部の大きさやトラック幅の制御を容易にしている。
【特許文献１】特開２００２−３３４４０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
磁極部を形成する場合、下部磁極層１０２上にトラック幅に対応する幅の凹部を有するレジスト層を形成し、その凹部にメッキにより非磁性層１０３及び上部磁極層１０４を形成する。磁極部の幅であるトラック幅は、近年の高密度化により非常に狭くなってきており、例えばトラック幅を２００ｎｍ以下に設定すると、このような方法で細い磁極部を形成することができない。このため、メッキによる磁極部の形成後に、矢印方向からミリング加工を行って磁極部の幅を細くしている。
【０００４】
しかしながら、上記のようにＧｄ規定層１０５の形状が略矩形状であると、磁極部をミリング加工する際に生じた磁性材料の微細粉がＧｄ規定層１０５の側壁に付着してしまい、これによりフリンジ（磁極部２１からの記録磁場の広がり）が生じる。このようにフリンジが生じると、情報記録時にノイズが生じてしまい、正確な情報記録を行うことができなくなる。
【０００５】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、記録時にノイズの発生を防止して正確な情報記録を行うことができる薄膜磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、一対のコア層と、この一対のコア層の間に設けられており、非磁性層を介在させた一対の磁極層で構成され、平面視方向において記録媒体側と反対側に向って幅が広がる幅広部を有する積層体構造と、前記積層体構造の前記幅広部の下に形成されており、前記非磁性層の記録媒体側から奥に向う深さを規定するギャップデプス規定層と、を備えた薄膜磁気ヘッドであって、平面視方向において前記ギャップデプス規定層は、前記幅広部の外形を画する線と略平行な線で外形の少なくとも一部が画定されていることを特徴とする。
【０００７】
本発明は、一対のコア層と、この一対のコア層の間に設けられており、非磁性層を介在させた一対の磁極層で構成され、平面視方向において記録媒体側と反対側に向って幅が広がる幅広部及び記録媒体側から前記幅広部まで延在する長尺部を有する積層体構造と、前記積層体構造の前記幅広部の下に形成されており、前記非磁性層の記録媒体側から奥に向う深さを規定するギャップデプス規定層と、を備えた薄膜磁気ヘッドであって、平面視方向において前記ギャップデプス規定層は、前記長尺部の長手方向に略垂直な方向に前記長尺部から伸びる第１直線部と、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる第２直線部と、前記第１及び第２直線部との間で記録媒体側に凸である湾曲部とを有することを特徴とする。
【０００８】
本発明は、一対のコア層と、この一対のコア層の間に設けられており、非磁性層を介在させた一対の磁極層で構成され、平面視方向において記録媒体側と反対側に向って幅が広がる幅広部及び記録媒体側から前記幅広部まで延在する長尺部を有する積層体構造と、前記積層体構造の前記幅広部の下に形成されており、前記非磁性層の記録媒体側から奥に向う深さを規定するギャップデプス規定層と、を備えた薄膜磁気ヘッドであって、平面視方向において前記ギャップデプス規定層は、前記長尺部の長手方向に略垂直な方向に前記長尺部から伸びる第１直線部と、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる第２直線部と、前記第１及び第２直線部との間で記録媒体側に凸である湾曲部とを有し、前記第１直線部が０．１〜０．５μｍであり、前記第１直線部に対する前記湾曲部の接触角が３０°以下であることを特徴とする。
【０００９】
