(57)【要約】【課題】本発明のインクジェット記録材料の製造方法により光沢性、色再現性、耐光性に優れ、生産性の高いインクジェット記録材料の製造方法及びインクジェット記録材料を提供することにある。【解決手段】支持体上に、ゲル法シリカをインク受容層に含有するインクジェット記録材料の製造方法において、ゲル法シリカを水を主体とする分散媒中に平均２次粒径が５μｍ以下になるよう分散した後、ゲル法シリカ分散液の電気伝導度を２０μＳ／ｃｍ以下になるまでイオン交換処理したゲル法シリカ分散液を含むことを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法及びインクジェット記録材料。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、ゲル法シリカをインク受容層に含有するインクジェット記録材料の製造方法において、ゲル法シリカを水を主体とする分散媒中に平均２次粒径が５μｍ以下になるよう分散した後、ゲル法シリカ分散液の電気伝導度を２０μＳ／ｃｍ以下になるまでイオン交換処理することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。
【請求項２】
支持体上に、ゲル法シリカをインク受容層に含有するインクジェット記録材料の製造方法において、ゲル法シリカを水を主体とする分散媒中に平均２次粒径が５μｍ以下になるよう分散した後、ゲル法シリカの電気伝導度を２０μＳ／ｃｍ以下になるまでイオン交換処理することで得られたゲル法シリカ分散液をインク受容層に用いることを特徴とするインクジェット記録材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光沢性、色再現性、耐光性が優れ、生産性の高いインクジェット記録材料の製造方法及びインクジェット記録材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録は、インクの微小液滴を種々の動作原理により飛翔させて通常の紙やインクジェット記録用紙と称される支持体上の非晶質シリカの顔料等の記録シートに付着させ、画像・文字等の記録を行うものであるが、比較的高速、低騒音、多色化が容易である等の利点を有しており、近年急速に普及してきている。一方、写真等の高画質印刷、いわゆるフォトライクの記録シートにも用いられており、記録シートとして高光沢であり、印字ドットの濃度が高く色調が明るく鮮やかであることや画像の耐光性が要求されている。
【０００３】
これらの要求を満たすために、従来から多くの技術が提案されている。例えば、特公平３−５６５５２号、特開平２−１８８２８７号、同平１０−８１０６４号、同平１１−３４４８１号等公報には気相法シリカを用いることが提案されている。この気相法シリカは一次粒子の平均粒径が数ｎｍ〜数十ｎｍの超微粒子であり高光沢や優れた色再現性が得られる。しかしながら水性媒体中に分散すると急激に増粘してしまうために、高濃度分散が困難であり、また分散後のスラリーも貯蔵中の時間経過（経時）により増粘する等、取り扱い性が困難なものであった。
【０００４】
一方、気相法シリカに対して湿式法で製造されたゲル法シリカは分散の容易性や分散後のスラリーの良好な取り扱い性を有するため、従来からインク吸収性向上の目的でインク受容層に使用されることが知られている。例えば特開平１０−１８１１８６号公報（特許文献１）、特開２００３−２９１５１７号公報（特許文献２）、特開２００４−２５６５２号公報（特許文献３）、等には、ゲル法シリカのＢＥＴ比表面積や平均粒径を規定した技術が開示されている。しかしながら上記文献に記載されるインクジェット記録媒体はインク吸収性や光沢、更には耐光性が十分満足できるものではなかった。
【０００５】
また、特開２００２−２１１１１３号公報（特許文献４）には、ゲル法シリカを用いたインク受容層の上層にアルミナ、コロイダルシリカ等を利用する光沢発色層を設け、更にカレンダー処理を行うことが開示されている。これにより高光沢は得られるが、やはりインク吸収性や耐光性が十分満足できるものではなかった。
【０００６】
更には、優れた分散安定性を有するシリカ分散液を得る方法として、例えば特開２０００−２３９５３６号公報（特許文献５）、特開２００１−２０７０７８号公報（特許文献６）、等には、シリカ分散液について記載されているが、ゲル法シリカ分散液の安定性についてはこれらの技術では十分満足できるものではなかった。
【０００７】
一方、特開２０００−１５９９２７号公報（特許文献７）には、平均粒径、電気伝導度、ＢＥＴ比表面積、及び吸油量が規定されたインクジェット記録紙用充填剤が記載されるが光沢性、耐光性、ゲル法シリカ分散液の安定性が十分満足できるものではなかった。また特開２００３−２６１３２０号公報（特許文献８）にはシリカ微粒子凝集体を成長させた後、水素型陽イオン交換樹脂によってアルカリ成分を除去し酸性とするシリカ微粒子凝集体分散物の製造方法が記載されるが、コロイドシリカの製造方法に関するものである。従って高光沢性、色再現性、耐光性の全てを満足し、優れた経時安定性を有するゲル法シリカ分散液からなるインクジェット記録材料が得られていないのが現状である。
