(57)【要約】【課題】流動性材料の塗布に要する時間を短縮するとともに基板上の表示領域外に流動性材料が塗布されることを防止する。【解決手段】塗布装置１は、基板９を保持する基板保持部１１、８本のノズル１７から基板９に向けて同一種類の有機ＥＬ液を連続的に吐出する塗布ヘッド１４、並びに、塗布ヘッド１４を基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動するヘッド移動機構１５および基板移動機構を備える。８本のノズル１７の８つの吐出口は、副走査方向に関して基板９上の１画素の幅に等しいピッチにて配列される。塗布装置１では、吐出口の個数が、表示領域９１の副走査方向の画素数の約数である８とされることにより、基板９上の表示領域９１外に有機ＥＬ液が塗布されることを防止することができる。また、１回の主走査により多数の溝部に有機ＥＬ液を塗布することにより、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布に要する時間を短縮することができる。【選択図】図４
2007134255.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面表示装置用の基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、
複数の画素がマトリックス状に形成される矩形状の表示領域が設定された基板を保持する基板保持部と、
前記表示領域の一の辺に平行な第１方向に関して前記基板上の１画素の幅に等しいピッチにて配列される複数の吐出口から、前記基板に向けて同一種類の流動性材料を連続的に吐出する吐出機構と、
前記表示領域上において前記複数の吐出口を前記基板に対して前記第１方向に垂直な第２方向に相対的に移動する主走査機構と、
前記基板を前記複数の吐出口に対して前記第１方向に相対的に移動する副走査機構と、
を備え、
前記複数の吐出口の個数が、前記表示領域の前記第１方向の画素数の約数であって、かつ、４以上であることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記表示領域の前記第１方向の前記画素数が、３２０、８００もしくは１０２４であるか、または、３２０、８００および１０２４のうちのいずれかの倍数であることを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記表示領域の前記第１方向の前記画素数が、２４０、６００もしくは７６８であるか、または、２４０、６００および７６８のうちのいずれかの倍数であることを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
請求項１または２に記載の塗布装置であって、
前記複数の吐出口の個数が３２の約数であることを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記複数の吐出口の個数が８であることを特徴とする塗布装置。
【請求項６】
請求項１に記載の塗布装置であって、
前記基板保持部が複数タイプの基板のいずれも保持することができ、
前記複数の吐出口の個数が、前記複数タイプの基板の前記第１方向の画素数の公約数であることを特徴とする塗布装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の塗布装置であって、
前記流動性材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を含むことを特徴とする塗布装置。
【請求項８】
平面表示装置用の基板に互いに色が異なる複数の流動性材料を塗布する塗布システムであって、
第１の色の画素形成材料を含む第１流動性材料を基板に塗布する請求項１ないし７のいずれかに記載の第１の塗布装置と、
第２の色の画素形成材料を含む第２流動性材料を前記基板に塗布する請求項１ないし７のいずれかに記載の第２の塗布装置と、
第３の色の画素形成材料を含む第３流動性材料を前記基板に塗布する請求項１ないし７のいずれかに記載の第３の塗布装置と、
前記第１の塗布装置、前記第２の塗布装置および前記第３の塗布装置を経由する所定の搬送経路に沿って前記基板を搬送する基板搬送機構と、
