(57)【要約】【課題】機械的強度に優れると共に、隣接する層間の剥がれを十分に抑制することが可能な電子写真感光体及びその製造方法、並びに当該電子写真感光体を備える画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供すること。【解決手段】本発明の電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に配置されており、熱可塑性樹脂を含有する第１の機能層と、第１の機能層上に隣接配置されており、熱硬化性樹脂を含有する塗布液を第１の機能層上に塗布し、その塗膜を乾燥させて得られる第２の機能層とを備え、第１の機能層及び第２の機能層は、第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度から２０℃まで冷却したときの収縮量が下記式（Ａ）で表される条件を満たすものであることを特徴とする。１０≦Ｄ（１）／Ｄ（２）≦５０    （Ａ）［式中、Ｄ（１）は第１の機能層の厚さ１μｍ当たりの収縮量を示し、Ｄ（２）は第２の機能層の厚さ１μｍ当たりの収縮量を示す。］【選択図】図１
2007171291.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、
前記導電性基体上に配置されており、熱可塑性樹脂を含有する第１の機能層と、
前記第１の機能層上に隣接配置されており、熱硬化性樹脂を含有する塗布液を前記第１の機能層上に塗布し、その塗膜を乾燥させて得られる第２の機能層と
を備え、
前記第１の機能層及び前記第２の機能層は、前記第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度から２０℃まで冷却したときの収縮量が下記式（Ａ）で表される条件を満たすものであることを特徴とする電子写真感光体。
１０≦Ｄ（１）／Ｄ（２）≦５０    （Ａ）
［式中、Ｄ（１）は第１の機能層の厚さ１μｍ当たりの収縮量を示し、Ｄ（２）は第２の機能層の厚さ１μｍ当たりの収縮量を示す。］
【請求項２】
前記第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度と、前記第１の機能層のガラス転移点と、前記第２の機能層のガラス転移点とが下記式（Ｂ）及び（Ｃ）で表される条件を満たすことを特徴とする、請求項１に記載の電子写真感光体。
Ｔｇ（１）＜Ｔ＜Ｔｇ（２）    （Ｂ）
Ｔｇ（１）＜Ｔ＜Ｔｇ（１）＋６０    （Ｃ）
［式中、Ｔは塗膜の乾燥温度（℃）を示し、Ｔｇ（１）は第１の機能層のガラス転移点（℃）を示し、Ｔｇ（２）は第２の機能層のガラス転移点（℃）を示す。］
【請求項３】
前記熱硬化性樹脂がレゾール型フェノール樹脂であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記第２の機能層が下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で示される電荷輸送性化合物を含有することを特徴とする、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の電子写真感光体。
Ｆ［−（Ｘ１）ｎ−Ｒ１−Ｚ１Ｈ］ｍ      （Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ１はアルキレン基を、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、ｎは０又は１を、ｍは１〜４の整数を示す。］
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ２）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ］ｎ５    （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｚ２はアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｇはエポキシ基を示し、ｎ２、ｎ３及びｎ４はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｎ５は１〜４の整数を示す。］
【化１】
2007171291.tif 000067
［式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ６は１価の有機基を示し、ｍ１は０又は１を示し、ｎ６は１〜４の整数を示し、Ｒ５とＲ６は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。］
【化２】
2007171291.tif 000068
［式（ＩＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｒ７は１価の有機基を示し、ｍ２は０又は１を示し、ｎ７は１〜４の整数を示す。］
【化３】
2007171291.tif 000069
［式（Ｖ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｌはアルキレン基を示し、Ｒ８は１価の有機基を示し、ｎ８は１〜４の整数を示す。］
【請求項５】
導電性基体と、該導電性基体上に配置されており、熱可塑性樹脂を含有する第１の機能層と、を備える被処理体を準備する第１の工程と、
前記第１の機能層上に、熱硬化性樹脂を含有する塗布液を塗布し、その塗膜を乾燥させて第２の機能層を設ける第２の工程と、
を備え、
前記第１の機能層及び前記第２の機能層として、前記第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度から２０℃まで冷却したときの収縮量が下記式（Ａ）で表される条件を満たす機能層を設けることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
１０≦Ｄ（１）／Ｄ（１）≦５０    （Ａ）
［式中、Ｄ（１）は第１の機能層の収縮量を示し、Ｄ（２）は第２の機能層となるべき塗膜の収縮量を示す。］
【請求項６】
導電性基体と、該導電性基体上に配置されており、熱可塑性樹脂を含有する第１の機能層と、を備える被処理体を準備する第１の工程と、
前記第１の機能層上に、熱硬化性樹脂を含有する塗布液を塗布し、その塗膜を乾燥させて第２の機能層を設ける第２の工程と、
を備え、
前記第２の工程において、前記第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度と、前記第１の機能層のガラス転移点と、前記第２の機能層のガラス転移点とが下記式（Ｂ）及び（Ｃ）で表される条件を満たすように、前記塗膜を乾燥させることを特徴とする記載の電子写真感光体の製造方法。
Ｔｇ（１）＜Ｔ＜Ｔｇ（２）    （Ｂ）
Ｔｇ（１）＜Ｔ＜Ｔｇ（１）＋６０    （Ｃ）
［式中、Ｔは塗膜の乾燥温度（℃）を示し、Ｔｇ（１）は第１の機能層のガラス転移点（℃）を示し、Ｔｇ（２）は第２の機能層のガラス転移点（℃）を示す。］
【請求項７】
請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、
帯電した前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、
前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写装置と
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項１〜４のうちのいずれか一項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置、露光により形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置、及び前記電子写真感光体上に残存するトナーを除去するクリーニング装置から選ばれる少なくとも１種と
を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真方式の画像形成に用いられる電子写真感光体及びその製造方法、画像形成装置並びにプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
いわゆるゼログラフィー方式の画像形成装置においては、電子写真感光体（以下、場合により「感光体」という）、帯電装置、露光装置、現像装置及び転写装置を用いた電子写真プロセスにより画像形成が行われる。
【０００３】
近年、ゼログラフィー方式の画像形成装置は、各部材、システムの技術進展により、一層の高速化、長寿命化が図られている。これに伴い、各サブシステムの高速対応性、高信頼性に対する要求は従来に増して高くなっている。特に、画像書き込みに使用される感光体やその感光体をクリーニングするクリーニング部材には、高速対応性、高信頼性に対する要求が一層強い。また、感光体及びクリーニング部材は、それら相互の摺動により他の部材に比べてストレスを多く受ける。そのため、感光体には傷や磨耗が生じ、これが画像欠陥の原因となる。
【０００４】
このような傷や磨耗を抑制するため、感光体の表面に架橋構造を有する樹脂を含有させて機械強度の強い層を形成し、長寿命化が図られている。しかしながら、このように表面層が設けられた電子写真感光体は、機械強度の向上によりその表面の傷や磨耗は抑制されるものの、表面層と下層との接着力の不足により層間に剥がれが発生する場合があり、剥がれの跡が画像に出てしまう等の問題点がある。
【０００５】
そこで、このような剥がれを抑制するために様々な検討がなされている。例えば、下記特許文献１には、導電性基体上に少なくとも感光層、樹脂層を有する電子写真感光体において、該樹脂層に電荷輸送性能を有する構造単位を含み且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有せしめると共に、感光層のうち樹脂層と隣接する層のガラス転移点を設定する方法が開示されている。また、下記特許文献２には、接着性を確保すべく、表面層（保護層）と下層の熱膨張率差と、保護層の弾性変形率を所定範囲内とする方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００１−１００４３９号公報
【特許文献２】特開２００３−２４８３３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記特許文献１、２に記載の感光体であっても、実用化に供し得るためには未だ改善の余地がある。
【０００７】
すなわち、特許文献１に記載の感光体の場合、樹脂層がシロキサン系樹脂を含有することに起因して、高温高湿下での画像流れが起こりやすくなる。また、樹脂層と隣接する層のガラス転移点のみを設定するだけでは剥がれを十分に抑制することができない。
【０００８】
また、特許文献２における熱膨張率差は、保護層に隣接する層がガラス転移点（Ｔｇ）に達する前までの熱膨張率について規定したものである。しかしながら、Ｔｇを超えると熱膨張率が急激に大きくなるため、保護層と隣接する層の熱膨張率差と保護層の弾性変形率とが規定範囲内であったとしても、保護層と隣接する層のＴｇが低い場合には接着性の確保が困難となる。
【０００９】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、機械的強度に優れると共に、隣接する層間の剥がれを十分に抑制することが可能な電子写真感光体及びその製造方法、並びに当該電子写真感光体を備える画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に配置されており、熱可塑性樹脂を含有する第１の機能層と、第１の機能層上に隣接配置されており、熱硬化性樹脂を含有する塗布液を第１の機能層上に塗布し、その塗膜を乾燥させて得られる第２の機能層とを備え、第１の機能層及び第２の機能層は、第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度から２０℃まで冷却したときの収縮量が下記式（Ａ）で表される条件を満たすものであることを特徴とする。
