(57)【要約】【課題】リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤の大気への放出を抑制し、環境汚染の防止に寄与するフッ素系溶剤の回収方法及び回収システムを提供すること。【解決手段】リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤を回収する回収方法であって、揮発した前記フッ素系溶剤を誘導路２０により、回収槽３０内のフッ素系捕捉溶剤３１内に移送する移送工程と、揮発した前記フッ素系溶剤を前記フッ素系捕捉溶剤３１に通過させ、前記フッ素系溶剤を回収する回収工程と、を含むフッ素系溶剤の回収方法である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤を回収する回収方法であって、
揮発した前記フッ素系溶剤をフッ素系捕捉溶剤内に移送する移送工程と、
揮発した前記フッ素系溶剤を前記フッ素系捕捉溶剤に通過させ、前記フッ素系溶剤を回収する回収工程と、を含むフッ素系溶剤の回収方法。
【請求項２】
前記移送工程において、揮発した前記フッ素系溶剤を冷却する請求項１記載のフッ素系溶剤の回収方法。
【請求項３】
前記回収工程において、前記フッ素系捕捉溶剤を冷却する請求項１または２記載のフッ素系溶剤の回収方法。
【請求項４】
前記フッ素系溶剤がレジスト保護膜の除去に用いられるレジスト保護膜除去剤である請求項１から３いずれか記載のフッ素系溶剤の回収方法。
【請求項５】
前記フッ素系溶剤が、液浸露光プロセスのレジスト保護膜の除去に用いられるレジスト保護膜除去剤である請求項１から４いずれか記載のフッ素系溶剤の回収方法。
【請求項６】
前記フッ素系溶剤が、炭素原子数４〜１０のフッ素化炭化水素、水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されている少なくとも１以上の酸素原子を環構成原子として有する複素環化合物、フルオロアルキルアミン、及びハイドロフルオロエーテルの中から選ばれる少なくとも１種である請求項１から５いずれか記載のフッ素系溶剤の回収方法。
【請求項７】
前記フッ素系捕捉溶剤が、フルオロアルキルアミン、炭素原子数４〜１０フッ素化炭化水素、及び水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されている少なくとも１以上の酸素原子を環構成原子として有する複素環化合物の中から選ばれる少なくとも１種である請求項１から６いずれか記載のフッ素系溶剤の回収方法。
【請求項８】
リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤を回収する回収システムであって、
揮発した前記フッ素系溶剤をフッ素系捕捉溶剤内に移送する移送手段と、
揮発した前記フッ素系溶剤をフッ素系捕捉溶剤に通過させ、前記フッ素系溶剤を回収する回収手段と、を備えるフッ素系溶剤の回収システム。
【請求項９】
前記移送手段において、前記移送を補助する移送補助手段を備える請求項８記載のフッ素系溶剤の回収システム。
【請求項１０】
前記移送手段において、揮発した前記フッ素系溶剤を冷却する第一の冷却手段を備える請求項８または９記載のフッ素系溶剤の回収システム。
【請求項１１】
前記フッ素系捕捉溶剤を冷却する第二の冷却手段を備える請求項８から１０いずれか記載のフッ素系溶剤の回収システム。
【請求項１２】
前記回収手段を複数段備える請求項８から１１いずれか記載のフッ素系溶剤の回収システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィー工程に用いられるフッ素系溶剤を回収する回収方法、及び回収システムに関し、特に、液浸露光プロセスにおける保護膜の除去に用いられるフッ素系溶剤の回収方法、及び、回収システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス、液晶デバイス等の各種電子デバイスにおける微細構造の製造には、リソグラフィー法が多用されているが、デバイス構造の微細化に伴って、リソグラフィー工程におけるレジストパターンの微細化が要求されている。
