(57)【要約】【課題】基板上の異物残留を低減できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。【解決手段】基板Ｗを載置して回転するステージ４と、回転する基板Ｗ上に処理液を供給するノズル６、７と、上方から基板Ｗに向かう気流Ａを発生させる気流発生手段とを備えた基板処理装置１において、ステージ４の周部に開口部４ｃを設け、気流Ａを開口部４ｃを介してステージ４の下方に通過させるようにした。【選択図】図２
2007266371.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置して回転するステージと、回転する前記基板上に第１処理液を供給する第１
処理液供給手段と、上方から前記基板に向かう気流を発生させる気流発生手段とを備えた
基板処理装置において、前記ステージの周部に開口部を設けたことを特徴とする基板処理
装置。
【請求項２】
回転する前記基板上に第２処理液を供給する第２処理液供給手段と、第１処理液供給手
段の駆動時に前記開口部を通過した第１処理液を廃棄する第１廃液経路と、第２処理液供
給手段の駆動時に前記開口部を通過した第２処理液を廃棄する第２廃液経路と、第１、第
２廃液経路を切り換える切換手段とを備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板処理
装置。
【請求項３】
基板を載置して回転するステージと、回転する前記基板上に第１処理液を供給する第１
処理液供給手段と、上方から前記基板に向かう気流を発生させる気流発生手段とを備え、
回転する前記基板に向けて気流を発生しながら前記基板上に供給される第１処理液により
所定の基板処理を行う基板処理方法において、前記ステージの周部に開口部を設け、前記
気流発生手段で発生した気流を前記基板の周囲から前記開口部を介して下方に流通させた
ことを特徴とする基板処理方法。
【請求項４】
回転する前記基板上に第２処理液を供給する第２処理液供給手段と、第１処理液供給手
段の駆動時に前記開口部を通過した第１処理液を廃棄する第１廃液経路と、第２処理液供
給手段の駆動時に前記開口部を通過した第２処理液を廃棄する第２廃液経路と、第１、第
２廃液経路を切り換える切換手段とを備えたことを特徴とする請求項３に記載の基板処理
方法。
【請求項５】
第１、第２処理液がそれぞれフッ酸及び純水から成ることを特徴とする請求項４に記載
の基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回転する基板上に洗浄液等の処理液を供給して所定の処理を行う基板処理装
置及び基板処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の基板処理装置は特許文献１に開示されている。図４は、この基板処理装置の概略
構成を示す正面断面図である。基板処理装置１は筒状の上部カバー２及び下部カバー３に
より覆われる。上部カバー２の上面中央部には開口された気体導入部２ａが設けられ、送
風機等の気流発生手段（不図示）によって清浄空気が下方に向けて供給される。
【０００３】
下部カバー３内には、上端部（周縁）がステージ４の外周（外縁）と所定の間隙（隙間
）５ａが保たれた筒状の内カップ５が配される。内カップ５の内側にはスピンドル４ａで
支持されるステージ４が中央に配される。ステージ４上には複数のガイドピン４ｂが突設
され、液晶パネル等に用いられる基板Ｗが位置決めしてステージ４上に載置される。また
、基板Ｗ上に洗浄液等の処理液を供給するノズル（不図示）が設けられている。
【０００４】
上記構成の基板処理装置１において、ステージ４上に基板Ｗが載置されると、スピンド
ル４ａによって基板Ｗとともにステージ４が回転する。基板Ｗの中央部にはノズルからフ
ッ酸等の洗浄液や現像液等から成る処理液が供給され、該処理液は基板Ｗ上をステージ４
の径方向に拡散して飛散する。内カップ５の上端部（周縁）とステージ４とは所定の間隙
（隙間）５ａが保たれて接近して配置され、基板Ｗから飛散した処理液は内カップ５と下
部カバー３との間に導かれて廃棄される。これにより、基板Ｗの洗浄や現像等の基板処理
が行われる。
【０００５】
この時、開口された気体導入部２ａから供給される清浄空気によって矢印Ａに示すよう
に上方から基板Ｗに向かう気流が発生する。該気流は基板Ｗ及びステージ４の周部に衝突
し、矢印Ｂに示すように基板Ｗ上及びステージ４上を外側に向かって流れる。これにより
、処理液の飛散が促進される。
【０００６】
