(57)【要約】【課題】処理容器内の雰囲気排気のための構成を小型化でき、しかも、処理容器内の雰囲気を均等に排気することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】処理容器からの排気は、第１〜第４排気管４１〜４４を介して気液分離容器５０に導かれる。気液分離容器５０は、配置平面８０上に配置され、第１および第２排気管４１，４２に結合された第１排気集合部５１と、配置平面８０上に配置され、第３および第４排気管４３，４４に結合された第２排気集合部５２と、配置平面８０上において第１および第２排気集合部５１，５２の間に配置された第３排気集合部５３とを一体化して構成されている。気液分離容器５０の内部には、第１および第３排気集合部５１，５３を仕切る第１仕切壁と、第２および第３排気集合部５２，５３を仕切る第２仕切壁とが形成されている。第１〜第４排気入口７１〜７４から排気出口１０２に至る排気経路の圧力損失は等しい。【選択図】図４
2007266286.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する処理空間を形成する処理容器と、
この処理容器に各一端が結合され、当該処理容器の内部の雰囲気を排気するための第１排気管、第２排気管、第３排気管および第４排気管と、
所定の配置平面上に配置され、前記第１排気管および第２排気管の他端にそれぞれ結合される第１排気入口および第２排気入口、ならびに第１排気出口を有し、前記第１および第２排気管からの排気を前記第１および第２排気入口からそれぞれ受け入れて集合させ、前記１排気出口から排出する第１排気集合部と、
前記配置平面上に配置され、前記第３排気管および第４排気管の他端にそれぞれ結合される第３排気入口および第４排気入口、ならびに第２排気出口を有し、前記第３および第４排気管からの排気を前記第３および第４排気入口からそれぞれ受け入れて集合させ、前記第２排気出口から排出する第２排気集合部と、
前記配置平面上において前記第１および第２排気集合部の間に配置され、前記第１排気出口および第２排気出口にそれぞれ結合される第５排気入口および第６排気入口、ならびに前記配置平面に沿う方向に排気する第３排気出口を有し、前記第１および第２排気集合部からの排気を前記第５および第６排気入口からそれぞれ受け入れて集合させ、前記第３排気出口から排出する第３排気集合部とを含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記配置平面は、水平面であり、
前記第３排気集合部は、前記第１排気集合部および第２排気集合部からの排気が集合される排気集合空間と、この排気集合空間から上方に引き出されて前記第３排気出口に向かう排気通路とをさらに有している、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１、第２および第３排気集合部は一体化されており、
前記第１排気集合部内の排気集合空間および第３排気集合部内の排気集合空間を区画する第１仕切壁と、前記第２排気集合部内の排気集合空間および第３排気集合部内の排気集合空間を区画する第２仕切壁とをさらに含み、
前記第１仕切壁には前記第１排気集合部および第３排気集合部の排気集合空間相互間を連通させる第１開口が形成されて前記第１排気出口および第５排気入口を成しており、前記第２仕切壁には前記第２排気集合部および第３排気集合部の排気集合空間相互間を連通させる第２開口が形成されて前記第２排気出口および第６排気入口を成している、請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第１および第２排気入口からそれぞれ前記第１排気出口に至る第１排気経路および第２排気経路、ならびに前記第３および第４排気入口から前記第２排気出口に至る第３排気経路および第４排気経路における圧力損失が等しくなるように前記第１排気集合部および第２排気集合部が設計されている、請求項１〜３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記第５排気入口および第６排気入口からそれぞれ第３排気出口に至る第５排気経路および第６排気経路における圧力損失がいずれも等しくなるように前記第３排気集合部が設計されている、請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記第１、第２、第３および第４排気管は、いずれも直線状管である、請求項１〜５のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、処理容器内で基板に対する処理を施す基板処理装置に関する。