(57)【要約】【課題】黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償し、幅広い視野角において光漏れを防止するとともに、経年劣化の少ない光学補償素子及びその製造方法と、該光学補償素子を用いることにより高視野角、高コントラストで高画質な長寿命の液晶表示装置及び液晶プロジェクタを提供する。【解決手段】支持体と、少なくとも還元剤を有する層とからなることを特徴とする光学補償素子及びその製造方法である。本発明の液晶表示装置及び液晶プロジェクタは、前記光学補償素子を用いることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、少なくとも還元剤を含有する層とを含むことを特徴とする光学補償素子。
【請求項２】
光学異方性層を少なくとも１層を有してなる光学補償素子において、
前記光学異方性層が、重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の重合生成物で形成されてなり、
前記重合性液晶化合物の配向が固定されている請求項１に記載の光学補償素子。
【請求項３】
還元剤が、光学異方性層に含有された請求項２に記載の光学補償素子。
【請求項４】
保護層及び反射防止層のいずれかを有してなる請求項１から３のいずれかに記載の光学補償素子。
【請求項５】
還元剤が、光学異方性層以外のいずれかの層に含有された請求項２から４のいずれかに記載の光学補償素子。
【請求項６】
還元剤が、光学異方性層に隣接する層に含有された請求項２から５のいずれかに記載の光学補償素子。
【請求項７】
還元剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルに対して、０．０００５〜５ｇである請求項１から６のいずれかに記載の光学補償素子。
【請求項８】
還元剤が、下記一般式（１）及び（２）で表される化合物のいずれかである請求項１から７のいずれかに記載の光学補償素子。
【化１】
2007171525.tif 000043
ただし、前記一般式（１）及び（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、及び非金属の置換基のいずれかを表す。Ａは、結合部位が窒素原子、酸素原子、炭素原子、硫黄原子、及びリン原子のいずれかである１価の有機基を表す。
【請求項９】
重合性液晶化合物の配向角が、光学異方性層の厚み方向に変化するハイブリッド配向で固定されている請求項２から８のいずれかに記載の光学補償素子。
【請求項１０】
重合性液晶化合物が、棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物のいずれかを含む請求項２から９のいずれかに記載の光学補償素子。
【請求項１１】
光学異方性層を２層有し、前記光学異方性層における液晶分子の配向方向が互いに異なる請求項２から１０のいずれかに記載の光学補償素子。
【請求項１２】
配向方向が互いに異なる２つの光学異方性層が、支持体の一方の面上に設けられた請求項１１に記載の光学補償素子。
【請求項１３】
配向方向が互いに異なる２つの光学異方性層が、支持体を介して該支持体の両面に設けられた請求項１１に記載の光学補償素子。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれかに記載の光学補償素子の製造方法であって、重合性液晶化合物を含む重合性組成物を８０℃以上に加熱する工程を少なくとも含むことを特徴とする光学補償素子の製造方法。
【請求項１５】
少なくとも一対の電極及び該電極間に封入される液晶分子を有する液晶素子と、該液晶素子の両面、片面、及び内部のいずれかに配される光学補償素子と、前記液晶素子及び光学補償素子に対向配置される偏光素子とを備え、前記光学補償素子が請求項１から１３のいずれかに記載の光学補償素子であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１６】
液晶素子が、ツイストネマティック型である請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
光源と、該光源からの照明光が照射される液晶表示装置と、該液晶表示装置によって光変調された光をスクリーン上に結像させる投影光学系とを備え、前記液晶表示装置が請求項１５から１６のいずれかに記載の液晶表示装置であることを特徴とする液晶プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高い精度で光学的に補償し、経年劣化の少ない光学補償素子及びその製造方法、液晶表示装置及び液晶プロジェクタに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は、その用途展開が急速に進んでおり、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタなどに使われている。
一般に、液晶表示装置は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モード、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モードなどの表示モードで液晶を動作させて、該液晶を通過する光を電気的に制御して明暗の違いを画面上に表すことで、文字や画像を表現する表示装置である。
【０００３】
このような液晶表示装置としては、一般に、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）−ＬＣＤが知られており、該ＴＦＴ−ＬＣＤの液晶動作モードとしてはＴＮモードが主流である。一方、近年液晶表示装置の用途展開が進むにつれて、高コントラスト化の要望が高まっており、ＶＡモードの液晶表示装置の研究も盛んに行われている。
ＴＮモードの液晶表示装置は、２枚のガラス基板の間に９０°ねじれたネマチック液晶が封入され、また、２枚のガラスの外側には一対の偏光板がクロスニコルで配置されている。そして、電圧無印加状態では、偏光子側の偏光板を通った直線偏光が液晶層で偏光面が９０°ねじられて検光子側の偏光板を通過して白表示となる。また、電圧が十分に印加された状態では、液晶の配列方向が液晶パネルに略垂直に変化して、偏光子側の偏光板を通った直線偏光が偏光状態を変化させることなく液晶層を通り抜けて検光子側の偏光板に到達して黒表示となる。
【０００４】
これらの表示モードで動作する液晶表示装置は、斜め方向から表示画面を見た場合に、コントラストの低下や階調表示で明るさが逆転する階調反転現象等による表示特性の悪化が生じるという視野角依存性の問題がある。このような視野角依存性の問題は、液晶表示装置を黒表示しようとしても、視野角によっては、完全な黒にはならず、光漏れを起こすことに起因する。
【０００５】
このような問題を改善するため、従来より、黒表示状態の液晶層を通過する光の位相差値と、光学異方性フイルムの位相差値とを合わせこみ、該黒表示状態の液晶層を三次元的に光学補償して、どの方向から見ても光漏れをなくして、視野角依存性の問題を改善する光学補償フイルムが種々提案されている。例えば、本願出願人は、先に、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フイルム等の支持体及びその上に設けられた光学異方性層からなり、前記光学異方性層が、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有し、該ディスコティック構造単位を有する化合物を含有する塗布液を前記支持体上に塗布、配向、構造固定化することにより、前記ディスコティック構造単位の円盤面が、支持体面に対して傾いており、かつ前記ディスコティック構造単位の円盤面と支持体面とのなす角度が光学異方性層の厚み方向において変化するハイブリッド配向を有する光学補償フイルムを提案している（特許文献１参照）。
この光学補償フイルムによれば、黒表示状態の液晶層と鏡面対称となるように前記光学異方性層のディスコティック構造単位が配列されているため、前記支持体と前記ディスコティック構造単位との積層体全体の光学特性として、黒表示状態の液晶層が光学的に補償され幅広い視野角において光漏れを防止することが可能となる。
【０００６】
しかしながら、前記光学補償フイルムを用いることにより、前記液晶表示装置の視野角依存性の問題が改善され、視野角を拡大することに成功したが、近年、大画面表示を可能とする大画面液晶モニタや液晶プロジェクタ等への要望が高まり、前記大画面液晶モニタや液晶プロジェクタ等に対し、長期間使用しても退色や色ずれなどの表示品質の劣化の少ないものが望まれている。また、液晶プロジェクタは、様々な角度で液晶セルに入射した光が投影レンズにより統合されてスクリーンに拡大投影されるため、より高いコントラストが要求され、前記光学補償フイルムには未だ改善の余地がある。
【０００７】
また従来より、液晶セルを挟むように配置される２つの偏光板間に、ハイブリット配向した液晶層を有する光学フイルムを配置してなり、該光学フイルムが、複屈折性が極めて少ないプラスチックフィルムからなる基材フイルム上にハイブリッド配向した液晶層を配置してなる液晶プロジェクタのコントラスト比改善方法が知られている（特許文献２参照）。
しかし、前記基材フイルム上にハイブリッド配向した液晶層を配置してなる液晶プロジェクタの場合、前記光学補償フイルムの前記光学異方性層は重合性化合物などの有機材料からなるため、得られる光学補償素子は光化学反応等によって光学異方性層や配向膜が経年変化して徐々に品質が劣化し、該光学補償素子の表示品位の劣化を招くという問題がある。
特に前記改善方法のように、液晶プロジェクタに用いられる場合は、赤、緑、青のチャンネルの内、青チャンネルの劣化が大きく、コントラストが低下するだけでなく色バランスに齟齬を来すという問題点がある。
【０００８】
これらの改善方法として、有機材料の層上に無機材料の蒸着や有機材料の塗布などの手段により保護層を設け劣化反応を抑止する方法が知られている（特許文献３〜５参照）。
しかし、前記塗布手段の場合、光の通過方向、各層の法線方向においてのガスバリア性は向上することができるが、光学補償素子の端面からの、不純物の混入などの影響に対し効果に欠け、光学補償素子の有機材料部分の酸化反応による経年劣化を効果的に防止することは不十分であった。さらに、酸化反応によらない経年劣化に対しては、なんら防止手段となっていなかった。
【０００９】
【特許文献１】特開平８−５０２０６号公報
【特許文献２】再公表特許ＷＯ０１／０９０８０８
【特許文献３】特開平６−２８９２２７号公報
【特許文献４】特開平５−２７１１４号公報
【特許文献５】特開２００１−９１７４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償し、幅広い視野角において光漏れを防止するとともに、経年劣化の少ない光学異方性層及びその製造方法と、該光学異方性層からなる光学補償素子を用いることにより高視野角、高コントラストで高画質な長寿命の液晶表示装置及び液晶プロジェクタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  支持体と、少なくとも還元剤を含有する層とを含むことを特徴とする光学補償素子である。
＜２＞  光学異方性層を少なくとも１層を有してなる光学補償素子において、前記光学異方性層が、重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の重合生成物で形成されてなり、前記重合性液晶化合物の配向が固定されている前記＜１＞に記載の光学補償素子である。
＜３＞  還元剤が、光学異方性層に含有された前記＜２＞に記載の光学補償素子である。
＜４＞  保護層及び反射防止層のいずれかを有してなる前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜５＞  還元剤が、光学異方性層以外のいずれかの層に含有された前記＜２＞から＜４＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜６＞  還元剤が、光学異方性層に隣接する層に含有された前記＜２＞から＜５＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜７＞  還元剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルに対して、０．０００５〜５ｇである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜８＞  還元剤が、下記一般式（１）及び（２）で表される化合物のいずれかである前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
【化１】
2007171525.tif 000003
ただし、前記一般式（１）及び（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、及び非金属の置換基のいずれかを表す。Ａは、結合部位が窒素原子、酸素原子、炭素原子、硫黄原子、及びリン原子のいずれかである１価の有機基を表す。
＜９＞  重合性液晶化合物の配向角が、光学異方性層の厚み方向に変化するハイブリッド配向で固定されている前記＜２＞から＜８＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜１０＞  重合性液晶化合物が、棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物のいずれかを含む前記＜２＞から＜９＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜１１＞  光学異方性層を２層有し、前記光学異方性層における液晶分子の配向方向が互いに異なる前記＜２＞から＜１０＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜１２＞  配向方向が互いに異なる２つの光学異方性層が、支持体の一方の面上に設けられた前記＜１１＞に記載の光学補償素子である。
＜１３＞  配向方向が互いに異なる２つの光学異方性層が、支持体を介して該支持体の両面に設けられた前記＜１１＞に記載の光学補償素子である。
＜１４＞  前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の光学補償素子の製造方法であって、重合性液晶化合物を含む重合性組成物を８０℃以上に加熱する工程を少なくとも含むことを特徴とする光学補償素子の製造方法である。
＜１５＞  少なくとも一対の電極及び該電極間に封入される液晶分子を有する液晶素子と、該液晶素子の両面、片面、及び内部のいずれかに配される光学補償素子と、前記液晶素子及び光学補償素子に対向配置される偏光素子とを備え、前記光学補償素子が前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の光学補償素子であることを特徴とする液晶表示装置である。
＜１６＞  液晶素子が、ツイストネマティック型である前記＜１５＞に記載の液晶表示装置である。
＜１７＞  光源と、該光源からの照明光が照射される液晶表示装置と、該液晶表示装置によって光変調された光をスクリーン上に結像させる投影光学系とを備え、前記液晶表示装置が前記＜１５＞から＜１６＞のいずれかに記載の液晶表示装置であることを特徴とする液晶プロジェクタである。
【００１２】
本発明の光学補償素子は、支持体と、少なくとも還元剤を有する層とを有するので、光学特性を高精度で所望の特性とすることができ、幅広い視野角において光漏れを防止するとともに、経年劣化を防止することが可能となる。
【００１３】
本発明の液晶表示装置は、少なくとも一対の電極及び該一対の電極間に封入される液晶分子を有する液晶素子と、該液晶素子の両面、片面、及び内部のいずれかに配される光学補償素子と、前記液晶素子及び光学補償素子に対向配置される偏光素子とを有し、前記光学補償素子が前記本発明の光学補償素子である。その結果、高視野角、高コントラスト、高画質であって、経年劣化の少ない液晶表示装置を提供することができる。
【００１４】
本発明の液晶プロジェクタは、光源と、該光源からの照明光が照射される液晶表示装置と、該液晶表示装置によって光変調された光をスクリーン上に結像させる投影光学系とを備え、前記液晶装置が前記本発明の液晶表示装置である。その結果、高視野角、高コントラスト、高画質であって、経年劣化の少ない液晶プロジェクタを提供することができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によると、従来における前記問題を解決でき、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償し、幅広い視野角において光漏れを防止するとともに、経年劣化の少ない光学補償素子及びその製造方法と、該光学補償素子を用いることにより高視野角、高コントラストで高画質な長寿命の液晶表示装置及び液晶プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
（光学補償素子）
本発明の光学補償素子は、支持体と少なくとも還元剤を有する層とを含んでなり、さらに必要に応じてその他の層を有してなる。
本発明の光学補償素子は、支持体と該支持体の少なくとも一方の面上に光学異方性層を有してなり、保護層、反射防止層、更に必要に応じてその他の層を有してなることが好ましく、いずれかの層に還元剤を含有してなる。
前記光学補償素子としては、例えば、光学異方性層及び保護層のいずれか一方、又は両方に還元剤を含有した光学補償素子などが挙げられる。
【００１７】
−還元剤−
前記還元剤としては、特に制限はなく、目的に応じて選択することができるが、例えば、下記一般式（１）又は（２）で表される化合物が好ましい。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１８】
【化１】
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ただし、前記一般式（１）又は（２）において、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に、水素原子、及び非金属の置換基のいずれかを表す。Ａは、結合部位が窒素原子、酸素原子、炭素原子、硫黄原子、及びリン原子のいずれかである１価の有機基を表す。
【００１９】
前記非金属の置換基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、のスルフィニル基、ホスホリル基、カルバモイル基、アルコキシカルバモイル基、アシル基、ヒドラジド基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、脂肪族ヒドラジル基、アリールヒドラジル基、ヒドラジド基、アリールアゾ基、などが挙げられる。これらは、置換基で更に置換されていてもよい。
前記アルキル基としては、特に制限はないが、例えば、直鎖、分岐鎖、又は環状の、炭素数１〜３０のアルキル基が挙げられる。
前記アルキル基としては、直鎖又は分岐鎖のアルキル基、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、多環アルキル基、などが好ましい。
前記直鎖又は分岐鎖のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基が好ましい。
前記シクロアルキル基としては、炭素数３〜３０のシクロアルキル基が好ましい。
前記炭素数３〜３０のシクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基、などが挙げられる。
前記ビシクロアルキル基は、ビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基のことを示す。
前記ビシクロアルキル基としては、炭素数５〜３０のビシクロアルキル基が好ましい。
前記炭素数５〜３０のビシクロアルキル基としては、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基、などが挙げられる。
前記多環アルキル基としては、トリシクロアルキル基、テトラシクロアルキル基、ヘキサシクロアルキル基が挙げられる。
なお、以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）は、前記アルキル基と同様のものを表す。
前記アリール基としては、特に制限はないが、例えば、炭素数６〜３０のアリール基が挙げられる。
炭素数６〜３０のアリール基としては、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基、などが挙げられる。
前記アルケニル基としては、特に制限はないが、例えば、直鎖、分岐鎖、又は環状の、炭素数２〜３０のアルケニル基が挙げられる。
前記アルケニル基としては、直鎖又は分岐鎖のアルケニル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基、などが好ましい。
前記直鎖又は分岐鎖のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基、などが好ましい。
前記シクロアルケニル基は、シクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基を示す。
前記シクロアルケニル基としては、炭素数３〜３０のシクロアルケニル基が好ましい。
前記炭素数３〜３０のシクロアルケニル基としては、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基、などが挙げられる。
前記ビシクロアルケニル基は、二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基を示す。
前記ビシクロアルケニル基としては、炭素数５〜３０のビシクロアルケニル基が好ましい。
前記炭素数５〜３０のビシクロアルケニル基としては、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基、などが挙げられる。
前記アルキニルの炭素数としては、２〜３０が好ましい。
前記アルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基、などが挙げられる。
前記へテロ環基は、５又は６員の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基を示す。
