(57)【要約】【課題】高いコントラストを有し、且つ黒表示時の視角方向に依存した色づきが軽減された液晶表示装置を提供する。【解決手段】黒表示時の波長４００ｎｍ及び５００ｎｍにおけるレタデーションがそれぞれＲｅ１（４００）及びＲｅ１（５５０）である液晶セルと、液晶性化合物の少なくとも一種を含有する組成物から形成された光学異方性層の少なくとも一層と、を有する液晶表示装置であって、前記光学異方性層の波長４００ｎｍ及び５５０ｎｍにおけるレタデーションＲｅ２（４００）及びＲｅ２（５５０）と、Ｒｅ１（４００）及びＲｅ１（５５０）とが下記関係式（１）を満足する液晶表示装置である。  関係式（１）        ０．９≦α２／α１≦１．１  但し、α１＝Ｒｅ１（４００）／Ｒｅ１（５５０）であり、α２＝Ｒｅ２（４００）／Ｒｅ２（５５０）である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長分散性が互いに異なる液晶性化合物を二種以上含有する組成物から形成された光学異方性層を少なくとも一層有し、前記光学異方性層の波長４００ｎｍ及び５５０ｎｍにおけるレタデーションの比α２が１．２未満である光学補償フィルム。
【請求項２】
前記光学異方性層が、下記一般式（ＤＩ）又は下記一般式（Ｉ）で表される液晶性化合物の少なくとも一種を含有する組成物から形成された層である請求項１に記載の光学補償フィルム；
一般式（ＤＩ）
【化１】
2007102205.tif 000070
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩ−Ｂ）又は下記一般式（ＤＩ−Ｃ）を表す；
一般式（ＤＩ−Ａ）
【化２】
2007102205.tif 000071
（一般式（ＤＩ−Ａ）中、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15及びＡ16は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、Ｌ11は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ12は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ11はそれぞれ独立に、重合性基又は水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【化３】
2007102205.tif 000072
（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25及びＡ26は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｘ2は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、Ｌ21は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ22は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ21はそれぞれ独立に、重合性基又は水素原子を表す。）
一般式（ＤＩ−Ｃ）
【化４】
2007102205.tif 000073
（一般式（ＤＩ−Ｃ）中、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35及びＡ36は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｘ3は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、Ｌ31は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ32は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ31はそれぞれ独立に、重合性基又は水素原子を表す。）
一般式（Ｉ）
【化５】
2007102205.tif 000074
一般式（Ｉ）中、Ｄはトリフェニレンを表し、ｎ１は３〜６の整数を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ、水素原子、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニルオキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、又は炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。
【請求項３】
波長４５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈの比Ｒｅ／Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）が、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）の０．４〜０．９５倍であり、且つ波長６５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）が、Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）の１．０５〜１．９倍である支持体をさらに有する請求項１又は２に記載の光学補償フィルム。
【請求項４】
液晶性化合物を少なくとも１種類含有する組成物を表面に適用して、前記液晶性化合物の分子を配向させて、波長４００ｎｍ及び５５０ｎｍにおけるレタデーションの比α２が１．２未満を満足する光学異方性層を形成することを含み、
且つ前記組成物に、波長分散性が異なる複数の液晶性化合物を含有させることによって、及び／又は、液晶性化合物とともに非液晶性化合物を含有させることによって、前記光学異方性層の波長分散性α２を調整することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記組成物のＴ℃における粘度が１５００ｍＰａ・ｓ以下であり、前記液晶性化合物の分子を温度Ｔ℃において配向させて、前記光学異方性層を形成することを含む請求項４に記載の方法。
【請求項６】
偏光膜と、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償フィルムとを有する偏光板。
【請求項７】
黒表示時の波長４００ｎｍ及び５００ｎｍにおけるレタデーションがそれぞれＲｅ１（４００）及びＲｅ１（５５０）である液晶セルと、
液晶性化合物の少なくとも１種を含有する組成物から形成された光学異方性層の少なくとも一層と、を有する液晶表示装置であって、
前記光学異方性層の波長４００ｎｍ及び５５０ｎｍにおけるレタデーションＲｅ２（４００）及びＲｅ２（５５０）と、Ｒｅ１（４００）及びＲｅ１（５５０）とが下記関係式（１）を満足する液晶表示装置；
関係式（１）        ０．９≦α２／α１≦１．１
但し、α１＝Ｒｅ１（４００）／Ｒｅ１（５５０）であり、α２＝Ｒｅ２（４００）／Ｒｅ２（５５０）である。
【請求項８】
前記光学異方性層のさらに外側に偏光膜、及び該偏光膜と前記光学異方性層との間にポリマーフィルムを有し、
前記ポリマーフィルムの波長４５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈの比Ｒｅ／Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）が、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）の０．４〜０．９５倍であり、且つ波長６５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）が、Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）の１．０５〜１．９倍である請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
ＯＣＢモードである請求項７又は８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
ＴＮモードである請求項７又は８に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学補償フィルム、その製造方法、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶セル及び偏光板を有する。前記偏光板は、一般的にセルロースアセテートからなる保護フィルム及び偏光膜を有し、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償フィルムを配置することが普通になっており、反射型液晶表示装置では、通常、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償フィルム、偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための二枚の基板及び液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過及び反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードが提案されている。
【０００３】
近年、液晶テレビの需要が増加するにつれ、応答速度の速さに特長を持つＯＣＢモード（あるいはベンドモード）に注目が集まっている。しかし、ＯＣＢモードは原理的に光学補償フィルムで液晶セルの位相差を補償するために広い視角特性と良好な色味の視野角依存性、締まりのある黒表示を得るために、光学補償フィルムと液晶セルの光学特性をマッチングさせる必要がある。例えば特許文献１及び２では、ＯＣＢ方式の液晶表示装置に、液晶性化合物から構成された層を有する光学補償フィルムを適用している。しかし、これらの文献に述べられているような、従来知られている光学パラメ−タ−を制御しただけでは、良好な視角特性を得ることは困難であった。特許文献３及び４には、光学補償フィルムの波長分散特性を改良することが開示されている。しかしながらこれらの文献には光学補償フィルムと液晶セルに使用する各々の材料自身の光学特性を改良する技術が開示されているが、良好な黒表示と色味やコントラストの視野角依存性にはなお改良の余地があった。これらの問題に対しては特許文献５には、ＲＧＢの各色に対応した液晶層の光透過率を最適化するマルチギャップ技術が開示されており、また、特許文献６には、ＲＧＢ各色フィルター領域における液晶セルと光学補償フィルムのレタデーションＲｅの差を適合する方法が開示されている。しかしながらこれらはセルの波長分散の制御についてのみ開示されており、光学補償フィルムの波長分散制御については何ら述べられていない。
【０００４】
特許文献７及び８には、光学補償フィルムの波長分散特性に関する記載があり、両者とも光学異方性層のＲｅの波長分散特性を４００ｎｍと５５０ｎｍで測定した場合の比率α＝Ｒｅ（４００ｎｍ）／Ｒｅ（５５０ｎｍ）で定義している。実際の液晶パネル駆動セル中に封入されている棒状液晶の波長分散特性を考慮した場合、α＜１．２未満としてセルと光学異方性層の波長分散特性を一致させることが良好な黒表示を得る上で重要な特性となる。しかしながらこれらの文献では光学異方性層の前記波長分散性αを１．２より小さくする具体的な手段については何ら記載されていない。特許文献９〜１３には光学異方性層を形成する材料の液晶化合物及び非液晶化合物を混合して所望の特性を制御する技術が開示されている。しかしながらこれらの文献においては配向温度、転移温度、配向平均角度、ねじれ配向性、分子配列、光学異方性層の耐久性を制御、もしくは改良する手段について記載されているが本発明で記載している波長分散特性の制御については何ら開示されていない。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−２１１４４４号公報
【特許文献２】特開平１１−３１６３７８号公報
【特許文献３】特開平８−１０１３８１号公報
【特許文献４】特開平９−３２９７８５号公報
【特許文献５】特開平９−２３０３３２号公報
【特許文献６】特開２００１−２９０１４９号公報
【特許文献７】特開２００４−１８４８６４号公報
【特許文献８】特開２００４−２１２９３８号公報
【特許文献９】特開平７−２８１０２８号公報
【特許文献１０】特開平９−１０４６５６号公報
【特許文献１１】特開平９−１１７９８３号公報
【特許文献１２】特開２０００−１１１７３４号公報
【特許文献１３】特開２０００−１１１９１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、波長分散性を黒表示時の液晶セルに適合するように制御することで、液晶セル、特にＯＣＢモード又はＴＮモードの液晶セル、を光学的に補償し、コントラストの改善及び黒表示時の視角方向に依存した色づきの軽減に寄与する光学補償フィルム、及び偏光板を提供することを課題とする。また、本発明は、かかる光学補償フィルムの簡易な製造方法を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶セルが正確に光学的に補償され、高いコントラストを有し、且つ黒表示時の視角方向に依存した色づきが軽減された液晶表示装置、特にＯＣＢモード又はＴＮモードの液晶表示装置、を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の課題を解決する手段は以下の通りである。
［１］  波長分散性が互いに異なる液晶性化合物を二種以上含有する組成物から形成された光学異方性層を少なくとも一層有し、前記光学異方性層の波長４００ｎｍ及び５５０ｎｍにおけるレタデーションの比α２が１．２未満である光学補償フィルム。
［２］  前記光学異方性層が、下記一般式（ＤＩ）又は下記一般式（Ｉ）で表される液晶性化合物の少なくとも一種を含有する組成物から形成された層である［１］の光学補償フィルム；
【０００８】
一般式（ＤＩ）
【化１】
2007102205.tif 000002
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩ−Ｂ）又は下記一般式（ＤＩ−Ｃ）を表す；
【０００９】
一般式（ＤＩ−Ａ）
【化２】
2007102205.tif 000003
（一般式（ＤＩ−Ａ）中、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15及びＡ16は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、Ｌ11は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ12は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ11はそれぞれ独立に、重合性基又は水素原子を表す。）
【００１０】
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【化３】
2007102205.tif 000004
