(57)【要約】【課題】水撃防止性及び生産性に優れた弁装置の提供。【解決手段】  上記課題は、ベース体７の反弁座側に、貯水室８に連通するところの貯水室連通孔１４を形成した覆い体１５を設け、この覆い体１５とベース体７との間に、一方が通水路連通孔１３に連通して他方が貯水室連通孔１４に連通するところの水撃軽減用溝１６を形成し、この水撃軽減用溝１６を、通水路連通孔１３に連通する狭窄通路１６Ｂと、この狭窄通路１６Ｂに連通し、かつ、貯水室連通孔１４に連通した渦流を生じさせる円筒形状通路１６Ｃとを備えた構成とするとともに、通水路連通孔１３の開口面積＞連通中央孔９の開口面積＞貯水室連通孔１４の開口面積と設定することよって、達成できる。【選択図】図５
2007100823.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導水口及び吐出口を形成した弁本体ケースと、この弁本体ケース内に形成されているところの前記導水口から前記吐出口に至る通水路に設けた弁座を開閉するダイヤフラム弁体と、このダイヤフラム弁体を開閉させる駆動源となる電磁プランジャ装置とを備え、前記ダイヤフラム弁体を、ベース体と、このベース体に固定したダイヤフラムとから構成して、このベース体の中央部に前記ダイヤフラム弁体の反弁座側に形成した貯水室と前記吐出口とを連通する連通中央孔を設け、かつ、前記通水路の前記導水口に連通する通水路連通孔を設け、しかも、前記電磁プランジャ装置を通電状態にすると、前記連通中央孔が開放して前記ダイヤフラム弁体が開き、かつ、前記電磁プランジャ装置を非通電状態にすると前記連通中央孔が閉鎖して前記ダイヤフラム弁体が閉じるようにした弁装置において、
前記ベース体の反弁座側に、前記貯水室に連通するところの貯水室連通孔を形成した覆い体を設け、この覆い体と前記ベース体との間に、一方が前記通水路連通孔に連通して他方が前記貯水室連通孔に連通するところの水撃軽減用溝を形成し、
しかも、この水撃軽減用溝を、少なくとも、前記通水路連通孔に連通する狭窄通路と、この狭窄通路に連通し、かつ、前記貯水室連通孔に連通した渦流を生じさせる円筒形状通路とを備えた構成とするとともに、前記通水路連通孔の開口面積と前記連通中央孔の開口面積と前記貯水室連通孔の開口面積との関係を、通水路連通孔の開口面積＞連通中央孔の開口面積＞貯水室連通孔の開口面積となるように設定したことを特徴とする弁装置。
【請求項２】
前記水撃軽減用溝を、前記通水路連通孔に連通した渦巻き形状通路と、この渦巻き形状通路に連通した狭窄通路と、この狭窄通路に連通し、かつ、前記貯水室連通孔に連通した円筒形状通路とから構成し、しかも、前記狭窄通路の通路断面積を、前記貯水室連通孔の開口面積よりも大きく設定し、かつ、前記狭窄通路を、渦巻き形状通路内を流れる水の回転方向に対して逆方向に延びるように配設したこと特徴とする請求項１記載の弁装置。
【請求項３】
前記覆い体の中央部には、上面側突出部と下面側突出部が形成され、この上面側突出部１と下面側突出部に、前記連通中央孔が形成されるとともに、前記ベース体の中央に設けたガイド部材には、前記下面側突出部が圧入嵌合して前記連通中央孔を前記吐出口に連通させるためのベース体連通孔が形成されていることを特徴とする請求項１若しくは２記載の弁装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水撃を防止するのに好適な弁装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の弁装置としては、導水口及び吐出口を形成した弁本体ケースと、この弁本体ケース内に形成されているところの前記導水口から前記吐出口に至る通水路に設けた弁座を開閉するダイヤフラム弁体