(57)【要約】【課題】塗布液の揮発によって塗布の品質が不安定になることを防止する塗布方法及び装置を提供する。【解決手段】塗布装置１０は、塗布液を支持体に塗布する塗布ヘッド３６と、塗布ヘッド３６に塗布液を循環供給するための塗布液供給ライン５６、５８、供給ポンプ６６、６８及び塗布液循環ライン６０、６２と、塗布ヘッド３６において塗布液が上方に開放される塗布液開放部を覆うカバー部材８０と、塗布準備状態の塗布ヘッド３６を覆う移動カバー部材９０とを備える。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布ヘッドによって塗布液を支持体に塗布するとともに、その塗布液の一部を回収して前記塗布ヘッドに循環供給する塗布方法において、
塗布運転状態の塗布ヘッドのうちの、前記塗布液が上方に開放される塗布液開放部をカバー部材で覆いながら塗布を行うことを特徴とする塗布方法。
【請求項２】
塗布ヘッドによって塗布液を支持体に塗布するとともに、その塗布液の一部を回収して前記塗布ヘッドに循環供給する塗布方法において、
前記塗布ヘッドを前記支持体から退避させた塗布準備状態で、前記塗布ヘッドの上面に移動カバー部材を配置して該上面を覆うとともに、
前記移動カバー部材を前記ヘッドの上面から退避移動させ、且つ、前記塗布ヘッドを前記支持体に近接させることによって、塗布運転を行うことを特徴とする塗布方法。
【請求項３】
前記塗布液は、有機溶剤系の塗布液であることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布方法。
【請求項４】
前記塗布を行う雰囲気の温度を、塗布液の温度に応じて制御することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１に記載の塗布方法。
【請求項５】
塗布液を支持体に塗布するとともに、塗布運転状態で前記塗布液が上方に開放される塗布液開放部を有する塗布ヘッドと、
前記塗布ヘッドの塗布液の一部を回収し、前記塗布ヘッドに循環供給する循環供給手段と、
前記塗布ヘッドの塗布液開放部を覆うカバー部材と、
を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項６】
塗布液を支持体に塗布するとともに、塗布準備状態の際に前記支持体に対して離間させる塗布ヘッドと、
前記塗布ヘッドで塗布した塗布液の一部を回収し、前記塗布ヘッドに循環供給する循環供給手段と、
前記塗布準備状態の塗布ヘッドの上面を覆う移動カバー部材と、
前記移動カバー部材を、前記塗布ヘッドの上面を覆う被覆位置と、前記塗布ヘッドの上面から離間させた離間位置とで移動させる移動手段と、
を備えたことを特徴とする塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布方法及び装置に係り、特に金属の帯状材料のようなウエブに溶剤系塗布液を塗布する塗布方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真製版法を含む近年の製版法では、製版工程の自動化を容易にすべく、感光性印刷版や感熱性印刷版等の平版印刷版〔以下、ＰＳ版（Pre-Sensitized Plate）と称する〕が広く使用されている。ＰＳ版は、シート状又はコイル状のアルミニウム板からなる支持体の面上に、例えば砂目立て、エッチング、陽極酸化、シリケート処理、及びその他化成処理等の親水化表面処理を各種表面処理槽内において単独又は適宜組み合わせて行い、次いで、感光液又は感熱液の塗布、乾燥処理を行った後、所望のサイズに切断することにより製造される（特許文献１参照）。
【０００３】
ところで、ＰＳ版をはじめとして、感光材料、写真製版材料、磁気記録材料、記録紙材料などを製造する際には、薄い金属板、紙、フイルム等のウエブを長手方向に連続して走行させつつ各種塗布液を塗布している。このような塗布を行う塗布法としては、ロッドコータを用いて被塗布体の塗布面に塗工用バーを当接させ、バー表面に塗布液を供給しながらバーを回転させて塗布を行うバー塗布法が良く知られている。バー塗布法では、塗布液を過剰に供給するとともに、その塗布液の過剰分をバーによって掻き落として計量することが一般的に行われている（特許文献２参照）。