（一般式（ＤＩ−Ｂ）中、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25及びＡ26は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｘ2は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、Ｌ21は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ22は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ21はそれぞれ独立に、重合性基又は水素原子を表す。）
【００１１】
一般式（ＤＩ−Ｃ）
【化４】
2007102205.tif 000005
（一般式（ＤＩ−Ｃ）中、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35及びＡ36は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｘ3は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、Ｌ31は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｌ32は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｑ31はそれぞれ独立に、重合性基又は水素原子を表す。）
【００１２】
一般式（Ｉ）
【化５】
2007102205.tif 000006
一般式（Ｉ）中、Ｄはトリフェニレンを表し、ｎ１は３〜６の整数を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5はそれぞれ、水素原子、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニルオキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基又は炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基を表す。
【００１３】
［３］  波長４５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈの比Ｒｅ／Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）が、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）の０．４〜０．９５倍であり、且つ波長６５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）が、Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）の１．０５〜１．９倍である支持体をさらに有する［１］又は［２］の光学補償フィルム。
［４］  液晶性化合物を少なくとも一種類含有する組成物を表面に適用して、前記液晶性化合物の分子を配向させて、波長４００ｎｍ及び５５０ｎｍにおけるレタデーションの比α２が１．２未満を満足する光学異方性層を形成することを含み、
且つ前記組成物に、波長分散性が異なる複数の液晶性化合物を含有させることによって、及び／又は、液晶性化合物とともに非液晶性化合物を含有させることによって、前記光学異方性層の波長分散性α２を調整することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
［５］  前記組成物のＴ℃における粘度が１５００ｍＰａ・ｓ以下であり、前記液晶性化合物の分子を温度Ｔ℃において配向させて、前記光学異方性層を形成することを含む［４］の方法。
［６］  偏光膜と、［１］〜［３］の光学補償フィルムとを有する偏光板。
［７］  黒表示時の波長４００ｎｍ及び５００ｎｍにおけるレタデーションがそれぞれＲｅ１（４００）及びＲｅ１（５５０）である液晶セルと、
液晶性化合物の少なくとも一種を含有する組成物から形成された光学異方性層の少なくとも一層と、を有する液晶表示装置であって、
前記光学異方性層の波長４００ｎｍ及び５５０ｎｍにおけるレタデーションＲｅ２（４００）及びＲｅ２（５５０）と、Ｒｅ１（４００）及びＲｅ１（５５０）とが下記関係式（１）を満足する液晶表示装置；
関係式（１）        ０．９≦α２／α１≦１．１
但し、α１＝Ｒｅ１（４００）／Ｒｅ１（５５０）であり、α２＝Ｒｅ２（４００）／Ｒｅ２（５５０）である。
［８］  前記光学異方性層のさらに外側に偏光膜、及び該偏光膜と前記光学異方性層との間にポリマーフィルムを有し、
前記ポリマーフィルムの波長４５０ｎｍにおけるＲｅとＲｔｈの比Ｒｅ／Ｒｔｈ（４５０ｎｍ）が、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）の０．４〜０．９５倍であり、且つ波長６５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ（６５０ｎｍ）が、Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０ｎｍ）の１．０５〜１．９倍である［７］の液晶表示装置。
［９］  ＯＣＢモードである［７］又は［８］の液晶表示装置。
［１０］  ＴＮモードである［７］又は［８］の液晶表示装置。
【００１４】
なお、本明細書において、「４５゜」、「平行」あるいは「直交」とは、厳密な角度±５゜未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４゜未満であることが好ましく、３゜未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は時計周り方向を意味し、「−」は反時計周り方向を意味するものとする。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。また、「可視光領域」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００１５】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。
【００１６】
また、本明細書において「分子対称軸」とは、分子が回転対称軸を有する場合は該対称軸をいうが、厳密な意味で分子が回転対称性であることを要求するものではない。一般的には、分子対称軸は、円盤状液晶性化合物では、円盤面の中心を貫く円盤面に対して垂直な軸と一致し、また棒状液晶性化合物では分子の長軸と一致する。また、本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚さ方向のレタデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA  21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)、面内の遅相軸（KOBRA  21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレタデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレタデーション値の計３つの方向で測定したレタデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA  21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（JOHN  WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA  21ADHはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたnx,ny,nzよりNz=（nx-nz）/(nx-ny)が更に算出される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は、上述の黒表示状態の液晶セルに対してレタデーションの波長分散特性を適合させた光学補償フィルムを使用することで、液晶セル、特にＯＣＢ方式又はＴＮ方式の液晶セル、の正面の黒表示及び黒状態の視角補償をほぼ全ての波長において可能にするものである。その結果、本発明の液晶表示装置は、黒表示時の正面及び斜め方向の光抜けが軽減され、正面の黒浮き及び視野角コントラストが著しく改善されている。また、本発明の液晶表示装置は、黒表示時の正面及び斜め方向の光抜けをほぼ全ての可視光波長領域で抑えることができるため、従来問題であった視野角に依存した黒表示時の色ずれが大きく改善されている。
【発明の実施の形態】
【００１８】
以下、本発明について詳細に説明する。
ＯＣＢモードにおいて、正面のコントラストを高くするためには黒表示時に、正面での液晶セルと光学異方性層のレタデーションを適合させて完全に補償することが好ましい。従来、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）それぞれにおいて、黒表示時の液晶セルのレタデーションと、光学異方性層のレタデーションを適合させるために、セルギャップを変えたり、駆動電圧を別々にして液晶セルのレタデーションを見かけ上調節していた。駆動電圧を別々にして見かけ上、レタデーションを調節する場合の、レタデーションの補正の方法を波長との関係で図２（ａ）に模式的に示す。短波長側では、光学異方性層性のレタデーションと適合する様に、液晶セルのレタデーションが大きくなる方向に駆動電圧を印加し、一方、長波長側では、光学異方性層性のレタデーションと適合する様に、液晶セルのレタデーションが小さくなる方向に駆動電圧を印加している。
しかしながらこれらの方法においては、完全な補償を得るに到れず、正面の黒浮きや光漏れからくるコントラストの低下、色味変動などの課題が残されていた。
【００１９】
本発明では、図２（ｂ）に示す様に、光学異方性層の波長分散を制御して、黒表示時の液晶セルのレタデーションと一致させている。前述したように従来の文献等にはその具体的な方法は示されていなかった。
本発明では、黒表示時の液晶セルの波長４００ｎｍ及び５５０ｎｍにおけるレタデーションＲｅ１（４５０）及びＲｅ１（５５０）との関係で、下記関係式（１）を満足するレタデーションＲｅ２（４００）及びＲｅ２（５００）を有する光学異方性層を用いることで、黒表示時の液晶セルと波長分散特性を適合させている。
関係式（１）        ０．９≦α２／α１≦１．１
但し、α１＝Ｒｅ１（４００）／Ｒｅ１（５５０）であり、α２＝Ｒｅ２（４００）／Ｒｅ２（５５０）である。
【００２０】
本発明は、光学異方性層のレタデーションの波長分散特性を、黒表示時の液晶セルに適合するように制御することによって、前述したＲ、Ｇ、Ｂ毎のセルギャップの調節や駆動電圧の制御をすることなく、光学補償することを可能としている。さらに、所定の波長分散特性を有するポリマーフィルム等からなる支持体と組み合わせることで、さらに色味の視野角変動も改善可能としている。
ここで、本明細書においては、Ｒ、Ｇ、Ｂの波長として、Ｒは波長６５０ｎｍ、Ｇは波長５５０ｎｍ、Ｂは波長４００ｎｍを用いた。Ｒ、Ｇ、Ｂの波長は必ずしもこの波長で代表されるものではないが、本発明の効果を奏する光学特性を規定するのに適当な波長であると考えられる。
【００２１】
次に、図面を用いて本発明の液晶表示装置の一例について、詳細に説明する。
図１に示すＯＣＢモードの液晶表示装置は、電圧印加時、即ち黒表示時に、液晶が基板面に対してベンド配向する液晶層７とそれを挟む基板６及び８からなる液晶セルを有する。基板６及び８は液晶面に配向処理が施してあり、ラビング方向を矢印ＲＤで示す。裏面の場合は破線矢印で示してある。液晶セルを挟持して偏光膜１及び１０１が配置されている。偏光膜１及び１０１は、それぞれの透過軸２及び１０２を互いに直交に、且つ液晶セルの液晶層７のＲＤ方向と４５度の角度に配置される。偏光膜１及び１０１と液晶セルとの間には、セルロースアシレートフィルム等のポリマーフィルム３ａ及び１０３ａと、黒表示時の液晶セルのレタデーションとの関係で上記関係式（１）を満足する光学異方性層５及び９がそれぞれ配置されている。ポリマーフィルム３ａ及び１０３ａは、その遅相軸１４ａ及び１０４ａが、それぞれに隣接する偏光膜１及び１０１の透過軸２及び１０２の方向と平行に配置されている。また、光学異方性層５及び９は、液晶性化合物の配向によって発現された光学異方性を有する。
【００２２】
図１中の液晶セルは、上側基板６及び下側基板８と、これらに挟持される液晶分子７から形成される液晶層からなる。基板６及び８の液晶分子７に接触する表面（以下、「内面」という場合がある）には、配向膜（不図示）が形成されていて、電圧無印加状態もしくは低印加状態における液晶分子７の配向がプレチルト角をもった平行方向に制御されている。また、基板６及び８の内面には、液晶分子７からなる液晶層に電圧を印加可能な透明電極（不図示）が形成されている。本発明では、液晶層の厚さｄ（ミクロン）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは、０．１〜１．５ミクロンとするのが好ましく、さらに、０．２〜１．５ミクロンとするのがより好ましく、０．２〜１．２ミクロンとするのがさらに好ましく、０．６〜０．９ミクロンとするのがさらにより好ましい。これらの範囲では白電圧印加時における白表示輝度が高いことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。用いる液晶材料については特に制限されないが、上下基板６及び８間に電界が印加される態様では、電界方向に平行に液晶分子７が応答するような、誘電率異方性が正の液晶材料を使用する。
【００２３】
例えば、液晶セルをＯＣＢモードの液晶セルとする場合は、上下基板６及び８間に、誘電異方性が正で、Δｎ＝０．０８、Δε＝５程度のネマチック液晶材料などを用いることができる。液晶層の厚さｄについては特に制限されないが、前記範囲の特性の液晶を用いる場合、６ミクロン程度に設定することができる。厚さｄと、白電圧印加時の屈折率異方性Δｎの積Δｎ・ｄの大きさにより白表示時の明るさが変化するので、白電圧印加時において十分な明るさを得るためには、無印加状態における液晶層のΔｎ・ｄは０．６〜１．５ミクロンの範囲になるように設定するのが好ましい。
【００２４】
なお、ＯＣＢモードの液晶表示装置では、ＴＮモードの液晶表示装置で一般的に使われているカイラル材の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。また、マルチドメイン構造とする場合には、各ドメイン間の境界領域の液晶分子の配向を調整するのに有利である。マルチドメイン構造とは、液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割した構造をいう。例えば、ＯＣＢモードにおいて、マルチドメイン構造にすると、輝度や色調の視野角特性が改善されるので好ましい。具体的には、画素のそれぞれを液晶分子の初期配向状態が互いに異なる２以上（好ましくは４又は８）の領域で構成して平均化することで、視野角に依存した輝度や色調の偏りを低減することができる。また、それぞれの画素を、電圧印加状態において液晶分子の配向方向が連続的に変化する互いに異なる２以上の領域から構成しても同様の効果が得られる。
【００２５】