【特許文献１】特開平１０−１８１１８６号公報（第２頁〜第５頁）
【特許文献２】特開２００３−２９１５１７号公報（第２頁〜第３頁）
【特許文献３】特開２００４−２５６５２号公報（第４頁〜第８頁）
【特許文献４】特開２００２−２１１１１３号公報（第２頁〜第５頁）
【特許文献５】特開２０００−２３９５３６号公報（第２頁〜第４頁）
【特許文献６】特開２００１−２０７０７８号公報（第２頁〜第５頁）
【特許文献７】特開２０００−１５９９２７号公報（第２頁〜第３頁）
【特許文献８】特開２００３−２６１３２０号公報（第３頁〜第８頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、本発明の課題は光沢性、色再現性、耐光性が優れ、生産性の高いインクジェット記録材料の製造方法及びインクジェット記録材料を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の前記目的は、以下の方法により達成された。
１．支持体上に、ゲル法シリカをインク受容層に含有するインクジェット記録材料の製造方法において、ゲル法シリカを水を主体とする分散媒中に平均２次粒径が５μｍ以下になるよう分散した後、ゲル法シリカ分散液の電気伝導度を２０μＳ／ｃｍ以下になるまでイオン交換処理することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。
２．支持体上に、ゲル法シリカをインク受容層に含有するインクジェット記録材料の製造方法において、ゲル法シリカを水を主体とする分散媒中に平均２次粒径が５μｍ以下になるよう分散した後、ゲル法シリカの電気伝導度を２０μＳ／ｃｍ以下になるまでイオン交換処理することで得られたゲル法シリカ分散液をインク受容層に用いるとこを特徴とするインクジェット記録材料。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のインクジェット記録材料の製造方法により光沢性、色再現性、耐光性が優れ、生産性の高いインクジェット記録材料の製造方法及びインクジェット記録材料を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。本発明は、ゲル法シリカ分散液を平均２次粒径が５μｍ以下まで分散したのち該ゲル法シリカ分散液の電気伝導度を２０μＳ／ｃｍ以下までイオン交換処理することを特徴とし、更にそのゲル法シリカ分散液をインク受容層に用いることを特徴とする。
【００１２】
本発明者らは鋭意検討を行った結果、上記手段によって得られたゲル法シリカ分散液をインクジェット記録材料のインク受容層に用いる場合、光沢性、発色性及び耐光性が改善でき、更にはゲル法シリカ分散液の経時安定性も改善できうることを見出した。即ち、ゲル法シリカを水を主体とする分散媒中で分散することで、ゲル法シリカ内部に含まれていた水溶性の擁雑イオン、例えばＮａイオン、硫酸イオン等が遊離してくると考えられる。この遊離してきた擁雑イオンの総量は分散液の電気伝導度が表しており、この遊離してきた擁雑イオンの量によりシリカ粒子間の相互作用が変化するために、ゲル法シリカ分散液を用いてインクジェット記録材料を作製した場合、光沢性、色再現性及び耐光性やゲル法シリカ分散液の経時安定性に影響を与えると推測される。
【００１３】
本発明に用いられるゲル法シリカ分散液の電気伝導度としては２０μＳ／ｃｍ以下、好ましくは５．０μＳ／ｃｍ以下であることが好適である。これにより前記に示したシリカ粒子間の相互作用のバランスが安定に保たれると推測される。これにより塗布した際に高い光沢性や高い発色性を有する塗層を形成することができる。また分散液の分散安定性も向上する。それとは逆に、電気伝導度が２０μＳ／ｃｍ以上のゲル法シリカ分散液を作製した場合、シリカ粒子間の相互作用のバランスを擁雑イオンが乱してしまい、増粘してしまう。また、この増粘した分散液を用いて塗工液を作製し、塗布を行った場合、塗工液の増粘も引き起こすために塗膜が不均一になるため、良好な光沢や印字濃度が得られなくなる。更に、この擁雑イオンは塗層中でも活性を保っており、例えば染料インクで出力した場合、染料インクとの相互作用により印字濃度と耐光性を著しく低下させる。
【００１４】
本発明は前述したような電気伝導度を有するゲル法シリカ分散液を得るためにはイオン交換樹脂やイオン交換膜を用いる方法、また電気分解により作製する方法等を挙げることができるが、イオン交換樹脂を用いる方法が最も時間効率が良く、且つ安価に作製することができる。イオン交換樹脂を用いる方法としては、イオン交換樹脂を充填した交換処理塔やカラム装置を通過させる方法、粒状や繊維状のイオン交換樹脂との機械的混合・攪拌、その他の任意の方法を採用することができる。
