(57)【要約】【課題】  ラビング処理における配向不良を抑制するためのより自由で容易な設計を可能とすること。【解決手段】  本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、基板１０３上の表示領域１０４に溶媒不溶性の配向膜１０５を形成し、基板１０３上の表示領域外に溶媒可溶性のマスキング膜１０６を形成し、配向膜１０５とマスキング膜１０６とが形成された基板１０３を、ラビングロール１００でラビング処理し、ラビング処理した基板１０３上のマスキング膜１０６を溶媒によって除去するものである。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示装置の製造方法であって、
基板上の表示領域に溶媒不溶性の配向膜を形成し、
前記基板上の表示領域外に溶媒可溶性のマスキング膜を形成し、
前記配向膜とマスキング膜とが形成された基板を、ラビングロールでラビング処理し、
前記ラビング処理した基板上の前記マスキング膜を前記溶媒によって除去する、方法。
【請求項２】
前記マスキング膜を前記表示領域外にある露出した金属パターンを覆うように形成する、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記マスキング膜を前記表示領域外にある全ての露出した金属パターンを覆うように形成する、請求項２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記マスキング膜を前記配向膜と連続してその配向膜の周囲を囲むように形成する、請求項１、２または３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記基板上における前記配向膜形成領域外の全領域を覆うように、前記マスキング膜を形成する、請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記マスキング膜は溶媒可溶性の配向膜である、請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記配向膜を形成する工程は前記表示領域上に付着させた前記配向膜をプレキュアする第１の工程を含み、
前記マスキング膜を形成する工程は前記表示領域外に付着させた前記マスキング膜をプレキュアする第２の工程を含み、
前記第１の工程と前記第２の工程とを別々に行った後に前記配向膜及び前記マスキング膜を焼成する、請求項１〜６いずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置の製造方法に関し、特に、その配向膜をラビング処理する工程に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置においては、液晶分子を一定方向に配向させるために配向膜を用いる。配向膜は、基板面において画素電極及びこれに対向するコモン電極等の表示電極を含む表示領域にポリイミドなどからなる膜を形成し、この膜をレーヨン等を巻きつけたラビングローラで一定方向にこするラビング法によって形成するのが一般的である。
【０００３】
しかしながら、基板の配向膜形成面をラビング処理する場合、表示領域外の部位に形成された端子やその他の金属パターンによりラビング布の一部がダメージを受け、その部分が配向膜に転写され、結果的に表示不良を生ずる問題がある。
【０００４】
この問題を、図５を用いて説明する。図５は表示領域２及び端子３が形成された基板１において、表示領域２上に配向膜４が形成され、当該基板１に対してラビング処理を施した状態を示す上面図である。
【０００５】
基板１上において、表示領域２以外の領域は配向膜に覆われることなく露出している。この様な状態でラビング処理を行うと、表示領域２外の領域のパターンによりラビング布の一部がダメージを受け、結果的にその部分の形状が配向膜４に転写されてしまう。従って、図５に示すような配向不良領域５が形成される。図５に示す配向不良領域５は、端子３のパターンによりラビング布が受けたダメージによって形成されたものである。
【０００６】
配向不良領域５は、正常に配向された表示領域２とは屈折率等の光学特性が異なるため、最終的に基板１を液晶表示装置として用いる際に表示ムラなどを生じる。また、端子３によってダメージを受けたラビング布によってラビング処理が施されたため、当該領域には適切な配向機能が付与されず、液晶分子が適切に配向されないために、配向不良領域５は最終的に基板１を液晶表示装置として用いる際の表示不良となる。
