(57)【要約】【課題】４４０ｎｍ以下のレーザー光照射によって行われる情報の高密度記録及び再生が良好に可能であり、かつ光保存性の良好な光情報記録媒体および当該光情報記録媒体への情報記録方法を提供する。【解決手段】基板上に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が分子内に独立に２個以上の色素残基を有し、それらの色素残基が共役結合を介さずに結合してなる色素を含有することを特徴とする光記録情報媒体である。また、既述の本発明の光情報記録媒体に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射して情報を記録することを特徴とする情報記録方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が分子内に独立に２個以上の色素残基を有し、それらの色素残基が共役結合を介さずに結合してなる色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記色素が下記一般式（１）で表される構造であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
一般式（１）
【化１】
2007276438.tif 000039
（一般式（１）中、Ｄｙｅ１１、Ｄｙｅ１２、Ｄｙｅ２ｋは色素残基を表し、Ｌ１１、Ｌ２ｋはそれらが結合した色素残基間でπ共役系の共役結合を形成しない２価の連結基を表し、ｎは０以上１０以下の整数を表し、ｋは０以上かつｎ以下のすべての整数を表し、Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。）
【請求項３】
前記色素残基がオキソノール色素残基であることを特徴とする請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記色素が、下記一般式（２−１）、下記一般式（２−２）、下記一般式（２−３）、下記一般式（２−４）、および下記一般式（２−５）のいずれかで表されることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【化２】
2007276438.tif 000040
（上記一般式（２−１）、（２−２）、（２−３）、（２−４）および（２−５）中、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍは０乃至１の整数を表し、ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｚａ５、Ｚａ６は酸性核を形成する原子群であり、Ｌ１１、Ｑ、ｙの定義は一般式（１）のＬ１１、Ｑ、ｙと同一であり、Ｙは−Ｏ−または−ＮＲ１−または−ＣＲ２Ｒ３−のいずれかであり、Ｒ１〜Ｒ９は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｚは置換または無置換のアルキレン基を表し、ｘは１または２を表す。Ｇは酸素原子または硫黄原子を表す。）
【請求項５】
前記一般式（２−１）、一般式（２−２）、一般式（２−３）、一般式（２−４）、および一般式（２−５）中のｍが０であることを特徴とする請求項４に記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
前記色素が、下記一般式（５−１）、下記一般式（５−２）、下記一般式（５−３）、下記一般式（５−４）、および下記一般式（５−５）のいずれかで表されることを特徴とする請求項５に記載の光情報記録媒体。
【化３】
2007276438.tif 000041
（上記一般式（５−１）、上記一般式（５−２）、上記一般式（５−３）、上記一般式（５−４）、および上記一般式（５−５）中、Ｒ、Ｚ、Ｙ、Ｑ、ｙの定義は一般式（２−１）〜（２−５）のＲ、Ｚ、Ｙ、Ｑ、ｙと同一である。Ｒ１〜Ｒ９は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｇは酸素原子または硫黄原子を表す。ｘは１または２である。）
【請求項７】
前記記録層とは別に金属からなる光反射層が設けられていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項８】
前記記録層とは別に保護層が設けられていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項９】
前記基板が、その表面にトラックピッチ５０〜６００ｎｍのプリグルーブを有する透明な円盤状基板であり、前記記録層が前記プリグルーブが形成された面側に設けられていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光情報記録媒体。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の光情報記録媒体に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射して情報を記録することを特徴とする情報記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー光を用いて情報の記録および再生が可能な光情報記録媒体および情報記録方法に関するものである。特に本発明は、波長４４０ｎｍ以下の短波長レーザー光を用いて情報を記録するのに適したヒートモード型の光情報記録媒体および情報記録方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００３】
最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映により、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。前述のＣＤ−Ｒ及び、可視レーザー光（６３０ｎｍ〜６８０ｎｍ）を記録用レーザーとして高密度記録を可能とした追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）は、大容量の記録媒体としての地位をある程度までは確保されるものの、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量を有しているとは言えない。そこで、ＤＶＤ−Ｒよりも更に短波長のレーザー光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が進められ、例えば４０５ｎｍの青色レーザーを用いたＢｌｕ−ｒａｙ方式と称する光記録ディスクが上市された。
【０００４】
有機色素を含む記録層を有する光情報記録媒体において、記録層側から光反射層側に向けて波長５３０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより、情報の記録再生を行う記録再生方法が開示されている。具体的には、記録層の色素として、ポルフィリン化合物、アゾ系色素、金属アゾ系色素、キノフタロン系色素、トリメチンシアニン色素、ジシアノビニルフェニル骨格色素、クマリン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物等を用いた光ディスクに、青色（波長４３０ｎｍ、４８８ｎｍ）又は青緑色（波長５１５ｎｍ）のレーザー光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法が提案されている。またオキソノール色素を記録層の色素として用いた光ディスクに、５５０ｎｍ以下のレーザー光を照射することにより情報の記録再生を行う情報記録再生方法が提案されている（例えば、特許文献１〜２１参照）。
【０００５】
しかしながら、本発明者の検討によれば、上記公報に記載された公知の色素を使用した光ディスクでは記録特性が満足できるレベルでなかった。また、特許文献２１で開示されているオキソノール色素類を使用した光ディスクは、該特許で使用されているオキソノール色素類の光保存性が低いため、実用上不満足な点があった。また、特許文献２２に記載のオキソノール色素は光保存性は充分ではあるが、波長４４０ｎｍ以下のレーザーにより情報記録可能な色素は記載されていない。
【特許文献１】特開２００１−２８７４６０号公報
【特許文献２】特開２００１−２８７４６５号公報
【特許文献３】特開２００１−２５３１７１号公報
【特許文献４】特開２００１−３９０３４号公報
【特許文献５】特開２０００−３１８３１３号公報
【特許文献６】特開２０００−３１８３１２号公報
【特許文献７】特開２０００−２８０６２１号公報
【特許文献８】特開２０００−２８０６２０号公報
【特許文献９】特開２０００−２６３９３９号公報
【特許文献１０】特開２０００−２２２７７２号公報
【特許文献１１】特開２０００−２２２７７１号公報
【特許文献１２】特開２０００−２１８９４０号公報
【特許文献１３】特開２０００−１５８８１８号公報
【特許文献１４】特開２０００−１４９３２０号公報
【特許文献１５】特開２０００−１０８５１３号公報
【特許文献１６】特開２０００−１１３５０４号公報
【特許文献１７】特開２００２−３０１８７０号公報
【特許文献１８】特開２００１−２８７４６５号公報
【特許文献１９】米国特許  ２００２／７６６４８Ａ１
【特許文献２０】特開２００３−９４８２８号公報
【特許文献２１】特開２００１−７１６３８号公報
【特許文献２２】特開２００４−１８８９６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
以上から、本発明は上記従来の問題を解決することを目的とする。すなわち、本発明の目的は、４４０ｎｍ以下のレーザー光照射によって行われる情報の高密度記録及び再生が良好に可能であり、かつ光保存性の良好な光情報記録媒体および当該光情報記録媒体への情報記録方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記の問題が特定の構造の色素を使用すると解決できることを見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は、基板上に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が分子内に独立に２個以上の色素残基を有し、それらの色素残基が共役結合を介さずに結合してなる色素を含有することを特徴とする光情報記録媒体である。
【０００８】
記録層が分子内に独立に２個以上の色素残基を有し、それらの色素残基が共役結合を介さずに結合してなる色素を含有することで、４４０ｎｍ以下のレーザー光照射によって行われる情報の高密度記録及び再生が良好に可能となり、かつ、光保存性を良好にすることができる。これは、単位体積あたりの色素会合が抑制されることによるものと考えられる。
【０００９】
本発明の光情報記録媒体には、下記第１〜第８の態様のうち少なくとも１の態様が適用されることが好ましい。
【００１０】
（１）第１の態様は、前記色素が下記一般式（１）で表される構造である態様である。
【００１１】
一般式（１）
【化１】
2007276438.tif 000002
【００１２】
（一般式（１）中、Ｄｙｅ１１、Ｄｙｅ１２、Ｄｙｅ２ｋは色素残基を表し、Ｌ１１、Ｌ２ｋはそれらが結合した色素残基間でπ共役系の共役結合を形成しない２価の連結基を表し、ｎは０以上１０以下の整数を表し、ｋは０以上かつｎ以下のすべての整数を表し、Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。）
【００１３】
前記色素が一般式（１）で表される構造であるので、単位体積当たりの色素会合が抑制され、光堅牢性を向上させることができる。
【００１４】
（２）第２の態様は、前記色素残基がオキソノール色素残基である態様である。一般に多量化色素は溶媒に対して難溶であるがオキソノール色素残基であることで、フッ素アルコールへの溶解性を増大させることができる。
【００１５】
（３）第３の態様は、前記色素が、下記一般式（２−１）、下記一般式（２−２）、下記一般式（２−３）、下記一般式（２−４）および下記一般式（２−５）のいずれかで表される態様である。
【００１６】
【化２】
2007276438.tif 000003
【００１７】