上記の処理液による処理が終了すると、純水から成る処理液がノズルから基板Ｗ上に供
給される。この時、内カップ５がステージ４より高い位置に上昇する。そして、上記と同
様に純水が基板Ｗ上をステージ４の径方向に飛散する。また、清浄空気の気流が上方から
基板Ｗに向かって発生し、純水の飛散を促進する。基板Ｗから飛散した純水は矢印Ｃに示
すように、内カップ５の内側に導かれて廃棄される。これにより、基板Ｗが純水洗浄され
、処理液が除去される。
【０００７】
純水洗浄が終了すると、上部カバー２の開口された気体導入部２ａから基板Ｗ中央に向
けて例えば窒素をブローしながらスピンドル４ａが高速回転する。これにより、基板Ｗ上
に残留する純水が飛散して基板Ｗの乾燥が行われる。
【特許文献１】特開２００１−１６０５３２号公報（第３頁−第８頁、第４図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記従来の基板処理装置１によると、上部カバー２の開口された気体導
入部２ａから供給される清浄空気は基板Ｗ及びステージ４の上面に衝突し、ステージ４と
内カップ５とが接近しているため一部の気流が矢印Ｄ、Ｅに示すように舞い上がる。これ
により、上部カバー２内はフッ酸等の処理液がミスト状になって充満する。このため、ミ
スト状の処理液が基板Ｗ上に付着して乾燥する。また、フッ酸等の処理液が気化して上部
カバー２内に充満し、ミスト状の純水に取り込まれて基板Ｗ上に付着して乾燥する。その
結果、フッ素系結晶物等の異物が基板Ｗ上に残留して基板処理の歩留りを低下させる問題
があった。
【０００９】
本発明は、基板上の異物残留を低減できる基板処理装置及び基板処理方法を提供するこ
とを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために本発明の基板処理装置は、基板を載置して回転するステージ
と、回転する前記基板上に第１処理液を供給する第１処理液供給手段と、上方から前記基
板に向かう気流を発生させる気流発生手段とを備えた基板処理装置において、前記ステー
ジの周部に開口部を設けたことを特徴としている。
【００１１】
この構成によると、ステージ上に基板が載置されるとステージが回転する。基板上には
第１処理液供給手段から第１処理液が供給され、基板の回転により飛散する。また、気流
発生手段により上方から清浄空気等の気流が基板上に衝突して基板に沿って流れ、第１処
理液の飛散が促進される。この時、上方から基板の外側に到達する気流はステージの開口
部を介して下方に流通する。
【００１２】
また本発明は、上記構成の基板処理装置において、回転する前記基板上に第２処理液を
供給する第２処理液供給手段と、第１処理液供給手段の駆動時に前記開口部を通過した第
１処理液を廃棄する第１廃液経路と、第２処理液供給手段の駆動時に前記開口部を通過し
た第２処理液を廃棄する第２廃液経路と、第１、第２廃液経路を切り換える切換手段とを
備えたことを特徴としている。
【００１３】
この構成によると、第１処理液供給手段の駆動により供給される第１処理液は回転によ
る遠心力の働きで中央部から外側に向けて基板に沿って飛散するとともに開口部から下方
に落下して回収され、第１廃液経路を介して廃棄される。また、第２処理液供給手段の駆
動により供給される第２処理液は基板に沿って飛散するとともに開口部から下方に落下し
て回収され、切換手段の切り替えによって第２廃液経路を介して廃棄される。
【００１４】
また本発明の基板処理方法は、基板を載置して回転するステージと、回転する前記基板
上に第１処理液を供給する第１処理液供給手段と、上方から前記基板に向かう気流を発生
させる気流発生手段とを備え、回転する前記基板に向けて気流を発生しながら前記基板上
に供給される処理液により所定の基板処理を行う基板処理方法において、前記ステージの
周部に開口部を設け、前記気流発生手段で発生した気流を前記基板の周囲から前記開口部
を介して下方に流通させたことを特徴としている。
【００１５】
また本発明は上記構成の基板処理方法において、回転する前記基板上に第２処理液を供
給する第２処理液供給手段と、第１処理液供給手段の駆動時に前記開口部を通過した第１
処理液を廃棄する第１廃液経路と、第２処理液供給手段の駆動時に前記開口部を通過した
第２処理液を廃棄する第２廃液経路と、第１、第２廃液経路を切り換える切換手段とを備
えたことを特徴としている。
【００１６】
また本発明は上記構成の基板処理方法において、第１、第２処理液がそれぞれフッ酸及
