(57)【要約】【課題】振動板の貼り付きによる動作不良をなくして、駆動安定性及び駆動耐久性に優れた静電アクチュエータを提供すること。【解決手段】可撓性を有した振動板４と該振動板４にギャップ３０を介して対向する個別電極８とを備え、振動板４と個別電極８との間に静電力を生じさせて振動板４を駆動する静電アクチュエータの製造方法であって、ギャップ３０内部に疎水化剤を拡散して該疎水化剤を振動板４と対向電極８の対向面に付着又は反応させる疎水化処理工程と、ギャップ３０内部を加熱吸引する水分・疎水化剤除去工程と、ギャップ３０内部を乾燥気体中で気密封止する封止工程とを備える。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有した振動板と該振動板にギャップを介して対向する対向電極とを備え、前記振動板と前記対向電極との間に静電力を生じさせて前記振動板を駆動する静電アクチュエータの製造方法であって、
前記ギャップ内部に疎水化剤を拡散して該疎水化剤を前記振動板と前記対向電極の対向面に付着又は反応させる疎水化処理工程と、
前記ギャップ内部を加熱吸引する水分・疎水化剤除去工程と、
前記ギャップ内部を乾燥気体中で気密封止する封止工程と、
を備えたことを特徴とする静電アクチュエータの製造方法。
【請求項２】
前記封止工程の前に、前記水分・疎水化剤除去工程で加熱されたギャップ内部を、乾燥雰囲気中で室温まで徐冷する徐冷乾燥工程を備えることを特徴とする請求項１記載の静電アクチュエータの製造方法。
【請求項３】
前記疎水化処理工程の前に、前記ギャップ内部の前記振動板と前記対向電極の対向面にＵＶ光を照射する活性化処理工程を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の静電アクチュエータの製造方法。
【請求項４】
前記対向電極がガラス基板上に透明電極として形成されたものにおいて、前記ＵＶ光を前記ガラス基板を通して照射することを特徴とする請求項３記載の静電アクチュエータの製造方法。
【請求項５】
前記活性化処理工程において、前記ギャップ内部を加熱保持する処理を行うことを特徴とする請求項３または４に記載の静電アクチュエータの製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れかに記載の方法により静電アクチュエータを製造し、該静電アクチュエータを液滴吐出用の圧力機構とすることを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項７】
可撓性を有した振動板と該振動板にギャップを介して対向する対向電極とを備え、前記振動板と前記対向電極との間に静電力を生じさせて前記振動板を駆動する静電アクチュエータであって、
前記振動板と前記対向電極の対向面を含む前記ギャップ内部は、疎水化処理、水分除去処理及び疎水化処理剤の除去処理が施されて気密封止されている、ことを特徴とする静電アクチュエータ。
【請求項８】
請求項７記載の静電アクチュエータを、液体を溜めて吐出させる圧力室の圧力変動機構として備えたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項９】
請求項８記載の液滴吐出ヘッドを備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１０】
請求項７記載の静電アクチュエータを駆動機構として備えていることを特徴とするデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電アクチュエータ並びにそれを利用した液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置などに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ギャップを介して対向する可撓性を有した振動板と対向電極とを備え、前記振動板と対向電極との間に静電力を生じさせて前記振動板をインク吐出用の圧力室の底面に適用したインクジェットプリンタが知られている。この種のプリンタでは、振動板と対向電極との貼り付きを防止することが必要であり、そのための各種の提案が行われている。