これらの構成によれば、ミリング加工のマージン確保とを両立するような磁極部及びＧｄ規定層の形状により、磁極部のミリング加工の際の再付着によるフリンジを抑制することができ、これにより、情報記録時のノイズ発生を防止して、正確な情報記録を行うことができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の薄膜磁気ヘッドにおいては、磁極部のミリング加工の際の再付着によるフリンジの抑制と、ミリング加工のマージン確保とを両立するような磁極部及びＧｄ規定層の形状を有するので、磁極部のミリング加工の際の再付着によるフリンジを抑制することができ、これにより、情報記録時のノイズ発生を防止して、正確な情報記録を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの一部を示す斜視図である。図２は、図１に示す薄膜磁気ヘッドの部分正面図である。また、図３は、図２におけるIII−III線に沿う部分縦断面図である。
【００１２】
本実施の形態においては、薄膜磁気ヘッドが記録用のインダクティブヘッドである場合について説明する。なお、本発明においては、インダクティブヘッドの下に、磁気抵抗効果を利用した再生用ヘッド（ＡＭＲ（Anisotropic  Magneto-Resistive）ヘッド、ＧＭＲ（Giant  Magneto-Resistive）ヘッド、ＴＭＲ（Tunneling  Magneto-Resistive）ヘッドなど）が積層された構造であっても良い。
【００１３】
図１〜図３において参照符号２は、例えばＦｅ−Ｎｉ系合金（パーマロイ）などの軟磁性合金で構成された下部コア層を示す。下部コア層２は、Ｆｅ−Ｎｉ系合金（パーマロイ）などの軟磁性材料で構成されており、フレームメッキ法などにより形成される。下部コア層２の下側に再生用ヘッドが積層される場合、下部コア層２に、磁気抵抗効果素子をノイズから保護するシールド層を設けても良く、あるいはシールド層を設けず、下部コア層２を再生用ヘッドの上部シールド層として機能させても良い。なお、下部コア層２のトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）の両側には絶縁層（図示せず）が形成されている。
【００１４】
図１及び図２に示すように、薄膜磁気ヘッド１の下部コア層２上には、メッキ下地層３、下部磁極層５、ギャップ層である非磁性層６、及び上部磁極層７が順次積層されており、これら下部磁極層５、非磁性層６及び上部磁極層７により磁極部１３が構成されている。
【００１５】
メッキ下地層３は、スパッタリング法などにより設けられ、下部コア層２と同じ材料で構成されても良く、異なる材料で構成されても良い。また、メッキ下地層３は、単層膜で構成されても良く、多層膜で構成されても良い。なお、メッキ下地層３は必要に応じて形成すれば良く、必須の構成層ではない。
【００１６】
下部磁極層５は、下部コア層２と磁気的に接続されており、下部コア層２と同じ材料で構成されても良く、異なる材料で構成されても良い。また、下部磁極層５は、単層膜で構成されても良く、多層膜で構成されても良い。なお、下部磁極層５の厚さは、例えば約０．２μｍ〜約０．５μｍであることが好ましい。下部磁極層５の体積を大きくすることにより、高記録密度下における磁気飽和を抑制することができ、上部磁極層７から下部コア層２へ発生する漏れ磁界によるライトフリンジングを防止することができる。なお、下部磁極層５は、下部コア層２の飽和磁束密度よりも高い飽和磁束密度を有していることが好ましく、このようにすることにより、磁気ギャップＧ近傍に記録磁界を集中させ、記録密度を向上させることが可能となる。
【００１７】
