(57)【要約】【課題】水系塗液を塗布する塗布工程において、塗布条件や材料の種類に影響を受けることなく、塗膜の耳高を効果的に抑制する。【解決手段】ウェブＷに水系塗液を塗布する方法であって、水系塗液塗布前に、ウェブＷにおいて塗膜Ｃが形成される領域の縁部Ｔのみにプラズマを照射する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェブに水系塗液を塗布する方法であって、
水系塗液塗布前に、前記ウェブにおいて前記塗膜が形成される領域の縁部のみにプラズマを照射すること
を特徴とする塗布方法。
【請求項２】
前記縁部に施されるプラズマ照射が、下記条件式を満たすことを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
Ｂ／Ａ2≧３５０
Ｂ：プラズマ処理強度（ｋＪ／ｍ2）、Ａ：プラズマ照射距離（ｍ）
【請求項３】
前記縁部に施されるプラズマ照射が、下記条件式を満たすことを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
Ｂ／Ａ2≧４５０
Ｂ：プラズマ処理強度（ｋＪ／ｍ2）、Ａ：プラズマ照射距離（ｍ）
【請求項４】
前記縁部に施されるプラズマ照射が、下記条件式を満たすことを特徴とする請求項１に記載の塗布方法。
Ｂ／Ａ2≧６５０
Ｂ：プラズマ処理強度（ｋＪ／ｍ2）、Ａ：プラズマ照射距離（ｍ）
【請求項５】
前記プラズマ照射が、プラズマジェットノズルを備えたプラズマ装置で行なわれることを特徴とする請求項１から請求項４の何れか１項に記載の塗布方法。
【請求項６】
前記ウェブが合成樹脂からなるフィルムであることを特徴とする請求項１から請求項５の何れか１項に記載の塗布方法。
【請求項７】
水系塗液をウェブに塗布し塗膜を形成する塗布装置であって、
前記ウェブにおいて前記塗膜が形成される領域の縁部のみにプラズマを照射するプラズマ処理手段と、
前記領域に前記水系塗液を塗布する塗布手段とを備える
ことを特徴とする塗布装置。
【請求項８】
前記プラズマ処理手段がプラズマジェットノズルであり、前記プラズマジェットノズルがウェブ走行方向と垂直な方向に移動可能であることを特徴とする請求項７に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記プラズマジェットノズルがウェブ走行方向に沿って移動可能であることを特徴とする請求項８に記載の塗布装置。
【請求項１０】
ウェブに塗膜を形成して被覆シートを製造する方法であって、
前記ウェブにおいて前記塗膜が形成される領域の縁部のみにプラズマを照射する工程と、
前記領域に水系塗液を塗布する工程と
を備えることを特徴とする被覆シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シート（連続シート、枚葉、板材等）部材に塗膜を形成するための塗布方法、及び塗膜が形成された被覆シートの製造方法、並びにこれらに使用される塗布装置に関する。特に塗液に水系塗液を用いた塗布方法、被覆シートの製造方法、塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば粘着層などの塗膜をシート部材に形成する場合、塗液の表面張力により湿潤塗膜の縁に盛り上がりが発生し、所謂耳高を生じる。耳高は外観上の問題のみならず、乾燥負荷の増大、ラミネート部での粘着剤のしみ出しによる汚損、巻取時の破断などの問題を引き起こす。特に水系エマルション型粘着剤などの水系塗液においては表面張力が大きいため特に問題が顕著となる。
【０００３】
耳高を抑制する方法として、従来、気流拡散方法（特許文献１）、吹きならし方法（特許文献２）、吸引パイプにより吸い取る方法や、円弧状に広がったキャビティ、傾斜状のスリットを用いる方法（特許文献３）などが提案されている。しかし、これらの方法は、塗膜縁に形成された耳高を物理的な方法により強制的にならす方法であるため、塗布条件や材料が多岐に渡る場合、条件設定が困難となり十分な効果が得られない。
