(57)【要約】【課題】  基板上に形成される発光素子の膜の平坦化を向上させるとともに、発光素子間の形状の均一性を向上し、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを好適に抑制することができる電気光学装置の製造方法および電気光学装置を提供する。【解決手段】  ガラス基板２上に第１バンクＢ１と第２バンクＢ２からなるバンクＢを形成し、その第１バンクＢ１によって形成された凹部９に正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機材料を含む機能液滴を吐出し、有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成する。このとき、正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機材料を含む機能液滴を凹部９に吐出する前に、第２バンクＢ２に撥液性を付与するためのＣＦ４プラズマ処理を行う。さらに、ＣＦ４プラズマ処理によって結合された撥液性官能基Ｆを親液性であるＯＨ基に置換して親液性にするための水蒸気処理を所定時間行う。【選択図】      図３
2007044582.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に隔壁を形成し、前記隔壁によって形成されたパターン形成領域にパターン形成材
料を含む機能液滴を吐出し、パターンを形成するパターン形成基板の表面処理方法におい
て、
前記機能液滴を前記パターン形成領域に吐出する前に、前記パターン形成領域に撥液性
を付与する撥液性処理を施し、前記パターン形成領域を所定時間だけ水蒸気に晒して前記
パターン形成領域に親液性を付与する水蒸気処理を施したことを特徴とする表面処理方法
。
【請求項２】
請求項１に記載の表面処理方法において、
前記隔壁は、絶縁層としての第１の隔壁と、前記第１の隔壁の上面に形成され、前記撥
液性処理によって前記第１の隔壁よりも撥液性を付与し易い第２の隔壁とから構成される
ことを特徴とする表面処理方法。
【請求項３】
請求項２に記載の表面処理方法において、
前記第１の隔壁は二酸化珪素から形成され、前記水蒸気処理によって親液性が付与され
ることを特徴とする表面処理方法。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の表面処理方法において、
前記第２の隔壁はアクリル樹脂から形成され、前記水蒸気処理によっても撥液性が保持
されることを特徴とする表面処理方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一つに記載の表面処理方法において、
前記パターン形成領域の底面はＩＴＯから形成され、前記水蒸気処理によって親液性が
付与されることを特徴とする表面処理方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の表面処理方法において、
前記水蒸気処理は、前記パターン形成領域を大気中に放置することによって施されるこ
とを特徴とする表面処理方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１つに記載の表面処理方法において、
前記所定時間は、前記パターン形成領域が親液性になるのに要する時間であることを特
徴とする表面処理方法。
【請求項８】
請求項７に記載の表面処理方法において、
前記所定時間は、前記パターン形成領域の前記機能液滴に対する接触角が１０［ｄｅｇ
］以下になるのに要する時間であることを特徴とする表面処理方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一つに記載の表面処理方法において、
前記撥液性処理は、大気圧プラズマ処理であることを特徴とする表面処理方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一つに記載の表面処理方法において、
前記撥液性処理を施す前に、前記パターン形成領域に親液性を付与する親液性処理を施
すことを特徴とする表面処理方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の表面処理方法において、
前記親液性処理は、酸素プラズマ処理であること特徴とする表面処理方法。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一つに記載の表面処理方法において、
前記パターン形成材料は、発光素子形成材料であることを特徴とする表面処理方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の表面処理方法において、