処理対象の基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置などの製造工程では、半導体ウエハ等の基板に対して処理液や処理ガスによる処理を施す基板処理装置が用いられる。たとえば、基板を１枚ずつ処理する枚葉型の基板処理装置は、基板を保持して回転させるスピンチャックと、このスピンチャックに対して処理液を供給する処理液ノズルとを有する処理ユニットを備えている。スピンチャックは、有底筒状の処理容器内に収容されている。この処理容器は、基板の回転に伴って回転半径外方へと飛び出す処理液を受け止め、処理チャンバ内への処理液の飛散を防止する。処理容器の底部には、排液配管が接続されており、基板から流下した処理液は、処理容器の内壁面に受け止められた後に、排液配管に導かれるようになっている。また、処理容器には、排気管が接続されている。この排気管を介して処理容器内の雰囲気を排気することによって、基板の近傍から処理液ミストを排除し、清浄な雰囲気中での基板処理を実現している。
【０００３】
図１０は、排気に関連する構成例を説明するための図解的な斜視図である。有底円筒状の処理容器５の底部には、処理容器５の中心軸線を対称軸としてほぼ回転対称な配置で第１〜第４排気管１，２，３，４の各他端が結合されており、これらの排気管１〜４は鉛直下方に向かって延びている。第１および第２排気管１，２の各他端は、直方体形状の第１排気集合容器６の両端部付近の上面にそれぞれ結合されている。また、第３および第４排気管３，４の各他端は、同じく直方体形状の第２排気集合容器７の両端部付近の上面にそれぞれ結合されている。第１および第２排気集合容器６，７は、同じ高さ位置に設けられており、下面中央部に排気出口８，９をそれぞれ有している。これらの排気出口８，９には、直方体形状の排気通路室１０，１１がそれぞれ結合されている。排気通路室１０，１１は、一端部付近の上面で排気出口８，９にそれぞれ結合されており、互いに平行に延びている。これらの排気通路室１０，１１の他端部の下面には、排気連絡管１２，１３の一端がそれぞれ結合されている。これらの排気連絡管１２，１３は、それぞれ鉛直下方に延びており、それらの他端は、直方体形状の気液分離容器１４の両端部付近の上面にそれぞれ結合されている。気液分離容器１４には、排液管１５を介して、処理容器５内で基板処理のために用いられた後の処理液が導かれるようになっている。気液分離容器１４には、工場に備えられた排気ユーティリティ等の排気源に接続される全体排気管１６と、同じく工場に備えられた排液ユーティリティに接続される排液管１７とが接続されている。全体排気管１６は、気液分離容器１４の長さ方向中央付近の側面に結合されている。
【０００４】
このような構成により、第１〜第４排気管１〜４のいずれを通る排気経路も圧力損失が等しくなっており、処理容器５内の雰囲気を、圧力バランスのとれた状態で排気することができる。これにより、処理容器５内に偏りのない安定した気流を形成できるので、良好な基板処理が可能になる。
【特許文献１】特開平７−１６１６２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前述の構成では、処理容器５の下方に第１および第２排気集合容器６，７が配置され、さらにその下方に排気通路室１０，１１が配置され、さらにその下方に気液分離容器１４が配置されている。そのため、処理容器５の下方の限られたスペースのなかで、排気集合のための構成が大きな空間を占有している。
しかも、排気集合のための構造の上下方向サイズが大きく、複数の処理ユニットを二階建て以上の構造に立体配置する場合には、この上下方向サイズの縮小が課題となる。
【０００６】
第１，第２排気集合容器６，７および排気通路室１０，１１を廃止して、第１〜第４排気管１〜４を気液分離容器１４に直接接続する構成とすれば前記の問題は解決される。
しかし、このような構成とすると、第１〜第４排気管１〜４による排気のバランスを均一にすることができないという、より深刻な課題に直面する。すなわち、たとえば、気液分離容器１４を水平方向に拡張した直方体形状として、第１〜第４排気管１〜４をその上面の四隅に結合する構成としても、その側面に全体排気管１６を結合する限り、第１〜第４排気管１〜４による排気は均等にはならない。むろん、気液分離容器１４の下面中央に全体排気管１６を結合すれば、第１〜第４排気管１〜４の排気バランスを均等化できるが、装置下方で全体排気管１６を接続する必要が生じ、工場での配管組み立てが煩雑になる。これを回避しようとして全体排気管１６を予め装置下部で引き回して装置側方へと引き出しておくことが考えられるが、そのためには、全体排気管１６を引き回すためのスペースを確保する必要があり、処理容器５の下方の大きな空間を占有してしまう。
