(57)【要約】【課題】  本発明は、光を有効利用することが可能な有機薄膜太陽電池を提供することを主目的とするものである。【解決手段】  本発明は、基板と、上記基板上に形成された第１電極層と、上記第１電極層上に形成された光電変換層と、上記光電変換層上に形成され、上記第１電極層と対向する電極である第２電極層とを有する有機薄膜太陽電池であって、上記基板、上記第１電極層または上記第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有しており、上記微細な凹凸構造を有する基板と上記光電変換層との間、上記微細な凹凸構造を有する第１電極層と上記光電変換層との間、または上記微細な凹凸構造を有する第２電極層と上記光電変換層との間にバッファー層が形成されていることを特徴とする有機薄膜太陽電池を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成された第１電極層と、前記第１電極層上に形成された光電変換層と、前記光電変換層上に形成され、前記第１電極層と対向する電極である第２電極層とを有する有機薄膜太陽電池であって、
前記基板、前記第１電極層または前記第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有しており、
前記微細な凹凸構造を有する基板と前記光電変換層との間、前記微細な凹凸構造を有する第１電極層と前記光電変換層との間、または前記微細な凹凸構造を有する第２電極層と前記光電変換層との間にバッファー層が形成されていることを特徴とする有機薄膜太陽電池。
【請求項２】
基板と、前記基板上に形成された第１電極層と、前記第１電極層上に形成された光電変換層と、前記光電変換層上に形成され、前記第１電極層と対向する電極である第２電極層とを有する有機薄膜太陽電池であって、
前記光電変換層は、第１光電変換層と、前記第１光電変換層上に形成された中間電極層と、前記中間電極層上に形成された第２光電変換層とを有することを特徴とする有機薄膜太陽電池。
【請求項３】
基板と、前記基板上に形成された第１電極層と、前記第１電極層上に形成された光電変換層と、前記光電変換層上に形成され、前記第１電極層と対向する電極である第２電極層とを有する有機薄膜太陽電池を、接着層を介して少なくとも二つ積層することを特徴とする有機薄膜太陽電池。
【請求項４】
前記基板、前記第１電極層または前記第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有しており、
前記微細な凹凸構造を有する基板と前記光電変換層との間、前記微細な凹凸構造を有する第１電極層と前記光電変換層との間、または前記微細な凹凸構造を有する第２電極層と前記光電変換層との間にバッファー層が形成されていることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の有機薄膜太陽電池。
【請求項５】
前記微細な凹凸構造を有する第１電極層または第２電極層の表面粗さが１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であり、または前記微細な凹凸構造を有する基板の表面粗さが１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１または請求項４に記載の有機薄膜太陽電池。
【請求項６】
前記基板の前記第１電極層が形成されている面と反対の面に反射防止層が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載の有機薄膜太陽電池。
【請求項７】
前記基板と前記第１電極層との間、または前記基板の前記第１電極層が形成されている面と反対の面のいずれかにバリア層が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかの請求項に記載の有機薄膜太陽電池。
【請求項８】
前記基板が複数層からなり、前記複数層の基板の間にバリア層が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかの請求項に記載の有機薄膜太陽電池。
【請求項９】
前記第２電極層の前記光電変換層が形成されている面と反対の面に保護シートが形成されており、前記保護シートと前記第２電極層との間、または前記保護シートの前記第２電極層が形成されている面と反対の面にバリア層が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項８までのいずれかの請求項に記載の有機薄膜太陽電池。
【請求項１０】
前記第２電極層の前記光電変換層が形成されている面と反対の面に、複数層からなる保護シートが形成されており、前記複数層の保護シートの間にバリア層が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項８までのいずれかの請求項に記載の有機薄膜太陽電池。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機薄膜太陽電池に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機薄膜太陽電池は、２つの異種電極間に、電子供与性および電子受容性の機能を有する有機薄膜を配置してなる太陽電池であり、シリコンなどに代表される無機太陽電池に比べ製造工程が容易であり、かつ低コストで大面積化が可能であるという利点を持つ。しかしながら、エネルギー変換効率が低いことから実用に供することは困難であった。したがって、有機薄膜太陽電池においては、エネルギー変換効率の高効率化が最大の課題となっている。
【０００３】
最近では、有機薄膜太陽電池のエネルギー変換効率を向上させるために、有機薄膜に用いられる有機材料の特徴を生かした工夫が試みられており、非特許文献１および非特許文献２に開示されている。
【０００４】
上述したような有機薄膜太陽電池としては、例えば、有機薄膜が電子輸送層および正孔輸送層からなるバイレイヤー型有機薄膜太陽電池の例を挙げることができる。一般に、バイレイヤー型有機薄膜太陽電池は、透明基板と、上記透明基板上に形成された透明電極と、上記透明電極上に形成され、電子供与体として機能する正孔輸送層および電子受容体として機能する電子輸送層からなる光電変換層と、上記光電変換層上に形成され、上記透明電極と対向する電極である対向電極とを有するものである。このバイレイヤー型有機薄膜太陽電池においては、電子供与体として機能する正孔輸送層にｐ型有機半導体を用い、電子受容体として機能する電子輸送層にｎ型有機半導体を用いることにより、２つの層の界面でｐｎ接合が形成され、光電変換に寄与している。
【０００５】
また、エネルギー変換効率を向上させるために、ｐｎ接合部分を拡張させる方法として、ｐ型有機半導体とｎ型有機半導体とを単純積層するのではなく、混合するという方法もある。ｐ型有機半導体とｎ型有機半導体とを混合することにより、分子レベルでのｐｎ接合が膜中に広く形成されるため、光電変換に寄与できる体積が増すのである。
【０００６】
上記のｐ型有機半導体およびｎ型有機半導体としては、導電性高分子に代表される共役高分子が広く用いられている。しかしながら、導電性高分子等の有機材料はその導電性が低いことから、光電変換層の膜厚を入射する光を十分に吸収できる程度にまで厚くすることは困難であり、光を有効に利用することができないという問題があった。
【０００７】
そこで、光電変換層の光の吸収率を向上させるために、透明基板、透明電極または対向電極の表面を凹凸化することにより、この凹凸によって入射光を散乱させ、光電変換層における光路長を長くする、いわゆる光閉じ込め効果を利用した太陽電池が数多く報告されている。例えば特許文献１には、透明基板上に、透明電極として凹凸状の酸化スズ膜を形成することにより、光閉じ込め効果を有する太陽電池用基板が提案されている。
【０００８】
しかしながら、上記のような凹凸を有する透明電極の上に光電変換層を形成する場合、この凹凸の高低差が数百ｎｍ程度であり、光電変換層の膜厚が数百ｎｍ程度と薄いことから、この凹凸により透明電極と対向電極との間で短絡が生じ、太陽電池として機能しなくなってしまうという問題があった。
【０００９】
【非特許文献１】MATERIAL STAGE vol.2,No.9 2002 p.37-42  中村潤一ら著「有機薄膜太陽電池‐ドナー・アクセプター相互作用の活用‐」
【非特許文献２】応用物理  第７１巻  第４号（２００２）p.425-428  昆野昭則著「有機太陽電池の現状と展望」
【特許文献１】特開２０００−３４０８１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、光を有効利用することが可能な有機薄膜太陽電池を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明は、基板と、上記基板上に形成された第１電極層と、上記第１電極層上に形成された光電変換層と、上記光電変換層上に形成され、上記第１電極層と対向する電極である第２電極層とを有する有機薄膜太陽電池であって、
上記基板、上記第１電極層または上記第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有しており、
上記微細な凹凸構造を有する基板と上記光電変換層との間、上記微細な凹凸構造を有する第１電極層と上記光電変換層との間、または上記微細な凹凸構造を有する第２電極層と上記光電変換層との間にバッファー層が形成されていることを特徴とする有機薄膜太陽電池を提供する。
【００１２】
本発明によれば、基板、第１電極層または第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有することにより、有機薄膜太陽電池に入射光がこの凹凸構造によって散乱され、光電変換層内を透過する光が増加するため、光電変換層は光を十分に吸収することができ、光を有効利用することができる。したがって、光起電力を向上させることができ、エネルギー変換効率を向上させるが可能となる。また、凹凸構造を有する基板、第１電極層または第２電極層と光電変換層との間に、バッファー層が形成されるため、凹凸構造により膜厚の薄い光電変換層が短絡することを防止することができる。