と、このダイヤフラム弁体を開閉させる駆動源となる電磁プランジャ装置を備え、前記ダイヤフラム弁体を、ダイヤフラムとこのダイヤフラムの反弁座側に固定したベース体とから構成して、このベース体の中央部に前記ダイヤフラム弁体の反弁座側に形成した貯水室と前記吐出口とを連通する連通中央孔を設け、しかも、前記電磁プランジャ装置を通電状態にすると、前記連通中央孔が開放して前記ダイヤフラム弁体が開き、かつ、前記電磁プランジャ装置を非通電状態にすると前記連通中央孔が閉鎖して前記ダイヤフラム弁体が閉じるようにするとともに、ベース体に設けた通水路に連通する円筒部と、この円筒部の先端に設けられ、かつ、小孔が形成されているキヤップとの間に円筒室を設けるようにしたものが知られていた（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開平１−２１６１８３号公報（２頁〜３頁、図１〜図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した特許文献１などに記載されている従来の弁装置は、ベース体に設けた通水路に連通する円筒部及びキヤップが小さいために、円筒部にキヤップに取り付ける作業が難しく、生産性が悪いという問題があった。しかも、円筒部とキヤップとの間に設けられる円筒室では、大きな容積が得られないので、貯水室を水で満杯にするまでの時間が短く、水撃防止が不十分であるという問題があった。
【０００５】
本発明は、上述した従来技術における実状からなされたもので、その目的は、水撃防止性及び生産性に優れた弁装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明は、導水口及び吐出口を形成した弁本体ケースと、この弁本体ケース内に形成されているところの前記導水口から前記吐出口に至る通水路に設けた弁座を開閉するダイヤフラム弁体と、このダイヤフラム弁体を開閉させる駆動源となる電磁プランジャ装置とを備え、前記ダイヤフラム弁体を、ベース体と、このベース体に固定したダイヤフラムとから構成して、このベース体の中央部に前記ダイヤフラム弁体の反弁座側に形成した貯水室と前記吐出口とを連通する連通中央孔を設け、かつ、前記通水路の前記導水口に連通する通水路連通孔を設け、しかも、前記電磁プランジャ装置を通電状態にすると、前記連通中央孔が開放して前記ダイヤフラム弁体が開き、かつ、前記電磁プランジャ装置を非通電状態にすると前記連通中央孔が閉鎖して前記ダイヤフラム弁体が閉じるようにした弁装置において、
前記ベース体の反弁座側に、前記貯水室に連通するところの貯水室連通孔を形成した覆い体を設け、この覆い体と前記ベース体との間に、一方が前記通水路連通孔に連通して他方が前記貯水室連通孔に連通するところの水撃軽減用溝を形成し、しかも、この水撃軽減用溝を、少なくとも、前記通水路連通孔に連通する狭窄通路と、この狭窄通路に連通し、かつ、前記貯水室連通孔に連通した渦流を生じさせる円筒形状通路とを備えた構成とするとともに、前記通水路連通孔の開口面積と前記連通中央孔の開口面積と前記貯水室連通孔の開口面積との関係を、通水路連通孔の開口面積＞連通中央孔の開口面積＞貯水室連通孔の開口面積となるように設定したことを特徴としている。
【０００７】
さらに、本発明の特徴は、前記水撃軽減用溝を、前記通水路連通孔に連通した渦巻き形状通路と、この渦巻き形状通路に連通した狭窄通路と、この狭窄通路に連通し、かつ、前記貯水室連通孔に連通した円筒形状通路とから構成し、しかも、前記狭窄通路の通路断面積を、前記貯水室連通孔の開口面積よりも大きく設定し、かつ、前記狭窄通路を、渦巻き形状通路内を流れる水の回転方向に対して逆方向に延びるように配設したことにある。
【０００８】
