(57)【要約】【課題】光ディスク毎に、反射率や記録感度等の特性ばらつきの少ない光ディスクを提供する。【解決手段】第１情報記録層２２に使用される第１色素の吸光度、特に、使用されるレーザ光３２の波長における第１吸光度に基づいて、第１情報記録層２２が目標反射率を満足するように、第１プリグルーブ１２の深さｈ１を設定する。さらに、第２情報記録層２８に使用される第２色素の吸光度、特に、使用されるレーザ光３２の波長における第２吸光度に基づいて、第２情報記録層２８が目標反射率を満足するように、第２プリグルーブの深さｈ２を設定する。【選択図】図１
2007287188.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、
前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の少なくとも目標の反射率を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
【請求項２】
請求項１記載の光情報記録媒体の設計方法において、
前記吸光度と反射率との第１相関関係と、前記グルーブの深さと反射率との第２相関関係とから、前記目標の反射率における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第３相関関係を求め、
前記第３相関関係に基づいて、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
【請求項３】
グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、
前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の少なくとも目標の記録感度を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
【請求項４】
請求項３記載の光情報記録媒体の設計方法において、
前記吸光度と記録感度との第１相関関係と、前記グルーブの深さと記録感度との第２相関関係とから、前記目標の記録感度における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第３相関関係を求め、
前記第３相関関係に基づいて、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
【請求項５】
グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、
前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の目標の反射率及び目標の記録感度を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
【請求項６】
請求項５記載の光情報記録媒体の設計方法において、
前記吸光度と反射率との第１相関関係と、前記グルーブの深さと反射率との第２相関関係とから、前記目標の反射率における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第３相関関係を求め、
前記吸光度と記録感度との第４相関関係と、前記グルーブの深さと記録感度との第５相関関係とから、前記目標の記録感度における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第６相関関係を求め、
前記第３相関関係に基づいて、前記グルーブの第１深さを設定し、
前記第６相関関係に基づいて、前記グルーブの第２深さを設定し、
前記第１深さと前記第２深さの中間値を前記グルーブの深さとして設定することを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の設計方法において、
前記光情報記録媒体は、前記グルーブが形成された基板を有し、前記レーザ光が照射される方向から見て前記記録層と前記グルーブがこの順番で配置されていることを特徴とする光情報記録媒体の設計方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の設計方法を用いて設計された光情報記録媒体用の基板。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の設計方法を用いて設計された光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ光を用いて情報の書き込み（記録）や読取り（再生）が可能なヒートモード型の光情報記録媒体の設計方法、光情報記録媒体用の基板及び光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザ光により情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、１層の情報記録層を有するものや、２層の情報記録層を有するもの等がある。
【０００３】
１層の情報記録層を有する第１光ディスクは、表面にプリグルーブが形成された基板と、該基板の表面に沿って形成された反射層と、該反射層上に形成された情報記録層と、該情報記録層上に形成された保護層とを有する。
【０００４】
２層の情報記録層を有する第２光ディスクは、表面に第１プリグルーブが形成された基板と、該基板の表面の凹凸に沿って形成された半透明反射層と、該半透明反射層上に形成された第１情報記録層と、該第１情報記録層上に形成され、且つ、表面に凹凸が形成された中間層と、該中間層の表面の凹凸に沿って形成された第２情報記録層と、該第２情報記録層上に形成された反射層と、該反射層上に形成された保護層とを有する（例えば特許文献１〜３参照）。反射層は、中間層の凹凸に沿って形成され、これにより、該反射層の凹凸は、第２情報記録層の第２プリグルーブとして機能することになる。
【０００５】
上述した第１光ディスクのプリグルーブや、第２光ディスクの第１プリグルーブ及び第２プリグルーブには、アドレス検知のためのアドレスピットが形成されるほか、スピンドルモータのサーボ制御、ピックアップのトラッキング制御やフォーカス制御を行うためのサーボ用プリピットが形成される。
【０００６】
また、第１光ディスクのプリグルーブや、第２光ディスクの第１プリグルーブ及び第２プリグルーブをウォブリングさせる例もある（例えば特許文献４参照）。ウォブリングさせることで、セクタアドレス等のセクタ管理情報を持たせたり、記録時の回転制御情報を、ウォブリングされたプリグルーブを再生することで得ることができるため、専用のアドレスピットやサーボ用プリピットを設けることが不要になり、これらアドレスピットやサーボ用プリピットの分だけデータの書き込み効率を向上させることができる。しかも、ＣＬＶ回転制御等の連続データ書き込み時に有効な方式を採用することができるという利点もある。
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−４８０８号公報
【特許文献２】特開平１０−２８３６８２号公報
【特許文献３】特開平８−２０３１２５号公報