【０００３】
現在では、リソグラフィー法により、例えば、最先端の領域では、線幅が９０ｎｍ程度の微細なレジストパターンを形成することが可能となっているが、今後はさらに微細なパターン形成が要求される。
【０００４】
このような９０ｎｍより微細なパターン形成を達成させるためには、露光装置とそれに対応するレジストの開発が第１のポイントとなる。露光装置においては、Ｆ２エキシマレーザー、ＥＵＶ（極端紫外光）、電子線、Ｘ線、軟Ｘ線等の光源波長の短波長化やレンズの開口数（ＮＡ）の増大等が開発ポイントとしては一般的である。
【０００５】
しかしながら、光源波長の短波長化は高額な新たな露光装置が必要となるし、また、高ＮＡ化では、解像度と焦点深度幅がトレードオフの関係にあるため、解像度を上げても焦点深度幅が低下するという問題がある。
【０００６】
最近、このような問題を解決可能とするリソグラフィー技術として、液浸露光（リキッドイマージョンリソグラフィー）法という方法が報告されている。この方法は、露光時に、レンズと基板上のレジスト膜との間の少なくとも前記レジスト膜上に所定厚さの純水またはフッ素系不活性液体等の液浸露光用液体を介在させるというものである。この方法では、従来は空気や窒素等の不活性ガスであった露光光路空間を屈折率（ｎ）のより大きい液体、例えば純水等で置換することにより、同じ露光波長の光源を用いてもより短波長の光源を用いた場合や高ＮＡレンズを用いた場合と同様に、高解像性が達成されると同時に焦点深度幅の低下もない。
【０００７】
このような液浸露光を用いれば、現存の装置に実装されているレンズを用いて、低コストで、より高解像性に優れ、かつ焦点深度にも優れるレジストパターンの形成を実現できるため、大変注目されている。
【０００８】
しかしながら、このような液浸露光プロセスを用いたプロセスでは、レジスト膜の上層に、純水またはフッ素系不活性液体等の液浸露光用液体を介在させることから、当然ながら、前記液浸露光用液体による液浸露光中のレジスト膜への変質、及びレジスト膜からの溶出成分による前記液浸露光用液体自体の変質に伴う屈折率変動等が懸念される。
【０００９】
このような液浸露光プロセスであっても、従来のリソグラフィー法において用いられてきた材料系をそのまま転用可能な場合はあるが、レンズとレジスト膜との間に前記液浸露光用液体を介在させるという露光環境の違いから、前記従来のリソグラフィー法とは異なった材料系を使用することが提案されている。
【００１０】
このような中で、上述の液浸露光中の液浸露光用液体によるレジスト膜への変質、及び液浸露光用液体自体の変質に伴う屈折率変動を同時に防止することを目的とした手段として、フッ素置換ポリマーからなる被膜（保護膜）を形成するプロセスが提案されている。ところが、このようなフッ素置換ポリマーからなる被膜を用いた場合には、前記目的は達成し得るものの、専用の特殊な洗浄剤が必要であり、例えば、特許文献１には、被膜（保護膜）の原料であるフッ素置換ポリマーを溶解せしめるフッ素系溶剤を用いることが記載されている。
【特許文献１】国際公開第２００４／０７４９３７号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、このような専用の特殊な洗浄剤を用いた場合、これに伴い製造コストが増加するなどの問題があった。また、例えば、特許文献１に記載されているパーフルオロ（２−ブチル）テトラヒドロフランは、地球温暖化係数（ＧＷＰ）が７５００と大きく、沸点が１０２℃であり揮発性も高いため、洗浄剤による保護膜の除去を行う際に、大量に大気中に放出されるため、環境的に問題となっていた。
【００１２】