前記発光素子形成材料は、有機エレクトロルミネッセンス素子形成材料であることを特
徴とする表面処理方法。
【請求項１４】
表示基板上に隔壁を形成し、前記隔壁によって形成された発光素子形成領域に発光素子形
成材料を含む機能液滴を吐出して発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法
において、
前記機能液滴を前記発光素子形成領域に吐出する前に、請求項１〜１３のいずれか一つ
に記載の表面処理方法で、前記発光素子形成領域の表面を表面処理したことを特徴とする
電気光学装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の電気光学装置の製造方法で表示基板上に発光素子を形成した電気光学
装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面処理方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイに替わる自発発光型ディスプレイとして、有機物を発光材料と
して用いた有機エレクトロルミネッセンス（以下、単に有機ＥＬと記す）素子の開発が盛
んに行われている。その中でも、高分子系材料を使用したカラー化の手段として、インク
ジェット法を用いた微細パターニングによるカラー化が注目されている。
【０００３】
このインクジェット法は、表示基板上にマトリクス状に多数形成された素子形成領域に
、液滴吐出装置の吐出ノズルから発光素子形成材料を含む機能液滴を吐出し、その素子形
成領域に着弾した機能液滴を乾燥・硬化させることによって素子形成領域に有機ＥＬ層（
有機ＥＬ素子）を形成する。
【０００４】
このインクジェット法によれば、前記機能液滴を微小な液滴として吐出するため、他の
形成方法（例えば、スピンコート等）に比べて、有機ＥＬ層の形成位置や膜厚等をより高
い精度で制御することができる。しかも、インクジェット法は、素子形成領域にのみ機能
液滴を吐出するため、原材料である高分子有機材料の使用量を低減することができる。
【０００５】
ところが、インクジェット法では、素子形成領域に対する機能液滴の接触角が大きくな
ると（濡れ性が低くなると）、吐出した機能液滴が、素子形成領域の一部に偏倚するよう
になる。その結果、有機ＥＬ層は、各機能液滴間の境界等によって、その形状の均一性（
例えば、有機ＥＬ層の膜の平坦性や有機ＥＬ層間の形状の均一性等）を損なう問題を招く
。
【０００６】
そこで、こうしたインクジェット法では、吐出する機能液滴に対する素子形成領域の濡
れ性を向上する提案がなされている（例えば、特許文献１。）。特許文献１では、親液性
のプラズマ処理（酸素プラズマ処理）及び撥液性のプラズマ処理（フッ化処理）の後、素
子形成領域に水を接触させるようにしている。これによって、素子形成領域の濡れ性を向
上することができ、有機ＥＬ層の形状の均一性を向上することができる。
【特許文献１】特開２００２−１２２７２２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、この種のインクジェット法では、素子形成領域に水を接触させる水処理工程
の後に、その水を乾燥させるための乾燥工程を行うようにしている。この乾燥工程におい
て、素子形成領域を均一に乾燥させることが困難であり、素子形成領域の濡れ性が不均一
になってしまっていた。そのため、その素子形成領域に液滴が吐出されると、膜の平坦な
有機ＥＬ層と、膜の平坦でない有機ＥＬとが混在する有機ＥＬシートが形成され、有機Ｅ
Ｌ層の形状の均一性が損なわれるという問題点があった。
【０００８】
本発明は、前述した上記問題点を解消するためになされたものであって、その目的は、
表示基板上に形成されるパターンの膜の平坦化を向上させるとともに、パターン間の形状
の均一性を向上させることができる表面処理方法を提供することにある。
【０００９】
また、別の目的は、基板上に形成される発光素子の膜の平坦化を向上させるとともに、
発光素子間の形状の均一性を向上し、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを好適に抑制す
ることができる電気光学装置の製造方法および電気光学装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のパターン形成基板の表面処理方法は、基板上に隔壁を形成し、前記隔壁によっ
て形成されたパターン形成領域にパターン形成材料を含む機能液滴を吐出し、パターンを
形成するパターン形成基板の表面処理方法において、前記機能液滴を前記パターン形成領
域に吐出する前に、前記パターン形成領域に撥液性を付与する撥液性処理を施し、前記パ
ターン形成領域を所定時間だけ水蒸気に晒して前記パターン形成領域に親液性を付与する
水蒸気処理を施した。
