(57)【要約】【課題】色ムラの発生が十分に防止され、コントラストに優れた画像を得ることが可能なレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。【解決手段】本発明のレンズ基板の製造方法は、樹脂材料で構成された基板本体に対して、着色剤とベンジルアルコールとを含む着色液を付与して、レンズ基板の光が入射する面側に着色部を形成する工程を有し、前記樹脂材料のガラス転移点をＴｇ［℃］としたとき、基板本体に着色液を付与する工程における処理温度が（Ｔｇ＋３０）℃以下であり、かつ、４０〜１００℃であることを特徴とする。着色液中におけるベンジルアルコールの含有率は、０．０１〜１０．０ｗｔ％である。着色液が付与される基板本体は、主としてアクリル系樹脂で構成されたものである。【選択図】図１０
2007102044.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を入射させて用いるレンズ基板の製造方法であって、
多数の凹部を有する凹部付き部材を用いて、当該凹部付き部材の前記凹部が設けられた面側の表面形状が転写され、樹脂材料で構成された基板本体を得る工程と、
前記基板本体に対して、着色剤とベンジルアルコールとを含む着色液を付与して、前記基板本体の光が入射する面側に着色部を形成する工程を有し、
前記樹脂材料のガラス転移点をＴｇ［℃］としたとき、前記基板本体に前記着色液を付与する工程における処理温度が（Ｔｇ＋３０）℃以下であり、かつ、４０〜１００℃であることを特徴とするレンズ基板の製造方法。
【請求項２】
前記レンズ基板は、マイクロレンズ基板である請求項１に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項３】
前記着色液中における前記ベンジルアルコールの含有率は、０．０１〜１０．０ｗｔ％である請求項１または２に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項４】
前記着色液の付与は、ディッピングにより行う請求項１ないし３のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項５】
前記着色液は、前記着色剤として分散染料を含むものである請求項１ないし４のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項６】
前記着色液が付与される前記基板本体は、主としてアクリル系樹脂で構成されたものである請求項１ないし５のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項７】
前記着色部の濃度は、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）で２０〜９５％である請求項１ないし６のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項８】
前記着色液は、界面活性剤を含むものである請求項１ないし７のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項９】
前記着色液は、前記着色剤、前記ベンジルアルコールの他に、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものである請求項１ないし８のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項１０】
前記着色液中における、前記ベンゾフェノン系化合物および前記ベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、０．００１〜１０．０ｗｔ％である請求項９に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項１１】
前記着色液中における、前記ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、前記ベンゾフェノン系化合物および前記ベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ／Ｙ≦１００００の関係を満足する請求項９または１０に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の方法により製造されたことを特徴とするレンズ基板。
【請求項１３】
請求項１２に記載のレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１４】
光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された請求項１２に記載のレンズ基板とを備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタ（背面投射型プロジェクションテレビ）は、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
このようなリア型プロジェクタでは、画像のコントラストを高めるために、映像光の強度の低下を抑えつつ、外光反射を抑えることが求められる。
このような目的を達成するために、レンチキュラレンズの光の入射面に、着色剤が混合、分散された電離放射線硬化型の成形樹脂を用いて形成された着色層を備えるレンチキュラレンズ基板を製造する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、このような方法で作成したレンズ基板は、レンズ全体が着色された構造になるため、照明光のある一般的な部屋で映像を見た場合、外光（照明光）による反射が大きくなり、コントラストが低下するという問題があった。
また、上記のような方法では、透明樹脂の表面に硬化前の着色樹脂を積層することにより着色層を形成するため、得られるレンチキュラレンズ基板において、着色層と透明樹脂（非着色層）との間での界面剥離が生じ易い。特に、リア型プロジェクタのような光量の大きい光が照射されるような用途である場合、このような傾向は顕著なものとなる。そして、上記のような剥離が生じると、投射される画像の画質を著しく低下させてしまう。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−１２５７０４号公報（第５頁左欄第２３〜２５行目、第７頁左欄第１〜７行目、図１２、図１〜図３、図１１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、色ムラの発生が十分に防止され、コントラストに優れた画像を得ることが可能なレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板の製造方法は、光を入射させて用いるレンズ基板の製造方法であって、
多数の凹部を有する凹部付き部材を用いて、当該凹部付き部材の前記凹部が設けられた面側の表面形状が転写され、樹脂材料で構成された基板本体を得る工程と、
前記基板本体に対して、着色剤とベンジルアルコールとを含む着色液を付与して、前記基板本体の光が入射する面側に着色部を形成する工程を有し、
前記樹脂材料のガラス転移点をＴｇ［℃］としたとき、前記基板本体に前記着色液を付与する工程における処理温度が（Ｔｇ＋３０）℃以下であり、かつ、４０〜１００℃であることを特徴とする。
これにより、色ムラの発生が十分に防止され、コントラストに優れた画像を得ることが可能なレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供することができる。
【０００７】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記レンズ基板は、マイクロレンズ基板であることが好ましい。
これにより、レンズ基板を透過型スクリーン、リア型プロジェクタに適応した場合における視野角特性を特に優れたものとすることができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液中における前記ベンジルアルコールの含有率は、０．０１〜１０．０ｗｔ％であることが好ましい。
これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板本体の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部を形成することができる。
【０００８】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液の付与は、ディッピングにより行うことが好ましい。
これにより、容易かつ確実に着色部（特に、均一な厚さの着色部）を形成することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液は、前記着色剤として分散染料を含むものであることが好ましい。
これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板本体の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部を形成することができる。特に、着色液が付与される基板本体が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。
【０００９】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液が付与される前記基板本体は、主としてアクリル系樹脂で構成されたものであることが好ましい。
アクリル系樹脂は、優れた透明性を有し、かつ、耐熱性、耐光性、加工性、成形した際の寸法精度、機械的強度等にも優れるため、レンズ基板の構成材料に適しているが、従来の着色方法では、着色が困難であった（特に、均一な厚さ、均一な着色濃度の着色部を形成するのが困難であった）。これに対し、本発明では、このような難着色性（特に、難染色性）のアクリル系樹脂で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に、均一な厚さ、均一な着色濃度の着色部を形成することができる。したがって、本発明において、主としてアクリル系樹脂で構成された基板本体を用いることにより、各種特性が特に優れ、かつ、信頼性にも優れたレンズ基板を提供することができる。
【００１０】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色部の濃度は、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）で２０〜９５％であることが好ましい。
これにより、画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液は、界面活性剤を含むものであることが好ましい。
これにより、着色剤をベンジルアルコールの存在下においても、安定的に、均一に分散させることができ、着色液が付与される基板本体が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。
【００１１】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液は、前記着色剤、前記ベンジルアルコールの他に、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものであることが好ましい。
これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板本体の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、より容易に好適な着色部を形成することができる。