【００１３】
また、本発明は、基板と、上記基板上に形成された第１電極層と、上記第１電極層上に形成された光電変換層と、上記光電変換層上に形成され、上記第１電極層と対向する電極である第２電極層とを有する有機薄膜太陽電池であって、
上記光電変換層は、第１光電変換層と、上記第１光電変換層上に形成された中間電極層と、上記中間電極層上に形成された第２光電変換層とを有することを特徴とする有機薄膜太陽電池を提供する。
【００１４】
本発明によれば、第１光電変換層および第２光電変換層が積層されることにより、有機薄膜太陽電池に入射した光は、第１光電変換層および第２光電変換層の二つの層に吸収されることとなり、光を有効利用することができる。したがって、光起電力を向上させることができ、エネルギー変換効率を向上させることが可能となる。
【００１５】
さらに、本発明は、基板と、上記基板上に形成された第１電極層と、上記第１電極層上に形成された光電変換層と、上記光電変換層上に形成され、上記第１電極層と対向する電極である第２電極層とを有する有機薄膜太陽電池を、接着層を介して少なくとも二つ積層することを特徴とする有機薄膜太陽電池を提供する。
【００１６】
本発明によれば、少なくとも二つの有機薄膜太陽電池が積層されることにより、有機薄膜太陽電池に入射した光は、各々の有機薄膜太陽電池の光電変換層に吸収されることとなり、光を有効利用することができる。したがって、光起電力を向上させることができ、エネルギー変換効率を向上させることが可能となる。
【００１７】
上記発明においては、上記基板、上記第１電極層または上記第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有しており、上記微細な凹凸構造を有する基板と上記光電変換層との間、上記微細な凹凸構造を有する第１電極層と上記光電変換層との間、または上記微細な凹凸構造を有する第２電極層と上記光電変換層との間にバッファー層が形成されていることが好ましい。上述したように、基板、第１電極層または第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有することにより、有機薄膜太陽電池に入射した光がこの凹凸構造によって散乱され、光電変換層内を透過する光が増加するため、光電変換層は光を十分に吸収することができ、光を有効利用することができるからである。また、凹凸構造を有する基板、第１電極層または第２電極層と光電変換層との間に、バッファー層が形成されるため、凹凸構造により膜厚の薄い光電変換層が短絡することを防止することができる。
【００１８】
また、本発明においては、上記微細な凹凸構造を有する第１電極層または第２電極層の表面粗さが１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であり、または上記微細な凹凸構造を有する基板の表面粗さが１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。表面粗さが上述した範囲より小さい場合、入射光を十分に散乱させることができず、光電変換層の光の吸収率を向上させる効果が十分に得られない可能性があり、一方、表面粗さが上述した範囲より大きい場合、この表面粗さを平坦化するために設けられるバッファー層の膜厚を厚くしなければならなく、光の透過率が低下する可能性があるからである。
【００１９】
さらに、本発明においては、上記基板の上記第１電極層が形成されている面と反対の面に反射防止層が形成されていることが好ましい。これにより、基板側から入射する光の反射を防止することができ、有機薄膜太陽電池内に入射する光が増加することから、光電変換層の光の吸収率を向上させることができるからである。
【００２０】
また、本発明においては、上記基板と上記第１電極層との間、または上記基板の上記第１電極層が形成されている面と反対の面のいずれかにバリア層が形成されていてもよい。あるいは、上記基板が複数層からなり、上記複数層の基板の間にバリア層が形成されていてもよい。さらに、本発明においては、上記第２電極層の上記光電変換層が形成されている面と反対の面に保護シートが形成されており、上記保護シートと前記第２電極層との間、または上記保護シートの前記第２電極層が形成されている面と反対の面にバリア層が形成されていてもよい。あるいは、上記第２電極層の上記光電変換層が形成されている面と反対の面に、複数層からなる保護シートが形成されており、上記複数層の保護シートの間にバリア層が形成されていてもよい。バリア層を形成することにより、本発明の有機薄膜太陽電池内に外部から酸素や水蒸気が浸入することを妨げることができ、電池寿命の長寿命化を図ることが可能となるからである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、基板、第１電極層または第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有することにより、あるいは、光電変換層または有機薄膜太陽電池が積層されることにより、光電変換層は光を十分に吸収することができ、光を有効利用することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の有機薄膜太陽電池について詳細に説明する。
【００２３】
Ａ．有機薄膜太陽電池
本発明の有機薄膜太陽電池は、３つの実施態様がある。
以下、それぞれの実施態様について説明する。
【００２４】
１．第１実施態様
まず、本発明の有機薄膜太陽電池の第１実施態様について説明する。本発明の有機薄膜太陽電池の第１実施態様は、基板と、上記基板上に形成された第１電極層と、上記第１電極層上に形成された光電変換層と、上記光電変換層上に形成され、上記第１電極層と対向する電極である第２電極層とを有する有機薄膜太陽電池であって、上記基板、上記第１電極層または上記第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有しており、上記微細な凹凸構造を有する基板と上記光電変換層との間、上記微細な凹凸構造を有する第１電極層と上記光電変換層との間、または上記微細な凹凸構造を有する第２電極層と上記光電変換層との間にバッファー層が形成されていることを特徴とするものである。
【００２５】
本実施態様の有機薄膜太陽電池について、図面を用いて説明する。図１（ａ）は、本実施態様の有機薄膜太陽電池の一例を示す概略断面図である。図１（ａ）に示すように、本実施態様の有機薄膜太陽電池は、微細な凹凸構造を有する基板１と、上記基板１上に形成されたバッファー層５と、上記バッファー層５上に形成された第１電極層２と、上記第１電極層２上に形成された光電変換層３と、上記光電変換層３上に形成された第２電極層４とを有するものである。
【００２６】
従来の有機薄膜太陽電池では、光電変換層が薄いために入射光が光電変換層をすり抜けてしまい、光電変換層が十分に光を吸収できないという不具合が生じていたが、本実施態様によれば、例えば基板１が微細な凹凸構造を有することにより、基板１側から入射した光が基板１の凹凸構造によって散乱され、光電変換層３内を透過する光が増加するため、光電変換層３は光を十分に吸収することができ、光を有効利用することが可能となる。したがって、光起電力を向上させることができ、エネルギー変換効率を向上させることが可能となる。
【００２７】
また、図１（ａ）においては、基板１が微細な凹凸構造を有しているが、本実施態様においては、例えば図２に示すように、第１電極層２が微細な凹凸構造を有していてもよく、第２電極層４が微細な凹凸構造を有していてもよい。さらに、微細な凹凸構造を有する層は、一つであってもよく、複数であってもよい。例えば図２に示すように第１電極層２および第２電極層４が微細な凹凸構造を有していてもよく、図示していないが基板および第２電極層が微細な凹凸構造を有していてもよく、基板および第１電極層が微細な凹凸構造を有していてもよく、基板、第１電極層および第２電極層の全てが微細な凹凸構造を有していてもよい。
【００２８】
一般に有機薄膜太陽電池に用いられる光電変換層は膜厚が薄いため、第１電極層や第２電極層が凹凸構造を有する場合は、光電変換層が凹凸構造により短絡し、第１電極層および第２電極層が断線してしまう可能性があるが、本実施態様においては、例えば図２に示すように、凹凸構造を有する第１電極層２と光電変換層３との間、および凹凸構造を有する第２電極層４と光電変換層３との間にバッファー層５が形成されるため、凹凸構造により光電変換層３が短絡することを防止することができる。
【００２９】
したがって、本実施態様においては、光電変換層の短絡を防止するために、例えば図２に示すように、第１電極層が凹凸構造を有する場合は、第１電極層２と光電変換層３との間にバッファー層５が形成される必要があり、第２電極層が凹凸構造を有する場合は、第２電極層４と光電変換層３との間にバッファー層５が形成される必要がある。また、基板が凹凸構造を有する場合、バッファー層は、基板と光電変換層との間であれば、いずれの層の間に形成されていてもよい。例えば図１（ａ）に示すように基板１と第１電極層２との間にバッファー層５が形成されていてもよく、図１（ｂ）に示すように、第１電極層２と光電変換層３との間にバッファー層５が形成されていてもよい。
以下、このような有機薄膜太陽電池の各構成について説明する。
【００３０】
（１）基板
本実施態様においては、上述したように、基板、第１電極層または第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有しているものである。したがって、本実施態様に用いられる基板は、微細な凹凸構造を有するものであってもよく、微細な凹凸構造を有さないものであってもよい。また、基板が凹凸構造を有する場合は、基板のみが凹凸構造を有していてもよく、基板および第１電極層が凹凸構造を有していてもよく、基板および第２電極層が凹凸構造を有していてもよく、基板、第１電極層および第２電極層の全てが凹凸構造を有していてもよい。一方、基板が凹凸構造を有さない場合は、第１電極層または第２電極層の少なくともいずれかが凹凸構造を有している必要がある。