【００１１】
本発明の表面処理方法によれば、パターン形成領域にパターン形成材料を含む機能液滴
を吐出する前に、撥液性処理を施しその後水蒸気処理を施すことによって、隔壁に撥液性
を、パターン形成領域に親液性を付与することができる。従って、親液性を付与した後に
パターン形成領域を乾燥させる必要がなく、乾燥ムラが生じない。そのため、パターン形
成領域の親液性が均一になり、基板上に形成されるパターンの膜の平坦化を向上させると
ともに、パターン間の形状の均一性を向上させることができる。
【００１２】
この表面処理方法において、前記隔壁は、絶縁層としての第１の隔壁と、前記第１の隔
壁の上面に形成され、前記撥液性処理によって前記第１の隔壁よりも撥液性を付与し易い
第２の隔壁とから構成される。
【００１３】
この表面処理方法によれば、絶縁層である第１の隔壁によって各パターン形成領域を電
気的に絶縁することができ、撥液性を付与し易い第２の隔壁によって各パターン形成領域
間の機能液滴の混合を好適に抑制することができる。
【００１４】
この表面処理方法において、前記第１の隔壁は二酸化珪素から形成され、前記水蒸気処
理によって親液性が付与される。
この表面処理方法によれば、二酸化珪素は水蒸気処理によって親液性が付与されるため
、機能液滴が均一に濡れ広がる。
【００１５】
この表面処理方法において、前記第２の隔壁はアクリル樹脂から形成され、前記水蒸気
処理によっても撥液性が保持される。
この表面処理方法によれば、アクリル樹脂は水蒸気処理を行っても撥液性を保持したま
まであるため、各パターン形成領域の機能液滴の混合を好適に抑制することができる。
【００１６】
この表面処理方法において、前記パターン形成領域の底面はＩＴＯから形成され、前記
水蒸気処理によって親液性が付与される。
この表面処理方法によれば、ＩＴＯは水蒸気処理によって親液性が付与されるため、機
能液滴が均一に濡れ広がる。
【００１７】
この表面処理方法において、前記水蒸気処理は、前記パターン形成領域を大気中に放置
することによって施される。
この表面処理方法によれば、パターン形成領域を大気中に所定時間だけ放置するという
簡便な方法によって水蒸気処理を行うことができる。
【００１８】
この表面処理方法において、前記所定時間は、前記パターン形成領域が親液性になるの
に要する時間である。
この表面処理方法によれば、パターン形成領域が親液性になってから、パターン形成領
域に機能液滴が吐出されるため、パターン形成領域の親液性によって機能液滴をより濡れ
広がせることができる。
【００１９】
この表面処理方法において、前記所定時間は、前記パターン形成領域の前記機能液滴に
対する接触角が１０［ｄｅｇ］以下になるのに要する時間である。
この表面処理方法によれば、パターン形成領域の機能液滴に対する接触角が１０［ｄｅ
ｇ］以下になってから、パターン形成領域に機能液滴が吐出されるため、パターン形成領
域は高い親液性を有しており、機能液滴をより均一に濡れ広がせることができる。
【００２０】
この表面処理方法において、前記撥液性処理は、大気圧プラズマ処理である。
この表面処理方法によれば、簡単な設備で簡便にパターン形成領域に撥液性を付与する
ことができる。
【００２１】
この表面処理方法において、前記撥液性処理を施す前に、前記パターン形成領域に親液
性を付与する親液性処理を施す。
この表面処理方法によれば、親液性処理を施すことによって、パターン形成領域に親液
性を付与することができるため、吐出される機能液滴がより濡れ広がりやすくなる。
【００２２】
この表面処理方法において、前記親液性処理は、酸素プラズマ処理である。
この表面処理方法によれば、簡単な設備で簡便にパターン形成領域に親液性を付与する
ことができる。
【００２３】
この表面処理方法において、前記パターン形成材料は、発光素子形成材料である。
この表面処理方法によれば、基板上に形成される発光素子の膜の平坦化を向上させると
ともに、発光素子間の形状の均一性を向上させることができる。
【００２４】
この表面処理方法において、前記発光素子形成材料は、有機エレクトロルミネッセンス
素子形成材料である。
この表面処理方法によれば、基板上に形成される有機エレクトロルミネッセンス素子の
表面の平坦化を向上させるとともに、有機エレクトロルミネッセンス間の形状の均一性を
向上させることができる。
【００２５】
本発明の電気光学装置の製造方法は、表示基板上に隔壁を形成し、前記隔壁によって形
成された発光素子形成領域に発光素子形成材料を含む機能液滴を吐出して発光素子を形成
するようにした電気光学装置の製造方法において、前記機能液滴を前記発光素子形成領域
に吐出する前に、上記記載の表面処理方法で、前記発光素子形成領域の表面を表面処理し
た。