例えば、振動板と対向電極とのギャップ内部に疎水膜を形成するための化合物を気密封止して、振動板と対向電極との貼り付きを防止する技術がある（例えば、特許文献１〜３）。
また、振動板と対向電極との電極間表面の面粗さを粗くしてそれらの吸着力を低減し、振動板と対向電極との貼り付きを防止する技術がある（例えば、特許文献４）。
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−１８１０２８号公報
【特許文献２】特開平１１−１７９９１９号公報
【特許文献３】特開２００５−１１１５７９号公報
【特許文献４】特開２００２−２５４６３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１〜３の場合においても、ギャップ内に水分や疎水化剤が残留することがあり、その場合には、駆動回数が多くなったり時間がたつにつれて振動板と対向電極とが貼り付くおそれが高くなる。また、上記特許文献４のように電極間表面の面粗さを大きくすると、静電吸引力そのものが、低下してしまうという課題があった。このため、静電アクチュエータの静電吸引力を低下させず、しかも駆動回数や経過時間にかかわらず、安定的に駆動が可能な静電アクチュエータが求められていた。
【０００５】
本発明は上記課題に対応したものであり、振動板と対向電極の貼り付き防止策の更なる改善を図り、振動板の動作不良をなくして、駆動安定性及び駆動耐久性に優れた静電アクチュエータを提供しようとするものである。また併せて、この静電アクチュエータを備えた液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及びデバイスを提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る静電アクチュエータは、可撓性を有した振動板と該振動板にギャップを介して対向する対向電極とを備え、前記振動板と前記対向電極との間に静電力を生じさせて前記振動板を駆動する静電アクチュエータの製造方法であって、前記ギャップ内部に疎水化剤を拡散して該疎水化剤を前記振動板と前記対向電極の対向面に付着又は反応させる疎水化処理工程と、前記ギャップ内部を加熱吸引する水分・疎水化剤除去工程と、前記ギャップ内部を乾燥気体中で気密封止する封止工程と、を備えたものである。
【０００７】
これによれば、ギャップ内部を加熱吸引する水分・疎水化剤除去工程により、ギャップ内部に存在している水分及び／または疎水化剤が除去されて、それらに起因する振動板と個別電極の貼り付きが防止される。したがって、振動板の動作不良が防止され、駆動安定性及び駆動耐久性に優れた静電アクチュエータが得られる。
【０００８】
また、前記封止工程の前に、前記疎水化剤除去工程で加熱されたギャップ内部を、乾燥雰囲気中で室温まで徐冷する徐冷乾燥工程を備えることが好ましい。これにより、ギャップ内部が確実に乾燥されるため、ギャップ内部の乾燥度が高まる。
【０００９】
前記疎水化処理工程の前に、前記ギャップ内部の前記振動板と前記対向電極の表面にＵＶ光を照射する活性化処理工程を備えてもよい。なお、前記対向電極がガラス基板上に透明電極として形成されたものである場合には、前記ＵＶ光を前記ガラス基板を通して照射してもよい。ギャップ内部の活性化により、振動板と前記対向電極の表面の水酸基密度が増加して、疎水化剤が振動板や対向電極の表面に付着し易くなる。
【００１０】
前記活性化処理工程において、前記ギャップ内部を加熱保持するようにしてもよい。加熱によりギャップ内部から水分を除去できるので、その後の疎水化処理工程において、疎水化剤が振動板や対向電極の表面に付着し易くなる。
【００１１】
本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造方法は、上記何れかに記載の方法により静電アクチュエータを製造し、該静電アクチュエータを液滴吐出用の圧力機構とするものである。