非磁性層６は、アルミナなどの絶縁材料やＮｉＰなどの非磁性金属材料のような非磁性材料で構成される。また、非磁性層６は、本実施の形態においては、図１に示すように、磁極部１３のトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）の幅が最も小さく形成された部分に配置されている。下部磁極層５、非磁性層６及び上部磁極層７を連続してメッキ形成することを考慮すると、非磁性層６は、非磁性金属材料で構成されることが好ましい。これにより、磁極部１３を容易に形成することができる。非磁性金属としては、ＮｉＰ，ＮｉＰｄ，ＮｉＷ，ＮｉＭｏ，ＮｉＲｈ，Ａｕ，Ｐｔ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｃｒのうち１種又は２種以上を選択することが好ましい。また、非磁性層６は、単層膜で構成されても良く、多層膜で構成されても良い。本実施の形態の薄膜磁気ヘッド１においては、非磁性層６のトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）の最大幅を、約０．４μｍ以下、例えば約０．１μｍ〜約０．４μｍとすることが好ましい。また、非磁性層６の厚さは、例えば約０．０８〜約０．１５μｍであることが好ましい。
【００１８】
上部磁極層７は、後述する上部コア層１２と磁気的に接続する。なお、上部磁極層７は、上部コア層１２と同じ材料で構成されても良く、異なる材料で構成されても良い。また、上部磁極層７は、単層膜で構成されても良く、多層膜で構成されても良い。上部磁極層７の厚さは、例えば約２．４μｍ〜約２．７μｍであることが好ましい。
【００１９】
上記構成を有する磁極部１３は、磁気ギャップＧからトラック幅Ｔｗの漏れ磁界により記録媒体に対し情報の書き込みを行う。磁極部１３は、図２に示すように、媒体対向面１４よりハイト方向（図示矢印Ｙ方向）の奥側（薄膜磁気ヘッドの深さ方向ともいう）で後述するギャップ深さ（Ｇｄ）規定層４まで延在している。なお、トラック幅Ｔｗは、約２００ｎｍ以下である。
【００２０】
磁極部１３の構成については、下部磁極層５、非磁性層６及び上部磁極層７の積層構造に限らず、非磁性層６及び上部磁極層７で構成されても良い。また、媒体対向面１４からみて、磁極部１３のトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）の幅は、磁極部１３に磁束を集中させることを考慮すると、下部コア層２のトラック幅方向の幅よりも狭くすることが好ましい。また、媒体対向面１４からみて、磁極部１３のトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）の幅は、後述する上部コア層１２のトラック幅方向の幅よりも狭いことがより好ましい。
【００２１】
磁極部１３の下部磁極層５は、図１に示すように、媒体対向面１４からみて、そのトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）の幅が、その膜厚方向（図示Ｚ軸方向）に非磁性層６から離れるにしたがって漸次大きくなるように形成されている。また、磁極部１３の上部磁極層７は、そのトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）の幅が、その膜厚方向（図示Ｚ軸方向）に非磁性層６から離れるにしたがって漸次大きくなるように形成されている。また、非磁性層６は、そのトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）の幅が、磁極部１３のトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）の幅のうち最も小さい部分を含むように形成されている。
【００２２】
磁極部１３を構成する下部磁極層５及び上部磁極層７は、それぞれの磁極層が磁気的に接続されるコア層と同じ材料で構成されても良く、異なる材料で構成されても良いが、記録密度を向上させるためには、非磁性層６に対向する下部磁極層５及び上部磁極層７は、それぞれの磁極層が磁気的に接続されるコア層の飽和磁束密度よりも高い飽和磁束密度を有していることが好ましい。このように下部磁極層５及び上部磁極層７が高い飽和磁束密度を有していることにより、ギャップ近傍に記録磁界を集中させ、記録密度を向上させることが可能になる。
【００２３】
