(57)【要約】【課題】帯電防止性、導電性、光学特性を有し、強度、密着性、柔軟性、屈曲性等に優れ、反射光むらを低減するとともに、指紋等の油脂が付着した場合においても、容易に拭き取ることが可能な反射防止膜付き透明基材を提供する。【解決手段】本発明の反射防止膜付き透明基材１０は、透明基材１の一主面１ａに、透明基材１との屈折率差が０．５以下、厚みが１０ｎｍ以上かつ１８０ｎｍ以下の第一層２、透明基材１との屈折率差が０．０２以上かつ０．５以下、厚みが０．０３μｍ以上かつ１０μｍ以下の第二層３、および、透明基材１との屈折率差が０．１以上かつ０．４以下、厚みが５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下の第三層３を順次積層した反射防止膜５を備えたもので、第二層３は、エポキシアクリレート基を有する高分子化合物を含有してなることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一主面に、前記透明基材との屈折率差が０．５以下、厚みが１０ｎｍ以上かつ１８０ｎｍ以下の第一層、前記透明基材との屈折率差が０．０２以上かつ０．５以下、厚みが０．０３μｍ以上かつ１０μｍ以下の第二層、および、前記透明基材との屈折率差が０．１以上かつ０．４以下、厚みが５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下の第三層を順次積層してなる反射防止膜を備え、
前記第二層は、エポキシアクリレート基を有する高分子化合物を含有してなることを特徴とする反射防止膜付き透明基材。
【請求項２】
前記透明基材は、平均屈折率が１．５５以上の高分子フィルムであることを特徴とする請求項１記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項３】
前記高分子フィルムは、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることを特徴とする請求項２記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項４】
前記第一層は、ポリエチレン誘導体を含有してなることを特徴とする請求項１、２または３記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項５】
前記高分子化合物は、屈折率が１．５５以上であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項６】
前記高分子化合物は、その骨格内にベンゼン環を少なくとも１つ含有してなることを特徴とする請求項５記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項７】
前記第二層は、無機微粒子を含有してなることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項８】
前記無機微粒子は、導電性微粒子、高屈折率微粒子のいずれか１種または２種を含有してなることを特徴とする請求項７記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項９】
前記導電性微粒子は、アンチモン添加酸化スズ微粒子であることを特徴とする請求項８記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項１０】
前記アンチモン添加酸化スズ微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項９記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項１１】
前記高屈折率微粒子は、酸化ジルコニウム微粒子または酸化チタン微粒子であることを特徴とする請求項８記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項１２】
前記酸化ジルコニウム微粒子または酸化チタン微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１１記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項１３】
前記第三層は、フルオロアルキルシラン誘導体、中空シリカ粒子、多孔質状のシリカ粒子のいずれか１種または２種以上を含有してなることを特徴とする請求項１ないし１２のいずれか１項記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項１４】
前記第三層は、ビニル基、エポキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、イソシアネート基のいずれか１種を有する化合物を少なくとも１種含有してなることを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項１５】
前記第三層は、シランカップリング材を含有してなることを特徴とする請求項１ないし１４のいずれか１項記載の反射防止膜付き透明基材。
【請求項１６】
前記第三層は、シリコーンオイルを含有してなることを特徴とする請求項１ないし１５のいずれか１項記載の反射防止膜付き透明基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止膜付き透明基材に関し、さらに詳しくは、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、プロジェクション（ＰＪＴＶ）等の各種画像表示装置の表示面における反射防止機能を向上させる場合に好適に用いられ、特に、基材の一主面上に、易接着層、無機微粒子と有機系バインダーとを含有するハードコート層、および、屈折率の低い透明層を積層してなる反射防止膜を備え、強度、密着性、柔軟性、屈曲性等に優れ、反射光ムラを低減するとともに、帯電防止性、導電性等の電気的特性や、光学的特性を付与することができる反射防止膜付き透明基材に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＰＤＰ、ＬＣＤ、ＥＬＤ、ＣＲＴ、ＰＪＴＶ等の各種画像表示装置では、その画像表示部の表示面にて外部からの光や影像が反射することにより、画像表示部に表示される画像等を不明瞭にするという問題点が指摘されており、この問題点を解決するために、これまでにも様々な構造の画像表示部が提案されている。
例えば、画像表示部を構成するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のプラスチック基材やガラス基材の表面に、スパッタリング法や蒸着法等により屈折率の異なる光学薄膜を直接形成することにより、光学干渉を利用した反射防止膜を形成し、この反射防止膜により外光の反射率を低減した構造の画像表示装置が提案されている。
【０００３】
一方、近年における画像表示装置の大型化、フラット化、低価格化等に伴い、画像表示部の表示面に簡単かつ低価格にて反射防止機能を付与することができるものとして、安価な反射防止膜付き透明基材が要望されているが、従来のスパッタリング法や蒸着法等を用いた反射防止膜では、大型化、フラット化、低価格化に対応することが難しく、そこで、大型化への対応が容易、製造が容易、製造コストの低減が可能な帯電防止・反射防止膜付き透明フィルムが提案されている（例えば、特許文献１等参照）。