１０≦Ｄ（１）／Ｄ（２）≦５０    （Ａ）
［式中、Ｄ（１）は第１の機能層の厚さ１μｍ当たりの収縮量を示し、Ｄ（２）は第２の機能層の厚さ１μｍ当たりの収縮量を示す。］
【００１１】
一般的に、熱硬化性樹脂を含有する機能層は、加熱により三次元的に架橋することで、熱可塑性樹脂を含有する機能層よりも熱による収縮量が小さい。そのため、従来の感光体においては、熱可塑性樹脂を含有する機能層上に熱硬化性樹脂を含有する塗布液を塗布し、乾燥させた後で冷却する際に、隣接する機能層間の熱収縮量の差が大きいために層間にゆがみが生じて接着力が低くなってしまう。その結果、得られた感光体を用いて画像形成を長期間行うと、接着力不足により剥がれが発生してしまうものと考えられる。
【００１２】
これに対して上記本発明の電子写真感光体においては、熱可塑性樹脂を含有する第１の機能層と、熱硬化性樹脂を含有する塗布液を用いて得られる第２の機能層とを、第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度から２０℃まで冷却したときの収縮量が上記式（Ａ）で表される条件を満たすように構成することによって、第２の機能層の機械的強度と、第１の機能層と第２の機能層との接着性との双方を十分に向上させることができるようになる。したがって、本発明の電子写真感光体によれば、耐磨耗性、耐傷性に優れると共に、画像形成に長期間連続して使用した場合であっても剥がれを十分に抑制することが可能となり、良好な画像を安定的に得ることができるようになる。
【００１３】
ここで、本発明における第１の機能層及び第２の機能層の厚さ１μｍ当たりの収縮量は、例えばセイコー電子工業（株）製ＴＭＡ／ＳＳ６１００を用いて以下のようにして測定することができる。先ず、電子写真感光体の第２の機能層にカッターで切れ目を入れ、第２の機能層の単独膜を剥がしてサンプル採取する。次いで、電子写真感光体から第２の機能層を剥がした後、第１の機能層が露出した部分にカッターで切れ目を入れ、第１の機能層の単独膜を剥がしてサンプル採取する。このとき、予め各単独膜について２０℃での膜厚を測定しておく。次に、単独膜それぞれについて、ＴＭＡ／ＳＳ６１００の針入モードで、第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度から２０℃まで冷却したときの収縮量を測定する。その際の針としては、上記装置に準拠した石英ガラス製のものを使用し、昇温速度は５℃/ｍｉｎ、荷重を５００ｍＮで膜表面に圧力が一定に当たるようにする。そして、収縮量の測定値及び２０℃での膜厚の測定値に基づいて１μｍあたりの収縮量を算出する。また、収縮量の測定データの変極点から、後述するガラス転移点を算出することができる。なお、上記の測定温度範囲においては第１の機能層のガラス転移点よりも高い領域が存在するため、第１の機能層が軟化する場合があるが、本測定では針が第１の機能層に侵入したり付着したりすることは無く、測定後に膜をレーザー顕微鏡で観察しても針の跡は観察されなないことが確認されている。また、万が一、針が侵入してしまう場合には、昇温過程においてガラス転移点を超えてから比例的に膨張している領域で近似線を引き、第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度における膜厚を算出して、室温での膜厚との差分を収縮膜厚とすることができる。
【００１４】
本発明の電子写真感光体においては、第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度と、第１の機能層のガラス転移点と、第２の機能層のガラス転移点とが下記式（Ｂ）及び（Ｃ）で表される条件を満たすことが好ましい。これにより、上記式（Ａ）で表される条件をより確実に満たすことができるようになり、また、第１の機能層と第２の機能層との接着性を更に向上させることができる。
Ｔｇ（１）＜Ｔ＜Ｔｇ（２）    （Ｂ）
Ｔｇ（１）＜Ｔ＜Ｔｇ（１）＋６０    （Ｃ）
［式中、Ｔは塗膜の乾燥温度（℃）を示し、Ｔｇ（１）は第１の機能層のガラス転移点（℃）を示し、Ｔｇ（２）は第２の機能層のガラス転移点（℃）を示す。］
【００１５】
また、第２の機能層の形成に用いられる熱硬化性樹脂はレゾール型フェノール樹脂であることが好ましい。
【００１６】
また、第１の機能層は、ポリカーボネート樹脂と所定の溶剤とを含有する塗膜を、該溶剤の沸点よりも高い乾燥温度で乾燥させて得られたものであることが好ましい。
また、第２の機能層は下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で示される電荷輸送性化合物を含有することが好ましい。
Ｆ［−（Ｘ１）ｎ−Ｒ１−Ｚ１Ｈ］ｍ      （Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ１はアルキレン基を、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、ｎは０又は１を、ｍは１〜４の整数を示す。］
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ２）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ］ｎ５    （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｚ２はアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｇはエポキシ基を示し、ｎ２、ｎ３及びｎ４はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｎ５は１〜４の整数を示す。］
【化１】
2007171291.tif 000003
［式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ６は１価の有機基を示し、ｍ１は０又は１を示し、ｎ６は１〜４の整数を示し、Ｒ５とＲ６は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。］
【化２】
2007171291.tif 000004
［式（ＩＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｒ７は１価の有機基を示し、ｍ２は０又は１を示し、ｎ７は１〜４の整数を示す。］
【化３】
2007171291.tif 000005
［式（Ｖ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｌはアルキレン基を示し、Ｒ８は１価の有機基を示し、ｎ８は１〜４の整数を示す。］
【００１７】
また、本発明は、導電性基体と、該導電性基体上に配置されており、熱可塑性樹脂を含有する第１の機能層と、を備える被処理体を準備する第１の工程と、第１の機能層上に、熱硬化性樹脂を含有する塗布液を塗布し、その塗膜を乾燥させて第２の機能層を設ける第２の工程と、を備え、第１の機能層及び前記第２の機能層として、第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度から２０℃まで冷却したときの収縮量が下記式（Ａ）で表される条件を満たす機能層を設けることを特徴とする電子写真感光体の製造方法を提供する。
１０≦Ｄ（１）／Ｄ（１）≦５０    （Ａ）
［式中、Ｄ（１）は第１の機能層の収縮量を示し、Ｄ（２）は第２の機能層となるべき塗膜の収縮量を示す。］
【００１８】
上記本発明の製造方法によれば、熱可塑性樹脂を含有する第１の機能層と、熱硬化性樹脂を含有する塗布液を用いて得られる第２の機能層とを、第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度から２０℃まで冷却したときの収縮量が上記式（Ａ）で表される条件を満たすように構成することによって、第２の機能層の機械的強度と、第１の機能層と第２の機能層との接着性との双方を十分に向上させることができ、上記の優れた特性を有する本発明の電子写真感光体を有効に得ることができるようになる。
【００１９】
また、本発明は、導電性基体と、該導電性基体上に配置されており、熱可塑性樹脂を含有する第１の機能層と、を備える被処理体を準備する第１の工程と、第１の機能層上に、熱硬化性樹脂を含有する塗布液を塗布し、その塗膜を乾燥させて第２の機能層を設ける第２の工程と、を備え、第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度と、第１の機能層のガラス転移点と、第２の機能層のガラス転移点とが下記式（Ｂ）及び（Ｃ）で表される条件を満たすように、塗膜を乾燥させることを特徴とする電子写真感光体の製造方法を提供する。第２の機能層となるべき塗膜の乾燥温度と、第１の機能層のガラス転移点と、第２の機能層のガラス転移点とが下記式（Ｂ）及び（Ｃ）で表される条件を満たすように、第２の機能層となるべき塗膜を乾燥させることによって、上記式（Ａ）で表される条件をより確実に満たすことができるようになり、また、第１の機能層と第２の機能層との接着性を更に向上させることができる。
Ｔｇ（１）＜Ｔ＜Ｔｇ（２）    （Ｂ）
Ｔｇ（１）＜Ｔ＜Ｔｇ（１）＋６０    （Ｃ）
［式中、Ｔは塗膜の乾燥温度（℃）を示し、Ｔｇ（１）は第１の機能層のガラス転移点（℃）を示し、Ｔｇ（２）は第２の機能層のガラス転移点（℃）を示す。］
【００２０】
また、本発明は、上記本発明の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電した電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、トナー像を被転写体に転写する転写装置とを備えることを特徴とする画像形成装置を提供する。
【００２１】
また、本発明は、上記本発明の電子写真感光体と、該電子写真感光体を帯電させる帯電装置、露光により形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置、及び電子写真感光体上に残存するトナーを除去するクリーニング装置から選ばれる少なくとも１種とを備えることを特徴とするプロセスカートリッジを提供する。
【００２２】
上記本発明の画像形成装置及びプロセスカートリッジによれば、上述のように優れた特性を有する本発明の電子写真感光体を用いて帯電、露光、現像、転写、あるいは更にクリーニングを含む電子写真プロセスを行うことで、良好な画像品質を長期にわたって安定的に得ることができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、耐磨耗性、耐傷性に優れると共に、隣接する層間の剥がれを十分に抑制することが可能な電子写真感光体及びその製造方法、並びに当該電子写真感光体を備える画像形成装置及びプロセスカートリッジが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当する部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
【００２５】
まず、本発明の電子写真感光体について詳述する。図１は本発明の電子写真用感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図１に示した電子写真感光体１は、感光層３において電荷発生層５と電荷輸送層６とが別個に設けられたいわゆる機能分離型感光体である。具体的には、図１に示した感光体１は、導電性基体２上に下引き層４、電荷発生層５、電荷輸送層６、保護層７がこの順序で積層された構成を有している。そして、本実施形態においては、保護層７が第１の機能層に相当し、電荷輸送層６が第２の機能層に相当する。すなわち、保護層７及び電荷輸送層６は、保護層７の形成時の塗膜の乾燥温度から２０℃まで冷却したときの収縮量が上記式（Ａ）で表される条件を満たすものである。
