(57)【要約】【課題】波長選択反射膜からなるフィルタ層から情報光及び参照光の光漏れが生じても、ノイズの発生を防止でき、高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体、及びその製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法などの提供。【解決手段】第一の基板と、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層と、光吸収層と、第二の基板とをこの順に有してなることを特徴とする光記録媒体及びその製造方法、並びに、該光記録媒体への光記録方法及び光再生方法である。【選択図】図７
2007102185.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の基板と、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層と、光吸収層と、第二の基板とをこの順に有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
光吸収層が、３５０ｎｍ以上６００ｎｍ未満のいずれかの波長の第一の光を吸収し、６００〜９００ｎｍのいずれかの波長の第二の光を透過する請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
光吸収層の組成物が、色素及び顔料のいずれかを含み、該色素及び顔料が、シアニン色素、フタロシアニン色素、及びアゾ色素の少なくともいずれかを含む請求項１から２のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項４】
光吸収層の厚みが、０．１〜２００μｍである請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項５】
光吸収層が、第一の光に対する光透過率が、０．００１〜５０％であり、かつ第二の光に対する光透過率が、５０〜１００％である請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項６】
光吸収層と第二の基板との間に、ギャップ層を有する請求項１から５のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項７】
光吸収層及びギャップ層の合計厚みが、１〜２００μｍである請求項１から６のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項８】
フィルタ層が、第一の光を反射し、該第一の光と異なる第二の光を透過する請求項１から７のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項９】
フィルタ層が、色材含有層、誘電体蒸着層及びコレステリック液晶層の少なくともいずれかからなる請求項１から８のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項１０】
第一の基板が、サーボピットパターンを有する請求項１から９のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載の光記録媒体を製造する方法であって、第二の基板上に、光吸収層を積層する光吸収層積層工程と、該光吸収層上に、フィルタ層を形成するフィルタ層形成工程とを少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
請求項１から１０のいずれかに記載の光記録媒体に対し、情報光及び参照光の照射を、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行い、前記情報光と前記参照光との干渉により生成される干渉パターンによって情報を記録層に記録することを特徴とする光記録方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の光記録方法により記録層に記録された干渉パターンに、参照光と同じ再生光を照射して記録情報を再生することを特徴とする光再生方法。
【請求項１４】
再生光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、該再生光を干渉パターンに照射して記録情報を再生する請求項１３に記載の光再生方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やＣＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。しかし、従来から提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録可能なホログラム型の光記録媒体が注目されている。
【０００３】
前記ホログラム型光記録媒体は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に屈折率などの光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、該記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する回折光として該記録層から出射させる。
このホログラム型光記録媒体では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち多重記録が可能である。コンピュータにより合成されるデジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、１スポットの信号対雑音比（ＳＮ比）は極めて高くなるので、重ね書きによりＳＮ比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる（特許文献１参照）。
【０００４】
このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図１に示すように、第二の基板１表面にサーボピットパターン３を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜２と、この反射膜上に記録層４と、この記録層上に第一の基板５とを有する光記録媒体２０が提案されている（特許文献２参照）。
【０００５】
しかし、図１に示す構成の光記録媒体２０では、サーボゾーンと記録ゾーンとが面内で分かれており、その分、記録密度が半減してしまうという問題がある。
このため、図２に示す光記録媒体２０ａでは、情報光及び参照光として円偏光を用い、記録層４と反射膜２との間に、第二の基板１の平滑化のためのギャップ層８、フィルタ層６としてのコレステリック液晶層又はダイクロイックミラー層、４分の１波長板１０を設け、記録層とサーボ層を厚み方向に重ねている（特許文献３参照）。この手法により記録密度は倍増する。また、前記フィルタ層として情報光の円偏光と同じ旋回方向を螺旋構造に持つ単層のコレステリック液晶層を用いると、生産性に優れ、光記録媒体を安価に大量生産することができ、垂直入射０°におけるフィルタ効果は良好となる。
しかし、この提案では、入射角が変化し、入射光が１０°以上傾くと、選択反射波長にずれが生じ、情報光及び参照光がフィルタ層を通過して反射膜まで到達して反射され、ノイズが生じる原因となることがある。この現象は、レンズで絞った±１０°以上の通常の光記録媒体におけるレンズ光学系の入射光には適用できないという問題がある。
前記入射角が、１０°以内の場合には、本来は図３に示すように、情報光及び参照光３５は、フィルタ層６で、その全てが選択反射され、戻り光となるが、図４に示すように、情報光及び参照光３５は、フィルタ層６で、その全てが反射せず、点線で示すように、僅かにフィルタ層から漏れて、反射膜２まで到達し、該反射膜で反射し、反射光３５ａとなって回折光に混入し、ノイズの原因となることがある。
【０００６】
したがって、選択反射層から、情報光及び参照光の光漏れが生じても、ノイズの発生を防止することが可能なホログラム型の光記録媒体を効率よく低コストに大量生産することは未だ実現されておらず、その速やかな提供が望まれているのが現状である。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−１２３９４９号公報
【特許文献２】特開平１１−３１１９３６号公報
【特許文献３】特開２００４−２６５４７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、波長選択反射膜からなるフィルタ層から情報光及び参照光の光漏れが生じても、ノイズの発生を防止でき、高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく低コストで製造できる光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  第一の基板と、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層と、光吸収層と、第二の基板とをこの順に有することを特徴とする光記録媒体である。
該＜１＞に記載の光記録媒体においては、第一の基板と、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層と、光吸収層と、第二の基板とをこの順に有することにより、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、記録又は再生時に用いられる情報光及び参照光、さらに再生光は、反射膜に到達しないので、反射面上での乱反射による拡散光が発生することを防ぐことができる。したがって、この拡散光によって生じるノイズが再生像に重畳されてＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ上で検出されることもなく、再生像が少なくともエラー訂正可能な程度に検出することができる。前記拡散光によるノイズ成分はホログラムの多重度が大きくなればなるほど大きな問題となる。つまり、多重度が大きくなればなるほど、例えば多重度が１０以上になると、１つのホログラムからの回折効率が極めて小さくなり、拡散ノイズがあると再生像の検出が非常に困難となる。本発明によれば、このような困難性は除去することができ、今までにない高密度画像記録が実現できる。また、フィルタ層と第二の基板との間に光吸収層を形成したことにより、前記フィルタ層から漏れる記録光が吸収され、歪みのない再生像が再現される。
＜２＞  光吸収層が、３５０ｎｍ以上６００ｎｍ未満のいずれかの波長の第一の光を吸収し、６００〜９００ｎｍのいずれかの波長の第二の光を透過する前記＜１＞に記載の光記録媒体である。
＜３＞  光吸収層の組成物が、光吸収層の組成物が、色素及び顔料のいずれかを含み、該色素及び顔料が、シアニン色素、フタロシアニン色素、及びアゾ色素の少なくともいずれかを含む前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜４＞  光吸収層の厚みが、０．１〜２００μｍである前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜５＞  光吸収層が、第一の光に対する光透過率が、０．００１〜５０％であり、かつ第二の光に対する光透過率が、５０〜１００％である前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜６＞  光吸収層と第二の基板との間に、ギャップ層を有する前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜７＞  光吸収層及びギャップ層の合計厚みが、１〜２００μｍである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜８＞  フィルタ層が、色材含有層、誘電体蒸着層及びコレステリック液晶層の少なくともいずれかからなる前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜９＞  フィルタ層が、コレステリック液晶層からなり、該コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１０＞  光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位がイソソルビド化合物、イソマンニド化合物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも１種である前記＜９＞に記載の光記録媒体である。
＜１１＞  光反応性基が、光照射により炭素−炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を生じる基である前記＜１０＞に記載の光記録媒体である。
＜１２＞  コレステリック液晶層を、２層以上積層してなる前記＜８＞から＜１１＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜１２＞に記載の光記録媒体においては、コレステリック液晶層を２層以上積層することによって、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、照射光反射の角度依存性を解消することができる。
＜１３＞  コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記＜８＞から＜１２＞に記載の光記録媒体である。
＜１４＞  コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに同じである前記＜８＞から＜１３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１５＞  コレステリック液晶層における選択反射中心波長が、互いに異なる前記＜８＞から＜１４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１６＞  コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が、連続的である前記＜８＞から＜１５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜１３＞から＜１６＞のいずれかに記載の光記録媒体においては、コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有し、螺旋の回転方向が互いに同じであり、選択反射中心波長が互いに異なり、選択反射波長帯域が連続的であることにより、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、照射光反射の角度依存性を解消でき、波長選択反射膜として好適に用いられる。