この帯電防止・反射防止膜付き透明フィルムは、ロールトゥロール法により作製されるもので、このフィルムを画像表示部に貼合することで、表示面の帯電及び反射を防止している。
【０００４】
ところで、上記の帯電防止・反射防止膜付き透明フィルムでは、十分に屈折率の低い低屈折率材料を得ることができなかったために、帯電防止・反射防止膜となる低屈折率層と透明フィルムとの間に高屈折率層を形成することにより、反射防止性能を向上させているが、反射防止性能をさらに向上させようとすると、低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が大きくなり過ぎてしまい、その結果、反射スペクトルのＶ字化が生じ、反射の色目が赤紫や青等になり易くなり、さらには視感度反射率等が上昇してしまう原因となっていた。
これまでの低屈折率材料としては、パーフルオロアルキル基を含有するジメチルシロキサンやアクリレート等が一般的であったが、これらの材料には、フッ素基の含有量が増加するに従って機械的強度が低下する等の欠点があり、反射防止膜として必要な屈折率と機械的強度の両立が難しい。
【０００５】
そこで、透明プラスチック基材のハードコート層上に、屈折率と機械的強度の両立が可能な低屈折率材料である内部に空孔を有する中空シリカ粒子を含む低屈折率層を形成することにより、機械的強度を損なうことなく低屈折化を実現した反射防止フィルムが提案されている（特許文献２、３参照）。
【特許文献１】特開２００１−２１７０１号公報
【特許文献２】特開２００２−３１７１５２号公報
【特許文献３】特開２００３−２９２８３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、従来の中空シリカ粒子を用いた反射防止フィルムでは、低屈折率層とハードコート層との間の密着性を十分高めるためには、透明プラスチック基材上にハードコート層を塗工した後に、熱アルカリ等を用いて表面処理等を実施しなければならず、したがって、表面処理工程及び熱アルカリ等を除去するための洗浄工程が新たに必要となり、工程が煩雑になるとともに、製造コストが高くなり、低価格化に対応することができないという問題点があった。
また、低屈折率層に中空シリカ粒子を用いているために、この中空シリカ粒子を混入させる低屈折率材料としてパーフルオロアルキル基を含有するバインダーを用いたとしても、成膜後の膜表面の界面エネルギーが低下することとなり、したがって、中空シリカ粒子未添加の反射防止膜と比較して、指紋ならびに油脂の拭き取り性が著しく低下するという問題点があった。
【０００７】
そこで、低屈折率層にシリコーンオイル等を添加することにより指紋等の油脂成分を容易に拭き取れるようにした反射防止膜も提案されているが、この反射防止膜においても、ロールトゥロール法で反射防止膜を作製する際に、この反射防止膜をロール状態で保管している時にシリコーンオイルが反射防止膜の最表層からそれに接している反射防止膜の裏面側に転写される虞がある。この様な転写が生じた場合、後工程である粘着層加工時あるいは近赤外線遮蔽層塗工時等の加工時に、転写部分にはじきや色むらを引き起こし、反射防止膜の品質が低下するとともに、生産性を低下させる虞がある。
【０００８】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、強度、密着性、柔軟性、屈曲性等に優れ、反射光むらを低減するとともに、帯電防止性、導電性等の電気的特性や、光学特性を付与し、さらには、指紋等の油脂が付着した場合においても、容易に拭き取ることが可能な反射防止膜付き透明基材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、反射光ムラを抑制するとともに、帯電防止性、導電性等の電気的特性や、光学的特性を付与し、さらには、指紋等の油脂が付着した場合においても、容易に拭き取ることができる反射防止膜付き透明基材について鋭意検討した結果、透明基材の一主面に、前記透明基材との屈折率差が０．５以下、厚みが１０ｎｍ以上かつ１８０ｎｍ以下の第一層、前記透明基材との屈折率差が０．０２以上かつ０．５以下、厚みが０．０３μｍ以上かつ１０μｍ以下の第二層、および、前記透明基材との屈折率差が０．１以上かつ０．４以下、厚みが５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下の第三層を順次積層してなる反射防止膜を備えた構成とすれば、強度、密着性、柔軟性、屈曲性等に優れ、反射光ムラを低減するとともに、帯電防止性、導電性などの電気的特性や、光学的特性を付与することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明の反射防止膜付き透明基材は、透明基材の一主面に、前記透明基材との屈折率差が０．５以下、厚みが１０ｎｍ以上かつ１８０ｎｍ以下の第一層、前記透明基材との屈折率差が０．０２以上かつ０．５以下、厚みが０．０３μｍ以上かつ１０μｍ以下の第二層、および、前記透明基材との屈折率差が０．１以上かつ０．４以下、厚みが５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下の第三層を順次積層してなる反射防止膜を備え、前記第二層は、エポキシアクリレート基を有する高分子化合物を含有してなることを特徴とする。
【００１１】
前記透明基材は、平均屈折率が１．５５以上の高分子フィルムであることが好ましい。
前記高分子フィルムは、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。
【００１２】
前記第一層は、ポリエチレン誘導体を含有してなることが好ましい。
前記高分子化合物は、屈折率が１．５５以上であることが好ましい。
前記高分子化合物は、その骨格内にベンゼン環を少なくとも１つ含有してなることが好ましい。
【００１３】
前記第二層は、無機微粒子を含有してなることが好ましい。
前記無機微粒子は、導電性微粒子、高屈折率微粒子のいずれか１種または２種を含有してなることが好ましい。
前記導電性微粒子は、アンチモン添加酸化スズ微粒子であることが好ましい。
前記アンチモン添加酸化スズ微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。
前記高屈折率微粒子は、酸化ジルコニウム微粒子または酸化チタン微粒子であることが好ましい。
前記酸化ジルコニウム微粒子または酸化チタン微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００１４】
前記第三層は、フルオロアルキルシラン誘導体、中空シリカ粒子、多孔質状のシリカ粒子のいずれか１種または２種以上を含有してなることが好ましい。
前記第三層は、ビニル基、エポキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、イソシアネート基のいずれか１種を有する化合物を少なくとも１種含有してなることが好ましい。
前記第三層は、シランカップリング材を含有してなることが好ましい。