【０００４】
一方で、過剰な塗布液を塗布ヘッドの液溜部に貯留し、この貯留した塗布液を塗布ヘッドに循環供給する循環系の塗布装置が知られている（特許文献３参照）。
【特許文献１】特開２００２−２４０４５５号公報
【特許文献２】特開２００３−９３９４８号公報
【特許文献３】特開平９−７０５６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、循環系の塗布装置では、塗布ヘッドから溶剤が徐々に揮発して塗布液の濃度が上昇するため、塗布時間が長くなるにつれてウエブ上の塗布乾膜量が増加するという問題があった。したがって、従来装置で長いウエブを塗布すると、長手方向において塗布量のバラツキが発生するので、品質の安定した製品を提供することが困難であった。
【０００６】
このような不具合を防止するには、上述した特許文献３のように、塗布液の循環ラインに溶剤を加える粘度調整室が必要になるが、この場合には、管理が複雑になるという問題やライン速度の高速化に対応できなくなるという問題があった。
【０００７】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、塗布液の揮発によって塗布の品質が不安定になることを防止する塗布方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の発明は前記目的を達成するために、塗布ヘッドによって塗布液を支持体（被塗布物）に塗布するとともに、その塗布液の一部を回収して前記塗布ヘッドに循環供給する塗布方法において、塗布運転状態の塗布ヘッドのうちの、前記塗布液が上方に開放される塗布液開放部をカバー部材で覆いながら塗布を行うことを特徴とする。
【０００９】
請求項５に記載の発明は前記目的を達成するために、塗布液を支持体に塗布するとともに、塗布運転状態で前記塗布液が上方に開放される塗布液開放部を有する塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドの塗布液の一部を回収し、前記塗布ヘッドに循環供給する循環供給手段と、前記塗布ヘッドの塗布液開放部を覆うカバー部材と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
請求項１、５に記載の発明によれば、カバー部材を設けて塗布ヘッドの塗布液開放部を覆うようにしたので、開放面積が小さくなり、塗布液の揮発を抑制することができる。したがって、請求項１、５の発明によれば、塗布液の濃度変化を抑制できるので、塗布乾膜量の上昇を防止することができ、常に安定した高品質の塗布を行うことができる。
【００１１】
請求項２に記載の発明は前記目的を達成するために、塗布ヘッドによって塗布液を支持体に塗布するとともに、その塗布液の一部を回収して前記塗布ヘッドに循環供給する塗布方法において、前記塗布ヘッドを前記支持体から退避させた塗布準備状態で、前記塗布ヘッドの上面に移動カバー部材を配置して該上面を覆うとともに、前記移動カバー部材を前記ヘッドの上面から退避移動させ、且つ、前記塗布ヘッドを前記支持体に近接させることによって、塗布運転を行うことを特徴とする。
【００１２】
請求項６に記載の発明は前記目的を達成するために、塗布液を支持体に塗布するとともに、塗布準備状態の際に前記支持体に対して離間させる塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドで塗布した塗布液の一部を回収し、前記塗布ヘッドに循環供給する循環供給手段と、前記塗布準備状態の塗布ヘッドの上面を覆う移動カバー部材と、前記移動カバー部材を、前記塗布ヘッドの上面を覆う被覆位置と、前記塗布ヘッドに対して離間させた離間位置とで移動させる移動手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１３】