さらに、本発明の特徴は、前記覆い体の中央部には、上面側突出部と下面側突出部が形成され、この上面側突出部１と下面側突出部に、前記連通中央孔が形成されるとともに、前記ベース体の中央に設けたガイド部材には、前記下面側突出部が圧入嵌合して前記連通中央孔を前記吐出口に連通させるためのベース体連通孔７Ｂが形成されていることにある。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ベース体の反弁座側に設けた覆い体と前記ベース体との間に、一方が通水路連通孔に連通して他方が前貯水室連通孔に連通するところの水撃軽減用溝を形成するようにしたので、貯水室を水で満杯にするまでの時間を長くすることができるため、水撃防止効果が優れているとともに、ベース体の反弁座側への覆い体の取り付けを難なく行うことができ、生産性が優れている弁装置が得られた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態に係わる弁装置を、図１〜図１０に基づいて、説明する。図１は、本発明の一実施形態に係わる弁装置の上面図である。図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。図３は、本発明の一実施形態に係わる弁装置の分解斜視図である。図４は、本発明の一実施形態に係わるダイヤフラム弁体の上面拡大図である。図５は、図４のＢ−Ｂ断面拡大図である。図６は、本発明の一実施形態に係わる覆い体の拡大斜視図である。図７は、本発明の一実施形態に係わる弁装置の貯水室の水圧特性図である。図８は、従来例に係わる弁装置の貯水室の水圧特性図である。図９は、本発明の他実施形態に係わるダイヤフラム弁体の上面拡大図である。図１０は、本発明の他実施形態に係わる覆い体の拡大斜視図である。
【００１１】
図１〜図３に示す一実施形態に係わる弁装置１は、導水口２Ａ及び吐出口２Ｂを形成した合成樹脂製の弁本体ケース２と、この弁本体ケース２内に形成されて導水口２Ａから吐出口２Ｂに至る通水路３に設けられた弁座３Ａを開閉するダイヤフラム弁体４と、このダイヤフラム弁体４を開閉させる駆動源となる電磁プランジャ装置５とを備えている。導水口２Ａには、給水ホースなどを介して水道の蛇口に接続される。吐出口２Ｂには、洗濯ホースなどを介して洗濯機の洗濯槽に接続される。
【００１２】
ダイヤフラム弁体４は、図２〜図５に示すように、合成樹脂製のベース体７と、このベース体７の反弁座側に固定した弾性ゴム製のダイヤフラム６と、ベース体７の反弁座側に取り付けられるところの後述する覆い体１５とから構成されている。覆い体１５の中央部には、ダイヤフラム弁体４の反弁座側に形成した貯水室８と吐出口２Ｂとを連通させるための連通中央孔９が設けられている。ダイヤフラム６とベース体７とは、嵌め込み式の嵌合構造により一体化されている。
【００１３】
電磁プランジャ装置５は、図２に示すように、電磁コイル部材１０とプランジャ部材１１とを備えており、ダイヤフラム弁体４の反弁座側の上方に位置するように弁本体ケース２に固定されている。電磁コイル部材１０は、合成樹脂製のボビン１０Ａと、そのボビン１０Ａの外周に巻かれるウレタン等の外皮をもつコイル部１０Ｂと、そのコイル部１０Ｂの両端に半田等で接続される端子１０Ｃと、鋼板からなるプランジャ枠体１７とを備えている（図２〜図３参照）。
【００１４】