前記第三層は、シリコーンオイルを含有してなることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の反射防止膜付き透明基材によれば、透明基材の一主面に、前記透明基材との屈折率差が０．５以下、厚みが１０ｎｍ以上かつ１８０ｎｍ以下の第一層、前記透明基材との屈折率差が０．０２以上かつ０．５以下、厚みが０．０３μｍ以上かつ１０μｍ以下の第二層、および、前記透明基材との屈折率差が０．１以上かつ０．４以下、厚みが５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下の第三層を順次積層してなる反射防止膜を備え、前記第二層は、エポキシアクリレート基を有する高分子化合物を含有したので、従来と比較して第一層と第三層との間の層間密着力を向上させることができ、反射防止膜の層数を少なくすることができ、厚みも薄くすることができ、しかも、電気的特性や光学的特性を低下させる虞もない。
したがって、帯電防止性、導電性等の電気的特性や光学特性、さらには、強度、密着性、柔軟性、屈曲性等を付与することができるとともに、反射光むらを低減することができる。
【００１６】
また、第三層に、シリコーンオイルを含有したこととすれば、反射防止膜にシリコーンオイルを定着させることで、この反射防止膜の表面における指紋等の油脂成分の付着力が低下するので、指紋等の油脂成分を容易に拭き取ることができる。また、この反射防止膜をロールトゥロール法で作製する際においても、この反射防止膜をロール状態で保管している時に、シリコーンオイルが反射防止膜の最表層からそれに接している反射防止膜の裏面側に転写されるのを防止することができる。したがって。後工程である粘着層塗工時あるいは近赤外線遮蔽層塗工時等においても、転写部分のはじき、色むら、色抜け等を防止することができ、その結果、反射防止膜の品質を向上させることができ、生産性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の反射防止膜付き透明基材を実施するための最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００１８】
図１は、本実施形態の反射防止膜付き透明基材を示す断面図である。
この反射防止膜付き透明基材１０は、透明基材１と、この透明基材１の一主面１ａに第一層２、第二層３および第三層４を順次積層してなる反射防止膜５とから概略構成されている。
【００１９】
第一層２は、透明基材１との屈折率差が０．５以下、厚みが１０ｎｍ以上かつ１８０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは、透明基材１との屈折率差が０．００１以上かつ０．０１以下、厚みが８０ｎｍ以上かつ１３０ｎｍ以下である。
ここで、透明基材１との屈折率差を０．５以下と限定した理由は、屈折率差が０．５を超えると、十分な反射防止効果が得られないからである。
また、厚みを１０ｎｍ以上かつ１８０ｎｍ以下と限定した理由は、厚みが１０ｎｍ未満では、第二層３との密着性を十分に得ることができず、一方、厚みが１８０ｎｍを超えると、反射光ムラが著しくなるからである。
【００２０】
第二層３は、エポキシアクリレート基を有する高分子化合物を含有する膜であり、透明基材１との屈折率差が０．０２以上かつ０．５以下、厚みが０．０３μｍ以上かつ１０μｍ以下が好ましく、より好ましくは、透明基材１との屈折率差が０．０２以上かつ０．１５以下、厚みが０．５μｍ（５００ｎｍ）以上かつ６μｍ（６０００ｎｍ）以下である。
ここで、透明基材１との屈折率差を０．０２以上かつ０．５以下と限定した理由は、屈折率差が上記の範囲外では、十分な反射防止効果が得られないからである。
また、厚みを０．０３μｍ以上かつ１０μｍ以下と限定した理由は、厚みが０．０３μｍ未満では、スチールウールやネル布拭き試験等の耐磨耗性、および鉛筆硬度が低下し、一方、厚みが１０μｍを超えると、均一に成膜することが困難となるうえ、材料の使用量も増加するため、製造コストの上昇を招くからである。
【００２１】
第三層４は、透明基材１との屈折率差が０．１以上かつ０．４以下、厚みが５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは、透明基材１との屈折率差が０．２以上かつ０．３以下、厚みが７０ｎｍ以上かつ１３０ｎｍ以下である。
ここで、透明基材１との屈折率差を０．１以上かつ０．４以下と限定した理由は、屈折率差が０．１未満では、充分な反射防止効果が得られず、一方、屈折率差が０．４を超えると、十分な強度を満たす材料が存在せず、作製不能になるからである。
【００２２】
次に、透明基材１、及び第一層２〜第三層４について、さらに詳しく説明する。
透明基材１としては、十分な機械的強度及び物理的強度を有し、かつ平均屈折率が１．５５以上の透明な高分子フィルムが好ましく、平均屈折率が１．６０以上かつ１．７０以下の高分子フィルムがより好ましい。
【００２３】
このような高分子フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフトール（ＰＥＮ）フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）フィルム、ポリアクリレートフィルム、ノルボルネン系フィルム、非晶質ポリオレフィンフィルム等の透明プラスチックフィルムが挙げられる。
特に、長期の安定性、信頼性を考慮すると、このような高分子フィルムの中でもポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
【００２４】
また、透明基材１の厚みは特に限定はされないが、通常、２５μｍ〜２００μｍ程度の厚みから適宜選択される。
厚みが上記範囲内の透明基材１を用いれば、反射防止膜付き透明基材１０には、しわ等が発生し難くなる。また、反射防止膜付き透明基材１０は、画像表示装置の画像表示部に貼着される際に必要以上に伸びなくなるので、反射防止膜に破断等の不具合が生じること無く、貼着させることができる。
【００２５】
第一層２は、第二層３を透明基材１の一主面１ａに接着するための易接着層である。この易接着層を構成する樹脂としては、透明なものであればよく、特に限定されるものではないが、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂等が挙げられる。このような樹脂の中でもポリエステル誘導体を含有する樹脂が好ましい。その理由は、第一層２の樹脂がポリエステル誘導体を含有していると、透明基材１、第二層３各々との密着性が向上するからである。
【００２６】
第二層３は、樹脂からなるハードコート層である。このハードコート層を構成する樹脂としては、エポキシアクリレート基を有する高分子化合物を含有する透明な樹脂であればよく、特に限定されるものではないが、例えば、エポキシアクリレート樹脂、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂等の紫外線硬化型樹脂等が挙げられる。
【００２７】
第二層３を高屈折率化させるためには、前記高分子化合物の屈折率を１．５５以上とすることが好ましい。