を備えることを特徴とする塗布システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に流動性材料を塗布する塗布装置、および、当該塗布装置を備える塗布システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料を利用した有機ＥＬ表示装置の開発が行われており、例えば、高分子有機ＥＬ材料を用いたアクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ表示装置の製造では、ガラス基板（以下、単に「基板」という。）に対して、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）回路の形成、陽極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）電極の形成、隔壁の形成、正孔輸送材料を含む流動性材料（以下、「正孔輸送液」という。）の塗布、加熱処理による正孔輸送層の形成、有機ＥＬ材料を含む流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）の塗布、加熱処理による有機ＥＬ層の形成、陰極の形成、および、絶縁膜の形成による封止が順次行われる。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置の製造において、正孔輸送液または有機ＥＬ液を基板に塗布する装置の１つとして、特許文献１および特許文献２に示すように、流動性材料をノズルから基板に向けて連続的に吐出し、基板の矩形状の表示領域に流動性材料をストライプ状に塗布する塗布装置が知られている。
【０００４】
特許文献１および特許文献２の塗布装置では、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）と互いに色が異なる３種類の有機ＥＬ材料をそれぞれ含む３種類の有機ＥＬ液が３本のノズルから吐出され、基板上の表示領域に予め形成されている隔壁間の隣接する３つの溝部に塗布される。また、当該塗布装置により正孔輸送液が塗布される場合には、３本のノズルから同一種類の正孔輸送液が吐出される。
【特許文献１】特開２００２−７５６４０号公報
【特許文献２】特開２００３−１０７５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、有機ＥＬ表示装置の製造では、３種類の有機ＥＬ液をそれぞれに適した塗布条件下で塗布するという観点から、３つの塗布装置によりそれぞれ１種類の有機ＥＬ液を塗布することも行われる。この場合、ノズルのピッチは表示領域に形成される１画素の幅に等しくされる。
【０００６】
ここで、有機ＥＬ表示装置を含む表示装置の解像度（すなわち、表示領域の縦横の画素数）は、ＱＶＧＡ（横３２０画素×縦２４０画素）、ＶＧＡ（横６４０画素×縦４８０画素）、ＳＶＧＡ（横８００画素×縦６００画素）等に規格化されており、上記塗布装置では通常、縦方向に伸びるストライプ状に有機ＥＬ液や正孔輸送液が塗布される。したがって、１画素の幅に等しいピッチにて配列された３本のノズルにより有機ＥＬ液や正孔輸送液を塗布した場合、横方向の画素数がノズルの本数により割り切れないため、有機ＥＬ液や正孔輸送液が表示領域外にまで余分に塗布されてしまう。一方、有機ＥＬ表示装置の生産性向上の観点から、１枚の基板に対する有機ＥＬ液や正孔輸送液の塗布に要する時間の短縮も要求されている。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、流動性材料の塗布に要する時間を短縮するとともに表示領域外に流動性材料が塗布されることを防止することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、平面表示装置用の基板に流動性材料を塗布する塗布装置であって、複数の画素がマトリックス状に形成される矩形状の表示領域が設定された基板を保持する基板保持部と、前記表示領域の一の辺に平行な第１方向に関して前記基板上の１画素の幅に等しいピッチにて配列される複数の吐出口から、前記基板に向けて同一種類の流動性材料を連続的に吐出する吐出機構と、前記表示領域上において前記複数の吐出口を前記基板に対して前記第１方向に垂直な第２方向に相対的に移動する主走査機構と、前記基板を前記複数の吐出口に対して前記第１方向に相対的に移動する副走査機構とを備え、前記複数の吐出口の個数が、前記表示領域の前記第１方向の画素数の約数であって、かつ、４以上である。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、前記表示領域の前記第１方向の前記画素数が、３２０、８００もしくは１０２４であるか、または、３２０、８００および１０２４のうちのいずれかの倍数である。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、前記表示領域の前記第１方向の前記画素数が、２４０、６００もしくは７６８であるか、または、２４０、６００および７６８のうちのいずれかの倍数である。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項１または２に記載の塗布装置であって、前記複数の吐出口の個数が３２の約数である。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の塗布装置であって、前記複数の吐出口の個数が８である。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、請求項１に記載の塗布装置であって、前記基板保持部が複数タイプの基板のいずれも保持することができ、前記複数の吐出口の個数が、前記複数タイプの基板の前記第１方向の画素数の公約数である。