【００２６】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、発光素子形成領域に発光素子形成材料を吐
出する前に、少なくとも撥液性処理を施しその後水蒸気処理を施すことによって、隔壁に
撥液性を、発光素子形成領域に親液性を付与することができる。従って、親液性を付与し
た後に発光素子形成領域を乾燥させる必要がなく、乾燥ムラが生じない。そのため、発光
素子形成領域の親液性が均一になり、表示基板上に形成される発光素子の膜の平坦化を向
上させるとともに、発光素子間の形状の均一性を向上し、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示
ムラを好適に抑制することができる。
【００２７】
本発明の電気光学装置は、上記電気光学装置の製造方法で表示基板上に発光素子を形成
した。
本発明の電気光学装置によれば、親液性を付与した後に発光素子形成領域を乾燥させる
必要がなく、乾燥ムラが生じない。そのため、発光素子形成領域の親液性が均一になり、
基板上に形成される発光素子の膜の平坦化を向上させるとともに、発光素子間の形状の均
一性を向上し、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを好適に抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明を具体化した電気光学装置の実施形態を図１〜図４に従って説明する。
まず、本発明の表面処理方法によって製造される電気光学装置としての有機エレクトロ
ルミネッセンスディスプレイ（以下、単に有機ＥＬディスプレイという）について説明す
る。図１は有機ＥＬディスプレイ１を説明するための正面図、図２はその有機ＥＬディス
プレイ１の図１中のａ−ａ線の要部断面図である。
【００２９】
図１において、有機ＥＬディスプレイ１は、本実施形態ではボトムエミッション型のデ
ィスプレイであって、平面板状の光透過性のパターン形成基板及び表示基板としてのガラ
ス基板２を備えている。そのガラス基板２の表面（素子形成面２ａ）の略中央位置には、
四角形状の表示領域Ｒが形成されている。その表示領域Ｒ内には、図１に示すように、ｍ
×ｎ個の画素３がマトリクス状に形成されている。ガラス基板２上であって、表示領域Ｒ
以外の領域（非表示領域）には、走査線駆動回路５が形成されている。
【００３０】
表示領域Ｒには、１行当たりｍ個の画素３がｎ行、また、１列当たりｎ個の画素３がｍ
列、形成されている。各画素３は、赤色の光を出射する赤色有機ＥＬ素子４Ｒ、緑色の光
を出射する緑色有機ＥＬ素子４Ｇ、青色の光を出射する青色有機ＥＬ素子４Ｂとから構成
されている。そして、各画素３は、図１中Ｘ矢印方向（行方向）に沿って、赤色有機ＥＬ
素子４Ｒ、緑色有機ＥＬ素子４Ｇ、青色有機ＥＬ素子４Ｂの順で配置されている。また、
図１Ｙ矢印方向（列方向）においては、同色の有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが配置され
る。
【００３１】
図２に示すように、ガラス基板２の素子形成面２ａ上には、各画素３を駆動させるため
の薄膜トランジスタ８等といった回路素子や、非表示領域に形成される走査線駆動回路５
を構成する回路素子の一部または全部が形成される回路形成層６が形成されている。回路
形成層６の上面であって表示領域Ｒに対応した領域には、パターン及び発光素子を構成す
る各有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを区画する隔壁としてのバンクＢが形成されている。
【００３２】
バンクＢは、第１の隔壁としての第１バンクＢ１と、第１バンクＢ１の上に形成された
第２の隔壁としての第２バンクＢ２とからなる。第１バンクＢ１は二酸化珪素よりなり絶
縁性を有し、第２バンクＢ２はアクリル樹脂、ポリイミド樹脂や撥液性のあるフッ素系樹
脂等の有機樹脂よりなる。そのうちの第１バンクＢ１で囲まれたパターン形成領域及び発
光素子形成領域としての凹部９には、それぞれ対応する有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが
形成される。また、第２バンクＢ２は、有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成することに
なる後工程のために、撥液性であることが好ましい。従って、フッ素系樹脂を除いて第２
バンクＢ２をアクリル樹脂やポリイミド樹脂等で形成する際には、大気圧プラズマ処理等
により表面を撥液化する必要がある。なお、本実施形態においては、第２バンクＢ２をア
クリル樹脂で形成している。
【００３３】
第１バンクＢ１によって区画された凹部９の底面には、陽極１０が形成されている。陽
極１０は、光透過性を有する透明導電膜であって、本実施形態ではＩＴＯによって形成さ
