(57)【要約】【課題】加減速移動時における板状部材の変形を抑止することができるステージ装置、それを用いた露光装置を提案する。【解決手段】ステージ装置ＲＳＴは、保持面ＲＨに板状部材Ｒを保持しつつ保持面ＲＨに沿った所定方向Ｙに移動する移動体２２と、保持面ＲＨに保持された板状部材Ｒを所定方向Ｙに沿って付勢する付勢部１６，１７と、付勢部１６，１７による板状部材Ｒへの付勢力を制御して移動体２２の加減速移動に伴う板状部材Ｒの変形を抑止する付勢力制御部と、を備える。【選択図】図２
2007266187.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
保持面に板状部材を保持しつつ前記保持面に沿った所定方向に移動する移動体と、
前記保持面に保持された前記板状部材を前記所定方向に沿って付勢する付勢部と、
前記付勢部による前記板状部材への付勢力を制御して前記移動体の加減速移動に伴う前記板状部材の変形を抑止する付勢力制御部と、
を備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記付勢部は、前記板状部材における前記所定方向に略直交する一対の側面に沿って、複数設けられることを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記付勢部は、圧電アクチュエータからなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記付勢力制御部は、予め得られた前記移動体の加減速移動情報に基づいて、前記付勢部を制御することを特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項５】
板状部材を保持する保持面と、
前記保持面を非接触に保持すると共に、前記保持面に沿った所定方向に移動する移動体と、
前記移動体に設けられ、前記保持面に保持された前記板状部材における前記所定方向に略直交する一対の側面を付勢して前記板状部材を挟持する付勢部と、
を備えることを特徴とするステージ装置。
【請求項６】
前記付勢部は、前記一対の側面を略均一に付勢することを特徴とする請求項５に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記付勢部の付勢力は、前記移動体の最大加減速時に前記板状部材が受ける力よりも大きいことを特徴とする請求項５又は請求項６に記載のステージ装置。
【請求項８】
マスクを保持するマスクステージと、基板を保持する基板ステージとを有し、前記マスクに形成されたパターンを前記基板に露光する露光装置において、
前記マスクステージに、請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載のステージ装置を用いることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程において請求項８に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスク等を保持しつつ移動するステージ装置、および露光処理、デバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子等を製造するリソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）や、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置（いわゆるスキャニングステッパ）などの逐次移動型の投影露光装置が主流となっている。
このような露光装置においては、レチクル（マスク）やウエハ（感光基板）等を真空吸着或いは静電吸着しつつ、２次元面内を移動可能なステージ装置が設けられている。例えば、レチクルを真空吸着する場合には、保持面に吸引路が設けられ、この吸引路に接続された負圧吸引装置により負圧吸引（真空吸引）することで、レチクルを保持面に吸着させ、その吸着力を垂直抗力とした静止摩擦力によって、レチクルを保持している。
【０００３】
また、露光装置においては、生産性を高めるために、ステージ装置の移動時の加速度が大きくなる傾向にある。しかし、加速度が大きくなると、レチクルを保持する静止摩擦力の不足からレチクルが位置ずれてしまうので、例えば特許文献１に示すように、レチクルの側面を付勢する付勢装置を設ける技術が提案されている。