【００３１】
本実施態様によれば、基板が微細な凹凸構造を有する場合、この凹凸構造により、基板側から入射した光が散乱するため、光電変換層内を透過する光が増加し、光電変換層は十分に光を吸収することができる。したがって、光を有効に利用することができ、光起電力を向上させることが可能となる。
【００３２】
上記基板が微細な凹凸構造を有する場合、このような作用を及ぼす基板の表面粗さとしては、入射光を散乱させることが可能な表面粗さであれば特に限定されない。具体的には、１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内、中でも５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内、特に１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。表面粗さが上記範囲より小さい場合、入射光を十分に散乱させることができず、光電変換層の光の吸収率を向上させる効果が十分に得られない可能性があり、一方、表面粗さが上記範囲より大きい場合、この表面粗さを平坦化するために設けられるバッファー層の膜厚を厚くしなければならなく、光の透過率が低下する可能性があるからである。
【００３３】
なお、本発明において、表面粗さとは、スキャン範囲２０μｍ、スキャン速度９０ｓｅｃ／ｆｒａｍｅの条件下で、原子間顕微鏡（Ｎａｎｏｐｉｃｓ１０００：商品名、セイコーインスツルメンツ社製）を用いて測定した値である。
【００３４】
本実施態様において、基板が凹凸構造を有さない場合は、基板としては、特に限定されるものではなく、透明なものであっても不透明なものであってもよいが、例えば基板側が光の受光面となる場合には、透明基板であることが好ましい。この透明基板としては、特に限定されるものではなく、例えば石英ガラス、パイレックス（登録商標）、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を挙げることができる。また、上記の中でも基板が透明樹脂フィルム等のフレキシブル材であることが好ましい。透明樹脂フィルムは、加工性に優れており、製造コストや軽量化において有用であるからである。
【００３５】
一方、基板が凹凸構造を有する場合は、基板側が光の受光面となる必要があるため、基板としては透明なものであることが好ましい。本実施態様においては、上述したように、基板の凹凸構造により入射光を散乱させ、光電変換層の光の吸収率を向上させるものであるため、第２電極層側を光の受光面とした場合は、第１電極層で光が反射されてしまい、基板が凹凸構造を有していても、光を散乱させる効果を奏しえない場合があるからである。
【００３６】
また、凹凸構造を有する基板としては、上記表面粗さを有するように、基板表面が粗く形成されているものであればよく、上記透明基板表面に、コロナ処理、エッチング、ブラスト処理（例えばサンドブラスト）、フォトリソ、レーザー、大気圧プラズマ、プラズマ、マイクロコンタクト等を施すことにより、基板表面を粗く形成することができる。
【００３７】
さらに、凹凸構造を有する基板としては、例えばAsahi-Utype（旭硝子（株）製）等が挙げられる。また、凹凸構造の加工適用可能性のある基板としては、太陽電池用ガラス基板（日本板硝子（株）製）、導電性ガラス基板（コーニング（株）製）等が挙げられる。
【００３８】
（２）第１電極層
次に、本実施態様に用いられる第１電極層について説明する。本実施態様においては、
第１電極層は、微細な凹凸構造を有するものであってもよく、微細な凹凸構造を有さないものであってもよい。第１電極層が凹凸構造を有する場合は、第１電極層のみが凹凸構造を有していてもよく、第１電極層および第２電極層が凹凸構造を有していてもよく、第１電極層および基板が凹凸構造を有していてもよく、第１電極層、第２電極層および基板の全てが微細な凹凸構造を有していてもよい。また、第１電極層が凹凸構造を有さない場合は、上記基板または第２電極層の少なくともいずれかが凹凸構造を有している必要がある。
【００３９】
本実施態様によれば、第１電極層が微細な凹凸構造を有する場合、例えば基板側から入射した光が、第１電極層の凹凸構造により散乱するため、光電変換層内を透過する光が増加し、光電変換層は十分に光を吸収することができる。したがって、光を有効に利用することができ、光起電力を向上させることが可能となる。
【００４０】
本実施態様において、第１電極層が微細な凹凸構造を有する場合、このような作用を及ぼす第１電極層の表面粗さとしては、入射光を散乱させることが可能な表面粗さであれば特に限定されない。具体的には、１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内、中でも５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内、特に１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。表面粗さが上記範囲より小さい場合、入射光の散乱が十分に生じず、光電変換層の光の吸収率が向上する効果が十分に得られない可能性があり、一方、表面粗さが上記範囲より大きい場合、この表面粗さを平坦化するために設けられるバッファー層の膜厚を厚くしなければならなく、透過率が低下する可能性があるからである。
【００４１】
上記第１電極層の凹凸構造の形状としては、上記表面粗さを有するような形状であれば特に限定されないが、例えばピラミッド構造、テクスチャー構造、波型構造、くし型構造、ナノピロー構造等を挙げることができる。また、これらの形状は単独で形成されていてもよく、複数の形状が組み合わされて形成されていてもよい。
【００４２】
ここで、ナノピロー構造とは、微細な柱状の電極が無数に林立している状態を示すものである。
【００４３】
本実施態様においては、上記の凹凸構造の形状の中でも、ピラミッド構造またはテクスチャー構造であることが好ましい。また、この場合は、ピラミッド構造またはテクスチャー構造のエッジが可能な限り鋭角に形成されていることが好ましい。これにより、入射光を効率的に散乱させることができ、光電変換層の光の吸収率を向上させることができるからである。
【００４４】
上記凹凸構造における凹凸の向きとしては、光電変換層側に凸型であってもよく、凹型であってもよい。
【００４５】
このような凹凸構造の平均凸部間距離としては、上記凹凸構造の形状によっても異なるが、具体的には２０ｎｍ〜２０００ｎｍ、中でも１００ｎｍ〜１４００ｎｍ、特に２００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。また、凹凸構造の平均高低差は、１０ｎｍ〜１０００ｎｍ、中でも５０ｎｍ〜７００ｎｍ、特に１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。平均凸部間距離および平均高低差が上述した範囲であることにより、入射光を十分に散乱させることができ、光電変換層内を透過する光を増加させることができるからである。
【００４６】
ここで、上記凸部間距離および上記平均高低差とは、スキャン範囲２０μｍ、スキャン速度９０ｓｅｃ／ｆｒａｍｅの条件下で、原子間顕微鏡（Ｎａｎｏｐｉｃｓ１０００：商品名、セイコーインスツルメンツ社製）を用いて測定した値である。
【００４７】
また、上記凹凸構造の形状がピラミッド構造である場合は、ピラミッド構造の平均高低差としては、具体的に１０ｎｍ〜１０００ｎｍ、中でも５０ｎｍ〜７００ｎｍ、特に１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。さらに、ピラミッド構造の平均底辺距離は、具体的に２０ｎｍ〜２０００ｎｍ、中でも１００ｎｍ〜１４００ｎｍ、特に２００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。なお、ここでいう高低差とは、図３に示すような高低差２１を示すものであり、底辺距離とは、図３に示すような底辺距離２２を示すものである。
【００４８】
ここで、上記ピラミッド構造の平均高低差および底辺距離は、上述した凸部間距離および平均高低差の測定方法と同様の方法により測定することができる。
【００４９】
このような第１電極層を形成する材料としては、導電性を有するものであれば特に限定されないが、光の照射方向や、後述する第２電極層を形成する材料の仕事関数等を考慮して適宜選択することが好ましい。例えば、第２電極層を形成する材料を仕事関数が低い材料とした場合には、第１電極層を形成する材料は、仕事関数が高い材料が好ましい。仕事関数が高い材料としては、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃ、ＩＴＯ、ＳｎＯ２、フッ素をドープしたＳｎＯ２、ＺｎＯ等を挙げることができる。また、上記基板を受光面とした場合には、第１電極層を透明電極とすることが好ましく、この場合、一般的に透明電極として使用されているものを用いることができる。具体的には、Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ（ＩＺＯ）、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｏ（ＩＴＯ）、ＺｎＯ−Ａｌ、Ｚｎ−Ｓｎ−Ｏ等を挙げることができる。
【００５０】
さらに、第２電極層側を受光面とした場合であって、第１電極層が凹凸構造を有する場合には、第１電極層は、所定の反射率を有することが好ましい。これにより、第２電極層側から入射した光を、第１電極層の凹凸構造により乱反射させることができ、光電変換層の光の吸収率を向上させることが可能となるからである。
【００５１】