れている。また、各陽極１０は、対応する薄膜トランジスタ８とコンタクトホール１１を
介して電気的に接続されている。なお、各陽極１０は、バンクＢ（第１バンクＢ１）によ
って互いに絶縁されている。
【００３４】
各凹部９において、その陽極１０上には、有機材料からなる有機エレクトロルミネッセ
ンス層（有機ＥＬ層）１２が形成されている。有機ＥＬ層１２は、本実施形態においては
、正孔輸送層１３、そして、正孔輸送層１３の上に形成される赤色発光層１４、緑色発光
層１５又は青色発光層１６の２層からなる有機化合物層である。赤色発光層１４は、赤色
の光を出射する有機発光材料で構成された発光層である。緑色発光層１５は、緑色の光を
出射する有機発光材料で構成された発光層である。青色発光層１６は、青色の光を出射す
る有機発光材料で構成された発光層である。
【００３５】
発光層１４，１５，１６及び各バンクＢの上面には、アルミニウム等の光反射性を有す
る金属膜からなる陰極１８が形成されている。また、陰極１８は非表示領域上を覆うよう
に形成されている。そして、陽極１０、正孔輸送層１３、発光層１４，１５，１６及び陰
極１８で、各有機ＥＬ素子４Ｒ，４Ｇ，４Ｂが形成される。そして、陰極１８の上側には
、図示しないエポキシ樹脂等のコーティング材で形成され、各種金属膜や有機ＥＬ層１２
の酸化等を防止するための封止部１９が形成されている。
【００３６】
そして、データ信号に応じた駆動電流が陽極１０に供給されると、有機ＥＬ層１２は、
その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機ＥＬ層１２から陰極１８側（図２に
おける上側）に向かって発光された光は、同陰極１８によって反射される。そのため、有
機ＥＬ層１２から発光された光は、その殆どが、陽極１０、回路形成層６、ガラス基板２
を通過してガラス基板２の裏面側（表示面２ｂ）から出射される。即ち、データ信号に基
づく画像が有機ＥＬディスプレイ１の表示面２ｂに表示される。
【００３７】
次に、有機ＥＬディスプレイ１の製造工程について以下に説明する。
図３（ａ）に示すように、ガラス基板２上には、回路形成層６が形成されている。回路
形成層６上には、バンクＢ（第１及び第２バンクＢ１，Ｂ２）が形成され、第１バンクＢ
１に囲まれた凹部９には、ＩＴＯからなる陽極１０が形成されている。
【００３８】
この状態から、凹部９の底面部分（陽極１０の表面１０ａ）及びバンクＢの表面処理を
行う。即ち、表面処理では、まず、陽極１０の表面１０ａ及びバンクＢの内周面を撥液性
から親液性にするために、図示しない公知の表面処理装置等を用いて陽極１０の表面１０
ａ及びバンクＢ全体に大気圧下で酸素プラズマを照射する大気圧プラズマ処理を行う。こ
の親液性処理としての酸素プラズマ処理は、後工程における液滴吐出ヘッド（インクジェ
ットヘッド）の液滴吐出ノズルから各バンクＢによって区画された凹部９内に吐出される
パターン形成材料、発光素子形成材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子形成材料を
構成する正孔輸送有機材料を含む機能液及び発光有機材料を含む機能液が凹部９全体に濡
れ広がるようにするための処理である。
【００３９】
続いて、バンクＢの第２バンクＢ２を親液性から撥液性にするために、図示しない公知
の表面処理装置等を用いて陽極１０の表面１０ａ及びバンクＢ全体に大気圧下でＣＦ４プ
ラズマを照射する大気圧プラズマ処理を行う。この撥液性処理としてのＣＦ４プラズマ処
理は、液滴吐出ノズルから凹部９内に吐出された発光層材料を含む機能液が溢れて、第２
バンクＢ２を通過して隣の凹部９内に吐出された機能液と混合されるのを防止するための
処理である。
【００４０】
ＣＦ４プラズマ処理が行われると、図３（ｂ）に示すように、陽極１０の表面１０ａ、
第１バンクＢ１及び第２バンクＢ２に撥液性官能基Ｆが結合される。これによって、陽極
１０の表面１０ａ、第１バンクＢ１及び第２バンクＢ２は撥液性を有するようになり、機
能液との接触角θが高くなる。
【００４１】
次に、ＣＦ４プラズマ処理後、陽極１０、第１バンクＢ１及び第２バンクＢ２を大気中
（例えば、本実施形態では常温下、湿度４０〜５０％）に所定時間Ｔだけ放置させ、陽極
１０、第１バンクＢ１及び第２バンクＢ２を大気中に浮遊する水蒸気に晒す水蒸気処理を
行う。所定時間Ｔは、使用するバンクＢや陽極１０の材質に応じて自由に変更可能な値で
あって、機能液に対する凹部９（陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１の側壁）の接
触角θが有機ＥＬ層１２の膜を平坦に、且つ有機ＥＬ層１２間の形状を均一に成形するこ
とができる接触角θ（＝１０［ｄｅｇ］以下）に達する時間である。なお、所定時間Ｔは
