(57)【要約】  【課題】  フォトマスクと基板の密着性の高い密着型露光装置を提供する。  【解決手段】  基板２の外側周囲に枠体３が装着され、吸着口５６により吸着固定される。枠体３によりフォトマスクと基板の密着性が向上する。また枠体３は一体であるため、吸着によって確実に固定が可能であり、また取り付け取り外しを簡単に行え、更に自動化も用意である。枠体３の裏面には流通溝３０が形成され、枠体３０と基板２との間に生じる隙間３５の吸引を行い、フォトマスク１と基板２の密着を確実に行う。【選択図】  図１
2007171621.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリント配線基板を載置するプラテンと、露光すべきパターンが描かれ、プリント配線基板に接触して該パターンを露光するためのフォトマスクと、前記フォトマスクとプリント配線基板との間をシールする装置と、前記フォトマスクとプリント配線基板との間を吸引する吸引装置と、を備えた密着型露光装置において、
前記プリント配線基板を囲む形状をなし、プリント配線基板とほぼ同厚の枠体と、
該枠体を前記プラテン上に着脱可能に固定する吸着装置と、
を備えたことを特徴とする密着型露光装置。
【請求項２】
前記プラテンと接触する枠体の面に形成され、枠体の内側と外側とを連通する流通溝を、更に有する、
請求項1の密着型露光装置。
【請求項３】
前記枠体と接触するプラテンの面に形成され、枠体の内側と外側とを連通する流通溝を、更に有する、
請求項1の密着型露光装置。
【請求項４】
プリント配線基板を載置するプラテンと、露光すべきパターンが描かれ、プリント配線基板に接触して該パターンを露光するためのフォトマスクと、前記フォトマスクとプリント配線基板との間をシールする装置と、前記フォトマスクとプリント配線基板との間を吸引する吸引装置と、を備えた密着型露光装置において、
前記プラテン上に載置され、且つ前記プリント配線基板をその上に載置するベース板と、
該ベース板上に載置されるプリント配線基板の両脇に置かれるプリント配線基板とほぼ同厚の1対の平板と、
該ベース板を前記プラテン上に着脱可能に固定する吸着装置と、
を備えたことを特徴とする密着型露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、密着型露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトレジストなどの感光材料を塗布した基板の表面に所定のパターンを露光装置により感光焼き付けし、その後エッチング工程により基板上にパターンを形成するフォトリソグラフィ法が種々の分野で広く応用されており、プリント配線基板も近年露光装置を用いて製造されている。
この露光装置において、露光の際にパターン原画が描かれたフォトマスクとプリント基板との密着性を高めるため、両者の間を真空に引いて密着させる真空密着方法が広く採用されており、この方法による露光装置を密着型露光装置と称している。しかし、密着型露光装置において、フォトマスクとプリント基板とを完全に均一に密着させることは難しい問題があった。フォトマスクはガラス製か或いは露光すべき回路等を描いたフォトマスクフィルムを貼着したガラス又は樹脂板から成るが、真空圧により該フォトマスクがプリント配線基板に接触する際に、プリント配線基板に接触しないフォトマスクの周縁部に撓みが生じて、その結果プリント配線基板とフォトマスクの接触が不良になる部分が生じることがある。この接触不良は露光時の解像不良となる。
この問題を防止するため、従来から基板の周囲に複数のスペーサ片をテープなどで貼着する方法や、或いは吸引孔に足を差し込んで固定する（文献１）等の方法で配置し、このスペーサ片によりフォトマスクの歪みを抑制することが行われている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−４２５４３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、複数のスペーサ片をテープで貼り付けたり、或いは吸引孔に差し込む作業が複雑であり、取り付け、取り外しに多大の手間が掛かる問題があった。特にスペーサは基板の厚さや大きさに応じて交換する必要があり、その度に交換作業を時間をかけて行う必要があった。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明は、プリント配線基板を載置するプラテンと、露光すべきパターンが描かれ、プリント配線基板に接触して該パターンを露光するためのフォトマスクと、前記フォトマスクとプリント配線基板との間をシールする装置と、前記フォトマスクとプリント配線基板との間を吸引する吸引装置と、を備えた密着型露光装置において、前記プリント配線基板を囲む形状をなし、プリント配線基板とほぼ同厚の枠体と、該枠体を前記プラテン上に着脱可能に固定する吸着装置と、を備えたことを特徴とする。