上記第１電極層は、単層からなる場合であってもよく、また、異なる仕事関数の材料を用い、積層されてなる場合であってもよい。
【００５２】
また、上記第１電極層の膜厚としては、単層からなる第１電極層の場合はその膜厚が、複数層からなる場合は総膜厚が、０．１ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内、その中でも、１ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が上記範囲より薄い場合は、第１電極層のシート抵抗が大きくなりすぎ、発生した光電荷を十分に外部回路へ伝達できない可能性があり、一方、膜厚が上記範囲より厚い場合には、光の透過率が低下し、エネルギー変換効率を低下させる可能性があるからである。
【００５３】
上記第１電極層が、透明電極である場合は、第１電極層の全光線透過率としては、８５％以上、中でも９０％以上、特に９２％以上であることが好ましい。上記基板を受光面とした場合、第１電極層の全光線透過率が上記範囲であることにより、光を効率的に吸収することができるからである。
【００５４】
なお、上記全光線透過率は、可視光領域において、スガ試験株式会社製全光線透過率装置（ＣＯＬＯＵＲ  Ｓ＆Ｍ  ＣＯＭＰＵＴＥＲ  ＭＯＤＥＬ  ＳＭ−Ｃ：型番）を用いて測定した値である。
【００５５】
また、上記第１電極層のシート抵抗としては、２０Ω／□以下、中でも１０Ω／□以下、特に５Ω／□以下であることが好ましい。シート抵抗が上記範囲より大きい場合、発生した光電荷を十分に外部回路へ伝達できない可能性があるからである。
【００５６】
なお、上記シート抵抗は、三菱化学株式会社製  表面抵抗計（ロレスタＭＣＰ：四端子プローブ）を用い、ＪＩＳ  Ｒ  １６３７（ファインセラミックス薄膜の抵抗率試験方法：４探針法による測定方法）に基づき、測定した値である。
【００５７】
上記第１電極層は、基板上に全面に形成されていてもよく、パターン状に形成されていてもよい。
【００５８】
上記第１電極層の形成方法としては、一般に用いられている方法を用いることができ、具体的には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法や、ＣＶＤ法等の乾式塗工法、およびＩＴＯ微粒子を含有する塗工液等を塗布する湿式塗工法を挙げることができる。また、第１電極層をパターン状に形成する場合のパターニング方法としては、第１電極層を所望のパターンに精度良く形成することができる方法であれば特に限定されないが、具体的には、フォトリソグラフィー法等を挙げることができる。
【００５９】
また、上記第１電極層が凹凸構造を有するように形成する方法としては、コロナ処理、エッチング、サンドブラスト等が挙げられる。これらの方法は単独で用いてもよく、複数の方法を組合せて用いてもよい。さらに、ＣＶＤ法やスパッタリング法等の成膜条件、または上記基板の表面処理により、自己組織化的に凹凸構造を形成させることもできる。この場合、形成される第１電極層の凹凸構造の形状は、光電変換層側に凸型の構造をとることが多い。
【００６０】
（３）光電変換層
次に、本実施態様に用いられる光電変換層について説明する。本実施態様において、光電変換層とは、有機薄膜太陽電池の電荷分離に寄与し、生じた電子および正孔を各々反対方向の電極に向って輸送させる機能を有する部材を意味する。具体的にこのような光電変換層としては、電子供与体として機能する正孔輸送層または電子受容体として機能する電子輸送層の少なくとも一方を有する場合、電子供与体および電子受容体の両方の機能を有する電子正孔輸送層からなる場合等を挙げることができる。これら光電変換層の種類は、有機薄膜太陽電池の種類に応じて選択する。
【００６１】
具体的に有機薄膜太陽電池の種類としては、電子供与性または電子受容性のいずれか一方の機能を有する、すなわち、上記電子輸送層または正孔輸送層のいずれか一方である光電変換層が、第１電極層および第２電極層間に配置されており、電極とそのような光電変換層とのショットキー障壁を利用したショットキー型有機薄膜太陽電池、または、電子受容性および電子供与性の機能を一組として、ｐｎ接合を利用したヘテロ接合型有機薄膜太陽電池等を挙げることができる。
【００６２】
さらに、ヘテロ接合型有機薄膜太陽電池においては、電子受容性の機能を有する電子輸送層および電子供与性の機能を有する正孔輸送層を各々別個に積層させた構造のバイレイヤー型と、電子供与性および電子受容性の機能を一つの層に混合させた電子正孔輸送層を用いたバルクへテロ接合型とがある。
【００６３】
以下、光電変換層について、有機薄膜太陽電池の種類が、ショットキー型、ヘテロ接合型の各々の場合に分けて説明する。
【００６４】
（ｉ）ショットキー型有機薄膜太陽電池の場合
本実施態様における光電変換層を電子供与性または電子受容性のいずれか一方の機能を有する層、すなわち、電子輸送層または正孔輸送層のいずれか一方とすることにより、そのような光電変換層と電極との界面において形成されるショットキー障壁を利用して光電流を得るショットキー型有機薄膜太陽電池とすることができる。
【００６５】
例えば、光電変換層を正孔輸送層とした場合には、第１電極層および第２電極層のうち仕事関数が小さい方の電極との界面にショットキー障壁が形成されるため、その界面において光電荷分離を生じさせることができる。一方、光電変換層を電子輸送層とした場合には、上述した第１電極層および第２電極層のうち仕事関数が大きい方の電極との界面で光電流を生じさせることができる。
【００６６】
このようにショットキー型有機薄膜太陽電池とした場合に、光電変換層を形成する材料は、電子供与性または電子受容性の性質を有する材料であれば特に限定されない。具体的には、ペンタセンなどの有機単結晶、ポリ−３−メチルチオフェン、ポリアセチレン、ポリフェニレンおよびその誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリシランおよびその誘導体、ポリアルキルチオフェンおよびその誘導体等の導電性高分子およびその誘導体、ポルフィリン誘導体、フタロシアニン誘導体、メロシアニン誘導体、クロロフィル等の合成色素、有機金属ポリマー等を挙げることができる。ショットキー型有機薄膜太陽電池における光電変換層は、電子供与性または電子受容性のいずれか一方の材料を用いて形成する。中でも、電荷の移動度が高い材料であることが好ましい。
【００６７】
また、光電変換層の膜厚としては、０．１ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲内、その中でも、５ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が上記範囲より厚い場合には、光電変換層の膜抵抗が高くなる可能性があり、一方、膜厚が上記範囲より薄い場合には、第１電極層および第２電極層に短絡が生じる可能性があるからである。
【００６８】
また、このような光電変換層を形成する方法としては、所定の膜厚に均一に形成することができる方法であれば特に限定されない。具体的には、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、ビードコート法、スプレーコート等を挙げることができる。その中でも、スピンコート法またはダイコート法であることが好ましい。光電変換層を上記範囲内の膜厚に精度良く形成することができるからである。
【００６９】
（ii）ヘテロ接合型有機薄膜太陽電池の場合
ヘテロ接合型有機薄膜太陽電池は、上述したように、バイレイヤー型と、バルクへテロ接合型とに分けることができる。以下、光電変換層についてバイレイヤー型およびバルクヘテロ接合型に分けて説明する。
【００７０】
（バイレイヤー型有機薄膜太陽電池の場合）
バイレイヤー型有機薄膜太陽電池は、光電変換層として、電子受容性の機能を有する電子輸送層および電子供与性の機能を有する正孔輸送層を各々別個に形成し、それらの界面において形成されるｐｎ接合を利用して光電荷分離を生じさせ、光電流を得る有機薄膜太陽電池である。
【００７１】
このような光電変換層として、電子輸送層および正孔輸送層の膜厚は特に限定されないが、具体的には、各々の膜厚が０．１ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲内、その中でも、５ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が上記範囲より厚い場合には、電子輸送層および正孔輸送層における膜抵抗が高くなる可能性があり、一方、膜厚が上記範囲より薄い場合には、第１電極層と第２電極層との間で短絡が生じる可能性があるからである。
【００７２】
また、電子輸送層または正孔輸送層を形成する方法としては、所定の膜厚に均一に形成することができる方法であれば特に限定されない。具体的には、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、ビードコート法、スプレーコート等を挙げることができる。その中でも、スピンコート法またはダイコート法であることが好ましい。光電変換層を上記範囲内の膜厚となるように精度良く形成することができるからである。
【００７３】
また、電子輸送層を形成する材料としては、電子受容体としての機能を有するものであれば特に限定されない。具体的には、ＣＮ−ポリ（フェニレン−ビニレン）、ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶ、−ＣＮ基または−ＣＦ３基含有ポリマー、それらの−ＣＦ３置換ポリマー、ポリ（フルオレン）誘導体、Ｃ６０などのフラーレン誘導体、カーボンナノチューブ、ペリレン誘導体、多環キノン、キナクリドン等の材料を挙げることができる。中でも、電子の移動度が高い材料であることが好ましい。
【００７４】