この屈折率が１．５５以上のエポキシアクリレート基を有する高分子化合物としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシアクリレート樹脂等が挙げられる。
アクリル系樹脂は、透明性、強度等に優れ、第二層３を高屈折率化することができるとともに、第一層２との密着性が優れているからであり、エポキシアクリレート樹脂は、第三層４との密着性に優れているからである。
このアクリル系樹脂としては、単官能アクリレート、多官能アクリレート、あるいはこれらの混合物が用いられる。
【００２８】
この高分子化合物は、その骨格内にベンゼン環を少なくとも１つ含有してなることが好ましい。
その理由は、屈折率をより高くする効果があり、強度や耐薬品性等についても他の樹脂と比べて劣らないからである。
【００２９】
また、第二層３は、無機微粒子を含有したものであることが好ましい。この無機微粒子としては、導電性微粒子、高屈折率微粒子、着色微粒子等が挙げられる。
これらの微粒子は、いずれか１種または２種以上を含有してなることが好ましい。
例えば、導電性微粒子を含有させれば、第二層３に導電性、帯電防止性を付与することができる。
【００３０】
この導電性微粒子としては、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモン酸亜鉛、非晶質五酸化アンチモン、アルミニウム含有酸化亜鉛（ＡＺＯ）、アンチモン含有酸化インジウム（ＡＩＯ）等の金属複合酸化物、あるいは、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、オスニウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）等の金属から選択された１種または２種以上を含む金属微粒子が挙げられる。
これらの微粒子の中でも、導電性、透明性、帯電防止性に優れ、しかも安価である等の理由から、アンチモン含有酸化スズ微粒子が好ましい。
【００３１】
また、第二層３に高屈折率微粒子を含有させることにより、屈折率を自由に調整することができる。この際に、導電性微粒子も併用すれば、同時に導電性、帯電防止性も付与することができる。
この高屈折率微粒子としては、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化スズ、酸化チタン等の金属酸化物微粒子が挙げられるが、分散安定性、化学的安定性、高屈折率性等に優れる等の理由から酸化ジルコニウムまたは酸化チタンが好ましい。
特に、酸化チタンは、酸化ジルコニウムと比較しても屈折率が高く、導電性微粒子との相性も良く、高い分散性を維持することができることから、好適である。
【００３２】
これら無機微粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上かつ５０ｎｍ以下である。
その理由は、平均粒子径が５ｎｍ未満では、粒子同士の接触部分が増加し、従って粒界における抵抗値（粒界抵抗）が増大し、十分な導電性が得られ難くなるうえに、粒子表面における表面エネルギーが増大することにより、粒子同士が凝集し易くなり、したがって、分散性が低下するからであり、一方、平均粒子径が１００ｎｍを超えると、得られる第二層３がレイリー散乱により光を著しく散乱させるために、第二層３自体が白濁するようになり、可視光に対する透明度が低下するからである。
【００３３】
また、この第二層３中の導電性微粒子の含有量は、目的とする導電性、帯電防止性に応じて適宜調整されるが、３〜５０重量％の範囲が好ましい。
ここで、含有量を３〜５０重量％の範囲とした理由は、３重量％未満では、導電性、帯電防止性が不十分で帯電防止膜として十分に機能しないからであり、一方、５０重量％以上では、導電性微粒子による第二層３の着色、及びレイリー散乱に起因する光散乱により第二層３自体が白濁化し、可視光に対する透明性が失われるからである。
【００３４】
また、この第二層３中の高屈折率微粒子の含有量は、目的とする屈折率に応じて適宜調整されるが、５〜８０重量％の範囲が好ましい。
ここで、含有量を５〜８０重量％の範囲とした理由は、５重量％未満では、高屈折率化が不十分であり、反射防止性能の向上が図れないからである。一方、８０重量％を越えると、第二層３を構成する樹脂成分の含有量が相対的に減少し、屈曲性の低下、及びレイリー散乱に起因する光散乱により第二層３自体が白濁化し、可視光に対する透明性が失われるからである。
【００３５】
第三層４は、低屈折率層である。この低屈折率層としては、第二層３に接合するバインダーとしての機能を有しかつ透明である有機高分子であれば特に限定されるものではないが、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、オルガノシロキサン、シリコーンレジン、ポリシロキサン等が挙げられる。
この第三層４には、フルオロアルキルシラン誘導体、中空シリカ粒子、多孔質状のシリカ粒子のいずれか１種または２種以上を含有したことが好ましい。
その理由は、これらフルオロアルキルシラン誘導体、中空シリカ粒子、多孔質状のシリカ粒子の少なくとも１種を含有していれば、より低屈折率化することが可能になるからである。
【００３６】
中空シリカ粒子または多孔質状のシリカ粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは２０ｎｍ以上かつ８０ｎｍ以下、さらに好ましくは２０ｎｍ以上かつ７０ｎｍ以下である。
ここで、これらの粒子の平均粒子径を５ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下とした理由は、平均粒子径が５ｎｍ未満では、粒子の表面エネルギーが増大することにより粒子同士が凝集し、分散性が低下する虞があるからであり、一方、１００ｎｍを越えると、レイリー散乱により光が著しく散乱されるために、第三層４自体が白濁化し、可視光に対する透明性が低下するからである。
【００３７】
また、第三層４におけるフルオロアルキルシラン誘導体、中空シリカ粒子、多孔質状のシリカ粒子は、目的の屈折率に応じて適宜調整されるが、これらフルオロアルキルシラン誘導体、中空シリカ粒子、多孔質状のシリカ粒子の合計量の第三層４における含有率は２５重量％以上かつ８０重量％以下が好ましい。
その理由は、含有率が２５重量％未満では、第三層４の屈折率を、透明基材１との屈折率差が０．１以上かつ０．４以下となるように低屈折率化することが難しくなるからであり、一方、含有率が８０重量％を超えると、レイリー散乱により光が著しく散乱されるために、第三層４自体が白濁化し、透明性が損なわれるとともに、第三層４の機械的強度そのものも低下するからである。
【００３８】
この第三層４は、ビニル基、エポキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、イソシアネート基のいずれか１種を有する化合物を少なくとも１種を含有してもよい。