【特許文献１】特開２００２−３４３８５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
露光装置に対する生産性向上の要請は依然として高い。例えば、ウエハの露光処理は、レチクルステージ装置及びウエハステージ装置が等速移動している時に行われるものであるが、これらのステージ装置の加減速時においても露光処理をすることで、スループットの向上を図りたいとの要請もある。
このように、ステージ装置の加減速時に露光処理を行う場合には、ステージ装置に載置されたレチクルが、ステージ装置の加減速に伴って撓んで（変形して）しまう場合があるので、これを防止（矯正）する必要がある。
しかしながら、従来の技術は、ステージ装置の加減速時におけるレチクルの位置ずれを防止するに過ぎず、加減速時におけるレチクルの変形を防止することができないという問題がある。
【０００５】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、加減速移動時における板状部材の変形を抑止することができるステージ装置、それを用いた露光装置、デバイスの製造方法を提案することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係るステージ装置、露光装置、デバイスの製造方法では、上記課題を解決するために、実施の形態に示す各図に対応付けした以下の手段を採用している。但し、各要素に付した括弧付き符号はその要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
【０００７】
第一の発明は、ステージ装置（ＲＳＴ）は、保持面（ＲＨ）に板状部材（Ｒ）を保持しつつ前記保持面に沿った所定方向に移動する移動体（２２）と、前記保持面に保持された前記板状部材を前記所定方向に沿って付勢する付勢部（１６，１７）と、前記付勢部による前記板状部材への付勢力を制御して前記移動体の加減速移動に伴う前記板状部材の変形を抑止する付勢力制御部（ＣＯＮＴ）と、を備えるようにした。
【０００８】
また、ステージ装置（ＲＳＴ）は、板状部材（Ｒ）を保持する保持面（ＲＨ２）と、前記保持面を非接触に保持すると共に前記保持面に沿った所定方向に移動する移動体（２２）と、前記移動体に設けられ、前記保持面に保持された前記板状部材における前記所定方向に略直交する一対の側面（Ｓ１，Ｓ２）を付勢して前記板状部材を挟持する付勢部（１８，１９）と、を備えるようにした。
【０００９】
第二の発明は、マスク（Ｒ）を保持するマスクステージ（ＲＳＴ）と、基板（Ｗ）を保持する基板ステージ（ＷＳＴ）とを有し、前記マスクに形成されたパターン（ＰＡ）を前記基板に露光する露光装置（ＥＸ）において、前記マスクステージに、第一の発明に係るステージ装置を用いるようにした。
【００１０】
第三の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程において第二の発明に係る露光装置（ＥＸ）を用いるようにした。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば以下の効果を得ることができる。
この発明によれば、板状部材を載置する移動体が所定方向に加減速移動した場合であっても、板状部材の側面を所定方向に沿って付勢することで、移動体の加減速移動に伴う板状部材の変形を抑止することができる。このため、ステージ装置の加減速移動時においても、感光基板の露光処理が可能な露光装置が実現できる。したがって、高いスループットが実現でき、安価で高性能なデバイスを提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明に係るステージ装置、露光装置、デバイスの製造方法の実施形態について、図を参照して説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る露光装置ＥＸの概略構成を示す図である。
露光装置ＥＸは、レチクルＲとウエハＷとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルＲに形成されたパターンＰＡを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわち、いわゆるスキャニング・ステッパである。