【００１４】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載の塗布装置であって、前記流動性材料が、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ材料または正孔輸送材料を含む。
【００１５】
請求項８に記載の発明は、平面表示装置用の基板に互いに色が異なる複数の流動性材料を塗布する塗布システムであって、第１の色の画素形成材料を含む第１流動性材料を基板に塗布する請求項１ないし７のいずれかに記載の第１の塗布装置と、第２の色の画素形成材料を含む第２流動性材料を前記基板に塗布する請求項１ないし７のいずれかに記載の第２の塗布装置と、第３の色の画素形成材料を含む第３流動性材料を前記基板に塗布する請求項１ないし７のいずれかに記載の第３の塗布装置と、前記第１の塗布装置、前記第２の塗布装置および前記第３の塗布装置を経由する所定の搬送経路に沿って前記基板を搬送する基板搬送機構とを備える。
【発明の効果】
【００１６】
本発明では、流動性材料の塗布に要する時間を短縮することができるとともに表示領域外に流動性材料が塗布されることを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る塗布システム１０の構成を示す図である。塗布システム１０は、平面表示装置用のガラス基板（以下、単に「基板」という。）に互いに色が異なる複数種類の流動性材料を塗布するシステムである。本実施の形態では、塗布システム１０において、アクティブマトリックス駆動方式の有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置用の基板に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）と互いに色が異なる３種類の有機ＥＬ材料をそれぞれ含む３種類の流動性材料（以下、「有機ＥＬ液」という。）が塗布される。
【００１８】
図１に示すように、塗布システム１０は、３種類の有機ＥＬ液を順次基板に塗布する３つの塗布装置１、および、３つの塗布装置１を経由する所定の搬送経路に沿って基板を搬送する基板搬送機構である２つの搬送アーム２を備える。塗布システム１０では、各塗布装置１により１種類の有機ＥＬ液が基板に塗布され、３つの塗布装置１を基板が経由することにより、基板上に３種類の有機ＥＬ液が塗布される。
【００１９】
図２は、基板９を示す平面図である。図２中に平行斜線を付して示すように、基板９上には複数の画素がマトリックス状に形成される矩形状の表示領域９１が設定されており、３つの塗布装置１（図１参照）により、赤色（Ｒ）の有機ＥＬ材料を含む有機ＥＬ液（以下、「有機ＥＬ液（Ｒ）」という。）、緑色（Ｇ）の有機ＥＬ材料を含む有機ＥＬ液（以下、「有機ＥＬ液（Ｇ）」という。）、および、青色（Ｂ）の有機ＥＬ材料を含む有機ＥＬ液（以下、「有機ＥＬ液（Ｂ）」という。）がそれぞれ基板９の表示領域９１に塗布される。また、表示領域９１の周囲の領域９２は、ドライバ回路の実装や後工程における絶縁膜による封止等に利用されるため、有機ＥＬ液が塗布されるべきではない領域であり、以下、「非塗布領域９２」という。
【００２０】
表示領域９１は、図２中の左右方向に長い長方形であり、表示領域９１の長辺９１１に平行な方向の画素数と短辺９１２に平行な方向の画素数との組み合わせは、表示装置の解像度の一般的な規格に合わせて、３２０×２４０（ＱＶＧＡ），６４０×４８０（ＶＧＡ），８００×６００（ＳＶＧＡ），１０２４×７６８（ＸＧＡ），１２８０×１０２４（ＳＸＧＡ），１６００×１２００（ＵＸＧＡ），２０４８×１５３６（ＱＸＧＡ）等とされる。換言すれば、表示領域９１の長辺９１１に平行な方向の画素数は、３２０，８００もしくは１０２４、または、３２０，８００および１０２４のうちのいずれかの倍数であり、短辺９１２に平行な方向の画素数は、２４０，６００もしくは７６８、または、２４０，６００および７６８のうちのいずれかの倍数である。
【００２１】