前記へテロ環基としては、５又は６員の芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であることが好ましい。これらの中でも、炭素数３〜３０の５又は６員の芳香族ヘテロ環基であることがより好ましい。
前記へテロ環基としては、例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基、などが挙げられる。
前記アルコキシ基としては、炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましい。
前記炭素数１〜３０のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基、などが挙げられる。
前記アリールオキシ基としては、炭素数６〜３０のアリールオキシ基が好ましい。
炭素数６〜３０のアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基、などが挙げられる。
前記アルキルチオ基としては、炭素数１〜３０のアルキルチオ基が好ましい。
前記炭素数１〜３０のアルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基、などが挙げられる。
前記アリールチオ基としては、炭素数６〜３０のアリールチオ基が好ましい。
前記炭素数６〜３０のアリールチオ基としては、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基、などが挙げられる。
前記スルフィニル基としては、炭素数１〜３０のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０のアリールスルフィニル基が好ましい。
前記炭素数１〜３０のアルキルスルフィニル基としては、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、などが挙げられる。
前記炭素数６〜３０のアリールスルフィニル基としては、例えば、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基、などが挙げられる。
前記ホスホリル基としては、炭素数１〜３０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０のアリールスルホニル基が好ましい。
前記炭素数１〜３０のアルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、などが挙げられる。
前記炭素数６〜３０のアリールスルホニル基としては、例えば、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基、などが挙げられる。
前記カルバモイル基としては、炭素数１〜３０のカルバモイルオキシ基、炭素数１〜２０のカルバモイルアミノ基が好ましい。
前記炭素数１〜３０のカルバモイルオキシ基としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基、などが挙げられる。
前記炭素数１〜２０のカルバモイルアミノ基としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ペンチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ−ｎ−ヘプチルカルバモイルアミノ基、などが挙げられる。
前記アルコキシカルバモイル基としては、炭素数２〜３０アルコキシカルボニルオキシ基が好ましい。
前記炭素数２〜３０アルコキシカルボニルオキシ基としては、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基、などが挙げられる。
前記アシル基としては、ホルミル基、炭素数２〜３０のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましい。
前記アシル基としては、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２―ピリジルカルボニル基、２―フリルカルボニル基、などが挙げられる。
前記アリールオキシカルボニル基としては、炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニル基が好ましい。
前記炭素数７〜３０のアリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基、などが挙げられる。
【００２０】
前記Ｒ1及びＲ４としては、前記アリール基、前記アルキル基、前記ヘテロ環基が好ましい。これらは置換基で更に置換されていてもよい。
前記Ｒ２及びＲ３としては、水素原子が好ましい。
前記Ｒ1におけるアリール基、及びヘテロ環基の置換基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルアミノ基、スルフィニル基、ホスホニル基、及びその他の置換基、などが挙げられる。これらは置換基で更に置換されていてもよい。
前記アルキル基の分子状の形態としては、例えば、直鎖状、分岐鎖状、又は環状、などが挙げられる。
前記アルキル基の炭素数としては、１〜３０が好ましい。
前記アルキル基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるアルキル基と同様のものが挙げられる。
前記アリール基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるアリール基と同様のものが挙げられる。
前記ハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、などが挙げられる。
前記アルコキシ基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるアルコキシ基と同様のものが挙げられる。
前記アリールオキシ基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるアリールオキシ基と同様のものが挙げられる。
前記アシル基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるアシル基と同様のものが挙げられる。
前記アシルアミノ基としては、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０のアリールカルボニルアミノが好ましい。これらは置換基で更に置換されていてもよい。
前記炭素数１〜３０のアルキルカルボニルアミノ基としては、例えば、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、などが挙げられる。
前記炭素数６〜３０のアリールカルボニルアミノ基としては、例えば、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基、などが挙げられる。
前記スルフィニル基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるスルフィニル基と同様のものが挙げられる。
前記ホスホニル基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるホスホニル基と同様のものが挙げられる。
その他の置換基としては、例えば、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ２−Ｒ、−ＮＲ２、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ２、−ＳＯ２−ＮＲ２−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ２、−Ｎ＝Ｎ−、などが挙げられる。
前記Ｒは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は水素原子を表す。これらは置換基で更に置換されていてもよい。
前記アルキル基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるアルキル基と同様のものが挙げられる。
前記アルケニル基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるアルケニル基と同様のものが挙げられる。
前記アリール基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるアリール基と同様のものが挙げられる。
【００２１】
前記結合部位が窒素原子、酸素原子、炭素原子、硫黄原子、及びリン原子のいずれかである１価の有機基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、−ＮＲ５Ｒ６、−Ｏ−Ｒ７、−Ｒ８、置換又は非置換のアリール基、置換又は非置換のへテロ環基、などが挙げられる。
前記アリール基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるアリール基と同様のものが挙げられる。
前記へテロ環基としては、前記Ｒ１〜Ｒ４の説明におけるへテロ環基と同様のものが挙げられる。
前記−ＮＲ５Ｒ６におけるＲ５及びＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリールカルボニル基、アリール基、ヘテロ環基、−Ｎ−Ｒ９Ｒ１０、又は−Ｏ−Ｒ１１を表す。これらは置換基で更に置換されていてもよい。該Ｒ５及びＲ６は、互いに連結して、環構造を形成してもよい。
前記Ｒ5は、水素原子が好ましい。
前記Ｒ6は、アリール基、ヘテロ環基が好ましい。
前記−Ｏ−Ｒ7におけるＲ7は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アリールカルボニル基、アゾ基、脂肪族ヒドラジル基、アリールヒドラジル基、又はヒドラジド基を表す。これらは置換基で更に置換されていてもよい。
前記−Ｒ８におけるＲ８は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルフィニル基、ホスホリル基、カルバモイル基、アシル基、ヒドラジド基、脂肪族ヒドラジル基、アリールヒドラジル基、ヒドラジド基、又はアリールアゾ基を表す。これらは置換基で更に置換されていてもよい。
前記−Ｎ−Ｒ９Ｒ１０におけるＲ９、及びＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルフィニル基、ホスホリル基、カルバモイル基、アルコキシカルバモイル基、アシル基、ヒドラジド基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、脂肪族ヒドラジル基、アリールヒドラジル基、ヒドラジド基、アリールアゾ基、などを表す。これらは置換基で更に置換されていてもよい。該Ｒ9、Ｒ10は、互いに連結して、環構造を形成してもよい。
前記Ｒ9としては、水素原子が好ましい。
前記Ｒ10としては、アリール基、ヘテロ環基が好ましい。
前記−Ｏ−Ｒ11におけるＲ11は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アリールカルボニル基、アゾ基、脂肪族ヒドラジル基、アリールヒドラジル基、ヒドラジド基などを表す。これらは置換基で更に置換されていてもよい。
前記Ｒ11としては、アリール基、ヘテロ環基が好ましい。
【００２２】
前記Ａ、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１におけるアリール基、ヘテロ環基が置換されている場合の置換基としては、前記Ｒ1におけるアリール基、ヘテロ環基が置換されている場合の置換基と同様のものが挙げられる。
【００２３】
前記一般式（１）又は（２）で表される化合物の具体例としては、下記構造式（１−１）〜（１―４４）で表される化合物が挙げられる。
【００２４】
【化２】
2007171525.tif 000005
2007171525.tif 000006
2007171525.tif 000007
2007171525.tif 000008
2007171525.tif 000009
【００２５】
前記還元剤としては、前記一般式（１）又は（２）で表される化合物の繰り返し構造からなるホモポリマー、又はコポリマーを使用してもよい。また、前記一般式（１）又は（２）で表される化合物と、これらの化合物以外の化合物とからなるコポリマーを使用してもよい。
ポリマー構造を有する還元剤の場合は、該ポリマー１分子当たり、還元能を有するモノマーを２５ｍｏｌ％以上の含有することが好ましい。
前記還元能を有するモノマーとしては、還元能を有するものであれば特に制限はなく、例えば、下記構造式（１−４５）〜（１−４８）等が挙げられる。
還元能を有するモノマーの含有量の測定方法は、特に制限はなく、公知の方法で測定することができ、例えば、赤外分光法等が挙げられる。
前記ポリマー及びコポリマーにおける繰り返し単位の具体例としては、下記構造式（１−４５）〜（１―５３）で表される化合物が挙げられる。
【化２】
2007171525.tif 000010
【００２６】
2007171525.tif 000011
【００２７】
前記還元剤の含有量としては、前記光学補償素子１平方メートルに対して、０．００１〜５ｇが好ましく、０．００５〜１ｇがより好ましい。前記含有量が０．００１ｇ未満であると、十分な効果が得られないことがあり、５ｇを超えると、光学補償素子の性能に悪影響を与えることがある。前記還元剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２８】
前記還元剤は、光学異方性層に還元能をもたらすことが可能な限り、光学補償素子のいずれの層に含有されていてもよいが、紫外線によって硬化する重合性組成物の重合生成物を含む層、及び重合成組成物を含む層に隣接する層のいずれかに含有されていることが好ましい。
前記還元剤が光学異方性層に含まれる場合の前記還元剤の含有量としては、前記光学補償素子１平方メートルに対して、１ｇ以下が好ましい。前記含有量が１ｇを超えると、重合性液晶化合物の配向を阻害し、光学補償素子の性能に悪影響を与えることがある。
【００２９】
前記還元剤を含む光学補償素子を液晶プロジェクタに組み込み、該還元剤が前記光学異方性層以外の層に含まれる場合は、該還元剤が含まれる光学異方性層以外の層は、光学異方性層に対して光線の入射側に配置されることが好ましい。
【００３０】
＜支持体＞
前記支持体としては、使用する光の波長に対して５０％以上透過する程度に透明であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、白板ガラス、青板ガラス、石英ガラス、サファイアガラス、有機高分子フイルムなどが挙げられる。
前記有機高分子フイルムとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン系、ポリエーテル系、ポリスルフィン系、ポリスルホン系、ポリエーテルスルホン系、セルロースアセテート、セルロースジアセテート等のセルロースエステル系、ポリメチルメタクリレート等のポリ（メタ）アクリル酸エステルなどの重合体群から選ばれる１種類、又は２種類以上の組合せなどが挙げられる。
【００３１】
前記有機高分子フイルムの具体例としては、ポリカーボネート共重合体、ポリエステル共重合体、ポリエステルカーボネート共重合体、ポリアリレート共重合体が好適に挙げられ、ポリカーボネート共重合体がより好適に挙げられる。
前記ポリカーボネート共重合体としては、フルオレン骨格を有するポリカーボネート共重合体が好ましく、透明性、耐熱性、生産性の観点から、ビスフェノール類とホスゲン或いは炭酸ジフェニルなどの炭酸エステル形成化合物と反応させて得られるポリカーボネート共重合体が特に好ましい。
前記ポリカーボネート共重合体が有するフルオレン骨格の含有量としては、１〜９９モル％が好ましい。前記ポリカーボネート共重合体としては、国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載の、繰り返し単位を用いることも可能である。
これらの中でも、前記支持体としては、面の平滑性の観点から前記各種無機材料よりなるガラスを好適に用いることができる。
また、前記支持体としては、液晶素子を構成する透明基盤を用いることができる。
前記透明基盤としては、例えば、ブラックマトリクス、マイクロレンズアレイ、透明電極、ＴＦＴ、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３２】
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１μｍ以上が好ましく、厚みの上限としては、組込みのハンドリング性や機械的強度の観点から、実質的に０．５〜１．５ｍｍが好ましい。
【００３３】
＜光学異方性層＞
前記光学異方性層としては、重合性液晶化合物を含む重合性組成物を重合させた重合生成物を含んでなり、更に、必要に応じて適宜選択したその他の成分を含んでなる。
【００３４】
−重合性組成物−
前記重合性組成物は、重合性基を有した液晶性化合物を形成する重合性液晶化合物と、必要に応じて適宜選択したその他の成分とを含有した組成物である。
【００３５】
−−重合性液晶化合物−−
前記重合性液晶化合物の化合物の形態としては、棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物の少なくともいずれかを含んでなることが好ましく、円盤状液晶性化合物を含んでなることがより好ましい。また、前記重合性液晶化合物としては、必要に応じて適宜選択したその他の成分を含有することができる。
【００３６】
前記棒状液晶性化合物を含む重合性液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリマーバインダーを用いて前記棒状液晶性化合物の配向状態を固定可能とした重合性液晶化合物、重合により液晶性化合物の配向状態を固定可能とした重合性基を有する重合性液晶化合物などが挙げられ、この中でも重合性基を有する前記重合性液晶化合物が好適に挙げられる。
【００３７】
前記棒状の液晶性化合物（棒状液晶分子）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類などが挙げられる。
【００３８】
前記棒状の液晶性化合物を含む重合性液晶化合物としては、下記構造式（１）で表される低分子の重合性基を有する棒状液晶化合物が重合した高分子液晶化合物が挙げられる。
【００３９】
【化３】
2007171525.tif 000012
ただし、前記構造式（１）において、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ重合性基を表し、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４は、それぞれ単結合又は二価の連結基を表すが、Ｌ２及びＬ３の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表す。また、Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサー基を表す。また、Ｍは、メソゲン基を表す。
【００４０】
前記円盤状の液晶性化合物を含む重合性液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリマーバインダーを用いて前記円盤状液晶性化合物の配向状態を固定可能とした重合性液晶化合物、重合により前記円盤状液晶性化合物の配向状態を固定可能とした重合性基を有する重合性液晶化合物などが挙げられ、これらの中でも、重合性基を有する前記重合性液晶化合物が好適に挙げられる。
【００４１】
前記重合性基を有する重合性液晶化合物としては、例えば、円盤状コアと重合性基との間に連結基を導入した構造が挙げられる。前記重合性液晶化合物の具体的としては、下記構造式（２）で表される化合物が好適に挙げられる。
【００４２】
【化４】
2007171525.tif 000013
ただし、前記構造式（２）において、Ｄは円盤状コアを表し、Ｌは二価の連結基を表し、Ｐは重合性基を表す。また、ｎは３〜１２の整数である。また、複数の二価の連結基Ｌと重合性基Ｐとの組合せとしては、異なる二価の連結基と重合性基との組合せでもよいが、同一の組合せが好ましい。前記円盤状コアＤとしては、２種以上を併用することも可能である。
【００４３】
前記構造式（２）において、円盤状コアＤの具体例としては、下記構造式（Ｄ１）〜（Ｄ１５）で表される円盤状コアが挙げられる。
【００４４】
【化５】
2007171525.tif 000014
【００４５】
【化６】
2007171525.tif 000015
【００４６】
【化７】
2007171525.tif 000016
【００４７】
【化８】
2007171525.tif 000017
【００４８】
【化９】
2007171525.tif 000018
【００４９】
【化１０】
2007171525.tif 000019
【００５０】
【化１１】
2007171525.tif 000020
【００５１】
【化１２】
2007171525.tif 000021
【００５２】
【化１３】
2007171525.tif 000022
【００５３】
前記構造式（２）において、二価の連結基Ｌとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、これらの組合せなどが好ましく、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、これらの中から選ばれる二価の基を少なくとも二つ組合せた二価の連結基がより好ましく、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、これらの中から選ばれる二価の基を少なくとも二つ組合せた二価の連結基が特に好ましい。
【００５４】
前記アルキレン基の炭素原子数としては、１〜１２であることが好ましい。前記アルケニレン基の炭素原子数としては、２〜１２であることが好ましい。前記アリーレン基の炭素原子数としては、６〜１０であることが好ましい。また、前記アルキレン基、前記アルケニレン基、前記アリーレン基としては、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基などの置換基を有していてもよい。
【００５５】