本発明は以上のような課題に鑑みてなされたものであり、リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤の大気への放出を抑制し、環境汚染の防止に寄与し、さらにはフッ素系溶剤のリサイクルを可能とすることで、製造コストの増大を抑制できる、フッ素系溶剤の回収方法及び回収システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは上記課題を解決するために、リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤が、揮発しそのまま大気に放出されることを防止する必要があることに着目して、鋭意研究を重ねた。その結果、フッ素系溶剤と相溶性を有するフッ素系捕捉溶剤に揮発したフッ素系溶剤を通過させることにより、フッ素系溶剤を回収することで、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。より具体的には、本発明は以下のようなものを提供する。
【００１４】
本発明の第一の発明は、リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤を回収する回収方法であって、揮発した前記フッ素系溶剤をフッ素系捕捉溶剤内に移送する移送工程と、揮発した前記フッ素系溶剤を前記フッ素系捕捉溶剤に通過させ、前記フッ素系溶剤を回収する回収工程と、を含むフッ素系溶剤の回収方法である。
【００１５】
また、本発明の第二の発明は、リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤を回収する回収システムであって、揮発した前記フッ素系溶剤をフッ素系捕捉溶剤内に移送する移送手段と、揮発した前記フッ素系溶剤をフッ素系捕捉溶剤に通過させ、前記フッ素系溶剤を回収する回収手段と、を備えるフッ素系溶剤の回収システムである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のフッ素系溶剤の回収方法、及び回収システムは、リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤をフッ素系捕捉溶剤で回収することにより、揮発したフッ素系溶剤が大気へ放出することを抑制することができる。また、フッ素系溶剤は、フッ素系捕捉溶剤に回収されているため、フッ素系捕捉溶剤から、フッ素系溶剤を分離することにより、フッ素系溶剤のリサイクルを容易に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明に係るフッ素系溶剤の回収システムは、移送手段、及び回収手段を備えている。また、移送補助手段、第一の冷却手段、第二の冷却手段を備えていることが好ましい。以下、本発明の実施形態の一例について、図面に基づいて説明する。
【００１８】
（第１実施形態）
＜回収システムの全体構成＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る回収システム１を示す図である。本実施形態の回収システム１は、フッ素系溶剤を被処理物Ｗ上に滴下する滴下手段を有するスピンコート装置１０、スピンコート装置１０内で滴下されたフッ素系溶剤が揮発し、揮発したフッ素系溶剤を移送する移送手段である誘導路２０、フッ素系捕捉溶剤３１を備え、揮発したフッ素系溶剤を回収する回収手段である回収槽３０を備えている。
【００１９】
また、誘導路２０を通過する揮発したフッ素系溶剤を冷却する第一の冷却手段４０、回収層内に備えられているフッ素系捕捉溶剤を冷却する第二の冷却手段５０、スピンコート装置１０から、回収槽３０に揮発したフッ素系溶剤の移送を補助する移送補助手段である吸引装置６０を備えている。
【００２０】
＜回収システムの個別構成＞
［滴下手段］
滴下手段は、被処理物Ｗ上にフッ素系溶剤の滴下を行うものである。このような滴下手段は、被処理物Ｗ上にフッ素系溶剤を滴下することができれば、特に限定されず、例えば、図１に示すスピンコート装置１０を挙げるこができる。スピンコート装置１０は、フッ素系溶剤を吐出するノズル１１、被処理物Ｗを保持し、回転することができる回転保持機構１２を備える。また、スピンコート装置は、揮発したフッ素系溶剤が、スピンコート装置から大気中に放出しないように、移送手段とつながるライン以外は密閉系であることが好ましい。このような密閉系は、空気、窒素ガス等の流体によって構成してもよい。