上記構成において、枠体によりフォトマスクがプリント配線基板に密着する際に歪むことがなく、フォトマスクとプリント配線基板の密着性が向上し、良好な露光を行うことができる。また、枠体は、一体的な１つの部材であるから、取り付け取り外しが簡単で、自動搬送や自動交換が可能になる。更に枠体は吸着装置により着脱可能に固定されるから、取り付け、交換などが更に簡単に行える。
枠体の厚さは、プリント配線基板の厚さと同じ、或いは０〜＋０．１mm程度若干厚くする。条件によっては基板に対して−０．２〜＋０．２ｍｍとすることも可能である。
前記枠体を基板周囲に装着した場合、枠体の内側のスペースの吸引が阻害される場合がある。そのため、前記プラテンと接触する枠体の裏面側に枠体の内側と外側とを連通する流通溝を形成し、枠体の内側のスペースの吸引を効果的に行えるように構成することが望ましい。なお該流通溝はプラテン側に設けても良い。
なお枠体を形成できない時は、プリント配線基板の両脇に載置される平板とするように構成することも可能である。この場合、前記プラテン上に載置され、且つ前記プリント配線基板をその上に載置するベース板と、該ベース板上に載置されるプリント配線基板の両脇に置かれるプリント配線基板とほぼ同厚の1対の平板と、該ベース板を前記プラテン上に着脱可能に固定する吸着装置と、を備えることを特徴とする。
この構成においても、平板はベース板と一体に吸着装置により着脱可能に固定されるから、取り付け、交換などが簡単に行える。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の密着型露光装置によれば、フォトマスクとプリント配線基板の密着性が向上し、良好な露光を行うことができる。また枠体は一体的な１つの部材であるから、取り付け取り外しが簡単で、自動搬送や自動交換が可能になり、更に吸着により着脱可能に確実に固定されるから、取り付け、交換などが更に簡単に行える、等の効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１はプリント配線基板を製造するための密着型露光装置であり、フォトレジストを施されたプリント配線基板２はプラテン２０上に載置され、移動機構２１によりＸＹＺ及びθ方向に移動可能になっている。
【０００８】
回路パターンが描かれたフォトマスク１は基板２の上方に基板２に対向するようにフォトマスク支持装置１０に支持されており、基板２をフォトマスク１に接近させ、フォトマスク１と基板２の間を吸引して密着させ、露光光源９０からの露光によりフォトマスク１の回路パターンを基板２に焼き付けるようなっている。
【０００９】
フォトマスク１はガラスマスクになっており、回路パターンを直接描いてあるか或いは回路パターンを描いたフィルムマスクを貼着してある。
【００１０】
なお、ＣＣＤカメラ９１はフォトマスク１と基板２の位置合わせのために用いられる。
また制御装置９９は装置全体を制御している。
【００１１】
なお、プラテン２０を移動させるのではなくフォトマスク支持装置１０を移動させることも可能であり、更に両者を移動させるように構成することも可能である。
【００１２】
図２に示すように、プラテン２０上の基板２を載置する部分の周囲にはパッキン４が装着されている。このパッキン４は基板２を載置する部分の周囲に配置されており、フォトマスク１と基板２の間の空間をシールして、図３に示すシール空間４０を形成するようになっている。
該シールされたシール空間４０は吸引路５０と吸引ポンプ５１を備えた吸引装置５により吸引されるように構成されている。
【００１３】
吸引路５０はプラテン２０に形成され、図３に示すようにプラテン２０の表面上、パッキン４の内側に開口する吸引口５２を有している。該吸引口５２と吸引路５０及び吸引ポンプ５１により、パッキン４によりシールされるシール空間４０を吸引し、フォトマスク１をプリント配線基板２上に密着させるように構成されている。
【００１４】
基板２の外側周囲には更に枠体３が装着されるようになっている。枠体３は板状の枠であり、その内側に所定の隙間３５を空けてプリント配線基板２を納める大きさを有している。枠体３の厚さは、前記したようにほぼプリント配線基板２と同じか、０〜＋０．２mmの範囲で若干厚くする。また、枠体３の材質は、プリント基板と同等以上の硬さを有する材質とし、加工性、運搬性を等の点からステンレス材が好ましい。また、プリント基板が厚く、枠体３が厚い場合は、アクリル、ＰＥＴ、塩ビなどの樹脂等を用いて軽量化を図ることも可能である。
【００１５】
