(57)【要約】【課題】上面開口の浴槽に溜めた足浴用水に左右の足先を浸す足浴器として、電動ポンプによって吐水ノズルから湯水を足の裏に噴出させる仕組みの足浴器があり、これに銀イオンを溶出させる除菌水生成タンクを設けて、足の臭いの低減や水虫の予防を図るものがあるが、本発明は、電動ポンプなしに足浴用水を循環させ、注入量の少ない足浴用水でもって楽な姿勢で足浴性に優れる構成と共に循環水パイプや電気ヒータの配置に優れ、高級感と清潔さを維持できるものとする。【解決手段】上面開口の浴槽の下側に下方に開口した収納部を形成した陶磁器製浴槽本体と、収納部を覆って浴槽本体を載置する基台を備え、浴槽の前部と後部にはそれぞれ足浴用水の吐出口と吸い込み口を備え、収納部には足浴用水の吐出口と吸い込み口に連通した足浴用水循環パイプが傾斜設置されると共にこのパイプ内の足浴用水を加熱する電気ヒータを備え、足浴用水を排水するための排水部からの排水を受けるように基台には後方へ引き出し自在に排水タンクが収納支持されたもの。【選択図】図７
2007167435.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面開口の浴槽に溜めた足浴用水に左右の足先を浸す足浴器において、上側に前記浴槽を形成し下側に下方に開口した収納部を形成した陶磁器（セラミックス）製浴槽本体と、前記収納部を覆って前記浴槽本体を載置する基台を備え、前記浴槽の前部と後部にはそれぞれ足浴用水の吐出口と吸い込み口を備え、前記収納部には前記足浴用水の吐出口と吸い込み口に連通した足浴用水循環パイプとこのパイプ内の足浴用水を加熱する電気ヒータを備え、前記足浴用水循環パイプは後部よりも前部が高く傾斜配置され、前記浴槽の排水部からの排水を受けるように前記基台に引き出し自在に排水タンクが収納支持され、前記電気ヒータによる前記足浴用水循環パイプの加熱によって足浴用水が前記浴槽へ循環することを特徴とする足浴器。
【請求項２】
上面開口の浴槽に溜めた足浴用水に左右の足先を浸す足浴器において、上側に前記浴槽を形成し下側に下方に開口した収納部を形成した浴槽本体と、前記収納部を覆って前記浴槽本体を載置する基台を備え、前記浴槽本体は、前記浴槽が中仕切りによってそれぞれ左右の足浴部に区分され、前記左右の足浴部の前部と後部にはそれぞれ足浴用水の吐出口と吸い込み口を備え、前記収納部には前記足浴用水の吐出口と吸い込み口に連通した足浴用水循環パイプとこのパイプ内の足浴用水を加熱する電気ヒータを備え、前記足浴用水循環パイプは後部よりも前部が高く傾斜配置され、前記中仕切りには前記左右の足浴部の足浴用水が連通する連通路を設けると共に前記電気ヒータの通電制御を行う制御部が収納され、前記連通路には前記左右の足浴部の足浴用水を排水するための排水部が設けられ、前記排水部からの排水を受けるように前記基台には引き出し自在に排水タンクが収納支持され、前記電気ヒータによる前記足浴用水循環パイプの加熱によって足浴用水が前記浴槽へ循環することを特徴とする足浴器。
【請求項３】
前記左右の足浴部の底面は後部よりも前部が高く傾斜し、前記連通路は前記傾斜の低部において前記中仕切りを貫通して形成されたことを特徴とする請求項２に記載の足浴器。
【請求項４】
上面開口の浴槽に溜めた足浴用水に左右の足先を浸す足浴器において、上側に前記浴槽を形成し下側に下方に開口した収納部を形成した陶磁器（セラミックス）製浴槽本体と、前記収納部を覆って前記浴槽本体を載置する基台を備え、前記浴槽は中仕切りによってそれぞれ左右の足浴部に区分され、前記左右の足浴部の底壁は後部よりも前部が高く傾斜し、前記傾斜の低部において前記中仕切りを貫通して前記左右の足浴部を連通する連通路が設けられ、前記左右の足浴部の前部と後部にはそれぞれ足浴用水の吐出口と吸い込み口を備え、前記底壁を上面として上方へ窪んだ収納部が形成され、前記収納部には前記足浴用水の吐出口と吸い込み口に連通した足浴用水循環パイプが前記底壁の傾斜に沿って配置されると共にこのパイプ内の足浴用水を加熱する電気ヒータが配置され、前記中仕切りには前記電気ヒータの通電制御を行う制御部が収納されると共に前記傾斜の低部において前記左右の足浴部の足浴用水が連通する連通路を設け、前記連通路には前記浴槽の足浴用水を排水するための排水部が設けられ、前記排水部からの排水を受けるように前記基台に引き出し自在に排水タンクが収納支持されたことを特徴とする足浴器。
【請求項５】
前記連通路内に足浴用水の温度検出部を設け、この温度検出部の検出に基づき前記制御部によって前記電気ヒータの発熱状態を制御することを特徴とする請求項２乃至４のいずれかに記載の足浴器。
【請求項６】
