(57)【要約】【課題】本発明は、例えば、Ｘ線回折測定、反射率測定および／または蛍光分析に使用し得るＸ線分析装置に適用される配置に関する。Ｘ線ビーム源の点焦点スポットのＸ線は、単色化され、焦点を合わせられ、場合によっては、高い精度を有する高光子流量密度の平行放射に変換される。【解決手段】点状の一次放射断面を有する平行Ｘ線が放物線状で凹状に湾曲した反射素子に向けられる。ここで、Ｘ線は、反射素子上に表出している傾斜多層膜によって焦点が合わせられて単色化される。少なくとも一つのシャッタが、Ｘ線ビーム源と反射素子との間に配置される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線ビーム源と、放物線状で凹状に湾曲し、傾斜多層膜で被覆され、Ｘ線を反射・合焦・単色化する素子とを備えるＸ線分析装置に適用される配置であって、
点状の一次ビーム断面を有する平行Ｘ線が、前記反射素子２に向けられ、前記合焦・単色化されたＸ線はサンプルに向けられ、シャッタ８が、Ｘ線ビーム源１と前記反射素子２との間に位置することを特徴とする配置。
【請求項２】
前記シャッタ８は、一次シャッタの形態で実現化されることを特徴とする請求項１に記載の配置。
【請求項３】
第２のシャッタ４が、前記反射素子によって焦点が合わせられたＸ線の焦点３に配置されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の配置。
【請求項４】
傾斜多層膜で被覆され、放物線状に湾曲する、第２の凹状の反射素子５を備え、その上に前記第１の反射素子２から発散した単色化されたＸ線が、平行Ｘ線を生成するために向けられることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の配置。
【請求項５】
前記第２のシャッタ４は、前記第２の反射素子５の前記焦点３内に位置することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の配置。
【請求項６】
少なくともシャッタ６および９が、前記第２の反射素子５と前記サンプル７の間に位置することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の配置。
【請求項７】
前記シャッタは、水平シャッタ６および／または垂直シャッタ９であることを特徴とする請求項６に記載の配置。
【請求項８】
前記第１の反射素子２に続いて配置される前記シャッタ４の開口のサイズは、前記シャッタ４のサイズの関数としてΔΦの発散を有する前記Ｘ線ビーム源１の点焦点スポットの多色放射の平行部分のみが前記シャッタ４を通ってサンプルに到達するように所定の波長λ０について選択され、傾斜多層膜において、前記第１の反射素子２の各表面素子に対してΔΦ≦ΔΘ０の条件が満たされることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の配置。
【請求項９】
前記２つの反射素子２および５の放物線形状、長さ、および／または相互間の配置は、前記第２の反射素子５から反射される前記平行Ｘ線のビーム幅ｂ２が前記第１の反射素子２上に衝突する前記一次放射のビーム幅ｂ１より小さくなるように選択されることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の配置。
【請求項１０】
前記サンプル７から散乱されるＸ線の強度は、散乱角によって検出器で検出され得ることを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の配置。
【請求項１１】
前記サンプル７から発する螢光放射は、第２の検出器で検出され得ることを特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載の配置。
【請求項１２】