これによれば、既に説明した理由により、静電アクチュエータを構成する振動板と対向電極の貼り付きが防止されるため、振動板の動作不良が防止され、液滴吐出の安定性及び駆動耐久性に優れた液滴吐出ヘッドが得られる。
【００１２】
本発明に係る静電アクチュエータは、可撓性を有した振動板と該振動板にギャップを介して対向する対向電極とを備え、前記振動板と前記対向電極との間に静電力を生じさせて前記振動板を駆動する静電アクチュエータであって、前記振動板と前記対向電極の対向面を含む前記ギャップ内部は、疎水化処理、水分除去処理及び疎水化処理剤の除去処理が施されて気密封止されているものである。
この静電アクチュエータは、振動板と個別電極の貼り付きによる振動板の動作不良が防止され、駆動安定性及び駆動耐久性に優れたものとなる。
【００１３】
本発明に係る液滴吐出ヘッドは、上記静電アクチュエータを、液体を溜めて吐出させる圧力室の圧力変動機構として備えたものである。
また、本発明に係る液滴吐出装置は、上記液滴吐出ヘッドを備えたものである。
これらの液滴吐出ヘッドや液滴吐出装置は、それらを構成する静電アクチュエータの上記効果により、長期的に安定した液滴吐出動作が可能となる。
さらに、本発明に係るデバイスは、上記静電アクチュエータを駆動機構として備えているものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
実施形態１
図１は本発明の実施形態に係る静電アクチュエータを、液体を溜めて吐出させる圧力室の圧力変動機構として備えた液滴吐出ヘッドを分解して表した斜視図である。図１はフェイス吐出型の液滴吐出ヘッドを表している。図１に示すように、この液滴吐出ヘッドは、キャビティプレート１、電極基板２、ノズルプレート３の３つの基板が積層されてなる。  キャビティプレート１は、例えば厚さ約５０μｍで、１１０面方位のシリコン単結晶基板（以下、単にシリコン基板という）から構成されている。キャビティプレート１には、吐出される前の液滴が保持される複数の吐出室（圧力室ともいう）５、各吐出室５に供給する液体をためておく各吐出室に共通のリザーバ７などの流路が形成されている。なお、吐出室５の底面を構成する底壁は可撓性を有した振動板４となっている。振動板４の厚さは、例えば１００ｎｍである。
【００１５】
また、キャビティプレート１の電極基板２と対向する面には、絶縁膜（例えばＳｉＯ2膜（ＴＥＯＳ膜を含む））１４を、プラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などを用いて０．１μｍ程度成膜している。これは、液滴吐出ヘッドを駆動させた時の絶縁膜破壊及び短絡を防止するためである。さらに、キャビティプレート１のノズルプレート３と対向する面には、液体保護膜１５となるＳｉＯ2  膜（ＴＥＯＳ膜を含む）を、プラズマＣＶＤ法又はスパッタリング法により成膜している。これはインク等の液体によって流路が腐食するのを防ぐためである。また、液体保護膜１５の応力と絶縁膜１４の応力とを相殺させ、振動板４の反りを小さくすることができる効果も期待できる。
さらにキャビティプレート１には、キャビティプレート１に共通の通電部として共通電極１９が設けられており、ここを介して各吐出室５の振動板４に電圧が供給される。
【００１６】
電極基板２は、厚さ約１ｍｍであり、図１で見るとキャビティプレート１の下面に接合される基板である。電極基板２には、ホウ珪酸系の耐熱硬質ガラスを用いることが好ましく、その場合にはガラス基板とも称される。電極基板２には、キャビティプレート１に形成される各吐出室５に合わせて、エッチングにより深さ約０．２μｍの凹部９が設けられる。そして、凹部９の内側に、振動板４に対する対向電極としての複数の個別電極８が形成されている。ここで個別電極８は、吐出室底面に対応するいわゆる電極部と、リード部１０と、電極端子１１なども含めたものを総称している。リード部１０は電極部と電極端子１１を繋ぐ部分であり、電極端子１１は個別電極８を外部機器（例えば電源）に接続する際などに利用される部分である。
【００１７】