プランジャ部材１１は、図３に示すように、磁性体からなる作動杆部１１Ａと、この作動杆部１１Ａの先端に設けられた弾性ゴム製のシール部材１８と、コイル状のばね部材１２と、このばね部材１２及び作動杆部１１Ａが収納されるプランジャケース１１Ｂとを備えている。そして、電磁プランジャ装置５は、電磁コイル部材１０に通電することにより、ばね部材１２のばね力に逆らってプランジャ部材１１の作動杆部１１Ａをダイヤフラム弁体４から離れる方向に移動させることで連通中央孔９を開放させてダイヤフラム弁体４を開かせるとともに、電磁コイル部材１０に通電するのを止めることにより、ばね部材１２のばね力によってプランジャ部材１１の作動杆部１１Ａをダイヤフラム弁体４に圧接する方向に移動させることで連通中央孔９を閉鎖させてダイヤフラム弁体４を閉じさせる機能を有している。
【００１５】
ベース体７の外周近傍には、図２〜図５に示すように、通水路３に連通する通水路連通孔１３が設けられている。ベース体７の反弁座側に設けた覆い体１５には、図４〜図６に示すように、貯水室３に連通するところの貯水室連通孔１４が設けられている。覆い体１５は、合成樹脂製とし、ベース体７の反弁座側に、超音波溶着や振動溶着などにより、水密的に固定される。覆い体１５とベース体７との間には、図４〜図５に示すように、一方を通水路連通孔１３に連通させ、かつ、他方を貯水室連通孔１４に連通させた水撃軽減用溝１６が形成されている。ベース体７と覆い体１５は、覆い体１５側に形成した水撃軽減用溝１６がベース体７上面の平坦面で水密的に覆われるように、固定されている。
【００１６】
覆い体１５とベース体７との間に形成された水撃軽減用溝１６は、図４及び図６に示すように、通水路連通孔１３に連通した渦巻き形状通路１６Ａと、この渦巻き形状通路１６Ａに連通した狭い通路１６Ｂ（以下、狭窄通路１６Ｂと称する）と、この狭窄通路１６Ｂに連通し、かつ、貯水室連通孔１４に連通した渦流を生じさせるところの円筒形状通路１６Ｃとから構成されている。狭窄通路１６Ｂの通路断面積は、貯水室連通孔１４の開口面積よりも大きく設定してある。狭窄通路１６Ｂは、渦巻き形状通路１６Ａ内を流れる水の回転方向に対して逆方向に延びるように配設されている。貯水室連通孔１４は、ダイヤフラム弁体４を上方から見て、円筒形状通路１６Ｃの中央部に位置するようにしてある。
【００１７】
本実施形態では、貯水室連通孔１４を、図４に示すように、通水路連通孔１３から約９０度ずれた位置に配置するようにすることにより、渦巻き形状通路１６Ａの通路面積を大きくとれるようにしてある。また、円筒形状通路１６Ｃは、その円筒形状通路１６Ｃの外周に沿って狭窄通路１６Ｂから流入してきた水を旋回させることで、渦流を生じさせた後に、貯水室連通孔１４から流出させる機能を有している。
【００１８】
連通中央孔９の径は、貯水室連通孔１４の径より大きく設定してある。通水路連通孔１３の径は、貯水室連通孔１４の径及び連通中央孔９の径より大きく設定してある。本実施形態では、通水路連通孔１３の径を約１ｍｍに、連通中央孔９の径を約０．７ｍｍに、貯水室連通孔１４の径を約０．５ｍｍに、それぞれ設定している。すなわち、通水路連通孔１３の開口面積と連通中央孔９の開口面積と貯水室連通孔１４の開口面積との関係を、通水路連通孔１３の開口面積＞連通中央孔９の開口面積＞貯水室連通孔１４の開口面積となるように設定してある。
【００１９】
ダイヤフラム弁体４は、図２に示すように、弾性ゴム製のダイヤフラム６の外周を、弁本体ケース２と電磁プランジャ装置５のプランジャ枠体１７で挟持することにより、水密的に固定されるようにしてある。
【００２０】
ベース体７の中央部には、図２〜図３及び図５に示すように、弁座３Ａ内に嵌合するガイド部材７Ａが一体形成されている。覆い体１５の中央部には、図５に示すように、外周断面形状が円状の上面側突出部１５Ａと外周断面形状が円状の下面側突出部１５Ｂが形成されている。この上面側突出部１５Ａと下面側突出部１５Ｂに、連通中央孔９が形成されている。ベース体７のガイド部材７Ａには、下面側突出部１５Ｂが圧入嵌合して連通中央孔９を吐出口２Ｂに連通させるためのベース体連通孔７Ｂが形成されている。ベース体連通孔７Ｂの内周形状は、下面側突出部１５Ｂの外周断面形状と同じ円状としてある。