前記二価の連結基Ｌとしては、例えば、−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−、−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−、−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−、−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−、−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−、−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−ＡＬ−、−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−、−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−、などが挙げられる。
ただし、前記二価の連結基Ｌの具体例において、左側が前記円盤状コアＤに結合し、右側が重合性基Ｐに結合する。またＡＬはアルキレン基、アルケニレン基を表し、ＡＲはアリーレン基を表す。
【００５６】
前記構造式（２）において、前記重合性基Ｐとしては、特に制限はなく、重合反応の種類に応じて適宜選択することができ、不飽和重合性基、エポキシ基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基がより好ましい。前記重合性基Ｐの具体例としては、下記構造式（Ｐ１）〜（Ｐ１８）で表される重合性基が挙げられる。
【００５７】
【化１４】
2007171525.tif 000023
【００５８】
【化１５】
2007171525.tif 000024
【００５９】
【化１６】
2007171525.tif 000025
【００６０】
【化１７】
2007171525.tif 000026
【００６１】
【化１８】
2007171525.tif 000027
【００６２】
【化１９】
2007171525.tif 000028
ただし、前記構造式（Ｐ１）〜（Ｐ１８）で表される重合性基において、ｎは３〜１２の整数を表し、前記円盤状コアＤの種類により決定される値である。
これらの重合性液晶化合物については、例えば、特開平９−１０４６５６号公報、特開平１１−９２４２０号公報、特開２０００−３４２５１号公報、特開２０００−４４５０７号公報、特開２０００−４４５１７号公報、特開２０００−８６５８９号公報などを例示することができる。
【００６３】
−−その他の成分−−
前記重合性液晶化合物に含有するその他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記重合性液晶化合物の重合反応を開始する重合開始剤、架橋剤などが挙げられる。また、前記一般式（１）から（２）のいずれかで表される化合物も好ましく含有することができる。
【００６４】
前記重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱重合反応を開始する熱重合開始剤、光重合反応を開始する光重合開始剤が挙げられ、こられの中でも前記光重合開始剤が好適に挙げられる。
前記光重合開始剤の具体例としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、米国特許第２３６７６７０号明細書に記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書に記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書に記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号明細書、米国特許第２９５１７５８号に記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組合せ（米国特許第３５４９３６７号に記載）、アクリジン及びフェナジンの化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書に記載）などが挙げられる。
前記光重合開始剤の前記重合性液晶化合物における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記重合性液晶化合物の塗布液における固形分の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がより好ましい。
前記光重合反応に用いられる光照射手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、紫外線が好適に挙げられる。前記光照射手段の照射エネルギーとしては、２０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。また、前記光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００６５】
また、前記重合性組成物には、二官能又は三官能の架橋剤を含有し、必要に応じて適宜選択した、その他の成分を含有することが可能である。前記二官能又は三官能の架橋剤は、残存するモノマーが酸化防止剤として作用して光や熱に起因する酸化反応を抑制することができる。
前記架橋剤としては、例えば、ビスアクリレート化合物、ビスメタクリレート化合物、ビスアリールエーテル、ビスビニルエーテル、ビスアリールエステル、ビスビニルエステル、トリスアクリレート化合物、トリスメタクリレート化合物、トリスアリールエーテル、トリスビニルエーテルなどが挙げられる。
【００６６】
前記架橋剤の具体例としては、例えば、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアリールエーテル、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、グリセロールジアクリレート、グリセロールビニルエーテルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−６０４（日本化薬（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＸ−６２０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。これらの中でも、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−６０４（日本化薬（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＸ−６２０（日本化薬（株）製）などが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６７】
前記架橋剤の分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５０〜１，２００が好ましく、１００〜７００がより好ましい。
【００６８】
前記架橋剤の含有量としては、前記重合性組成物の固形分に対して１〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％がより好ましく、５〜１０質量％が特に好ましい。前記含有量が、１質量％未満或いは２０質量％を超えると、液晶の配向を妨害することとなり好適な重合性組成物が得られないことがある。
【００６９】
前記重合性組成物は、層形成の際に支持体上に塗布された時に前記重合性液晶化合物が配向状態にあることが好ましい。該配向状態としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。この配向状態は重合性液晶化合物が重合又は架橋することにより固定されて、光学異方性層中で液晶状態を示さなくなっていてもよい。
【００７０】
ここで、前記配向状態とは、本発明において、液晶状態を構成する化合物（分子）に分子形状に起因する固有軸、つまり棒状などの棒状様分子であれば長軸方向、板状分子であれば板の法線方向に前記固有軸を設定した場合に、注目した微少領域に含まれる液晶状態を構成する分子の固有軸の平均方向が、ほぼ揃っていること、即ち、液晶状態を構成する分子の配向状態をいう。
【００７１】
更に、本発明では、この配向状態にあるとき、注目した微少領域の液晶性化合物の固有軸の平均方向と、光学補償素子の積層方向（光学異方性層と支持体との界面における法線方向）とのなす角を配向角と称し、固有軸の平均方向を前記界面に投影した成分を配向方向と称する。
【００７２】
本発明の重合性液晶化合物の前記配向状態は、前記配向角が光学異方性層の上面と下面との間で、厚み方向に連続的に変化するハイブリッド配向を有していることが好ましい。
前記ハイブリッド配向における配向角としては、配向膜側から空気界面側に向かって連続的に２０°±２０°〜６５°±２５°の範囲で変化するように調整されることが好ましい。
前記重合性液晶化合物の前記配向角及び配向方向により決定される前記配向状態としては、黒表示状態の液晶層と鏡面対象となるように前記配向角及び配向方法が調整されることが好ましい。
【００７３】
ここで、前記光学異方性層における前記重合性液晶化合物の配向膜側近傍の配向角、空気界面側の配向角度及び平均配向角は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、多方向からのレターデーションを測定し、測定されたレターデーションから屈折率楕円体モデルを想定し、該屈折率楕円体モデルから算出された値である。
また、前記レターデーションから配向角を算出する方法としては、Ｄｅｓｉｇｎ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ  ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴに記載された手法で算出することも可能である。前記配向角を算出する場合における前記レターデーションの測定方向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光学異方性層の法線方向のレターデーション（Ｒｅ０）、該法線方向に対して−４０°方向のレターデーション（Ｒｅ−４０）及び＋４０°方向のレターデーション（Ｒｅ４０）が挙げられる。
前記Ｒｅ０、Ｒｅ−４０、Ｒｅ４０の測定は、それぞれ前記エリプソメーターを用いて、前記各測定方向に観察角度を変えて測定した値である。
【００７４】
−その他の構成−
前記光学異方性層が備えるその他の構成としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができ、前記重合性液晶化合物を配向させるための配向膜が好適に挙げられる。前記配向膜上に前記重合性液晶化合物が塗布等により積層されることが好ましい。
前記配向膜としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラビング処理された有機化合物（ポリマー）からなる配向膜、マイクログループを有する配向膜、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）によりω−トリコ酸、ジオクタデシルジメチルアンモニウムクロリド、ステアリル酸メチル等の有機化合物が累積された配向膜、無機化合物が斜方蒸着された配向膜、電場、磁場又は光照射等により配向機能が生じる配向膜などが挙げられ、前記ラビング処理された有機化合物からなる配向膜が好適に挙げられる。
前記ラビング処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記有機化合物からなる膜の表面を紙や布で一定方向に数回こする処理が挙げられる。
【００７５】
前記有機化合物の種類としては、特に制限はなく、前記液晶性化合物の配向状態（特に配向角）に応じて決定することができ、例えば、前記液晶性化合物を水平に配向させるために配向膜の表面エネルギーを低下させない配向膜用ポリマーが挙げられる。
前記配向膜用ポリマーの具体例としては、ラビング処理の方向に対して直交する方向に前記液晶性化合物を配向する場合には、変性ポリビニルアルコール（特開２００２−６２４２７号公報参照）、アクリル酸系コポリマー（特開２００２−９８８３６号公報参照）ポリイミド、ポリアミック酸（特開２００２−２６８０６８号公報参照）などが好適に挙げられる。
【００７６】
前記配向膜は、前記重合性液晶化合物、前記支持体に対する密着性を向上させることを目的として、反応性基を有することが好ましい。前記反応性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記配向膜用ポリマーの繰り返し単位の側鎖に反応性基を導入したもの、前記配向膜用ポリマーに環状基の置換基を導入したものなどが挙げられる。
前記反応性基により前記重合性液晶化合物、前記支持体に対して化学結合を形成する配向膜としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開平９−１５２５０９号公報に記載の配向膜を用いることも可能である。
前記配向膜の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．０１〜５μｍが好ましく、０．０５〜２μｍがより好ましい。
【００７７】
−光学異方性層の作製方法−
前記光学異方性層の作製方法は、少なくとも前記重合性液晶化合物を含んだ重合性組成物を８０℃以上に加熱する工程を含んでいれば特に制限はなく、例えば、前記重合性組成物の溶液を、支持体の少なくとも一方の面上に塗布し塗布層を形成する光学異方性層工程と、該重合性組成物を８０℃以上に加熱する熱処理工程と、該重合性組成物を重合させる重合硬化工程とを含む作製方法が挙げられる。
なお、前記光学異方性層の作製方法としては、前記配向膜を用いて前記重合性液晶化合物を配向させてから、その配向状態のまま液晶性分子を固定して光学異方性層を形成し、光学異方性層のみをポリマーフィルムなどの支持体上に転写してもよい。このような作製方法によれば、配向膜による複屈折の影響を考慮する必要がなく、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償することが可能となる。
【００７８】
−光学異方性層形成工程−
前記光学異方性層形成工程は、前記配向膜、又は支持体上に少なくとも重合性液晶化合物を含んだ光学異方性層を形成する工程である。
前記重合性液晶化合物のを含んだ溶液を前記配向膜、又は支持体上に塗工し、塗工層を形成する。
前記重合性液晶化合物の溶液を調製するための溶剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、有機溶剤が好ましい。
前記有機溶剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、アミド、スルホキシド、ヘテロ環化合物、炭化水素、アルキルハライド、エステル、ケトン、エーテル、などが好ましい。
前記アミドとしては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。
前記スルホキシドとしては、例えば、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
前記ヘテロ環化合物としては、例えば、ピリジンなどが挙げられる。
前記炭化水素としては、例えば、ベンゼン、ヘキサンなどが挙げられる。
前記アルキルハイドライドとしては、クロロホルム、ジクロロメタンなどが挙げられる。
前記エステルとしては、例えば、酢酸メチル、酢酸ブチルなどが挙げられる。
前記ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどが挙げられる。
前記エーテルとしては、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなどが挙げられる。
これらの中でもアルキルハライド、ケトンが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記重合性液晶化合物のを含んだ溶液の前記支持体（又は配向膜）上への塗布方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコート法などの公知の方法、などが挙げられる。
【００７９】
−熱処理工程−
前記熱処理工程は、前記光学異方性層の塗布層を加熱して配向を均一にし、熟成させ、それを維持する工程である。
前記塗工層を６０〜１２０℃で加熱して溶媒を揮発、乾燥させる。溶媒を乾燥させた後に、重合性化合物の配向を熟成させるために加熱温度を８０〜１８０℃の範囲若しくは液晶がＮＤ層を示す加熱温度（以下、遷移温度と称することがある。）まで制御し、硬化反応が充分に行われるエネルギー量の紫外線を照射して前記重合性化合物を重合させて、前記重合性化合物の配向を固定し、光学異方性層を得る。
【００８０】
−光学異方性層重合硬化工程−
前記光学異方性層重合硬化工程は、前記遷移温度を維持しつつ該光学異方性層を重合硬化させる工程である。
前記配向が熟成された前記光学異方性層の重合硬化工程としては、該液晶層の配向を固定化できるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合用の活性線を照射することにより硬化反応を行うもが挙げられる。
前記光重合用の活性線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線、赤外線（熱線）、などが挙げられる。これらの中でも、紫外線が好ましい。
前記紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）及びショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）、などが挙げられる。
【００８１】
エチレン性不飽和基の重合反応のためのラジカル重合開始剤としては、例えば、アゾビス化合物、パーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、レドックス触媒など、例えば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、ｔｅｒｔ−ブチルパーオクトエート、ベンゾイルパーオキサイド、イソプロピルパーカーボネート、２，４−ジクロルベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、クメンハイドロパーキサイド、ジクミルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）ハイドロクロライド或いはベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、チオキサントン類等を挙げることができる。これらの詳細については「紫外線硬化システム」総合技術センター、６３頁〜１４７頁、１９８９年等に記載されている。
【００８２】
また、エポキシ基を有する化合物の重合には、紫外線活性化カチオン触媒として、例えば、アリルジアゾニウム塩（ヘキサフルオロフォスフェート、テトラフルオロボラート等）、ジアリルヨードニウム塩、ＶＩａ族アリロニウム塩（ＰＦ６、ＡｓＦ６、ＳｂＦ６のようなアニオンをもつアリルスルホニウム塩等）が一般的に用いられる。
また、ラジカル反応を用いて硬化反応を行う場合、空気中の酸素の存在による重合反応の遅れをさけるために、窒素雰囲気下で上記活性線を照射することが、反応時間の短縮化と少ない光量で硬化できる点で好ましい。
【００８３】
前記重合成化合物で形成された光学異方性層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０５〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。
【００８４】
＜保護層＞
前記保護層の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、同一材料の単層又は積層でもよく、２以上の異なる材料の積層でもよい。
前記保護層の材料としては、機械的強度、密封性（ガスバリア性）があり、透明性に優れ、８０％以上の光透過率を示して均一な光学特性を満たすものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機材料、有機材料などが挙げられる。
前記無機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラス、サファイアガラス、アルミナ、シリカなどの素材を好適に用いることができる。これらの中でも、酸素ガスなどの透過性がほとんどなく、積層の容易なアルミナが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記無機材料からなる前記保護層の厚みとしては、目的に応じて適宜選択することができ、前記機能の観点から０．０５μｍ以上が好ましく、前記厚みの上限としては、組込みのハンドリング性や機械的強度の観点から、０．４μｍが好ましく、０．１〜０．２μｍがより好ましい。前記厚みが、０．０５μｍ未満であると、機械的強度に欠け密封性を損なうおそれがあり、耐久性が乏しくなることがあり、０．４μｍを超えると光学特性が低下するおそれがあり、コンラストの劣化を招くことがある。
【００８５】
前記有機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリレートポリマー、ポリビニルアルコール、塩化ビニルのようなプラスチックからなるフイルム、紫外線硬化樹脂等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、前記有機材料からなる保護層に、前記還元剤を含有させてもよい。
前記有機材料からなる前記保護層の厚みとしては、目的に応じて適宜選択することができ、上記機能の観点から０．０５μｍ以上が好ましく、前記厚みの上限としては、組込みのハンドリング性や機械的強度の観点から、４μｍ以下が好ましく、０．１〜２μｍがより好ましい。前記厚みが、０．０５μｍ未満であると、機械的強度に欠け密封性を損なうおそれがあり、４μｍを超えると光学特性が低下するおそれがあり、コンラストの劣化を招くことがある。
【００８６】
前記保護層は、光学補償素子の少なくとも一方の面に配置することが好ましく、両面に設けることがより好ましい。この時、支持体に前述のガラス等の素材を用いた場合は、該支持体が保護層としての機能を兼ねることができるため、他方の面のみに設けた場合でも、両面からのガス透過を抑制することができる。前記保護層は、有機材料からなる前記光学異方性層を保護する層であり、該光学異方性層上に積層するのが好適である。
前記保護層の、大きさとしては、積層された前記光学異方性層の全体を覆うものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光学異方性層と同じ大きさか、それよりも大きいことが好ましい。
【００８７】
−保護層の形成方法−