【特許文献４】特開平９−２１９０２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、情報記録層に色素を用いた場合、色素はスピンコートによって形成されるが、塗布された色素のレーザ光の波長における吸光度により情報記録層の反射率や記録感度が異なる。従って、光情報記録媒体の製造を行う場合、塗布された色素の種類によって情報記録層の反射率や記録感度が光情報記録媒体毎にばらついてしまうという問題があった。
【０００９】
本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、光情報記録媒体毎に、反射率や記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体の設計方法、光情報記録媒体用の基板及び光情報記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
第１の本発明に係る光情報記録媒体の設計方法は、グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の少なくとも目標の反射率を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする。
【００１１】
これにより、光情報記録媒体毎に、反射率等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。
【００１２】
そして、第１の本発明において、前記吸光度と反射率との第１相関関係と、前記グルーブの深さと反射率との第２相関関係とから、前記目標の反射率における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第３相関関係を求め、前記第３相関関係に基づいて、前記グルーブの深さを設定するようにしてもよい。
【００１３】
次に、第２の本発明に係る光情報記録媒体の設計方法は、グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の少なくとも目標の記録感度を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする。
【００１４】
これにより、光情報記録媒体毎に、記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。
【００１５】
そして、第２の本発明において、前記吸光度と記録感度との第１相関関係と、前記グルーブの深さと記録感度との第２相関関係とから、前記目標の記録感度における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第３相関関係を求め、前記第３相関関係に基づいて、前記グルーブの深さを設定するようにしてもよい。
【００１６】
次に、第３の本発明に係る光情報記録媒体の設計方法は、グルーブを有する基板と該基板上に形成された色素記録層とを有し、前記色素記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び／又は再生を行う光情報記録媒体の設計方法において、前記色素記録層に使用される色素の前記レーザ光の波長における吸光度に基づいて、前記光情報記録媒体の目標の反射率及び目標の記録感度を満足するように、前記グルーブの深さを設定することを特徴とする。
【００１７】
これにより、光情報記録媒体毎に、反射率及び記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。
【００１８】
そして、第３の本発明において、前記吸光度と反射率との第１相関関係と、前記グルーブの深さと反射率との第２相関関係とから、前記目標の反射率における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第３相関関係を求め、前記吸光度と記録感度との第４相関関係と、前記グルーブの深さと記録感度との第５相関関係とから、前記目標の記録感度における前記吸光度と前記グルーブの深さとの第６相関関係を求め、前記第３相関関係に基づいて、前記グルーブの第１深さを設定し、前記第６相関関係に基づいて、前記グルーブの第２深さを設定し、前記第１深さと前記第２深さの中間値を前記グルーブの深さとして設定するようにしてもよい。
【００１９】
なお、上述した第１〜第３の本発明において、前記光情報記録媒体は、前記グルーブが形成された基板を有し、前記レーザ光が照射される方向から見て前記記録層と前記グルーブがこの順番で配置されていてもよい。
【００２０】
次に、第４の本発明に係る光情報記録媒体用の基板は、上述した第１〜第３の本発明に係る光情報記録媒体の設計方法によって設計されていることを特徴とする。これにより、光情報記録媒体毎に、反射率や記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。
【００２１】
次に、第５の本発明に係る光情報記録媒体は、上述した第１〜第３の本発明に係る光情報記録媒体の設計方法によって設計されていることを特徴とする。これにより、光情報記録媒体毎に、反射率や記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように、本発明に係る光情報記録媒体の設計方法、光情報記録媒体用の基板及び光情報記録媒体によれば、光情報記録媒体毎に、反射率や記録感度等の特性ばらつきの少ない光情報記録媒体を製造することができ、光情報記録媒体の歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明に係る光情報記録媒体の設計方法の実施の形態例を図１〜図２２を参照しながら説明する。
【００２４】
まず、第１の実施の形態に係る設計方法にて作製される第１光ディスク１０Ａは、図１に示すように、表面に第１プリグルーブ１２が形成された第１基板１４と、表面に第２プリグルーブ１６が形成された第２基板１８が中間層２０を介して貼り合わされた構成を有する。
【００２５】
すなわち、図２に示すように、第１基板１４の表面には、第１プリグルーブ１２の凹凸に沿って第１情報記録層２２が形成され、該第１情報記録層２２上に半透明反射層２４が形成されている。
【００２６】
図３に示すように、第２基板１８の表面には、第２プリグルーブ１６の凹凸に沿って反射層２６が形成され、該反射層２６上に第２情報記録層２８が形成され、該第２情報記録層２８上にバリア層３０が形成されている。
【００２７】
そして、第１基板１４と第２基板１８を貼り合わせる際に、図１に示すように、第１基板１４上に形成された第１情報記録層２２と第２基板１８上に形成された第２情報記録層２８とを対向させ、さらに、これら第１基板１４と第２基板１８との間に中間層２０を介在させて貼り合わせることで、第１光ディスク１０Ａが構成される。
【００２８】
第１情報記録層２２に対して情報を記録する場合は、第１基板１４の端面１４ａから第１情報記録層２２に向かう方向に記録用のレーザ光３２を照射し、レーザ光３２を第１情報記録層２２に結像させて情報（ピット）を記録する。このとき、第１情報記録層２２のうち、第１プリグルーブ１２のグルーブ３４に対応した部分に情報が記録される。記録用のレーザ光３２としては、６００ｎｍ〜７００ｎｍ（好ましくは６２０〜６８０ｎｍ、さらに好ましくは、６３０〜６６０ｎｍ）の範囲の発振波長を有する半導体レーザビームが用いられる。
【００２９】
第２情報記録層２８に対して情報を記録する場合は、第１基板１４の端面１４ａから第２情報記録層２８に向かう方向に記録用のレーザ光３２を照射し、レーザ光３２を第２情報記録層２８に結像させて情報（ピット）を記録する。このとき、第２情報記録層２８のうち、第２プリグルーブ１６のランド３６に対応した部分に情報が記録される。