露光装置ＥＸは、露光光ＥＬによりレチクルＲを照明する照明光学系ＩＬ、レチクルＲを保持して移動可能なレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲから射出される露光光ＥＬをウエハＷ上に投射する投影光学系ＰＬ、ウエハＷをウエハホルダＷＨを介して支持する保持しつつ移動可能なウエハステージＷＳＴ、露光装置ＥＸを統括的に制御する制御装置ＣＯＮＴ等を備える。
なお、以下の説明において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内でレチクルＲとウエハＷとの同期移動方向（走査方向）をＹ軸方向、Ｚ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向（非走査方向）をＸ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ及びθＺ方向とする。
【００１３】
照明光学系ＩＬは、レチクルステージＲＳＴに支持されているレチクルＲを露光光ＥＬで照明するものであり、露光光ＥＬを射出する露光用光源、露光用光源から射出された露光光ＥＬの照度を均一化するオプティカルインテグレータ、オプティカルインテグレータからの露光光ＥＬを集光するコンデンサレンズ、リレーレンズ系、露光光ＥＬによるレチクルＲ上の照明領域をスリット状に設定する可変視野絞り等（いずれも不図示）を備える。そして、レチクルＲ上の所定の照明領域は、照明光学系ＩＬにより均一な照度分布の露光光ＥＬで照明される。
【００１４】
照明光学系ＩＬから射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）や、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）などが用いられる。
【００１５】
レチクルステージＲＳＴは、レチクルＲを保持して移動可能であって、レチクルホルダＲＨによりレチクルＲを真空吸着して保持している。
レチクルステージＲＳＴは、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに垂直な平面内、すなわち、ＸＹ平面内で２次元移動可能及びθＺ方向に微小回転可能である。
レチクルステージＲＳＴは、リニアモータ等のレチクルステージ駆動部ＲＳＴＤにより駆動される。そして、レチクルステージ駆動部ＲＳＴＤは、制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
なお、レチクルホルダＲＨの詳細構成については、後述する。
【００１６】
レチクルステージＲＳＴ上には、移動鏡５１が設けられている。また、移動鏡５１に対向する位置には、レーザ干渉計５２が設けられている。これにより、レチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲの２次元方向（ＸＹ方向）の位置及びθＺ方向の回転角（場合によってはθＸ、θＹ方向の回転角も含む）は、レーザ干渉計５２によりリアルタイムで計測される。そして、レーザ干渉計５２の計測結果は、制御装置ＣＯＮＴに出力される。制御装置ＣＯＮＴは、レーザ干渉計５２の計測結果に基づいてレチクルステージ駆動部ＲＳＴＤを駆動することでレチクルステージＲＳＴに支持されているレチクルＲの位置を制御する。
【００１７】
投影光学系ＰＬは、レチクルＲのパターンを所定の投影倍率βでウエハＷに投影露光するものである。投影光学系ＰＬは、ウエハＷ側の先端部に設けられた光学素子を含む複数の光学素子で構成されており、これら光学素子は鏡筒ＰＫで支持されている。投影光学系ＰＬは、投影倍率βが、例えば１／４、１／５、あるいは１／８の縮小系である。
なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。また、投影光学系ＰＬの先端部の光学素子は鏡筒ＰＫに対して着脱（交換）可能に設けられる。
【００１８】
ウエハステージＷＳＴは、ウエハＷを支持しつつ移動するものであって、ウエハＷをウエハホルダＷＨを介して保持して、Ｚ軸方向、θＸ方向及びθＹ方向の３自由度方向に微小駆動するＺテーブル６１、Ｚテーブル６１を支持しつつ、Ｙ軸方向に連続移動及びＸ軸方向にステップ移動するＸＹテーブル６２、ＸＹテーブル６２をＸＹ平面内で移動可能に支持するウエハ定盤６３等を備えている。