（上記一般式（２−１）、（２−２）、（２−３）、（２−４）、および（２−５）中、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍは０乃至１の整数を表し、ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｚａ５、Ｚａ６は酸性核を形成する原子群であり、Ｌ１１、Ｑ、ｙの定義は一般式（１）のＬ１１、Ｑ、ｙと同一であり、Ｙは−Ｏ−または−ＮＲ１−または−ＣＲ２Ｒ３−のいずれかであり、Ｒ１〜Ｒ９は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｚは置換または無置換のアルキレン基を表し、ｘは１または２を表す。Ｇは酸素原子または硫黄原子を表す。）
【００１８】
上記一般式（２−１）、上記一般式（２−２）、上記一般式（２−３）、上記一般式（２−４）、および上記一般式（２−５）は、分解性が良いため、良好な記録を可能にすることができる。
【００１９】
（４）第４の態様は、前記一般式（２−１）、一般式（２−２）、一般式（２−３）、一般式（２−４）、および一般式（２−５）中のｍが０である態様である。ｍが０であると、ｍが１以上の時と比較して高い光安定性を得ることができるといった効果が得られる。これは、ｍが０のときは共役鎖が立体的に込み入っているため一重項酸素が付加し難いためであると考えられる。
【００２０】
（５）第５の態様は、前記色素が、下記一般式（５−１）、下記一般式（５−２）、下記一般式（５−３）、下記一般式（５−４）および下記一般式（５−５）で表されるオキソノール色素である態様である。
【００２１】
【化３】
2007276438.tif 000004
【００２２】
（上記一般式（５−１）、上記一般式（５−２）、上記一般式（５−３）、上記一般式（５−４）、および上記一般式（５−５）中、Ｒ、Ｚ、Ｙ、Ｑ、ｙの定義は一般式（２−１）〜（２−５）のＲ、Ｚ、Ｙ、Ｑ、ｙと同一である。Ｒ１〜Ｒ９は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｇは酸素原子または硫黄原子を表す。ｘは１または２である。）
【００２３】
上記一般式（５−１）、上記一般式（５−２）、上記一般式（５−３）、上記一般式（５−４）、および上記一般式（５−５）は、分解性が良いため、良好な記録を可能にすることができる。
【００２４】
（６）第６の態様は、前記記録層とは別に金属からなる光反射層が設けられている態様である。光反射層が設けられることで、情報の再生時における反射率を向上させることができる。
（７）第７の態様は、前記記録層とは別に保護層が設けられている態様である。保護層が設けられていることで、種々の層を保護することができる。
（８）前記基板が、その表面にトラックピッチ５０〜６００ｎｍのプリグルーブを有する透明な円盤状基板であり、前記記録層が前記プリグルーブが形成された面側に設けられている態様である。かかる構成とすることで、情報の高密度記録をより確実に行うことができる。
【００２５】
また、本発明は、既述の本発明の光情報記録媒体に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光を照射して情報を記録することを特徴とする情報記録方法である。本発明の情報記録方法によれば、既述の本発明の光情報記録媒体を使用しているため、情報の高密度記録及び再生を良好に行うことができる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、４４０ｎｍ以下のレーザー光照射によって行われる情報の高密度記録及び再生が良好に可能であり、かつ光保存性の良好な光情報記録媒体および当該光情報記録媒体への情報記録方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
〔１〕光情報記録媒体
本発明の光情報記録媒体は、基板上に波長４４０ｎｍ以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な記録層を有する光情報記録媒体であって、該記録層が分子内に独立に２個以上の色素残基を有し、それらの色素残基が共役結合を介さずに結合してなる色素を含有する。ここで、色素残基とは、色素を示す構造式中の水素原子が１つ引き抜かれ、他の化合物に結合可能な構造の基をいう。
【００２８】
以下に本発明の光情報記録媒体を詳細に説明する。なお、本発明において、特定の部分を「基」と称した場合には、特に断りの無い限りは、一種以上の（可能な最多数までの）置換基で置換されていても、置換されていなくても良いことを意味する。
【００２９】
例えば、「アルキル基」とは、置換または無置換のアルキル基を意味する。また、本発明における化合物に使用できる置換基は、置換の有無にかかわらず、どのような置換基でも良い。さらに、本発明において、特定の部分を「環」と称した場合、あるいは「基」に「環」が含まれる場合は、特に断りの無い限りは単環でも縮環でも良く、置換されていても置換されていなくても良い。例えば、「アリール基」はフェニル基でもナフチル基でも良く、置換フェニル基でも良い。
【００３０】
前記色素は、下記一般式（１）で表される構造であるが好ましい。下記一般式（１）において、Ｄｙｅ１１、Ｄｙｅ１２、Ｄｙｅ２ｋはそれぞれ独立に色素残基を表す。Ｄｙｅ１１、Ｄｙｅ１２、Ｄｙｅ２ｋで表される色素残基を形成するものはいかなるものでも構わないが、例えば、シアニン色素、スチリル色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、オキソノール色素、アゾ色素、アザメチン色素、スクアリウム色素、金属キレート錯体色素の残基が挙げられる。なかでも、Ｄｙｅ１１、Ｄｙｅ１２、Ｄｙｅ２ｋで表される色素残基を形成するものとして好ましくは、シアニン色素、メロシアニン色素、オキソノール色素、フタロシアニン色素、金属キレート色素の残基が挙げられる。Ｄｙｅ１１、Ｄｙｅ１２、Ｄｙｅ２ｋで表される色素残基を形成するものとして更に好ましくは、シアニン色素、メロシアニン色素、オキソノール色素の残基のいずれかであり、シアニン色素またはオキソノール色素が最も好ましい。Ｄｙｅ１１、Ｄｙｅ１２、Ｄｙｅ２ｋで表される色素残基を形成するものはそれぞれ異なっても同一でも良いが、同一であることが好ましい。Ｌ１１、Ｌ２ｋはそれらが結合した色素残基間でπ共役系の共役結合を形成しない２価の連結基を表し、ｎは０以上１０以下の整数を表し、ｋは０以上かつｎ以下のすべての整数を表し、Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。
【００３１】
一般式（１）
【化４】
2007276438.tif 000005
【００３２】
Ｄｙｅ１１、Ｄｙｅ１２、Ｄｙｅ２ｋで表される色素残基がシアニン色素残基の場合、残基となるシアニン色素としては、下記一般式（２）で表されるシアニン色素が好ましい。
【００３３】
「一般式（２）」
【化５】
2007276438.tif 000006
【００３４】
一般式（２）中、Ｚａ１及びＺａ２は各々５員または６員の含窒素複素環を形成する原子群を表わし、これらはさらにベンゼン環、ベンゾフラン環、ピリジン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環などで縮環されていてもよい。
【００３５】
Ｒａ１及びＲａ２は各々、水素原子、置換または無置換のアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ベンジル、３−スルホプロピル、４−スルホブチル、３−メチル−３−スルホプロピル、２’−スルホベンジル、カルボキシメチル、５−カルボキシペンチル）、置換または無置換のアルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、例えば、ビニル、アリル）、置換または無置換のアリール基（好ましくは炭素数６〜２０、例えば、フェニル、２−クロロフェニル、４−メトキシフェニル、３−メチルフェニル、１−ナフチル）、置換または無置換のヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２０、例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ）を表し、好ましくは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のスルホアルキル基を表し、より好ましくは置換または無置換のアルキル基または置換または無置換のスルホアルキル基を表す。Ｍａ１〜Ｍａ７は各々独立にメチン基を表わし、置換基を有していてもよく、置換基として好ましくは例えば炭素数１〜２０のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｉ−プロピル）、ハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素）、ニトロ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ）、炭素数６〜２６のアリール基（例えば、フェニル、２−ナフチル）、炭素数０〜２０のヘテロ環基（例えば、２−ピリジル、３−ピリジル）、炭素数６〜２０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ、２−ナフトキシ）、炭素数１〜２０のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ）、炭素数１〜２０のカルバモイル基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基（例えばメチルチオ）、シアノ基などが挙げられる。また、他のメチン基と環を形成してもよく、もしくは助色団と環を形成することもできる。
【００３６】
Ｍａ１〜Ｍａ７は、好ましくは無置換、エチル基置換、メチル基置換のメチン基である。ｎａ１及びｎａ２は０または１であり、好ましくは０である。ｋａ１は０から３までの整数を表わす。好ましくは０から２までの整数であり、より好ましくは０である。ｋａ１が２以上の時、Ｍａ３、Ｍａ４は同じでも異なってもよい。Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。
【００３７】
なお、一般式（２）において、Ｚａ１、Ｚａ２、Ｒａ１、Ｒａ２、Ｍａ１〜Ｍａ７を構成するいずれかの水素原子を抜く形で、一般式（１）の色素残基として連結基Ｌ１１、Ｌ２ｋと結合させることができる。
【００３８】
Ｄｙｅ１１、Ｄｙｅ１２、Ｄｙｅ２ｋで表される色素残基を形成するものがメロシアニン色素残基の場合、残基となるメロシアニン色素としては、下記一般式（３）で表されるメロシアニン色素が好ましい。
【００３９】
「一般式（３）」
【化６】
2007276438.tif 000007
【００４０】
上記一般（３）式中、Ｚａ３は５員または６員の含窒素複素環を形成する原子群を表わし、これらはさらにベンゼン環、ベンゾフラン環、ピリジン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環などで縮環されていてもよい。Ｚａ４は酸性核を形成する原子群を表わす。Ｒａ３は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基（以上好ましい例はＲａ１、Ｒａ２に同じ）を表わす。Ｍａ８〜Ｍａ１１は各々独立にメチン基を表わす（好ましい例はＭａ１〜Ｍａ７に同じ）。ｎａ３は０または１である。ｋａ２は０から３までの整数を表し、好ましくは０から２の整数を表す。Ｑは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。ｋａ２が２以上の時、Ｍａ１０、Ｍａ１１は同じでも異なってもよい。なお、一般式（３）にて、Ｚａ３、Ｚａ４、Ｒａ３、Ｍａ８〜Ｍａ１１を構成するいずれかの水素原子を抜く形で、一般式（１）の色素残基として連結基Ｌと結合させることができる。
【００４１】
Ｄｙｅ１１、Ｄｙｅ１２、Ｄｙｅ２ｋで表される色素残基を形成するものがオキソノール色素残基の場合について説明する。本発明においてオキソノール色素とは、アニオン性色素を有するポリメチン色素と定義する。記録特性に優れる点で、下記一般式（Ｉ）で表されるオキソノール色素が特に好適に用いられる。
【００４２】
【化７】
2007276438.tif 000008
【００４３】
