(57)【要約】【課題】レジストの焼成時間を短縮するとともにできるだけむらなく焼成することで、生産性を向上し、しかも高品質で安価なカラーフィルタを製造する。【解決手段】ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製工程では、フィルタ基板上に形成されたブラックマトリックス層、レッド（Ｒ）画素パターン、グリーン（Ｇ）画素パターン、およびブルー（Ｂ）画素パターンの各レジストは、いずれも、マイクロウェーブ装置からのマイクロウェーブによってポストベーキングされる。このように、各レジストをマイクロウェーブでポストベーキングすることで、ポストベーキングに要する焼成時間を短縮できる。【選択図】図１
2007171616.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明なフィルタ基板にブラックマトリックス用レジストを塗布するブラックレジスト塗布工程、前記ブラックマトリックス用レジストをプリベーキングするブラックプリベーキング工程、プリベーキングした前記ブラックマトリックス用レジストを露光するブラック露光工程、露光した前記ブラックマトリックス用レジストを現像してブラックマトリックスパターン層を形成するブラック現像工程、および現像された前記ブラックマトリックスパターン層をポストベーキングするブラックポストベーキング工程からなるブラックマトリックス作製工程と、
前記フィルタ基板にレッド用レジストを塗布するレッドレジスト塗布工程、前記レッド用レジストをプリベーキングする塗布するレッドプリベーキング工程、プリベーキングした前記レッド用レジストを露光するレッド露光工程、露光した前記レッド用レジストを現像してレッド画素パターンを形成するレッド現像工程、および現像された前記レッド画素パターンをポストベーキングするレッドポストベーキング工程からなるレッド画素パターン作製工程と、
前記フィルタ基板にグリーン用レジストを塗布するグリーンレジスト塗布工程、前記グリーン用レジストをプリベーキングする塗布するグリーンプリベーキング工程、プリベーキングした前記グリーン用レジストを露光するグリーン露光工程、露光した前記グリーン用レジストを現像してグリーン画素パターンを形成するグリーン現像工程、および現像された前記グリーン画素パターンをポストベーキングするグリーンポストベーキング工程からなるグリーン画素パターン作製工程と、
前記フィルタ基板にブルー用レジストを塗布するブルーレジスト塗布工程、前記ブルー用レジストをプリベーキングする塗布するブループリベーキング工程、プリベーキングした前記ブルー用レジストを露光するブルー露光工程、露光した前記ブルー用レジストを現像してブルー画素パターンを形成するブルー現像工程、および現像された前記ブルー画素パターンをポストベーキングするブルーポストベーキング工程からなるブルー画素パターン作製工程とから少なくともなるカラーフィルタの製造方法において、
前記ブラックマトリックスパターン層、前記レッド画素パターン、前記グリーン画素パターン、およびブルー画素パターンの少なくとも１つのポストベーキングに、マイクロウェーブを用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記ブラックマトリックスパターン層、前記レッド画素パターン、前記グリーン画素パターン、およびブルー画素パターンの少なくとも１つのプリベーキングにも、マイクロウェーブを用いることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
更に、前記フィルタ基板に、前記ブラックマトリックスパターン層、前記レッド画素パターン、前記グリーン画素パターン、およびブルー画素パターンを覆うオーバーコート層を形成するオーバーコート作製工程を有し、
前記オーバーコート作製工程は、前記フィルタ基板にオーバーコート用レジストを塗布してオーバーコート層を形成するオーバーコートレジスト塗布工程、前記オーバーコート層をプリベーキングする塗布するオーバーコートプリベーキング工程、およびプリベーキングしたオーバーコート層をポストベーキングするオーバーコートポストベーキング工程からなり、
前記オーバーコート層のポストベーキングに、マイクロウェーブを用いることを特徴とする請求項１または２記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記オーバーコート層のプリベーキングにも、マイクロウェーブを用いることを特徴とする請求項３記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
透明なフィルタ基板に、ブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれ塗布するレジスト塗布装置と、
前記フィルタ基板に塗布されたブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれプリベーキングするプリベーキング装置と、前記フィルタ基板に塗布されたブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれ露光する露光機と、露光されたブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれ現像する現像機と、現像されたブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれマイクロウェーブでポストベーキングするマイクロウェーブ装置とから少なくともなることを特徴とするカラーフィルタの製造システム。
【請求項６】
前記プリベーキング装置に、ブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれマイクロウェーブでプリベーキングするマイクロウェーブ装置を用いていることを特徴とする請求項５記載のカラーフィルタの製造システム。
【請求項７】
更に、前記フィルタ基板に、前記ブラックマトリックス用レジスト、前記レッド用レジスト、前記グリーン用レジスト、およびブルー用レジストを覆うようにオーバーコート用レジストを塗布するオーバーコートレジスト塗布装置と、前記フィルタ基板に塗布されたオーバーコート用レジストをプリベーキングするオーバーコートプリベーキング装置と、プリベーキングしたオーバーコート用レジストをマイクロウェーブでポストベーキングするオーバーコートマイクロウェーブ装置とからなることを特徴とする請求項５または６記載のカラーフィルタの製造システム。