【特許文献１】特開昭５４−１４２２４８号公報
【特許文献２】特開昭５４−１５９４５２号公報
【特許文献３】特開昭５６−０７３５７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、水系塗液を塗布する塗布工程において、塗布条件や材料の種類に影響を受けることなく、塗膜の耳高を効果的に抑制することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
（１）本発明の請求項１に記載の塗布方法は、ウェブに水系塗液を塗布する方法であって、水系塗液塗布前に、ウェブにおいて塗膜が形成される領域の縁部のみにプラズマを照射したことを特徴としている。
【０００６】
（２）請求項２に記載の塗布方法では、縁部に施されるプラズマ照射が、Ｂをプラズマ処理強度（ｋＪ／ｍ2）、Ａをプラズマ照射距離（ｍ）とするとき、Ｂ／Ａ2≧３５０の条件の下で行われる。
【０００７】
（３）請求項３に記載の塗布方法では、縁部に施されるプラズマ照射が、Ｂをプラズマ処理強度（ｋＪ／ｍ2）、Ａをプラズマ照射距離（ｍ）とするとき、Ｂ／Ａ2≧４５０の下で行われる。
【０００８】
（４）請求項４に記載の塗布方法では、縁部に施されるプラズマ照射が、Ｂをプラズマ処理強度（ｋＪ／ｍ2）、Ａをプラズマ照射距離（ｍ）とするとき、Ｂ／Ａ2≧６５０の下で行われる。
【０００９】
（５）請求項５に記載の塗布方法では、プラズマ照射は、プラズマジェットノズルを備えたプラズマ装置で行なわれる。
【００１０】
（６）請求項６に記載の塗布方法では、ウェブに合成樹脂からなるフィルムが用いられる。
【００１１】
（７）本発明の請求項７に記載の塗布装置は、水系塗液をウェブに塗布し塗膜を形成する塗布装置であって、ウェブにおいて塗膜が形成される領域の縁部のみにプラズマを照射するプラズマ処理手段と、この領域に水系塗液を塗布する塗布手段とを備えることを特徴としている。
【００１２】
（８）請求項８に記載の塗布装置では、プラズマ処理手段はプラズマジェットノズルであり、プラズマジェットノズルはウェブ走行方向と垂直な方向に移動可能である。
【００１３】
（９）請求項９に記載の塗布装置では、プラズマジェットノズルがウェブ走行方向に沿って移動可能である。
【００１４】
（１０）本発明の請求項１０に記載の被覆シートの製造方法は、ウェブに塗膜を形成して被覆シートを製造する方法であって、ウェブにおいて塗膜が形成される領域の縁部のみにプラズマを照射する工程と、この領域に水系塗液を塗布する工程とを備えたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１５】
以上のように、本発明によれば、水系塗液を塗布する塗布工程において、塗布条件や材料の種類に影響を受けることなく、塗膜の耳高を効果的に抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。
図１は、本発明の第１実施形態である塗布装置の構成を模式的に示す斜視図である。図１を参照して本実施形態の塗布方法について説明する。
【００１７】
一般にプラズマ処理手段としては、大気圧プラズマ処理や真空プラズマ処理等を挙げることができる。真空プラズマ処理はバッチ処理であるため、付帯設備（真空装置）などが必要となる点などを考慮すると、製造の簡便さや設備投資などの観点より大気圧プラズマ処理が好ましい。また、プラズマ照射ノズルとしては、円筒形状やスリット形状のものなどが挙げられる。製造費用等を考慮すると、スポットで照射可能な円筒形のジェットノズルが好ましい。以上のことから、本実施形態の塗布方法では、ウェブに対し円筒形のジェットノズルを用いてプラズマ処理が施される。
【００１８】
図１に示されるように、本実施形態では、例えばバッキングロール１１に掛けまわされ連続走行する長尺状のウェブ（塗布基材）Ｗに対し、スロットダイ１２を用いて水系塗液が塗布され、塗膜ＣがウェブＷに形成される。また、スロットダイ１２によりウェブＷに塗液が塗布される前に、一対のプラズマジェットノズル１５によりウェブＷに表面処理が施される。
