(57)【要約】【課題】有機系の反射防止層の上に、十分な耐久性を備えた防汚層を形成する。【解決手段】防汚層を有する製品の製造方法であって、防汚層の下地層である有機系反射防止層の表面に、フッ素含有組成物を用いて防汚層を形成する工程を有する製造方法を提供する。フッ素含有組成物は、分子量が１０００〜１００００の範囲のフッ素シラン化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物、および分子量が１００〜７００の範囲のフッ素シラン化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物を含む。【選択図】図１
2007276445.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
防汚層を有する製品の製造方法であって、
前記製品は、前記防汚層の下地層が有機系反射防止層であり、
当該製造方法は、前記有機系反射防止層の表面に、フッ素含有組成物を用いて前記防汚層を形成する工程を有し、
前記フッ素含有組成物は、分子量が１０００〜１００００の範囲のフッ素シラン化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物、および分子量が１００〜７００の範囲のフッ素シラン化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物を含む、製造方法。
【請求項２】
請求項１において、前記分子量が１０００〜１００００の範囲のフッ素シラン化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物の重量Ｗａと、前記分子量が１００〜７００の範囲のフッ素シラン化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物の重量Ｗｂとの比は、以下の条件を満たす、製造方法。
９０／１０  ≧  Ｗａ／Ｗｂ  ≧  ３０／７０
【請求項３】
請求項２において、前記重量Ｗａと、前記重量Ｗｂとの比は、以下の条件を満たす、製造方法。
８０／２０  ≧  Ｗａ／Ｗｂ  ≧  ５０／５０
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記分子量が１０００〜１００００の範囲のフッ素シラン化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物は、下記一般式（I）により表されるフッ素シラン化合物および／または下記一般式（II）によ
り表されるフッ素シラン化合物を含む、製造方法。
【化１】
2007276445.tif 000007
ただし、式中、Ｒｆ1は、パーフルオロアルキル基である。Ｚは、フッ素またはトリフ
ルオロメチル基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０または１以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、式中において限定されない。Ｙは、水素または炭素数１〜４のアルキル基である。Ｘ1は、水素、臭素またはヨウ素である。Ｒ1は、水酸基または加水分解可能な置換基である。Ｒ2は、水素または１価の炭化水酸基である。ｐは、０、１
または２である。ｑは、１、２または３である。ｒは、１以上の整数である。
【化２】
2007276445.tif 000008
ただし、式中、Ｒｆ2は、式：−（ＣkＦ2k）Ｏ−（前記式中、ｋは１〜６の整数である）で表される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する２価の基である。Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、炭素数１〜８の１価の炭化水素基である。Ｘ2およびＸ3は、それぞれ独立して、加水分解性基またはハロゲン原子である。ｓおよびtは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。ｕおよびｖは、そ
れぞれ独立して、１〜５の整数である。ｈおよびｉは、それぞれ独立して、２または３である。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、前記有機系反射防止層は、下記一般式（III）
により表される有機ケイ素化合物、およびシリカ系微粒子を含有する、製造方法。
Ｒ5mＲ6nＳｉＸ44-n-m    （III）
ただし、式中、Ｒ5は、重合可能な反応基を有する有機基である。Ｒ6は、炭素数１〜６の炭化水素基である。Ｘ4は、加水分解性基である。ｍおよびｎは、少なくとも一方は１
であり、他方は０または１である。
【請求項６】
防汚層を有する製品であって、
前記防汚層の下地層が有機系反射防止層であり、
前記防汚層は、フッ素含有組成物から形成されており、
前記フッ素含有組成物は、分子量が１０００〜１００００の範囲のフッ素シラン化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物、および分子量が１００〜７００の範囲のフッ素シラン化合物からなる群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物を含む、製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズおよびその他の製品であって、防汚層を有する製品の製造方法、および防汚層を有する製品に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
眼鏡などに用いられるレンズや光ディスクなど、表面における光の反射が好ましくない製品については、反射を抑制するための反射防止層が設けられている。そのような反射防止層を有する製品において、反射防止層が手垢、指紋、汗、化粧品等で汚染されてしまうと、反射防止層の機能が損なわれる。このため、反射防止層を有する製品においては、多くの場合、反射防止層に重ねて撥水性の防汚層が形成されている。
【０００３】
特許文献１には、有機系反射防止層の最表面にフッ素系撥水膜を形成することが記載されている。
【０００４】
特許文献２には、表面に、少なくとも１種以上が含フッ素シラン化合物であり、単独成分として用いたときのレンズ表面の動摩擦係数が異なる、２種以上のシラン化合物により防汚層を形成することが記載されている。
【特許文献１】特開２００５−４３５７２号公報
【特許文献２】特開２００５−３８１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
