(57)【要約】【課題】  手や指による押圧により発生するニュートンリングを防止し、画面上のぎらつきを防止することができるタッチパネル用画像高精細性フィルムを提供する。【解決手段】  表面を修飾されたシリカにて微細な凹凸が形成されたフィルムであって、微細な凹凸を形成する化合物として、（メタ）アクリルシランにより表面を修飾されたシリカを用いる。形成する際は、放射線硬化型樹脂の表面処理されたシリカを分散し、溶剤にて適宜粘度調整したものをフィルムに塗布し、紫外線、電子線などを照射して硬化させる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルムの裏面に、微細凹凸層が形成されたタッチパネル用画像高精細性フィルムであって、該微細凹凸層が、（メタ）アクリルシランにより表面を修飾されたシリカと樹脂バインダーを含有する層を硬化させてなることを特徴とするタッチパネル用画像高精細性フィルム。
【請求項２】
該シリカの平均粒子径が０．１〜５μｍであることを特徴とする請求項１記載のタッチパネル用画像高精細性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は透明なタッチパネル等に好適なフィルムに関し、詳しくはニュートンリングの発生を防止できるタッチパネル用画像高精細性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、画像表示素子として液晶表示装置が注目されており、携帯用の電子手帳、情報端末機などに利用されている。これらの入力装置としては、液晶表示素子の上に透明なタッチパネルを載せたものが知られており、構造的には、透明導電性フィルムと基盤とが適当な隙間を設けて隔てられ、タッチ側のパネル面を指やペン等で押圧すると、必要な情報が電気的な信号として入力され、その結果は画面に表示されるようになっている。
【０００３】
しかしながら、指やペン等による押圧操作によりタッチパネルと基盤とが密着した際、どちららかの表面に歪みが生じ、反射光の干渉に起因して、タッチ点を中心に虹色の縞模様、いわゆるニュートンリングと称せられる干渉縞が見られ、視認性が悪くなることがある。
【０００４】
このような問題に対処するため、透明導電性フィルムに使用される透明高分子フィルムには、その裏面にエンボス加工により特定範囲の中心線平均粗さ（Ｒａ）、及び最大高さ（Ｒｍａｘ）を有する微細な凹凸を無数に賦形し、干渉縞の発生を抑制する方法や、また、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などをバインダー成分として、酸化アルミ、酸化チタン、シリカ等の微粉末を混合し、フィルム裏面に塗布、乾燥、硬化することで微細な凹凸を形成し、干渉縞を抑制する方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００４−２８４１１７号公報
【特許文献２】特開平５−１６２２６１号公報
【特許文献３】特開２００２−１４８４０５号公報
【特許文献４】特開２００２−２２９６１号公報
【特許文献５】特開平１０−１８０９５０号公報
【特許文献６】特開２００２−３７５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、エンボス加工といった物理的手段を用いると設備的に大がかりになり、また、微粉末を混入した塗料を用いると、硬化後の粒子の均一性が悪く、画面上でのぎらつきが生じるといった問題があった。このぎらつきは高精細化されたカラー画面の特に白色部分で顕著であり、利用者に不快感を与えていた。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明はかかる状況に鑑み検討されたもので、操作者による手や指による押圧により発生するニュートンリングを防止するフィルムを提供することを目的とするもので、透明フィルムの裏面に、微細凹凸層が塗工により形成されたタッチパネル用画像高精細性フィルムであって、該微細凹凸層が（メタ）アクリルシランにより表面を修飾されたシリカと樹脂バインダーを含有する層を硬化させて形成することを特徴とし、該シリカの平均粒子径が０．１〜５μｍであることを特徴とするタッチパネル用画像高精細性フィルムである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明では、シリカの表面を（メタ）アクリルシラン化合物により修飾処理したものを樹脂バインダーと混合し、フィルムに塗布して形成した微細な凹凸は、反射光を分散する層となり、ニュートンリングの発生を抑制できる上、しかも表面修飾されたシリカは分散性が著しく高く、フィルム上の粒子分布状態を均一化することができ、画面上のぎらつきを防止することができる。
【０００８】
以下、本発明について詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明において用いられるフィルムは、透明なプラスチックフィルムであれば特に限定はなく、例えば、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルテンペンフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。なかでも、耐候性、加工性、寸法安定性などの点から二軸延伸処理されたポリエステルフィルムが好ましく用いられる。フィルムの厚みは概ね２５μｍ〜２５０μｍであればよい。
【００１０】
前記のフィルムには、樹脂との密着性を向上させる目的で、プライマー処理を施したり、サンドブラスト法や溶剤処理法などによる表面の凹凸化処理、あるいはコロナ放電処理、クロム酸処理、オゾン・紫外線照射処理などの表面の酸化処理などの表面処理を施すことができる。その他、フィルムの表面はタッチパネル用途として傷が付きにくくするためハードコート処理や、外光の反射を抑制するため防眩処理等が施される。
【００１１】
