(57)【要約】【課題】磁気ディスクの製造等に使用される成膜装置において、装置の製作コストの増加を抑えつつ、成膜の基材となるディスク基板の落下や固定位置のずれを防止して、製造歩留まリの向上を図り、また、磁気特性及び電磁変換特性の良好な磁気ディスクの製造を可能とする。【解決手段】成膜装置の剛性を向上させ、成膜装置の振動を防止すべく、一体の非磁性母材（ステンレス（SUS）もしくはアルミニウム（Al）など）から、複数の成膜室１ａ，１ｂ，１ｃ及び成膜室１ａ，１ｂ，１ｃ間の連結部２ａ，２ｂ，２ｃを一つのセルとして加工して作製する。【選択図】図２
2007270188.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の成膜室と、
前記各成膜室間を連結させる連結部とを備え、
前記各成膜室及び前記連結部とは、一体の非磁性母材から加工されて作製されている
ことを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
複数の成膜室と、
前記各成膜室間を連結させる連結部と、
被成膜基板を前記複数の成膜室間に亘って搬送する搬送機構と
を備え、
前記搬送機構は、前記被成膜基板の搬送をガイドするガイドレールを有しており、このガイドレールは、一体の部材により作製されている
ことを特徴とする成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、ハードディスク装置等に搭載される磁気ディスクの製造等に使用される成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、家電製品の多くが、いわゆる「デジタル家電」化されるつつあり、その記憶装置として搭載されるハードディスクドライブの需要が年々高まってきている。そのため、ハードディスクドライブに使用される磁気ディスクを安定して大量に供給することが求められている。
【０００３】
ハードディスクドライブに搭載される磁気ディスクは、非磁性円盤状のディスク基板上に磁性薄膜を含む積層膜（多層膜）が成膜された磁気記録媒体である。この積層膜は、ディスク基板を成膜装置の成膜室内に設置し、真空排気後、スパッタリング法、または、ＣＶＤ法等によって成膜される。
【０００４】
このような磁気ディスクの供給量は、一般的に、成膜装置の稼働率と歩留まりによって決定されてしまう。そのため、成膜装置においては、特許文献１に記載されているように、成膜室内部の表面処理の改善や、ディスク基板の支持構造の改善などが検討されている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−９１４４公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、成膜装置においては、成膜室内の高真空度を維持するため、各成膜室内の排気を行う排気ポンプの大容量化や、排気ポンプとして断熱圧縮法を利用したクライオポンプの採用、また、各成膜室を仕切るための可動バルブ等の採用が必須である。クライオポンプは、ターボ分子ポンプに比べて振動が大きいため、排気ポンプの大容量化により、成膜装置全体に振動が生ずる虞れがある。
【０００７】
そして、このような成膜装置の振動が、磁気ディスクの製造歩留まりを低下させる要因となっている。すなわち、近年、成膜装置においては、高スループット及び高稼働率が要求されており、成膜室間におけるディスク基板の搬送速度が高速化している。そのため、成膜装置が振動すると、搬送中のディスク基板が落下してしまったり、支持機構に対するディスク基板の固定位置のずれが生ずる虞れがある。ディスク基板の固定位置にずれが生ずると、成膜される積層膜の膜厚分布にばらつきが生じ、完成した磁気ディスクにおける磁気特性及び電磁変換特性が劣化して、歩留まりの低下が招来される。
【０００８】
このような成膜装置の振動に対しては、ディスク基板の支持構造を改善することにより対処することが考えられる。しかし、この場合には、支持構造の調整が煩雑であり、調整作業者の熟練度によって、磁気ディスクの製造歩留まりがばらついてしまう虞れがある。
【０００９】
したがって、成膜装置全体を振動に強い構造とする必要があるが、従来の成膜装置は、それぞれが個別に作製された複数の成膜室が連結されて構成されているために、これら成膜室同士の連結部分において振動が生じやすい構造となっている。成膜室間を連結させるためのユニットは、成膜室そのものに対して断面積が小さく、剛性も低いからである。さらに、連結部分のユニットは、成膜室に対してネジ止めによって固定されているため、成膜室同士は固定ネジの締め付けトルクのみによって連結されており、十分な剛性が得られず、また、振動が吸収されることがない。成膜室同士の間に振動吸収部材を設置し、振動を吸収させることが考えられるが、吸収部材の材料の選択などの最適化が困難であり、十分な効果を得ることは困難である。
【００１０】
また、従来の成膜装置においては、成膜室同士の連結部分においてリークが発生する虞れがある。すなわち、成膜室内に種々の気体分子（ヘリウム、酸素、窒素など）が導入されてしまう可能性があり、成膜される積層膜の膜質に悪影響が生ずる虞れがある。特に、酸素が導入してしまうと、磁性薄膜の磁気特性が劣化する。