図２と図３に示すように、プラテン２０には吸着路５５と吸着口５６が更に形成され、基板２と枠体３の吸着固定を行うようになっている。即ち、枠体３はプラテン２０上に載置され、その下側に開口する吸着口５６と吸着路５５を介して吸引装置５の吸引により脱着可能にプラテン２０上に吸着されるように構成されている。吸着口５６は図２に示すように枠体３のほぼ枠形状全面に相当する位置に配設され、吸着固定を確実に行えるようになっている。
またプリント配線基板２も同様に吸着口５６と吸着路５５を介して吸引装置５の吸引によりプラテン２０上に吸着される。
吸引路５０と吸着路５５は別回路になっており、個別に吸引が可能である。吸引ポンプ５１は共通に用いても良いし、個別のポンプを装着しても良い。
枠体３は一体であるため、上記のような吸着によっても確実に固定が可能である。
【００１６】
枠体３の裏面、プラテン２０側の面には流通溝３０が形成されており、枠体３０と基板２との間に生じる隙間３５の吸引を効果的に行えるようになっている。
本発明のように枠体３で基板２を囲った場合、図４と図５に示すように、フォトマスク１と基板２が密着した時に、隙間３５は閉鎖空間となり吸引口５２からの吸引ができない状態になる。そのため、流通溝３０により枠体１の内側（隙間３５）と外側を連通させ、隙間３５の吸引を確実に行い、フォトマスク１と基板２の密着を確実に行えるように構成されている。
図２に示すようにこの実施形態では流通溝３０は、４カ所に設けられているが、必要に応じて増減可能である。
また流通溝３０はプラテン２０側に形成しても良い。
【００１７】
なお、枠体３の大きさと厚さはプリント配線基板２に応じて変更すればよい。また、枠体３の装着と交換は、プリント配線基板２を搬送する搬送ハンドにより行うことも可能である。また、専用の搬送装置を設けても良いし、更に人手により行っても良い。
いずれの場合にも、枠体３は一体であり、またプラテン２０上に載置して、吸引装置５の吸引により吸着する構成であるため、装着と交換は容易である。
【００１８】
動作を説明する。
プラテン２０上に吸着された枠体３の中に、搬送ハンド（図示せず）などによりプリント配線基板２を載置し、吸着固定する。
制御装置９９は移動機構２１によりフォトマスク１とプリント配線基板２の位置合わせなどの所定の処理を終了すると、移動機構２１を制御してプラテン２０を上方に移動させて、フォトマスク１と基板２とを接近させ、両者が密着する位置で停止する。
【００１９】
移動機構２１の移動を停止したら、制御装置９９は吸引ポンプ５１を制御して吸引を開始する。この吸引によりフォトマスク１と基板２の間のシール空間４０は負圧状態となり、また流通溝３０により隙間３５も吸引も確実に行え、フォトマスク１は基板２に確実に密着する。
この際、プリント配線基板２に接触しないフォトマスク１の周縁部は、プリント配線基板２とほぼ同厚の枠体３に接触し、そのためフォトマスク１に撓みが生じることがなく、その結果プリント配線基板２とフォトマスク１の密着は良好に行われる。
【００２０】
フォトマスク１と基板２が密着したら、露光光源９０から露光光を照射してフォトマスク１の回路パターンを基板２に焼き付けて、露光を終了し次の工程に移動する。
【００２１】
図４と図５に他の実施形態を示す。
この実施形態は、枠体３を形成できない場合に用いられる。
ベース板７はプラテン２０上に載置されるように構成され、その両脇にスペーサ７０を１対貼着固定してある。このスペーサ７０間にプリント配線基板２を載置するようになっている。
ベース板７のプリント配線基板２載置部分には吸着孔７１が複数設けられており、前記プラテン２０上に開口する吸着口５６と連通して、プリント配線基板２の吸着を行うようになっている。
ベース板７自体も枠体３の場合と同様に、吸着口５６を介して吸引装置５により吸着される。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態を示す概略図。
【図２】本発明の一実施形態を示す平面図。
【図３】本発明の一実施形態を示す側面図。
【図４】本発明の一実施形態の動作説明図。
【図５】図４の部分拡大図。
【図６】本発明の他の実施形態を示す平面図。
【図７】本発明の他の実施形態を示す側面図。
【符号の説明】
【００２３】
１：フォトマスク、２：基板、３：保持装置、４：パッキン、５：吸引装置、７：ベース板７、１０：フォトマスク支持装置、２０：プラテン、２１：移動機構、３０：流通溝、３５：隙間、４０：シール空間、５０：吸引路、５１：吸引ポンプ、５２：吸引口、５５：吸着路、５６：吸着口、７０：スペーサ、７１：吸着孔、９０：露光光源、９１：ＣＣＤカメラ、９９：制御装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2007171621.tif 000007
【図６】
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【図７】
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