【００３０】
従って、第１情報記録層２２と第２情報記録層２８との間に中間層２０を介在させることによって、第１情報記録層２２に記録された情報と第２情報記録層２８に記録された情報の干渉を防ぎ、第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８で良好な記録再生信号を得ることができる。
【００３１】
ところで、第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８に色素を用いた場合、色素はスピンコートによって形成されるが、塗布された色素のレーザ光３２の波長における吸光度により第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８の反射率が異なる。従って、第１光ディスク１０Ａの製造を行う場合、塗布された色素の種類によって第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８の反射率が第１光ディスク１０Ａ毎にばらつくという問題がある。
【００３２】
そこで、この第１の実施の形態に係る設計方法は、第１情報記録層２２に使用される第１色素の吸光度、特に、使用されるレーザ光３２の波長における第１吸光度に基づいて、第１情報記録層２２が目標の反射率（以下、目標反射率と記す）を満足するように、第１プリグルーブ１２の深さｈ１を設定する。さらに、第２情報記録層２８に使用される第２色素の吸光度、特に、使用されるレーザ光３２の波長における第２吸光度に基づいて、第２情報記録層２８が目標反射率を満足するように、第２プリグルーブの深さｈ２を設定する。
【００３３】
ここで、第１色素としては、例えば以下の化学式（化１）で示されるオキソノール色素と、以下の化学式（化２）で示されるオキソノール色素を９０：１０の比率で混合した色素が使用される。また、第２色素としては、例えば以下の化学式（化１）で示されるオキソノール色素が使用される。
【００３４】
【化１】
2007287188.tif 000003
【００３５】
【化２】
2007287188.tif 000004
【００３６】
具体的に、第１の実施の形態に係る設計方法を図４を参照しながら説明する。
【００３７】
まず、図４のステップＳ１において、第１情報記録層に使用される第１色素の第１吸光度（使用されるレーザ光の波長、例えば６５０ｎｍにおける吸光度）と反射率との相関関係（第１相関関係）を求める。この第１相関関係は、図５に示すように、第１吸光度が大きくなるに従って反射率が小さくなる関係を有する。
【００３８】
その後、図４のステップＳ２において、第１プリグルーブの深さと反射率との相関関係（第２相関関係）を求める。この第２相関関係は、図６に示すように、第１プリグルーブの深さが大きくなるに従って反射率が小さくなる関係を有する。
【００３９】
その後、図４のステップＳ３において、第１相関関係と第２相関関係とから、目標反射率（例えば１６％）における第１吸光度と第１プリグルーブの深さとの相関関係（第３相関関係）を求める。この第３相関関係は、図７に示すように、第１吸光度が大きくなるに従って第１プリグルーブの深さが小さくなる関係を有する。
【００４０】
そして、図４のステップＳ４において、使用される第１色素の第１吸光度と第３相関関係とに基づいて第１プリグルーブの深さｈ１を設定する。
【００４１】
一方、第２プリグルーブの深さについては、以下のステップを踏むことにより設定される。
【００４２】
すなわち、まず、図４のステップＳ５において、第２情報記録層に使用される第２色素の第２吸光度（使用されるレーザ光の波長、例えば６５０ｎｍにおける吸光度）と反射率との相関関係（第１１相関関係）を求める。この第１１相関関係は、図８に示すように、第２吸光度が大きくなるに従って反射率が小さくなる関係を有する。
【００４３】
その後、図４のステップＳ６において、第２プリグルーブの深さと反射率との相関関係（第１２相関関係）を求める。この第１２相関関係は、図９に示すように、第２プリグルーブの深さが大きくなるに従って反射率が小さくなる関係を有する。
【００４４】
その後、図４のステップＳ７において、第１１相関関係と第１２相関関係とから、目標反射率（例えば１６％）における第２吸光度と第２プリグルーブの深さとの相関関係（第１３相関関係）を求める。この第１３相関関係は、図１０に示すように、第２吸光度が大きくなるに従って第２プリグルーブの深さが小さくなる関係を有する。
【００４５】
そして、図４のステップＳ８において、使用される第２色素の第２吸光度と第１３相関関係とに基づいて第２プリグルーブの深さｈ２を設定する。
【００４６】
上述したように、第１プリグルーブの深さｈ１と第２プリグルーブの深さｈ２が決定した後、図１１に示す第１光ディスク１０Ａの製造工程に入る。
【００４７】
この製造工程は、まず、図１１のステップＳ１０１において、第１基板１４を作製するための第１スタンパを作製する。この場合、第１スタンパとなる第１原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有する第１スタンパを作製する。例えば第１原板に対してＤＵＶ（波長３３０ｎｍ以下、深紫外線）レーザや、ＥＢ（電子ビーム）によるカッティングによる高精度なマスタリングを行って第１スタンパを作製する。
【００４８】
このとき、出来上がる第１スタンパにて例えば樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって第１基板１４を形成した際に、該第１基板１４の表面に、図４のステップＳ４にて設定した深さｈ１の第１プリグルーブ１２が形成されるように、第１原板にマスタリングを行って第１スタンパを作製する。
【００４９】
また、図１１のステップＳ１０２において、第２基板１８を作製するための第２スタンパを作製する。この場合、第２スタンパとなる第２原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有する第２スタンパを作製する。例えば第２原板に対してＤＵＶ（波長３３０ｎｍ以下、深紫外線）レーザや、ＥＢ（電子ビーム）によるカッティングによる高精度なマスタリングを行って第２スタンパを作製する。
【００５０】
このとき、出来上がる第２スタンパにて例えば樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって第２基板１８を形成した際に、該第２基板１８の表面に、図４のステップＳ８にて設定した深さｈ２の第２プリグルーブ１６が形成されるように、第２原板にマスタリングを行って第２スタンパを作製する。
【００５１】
その後、図１１のステップＳ１０３において、第１スタンパに対して例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形することによって、第１基板１４を作製する。このとき、第１基板１４の表面に第１スタンパの凹凸が転写されて、図４のステップＳ４にて設定した深さｈ１の第１プリグルーブ１２が形成される。
【００５２】