【００１２】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液中における、前記ベンゾフェノン系化合物および前記ベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、０．００１〜１０．０ｗｔ％であることが好ましい。
これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板本体の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、より容易に好適な着色部を形成することができる。
【００１３】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記着色液中における、前記ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、前記ベンゾフェノン系化合物および前記ベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ／Ｙ≦１００００の関係を満足することが好ましい。
これにより、着色部を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板本体の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、より容易に好適な着色部を形成することができる。
【００１４】
本発明のレンズ基板は、本発明の方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、色ムラの発生が十分に防止され、コントラストに優れた画像を得ることが可能なレンズ基板を提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、色ムラの発生が十分に防止され、コントラストに優れた画像を得ることが可能な透過型スクリーンを提供することができる。
【００１５】
本発明の透過型スクリーンは、光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された本発明のレンズ基板とを備えたことを特徴とする。
これにより、色ムラの発生が十分に防止され、コントラストに優れた画像を得ることが可能な透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、色ムラの発生が十分に防止され、コントラストに優れた画像を得ることが可能なリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明のレンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明のレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
図１は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の第１実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すレンズ基板の模式的な平面図、図３は、図１に示すレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００１７】
マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、複数個のマイクロレンズ２１を備えた基板本体２に対し、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部（外光吸収部）２２が設けられている。
また、必要に応じて基板本体２の中には、光源からの入射光を拡散させるために、拡散材として、例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマー等が含まれていてもよい。なお、拡散材は樹脂の全体（基板本体２全体）に含まれるものであってもよいし、一部にのみに含まれるものであってもよい。
また、必要に応じて遮光層として、図示しないブラックマトリックスを備えてもよい。このような場合、ブラックマトリックスは、例えば、基板本体よりも光の出射側に設けることができる。
【００１８】
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、均一な屈折率を有する透明な材料で構成されている。
基板本体２を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができるが、中でも、透明性の観点から、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、アクリル系樹脂が好ましいが、その中でも特にアクリル系樹脂が好ましい。アクリル系樹脂は、優れた透明性を有し、かつ、耐熱性、耐光性、加工性、成形した際の寸法精度、機械的強度等にも優れるため、レンズ基板（基板本体）の構成材料に適しているものの、従来の着色方法では、着色が困難であった。これに対し、本発明では、このような難着色性（特に、難染色性）のアクリル系樹脂で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に着色部を形成することができる。したがって、本発明において、主としてアクリル系樹脂で構成された基板本体を用いることにより、各種特性が特に優れ、かつ、信頼性にも優れたレンズ基板（マイクロレンズ基板）を提供することができる。また、アクリル系樹脂は、一般的に、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００１９】
アクリル系樹脂としては、例えば、アクリル酸またはその誘導体（例えば、アクリル酸エステル）を構成モノマーとしたアクリル樹脂、メタクリル酸またはその誘導体（例えば、メタクリル酸エステル）を構成モノマーとしたメタクリル樹脂の他に、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−クロルアクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−アクリル酸エステル共重合体等の（メタ）アクリル酸またはその誘導体を構成モノマーとして含む共重合体等が挙げられ、これらから選択される１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２０】
基板本体２を構成する樹脂材料のガラス転移点（Ｔｇ）は、特に限定されないが、３０〜１３０℃であるのが好ましく、４５〜１２０℃であるのがより好ましく、７０〜１１０℃であるのがさらに好ましい。基板本体２を構成する樹脂材料のガラス転移点が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１の耐久性を十分に優れたものとしつつ、マイクロレンズ基板１の製造時においては、後に詳述するような着色部２２を容易かつ確実に形成することができる。なお、基板本体２が複数種の樹脂成分で構成されるものである場合、樹脂材料のガラス転移点は、これらの樹脂成分の混合物についてのガラス転移点となるが、混合物としてのガラス転移点の測定が困難である場合には、各樹脂成分のガラス転移点の加重平均値を、樹脂材料のガラス転移点として採用することができる。
【００２１】
本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅（図中Ｘで示す長さ））が横幅（水平方向の幅（図中Ｙで示す長さ））よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。また、投影される画像の輝度をより高いものとすることができる。
【００２２】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＸ［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＹ［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｘ／Ｙ≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｘ／Ｙ≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．７５≦Ｘ／Ｙ≦０．９０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２３】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１０〜１００μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１の視野角特性、投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、マイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）が前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１の生産性をさらに高めることができる。
【００２４】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さは、１５〜１２０μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１の視野角特性、投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、マイクロレンズ２１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１の生産性をさらに高めることができる。
【００２５】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、５〜６０μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
また、マイクロレンズ２１の高さ（凸部としてのマイクロレンズ２１の高さ）は、５〜６０μｍであるのが好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
【００２６】
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００２７】
上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
なお、マイクロレンズ２１の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよい。
【００２８】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９０〜１００％であるのが好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ２１の中心２１１と、当該マイクロレンズ２１に隣接する、マイクロレンズ２１が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ２１が形成されている部位の長さＬ３［μｍ］と、前記線分の長さＬ４［μｍ］との比率（Ｌ３／Ｌ４×１００［％］）として求めることができる（図２参照）。
【００２９】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述する着色部を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果（例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等）が得られる。
