(57)【要約】本発明は、ホログラフィー効果をもつマイクロエンボス加工を用いた印刷可能なシートに関しており、該シートは、その両面の少なくとも一面に、顔料で着色された層で覆われた基材を含むことを特徴とし、該層は、非水溶性の熱可塑性ビヒクルと無機顔料を含み、該顔料は、タイプＩの顔料と呼ばれる、マイクロエンボス加工の深さより小さい平均サイズの顔料と、タイプＩＩの顔料と呼ばれる、マイクロエンボス加工の深さより大きい平均サイズで、また測定されるＢＥＴ比表面積が１０ｍ2／ｇより大きく、ビヒクルに対して乾燥重量で１０％より小さいあるいは同等の量である顔料と、それらの混合物との中から選ばれる。本発明はまた、印刷可能でホログラフィーパターンを形成するための加熱マイクロエンボス加工を施すことのできるシートと同様に、シートの製作方法、またこのシートの製作を可能にする層の利用も目的としている。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホログラフィー効果をもつマイクロエンボス加工を用いた印刷可能なシートであり、その両面のうちの少なくとも一面に、顔料で着色された層で覆われた基材を含むことを特徴とし、該顔料で着色された層が、
−非水溶性の熱可塑性ビヒクルと、
−無機顔料であって、
−タイプＩの顔料と呼ばれる、マイクロエンボス加工の深さより小さい平均サイズの顔料、
−タイプＩＩの顔料と呼ばれる、マイクロエンボス加工の深さより大きい平均サイズで、測定されるＢＥＴ比表面積が１０ｍ2／ｇより大きく、ビヒクルに対して乾燥重量で１０％より小さいもしくは同等の量である顔料、
−および、それらの混合物、
の中から選ばれる無機顔料とを含んでいることを特徴とするシート。
【請求項２】
前記タイプＩの顔料が１μｍより小さい、好ましくは５ｎｍと０．１μｍの間に含まれる平均サイズを有することを特徴とする、請求項１に記載のシート。
【請求項３】
前記タイプＩの顔料の量が、ビヒクルに対して乾燥重量で１％と５０％の間に含まれることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のシート。
【請求項４】
前記タイプＩＩの顔料の量が、ビヒクルに対して乾燥重量で０．５％と１０％の間に含まれることを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一つに記載のシート。
【請求項５】
顔料が、発熱性シリカ、沈降シリカ、あるいはコロイダルシリカ、二酸化チタン、沈降炭酸カルシウムあるいは粉砕炭酸カルシウム、カオリン、およびそれらの混合物の中から選ばれることを特徴とする、請求項１から請求項４のいずれか一つに記載のシート。
【請求項６】
前記非水溶性の熱可塑性ビヒクルが、非水溶性の性質のビヒクルであるか、あるいは網状化によって非水溶性にされており、それらが、ポリウレタン、スチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・アクリル共重合体を含むアクリルポリマー、ポリ（エチレン・ビニルアセテート）、ニトロセルロースを基剤とするビヒクル、光網状化可能のものに由来する樹脂、とりわけアクリル酸基のような一つあるいは複数の不飽和基を含むポリマー、メタクリル酸塩、アリル、ビニル、およびそれらの混合物の中から選ばれることを特徴とする、請求項１から請求項５のいずれか一つに記載のシート。
【請求項７】
前記顔料で着色された層が熱可塑性の塗工用顔料、とりわけポリスチレンの顔料も含むことを特徴とする、請求項１から請求項６のいずれか一つに記載のシート。
【請求項８】
前記顔料で着色された層が、硫化亜鉛あるいは二酸化チタンの層で覆われることを特徴とする、請求項１から請求項７のいずれか一つに記載のシート。
【請求項９】
請求項１から請求項８に記載されているような、ホログラフィー効果をもつマイクロエンボス加工を含んだ印刷可能なシートの製作方法であり、該方法が、