図２に示すように、磁極部１３の基端から延びる下部コア層２の上面４０ａは、トラック幅方向（図示Ｘ軸方向）と平行な方向に延在しても良く、あるいは、上部コア層１２から離れる方向に傾斜する傾斜面４０ｂを有していても良い。下部コア層２の上面に傾斜面４０ｂが形成されることにより、ライトフリンジング（サイドフリンジング）の発生をより適切に低減させることができる。なお、傾斜面４０ｂの水平面とのなす角θ１は、ライトフリンジングの抑制効果や再生用ヘッドのノイズなどを考慮すると、約２°〜約１０°であることが好ましい。
【００２４】
図３に示すように、下部コア層２上（メッキ下地層を介しても良い）であって媒体対向面１４よりハイト方向（矢印Ｙ方向）奥側には、ギャップ深さ（Ｇｄ）規定層４が形成されている。Ｇｄ規定層４は、記録媒体との対向面からハイト方向（図示Ｙ方向）後方に所定の長さＬ２だけ離れた位置に形成される。この長さＬ１がギャップデプス（Ｇｄ）に対応する。このＧｄを適切に調整することにより、薄膜磁気ヘッドのオーバーライト特性などの諸特性を向上させることができる。なお、Ｇｄの長さＬ１は、約０．２〜２．０μｍであり、Ｇｄ規定層４のハイト方向（図示Ｙ方向）への全長Ｌｄは、約２．０〜６．０μｍであることが好ましい。Ｇｄ規定層４は、レジストなどの有機絶縁材料、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）やＳｉＯ2などの無機絶縁材料、Ｃｕなどの非磁性金属材料などの非磁性材料で構成される。上述のように、磁極部１３が媒体対向面よりＧｄ規定層４までハイト方向の奥側に延在しているので、媒体対向面より上部磁極層７と非磁性層６との間の接合面がＧｄ規定層４に接するまでの距離をギャップ深さＧｄとして規定することができる。なお、図２に示すように、Ｇｄ規定層４は、磁極部１３のトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）両側に延在している。Ｇｄ規定層４のハイト方向（矢印Ｙ方向）の最大の長さＲは、約３μｍ〜約８μｍであることが好ましく、Ｇｄ規定層４の最大厚さ（矢印Ｚ方向）は、約０．７μｍ〜約３μｍであることが好ましい。
【００２５】
ここで、磁極部１３の形状とＧｄ規定層４の形状との関係について説明する。図４は、本発明の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドにおける磁極部の形状とＧｄ規定層の形状との関係を説明するための図である。
【００２６】
図４に示すように、磁極部１３は、積層体構造であり、平面視方向において、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる幅広部１３ａを有する。これにより、上部磁極層７の後端面の面積が大きくなり、その上に形成される上部コア層との接触面積が大きくなる。その結果、上部コア層からの磁束を上部磁極層７に導き易くすることができ、上部磁極層７の記録媒体との対向面から発生する漏れ磁束を大きくすることができる。ただし、上部磁極層７の角部７ａは、Ｇｄ規定層４の前端部４ａよりもハイト方向後方に位置していることが好ましい。これにより、サイドライトを抑制することが可能となる。
【００２７】
また、磁極部１３は、記録媒体側から幅広部１３ａまで延在する長尺部１３ｂを有する。この磁極部１３の幅であるトラック幅Ｔｗは、近年の高密度化により非常に狭くなってきており、現在では約２００ｎｍ以下程度に設定されている。このような細い磁極部（積層体構造）１３は、磁極部１３の高さに相当する高さを有するレジスト膜を形成し、そのレジスト膜の磁極部形成領域に磁極部１３に対応する凹部を形成し、その凹部内に下部磁極層５、非磁性層６及び上部磁極層７をメッキにより形成し、その後レジスト膜を除去することにより形成する。このようにして磁極部１３を形成する場合、レジスト膜のパターニングにおいて約２００ｎｍ以下の幅で磁極部１３の高さ４〜５μｍのアスペクト比を実現することは難しい。このため、まず前記方法により磁極部１３を約２８０ｎｍ程度で形成し、その後、磁極部１３の側面をミリング加工して約２００ｎｍ以下の幅にする。
【００２８】