本実施形態では、個別電極８の材料として酸化錫を不純物としてドープした透明のＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウム錫酸化物）を用い、例えばスパッタ法を用いて０．１μｍの厚さで凹部９内側に形成するものとする。その際、後述するように、個別電極８と電極基板２に接合するシリコン基板とを等電位にするための接点（以下、等電位接点という）となるＩＴＯパターン２４も個別電極８と同時に成膜しておく。
なお、個別電極８の材料はＩＴＯに限定するものではなく、クロム等の金属等を材料に用いてもよい。しかしながら、透明であるので放電したかどうかの確認が行い易い等の理由でＩＴＯを用いることが好ましい。
また、電極基板２には、リザーバ７と連通して外部タンク（図示せず）からリザーバ７への流路となる吐出液体供給用の液体供給口１３も設けられている。
【００１８】
個別電極８と絶縁膜１４で絶縁された振動板４との間には、後述する図２に示すように、振動板４の振動空間として機能するギャップ３０が構成されるが、その幅は凹部９の深さ、個別電極８及び振動板４（絶縁膜１４を含む）の厚さにより決まる。このギャップ３０を介して対向する絶縁膜１４が形成された振動板４と個別電極８とが、静電アクチュエータを構成しており、振動板４と個別電極８とに対する電圧のＯＮ／ＯＦＦに対応して振動板が変位（駆動）する。
【００１９】
ノズルプレート３は、例えば厚さ約１８０μｍのシリコン基板で構成され、電極基板２とは反対の面（図１の場合には上面）で、キャビティプレート１と接合されている。図１に示したように、ノズルプレート３の上面には、吐出室５で加圧されたインク等の液体を液滴として吐出するノズル孔１２が形成されている。また、キャビティプレート１のリザーバ７部に対応する部分には、リザーバ７内の液体の圧力変動を吸収するためのダイヤフラム１８が形成されている。さらに、ノズルプレート３の下面には、吐出室５とリザーバ７とを連通させるオリフィス６も形成されている。
なお、ここではノズル孔１２を有するノズルプレート３を上面とし、電極基板２を下面として説明するが、実際には、ノズルプレート３の方が電極基板２よりも下面となって用いられることが多い。
【００２０】
図２は図１の液滴吐出ヘッドの個別電極長手方向に沿った断面図である。吐出室５は吐出前の液体を溜めておき、吐出室５の底壁を構成する振動板４を撓ませることにより、吐出室５内の圧力を高めて、液滴をノズル孔１２から吐出させる作用を果たす。なお本実施形態の振動板４は、高濃度のボロン（Ｂ）をシリコン基板に拡散したボロンドープ層から構成している。振動板４となるボロンドープ層の厚さは、例えば約０．８μｍである。
【００２１】
振動板４と個別電極８の対向面を含むギャップ３０内部は、疎水化処理、水分除去処理及び疎水化処理剤の除去処理が施されて、封止材２６により気密封止されている。これにより、ギャップ３０内部への異物や水分（水蒸気）の侵入が防止される。
【００２２】
キャビティプレート１の共通電極１９は、ワイヤ２３を介して発振回路２２に接続されている。また、電極基板２の電極端子１１も、ワイヤ２３を介して発振回路２２に接続されている。発振回路２２は、例えば２４ｋＨｚで発振し、個別電極８に０Ｖと３０Ｖのパルス電位を印加して電荷の供給及び停止を行う。すなわち、発振回路２２が発振駆動することで、例えば個別電極８に電荷を供給して正に帯電させ、振動板４を相対的に負に帯電させると、静電気力により個別電極８に引き寄せられて撓む。これにより吐出室５の容積は広がる。そして電荷供給を止めると振動板４は元に戻るが、そのときの吐出室５の容積も元に戻るから、その圧力により差分の液滴２０が吐出する。この液滴２０が例えば記録対象となる記録紙２１に着弾することによって印刷等の記録が行われる。なお、このような方法は引き打ちと呼ばれるものであるが、バネ等を用いて液滴を吐出する押し打ちと呼ばれる方法もある。
【００２３】
次に、上記静電アクチュエータを備えた液滴吐出ヘッドの製造方法を説明する。図３は液滴吐出ヘッドの製造工程の全体を示すフローチャートであり、この図３に基づいて液滴吐出ヘッドの製造工程の概略を説明する。なお、ここでの説明において、液滴吐出ヘッドを構成する各要素は図１、２において示した符号を用いている。