ウエハステージＷＳＴは、リニアモータ等のウエハステージ駆動部ＷＳＴＤにより駆動される。ウエハステージ駆動部ＷＳＴＤは、制御装置ＣＯＮＴにより制御される。そして、Ｚテーブル６１を駆動することにより、Ｚテーブル６１上のウエハホルダＷＨに保持されているウエハＷのＺ軸方向における位置（フォーカス位置）等が制御される。また、ＸＹテーブル６２を駆動することにより、ウエハＷのＸＹ方向における位置（投影光学系ＰＬの像面と実質的に平行な方向の位置）が制御される。
【００１９】
ウエハステージＷＳＴ（Ｚテーブル６１）上には、移動鏡５３が設けられている。また、移動鏡５３に対向する位置には、レーザ干渉計５４が設けられている。これにより、ウエハステージＷＳＴ上のウエハＷの２次元方向の位置及び回転角はレーザ干渉計５４によりリアルタイムで計測され、計測結果は制御装置ＣＯＮＴに出力される。そして、制御装置ＣＯＮＴは、レーザ干渉計５４の計測結果に基づいてウエハステージ駆動部ＷＳＴＤを介してウエハステージＷＳＴを駆動することで、ウエハステージＷＳＴに支持されているウエハＷのＸ軸、Ｙ軸方向及びθＺ方向の位置決めを行う。
【００２０】
また、露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬの像面に対するウエハＷ表面の位置（フォーカス位置）を検出するフォーカス検出系５６を備えている。フォーカス検出系５６は、ウエハＷ表面に対して斜め方向より検出光を投射する投光部５６Ａと、ウエハＷ表面で反射した検出光（反射光）を受光する受光部５６Ｂとを備えている。
受光部５６Ｂの受光結果は、制御装置ＣＯＮＴに出力される。そして、制御装置ＣＯＮＴは、フォーカス検出系５６の検出結果に基づいてウエハステージ駆動部ＷＳＴＤを介してウエハステージＷＳＴ（Ｚテーブル６１）を駆動することで、ウエハＷ表面の位置を投影光学系ＰＬの焦点深度内に収める。すなわち、Ｚテーブル６１は、ウエハＷのフォーカス位置及び傾斜角を制御してウエハＷの表面をオートフォーカス方式及びオートレベリング方式で投影光学系ＰＬの像面に合わせ込む。
【００２１】
次に、レチクルホルダＲＨの詳細な構成について説明する。
図２は、レチクルステージＲＳＴ及びレチクルホルダＲＨの概略構成を示す斜視図である。
レチクルステージＲＳＴは、レチクル定盤２１と、レチクル定盤２１の上面に沿って２次元的に移動可能に支持されるレチクルテーブル２２とを備えている。
レチクルテーブル２２の底面には、不図示のエアベアリング（エアパッド）が複数固定されており、これらのエアベアリングによってレチクルテーブル２２がレチクル定盤２１上に数ミクロン程度のクリアランスを介して浮上支持されている。
レチクル定盤２１の中央部には開口２１ａが、レチクルテーブル２２の中央部には開口２２ａが、それぞれ形成されており、開口２１ａ，２２ａをレチクルＲのパターン像が通過するようになっている。
また、開口２２ａの周縁には、レチクルＲを吸着保持するレチクルホルダＲＨが設けられている。
【００２２】
レチクルテーブル２２は、下面端縁に設けられたエアガイド３１がレチクル定盤２１の上面に固定されると共にＹ軸方向に延びる一対のＹガイド３２に沿って移動することにより、Ｙ軸方向に案内されるようになっている。なお、各エアガイド３１は、これらＹガイド３２に対して不図示のエアベアリングによって非接触で支持されている。
レチクルテーブル２２の＋Ｘ側端縁には可動子４１が突設されており、また、レチクル定盤２１上にはＹ軸方向に延びる固定子４２が、可動子４１に対向して支持されている。そして、これら可動子４１および固定子４２によってムービングコイル型のリニアモータ４０が構成されており、可動子４１が固定子４２との間の電磁気的相互作用により駆動されることで、レチクルテーブル２２はＹ方向に移動する。
【００２３】
また、レチクルテーブル２２の上面には、レチクルＲを吸着保持するレチクルホルダＲＨが、開口２２ａのＸ方向の両周縁部に、Ｙ方向に延設されている。
レチクルホルダＲＨは、負圧吸引装置（不図示）に接続する複数の吸引孔が形成された吸着面Ａを備えており、吸着面Ａ上にレチクルＲが載置された状態で負圧吸引装置を駆動することにより、レチクルＲを吸着保持することが可能となっている。
【００２４】
また、図２に示すように、レチクルテーブル２２上には、レチクルＲを挟んだＹ方向両側に、アクチュエータ１６（１６ａ〜１６ｄ），１７（１７ａ〜１７ｄ）が、それぞれレチクルＲの側面Ｓ１，Ｓ２に沿って、所定の間隔をあけて配置されている。
アクチュエータ１６（１６ａ〜１６ｄ）は、レチクルＲの＋Ｙ方向側の側面Ｓ１に対して、−Ｙ方向の力を付与するものである。同様に、アクチュエータ１７（１７ａ〜１７ｄ）は、レチクルＲの−Ｙ方向側の側面Ｓ２に対して、＋Ｙ方向の力を付与するものである。