一方、正孔輸送層を形成する材料としては、電子供与体としての機能を有するものであれば特に限定されない。具体的には、ポリフェニレンおよびその誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリシランおよびその誘導体、ポリアルキルチオフェンおよびその誘導体、ポルフィリン誘導体、フタロシアニン誘導体、有機金属ポリマー等を挙げることができる。中でも、正孔の移動度が高い材料であることが好ましい。
【００７５】
（バルクヘテロ接合型有機薄膜太陽電池の場合）
バルクヘテロ接合型有機薄膜太陽電池は、光電変換層として、電子受容性および電子供与性の両方の機能を有する電子正孔輸送層とし、電子正孔輸送層内で形成されるｐｎ接合を利用して光電荷分離を生じさせ、光電流を得る有機薄膜太陽電池である。
【００７６】
このような電子正孔輸送層の膜厚としては、一般的にバルクヘテロ接合型において採用されている膜厚であれば特に限定されないが、具体的には、０．２ｎｍ〜３０００ｎｍの範囲内、その中でも、１０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が上記範囲より厚い場合には、電子正孔輸送層における膜抵抗が高くなる可能性があり、一方、膜厚が上記範囲より薄い場合には、第１電極層および第２電極層に短絡が生じる可能性があるからである。
【００７７】
また、電子正孔輸送層を形成する方法としては、所定の膜厚に均一に形成することができる方法であれば特に限定されない。具体的には、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、ビードコート法、スプレーコート法等を挙げることができる。その中でも、スピンコート法またはダイコート法であることが好ましい。光電変換層を上記範囲内の膜厚に精度良く形成することができるからである。
【００７８】
さらに、電子正孔輸送層を形成する材料としては、一般的に、バルクへテロ接合型有機薄膜太陽電池において用いられているものであれば特に限定されないが、具体的には、電子供与性の材料および電子受容体の材料の両方の材料を均一に分散させたものを挙げることができる。また、電子供与性の材料および電子受容性の両方の材料の混合比は、用いる材料により最適な混合比に適宜調整する。
【００７９】
例えば、電子受容性の材料としては、そのような機能を有するものであれば特に限定されない。具体的には、ＣＮ−ポリ（フェニレン−ビニレン）、ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶ、−ＣＮ基または−ＣＦ３基含有ポリマー、それらの−ＣＦ３置換ポリマー、ポリ（フルオレン）誘導体、Ｃ６０誘導体、カーボンナノチューブ、ペリレン誘導体、多環キノン、キナクリドン等の材料を挙げることができる。中でも、電子の移動度の高い材料であることが好ましい。
【００８０】
一方、電子供与性の材料としては、そのような機能を有するものであれば特に限定されない。具体的には、ポリフェニレンおよびその誘導体、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリシランおよびその誘導体、ポリアルキルチオフェンおよびその誘導体、ポルフィリン誘導体、フタロシアニン誘導体、有機金属ポリマー等を挙げることができる。中でも、正孔の移動度が高い材料であることが好ましい。
【００８１】
また、電子正孔輸送層の層の数は、一層であってもよく、複数層であってもよい。
【００８２】
（４）第２電極層
次に、本実施態様に用いられる第２電極層について説明する。本実施態様においては、上記基板、上記第１電極層および第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有するものであることから、第２電極層は、微細な凹凸構造を有するものであってもよく、微細な凹凸構造を有さないものであってもよい。第２電極層が凹凸構造を有する場合は、第２電極層のみが凹凸構造を有していてもよく、第２電極層および第１電極層が凹凸構造を有していてもよく、第２電極層および基板が凹凸構造を有していてもよく、第２電極層、第１電極層および基板の全てが凹凸構造を有していてもよい。また、第２電極層が凹凸構造を有さない場合は、上記基板または上記第１電極層の少なくともいずれかが凹凸構造を有している必要がある。
【００８３】
本実施態様によれば、第２電極層が微細な凹凸構造を有する場合、例えば基板側から入射した光が、第２電極層の凹凸構造により乱反射するため、光電変換層内を透過する光が増加し、光電変換層は十分に光を吸収することができる。したがって、光を有効に利用することができ、光起電力を向上させることが可能となる。
【００８４】
なお、第２電極層が凹凸構造を有する場合の、凹凸構造に関しては、上記第１電極層の欄に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００８５】
また、第２電極層を形成する材料としては、導電性を有するものであれば特に限定されないが、光の照射方向や、上記第１電極層を形成する材料の仕事関数等を考慮して適宜選択することが好ましい。例えば、上記基板を受光面とした場合には、上記第１電極層が透明電極となり、このような場合には、第２電極層は透明でなくともよい。また、第１電極層を仕事関数が高い材料を用いて形成した場合には、第２電極層は仕事関数が低い材料を用いて形成することが好ましく、具体的に仕事関数が低い材料としては、Ｌｉ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｙｂ、Ｚｒ、ＬｉＦ等を挙げることができる。
【００８６】
さらに、基板側を受光面とした場合であって、第２電極層が凹凸構造を有する場合には、第２電極層は、所定の反射率を有することが好ましい。これにより、基板側から入射した光を、第２電極層の凹凸構造により乱反射させることができ、光電変換層の光の吸収率を向上させることが可能となるからである。
【００８７】
また、第２電極層は、単層からなる場合であってもよく、また、異なる仕事関数の材料を用い、積層されてなる場合であってもよい。
【００８８】
上記第２電極層の膜厚は、第２電極層が単層からなる場合にはその膜厚が、複数層からなる場合には各層を合わせた総膜厚が、０．１ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内、中でも、１ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が上記範囲より薄い場合は、第２電極層のシート抵抗が大きくなりすぎ、発生した光電荷を十分に外部回路へ伝達できない可能性があり、一方、膜厚が上記範囲より厚い場合には光の透過率が低下し、エネルギー変換効率を低下させる可能性があるからである。
【００８９】
また、上記第２電極層は、光電変換層上に全面に形成されていてもよく、パターン状に形成されていてもよい。
【００９０】
このような第２電極層の形成方法としては、一般に用いられている方法を用いることができ、具体的には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法や、ＣＶＤ法等の乾式塗工法、およびＡｇ等の金属コロイドを含有する金属ペースト等を用いて塗布する湿式塗工法を挙げることができる。また、第２電極層をパターン状に形成する場合のパターニング方法としては、第２電極層を所望のパターンに精度良く形成することができる方法であれば特に限定されないが、具体的には、フォトリソグラフィー法等を挙げることができる。
【００９１】
また、上記第２電極層が凹凸構造を有するように形成する方法としては、コロナ処理、エッチング、サンドブラスト等が挙げられる。これらの方法は単独で用いてもよく、複数の方法を組合せて用いてもよい。さらに、ＣＶＤ法やスパッタリング法等の成膜条件により、自己組織化的に凹凸構造を形成させることもできる。この場合、形成される第２電極層の凹凸構造の形状は、光電変換層側に凸型の構造をとることが多い。
【００９２】
（５）バッファー層
次に、本実施態様に用いられるバッファー層について説明する。本実施態様において、バッファー層は、微細な凹凸構造を有する層と光電変換層との間に形成されるものである。
【００９３】
上記バッファー層の形成位置としては、微細な凹凸構造を有する層の形成位置によって異なるものである。上記基板が凹凸構造を有する場合は、基板と光電変換層との間にバッファー層が形成される。この場合、例えば図１（ａ）に示すように基板１と第１電極層２との間にバッファー層５が形成されていてもよく、図１（ｂ）に示すように第１電極層２と光電変換層３との間にバッファー層５が形成されていてもよい。また、第１電極層が凹凸構造を有する場合は、例えば図２に示すように第１電極層２と光電変換層３との間にバッファー層５が形成される。さらに、第２電極層が凹凸構造を有する場合は、例えば図２に示すように、第２電極層４と光電変換層３との間にバッファー層５が形成される。
【００９４】
一般に有機薄膜太陽電池に用いられる光電変換層は、その膜厚が薄いため、例えば第１電極層および第２電極層が凹凸構造を有する場合、この凹凸構造により、第１電極層と第２電極層との間に形成されている光電変換層が短絡する可能性があり、太陽電池として機能しなくなってしまうという不具合が生じるが、本実施態様においては、例えば図２に示すように、第１電極層２と光電変換層３との間、および第２電極層４と光電変換層３との間にバッファー層５が形成されていることにより、凹凸構造が光電変換層３に影響を及ぼすことがなく、光電変換層３が短絡することを防止することができる。
【００９５】
したがって、本実施態様においてバッファー層は、凹凸構造により光電変換層が短絡しないように、凹凸構造を有する層と光電変換層との間に設けられているのである。
【００９６】
このようなバッファー層の膜厚としては、上述した凹凸構造を平坦化することが可能な厚みであれば特に限定されないが、２０ｎｍ〜２０００ｎｍ、中でも５０ｎｍ〜１０００ｎｍ、特に１００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が上記範囲より薄い場合、凹凸構造を十分に平坦化することができず、光電変換層が短絡してしまう可能性があり、一方、膜厚が上記範囲より厚い場合、光の透過率が低下する可能性があるからである。