前記保護層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、重合成組成物を含有する前記光学異方性層の重合硬化により、該光学異方性層が重合硬化し、液晶層の配向が固定化された後に、該光学異方性層の上に積層する方法が好ましい。
【００８８】
前記保護層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、有機材料の場合は、少なくとも有機材料を含有する保護層形成用溶液を調製し、重合成組成物を含有する前記光学異方性層上に塗布することにより積層する方法が好適に挙げられる。
前記塗布の方法としては、特に制限はなく、例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコート法などが挙げられる。
無機材料の場合は、材料を蒸着することにより積層する蒸着方法が好適に挙げられる。
前記蒸着方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、試料を気体原料の雰囲気内におき、化学反応によって、試料表面に薄膜を形成する化学気相成長法（ＣＶＤ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）や蒸発やスパッタによって、粒子になった原料を試料に付着させて形成する物理気相成長法（ＰＶＤ：Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などが挙げられる。
これらのなかでも、スパッタ装置を用い、前記保護層の材料である金属で形成されたスパッタリングターゲットを用いて減圧下でスパッタリングを行うことにより、物理的に作製するＰＶＤがより好ましい。
【００８９】
＜反射防止層＞
前記反射防止層のとしては、反射率を低減し、透過率を増加させるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、公知のＡＲフイルム（Ａｎｔｉ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ  Ｃｏａｔ  Ｆｉｌｍ）などが挙げられる。
前記反射防止層は、光学補償素子を構成した際の光学特性の劣化を抑える機能があり、前記光学補償素子の空気界面となる最外層上に積層することが好ましい。
【００９０】
−反射防止層の形成方法−
前記反射防止層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記反射防止層を、無機材料で形成する場合は、蒸着方法により、有機材料の場合は、塗布方法により層上に積層して形成する方法が挙げられる。
前記蒸着の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、試料を気体原料の雰囲気内におき、化学反応によって、試料表面に層を形成する前記ＣＶＤや蒸発やスパッタによって、粒子になった原料を試料に付着させて形成する前記ＰＶＤなどが挙げられる。
これらのなかでも、スパッタ装置を用い、前記反射防止層の材料である金属で形成されたスパッタリングターゲットを用いて減圧下でスパッタリングを行うことにより、物理的に作製するＰＶＤがより好ましい。
前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビア法やダイコート法などの塗布方式により形成することができる。ウェット塗布量を最小化することで乾燥ムラをなくす観点でマイクログラビア法及びグラビア法が好ましく、幅方向の厚みの均一性及び塗布経時での長手方向の厚みの均一性の観点で、順転グラビア法がより好ましい。
【００９１】
前記反射防止層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜２．０μｍが好ましい。
【００９２】
＜その他の層＞
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、負の一軸性屈折率楕円体の光学特性を有する追加の光学異方性層などが挙げられる。
前記追加の光学異方性層は、例えば、光の入射角による影響や、ＴＮ型液晶セルにおいてセル中央部の液晶によって受ける影響などを排除するために加えることができる。
【００９３】
−追加の光学異方性層−
前記追加の光学異方性層の素材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機材料や無機材料など様々な素材が挙げられるが、無機材料からなるものが好ましい。
【００９４】
前記有機材料からなる追加の光学異方性層としては、例えば、プラスチックフィルムを延伸加工し、分子を配向させることによって複屈折を生じさせたものが知られている。この場合は支持体として用いる素材が複屈折層としての機能を有していてもよい。例えば、トリアセチルセルロースを延伸したフイルムを光学補償フイルムの支持体として用いるものがよく知られている。
【００９５】
前記無機材料からなる追加の光学異方性層としては、無機材料から形成され、負の一軸屈折楕円体の光学特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記支持体の法線方向を積層方向として、屈折率の異なる複数の無機材料が周期的に積層され、該積層方向における屈折率が周期的に変化する複数の層の周期構造多層膜からなり、前記屈折率変化の周期が可視光領域における光の波長より短い構造が好適に挙げられる。これらの中でも、前記周期構造多層膜が２種の無機材料による２つの層からなるものが特に好適に挙げられる。
このような追加の光学異方性層は、構造性複屈折とよばれる異方性が生じることにより、一軸性の傾斜していない負の屈折率楕円体の光学特性を有するものである。
【００９６】
前記周期構造多層膜における周期としては、可視光領域における光の波長よりも短いものであれば、特に制限はなく、該可視光領域の中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、該可視光領域における光の波長をλとした場合に、λ／１００〜λ／５が好ましく、λ／５０〜λ／５がより好ましく、λ／３０〜λ／１０が特に好ましい。各層は薄い方がよいが、必要な合計厚みを得るのに積層回数が増えてくるので、各層の積層回数の決定に際しは、前記第１の光学異方性層の所望とする光学特性、層の相互干渉による着色の問題などを考慮して、各層の材料、屈折率、厚み比、合計厚みなどから各層の厚みが最適になるように形成することが好ましい。
ここで、前記可視光領域としては、特に明記するもの以外は、４００〜７００ｎｍの波長領域をいう。したがって、周期構造の周期としては、４００〜７００ｎｍの範囲で適宜選択されることが好ましい。
【００９７】
これら追加の光学異方性層のレターデーションとしては、下記数式１で表されるレターデーションＲｔｈが２０〜５００ｎｍであることが好ましく、２０〜４００ｎｍであることがより好ましい。
＜数式１＞
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
ただし、前記数式１において、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚは、前記支持体の法線方向をＺ軸とした時に、追加の光学異方性層中におけるお互いに直交するＸ、Ｙ、Ｚ軸方向の屈折率をそれぞれ表す。また、ｄは、光学異方性層の厚みを表す。
【００９８】
前記追加の光学異方性層の厚みとしては、前記レターデーションを満たすものが好ましく、具体的には、５０〜５，０００ｎｍが好ましい。
であることが特に好ましい。
【００９９】
また、前記周期構造多層膜の可視光領域における屈折率としては、該多層膜が複数の層からなる場合には、該屈折率の最大値と最小値の差が０．５以上が好ましく、２種類の層からなる場合には、各層の屈折率差が０．５以上が好ましい。
ここで、前記屈折率としては、特に明記するもの以外は、波長５５０ｎｍで測定された値である。
前記追加の光学異方性層の多層膜における層数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【０１００】
前記無機材料からなる追加の光学異方性層を構成する前記周期構造多層膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記屈折率の高い材料又は低い材料を組み合わせて用いることが好ましい。
前記屈折率の高い材料としては、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２などが好ましい。
前記屈折率の低い材料としては、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２などが好ましい。
これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
具体的には、可視光領域における屈折率の最大値と最小値との屈折率差が０．５以上となる材料の組合せから選択されることが好ましく、酸化物から適宜選択される複数の材料の組合せがより好ましく、ＳｉＯ２（屈折率ｎ＝１．４８７０〜１．５４４２）及びＴｉＯ２（屈折率ｎ＝２．５８３〜２．７４１）の組合せが特に好ましい。
したがって、前記追加の光学異方性層は、前記周期構造多層膜の材料、膜厚、層数、前記屈折率変化の周期等を適宜選択することにより、前記レターデーションを高精度かつ容易に調整することが可能となる。
【０１０１】
前記追加の光学異方性層の機能は、支持体自体が有していてもよい。支持体に延伸したトリアセチルセルロースのような材料を用いた場合であって、前記レターデーションのみで機能を果たす場合は、前記追加の光学異方性層を設けなくともよい場合がある。一方、支持体にガラスのような光学的に等方性のある材料を用いた場合は、前記追加の光学異方性層を好適に用いることができる。この場合、前記追加の光学異方性層以外の光学異方性層の場合の厚みは、保護フイルムや支持体としての機能を有す場合もあるので、それら機能を考慮してそれぞれ適宜定めることができる。
また、前述のような屈折率の異なる層を交互に積層した層は、各層構成を光学膜厚の観点で適宜選択することにより、反射防止層としての機能を付与することも可能である。この反射防止層の場合は、屈折率の異なる層を構成する素材として、光学膜厚の設計の条件を満たす限りにおいて無機材料だけでなく、有機材料や有機材料に無機材料を加えた材料を使うことができる。
【０１０２】
〔光学補償素子の構造〕
以下に、本発明の光学補償素子の例について、図面を参照しながら説明する。
前記光学補償素子の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、以下に示す第１から第８の構造の光学補償素子が好適に挙げられる。
−第１の構造の光学補償素子−
図１は、第１の構造に係る光学補償素子の断面図である。
第１の構造に係る光学補償素子は、前記支持体の一方の面上に、前記構造複屈折性層からなる第１の光学異方性層を備え、他方の面上に前記重合成組成物中の重合成液晶化合物の配向方向が異なる２つの第２の光学異方性層を備えてなる。即ち、図１に示すように、第１の構造に係る光学補償素子１０は、支持体１の一方の面上に、配向膜４Ａ、第２の光学異方性層３Ａ、配向膜４Ｂ、第２の光学異方性層３Ｂ、反射防止層５Ｂが、該反射防止層５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体１の他方の面上に第１の光学異方性層２、反射防止層５Ａが、該反射防止層５Ａが最外表面に配置されるように積層されたものである。
第１の光学異方性層２は、ＴｉＯ２層２Ａ及びＳｉＯ２層２Ｂの周期構造積層体であり、各層の厚みはそれぞれ約１５ｎｍである。第１の光学異方性層２は、このような周期構造積層体とすることにより反射防止機能を兼ね備えることも可能である。
また、配向膜４Ａと配向膜４Ｂのラビング処理の方向はＴＮモードの液晶素子の構造から９０°を中心に７０°から１１０°までの範囲内の任意の角度に設定することができ、８０°から１００°の範囲内と設定することが好ましい。（以降、ラビング処理の方向を上記の範囲で調整する場合を略９０°と称する）この様な配向膜４Ａ及び４Ｂを備えることにより、第２の光学異方性層３Ａ及び３Ｂにおける前記液晶性化合物の配向方向を現実のコントラスト性能を向上させるために最適な配向方向へ配向させることが可能となる。
また、第２の光学異方性層３Ａ及び３Ｂの膜厚は黒状態のＴＮモード液晶素子の液晶の位相差の視野角依存性を補償する原理から、ほぼ同程度の膜厚に設定するが、コントラスト性能を向上させるために液晶素子の構造や配向状態を考慮して、各層の厚みを２０％程度まで変化させて最適化することもできる。更に、前述の液晶素子の角度依存性補償の観点から第２の光学異方性層３Ａ及び３Ｂのそれぞれの配向角度及び配向方向も同様に液晶素子の構造や配向状態を考慮して最適化することが好ましい。
【０１０３】
−第２の構造の光学補償素子−
図２は、第２の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第２の構造に係る光学補償素子は、前記支持体の少なくとも一方の面上に、前記第１の光学異方性層及び前記第２の光学異方性層をこの順に備えてなる。
即ち、図２に示すように、第２の構造に係る光学補償素子２０は、支持体２１の一方の面上に、第１の光学異方性層２２、配向膜２４、第２の光学異方性層２３、反射防止層２５Ｂがこの順に該反射防止層２５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体２１の他方の面上に反射防止層２５Ａを積層してなるものである。
第１の光学異方性層２２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、前記第２の構造に係る光学補償素子２０を、２枚積層して用いることも可能である。この場合には、それぞれの光学補償素子における配向膜のラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。前記第２の構造に係る光学補償素子２０に示すように、支持体の一方の面上に各層を配置する態様は、各層を構成する素材、組合せにもよるが、一般的にハンドリングがよく、製造も容易となる。
【０１０４】
−第３の構造の光学補償素子−
図３は、第３の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第３の構造に係る光学補償素子は、配向方向が異なる２つの前記第２の光学異方性層が前記支持体の一方の面上に設けられてなる。
即ち、図３に示すように、第３の構造に係る光学補償素子３０は、支持体３１の一方の面上に、第１の光学異方性層３２、配向膜３４Ａ、第２の光学異方性層３３Ａ、配向膜３４Ｂ、第２の光学異方性層３３Ｂ、反射防止層３５Ｂが、この順に該反射防止層３５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体３１の他方の面上に、反射防止層３５Ａを積層してなるものである。
第１の光学異方性層３２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、配向膜３４Ａと配向膜３４Ｂのラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。このような前記配向膜３４Ａ及び前記配向膜３４Ｂを備えることにより前記第２光学異方性層３３Ａ及び前記第２光学異方性層３３Ｂにおける前記重合性液晶化合物に含まれる前記液晶性化合物の配向方向を所望の角度だけ異なる方向に配向させることが可能となる。
【０１０５】
−第４の構造の光学補償素子−
図４は、第４の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第４の構造に係る光学補償素子は、配向方向が異なる２つの前記第２の光学異方性層が前記支持体を介して設けられてなる。
即ち、図４に示すように、第４の構造に係る光学補償素子４０は、支持体４１の一方の面上に、第１の光学異方性層４２、配向膜４４Ａ、第２の光学異方性層４３Ａ、反射防止層４５Ｂがこの順に該反射防止層４５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体４１の他方の面上に配向膜４４Ｂ、第２の光学異方性層４３Ｂ、反射防止層４５Ａがこの順に配置されるように積層されてなるものである。
第１の光学異方性層４２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、配向膜４４Ａと配向膜４４Ｂのラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。このような前記配向膜４４Ａ及び前記配向膜４４Ｂを備えることにより前記第２光学異方性層４３Ａ及び前記第２光学異方性層４３Ｂにおける前記重合性液晶化合物に含まれる前記液晶性化合物の配向方向を所望の角度だけ異なる方向に配向させることが可能となる。
【０１０６】
−第５の構造の光学補償素子−
図５は、第５の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第５の構造に係る光学補償素子は、前記支持体の少なくとも一方の面上に、前記第１の光学異方性層及び前記第２の光学異方性層を備えてなる。
即ち、図５に示すように、第５の構造に係る光学補償素子５０は、支持体５１の一方の面上に、配向膜５４、第２の光学異方性層５３、第１の光学異方性層５２、反射防止層５５Ｂがこの順に該反射防止層５５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体５１の他方の面上に反射防止層５５Ａが積層されてなるものである。
第１の光学異方性層５２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、前記第５の構造に係る光学補償素子５０を、２枚積層して用いることも可能である。この場合には、それぞれの光学補償素子における配向膜のラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。
【０１０７】
−第６の構造の光学補償素子−
図６は、第６の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第６の構造に係る光学補償素子は、配向方向が異なる２つの前記第２の光学異方性層を有してなる。即ち、図６に示すように、第６の構造に係る光学補償素子６０は、支持体６１の一方の面上に、配向膜６４Ａ、第２の光学異方性層６３Ａ、配向膜６４Ｂ、第２の光学異方性層６３Ｂ、第１の光学異方性層６２、反射防止層６５Ｂがこの順に該反射防止層６５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体６１の他方の面上に反射防止層６５Ａが積層されてなるものである。
第１の光学異方性層６２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、配向膜６４Ａと配向膜６４Ｂのラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。このような前記配向膜６４Ａ及び前記配向膜６４Ｂを備えることにより前記第２光学異方性層６３Ａ及び前記第２光学異方性層６３Ｂにおける前記重合性液晶化合物に含まれる前記液晶性化合物の配向方向を所望の角度だけ異なる方向に配向させることが可能となる。
【０１０８】
−第７の構造の光学補償素子−
図７は、第７の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第７の構造に係る光学補償素子は、配向方向が異なる２つの前記第２の光学異方性層が前記支持体を介して設けられてなる。
即ち、図７に示すように、第７の構造に係る光学補償素子７０は、支持体７１の一方の面上に、配向膜７４Ａ、第２の光学異方性層７３Ａ、第１の光学異方性層７２、反射防止層７５Ｂがこの順に該反射防止層７５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体７１の他方の面上に配向膜７４Ｂ、第２の光学異方性層７３Ｂ、第１の光学異方性層７２、反射防止層７５Ａがこの順に該反射防止層７５Ａが最外表面に配置されるように積層されてなるものである。
第１の光学異方性層７２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。また、第１の光学異方性層７２は少なくとも一層備えていればよく、いずれか一方の第１の光学異方性層７２を省略することが可能である。
また、配向膜７４Ａと配向膜７４Ｂのラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。このような前記配向膜７４Ａ及び前記配向膜７４Ｂを備えることにより前記第２光学異方性層７３Ａ及び前記第２光学異方性層７３Ｂにおける前記重合性液晶化合物に含まれる前記液晶性化合物の配向方向を所望の角度だけ異なる方向に配向させることが可能となる。
【０１０９】
−第８の構造の光学補償素子−
図８は、第８の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第８の構造に係る光学補償素子は、前記支持体の一方の面上に前記第１の光学異方性層を備え、他方の面上に前記第２の光学異方性層を備えてなる。
即ち、図８に示すように、第８の構造に係る光学補償素子８０は、支持体８１の一方の面上に配向膜８４、第２の光学異方性層８３、反射防止層８５Ｂがこの順に該反射防止層８５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体８１の他方の面上に、第１の光学異方性層８２、反射防止層８５Ａがこの順に該反射防止層８５Ａが最外表面に配置されるように積層されてなるものである。
第１の光学異方性層８２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、前記第８の構造に係る光学補償素子８０を、２枚積層して用いることも可能である。この場合には、それぞれの光学補償素子における配向膜のラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。
【０１１０】
前記光学補償素子にあっては、第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２における光学特性が無機材料よりなる周期構造積層体による周期構造ピッチによって決められるために、高分子フイルムを一軸伸延して所定の光学特性を得る場合に生じる残留応力による高分子フイルム面内における屈折率のバラツキやヘイズ値の低下等の光学的不均一性の問題が防止でき、前記第１の光学異方性層面内における光学的均一性を高くすることが可能である。したがって、前記光学補償素子は、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償することが可能となる。