また、図１１のステップＳ１０４において、第２スタンパに対して例えばポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形等することによって、第２基板１８を作製する。このとき、第２基板１８の表面に第２スタンパの凹凸が転写されて、図４のステップＳ８にて設定した深さｈ２の第２プリグルーブ１６が形成される。
【００５３】
なお、上述の例では、ポリカーボネート等の樹脂材料を射出成形あるいは押出成形して第１基板１４及び第２基板１８を作製するようにしたが、以下のように平坦面とされた第１基板１４と第２基板１８の表面にそれぞれプリグルーブ層を形成して、第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６を形成するようにしてもよい。
【００５４】
プリグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル及びテトラエステルのうち少なくとも一種のモノマー（又はオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。プリグルーブ層の形成は、例えば第１基板１４についてみると、第１スタンパ上に上記のアクリル酸エステル及び重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に第１基板１４を載せたのち、第１基板１４又は第１スタンパを介して紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて第１基板１４と塗布層とを固着させる。次いで、第１基板１４を第１スタンパから剥離することにより、表面に第１プリグルーブ１２が形成されたプリグルーブ層が固着された第１基板１４を得ることができる。これは、第２基板１８についても同様であり、第２スタンパを使用することによって、表面に第２プリグルーブ１６が形成されたプリグルーブ層が固着された第２基板１８を得ることができる。
【００５５】
その後、図１１のステップＳ１０５において、第１基板１４の表面に第１情報記録層２２を形成し、次いで、第１情報記録層２２上に半透明反射層２４を形成する。
【００５６】
また、図１１のステップＳ１０６において、第２基板１８の表面に反射層２６を形成し、次いで、反射層２６上に第２情報記録層２８を形成し、さらに、第２情報記録層２８上にバリア層３０を形成する。
【００５７】
その後、図１１のステップＳ１０７において、第１基板１４と第２基板１８を貼り合わせる。このとき、第１基板１４上に形成された第１情報記録層２２と第２基板１８上に形成された第２情報記録層２８とを対向させ、さらに、これら第１基板１４と第２基板１８との間に中間層２０を介在させて貼り合わせる。この貼り合わせによって、第１光ディスク１０Ａが完成する。
【００５８】
次に、同じく第１の実施の形態に係る設計方法にて作製される第２光ディスク１０Ｂについて図１２を参照しながら説明する。なお、この第２光ディスク１０Ｂは、上述した第１光ディスク１０Ａとほぼ同様の構成を有するが、第２基板１８の表面は平坦面で、代わりに中間層２０とバリア層３０との界面に凹凸が形成され、この凹凸が反射層２６の表面に反映されて第２情報記録層２８の第２プリグルーブ１６として機能している点と、反射層２６と第２基板１８との間に接着層４８が介在されている点で異なる。
【００５９】
ここで、第２光ディスク１０Ｂの製造過程について図１２及び図１３を参照しながら説明する。
【００６０】
まず、図１３のステップＳ２０１において、第１基板１４を作製するための第１スタンパを作製する。このステップＳ２０１は、上述した図１１のステップＳ１０１と同様の処理を行うため、その重複説明を省略する。
【００６１】
また、図１３のステップＳ２０２において、第２基板１８を作製するための第２スタンパを作製する。このとき、出来上がる第２スタンパにて例えば樹脂材料を射出成形することによって第２基板１８を形成した際に、該第２基板１８の表面が平坦面となるように、第２スタンパを作製する。
【００６２】
また、図１３のステップＳ２０３において、中間層２０の表面に凹凸を形成するための第３スタンパを作製する。この場合、第３スタンパとなる第３原板に対して選択的にエッチングを施して、表面に凹凸を有する第３スタンパを作製する。例えば第３原板に対してＤＵＶ（波長３３０ｎｍ以下、深紫外線）レーザや、ＥＢ（電子ビーム）によるカッティングによる高精度なマスタリングを行って第３スタンパを作製する。
【００６３】
このとき、出来上がる第３スタンパにて中間層２０の表面に凹凸を形成し、さらに中間層２０上にバリア層３０、第２情報記録層２８及び反射層２６を形成した際に、該反射層２６の表面に、図４のステップＳ８にて設定した深さｈ２の第２プリグルーブ１６が形成されるように、第３原板にマスタリングを行って第３スタンパを作製する。
【００６４】
その後、図１３のステップＳ２０４において、第１スタンパに対して樹脂材料を射出成形あるいは押出成形することによって、第１基板１４を作製する。このとき、第１基板１４の表面に第１スタンパの凹凸が転写されて、図４のステップＳ４にて設定した深さｈ１の第１プリグルーブ１２が形成される。
【００６５】
また、図１３のステップＳ２０５において、第２スタンパに対して樹脂材料を射出成形あるいは押出成形することによって、第２基板１８を作製する。このとき、表面が平坦面とされた第２基板１８（図６参照）が作製される。
【００６６】
その後、図１３のステップＳ１０６において、第１基板１４の表面に第１情報記録層２２を形成し、次いで、第１情報記録層２２上に半透明反射層２４を形成し、さらに、半透明反射層２４上に中間層２０を形成する。
【００６７】
その後、図１３のステップＳ２０７において、第１基板１４上に形成された中間層２０に対して、第３スタンパを押圧する。このとき、中間層２０の表面に第３スタンパの凹凸が転写される。
【００６８】
その後、図１３のステップＳ２０８において、中間層２０上にバリア層３０を形成し、次いで、バリア層３０上に第２情報記録層２８を形成し、さらに、第２情報記録層２８上に反射層２６を形成する。このとき、反射層２６は、中間層２０の凹凸が反映されて形成され、図４のステップＳ８にて設定した深さｈ２の第２プリグルーブ１６が形成される。
【００６９】
その後、図１３のステップＳ２０９において、反射層２６上に接着層４８を形成し、次いで、接着層４８上に第２基板１８を接着することにより、第２光ディスク１０Ｂが完成する。
【００７０】
このように、第１の実施の形態に係る設計方法においては、第１情報記録層２２に使用される第１色素のレーザ光３２の波長における第１吸光度に基づいて、第１情報記録層２２が目標反射率を満足するように第１プリグルーブ１２の深さｈ１を設定し、第２情報記録層２８に使用される第２色素のレーザ光３２の波長における第２吸光度に基づいて、第２情報記録層が目標反射率を満足するように第２プリグルーブ１６の深さｈ２を設定するようにしたので、第１光ディスク１０Ａ毎あるいは第２光ディスク１０Ｂ毎に、反射率等の特性ばらつきの少ない第１光ディスク１０Ａ及び第２光ディスク１０Ｂを製造することができ、第１光ディスク１０Ａ及び第２光ディスク１０Ｂの歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。
【００７１】
上記第１光ディスク１０Ａ及び第２光ディスク１０Ｂは、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒとして好適である。この場合、ＤＶＤ−Ｒでは、グルーブは１００〜２００ＫＨｚでウォブリングされており、ＤＶＤ＋Ｒでは、グルーブは８００〜９００ＫＨｚでウォブリングされている。