予め試験、実験等で求めた値であって、本実施形態では例えば１時間に設定している。
【００４２】
水蒸気処理によって、陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１に結合している撥液性
官能基Ｆが親液性を有するＯＨ基に置換され、陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１
が再び撥液性から親液性になる（図３（ｃ）参照）。
【００４３】
詳しくは、図４に従って説明する。図４は、本実施形態における電気光学装置の製造方
法を用いて、大気圧プラズマ処理（酸素プラズマ処理及びＣＦ４プラズマ処理）後に有機
ＥＬディスプレイ１を大気放置した場合の陽極１０の表面１０ａ（ＩＴＯ）、第１バンク
Ｂ１及び第２バンクＢ２の機能液に対する各接触角θの経時変化を示している。図４に示
すように、陽極１０の表面１０ａ（ＩＴＯ）及び第１バンクＢ１は時間経過とともに機能
液に対する接触角θが変化している。
【００４４】
即ち、陽極１０の表面１０ａは、大気に晒された直後に大量の撥液性官能基ＦがＯＨ基
に置換されて接触角が約１０［ｄｅｇ］と低くなり、その後時間とともに接触角が高くな
り撥液性が高くなる。また、第１バンクＢ１は、大気に晒されている時間とともに少しず
つ撥液性官能基ＦがＯＨ基に置換され、接触角が低くなり撥液性が低くなる。有機ＥＬ層
１２を形成する際には、正孔輸送層１３及び各発光層１４，１５，１６それぞれに接する
陽極１０の表面１０ａと第１バンクＢ１の両方（凹部９）の接触角θが１０［ｄｅｇ］以
下であることが好ましい。そのため、本実施形態では、所定時間Ｔを１時間に設定してい
る。なお、第２バンクＢ２と撥液性官能基Ｆとの結合は強固なため、陽極１０の表面１０
ａや第１バンクＢ１のように撥液性官能基ＦがＯＨ基には置換されないため、接触角θが
約９０［ｄｅｇ］で一定となっており、高い撥液性を保持している。
【００４５】
そして、ＣＦ４プラズマ処理から所定時間Ｔ（１時間）が経過して水蒸気処理が終了す
ると、有機ＥＬ層１２（正孔輸送層１３及び各発光層１４，１５，１６）の形成が行われ
る。詳しくは、インクジェット法を利用して、図示しないインクジェットヘッドの液滴吐
出ノズルから、第１バンクＢ１によって区画された凹部９に正孔輸送有機材料を含む機能
液滴を吐出させる。そして、各凹部９に対して吐出された正孔輸送有機材料を含む機能液
滴を乾燥させ、正孔輸送層１３を形成する。
【００４６】
このとき、前工程の水蒸気処理によって、凹部９（陽極１０の表面１０ａ及び第１バン
クＢ１の側壁）の機能液に対する接触角θが１０［ｄｅｇ］以下となっており、正孔輸送
有機材料を含む機能液滴の接触する面が親液性に保たれているため、正孔輸送有機材料を
含む機能液滴が均一に濡れ広がる。また、第２バンクＢ２の機能液に対する接触角θが約
９０［ｄｅｇ］となっているため、正孔輸送有機材料を含む機能液滴に対する撥液性が保
たれており、隣の凹部９に吐出された正孔輸送有機材料を含む機能液滴とは混合しない。
従って、均一に濡れ広がった正孔輸送有機材料を含む機能液滴を乾燥させることによって
、表面が平坦な正孔輸送層１３が形成される。
【００４７】
次に、インクジェット法を利用して、図示しないインクジェットヘッドの液滴吐出ノズ
ルから、表面が平坦な正孔輸送層１３が形成された凹部９に対し、発光有機材料を含む機
能液滴を吐出させる。そして、凹部９に対して吐出された発光有機材料を含む機能液滴を
乾燥させ、赤色発光層１４、緑色発光層１５又は青色発光層１６を形成する。
【００４８】
このとき、第１バンクＢ１は引き続き接触角θが１０［ｄｅｇ］以下に保持されており
、発光有機材料を含む機能液滴の接触する面が親液性に保たれているため、発光有機材料
を含む機能液滴が均一に濡れ広がる。また、第２バンクＢ２の機能液に対する接触角θが
９０［ｄｅｇ］となっているため、発光有機材料を含む機能液滴に対する撥液性が保たれ
ており、隣の凹部９に吐出された発光有機材料を含む機能液滴とは混合しない。従って、
均一に濡れ広がった発光有機材料を含む機能液滴を乾燥させることによって、表面が平坦
な発光層１４，１５，１６がそれぞれ形成される。
【００４９】
そして、凹部９において表面が平坦な赤色発光層１４、緑色発光層１５及び青色発光層
１６が形成された後、バンクＢと発光層１４，１５，１６の上面においては、アルミニウ
ム等の光反射性を有する金属膜からなる陰極１８を積層形成する。さらに、陰極１８の上
面には、エポキシ樹脂等からなる封止部１９を形成し、封止を行う。以上により、各有機
ＥＬ層１２の膜を平坦に形成することができるため、各有機ＥＬ層１２の形状が均一な有
機ＥＬディスプレイ１を形成することができる。よって、形成された有機ＥＬディスプレ
イ１は、輝度ムラ、発光色ムラのない均一な表示を可能にすることができる。