まず、後に形成される吐出室５の個数に対応した個数の各凹部９を備え、各凹部９内にそれぞれ個別電極８を有した電極基板２を形成又は用意する（Ｓ１）。
一方で、振動板４や吐出室５などの流路を形成するためのシリコン基板（後にキャビティプレート１となるシリコンウェハ）を用意し、その一面に絶縁膜１４としてのＳｉＯ2膜とを形成する（Ｓ２）。なお、シリコン基板の片面にボロンをドープして振動板となるボロンドープ層を形成し、そのボロンドープ層の上に絶縁膜１４を形成してもよい。
続いて、電極基板２とシリコン基板とを、電極基板２の個別電極８とシリコン基板の振動板４（絶縁膜１４を含む）とを対向させ、かつ凹部９に起因して生じるギャップ３０を介して接合する（Ｓ３）。この接合は既に良く知られている陽極接合などを利用して行うことができる。
次に、電極基板２に接合されたシリコン基板をエッチングなどを利用して加工し、振動板４及び各種流路（吐出室５、リザーバ７など）を形成して、キャビティプレート１とする（Ｓ４）。
続いて、静電アクチュエータを構成している個別電極８、振動板４及びギャップ３０の疎水化処理及び水分除去処理などのギャップ３０内処理を行い（Ｓ５）、その後、そのギャップ３０を気密封止する（Ｓ６）。なお、これらＳ５〜Ｓ６の処理については後で詳細に説明する。
その後、ノズル１２が形成されたノズルプレート３をキャビティプレート１に接合する（Ｓ７）。
最後に、シリコンウェハを利用して複数形成された液滴吐出ヘッドを、ダイシングにより各液滴吐出ヘッドに分割する（Ｓ８）。
以上が、液滴吐出ヘッド製造の一例を示す全体工程である。なお、液滴吐出ヘッドに適用しない静電アクチュエータの製造方法では、振動板４が形成される基板に流路を形成する必要はない。
【００２４】
次に、振動板４の個別電極８への張り付きなどを防止するための、ギャップ３０内処理及び封止（図３のＳ５〜Ｓ６）について詳細に説明する。図４はギャップ３０内処理の工程を示すフローチャート、図５はそれらの処理工程中のギャップ内部の状態説明図であり、これらの図４、図５に基づいて説明する。
【００２５】
まず、ギャップ３０内の振動板４と個別電極８の表面の水酸基密度を増やすために、ギャップ３０内の活性化処理を行う（Ｓ１１）。この活性化処理は、後のギャップ３０内の疎水化処理で、疎水膜の密度を増すことを目的とするものである。この処理は振動板４と個別電極８の表面にＵＶ光を照射して行うことができる。この場合、電極基板２がガラス基板で個別電極８が透明のＩＴＯからなる場合には、そのガラス基板側からＵＶ光を照射する。ＵＶ照射条件は、例えば、照度２２０ｍＷ/ｃｍ2、光量５０００ｍＪ/ｃｍ2である。なお、ＵＶ照射に先だって、ギャップ３０内を高温加熱し水分を除去するようにしてもよい。その加熱条件は、例えば、窒素雰囲気中で、４００℃×２時間以上とする。この活性化処理に伴うギャップ３０内の状態は、図５（ａ）の状態から、加熱により水分が除去された図５（ｂ）の状態を経て、水酸基密度の増加した図５（ｃ）の状態となる。
【００２６】
次に、ギャップ３０内の疎水化処理を行う（Ｓ１２）。この処理は、ギャップ３０内の振動板４と個別電極８の対向面を疎水化するために行うもので、ＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）などの処理剤をギャップ３０内に拡散させ、振動板４と個別電極８の対向面に付着（化学吸着など）又は反応させるものである。具体的には、乾燥窒素に、ＨＭＤＳ蒸気を飽和させ、この雰囲気中に、キャビティプレート１と電極基板２との接合基板を室温で２４時間以上放置する。この疎水化処理によりギャップ３０内の状態は、例えば図５（ｄ）に示すように、振動板４と個別電極８の対向面にトリメチルシラノール基（Ｒはメチル基−ＣＨ3）が形成され、残留ＨＭＤＳが浮遊した状態となる。すなわち、絶縁膜（ＳｉＯ2 膜）１４表面の殆どの水酸基がトリメチルシラノール基に置換された状態となり、個別電極８と絶縁膜１４の表面との水素結合などによる相互作用や、吸着が防止される。