【００２６】
次に、図１に示した電子写真感光体１を構成する各要素について説明する。
【００２７】
導電性基体２としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いた金属板、金属ドラム、金属ベルト、あるいは導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着、あるいはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。
【００２８】
また、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性基体２の表面を粗面化することが好ましく、その場合の中心線平均粗さＲａは０．０４μｍ〜０．５μｍが好ましい。粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、あるいは、回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化などが好ましく、また、支持体表面そのものを粗面化することなく導電性、あるいは半導電性粉体を樹脂層中に分散させた層を支持体表面上に形成し、該層中に分散させる微粒子により粗面化する方法も好ましく用いられる。Ｒａが０．０４μｍより小さいと、鏡面に近くなるので干渉防止効果が得られなくなり、Ｒａが０．５μｍより大きいと、被膜を形成しても画質が粗くなって不適である。非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、基材の表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
【００２９】
陽極酸化処理はアルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、そのままの多孔質陽極酸化膜は化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行う。
【００３０】
陽極酸化膜の膜厚は０．３〜１５μｍが好ましい。０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が十分でない。また、１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招く。
【００３１】
リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下の様に実施される。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が、１０〜１１質量％の範囲、クロム酸が３〜５質量％の範囲、フッ酸が０．５〜２質量％の範囲であって、これらの酸全体の濃度は、１３．５〜１８質量％の範囲が好ましい。処理温度は、４２〜４８℃であるが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜を形成することができる。被膜の膜厚については０．３〜１５μｍが好ましい。０．３μｍより薄い場合は注入に対するバリア性が乏しく効果が十分でない。また、１５μｍより厚い場合は繰り返し使用による残留電位の上昇を招く。
【００３２】
ベーマイト処理は、９０〜１００℃の純水中に５〜６０分間浸漬するか、９０〜１２０℃の加熱水蒸気に５〜６０分間接触させることにより行うことができる。被膜の膜厚については０．１〜５μｍが好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩などの皮膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００３３】
また、下引き層４に用いられる材料としては、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤などの有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤などの有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤などの有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物、などの有機金属化合物が挙げられる。これらの中でも有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物は残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、好ましく使用される。
【００３４】
また、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス２メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−２−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−３，４−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含有させて使用することができる。
【００３５】
さらに、従来下引き層に用いられるポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知の結着樹脂を用いることもできる。これらの混合割合は、必要に応じて適宜設定することができる。
【００３６】
また、下引き層４中には電子輸送性顔料を混合／分散して使用することもできる。電子輸送性顔料としては、特開昭４７−３０３３０号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が上げられる。これらの顔料の中ではペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料と多環キノン顔料、酸化亜鉛、酸化チタンが、電子移動性が高いので好ましく使用される。また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、バインダーなどで表面処理しても良い。電子輸送性顔料は多すぎると下引き層の強度が低下し、塗膜欠陥を生じるため９５質量％以下、好ましくは９０質量％以下で使用される。
【００３７】
また、下引き層４中には、電気特性の向上や光散乱性の向上などの目的により、各種の有機化合物の微粉末もしくは無機化合物の微粉末を添加することができる。特に、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料やアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料やポリエチレンテレフタレート樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子などが有効である。添加微粉末の粒径は０．０１〜２μｍのものが用いられる。微粉末は必要に応じて添加されるが、その添加量は下引き層６の固形分の総質量に対して、質量比で１０〜９０質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがより好ましい。
【００３８】
下引き層４は、上記の構成材料を所定の溶剤に混合／分散して得られる塗布液を導電性基体２上に塗布し、乾燥させることにより形成可能である。混合／分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等を用いる常法が適用される。また、溶剤としては、有機金属化合物や樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合／分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであれば如何なるものでも使用できる。例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。また、下引き層４形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。乾燥は、溶剤を蒸発させ、製膜可能な温度で行われる。下引き層４の厚みは０．０１〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜２５μｍが好ましい。
【００３９】
なお、下引き層４は必ずしも設けなくてもよいが、酸性溶液処理、ベーマイト処理を行った基体は、基体の欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引き層４を形成することが好ましい。
【００４０】
電荷発生層５は電荷発生材料を含んで構成される。電荷発生材料は、ビスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料、ジブロモアントアントロンなどの縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料などの有機顔料や三方晶セレン、酸化亜鉛などの無機顔料など公知のものを使用することができるが、特に３８０〜５００ｎｍの露光波長を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料、三方晶セレン、ジブロモアントアントロンなどが好ましい。その中でも、特開平５−２６３００７号公報及び特開平５−２７９５９１号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報及び特開平５−１４０４７３号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報及び特開平５−４３８１３号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。
【００４１】
また、電荷発生層５は結着樹脂を含んでもよい。結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシランなどの有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は（重量比）は１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。
【００４２】
電荷発生層５は、上記の構成材料を所定の溶媒に混合／分散させた塗布液を下引き層４上に塗布し、乾燥させることによって形成可能である。混合／分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができるが、この際、分散によって該の結晶型が変化しない条件が必要とされる。さらにこの混合／分散の際、粒子を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。また、用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤を単独あるいは２種以上混合して用いることができる。また、電荷発生層を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。電荷発生層５の厚みは一般的には、０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜２．０μｍが適当である。
【００４３】
電荷輸送層６は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して形成されるか、あるいは高分子電荷輸送材を含有して形成される。
【００４４】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物があげられる。これらの電荷輸送材料は単独または２種以上混合して用いることができるが、これらに限定されるものではない。また、これらの電荷輸送材料は単独あるいは２種以上混合して用いることができるが、モビリティーの観点から、下記一般式（ＸＩＩ−１）、（ＸＩＩ−２）又は（ＸＩＩ−３）で示される化合物が好ましい。