例えば、ビニル基を有する化合物としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリクロルシラン等が挙げられる。また、エポキシ基を有する化合物としては、２−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。また、アクリロキシ基を有する化合物としては、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、メタクリロキシ基を有する化合物としては、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。また、イソシアネート基を有する化合物としては、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００３９】
この第三層４は、シランカップリング材を含有しても良く、このシランカップリング材としては、反応性官能基を有するシランカップリング材が好ましい。
反応性官能基を有するシランカップリング材としては、メタクリル基、アクロイル基、エポキシ基、アミノ基、スルフィド基、ビニル基等が挙げられるが、特に、アクロイル基を含有するシランカップリング材は、第二層３との密着性を向上させるので、より好ましい。
【００４０】
この第三層４に、指紋等の油脂が付着した場合に拭き取り性を容易にする目的でシリコーンオイルを含有しても良く、このシリコーンオイルとしては、反応性官能基を有するシリコーンオイルが好ましい。
反応性官能基を有するシリコーンオイルとしては、紫外線等の電磁波あるいは電子線を照射することにより容易に反応する官能基を有するものであればよく、例えば、メタクリル基、アクロイル基、ビニル基等を有するシリコーンオイルが好ましい。
このシリコーンオイルと上述したシランカップリング材とを併用すれば、第三層４中にてケミカル結合が形成されるので、シリコーンオイルのブリードアウトを防止することが可能である。
【００４１】
この第三層４がシリコーンオイル、特に反応性官能基を有するシリコーンオイルを含有した場合、このシリコーンオイルが第三層４中にてケミカル結合を形成することにより、特に、ロールトゥロール法により反射防止層を形成する際にロールのまま保管された場合においても、反射防止面の裏面にシリコーンオイルが転写される虞が無くなる。したがって、従来、問題とされていた後工程である粘着層塗工時あるいは近赤外線遮蔽層塗工時のはじきや色むら、色抜け等の不具合を解消することができる。
【００４２】
次に、本実施形態の反射防止膜付き透明基材の製造方法について説明する。
まず、第一層２、第二層３、第三層４のそれぞれを構成する樹脂もしくは有機高分子を溶媒に溶解し塗料化し、所定の粘度の第一層形成用塗料、第二層形成用塗料、第三層形成用塗料を調製する。
【００４３】
第一層形成用塗料は、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂等の透明樹脂を溶媒に溶解し塗料とする。
第二層形成用塗料は、例えば、エポキシアクリレート樹脂、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂から選択される１種または２種以上のエポキシアクリレート基を有する高分子化合物を含有する透明樹脂と、アクリル系樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂から選択される１種または２種以上の樹脂と、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）等の導電性微粒子、酸化ジルコニウムまたは酸化チタン等の高屈折率微粒子、着色微粒子のいずれか１種または２種以上を、溶媒に溶解し塗料とする。
【００４４】
第三層形成用塗料は、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、オルガノシロキサン、シリコーンレジン、ポリシロキサン等の有機高分子と、フルオロアルキルシラン誘導体、中空シリカ粒子、多孔質状のシリカ粒子のいずれか１種または２種以上と、必要に応じて、ビニル基、エポキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、イソシアネート基のいずれか１種を有する化合物、シランカップリング材、シリコーンオイルのいずれか１種または２種以上を、溶媒に溶解し塗料とする。
【００４５】
これら第一層形成用塗料、第二層形成用塗料、第三層形成用塗料塗料に用いられる溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、水、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、β−オキシエチルメチルエーテル（メチルセロソルブ）、β−オキシエチルエーテル（エチルセロソルブ）、ブチル−β−オキシエチルエーテル（ブチルセロソルブ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエチレングリコールのモノエーテル類（セロソルブ類）、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエステル類、等が好適に用いられる。
【００４６】
次いで、透明基材１の一主面１ａに第一層形成用塗料を、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、インクジェット法、ディップ法、グラビアコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、ナイフコータ法、リバースロールコータ法、キスコータ法等により塗布し、その後、例えば、紫外線照射、電子線照射、ドライヤーやエアブローによる乾燥等により第一層２を形成する。
【００４７】
次いで、上記と同様にして第一層２の上に第二層形成用塗料を塗布し、その後、上記と同様にして第二層３を形成する。
次いで、上記と同様にして第二層３の上に第三層形成用塗料を塗布し、その後、上記と同様にして第三層４を形成し、反射防止膜付き透明基材１０を得る。
【００４８】
本実施形態の反射防止膜付き透明基材１０は、画像表示装置の画像表示部の表示面に貼着することにより、表示面に下記の様々な機能を付与することができる。
この表示面に反射防止機能を付与するためには、透過率が高いことが好ましく、例えば、全光線透過率が８８％以上、ヘイズ（曇価）が２．０％以下であることが好ましい。
また、この表示面の反射光ムラを抑制するためには、反射率が低いことが好ましく、例えば、最低反射率が２．０％以下、視感度反射率が２．０％以下、第三層４の表面の水に対する接触角が１００度以上であることが好ましい。
【００４９】
また、この表示面に帯電防止機能を付与するためには、表面抵抗が低いことが好ましく、表面抵抗が１×１０１１Ω／□以下であることが好ましい。
また、この表示面を保護するためには、耐擦傷性に優れることが好ましく、例えば、第三層４の表面における鉛筆硬度が２Ｈ以上、スチールウール強度試験にて透明基材の表面に生じる傷が１０本以下であることが好ましい。
また、反射防止機能、帯電防止機能等を発揮するためには、密着性が高いことが好ましく、例えば、碁盤目剥離法に準拠した密着性試験にて全ての碁盤目で完全に剥がれないことであることが好ましい。
【００５０】