【００７２】
次に、第２の実施の形態に係る設計方法について図１４を参照しながら説明する。
【００７３】
この第２の実施の形態に係る設計方法は、第１情報記録層２２に使用される第１色素の前記第１吸光度に基づいて、第１情報記録層２２が目標の記録感度（以下、目標記録感度と記す）を満足するように、第１プリグルーブ１２の深さｈ１を設定する。さらに、第２情報記録層２８に使用される第２色素の前記第２吸光度に基づいて、第２情報記録層２８が目標記録感度を満足するように、第２プリグルーブの深さｈ１を設定する。
【００７４】
具体的に説明すると、まず、図１４のステップＳ３０１において、第１情報記録層２２に使用される第１色素の第１吸光度（使用されるレーザ光３２の波長、例えば６５０ｎｍにおける吸光度）と記録感度との相関関係（第４相関関係）を求める。この第４相関関係は、図１５に示すように、第１吸光度が大きくなるに従って記録感度が低くなる関係を有する。
【００７５】
その後、図１４のステップＳ３０２において、第１プリグルーブ１２の深さと記録感度との相関関係（第５相関関係）を求める。この第５相関関係は、図１６に示すように、第１プリグルーブ１２の深さが大きくなるに従って記録感度が低くなる関係を有する。
【００７６】
その後、図１４のステップＳ３０３において、第４相関関係と第５相関関係とから、目標記録感度（例えば４０ｍＷ）における第１吸光度と第１プリグルーブ１２の深さとの相関関係（第６相関関係）を求める。この第６相関関係は、図１７に示すように、第１吸光度が大きくなるに従って第１プリグルーブ１２の深さが小さくなる関係を有する。
【００７７】
そして、図１４のステップＳ３０４において、使用される第１色素の第１吸光度と第６相関関係とに基づいて第１プリグルーブ１２の深さｈ１を設定する。
【００７８】
一方、第２プリグルーブ１６の深さｈ２については、以下のステップを踏むことにより設定される。
【００７９】
すなわち、まず、図１４のステップＳ３０５において、第２情報記録層２８に使用される第２色素の第２吸光度（使用されるレーザ光３２の波長、例えば６５０ｎｍにおける吸光度）と記録感度との相関関係（第１４相関関係）を求める。この第１４相関関係は、図１８に示すように、第２吸光度が大きくなるに従って記録感度が低くなる関係を有する。
【００８０】
その後、図１４のステップＳ３０６において、第２プリグルーブ１６の深さと記録感度との相関関係（第１５相関関係）を求める。この第１５相関関係は、図１９に示すように、第２プリグルーブ１６の深さが大きくなるに従って記録感度が低くなる関係を有する。
【００８１】
その後、図１４のステップＳ３０７において、第１４相関関係と第１５相関関係とから、目標記録感度（例えば４０ｍＷ）における第２吸光度と第２プリグルーブの深さとの相関関係（第１６相関関係）を求める。この第１６相関関係は、図２０に示すように、第２吸光度が大きくなるに従って第２プリグルーブ１６の深さが小さくなる関係を有する。
【００８２】
そして、図１４のステップＳ３０８において、使用される第２色素の第２吸光度と第１６相関関係とに基づいて第２プリグルーブ１６の深さｈ２を設定する。
【００８３】
上述したように、第１プリグルーブ１２の深さｈ１と第２プリグルーブ１６の深さｈ２が決定した後、図１１又は図１３に示すように、第１光ディスク１０Ａ又は第２光ディスク１０Ｂの製造工程に入る。
【００８４】
このように、第２の実施の形態に係る設計方法においては、第１情報記録層２２に使用される第１色素のレーザ光３２の波長における第１吸光度に基づいて、第１情報記録層２２が目標記録感度を満足するように第１プリグルーブ１２の深さｈ１を設定し、第２情報記録層２８に使用される第２色素のレーザ光３２の波長における第２吸光度に基づいて、第２情報記録層２８が目標記録感度を満足するように第２プリグルーブ１６の深さｈ２を設定するようにしたので、第１光ディスク１０Ａ毎あるいは第２光ディスク１０Ｂ毎に、記録感度等の特性ばらつきの少ない第１光ディスク１０Ａ及び第２光ディスク１０Ｂを製造することができ、第１光ディスク１０Ａ及び第２光ディスク１０Ｂの歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。
【００８５】
次に、第３の実施の形態に係る設計方法について図２１及び図２２を参照しながら説明する。
【００８６】
この第３の実施の形態に係る設計方法は、上述した第１及び第２の実施の形態に係る設計方法を組み合わせた形態となっている。
【００８７】
具体的に説明すると、まず、図２１のステップＳ４０１において、第１情報記録層２２に使用される第１色素の第１吸光度と反射率との相関関係（第１相関関係：図５参照）を求める。
【００８８】
その後、図２１のステップＳ４０２において、第１プリグルーブ１２の深さと反射率との相関関係（第２相関関係：図６参照）を求める。
【００８９】
その後、図２１のステップＳ４０３において、第１相関関係と第２相関関係とから、目標反射率（例えば１６％）における第１吸光度と第１プリグルーブ１２の深さとの相関関係（第３相関関係：図７参照）を求める。
【００９０】
その後、図２１のステップＳ４０４において、使用される第１色素の第１吸光度と第３相関関係とに基づいて第１プリグルーブ１２の第１深さを求める。
【００９１】
その後、図２１のステップＳ４０５において、第１吸光度と記録感度との相関関係（第４相関関係：図１５参照）を求める。
【００９２】
その後、図２１のステップＳ４０６において、第１プリグルーブ１２の深さと記録感度との相関関係（第５相関関係：図１６参照）を求める。
【００９３】
その後、図２１のステップＳ４０７において、第４相関関係と第５相関関係とから、目標記録感度（例えば４０ｍＷ）における第１吸光度と第１プリグルーブ１２の深さとの相関関係（第６相関関係：図１７参照）を求める。
【００９４】
その後、図２１のステップＳ４０８において、使用される第１色素の第１吸光度と第６相関関係とに基づいて第１プリグルーブ１２の第２深さを求める。
【００９５】
そして、図２１のステップＳ４０９において、ステップＳ４０４にて求めた第１深さとステップＳ４０８にて求めた第２深さの中間値を第１プリグルーブ１２の深さｈ１として設定する。
【００９６】
一方、第２プリグルーブ１６の深さｈ２については、図２２に示す以下のステップを踏むことにより設定される。
【００９７】
すなわち、まず、図２２のステップＳ５０１において、第２情報記録層２８に使用される第２色素の第２吸光度と反射率との相関関係（第１１相関関係：図８参照）を求める。
【００９８】
その後、図２２のステップＳ５０２において、第２プリグルーブ１６の深さと反射率との相関関係（第１２相関関係：図９参照）を求める。
【００９９】
その後、図２２のステップＳ５０３において、第１１相関関係と第１２相関関係とから、目標反射率（例えば１６％）における第２吸光度と第２プリグルーブ１６の深さｈ２との相関関係（第１３相関関係：図１０参照）を求める。
【０１００】
その後、図２２のステップＳ５０４において、使用される第２色素の第２吸光度と第１３相関関係とに基づいて第２プリグルーブ１６の第１１深さを求める。
【０１０１】
その後、図２２のステップＳ５０５において、第２吸光度と記録感度との相関関係（第１４相関関係：図１８参照）を求める。
