(57)【要約】      （修正有）【課題】  めっき効率の低下やめっき品質の低下をより効果的に抑制することができるめっき方法を提供すること。【解決手段】  このめっき方法は、被処理物にめっきを施すめっき方法であって、めっき液が入れられためっき槽１０と、めっき液に浸漬されたアノード電極２２及びカソード電極２０と、を準備する準備工程と、カソード電極周りに被処理物Ｗを配し、アノード電極及びカソード電極へ給電する給電工程と、被処理物が配されている領域に酸性めっき液を供給する液供給工程と、を備える。カソード電極の近傍では、Ｈ+が減少してＯＨ−が増加し、ｐＨが上昇する。、一方、アノード電極の近傍ではＯＨ−が減少してＨ+が増加し、ｐＨが下降する。ポンプ４０を作動させてアノード電極近傍の酸性めっき液Ｆをカソード電極近傍に供給することでｐＨの上昇を抑制できる。【選択図】  図１
2007270268.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物にめっきを施すめっき方法であって、
めっき液が入れられためっき槽と、前記めっき液に浸漬されたアノード電極及びカソード電極と、を準備する準備工程と、
前記カソード電極周りに前記被処理物を配し、前記アノード電極及び前記カソード電極へ給電する給電工程と、
前記被処理物が配されている領域に酸性めっき液を供給する液供給工程と、
を備えるめっき方法。
【請求項２】
前記被処理物は前記めっき槽内に配されたバレル内に収められている、請求項１に記載のめっき方法。
【請求項３】
前記液供給工程においては、前記アノード電極周りのめっき液を、前記カソード電極周りへと供給する、請求項１又は２に記載のめっき方法。
【請求項４】
前記液供給工程において、前記アノード電極周りのめっき液に含まれるスラッジを除去した後に、前記カソード電極周りへと供給する、請求項３に記載のめっき方法。
【請求項５】
前記液供給工程においては、前記めっき槽外から前記酸性めっき液を供給する、請求項１又は２に記載のめっき方法。
【請求項６】
めっき液が入れられためっき槽と、当該めっき液に浸漬されたアノード電極及びカソード電極とを備えるめっき装置であって、
前記アノード電極及び前記カソード電極に給電する給電手段と、
前記カソード電極周りに酸性めっき液を供給する液供給手段と、
を備えるめっき装置。
【請求項７】
めっきを施す対象である被処理物を収めるバレルを備える、請求項６に記載のめっき装置。
【請求項８】
前記液供給手段は、前記アノード電極周りのめっき液を、前記カソード電極周りへと供給する、請求項６又は７に記載のめっき装置。
【請求項９】
前記液供給手段は、前記アノード電極周りのめっき液に含まれるスラッジを除去した後に、前記カソード電極周りへと供給する、請求項８に記載のめっき装置。
【請求項１０】
前記液供給手段は、前記めっき槽外から前記酸性めっき液を供給する、請求項６又は７に記載のめっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理物にめっきを施すめっき方法及びめっき装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
めっき槽内にめっき液を入れて、被めっき物にめっき処理を施す場合、めっき液の金属イオン濃度が徐々に低下する。金属イオン濃度の低下が起こると、めっき効率が低下すると共にめっき焼けが発生する。このような事象に対して、金属イオン濃度を調整しためっき液を加えていくことが提案されている。
【特許文献１】特開平１０−１９５６９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記特許文献１によれば、金属イオン濃度を調整しためっき液を加えても、めっき効率の低下やめっき焼けといった不具合事象に対して一定の効果があるように記載されている。
【０００４】
しかしながら、本発明者らのより詳細な検討によれば、金属イオン濃度を調整しためっき液を加えるだけでは、めっき効率の低下やめっき品質の低下といった事象に対して十分な効果を挙げられないことが判明した。
【０００５】
そこで本発明では、めっき効率の低下やめっき品質の低下をより効果的に抑制することができるめっき方法及びめっき装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のめっき方法は、被処理物にめっきを施すめっき方法であって、めっき液が入れられためっき槽と、めっき液に浸漬されたアノード電極及びカソード電極と、を準備する準備工程と、カソード電極周りに被処理物を配し、アノード電極及びカソード電極へ給電する給電工程と、被処理物が配されている領域に酸性めっき液を供給する液供給工程と、を備える。
【０００７】
