(57)【要約】【課題】レジスト液の輸送コストの低減化をはかりつつ、現在のＬＣＤパネル製造ラインにそのまま直結できる高価な小型専用容器の使用を回避し、トータル的にレジスト液の供給コストを削減することのできるレジスト液製造方法を提供する。【解決手段】レジスト液製造方法において、調合タンク内の液体の濃度及び／又は粘度を測定し、この測定結果に基づいて原料液と溶剤の注入分量を調整して希釈制御を行なうとともに、希釈制御されて得られた製品用レジスト液をバッファ槽にて一定期間貯留して安定化させる。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
高濃度の原料液に溶剤を加えて所望の濃度に希釈し、所定濃度の製品用レジスト液を得るレジスト液製造方法であって、
前記高濃度の原料液と前記溶剤とを混合攪拌して混合液を得る混合攪拌工程と、
前記混合液の一部を抜き出して、この抜き出した混合液のレジスト成分の濃度及び／又は粘度を測定してから、前記混合液内に戻す濃度及び／又は粘度測定工程と、
前記濃度及び／又は粘度測定工程で得られた濃度及び／又は粘度測定値に基づいて、前記原料液及び／又は前記溶剤の混合分量を監視しつつ、この混合液を所望の濃度に調整する調整工程と、
前記調整工程で所望の濃度に調製された混合液を、一定期間貯留して濃度を落ち着かせて製品用レジスト液とする濃度安定化工程と、を含むレジスト液製造方法。
【請求項２】
前記濃度及び／又は粘度測定工程における濃度測定工程は、音波分析器及び／又は近赤外分光分析器を用いて行なう請求項１記載のレジスト液製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２記載のレジスト液製造方法における任意の工程内で生じた前記高濃度の原料液の固化物を、前記溶剤により溶解して前記混合液中に投入する洗浄工程を更に含む請求項１又は２記載のレジスト液製造方法。
【請求項４】
前記濃度安定化工程は、１日の使用量より多い量の液体を貯留するバッファ槽を有するものである請求項１から３いずれか記載のレジスト液製造方法。
【請求項５】
前記原料液の固形分濃度は、３０％以上５０％以下である請求項１から４いずれか記載のレジスト液製造方法。
【請求項６】
前記製品用レジスト液の固形分濃度は、１０％以上３０％以下である請求項１から５いずれか記載のレジスト液製造方法。
【請求項７】
前記溶剤は、所定のレジスト液を使用する工程で生じた廃液及び／又はレジスト液製造装置を洗浄する工程で生じた廃液を含むものである請求項１から６いずれか記載のレジスト液製造方法。
【請求項８】
前記所定のレジスト液を使用する工程で生じた廃液は、所定のレジスト液よりレジスト膜を形成するレジスト膜製造工程で生じた廃液である請求項７記載のレジスト液製造方法。
【請求項９】
前記レジスト膜製造工程で生じた廃液は、スリットコーター塗布工程で生じた廃液及び／又はスリットコーターヘッドの洗浄工程で生じた廃液である請求項８記載のレジスト液製造方法。
【請求項１０】
前記製品用レジスト液は、液晶ディスプレイ製造用である請求項１から９いずれか記載のレジスト液製造方法。
【請求項１１】
レジスト膜を製造する製造設備に、請求項１から１０いずれか記載のレジスト液製造方法により得られた製品用レジスト液を、管路を介して直接的に供給して製造されたレジスト膜。
【請求項１２】
高濃度の原料液を、スリットコーター用塗布液の原料として使用する方法。
【請求項１３】
高濃度の原料液を、液晶ディスプレイ製造用レジスト膜の原料として使用する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レジスト液製造方法及び当該レジスト液を用いたレジスト膜に関する。より詳しくは、高濃度の原料液から所定濃度の製品用レジスト液を得るレジスト液の製造方法及び得られたレジスト液を用いたレジスト膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーテレビ、パーソナルコンピュータ、パチンコ遊戯台等の液晶ディスプレイパネル（以下、ＬＣＤパネル）においては、薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴ）液晶方式によるＴＦＴ液晶ディスプレイが主流となっている。このＴＦＴ液晶ディスプレイは、アクティブマトリクス方式と呼ばれる技術を応用したものであり、薄膜トランジスタを搭載したアレイ基板と、着色するためのカラーフィルター基板と、を中心として構成され、これら２つの基板の間に液晶材料を閉じ込めた液晶セルを有する。
【０００３】
アレイ基板及びカラーフィルター基板においては、例えば、基板上にレジスト液をコーティングした後、露光し、現像する等により、基板上にレジストパターンが形成される。特に、カラーフィルター基板においては、ブラック及び３原色のカラーレジスト液を用いて、レジスト液をコーティング、露光、及び現像する工程をそれぞれのカラー毎に繰り返し行う必要がある。
【０００４】
ところで、ＬＣＤパネルの発色性やコントラストを均一にして、画質を良好とするためには、上記のアレイ基板及びカラーフィルター基板には、ムラ・スジ等を有しないことが好ましい。したがって、基板上にレジスト液を均一にコーティングすることが重要となる。
【０００５】
ここで、基板上にレジスト液を均一にコーティングする従来からの方法としては、スピンコーターを用いたスピンコーティング方法が用いられている（特許文献１参照）。スピンコーティング方法とは、製造装置上に基板を固定し、この固定された基板の中心部にレジスト液を滴下し、その後、基板を高速水平回転させることにより、作用する遠心力を利用してレジスト液を基板に広げる方法である。スピンコーティング方法によれば、高粘性を有するレジスト液であっても、均一にコーティングすることができる。