本発明に用いる微細凹凸を形成するために用いられる表面修飾されたシリカは、乾式シリカ、湿式シリカ等のシリカ微粒子の表面を、（メタ）アクリルシランにより修飾したものであり、（メタ）アクリルシランにより修飾したことにより樹脂中での分散性が著しく向上し、フィルム上の粒子分布状態を均一化することができ、画面上のぎらつきを防止することができる。
【００１２】
前記の乾式シリカ、湿式シリカの内でも湿式シリカの方が表面に多数の水酸基を有しているため特に好ましく、湿式シリカの表面を有機物により修飾させることにより沈降安定性、分散性が向上し、凝集を防ぐものとなる。シリカの平均粒子径は０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜３．０μｍのものが用いられ、形状は特に制約を受けない。平均粒子径の大きいシリカを用いた場合は、ディスプレイ表面から見た外観が劣るだけでなく、本発明で目的とする良好なアンチニュートン性を発現することができない。また、平均粒子径の小さいシリカを用いた場合も、アンチニュートン性を発現することができない。
【００１３】
前記のシリカの表面を修飾するために用いられる（メタ）アクリルシランは、硬化皮膜の粒子の均一化、粒子の密着性の向上、耐擦傷性の付与が可能であり、シリカ（微）粒子表面のシラノール基と反応可能な官能基および少なくとも１以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物を反応せしめてなるものである。具体的には、Ｎ―（３―（メタ）アクリロキシ―２―ヒドロキシプロピル）―３―アミノプロピルトリエトキシシラン、ビス（（メタ）アクリロキシプロピル）―１，１，３，３―テトラメチルジシロキサン、２―（メタ）アクリロキシエチルジメチル（３―（トリメトキシシリル）プロピル）アンモニウムクロライド、（メタ）アクリロキシプロピルビス（トリメチルシロキシ）メチルシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルジメチルクロロシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルメチルジクロロシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルトリクロロシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルペンタメチルジシロキサン、３―（メタ）アクリロキシプロピルトリス（メトキシエトキシ）シラン、３―（メタ）アクリロキシトリス（トリメチルシロキシ）シラン、２―（トリメチルシロキシ）エチル（メタ）アクリレート、トリメチルシリル（メタ）アクリレート等が挙げられるが、好ましくは、３―（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３―（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００１４】
乾式シリカ、湿式シリカ等のシリカと（メタ）アクリルシランとを反応させる際の配合比は、シリカに対して０．２〜３重量％である。下限に満たないと粒子安定性が低下するだけでなく、硬化後の粒子分布状態が不均一となり高精細な画像が得られない。また上限を超えると硬化皮膜の性能が低下し、硬度、耐擦傷性が低下する。
【００１５】
（メタ）アクリルシランにより表面修飾されたシリカのコールターカウンター法による平均粒子径は、好ましくは０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜３μｍである。下限に満たないと、フィルム表面に凹凸が十分に付与されないために防眩性能を十分に発揮できず、また、上限を超えると、表面修飾シリカの樹脂バインダー中に占める割合が多くなり、粒子の結着能力の低下を来たし、塗膜強度が低下するため好ましくない。
【００１６】
フィルムに０．１〜５μｍ程度の微細な凹凸を形成する手段としては、樹脂バインダーとして放射線硬化型樹脂を用い（メタ）アクリルシラン処理したシリカを、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類等の溶剤に分散し適宜粘度調整した塗工液をグラビアコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法など通常公知の方法で塗布し、乾燥後、電子線あるいは紫外線を照射して硬化させる。
【００１７】
電子線を照射する場合は、走査型あるいはカーテン型の電子線加速器を用い、加速電圧１０００ｋｅＶ以下、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を照射し、紫外線を照射する場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、メタルハライドランプ等を用い、１００〜４００ｎｍ、好ましくは２００〜４００ｎｍの波長領域で、５０〜３００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーを有する紫外線を照射する。硬化阻害を防止するため、窒素ガス等の不活性ガス下で照射を行ってもよい。
【００１８】
配合割合は樹脂バインダーの固形分１００重量部に対して、（メタ）アクリルシラン処理シリカ０．１〜１０重量部とするのが望ましく、下限に満たないと十分なアンチニュートン性が得られず、上限を超えると粒子密度が高く、ヘイズ向上の要因となり、高精細な画像が得られない。
【００１９】
樹脂バインダーとして用いる放射線硬化型樹脂としては、放射線硬化型アクリルウレタン系樹脂、放射線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、放射線硬化型エポキシアクリレート系樹脂等を挙げることができる。とりわけ、硬度が高く、変色の観点より放射線硬化型アクリルウレタン樹脂を用いるのが好ましい。
