(57)【要約】      （修正有）【課題】シフト多重記録回数が多く、再生時ノイズが少ない記録方法の提供。【解決手段】ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備えた光記録媒体２１に対し、情報光及び参照光を複数回照射して記録スポットを形成して情報の記録を行う記録工程をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行う光記録方法であって、第ｉ回目（ただしｉは、２≦ｉ≦ｎ）の記録工程における記録スポットの形成を、第ｉ−１回目の記録工程において形成した記録スポットに対して所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置に行い、かつ、第ｊ回目（ただしｊは、２≦ｊ≦ｎ、かつ、ｉ≠ｊ）の記録工程における間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｊ−１）と、前記第ｉ回目の記録工程における前記間隔Ｐｘとが互いに異なるようにする。前記記録工程が、情報光及び参照光を複数回照射し、前記記録層に記録スポットを一定の間隔Ｓで複数個形成して情報の記録を行う。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光を照射し、前記記録層に記録スポットを形成して情報の記録を行う記録工程をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行う光記録方法であって、
第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の記録工程における、記録スポットの形成を、第ｉ−１回目の記録工程において形成した記録スポットに対して所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置に行い、かつ、第ｊ回目（ただし、ｊは、２≦ｊ≦ｎ、かつ、ｉ≠ｊ）の記録工程における間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｊ−１）と、前記第ｉ回目の記録工程における前記間隔Ｐｘとが互いに異なるようにすることを特徴とする光記録方法。
【請求項２】
記録工程が、光記録媒体に対して、情報光及び参照光を複数回照射し、記録層に記録スポットを一定の間隔Ｓで複数個形成して情報の記録を行う請求項１に記載の光記録方法。
【請求項３】
間隔Ｐｘが、少なくとも３μｍ以上である請求項１から２のいずれかに記載の光記録方法。
【請求項４】
間隔Ｐｘの総和が、間隔Ｓよりも小さい請求項２から３のいずれかに記載の光記録方法。
【請求項５】
間隔Ｐｘのうち、少なくとも２０％が、互いに異なる請求項１から３のいずれかに記載の光記録方法。
【請求項６】
間隔Ｐｘ中の連続する少なくとも３個が、互いに異なる請求項１から５のいずれかに記載の光記録方法。
【請求項７】
間隔Ｐｘが、情報光及び参照光、並びに記録層のいずれかの移動方向に対し、平行方向及び交差方向の少なくともいずれかの方向において、不等間隔である請求項１から６のいずれかに記載の光記録方法。
【請求項８】
光記録媒体が、円盤状であり、該光記録媒体における半径方向の間隔Ｐｘが、等間隔になるように記録し、かつ円周方向の間隔Ｐｘが、不等間隔になるよう記録する請求項１から７のいずれかに記載の光記録方法。
【請求項９】
光記録媒体が、円盤状であり、該光記録媒体におけるサーボピットパターンの記録間隔Ｂｘを不等間隔に形成し、該サーボピットパターンに基づいて、間隔Ｐｘを不等間隔に制御する請求項１から８のいずれかに記載の光記録方法。
【請求項１０】
サーボピットパターンの半径方向の間隔Ｂｘが、等間隔に形成され、かつ円周方向の間隔Ｂｘが、不等間隔に形成された請求項９に記載の光記録方法。
【請求項１１】
光記録媒体の移動速度、並びに、該光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射のタイミングの少なくともいずれかを変化させることにより、間隔Ｐｘを不等間隔にする請求項１から１０のいずれかに記載の光記録方法。
【請求項１２】
光記録媒体が、第一の基板と、記録層と、フィルタ層と、第二の基板とをこの順に有する請求項１から１１のいずれかに記載の光記録方法。
【請求項１３】
情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われる請求項１から１２のいずれかに記載の光記録方法。
【請求項１４】
ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光を複数回照射し、前記記録層に記録スポットを形成して情報の記録を行う記録をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行う記録手段を有する光記録装置であって、
第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の記録工程における、記録スポットの形成を、第ｉ−１回目の記録工程において形成した記録スポットに対して所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置に行い、かつ、第ｊ回目（ただし、ｊは、２≦ｊ≦ｎ、かつ、ｉ≠ｊ）の記録工程における間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｊ−１）と、前記第ｉ回目の記録工程における前記間隔Ｐｘとが互いに異なるようにする手段を有することを特徴とする光記録装置。
【請求項１５】
記録手段が、光記録媒体に対して、情報光及び参照光を複数回照射し、記録層に記録スポットを一定の間隔Ｓで複数個形成して情報の記録を行う請求項１４に記載の光記録装置。
【請求項１６】
請求項１から１３のいずれかに記載の光記録方法により記録されたことを特徴とする光記録媒体。
【請求項１７】
請求項１から１３のいずれかに記載の光記録方法により記録層に形成された干渉像に、参照光と同じ再生光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することを特徴とする光記録再生方法。
【請求項１８】
記録情報の再生が、記録層に形成された干渉像に、参照光を照射して、該干渉像に対応した記録情報を再生する再生工程をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行うものであり、第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の再生工程が、第ｉ−１回目の再生工程において再生した記録スポットに対して所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置から再生される請求項１９に記載の光記録再生方法。
【請求項１９】
再生工程が、光記録媒体に対して、再生光を複数回照射し、記録層に一定の間隔Ｓで複数個形成された情報の再生を行う請求項１８に記載の光記録再生方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラフィを利用して情報が記録される光記録方法、光記録装置及び光記録媒体に関し、高密度多重記録の再生時におけるＳＮＲの優れた記録が得られる光記録方法、光記録装置及び光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ホログラフィを利用して光記録媒体に情報を記録する光記録方法は、一般に、イメージ情報を持った情報光（物体光）と参照光とを前記光記録媒体の内部で干渉させ、その際に生成される干渉縞を前記光記録媒体に書き込むことによって行われる。前記光記録方法として、例えば、前記情報光の光軸と参照光の光軸とが同軸になるようにして該情報光及び参照光が照射される方法が、コリニア方式と称され、該コリニア方式における情報光及び参照光の照射により光記録媒体に形成されている記録層内に前記干渉縞が生成され、光情報が該記録層に記録される。記録された光情報の再生は、前記光記録媒体に前記参照光と同じ光を、記録時と同じ方向から照射することにより行われる。該光照射により光情報としての前記干渉縞から回折光が生成され、該回折光を受光することにより前記光情報が再生される。
【０００３】
このような光情報の記録容量を増大させる方法として、前記干渉縞の記録密度を高める多重記録方法があり、具体的には、シフト多重記録、角度多重記録、波長多重記録、位相多重記録などの記録方法が用いられている。
これらの中でも、シフト多重記録は、光照射又は光記録媒体のいずれかを記録層に水平な面方向に少しずつ移動させながら最初の記録の上に重ねて記録を追加していくため、ディスクを回転させながら記録する従来のＣＤやＤＶＤなどのディスク記録と親和性が高く、ランダムアクセスに優れており、単一のレンズを用いて記録を行う前記コリニア方式などに用いられている（非特許文献１参照）。
前記コリニア方式におけるシフト多重記録は、図１に示すように、対物レンズ１２を透過し、光記録媒体２１内の記録層の記録部分で一定大きさに集光される記録スポット３３単位で行われ、該記録スポット３３により記録層に情報が記録されると、光記録媒体２１が図１に示す矢印と反対の時計方向に回転し、間隔Ｓごとに、前記情報光及び参照光が照射され、記録スポット３３が形成されて、前記間隔Ｓごとに情報が記録される。一トラック分の記録が終わると、前回の記録位置から、間隔Ｐだけ離間した位置をスタートとして、間隔Ｓごとに情報が記録されることにより、シフト多重記録が行われる。
また、シフト多重記録において、光記録媒体に格子状に情報を記録する場合は、一定間隔Ｐで記録スポットを形成して記録が行われる。
【０００４】
前記シフト多重記録における、前記記録の間隔Ｐは、前記光記録媒体２１の円周方向及び半径方向のいずれも等間隔となるように行われ、例えば、特許文献１の場合には、データページごとになされる間隔Ｐは、１μｍ〜１０ｍｍの範囲で一定間隔が採用され、特許文献２の場合は、前記間隔Ｐは、記録されるホログラムの直径の２％〜５０％の範囲でオフセットされた一定間隔が採用され、特許文献３の場合は、間隔Ｐは、記録されるホログラムの直径Ｄと多重数ｍとが、Ｐ＝Ｄ／ｍの関係となるように等間隔で記録がなされる。
いずれの場合も、一定間隔Ｐでシフト多重記録がなされるのは、記録を行う上で一定時間間隔で光照射を行う面から、制御が容易であるためと考えられる。
【０００５】
また、図２に示されるグラフは、間隔Ｐを変化させて、直径２００μｍの記録スポットで、４，０９６バイトのデータを直径１２０ｍｍの光記録媒体に、間隔Ｐで多重に記録した際の、各間隔Ｐに対する記録容量及び多重記録回数を示したものである。グラフに示すように、例えば、間隔Ｐが１３μｍの場合、２４０多重で、２００ＧＢの記録が可能である。また、間隔Ｐが１０μｍの場合は、多重記録回数は約４００回、記録容量は約３８０ＧＢとなり、間隔Ｐが２０μｍの場合は、多重記録回数は約１００回、記録容量は約１００ＧＢとなる。このように、光記録媒体において、２００ＧＢ以上の記憶容量を達成するには、１３μｍ以下の記録間隔Ｐで、２００多重以上の多重記録を行う必要がある。
しかし、前記シフト多重記録の場合、図３に示すように、多重記録の重なりが周期的なパターンを形成して、回折ノイズが発生する問題がある。即ち、図３は、直径２００μｍの記録スポットを等間隔、即ち、一定間隔Ｐ（１２．５μｍ）で３０×３０個の格子状マトリクスでシフト多重を行った場合の、記録中央部の多重度を表している。
該図３で示される領域中の格子状の黒点は多重記録回数が約２１０回、その他の部分は約２００回であることを表している。このように多重記録回数が最も多い約２１０回となる部分が周期的に現れて、格子状のパターンを形成する。この周期的なパターンは、再生光を照射し、発生する回折光により記録を再生する際に、擬似的な回折格子として作用してしまい、擬似回折光となることがあり、前記望ましくない回折ノイズや回折光の散乱を生じ、再生信号のＳＮＲ（信号対雑音比）が低下するという問題がある。
【０００６】
したがって、前記コリニア方式におけるシフト多重記録の記録回数を多くすることができ、再生時のノイズが少ない記録が得られる優れた光記録方法、光記録装置及び光記録媒体は未だ実現されておらず、その提供が望まれているのが現状である。
【０００７】
【特許文献１】特開２００４−１７７９５８号公報
【特許文献２】特開２００２−４０９０８号公報
【特許文献３】特開２００３−１７８４５７号公報
【非特許文献１】「日経エレクトロニクス」２００５年１月１７日号Ｐ１０５〜Ｐ１１４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、シフト多重記録の記録回数が多く、再生時のノイズが少ない記録が得られる優れた光記録方法、光記録装置及び光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光を照射し、前記記録層に記録スポットを形成して情報の記録を行う記録工程をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行う光記録方法であって、
第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の記録工程における、記録スポットの形成を、第ｉ−１回目の記録工程において形成した記録スポットに対して所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置に行い、かつ、第ｊ回目（ただし、ｊは、２≦ｊ≦ｎ、かつ、ｉ≠ｊ）の記録工程における間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｊ−１）と、前記第ｉ回目の記録工程における前記間隔Ｐｘとが互いに異なるようにすることを特徴とする光記録方法である。
該＜１＞に記載の光記録方法においては、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光を照射し、前記記録層に記録スポットを形成して情報の記録を行う記録工程をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行うシフト多重記録方法であって、第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の記録工程における間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）と、第ｊ回目（ただし、ｊは、２≦ｊ≦ｎ、かつ、ｉ≠ｊ）の記録工程におけるＰｘ（ただし、ｘ＝ｊ−１）とが互いに異なるようにしている。このように、ｎ回の記録工程の間隔Ｐｘを不等間隔とすることにより、前記記録層における多重記録回数が最も多い部分が周期的な格子状のパターンを形成することがなくなり、再生光を照射し、発生する回折光により記録を再生する際に、擬似的な回折格子として作用することがなく、擬似回折光による回折ノイズや回折光の散乱の発生がなく、再生信号のＳＮＲ（信号対雑音比）が低下するということはない。
＜２＞  記録工程が、光記録媒体に対して、情報光及び参照光を複数回照射し、記録層に記録スポットを一定の間隔Ｓで複数個形成して情報の記録を行う前記＜２＞に記載の光記録方法である。
該＜１＞に記載の光記録方法においては、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光を複数回照射し、前記記録層に記録スポットを一定の間隔Ｓで複数個形成して情報の記録を行う記録工程をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行うシフト多重記録方法であって、第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の記録工程における間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）と、第ｊ回目（ただし、ｊは、２≦ｊ≦ｎ、かつ、ｉ≠ｊ）の記録工程ににおけるＰｘ（ただし、ｘ＝ｊ−１）とが互いに異なるようにしている。このように、ｎ回の記録工程の間隔Ｐｘを不等間隔とすることにより、前記記録層における多重記録回数が最も多い部分が周期的な格子状のパターンを形成することがなくなり、再生光を照射し、発生する回折光により記録を再生する際に、擬似的な回折格子として作用することがなく、擬似回折光による回折ノイズや回折光の散乱の発生がなく、再生信号のＳＮＲ（信号対雑音比）が低下するということはない。
＜３＞  間隔Ｐｘが、少なくとも３．０μｍ以上である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜４＞  間隔Ｐｘが、間隔Ｓより小さい前記＜２＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜５＞  記間隔Ｐｘの総和が、間隔Ｓよりも小さい前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜６＞  間隔Ｐｘのうち、少なくとも２０％が、互いに異なる前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜７＞  間隔Ｐｘ中の連続する少なくとも３個が、互いに異なる前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜８＞  間隔Ｐｘが、情報光及び参照光、並びに記録層のいずれかの移動方向に対し、平行方向及び交差方向の少なくともいずれかの方向において不等間隔である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜９＞  光記録媒体が、円盤状であり、該光記録媒体における半径方向の間隔Ｐｘが、等間隔になるように記録し、かつ円周方向の間隔Ｐｘが、不等間隔になるよう記録する前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１０＞  光記録媒体が、円盤状であり、該光記録媒体におけるサーボピットパターンの記録間隔Ｂｘを不等間隔に形成し、該サーボピットパターンに基づいて、間隔Ｐｘを不等間隔に制御する前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１１＞  サーボピットパターンの半径方向の間隔Ｂｘが、等間隔に形成され、かつ円周方向の間隔Ｂｘが、不等間隔に形成された前記＜１０＞に記載の光記録方法である。
