(57)【要約】【課題】テープの研磨処理における消耗品を無くし、且つ、適切な表面状態を得ることのできるテープの表面処理方法及び装置を提供する。【解決手段】表面処理装置１０は、磁気テープ１２をフィードローラ１８によって連続的に走行させるとともに、表面処理部２０の移動ローラ２８によって磁気テープ１２の磁性層面同士を擦り合わせる。【選択図】  図１
2007287310.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続的に走行するテープの表面を処理するテープの表面処理方法において、
前記走行するテープの表面同士を擦り合わせることによって、該テープを表面処理することを特徴とするテープの表面処理方法。
【請求項２】
前記テープは、支持体の表面に磁性層が形成された磁気テープであることを特徴とする請求項１に記載のテープの表面処理方法。
【請求項３】
前記テープの同じ面同士を擦り合わせることを特徴とする請求項１又は２に記載のテープの表面処理方法。
【請求項４】
前記表面処理は、幅の等しいテープ同士を幅方向に位置決めした状態で擦り合わせることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１に記載のテープの表面処理方法。
【請求項５】
前記表面処理は、一つのライン上を走行するテープ同士で擦り合わせることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１に記載のテープの表面処理方法。
【請求項６】
前記表面処理は、別のライン上を走行するテープ同士で擦り合わせることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１に記載のテープの表面処理方法。
【請求項７】
前記擦り合わせたテープの表面をクリーニング処理することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１に記載のテープの表面処理方法。
【請求項８】
テープを連続走行させる走行手段と、
前記走行するテープ同士を擦り合わせる擦接手段と、
を備えたことを特徴とするテープの表面処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はテープの表面処理方法及び装置に係り、特に非磁性支持体に磁性層を形成した磁気テープの磁性層面を研磨するためのテープの表面処理方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に磁気テープは、強磁性粉末を結合剤（バインダー）中に分散させた磁性層が非磁性の支持体上に設けられている。この磁気テープの製造は、まず、強磁性粉末を結合剤、添加剤、有機溶剤とともに混合分散して磁性塗布液をつくり、この磁性塗布液を非磁性の支持体上に塗布した後、乾燥して幅の広い磁気テープ原反をつくる。そして、この幅広の磁気テープ原反を、スリッタと呼ばれる裁断装置で、８ｍｍ、１／２インチ、１インチ等の所要の幅に裁断することによって、幅狭の磁気テープが製造される。
【０００３】
ところで、磁気テープの製造工程では、磁性層の表面に微細な突起物や付着物が発生することがあり、この突起物や付着物が、磁気テープ製品を長期間使用した際にドロップアウトと呼ばれる読み取り不良を発生させる原因になる。このため、磁気テープの磁性層の表面を研磨することによって、磁性層表面の突起物や付着物を取り除くことが一般に行われている。たとえば特許文献１〜４は、研磨テープやラッピングテープを磁気テープに接触させることによって、磁気テープ表面の研磨を行っている。特許文献５、６は、砥石ホイールやフェルトロールを磁気テープにラップさせることによって磁気テープの研磨を行っている。特許文献７は、スポンジパッドによって磁気テープのクリーニングを行なっている。
【特許文献１】特開平６−５２５４４号公報
【特許文献２】特開平８−１８０４０５号公報
【特許文献３】特開平８−２０３０７１号公報
【特許文献４】特開平９−１６９５１号公報
【特許文献５】特開平７−２０５０３３号公報
【特許文献６】特開平７−２５４１４７号公報
【特許文献７】特開２００２−３１９１２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１〜７は、研磨部材が消耗品であり、使用によって磨耗するため、磁気テープ表面の研磨状態が不安定になったり、研磨部材を定期的に交換しなければならないという問題があった。
【０００５】
また、特許文献１〜７は、磁気テープの表面を適切な表面状態にすることが難しいという問題があった。すなわち、磁気テープは、研磨が不足するとドロップアウトの発生率が上昇し、反対に研磨が過度になると磁気テープによるヘッドのクリーニング性能が低下するという問題があるため、適切な研磨範囲に収める必要がある。しかし、特許文献１〜７は、磁気テープの種類（磁性層の組成や厚み等）によって研磨度合いが変化するため、磁気テープごとに研磨条件(研磨部材の押圧力や材質など)を設定しなければならないという問題があった。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、テープの研磨処理における消耗品を無くし、且つ、適切な表面状態を得ることのできるテープの表面処理方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は前記目的を達成するために、連続的に走行するテープの表面を処理するテープの表面処理方法において、前記走行するテープの表面同士を擦り合わせることによって、該テープを表面処理することを特徴とする。
【０００８】
本発明の発明者は、走行するテープの表面同士を擦り合わせることによって、テープの表面が適切な研磨で表面処理されるという知見を得た。特に磁気テープの磁性層同士を擦り合わせた場合には、磁性層の粒状成分が研磨材として作用し、テープ表面を確実に研磨することができるという知見を得た。
【０００９】
本発明はこのような知見に基づいて成されたものであり、走行するテープの表面同士を擦り合わせるようにしたので、テープの表面を研磨処理することができる。また、本発明によれば、研磨部材を使用しないので、表面処理時の消耗品が無くなり、コストを削減できるとともに、メンテナンス性を改善することができる。
【００１０】
請求項２に記載の発明は請求項１の発明において、前記テープは、支持体の表面に磁性層が形成された磁気テープであることを特徴とする。磁気テープの磁性層には粒状成分が含まれているため、磁性層が研磨材として作用し、大きな表面処理効果が得られる。
【００１１】
請求項３に記載の発明は請求項１又は２の発明において、前記テープの同じ面同士を擦り合わせることを特徴とする。請求項３の発明によれば、テープの同じ面、すなわち、組成や表面粗さなどの物性条件が同じ面を擦り合わせるので、研磨の過不足が生じにくく、常に適切な表面状態を得ることができる。
【００１２】
請求項４に記載の発明は請求項１〜３の発明において、前記表面処理は、幅の等しいテープ同士を幅方向に位置決めした状態で擦り合わせることを特徴とする。請求項４の発明によれば、幅の等しいテープ同士を幅方向に位置決めした状態で擦り合わせるようにしたので、テープの全面を確実に擦り合わせて表面処理することができる。
【００１３】
請求項５に記載の発明は請求項１〜４の発明において、前記表面処理は、一つのライン上を走行するテープ同士で擦り合わせることを特徴とする。
【００１４】
請求項６に記載の発明は請求項１〜４の発明において、前記表面処理は、別のライン上を走行するテープ同士で擦り合わせることを特徴とする。
【００１５】
請求項７に記載の発明は請求項１〜６の発明において、前記擦り合わせたテープの表面をクリーニング処理することを特徴とする。これにより、擦り合わせた後のテープに付着した付着物を除去することができる。
【００１６】