【００２０】
放射線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、ポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー若しくはプレポリマーを反応させ、得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する有するアクリレート又はメタクリレート系のモノマーを反応させたものを用いることができる。
【００２１】
とりわけ多官能（メタ）アクリレートを用いることが望まく、（メタ）アクリレート密度を上げ、有機物の架橋度を上げることで硬さ特性を付与することができるからである。官能基数は３〜６が望ましく、６官能より多いと低照射量での硬化が可能となるが塗工、硬化後に不飽和基が残存し変色など耐光性に欠け、逆に３官能より少ないと高照射量が必要となり架橋密度低下につながりシリカの硬さ特性を引き出すことが困難となる。
【００２２】
多官能（メタ）アクリレートは、分子中に２個以上のアクリロイル基及び／またはメタクロイル基を有する化合物であり、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは、単独、または混合して使用しても良い。また必要に応じ単官能（メタ）アクリレートを混合し使用することもできる。
【００２３】
単官能（メタ）アクリレートとしてヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアミル（メタ）アクリレート、ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートや、エトキシエチル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレートなどが挙げられ、これらは１種単独であるいは２種以上併用することができる。
【００２４】
放射線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、ポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する有するアクリレート又はメタクリレート系のモノマーを反応させたものを用いることができる。
【００２５】
又、放射線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤を添加し、反応させたものをものを用いることができる。
【００２６】
紫外線や電子線の電離放射線による重合の際に用いる開始剤としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシドなどが挙げられ、市販品としてはイルガキュア１８４、３６９、６５１、５００、９０７、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１（以上、チバガイギー製）；ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８（ＢＡＳＦ製）；Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１１６、１１７３（以上、メルク製）；ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ製）などが挙げられる。
【００２７】
その他、必要に応じて帯電防止剤、導電性高分子、金属酸化物等を添加してもよく、帯電防止剤としてポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノール、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミド、脂肪酸ポリエチレングリコールエステル、脂肪酸ソルビタンエステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ソルビタンエステル、脂肪酸グリセリンエステル、アルキルポリエチレンイミン等を挙げることができる。カチオン系としてアルキルアミン塩、アルキル第４級アンモニウム塩、アルキルイミダゾリン誘導体等を挙げることができる。またエチレンオキサイドを骨格に持つアクリレート化合物なども使用することができる。
【００２８】
導電性高分子としては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ３，４−エチレンジオキシチオフェン及びこれらの誘導体を使用することができる。
【００２９】
金属酸化物としては、アンチモンドープ型酸化錫（ＡＴＯ）、錫ドープ型酸化インジウム（ＩＴＯ）、アルミニウムドープ型酸化亜鉛、アンチモン副酸化物などを使用することができる。
【００３０】
また、その他にリチウムイオンなどの金属イオンを混合するイオン伝導型の帯電防止剤も用いることができる。
【００３１】
以下、本発明を実施例、比較例に基づき詳細に説明するが、具体例を示すものであって特にこれらに限定するものではない。
【実施例】
【００３２】
実施例１
塗工液（Ａ）
ＭＥＫ５０重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０重量部（固形分１００％商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ  日本化薬株式会社製）及びアクリルシラン処理シリカ１重量部（平均粒子径１．９μｍ、商品名：ＳＥ６０５０−ＳＹＢ  アドマテックス株式会社製）、光開始剤３重量部（商品名  イルガキュア１８４  チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製）を混合し攪拌した。次いで、塗工液（Ａ）を１８８μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（商品名  ルミラー  東レ（株）製）にドライ膜厚が１．５μｍとなるように塗布し、８０℃で２分乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの水銀灯で、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【００３３】
