(57)【要約】【課題】製作が容易な高密度配置が可能で高精度な流路構造を持つ液体吐出ヘッドおよびその製造方法を提供する。【解決手段】液体吐出ヘッドは、複数の圧力発生室１１と、該複数の圧力発生室１１にそれぞれノズル連通部１４を介して連通された液体を吐出する複数のノズル口１３と、複数の圧力発生室１１が共通に連通されたリザーバ１２とを備えている。これらは、同一の基板１０に形成されており、ノズル開口１３ａが開口する基板のノズル開口面（Ｂ面）と平行な方向に関するノズル口１３の断面積よりも、前記方向に関するノズル連通部１４の断面積が大である。また、前記方向に関するノズル口１３の断面積が、前記ノズル口の全長にわたって略同じである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
同一の基板に、複数の圧力発生室と、該複数の圧力発生室にそれぞれノズル連通部を介して連通された液体を吐出する複数のノズル口と、前記複数の圧力発生室が共通に連通されたリザーバと、を備え、
前記ノズル口が開口する前記基板のノズル開口面と平行な方向に関する前記ノズル口の断面積よりも、前記方向に関する前記ノズル連通部の断面積が大きく、
前記方向に関する前記ノズル口の断面積が、該ノズル口の全長にわたって変化しないことを特徴とする液体吐出ヘッド。
【請求項２】
前記基板の二つの主面のうち、一方の主面に前記圧力発生室が、他方の主面に前記ノズル口および前記リザーバが形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項３】
前記圧力発生室は、振動板と前記振動板を変形させる圧電アクチュエータとを有することを特徴とする請求項１または２に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項４】
圧電アクチュエータが、撓みモードを用いる薄膜圧電アクチュエータであることを特徴とする請求項３に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項５】
複数の圧力発生室と、該複数の圧力発生室にそれぞれノズル連通部を介して連通された液体を吐出する複数のノズル口と、前記複数の圧力発生室が共通に連通されたリザーバと、を備える液体吐出ヘッドの製造方法において、
基板の２つの主面のうちの、一方の主面に対してエッチングを施すことにより、前記圧力発生室と、前記ノズル連通部とを形成する工程と、
前記基板の２つの主面のうち他方の主面に対してエッチングを施すことにより、前記基板の前記他方の主面と平行な方向に関するノズル連通部の断面積よりも、前記方向に関する断面積が小さく、かつ、該断面積が変化しない前記ノズル口を形成する工程と、
を含むことを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記圧力発生室に相当する開口部を有する圧力発生室用のマスク層と、前記ノズル連通部に相当し、前記圧力発生室に相当する開口部より小さな開口部を有するノズル連通部用のマスク層と、が前記基板の一方の主面に設けられ、前記ノズル口に相当し、前記ノズル連通部に相当する開口部より小さな開口部を有するノズル口用のマスク層が前記基板の他方の主面に設けられた基板を提供する工程を有し、
前記圧力発生室と、前記ノズル連通部とを形成する工程は、前記ノズル連通部用のマスク層を用いて前記基板に対して第１のエッチングを行った後、前記圧力発生室用のマスク層を用いて前記基板に対して第２のエッチングを行う工程を含み、