【０００７】
この問題を解決するための方法として、特許文献１では、表示領域及び外部端子の周囲に、ラビングローラの１回転分に相当する範囲に亘ってメタルパターンを形成し、ラビング布が受ける影響を均一にする方法をとっている。
【０００８】
あるいは、ラビング時に発生する端子部の静電破壊を低減する技術が特許文献２に開示されている。この技術は、表示領域に加えて端子部をも覆うように配向膜を形成し、ラビング処理した後に端子部上の配向膜のみを除去する。配向膜によって端子部を絶縁することで静電気によるスイッチ素子の静電破壊を防止する。この時、配向膜を可溶性ポリイミドで形成することによって、ラビング処理後の端子部上の配向膜除去を容易にしている。
【特許文献１】特開２００２−１７４８１５号公報
【特許文献２】特開平９−１３８４１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ラビングローラにダメージを与え配向不良の原因となりうるものは、駆動回路の接続端子以外にも存在する。例えば、基板を重ねる際の位置決めや基板を切断するためのアライメントマーク、あるいは、表示領域上の配向膜端においてもラビングローラがダメージをうけ、配向不良が引き起こされることがある。また、接続端子は接続時にはその導体面が露出している必要があり、アライメントマークは容易かつ確実に検出されることが必要とされる。従って、ラビングローラをダメージから保護するための構成として、表示領域外の任意の場所に形成することができると共に、容易にその構成を除去することができることが重要である。
【００１０】
しかし、特許文献１に開示の技術は、金属パターンを基板上に形成するものであり、任意の場所にそれを形成することができない。実際に、特許文献１に開示の技術は、端子部をカバーすることができない。このために端子部とラビング布とが接触することとなり、配向膜に対する端子部の影響を完全になくすことができない。また、表示エリア外に検査用の端子がある場合も同様に導体面を露出させる必要がある。更に、アライメントや切断のためのマークがある場合には、画像処理の妨げとなりダミーパターンの形成が制限される場合がある。
【００１１】
一方、特許文献２に開示されている技術においては、ラビング時に表示領域に加えて端子部をも配向膜で覆うため、その端子部によるラビング布のダメージを低減することができる。しかし、この技術は、表示領域と端子部とを同一材料の配向膜によって覆う。具体的には、同一の可溶性配向膜によってこれらを覆っている。
【００１２】
従って、表示領域外の配向膜を選択的に除去するために、なんらかのマスクが必要とされる。特許文献２においては、シール材によって二つの対向基板を張り合わせた後、基板をマスクとして端子部上の配向膜を選択的除去する。このため、ラビング時にシール材を形成する部位を配向膜によって覆うことができない。配向膜端によるラビング布へのダメージを防ぐことが重要なプロセスにおいては、シール材形成領域の配向膜端によるダメージが問題となりうる。
【００１３】
本発明は上記事情を背景としてなされたものであって、ラビング処理における配向不良を抑制するためのより自由で容易な設計を可能とすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、基板上の表示領域に溶媒不溶性の配向膜を形成し、前記基板上の表示領域外に溶媒可溶性のマスキング膜を形成し、前記配向膜とマスキング膜とが形成された基板を、ラビングロールでラビング処理し、前記ラビング処理した基板上の前記マスキング膜を前記溶媒によって除去するものである。これにより、ラビング処理における配向不良を抑制するためのより自由で容易な設計を可能とすることができる。
【００１５】
ここで、前記マスキング膜を前記表示領域外にある金属パターンを覆うように形成することが好ましく、更には全ての露出した金属パターンを覆うように形成することが好ましい。これにより、ラビング時において表示領域外の基板表面の金属パターンが表示領域上に形成された配向膜に影響し、表示不良が生じることを低減できる。
【００１６】
また、前記マスキング膜を前記配向膜と連続してその配向膜の周囲を囲むように形成することが好ましい。これにより、表示領域の端部とマスキング膜との端部とを遠ざけることができ、マスキング膜端部において生じたくずによる表示不良発生を抑制することができる。
【００１７】