前記電気ヒータの通電は、温度検出部による前記浴槽の足浴用水温の検出に基づき制御され、前記浴槽の足浴用水温が所定温度に加熱されるまでは発熱量が大となる予備加熱モードで通電され、前記浴槽の足浴用水温が所定温度に上昇したときは適温に維持する保温モードで通電制御されることを特徴とする請求項１乃５のいずれかに記載の足浴器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、上面開口の浴槽に溜めた足浴用水に左右の足先を浸す足浴器に関し、特に、足浴用水の循環機構の簡素化や、浴槽内での足浴用水の良好な循環等が得られる足浴器に関する。
【背景技術】
【０００２】
上面開口の浴槽に溜めた足浴用水に左右の足先を浸す足浴器の一つとして、浴槽内に設置したスノコ状の足置台に上にセラミックを置き、その上に足を載せ、浴槽内の底に配置したヒータによって足浴用水を加熱するものがある（特許文献１参照）。また、上面開口の浴槽を形成する内箱の外面と外枠の間に断熱材が設けられ、この断熱材に形成した溝に対応して内箱の外面に電気ヒータを取り付け、この電気ヒータによって浴槽内の足浴用水を加熱し、浴槽内に沈めた底敷き部内に送風機から送気して、底敷き部に形成した吐出孔から空気を吐出する気泡発生式足浴器がある（特許文献２参照）。この特許文献２のものは、送風機から送る空気によって、足浴用水が強制流動するものと推察される。
【０００３】
また、電動ポンプによって吐水ノズルから湯水を足の裏に噴出させる仕組みの足浴器があり、これに銀イオンを溶出させる除菌水生成タンクを設けて、足の臭いの低減や水虫の予防を図るものがある（特許文献３参照）。特許文献３のものは、除菌効果を有すると共に電動ポンプによる吐水によって、足浴用水が強制流動するものと推察される。
【特許文献１】特開２００３−１８０７２４号公報
【特許文献２】特開２００３−１８０７９０号公報
【特許文献３】特開２００４−２０８７４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、これらのものとは異なる構成によって、高級感を持たせると共に清潔さを維持でき、楽な姿勢で足浴ができる足浴器とし、足浴用水が電気ヒータによる加熱によって自然対流するシステムにおいて、足浴用水の流動性に優れ、循環水パイプの配置や電気絶縁を考慮した電気制御部や電気ヒータ等の配置に優れ、操作スイッチ部の操作性に優れるものとする。また、足浴用水の温度の均一化ができ、排水タンクによる足浴用水の排水のし易さと、排水タンクの取り付けのし易さと、足浴者の足裏が排水口に触ることによる不快感のない排水部構成とする等の効果を奏する構成の足浴器を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
第１発明の足浴器は、上面開口の浴槽に溜めた足浴用水に左右の足先を浸す足浴器において、上側に前記浴槽を形成し下側に下方に開口した収納部を形成した陶磁器（セラミックス）製浴槽本体と、前記収納部を覆って前記浴槽本体を載置する基台を備え、前記浴槽の前部と後部にはそれぞれ足浴用水の吐出口と吸い込み口を備え、前記収納部には前記足浴用水の吐出口と吸い込み口に連通した足浴用水循環パイプとこのパイプ内の足浴用水を加熱する電気ヒータを備え、前記足浴用水循環パイプは後部よりも前部が高く傾斜配置され、前記浴槽の排水部からの排水を受けるように前記基台に引き出し自在に排水タンクが収納支持され、前記電気ヒータによる前記足浴用水循環パイプの加熱によって足浴用水が前記浴槽へ循環することを特徴とする。
【０００６】
第２発明の足浴器は、上面開口の浴槽に溜めた足浴用水に左右の足先を浸す足浴器において、上側に前記浴槽を形成し下側に下方に開口した収納部を形成した浴槽本体と、前記収納部を覆って前記浴槽本体を載置する基台を備え、前記浴槽本体は、前記浴槽が中仕切りによってそれぞれ左右の足浴部に区分され、前記左右の足浴部の前部と後部にはそれぞれ足浴用水の吐出口と吸い込み口を備え、前記収納部には前記足浴用水の吐出口と吸い込み口に連通した足浴用水循環パイプとこのパイプ内の足浴用水を加熱する電気ヒータを備え、前記足浴用水循環パイプは後部よりも前部が高く傾斜配置され、前記中仕切りには前記左右の足浴部の足浴用水が連通する連通路を設けると共に前記電気ヒータの通電制御を行う制御部が収納され、前記連通路には前記左右の足浴部の足浴用水を排水するための排水部が設けられ、前記排水部からの排水を受けるように前記基台には引き出し自在に排水タンクが収納支持され、前記電気ヒータによる前記足浴用水循環パイプの加熱によって足浴用水が前記浴槽へ循環することを特徴とする。
【０００７】
第３発明の足浴器は、第２発明において、前記左右の足浴部の底面は後部よりも前部が高く傾斜し、前記連通路は前記傾斜の低部において前記中仕切りを貫通して形成されたことを特徴とする。
【０００８】