請求項８に記載の発明は前記目的を達成するために、テープを連続走行させる走行手段と、前記走行するテープ同士を擦り合わせる擦接手段と、を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、走行するテープの表面同士を擦り合わせるようにしたので、テープの表面を研磨処理することができるとともに、研磨部材のような消耗品が不要になるので、コストを削減でき、且つ、メンテナンス性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下添付図面に従って本発明に係るテープの表面処理方法及び装置の好ましい実施形態について説明する。なお、以下に示す実施の形態は、コンピュータバックアップ用の高密
度磁気テープの表面処理装置の例で説明するが、表面処理するテープの種類はこれに限定するものではない。
【００１９】
図１は、第１の実施形態の表面処理装置１０を模式的に示す構成図である。同図に示す表面処理装置１０は、磁気テープ１２の磁性層側の面を所定の研磨度に表面処理する装置である。磁気テープ１２の構成については後に詳説するが、帯状の非磁性支持体の表面に、強磁性粒子を含む磁性層が形成されている。この磁気テープ１２は、磁性層を塗布法や真空蒸着法等によって支持体の表面に形成し、その磁性層に配向処理、乾燥処理、表面処理等を施した後、所定幅（たとえば１２．６５ｍｍ）に裁断することにより製造することができる。なお、磁気テープ１２は、図１において磁性層が上面になるようにセットされる。
【００２０】
図１に示すように、磁気テープ１２は、巻き芯１４にロール状に巻回された状態で、巻戻装置（不図示）に装着される。ロール状の磁気テープ１２は、フィードローラ１８を駆動することによって巻戻装置から連続的に送り出される。フィードローラ１８は、磁気テープ１２を走行させるためのローラであり、例えば、磁気テープ１２を表面に吸着しながら回転するサクションドラムが使用される。なお、フィードローラ１８として、磁気テープ１２を挟圧して搬送する一対のニップローラなど、他の公知のフィード手段を用いてもよい。
【００２１】
フィードローラ１８によって巻き戻された磁気テープ１２は、ガイドローラ１６にガイドされながら、表面処理部２０に送られる。
【００２２】
表面処理部２０は、固定ローラ２２、２４、２６と、移動ローラ２８とによって構成される。固定ローラ２２、２６は、装置内の上部に所定の間隔で配置され、回動自在に支持される。一方、固定ローラ２４は、固定ローラ２２、２６の下方に配置されており、回動自在に支持される。
【００２３】
磁気テープ１２は、固定ローラ２２、２４、２６の順に巻きかけられており、固定ローラ２２、２４、２６にガイドされながら走行するようになっている。各固定ローラ２２、２４、２６には、幅方向の端部に不図示のフランジ（つば）が設けられており、このフランジによって磁気テープ１２が幅方向に位置決めされるようになっている。
【００２４】
移動ローラ２８は、固定ローラ２２、２６と固定ローラ２４との間に配置されている。また、移動ローラ２８は、ガイド３０内に設けた軸受（不図示）によって回動自在に支持され、その軸受（不図示）はガイド３０に沿って横方向にスライド自在に支持される。また、移動ローラ２８の軸受は、不図示の駆動装置（たとえば、エアシリンダ、送りねじ機構等）に接続されており、この駆動装置によってガイド３０に沿って移動するように構成される。これにより、移動ローラ２８を横方向にスライド移動させることができ、移動ローラ２８を磁気テープ１２に押し付けることができるとともに、その押付力（または磁気テープ１２とのラップ量）を調整することができる。
【００２５】
移動ローラ２８の幅方向の端部には不図示のフランジ（つば）が設けられており、走行する磁気テープ１２を幅方向に位置決めできるようになっている。
【００２６】
また、移動ローラ２８は、固定ローラ２２、２４間の磁気テープ１２（以下、磁気テープ１２Ｘ）と、固定ローラ２４、２６間の磁気テープ１２（以下磁気テープ１２Ｙ）とに対して、同じ側（図１の右側）に配置されている。したがって、移動ローラ２８を図１に示す如く、左方向に移動させることによって、磁気テープ１２Ｘと磁気テープ１２Ｙとを接触させることができる。
【００２７】
なお、移動ローラ２８が磁気テープ１２Ｙから離れた状態（すなわち、磁気テープ１２Ｘ、１２Ｙが離れた状態）において、フィードローラ１８はラインスピード（たとえば４００ｍ／ｍｉｎ）を制御する。そして、移動ローラ２８が磁気テープ１２Ｙを押圧した状態において、フィードローラ１８は磁気テープ１２のテンション（たとえば０〜３５０ｇ）を制御する。
【００２８】
表面処理部２０の後段には、クリーニングユニット３２が設けられる。クリーニングユニット３２は、磁気テープ１２の表面に付着した粉状体やゴミ等を、帯状の不織布３４によって除去する装置である。不織布３４は、ロール状に巻回された状態でローラ３６に装着されており、このローラ３６から巻き戻され、押圧ローラ３８を介してローラ４０に巻き取られる。その際、不織布３４は、磁気テープ１２の走行方向と反対方向に走行するとともに、押圧ローラ３８によって磁気テープ１２の表面に押し付けられる。これにより、磁気テープ１２の表面を不織布３４で拭うことができ、磁気テープ１２の表面をクリーニング処理することができる。なお、クリーニングユニット３２の構成はこれに限定するものではなく、磁気テープ１２の表面をクリーニング処理する構成であればよく、たとえば、エアを磁気テープ１２の表面に噴射するようにしてもよい。
【００２９】
クリーニング処理された磁気テープ１２は、ガイドローラ４２にガイドされ、不図示の巻取装置において、フィードローラ１８に同期して回転する巻き芯４４に巻き取られる。
【００３０】
次に上記の如く構成されたテープ表面処理装置１０の作用について図２、図３に基づいて説明する。図２は、図１の表面処理部２０の一部を拡大した側面図である。
【００３１】
同図に示すように、表面処理部２０では、下方に向かって連続走行する磁気テープ１２Ｘと、上方に向かって連続走行する磁気テープ１２Ｙとが摺動している。すなわち、磁気テープ１２Ｘの磁性層と磁気テープ１２Ｙの磁性層とが擦り合わされている。磁性層には粒状成分が含まれているので、磁性層を擦り合わせると、磁性層が研磨剤として作用する。このため、磁気テープ１２の磁性層の表面は摩擦によって、研磨処理したような表面状態になる。これにより、磁気テープ１２の表面を研磨処理することができる。
【００３２】
特に本実施の形態では、同じ磁気テープ１２の表面同士、すなわち同じ組成から成る磁性層同士を擦り合わせているので、磁気テープ１２の表面は適切な研磨度で表面処理される。
【００３３】
図３は、磁気テープ１２の表面処理回数と表面の磨耗状態との関係を示している。この関係は、表面処理部２０による表面処理を繰り返し行い、その表面の磨耗状態を測定した試験により得られたものである。なお、磨耗状態は、ヘッド磨耗の代用値であるＡｌＦｅＳｉｌ磨耗で評価を行っている。また、磁気テープ１２の製品は、その磨耗状態が約２０〜６０の範囲であることが品質要求される。磨耗状態がこの品質範囲を上回るとドロップアウトの発生率が高くなり、磨耗状態が品質範囲を下回るとヘッドのクリーニング性能が低下するためである。
【００３４】
図３に示す比較例１、２は、研磨砥石や研磨テープ等の研磨部材を用いて表面処理を行った場合であり、比較例１と比較例２では磁気テープ１２の種類（磁性層の組成分や厚み等）が異なっている。また、実施例１、２は、上述した実施形態の表面処理部２０で表面処理を行った場合であり、実施例１と実施例２では、磁気テープ１２の種類が異なっている。
【００３５】
図３から分かるように、研磨部材を用いた比較例１、２は、処理回数が増えるにつれて
磨耗が進むため、適切な研磨範囲を試験により求める必要がある。また、比較例１、２の場合には、研磨部材が長期間の使用によって消耗するため、研磨部材を定期的に交換する必要があり、メンテナンス性が悪く、コストも高いという問題がある。