【請求項８】
前記オーバーコートプリベーキング装置に、オーバーコート用レジストをマイクロウェーブでプリベーキングするオーバーコートマイクロウェーブ装置を用いていることを特徴とする請求項７記載のカラーフィルタの製造システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話、ナビゲーションシステム、あるいはパーソナルコンピュータを始め、カラー液晶表示装置等のカラー表示ディスプレイに使用されているカラーフィルタの製造方法およびこの方法に用いるカラーフィルタの製造システムの技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、パーソナルコンピュータや携帯電話等のカラー液晶表示装置等のカラー表示ディスプレイにカラーフィルタが使用されている。このようなカラーフィルタでは、透明ガラスあるいは透明プラスチック等からなる透明な基板上に格子状あるいはストライプ状の遮光性ブラックマトリックスパターン層がパターン形成され、更にブラックマトリックスパターン層上にレッド（Ｒ）画素パターン、グリーン（Ｇ）画素パターン、ブルー（Ｂ）画素パターンのマトリクス状のフィルタ着色パターン層がそれぞれ形成されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
ところで、特許文献１に記載されているようにこのようなカラーフィルタを製造する方法として、図９に示すカラーフィルタの製造方法がある。すなわち、図９に示すようにガラス板やプラスチック板等の透明なフィルタ基板をレジスト塗布装置に投入する（基板投入工程）。次に、このフィルタ基板の上面の所定範囲に、ブラック顔料による光硬化型顔料分散フォトレジストをレジスト塗布装置のスリットコーターで塗布した後、レジスト塗布装置のスピンコーターにより、フィルタ基板上の光硬化型顔料分散フォトレジストを遠心力で拡散してフィルタ基板の全面に所定膜厚の薄膜のフォトレジスト層を形成する（レジスト塗布工程）。次に、ホットプレートにより１００℃前後の温度でこのフォトレジスト層に対してプリベーキングを行う（プリベーキング工程）。
【０００４】
次に、例えば、格子状のブラックマトリックスパターン状の光透過部を形成したフォトマスクを用いて紫外線をフィルタ基板上のフォトレジスト層に照射して露光することで、ブラックフォトレジスト層の露光された部分に光硬化部を形成する（露光工程）。次に、フォトレジスト層のこの光硬化部を残して、露光されない未硬化部を現像液で溶解除去して現像することにより、フィルタ基板上に、格子状のブラックマトリックスパターン層を形成する（現像工程）。次いで、ホットプレートでプリベーキングより高温の２３０℃前後の温度で格子状のブラックマトリックスパターン層をポストベーキングして、フィルタ基板上にブラックマトリックスパターン層を焼固める。
【０００５】
次いで、ブラックマトリックスパターン層が形成されたフィルタ基板上に、ブラックの場合と同様にレッド顔料による光硬化型顔料分散フォトレジストをレジスト塗布装置のスリットコーターで塗布した後、レジスト塗布装置のスピンコーターにより、フィルタ基板上の光硬化型顔料分散フォトレジストを遠心力で拡散してフィルタ基板の全面に所定膜厚の薄膜のフォトレジスト層を形成する（レジスト塗布工程）。次に、ホットプレートにより１００℃前後の温度でこのフォトレジスト層に対してプリベーキングを行う（プリベーキング工程）。次に、ブラックマトリックスパターン層が形成されないフィルタ基板上のカラー画素パターン形成領域であって、レッド（Ｒ）の画素パターンが形成される部分におけるフォトレジスト層にフォトマスクを用いて紫外線を照射して露光することで、レッドのフォトレジスト層の露光された部分に光硬化部を形成する（露光工程）。次に、フォトレジスト層のこの光硬化部を残して、露光されない未硬化部をレッド用の現像液で溶解除去して現像することにより、フィルタ基板上に、レッド（Ｒ）の画素パターン層を形成する（現像工程）。
【０００６】
次いで、ホットプレートでプリベーキングより高温の２３０℃前後の温度でレッド（Ｒ）の画素パターン層をポストベーキングして、フィルタ基板上にこのレッド（Ｒ）の画素パターン層を焼固める。以後、グリーン（Ｇ）およびブルー（Ｂ）の画素パターン層をそれぞれレッド（Ｒ）の画素パターン層の場合と同様にして順次フィルタ基板上に焼固める。こうして、フィルタ基板上にブラックマトリックスパターン層およびレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、およびブルー（Ｂ）の各カラー画素パターン層が形成されたカラーフィルタが製造される。
【０００７】
ところで、前述のカラーフィルタの製造方法において、プリベーキング工程は、塗布したレジスト膜中に残留する溶媒を蒸発させ、膜厚変化の抑制や基板との接触面の密着強度を向上するためのものであり、レジスト材料が反応しない１００℃程度の比較的低温で行われ、、また、ポストベーキング工程は、レジスト膜中の残留溶媒はもとより、現像液、リンス液を蒸発乾燥させるとともに、レジスト膜パターンの硬化やフィルタ基板との密着強度を更に向上するためのものであり、比較的高温で行われるのものである（例えば、非特許文献１参照）。
【０００８】
これらのプリベーキング工程およびポストベーキング工程に用いられる焼成機として、従来、特許文献１および非特許文献１にそれぞれ記載されているようにホットプレートを用いることが知られている。また、ポストベーキングを行う他の焼成機として、従来、非特許文献１にそれぞれ記載されているように赤外線オーブンや熱風オーブンが知られている。その場合、非特許文献１には、レジスト塗布とプリベーキング、レジスト現像とポストベーキングはそれぞれ一連のインライン処理が行われるため、ホットプレート加熱が一般的になっていることが記載されている。
【特許文献１】特開平７−２９４７２３号公報。
【非特許文献１】内田龍男、内池平樹監修、フラットパネルディスプレイ大事典、初版第１刷、II.材料・技術・応用編、「ベーキング工程」、第２７８頁、２００１年１２月２５日、株式会社工業調査会発行。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、前述のホットプレート、赤外線オーブンあるいは熱風オーブンの従来の焼成機では、いずれも加熱に多くの時間がかかる。例えば、特許文献１に記載されているように、顔料分散フォトレジストに対して所望の硬さを得るようにポストベーキングを行うためには、顔料分散フォトレジストを焼成温度２００℃〜２５０℃で３０分〜１００分程度の焼成時間でポストベーキングでしなければならない。このため、カラーフィルタの生産性が悪いばかりでなく、製造コストが高いという問題がある。また、これらの従来の焼成機では、いずれも加熱にむらがあり、高品質のカラーフィルタを製造することが難しいという問題もある。