ポリマーフィルム３ａ及び１０３ａは、光学異方性層５及び９の支持体として機能していてもよいし、偏光膜１と偏光膜１０１の保護膜としても機能していてもよいし、その双方の機能を有していてもよい。即ち、偏光膜１、ポリマーフィルム３ａ及び光学異方性層５、又は偏光膜１０１、ポリマーフィルム１０３ａ及び光学異方性層９は、一体化された積層体として液晶表示装置内部に組み込まれていてもよいし、それぞれ単独の部材として組み込まれていてもよい。また、ポリマーフィルム３ａと偏光膜１との間、又はポリマーフィルム１０３ａと偏光膜１０１との間に、別途、偏光膜用の保護膜が配置された構成であってもよいが、該保護膜は配置されていないのが好ましい。ポリマーフィルム３ａの遅相軸４ａ、ポリマーフィルム１０３ａの遅相軸１０４ａは、互いに実質的に平行もしくは直交しているのが好ましい。ポリマーフィルム３ａ及び１０３ａの遅相軸４ａ及び１０４ａが互いに直交していると、それぞれのポリマーフィルムの複屈折を互いに打ち消すことにより、液晶表示装置に垂直入射した光の光学特性が劣化するのを低減することができる。また、遅相軸４ａ及び１０４ａが互いに平行する態様では、液晶層に残留位相差がある場合には保護膜の複屈折でこの位相差を補償することができる。
【００２６】
偏光膜１及び１０１の透過軸２及び１０２、ポリマーフィルム３ａ及び１０３ａの遅相軸方向４ａ及び１０４ａ、ならびに液晶分子７の配向方向については、各部材に用いられる材料、表示モード、部材の積層構造等に応じて最適な範囲に調整する。すなわち、偏光膜１の透過軸２及び偏光膜１０１の透過軸１０２が、互いに実質的に直交しているように配置する。但し、本発明の液晶表示装置は、この構成に限定されるものではない。
【００２７】
光学異方性層５及び９は、ポリマーフィルム３ａ及び１０３ａと、液晶セルとの間に配置される。光学異方性層５及び９は、液晶性化合物、例えば、棒状化合物又は円盤状化合物を含有する組成物から形成された層である。光学異方性層において、液晶性化合物の分子は、所定の配向状態に固定されている。光学異方性層５及び９中の液晶性化合物の分子対称軸の、少なくともポリマーフィルム３ａ及び１０３ａ側の界面における配向平均方向５ａ及び９ａと、ポリマーフィルム３ａ及び１０３ａの面内の遅相軸４ａ及び１０４ａは、略４５度で交差している。かかる関係で配置すると、光学異方性層５又は９が、法線方向からの入射光に対してレタデーションを生じさせて、光漏れを生じさせることがない。液晶セル側の界面においても、光学異方性層５及び９の分子対称軸の配向平均方向は、ポリマーフィルム３ａ及び１０３ａの面内の遅相軸４ａ及び１０４ａは略４５度であるのが好ましい。
【００２８】
また、光学異方性層５の液晶性化合物の分子対称軸の偏光膜側（ポリマーフィルム界面側）の配向平均方向５ａは、より近くに位置する偏光膜１の透過軸２と略４５度に配置するのが好ましい。同様に、光学異方性層９の液晶性化合物の分子対称軸の偏光膜側（ポリマーフィルム界面側）の配向平均方向９ａが、より近くに位置する偏光膜１０１の透過軸１０２と略４５度に配置するのが好ましい。かかる関係で配置すると、光学異方性層５又は９が発生するレタデーションと液晶層で発生するレタデーションとの和に応じて光スイッチングをすることができる。
【００２９】
本発明では、液晶セルの黒表示時の波長４００ｎｍ及び５５０ｎｍにおけるレタデーションＲｅ１（４００）及びＲｅ１（５５０）に着目し、その波長分散性α１＝Ｒｅ１（４００）／Ｒｅ１（５５０）と略等しい、波長分散性を示す光学異方性層を用いている。通常、ＯＣＢモードの液晶セルでは、α１は、１．０〜１．２程度であるので、上記関係式（１）を満足するためには、光学異方性層の波長４００ｎｍ及び波長５５０ｎｍにおけるレタデーションＲｅ２（４００）及びＲｅ２（５５０）の比α２＝Ｒｅ２（４００）／Ｒｅ２（５５０）は、０．９〜１．３程度とするのが好ましく、１．２未満とするのがより好ましく、１．１８未満とするのがさらに好ましい。かかる波長分散性を示す光学異方性層は、例えば、波長分散性が互いに異なる液晶性化合物を二種以上含有する組成物、液晶性化合物とともに非液晶性化合物を含有する組成物、及び／又は、配向時の温度において所定の範囲の粘度を示す組成物、を用いて形成することができる。これらの方法については、後述する。
【００３０】
次に、図１の液晶表示装置の画像表示の原理について説明する。
液晶セル基板６及び８のそれぞれの透明電極（不図示）に黒に対応する駆動電圧を印加した駆動状態では、液晶層中の液晶分子７はベンド配向をし、そのときの面内のレタデーションを光学異方性層５及び９の面内のレタデーションで相殺して、その結果、入射した光の偏光状態はほとんど変化しない。偏光膜１と１０１の透過軸２、１０２は直交しているので、下側（例えば背面電極）から入射した光は、偏光膜１０１によって偏光され、偏光状態を維持したまま液晶セル５〜８を通過し、偏光膜１によって遮断される。すなわち、図１の液晶表示装置では、駆動状態において理想的な黒表示を実現する。これに対し、透明電極（不図示）に白に対応する駆動電圧を印加した駆動状態では、液晶層中の液晶分子７は黒に対応するベンド配向と異なったベンド配向になり、正面における面内レタデーションが黒のときと変化する。その結果、光学異方性層５及び９の面内のレタデーションで相殺しなくなり、液晶セル５〜８を通過することによって偏光状態が変化し、偏光膜１を通過する。すなわち、白表示が得られる。
【００３１】
本発明では、上記関係式（１）を満足する光学異方性層を配置することで、ＯＣＢモードの液晶表示装置の正面及び左右の黒の光抜け及び色ずれを同時に改善している。さらに特定の光学特性を示すポリマーフィルムを組み合わせて配置することで、視野角に依存した色ずれをさらに改善することができる。即ち、本発明では、上記関係式（１）を満足する光学異方性層と組み合わせられるポリマーフィルムのＲｅとＲｔｈの比であるＲｅ／Ｒｔｈにも着目している。これは、Ｒｅ／Ｒｔｈの値は、２軸性複屈折媒体を斜め方向に進む光の伝播における２つの固有偏光の軸を決定するものだからである。２軸性複屈折媒体を斜め方向に進む光の伝播における２つの固有偏光の軸は、屈折率楕円体を光の進行方向の法線方向で切ったときに出来る断面の長軸と短軸の方向に対応する。
【００３２】
通常、光学異方性層の支持体や、偏光膜の保護膜である、光学異方性層と偏光膜との間に配置されるポリマーフィルムとしては、Ｒ、Ｇ、Ｂ各波長にかかわりなくＲｅ／Ｒｔｈの値はほぼ同一、すなわち遅相軸角度もほぼ同一のポリマーフィルムが用いられている。本発明でも、前記光学異方性層の支持体や偏光膜の保護フィルムとして、かかる特性のポリマーフィルムを用いてもよいが、Ｒ、Ｇ、Ｂ各波長について、別々にＲｅ／Ｒｔｈが所定の関係を満足するポリマーフィルムを用いると、偏光状態の変化を主に決定するファクターである遅相軸及びレタデーションの双方をＲ、Ｇ、Ｂ各波長において最適化することができ、視野角に依存した色ずれをさらに軽減することができる。そして、ポリマーフィルムを通った斜め方向の光が、所定の波長分散性を有する光学異方性層を通り、さらにベンド配向の液晶層を通ったときに、いずれの可視光域波長において、レタデーション及び上下偏光膜の見かけの透過軸が正面からずれるという２つの要因を同時に補償できるように、ポリマーフィルムのＲｅ／Ｒｔｈの値を波長に応じて調整するのが好ましい。具体的には、波長が大きいほどポリマーフィルムのＲｅ／Ｒｔｈを大きくすることによって、光学異方性層及び液晶セル層の波長分散によって発生するＲ、Ｇ、Ｂにおける偏光状態の差をさらに軽減することが可能になる。その結果、所定の波長分散性を示す光学異方性層と、所定の波長分散性を示すポリマーフィルムとを組み合わせることで、より補償が完全となり、且つコントラストの低下をより軽減することができる。Ｒ、Ｇ、Ｂで可視光全領域を代表させてフィルムのパラメータを決めれば、可視光全領域でほぼ完全な補償をすることができるということになる。
【００３３】
かかる観点から、ポリマーフィルム３ａ及び１０３ａは、波長４５０ｎｍにおけるＲｅ３とＲｔｈ３の比Ｒｅ３／Ｒｔｈ３（４５０ｎｍ）が、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ３／Ｒｔｈ３（５５０ｎｍ）の０．４〜０．９５倍であり、波長６５０ｎｍにおけるＲｅ３／Ｒｔｈ３（６５０ｎｍ）が、Ｒｅ３／Ｒｔｈ３（５５０ｎｍ）の１．０５〜１．９倍の関係を満たし、且つＲｔｈが７０〜４００ｎｍであることが好ましい。
【００３４】
本発明の液晶表示装置は、図１に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。
【００３５】
また、本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴやＭＩＭのような３端子又は２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。勿論、時分割駆動と呼ばれるＳＴＮ型に代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。
【００３６】
次に、本発明の光学補償フィルムの作製に用いられる材料、作製方法等について、詳細に説明する。
［光学補償フィルム]
本発明の光学補償フィルムは、液晶表示装置、特にＯＣＢモード、ＶＡモードの液晶表示装置の視野角コントラストの拡大、及び視野角に依存した色ずれの軽減に寄与する。本発明の光学補償フィルムは、観察者側の偏光板と液晶セルとの間に配置しても、背面側の偏光板と液晶セルとの間に配置してもよいし、双方に配置してもよい。例えば、独立の部材として液晶表示装置内部に組み込むこともできるし、また、偏光膜を保護する保護膜に、光学特性を付与して透明フィルムとしても機能させて、偏光板の一部材として、液晶表示装置内部に組み込むこともできる。本発明の光学補償フィルムの好ましい態様は、ポリマーフィルム（より好ましくはセルロースアシレートフィルム）からなる支持体と、該支持体上に所定の波長分散性を示す光学異方性層とを有する態様である。前記ポリマーフィルムと光学異方性層との間に、光学異方性層中の液晶性化合物の配向を制御する配向膜を有していてもよい。また、後述する光学特性を満たす限り、該ポリマーフィルム及び光学異方性層はそれぞれ、２以上の層からなっていてもよい。まず、本発明の光学補償フィルムの各構成部材について詳細に説明する。
【００３７】
（光学異方性層）
本発明の光学補償フィルムは、液晶性化合物の少なくとも一種を含有する組成物から形成された光学異方性層を少なくとも一層有する。前記光学異方性層は、セルロースアシレートフィルム等の支持体の表面に直接形成してもよいし、支持体上に配向膜を形成し、該配向膜上に形成してもよい。また、別の基材に形成した液晶性化合物層を、粘着剤、接着剤等を用いて、セルロースアシレートフィルム等の支持体上に転写することで、本発明の光学補償フィルムを作製することも可能である。
光学異方性層の形成に用いる液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物（以下、円盤状液晶性化合物を「ディスコティック液晶性化合物」という場合もある）が挙げられる。棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよい。また、最終的に光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はなく、例えば、光学異方性層の作製に低分子液晶性化合物を用いた場合、光学異方性層を形成される過程で、該化合物が架橋され液晶性を示さなくなった態様であってもよい。
【００３８】
（棒状液晶性化合物）
本発明に使用可能な棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
【００３９】
本発明に用いる棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基又はエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。
【００４０】
（ディスコティック液晶性化合物）
ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【００４１】
前記ディスコティック液晶性化合物には、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基又は置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の、液晶性を示す化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。
【００４２】
上記した様に、液晶性化合物から光学異方性層を形成した場合、最終的に光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はない。例えば、低分子のディスコティック液晶性化合物が熱又は光で反応する基を有しており、熱又は光によって該基が反応して、重合又は架橋し、高分子量化することによって光学異方性層が形成される場合などは、光学異方性層中に含まれる化合物は、もはや液晶性を失っていてもよい。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【００４３】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物の代表的な例としては下記式（Ａ）で表されるディスコティック液晶性化合物が挙げられる。
【００４４】
一般式（Ａ）
【化６】
2007102205.tif 000007
【００４５】
式中、Ｒ50は、置換基を有しいてもよいアルキル基であり、好ましくは末端に重合性基（（メタ）アクリロイル基、エポキシ基等）を有する炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基である。一般式（Ａ）で表される化合物としては、Ｒが下記式で表される化合物が挙げられる。
【００４６】
【化７】
2007102205.tif 000008
【００４７】
但し、上記式（Ａ）で表されるディスコティック化合物を用いて光学異方性層を形成しても、波長４００ｎｍ及び波長５５０ｎｍにおけるレタデーションＲｅ２（４００）及びＲｅ２（５５０）の波長分散性を、黒表示時の液晶セルの前記波長範囲における波長分散性と略等しくすることは困難である。下記式（ＤＩ）及び（Ｉ）で表わされる化合物の少なくとも一種を含有する組成物から形成すると、光学異方性層の波長分散性を、黒表示時の液晶セルの前記波長における波長分散性と略等しい範囲に容易に調整できるので好ましい。
【００４８】
一般式（Ｉ）
【化８】
2007102205.tif 000009
【００４９】
一般式（Ｉ）において、Ｄは円盤状コアである。円盤状コアは、該円盤状化合物の中心に位置し、その円盤面を構成する。円盤状コアは、円盤状液晶性分子の分子構造において、よく知られている概念である。円盤状液晶（Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１  （１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４）等に記載されている。
【００５０】
以下に、円盤状コアの例を示す。各化合物中のＹは下記一般式（ＶＩ）を意味する。下記一般式（ＶＩ）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、前記一般式（Ｉ）のものと同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００５１】
一般式（ＶＩ）
【化９】
2007102205.tif 000010
【００５２】
【化１０】
2007102205.tif 000011
【００５３】
【化１１】
2007102205.tif 000012
【００５４】
円盤状コア（Ｄ）は、トリフェニレン（Ｚ４）であることが特に好ましい。