このように、磁極部１３の側面をミリング加工すると、そのミリングされた微細粉が磁極部１３近傍に存在するＧｄ規定層４に付着し、フリンジを発生させてしまう恐れがある。一方で、Ｇｄ規定層４はレジスト材料で構成されており、磁極部１３は磁性材料又は非磁性材料で構成されているので、ミリング加工の際のミリングレートに差が生じる。通常は、レジスト材料のミリングレートの方が大きいので、Ｇｄ規定層４が磁極部１３よりも早くミリングされる。このため、加工マージンを確保するために、Ｇｄ規定層４を磁極部１３よりも大きく形成する必要があると考えられる。
【００２９】
本発明者らは上記の点に着目し、磁極部１３のミリング加工の際の再付着によるフリンジの抑制と、ミリング加工のマージン確保とを両立するような磁極部１３及びＧｄ規定層４の形状を見出し、本発明をするに至った。
【００３０】
本発明に係る薄膜磁気ヘッドにおける第１の態様は、平面視方向においてＧｄ規定層が、幅広部の外形を画する線と略平行な線で外形の少なくとも一部が画定されていることである。すなわち、図４に示すように、幅広部１３ａに対応する、Ｇｄ規定層４の外形を画する線Ｂと、幅広部１３ａの外形を画する線Ａとが略平行である。
【００３１】
また、本発明に係る薄膜磁気ヘッドにおける第２の態様は、平面視方向においてＧｄ規定層は、前記長尺部の長手方向に略垂直な方向に前記長尺部から伸びる第１直線部と、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる第２直線部と、前記第１及び第２直線部との間で記録媒体側に凸である湾曲部とを有することである。すなわち、図４に示すように、長尺部１３ｂの長手方向に略垂直な方向に長尺部１３ｂから伸びる第１直線部Ｃと、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる、長尺部１３ｂの長手方向に対して傾斜した第２直線部Ｄと、第１直線部Ｃ及び第２直線部Ｄ間の湾曲部Ｅとを有する。この湾曲部Ｅは、記録媒体側に凸であり、所定の曲率を有する。このように、湾曲部Ｅを有することにより、磁束集中を緩和することが可能となり、フリンジを効果的に抑制することが可能となる。
【００３２】
また、本発明に係る薄膜磁気ヘッドにおける第３の態様は、平面視方向において前記ギャップデプス規定層は、前記長尺部の長手方向に略垂直な方向に前記長尺部から伸びる第１直線部と、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる第２直線部と、前記第１及び第２直線部との間で記録媒体側に凸である湾曲部とを有し、前記第１直線部が０．１〜０．５μｍであり、前記第１直線部に対する前記湾曲部の接触角が３０°以下である。すなわち、図４に示すように、長尺部１３ｂの長手方向に略垂直な方向に長尺部１３ｂから伸びる第１直線部Ｃと、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる、長尺部１３ｂの長手方向に対して傾斜した第２直線部Ｄと、第１直線部Ｃ及び第２直線部Ｄ間の湾曲部Ｅとを有する。このとき、第１直線部Ｃの長さＬ２が０．１〜０．５μｍであり、第１直線部Ｃに対する湾曲部Ｅの接触角θが３０°以下である。
【００３３】
上記第１〜第３の態様のように磁極部１３及びＧｄ規定層４の形状を規定することにより、磁極部１３のミリング加工の際の再付着によるフリンジの抑制と、ミリング加工のマージン確保とを両立することが可能となる。なお、本発明の技術的思想は、磁極部１３のミリング加工の際の再付着によるフリンジの抑制と、ミリング加工のマージン確保とを両立できる磁極部１３及びＧｄ規定層４の形状を規定することであるので、磁極部１３のミリング加工の際の再付着によるフリンジの抑制と、ミリング加工のマージン確保とを両立できる磁極部１３及びＧｄ規定層４の形状であれば、上記第１〜第３の態様以外の態様であっても良い。
【００３４】