前記Ｘ線ビーム源１は、シンクロトロン、固定陽極または回転陽極を備えるラボ用Ｘ線管の前記点焦点スポット、または可搬型低電力電子管の前記点焦点スポットであることを特徴とする請求項１乃至請求項１１のいずれかに記載の配置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、Ｘ線回折測定、反射率測定および／または蛍光分析に使用し得るＸ線分析装置に適用される配置に関する。従って、例えば、層またはマトリックスの内において１ｍｍより小さい小型のサンプル面積または包有物を分析することも可能である。
【背景技術】
【０００２】
長年にわたり使用されてきた天然結晶（例えばＳｉ、Ｇｅ、ＬｉＦ、グラファイト）に対して、ナノメートル単位の多層膜を有するＸ線光学素子が、特に３ｋｅＶより大きい光子エネルギーＥのビームの成形および単色化のために最近使用されている。これは、例えば、非特許文献１および特許文献１に記載されている。一部の応用において、これらのＸ線光学素子によって、これまで必要であったブラッグ・ブレンタノ光学系が平行ビーム光学系によって代替される。これにより、生成された平行ビームの強度は、ゲーベルミラーと通常称される放物線状に湾曲した傾斜多層膜の使用によって増加され得た。このようなゲーベルミラーは、様々な波長用のＸ線反射率計および回折計において商業的に提供されている。平行なＸ線の使用によって、２〜３倍の、大きい場合は１０倍の強度ゲインが達成され得る。また、サンプルの準備および調整が容易になされ得る。
【０００３】
これまでのところ、Ｘ線ビーム源の線焦点スポットによって発生する発散・多色Ｘ線は、ゲーベルミラー等により平行ビームに変換され、同時に単色化される。これは、Ｋα放射に関する非特許文献２および特許文献２に記載されている。これらの公知の解決案により、放物線の焦点は、Ｘ線ビーム源の線焦点スポット内に位置する。
【０００４】
点焦点スポットを有するＸ線ビーム源とともに、相互に９０°の角度を有するように連続的に配置されている、いわゆるカークパトリック・バエズ配置において、２つのゲーベルミラーが使用されている。これは、非特許文献３に記載されている。ここで、２つのゲーベルミラーの焦点は、Ｘ線ビーム源の点焦点スポット内に位置する。
【０００５】
例えば、同様に開発された相互に９０°の角度を有するように配置される２つのゲーベルミラーの配置は、特許文献３または特許文献４より公知である。
【０００６】
理想的な関係においては、このような放物線状のゲーベルミラーは、発散の無い平行ビームとしてλ０の波長を有し、焦点から発散して放射されるＸ線の像を形成し得る。しかし実際は、Ｘ線ビーム源の焦点スポットは、異なる位置Ｘｉにおいて個々のＸ線の入射角Θｉが各々ΔΘｉの値だけ変動する、即ち、Θｉ  ＝Θ０（ｘｉ）±１／２ΔΘ（ｘｉ）となるような有限の寸法Ｈを有する。異なる位置Ｘｉにおけるゲーベルミラーの多層系の反射に対する角依存性は、次の形式によって表現され得ない。
【０００７】
Ｒ＝ｆ（Θｉ）＝Ｒ（Θｉ）＊δ（Θｉ−Θ０）
ここで、
δ  （ｘ）  ＝  １；ｘ  ＝  ０，０；ｘ  ≠  ０
よって、
Ｒ（Θｉ）＝  ０│Θｉ≠Θ０
Ｒ（Θｉ）＝Ｒ（Θ０）│Θｉ＝Θ０，
ここで、Θ０は、第１の拡大ブラッグピークの角度である。実際、例えば、Ｃｕ−Ｋα放射に対して、拡大ブラッグピークは（ΔΘｉ）≒０．０３°〜０．０５°の半値全幅を有する。等価な逆算によって、略５０μｍ未満のＨの部分のみが、所定λ０に対する拡大ブラッグピークの上述した半値全幅を有する放物線状のゲーベルミラーから、完全に像を形成し得ると立証され得る。これは、点焦点スポットを利用した際、Ｈの支配的な残りの表面がλ≠λ０の偽の放射を発生し、利用されるべきλ０の波長を有する放射から、この偽の放射を分離する事が非常に困難である、と言うことを意味する。この理由のために、平行ビームを生成するＸ線光学装置は、ほぼ例外なく、ラボ用のＸ線ビーム源の線焦点として使用される。典型的に用いられるＨ＝０．０４ｍｍの幅を有する線焦点の時にのみ、ΔΘとΔΦは、同程度の寸法を有する。点状の一次ビーム源領域、例えばラボ用のＸ線管の点焦点スポットの使用の際、最低でも水平方向幅０．４ｍｍ、垂直方向高さ１．２ｍｍの焦点スポットのわずか５〜１０％しか使用され得ず、多大な性能損失を受容しなければならない。
【０００８】