【００２１】
上記弁装置１の構成によれば、電磁プランジャ装置５を通電状態にすると、プランジャ部材１１の作動杆部１１Ａは、ばね部材１２のばね力に逆らって吸引され、シール部材１８が上面側突出部１５Ａから離れることにより、連通中心孔９を開放状態となる。これにより、導水口２Ａから供給される水は、通水路連通孔１３へ浸入して、水撃軽減用溝１６を通り、貯水室連通孔１４から貯水室８に流入する。そして、貯水室連通孔１４から貯水室８に水が流入すると、貯水室連通孔１４と連通中央孔９の開口面積が、貯水室連通孔１４＜連通中央孔９となっているため、貯水室８の圧力は通水路３の圧力よりも低くなるので、ダイヤフラム弁体４が反弁座方向に持ち上げられて、ダイヤフラム弁体４が弁座３Ａから離れ、導水口２Ａからの水が吐出口２Ｂに向って直接流れることとなり、給水状態（弁開状態）となる。
【００２２】
電磁プランジャ装置５を非通電状態すると、プランジャ部材１１の作動杆部１１Ａは、ばね部材１２のばね力に押されてダイヤフラム弁体４側に移動させられて、シール部材１８が覆い体１５の上面側突出部１５Ａに圧接することで、連通中心孔９が閉鎖状態となる。その結果、貯水室連通孔１４から貯水室８へ流入してきた水で、その貯水室８が満杯になると、ダイヤフラム弁体４の貯水室８側の受圧面積と通水路３側の受圧面積の関係が、貯水室８側の受圧面積＞通水路３側の受圧面積となっているため、ダイヤフラム弁体４が弁座３Ａを圧接し、導水口２Ａからの水が吐出口２Ｂに向って直接流れることが阻止されることとなり、給水停止状態（弁閉状態）となる。
【００２３】
そして、通水路連通孔１３から水撃低減用溝１６に浸入した水は、通水面積の大きな渦巻き形状通路１６Ａに入ること及び旋回する（渦流となる）ことで、圧力が弱められた後、狭窄通路１６Ｂに浸入する。その後、その水は、円筒形状通路１６の内周壁に沿って旋回する（渦流となる）ことで、さらに圧力を弱められた状態となり、貯水室連通孔１４から吐出される。したがって、貯水室連通孔１４から吐出する水の吐出圧力は低くなるために、その貯水室連通孔１４から吐出する水によって貯水室８が満杯になるまでの時間が遅延されるために、弁座３Ａがダイヤフラム弁体４によって閉鎖されるまでの時間が長くなる。
【００２４】
上記本実施形態の弁装置１について、動水圧１ＭＰａで導水口２Ａに水を流した状態で、かつ、電磁プランジャ装置５を非通電状態にしたときに得られる貯水室の水圧特性図は、図７のとおりである。また、従来の弁装置によって得られる貯水室の水圧特性図は、図８のとおりである。図７及び図８の水圧特性図を比較すれば、判るように、従来の弁装置では、最大で、約１．５４ＭＰａまで水圧が上昇するのに対して、本実施形態の弁装置１では、約１．３３ＭＰａまでしか水圧が上昇しない。しかも、従来の弁装置では、急速に水圧のピーク値（１．５４ＭＰａ）に達しているのに対して、本実施形態の弁装置１では、なだらかに水圧が上昇することで、従来の弁装置よりも長い時間をかけて水圧のピーク値（１．３３ＭＰａ）に達している。このことにより、本実施形態の弁装置１によれば、ダイヤフラム弁体４の開閉時における水撃が大幅に抑えられた。
【００２５】
さらに、上記弁装置１によれば、通水路連通孔１３の開口面積を貯水室連通孔１４の開口面積よりも大きく設定することによって、異物詰まりの発生を抑えている。また、連通中央孔９の開口面積を貯水室連通孔１４の開口面積よりも大きく設定することによって、電磁プランジャ装置５に通電することで、連通中央孔９を開放させた際、貯水室８内の圧力が通水路３内の圧力よりも低くなるので、ダイヤフラム弁体４が円滑に持ち上げられる。
【００２６】