＜１２＞  光記録媒体の移動速度、並びに、該光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射のタイミングの少なくともいずれかを変化させることにより、間隔Ｐｘを不等間隔にする前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１３＞  光記録媒体が、第一の基板と、記録層と、フィルタ層と、第二の基板とをこの順に有する前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１４＞  光記録媒体が、反射型ホログラム及び透過型ホログラムのいずれかである前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１５＞  情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われる前記＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１６＞  フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層と、該色材含有層上にコレステリック液晶層とを有する前記＜１３＞から＜１５＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１７＞  フィルタ層が、色材含有層上に誘電体蒸着層を有する前記＜１３＞から＜１６＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜１８＞  フィルタ層が、コレステリック液晶層を単層及び２層以上積層した積層体の少なくともいずれかである前記＜１３＞から＜１７＞のいずれかに記載の光記録方法である。
該＜１８＞の光記録方法においては、コレステリック液晶層を積層しており、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、記録又は再生時に用いられる情報光及び参照光、さらに再生光は、反射膜に到達しないので、反射面上での乱反射による拡散光が発生することを防ぐことができる。従って、この拡散光によって生じるノイズが再生像に重畳されてＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ上で検出されることもなく、再生像が少なくともエラー訂正可能な程度に検出することができるようになる。拡散光によるノイズ成分はホログラムの多重度が大きくなればなるほど大きな問題となる。つまり、多重度が大きくなればなるほど、例えば多重度が１０以上になると、１つのホログラムからの回折効率が極めて小さくなり、拡散ノイズがあると再生像の検出が非常に困難となるのである。この構成によれば、このような困難性は除去することができ、今までにない高密度画像記録が実現できる。
＜１９＞  コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が、連続的である前記＜１８＞に記載の光記録方法である。
＜２０＞  コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する前記＜１８＞から＜１９＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜２１＞  コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記＜１８＞から＜２０＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜２２＞  コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が、互いに同じである前記＜１８＞から＜２１＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜２３＞  コレステリック液晶層における選択反射中心波長が、互いに異なる前記＜１８＞から＜２２＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜２４＞  コレステリック液晶層における選択反射波長帯域幅が、１００ｎｍ以上である前記＜１８＞から＜２３＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜２５＞  フィルタ層が、第一の光を透過し、該第一の光と異なる第二の光を反射する前記＜１３＞から＜２４＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜２６＞  第一の光の波長が、３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の光の波長が、６００〜９００ｎｍである前記＜２５＞に記載の光記録方法である。
＜２７＞  フィルタ層が、ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記＜１３＞から＜２６＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜２８＞  フィルタ層が、光反応型カイラル化合物を有し、該光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位がイソソルビド化合物、イソマンニド化合物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも１種である前記＜１３＞から＜２７＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜２９＞  光反応性基が、光照射により炭素−炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を生じる基である前記＜２８＞に記載の光記録方法である。
＜３０＞  第一の基板及び第二の基板の少なくともいずれかが、サーボピットパターンを有する前記＜１３＞から＜２９＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜３１＞  サーボピットパターン表面に、反射膜を有する前記＜３０＞に記載の光記録方法である。
＜３２＞  反射膜が、金属反射膜である前記＜３１＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜３３＞  フィルタ層と反射膜との間に、第二の基板表面を平滑化するための第１ギャップ層を有する前記＜１３＞から＜３２＞のいずれかに記載の光記録方法である。
＜３４＞  記録層とフィルタ層との間に、第２ギャップ層を有する前記＜１３＞から＜３３＞のいずれかに記載の光記録方法である。
【００１０】
＜３５＞  ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光を複数回照射し、前記記録層に記録スポットを形成して情報の記録を行う記録をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行う記録手段を有する光記録装置であって、
第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の記録工程における、記録スポットの形成を、第ｉ−１回目の記録工程において形成した記録スポットに対して所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置に行い、かつ、第ｊ回目（ただし、ｊは、２≦ｊ≦ｎ、かつ、ｉ≠ｊ）の記録工程における間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｊ−１）と、前記第ｉ回目の記録工程における間隔Ｐｘとが互いに異なるようにする手段を有することを特徴とする光記録装置である。
＜３６＞  記録手段が、光記録媒体に対して、情報光及び参照光を複数回照射し、記録層に記録スポットを一定の間隔Ｓで複数個形成して情報の記録を行う前記＜３５＞に記載の光記録装置である。
＜３７＞  間隔Ｐｘが、少なくとも３．０μｍ以上である前記＜３５＞から＜３６＞のいずれかに記載の光記録装置である。
＜３８＞  間隔Ｐｘが、間隔Ｓより小さい前記＜３６＞から＜３７＞のいずれかに記載の光記録装置である。
＜３９＞  間隔Ｐｘのうち、少なくとも２０％が、互いに異なる前記＜３５＞から＜３８＞のいずれかに記載の光記録装置である。
＜４０＞  間隔Ｐｘ中の連続する少なくとも３個が、互いに異なる前記＜３５＞から＜３９＞のいずれかに記載の光記録装置である。
＜４１＞  間隔Ｐｘが、情報光及び参照光、並びに記録層のいずれかの移動方向に対し、平行方向及び交差方向の少なくともいずれかの方向において、不等間隔である前記＜３５＞から＜４０＞のいずれかに記載の光記録装置である。
＜４２＞  光記録媒体が、円盤状であり、該光記録媒体における半径方向の間隔Ｐｘが、等間隔になるように記録し、かつ円周方向の間隔Ｐｘが、不等間隔になるよう記録する前記＜３５＞から＜４１＞のいずれかに記載の光記録装置である。
＜４３＞  光記録媒体が、円盤状であり、該光記録媒体におけるサーボピットパターンの記録間隔Ｂｘを不等間隔に形成し、該サーボピットパターンに基づいて、間隔Ｐｘを不等間隔に制御する前記＜３５＞から＜４２＞のいずれかに記載の光記録装置である。
＜４４＞  サーボピットパターンの半径方向の間隔Ｂｘが、等間隔に形成され、かつ円周方向の間隔Ｂｘが、不等間隔に形成された前記＜３５＞から＜４３＞のいずれかに記載の光記録装置である。
＜４５＞  光記録媒体の移動速度、並びに、該光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射のタイミングの少なくともいずれかを変化させることにより、間隔Ｐｘを不等間隔にする前記＜３５＞から＜４５＞のいずれかに記載の光記録装置である。
【００１１】
＜４６＞  前記＜１＞から＜３５＞のいずれかに記載の光記録方法により記録されたことを特徴とする光記録媒体である。
【００１２】
＜４７＞  前記＜４６＞に記載の光記録媒体におけるフィルタ層からなる光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板と貼り合わせてフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
＜４８＞  第二の基板上に、コレステリック液晶層を２層以上積層した積層体からなるフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含む前記＜４７＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
【００１３】
＜４９＞  前記＜１＞から＜３５＞のいずれかに記載の光記録方法により記録層に形成された干渉像に、参照光と同じ再生光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することを特徴とする光記録再生方法である。
＜５０＞  記録情報の再生が、記録層に形成された干渉像に、参照光を照射して、該干渉像に対応した記録情報を再生する再生工程をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行うものであり、第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の再生工程が、第ｉ−１回目の再生工程において再生した記録スポットに対して所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置から再生される前記＜４９＞に記載の光記録再生方法である。
＜５１＞  再生工程が、光記録媒体に対して、再生光を複数回照射し、記録層に一定の間隔Ｓで複数個形成された情報の再生を行う前記＜４９＞から＜５０＞のいずれかに記載の光記録再生方法である。
＜５２＞  再生光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、該再生光を干渉像に照射して記録情報を再生する前記＜４９＞から＜５１＞のいずれかに記載の光記録再生方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、シフト多重記録の記録回数が多く、再生時のノイズが少ない記録が得られる優れた光記録方法、光記録装置及び光記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（光記録方法）
本発明の光記録方法は、記録工程を含み、必要に応じて、サーボ工程、定着工程、その他工程を含む。
本発明の光記録方法は、前記情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われるいわゆるコリニア方式の光記録方法に用いられることが好ましい。
【００１６】
＜記録工程＞
前記記録工程は、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光を照射し、前記記録層に記録スポットを形成して情報の記録を行う記録工程をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行う光記録方法であり、該記録工程をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行うことにより、シフト多重の記録回数を多くすることができる。
また、前記記録工程では、第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の記録工程における、記録スポットの形成を、第ｉ−１回目の記録工程において形成した記録スポットに対して所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置に行い、かつ、第ｊ回目（ただし、ｊは、２≦ｊ≦ｎ、かつ、ｉ≠ｊ）の記録工程における間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｊ−１）と、前記第ｉ回目の記録工程における前記間隔Ｐｘとが互いに異なるようにすることにより、多重記録を行っても、再生時のノイズの少ない優れた記録が可能となる。
【００１７】
また、円盤状の光記録媒体を回転させながら記録する場合、前記記録工程は、前記光記録媒体に対し、情報光及び参照光を複数回照射し、前記記録層に記録スポットを一定の間隔Ｓで複数個形成して情報の記録を行うものであってもよい。
この場合も、当該記録工程では、第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の記録工程における、複数の記録スポットの形成を、第ｉ−１回目の記録工程において形成した各記録スポットに対して、所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置に行い、かつ、第ｊ回目（ただし、ｊは、２≦ｊ≦ｎ、かつ、ｉ≠ｊ）の記録工程における間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｊ−１）と、前記第ｉ回目の記録工程における前記間隔Ｐｘとが互いに異なるようにすることにより、多重記録を行っても、再生時のノイズの少ない優れた記録が可能となる。
【００１８】
本発明の光記録方法では、シフト多重記録における、前述の問題点、即ち、前記記録層における多重記録回数が最も多い部分からなる周期的な格子状のパターンが形成され、記録を再生する際に、該周期的なパターンが、擬似的な回折格子として作用し、擬似回折光となることがあり、望ましくない回折ノイズや回折光の散乱を生じ、再生信号のＳＮＲ（信号対雑音比）が低下するという問題を改善するため、各記録工程間の記録スポットの間隔Ｐｘを不等間隔にすることが特徴である。
【００１９】
−情報光及び参照光−
前記情報光及び前記参照光の光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光源から出射される可干渉性のあるレーザ光などが好ましい。
【００２０】
前記レーザ光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、波長が、３６０〜８５０ｎｍから選択される１種以上の波長からなるレーザ光などが挙げられる。該波長は、３８０〜８００ｎｍが好ましく、４００〜７５０ｎｍがより好ましく、可視領域の中心が最も見え易い５００〜６００ｎｍが最も好ましい。
前記波長が、３６０ｎｍ未満であると、光学系の設計が困難になり、８５０ｎｍを超えると、記録容量が少なくなることがある。
【００２１】
前記レーザ光の光源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、固体レーザ光発振器、半導体レーザ光発振器、液体レーザ光発振器、気体レーザ光発振器などが挙げられる。これらの中でも、気体レーザ光発振器、半導体レーザ光発振器などが好ましい。
【００２２】
前記情報光及び前記参照光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、同一の光源から出射される一のレーザ光などを分割して、該情報光及び該参照光として照射してもよく、異なる光源から出射される二つレーザ光などを照射してもよい。
前記情報光と前記参照光の照射方向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記情報光の光軸と前記参照光の光軸と同軸となるようにして照射されるものが好ましい。
前記情報光（物体光）と参照光とを前記光記録媒体の内部で干渉させ、その際に生成される干渉縞を前記光記録媒体に書き込むことによって前記情報が記録される。
【００２３】
前記情報光は、コリニア方式の場合、例えば、照射される１スポット単位で、記録すべき情報が２次元バーコード状のデジタルデータに加工され、前記１スポットには約４，０００ｂｉｔのデータがページデータパターンとして形成される。目的の光記録媒体に記録しようとする前記情報は空間光変調器（ＳＬＭ：Ｓｐａｔｉａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）により、画面を２次元パターンデータの最小の単位である画素（ピクセル）によって、「０」か「１」のデジタルデータとなる。