【０００６】
さらに、近年のＬＣＤパネルの大型化に伴い、基板を回転させるスピンコーティング法は、その装置であるスピンコーターの大型化への対応等において困難が伴うようになった。また、回転の際に基板からこぼれ落ちるレジスト液が多量となる点、コーティング後にエッジリンスや端面洗浄等の端面処理が必要となる点等からも、基板を回転させないノンスピンによる塗布装置が望まれていた。
【０００７】
これらの要求に対応して、基板を回転させないノンスピンによるコーターが提案されている。本装置は、基板の上方においてスリットノズルを移動させつつ、レジスト液をスリットノズルから基板表面に供給するものであり、スリットコーターと呼ばれる（特許文献２参照）。スリットコーターの出現により、スピンコーターにおける上記課題は解決され、大型ＬＣＤパネルの作成が容易となった。
【特許文献１】特開２００２−１９６３２２号公報
【特許文献２】特開２００１−０６２３７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来のスピンコーターによるレジスト液の塗布においては、遠心力との兼ね合いから、レジスト液の固形分量は２５％から３０％程度が一般的であった。スピンコーターによるレジスト液の塗布は、高速水平回転を伴うことから、レジスト液の固形分量が少ない（すなわち低粘度の）場合には、基板からこぼれ落ちるレジスト液が多量となるためである。
【０００９】
この一方で、スリットコーターによれば、スピンを伴わない塗布が可能となることから、レジスト液の固形分量は低いものへと変化した。低粘度のレジスト液であっても、均一に基板にコーティングすることができるためである。
【００１０】
ところで、従来のレジスト液は、レジスト液の生産現場である工場にて高濃度の原料液を生産した後、高濃度の原料液の感度調整を行い、引き続き、製品毎に異なる所望の濃度に希釈調整を行い、その結果得られた所定のレジスト成分濃度のレジスト液を、ＬＣＤパネル等の製造現場に輸送していた。
【００１１】
また、通常、製品用レジスト液をＬＣＤパネル等の製造メーカーに納入する際には、高価な小型の専用容器が用いられている。当該小型の専用容器は、そのままＬＣＤパネルの製造ラインに直結させることができ、且つ、取り扱いが手軽で、また、レジスト液への異物混入の危険性が少ないためである。当該小型の専用容器は、高価であるが故に、通常、製造メーカーへレジスト液の納入後、製造メーカーで使用済みとなった容器を回収し、清掃等を施した後、再度レジスト液の充填を行う、いわゆる通い容器として用いられている。
【００１２】
このような小型の専用容器は、その購入費が大きいばかりでなく、容器の管理及び回収の面からの手間及び費用が必須のものとなり、その結果、レジスト液の製品コスト高を招来してしまう。また、小型の専用容器は、輸送の際、トラック等の空間占拠率が大きい割にその輸送量は小さく、このため、空間占拠率からの輸送費についても増大していた。
【００１３】
本発明は、以上のような課題に鑑みてなされたものであり、レジスト液の輸送コストの低減化をはかりつつ、現在のＬＣＤパネル製造ラインにそのまま直結できる高価な小型専用容器の使用を回避し、トータル的にレジスト液の供給コストを削減することのできるレジスト液製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者らは上記課題を解決するために、高濃度のレジスト原料液をそのまま輸送し、ＬＣＤパネル等の製造現場において、製品ごとに濃度の異なる所望の濃度の製品用レジスト液を安定して供給する必要があることに着目して、鋭意研究を重ねた。その結果、調合タンク内の液体の濃度及び／又は粘度を測定し、この測定結果に基づいて原料液と溶剤の注入分量を調整して希釈制御を行うとともに、希釈制御されて得られた製品用レジスト液をバッファ槽にて一定期間貯留して安定化させることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。より具体的には、本発明は以下のようなものを提供する。
【００１５】
（１）  高濃度の原料液に溶剤を加えて所望の濃度に希釈し、所定濃度の製品用レジスト液を得るレジスト液製造方法であって、前記高濃度の原料液と前記溶剤とを混合攪拌して混合液を得る混合攪拌工程と、前記混合液の一部を抜き出して、この抜き出した混合液のレジスト成分の濃度及び／又は粘度を測定してから、前記混合液内に戻す濃度及び／又は粘度測定工程と、前記濃度及び／又は粘度測定工程で得られた濃度及び／又は粘度測定値に基づいて、前記原料液及び／又は前記溶剤の混合分量を監視しつつ、この混合液を所望の濃度に調整する調整工程と、前記調整工程で所望の濃度に調製された混合液を、一定期間貯留して濃度を落ち着かせて製品用レジスト液とする濃度安定化工程と、を含むレジスト液製造方法。
【００１６】
（１）のレジスト液製造方法によれば、高濃度の原料液に溶剤を加えて、精度よく所望の濃度に希釈するとともに、安定化した品質の所定濃度の製品用レジスト液を得ることができる。このため、例えば、本発明のレジスト液製造方法をＬＣＤパネル等の製造現場にて行えば、当該製造現場には、希釈後の低濃度の製品用レジスト液でなく、高濃度のレジスト液そのものを納入することができ、これにより、輸送量の低減化をはかることが可能となる。
【００１７】
また、（１）のレジスト液製造方法をＬＣＤパネル等の製造現場にて行えば、高濃度の原料液を輸送することになるため、現在のＬＣＤパネル製造ラインにそのまま直結できる小型専用容器の使用を回避することが可能となる。このため、高濃度の原料液を大型容器で輸送すれば、高価な小型専用容器の購入費、及び当該容器の管理及び回収の面からの手間及び費用を削減するとともに、輸送における空間占拠率を削減することができる。