−水性媒質および／あるいは有機媒質で製作される、請求項１から請求項７のいずれか一つで定義されるような顔料で着色された層を、シートの基材の上に堆積させる過程であって、前記ビヒクルは、非水溶性あるいは網状化可能な熱可塑性ビヒクルであり、
−このように覆われた前記シートを乾燥させる過程と、
−ついで、前記マイクロエンボス加工を、先の前記シートの層のマイクロエンボス加工によって、加熱および加圧したエンボス加工用装置で実行する過程と、
−本製作方法において、必要であればビヒクルを網状化する過程、
とを含むことを特徴とするシートの製作方法。
【請求項１０】
請求項７に記載されているような、ホログラフィー効果をもつマイクロエンボス加工を含んだ印刷可能なシートの製作方法であって、該方法が、
−水性媒質および／あるいは有機媒質で製作される、請求項７で定義されるような顔料で着色された層を、シートの基材の上に堆積させる過程であって、前記ビヒクルは、非水溶性あるいは網状化可能な熱可塑性ビヒクルであり、
−このように覆われた前記シートを、場合によっては乾燥させる過程と、
−得られたシートを加熱する過程と、
−直後に、前記マイクロエンボス加工を、まだ熱い先の前記シートの層のマイクロエンボス加工によって、加熱せずに加圧したエンボス加工用装置で実行するする過程と、
本製作方法において、必要であればビヒクルを網状化する過程とを含むことを特徴とするシートの製作方法。
【請求項１１】
エンボス加工の際にシートが加熱される温度が、ビヒクルのガラス転移の温度Ｔｇより高く、好ましくは、このガラス転移の温度Ｔｇを最高で１００℃上回ることを特徴とする、請求項９に記載のシートの製作方法。
【請求項１２】
前記ビヒクルが、紫外線放射によって、あるいは電子ビームによって、あるいは加熱して網状化されることを特徴とする、請求項９から請求項１１のいずれか一つに記載の、網状化可能なビヒクルの場合のシートの製作方法。
【請求項１３】
前記ビヒクルが、前記層で塗工される基材の製造の際、特に前記塗工される基材の乾燥の際に網状化されることを特徴とする、請求項１２に記載のシートの製作方法。
【請求項１４】
ビヒクルが、層のエンボス加工と同時に、電子ビームによって網状化されることを特徴とする、請求項１２に記載のシートの製作方法。
【請求項１５】
前記層が、エンボス加工の深さより大きいあるいは同等の厚みを有することを特徴とする、請求項９から請求項１４のいずれか一つに記載のシートの製作方法。
【請求項１６】
硫化亜鉛あるいは二酸化チタンの層を、顔料で着色された層の上に真空で堆積させることを特徴とする、請求項９から請求項１５のいずれか一つに記載のシートの製作方法。
【請求項１７】
印刷可能で、ホログラフィー効果をもつマイクロエンボス加工を含んでいるシートであり、請求項９から請求項１６のいずれか一つによって定義される方法に従って得られるシート。
【請求項１８】
印刷可能で、ホログラフィー効果のパターンに応じて加熱マイクロエンボス加工を施すことができる、塗工されたシートであって、前記シートが、請求項１から請求項８のいずれか一つにおいて定義されるような層を含むシート。
【請求項１９】
請求項１から請求項８のいずれか一つにおいて定義されるような層の利用であって、シートを塗工し、シートを印刷可能に、またホログラフィー効果をもつパターンを形成するための加熱マイクロエンボス加工を施すことができるようにするための層の利用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラフィーパターンを含んだ印刷可能なシート並びにその製作方法に関するものである。本発明は、ホログラフィーパターンを形成するための、印刷可能で加熱マイクロエンボス加工を施すことができるシート、並びに、このシートの製作を可能にする層の利用にも関する。
【背景技術】
【０００２】