図３に示すように、下部コア層２上であってＧｄ規定層４よりさらにハイト方向（矢印Ｙ方向）奥側には、Ｆｅ−Ｎｉ系合金（パーマロイ）などの軟磁性合金で構成された接続層９が形成されている。ここでは、接続層９の上面は、上部磁極層７と上部コア層１２との間の接合面と略同一面となっている。また、接続層９は、多層膜で構成しても良く、Ｃｕなどの導電性材料で構成しても良い。
【００３５】
図１〜図３に示すように、磁極部１３のトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）両側、Ｇｄ規定層４のトラック幅方向（図示Ｘ軸方向）両側及びハイト方向（矢印Ｙ方向）奥側並びに接続層９の周りには、絶縁層８が形成されている。絶縁層８は、例えば、ＡｌＯ，Ａｌ2Ｏ3，ＳｉＯ2，Ｔａ2Ｏ5，ＴｉＯ，ＡｌＮ，Ａ１ＳｉＮ，ＴｉＮ，ＳｉＮ，Ｓｉ3Ｎ4，ＮｉＯ，ＷＯ，ＷＯ3，ＢＮ，ＣｒＮ，ＳｉＯＮのうち少なくとも１種からなる絶縁材料で構成されていることが好ましい。また、ここでは、絶縁層８の上面は、上部磁極層７と上部コア層１２との間の接合面と略同一面とされている。
【００３６】
絶縁層８上には、コイル層１０が螺旋状に形成されている。ここでは、コイル層１０は、Ｃｕなどの導電性材料で構成された導電材料層１０ａと、この導電材料層１０ａを酸化から防止するＮｉなどで構成された導電性保護層１０ｂとで構成され、絶縁層８上に平面視において渦巻状に形成されている。コイル層１０は、下部コア層２と上部コア層１２との間に絶縁層を介した状態で配置され、コイル層１０に記録電流が与えられると、上部コア層１２、下部コア層２並びにこれら両層と磁気的に接続する上部磁極層７及び下部磁極層５に記録磁界が誘導され、媒体対向面１４における磁気ギャップＧからの漏れ磁界を発生させる。
【００３７】
コイル層１０を覆うように、例えば有機絶縁材料などの絶縁材料で構成された絶縁層１１が形成されている。絶縁層１１は、ノボラック樹脂などの有機絶縁材料で構成され、コイル層１０と上部コア層１２との間の絶縁性を確保している。
【００３８】
図１〜図３に示すように、上部磁極層７及び絶縁層１１上には、例えば、フレームメッキ法で形成されたＦｅ−Ｎｉ系合金（パーマロイ）などの軟磁性合金で構成された上部コア層１２が形成されている。上部コア層１２の先端部１２ａは、上部磁極層７と磁気的に結合されている。また、上部コア層１２の基端部１２ｂは、接続層９及びメッキ下地層３を介して下部コア層２と磁気的に接続されている。すなわち、上部コア層１２の先端部１２ａが媒体対向面１４から後方（矢印Ｙ方向）に引き込んだ位置に配置され、下部コア層２とメッキ下地層３と接続層９及び磁極部１３とで磁気ギャップＧを有する磁気回路を構成している。このように、上部コア層１２の先端部１２ａが媒体対向面１４から後方（矢印Ｙ方向）に引き込んだ位置に配置されることにより、さらに効果的にサイドフリンジングの発生を抑制することができる。なお、上部コア層１２は、絶縁層（図示せず）で覆われている。
【００３９】
なお、本実施の形態においては、コイル層が１層である場合について説明しているが、コイル層は２層以上で構成されていても良い。この場合、例えば下部コア層２上であって、磁極部１３のハイト方向（矢印Ｙ方向）後方の絶縁層８中に絶縁性を確保した状態でコイル層が埋設され、絶縁層８上にさらにコイル層１０が形成されることになる。このようにコイル層を多層化することにより、コイル層より発生する磁界を大きくすることができ、高記録密度化が可能になる。また、媒体対向面１４から接続層９までの距離を短く設定することができるので短磁路となり、高周波における記録がより有利になる。
【００４０】