【化４】
2007171291.tif 000006
【００４５】
ここで、上記式（ＸＩＩ−１）中、Ｒ１７は、水素原子又はメチル基を、ｋは１又は２を、Ａｒ６及びＡｒ７はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を表し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数１〜３のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。
【化５】
2007171291.tif 000007
【００４６】
ここで、上記式（ＸＩＩ−２）中、Ｒ２１及びＲ２２はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基を、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５及びＲ２６はそれぞれ独立にハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｒ１９）（Ｒ２０）、又は、−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を、ｐ、ｑ、ｒ及びｓはそれぞれ独立に０〜２の整数を示す。Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。
【化６】
2007171291.tif 000008
【００４７】
ここで、上記式（ＸＩＩ−３）中、Ｒ２７は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）２を示す。Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を示す。Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。
【００４８】
電荷輸送層６に用いられる結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材など高分子電荷輸送材を用いることもできる。これらの結着樹脂は単独あるいは２種以上混合して用いることができる。本発明では、電子特性や強度等の観点から、ポリカーボネート樹脂がより好ましく、電荷輸送層６と保護層７との接着性を向上させる点から、ポリカーボネートの平均分子量を高くすることが望ましい。具体的には、ポリカーボネートの粘度平均分子量は、３００００以上であることが好ましく、４００００以上がより好ましい。また、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（重量比）は、１０：１〜１：５が好ましいが、接着性を向上させる点から、結着樹脂の割合を多くすることが好ましく、配合比（重量比）は１：１〜１：５がより好ましい。
【００４９】
また、低分子電荷輸送材料と結着樹脂とを併用する代わりに、高分子電荷輸送材を単独で用いることもできる。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、特に好ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
【００５０】
電荷輸送層６は、上記構成材料を含有する塗布液を電荷発生層５上に塗布し、乾燥させることによって形成可能である。電荷輸送層６の塗布液に用いられる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。電荷輸送層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。なお、電荷輸送層６と保護層７との接着性を保つためには乾燥後に溶剤がなるべく残らないようにすることが望ましく、具体的には、残留溶剤が１％以下となるように十分に高温で溶剤を蒸発させることが好ましい。電荷輸送層６の膜厚は、好ましくは５〜５０μｍ、より好ましくは１０〜３０μｍである。
【００５１】
保護層７は、機械強度を持たせるため、電荷輸送性を有する架橋膜であることが好ましい。かかる架橋膜としては、例えば、電荷輸送性を有するフェノール樹脂架橋膜、エポキシ樹脂架橋膜、シロキサン樹脂架橋膜、ウレタン樹脂膜などが挙げられる。これらの中でも、電荷輸送性を有するフェノール樹脂架橋膜が好ましく、少なくともメチロール基を有するフェノール誘導体の１種以上と、かつ、電荷輸送成分として水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、チオール基、アミノ基のから選択される置換基１種を少なくとも１つ以上含有する電荷輸送性化合物の少なくとも１種以上からなる架橋膜がより好ましい。
【００５２】
メチロール基を有するフェノール誘導体としては、レゾルシン、ビスフェノールなど、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノールなどの水酸基を１個含む置換フェノール類、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノンなどの水酸基を２個含む置換フェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺなどのビスフェノール類、ビフェノール類など、フェノール構造を有する化合物とホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等を酸、あるいは、アルカリ触媒下で反応させ、モノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類、トリメチロールフェノール類のモノマー、及びそれらの混合物、又はそれらをオリゴマー化されたもの、およびモノマーとオリゴマーの混合物を作製する。このうち、分子の構造単位の繰り返しが２〜２０程度の比較的大きな分子がオリゴマー、それ以下のものがモノマーである。この時用いられる酸触媒としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、リン酸などが用いられ、アルカリ触媒として、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）２等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物やアミン系触媒が用いられる。アミン系触媒として、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等あるが、これらに限定されるものではない。塩基性触媒を使用した場合には、残留する触媒によりキャリアが著しくトラップされ、電子写真特性を悪化させる場合が多いため、酸で中和するか、シリカゲルなどの吸着剤や、イオン交換樹脂などと接触させることにより不活性化、あるいは、除去することが好ましい。
【００５３】
また、保護層７に含まれる電荷輸送性化合物としては、機械的強度及び安定性の点から、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）のうちのいずれかで表される構造を有する化合物が好ましい。
Ｆ［−（Ｘ１）ｎ−Ｒ１−Ｚ１Ｈ］ｍ      （Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ１はアルキレン基を、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、ｎは０又は１を、ｍは１〜４の整数を示す。］
Ｆ−［（Ｘ２）ｎ２−（Ｒ２）ｎ３−（Ｚ２）ｎ４Ｇ］ｎ５    （ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ２はアルキレン基を示し、Ｚ２はアルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを示し、Ｇはエポキシ基を示し、ｎ２、ｎ３及びｎ４はそれぞれ独立に０又は１を示し、ｎ５は１〜４の整数を示す。］
【化７】
2007171291.tif 000009
［式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を示し、Ｒ６は１価の有機基を示し、ｍ１は０又は１を示し、ｎ６は１〜４の整数を示し、Ｒ５とＲ６は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。］
【化８】
2007171291.tif 000010
［式（ＩＶ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｔは２価の基を示し、Ｒ７は１価の有機基を示し、ｍ２は０又は１を示し、ｎ７は１〜４の整数を示す。］
【化９】
2007171291.tif 000011
［式（Ｖ）中、Ｆは正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を示し、Ｌはアルキレン基を示し、Ｒ８は１価の有機基を示し、ｎ８は１〜４の整数を示す。］
【００５４】
一般式（Ｉ）〜（Ｖ）中の有機基Ｆとしては、下記一般式（ＶＩ）で表される構造を有する有機基が好ましい。
【化１０】
2007171291.tif 000012
【００５５】
一般式（ＶＩ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ａｒ５は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つＡｒ１〜Ａｒ５のうち２〜４個は一般式（Ｉ）〜（Ｖ）における下記一般式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）、（Ｘ）又は（ＸＩ）で示される１価の有機基と結合する。
−（Ｘ１）ｎ−Ｒ１−Ｚ１Ｈ    （ＶＩＩ）
［式（ＶＩＩ）中、Ｘ１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ１はアルキレン基を、Ｚ１は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、ｎは０又は１を示す。］
−（Ｘ２）ｎ１−（Ｒ２）ｎ２−（Ｚ２）ｎ３Ｇ    （ＶＩＩＩ）
［式（ＶＩＩＩ）中、Ｘ２は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ２はアルキレン基を、Ｚ２は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、Ｇはエポキシ基を、ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に０又は１を示す。］
【化１１】
2007171291.tif 000013
［式（ＩＸ）中、Ｔは２価の基を、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５はそれぞれ独立に水素原子又は１価の有機基を、Ｒ６は１価の有機基を、ｍ１は０又は１を、それぞれ示す。但し、Ｒ５とＲ６は互いに結合してＹをヘテロ原子とする複素環を形成してもよい。］
【化１２】
2007171291.tif 000014
［式（Ｘ）中、Ｔは２価の基を、Ｒ７は１価の有機基を、ｍ２は０又は１を、それぞれ示す。］
【化１３】
2007171291.tif 000015
［式（ＸＩ）中、Ｌはアルキレン基を、Ｒ８は１価の有機基を、それぞれ示す。］
【００５６】
一般式（ＶＩ）中、Ａｒ１〜Ａｒ４で示される置換又は未置換のアリール基としては、具体的には、下記表１に示す一般式（ＶＩ−１）〜（ＶＩ−７）で表されるアリール基が好ましい。なお、一般式（ＶＩ−１）〜（ＶＩ−７）において、Ｒ９は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基を、Ｒ１０〜Ｒ１２はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はハロゲン原子を、Ｘは一般式（Ｉ）〜（Ｖ）中の一般式（ＶＩＩ）〜（ＸＩ）で示される部位を示す。また、ｍ及びｓはそれぞれ独立に０又は１を、ｔは１〜３の整数を示す。