前記デジタルデータからなる前記情報光は、図１に示すように、対物レンズ１２を透過し、光記録媒体２１内の記録層の記録部分で一定大きさに集光され、該集光がなされた記録スポット３３単位で記録がなされる。
具体的には、コリニア方式の光記録方法の場合、直径２００μｍ程の情報光照射スポット３３として集光され、更に前記参照光が照射されることにより、前記情報光及び参照光により生成される干渉縞として該記録層に記録される。
【００２４】
−シフト多重記録−
前記シフト多重記録の第１の態様としては、前記情報光及び参照光の照射により、光干渉による干渉縞を生成すると同時に、該干渉縞を前記記録層に記録し、該最初の記録の位置から前記記録層の平面方向に、前記情報光及び前記参照光の光照射又は前記記録層のいずれかを移動して、前記１回目の記録工程の記録スポットに対して間隔Ｐ１だけ離間した位置に２回目の記録を重ねて記録し、更に、３回目の記録を、２回目の記録スポットに対して前回とは異なる間隔Ｐ２だけ離間した位置で、１回目の最初の記録及び２回目の記録の上に重ねて記録する、といったように、順次光照射又は前記記録層を移動させながら、前記記録層に多重に情報を記録するものである。記録後、後述の定着工程を行うことにより、該記録を定着させることができる。
前記第１の態様は、例えば、情報を格子状マトリクスで記録する場合に好適に用いられる。
【００２５】
前記シフト多重記録の第２の態様としては、前記情報光及び参照光の照射により、光干渉による干渉縞を生成すると同時に、該干渉縞を前記記録層に記録し、該最初の記録の位置から前記記録層の平面方向に、前記情報光及び前記参照光の光照射又は前記記録層のいずれかを一定間隔Ｓだけ移動させながら複数個の記録スポットを形成して、一連の情報を記録した後、１回目の記録と同様に２回目の記録をＳ間隔で行う際に、前記１回目の記録工程の記録スポットに対して間隔Ｐ１だけ離間した位置に重ねて記録し、更に、３回目の記録を、２回目の記録スポットに対して前回とは異なる間隔Ｐ２だけ離間した位置で、１回目の最初の記録及び２回目の記録の上に重ねて記録する、といったように、順次光照射又は前記記録層を移動させながら、前記記録層に多重に情報を記録するものである。記録後、後述の定着工程を行うことにより、該記録を定着させることができる。
前記第２の態様は、例えば、円盤状の光記録媒体を回転させながら記録する場合に好適に用いられる。
【００２６】
前記干渉縞は明部と暗部による縞からなり、前記明部が記録層の感光性組成物を光重合反応させて、モノマーからポリマーに変化させることにより屈折率を低下させ、前記反応が起きない暗部の屈折率と、前記反応部分の屈折率との差が生ずることになり、前記干渉縞を前記屈折率の差として記録がなされる。したがって、前記暗部は未反応の記録層であり、該暗部に更に次の記録の明部を記録することができる。
【００２７】
前記第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の記録工程における記録スポットと、第ｉ−１回目の記録工程における記録スポットとの間隔Ｐｘは、後述の記録再生方法において、再生光を前記第ｉ−１回目の記録工程の記録に対して照射した際に、隣接する第ｉ回目の記録スポットの記録が、前記再生光に反応しない最小の距離であることが好ましい。
前記情報光の光軸と前記参照光の光軸とが同軸になるようにして照射されるコリニア方式の場合、隣接する記録の間隔が約３〜５μｍ以上であれば前記再生光は、隣接する記録に反応することはないので、間隔Ｐｘを約３〜５μｍとして多重に記録することができる。間隔Ｐｘについての詳細は、後述する。
前記間隔Ｐｘを小さくするほど、多重記録回数は増加でき、記録容量を増やすことができるが、再生する干渉像の鮮明度を表す回折効率が、多重回数に反比例して低下するため、多重記録回数にも限界はある。
また、多重記録が多くなるに従い露光量（ｍＪ／ｃｍ２）を多くする必要がある。
【００２８】
前記記録層にフォトポリマー系の記録材料を用いる場合、最初の記録は、低いエネルギーで記録することができるが、重ねて露光を続けると、既反応部分が多くなり感度が低下し、最初の記録と同等の記録を得るためには、より高い照射エネルギーが必要とされる。前述のように、前記高いエネルギーが必要とされるのは、前記既反応部分により、未反応部分の反応が制約を受け、反応しにくくなることなどが挙げられ、また、未反応部分のフォトポリマーなどの感光性組成物が減少することなどが挙げられる。
【００２９】
前記シフト多重記録の移動方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の平面方向に直線的に移動する方法、円盤状のディスクの平面方向であって回転方向（トラック方向）に移動する方法などが挙げられる。
前記シフト多重記録の移動装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トラッキングサーボ、ＤＬＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）などが挙げられる。
【００３０】
−記録の間隔Ｓ−
前記間隔Ｓは、一回の記録工程において、前記光記録媒体又は情報光及び参照光を移動させながら、前記記録層に対して、情報光及び参照光を複数回照射し、複数の記録スポットとして情報を記録する際の、該記録スポットの記録間隔をいう。該間隔Ｓは、一定の等間隔とすることにより、前記光記録媒体の移動や情報光及び参照光の照射の制御が行い易く、また、間隔Ｓ内に、不等間隔Ｐｘで、複数の記録スポットを形成する際の制御も容易となる。
前記間隔Ｓとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、記録スポットが２００〜５００μｍである場合、該記録スポットの直径と略同一、若しくは、該直径の２〜３倍が好ましく、この中でも、、該直径の２〜３倍が特に好ましい。具体的には、２００〜１，５００μｍが好ましく、４００〜１，０００μｍがより好ましい。該間隔Ｓが、２００μｍ未満であると、間隔Ｓ内に、異なる間隔Ｐｘで、あまり多くの記録を行うことができなくなり、不等間隔での記録が良好に行われなくなることがあり、１，５００μｍを超えると、１回の記録工程における記録数が少なくなり、光記録効率が低下することがある。
また、円盤状の光記録媒体を回転させながら記録する場合、各トラックでの間隔Ｓを同一として、一トラックにおける記録個数を異なるものとしてもよいし、内側のトラックの間隔Ｓを小さくしていくことにより、一トラックにおける記録個数を同一にしてもよい。
【００３１】
−間隔Ｐｘ−
前記シフト多重記録における間隔Ｐｘとしては、前記再生光が記録部分に照射されて、再生される際に、隣接する他の記録に該再生光が反応しない距離であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前述のように、３μｍ以上が好ましく、３〜３０μｍがより好ましく、３〜１０μｍが更に好ましい。前記間隔Ｐｘが、３μｍ未満であると、前記再生の際に隣接する他の記録に該再生光が反応し、ゴーストが生ずることがあり、３０μｍを超えると光記録媒体として記録容量が低くなりシフト多重記録の利点が活かせないことがある。
また、１回の記録工程で、間隔Ｓで複数の記録を行う場合、前記間隔Ｐｘは、間隔Ｓよりも小さいのが好ましい。
また、前記間隔Ｐｘの総和も、間隔Ｓよりも小さいのが好ましく、該総和が、間隔Ｓより大きいと、間隔Ｓに含まれる記録ホログラム数（記録スポット数）が、前後の間隔Ｓを超えて重複し、記録再生制御に問題を生じることがある。
【００３２】
前記ｎ回記録工程を行った際の各記録間の間隔Ｐｘとしては、当該複数の間隔Ｐｘが、全て異なるものであってもよいが、複数の間隔Ｐｘの少なくとも２０％が、互いに異なればよく、２０〜６０％が互いに異なるのがより好ましい。前記異なる割合が、２０％未満であると、記録間隔Ｐｘの変動が不十分となり目的の効果が得られず、また６０％を超えると、間隔Ｐｘの変動が過剰に変化することで、記録再生のタイミングを取ることが難しくなり、記録再生速度を低下させることがある。
また、より具体的には、４回以上の記録工程を行って、複数の間隔Ｐｘのうち、連続する少なくとも３個が、互いに異なるのが好ましい。
【００３３】
また、一定間隔で記録した場合の間隔をＰ’とした場合、本発明で用いる間隔Ｐｘとしては、前記間隔Ｐ’の１０〜９８％の範囲で変動させるのが好ましい。前記間隔Ｐｘの変動が、１０％未満であると、目的とする再生時のＳＮＲの低下を防止できないことがあり、９８％を超えると、異なる記録スポットから最低距離の確保が困難になることがある。
具体的には、前記１０％の変動とは、例えば、前記Ｐ’が１０μｍの場合、前記間隔Ｐｘを、９〜１１μｍの範囲でランダムに変動させることをいう。前記９８％の変動とは、前記間隔Ｐｘを、０．２〜１９．８μｍの範囲でランダムに変動させることをいう。
【００３４】
−記録回数ｎ−
前記記録工程をｎ回行う場合、該記録回数ｎとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、記録スポット直径２００μｍ、間隔Ｓ＝２００μｍで、従来のように一定の間隔で記録工程を１０回（ｎ＝１０）行った場合、前記一定間隔Ｐ’は、２０μｍとなる。光記録媒体の記録容量、記録特性の面から、特に好ましい間隔Ｐｘ＝３〜１０μｍで記録することを考慮すれば、前記記録回数ｎは、２０〜７０回とするのが好ましい。
【００３５】
前記間隔Ｐｘを不等間隔とする方向としては、前記情報光及び参照光、並びに記録層のいずれかの移動方向に対し、平行方向及び交差方向の少なくともいずれかの方向において、不等間隔であるのが好ましい。特に、円盤状の光記録媒体の場合、半径方向及び円周方向の少なくともいずれかの方向において、間隔Ｐｘが不等間隔であることが好ましい。前前記記録ピッチの不等間隔とする方向を一方向でもよいとしたのは、光記録再生の為の装置構成が容易であり、かつ所望のＳＮＲ向上効果が得られるからである。
【００３６】
前記記間隔Ｐｘを不等間隔とする方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光記録媒体の移動速度を変化させることにより、記録の間隔Ｐｘを不等間隔とする方法、光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射のタイミングを変化させることにより、記録の間隔Ｐｘを不等間隔にする方法、などが挙げられる。
特に、円盤状の光記録媒体の場合には、該円盤状の光記録媒体の回転速度を変化させることにより、記録の間隔Ｐｘを不等間隔にする方法、該円盤状の光記録媒体を一定速度で回転させ、該光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射のタイミングを変化させることにより、記録の間隔Ｐｘを不等間隔にする方法、更には、該円盤状の光記録媒体におけるサーボピットパターンの間隔Ｂｘを不等間隔に形成し、該サーボピットパターンに基づいて、後述のサーボ工程を行って、記録の間隔Ｐｘを不等間隔に制御する方法、などが挙げられる。
【００３７】
前記情報光及び参照光の照射該照射タイミングを変化（遅延）させる方法は、図７に示すように、１回目の記録スタート位置から、Ｄｘ分だけ、タイミングを遅らせて、照射を行うなどにより行える。詳細については、後述する。
前記間隔Ｓ、間隔Ｐｘ及びＤｘなどは、予め必要最小限の変動などをルックアップテーブルなどに定義しておけば良く、装置構成上容易である点で好ましい。
前記記録間隔Ｐｘを変動させる処理手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、演算処理回路、検出回路、信号処理回路、遅延回路などで構成される記録間隔変動装置により行うことができる。
【００３８】
前記情報光及び参照光の照射タイミングを変化（遅延）させる方法としては、円盤状の光記録媒体の回転数を一定として、情報光及び参照光の照射タイミングを変化させる方法、逆に、前記照射タイミングを一定とし、光記録媒体の回転数を変化させる方法、及び前者と後者を同時に行う方法などが挙げられる。
具体的には、光ディスクの半径４０ｍｍの位置において光記録媒体の回転数が１００ｒｐｍで一定の場合、前記情報光及び参照光の照射のタイミングを、直前の記録点からの経過時間Ｘを７．２〜１２．０マイクロセカント（μｓ）の遅延で変動させることにより、記録層に記録される実際の記録間隔Ｐｘを、３〜５μｍの範囲で不等間隔とすることができる。
また、前記情報光及び参照光の照射のタイミングが、７．２マイクロセカント（μｓ）で一定の場合、光記録媒体のの回転数を１００〜１６７ｒｐｍで変化させることにより、記録層に記録される実際の記録間隔Ｐｘを、３．０〜５．０μｍの範囲で不等間隔とすることができる。
前記照射のタイミング及びディスクの回転数の変化は、光記録再生装置により行うことができる。
【００３９】
前記サーボピットパターンに基づいて、間隔Ｐｘを不等間隔に制御する方法は、該サーボピットパターンを、例えば、円周方法の間隔Ｂｘを１０〜１３μｍの範囲で変動する不当間隔に形成し、サーボ用光で、該間隔Ｂｘを受光素子などで検出し、該検出データに基づいて、前記情報光及び参照光の前記記録層の表面と水平方向に、サーボ機構などにより制御することにより、記録の間隔Ｐｘを不等間隔にすることができる。
この場合、前記サーボピットパターンの半径方向の間隔Ｂｘ（トラックピッチ）は等間隔に形成し、かつ円周方向の間隔Ｂｘは不等間隔に形成してもよいし、サーボピットパターンの半径方向の間隔Ｂｘ（トラックピッチ）を不等間隔に形成し、かつ円周方向の間隔Ｂｘは等間隔に形成してもよい。また、半径方向の間隔Ｂｘ（トラックピッチ）及び円周方向の間隔Ｂｘの双方を不等間隔としてもよい。
【００４０】
ここで図７を用いて、円盤状の光記録媒体に記録した場合の記録間隔Ｓと記録間隔Ｐｘとの関係を具体的に説明する。図７は、円盤状の光記録媒体の一トラックを、直線的に表している。図７では、光記録媒体を回転させながら、一トラックに、前記記録層に前記記録スポットを、一定の間隔Ｓで複数個形成して情報の記録を行う記録工程を、５回行っている。
図７に示すように、当該トラックのスタート地点（０°）から記録を開始し、光記録媒体が一回転する間（３６０°）に、１回目の記録を一定の間隔Ｓで、複数回行う。次に、前記１回目の記録のスタート地点から、間隔Ｐ１だけ離間した位置から、２回目の記録を、間隔Ｓで複数回行う。次に、前記２回目の記録位置から、間隔Ｐ１だけ離間した位置（Ｐ１≠Ｐ２）から、３回目の記録を、間隔Ｓで複数回行う。同様に、４回目の記録を、前記３回目の記録位置からＰ３だけ離間した位置から行い、５回目の記録を、前記４回目の回目の記録位置からＰ４だけ離間した位置から行う。このような記録により、間隔Ｓ内に、不等間隔の間隔Ｐ１〜Ｐ４で、５個の記録がなされる。
また、１トラック分の記録が終了したら、トラックを移動させて、Ｓ間隔でのｎ回の記録工程を行うことにより、円盤状の光記録媒体全体に、不等間隔で、多重に情報を記録することができる。前記隣接するトラックどうしの記録の間隔Ｐｘを、不等間隔としてもよい。
【００４１】
また、図７において、前記不等間隔Ｐｘでの記録を行うための制御を説明する。一記録ピッチＳ中の１回目の記録の記録のスタート位置（アドレス）から、２〜５回目の記録位置（アドレス）を、各々Ｄ１〜Ｄ４（Ｄｘ）とする。実際の記録の際は、光記録媒体の一回転ごとに、前記スタート（０°）位置から、Ｄｘだけ遅延させたタイミングで、情報光及び参照光の照射を行い、その後は、一定のパルスで照射することにより、各記録間隔Ｓ内で、間隔Ｐｘを介して記録を行うことができる。
前記Ｄｘは、予めルックアップテーブルなどに定義してもよいし、光記録媒体に当該Ｄｘについての情報を予め記録し、情報記録時に、その情報を読み込んで、それに対応して記録を行ってもよい。また、サーボピットパターンに、記録開始位置Ｄｘのアドレス情報を記録してもよい。
【００４２】
＜サーボ工程＞
前記サーボ工程は、前記光記録媒体にサーボ用光を照射し、該光記録媒体からの回折光を受光することにより、記録の位置決め（トラッキングサーボ）や、焦点距離の調整（フォーカスサーボ）、その他のサーボ制御を行うものであり、通常は、前記記録工程において記録と同時進行で行われる（即ち、サーボをしながら記録が行われる）。
また、前述のように、サーボピットパターンにより、前記Ｐｘを不等間隔とする制御を行う場合にも、当該サーボ工程により行われる。
前記トラッキングサーボの方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３ビーム法、プッシュプル法及び位相差検出法（「図解コンパクトディスク読本」オーム社、中島平太郎、小川博司共著、第一版、昭和６１年１１月１０日発行に記載）などによるトラック位置の検出を用いたサーボなどが挙げられる。
前記フォーカスサーボとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、非点収差法、フーコー法及び臨界角法（「図解コンパクトディスク読本」オーム社、中島平太郎、小川博司共著、第一版、昭和６１年１１月１０日発行に記載）などによるフォーカス検出を用いたサーボなどが挙げられる。
また、トラック情報及びアドレス情報と、集光レンズと記録光の焦点との距離を表す焦点距離情報とを含む焦点位置情報を記録したホログラムメモリを光記録媒体に記録し、該ホログラムメモリの情報を読み取ることにより、情報の記録トラック位置や円周方向での記録位置の決定、焦点距離の調整を行ってもよい。
前記サーボピットパターンにより、前記情報光及び参照光の被照射位置をサーボして、前記情報光及び参照光が出力される照射位置を、前記被照射位置に追従して回転移動させることができる。
【００４３】
前記サーボ用光の波長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記情報光及び参照光とは異なる波長が好ましい。具体的には、３５０〜５００ｎｍ、６２０〜７００ｎｍ、及び７５０〜１，０００ｎｍのいずれかであるのが好ましく、３９０〜４４０ｎｍ、６４０〜６９０ｎｍ、及び７７０〜９００ｎｍのいずれかであるのがより好ましく、４００〜４２０ｎｍ、６５０〜６８０ｎｍ、及び７８０〜８３０ｎｍのいずれかであるのが更に好ましく、これらの中でも、４０５、６５０、７８０ｎｍのいずれかであるのが特に好ましく、４０５ｎｍであるのが最も好ましい。