【０００７】
そこで、この発明の目的は、処理容器内の雰囲気排気のための構成を小型化でき、しかも、処理容器内の雰囲気を均等に排気することができる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板（Ｗ）を処理する処理空間を形成する処理容器（２１）と、この処理容器に各一端が結合され、当該処理容器の内部の雰囲気を排気するための第１排気管（４１）、第２排気管（４２）、第３排気管（４３）および第４排気管（４４：好ましくは、同じ圧力損失のもの。より具体的には同じ長さのもの）と、所定の配置平面（８０）上に配置され、前記第１排気管および第２排気管の他端にそれぞれ結合される第１排気入口（７１）および第２排気入口（７２）、ならびに第１排気出口（８１）を有し、前記第１および第２排気管からの排気を前記第１および第２排気入口からそれぞれ受け入れて集合させ、前記１排気出口から排出する第１排気集合部（５１）と、前記配置平面上に配置され、前記第３排気管および第４排気管の他端にそれぞれ結合される第３排気入口（７３）および第４排気入口（７４）、ならびに第２排気出口（８２）を有し、前記第３および第４排気管からの排気を前記第３および第４排気入口からそれぞれ受け入れて集合させ、前記第２排気出口から排出する第２排気集合部（５２）と、前記配置平面上において前記第１および第２排気集合部の間に配置され、前記第１排気出口および第２排気出口にそれぞれ結合される第５排気入口（８１）および第６排気入口（８２）、ならびに前記配置平面に沿う方向に排気する第３排気出口（１０２）を有し、前記第１および第２排気集合部からの排気を前記第５および第６排気入口からそれぞれ受け入れて集合させ、前記第３排気出口から排出する第３排気集合部（５３）とを含む、基板処理装置である。なお、括弧内の英数字は後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
【０００９】
この構成によれば、第１および第２排気管からの排気を集合させる第１排気集合部、第３および第４排気管からの排気を集合させる第２排気集合部、ならびに第１および第２排気集合部からの排気を集合させる第３排気集合部が、いずれも配置平面上に配置されている。そのため、処理容器内の雰囲気の排気のための構成を小型化することができ、とくに、配置平面に直交する方向のサイズを縮小することができる。しかも、第１および第２排気集合容器による排気集合を経て、第３排気集合容器による排気集合を行う構成であるので、第３排気集合容器からの排気を側方（配置平面に沿う方向）へと排出する構成でありながら、第１〜第４排気管を介する排気を均等化できる。これにより、小型化された構成で、処理容器内に安定した気流を形成できるので、高品質な基板処理が可能になる。
【００１０】
なお、前記第１〜第３排気集合部は、一体化されていることが好ましいが、前記配置平面に沿って分離して配置されていてもよい。
請求項２記載の発明は、前記配置平面は、水平面であり、前記第３排気集合部は、前記第１排気集合部および第２排気集合部からの排気が集合される排気集合空間（１１３）と、この排気集合空間から上方（たとえば斜め上方）に引き出されて前記第３排気出口に向かう排気通路（１０１）とをさらに有している、請求項１記載の基板処理装置である。
【００１１】
この構成により、たとえば、第３排気集合部へと排液が入り込む場合でも、この排液と排気とを分離することができ、排液のみを第３排気出口から排気できる。
請求項３記載の発明は、前記第１、第２および第３排気集合部は一体化されており、前記第１排気集合部内の排気集合空間および第３排気集合部内の排気集合空間を区画する第１仕切壁（７５）と、前記第２排気集合部内の排気集合空間および第３排気集合部内の排気集合空間を区画する第２仕切壁（８５）とをさらに含み、前記第１仕切壁には前記第１排気集合部および第３排気集合部の排気集合空間相互間を連通させる第１開口（８１）が形成されて前記第１排気出口および第５排気入口を成しており、前記第２仕切壁には前記第２排気集合部および第３排気集合部の排気集合空間相互間を連通させる第２開口（８２）が形成されて前記第２排気出口および第６排気入口を成している、請求項１または２記載の基板処理装置である。
【００１２】
この構成により、第１仕切壁および第２仕切壁によって空間を区画することによって、第１、第２および第３排気集合部が一体化されているので、排気のための構成を一層小型化することができる。また、第１〜第３排気集合部を個別の容器で構成する場合に比較して、製作コストを削減することができる。