一般式（Ｉ）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは電子吸引性基を表し、「ＡとＢ」もしくは「ＣとＤ」は互いに連結して環を形成していてもよく、互いに結合しない場合にはＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基である。Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍは０乃至３の整数を表し、ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｑは電荷を中和するイオンを表わし、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。
【００４４】
一般式（Ｉ）はアニオンの局在位置の表記の違いによる複数の互変異性体を含むものであるが、特にＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄのいずれかが−ＣＯ−Ｅ（Ｅは置換基）である場合、酸素原子上に負電荷を局在させて表記することが一般的である。例えばＤが−ＣＯ−Ｅである場合、表記としては下記一般式（ＩＩ）が一般的であり、このような表記のものも一般式（Ｉ）に含まれる。
【００４５】
【化８】
2007276438.tif 000009
【００４６】
上記一般式（ＩＩ）におけるＡ、Ｂ、Ｃ、Ｒ、ｍ、ｎ、Ｑ、ｙの定義は一般式（Ｉ）と同一である。
【００４７】
以下、上記一般式（Ｉ）で表されるオキソノール色素について説明する。一般式（Ｉ）において、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは電子吸引性基を表し、ＡとＢもしくはＣとＤは互いに連結して環を形成していてもよく、互いに結合しない場合にはＡとＢのハメットのσｐ値の合計及びＣとＤのハメットのσｐ値の合計がそれぞれ０．６以上となる電子吸引性基である。Ａ、Ｂ、ＣおよびＤはそれぞれ同一でもよく、また異なっていてもよい。Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤで表される電子吸引性基のハメットの置換基定数σｐ値は、それぞれ独立に０．３０〜０．８５の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、０．３５〜０．８０の範囲である。
【００４８】
ハメットの置換基定数σｐ値（以下、σｐ値という）は、例えばＣｈｅｍ．Ｒｅｖ．９１，１６５（１９９１）及びこれに引用されている参考文献に記載されており、記載されていないものについても同文献記載の方法によって求めることが可能である。ＡとＢ（ＣとＤ）が連結して環を形成している場合、Ａ（Ｃ）のσｐ値は、−Ａ−Ｂ−Ｈ（−Ｃ−Ｄ−Ｈ）基のσｐ値を意味し、Ｂ（Ｄ）のσｐ値は、−Ｂ−Ａ−Ｈ（−Ｄ−Ｃ−Ｈ）基のσｐ値を意味する。この場合、両者は結合の方向が異なるためσｐ値は異なる。
【００４９】
Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤで表される電子吸引性基の好ましい具体例としては、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１乃至１０のアシル基（例、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ベンゾイル）、炭素原子数２乃至１２のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、デシルオキシカルボニル）、炭素原子数７乃至１１のアリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル）、炭素原子数１乃至１０のカルバモイル基（例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、フェニルカルバモイル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルホニル基（例、メタンスルホニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルホニル基（例、ベンゼンスルホニル）、炭素原子数１乃至１０のアルコキシスルホニル基（例、メトキシスルホニル）、炭素原子数１乃至１０のスルファモイル基（例、エチルスルファモイル、フェニルスルファモイル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルフィニル基（例、メタンスルフィニル、エタンスルフィニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルフィニル基（例、ベンゼンスルフィニル）、炭素原子数１乃至１０のアルキルスルフェニル基（例、メタンスルフェニル、エタンスルフェニル）、炭素原子数６乃至１０のアリールスルフェニル基（例、ベンゼンスルフェニル）、ハロゲン原子、炭素原子数２乃至１０のアルキニル基（例、エチニル）、炭素原子数２乃至１０のジアシルアミノ基（例、ジアセチルアミノ）、ホスホリル基、カルボキシル基、５員もしくは６員のヘテロ環基（例えば、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキサゾリル、３−ピリジル、５−（１Ｈ）−テトラゾリル、４−ピリミジル）であり、好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を挙げることができる。
【００５０】
一般式（Ｉ）において、Ｒで表されるメチン炭素上の置換基としては、例えば以下に記載のものを挙げることができる。炭素原子数１〜２０の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル）、炭素原子数６〜１８の置換又は無置換のアリール基（例えば、フェニル、クロロフェニル、アニシル、トルイル、２，４−ジ−ｔ−アミル、１−ナフチル）、アルケニル基（例えば、ビニル、２−メチルビニル）、アルキニル基（例えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエチニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、アルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メトキシプロピルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ）、
【００５１】
アルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル）、炭素原子数１〜１０のカルバモイル基、炭素原子数１〜１０のアミド基、炭素原子数２〜１２のイミド基、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基、ヘテロ環基（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環などの脂肪族ヘテロ環）である。
【００５２】
Ｒとして好ましいものは、ハロゲン原子、炭素原子数１乃至８の鎖状又は環状のアルキル基、炭素原子数６乃至１０のアリール基、炭素原子数１乃至８のアルコキシ基、炭素原子数６乃至１０のアリールオキシ基、炭素原子数３乃至１０のヘテロ環基であり、特に塩素原子、炭素原子数１乃至４のアルキル基（例：メチル、エチル、イソプロピル）、フェニル、炭素原子数１乃至４のアルコキシ基（例：メトキシ、エトキシ）、フェノキシ、炭素原子数４乃至８の含窒素ヘテロ環基（例：４−ピリジル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル）が好ましい。
【００５３】
ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表すが、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成してもよい。このとき環員数は４乃至８が好ましく、特に５又は６が好ましく、環の構成原子は炭素原子、酸素原子又は窒素原子が好ましく、特に炭素原子が好ましい。
【００５４】
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ及びＲは更に置換基を有していてもよく、置換基の例としては、一般式（Ｉ）におけるＲで表される一価の置換基の例として先に挙げたものと同様のものを挙げることができる。
【００５５】
光ディスクに用いられる色素としては熱分解性の観点からＡとＢ、または、ＣとＤが連結して環を形成することが好ましく、そのような環の例として以下のようなもの（Ａ−１〜Ａ−６６）が挙げられる。なお、例示中、Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
【００５６】
【化９】
2007276438.tif 000010
【００５７】
【化１０】
2007276438.tif 000011
【００５８】
【化１１】
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【００５９】
【化１２】
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【００６０】
【化１３】
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【００６１】
【化１４】
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【００６２】
【化１５】
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【００６３】
【化１６】
2007276438.tif 000017
【００６４】
上記のなかで好ましい環は、Ａ−２、Ａ−８、Ａ−９、Ａ−１０、Ａ−１３、Ａ−１４、Ａ−１６、Ａ−１７，Ａ−３６、Ａ−３９、Ａ−４２、Ａ−５４、Ａ−５７、Ａ−５９、Ａ−６１、Ａ−６５及びＡ−６６で示されるものである。更に好ましくは、Ａ−２、Ａ−９、Ａ−１０、Ａ−１３、Ａ−１７，Ａ−４２、Ａ−５４、Ａ−５７、Ａ−５９、Ａ−６１、Ａ−６５及びＡ−６６で示されるものである。最も好ましくは、Ａ−１３、Ａ−１７、Ａ−５４、Ａ−５７、Ａ−５９、Ａ−６１、Ａ−６５及びＡ−６６で示されるものである。
【００６５】
Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃで表される置換基は、それぞれ前記Ｒで表される置換基として挙げたものと同義である。またＲａ、Ｒｂ及びＲｃはそれぞれ互いに連結して炭素環又は複素環を形成してもよい。炭素環としては、例えば、シクロヘキシル環、シクロペンチル環、シクロヘキセン環、及びベンゼン環などの飽和または不飽和の４〜７員の炭素環を挙げることができる。また複素環としては、例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロフラン環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、及びピラジン環などの飽和または不飽和の４〜７員の複素環を挙げることができる。これらの炭素環または複素環は更に置換されていてもよい。更に置換し得る基としては、前記Ｒで表される置換基として挙げたものと同義である。
【００６６】
一般式（Ｉ）において、ｍは０乃至３の整数であるが、このｍの値によって該オキソノール色素の吸収波長が大きく変化する。記録再生に用いるレーザの発振波長に応じて最適な吸収波長の色素を設計する必要があるが、この点においてｍの値の選択は重要である。記録再生に用いるレーザの中心発振波長が７８０ｎｍの場合（ＣＤ−Ｒ記録用の半導体レーザ）、一般式（Ｉ）においてｍは２又は３が好ましく、中心発振波長が６３５ｎｍ又は６５０ｎｍの場合（ＤＶＤ−Ｒ記録用の半導体レーザ）、ｍは１又は２が好ましく、中心発振波長が５５０ｎｍ以下の場合（例えば、中心発振波長４０５ｎｍの青紫色半導体レーザ）は、ｍは０又は１が好ましい。
【００６７】
一般式（Ｉ）で表されるオキソノール発色団は、任意の位置で結合して多量体を形成していてもよく、この場合の各単位は互いに同一でも異なっていてもよく、またポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、セルロース等のポリマー鎖に結合していてもよい。
【００６８】