円盤状コア（Ｄ）は、Ｙ（前記一般式（ＶＩ））以外の置換基を有していてもよい。円盤状コアが有していてもよい置換基の例は、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、メルカプト基、ウレイド基、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基、置換アリール基、複素環基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、アリールオキシ基、置換アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、置換アミノ基、アミド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、置換アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、置換アリールオキシカルボニルアミノ基、置換カルバモイル基、スルホンアミド基、置換スルファモイル基、アルキルチオ基、置換アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アリールチオ基、アルキルスルホニル基、置換アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、置換アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、置換アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、置換アリールスルフィニル基、置換ウレイド基、リン酸アミド基、置換シリル基、アルコキシカルボニルオキシ基、置換アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基ならびに置換アリールオキシカルボニルオキシ基を含む。
【００５５】
アルキル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は１〜３０であることが好ましい。置換アルキル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキル基の置換基の例は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基が除外される以外は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００５６】
アルケニル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルケニル基の炭素原子数は２〜３０であることが好ましい。置換アルケニル基のアルケニル部分は、アルケニル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルケニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。アルキニル基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルキニル基の炭素原子数は２〜３０であることが好ましい。置換アルキニル基のアルキニル部分は、アルキニル基と同様である。置換アルキニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００５７】
アリール基の炭素原子数は、６〜３０であることが好ましい。置換アリール基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリール基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００５８】
複素環基は、５員又は６員の複素環を有することが好ましい。複素環に、他の複素環、脂肪族環又は芳香族環が縮合していてもよい。複素環の複素原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子であることが好ましい。複素環基は置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００５９】
アルコキシ基及び置換アルコキシ基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルコキシ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。アリールオキシ基及び置換アリールオキシ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００６０】
アシル基はホルミル又は−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
アシルオキシ基はホルミルオキシ又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００６１】
アルコキシカルボニル基及び置換アルコキシカルボニル基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルコキシカルボニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アリールオキシカルボニル基及び置換アリールオキシカルボニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００６２】
置換アミノ基は、−ＮＨ−Ｒ又は−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
アミド基は、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
イミド基は、−Ｎ（−ＣＯ−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００６３】
アルコキシカルボニルアミノ基及び置換アルコキシカルボニルアミノ基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルコキシカルボニルアミノ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールオキシカルボニルアミノ基及び置換アリールオキシカルボニルアミノ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニルアミノ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同様である。
【００６４】
置換カルバモイル基は、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ又は−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
スルホンアミド基は、−ＮＨ−ＳＯ2−Ｒで表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。置換スルファモイル基は、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｒ又は−ＳＯ2−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００６５】
アルキルチオ基及び置換アルキルチオ基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルキルチオ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同様である。
アリールチオ基及び置換アリールチオ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールチオ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルホニル基及び置換アルキルスルホニル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルホニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００６６】
アリールスルホニル基及び置換アリールスルホニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールスルホニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルフィニル基及び置換アルキルスルフィニル基のアルキル部分は、アルキル基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルフィニル基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アルキルスルフィニル基及び置換アルキルスルフィニル基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アルキルスルフィニル基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００６７】
置換ウレイド基は、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ又は−ＮＨ−ＣＯ−Ｎ（−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
リン酸アミド基は、−ＮＨ−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）−Ｏ−Ｒ又は−ＮＨ−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）2で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
置換シリル基は、−ＳｉＨ2−Ｒ、−ＳｉＨ（−Ｒ）2又は−Ｓｉ（−Ｒ）3で表され、Ｒはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アリール基又は置換アリール基である。
【００６８】
アルコキシカルボニルオキシ基及び置換アルコキシカルボニルオキシ基のアルキル部分は、アルキル基と同様である。置換アルコキシカルボニルオキシ基の置換基の例は、置換アルキル基の置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
アリールオキシカルボニルオキシ基及び置換アリールオキシカルボニルオキシ基のアリール部分は、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同義である。置換アリールオキシカルボニルオキシ基の置換基の例は、円盤状コアの置換基の例と同義であり、好ましい範囲も同義である。
【００６９】
一般式（Ｉ）において、ｎ１は３〜２０の整数であって、３〜１５の整数であることが好ましく、３〜１２の整数であることがより好ましく、３〜１０の整数であることがさらに好ましく、４〜８の整数であることがさらにまた好ましく、６であることが最も好ましい。
【００７０】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は水素原子又は置換基を表し、これらの例は円盤状コアの置換基の例と同様なものが挙げられる。また、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5のいずれか二つが結合して環を形成していてもよく、例えば、脂肪族又は芳香族環があげられる。好ましくはＲ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、シアノ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基又はハロゲン原子である。
【００７１】
カルボニルオキシ基に対し、Ｒ2及びＲ3、Ｒ4及びＲ5は、シス・トランスの位置関係が存在する。シスとはシクロプロパン環面に対してカルボニルオキシ基と同方向に置換基が存在する状態であり、トランスとはシクロプロパン環面に対してカルボニルオキシ基と逆方向に置換基が存在する状態である。この位置関係は指定のない限り特には制限しない。
【００７２】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の置換基の組み合わせにより、エナンチオマー及びジアステレオマー立体異性体が存在するが、これらは指定のない限り特には制限しない。
【００７３】
一般式（Ｉ）で表される円盤状化合物は、下記一般式（II）で表されることが好ましい。
【００７４】
一般式（ＩＩ）
【化１２】
2007102205.tif 000013
一般式（ＩＩ）において、Ｄは円盤状コアである。ｎ１は３〜２０の整数である。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は水素原子又は置換基を表し、互いに結合して環を形成していてもよい。ｍは１〜５の整数を表す。Ｒ6は置換基を表し、複数のＲ6が存在する時、それぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
【００７５】
上記Ｄ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、一般式（Ｉ）で定義したＤ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5と同様であり、好ましい範囲も同義である。
【００７６】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ6は置換基を表し、これらの例は円盤状コアの置換基の例と同様なものが挙げられる。好ましいＲ6の例は、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニルオキシ基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基又は置換もしくは無置換のアシルオキシ基である。さらに好ましくは、少なくとも１つのＲ6が置換アルキル基、置換アルコキシ基、置換アルコキシカルボニル基、置換アリール基、置換アリールオキシ基、置換アルコキシカルボニルオキシ基、置換アリールオキシカルボニルオキシ基又は置換アシルオキシ基であり、置換基の末端に重合性基を有する。
【００７７】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ6の置換位置は指定のない限り特に制限しない。好ましくは少なくとも１つのＲ6がパラ位に存在する。
一般式（ＩＩ）において、カルボニルオキシ基に対して、Ｒ5には、シス・トランスの位置関係が存在する。この位置関係は指定のない限り特には制限しない。好ましくはシスである。
【００７８】
本発明の円盤状化合物、例えば、一般式（Ｉ）で表される円盤状化合物は、重合性基を有していてもよい。重合性基を有する円盤状化合物（重合性円盤状化合物）は、重合反応により円盤状化合物の円盤面が配向している状態を固定することができる。
一般式（Ｉ）で表される化合物が重合性基を有する場合、Ｒ４は置換アルキル基、置換アルコキシ基、置換アリール基又は置換アリールオキシ基であって、各置換基の末端に重合性基を有することが好ましい。
重合性円盤状化合物は、さらに、下記一般式（III）で表されることが好ましい。
【００７９】
一般式（III）
【化１３】
2007102205.tif 000014
【００８０】