び純水から成ることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によると、基板を載置するステージの周部に開口部を設けたので、上方から供給
される気流が開口部を介して下方に流通し、気流の舞い上がりを防止することができる。
つまり、開口部を設けることで開口を通じてステージ下方にダウンフローした気流の一部
を逃がし、ステージ平面におけるダウンフローした気流の抵抗を減らすことができるので
、ステージ上方への気流の舞い上がり（跳ね上がり）が抑えられるものである。従って、
基板よりも上方において処理液によるミストの発生が抑制され、基板上の異物残留を低減
することができる。
【００１８】
また本発明によると、第１、第２廃液経路と、第１、第２廃液経路を切り換える切換手
段を設けたので、開口部を介して同様に落下する第１、第２処理液を簡単に区別して廃棄
することができる。
【００１９】
また本発明によると、第１、第２処理液がフッ酸及び純水から成るので、基板上のフッ
素系結晶物から成る異物の残留を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図１、図２は一実施形態の基板処
理装置を示す正面断面図及び上面図である。説明の便宜上、前述の図４に示す従来例と同
様の部分は同一の符号を付している。基板処理装置１は筒状の上部カバー２及び下部カバ
ー３により覆われる。上部カバー２の上面中央部には開口された気体導入部２ａが設けら
れ、送風機等の気流発生手段（不図示）によって清浄空気が下方に向けて供給される。
【００２１】
下部カバー３内には、上端部（周縁）においてステージ４の外周（外縁）と間隙（隙間
）５ａを有した筒状の内カップ５が配される。内カップ５の内側にはスピンドル４ａで支
持されるステージ４が中央に配される。ステージ４上には複数のガイドピン４ｂが突設さ
れ、液晶パネル等に用いられる基板Ｗが位置決めしてステージ４上に載置される。
【００２２】
図３はステージ４を示す平面図である。ステージ４は円板状に形成されたステンレス等
から成り、略扇形の複数の開口部４ｃを有している。ステンレスはフッ酸等の薬液による
腐食を防ぐためコーティングが施され被覆されている。開口部４ｃはステージ４の周部ま
で形成され、図２に示すように、ステージ４の中央に配された矩形の基板Ｗの外側に露出
するようになっている。つまり、基板Ｗを回転させた回転平面（基板Ｗの対角を結んだ長
さが略直径となる円）内において、基板Ｗと重ならないステージ４の部分に開口部４ｃが
設けられている。
【００２３】
上部カバー２の周面（側面）には、上部カバー２内と連通して側方に突出して割り当て
られた収納部２ｂ、２ｃが対向して設けられる。側面から外側に突出して確保された収納
部２ｂ、２ｃの空間領域にはノズル６、７が収納される。ノズル６、７（第１、第２処理
液供給手段）は回動軸６ａ、７ａで回動し、択一的に基板Ｗの中央部に洗浄液、現像液、
純水等の処理液を供給する。本実施形態では、ノズル６からフッ酸等の薬液を供給するこ
とができ、ノズル７から純水を供給することができる。
【００２４】
また、薬液を供給するノズル６が納められた収納部２ｂには、上部カバー２内でステー
ジ４上方の空間領域と収納部２ｂとを遮蔽する遮蔽板８が設けられている。これにより、
ノズル６の収納時に収納部２ｂ内で気化した薬液が上部カバー２内のステージ４上方の空
間領域への侵入することを防止できる。
【００２５】
内カップ２の内側の下方（ステージ４の下方）には配管１０が設けられる。配管１０は
排気管１０ａ、第１廃液管１０ｂ（第１廃液経路）及び第２廃液管１０ｃ（第２廃液経路
）に分岐する。排気管１０ａは水平に延びて形成され、気流発生手段によって基板処理装
置１内に供給される気体を排気する。第１、第２廃液管１０ｂ、１０ｃは排気管１０ａか
ら下方に延びた配管１０が更に左右に分岐して形成され、それぞれバルブ１１、１２が設
けられる。
【００２６】
ノズル６から基板Ｗ上に処理液が供給される場合はバルブ１１が開いてバルブ１２が閉
じられる。これにより、処理液が第１廃液管１０ｂを介して廃棄される。ノズル７から基
板Ｗ上に処理液が供給される場合はバルブ１２が開いてバルブ１１が閉じられる。これに
より、処理液が第２廃液管１０ｃを介して廃棄される。従って、バルブ１１、１２は廃液
経路を第１廃液管１０ｂと第２廃液管１０ｃとに切り換える切換手段を構成する。
【００２７】
上記構成の基板処理装置１において、ステージ４上に基板Ｗが載置されると、スピンド
ル４ａにより基板Ｗとともにステージ４が回転する。また、バルブ１１が開かれてバルブ
１２が閉じられる。ノズル６は収納部２ｂ内から基板Ｗ上に回動し、基板Ｗの中央部にフ