実施例２
塗工液（Ｂ）
ＭＥＫ５０重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０重量部（固形分１００％商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ  日本化薬株式会社製）及びアクリルシラン処理シリカ５重量部（平均粒子径１．０μｍ、商品名：ＳＣ４０５０−ＳＹＥ  アドマテックス株式会社製）、光開始剤３重量部（商品名  Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４  チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製）を混合し攪拌した。次いで、塗工液（Ｂ）を１８８μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（商品名  ルミラー  東レ（株）製）にドライ膜厚が１．５μｍとなるように塗布し、８０℃で２分乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの水銀灯で、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【００３４】
実施例３
塗工液（Ｃ）
ＭＥＫ５０重量部に対し、テトラメチロールメタントリアクリレート５０重量部（固形分１００％商品名：Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭ−Ｎ  新中村化学工業株式会社製）及びアクリルシラン処理シリカ１重量部（平均粒子径１．９μｍ、商品名：ＳＥ６０５０−ＳＹＢ  アドマテックス株式会社製）、光開始剤３重量部（商品名  イルガキュア１８４  チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製）を混合し攪拌した。次いで、塗工液（Ｃ）を１８８μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（商品名  ルミラー  東レ（株）製）にドライ膜厚が１．５μｍとなるように塗布し、８０℃で２分乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの水銀灯で、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【００３５】
実施例４
塗工液（Ｄ）
ＭＥＫ５０重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０重量部（固形分１００％商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ  日本化薬株式会社製）及びアクリルシラン処理シリカ２．５重量部（平均粒子径３．５μｍ  商品名：ＵＦ−３２０  株式会社トクヤマ製をアクリルシラン（ＫＢＭ−５１０３：３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業株式会社）により表面処理）、光開始剤３重量部（商品名  イルガキュア１８４  チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製）を混合し攪拌した。次いで、塗工液（Ｄ）を１８８μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（商品名  ルミラー  東レ（株）製）にドライ膜厚が２．０μｍとなるように塗布し、８０℃で２分乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの水銀灯で、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【００３６】
実施例５
塗工液（Ｅ）
ＭＥＫ５０重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０重量部（固形分１００％商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ  日本化薬株式会社製）及びアクリルシラン処理シリカ２．５重量部（平均粒子径３．５μｍ  商品名：ＵＦ−３２０  株式会社トクヤマ製をメタクリルシラン（ＫＢＭ−５０３：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン：信越化学工業株式会社）により表面処理）、光開始剤３重量部（商品名  イルガキュア  チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製）を混合し攪拌した。次いで、塗工液（Ｅ）を１８８μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（商品名  ルミラー  東レ（株）製）にドライ膜厚が２．０μｍとなるように塗布し、８０℃で２分乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの水銀灯で、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【００３７】
実施例６
塗工液（Ｆ）