【００９７】
また、上記バッファー層の光電変換層側の表面粗さとしては、８０ｎｍ以下、中でも１０ｎｍ以下、特に１ｎｍ以下であることが好ましい。表面粗さが上記範囲より大きい場合、光電変換層に短絡が生じる可能性があるからである。
【００９８】
このようなバッファー層に用いられる材料としては、凹凸構造を平坦化することができ、透明な材料であれば特に限定されないが、バッファー層が第１電極層または第２電極層と光電変換層との間に形成される場合は、光電変換層からの電荷を第１電極層または第２電極層へ良好に取り出すことができる材料であることが好ましい。例えば導電性を有する有機材料が挙げることができる。
【００９９】
上記導電性を有する有機材料としては、第１電極層または第２電極層が陽極である場合には、光電変換層から第１電極層または第２電極層への正孔の取出しを安定化させることが可能な材料であれば特に限定されない。具体的には、ドープされたポリアニリン、ポリフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリパラフェニレン、ポリアセチレン、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）、トリフェニルジアミン（ＴＰＤ）等の導電性有機化合物、またはテトラチオフルバレン、テトラメチルフェニレンジアミン等の電子供与性化合物と、テトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン等の電子受容性化合物とからなる電荷移動錯体を形成する有機材料等を挙げることができる。一方、第１電極層または第２電極層が陰極である場合には、光電変換層から第１電極層または第２電極層への電子の取出しを安定化させる材料であれば特に限定されない。具体的には、ドープされたポリアニリン、ポリフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリパラフェニレン、ポリアセチレン、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）、トリフェニルジアミン（ＴＰＤ）等の導電性有機化合物、またはテトラチオフルバレン、テトラメチルフェニレンジアミン等の電子供与性化合物と、テトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン等の電子受容性化合物とからなる電荷移動錯体を形成する有機材料等を挙げることができる。また、アルカリ金属あるいはアルカリ土類金属との金属ドープ層が挙げられる。好適な材料としてはＢＣＰ（バソキュプロイン）または、Ｂｐｈｅｎ（バソフェナントロン）と、Ｌｉ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｓｒなどの金属ドープ層が挙げられる。
【０１００】
一方、バッファー層が基板と第１電極層との間に設けられる場合、バッファー層を形成する材料としては、上述したように、凹凸構造を平坦化することができ、透明な材料であればよいが、基板と異なる屈折率を有するものであることが好ましい。これにより、凹凸構造有する基板とバッファー層との界面で効率的に光を散乱させることができるからである。このような材料としては、例えばポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）、トリフェニルジアミン（ＴＰＤ）等の導電性有機化合物が挙げられる。
【０１０１】
（６）その他
上記各層以外に、本実施態様の有機薄膜太陽電池を構成することが可能な層について説明する。
【０１０２】
（ｉ）反射防止層
本実施態様において、基板側が受光面となる場合は、例えば図４に示すように、基板１の第１電極層２が形成されている面と反対の面に反射防止層６が形成されていることが好ましい。反射防止層を設けることにより、基板側から入射する光の反射を防止することができ、有機薄膜太陽電池内に入射する光が増加することから、光電変換層の光の吸収率を向上させることができるからである。
【０１０３】
このような反射防止層の材料としては、反射を防止することができる材料であれば特に限定されるものではないが、例えば無機酸化物を挙げることができる。具体的には、ＴｉＯ２、ＳｉＯｘ、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ等が挙げられる。
【０１０４】
また、反射防止層は、単層からなる場合であってもよく、複数の材料を用いて積層されてなる場合であってもよい。中でも、積層された反射防止層であることが好ましい。
【０１０５】
上記反射防止層の形成方法としては、ＣＶＤ法や、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法等の蒸着法が挙げられる。
【０１０６】
（ii）保護シート
本実施態様においては、例えば図４に示すように、第２電極層４上に保護シート８が形成されていてもよい。本実施態様において、保護シートとは、有機薄膜太陽電池を外界から保護するために設けられる層である。
【０１０７】
このような保護シートに用いられる材料としては、アルミニウム等の金属板もしくは金属箔、フッ素系樹脂シート、環状ポリオレフィン系樹脂シート、ポリカーボネート系樹脂シート、ポリ（メタ）アクリル系樹脂シート、ポリアミド系樹脂シート、ポリエステル系樹脂シート、または耐候性フィルムとバリアフィルムとをラミネート積層した複合シートなどが挙げられる。
【０１０８】
上記保護シートの厚みは、１０μｍ〜１０００μｍの範囲内が好ましく、より好ましくは５０μｍ〜１５０μｍの範囲内である。
【０１０９】
また、上記保護シートは、後述するバリア層の欄に記載するような、バリア性を有するものであってもよい。
【０１１０】
さらに、上記保護シートには、着色等により意匠性を付与することもできる。この際、保護シートへの顔料の練り込等により着色してもよく、例えば青色ハードコート層等の着色層を積層することにより着色してもよい。
【０１１１】
（iii）バリア層
本実施態様においては、上記基板の表面、または上記保護シートの表面にバリア層が形成されていてもよい。また、上記基板または上記保護シートが複数層からなる場合は、複数層の基板の間、または複数層の保護シートの間にバリア層を設けてもよい。本実施態様に用いられるバリア層は、透明な層であり、かつ外部からの酸素や水蒸気の浸入を妨げ、有機薄膜太陽電池を保護するために設けられる層である。光電変換層等は、水蒸気および酸素等に曝されると、その劣化が促進され、結果として有機薄膜太陽電池の電池寿命が短くなる不都合が発生する。そこで、水蒸気および酸素等の有機薄膜太陽電池内への透過を阻止するバリア層を設けることにより、電池寿命の長寿命化を図っている。
【０１１２】
このようなバリア層の形成位置としては、例えば図５に示すように基板１と第１電極層２との間にバリア層７が形成されていてもよく、図示しないが基板の第１電極層が形成されている面と反対の面であってもよく、基板が複数層からなる場合は、複数層の基板の間であってもよい。また、例えば図５に示すように保護シート８と第２電極層４との間にバリア層７が形成されていてもよく、図示しないが保護シートの第２電極層が形成されている面と反対の面であってもよく、保護シートが複数層からなる場合は、複数層の保護シートの間であってもよい。
【０１１３】
本実施態様においては、上記の中でも、基板側および保護シート側の両方にバリア層が形成されていることが好ましい。これにより、水蒸気および酸素等の浸入を十分に抑制することができるからである。
【０１１４】
また、上記保護シートが樹脂シートである場合は、例えば図５に示すように、保護シート８と第２電極層４との間にバリア層７が形成されていることが好ましい。本実施態様の有機薄膜太陽電池を製造する際に、保護シートに含まれる樹脂からガスが発生し、第２電極層や光電変換層に悪影響を及ぼす可能性があるからである。
【０１１５】
本実施態様に用いられるバリア層は、酸素透過率が、５ｃｃ/ｍ２・ｄａｙ以下であり、中でも１０−１ｃｃ/ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましい。また水蒸気透過率は、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、中でも１０−１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましい。
【０１１６】
ここで、上記酸素透過率は、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ  ２／２０）を用い、２３℃、９０％Ｒｈの条件で測定したものである。また、上記水蒸気透過率は、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ  ３／３１）を用い、３７．８℃、１００％Ｒｈの条件で測定したものである。
【０１１７】
このようなバリア層としては、上述したバリア性を有する層であれば、特に限定されるものではないが、そのバリア性の高さ等から、蒸着法により形成された蒸着層を有することが好ましい。
【０１１８】
上記蒸着層としては、蒸着法により形成される層であれば、その蒸着法の種類等は特に限定されるものではなく、ＣＶＤ法であってもよく、またＰＶＤ法であってもよい。蒸着層が、例えばプラズマＣＶＤ法等のＣＶＤ法により形成される場合には、緻密でバリア性の高い層を形成することが可能となるが、本実施態様においては、製造効率やコスト等の面からＰＶＤ法であることが好ましい。本実施態様に用いられるＰＶＤ法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられるが、中でも、そのバリア性等の面から、真空蒸着法であることが好ましい。本態様に用いられる真空蒸着法として、具体的には、例えばエレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式による真空蒸着法、または高周波誘電加熱方式による真空蒸着法等が挙げられる。