一般式（III）において、Ｄは円盤状コアである。ｎ１は３〜２０の整数を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、それぞれ、水素原子又は置換基をあらわし、互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｄ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、一般式（Ｉ）で定義したＤ、ｎ１、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5と同様であり、好ましい範囲も同義である。
【００８１】
一般式（III）において、Ｌは酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、及びそれらの組み合わせから選ばれる２価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は１〜３０であることが好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、アルキレン基と同様である。置換アルキレン基の置換基の例は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基が除外される以外は、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例と同様である。
アリーレン基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましい。アリーレン基は、フェニレン又はナフチレンであることが好ましく、フェニレンであることがさらに好ましく、ｐ−フェニレンであることが最も好ましい。
置換アリーレン基のアリーレン部分は、アリーレン基と同様である。置換アリーレン基の置換基の例は、一般式（Ｉ）で説明した円盤状コアの置換基の例と同様である。
一般式（III）において、Ｑは重合性基である。重合性基は、エポキシ基又はエチレン性不飽和基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和基（例、ビニル、１−プロペニル、イソプロペニル）であることが最も好ましい。
【００８２】
本発明の円盤状化合物として、特に、好ましい円盤状化合物は、下記一般式（ＩＶ）で表されるトリフェニレン化合物である。
【００８３】
一般式（ＩＶ）
【化１４】
2007102205.tif 000015
【００８４】
一般式（ＩＶ）において、Ｄ1はトリフェニレンを表し、ｎ１は３〜６の整数を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ、水素原子、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、炭素原子数が３〜２０の置換もしくは無置換のアルケニルオキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基又は炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、炭素原子数が１〜２０の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基である。各基の定義及び例は、一般式（Ｉ）と同様であり、好ましい範囲も同義である。
【００８５】
一般式（ＩＶ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ5は、それぞれ、水素原子、メチル基、エチル基、メチルオキシ基、エチルオキシ基、シアノ基、ハロゲン原子又は置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基であるのが好ましい。
一般式（ＩＶ）において、好ましくはＲ4が、炭素原子数が６〜２０の置換もしくは無置換のアリール基である。一般式（ＩＶ）において、好ましくはＲ4が、カルボニルオキシ基に対して、トランスである。
【００８６】
一般式（ＩＶ）で表されるトリフェニレン化合物は、重合性基を有することができる。重合性基を有するトリフェニレン化合物（重合性トリフェニレン化合物）は、重合反応によりトリフェニレンからなる円盤面が配向している状態を固定することができる。
一般式（ＩＶ）で表されるトリフェニレン化合物が重合性基を有する場合、Ｒ4は炭素原子数が２〜２０の置換アルキル基、炭素原子数が２〜２０の置換アルコキシ基、炭素原子数が６〜２０の置換アリール基又は炭素原子数が６〜２０の置換アリールオキシ基であって、置換基の末端に重合性基を有することが好ましい。
上記一般式（ＩＶ）には、不斉炭素原子が存在するため、ジアステレオマーやエナンチオマーが存在するが、本発明においてはこれらを区別せず、すべて含まれるものとする。つまり、構造の記述方法により立体異性体を区別しないこととする。
【００８７】
以下に、一般式（Ｉ）で表される円盤状化合物の例を示す。なお、それぞれの例示化合物を表すとき、該例示化合物の横に記載されている数値（ｘ）をもって、例示化合物（ｘ）と示す。
【００８８】
【化１５】
2007102205.tif 000016
【００８９】
【化１６】
2007102205.tif 000017
【００９０】
【化１７】
2007102205.tif 000018
【００９１】
【化１８】
2007102205.tif 000019
【００９２】
【化１９】
2007102205.tif 000020
【００９３】
【化２０】
2007102205.tif 000021
【００９４】
一般式（ＤＩ）
【化２１】
2007102205.tif 000022
【００９５】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。
【００９６】
Ｙ11、Ｙ12及びＹ13がメチンの場合、メチンの水素原子は置換基で置き換わってもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子及びシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がさらに好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がより好ましい。
Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、いずれもメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることがさらに好ましい。
【００９７】
Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩ−Ｂ）又は下記一般式（ＤＩ−Ｃ）を表す。波長分散性を小さくしようとする場合、一般式（ＤＩ−Ａ）又は一般式（ＤＩ−Ｃ）が好ましく、一般式（ＤＩ−Ａ）がより好ましい。Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、Ｒ11＝Ｒ12＝Ｒ13であることが好ましい。
【００９８】
一般式（ＤＩ−Ａ）
【化２２】
2007102205.tif 000023
【００９９】
一般式（ＤＩ−Ａ）中、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15及びＡ16は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。
Ａ11及びＡ12は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ13、Ａ14、Ａ15及びＡ16は、それらのうち、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。さらに、メチンは無置換であることが好ましい。
Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14、Ａ15又はＡ16がメチンの場合の置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ1は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１００】
一般式（ＤＩ−Ｂ）
【化２３】
2007102205.tif 000024
【０１０１】
一般式（ＤＩ−Ｂ）中、Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25及びＡ26は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。
Ａ21及びＡ22は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ23、Ａ24、Ａ25及びＡ26は、それらのうち、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。
Ａ21、Ａ22、Ａ23、Ａ24、Ａ25又はＡ26がメチンの場合の置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ2は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１０２】
一般式（ＤＩ−Ｃ）
【化２４】
2007102205.tif 000025
【０１０３】
一般式（ＤＩ−Ｃ）中、Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35及びＡ36は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。
Ａ31及びＡ32は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ33、Ａ34、Ａ35及びＡ36は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。
Ａ31、Ａ32、Ａ33、Ａ34、Ａ35又はＡ36がメチンの場合、メチンは置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ3は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１０４】
一般式（ＤＩ−Ａ）中のＬ11、一般式（ＤＩ−Ｂ）中のＬ21、一般式（ＤＩ−Ｃ）中のＬ31はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−である。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【０１０５】
一般式（ＤＩ−Ａ）中のＬ12、一般式（ＤＩ−Ｂ）中のＬ22、一般式（ＤＩ−Ｃ）中のＬ32はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【０１０６】
Ｌ12、Ｌ22、Ｌ32はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれることが好ましい。
【０１０７】
Ｌ12、Ｌ22、Ｌ32はそれぞれ独立して、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数２〜１４であることがより好ましい。炭素数２〜１４が好ましく、−ＣＨ2−を１〜１６個有することがより好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個有することがさらに好ましい。
【０１０８】
Ｌ12、Ｌ22、Ｌ32はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれ、かつ炭素数１〜２０である二価の連結基であることが好ましい。なお該炭素数は、炭素数２〜１４が好ましく、−ＣＨ2−を１〜１６個有することがより好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個有することがさらに好ましい。
【０１０９】
一般式（ＤＩ−Ａ）中のＱ11、一般式（ＤＩ−Ｂ）中のＱ21、一般式（ＤＩ−Ｃ）中のＱ31はそれぞれ独立して重合性基又は水素原子を表す。本発明の化合物を光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないものが好ましい光学フィルム等に用いる場合には、Ｑ11、Ｑ21、Ｑ31は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。すなわち、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【０１１０】
【化２５】
2007102205.tif 000026
【０１１１】
さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基又は開環重合性基が好ましい。
【０１１２】
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【０１１３】
【化２６】
2007102205.tif 000027
【０１１４】
式（Ｍ−３）、（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、水素原子又はメチル基が好ましい。
上記式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中、（Ｍ−１）又は（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。
【０１１５】
開環重合性基は、環状エーテル基が好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。
【０１１６】
以下に、一般式（ＤＩ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１１７】
【化２７】
2007102205.tif 000028
【０１１８】
【化２８】
2007102205.tif 000029
【０１１９】
【化２９】
2007102205.tif 000030
【０１２０】
【化３０】
2007102205.tif 000031
【０１２１】
【化３１】
2007102205.tif 000032
【０１２２】
【化３２】
2007102205.tif 000033
【０１２３】
【化３３】
2007102205.tif 000034
【０１２４】
【化３４】
2007102205.tif 000035
【０１２５】
【化３５】
2007102205.tif 000036
【０１２６】
【化３６】
2007102205.tif 000037
【０１２７】
【化３７】
2007102205.tif 000038
【０１２８】
【化３８】
2007102205.tif 000039
【０１２９】
【化３９】
2007102205.tif 000040
【０１３０】
【化４０】
2007102205.tif 000041
【０１３１】
【化４１】
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【０１３２】
【化４２】
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【０１３３】
【化４３】
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【０１３４】
【化４４】