【００１５】
本発明で行われるイオン交換樹脂を処理する時期としては、水を主体とする分散媒中にゲル法シリカを分散した後に行う必要がある。分散した後に行うことで、ゲル法シリカに含まれる擁雑イオンを効率良く取り除くことが可能となる。ここでいう分散した後とは、平均２次粒径が５μｍ以下であり、好ましくは３μｍ以下、更に好ましくは１μｍ以下に分散した後ということである。平均２次粒径が上記範囲よりも大きくなると光沢性、色再現性が好ましくなく、また擁雑イオンを効率良く取り除くことが困難となり好ましくない。
【００１６】
本発明で測定される平均２次粒径は、市販の粒度分布を測定できる測定装置により測定可能である。例えば、堀場製作所社製のＬＡ−９２０、大塚電子社製のＰＡＲ−IIIｓ、ベックマン・コールター社製のＬＳ２３０等が挙げられるがこれらに限定されない。
【００１７】
本発明のゲル法シリカ分散時の媒体として用いられる水の電気伝導度は低いほど好ましい。分散媒として用いる水の電気伝導度を調整する方法としては、例えば工業用水を用いる場合、陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂を任意の順序により通過させることのできる純水製造装置で作製する方法や蒸留する方法等を挙げることができる。電気伝導度が２０μＳ／ｃｍ以上の水を用いるとイオン交換樹脂の寿命の低下やゲル法シリカ分散液の電気伝導度を低下させる時に必要以上の時間を要する等、不都合が生じる。
【００１８】
本発明で測定される電気伝導度は、測定温度及びシリカ濃度によって測定結果に影響を受けるため以下の方法で測定される。
【００１９】
本発明で測定される電気伝導度の測定温度は２５℃とした際の電気伝導度である。この温度に調整することで正確で再現性の優れた電気伝導度を測定することができる。
【００２０】
本発明で測定される電気伝導度はシリカの固形分濃度を１０質量％とした際の電気伝導度である。シリカの固形分濃度が１０質量％以上である場合、前述したような方法により作製したイオン交換水で希釈する。あるいは、シリカの固形分濃度が１０質量％以下である場合、例えば、湯煎により温調を行い濃縮する方法、熱風乾燥機や真空乾燥機等の乾燥機を用いて濃縮する方法、エバポレーターを用いて濃縮する方法等により水分を除去して調整する。
【００２１】
本発明で測定される電気伝導度は、市販の電気伝導度を測定できる測定装置により測定可能である。例えば、堀場製作所社製のＥＳ−１４、メトラー・トレド社製のＳ３０等が挙げられるがこれらに限定されない。
【００２２】
本発明を更に説明する。本発明で用いられるゲル法シリカは、高純度珪砂を原料とした珪酸ソーダと硫酸を混合し得られる珪酸ゾルである。この珪酸ゾルは、次第に重合し、一次粒子を形成し、更に二次的、三次元的に凝集体を形成し、ゲル化する。このゲル化したシリカを気流粉砕等の一般的な方法で粉砕して作製する。即ち、ゲル法では、酸性サイドで反応重合させ、ゲル状になるまで静置し、水洗して乾燥しゲル法シリカを得る。
【００２３】
これらゲル法シリカは、一次粒子内に内部細孔を持つため、内部細孔を持たない気相法シリカに比べてインク吸収容量的に有利である。更に粒子に含有される水分が気相法に比べて多いため、水性媒体中に分散しやすく高濃度の分散物が得られる利点がある。
【００２４】
これらゲル法シリカは発色濃度、吸収容量の点で、比表面積が大きく影響し、比表面積が１５０ｍ2／ｇ以上のゲル法シリカが好ましい。
【００２５】
また、これらゲル法シリカは高濃度で分散できるため、塗布する際の、塗工液中の含水率も少なくでき、乾燥に有利であり、結果として塗布速度も上げられる利点がある。更に、乾燥時の膜の収縮率も少なく、膜にかかる応力が少なくなり、クラック（ひび割れ）等の塗布故障が低減できる。
【００２６】
本発明のゲル法シリカは、粉砕分散して微粒子した物や粉砕を荒くした粒状の物も使用できる。微粒化した粉体としては水澤化学工業（株）からミズカシール、東ソー・シリカ（株）からニップジェルとして市販され入手することができる。また、粒状の物としては、一般的にシリカゲルとも表現されており、乾燥剤やクロマトグラフィー充填剤等に利用されている。これら粒状の物としては豊田化工（株）からＱＰタイプ、富士シリシア化学（株）からフジシリカゲルとして市販され入手することができる。
【００２７】
前述したようなゲル法シリカは、いくつもの生産工程により製造されるが、その中に凝集体を水洗する工程がある。ゲル法シリカは同じ湿式法シリカでも、沈降法シリカに比べて一次粒子同士の吸着が強固なため、非常に固い凝集体を形成している。それゆえ、内部まで水洗されにくく擁雑イオンとしてＮａイオンや硫酸イオンが残ってしまう場合がある。これら擁雑イオンを取り除く方法として該ゲル法シリカ分散液を所望の平均２次粒径、即ち平均２次粒径が５μｍ以下になる様分散したのちイオン交換樹脂で処理する方法が最も効率的である。
