(57)【要約】【課題】何ら不具合が発生することなく、フォトリソグラフィに基づいてブラックマトリクスに対応する部分に十分な接着性が得られる柱状スペーサをパターン化して形成できるフレキシブルタイプの液晶表示装置用素子基板の製造方法を提供する。【解決手段】表面側の最上に配向膜３４が形成され、その下方にブラックマトリクス３０ＢＭを含むカラーフィルタ３０が形成されたプラスチックフィルム１０を用意し、配向膜３４の上にポジ型の感光性樹脂層３６を形成した後に、ブラックマトリクス３０ＢＭに重なるパターンが得られるように表面側からフォトマスクを介して感光性樹脂層３６を露光すると共に、背面側からブラックマトリクス３０ＢＭをマスクにして感光性樹脂層３６を露光する。その後に、感光性樹脂層３６を現像することにより、ブラックマトリクス３０ＢＭに対応する配向膜３４の部分上に自己整合的に配置される複数の柱状スペーサＳを得る。【選択図】図６
2007206352.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面側の最上に配向膜が形成され、該配向膜の下方にブラックマトリクスを含むカラーフィルタが形成されたプラスチックフィルムを用意する工程と、
前記配向膜の上にポジ型の感光性樹脂層を形成する工程と、
前記ブラックマトリクスに重なるパターンが得られるように前記プラスチックフィルムの前記表面側からフォトマスクを介して前記感光性樹脂層を露光すると共に、前記プラスチックフィルムの背面側から前記ブラックマトリクスをマスクにして前記感光性樹脂層を露光する工程と、
前記感光性樹脂層を現像することにより、前記ブラックマトリクスに対応する配向膜の部分上に自己整合的に配置される樹脂層パターンを形成して複数の柱状スペーサを得る工程とを有することを特徴とする液晶表示装置用素子基板の製造方法。
【請求項２】
前記感光性樹脂層は本硬化する際に、接着機能を有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用素子基板の製造方法。
【請求項３】
前記プラスチックフィルムを用意する工程において、前記プラスチックフィルムの上には、下から順に、接着層、前記カラーフィルタ、保護層、電極、無機絶縁層及び前記配向膜が形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置用素子基板の製造方法。
【請求項４】
前記ブラックマトリクスはストライプ状に配置されており、前記ブラックマトリクスに重なるパターンは、前記ブラックマトリクスに直交するストライプパターンであることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置用素子基板の製造方法。
【請求項５】
前記ブラックマトリクスに重なるパターンは、前記配向膜の全面にわたって配置されるドッドパターン又は長手状の島状パターンであることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置用素子基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項の製造方法で得られる液晶表示装置用素子基板からなる第１素子基板と、その対向基板となる第２素子基板とを用意する工程と、
前記第１、第２素子基板のいずれかのセル部の周縁部にシール材を設け、前記第１素子基板の前記柱状スペーサ側の面に前記第２素子基板を対向させ、前記第１、第２素子基板を押圧しながら熱処理することにより、前記第１、第２素子基板のセル部の周縁部を前記シール材で接着すると同時に、前記柱状スペーサを硬化させることによって前記柱状スペーサを前記第１、第２素子基板にセル部にそれぞれ接着する工程と、
前記第１、第２素子基板の間に液晶を封入する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
最上に配向膜が形成され、該配向膜の下方にブラックマトリクスを含むカラーフィルタが形成された構造を有する、プラスチックフィルムを基板とする第１素子基板と、