【００５０】
次に、本実施形態の効果を以下に記載する。
（１）本実施形態によれば、凹部９に正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機材
料を含む機能液滴を吐出する前に、第２バンクＢ２に撥液性を付与するためにＣＦ４プラ
ズマ処理を施した。次に、所定時間Ｔ（陽極１０及び第１バンクＢ１の機能液に対する接
触角を１０［ｄｅｇ］以下にするのに要する時間）だけ有機ＥＬディスプレイ１を大気中
に放置して、凹部９（陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１の側壁）に親液性を付与
した。従って、親液性を付与した後に陽極１０及び第１バンクＢ１を乾燥させる必要がな
く、乾燥ムラが生じない。そのため、陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１の親液性
が均一になり、ガラス基板２上に形成される有機ＥＬ層１２の平坦化を向上させるととも
に、有機ＥＬ層１２間の形状の均一性を向上し、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラを好
適に抑制することができる。また、隣接する有機ＥＬ層１２での発光素子寿命のばらつき
を低減することができ、さらに電気特性が向上するため、有機ＥＬディスプレイ１が長寿
命化になる。
【００５１】
（２）本実施形態によれば、凹部９（陽極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１の側壁
）の撥液性を親液性に置換するための水蒸気処理を、有機ＥＬディスプレイ１を所定時間
Ｔだけ大気中に放置して行った。従って、公知技術である水処理工程のように特別な装置
を必要とせず、有機ＥＬディスプレイ１を大気中に放置するという簡単な操作によって行
うことができる。さらに、乾燥工程が不要であるため、乾燥ムラが生じることはなく、陽
極１０の表面１０ａ及び第１バンクＢ１のそれぞれの親液性を均一にすることができる。
さらにまた、凹部９の親液性を、大気放置する時間を変更するだけで自在に調整すること
ができる。
【００５２】
（３）本実施形態によれば、陽極１０をＩＴＯで構成し、第１バンクＢ１を二酸化珪素
で構成し、第２バンクＢ２をアクリル樹脂で構成した。そして、水蒸気処理によって、陽
極（ＩＴＯ）１０の表面１０ａ及び第１バンク（二酸化珪素）Ｂ１は撥液性から親液性に
置換され、第２バンクＢ２は撥液性を保持するようにした。従って、陽極１０及び第１バ
ンクＢ１の親液性によって、正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機材料を含む機
能液滴が均一に濡れ広がるため、表面が平坦な有機ＥＬ層１２を形成することができる。
また、第２バンクＢ２の撥液性によって、正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機
材料を含む機能液滴は隣の凹部９に混入しないようになっているため、隣の凹部９に吐出
された正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機材料を含む機能液滴とは混合しない
。
【００５３】
（４）本実施形態によれば、陽極１０の表面１０ａが親液性を保持している間（液滴に
対する接触角θが１０［ｄｅｇ］以下の間）に水蒸気処理を終了し、凹部９に正孔輸送有
機材料を含む機能液滴及び発光有機材料を含む機能液滴が吐出されるようにした。従って
、陽極１０の表面１０ａの親液性によって、正孔輸送有機材料を含む機能液滴を均一に濡
れ広がせることができる。
【００５４】
（５）本実施形態によれば、第１バンクＢ１が高い親液性（液滴に対する接触角θが１
０［ｄｅｇ］以下）を有するようになるまで水蒸気処理を続けた。従って、凹部９に正孔
輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機材料を含む機能液滴を吐出する際には、第１バ
ンクＢ１は高い親液性を有しているため、正孔輸送有機材料を含む機能液滴及び発光有機
材料を含む機能液滴が均一に濡れ広がる。
【００５５】
（６）本実施形態によれば、親液性を付与するために酸素プラズマ処理を行い、撥液性
を付与するためにＣＦ４プラズマ処理を行うようにした。従って、簡単な設備で簡便な方
法によって、素子形成面２ａの表面処理を行うことができる。
【００５６】
なお、上記実施形態は、以下の態様に変更してもよい。
・上記実施形態では、水蒸気処理を行う所定時間Ｔを１時間に設定したが、これに制限
されるものではない。また、陽極１０及び第１バンクＢ１の機能液に対する接触角θが１