【００２８】
本発明に用いられるイオン交換樹脂は、陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂の何れか一方のイオン交換樹脂による処理でも効果はあるが、両方で処理する方が更に効果的である。そうすることで、プラスの電化を持った擁雑イオン、あるいはマイナスの電化を持った擁雑イオンの両方を取り除くことができる。イオン交換樹脂による処理は、任意の順番で行うことができ、また、両者の混合樹脂で処理することもできる。
【００２９】
本発明に用いられるイオン交換樹脂の形状としては、処理効率の点で粒状や繊維状等の物を任意に選択することができる。
【００３０】
本発明に用いられる陽イオン交換樹脂としては、溶液中の陽イオンとＨを交換し、Ｈ+を放出するものであればよく、弱酸性陽イオン交換樹脂、強酸性陽イオン交換樹脂等、その種類は制限されず、市販品の中から適宜選択することができる。その具体的として、例えば「ＤＩＡＩＯＮ ＷＫ １０」、「ＤＩＡＩＯＮ ＷＫ １１」、「ＤＩＡＩＯＮ ＷＫ ２０」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ４０６」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ４０８」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ４１２」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ４１６」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ４１８」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＫ ２０８」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＫ２１２」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＫ ２１６」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＫ ２２０」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＫ ２２８」（以上、三菱化学株式会社製）、「アンバーライト ＩＲ−１１８Ｈ」、「アンバーライト ＩＲ−１２０Ｂ」、「アンバーライト ＩＲ−１２２」、「アンバーライト ＩＲ−１２４」、「アンバーライト２５２」、「アンバーライト ２０１ＣＴ」、「アンバーライト ２００Ｃ」、「アンバーライト ＩＲＣ−５０」、「アンバーライト ＩＲＣ−８４」（以上、オルガノ社製）等が挙げられる。
【００３１】
本発明に用いられる陰イオン交換樹脂としては、溶液中の陰イオンとＯＨを交換し、ＯＨ-を放出するものであればよく、弱塩基性陰イオン交換樹脂、中塩基性陰イオン交換樹脂、強塩基性陰イオン交換樹脂等、その種類は制限されず、市販品の中から適宜選択することができる。その具体例として、例えば「ＤＩＡＩＯＮ ＷＡ １０」、「ＤＩＡＩＯＮ ＷＡ１１」、「ＤＩＡＩＯＮ ＷＡ ２０」、「ＤＩＡＩＯＮ ＷＡ ２１」、「ＤＩＡＩＯＮ ＷＡ ３０」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ４０６」、「ＤＩＡＩＯＮＰＡ ４０８」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ４１２」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ４１６」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ４１８」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ３０６」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ３０８」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ３１２」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ３１６」、「ＤＩＡＩＯＮ ＰＡ ３１８」、「ＤＩＡＩＯＮＳＡ １０Ａ」、「ＤＩＡＩＯＮ ＳＡ １１Ａ」、「ＤＩＡＩＯＮ ＳＡ１２Ａ」、「ＤＩＡＩＯＮ ＳＡ ２０Ａ」、「ＤＩＡＩＯＮ ＳＡ ２１Ａ」（以上、三菱化学株式会社製）、「アンバーライト ＩＲＡ−４００Ｊ」、「アンバーライト ＩＲＡ−４３０」、「アンバーライト ＩＲＡ−４５８」、「アンバーライト ＩＲＡ−４５８」、「アンバーライト ＩＲＡ−９００」、「アンバーライト ＩＲＡ−９０４」、「アンバーライト ＩＲＡ−９３８」、「アンバーライト ＩＲＡ−９５８」、「アンバーライト ＩＲＡ−４１０」、「アンバーライト ＩＲＡ−４１１」、「アンバーライト ＩＲＡ−９１０」、「アンバーライト ＩＲＡ−６８」、「アンバーライト ＩＲＡ−３５」、「アンバーライト ＩＲＡ−９３」（以上、オルガノ社製）等が挙げられる。