なお一般式（Ｉ）においてＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｒを構成するいずれかの水素原子を抜く形で、一般式（１）の色素残基として連結基Ｌ１１、Ｌ２ｋと結合させることができる。
【００６９】
シアニン色素、メロシアニン色素およびオキソノール色素の具体例としては、Ｆ．Ｍ．Ｈａｒｍｅｒ著、Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｃｙａｎｉｎｅ  Ｄｙｅｓ  ａｎｄ  Ｒｅｌａｔｅｄ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ、Ｊｏｈｎ＆Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ、Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ、Ｌｏｎｄｏｎ、１９６４年刊に記載のものが挙げられる。
【００７０】
メチン色素は、一般式（２−１）、一般式（２−２）、一般式（２−３）、一般式（２−４）、および一般式（２−５）のいずれかで表されるオキソノール色素であることが好ましい。
【００７１】
【化１７】
2007276438.tif 000018
【００７２】
なお、上記一般式（２−１）、一般式（２−２）、一般式（２−３）、一般式（２−４）、および一般式（２−５）中、Ｒはメチン炭素上の置換基を表し、ｍは０乃至１の整数を表し、ｎは０乃至２ｍ＋１の整数を表し、ｎが２以上の整数のとき、複数個のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Ｚａ５、Ｚａ６は酸性核を形成する原子群であり、Ｌ１１、Ｑ、ｙの定義は一般式（１）のＬ１１、Ｑ、ｙと同一であり、Ｙは−Ｏ−または−ＮＲ１−または−ＣＲ２Ｒ３−のいずれかであり、Ｒ１〜Ｒ９は各々独立に水素原子または置換基を表し、Ｚは置換または無置換のアルキレン基を表し、ｘは１または２を表す。Ｇは酸素原子または硫黄原子を表し、酸素原子であることが好ましい。
【００７３】
また、Ｒ１〜Ｒ９で表される置換基としては特に限定されないが、一般式（Ｉ）中のＲで表される置換基と同じものが挙げられ、好ましい範囲も同じである。Ｚは置換または無置換のアルキレン基を表す。アルキレン基の好ましい例としては、置換または無置換のメチレン基、置換または無置換のエチレン基、置換または無置換のプロピレン基であり、より好ましくは置換または無置換のメチレン基、置換または無置換のエチレン基であり、更に好ましくは置換または無置換のメチレン基である。
【００７４】
前記一般式（２−１）、前記一般式（２−２）、前記一般式（２−３）、前記一般式（２−４）、および前記一般式（２−５）中のｍは、０であることが好ましい。
【００７５】
一般式（１）で表される色素の中でも、下記一般式（５−１）、下記一般式（５−２）、下記一般式（５−３）、下記一般式（５−４）、および下記一般式（５−５）で表される構造の色素を含有した光情報記録媒体が好ましい。
【００７６】
【化１８】
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【００７７】
上記一般式（５−１）、上記一般式（５−２）、上記一般式（５−３）、上記一般式（５−４）、および上記一般式（５−５）中、Ｒ１〜Ｒ９、Ｒ、Ｙ、Ｚ、Ｑ、ｙ、Ｇの定義は一般式（２−１）、（２−２）、（２−３）、（２−４）、（２−５）と同一である。ｘは１または２である。
【００７８】
Ｚａ１、Ｚａ２及びＺａ３としては炭素数３〜２５のオキサゾール核（例えば、２−３−メチルオキサゾリル、２−３−エチルオキサゾリル、２−３，４−ジエチルオキサゾリル、２−３−メチルベンゾオキサゾリル、２−３−エチルベンゾオキサゾリル、２−３−スルホエチルベンゾオキサゾリル、２−３−スルホプロピルベンゾオキサゾリル、２−３−メチルチオエチルベンゾオキサゾリル、２−３−メトキシエチルベンゾオキサゾリル、２−３−スルホブチルベンゾオキサゾリル、２−３−メチル−β−ナフトオキサゾリル、２−３−メチル−α−ナフトオキサゾリル、２−３−スルホプロピル−β−ナフトオキサゾリル、２−３−スルホプロピル−β−ナフトオキサゾリル、２−３−（３−ナフトキシエチル）ベンゾオキサゾリル、２−３，５−ジメチルベンゾオキサゾリル、２−６−クロロ−３−メチルベンゾオキサゾリル、２−５−ブロモ−３−メチルベンゾオキサゾリル、２−３−エチル−５−メトキシベンゾオキサゾリル、２−５−フェニル−３−スルホプロピルベンゾオキサゾリル、２−５−（４−ブロモフェニル）−３−スルホブチルベンゾオキサゾリル、
【００７９】
２−３−ジメチル−５，６−ジメチルチオベンゾオキサゾリル）、炭素数３〜２５のチアゾール核（例えば、２−３−メチルチアゾリル、２−３−エチルチアゾリル、２−３−スルホプロピルチアゾリル、２−３−スルホブチルチアゾリル、２−３，４−ジメチルチアゾリル、２−３，４，４−トリメチルチアゾリル、２−３−カルボキシエチルチアゾリル、２−３−メチルベンゾチアゾリル、２−３−エチルベンゾチアゾリル、２−３−ブチルベンゾチアゾリル、２−３−スルホプロピルベンゾチアゾリル、２−３−スルホブチルベンゾチアゾリル、２−３−メチル−β−ナフトチアゾリル、２−３−スルホプロピル−γ−ナフトチアゾリル、２−３−（１−ナフトキシエチル）ベンゾチアゾリル、２−３，５−ジメチルベンゾチアゾリル、２−６−クロロ−３−メチルベンゾチアゾリル、２−６−ヨード−３−エチルベンゾチアゾリル、２−５−ブロモ−３−メチルベンゾチアゾリル、２−３−エチル−５−メトキシベンゾチアゾリル、２−５−フェニル−３−スルホプロピルベンゾチアゾリル、２−５−（４−ブロモフェニル）−３−スルホブチルベンゾチアゾリル、２−３−ジメチル−５，６−ジメチルチオベンゾチアゾリルなどが挙げられる）、炭素数３〜２５のイミダゾール核（例えば、２−１，３−ジエチルイミダゾリル、２−１，３−ジメチルイミダゾリル、２−１−メチルベンゾイミダゾリル、２−１，３，４−トリエチルイミダゾリル、２−１，３−ジエチルベンゾイミダゾリル、２−１，３，５−トリメチルベンゾイミダゾリル、２−６−クロロ−１，３−ジメチルベンゾイミダゾリル、２−５，６−ジクロロ−１，３−ジエチルベンゾイミダゾリル、２−１，３−ジスルホプロピル−５−シアノ−６−クロロベンゾイミダゾリルなどが挙げられる）、
【００８０】
炭素数１０〜３０のインドレニン核（例えば、３，３−ジメチルインドレニン）、炭素数９〜２５のキノリン核（例えば、２−１−メチルキノリル、２−１−エチルキノリル、２−１−メチル６−クロロキノリル、２−１，３−ジエチルキノリル、２−１−メチル−６−メチルチオキノリル、２−１−スルホプロピルキノリル、４−１−メチルキノリル、４−１−スルホエチルキノリル、４−１−メチル−７−クロロキノリル、４−１，８−ジエチルキノリル、４−１−メチル−６−メチルチオキノリル、４−１−スルホプロピルキノリルなどが挙げられる）、炭素数３〜２５のセレナゾール核（例えば、２−３−メチルベンゾセレナゾリルなどが挙げられる）、炭素数５〜２５のピリジン核（例えば、２−ピリジルなどが挙げられる）などが挙げられ、さらに他にチアゾリン核、オキサゾリン核、セレナゾリン核、テルラゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、イミダゾリン核、イミダゾ［４，５−キノキザリン］核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核を挙げることができる。
【００８１】
これらは置換されても良く、置換基として好ましくは例えばアルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル）、ハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素）、ニトロ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ）、アリール基（例えば、フェニル）、ヘテロ環基（例えば２−ピリジル、３−ピリジル、１−ピロリル、２−チエニル）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ）、カルバモイル基（例えばＮ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、スルホ基、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、スルファモイル基（例えばＮ−メチルスルファモイル）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、シアノ基などが挙げられ、好ましくは、オキサゾール核、イミダゾール核、チアゾール核である。これらの複素環はさらに縮環されていてもよい。縮環する環としてはベンゼン環、ベンゾフラン環、ピリジン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環等が挙げられる。
【００８２】
Ｚａ４、Ｚａ５及びＺａ６は各々酸性核を形成するのに必要な原子群を表わし、Ｊａｍｅｓ  編、Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ、第４版、マクミラン社、１９７７年、第１９８頁により定義される。具体的には、２−ピラゾロン−５−オン、ピラゾリジン−３，５−ジオン、イミダゾリン−５−オン、ヒダントイン、２または４−チオヒダントイン、２−イミノオキサゾリジン−４−オン、２−オキサゾリン−５−オン、２−チオオキサゾリン−２，４−ジオン、イソローダニン、ローダニン、インダン−１，３−ジオン、チオフェン−３−オン、チオフェン−３−オン−１，１−ジオキシド、インドリン−２−オン、インドリン−３−オン、２−オキソインダゾリウム、５，７−ジオキソ−６，７−ジヒドロチアゾロ〔３，２−ａ〕ピリミジン、３，４−ジヒドロイソキノリン−４−オン、１，３−ジオキサン−４，６−ジオン、バルビツール酸、２−チオバルビツール酸、クマリンー２，４−ジオン、インダゾリン−２−オン、ピリド［１，２−ａ］ピリミジン−１，３−ジオン、ピラゾロ〔１，５−ｂ〕キナゾロン、ピラゾロピリドン、３−ジシアノメチリデニル−３−フェニルプロピオニトリル、オキサチオラノンジオキシド、メルドラム酸などの核が挙げられ、好ましくは、２−ピラゾロン−５−オン、バルビツール酸、２−チオバルビツール酸、オキサチオラノンジオキシド、メルドラム酸、ピラゾリジン−３，５−ジオンである。
【００８３】
一般式（１）において、Ｌ１１、Ｌ２ｋは各々独立に、２価の連結基を表し、それらが結合した発色団間でπ共役系を形成しない以外に特に限定は無いが、好ましくはアルキレン基（炭素数１〜２０、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン）、アリーレン基（炭素数６〜２６、例えばフェニレン、ナフチレン）、アルケニレン基（炭素数２〜２０、例えばエテニレン、プロペニレン）、アルキニンレン基（炭素数２〜２０、例えばエチニレン、プロピニレン）、メタロセニレン基（例えばフェロセン）、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ１０１）−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ２−Ｎ（Ｒ１０２）−、−ＳＯ２−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ１０３）−ＣＯ−Ｎ（Ｒ１０４）−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ１０５）−、ヘテリレン基（炭素数１〜２６、例えば６−クロロ−１，３，５−トリアジル−２，４−ジイル基、ピリミジン−２，４−ジイル基）を１つまたはそれ以上組み合わせて構成される炭素数０〜１００以下、好ましくは１以上２０以下の連結基を表す。上記、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、Ｒ１０５は、各々独立に、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基を表す。また、Ｌ１１、Ｌ２ｋで表される連結基は、それらが連結する２つのクロモフォア間で１つ以上複数個存在していてもよく、複数個（好ましくは２つ）が結合して環を形成してもよい。Ｌ１１、Ｌ２ｋとして、各々好ましくは２つのアルキレン基（好ましくは、エチレン）が結合して環を形成したものである。その中でも、５または６員環（好ましくはシクロヘキシル）を形成した場合が更に好ましい。