【００３０】
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、基板本体２の出射側の表面近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部５からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、基板本体２の出射側の表面近傍で焦点ｆを結ぶ。
またこのとき、焦点ｆの近傍を開口するようにブラックマトリックスを形成することにより、光の利用効率をさらに優れたものとすることができる。
【００３１】
また、前述したように、マイクロレンズ基板１の光の入射側（すなわち、マイクロレンズ２１の光の入射側）には、着色部２２が設けられている。着色部２２は、入射側から入射した光を十分に透過することができるとともに、外光（例えば、光の出射側等から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを防止する機能を有する。このような着色部を有することにより、コントラストに優れた画像を得ることができる。
【００３２】
特に、着色部２２は、後に詳述するように、基板本体２に着色液（特に、組成に特徴を有する着色液）を付与することにより形成されたものである。より詳しく説明すると、着色部２２は、後に詳述するような着色液を基板本体２に付与することにより、着色剤が基板本体２（マイクロレンズ２１）の内部に含浸して形成されたものである。
このため、基板本体上に着色層を積層（外付け）した場合に比べて、着色層の密着性が高くなる。その結果、例えば、界面付近での屈折率の変化等によるマイクロレンズ基板の光学特性への悪影響の発生をより確実に防止することができる。
【００３３】
また、着色部２２は、基板本体２に着色液を付与することにより形成されたものであるため、各部位での厚さのばらつき（特に、基板本体の表面形状に対応しない厚さのばらつき）が小さい。これにより、投射される画像において、色ムラ等の不都合が発生するのを防止することができる。特に、本発明では、着色液の付与を所定の温度条件で行うことにより、色ムラ等の不都合の発生をより確実に防止することができる。
【００３４】
また、着色部２２は、着色剤を含む材料で構成されているものの、通常、その主成分は、基板本体２（マイクロレンズ２１）の主成分と同一である。したがって、着色部２２と、それ以外の非着色部との境界付近での急激な屈折率の変化等が生じ難い。したがって、マイクロレンズ基板１全体としての光学特性を設計し易く、また、マイクロレンズ基板１としての光学特性は安定し、信頼性の高いものとなる。
【００３５】
着色部２２の濃度は、特に限定されないが、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）で２０〜９５％であるのが好ましく、３０〜８５％であるのがより好ましく、３５〜７５％であるのがさらに好ましい。着色部２２の濃度が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。これに対し、着色部２２の濃度が前記下限値未満であると、入射光の透過率が低下し、得られる画像において十分な輝度が得られず、結果として、画像のコントラストが不十分となる可能性がある。また、着色部２２の濃度が前記上限値を超えると、外光（光の入射側とは反対側から入射する外光）の反射を十分に防止することが困難となり、明室において光源を全消灯させた際の、黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度）が大きくなるため、画像のコントラストを向上させるという効果が十分に得られない可能性がある。
【００３６】
着色部２２の色は、特に限定されないが、青色を基調とし、赤色あるいは茶色あるいは黄色を混色した着色剤を用い、外観としては無彩色で黒色であり、光源の光の三原色のバランスを制御する特定の波長の光を選択的に吸収または透過するものであるのが好ましい。これにより、外光の反射を防止し、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像の色調を正確に表現し、さらに色座標が広く（色調の表現の幅が十分に広く）、より深い黒を表現できることで、結果的にコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３７】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、ブラックマトリックスが設けられていてもよい。この場合、ブラックマトリックスは、遮光性を有する材料で構成され、層状に形成されたものである。このようなブラックマトリックスを有することにより、当該ブラックマトリックスに、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、さらにコントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したような着色部２２を有するとともに、ブラックマトリックスを有することにより、マイクロレンズ基板１による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３８】
このようなブラックマトリックスは、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部を有しているのが望ましい。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックスの開口部を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。
ブラックマトリックスの開口部の大きさは、特に限定されないが、その直径が、５〜１００μｍであるのが好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
【００３９】
また、ブラックマトリックスの厚さ（平均厚さ）は、０．０１〜５μｍであるのが好ましい。ブラックマトリックスの厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックスの不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックスとしての機能をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００４０】
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、ブラックマトリックス（ブラックマトリックスの開口部以外の領域）が占める面積（投影面積）の割合は、１〜７０％であるのが好ましく、１〜５０％であるのがより好ましい。ブラックマトリックスが占める面積の割合が前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。
【００４１】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
【００４２】
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１の着色部が形成された面側からに入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、その反対の面側から出射する。また、マイクロレンズ基板１がブラックマトリックスを有するものである場合、各マイクロレンズ２１によって集光した光が、ブラックマトリックス（遮光層）の開口部を通過する。
このとき、マイクロレンズ基板１に入射した光は、十分な透過率でマイクロレンズ基板１を透過する。マイクロレンズ基板１から出射した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【００４３】
次に、前述したマイクロレンズ基板１の製造方法の一例について説明する。
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図、図５は、図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。図６、図７は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図６、図７（図９についても同様）中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
また、凹部付き部材の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板（基板本体）の製造においては、実際には多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００４４】
まず、マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）の構成およびその製造方法について説明する。
凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材６の構成材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。中でも、凹部付き部材６の構成材料としては、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスが好ましい。ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００４５】
凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）６は、マイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式（転写された位置関係）で配列した、複数個の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１を備えている。そして、これらの凹部６１は、マイクロレンズ２１が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ２１に対応する形状（転写された形状である以外は実質的に同一の形状）、寸法を有している。
【００４６】
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部（マイクロレンズ形成用凹部）６１は、凹部付き部材６を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００４７】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（縦方向）の長さをＸ［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＹ［μｍ］としたとき、０．１０≦Ｘ／Ｙ≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．５０≦Ｘ／Ｙ≦０．９５の関係を満足するのがより好ましく、０．７５≦Ｘ／Ｙ≦０．９０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００４８】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さ（凹部６１の幅）は、１０〜１００μｍであるのが好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４９】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜１２０μｍであるのが好ましい。凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００５０】