アクチュエータ１６，１７は、例えば、積層型圧電アクチュエータ、ＶＣＭ（ボイスコイルモータ）等のリニアアクチュエータによって構成されている。積層型圧電アクチュエータ等のリニアアクチュエータによって構成されている。
アクチュエータ１６，１７は、レチクルＲに対して、Ｙ方向に沿った同軸上に配置されている。例えば、アクチュエータ１６ａとアクチュエータ１７ａとがレチクルＲをＹ方向に挟んで対向配置される。また、アクチュエータ１６，１７は、それぞれレチクルＲのＸ方向の中心に対して線対称となるように配置されている。
【００２５】
アクチュエータ１６，１７は、レチクルテーブル２２がＹ方向に加減速移動する際に、制御装置ＣＯＮＴからの指令により駆動する。
例えば、レチクルテーブル２２が＋Ｙ方向に加速移動すると、レチクルＲは慣性力によって−Ｙ方向に撓んでしまう。そこで、レチクルテーブル２２の加減速移動時に発生するレチクルＲの撓み量（Ｙ方向の変形）に応じて、アクチュエータ１６，１７によりレチクルＲの側面Ｓ１，Ｓ２に対してＹ方向の力を付与することで、レチクルＲの撓みを抑止（矯正）するようになっている。つまり、レチクルテーブル２２の加減速移動により、レチクルＲに＋Ｙ方向の慣性力がかかる場合には、アクチュエータ１６により側面Ｓ１に対して−Ｙ方向の力を付与することで、レチクルＲの＋Ｙ方向の撓みを抑止（矯正）するようになっている。一方、レチクルテーブル２２の加減速移動により、レチクルＲに−Ｙ方向の慣性力がかかる場合には、アクチュエータ１７により側面Ｓ２に対して＋Ｙ方向の力を付与することで、レチクルＲの−Ｙ方向の撓みを抑止（矯正）するようになっている。
また、アクチュエータ１６，１７がレチクルＲに付与する力は、レチクルＲの撓み量（変形量）に応じて制御される。このレチクルＲの撓み量（変形量）は、レチクルテーブル２２の加減速情報から求められる。
【００２６】
図３は、レチクルステージＲＳＴ（レチクルテーブル２２）の走査時の加速度等と時間との関係を示す図、及びアクチュエータ１６，１７がレチクルＲに付与する力と時間との関係を示す図である。
図３（Ａ）〜（Ｃ）のＸ軸は時間を表し、Ｙ軸はレチクルステージＲＳＴのＹ方向の位置、速度及び加速度を時間との関係で表している。図３（Ｄ），（Ｅ）のＹ軸はアクチュエータ１６，１７がレチクルＲに付与する力を時間との関係で表している。
図３（Ａ）は、時間とレチクルステージＲＳＴ（レチクルテーブル２２）の位置との関係を示しており、レチクルステージＲＳＴは、時間ｔ０からｔ５までの間に位置０から＋Ｙまで移動する。
図３（Ｂ）に示すように、レチクルテーブル２２は、時間ｔ２からｔ３までの間は一定速度Ｖｃで移動している。時間ｔ０より前と時間ｔ５の後では静止している。なお、時間ｔ２とｔSETとの間には、レチクルステージＲＳＴの加速中にレチクルＲ等に発生した振動が収束するまでの整定時間が存在している。
図３（Ｃ）は、走査時のレチクルステージＲＳＴの加速度および減速度を示しており、加速度は時間ｔ０ではゼロであり、その後時間ｔ１で＋Ａとなるまで線形に増大していく。そして、時間ｔ１からは、時間ｔ２でゼロになるまで線形に減少していく。時間ｔ２から時間ｔ３までの加速度はゼロである。そして、時間ｔ３から時間ｔ４までは、加速度は逆向きの方向に線形に増加し、時間ｔ４で最大の減速度（−Ａ）となる。その後、加速度は線形に増加し、時間ｔ５でゼロとなる。この時点でレチクルステージＲＳＴは減速し終わり、速度はゼロとなる。
【００２７】
図３（Ｄ）は、アクチュエータ１６がレチクルＲに付与する力と時間との関係を示している。また、図３（Ｅ）はアクチュエータ１７がレチクルＲに付与する力と時間との関係を示している。
図３（Ｄ），（Ｅ）に示すように、アクチュエータ１６，１７がレチクルＲに付与する力は、走査時のレチクルステージＲＳＴの加速度および減速度に対応している。レチクルステージＲＳＴが加速時には、レチクルＲが−Ｙ方向に撓むので、アクチュエータ１７を駆動してレチクルＲに＋Ｙ方向の力を付与することで、レチクルＲの撓みを抑止する。一方、レチクルステージＲＳＴが減速時には、レチクルＲが＋Ｙ方向に撓むので、アクチュエータ１６を駆動してレチクルＲに−Ｙ方向の力を付与することで、レチクルＲの撓みを抑止する。