【００５７】
【表１】
2007171291.tif 000016
【００５８】
上記一般式（ＶＩ−７）で示されるアリール基におけるＡｒとしては、下記式（ＶＩ−８）又は（ＶＩ−９）で示されるアリール基が好ましい。なお、一般式（ＶＩ−８）及び（ＶＩ−９）において、Ｒ１３及びＲ１４はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はハロゲン原子を、Ｘは一般式（Ｉ）〜（Ｖ）中の一般式（ＶＩＩ）〜（ＸＩ）で示される部位を示す。また、ｔは１〜３の整数を示す。
【００５９】
【表２】
2007171291.tif 000017
【００６０】
また、上記式（ＶＩ−７）で示されるアリール基におけるＺとしては、下記式（ＶＩ−１０）〜（ＶＩ−１７）で示される２価の基が好ましい。なお、一般式（ＶＩ−１０）〜（ＶＩ−１７）において、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はハロゲン原子を示す。また、ｑ及びｒはそれぞれ独立に１〜１０の整数を、ｔは１〜３の整数を示す。
【００６１】
【表３】
2007171291.tif 000018
【００６２】
また、一般式（ＶＩ−１６）〜（ＶＩ−１７）中、Ｗは下記表４中の一般式（ＶＩ−１８）〜（ＶＩ−２６）で示される２価の基を示す。なお、一般式（ＶＩ−２５）中、ｕは０〜３の整数を示す。
【００６３】
【表４】
2007171291.tif 000019
【００６４】
また、上記一般式（ＶＩ）におけるＡｒ５の具体的構造としては、ｋ＝０のときは上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｍ＝１の構造が、ｋ＝１のときは上記Ａｒ１〜Ａｒ４の具体的構造におけるｍ＝０の構造が挙げられる。
一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、下記表５〜表１０に示す化合物を挙げることができる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手（−）は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【００６５】
【表５】
2007171291.tif 000020
【００６６】
【表６】
2007171291.tif 000021
【００６７】
【表７】
2007171291.tif 000022
【００６８】
【表８】
2007171291.tif 000023
【００６９】
【表９】
2007171291.tif 000024
【００７０】
【表１０】
2007171291.tif 000025
【００７１】
また、一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例としては、下記表１１〜２４に示す化合物が挙げられる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手（−）は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【００７２】
【表１１】
2007171291.tif 000026
【００７３】
【表１２】
2007171291.tif 000027
【００７４】
【表１３】
2007171291.tif 000028
【００７５】
【表１４】
2007171291.tif 000029
【００７６】
【表１５】
2007171291.tif 000030
【００７７】
【表１６】
2007171291.tif 000031
【００７８】
【表１７】
2007171291.tif 000032
【００７９】
【表１８】
2007171291.tif 000033
【００８０】
【表１９】
2007171291.tif 000034
【００８１】
【表２０】
2007171291.tif 000035
【００８２】
【表２１】
2007171291.tif 000036
【００８３】
【表２２】
2007171291.tif 000037
【００８４】
【表２３】
2007171291.tif 000038
【００８５】
【表２４】
2007171291.tif 000039
【００８６】
また、上記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、下記表２５〜３３に示す化合物を挙げることができる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手（−）は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。
【００８７】
【表２５】
2007171291.tif 000040
【００８８】
【表２６】
2007171291.tif 000041
【００８９】
【表２７】
2007171291.tif 000042
【００９０】
【表２８】
2007171291.tif 000043
【００９１】
【表２９】
2007171291.tif 000044
【００９２】
【表３０】
2007171291.tif 000045
【００９３】
【表３１】
2007171291.tif 000046
【００９４】
【表３２】
2007171291.tif 000047
【００９５】
【表３３】
2007171291.tif 000048
【００９６】
【表３４】
2007171291.tif 000049
【００９７】
また、上記一般式（ＩＶ）で表される化合物の具体例としては、下記表３５〜４３に示す化合物を挙げることができる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手（−）は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を示す。
【００９８】
【表３５】
2007171291.tif 000050
【００９９】
【表３６】
2007171291.tif 000051
【０１００】
【表３７】
2007171291.tif 000052
【０１０１】
【表３８】
2007171291.tif 000053
【０１０２】
【表３９】
2007171291.tif 000054
【０１０３】
【表４０】
2007171291.tif 000055
【０１０４】
【表４１】
2007171291.tif 000056
【０１０５】
【表４２】
2007171291.tif 000057
【０１０６】
【表４３】
2007171291.tif 000058
【０１０７】
また、上記一般式（Ｖ）で表される化合物の具体例としては、下記表４４〜４７に示す化合物を挙げることができる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手（−）は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を示し、Ｅｔはエチル基を示す。
【０１０８】
【表４４】
2007171291.tif 000059
【０１０９】
【表４５】
2007171291.tif 000060
【０１１０】
【表４６】
2007171291.tif 000061
【０１１１】
【表４７】
2007171291.tif 000062
【０１１２】
さらに、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、フッ素化合物と混合して用いても良い。このような化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤を用いることができる。
【０１１３】
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等を用いることができる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等を用いることができる。また、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えても良い。シランカップリング剤は任意の量で使用できるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。この使用量を超えると、架橋膜の成膜性に問題が生じる場合がある。
【０１１４】
また、放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度コントロール、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などの目的でアルコールに溶解する樹脂を保護層７に加えることもできる。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。特に、電気特性の点でポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が好ましい。当該樹脂の平均分子量は２，０００〜１００，０００が好ましく、５，０００〜５０，０００がより好ましい。樹脂の分子量が２，０００未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、１００，０００を超えると溶解度が低下して添加量が制限され、さらには塗布時に製膜不良を招く傾向にある。また、当該樹脂の添加量は１〜４０質量％が好ましく、１〜３０質量％がより好ましく、５〜２０質量％がさらに好ましい。当該樹脂の添加量が１質量％未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、４０質量％を超えると高温高湿下での画像ボケが発生しやすくなる。
【０１１５】
また、残留電位を下げるために保護層７に導電性粒子を添加してもよい。導電性粒子としては、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等が挙げられるが、金属または金属酸化物がより好ましい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、またはこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズおよびアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いることもできる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の点で０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が好ましい。
【０１１６】
また、保護層７は、帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止剤を更に含有することが好ましい。感光体表面の機械的強度を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガスに長い時間接触することになるため、従来より強い酸化耐性が要求される。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系あるいはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。
【０１１７】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。
【０１１８】