反射防止層としては、屈折率の異なる多層の無機層から構成される無機系のものが知られている。さらに、有機ケイ素化合物とシリカ系微粒子とを含む有機系の反射防止層を用いることが検討されている。したがって、有機系の反射防止層をカバーする防汚層を形成するための組成物を提供することは重要である。無機系の反射防止層と同じような含フッ素シラン化合物を含む組成物が、そのまま有機系の反射防止層に適しているか否かは問題であり、幾つかのケースでは耐久性が不足するという報告がある。反射防止層の表面を保護する機能を備えた防汚層は、十分な撥水性能と、耐久性を備えていることが要求される。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様は、防汚層を有する製品の製造方法であって、防汚層を有する製品は、防汚層の下地層が有機系反射防止層であり、当該製造方法は、有機系反射防止層の表面に、フッ素含有組成物を用いて防汚層を形成する工程を有する。フッ素含有組成物は、第１の成分と第２の成分とを含む。第１の成分は、分子量が１０００〜１００００の範囲のフッ素シラン化合物からなる第１の群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物（フッ素シラン化合物Ａ）である。第２の成分は、分子量が１００〜７００の範囲のフッ素シラン化合物からなる第２の群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物（フッ素シラン化合物Ｂ）である。
【０００７】
本願の発明者らの実験によると、第１の成分と第２の成分とを含むフッ素含有組成物（分子量の範囲の異なる少なくとも２種類のフッ素シラン化合物を含むフッ素含有組成物（フッ素シラン化合物ＡおよびＢを含むフッ素含有組成物））は、第１の成分および第２の成分の含まれる比率（フッ素シラン化合物ＡおよびＢの含まれる比率）により、有機系の反射防止層の上に、十分な撥水性能と耐久性を備えた防汚層を形成可能になることが判明した。
【０００８】
十分な撥水性能と耐久性を備えた防汚層を形成可能なフッ素含有組成物に含まれる、第１の成分（フッ素シラン化合物Ａ）の重量Ｗａと、第２の成分（フッ素シラン化合物Ｂ）の重量Ｗｂとの比の好適な範囲は、以下の条件を満たす範囲である。
９０／１０  ≧  Ｗａ／Ｗｂ  ≧  ３０／７０・・・（１）
【０００９】
第１の成分の重量Ｗａと、第２の成分の重量Ｗｂとの比は、以下の条件を満たすことがさらに好ましい。
８０／２０  ≧  Ｗａ／Ｗｂ  ≧  ５０／５０・・・（２）
【００１０】
第１の成分（分子量が１０００〜１００００の範囲のフッ素シラン化合物から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物Ａ）は、典型的には、下記一般式（I）により表
されるフッ素シラン化合物（フッ素シラン化合物Ｃ）および／または下記一般式（II）により表されるフッ素シラン化合物（フッ素シラン化合物Ｄ）を含む。
【００１１】
【化３】
2007276445.tif 000003
ただし、上記（I）式中、Ｒｆ1は、パーフルオロアルキル基である。Ｚは、フッ素またはトリフルオロメチル基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０または１以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、式中において限定されない。Ｙは、水素または炭素数１〜４のアルキル基である。Ｘ1は、水素、臭素またはヨウ素である。Ｒ1は、水酸基または加水分解可能な置換基である。Ｒ2は、水素または１価の炭化水酸基である。ｐは
、０、１または２である。ｑは１、２または３である。ｒは、１以上の整数である。
【００１２】
【化４】
2007276445.tif 000004
ただし、上記（II）式中、Ｒｆ2は、式：−（ＣkＦ2k）Ｏ−（前記式中、ｋは１〜６の整数である）で表される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する２価の基である。Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、炭素数１〜８の１価の炭化水素基である。Ｘ2およびＸ3は、それぞれ独立して、加水分解性基またはハロゲン原子である。ｓおよびtは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。ｕおよ
びｖは、それぞれ独立して、１〜５の整数である。ｈおよびｉは、それぞれ独立して、２
または３である。
【００１３】
有機系の反射防止層として好適なものは、下記一般式（III）により表される有機ケイ
素化合物（Ｅ成分）、およびシリカ系微粒子（Ｆ成分）を含有するものである。
Ｒ5mＲ6nＳｉＸ44-n-m    （III）
ただし、上記（III）式中、Ｒ5は、重合可能な反応基を有する有機基である。Ｒ6は炭
素数１〜６の炭化水素基である。Ｘ4は加水分解性基である。ｍおよびｎは、少なくとも
一方は１であり、他方は０または１である。
【００１４】
本発明の他の一態様は、防汚層を有する製品であって、防汚層の下地層が有機系反射防止層であり、防汚層は、フッ素含有組成物から形成されている。フッ素含有組成物は、第１の成分と第２の成分とを含む。第１の成分は、分子量が１０００〜１００００の範囲のフッ素シラン化合物からなる第１の群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物（フッ素シラン化合物Ａ）である。第２の成分は、分子量が１００〜７００の範囲のフッ素シラン化合物からなる第２の群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物（フッ素シラン化合物Ｂ）である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
有機系の反射防止層の表面に防汚層を形成するのに適したフッ素含有組成物は、第１の成分（分子量が１０００〜１００００の範囲のフッ素シラン化合物から選ばれた少なくとも１つのフッ素シラン化合物Ａ）と、第２の成分（分子量が１００〜７００の範囲のフッ素シラン化合物から選ばれた少なくとも１つのフッ素シラン化合物Ｂ）とを含む。第１の成分（フッ素シラン化合物Ａ）の重量Ｗａと、第２の成分（フッ素シラン化合物Ｂ）の重量Ｗｂとの比の好適な範囲は、以下の条件を満たす範囲である。
９０／１０  ≧  Ｗａ／Ｗｂ  ≧  ３０／７０・・・（１）
【００１６】
第１の成分の重量Ｗａと、第２の成分の重量Ｗｂとの比は、以下の条件を満たすことがさらに好ましい。
８０／２０  ≧  Ｗａ／Ｗｂ  ≧  ５０／５０・・・（２）
これらの範囲は、後述するように本願の発明者らの実験で確認された範囲である。
【００１７】
無機系の反射防止層に対しては、分子量が２０００〜３０００のフッ素シラン化合物を用いて防汚層が形成されることが多い。有機系の反射防止層に対しては、同じアプリケーションであると、十分な耐久性が得られないことがある。それは、無機系の反射防止層が緻密な酸化物皮膜により形成されるのに対比すると、有機系の反射防止層の表面状態は粗く、表面の活性水素基の密度が低いことに起因すると考えられる。すなわち、表面の活性水素基の密度が低いと、反射防止層の成分と防汚層の成分との間における活性水素基による結合の間隔が広くなり、その結果、反射防止層の成分と防汚層の成分との間で結合が作り難くなり、防汚層の水平方向の強度が低下して耐久性が低くなると考えられる。