０［ｄｅｇ］以下になる時間に設定したが、これに制限されるものではない。例えば、水
蒸気処理後において膜の平坦化が確保されるのであれば接触角θは２０［ｄｅｇ］以下で
あってもよく、その場合は、接触角θが２０［ｄｅｇ］以下になる時間を設定してもよい
。
【００５７】
・上記実施形態では、水蒸気処理を大気に放置することによって行ったが、これを水蒸
気雰囲気下に変更して実施してもよい。これによって、多くの水蒸気と反応が起こるため
、水蒸気処理の時間を短縮することができる。
【００５８】
・上記実施形態では、水蒸気処理を常温で湿度４０〜５０％の大気中で行うようにして
いたが、この温度、湿度に制限されるものではない。例えば、高湿度セミチャンバー等を
用いて湿度を８０〜９０％のように高くして高湿度雰囲気下で水蒸気処理を行うように変
更してもよい。これによって、撥液性官能基Ｆから親液性を有するＯＨ基への置換が促進
され、水蒸気処理の時間を短縮することができる。
【００５９】
・上記実施形態では、パターン形成材料及び発光素子形成材料として有機ＥＬ形成材料
を採用した。これに代えて、パターン形成材料及び発光素子形成材料は、例えばカラーフ
ィルタ形成材料であってもよい。この場合、パターン形成領域にカラーフィルタ形成部材
として赤、青、緑のいずれかのフィルタ材料を含む機能液滴が吐出され、各色の着色層が
形成される。
【００６０】
・上記実施形態では、撥液性処理としてのＣＦ４プラズマ処理よりも前に、親液性処理
としての酸素プラズマ処理を行うようにしたが、この親液性処理を省略して実施してもよ
い。
【００６１】
・上記実施形態では、親液性処理及び撥液性処理を大気圧プラズマ処理によって行った
が、これに制限されるものではない。例えば、真空プラズマ処理や減圧プラズマ処理に変
更して実施してもよい。また、ＵＶ処理やカップリング処理等に変更して表面処理を行っ
てもよい。
【００６２】
・上記実施形態では、親液性処理として酸素プラズマを照射したが、凹部９やバンクＢ
に親液性を付与することができれば、酸素プラズマに制限されるものではない。
・上記実施形態では、撥液性処理としてＣＦ４プラズマを照射したが、凹部９やバンク
Ｂ、特に第２バンクＢ２に撥液性を付与することができれば、ＣＦ４プラズマに制限され
るものではない。例えば、ＣＨＦ３、ＳＦ６ガス等のハロゲンガスに変更して実施しても
よい。
【００６３】
・上記実施形態では、発光素子形成領域を形成するバンクＢは二酸化珪素からなる第１
バンクＢ１とアクリル樹脂からなる第２バンクＢ２の２層から形成されている。これに代
えて、第２バンクＢ２のみから形成されていてもよい。
【００６４】
・上記実施形態では、パターン形成基板又は表示基板としてガラス基板２を採用した。
これに代えて、樹脂材料からなる基板や半導体基板を使用してもよい。
・上記実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１として具体化したが、こ
れに限られず、例えば液晶パネルに装着されるバックライト等であってもよく、あるいは
平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の蛍光を利用し
た電界効果型ディスプレイ（ＦＥＤやＳＥＤ等）であってもよい。
【００６５】
・上記実施形態では、ボトムエミッション型の有機ＥＬディスプレイ１に具体化したが
、これに制限されない。例えば、トップエミッション型に変更して実施してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本実施形態における有機ＥＬディスプレイを説明するための正面図。
【図２】本実施形態における有機ＥＬディスプレイを説明するための要部断面図。
【図３】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ本実施形態における有機ＥＬディスプレイの製造工程を説明するための要部断面図。
【図４】本実施形態における接触角の経時変化を説明するためのグラフ図。
【符号の説明】
【００６７】
Ｂ…隔壁としてのバンク、Ｂ１…第１の隔壁としての第１バンク、Ｂ２…第２の隔壁と
しての第２バンク、Ｆ…撥液性官能基、θ…接触角、１…電気光学装置としての有機ＥＬ
ディスプレイ、２…パターン形成基板及び表示基板としてのガラス基板、４Ｒ，４Ｇ，４
Ｂ…パターン及び発光素子を構成する有機ＥＬ素子、９…パターン形成領域及び発光素子
形成領域としての凹部、１０…陽極、１２…有機ＥＬ層、１３…正孔輸送層、１４…赤色
発光層、１５…緑色発光層、１６…青色発光層
【図１】
2007044582.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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