ホログラフィーシート、とりわけ紙製あるいはプラスチック製のシートが既に知られているが、該シートは、基材（紙製あるいはプラスチック製のベースシート）の上でのホログラフィーホイルの塗布によって、あるいはめっきされた基材のマイクロエンボス加工によって、あるいはまた、基材の上で押出し成形された熱可塑性の層の加熱マイクロエンボス加工によって得られる。マイクロエンボス加工を施すことができる層を伴う紙は、例えば米国特許第５，７５６，１８３号明細書に記載されている。紫外線の放射下で、あるいは電子ビームによって網状化可能なワニスの中で形成されるホログラフィーパターンを含むシートあるいはフィルムは、例えば特願昭６０−２６３１４０号公報および独国特許発明第４１３２４７６号明細書に記載されている。
【特許文献１】
米国特許第５，７５６，１８３号明細書
【特許文献２】
特願昭６０−２６３１４０号公報
【特許文献３】
独国特許発明第４１３２４７６号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本出願人は、これらのシートの不都合は、これらのシートが印刷可能でないこと、とりわけオフセット印刷によって印刷可能でないことであると確認したが、それは、層が閉じすぎていて、インクがシートの中に浸透できないからである。さらに、本出願人は、層が水溶性の物質を含んでいれば、シートの印刷に問題が生じることを確認したが、それは、印刷の際に使用される湿し装置の溶液が、マイクロエンボス加工された層の表面の可溶化によって、非常に確実にホログラフィー効果を消してしまうからである。
【０００４】
本発明の主要な目的は、したがって、以上に説明された問題を解決することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本出願人は、小さいサイズ、すなわちエンボス加工の深さより小さいサイズの無機顔料、および、大きい比表面積の顔料で、それらのサイズがどうであろうと量が少ないもの、および、それらの混合物の中から選ばれる顔料を含む層を製作すれば、マイクロエンボス加工および印刷、とりわけオフセットによる印刷が可能になることを明らかにした。深さは、エンボス加工によって層に作り出される溝の深さを意味する。
【０００６】
本出願人の経験によると、本出願人に感じられたのは、理論によって結びつけられる必要なく、この成分は、インクのより優れた乾燥を可能にする、層のミクロ多孔性を作り出す効果を有すること、また小さいサイズの顔料の場合には、十分に観察できるホログラフィー効果を得るための、納得できるマイクロエンボス加工を得ること、そしてより大きいサイズの顔料の場合には、それらの量が十分に少ないために、エンボス加工を妨げないということである。しかしながら、本出願人はまた、層が多孔質すぎれば、層が熱可塑性ではなくなるので、エンボス加工が可能ではなくなることも確認した。
【０００７】
本発明は、このように、ホログラフィー効果をもつマイクロエンボス加工を用いた印刷可能なシートを提供するものであり、該シートは、その両面のうちの少なくとも一面に、顔料で着色された層で覆われた基材を含むことを特徴とし、該顔料で着色された層は、
−非水溶性の熱可塑性ビヒクルと、
−無機顔料であって、
−タイプＩの顔料と呼ばれる、マイクロエンボス加工の深さより小さい平均サイズの顔料、
−タイプＩＩの顔料と呼ばれる、マイクロエンボス加工の深さより大きい平均サイズで、
測定されるＢＥＴ比表面積が１０ｍ2／ｇより大きく、ビヒクルに対して乾燥重量で１０％より小さいもしくは同等の量である顔料、
−および、それらの混合物、の中から選ばれる無機顔料とを含んでいる。
【０００８】
もちろん、タイプＩの顔料は、大きい比表面積も有していてもよい。
【０００９】
より特徴的には、本発明は、前記タイプＩの顔料が１μｍより小さい、好ましくは５ｎｍと０．１μｍの間に含まれる平均サイズを有することを特徴とする。
【００１０】
好ましくは、前記タイプＩの顔料の量は、ビヒクルに対して乾燥重量で１％と５０％の間に含まれる。
【００１１】
好ましくは、前記タイプＩＩの顔料の量は、ビヒクルに対して乾燥重量で０．５％と１０％の間に含まれる。
【００１２】