【００１１】
さらに、従来の成膜装置においては、部品点数が多く、メンテナンスや管理に関する効率が悪く、また、一度、成膜室同士を連結してしまうと、連結部分だけを取り出してメンテナンスを行うことは困難である。
【００１２】
そこで、本発明は、前述の実情に鑑みて提案されるものであって、その目的は、磁気ディスクの製造等に使用される成膜装置において、装置の製作コストの増加を抑えつつ、成膜の基材となるディスク基板の落下や固定位置のずれを防止して、製造歩留まリの向上を図り、また、磁気特性及び電磁変換特性の良好な磁気ディスクの製造を可能とすることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前述の課題を解決し、前記目的を達成するため、本発明においては、成膜装置の剛性を向上させ、成膜装置の振動を防止すべく、一体の非磁性母材（ステンレス（SUS）もしくはアルミニウム（Al）など）から、複数の成膜室及び成膜室間の連結部を一つのセルとして加工して作製する。
【００１４】
すなわち、本発明は、以下のいずれか一の構成を有するものである。
【００１５】
〔構成１〕
本発明に係る成膜装置は、複数の成膜室と、これら成膜室間を連結させる連結部とを備え、これら各成膜室及び連結部とは、一体の非磁性母材から加工されて作製されていることを特徴とするものである。
【００１６】
〔構成２〕
本発明に係る成膜装置は、複数の成膜室と、これら成膜室間を連結させる連結部と、被成膜基板を複数の成膜室間に亘って搬送する搬送機構とを備え、搬送機構は、被成膜基板の搬送をガイドするガイドレールを有しており、このガイドレールは、一体の部材により作製されていることを特徴とするものである。
【００１７】
本発明に係る成膜装置においては、成膜装置本体の剛性が向上されることにより、振動による被成膜基板の落下や固定位置のずれの発生が防止され、また、連結部におけるリーク発生が防止され、製造歩留まり向上と、磁気特性及び電磁変換特性の良好な磁気ディスクの製造とが図られる。
【００１８】
また、この成膜装置においては、各成膜室間の連結部における部品点数が削減されるため、メンテナンスや管理の効率化が図られる。
【発明の効果】
【００１９】
構成１を有する本発明に係る成膜装置においては、成膜装置本体の剛性が向上され、振動による被成膜基板の落下や固定位置のずれの発生が防止され、また、連結部におけるリーク発生が防止され、製造歩留まり向上と、磁気特性及び電磁変換特性の良好な磁気ディスクの製造とが可能となる。
【００２０】
また、この成膜装置においては、各成膜室間の連結部における部品点数が削減されるため、メンテナンスや管理の効率化が図られる。
【００２１】
構成２を有する本発明に係る成膜装置においては、被成膜基板を複数の成膜室間に亘って搬送する搬送機構のガイドレールに継ぎ目がないため、搬送中の振動による被成膜基板の落下や固定位置のずれの発生が防止され、製造歩留まり向上と、磁気特性及び電磁変換特性の良好な磁気ディスクの製造とが図られる。
【００２２】
すなわち、本発明は、磁気ディスクの製造等に使用される成膜装置において、装置の製作コストの増加を抑えつつ、成膜の基材となるディスク基板の落下や固定位置のずれを防止して、製造歩留まリの向上を図り、また、磁気特性及び電磁変換特性の良好な磁気ディスクの製造を可能とすることができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照して、本発明の最良の実施の形態について説明する。
【００２４】
図１は、本発明に係る成膜装置の要部となる複数の成膜室の構成を示す正面図である。
【００２５】
本発明に係る成膜装置は、図１に示すように、複数の成膜室１ａ，１ｂ，１ｃ・・・と、これら成膜室間を連結させる連結部２ａ，２ｂ，２ｃ・・・とを備えている。そして、これら各成膜室１ａ，１ｂ，１ｃ・・・及び連結部２ａ，２ｂ，２ｃ・・・とは、一体の非磁性母材、例えば、ステンレス（SUS）もしくはアルミニウム（Al）などからなる母材１０１から、切削加工によって作製されている。すなわち、この成膜装置においては、各成膜室が個々に１ユニットとなっているのではなく、複数の成膜室とこれら成膜室間を連結する連結部とが、一体的に構成され、高い剛性を実現している。
【００２６】
図２は、本発明に係る成膜装置の構成を示す正面図である。
【００２７】
非磁性母材１０１から製作された複数の成膜室１ａ，１ｂ，１ｃ・・・及び連結部２ａ，２ｂ，２ｃ・・・には、図２に示すように、カソード取り付け用フランジ３、各真空計を取り付けるためのポート４及びプロセスガス導入ポート５が設けられ、また、排気用バルブ、もしくは、ポンプ６が取り付けられるようポートを設けている。さらに、連結部２ａ，２ｂ，２ｃ・・・には、可動バルブ７が取り付けられるようになっている。
【００２８】
成膜室１ａ，１ｂ，１ｃ・・・の内部の表面処理としては、電解研磨、化学研磨、非磁性不導体膜処理を施すことが望ましい。また、加工ミスやリークを未然に防ぐためには、溶接箇所を減らすことが望ましい。
【００２９】