【００２７】
続いて、ギャップ３０内を加熱吸引する（Ｓ１３；水分・疎水化剤除去工程）。これは、例えば１０-6Ｔｏｒｒ以下の真空中で、４００℃×２時間以上、接合基板を加熱保持するものである。これにより、振動板４と個別電極８の対向面の疎水基や残留疎水化剤や反応生成物であるアンモニアが除去され、その表面が完全に水酸基フリーとなる。また、ギャップ３０内に水分が有る場合にはその水分も除去される。この加熱吸引処理によりギャップ３０内の状態は、例えば図５（ｅ）に示すように、水分や疎水化剤がない状態となる。
この他、水分疎水化剤除去工程として、１０-6Ｔｏｒｒ以下の真空中で、１００℃×２時間以上、接合基板を加熱保持しても良い。この場合、疎水基（トリメチルシラノール基）を残して、残留疎水化剤（ＨＭＤＳ）やその反応生成物（アンモニア）、水分を除去することができる。この場合の加熱吸引処理により、ギャップ３０内の状態は、例えば図５（ｄ）に示す状態からＨＭＤＳが除去された状態となり、疎水化剤やアンモニア、水分がなく、ギャップ３０の内壁には疎水基が形成された状態となる。
【００２８】
そして、乾燥窒素雰囲気中で乾燥を維持しながら、約２時間かけて室温（２５℃程度）まで除冷し（Ｓ１４）、その後同雰囲気中にて、樹脂や酸化膜などによりギャップ３０を気密封止する（Ｓ１５）。なお、ギャップ３０内の気体を空気とする場合は乾燥空気としてもよい。また、減圧雰囲気中で封止を行い、ギャップ３０内の圧力を減圧してもよい。
【００２９】
上記のようにギャップ３０内部を処理することにより、静電アクチュエータを構成している振動板４と個別電極８の対向面の疎水化が確実に行なわれるとともに、ギャップ３０内の水分や残留物が除去される。このため、振動板４と個別電極８の貼り付きによる振動板の動作不良が防止されて、静電アクチュエータの動作の安定性及び持続性が実現できる。従って、この静電アクチュエータを駆動部に適用した液滴吐出ヘッドやデバイスでも、同様の作用効果が達成される。なお、上記Ｓ１１〜Ｓ１５の工程のうち、Ｓ１１の活性化工程は必ずしも必要なものではないが、この工程もできるだけ含めるのが好ましい。
【００３０】
ここで、ギャップ３０内を図４のように処理したものと、ギャップ３０内の振動板と対向電極の対向面に疎水膜を形成した従来のものと、ギャップ３０内を特に処理しない未処理のものとの間で比較を行った結果を示す。
その比較は、振動板４と個別電極８との間に電圧を印可したときの静電アクチュエータの静電容量を測定し、ＣＶ（容量−印可電圧）カーブとして表して、静電アクチュエータの駆動安定性を評価することにより行った。ＣＶカーブは、例えば図６に示すようなものであり、静電容量が大きく変化（増加または減少）たときの電圧（当接電圧）を調査し、電圧印可履歴に伴う当接電圧のシフト量であるシフト電圧ΔＶを評価することで、静電アクチュエータの駆動安定性を評価することができる。すなわち、シフト電圧ΔＶが小さければ、静電アクチュエータの電圧印可の繰り返しによる動作電圧が安定していると評価できる。
【００３１】
上記評価方法により、上各処理方法におけるシフト電圧ΔＶと当接保持時の安定性を評価した結果を表１に示す。
【表１】
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【００３２】
表１によれば、未処理のもの、従来処理のもの、図４のような処理を行ったものの各シフト電圧ΔＶは、それぞれ、２０Ｖ、１０〜１２Ｖ、１Ｖ以下となり、本実施形態にかかる静電アクチュエータのシフト電圧が他のものに較べて大幅に小さくなっている。従って、本実施形態にかかる静電アクチュエータは振動板４の当接保持がより安定し、これを備えた静電式液滴吐出ヘッドでは、液滴の吐出特性（吐出量や吐出速度）が安定し、その耐久性も向上する。従って、そのような静電アクチュエータを備えたインクジェットヘッドでは、高い印刷品位を長期にわたって保つことが可能となる。
【００３３】
実施形態２