【０１１９】
また、上記蒸着層の材料としては、金属または無機酸化物が好ましく、Ｔｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｒ、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化窒化珪素、酸化窒化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化イットリウム、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ等を挙げることができ、中でも酸化珪素であることが好ましい。酸化珪素からなる層は、高いバリア性と透明性とを有するからである。
【０１２０】
また、本実施態様における蒸着層の厚さは、用いられる材料の種類、構成により最適条件が異なり、適宜選択されるが、５ｎｍ〜１０００ｎｍ、中でも１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。蒸着層の厚さが、上記の範囲より薄い場合には、均一な層とすることが困難な場合があり、上記バリア性を得ることができない場合があるからである。また、蒸着層の厚さが上記の範囲より厚い場合には、成膜後に、引っ張り等の外的要因により、蒸着層に亀裂が生じること等により、バリア性が著しく損なわれる可能性があるためであり、また形成に時間を要し、生産性も低下するからである。
【０１２１】
（iv）充填材層
本実施態様においては、上記第２電極層と上記保護シートとの間に、充填材層が形成されていてもよい。本実施態様において、充填材層とは、有機薄膜太陽電池の裏面側、すなわち第２電極層と、上記保護シートとを接着させ、有機薄膜太陽電池を封止するために設けられる層である。
【０１２２】
このような充填材層としては、一般に太陽電池の充填材層として使用されているものであればよく、例えばエチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂が挙げられる。
【０１２３】
また、上記充填材層の厚みは、１００μｍ〜２０００μｍの範囲内が好ましく、より好ましくは２００μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましい。厚みが上記範囲より薄くなると強度が低下し、逆に厚みが上記範囲より厚くなるとクラック等が発生しやすくなるからである。
【０１２４】
２．第２実施態様
次に、本発明の有機薄膜太陽電池の第２実施態様について説明する。本発明の有機薄膜太陽電池の第２実施態様は、基板と、上記基板上に形成された第１電極層と、上記第１電極層上に形成された光電変換層と、上記光電変換層上に形成され、上記第１電極層と対向する電極である第２電極層とを有する有機薄膜太陽電池であって、上記光電変換層は、第１光電変換層と、上記第１光電変換層上に形成された中間電極層と、上記中間電極層上に形成された第２光電変換層とを有することを特徴とするものである。
【０１２５】
本実施態様の有機薄膜太陽電池について、図面を用いて説明する。図６は、本実施態様の有機薄膜太陽電池の一例を示す概略断面図である。図６に示すように、本実施態様の有機薄膜太陽電池は、基板１と、上記基板１上に形成された第１電極層２と、上記第１電極層２上に形成された光電変換層３と、上記光電変換層３上に形成された第２電極層４とを有しているものである。また、光電変換層３は、第１光電変換層１１と、上記第１光電変換層１１上に形成された中間電極層１２と、上記中間電極層１２上に形成された第２光電変換層１３とを有するものである。
【０１２６】
従来の有機薄膜太陽電池に用いられている光電変換層は、膜厚が薄いため、入射光が光電変換層をすり抜けてしまい、光電変換層が十分に光を吸収できないという不具合があったが、本実施態様によれば、第１光電変換層および第２光電変換層が積層されていることにより、光電変換層の光の吸収率を向上させることができる。したがって、光起電力を向上させることができ、エネルギー変換効率を向上させることが可能となる。
【０１２７】
また、本実施態様においては、上記基板、上記第１電極層または上記第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有しており、上記微細な凹凸構造を有する基板と上記光電変換層との間、上記微細な凹凸構造を有する第１電極層と上記光電変換層との間、または上記微細な凹凸構造を有する第２電極層と上記光電変換層との間にバッファー層が形成されていることが好ましい。基板、第１電極層または第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有することにより、入射光がこの凹凸構造によって散乱され、光電変換層内を透過する光が増加するため、光電変換層の光の吸収率をより向上させることができるからである。また、凹凸構造を有する基板、第１電極層または第２電極層と光電変換層との間に、バッファー層が形成されるため、凹凸構造により膜厚の薄い光電変換層が短絡することを防止することができるからである。
【０１２８】
なお、本実施態様に用いられる基板、第１電極層および第２電極層に関しては、上述した第１実施態様に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。以下、本実施態様に用いられる光電変換層について説明する。
【０１２９】
（１）光電変換層
本実施態様に用いられる光電変換層は、第１光電変換層と、上記第１光電変換層上に形成された中間電極層と、上記中間電極層上に形成された第２光電変換層とを有するものである。
【０１３０】
本実施態様によれば、第１光電変換層および第２光電変換層が積層されていることにより、光電変換層の光の吸収率を向上させることができ、光起電力を向上させることが可能となる。
【０１３１】
なお、本実施態様に用いられる第１光電変換層および第２光電変換層に関しては、上述した第１実施態様の光電変換層の欄に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１３２】
本実施態様に用いられる中間電極層としては、光電変換層の電荷分離機能を損なうことがなく、透明なものであれば特に限定されないが、例えば金属薄膜を用いることができる。具体的にはＡｇ等が挙げられる。
【０１３３】
また、上記中間電極層の膜厚としては、光電変換層の電荷分離機能を損なわないように、極めて薄いことが好ましい。具体的には、０．０５ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内、中でも０．１ｎｍ〜５ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【０１３４】
なお、上記各層以外に、本実施態様の有機薄膜太陽電池を構成することが可能な層に関しては、上述した第１実施態様に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１３５】
３．第３実施態様
次に、本発明の有機薄膜太陽電池の第３実施態様について説明する。本発明の有機薄膜太陽電池の第３実施態様は、基板と、上記基板上に形成された第１電極層と、上記第１電極層上に形成された光電変換層と、上記光電変換層上に形成され、上記第１電極層と対向する電極である第２電極層とを有する有機薄膜太陽電池を、接着層を介して少なくとも二つ積層することを特徴とするものである。
【０１３６】
本実施態様の有機薄膜太陽電池について、図面を用いて説明する。図７は、本実施態様の有機薄膜太陽電池の一例を示す概略断面図である。図７に示すように、本実施態様の有機薄膜太陽電池は、基板１と、上記基板１上に形成された第１電極層２と、上記第１電極層２上に形成された光電変換層３と、上記光電変換層３上に形成された第２電極層４とを有する有機薄膜太陽電池を、接着層１４を介して二つ積層したものである。
【０１３７】
従来の有機薄膜太陽電池に用いられている光電変換層は、膜厚が薄いため、入射光が光電変換層をすり抜けてしまい、光電変換層が十分に光を吸収できないという不具合があったが、本実施態様によれば、少なくとも二つの有機薄膜太陽電池が積層されていることにより、複数層の光電変換層が光を吸収するため、光を有効利用することができる。したがって、光起電力を向上させることができ、エネルギー変換効率を向上させることが可能となる。
【０１３８】
本実施態様において、有機薄膜太陽電池の積層数としては、少なくとも２層以上であるが、２層〜１０層の範囲内であることが好ましい。積層数が上記範囲より多い場合、光の透過率が低下する可能性があるからである。
【０１３９】
また、本実施態様においては、上記基板、上記第１電極層または上記第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有しており、上記微細な凹凸構造を有する基板と上記光電変換層との間、上記微細な凹凸構造を有する第１電極層と上記光電変換層との間、または上記微細な凹凸構造を有する第２電極層と上記光電変換層との間にバッファー層が形成されていることが好ましい。基板、第１電極層または第２電極層の少なくともいずれかが微細な凹凸構造を有することにより、入射光がこの凹凸構造によって散乱され、光電変換層内を透過する光が増加するため、光電変換層の光の吸収率をより向上させることができるからである。また、凹凸構造を有する基板、第１電極層または第２電極層と光電変換層との間に、バッファー層が形成されるため、凹凸構造により膜厚の薄い光電変換層が短絡することを防止することができるからである。
【０１４０】
なお、本実施態様に用いられる基板、第１電極層、光電変換層および第２電極層に関しては、上述した第１実施態様に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。以下、本実施態様に用いられる接着層について説明する。
【０１４１】
（１）接着層