【００２１】
本発明の回収システムにおける滴下手段は、被処理物Ｗが、液浸露光後のレジストパターンが形成された基材であり、液浸露光プロセスのレジスト保護膜の除去に用いられることが好ましい。
【００２２】
［移送手段］
移送手段は、前記滴下手段において、被処理物Ｗ上に滴下したフッ素系溶剤のうち、揮発したフッ素系溶剤を下記に述べる回収手段に備えられているフッ素系捕捉溶剤３１内に、移送する手段である。この移送手段として、図１に示す誘導路２０について説明する。このような誘導路２０としては、例えば中空状の配管等があげられ、これは揮発したフッ素系溶剤を回収槽３０に移送するためのラインである。その長さは、特に限定されるものではなく、装置の大きさに応じて適宜設定することができる。また、ラインを構成するパイプの直径は、特に限定されず、装置の大きさに応じて適宜設定することができる。
【００２３】
［移送補助手段］
本発明の回収システムにおいては、滴下手段から回収手段に、揮発したフッ素系溶剤を効率よく移送するため、移送補助手段を備えることがより好ましい。移送補助手段としては、図１に示す吸引装置６０を挙げることができる。このような吸引装置６０により回収手段の排気側から気体を吸引することにより、滴下手段内にある揮発したフッ素系溶剤の移送を促進することができるため、より効率的なフッ素系溶剤の回収が可能となる。
【００２４】
移送補助手段としては、図１に示すように出口を吸引し、減圧にする以外に、スピンコート装置１０内を加圧にすることにより、揮発したフッ素系溶剤の移送を促進することも可能である。例えば、スピンコート装置１０内に、窒素、空気などのキャリヤーガスを供給するガス供給装置を備えることもできる。
【００２５】
［第一の冷却手段］
第一の冷却手段４０は、誘導路２０を通過する揮発したフッ素系溶剤を冷却するものである。フッ素系溶剤を冷却することにより、液化するため、移送後の回収手段において、フッ素系捕捉溶剤で効率よく回収することができる。第一の冷却手段としては、例えば、誘導路２０の外周に冷却管を設け、水、冷媒などの液体を通過させることにより、冷却することができる。
【００２６】
［回収手段］
回収手段は、揮発したフッ素系溶剤をフッ素系捕捉溶剤で回収するものである。この回収手段として、図１に示す回収槽３０について説明する。回収槽３０は、回収槽３０内にフッ素系捕捉溶剤３１を備えている。また、上記で説明した誘導路２０の出口は、フッ素系捕捉溶剤３１内に備えている。これにより、フッ素系捕捉溶剤３１内に揮発したフッ素系溶剤を通過させることができるため、フッ素系溶剤の回収を行うことができる。
【００２７】
［第二の冷却手段］
第二の冷却手段は、回収手段において用いられるフッ素系捕捉溶剤３１を冷却するものである。フッ素系捕捉溶剤３１を冷却することにより、移送手段により移送されたフッ素系溶剤も冷却することができるため、溶解度を向上させ、かつ液化させることができ、フッ素系捕捉溶剤にて効率よく回収することができる。
【００２８】
第二の冷却手段５０は、フッ素系捕捉溶剤３１を冷却することができれば、特に限定されず、例えば、回収槽３０の外周にジャケットを設け、ジャケットに水、冷媒などの液体を通過させることにより、冷却することができる。
【００２９】
（第２実施形態）
図２に、本発明の第２実施形態に係る回収システム１０１を示す。この回収システム１０１は、回収手段である回収槽３０Ａ、３０Ｂを２個備えている点が第１実施形態と異なっている。回収槽３０Ａ、３０Ｂを２個備えることにより、揮発したフッ素系溶剤が通過するフッ素系捕捉溶剤の距離を長くすることができるため、回収率を向上させることができる。なお、図２には、回収槽を２個備えた回収システムを示すが、回収槽の数は、特に限定されず、３個以上であってもよい。このように、回収槽を複数備えることで、例えば、装置の設置位置の関係から１段では、フッ素系捕捉溶剤の通過距離を短くせざるを得ない場合においても、フッ素系捕捉溶剤の通過距離を長くすることができるため、効率よくフッ素系溶剤の回収を行うことができる。