【００３６】
これに対して本実施の形態の表面処理を行った実施例１、２では、一回の表面処理で適切な品質範囲に入り、且つ、表面処理の回数を増やしても常に適切な範囲に収まり、品質が安定するという特性がある。また、本実施例１、２によれば、磁気テープ１２の種類を変えた場合であっても、表面処理の回数に依らず適切な品質範囲に収めることができるという特性が得られる。したがって、本実施の形態によれば、磁気テープ１２の表面を確実に適切な品質範囲にすることができる。
【００３７】
また、本実施の形態は、磁気テープ１２同士を擦り合わせるので、研磨部材が不要であり、消耗品が発生しない。よって、メンテナンスがしやすく、且つ、コストを削減することができる。
【００３８】
さらに、本実施の形態は、フランジ付きの移動ローラ２８で磁気テープ１２Ｘ、磁気テープ１２Ｙを幅方向に位置決めしながら擦り合わせるようにしたので、磁気テープ１２Ｘ、１２Ｙは幅方向に一致した状態で摺動される。したがって、磁気テープ１２Ｘ、１２Ｙの全面が摺動されるので、磁気テープ１２、１２Ｙの表面全体を確実に研磨処理することができる。
【００３９】
なお、上述した第１の実施形態は、磁気テープ１２の磁性層側の面のみを表面処理するようにしたが、これに限定するものではなく、磁気テープ１２の裏面を研磨処理するようにしてもよい。
【００４０】
図４は、第２の実施形態の表面処理装置の構成を示す模式図である。図４に示す表面処理装置は、図１の表面処理装置１０と比較して、裏面用の表面処理部５０と、裏面用のクリーニングユニット６２を備えている点で異なっている。
【００４１】
裏面用の表面処理部５０は、クリーニングユニット３２の後段に設けられており、表面処理部２０と同様に構成される。すなわち、表面処理部５０は、固定ローラ５２、５４、５６と、移動ローラ５８とによって構成されている。固定ローラ５２、５６は、装置内の下部に所定の間隔で配置され、回動自在に支持される。一方、固定ローラ５４は、固定ローラ５２、５６の上方に配置されており、回動自在に支持される。
【００４２】
磁気テープ１２は、固定ローラ５２、５４、５６の順に巻きかけられており、固定ローラ５２、５４、５６にガイドされて走行するようになっている。各固定ローラ５２、５４、５６には、幅方向の端部に不図示のフランジ（つば）が設けられており、このフランジによって磁気テープ１２が幅方向に位置決めされる。
【００４３】
移動ローラ５８は、固定ローラ５２、５６と固定ローラ５４との間に配置される。また、移動ローラ５８は、ガイド６０内に設けた軸受（不図示）によって回動自在に支持され、その軸受（不図示）はガイド６０に沿って横方向にスライド自在に支持される。また、移動ローラ５８の軸受は、不図示の駆動装置（たとえば、エアシリンダ、送りねじ機構等）に接続され、この駆動装置によってガイド６０に沿って移動される。これにより、移動ローラ５８を横方向にスライド移動させ、磁気テープ１２に押し付けることができるとともに、その押付力（または磁気テープ１２とのラップ量）を調整することができる。
【００４４】
移動ローラ５８の幅方向の端部には不図示のフランジ（つば）が設けられ、このフランジによって、磁気テープ１２を幅方向に位置決めすることができる。
【００４５】
また、移動ローラ５８は、固定ローラ５２、５４間の磁気テープ１２（以下、磁気テープ１２α）と、固定ローラ５４、５６間の磁気テープ１２（以下磁気テープ１２β）とに対して、同じ側（図４の右側）に配置される。したがって、移動ローラ５８を図４に示す如く、左方向に移動させることによって、磁気テープ１２α、１２βを接触させることができる。これにより、走行中の磁気テープ１２α、１２βの裏面同士を擦り合わせることができ、磁気テープ１２の裏面を研磨処理することができる。
【００４６】
裏面処理部５０の後段には、クリーニングユニット６２が設けられる。クリーニングユニット６２は、磁気テープ１２の裏面に付着した粉状体やゴミ等を、帯状の不織布６４によって除去する装置である。不織布６４は、ロール状に巻回された状態でローラ６６に装着されており、このローラ６６から巻き戻され、押圧ローラ６８を介してローラ７０に巻き取られる。その際、不織布６４は、磁気テープ１２の走行方向と反対方向に走行するとともに、押圧ローラ６８によって磁気テープ１２の裏面に押し付けられる。これにより、磁気テープ１２の裏面を不織布６４で拭うことができ、磁気テープ１２の裏面をクリーニング処理することができる。
【００４７】
クリーニング処理された磁気テープ１２は、ガイドローラ７２、７２にガイドされ、不図示の巻取装置の巻き芯４４に巻き取られる。
【００４８】
上記の如く構成された第２の実施形態によれば、裏面用の表面処理部５０を設けたので、磁気テープ１２の裏面も研磨処理することができる。この場合にも、同じ条件である裏面同士を擦り合わせるので、磁気テープ１２の裏面を適切な品質範囲にすることができる。
【００４９】
なお、上述した実施形態は、表面用の表面処理部２０と裏面用の表面処理部５０とを別々に設けたが、これに限定するものではなく、たとえば図５に示すように、磁気テープ１２の表面と裏面を同時に表面処理する表面処理部７６を設けてもよい。この表面処理部７６は、移動ローラ２８によって磁気テープ１２、１２の表面同士を擦り合わせるとともに、移動ローラ５８によって磁気テープ１２、１２の裏面同士を擦り合わせている。このような装置構成にすると装置を小型化することができる。
【００５０】
なお、上述した第１、第２の実施形態は、磁気テープ１２の表面や裏面の処理回数を一回とした例であるが、処理回数はこれに限定するものではなく、複数回行うようにしてもよい。
【００５１】
また、上述した第１、第２の実施形態は、同一速度で走行する磁気テープ１２同士を擦り合わせるようにしたが、速度の異なる磁気テープ１２同士を擦り合わせるようにしてもよい。
【００５２】
また、上述した第１、第２の実施形態は、研磨処理専用のライン構成で説明したが、他の処理工程、たとえば塗布処理、乾燥処理、裁断処理等を同じラインに設けてもよい。
【００５３】
さらに、上述した第１、第２の実施形態は、同一ライン内を走行する磁気テープ１２同士を擦り合わせるようにしたが、これに限定するものではなく、別ラインの磁気テープ１２同士を擦り合わせるようにしてもよい。
【００５４】
図６は、第３の実施形態の表面処理装置を示す構成図である。同図に示す表面処理装置は、別ラインの磁気テープ同士を擦り合わせて表面処理を行う例であり、二つのライン８０、９０を備える。すなわち、磁気テープ８２を走行させる上側のライン８０と、別の磁
気テープ９２を走行させる下側のライン９０とが設けられている。
【００５５】
上側のライン８０は、図６の左側の巻き芯８４に巻回された磁気テープ８２を右方向に走行させ、ガイドローラ８６、８６でガイドした後、巻き芯８８に巻き取るように構成される。下側のライン９０は、図６の右側の巻き芯９４に巻回された磁気テープ９２を左方向に走行させ、ガイドローラ９６、９６でガイドした後、巻き芯９８に巻き取るように構成される。
【００５６】
上側のライン８０のガイドローラ８６、８６は一定の間隔をおいて配置される。同様に、下側のライン９０のガイドローラ９６、９６は一定の間隔をおいて配置され、それぞれガイドローラ８６、８６の下方に配置される。
【００５７】
ガイドローラ８６、８６の間には、押圧ローラ１００が設けられる。この押圧ローラ１００は、自重もしくは不図示の押圧手段（シリンダ等）によって上側の磁気テープ８２を下方に押圧し、下側の磁気テープ９２に擦り合わせるように構成される。
【００５８】
上記の如く構成された表面処理装置によれば、磁気テープ８２の下面と磁気テープ９２の上面とを擦り合わせるようにしたので、磁気テープ８２の下面と磁気テープ９２の上面とを同時に表面処理することができる。
【００５９】