請求項４記載の発明は、前記第１および第２排気入口からそれぞれ前記第１排気出口に至る第１排気経路（９１）および第２排気経路（９２）、ならびに前記第３および第４排気入口から前記第２排気出口に至る第３排気経路（９３）および第４排気経路（９４）における圧力損失が等しくなるように前記第１排気集合部および第２排気集合部が設計されている、請求項１〜３のいずれかに記載の基板処理装置である。この構成により、第１および第２排気集合部内の排気経路の圧力損失がいずれも等しいので、排気のバランスを均等化できる。
【００１３】
請求項５記載の発明は、前記第５排気入口および第６排気入口からそれぞれ第３排気出口に至る第５排気経路（９５）および第６排気経路（９６）における圧力損失がいずれも等しくなるように前記第３排気集合部が設計されている、請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置である。この構成により、第３排気集合部内の排気経路の圧力損失が等しいので、排気のバランスを均等化できる。
【００１４】
請求項６記載の発明は、前記第１、第２、第３および第４排気管は、いずれも直線状管である、請求項１〜５のいずれかに記載の基板処理装置である。この構成により、第１〜第４排気管における圧力損失を容易に均等化できる。また、第１〜第４排気管における圧力損失を低減できるから、効率的な排気が可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するための断面図であり、基板処理装置に備えられるべき複数の処理ユニットの１つの構成が示されている。処理チャンバ２０内には、有底円筒状の処理容器２１と、処理液ノズル２８とが備えられている。処理容器２１には、図２の拡大断面図に示すように、基板保持回転機構としてのスピンチャック２２が収容されている。スピンチャック２２は、処理対象の基板Ｗをほぼ水平姿勢で保持してそのほぼ中心を通る鉛直軸線まわりに回転させるものである。処理液ノズル２８は、スピンチャック２２に保持された基板Ｗの上面に処理液（薬液またはリンス液）を供給するためのものである。
【００１６】
スピンチャック２２は、円盤状のスピンベース２３と、このスピンベースの上面の周縁部に間隔を開けて配置された複数の基板挟持部材２４と、スピンベース２３の下面に鉛直方向に沿って結合された回転軸２５と、この回転軸２５に回転力を与える回転駆動機構２６（この実施形態では中空型モータ）とを備えている。
処理容器２１は、処理カップ３１と、スプラッシュガード３２とを備えている。処理カップ３１は、回転駆動機構２６を収容する回転駆動機構収容部３０を中央に有し、その周囲に環状の排液・排気溝３３を有する。スプラッシュガード３２は、処理カップ３１の上方で上下動可能であるように設けられており、断面略横転Ｖ字形の環状溝からなる処理液受け部３４を有している。この処理液受け部３４は、基板Ｗの回転に伴って遠心力により回転半径外方に飛び出す処理液を受け止めて、排液・排気溝３３へと導く。
【００１７】
排液・排気溝３３には、処理カップ３１の中心軸に対して回転対称な４箇所に排気用凹所３５が形成されている。この排気用凹所３５は、排液・排気溝３３の最低部よりも高い位置に底面を有し、その底面には処理カップ３１の下面に至る排気孔３６が形成されている。この４つの排気孔３６には、処理カップ３１の下面において、処理容器２１の平面図である図３に示すように、第１〜第４排気管４１，４２，４３，４４の各一端がそれぞれ結合されている。第１〜第４排気管４１，４２，４３，４４は鉛直方向に沿って処理カップ３１の下方に延びて処理チャンバ２０の下方の空間に至る直線状管（より具体的には、断面積および長さが等しい直線状管）であり、それらの各他端は、装置下部に配置された気液分離容器５０に結合されている。
【００１８】
また、排液・排気溝３３には、排液用凹所３７が形成されている。この排液用凹所３７の底面は、排液・排気溝３３の最低部からさらに下降する傾斜面をなしている。この傾斜面の下端縁付近には、処理カップ３１の底面に至る排液孔３８が形成されている。この排液孔３８には、処理カップ３１の下面において、排液管３９の一端が結合されている。この排液管３９は、処理カップ３１の下方に延びて処理チャンバ２０の下方の空間に至り、その他端は、装置下部に配置された排液中間容器４０に結合されている。この排液中間容器４０は、気液分離容器５０の側方に配置されており、この気液分離容器５０に連絡管４５を介して結合されている。
【００１９】