図３は、基板９の表示領域９１を拡大して示す図である。図３に示すように、表示領域９１上には、短辺９１２に平行な方向に伸びる複数の隔壁９１３が、所定のピッチ（以下、「隔壁ピッチ」という。）Ｄ１にて予め配列されており、これらの隔壁９１３間に形成された溝部９１４に有機ＥＬ液（Ｒ）、有機ＥＬ液（Ｇ）および有機ＥＬ液（Ｂ）が塗布される。
【００２２】
塗布システム１０（図１参照）では、表示領域９１の長辺９１１に平行な方向において隣接する３つの溝部９１４に、有機ＥＬ液（Ｒ）、有機ＥＬ液（Ｇ）および有機ＥＬ液（Ｂ）が順次塗布される。基板９では、隣接する当該３つの溝部９１４が、短辺９１２に平行な方向に配列される１列の画素群（図３中では、矩形状の各画素９１０を太い破線にて示す。）に対応する。すなわち、基板９上の１画素の幅Ｗ１は、隔壁ピッチＤ１の３倍に等しくなる。なお、図３では、長辺９１１に平行な方向における後述する８本のノズル１７の吐出口１７１（図４、図５参照）の位置に符号１７０を付している。ノズル１７は、実際には短辺９１２に平行な方向から僅かに傾斜して配列される（図４参照）。
【００２３】
図１に示す３つの塗布装置１は同様の構成を有し、図４は、塗布装置１の構成を示す平面図であり、図５は塗布装置１の右側面図である。図５に示すように、塗布装置１は、基板９を保持する基板保持部１１、および、基板保持部１１を基板９の表示領域９１の長辺９１１（図４参照）に平行な方向（すなわち、図４中の左右方向）に水平移動するとともに垂直方向に向く軸を中心として回転する基板移動機構１２を備える。基板保持部１１は、複数タイプの基板９（すなわち、上述のように解像度がそれぞれ異なる複数種類の基板９）のいずれも保持することができる。また、基板保持部１１は、内部にヒータによる加熱機構（図示省略）を備える。
【００２４】
塗布装置１は、また、図４および図５に示すように、基板９上に形成されたアライメントマーク（図示省略）を撮像して検出するアライメントマーク検出部１３、基板保持部１１上の基板９に向けて８本の略円柱状のノズル１７のそれぞれの吐出口１７１（図５参照）から有機ＥＬ液（すなわち、有機ＥＬ液（Ｒ）、有機ＥＬ液（Ｇ）および有機ＥＬ液（Ｂ）のうちのいずれかであり、以下、これら３種類を区別する必要がない場合には、「有機ＥＬ液」と総称する。）を連続的に吐出する吐出機構である塗布ヘッド１４、塗布ヘッド１４を基板保持部１１の移動方向とは垂直な方向（すなわち、図４中の上下方向であり、基板９の表示領域９１の短辺９１２に平行な方向）に水平移動するヘッド移動機構１５、塗布ヘッド１４の移動方向に関して基板保持部１１の両側に設けられるとともに塗布ヘッド１４からの有機ＥＬ液を受ける２つの受液部１６、塗布ヘッド１４の８本のノズル１７に同一種類の有機ＥＬ液を供給する流動性材料供給部１８、および、これらの構成を制御する制御部を備える。
【００２５】
８本のノズル１７は、図４中の上下方向（すなわち、塗布ヘッド１４の移動方向であり、以下、ノズル１７の「主走査方向」という。）に略直線状に配列されるとともに図４中の左右方向（すなわち、基板９の移動方向であり、以下、「副走査方向」という。）に僅かにずれて配置される。各ノズル１７は下端部に吐出口１７１を１つだけ有し、図３に示すように、互いに隣接する２本のノズル１７の吐出口１７１間の副走査方向に関する距離Ｄ２は、基板９上の１画素の幅Ｗ１（すなわち、隔壁ピッチＤ１の３倍）に等しくされる。換言すれば、塗布ヘッド１４では、８本のノズル１７の８つの吐出口１７１が、副走査方向に関して基板９上の１画素の幅Ｗ１に等しいピッチにて配列される。
【００２６】
塗布装置１では、ヘッド移動機構１５が、基板９の表示領域９１上において８つの吐出口１７１を基板９に対して主走査方向に相対的に移動する主走査機構となり、基板移動機構１２が、基板９を８つの吐出口１７１に対して副走査方向に相対的に移動する副走査機構となる。
【００２７】
次に、塗布装置１による有機ＥＬ液の塗布の流れについて説明する。塗布装置１により有機ＥＬ液の塗布が行われる際には、まず、基板９が基板保持部１１に載置されて保持され、アライメントマーク検出部１３からの出力に基づいて基板移動機構１２が駆動されて基板９が図４中に実線にて示す塗布開始位置に位置する。塗布ヘッド１４は予め図４および図５中に実線にて示す待機位置（すなわち、図４中の下側の受液部１６の上方）に位置している。
【００２８】
続いて、流動性材料供給部１８が制御されて８本のノズル１７から有機ＥＬ液の吐出が開始されるとともに、ヘッド移動機構１５が駆動されて塗布ヘッド１４（すなわち、８本のノズル１７）の移動が開始される。塗布装置１では、８本のノズル１７の８つの吐出口１７１（図５参照）から同一種類の有機ＥＬ液を基板９に向けて連続的に吐出しつつ、８本のノズル１７を図４中の下側から上側へと（すなわち、主走査方向に）移動することにより、基板９の表示領域９１上に予め形成された隔壁９１３間の８つの溝部９１４（図３参照）に有機ＥＬ液が塗布される。塗布装置１では、８つの溝部９１４に塗布されたストライプ状の有機ＥＬ液は、副走査方向に関して１画素の幅Ｗ１（すなわち、隔壁ピッチＤ１の３倍）（図３参照）に等しいピッチにて配列される。換言すれば、有機ＥＬ液が塗布された近接する２つの溝部９１４の間には、他の２種類の有機ＥＬ液がそれぞれ塗布される予定の（あるいは、塗布された）２つの溝部９１４が挟まれる。