更に、前記マスキング膜を前記基板上における前記配向膜形成領域外の全領域を覆うように形成することが好ましい。これにより、より確実に配向不良を防止することができる。
【００１８】
更にまた、前記マスキング膜は溶媒可溶性の配向膜であることが好ましい。これにより、ラビング処理時に配向膜に傷が生じることや、配向膜の配向不均一等の悪影響を抑制することができる。
【００１９】
加えて、前記配向膜を形成する工程は前記表示領域上に付着させた前記配向膜をプレキュアする第１の工程を含み、前記マスキング膜を形成する工程は前記表示領域外に付着させた前記マスキング膜をプレキュアする第２の工程を含み、前記第１の工程と前記第２の工程とを別々に行った後に前記配向膜及び前記マスキング膜を焼成することが好ましい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明により、ラビング処理における配向不良を抑制するためのより自由で容易な設計が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に、本発明を適用可能な実施の形態を説明する。説明の明確化のため以下の記載及び図面は、適宜、省略及び簡略化がなされている。又、各図面において、同一要素には同一の符号が付されており、必要に応じて重複説明は省略されている。まず、液晶パネル２００の全体的な構成について図１を用いて説明する。
【００２２】
図１は、液晶表示装置の一例として、ＴＮ（Twisted Nematic）タイプのアクティブマトリックス液晶パネル２００の構成を示す模式断面図である。以下の説明においては、アクティブマトリックス、ＴＮタイプの液晶表示装置を例として説明するが、本発明は、ＩＰＳ（In-Plane Switching）タイプやパッシブ駆動の液晶パネルにも適用可能である。図１に示すように液晶パネル２００は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）アレイ基板２０１、対向基板２０２、液晶２０３、ＴＦＴ２０４、画素電極２０５、コモン電極２０６、カラーフィルタ２０７、ブラックマトリクス２０８及び配向膜２０９を有する。また、ＴＦＴ２０４は、ゲート電極２０４ａ、ソース電極２０４ｂ及びドレイン電極２０４ｃを有する。本実施形態は、図１に示したような液晶パネルの製造方法において、配向膜２０９を形成する工程に特徴を有する。
【００２３】
液晶パネル２００は、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向配置される対向基板２０２と両基板を接着する図示しないシール材との間の空間に液晶２０３を封入した構成を有する。ＴＦＴアレイ基板２０１上には、互いに直交する方向に図示しないゲート線（走査線）及びソース線（信号線）が形成されており、ゲート線とソース線との交差点近傍にはＴＦＴ２０４が設けられている。また、ゲート線とソース線との間にマトリクス状に形成された複数の画素電極２０５を有している。ＴＦＴ２０４のゲート電極２０４ａがゲート線に、ソース電極２０４ｂがソース線に、ドレイン電極２０４ｃが画素電極２０５に夫々接続される。
【００２４】
他方、対向基板２０２上にはコモン電極２０６及びＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタ２０７、ブラックマトリクス２０８が形成されている。コモン電極２０６は、画素電極２０５と対向するように対向基板２０２の略全面に形成される短形状の透明基板である。コモン電極２０６としては、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電膜を用いる。ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との間は、図示しないビーズスペーサ、柱状スペーサ等によって所定の間隔になるように維持されている。
【００２５】
ＴＦＴアレイ基板２０１及び対向基板２０２の対向する面には、夫々所定の方向に配向された配向膜２０９が形成されている。両基板は、図示しない枠状のシール材により周辺を接着され、ＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２とシール材とで形成される空間に液晶２０３が封入されている。これら両基板に挟持された液晶２０３は、夫々の基板上に設けられた配向膜２０９によって所定の方向に配向する。
【００２６】