しかも、これらの各問題を解決しようとするためには、特別な焼成機を考案しなければならず、生産性が更に一層悪くなばかりでなく、コストがより一層高くなってしまう。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、レジストの焼成時間を短縮するとともにできるだけむらなく焼成することで、生産性を向上でき、しかも高品質で安価なカラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタの製造システムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前述の課題を解決するために、請求項１に係る発明のカラーフィルタの製造方法は、透明なフィルタ基板にブラックマトリックス用レジストを塗布するブラックレジスト塗布工程、前記ブラックマトリックス用レジストをプリベーキングするブラックプリベーキング工程、プリベーキングした前記ブラックマトリックス用レジストを露光するブラック露光工程、露光した前記ブラックマトリックス用レジストを現像してブラックマトリックスパターン層を形成するブラック現像工程、および現像された前記ブラックマトリックスパターン層をポストベーキングするブラックポストベーキング工程からなるブラックマトリックス作製工程と、前記フィルタ基板にレッド用レジストを塗布するレッドレジスト塗布工程、前記レッド用レジストをプリベーキングする塗布するレッドプリベーキング工程、プリベーキングした前記レッド用レジストを露光するレッド露光工程、露光した前記レッド用レジストを現像してレッド画素パターンを形成するレッド現像工程、および現像された前記レッド画素パターンをポストベーキングするレッドポストベーキング工程からなるレッド画素パターン作製工程と、前記フィルタ基板にグリーン用レジストを塗布するグリーンレジスト塗布工程、前記グリーン用レジストをプリベーキングする塗布するグリーンプリベーキング工程、プリベーキングした前記グリーン用レジストを露光するグリーン露光工程、露光した前記グリーン用レジストを現像してグリーン画素パターンを形成するグリーン現像工程、および現像された前記グリーン画素パターンをポストベーキングするグリーンポストベーキング工程からなるグリーン画素パターン作製工程と、前記フィルタ基板にブルー用レジストを塗布するブルーレジスト塗布工程、前記ブルー用レジストをプリベーキングする塗布するブループリベーキング工程、プリベーキングした前記ブルー用レジストを露光するブルー露光工程、露光した前記ブルー用レジストを現像してブルー画素パターンを形成するブルー現像工程、および現像された前記ブルー画素パターンをポストベーキングするブルーポストベーキング工程からなるブルー画素パターン作製工程とから少なくともなるカラーフィルタの製造方法において、前記ブラックマトリックスパターン層、前記レッド画素パターン、前記グリーン画素パターン、およびブルー画素パターンの少なくとも１つのポストベーキングに、マイクロウェーブを用いることを特徴としている。
【００１２】
また、請求項２に係る発明のカラーフィルタの製造方法は、前記ブラックマトリックスパターン層、前記レッド画素パターン、前記グリーン画素パターン、およびブルー画素パターンの少なくとも１つのプリベーキングにも、マイクロウェーブを用いることを特徴としている。
【００１３】
更に、請求項３に係る発明のカラーフィルタの製造方法は、更に、前記フィルタ基板に、前記ブラックマトリックスパターン層、前記レッド画素パターン、前記グリーン画素パターン、およびブルー画素パターンを覆うオーバーコート層を形成するオーバーコート作製工程を有し、前記オーバーコート作製工程が、前記フィルタ基板にオーバーコート用レジストを塗布してオーバーコート層を形成するオーバーコートレジスト塗布工程、前記オーバーコート層をプリベーキングする塗布するオーバーコートプリベーキング工程、およびプリベーキングしたオーバーコート層をポストベーキングするオーバーコートポストベーキング工程からなり、前記オーバーコート層のポストベーキングに、マイクロウェーブを用いることを特徴としている。
更に、請求項４に係る発明のカラーフィルタの製造方法は、前記オーバーコート層のプリベーキングにも、マイクロウェーブを用いることを特徴としている。
【００１４】
更に、請求項５に係る発明のカラーフィルタの製造システムは、透明なフィルタ基板に、ブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれ塗布するレジスト塗布装置と、前記フィルタ基板に塗布されたブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれプリベーキングするプリベーキング装置と、前記フィルタ基板に塗布されたブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれ露光する露光機と、露光されたブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれ現像する現像機と、現像されたブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれマイクロウェーブでポストベーキングするマイクロウェーブ装置とから少なくともなることを特徴としている。
【００１５】
更に、請求項６に係る発明のカラーフィルタの製造システムは、前記プリベーキング装置に、ブラックマトリックス用レジスト、レッド用レジスト、グリーン用レジスト、およびブルー用レジストをそれぞれマイクロウェーブでプリベーキングするマイクロウェーブ装置を用いていることを特徴としている。
【００１６】
更に、請求項７に係る発明のカラーフィルタの製造システムは、更に、前記フィルタ基板に、前記ブラックマトリックス用レジスト、前記レッド用レジスト、前記グリーン用レジスト、およびブルー用レジストを覆うようにオーバーコート用レジストを塗布するオーバーコートレジスト塗布装置と、前記フィルタ基板に塗布されたオーバーコート用レジストをプリベーキングするオーバーコートプリベーキング装置と、プリベーキングしたオーバーコート用レジストをマイクロウェーブでポストベーキングするオーバーコートマイクロウェーブ装置とからなることを特徴としている。