＜１７＞  フィルタ層が、第一の光を反射し、該第一の光と異なる第二の光を透過する前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１８＞  フィルタ層のλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が、４０％以上である前記＜１＞から＜１７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１９＞  フィルタ層のλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が、４０％以上である前記＜１＞から＜１８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２０＞  第一の基板が、サーボピットパターンを有する前記＜１＞から＜１９＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２１＞  サーボピットパターン表面に、反射膜を有する前記＜２０＞に記載の光記録媒体である。
＜２２＞  反射膜が、金属反射膜である前記＜２１＞に記載の光記録媒体である。
＜２３＞  記録層とフィルタ層との間に、第二ギャップ層を有する前記＜１＞から＜２２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜２３＞に記載の光記録媒体においては、前記第二ギャップ層を設けて、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントを存在させることができる。このエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第二ギャップ層を設けることが有効となる。
＜２４＞  フィルタ層が、ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記＜１＞から＜２３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
【００１０】
＜２５＞  基材上に、フィルタ層を積層してなることを特徴とする光記録媒体用フィルタである。
＜２６＞  フィルタ層が、色材含有層、誘電体蒸着層及びコレステリック液晶層の少なくともいずれかからなる前記＜２５＞に記載の光記録媒体用フィルタである。
＜２７＞  フィルタ層が、コレステリック液晶層からなり、該コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する前記＜２５＞から＜２６＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜２８＞  光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位がイソソルビド化合物、イソマンニド化合物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも１種である前記＜２７＞に記載の光記録媒体用フィルタである。
＜２９＞  光反応性基が、光照射により炭素−炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を生じる基である前記＜２８＞に記載の光記録媒体用フィルタである。
＜３０＞  コレステリック液晶層を、２層以上積層してなる前記＜２７＞から＜２９＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜３１＞  コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記＜２７＞から＜３０＞に記載の光記録媒体用フィルタである。
＜３２＞  コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに同じである前記＜２７＞から＜３１＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜３３＞  コレステリック液晶層における選択反射中心波長が、互いに異なる前記＜２７＞から＜３２＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜３４＞  コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が、連続的である前記＜２７＞から＜３３＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜３５＞  フィルタ層が、第一の光を反射し、該第一の光と異なる第二の光を透過する前記＜２５＞から＜３４＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜３６＞  フィルタ層のλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が、４０％以上である前記＜２５＞から＜３５＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜３７＞  フィルタ層のλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が、４０％以上である前記＜２５＞から＜３５＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜３８＞  ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記＜２５＞から＜３７＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
＜３９＞  光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行なわれ、該情報光と該参照光との干渉により生成される干渉パターンによって情報が記録層に記録される前記＜２５＞から＜３８＞のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタである。
【００１１】
＜４０＞  前記＜１＞から＜２４＞のいずれかに記載の光記録媒体を製造する方法であって、第二の基板上に、光吸収層を積層する光吸収層積層工程と、該光吸収層上に、フィルタ層を形成するフィルタ層形成工程とを少なくとも含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
該＜４０＞に記載の光記録媒体の製造方法においては、前記フィルタ層形成工程により、第二の基板上にコレステリック液晶層を積層した積層体からなるフィルタ層を形成する。その結果、塗布等の簡便な方法により、効率よく光記録媒体を低コストで大量生産することができる。
＜４１＞  コレステリック液晶層が２層以上からなるフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含む前記＜４０＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
【００１２】
＜４２＞  前記＜１＞から＜２４＞のいずれかに記載の光記録媒体に対し情報光及び参照光の照射を、前記情報光の光軸と前記参照光の光軸とが同軸になるようにして行い、前記情報光と前記参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録することを特徴とする光記録方法である。
該＜４２＞に記載の光記録方法においては、本発明の光記録媒体を用いて、情報光及び参照光の照射が、前記情報光の光軸と前記参照光の光軸とが同軸になるようにして行われ、前記情報光と前記参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録することにより、今までにない高密度記録を実現することができる。
【００１３】
＜４３＞  前記＜４２＞に記載の光記録方法により記録層に記録された干渉パターンに、参照光と同じ再生光を照射して情報を再生することを特徴とする光再生方法である。
該＜４３＞に記載の光再生方法においては、本発明の前記光記録方法により記録層に記録された干渉パターンを効率よく、正確に読み取って高密度記録情報を再生することができる。
＜４４＞  再生光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、該再生光を干渉パターンに照射して記録情報を再生する前記＜４３＞に記載の光再生方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、波長選択反射膜からなるフィルタ層から情報光及び参照光の光漏れが生じても、ノイズの発生を防止でき、高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく低コストで製造できる光記録媒体の製造方法、並びに、該光記録媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（光記録媒体）
本発明の光記録媒体は、第一の基板と、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、フィルタ層と、光吸収層と、第二の基板とをこの順に有し、必要に応じて適宜選択したその他の層を有する光記録媒体である。
【００１６】
＜光吸収層＞
前記光吸収層は、前記フィルタ層における波長選択反射が不充分で、反射しきれなかった光（図５の矢印部分）を吸収し、フィルタ層から漏れた光の回折光への混入を防止し、信号対雑音比（ＳＮ比）を高める機能がある。そのため、前記光吸収層の形成位置は、前記フィルタ層と前記第二の基板との間に形成することが好ましい。
【００１７】
前記光吸収層が吸収する光（以下、第一の光と称することがある）の波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、波長は、３５０ｎｍ以上６００ｎｍ未満が好ましく、４００〜５５０ｎｍがより好ましい。前記波長が、３５０ｎｍ未満であると、安定した吸収を持続するのが困難であり、６００ｎｍ以上である場合も、安定した吸収を持続するのが困難である。
前記光吸収層は、波長６００〜９００ｎｍの光（以下、第二の光と称することがある）を透過する性質も合わせ保有している。前記透過する光の波長としては、６５０〜８５０ｎｍがより好ましい。
前記光吸収層の光透過率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記吸収する波長に対しては、平均透過率が、０．００１〜５０％が好ましく、０．０１〜２０％がより好ましい。前記平均光透過率が、０．００１％未満であると、色材の量が増え長期安定性に欠けることがあり、５０％を超えると、本発明の目的の光吸収機能が充分発揮できなくなることがある。
前記吸収する波長以外のトラッキングサーボ光の波長に対しては、平均透過率が、５０〜１００％が好ましく、６０〜９５％がより好ましい。前記光透過率が、５０％未満であると、トラッキングサーボ光量が少なくなることがある。これらの数値限定範囲は、好ましい波長域全域についてではなく、記録再生やトラッキングサーボ光の波長についてのみが対象となる。
前記光透過率の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、大きさ２ｃｍ×２ｃｍ、厚み１０μｍの試験片を用いて、分光光度計により測定することができる。
前記光透過率の測定器としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、可視光線透過率測定器、分光光度計などが挙げられる。
【００１８】
前記光吸収層の組成物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、色素、顔料などの色材、更に必要に応じて、バインダーなどのその他の成分が挙げられる。
前記色材としては、フタロシアニン色素、シアニン色素、アゾ色素、キノフタロン色素、フラバントロン色素、アントラキノン色素、イソインドリン色素、ペリレン色素、マンガン色素などが挙げられる。これらの中でも、フタロシアニン色素、シアニン色素、アゾ色素などが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、既に着色された市販のスクリーン印刷インキなども好ましい。前記市販のスクリーン印刷インキとしては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができるが、ＵＶ印刷インキ（「ＤＡＩＣＵＲＥ  ＳＳＤ  ＴＦ１０６  ＰＩＮＫ」；大日本インキ株式会社製）、などが挙げられる。
前記バインダーとしては、例えば、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂；ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物、などの合成有機高分子を挙げることができる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記バインダーを光吸収層に添加する場合、その添加量としては、前記色材１００質量部に対して、一般的には２０質量部以下であり、１０質量部以下が好ましく、５質量部以下がより好ましい。
また、前記その他の成分として、前記光吸収層形成用の塗布液には、必要に応じて、退色防止剤、結合剤を添加してもよいし、更に、目的に応じて、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を添加してもよい。