【００８４】
一般式（１）においてｎは０以上１０以下の整数を表し、好ましくは０〜５の整数であり、更に好ましくは０〜３の整数であり、特に好ましくは０〜２の整数である。
【００８５】
一般式（１）においてｋは０以上かつｎ以下のすべての整数を表す。例えば、上記ｎが２の時、ｋは０、１、２の３つの整数を表し、Ｄｙｅ２ｋおよびＬ２ｋはそれぞれ独立にＤｙｅ２０、Ｄｙｅ２１、Ｄｙｅ２２のクロモフォアおよびＬ２０、Ｌ２１、Ｌ２２の連結基を表す。ｎが２以上の整数を表す場合、複数のＤｙｅ２ｋは同一でもお互い異なっても良い。また、ｎが２以上の整数を表す場合、複数のＬ２ｋは同一でもお互い異なっても良い。
【００８６】
一般式（１）においてＱは電荷を中和するイオンを表し、ｙは電荷の中和に必要な数を表す。ある化合物が陽イオン、陰イオンであるか、あるいは正味のイオン電荷を有するか否かは、その化合物の置換基に依存する。一般式（１）および（３）〜（５）においてＱで表されるイオンは、対する色素分子の電荷に応じて、陽イオンを表す場合と、陰イオンを表す場合があり、また、色素分子が無電荷の場合には、Ｑは存在しない。Ｑとして表されるイオンには特に制限は無く、無機化合物よりなるイオンであっても、有機化合物よりなるイオンであっても構わない。また、Ｑとして表されるイオンの電荷は１価であっても多価であっても構わない。Ｑとして表される陽イオンとしては、例えばナトリウムイオン、カリウムイオンのような金属イオン、４級アンモニウムイオン、オキソニウムイオン、スルホニウムイオン、ホスホニウムイオン、セレノニウムイオン、ヨードニウムイオンなどのオニウムイオンが挙げられる。一方、Ｑとして表される陰イオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イオン、フッ化物イオンのようなハロゲン陰イオン、硫酸イオン、リン酸イオン、リン酸水素イオンなどのヘテロポリ酸イオン、琥珀酸イオン、マレイン酸イオン、フマル酸イオン、芳香族ジスルホン酸イオンのような有機多価陰イオン、四フッ化ホウ酸イオン、六フッ化リン酸イオンが挙げられる。
【００８７】
Ｑで表される陽イオンとして好ましくは、オニウムイオンであり、更に好ましくは４級アンモニウムイオンである。４級アンモニウムイオンの中でも特に好ましくは、特開２０００−５２６５８号公報の一般式（Ｉ−４）で表される４，４’−ビピリジニウム陽イオンおよび特開２００２−５９６５２号公報に開示されている４，４’−ビピリジニウム陽イオンである。
【００８８】
Ｑで表される陰イオンとして好ましくは、四フッ化ホウ酸イオン、六フッ化リン酸イオンおよび有機多価陰イオンであり、更に好ましくは、ナフタレンジスルホン酸誘導体のような２または３価の有機陰イオンである。２または３価有機陰イオンの中でも特に好ましくは、特開平１０−２２６１７０号公報に開示されたナフタレンジスルホン酸陰イオンである。
【００８９】
一般式（１）で表される色素の中でも、下記一般式（２−１）、下記一般式（２−２）、下記一般式（２−３）、下記一般式（２−４）および下記一般式（２−５）のいずれかで表される構造の色素であることが好ましい。
【００９０】
【化１９】
2007276438.tif 000020
【００９１】
なお、上記一般式（２−１）、上記一般式（２−２）、および上記一般式（２−３）について説明する。Ｙは−Ｏ−または−ＮＲ１−または−ＣＲ２Ｒ３−のいずれかを表す。Ｙは−Ｏ−または−ＣＲ２Ｒ３−であることが好ましく、−Ｏ−であることがより好ましい。
【００９２】
Ｒ１〜Ｒ９は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ１〜Ｒ９で表される置換基としては特に限定されないが、一般式（Ｉ）中のＲで表される置換基と同じものが挙げられ、好ましい範囲も同じである。
【００９３】
Ｚは置換または無置換のアルキレン基を表す。アルキレン基の好ましい例としては、置換または無置換のメチレン基、置換または無置換のエチレン基、置換または無置換のプロピレン基であり、より好ましくは置換または無置換のメチレン基、置換または無置換のエチレン基であり、更に好ましくは置換または無置換のメチレン基である。
【００９４】
ｘは１または２を表し、好ましくは２である。
【００９５】
Ｇは酸素原子または硫黄原子を表し、酸素原子であることが好ましい。
【００９６】
上記一般式（２−１）、上記一般式（２−２）、上記一般式（２−３）、上記一般式（２−４）および上記一般式（２−５）中、Ｚａ５、Ｚａ６は酸性核を形成する原子群であり、Ｌ１１、Ｑ、ｙの定義は一般式（１）のＬ１１、Ｑ、ｙと同一である。
【００９７】
上記一般式（２−１）、（２−２）、（２−３）、（２−４）、（２−５）で表される構造の中でも前記ｍが０である色素が最も好ましい。
【００９８】
上記一般式（２−１）、上記一般式（２−２）、上記一般式（２−３）、上記一般式（２−４）および上記一般式（２−５）で表される色素の中でも、高い光安定性と良好な分解性の観点から、下記一般式（５−１）、（５−２）、（５−３）、（５―４）、（５−５）のいずれかで表される構造の色素が最も好ましい。
【００９９】
【化２０】
2007276438.tif 000021
【０１００】
上記一般式（５−１）、（５−２）、（５−３）、（５−４）、（５−５）中、Ｒ１〜Ｒ９、Ｒ、Ｙ、Ｚ、Ｑ、ｙ、Ｇの定義は一般式（２−１）、（２−２）、（２−３）、（２−４）、（２−５）と同一である。ｘは１または２である。
【０１０１】
以下に本発明に係る一般式（１）および（２）で表される化合物の好ましい具体例（Ｓ−１〜Ｓ−２７）を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０２】
【化２１】
2007276438.tif 000022
【０１０３】
【化２２】
2007276438.tif 000023
【０１０４】
【化２３】
2007276438.tif 000024
【０１０５】
【化２４】
2007276438.tif 000025
【０１０６】
【化２５】
2007276438.tif 000026
【０１０７】
【化２６】
2007276438.tif 000027
【０１０８】
本発明で用いられる好ましい具体的な化合物を下記の表１に示す。
【０１０９】
【表１】
2007276438.tif 000028
【０１１０】
本発明に係わる一般式（１）で示される色素化合物は、単独で用いてもよく、あるいは二種以上を併用してもよい。また本発明に係わる色素化合物とこれ以外の色素化合物とを併用してもよい。
【０１１１】
本発明の情報記録媒体の記録層には、記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平１０−１５１８６１号に記載されている化合物が好ましい。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号、同５９−８１１９４号、同６０−１８３８７号、同６０−１９５８６号、同６０−１９５８７号、同６０−３５０５４号、同６０−３６１９０号、同６０−３６１９１号、同６０−４４５５４号、同６０−４４５５５号、同６０−４４３８９号、同６０−４４３９０号、同６０−５４８９２号、同６０−４７０６９号、同６３−２０９９９５号、特開平４−２５４９２号、特公平１−３８６８０号、及び同６−２６０２８号等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁などに記載のものを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式（ＩＩ）で表される化合物を挙げることができる。
【０１１２】
「一般式（ＩＩ）」
【化２７】
2007276438.tif 000029
【０１１３】
但し、Ｒ２１は置換基を有していてもよいアルキル基を表わし、そしてＱ−はアニオンを表わす。
【０１１４】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ２１は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基が一般的であり、無置換の炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、Ｆ，Ｃｌ）、アルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）、アルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ）、アシル基（例、アセチル、プロピオニル）、アシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ）、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、アルケニル基（例、ビニル）、アリール基（例、フェニル、ナフチル）を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Ｑ−のアニオンの好ましい例としては、ＣｌＯ４−、ＡｓＦ６−、ＢＦ４−、及びＳｂＦ６−を挙げることができる。
【０１１５】
一般式（ＩＩ）で表される化合物例（化合物番号ＩＩ−１〜ＩＩ−８）を下記表２に記載する。
【０１１６】
【表２】
2007276438.tif 000030
【０１１７】
前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０重量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５重量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０重量％の範囲、特に好ましくは５〜２５重量％の範囲である。
【０１１８】
＜光情報記録媒体の様態＞
本発明の光情報記録媒体は、様態（１）：厚さ０．７〜２ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．０１〜０．５ｍｍのカバー層と、をこの順に有する光情報記録媒体または様態（２）：厚さ０．１〜１．０ｍｍの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ０．１〜１．０ｍｍの保護基板と、をこの順に有する光情報記録媒体であることが好ましい。様態（１）においては前記基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチが５０〜５００ｎｍ、溝幅が２５〜２５０ｎｍ、溝深さが５〜１５０ｎｍであることが好ましく、様態（２）においては前記基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチが２００〜６００ｎｍ、溝幅が５０〜３００ｎｍ、溝深さが３０〜２００ｎｍであり、ウォブル振幅が１０〜５０ｎｍであることが好ましい。
【０１１９】
様態（１）の光情報記録媒体は、少なくとも、基板と、追記型記録層と、カバー層を有する様態であり、まずこれらに重要な部材について順に説明する。
【０１２０】
〔様態（１）の基板〕
好ましい様態（１）の基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されていることが必須である。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【０１２１】
プリグルーブのトラックピッチは、５０〜５００ｎｍの範囲であり、上限値が４２０ｎｍ以下であることが好ましく、３７０ｎｍ以下であることがより好ましく、３３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、２００ｎｍ以上であることがより好ましく、２６０ｎｍ以上であることが更に好ましい。トラックピッチが５０ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、５００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【０１２２】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、２５〜２５０ｎｍの範囲であり、上限値が２００ｎｍ以下であることが好ましく、１７０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、５０ｎｍ以上であることが好ましく、８０ｎｍ以上であることがより好ましく、１００ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が２５ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、２５０ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【０１２３】