更に、電子写真感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性を改善するために、保護層７に各種微粒子を添加することもできる。微粒子の一例として、ケイ素含有微粒子を挙げることができる。ケイ素含有微粒子とは、構成元素にケイ素を含む微粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン微粒子等が挙げられる。ケイ素含有微粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜３０ｎｍのシリカを、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。保護層７中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、保護層７の全固形分全量を基準として、０．１〜５０質量％、好ましくは０．１〜３０質量％の範囲で用いられる。
【０１１９】
ケイ素含有微粒子として用いられるシリコーン微粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。これらのシリコーン微粒子は球状で、その平均粒径は好ましくは１〜５００ｎｍ、より好ましくは１０〜１００ｎｍである。シリコーン微粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状を改善することができる。すなわち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。保護層７中のシリコーン微粒子の含有量は、保護層７の全固形分全量を基準として、好ましくは０．１〜３０質量％、より好ましくは０．５〜１０質量％である。
【０１２０】
また、その他の微粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系微粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集  ｐ８９”に示されるような、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる微粒子、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ２−ＴｉＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加することもできる。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１．３．５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。
【０１２１】
保護層７は、上記の構成材料を含む塗布液を電荷輸送層６上に塗布し、乾燥させることによって形成可能である。保護層７用塗布液の調製は、無溶媒で行うか、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を用いて行うことができる。かかる溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して使用可能であるが、好ましくは沸点が１００℃以下のものである。溶剤量は任意に設定できるが、少なすぎると一般式（I）〜（Ｖ）で表される化合物が析出しやすくなるため、結着樹脂に対し１０〜５０質量％で使用されることが好ましい。塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、フローコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
【０１２２】
また、保護層７形成用塗布液の塗布により形成される塗膜の乾燥温度は、得られる保護層７が上記式（Ａ）で表される条件を満たせば特に制限されないが、保護層７形成用塗布液が反応性官能基を有する電荷輸送性化合物及び溶剤を含有する場合は、硬化性樹脂と電荷輸送性化合物とを十分に反応させると共に、溶剤を十分に蒸発させるために、１００℃以上、より好ましくは１２０℃以上の高温で反応が十分進行するまで時間をかけて硬化させることが好ましい。但し、乾燥温度が高すぎると保護層７と下層の接着性が低下する場合があり、本発明の接着性を維持するためには、保護層７となるべき塗膜の乾燥温度と、電荷輸送層６のガラス転移点と、保護層７のガラス転移点とが上記式（Ｂ）及び（Ｃ）で表される条件を満たすことが好ましい。
【０１２３】
保護層７の厚みは一般的には、１〜１０μｍ、好ましくは２〜８μｍが適当である。
なお、本発明の電子写真感光体は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では電荷発生層５と電荷輸送層６とが別個に設けられた機能分離型感光体について説明したが、本発明の電子写真感光体は、図２に示すように電荷発生材料及び電荷輸送材料の双方を含む層（電荷発生／電荷輸送層）を備える単層型感光体であってもよい。図２に示した電子写真感光体は、導電性基体２上に下引き層４、電荷発生／電荷輸送層８、保護層７がこの順序で積層された構成を有しており、電荷発生／電荷輸送層８が第１の機能層、保護層７が第２の機能層に相当し、これらの機能層は上記式（Ａ）で表される条件を満たすように構成されている。なお、電荷発生層、電荷輸送層、保護層といった積層構造にすると、それぞれの層がそれぞれの機能を満たせば良いという機能分離ができ、より高い機能を実現できるという観点から、本発明の電子写真感光体は機能分離型感光体であることが好ましい。
【０１２４】
＜画像形成装置＞
図６は、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す模式図である。図６に示す画像形成装置１００は、画像形成装置本体（図示せず）に、上述した本発明の電子写真感光体１を備えるプロセスカートリッジ２０と、露光装置３０と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置３０はプロセスカートリッジ２０の開口部から電子写真感光体１に露光可能な位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体１に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体１に当接可能に配置されている。
【０１２５】
プロセスカートリッジ２０は、ケース内に電子写真感光体１とともに帯電装置２１、現像装置２５、クリーニング装置２７及び繊維状部材（歯ブラシ形状）２９を、取り付けレールにより組み合わせて一体化したものである。なお、ケースには、露光のための開口部が設けられている。また、繊維状部材２９は必ずしも設けられなくてもよい。
【０１２６】
ここで、帯電装置２１は、電子写感光体１を接触方式により帯電させるものである。また、現像装置２５は、電子写真感光体１上の静電潜像を現像してトナー像を形成するものである。
【０１２７】
以下、現像装置２５に使用されるトナーについて説明する。かかるトナーとしては、平均形状係数（ＭＬ２／Ａ）が１００〜１５０であることが好ましく、１００〜１４０であることがより好ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が２〜１２μｍであることが好ましく、３〜１２μｍであることがより好ましく、３〜９μｍであることがさらに好ましい。このような平均形状係数及び体積平均粒子径を満たすトナーを用いることにより、高い現像、転写性、及び高画質の画像を得ることができる。
【０１２８】
トナーは、上記平均形状係数及び体積平均粒子径を満足する範囲のものであれば特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。
【０１２９】
また、上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法を使用することができる。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が好ましく、乳化重合凝集法が特に好ましい。
【０１３０】
トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤及び離型剤からなり、必要であれば、シリカや帯電制御剤を含有して構成される。
【０１３１】
トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体及び共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
【０１３２】
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等を挙げることもできる。
【０１３３】
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示することができる。
【０１３４】
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示することができる。
【０１３５】
また、帯電制御剤としては、公知のものを使用することができるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤を用いることができる。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で水に溶解しにくい素材を使用することが好ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナー及び磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
【０１３６】
現像装置２５に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はＶブレンダー等で混合することによって製造することができる。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。
【０１３７】
現像装置２５に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等のような脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等のような植物系ワックス、ミツロウのような動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等のような鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用できる。これらは、１種を単独で、又は２種以上を併用して使用できる。但し、体積平均粒径としては０．１〜１０μｍの範囲が好ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は好ましくは０．０５〜２．０質量％、より好ましくは０．１〜１．５質量％の範囲である。
【０１３８】
現像装置２５に用いるトナーには、電子写真感光体表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機微粒子、有機微粒子、該有機微粒子に無機微粒子を付着させた複合微粒子等を加えることができる。
【０１３９】
無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
【０１４０】
また、上記無機微粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも好ましく使用される。
【０１４１】
有機微粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等を挙げることができる。
【０１４２】