【００１８】
また、（１）のレジスト液製造方法は、原料液と溶剤との混合液の一部を抜き出して、この抜き出した液体のレジスト成分の濃度及び／又は粘度を測定し、その測定結果に基づいて原料液と溶剤の追加注入分量の調整を行うことが可能となる。このため、用いられる高濃度原料液の濃度によらず、製品ごとの所望の製品用レジスト液を精度よく供給することができる。
【００１９】
また、（１）のレジスト液製造方法は、調整工程により所望の濃度に調整された混合液を、一定期間貯留することにより濃度を落ち着かせる。このため、製造ロット間にばらつきのある原料液を用いた場合であっても、目的の製品用レジスト液の所定の濃度を維持し、一定の品質を保つことが可能となる。
【００２０】
（２）  前記濃度及び／又は粘度測定工程における濃度測定工程は、音波分析器及び／又は近赤外分光分析器を用いて行う（１）記載のレジスト液製造方法。
【００２１】
（２）のレジスト液製造方法における濃度測定工程は、濃度測定機器として音波分析器及び／又は近赤外分光分析器を用いてレジスト成分の濃度を測定する。音波分析器及び／又は近赤外分光分析器によれば、液体中の固形分であるレジスト成分と溶剤との判別を容易に行うことができる。
【００２２】
（３）  （１）又は（２）記載のレジスト液製造方法における任意の工程内で生じた前記高濃度の原料液の固化物を、前記溶剤により溶解して前記混合液中に投入する洗浄工程を更に含む（１）又は（２）記載のレジスト液製造方法。
【００２３】
原料液は、レジスト成分の濃度が高く、このため、原料液の流通経路には原料液の固化物が付着しやすい傾向にある。（３）のレジスト液製造方法によれば、原料液からの固形物を溶剤により溶解し、除去するとともに、混合液中に投入する。このため、原料液の固化物によるライン等の詰まりを防止し、これにより、原料液の流通経路を定期的に清掃する作業を低減することができ、連続的な運転を実現できる。また、原料液の固化物を溶解した溶剤は、廃棄されることなく、混合液の成分として使用されるため、溶剤の無駄を省くことができ、結果として、その後に得られるＬＣＤパネル等の製品価格を低下させることができる。
【００２４】
（４）  前記濃度安定化工程は、１日の使用量より多い量の液体を貯留するバッファ槽を有するものである（１）から（３）いずれか記載のレジスト液製造方法。
【００２５】
（４）のレジスト液製造方法における濃度安定化工程に用いるバッファ槽は、１日の使用量より多い量の製品用レジスト液を貯留する。従来から用いられている専用小型容器では、１日の使用量には到底満たない容量しか充填することができないことから、１日に数回の交換作業を伴うものであった。（４）のレジスト液製造方法によれば、１日の使用量より多い量を貯留するバッファ槽を備えるため、上記（１）の製品用レジスト液濃度の安定化の効果に加えて、少なくとも１日分の安定した連続供給が可能となる。
【００２６】
また、バッファ槽の容量によっては、本発明のレジスト液製造方法の他の工程部分の装置に故障が生じたり、或いは装置の清掃作業を行う等により、当該部分の使用ができない状況に陥った場合であっても、製品用レジスト液の供給停止を回避することが可能となる。
【００２７】
（５）  前記原料液の固形分濃度は、３０％以上５０％以下である（１）から（４）いずれか記載のレジスト液製造方法。
【００２８】
（５）のレジスト液製造方法に用いる原料液は、その固形分濃度が３０％以上５０％以下である。原料液の固形分濃度がこの範囲にあれば、原料液には感度調整を行うのみで、濃度調整の必要がない。このため、本発明のレジスト液製造方法の実施場所に納入する原料液は、その製造工程から濃度調整工程を省略することができ、その結果、原料液の納品のリードタイムを減縮することができる。原料液の固形分濃度は、３０％以上４５％以下が好ましく、３３％以上３８％以下が更に好ましい。
【００２９】
（６）  前記製品用レジスト液の固形分濃度は、１０％以上３０％以下である（１）から（５）いずれか記載のレジスト液製造方法。
【００３０】
（６）のレジスト液製造方法によって得られる製品用レジスト液は、固形分濃度を１０％以上３０％以下とするものである。製品用レジスト液は、用いられる塗布装置によって、その固形分濃度が異なるものである。一般に、スピンコーター用又はスリットアンドスピンコーター用の製品用レジスト液の固形分濃度は、スリットコーター等のようなノンスピンコーター用の製品用レジスト液の固形分濃度よりも高い。また、製品用レジスト液の固形分濃度は、同一の塗布装置を用いる場合であっても、目的とする製品によってそれぞれ異なるものである。
【００３１】
（６）のレジスト液製造方法によれば、製品用レジスト液の固形分濃度が３０％以下であるため、目的とする製品に固有の固形分濃度に容易に調整することが可能となる。製品用レジスト液の固形分濃度は、スピンコーター用又はスリットアンドスピンコーター用としては、２０％以上３０％以下が好ましく、２５％以上３０％以下が更に好ましい。また、スリットコーター等のノンスピンコーター用としては、１０％以上２０％以下が好ましく、１２％以上１８％以下が更に好ましい。
【００３２】
（７）  前記溶剤は、所定のレジスト液を使用する工程で生じた廃液及び／又はレジスト液製造装置を洗浄する工程で生じた廃液を含むものである（１）から（６）いずれか記載のレジスト液製造方法。
【００３３】
（７）のレジスト液製造方法に用いる溶剤は、所定のレジスト液を使用する工程で生じた廃液及び／又はレジスト液製造装置を洗浄する工程で生じた廃液を含む。ここで、「所定のレジスト液を使用する工程で生じた廃液」とは、本発明のレジスト液製造方法により得られる製品用レジスト液の使用に限定されることなく、各種のレジスト液を使用する何かしらの工程で生じた廃液を意味する。また、「レジスト液製造装置を洗浄する工程で生じた廃液」とは、本発明のレジスト液製造方法を実施するための装置のみならず、例えば、レジスト原料液を製造するための製造装置等において、生産銘柄の切り替えや点検工事等に際しての装置を洗浄する工程で生じた廃液を意味する。