【００１８】
分子量の小さなフッ素シラン化合物を用いて防汚層を形成することにより、有機系の反射防止層の表面との密着性を高められるとも考えられる。しかしながら、防汚層の強度自体が低下するためか良好な結果が得られなかった。逆に、分子量をさらに大きくして、例えば、分子量が１００００以上のフッ素シラン化合物を用いて防汚層を形成することにより、防汚層の強度を向上することも考えられる。しかしながら、この形態も、良好な結果が得られなかった。また、分子量１００００以上の場合は、分子量増加に伴い、粘度が上昇し、溶解性が低下するため、工業的な使用が難しいという問題もある。
【００１９】
このような状況に対して、高分子量、すなわち、分子量が１０００〜１００００の範囲のフッ素シラン化合物からなる第１の群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化
合物（第１の成分、フッ素シラン化合物Ａ）と、低分子量、すなわち分子量が１００〜７００の範囲のフッ素シラン化合物からなる第２の群から選ばれた少なくとも１種類のフッ素シラン化合物（第２の成分、フッ素シラン化合物Ｂ）とを含むフッ素含有組成物であれば、第１の成分（高分子量のフッ素シラン化合物）と、第２の成分（低分子量のフッ素シラン化合物）とを適当な比率で含むことにより、有機系の反射防止層に対しても十分な耐久性を備えた防汚層を形成できることを見出した。このような分子量の異なる複数のフッ素シラン化合物を含む組成物により、耐久性が向上する要因の一つは、以下のようなものであると考えられる。
【００２０】
有機系の反射防止層の表面状態が粗い（凹凸が大きく、山面（山部、凸部）と、谷面（谷部、凹部）とがある）場合、第１の成分（高分子量化合物）だけでは表面の山面には結合するが、谷面には侵入できないと考えられる。もしくは、結合した第１の成分（高分子量化合物）のクラスタ同士の間に空隙が存在し、十分な防汚性能が得られないと考えられる。また、第２の成分（低分子量化合物）だけでは、表面の山面・谷面共に結合できるが、防汚性能が十分ではないと考えられる。
【００２１】
これらに対し、第１の成分（高分子量化合物）と第２の成分（低分子量化合物）を組み合わせることによって、有機系の反射防止層の表面に防汚層がムラなく形成される。第２の成分（低分子量化合物）の分子量が７００を超える場合、表面の谷面には侵入できず、第２の成分（低分子量のフッ素シラン化合物Ｂ）として期待される効果が得られない。一方、第１の成分（高分子量化合物）の分子量が１０００未満の場合、防汚性能が不十分であり、第１の成分（高分子量のフッ素シラン化合物Ａ）として期待される効果が得られない。
【００２２】
第１の成分（高分子量のフッ素シラン化合物Ａ）の一例は、下記一般式（I）により表
されるフッ素シラン化合物である。下記一般式（I）により表されるフッ素シラン化合物
には、ダイキン工業（株）製の商品名「オプツールＤＳＸ」が含まれる。
【００２３】
【化５】
2007276445.tif 000005
ただし、上記一般式（I）中、Ｒｆ1は、パーフルオロアルキル基である。Ｚは、フッ素またはトリフルオロメチル基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、それぞれ独立して、０または１以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、式中において限定されない。Ｙは、水素または炭素数１〜４のアルキル基である。Ｘ1は、水素、臭素またはヨウ素である。Ｒ1は、水酸基または加水分解可能な置換基である。Ｒ2は、水素または１価の炭化水素基である。
ｐは、０、１または２である。ｑは、１、２または３である。ｒは、１以上の整数である。
【００２４】
上記一般式（I）で表される式中のＲｆ1は、通常、有機含フッ素ポリマーを構成するパーフルオロアルキル基であれば、特に限定されない。Ｒｆ1としては、例えば、炭素数１
〜１６の直鎖状または分岐状のパーフルオロアルキル基を挙げることができる。Ｒｆ1は
、好ましくは、ＣＦ3−、Ｃ2Ｆ5−、Ｃ3Ｆ7−である。
【００２５】
上記一般式（I）中のＺは、フッ素でも良いし、トリフルオロメチル基でも良い。上記
一般式（I）中のａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、フッ素シラン化合物の主骨格を構成するパーフ
ルオロポリエーテル鎖の繰り返し単位数を表し、それぞれ独立して、０または１以上の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅが１以上であれば特に限定されないが、それぞれ独立して、０〜２００が好ましい。さらに、フッ素シラン化合物の分子量を考慮すれば、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅは、より好ましくは、それぞれ独立して、０〜５０である。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅは、好ましくは、１〜１００である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅで括られた各繰り返し単位の存在順序は、上記一般式（I）中においてはこの順に記載
したが、通常のパーフルオロポリエーテル鎖の構成の範囲において、これらの各繰り返し単位の結合順序は、この順に限定されるものではない。
【００２６】
上記一般式（I）中のＹは、水素または炭素数１〜４のアルキル基である。上記炭素数
１〜４のアルキル基は、特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を挙げることができる。上記炭素数１〜４のアルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。上記一般式（I）中のＸ1は、水素、臭素またはヨウ素を表す。Ｘ1
が臭素またはヨウ素である場合には、上記一般式（I）により表されるフッ素シラン化合
物は、ラジカル反応性が高くなる。したがって、化学結合により他の化合物と結合させるのには好都合である。
【００２７】
上記一般式（I）中のｐは、パーフルオロポリエーテル鎖を構成する炭素とこれに結合
するケイ素との間に存在するアルキレン基の炭素数を表し、０、１または２であるが、より好ましくは、０である。
【００２８】
上記一般式（I）中のｑは、ケイ素に結合する置換基Ｒ1の結合数を表し、１、２または３である。置換基Ｒ1が結合していない部分には、当該ケイ素にはＲ2が結合する。
【００２９】