2007102205.tif 000045
【０１３５】
【化４５】
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【０１３６】
【化４６】
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【０１３７】
【化４７】
2007102205.tif 000048
【０１３８】
【化４８】
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【０１３９】
【化４９】
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【０１４０】
【化５０】
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【０１４１】
【化５１】
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【０１４２】
【化５２】
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【０１４３】
【化５３】
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【０１４４】
【化５４】
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【０１４５】
【化５５】
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【０１４６】
【化５６】
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【０１４７】
【化５７】
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【０１４８】
【化５８】
2007102205.tif 000059
【０１４９】
前記光学異方性層の形成に用いる液晶性化合物は、良好なモノドメイン性を示す液晶相を発現することが望ましい。モノドメイン性が悪い場合には、得られる構造がポリドメインとなり、ドメイン同士の境界に配向欠陥が生じ、光を散乱するようになる。良好なモノドメイン性を示すと、位相差板が高い光透過率を有しやすくなる。
【０１５０】
前記光学異方性層の形成に用いる液晶性化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相及びディスコティックネマチック相（ＮD相）を挙げることができる。これらの液晶相の中では、良好なモノドメイン性を示すディスコティックネマチック相（ＮD相）が最も好ましい。
【０１５１】
前記光学異方性層の形成に用いる液晶性化合物は、液晶相を２０℃〜３００℃の範囲で発現することが好ましい。さらに好ましくは４０℃〜２８０℃であり、最も好ましくは６０℃〜２５０℃である。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（具体的に例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（具体的に例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。
【０１５２】
本発明において、前記光学異方性層中、前記棒状化合物又は前記円盤状化合物の分子は、配向状態に固定されているのが好ましい。液晶性化合物の分子対称軸の、前記セルロースアシレートフィルム側の界面における配向平均方向は、該セルロースアシレートフィルムの面内の遅相軸との交差角が略４５度である。なお、本明細書において、「略４５°」とは、４５°±５°の範囲の角度をいい、好ましくは４２〜４８°であり、より好ましくは４３〜４７°である。前記光学異方性層中の液晶性化合物の分子対称軸の平均方向は、支持体の長手方向（すなわち、支持体の進相軸方向）に対して４３°〜４７°であることが好ましい。
【０１５３】
液晶性化合物の分子対称軸の配向平均方向は、一般に液晶性化合物もしくは配向膜の材料を選択することにより、又はラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。本発明では、例えば、光学異方性層形成用配向膜をラビング処理によって作製する場合は、支持体となるポリマーフィルム（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の遅相軸に対して４５°の方向にラビング処理することで、液晶性化合物の分子対称軸の、少なくとも支持体界面における配向平均方向が、支持体の遅相軸に対して４５°である光学異方性層を形成することができる。例えば、本発明の光学補償フィルムの支持体として、遅相軸が長手方向と平行なセルロースアシレートフィルム等の長尺状のポリマーフィルムを用いると連続的に作製できる。具体的には、長尺状のポリマーフィルムの表面に連続的に配向膜形成用塗布液を塗布して膜を作製し、次に該膜の表面を連続的に長手方向に４５°の方向にラビング処理して配向膜を作製し、次に作製した配向膜上に連続的に液晶性化合物を含有する光学異方性層形成用塗布液を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させて、その状態に固定することで光学異方性層を作製して、長尺状の光学補償フィルムを連続的に作製することができる。長尺状に作製された光学補償フィルムは、液晶表示装置内に組み込まれる前に、所望の形状に裁断される。
【０１５４】
また、液晶性化合物の表面側（空気側）の分子対称軸の配向平均方向について、空気界面側の液晶性化合物の分子対称軸の配向平均方向は、セルロースアシレートフィルム等の支持体の遅相軸に対して略４５°であるのが好ましく、４２〜４８°であるのがより好ましく、４３〜４７°であるのがさらに好ましい。空気界面側の液晶性化合物の分子対称軸の配向平均方向は、一般に、液晶性化合物又は液晶性化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。液晶性化合物と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマ−及びポリマーなどを挙げることができる。分子対称軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性化合物と添加剤との選択により調整できる。特に界面活性剤に関しては、上述の塗布液の表面張力制御と両立することが好ましい。
【０１５５】
液晶性化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマ−は、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。重合性モノマ−（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物の添加量は、液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマ−を混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることが出来る。
【０１５６】
液晶性化合物としてディスコティック液晶性化合物を用いる場合には、ディスコティック液晶性化合物とある程度の相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物に傾斜角の変化を与えられるポリマーを用いるのが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロ−ス及びセルロースアセテートブチレ−トを挙げることができる。ディスコティック液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
ディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【０１５７】
本発明において、前記光学異方性層は、少なくとも面内光学異方性を有する。前記光学異方性層の、面内レタデーションＲｅは３〜３００ｎｍであるのが好ましく、５〜２００ｎｍであるのがより好ましく、１０〜１００ｎｍであるのがさらに好ましい。前記光学異方性層の厚さ方向のレタデーションＲｔｈについては、２０〜４００ｎｍであるのが好ましく、５０〜２００ｎｍであるのがより好ましい。また、前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０ミクロンであることが好ましく、０．５〜１５ミクロンであることがさらに好ましく、１〜１０ミクロンであることが最も好ましい。
【０１５８】
本発明では、前記光学異方性層が、黒表示時の液晶セルの波長４００ｎｍ及び５５０ｎｍにおける波長分散性と一致する様に、波長分散性を調整する。上記した様に、ＯＣＢモード等の液晶セルの黒表示時のα１＝Ｒｅ１（４００）／Ｒｅ１（５５０）は、一般的には１．０〜１．２程度である。従って、上記関係式（１）を満足するためには、光学異方性層のα２＝Ｒｅ２（４００）／Ｒｅ２（５５０）を、０．９〜１．３程度とするのが好ましく、１．２未満とするのがより好ましく、１．１８未満とするのがさらに好ましい。
光学異方性層の波長分散性を調整する方法の一例として、波長分散性が互いに異なる液晶性化合物を二種以上含有する組成物から前記光学異方性層を形成する方法がある。例えば、前記式（Ａ）で表されるディスコティック液晶性化合物と、前記一般式（Ｉ）又は前記一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物の少なくとも一種とを含有する組成物から光学異方性層を形成するのが好ましい。前記式（Ａ）で表されるディスコティック液晶性化合物と、前記一般式（Ｉ）又は前記一般式（ＤＩ）で表される化合物のモル比の好ましい範囲は、用いる化合物の種類によって変動するが、一般的には、１０／９０以下であるのが好ましく、５／９５以下であるのがより好ましい。
なお、液晶性化合物そのものの波長分散性は、ハイブリッド配向、水平配向、垂直配向いずれかの配向状態で硬化された膜のレタデーションによって測定することができ、かかる方法によって測定された波長分散性が互いに異なる、好ましくは、各々単独で求めた前記α２が１．２以上の化合物と１．２未満の化合物の複数の液晶性化合物を用いる。
【０１５９】
また、上記方法に代えて、又は上記方法と組み合わせて、光学異方性層の波長分散性を、液晶性化合物と非液晶性化合物との混合比率を調整することによって、好ましい範囲としてもよい。液晶性化合物として、前記一般式（Ｉ）又は前記一般式（ＤＩ）で表される化合物の少なくとも一種を用い、且つ非液晶性化合物として、前記一般式（Ｉ）または一般式（ＤＩ）で表される化合物の中で単独で液晶性を発現しない化合物から選ばれる少なくとも一種を用いるのが好ましい。前記液晶性化合物と非液晶性化合物との好ましいモル比率は、用いる化合物の種類に応じて変動するが、一般的には、非液晶性化合物の含量が１０％以下であるのが好ましく、５％以下であるのがより好ましい。
【０１６０】
上記二種の方法に代えて、又は上記二種の方法の少なくとも一方と組み合わせて、光学異方性層の波長分散性を、液晶性分子を配向させる際の組成物の粘度を調整することで、好ましい範囲としてもよい。具体的には、組成物中に含有される液晶性化合物の分子を温度Ｔ℃において配向させて光学異方性層を形成する場合、温度Ｔ℃における粘度が１５００ｍＰａ・ｓ以下となる様に、前記組成物を調製するのが好ましい。温度Ｔ℃における粘度は、１２００ｍＰａ・ｓ以下であるのがより好ましく、１０００ｍＰａ・ｓ以下であるのがさらに好ましい。かかる粘度範囲で液晶性分子を配向させることによって、配向に要する時間が短縮され、フィルムの生産性が向上することとなるので好ましい。
【０１６１】
(支持体)
本発明の光学補償フィルムは、支持体を有していてもよい。支持体は、ポリマーフィルムであることが好ましい。また、支持体は、透明であるのが好ましく、具体的には、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ポリマーフィルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースジアセテート）、ノルボルネン系ポリマー及びポリメチルメタクリレートが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートン及びゼオネックスいずれも商品名））を用いてもよい。
【０１６２】
中でもセルロースエステルフィルムが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。とくに炭素原子数が２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）又は４（セルロースブチレート）が好ましい。セルロースアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
【０１６３】
なお、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、国際公開ＷＯ００／２６７０５号公報に記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、本発明の光学フィルムに用いることもできる。
偏光板保護フィルム、もしくは位相差フィルムに本発明の光学補償フィルムを使用する場合は、ポリマーフィルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度は、５７．０〜６２．０％であることがさらに好ましい。
【０１６４】
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算によって求められる。
セルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．０〜１．６５であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【０１６５】
セルロースアセテートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるポリマーフィルムでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度又は多い方が好ましい。
２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることがさらに好ましく、３２〜４０％であることが最も好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。
各位置の置換度は、ＮＭＲによって測定することできる。
６位置換度が高いセルロースアセテートは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、そして段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【０１６６】
前記支持体は、波長４５０ｎｍにおけるＲｅ３とＲｔｈ３の比Ｒｅ３／Ｒｔｈ３（４５０ｎｍ）が、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ３／Ｒｔｈ３（５５０ｎｍ）の０．４〜０．９５倍であり、且つ波長６５０ｎｍにおけるＲｅ３／Ｒｔｈ３（６５０ｎｍ）が、Ｒｅ３／Ｒｔｈ３（５５０ｎｍ）の１．０５〜１．９倍であるのが好ましい。支持体としてセルロースアシレートフィルムを用いる場合は、下記のレタデーション上昇剤をフィルム中に含有させることで、かかる光学特性とすることができる。