【０１０２】
その後、図２２のステップＳ５０６において、第２プリグルーブ１６の深さと記録感度との相関関係（第１５相関関係：図１９参照）を求める。
【０１０３】
その後、図２２のステップＳ５０７において、第１４相関関係と第１５相関関係とから、目標記録感度（例えば４０ｍＷ）における第２吸光度と第２プリグルーブ１６の深さとの相関関係（第１６相関関係：図２０参照）を求める。
【０１０４】
その後、図２２のステップＳ５０８において、使用される第２色素の第２吸光度と第１６相関関係とに基づいて第２プリグルーブ１６の第１２深さを求める。
【０１０５】
そして、図２２のステップＳ５０９において、ステップＳ５０４にて求めた第１１深さとステップＳ５０８にて求めた第１２深さの中間値を第２プリグルーブ１６の深さｈ２として設定する。
【０１０６】
上述したように、第１プリグルーブ１２の深さｈ１と第２プリグルーブ１６の深さｈ２が決定した後、図１１又は図１３に示すように、第１光ディスク１０Ａ又は第２光ディスク１０Ｂの製造工程に入る。
【０１０７】
このように、第３の実施の形態に係る設計方法においては、第１情報記録層２２に使用される第１色素のレーザ光３２の波長における第１吸光度に基づいて、第１情報記録層２２が目標の反射率及び目標記録感度を満足するように第１プリグルーブ１２の深さｈ１を設定し、第２情報記録層２８に使用される第２色素のレーザ光３２の波長における第２吸光度に基づいて、第２情報記録層２８が目標の反射率及び目標記録感度を満足するように第２プリグルーブ１６の深さｈ２を設定するようにしたので、第１光ディスク１０Ａ毎あるいは第２光ディスク１０Ｂ毎に、反射率や記録感度等の特性ばらつきの少ない第１光ディスク１０Ａ及び第２光ディスク１０Ｂを製造することができ、第１光ディスク１０Ａ及び第２光ディスク１０Ｂの歩留まりの向上並びに開発期間の短縮を図ることができる。
【０１０８】
次に、第１光ディスク１０Ａ及び第２光ディスク１０Ｂを構成する各層の材質等について説明する。
【０１０９】
まず、第１基板１４及び第２基板１８としては、従来の光ディスクの基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
【０１１０】
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
【０１１１】
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。
【０１１２】
これらの樹脂を用いた場合、射出成形を用いて第１基板１４及び第２基板１８を作製することができる。
【０１１３】
また、第１基板１４及び第２基板１８の厚さは、０．７〜２ｍｍの範囲であり、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
【０１１４】
また、第１基板１４に形成される第１プリグルーブ１２並びに第２基板１８に形成される第２プリグルーブ１６のトラックピッチは、上限値が８００ｎｍ以下であり、５００ｎｍ以下であることが好ましく、４２０ｎｍ以下であることがより好ましく、３７０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、３３０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限値は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、１００ｎｍ以上であることがより好ましく、２００ｎｍ以上であることがさらに好ましく、２６０ｎｍ以上であることが特に好ましい。
【０１１５】
第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６の幅（半値幅）は、上限値が５００以下であり、２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１７０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２３ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、８０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、１００ｎｍ以上であることが特に好ましい。
【０１１６】
第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６の（溝）深さは、上限値が１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、７０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、下限値は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、２８ｎｍ以上であることが特に好ましい。
【０１１７】
第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６の角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７０°以下であることがより好ましく、６０°以下であることがさらに好ましく、５０°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることがさらに好ましい。
【０１１８】
なお、第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６に関する上限値及び下限値は、それぞれが任意で組み合わせることができる。
【０１１９】
これら第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６の値は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）により測定することができる。
【０１２０】
そして、例えば第１プリグルーブ１２の角度とは、第１プリグルーブ１２の溝深さをＤとした時、溝形成前の第１基板１４の表面を基準とし、その表面からＤ／１０の深さの傾斜部と、溝の最も深い個所からＤ／１０の高さの傾斜部とを結ぶ直線と、第１基板１４の面（溝部の底面）とのなす角度である。これは、第２プリグルーブ１６の角度も同様である。
【０１２１】
もちろん、現在のＤＶＤ−Ｒの仕様も好ましく採用される。すなわち、トラックピッチ＝７４０ｎｍ、第１プリグルーブ１２の幅＝３５０ｎｍ、深さ＝１３０ｎｍ、角度＝約６０°、第２プリグルーブ１６の幅＝４２０ｎｍ、深さ＝３５ｎｍ、角度＝約６０°とすることも好ましく採用される。
【０１２２】
また、第１光ディスク１０Ａ及び第２光ディスク１０Ｂが、再生専用の光ディスクである場合、上記の第１プリグルーブ１２及び第２プリグルーブ１６を形成するのと同時に、所定の情報を示すピットが形成される。
【０１２３】
なお、第１基板１４及び第２基板１８の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
【０１２４】
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
【０１２５】
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【０１２６】