【００３４】
（７）のレジスト液製造方法によれば、例えば、未使用のフレッシュな溶剤とともに、所定のレジスト液を使用する工程で生じた廃液及び／又はレジスト液製造装置を洗浄する工程で生じた廃液を含有させて使用することにより、これまで廃棄してきたこれら廃液を再使用することが可能となる。したがって、溶剤資源を無駄にしないばかりでなく、廃棄のためのコストの削減、及び、（７）のレジスト液製造方法により得られる製品用レジスト液を用いた、その後に得られるＬＣＤパネル等の製品価格を低下させることができる。
【００３５】
（８）  前記所定のレジスト液を使用する工程で生じた廃液は、所定のレジスト液よりレジスト膜を形成するレジスト膜製造工程で生じた廃液である（７）記載のレジスト液製造方法。
【００３６】
（８）のレジスト液製造方法に用いる溶剤は、所定のレジスト液よりレジスト膜を形成するレジスト膜製造工程で生じた廃液を含む。レジスト液からレジスト膜を形成する際には、基板上からこぼれ落ちるレジスト液がある程度発生するものである。特に、基板の回転を伴うスピンコーターによる塗布の場合には、回転の際に基板からこぼれ落ちるレジスト液は多量となる。（８）のレジスト液製造方法によれば、レジスト膜を形成するレジスト膜製造工程で発生するこのようなレジスト廃液を再使用することが可能となるため、上記（７）と同様の効果を奏する。
【００３７】
（９）  前記レジスト膜製造工程で生じた廃液は、スリットコーター塗布工程で生じた廃液及び／又はスリットコーターヘッドの洗浄工程で生じた廃液である（８）記載のレジスト液製造方法。
【００３８】
（９）のレジスト液製造方法に用いる溶剤は、スリットコーター塗布工程で生じた廃液及び／又はスリットコーターヘッドの洗浄工程で生じた廃液を含む。ＬＣＤパネル製造用基板は、ＬＣＤパネルの大型化に伴い、ますますの大型化が進んでいる。大型パネル用基板におけるレジスト膜の形成においては、回転を伴わないスリットコーターの使用が好ましいが、基板が大型であることから、スリットコーターを用いた場合であっても、基板からこぼれ落ちるレジスト液の量は大きい。また、スリットコーターヘッドは、溶剤により定期的に洗浄し、ヘッドに付着したレジスト液を原料とする固形物を取り除き、ヘッドの詰まりを回避する必要がある。（９）のレジスト液製造方法によれば、このようなスリットコーター塗布工程で生じた廃液及び／又はスリットコーターヘッドの洗浄工程で生じた廃液を再使用することが可能となるため、上記（７）と同様の効果を奏する。
【００３９】
（１０）  前記製品用レジスト液は、液晶ディスプレイ製造用である（１）から（９）いずれか記載のレジスト液製造方法。
【００４０】
（１０）のレジスト液製造方法により得られる製品用レジスト液は、液晶ディスプレイ製造用である。近年のＬＣＤパネルの大型化に伴い、レジスト液の塗布装置はスピンコーターからスリットコーターへと変化している。スリットコーター用のレジスト液は、レジスト成分の含有量（固形分量）が低いことから、溶剤による希釈割合が高いものとなる。一方で、ＬＣＤパネルの大型化に伴い、レジスト液の使用量は増大している。本発明のレジスト液製造方法によれば、液晶ディスプレイの製造において必要な場合となる、希釈割合の高い場合であっても、また、製品用レジスト液の必要量が大きい場合であっても、迅速かつ安定的に対応することが可能となる。
【００４１】
（１１）  レジスト膜を製造する製造設備に、（１）から（１０）いずれか記載のレジスト液製造方法により得られた製品用レジスト液を、管路を介して直接的に供給して製造されたレジスト膜。
【００４２】
（１１）のレジスト膜は、（１）から（１０）いずれか記載のレジスト液製造方法により得られた製品用レジスト液を、レジスト膜を製造する製造設備等に、管路を介して直接的に供給して得られるものである。ここで、「管路を介して直接的に」とは、（１）から（１０）いずれか記載のレジスト液製造方法を実施するための装置等から供給される製品用レジスト液が、独立した容器に分配されることなく、そのままレジスト膜を製造する装置等に管路を介して導入されることを意味する。独立した容器に分配されるものでなければ、レジスト液製造方法を実施する装置等とレジスト膜を製造する製造設備等との間の管路において、添加剤等のその他の成分を添加する部分を有していてもよく、また、フィルター等を配置してもよい。
【００４３】
（１１）のレジスト膜は、レジスト膜を製造する製造設備を構成の一部とする現在のＬＣＤパネル製造ライン等に直結する、専用タイプの小型専用容器の使用をすることなく、製造することができる。従来の小型専用容器によるレジスト膜の製造においては、２〜３時間という短時間で容器が空になってしまうことから、１日に数回の容器の交換が必須となっていた。このため、人的配置及び時間的なロスが生じていた。
【００４４】
（６）のレジスト膜は、バッファ槽に蓄えられた製品用レジスト液を、バッファ槽から管路を介して直接的に、レジスト膜を製造する製造設備等に供給することにより製造できる。このため、小型容器の交換に要していた人的配置及び時間的なロスを回避することができる。
【００４５】
（１２）  高濃度の原料液を、スリットコーター用塗布液の原料として使用する方法。
【００４６】
（１３）  高濃度の原料液を、液晶ディスプレイ製造用レジスト膜の原料として使用する方法。
【発明の効果】
【００４７】