また、凹部６１の曲率半径は、５〜６０μｍであるのが好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部６１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
また、凹部６１の深さは、５〜６０μｍであるのが好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
【００５１】
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥格子状に配列している。このように凹部６１が配列することにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部（マイクロレンズ）の大きさ等によっては、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００５２】
また、上記のように、凹部６１は、凹部付き部材６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止することができるとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００５３】
なお、上記の説明では、凹部６１が、凹と凸の関係である以外は、マイクロレンズ２１と、実質的に同一の形状（寸法）、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、基板本体２の構成材料が収縮し易いものである場合（基板本体２を構成する組成物が固化等により収縮する場合）、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ２１と凹部６１とについて、これらの間で、形状（寸法）、占有率等が異なるようにしてもよい。
【００５４】
次に、凹部付き部材の製造方法について、図５を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、凹部付き部材６を製造するに際し、基板７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
【００５５】
＜Ａ１＞用意した基板７の表面に、多数個の初期孔（開口部）８１を有するマスク８を形成するとともに、基板７の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する（マスキング工程、図５（ａ）、図５（ｂ）参照）。
特に、本実施形態では、まず、図５（ａ）に示すように、用意した基板７の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板７の表面にマスク形成用膜４を形成し（マスク形成用膜形成工程）、その後、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜４に初期孔８１を形成すること（初期孔形成工程）によりマスク８を得る。マスク形成用膜４および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
【００５６】
マスク形成用膜４は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜４（マスク８）は、エッチングレートが、基板７と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
かかる観点からは、マスク形成用膜４（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜４（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００５７】
上記のように、マスク形成用膜４（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜４は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜４を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板７をより確実に保護することができる）。また、基板７がガラスで構成されたものであり、かつマスク形成用膜４（マスク８）が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜４（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板７との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜４（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００５８】
マスク形成用膜４の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜４（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）、またはこれらの複合材料（例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜４は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜４（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜４は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００５９】
マスク形成用膜４（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜４（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜０．３μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜４の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜４の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜４（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜４（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。
【００６０】
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜４（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜４の形成と同時に、マスク形成用膜４と同様に設けることができる。
【００６１】
次に、図５（ｂ）に示すように、マスク形成用膜４に、複数個の初期孔（開口部）８１を形成し、マスク８を得る（初期孔形成工程）。本工程で形成される初期孔８１は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、凹部付き部材を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜４に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部（初期孔８１）を形成することができる。
【００６２】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００６３】
本工程で形成する初期孔８１は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００６４】
また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１５μｍであるのがより好ましく、１．５〜１０μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
また、マスク形成用膜４に対してレーザ光の照射で初期孔８１を形成するだけでなく、例えば、基板７にマスク形成用膜４を形成する際に、予め基板７上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク形成用膜４を形成することでマスク形成用膜４に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１としてもよい。
【００６５】
＜Ａ２＞次に、図５（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板７にエッチングを施し、基板７上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００６６】
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｃ）に示すように、基板７は、マスク８が存在しない部分（マスク８の初期孔８１に対応する部位）より食刻され、基板７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部６１は、基板７の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００６７】
マスク８（マスク形成用膜４）が主としてクロム、酸化クロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素および／または硫酸が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
【００６８】
＜Ａ３＞次に、図５（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去することにより、凹部付き部材６が得られる。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
【００６９】
また、例えば、凹部付き部材６の凹部６１が設けられている面側に、離型処理を施してもよい。これにより、後に詳述するマイクロレンズ基板１の製造方法において、基板本体２が有するマイクロレンズ２１にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、凹部付き部材６を容易に取り外すことができ、結果として、最終的なマイクロレンズ基板１において、マイクロレンズ２１の欠陥を防止することができる。離型処理としては、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。
【００７０】
以上により、図５（ｄ）および図４に示すように、基板７上に多数の凹部６１が千鳥状に形成された凹部付き部材６が得られる。
基板７上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク形成用膜４に初期孔８１を形成してマスク８を得、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜４に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部（初期孔８１）を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
【００７１】
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