【００１９】
プラズマジェットノズル１５による表面処理は、塗膜Ｃの両端に対応する領域（縁部）、すなわち耳高が形成される領域Ｔに施される。図３には、本実施形態によるプラズマ処理を施さない場合の塗膜Ｃの拡大断面図が示されるが、このような場合、湿潤塗膜Ｃの両端部（領域Ｔ）では、表面張力により塗膜が盛り上がり、耳高が発生する。しかし、本実施形態のように、塗膜Ｃの縁部となる両端部のみに予めプラズマ処理を施し、この領域の基材の濡れ性を改善しておくと、図３に示されるような耳高現象を抑制することが可能となる。
【００２０】
プラズマ処理が施される領域は、耳高が発生する範囲であればよく、一般的な塗液の場合には、耳高の高さが最大となる位置を中心に略５〜１０ｍｍ幅の範囲となる。また、耳高を十分に抑制するのに好ましいプラズマ処理条件は、好ましくはＢ／Ａ2≧３５０を満たす範囲である。このときＢはプラズマ処理強度（ｋＪ／ｍ2）であり、Ａは照射距離（ｍ）である。より好ましくはＢ／Ａ2≧４５０を満たす範囲であり、更により好ましくはＢ／Ａ2≧６５０を満たす範囲である。ここで処理強度（Ｊ／ｍ2）＝装置出力（Ｊ・ｓ-1）／単位時間当たりの照射面積（ｍ2・ｓ-1）である。また単位時間当たりの照射面積（ｍ2・ｓ-1）＝ノズル直径（ｍ）×処理速度（ｍ・ｓ-1）である。
【００２１】
また、塗膜が形成される表面基材としては、水系塗液が適用でき、プラズマ処理が施せるものであればどのような材質のものでもよく、例えば紙類、記録紙類、ポリオレフィン、ポリエステルなどのフィルムや合成紙、金属蒸着シート、フォイル、ガラス、布なども含まれる。厚みは特に限定されず、５μｍ〜１ｍｍのものが好ましく、１０μｍ〜５００μｍのものが特に好ましい。
【００２２】
また、水系塗液は特に限定されるものではないが、インキや接着剤の水溶性または水分散タイプ（エマルジョン）を例示することができる。
【００２３】
水系インキとしては、公知の水性樹脂、顔料、溶媒、添加剤などから構成されるものを用いることができる。
【００２４】
水性樹脂としては、アクリル系共重合樹脂、ロジンエステル系樹脂、スチレン系共重合樹脂、ポリエステル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、シェラック樹脂などを単独であるいは２種類以上を混合して用いることができる。
【００２５】
顔料としては、無機系、有機系があり、無機系としては、酸化チタン、カーボンブラックなど、有機系としては、アゾ系、フタロシアニン系などを用いることができる。
【００２６】
溶媒としては、水の他に必要に応じて、エタノール、イソプロピルアルコール、Ｎ−プロピルアルコールなどの低級アルコール、グリコール類およびそのエステル類などを用いることができる。
【００２７】
添加剤としては、ワックス類、シリコーンオイル等を添加することができる。
【００２８】
なお、水系塗液の塗布厚みは、特に限定されるものではなく、従来の塗布厚みのものに対応することができる。
【００２９】
一方、水系接着剤としては、澱粉、膠、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリエチレンイミン、ポリアミドエピクロロヒドリン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、酢酸ビニル・アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル・エチレン共重合体、ゴムラテックス等が挙げられる。これらを単独あるいは２種類以上を混合して用いることができる。
【００３０】
なお、溶媒としては、前述の水系インキで用いたものを挙げることができる。
【００３１】
図２は、本発明の第１実施形態である塗布装置の一部を模式的に示す側面図である。