【００３０】
＜回収方法＞
次に、上記の回収システムを用いた、本発明のフッ素系溶剤の回収方法について図１を参照しながら説明する。本発明の回収方法は、揮発したフッ素系溶剤をフッ素系捕捉溶剤内に移送する移送工程と、揮発した前記フッ素系溶剤を前記フッ素系捕捉溶剤に通過させ、前記フッ素系溶剤を回収する回収工程と、を含むフッ素系溶剤の回収方法である。
【００３１】
≪被処理物≫
本発明の回収方法により回収されるフッ素系溶剤は、リソグラフィー工程において用いられるものであり、その被処理物Ｗは特に限定されない。被処理物Ｗとしては、例えば、次のようなものを用いることができる。
【００３２】
シリコンウェハ等の基板上に、慣用のレジスト組成物を塗布した後、プレベークを行い、レジスト膜を形成する。なお、基板とレジスト組成物の塗布層との間には有機系または無機系の反射防止膜を設けた２層積層体とすることもできる。次に、レジスト膜の表面に、フッ素置換ポリマー含有薬液を均一に塗布した後、硬化させることによりフッ素置換ポリマーからなるレジスト保護膜を形成する。このようにして、保護膜により覆われたレジスト膜が形成された基板上に、液浸露光用液体を配置し、所望のマスクパターンを介して選択的に露光を行い、被処理物Ｗとすることができる。
【００３３】
被処理物Ｗの基板としては、銅、アルミニウムなどの金属膜等が形成されたシリコン、ガラスなどの基板を挙げることができる。また、レジスト膜は、従来慣用のレジスト組成物を用いて得られたあらゆるレジスト膜が使用可能であり、特に限定されない。
【００３４】
また、保護膜は、露光光に対して透明で、液浸露光用液体に対して実質的な相溶性を持たず、かつレジスト膜との間でミキシングを生じないこと、さらにはレジスト膜への密着性がよく、かつ剥離性が良いものを用いることが好ましく、このような保護膜の材料としては、国際公開第２００４／０７４９３７号パンフレットに記載されている組成物を用いることができる。
【００３５】
［滴下工程］
滴下工程は、上述した被処理物Ｗにフッ素系溶剤を滴下することにより保護膜を除去する工程である。滴下工程は、図１に示すスピンコート装置１０内にて行われる。被処理物Ｗの保護膜を除去するためには、例えば、回転可能に保持された被処理物Ｗの回転中心近傍に、フッ素系溶剤をノズル１１から吐出する。フッ素系溶剤を吐出した後に、被処理物Ｗを回転させることにより、被処理物Ｗの表面全体に、フッ素系溶剤を延展させ、被処理物Ｗの表面に形成されている保護膜を除去することができる。この際、フッ素系溶剤は、被処理物Ｗから振り落とされる、あるいは、揮発することになる。この揮発したフッ素系溶剤を以下に述べる回収工程により回収する。
【００３６】
［移送工程］
移送工程は、滴下工程において揮発したフッ素系溶剤を、回収槽３０内に備えるフッ素系捕捉溶剤３１内に移送する工程である。スピンコート装置１０内においては、フッ素系溶剤が揮発しており、加圧となっているため、揮発したフッ素系溶剤は、誘導路２０を通過し、フッ素系捕捉溶剤３１内に導入される。さらに、移送工程において、揮発したフッ素系溶剤の移送を補助するため、吸引装置６０により、回収槽３０の出口から吸引し、回収槽３０内を減圧にすることにより、揮発したフッ素系溶剤の移送を補助することができる。なお、移送を補助する方法としては、回収槽を減圧にするのみでなく、スピンコート装置１０内を加圧することにより、移送を促進することができる。
【００３７】
また、移送されるフッ素系溶剤を第一の冷却手段４０で冷却することもできる。このように、フッ素系溶剤を冷却することで、フッ素系溶剤を液化することができるため、回収率を向上させることができる。
【００３８】
［回収工程］
回収工程は、移送工程において移送された揮発したフッ素系溶剤をフッ素系捕捉溶剤で回収する工程である。回収工程においては、回収槽３０内に備えられているフッ素系捕捉溶剤３１内に、揮発したフッ素系溶剤を通過させることで、回収することができる。この際、第二の冷却手段５０により、フッ素系捕捉溶剤３１を冷却することにより、揮発したフッ素系溶剤も冷却され、溶解度を向上させ、かつ液化するため、回収率を向上させることができる。