【００３２】
上記に示したイオン交換樹脂は、その使用に際して、汚れや不純物の混入を防止するために超純水または純水で洗浄したものを用いることが好ましい。
【００３３】
次に、本発明のゲル法シリカ分散液の製造方法を説明する。ゲル法シリカ分散液は水等の分散媒にゲル法シリカを添加して混合を行いシリカスラリーを作製し（一次分散工程）、次に、このシリカスラリーを分散機、例えば高圧ホモジナイザーやメディアミルで分散してスラリーを作製する（二次分散工程）。高圧ホモジナイザーを用いた分散は、例えば特開平１０−３１０６４号公報に記載の方法を用いることができる。上記シリカスラリーを高圧ホモジナイザーで処理する回数は、１〜数十回の範囲から選ばれる。
【００３４】
また、前記メディアミルとしては例えばビーズミルを選択することが出来る。ビーズミルとは内部に攪拌装置を有する容器にビーズを充填し、容器内に液状物を入れて攪拌装置を回転させてビーズ同士を衝突させることで液状物に剪断力を与えて処理する装置である。ビーズの粒径は０．１〜１０．０ｍｍが一般的であるが、好ましくは０．２ｍｍ〜１．０ｍｍ、更に好ましくは０．３〜０．６ｍｍである。ビーズが小さすぎるとビーズ１個当たりのエネルギーが小さいために分散効率が悪く、大きすぎるとビーズの衝突回数が減るので分散効率が劣り均一な分散が得られにくい。ビーズにはガラスビーズ、セラミックビーズ、金属ビーズ等があるが、耐摩耗性及び分散効率からはジルコニアビーズ又はジルコンビーズが好ましい。容器中のビーズ充填率は一般的には４０〜８０容量％であり、好ましくは５５〜７８容量％である。ビーズ充填率が低すぎると分散効率が低下し、高すぎるとビーズの摩耗が大きくなる他、過度に剪断がかかるために微粒子が破壊され凝集し易くなる。
【００３５】
前記ビーズミル処理を連続して処理する場合には通し回数が１回では粗大粒子が残り易いので２回以上処理する方が好ましい。
【００３６】
市販のビーズミルとしては、例えばシンマルエンタープライゼス社製のダイノミル、浅田鉄工社製のナノミル、アイメックス社製のウルトラビスコミル、マツボー社製のアミュラー型ＯＢミル等が挙げられるがこれらに限定されない。
【００３７】
上記のゲル法シリカ分散液の製造方法によって、平均２次粒径が５μｍ以下で、且つシリカ濃度が２０質量％以上の高濃度の分散液が安定して製造できる。
【００３８】
また、ゲル法シリカ分散液中のシリカ濃度をより高濃度にするために、段階的にシリカを添加する方法を採用することもできる。
【００３９】
本発明のゲル法シリカ分散液は、必要に応じ分散剤を添加することもできる。使用可能な分散剤はシリカ粒子表面に吸着して分散液を安定化させる働きをするものが好ましく、例えばカチオン性ポリマー、界面活性剤等を挙げることができる。これら分散剤は単独で使用しても良く、２種類以上を併用しても良い。特に好ましい分散剤はシリカ表面を効率良くカチオン化できるカチオン性ポリマーである。
【００４０】
以下にカチオン性ポリマーについて説明する。カチオン性ポリマーとしては、１〜３級アミノ基、４級アンモニウム塩基あるいはホスホニウム塩基を有するポリマー等が用いられる。中でも水溶性ポリマーが好ましく、特に平均分子量が５万以下のポリマーが好ましい。
【００４１】
上記カチオン性ポリマーの中でも、特にポリジアリルアミン誘導体の構成単位を有するカチオン性ポリマーが好ましく、下記一般式（１）、（２）、（３）又は（４）で表される構造を構成単位とするカチオン性ポリマーである。これらの誘導体はジアリルアミン化合物の環化縮合によって得られ、シャロールＤＣ−９０２Ｐ（第一工業製薬）、ジェットフィックス１１０（里田化工）、ユニセンスシリーズ（センカ）、ＰＡＳ−Ｈシリーズ（日東紡績社）として市販されている。中でも好ましいものは下記一般式（１）で示されるカチオン性ポリマーである。
【００４２】
【化１】
2007152632.tif 000002
【００４３】
【化２】
2007152632.tif 000003
【００４４】
【化３】
2007152632.tif 000004
【００４５】
【化４】
2007152632.tif 000005
【００４６】