さらに、処理チャンバ２０内の雰囲気を排気するために、処理カップ３１の外側において、処理チャンバ２０の底面の２箇所にチャンバ排気管４７，４８の各一端がそれぞれ接続されている。これらのチャンバ排気管４７，４８は、処理カップ３１を挟んでほぼ対称な位置で処理チャンバ２０に結合されており、処理チャンバ２０の下方に延びて、それらの他端は、気液分離容器５０の対向する側壁にそれぞれ結合されている。
【００２０】
図４は気液分離容器５０の斜視図であり、図５は気液分離容器５０を図４の姿勢に対して鉛直線まわりに９０度だけ時計まわり方向に回転した姿勢で示す斜視図である。また、図６および図７は、気液分離容器５０の内部の構成を示すために天板部を省いて描いた斜視図であり、それぞれ図４および図５の姿勢に対応している。さらに、図８は気液分離容器５０の横断面図であり、水平面でとった断面が示されている。
【００２１】
気液分離容器５０は、平面視において略Ｕ字状に形成されており、水平面に沿う仮想的な平面である配置平面８０に沿って配置された第１排気集合部５１、第２排気集合部５１および第３排気集合部５３を備えている。第１排気集合部５１は、第１排気管４１および第２排気管４２の下端付近を両端部とするように水平方向に延びた長尺な略直方体形状に形成されている。また、第２排気集合部５１は、第３排気管４３および第４排気管４４の下端付近を両端部とするように水平方向に延びた長尺な直方体形状に形成されている。そして、これらの第１および第２排気集合部５１，５２の間に第３排気集合部５３が配置されており、第１および第２排気集合部５１は、第３排気集合部５３を挟んでほぼ対称形に形成されている。
【００２２】
気液分離容器５０は、略Ｕ字形の底板５５と、この底板５５に対向して平行に配置された略Ｕ字状の天板５６と、底板５５および天板５６の周縁部同士を結合する側板５７とを備えている。側板５７は、底板５５の一辺から立ち上がる第１側板部６０と、この第１側板部６０の一端部に直角に連なる第１端板部６１と、第１側板部６０の他端部に直角に連なる第２端板部６２と、この第２端板部６２から前記第１側板部６０と平行に折り返す第２側板部６３と、この第２側板部６３に連なりＵ字形状の谷部を形成する湾曲側板部６４と、この湾曲側板部６４に連なり第２側板部６３と対向するように平行に延びる第３側板部６５と、この第３側板部６５の一端に直角に連なる第３端板部６６と、この第３端板部６６の一端と第１端板部６１の一端との間に配置され第３側板部６５に対向するようにほぼ平行に延びる第４側板部６７とを備えている。
【００２３】
天板５６には、その四隅に第１排気入口７１、第２排気入口７２、第３排気入口７３および第４排気入口７４が設けられており、これらに第１〜第４排気管４１〜４４の下端がそれぞれ接続されている。
第１端板部６１からは、第１側板部６０とともに第１排気入口７１の直下の空間を取り囲むように第１仕切壁７５（ただし、図７では図示を省略してある。）が内方に向かって突出している。第１仕切壁７５は、底板５５の内表面（上面）から垂直に立ち上がっており、第１側板部６０と平行な平行部７６と、この平行部７６に連なり、第１排気入口７１の直下の空間を包囲するとともに湾曲側板部６４との間に間隔を保つように第１側板部６０に向かって斜行する斜行部７７と、この斜行部７７に連なり、第１側板部６０と平行に延びて、第１側板部６０および第２側板部６３との間に間隔を保つように設けられた平行部７８と、この平行部７８に連なり、第２側板部６３に向かって斜行して、この第２側板部６３に結合された斜行部７９とを有している。そして、平行部７８には、第１開口８１が形成されている。このようにして、第１および第２排気入口７１，７２からの排気を集合させて第１開口８１から排出する第１排気集合空間１１１が形成されている。
【００２４】
第１端板部６１に連なる平行部７６は、第２側板部６３と同一鉛直面内に位置している。また、第１開口８１は、平行部７８の水平方向に関する中間位置に形成されており、一対の斜行部７７，７９は、第１開口８１を垂直に二等分する鉛直面に対して対称に形成されている。そして、斜行部７７と平行部７６との連設位置と、斜行部７９と第２側板部６３との連設位置とは、第１開口８１を垂直に二等分する鉛直面に対して対称になっている。したがって、第１排気入口７１の直下の空間と、第２排気入口７２の直下の空間とは、第１開口８１を垂直に二等分する鉛直面に対して対称な形状を有している。すなわち、第１排気入口７１から第１開口８１に至る第１排気経路９１と、第２排気入口７２から第１開口８１に至る第２排気経路９２とは、互いに圧力損失の等しい排気経路をなしている。第１開口８１は、第１排気集合部５１の排気出口（第１排気出口）となる。
【００２５】