本発明によれば、カソード電極周りに配した被処理物のめっき処理の進行に伴ってアルカリ性を呈する領域に酸性めっき液を供給するので、被処理物が配されている領域の液性変化を抑制することができ、被処理物への析出量の減少やめっき不良の発生を抑制できる。
【０００８】
また本発明のめっき方法では、被処理物はめっき槽内に配されたバレル内に収められていることも好ましい。
【０００９】
また本発明のめっき方法では、液供給工程においては、アノード電極周りのめっき液を、カソード電極周りへと供給することも好ましい。被処理物のめっき処理の進行に伴って酸性を呈するアノード電極周りのめっき液を、カソード電極周りに供給するので、めっき槽内のめっき液を効果的に利用できる。
【００１０】
また本発明のめっき方法では、液供給工程において、アノード電極周りのめっき液に含まれるスラッジを除去した後に、カソード電極周りへと供給することも好ましい。めっき液に含まれるスラッジを除去してからカソード電極周りへと供給するので、めっき不良の発生をより効果的に抑制できる。
【００１１】
また本発明のめっき方法では、液供給工程においては、めっき槽外から酸性めっき液を供給することも好ましい。めっき槽外から新たに酸性めっき液を供給するので、その酸性めっき液の液性を容易に制御することが可能となる。
【００１２】
本発明のめっき装置は、めっき液が入れられためっき槽と、当該めっき液に浸漬されたアノード電極及びカソード電極とを備えるめっき装置であって、アノード電極及びカソード電極に給電する給電手段と、カソード電極周りに酸性めっき液を供給する液供給手段と、を備える。
【００１３】
本発明によれば、カソード電極周りに酸性めっき液を供給する液供給手段を備えるので、カソード電極周りに配した被処理物のめっき処理の進行に伴ってアルカリ性を呈する領域に酸性めっき液を供給することが可能となる。従って、被処理物が配される領域の液性変化を抑制することができ、被処理物への析出量の減少やめっき不良の発生を抑制できる。
【００１４】
また本発明のめっき装置では、めっきを施す対象である被処理物を収めるバレルを備えることも好ましい。
【００１５】
また本発明のめっき装置では、液供給手段は、アノード電極周りのめっき液を、カソード電極周りへと供給することも好ましい。被処理物のめっき処理の進行に伴って酸性を呈するアノード電極周りのめっき液を、カソード電極周りに供給するので、めっき槽内のめっき液を効果的に利用できる。
【００１６】
また本発明のめっき装置では、液供給手段は、アノード電極周りのめっき液に含まれるスラッジを除去した後に、カソード電極周りへと供給することも好ましい。めっき液に含まれるスラッジを除去してからカソード電極周りへと供給するので、めっき不良の発生をより効果的に抑制できる。
【００１７】
また本発明のめっき装置では、液供給手段は、めっき槽外から酸性めっき液を供給することも好ましい。めっき槽外から新たに酸性めっき液を供給するので、その酸性めっき液の液性を容易に制御することが可能となる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、被処理物が配されている領域の液性変化を抑制することができ、被処理物への析出量の減少やめっき不良の発生を抑制できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の知見は、例示のみのために示された添付図面を参照して以下の詳細な記述を考慮することによって容易に理解することができる。引き続いて、添付図面を参照しながら本発明の実施の形態を説明する。可能な場合には、同一の部分には同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
【００２０】
本発明の実施形態であるめっき装置について図１を参照しながら説明する。図１は、めっき装置１の構成を示す図である。
【００２１】
めっき装置１は、めっき槽１０と、カソード電極２０と、アノード電極２２と、バレル３０と、ポンプ４０（液供給手段）と、整流器５０（給電手段）とを備えている。
【００２２】
めっき槽１０にはめっき液Ｆが入れられている。めっき液Ｆは、ワットＮｉ、中性Ｓｎ、Ｃｕといった金属を含むめっき液である。
【００２３】
めっき液Ｆには、カソード電極２０及びアノード電極２２が浸漬されている。カソード電極２０とアノード電極２２とは整流器５０に接続されており、整流器５０から給電される。
【００２４】
めっき槽１０内にはバレル３０が配されている。バレル３０は傾斜した状態で軸３２を中心として回転可能なように構成されている。バレル３０内にはワークＷ（被処理物）及びメディアＭがそれぞれ複数収められている。
【００２５】
ワークＷは、コンデンサ、インダクタ、ＮＴＣサーミスタ、バリスタといった電子部品である。メディアＭは導電性のあるボール状のものであり、カソード電極２０とワークＷとの間における電子の授受を中継する役割を果たす。