【０１６７】
（レタデーション上昇剤）
本明細書において「レタデーション上昇剤」とは、ある添加剤を含むセルロースアシレートフィルムの波長５５０ｎｍで測定したＲｅレタデーション値が、その添加剤を含まない以外は全く同様に作製したセルロースアシレートフィルムの波長５５０ｎｍで測定したＲｅレタデーション値（未延伸状態）よりも、２０ｎｍ以上高い値となる「添加剤』を意味する。レタデーション値の上昇は、３０ｎｍ以上であることが好ましく、４０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、６０ｎｍ以上であることが最も好ましい。
【０１６８】
レタデーション上昇剤は、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物が好ましい。レタデーション上昇剤は、ポリマー１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．２〜５質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．５〜２質量部の範囲で使用することが最も好ましい。二種類以上のレタデーション上昇剤を併用してもよい。
レタデーション上昇剤は、２５０〜４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
レタデーション上昇剤の具体例については、特開２００１−１６６１４４号公報の６頁〜１８頁に記載の化合物が挙げられる。
【０１６９】
（配向膜）
本発明の光学補償フィルムは、前記支持体と光学異方性層との間に配向膜を有していてもよい。また、光学異方性層を作製する際にのみ配向膜を使用し、配向膜上に光学異方性層を作製した後に、該光学異方性層のみを支持体上に転写してもよい。
本発明において、前記配向膜は、架橋されたポリマーからなる層であるのが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーであっても、架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。上記配向膜は、官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入したものを、光、熱又はＰＨ変化等により、ポリマー間で反応させて形成する；又は、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋することにより形成する；ことができる。
【０１７０】
架橋されたポリマーからなる配向膜は、通常、上記ポリマー又はポリマーと架橋剤との混合物を含む塗布液を、支持体上に塗布した後、加熱等を行なうことにより形成することができる。
後述のラビング工程において、配向膜の発塵を抑制するために、架橋度を上げておくことが好ましい。前記塗布液中に添加する架橋剤の量（Ｍｂ）に対して、架橋後に残存している架橋剤の量（Ｍａ）の比率（Ｍａ／Ｍｂ）を１から引いた値（１−（Ｍａ／Ｍｂ））を架橋度と定義した場合、架橋度は５０％〜１００％が好ましく、６５％〜１００％が更に好ましく、７５％〜１００％が最も好ましい。
【０１７１】
本発明において、前記配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。勿論双方の機能を有するポリマーを使用することもできる。上記ポリマーの例としては、ポリメチルメタクリレ−ト、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコ−ル及び変性ポリビニルアルコ−ル、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロ−ス、ゼラチン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリ（Ｎ−メチロ−ルアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロ−ス、ゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーであり、さらにゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。
支持体となるセルロースアシレートフィルム等の表面に、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールを直接塗設する場合、親水性の下塗り層を設けるか、もしくは、特願２０００−３６９００４に記載の鹸化処理を施す方法が好ましく使用される。
【０１７２】
上記ポリマーの中で、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが好ましい。
ポリビニルアルコールとしては、例えば鹸化度７０〜１００％のものがあり、一般には鹸化度８０〜１００％のものが好ましく、鹸化度８２〜９８％のものがより好ましい。重合度としては、１００〜３０００のも範囲が好ましい。
変性ポリビニルアルコールとしては、共重合変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）3、Ｎ（ＣＨ3）3・Ｃｌ、Ｃ9Ｈ19ＣＯＯ、ＳＯ3Ｎａ、Ｃ12Ｈ25等が導入される）、連鎖移動により変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、ＳＣ12Ｈ25等が導入されている）、ブロック重合による変性をしたもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ2、ＣＯＯＲ、Ｃ6Ｈ5等が導入される）等のポリビニルアルコールの変性物を挙げることができる。重合度としては、１００〜３０００の範囲が好ましい。これらの中で、鹸化度８０〜１００％の未変性もしくは変性ポリビニルアルコールが好ましく、より好ましくは鹸化度８５〜９５％の未変性ないしアルキルチオ変性ポリビニルアルコールである。
【０１７３】
配向膜に用いる変性ポリビニルアルコールとして、下記一般式（６）で表わされる化合物とポリビニルアルコールとの反応物が好ましい。
【０１７４】
一般式（６）：
【化５９】
2007102205.tif 000060
【０１７５】
式中、Ｒ１ｄは無置換のアルキル基、又はアクリロリル基、メタクリロイル基もしくはエポキシ基で置換されたアルキル基を表わし、Ｗはハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基を表わし、Ｘ1dは活性エステル、酸無水物又は酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子群を表わし、ｌは０又は１を表わし、ｎは０〜４の整数を表わす。
【０１７６】
また、配向膜に用いる変性ポリビニルアルコールとして、下記一般式（７）で表わされる化合物とポリビニルアルコールとの反応物も好ましい。
【０１７７】
一般式（７）：
【化６０】
2007102205.tif 000061
【０１７８】
式中、Ｘ2dは活性エステル、酸無水物又は酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子群を表わし、ｍは２〜２４の整数を表わす。
【０１７９】
前記一般式（６）及び一般式（７）により表される化合物と反応させるために用いられるポリビニルアルコ−ルとしては、上記変性されていないポリビニルアルコール及び上記共重合変性したもの、即ち連鎖移動により変性したもの、ブロック重合による変性をしたもの等のポリビニルアルコールの変性物を挙げることができる。上記特定の変性ポリビニルアルコールの好ましい例としては、特開平８−３３８９１３号公報に詳しく記載されている。
配向膜にポリビニルアルコール等の親水性ポリマーを使用する場合、硬膜度の観点から、含水率を制御することが好ましく、０．４％〜２．５％であることが好ましく、０．６％〜１．６％であることが更に好ましい。含水率は、市販のカールフィッシャー法の水分率測定器で測定することができる。
なお、配向膜は、１０ミクロン以下の膜厚であるのが好ましい。
【０１８０】
本発明の光学補償フィルムを偏光膜と貼り合せて、偏光板と一体化して、液晶表示装置等に組み込んでもよい。かかる場合は、光学補償フィルムのポリマーフィルム等からなる支持体が、偏光膜の保護フィルムを兼ねていると、液晶表示装置の薄型化にも寄与するので好ましい。
［偏光板］
偏光板は、一般的に、ポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。偏光板は液晶セルの外側に配置される。本発明では、偏光膜と該偏光膜を挟持する一対の保護膜とからなる一対の偏光板を、液晶セルを挟持して配置させるのが好ましい。なお、上記した様に、液晶セル側に配置される保護膜は、本発明の光学補償フィルムであってもよい。
【０１８１】
《接着剤》
偏光膜と保護膜との接着剤は特に限定されないが、ＰＶＡ系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性ＰＶＡを含む）やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもＰＶＡ系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後に０．０１〜１０ミクロンが好ましく、０．０５〜５ミクロンが特に好ましい。
【０１８２】
《偏光膜と透明保護膜の一貫製造工程》
本発明に使用可能な偏光板は、偏光膜用フィルムを延伸後、収縮させ揮発分率を低下させる乾燥工程を有するが、乾燥後もしくは乾燥中に少なくとも片面に透明保護膜を貼り合わせた後、後加熱工程を有することが好ましい。前記透明保護膜が、透明フィルムとして機能する光学異方性層の支持体を兼ねている態様では、片面に透明保護膜、反対側に光学異方性層を有する透明支持体を貼り合わせた後、後加熱するのが好ましい。具体的な貼り付け方法として、フィルムの乾燥工程中、両端を保持した状態で接着剤を用いて偏光膜に透明保護膜を貼り付け、その後両端を耳きりする、もしくは乾燥後、両端保持部から偏光膜用フィルムを解除し、フィルム両端を耳きりした後、透明保護膜を貼り付けるなどの方法がある。耳きりの方法としては、刃物などのカッターで切る方法、レーザーを用いる方法など、一般的な技術を用いることができる。貼り合わせた後に、接着剤を乾燥させるため、及び偏光性能を良化させるために、加熱することが好ましい。加熱の条件としては、接着剤により異なるが、水系の場合は、３０℃以上が好ましく、さらに好ましくは４０℃〜１００℃、さらに好ましくは５０℃〜９０℃である。これらの工程は一貫のラインで製造されることが、性能上及び生産効率上更に好ましい。
【０１８３】
《偏光板の性能》
本発明に関連する透明保護膜、偏光子、透明支持体からなる偏光板の光学的性質及び耐久性（短期、長期での保存性）は、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）同等以上の性能を有することが好ましい。具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２≧０．９９９５（但し、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、６０℃、湿度９０％ＲＨ雰囲気下に５００時間及び８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率の変化率が絶対値に基づいて３％以下、更には１％以下、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１％以下、更には０．１％以下であることが好ましい。
【実施例】
【０１８４】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
［実施例１  光学補償フィルム（試料００１〜０１０）の作製］
＜セルロースアセテートフィルムの作製＞
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
（セルロースアセテート溶液組成）
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                    ８３質量部
酢化度５５．０％のセルロースアセテート                    １７質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                      ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）              ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                          ３１８質量部
メタノール（第２溶媒）                                    ４７質量部
【０１８５】
別のミキシングタンクに、下記のレタデーション上昇剤１６質量部、以下の波長分散調整剤ＵＶ−１０２を０．１〜３２質量部、メチレンクロライド８７質量部及びメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レタデーション制御剤溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に上記レタデーション制御（上昇）剤溶液３６質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レタデーション調整剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、５．０質量部であった。
【０１８６】
ＵＶ−１０２
【化６１】
2007102205.tif 000062
【０１８７】
【化６２】
2007102205.tif 000063
【０１８８】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１３０℃の条件で、テンターを用いて３〜１００％の延伸倍率で横延伸して、セルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフィルム（光学補償フィルム）について、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、Ｒｅレタデーション値及びＲｔｈレタデーション値を測定した。
【０１８９】
以上方法で、延伸率３〜１００％倍、前記の波長分散調整剤ＵＶ−１０２を０．１〜１０質量％添加することで、Ｒｅ値０〜５０ｎｍ，Ｒｔｈ値７０〜４００ｎｍの範囲にある表Ａに示したセルロースアセテートフィルムＰＫ−１及びＰＫ−２をそれぞれ得た。
【０１９０】
【表１】
2007102205.tif 000064
【０１９１】
（光学異方性層の作製）
前述のようにして作製したトリアセチルセルロースフィルム（ＰＫ−１）の表面に、１．０Ｎの水酸化カリウム溶液（溶媒：水／イソプロピルアルコール／プロピレングリコール＝６９．２質量部／１５質量部／１５．８質量部）を１０ｍｌ／ｍ2塗布し、約４０℃
の状態で３０秒間保持した後、アルカリ液を掻き取り、純水で水洗し、エアーナイフで水滴を削除した。その後、１００℃で１５秒間乾燥した。
【０１９２】
（配向膜の作製）