【００３９】
＜その他＞
［フッ素系溶剤］
本発明の回収方法により回収されるフッ素系溶剤は、リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤であれば、特に限定されないが、フッ素系溶剤がレジスト保護膜の除去に用いられるレジスト保護膜除去剤、特に、液浸露光プロセスのレジスト保護膜の除去に用いられるレジスト保護膜除去剤であることが好ましい。
【００４０】
フッ素系溶剤としては、例えば、炭素原子数４〜１０のフッ素化炭化水素、水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されている少なくとも１以上の酸素原子を環構成原子として有する複素環化合物、フルオロアルキルアミン、及びハイドロフルオロエーテルの中から選ばれる少なくとも１種であるフッ素系溶剤を挙げることができる。
【００４１】
（炭素原子数４〜１０のフッ素化炭化水素）
炭素原子数４〜１０のフッ素化炭化水素としては、具体的には、水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換された、ｎ−ブタン、イソブタン、ｎ−ペンタン、イソペンタン、ネオペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、３−メチルペンタン、ネオヘキサン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、３−エチルペンタン、２，２−ジメチルペンタン、２，３−ジメチルペンタン、２，４−ジメチルペンタン、３，３−ジメチルペンタン、２，２，３−トリメチルブタン、ｎ−オクタン、２−メチルへプタン、３−メチルへプタン、４−メチルへプタン、３−エチルヘキサン、２，２−ジメチルヘキサン、２，３−ジメチルヘキサン、２，４−ジメチルヘキサン、２，５−ジメチルヘキサン、３，３−ジメチルヘキサン、３，４−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２，２，３−トリメチルペンタン、２，２，４−トリメチルペンタン、２，３，３−トリメチルペンタン、２，３，４−トリメチルペンタン、２，２，３，３−テトラメチルブタン、ｎ−ノナン、２−メチルオクタン、３−メチルオクタン、４−メチルオクタン、２，４−ジメチルヘプタン、２，５−ジメチルヘプタン、２，６−ジメチルヘプタン、２，６−ジメチルヘプタン、２，２，５−トリメチルヘキサン、２，３，５−トリメチルヘキサン、３，３−ジエチルペンタン、ｎ−デカン、２−メチルノナン、３−メチルノナン、４−メチルノナン、５−メチルノナン、２，４−ジメチルオクタン、２，５−ジメチルオクタン、２，６−ジメチルオクタン、２，７−ジメチルオクタン、３，６−ジメチルオクタン、４−プロピルへプタン、２，２，６−トリメチルへプタン、２，４，６−トリメチルへプタン、３，３，５−トリメチルへプタン、３，４−ジエチルヘキサン、２，２，３，４−テトラメチルヘキサン、３，３，４，４−テトラメチルヘキサン等が挙げられる。
【００４２】
上記フッ素化炭化水素の中でも、炭素数が６〜８の溶剤が好ましく、このようなフッ素化炭化水素としては、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、ｎ−オクタン、２−メチルへプタン等が好適であり、さらに、これらフッ素化炭化水素は、その水素原子の全てがフッ素原子により置換されていることが好ましい。またこれらのフッ素化炭化水素溶剤は２種以上を混合して使用することが最も好ましい。
【００４３】
（水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されている少なくとも１以上の酸素原子を環構成原子として有する複素環化合物）