なお、図６の表面処理装置は、磁気テープ８２の表面（磁性層面）と磁気テープ９２の表面（磁性層面）とを擦り合わせるか、磁気テープ８２の裏面と磁気テープ９２の裏面とを擦り合わせることが好ましいが、磁気テープ８２の表面と磁気テープ９２の裏面、または、磁気テープ８２の裏面と磁気テープ９２の表面とを擦り合わせるようにしてもよい。
【００６０】
さらに、上記の表面処理装置は、磁気テープ８２、９２が同じ種類であること（すなわち、磁性層、支持体、バック層の組成分や厚み等が等しいこと）が好ましく、特に磁性層が同じ組成であることが好ましい。
【００６１】
また、上記の表面処理装置において、磁気テープ８２の走行速度と磁気テープ９２の走行速度は、任意の値に設定することが可能である。すなわち、磁気テープ８２と磁気テープ９２の相対速度を自由に設定することが可能である。なお、磁気テープ８２、９２を同一方向に走行させてもよく、この場合には、磁気テープ８２と磁気テープ９２を異なる速度で走行させればよい。
【００６２】
なお、図６には、二つのライン８０、９０を設けたが、三つ以上のラインを設け、三つ以上の磁気テープを同時に擦り合わせて、三つ以上の磁気テープの表面処理を同時に行うようにしてもよい。
【００６３】
以下、本発明で表面処理する磁気テープの構成について詳細に説明する。磁気テープは、非磁性の支持体と、この支持体上に設けられた磁性層と、必要に応じて磁性層と反対側に設けられるバックコート層（単にバック層ともいう）からなる。磁性層は強磁性微粉末と必要に応じてカーボンブラック、研磨剤、粉末状潤滑剤などの粉状成分とこの粉状成分が分散している結合剤からなり、バックコート層は、強磁性微粉末の代わりに非磁性粉末を使用する以外は、磁性層と同様のものからなる。結合剤は樹脂成分とさらに必要に応じて配合される硬化剤とにより構成されている。
【００６４】
まず、非磁性支持体について説明する。本発明で使用する非磁性支持体は、特に限定されないが、厚み５〜１０μｍ程度、特に６〜９μｍ程度が好ましく、幅方向のヤング率は７００ｋｇ／ｍｍ２以上、１０００ｋｇ／ｍｍ2以上、特に１２００ｋｇ／ｍｍ2 以上が好ましい。また、長手方向のヤング率は、４００〜１２００ｋｇ／ｍｍ2 、好ましくは４５０〜１０００ｋｇ／ｍｍ2の範囲である。
【００６５】
素材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビニル系樹脂類、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン等のプラスチックが使用できるが、好ましくはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドおよびポリイミド、特に好ましくは、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）が使用される。これら支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸着処理、アルカリ処理を行ってもよい。これら支持体に関しては、例えば、西独特許３３３８８５４Ａ明細書、特開昭５９−１１６９２６号公報、米国特許４３８８３６８号明細書；三石幸夫著、「繊維と工業」３１巻 ｐ５０〜５５、１９７５年などに記載されている。これら支持体の中心線平均表面粗さは、０．００１〜０．５μｍ（カットオフ値０．２５ｍｍ）が好ましい。
【００６６】
また、本発明におけるポリエチレンナフタレートは、エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートホモポリマーを始め、エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート繰り返し単位を７０重量％以上含む共重合体、これらと他種ポリマーとの混合体（但し、ＰＥＮ成分が７０重量％以上を占める）の如く本質的にＰＥＮの性質を失わないポリエステル組成物を包含する。このＰＥＮはフィルム形成能を有するポリマーである。
【００６７】
本発明で使用されるＰＥＮフィルムは未延伸フィルムを２軸配向させることによって、製造することができる。２軸配向は、例えば逐次２軸配向ではＰＥＮのガラス転移温度よりも高い温度、好ましくは３〜１０℃高い温度で１段目の延伸を行い、次いで１段目の延伸温度と同じ、ないし１０℃高い温度範囲で２段目の延伸を行う。延伸倍率は少なくとも１軸方向で２以上、更に好ましくは２．５以上とし、面積倍率で６倍以上さらには８倍以上とするのが好ましい。熱処理（ヒートセット）は１７０℃以上、さらに好ましくは１９０℃以上の温度で緊張下に行うのが好ましい。熱処理温度の上限は処理時間にもよるが、フィルムが安定した形状をとる温度であるのはいうまでもない。熱処理時間は数秒から数十秒、さらには３〜３０秒間が好ましい。その後、さらに（ガラス転移温度から１０℃低い温度）〜（溶融温度から４０℃低い温度）の範囲の条件で縦方向に１．０５〜２．５倍、横方向に１．０５〜２．５倍の逐次延伸を行い、再熱処理は（ガラス転移温度から５０℃低い温度）〜（溶融温度から１０℃低い温度）の範囲で行うのが好ましい。
【００６８】
本発明の磁性層で使用する強磁性粉末は、特に限定されないが、鉄、コバルトあるいはニッケルを含む強磁性金属粉末を用いるとその効果が顕著であって、α−Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ合金、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金などの強磁性金属微粉末が好ましい。
【００６９】
これらの強磁性金属粉末の形状は特に制限はなく、通常は、針状、粒状、サイコロ状、米粒状および板状のものなどが使用される。粒子サイズは、針状の場合は、０．０５〜０．５μｍ、好ましくは０．０５〜０．３μｍ、特に好ましくは０．１０〜０．２５μｍの長軸長で、長軸長／短軸長は２／１〜２５／１、好ましくは３／１〜１５／１、特に好ましくは４／１〜１２／１であり、板状の場合は、板径は、０．０２〜０．２０μｍ、好ましくは０．０３〜０．１０μｍ、特に好ましくは０．０４〜０．０７μｍで、板径／板厚は、１／１〜３０／１、好ましくは２／１〜１０／１、特に好ましくは２．５〜７／１である。
【００７０】
また、これらの強磁性金属粉末の比表面積（比表面積ＳBET ）は、４７〜８０ｍ2 ／ｇ、より好ましくは５３〜７０ｍ2 ／ｇ、抗磁力（Ｈｃ）は、１２５０〜２５００Ｏｅ、飽和磁化（σS ）は、１００〜１８０ｅｍｕ／ｇ、好ましくは１１０〜１５０ｅｍｕ／ｇである。含水率は、０．１〜２．０重量％、ｐＨは３〜１１（５ｇ強磁性粉末／１００ｇ水）が好ましい。これらの強磁性金属粉末の表面に、後で述べる防錆剤、表面処理剤、分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先立って溶剤中で含浸させて吸着させてもよい。
【００７１】
また、強磁性金属粉末として、その金属分は６０重量％以上であり、そして金属分の７０重量％以上が少なくとも１種類の強磁性金属粉末あるいは合金（例、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ）であり、該金属分の３０重量％以下、より好ましくは２０重量％以下の範囲で他の成分（例、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｂ、Ｐ）を含むことのある合金や、窒化鉄や炭化鉄等を挙げることができる。特にこの中で金属鉄の強度を補うためにＡｌ、Ｓｉ、Ｃｒを単独乃至混合して表層に設けることが望ましい。また、上記強磁性金属粉末が少量の水酸化物または酸化物、アルカリ金属元素（Ｎａ、Ｋ等）、アルカリ土類金属元素（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ）を含むものなどであってもよい。これらの強磁性金属粉末の製造方法は既に公知であり、本発明で用いる強磁性金属粉末の代表例である強磁性金属粉末についてもこれら公知の方法に従って、製造することができる。