【００１７】
更に、請求項８に係る発明のカラーフィルタの製造システムは、前記オーバーコートプリベーキング装置に、オーバーコート用レジストをマイクロウェーブでプリベーキングするオーバーコートマイクロウェーブ装置を用いていることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１８】
このように構成された本発明に係るカラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタの製造システムによれば、ブラックマトリックスパターン層、レッド画素パターン、グリーン画素パターン、およびブルー画素パターンの少なくとも１つのレジストをマイクロウェーブによりポストベーキングしているので、ホットプレート、赤外線オーブン、あるいは熱風オーブン等の従来の焼成機に比べて短時間でポストベーキングすることができる。これにより、カラーフィルタの製造時間を短縮できるので、カラーフィルタの生産性を向上することができ、カラーフィルタの製造コストを効果的に低減することができる。特に、プリベーキングにもマイクロウェーブを用いることで、カラーフィルタの製造時間をより一層短縮でき、カラーフィルタ１の生産性を更に向上することができる。
【００１９】
しかも、ブラックマトリックスパターン層、レッド画素パターン、グリーン画素パターン、およびブルー画素パターン、およびオーバーコート層に用いられるレジストは、従来のカラーフィルタに用いられているレジストをそのまま用いることができるので、ポストベーキングおよびプリベーキングにマイクロウェーブを用いても特別なレジストを用いなくても済み、レジストのコストの増大を阻止できる。
【００２０】
また、ポストベーキングおよびプリベーキングを短時間で行うことができるので、これらのポストベーキングおよびプリベーキングをフィルタ基板上のレジストに対してむらなく均一に行うことができ、高品質のカラーフィルタを製造することが可能となる。
【００２１】
更に、この例のカラーフィルタの製造システムによれば、マイクロウェーブ装置に従来周知の電子レンジの技術を利用することができるので、マイクロウェーブ装置として特別な焼成機を必要とせず、市販の電子レンジをそのままあるいは市販の電子レンジの一部を改造して用いることができる。したがって、マイクロウェーブ装置を容易にかつ安価に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、図面を用いて本発明を実施するための最良の形態について説明する。
図１は、本発明に係るカラーフィルタの製造方法の実施の形態の一例により製造されるカラーフィルタの一例の構造図であり、図２および図３はこの例のカラーフィルタの製造方法を模式的に示す図である。
【００２３】
この例のカラーフィルタの製造方法により製造されるカラーフィルタは従来の周知のカラーフィルタの１つと同じであり、図１に示すように、このカラーフィルタ１は、例えば二酸化珪素（ＳｉＯ2）を含むソーダガラス等からなる透明なフィルタ基板２の上面に、例えば格子状のパターンのブラックレジストからなる遮光性のブラックマトリックスパターン層３が形成されているとともに、このブラックマトリックスパターン層３内でブラックマトリックスパターン層３が形成されないフィルタ基板２上のカラー画素パターン層形成領域内に、レッド（Ｒ）の画素パターン４、グリーン（Ｇ）の画素パターン５、およびブルー（Ｂ）の画素パターン６の各色のカラーレジストからなるカラー画素パターン層７が形成されている。
【００２４】
また、フィルタ基板２の上面、ブラックマトリックスパターン層３の上面、およびカラー画素パターン層７の上面にそれぞれこれらを覆うようにして、ブラックマトリックスパターン層３およびカラー画素パターン層７を保護する透明なオーバーコート層８が形成されている。更に、このオーバーコート層８の上面に、カラーレジストから不純物が出るのを防止するＳｉＯ2９が形成されているとともに、このＳｉＯ2９の上面に、透明電極層（ＩＴＯ層）１０が形成されている。
【００２５】
この例のカラーフィルタの製造方法は、ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製工程とオーバーコート作製工程とからなる。
図２に示すように、ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製工程では、まず基板投入工程が行われ、所定保管場所に保管されているフィルタ基板２が取り出されて洗浄機に投入される。次に、基板洗浄工程が行われ、洗浄機によってフィルタ基板２が洗浄される。この基板洗浄工程は従来周知の洗浄工程であり、洗浄液による液洗浄、所定圧力の水による中圧水洗、きれいな水による新水洗浄、およびエアーナイフ等が行われる。
【００２６】
次に、ＩＲオーブン工程およびＵＶ洗浄工程が順次行われ、洗浄液および洗浄水で洗浄されたフィルタ基板２が赤外線（ＩＲ）で熱せられた後、紫外線（ＵＶ）で有機物とレジストの濡れ性を良好にされる。その後、冷却板（ＣＰ）によりフィルタ基板２が冷却される。
【００２７】
次に、レジスト塗布工程、プリベーキング工程、露光工程、および現像工程が順次行われる。これらのレジスト塗布工程から現像工程までの各工程も従来周知の工程であり、この例のカラーフィルタの製造方法では、前述の図９に示す従来例の各工程と同じ工程を用いるものとして説明する。したがって、これらの各工程の内容はいずれも前述の図９に示す従来例の各工程と同じであるが、一応、簡単に説明する。
【００２８】
すなわち、まずレジスト塗布工程が行われて、ブラック顔料による光硬化型顔料分散フォトレジストがフィルタ基板２の上面にスリットコーターで塗布された後、スピンコーターによりフィルタ基板２が回転されてフィルタ基板２の全面に所定膜厚の薄膜の光硬化型顔料分散フォトレジスト層が形成される。次に、プリベーキング工程が行われ、ホットプレートにより１００℃前後の温度で光硬化型顔料分散フォトレジスト層に対してプリベーキングが行われる。これにより、光硬化型顔料分散フォトレジスト層がフィルタ基板上にやや固められる。
【００２９】
次に、露光工程が行われ、例えば格子状のブラックマトリックスパターン状の光透過部を有するフォトマスクを用いて、紫外線がフィルタ基板２上の光硬化型顔料分散フォトレジスト層に照射されることで、光硬化型顔料分散フォトレジスト層が露光され、この露光された部分に光硬化部が形成される。次に、現像工程が行われ、光硬化型顔料分散フォトレジスト層の露光されない未硬化部が現像液で溶解除去されることで、光硬化型顔料分散フォトレジスト層が現像され、フィルタ基板２上に、格子状のブラックマトリックスパターン層３が形成される。