第４発明の足浴器は、上面開口の浴槽に溜めた足浴用水に左右の足先を浸す足浴器において、上側に前記浴槽を形成し下側に下方に開口した収納部を形成した陶磁器（セラミックス）製浴槽本体と、前記収納部を覆って前記浴槽本体を載置する基台を備え、前記浴槽は中仕切りによってそれぞれ左右の足浴部に区分され、前記左右の足浴部の底壁は後部よりも前部が高く傾斜し、前記傾斜の低部において前記中仕切りを貫通して前記左右の足浴部を連通する連通路が設けられ、前記左右の足浴部の前部と後部にはそれぞれ足浴用水の吐出口と吸い込み口を備え、前記底壁を上面として上方へ窪んだ収納部が形成され、前記収納部には前記足浴用水の吐出口と吸い込み口に連通した足浴用水循環パイプが前記底壁の傾斜に沿って配置されると共にこのパイプ内の足浴用水を加熱する電気ヒータが配置され、前記中仕切りには前記電気ヒータの通電制御を行う制御部が収納されると共に前記傾斜の低部において前記左右の足浴部の足浴用水が連通する連通路を設け、前記連通路には前記浴槽の足浴用水を排水するための排水部が設けられ、前記排水部からの排水を受けるように前記基台に引き出し自在に排水タンクが収納支持されたことを特徴とする。
【０００９】
第５発明の足浴器は、第２発明乃至第４発明において、前記連通路内に足浴用水の温度検出部を設け、この温度検出部の検出に基づき前記制御部によって前記電気ヒータの発熱状態を制御することを特徴とする。
【００１０】
第６発明の足浴器は、第１発明乃至第４発明において、前記電気ヒータの通電は、温度検出部による前記浴槽の足浴用水温の検出に基づき制御され、前記浴槽の足浴用水温が所定温度に加熱されるまでは発熱量が大となる予備加熱モードで通電され、前記浴槽の足浴用水温が所定温度に上昇したときは適温に維持する保温モードで通電制御されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
第１発明において、浴槽本体を合成樹脂製とすれば、拭き取りによる傷つきが生じ、この傷に不純物や水滴が残り易くなり、これが黴の発生原因ともなるが、浴槽本体を陶磁器（セラミックス）製とすることによって、足浴用水を排水した後の水滴の拭き取りによる傷つきもなく拭き取りが簡単であり、常に清潔に保つことができるものとなる。また、浴槽本体を陶磁器（セラミックス）製とすることによって、アンダーカットの複雑な形状も作り易くなり、足浴用水の吐出口を覆うように浴槽の前壁を湾曲させる等の形状も容易であり、デザイン性も向上し高級感を呈するものとなる。足浴用水が前記電気ヒータによる加熱によって自然対流するシステムであるため、循環用ポンプなども不要であると共に、電気ヒータで加熱される足浴用水循環パイプは、足浴用水の吐出口側が高くなる配置であるため、定まった方向への足浴用水のスムースな循環が行われるものとなり、足浴中の足先に対する安定した循環が得られるものとなる。また、排水のし易さのために排水タンクを陶磁器（セラミックス）製浴槽本体に引き出し自在に支持する構成を採用する場合には、浴槽本体に別部材を取り付けて、それに排水タンクを引き出し自在に支持する機構を採らなければ構成し難いが、本発明では、排水タンクは基台に引き出し自在に支持されるため、この基台を合成樹脂製とすることによってその機構が簡素化され、浴槽本体を陶磁器（セラミックス）製等にして高級感を呈するようにするものに適したものとなる。また、浴槽の下側に形成した収納部に浴用水循環パイプと電気ヒータを配置したことにより、浴槽から零れる足浴用水からこれらを保護することができる。
【００１２】
第２発明は、第１発明の効果に加えて、浴槽を中仕切りによって左右に仕切ることによって、貯留する足浴用水量を少なくでき、そのために足浴用水の加熱時間も短く省エネ効果もある。また、中仕切りには左右の足浴部の足浴用水が連通する連通路を備えることによって、足浴用水の注入は一方の足浴部へ行えばよく、注入し易くなると共に左右の足浴部の足浴用水のレベルを同じに保つことができる。そして、この中仕切りの有効利用として、中仕切り内を電気ヒータの制御部の収納部として利用でき、これに係るスイッチ部を含めた電気絶縁が得易い状態となる。
【００１３】
第３発明は、第１発明及び第２発明の効果に加えて、左右の足浴部の底面を前部が高く傾斜させたため、足浴器の後方に配置した椅子に腰掛けた状態で足浴部へ挿入した足先が、つま先上がりで安定するため、足先に無理な姿勢を強いることがなく、楽な姿勢で足浴ができると共に、吐出口から流出した足浴用水が吸い込み口へ達する流れをスムースにできる。そして、左右の足浴部の底面の傾斜の低部で中仕切りを貫通して連通路を形成し、この連通路に排水部が位置するため、左右の足浴部の浴用水が連通路に集中し排水し易くなると共に、左右の足浴部にそれぞれ排水部を設ける必要がなくなり、排水構造が簡素化され、更に、この排水部の開口部に足浴者の足裏が触れる虞がなく、足浴者に不快感を与えることがない。
【００１４】
第４発明は、第１発明乃至第３発明の効果に加えて、左右の足浴部の底壁の傾斜に沿って足浴用水循環パイプが配置されるため、足浴用水循環パイプの傾斜配置がし易くなり、電気ヒータの加熱によって生じる足浴用水の良好な対流が得られるものとなる。
【００１５】