最上に配向膜が形成されたプラスチックフィルムを基板とする第２素子基板であって、前記第１素子基板に対向して配置され、セル部の周縁部に設けられたシール材によって前記第１素子基板に接着された前記第２素子基板と、
前記第１素子基板の前記ブラックマトリクスに対応する前記配向膜の部分に配置され、前記第１、第２素子基板のセル部にそれぞれ接着してセルギャップを保持するポジ型感光性樹脂から形成された複数の柱状接着性スペーサと、
前記第１、第２素子基板の間に挟持された液晶とを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１素子基板は、前記プラスチックフィルムの上に、下から順に、接着層、前記カラーフィルタ、保護層、電極、無機絶縁層、及び前記配向膜が形成されて構成され、
前記第２素子基板は、前記プラスチックフィルムの上に、下から順に、接着層、保護層、電極、無機絶縁層、及び前記配向膜が形成されて構成されることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置用素子基板の製造方法と液晶表示装置及びその製造方法に係り、更に詳しくは、プラスチックフィルムを基板に使用するフレキシブルタイプの液晶表示装置用素子基板の製造方法と液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、薄型・軽量であると共に、低電圧で駆動できて消費電力が少ないという長所があり、各種のディスプレイに広く使用されている。近年では、プラスチックフィルムを基板として使用するフレキシブルタイプの液晶表示装置が注目されている。そのようなフレキシブルディスプレイは、丸めて収納できて持ち運びに便利な超薄型・軽量のモバイル用ばかりではなく、表示画面を湾曲させたディスプレイとしても利用できる。
【０００３】
フレキシブルタイプの液晶表示装置の素子基板の製造方法の一例としては、製造工程におけるプラスチックフィルムの反りや膨張収縮を回避するために、耐熱性で剛性のガラス基板の上に製造条件が制限されることなく透明電極やカラーフィルタ層などを高精度で位置合わせして形成して転写層とした後、この転写層をプラスチックフィルム上に転写・形成する方法がある（特許文献１）。
【０００４】
ところで、液晶表示装置は２枚の素子基板の間に液晶を挟持した構造を有し、その表示品質を維持するにはセルギャップを一定の厚みに保持することが重要である。一般的には、２枚の素子基板の間に接着剤がコーティングされた球状スペーサを散在させることによってセルギャップが制御される。
【０００５】
特許文献２には、フォトレジストに露光、現像、電着を行うことによりブラックマトリクスの上に複数のスペーサを形成する方法が記載されている。また、特許文献３には、液晶層の厚みにほぼ等しい大きさの粒子を分散させた樹脂からなる柱状スペーサを素子基板の上に設けることが記載されている。
【０００６】
さらに、特許文献４には、ブラックマトリクス及び電極を備えたガラス基板の上に光分解性樹脂を形成した後に、ガラス基板の背面側からブラックマトリクスをマスクにして露光することにより、ブラックマトリクス上に突起体を形成してスペーサとする方法が記載されている。
【特許文献１】特開２００３−１３１１９９号公報
【特許文献２】特開２００１−１６６３１４号公報
【特許文献３】特開２０００−２７５６５４号公報
【特許文献４】特許第３０７１０７６号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、フレキシブルタイプの液晶表示装置においては、セルギャップを保持するために球状スペーサを使用する方法では、その表示画面を湾曲させて使用する際に球状スペーサの接着性が十分ではないのでセルギャップの均一性が崩れて表示ムラが発生しやすい。また、球状スペーサは表示領域にも配置されることから、球状スペーサによって表示特性が劣化するおそれがある。
【０００８】
さらには、プラスチックフィルムを基板に使用する素子基板の場合、プラスチックフィルムは熱によって伸縮が生じることからフォトリソグラフィにおいて位置ずれが発生するので、ブラックマトリクスの上にドッド状のスペーサを高精度にパターニング化して形成することは困難を極める。なお、特許文献４の方法では、背面露光法を採用することでブラックマトリクスの上に自己整合的に突起体を形成できるものの、ブラックマトリクス上にドッド状のスペーサをパターン化して形成することは困難である。