上記Ｒ１は、水酸基または加水分解可能な置換基である。上記加水分解可能な置換基は、特に限定されず、好ましいものとしては、例えば、ハロゲン、−ＯＲ11、−ＯＣＯＲ11、−ＯＣ（Ｒ11）＝Ｃ（Ｒ12）2、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ11）2、−ＯＮ＝ＣＲ13等を挙げることができる。ただし、Ｒ11は、脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基であり、Ｒ12は、水素または炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ13は、炭素数３〜６の２価の脂肪族炭化水素基である。より好ましくは、上記Ｒ1は、塩素、−ＯＣＨ3、−ＯＣ2Ｈ5である。
【００３０】
上記Ｒ２は、水素または１価の炭化水素基である。上記１価の炭化水素基は、特に限定されず、好ましいものとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を挙げることができる。上記１価の炭化水素基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。
【００３１】
上記一般式（I）中のｒは、１以上の整数を表し、特に上限はないが、１〜１０の整数
であることが好ましい。上記ｒは、一般式（I）中においては整数を表すが、第１の成分
に含まれる上記一般式（I）により表されるフッ素シラン化合物は、このような整数ｒを
有する一般式（I）で表されるポリマーの混合物であっても良い。したがって、上記一般
式（I）と類似の表記により平均的な組成を示す場合は、式中のｒなどの値は、整数には
限定されない。他の整数としている値、および他の一般式において整数としている値も同様である。
【００３２】
第１の成分（高分子量のフッ素シラン化合物Ａ）の他の例は、下記一般式（II）で表されるフッ素シラン化合物（パーフルオロポリアルキレンエーテル変性シラン）である。下記一般式（II）により表されるフッ素シラン化合物には、信越化学工業（株）製の商品名「ＫＹ−１３０」が含まれる。
【００３３】
【化６】
2007276445.tif 000006
ただし、上記の一般式（II）中のＲｆ2は、式：−（ＣkＦ2k）Ｏ−（式中、ｋは１〜６の整数である）で表される単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造を有する２価の基である。Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立して、炭素数１〜８の１価の炭化水素基である。Ｘ2およびＸ3は、それぞれ独立して、加水分解性基またはハロゲン原子である。ｓおよびｔは、それぞれ独立して、０〜２の整数である。ｕおよびｖは、それぞれ独立して、１〜５の整数である。ｈおよびｉは、それぞれ独立して、２または３である。
【００３４】
上記一般式（II）中のＲｆ2は、上記のとおり、式：−（ＣkＦ2kＯ）−（式中、ｋは１〜６、好ましくは１〜４の整数である）で表わされる単位を含み、分岐を有しない直鎖状のパーフルオロポリアルキレンエーテル構造からなる２価の基である。なお、上記一般式（II）中のｓおよびtが各々０である場合、上記一般式（II）中の酸素原子に結合するＲ
ｆ2の末端は、酸素原子ではない。
【００３５】
このＲｆ2としては、例えば、下記一般式で示されるものが挙げられる。ただし、Ｒｆ
２は、下記例示に限定されるものではない。−ＣＦ2ＣＦ2Ｏ（ＣＦ2ＣＦ2ＣＦ2Ｏ）jＣＦ2ＣＦ2−（式中、ｊは１以上、好ましくは１〜５０、より好ましくは１０〜４０の整数である。）、−ＣＦ2（ＯＣ2Ｆ4）p´−（ＯＣＦ２）q´−（式中、ｐ´およびｑ´は、そ
れぞれ、１以上、好ましくは１〜５０、より好ましくは１０〜４０の整数であり、かつｐ´＋ｑ´は、１０〜１００、好ましくは２０〜９０、より好ましくは４０〜８０の整数であり、上記の一般式中の繰り返し単位の（ＯＣ2Ｆ4）、および（ＯＣＦ2）の配列はラン
ダムである。）
【００３６】
上記一般式（II）中のＸ2および／またはＸ3が加水分解性基である場合、Ｘ2および／
またはＸ3としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。メトキシ基、エトキシ基
、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基等のアルコキシアルコキシ基またはアリロキシ基、イソプロペノキシ等のアルケニルオキシ基またはアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシロキシ基またはジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルケトオキシム基、シクロペンノキシム基、シクロヘキサノキシム基等のケトオキシム基またはＮ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のアミノ基またはＮ−メチルアセトアミド基、Ｎ−エチルアセトアミド基、Ｎ−メチルベンズアミド基等のアミド基またはＮ，Ｎ−ジメチルアミノオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノオキシ基等のアミノオキシ基。
【００３７】
また、Ｘ2および／またはＸ3がハロゲン原子である場合、Ｘ2および／またはＸ3としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等。これらの中でも、Ｘ2およびＸ3としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基および塩素原子が好適である。
【００３８】
上記一般式（II）中のＲ3およびＲ4は、それぞれ、炭素数１〜８、好ましくは１〜３の１価の炭化水素基である。Ｒ3およびＲ4としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基またはシクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基またはフェニル基、トリル基、キシリル基等のアリール基またはベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基またはビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基。これらの中でも、Ｒ3およびＲ4としては、メチル基が好適である。
【００３９】
上記一般式（II）中のｓおよびｔは、それぞれ独立に、０〜２の整数である。ｓおよびｔは、それぞれ１であることが好ましい。また、上記一般式（II）中のｕおよびｖは、それぞれ独立に、１〜５の整数である。ｕおよびｖは、それぞれ３であることが好ましい。ｈおよびｉは、それぞれ独立に、２または３である。、加水分解及び縮合反応性および被膜の密着性の観点から、ｈおよびｉは、３であることが好ましい。
【００４０】