上述の様な配向膜２０９の液晶配向機能は、ＴＦＴアレイ基板２０１及び対向基板２０２上に形成された配向膜２０９表面をラビング（こする）ことにより与えられる。配向膜のラビング処理について図を用いて説明する。図２（ａ）は、本実施形態に係るラビング処理を示す斜視図、図２（ｂ）は同上面図であるである。図２においては、１枚のマザー基板１０３上に２つの液晶基板が形成された多面取り構成を示している。しかしこれに限定されず、１枚のマザー基板１０３で１つの液晶基板を形成しても良いし、３つ以上の液晶基板を形成しても良い。ここで、液晶基板とは、図１に示すＴＦＴアレイ基板２０１及び対向基板２０２等の、１つの液晶パネル２００に含まれる基板を指す。以下の説明においては、ＴＦＴアレイ基板２０１のラビング処理の例について説明する。
【００２７】
本実施形態に係るラビング処理は、回転するラビングローラ１００を、マザー基板１０３に当接させながら、マザー基板１０３が載置されたステージ１０２をラビングローラ１００の回転方向と略反対方向に移動させることにより行う。ラビングローラ１００は円筒状の部材であり、その円筒軸を中心に回転している。
【００２８】
ラビングローラ１００には、例えばレーヨン布等のラビング布１０１が巻きつけられている。このラビング布１０１がマザー基板１０３表面に形成された配向膜をこすることにより、当該配向膜に液晶分子を配向する機能を持たせることができる。本実施形態においては、ラビング布１０１に吉川化工株式会社製のＹＡ−２０−Ｒを用いる。
【００２９】
ステージ１０２はマザー基板１０３を載置する台であり、マザー基板１０３が載置された状態で、ラビングローラ１００に対して相対的に移動する。ステージ１０２の移動方向は、マザー基板１０３載置面と平行な方向である。ステージ１０２とラビングローラ１００とは、マザー基板１０３載置面とラビングローラ１００の円筒軸とが平行になるように配置される。また、図２（ｂ）に示すように、マザー基板１０３載置面側から見た場合において、ステージ１０２の移動方向とラビングローラ１００の円筒軸とは直交しておらず、所定の角度を有するように配置されている。
【００３０】
図３は、ラビングローラ１００、ステージ１０２及びマザー基板１０３の配置関係を示す側面図である。図３に示すように、マザー基板１０３載置面に対するラビングローラ１００の高さは、ラビング布１０１がマザー基板１０３表面に形成された配向膜に当接する程度の高さである。この高さを調節することにより、ラビング処理の効果を調整することができる。
【００３１】
ラビングローラ１００の回転方向は、マザー基板１０３が移動する方向とラビング布１０１が移動する方向とが両者の当接面において反対向きになる方向である。この様に、ステージ１０２の移動方向と、ラビングローラ１００の回転方向とを設定することによって、ラビング布１０１によってマザー基板１０３上に形成された配向膜がこすられ、ラビング処理が行われる。
【００３２】
次に、マザー基板１０３について説明する。マザー基板１０３は、上述したようにＴＦＴ２０４や画素電極２０５等が形成され画像表示を行う領域である表示領域１０４を複数備えている。表示領域１０４内のゲート線は端子１０７を介してゲートドライバと接続され、ソース線は端子１０７を介してソースドライバと接続される。端子１０７は、表示領域１０４の直交する２辺に夫々複数形成されており、一方の辺に形成された端子１０７が表示領域１０４中のゲート線、他方の辺に形成された端子１０７がソース線に夫々接続されている。なお、端子１０７は、表示領域の一辺に沿って全て配置されることもある。
【００３３】
なお、図２において、端子１０７は極めて簡略化されて示されている。典型的には、端子１０７はその大部分が基板１０３表面において絶縁されており、表示領域とは反対側の端部のみ導体面が露出している。端子１０７の導体面の露出した端部において、端子１０７とドライバとが接続される。
【００３４】
本形態において、表示領域１０４上に不溶配向膜１０５が形成される。不溶配向膜１０５はポリイミド等の熱硬化型材料で形成されている。本形態の不溶配向膜１０５は加熱硬化させることにより有機溶媒に不溶となる性質を有する。例えば、ＪＳＲ株式会社製のＪＡＬＳ−１２１６を用いることができる。なお、熱硬化以外の不溶配向膜を使用することもできる。上記のラビング処理は、不溶配向膜１０５が加熱され、硬化した後に行う。不溶配向膜１０５をラビング布１０１によってこすることにより、不溶配向膜１０５に液晶分子を配向する機能が与えられる。
【００３５】