【００２６】
上述したカソード電極２０は、その先端がこのワークＷ及びメディアＭの中に没入されている。一方、アノード電極２２は、バレル３０の外に配されている。
【００２７】
ポンプ４０には、吸入管４２と排出管４４とが接続されている。吸入管４２の先端は、アノード電極２２周りの領域に配置されている。一方、排出管４４の先端は、カソード電極２０周りの領域であって、ワークＷ及びメディアＭが配されているバレル３０内に配置されている。ポンプ４０を作動させると、吸入管４０が吸い上げためっき液Ｆを、排出管４４が排出する。
【００２８】
また、図１に明示しないが、吸入管４０からポンプ４０の間にはフィルタが設けられており、スラッジを除去できるように構成されている。スラッジは、ＮｉＯといった酸化物である。
【００２９】
めっき装置１の変形例を図２に示す。図２に示すめっき装置１ａは、めっき槽１０内のバレル３０ａが傾斜しておらず、その回転軸３２ａが略水平となっている。ポンプ４０に接続された排出管４４ａは、回転軸３２ａに沿うようにバレル３０ａ内に突出している。また、カソード電極２０ａも、回転軸３２ａに沿うようにバレル３０ａ内に突出している。
【００３０】
引き続いて、めっき装置１を用いてワークＷにめっきするめっき方法について図３を参照しながら説明する。尚、めっき装置１ａを用いても同様である。
【００３１】
本実施形態のめっき方法は、準備工程（Ｓ０１）と、給電工程（Ｓ０２）と、液供給工程（Ｓ０３）とを備えている。
【００３２】
準備工程（Ｓ０１）では、めっき装置１を準備することで、めっき液Ｆが入れられためっき槽１０と、めっき液Ｆに浸漬されたアノード電極２２及びカソード電極２０と、を準備する。
【００３３】
続いて、給電工程（Ｓ０２）では、バレル３０内にワークＷ及びメディアＭを配した後に整流器５０で給電することで、カソード電極２０周りにワークＷを配し、アノード電極２２及びカソード電極２０へ給電する。
【００３４】
続いて、液供給工程（Ｓ０３）では、ポンプ４０を作動させることで、ワークＷが配されている領域に酸性めっき液を供給する。
【００３５】
本実施形態において、めっき液ＦがワットＮｉの場合、カソード電極２０の近傍では、
【化１】
2007270268.tif 000003
との反応が起きて、ワークＷにめっきがなされる。この競争反応として、
【化２】
2007270268.tif 000004
との反応が起きて、Ｈ+が減少してＯＨ−が増加し、ｐＨが上昇する。
【００３６】
一方、アノード電極２２の近傍では、
【化３】
2007270268.tif 000005
との反応が起きる。この競争反応として、
【化４】
2007270268.tif 000006
との反応が起きて、ＯＨ−が減少してＨ+が増加し、ｐＨが下降する。従って、本実施形態のようにアノード電極２２近傍の酸性めっき液Ｆをカソード電極２０近傍に供給することでｐＨの上昇を抑制できる。
【００３７】
本実施形態によらない場合、カソード電極２０の近傍におけるめっき液Ｆはアルカリ性を呈し、ワークＷへのめっき析出量が減少するので、給電電圧を上げる必要がある。また、外部電極を有するセラミック電子部品をワークＷとする場合には、セラミック素体へのめっき伸びが発生する。更に、カソード電極２０のガラス成分（ＳｉＯ、Ｂ系、Ｚｎ系）が溶出してしまい、カソード電極２０の機械的強度の低下を招く。上述した本実施形態によれば、これらの不具合が解消できる。
【００３８】
尚、本実施形態では、めっき槽１０内のめっき液Ｆを循環させたが、めっき槽１０外から酸性めっき液を供給してもよい。その場合には、めっき槽１０内の異なる場所にアルカリ性めっき液を供給し、液性バランスを保つことも好ましい。
【００３９】
また、本実施形態ではバレルめっきを例示したが、本発明の適用範囲はバレルめっきに限られず、種々のめっき手法に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本実施形態のめっき装置の構成を示す図である。
【図２】図１のめっき装置の変形例を示す図である。
【図３】本実施形態のめっき方法を示す図である。
【符号の説明】
【００４１】
１…めっき装置、１０…めっき槽、２０…カソード電極、２２…アノード電極、３０…バレル、３２…軸、４０…ポンプ、４２…吸入管、４４…排出管、５０…整流器、Ｆ…めっき液、Ｗ…ワーク、Ｍ…メディア。
【図１】
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【図２】
2007270268.tif 000008
【図３】
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