その結果、選択された波長のＸ線の適用できる強度は相応して低く、ブラッグの法則に応じて、結局９０〜９５％を占める残りの領域より、偽の放射Δλｉが平行したＸ線ビームに重畳される。当該角度を持つ上記の記述に対応したビーム誘導の様態が、図１に示される。
【０００９】
例えば、ラボ用のＸ線ビーム源の点焦点がＨ＊Ｂ＝１．２＊０．４ｍｍの表面を貫通して照射される場合、一次ブラッグ角と略等しいオーダーのΔΦ値が達成され得（ΔΦは、多層系上の放射の衝突位置において、Ｘ線ビーム源Ｈの有限の寸法から起因する角偏差である。）、すなわちΔФ≒Θｉ、およびΔФ≫ΔΘｉであり、Ｘ線の選択された波長λ０は、ほぼ全ての位置において多層系から反射される。エネルギー分解検出器を使用し、Ｘ線の光路上にシャッタを追加したとしても、所望の有用な平行Ｘ線ビームを波長λ０のＸ線から正確に遮断および調整することが非常に困難であるか、不可能である。
【００１０】
然るに、特に、単結晶回折測定の使用の際、比較的小さいサイズ（直径＜０．３ｍｍ）の結晶子が必要であるため、このような小さいサンプルへの放射のために、望ましくは、０．５ｍｍ以下の直径を有するＸ線の点状の断面を使用する必要が有り得る。
【００１１】
この場合、放射が点焦点または線焦点によって使われるかどうかにかかわりなく、公知のゲーベルミラーを使用する利点が完全に直接的な効果を有しない。すでに概説した通り、ゲーベルミラーと０．５ｍｍの開口を有するアパーチャー・プレートとの組合せにより、１２ｍｍの幅を有する線焦点スポットの平行ビーム（０．４〜２ｍｍの幅を有する平行ビーム）の強度の９０％以上は吸収され、一方、０．４〜１．２ｍｍの垂直寸法Ｈおよび１．２ｍｍの水平寸法Ｈを有する点焦点スポットの略５％のみがゲーベルミラーに使用することが許容される。さらに、必要な正確な調整および偽の光の抑制に関して、点状の一次放射を用いる際に問題が発生する。
【００１２】
これらの理由のために、一般的には、単結晶回折測定において、特定のグラファイト・モノクロメータ（ＨＯＰＧ：高配向焼結グラファイト）が、キャピラリおよびアパーチャー・プレートとともに採用されている。これにより、Ｘ線の単色化の際、このようなグラファイト・モノクロメータの反射はゲーベルミラーと比較して１／３〜１／４倍となり、許容範囲内となる。これは、シャッタを使用することにより、一次放射の発散が０．２°〜０．３°の範囲にあり、ゲーベルミラーの場合より略１０倍大きいからである。ここで、分解能は全般的に減少され得るが、より高い全光子流量が、アパーチャー・プレートによって達成され得る。尚、グラファイト・モノクロメータの比較的大きい発散および受容性は、時に起こり得るＸ線ビーム源の焦点スポットの位置の変動（例えば、陽極の回転）と釣り合わせる事が出来る。いわゆるモザイク構造と称されるグラファイト・モノクロメータにおける個々のグラファイト結晶子の相互間の傾斜によって、選択された波長の各々のＸ線光子がグラファイト・モノクロメータを経由する際、高い確率で結晶子に衝突し得る。ここで、その使用され得る平面が反射位置に配置され、ネット平面での反射によって、点状の焦点の全断面積が反射位置の端部に像を形成し得るようにする。
【特許文献１】
国際公開第９６／０４６６５号パンフレット
【特許文献２】
独国特許出願公開第４４４３８５３号明細書
【特許文献３】
米国特許第６０１４４２３号明細書
【特許文献４】
米国特許第６０４１０９９号明細書
【非特許文献１】
ティ・ダブリュ・バービー・ジュニア（Ｔ．Ｗ．Ｂａｒｂｅｅ・Ｊｒ．）、Ｘ線光学に適用するための多層、Ｘ線顕微鏡検査、ジー・シュマル（Ｇ．Ｓｃｈｍａｈｌ）、ディ・ランドロフ（Ｄ．Ｒｕｄｏｌｐｈ）、シュプリンガー・フェアラーク・ベルリン（Ｓｐｒｉｎｇｅｒ・Ｖｅｒｌａｇ・Ｂｅｒｌｉｎ）、ハイデルベルク、ニューヨーク、東京；１９８４；ｐｐ．１４４〜１６２
【非特許文献２】
ユー・ダブリュ・アーンディト（Ｕ．Ｗ．Ａｒｎｄｔ）、Ａｐｐｌ．Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈ．２３（１９９０），ｐｐ．１６１〜１６８
【非特許文献３】