【０００９】
本発明は上記した問題点を鑑みて創作されたものであり、何ら不具合が発生することなく、フォトリソグラフィに基づいてブラックマトリクスに対応する部分に十分な接着性が得られる柱状スペーサをパターン化して形成できるフレキシブルタイプの液晶表示装置用素子基板の製造方法と液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記した課題を解決するため、本発明は液晶表示装置用素子基板の製造方法に係り、表面側の最上に配向膜が形成され、該配向膜の下方にブラックマトリクスを含むカラーフィルタが形成されたプラスチックフィルムを用意する工程と、前記配向膜の上にポジ型の感光性樹脂層を形成する工程と、前記ブラックマトリクスに重なるパターンが得られるように前記プラスチックフィルムの前記表面側からフォトマスクを介して前記感光性樹脂層を露光すると共に、前記プラスチックフィルムの背面側から前記ブラックマトリクスをマスクにして前記感光性樹脂層を露光する工程と、前記感光性樹脂層を現像することにより、前記ブラックマトリクスに対応する配向膜の部分上に自己整合的に配置される樹脂層パターンを形成して複数の柱状スペーサを得る工程とを有することを特徴とする。
【００１１】
本発明の一つの好適な態様では、まず、転写技術によってプラスチックフィルム上にブラックマトリクスを含むカラーフィルタや電極などが形成された後に、最上に配向膜が形成される。そして、ブラックマトリクスに重なるパターンが得られるように、プラスチックフィルムの上面側からフォトマスクを介してポジ型感光性樹脂層に対して第１の露光が行われる。例えば、ブラックマトリクスはストライプ状に配置され、ブラックマトリクスに直交するストライプ状の樹脂パターンが得られるように第１の露光が行われる。
【００１２】
続いて、プラスチックフィルムの背面側からフォトマスクを介さずにブラックマトリクスをマスクにしてポジ型感光性樹脂層に対して第２の露光（背面露光）が行われる。これにより、第１の露光での非露光部のうちのブラックマトリクスに重なる部分のみが自己整合的に非露光部となり、ブラックマトリクスに対応する配向膜の部分上に自己整合的に樹脂層パターンがドッド状に形成されて柱状スペーサが得られる。
【００１３】
このように、本発明では、高度な位置合わせは不要であり、自己整合的にブラックマトリクスに対応する部分にドッド状の柱状スペーサを形成することができる。従って、熱によって伸縮が発生しやすいプラスチックフィルムを基板に使用する場合であっても、フォトリソグラフィにおいて基板の伸縮による位置ずれを考慮する必要がない。
【００１４】
また、本発明で使用される柱状スペーサ（感光性樹脂層）は本硬化する際に、接着機能を有している。本発明の製造方法で得られる素子基板を使用して液晶表示装置を構成する場合、素子基板に対向基板を対向させてセル部の周縁部に設けられたシール材を熱処理して接着する際に、柱状スペーサが本硬化することにより素子基板と対向基板のセル部に柱状スペーサが十分な強度で接着される。
【００１５】
このため、液晶表示装置の表示画面を湾曲して設置する場合であっても、セルギャップの均一性が保たれ、表示特性の向上を図ることができる。
【発明の効果】
【００１６】
以上説明したように、本発明では、ブラックマトリクスに対応する部分に柱状スペーサを自己整合的にパターン化して形成できるので、プラスチックフィルムを基板に使用しても何ら不具合が発生しない。また、接着性を有する柱状スペーサを使用することから、プレキシブル液晶表示装置として構成する際に、セルギャップの均一性が保たれ、表示特性の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、添付の図面を参照しながら説明する。
【００１８】
図１〜図９は本発明の実施形態の液晶表示装置用素子基板の製造方法を示す図、図１０及び図１１は同じく液晶表示装置を示す断面図である。
【００１９】