また、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８１の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
【００７２】
次に、上述した凹部付き部材６を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について説明する。
図６、図７は、図１に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図６、図７中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
【００７３】
＜Ｂ１＞まず、図６（ａ）に示すように、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与し、組成物２３を平板（押圧部材）１１で押圧する（押圧工程）。平板１１は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、後述する工程（固化工程）において、平板１１と組成物２３の固化物とを接合させる場合、組成物２３（固化後の組成物２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、平板１１の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。
【００７４】
なお、平板１１による組成物２３の押圧は、凹部付き部材６と、平板１１との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体２の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物２３を固化する際に、凹部付き部材６と平板１１との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、付与する樹脂として予めスペーサーが分散された組成物２３を用いてもよいし、凹部付き部材６上にスペーサーを配した状態で組成物２３を付与してもよいし、組成物２３の供給後にスペーサーを付与してもよい。
【００７５】
＜Ｂ２＞次に、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、マイクロレンズ２１を備えた基板本体２を得る（固化工程。図６（ｂ）参照）。
組成物２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
なおここで、必要に応じて組成物２３および／または平板１１の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物２３および／または平板１１全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。拡散材の量は特に限定するものではないが、視野角特性の観点から、Ｈａｚｅ（くもり度：Ｔｄ／Ｔｔ、Ｔｄ：拡散光線透過率、Ｔｔ：全光線透過率）が、例えば３０〜９９％になるようにすることが好ましい。
【００７６】
＜Ｂ３＞次に、基板本体２から、平板１１を取り除く（押圧部材除去工程。図６（ｃ）参照）。なお、固化工程において、基板本体２を、平板１１と組成物２３の固化物との接合体として得る場合、本工程は省略する。
また、基板本体２の製造は、図９に示すように、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与し、その上に、透明フィルム２４を載せ、この透明フィルム２４を介して、組成物２３を平板（押圧部材）１１で押圧し（押圧工程。図９（ａ）参照。）、その後、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、組成物２３の固化物と透明フィルム２４との接合体で構成された基板本体２を得（固化工程。図９（ｂ）参照）、次いで、基板本体２から、平板１１を取り除く（押圧部材除去工程。図９（ｃ）参照）ことにより行ってもよい。このような場合、透明フィルム２４は、組成物２３（固化後の組成物２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、透明フィルム２４の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。透明フィルムは、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。また、透明フィルム２４は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
【００７７】
＜Ｂ４＞次に、基板本体２を、凹部付き部材６から取り外す（凹部付き部材除去工程。図７（ｄ）参照）。このように、凹部付き部材６を取り外すことにより、凹部付き部材６を、基板本体２（マイクロレンズ基板１）の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される基板本体２（マイクロレンズ基板１）の品質の安定性を高めることができる。
【００７８】
＜Ｂ５＞その後、凹部付き部材６から取り外された基板本体２に対して着色液を付与することにより、着色部２２を形成し、マイクロレンズ基板１を得る（着色液付与工程。図７（ｅ）参照）。
着色液は、着色剤とベンジルアルコールとを含むものである。このような着色液を用いることにより、基板本体の着色を容易かつ確実に行うことができることを見出した点に、本発明は特徴を有する。特に、アクリル系樹脂のように、従来の着色方法では着色が困難であった材料で構成された基板本体に対しても、容易かつ確実に着色を施すことができる。これは、以下のような理由によるものであると考えられる。
【００７９】
すなわち、ベンジルアルコールを含む着色液を用いることにより、着色液中のベンジルアルコールが基板本体中に深く侵入、拡散し、基板本体を構成する分子の結合（分子間結合）を緩め、着色剤が侵入するための空間を確保する。そして、ベンジルアルコールにより確保された空間に着色剤が容易に、深く入りこむことにより、前記空間（着色剤のための座席（着色座席）に例えることができる）に着色剤が保持され、基板本体が着色され、また容易に脱離しない。
【００８０】
また、本発明では、上記のような着色液を用いることにより、均一な濃度の着色部を容易かつ確実に形成することができる。特に、着色に供される基板本体（ワーク）が、その表面にマイクロレンズのような微細な構造を有するもの（二次元方向への凹凸の周期がいずれも小さいもの）、また、着色されるべき領域が大面積のものであっても、樹脂の重合の不均一に伴う欠陥があっても、ベンジルアルコールが樹脂の分子の結合そのものを緩めることができるため、均一な濃度で（透過率のムラなく）着色部を形成することができる。
なお、ここで、ベンジルアルコールは、特にアクリル系樹脂に対して、前述の着色座席を確保する働きが強い。このために着色剤をより効率的に基板本体に取りこむことが可能となる。
【００８１】
着色液の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター、捺染等の各種塗布法や、基板本体２を着色液中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられるが、中でも、ディッピング（特に、浸染）が好ましい。これにより、容易かつ確実に着色部２２（特に、均一な濃度の着色部２２）を形成することができる。また、特に、着色液の付与を浸染により行う場合、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、ベンジルアルコールと浸染に用いることができる染料が溶液中に十二分に存在しているため、ベンジルアルコールが十分に着色座席を確保し、着色が容易に、且つ、大面積においても均一に行うことができるためである。
【００８２】
特に、本発明においては、着色液を付与する工程（着色液付与工程）を、所定の温度条件で行う（図１０参照）。より詳しく説明すると、本発明では、着色液付与工程に供される基板本体を構成する樹脂材料のガラス転移点をＴｇ［℃］としたとき、着色液付与工程における処理温度が（Ｔｇ＋３０）℃以下である点に特徴を有する。このような条件で着色液を付与することにより、均一な厚さで、かつ、着色濃度のムラが抑制された着色部を形成することができる。これに対し、着色液付与工程における処理温度が（Ｔｇ＋３０）℃を超えると、樹脂の軟化が急激に始まり、軟化し始めた部分は、基板本体の分子結合を著しく緩められることで、着色液が早く含浸するため、基板面内における着色液の含浸の程度に大きな差を生じる。このために形成される着色部の濃度のばらつきが急激に大きくなるために着色濃度のムラが発生する。なお、Ｔｇを超えたあたりから、基板本体の分子結合を基板全体で樹脂の軟化現象自体は始まり、基板本体の分子結合が緩まり、着色液が含浸し易くはなるが、軟化の程度の差がまだ大きくないために、着色濃度のばらつきを視認できるほど顕著ではない。しかしながら（Ｔｇ＋３０）℃を超えたと、軟化のレベルの差が面内で生じ始めるため、着色濃度のばらつきが視認できるようになる。また、色液付与工程における処理温度が高すぎると、基板本体の変形が生じ、レンズ基板において所望の光学特性が得られない可能性や、著しい着色ムラが発生する。
【００８３】
上述したように、本発明においては、着色液付与工程における処理温度は、（Ｔｇ＋３０）℃以下であるが、（Ｔｇ−７０）〜（Ｔｇ＋３０）℃であるのが好ましく、（Ｔｇ−６０）〜（Ｔｇ＋２０）℃であるのがより好ましく、（Ｔｇ−６０）〜（Ｔｇ）℃であるのがさらに好ましい。言い換えると、基板本体を構成する樹脂材料のガラス転移点をＴｇ［℃］、着色液付与工程における処理温度をＴ［℃］としたとき、Ｔ−Ｔｇは、３０℃以下であるが、−７０〜＋３０℃であるのが好ましく、−６０〜＋３０℃であるのがより好ましく、−６０〜０℃であるのがさらに好ましい。このような条件を満足することにより、比較的短時間で効率良く、均一な厚さで、かつ、着色濃度のムラが抑制された着色部を、より確実に形成することができる。
また、本発明においては、着色液付与工程における処理温度が４０〜１００℃である。なお、処理温度が４０℃未満では、著しく着色速度が低下し、必要な濃度まで着色できなくなる。また、処理温度が１００℃を超えると、基板の樹脂が変形したり、成形したレンズ形状が変形し、光学特性に影響を与えたり、画質の低下を招く。
【００８４】
上記のように、本発明では、着色液付与工程における処理温度が、所定の条件を満足すること、すなわち、図１０中、斜線部で示すような範囲内の温度であることを特徴とする。
また、着色液を付与する工程は、例えば、雰囲気圧を高めた状態（加圧した状態）で行ってもよい。これにより、着色液の基板本体内部への侵入を促進することができ、結果として、着色部２２を短時間で効率良く形成することができる。本手法は、Ｔｇが高い材料に対して特に有効である。また、着色液付与工程を、雰囲気圧を高めた状態で行うことにより、処理温度を比較的低いものとした場合であっても、本工程の処理時間を十分に短いものとすることができ、厚さのばらつき、濃度のばらつきが特に小さい好適な着色部２２を、短時間で効率良く形成することができる。
【００８５】
なお、着色液の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべき着色部２２の濃度を濃くしたい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
また、着色液の付与後、必要に応じて、加熱、冷却等の熱処理、光照射、雰囲気の加圧、減圧等の処理を施してもよい。これにより、着色部２２の定着（安定化）を促進することができる。
【００８６】
以下、本工程で用いる着色液についてより詳細に説明する。