【００３０】
次いで、本発明のカラーフィルタの製造方法の特徴部分である、マイクロウェーブによるポストベーキング工程が行われ、フィルタ基板２上の格子状のブラックマトリックスパターン層３がマイクロウェーブによってポストベーキングされてフィルタ基板２上にしっかりと焼き固められる。
【００３１】
次いで、ブラックマトリックスパターン層２が形成されたフィルタ基板２上にレッド（Ｒ）画素パターン４を形成するために、前述のブラックマトリックスパターン層２の場合と同様にして、レッド顔料による光硬化型顔料分散フォトレジストを用いて、レジスト塗布工程、プリベーキング工程、露光工程、および現像工程が順次行われる。これらの各工程により、ブラックマトリックスパターン層３内でブラックマトリックスパターン層３が形成されないフィルタ基板２上のカラー画素パターン層形成領域内に、レッド（Ｒ）画素パターン４が形成される。そして、同様にしてマイクロウェーブによるポストベーキング工程が行われ、フィルタ基板２上のレッド（Ｒ）画素パターン４がマイクロウェーブによってポストベーキングされてフィルタ基板２上にしっかりと焼き固められる。
【００３２】
以後、グリーン（Ｇ）およびブルー（Ｂ）の画素パターン５,６がそれぞれレッド（Ｒ）の画素パターン４の場合と同様にして順次フィルタ基板２上にしっかりと焼き固められる。こうして、フィルタ基板２上にブラックマトリックスパターン層３およびレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、およびブルー（Ｂ）のカラー画素パターン層７が形成される。
最後に基板受取工程が行われ、このようにブラックマトリックスパターン層３およびカラー画素パターン層７が形成されたフィルタ基板２が受け取られて所定の場所に保管される。
【００３３】
次に、このようにブラックマトリックスパターン層３およびカラー画素パターン層７が形成されたフィルタ基板２に対して、オーバーコート作製工程が行われる。
図３に示すように、オーバーコート作製工程では、前述のブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製工程と同様に、まず、基板投入工程、基板洗浄工程、ＩＲオーブン工程、およびＵＶ洗浄工程が順次行われ、ブラックマトリックスパターン層３およびカラー画素パターン層７が形成されたフィルタ基板２が洗浄液および洗浄水で洗浄された後、赤外線（ＩＲ）で熱せられかつ紫外線（ＵＶ）で有機物とレジストの濡れ性を良好にされ、その後、冷却板（ＣＰ）によりこのフィルタ基板２が冷却される。
【００３４】
次に、レジスト塗布工程が行われ、オーバーコート用の透明なレジストが、フィルタ基板２の上面、ブラックマトリックスパターン層３の上面、およびカラー画素パターン層７の上面にそれぞれこれらを覆うようにして塗布される。その場合、ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製工程と同様に、オーバーコート用のレジストが前述の各上面にスリットコーターで塗布された後、スピンコーターによりフィルタ基板２が回転されてフィルタ基板２の全面に所定膜厚の薄膜のレジスト層が形成される。次に、プリベーキング工程が行われ、ホットプレートにより１００℃前後の温度でレジスト層に対してプリベーキングが行われる。これにより、レジスト層がやや固められて前述の各上面にオーバーコート層８が形成される。その後、基板受取工程が行われ、このようにオーバーコート層８が形成されたフィルタ基板２がホットプレートから取り出される。
【００３５】
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法の特徴部分である、マイクロウェーブによるポストベーキング工程が行われ、ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製工程と同様に、フィルタ基板２上のオーバーコート層８がマイクロウェーブによってポストベーキングされてフィルタ基板２上にしっかりと焼き固められる。
【００３６】
最後に、従来のカラーフィルタの製造方法と同様にして、フィルタ基板２上のオーバーコート層８の上面にＳｉＯ2層９が形成されるとともに、このＳｉＯ2層９の上面に透明電極層（ＩＴＯ層）１０が形成されることで、図１に示すカラーフィルタ１が完成される。
【００３７】
なお、この例のカラーフィルタの製造方法では基板洗浄工程、ＩＲオーブン工程、およびＵＶ洗浄工程を設けているが、フィルタ基板２がきれいで洗浄を必要としない場合には、これらの基板洗浄工程、ＩＲオーブン工程、およびＵＶ洗浄工程は省略でき、カラーフィルタの製造方法を図９に示す従来例と同様にレジスト塗布工程から始めることができる。
【００３８】
また、前述の例ではマイクロウェーブをポストベーキングのみに用いているが、プリベーキングに用いることもできる。
更に、ブラックマトリックスパターン層３、レッド（Ｒ）画素パターン４、グリーン（Ｇ）画素パターン５、およびブルー（Ｂ）画素パターン６の形成順は、前述の例に限定されることはなく、任意に設定することができる。
【００３９】
次に、この例のカラーフィルタの製造方法に用いられるカラーフィルタの製造システムについて説明する。
図４および図５はカラーフィルタの製造システムを模式的に示す図である。
図４および図５に示すように、この例のカラーフィルタの製造システム１１は、ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製システム１２とオーバーコート作製システム１３とからなっている。
【００４０】