請求項２、６の発明によれば、塗布準備状態で移動カバー部材を被覆位置に配置させることによって、塗布ヘッドの支持体側面を移動カバー部材で覆うようにしたので、塗布準備状態における塗布液の揮発を防止することができる。これにより、塗布液の濃度変化を防止することができるので、塗布乾膜量の上昇を防止することができ、品質のより安定した塗布を行うことができる。なお、塗布準備状態とは、塗布ヘッドへ塗布液の循環供給を行った状態で、且つ、塗布ヘッドを支持体から退避させて離間させた状態である。
【００１４】
請求項３に記載の発明は請求項１又は２の発明において、前記塗布液は、有機溶剤系の塗布液であることを特徴とする。本発明は、揮発量の多い有機溶剤系の塗布液を用いた場合において特に大きな効果を得ることができる。
【００１５】
請求項４に記載の発明は請求項１〜３のいずれか１の発明において、前記塗布を行う雰囲気の温度を、塗布液の温度に応じて制御することを特徴とする。請求項４の発明によれば、塗布の雰囲気温度を塗布液の温度に応じて制御するようにしたので、塗布液の揮発をより効果的に抑制することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、カバー部材を設けて塗布ヘッドの塗布液開放部を覆って開放部分を小さくしたり、塗布準備状態に塗布ヘッドの支持体側面を移動カバー部材で覆ったりするので、塗布液の揮発を抑制することができ、塗布液の濃度変化を抑制して常に安定した高品質の塗布を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、添付図面に従って本発明に係る塗布方法及び装置の好ましい実施の形態について説明する。
【００１８】
図１は本発明に係る塗布装置１０の主要構成を示す模式図である。また、図２、図３はそれぞれ、塗布運転状態の塗布ヘッド、塗布準備状態の塗布ヘッドを示している。
【００１９】
塗布装置１０は、アルミニウム等から成るウエブ（帯状の支持体）１２に有機溶剤系の塗布液を塗布する装置であり、主として送出し部２２、塗布部２４、乾燥部２６、及び、巻取部２８で構成される。送出し部２２には、ウエブ１２がロール状に巻取されたウエブロール３０がセットされており、このウエブロール３０からウエブ１２が送り出される。送り出されたウエブ１２は、塗布部２４によって塗布液が塗布された後、乾燥部２６で塗布液の乾燥処理が行われ、巻取部２８によってロール状に巻き取られる。なお、塗布装置１０の構成はこれに限定するものではなく、塗布部２４と乾燥部２６を繰り返して複数設けたり、巻取部２８の前段に裁断工程等の他の工程を設けたりしてもよい。
【００２０】
塗布部２４は、図１に示すように、塗布室１４の内部に設置される。塗布室１４は、循環ダクト１６を介して空調機１８に接続されており、塗布室１４内のエアを循環ダクト１６に循環させるとともにその循環エアを空調機１８によって一定の温湿度に調節している。これにより、塗布室１４の内部温度を一定に保つことができる。なお、空調機１８は後述の制御装置２０によって制御されており、塗布室１４の温度は塗布液の温度に応じて制御される。
【００２１】
図２、図３に示すように、塗布部２４は、回動自在に支持された一対のサポートローラ３２、３２と、この一対のサポートローラ３２、３２間に配置された押圧ローラ３４及び塗布ヘッド３６を備える。押圧ローラ３４は、ウエブ１２を挟んで塗布ヘッド３６の反対側（上側）に配置されており、回動自在に支持されている。また、押圧ローラ３４は、図３に示す塗布準備状態においてサポートローラ３２、３２間のウエブ１２の平面性を損なわない程度にウエブ１２に接触する位置で、且つ、図２に示す塗布運転状態においてウエブ１２が上下に屈曲して走行するようになっている。走行中のウエブ１２は、押圧ローラ３４と塗布ヘッド３６によって上下方向（厚み方向）の移動が規制されるので、ウエブ１２のバタツキを防止することができる。
【００２２】