着色液中におけるベンジルアルコールの含有率は、特に限定されないが、０．０１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．０５〜８．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンジルアルコールの含有率が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【００８７】
着色液中に含まれる着色剤は、各種染料、各種顔料等、いかなるものであってもよいが、染料であるのが好ましく、分散染料および／またはカチオン系染料であるのがより好ましく、分散染料であるのがさらに好ましい。これにより、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）を十分に防止しつつ、効率良く着色部２２を形成することができる。特に、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。これは、上記のような着色剤が、アクリル系樹脂等が有するエステル基（エステル結合）を染着座席とするために、より着色しやすいためであると考えられる。
【００８８】
また、着色液は、少なくとも、着色剤およびベンジルアルコールを含むものであればよいが、さらに界面活性剤を含むものであるのが好ましい。これにより、着色剤をベンジルアルコールの存在下においても、安定的に、均一に分散させることができ、着色液が付与される基板本体２が、アクリル系樹脂のような、従来の方法では、着色するのが困難であった材料で構成されたものであっても、容易かつ確実に着色することができる。界面活性剤としては、例えば、非イオン系（ノニオン系）、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。非イオン系（ノニオン系）界面活性剤としては、例えば、エーテル系界面活性剤、エステル系界面活性剤、エーテルエステル系界面活性剤、含窒素系界面活性剤等が挙げられ、より具体的には、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙げられる。また、アニオン系界面活性剤としては、例えば、各種ロジン、各種カルボン酸塩、各種硫酸エステル塩、各種スルホン酸塩、各種リン酸エステル塩等が挙げられ、より具体的には、ガムロジン、重合ロジン、不均一化ロジン、マレイン化ロジン、フマール化ロジン、マレイン化ロジンペンタエステル、マレイン化ロジングリセリンエステル、トリステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩等の金属塩等）、ジステアリン酸塩（例えば、アルミニウム塩、バリウム塩等の金属塩等）、ステアリン酸塩（例えば、カルシウム塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、リノレン酸塩（例えば、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、オクタン酸塩（例えば、アルミニウム塩、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、オレイン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩等の金属塩等）、パルミチン酸塩（例えば、亜鉛塩等の金属塩等）、ナフテン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン塩、鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、レジン酸塩（例えば、カルシウム塩、コバルト塩、マンガン鉛塩、亜鉛塩等の金属塩等）、ポリアクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリメタクリル酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、ポリマレイン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アクリル酸−マレイン酸共重合体塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、セルロース、ドデシルベンゼンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩）、アルキルスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩（例えば、ナトリウム塩等の金属塩等）等が挙げられる。また、カチオン系界面活性剤としては、例えば、１級アンモニウム塩、２級アンモニウム塩、３級アンモニウム塩、４級アンモニウム塩等の各種アンモニウム塩等が挙げられ、より具体的には、（モノ）アルキルアミン塩、ジアルキルアミン塩、トリアルキルアミン塩、テトラアルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。また、両性界面活性剤としては、例えば、カルボキシベタイン、スルホベタイン等の各種ベタイン、各種アミノカルボン酸、各種リン酸エステル塩等が挙げられる。
【００８９】
また、例えば、着色液中には、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が含まれていてもよい。これにより、上述したような効果がより顕著なものとして発揮される。より具体的には、例えば、基板本体２の着色をさらに容易かつ確実に行うことができ、特に、アクリル系樹脂のように、従来の着色方法では着色が困難であった材料で構成された基板本体２に対しても、容易かつ確実に着色を施すことができる。また、本工程での処理温度をより低いものとした場合であっても、短時間で効率良く好適な着色部２２を形成することができる。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとを併用することにより、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、ベンジルアルコールとが相補的に作用し合い、その結果として、これらを併用することによる顕著な効果（相乗的な効果）が発揮されるものであると考えられる。より具体的には、以下のような理由（メカニズム）によるものであると考えられる。
【００９０】
すなわち、まず第一に、着色液中のベンジルアルコールが基板本体を構成する樹脂の分子の結合を緩め、他の分子が入りこむための空間を確保する。第二にベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が、着色剤に優先して、この空間に侵入し深く拡散する。これは、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物が、ベンジルアルコールと同様に、基板本体を構成する樹脂の分子の結合を緩め、他の分子が入りこむための空間を確保する働きがあり、このためベンジルアルコールにより確保された空間を利用して、さらに深く、広く、その空間を広げる作用があることによる。なお着色剤にはこの働きがない。第三に、第二の作用と併行して着色剤が前記空間に入りこみ、保持される。あるいは一部、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物と置換する。このように、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物を、ベンジルアルコールと併用することにより、着色剤が基板本体中に、効率良く、さらに深く、比較的短時間で拡散でき、均一に着色することが可能となる。
【００９１】
ベンゾフェノン系化合物としては、下記式（Ｉ）またはこれに対応する他の限界構造式で示されるようなベンゾフェノン骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体（以下、単に「式（Ｉ）で示されるベンゾフェノン骨格を有する化合物」という）、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
【００９２】
【化１】
2007102044.tif 000003
【００９３】
このような化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、ベンゾフェノンアニル、ベンゾフェノンオキシム、ベンゾフェノンクロリド（α，α’−ジクロルジフェニルメタン）等が挙げられる。中でも、上記式（Ｉ）で表されるベンゾフェノン骨格を有する化合物であるのが好ましく、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンがより好ましい。このようなベンゾフェノン系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。なお、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの構造式（化学式）を、ぞれぞれ、下記式（II）、式（III）として示す。
【００９４】
【化２】
2007102044.tif 000004
【００９５】
【化３】
2007102044.tif 000005
【００９６】
また、ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記式（IV）またはこれに対応する他の限界構造式で表されるようなベンゾトリアゾール骨格を有する化合物、あるいはこれらの互変異性体（以下、単に「式（IV）で示されるベンゾトリアゾール骨格を有する化合物」という）、または、その誘導体（例えば、付加反応生成物、置換反応生成物、還元反応生成物、酸化反応生成物等）を用いることができる。
【００９７】
【化４】
2007102044.tif 000006
【００９８】
このような化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。中でも、上記式（IV）で表されるベンゾトリアゾール骨格を有する化合物であるのが好ましく、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールがより好ましい。このようなベンゾトリアゾール系化合物を用いることにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。なお、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの構造式（化学式）を、ぞれぞれ、下記式（Ｖ）、式（VI）として示す。
【００９９】
【化５】
2007102044.tif 000007
【０１００】
【化６】
2007102044.tif 000008
【０１０１】
着色液中には、上記のようなベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物が含まれていればよいが、２種以上の化合物（特に、１種以上のベンゾフェノン系化合物と、１種以上のベンゾトリアゾール系化合物）が含まれていてもよい。これにより、これらの化合物同士が相補的に作用し合うとともに、これらの化合物がベンジルアルコールと相補的に作用し合うことにより、前述したような効果はさらに顕著なものとして現れる。
また、上記のようなベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物とベンジルアルコールを含む前処理液に浸漬した後、前記着色液に浸漬しても同様の効果が得られる。
【０１０２】