水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されている少なくとも１以上の酸素原子を環構成原子として有する複素環化合物としては、具体的には、ヒドロフラン、２−メチルヒドロフラン、２−エチルヒドロフラン、２−プロピルヒドロフラン、２−ブチルヒドロフラン、ヒドロピラン、２−メチルヒドロピラン、２−エチルヒドロピラン、２−プロピルヒドロピラン、２−ブチルヒドロピラン等の水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されている複素環化合物が挙げられる。
【００４４】
上記複素環化合物において、さらには環骨格に対して、水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換された直鎖または分岐鎖のアルキル基が、少なくとも１以上置換されていることが好ましい。このような複素環化合物としては、パーフルオロブチルテトラヒドロフラン及びパーフルオロテトラヒドロピランの中から選ばれる少なくとも１種が最も好ましい。
【００４５】
（フルオロアルキルアミン）
フルオロアルキルアミンは、水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換された直鎖または分岐鎖のフルオロアルキル基を有するアルキルアミンである。このようなフルオロアルキルアミンとして、詳細には、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ペンチルアミン、イソペンチルアミン、ジペンチルアミン、トリペンチルアミンなどのアルキルアミンの水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されたフルオロアルキルアミンが挙げられる。
【００４６】
上記フルオロアルキルアミンの中でも、水素原子の全部がフッ素原子により置換されたパーフルオロアルキルアミンが好ましく、具体的には、下記構造式（１）で表されるフルオロアルキルアミンが好ましい。
【００４７】
【化１】
2007287756.tif 000003
（式中、ｎは２〜４の整数を示す。）
【００４８】
（ハイドロフルオロエーテル）
ハイドロフルオロエーテルとしては、具体的には、炭素原子数１〜４の炭化水素基と炭素原子数２〜１０のフルオロアルキル基により構成されるハイドロフルオロエーテルの中から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【００４９】
このようなハイドロフルオロエーテルとして、より詳細にはＣ２Ｆ５ＯＣＨ３、Ｃ２Ｆ５ＯＣ２Ｈ５、Ｃ２Ｆ５ＯＣ３Ｈ７、Ｃ２Ｆ５ＯＣ４Ｈ９、Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３、Ｃ３Ｆ７ＯＣ２Ｈ５、Ｃ３Ｆ７ＯＣ３Ｈ７、Ｃ３Ｆ７ＯＣ４Ｈ９、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、Ｃ４Ｆ９ＯＣ３Ｈ７、Ｃ４Ｆ９ＯＣ４Ｈ９、Ｃ５Ｆ１１ＯＣＨ３、Ｃ５Ｆ１１ＯＣ２Ｈ５、Ｃ５Ｆ１１ＯＣ３Ｈ７、Ｃ５Ｆ１１ＯＣ４Ｈ９、Ｃ６Ｆ１３ＯＣＨ３、Ｃ６Ｆ１３ＯＣ２Ｈ５、Ｃ６Ｆ１３ＯＣ３Ｈ７、Ｃ６Ｆ１３ＯＣ４Ｈ９、Ｃ７Ｆ１５ＯＣＨ３、Ｃ７Ｆ１５ＯＣ２Ｈ５、Ｃ７Ｆ１５ＯＣ３Ｈ７、Ｃ７Ｆ１５ＯＣ４Ｈ９、Ｃ８Ｆ１７ＯＣＨ３、Ｃ８Ｆ１７ＯＣ２Ｈ５、Ｃ８Ｆ１７ＯＣ３Ｈ７、Ｃ８Ｆ１７ＯＣ４Ｈ９、Ｃ９Ｆ１９ＯＣＨ３、Ｃ９Ｆ１９ＯＣ２Ｈ５、Ｃ９Ｆ１９ＯＣ３Ｈ７、Ｃ９Ｆ１９ＯＣ４Ｈ９、Ｃ１０Ｆ２１ＯＣＨ３、Ｃ１０Ｆ２１ＯＣ２Ｈ５、Ｃ１０Ｆ２１ＯＣ３Ｈ７、Ｃ１０Ｆ２１ＯＣ４Ｈ９等が挙げられる。これらの炭化水素基及びフルオロアルキル基は、直鎖構造であっても分岐構造であってもよい。
【００５０】
また、前記ハイドロフルオロエーテルは２種、あるいはそれ以上を混合溶剤として用いても良い。この組合せは、各ハイドロフルオロエーテルの物性により適宜選択され、例えば、高沸点のハイドロフルオロエーテルに対して、低沸点のハイドロフルオロエーテルを組み合わせて用いることにより、高い剥離性能を維持したまま、溶剤種を多様化させずに、リサイクルの回収率を向上せしめることが可能である。