プリグルーブの溝深さは、５〜１５０ｎｍの範囲であり、上限値が１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２８ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが５ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、１５０ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【０１２４】
また、プリグルーブの溝傾斜角度は、上限値が８０°以下であることが好ましく、７０°以下であることがより好ましく、６０°以下であることが更に好ましく、５０°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝傾斜角度が２０°未満では、十分なトラッキングエラー信号振幅が得られないことがあり、８０°を超えると、成型が困難となる。
【０１２５】
本発明において用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
【０１２６】
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。また、基板の厚さは、０．７〜２ｍｍの範囲であることを要し、０．９〜１．６ｍｍの範囲であることが好ましく、１．０〜１．３ｍｍとすることがより好ましい。
【０１２７】
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【０１２８】
〔様態（１）の追記型記録層〕
好ましい様態（１）の追記型記録層は、色素（既述の分子内に独立に２個以上の色素残基を有し、それらの色素残基が共役結合を介さずに結合してなる色素）を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、基板上又は後述する光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。ここで、追記型記録層は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布液を塗布する工程が複数回行われることになる。塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【０１２９】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【０１３０】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。塗布の際、塗布液の温度は２３〜５０℃の範囲であることが好ましく、２４〜４０℃の範囲であることがより好ましく、中でも、２３〜５０℃の範囲であることが特に好ましい。
【０１３１】
このようにして形成された追記型記録層の厚さは、グルーブ（前記基板において凸部）上で、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることが更に好ましく、１８０ｎｍ以下であることが特に好ましい。下限値としては３０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、７０ｎｍ以上であることが更に好ましく、９０ｎｍ以上であることが特に好ましい。
【０１３２】
また、追記型記録層の厚さは、ランド上（前記基板において凹部）で、４００ｎｍ以下であることが好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限値としては、７０ｎｍ以上であることが好ましく、９０ｎｍ以上であることがより好ましく、１１０ｎｍ以上であることが更に好ましい。更に、グルーブ上の追記型記録層の厚さ／ランド上の追記型記録層の厚さの比は、０．４以上であることが好ましく、０．５以上であることがより好ましく、０．６以上であることが更に好ましく、０．７以上であることが特に好ましい。上限値としては、１未満であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．８５以下であることが更に好ましく、０．８以下であることが特に好ましい。
【０１３３】
塗布液が結合剤を含有する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。追記型記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。
【０１３４】
〔様態（１）のカバー層〕
好ましい様態（１）のカバー層は、上述した追記型記録層又は後述するバリア層上に、接着剤や粘着材を介して貼り合わされる。本発明において用いられるカバー層としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率８０％以上であることを意味する。
【０１３５】
また、カバー層は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されて
いてもよい。例えば、波長４００ｎｍ以下の光をカットするためのＵＶ吸収剤及び／又は５００ｎｍ以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。更に、カバー層の表面物性としては、表面粗さが２次元粗さパラメータ及び３次元粗さパラメータのいずれも５ｎｍ以下であることが好ましい。また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層の複屈折は１０ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１３６】
カバー層の厚さは、記録及び再生のために照射されるレーザ光の波長やＮＡにより、適宜、規定されるが、本発明においては、０．０１〜０．５ｍｍの範囲内であり、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。また、カバー層と、接着剤又は粘着剤からなる層と、を合わせた総厚は、０．０９〜０．１１ｍｍであることが好ましく、０．０９５〜０．１０５ｍｍであることがより好ましい。なお、カバー層の光入射面には、光情報記録媒体の製造時に、光入射面が傷つくことを防止するための保護層（ハードコート層）が設けられていてもよい。
【０１３７】
カバー層を貼り合せるために用いられる接着剤は、例えばＵＶ硬化樹脂、ＥＢ硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特にＵＶ硬化樹脂を使用することが好ましい。接着剤としてＵＶ硬化樹脂を使用する場合は、該ＵＶ硬化樹脂をそのまま、若しくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサからバリア層表面に供給してもよい。また、作製される光情報記録媒体の反りを防止するため、接着層を構成するＵＶ硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなＵＶ硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）社製の「ＳＤ−６４０」等のＵＶ硬化樹脂を挙げることができる。
【０１３８】
接着剤は、例えば、バリア層からなる被貼り合わせ面上に、所定量塗布し、その上に、カバー層を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層との間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。このような接着剤からなる接着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【０１３９】
また、カバー層を貼り合せるために用いられる粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。
【０１４０】
上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製のコロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＨＴＬ；武田薬品社製のタケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２；住友バイエル社製のデスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ；等を挙げることができる。
【０１４１】
粘着剤は、バリア層からなる被貼り合わせ面上に、所定量、均一に塗布し、その上に、カバー層を載置した後、硬化させてもよいし、予め、カバー層の片面に、所定量を均一に塗布して粘着剤塗膜を形成しておき、該塗膜を被貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。また、カバー層に、予め、粘着剤層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。このような粘着剤からなる粘着剤層の厚さは、０．１〜１００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜５０μｍの範囲、更に好ましくは１０〜３０μｍの範囲である。
【０１４２】
〔様態（１）におけるその他の層〕
好ましい様態（１）の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層としては、例えば、基板の裏面（追記型記録層形成面側に対する裏面）に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、基板と追記型記録層との間に設けられる光反射層（後述）、追記型記録層とカバー層との間に設けられるバリア層（後述）、該光反射層と追記型記録層との間に設けられる界面層などが挙げられる。ここで、かかるレーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂などを用いて形成される。なお、これら必須及び任意の層は、いずれも単層でもよいし、多層構造を有してもよい。
【０１４３】
〔様態（１）における光反射層〕
好ましい様態（１）の光情報記録媒体において、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、基板と追記型記録層との間に、光反射層を形成することが好ましい。光反射層は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。なお、前記反射率は、７０％以上であることが好ましい。
【０１４４】
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
【０１４５】
〔様態（１）におけるバリア層（中間層）の形成工程〕
好ましい様態（１）の光情報記録媒体においては、追記型記録層とカバー層との間にバリア層を形成することが好ましい。該バリア層は、追記型記録層の保存性を高める、追記型記録層とカバー層との接着性を向上させる、反射率を調整する、熱伝導率を調整する、等のために設けられる。バリア層に用いられる材料としては、記録及び再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に、制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。具体的には、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｍｏ、Ｇｅ等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、ＺｎＳ、ＭｏＯ２、ＧｅＯ２、ＴｅＯ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｕＯ、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｎＯ−Ｇａ２Ｏ３が好ましく、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＺｎＯ−Ｇａ２Ｏ３がより好ましい。