着色液または前処理液がベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むものである場合、着色液または前処理液中におけるベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和は、特に限定されないが、０．００１〜１０．０ｗｔ％であるのが好ましく、０．００５〜５．０ｗｔ％であるのがより好ましく、０．０１〜３．０ｗｔ％であるのがさらに好ましい。ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和が上記範囲内の値であると、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０３】
また、着色液または前処理液中における、ベンジルアルコールの含有率をＸ［ｗｔ％］、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物の含有率の総和をＹ［ｗｔ％］としたとき、０．００１≦Ｘ／Ｙ≦１００００の関係を満足するのが好ましく、０．０５≦Ｘ／Ｙ≦１０００の関係を満足するのがより好ましく、０．２５≦Ｘ／Ｙ≦５００の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、ベンゾフェノン系化合物および／またはベンゾトリアゾール系化合物と、ベンジルアルコールとを併用することによる相乗効果がより顕著に発揮され、着色部２２を形成すべき基板本体２に対する悪影響の発生（例えば、基板本体２の構成材料の劣化等）をより効果的に防止しつつ、容易かつ確実に、また高速に好適な着色部２２を形成することができる。
【０１０４】
以上、説明したように、本発明の製造方法では、ベンジルアルコールを含む着色液を用い、所定の条件で当該着色液を基板本体に付与することにより、従来の方法では着色が困難なアクリル樹脂製の基板（基板本体）であっても、容易に均一な着色をすることができる。また、本発明の製造方法では、比較的大型のレンズ基板（例えば、対角線長が４０インチ以上のレンズ基板）であっても、好適に製造することができる。
【０１０５】
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図８は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、高輝度でコントラストに優れた画像を得ることができる。さらに、上記のようなマイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）を備えているので、視野角特性等も特に優れたものとなる。
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
【０１０６】
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、レンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材として板状（またはフィルム状）の部材（凹部付き基板）を用いるものとして説明したが、凹部付き部材は、このような形態のものに限定されず、例えば、ロール形状をなし、その周面に凹部を有するものであってもよい。
【０１０７】
また、着色液付与工程に先立ち、例えば、基板本体の着色のされ易さを向上させる等の目的で、基板本体に対して、前処理を行ってもよい。このような前処理としては、例えば、ベンジルアルコール、ベンゾフェノンおよびベンゾトリアゾールよりなる群から選択される少なくとも１種を含む液体を、基板本体に付与する処理等が挙げられる。
また、レンズ基板の製造方法の各工程は、前述したような順に行うものに限定されず、各工程の順序を変更してもよい。
また、ブラックマトリックスを形成する場合、着色部を形成する前にブラックマトリックスを形成してもよいし、着色部２２の形成後にブラックマトリックスを形成してもよい。
【０１０８】
また、前述した実施形態では、着色部がレンズ基板の光の入射側の全面に設けられているものとして説明したが、着色部は、光の入射面側の一部のみに設けられるものであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板におけるマイクロレンズ、および、凹部付き部材における凹部は、平面視したときの形状が楕円形であるものとして説明したが、マイクロレンズ、凹部の形状は、いかなるものであってもよく、例えば、円形、略四角形、略六角形等であってもよい。
【０１０９】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板におけるマイクロレンズ、および、凹部付き部材における凹部は、千鳥状に配列したものとして説明したが、マイクロレンズ、凹部の配列はいかなるものであってもよく、例えば、正方格子状、ハニカム状に配列したものであってもよい。また、マイクロレンズ、凹部は、ランダムに形成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板（レンズ基板）とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
【０１１０】
また、前述した実施形態では、視野角上の観点から、より望ましい形状のレンズ部として、マイクロレンズを備えた構成について説明したが、レンズ基板を構成するレンズ部（レンズ）は、これに限定されず、例えば、レンチキュラレンズであってもよい。レンチキュラレンズを使用することにより、レンズ部の製造工程を簡略化することができ、また、透過型スクリーンの生産性を向上させることができる。レンズ部として、レンチキュラレンズを使用する場合、ブラックマトリックスの代わりにストライプ状の遮光層（ブラックストライプ）を設けることができる。このような構成においても、前記実施形態と同様の作用・効果が得られる。
【０１１１】
また、前述した実施形態では、ブラックマトリックスを基板本体の表面に直接形成するものとして説明したが、ブラックマトリックスは、例えば、下地層（接着剤層）等を介して、基板本体に接合されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材の表面に組成物を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面に組成物を付与し、これを凹部付き部材で押圧することにより、レンズ基板を製造してもよい。
また、前述した実施形態では、レンズ基板の製造において、凹部付き部材、平板を除去するものとして、凹部付き部材は必ずしも除去しなくてもよい。言い換えると、凹部付き部材、平板は、レンズ基板の一部を構成するものであってもよい。
【０１１２】
また、本発明のレンズ基板、透過型スクリーンは、凸レンズを透過した光を拡散させる機能を有する拡散部、拡散板を有するものであってもよい。このような構成であると、例えば、透過型スクリーン、リア型プロジェクタの視野角特性をさらに優れたものとすることができる。
また、前述した実施形態では、レンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタに適用されるものに限定されず、いかなる用途のものであってもよい。例えば、本発明のレンズ付き基板は、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１１３】
［レンズ基板および透過型スクリーンの作製］
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【０１１４】
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたのマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１１５】
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度１．２Ｊ／ｃｍ２、加工点でのビーム直径２μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、所定の長さを有する初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の平均幅は２μｍであり、平均長さは２μｍであった。
【０１１６】
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は４０μｍ、深さは４０μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率はほぼ１００％であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
【０１１７】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、図２に示すような、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。得られた凹部付き部材を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が１００％であった。
【０１１８】
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂）を主成分とする樹脂材料）で構成された組成物を付与した。
次に、ソーダガラスで構成された平板で、２ｍｍのギャップを保持しながら前記アクリル系樹脂を押圧した。この際、平板と組成物との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、組成物を押圧する側の面に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（離型処理）が施されたものを用いた。
【０１１９】
その後、１２０℃に加熱することにより、組成物を硬化させ、徐冷し、押さえの平板と型（凹部付き部材）を取り外し、多数個のマイクロレンズを備えた基板本体を得た。得られた基板本体（硬化後の組成物）の屈折率ｎ１は、１．５５７であった。また、基板本体を構成する樹脂材料のガラス転移点Ｔｇは、１２０℃であった。また、得られた基板本体の樹脂層（マイクロレンズを除く部分）の厚さは２ｍｍであった。また、扁平形状（略楕円形状）のマイクロレンズは、その短軸方向の長さ（直径）が５４μｍ、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が４０μｍ、高さが４０μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率はほぼ１００％であった。
【０１２０】
次に、平板を取り除いた。
その後、基板本体を、凹部付き部材から取り外した。
その後、基板本体に対して、浸染により着色液を付与した（着色液付与工程）。このとき、マイクロレンズが形成された面側全体が着色液に接触し、裏面側には着色液が接触しないようにした。また、着色液を付与する際の基板本体および着色液の温度は、７０℃に調整した。着色液としては、分散染料（Ｂｌｕｅ（双葉産業製））：２重量部、分散染料（Ｒｅｄ（双葉産業製））：０．１重量部、分散染料（Ｙｅｌｌｏｗ（双葉産業製））：０．０５重量部、ベンジルアルコール：２０重量部、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン（ベンゾフェノン系化合物）：３重量部、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（ベンゾトリアゾール系化合物）：３重量部、および、界面活性剤：２重量部を、純水：１０００重量部に溶解した混合物を用いた。
【０１２１】