上記のトリアセチルセルロースフィルムＰＫ−１の表面（アルカリ処理面）に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃
の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥し、膜を作製した。
【０１９３】
───────────────────────────────────
配向膜塗布液組成
───────────────────────────────────
下記の変性ポリビニルアルコール                        １０質量部
水                                                  ３７１質量部
メタノール                                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                        ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学製  ＡＳ３）            ０．３５質量部
───────────────────────────────────
【０１９４】
【化６３】
2007102205.tif 000065
【０１９５】
（ラビング処理）
上記のトリアセチルセルロースフィルムＰＫ−１を速度２０ｍ／分で搬送し、長手方向に対して４５°にラビング処理されるようにラビングロール（３００ｍｍ直径）を設定し、６５０ｒｐｍで回転させて、ＰＫ−１上に形成された膜の表面にラビング処理を施して、配向膜を形成した。ラビングロールとの接触長さは、１８ｍｍとなるように設定した。
【０１９６】
（光学異方性層の形成）
配向膜のラビング処理面に、下記の組成の光学異方性層塗布液を＃３．０のワイヤーバーを３９１回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、２０ｍ／分で搬送されている配向膜面に連続的に塗布した。
───────────────────────────────────
ディスコティック液晶性化合物（Ａ）                    ９１．００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
９．００質量部
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）
セルロースアセテートブチレート                          １．００質量部
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３．００質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １．００質量部
フルオロ脂肪族基含有共重合体                            ０．２２質量部
（メガファックＦ７８０  大日本インキ（株）製）
メチルエチルケトン                                  ２２６．３４質量部
───────────────────────────────────
【０１９７】
【化６４】
2007102205.tif 000066
【０１９８】
室温から１００℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、１２０℃の乾燥ゾーンでディスコティック液晶化合物層の膜面風速が、２．５ｍ／ｓｅｃとなるように、約１２０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、８０℃の乾燥ゾーンに搬送させて、フィルムの表面温度が約１００℃の状態で、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させて、ディスコティック液晶化合物をその配向に固定した。その後、室温まで放冷し、円筒状に巻き取ってロール状の形態にした。このようにして、ロール状光学補償フィルム（試料００１）を作製した。
【０１９９】
作製したロール状光学補償フィルム（試料００１）の一部を切り取り、サンプルとして用いて、光学特性を測定した。２５℃、５５％ＲＨの環境下で、波長５５０ｎｍで測定した光学異方性層のレタデーション値Ｒｅ２（５５００ｎｍ）は３０．０ｎｍ、波長４００ｎｍで測定したレタデーション値Ｒｅ２（４００ｎｍ）は４５．０ｎｍであった。α２（＝Ｒｅ２（４００ｎｍ）／Ｒｅ２（５５００ｎｍ））＝１．５であった。また、光学異方性層中のディスコティック液晶化合物の円盤面と支持体面との角度（傾斜角）は、層の深さ方向で連続的に変化し、平均で３０゜であった。さらに、サンプルから光学異方性層のみを剥離し、光学異方性層の分子対称軸の平均方向を測定したところ、光学補償フィルムの長手方向に対して、４５°となっていた。試料００１の作製に用いたと同じ組成の塗布液晶混合物の粘度をＥ型粘度計で測定して求めたところ、配向時の温度１２０℃の条件下において７００ｍＰａ・ｓであった。
【０２００】
下記に示した組成の光学異方性層用塗布液を用いて試料００１と同様の方法で光学異方性層を作製した以外は、同様にして試料００２を作製した。
───────────────────────────────────
例示化合物（４）                                    １００．００質量部
セルロースアセテートブチレート                          １．００質量部
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）  ３．００質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １．００質量部
フルオロ脂肪族基含有共重合体                            ０．２２質量部
（メガファックＦ７８０  大日本インキ（株）製）
メチルエチルケトン                                  ２２６．３４質量部
───────────────────────────────────
【０２０１】
更に試料００２の例示化合物（４）１００質量部を、下記表２に示した液晶化合物に置き換えた以外は同様にして試料００３〜００９を作製した。
更に、トリアセチルセルロースフィルムＰＫ−１をトリアセチルセルロースフィルムＰＫ−２に代えた以外は、試料００２と同一の方法で、試料０１０を作製した。
これらの試料について、レタデーション及び塗布液晶混合物の粘度を、試料００１と同様にして求めた。結果を下記表２に示した。
【０２０２】
［実施例２：偏光板の作製］
＜偏光板の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例１で作製した光学補償フィルム（試料００１）を偏光膜の片側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と位相差板の遅相軸とは平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。
試料００１を、試料００２〜試料０１１に代えた以外は、同様にして偏光板をそれぞれ作製した。
【０２０３】
［実施例３：液晶表示装置での実装評価］
（ベンド配向液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを４．０μｍに設定した。セルギャップにΔｎが０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
作製したベンド配向セルを挟むように、作製した偏光板を二枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモードとした。正面における透過率が最も小さくなる電圧すなわち黒電圧を求めた。偏光板を貼り付ける前の状態で前述で求めた黒電圧を印加して液晶セルのレタデーション（Ｒｅ１）を波長４００ｎｍ、５５０ｎｍについて測定し、α１＝Ｒｅ１（４００ｎｍ）／Ｒｅ１（５５０ｎｍ）の値を求めたところ、α１＝１．２であった。
【０２０４】
上記試料００１〜０１１をそれぞれ用いて作製した偏光板を貼り付けた液晶セルそれぞれに対して方位角０°、極角６０°方向視野角における黒表示透過率（％）及び、方位角０度極角６０度と方位角１８０度極角６０度との色ずれΔｘを求めた。結果は表２に示す。
【０２０５】
【表２】
2007102205.tif 000067
（註）
透過率：方位角０°、極角６０°方向視野角における黒表示透過率（％）
色ずれ：方位角０度極角６０度と方位角１８０度極角６０度との色ずれΔｘ
【０２０６】
表２に示した結果から、上記関係式（１）０．９≦α２／α１≦１．１を満足する実施例の液晶表示装置は、黒表示時の透過率が低く、且つ色ずれが少ないことが理解できる。実施例の液晶表示装置は、いずれも液晶セルと光学異方性層の波長分散のずれが大きい（α２／α１＝１．２５）の比較例の液晶表示装置と比較して、透過率が低く、且つ色ずれが少ないという、優れた特性を示した。
また、試料００２と試料００１０との比較から、支持体であるセルロースアシレートフィルムの波長分散性が所定の範囲であるＰＫ−２を用いたほうが、視野角に依存した色ずれをより軽減できることが理解できる。
また、表２に示した結果から、上記関係式（１）を満足する光学異方性層は、波長分散性が互いに異なる液晶性化合物を複数種用いることによって、所定の構造式の液晶性化合物を用いることによって、及び／又は、液晶性分子の配向時の塗布液の粘度を調製することによって、作製可能であることが理解できる。
【０２０７】
［実施例４］
（ポリマー基材の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
───────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（質量部）        内層          外層
───────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート      １００          １００
トリフェニルホスフェート（可塑剤）          ７．８          ７．８
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）  ３．９          ３．９
メチレンクロライド（第１溶媒）              ２９３          ３１４
メタノール（第２溶媒）                        ７１            ７６
１−ブタノール（第３溶媒）                  １．５          １．６
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０              ０．８
下記レタデーション上昇剤                    １．７          ０
───────────────────────────────────
【０２０８】
【化６５】
2007102205.tif 000068
【０２０９】
得られた内層用ドープおよび外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフィルムについて、光学特性を測定した。
【０２１０】
得られたポリマー基材の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは８０μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５００ｎｍにおけるレタデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、６ｎｍであった。また、波長５００ｎｍにおける厚さ方向のレタデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、８３ｎｍであった。
作製したポリマー基材を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。
【０２１１】
上記ポリマー基材に、実施例１の試料００１と同様にして配向膜を形成した。光学異方性層形成用塗布液を塗布する前に配向膜にラビング処理を実施した。ラビング処理におけるラビングローラの回転周速を５．０ｍ／秒、ラビング角は６度とし、配向膜用樹脂層に対する押しつけ圧力を９．８×１０-3Ｐａに設定した。
【０２１２】
光学異方性層を塗設する基材を、上記のポリマー基材−配向膜に変更した以外は試料００１、００４、００７と同様にして、それぞれ光学補償フィルムの試料１０１、１０２、１０３を作製し、同様に光学異方性層の諸特性を測定した。
【０２１３】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で作製した光学補償フィルムを、偏光子の片側表面に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側表面に貼り付けた。
偏光子の透過軸と、光学補償フィルムの支持体であるポリマー基材の遅相軸とが平行になるように配置した。偏光子の透過軸と上記トリアセチルセルロースフィルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板を作製した。
【０２１４】
（ＴＮ液晶セルでの評価）
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＱＵＯＳ  ＬＣ２０Ｃ１Ｓ、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに上記で作製した偏光板を、光学補償フィルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
作製した液晶表示装置について、測定機（ＢＭ−５Ａ、ＴＯＰＣＯＮ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までで視野角を測定した。上下左右で、コントラスト比（白透過率／黒透過率）が１０以上、かつ黒側の階調反転（Ｌ１とＬ２での反転）のない領域を視野角として求めた。測定結果を表３に示した。
【０２１５】
（液晶表示装置パネル上での上視野角色味評価）
液晶表示装置の表示パネルを全面黒表示にし、正面方向から見た色味と上６０°方向から見たときの色味の変化を評価した（Δｕ'ｖ'≦０．０４５を○、Δｕ'ｖ'＞０．０４５を×とした）。なお、Δｕ'ｖ'はＣＩＥ１９７６  ＵＣＳ色度図による色差を指標にした。
【０２１６】
【表３】
2007102205.tif 000069
【０２１７】
表３の結果から分かるように、本発明の試料はＴＮモードの液晶表示装置においても効果があることが明らかである。
【図面の簡単な説明】
【０２１８】
【図１】ＯＣＢモードの液晶表示装置の構成例を示す模式図である。
【図２】液晶セルの波長分散特性を光学異方性層の波長分散特性に適合させる方法を説明するための模式図である。
【符号の説明】
【０２１９】
１、１０１  偏光膜
２、１０２  透過軸
３ａ、１０３ａ  ポリマーフィルム（光学異方性層の支持体又は偏光膜の保護フィルム）
４ａ、１０４ａ、遅相軸
５、９  光学異方性層
５ａ、９ａ  平均配向方向
６、８  基板
７  液晶層
ＲＤ  ラビング方向
【図１】
2007102205.tif 000075
【図２】
2007102205.tif 000076