本発明のレジスト液製造方法によれば、高濃度の原料液から所定濃度の製品用レジスト液を得ることが可能となる。このため、本発明のレジスト液製造方法を実施する場所に、高濃度のレジスト原料液そのものを納入することができ、輸送量の低減化をはかることが可能となる。
【００４８】
また、本発明のレジスト液製造方法をＬＣＤパネル等の製造現場にて行えば、高濃度のレジスト原料液を実施場所に輸送することになるため、現在のＬＣＤパネル製造ラインにそのまま直結できる小型専用容器の使用を回避することが可能となる。このため、高濃度の原料液を大型容器で輸送すれば、高価な小型専用容器の購入費、及び当該容器の管理及び回収の面からの手間及び費用を削減するとともに、輸送における空間占拠率を削減することができる。
【００４９】
また、本発明のレジスト液製造方法によれは、原料液と溶剤との混合液の一部を抜き出して、この抜き出した液体のレジスト成分の濃度及び／又は粘度を測定し、その測定結果に基づいて原料液と溶剤の追加注入分量の調整を行うことが可能となる。このため、用いられる高濃度原料液の濃度によらず、製品ごとの所望の製品用レジスト液を精度よく供給することができる。
【００５０】
また、本発明のレジスト液製造方法は、調整工程により所望の濃度に調整された混合液を、一定期間貯留することにより濃度を落ち着かせる。このため、製造ロット間にばらつきのある原料液を用いた場合であっても、目的の製品用レジスト液の所定の濃度を維持し、一定の品質を保つことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
以下、本発明の実施の形態を、図面に基づいて説明する。尚、以下、共通する構成要素については、同一符号を付し、その説明を省略若しくは簡略化する。
【００５２】
＜レジスト液製造方法のフロー＞
図１は、本発明のレジスト液製造方法の実施形態に係る工程図である。以下、工程図に従って説明する。
【００５３】
［原料導入工程（Ｓ１０１）］
原料導入工程（Ｓ１０１）においては、製品用レジスト液の原料となる、高濃度の原料液と溶剤とを、混合攪拌槽に導入する。
【００５４】
［混合攪拌工程（Ｓ１０２）］
混合攪拌工程（Ｓ１０２）においては、原料導入工程（Ｓ１０１）により導入された、高濃度の原料液と溶剤とを混合攪拌し、混合液を得る。
【００５５】
［濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）］
濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）においては、混合攪拌工程（Ｓ１０２）において得られた混合液の一部を、混合攪拌槽から抜き出して、この抜き出した混合液のレジスト成分の濃度及び／又は粘度を測定してから、混合攪拌槽に戻す。
【００５６】
濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）における濃度測定工程は、濃度測定機器を用いてレジスト成分の濃度の測定を行う。濃度測定機器としては、混合液のレジスト成分の濃度を測定できるものであれば、特に限定されるものではない。本発明の混合液は、液体成分である溶剤と、固形分であるレジストとが含有されるものである。このため、液体成分と固形分とが判別可能な濃度測定機器であればよい。本発明のレジスト液製造方法においては、濃度測定機器として音波分析器及び／又は近赤外分光分析器を用いて濃度を測定することが好ましい。
【００５７】
好ましい濃度測定機器のひとつである音波分析器とは、例えば、富士工業（株）製  ＦＵＤ−１  ＭＯＤＥＬ−２２又は５２である。音波分析器としては、特に限定されるものではなく、市販の機器を使用することも可能である。
【００５８】
また、好ましい濃度測定機器の別の例である近赤外分光分析器とは、例えば、横河電機（株）製 ＮＲ８００である。近赤外分光分析器としては、特に限定されるものではなく、市販の機器を使用することも可能である。
【００５９】
濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）における粘度測定工程は、粘度測定機器を用いてレジスト成分の粘度の測定を行う。本発明において、粘度測定工程を実施する場合には、予め、目標の所定の製品用レジスト液の濃度と粘度の関係を把握しておく必要がある。目標の所定の製品用レジスト液の濃度に相当する粘度となるよう、後の調整工程によって、原料導入工程（Ｓ１０１）における導入分量を監視しつつ、混合攪拌槽の混合液を調整する。
【００６０】
粘度測定工程において用いられる粘度測定機器としては、特に限定されるものではないが、連続測定可能な粘度計を用いることが好ましい。粘度測定機器としては、例えば、ＬＥＶＩＩＴＲＯＮＩＸ社製  Ｖｉｓｃｏｍｅｔｅｒ  ＢＵＭ−１を好ましく用いることができる。
【００６１】
尚、本発明の濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）においては、濃度の測定と、粘度の測定と、のいずれか一方のみを実施しても、また、双方の測定を実施しても良い。また、濃度の測定においては、音波分析器による測定と、近赤外分光分析器による測定と、のいずれか一方のみを実施しても、また、双方による測定を実施しても良い。
【００６２】
［調整工程（Ｓ１０４）］
調整工程（Ｓ１０４）においては、濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）で得られた濃度及び／又は粘度測定値に基づいて、原料導入工程（Ｓ１０１）における導入分量を監視しつつ、混合攪拌槽の混合液を所望の濃度に調整する。
【００６３】