前記ノズル口を形成する工程は、前記ノズル口用のマスク層を用いて前記基板に対して第３のエッチングを行う工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記圧力発生室用のマスク層が熱酸化膜からなり、前記ノズル連通部用のマスク層がフォトレジストからなることを特徴とする請求項６に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記圧力発生室用のマスク層が二酸化シリコンからなり、前記ノズル連通部用のマスク層がフォトレジストからなり、前記基板がシリコンからなること、を特徴とする請求項６に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記基板のエッチングを、プラズマを用いたドライエッチングで行い、前記ノズル連通部用のマスク層の除去を酸素プラズマを用いたエッチングによって行うこと、を特徴とする請求項７または８に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記圧力発生室用のマスク層および前記ノズル連通部用のマスク層がともにフォトレジストからなり、前記圧力発生室用のマスク層が前記ノズル連通部用のマスク層より高い温度で熱処理されていること、を特徴とする請求項６に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数のノズル口と、各ノズル口にそれぞれ連通された複数の圧力発生室と、前記複数の圧力発生室に連通されたリザーバとを備えており、前記圧力発生室で発生させた吐出エネルギーによって前記複数のノズル口からそれぞれ液滴を吐出する液体吐出ヘッドおよびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液体に圧力を印加して微小液滴として飛翔させる液体吐出ヘッドは、比較的安価で高性能な出力デバイスとして広く利用されている。特に、デジタルカメラの普及ともあいまって写真を出力する手段にもなっており、画質への要求は年々厳しくなってきている。このため、吐出液滴の微細化や流路構造の高密度化は必須であり、シリコン基板に異方性エッチングなどを用いて比較的簡便に微細形状を精度良く作製する技術である、マイクロマシニング技術を応用した液体吐出ヘッドの製造方法が提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１（特開平７−１５６３９９号公報）には、図５に示すように、シリコン基板に異方性エッチングを用いて圧力発生室５０３やリザーバ等の流路と、振動板５０４を一体形成し、ノズル口５０２を設けたノズルプレート５０１を接合したインクジェットヘッドが開示されている。このインクジェットヘッドはシリコン単結晶のエッチング速度の面方位依存性を利用しているため、流路が高精度にかつ簡便に作製でき、接合部分がノズルプレート５０１のみであるので、工程が簡易であり、接着剤などの流路への流入も少なく、信頼性も向上する。
【０００４】
また、特許文献２（特開平５−２２９１２８号公報）には、図６に示すように、シリコン基板に異方性エッチングを行い、圧力発生室６０２とノズル口６０１とを一体に形成した流路基板６００に圧電素子６０６を有する振動板６０５を接合したインクジェットヘッドの製造方法が開示されている。
【特許文献１】特開平７−１５６３９９号公報
【特許文献２】特開平５−２２９１２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に開示された発明では、次に述べるような問題点が存在する。
【０００６】
（１）シリコン単結晶のエッチング速度の面方位依存性を利用しているために、使用できる基板が限定され、コストの上昇を招く。
【０００７】
（２）圧力発生室の深さが基板の厚みによって決定されてしまい、圧力発生室の深さと基板の厚みを独立に決めることができない。圧力発生室を高密度に配置する場合、圧力発生室が深くなると、隣接する圧力発生室を隔てる隔壁が撓みやすくなり、圧力損失やクロストークなどの問題が発生する。一方で、大量生産においては大面積の基板を使用することがコスト面で有利であるが、薄い基板だとハンドリングが困難になるという問題が発生し、前述した圧力発生室の深さとトレードオフである。
【０００８】