好ましくは、顔料は、発熱性シリカ、沈降シリカ、あるいはコロイダルシリカ、二酸化チタン、沈降炭酸カルシウムあるいは粉砕炭酸カルシウム、カオリン、およびそれらの混合物の中から選ばれる。製紙工場で通常使用され、タイプＩあるいはタイプＩＩの基準に見合った他の充填剤の中から選ばれる他の顔料は、適合する可能性がある。最良の結果は、タイプＩの顔料の場合には発熱性シリカで、またタイプＩＩの顔料の場合には、沈降シリカで得られた。層は、さらに、他の顔料を、それらが少量であれば含むことができ、つまり、比較的大きいサイズで、かつ小さい比表面積の顔料であり、これらの顔料は、例えば不透明性や白色度のような、特有の特徴を向上させるために付加できる。
【００１３】
好ましくは、ビヒクルは、熱可塑性で網状化可能なビヒクルの中から選ばれ、それらの網状化は、とりわけ非水溶性であるという特性をそれらに付与する。特に、これらの当該ビヒクルは、非水溶性の性質のビヒクルであるかあるいは、網状化によって非水溶性にされており、それらは、ポリウレタン、スチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・アクリル共重合体を含むアクリルポリマー、ポリ（エチレン・ビニルアセテート）、ニトロセルロースを基剤とするビヒクル、光網状化可能のものに由来する樹脂、とりわけアクリル酸基のような一つあるいは複数の不飽和基を含むポリマー、メタクリル酸塩、アリル、ビニル、およびそれらの混合物の中から選ばれる。
【００１４】
本発明の特徴的な、ある場合によると、前記顔料で着色された層は、熱可塑性の塗工用顔料、とりわけポリスチレンの顔料も含んでいる。
【００１５】
本発明の特徴的な、ある場合によると、前記顔料で着色された層は、硫化亜鉛あるいは二酸化チタンの層で覆われている。このような層は、ホログラフィー効果、および、ホログラフィーパターンの耐スクラッチ性を、オフセット印刷に対するシートの適性を変更することなく改良する。この層はまた、シートの耐熱性も改良し、したがってシートをレーザー印刷によって印刷可能にする。
【００１６】
本発明は、また、ホログラフィーシートの製造方法を提供することも目指している。
【００１７】
第一の局面によると、本方法は、ホログラフィーパターンを含んだ印刷可能なシートの製作方法を提供するものであり、前記パターンは、シートの基材の上に堆積される層の加熱マイクロエンボス加工によって実現される。より明確には、それは、ホログラフィー効果をもつマイクロエンボス加工を含んだ印刷可能なシートの製作方法であって、該方法は、
−先に定義されたような、水性媒質および／あるいは有機媒質で製作される顔料で着色された層を、シートの基材の上に堆積させる過程であって、前記ビヒクルは、非水溶性あるいは網状化可能な熱可塑性ビヒクルであり、
−このように覆われた前記シートを乾燥させる過程と、
−ついで、前記マイクロエンボス加工を、先の前記シートの層のマイクロエンボス加工によって、加熱および加圧したエンボス加工用装置で実行する過程と、
−本製作方法において、必要であればビヒクルを網状化する過程とを含む。
【００１８】
特に、エンボス加工の際にシートが加熱される温度は、ビヒクルのガラス転移の温度Ｔｇより高く、好ましくは、このガラス転移の温度Ｔｇを最高で１００℃上回る。
【００１９】
顔料で着色された成分が熱可塑性の顔料を含んでいる、ある特徴的な局面によると、本発明は、ホログラフィーパターンを含んだ印刷可能なシートの製作方法を提供するが、前記パターンは、シートの基材の上に堆積される層のマイクロエンボス加工によって実現され、前記シートはあらかじめ加熱されている。より明確には、それは、ホログラフィー効果をもつマイクロエンボス加工を含んだ印刷可能なシートの製作方法であって、該方法は、
−水性媒質および／あるいは有機媒質で製作される、先に定義されるような顔料で着色された層を、シートの基材の上に堆積させる過程であって、前記ビヒクルは、非水溶性あるいは網状化可能な熱可塑性ビヒクルであり、
−このように覆われた前記シートを、場合によっては乾燥させる過程と、
−得られたシートを加熱する過程と、
−直後に、前記マイクロエンボス加工を、まだ熱い先の前記シートの層のマイクロエンボス加工によって、加熱せずに加圧したエンボス加工用装置で実行する過程と、