前記退色防止剤としては、例えば、ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩が挙げられる。これらの例は、例えば、特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４−１４６１８９号等の各公報に記載されている。
【００１９】
前記光吸収層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．１〜２００μｍが好ましく、１〜１００μｍがより好ましく、２〜４０μｍが特に好ましい。
前記ギャップ層（後述する第一ギャップ層）を、該光吸収層と第二の基板との間に形成する場合には、前記光吸収層及び前記ギャップ層との合計厚みが、１〜２００μｍが好ましく、５〜１５０μｍがより好ましく、１０〜１００μｍが特に好ましい。
【００２０】
＜フィルタ層＞
前記フィルタ層は、複数種の光線の中から特定の波長の光のみを反射する、波長選択反射機能を有する。特に、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能もあり、前記光記録媒体に前記フィルタ層を積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記フィルタ層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ダイクロイックミラー層、色材含有層を有し、誘電体蒸着層、単層又は２層以上のコレステリック層及び必要に応じて適宜選択したその他の層の少なくともいずれかを積層した積層体により形成される。前記フィルタ層は、色材含有層、誘電体蒸着層及びコレステリック液晶層の少なくともいずれかからなることが好ましい。
前記フィルタ層は、直接記録層など共に、基板上に塗布などにより積層してもよく、フィルムなどの基材上に積層して光記録媒体用フィルタを作製し、該光記録媒体用フィルタを、基板上に積層してもよい。
【００２１】
−ダイクロイックミラー層−
前記ダイクロイックミラー層は、波長選択反射膜とするためには、複数層積層することが好ましい。前記積層数は、１〜５０層が好ましく、２〜４０層がより好ましく、２〜３０層が特に好ましい。前記積層数が、５０層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、分光透過率特性の変化が小さくなり層数を増加するだけの効果は小さくなる。
【００２２】
前記ダイクロイックミラー層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティング、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）、などが挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法、スパッタリングが好ましく、スパッタリングがより好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いＤＣスパッタリング法が好ましい。なお、ＤＣスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、（１）１つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する１チャンバ法、（２）複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記ダイクロイックミラー層の厚みとしては、光学波長オーダーで、λ／１６〜λの膜厚が好ましく、λ／８〜３λ／４がより好ましく、λ／６〜３λ／８がより好ましい。
【００２３】
−色材含有層−
前記色材含有層は、色材、バインダー樹脂、溶剤及び必要に応じてその他の成分により形成される。
【００２４】
前記色材としては、顔料及び染料の少なくともいずれかが好適に挙げられ、これらの中でも、５３２ｎｍの光を吸収し、６５５ｎｍ若しくは７８０ｎｍのサーボ光を透過させる観点から、赤色染料、赤色顔料が好ましく、赤色顔料が特に好ましい。
【００２５】
前記赤色染料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド８、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１３、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１８、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２６、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド３５、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド３７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド４２、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド５２、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド８２、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド８７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド８９、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド９２、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド９７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１０６、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１１１、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１１４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１１５、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１３４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１８６、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２４９、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２５４、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２８９等の酸性染料；Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド２、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１２、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１３、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１４、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１５、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１８、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド２２、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド２３、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド２４、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド２７、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド２９、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド３５、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド３６、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド３８、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド３９、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド４６、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド４９、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド５１、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド５２、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド５４、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド５９、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド６８、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド６９、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド７０、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド７３、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド７８、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド８２、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１０２、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１０４、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１０９、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１１２等の塩基性染料；Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１、リアクティブレッド１４、リアクティブレッド１７、リアクティブレッド２５、リアクティブレッド２６、リアクティブレッド３２、リアクティブレッド３７、リアクティブレッド４４、リアクティブレッド４６、リアクティブレッド５５、リアクティブレッド６０、リアクティブレッド６６、リアクティブレッド７４、リアクティブレッド７９、リアクティブレッド９６、リアクティブレッド９７等の反応性染料、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２６】
前記赤色顔料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４６）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８１）、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２７】
これらの中でも、５３２ｎｍの光に対する透過率が１０％以下であり、かつ６５５ｎｍの光に対する透過率が９０％以上である透過スペクトルを示す赤色顔料が特に好ましく用いられる。
【００２８】
前記色材の含有量としては、前記色材含有層の全固形質量に対し０．０５〜９０質量％が好ましく、０．１〜７０質量％がより好ましい。前記含有量が０．０５質量％未満であると、色材含有層の厚みが５００μｍ以上必要となってしまうことがあり、９０質量％を超えると、色材含有層の自己支持性がなくなり、色材含有層の作製工程中に膜が崩れてしまうことがある。
【００２９】
−バインダー樹脂−
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体；塩化ビニル、酢酸ビニルとビニルアルコール、マレイン酸及びアクリル酸の少なくともいずれかとの共重合体；塩化ビニル／塩化ビニリデン共重合体；塩化ビニル／アクリロニロリル共重合体；エチレン／酢酸ビニル共重合体；ニトロセルロース樹脂等のセルロース誘導体；ポリアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、分散性及び耐久性を更に高めるため、以上に挙げたバインダー樹脂分子中に、極性基（エポキシ基、ＣＯ２Ｈ、ＯＨ、ＮＨ２、ＳＯ３Ｍ、ＯＳＯ３Ｍ、ＰＯ３Ｍ２、ＯＰＯ３Ｍ２（ただし、Ｍは水素原子、アルカリ金属、又はアンモニウムであり、一つの基の中に複数のＭがあるときは互いに異なっていてもよい）を導入したものが好ましい。該極性基の含有量としては、バインダー樹脂１グラム当り１０−６〜１０−４当量が好ましい。
以上列挙したバインダー樹脂は、イソシアネート系の公知の架橋剤を添加して硬化処理されることが好ましい。
【００３０】
前記バインダー樹脂の含有量としては、前記色材含有層の全固形質量に対し１０〜９９．９５質量％が好ましく、３０〜９９．９質量％がより好ましい。
【００３１】
前記各成分は、適当な溶媒に溶解乃至は分散し、塗布液に調製し、この塗布液を所望の塗布方法により後述する基材上に塗布することにより、色材含有層を形成することができる。
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３２】
前記塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法、などが挙げられる。
【００３３】