低分子量のフッ素シラン化合物（分子量が１００〜７００の範囲のフッ素シラン化合物）の群（第２の群）には、例えば、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、ｎ−トリフルオロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）プロピルシラザン、ｎ−ヘプタフルオロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ペンチルシラザン、ｎ−ノナフルオロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ヘキシルシラザン、ｎ−トリデカフルオロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）オクチルシラザン、ｎ−ヘプタデカフルオロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）デシルシラザン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ヘプチルメチルジクロロシラン、イソブチルトリクロロシラン、オクタデシルメチルジメトシキシラン、ヘキサメチルジシラザンが含まれる。
【００４１】
低分子量のフッ素シラン化合物（分子量が１００〜７００の範囲のフッ素シラン化合物）の群（第２の群）には、さらに、信越化学工業（株）製ＫＰ−８０１、同ＬＳ−１０９０、同ＬＳ−４８７５、同ＬＳ−４４８０、同ＬＳ−２７５０、同ＬＳ−１６４０、同ＬＳ−４１０、同ＬＳ−７１５０、ＧＥ東芝シリコーン（株）製ＴＳＬ−８２５７、同ＴＳＬ−８２３３、同ＴＳＬ−８１８５、同ＴＳＬ−８１８６、同ＴＳＬ−８１８３、同ＸＣ９５−Ａ９７１５などの市販されているものが含まれる。
【００４２】
本発明の１実施形態の製品において、有機系の反射防止層の一例は、下記一般式（III
）により表される有機ケイ素化合物（Ｅ成分）、およびシリカ系微粒子（Ｆ成分）を含有するものである。
Ｒ5mＲ6nＳｉＸ44-n-m    （III）
ただし、上記一般式（III）中、Ｒ5は、重合可能な反応基を有する有機基である。Ｒ6
は、炭素数１〜６の炭化水素基である。Ｘ4は、加水分解性基である。ｍおよびｎは、少
なくとも一方は１であり、他方は０または１である。
【００４３】
上記一般式（III）中のＲ5は、重合可能な反応基を有する有機基である。Ｒ5としては
、例えば、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ基、メルカプト基
、シアノ基、アミノ基等が挙げられる。上記一般式（III）中のＲ6は、炭素数１〜６の炭化水素基である。Ｒ6としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ビニル基、フ
ェニル基等が挙げられる。Ｅ成分の有機ケイ素化合物のＸ4は、加水分解可能な官能基で
あり、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、メトキシエトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基、ブロモ基等のハロゲン基、アシルオキシ基等が挙げられる。
【００４４】
上記一般式（III）により表される有機ケイ素化合物（Ｅ成分）の具体的な例は、以下
のようなものである。テトラメトキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ（β−メトキシ−エトシキ）シラン、アリルトリアルコキシシラン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタクリルオキシプロピルジアルコキシメチルシラン、γ−グリシドオキシプロピルトリアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−エチルトリアルコキシシラン、メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジアルコキシシラン、テトラアルコキシシラン。
【００４５】
シリカ系微粒子（Ｆ成分）の具体的な例は、平均粒径１ｎｍ〜１００ｎｍの径の微粒子のシリカをコロイド状に分散させた、シリカゾルである。分散媒としては、たとえば水、アルコール系、もしくはその他の有機溶剤等を用いることができる。
【００４６】
このシリカ系微粒子は、内部空洞（隙間）を有するものが望ましい。内部空洞を有するシリカ系微粒子を用いることによって、反射防止層の屈折率を低下させることができる。したがって、反射防止層とハードコート層との屈折率の差を大きくして、反射防止効果を高めることができる。シリカ系微粒子の内部空洞内にシリカよりも屈折率が低い気体または溶剤を包含させることによって、空洞のないシリカ系微粒子よりも屈折率が低減し、被膜の低屈折率化が達成される。
【００４７】
なお、有機系の反射防止層は、上記一般式（III）により表される有機ケイ素化合物（
Ｅ成分）およびシリカ系微粒子（Ｆ成分）の他に、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂等の各種樹脂や、これらの樹脂原料となるメタアクリレート類、アクリレート類、エポキシ類、ビニル類等の各種モノマーを含んでいても良い。屈折率を低減する機能を有するものとしては、フッ素含有の各種ポリマー、またはフッ素含有の各種モノマーが挙げられる。フッ素含有ポリマーは、フッ素含有ビニルモノマーを重合して得られるポリマーが好ましく、さらに他の成分と共重合可能な官能基を有することが好ましい。
【００４８】
（実施例）
以下では、有機系反射防止層および防汚層を有する製品の一例として、眼鏡用のプラスチックレンズを製造し、幾つかの組成により有機系反射防止層の表面に防汚層を形成して、その耐久性等を確認した。
【００４９】
以下の実施例におけるプラスチックレンズは、レンズ基材と、プライマー層と、ハードコート層と、有機系の反射防止層と、防汚層とが順番に形成されたものである。
【００５０】
レンズ基材としては、屈折率１．６７のプラスチックレンズ基材（セイコーエプソン（株）製、商品名「セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ）」）を使用した。
【００５１】
プライマー層は、以下の塗布液をレンズ基材に塗布して形成した。まず、市販の水性ポリエステル「Ａ−１６０Ｐ」（高松油脂（株）製、固形分濃度２５％）７７ｇ、メタノール２２０ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）３１．５ｇ、水９１
．８ｇ、メタノール分散二酸化チタン−二酸化ジルコニウム−二酸化ケイ素複合微粒子ゾル（触媒化成工業（株）製、固形分濃度２０重量％）７８．８ｇ、シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー（株）製、商品名「Ｌ−７６０４」）０．１ｇを加え、２時間攪拌した。塗布には、浸漬法（引き上げ速度２０ｃｍ／分）を用い、プライマー層形成用の塗布液を塗布した基材レンズは、８０℃で２０分間加熱硬化処理した。このようにして形成されたプライマー層は、膜厚０．５μｍ、屈折率１．６７であった。
【００５２】