第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８は、色素を記録物質として含有する色素型とすることが好ましい。第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８に含有される記録物質としては、色素等の有機化合物や相変化金属化合物等が挙げられる。
【０１２７】
中でも、レーザ光により一回限りの情報の記録が可能な、色素型の第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８であることが好ましい。色素型の第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８は、記録波長領域に吸収を有する色素を含有していることが好ましい。当該色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、中でも、オキソノール色素が好ましい。オキソノール色素を含有させることで長期間にわたり安定した記録再生特性の維持を実現することができる。
【０１２８】
ここで、第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８にて使用されるオキソノール色素について説明する。
【０１２９】
オキソノール色素の具体例としては、Ｆ．Ｍ．Ｈａｒｍｅｒ著、Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｃｙａｎｉｎｅ  Ｄｙｅｓ  ａｎｄ  Ｒｅｌａｔｅｄ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ、Ｊｏｈｎ＆Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ、Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ、Ｌｏｎｄｏｎ、１９６４年刊に記載のもの等が挙げられる。
【０１３０】
オキソノール色素は、該当する活性メチレン化合物とメチン源（メチン染料にメチン基を導入するために用いられる化合物）との縮合反応によって合成することができる。
【０１３１】
この種の化合物についての詳細は、特公昭３９−２２０６９号公報、同４３−３５０４号公報、同５２−３８０５６号公報、同５４−３８１２９号公報、同５５−１００５９号公報、同５８−３５５４４号公報、特開昭４９−９９６２０号公報、同５２−９２７１６号公報、同５９−１６８３４号公報、同６３−３１６８５３号公報、同６４−４０８２７号公報、並びに英国特許第１１３３９８６号明細書、米国特許第３２４７１２７号明細書、同４０４２３９７号明細書、同４１８１２２５号明細書、同５２１３９５６号明細書、同５２６０１７９号明細書を参照することができる。また、特開昭６３−２０９９９５号公報、特開平１０−３０９８７１号公報、特開２００２−２４９６７４号公報にも記載されている。
【０１３２】
オキソノール色素は、単独で用いてもよく、あるいは２種以上を併用してもよい。また、既述のオキソノール色素とこれ以外の色素化合物とを併用してもよい。併用する色素は、アゾ色素（金属イオンとの錯体化したものを含む）、ピロメテン色素、シアニン色素等が例として挙げられる。
【０１３３】
色素は、熱分解温度が１００℃〜３５０℃の範囲にあるものが好ましい。さらには、１５０℃〜３００℃の範囲にあるものが好ましい。さらには、２００℃から３００℃の範囲にあるものが好ましい。
【０１３４】
第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８に用いる色素（「既述のオキソノール色素」又は「既述のオキソノール色素及びこれと併用する色素」）のアモルファス膜の光学特性上、複素屈折率の係数ｎ（実部：屈性率）、ｋ（虚部：消衰係数）は、好ましくは、２．０≦ｎ≦３．０、０．００５≦ｋ≦０．３０である。さらに好ましくは、２．１≦ｎ≦２．７、０．０１≦ｋ≦０．１５である。最も好ましくは、２．１５≦ｎ≦２．５０、０．０３≦ｋ≦０．１０である。
【０１３５】
第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８には、さらに耐光性を向上させるための種々の褪色防止剤を含有することができる。褪色防止剤の代表例としては、特開平３−２２４７９３号公報に記載の一般式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）もしくは（Ｖ）で表される金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩や特開平２−３００２８７号公報や特開平２−３００２８８号公報に示されているニトロソ化合物、特開平１０−１５１８６１号公報に示されているＴＣＮＱ誘導体等を挙げることができる。
【０１３６】
第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８の形成は、既述のオキソノール色素、さらに所望によりクエンチャ、結合剤等を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を第１基板１４の表面及び第２基板１８の表面に塗布して塗膜を形成したのち、乾燥することにより行うことができる。前記塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；シクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノ−ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレンングリコールモノエチルエーテル、プロピレンングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。
【０１３７】
上記溶剤は使用する化合物の溶解性を考慮して単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等の各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１３８】
結合剤の例としては、例えばゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂；ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子を挙げることができる。
【０１３９】
第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、既述のオキソノール色素を始めとした色素の量に対して一般に０．０１〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液の色素濃度は一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【０１４０】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８はそれぞれ単層でも重層でもよい。第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８の層厚は一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲にある。
【０１４１】
次に、半透明反射層２４及び反射層２６について説明すると、反射層２６の材料である光反射性物質は、レーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。
【０１４２】
これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼であり、特に好ましいものはＡｇである。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは２種以上の組み合わせで、又は合金として用いてもよい。反射層２６は、例えば上記反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより第１情報記録層２２上、第２情報記録層２８上及び第２基板１８上に形成することができる。
【０１４３】
そして、半透明反射層２４の層厚は、２〜１５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。また、反射層２６の層厚は、一般には１０〜３００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲である。
【０１４４】
次に、バリア層３０は、第２情報記録層２８等を物理的及び化学的に保護する目的で設けられる。このバリア層３０は、第１基板１４や第２基板１８のうち、第１情報記録層２２及び第２情報記録層２８が設けられていない部分にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。
【０１４５】
バリア層３０に用いられる材料としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3等の無機物質；熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質；を挙げることができる。
【０１４６】
バリア層３０は、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けることができる。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を使用する場合には、これらを適当な溶剤に溶解した塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。バリア層３０の層厚は、一般には１ｎｍ〜１０μｍの範囲にある。
【０１４７】
次に、中間層２０は、上述したように、少なくとも第１情報記録層２２と第２情報記録層２８との間に設けられる。
【０１４８】
中間層２０及び接着層４８の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、感圧式両面テープ等や、ＳｉＯ2等の無機材料等が挙げられる。また、これらの材料を単独又は混合してもよいし、一層だけではなく多層膜にして用いてもよい。このような中間層２０は、スピンコート法やキャスト法、スパッタ法により形成することができる。中間層２０の厚みは、５〜１００μｍであることが好ましく、さらに好ましくは１０〜７０μｍである。
【０１４９】
なお、本発明に係る光情報記録媒体の設計方法、光情報記録媒体用の基板及び光情報記録媒体は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【０１５０】
【図１】第１〜第３の実施の形態に係る設計方法にて作製される第１光ディスクを一部省略して示す断面図である。
【図２】第１基板を示す断面図である。
【図３】第２基板を示す断面図である。
【図４】第１の実施の形態に係る設計方法を示すフローチャートである。
【図５】第１情報記録層に使用される第１色素の第１吸光度と反射率との第１相関関係を示す特性図である。
【図６】第１プリグルーブの深さと反射率との第２相関関係を示す特性図である。
【図７】目標反射率における第１吸光度と第１プリグルーブの深さとの第３相関関係を示す特性図である。
【図８】第２情報記録層に使用される第２色素の第２吸光度と反射率との第１１相関関係を示す特性図である。
【図９】第２プリグルーブの深さと反射率との第１２相関関係を示す特性図である。
【図１０】目標反射率における第２吸光度と第２プリグルーブの深さとの第１３相関関係を示す特性図である。
【図１１】第１光ディスクの製造方法を示す工程図である。
【図１２】第２光ディスクを一部省略して示す断面図である。
【図１３】第２光ディスクの製造方法を示す工程図である。
【図１４】第２の実施の形態に係る設計方法を示すフローチャートである。
【図１５】第１情報記録層に使用される第１色素の第１吸光度と記録感度との第４相関関係を示す特性図である。
【図１６】第１プリグルーブの深さと記録感度との第５相関関係を示す特性図である。
【図１７】目標記録感度における第１吸光度と第１プリグルーブの深さとの第６相関関係を示す特性図である。
【図１８】第２情報記録層に使用される第２色素の第２吸光度と記録感度との第１４相関関係を示す特性図である。
【図１９】第２プリグルーブの深さと記録感度との第１５相関関係を示す特性図である。
【図２０】目標記録感度における第２吸光度と第２プリグルーブの深さとの第１６相関関係を示す特性図である。
【図２１】第３の実施の形態に係る設計方法を示すフローチャート（その１）である。
【図２２】第３の実施の形態に係る設計方法を示すフローチャート（その２）である。
【符号の説明】
【０１５１】
１０Ａ、１０Ｂ…光ディスク              １２…第１プリグルーブ
１４…第１基板                          １６…第２プリグルーブ
１８…第２基板                          ２０…中間層
２２…第１情報記録層                    ２８…第２情報記録層
【図１】
2007287188.tif 000005
【図２】
2007287188.tif 000006
【図３】
2007287188.tif 000007
【図４】
2007287188.tif 000008
【図５】
2007287188.tif 000009
【図６】
2007287188.tif 000010
【図７】
2007287188.tif 000011
【図８】
2007287188.tif 000012
【図９】
2007287188.tif 000013
【図１０】
2007287188.tif 000014
【図１１】
2007287188.tif 000015
【図１２】
2007287188.tif 000016
【図１３】
2007287188.tif 000017
【図１４】
2007287188.tif 000018
【図１５】
2007287188.tif 000019
【図１６】
2007287188.tif 000020
【図１７】
2007287188.tif 000021
【図１８】
2007287188.tif 000022
【図１９】
2007287188.tif 000023
【図２０】
2007287188.tif 000024
【図２１】
2007287188.tif 000025
【図２２】
2007287188.tif 000026