（３）流路が形成された流路基板とノズルプレートとを接合してインクジェットヘッドを形成しているので、高密度になればなるほど流路基板とノズルプレートとの位置合わせが厳しくなる。特に多数のノズルを必要とするカラーのマルチノズルヘッドに対しては信頼性が低下する。また、ノズルプレートの素材と流路基板のシリコンとの熱膨張係数が異なっていると、作製工程や使用環境などでの温度変化によってノズルプレートが剥がれやすく、信頼性が低下する。
【０００９】
一方、特許文献２に開示された方法では、圧力発生室などの流路とノズル口とが同一基板に形成されているため、先に述べたようなノズルプレートと流路基板との接合に関連する問題は発生しない。しかしながら、異方性エッチングを用いて流路を形成しているため、使用基板や作製できる形状が限定されてしまう問題点は同じである。また、圧力発生室の深さとノズル口の長さの和が基板の厚みとなっており、ハンドリングに有利な厚い基板を使用すると、圧力発生室を深くするか、ノズル口を長くする必要がある。しかし、圧力発生室を深くすると先に述べたような圧力損失やクロストークの問題点が発生し、ノズル部を長くすると流路抵抗が増大してしまうなどの問題点が発生する。
【００１０】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、高密度配置が可能で高精度な流路構造を持つ製作が容易な液体吐出ヘッドおよびその製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の液体吐出ヘッドは、同一の基板に、複数の圧力発生室と、該複数の圧力発生室にそれぞれノズル連通部を介して連通された液体を吐出する複数のノズル口と、前記複数の圧力発生室が共通に連通されたリザーバと、を備え、前記ノズル口が開口する前記基板のノズル開口面と平行な方向に関する前記ノズル口の断面積よりも、前記方向に関する前記ノズル連通部の断面積が大きく、前記方向に関する前記ノズル口の断面積が、該ノズル口の全長にわたって同じであることを特徴とする。
【００１２】
また、上述の液体吐出ヘッドの製造方法として、基板の２つの主面のうちの、一方の主面に対してエッチングを施すことにより、前記圧力発生室と、前記ノズル連通部とを形成する工程と、前記基板の２つの主面のうち他方の主面に対して、エッチングを施すことにより、前記基板の前記他方の主面と平行な方向に関するノズル連通部の断面積よりも、小さな断面積を有し、前記方向に関する前記ノズル口の断面積が、該ノズル口の全長にわたって同じである前記ノズル口を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明を適用することで、次に記載するような効果を奏する。
【００１４】
圧力発生室と、ノズル口と、圧力発生室とノズル口とを結ぶノズル連通部と、を同一基板に形成しているため、別部材を接合または接着などによって貼り合わせる必要が無い。そのため、貼り合わせのアライメント誤差や熱膨張係数の違いなどによるノズル口位置の精度の低下を防ぐことができる。また、ノズル口が開口する基板のノズル開口面と略平行な方向に関する前記ノズル口の断面積よりも、前記方向に関する前記ノズル連通部の断面積を大きくした構成になっている。このため、高密度化に必要な浅い圧力発生室と微小液滴吐出に必要な微小ノズル口を有しながら、流路抵抗を極端に低下させずにハンドリングに有利な厚い基板を用いることができる。
【００１５】
ノズル口が開口する基板のノズル開口面と平行な方向に関するノズル口の断面積が、ノズル口の全長にわたって同じであることにより、ノズル口を通過する流体の速度ベクトルがノズル口の内面に略平行となるように揃うため、液滴の直進安定性が向上する。また、ノズル口の断面積よりもノズル連通部の断面積が大きいことにより、ノズル口とノズル連通部との位置ずれの許容度が向上する。
【００１６】