本発明の実施形態の液晶表示装置用素子基板の製造方法は、図１（ａ）に示すように、まず、仮基板としてガラス基板２０を用意し、その上にポリイミドなどからなる膜厚が４μｍ程度の剥離層２２を形成する。
【００２０】
次いで、図１（ｂ）に示すように、剥離層２２上に無機絶縁層２４を形成する。無機絶縁層２４としては、ガスの侵入をブロックできるシリコン窒化層（ＳｉＮX層）、シリコン酸化層（ＳｉＯX層）、又はシリコン酸化窒化層（ＳｉＯＮ層）などのバリア層が使用され、ＣＶＤ法やスパッタ法によって膜厚が１５ｎｍ程度で形成される。
【００２１】
続いて、図１（ｃ）に示すように、無機絶縁層２４上に膜厚が１５０ｎｍのＩＴＯ（Indium Tin Oxide）層を成膜した後に、ＩＴＯ層をフォトリソグラフィ及びエッチングでパターニングすることにより、透明導電層からなる電極２６を形成する。電極２６は表示信号が供給されるものであり、図１（ｃ）には、液晶表示装置の単純マトリクス駆動用のストライプ状の電極２６が例示されている。
【００２２】
電極２６を構成するＩＴＯ層は、耐熱性のガラス基板２０上に形成されることから、成膜温度が１８０℃程度のスパッタ法などを採用することができる。このため、結晶性でかつ低抵抗（シート抵抗値：１５Ω／口）のＩＴＯ層が得られる。
【００２３】
続いて、図２（ａ）に示すように、無機絶縁層２４及び電極２６の上に、アクリル樹脂などよりなる膜厚が２〜５μｍ程度の保護層２８を形成する。このとき、電極２６の段差は保護層２８によって平坦化される。さらに、同じく図４（ａ）に示すように、保護層２８上の各電極２６のパターン間上にブラックマトリクス３０ＢＭを形成する。続いて、赤色画素部を構成する部分に赤色カラーフィルタ３０Ｒを形成する。次いで、緑色画素部を構成する部分に緑色カラーフィルタ３０Ｇを形成する。その後に、青色画素部を構成する部分に青色カラーフィルタ３０Ｂを形成する。
【００２４】
このようにして、赤色カラーフィルタ３０Ｒ、緑色カラーフィルタ３０Ｇ、青色カラーフィルタ３０Ｂ及びブラックマトリクス３０ＢＭにより構成されるカラーフィルタ３０が形成される。各色のカラーフィルタ３０Ｒ〜３０ＢＭは、例えば顔料分散タイプの感光性塗布膜がフォトリソグラフィによりパターニングされて形成される。
【００２５】
次いで、図２（ｂ）に示すように、図２（ａ）の構造体の上面に接着層３２を介してプラスチックフィルム１０を対向させて配置する。プラスチックフィルム１０としては、膜厚が１００〜２００μｍのポリエーテルスルホンフィルムやポリカーボネートフィルムなどが好適に使用される。
【００２６】
さらに、熱処理することにより接着層３２を硬化させて、図２（ａ）の構造体上にプラスチックフィルム１０を接着する。続いて、同じく図２（ｂ）に示すように、プラスチックフィルム１０の一端にロール４０を固定し、このロール４０を回転させながらガラス基板２０を剥離する。このとき、ガラス基板２０と剥離層２２との界面（図２（ｂ）のＡ部）に沿って剥離され、ガラス基板２０が廃棄される。
【００２７】
これにより、図２（ｃ）に示すように、プラスチックフィルム１０上に、下から順に、接着層３２、カラーフィルタ３０、保護層２８、電極２６、無機絶縁層２４、及び剥離層２２により構成される転写層Ｔが転写・形成される。
【００２８】
このように、本実施形態では、耐熱性で剛性のガラス基板２０上に所望の各種素子を含む転写層Ｔを精度よく形成した後に、その転写層Ｔをプラスチックフィルム１０上に転写・形成する手法を採用している。このため、プラスチックフィルム１０上に所望の各種素子を高い位置合わせ精度で形成することができる。
【００２９】
次いで、図３（ａ）に示すように、プラスチックフィルム１０上の剥離層２２を酸素プラズマやコリン系などのアルカリ溶液を用いてエッチングすることにより除去して無機絶縁層２４を露出させる。続いて、図３（ｂ）に示すように、無機絶縁層２４の上にポリイミドからなる配向膜３４を形成する。
【００３０】
次いで、図３（ｃ）に示すように、スピンコート法によって配向膜３４の上に接着機能を有するポジ型の感光性樹脂を塗布した後に、クリーンオーブンで８０℃の雰囲気で２０分間熱処理を行うことにより樹脂層３６を得る。この時点では、樹脂層３６は半硬化状態であり、後に説明するように樹脂層３６は本硬化する際に接着性を有する。樹脂層３６は後にパターン化されて柱状スペーサとして機能するので、その厚みは液晶表示装置の目標セルギャップよりも０．２〜０．５μｍ程度厚くなるように設定される（例えば５〜８μｍ）。