このように、アクチュエータ１６，１７をレチクルステージＲＳＴの加速時および減速時）に対応して制御することで、レチクルＲの撓みを抑止することができる。そして、レチクルステージＲＳＴの走査時の加速度および減速度の情報は、露光装置ＥＸ（特にレチクルステージＲＳＴ）の動作プログラムに予め設定されている。そこで、レチクルステージＲＳＴの走査時の加速度および減速度の情報から、レチクルＲに付与する力を予め求めておき、レチクルステージＲＳＴの走査時（加減速移動時）にアクチュエータ１６，１７にその力を発生させるように制御する。つまり、露光装置ＥＸの動作プログラムの情報に基づいて、アクチュエータ１６，１７をフィードフォワード制御することで、レチクルステージＲＳＴの走査時（加減速移動時）におけるレチクルＲの撓み発生を抑止する。
【００２８】
また、レチクルＲの変形量は、レチクルＲのＸ方向の位置によって異なる。例えば、レチクルＲの中心部は、レチクルホルダＲＨの吸着面Ａから最も離間した部位であるため、その撓み量（Ｙ方向への変位）が最も大きくなる。このため、レチクルＲのＸ方向中心部の近傍に配置されたアクチュエータ１６ｂ，１６ｃ，１７ｂ，１７ｃの方が、Ｘ方向両端部の近傍に配置されたアクチュエータ１６ａ，１６ｄ，１７ａ，１７ｄに比べて、大きな力をレチクルＲの側面Ｓ１，Ｓ２に対して付与するようになっている。つまり、アクチュエータ１６ａ〜１６ｄ，１７ａ〜１７ｄがレチクルＲに付加する力の割合は、各アクチュエータの配置位置（Ｘ方向の位置）により求められる。
【００２９】
このように、レチクルＲを載置するレチクルステージＲＳＴ（レチクルテーブル２２）がＹ方向に加減速移動した場合であっても、レチクルＲの側面Ｓ１，Ｓ２をアクチュエータ１６，１７によりＹ方向に沿って付勢することで、加減速移動に伴うレチクルＲの撓み（Ｙ方向の変形）を抑止（矯正）することができる。
このため、露光装置ＥＸでは、レチクルステージＲＳＴの加減速移動時においてもウエハＷの露光処理が可能となる。つまり、図３において、従来は時間ｔSETからｔ３までの間に露光処理を行っていたが、本実施形態の露光装置ＥＸでは、時間ｔ０からｔ５まで絶え間なく露光処理を行うことが可能である。
したがって、露光処理の高スループットが図られ、高性能で安価なデバイスを製造することができる。
【００３０】
次に、レチクルホルダＲＨの変形例について説明する。
図４は、レチクルステージＲＳＴ及びレチクルホルダＲＨ２の概略構成を示す平面図及び断面図である。なお、上述したレチクルステージＲＳＴ及びレチクルホルダＲＨと同一の構成部材等については、同一の符号を付してその説明を省略する。
レチクルステージＲＳＴは、レチクル定盤２１と、レチクル定盤２１の上面に沿って２次元的に移動可能に支持されるレチクルテーブル２２とを備えている。更に、レチクルテーブル２２上には、レチクルテーブル２２の上面に非接触に支持されるサブスライダ２３が配置されている。サブスライダ２３の底面には、不図示のエアベアリング（エアパッド）が複数固定されており、これらのエアベアリングによってサブスライダ２３がレチクルテーブル上に数ミクロン程度のクリアランスを介して浮上支持されている。
そして、サブスライダ２３に形成された開口２３ａの周縁には、レチクルＲを吸着保持するレチクルホルダＲＨが設けられる。
【００３１】
サブスライダ２３には、レチクルＲを吸着保持するレチクルホルダＲＨが、開口２３ａのＸ方向の両周縁部に、Ｙ方向に延設されている。
サブスライダ２３は、そのＹ方向の長さがレチクルＲよりも短くなっている。したがって、サブスライダ２３上のレチクルホルダＲＨ２（吸着面Ａ２）により、レチクルＲを吸着保持すると、レチクルＲのＹ方向の端部が、サブスライダ２３からはみ出した状態となっている。
【００３２】
また、図４に示すように、レチクルテーブル２２上には、レチクルＲを挟んだＹ方向両側に、クランプ１８，１９が、それぞれレチクルＲの側面Ｓ１，Ｓ２に沿って配置されている。クランプ１８は、レチクルＲの＋Ｙ方向側の側面Ｓ１に対して、−Ｙ方向の力を付与するものである。同様に、クランプ１９は、レチクルＲの−Ｙ方向側の側面Ｓ２に対して＋Ｙ方向の力を付与するものである。
すなわち、レチクルＲ及びレチクルＲを載置するサブスライダ２３は、クランプ１８，１９を介して、レチクルテーブル２２に支持（Ｙ方向に挟持）されるようになっている。
なお、クランプ１８，１９は、例えば、積層型圧電アクチュエータやエアシリンダ等の押圧部１８ａ，１９ａと、側面Ｓ１，Ｓ２の略全面に接触して押圧部１８ａ，１９ａの力をレチクルＲに略均一に伝えるクランプ部材１８ｂ，１９ｂとによって構成されている。クランプ部材１８ｂ，１９ｂは、レチクルステージＲＳＴの加減速移動時においても、変形が生じない程度の高剛性の部材によって構成されている。