【００２９】
塗布ヘッド１４が図４および図５中に二点鎖線にて示す待機位置（すなわち、図４中の上側の受液部１６の上方）まで移動すると、基板移動機構１２が駆動され、基板９が基板保持部１１と共に図４中の左側に１画素の幅Ｗ１の８倍（すなわち、隔壁ピッチＤ１の２４倍）の距離だけ移動する。このとき、塗布ヘッド１４では、８本のノズル１７から受液部１６に向けて有機ＥＬ液が連続的に吐出されている。副走査方向における基板９の移動が終了すると、塗布ヘッド１４が８本のノズル１７から有機ＥＬ液を吐出しつつ図４中において上側から下側へと移動する。
【００３０】
塗布装置１では、基板９に対する８本のノズル１７（すなわち、８つの吐出口１７１）の主走査および副走査が高速に繰り返されることにより、有機ＥＬ液が基板９上にストライプ状に塗布される。そして、基板９が図１中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動すると、ノズル１７からの有機ＥＬ液の吐出が停止されて基板９に対する有機ＥＬ液の塗布が終了する。
【００３１】
次に、塗布システム１０による３種類の有機ＥＬ液の塗布について説明する。図１に示す塗布システム１０では、まず、図１中の左側の塗布装置１により基板９に対する有機ＥＬ液（Ｒ）の塗布が行われる。有機ＥＬ液（Ｒ）の塗布が終了すると、搬送アーム２により基板保持部１１上の基板９が保持されて左側の塗布装置１から搬出される。このとき、基板９上では、有機ＥＬ液（Ｒ）の溶媒成分の一部が、左側の塗布装置１の基板保持部１１に内蔵される加熱機構により加熱されて蒸発し、有機ＥＬ液（Ｒ）がある程度乾燥した状態（いわゆる、生乾きの状態）にて表示領域９１上に付着している。
【００３２】
続いて、基板９が図１中の中央の塗布装置１に搬入され、基板９に対する有機ＥＬ液（Ｇ）の塗布が行われる。有機ＥＬ液（Ｇ）の塗布が終了すると、基板９が搬送アーム２により搬出されて図１中の右側の塗布装置１に搬入される。このときも、基板９上では、有機ＥＬ液（Ｇ）の溶媒成分の一部が蒸発して、有機ＥＬ液（Ｇ）がある程度乾燥した状態にて表示領域９１に付着している。
【００３３】
右側の塗布装置１では、基板９に対して有機ＥＬ液（Ｂ）の塗布が同様に行われる。その後、基板９が塗布システム１０から搬出されて基板９に対する３種類の有機ＥＬ液の塗布が終了する。なお、塗布システム１０では、有機ＥＬ液（Ｒ）、有機ＥＬ液（Ｇ）および有機ＥＬ液（Ｂ）の塗布順序は適宜変更されてよい。
【００３４】
以上に説明したように、塗布システム１０では、３種類の有機ＥＬ液がそれぞれ個別の塗布装置１により塗布されるため、３種類の有機ＥＬ液をそれぞれに適した塗布条件下で基板９に塗布することができ、その結果、各有機ＥＬ液の塗布の質を向上することができる。また、３種類の有機ＥＬ液の個別塗布により、基板９上において種類が異なる有機ＥＬ液が混ざってしまうことを防止することができる。さらには、先に塗布された有機ＥＬ液がある程度乾燥した状態とされた後に次の種類の有機ＥＬ液の塗布が行われるため、基板９上における有機ＥＬ液の混合をより確実に防止することができる。
【００３５】
塗布装置１では、基板９に向けて有機ＥＬ液を吐出する吐出口１７１の個数が８とされ、これらの吐出口１７１が基板９の副走査方向に１画素の幅Ｗ１に等しいピッチにて配列される。また、塗布装置１において有機ＥＬ液が塗布される基板９では、表示領域９１の長辺９１１に平行な方向（すなわち、副走査方向）の画素数は、３２０，８００もしくは１０２４、または、３２０，８００および１０２４のうちのいずれかの倍数である。
【００３６】
このように、塗布装置１では、塗布ヘッド１４に設けられる吐出口１７１の個数が、基板９の表示領域９１の副走査方向の画素数の約数とされることにより、図４に示す基板９の表示領域９１の右側の端部（すなわち、副走査方向におけるノズル１７の相対移動の表示領域９１上の終端側）において、短辺９１２に沿う１列の画素群に対応する溝部９１４（図３参照）に、塗布ヘッド１４の最も右側のノズル１７の吐出口１７１から吐出された有機ＥＬ液が塗布される。これにより、基板９上の表示領域９１外（すなわち、表示領域９１の右側の非塗布領域９２）に有機ＥＬ液が塗布されることを防止することができる。その結果、有機ＥＬ液の無駄な使用を防止して製造コストを低減することができる。また、有機ＥＬ液の塗布後において、表示領域９１の右側の非塗布領域９２から有機ＥＬ液を除去する必要がないため、有機ＥＬ表示装置の生産性を向上することができる。