【０１１１】
また、第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２が、１０数ｎｍの範囲で面内の厚みの制御が可能であり、高い平滑性を実現でき、前記第１の光学異方性層面内における光学的均一性を高くすることが可能である。したがって、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償して、光漏れを低減して、スジ状のむらが顕在化することが防止できる。
更に、第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２は、高温・高多湿環境で長期にわたり使用されても、膨張又は収縮が生じることがない。
以上の光学補償素子全体として、長期にわたり光学特性の変化を最小とすることが可能となり耐久性が著しく向上する。
【０１１２】
特に、前記第１〜第４及び第８の構造の光学補償素子にあっては、支持体１、２１、３１、４１、８１上に、１０数ｎｍの範囲で面内の厚み制御が可能な第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、８２を備えてなる。このため、第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、８２は、高い精度で面内の厚みむらを防止することが可能であり、高平滑な表面を有する第１の光学異方性層を得ることが可能となる。更に、前記第２〜第４の構造の光学補償素子にあっては、このような高平滑な表面を有する第１の光学異方性層２２、３２、４２上に、第２の光学異方性層２３、３３、４３が積層されるので、該第２の光学異方性層２３、３３、４３の面内における配向欠陥を防止することが可能となる。このため、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償し、幅広い視野角において光漏れを防止する光学補償素子を実現でき、幅広い視野角が要求される大画面液晶モニタや液晶プロジェクタ等に前記光学補償素子を用いることにより高画質、高コントラストな液晶表示装置及び液晶プロジェクタが実現することが可能となる。また、長期間の使用に対しても、退色や色ずれなどの経年変化を低減することができ、耐久性を向上することが可能となる。
【０１１３】
前記の第１〜第８の構造において、第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２は省略されてもよい。また前記の第１〜第８の構造において、第２の光学異方性層上に保護層を設置した構造も、好ましい例として挙げることが出来る。
【０１１４】
（光学補償素子の製造方法）
前記光学補償素子の製造方法としては、少なくとも前記重合成液晶化合物を含んだ重合性組成物を８０℃以上に加熱する工程を含んでいれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記構造複屈折性層からなる第１の光学異方性層を形成する工程と、配向膜形成工程と、前記重合成組成物を含む第２の光学異方性層形成工程と、熱処理工程と、第２の光学異方性層重合硬化工程と、反射防止層形成工程と、その他の層の形成工程とを含む製造方法が挙げられる。
即ち、前記透明支持体、の面上に直接、前記第１の光学異方性層を得た後に、該第１の光学異方性層上に、前記配向膜を介して第２の光学異方性層を得ることにより光学補償素子を製造してもよく、前記透明支持体、の面上に、前記配向膜を介して前記第２の光学異方性層を得た後に、該第２の光学異方性層上に、第１の光学異方性層を得ることにより光学補償素子を製造してもよい。また、前記透明支持体、の一方の面上に直接、前記第１の光学異方性層を得た後に、該透明支持体、の他方の面上に、前記第２の光学異方性層を得ることにより光学補償素子を製造してもよい。
【０１１５】
光学補償素子の製造方法の具体例としては、例えば、以下の製造方法が挙げられる。
まず、所定の大きさのガラス基板に、反射防止層及び第１の光学異方性層をこの順で形成する。前記反射防止層及び第１の光学異方性層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機材料又は無機材料よりなる反射防止層の構成材料を前記ガラス基板上に塗付又は蒸着して前記反射防止層を製膜する。次いで、ＴｉＯ２膜及びＳｉＯ２膜を交互に蒸着して周期構造積層体を製膜する。前記第１の光学異方性層における各層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、それぞれ約１５ｎｍとするものが挙げられる。
次いで、製膜された前記第１の光学異方性層上に、変性ポリビニルアルコール樹脂の溶液を塗工し、配向膜を製膜する。製膜された前記配向膜の表面を一方向に布地でラビング処理して配向機能を付与する。
次いで、液晶分子を含む重合性化合物の溶液を前記配向膜上にバーコーター、スピンコータ、ダイコーターなどを用いて塗工する。次いで、該塗工層を加熱して溶媒を乾燥させた後に、液晶分子の配向を熟成させるために加熱温度を変化させた後、紫外線を照射して前記重合化合物を重合させて、液晶分子の配向を固定し、第２の光学異方性層を得る。
なお、前記重合性化合物の溶媒の乾燥、液晶分子の配向時の加熱条件は同様であってもよい。
第２の光学異方性層を前記ガラス基板の一方の面上に２層備えるものにあっては、更に、前記第２の光学異方性層上に、配向膜を前記配向膜と同様の作製方法により製膜し、次いで、前記配向膜上に前記第２の光学異方性層の作成方法と同様の方法により、２層目の第２の光学異方性層を得る。この場合、１層目及び２層目の前記配向膜の配向方向は、略９０°異なるように配置されることが好ましい。
最後に第２の光学異方性層上及び前記ガラス基板のもう一方の面上に、所定の反射防止膜形成材料の溶液を塗工して反射防止膜を形成し、光学補償素子を作製することができる。
【０１１６】
その他の層の形成工程としては、前記反射防止層形成工程の前又は後に、適宜選択によりその他の層を形成することができ、例えば、保護層、防眩層、防汚層、帯電防止層などの形成工程が挙げられる。
【０１１７】
（液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置は、少なくとも一対の電極及び該電極間に封入される液晶分子を有する液晶素子と、該液晶素子の両面、片面、及び内部のいずれかに配される光学補償素子と、前記液晶素子及び光学補償素子に対向配置される偏光素子とを備え、更に、必要に応じてその他の構成を備えてなり、前記光学補償素子が本発明の光学補償素子を用いてなる。
【０１１８】
前記液晶素子の表示モードとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モード、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モードなどが挙げられる。これらの中でも、高コントラスト比であることなどから、ＴＮモードが好適に挙げられる。
【０１１９】
図９〜１２は、本発明の液晶表示装置の概略構成図である。
これらの図において理解を促すため、各図に示す液晶表示装置の概略構成においては、図面の下側から光源からの光が入射され、図面の上側に進んで出射される形態を示し、偏向板や第２光学異方性層の２つ構成要素を含むものについては、図面の上下方向になぞらえて、以下、図面の上方向を「上側」、図面の下方向を「下側」と表記する。
図９に示すように、液晶表示装置１００は、吸収軸１０２及び１１５が概略直交しクロスニコルで対向配置される一対の上側偏光素子１０１（検光子）及び下側偏光素子１１６（偏光子）と、上・下側偏光素子１０１、１１６の間に配置される位相差板１０８と、液晶素子１１４（液晶セル）とを備えてなる。
なお、上・下側偏光素子１０１、１１６に代えて、グラン−トムソンプリズムなどの偏光ビームスプリッタを偏光素子として、液晶素子１１４に対向配置して用いることも可能である。
【０１２０】
液晶素子１１４は、ガラス基板よりなる上側基板１０９と下側基板１１３とが対向配置され、これらの上側基板１０９及び下側基板１１３の間には、例えば、ネマチック液晶１１１が封入されている。上側基板１０９及び下側基板１１３の対向面には、不図示の画素電極、回路素子（薄膜トランジスタ）等が形成されている。上側基板１０９及び下側基板１１３のネマチック液晶１１１が接する対向面には不図示の上・下側配向膜が形成されている。該配向膜のネマチック液晶１１１が接する面上は、液晶分子の配列方向を揃えるために、ラビング処理が施されている。該ラビング処理を施すことにより刻まれる溝の方向（ラビング方向）としては、例えば、ＴＮモードの液晶表示装置の場合では、上・下側配向膜におけるラビング方向１１０及び１１２が概略直交している。
【０１２１】
図１０は、液晶素子１１４に電圧が印加されていない通常状態時の液晶分子の配列状態を表している。上側基板１０９及び下側基板１１３側のネマチック液晶１１１は、前記不図示の配向膜に施されたラビング処理の作用によりラビング方向１１０及び１１２と略同一の方向に配列されている。そして、ラビング方向１１０及び１１２はお互いに直交しているので、ネマチック液晶１１１の分子は、上側基板１０９から下側基板１１３に向かうに従い、液晶分子の長軸が９０°ねじれた状態となるように配列される。
【０１２２】
前記偏光素子としては、該偏光素子を平行ニコル配置したときの光の透過率を１００％とした場合に、該偏光素子をクロスニコル配置したときの光の透過率が０．００１％以下が好ましい。
上側偏光素子１０１（検光子）及び下側偏光素子１１６（偏光子）は、少なくとも偏光膜を有してなり、更に、必要に応じてその他の構成を有してなる。
【０１２３】
前記偏光膜としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体部分ケン化物等の親水性ポリマーなどからなるフイルムに、ヨウ素、アゾ系、アントラキノン系、テトラジン系等の二色性染料などの二色性物質を吸着させて、延伸配向処理したものなどが挙げられる。
前記伸延配向処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記偏光膜の吸収軸が長手方向に対して実質的に直交する、幅方向一軸延伸型テンター延伸機が好適に挙げられる。このような幅方向一軸延伸型テンター延伸機は、貼り合せ時に異物が入りにくいというという利点を有する。
前記伸延配向処理としては、特開２００２−１３１５４８号公報に記載の延伸方法を用いることも可能である。
【０１２４】
前記その他の構成としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記偏光膜の片面又は両面に有する保護層、反射防止層、防眩処理層などが挙げられる。
上・下側偏光素子１０１、１１６の構造としては、前記偏光膜の少なくとも一方の面に前記保護層を有した偏光板、液晶素子１１４を支持体として該光学補償素子の一方の面に一体的に前記偏光膜を有するものなどが好適に挙げられる。
前記保護層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステルなどが挙げられる。
前記保護層としては、具体的には、セルローストリアセテート、ゼオネックス、ゼオノア（共に日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）などのポリオレフィン類が好適に挙げられる。
また、特開平８−１１０４０２号公報、特開平１１−２９３１１６号公報に記載されている非複屈折性光学樹脂材料も用いることが可能である。
前記保護層の配向軸（遅相軸）方向としては、特に制限はないが、作業操作上の簡便性から、前記保護層の配向軸が長手方向に平行であることが好ましい。また、前記保護層の遅相軸（配向軸）と偏光膜の吸収軸（延伸軸）の角度も特に限定的でなく、偏光板の目的に応じて適宜設定できる。なお、前記幅方向一軸延伸型テンター延伸機を用いて前記偏光膜を作製した場合には、前記保護層の遅相軸（配向軸）と前記偏光膜の吸収軸（延伸軸）方向とは実質的に直交することになる。
前記保護層のレターデーションとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、測定波長６３２．８ｎｍにおいて１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましい。
なお、前記セルロースアセテートを用いる場合には、環境の温湿度によるレターデーション変化を小さくおさえる目的から、レターデーションが３ｎｍ未満が好ましく、２ｎｍ以下がより好ましい。
【０１２５】
前記偏光板の作製方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ロール形態で供給される長尺の偏光膜に対して、長手方向が一致するようにして連続して貼り合わされることが好ましい。
また、前記偏光膜、前記偏光板は、光学軸のズレ防止、ゴミなどの異物侵入防止などの点から前記光学補償素子に固着処理されていることが好ましい。
前記反射防止層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フッ素系ポリマーのコート層、多層金属蒸着層等の光干渉性の層、などが挙げられる。
上・下側偏光素子１０１、１１６の光学的性質、耐久性（短期、長期での保存性）としては、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）と同等かそれ以上の性能を有することが好ましい。
【０１２６】
光学補償素子１０８は、前記本発明の光学補償素子を用いてなる。
前記光学補償素子としては、液晶表示装置１００に組み込んだ状態における液晶表示装置１００の白表示透過率をＶｗ、黒表示透過率をＶｂとしたときに、該液晶表示装置１００の正面における前記白表示透過率Ｖｗと黒表示透過率Ｖｂとの比、即ち、コントラスト比Ｖｗ：Ｖｂは１００：１以上が好ましく、２００：１以上がより好ましく、３００：１以上が特に好ましい。
また、液晶表示装置１００の表示面における法線方向から６０°傾斜した全方位角方向において、黒表示透過率の最大値がＶｗに対して１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。このような光学補償素子を用いることにより、高コントラストで階調反転の生じない広い視野角の液晶表示装置を実現できる。
また、残留捩れ成分が大きい液晶素子を正確に補償するためには、クロスニコルに配置した一対の偏光素子の間に前記光学補償素子を配置し、該光学補償素子の法線方向を回転軸として該光学補償素子を回転させたときに前記液晶表示装置が消光する方位がなく、全方位にあたり、光の透過率が０．０１％以上が好ましい。
【０１２７】
光学補償素子１０８は、上側偏光素子１０１と液晶素子１１４との間に配置され、第１の光学異方性層１０７、上側第２光学異方性層１０３、下側第２光学異方性層１０５を含んでなる。
光学補償素子１０８を構成する各光学異方性層はそれぞれ、上側第２光学異方性層１０３における配向膜のラビング方向１０４と、液晶素子１１４の上側基板１０９における上側配向膜のラビング方向１１０との成す角が１８０°となるように配置され、下側第２光学異方性層１０５における配向膜のラビング方向１０６と、液晶素子１１４の下側基板１３２における下側配向膜のラビング方向１１２との成す角が、１８０°となるように配置される。
なお、第２光学異方性層と、液晶素子の基板における配向膜のラビング方向との関係は置換しても良く、下側第２光学異方性層１０５における配向膜のラビング方向１０６と、液晶素子１１４の上側基板１０９における上側配向膜のラビング方向１１０との成す角が１８０°となるように配置され、上側第２光学異方性層１０３における配向膜のラビング方向１０４と、液晶素子１１４の下側基板１１３における下側配向膜のラビング方向１１２との成す角が１８０°となるように配置されてもよい。
また、第１の光学異方性層１０７は液晶素子１１４側となるように備えられることが好ましい。
【０１２８】
図１１は、ＴＮモードの液晶表示装置において、黒表示状態、即ち、液晶素子１１４に電圧が印加された状態の液晶分子の配列状態を表している。液晶素子１１４に電圧が印加されると、液晶分子が立ち上がった状態、即ち、液晶分子の長軸が光の入射面に対して垂直となるように液晶分子の配列状態が変化する。ここで理想的には、電圧を印加した時の液晶素子１１４内の全ての液晶分子が、光の入射面に対して平行となることが望ましいが、実際には、図１１に示すように、液晶素子１１４内の液晶分子は、上側基板１０９及び下側基板１１３から液晶素子１１４の中心領域に向かうに従い、徐々に液晶分子の長軸が立ち上がった状態となる。したがって、上側基板１０９及び下側基板１１３側界面近傍の液晶分子は電圧印加時においても、その液晶分子の長軸が光りの入射面に対して平行ではなく、傾斜した配列状態となっている。このように、光の入射面に対して傾斜した液晶分子が存在することが、視野角によっては、黒表示状態とならずに光漏れを起こす原因となる。
【０１２９】
更に、ＴＮモードの液晶表示装置に用いられるネマチック液晶は、一般に棒状液晶であり、光学的に正の一軸性を示す。このため、液晶素子１１４の中心領域に存在し、完全に立ち上がった状態の液晶分子によっても、斜め方向から液晶表示装置１００を見た場合には、複屈折が発現され、視野角によっては、黒表示状態とならずに光漏れを起こす原因となる。
したがって、黒表示状態における上側基板１０９及び下側基板１１３側界面近傍の液晶素子１１４内の液晶の配向状態に対しては、第２の光学異方性層１０３及び１０５に含まれる液晶分子の配向状態を鏡面対称として、上側基板１０９及び下側基板１１３側界面領域における前記複屈折の発現を光学的に補償するとともに、液晶素子１１４の中心領域における液晶による複屈折に対しては、一軸性の傾斜していない負の屈折率楕円体の光学特性を有する第１の光学異方性層１０７により光学的に補償して配置されることにより、全体として黒表示状態の液晶表示素子１１４を三次元的に光学補償して、幅広い視野角において光漏れを防止することが可能となる。
【０１３０】
また、光学補償素子１０８は、図１１に示すように液晶素子１１４の下面に備えることもでき、さらには図１２に示すように液晶素子１１４の上下面に１０８ａ、１０８ｂとして備えることも可能である。なお、液晶素子の上下面に配置する場合、第１の光学異方性層１０７ａ又は１０７ｂのいずれかを省略することも可能であり、それぞれに第１の光学異方性層を設ける場合は１０７ａ、１０７ｂの合計のレターデーション値で調整される。
また、光学補償素子１０８としては、該光学補償素子１０８に備えられる不図示の前記支持体が液晶素子１１４の上側基板１０９と下側基板１１３であることも可能である。この場合には、図１２に示す第１の光学異方性層１０７ａ又は１０７ｂが上側基板１０９と下側基板１１３に直接形成される。
【０１３１】
（液晶プロジェクタ）
本発明の液晶プロジェクタは、光源と、該光源からの照明光が照射される液晶表示と、該液晶表示装置によって光変調された光をスクリーン上に結像させる投影光学とを備え、更に、必要に応じてその他の構成を備えてなり、該液晶表示装置が本発明の液晶表示装置を用いてなる。
本発明の液晶プロジェクタは、光源からの照明光を液晶表示装置に照射し、液晶表示装置によって光変調された光を、投影光学系によりスクリーン上に結像させて画像を表示する。
前記液晶プロジェクタとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スクリーン投影型のフロントプロジェクタ、リアプロジェクションテレビなどが挙げられる。また、前記液晶プロジェクタに用いられる液晶表示装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置などが好適に挙げられる。
【０１３２】
図１３はリア方式の液晶プロジェクタの一例を示す外観図である。
図１３に示すように液晶プロジェクタ２００は、筐体２０２の前面に拡散透過型のスクリーン２０３が設けられ、その背面に投影された画像がスクリーン２０３の前面側から観察される。筐体２０２の内部には投影ユニット３００が組み込まれ、投影ユニット３００によって投影される投影画像が、ミラー２０６、２０７で反射されスクリーン２０３の背面に結像される。液晶プロジェクタ２００は、筐体２０２の内部には、図示しないチューナー回路、ビデオ信号及び音声信号再生用の周知の回路ユニットなどが配置されている。
投影ユニット３００には、画像表示手段として図示しない液晶表示装置が組み込まれている。該液晶表示装置がビデオ信号の再生画像を表示することによって、画像をスクリーン２０３上に表示することができる。
【０１３３】
図１４は投影ユニット３００の一例を示す構成図である。
図１４に示すように、投影ユニット３００は、透過型の三枚の液晶素子３１１Ｒ，３１１Ｇ，３１１Ｂを備え、フルカラーで画像投影を行うことが可能である。
光源３１２から出射された光は、紫外線及び赤外線をカットするフィルタ３１３を透過することにより赤色光、緑色光、青色光を含む白色光となり、光源３１２から液晶素子３１１Ｒ、Ｇ、Ｂに至る照明光軸にしたがってガラスロッド３１４に入射する。ガラスロッド３１４の光入射面は、光源３１２に用いられている放物面鏡の焦点位置近傍に位置し、光源３１２からの光は効率的にガラスロッド３１４に入射する。
【０１３４】
ガラスロッド３１４の出射面には、リレーレンズ３１５が配設され、ガラスロッド３１４から出射される白色光は、リレーレンズ３１５及び後段のコリメートレンズ３１６により平行光となって、ミラー３１７に入射する。
ミラー３１７で反射された白色光は、赤色光だけを透過するダイクロイックミラー３１８Ｒで２光束に分けられ、透過した赤色光はミラー３１９で反射して液晶素子３１１Ｒを背面から照明する。
また、ダイクロイックミラー３１８Ｒで反射された緑色光と青色光は、緑色光だけを反射するダイクロイックミラー３１８Ｇで更に２光束に分割される。ダイクロイックミラー３１８Ｇで反射された緑色光は、液晶素子３１１Ｇを背面側から照明する。ダイクロイックミラー３１８Ｇを透過した青色光は、ミラー３１８Ｂ，３２０で反射され、液晶素子３１１Ｂを背面から照明する。
【０１３５】
各々の液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂは、それぞれＴＮモードの液晶素子で構成され、個々の該液晶素子には、フルカラー画像を構成する赤色画像、緑色画像、青色画像の濃度パターンの画像が表示される。これらの液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂから光学的に等距離となる位置に中心がくるように、合成プリズム３２４が配置され、該合成プリズム３２４の出射面に対面して投影レンズ３２５が設けられている。合成プリズム３２４は、内部に２面のダイクロイック面３２４ａ、３２４ｂを備え、液晶素子３１１Ｒを透過してきた赤色光、液晶素子３１１Ｇを透過してきた緑色光、液晶素子３１１Ｂを透過してきた青色光を合成して投影レンズ３２５に入射させる。