−本製作方法において、必要であればビヒクルを網状化する過程とを含む。
【００２０】
方法のうちのいずれかがどのようであろうと、層は、表面処理および塗工で既知の手段によって堆積され、該手段はとりわけ、ナイフ塗工、エアナイフ塗工、ＣＨＡＭＰＩＯＮバーコーティング、カーテン塗工、グラビア塗工、サイズプレス塗工、あるいはフィルム転写式サイズプレス塗工のような、製紙業の分野で一般に使用されている手段である。
【００２１】
方法のうちのいずれかの特徴的な場合によると、網状化可能なビヒクルの場合、前記ビヒクルは、紫外線放射によって、あるいは電子ビームによって、あるいは加熱して網状化される。特徴的な場合によると、ビヒクルは、層のエンボス加工と同時に網状化され、またより特徴的には、前記ビヒクルは、電子ビームによって網状化される。ビヒクルの光網状化は、マイクロエンボス加工の鮮鋭度を、したがってホログラフィーパターンを改良するように思われる。
【００２２】
別の特徴的な場合によると、前記ビヒクルは、前記層で塗工される基材の製造の際、特に前記塗工される基材の乾燥の際に網状化された。
この網状化は、ビヒクルを非水溶性にする。ビヒクルの網状化は、乾燥の際には部分的であってよく、エンボス加工の直前、最中、あるいは直後の網状化によって続行される。
【００２３】
ビヒクルは一般に、水性媒質での安定した分散の形で（ラテックスと呼ばれる）、あるいは非水性の溶剤媒質、あるいは混合の媒質（水性かつ有機溶剤媒質）で使用され、（ＵＶ放射あるいは電子ビームによる）光網状化可能なビヒクルは、一般に、モノマーとオリゴマーの混合物の形で、溶剤なしで使用される。
【００２４】
好ましくは、ビヒクルは、エンボス加工が行われるであろう温度に適合したガラス転移の温度Ｔｇを有しており、すなわち、ガラス転移の温度Ｔｇが、エンボス加工が行われる温度より低いビヒクルである。しかしながら、Ｔｇが可能な限り高いビヒクルを選ぶことが好ましいが、それというのも、本出願人は、高いＴｇのビヒクルが、ホログラフィーパターンに、より優れた耐スクラッチ性を与えることを確認したからである。
【００２５】
ホログラフィーパターンを形成するためのエンボス加工の従来の方法は、少なくとも５．１０6Ｐａ（５０バール）の圧力下で、かつ加熱して行われるが、エンボス加工の温度は、一般に５０℃と２００℃の間にある。温度と圧力の組みの選択は、求められる良質のホログラフィー効果を得るために重要であり、当業者は、単純なテストの試みと、以下に挙げられる実施例を参照することで、これらのデータを決定できるだろう。
【００２６】
基材がビヒクルの浸透および製品の最終利用のレベルで重要性を有していることから、あらゆるタイプの基材が適合する可能性がある。基材が開いていればいるほど、堆積される層の量は、基材を「すっかり覆う」ために、より多くならなければならない。層は、エンボス加工の深さより大きいもしくは同等の厚み、すなわち一般的には、０．５μｍを超える厚みを有している必要がある。強制的な上限はないが、しかしながら、コストおよびシートの利用を考慮しなければならない。
【００２７】
基材は、塗工されていない紙、塗工されている紙、セルロース性の繊維の入念な精製によって得られる天然の透写紙で、場合によっては着色されたもの、透明にさせる物質を浸透させて透明にされた紙、着色紙、安全紙、特に透かし入りの紙、そして表面をざらざらにされた紙、特に製本や表紙のための含浸紙の中から選ぶことができる。安全紙は、セキュリティ文書や紙幣を作るために使用され、表面をざらざらにされた厚紙は、とりわけパスポートの表紙を作るために使用される。これらの基材は、プラスチック製のシートあるいはフィルム、とりわけポリオレフィンのシートあるいはフィルムでもあってよく、該ポリオレフィンは、とりわけポリエチレンあるいはポリプロピレンである。基材は、層の管理を有利にする処理を受けていてもよく、これらの処理は、そのうえ既知である（プレコーティング、接着プライマー、コロナ処理）。
【００２８】