本実施態様に用いられる接着層は、例えば二つの有機薄膜太陽電池を積層する際、下側の有機薄膜太陽電池の第２電極層と、上側の有機薄膜太陽電池の基板とを接着するために設けられる層である。
【０１４２】
このような接着層としては、接着性があり、透明なものであれば特に限定されないが、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等を使用することができる。また、（メタ）アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂、ビニル系樹脂等をビヒクルの主成分とする加熱溶融型接着剤、光硬化型接着剤等の接着剤を使用することもできる。
【０１４３】
また、上記接着層の膜厚としては、１０ｎｍ〜１００００ｎｍの範囲内、中でも１００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が上記範囲より厚い場合、光の透過率が低下する可能性があり、一方、膜厚が上記範囲より薄い場合、接着性が低下する可能性があるからである。
【０１４４】
なお、上記各層以外に、本実施態様の有機薄膜太陽電池を構成することが可能な層に関しては、上述した第１実施態様に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１４５】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１４６】
以下、実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。
【０１４７】
［実施例１］
（第１電極層の形成）
超バリア性フィルム基板の表面にＳｉＯ２によるバリア層を形成し、このバリア層上に透明電極であるＺｎＯ膜（膜厚：１５０ｎｍ、シート抵抗：１０Ω／□）をスパッタリング法により成膜し、パターニングした。この際上記ＺｎＯ膜は、高さ１００〜３００ｎｍ、ピッチ２００〜４００ｎｍの凹凸構造を有するように形成した。次いで、上記ＺｎＯ膜が形成された基板をアセトン、基板洗浄液、およびＩＰＡを用いてそれぞれ洗浄し、凹凸構造を有する第１電極層を形成した。
【０１４８】
（バッファー層の形成）
上記第１電極層上に、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ（ポリ（３，４）−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォネート水分散液）を５００ｎｍの膜厚となるようにスピンコートし、１５０℃で６０分間乾燥させ、短絡防止用のバッファー層を形成した。
【０１４９】
（光電変換層の形成）
正孔輸送層として、ポリチオフェン（Ｐ３ＨＴ：ポリ３−ヘキシルチオフェン−２，５−ジイル（レジオレギュラー））をクロロホルム溶媒中に濃度が０．１重量％となるように溶解させ、この溶液をφ０．２μｍのろ紙でフィルタリングして、塗工液を調製した。この塗工液を上記バッファー層上にスピンコートし、１１０℃で１０分間乾燥させ、膜厚３０ｎｍの正孔輸送層を形成した。
【０１５０】
次に、電子輸送層として、ポリフルオレンをキシレン溶媒中に濃度が０．３重量％となるように溶解させ、この溶液をφ０．２μｍのろ紙でフィルタリングして、塗工液を調製した。この塗工液を、上記正孔輸送層上にスピンコートし、１１０℃で１０分間乾燥させ、膜厚３０ｎｍの電子輸送層を形成した。
【０１５１】
さらに、上記正孔輸送層および電子輸送層を形成した基板を１５０℃で６０分間アニール処理し、塗工成分のパッキングを向上させた。
【０１５２】
（第２電極層の形成）
上記電子輸送層上に、Ｃａを蒸着法により１００ｎｍの膜厚となるように成膜し、さらにその上にＡｌを蒸着法により５００ｎｍの膜厚となるように成膜して、第２電極層を形成した。
【０１５３】
最後に、保護シートおよび接着性封止材により、上記第２電極層側から封止して、バイレイヤー型の有機薄膜太陽電池を作製した。
【０１５４】
［実施例２］
（第１電極層の形成）
ガラス基板の表面にＳｉＯ２によるバリア層を形成し、このバリア層上に透明電極であるＳｎＯ２膜（膜厚：１５０ｎｍ、シート抵抗：１５Ω／□）をＣＶＤ法によりテクスチャー構造となるように成膜し、パターニングした。次いで、上記ＳｎＯ２膜が形成された基板をアセトン、基板洗浄液、およびＩＰＡを用いてそれぞれ洗浄し、テクスチャー構造を有する第１電極層を形成した。
【０１５５】
（バッファー層の形成）
上記第１電極層上に、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ（ポリ（３，４）−エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォネート水分散液）をスピンコートし、１５０℃で６０分間乾燥させ、膜厚６００ｎｍのバッファー層を形成した。
【０１５６】
（光電変換層の形成）
ポリチオフェン（Ｐ３ＨＴ：ポリ３−ヘキシルチオフェン−２，５−ジイル（レジオレギュラー））、ポリフルオレンおよびフラーレン（ＰＣＢＭ：［６，６］−フェニル−Ｃ６１ブチリックアシッドメチルエステル）をクロロホルム溶媒中に重量比が１：１：１で、濃度が０．１重量％となるように溶解させ、この溶液をφ０．２μｍのろ紙でフィルタリングして、塗工液を調製した。この塗工液を上記バッファー層上にスピンコートし、１１０℃で１０分間乾燥させ、膜厚５０ｎｍの電子正孔輸送層を形成した。
【０１５７】
さらに、上記電子正孔輸送層を形成した基板を１５０℃で６０分間アニール処理し、塗工成分のパッキングを向上させた。
【０１５８】
（第２電極層の形成）
上記電子正孔輸送層上に、Ｃａを蒸着法により１００ｎｍの膜厚となるように成膜し、さらにその上にＡｌを蒸着法により５００ｎｍの膜厚となるように成膜して、第２電極層を形成した。
【０１５９】
最後に、保護シートおよび接着性封止材により、上記第２電極層側から封止して、バルクヘテロ接合型の有機薄膜太陽電池を作製した。
【０１６０】
［比較例１］
（第１電極層の形成）
超バリア性フィルム基板の表面にＳｉＯ２によるバリア層を形成し、このバリア層上に透明電極であるＺｎＯ膜（膜厚：１５０ｎｍ、シート抵抗：１０Ω／□）をスパッタリング法により成膜し、パターニングした。この際上記ＺｎＯ膜は、高さ１００〜３００ｎｍ、ピッチ２００〜４００ｎｍの凹凸構造を有するように形成した。次いで、上記ＺｎＯ膜が形成された基板をアセトン、基板洗浄液、およびＩＰＡを用いてそれぞれ洗浄し、凹凸構造を有する第１電極層を形成した。
【０１６１】
（光電変換層の形成）
正孔輸送層として、ポリチオフェン（Ｐ３ＨＴ：ポリ３−ヘキシルチオフェン−２，５−ジイル（レジオレギュラー））をクロロホルム溶媒中に濃度が０．１重量％となるように溶解させ、この溶液をφ０．２μｍのろ紙でフィルタリングして、塗工液を調製した。この塗工液を上記第１電極層上にスピンコートし、１１０℃で１０分間乾燥させ、膜厚３０ｎｍの正孔輸送層を形成した。
【０１６２】
次に、電子輸送層として、ポリフルオレンをキシレン溶媒中に濃度が０．３重量％となるように溶解させ、この溶液をφ０．２μｍのろ紙でフィルタリングして、塗工液を調製した。この塗工液を、上記正孔輸送層上にスピンコートし、１１０℃で１０分間乾燥させ、膜厚３０ｎｍの電子輸送層を形成した。
【０１６３】
さらに、上記正孔輸送層および電子輸送層を形成した基板を１５０℃で６０分間アニール処理し、塗工成分のパッキングを向上させた。
【０１６４】
（第２電極層の形成）
上記電子輸送層上に、Ｃａを蒸着法により１００ｎｍの膜厚となるように成膜し、さらにその上にＡｌを蒸着法により５００ｎｍの膜厚となるように成膜して、第２電極層を形成した。
【０１６５】
最後に、保護シートおよび接着性封止材により、上記第２電極層側から封止して、バイレイヤー型の有機薄膜太陽電池を作製した。
【０１６６】
［評価］
太陽電池特性に関しては、ＡＭ１．５、擬似太陽光（１００ｍＷ／ｃｍ２）を照射光源とし、ソースメジャーユニット（ＨＰ社製、ＨＰ４１００）にて電圧印加により電流電圧特性の評価を行った。
また、フレキシブル性については、作製した有機薄膜太陽電池をＲ１００ｍｍφの円柱に巻きつけ、その前後での効率変化の有無により評価した。効率変化のないものを「○」で表し、効率変化のあるものを「×」で表す。
さらに、光電変換能については、発電するか否かにより評価した。発電するものを「○」で表し、短絡により発電しないものを「×」で表す。
評価結果を下記表１に示す。
【０１６７】
【表１】
2007005620.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【０１６８】
【図１】本発明の有機薄膜太陽電池の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の有機薄膜太陽電池の他の例を示す概略断面図である。
【図３】凹凸構造を説明するための説明図である。
【図４】本発明の有機薄膜太陽電池の他の例を示す概略断面図である。
【図５】本発明の有機薄膜太陽電池の他の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明の有機薄膜太陽電池の他の例を示す概略断面図である。
【図７】本発明の有機薄膜太陽電池の他の例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１６９】
１  …  基板
２  …  第１電極層
３  …  光電変換層
４  …  第２電極層
５  …  バッファー層
６  …  反射防止層
７  …  バリア層
８  …  保護シート
【図１】
2007005620.tif 000004
【図２】
2007005620.tif 000005
【図３】
2007005620.tif 000006
【図４】
2007005620.tif 000007
【図５】
2007005620.tif 000008
【図６】
2007005620.tif 000009
【図７】
2007005620.tif 000010