図４に示すように、ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製システム１２は、フィルタ基板２を洗浄機１５に投入する投入機１４と、フィルタ基板２を洗浄液および洗浄水で洗浄する洗浄機１５と、洗浄されたフィルタ基板２を赤外線で熱しかつ紫外線で前述のように洗浄する乾燥機１６と、ブラック（Ｋ）顔料、レッド（Ｒ）顔料、グリーン（Ｇ）顔料、およびブルー（Ｂ）顔料による各光硬化型顔料分散フォトレジストをそれぞれフィルタ基板２の上面に塗布する、スリットコータおよびスピンコータからなるレジスト塗布装置１７と、各光硬化型顔料分散フォトレジストが塗布されたフィルタ基板２の端面をきれいに洗浄して端面に付着する各フォトレジストを除去する端面洗浄機１８と、フィルタ基板２上の各光硬化型顔料分散フォトレジストをプリベーキングしてやや固めるための、ホットープレート、赤外線オーブン、および熱風オーブン等の仮焼成機１９と、フィルタ基板２上の各光硬化型顔料分散フォトレジストをフォトマスクで所定のパターンに露光する露光機２０と、各光硬化型顔料分散フォトレジストの非露光部分を現像液で除去して所定のパターンを現像する現像機２１と、所定のパターンに現像された各光硬化型顔料分散フォトレジストをポストベーキングしてしっかりと固めるための焼成機であるマイクロウェーブ装置２２と、各光硬化型顔料分散フォトレジストがそれぞれポストベーキングされて、ブラックマトリックスパターン層２と、レッド（Ｒ）画像パターン４、グリーン（Ｇ）画像パターン５、およびブルー（Ｂ）画像パターン６のカラー画像パターン層７とが形成されたフィルタ基板２をマイクロウェーブ装置２２から取り出す受取機２３とから構成されている。
【００４１】
また図５に示すように、オーバーコート作製システム１３は、ブラックマトリックスパターン層３およびカラー画像パターン層７が形成されたフィルタ基板２を洗浄機２５に投入する投入機２４と、このフィルタ基板２を洗浄液および洗浄水で洗浄する洗浄機２５と、洗浄されたフィルタ基板２を赤外線で熱しかつ紫外線で前述のように洗浄する乾燥機２６とオーバーコート用のレジストをフィルタ基板２の上面に塗布する、スリットコータおよびスピンコータからなるレジスト塗布装置２７と、オーバーコート用のレジストが塗布されたフィルタ基板２を乾燥する真空乾燥機２８と、フィルタ基板２上のオーバーコート用のレジストをプリベーキングしてやや固めるための前述と同様の仮焼成機２９と、オーバーコート用のレジストがポストベーキングされたフィルタ基板２を仮焼成機２９から取り出す受取機３０と、オーバーコート用のレジストをポストベーキングしてしっかりと固めるための焼成機であるマイクロウェーブ装置３１と、オーバーコート用のレジストがポストベーキングされたフィルタ基板２をマイクロウェーブ装置３１から取り出す受取機３２とから構成されている。
【００４２】
その場合、ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製システム１２およびオーバーコート作製システム１３における、各投入機１４,２４、各洗浄機１５,２５、各乾燥機１６,２６、それぞれスリットコータおよびスピンコータからなる各レジスト塗布装置１７,２７、端面洗浄機１８、各仮焼成機１９,２９、露光機２０、現像機２１、各受取機２３,３０,３２、および真空乾燥機２８は、いずれも、従来のカラーフィルタ製造システムで用いられているそれらと同じものを用いることができる。
【００４３】
一方、本発明のカラーフィルタ製造システム１１の特徴部分であり、ポストベーキングを行うマイクロウェーブ装置２２,３１はいずれも同じ構成を有しており、図６に示すようにＳＵＳ、亜鉛鋼等からなる開閉可能な密閉容器状の本体３３と、マイクロウェーブをアンテナ３４ａを介して発生するマグネトロン３４と、マグネトロン３４が発生したマイクロウェーブを本体３３内に導入する導波管３５と、本体３３内に回転可能に設けられて所定数のピン３６ａによってフィルタ基板２をピン支持するための、セラミックやガラス等からなる透明なターンテーブル３６と、本体３３内に回転可能に設けられ、導波管３５を介して本体３３内に導入されたマイクロウェーブを分散する扇風機３７とからなっている。
【００４４】
そして、このように構成されたマイクロウェーブ装置２２,３２は、ターンテーブル３６のピン３６ａに、ブラックマトリックスパターン層３、カラー画素パターン７、あるいはオーバーコート層８が形成されたフィルタ基板２を支持した状態で、マグネトロン３４を作動してマイクロウェーブを発生する。すると、このマイクロウェーブは導波管３５を介して本体３３内に導入されて、フィルタ基板２のブラックマトリックスパターン層３、カラー画素パターン７、あるいはオーバーコート層８をそれぞれ照射する。これにより、これらのブラックマトリックスパターン層３、カラー画素パターン７、あるいはオーバーコート層８がそれぞれポストベーキングされてフィルタ基板２上にしっかりと焼き固められる。その場合、ターンテーブル３６および扇風機３７を回転することで、ブラックマトリックスパターン層３、カラー画素パターン７、あるいはオーバーコート層８はむらなく均一にマイクロウェーブが照射されて、均一に固められる。
【００４５】
なお、ターンテーブル３６は必ずしも透明でなくてもよく、この場合には、マイクロウェーブ装置２２,３２として、市販の電子レンジを用いることが可能となり、あるいは市販の電子レンジの一部を改造して用いることが可能となる。
また、プリベーキングには、焼成機としてホットプレートに代えて赤外線オーブンあるいは熱風オーブンを用いることもできる。更に、プリベーキングにマイクロウェーブを用いる場合には、焼成機としてマイクロウェーブ装置を用いることができる。
【００４６】
このように構成されたこの例のカラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタの製造システムによれば、ブラックマトリックスパターン層３、カラー画素パターン７、およびオーバーコート層８をマイクロウェーブによりポストベーキングしているので、ホットプレート、赤外線オーブン、あるいは熱風オーブン等の従来の焼成機に比べて短時間でポストベーキングすることができる。これにより、カラーフィルタ１の製造時間を短縮できるので、カラーフィルタ１の生産性を向上することができ、カラーフィルタ１の製造コストを効果的に低減することができる。特に、プリベーキングにもマイクロウェーブを用いることで、カラーフィルタ１の製造時間をより一層短縮でき、カラーフィルタ１の生産性を更に向上することができる。
【００４７】
しかも、ブラックマトリックスパターン層３、カラー画素パターン７、およびオーバーコート層８に用いられるレジストは、従来のカラーフィルタに用いられているレジストをそのまま用いることができるので、ポストベーキングおよびプリベーキングにマイクロウェーブを用いても特別なレジストを用いなくても済み、レジストのコストの増大を阻止できる。
【００４８】
また、ポストベーキングおよびプリベーキングを短時間で行うことができるので、これらのポストベーキングおよびプリベーキングをフィルタ基板２上のレジストに対してむらなく均一に行うことができ、高品質のカラーフィルタ１を製造することが可能となる。