すなわち、予め、目標の所定の製品用レジスト液の濃度及び／又は粘度と、原料として導入される原料液の濃度及び／又は粘度と、のデータを、調整工程（Ｓ１０４）において用いられる調整機器に登録しておく。濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）における測定結果が、目標の製品用レジスト液の濃度及び／又は粘度よりも高い場合には、調整機器は、原料である溶剤の導入量を増加させるように制御する。一方で、濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）における測定結果が、目標の製品用レジスト液の濃度及び／又は粘度よりも低い場合には、調整機器は、原料である原料液の導入量を増加させるように制御する。このようにして、混合攪拌槽内の混合液の濃度を、目標の所定の濃度とする。
【００６４】
調整工程（Ｓ１０４）において用いられる調整機器としては、混合液の濃度を調整することのできるものであれば、特に限定されるものではない。例えば、流量調整器を用いて調整することも可能である。流量調整器を上記の濃度測定機器及び／又は粘度測定機器に接合し、測定された濃度及び／又は粘度に基づき、原料液及び／又は溶剤の導入量を制御することができる。
【００６５】
また、調整機器としてロードセルを用いることも可能である。この場合には、ロードセルによって混合攪拌槽内の混合液の重量を測定し、測定された濃度及び／又は粘度に基づいて、原料液及び／又は溶剤の追加導入量を制御し、混合攪拌槽内の混合液の濃度を目標の所定の濃度とする。
【００６６】
［貯留工程（Ｓ１０５）］
貯留工程（Ｓ１０５）においては、調整工程（Ｓ１０４）によって目標の所定の濃度に調整された混合液を、バッファ槽にて貯留する。
【００６７】
［濃度安定化工程（Ｓ１０６）］
濃度安定化工程（Ｓ１０６）においては、貯留工程（Ｓ１０５）で貯留された混合液を、一定期間貯留して濃度を落ち着かせることにより、製品用レジスト液を得る。
【００６８】
すなわち、予め、製品レジスト液の濃度別に、貯留されてから安定化するまでの時間を把握しておき、貯留工程（Ｓ１０５）によりバッファ槽へ混合液が移送されてからの時間と、その混合液の濃度に対して必要な安定化時間と、を比較する。混合液の濃度に対して安定化に必要な時間が経過していない場合には、不足している時間が経過するまで貯留工程（Ｓ１０５）を継続するよう制御する。一方で、混合液の濃度に対して安定化に必要な時間が経過している場合には、次工程の供給工程（Ｓ１０７）に進むことができる。
【００６９】
濃度安定化工程（Ｓ１０６）に用いるバッファ槽は、１日の使用量より多い量の製品用レジスト液を貯留することが好ましい。１日の使用量より多い量を貯留するバッファ槽を備えれば、少なくとも１日分の安定した連続供給が可能となる。また、バッファ槽の容量によっては、本発明のレジスト液製造方法の他の工程部分の装置に故障が生じたり、或いは装置の清掃作業を行う等により、当該部分の使用ができない状況に陥った場合であっても、製品用レジスト液の供給停止を回避することが可能となる。
【００７０】
［供給工程（Ｓ１０７）］
供給工程（Ｓ１０７）においては、十分に安定化した製品レジスト液を、バッファ槽から供給する。本発明においては、供給形態は特に限定されるものではない。容器等に充填してもよいし、管路を介して直接的に、レジスト膜を製造する装置に供給してもよい。
【００７１】
［レジスト膜製造工程（Ｓ１０８）］
レジスト膜製造工程（Ｓ１０８）においては、供給工程（Ｓ１０７）で供給される製品用レジスト液から、レジスト膜を製造する。本発明においては、供給工程（Ｓ１０７）で容器に充填された製品用レジスト液を用いてもよいし、容器に充填することなく、管路を介して直接的に、レジスト膜の製造装置等に供給される場合であってもよい。
【００７２】
［その他の工程］
本発明においては、本発明の作用効果を損なわない範囲で、その他の工程を含めることが可能である。その他の工程としては、例えば、レジスト液製造方法における任意の工程内で生じた高濃度の原料液の固化物を、溶剤によって溶解して混合液中に混合する洗浄工程を含めることも可能である。また、故障時や清掃に対応するために製造ラインの中に存在する液体を一時避難させるバイパス工程、更に、原料液と溶剤以外の必要な樹脂や添加剤等、その他の成分を配合する添加剤等配合工程などを含めることも可能である。
【００７３】
＜その他＞
［原料液］
本発明のレジスト液製造方法に用いる原料液は、光に反応して化学的に作用・変化し、樹脂レジスト膜を形成し得るものであれば、特に限定されるものではない。例えば、ＴＦＴアレイ用ポジ／ネガ型レジスト、ＣＦ用レジスト、層間絶縁膜用レジスト、スペーサー用レジスト、ＴＡＢ／ＢＵＭＰ用レジスト等を挙げることができる。
【００７４】
本発明のレジスト液製造方法に用いる原料液のレジスト成分濃度である固形分濃度は、３０％以上５０％以下であることが好ましい。３０％以上４５％以下が好ましく、３３％以上３８％以下が更に好ましい。
【００７５】
［溶剤］
本発明のレジスト液製造方法に用いる溶剤としては、原料液を希釈できるものであり、レジスト膜を形成する際の塗布性及び膜厚均一性を向上させる成分であれば、特に限定されるものではない。従来より一般的に使用されている有機溶剤を使用することも可能である。
【００７６】
本発明のレジスト液製造方法に用いる溶剤の具体例としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、３−メトキシ−１−ブタノールのような一価アルコール；メチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−エトキシプロピオネートのようなアルキルカルボン酸エステル；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコールのような多価アルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートのような多価アルコール誘導体；酢酸、プロピオン酸のような脂肪酸；アセトン、メチルエチルケトン、２−ヘプタノンのようなケトンなどを挙げることができ、これらの有機溶剤は、単独で用いてもよいし２種以上を混合して用いてもよい。