ＭＥＫ５０重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０重量部（固形分１００％商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ  日本化薬株式会社製）及びメタクリルシラン処理シリカ１重量部（平均粒子径３．１μｍ  商品名：サイリシア４２０  富士シリシア化学株式会社製をメタクリルシラン（ＫＢＭ−５０２：３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン：信越化学工業株式会社）により表面処理  固形分５０％）、光開始剤３重量部（商品名  イルガキュア１８４  チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製）を混合し攪拌を行う。次いで、塗工液（Ｆ）を１８８μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（商品名  ルミラー  東レ（株）製）にドライ膜厚が２．０μｍとなるように塗布し、８０℃で２分乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの水銀灯で、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【００３８】
実施例７
塗工液（Ｇ）
ＭＥＫ５０重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０重量部（固形分１００％商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ  日本化薬株式会社製）及びメタクリルシラン処理シリカ１重量部（平均粒子径１．３μｍ  商品名：ＵＦ−１０５  株式会社トクヤマ製をメタクリルシラン（ＫＢＥ−５０３：３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン：信越化学工業株式会社）により表面処理）、光開始剤３重量部（商品名  イルガキュア１８４  チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製）を混合し攪拌した。次いで、塗工液（Ｇ）を１８８μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（商品名  ルミラー  東レ（株）製）にドライ膜厚が２．０μｍとなるように塗布し、８０℃で２分乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの水銀灯で、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【００３９】
比較例１
実施例１において、シリカを未処理シリカ（平均粒径１．３μｍ  商品名：ＵＦ−１０５  株式会社トクヤマ製）にした以外は同様に実施した。
【００４０】
比較例２
実施例１において、シリカを未処理シリカ（平均粒径２．７μｍ  商品名：ＵＦ−３０５  株式会社トクヤマ製）にし、シリカ配合量を２．５重量部に変更した以外は同様に実施した。
【００４１】
比較例3
実施例１において、シリカをエポキシ処理シリカ（平均粒径０．６μｍ  商品名：ＳＣ−２０５０ＭＮＪ  アドマテックス株式会社製）に変更した以外は同様に実施した。
【００４２】
比較例４
実施例１において、シリカ量を７．５重量部に変更した以外は同様に実施した。
【００４３】
比較例５
実施例１において、シリカ量を０．０２５重量部に変更した以外は同様に実施した。
【００４４】
比較例６
実施例１において、シリカを未処理シリカ（平均粒径８μｍ  商品名：サイリシア４５０  富士シリシア化学株式会社製）に変更した以外は同様に実施した。
【００４５】
比較例７
実施例６において、シリカを未処理シリカ（平均粒径８μｍ  商品名：サイリシア４５０  富士シリシア化学株式会社製）に変更した以外は同様に実施した。
【００４６】
比較例８
塗工液（Ｈ）
ＭＥＫ７０重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３０重量部（固形分１００％商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ  日本化薬株式会社製）及びコロイダルシリカ溶液０．７５重量部（平均粒子径０．０３μｍ  固形分５０％  商品名：ＭＥＫ−ＳＴ  日産化学工業株式会社製）、光開始剤３重量部（商品名  イルガキュア１８４  チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製）を混合し攪拌した。次いで、塗工液（Ｈ）を１８８μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（商品名  ルミラー  東レ（株）製）にドライ膜厚が２μｍとなるように塗布し、８０℃で２分乾燥後、８０Ｗ／ｃｍの水銀灯で、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線処理を行った。
【００４７】
実施例、比較例の配合を表１に示す。
【００４８】
【表１】
2007072735.tif 000002
【００４９】
評価結果を表２に示す。
【００５０】
【表２】
2007072735.tif 000003
【００５１】
評価方法
凝集；硬化させた塗工フィルムの表面を実体顕微鏡により観察し、粒子の分布状態を確認した。
光干渉による色縞（色縞）；透明タッチパネルを作製し、表面シート側から指で圧した場合の目視判定により行った。
ぎらつき；全面に緑色を表示させた液晶ディスプレイ表面上に作成した高精細フィルムを置き、３０ｃｍ離れたところから見て特定の部分の輝度が高くなる不自然な「輝き」を目視により確認した。
１：不自然な輝きが全くない。
２：不自然な輝きが極めて少ない。
３：不自然な輝きが少ない。
４：不自然な輝きがあるが画面が見づらくはない。
５：不自然な輝きがあり、画面中に見づらい個所があり、実用上、問題が生じるレベルである。
６：不自然な輝きが多く、全体的に画面が見づらい。