ピー・キルパトリック（Ｐ．Ｋｉｒｐａｔｒｉｃｋ）、ｉ．ａ．；Ｊ．Ｏｐｔ．Ｓｏｃ．Ａｍ．；３８（１９４８）ｐ．７６６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
したがって、本発明の課題は、Ｘ線ビーム源の点焦点スポットのＸ線が単色化され、焦点を合わせられ、そして場合によっては高い精度を有する増加した光子流量密度の平行したＸ線に変換し得るようなＸ線分析装置に対する適切な配置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
この課題は、請求項１の特徴を含む配置を有する本発明によって解決される。本発明の有利な実施形態および改良は、従属請求項に言及されている特徴によって達成され得る。
【００１５】
本発明による配置は、線型の焦点スポットを有するＸ線ビーム源の場合より高い光子流量密度を伴うＸ線ビーム源の点焦点スポットから発しているほぼ平行したＸ線を使用する。一般に、光子流量密度はビームの高さに関連して知られている。Ｘ線の光路において、シャッタがＸ線ビーム源の下流側に配置され、例えばブラッグ・ブレンタノ光学系のように、Ｘ線光学素子の影響下に無いサンプル上に直接衝突するＸ線を遮断する。
【００１６】
その場合に、Ｘ線ビーム源の点焦点スポットの水平方向幅Ｈと垂直高さＨの比率は、少なくとも４：１である事が望ましい。
【００１７】
該シャッタに続く光路中に、Ｘ線を反射するＸ線光学素子が配置される。この素子は、放物線状に湾曲し、よってこの素子に衝突して反射するＸ線の焦点が合わせられる。更に、公知技術のゲーベルミラー上に使用されているのと同様に、傾斜した層が、反射素子上に形成される。傾斜多層膜に衝突するＸ線は、反射素子上の衝突位置にかかわりなく非常によく単色化され得、所望されない波長を有さないＸ線が生成され得、これは特定の解析技術の用途に対して既に使用可能である。
【００１８】
Ｘ線ビーム源と反射素子の間に配置されるシャッタは、第１シャッタ（例えば、垂直シャッタ、遮断シャッタ）として開発され得る。
【００１９】
反射素子に続いて、即ち、焦点が合わせられたＸ線の光路中に配置される第２シャッタを提供し、それぞれの分析のために所望でない波長範囲にあるＸ線を該シャッタで吸収することが有利である。そのようなシャッタの開口部が、それぞれの定められた波長λ０の焦点上に配置されることは特に有利である。この場合、単色化されたＸ線が最大限使われ、それ以外の波長範囲のＸ線が完全に遮断され得る。開口の寸法は、ラボ用のＸ線ビーム源の一般的な線幅より小さくてもよく、続いて配置される光学素子における発散を減少させる。
【００２０】
また、第１の反射素子に続いて、望ましくは放物線状に凹状に湾曲し、傾斜多層膜で被覆される第２反射素子を提供してもよい。このような反射素子において、焦点が合わせられた発散Ｘ線は、ゲーベルミラーの線焦点の組合せと比較して、最大１ｍｍの使用され得るビーム高さに対してより大きい光子流量密度を有する平行ビームに再変換され得る。従って、この照射は、小さいサンプル領域に対して分析目的で効果的に使われ、測定感度が増加し得る。このような第２の反射素子により、Ｘ線は、再度単色化され得る。
【００２１】
検出目的のために、前述したＸ線光学素子によって誘導されるＸ線がサンプルに向けて照射され、サンプルによって散乱するＸ線は検出器によって検出され得る。ここで、強度の分布は散乱角の関数として検出され、および／または、エネルギー分解検出器は、サンプルから発している蛍光性の放射を検出するようにする。
【００２２】
前述したように、２つの反射素子を使用する配置によって、平行したＸ線のビーム断面を圧縮し得る。これは、Ｘ線ビーム源の点焦点スポットから発しているＸ線のビーム幅が第２の反射素子から反射される平行した単色Ｘ線のビーム幅より大きく、よって光子流量密度が増加し得る、ということを意味する。これにより、第２の反射素子上に形成される傾斜多層膜の反射率を考慮する場合、複数のパラメータが考慮され得る。これは、例えば放物線の形態、２つの反射素子の長さおよび／または２つの反射素子の相対的な配置であり、特に、後者は２つの反射素子間の距離である。これによって、第１の反射素子により発散として反射され、第２の反射素子上に焦点が合わせられるＸ線像の寸法が定められる。