【００７７】
本発明のレジスト液製造方法に用いる溶剤としては、所定のレジスト液を使用する工程で生じた廃液及び／又はレジスト液製造装置を洗浄する工程で生じた廃液を含むものが好ましい。すなわち、本発明のレジスト液製造方法により得られる製品用レジスト液の使用に限定されることなく、各種のレジスト液を使用する何かしらの工程で生じた廃液及び／又は本発明のレジスト液製造方法を実施するための装置のみならず、例えば、レジスト原料液を製造するための製造装置等において、生産銘柄の切り替えや点検工事等に際しての装置を洗浄する工程で生じた廃液を含むものであることが好ましい。
【００７８】
さらには、所定のレジスト液を使用する工程で生じた廃液のうち、所定のレジスト液よりレジスト膜を形成するレジスト膜製造工程で生じた廃液を含むものが好ましい。とりわけ、スリットコーター塗布工程で生じた廃液及び／又はスリットコーターヘッドの洗浄工程で生じた廃液を含むものが好ましい。
【００７９】
［製品用レジスト液］
本発明のレジスト液製造方法によって得られる製品用レジスト液の固形分濃度は、特に限定されるものではなく、レジスト液塗布装置の種類、及びレジスト膜を形成する製品に求められるそれぞれの濃度に応じて適宜調整することができる。本発明においては、目的とする製品に固有の固形分濃度に容易に調整することが可能となることから、製品用レジスト液の固形分濃度は、１０％以上３０％以下であることが好ましい。製品用レジスト液の固形分濃度は、スピンコーター用又はスリットアンドスピンコーターを用いる場合には、２０％以上３０％以下が好ましく、２５％以上３０％以下が更に好ましい。また、スリットコーター等のノンスピンコーターを用いる場合には、１０％以上２０％以下が好ましく、１２％以上１８％以下が更に好ましい。
【００８０】
本発明のレジスト液製造方法によって得られる製品用レジスト液の用途としては、特に限定されるものではないが、溶剤による希釈割合が高い上、１日の必要量が大きい点からＬＣＤパネル（液晶ディスプレイ）用に用いられることが好ましい。
【００８１】
特に、ＬＣＤパネルにおけるアレイ基板においては、レジスト膜によるパターン形成の後、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）が数十万個から百数十万個、規則正しく配置され、さらに電極が搭載される。また、カラーフィルター基板は、カラー毎の複数回のレジストパターン形成工程を実施する必要がある。このため、後に得られるレジスト膜の精度を作用することから、レジスト液には、品質の安定化が求められる。また、最近のＬＣＤパネルの普及及び大型化に伴い、１日に必要とされるレジスト液の量は多量となっている。
【００８２】
本発明によれば、製品ごとの所望の製品用レジスト液を精度よく供給することができるとともに、製品用レジスト液の濃度を安定化させて品質を維持することができ、且つ、少なくとも１日分の安定した連続供給が可能となる。
【実施例】
【００８３】
本発明のレジスト液製造方法の実施例につき、図２に基づき説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００８４】
図２は、本発明のレジスト液製造方法の実施例であるレジスト液製造装置１を示す図である。実施例のレジスト液製造装置１は、高濃度の原料液１０が導入される導入部Ａと、この導入部Ａに導入された原料液１０と溶剤２０とを混合して攪拌する混合攪拌部Ｂと、この混合攪拌部Ｂで混合攪拌されて濃度調整され、それにより得られた製品用レジスト液を供給する供給部Ｃと、を備える。
【００８５】
導入部Ａは、主として、原料液導入ライン１１、原料液流量計１２、溶剤導入ライン２１、溶剤流量計２２によって構成される。また混合攪拌部Ｂは、主として混合攪拌槽３０、注入ヘッド３１、部分液循環移送ライン３５及び３６、濃度測定機器及び／又は粘度測定機器３７、流量調整器３８によって構成される。供給部Ｃは、バッファ槽４０、製品用レジスト液供給ライン４２が主な構成部品となる。
【００８６】
［原料導入工程（Ｓ１０１）］
原料導入工程（Ｓ１０１）は、図２の導入部Ａにおいてなされる。原料導入工程（Ｓ１０１）においては、原料液導入ライン１１及び溶剤導入ライン１２のそれぞれから、原料液１０と溶剤２０とを導入する。原料液導入ライン１１及び溶剤導入ライン１２から導入した原料液１０及び溶剤２０は、混合攪拌部Ｂの注入ヘッド３１から混合攪拌槽３０へ注入される。尚、本実施例においては、原料液導入ライン１１には原料液流量計１２が備えられ、溶剤導入ライン２１には溶剤流量計２２が備えられる。
【００８７】
［混合攪拌工程（Ｓ１０２）］
混合攪拌工程（Ｓ１０２）は、図２の混合攪拌部Ｂにおいてなされる。混合攪拌工程（Ｓ１０２）においては、注入ヘッド３１を通して、原料液１０の吐出口である原料液吐出口を、この原料液吐出口付近に設けられた溶剤吐出口から吐出される溶剤２０により洗浄しつつ、原料液１０及び溶剤２０を混合攪拌槽３０に注入する。
【００８８】
このとき、混合攪拌槽３０に注入される原料液１０と溶剤２０の注入量は、原料液導入ライン１１に設けられた原料液流量計１２及び溶剤導入ライン２１に設けられた溶剤流量計２２によって監視されるとともに、混合攪拌槽３０の下部に設けられたロードセル３４によって、その合計質量が監視される。混合攪拌槽３０に注入された原料液１０と溶剤２０は、攪拌羽根３３により、混合攪拌槽３０内で一定時間混合攪拌され、混合液３２となる。