粒子径としては、体積平均粒子径で好ましくは５ｎｍ〜１０００ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ〜８００ｎｍ、さらに好ましくは５ｎｍ〜７００ｎｍでのものが使用される。体積平均粒子径が、上記下限値未満であると、研磨能力に欠ける傾向があり、他方、上記上限値を超えると、電子写真感光体表面に傷を発生しやすくなる傾向がある。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が０．６質量％以上であることが好ましい。
【０１４３】
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等の為、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御の為、それより大径の無機酸化物を添加することが好ましい。これらの無機酸化物微粒子は公知のものを使用できるが、精密な帯電制御を行う為にはシリカと酸化チタンを併用することが好ましい。また、小径無機微粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも放電精製物を除去するために好ましい。
【０１４４】
また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉又はそれ等の表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、適宜設定することができる。
【０１４５】
クリーニング装置２７は、繊維状部材（ロール形状）２７ａと、クリーニングブレード（ブレード部材）２７ｂとを備える。
【０１４６】
クリーニング装置２７は、繊維状部材２７ａ及びクリーニングブレード２７ｂが設けられているが、クリーニング装置としてはどちらか一方を備えるものでもよい。繊維状部材２７ａとしては、ロール形状の他に歯ブラシ状としてもよい。また、繊維状部材２７ａは、クリーニング装置本体に固定してもよく、回転可能に支持されていてもよく、さらに感光体軸方向にオシレーション可能に支持されていてもよい。繊維状部材２７ａとしては、ポリエステル、ナイロン、アクリル等や、トレシー（東レ社製）等の極細繊維からなる布状のもの、ナイロン、アクリル、ポリオレフィン、ポリエステル等の樹脂繊維を基材状又は絨毯状に植毛したブラシ状のもの等を挙げることができる。また、繊維状部材２７ａとしては、上述したものに、導電性粉末やイオン導電剤を配合して導電性を付与したり、繊維一本一本の内部又は外部に導電層が形成されたもの等を用いることもできる。導電性を付与した場合、その抵抗値としては繊維単体で１０２〜１０９Ωのものが好ましい。また、繊維状部材２７ａの繊維の太さは、好ましくは３０ｄ（デニール）以下、より好ましくは２０ｄ以下であり、繊維の密度は好ましくは２万本／ｉｎｃｈ２以上、より好ましくは３万本／ｉｎｃｈ２以上である。
【０１４７】
クリーニング装置２７には、クリーニングブレード、クリーニングブラシで感光体表面の付着物（例えば、放電生成物）を除去することが求められる。この目的を長期に渡って達成すると共にクリーニング部材の機能を安定化させるために、クリーニング部材には、金属石鹸、高級アルコール、ワックス、シリコーンオイルなどの潤滑性物質（潤滑成分）を供給することが好ましい。
【０１４８】
例えば、繊維状部材２７ａとしてロール状のものを用いる場合、金属石鹸、ワックス等の潤滑性物質と接触させ、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することが好ましい。クリーニングブレード２７ｂとしては、通常のゴムブレードが用いられる。このようにクリーニングブレード２７ｂとしてゴムブレードを使用する場合には、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することは、ブレードの欠けや磨耗を抑制することに特に効果的である。
【０１４９】
以上説明したプロセスカートリッジ２０は、画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
【０１５０】
露光装置３０としては、帯電した電子写真感光体１を露光して静電潜像を形成させるものであればよい。また、露光装置３０の光源としては、マルチビーム方式の面発光レーザーを用いることが好ましい。
【０１５１】
転写装置４０としては、電子写真感光体１上のトナー像を被転写媒体（中間転写体５０）に転写するものであればよく、例えば、ロール形状の通常使用されるものが使用される。
【０１５２】
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いることもできる。なお、この中間転写体を備えていない直接転写方式の画像形成装置もあるが、本発明の電子写真感光体はこのような画像形成装置に好適である。その理由は、直接転写方式の画像形成装置では、プリント用紙からの紙粉やタルク等が発生しそれが電子写真感光体へ付着しやすく、付着物に起因する画質欠陥が発生する傾向にある。しかし、本発明の電子写真感光体によれば、クリーニング性に優れているため紙粉やタルク等の除去が容易であり、直接転写方式の画像形成装置であっても安定した画像を得ることができる。
【０１５３】
なお、本発明でいう被転写媒体とは、電子写真感光体１上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体１から直接、紙等に転写する場合は紙等が被転写媒体であり、また、中間転写体５０を用いる場合には中間転写体が被転写媒体になる。
【０１５４】
図４は、本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。図４に示す画像形成装置１１０は、電子写真感光体１が画像形成装置本体に固定され、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７がそれぞれカートリッジ化されており、それぞれ帯電カートリッジ、現像カートリッジ、クリーニングカートリッジとして独立して備えられている。なお、帯電装置２２は、コロナ放電方式により帯電させる帯電装置を備えている。
【０１５５】
画像形成装置１１０においては、電子写真感光体１とそれ以外の各装置が分離されており、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７が画像形成装置本体にビス、かしめ、接着又は溶接により固定されることなく、引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能である。
【０１５６】
本発明の電子写真感光体は耐磨耗性に優れるため、カートリッジ化することが不要となる場合がある。したがって、帯電装置２２、現像装置２５又はクリーニング装置２７をそれぞれ本体にビス、かしめ、接着又は溶接により固定されることなく、引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能な構成とすることで、１プリント当りの部材コストを低減することができる。また、これらの装置のうち２つ以上を一体化したカートリッジとして着脱可能とすることもでき、それにより１プリント当りの部材コストをさらに低減することができる。
【０１５７】
なお、画像形成装置１１０は、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７がそれぞれカートリッジ化されている以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０１５８】
図５は、本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ２０を４つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ２０がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用できる構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０１５９】
タンデム方式の画像形成装置１２０では、各色の使用割合により各電子写真感光体の磨耗量が異なってくるために、各電子写真感光体の電気特性が異なってくる傾向がある。これに伴い、トナー現像特性が初期の状態から除々に変化してプリント画像の色合いが変化し、安定な画像を得ることができなくなる傾向にある。特に、画像形成装置を小型化するために、小径の電子写真感光体が使用される傾向にあり、３０ｍｍφ以下のものを用いたときにはこの傾向が顕著になる。ここで、電子写真感光体に、本発明の電子写真感光体の構成を採用すると、その直径を３０ｍｍφ以下とした場合にもその表面の磨耗が十分に抑制される。したがって、本発明の電子写真感光体は、タンデム方式の画像形成装置に対して特に有効である。
【実施例】
【０１６０】
以下、実施例を用いて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例によって何ら限定されるものではない。
【０１６１】
（実施例１）
先ず、導電性基体として、ホーニング処理を施した３０ｍｍφの円筒状のアルミニウム製基体を準備した。
【０１６２】
次に、ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックスＺＣ５４０、マツモト製薬社製）１００質量部、シラン化合物（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー社製）１０質量部、イソプロパノール４００質量部、及びブタノール２００質量部を混合して下引き層形成用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法により上記アルミニウム製基体の外周面上に塗布し、１５０℃にて、１０分間加熱乾燥し、０．１μｍの下引き層を形成した。
【０１６３】
次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角  （２θ±０．２°）が、７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強い回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニンの１０質量部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学）１０質量部、及び酢酸ｎ−ブチル１０００質量部を混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散して電荷発生層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を前記下引き層上に浸漬コートし、１００℃で１０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【０１６４】
次に、下記式（ＣＴ−１）で示されるベンジジン化合物１５０質量部及び下記式（Ｂ−１）で示される構造単位を有するビスフェノールＺ型ポリカーボネート（三菱瓦斯化学社製、粘度平均分子量３９，０００）３５０質量部をＴＨＦ５００質量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷発生層上に浸漬塗布法により塗布し、１５０℃、６０分の加熱を行って膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【化１４】
2007171291.tif 000063
【化１５】
2007171291.tif 000064
【０１６５】
次に、表３６中の化合物（ＩＶ−１２）２．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学製）２．５質量部、ｎ−ブタノール４質量部及びシクロヘキサノン１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法で塗布し、１５０℃で４０分乾燥させて膜厚４μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体１」という。）を得た。