前記色材含有層の厚みは、例えば、０．５〜２００μｍが好ましく、１．０〜１００μｍがより好ましい。前記厚みが、０．５μｍ未満であると、色材を包んで膜とするためのバインダー樹脂を十分な量添加することができなくなることがあり、２００μｍを超えると、フィルタの厚みが大きくなりすぎて、照射光及びサーボ光の光学系として過大なものが必要になることがある。
【００３４】
−誘電体蒸着層−
前記誘電体蒸着層は、前記色材含有層上に形成され、互いに屈折率の異なる誘電体薄層を複数層積層してなり、波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄層と低屈折率の誘電体薄層とを交互に複数層積層することが好ましいが、２種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。
前記積層数は、２〜２０層が好ましく、２〜１２層がより好ましく、４〜１０層が更に好ましく、６〜８層が特に好ましい。前記積層数が、２０層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
【００３５】
前記誘電体薄層の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。前記屈折率が高いか低いかを決めるしきい値としては１．８が好ましい。なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、高屈折率の材料の中でも、相対的に屈折率の大きいものと小さいものとが存在してもよく、これらを交互に使用してもよい。
【００３６】
前記高屈折率の誘電体薄層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｐｒ６Ｏ１１、Ｓｃ２Ｏ３、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＴｌＣｌ、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２、などが挙げられる。これらの中でも、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２が好ましく、これらの中でも、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２がより好ましい。
【００３７】
前記低屈折率の誘電体薄層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＬａＦ３、ＰｂＣｌ２、ＰｂＦ２、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＮｄＦ３、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３、ＮａＦ、ＴｈＯ２、ＴｈＦ４、などが挙げられる。これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３が好ましく、これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３がより好ましい。
なお、前記誘電体薄層の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
【００３８】
前記誘電体薄層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記ダイクロイックミラー層の積層に用いた積層方法と同様の方法を用いることができる。
前記誘電体薄層の厚みとしては、光学波長オーダーで、λ／１６〜λの膜厚が好ましく、λ／８〜３λ／４がより好ましく、λ／６〜３λ／８がより好ましい。
【００３９】
前記誘電体蒸着層においては、該誘電体蒸着層中を伝播する光の一部が、各誘電体薄層毎に多重反射し、それらの反射光が干渉するため、誘電体薄層の厚さと光に対する膜の屈折率との積で決まる波長の光のみが選択的に透過されることになる。また、誘電体蒸着層の中心透過波長は入射光に対して角度依存性を有しており、入射光を変化させると透過波長を変えることができる。
ただし、前記誘電体蒸着層の積層数を２０層以下としたことにより、数％〜数十％の選択反射波長光がフィルタを漏れて透過するが、該漏れ光を前記誘電体蒸着層の直下に仕込んだ色材含有層で吸収してしまう。なお、前記色材含有層は赤色顔料や赤色染料を含んでいるので、３５０ｎｍ以上６００ｎｍ未満の光は吸収するが、サーボ光として使用する６００〜９００ｎｍの光は透過する。
前記色材含有層と前記誘電体蒸着層とを有する光記録媒体用フィルタの機能は、第一の光を反射し、該第一の光と異なる第二の光を透過することが好ましく、前記第一の光の波長が３５０ｎｍ以上６００ｎｍ未満であり、かつ第二の光の波長が６００〜９００ｎｍであることが好ましい。そのためには、光学系側から見て、記録層、誘電体蒸着層、色材含有層、及びサーボビットパターンの順に積層されている構造の光記録媒体であることが好ましい。
【００４０】
また、前記フィルタ層は、入射角度±４０°における、６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上であり、８０％以上が好ましく、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上であり、４０％以上が好ましい。
【００４１】
−コレステリック液晶層−
前記コレステリック液晶層は、少なくともネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００４２】
前記コレステリック液晶層は、１層でもよく、２層以上が積層されていてもよい。該２層以上の積層数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、２〜１０層が好ましい。前記積層数が１０層を超えると、却って塗布による生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
【００４３】
前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向（右回り又は左回り）と円偏光方向とが一致し、波長が液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成分の光だけを反射する選択反射特性を有する。このコレステリック液晶層の選択反射特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から特定波長の円偏光のみを透過分離し、その残りを反射する。
したがって、前記各コレステリック液晶層は、第一の光を反射し、該第一の光と異なる第二の光を透過することが好ましく、前記第一の光の波長が３５０ｎｍ以上６００ｎｍ未満であり、かつ前記第二の光の波長が６００〜９００ｎｍであることが好ましい。
【００４４】
前記コレステリック液晶層の選択反射特性は、特定の波長帯域のみに限定され、可視光域をカバーすることは困難である。即ち、前記コレステリック液晶層の選択反射波長領域幅Δλは、下記数式１で表される。
＜数式１＞
Δλ＝２λ（ｎｅ−ｎｏ）／（ｎｅ＋ｎｏ）
ただし、前記数式１中、ｎｏは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。ｎｅは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
【００４５】
前記数式１で示すように、前記選択反射波長帯域幅Δλは、ネマチック液晶そのものの分子構造に依存する。前記数式１から、（ｎｅ−ｎｏ）を大きくすれば、前記選択反射波長帯域幅Δλを拡げられるが、（ｎｅ−ｎｏ）は通常０．３以下であり、０．３より大きくなると、液晶としてのその他の機能、例えば、配向特性、液晶温度等が不十分となり、実用化が困難となる。したがって、現実にはコレステリック液晶層の選択反射波長帯域幅Δλは、最大でも１５０ｎｍ程度であり、通常３０〜１００ｎｍ程度が好ましい。
【００４６】
また、前記コレステリック液晶層の選択反射中心波長λは、下記数式２で表される。
＜数式２＞
λ＝（ｎｅ＋ｎｏ）Ｐ／２
ただし、前記数式２中、ｎｅ及びｎｏは上記数式１と同じ意味を表す。Ｐは、コレステリック液晶層の一回転ねじれに要する螺旋ピッチ長を表す。
【００４７】
前記数式２で示すように、前記選択反射中心波長λは、コレステリック液晶層の螺旋ピッチが一定であれば、コレステリック液晶層の平均屈折率と螺旋ピッチ長Ｐに依存する。それ故、コレステリック液晶層の選択反射特性を拡げるには、前記各コレステリック液晶層の選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向（右回り又は左回り）が互いに同じであることが好ましい。また、各コレステリック液晶層の選択反射波長帯域は連続的であることが好ましい。ここで、前記「連続的」とは、２つの選択反射波長帯域間にギャップがなく、実質的にこの範囲の反射率が４０％以上であることを意味する。
したがって、各コレステリック液晶層の選択反射中心波長λ間の距離は、各選択反射波長帯域が少なくとも１つの他の選択反射波長帯域と連続となる範囲内であることが好ましい。
【００４８】
前記フィルタ層は、垂直入射を０°とし±２０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが好ましく、垂直入射を０°とし±４０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが特に好ましい。
前記λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）の範囲における光反射率が４０％以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。
【００４９】
具体的には、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を３層積層すると、図１０に示すような反射特性を有するフィルタ層が得られる。この図１０は正面（０°）からの垂直入射光に対する反射特性が４０％以上であることを示している。これに対し、斜め方向からの入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、液晶層内で４０°傾斜した時は図１０に示すような反射特性を示す。
同様に、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を２層積層すると、図１２に示すような反射特性を有するフィルタ層が得られる。この図１２は正面（０°）からの垂直入射光に対する反射特性が４０％以上であることを示している。これに対し、斜め方向からの入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、液晶層内で２０°傾斜した時は図１１に示すような反射特性を示す。
【００５０】
なお、図１０に示したλ０〜１．３λ０の反射域は、λ０＝５３２ｎｍのとき１．３λ０＝６９２ｎｍとなり、サーボ光が６５５ｎｍの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ０〜１．３λ０の範囲は光記録媒体用フィルタにおける±４０°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±２０°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタにおける各コレステリック液晶層の平均屈折率を十分大きくすれば、光記録媒体用フィルタ内での入射角を±２０°以内で全て設計することも容易であり、その場合は図１２に示すλ０〜１．１λ０のコレステリック液晶層を２層積層することでよいので、サーボ光透過には全く支障がなくなる。
したがって、図１０〜図１３の結果から、本発明の光記録媒体用フィルタ内においては、入射波長が０°〜２０°（好ましくは０°〜４０°）傾斜しても４０％以上の反射率が確保できているので、信号読み取りには何ら支障のないフィルタ層が得られる。
【００５１】
前記各コレステリック液晶層は、上記特性を満たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上述したように、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００５２】
−−ネマチック液晶化合物−−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜０．４０の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いる等により配向させ、そのまま冷却等して固定化させることにより固相として使用することができる。
【００５３】
前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記の化合物などを挙げることができる。
【００５４】
【化１】
2007102185.tif 000003
【００５５】
【化２】
2007102185.tif 000004
【００５６】
【化３】
2007102185.tif 000005
【００５７】
前記式中において、ｎは１〜１，０００の整数を表す。なお、前記各例示化合物においては、その側鎖連結基を、以下の構造に変えたものも同様に好適なものとして挙げることができる。
【００５８】
【化４】
2007102185.tif 000006
【００５９】
上記の各例示化合物のうち、ネマチック液晶化合物としては、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）重合性液晶が好適である。該ＵＶ重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３、などが挙げられる。
【００６０】
前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し３０〜９９質量％が好ましく、５０〜９９質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。
【００６１】
−−カイラル化合物−−