第５発明は、第２発明乃至第４発明の効果に加えて、前記連通路内で温度検出ができるため、左右の足浴部にそれぞれ温度検出部を設ける必要がなく、温度検出構造が簡素化されると共に、この温度検出部に足浴者の足裏が触れる虞がなく、足浴者に不快感を与えることがない。
【００１６】
第６発明は、第１発明乃至第５発明の効果に加えて、冬季のように低温状態となる陶磁器（セラミックス）製浴槽本体であっても、冷水から適温になるまでの立ち上がり時間を短くできるものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の足浴器は、上面開口の浴槽に溜めた足浴用水に左右の足先を浸す足浴器において、上側に前記浴槽を形成し下側に下方に開口した収納部を形成した陶磁器（セラミックス）製浴槽本体と、前記収納部を覆って前記浴槽本体を載置する基台を備え、前記浴槽の前部と後部にはそれぞれ足浴用水の吐出口と吸い込み口を備え、前記収納部には前記足浴用水の吐出口と吸い込み口に連通した足浴用水循環パイプとこのパイプ内の足浴用水を加熱する電気ヒータを備え、前記足浴用水循環パイプは後部よりも前部が高く傾斜配置され、前記浴槽の排水部からの排水を受けるように前記基台に引き出し自在に排水タンクが収納支持され、前記電気ヒータによる前記足浴用水循環パイプの加熱によって足浴用水が前記浴槽へ循環するものであり、本発明の実施例を以下に記載する。
【実施例１】
【００１８】
本発明の実施の形態について説明する。図１は足浴器の正面斜視図、図２は足浴器の分解斜視図、図３は足浴器の背面斜視図、図４は足浴器の浴槽本体部分の平面図、図５は足浴器の浴槽本体の底面斜視図、図６は足浴器の縦断背面視図、図７は図４のＡ−Ａ断面図、図８は足浴器を中仕切り部分で切断した縦断側面図、図９は銀イオン発生装置の構成を示す断面図である。
【００１９】
図において、１は本発明の足浴器である。足浴器１は、上面開口の浴槽に溜めた足浴用水に左右の足先を浸して湯浴する足浴器であり、上側に上面開口の浴槽５を形成する浴槽本体２と、浴槽本体を水平状態に載置する基台３とを備えており、衛生維持に優れ高級感を持たせるために浴槽本体２は陶磁器（セラミックス）製であり、陶磁器（セラミックス）製浴槽本体２の底面を保護して、足浴器１を家屋内の部屋の床などに設置されたとき、この床などを傷つけないためにも、基台３は合成樹脂製または木製であるが、実施形態では合成樹脂製の基台３である。浴槽本体２は、平滑な表面形成の陶磁器（セラミックス）製とすることにより、足浴器１を使い終わったときに布巾などによって水滴を拭き取ることによって衛生的に保つことができる。もし、合成樹脂製とすれば、この拭き取りによる傷つきも生じ易く、この傷に汚れが溜まり易くなり、不衛生になり易いが、陶磁器（セラミックス）製とすることにより、そのような虞はなくなる。
【００２０】
基台３を合成樹脂製としたのは、陶磁器（セラミックス）製の浴槽本体２を載置する構成がし易いと共に、後述のように扁平状の排水タンク４を引き出し自在に収納する構成を取り易いこと等も考慮したためである。基台３は、平板状の基板部３Ａの周縁部に立ち上り壁３Ｂを一体形成しており、基板部３Ａに扁平状の排水タンク４を引き出し自在に載置し、立ち上り壁３Ｂの後壁部分には排水タンク４を引き出し自在に収納するための開口３Ｃが形成され、この開口３Ｃに排水タンク４の取っ手４Ａが臨んでいる。また、立ち上り壁３Ｂには浴槽本体２の下面周縁部が載置され、その状態で足浴器１が水平設置状態を保つようになる。
【００２１】
浴槽本体２は、上側に足浴用水を溜める上面開口の浴槽５を形成し、浴槽５の下側に周囲を壁で囲まれた下方に開口した収納部６を形成しており、浴槽本体２を基台３に載置した状態で、収納部６が基台３で覆われる状態となる。浴槽本体２は、浴槽５が中仕切り７によってそれぞれ左右の足浴部５Ａ、５Ｂに区分され、中仕切り７の後部には左右の足浴部５Ａ、５Ｂの足浴用水が連通する連通路８を備え、左右の足浴部５Ａ、５Ｂの前部と後部には、それぞれ足浴用水の吐出口９と吸い込み口１０を備えている。吐出口９と吸い込み口１０の間隔は、左右の足浴部５Ａ、５Ｂへ挿入された足浴者の足裏に触れ難いように、足浴者の足裏の踵から爪先までの標準的な寸法よりも若干大きい寸法であり、２５０ｍｍ〜２７０ｍｍである。これによって、大概の人は吐出口９と吸い込み口１０に触れることはない。吸い込み口１０は、左右の足浴部５Ａ、５Ｂの後端部に近い位置に形成され、もし足浴者の足裏に触れても違和感が殆どないようにするために、左右の足浴部５Ａ、５Ｂの底面よりも若干低い位置か同一レベルに開口している。一方、吐出口９は左右の足浴部５Ａ、５Ｂの底面よりも若干突出しているため、足浴者の足先が吐出口９へ接触し難いように、吐出口９は左右の足浴部５Ａ、５Ｂの先端部分に配置され、加熱された足浴用水が足浴者の足先へ向けて吐出されないように、吐出口９は左右の足浴部５Ａ、５Ｂの先端方向へ向いて開口している。このため、吐出口９から送出される足浴用水が足浴者の足先へ直接当たることによる不快感が防止される。各吐出口９は、先端方向へ向いて高く傾斜状態に開口しているため、足浴用水が逆流する虞がある。これを防止するために、吐出口９には自重によって後退して弁座９Ｄに当接して、実質的に吐出口９を閉じるボール弁９Ｃを備えた弁機構が設けられている。これによって、加熱された足浴用水の水圧によってボール弁９Ｃが前方へ移動して弁座９Ｄから離れ、実質的に吐出口９を開くように動作し、逆流水がある場合はボール弁９Ｃが弁座９Ｄに当接して、実質的に吐出口９を閉じるように動作する弁機構を構成している。