【００８９】
［濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）］
濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）は、図２の混合攪拌部Ｂにおいてなされる。濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）においては、濃度及び／又は粘度の測定を実施する。濃度及び／又は粘度測定工程においては、混合攪拌槽３０に貯留された混合液３２の一部を、混合攪拌槽３０に設けられた部分液循環移送ライン３５を通して抜き出す。抜き出された混合液３２の一部であった液体は、部分液循環移送ライン３５及び３６の間に設けられた濃度測定機器及び／又は粘度測定機器３７によってその濃度及び／又は粘度が測定される。濃度及び／又は粘度の測定が完了した液体は、部分液循環移送ライン３６を通して混合攪拌槽３０内に戻される。
【００９０】
［調整工程（Ｓ１０４）］
調整工程（Ｓ１０４）は、図２の混合攪拌部Ｂにおいてなされる。調整工程（Ｓ１０４）においては、濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）の濃度測定機器及び／又は粘度測定機器３７による濃度及び／又は粘度測定結果に基づいて、流量調整器３８により、導入部Ａの原料液導入ライン１１に設けられた原料液流量計１２及び／又は溶剤導入ライン１２に設けられた溶剤流量計２２を調整制御し、混合攪拌槽３０に追加注入される原料液１０及び／又は溶剤２０の注入分量を制御する。必要に応じて、上記の濃度及び／又は粘度測定の操作及び注入分量の調整制御の操作を繰り返して、所望の濃度の混合液３２を製造する。
【００９１】
また、ロードセル３４により、混合攪拌槽３０内の混合液３２の重量に基づいても、調整工程（Ｓ１０４）が行われる。すなわち、混合攪拌槽３０内に所定量の原料液１０と溶剤２０とを充填する際、重量をロードセル３４により測定しておき、濃度及び／又は粘度測定工程（Ｓ１０３）の濃度測定機器及び／又は粘度測定機器３７による濃度及び／又は粘度測定結果を受けて、導入部Ａの原料液導入ライン１１に設けられた開閉バルブ及び／又は溶剤導入ライン１２に設けられた開閉バルブを調整制御し、混合攪拌槽３０に追加注入される原料液１０及び／又は溶剤２０の注入分量を制御する。必要に応じて、上記の濃度及び／又は粘度測定の操作及び注入分量の調整制御の操作を繰り返して、所望の濃度の混合液３２を製造する。
【００９２】
［貯留工程（Ｓ１０５）］
貯留工程（Ｓ１０５）は、図２の混合攪拌部Ｂにおいてなされる。貯留工程（Ｓ１０５）においては、混合攪拌槽３０内に貯留された所望の濃度となった混合液３２を、供給部Ｃへ移送するためのレジスト液移送ライン３９を通して、ポンプ５１により、供給部Ｃのバッファ槽４０に移送される。このとき、レジスト液移送ライン３９に設けられたフィルター６１により濾過され、濾過後の混合液３２がバッファ槽４０に注入される。
【００９３】
また、実施例のレジスト液製造装置１のレジスト液移送ライン３９には、供給部Ｃへの移送を遮断する必要が出た場合のためのバイパスを有している。バイパスには開放弁及びエアバルブ７４が備えられ、レジスト液移送ライン３９の内部にある移送中の液体を、混合攪拌槽３０に戻すことが可能となる。
【００９４】
［濃度安定化工程（Ｓ１０６）］
濃度安定化工程（Ｓ１０６）は、図２の供給部Ｃにおいてなされる。貯留工程（Ｓ１０５）においては、移送された所定濃度の混合液３２を、バッファ槽４０にて一定期間貯留して濃度を落ち着かせて、製品用レジスト液４１を得る。
【００９５】
［供給工程（Ｓ１０７）］
供給工程（Ｓ１０７）は、図２の供給部Ｃにおいてなされる。供給工程（Ｓ１０７）においては、一定期間が経過して得られた製品用レジスト液４１を、ポンプ５２により、製品用レジスト液供給ライン４２を通して供給する。このとき、製品用レジスト液４１は、製品用レジスト液供給ライン４２に設けられたフィルター６２により濾過され、その後、供給される。
【００９６】
［レジスト膜製造工程（Ｓ１０８）］
レジスト膜製造工程（Ｓ１０８）は、図２の供給部Ｃの後においてなされる（図２には図示されていない）。レジスト膜製造工程（Ｓ１０８）においては、製品用レジスト液供給ライン４２及び／又はその他の配管を介して、直接的に、製品用レジスト液を用いてレジスト膜を製造する製造設備に、製品用レジスト液４１を供給する。すなわち、製品用レジスト液を用いてレジスト膜を製造する製造設備が存在する場所と同一の場所に、本発明のレジスト液製造方法を実施するためのレジスト液製造装置を設置する。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】レジスト液製造方法の工程を示す図である。
【図２】レジスト液製造方法を実施するための装置を示す図である。
【符号の説明】
【００９８】
１      レジスト液製造装置
１０    原料液
１１    原料液導入ライン
１２    原料液流量計
２０    溶剤
２１    溶剤導入ライン
２２    溶剤流量計
３０    調合タンク
３１    注入ヘッド
３２    混合液
３３    攪拌羽根
３４    ロードセル
３５、３６    部分液循環移送ライン
３７    濃度測定機器及び／又は粘度測定機器
３８    流量調整器
３９    レジスト液移送ライン
４０    バッファ槽
４１    製品用レジスト液-
４２    製品用レジスト液供給ライン
５１、５２    ポンプ
６１、６２    フィルター
７１、７２、７３、７４    エアバルブ
【図１】
2007072138.tif 000002
【図２】
2007072138.tif 000003