また、複数のエッチングマスク層を用いて基板のエッチングを複数回行う。具体的には、開口部の小さいエッチングマスク層を用いてエッチングを行ったのちに該エッチングマスク層を選択的に除去して次のエッチングを行うことで深い段差を有する凹部を形成する。この方法により、エッチングを精度良く、比較的容易に形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。本明細書における「平行」「同じ」「変化しない」という言葉は、設計上の誤差を含んだ意味である。
【００１８】
また、本発明は圧電素子を用いた形式に限らず、圧力発生室に発熱素子を設け、気泡によって液体を吐出するエネルギーを生じさせる液体吐出方式を用いたものにも適用できる。
【実施例１】
【００１９】
図１は実施例１による液体吐出ヘッドを示し、（ａ）は模式断面図、（ｂ）は（ａ）の圧電素子および振動板を取り外して圧電素子側から見た模式部分平面図、（ｃ）は（ｂ）のＡ−Ａ線に沿う模式断面図である。
【００２０】
図１に示すように、基板１０には、圧力発生室１１、ノズル連通部１４、ノズル口１３、リザーバ１２が形成されている。基板１０の相対する二つの主面のうちの圧力発生室１１が形成されている一方の主面に、振動板２０および圧電素子２１が配設されており、他方の主面には封止材２２を配設することによってリザーバ１２の開口部が封止されている。
【００２１】
本実施例においては、基板１０としてシリコン基板を用い、振動板２０として厚さ約４μｍの熱膨張係数が３．２×１０-6程度のガラスを用いた。振動板２０が、基板１０と熱膨張係数がほぼ等しい係数の材料を用いることで膜剥がれを抑制できる。また、振動板２０の耐熱温度が圧電アクチュエータの形成温度よりも高いことが好ましい。また、圧電素子２１としては約２．５μｍ厚のＰＺＴをスパッタ法にて形成したのち、フォトリソグラフィ法にて各圧力発生室１１に対応するようにパターニングして形成した。リザーバ１２の開口部を封止する封止材２２としては振動板２０と同じ材料で、厚さが１００μｍのガラスを陽極接合している。このように、基板と熱膨張係数が概略等しい素材からなる封止材にて封止してあることで、封止材の剥がれを抑制できる。また、圧力発生室１１のリザーバ１２と連通する方向には幅が狭くなった絞り部１６を設けることにより、流路抵抗を調節できるようにした。また、隣接する圧力発生室１１は隔壁１５によって仕切られている。
【００２２】
図１（ｃ）に示すように、圧力発生室１１の幅をｗ１、隔壁１５の幅をｗ２とすると、圧力発生室幅ｗ１と隔壁幅ｗ２の和は所望の配置密度によって決定される。例えば、２００ＤＰＩのときにｗ１＋ｗ２は１２７μｍである。また、配置密度を２００ＤＰＩとし、圧力発生室幅ｗ１を７７μｍ、隔壁幅ｗ２を５０μｍとした。図１（ｂ）に示されているノズル連通部１４の寸法は、流路抵抗を考慮してｗ３を５０μｍ、ｗ４を２００μｍとし、ノズル口１３の５０倍以上の断面積を確保した。また、基板１０としては、ハンドリングを考慮して３００μｍのシリコン基板を用い、圧力発生室の深さｄ１を１００μｍ、ノズル連通部の深さｄ２を１４０μｍ、ノズル口の深さｄ３を６０μｍとした。また、この場合、圧電素子２１と相対する面に形成されたノズル開口１３ａの直径は１５μｍとした。このように、２００ＤＰＩという高密度配置で微小なノズル開口１３ａを有するにも関わらず、ノズル口１３と圧力発生室１１などの液体流路を同一基板に一体的に形成することで、圧力発生室１１とノズル開口１３ａの位置精度が高く、極めて信頼性が高いものであった。
【００２３】
さらに３００μｍという厚い基板を用いながら、圧力発生室１１の深さは１００μｍに抑えられているため、隔壁１５の剛性も十分確保されており、駆動時のクロストークは観察されなかった。ノズル開口１３ａは直径１５μｍという微小開口である。しかし、ノズル口１３が開口する基板１０のノズル開口面（Ｂ面側）と略平行な方向に関する断面積が、例えばノズル口１３の断面積の５０倍以上の大きな断面積を有するノズル連通部１４を用いることで、十分小さい流路抵抗によって圧力発生室１１とノズル口１３とを連通させることができた。
【００２４】