ハードコート層は、以下の塗布液をプライマー層の上に塗布して形成した。まず、ブチルセロソルブ６２．５ｇ、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン６７．１ｇを混合した。この混合液に０．１規定塩酸水溶液３０．７ｇを攪拌しながら滴下し、さらに４時間攪拌後、一昼夜熟成させた。この液に、メタノール分散二酸化チタン−二酸化ジルコニウム−二酸化ケイ素複合微粒子ゾル（触媒化成工業（株）製、固形分濃度２０重量％）３２５ｇ、グリセロールジグリシジルエーテル（ナガセケムテックス（株）製、商品名「デナコールＥＸ−３１３」）１２．５ｇを添加した後、鉄（III）アセチルアセトネート
１．３６ｇ、シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー（株）製、商品名「Ｌ−７００１」）０．１５ｇ、フェノール系酸化防止剤（川口化学工業（株）製、商品名「アンテージクリスタル」）０．６３ｇを添加し、４時間攪拌後、一昼夜熟成させた。塗布は、浸漬法（引き上げ速度３５ｃｍ／分）を用いた。ハードコート層形成用の塗布液を塗布した後、８０℃で３０分間加熱硬化処理し、その後、さらに１２５℃で１８０分間の加熱硬化処理を行った。このようにして形成されたハードコート層は、膜厚２．０μｍ、屈折率１．６７であった。
【００５３】
有機系の反射防止層は、以下の塗布液をハードコート層の上に塗布して形成した。まず、プロピレングリコールモノメチルエーテル（以下ＰＧＭＥ）４８．６ｇ、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１４．１ｇを混合した後、０．１規定塩酸水溶液４．０ｇを攪拌しながら滴下し、さらに５時間攪拌した。この液にイソプロパノール分散中空シリカゾル（平均粒径９１ｎｍ、固形分濃度３０ｗｔ％）３３．３ｇを加えて十分に混合した後、硬化触媒としてＡｌ（Ｃ5Ｈ7Ｏ2）3を０．０６ｇ、シリコーン系界面活性剤（日本ユニカー（株）製、Ｌ７６０４）を０．０３ｇ添加して攪拌、溶解することにより、固形分濃度が２０％のコーティング原液を得た。このコーティング原液を希釈するために、３００ｐｐｍ濃度のシリコーン系界面活性剤（日本ユニカー（株）製、Ｌ７６０４）入りＰＧＭＥ溶液を準備し、コーティング原液を３５．３ｇ、希釈用界面活性剤入りＰＧＭＥ溶液１１４．７ｇを混合して十分に攪拌し、固形分濃度が約４．７％の反射防止層形成用の塗布液を作製した。塗布は、浸漬法にて行い、引き上げ速度は１０ｃｍ／分とし、液温は２５℃とした。反射防止層形成用の塗布液を塗布した後、１２５℃で９０分間アニールを行った。このようにして形成された有機系反射防止層の膜厚は、約９１ｎｍ、屈折率は、約１．４２であった。
【００５４】
レンズ基材上に、プライマー層と、ハードコート層と、有機系の反射防止層とが形成されたものを、以下、ワークピースという。
【００５５】
（実験例１）
フッ素含有組成物Ｓ１を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ１は、分子量２５００のフッ素シラン化合物Ａ（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＹ−１３０」）（以降では化合物Ａ１）と、分子量４９７．５のフッ素シラン化合物Ｂ（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＰ−８０１」）（以降では化合物Ｂ１）を含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ１は、フッ素シラン化合物Ａ１の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ１の重量Ｗｂとの比が、９０／１０（例えば、溶媒に希釈したときの固形分濃度として、化合物Ａ１が
２．７％、化合物Ｂ１が０．３％）、８０／２０（化合物Ａ１が２．４％、化合物Ｂ１が０．６％）、５０／５０（化合物Ａ１が１．５％、化合物Ｂ１が１．５％）、３０／７０（化合物Ａ１が０．９％、化合物Ｂ１が２．１％）、１００／０（化合物Ａ１が３％、化合物Ｂ１が０％）、２０／８０（化合物Ａ１が０．６％、化合物Ｂ１が２．４％）の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。
【００５６】
実験例１では、防汚層の形成は乾式（蒸着）法を使用した。すなわち、フッ素含有組成物Ｓ１を多孔質セラミックス製のペレットに１ｇ含浸させ乾燥させたものを蒸着源として真空蒸着機のチェンバーにセットした。真空蒸着機のチェンバー内を、到達圧力が１．０〜４．０×１０-2Ｐａの範囲になるまで排気した。真空蒸着機のチェンバー内に、上述したワークピースを導入し、ペレットを４００℃から５００℃に加熱することによってシラン化合物を蒸発させ、有機系反射防止層の表面に防汚層となるフッ素含有組成物Ｓ１の層を成膜した。蒸着終了後、蒸着機内を徐々に大気圧に戻して、フッ素含有組成物Ｓ１が蒸着されたワークピースを取り出し、さらに、ワークピースを、９０℃９０％ＲＨに設定した恒温恒湿層に２時間保持することにより防汚層を備えたプラスチックレンズを得た。
【００５７】
（実験例２）
フッ素含有組成物Ｓ２を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ２は、化合物Ａ１、すなわち、分子量２５００のフッ素シラン化合物と、化合物Ｂ１、すなわち、分子量４９７．５のフッ素シラン化合物とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。したがって、このフッ素含有組成物Ｓ２は、上記のフッ素含有組成物Ｓ１と基本的には同じものである。フッ素含有組成物Ｓ２も、フッ素シラン化合物Ａ１の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ１の重量Ｗｂとの比が、９０／１０（溶媒に希釈したときの固形分濃度として、化合物Ａ１が０．２７％、化合物Ｂ１が０．０３％）、８０／２０（化合物Ａ１が０．２４％、化合物Ｂ１が０．０６％）、５０／５０（化合物Ａ１が１．５％、化合物Ｂ１が１．５％）、３０／７０（化合物Ａ１が０．０９％、化合物Ｂ１が０．２１％）、１００／０（化合物Ａ１が０．３％、化合物Ｂ１が０％）、２０／８０（化合物Ａ１が０．０６％、化合物Ｂ１が０．２４％）の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。
【００５８】
実験例２では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ２に、ワークピースを浸漬して１分保持した後、１５ｃｍ／分にて引き上げ、その後、９０℃９０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽に投入し、１．５時間保持した。
【００５９】
（実験例３）