さらに、第１端板部６１からは、第４側板部６７とともに第３排気入口７３の直下の空間を取り囲むように第２仕切壁８５（ただし、図７では図示を省略してある。）が内方に向かって突出している。第２仕切壁８５は、底板５５の内表面（上面）から垂直に立ち上がっており、第４側板部６７と平行な平行部８６と、この平行部８６に連なり、第３排気入口７３の直下の空間を包囲するとともに湾曲側板部６４との間に間隔を保つように第４側板部６７に向かって斜行する斜行部８７と、この斜行部８７に連なり、第４側板部６７と平行に延びて、第３側板部６５および第４側板部６７との間に間隔を保つように設けられた平行部８８と、この平行部８８に連なり、第３側板部６５に向かって斜行して、この第３側板部６５に結合された斜行部８９とを有している。そして、平行部８８には、第２開口８２が形成されている。このようにして、第３および第４排気入口７３，７４からの排気を集合させて第２開口８２から排出する第２排気集合空間１１２が形成されている。
【００２６】
第１端板部６１に連なる平行部８６は、第３側板部６５と同一鉛直面内に位置している。また、第２開口８２は、平行部８８の水平方向に関する中間位置に形成されており、一対の斜行部８７，８９は、第２開口８２を垂直に二等分する鉛直面に対して対称に形成されている。そして、斜行部８７と平行部８６との連設位置と、斜行部８９と第３側板部６５との連設位置とは、第２開口８２を垂直に二等分する鉛直面に対して対称になっている。これにより、第３排気入口７３の直下の空間と、第４排気入口７４の直下の空間とは、第２開口８２を垂直に二等分する鉛直面に対して対称な形状を有している。したがって、第３排気入口７３から第２開口８２に至る第３排気経路９３と、第４排気入口７４から第２開口８２に至る第４排気経路９４とは、互いに圧力損失の等しい排気経路をなしている。第２開口８２は、第２排気集合部５２の排気出口（第２排気出口）となる。
【００２７】
また、第１および第２仕切壁７５，８５は、平面視円弧状に湾曲する湾曲側板部６４を二等分する鉛直面（第２および第３側板部６３，６５と平行な鉛直面）に対して対称形をなしている。そのため、前記第１〜第４排気経路９１〜９４は、いずれも圧力損失の等しい排気経路をなしている。
第３排気集合部５３は、第１および第２仕切壁７５，８５ならびに第１端板部６１によって側方が包囲されることにより、平面視において略二本刃フォーク形状の第３排気集合空間１１３を有している。すなわち、第１および第２仕切壁７５，８５に形成された第１および第２開口８１，８２は、第３排気集合空間１１３への排気入口（第５排気入口および第６排気入口）を形成している。第３排気集合空間１１３は、平面視円弧形状の湾曲側板部６４を二等分する鉛直面に対して対称に形成されている。
【００２８】
第１端板部６１において第３排気集合空間１１３に対向する位置には、上縁側に開放した矩形の切り欠き６８が形成されている。この切り欠き６８には、排気連絡部１００が結合されている。排気連絡部１００は、第３排気集合空間１１３から天板５６の一縁を貫通して斜め上方に出て、さらに第１端板部６１に沿って第４側板部６７に向かって屈曲しており、断面がほぼ矩形の排気通路１０１を形成している。この排気連絡部１００の先端は、集合された排気を配置平面８０に平行な水平方向へと排出する排気出口１０２（第３排気出口）を形成している。この排気出口１０２は、排気源（工場の排気ユーティリティ）へと接続される全体排気管１０３に接続される。
【００２９】
第３排気集合部５３内には、第１開口８１から第３排気集合空間１１３を通って排気出口１０２へと至る第５排気経路９５と、第２開口８２から第３排気集合空間１１３を通って排気出口１０２へと至る第６排気経路９６とが形成されている。前述のとおり、第３排気集合空間１１３は対称形に形成されているため、第５および第６排気経路９５，９６は、互いに圧力損失の等しい排気経路をなしている。
【００３０】
第１側板部６０および第２側板部６３の第１端板部６１寄りの位置には、それぞれ、第１および第２チャンバ排気入口１０５，１０６が形成されている。これらには、チャンバ排気管４７，４８の下端に接続される。
第４側板部６７において、第２チャンバ排気入口１０６とは反対側の半分程度の領域は、外方に膨出した形状に形成されており、この膨出部６９に対向するように平板状の第３仕切壁９７が設けられている。この第３仕切壁９７は、第４排気入口７４の直下の空間を第３排気入口７３の直下の空間と幾何学的にほぼ等価にするためのものであり、第４側板部６７の非膨出部７０と同一平面上にある。この非膨出部７０と、第３仕切壁９７との間には、排液を通すための開口９８が形成されている。そして、膨出部６９と第３仕切壁９７との間は、排液通路１０９を形成している。
【００３１】