【００２３】
本発明による配置により、Ｘ線ビーム源の点焦点スポットから発し、第１の反射素子の発散／受容によって平行化される多色のＸ線は完全に単色な平行ビームに変換され、そして２つの反射素子を使用することによって、その開口がＸ線ビーム源の点焦点スポットより小さく、付加のシャッタの使用を必要としない点状の平行ビームに変換され得る。従って、比較的小さいサンプル面積が、高い局所解像度によって分析され得る。本発明によるこのような開発により、使用されたＸ線ビーム源（例えば、固定陽極および回転陽極をそれぞれ有するラボ用Ｘ線管、または可搬型低電力電子管）の点焦点スポット以下の面積のサンプル領域を評価し得る。公知のグラファイト・モノクロメータと比較して、発散が１／５に減少し、よってより正確な解像度が画像面において達成され得る。公知の平行ビーム光学素子と比較して、表面上のサンプルの面積が点焦点スポット表面の面積以下であると言う特長によって、点焦点スポットの明るさがより高くなる。また、サンプル上のＸ線の有効強度は相当増加され、これと関連してグラファイト・モノクロメータの低い反射性と比較した際の、傾斜多層膜のより大きい反射性、およびシャッタの損失の減少が有利に達成される。
【００２４】
線焦点スポットにおける、ゲーベルミラーを含む公知の配置と比較して、チューブ・プロテクション・ハウジングの種類に起因する設計固有の問題である電子管の焦点とミラー間の最小距離に関する制限は存在しない。第１の反射素子は、Ｘ線ビーム源の各電子管ハウジングに連結され得る。放射されたＸ線の平行した部分のみが使われるので、第１の反射素子とＸ線ビーム源の焦点間の距離に関する制限は存在しない。
【００２５】
発散Ｘ線の像が線状の形態で形成され、反射後平行ビームとして利用可能である第２の反射素子は、第１の反射素子によって発生した線焦点スポット以降の任意の極めて近接した位置に配置され得、その層厚みの傾斜は特定の技術によって実現可能である。
【００２６】
第２の反射素子は、その焦点の位置と、第１の反射素子に続いて位置するシャッタの開口の位置とが互いに対応するように配置されることが望ましい。特に、上述した形態の２つの平行ビーム光学素子の組合せは、例えば、シンクロトロンから発するＸ線の範囲内の放射においてビーム断面を圧縮するのに適している。
【００２７】
以下、本発明は、実施例を用いてより詳細に説明されるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
図２に示されている本発明の配置の実施形態例によると、点状の一次ビーム断面を有し、Ｘ線ビーム源１の点焦点スポットから発している平行したＸ線は、傾斜多層膜が設けられている放物線状に湾曲した反射素子２に、ビーム幅ｂ１（垂直寸法Ｈ）で向けられる。反射素子２は、公知のゲーベルミラーで等で形成され、所望の放物線状の寸法規格、および適切な傾斜多層膜のレイアウトのそれぞれは公知であり、点状の一次放射のビーム幅に対する適用、および反射素子２から発散して反射される単色Ｘ線の焦点の位置のような予め設定され得るＸ線波長の選択が考慮され得る。
【００２９】
多色の放射として直接サンプル７上に衝突し得るＸ線を遮断する場合、シャッタ８はＸ線ビーム源１の点焦点スポットに続いて配置される。シャッタ８は、図２に示される平行した点状の一次ビームの下を通過するＸ線が吸収され得るように、一次シャッタとして構成され得る。場合により、図２に示されるＸ線の上側に配置されるシャッタ８の一部分を有さなくてもよい。シャッタ８は、いわゆる切断シャッタである。
【００３０】
図２に示される実施形態によると、他のシャッタ４が用いられ、線状に焦点が合わせられた単色のＸ線が進入し、望まれない波長を有するＸ線は該シャッタ４により吸収される。シャッタ４の開口は、所定の波長において反射素子２から反射されるＸ線の焦点内に位置されることが有利である。
【００３１】