第１実施形態の塗布装置１０は、バッキングロール１１及びスロットダイ１２を備える。バッキングロール１１には、例えばローラ１３を経由した長尺状のウェブ（塗布基材）Ｗが掛け回され、ウェブＷは、バッキングロール１１上を図に示された矢印方向に連続走行される。またウェブＷには、スロットダイ１２によりバッキングロール１１上の所定の位置において塗液（水系エマルション型粘着剤などの水系塗液）Ｌが塗布され、塗膜Ｃが形成され、乾燥後、塗膜Ｃでコートされた被覆シートとなる。塗液Ｌは、塗液槽１４に貯留されており、ポンプＰおよびフィルタＦを介してスロットダイ１２に供給される。なお、ウェブには例えば合成樹脂からなるフィルム状の基材が用いられる。
【００３２】
また、バッキングロール１１において、スロットダイ１２の上流側には、例えば一対のプラズマジェットノズル１５が、その先端をバッキングロール１１に向けて配置される。プラズマジェットノズル１５は、ウェブＷから所定距離隔てて配置され、図１のようにそれぞれバッキングロール１１の軸方向に移動可能である。すなわち、プラズマジェットノズル１５は、ウェブＷおよびこれに形成される塗膜Ｃの幅に合わせて、バッキングロール１１の軸方向に沿った位置を調整可能である。
【００３３】
また、プラズマジェットノズル１５は、図２のようにバッキングロール１１の外周面周方向に沿って移動可能であり（図２では、移動されたノズル１５の位置を破線で示す）、プラズマによるウェブＷの表面処理からスロットダイ１２による塗膜Ｃの形成までの間隔を調整可能である。なお、プラズマジェットノズル１５には、ジェネレータ１６で生成され、低圧／高圧トランスフォーマ１７で昇圧された電力が供給される。
【００３４】
以上のように、本発明の第１実施形態によれば、水系塗液が塗布される連続走行される長尺状のウェブに対して耳高現象を抑制することができる。また、端部のみにプラズマ処理を施せばよいので少ないエネルギーで処理を行なうことができる。
【００３５】
図４に第１実施形態の変形例によりストライプ状に塗膜が形成された連続走行ウェブの部分的な切断図を示す。第１実施形態では、一対のプラズマジェットノズル１５が用いられたが、図４に示される変形例では、プラズマジェットノズル１５が３対（合計６本）使用される。すなわち、図４に示されるように、塗膜ＣがウェブＷ上の複数（例えば３列）の領域に形成される場合、各塗膜Ｃのそれぞれの端部にプラズマ処理を施す必要がある。したがって、このような場合には、各々の塗膜Ｃの縁部を形成する両端部の領域Ｔに対応してプラズマジェットノズル１５が用意され、図４の例では６本のプラズマジェットノズル１５がバッキングロール１１の回転軸に沿って配列され、ウェブＷに対してプラズマ処理を施す。
【００３６】
図５に本発明の第２実施形態の塗布装置が示される。第１実施形態と同様の構成に関しては同一符合を用いるとともに、その説明を省略する。
【００３７】
第２実施形態の塗布装置２０は、ドクターナイフを用いた塗布装置である。図５に示されるように、水系塗液Ｌは液溜パン２１内に保持され、バッキングロール１１に掛け回された連続走行ウェブＷは液溜パン２１内を通って走行され、ウェブＷには塗液Ｌが塗布される。このとき、従来周知のように、ドクターナイフ２２により塗膜の厚さが調整される。第２実施形態では、液溜パン２１の手前（上流側）に第１実施形態と同様に、一対のプラズマジェットノズル１５が配置され、塗膜形成部の両端に対応する領域にプラズマ処理が施される。
【００３８】
以上により、ドクターナイフを用いた塗布装置においても、第１実施形態と同様の効果が得られる。
【００３９】
図６は、オフセットグラビアロール方式を用いた第３実施形態の塗布装置の模式図である。第３実施形態の塗布装置３０は、バッキングロール３１、オフセットロール３２、供給（蝕刻）ロール３３を備える。
【００４０】