上記一般式において、Ｒ1及びＲ2は各々、水素原子、メチル基、エチル基等のアルキル基、またはヒドロキシエチル基等の置換アルキル基を表し、Ｙはラジカル重合可能なモノマー（例えば、スルホニル、アクリルアミド及びその誘導体、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等）を表す。また、一般式（３）及び（４）において、ｎ／ｍ＝９／１〜２／８、ｌ＝５〜１００００である。Ｘはアニオンを表す。
【００４７】
一般式（３）又は（４）で示されるポリジアリルアミンの誘導体の具体的な例としては、特開昭６０−８３８８２号公報記載のＳＯ２基を繰り返し単位に含む もの、特開平１−９７７６号公報に記載されているアクリルアミドとの共重合体等が挙げられる。本発明に用いられるポリジアリルアミン誘導体のカチオン性ポリマーの平均分子量は、２，０００〜５万程度がより好ましい。
【００４８】
前記カチオン性ポリマーの使用量はゲル法シリカに対して１〜１０質量％が好ましい。
【００４９】
次に、界面活性剤について説明する。界面活性剤としてはアニオン性界面活性剤又はカチオン性界面活性剤を使用することができる。
【００５０】
アニオン性界面活性剤としては、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩、Ｎ−アシルタウリン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩等が挙げられる。
【００５１】
カチオン性界面活性剤としては、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルジメチルアンモニウム塩、ジポリオキシエチレンアルキルメチルアンモニウム塩等が挙げられる。
【００５２】
これらは単独で、又は２種以上併用して用いることができる。ただし、アニオン界面活性剤とカチオン界面活性剤の併用はできない。また、ノニオン性界面活性剤及び／又は両性界面活性剤を少量併用することは差し支えない。
【００５３】
前記界面活性剤の使用量はゲル法シリカに対して０．０１〜１０質量％が好ましい。
【００５４】
本発明に用いられる分散剤は、その種類に関係なく、ゲル法シリカを添加する前の分散媒中に添加してもよいし、前述した一次分散工程あるいは二次分散工程の途中や分散工程終了後に添加してもよい。好ましくはゲル法シリカを添加する前の分散媒中に添加することが好ましい。これによって、塗工液を作製した際、より安定な粘度有する塗工液が得られる。
【００５５】
本発明のゲル法シリカ分散液に用いられる分散媒は、水を主体とするものであるが、少量の有機溶剤（低級アルコールや酢酸エチル等の低沸点溶剤）を含んでもよい。その場合、有機溶剤は全分散媒に対して２０質量％以下、更には１０質量％以下であることが好ましい。
【００５６】
次に、本発明のインクジェット記録材料の塗工液の製造方法を説明する。前記ゲル法シリカ分散液とともに用いられる水溶性バインダーとしては、公知の各種バインダーを用いることもできるが、透明性が高くインクのより高い浸透性が得られる水溶性バインダーが好ましい。特に好ましい水溶性バインダーとしてはポリビニルアルコールである。
【００５７】
ポリビニルアルコールの中でも特に好ましいのは、ケン化度が８０％以上の部分または完全ケン化したものである。平均重合度は２００〜５０００のものが好ましい。
【００５８】
本発明は、前記水溶性バインダーと共に架橋剤（硬膜剤）を用いることが好ましい。架橋剤の具体的な例としては、ホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドの如きアルデヒド系化合物、ジアセチル、クロルペンタンジオンの如きケトン化合物、ビス（２−クロロエチル尿素）−２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５トリアジン、米国特許第３，２８８，７７５号記載の如き反応性のハロゲンを有する化合物、ジビニルスルホン、米国特許第３，６３５，７１８号記載の如き反応性のオレフィンを持つ化合物、米国特許第２，７３２，３１６号記載の如きＮ−メチロール化合物、米国特許第３，１０３，４３７号記載の如きイソシアナート類、米国特許第３，０１７，２８０号、同２，９８３，６１１号記載の如きアジリジン化合物類、米国特許第３，１００，７０４号記載の如きカルボジイミド系化合物類、米国特許第３，０９１，５３７号記載の如きエポキシ化合物、ムコクロル酸の如きハロゲンカルボキシアルデヒド類、ジヒドロキシジオキサンの如きジオキサン誘導体、クロム明ばん、硫酸ジルコニウム、ほう酸及びほう酸塩の如き無機架橋剤等があり、これらを１種または２種以上組み合わせて用いることができる。これらの中でも、特にほう酸またはほう酸塩が好ましい。
【００５９】