【０１６６】
また、上記と同様にして感光体１を作製し、電荷輸送層及び保護層それぞれの厚さ１μｍ当たりの収縮量及びガラス転移点を以下の手順で測定した。先ず、保護層にカッターで切れ目を入れ、保護層の単独膜を剥がして採取した。次いで、保護層を剥がした後の感光体１の電荷輸送層が露出した部分にカッターで切れ目を入れ、保護層の単独膜を剥がして採取した。このとき、予め各単独膜について２０℃での膜厚を測定した。次に、単独膜それぞれについて、セイコー電子工業（株）製ＴＭＡ／ＳＳ６１００を用いて、ＴＭＡ／ＳＳ６１００の針入モードで、保護層となるべき塗膜の乾燥温度から２０℃まで冷却したときの収縮量を測定した。そして、収縮量の測定値及び２０℃での膜厚の測定値に基づいて１μｍあたりの収縮量を算出した。また、収縮量の測定データの変曲点から、各層のガラス転移点を算出した。得られた結果を表４８に示す。
【０１６７】
（実施例２）
先ず、実施例１と同様にして導電性基体上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０１６８】
次に、表３６中の化合物（ＩＶ−１２）２．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学製）２．５質量部、ｎ−ブタノール４質量部、シクロヘキサノン１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法で塗布し、１３５℃で３０分乾燥させて膜厚４μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体２」という。）を得た。
【０１６９】
また、実施例１と同様にして、感光体２の電荷輸送層及び保護層それぞれの厚さ１μｍ当たりの収縮量及びガラス転移点を測定した。得られた結果を表４８に示す。
【０１７０】
（実施例３）
先ず、実施例１と同様にして導電性基体上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０１７１】
次に、表２７中の化合物（ＩＩＩ−１１）２．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学製）２．５質量部、ｎ−ブタノール４部、シクロヘキサノン１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法で塗布し、１５０℃で４０分乾燥させて膜厚４μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体３」という）を得た。
【０１７２】
また、実施例１と同様にして、感光体３の電荷輸送層及び保護層それぞれの厚さ１μｍ当たりの収縮量及びガラス転移点を測定した。得られた結果を表４８に示す。
【０１７３】
（実施例４）
先ず、実施例１と同様にして導電性基体上に下引き層及び電荷発生層を形成した。
【０１７４】
次に、上記式（ＣＴ−１）で示されるベンジジン化合物１５０質量部及び上記式（Ｂ−１）で示される構造単位を有するビスフェノールＺ型ポリカーボネート（三菱瓦斯化学社製、粘度平均分子量：３９０００）３５０質量部をモノクロロベンゼン５００質量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、１５０℃、６０分の加熱を行って膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１７５】
次に、表３６中の化合物（ＩＶ−１２）２．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学製）２．５質量部、ｎ−ブタノール４質量部及びシクロヘキサノン１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法で塗布し、１５０℃で４０分乾燥させて膜厚４μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体４」という。）を得た。
【０１７６】
また、実施例１と同様にして、感光体４の電荷輸送層及び保護層それぞれの厚さ１μｍ当たりの収縮量及びガラス転移点を測定した。得られた結果を表４８に示す。
【０１７７】
（比較例１）
先ず、実施例１と同様にして導電性基体上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０１７８】
次に、表３６中の化合物（ＩＶ−１２）２．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学製）２．５質量部、ｎ−ブタノール４質量部及びシクロヘキサノン１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法で塗布し、１５０℃で１２０分乾燥させて膜厚４μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体５」という。）を得た。
【０１７９】
また、実施例１と同様にして、感光体５の電荷輸送層及び保護層それぞれの厚さ１μｍ当たりの収縮量及びガラス転移点を測定した。得られた結果を表４８に示す。
【０１８０】
（比較例２）
先ず、実施例１と同様にして導電性基体上に下引き層及び電荷発生層を形成した。
【０１８１】
次に、上記式（ＣＴ−１）で示されるベンジジン化合物３５０質量部及び上記式（Ｂ−１）で示される構造単位を有するビスフェノールＺ型ポリカーボネート（三菱瓦斯化学社製、粘度平均分子量：３９０００）１５０質量部をモノクロロベンゼン５００質量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、１１０℃、６０分の加熱を行って膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１８２】
次に、表３６中の化合物（ＩＶ−１２）２．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学製）２．５質量部、ｎ−ブタノール４質量部及びシクロヘキサノン１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法で塗布し、１５０℃で４０分乾燥させて膜厚４μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体６」という。）を得た。
【０１８３】
また、実施例１と同様にして、感光体６の電荷輸送層及び保護層それぞれの厚さ１μｍ当たりの収縮量及びガラス転移点を測定した。得られた結果を表４８に示す。
【０１８４】
（比較例３）
先ず、実施例１と同様にして導電性基体上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０１８５】
次に、表３６中の化合物（ＩＶ−１２）２．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学製）２．５質量部、ｎ−ブタノール４質量部及びシクロヘキサノン１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法で塗布し、１７０℃で４０分乾燥させて膜厚４μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体７」という。）を得た。
【０１８６】
また、実施例１と同様にして、感光体７の電荷輸送層及び保護層それぞれの厚さ１μｍ当たりの収縮量及びガラス転移点を測定した。得られた結果を表４８に示す。
【０１８７】
（比較例４）
先ず、実施例１と同様にして導電性基体上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成した。
【０１８８】
次に、表３６中の化合物（ＩＶ−１２）２．５質量部、レゾール型フェノール樹脂（ＢＬＳ２０４、昭和高分子（株）製）２．５質量部、ｎ−ブタノール４質量部及びシクロヘキサノン１質量部を混合して保護層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷輸送層上にリング型浸漬塗布法で塗布し、１７０℃で４０分乾燥させて膜厚４μｍの保護層を形成し、目的の電子写真感光体（以下、「感光体８」という。）を得た。
【０１８９】
また、実施例１と同様にして、感光体８の電荷輸送層及び保護層それぞれの厚さ１μｍ当たりの収縮量及びガラス転移点を測定した。得られた結果を表４８に示す。なお、表４８のガラス転移点の欄中、「＞２５０」はガラス転移点が測定限界（２５０℃）を超えることを意味する。
【０１９０】
【表４８】
2007171291.tif 000065
【０１９１】
（実施例５〜８、比較例５〜８）
実施例５〜８及び比較例５〜８においては、それぞれ感光体１〜８を用いて画像形成装置を作製した。なお、感光体以外の要素は富士ゼロックス製プリンターＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ  Ｃｏｌｏｒ  ５００と同様のものを用い、露光装置として発振波長７８０ｎｍのマルチビーム面発光レーザーを用いた。
【０１９２】
次に、実施例５〜８及び比較例５〜８の各画像形成装置を用いて、低温低湿（１０℃、２０％ＲＨ）の環境下と高温高湿（２８℃、８０％ＲＨ）の環境下でそれぞれ１万枚ずつプリントしたときの画質を評価した。また、感光体をプリンター内で２４時間放置した後、同様のプリント試験を行い、画質を評価した。得られた結果を表４９に示す。
【０１９３】
また、１万枚プリント後の感光体について保護層のはがれの有無及び摩耗率を評価した。はがれは１万枚プリント後の感光体表面を目視で観察し、以下の評価基準：
Ａ：剥がれが認められない
Ｂ：微小な剥がれが認められるが、画像には影響していない
Ｃ：剥がれが認められる
に基づいて評価した。また、感光体の摩耗率は、剥がれが発生していない部分を測定対象とし、使用前後の膜厚を測定して１０００サイクルあたりの磨耗率として求めた。
【０１９４】
さらに、接着力と装置内のはがれとの対応を図るため、感光体表面に１ｍｍ角の碁盤目を１００個入れ、住友３Ｍ（株）製の粘着テープを貼り剥離による碁盤目のはがれ枚数を数えて接着性を比較した。得られた結果を表４９に示す。
【０１９５】
また、低温低湿（１０℃、１５％ＲＨ）環境下、グリッド印加電圧−７００Ｖのスコロトロン帯電器で各電子写真感光体を帯電、次に、７８０ｎｍの半導体レーザーを用いて、帯電させてから１秒後の各電子写真感光体に１０ｍＪ／ｍ２の光を照射して放電を行わせ、続いて、放電させてから３秒後各電子写真感光体に５０ｍＪ／ｍ２の赤色ＬＥＤ光を照射して除電を行い、このときの各電子写真感光体の表面電位［Ｖ］を測定し、この値を残留電位の値とした。得られた結果を表４９に示す。
【０１９６】
【表４９】
2007171291.tif 000066
【図面の簡単な説明】
【０１９７】
【図１】本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】本発明の電子写真感光体の好適な他の実施形態を示す模式断面図である。
【図３】本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す模式図である。
【図４】本発明の画像形成装置の好適な他の実施形態を示す模式図である。
【図５】本発明の画像形成装置の好適な他の実施形態を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１９８】
１…電子写真感光体、２…導電性支持体、３…感光層、４…下引き層、５…電荷発生層、６…電荷輸送層、７…保護層、８…単層型感光層、２０…プロセスカートリッジ、１００，１１０，１２０，１３０…画像形成装置。
【図１】
2007171291.tif 000070
【図２】
2007171291.tif 000071
【図３】
2007171291.tif 000072
【図４】
2007171291.tif 000073
【図５】
2007171291.tif 000074