【００７２】
特に、本発明において、強磁性粉末として用いられる強磁性合金粉末の製造方法の例としては、下記の方法を挙げることができる。（ａ）複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）を水素などの還元性気体で還元する方法、（ｂ）酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、（ｃ）金属カルボニル化合物を熱分解する方法、（ｄ）強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、（ｅ）水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解析出させたのち水銀と分離する方法、（ｆ）金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法。
【００７３】
また本発明に使用する強磁性粉末としては、板状六方晶のバリウムフェライトも使用できる。バリウムフェライトの粒子サイズは約０．００１〜１ミクロンの直径で厚みが直径の１／２〜１／２０である。バリウムフェライトの比重は４〜６ｇ／ccで、比表面積は１ｍ2 ／ｇ〜７０ｍ2 ／ｇである。また、所望により、ＦｅＯX （Ｘ＝１．３３〜１．５０）、Ｃｏ含有ＦｅＯX、等を使用することもできる。
【００７４】
本発明の必要に応じて設けられるバック層に使用できる非磁性粉末としては、例えば特開昭５９−１１００３８号公報に開示されているような、各種の粉末がある。即ち、カーボンブラック、グラファイト、二硫化タングステン、窒化ホウ素、二酸化ケイ素、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化鉄、二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化カルシウム、リトポン、タルク、酸化第二スズ等が挙げられる。
【００７５】
本発明の磁性層とバック層に使用される結合剤の樹脂成分としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。
【００７６】
熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、数平均分子量が１００００〜３０００００、重合度が約５０〜２０００程度のもので、より好ましくは２００〜６００程度であり、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メチルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用される。
【００７７】
熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では２０００００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬化樹脂）、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等である。
【００７８】
これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸（ＣＯＯＭ）、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホン酸（ＳＯ3 Ｍ）、燐酸（ＰＯ（ＯＭ）（ＯＭ））、ホスホン酸、硫酸（ＯＳＯ3 Ｍ）およびこれらのエステル基等の酸性基（Ｍは、Ｈ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、炭化水素基）、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基等また、水酸基、アルコキシル基、チオール基、アルキルチオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシアナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル基、フォスフィン基を通常１種以上６種以内含み、各々の官能基は樹脂１ｇあたり１×１０-6当量〜１×１０-2当量含む事が好ましい。
【００７９】
硬化剤としては、通常はポリイソシアネート化合物が使用される。本発明の磁性層及び或いはバック層に用いるポリイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネート類、又当該イソシアネート類とポリアルコールとの生成物、又イソシアネート類の縮合に依って生成した２〜１０量体のポリイソシアネート、またはトリイソシアネートとポリウレタンとの生成物で末端官能基がイソシアネートであるもの等を使用することができる。これらポリイソシアネート類の平均分子量は、１００〜２００００のものが好適である。これらポリイソシアネート化合物の市販されている商品名としては、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ（日本ポリウレタン（株）、
タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、タケネート３００Ｓ、タケネート５００（武田薬品（株）製）、スミジュールＴ−８０、スミジュール４４Ｓ、スミジュールＰＦ、スミジュールＬ、スミジュールＮ、デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、デスモジュールＴ６５、デスモジュール１５、デスモジュールＲ、デスモジュールＲＦ、デスモジュールＳＬ、デスモジュールＺ４２７３（住友バイエル社製）等があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって使用することができる。又、硬化反応を促進する目的で、水酸基（ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が１０００〜１００００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン等）を有する化合物や金属酸化物の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能である事が望ましい。これらのポリイソシアネートは磁性層、バック層とも結合剤樹脂とポリイソシアネートの総量１００重量部あたり２〜７０重量部で使用することが好ましく、より好ましくは５〜５０重量部である。これらの例示は、特開昭６０−１３１６２２号公報、特開昭６１−７４１３８号公報等において示されている。
【００８０】
これらの結合剤の単独又は組合わされたものが使われ、ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁性粉末と結合剤との混合割合は重量比で強磁性粉末１００重量部に対して結合剤５〜３００重量部の範囲で使用される。バック層の粉末と結合剤の混合割合は重量比で粉末１００重量部に対して結合剤８〜４００重量部の範囲で使用される。添加剤としては、カーボンブラック、研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤等が加えられる。
【００８１】
本発明に使用されるカーボンブラックとしてはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。これらカーボンブラックはテープの帯電防止、遮光剤、摩擦係数調節剤、耐久性向上を目的として使用される。これらカーボンブラックの米国における略称の具体例をしめすと、SAF 、ISAF、IISAF 、T 、HAF 、SPF 、FF、FEF 、HMF 、GPF 、APF 、SRF 、MPF 、ECF 、SCF 、CF、FT、MT 、HCC 、HCF 、MCF 、LFF 、RCF 等があり、米国のASTM規格のD-1765-82aに分類されている