【００４４】
＜定着工程＞
前記定着工程は、前記記録層に記録がなされた後、該記録層に定着光を照射することにより行われ、記録された干渉像の安定化を図ることができる。
前記定着光の照射方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記情報光及び前記参照光と同一の光源から出射される光を照射してもよく、異なる光源から出射される光などを照射してもよい。
【００４５】
（光記録再生方法）
前記光記録再生方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の光記録方法により記録された光記録媒体に対して、記録時の参照光の照射と、同一の方向から同じ光を照射することにより再生する方法などが挙げられる。前記光を前記光記録媒体の記録層に形成された干渉像に照射すると、該干渉像に対応した記録情報として、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する回折光が生成され、該回折光をＣＣＤなどにより受光して再生することができる。
【００４６】
また、前記光記録再生方法としては、本発明の前記光記録方法と同様に、記録層に形成された干渉像に、参照光を照射して、該干渉像に対応した記録情報を再生する再生工程をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行うものであり、第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の再生工程が、第ｉ−１回目の再生工程において再生した記録スポットに対して所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置から再生するものであってもよい。
また、記録が間隔Ｓで複数個記録されていた場合光記録媒体に対して、再生光を複数回照射し、記録層に一定の間隔Ｓで複数個形成された情報の再生を行うものであってもよい。
いずれの場合も、第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の再生工程が、第ｉ−１回目の再生工程において再生した記録スポットに対して所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置から再生する。
前記再生の間隔Ｓや間隔Ｐｘは、ルックアップテーブルに定義してもよいし、本発明の前記光記録方法による記録の際に、間隔Ｓや間隔Ｐｘについての情報を光記録媒体に記録し、再生の際に、予め読み込んだ該情報をもとに、間隔Ｓや間隔Ｐｘで再生するものであってもよい。また、サーボピットパターンにより、記録のアドレスをサーチしながら、間隔Ｓや間隔Ｐｘで再生を行うものであってもよい。
【００４７】
（光記録再生装置）
前記光記録再生装置により、本発明の光記録方法及び光再生方法が行われる。
前記本発明の光記録再生装置は、ログラフィを利用して情報を記録する記録層を備えた光記録媒体に対し、情報光及び参照光を複数回照射し、前記記録層に記録スポットを形成して情報の記録を行う記録をｎ回（ただし、ｎは整数を表す）行う記録手段を有する。該第ｉ回目（ただし、ｉは、２≦ｉ≦ｎ、を表す）の記録工程における、記録スポットの形成を、第ｉ−１回目の記録工程において形成した各記録スポットに対して所望の間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｉ−１）だけ離間した位置に行い、かつ、第ｊ回目（ただし、ｊは、２≦ｊ≦ｎ、かつ、ｉ≠ｊ）の記録工程における間隔Ｐｘ（ただし、ｘ＝ｊ−１）と、前記第ｉ回目の記録工程における前記間隔Ｐｘとが互いに異なるようにする手段を少なくとも有する。該手段による光記録時の制御は、前記光記録方法で述べたとおりである。
また、記録手段が、光記録媒体に対して、情報光及び参照光を複数回照射し、記録層に記録スポットを一定の間隔Ｓで複数個形成して情報の記録を行うものであってもよい。
【００４８】
前記光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置について図１５を参照して説明する。
図１５は、本発明に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、本発明の光記録装置と再生装置を含んでなる。
この光記録再生装置１００は、光記録媒体２１が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体２１の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体２１に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体２１に対して前記記録用参照光と同じ再生光を照射し、回折光を検出して、光記録媒体２１に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体２１の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
【００４９】
光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体２１の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体２１の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体２０の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。
【００５０】
光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体２１のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して種々の指示を与える操作部９１とを備えている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード  オンリ  メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム  アクセス  メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。
【００５１】
（光記録媒体）
本発明の光記録媒体は、支持体上に、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層及び必要に応じて適宜選択したその他の層を有する光記録媒体であり、本発明の前記光記録方法により情報が記録される。
本発明の光記録媒体は、２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラムであってもよく、透過型及び反射型のいずれであってもよい。また、ホログラムの記録方式もいずれであってもよく、例えば、振幅ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラムなどでもよい。
本発明の光記録媒体は、少なくとも第一の基板と、第二の基板と、該第二の基板上に記録層と、前記第二の基板と該記録層との間にフィルタ層とを有し、情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われるコリニア方式に用いられる光記録媒体が好ましい。
【００５２】
＜第一の基板＞
前記第一の基板としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光記録媒体の大きさ等に応じて適宜選択することができる。
【００５３】
前記第一の基板の材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができるが、光記録媒体の機械的強度を確保できるものであり、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する透過型の場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコンなどが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、プラスチックフィルムラミネート紙、合成紙などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
【００５４】
前記第一の基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記第一の基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターなどにより回転して用いる場合には、過剰な負荷をかけることがある。
【００５５】
＜第二の基板＞
前記第二の基板は、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料のものを選定する必要がある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記第二の基板の材料としては、通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記第二の基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
【００５６】
前記第二の基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間がデータエリアになっている。アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット（サーボピットパターン）等によって記録されている（プリフォーマット）。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラッキングサーボを行うための情報としては、例えば、ウォブルピットを用いることができる。なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。
【００５７】
前記第二の基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターに過剰な負荷をかけることがある。
【００５８】
−反射膜−
前記反射膜は、前記基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル  ビデオ  ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
【００５９】
前記反射膜の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚さとしては、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
【００６０】
＜記録層＞
前記記録層は、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長の電磁波（γ線、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外線、電波など）を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。
【００６１】
前記記録層の材料は、光熱変換材料、感光性樹脂、バインダー及び必要に応じて適宜選択したその他の成分が含まれる。
【００６２】
−感光性樹脂−
前記感光性樹脂としては、ホログラフィに用いられるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フォトポリマーが好ましい。
【００６３】
−−フォトポリマー−−
【００６４】
前記（１）のフォトポリマーとしては、光照射で重合反応が起こり高分子化するものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー等のその他の成分を含有してなる。
【００６５】
前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」（工業調査会、１９８９年）、「フォトポリマーテクノロジー」（日刊工業新聞社、１９８９年）、ＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３０１０  ｐ３５４−３７２（１９９７）、及びＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３２９１  ｐ８９−１０３（１９９８）に記載されているものを用いることができる。また、米国特許第５，７５９，７２１号明細書、同第４，９４２，１１２号明細書、同第４，９５９，２８４号明細書、同第６，２２１，５３６号明細書、米国特許第６，７４３，５５２号明細書、国際公開第９７／４４７１４号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、同第９９／２６１１２号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、特許第２８８０３４２号公報、同第２８７３１２６号公報、同第２８４９０２１号公報、同第３０５７０８２号公報、同第３１６１２３０号公報、特開２００１−３１６４１６号公報、特開２０００−２７５８５９号公報などに記載されているフォトポリマーを用いることができる。
【００６６】
前記フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分子成分の拡散を利用した方法などが挙げられる。また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、あるいは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、前記低分子成分を含むフォトポリマーを用いて記録層を形成する場合には、記録層中に液体を保持可能な構造を必要とすることがある。また、前記酸開裂構造を有する化合物を添加する場合には、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補償させることにより体積変化を抑制してもよい。
【００６７】
前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であってもよい。また、光架橋反応を利用したものであってもよい。
【００６８】
前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾイル−９−イルエチルアクリレート、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−１−ナフトエート、Ｎ−ビニルカルバゾール、２，４，６−トリブロムフェニルアクリレート、ペンタブロムアクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどが挙げられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式（Ｍ１）〜（Ｍ６）で表される化合物、などが挙げられる。
これらのモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【化１】
2007272058.tif 000003
【００６９】
前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）フェニルチタニウム〕、ジフェニル−４−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。
【００７０】
前記記録層の貯蔵安定性を改良する目的でフォトポリマーの重合禁止剤や酸化防止剤を加えてもよい。重合禁止剤、酸化防止剤としては例えば、ハイドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、２，６−ジターシヤリ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ターシヤリ−ブチルフェノール）、トリフェルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト，フェノチアジン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン等が挙げられる。使用量としては組成物に使用するモノマーの全量に対して３質量％以内であり、３質量％を超えると重合が遅くなるか、著しい場合は重合しなくなる。
【００７１】
前記フォトポリマーは、前記モノマー、前記光開始剤、更に必要に応じてその他の成分を攪拌混合し、反応させることによって得られる。得られたフォトポリマーが十分低い粘度ならばキャスティングすることによって記録層を形成することができる。一方、キャスティングできない高粘度フォトポリマーである場合には、ディスペンサーを用いて第二の基板にフォトポリマーを盛りつけ、このフォトポリマー上に第一の基板で蓋をするように押し付けて、全面に広げて記録層を形成することができる。
【００７２】
前記フォトポリマー以外の有用な感光性樹脂としては、（１）フォトリフラクティブ効果（光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する）を示すフォトリフラクティブ材料、（２）光照射で分子の異性化が起こり、屈折率が変調するフォトクロミック材料、（３）ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、（４）カルコゲン材料、などが挙げられる。
【００７３】
前記（１）のフォトリフラクティブ材料としては、フォトリフラクティブ効果を示すものであるならば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発生材、及び電荷輸送材を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００７４】