このようにして、一対のコア層と、この一対のコア層の間に設けられており、非磁性層を介在させた一対の磁極層で構成された積層体構造とを備えた薄膜磁気ヘッドが構成されている。この薄膜磁気ヘッドにおいては、磁極部１３のミリング加工の際の再付着によるフリンジの抑制と、ミリング加工のマージン確保とを両立するような磁極部１３及びＧｄ規定層４の形状、すなわち、１）Ｇｄ規定層４において、幅広部１３ａに対応する、Ｇｄ規定層４の外形を画する線Ｂと、幅広部１３ａの外形を画する線Ａとが略平行である形状、２）長尺部１３ｂの長手方向に略垂直な方向に長尺部１３ｂから伸びる第１直線部Ｃと、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる、長尺部１３ｂの長手方向に対して傾斜した第２直線部Ｄと、第１直線部Ｃ及び第２直線部Ｄ間の湾曲部Ｅとを有する形状、３）長尺部１３ｂの長手方向に略垂直な方向に長尺部１３ｂから伸びる第１直線部Ｃと、記録媒体側と反対側に向って幅が広がる、長尺部１３ｂの長手方向に対して傾斜した第２直線部Ｄと、第１直線部Ｃ及び第２直線部Ｄ間の湾曲部Ｅとを有し、第１直線部Ｃの長さＬ２が０．１〜０．５μｍであり、第１直線部Ｃに対する湾曲部Ｅの接触角θが３０°以下である形状を有する。このような磁極部１３及びＧｄ規定層４の形状を有することにより、磁極部１３のミリング加工の際の再付着によるフリンジを抑制することができる。これにより、情報記録時のノイズ発生を防止して、正確な情報記録を行うことができる。
【００４１】
次に、上記構成を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法について説明する。図５（ａ）〜（ｄ）は、本発明の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明するための断面図である。本実施の形態における薄膜磁気ヘッドの製造方法においては、非磁性層６の媒体対向面側から奥に向う深さを規定するＧｄ規定層４を、下部コア層２を含む基体上に形成し、非磁性層６を介在させた一対の磁極層５，７で構成された磁極層１３を基体上に形成し、磁極層１３とＧｄ規定層４との間の界面におけるＧｄ規定層４の上面が非磁性層６の間に位置するようにＧｄ規定層４を薄層化し、磁極層を狭幅化する。ここで、基体とは、下部コア層２を含む下地構造をいい、下部コア層２より下層の構造に制限はない。また、Ｇｄ規定層４を基体上に形成する場合、下部コア層２上に直接Ｇｄ規定層４を形成しても良く、下部コア層２上にメッキ下地層３のような他の層を介してＧｄ規定層４を形成しても良い。
【００４２】
先ず、図５（ａ）に示すように、下部コア層２上にメッキ下地層３を形成する。さらに、メッキ下地層３上にＧｄ規定層４を図４に示す形状に形成する。Ｇｄ規定層４を形成する場合、まず、メッキ下地層３上にＧｄ規定層４を構成する無機絶縁層を形成した後、無機絶縁層上にレジスト層を形成し、Ｇｄ規定層形成領域上にレジスト層が残存するようにレジスト層をパターニングし、残存したレジスト層をマスクとして無機絶縁層をイオンミリングやＲＩＥ（リアクティブ・イオン・エッチング）などのドライエッチング法で除去してＧｄ規定層４を形成し、Ｇｄ規定層４上のレジスト層を除去する。なお、Ｇｄ規定層４を形成する場合、下部コア層上に非磁性層６を形成し、その後非磁性層６上に紫外線硬化性樹脂を全面に塗布し、Ｇｄ規定層形成領域のみに紫外線を照射して硬化させ、現像することによりＧｄ規定層４を形成しても良い。
【００４３】
次いで、図５（ｂ）に示すように、メッキ下地層３上にレジスト層を塗布形成してＧｄ規定層４を覆い、このレジスト層をパターニングして媒体対向面になる面１４ａからＧｄ規定層４に至るような溝１７ａ及び接続層９に対応する孔１７ｂを形成する。次いで、図５（ｂ）に示すように、溝１７ａ内に電気メッキにより下部磁極層５、非磁性層６及び上部磁極層７を順次形成して磁極部１３を構成する。なお、磁極層１３としては、下部磁極層５を形成せずに、下部コア層２上に、メッキ下地層３（必要に応じて）、非磁性層６及び上部磁極層７を順次形成して構成しても良い。また、磁極部１３の形成と同時に、又は別に、孔１７ｂ内に接続層９を、電気メッキ法を用いて形成し、その後、図５（ｃ）に示すように、メッキ下地層３上のレジスト層１７を除去する。この状態においては、Ｇｄ規定層４の上面位置と磁極層１３との間の位置関係は図５に示すようになっている。その後、磁極層１３を図２におけるＸ方向にイオンミリングして所望のトラック幅Ｔｗにする。
【００４４】