供給ロール３３は、水系塗液Ｌが貯留された塗液槽３４に一部が浸された状態で回転され塗液を巻上げる。供給ロール３３に付着された塗液Ｌは、ドクターブレード３５によりその量が調整され、供給ロール３３と接触する外周面がゴム材等で覆われたオフセットロール３２に転着される。連続走行ウェブＷはバッキングロール３１に掛け回されるとともに、バッキングロール３１とオフセットロール３２の間に挟まれる。すなわち、ウェブＷがオフセットロール３２と接触する際に塗液Ｌが塗布され塗膜が形成される。
【００４１】
また、バッキングロール３１の上流側、すなわちウェブＷがバッキングロール３１に接触してオフセットロール３２との間に挟まれる手前に、第１実施形態と同様に例えば一対のプラズマジェットノズル１５が配置され、プラズマ処理がウェブＷに施される。
【００４２】
以上のようにオフセットグラビアロール方式を用いた第３実施形態の塗布装置においても、第１および第２実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４３】
図７は、３本リバースロール方式を用いた第４実施形態の塗布装置の模式図である。第４実施形態の塗布装置４０は、例えば、バッキングロール４１、塗り（供給）ロール４２、ドクターロール４３を備える。バッキングロール４１には、補助ロール４４を介した連続走行ウェブＷが掛け回される。塗りロール４２は、バッキングロール４１、ドクターロール４３と接触しながら回転され、その一部は塗液槽４５に浸される。塗りロール４２により巻上げられた塗液Ｌは、ドクターロール４３との接触によりその量が調整される。塗りロール４２とバッキングロール４１との間には連続走行されるウェブＷが挟まれ、ウェブＷには塗りロール４２に付着された塗液Ｌが転着される。
【００４４】
プラズマジェットノズル１５は、ウェブＷがバッキングロール４１と塗りロール４２に挟まれる手前において、第１実施形態と同様の構成で配置される。これにより、塗液の塗布前にウェブＷの塗膜の両端に対応する領域にプラズマ処理が施され、この領域の濡れ性が改善される。
【００４５】
以上のように、３本リバースロール方式を用いた第４実施形態の塗布装置においても、第１〜第３実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４６】
次に図８〜９を参照して、第５実施形態の塗布装置について説明する。第５実施形態は、塗布基材が枚葉であり、例えばシルクスクリーンを用いた場合に対応する。図８は、一枚の枚葉ウェブＷＬに４つの矩形塗膜領域ＣＬ１〜ＣＬ４が形成される場合を例示し、図９は、１枚の枚葉ウェブＷＬに１つのハート型塗膜領域ＣＬが形成される場合を例示している。
【００４７】
図８のように、一枚の枚葉ＷＬに４つの塗膜領域ＣＬ１〜ＣＬ４が形成される場合には、各領域ＣＬ１〜ＣＬ４の周縁部（縁部）において耳高が発生し得る。したがって、図８の例では、塗膜領域ＣＬ１〜ＣＬ４各々の周囲に沿った領域ＴＬ１〜ＴＬ４にプラズマ処理が施される。すなわち、プラズマジェットノズル１５の先端は、塗膜領域ＣＬ１〜ＣＬ４の周囲に沿って移動され、従来周知のシルクスクリーンを用いた塗布が行われる前にプラズマ処理が基材に施される。
【００４８】
また、図９のような場合には、ハート型領域ＣＬの周縁に沿った領域ＴＬに対してのみプラズマ処理が施される。なお、図８の場合には、一本のプラズマジェットノズル１５を用いて４つの領域ＴＬ１〜ＴＬ４を順次処理してもよいし、４本のプラズマジェットノズル１５を用いて、４つの領域ＴＬ１〜ＴＬ４を同時に処理してもよい。
【００４９】
以上のように、第５実施形態によれば、枚葉状のウェブ（シート）においても、耳高を抑制することが可能となる。
【実施例】
【００５０】
次に表１を参照して実施例１〜７および比較例１、２とを比較した試験結果について説明する。実施例１〜４および比較例１では、基材に厚さ５０μｍの表面処理が施されていないポリエチレンテレフタレートフィルム（以下ＰＥＴと略す。東レ製：ルミラーＴ６０（登録商標））が使用され、実施例５〜７および比較例２では、基材に厚さ４０μｍの表面処理が施されていないポリプロピレンフィルム（以下ＰＰと略す。王子製紙製：アルファンＳ  ＰＰ４０（登録商標））を使用した。