【００３７】
また、塗布装置１では、複数タイプの基板９（すなわち、上述の複数の解像度に対応する複数種類の基板９）に対して有機ＥＬ液の塗布が行われ、吐出口１７１の個数（すなわち、８）が当該複数タイプの基板９の副走査方向の画素数（すなわち、３２０，８００および１０２４、並びに、３２０，８００および１０２４の倍数）の公約数であるため、複数タイプの基板９のいずれに対する塗布においても、表示領域９１外に有機ＥＬ液が塗布されることを防止することができる。
【００３８】
なお、塗布装置１では、基板９に対する有機ＥＬ液の塗布に要する時間を短縮するという観点からは、吐出口１７１の個数は４以上とされることが好ましい。これにより、１回の主走査により多数の溝部９１４に有機ＥＬ液を塗布することができ、有機ＥＬ表示装置の生産性をより確実に向上することができる。
【００３９】
上記実施の形態では、長方形の表示領域９１を有する基板９に対して、表示領域９１の短辺９１２に平行な方向にノズル１７の主走査が行われて有機ＥＬ液がストライプ状に塗布される。このような基板９を有する有機ＥＬ表示装置は、パーソナルコンピュータの表示装置等のように横長の状態で使用される。
【００４０】
これに対して、有機ＥＬ表示装置が携帯電話の表示装置のように縦長の状態で使用される場合、基板９の表示領域９１上には、長辺９１１に平行な方向に伸びるとともに短辺９１２に平行な方向に配列された複数の隔壁９１３が形成され、当該複数の隔壁９１３の間の溝部９１４に有機ＥＬ液が塗布される。この場合、塗布装置１では、表示領域９１の長辺９１１が主走査方向に平行となり、かつ、短辺９１２が副走査方向に平行となるように基板９が保持され、ノズル１７が長辺９１１に平行な方向に主走査されることにより有機ＥＬ液の塗布が行われる。
【００４１】
上述のように、基板９では、表示領域９１の短辺９１２に平行な方向（縦長の表示領域９１に対して有機ＥＬ液を塗布する場合、８つの吐出口１７１の副走査方向）の画素数は、２４０，６００もしくは７６８、または、２４０，６００および７６８のうちのいずれかの倍数である。塗布装置１では、塗布ヘッド１４に設けられる吐出口１７１の個数が８とされ、表示領域９１の副走査方向の画素数の約数となる。これにより、表示領域９１の短辺９１２に平行な方向にノズル１７の主走査が行われる場合と同様に、基板９上の表示領域９１外に有機ＥＬ液が塗布されることを防止することができる。
【００４２】
また、吐出口１７１の個数（すなわち、８）が複数タイプの基板９の副走査方向の画素数（すなわち、２４０，６００および７６８、並びに、２４０，６００および７６８の倍数）の公約数であるため、複数タイプの基板９のいずれに対する塗布においても、表示領域９１外に有機ＥＬ液が塗布されることを防止することができる。
【００４３】
このように、８つの吐出口１７１を備える塗布装置１、および、塗布装置１を備える塗布システム１０は、横長の表示領域９１を有する有機ＥＬ表示装置用の基板９、および、縦長の表示領域９１を有する有機ＥＬ表示装置用の基板９の双方に対して、表示領域９１外への有機ＥＬ液の塗布を防止しつつ適切に有機ＥＬ液を塗布することができる。
【００４４】
一方、塗布装置１において、横長の表示領域９１を有する有機ＥＬ表示装置用の基板９のみに対して有機ＥＬ液の塗布が行われる場合、吐出口１７１の個数は、表示領域９１の副走査方向の画素数（すなわち、表示領域９１の長辺９１１に平行な方向の画素数であり、３２０，８００および１０２４、並びに、３２０，８００および１０２４の倍数）の最大公約数である３２の約数とされることが好ましい。これにより、有機ＥＬ表示装置が一般的な規格に適合した解像度を有する場合、有機ＥＬ表示装置用の基板９に対する有機ＥＬ液の塗布において、その解像度にかかわらず容易に対応することができる。また、塗布装置１において、縦長の表示領域９１を有する有機ＥＬ表示装置用の基板９のみに対して有機ＥＬ液の塗布が行われる場合、吐出口１７１の個数は、２４０，６００および７６８、並びに、２４０，６００および７６８の倍数の最大公約数である２４の約数とされることが好ましい。
【００４５】
次に、本発明の第２の実施の形態に係る塗布システムについて説明する。図６は、第２の実施の形態に係る塗布装置１ａの構成を示す平面図であり、第２の実施の形態に係る塗布システムでは、図１に示す塗布システム１０の３つの塗布装置１に代えて３つの塗布装置１ａが設けられる。図６に示すように、塗布装置１ａでは、図４および図５に示す塗布装置１の８本のノズル１７に代えて、１本の略円柱状のノズル１７ａが塗布ヘッド１４に設けられる。その他の構成は図４および図５と同様であり、以下の説明において同符号を付す。