【００２２】
収納部６には足浴用水の吐出口９と吸い込み口１０に連通した足浴用水循環パイプ１２と、このパイプ１２内の足浴用水を加熱する電気ヒータ１３が収納されている。また浴槽５の底壁１１、即ち、左右の足浴部５Ａ、５Ｂの底壁１１は、上面と下面が後部（足浴者の踵側）よりも前部（足浴者の爪先側）が高くなるように略直線状に傾斜している。これは、足浴器１の後方に配置した椅子に腰掛けた状態で足浴し易くすると共に、吐出口９から流出した足浴用水が吸い込み口１０へ達する流れをスムースにするものであり。この傾斜角度は、足浴器１が水平設置された水平レベルから１０度〜２０度の範囲で選択されるが、水平レベルから略１５度で、後述のような足浴水による湯浴をし易い姿勢を保つことができる好ましいものである。これに伴って、収納部６は底壁１１を上面として後部よりも前部が深い上方へ窪んだ状態に形成されることとなる。そして、この底壁１１に沿って足浴用水循環パイプ１２が、吸い込み口１０側よりも吐出口９側が高位置となるように傾斜配置されている。このため、足浴用水循環パイプ１２と電気ヒータ１３が、底壁１１の傾斜に沿って後部よりも前部が高くなるように略直線状に配置され、電気ヒータ１３によるパイプ１２内の足浴用水の加熱によって、足浴用水が左右の足浴部５Ａ、５Ｂへ循環する仕組みである。
【００２３】
吐出口９と吸い込み口１０は、左右の足浴部５Ａ、５Ｂの底壁１１の前部と後部にそれぞれ形成した孔９Ａ、１０Ａそのものであってもよいが、実施例では、それぞれ孔９Ａ、１０Ａに嵌め込まれたパイプ１２の前部分１２Ｂと後部分１２Ａでもって形成している。パイプ１２は、電気ヒータ１３で加熱される部分はステンレススチール等の金属製であるが、その吐出口９の部分は、浴槽本体２の局部加熱の防止と、浴槽本体２への取り付けのし易さとを考慮して、耐熱性の合成樹脂製のパイプ１２Ｂ１とすることができる。特に、吐出口９の部分は高温となるため、パイプ１２Ｂと孔９Ａとの間には断熱用として、シリコンゴムなどによって形成したスリーブ９Ｂが介在している。また、吸い込み口１０にはごみなどが入り込まないようにフィルタ１０Ｂが装着されている。
【００２４】
電気ヒータ１３はパイプ１２内の足浴用水を加熱するようにしている。電気絶縁を考慮して、電気ヒータ１３はシーズヒータを使用している。パイプ１２と電気ヒータ１３とは、収納部６に配置されるものであり、電気ヒータ１３でパイプ１２を効果的に加熱するために、電気ヒータ１３とパイプ１２は、アルミニウム等の熱良導材１４で隙間を埋めた状態で外側をカバー１５で覆って一体化してヒータユニット１７を構成すれば、このヒータユニット１７を浴槽本体２に取り付ける組み立て工数が簡素化される。ヒータユニット１７は、パイプ１２を耐熱性の合成樹脂製パイプ１２Ａ、１２Ｂを介して吸い込み口１０と吐出口９へ接続した状態で、収納部６の左右壁に形成した支持孔６Ａに左右端が挿入されるバネ材で形成した支持部材１９によって、下側から支えられる状態で浴槽本体２に取り付けられる。この取り付けを安定させるために、カバー１５には平板部１５Ａを形成し、平板部１５Ａは底壁１１との間には熱絶縁材１６を介して、支持部材１９によって底壁１１に押し圧保持されている。
【００２５】
足浴用水を衛生的に保つために、足浴用水の除菌用として、一方のパイプ１２の途中には、除菌装置１８の一つとして、金属イオン発生装置１８を設けている。金属イオン発生装置１８は、合成樹脂製容器１８Ｅ内に電気的マイナス側にステンレススチール製の電極１８Ｂを設け、電気的プラス側に金属イオンを溶出する金属電極１８Ａが設けられ、足浴用水の入り口側１８Ｃがヒータユニット１７のパイプ１２に接続され、足浴用水の入り口側１８Ｃがパイプ１２Ｂに接続されている。金属イオン発生装置１８の代表的なものとして、銀イオン発生装置１８があり、この場合、電気的にマイナス側にステンレススチール製の電極１８Ｂを設け、電気的にプラス側に銀電極１８Ａが設けられる。除菌装置１８は、この他のものでもよい。
【００２６】