前記電荷発生材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、又はそれらの誘導体等のフタロシアニン色素／顔料；ナフタロシアニン色素／顔料；モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾ等のアゾ系色素／顔料；ペリレン系染料／顔料；インジゴ系染料／顔料；キナクリドン系染料／顔料；アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料／顔料；シアニン系染料／顔料；ＴＴＦ−ＴＣＮＱで代表されるような電子受容性物質と電子供与性物質とからなる電荷移動錯体；アズレニウム塩；Ｃ６０及びＣ７０で代表されるフラーレン並びにその誘導体であるメタノフラーレン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７５】
前記電荷輸送材は、ホール又はエレクトロンを輸送する材料であり、低分子化合物であってもよく、又は高分子化合物であってもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インドール、カルバゾール、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体；ヒドラゾン化合物；トリフェニルアミン類；トリフェニルメタン類；ブタジエン類；スチルベン類；アントラキノンジフェノキノン等のキノン化合物、又はその誘導体；Ｃ６０及びＣ７０等のフラーレン並びにその誘導体；ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン等のπ共役系高分子又はオリゴマー；ポリシラン、ポリゲルマン等のσ共役系高分子又はオリゴマー；アントラセン、ピレン、フェナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
前記フォトリフラクティブ材料を用いて記録層を形成する方法としては、例えば、前記フォトリフラクティブ材料を溶媒中に溶解乃至は分散させてなる塗布液を用いて塗膜を形成し、この塗膜から溶媒を除去することにより記録層を形成することができる。また、加熱して流動化させた前記フォトリフラクティブ材料を用いて塗膜を形成し、この塗膜を急冷することにより記録層を形成することもできる。
【００７７】
前記（２）のフォトクロミック材料としては、フォトクロミック反応を起こす材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、インジゴ化合物、チオインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、フルキド化合物、アントラセン化合物、ヒドラゾン化合物、桂皮酸化合物、ジアリールエテン化合物などが挙げられる。これらの中でも、光照射によりシス−トランス異性化により構造変化を起こすアゾベンゼン化合物、スチルベン化合物、光照射により開環−閉環の構造変化を起こすスピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物が特に好ましい。
【００７８】
前記（４）のカルコゲン材料としては、例えば、カルコゲン元素を含むカルコゲナイドガラスと、このカルコゲナイドガラス中に分散されており光の照射によりカルコゲナイドガラス中に拡散可能な金属からなる金属粒子とを含む材料、などが挙げられる。
前記カルコゲナイドガラスは、Ｓ、Ｔｅ又はＳｅのカルコゲン元素を含む非酸化物系の非晶質材料から構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、Ｇｅ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ系ガラス、Ａｓ−Ｓｅ−Ｃｅ系ガラス等が挙げられ、これらの中ではＧｅ−Ｓ系ガラスが好ましい。前記カルコゲナイドガラスとしてＧｅ−Ｓ系ガラスを用いる場合には、ガラスを構成するＧｅ及びＳの組成比は照射する光の波長に応じて任意に変化させることができるが、主としてＧｅＳ２で表される化学組成を有するカルコゲナイドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｐｄ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｎ、Ａｇ等が挙げられる。これらの中では、Ａｇ、Ａｕ又はＣｕが光ドープをより生じやすい特性を有しており、Ａｇは光ドープを顕著に生じるため特に好ましい。
前記カルコゲナイドガラスに分散されている金属粒子の含有量としては、前記記録層の全体積基準で０．１〜２体積％が好ましく、０．１〜１．０体積％がより好ましい。前記金属粒子の含有量が、０．１体積％未満であると、光ドープによる透過率変化が不充分となって記録の精度が低下することがあり、２体積％を超えると、記録材料の光透過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
【００７９】
−バインダー−
前記バインダーは、塗膜性、膜強度、及びホログラム記録特性向上の効果を高める目的で使用されるものであり、ホログラム材料および光熱変換物質との相溶性、を考慮して適宜選択される。
前記バインダーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、例えば、（メタ）アクリル酸やイタコン酸等の不飽和酸と、（メタ）アクリル酸アルキル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ベンジル、スチレン、α−メチルスチレン等との共重合体；ポリメチルメタクリレートに代表されるメタクリル酸アルキルやアクリル酸アルキルの重合体；（メタ）アクリル酸アルキルとアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン等との共重合体；アクリロニトリルと塩化ビニルや塩化ビニリデンとの共重合体；側鎖にカルボキシル基を有するセルロース変性物；ポリエチレンオキシド；ポリビニルピロリドン；フェノール、ｏ−、ｍ−、ｐ−クレゾール、及び／又はキシレノールとアルデヒド、アセトン等との縮合反応で得られるノボラック樹脂；エピクロロヒドリンとビスフェノールＡとのポリエーテル；可溶性ナイロン；ポリ塩化ビニリデン；塩素化ポリオレフィン；塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体；酢酸ビニルの重合体；アクリロニトリルとスチレンとの共重合体；アクリロニトリルとブタジエン及びスチレンとの共重合体；ポリビニルアルキルエーテル；ポリビニルアルキルケトン；ポリスチレン；ポリウレタン；ポリエチレンテレフタレートイソフタレート；アセチルセルロース；アセチルプロピオキシセルロース；アセチルブトキシセルロース；ニトロセルロース；セルロイド；ポリビニルブチラール；エポキシ樹脂；メラミン樹脂；フォルマリン樹脂等が挙げられる。なお、本明細書では、「アクリル、メタクリル」の双方あるいはいずれかを指す場合、「（メタ）アクリル」と表記することがある。
【００８０】
前記記録層の固形分中のバインダーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１０〜９５質量％であることが好ましく、３５〜９０質量％であれることがより好ましい。前記含有量が、１０質量％未満であると、安定な干渉像が得られないことがあり、９５質量％を超えると、回折効率の点で望ましい性能が得られないことがある。
前記バインダーの感光層中における含有量は、全感光層固形分中、１０〜９５質量％が好ましく、３５〜９０質量％がより好ましい。
【００８１】
−記録層に含まれるその他の成分−
本発明においては、光熱変換効果を向上させる目的で、ニトロセルロースを記録層中に更に含有させることが好ましい。ニトロセルロースは、近赤外レーザー光を光吸収剤が吸収し発生した熱により分解し、効率よくフォトポリマーの重合反応を促進させることができる。
【００８２】
前記ニトロセルロースは、常法により精製した天然のセルロースを混酸で硝酸エステル化し、セルロースの構成単位であるグルコピラノース環に存在する３個の水酸基の部分にニトロ基を一部又は全部導入することによって得ることができる。前記ニトロセルロースの硝化度としては、２〜１３が好ましく、１０〜１２．５がより好ましく、１１〜１２．５が更に好ましい。ここで、硝化度とは、ニトロセルロース中の窒素原子の質量％を表す。硝化度が著しく高いと、フォトポリマーの重合反応の促進効果は高められるが、室温安定性が低下する傾向にある。また、ニトロセルロースが爆発性となり危険が伴う。硝化度が著しく低いと、フォトポリマーの重合反応の促進効果が充分得られない。
【００８３】
また、ニトロセルロースの重合度は２０〜２００が好ましく、２５〜１５０がより好ましい。重合度が著しく高いと、記録層の除去が不完全となる傾向にある。重合度が著しく低いと、記録層の塗膜性が不良になる傾向にある。ニトロセルロースの記録層中における含有率は、記録層全固形成分に対し、８０質量％以下が好ましく、０．５〜５０質量％がより好ましく、１〜２５質量％が更に好ましい。
【００８４】
前記記録層は、材料に応じて公知の方法に従って形成することができ、例えば、蒸着法、湿式成膜法、ＭＢＥ（分子線エピタキシー）法、クラスターイオンビーム法、分子積層法、ＬＢ法、印刷法、転写法、などにより好適に形成することができる。また、米国特許６，７４３，５５２号に記載されている２成分ウレタンマトリックス形成方法でもよい。
【００８５】
前記湿式成膜法による前記記録層の形成は、例えば、前記記録層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより、好適に行うことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。
【００８６】
前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１，０００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重記録を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
【００８７】
＜フィルタ層＞
前記フィルタ層は、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能がある。前記光記録媒体に前記フィルタ層を積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記フィルタ層の機能は、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射することが好ましく、前記第一の波長の光が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の波長の光が６００〜９００ｎｍであることが好ましい。そのためには、光学系側から見て、記録層、フィルタ層、及びサーボビットパターンの順に積層されている構造の光記録媒体であることが好ましい。
また、前記フィルタ層は、入射角度±４０°における、６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上が好ましく、４０％以上がより好ましい。
前記フィルタ層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、誘電体蒸着層、単層又は２層以上のコレステリック液晶層、更に必要に応じてその他の層の積層体により形成される。また色材含有層を有していてもよい。
前記フィルタ層は、直接記録層など共に、前記支持体上に塗布などにより積層してもよく、フィルムなどの基材上に積層して光記録媒体用フィルタを作製し、該光記録媒体用フィルタを、支持体上に積層してもよい。
【００８８】
−誘電体蒸着層−
前記誘電体蒸着層は、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層してなり、波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層することが好ましいが、２種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。また色材含有層を設ける場合は、誘電体蒸着層の下に形成する。
前記積層数は、２〜２０層が好ましく、２〜１２層がより好ましく、４〜１０層が更に好ましく、６〜８層が特に好ましい。前記積層数が、２０層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
【００８９】
前記誘電体薄膜の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。前記屈折率が高いか低いかを決めるしきい値としては１．８が好ましい。なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、高屈折率の材料の中でも、相対的に屈折率の大きいものと小さいものとが存在してもよく、これらを交互に使用してもよい。
【００９０】
前記高屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｐｒ６Ｏ１１、Ｓｃ２Ｏ３、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＴｌＣｌ、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２などが挙げられる。これらの中でも、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２が好ましく、これらの中でも、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２がより好ましい。
【００９１】
前記低屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＬａＦ３、ＰｂＣｌ２、ＰｂＦ２、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＮｄＦ３、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３、ＮａＦ、ＴｈＯ２、ＴｈＦ４などが挙げられる。これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３が好ましく、これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３がより好ましい。
なお、前記誘電体薄膜の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
【００９２】
前記誘電体薄膜の成膜方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティング、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）などが挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法、スパッタリングが好ましく、スパッタリングがより好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いＤＣスパッタリング法が好ましい。なお、ＤＣスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、（１）１つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する１チャンバ法、（２）複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記誘電体薄膜の膜厚としては、光学波長オーダーで、λ／１６〜λが好ましく、λ／８〜３λ／４がより好ましく、λ／６〜３λ／８が特に好ましい。
【００９３】
−色材含有層−
前記色材含有層は、色材、バインダー樹脂、溶媒及び必要に応じてその他の成分により形成される。
【００９４】
前記色材としては、顔料及び染料の少なくともいずれかが好適に挙げられ、これらの中でも、５３２ｎｍの光を吸収し、６５５ｎｍ若しくは７８０ｎｍのサーボ光を透過させる観点から、赤色染料、赤色顔料が好ましく、赤色顔料が特に好ましい。また、前記有機色素材料で用いた色素を用いてもよい。
【００９５】
前記赤色染料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃ．I．アシッドレッド１，８，１３，１４，１８，２６，２７，３５，３７，４２，５２，８２，８７，８９，９２，９７，１０６，１１１，１１４，１１５，１３４，１８６，２４９，２５４，２８９等の酸性染料；Ｃ．I．ベーシックレッド２，１２，１３，１４，１５，１８，２２，２３，２４，２７，２９，３５，３６，３８，３９，４６，４９，５１，５２，５４，５９，６８，６９，７０，７３，７８，８２，１０２，１０４，１０９，１１２等の塩基性染料；Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１，１４，１７，２５，２６，３２，３７，４４，４６，５５，６０，６６，７４，７９，９６，９７等の反応性染料、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９６】
前記赤色顔料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４６）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８１）、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９７】
これらの中でも、５３２ｎｍの光に対する透過率が１０％以下であり、かつ６５５ｎｍの光に対する透過率が９０％以上である透過スペクトルを示す赤色顔料が特に好ましく用いられる。
【００９８】
前記色材の含有量としては、前記色材含有層の全固形質量に対し０．０５〜９０質量％が好ましく、０．１〜７０質量％がより好ましい。前記含有量が０．０５質量％未満であると、色材含有層の厚みが５００μｍ以上必要となってしまうことがあり、９０質量％を超えると、色材含有層の自己支持性がなくなり、色材含有層の作製工程中に膜が崩れてしまうことがある。