【００４６】
塗布装置１ａでは、有機ＥＬ表示装置用の基板９に、正孔輸送材料を含む流動性材料（以下、「正孔輸送液」という。）が塗布される。ここで、「正孔輸送材料」とは、有機ＥＬ表示装置の正孔輸送層を形成する材料であり、「正孔輸送層」とは、有機ＥＬ材料により形成された有機ＥＬ層へと正孔を輸送する狭義の正孔輸送層のみを意味するのではなく、正孔の注入を行う正孔注入層も含む。
【００４７】
塗布装置１ａにより正孔輸送液が塗布される基板９でも、第１の実施の形態と同様に、、表示領域９１の長辺９１１に平行な方向の画素数は、３２０，８００もしくは１０２４であるか、または、３２０，８００および１０２４のうちのいずれかの倍数であり、短辺９１２に平行な方向の画素数は、２４０，６００もしくは７６８であるか、または、２４０，６００および７６８のうちのいずれかの倍数である。
【００４８】
図７は、塗布装置１ａのノズル１７ａを拡大して示す底面図である。図７に示すように、ノズル１７ａは、その下端部に８つの吐出口１７１ａを有する。８つの吐出口１７１ａは、ノズル１７ａの主走査方向（すなわち、図６および図７中の上下方向）に略直線状に配列されるとともに副走査方向（すなわち、図６および図７中の左右方向）に僅かにずれて配置される。
【００４９】
互いに隣接する２つの吐出口１７１ａの間の副走査方向に関する距離は、第１の実施の形態と同様に、基板９上の１画素の幅Ｗ１（すなわち、隔壁ピッチＤ１の３倍）（図３参照）に等しくされる。換言すれば、塗布ヘッド１４では、ノズル１７ａの８つの吐出口１７１ａが、副走査方向に関して基板９上の１画素の幅Ｗ１に等しいピッチにて配列される。
【００５０】
図６に示す塗布装置１ａおよび第２の実施の形態に係る塗布システムによる正孔輸送液の塗布の流れは、第１の実施の形態に係る塗布装置１および塗布システム１０による有機ＥＬ液の塗布とほぼ同様である。
【００５１】
第２の実施の形態に係る塗布システムにより正孔輸送液の塗布が行われる際には、まず、第１の塗布装置１ａに基板９が搬入されて基板保持部１１（図５参照）に保持され、基板移動機構１２（図５参照）が駆動されて基板９が図６中に実線にて示す塗布開始位置に位置する。続いて、８つの吐出口１７１ａ（図７参照）から同一種類の正孔輸送液を基板９に向けて連続的に吐出しつつノズル１７ａの主走査が行われ、基板９の表示領域９１上の８つの溝部９１４（図３参照）に正孔輸送液が塗布される。
【００５２】
塗布装置１ａにおいても、第１の実施の形態と同様に、８つの溝部９１４に塗布されたストライプ状の正孔輸送液が、副走査方向に関して１画素の幅Ｗ１（すなわち、隔壁ピッチＤ１の３倍）（図３参照）に等しいピッチにて配列される。換言すれば、正孔輸送液が塗布された近接する２つの溝部９１４の間には、他の２つの塗布装置１ａにより正孔輸送液がそれぞれ塗布される２つの溝部９１４が挟まれている。
【００５３】
ノズル１７ａの主走査が終了すると、基板９が副走査方向に１画素の幅Ｗ１の８倍の距離だけ移動する。塗布装置１ａでは、基板９に対するノズル１７ａ（すなわち、８つの吐出口１７１ａ）の主走査および副走査が高速に繰り返されることにより、正孔輸送液が基板９上にストライプ状に塗布される。そして、基板９が図６中に二点鎖線にて示す塗布終了位置まで移動すると、ノズル１７ａからの正孔輸送液の吐出が停止されて基板９に対する正孔輸送液の塗布が終了する。
【００５４】
第２の実施の形態に係る塗布システムでは、第１の塗布装置１ａにより正孔輸送液が塗布された基板９が、搬送アーム２（図１参照）により第２の塗布装置１ａに搬入される。このとき、基板９上では、第１の実施の形態と同様に、正孔輸送液の溶媒成分の一部が、第１の塗布装置１ａの基板保持部１１に内蔵される加熱機構により加熱されて蒸発し、正孔輸送液がある程度乾燥した状態にて表示領域９１上に付着している。
【００５５】
続いて、第２の塗布装置１ａにより第１の塗布装置１ａと同一種類の正孔輸送液が基板９に塗布され、当該塗布された正孔輸送液がある程度乾燥した状態で第３の塗布装置１ａに搬入される。そして、第３の塗布装置１ａにより、第１の塗布装置１ａと同一種類の正孔輸送液が基板９に塗布され、表示領域９１上の全ての溝部９１４に対する正孔輸送液の塗布が終了する。
【００５６】
第２の実施の形態に係る塗布システムでは、一の塗布装置１ａにおいて、１画素の幅Ｗ１（すなわち、隔壁ピッチＤ１の３倍）（図３参照）に等しいピッチにて正孔輸送液が塗布され、当該塗布された正孔輸送液がある程度乾燥した状態とされた後に、次の塗布装置１ａにおいて、塗布済みの溝部９１４に隣接する溝部９１４に正孔輸送液の塗布が行われる。これにより、隣接する溝部９１４に塗布された正孔輸送液が隔壁９１３上において接触することが防止される。
【００５７】