図７は実施形態１で製造した液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出装置であるプリンタの概略構成図である。図７において、被印刷物であるプリント紙１１０が支持されるドラム１０１と、プリント紙１１０にインクを吐出し、記録を行う液滴吐出ヘッド１０２とで主に構成される。また、図示していないが、液滴吐出ヘッド１０２にインクを供給するためのインク供給手段がある。プリント紙１１０は、ドラム１０１の軸方向に平行に設けられた紙圧着ローラ１０３により、ドラム１０１に圧着して保持される。そして、送りネジ１０４がドラム１０１の軸方向に平行に設けられ、液滴吐出ヘッド１０２が保持されている。送りネジ１０４が回転することによって液滴吐出ヘッド１０２がドラム１０１の軸方向に移動するようになっている。
一方、ドラム１０１は、ベルト１０５等を介してモータ１０６により回転駆動される。また、プリント制御手段１０７は、印画データ及び制御信号に基づいて送りネジ１０４、モータ１０６を駆動させ、また、ここでは図示していないが、発振駆動回路を駆動させて振動板４を振動させ、制御をしながらプリント紙１１０に印刷を行わせる。
【００３４】
ここでは液体をインクとしてプリント紙１１０に吐出するようにしているが、液滴吐出ヘッドから吐出する液体はインクに限定されない。例えば、カラーフィルタとなる基板に吐出させる用途においては、カラーフィルタ用の顔料を含む液体、有機ＥＬ等の表示基板に吐出させる用途においては、発光素子となる化合物を含む液体、基板上に配線する用途においては、例えば導電性金属を含む液体を、それぞれの装置において設けられた液滴吐出ヘッドから吐出させるようにしてもよい。また、液滴吐出ヘッドをディスペンサとし、生体分子のマイクロアレイとなる基板に吐出する用途に用いる場合では、ＤＮＡ（Deoxyribo Nucleic Acids ：デオキシリボ核酸）、他の核酸（例えば、Ribo Nucleic Acid：リボ核酸、Peptide Nucleic Acids：ペプチド核酸等）タンパク質等のプローブを含む液体を吐出させるようにしてもよい。その他、布等の染料の吐出等にも利用することができる。
【００３５】
実施形態３
また、上記実施形態２では、本発明に係る静電アクチュエータを適用した例として液滴吐出装置を示したが、本発明の静電アクチュエータは、その他のデバイス（静電駆動デバイス）にも適用することができる。それらの具体例を挙げれば、マイクロポンプのポンプ部、光スイッチのスイッチ駆動部、超小型のミラーを多数配置しそれらのミラーを傾けて光の方向を制御するミラーデバイスのミラー駆動部、あるいはレーザプリンタのレーザ操作ミラーの駆動部等に本発明に係る静電アクチュエータを適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の実施形態１に係る液滴吐出ヘッドを示した分解斜視図。
【図２】図１の吐出ヘッドの個別電極長手方向に沿う断面を示した断面図。
【図３】液滴吐出ヘッドの製造工程を示すフローチャート。
【図４】ギャップ内部の処理工程を示すフローチャート。
【図５】図４のギャップ内部の各処理工程におけるギャップ内部の状態説明図。
【図６】ＣＶカーブ（容量−印加電圧カーブ）とシフト電圧の説明図。
【図７】本発明の実施形態２に係る液滴吐出装置の外観図。
【符号の説明】
【００３７】
１  キャビティプレート、２  電極基板、３  ノズルプレート、４  振動板、５  吐出室、６  オリフィス、７  リザーバ、８  個別電極、９  凹部、１０  リード部、１１  電極端子、１２  ノズル孔、１３  液体供給口、１４  絶縁膜、１５  液体保護膜、１８  ダイヤフラム、１９  共通電極、２０  液滴、２１  記録紙、２２  発振回路、２３  ワイヤ、２４  ＩＴＯパターン、２５  電極取出し口、２６  封止材、３０  ギャップ、１０２  液滴吐出ヘッド。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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