ノズル口１３が開口する基板１０のノズル開口面と略平行な方向に関するノズル口１３の断面積が、ノズル口１３の全長にわたって略同じであることにより、ノズル口１３を通過する流体の速度ベクトルがノズル口１３の内面に略平行となるように揃うため、液滴の直進安定性が向上する。ノズル口１３の長さ（ノズル開口に垂直な方向に関する寸法）は、２０μｍ以上であることが望ましい。
【００２５】
また、製作時にも、厚さが３００μｍという、十分な厚さのシリコン基板を使用できたために取扱が容易であり、作製工程における基板の破損なども少なく、歩留まりも向上した。
【００２６】
（比較例１）
比較のために、実施例１で用いた同じ厚さのシリコン基板を用い、ノズル口は変更せず、ノズル連通部を設けずに、圧力発生室の深さｄ１を２４０μｍとしたところ、隣接している駆動していない部分に対応するノズル口においてもメニスカスの振動が観測され、いわゆるクロストークが発生した。圧力発生室を変えずに、ノズル口の深さｄ３を２００μｍにしたところ、駆動部に対応するノズル口でメニスカスの振動は観測されたものの、吐出までには至らなかった。
【００２７】
続いて、本実施例１による液体吐出ヘッドの製造方法の工程を図を用いて説明する。
【００２８】
図２は液体吐出ヘッドの製造方法の工程を説明する図である。
【００２９】
（１）図２（ａ）に示すように、基板１００として３００μｍ厚のシリコン基板を用い、熱酸化によってシリコン基板の二つの主面、つまりＡ面とＢ面に熱酸化膜１０１を１μｍ形成した。
【００３０】
（２）上記工程（１）ののち、図２（ｂ）に示すように、Ａ面の熱酸化膜１０１の一部をフッ酸とフッ化アンモニウムの混合溶液を用いて除去し、圧力発生室１１１および絞り部１１６にそれぞれ相当する開口部を有する第１のエッチングマスク層１０３を形成した。他方、Ｂ面側の熱酸化膜１０１の一部を除去してノズル口１１３に相当する開口部およびリザーバ１１２に相当する開口部を有する第１のエッチングマスク層１０４を形成した。
【００３１】
（３）上記工程（２）ののち、図２（ｃ）に示すように、第１のエッチングマスク層１０３の上にノズル連通部１１４に相当する開口部を有する第２のエッチングマスク層１０５を形成した。本実施例においては、第２のエッチングマスク層１０５は、ノボラック樹脂を主成分とするポジ型のフォトレジストを約４.５μｍの厚さで塗布したのちに、通常の露光・現像工程ののち、１２０℃で２０分の熱処理を行ってノズル連通部１１４に相当する開口部を形成している。
【００３２】
（４）上記工程（３）ののち、図２（ｄ）に示すように、第２のエッチングマスク層１０５を用いてシリコン基板に第１のエッチングを施し、ノズル連通部１１４に相当する凹部を形成した。
【００３３】
本工程において、エッチング速度が速く、深い段差を形成するのに好適なＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）エッチング装置を用いてドライエッチングを行うとよい。
【００３４】
本実施例においては、ＩＣＰパワー１８００Ｗ、基板バイアス４０Ｗ、基板温度１０℃の条件にてエッチングを行い、概略１５０μｍのノズル連通部１１４に相当する凹部を形成した。このとき、第２のエッチングマスク層１０５を構成するフォトレジストは約２μｍエッチングされており、この条件における第２のエッチングマスク層１０５とシリコン基板との選択比はほぼ７５であった。
【００３５】
（５）上記工程（４）ののち、図２（ｅ）に示すように、第２のエッチングマスク層１０５であるフォトレジストのみを酸素プラズマによるアッシングを行って除去した。第１のエッチングに用いたＩＣＰ装置内において、第１のエッチング終了後、酸素ガスを導入し、ＩＣＰパワー２００Ｗ、バイアス２０Ｗ、基板温度２０℃の条件において１０分アッシングを行い、第１のエッチングマスク層１０３である熱酸化膜に実際上全く影響を与えずにフォトレジストのみを除去した。
【００３６】