ものを使用することができる。本発明に使用されるこれらカーボンブラックの平均粒子サイズは５〜１０００ｎｍ（電子顕微鏡）、窒素吸着法比表面積は１〜８００ｍ2／ｇ、ｐＨは４〜１１(JIS規格K-6221-1982 法)、ジブチルフタレート（DBP）吸油量は１０〜８００ｍＬ（ミリリットル）／１００ｇ（JIS規格K-6221-1982 法）である。本発明に使用されるカーボンブラックのサイズは、塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で５〜１００ｎｍのカーボンブラックを、また塗布膜の強度を制御するときに５０〜１０００ｎｍのカーボンブラックを使用することができる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でスペーシングロス減少のための平滑化のためにより微粒子のカーボンブラック（１００ｎｍ未満）を、粗面化して摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラック（１００ｎｍ以上）を用いる。このようにカーボンブラックの種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目的に応じて使い分けられる。
【００８２】
また、これらのカーボンブラックを、後述の分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用してもよい。また、カーボンブラックを製造するときの炉の温度を２０００℃以上で処理して表面の一部をグラファイト化したものも使用できる。また、特殊なカーボンブラックとして中空カーボンブラックを使用することもできる。
【００８３】
これらのカーボンブラックは磁性層の場合、強磁性粉末１００重量部に対して０．１〜３０重量部で用いることが望ましく、また、バック層の場合は、樹脂１００重量部に対し２０〜４００重量部で用いることが望ましい。本発明に使用できるカーボンブラックは、例えば、『カーボンブラック便覧』、カーボンブラック協会編（昭和４６年発行) を参考にすることができる。これらカーボンブラックの例示は米国特許４５３９２５７号明細書、同４６１４６８５号明細書、特開昭６１−９２４２４号公報、特開昭６１−９９９２７号公報等に記載されている。
【００８４】
本発明に使用される研磨材は磁気記録媒体の耐久性やＶＴＲのヘッドクリーニング効果を向上させるために用いられ、一般的に研磨作用もしくは琢磨作用をもつ材料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、α，γ−アルミナ、熔融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ガーネット、珪石、窒化珪素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、クオーツ、トリポリ、珪藻土、ドロマイト等で、主としてモース硬度６以上、より好ましくはモース硬度８以上の材料が１内至４種迄の組合わせで使用される。これらの研磨材は平均粒子サイズが０．００５〜５ミクロンの大きさのものが使用され、特に好ましくは０．０１〜２ミクロンである。これらの研磨材は磁性層の場合、強磁性粉末１００重量部に対して０．０１〜２０重量部の範囲で添加される。また、バック層の場合、後述する樹脂１００重量部に対して０．０１〜５重量部で用いることが望ましい。これらの具体例としては、住友化学（株）製のＡＫＰ１、ＡＫＰ１５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、ＡＫＰ５０、ＡＫＰ８０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ１００等が挙げられる。これらについては特公昭５２−２８６４２号公報等に記載されている。
【００８５】
本発明に使用される粉末状潤滑剤としては、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼素、弗化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステン等の無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベンゾグアナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオレフィン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポリアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリ弗化エチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等がある。
【００８６】
また有機化合物系潤滑剤としては、シリコンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポリシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアルキルポリシロキサン（信越化学製ＫＦ９６、ＫＦ６９等）、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコール、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス、ポリプロピレン等）、ポリグリコール（エチレングリコール、ポリエチレンオキシドワックス等）、テトラフルオロエチレンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコール、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エステル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等のフッ素や珪素を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルスルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等の有機酸および有機酸エステル化合物、トリアザインドリジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベンゾジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素、硫黄を含む複素（ヘテロ）環化合物、炭素数１０〜４０の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜４０個の一価のアルコールもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価のアルコール、六価のアルコールのいずれか１つもしくは２つ以上とから成る脂肪酸エステル類、炭素数１０個以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が１１〜７０個と成る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸エステル類、炭素数８〜４０の脂肪酸或いは脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族アルコール類も使用できる。
【００８７】