装置本体を支える脚部分８としては、鉄骨組み、もしくは、耐加重の考慮されたグリエーティングを採用することが望ましい。なお、この脚部分８は、せん断変形を防ぐため、いわゆるハーモニカ方式ではなく、斜めの部材を追加することにより、装置の剛性を向上させることが望ましい。
【００３０】
また、この成膜装置は、被成膜基板を複数の成膜室１ａ，１ｂ，１ｃ・・・間に亘って搬送する搬送機構９を備えている。
【００３１】
被成膜基板は、基板ホルダ１０により支持されて搬送される。基板ホルダ１０は、爪バネ式もしくはコイルバネ式により、被成膜基板の側面のみに触れて被成膜基板を支持するようになっている。この基板ホルダ１０において、被成膜基板との接触箇所については、発塵対策がなされていることが望ましい。
【００３２】
図３は、搬送機構の要部の構成を示す断面図である。
【００３３】
搬送機構９は、基板ホルダ１０を支持して、被成膜基板の搬送をガイドするガイドレール１１を有している。このガイドレール１１は、複数の成膜室１ａ，１ｂ，１ｃ・・・に対応する領域に亘って、継ぎ目のない一体の部材により作製されており、図３に示すように、搬送方向に沿って、複数のベアリング１２が配設されている。基板ホルダ９は、複数のベアリング１２によって、移動可能に支持される。
【００３４】
この搬送機構９は、基板ホルダ９に設けられたマグネット１３とガイドレール１１側に設けられたコイルとによって構成されるリニアモータを有している。基板ホルダ９は、このリニアモータにより、ガイドレール１１に沿って搬送される。
【００３５】
なお、被成膜基板は、基板ホルダ９により支持されたときに、ガイドレール１１に対して垂直、もしくは、水平となることが望ましい。
【００３６】
この成膜装置においては、装置全体の剛性が向上し、被成膜基板の落下や固定位置のずれが防止され、製造歩留まリが向上され、また、膜厚分布の安定した成膜を行うことができる。さらに、各成膜室間の連結部からのリークが発生しないことから、膜質の安定した成膜を行うことができる。
【００３７】
また、この成膜装置においては、一体の非磁性母材１０１から、複数の成膜室１ａ，１ｂ，１ｃ・・・及び連結部２ａ，２ｂ，２ｃ・・・を加工し製作するため、製作コストを低減させることができる。
【００３８】
この成膜装置は、被成膜基板として、アモルファスガラス、結晶化ガラス、ディスクリートガラスのようなガラス基板や、アルミニウム、ＮｉＰを塗布したアルミニウム基板を用いて、これら被成膜基板上に、非磁性下地層、軟磁性層、非磁性層、軟磁性層、非磁性下地層、非磁性中間層、記録層、保護層からなる積層多層膜を成膜して磁気ディスクを製造する成膜装置として好適である。なお、軟磁性層と記録層との間の層は、磁気ディスクとして必要な記録密度によって、材料を選択できるようにしておくことが望ましい。
【実施例】
【００３９】
本発明に係る成膜装置として、複数の成膜室を一体の非磁性母材から作製した。この実施例では、４つの成膜室を１セルとして作製した。そして、リークが起きないように、各ポートを塞ぎ、リークチェックを行った。リークチェックは、イオンマスフィルタを用いて、成膜室内のイオン数を検出した。
【００４０】
図４は、実施例及び比較例（従来の成膜装置）における成膜室内の各ガスの分圧を示すグラフである。
【００４１】
この実施例における成膜装置においては、図４に示すように、比較例（従来の成膜装置）に比較して、成膜室内の各ガスの分圧が低いことが確認された。なお、分圧が低いことは、成膜室内のイオンの数が少ないことを示している。
【００４２】
なお、図４中の（ａ）は、可変バルブを閉じ、１つの成膜室内の各ガスの分圧を検出した結果である。図４中の（ｂ）は、可変バルブを開けて、全て（４つ）の成膜室内の各ガスの分圧を検出した結果である。
【００４３】
このように、本発明に係る成膜装置においては、従来の成膜装置に比較して、リークが少ないことが確認され、安定した膜質の成膜を行うことができることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明に係る成膜装置の要部となる複数の成膜室の構成を示す正面図である。
【図２】本発明に係る成膜装置の構成を示す正面図である。
【図３】本発明に係る成膜装置における搬送機構の要部の構成を示す断面図である。
【図４】本発明の実施例及び比較例（従来の成膜装置）における成膜室内の各ガスの分圧を示すグラフである。
【符号の説明】
【００４５】
１ａ，１ｂ，１ｃ  成膜室
２ａ，２ｂ，２ｃ  連結部
３                カソード取り付け用フランジ
４                真空計取り付けポート
５                プロセスガス導入ポート
６                ポンプ
７                可動バルブ
８                脚部分
９                搬送機構
１０                基板ホルダ
１１                ガイドレール
１２                ベアリング
１３                マグネット
【図１】
2007270188.tif 000003
【図２】
2007270188.tif 000004
【図３】
2007270188.tif 000005
【図４】
2007270188.tif 000006