ッ酸等の洗浄液や現像液等から成る処理液が供給される。該処理液は基板Ｗ上をステージ
４の径方向に拡散して飛散する。
【００２８】
この時、開口された気体導入部２ａから供給される清浄空気によって矢印Ａに示すよう
に上方から基板Ｗに向かう気流が発生する。該気流は基板Ｗに衝突し、矢印Ｂに示すよう
に基板Ｗ上を外側に向かって拡散して流れる。これにより、処理液の飛散が促進される。
また、上方から基板Ｗの外側に到達した清浄空気はステージ４の開口部４ｃを介して矢印
Ｆに示すように下方に流通する。この気流により、矢印Ｂに示すように基板Ｗ上を外側に
向かって流れる気流も基板Ｗの外側から下方に導かれる。
【００２９】
このため、前述の図４に示すような気流の舞い上がりが防止される。内カップ５内の下
部に到達した気流及び処理液は配管１０から流出する。そして、排気管１０ｃを介して清
浄空気が排気され、第１廃液管１０ｂを介して処理液が廃棄される。これにより、基板Ｗ
の洗浄や現像等の基板処理が行われる。
【００３０】
上記の処理液による処理が終了すると、ノズル６は回動して収納部２ｂ内に収納され、
遮蔽板８が閉じられる。また、バルブ１１が閉じられてバルブ１２が開かれる。ノズル７
は収納部２ｃ内から基板Ｗ上に回動し、基板Ｗの中央部に純水から成る処理液が供給され
る。
【００３１】
そして、上記と同様に純水が基板Ｗ上をステージ４の径方向に拡散して飛散する。この
時、開口された気体導入部２ａから供給される清浄空気によって矢印Ａに示すように上方
から基板Ｗに向かう気流が発生する。該気流は基板Ｗに衝突し、矢印Ｂに示すように基板
Ｗ上を外側に向かって流れる。これにより、処理液の飛散が促進される。
【００３２】
また、上方から基板Ｗの外側に到達した清浄空気はステージ４の開口部４ｃを介して矢
印Ｆに示すように下方に流通する。この気流により、矢印Ｂに示すように基板Ｗ上を外側
に向かって流れる気流も基板Ｗの外側から下方に導かれる。
【００３３】
内カップ５内の下部に到達した気流及び処理液は配管１０から流出する。そして、排気
管１０ｃを介して清浄空気が排気され、第２廃液管１０ｃを介して純水が廃棄される。こ
れにより、基板Ｗの純水洗浄が行われる。
【００３４】
純水洗浄が終了すると、上部カバー２の開口された気体導入部２ａから基板Ｗ中央に向
けて例えば窒素をブローしながらスピンドル４ａが高速回転する。これにより、基板Ｗ上
に残留する純水が飛散して基板Ｗの乾燥が行われる。飛散した純水は第２廃液管１０ｃを
介して廃棄される。
【００３５】
本実施形態によると、基板Ｗを載置するステージ４の周部に開口部４ｃを設けたので、
上方から供給される気流が開口部４ｃを介して下方に流通し、気流の舞い上がりを防止す
ることができる。このため、基板Ｗよりも上方においてフッ酸や純水等の処理液によるミ
ストの発生が抑制される。従って、フッ酸等の処理液が気化して上部カバー２内に充満し
、ミスト状の純水に取り込まれて基板Ｗ上に付着して乾燥することによる異物残留を低減
することができる。
【００３６】
本実施形態ではフッ酸から成る処理液と純水から成る処理液とを用いているが、これら
に限定されない。ノズル６、７の両方から薬液を吐出してもよく、ノズル６、７の一方の
みを設けた基板処理装置であってもよい。これらの場合も上記と同様に、上部カバー２内
にフッ酸等の薬液から成る処理液がミスト状になって充満し、ミスト状の処理液が基板Ｗ
上に付着して乾燥することによる異物残留を低減することができる。
【産業上の利用可能性】
【００３７】
本発明によると、基板に対して洗浄、レジスト等の塗布、レジストの現像、エッチング
等の処理を行う基板処理装置に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の実施形態の基板処理装置を示す正面断面図
【図２】本発明の実施形態の基板処理装置を示す上面図
【図３】本発明の実施形態の基板処理装置のステージを示す上面図
【図４】従来の基板処理装置を示す正面断面図
【符号の説明】
【００３９】
１    基板処理装置
２    上部カバー
２ａ  開口された気体導入部
３    下部カバー
４    ステージ
４ａ  スピンドル
４ｂ  ガイドピン
４ｃ  開口部
５    内カップ
６、７  ノズル
８    遮蔽板
１０    廃液管
１１、１２  バルブ
【図１】
2007266371.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
2007266371.tif 000006