【０１３６】
各液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂの出射面の中心から、合成プリズム３２４及び投影レンズ３２５の中心を通り、スクリーン３０３の中心に至る投影光軸上には、投影レンズ３２５が設けられている。投影レンズ３２５は、物体側焦点面が液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂの出射面に一致し、像面側焦点面がスクリーン３に一致するように配置される。このため合成プリズム３２４で合成されたフルカラー画像は、スクリーン３０３に結像される。
【０１３７】
液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂの照明光の入射面側には、それぞれ偏光板３２６Ｒ、３２６Ｇ、３２６Ｂが設けられている。また、前記各液晶素子の出射面側には、光学補償素子３２７Ｒ、３２７Ｇ、３２７Ｂと、偏光板３２８Ｒ、３２８Ｇ、３２８Ｂとが設けられている。入射面側の偏光板３２６Ｒ、３２６Ｇ、３２６Ｂと出射面側の偏光板３２８Ｒ、３２８Ｇ、３２８Ｂとはクロスニコルの配置となっており、入射面側の偏光板は偏光子、出射面側の偏光板は検光子として作用する。
前記本発明の液晶表示装置は、液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂ、偏光板３２６Ｒ、３２６Ｇ、３２６Ｂ、３２８Ｒ、３２８Ｇ、３２８Ｂ、及び光学補償素子３２７Ｒ、３２７Ｇ、３２７Ｂを備えてなる。
なお、それぞれの色チャンネルごとに設けられた液晶素子、その両側にそれぞれ設けられた偏光板及び光学補償素子の作用は、それぞれの色光に基づく相違はあるものの、基本的な作用は実質的に共通であるので、以下、赤色チャンネルにより作用を説明する。
【０１３８】
ミラー３１９で反射された赤色照明光は、入射面側の偏光板３２６Ｒで直線偏光となって液晶素子３１１Ｒに入射する。ノーマリーホワイトモードの場合、液晶素子３１１Ｒに用いられているＴＮモードの液晶は、赤色画像の黒を表示するために画素に信号電圧が印加される。このとき、液晶層に含まれる液晶分子は様々な配向姿勢をとるようになり、赤色照明光が平行光束となって液晶素子３１１Ｒに入射しても、液晶層が呈する旋光性と複屈折性により、液晶素子３１１Ｒの出射面から出射する光は完全な直線偏光とはならず、一般に楕円偏光の画像光が出射するようになり、検光子側の偏光板３２８Ｒから光漏れを生じて、充分な黒が得られない。また、ノーマリーブラックモードの場合でも、液晶分子のわずかな傾きによって黒レベルが充分に黒くはならない。
【０１３９】
また、黒表示させたい状態において、液晶素子中の液晶分子を斜めに通過する光が含まれている場合には、液晶層によって変調された画像光は、直線偏光とはわずかに光学的な位相が相違した楕円偏光となって、検光子側の偏光板３２８Ｒから光漏れを生じて、充分な黒が得られない。
本発明の液晶プロジェクタは、前記本発明の光学補償素子を備えた前記本発明の液晶表示装置を用いてなる。そして光学補償素子３２７Ｒが黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償して、幅広い視野角において光漏れを防止することが可能となるとともに、長期間使用することが可能となる。
このため、前記本発明の液晶プロジェクタは、高視野角、高コントラスト、高画質を得ることができ、長期間使用することが可能となる。
【実施例】
【０１４０】
（実施例１）
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１４１】
（光学補償素子の作製）
以下の方法により、図１に示す第１の構造と同様の光学補償素子を作製した。
図１に示すように、前記第１の構造に係る光学補償素子１０は、支持体１の一方の面上に、第１の光学異方性層２、反射防止層５Ａがこの順に積層され、支持体１の他方の面上に配向膜４Ａ、第２の光学異方性層３Ａ、配向膜４Ｂ、第２の光学異方性層３Ｂ、反射防止層５Ｂがこの順に積層された光学補償素子である。
【０１４２】
―第１の光学異方性層の作製―
支持体１として、ガラス基板を用い、該ガラス基板上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ２とＴｉＯ２を交互に蒸着して、各層をそれぞれ２６層ずつ、合計５２層の周期構造積層体からなる第１の光学異方性層２を作製した。作製された第１の光学異方性層の全体の厚みは、７６０ｎｍ、Ｒｔｈ＝２００ｎｍであった。
【０１４３】
―反射防止層の作製―
得られた第１の光学異方性層２の表面上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ２とＴｉＯ２を交互に蒸着して、反射防止層５Ａを作製した。作製された該反射防止層５Ａの厚みは０．２４μｍであった。
【０１４４】
―配向膜の作製―
次に、第１の光学異方性層２とは反対側の前記ガラス基板の面上に、下記組成の配向膜用塗布液１００ｍｌ／ｍ２を滴下し、１，０００ｒｐｍの条件でスピンコートした。その後、該配向膜用塗布液を１００℃の温風で３分間乾燥して、厚み６００ｎｍの配向膜を作製した。次いで、形成された前記配向膜の表面上にラビング処理を施して、所定の配向方向に配向する配向膜４Ａを作製した。
【０１４５】
＜配向膜用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（３）で表される変性ポリビニルアルコール・・・・・・・・・２０ｇ
・水（溶剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３６０ｇ
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１２０ｇ
・グルタルアルデヒド（架橋剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１４６】
【化２０】
2007171525.tif 000029
【０１４７】
―第２の光学異方性層の作製―
還元剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルあたり、０．０３ｇになるように調製した下記組成の重合性液晶化合物の塗布液１５０ｍｌ／ｍ２を、前記配向膜４Ａの表面上に滴下し、１，６５０ｒｐｍの条件でスピンコートした。その後、１５０℃の恒温ゾーンで３分間加熱し、前記重合性液晶化合物を配向させた。その後、高圧水銀灯を用いて照射エネルギー３００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ照射して、前記重合性液晶化合物を重合させ、液晶性化合物の配向状態を固定した。その後、室温まで放冷し、第２の光学異方性層３Ａを作製した。作製された該第２の光学異方性層３Ａの厚みは０．９６μｍであった。
【０１４８】
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・上記構造式１−７で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．１５ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１４９】
【化２１】
2007171525.tif 000030
【０１５０】
形成された第２の光学異方性層３Ａにおいて、前記円盤状液晶化合物は、円盤面の垂直軸法線と前記ガラス基板の法線とのなす角度（配向角）が、１０°から６２°に前記ガラス基板側から空気界面側に向かって増加し、前記円盤状液晶化合物がハイブリッド配向していた。前記円盤状液晶化合物の配向角は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、観察角度を変えてレターデーションを測定し、得られた測定値から屈折率楕円体モデルを仮想し、「Ｄｅｓｉｇｎ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ  ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴ」に記載されている手法により算出した。
第２の光学異方性層３Ａの表面上に、更に、配向膜４Ｂをその配向方向が配向膜４Ａと概略直交するように積層した。そして、該配向膜４Ｂの表面上に第２の光学異方性層３Ｂを第２の光学異方性層３Ａと同様の方法により形成した。
なお、配向膜４Ｂ及び第２の光学異方性層３Ｂの材料、配合量等は配向膜４Ａ及び第２の光学異方性層３Ａと同様とした。
【０１５１】
得られた第２の光学異方性層３Ｂにおいて、円盤状液晶化合物は、円盤面と前記ガラス基板とのなす角度（配向角）が、１２°から６５°に前記ガラス基板側から空気界面側に向かって増加し、該円盤状液晶化合物がハイブリッド配向していた。また、得られた光学第２の光学異方性層３Ｂはシュリーレンなどの欠陥がない均一な層であった。
【０１５２】
―反射防止層の作製―
得られた第２の光学異方性層３Ｂの表面上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ２とＴｉＯ２を交互に蒸着して、反射防止層５Ｂを作製した。作製された該反射防止層５Ｂの厚みは０．２４μｍであった。
【０１５３】
（液晶表示装置の作製）
作製された前記光学補償素子１０を白表示１．５Ｖ、黒表示３ＶのノーマリーホワイトモードのＴＮモード液晶素子に重ね合わせて、液晶表示装置を作製した。
【０１５４】
（実施例２）
前記実施例１において、還元剤を上記化合物１−１３に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２の液晶表示装置を作製した。
【０１５５】
（実施例３）
前記実施例１において、還元剤を上記化合物１−３３に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例３の液晶表示装置を作製した。
【０１５６】
（実施例４）
実施例１において、配向膜用塗布液を下記組成の配向膜用塗布液とし、配向膜作製時の乾燥条件を２２０℃１０分間に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の液晶表示装置を作製した。
【０１５７】
＜配向膜用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・サンエバー１５０（日産化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・・２０ｇ
・ポリイミド用シンナー（日産化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・２０ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１５８】
（実施例５）
前記実施例１において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例５の液晶表示装置を作製した。
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・上記構造式１−７で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．０８ｇ
・上記構造式１−３３で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０８ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１５９】
（実施例６）
前記実施例１において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例６の液晶表示装置を作製した。
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・上記構造式１−７で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．０４ｇ
・上記構造式１−３３で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．１２ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６０】
（実施例７）
前記実施例１において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例７の液晶表示装置を作製した。
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・上記構造式１−７で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．１２ｇ
・上記構造式１−３３で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０４ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６１】
（実施例８）
前記実施例１において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例８の液晶表示装置を作製した。
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・上記構造式１−７で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．０５ｇ
・上記構造式１−１３で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０５ｇ
・上記構造式１−３３で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０５ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６２】
（実施例９）
前記実施例１において、重合性組成物の塗布液を、還元剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルあたり、０．０３ｇになるように調製した下記組成の重合性組成物の塗布液とし、恒温ゾーンの温度を１３０℃に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例９の液晶表示装置を作製した。
【０１６３】
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（５）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・下記構造式Ｖ−（１）で表される配向制御剤・・・・・・・・・・・・０．０２ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．３６ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．０６ｇ
・上記構造式１−７で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．１５ｇ
・溶剤（メチルエチルケトン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・１８．００ｇ
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６４】
【化２２】
2007171525.tif 000031
【化２３】
2007171525.tif 000032
【０１６５】
（実施例１０）
前記実施例９において、還元剤を上記化合物１−１３に変更した以外は、実施例９と同様にして、実施例１０の液晶表示装置を作製した。
【０１６６】
（実施例１１）
前記実施例９において、還元剤を上記化合物１−３３に変更した以外は、実施例９と同様にして、実施例１１の液晶表示装置を作製した。
【０１６７】
（実施例１２）
前記実施例９において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例９と同様にして、実施例１２の液晶表示装置を作製した。
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（５）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・下記構造式Ｖ−（１）で表される配向制御剤・・・・・・・・・・・・０．０２ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．３６ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．０６ｇ
・上記構造式１−７で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．０８ｇ
・上記構造式１−３３で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０８ｇ
・溶剤（メチルエチルケトン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・１８．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６８】
（実施例１３）
前記実施例９において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例９と同様にして、実施例１３の液晶表示装置を作製した。
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（５）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・下記構造式Ｖ−（１）で表される配向制御剤・・・・・・・・・・・・０．０２ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．３６ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．０６ｇ
・上記構造式１−７で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．０４ｇ
・上記構造式１−３３で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．１２ｇ
・溶剤（メチルエチルケトン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・１８．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６９】
（実施例１４）
前記実施例９において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例９と同様にして、実施例１４の液晶表示装置を作製した。
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（５）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・下記構造式Ｖ−（１）で表される配向制御剤・・・・・・・・・・・・０．０２ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．３６ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．０６ｇ
・上記構造式１−７で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．１２ｇ
・上記構造式１−３３で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０４ｇ
・溶剤（メチルエチルケトン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・１８．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１７０】
（実施例１５）
前記実施例９において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例９と同様にして、実施例１５の液晶表示装置を作製した。
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（５）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・下記構造式Ｖ−（１）で表される配向制御剤・・・・・・・・・・・・０．０２ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．３６ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．０６ｇ
・上記構造式１−７で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．０５ｇ
・上記構造式１−１３で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０５ｇ
・上記構造式１−３３で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０５ｇ
・溶剤（メチルエチルケトン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・１８．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１７１】
（比較例１）
実施例１において、還元剤を除去した以外は実施例１と同様にして、比較例１の液晶表示装置を作製した。
【０１７２】
（比較例２）
実施例４において、還元剤を除去した以外は実施例４と同様にして、比較例２の液晶表示装置を作製した。
【０１７３】
（比較例３）
実施例９において、還元剤を除去した以外は実施例９と同様にして、比較例３の液晶表示装置を作製した。
【０１７４】
（実施例１６）
（光学補償素子の作製）
以下の方法により、図１に示す第１の構造と類似の光学補償素子を作製した。
実施例１６の光学補償素子は、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における、第２の光学異方性層３Ｂと反射防止層５Ｂの間に、還元剤を含有する保護層を有してなる。