【００３１】
次いで、図４（ａ）に示すように、ストライプ状の露光パターンを備えたフォトマスク４２を介してプラスチックフィルム１０の表面側（樹脂層３６側の面）から１４０〜２００ｍｊ／ｃｍ2の条件で樹脂層３６を露光する（第１の露光）。このとき、図４（ｂ）に示すように、ストライプ状のブラックマトリクス３０ＢＭに直交するストライプ状の樹脂層３６が得られる（画定）されるように、樹脂層３６のストライプ状の第１露光部Ｅ１（塗りつぶし部）が露光される。
【００３２】
さらに、図５（ａ）に示すように、プラスチックフィルム１０の背面側から、フォトマスクを介さずに８００〜９００ｍｊ／ｃｍ2の条件で樹脂層３６を露光する（第２の露光）。このとき、図５（ｂ）に示すように、ブラックマトリクス３０ＢＭがマスクとなって露光されるので、ストライプ状のブラックマトリクス３０ＢＭの間の樹脂層３６の領域（Ｅ２で示される第２露光部）が露光される。つまり、ブラックマトリクス３０ＢＭの間の領域に注目すると、図４の露光工程で露光された領域が再度露光され、図４の露光工程で露光されなかった領域（図５の斜線部）が追加で露光されたことになる。従って、ブラックマトリクス３０ＢＭの間の樹脂層３６の領域は自己整合的に全て露光され、ブラックマトリクス３０ＢＭに対応する樹脂層３６の領域では、柱状スペーサが配置される部分のみが自己整合的に非露光部（図５（ｂ）の白抜き部）となる。
【００３３】
続いて、露光された樹脂層３６を有機アルカリ（水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液：２．３８％）によって現像した後に、水洗・乾燥を行う。
【００３４】
これにより、図６（ａ）及び（ｂ）に示すように、各ブラックマトリクス３０ＢＭに対応する配向膜３４の部分上に樹脂層３６が柱状にパターン化されて形成され、それらが柱状スペーサＳとなる。
【００３５】
このように、本実施形態では、まず、ブラックマトリクス３０ＢＭに直交するストライプ状の樹脂層３６が得られるように、プラスチックフィルムの上面側からフォトマスク４２を介して樹脂層３６に対して第１の露光が行われる。さらに、プラスチックフィルム１０の背面側からフォトマスクを介さずにブラックマトリクス３０ＢＭをマスクにして樹脂層３６に対して第２の露光が行われる。これにより、第１の露光での非露光部のうちのブラックマトリクス３０ＢＭに重なる部分のみが自己整合的に非露光部となり、ブラックマトリクス３０ＢＭに対応する配向膜３４上に自己整合的に樹脂層３６のパターンが形成されて柱状スペーサＳが得られる。
【００３６】
このため、本実施形態では、高度な位置合わせは不要であり、自己整合的にブラックマトリクス３０ＢＭに対応する部分に複数の柱状スペーサＳをパターン化して形成することができる。従って、熱によって伸縮が発生しやすいプラスチックフィルムを基板に使用する場合であっても、フォトリソグラフィにおいて基板の伸縮による位置ずれを考慮する必要がない。
【００３７】
その後に、図６の配向膜３４にラビング処理を施す。これにより、本実施形態の液晶表示装置用素子基板１が得られる。
【００３８】
図７及び図８には柱状スペーサＳの他の形成方法が示されている。図７（ａ）及び（ｂ）に示すように、まず、第１の露光を行う際に、配向膜３４の全面にわたってドット状のパターンが形成されるフォトマスク４２ｘを介して樹脂層３６を露光する。これにより、図７（ｂ）に示すように、ブラックマトリクス３０ＢＭ上及びそれらの間の領域にドット状の非露光部（破線円）が得られるように樹脂層２６が露光される。次いで、第２の露光（背面露光）によってブラックマトリクス３０ＢＭの間の樹脂層３６の領域が露光される。その後に、樹脂層３６を現像すると、図８に示すように、ブラックマトリクス３０ＢＭに対応する配向膜３６の部分上に柱状スペーサＳがパターン化されて形成される。
【００３９】