本実施形態の反射防止膜付き透明基材１０によれば、透明基材１の一主面１ａに、透明基材１との屈折率差が０．５以下、厚みが１０ｎｍ以上かつ１８０ｎｍ以下の第一層２、透明基材１との屈折率差が０．０２以上かつ０．５以下、厚みが０．０３μｍ以上かつ１０μｍ以下の第二層３、および、透明基材１との屈折率差が０．１以上かつ０．４以下、厚みが５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下の第三層４を順次積層し、第二層３は、エポキシアクリレート基を有する高分子化合物を含有したので、従来と比較して第一層２と第三層４との間の層間密着力を向上させることができ、反射防止膜の層数を少なくすることができ、厚みも薄くすることができる。したがって、帯電防止性、導電性等の電気的特性や光学特性に優れ、さらには、強度、密着性、柔軟性、屈曲性等に優れるとともに反射光むらを低減することができる。
【００５１】
また、第三層４に、シリコーンオイルを含有したので、この反射防止膜の表面における指紋等の油脂成分の付着力を低下させることができる。したがって、指紋等の油脂成分を容易に拭き取ることができる。
また、この反射防止膜をロールトゥロール法で作製する際においても、この反射防止膜をロール状態で保管している時に、シリコーンオイルが反射防止膜の最表層からそれに接している反射防止膜の裏面側に転写されるのを防止することができる。したがって。後工程である粘着層塗工時あるいは近赤外線遮蔽層塗工時等においても、転写部分のはじき、色むら、色抜け等を防止することができ、その結果、反射防止膜の品質を向上させることができ、生産性を向上させることができる。
【実施例】
【００５２】
本発明を実施例及び比較例により説明するが、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。
【００５３】
（実施例１）
Ａ．ハードコート層形成用塗料（第二層形成用塗料）の調整
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＤＰＨＡ（日本化薬社製）２６．２５ｇと、エポキシアクリレート化合物ＥＡ１０２５（新中村化学社製）７ｇと、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）６５ｇとを混合し、この混合物にアンチモン含有酸化スズ（住友大阪セメント社製）１．７５ｇを添加し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散し、さらに、開始剤としてイルガキュア１８４（チバスペシャルティーケミカルズ社製）を１．００ｇ添加して、攪拌・溶解させることにより、ハードコート層形成用塗料Ａ１を作製した。
【００５４】
Ｂ．低屈折率層形成用塗料（第三層形成用塗料）の調整
テトラメトキシシランＴＳＬ８１１４（ＧＥ東芝シリコーン社製）２．６６ｇと、フルオロアルキルシランＴＳＬ８２５７（ＧＥ東芝シリコーン社製）０．７０ｇと、メタクリル基含有シランカップリング剤ＴＳＬ８３７０（ＧＥ東芝シリコーン社製）０．２０ｇと、中空シリカ微粒子の含有率が２０重量％の中空シリカ微粒子２−プロパノール分散液（触媒化成工業社製）６ｇと、アルコゾールＰ−９（甘粕化学産業社製）８４．３４ｇを混合し、攪拌しながら、希硝酸（１ｍｏｌ／Ｌ硝酸０．１０ｇを純水６ｇに混合）を滴下し、そのまま１２時間攪拌することにより、低屈折率層形成用塗料Ｂ１を作製した。
【００５５】
Ｃ．反射防止膜の形成
まず、厚みが１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、厚みが１００ｎｍ、屈折率が１．５８の高屈折率易接着層（第一層）が設けられた高屈折率易接着層付きＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製）を用意した。
次いで、この高屈折率易接着層上に、バーコート法によりハードコート層形成用塗料Ａ１を塗工し、次いで、このフィルムをオーブン等の加熱器により８０℃にて１分間、加熱して塗料中の溶媒を散逸させ、次いで、この乾燥した塗料に高圧水銀灯等を用いて５００ｍＪの紫外線（ＵＶ）を照射して硬化させ、厚みが約５μｍの透明なハードコート層を形成した。
【００５６】
次いで、このハードコート層上に、バーコート法により低屈折率層形成用塗料Ｂ１を塗工し、次いで、このフィルムをオーブン等の加熱器により１５０℃にて１分間、加熱して塗料を乾燥させ、次いで、この乾燥した塗料に高圧水銀灯等を用いて５００ｍＪの紫外線（ＵＶ）を照射して硬化させ、厚みが０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、実施例１の反射防止膜付き透明基材を得た。
【００５７】
（実施例２）
Ａ．低屈折率層形成用塗料（第三層形成用塗料）の調整
テトラメトキシシランＴＳＬ８１１４（ＧＥ東芝シリコーン社製）２．４３ｇと、フルオロアルキルシランＴＳＬ８２５７（ＧＥ東芝シリコーン社製）０．７０ｇと、メタクリル基含有シランカップリング剤ＴＳＬ８３７０（ＧＥ東芝シリコーン社製）０．２０ｇと、中空シリカ微粒子の含有率が２０重量％の中空シリカ微粒子２−プロパノール分散液（触媒化成工業社製）６ｇと、反応性シリコーンオイルＢＹＫ−ＵＶ３５００（ビックケミージャパン社製）０．０６ｇと、アルコゾールＰ−９（甘粕化学産業社製）８４．５１ｇを混合し、攪拌しながら、希硝酸（１ｍｏｌ／Ｌ硝酸０．１０ｇを純水６ｇに混合）を滴下し、そのまま１２時間攪拌することにより、低屈折率層形成用塗料Ｂ２を作製した。
【００５８】
Ｂ．反射防止膜の形成
実施例１に準じて、高屈折率易接着層付きＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製）の高屈折率易接着層上に、ハードコート層形成用塗料Ａ１を用いて厚みが約５μｍの透明なハードコート層を形成した。
次いで、このハードコート層上に、バーコート法により低屈折率層形成用塗料Ｂ２を塗工し、次いで、このフィルムをオーブン等の加熱器により１５０℃にて１分間、加熱して塗料を乾燥させ、次いで、この乾燥した塗料に高圧水銀灯等を用いて５００ｍＪの紫外線（ＵＶ）を照射して硬化させ、厚みが０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、実施例２の反射防止膜付き透明基材を得た。
【００５９】
（実施例３）
Ａ．ハードコート層形成用塗料（第二層形成用塗料）の調整
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＤＰＨＡ（日本化薬社製）２２．７５ｇと、エポキシアクリレート化合物ＥＡ１０２５（新中村化学社製）５．７５ｇと、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）６５ｇとを混合し、この混合物に酸化ジルコニウム微粒子ＲＣ−１００（第一希元素社製）５．２５ｇを添加し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散し、さらに、開始剤としてイルガキュア１８４（チバスペシャルティーケミカルズ社製）を１．００ｇ添加して、攪拌・溶解させることにより、ハードコート層形成用塗料Ａ２を作製した。
【００６０】
Ｂ．反射防止膜の形成