本発明は、先に定義されたような方法によって得られる、ホログラフィーパターンを含んだ印刷可能なシートにも関している。
【００２９】
本発明によって得られるホログラフィーシートは、多数の応用例をもちうる。該ホログラフィーシートは、オフセット印刷の可能な基材を、ホログラフィー地紋（幾何学模様、画像等）を用いて、あるいはホログラフィーの記録を用いて、すかし模様のように、常に３Ｄ効果を作り出す目的において作るために、印刷可能な創造的な基材の分野で利用することができる。該ホログラフィーシートはまた、セキュリティ文書の分野でも、コストをあまりかけない保護のために利用することができ（ロゴマーク、電車の切符等）、これはホログラフィーパターンが、コピー可能ではなく、単純な仕方で実現可能なものではないからである（製品を偽造するためには、少なくともマイクロエンボス加工用のプレス機が必要である）。該ホログラフィーシートは、パスポートの表紙のような、表紙あるいは製本を作るために使用することができる。
【００３０】
本発明はまた、印刷可能で、ホログラフィーパターンに応じて加熱マイクロエンボス加工の可能な、塗工されたシートにも関するものであり、前記シートは、先に定義されたような層を含む。
【００３１】
本発明は、先に定義されたような層の利用にも関するものであり、該利用は、シートを塗工し、シートを印刷可能に、またホログラフィーパターンに応じて加熱マイクロエンボス加工を施すことができるようにするためである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
本発明は、次の非制限的例によってよりよく理解されるであろう。
【実施例１】
【００３３】
実験室で、本発明による紙を製作する。
【００３４】
ＡＲＪＯ  ＷＩＧＧＩＮＳ  ＤＥＳＳＩＮ  ＥＴ  ＰＡＰＩＥＲＳ  ＦＩＮＳ社の商標ＰＯＰ’ＳＥＴ（登録商標）の１２０ｇ／ｍ2の基材紙上に、自動塗工機を使って、次の層の成分を堆積させる：
−水：６００ｇ
−ビヒクル：ポリ（エチレン・ビニルアセテート）：２００ｇ（商業重量）
乾燥抽出物：５０％、Ｔｇ＝６０℃
ＶＩＮＡＭＵＬ社によってＶｉｎａｍｕｌ  ３５２５の名称で商品化されているもの
−顔料：発熱性シリカ：２２０ｇ（商業重量）、
乾燥抽出物：９８％、
顔料の大きさ：１２nｍ、
ＢＥＴ比表面積：２００ｍ2／ｇ、
ＤＥＧＵＳＳＡ−ＨＵＬＳ社によってＡｅｒｏｓｉｌ  ２００の名称で商品化されている。
【００３５】
この成分は、１５％の乾燥抽出物と、１００回転／分で測定される１５０ｍＰａ．ｓのブルックフィールド粘度とを有する。
【００３６】
堆積される量は、乾燥重量で７ｇ／ｍ2である。
【００３７】
発熱性シリカの比率は、ビヒクルに対して２２％である（乾燥重量／乾燥重量）。
【００３８】
シートはおよそ１００℃で乾燥し、ビヒクルはこの乾燥の際に網状化する。
【００３９】
実験室で、ホログラフィーパターンを、塗工された面のエンボス加工によって得られたシートの上に、１７．１０6Ｐａ（１７０バール）の圧力のもと、プレス機の上で実現させるが、該プレス機はパターンのマイクロエンボス加工をネガで含む板（「シム」と呼ばれる）を含み、板と接触する面板は１４０℃の温度である。
ホログラフィーパターンを形成するマイクロエンボス加工を含むシートが得られる。
【００４０】
ついで、印刷のテストが、紙のマイクロエンボス加工された面に対して、Ｌｏｒｉｌｌｅｕｘ社のインクＯｐｔｉｍａ（登録商標）を利用して、４色のオフセットプレス機によって行われる。これらのテストは、紙が印刷可能であり、また裏移りしないことを示した。このテストは、ピストンを使って、２５０Ｎの圧力を、４００％のインクの充填剤を用いて印刷された、二枚のシート上の、直径２、３ｃｍの表面にかけることによって行われる。インクの乾燥時間は、テストによると３時間であり、このことは、このタイプの紙に十分である。
【実施例２】
【００４１】
実験室で、本発明による紙を製作する。
【００４２】