前記カイラル化合物としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマニード化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、等の他、以下に示す化合物などを挙げることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６２】
【化５】
2007102185.tif 000007
【００６３】
【化６】
2007102185.tif 000008
【００６４】
また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｓ１０１、Ｒ８１１、ＣＢ１５；ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６、などが挙げられる。
【００６５】
前記カイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。前記含有量が３０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００６６】
−−重合性モノマー−−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化（パターンニング）させた後（例えば、選択反射波長の分布を形成した後）、その螺旋構造（選択反射性）を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマー等が挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーが挙げられる。
前記エチレン性不飽和結合を持つモノマーの具体例としては、以下に示す化合物を挙げることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６７】
【化７】
2007102185.tif 000009
【００６８】
前記重合性モノマーの添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し５０質量％以下が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。前記添加量が５０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
【００６９】
−−その他の成分−−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤、などが挙げられる。
【００７０】
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名ルシリンＴＰＯ、などが挙げられる。
【００７１】
前記光重合開始剤の添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量が０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。
【００７２】
前記増感剤は、必要に応じてコレステリック液晶層の硬化度を上げるために添加される。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、などが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．００１〜１．０質量％が好ましい。
【００７３】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール；ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物；メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂；側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体；ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体；アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー；その他の水酸基を有するポリマー、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基、などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸のホモポリマー）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーの多元共重合体、などが挙げられる。
【００７４】
前記バインダー樹脂の添加量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形質量に対し８０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。前記添加量が８０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００７５】
前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体、などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し１０質量％以下が好ましく、１００ｐｐｍ〜１質量％がより好ましい。
【００７６】
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７７】
＜光記録媒体用フィルタ＞
前記光記録媒体用フィルタは、基材上に前記フィルタ層及び必要に応じて適宜選択したその他の層を積層した積層体である。
【００７８】
−基材−
前記基材としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光記録媒体用フィルタの大きさ等に応じて適宜選択することができる。
【００７９】
前記基材の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８０】
前記基材は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０〜５００μｍが好ましく、５０〜３００μｍがより好ましい。前記基材の厚みが、１０μｍ未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、５００μｍを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまうことがある。
【００８１】
前記光記録媒体用フィルタの形成方法としては、後述する本発明の光記録媒体の製造方法により好適に製造することができ、例えば、前記溶媒を用いて調製した各コレステリック液晶層用塗布液を前記基材上に所望の塗布方法により塗布することによって、各コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上に各コレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
【００８２】
前記各コレステリック液晶層の厚みは、例えば、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。前記厚みが１μｍ未満であると、選択反射率が十分でなくなることがあり、１０μｍを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、前記光記録媒体用フィルタの厚み（基材を除く各コレステリック液晶層の合計厚み）は、例えば、１〜３０μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。
【００８３】
前記各コレステリック液晶層は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記基材上に各コレステリック液晶層用塗布液を塗布し、配向し、固化され、基材ごとディスク形状に打ち抜かれて、第二の基板上に配置されるのが好ましい。なお、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。
【００８４】
本発明の光記録媒体用フィルタは、各種分野において使用することができ、ホログラム型の光記録媒体の形成乃至製造に好適に使用することができ、以下の本発明のホログラム型の光記録媒体及びその製造方法並びに光記録方法及び光再生方法に特に好適に使用することができる。
【００８５】
＜記録層＞
前記記録層は、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。
【００８６】
前記記録層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、（２）フォトリフラクティブ効果（光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する）を示すフォトリフラクティブ材料、（３）光照射で分子の異性化が起こり屈折率が変調するフォトクロミック材料、（４）ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、（５）カルコゲン材料、などが挙げられる。
【００８７】
前記（１）のフォトポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー等のその他の成分を含有してなる。
【００８８】
前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」（工業調査会、１９８９年）、「フォトポリマーテクノロジー」（日刊工業新聞社、１９８９年）、ＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３０１０  ｐ３５４−３７２（１９９７）、及びＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３２９１  ｐ８９−１０３（１９９８）に記載されているものを用いることができる。また、米国特許第５,７５９,７２１号明細書、同第４,９４２,１１２号明細書、同第４,９５９,２８４号明細書、同第６,２２１,５３６号明細書、国際公開第９７／４４７１４号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、同第９９／２６１１２号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、特許第２８８０３４２号公報、同第２８７３１２６号公報、同第２８４９０２１号公報、同第３０５７０８２号公報、同第３１６１２３０号公報、特開２００１−３１６４１６号公報、特開２０００−２７５８５９号公報などに記載されているフォトポリマーを用いることができる。
【００８９】
前記フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分子成分の拡散を利用した方法などが挙げられる。また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、或いは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、前記低分子成分を含むフォトポリマーを用いて記録層を形成する場合には、記録層中に液体を保持可能な構造を必要とすることがある。また、前記酸開裂構造を有する化合物を添加する場合には、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補償させることにより体積変化を抑制してもよい。
【００９０】
前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であってもよい。また、光架橋反応を利用したものであってもよい。
【００９１】
前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、１,６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、１,９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾイル−９−イルエチルアクリレート、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−１−ナフトエート、Ｎ−ビニルカルバゾールなどが挙げられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、１,６−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式（Ａ）〜（Ｅ）で表される化合物などが挙げられる。
これらモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【化８】
2007102185.tif 000010
【００９２】
前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、２,２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４,４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、下記構造式で表されるチタノセン化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。
【化９】
2007102185.tif 000011
【００９３】
前記フォトポリマーは、前記モノマー、前記光開始剤、更に必要に応じてその他の成分を攪拌混合し、反応させることによって得られる。得られたフォトポリマーが十分低い粘度ならばキャスティングすることによって記録層を形成することができる。一方、キャスティングできない高粘度フォトポリマーである場合には、ディスペンサーを用いて第二の基板にフォトポリマーを盛りつけ、このフォトポリマー上に第一の基板で蓋をするように押し付けて、全面に広げて記録層を形成することができる。
【００９４】