これら化合物の具体的な例としては、カプリル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パルミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステアリン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレート、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等が有り単独若しくは組合わせ使用出来る。
【００８８】
また本発明に使用される潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独若しくは組合わせで使用出来、防錆剤として知られている酸化防止剤（アルキルフェノール、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキノン、ＥＤＴＡ等の金属キレート剤）、錆どめ剤（ナフテン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォスフェート等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアルコール等）、極圧剤（ジベンジルスルフィド、トリクレジルフォスフェート、トリブチルホスファイト等）、清浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等がある。これらの潤滑剤は結合剤１００重量部に対して０．０１〜３０重量部の範囲で添加される。
【００８９】
本発明に使用する分散剤、分散助剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２〜４０個の脂肪酸（Ｒ1 ＣＯＯＨ、Ｒ1 は炭素数１〜３９個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基）、前記の脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ等）またはアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）、ＮＨ4+、Ｃｕ、Ｐｂ等から成る金属石鹸（オレイン酸銅）、脂肪酸アミド；レシチン（大豆油レシチン）等が使用される。この他に炭素数４〜４０の高級アルコール（ブタノール、オクチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコール）及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、フェニルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸エステル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸トリエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で用いられ、一種類の分散剤は結合剤１００重量部に対して０．００５〜２０重量部の範囲で添加される。これら分散剤の使用方法は、強磁性粉末や非磁性粉末の表面に予め被着させても良く、また分散途中で添加してもよい。このようなものは、例えば特公昭３９−２８３６９号公報、特公昭４４−１７９４５号公報、特公昭４８−１５００１号公報、米国特許３３８７９９３号明細書、同３４７００２１号明細書等に於いて示されている。
【００９０】
本発明に用いる防黴剤としては、２−（４−チアゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロジクロロメチルチオ）−フタルイミド、１０，１０′−オキシビスフェノキシサルシン、２，４，５，６−テトラクロロイソフタロニトリル、Ｐ−トリルジョードメチルスルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル錫）、サリチルアニライド等がある。
【００９１】
このようなものは、例えば「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図書、「化学と工業」３２，９０４（１９７９）等に於いて示されている。本発明に用いるカーボンブラック以外の帯電防止剤としてはグラファイト、変性グラファイト、カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫−酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン、等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多価アルコール、多価アルコールエステル、アルキルフェノールＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピリジンそのほかの複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用される。これらの界面活性剤は単独または混合して添加しても良い。また、磁気記録媒体におけるこれらの界面活性剤の使用量は、強磁性粉末１００重量部当たり０．０１〜１０重量部である。また、バック層での使用量は結合剤１００重量部当たり０．０１〜３０重量部である。これらは帯電防止剤として用いられるものであるが、時としてそのほかの目的、例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用される場合もある。
【００９２】
磁性層の形成は、通常の方法に従って行うことができる。例えば、上記強磁性粉末および樹脂成分ならびに必要に応じて配合される研磨剤および硬化剤などの磁性層形成成分を溶剤とともに混練分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料を非磁性支持体上に塗布する方法を利用できる。本発明の分散、混練、塗布の際に使用する有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサン等のものが使用できる。これらの溶媒は通常任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以下の量で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、原料成分等）を含んでもよい。これらの溶剤は磁性層形成塗料もしくはバック層形成塗料、下塗液の合計固形分１００重量部に対して１００〜２００００重量部で用いられる。好ましい磁性層形成塗料の固形分率は１０〜４０重量％である。また、バック層形成塗料の好ましい固形分率は５〜２０重量％である。有機溶媒の代わりに水系溶媒（水、アルコール、アセトン等）を使用することもできる。
【００９３】
分散、混練の方法には特に制限はなく、また各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等）、分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜８０℃）などは適宜設定することができる。磁性層形成塗料およびバック層形成塗料の調製には、通常の混練機、例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）、アトライター、高速インペラー、分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダー、インテンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー、ディスパーザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機などを用いることができる。通常分散・混練にはこれらの分散・混練機を複数備え、連続的に処理を行う。混練分散に関する技術の詳細は、Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テー．シー．パットン）“ Paint Flow and Pigment Dispersion" （ペイント フロー アンド ピグメント ディスパージョン）１９６４年John Wiley & Sons社発行（ジョン ウイリー アンド サンズ）や田中信一著「工業材料」２５巻３７（１９７７）などや当該書籍の引用文献に記載されている。これら分散、混練の補助材料として分散・混練を効率よく進めるため、球相当径で１０ｃｍφ〜０．０５ｍｍφの径のスチールボール、スチールビーズ、セラミックビーズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用いることができる。またこれら材料は球形に限らない。また、米国特許第２５８１４１４号及び同第２８５５１５６号などの明細書にも記載がある。本発明においても上記の書籍や当該書籍の引用文献などに記載された方法に準じて混練分散を行い磁性塗料およびバック層塗料を調製することができる。