ＡＲＪＯ  ＷＩＧＧＩＮＳ  ＰＡＰＩＥＲＳ  ＣＯＵＣＨＥＳ社の商標ＭＡＩＮＥ（登録商標）の１７０ｇ／ｍ2の基材紙上に、自動塗工機を使って、次の層の成分を堆積させる：
−水：４００ｇ、
−ビヒクル：ポリ（スチレン・アクリル）：２００ｇ（商業重量）、
乾燥抽出物：５０％、Ｔｇ＝２７℃、
ＢＡＳＦ社によってＡｃｒｏｎａｌ  Ｓ３０５Ｄの名称で商品化されているもの、
−顔料：沈降シリカ  ：３ｇ（商業重量）、
乾燥抽出物：９８％、
ＢＥＴ比表面積：４００ｍ2／ｇ、
顔料の大きさ：７μｍ、
ＧＲＡＣＥ  ＤＡＶＩＳＯＮ社によってＳｙｌｏｉｄ  ７４Ｃの名称で商品化されているもの。
【００４３】
この成分は、１７％の乾燥抽出物と、１００回転／分で測定される６０ｍＰａ．ｓのブルックフィールド粘度とを有する。
【００４４】
堆積される量は、乾燥重量で３ｇ／ｍ2である。
【００４５】
シリカの部分は、ビヒクルに対して３％である（乾燥重量／乾燥重量）。
【００４６】
シートはおよそ１００℃で乾燥され、ビヒクルはこの乾燥の際に網状化する。
【００４７】
実験室で、ホログラフィーパターンを、塗工された面のエンボス加工によって得られたシートの上に、１７．１０6Ｐａ（１７０バール）の圧力のもと、プレス機の上で実現させるが、該プレス機はパターンのマイクロエンボス加工をネガで含む板をもち、板と接触するプレス機の面板は８０℃の温度である。
【００４８】
ホログラフィーパターンを形成するマイクロエンボス加工を含むシートが得られる。
【００４９】
ついで、印刷のテストが、紙のマイクロエンボス加工された面に対して、Ｐｒｕｆｂａｕ  Ｐｒｉｎｔ  Ｔｅｓｔという名前の器具を使って行われる。裏移りのテストは、Ｌｏｒｉｌｌｅｕｘ社のインクＯｐｔｉｍａ（登録商標）を用いて行われた。このテストは、紙が印刷可能であること、また裏移りが満足できるものであることを示した。
【実施例３】
【００５０】
ホログラムの耐スクラッチ性への、ビヒクルのＴｇの影響を決定するために、我々は、実施例１と比較するべきシートを製作した。
このシートは、実施例１に従った成分で塗工されたが、ただし該成分において、ビヒクルＶｉｎａｍｕｌ  ３５２５（Ｔｇ＝６０℃）は、同じ化学的性質で、異なるモノマーの比率をもつビヒクルに替えられており、それはビヒクルＶｉｎａｍｕｌ  ３４７９で、３０℃のＴｇをもつ。
【００５１】
この実施例３および実施例１それぞれに従って得られた二枚のシートは、ひとたび実施例１の方法に従ってエンボス加工されると、類似のホログラフィー効果を示す。反面、この実施例３に従って（もっとも低いガラス転移の温度をもつビヒクルを用いて）塗工されたシートの縞に対する耐スクラッチ性は、実施例１に従ったもう一方のシートの耐スクラッチ性よりも弱い。
この耐スクラッチ性は、爪でのかき削りテストによって評価される。
【実施例４】
【００５２】
実験室で、本発明による紙を製作する。
ＡＲＪＯ  ＷＩＧＧＩＮＳ  ＤＥＳＳＩＮ  ＥＴ  ＰＡＰＩＥＲＳ  ＦＩＮＳ社の商標ＰＯＰ’ＳＥＴ（登録商標）の１２０ｇ／ｍ2の基材紙上に、自動塗工機を使って、次の層の成分を堆積させる：
−ビヒクル：光網状化可能なトリアクリラート樹脂：１００ｇ
ＣＲＡＹ  ＶＡＬＬＥＹ社のＳＡＲＴＯＭＥＲ  ＳＲ  ３５１の名称で商品化されているもの、
−顔料：沈降シリカ  ：３ｇ（商業重量）、
乾燥抽出物：９８％、
ＢＥＴ比表面積：４００ｇ／ｍ2、
顔料の大きさ：７μｍ、
ＧＲＡＣＥ  ＤＡＶＩＳＯＮ社によってＳｙｌｏｉｄ  ７４Ｃの名称で商品化されているもの。
【００５３】
堆積される量は、乾燥重量で１０ｇ／ｍ2である。
【００５４】
シリカの部分は、ビヒクルに対して３％である（乾燥重量／乾燥重量）。
【００５５】
層は、パターンのマイクロエンボス加工をネガで含む板によるエンボス加工の際に、電子ビームによって網状化される。
【００５６】
ホログラフィーパターンを形成するマイクロエンボス加工を含むシートが得られる。
【００５７】