【０１７５】
―第１の光学異方性層の作製―
支持体１として、ガラス基板を用い、該ガラス基板上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ２とＴｉＯ２を交互に蒸着して、各層をそれぞれ２６層ずつ、合計５２層の周期構造積層体からなる第１の光学異方性層２を作製した。作製された第１の光学異方性層の全体の厚みは、７６０ｎｍ、Ｒｔｈ＝２００ｎｍであった。
【０１７６】
―反射防止層の作製―
得られた第１の光学異方性層２の表面上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ２とＴｉＯ２を交互に蒸着して、反射防止層５Ａを作製した。作製された該反射防止層５Ａの厚みは０．２４μｍであった。
【０１７７】
―配向膜の作製―
次に、第１の光学異方性層２とは反対側の前記ガラス基板の面上に、下記組成の配向膜用塗布液１００ｍｌ／ｍ２を滴下し、１，０００ｒｐｍの条件でスピンコートした。その後、該配向膜用塗布液を１００℃の温風で３分間乾燥して、厚み６００ｎｍの配向膜を作製した。次いで、形成された前記配向膜の表面上にラビング処理を施して、所定の配向方向に配向する配向膜４Ａを作製した。
【０１７８】
＜配向膜用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・前記構造式（３）で表される変性ポリビニルアルコール・・・・・・・・・２０ｇ
・水（溶剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３６０ｇ
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１２０ｇ
・グルタルアルデヒド（架橋剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１７９】
―第２の光学異方性層の作製―
下記組成の重合性液晶化合物の塗布液１００ｍｌ／ｍ２を、配向膜４Ａの表面上に滴下し、１，６５０ｒｐｍの条件でスピンコートした。その後、１５０℃の恒温ゾーンで３分間加熱し、前記重合性液晶化合物を配向させた。その後、高圧水銀灯を用いて照射エネルギー３００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ照射して、前記重合性液晶化合物を重合させ、液晶性化合物の配向状態を固定した。その後、室温まで放冷し、第２の光学異方性層３Ａを作製した。作製された該第２の光学異方性層３Ａの厚みは１.０μｍであった。
【０１８０】
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・前記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８１】
形成された第２の光学異方性層３Ａにおいて、前記円盤状液晶化合物は、円盤面の垂直軸法線と前記ガラス基板の法線とのなす角度（配向角）が、１０°から６２°に前記ガラス基板側から空気界面側に向かって増加し、前記円盤状液晶化合物がハイブリッド配向していた。前記円盤状液晶化合物の配向角は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、観察角度を変えてレターデーションを測定し、得られた測定値から屈折率楕円体モデルを仮想し、「Ｄｅｓｉｇｎ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ  ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴ」に記載されている手法により算出した。
第２の光学異方性層３Ａの表面上に、更に、配向膜４Ｂをその配向方向が配向膜４Ａと概略直交するように積層した。そして、該配向膜４Ｂの表面上に第２の光学異方性層３Ｂを第２の光学異方性層３Ａと同様の方法により形成した。
なお、配向膜４Ｂ及び第２の光学異方性層３Ｂの材料、配合量等は配向膜４Ａ及び第２の光学異方性層３Ａと同様とした。
【０１８２】
得られた該第２の光学異方性層３Ｂにおいて、円盤状液晶化合物は、円盤面と前記ガラス基板とのなす角度（配向角）が、１２°から６５°に前記ガラス基板側から空気界面側に向かって増加し、該円盤状液晶化合物がハイブリッド配向していた。また、得られた光学第２の光学異方性層３Ｂはシュリーレンなどの欠陥がない均一な層であった。
【０１８３】
―保護層の作製―
還元剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルあたり、０．１ｇになるように調製した下記組成の保護層用塗布液１００ｍｌ／ｍ２を、第２の光学異方性層３Ｂの表面上に滴下し、１，５００ｒｐｍの条件でスピンコートした。作製された該保護層の厚みは０．８
μｍであった。
【０１８４】
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・１．００ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１８５】
―反射防止層の作製―
得られた第２の光学異方性層３Ｂの表面上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ２とＴｉＯ２を交互に蒸着して、反射防止層５Ｂを作製した。作製された該反射防止層５Ｂの厚みは０．２４μｍであった。
【０１８６】
（液晶表示装置の作製）
作製された前記光学補償素子１０を白表示１．５Ｖ、黒表示３ＶのノーマリーホワイトモードのＴＮモード液晶素子に重ね合わせて、液晶表示装置を作製した。
【０１８７】
（実施例１７）
前記実施例１６において、還元剤を上記化合物１−１６に変更した以外は、実施例１６と同様にして、実施例１７の液晶表示装置を作製した。
【０１８８】
（実施例１８）
前記実施例１６において、還元剤を上記化合物１−１８に変更した以外は、実施例１６と同様にして、実施例１８の液晶表示装置を作製した。
【０１８９】
（実施例１９）
実施例１６において、配向膜用塗布液を下記組成の配向膜用塗布液とし、配向膜作製時の乾燥条件を２２０℃１０分間に変更した以外は、実施例１６と同様にして、実施例１９の液晶表示装置を作製した。
【０１９０】
―配向膜用塗布液の組成―
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・サンエバー１５０（日産化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・・２０ｇ
・ポリイミド用シンナー（日産化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・２０ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１９１】
（実施例２０）
前記実施例１６において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例１６と同様にして、実施例２０の液晶表示装置を作製した。
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．５０ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．５０ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１９２】
（実施例２１）
前記実施例１６において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例１６と同様にして、実施例２２の液晶表示装置を作製した。
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．２５ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．７５ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１９３】
（実施例２２）
前記実施例１６において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例１６と同様にして、実施例２２の液晶表示装置を作製した。
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．７５ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．２５ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１９４】
（実施例２３）
前記実施例１６において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例１６と同様にして、実施例２３の液晶表示装置を作製した。
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．３３ｇ
・上記構造式１−１６で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．３３ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．３３ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１９５】
（実施例２４）
前記実施例１６において、重合性組成物の塗布液の組成を下記に、恒温ゾーンの温度を９０℃に変更した以外は実施例１６と同様にして、実施例２４の液晶表示装置を作製した。
＜重合性組成物の塗布液組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・前記構造式（５）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・上記構造式Ｖ−（１）で表される配向制御剤・・・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．３６ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．０６ｇ
・溶剤（メチルエチルケトン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・１５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１９６】
（実施例２５）
前記実施例２４において、還元剤を上記化合物１−１６に変更した以外は、実施例２４と同様にして、実施例２５の液晶表示装置を作製した。
【０１９７】
（実施例２６）
前記実施例２４において、還元剤を上記化合物１−１８に変更した以外は、実施例２４と同様にして、実施例２６の液晶表示装置を作製した。
【０１９８】
（実施例２７）
前記実施例２４において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例２４と同様にして、実施例２７の液晶表示装置を作製した。
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．５０ｇ
・上記構造１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．５０ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１９９】
（実施例２８）
前記実施例２４において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例２４と同様にして、実施例２８の液晶表示装置を作製した。
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．２５ｇ
・上記構造１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．７５ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２００】
（実施例２９）
前記実施例２４において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例２４と同様にして、実施例２９の液晶表示装置を作製した。
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．７５ｇ
・上記構造１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．２５ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２０１】
（実施例３０）
前記実施例２４において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例２４と同様にして、実施例３０の液晶表示装置を作製した。
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．３３ｇ
・上記構造式１−１６で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．３３ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．３３ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２０２】
（実施例３１）
前記実施例１６において、保護層用塗布液中の還元剤を０．０１ｇに、溶剤を３０ｇに、スピンコートの条件を３，０００ｒｐｍに変更し、光学補償素子１平方メートル当りの還元剤量が０．０００６ｇになるように調製した以外は、実施例１６と同様にして実施例３１の液晶表示装置を作製した。作製された保護層の厚みは０．１μｍであった。
【０２０３】
（実施例３２）
前記実施例１６において、保護層用塗布液中の還元剤を３０ｇに、スピンコートの条件を５００ｒｐｍに変更し、光学補償素子１平方メートル当りの還元剤量が６ｇになるように調製した以外は、実施例１６と同様にして実施例３２の液晶表示装置を作製した。作製された保護層の厚みは８μｍであった。
【０２０４】
（実施例３３）
前記実施例１６において、保護層用塗布液中の還元剤を０．００５ｇに、スピンコートの条件を３０００ｒｐｍに変更し、光学補償素子１平方メートル当りの還元剤量が０．０００３ｇになるように調製した以外は、実施例１６と同様にして実施例３２の液晶表示装置を作製した。作製された保護層の厚みは８μｍであった。
【０２０５】
（実施例３４）
以下の方法により、図１に示す第１の構造と類似の光学補償素子を作製した。
実施例３４の光学補償素子は、支持体１の一方の面上に第1の光学異方性層２、反射防止層５Ａがこの順に積層され、支持体１の他方の面上に配向膜４Ａ、還元剤を含有する第２の光学異方性層３Ａ、配向膜４Ｂ、還元剤を含有する第２の光学異方性層３Ｂ、還元剤を含有する保護層、反射防止層５Ｂがこの順に積層された光学補償素子である。
【０２０６】
―第１の光学異方性層の作製―
支持体１として、ガラス基板を用い、該ガラス基板上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ２とＴｉＯ２を交互に蒸着して、各層をそれぞれ２６層ずつ、合計５２層の周期構造積層体からなる第１の光学異方性層２を作製した。作製された第１の光学異方性層の全体の厚みは、７６０ｎｍ、Ｒｔｈ＝２００ｎｍであった。
【０２０７】
―反射防止層の作製―
得られた第１の光学異方性層２の表面上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ２とＴｉＯ２を交互に蒸着して、反射防止層５Ａを作製した。作製された該反射防止層５Ａの厚みは０．２４μｍであった。
【０２０８】
―配向膜の作製―
次に、第１の光学異方性層２とは反対側の前記ガラス基板の面上に、下記組成の配向膜用塗布液１００ｍｌ／ｍ２を滴下し、１，０００ｒｐｍの条件でスピンコートした。その後、該配向膜用塗布液を１００℃の温風で３分間乾燥して、厚み６００ｎｍの配向膜を作製した。次いで、形成された前記配向膜の表面上にラビング処理を施して、所定の配向方向に配向する配向膜４Ａを作製した。
【０２０９】
＜配向膜用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・前記構造式（３）で表される変性ポリビニルアルコール・・・・・・・・・２０ｇ
・水（溶剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３６０ｇ
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１２０ｇ
・グルタルアルデヒド（架橋剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２１０】
―第２の光学異方性層の作製―
還元剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルあたり、０．０３ｇになるように調製した下記組成の重合性液晶化合物の塗布液１５０ｍｌ／ｍ２を、前記配向膜４Ａの表面上に滴下し、１，６５０ｒｐｍの条件でスピンコートした。その後、１５０℃の恒温ゾーンで３分間加熱し、前記重合性液晶化合物を配向させた。その後、高圧水銀灯を用いて照射エネルギー３００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ照射して、前記重合性液晶化合物を重合させ、液晶性化合物の配向状態を固定した。その後、室温まで放冷し、第２の光学異方性層３Ａを作製した。作製された該第２の光学異方性層３Ａの厚みは０．９６μｍであった。
【０２１１】
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・上記構造式１―１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．１５ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２１２】
形成された第２の光学異方性層３Ａにおいて、前記円盤状液晶化合物は、円盤面の垂直軸法線と前記ガラス基板の法線とのなす角度（配向角）が、１０°から６２°に前記ガラス基板側から空気界面側に向かって増加し、前記円盤状液晶化合物がハイブリッド配向していた。前記円盤状液晶化合物の配向角は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、観察角度を変えてレターデーションを測定し、得られた測定値から屈折率楕円体モデルを仮想し、「Ｄｅｓｉｇｎ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ  ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴ」に記載されている手法により算出した。
第２の光学異方性層３Ａの表面上に、更に、配向膜４Ｂをその配向方向が配向膜４Ａと概略直交するように積層した。そして、該配向膜４Ｂの表面上に第２の光学異方性層３Ｂを第２の光学異方性層３Ａと同様の方法により形成した。
なお、配向膜４Ｂ及び第２の光学異方性層３Ｂの材料、配合量等は配向膜４Ａ及び第２の光学異方性層３Ａと同様とした。
【０２１３】
得られた該第２の光学異方性層３Ｂにおいて、円盤状液晶化合物は、円盤面と前記ガラス基板とのなす角度（配向角）が、１２°から６５°に前記ガラス基板側から空気界面側に向かって増加し、該円盤状液晶化合物がハイブリッド配向していた。また、得られた光学第２の光学異方性層３Ｂはシュリーレンなどの欠陥がない均一な層であった。
【０２１４】
―保護層の作製―
還元剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルあたり、０．１ｇになるように調製した下記組成の保護層用塗布液１００ｍｌ／ｍ２を、第２の光学異方性層３Ｂの表面上に滴下し、１，５００ｒｐｍの条件でスピンコートした。作製された該保護層の厚みは０．８
μｍであった。
【０２１５】
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・１．００ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２１６】
―反射防止層の作製―
得られた第２の光学異方性層３Ｂの表面上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ２とＴｉＯ２を交互に蒸着して、反射防止層５Ｂを作製した。作製された該反射防止層５Ｂの厚みは０．２４μｍであった。
【０２１７】
（液晶表示装置の作製）
作製された前記光学補償素子１０を白表示１．５Ｖ、黒表示３ＶのノーマリーホワイトモードのＴＮモード液晶素子に重ね合わせて、液晶表示装置を作製した。
【０２１８】
（実施例３５）
前記実施例３４において、第２の光学異方性層に含有される還元剤を上記化合物１−１０に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例３５の液晶表示装置を作製した。
【０２１９】
（実施例３６）
前記実施例３４において、第２の光学異方性層に含有される還元剤を上記化合物１−１６に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例３６の液晶表示装置を作製した。
【０２２０】
（実施例３７）
前記実施例３４において、第２の光学異方性層に含有される還元剤を上記化合物１−８に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例３７の液晶表示装置を作製した。
【０２２１】
（実施例３８）
前記実施例３４において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例３８の液晶表示装置を作製した。
【０２２２】
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．０８ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０８ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――    
【０２２３】
（実施例３９）
前記実施例３４において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例３９の液晶表示装置を作製した。
【０２２４】