【００５１】
上記ハイドロフルオロエーテルの中でも、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、Ｃ６Ｆ１３ＯＣＨ３の中から選ばれる少なくとも１種が最も好ましい。
【００５２】
［フッ素系捕捉溶剤］
本発明の回収方法に用いられるフッ素系捕捉溶剤は、上述したフッ素系溶剤に対して相溶性を有し、その沸点が、フッ素系溶剤の沸点と同等あるいはそれ以上であることが好ましい。
【００５３】
フッ素系溶剤に対して相溶性を有するフッ素系捕捉溶剤とすることにより、フッ素系捕捉溶剤にフッ素系溶剤が溶解するため、容易にフッ素系溶剤の回収が可能である。また、フッ素系捕捉溶剤の沸点をフッ素溶剤の沸点と同等あるいはそれ以上とすることにより、フッ素系溶剤が溶解したフッ素系捕捉溶剤の揮発を抑えることができるため、フッ素系溶剤の大気への放出を抑えることができる。
【００５４】
このようなフッ素系捕捉溶剤としては、例えば、フルオロアルキルアミン、炭素原子数４〜１０フッ素化炭化水素、及び水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されている少なくとも１以上の酸素原子を環構成原子として有する複素環化合物の中から選ばれる少なくとも１種であるフッ素系捕捉溶剤であることが好ましい。
【００５５】
フルオロアルキルアミン、炭素原子数４〜１０フッ素化炭化水素、及び水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されている少なくとも１以上の酸素原子を環構成原子として有する複素環化合物としては、上述したフッ素系溶剤で用いられているものと同様の化合物を用いることができる。
【実施例】
【００５６】
（実施例１）
パーフルオロ−２−ブチルテトラヒドロフラン（フッ素系溶剤）８５０ｇを有する１Ｌムエンケ式ねじ口洗浄ビン、及び、パーフルオロブチルアミン（フッ素系捕捉溶剤）７００ｇを有する１Ｌムエンケ式ねじ口洗浄ビン３個をインピンジャー（柴田科学（株）製）及びガラス管を用いて接続した（フッ素系溶剤側から、フッ素系捕捉溶剤１段目、フッ素系捕捉溶剤２段目、フッ素系捕捉溶剤３段目、という）。次に、フッ素系溶剤を有する１Ｌムエンケ式ねじ口洗浄ビンの入口からフッ素系溶剤を通過するように窒素を１Ｌ／ｍｉｎの流量で通過させた。流量は、フッ素系捕捉溶剤７００ｇを有する１Ｌムエンケ式ねじ口洗浄ビンの出口側で流量計を用いて測定した。窒素を１日（２４時間）流通させた後のパーフルオロ−２−ブチルテトラヒドロフランの重量減少量（揮発量）、パーフルオロ−２−ブチルテトラヒドロフラン溶液の重量増加量（回収量）を測定した。回収率は、フッ素系溶剤の重量減少量に対するフッ素系捕捉溶剤の重量増加量により回収率を評価した。
【００５７】
【表１】
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【００５８】
表１より、揮発したフッ素系溶剤は、フッ素系捕捉溶剤により、回収されていることが確認できた。また、回収率も、フッ素系捕捉溶剤を３段とすることで、９４％以上の高い回収率が得られた。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の第１実施形態の回収システムを示す図である。
【図２】本発明の第２実施形態の回収システムを示す図である。
【符号の説明】
【００６０】
１  回収システム
１０  スピンコート装置
１１  ノズル
１２  回転保持機構
２０  誘導路
３０  回収槽
３１  フッ素系捕捉溶剤
４０  第一の冷却手段
５０  第二の冷却手段
６０  吸引装置
【図１】
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【図２】
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