前記（２）のフォトリフラクティブ材料としては、フォトリフラクティブ効果を示すものであるならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生材、及び電荷輸送材を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００９５】
前記電荷発生材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、又はそれらの誘導体等のフタロシアニン色素／顔料；ナフタロシアニン色素／顔料；モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾ等のアゾ系色素／顔料；ペリレン系染料／顔料；インジゴ系染料／顔料；キナクリドン系染料／顔料；アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料／顔料；シアニン系染料／顔料；ＴＴＦ−ＴＣＮＱで代表されるような電子受容性物質と電子供与性物質とからなる電荷移動錯体；アズレニウム塩；Ｃ６０及びＣ７０で代表されるフラーレン並びにその誘導体であるメタノフラーレン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９６】
前記電荷輸送材は、ホール又はエレクトロンを輸送する材料であり、低分子化合物であってもよく、又は高分子化合物であってもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体；ヒドラゾン化合物；トリフェニルアミン類；トリフェニルメタン類；ブタジエン類；スチルベン類；アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体；Ｃ６０及びＣ７０等のフラーレン並びにその誘導体；ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー；ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー；アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９７】
前記フォトリフラクティブ材料を用いて記録層を形成方法としては、例えば、前記フォトリフラクティブ材料を溶媒中に溶解乃至は分散させてなる塗布液を用いて塗膜を形成し、この塗膜から溶媒を除去することにより記録層を形成することができる。また、加熱して流動化させた前記フォトリフラクティブ材料を用いて塗膜を形成し、この塗膜を急冷することにより記録層を形成することもできる。
【００９８】
前記（３）のフォトクロミック材料は、フォトクロミック反応を起こす材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、フルキド化合物、アントラセン化合物、ヒドラゾン化合物、桂皮酸化合物、などが挙げられる。これらの中でも、光照射によりシス−トランス異性化により構造変化を起こすアゾベンゼン誘導体、スチルベン誘導体、光照射により開環−閉環の構造変化を起こすスピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体が特に好ましい。
【００９９】
前記（５）のカルコゲン材料としては、例えば、カルコゲン元素を含むカルコゲナイドガラスと、このカルコゲナイドガラス中に分散されており光の照射によりカルコゲナイドガラス中に拡散可能な金属からなる金属粒子とを含む材料、などが挙げられる。
前記カルコゲナイドガラスは、Ｓ、Ｔｅ又はＳｅのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ｇｅ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ−Ｃｅ系ガラス等が挙げられ、これらの中ではＧｅ−Ｓ系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてＧｅ−Ｓ系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するＧｅ及びＳの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主としてＧｅＳ２で表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ａｇ等が挙げられる。これらの中では、Ａｇ、Ａｕ又はＣｕが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Ａｇは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記記録層の全体積基準で０．１〜２体積％が好ましく、０．１〜１．０体積％がより好ましい。前記金属粒子の含有量が０．１体積％未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、２体積％を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
【０１００】
前記記録層は、材料に応じて公知の方法に従って形成することができるが、例えば、蒸着法、湿式成膜法、ＭＢＥ（分子線エピタキシー）法、クラスターイオンビーム法、分子積層法、ＬＢ法、印刷法、転写法、などにより好適に形成することができる。これらの中でも、蒸着法、湿式成膜法が好ましい。
【０１０１】
前記蒸着法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができるが、例えば、真空蒸着法、抵抗加熱蒸着、化学蒸着法、物理蒸着法、などが挙げられる。該化学蒸着法としては、例えば、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、などが挙げられる。
【０１０２】
前記湿式成膜法による前記記録層の形成は、例えば、前記記録層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより、好適に行うことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。
【０１０３】
前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１，０００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
【０１０４】
＜第一の基板及び第二の基板＞
前記第一の基板及び第二の基板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、同じ基板でもよく、異なる基板でもよいが、少なくとも形状及び大きさは同じものであることが好ましい。また、前記基板の形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料のものを選定する必要がある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記第一の基板及び第二の基板の材料としては、いずれも通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記第一の基板及び第二の基板は、いずれも適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
【０１０５】
前記第二の基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット（サーボピット）等によって記録されている（プリフォーマット）。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、ウォブルピットを用いることができる。なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。
【０１０６】
前記第一の基板及び第二の基板の厚みとしては、いずれも特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターに過剰な負荷をかけることがある。
【０１０７】
−反射膜−
前記反射膜は、前記第二の基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル  ビデオ  ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
【０１０８】
前記反射膜の形成は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みは、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
【０１０９】
＜その他の層＞
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ギャップ層が挙げられる。前記ギャップ層としては、例えば、第一ギャップ層、第二ギャップ層が挙げられる。
【０１１０】
−第一ギャップ層−
前記第一ギャップ層は、必要に応じて、光吸収層と第二の基板との間に設けられ、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第一ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。
前記第一ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１００μｍが好ましい。
【０１１１】
−第二ギャップ層−
前記第二ギャップ層は、必要に応じて記録層とフィルタ層との間に設けられる。該第二ギャップ層は、情報光及び参照光がフォーカシングするポイントの部分をフォトポリマーで埋めていると、過剰露光がされた場合に、モノマーの過剰消費が起こり、多重記録能力が低下することがあり、この弊害を防止する機能がある。
前記第二ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル＝ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のような透明樹脂フィルム、又は、ＪＳＲ社製商品名ＡＲＴＯＮフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、ＴＡＣ、ＰＣ、商品名ＡＲＴＯＮ、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
前記第二ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【０１１２】
ここで、本発明の光記録媒体について、図面を参照して更に詳しく説明する。
＜第一の実施形態＞
図７は、本発明の第一の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この第一の実施形態に係る光記録媒体２１では、ポリカーボネート樹脂又はガラス材からなる第二の基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。なお、図７では第二の基板１全面にサーボピットパターン３が形成されているが、図１に示すように周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットの高さは最大１，７５０Å（１７５ｎｍ）であり、第二の基板を始め他の層の厚みに比べて充分に小さいものである。
【０１１３】
光吸収層９は、スクリーン印刷インキ等の材料を第二の基板１の反射膜２上にスクリーン印刷やスピンコート等により塗布して形成される。
光吸収層９上にはフィルタ層６が設けられ、該フィルタ層６の上に記録層４が設けられ、第一の基板５及び第二の基板１（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）とによって、光吸収層９、フィルタ層６及び記録層４を挟むことによって光記録媒体２１が構成される。
【０１１４】
図７において、フィルタ層６は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。したがって、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層６を透過せず、反射膜２まで達することなく、戻り光となり、入出射面Ａから出射することになる。
このフィルタ層６は、コレステリック液晶層６ａ、６ｂ及び６ｃが３層積層された積層体である。このコレステリック液晶層の積層体であるフィルタ層６は、光吸収層９上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上に４層積層したコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。コレステリック液晶層を３層積層することによって、λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
光吸収層９は、コレステリック液晶層６ａ、６ｂ及び６ｃのように３層形成された本形態では、第二の基板１とコレステリック液晶層６ｃとの間に形成され、前記コレステリック液晶層６ｃから漏れる情報光及び参照光を吸収するので、再生像に歪みは生ずることはない。
【０１１５】
本第一の実施形態における光記録媒体２１は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２１では、第二の基板１は０．６ｍｍ、光吸収層９は１００μｍ、フィルタ層６は２〜３μｍ、記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．６ｍｍの厚みであって、合計厚みは約１．９３ｍｍとなっている。
また、本第一の実施形態には、図６及び図８に示すように、フィルタ層６と記録層４との間に第二ギャップ層７を形成した光記録媒体２２も含まれる。前記第二ギャップ層７は、情報光及び参照光のフォーカシングエリアをフォトポリマーで埋まっていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり多重記録能が下がってしまうのを防止するために設けた層である。
【０１１６】