【００３３】
このように、レチクルＲの側面Ｓ１，Ｓ２に略均一に力が付与されており、しかもレチクルＲを保持するサブスライダ２３がレチクルテーブル２２に対して浮上支持されているので、レチクルステージＲＳＴ（レチクルテーブル２２）が加減速移動したとしても、レチクルＲが撓んでしまうことが抑止される。すなわち、レチクルＲをサブスライダ２３（レチクルホルダＲＨ２）により保持することで、レチクルＲの中央部が大きく撓むことなく、レチクルＲの全体がＹ方向にスライドするようになる。このため、このレチクルＲを、クランプ１８，１９によりＹ方向に挟持することで、上述したように、レチクルＲの撓みが抑止できる。
【００３４】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、上述した実施の形態において示した動作手順、あるいは各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲においてプロセス条件や設計要求等に基づき種々変更可能である。
本発明は、例えば以下のような変更をも含むものとする。
【００３５】
上記実施形態では、レチクルＲを吸着保持するレチクルホルダＲＨ，ＲＨ２について説明したが、これに限らず、ウエハＷを吸着保持するウエハホルダに適用しても構わない。また、レチクルＲを吸引吸着する場合に代えて静電吸着したり、吸引吸着と静電吸着とを併用してもよい。
【００３６】
露光装置ＥＸとしては、投影光学系ＰＬとウエハＷとの間に液体を配置しつつ、この液体を解してウエハＷの露光を行う液浸型露光装置であってもよい。
露光装置ＥＸの用途としては、半導体製造用の露光装置や、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置に限定されることなく、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く適当できる。
【００３７】
本実施形態の露光装置ＥＸは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。
各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。
なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００３８】
そして、半導体デバイスは、図５に示すように、デバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板（ウエハ、ガラスプレート）を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置によりレチクルＲのパターンをウエハＷに露光する基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施形態に係る露光装置ＥＸの概略構成を示す図である。
【図２】本発明の実施形態に係るレチクルステージＲＳＴ及びレチクルホルダＲＨの概略構成を示す斜視図及び平面図である。
【図３】レチクルステージＲＳＴの走査時の加速度等と時間との関係を示す図、及びアクチュエータ１６，１７がレチクルＲに付与する力と時間との関係を示す図である。
【図４】本発明の他の実施形態に係るレチクルステージＲＳＴ及びレチクルホルダＲＨ２の概略構成を示す平面図及び断面図である。
【図５】本発明の実施形態に係るマイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
【００４０】
１６，１７…アクチュエータ（付勢部）
１８，１９…クランプ（付勢部）
２２…レチクルテーブル（移動体）
２３…サブスライダ
ＲＳＴ…レチクルステージ（ステージ装置、マスクステージ）
ＲＨ，ＲＨ２…レチクルホルダ（保持面）
Ｒ…レチクル（板状部材、マスク）
ＰＡ…パターン
Ｓ１，Ｓ２…側面
Ｗ…ウエハ（基板）
ＷＳＴ…ウエハステージ（基板ステージ）
ＥＸ…露光装置
ＣＯＮＴ…制御装置（付勢力制御部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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