あるいは、第１の露光において長手状の島状のラインパターンが全面に形成されるフォトマスクを使用して露光した後に、第２の露光（背面露光）を行ってもよい。この場合も、ブラックマトリクス３０ＢＭに対応する配向膜３６の部分上に長手状の島状ラインパターンからなる柱状スペーサＳが自己整合的に形成される。
【００４０】
なお、図７（ｂ）では、ブラックマトリクス３０ＢＭの内側にドッドパターンが配置される例を示したが、ブラックマトリクス３０ＢＭの外側にドットパターンがはみ出して形成されるようにしてもよい。この場合、第２の露光（背面露光）の際にそのはみ出し部が露光されるので、同様にブラックマトリクス３０ＢＭ上に自己整合的に柱状スペーサＳが形成される。
【００４１】
つまり、本発明では、第１の露光を行う際にブラックマトリクス３０ＢＭに重なるパターンが得られるように露光した後に、第２の露光（背面露光）を行えばよく、第１の露光で画定される樹脂層のパターンの形状は任意に設定できる。
【００４２】
なお、第１の露光と第２の露光（背面露光）の順番は逆であっても同様な柱状スペーサＳを形成することができる。
【００４３】
また、上記した形態では、プラスチックフィルム１０上にカラーフィルタ３０や電極２６などが転写によって形成された素子基板の上に柱状スペーサＳを形成する例を示したが、プラスチックフィルム上に直接カラーフィルタや電極などを形成した素子基板に同様な方法で柱状スペーサを形成してもよい。
【００４４】
次に、本実施形態の液晶表示装置の製造方法について説明する。図９に示すように、まず、前述した液晶表示装置用素子基板１を第１素子基板１ａとして使用し、その対向基板となる第２素子基板１ｂを用意する。第２素子基板１ｂは、プラスチックフィルム１０ａの上に、接着層３２ａを介して、保護層２８ａ、ストライプ状の電極２６ａ、無機絶縁層２４ａ及び配向膜３４ａが順に形成されて構成されている。第２素子基板１ｂは、第１素子基板１ａと同様に転写技術によって製造され、無機絶縁層２４ａの上に配向膜３２ａが形成された後にその表面にラビング処理が施される。
【００４５】
そして、同じく図９に示すように、第２素子基板１ｂのセル部の周縁部にシール材４４をスクリーン印刷などにより形成する。シール材４４としては、無溶剤系二液熱硬化性接着剤が好適に使用される。なお、シール材４４は、第１素子基板１ａのセル部の周縁部に設けてもよい。
【００４６】
次いで、第１素子基板１ａを第２素子基板１ｂの上に相互の電極２６，２６ａが直交するように配置し、第１、第２素子基板１ａ，１ｂをプレス機で押圧しながら１２０〜１３０°の温度で熱処理を行う。
【００４７】
これにより、図１０に示すように、シール材４４が硬化することによって第１、第２素子基板１ａ，１ｂが接着されて液晶表示部材が得られる。このとき、柱状スペーサＳは本硬化する際に接着機能を有することから、柱状スペーサＳが本硬化することでその上面及び下面が第１素子基板１ａ及び第２素子基板１ｂのセル部にそれぞれ十分な強度で接着する。
【００４８】
次いで、液晶表示部材を真空槽に入れ、真空槽を真空状態とした後に、液晶表示部材に予め開口しておいた注入口に液晶を触れさせた状態で真空槽を大気圧に戻す。これにより、気圧差及び毛細血管現象を利用して第１、第２素子基板１ａ，１ｂの間に液晶４６を封入した後に、注入口を紫外線硬化樹脂で封止する。
【００４９】
以上により、図１０に示すように、本実施形態の液晶表示装置２が得られる。
【００５０】
図１０に示すように、本実施形態の液晶表示装置２は第１素子基板１ａと第２素子基板１ｂとそれらの間に挟持された液晶４６とによって基本構成されている。第１素子基板１ａでは、プラスチックフィルム１０ａ上（図１０では下）に接着層３２が形成され、その上にカラーフィルタ３０が形成されている。カラーフィルタ３０の上には保護層２８が形成され、保護層２８の中に電極２６が埋設されて形成されている。さらに、電極２６の上に無機絶縁層２４が形成され、その上に配向膜３４が形成されている。
【００５１】
また、第２素子基板１ｂでは、プラスチックフィルム１０ａ上に接着層３２ａを介して保護層２８ａ、電極２６ａ、無機絶縁層２４ａ、及び配向膜３４ａが順に形成されて構成されている。
【００５２】