第４側板部６７の膨出部６９には、排液入口９９が形成されている。この排液入口９９には、連絡管４５を介して排液中間容器４０が結合されている。この排液中間容器４０には、前述のとおり、排液管３９が接続されているとともに、純水スローリーク配管１０８が接続されている。純水スローリーク配管１０８には、微少流量の純水（脱イオン水）が供給される。
【００３２】
第１端板部６１において、第３排気入口７３の近傍には、その外面に直方体形状の排液外容器１１５が結合されており、その内面に直方体形状の排液内容器１１６が結合されている。排液外容器１１５は、排液内容器１１６よりも大きく、その一側壁には、排気出口１０２と同方向（水平方向）に延びる排液配管１１７が結合されている。この排気配管１１７は、排液設備（工場の排液ユーティリティ）に接続される。したがって、処理カップ３１からの排液は、排液管３９、排液中間容器４０、連絡管４５、排液通路１０９、開口９８および第２排気集合部５２を通って、排液内容器１１６に至り、さらに、排液外容器１１５および排液配管１１７を通って装置外に排出される。
【００３３】
図９は、排液外容器１１５および排液内容器１１６の縦断面図である。気液分離容器５０の第１端板部６１には、底板５５から所定高さだけ高い位置に排液口１１８が形成されている。排液外容器１１５の内底面１２０は、排液口１１８よりも低く配置された緩やかな傾斜面を形成しており、その上縁部が第１端板部６１に接合されていて、第１端板部６１から離れるに従って下方に向かっている。排液外容器１１５の排液出口１２１は、内底面１２０の下縁部の近傍に位置しており、この排液出口１２１に排液配管１１７が結合されている。
【００３４】
排液内容器１１６は、下縁部に排液入口１２２を有している。この排液入口１２２の上縁は、排液口１１８の下縁よりも低い位置にある。
純水スローリーク配管１０８から排液中間容器４０に供給された純水１２３は、気液分離容器５０の底部において、排液口１１８の下縁に相当する水位まで貯留される。この水位は、排液入口１２２の上縁よりも高い。このようにして水封構造が形成され、気液分離容器５０内の雰囲気と排液外容器１１５側の雰囲気とが隔絶された状態で、排液が行えるようになっている。
【００３５】
図４および図５に示すように、気液分離容器５０の天板５６において、第１および第２排気入口７１，７２の間には、一対の冷却器１２５，１２６が設けられており、第３および第４排気入口７３，７４の間は、別の一対の冷却器１２７，１２８が設けられている。これらの冷却器１２５〜１２８は、たとえば、気液分離容器５０の内部の隅部に向けて冷却水を吐出するノズルを備えている。これにより、所定温度よりも高温の排液が気液分離容器５０に流入したときに、この排液を冷却してから、排出することができる。
【００３６】
天板５６には、さらに、排液口１１８の近傍の位置で気液分離容器５０内の排液の温度を計測する一対の温度センサ１２９，１３０が取り付けられている。一方の温度センサ１２９は、所定の第１温度を検出したときに冷却器１２５〜１２８による冷却動作を開始させるための制御に用いられる。他方の温度センサ１３０は、前記第１温度よりも高い第２温度を検出したときに警報を発生するための制御に用いられる。
【００３７】
第２および第３側板部６３，６５および湾曲側板部６４によって囲まれた空間は、部品配置空間９０として利用することができるようになっている。
このように、この実施形態の構成によれば、第１排気集合部５１、第２排気集合部５２および第３排気集合部５３が水平面に沿う配置平面８０上に配置され、これらが一体化されて気液分離容器５０が形成されている。そして、第１〜第４排気管４１〜４４が接続される第１〜第４排気入口７１〜７４から排気出口１０２に至るいずれの排気経路の圧力損失も互いに等しくなっている。そのため、処理カップ３１と気液分離容器５０との間で予め排気を集合させる必要がなく、第１〜第４排気管４１〜４４の圧力損失を等しくしておけば、均等なバランスで処理カップ３１内の雰囲気を排気できる。よって、排気のための構成を従来技術に比較して著しく小型化でき、特に、高さ方向のスペースを著しく削減できる。その結果、処理ユニットを上下方向に複数段積み上げる装置構成にも容易に対応することができる。また、気液分離容器５０の前段での配管抵抗が低減されるため、排気効率を向上することができる。さらに、配管接続箇所が少なくなるので、基板処理装置の組み立て工数を削減することができる。むろん、基板処理装置の側方へと排気を取り出すことができるので、気液分離容器５０の下方で配管を引き回したりするスペースを確保する必要もない。
【００３８】