次に、図１４を参照して、光記録媒体２１周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザーから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２１に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２１の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一の基板５、記録層４、フィルタ層６、及び光吸収層９を通過し、反射膜２で反射され、再度、光吸収層９、フィルタ層６、記録層４、及び第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、回折光に対してノイズとなることもない。
なお、図１０に示したλ０〜１．３λ０の反射域は、λ０＝５３２ｎｍのとき１．３λ０＝６９２ｎｍとなり、サーボ光が６５５ｎｍの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ０〜１．３λ０の範囲はフィルタ層における±４０°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±２０°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタ層における各コレステリック液晶層の平均屈折率を十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を±２０°以内で全て設計することも容易であり、その場合には図１２に示すλ０〜１．１λ０のコレステリック液晶層を２層積層することでよいので、サーボ光透過には全く支障がなくなる。
【０１１７】
また、記録用／再生用レーザーから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１２によって情報光と記録用参照光が記録層４内で干渉パターンを生成するように光記録媒体２１に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層４、フィルタ層６に入射するが、該フィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜２までは到達しない。フィルタ層６はコレステリック液晶層が３層積層され、赤色光のみを透過する性質を有するからである。フィルタ層６を漏れて通過する光があっても、光吸収層９により吸収されるので回折光へ混じることはなく、高品質の回折光が得られる。本第一の実施の形態において、図８に示すように、記録層４とフィルタ層６との間に第二ギャップ層７を設けることも有効である。前記第二ギャップ層を設けることにより、情報光及び参照光がフォーカシングするポイントの部分をフォトポリマーで埋めている場合の過剰露光がされた際のモノマーの過剰消費による多重記録能力が低下するという弊害を防止することができる。
【０１１８】
＜第二の実施形態＞
図９は、本発明の第二の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この第二の実施形態に係る光記録媒体２３では、ポリカーボネート樹脂又はガラス材料から第二の基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３表面にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。また、このサーボピットパターン３の高さは、通常１，７５０Å（１７５ｎｍ）である点については、第一の実施形態と同様である。
【０１１９】
第二の実施形態と第一の実施形態の構造の差異は、第二の実施形態に係る光記録媒体２３では、第二の基板１とフィルタ層６との間に、第一ギャップ層８が設けられ、該第一ギャップ層８とフィルタ層６の間に光吸収層９が形成されていることである。即ち、第二の実施の形態では、第一ギャップ層８の一部が光吸収層９となっている点が、第一の実施の形態とは異なる。
【０１２０】
コレステリック液晶層の３層積層体であるフィルタ層６は、第一ギャップ層８を形成した後、該第一ギャップ層８上に光吸収層９を形成し該光吸収層９上に形成され、前記第一実施形態と同様のものを用いて形成することができる。
【０１２１】
第二ギャップ層７は、前述のように、記情報光及び参照光がフォーカシングするポイントが存在する。このエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第二ギャップ層を設けることが有効となる。
【０１２２】
また、光記録媒体２３では、第二の基板１は１．０ｍｍ、第一ギャップ層８は９０μｍ、光吸収層９は、１０μｍ、フィルタ層６は３〜５μｍ、第二ギャップ層７は１００μｍ、記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．４ｍｍの厚みであって、合計厚みは約２．２２ｍｍとなっている。
【０１２３】
情報の記録又は再生を行う場合、このような構造を有する光記録媒体２３に対して、赤色のサーボ用光及び緑色の情報光並びに記録及び再生用参照光が照射される。サーボ用光は、入出射面Ａから入射し、記録層４、第二ギャップ層７、フィルタ層６、光吸収層９及び第一ギャップ層８を通過して反射膜２で反射して戻り光となる。この戻り光は、再度、第一ギャップ層８、光吸収層９、フィルタ層６、第二ギャップ層７、記録層４及び第一の基板５をこの順序で通過して、入出射面Ａより出射する。出射した戻り光は、フォーカスサーボやトラッキングサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。緑色の情報光等は、入出射面Ａから入射し、記録層４、第二ギャップ層７を通過して、フィルタ層６で反射して戻り光となる。この戻り光は、再度、第二ギャップ層７、記録層４及び第一の基板５をこの順序で通過して、入出射面Ａより出射する。また、再生時についても再生用参照光はもちろん、再生用参照光を記録層４に照射することによって発生する回折光も反射膜２に到達せずに入出射面Ａから出射する。なお、光記録媒体２３周辺（図１４における対物レンズ１２、フィルタ層６、検出器たるＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４）での光学的動作は、第一の実施形態（図７）と同様なので説明を省略する。
【０１２４】
（光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体の製造方法は、本発明の前記光記録媒体を製造する方法であって、光吸収層積層工程及びフィルタ層形成工程を少なくとも含んでなり、反射膜形成工程、記録層形成工程、第一ギャップ層形成工程、第二ギャップ層形成工程、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【０１２５】
−光吸収層積層工程−
前記光吸収層積層工程は、第二の基板上に、光吸収層材料を塗設することにより光吸収層を積層する工程である。また、前記第二の基板上に反射膜が形成されている場合には、該反射膜上に光吸収層を積層する。前記第二の基板上に第一ギャップ層が積層されている場合には、該第一ギャップ層上に光吸収層を積層する。
前記塗設方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層、コレステリック液晶層などの塗布に用いられる塗布方法などが挙げられる。前記塗布方法に用いられる塗布液としては、例えば、スクリーン印刷インキ（大日本インキ株式会社製マゼンタ）などが挙げられる。
前記光吸収層材料としては、前記光記録媒体の説明において述べたものを使用することができる。
【０１２６】
−フィルタ層形成工程−
前記フィルタ層形成工程は、前記光吸収層上に、前記ダイクロイックミラー層、色材含有層、誘電体蒸着層、コレステリック層などの少なくともいずれかを積層した積層体からなるフィルタ層を形成する工程である。
【０１２７】
前記フィルタ層形成工程としては、本発明の前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記光吸収層に貼り合わせてフィルタ層を形成することが、生産性の点から好ましい。
前記光記録媒体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ディスク形状、カード形状、などが挙げられる。
前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、レーザーカッターによる焼き切り加工、などが挙げられる。
前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
【０１２８】
前記各コレステリック液晶層を積層する方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（１）別個に作製された各コレステリック液晶層を、接着剤又は粘着剤を介して積層する方法、（２）別個に作製した前記コレステリック液晶層を熱圧着して積層する方法、（３）別個に作製された各コレステリック液晶層を界面の相溶により積層する方法、（４）塗布成膜されたコレステリック液晶層の上へ、さらにコレステリック液晶層を塗布成膜することにより積層する方法、（５）透明基材上に成膜されたコレステリック液晶層の上に、ポバール（ポリビニルアルコール：ＰＶＡ）膜を塗設し、ラビング処理をした後、コレステリック液晶層を塗布して配向熟成処理する方法、などが挙げられる。これらの中でも、生産性及び経済性の点から、前記（５）の塗布方法が特に好ましい。
【０１２９】
前記（１）の積層方法では、前記接着剤及び粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ硬化型接着剤、アクリル系粘着剤、などが好適である。前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。
【０１３０】
前記（２）の積層方法では、前記熱圧着の方法としては、例えば、ヒートシール法、超音波法、インパルスシール法、高周波接合法、などが挙げられる。
【０１３１】
前記（３）の積層方法では、前記相溶の方法としては、例えば、前記コレステリック液晶層をわずかに溶解乃至膨潤させる溶媒を塗布し、界面の相溶により一体化させる方法等が挙げられる。
前記コレステリック液晶層をわずかに溶解乃至膨潤させる溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族類；メタノール、エタノール等のアルコール類；シクロヘキサン、シクロペンタン等の環状炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）等のケトン類；イソプロピルエーテル等のエーテル類；酢酸エチル等のエステル類；クロロホルム、ジクロロメタン等の塩素系溶媒、等が挙げられ、これらの中でも、トルエン、シクロヘキサン、シクロペンタン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、イソプロピルアルコールが特に好ましい。
【０１３２】
前記（４）の積層方法では、前記塗布方法が用いられ、該塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ダイコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法、などが挙げられる。
前記塗布方法によるコレステリック液晶層の形成は、例えば、前記コレステリック液晶層材料を溶剤に溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより、好適に行うことができる。
更に必要に応じて塗布膜を紫外線硬化させる場合の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、１６０〜３８０ｎｍが好ましく、２５０〜３８０ｎｍがより好ましい。露光時間としては、例えば、露光照度が１０ｍＷ／ｃｍ２であれば、例えば、１０〜６００秒間が好ましく、１０〜３００秒間がより好ましい。また、露光照度を１ｍＷ／ｃｍ２に減らす場合、通常、前記反応開始剤の量が増やしているので、露光時間としてはあまり変化せず、例えば、１０〜６００秒間が好ましく、１０〜３００秒間がより好ましい。
【０１３３】
前記（５）の積層方法では、前記透明基材の材料としては、無機材料及び有機材料のいずれでも用いることができる。前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコンなどが挙げられる。前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１３４】
（追加）
前記反射膜形成工程は、前記第二の基板上に、反射膜を形成する工程であり、材料、形成方法などの詳細は、前記光記録媒体の説明において述べたとおりである。
前記記録層形成工程は、前記フィルタ層上に、記録層を形成する工程であり、材料、形成方法などの詳細は、前記光記録媒体の説明において述べたとおりである。
前記第一ギャップ層形成工程は、前記第二の基板上に、第一ギャップ層を形成する工程であり、第二の基板上に、反射膜が形成されている場合は、該反射膜上に形成される。第一ギャップ層の材料、形成方法などの詳細は、前記光記録媒体の説明において述べたとおりである。
前記第二ギャップ層形成工程は、前記フィルタ層上に、第二ギャップ層を形成する工程であり、第二ギャップ層の材料、形成方法などの詳細は、前記光記録媒体の説明において述べたとおりである。
【０１３５】
（光記録方法及び光再生方法）
本発明の光記録方法は、本発明の前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録する。
本発明の光再生方法は、本発明の前記光記録方法により記録層に記録された干渉パターンに再生光を照射して情報を再生する。
【０１３６】
本発明の光記録方法及び光再生方法では、上述したように、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光（再生光）のみを記録層に照射することで、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する回折光として記録層から出射され、該回折光から情報を再生する。
ここで、本発明の光記録方法及び光再生方法は、以下に説明する本発明の光記録再生装置を用いて行われる。