上記のように、基台３には引き出し自在に排水タンク４が収納支持されており、足浴用水循環パイプ１２の後部分又は浴槽５の後部分には、浴槽５の足浴用水を排水するための排水部２０が設けられている。排水タンク４の引き出し方向は、基台３の前後左右いずれの方向でもよいが、図示のように、後方へ引き出し自在に排水タンク４を収納することによって、足浴器１の外観デザインがよくなると共に、使い勝手がよいものとなる。上記のように、浴槽５は中仕切り７によって左右の足浴部５Ａ、５Ｂに区分され、中仕切り７の後部に左右の足浴部５Ａ、５Ｂの足浴用水が連通する連通路８を形成している。連通路８は浴槽５の最低部に位置するため、排水部２０をこの連通路８に開口し連通するように形成することによって、左右の足浴部５Ａ、５Ｂの足浴用水を良好に排水できると共に、排水部２０が左右の足浴部５Ａ、５Ｂに開口することがなく、足浴する人の足裏が排水部２０に触れないため、足浴する人が違和感を持つことがない。そして、排水部２０をこの連通路８に形成することによって、左右の足浴部５Ａ、５Ｂにそれぞれ排水部を形成することがなく、排水部２０の構成も簡素化される。排水部２０は足浴器１の後ろ側に露出したコック２１を備えており、このコック２１を回動させることによって、排水部２０の排水通路に形成した排水孔２０Ａを開閉する。排水タンク４には、排水孔２０Ａから排水される足浴用水を受けるように排水受け口４Ｂを備えており、排水タンク４が基台３の正規位置へ収納された状態で、排水孔２０Ａの直下に排水受け口４Ｂが対応する。この状態でコック２１を回動させて排水孔２０Ａを開くことによって、連通路８から左右の足浴部５Ａ、５Ｂの足浴用水を排水タンク４へ排水することができる。排水タンク４は、左右の足浴部５Ａ、５Ｂに入れられた足浴用水量を受け入れるのに十分な容量を備えたものである。このため、後述のように、左右の足浴部５Ａ、５Ｂにそれぞれ約１リットルの足浴用水が入った状態である場合は、排水タンク４はこの量を受け入れるために、約２リットルの容量を持っていることによって、足浴１回ごとに排水すればよい。
【００２７】
浴槽本体２の前壁には、左右の足浴部５Ａ、５Ｂの前部分の上方に被さるようにカバー部２９を形成しており、足浴部５Ａ、５Ｂの前端部分に設けた吐出口９がこのカバー部２９で覆われる。このため、後述のように、予備加熱モードにおいて電気ヒータ１３に通電されてパイプ１２内の足浴用水が沸騰状態に加熱され、吐出口９から高温の足浴用水が噴出しても、このカバー部２９によって足浴部５Ａ、５Ｂから足浴用水が零れることもなく、また、足浴中に足先を動かしても、それによって足浴用水が零れることもなくなる。また、このカバー部２９は、足浴が終わったときに足先をタオルなどによって拭き取る際に、足を載せる足載せ台としても利用できる部分である。
【００２８】
浴槽本体２は、持ち運びに便利なように、浴槽本体２の重心バランスが取れる安定位置に運搬用取っ手４４を設けている。運搬用取っ手４４は、浴槽本体２の前部上面に形成されるカバー部２９の中間部分を前方へ窪ませたその部分において、左右のカバー部２９に渡るように取り付けられている。この運搬用取っ手４４を持ち上げることによって、排水タンク４を基台３に残した状態で、浴槽本体２を基台３から分離して運搬できる。
【００２９】
中仕切り７には、電気ヒータ１３と金属イオン発生装置１８の通電制御を行う制御部３０が収納されており、中仕切り７の上面には制御部３０のスイッチを作動させるスイッチ操作部３１が配置されている。スイッチ操作部３１は、足浴器１の電源のＯＮ−ＯＦＦ制御用スイッチ部３１Ａが設けられ、スイッチ部３１ＡのＯＮ−ＯＦＦによって電気ヒータ１３と金属イオン発生装置１８がＯＮ−ＯＦＦ制御される。スイッチ操作部３１には、スイッチ部３１ＡのＯＮ状態で所定の発光状態となるＬＥＤ表示部３１Ｃが設けられている。なお、スイッチ部３１ＡとＬＥＤ表示部３１Ｃは、上面から水分が侵入しないように、いずれも防水被覆された構成である。
【００３０】
足浴者が左右の足浴部５Ａ、５Ｂに足先を入れる以前の足浴部５Ａ、５Ｂに貯留する足浴用水の規定水位（規定レベル）はＬ１であり、この場合、吐出口９は規定水位Ｌ１から露出状態であるが、電気ヒータ１３で加熱されたパイプ１２内の足浴用水はこの吐出口９から吐出して足浴部５Ａ、５Ｂへ循環する。そして、左右の足浴部５Ａ、５Ｂに足先が入れられた状態での足浴用水の標準的な水位はＬ２である。この状態で、左右の足浴部５Ａ、５Ｂに挿入された足先の甲は、足浴用水に没し、吐出口９は足浴用水中に没した状態となる。吐出口９からは加熱された足浴用水が前方へ吐出されるため、足浴者が左右の足浴部５Ａ、５Ｂに入れた足先に加熱された足浴用水が直接当たることがなく、安全である。
【００３１】