以上、この発明の一実施形態について説明したが、この発明は、他の形態でも実施することる。たとえば、前述の実施形態では、第１〜第３排気集合部５１，５２，５３を一体化した例について説明したが、第１、第２および第３排気集合部５１，５２および５３を、配置平面８０上に配置された個別の排気集合容器で構成し、第１および第３排気集合部５１，５３間ならびに第２および第３排気集合部５２，５３間を、圧力損失が互いに等しい連絡管でそれぞれ結合するようにしてもよい。
【００３９】
また、前述の実施形態では、気液分離容器５０を平面視ほぼＵ字形状に形成した例について説明したが、むろん、この形状は一例であり、気液分離容器５０は、直方体形状に形成されてもよい。ただし、平面視ほぼＵ字形状として部品配置空間９０とした前述の実施形態の構成の場合には、空間の有効活用を図ることができる結果、処理ユニットの小型化に寄与することができる。
【００４０】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を説明するための断面図である。
【図２】図１の構成の一部を拡大して示す断面図である。
【図３】処理容器の平面図である。
【図４】気液分離容器の斜視図である。
【図５】気液分離容器を図４の姿勢に対して鉛直線まわりに９０度だけ時計まわり方向に回転した姿勢で示す斜視図である。
【図６】気液分離容器の内部の構成を示すために天板部を省いて描いた斜視図であり、図４の姿勢に対応している。
【図７】気液分離容器の内部の構成を示すために天板部を省いて描いた斜視図であり、図５の姿勢に対応している。
【図８】気液分離容器の横断面図であり、水平面でとった断面が示されている。
【図９】気液分離構造の排液部の水封入構造を示す断面図である。
【図１０】排気に関連する従来の構成例を説明するための図解的な斜視図である。
【符号の説明】
【００４２】
１〜４  排気管
５      処理容器
６，７  排気集合容器
７      第２排気集合容器
８，９  排気出口
１０，１１  排気通路室
１２，１３  排気連絡管
１４    気液分離容器
１５    排液管
１６    全体排気管
１７    排液管
２０    処理チャンバ
２１    処理容器
２２    スピンチャック
２３    スピンベース
２４    基板挟持部材
２５    回転軸
２６    回転駆動機構
２８    処理液ノズル
３０    回転駆動機構収容部
３１    処理カップ
３２    スプラッシュガード
３３    排液・排気溝
３４    処理液受け部
３５    排気用凹所
３６    排気孔
３７    排液用凹所
３８    排液孔
３９    排液管
４０    排液中間容器
４１    第１排気管
４２    第２排気管
４３    第３排気管
４４    第４排気管
４５    連絡管
４７，４８  チャンバ排気管
５０    気液分離容器
５１    第１排気集合部
５２    第２排気集合部
５３    第３排気集合部
５５    底板
５６    天板
５７    側板
６０    第１側板部
６１    第１端板部
６２    第２端板部
６３    第２側板部
６４    湾曲側板部
６５    第３側板部
６６    第３端板部
６７    第４側板部
６８    切り欠き
６９    膨出部
７０    非膨出部
７１    第１排気入口
７２    第２排気入口
７３    第３排気入口
７４    第４排気入口
７５    第１仕切壁
７６    平行部
７７    斜行部
７８    平行部
７９    斜行部
８０    配置平面
８１    第１開口
８２    第２開口
８５    第２仕切壁
８６    平行部
８７    斜行部
８８    平行部
８９    斜行部
９０    部品配置空間
９１    第１排気経路
９２    第２排気経路
９３    第３排気経路
９４    第４排気経路
９５    第５排気経路
９６    第６排気経路
９７    第３仕切壁
９８    開口
９９    排液入口
１００  排気連絡部
１０１  排気通路
１０２  排気出口
１０３  全体排気管
１０５  第１チャンバ排気入口
１０６  第２チャンバ排気入口
１０８  純水スローリーク配管
１０９  排液通路
１１１  第１排気集合空間
１１２  第２排気集合空間
１１３  第３排気集合空間
１１５  排液外容器
１１６  排液内容器
１１７  排液配管
１１８  排液口
１２０  内底面
１２１  排液出口
１２２  排液入口
１２３  純水
１２５〜１２８  冷却器
１２９，１３０  温度センサ
Ｗ      基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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