分析用に使用し得る平行した単色のＸ線を形成する際、放物線状に湾曲され、傾斜多層膜を備える第２の反射素子５は、発散し、単色化され、および焦点が合わせられたＸ線の光路に配置される。
【００３２】
シャッタ４が本発明の配置とともに使われる場合、第２の反射素子５は、その焦点が第１の反射素子２の焦点３、およびシャッタ４の開口の位置と対応するように位置されるべきである。
【００３３】
図２において、反射素子２の受光または発散によって、Ｘ線ビーム源１の点焦点スポットから高さＨ（ｂ１）、平行度ΔΘで放射される多色の放射の部分のみが単色化され、反射素子２によって反射され、焦点が合わせられるるようになる。反射素子２の傾斜多層膜および放物線形状の形態は、高さＨがビーム幅ｂ１以下となるように選択され得る。
【００３４】
前述したように、焦点に対応すべきシャッタ４の開口は、条件式ΔΦ≦ΔΘを満たすように選択されることが好ましい。ここで、ΔΦは、第２の反射素子５またはその後続の素子が理想的に湾曲された事を仮定した際のサンプル上の放射の所望の偏差であり、ΔΘは、反射素子の層厚み傾斜に沿った第１の拡大ブラッグピークの半値全幅である。
【００３５】
放物線のイメージング特性の結果、Ｘ線ビーム源１の点焦点スポットがビーム幅ｂ１以内に小さく変動すると言う事は焦点３の位置に影響を及ぼさず、第１の反射素子２における第１の反射後、発散する単色線形光源がシャッタ４（垂直シャッタ）上に表れ、線形光の局所安定性は、多層膜の設計と同時に、反射素子２の位置および形状によってのみ決定される。
【００３６】
放物線状の焦点が焦点３、即ち、垂直シャッタ４の開口の位置と一致するように第２の反射素子が配置される場合、発散光を発する単色線形光源からイメージング平面内に平行に放射する単色点光源が達成される。
【００３７】
反射素子２および５の長さおよび放物線のパラメータ、並びに相互間の距離によって下流反射素子５に照射される単色平行Ｘ線のビーム幅ｂ２が決定され、利用可能なパラメータを適切に選択することによって、使用された一次放射のビーム幅ｂ１に対してビーム幅ｂ２が減少し、よって光子流量密度が増加し得る。この場合、ｂ１／ｂ２＊Ｒ（５）≧１の条件が満足されるべきである。ここで、Ｒ（５）は、反射素子５上の傾斜多層膜の平均の反射率である。
【００３８】
反射素子５から反射される平行Ｘ線の発散は、Ｘ線ビーム源１の点焦点スポットのサイズおよび検出器表面のサイズ、並びに個々の素子の距離を定める事によって、イメージング平面に対して直交するように決定される。該平面へのビームの進入を更に制限する事は、水平シャッタ６によって達成され得る。該水平シャッタ６とＸ線ビーム源１の点焦点スポットとの間の距離は、点焦点スポットの所定サイズによって、測定課題に対して適切にビームの発散が調整され得るように、決められた限度内で変動され得る。
【００３９】
図２に対して、シャッタ６は、２つの反射素子２および５の間に配置されても良い。
【００４０】
また、該スロットと同等の水平方向の狭隘度を有するシャッタ４を開発しても良い。
【００４１】
Ｘ線の漏出を抑制するために、他の垂直シャッタ９が、反射素子５とサンプル７との間に配置され得る。ここで、垂直シャッタ９の開口は、反射素子５から発している平行したＸ線のビーム幅ｂ２と対応すべきである。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】従来技術によるゲーベルミラーによって平行したＸ線に変換される発散Ｘ線の角関係を示す図面である。
【図２】本発明による配置の実施形態の組立図である。
【符号の説明】
【００４３】
１：Ｘ線ビーム源
２、５：反射素子
３：焦点
７：サンプル
４、８：シャッタ
【図１】
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【図２】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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2004522966.tif 000029
2004522966.tif 000030
2004522966.tif 000031