塗布ヘッド３６は、ウエブ１２に対して下方から接触するバー３８を備える。バー３８は、略円柱状（又は円筒状）に形成されており、その長手方向がウエブ１２の幅方向に配置される。また、バー３８は、上面が円弧状に形成された軸受部材４０によって、回動可能な状態で支持されている。なお、バー３８を、ウエブ１２の走行方向、あるいは走行方向の反対方向に回転駆動してもよい。
【００２３】
軸受部材４０に対してウエブ１２の走行方向の上流側、下流側にはそれぞれ、堰板４２、４４が設けられる。堰板４２、４４は軸受部材４０に対して所定の間隙を持って配置されており、この間隙によって塗布液供給路４６、４８が構成されている。塗布液供給路４６、４８には、後述の塗布液供給ライン５６、５８が接続される。
【００２４】
堰板４２、４４の上部には、軸受部材４０側が高く、且つ、軸受部材４０から離れるに連れて低くなる傾斜面４２ａ、４４ａが形成されている。したがって、軸受部材４０側からの過剰な塗布液は、傾斜面４２ａを介して堰板４２の上流側、又は、傾斜面４４ａを介して堰板４４の下流側に流れ落ちるようになっている。
【００２５】
上述した軸受部材４０、堰板４２、４４は、ホルダ５０によって一体的に保持されている。ホルダ５０は、凹状に形成されており、堰板４２の上流側と堰板４４の下流側に立設された側板５０ａ、５０ａを備える。また、ホルダ５０は、ウエブ１２の幅方向の両側面に側板（一方のみ図示）５０ｂが取りつけられている。これにより、堰板４２の上流側には、堰板４２と側板５０ａ、５０ｂ、５０ｂによって囲まれるとともに上方に開口された液溜部５２が形成され、堰板４２の傾斜面４２ａから流れ落ちた塗布液を液溜部５２に貯留することができる。同様に、堰板４４の下流側には、堰板４４と側板５０ａ、５０ｂ、５０ｂによって囲まれるとともに上方に開口された液溜部５４が形成され、堰板４４の傾斜面４４ａから流れ落ちた塗布液を液溜部５４に貯留することができる。
【００２６】
液溜部５２、５４には、塗布液循環ライン６０、６２が接続されている。塗布液循環ライン６０、６２の先端は、図１に示す密閉系の塗布液タンク６４に接続されており、塗布液循環ライン６０、６２を介して液溜部５２、５４内の塗布液が塗布液タンク６４に循環される。
【００２７】
塗布液タンク６４には前述の塗布液供給ライン５６、５８が接続されており、塗布液供給ライン５６、５８にはそれぞれ、供給ポンプ６６、６８が配設される。したがって、供給ポンプ６６、６８を駆動することによって、塗布液タンク６４内に貯留された塗布液を、塗布液供給ライン５６、５８を介して塗布ヘッド３６の塗布液供給路４６、４８（図２、図３参照）に供給することができる。なお、供給ポンプ６６、６８は、制御装置２０に接続されており、制御装置２０によって、塗布液の供給量、循環量が制御される。また、塗布液供給ライン５６、５８、塗布液循環ライン６０、６２、又は、塗布液タンク６４に、塗布液中の異物を捕集除去する手段（たとえばフィルタ）や塗布液の粘度を調節する粘度調節手段を設けてもよい。
【００２８】
塗布液タンク６４には、有機溶剤系の塗布液が貯留されている。有機溶剤系の塗布液とは有機溶剤を主体とするものであり、有機溶剤としては例えば任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン−等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。
【００２９】
塗布液タンク６４の外周部分にはジャケット７４が装着されている。このジャケット７４には一定温度の熱媒体が循環されており、これによって塗布液タンク６４内の塗布液が一定温度に制御される。塗布液の温度は、不図示の温度センサによって測定され、その測定値が目標温度となるように制御装置２０によって制御されており、この塗布液の測定温度及び目標温度に応じて、前述した空調機１８の温度（すなわち、塗布室１４の温度）が制御される。たとえば、塗布液の温度を２２℃〜２８℃の範囲に制御する際に、塗布室１４の温度を２２℃以上２８℃以下、好ましくは２４℃以上２６℃以下になるように制御する。その際、塗布室１４の温度が塗布液の目標温度に対して±３℃になるように制御することが好ましい。