上記のような条件で、基板本体と着色液とを１２０分間接触させた後、着色液が貯留された槽から、基板本体を取り出し、十分水洗した後、乾燥させた。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行うことにより、着色部が形成されたマイクロレンズ基板を得た。形成された着色部の濃度は、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）で５２％であった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、フレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１２２】
（実施例２〜４）
着色液付与工程における処理温度および処理時間、着色液中におけるベンジルアルコール、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の含有率、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の種類を表１に示すように変更した以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。なお、着色液中におけるベンジルアルコール、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の含有率の変更は、これらの使用量とともに、純水の使用量を増減させることにより行い、他の成分（着色剤、界面活性剤）の含有率については、一定となるようにした。
【０１２３】
（実施例５）
基板本体を構成する樹脂材料としてガラス転移点が６０℃の紫外線硬化型のアクリル系樹脂としてメタクリレート系のモノマーを主原料とする紫外線硬化型の樹脂を用い、２Ｐ法により成型した。実施例１で作成したマイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材と、２Ｐ基材となる微少なビーズ拡散剤を含んだ板厚２ｍｍの透明アクリル板のあいだに、前記紫外線硬化型のアクリル系樹脂を気泡が入らないように挟み込んだ状態で、凹部付き部材側から紫外線を照射し、アクリル系樹脂を完全に硬化させた。その後凹部付き部材を取り外し、２Ｐ基材の表面にマイクロレンズが成型されたレンズ基板を得た。その後、着色液付与工程における処理温度を６０℃、処理時間を８０分とした以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１２４】
（実施例６〜８）
着色液付与工程における処理温度および処理時間、着色液中におけるベンジルアルコール、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の含有率、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の種類を表１に示すように変更した以外は、前記実施例５と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。なお、着色液中におけるベンジルアルコール、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の含有率の変更は、これらの使用量とともに、純水の使用量を増減させることにより行い、他の成分（着色剤、界面活性剤）の含有率については、一定となるようにした。
【０１２５】
（実施例９）
基板本体を構成する樹脂材料としてガラス転移点が３０℃の紫外線硬化型のアクリル系樹脂としてアクリレート系のモノマーを主原料とする紫外線硬化型の樹脂を用い、実施例５と同様に２Ｐ法により成型した。
その後、着色液付与工程における処理温度を５０℃、処理時間を７０分とした以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１２６】
（実施例１０〜１１）
着色液付与工程における処理温度および処理時間、着色液中におけるベンジルアルコール、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の含有率、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の種類を表２に示すように変更した以外は、前記実施例９と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。なお、着色液中におけるベンジルアルコール、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物の含有率の変更は、これらの使用量とともに、純水の使用量を増減させることにより行い、他の成分（着色剤、界面活性剤）の含有率については、一定となるようにした。
【０１２７】
（実施例１２（比較例））
基板本体に対して、着色部を形成しなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（実施例１３（比較例））
ベンジルアルコール、ベンゾフェノン系化合物およびベンゾトリアゾール系化合物を含まず、その分だけ、純水の含有率が高い着色液を用いた以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例について、着色部の形成に用いた着色液の条件、着色液付与工程の処理条件、形成された着色部の濃度（透過率）として、Ｙ値（Ｄ６５／２°視野）を表１にまとめて示す。なお、表１中、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノンを「Ａ」、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを「Ｂ」、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンを「Ｃ」、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを「Ｄ」で示し、基板本体を構成する樹脂材料のガラス転移点をＴｇ［℃］で示し、着色液付与工程における処理温度をＴ［℃］、着色液付与工程における着色液付与処理（接触）時間をｔ［ｍｉｎ］で示した。
【０１２８】
【表１】
2007102044.tif 000009
【０１２９】
［コントラストの評価］
前記各実施例で作製された透過型スクリーンについて、コントラストの評価を行った。コントラストは、暗室において４１０ｌｘの全白光が入射したときの白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ（ｃｄ／ｍ２）と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量（黒輝度増加量）ＬＢ（ｃｄ／ｍ２）との比、ＬＷ／ＬＢを求めた。明室は、外光照度１８５ｌｘ（明室）の部屋で測定した。輝度の測定にはトプコン製輝度計ＢＭ−７を用いた。
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例の透過型スクリーンを用いて、図８に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
【０１３０】
［色ムラの評価］
前記各実施例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンのＹ値（Ｄ６５／２°視野）を面内２０ポイント測定し、その透過率の最大値と最小値の差ΔＴ（Ｙ）（％）を、色ムラと定義し、色ムラの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：ΔＴ（Ｙ）（％）３％未満。色ムラが全く認められない。
○：ΔＴ（Ｙ）（％）３〜５％未満。色ムラがほとんど認められない。
△：ΔＴ（Ｙ）（％）５〜１０％。色ムラがわずかに認められる。
×：ΔＴ（Ｙ）（％）１０％超。色ムラが顕著に認められる。
【０１３１】
［スクリーンの歪みの評価］
前記各実施例で作成した透過型スクリーンをリア型プロジェクタにセットしたところ、基板の変形に伴い、スクリーンの歪みが生じた。スクリーンの歪みの発生状況を以下の４段階の基準に従い評価した。
◎：スクリーンの歪みが全く認められない。
○：スクリーンの歪みがほとんど認められない。
△：スクリーンの歪みがわずかに認められる。
×：スクリーンの歪みが顕著に認められる。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１３２】
【表２】
2007102044.tif 000010
【０１３３】
表２から明らかなように、本発明では、色ムラ、スクリーンの歪みのないコントラストに優れた画像を表示することができた。
これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。中でも、着色部を有していない実施例１２（比較例）および、実質的に十分な着色ができなかった実施例１３（比較例）では、コントラストが特に低いため、測定対象外となった。また、着色液付与工程を所定の温度条件で行わなかった実施例４、８、１１（いずれも比較例）では、実質的に着色することができなかったり、色ムラやスクリーンの歪みが顕著で低画質の画像しか表示することができなかった。これは、着色工程において、適切な処理温度条件を選択しなかったことによるものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０１３４】
【図１】本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すレンズ基板の模式的な平面図である。
【図３】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの第１実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図である。
【図５】図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図６】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法（基板本体の製造方法）の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図７】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図８】本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【図９】図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法（基板本体の製造方法）の他の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】本発明での着色液付与工程の処理温度と、基板本体を構成する樹脂材料のガラス転移点との関係を示す図（グラフ）である。
【符号の説明】
【０１３５】
１…マイクロレンズ基板（レンズ基板）  ２…基板本体  ２１…マイクロレンズ（レンズ部）  ２１１…中心  ２２…着色部（外光吸収部）  ２３…組成物  ２４…透明フィルム  ２５…第１の行  ２６…第２の行  ４…マスク形成用膜  ５…フレネルレンズ部  ５１…フレネルレンズ  ６…凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）  ６１…凹部  ７…基板  ８…マスク  ８１…初期孔  ８９…裏面保護膜  １０…透過型スクリーン  １１…平板（押圧部材）  ３００…リア型プロジェクタ  ３１０…投写光学ユニット  ３２０…導光ミラー  ３４０…筐体
【図１】
2007102044.tif 000011
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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