フッ素含有組成物Ｓ３を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ３は、分子量５０００のフッ素シラン化合物Ａ（ダイキン工業（株）製、商品名「オプツールＤＳＸ」）（以降では化合物Ａ２）と、分子量４９７．５のフッ素シラン化合物Ｂ１とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ３も、フッ素シラン化合物Ａ２の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ１の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例３では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００６０】
（実験例４）
フッ素含有組成物Ｓ４を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ４は、分子量１０００のフッ素シラン化合物Ａ（以降では化合物Ａ３）と、分子量６５２のシラン化合物Ｂ（ＧＥ東芝シリコーン（株）製、商
品名「ＸＣ９５−Ａ９７１５」）（以降では化合物Ｂ２）とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ４も、フッ素シラン化合物Ａ３の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ２の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例４では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００６１】
（実験例５）
フッ素含有組成物Ｓ５を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ５は、分子量１００００のフッ素シラン化合物Ａ（以降では化合物Ａ４）と、分子量６５２のシラン化合物Ｂ２とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ５も、フッ素シラン化合物Ａ４の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ２の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例５では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００６２】
（実験例６）
フッ素含有組成物Ｓ６を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ６は、分子量１００００のフッ素シラン化合物Ａ４と、分子量１１６．２のシラン化合物Ｂ（信越化学工業（株）製、商品名「ＬＳ８０５」）（以降では化合物Ｂ３）とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ６も、フッ素シラン化合物Ａ４の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ３の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例６では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００６３】
（実験例７）
フッ素含有組成物Ｓ７を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ７は、分子量１０００のフッ素シラン化合物Ａ３と、分子量１１６．２のシラン化合物Ｂ３とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ７も、フッ素シラン化合物Ａ３の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ３の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例７では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００６４】
（実験例８）
フッ素含有組成物Ｓ８を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ８は、分子量９００のフッ素シラン化合物Ａ（以降では化合物Ａ５）と、分子量６５２のシラン化合物Ｂ２とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ８も、フッ素シラン化合物Ａ５の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ２の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例８では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００６５】
（実験例９）
フッ素含有組成物Ｓ９を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ９は、分子量１０００のフッ素シラン化合物Ａ３と、分子量７９３．２のシラン化合物Ｂ（信越化学工業（株）製、商品名「ＬＳ８９８０」）（以降では化合物Ｂ４）とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ９も、フッ素シラン化合物Ａ３の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ４の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例９では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００６６】
（実験例１０）
フッ素含有組成物Ｓ１０を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ１０は、分子量１００００のフッ素シラン化合物Ａ４と、分子量７９３．２のシラン化合物Ｂ４とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ１０も、フッ素シラン化合物Ａ４の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ４の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例１０では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００６７】
（実験例１１）
フッ素含有組成物Ｓ１１を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ１１は、分子量１１０００のフッ素シラン化合物Ａ（以降では化合物Ａ６）と、分子量６５２のシラン化合物Ｂ２とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ１１も、フッ素シラン化合物Ａ６の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ２の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例１１では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００６８】