（６）上記工程（５）ののち、図２（ｆ）に示すように、第１のエッチングマスク層１０３を用いて基板１００に対してＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）エッチング装置を用いたドライエッチングを行った。エッチング条件はノズル連通部１１４に相当する凹部を形成したときと同じ条件により、深さが概略１００μｍである圧力発生室１１１に相当する凹部を形成した。このとき、先に形成したノズル連通部１１４に相当する凹部もエッチングされており、基板１００の表面から測定するとほぼ２４０μｍの深さになっていた。このエッチングによる熱酸化膜１０１のエッチング量は０．４μｍ程度であり、熱酸化膜１０１と基板１００の選択比としてはほぼ２５０が得られていた。
【００３７】
（７）上記工程（６）ののち、今までエッチングを行ってきた面と相対する面から同様にＩＣＰを用いたドライエッチングを行い、ノズル口１１３とノズル連通部１１４およびリザーバ１１２と圧力発生室１１１を連通させ、基板１００を作製した。基板１００の両主面に残存されている熱酸化膜１０１はフッ酸とフッ化アンモニウムの混合溶液を用いることにより、基板１００に実質上影響を与えずに除去することができた。
【００３８】
このように基板１００のエッチングマスク層として熱酸化膜とフォトレジストという異なるエッチングマスク層を用いてエッチングを行い、第１のエッチングの後にフォトレジストを除去して熱酸化膜１０１からなる第１のエッチングマスク層１０３で第２のエッチングを行うことにより、深い段差へのパターニングや特殊なエッチングなどの特殊な手法や装置を使わず、圧力発生室１１１とノズル連通部１１４のような段差が１００μｍ以上ある三次元形状を、片側からエッチングするだけで比較的簡便に作製することができた。
【００３９】
また、第１のエッチングマスク層１０３は、二酸化シリコンであってもよい。
【実施例２】
【００４０】
本発明の実施例２による液体吐出ヘッドの製造方法について、図３を参照しつつ説明する。
【００４１】
（１）実施例１と同様に３００μｍ厚の基板３００を熱酸化して１μｍ厚の熱酸化膜を形成したのち、圧力発生室３１１を形成する主面（Ａ面）に相対する主面（Ｂ面）に、ノズル口３１３に相当する開口部およびリザーバ３１２に相当する開口部を有するエッチングマスク層３０１を形成した。実施例１と同様にフッ酸とフッ化アンモニウムの混合溶液を用いて熱酸化膜に開口部を形成するが、このとき、同時に圧力発生室３１１が形成されるＡ面の熱酸化膜を、図３（ａ）に示すように除去する。
【００４２】
（２）上記工程（１）ののち、圧力発生室３１１が形成される側の主面（Ａ面）にノボラック樹脂を主体とするポジ型のフォトレジストでパターニングを行い、圧力発生室３１１に相当する開口部を持つパターンを形成した。本実施例では、このフォトレジストによるパターンを２００℃１０分間の熱処理を行い、厚さが概略２．５μｍである第１のエッチングマスク層３０３を形成した。
【００４３】
（３）上記工程（２）ののち、実施例１と同様にしてノズル連通部３１４に相当する開口部を有する第２のエッチングマスク層３０４を形成した（図３（ｃ））。第１のエッチングマスク層３０３は２００℃で熱処理されているため、フォトレジスト塗布、露光・現像などの第２のエッチングマスク層３０４の作製工程によって形状崩れなどを起こすことはなく、所望の形状を保っていた。
【００４４】
（４）上記工程（３）ののち、実施例１と同様にしてＩＣＰを用いたドライエッチングによって第１のエッチングを行い、ノズル連通部３１４に相当する凹部を形成した（図３（ｄ））。第２のエッチングマスク層３０４の形成条件および第１のエッチング条件は実施例１と同じである。
【００４５】