【００４９】
更に、この例のカラーフィルタの製造システムによれば、マイクロウェーブ装置２２,３１に従来周知の電子レンジの技術を利用することができるので、マイクロウェーブ装置２２,３２として特別な焼成機を必要とせず、市販の電子レンジをそのままあるいは市販の電子レンジの一部を改造して用いることができる。したがって、マイクロウェーブ装置２２,３２を容易にかつ安価に形成することができる。
【００５０】
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタの製造システムの作用効果を確認するために、実験を行った。実験の内容は、オーバーコート層のポストベーキングの焼成機に本発明のマイクロウェーブ装置を用いた場合と従来の熱風オーブンを用いた場合とにおける、オーバーコート層の所望の焼き固めが得られるまでに要する時間を測定した。
【００５１】
実験に用いた以下の実施例１ないし１２および比較例１のいずれにおいても、テストピースの材料およびサイズは同じである。図７（ａ）および（ｂ）に示すように、各テストピースは、フィルタ基板としてＳｉＯ2を含んだソーダガラス（メルク社製；台湾）からなる透明なフィルタ基板２を用い、縦ａが３７０ｍｍ、横ｂが４８０ｍｍおよび厚みｃが０.５ｍｍである。このフィルタ基板２の上面に、対角ｄが１.７インチのカラーフィルタを縦９面および横９面の計８１面作製した。
【００５２】
このフィルタ基板２に形成されたブラックマトリックスパターン層３、レッド（Ｒ）パターン４、グリーン（Ｇ）パターン５、およびブルー（Ｂ）パターン６にそれぞれ用いたカラーレジストは、富士フイルム（株）製カラーレジストＣＲ（ブラック、レッド、グリーン、ブルー）である。図７（ｂ）に示すように、ブラックマトリックスパターン層３、レッド（Ｒ）パターン４、グリーン（Ｇ）パターン５、およびブルー（Ｂ）パターン６の厚みｅは、１.０μｍである。各カラーレジストの塗布に用いた塗布装置として、いずれも、スリットコータはエイブル社製Ｍ−コーターであり、またはスピンコータはエイブル社製；型式ＮＳＣ−９００である。スリットコータの塗布圧は０.０２ＭＰａに設定し、また、スピンコータの回転数は５００ｒｐｍである。
【００５３】
また、各カラーレジストの紫外線の露光量は、いずれも、１００ｍｊ／ｃｍ2に設定し、各カラーレジストの現像は、いずれも、現像剤に富士フイルム（株）製の現像剤を用い、現像時間は５０ｓｅｃに設定した。
更に、各カラーレジストのプリベーキングに用いた焼成機は中央システム（株）製の熱風オーブンで、またポストベーキングに用いた焼成機は光洋サーモシステム（株）製の熱風オーブンである。プリベーキングにおいては焼成温度１３０℃で焼成時間５５ｓｅｃ焼成するのを３回繰り返し、また、ポストベーキングにおける温度は２３０℃であり、焼成時間は４０分である。
【００５４】
また、オーバーコート層のレジストは、日本合成ゴム（株）製のオーバーコート剤（商品名：ＪＳＲ６２７３−ＡおよびＪＳＲ６２７３−Ｂ）である。図７（ｂ）に示すように、オーバーコート層８の厚みは、ブラックマトリックス、レッド（Ｒ）パターン、グリーン（Ｇ）パターン、およびブルー（Ｂ）パターンの上面からの厚みｆが約２.０μｍとなるように設定した。
【００５５】
オーバーコート層８のレジストの塗布に用いた塗布装置として、いずれも、前述のエイブル社製のスリットコータおよびエイブル社製のスピンコータである。スリットコータの塗布圧は０.０４ＭＰａに設定し、また、スピンコータの回転数は７００ｒｐｍである。
また、オーバーコート層のレジストのプリベーキングに焼成機は、東レエンジニアリング（株）製のホットープレート式オーブンである。プリベーキングにおいては焼成温度９０℃で焼成時間５５ｓｅｃ焼成した後、焼成温度１５０℃で焼成時間５５ｓｅｃ焼成し、更に焼成温度１８０℃で焼成時間５５ｓｅｃ焼成した
【００５６】
図７（ａ）に示すように、テストピースはオーバーコート層のプリベーキングを行った後、６分割のテストピース（１）ないし（６）に形成し、これらを３セット（つまり、合計１６個）用意した。各実施例のテストピースにおけるオーバーコート層のポストベーキングに用いた焼成機としてのマイクロウェーブ装置は、松下電器産業（株）製の電子レンジであり、また、比較例のテストピースにおけるオーバーコート層のポストベーキングに用いた焼成機としては、東レエンジニアリング（株）製の熱風オーブンである。表１に、各テストピースのレンジ出力、オーブンの焼成温度、焼成方法、および焼成時間を示すとともに、実験結果として、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）拭きの結果、アセトン拭きの結果、および鉛筆硬度（凝集破壊検査）の結果を示す。
【００５７】
【表１】
2007171616.tif 000003
【００５８】
表１において、実施例１ないし１２では、レンジ出力がいずれも７５０Ｗであり、比較例１では、焼成温度が２３０℃である。
また、実施例１ないし５では、焼成方法がテストピースの直置きであり、この直置きは、テストピースを電子レンジのターンテーブルに直接置く方法である。更に、実施例６ないし１０および比較例１では、焼成方法がテストピースのピン支持であり、このピン支持は、図８（ａ）に示すようにテストピースをターンテーブルあるいは熱風オーブンの支持テーブルの上に載置した支持ピンに支持する方法である。更に、実施例１１および１２では、焼成方法がテストピースの２段重ねであり、この２段重ねは、図８（ｂ）に示すように１つのテストピース（上）を前述のように支持ピンに支持するとともに、もう１つのテストピース（下）をターンテーブルに直接置く方法である。支持ピンは図８（ｃ）に示すように高さ１５ｍｍの段付き円筒状のテフロン製のピンである。
【００５９】
更に、実施例１および７、比較例１ではテストピース（１）を用い、実施例２および８ではテストピース（２）を用い、実施例３および９ではテストピース（３）を用い、実施例４および１０ではテストピース（４）を用い、実施例５および１１の上下ではテストピース（５）を用い、実施例６および１２の上下ではテストピース（６）を用いた。
【００６０】
更に、実施例１および６では焼成時間が１分であり、実施例２および７では焼成時間が５分であり、実施例３、８および１１では焼成時間が１０分であり、実施例４、９および１２では焼成時間が２０分であり、実施例５および１０では焼成時間が３０分であり、比較例１では焼成時間が４０分であった。
【００６１】