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．０４ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．１２ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２５】
（実施例４０）
前記実施例３４において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例４０の液晶表示装置を作製した。
【０２２６】
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．１２ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０４ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――    
【０２２７】
（実施例４１）
前記実施例３４において、重合成組成液に塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例４１の液晶表示装置を作製した。
【０２２８】
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．０５ｇ
・上記構造式１−１６で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０５ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０５ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――    
【０２２９】
（実施例４２）
前記実施例３４において、保護層に含有される還元剤を上記化合物１−８に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例４２の液晶表示装置を作製した。
【０２３０】
（実施例４３）
前記実施例３４において、保護層に含有される還元剤を上記化合物１−１０に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例４３の液晶表示装置を作製した。
【０２３１】
（実施例４４）
前記実施例３４において、保護層に含有される還元剤を上記化合物１−１６に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例４４の液晶表示装置を作製した。
【０２３２】
（実施例４５）
前記実施例３４において、保護層に含有される還元剤を上記化合物１−２２に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例４５の液晶表示装置を作製した。
【０２３３】
（実施例４６）
前記実施例３４において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例４６の液晶表示装置を作製した。
【０２３４】
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．５０ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．５０ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３５】
（実施例４７）
前記実施例３４において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例４７の液晶表示装置を作製した。
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．２５ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．７５ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３６】
（実施例４８）
前記実施例３４において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例４８の液晶表示装置を作製した。
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．７５ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．２５ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３７】
（実施例４９）
前記実施例３４において、保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例４９の液晶表示装置を作製した。
【０２３８】
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．３３ｇ
・上記構造式１−１６で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．３３ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．３３ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３９】
（実施例５０）
前記実施例３４において、重合成組成液塗布液および保護層用塗布液の組成を下記に変更した以外は、実施例３４と同様にして、実施例５０の液晶表示装置を作製した。
【０２４０】
＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・５．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．３２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．２５ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．１０ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．０８ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．０８ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ）・・・１８．３６ｇ
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――    
【０２４１】
＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリイソブチルメタクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・上記構造式１−８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・・０．５０ｇ
・上記構造式１−１８で表される還元剤・・・・・・・・・・・・・・・０．５０ｇ
・溶剤（テトラヒドロフラン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４２】
（比較例４）
実施例１６において、還元剤を除去する以外は実施例１６と同様にして、比較例４の液晶表示装置を作製した。
【０２４３】
（比較例５）
実施例１９において、還元剤を除去する以外は実施例１９と同様にして、比較例５の液晶表示装置を作製した。
【０２４４】
（比較例６）
実施例２４において、還元剤を除去する以外は実施例２４と同様にして、比較例６の液晶表示装置を作製した。
【０２４５】
（実施例５１〜８５）
前記実施例１６〜５０において、保護層用塗布液に含まれるポリイソブチルメタクリレートをポリメチルメタクリレートに変更した以外は、実施例１６〜５０と同様にして、実施例５１〜８５の液晶表示装置を作製した。
【０２４６】
（比較例７）
実施例５１において、還元剤を除去する以外は実施例５１と同様にして、比較例７の液晶表示装置を作製した。
【０２４７】
（比較例８）
実施例５４において、還元剤を除去する以外は実施例５４と同様にして、比較例８の液晶表示装置を作製した。
【０２４８】
（比較例９）
実施例５９において、還元剤を除去する以外は実施例５９と同様にして、比較例９の液晶表示装置を作製した。
【０２４９】
（実施例８６〜１２０）
前記実施例１６〜５０において、保護層用塗布液に含まれるポリイソブチルメタクリレートをポリプロピレンに変更した以外は、実施例１６〜５０と同様にして、実施例８６〜１２０の液晶表示装置を作製した。
【０２５０】
（比較例１０）
実施例８６において、還元剤を除去する以外は実施例８６と同様にして、比較例１０の液晶表示装置を作製した。
【０２５１】
（比較例１１）
実施例８９において、還元剤を除去する以外は実施例８９と同様にして、比較例１１の液晶表示装置を作製した。
【０２５２】
（比較例１２）
実施例９４において、還元剤を除去する以外は実施例９４と同様にして、比較例１２の液晶表示装置を作製した。
【０２５３】
（実施例１２１〜１５５）
前記実施例１６〜５０において、保護層用塗布液に含まれるポリイソブチルメタクリレートをポリイソピレンに変更した以外は、実施例１６〜５０と同様にして、実施例１２１〜１５５の液晶表示装置を作製した。
【０２５４】
（比較例１３）
実施例１２１において、還元剤を除去する以外は実施例１２１と同様にして、比較例１３の液晶表示装置を作製した。
【０２５５】
（比較例１４）
実施例１２４において、還元剤を除去する以外は実施例１２４と同様にして、比較例１４の液晶表示装置を作製した。
【０２５６】
（比較例１５）
実施例１２９において、還元剤を除去する以外は実施例１２９と同様にして、比較例１５の液晶表示装置を作製した。
【０２５７】
（実施例１５６〜１９０）
前記実施例１６〜５０において、保護層用塗布液に含まれるポリイソブチルメタクリレートをポリα-メチルスチレンに変更した以外は、実施例１６〜５０と同様にして、実施例１５６〜１９０の液晶表示装置を作製した。
【０２５８】
（比較例１６）
実施例１５６において、還元剤を除去する以外は実施例１５６と同様にして、比較例１６の液晶表示装置を作製した。
【０２５９】
（比較例１７）
実施例１５９において、還元剤を除去する以外は実施例１５９と同様にして、比較例１７の液晶表示装置を作製した。
【０２６０】
（比較例１８）
実施例１６４において、還元剤を除去する以外は実施例１６４と同様にして、比較例１８の液晶表示装置を作製した。
【０２６１】
（実施例１９１〜２２５）
前記実施例１６〜５０において、保護層用塗布液に含まれるポリイソブチルメタクリレートをポリアセトキシエチレンに変更した以外は、実施例１６〜５０と同様にして、実施例１９１〜２２５の液晶表示装置を作製した。
【０２６２】
（比較例１９）
実施例１９１において、還元剤を除去する以外は実施例１９１と同様にして、比較例１９の液晶表示装置を作製した。
【０２６３】
（比較例２０）
実施例１９４において、還元剤を除去する以外は実施例１９４と同様にして、比較例２０の液晶表示装置を作製した。
【０２６４】
（比較例２１）
実施例１９９において、還元剤を除去する以外は実施例１９９と同様にして、比較例２１の液晶表示装置を作製した。
【０２６５】
（実施例２２６〜２６０）
前記実施例１６〜５０において、保護層用塗布液に含まれるポリイソブチルメタクリレートをポリメトキシエチレンに変更した以外は、実施例１６〜５０と同様にして、実施例２２６〜２６０液晶表示装置を作製した。
【０２６６】
（比較例２２）
実施例２２６において、還元剤を除去する以外は実施例２２６と同様にして、比較例２２の液晶表示装置を作製した。
【０２６７】
（比較例２３）
実施例２２９において、還元剤を除去する以外は実施例２２９と同様にして、比較例２３の液晶表示装置を作製した。
【０２６８】
（比較例２４）
実施例２３４において、還元剤を除去する以外は実施例２３４と同様にして、比較例２４の液晶表示装置を作製した。
【０２６９】
（実施例２６１〜２９５）
前記実施例１６〜５０において、保護層用塗布液に含まれるポリイソブチルメタクリレートをポリビニルクロライドに変更した以外は、実施例１６〜５０と同様にして、実施例２６１〜２９５の液晶表示装置を作製した。
【０２７０】
（比較例２５）
実施例２６１において、還元剤を除去する以外は実施例２６１と同様にして、比較例２５の液晶表示装置を作製した。
【０２７１】
（比較例２６）
実施例２６４において、還元剤を除去する以外は実施例２６４と同様にして、比較例２６の液晶表示装置を作製した。
【０２７２】
（比較例２７）
実施例２６９において、還元剤を除去する以外は実施例２６９と同様にして、比較例２７の液晶表示装置を作製した。
【０２７３】
（実施例２９６〜３３０）
前記実施例１６〜５０において、保護層用塗布液に含まれるポリイソブチルメタクリレートをポリカーボネートに変更した以外は、実施例１６〜５０と同様にして、実施例２９６〜３３０の液晶表示装置を作製した。
【０２７４】
（比較例２８）
実施例２９６において、還元剤を除去する以外は実施例２９６と同様にして、比較例２８の液晶表示装置を作製した。
【０２７５】
（比較例２９）
実施例２９９において、還元剤を除去する以外は実施例２９９と同様にして、比較例２９の液晶表示装置を作製した。
【０２７６】
（比較例３０）
実施例３０４において、還元剤を除去する以外は実施例３０４と同様にして、比較例３０の液晶表示装置を作製した。
【０２７７】
＜液晶表示装置のコントラストの評価＞
得られた実施例１〜３３０及び比較例１〜３０における液晶表示装置について、コノスコープ（Ａｕｔｒｏｎｉｃ−Ｍｅｌｃｈｅｒ社製）を用いて、表示面の正面から仰角２０°、方位角４５０°の場所におけるコントラストを測定した。ここで、前記コントラストは、白表示照度、黒表示照度及びそれらの比から算出されるコントラスト（白表示照度／黒表示照度）を測定した。結果を表１〜１０に示す。
【０２７８】
（実施例３３０〜６６０及び比較例３１〜６０）
（液晶プロジェクタの作製）
ＲＧＢの各色にそれぞれ各一枚の３枚の実施例１〜３３０及び比較例１〜３０の液晶表示装置をそれぞれ市販のＴＮ型液晶プロジェクタに装着して、実施例３３０〜６６０及び比較例３１〜６０の液晶プロジェクタを作製した。
【０２７９】
＜液晶プロジェクタのコントラストの評価＞
得られた実施例３３０〜６６０及び比較例３１〜６０の液晶プロジェクタについて、投射レンズから３ｍの距離に設置したスクリーン上での白表示照度、黒表示照度及びそれらの比から算出されるコントラスト（白表示照度／黒表示照度）を測定した。結果を表１〜１０に示す。
【０２８０】
＜液晶表示装置及び液晶プロジェクタの使用経時（強制試験）の評価＞
前記液晶表示装置（実施例１〜３３０及び比較例１〜３０）及び液晶プロジェクタ（実施例３３０〜６６０及び比較例３１〜６０）について、白色光２億ｌｕｘ相当の光源を用いて９６時間の加速条件で使用経時（強制試験）を行い、前記コントラストの評価を行った。結果を表１〜１０に示す。
【０２８１】
【表１】
2007171525.tif 000033
【表２】
2007171525.tif 000034
【表３】
2007171525.tif 000035
【表４】
2007171525.tif 000036
【表５】
2007171525.tif 000037
【表６】
2007171525.tif 000038
【表７】
2007171525.tif 000039
【表８】
2007171525.tif 000040
【表９】
2007171525.tif 000041
【表１０】
2007171525.tif 000042
【０２８２】
表１〜１０の結果から、還元剤を第２の光学異方性層に添加した実施例１〜１５、の液晶表示装置は、還元剤無添加の比較例１〜３の液晶表示装置と比較して、いずれもコントラストが劣化していないことが判る。
更に、実施例１〜１５の液晶表示装置を用いて作製した実施例３３１〜３４５の液晶プロジェクタにおいても、比較例１〜３の液晶表示装置を用いて作製した比較例３１〜３３の液晶プロジェクタと比較して、いずれもコントラストが劣化していないことが判る。
また、保護層を形成し、還元剤を該保護層に添加、もしくは光学異方性層と保護層の両方に添加した実施例１６〜３３０の液晶表示装置においても、還元剤無添加である比較例４〜３０の液晶表示装置と比較して、いずれもコントラストが劣化していないことが判る。
更に、実施例１６〜３３０の液晶表示装置を用いて作製した実施例３４６〜６６０の液晶プロジェクタにおいても、比較例４〜３０の液晶表示装置を用いて作製した比較例３４〜６０の液晶プロジェクタと比較して、いずれもコントラストが劣化していないことが判る。
【産業上の利用可能性】
【０２８３】
本発明の光学補償素子、該光学補償素子を備えた液晶表示装置は、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタなどに好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２８４】
【図１】図１は、第１の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。
【図２】図２は、第２の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。
【図３】図３は、第３の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。
【図４】図４は、第４の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。
【図５】図５は、第５の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。
【図６】図６は、第６の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。
【図７】図７は、第７の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。
【図８】図８は、第８の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。
【図９】図９は、本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【図１０】図１０は、本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【図１１】図１１は、本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【図１２】図１２は、本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。
【図１３】図１３は、リア方式の液晶プロジェクタの一例を示す外観図である。
【図１４】図１４は、投影ユニットの一例を示す構成図である。
【符号の説明】
【０２８５】
１、２１，３１、４１、５１、６１、７１、８１・・・・・支持体
２、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２・・・・・第１の光学異方性層
３、２３、３３、４３、５３、６３、７３、８３・・・・・第２の光学異方性層
４、２４、３４、４４、５４、６４、７４、８４・・・・・配向膜
５、２５、３５、４５、５５、６５、７５、８５・・・・・反射防止層
１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０・・・・光学補償素子
１００・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・液晶表示装置
１０１・・・・・・・・・・・・・・・上側偏光板
１０２・・・・・・・・・・・・・・・上側偏光板吸収軸
１０３・・・・・・・・・・・・・・・上側第２光学異方性層
１０４・・・・・・・・・・・・・・・上側第２光学異方性層作製時のラビング方向
１０５・・・・・・・・・・・・・・・下側第２の光学異方性層
１０６・・・・・・・・・・・・・・・下側第２光学異方性層作製時のラビング方向
１０７・・・・・・・・・・・・・・・第１の光学異方性層
１０８・・・・・・・・・・・・・・・光学補償素子
１０９・・・・・・・・・・・・・・・液晶セル上側基板
１１０・・・・・・・・・・・・・・・上側基板液晶配向用ラビング方向
１１１・・・・・・・・・・・・・・・ネマチック液晶（液晶層）
１１２・・・・・・・・・・・・・・・下側基板液晶配向用ラビング方向
１１３・・・・・・・・・・・・・・・液晶セル下側基板
１１４・・・・・・・・・・・・・・・液晶素子
１１５・・・・・・・・・・・・・・・下側偏光板の吸収軸
１１６・・・・・・・・・・・・・・・下側偏光板
２００・・・・・・・・・・・・・・・液晶プロジェクタ
２０２・・・・・・・・・・・・・・・筐体
２０３・・・・・・・・・・・・・・・スクリーン
２０６、２０７・・・・・・・・・・・ミラー
３００・・・・・・・・・・・・・・・投射ユニット
３０３・・・・・・・・・・・・・・・スクリーン
３１１・・・・・・・・・・・・・・・液晶素子
３１２・・・・・・・・・・・・・・・光源
３１３・・・・・・・・・・・・・・・フィルタ
３１４・・・・・・・・・・・・・・・ガラスロッド
３１５・・・・・・・・・・・・・・・リレーレンズ
３１６・・・・・・・・・・・・・・・コリメートレンズ
３１７、３１９、３２０・・・・・・・ミラー
３１８・・・・・・・・・・・・・・・ダイクロイックミラー
３２４・・・・・・・・・・・・・・・合成プリズム
３２４ａ，ｂ・・・・・・・・・・・・ダイクロック面
３２５・・・・・・・・・・・・・・・投影レンズ
３２６、３２８・・・・・・・・・・・偏光板
３２７・・・・・・・・・・・・・・・光学補償素子
【図１】
2007171525.tif 000044
【図２】
2007171525.tif 000045
【図３】
2007171525.tif 000046
【図４】
2007171525.tif 000047
【図５】
2007171525.tif 000048
【図６】
2007171525.tif 000049
【図７】
2007171525.tif 000050
【図８】
2007171525.tif 000051
【図９】
2007171525.tif 000052
【図１０】
2007171525.tif 000053
【図１１】
2007171525.tif 000054
【図１２】
2007171525.tif 000055
【図１３】
2007171525.tif 000056
【図１４】
2007171525.tif 000057