【０１４６】
また、バリア層は、真空蒸着、ＤＣスパッタリング、ＲＦスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましく、ＲＦスパッタリングを用いることが更に好ましい。本発明におけるバリア層の厚さは、１〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、２〜１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、３〜５０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
【０１４７】
次に好ましい様態（２）の光情報記録媒体について説明する。ここで、様態（２）の光情報記録媒体は、貼り合わせ型の層構成を有する光情報記録媒体であり、その代表的な層構成としては、下記の通りである。
【０１４８】
（１）第１の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設ける構成である。
（２）第２の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設ける構成である。
（３）第３の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層を順次形成し、該保護層上に保護基板を設ける構成である。
（４）第４の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設ける構成である。
（５）第５の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設ける構成である。
【０１４９】
なお、上記（１）〜（５）の層構成は単なる例示であり、当該層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよいし、一部を省略してもかまわない。また、追記型記録層は、保護基板側にも形成されていてもよく、その場合、両面からの記録、再生が可能な光情報記録媒体となる。更に、各層は１層で構成されても複数層で構成されてもよい。本発明の光情報記録媒体として、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、保護基板をこの順に有する構成のものを例にとって、以下にその説明をする。
【０１５０】
〔様態（２）の基板〕
好ましい様態（２）における基板には、トラックピッチ、溝幅（半値幅）、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ（案内溝）が形成されていることが必須である。このプリグルーブは、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
【０１５１】
プリグルーブのトラックピッチは、２００〜６００ｎｍの範囲であり、上限値が５００ｎｍ以下であることが好ましく、４５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４３０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、３００ｎｍ以上であることが好ましく、３３０ｎｍ以上であることがより好ましく、３７０ｎｍ以上であることが更に好ましい。トラックピッチが２００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、６００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
【０１５２】
プリグルーブの溝幅（半値幅）は、５０〜３００ｎｍの範囲であり、上限値が２５０ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１８０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１２０ｎｍ以上であることがより好ましく、１４０ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が５０ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、３００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【０１５３】
プリグルーブの溝深さは、３０〜２００ｎｍの範囲であり、上限値が１７０ｎｍ以下であることが好ましく、１４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１２０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、下限値は、４０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましく、６０ｎｍ以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが３０ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、２００ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
【０１５４】
好ましい様態（２）において用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができ、具体例及び好ましい例は様態（１）の基板と同様である。また、基板の厚さは、０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【０１５５】
なお、後述する追記型記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましく、該下塗層の材料、塗布法及び層厚の具体例及び好ましい例は様態（１）の下塗層と同様である。
【０１５６】
〔様態（２）の追記型記録層〕
好ましい様態（２）の追記型記録層に関する詳細な説明は、様態（１）の追記型記録層に関するものと同様である。
【０１５７】
〔様態（２）の光反射層〕
好ましい様態（２）において、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、追記型記録層上に光反射層を形成することがある。様態（２）の光反射層に関する詳細は様態（１）の光反射層と同様である。
【０１５８】
〔様態（２）の接着層〕
好ましい様態（２）における接着層は、上記光反射層と、保護基板との密着性を向上させるために形成される任意の層である。接着層を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましい。
【０１５９】
〔様態（２）の保護基板〕
好ましい様態（２）における保護基板（ダミー基板）は、上述した基板と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。保護基板の厚さとしては、厚さ０．１〜１．０ｍｍの範囲であることを要し、０．２〜０．８ｍｍの範囲であることが好ましく、０．３〜０．７ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【０１６０】
〔様態（２）の保護層〕
好ましい様態（２）の光情報記録媒体は、その層構成によっては、光反射層や追記型記録層などを物理的及び化学的に保護する目的で保護層が設けられることある。保護層に用いられる材料の例としては、ＺｎＳ、ＺｎＳ−ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２、Ｓｉ３Ｎ４等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して光反射層上に貼り合わせることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
【０１６１】
また、保護層として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
【０１６２】
〔様態（２）のその他の層〕
好ましい様態（２）の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。かかる他の任意の層の詳細な説明は様態（１）のその他の層と同様である。
【０１６３】
〔２〕光情報記録方法：
本発明の光情報記録方法は、好ましい様態（１）または（２）の光情報記録媒体を用いて、例えば、次のように行われる。まず光情報記録媒体を定線速度（０．５〜１０ｍ／秒）または定角速度にて回転させながら、様態（１）の場合はカバー層側、様態（２）の場合は基板側から半導体レーザー光などの記録用の光を照射する。この光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
【０１６４】
本発明においては、記録光として３９０〜４４０ｎｍ（好ましくは４００〜４１０ｎｍ）の範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が用いられる。好ましい光源としては３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長８５０ｎｍの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長４２５ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザー光を挙げることができる。特に記録密度の点で３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光を様態（１）の場合はカバー層側、様態（２）の場合は基板側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【実施例】
【０１６５】
以下、実施例に係る化合物の合成例を示す。なお、その他の化合物（Ｓ−２〜Ｓ−４、Ｓ−６〜Ｓ−２２、Ｓ−２４〜Ｓ−２７）も類似の方法によって合成できる。
【０１６６】
〔合成例１〕
既述の化合物（Ｓ−１）の合成：当該化合物の合成は、下記スキーム（Ａ）に従って行った。
【０１６７】
【化２８】
2007276438.tif 000031
【０１６８】
「化合物２」２．８４ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに加え、０℃に冷却した後に攪拌しながらトリエチルアミン８．３４ｍｌを添加し、その後に「化合物１」５．８６ｇを添加した。その後、０℃で４時間反応させた後に、テトラブチルアンモニウムブロマイド８．００ｇを添加して１時間攪拌した。反応溶液を水３００ｍｌにあけ、濾過して白色結晶を得た。得られた結晶を酢酸エチルで洗浄し化合物（Ｓ−１）を６．０６ｇ得た。
【０１６９】
なお、構造はＮＭＲで確認した。１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：ｄ＝０．９５（ｔ，２４Ｈ），１．３１（ｍ，１６Ｈ），１．４〜１．９（ｍ，２０Ｈ），２．０５（ｓ，８Ｈ），３．１５（ｔ，１６Ｈ），７．８９（ｓ，２Ｈ）
【０１７０】
〔合成例２〕
既述の化合物（Ｓ−５）の合成：当該化合物の合成は、下記スキーム（Ｂ）に従って行った。
【０１７１】
【化２９】
2007276438.tif 000032
【０１７２】
「化合物２」２．８４ｇをＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに加え、０℃に冷却した後に攪拌しながらトリエチルアミン８．３４ｍｌを添加し、その後に「化合物３」６．１２ｇを添加した。その後０℃で４時間反応させた後に、テトラブチルアンモニウムブロマイド７．００ｇを添加して１時間攪拌した。反応溶液を水３００ｍｌにあけ、濾過して白色結晶を得た。得られた結晶を酢酸エチル・メタノールで洗浄し化合物（Ｓ−５）を８．００ｇ得た。