足浴者が左右の足浴部５Ａ、５Ｂに足先を挿しいれた状態で脹脛部分に対応するように、浴槽本体２の後壁には、足浴部５Ａ、５Ｂの後壁の中央部分の上部に、上後方に傾斜し後方へ湾曲した案内部３３が形成されている。通常の姿勢として、足浴者は、浴槽本体２の後方位置から椅子に座った状態で、左右の足浴部５Ａ、５Ｂに足先を挿しいれるため、その場合、この案内部３３に踵を当てつつ左右の足浴部５Ａ、５Ｂに足先を挿し入れることができ、それによって、左右の足浴部５Ａ、５Ｂに溜まった足浴用水の飛散を防止できる。そして、挿しいれた足の裏を斜めの底壁１１に載せた状態で、脹脛をこの案内部３３に当てることによって、足を楽に保持できるため、リラックス状態で足浴を行うことができる。また、足浴が終わって足先を左右の足浴部５Ａ、５Ｂから出す際に、この案内部３３に足首部分や踵部分を当てた状態で、足先の水滴をタオルなどによって拭き取る作業もし易く、その際の水滴の飛散も防止できる。案内部３３は浴槽本体２の後壁を斜め上方に傾斜しつつ後方へ湾曲した形状であってもよいが、このような効果を高めるために、案内部３３は浴槽本体２の後壁から上方へ延びた状態に形成されている。
【００３２】
足浴を始める場合、先ず、左右の足浴部５Ａ、５Ｂに足浴用水を規定水位（規定レベル）Ｌ１まで入れる。この場合の足浴用水の量は、左右の足浴部５Ａ、５Ｂにそれぞれ約１リットルが入った状態であり、合計約２リットルである。この給水をし易くするために、排水タンク４の容量を約２リットルとすることによって、排水タンク４に入れた約２リットルの足浴用水を左右の足浴部５Ａ、５Ｂの一方に注入すれば、連通した左右の足浴部５Ａ、５Ｂにそれぞれ約１リットルの足浴用水が入る。この状態で、スイッチ部３１Ａの手動ＯＮ操作によって、制御部３０が動作して電気ヒータ１３と金属イオン発生装置１８がＯＮ状態となる。電気ヒータ１３のＯＮによって電気ヒータ１３が発熱し、パイプ１２内の足浴用水を加熱すると共に底壁１１を加熱する。この初期加熱は予備加熱モードであり、パイプ１２内の足浴用水は約沸騰温度まで加熱され、吐出口９から高温の足浴用水が流出し、これが底壁１１に沿って足浴部５Ａ、５Ｂの後部へ向けて流下しつつ、左右の足浴部５Ａ、５Ｂの足浴用水と混合し、吸い込み口１０から吸い込まれて、再びパイプ１２内で加熱される循環を行う。底壁１１の加熱に伴って、左右の足浴部５Ａ、５Ｂの足浴用水の温度低下が抑制される。電気ヒータ１３のＯＮと共に、金属イオン発生装置１８もＯＮ状態となるため、マイナス側電極１８Ｂとプラス側電極１８Ｂに通電されて、金属イオン（実施例では銀イオン）が足浴用水中に溶出し、足浴用水の除菌作用が得られ、水虫などにも効果が得られる。
【００３３】
連通部８内には、浴槽５の足浴用水、即ち足浴部５Ａ、５Ｂの足浴用水の温度を検出する温度検出部４５（例えばサーミスタ）が設けられている。このようにして左右の足浴部５Ａ、５Ｂの足浴用水が加熱され、所定の温度（例えば、４０℃〜４５℃）になると、その温度を温度検出部４５が検出して制御部３０が動作し、予備加熱モードを終了して電気ヒータ１３の発熱量を低減するように電気ヒータ１３への通電を制御する。この状態が通常加熱モードである保温モードである。ＬＥＤ表示部３１Ｃは予備加熱モードと保温モードで異なる発光色となるようにすれば、足浴器１の動作状態を識別し易くなる。このため、例えば、ＬＥＤ表示部３１Ｃは予備加熱モードでは赤色系の発光状態となり、保温モードでは緑色系の発光状態となるようにすれば、識別し易い。
【００３４】
保温モードとなった状態で足浴を開始すべく、左右の足浴部５Ａ、５Ｂに足先を入れた状態で足浴用水の水位は略規定レベルＬ２となる。この状態で、左右の足浴部５Ａ、５Ｂに挿入された足先の甲側は、足浴用水に没し、吐出口９は足浴用水中に没した状態となる。吐出口９からは加熱された足浴用水が前方へ吐出されるため、加熱された足浴用水が足浴者の足に直接吐出されず、不快感を与えない。このようにして、保温モードでの足浴による効果を得ることができる。この足浴の期間は、個人差もあるが、大体１０分〜１５分が適当である。足浴中に温度が下がれば、温度検出部４５の検出によって制御部３０が動作し、電気ヒータ１３の発熱量を増加するように制御し、所定の温度範囲（例えば、４０℃〜４５℃）になるように制御される。
【００３５】
足浴を終了したときは、スイッチ部３１Ａの手動ＯＦＦ操作によって、電気ヒータ１３と金属イオン発生装置１８をＯＦＦ状態とする。そして、コック２１を回動させることによって、排水部２０の排水通路に形成した排水孔２０Ａを開き、連通路８から左右の足浴部５Ａ、５Ｂの足浴用水を排水タンク４へ排水することができる。排水タンク４に溜まった足浴用水は、排水タンク４を基台３の後方へ引き出して捨てることができる。
【００３６】
足浴器１は、浴槽本体２と浴槽本体を載置する基台３と排水タンク４を備えているが、足浴中の足浴用水の零れや、足浴終了後にカバー部２９に足先を載せてタオルなどによって拭き取る際の足浴用水の零れ等によって、足浴器１を設置した床部分等が濡れないようにするために、浴槽本体２や基台３の平面積よりも大きい平面積を持つドレンパン４６を設け、これに基台３を載置することができる。ドレンパン４６は、周縁部を巡る壁４６Ａで囲まれた内側底部を複数の領域５０に区画するリブ４７が形成され、このリブ４７に基台３を載置する。このリブ４７には各領域５０が連通するように適所に連通路４８を形成している。