更に、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）拭きによる評価方法およびアセトン拭きによる評価方法は、それぞれ、ＩＰＡおよびアセトンを含ませた布でオーバーコートのレジストを３０回拭きながら擦って剥がれない場合には良好（ＯＫ）であると判断した。更に、鉛筆硬度（凝集破壊）による評価方法は、鉛筆の芯でオーバーコート層のレジストを１０回擦ったときにオーバーコート層が傷付いた場合の鉛筆の芯の硬さ（Ｈ）が５Ｈ以上であるとき、良好であると判断した。
【００６２】
表１に示す実験結果から明らかなように、実施例１ないし１２および比較例１のいずれにおいても、ＩＰＡ拭きによる評価結果およびアセトン拭きによる評価結果は、ともにオーバーコート層８の剥がれが生じなく、良好（ＯＫ）であると評価した。また、実施例１ないし５，７ないし１２および比較例１のいずれにおいても、鉛筆硬度（凝集破壊）による評価結果は、硬さ５Ｈの鉛筆の芯で１０回擦ってもオーバーコート層８には傷が付かず、オーバーコート層８の所望の硬さが良好であると評価した。また、実施例６では、鉛筆硬度（凝集破壊）による評価結果は、硬さ５Ｈの鉛筆の芯で１０回擦ったときオーバーコート層８には傷が付いたが、このオーバーコート層８の硬さは実用に供し得るものであるので、良好であると評価した。なお、表１には示さないが、比較例１では、残りのテストピースを用いて焼成時間を４０分より少なくしていくつか実験を行ったが。それらの鉛筆硬度（凝集破壊）による実験結果は、いずれも、硬さ５Ｈの鉛筆の芯でオーバーコート層８を擦ったとき、擦りが１０回満たないうちにオーバーコート層８に傷が付き、実用に供し得るオーバーコート層８の硬さが得られなかった。
【００６３】
以上の実験結果から、従来の熱風オーブンでオーバーコート層８のレジストをポストベーキングした場合には、オーバーコート層８の所望の硬さを得るためには、約４０分程度の焼成時間が必要であるのに対して、本発明のマイクロウェーブ装置でオーバーコート層８のレジストをポストベーキングした場合には、オーバーコート層８の所望の硬さを得るためには、約１分程度の焼成時間で十分であることがわかった。これにより、本発明のマイクロウェーブでオーバーコート層８のレジストをポストベーキングした場合は、ポストベーキングに要する時間を従来に比べて大幅に短くできることが確認された。また、この実験結果から、ブラックマトリックスのレジストおよびカラーレジストをそれぞれマイクロウェーブ装置でポストベーキングした場合にも、それらを短時間でポストベーキングすることができることは容易に推測できるし、ブラックマトリックスのレジスト、カラーレジスト、およびオーバーコート層のレジストをそれぞれマイクロウェーブ装置でプリベーキングした場合にも、それらを短時間でプリベーキングすることができることは容易に推測できる。なお、この実験において、オーバーコート層のレジストに対してポストベーキングが従来の熱風オーブンよりむらなく均一に行われることも確認された。
【００６４】
なお、フィルタ基板２の材料、ブラックマトリックスパターン層３、レッド（Ｒ）パターン４、グリーン（Ｇ）パターン５、およびブルー（Ｂ）パターン６の各カラーレジストは、いずれも、前述の実験に用いたものに限定されることなく、マイクロウェーブを用いることが可能であれば、例えば特許文献１に記載されているレジストを始め、カラーフィルタに用いられている従来公知のものを用いることができる。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明のカラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタの製造システムは、携帯電話、ナビゲーションシステム、あるいはパーソナルコンピュータを始め、カラー液晶表示装置等のカラー表示ディスプレイに使用されているカラーフィルタの製造方法およびこの方法に好適に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の実施の形態の一例により製造されるカラーフィルタの一例の構造図である。
【図２】この例のカラーフィルタの製造方法のうち、ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製工程を説明する図である。
【図３】この例のカラーフィルタの製造方法のうち、オーバーコート作製工程を説明する図である。
【図４】本発明に係るカラーフィルタの製造システムの実施の形態の一例のうち、ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製システムを模式的に示す図である。
【図５】この例のカラーフィルタの製造システムのうち、オーバーコート作製システムを模式的に示す図である。
【図６】この例のカラーフィルタの製造システムに用いられるマイクロウェーブの一例を模式的に示す図である。
【図７】実験に用いたテストピースを模式的に示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は部分断面図である。
【図８】実験に用いたテストピースの焼成方法を模式的に示し、（ａ）はピン支持を示す図、（ｂ）は２段重ねを示す図、（ｃ）はピン支持のピンを示す図である。
【図９】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を説明する図である。
【符号の説明】
【００６７】
１…カラーフィルタ、２…フィルタ基板、３…ブラックマトリックスパターン層、４…レッド（Ｒ）画素パターン、５…グリーン（Ｇ）画素パターン、６…ブルー（Ｂ）画素パターン、７…カラー画素パターン層、８…オーバーコート層、１１…カラーフィルタの製造システム、１２…ブラックマトリックスおよびカラー画素パターン作製システム、１３…オーバーコート作製システム、１７,２７…レジスト塗布装置、１９,２９…仮焼成機、２２,３１…マイクロウェーブ装置、３３…本体、３４…マグネトロン、３５…導波管、３６…ターンテーブル、３７…扇風機
【図１】
2007171616.tif 000004
【図２】
2007171616.tif 000005
【図３】
2007171616.tif 000006
【図４】
2007171616.tif 000007
【図５】
2007171616.tif 000008
【図６】
2007171616.tif 000009
【図７】
2007171616.tif 000010
【図８】
2007171616.tif 000011
【図９】
2007171616.tif 000012