【００９９】
前記色材含有層に用いるバインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体；塩化ビニル、酢酸ビニルとビニルアルコール、マレイン酸及びアクリル酸の少なくともいずれかとの共重合体；塩化ビニル／塩化ビニリデン共重合体；塩化ビニル／アクリロニロリル共重合体；エチレン／酢酸ビニル共重合体；ニトロセルロース樹脂等のセルロース誘導体；ポリアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、分散性及び耐久性を更に高めるため、以上に挙げたバインダー樹脂分子中に、極性基（エポキシ基、ＣＯ２Ｈ、ＯＨ、ＮＨ２、ＳＯ３Ｍ、ＯＳＯ３Ｍ、ＰＯ３Ｍ２、ＯＰＯ３Ｍ２（ただし、Ｍは水素原子、アルカリ金属、又はアンモニウムであり、一つの基の中に複数のＭがあるときは互いに異なっていてもよい）を導入したものが好ましい。該極性基の含有量としては、バインダー樹脂１グラム当り１０−６〜１０−４当量が好ましい。
以上列挙したバインダー樹脂は、イソシアネート系の公知の架橋剤を添加して硬化処理されることが好ましい。
【０１００】
前記バインダー樹脂の含有量としては、前記色材含有層の全固形質量に対し１０〜９９．９５質量％が好ましく、３０〜９９．９質量％がより好ましい。
【０１０１】
前記各成分は、適当な溶媒に溶解乃至は分散し、塗布液に調製し、この塗布液を所望の塗布方法により後述する基材上に塗布することにより、色材含有層を形成することができる。
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０２】
前記塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法、などが挙げられる。
【０１０３】
前記色材含有層の厚みは、例えば、０．５〜２００μｍが好ましく、１．０〜１００μｍがより好ましい。前記厚みが、０．５μｍ未満であると、色材を包んで膜とするためのバインダー樹脂を十分な量添加することができなくなることがあり、２００μｍを超えると、光記録媒体の厚みが大きくなりすぎて、照射光及びサーボ光の光学系として過大なものが必要になることがある。
【０１０４】
−コレステリック液晶層−
前記コレステリック液晶層は、少なくとも、コレステロール誘導体、又はネマチック液晶化合物及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記コレステリック液晶層は、単層コレステリック液晶層及び２層以上の複数層コレステリック液晶層のいずれであってもよい。
【０１０５】
前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向（右回り又は左回り）と円偏光方向とが一致し、波長が液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成分の光だけを反射する選択反射特性を有する。このコレステリック液晶層の選択反射特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から特定波長の円偏光のみを透過分離し、その残りを反射する。
【０１０６】
前記光記録媒体用フィルタは、垂直入射を０°とし±２０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが好ましく、垂直入射を０°とし±４０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが特に好ましい。前記λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。このためにはコレステリック液晶層の選択反射波長幅が大きいことが好ましい。
具体的には、単層コレステリック液晶層の場合には、コレステリック液晶層の選択反射波長領域幅Δλは、下記数式１で表されることから、（ｎｅ−ｎｏ）の大きな液晶を用いることが好ましい。
＜数式１＞
Δλ＝２λ（ｎｅ−ｎｏ）／（ｎｅ＋ｎｏ）
ただし、前記数式１中、ｎｏは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。ｎｅは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
また、特願２００４−３５２０８１号明細書記載のように、カイラル化合物として感光性を有し、光によって液晶の螺旋ピッチを大きく変化させることができる光反応型カイラル化合物を用い、該光反応型カイラル化合物の含有量やＵＶ照射時間を調整することにより、螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に連続的に変化した光記録媒体用フィルタを用いることが好ましい。
【０１０７】
また、複数層コレステリック液晶層の場合には、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を積層することが好ましい。
前記コレステリック液晶層は、上記特性を満たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上述したように、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【０１０８】
−ネマチック液晶化合物−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜０．４０の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いる等により配向させ、そのまま冷却等して固定化させることにより固相として使用することができる。
【０１０９】
前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）重合性液晶が好適である。該ＵＶ重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３などが挙げられる。
【０１１０】
前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し３０〜９９質量％が好ましく、５０〜９９質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。
【０１１１】
−カイラル化合物−
前記カイラル化合物としては、複数層コレステリック液晶層の場合には、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマンニド化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｓ１０１、Ｒ８１１、ＣＢ１５；ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６などが挙げられる。
【０１１２】
前記複数層コレステリック液晶層の各液晶層におけるカイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。前記含有量が３０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【０１１３】
−重合性モノマー−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化（パターンニング）させた後（例えば、選択反射波長の分布を形成した後）、その螺旋構造（選択反射性）を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマーなどが挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記重合性モノマーの添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し５０質量％以下が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。前記添加量が５０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
【０１１４】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤などが挙げられる。
【０１１５】
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、アシルホスフィン誘導体、チオキサントン／アミンなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名ルシリンＴＰＯなどが挙げられる。
【０１１６】
前記光重合開始剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量が０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。
【０１１７】
前記増感剤は、必要に応じてコレステリック液晶層の硬化度を上げるために添加される。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．００１〜１．０質量％が好ましい。
【０１１８】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール；ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物；メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂；側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体；ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体；アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー；その他の水酸基を有するポリマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸のホモポリマー）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーの多元共重合体などが挙げられる。
【０１１９】
前記バインダー樹脂の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形質量に対し、８０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。前記添加量が８０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【０１２０】
前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し、１０質量％以下が好ましく、１００ｐｐｍ〜１質量％がより好ましい。
【０１２１】
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフランなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１２２】
前記コレステリック液晶層の形成方法としては、例えば、前記溶媒を用いて調製したコレステリック液晶層用塗布液（複数層の場合には各コレステリック液晶層用塗布液）を前記基材上に塗布し、乾燥させて、例えば紫外線照射することにより、コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上にコレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
【０１２３】
前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、１６０〜３８０ｎｍが好ましく、２５０〜３８０ｎｍがより好ましい。照射時間としては、例えば、０．１〜６００秒が好ましく、０．３〜３００秒がより好ましい。紫外線照射の条件を調整することによって前記反応性カイラル剤を用いた光コレステリック液晶層における螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に沿って連続的に変化させることができる。
【０１２４】
前記紫外線照射の条件を調整するために、前記コレステリック液晶層に紫外線吸収剤を添加することもできる。該紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤などが好適に挙げられる。これらの紫外線吸収剤の具体例としては、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第２，７１９，０８６号明細書、同第３，７０７，３７５号明細書、同第３，７５４，９１９号明細書、同第４，２２０，７１１号明細書などに記載されている。
【０１２５】
前記複数層の場合には各コレステリック液晶層の厚みは、例えば、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。前記厚みが１μｍ未満であると、選択反射率が十分でなくなり、１０μｍを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、各コレステリック液晶層の合計厚み（単層の場合にはコレステリック液晶層の厚み）は、例えば、１〜３０μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。
【０１２６】
＜コレステリック液晶層を有する光記録媒体用フィルタの製造方法＞
前記光記録媒体用フィルタの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光記録媒体用フィルタは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、基材ごとディスク形状に加工（例えば、打ち抜き加工）されて、光記録媒体の第二の基板上に配置されるのが好ましい。また、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合は、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。
【０１２７】
＜基材＞
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０〜５００μｍが好ましく、５０〜３００μｍがより好ましい。前記基材の厚みが、１０μｍ未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、５００μｍを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまう。波長選択膜の貼り合わせには、それぞれ、公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。
【０１２８】
なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。
【０１２９】
＜その他の層＞
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第１ギャップ層、第２ギャップ層、反射防止層、保護層などが挙げられる。
【０１３０】
−第１ギャップ層−
前記第１ギャップ層は、必要に応じて前記フィルタ層と前記反射膜との間に設けられ、第二の基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第１ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上から紫外線硬化樹脂等の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。また、フィルタ層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基材が第１ギャップ層としても働くことになる。
前記第１ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【０１３１】
−第２ギャップ層−
前記第２ギャップ層は、必要に応じて、記録層とフィルタ層との間に設けられる。
前記第２ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル−ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のような透明樹脂フィルム、又は、ＪＳＲ社製商品名ＡＲＴＯＮフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、ＴＡＣ、ＰＣ、商品名ＡＲＴＯＮ、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
前記第２ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましい。
【０１３２】
（光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、組成物調製工程と、記録層積層工程と、フィルタ層形成工程と、第一ギャップ層形成工程と、積層体形成工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【０１３３】
＜組成物調製工程＞
前記組成物調製工程は、光記録用組成物を調製する工程であり、モノマー、光開始剤、増感剤、オリゴマー及びバインダーなどからなるフォトポリマー及び必要に応じて適宜選択したその他の成分を含む光記録用組成物を、溶剤により、溶解、分散、混合などにより調製する。前記調製の条件としては、例えば、温度２３℃、湿度１０％、低温度乾燥の環境で行われる。
【０１３４】
＜記録層積層工程＞
前記記録層積層工程は、前記フィルタ層上、又は該フィルタ層上に第二ギャップ層が積層されている場合は、該第二ギャップ層上に、ホログラフィにより情報を記録する記録層を積層する工程であり、前記組成物調製工程において調製された光記録用組成物を塗工などにより積層する工程である。