【０１７３】
なお、構造はＮＭＲで確認した。１ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：ｄ＝０．９５（ｔ，２４Ｈ），１．３１（ｍ，１６Ｈ），１．５〜２．５（ｍ，２８Ｈ），３．１５（ｔ，１６Ｈ），７．９２（ｓ，２Ｈ）
【０１７４】
〔合成例３〕
既述の化合物Ｓ−２３の合成：当該化合物の合成は、下記スキーム（Ｃ）〜（Ｄ）に従って行った。
【０１７５】
【化３０】
2007276438.tif 000033
【０１７６】
「化合物４」０．２９ｇおよび「化合物２」０．２９ｇをエタノール５ｍｌに加え、撹拌しつつトリエチルアミン０．５７ｍｌを添加した。室温で４時間反応し、生成した結晶をろ過し、「化合物５」０．２４ｇを得た。
【０１７７】
「化合物５」０．２４ｇをジメチルホルムアミド２．５ｍｌに加え、「化合物６」０．２７ｇを加えて５０℃で１時間反応した後に室温まで冷却し、メタノール４０ｍｌを加えて生成する結晶をろ過し、（Ｓ−２３）０．３１ｇを得た。
【０１７８】
なお、構造はＮＭＲにて確認した。１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ‐ｄ６）：ｄ＝２．０（ｓ，８Ｈ），３．６５（ｓ，６Ｈ），７．２〜７．８（ｍ，１４Ｈ），７．９（ｓ，２Ｈ），８．１５（ｓ，２Ｈ），９．０（ｄ，４Ｈ），９．７（ｄ，４Ｈ），１０．７５（ｓ，２Ｈ）．
【０１７９】
〔比較例用の化合物（Ｈ−１）の合成〕
当該化合物の合成は、下記スキーム（Ｅ）に従って行った。
【０１８０】
【化３１】
2007276438.tif 000034
【０１８１】
「化合物３」４．１５ｇと「化合物７」２．５０ｇをアセトニトリル４０ｍｌに溶解させ無水酢酸１．２８ｍｌを滴下した後に、トリエチルアミン１．９０ｍｌを滴下して攪拌還流した。その後２時間反応させた後に、テトラブチルアンモニウムブロマイド７．００ｇを添加して１時間攪拌した。反応溶液に酢酸エチル３００ｍｌをいれ、濾過して白色結晶を得た。得られた結晶を酢酸エチルで洗浄し化合物（Ｈ−１）を５．３３ｇ得た。
【０１８２】
なお、構造はＮＭＲで確認した。１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：ｄ＝０．９５（ｔ，１２Ｈ），１．３１（ｍ，１６Ｈ），１．５５〜２．７（ｍ，２０Ｈ），３．２２（ｔ，８Ｈ），８．２１（ｓ，２Ｈ）
【０１８３】
［実施例１〜４］
＜光情報記録媒体の製造＞
（基板の作製）
厚さ１．１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：３２０ｎｍ、溝幅：オングルーブ幅１２０ｎｍ、溝深さ：３５ｎｍ、溝傾斜角度：６５°、ウォブル振幅：２０ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング（３５１ｎｍ）を用いて行われた。
【０１８４】
（光反射層の形成）
基板上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚１００ｎｍの真空成膜層としてのＡＰＣ光反射層（Ａｇ：９８．１質量％、Ｐｄ：０．９質量％、Ｃｕ：１．０質量％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
【０１８５】
（追記型記録層の形成）
表１の化合物（Ｓ−１）、（Ｓ−４）、（Ｓ−５）、（Ｓ−２３）それぞれ２ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、光反射層上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、追記型記録層（グルーブ上の厚さ１２０ｎｍ、ランド上の厚さ１７０ｎｍ）を形成した。
【０１８６】
追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【０１８７】
（バリア層の形成）
その後、追記型記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＲＦスパッタリングによりＺｎＯ−Ｇａ２Ｏ３（ＺｎＯ：Ｇａ２Ｏ３＝３：７（質量比））からなる、厚さ５ｎｍのバリア層を形成した。
【０１８８】
（カバー層の貼り合わせ）
カバー層としては、内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍで、片面に粘着剤が塗設してあるポリカーボネート製フィルム（帝人ピュアエース、厚さ：８０μｍ）を用い、該粘着剤層とポリカーボネート製フィルムとの厚さの合計が１００μｍとなるように設定した。そして、バリア層上に、該バリア層と粘着剤層とが当接するようにカバー層を載置した後、そのカバー層を押し当て部材にて圧接して、貼り合わせた。
【０１８９】
（比較例１〜４）
化合物（Ｓ−１）、（Ｓ−４）、（Ｓ−５）、（Ｓ−２３）の代わりに下記化学式で表される比較化合物（Ａ）〜（Ｄ）を用いた以外は、実施例１〜４と全く同様な方法でディスクを作成した。
【０１９０】
【化３２】
2007276438.tif 000035
【０１９１】
以上のようにして、実施例１〜４、比較例１〜４の光情報記録媒体が作製された。
【０１９２】
＜光情報記録媒体の評価＞
・Ｃ／Ｎ（搬送波対雑音比）評価：
作製した光情報記録媒体を、４０３ｎｍレーザ、ＮＡ０．８５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６６ＭＨｚ、線速５．２８ｍ／ｓにて、０．１６μｍの信号（２Ｔ）を記録、再生しスペクトルアナライザー（アドバンテスト社製：ＴＲ４１７１）にて（記録後の）Ｃ／Ｎを測定した。結果を下記表３に示す。なお、本評価においては、記録はグルーブ上に行った。また、記録パワー５．２ｍＷ、再生パワー０．３ｍＷであった。
【０１９３】
［実施例５〜８］
＜光情報記録媒体の製造＞
（基板の作製）
厚さ０．６ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍでスパイラル状のプリグルーブ（トラックピッチ：４００ｎｍ、溝幅：１７０ｎｍ、溝深さ：１００ｎｍ、溝傾斜角度：６５°、ウォブル振幅：２０ｎｍ）を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング（３５１ｎｍ）を用いて行なわれた。
【０１９４】
（追記型記録層の形成）
表１に示す化合物（Ｓ−１）、（Ｓ−４）、（Ｓ−５）、（Ｓ−２３）それぞれ２ｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１００ｍｌ中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、基板上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃、５０％ＲＨで１時間保存して、追記型記録層（グルーブ上の厚さ１７０ｎｍ、ランド上の厚さ１２０ｎｍ）を形成した。
【０１９５】
追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、８０℃で１時間保持して行った。
【０１９６】
（光反射層の形成）
追記型記録層上に、Ｕｎａｘｉｓ社製Ｃｕｂｅを使用し、Ａｒ雰囲気中で、ＤＣスパッタリングにより、膜厚１００ｎｍの真空成膜層としてのＡＰＣ光反射層（Ａｇ：９８．１質量％、Ｐｄ：０．９質量％、Ｃｕ：１．０質量％）を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
【０１９７】
（保護基板の貼り合わせ）
光反射層上に、スピンコートにより、紫外線硬化樹脂（ＳＤ６４０、大日本インキ製）を塗布し、ポリカーボネート製の保護基板（プリグルーブを形成していない以外は上記基板と同様のもの）を貼り合わせ、紫外線を照射して、硬化させた。作製した光情報記録媒体における紫外線硬化樹脂からなる接着層の厚さは、２５μｍであった。
（比較例５〜８）
化合物（Ｓ−１）、（Ｓ−４）、（Ｓ−５）、（Ｓ−２３）の代わりに上記化学式で表される比較化合物（Ａ）〜（Ｄ）を用いた以外は、実施例５〜８と全く同様な方法でディスクを作製した。
【０１９８】
以上のようにして、実施例５〜８、比較例５〜８の光情報記録媒体が作製された。
【０１９９】
＜光情報記録媒体の評価＞
・Ｃ／Ｎ（搬送波対雑音比）評価：
作製した光情報記録媒体を、波長４０５ｎｍのレーザ、ＮＡ０．６５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）を用い、クロック周波数６４．８ＭＨｚ、線速６．６１ｍ／ｓにて、０．２０４μｍの信号（２Ｔ）を記録、再生しスペクトルアナライザー（アドバンテスト社製：ＴＲ４１７１）にて（記録後の）Ｃ／Ｎを測定した。結果を下記表３に示す。なお、本評価は、本発明の光情報記録方法を用いたものであり、記録はグルーブ上に行った。また、記録パワー１２ｍＷ、再生パワー０．５ｍＷであった。結果を表３に示す。ここで、（記録後の）Ｃ／Ｎが２５ｄＢ以上であると、再生信号強度が十分であり、記録特性が好ましいことを指す。
【０２００】
【表３】
2007276438.tif 000036
【０２０１】
上記表３の結果から、分子内に独立に２個以上の色素残基を有し、それらの色素残基が共役結合を介さずに結合してなる色素を含有する記録層が設けられた光情報記録媒体（実施例１〜８）は、比較例１〜８の光情報記録媒体に比べて高い再生信号強度が得られた。また、実施例５と同様にして、化合物（Ｓ−２８）、（Ｓ−２９）、（Ｓ−３０）、（Ｓ−３１）のそれぞれを用いて、光情報記録媒体（Ｉ）〜（ＩＶ）を作製した。これらの光情報記録媒体でも、高い再生信号強度が得られた。
【０２０２】
＜光保存性の効果＞
〔ガラス基盤の作製〕
表１の化合物（Ｓ−１）、（Ｓ−５）、と比較化合物（Ｈ−１）、（Ｈ−２）のそれぞれ２０ｍｇを、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール１ｍｌ中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、ガラス基板上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数３００〜４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃、５０％ＲＨの条件で塗布した。なお、化合物（Ｈ−２）は特開２００１−５２２９３号公報に記載の化合物（Ｉ−８）であり、当該公報に記載の実施例に従い合成した。
【０２０３】
〔光堅牢性の評価〕
その後、室温遮光下で１日保存したのちにガラス基盤をメリーゴーランド型耐光試験機（有限会社イーグルエンジニアリング社特注）を用いてキセノンランプ（ＵＳＨＩＯ  ＤＩＳＣＨＡＲＧＥ  ＬＡＭＰＳ社製  ＸＬ−５００Ｄ−Ｏ  ５００Ｗ）にフィルター（ＨＯＹＡ社製  Ｈ−Ａ−５０）をとりつけ、光源から距離８ｃｍに色素を塗布したガラス基盤を置いて光照射した。その後ＳＨＩＭＡＤＺＵ  ＵＶ−１６００にて吸光度を測定した。
【０２０４】
化合物（Ｓ−１）、（Ｓ−５）、比較化合物（Ｈ−１）と（Ｈ−２）との吸光度を比較した。上記測定による吸光度の時間変化を下記表４に示す。
【０２０５】
【表４】
2007276438.tif 000037
【０２０６】
上記表４より、化合物（Ｓ−１），（Ｓ−５）は、比較化合物（Ｈ−１），（Ｈ−２）に比べて光保存性が高いことが分かる。
【０２０７】
４８時間終了時点で化合物（Ｈ−２）を基準として、残存色素化合物は表５の比関係になり、（Ｈ−１）と（Ｓ−１）や（Ｓ−５）とを比較すると３倍以上光保存性に優れる色素であることを見出した。これは本発明の有用性を示すものである。
【０２０８】
【表５】
2007276438.tif 000038
【０２０９】
以上から、分子内に独立に２個以上の色素残基を有し、それらの色素残基が共役結合を介さずに結合してなる色素を用いることにより、良好な記録特性を示し、かつ保存性も良好な光情報記録媒体が得られることが確認できた。特にＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒの場合よりも短波長のレーザーを用いて上記効果が得られることから、より高密度の情報記録媒体および記録再生法を提供することができるといえる。