（５）上記工程（４）ののち、第２のエッチングマスク層３０４を除去した。実施例１で用いた第２のエッチングマスク層の除去方法である酸素プラズマを用いたアッシングでは、第１のエッチングマスク層に影響を与えるため、本実施例では第２のエッチングマスク層３０４の除去方法として、有機溶媒を使用した超音波洗浄を用いた。アセトンによる超音波洗浄を数回繰り返したのち、イソプロピルアルコールで超音波洗浄を数回繰り返す工程を実施した。この有機洗浄による第１のエッチングマスク層３０３へのダメージは見受けられなかった。これは第１のエッチングマスク層３０３の熱処理温度が第２のエッチングマスク層３０４の熱処理温度より高く、有機溶剤に対する耐性が向上しているためであると考えられる。
【００４６】
（６）上記工程（５）ののち、有機洗浄により第２のエッチングマスク層３０４を除去したのち、実施例１と同様にＩＣＰを用いたドライエッチングによって第２のドライエッチングを行い、図３（ｆ）に示すように、圧力発生室３１１、ノズル連通部３１４を形成した。エッチング条件は実施例１と同じである。このとき、第１のエッチングマスク層３０３のエッチング量は約１．３μｍであり、第１のエッチングマスク層３０３と基板３００との選択比は約７５で熱処理温度の低い第２のエッチングマスク層３０４と同等であった。
【００４７】
（７）上記工程（６）ののち、実施例１と同様に基板３００のノズル口３１３に相当する開口部側からＩＣＰエッチングを行い、ノズル口３１３と、ノズル連通部３１４と、圧力発生室３１１と、リザーバ３１２とを連通させた基板３００を作製した。ノズル口３１３側に残っている熱酸化膜は実施例１と同様にフッ酸とフッ化アンモニウムの混合溶液を用いて簡単に除去できた。また、圧力発生室３１１側に形成されている第１のエッチングマスク層３０３は酸素プラズマを用いてアッシングにより除去した。
【００４８】
本実施例による製造方法では、実施例１と比較して圧力発生室３１１側の熱酸化膜をパターニングする工程が省ける。また、エッチングマスク層として熱酸化膜マスクと高温処理したレジストマスクと通常処理のレジストを用いれば、さらに多段構造が片側からのみのエッチングで可能となり、応用範囲も広い。
【実施例３】
【００４９】
本発明の実施例３による液体吐出ヘッドは、図４（ａ）に示すように、基板３０のＡ面側にリザーバ３２、絞り部３３、圧力発生室３１、ノズル連通部３４およびノズル口３５に相当する凹部が形成されている。
【００５０】
そして、図４（ｂ）、（ｃ）に示すように、Ａ面側に振動板４０を設け、その上に圧電素子４１が配設されている。
【００５１】
なお、本実施例による液体吐出ヘッドの製造方法については、上記実施例１、２に準じる工程により製造できるので、その説明は省略する。
【００５２】
なお、上に述べた実施例においては、ノズル開口形状として円形を選択しているが、ノズル開口形状としては円形だけでなく、矩形や多角形、星形なども使用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施例１による液体吐出ヘッドを示し、（ａ）は模式断面図、（ｂ）は（ａ）の振動板を取り外した状態の模式部分平面図、（ｃ）は（ｂ）のＡ−Ａ線に沿う模式断面図である。
【図２】本発明の実施例１による液体吐出ヘッドの製造方法工程の説明図である。
【図３】本発明の実施例２による液体吐出ヘッドの製造方法の説明図である。
【図４】本発明の実施例３による液体吐出ヘッドの製造方法の説明図である。
【図５】従来の液体吐出ヘッドの一例の説明図である。
【図６】従来の液体吐出ヘッドの他の例の説明図である。
【符号の説明】
【００５４】
１０、３０、１００、３００    基板
１１、３１、１１１、３１１    圧力発生室
１２、３２、１１２、３１２    リザーバ
１３、３５、１１３、３１３    ノズル口
１４、３４、１１４、３１４    ノズル連通部
２０、４０    振動板
２１、４１    圧電素子
１０１、３０１    熱酸化膜
１０３、１０４、３０３    第１のエッチングマスク層
１０５、３０４    第２のエッチングマスク層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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