本発明のインクジェット記録材料塗工液を塗布する支持体としては耐水性支持体が好ましい。例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、セロハン、セルロイド等のプラスチック樹脂フィルム、及び紙の両面にポリオレフィン樹脂をラミネートした樹脂被覆紙が挙げられる。本発明に用いられる耐水性支持体の厚みは、約５０〜３００μｍ程度が好ましい。
【００６０】
本発明のインクジェット記録材料塗工液の塗布方法は、特に限定されず、公知の塗布方法を用いることができる。例えばスライドリップ方式、カーテン方式、エクストルージョン方式、エアナイフ方式、ロールコーティング方式、ロッドバーコーティング方式等がある。
【００６１】
以下、実施例により本発明を詳しく説明するが、本発明は実施例に限られるものではない。なお、部とは固形分質量を意味する。
【実施例１】
【００６２】
＜ゲル法シリカ分散液の調整＞
「ゲル法シリカ分散液の一次分散工程」
電気伝導度１５０ｍＳ／ｃｍの工業用水をカートリッジ純水製造装置（オルガノ株式会社製、Ｇ−５型）を用いて、流量５．０Ｌ／分に設定して電気伝導度が９．０μＳ／ｃｍの水を作製した。次にその水を７．０ｋｇ秤量し、ゲル法シリカ３．０ｋｇ（東ソー・シリカ製、ニップジェルＡＹ−２００）を添加して分散機（特殊機化工業株式会社製、ハイビスディスパーミックス３Ｄ−１０型）を用い分散条件がディスパー周速２１．０ｍ／秒、プラネタリー回転数３０ｒｐｍで６０分間分散して３０質量％ゲル法シリカ分散液を得た。
【００６３】
「ゲル法シリカ分散液の二次分散工程」
一次分散工程で得られたゲル法シリカ分散液をビーズミル（シンマルエンタープライゼス社製、ダイノミル）でビーズ充填率７０容量％（０．３ｍｍφジルコニアビーズ使用）、ディスク周速１２．５ｍ／秒、ポンプ流量３００ｍｌ／分の条件で３パス処理を行った。
【００６４】
「ゲル法シリカ分散液の陽イオン交換樹脂による処理工程」
二次分散工程で得られた２ｋｇのゲル法シリカ分散液に、陽イオン交換樹脂（オルガノ社製、アンバーライトＩＲ−１１８Ｈ）を４００ｇ添加してよく攪拌して１０分間静止した。その後、陽イオン交換樹脂を取り除きゲル法シリカ分散液を得た。
【００６５】
「ゲル法シリカ分散液の陰イオン交換樹脂による処理工程」
陽イオン交換樹脂による処理工程で得られた１ｋｇのゲル法シリカ分散液に、陰イオン交換樹脂（オルガノ社製、アンバーライトＩＲＡ−４００Ｊ）を２００ｇ添加してよく攪拌して５分間静止した。その後、陰イオン交換樹脂を取り除きゲル法シリカ分散液を得た。次にシリカ濃度をイオン交換樹脂により１０％に調整して、粒度分布径（堀場製作所社製、ＬＡ−９２０）により粒径を測定した結果、平均２次粒径は０．８５μｍであった。また、電気伝導度を電気伝導度計（堀場製作所社製、ＥＳ−１４）で２５℃において測定した結果、８．０μＳ／ｃｍであった。
【実施例２】
【００６６】
実施例１のビーズミルによる処理回数を３パスから２パスに変更した以外は全て同様にしてゲル法シリカ分散液を得た。粒径を測定した結果、平均２次粒径は２．７μｍであった。また、２５℃で電気伝導度を測定した結果、１３．０μＳ／ｃｍであった。
【実施例３】
【００６７】
実施例１のビーズミルによる処理回数を３パスから１パスに変更した以外は全て同様にしてゲル法シリカ分散液を得た。粒径を測定した結果、平均２次粒径は４．２μｍであった。また、２５℃で電気伝導度を測定した結果、１７．０μＳ／ｃｍであった。
【００６８】
（比較例１）
実施例１のビーズミルによる処理、陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂による処理を行わなかった以外は全て同様にしてゲル法シリカ分散液を得た。粒径を測定した結果、平均２次粒径は８．５μｍであった。また、２５℃で電気伝導度を測定した結果、８５．０μＳ／ｃｍであった。
【００６９】
（比較例２）
実施例１のビーズミルによる処理を行わなかった以外は全て同様にしてゲル法シリカ分散液を得た。粒径を測定した結果、平均２次粒径は８．５μｍであった。また、２５℃で電気伝導度を測定した結果、４２．０μＳ／ｃｍであった。
【００７０】
（比較例３）
実施例３の陽イオン交換樹脂による処理時間を１０分間から５分間に短縮し、更に陰イオン交換樹脂による処理時間を５分間から２．５分間に短縮した以外は全て同様にしてゲル法シリカ分散液を得た。粒径を測定した結果、平均２次粒径は４．３μｍであった。また、２５℃で電気伝導度を測定した結果、２５．０μＳ／ｃｍであった。
【００７１】
実施例１〜３、比較例１〜３で得られたゲル法シリカ分散液について以下に示す粘度評価を行った。
【００７２】
＜粘度評価＞
前記ゲル法シリカ分散液の作製直後と常温２４時間経時の粘度を（株）東京計器製のＢ型粘度計を用いて測定した。測定温度は２５℃である。
【００７３】
【表１】
2007152632.tif 000006
【００７４】
表１の結果からも明らかなように、実施例１〜３に示した様な本発明の提案の方法に従って得られたゲル法シリカ分散液によれば、粘度の経時安定性が優れる結果が得られた。