更に、本実施形態においては、ラビング処理時に、マザー基板１０３上の表示領域１０４外に可溶配向膜１０６が形成されている。図２の例においては、不溶配向膜１０５形成領域外の全ての基板上領域を可溶配向膜１０６が覆っている。マザー基板１０３表面上の端子１０７等の凹凸パターンが可溶配向膜１０６によって覆われており、マザー基板１０３の表面が平坦に保たれている。パターンを覆う可溶配向膜１０６は、ラビング処理において、ラビング布１０１をダメージから保護する。これにより、表示領域の不溶配向膜１０５上に、図５に示すような配向不良領域５が生じることを抑制することができる。
【００３６】
本形態の可溶配向膜１０６はポリイミド等の熱硬化型材料で形成されており、例えば、ＪＳＲ株式会社製のＡＬ−３５６０を用いることができる。なお、熱硬化以外の可溶配向膜を使用することもできる。可溶配向膜１０６は有機溶媒に可溶である性質を有する。従って、特定の溶媒を使用することによって、表示領域１０４上に形成された不溶配向膜１０５には影響を与えず、その他の領域に形成された可溶配向膜１０６のみを選択的に除去することができる。可溶配向膜１０６を除去する際には、例えばＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）を用いる。
【００３７】
図２において、可溶配向膜１０６はマザー基板１０３上における不溶配向膜１０５形成領域外のすべての領域に形成されている。ラビング布１０１へのダメージをより確実に防ぐためにはこれが好ましいが、プロセス設計によって、その一部を可溶配向膜１０６で覆うことも可能である。本形態は、表示領域を覆う配向膜を不溶性とし、その周囲を可溶配向膜（マスキング膜）でマスキングするため、選択的なマスキング及びその除去を容易に行うことができる。表示領域外には、端子１０７の他、アライメントマークや検査用端子などの金属パターンが形成されている。これらは配向不良の原因となることが多い。このため、これらの一部さらにはその全部を可溶配向膜１０６で覆った上でラビング処理を行うことは、配向不良の抑制に有効である。
【００３８】
また、配向膜に影響するラビング布のダメージは、表示領域外であってステージ１０２の移動方向において表示領域１０４と重なる領域、即ちラビング布１０１のうち表示領域１０４と当接する部分が当接する表示領域外の領域のパターンによるダメージである。従って、不溶配向膜１０５への影響を抑制する目的においては、少なくとも当該領域が平坦に保たれるように可溶配向膜１０６が形成されていれば良い。
【００３９】
あるいは、配向膜端においてラビングローラがダメージを受けることがあり、また、配向膜の端部にはラビング処理によって配向膜くずが発生しやすい。この配向膜くずが表示領域１０４に入ると表示不良を生じる虞がある。従って、不溶配向膜１０５と連続して、その不溶配向膜１０５の周囲を囲むように可溶配向膜１０６を形成することが好ましい。不溶配向膜１０５から延在するように可溶配向膜１０６を形成することにより、マザー基板１０３表面上における配向膜の端部と表示領域１０４の端部とを遠ざけることができ、配向膜端部において生じた配向膜くずが表示不良の原因となることを低減することができる。この時、不溶配向膜１０５と可溶配向膜１０６との境界が平坦に保たれることが好ましい。
【００４０】
この様に、表示領域１０４上の配向膜に連続させて表示領域外を覆うマスキング膜を形成する場合においては、従来のように全てを可溶性膜で形成し、ラビング後に選択的に溶解除去することが非常に困難である。本実施形態のように不溶性配向膜１０５と可溶性配向膜１０６とを用いることは、上記の様な場合に特に効果が大きい。
【００４１】
ここで、ラビング処理時に表示領域１０４外の領域をマスキングする目的においては、可溶配向膜１０６は配向膜材料である必要はなく、有機溶媒に可溶である物質をマスキング膜として形成すれば目的を達成することができる。他方、表示領域上に形成する配向膜とその他の領域に形成するマスキング用の膜とで、物性の大きく異なる材料を用いることは、ラビング布に対する影響を考慮すると好ましくない。可溶配向膜１０６のように配向膜材料を用いることにより、ラビング処理時に不溶配向膜１０５に傷が生じることや、不溶配向膜１０５の配向の不均一性等の悪影響を抑制することができる。
【００４２】
次に、本実施形態に係る配向膜のラビング処理の手順について、図４に示すフローチャートを用いて説明する。まず、マザー基板１０３上の表示領域１０４上に不溶配向膜１０５を印刷により形成する（Ｓ４０１）。そして、不溶配向膜１０５を７０℃でプレキュアし、溶媒を蒸発させる（Ｓ４０２）。