さらに、塗布液の測定温度が目標温度よりも高い時は、塗布室１４の温度をその目標温度よりも低く制御し、塗布液の測定温度が目標温度よりも低い時は、塗布室１４の温度をその目標温度になるように制御することが好ましい。このように制御することによって、塗布液の溶剤の揮発をより効果的に抑制することができ、塗布液の濃度変化を防止することができる。また、上記の如く制御することによって、温度が上昇して塗布液に発泡が生じることや、温度が低下して塗布液の粘度が変動することを防止することができる。さらに、塗布室１４の温度制御によって、塗布液の温度をより正確に制御することができる。なお、塗布液を送液する塗布液供給ライン６０、６２に保温手段を設け、保温しながら送液するようにしてもよい。
【００３０】
次に本発明の特徴部分であるカバーについて説明する。本実施の形態の塗布装置１０には、塗布ヘッド３６を覆うためのカバー部材８０、８０…と移動カバー部材９０が設けられている。
【００３１】
カバー部材８０は、図２に示す塗布運転状態において、塗布ヘッド３６の塗布液開放部に設けられる。塗布液開放部とは、図４に示すように、塗布運転状態に上方から見て塗布液が見える部分である。
【００３２】
図４は、塗布運転状態における、カバー部材８０のない塗布ヘッド３６を示す平面図である。同図に示すように、液溜部５２、５４の上方は、その一部がウエブ１２によって覆われているが、ウエブ１２の幅方向の外側部分では上方に開口され、塗布液が上方から見て露出している。この部分が塗布液開放部であり、この部分では塗布液の揮発量が多いという問題がある。
【００３３】
そこで、本実施の形態では、図５に示すように、塗布液開放部である塗布ヘッド３６の四つのコーナー部を覆うために、カバー部材８０、８０を設けている。図５は、図２に示した塗布運転状態の塗布ヘッド３６の平面図である。
【００３４】
図２、図５に示すように、カバー部材８０、８０は、ステンレスやアルミ等の板材を屈曲させることによって形成されており、傾斜部８０ａ、係合部８０ｂ、及び、閉塞部８０ｃで構成されている。カバー部材８０の係合部８０ｂは、ホルダ５０の側板５０ａや側板５０ｂの上部に係合され、これによって、カバー部材８０がホルダ５０に取りつけられる。
【００３５】
カバー部材８０の傾斜部８０ａは、図２に示す如く堰板４２又は４４の傾斜面４２ａ又は４４ａと平行に形成され、傾斜面４２ａ又は４４ａに対して所定の隙間を持って配置されている。したがって、傾斜面４２ａ、４４ａを流れる塗布液がその隙間を通って液溜部５２、５４に流れ落ちるようになっている。
【００３６】
カバー部材８０の閉塞部８０ｃは液溜部５２又は５４の上方を塞ぐように構成される。これにより、液溜部５２又は５４の塗布液が揮発して外部に逃げることを防止することができる。
【００３７】
なお、カバー部材８０は、塗布ヘッド３６に固定することが好ましく、たとえばネジ止めなどの固定方法によって塗布ヘッド３６に着脱自在に固定してもよい。
【００３８】
また、カバー部材８０は上述した形状に限定されるものではなく、液溜部５２、５４のうち少なくとも、上方から見て塗布液が露出する部分（塗布液開放部）を覆うように形成されていればよい。したがって、たとえば図６に示すように、塗布ヘッド３６の四つのコーナー部をそれぞれ個別に、カバー部材８１で覆うようにしてもよい。このカバー部材８１は、ウエブ１２の外側の液溜部５２、５４を覆うような一定幅で形成されている。このカバー部材８１は、ステンレスやアルミ等の板材を屈曲させることによって形成されており、堰板４２の傾斜面４２ａ又は堰板４４の傾斜面４４ａに密着する傾斜部８１ａと、ホルダ５０の側板５０ａの上部に係合する係合部８１ｂと、液溜部５２又は５４の上方に配置される閉塞部８１ｃとで構成される。そして、傾斜部８１ａを傾斜面４２ａ又は４４ａに載置し、係合部８１ｂを側板５０ａの上端に係合することによって、閉塞部８１ｃが液溜部５２、５４の上方に配置される。このカバー部材８１は、ウエブ１２の幅寸法を変更した際に取付位置を変更したり、カバー部材８１の幅寸法を変更したりすることが好ましい。
【００３９】