さらに、上記弁装置１によれば、水撃軽減用溝１６を形成するための覆い体１５は、従来の弁装置のキヤップのように小部品ではなく、ダイヤフラム弁体４のベース体７の上面をほぼ覆う大きさになっているので、ベース体７への取り付け作業を容易に行わせることができ、生産性が向上する。また、覆い体１５を大きい部品とすることで、弁装置１の組み立て時の誤組や欠品が見つけやすくなる。また、水撃軽減用溝１６を大きくとれるので、異物詰まりを低減させることができる。
【００２７】
さらに、上記弁装置１によれば、覆い体１５の中央部に形成した外周断面形状が円状の下面側突出部１５Ｂを、ベース体７のガイド部材７Ａに形成した内周形状が円状のベース体連通孔７Ｂに圧入嵌合させるようにしているので、下面側突出部１５Ｂとガイド部材７Ａとの間の水漏れを防止できる構造体が難なく得られる。
【００２８】
次に、上記一実施形態の弁装置１の組み立て手順を、具体的に説明する。
【００２９】
始めに、ベース体７の反ダイヤフラム側に覆い体１５を超音波溶着や振動溶着等の方法により接着した後、そのベース体７にダイヤフラム６を取り付けることにより、ダイヤフラム弁体４を組み立てる。
【００３０】
次いで、作動杆部１１Ａの先端にシール部材１８を取り付けた後、その作動杆部１１Ａとばね部材１２を、ばね部材１２―作動杆部１１Ａの順で、プランジャ枠体１７に設けられ、かつ、コイル部１０Ｂを予め巻装してなるボビン１０Ａ内に挿入することで、電磁プランジャ装置５を組み立てる。
【００３１】
次いで、ベース体７とダイヤフラム６と覆い体１５からなるダイヤフラム弁体４を、弁本体ケース２の弁座３Ａ部分に挿入した後、電磁プランジャ装置５を弁本体ケース２に組み立てる。
【００３２】
最後に、電磁プランジャ装置５のプランジャ枠体１７を、弁本体ケース２に、４個のねじ部材１９で締結することにより、組み立てが完了する。
【００３３】
以上のように、上記実施形態の弁装置１によれば、簡単に組み立てることができ、生産性が優れている。なお、上記組み立て手順は、一例であって、適宜に変更可能である。
【００３４】
さらに、上記実施形態の弁装置１によれば、電磁プランジャ装置５を通電状態から非通電状態にした際、水撃軽減用溝１６により貯水室８が満杯になる時間を従来のものよりもさらに遅延させることができ、ダイヤフラム弁体４が弁座３Ａを閉鎖するまでの時間を長く取ることができるので、急激な水撃が発生することなく、従来に比べて、騒音を低減させることができる。
【００３５】
さらに、上記実施形態の弁装置１によれば、ベース体７の反弁座側に覆い体１５を超音波溶着や振動溶着等により接着することで、水撃軽減用溝１６を簡単に形成することができ、生産性を向上させることができる。また、ベース体７に覆い体１５を接着させる作業時に、覆い体１５の下面側突出部１５Ｂを、ベース体７のベース体連通孔７Ｂに嵌合させることで、ベース体７と覆い体１５の位置が定まり、その作業を安定して行うことができる。
【００３６】
さらに、上記実施形態の弁装置１によれば、従来の水撃軽減用部品よりも大きい水撃軽減用部品とすることが可能であって、組み立て時の欠品や誤組等が発見しやすいというメリットが得られる。
【００３７】
本発明の他実施形態例を図９及び図１０に示す。図９及び図１０に示したダイヤフラム弁体２０の水撃軽減用溝２１は、図４に示した一実施形態の水撃軽減用溝１６を構成する渦巻き形状通路１６Ａは有しておらず、通水路連通孔１３に連通した細長い狭窄通路２１Ａと、この狭窄通路２１Ａに連通し、かつ、貯水室連通孔１４に連通した渦流を生じさせる円筒形状通路２１Ｂとから構成されている。この水撃軽減用溝２１により、通水路連通孔１３から約１８０度ずらした位置に貯水室連通孔１４が配設されるようにしてある。なお、他実施形態のダイヤフラム弁体２０と一実施形態のダイヤフラム弁体４とは、水撃軽減用溝２１の形状並びに通水路連通孔１３及び貯水室連通孔１４の位置が異なるのみで、他の点は全く同一である。