【００４３】
次に、表示領域１０４外の領域に可溶配向膜１０６を印刷により付着する（Ｓ４０３）。その後、不溶配向膜１０５を８０℃でプレキュアし、溶媒を蒸発させる（Ｓ４０４）。そして、不溶配向膜１０５及び可溶配向膜１０６の形成されたマザー基板１０３を２３０℃で２０分間焼成する（Ｓ４０５）。これにより、不溶配向膜１０５が完全に硬化し有機溶媒に不溶となる。この様に、不溶配向膜１０５又は可溶配向膜１０６の一方をプリキュアした後に他方を付着させ焼成することにより、２種類の配向膜が混ざることを防止することができる。
【００４４】
次に、図２に示すようにマザー基板１０３表面をラビング処理する（Ｓ４０６）。これにより、不溶配向膜１０５が配向され、液晶を配向する機能が付与される。その後、ＮＭＰによって、マザー基板１０３上の可溶配向膜１０６のみが除去される（Ｓ４０７）。これにより、表示領域１０４上に形成された不溶配向膜１０５のみが残り、所望領域に配向膜の形成されたＴＦＴアレイ基板を得ることができる。
【００４５】
なお、不溶配向膜１０５の付着（Ｓ４０１）及びそのプリキュア（Ｓ４０２）の前に、可溶配向膜１０６の付着（Ｓ４０３）及びそのプレキュア（Ｓ４０４）を実行してもよい。また、ＴＦＴアレイ基板２０１を例として説明したが、対向基板２０２の配向膜形成においても同様に適用することが可能である。即ち、対向基板２０２のコモン電極２０６上の表示領域に不溶配向膜１０５を形成し、それ以外の領域（非表示領域）に可溶配向膜１０６を形成する。こうすることにより、表示領域外のパターンなどによってラビング布１０１がダメージを受け、配向不良を引き起こすことを抑制することができる。
【００４６】
この様にして形成されたＴＦＴアレイ基板２０１と対向基板２０２との表示領域の周囲をシール材を用いて接着し、両基板とシール材とで形成される空間に液晶２０３を封入することによって液晶パネル２００が完成する。液晶パネル２００の基板表面には、偏光板が貼着される。さらに、液晶パネル２００に画素電極２０５を駆動するドライバ及びバックライトユニットを装着することにより、液晶ディスプレイが完成する。
【００４７】
この様に、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法は、配向膜をラビングする工程において、表示領域１０４以外の領域には有機溶媒に可溶である可溶配向膜１０６を形成し、ラビング処理時に表示領域１０４以外の領域のパターンをマスキングすることによって、基板上の表示領域に形成された配向膜と表示領域外に形成されたマスキング膜との選択的除去を容易にすることができる。その結果、表示領域外の全ての領域をマスキングすることが容易となる。従って、表示領域外のパターンによるラビング布１０１のダメージが表示領域１０４上の配向膜に転写されることを防ぐことができ、表示不良の発生を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の実施の形態に係る液晶パネルの模式断面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るラビング工程を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態に係るラビング工程を示す側面図である。
【図４】本発明の実施の形態に係るラビング工程の手順を示すフローチャートである。
【図５】従来技術に係るラビング処理後の状態を示す上面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１  基板、２  表示領域、３  端子、４  配向膜、５  配向不良領域、
１００  ラビングローラ、１０１  ラビング布、１０２  ステージ、
１０３  マザー基板、１０４  表示領域、１０５  不溶配向膜、１０６  可溶配向膜、
１０７  端子、２００  液晶パネル、２０１  ＴＦＴアレイ基板、２０２  対向基板、
２０３  液晶、２０４  ＴＦＴ、２０４ａ  ゲート電極、２０４ｂ  ソース電極、
２０４ｃ  ドレイン電極、２０５  画素電極、２０６  コモン電極、
２０７  カラーフィルタ、２０８  ブラックマトリクス、２０９  配向膜、
【図１】
2007065063.tif 000003
【図２】
2007065063.tif 000004
【図３】
2007065063.tif 000005
【図４】
2007065063.tif 000006
【図５】
2007065063.tif 000007