一方、移動カバー部材９０は、図３に示す塗布準備状態の塗布ヘッド３６に取りつけられ、図２に示す塗布運転状態の塗布ヘッド３６からは取り外されるカバーである。塗布準備状態とは、塗布液供給ライン５６、５８から塗布ヘッド３６へ塗布液の供給を続けた状態で、且つ、塗布ヘッド３６をウエブ１２から離した状態をいう。
【００４０】
移動カバー部材９０は、図３に示すように、塗布ヘッド３６の上部形状に倣った逆Ｖ状に形成されており、塗布ヘッド３６の上部全体を覆うように形成される。移動カバー部材９０の材質は特に限定するものではなく、たとえば、ステンレスやアルミが用いられる。なお、移動カバー部材９０の側面は、図７に示すように、バー３８に接触しないように切欠部９０ａを設けるとよい。また、移動カバー部材９０の形状は上述したものに限定されるものではなく、塗布準備状態で塗布液が上方に露出する部分を覆うように形成されているのであればよい。したがって、たとえば図８に示すように、液溜部５２、５４の上方がカバー部材８０によって覆われている場合には、バー３８の上方を囲む形状の移動カバー９１を用いてもよい。この場合、移動カバー部材９１と塗布ヘッド３６との間のスペースが小さくなるので、塗布液の揮発量をより確実に防止することができる。
【００４１】
移動カバー部材９０は、図５に実線で示すように、塗布運転状態では、塗布ヘッド３６に対してウエブ１２の幅方向に離れた退避位置に移動するようになっている。また、塗布運転状態では、図５に二点鎖線で示すように、塗布ヘッド３６の上方の被覆位置に移動するようになっている。なお、移動カバー部材９０の移動は、自動で行うようにしてもよいし、手動で行うようにしてもよい。
【００４２】
次に上記の如く構成された塗布装置１０の作用について説明する。
【００４３】
まず、塗布液を塗布ヘッド３６に循環させて塗布準備状態にする。すなわち、図１の供給ポンプ６６、６８を駆動して塗布液タンク６４の塗布液を塗布液供給ライン５６、５８を介して塗布ヘッド３６に供給し、液溜部５２、５４に回収された塗布液を塗布液循環ライン６０、６２を介して塗布液タンク６４に返送する。これにより、塗布液タンク６４内の塗布液が塗布ヘッド３６に循環供給される。
【００４４】
この塗布準備状態では、図３に示すように、塗布ヘッド３６は、ウエブ１２から離れた位置に配置される。このため、従来の場合（すなわち塗布ヘッド３６に移動カバー部材８０がない場合）には、ウエブ１２と塗布ヘッド３６との大きな隙間から塗布液が揮発するという問題があった。その結果、塗布準備状態の経時時間に伴って塗布液の濃度が変化し、塗布後の乾膜量が所望の値からずれるという問題があった。
【００４５】
これに対して、本実施の形態では、塗布準備状態の塗布ヘッド３６の上部に移動カバー部材９０を配置し、塗布ヘッド３６の上面全体を移動カバー部材９０で覆っている。したがって、塗布ヘッド３６の上面には、塗布液の揮発成分が逃げ出す隙間がなくなるので、塗布準備状態における塗布液の濃度が変化することを防止できる。これにより、塗布後に所望の乾膜量を正確に得ることができる。
【００４６】
塗布準備状態において塗布液の循環供給が安定した後、ウエブ１２を走行させる。そして、移動カバー部材９０を図５の実線で示すように退避位置に移動させる。次いで、塗布ヘッド３６を上方に移動させ、図２に示すように塗布ヘッド３６のバー３８をウエブ１２に押し当てる。これにより、塗布運転状態になり、ウエブ１２に塗布液が転移し、ウエブ１２に塗布液の層が形成される。
【００４７】
この塗布運転状態では、塗布ヘッド３６の液溜部５２、５４の上方にカバー部材８０、８０が配置され、液溜部５２、５４の上側がカバー部材８０によって覆われた状態になる（図５参照）。したがって、ウエブ１２と塗布ヘッド３６との隙間が極力小さくなり、液溜部５２、５４の塗布液が揮発することを極力、抑制することができる。これにより、塗布運転を長時間連続した場合であっても、塗布液の揮発を抑制することができ、塗布液の濃度の経時変化を抑制することができる。よって、本実施の形態によれば、塗布後の乾膜量を安定させることができ、常に高い品質の塗布を行うことができる。
【００４８】