実施例１にて用いた高屈折率易接着層付きＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製）の高屈折率易接着層上に、バーコート法によりハードコート層形成用塗料Ａ２を塗工し、次いで、このフィルムをオーブン等の加熱器により８０℃にて１分間、加熱して塗料を乾燥させ、次いで、この乾燥した塗料に高圧水銀灯等を用いて５００ｍＪの紫外線（ＵＶ）を照射して硬化させ、厚みが約５μｍの透明なハードコート層を形成した。
【００６１】
次いで、このハードコート層上に、バーコート法により実施例２で得られた低屈折率層形成用塗料Ｂ２を塗工し、次いで、実施例１に準じて乾燥・硬化させ、厚みが０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、実施例３の反射防止膜付き透明基材を得た。
【００６２】
（実施例４）
Ａ．ハードコート層形成用塗料（第二層形成用塗料）の調整
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＤＰＨＡ（日本化薬社製）２１．００ｇと、エポキシアクリレート化合物ＥＡ１０２５（新中村化学社製）５．７５ｇと、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）６５ｇとを混合し、この混合物に酸化ジルコニウム微粒子ＲＣ−１００（第一希元素社製）５．２５ｇ及びアンチモン含有酸化スズ（住友大阪セメント社製）１．７５ｇを添加し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散し、さらに、開始剤としてイルガキュア１８４（チバスペシャルティーケミカルズ社製）を１．００ｇ添加して、攪拌・溶解させることにより、ハードコート層形成用塗料Ａ３を作製した。
【００６３】
Ｂ．反射防止膜の形成
実施例１にて用いた高屈折率易接着層付きＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製）の高屈折率易接着層上に、バーコート法によりハードコート層形成用塗料Ａ３を塗工し、次いで、このフィルムをオーブン等の加熱器により８０℃にて１分間、加熱して塗料中の溶媒を散逸させ、次いで、この乾燥した塗料に高圧水銀灯等を用いて５００ｍＪの紫外線（ＵＶ）を照射して硬化させ、厚みが約５μｍの透明なハードコート層を形成した。
【００６４】
次いで、このハードコート層上に、バーコート法により実施例２で得られた低屈折率層形成用塗料Ｂ２を塗工し、次いで、実施例１に準じて乾燥・硬化させ、厚みが０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、実施例４の反射防止膜付き透明基材を得た。
【００６５】
（実施例５）
Ａ．ハードコート層形成用塗料（第二層形成用塗料）の調整
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＤＰＨＡ（日本化薬社製）６．２８ｇと、エポキシアクリレート化合物ＥＡ１０２５（新中村化学社製）１．７２ｇと、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）７２ｇとを混合し、この混合物に酸化チタン微粒子Ｐ２５（日本アエロジル社製）７．００ｇ及びアンチモン含有酸化スズ（住友大阪セメント社製）１２．００ｇを添加し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散し、さらに、開始剤としてイルガキュア１８４（チバスペシャルティーケミカルズ社製）を１．００ｇ添加して、攪拌・溶解させることにより、ハードコート層形成用塗料Ａ４を作製した。
【００６６】
Ｂ．反射防止膜の形成
実施例１にて用いた高屈折率易接着層付きＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製）の高屈折率易接着層上に、バーコート法によりハードコート層形成用塗料Ａ４を塗工し、次いで、このフィルムをオーブン等の加熱器により８０℃にて１分間、加熱して塗料中の溶媒を散逸させ、次いで、この乾燥した塗料に高圧水銀灯等を用いて５００ｍＪの紫外線（ＵＶ）を照射して硬化させ、厚みが約１μｍの透明なハードコート層を形成した。
【００６７】
次いで、このハードコート層上に、バーコート法により実施例２で得られた低屈折率層形成用塗料Ｂ２を塗工し、次いで、実施例１に準じて乾燥・硬化させ、厚みが０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、実施例５の反射防止膜付き透明基材を得た。
【００６８】
（比較例１）
Ａ．低屈折率層形成用塗料（第三層形成用塗料）の調整
テトラメトキシシランＴＳＬ８１１４（ＧＥ東芝シリコーン社製）７．２２ｇと、メタクリル基含有シランカップリング剤ＴＳＬ８３７０（ＧＥ東芝シリコーン社製）０．２０ｇと、アルコゾールＰ−９（甘粕化学産業社製）８２．４８ｇを混合し、攪拌しながら、希硝酸（１ｍｏｌ／Ｌ硝酸０．１０ｇを純水１０ｇに混合）を滴下し、そのまま１２時間攪拌することにより、低屈折率層形成用塗料Ｂ３を作製した。
【００６９】
Ｂ．反射防止膜の形成
実施例１に準じて、高屈折率易接着層付きＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製）の高屈折率易接着層上に、ハードコート層形成用塗料Ａ１を用いて厚みが約５μｍの透明なハードコート層を形成した。
次いで、このハードコート層上に、バーコート法により低屈折率層形成用塗料Ｂ３を塗工し、次いで、このフィルムをオーブン等の加熱器により１５０℃にて１分間、加熱して塗料中の溶媒を散逸させ、次いで、この乾燥した塗料に高圧水銀灯等を用いて５００ｍＪの紫外線（ＵＶ）を照射して硬化させ、厚みが０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、比較例１の反射防止膜付き透明基材を得た。
【００７０】
（比較例２）
Ａ．ハードコート層形成用塗料（第二層形成用塗料）の調整
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートＤＰＨＡ（日本化薬社製）３３．２５ｇと、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）６５ｇとを混合し、この混合物にアンチモン含有酸化スズ（住友大阪セメント社製）１．７５ｇを添加し、次いで、ホモジナイザーにて混練、分散し、さらに、開始剤としてイルガキュア１８４（チバスペシャルティーケミカルズ社製）を１．００ｇ添加して、攪拌・溶解させることにより、ハードコート層形成用塗料Ａ５を作製した。
【００７１】
Ｂ．反射防止膜の形成
実施例１にて用いた高屈折率易接着層付きＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製）の高屈折率易接着層上に、バーコート法によりハードコート層形成用塗料Ａ５を塗工し、次いで、このフィルムをオーブン等の加熱器により８０℃にて１分間、加熱して塗料中の溶媒を散逸させ、次いで、この乾燥した塗料に高圧水銀灯等を用いて５００ｍＪの紫外線（ＵＶ）を照射して硬化させ、厚みが約５μｍの透明なハードコート層を形成した。
【００７２】