そして、第１素子基板１ａと第２素子基板１ｂとは、セル部の周縁部に設けられたシール材４４で接着されているばかりではなく、セル部のブラックマトリクス３０ＢＭに対応する配向膜３４，３４ａの部分に配置された複数の柱状スペーサＳによって接着された状態でセルギャップが保持されている。本実施形態の柱状スペーサＳは、球状スペーサに比べて面積の大きい上面及び下面を有するので、球状スペーサと違って第１、第２素子基板１ａ，１ｂのセル部に十分な強度で接着される。
【００５３】
このため、本実施形態の液晶表示装置２の表示画面を湾曲させて配置する場合であっても、全体にわたってセルギャップの均一性が保たれるので、表示特性を向上させることができる。また、図１０の例では、セル部のブラックマトリクス３０ＢＭ以外の表示領域には柱状スペーサＳが存在しないので、スペーサによる表示特性の劣化が発生するおそれがない。
【００５４】
図１１には本実施形態の変形例の液晶表示装置２ａが示されている。図１１に示すように、スペーサによる表示特性の劣化を許容できて、更なるセルギャップの均一性の向上を図る場合は、柱状スペーサＳの間の表示領域に球状スペーサＳＸを散在させてもよい。この場合、液晶表示装置２ａの表示画面を湾曲させて配置する際のセルギャップの均一性がさらに向上するので、更なる信頼性の高い湾曲画像を得ることができる。なお、図１１において球状スペーサＳＸ以外は図１０と同一であるので、他の要素は同一符号を付してその説明を省略する。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】図１（ａ）〜（ｃ）は本発明の実施形態の液晶表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図（その１）である。
【図２】図２（ａ）〜（ｃ）は本発明の実施形態の液晶表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図（その２）である。
【図３】図３（ａ）〜（ｃ）は本発明の実施形態の液晶表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図（その３）である。
【図４】図４（ａ）及び（ｂ）は本発明の実施形態の液晶表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図及び平面図（その４）である。
【図５】図５（ａ）及び（ｂ）は本発明の実施形態の液晶表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図及び平面図（その５）である。
【図６】図６（ａ）及び（ｂ）は本発明の実施形態の液晶表示装置用素子基板の製造方法を示す断面図及び平面図（その６）である。
【図７】図７（ａ）及び（ｂ）は本発明の実施形態の液晶表示装置用素子基板の製造方法における柱状スペーサの他の形成方法を示す断面図及び平面図（その１）である。
【図８】図８（ａ）及び（ｂ）は本発明の実施形態の液晶表示装置用素子基板の製造方法における柱状スペーサの他の形成方法を示す断面図及び平面図（その２）である。
【図９】図９は本発明の実施形態の液晶表示装置の製造方法を示す断面図（その７）である。
【図１０】図１０は本発明の実施形態の液晶表示装置を示す断面図である。
【図１１】図１１は本発明の実施形態の変形例の液晶表示装置を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１…液晶表示装置用素子基板、１ａ…第１素子基板、１ｂ…第２素子基板、２，２ａ…液晶表示装置、１０，１０ａ…プラスチックフィルム、２０…ガラス基板、２２…剥離層、２４，２４ａ…無機絶縁層、２６，２６ａ…電極、２８，２８ａ…保護層、３０…カラーフィルタ、３０Ｒ…赤色カラーフィルタ、３０Ｇ…緑色カラーフィルタ、３０Ｂ…青色カラーフィルタ、３０ＢＭ…ブラックマトリクス、３２，３２ａ…接着層、３４，３４ａ…配向膜、３６…樹脂層、４０…ロール、４２，４２ｘ…フォトマスク、４４…シール材、４６…液晶、Ｓ…柱状スペーサ、ＳＸ…球状スペーサ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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