【００９４】
支持体上へ前記の磁性塗料ならびにバック層塗料を塗布する方法としては、塗布液の粘度を１〜２００００センチストークス（２５℃）に調製し、エアードクターコート、ブレードコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビアコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、ロッドコート、正回転ロールコート、カーテンコート、バーコート、押出しコート、スピンコート等が利用出来、その他の方法も可能であり、これらの具体的説明は浅倉書店発行の「コーテイング工業」２５３頁〜２７７頁（昭和４６．３．２０．発行）に詳細に記載されている。
【００９５】
これら塗布液の塗布の順番は任意に選択でき、また所望の液の塗布の前に下塗り層あるいは支持体との密着力向上のためにコロナ放電処理を等を行っても良い。また磁性層もしくはバック層を多層で構成したいときは、同時多層塗布、逐次多層塗布等を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭５７−１２３５３２号公報、特公昭６２−３７４５１号公報等に示されている。
【００９６】
このような方法により、支持体上に約１〜２００μｍほどで塗布された磁性塗料は必要により層中の強磁性粉末を直ちに２０℃〜１３０℃で多段階で乾燥しながら５００〜５０００Ｇ程で所望の方向（垂直、長手、幅、ランダム、斜め等）へ配向させる処理、すなわち磁場配向処理を施した後、形成した磁性層を０．１〜３０μｍ厚みに乾燥する。このときの支持体の搬送速度は、通常１０ｍ／分〜９００ｍ／分で行われ、複数の乾燥ゾーンで乾燥温度を２０℃〜１３０℃で制御し塗布膜の残留溶剤量を０．１〜４０ｍｇ／（１／２吋）／ｍ2 とする。
【００９７】
また、このようにして乾燥された後、塗布層に必要によりカレンダー処理を行う。カレンダー処理には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用される。カレンダー処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が減少し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。
【００９８】
前記のカレンダー処理された段階では、結合剤の形成成分として硬化剤を使用した場合、磁性層に含まれる硬化剤のうち、通常９０重量％以上が未反応の状態で磁性層に含有されているので、硬化処理を行って、少なくとも硬化剤の５０重量％（特に好ましくは８０重量％以上）を反応させた後に、その次の処理を行うことが望ましい。硬化処理には、加熱硬化処理と電子線硬化処理とがあり、本発明においては、いずれの方法であっても利用することができる。この硬化処理によりカレンダー処理された磁性層に含有される未反応の硬化剤が、例えば塩化ビニル系共重合体およびポリウレタン系樹脂のような樹脂成分と三次元網状の架橋構造を形成するように反応する。加熱処理の工程自体は既に公知であり、本発明においてもこれらの方法に準じて加熱処理を行うことができる。例えば、加熱処理は、加熱温度を通常４０℃以上（好ましくは５０〜８０℃の範囲内）、加熱時間を通常２０時間以上（好ましくは２４時間〜７日間）に設定して行われる。また、電子線照射による硬化処理の工程自体も既に公知であり、本発明においてもこれらの方法に準じて硬化処理を行うことができる。
【００９９】
本発明においては、このように作成した磁気記録媒体をスリッター等の通常の裁断機等を使用して通常の条件で所望の形状に裁断した後、プラスチックや金属のリールに巻き取る。本発明においては、こうして作成した磁性層の表面、または磁性層の表面およびバック層の表面を、巻き取る直前ないしそれ以前の工程において磁気記録媒体（磁性層、バック層、エッジ端面、ベース面）を研磨テープによりバーニッシュ処理を行ってもよい。これらは、例えば、特開昭６３−２５９８３０号公報等に開示されている。
【０１００】
また、磁気記録媒体の拭き取り処理は、磁気記録媒体表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する目的で磁気記録媒体表層を不織布などで磁性層面、バック層面、エッジ端面、バック側のベース面をワイピングすることにより行う。このようなワイピングの材料としては、例えば日本バイリーン製の各種バイリーンや東レ製のトレシー、エクセーヌやクラレ製のクラレＷＲＰシリーズ、また不織布としてナイロン製不織布、ポリエステル製不織布、レーヨン製不織布、アクリロニトリル製不織布、混紡不織布等も使用できる。その他、ティッシュペーパー、キムワイプ等も使用できる。これらは、特開平１−２０１８２４号公報等に記載されている。この拭き取り処理によって、磁性層および／またはバック層の付着物および有機物質の除去が完全に行われることになり、ドロップアウトあるいは目詰まり発生頻度が低下する。
【０１０１】
これらの製造方法は粉体の予備処理・表面処理、混練・分散、塗布・配向・乾燥、カレンダー処理、硬化処理（熱処理、放射線照射（ＥＢ）処理）、裁断、バーニッシュ処理、拭き取り処理および巻き取りの工程を連続して行う事が望ましい。また特公昭４１−１３１８１号公報にしめされる方法はこの分野における基本的、かつ重要な技術と考えられている。但し、処理を行う順序は、上記順序に限定するものではない。
【０１０２】
本発明に使用される強磁性粉末または非磁性粉末、結合剤、添加剤（潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、カーボンブラック、研磨材、遮光剤、酸化防止剤、防黴剤等）、溶剤及び支持体（下塗層、バック層、バック下塗を有してもよい）或いは磁気記録媒体の製法等は特公昭５６−２６８９０号公報等に記載されているものも参考にできる。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】第１の実施形態のテープの表面処理装置を示す構成図
【図２】図１の表面処理部の拡大図
【図３】表面処理回数と表面状態との関係を示す図
【図４】第２の実施形態のテープの表面処理装置を示す構成図
【図５】図４と異なる構成の表面処理装置を示す構成図
【図６】第３の実施形態のテープの表面処理装置を示す構成図
【符号の説明】
【０１０４】
１０…表面処理装置、１２…磁気テープ、２０…表面処理部、２２、２４、２６…固定ローラ、２８…移動ローラ、３２…クリーニングユニット、５０…裏面用の表面処理部、６２…裏面用のクリーニングユニット、８２、９２…磁気テープ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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