【００３８】
他実施形態の水撃軽減用溝２１であっても、渦流を生じさせるところの円筒形状通路２１Ｂでは、その円筒形状通路２１Ｂの外周部と円筒形状通路２１Ｂの中心部の圧力の関係が、外周部＞中心部となることで、貯水室連通孔１４より吐出される水の吐出圧力は低くなるために、その貯水室連通孔１４から吐出する水によって貯水室８が満杯になるまでの時間が遅延されるために、弁座３Ａがダイヤフラム弁体４によって閉鎖されるまでの時間が長くなり、急激な水撃が発生することなく、従来に比べて、騒音を低減させることができる。
【００３９】
上記実施形態では、覆い体１５側に水撃軽減用溝１６を形成して、その水撃軽減用溝１６をベース体７上面の平坦面で水密的に覆われるようにしているが、これに限定されない。ベース体７上面側に水撃軽減用溝１６を形成して、その水撃軽減用溝１６を平坦面で水密的に覆われるようにしてもよい。
【００４０】
上記実施形態の弁装置１は、洗濯機の給水弁として好適であるが、洗濯機以外の製品であっても、給水通路を設け、その給水通路を開閉する機能を有するものであれば、適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の一実施形態に係わる弁装置の上面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係わる弁装置の分解斜視図である。
【図４】本発明の一実施形態に係わるダイヤフラム弁体の上面拡大図である。
【図５】図４のＢ−Ｂ断面拡大図である。
【図６】本発明の一実施形態に係わる覆い体の拡大斜視図である。
【図７】本発明の一実施形態に係わる弁装置の貯水室の水圧特性図である。
【図８】従来例に係わる弁装置の貯水室の水圧特性図である。
【図９】本発明の他実施形態に係わるダイヤフラム弁体の上面拡大図である。
【図１０】本発明の他実施形態に係わる覆い体の拡大斜視図である。
【符号の説明】
【００４２】
１    弁装置
２    弁本体ケース
２Ａ  導水口
２Ｂ  吐出口
３    通水路
３Ａ  弁座
４    ダイヤフラム弁体（一実施形態）
５    電磁プランジャ装置
６    ダイヤフラム
７    ベース体
７Ａ  ガイド部材
７Ｂ  ベース体連通孔
８    貯水室
９    連通中央孔
１０  電磁コイル部材
１０Ａ  ボビン
１０Ｂ  コイル部
１０Ｃ  端子
１１  プランジャ部材
１１Ａ  作動杆部
１２  ばね部材
１３  通水路連通孔
１４    貯水室連通孔
１５  覆い体
１５Ａ  上面側突出部
１５Ｂ  下面側突出部
１６  水撃軽減用溝
１６Ａ  渦巻き形状通路
１６Ｂ  狭窄通路
１６Ｃ  円筒形状通路
１７  プランジャ枠体
１８  シール部材
１９  ねじ部材
２０  ダイヤフラム弁体（他実施形態）
２１  水撃軽減用溝
２１Ａ  細長い狭窄通路
２１Ｂ  円筒形状通路
【図１】
2007100823.tif 000003
【図２】
2007100823.tif 000004
【図３】
2007100823.tif 000005
【図４】
2007100823.tif 000006
【図５】
2007100823.tif 000007
【図６】
2007100823.tif 000008
【図７】
2007100823.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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