ついで、印刷のテストが、紙のマイクロエンボス加工された面に対して、Ｐｒｕｆｂａｕ  Ｐｒｉｎｔ  Ｔｅｓｔという名前の器具を使って行われる。裏移りのテストは、Ｌｏｒｉｌｌｅｕｘ社のインクＯｐｔｉｍａ（登録商標）を用いて行われた。このテストは、紙が印刷可能であり、裏移りが満足できるものであることを示した。
【実施例５】
【００５８】
（比較用）
実験室で、次のように紙を製作する。
【００５９】
ＡＲＪＯ  ＷＩＧＧＩＮＳ  ＤＥＳＳＩＮ  ＥＴ  ＰＡＰＩＥＲＳ  ＦＩＮＳ社の商標ＰＯＰ’ＳＥＴ（登録商標）の１２０ｇ／ｍ2の基材紙上に、自動塗工機を使って、次の層の成分を堆積させる：
−水：２５０ｇ
−ビヒクル：ポリ（エチレン・ビニルアセテート）：２００ｇ（商業重量）
乾燥抽出物：５０％、Ｔｇ＝６０℃、
ＶＩＮＡＭＵＬ社によってＶｉｎａｍｕｌ  ３５２５の名称で商品化されているもの、
−顔料：粉砕炭酸カルシウム：５００ｇ（商業重量）
乾燥抽出物：９７％、
ＢＥＴ比表面積：７−１０ｍ2／ｇ、
顔料の大きさ：１から２μｍ、
ＯＭＹＡ社によるＨｙｄｒｏｃａｒｂ  ９０の名称で商品化されているもの。
【００６０】
この成分は、６０％の乾燥抽出物と、１００回転／分で測定される２００ｍＰａ．ｓのブルックフィールド粘度とを有する。
【００６１】
堆積される量は、乾燥重量で４ｇ／ｍ2である。
【００６２】
炭酸塩の部分は、ビヒクルに対して５００％である（乾燥重量／乾燥重量）。
【００６３】
シートはおよそ１００℃で乾燥され、ビヒクルはこの乾燥の際に網状化する。
【００６４】
実験室では、エンボス加工の圧力および温度がどのようであろうと、ホログラフィー効果を得ることが不可能である。
【００６５】
使用される層は、文字印刷の分野でよく使われる層の成分に対応する。エンボス加工の深さ（０．５μｍ）に対して大きなサイズ（１−２μｍ）の顔料の多量の含有量は、層のエンボス加工を得ることを妨げる。この実施例は、したがって、よく使われる筆記印刷の層が適していないことを示している。
【実施例６】
【００６６】
実験室で、本発明による紙を製作する。
【００６７】
ＡＲＪＯ  ＷＩＧＧＩＮＳ  ＤＥＳＳＩＮ  ＥＴ  ＰＡＰＩＥＲＳ  ＦＩＮＳ社の商標ＯＰＡＬＥ（登録商標）の８０ｇ／ｍ2の基材紙上に、自動塗工機を使って、次の層の成分を堆積させる：
−水：４９３ｇ、
−ビヒクル：ポリウレタンとポリアクリル酸のワニス：１３３ｇ（商業重量）
乾燥抽出物：４５％、混合物のＴｇ：約１１０℃、
−無機顔料：発熱性シリカ：４０ｇ（商業重量）、
乾燥抽出物：９８％、
顔料の大きさ：１２ｎｍ、
ＢＥＴ比表面積：２００ｍ2／ｇ、
ＤＥＧＵＳＳＡ−ＨＵＬＳ社によってＡｅｒｏｓｉｌ  ２００の名称で商品化されているもの。
−熱可塑性の顔料：中空ポリスチレン：３００ｇ（商業重量）
乾燥抽出物：２６．５％、Ｔｇ＝１００℃
ＲＯＨＭ  ＆  ＨＡＳＳ社によってＲＯＰＡＱＵＥ  ＨＰ  １０５５の名称で商品化されているもの。
【００６８】
堆積される量は、乾燥重量で７ｇ／ｍ2である。
【００６９】
シートはおよそ１０５℃で乾燥され、ビヒクルはこの乾燥の際に網状化する。
【００７０】
実験室で、塗工された面のエンボス加工によって得られたシートの上に、シートを８０℃で１０秒間、あらかじめ加熱することによって、ホログラフィーパターンを実現させ、ついでその直後に、シートが熱いままであるので、マイクロエンボス加工を、パターンのマイクロエンボス加工をネガで含む板を含むプレス機で、２１．１０6Ｐａ（２１０バール）の圧力を１０秒間かけて実行するが、板は加熱されない。
【００７１】
ホログラフィーパターンを形成するマイクロエンボス加工を含むシートが得られる。
【００７２】
Ｌｏｒｉｌｌｅｕｘ社のインクＯｐｔｉｍａ（登録商標）を利用して、４色のオフセットプレス機によって行われた、紙のマイクロエンボス加工された面に対する印刷のテストは、紙が印刷可能であること、また裏移りしないことを示した。
【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【国際調査報告】
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