また、本実施の形態によれば、塗布室１４の温度を塗布液の温度に応じて制御するようにしたので、塗布液の揮発を抑制することができ、塗布液の濃度の経時変化をさらに効果的に抑制することができる。
【００４９】
なお、上述した実施形態では、塗布室１４全体の温度を制御するようにしたが、これに限定するものではなく、塗布ヘッド３６近傍の温度を制御するようにしてもよい。
【００５０】
また、上述した実施形態は、バー塗布法を用いた塗布装置を示したが、塗布方法はこれに限定するものではなく、塗布液が揮発する開放部を塗布ヘッドに有する塗布方法であれば上述した効果が得られる。たとえば、ディップ塗布、ローラ塗布、グラビア塗布、ブレード塗布において、特に大きな効果が得られる。
【００５１】
さらに、上述した実施形態は、有機溶剤系の塗布液を用いたが、これに限定するものではなく、塗布部の雰囲気温度で揮発する成分を有する塗布液であれば、本発明の効果が得られる。
【実施例】
【００５２】
試験１：塗布準備状態を５時間継続するとともに、その際の塗布液をサンプリングして濃度変動を測定した。また、そのサンプリングした塗布液を用いて、塗布を行い、乾膜量の変動を調べた。試験は、移動カバー部材９０を設けた場合（実施例１）と、移動カバー部材９０のない場合（比較例１）で行った。
【００５３】
なお、塗布条件は、アルミウエブの厚さ：０．３ｍｍ、ウエブ移動速度：５０ｍ／分、塗布方法：バー塗布、塗布量：２０ｃｃ／ｍ２、バー径：１０ｍｍ、バー回転数：−５０ｒｐｍ（ウエブの走行方向の反対方向に回転）、塗布液粘度：１．５ｍＰａ・ｓ、送液量（塗布液供給量）：１．５Ｌ／分、送液幅：１０００ｍｍ、塗布液温度：２５〜２７℃、塗布室の温度：２３℃前後、とした。
【００５４】
試験２：塗布運転状態を５時間継続するとともに、その際の塗布液の濃度変動と、乾膜量の変動を測定した。試験は、カバー部材８０を設けた場合（実施例２）と、カバー部材８０のない場合（比較例２）で行った。
【００５５】
試験１、２の結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
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表１から分かるように、移動カバー部材９０のない比較例１では、塗布準備状態を継続することによって、塗布液の濃度が４〜５％と大きく変動し、塗布量乾膜量も４〜５％と大きく変動した。これに対して、移動カバー部材９０を設けた実施例１では、塗布準備状態を継続しても、塗布液の濃度変動を０．４％未満に抑えることができ、塗布量乾膜量も０．４％未満に抑えることができた。
【００５７】
また、カバー部材８０のない比較例２では、塗布運転状態を継続することによって、塗布液の濃度が２〜３％と大きく変動し、塗布量乾膜量も２〜３％と大きく変動した。これに対して、カバー部材８０を設けた実施例２では、塗布準備状態を継続しても、塗布液の濃度変動を０．２％未満に抑えることができ、塗布量乾膜量も０．２％未満に抑えることができた。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明に係る塗布装置の主要構成を示す模式図
【図２】塗布運転状態の塗布ヘッドを示す断面図
【図３】塗布準備状態の塗布ヘッドを示す断面図
【図４】カバー部材を取りつける前の塗布ヘッドを示す平面図
【図５】カバー部材を取りつけた塗布運転状態の塗布ヘッドを示す平面図
【図６】図５と異なる形状のカバー部材を取りつけた塗布ヘッドを示す平面図
【図７】図６の移動カバー部材を示す側面図
【図８】図６と異なる形状の移動カバー部材を取り付けた塗布ヘッドを示す断面図
【符号の説明】
【００５９】
１０…塗布装置、１２…ウエブ、１４…塗布室、１８…空調機、２０…制御装置、２４…塗布部、３６…塗布ヘッド、３８…バー、５２、５４…液溜部、６４…塗布液タンク、８０…カバー部材、９０…移動カバー部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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