【０１３７】
本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置について図１５を参照して説明する。
図１５は、本発明の一実施形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と光再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置１００は、光記録媒体２１が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体２１の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体２１に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体２１に対して再生用参照光（再生光）を照射し、回折光を検出して、光記録媒体２１に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体２１の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
【０１３８】
光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体２１の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体２１の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体２１の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。
【０１３９】
光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体２１のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して種々の指示を与える操作部９１とを備えている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード  オンリ  メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム  アクセス  メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。
【０１４０】
本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置は、本発明の前記光記録媒体を用いているので、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、フィルタ層から漏れた光を光吸収層が吸収することにより、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することができ、今までにない高密度記録を実現することができる。
【実施例】
【０１４１】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１４２】
（実施例１）
−光記録媒体用フィルタの作製−
基材として、ポリカーボネートフィルム（帝人化成（株）製）厚み８０μｍを用い、前記基材に、真空蒸着により、高屈折率の誘電体薄層と低屈折率の誘電体薄層とを交互に複数層積層し、誘電体蒸着層からなる光記録媒体用フィルタを作製した。
前記高屈折率の誘電体層の材料として、ＴｉＯ２を用い、前記低屈折率の誘電体薄層の材料として、ＳｉＯ２を用いて、ＤＣ酸素リアクティブスパッタリングにより、交互に９層（ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２）積層した。各層の厚みは、５３２ｎｍ／４ｎであり、ｎはＴｉＯ２では２．５、ＳｉＯ２では１．５とした。
【０１４３】
−光反射特性の評価−
得られた各光記録媒体用フィルタについて、光反射特性を分光反射測定器（光源として浜松ホトニクス株式会社製、Ｌ−５６６２、フォトマルチチャンネルアナライザーとして浜松ホトニクス株式会社製、ＰＭＡ−１１）を用いて測定した。
その結果、光記録媒体用フィルタは、入射角度±２０°以内の光に対して選択波長である５３２ｎｍ光を４０％以上反射できることが認められた。
【０１４４】
−光記録媒体の作製−
第二の基板としては、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは０．７４μｍであり、溝深さは１７５ｎｍ、溝幅は３００ｎｍである。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜した。反射膜材料にはアルミニウム（Ａｌ）を用いた。成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により膜厚２００ｎｍのＡｌ反射膜を成膜した。
【０１４５】
次に、前記反射膜上に、第一ギャップ層として、厚み９０μｍのポリカーボネートフィルムを紫外線硬化樹脂にて接着した。該第一ギャップ層上に、光吸収層材料として、マゼンタクリアからなるＵＶ印刷インキ（大日本インキ株式会社製、ＤＡＩＣＵＲＥ  ＳＳＤ  ＴＦ１０６  ＰＩＮＫ）を、スクリーン印刷機を用いて、厚み１０μｍの光吸収層を塗布することにより積層した。
なお、記録用の情報光及び参照光、並びに、再生用の再生光（第一の光）として、波長５３２ｎｍのものを用い、サーボ用光（第二の光）として、６５０ｎｍのものを用いるが、前記光吸収層における前記第一の光及び第二の光の光透過率を表１に示す。
なお、前記光透過率は、株式会社島津製作所製のＵＶ１３０により測定した。
【０１４６】
次に、作製した光記録媒体用フィルタを前記基板に設置できるように所定のディスクサイズに打ち抜き、前記基材面に光吸収層側にして貼り付けた。貼り合わせには紫外線硬化性樹脂や粘着剤を用いて気泡が入らないようにして行った。以上によりフィルタ層を形成した。
【０１４７】
−−フォトポリマー塗布液の調製−−
次に、記録層材料としては、下記組成のフォトポリマー塗布液を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ジ（ウレタンアクリレート）オリゴマー（Ｅｃｈｏ  Ｒｅｓｉｎｓ社製、
ＡＬＵ−３５１）・・・５９質量部
・イソボルニルアクリレート・・・３０質量部
・ビニルベンゾエート・・・１０質量部
・重合開始剤（チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア７８４）・・・１質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０１４８】
得られたフォトポリマー塗布液を前記フィルタ層上にディスペンサーを用いて盛りつけ、このフォトポリマー上に、直径１２ｃｍ、厚み０．６ｍｍのポリカーボネート樹脂製の第一の基板を押し付けながらディスク端部と該第一の基板を接着剤で貼り合せた。なお、ディスク端部には、該フォトポリマー層が厚み５００μｍとなるようにフランジ部が設けてあり、ここに、前記第一の基板を接着することによってフォトポリマー層の厚みは決定され、余分なフォトポリマーはあふれ出て、除去される。以上により、光記録媒体を作製した。なお、図７は、本実施例に類似の形態を示す概略断面図である。
【０１４９】
＜性能評価＞
次に、得られた光記録媒体について、図１５に示すような光記録再生装置に搭載して、実際に情報の記録及び再生を行い、再生像のエラー数（個／フレーム）、で評価した。結果を表１に示す。
【０１５０】
（実施例２）
実施例１において、光吸収層の厚みを５μｍとし、第一ギャップ層の厚みを９５μｍとしたこと以外は、は実施例１と同様に実施例２の光記録媒体を作製し、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。
【０１５１】
（実施例３）
実施例１において、光吸収層の厚みを２０μｍとし、第一ギャップ層の厚みを８０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様に実施例２の光記録媒体を作製し、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。
【０１５２】
（実施例４）
実施例１において、光吸収層の厚みを３μｍとし、第一ギャップ層の厚みを１０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例４の光記録媒体を作製し、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。
【０１５３】
（比較例１）
実施例１において、光吸収層を形成せず、厚み１００μｍの第一ギャップ層のみを形成したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１の光記録媒体を作製し、実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。
【０１５４】
【表１】
2007102185.tif 000012
表１の結果から、実施例１〜実施例４の光記録媒体は、光吸収層を積層することで、誘電体蒸着層からなるフィルタ層で反射しきれなかった情報光及び参照光を効果的に吸収することができ、比較例１に対して、エラーが極めて少なく、ノイズの発生がなく、歪みのない高画質な再生像が得られることが判った。
【０１５５】
本発明の光記録媒体は、波長選択反射膜からなるフィルタ層から情報光及び参照光の光漏れが生じても、ノイズの発生を防止でき、高密度記録可能なホログラム型の各種光記録媒体として幅広く用いられる。
本発明の光記録媒体の製造方法は、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能なホログラム型の各種光記録媒体の製造方法として好適に用いられる。
本発明の光記録方法は、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能で、ホログラム型の各種光記録媒体の記録方法として好適に用いられる。
本発明の光再生方法は、ノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像の再生が可能で、ホログラム型の各種光記録媒体の再生方法として好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０１５６】
【図１】図１は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。
【図２】図２は、従来のフィルタ層を有する光記録媒体の構造を示す概略断面図である。
【図３】図３は、光記録媒体の情報光及びサーボ用光の照射を説明する概念図である。
【図４】図４は、従来の光記録媒体の光反射を説明する概念図である。
【図５】図５は、本発明による光記録媒体の光吸収層の機能を説明する概念図である。
【図６】図６は、本発明による光記録媒体の一部を切り取った斜視図である。
【図７】図７は、本発明による第一の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図８】図８は、本発明による第一の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図９】図９は、本発明による第二の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図１０】図１０は、コレステリック液晶層を３層積層したフィルタの正面（０°）からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図１１】図１１は、コレステリック液晶層を３層積層したフィルタ層内の４０°傾斜方向からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図１２】図１２は、コレステリック液晶層を２層積層したフィルタの正面（０°）からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図１３】図１３は、コレステリック液晶層を２層積層したフィルタ層内の２０°傾斜方向からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図１４】図１４は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
【図１５】図１５は、本発明の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。
【符号の説明】
【０１５７】
１      第二の基板
２      反射膜
３      サーボピットパターン
４      記録層
５      第一の基板
６      フィルタ層
６ａ、６ｂ、６ｃ      コレステリック液晶層
６ｄ    ４分の１波長板層
７      第二ギャップ層
８      第一ギャップ層
９      光吸収層
１０      １／４波長板
１２      対物レンズ
１３      ダイクロイックミラー
１４      検出器
１５      １／４波長板
１６      偏光板
１７      ハーフミラー
２０、２０ａ、２１、２２、２３      光記録媒体
３１      ピックアップ
３３      サーボ用光
３５      情報光及び参照光
３５ａ    反射光
８１      スピンドル
８２      スピンドルモータ
８３      スピンドルサーボ回路
８４      駆動装置
８５      検出回路
８６      フォーカスサーボ回路
８７      トラッキングサーボ回路
８８      スライドサーボ回路
８９      信号処理回路
９０      コントローラ
９１      操作部
１００      光記録再生装置
Ａ      入出射面
ＦＥ      フォーカスエラー信号
ＴＥ      トラッキングエラー信号
ＲＦ      再生信号
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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