次いで、このハードコート層上に、バーコート法により実施例２で得られた低屈折率層形成用塗料Ｂ２を塗工し、次いで、実施例１に準じて乾燥・硬化させ、厚みが０．１μｍの透明な低屈折率層を形成し、比較例２の反射防止膜付き透明基材を得た。
【００７３】
「評価」
以上により得られた実施例１〜５および比較例１、２それぞれの反射防止膜付き透明基材の全光線透過率、ヘイズ（曇価）、最低反射率及びボトム波長、視感度反射率、表面抵抗、鉛筆硬度、スチールウール硬度、密着性、水に対する接触角、指紋拭き取り性の各評価項目について、次の方法を用いて評価した。
【００７４】
（１）全光線透過率
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ７１０５「プラスチックの光学的特性試験方法」に準拠して、反射防止膜付き透明基材の全光線透過率を測定した。
（２）ヘイズ（曇価）
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ７１０５「プラスチックの光学的特性試験方法」に準拠して、反射防止膜付き透明基材のヘイズ値を測定した。
【００７５】
（３）最低反射率
紫外・可視光分光光度計Ｖ−５７０（日本分光社製）を用いて、反射防止膜付き透明基材の５°正反射率を測定することにより、反射防止膜付き透明基材の最低反射率を測定した。
（４）ボトム波長
上記の最低反射率を示す波長を読み取り、ボトム波長を測定した。
（５）視感度反射率
紫外・可視光分光光度計Ｖ−５７０（日本分光社製）を用いて、反射防止膜付き透明基材の５°正反射率を測定し、この測定値に比視感度値を乗じて反射防止膜付き透明基材の視感度反射率を算出した。
【００７６】
（６）表面抵抗
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ６９１１「熱硬化性プラスチック一般試験方法」に準拠して、反射防止膜付き透明基材の表面抵抗（Ω／□）を測定した。
（７）鉛筆硬度
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４「塗料一般試験法」に準拠して、反射防止膜付き透明基材の鉛筆硬度を測定した。
（８）スチールウール硬度
＃００００のスチールウールに、２５０ｇ／ｃｍ２の荷重を負荷しながら、反射防止膜付き透明基材の低屈折率層の表面上を１０回往復させ、その後、低屈折率層の表面に発生した傷の本数を計数した。評価の基準を、目視にて確認できる傷の本数とした。
【００７７】
（９）密着性
日本工業規格ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−６「塗料一般試験法」の碁盤目剥離法の操作に準拠して、低屈折率層の表面にて、１０ｍｍ角の各辺にカッターナイフで１ｍｍ間隔の切り込みを縦１１本、横１１本入れることにより、合計１００個の升目を形成し、その上に２４ｍｍ幅のセロハンテープを密着させ、素早くこのセロハンテープを６０度方向に強制剥離した。このセロハンテープの密着、剥離の操作を３回繰り返し、残存する升目の数を計数した。
（１０）水に対する接触角
日本工業規格ＪＩＳ Ｒ ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」に準拠して、動的接触角測定装置（協和界面化学社製）を用いて、反射防止膜付き透明基材の低屈折率層の表面の純水に対する接触角を測定した。
【００７８】
（１１）指紋拭き取り性
基材表面に付着した指紋をセルロース製不織布 ベンコットＭ−３（旭化成社製）にて、軽くふき取り、そのふき取り具合で判断した。判断基準は以下の通りである。
○：指紋が完全に拭き取ることができる。
△：指紋の拭き取り跡が残る。
×：指紋跡が広がり、完全に拭き取ることができない。
実施例１〜５および比較例１、２の反射防止膜付き透明基材の評価結果を表１に示す。また、実施例１〜５の反射防止膜付き透明基材を構成する各層の屈折率を表２に示す。
【００７９】
【表１】
2007156391.tif 000003
【００８０】
【表２】
2007156391.tif 000004
【００８１】
これらの表によれば、実施例１では、低屈折率材料である中空シリカ粒子を用いることにより、反射率が低減していることが確認された。
実施例２では、反応性シリコーンオイルを添加することで表面の滑り性が向上しており、実施例１と比較して、反射防止性能を低下させることなく、鉛筆硬度、スチールウール硬度、及び指紋拭き取り性が改善されていることが確認された。
実施例３は、ハードコート層の無機微粒子として酸化ジルコニウム微粒子を使用したものであるが、表面抵抗の測定結果からは導電性は示されないものの、ハードコート層の屈折率が向上し、結果として反射防止性能が向上することが確認された。
【００８２】
実施例４は、ハードコート層の無機微粒子として酸化ジルコニウム微粒子及びアンチモン含有酸化スズ微粒子を併用したので、ハードコート層の屈折率を低下させることなく導電性を付与することができた。したがって、反射防止性能の向上と導電性の付与の双方が可能であることが確認された。
実施例５は、ハードコート層の無機微粒子として酸化チタン微粒子及びアンチモン含有酸化スズ微粒子を併用したので、ハードコート層の屈折率を実施例４の酸化ジルコニウム微粒子を用いた場合と比較してさらに向上させることができた。したがって、導電性を付与しながら、さらなる反射率の低下が可能であることが確認された。
【００８３】
一方、比較例１では、従来のテトラアルコキシシラン系の材料を低屈折率層に用いているために、屈折率が十分低下せず、結果として反射防止性能が不十分なものとなっている。また、フルオロシランや反応性シリコーンオイルを添加していないために、表面の滑り性が悪く、結果としてスチールウール硬度及び指紋拭き取り性が実施例１〜４よりも劣っていることが確認された。
また、比較例２では、ハードコート層形成用塗料がエポキシアクリレート系樹脂を含んでいないために、低屈折率層との密着性が弱く、密着性試験では膜の剥離が確認された。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
本発明の反射防止膜付き透明基材１０は、透明基材１の一主面１ａに、透明基材１との屈折率差が０．５以下、厚みが１０ｎｍ以上かつ１８０ｎｍ以下の第一層２、透明基材１との屈折率差が０．０２以上かつ０．５以下、厚みが０．０３μｍ以上かつ１０μｍ以下の第二層３、および、透明基材１との屈折率差が０．１以上かつ０．４以下、厚みが５０ｎｍ以上かつ１５０ｎｍ以下の第三層４を順次積層した反射防止膜５を備え、第二層３がエポキシアクリレート基を有する高分子化合物を含有したものであるから、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）はもちろんのこと、その他の表示装置等へも適用可能であり、その工業的価値は極めて大きなものである。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】本発明の一実施形態の反射防止膜付き透明基材を示す断面図である。
【符号の説明】
【００８６】
１  透明基材
１ａ  一主面
２  第一層
３  第二層
４  第三層
５  反射防止膜
【図１】
2007156391.tif 000005