【００７５】
実施例１〜３、比較例１〜３で得られたゲル法シリカ分散液を下記に示した処方により塗工液を作製した。
【００７６】
＜塗工液の処方＞
ゲル法シリカ分散液（固形分として）                          １００部
ポリビニルアルコール                                          ２５部
（商品名：ＰＶＡ２３５、（株）クラレ製、ケン化度８８％、平均重合度３５０００）
ホウ酸                                                      ４．０部
界面活性剤                                                  ０．３部
（商品名：ＳＷＡＭ  ＡＭ−２１５０、日本サーファクト社製）
【実施例４】
【００７７】
支持体として、ＬＢＫＰ（５０部）とＬＢＳＰ（５０部）のパルプ配合からなる１２０ｇ／ｍ2の基紙に表面に低密度ポリエチレン（７０部）と高密度ポリエチレン（２０部）と酸化チタン（１０部）からなる樹脂組成物を２５ｇ／ｍ2塗布し、裏面に高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレン（５０部）からなる樹脂組成物を２５ｇ／ｍ2を塗布してなる樹脂被覆紙を用意した。この支持体上に、実施例１で作製したゲル法シリカ分散液を用いて上記処方により塗工液を作製し、ゲル法シリカの塗布量が１９ｇ／ｍ2となるようにエクストルージョン方式塗布装置で塗布し、実施例４のインクジェット記録材料を作製した。
【実施例５】
【００７８】
実施例１で作製したゲル法シリカ分散液の代わりに実施例２で作製したゲル法シリカ分散液を用いて塗工液を作製した以外は全て同様にして実施例５のインクジェット記録材料を作製した。
【実施例６】
【００７９】
実施例１で作製したゲル法シリカ分散液の代わりに実施例３で作製したゲル法シリカ分散液を用いて塗工液を作製した以外は全て同様にして実施例６のインクジェット記録材料を作製した。
【００８０】
（比較例４）
実施例１で作製したゲル法シリカ分散液の代わりに比較例１で作製したゲル法シリカ分散液を用いて塗工液を作製した以外は全て同様にして比較例４のインクジェット記録材料を作製した。
【００８１】
（比較例５）
実施例１で作製したゲル法シリカ分散液の代わりに比較例２で作製したゲル法シリカ分散液を用いて塗工液を作製した以外は全て同様にして比較例５のインクジェット記録材料を作製した。
【００８２】
（比較例６）
実施例１で作製したゲル法シリカ分散液の代わりに比較例３で作製したゲル法シリカ分散液を用いて塗工液を作製した以外は全て同様にして比較例６のインクジェット記録材料を作製した。
【００８３】
実施例４〜６、比較例４〜６で得られたインクジェット記録材料について、以下に示したインク吸収性、光沢度、耐光性を評価した。その結果を表２に示す。
【００８４】
＜インク吸収性＞
インクジェットプリンター（セイコーエプソン社製、ＰＭ−８８０ＤＣ）を用いて、Ｃ、Ｍ、Ｙをそれぞれ１２０％で印字し、印字直後にＰＰＣ用紙を印字部に重ねて軽く圧着し、ＰＰＣ用紙に転写したインク量の程度を目視で観察した。評価は以下の基準を参考とした。
○：全く転写しない、または僅かに転写するが実用上支障なし
△：転写するが実使用下限
×：転写する
【００８５】
＜光沢度＞
ＪＩＳ  Ｐ−８１４２（紙及び板紙の７５度鏡面光沢試験方法）に記載の方法に従って測定した。
【００８６】
＜色再現性＞
得られたインクジェット記録材料をインクジェットプリンター（セイコーエプソン株式会社製、ＰＭ−８８０ＤＣ）を用いてＣ、Ｇ、Ｙ、Ｒ、Ｍ、Ｂのベタ印字を行い、各々のＪＩＳ−Ｚ８７３０で規定されるａ*、ｂ*のデータをａ*−ｂ*座標に記入し、各点を直線で結んで囲まれた面積で比較した。面積が広い方が色再現性は良好であり、比較例３を○として以下の基準で評価した。
◎：比較例３よりも色再現性が良好である。
○：比較例３同様の色再現性を有する。
△：比較例３よりもやや色再現性が低下する。
×：比較例３よりも大きく色再現性が低下する。
【００８７】
＜耐光性＞
得られたインクジェット記録材料をインクジェットプリンター（セイコーエプソン社製、ＰＭ−７７０Ｃ）を用いてＣ、Ｍ、Ｙ、Ｋのインクでそれぞれ印字を行い、アトラス社製サンテストＣＰＳ光退色試験機にて６００Ｗ／ｍ2で３０時間照射した後、印字部の濃度を測定し、画像残存率（照射後濃度／暴露前の濃度）を求め、Ｃ、Ｍ、Ｙ、Ｋ画像の内、最も残存率が低いものを表示した。
【００８８】
【表２】
2007152632.tif 000007
【００８９】
表２の結果からの明らかなように、実施例４〜６に示した様な本発明の提案の方法に従って得られたインクジェット記録材料は高光沢、色再現性及び優れた耐光性を示す結果となった。