（実験例１２）
フッ素含有組成物Ｓ１２を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ１２は、分子量１１０００のフッ素シラン化合物Ａ６と、分子量１１６．２のシラン化合物Ｂ３とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ１２も、フッ素シラン化合物Ａ６の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ３の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例１２では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００６９】
（実験例１３）
フッ素含有組成物Ｓ１３を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ１３は、分子量１００００のフッ素シラン化合物Ａ４と、分子量８８．１のシラン化合物Ｂ（信越化学工業（株）製、商品名「ＬＳ４７１」）（以降では化合物Ｂ５）とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「
ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ１３も、フッ素シラン化合物Ａ４の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ５の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例１３では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００７０】
（実験例１４）
フッ素含有組成物Ｓ１４を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ１４は、分子量１０００のフッ素シラン化合物Ａ３と、分子量８８．１のフッ素シラン化合物Ｂ５とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ１４も、フッ素シラン化合物Ａ３の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ５の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例１４では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００７１】
（実験例１５）
フッ素含有組成物Ｓ１５を用いて、上記のワークピースの有機系反射防止層の表面に防汚層を形成した。フッ素含有組成物Ｓ１５は、分子量９００のフッ素シラン化合物Ａ５と、分子量１１６．２のフッ素シラン化合物Ｂ３とを含み、フッ素系溶剤（住友スリーエム（株）製、商品名「ノベックＨＦＥ−７２００」）にて希釈して、固形分濃度０．３％溶液としたものである。フッ素含有組成物Ｓ１５も、フッ素シラン化合物Ａ５の重量Ｗａと、フッ素シラン化合物Ｂ３の重量Ｗｂとの比が、９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０、１００／０、２０／８０の６種類を用意し、それぞれを用いて防汚層を形成した。実験例１５では、湿式（ディップ方法）で防汚層を形成した。条件は実験例２と同じである。
【００７２】
（評価方法）
上記の実験例において、それぞれのフッ素含有組成物を用いて防汚層が形成されたプラスチックレンズの表面（凸面）を、木綿布を用い、２００ｇの荷重をかけながら、５０００回往復し、その後、接触角と、拭き耐久性（耐擦傷性）とを評価した。その結果を図１にまとめて示している。
【００７３】
接触角は、接触角計（協和科学（株）製、ＣＡ−Ｄ型）を使用し、液滴法による純水の接触角を測定した結果である。これにより、防汚層の撥水性が評価できる。以下の評価レベルで図１に示している。
「○」：１００°以上
「△」：９０〜１００°
「×」：９０°未満
【００７４】
拭き耐久性（耐擦傷性）は、レンズ表面を目視により検査し、その結果を以下の評価レベルで図１に示している。
「◎」：全く傷が認められない
「○」：１〜５本傷が付いた
「△」：６〜１０本傷が付いた
「×」：無数の傷が付いた
【００７５】
図１の評価結果から分かるように、分子量が１０００〜１００００の高分子量のフッ素シラン化合物（第１の成分）と、分子量が１００〜７００の低分子量のフッ素シラン化合
物（第２の成分）とを含むフッ素含有組成物Ｓ１〜Ｓ７を用いて、有機系の反射防止層の表面に防汚層を形成した例では、高分子量の化合物の重量Ｗａと、低分子量の化合物の重量Ｗｂとの比が９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０の場合において、耐久性試験後の、接触角および耐擦傷性の評価が良好である。すなわち、フッ素含有組成物Ｓ１〜Ｓ７を用いて、有機系の反射防止層の表面に防汚層を形成した例では、高分子量の化合物の重量Ｗａと、低分子量の化合物の重量Ｗｂとの比が９０／１０、８０／２０、５０／５０、３０／７０の場合において、十分な耐久性を備えた防汚層を形成できる。高分子量の化合物の重量Ｗａと、低分子量の化合物の重量Ｗｂとの比が、８０／２０、５０／５０の場合、耐久性試験後の、接触角および耐擦傷性の評価が特に良好である。
【００７６】
また、実験例１および２から、本例のフッ素含有組成物であれば、乾式、湿式（ディップ）のいずれでも、有機系の反射防止層の上に、十分な耐久性を備えた防汚層を形成できる。乾式により反射防止層を成膜する場合、湿式の場合に必須であった加湿アニールおよび乾燥アニールを省くことができ、サイクルタイムの減少が可能となる。また、湿式の場合は、ディップ用の液を作製するので、液のポットライフを管理しなければならないのに対し、乾式の場合は、１回の成膜に対して１個のペレットを作製し蒸着源とするため、ポットライフを管理する必要がないというメリットがある。
【００７７】
なお、上記では基板がプラスチックレンズのものを例に説明しているが、ガラスレンズであっても同様の効果を得ることができる。例えば、有機系の反射防止層の上に防汚層を備えた製品には、眼鏡レンズに限らず、カメラ用などの多種多様なレンズ、その他の光学素子、例えば、プリズムなど、さらには、ＤＶＤ等などの記録媒体、窓用のガラスなど多種多様なものが含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の実施形態に係る防汚層の製造条件と評価結果を示す図。
【図１】
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