仮に、隣接する溝部９１４に塗布された正孔輸送液が隔壁９１３上において接触したとすると、両溝部９１４における正孔輸送液の表面張力の差により正孔輸送液が一方の溝部９１４に偏ってしまって塗布ムラが生じる可能性がある。第２の実施の形態に係る塗布システムでは、隣接する溝部９１４に塗布された正孔輸送液の隔壁９１３上における接触を防止することにより、塗布ムラの発生を防止することができる。
【００５８】
また、塗布装置１ａでは、第１の実施の形態と同様に、吐出口１７１ａの個数（すなわち、８）が、基板９の表示領域９１の副走査方向の画素数の約数とされることにより、基板９上の表示領域９１外（すなわち、表示領域９１の右側の非塗布領域９２）に正孔輸送液が塗布されることを防止することができる。さらには、吐出口１７１ａの個数が４以上とされることにより、１回の主走査により多数の溝部９１４に正孔輸送液を塗布することができるため、基板９に対する正孔輸送液の塗布に要する時間を短縮することができる。
【００５９】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【００６０】
例えば、塗布装置１では、８本のノズル１７を備える塗布ヘッド１４が３つ設けられ、これら３つの塗布ヘッド１４により有機ＥＬ液（Ｒ）、有機ＥＬ液（Ｇ）および有機ＥＬ液（Ｂ）がそれぞれ塗布されてもよい。
【００６１】
上記実施の形態に係る塗布装置では、塗布ヘッド１４に設けられる吐出口の個数は８には限定されず、また、３２の約数にも限定されない。吐出口の個数は、表示領域９１外に有機ＥＬ液や正孔輸送液が塗布されることを防止するという観点からは、基板９の表示領域９１の副走査方向の画素数の約数であればよく、また、基板９に対する有機ＥＬ液や正孔輸送液の塗布に要する時間を短縮するという観点からは、４以上であればよい。
【００６２】
上記実施の形態に係る塗布システムでは、搬送アーム２に代えて、３つの塗布装置の間を移動して各塗布装置にアクセスするマルチ搬送ロボットが基板搬送機構として用いられてもよい。また、塗布される有機ＥＬ液の粘度が低い場合等、基板９を加熱するベーク装置が必要に応じて設けられ、一の塗布装置による塗布と次の塗布装置による塗布との間に、ベーク装置により基板９を加熱して有機ＥＬ材料を基板９上に定着させる工程が実施されてもよい。
【００６３】
上記実施の形態に係る塗布システムでは、塗布装置１により正孔輸送液の塗布が行われてもよく、塗布装置１ａにより有機ＥＬ液の塗布が行われてもよい。また、塗布システムは、塗布装置１および塗布装置１ａの双方を備えていてもよい。例えば、３つの塗布装置１と３つの塗布装置１ａとを備える塗布システムにより、有機ＥＬ液および正孔輸送液の塗布が行われてもよい。
【００６４】
上記実施の形態に係る塗布装置および塗布システムは、１枚の基板から複数の有機ＥＬ表示装置を製造する（いわゆる、多面取りを行う）場合にも利用できる。また、塗布装置および塗布システムは、必ずしも有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ液または正孔輸送液の塗布のみに利用されるわけではなく、例えば、液晶表示装置やプラズマ表示装置等の平面表示装置用の基板に対して、着色材料や蛍光材料等の他の種類の画素形成材料を含む流動性材料を塗布する場合に利用されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】第１の実施の形態に係る塗布システムの構成を示す図である。
【図２】基板の平面図である。
【図３】基板の表示領域を拡大して示す図である。
【図４】塗布装置の平面図である。
【図５】塗布装置の右側面図である。
【図６】第２の実施の形態に係る塗布装置の平面図である。
【図７】ノズルの底面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１，１ａ    塗布装置
２    搬送アーム
９    基板
１０    塗布システム
１１    基板保持部
１２    基板移動機構
１４    塗布ヘッド
１５    ヘッド移動機構
９１    表示領域
１７１，１７１ａ    吐出口
９１０    画素
９１１    長辺
９１２    短辺
【図１】
2007134255.tif 000003
【図２】
2007134255.tif 000004
【図３】
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【図４】
2007134255.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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