前記記録層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、湿式成膜法や注入法による積層方法などが挙げられる。前記湿式成膜法は、前記記録層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより形成する方法であり、該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。
前記注入法とは、第一基板と第二基板との隙間に、記録層溶液を注入する方法である。外周スペーサ及び内周スペーサを予め第一基板と第二基板で挟み込みディスクセルを作り、前記外周スペーサの一部に切り欠きを設けてその口を注入口として、記録層溶液を注入する。
前記注入法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、外周注入法、内周注入法、ギャップ注入法などが挙げられる。
前記注入の条件としては、温度２３℃、粘度３３０ｍＰａ・ｓ、０．５ＭＰａの圧力、湿度１０％、硬化時間として温度８０℃、４０分間などが挙げられる。
前記注入装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シリンジ、エア圧ディスペンサーなどが挙げられる。
【０１３５】
前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１，０００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
【０１３６】
−外周スペーサ−
前記外周スペーサの形状は、外周が光記録媒体の外周形状と略同一であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、四角形、円形、楕円形、多角形などが挙げられる。これらの中でも、円形が好ましい。
前記外周スペーサの断面形状は、例えば、四角形、矩形、台形、円形、楕円形などが挙げられる。これらの中でも、厚みを一定にする作用の観点から四角形、台形、矩形などが好ましい。図１３に示すスペーサは、その断面が四角形の一例である。
前記外周スペーサの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層の厚みと略同一の厚みであることが好ましい。具体的には、前記記録層の厚みと同じ１００〜１，０００μｍであることが好ましい。
前記外周スペーサの幅としては、少なくとも０．５ｍｍあれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．５〜５ｍｍが好ましく、０．５〜３ｍｍがより好ましく、０．５〜２ｍｍが特に好ましい。前記幅が、０．５ｍｍ未満であると、前記記録層の厚みを一定にするための保持機能が機械強度の面や支持面積の面で低下することがあり、５ｍｍを超えるとホログラム記録領域が狭められ、記録容量が損なわれることがある。
【０１３７】
前記外周スペーサの材料としては、特に制限はなく、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができるが、成形性やコストの点から前記有機材料が好ましい。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、セラミック、石英、シリコンなどが挙げられる。
前記有機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、剥離性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
【０１３８】
前記スペーサの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、射出成形、ブロー成形、圧縮成形、真空成形型押し出し加工、削り出し加工などが挙げられる。
【０１３９】
−内周スペーサ−
前記内周スペーサの形状は、内周が光記録媒体に設けられている開口部の形状と略同一であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、四角形、円形、楕円形、多角形などが挙げられる。これらの中でも、円形が好ましい。
前記内周スペーサの断面形状は、前記外周スペーサと同じ形状が好ましく、例えば、四角形、矩形、台形、円形、楕円形などが挙げられる。これらの中でも、厚みを一定にする作用の観点から四角形、台形、矩形などが好ましい。
前記内周スペーサの厚みは、前記記録層の厚みの均一性の観点から前記外周スペーサと同一であることが求められる。
前記内周スペーサの幅は、前記記録層の厚みの均一性保持機能の観点、及び記録層の記録領域の確保の観点から前記外周スペーサと同一であってもよく、異なっていてもよい。  前記内周スペーサの材料及び製造方法は外周スペーサと異なっていてもよく、同一であってもよい。
【０１４０】
＜フィルタ層形成工程＞
前記フィルタ層形成工程は、本発明の前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板に貼り合わせてフィルタ層を形成する工程である。ここで、前記光記録媒体用フィルタの製造方法については、上述した通りである。なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。例えば、基板上に色材含有層用塗布液を塗布して色材含有層を形成し、該色材含有層上にスパッタリング法により誘電体蒸着膜を形成する方法などが挙げられる。
前記光記録媒体形状としては、ディスク形状、カード形状、などが挙げられ、前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、などが挙げられる。前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。
【０１４１】
＜第一ギャップ層形成工程＞
前記第一ギャップ層形成工程は、前記第二の基板と前記フィルタ層との間に、第一ギャップ層を形成する工程である。該第一ギャップ層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第二の基板上に対して、前記スピン塗布による方法、前記非熱軟化性シートを貼付する方法、前記蒸着及び前記スパッタリングなどが挙げられる。
【０１４２】
＜積層体形成工程＞
前記積層体形成工程は、前記記録層積層工程、前記フィルタ層形成工程及び前記第一ギャップ層形成工程により、前記記録層、前記フィルタ層及び第一ギャップ層が形成された第二の基板と、前記第一の基板とを貼り合わせて積層体を形成し、必要に応じて適宜選択したその他の工程を含む工程である。
前記貼り合わせ方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記第一の基板と前記第二の基板と必要に応じて適宜選択したその他の層とを、接着剤で接着する方法、接着剤を用いず圧着する方法、真空中で貼り合わせる方法などが挙げられる。
前記接着剤で接着する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記第一の基板と、前記第二の基板と、必要に応じて適宜選択したその他の層とを、外周を合致させ、各層間に接着剤を塗布し、外側から０．０１〜０．５ＭＰａの圧力をかけて、２３〜１００℃で接着する。
該接着の際に、気泡が無く密着させるためには、真空中で貼りあわせることが好ましい。
【０１４３】
−接着剤−
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤などが挙げられる。
これらの中でも、透明性に優れていることから、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤がより好ましい。
【０１４４】
前記接着剤を用いず圧着する方法は、各層の有する接着性を利用して密着させて積層体を形成することも可能である。前記第一の基板と、前記第二の基板と、必要に応じて適宜選択したその他の層とを、各外周を合致させ、外側から０．０１〜０．５ＭＰａの圧力をかけて、２３〜１００℃で接着する。該密着の際に、気泡が無く密着させるためには、真空中で貼りあわせることが好ましい。
【０１４５】
＜その他の工程＞
前記その他の工程としてとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層と前記フィルタ層の間に第二ギャップ層を形成する第二ギャップ層形成工程、光記録媒体の側面周囲を接着剤で封止する側面封止工程などが挙げられる。
【０１４６】
＜光記録媒体の具体例１＞
図１１は、本発明の具体例１における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この具体例１に係る光記録媒体２１では、ポリカーボネート樹脂又はガラスの第二の基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。なお、図１１では第二の基板１全面に等間隔でサーボピットパターン３が形成されているが、図８に示すように、サーボピットパターンが周期的に形成されていてもよい。また、前記のように、サーボピットパターンにより記録の間隔Ｐｘを不等間隔に制御する場合には、サーボピットパターンの間隔Ｂｒを、不等間隔に形成してもよい。また、このサーボピットパターン３の高さは、通常１，７５０Å（１７５ｎｍ）であり、基板を始め他の層の厚さに比べて充分に小さいものである。
【０１４７】
第一ギャップ層８は、紫外線硬化樹脂等の材料を第二の基板１の反射膜２上にスピンコート等により塗布して形成される。第一ギャップ層８は、反射膜２を保護すると共に、記録層４内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、記録層４において記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるため、記録層４とサーボピットパターン３との間にギャップを設けると有効である。
第一ギャップ層８上にはフィルタ層６が設けられ、また、フィルタ層６と記録層４との間に第二ギャップ層７が設けられ、該フィルタ層６と第一の基板５（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）によって第２のギャップ層及び記録層４を挟むことによって光記録媒体２１が構成される。なお、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが存在するが、このフォーカシングエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり、多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第二ギャップ層７を設けることが有効となる。
【０１４８】
図１１において、フィルタ層６は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。従って、情報光、記録用参照光及び再生光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層６を透過せず、反射膜２まで達することなく、戻り光となり、入出射面Ａから出射することになる。
このフィルタ層６は、螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層６ａ、６ｂ、６ｃからなる。このコレステリック液晶層からなるフィルタ層６は、第一ギャップ層８上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上にコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層によって、λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
【０１４９】
具体例１における光記録媒体２１は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２１では、第二の基板１は０．６ｍｍ、第一ギャップ層８は１００μｍ、フィルタ層６は２〜３μｍ、第二ギャップ層７は７０μｍ、記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．６ｍｍの厚みであって、合計厚みは約１．９ｍｍとなっている。
【０１５０】
次に、図１４を参照して、光記録媒体２１周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２１に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２１の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一の基板５、記録層４、第二ギャップ層７、フィルタ層６、及び第一ギャップ層８を通過し、反射膜２で反射され、再度、第一ギャップ層８、フィルタ層６、第二ギャップ層７、記録層４、及び第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、回折光に対してノイズとなることもない。
なお、図１３に示したλ０〜１．３λ０の反射域は、λ０＝５３２ｎｍのとき１．３λ０＝６９２ｎｍとなり、サーボ光が６５５ｎｍの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ０〜１．３λ０の範囲はフィルタ層における±４０°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±２０°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタ層におけるコレステリック液晶層の螺旋ピッチを十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を±２０°以内で全て設計することも容易であり、その場合はλ０〜１．１λ０のコレステリック液晶層でよいのでサーボ光透過には全く支障がなくなる。
【０１５１】
また、記録用／再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１２によって情報光と記録用参照光が記録層４内で干渉パターンを生成するように光記録媒体２１に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層４を通過し、フィルタ層６に入射するが、該フィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜２までは到達しない。フィルタ層６は螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層から形成され、赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の２０％以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので回折光へ混じる光強度は２０％×２０％＝４％以下となり、実質的に問題とはならない。
【０１５２】
＜光記録媒体の具体例２＞
図１２は、前記具体例２における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この具体例２に係る光記録媒体２２では、フィルタ層６以外は具体例１と同様に構成される。
【０１５３】
図１２において、フィルタ層６は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。従って、情報光、記録用参照光及び再生光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層６を透過せず、反射膜２まで達することなく、戻り光となり、入出射面Ａから出射することになる。
このフィルタ層６は、色材含有層上に、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜が７層積層された誘電体蒸着層を形成した積層体である。この色材含有層と誘電体蒸着膜との組み合わせであるフィルタ層６は、第一ギャップ層８上に塗布及び蒸着により直接形成してもよいし、基材上に色材含有層及び誘電体蒸着膜を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。フィルタ層として色材含有層と誘電体蒸着膜との組み合わせを用いることによって、入射角度±４０°における、６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上であり、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
【０１５４】
前記具体例２における光記録媒体２２の形状は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよく、具体例１と同様に形成される。
また、前記具体例２における光記録媒体２２周辺での光学的動作は、前記具体例１と同様である。
【実施例】
【０１５５】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１５６】
（実施例１）
＜光記録媒体の作製＞
実施例１の光記録媒体は、第一の基板と、記録層と、第二ギャップ層と、フィルタ層と、第一ギャップ層と、第二の基板とをこの順に積層することにより、以下のように作製した。前記フィルタ層は、フィルム状のフィルタを作製して、積層することにより以下のように形成した。
【０１５７】
−記録層用の感光性組成物溶液の組成−
下記組成からなる感光性組成物を窒素気流下で混合し、感光性組成物溶液を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ビスシクロヘキシルメタンジイソシアネート・・・・・・・・３１．５質量％
・ポリプロピレンオキサイドトリオール（分子量１，０００）・６１．２質量％
・テトラメチレングリコール・・・・・・・・・・・・・・・・・２．５質量％
・２，４，６−トリブロモフェニルアクリレート・・・・・・・・３．１質量％
・光重合開始剤
（チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア７８４）・・０．６９質量％
・ジブチルジラウレートスズ・・・・・・・・・・・・・・・・１．０１質量％