次いで、図５（ｄ）に示すように、下部コア層２上に絶縁層８を形成して磁極部１３と接続層９とを覆い、その後、絶縁層８をＣＭＰ法（ケミカル・メカニカル・ポリッシング）で研磨して平坦化する。その後、スパッタリング法、電気めっき法及びフォトリソグラフィー技術を組み合わせて、平坦化された絶縁層８上にコイル層１０を形成する。そして、絶縁層８上に絶縁層１１を形成してコイル層１０を覆い、この絶縁層１１上に上部コア層１２をフレームメッキ法などの既存の方法でパターン形成する。その後、図示しない絶縁層で覆われた上記薄膜磁気ヘッドのコイル層の引き回しや、外部端子を形成することにより、図１〜図３に示す本発明の薄膜磁気ヘッド１を製造する。
【００４５】
次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。
上記のように製造した、図４に示す形状を持つＧｄ規定層を有する薄膜磁気ヘッド（実施例）を用いて、実際に記録媒体に情報記録し、ＭＲヘッドで再生した。このときのトラックプロファイル（クロス・トラック方向の出力プロファイル）を図６（ａ）に示す。また、比較のために、図７に示す略矩形状のＧｄ規定層を有する薄膜磁気ヘッド（比較例）を用いて、実際に記録媒体に情報記録し、ＭＲヘッドで再生した。このときのトラックプロファイルを図６（ｂ）に示す。なお、ここでは、薄膜磁気ヘッドにスキュー角（記録媒体の回転接線方向に対する傾き）をつけて情報記録した後にＭＲヘッドで再生した。
【００４６】
図６（ａ）から分かるように、実施例のトラックプロファイルには、ピークＰ１が現れているのみであり、ノイズ波形なく情報記録が行われている。このように本発明に係る薄膜磁気ヘッドは、磁極部をミリング加工する際に生じた磁性材料の微細粉がＧｄ規定層の側壁に付着することを防止しているので、フリンジの発生を抑制し、情報記録時のノイズ発生を防止して、正確な情報記録を行うことができる。一方、比較例のトラックプロファイルには、ピークＰ２が現れている他に、ノイズ波形Ｐ３が現れている。このように従来の薄膜磁気ヘッドは、磁極部をミリング加工する際に生じた磁性材料の微細粉がＧｄ規定層の側壁に付着してフリンジが発生し、これにより情報記録時にノイズが発生して、正確な情報記録を行うことができない。
【００４７】
本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。例えば、本実施の形態における各層の材質や寸法などは例示であり、それに限定されず、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの一部を示す斜視図である。
【図２】図１に示す薄膜磁気ヘッドの部分正面図である。
【図３】図２におけるIII−III線に沿う部分縦断面図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドにおける磁極部の形状とＧｄ規定層の形状との関係を説明するための図である。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明するための断面図である。
【図６】（ａ）は、本発明の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの記録特性を示す図であり、（ｂ）は、従来の薄膜磁気ヘッドの記録特性を示す図である。
【図７】従来の薄膜磁気ヘッドの一部を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００４９】
１  薄膜磁気ヘッド
２  下部コア層
３  メッキ下地層
４  Ｇｄ規定層
５  下部磁極層
６  非磁性層
７  上部磁極層
８，１１  絶縁層
９  接続層
１０  コイル層
１２  上部コア層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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