【００３７】
このため、浴槽本体２から零れた足浴用水は、ドレンパン４６で受け止められてそれぞれの領域５０に入り、その領域５０に入った足浴用水は、連通路４８を通って隣の領域５０に流れるため、各領域５０の足浴用水レベルは低下する。このような構成によって、足浴器１を移動する際やドレンパン４６を持ち上げた際に、溜まった足浴用水が左右に揺れて零れ落ちることを防止できる。ドレンパン４６を合成樹脂製とすることもできるが、檜材で作ることによって、温かい足浴用水が零れることによって、檜特有の香りが発せられ、癒し効果も得られるものとなる。ドレンパン４６の左右には、運搬用取っ手４９が設けられているため、浴槽本体２を載せた基台３を載置した状態で、ドレンパン４６を持ち上げて運搬できると共に、ドレンパン４６のみでも運搬できる。
【００３８】
浴槽本体２を合成樹脂製とすれば、拭き取りによる傷つきも生じ易く、この傷に汚れが溜まり易くなり、不衛生になり易いが、上記のように、浴槽本体２を陶磁器（セラミックス）製とすることによって、そのような虞はなくなる。また、合成樹脂製に比して、アンダーカット形状も作り易くなり、カバー部分２９や連通部８などの部分も形成し易い。また、表面の色彩や光沢によって高級感も得られるものとなる。また、重量が増すため、設置した状態での安定性が増し、足浴中に足先を動かしても安定感が得られる。また、下側の収納部６や中仕切り７に配置する電気部品の電気的な絶縁も取り易くなる。
【００３９】
足浴部５Ａ、５Ｂの先端部分には、紫外線を伴う青色発光のＬＥＤが設けられ、この光が足浴部５Ａ、５Ｂの足浴用水中を通って足浴用水の除菌と足浴中の足先の除菌などを行う。また、この光が乱反射して足浴部５Ａ、５Ｂの足浴用水を青色に見せることによって、清潔感を与えることができる。
【００４０】
足浴を終了したとき、足浴終了後に足先をタオルなどによって拭き取る代わりに、ドライヤによって乾燥させるようにすれば便利である。これを達成するために、中仕切り７内にドライヤ５５が収納され、このドライヤ５５からの温風が吹き出す温風吹き出し口５６が、カバー部２９によって覆われる中仕切り７の左右両側部に開口している。これによって、足浴を終了し足浴用水を排水した状態で、中仕切り７の上面のスイッチ操作部３１の一部分に設けたドライヤ用スイッチをＯＮすることによってドライヤ５５が作動し、温風吹き出し口５６から吹き出す温風によって、左右の足浴部５Ａ、５Ｂ内で足先を乾燥できる。この乾燥に伴って、足浴部５Ａ、５Ｂ内の乾燥もできるため、足浴部５Ａ、５Ｂ内の水滴の拭き取りも簡単になるか拭き取りを省くことができるようになる。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
浴槽本体２の形状や色彩を選択することによって、種々の足浴器を市場に提供できるため、本発明は上記実施例に示した構成に限定されず、種々の形態の足浴器に適用できるものであり、本発明の技術範囲において種々の形態を包含するものである。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明に係る足浴器の正面斜視図である。（実施例１）
【図２】本発明に係る足浴器の分解斜視図である。（実施例１）
【図３】本発明に係る足浴器の背面斜視図である。（実施例１）
【図４】本発明に係る足浴器の浴槽本体部分の平面図である。（実施例１）
【図５】本発明に係る足浴器の浴槽本体の底面斜視図である。（実施例１）
【図６】本発明に係る足浴器の縦断背面視図である。（実施例１）
【図７】図４のＡ−Ａ断面図である。（実施例１）
【図８】本発明に係る足浴器を中仕切り部分で切断した縦断側面図である。（実施例１）
【図９】本発明に係る銀イオン発生装置の構成を示す断面図である。（実施例１）
【符号の説明】
【００４３】
１・・・・・足浴器
２・・・・・浴槽本体
３・・・・・基台
４・・・・・排水タンク
４Ｂ・・・・排水受け口
５・・・・・浴槽
５Ａ、５Ｂ・・・左右の足浴部
６・・・・・収納部
７・・・・・中仕切り
８・・・・・連通路
９・・・・・吐出口
１０・・・・吸い込み口
１１・・・・浴槽の底壁
１２・・・・足浴用水循環パイプ
１３・・・・電気ヒータ
１４・・・・熱伝導材
１７・・・・ヒータユニット
１８・・・・金属イオン発生装置
１９・・・・ヒータユニット支持部材
２０・・・・排水部
２０Ａ・・・排水孔
２１・・・・コック
２９・・・・カバー部
３０・・・・制御部
３１・・・・スイッチ操作部
３１・・・・スイッチ部
３１Ｃ・・・ＬＥＤ表示部
３３・・・・案内部
４６・・・・ドレンパン
４７・・・・リブ
４８・・・・連通路
５０・・・・区画領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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