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０１５８】
−フィルタの作製−
まず、ポリカーボネートフィルム（三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ユーピロン）厚み１００μｍ上に、ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製、商品名ＭＰ２０３）を厚み１μｍとなるように塗布したベースフィルムを用意した。このベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与することができる。
【０１５９】
次に、下記表１に示す組成のコレステリック液晶層用塗布液Ａ、Ｂ及びＣを常法により調製した。
【０１６０】
【表１】
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＊ＵＶ重合性液晶：ＢＡＳＦ社製、商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２
＊カイラル剤：ＢＡＳＦ社製、商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６
＊光重合開始剤：チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名イルガキュア３６９
＊増感剤：ジエチルチオキサントン
＊溶剤：メチルエチルケトン（ＭＥＫ）
【０１６１】
次に、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Ａをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、１１０℃にて２０秒間配向熟成した。その後、１１０℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ２で露光して、厚み２μｍのコレステリック液晶層硬化膜Ａを形成した。
次に、コレステリック液晶層Ａ上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Ｂをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、１１０℃にて２０秒間配向熟成した。その後、１１０℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ２で露光して、厚み２μｍのコレステリック液晶層硬化膜Ｂを形成した。
次に、コレステリック液晶層Ｂ上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Ｂをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、１１０℃にて２０秒間配向熟成した。その後、１１０℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ２で露光して、厚み２μｍのコレステリック液晶層硬化膜Ｃを形成した。
以上により、円偏光分離特性を有し、各コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なり、かつ各コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに右回り方向で同じである３層構造の実施例１の光記録媒体用フィルタを作製した。
【０１６２】
次に、作製した光記録媒体用フィルタを前記基板に設置できるように所定のディスクサイズに打ち抜いた。
【０１６３】
−第一の基板−
前記第一の基板は、直径１２０ｍｍ、板厚０．５ｍｍのポリカーボネート樹脂板を使用した。この基板の表面は滑らかであり、サーボピットパターンなどの凹凸のないものを用いた。
【０１６４】
−第二の基板−
前記第二の基板としては、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは０．７４μｍであり、溝深さは１７５ｎｍ、溝幅は３００ｎｍである。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に、波長が５３２ｎｍの光に対して垂直な入射光による反射率が９０％となるように反射膜を成膜した。反射膜材料にはアルミニウム（Ａｌ）を用いた。成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により厚み２００ｎｍのＡｌ反射膜を成膜した。
【０１６５】
−外周スペーサ−
前記外周スペーサは、第一の基板及び第二の基板の外形と同一の直径１２０ｍｍの円形で、面方向の幅は、０．５ｍｍ±１００μｍ、厚みは記録層４の厚みと同じ５００μｍ、したがって、断面形状は０．５ｍｍ×５００μｍの四角形となる。
前記外周スペーサの材料は、成形性及び機械的強度に優れたポリカーボネートを用いて、射出成型（住友重工株式会社製）により作製した。
【０１６６】
−内周スペーサ−
前記内周スペーサは、図１０に示すように、第一の基板５及び第二の基板１の開口部と同じ外形である１５ｍｍの円形で、面方向の幅は、０．５ｍｍ±１００μｍ、厚みは記録層４の厚みと同じ５００μｍ、したがって、断面形状は外周スペーサと同一の０．５ｍｍ×５００μｍの四角形となる。
前記内周スペーサの材料は、外周スペーサと同一の、成形性及び機械的強度に優れたポリカーボネートを用いて、射出成型（住友重工株式会社社製）により作製した。
【０１６７】
−積層体の形成−
図１０に示すように、第一ギャップ層８がスピン塗布された第二の基板１上に、前記フィルタを、隙間に気泡が入らないように、ＵＶ接着剤（型名ＳＤ−６４０、大日本インキ社製）を塗布した後、積層してフィルタ層６を形成した。
前記第一の基板５の面上に、ラミネーター装置（型名ＨＡＬ１１０ａａ、三共株式会社製）により、圧着ロール温度２３℃、圧着ロール圧力０．１ＭＰａ、圧着速度１．０ｍ／分の条件の下、厚み５００μｍの透明ポリエチレンテレフタレートシートからなる第二ギャップ層７を貼り付けた。
更に、該第二ギャップ層７の表面に、得られた外周スペーサ３７を、第二の基板１の外形と外周スペーサ３７の外形が合致するように接着し、更に、内周スペーサ３８を、該内周スペーサの中心と、第二の基板１の中心が合致するように接着した。前記接着剤は、ＵＶ接着剤（型名ＳＤ−６４０、大日本インキ株式会社製）を用い、ＵＶ光を照射して接着した。
外周スペーサ３７及び内周スペーサ３８により形成された、深さ５００μｍの溝部に、前記注入法により、得られた光記録層用組成物塗布液を、シリンジにより注入した。
前記注入の条件としては、温度２３℃、液粘度３００ｍＰａｓ、湿度５０％とした。
注入後に、温度８０℃、４０分間の条件の下、光記録層用組成物を硬化させ記録層４を形成した。該記録層４の厚みは５００μｍであった。
該記録層４上に、接着剤（型名ＧＭ−９００２、ブレニー技研社製）を塗布し、前記第一の基板の外側及び前記第二の基板の外側を、０．０８ＭＰａの圧力で、８０℃で、４０分間、加圧し、積層体を形成し、最後に、端部を湿分硬化型の接着剤で封止し、４５℃で２４時間放置することにより、図９及び図１１に示す光記録媒体２１と同様の光記録媒体を作製した。
【０１６８】
−光記録媒体の記録−
得られた光記録媒体を、パルステック工業株式会社製、コリニアホログラム記録再生試験機ＳＨＯＴ−１０００を用いて、記録ホログラムの焦点位置における記録スポットの大きさ直径２００μｍで、一連の多重ホログラム３１×３１の格子状マトリクスを形成した。間隔Ｐｘの基準を１２．５μｍとし、該基準に対して、光記録媒体の円周方向に各記録間隔Ｐｘを２０％の変動範囲で不等間隔に変動、即ち、間隔Ｐｘを１０〜１５μｍの範囲でランダムに変動させて、光記録媒体に書き込みした。間隔Ｐｘの前記２０％の変動範囲は、具体的には、図７の記録スタート位置から、第ｎ回目の記録位置Ｄｘをシフトさせる際に、前回の記録位置に対して、２０％の範囲での変動を移動距離Ｄｘに与えることにより変動させた。
この場合の多重記録回数の最も多い約２１０回のポイントは、図４に示すように、規則性がやや減少していることがわかる。
【０１６９】
−光記録媒体の再生時のＳＮＲの評価−
前記記録がされたホログラム記録に対して、パルステック工業株式会社製、コリニアホログラム記録再生試験機ＳＨＯＴ−１０００を用いて再生を行い、ＳＮＲの値を測定した。評価結果を表２に示す。
【０１７０】
（実施例２）
実施例１において、２０％の変動範囲での円周方向への記録間隔Ｐｘの変動を、２０％の変動範囲での半径方向への記録間隔Ｐｘの変動に代えたこと以外は、実施例１と同様に、光記録媒体の記録を行い、該実施例２の光記録媒体の再生時のＳＮＲの評価を行った。結果を表２に示した。
【０１７１】
（実施例３）
実施例１において、２０％の変動範囲での円周方向への記録間隔Ｐｘの変動に加えて、２０％の変動範囲での半径方向への記録間隔Ｐｘの変動も行った以外は、実施例１と同様に、光記録媒体の記録を行い、該実施例３の光記録媒体の再生時のＳＮＲの評価を行った。結果を表２に示した。
【０１７２】
（実施例４）
実施例１において、２０％の変動範囲での円周方向への記録間隔Ｐｘの変動を、４０％の変動範囲に代え、間隔Ｐｘを７．５〜１７．５μｍの範囲でランダムに変動させたこと以外は、実施例１と同様に、光記録媒体の記録を行い、該実施例２の光記録媒体の再生時のＳＮＲの評価を行った。結果を表２に示した。
前記４０％の変動範囲は、具体的には、記録位置Ｄｘをシフトさせる際にランダムに４０％の変動を移動距離Ｄｘに与えることにより変動させた。
この場合の多重記録回数の最も多い約２１０回のポイントは、図５に示すように、規則性が減少していることがわかる。
【０１７３】
（実施例５）
実施例４において、４０％の変動範囲での円周方向への記録間隔Ｐｘの変動を、４０％の変動範囲での半径方向への記録間隔Ｐｘの変動に代えたこと以外は、実施例１と同様に、光記録媒体の記録を行い、該実施例５の光記録媒体の再生時のＳＮＲの評価を行った。結果を表２に示した。
【０１７４】
（実施例６）
実施例４において、４０％の変動範囲での円周方向への記録間隔Ｐｘの変動に加えて、４０％の変動範囲での半径方向への記録間隔Ｐｘの変動も行ったこと以外は、実施例１と同様に、光記録媒体の記録を行い、該実施例６の光記録媒体の再生時のＳＮＲの評価を行った。結果を表２に示した。
【０１７５】
（実施例７）
実施例１において、２０％の変動範囲での記録間隔Ｐｘの変動範囲を、６０％の変動範囲に代え、間隔Ｐｘを５〜２０μｍの範囲でランダムに変動させたこと以外は、実施例１と同様に、光記録媒体の記録を行い、該実施例３の光記録媒体の再生時のＳＮＲの評価を行った。結果を表２に示した。
前記６０％の変動範囲は、記録位置Ｄｘをシフトさせる際にランダムに６０％の変動を移動距離Ｄｘに与えることにより変動させた。
この場合の多重記録回数の最も多い約２１０回のポイントは、図６に示すように、規則性がかなり減少していることがわかる。
【０１７６】
（実施例８）
実施例７において、６０％の変動範囲での円周方向への記録間隔Ｐｘの変動を、６０％の変動範囲での半径方向への記録間隔Ｐｘの変動に代えたこと以外は、実施例１と同様に、光記録媒体の記録を行い、該実施例８の光記録媒体の再生時のＳＮＲの評価を行った。結果を表２に示した。
【０１７７】
（実施例９）
実施例７において、６０％の変動範囲での円周方向への記録間隔Ｐｘの変動に加えて、６０％の変動範囲での半径方向への記録間隔Ｐｘの変動も行った以外は、実施例１と同様に、光記録媒体の記録を行い、該実施例９の光記録媒体の再生時のＳＮＲの評価を行った。結果を表２に示した。
【０１７８】
（比較例１）
実施例１において、２０％の変動範囲での半径方向への記録間隔Ｐｘの変動範囲を、０％の変動範囲、即ち、円周方向及び半径方向のいずれも等間隔Ｐ＝１２．５μｍで記録を行ったこと以外は、実施例１と同様に、光記録媒体の記録を行い、該比較例１の光記録媒体の再生時のＳＮＲの評価を行い、結果を表２に示した。
【０１７９】
【表２】
2007272058.tif 000005
表２の結果より、不等間隔で情報を記録した実施例１〜実施例９は、等間隔で情報を記録した比較例１と比較して、ホログラム記録の再生ＳＮＲについては、一定記録ピッチで多重を行った結果に対し全てにおいてＳＮＲの向上が得られており、またその不規則性を増加させるに従い顕著な効果が得られることが判かった。
【産業上の利用可能性】
【０１８０】
本発明の光記録方法は、シフト多重記録における記録露光量に対応した定着露光量の照射により、過剰に定着露光することなく、必要かつ十分な定着が得られ、該定着露光による未記録部分の感度劣化が起きない優れた記録方法であり、高密度の記録媒体の記録に好適に用いられる。２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラム、透過型及び反射型のいずれにも好適に用いられる。また、振幅ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラムなど種々のホログラムを記録する方法として幅広く用いられる。
本発明の光記録装置は、シフト多重記録における記録露光量に対応した定着露光量の照射により、過剰に定着露光することなく、必要かつ十分な定着が得られ、該定着露光による未記録部分の感度劣化が起きない優れた記録が可能な光記録装置であり、高密度の記録媒体の光記録装置に好適に用いられる。２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラム、透過型及び反射型のいずれにも好適に用いられる。また、振幅ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラムなど種々のホログラムの光記録装置として幅広く用いられる。
本発明の光記録媒体は、シフト多重記録における記録露光量に対応した定着露光量の照射により、過剰に定着露光することなく、必要かつ十分な定着が得られ、該定着露光による未記録部分の感度劣化が起きない優れた記録が可能であり、高密度の記録媒体に好適に用いられる。２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラム、透過型及び反射型のいずれにも好適に用いられる。また、振幅ホログラム、位相ホログラム、ブレーズドホログラム、複素振幅ホログラムなど種々のホログラムの光記録媒体として幅広く用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０１８１】
【図１】図１は、本発明の情報光及び参照光により光記録媒体の円周方向にシフト多重記録する概念図である。
【図２】図２は、記録ピッチと記録容量及び記録ピッチと多重記録回数との関係を表すグラフである。
【図３】図３は、従来の光記録方法で記録した光記録媒体について、記録層の一定の領域における多重記録回数を濃淡で表した多重記録回数の表示画像である。
【図４】図４は、本発明の光記録方法で記録した実施例１の光記録媒体について、記録層の一定の領域における多重記録回数を濃淡で表した多重記録回数の表示画像である。
【図５】図５は、本発明の光記録方法で記録した実施例４の光記録媒体について、記録層の一定の領域における多重記録回数を濃淡で表した多重記録回数の表示画像である。
【図６】図６は、本発明の光記録方法で記録した実施例７の光記録媒体について、記録層の一定の領域における多重記録回数を濃淡で表した多重記録回数の表示画像である。
【図７】図７は、間隔Ｓで、Ｐ１〜Ｐ４間隔で５回記録した場合の、間隔Ｓと間隔Ｐｘ、及び記録時の遅延間隔Ｓｘとの関係を示した概念図である。
【図８】図８は、サーボピットパターンを周期的に設けた本発明の光記録媒体の構造を示す部分断面図である。
【図９】図９は、本発明の光記録媒体の構造を示す部分断面図である。
【図１０】図１０は、本発明の光記録媒体の層構成の一例示す分解斜視図である。
【図１１】図１１は、本発明による具体例１に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図１２】図１２は、本発明による具体例２に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図１３】図１３は、コレステリック液晶層を３層積層したフィルタの正面（０°）からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図１４】図１４は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
【図１５】図１５は、本発明の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。
【符号の説明】
【０１８２】
１      第二の基板
２      反射膜
３      サーボピットパターン
４      記録層
５      第一の基板
６      フィルタ層
６ａ、６ｂ、６ｃ      コレステリック液晶層
７      第２ギャップ層
８      第１ギャップ層
９      １／４波長板
１２      対物レンズ
１３      ダイクロイックミラー
１４      検出器
１５      １／４波長板
１６      偏光板
１７      ハーフミラー
２０、２０ａ、２１、２２      光記録媒体
３１      ピックアップ
３３      情報光照射スポット
３７      外周スペーサ
３８      内周スペーサ
３９      情報光及び参照光
８１      スピンドル
８２      スピンドルモータ
８３      スピンドルサーボ回路
８４      駆動装置
８５      検出回路
８６      フォーカスサーボ回路
８７      トラッキングサーボ回路
８８      スライドサーボ回路
８９      信号処理回路
９０      コントローラ
９１      操作部
１００      光記録再生装置
Ａ      入出射面
ＦＥ      フォーカスエラー信号
ＴＥ      トラッキングエラー信号
ＲＦ      再生信号
【図１】
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【図２】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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