【００５１】
実施例１〜７、比較例１、２では、図１０に示すように、プラズマ装置ＰＤを基材設置面Ｓの垂直面に対して２°傾け、３０ｒｐｍでウェブ停止時にプラズマ照射軌跡が円を描くような回転円運動させた状態で、基材ＳＢの一部にそれぞれ異なる処理強度でプラズマを照射した。またプラズマ照射装置には、日本プラズマトリート株式会社製のＦＧ１０１０Ｋ（ノズル噴出口直径２．５ｍｍ）が用いられた。なお、プラズマ照射強度は装置出力、ノズル噴出口直径、および塗工速度から算出された。
【００５２】
上記プラズマ照射処理を行なった後、実施例１〜７および比較例１、２の各々に対して、プラズマ照射部および非照射部に渡って、水系エマルション粘着剤（東洋インキ製造製：オリバインＢＰＷ５３２０（登録商標））をアプリケータで乾燥後の塗布重量が２０ｇ／ｍ2となるように塗布した。より具体的には、熱風乾燥機において温度１００℃で２分間乾燥後、塗膜端部（塗布部および未塗布部を含む領域）を１０ｍｍ×２０ｍｍに切ってサンプルを作成した。その後デュワー瓶に液体窒素を注ぎ、サンプルをピンセットで挟み１０秒間浸漬して冷却固化させ、接触式表面粗さ計（株式会社ミツトヨ  ＳＵＲＦＴＥＳＴ  ＳＶ−３０００）を用いて塗膜端部の高さの測定および目視評価を行ない、耳高の抑制具合を調べた。
【００５３】
【表１】
2007181770.tif 000003
【００５４】
なお、表１の中の照射距離Ａは、図１０における高さｈに対応し、基材設置面Ｓからプラズマ照射装置ＰＤの照射中心位置までの高さとして定義される。
【００５５】
表１に示されるように、基材ＳＢにポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）を用い、照射距離Ａ＝０．１ｍ、処理強度Ｂ＝４ｋＪ／ｍ2とした実施例１のとき、すなわちＢ／Ａ2＝４００のとき、耳高は２４μｍであり、目視で耳高が抑制された。また、照射距離Ａ＝０．１８ｍ、処理強度Ｂ＝１６ｋＪ／ｍ2とした実施例２、すなわちＢ／Ａ2＝４９０のとき、耳高は１０μｍで、目視においてもかなり耳高が抑制された。更に、照射距離Ａ＝０．２ｍ、処理強度Ｂ＝２７ｋＪ／ｍ2、Ｂ／Ａ2＝６８０の実施例３、照射距離Ａ＝０．１ｍ、処理強度Ｂ＝１０ｋＪ／ｍ2、Ｂ／Ａ2＝１０００の実施例４のとき、耳高はそれぞれ５．８μｍ、４．１μｍであり、目視においても耳高は大きく抑制された。これに対し、プラズマ照射を行なわなかった比較例１では、耳高は３４μｍであり、目視においても耳高の抑制は確認されなかった。すなわち、耳高はＢ／Ａ2の値が大きくなるにつれて漸次抑制された。
【００５６】
一方、基材ＳＢにポリプロピレンフィルム（ＰＰ）を用い、照射距離Ａ＝０．１ｍ、処理強度Ｂ＝４ｋＪ／ｍ2とした実施例５のとき、すなわちＢ／Ａ2＝４００のとき、耳高は２６μｍであり、目視で耳高が抑制された。また、照射距離Ａ＝０．１８ｍ、処理強度Ｂ＝１６ｋＪ／ｍ2とした実施例６、すなわちＢ／Ａ2＝４９０のとき、耳高は１１μｍで、目視においてもかなり耳高が抑制された。更に、照射距離Ａ＝０．１ｍ、処理強度Ｂ＝８ｋＪ／ｍ2、Ｂ／Ａ2＝８００の実施例７のとき、耳高は４．８μｍとなり、目視においても耳高は大きく抑制された。これに対し、プラズマ照射を行なわなかった比較例２では、耳高は４１μｍであり、目視においても耳高の抑制は確認されなかった。すなわち、ポリエチレンテレフタレートフィルムに対するのと同様に、耳高はＢ／Ａ2の値が大きくなるにつれて漸次抑制された。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】第１実施形態の塗布方法を説明する模式的な部分拡大斜視図である。
【図２】スロットダイを用いた本発明の第１実施形態である塗布装置の模式図である。
【図３】耳高が発生した塗膜端部の部分拡大断面図である。
【図４】第１実施形態の変形例によりストライプ状に塗膜が形成された連続走行ウェブの部分的な切断図である。
【図５】ドクターナイフを用いた第２実施形態の塗布装置の模式図である。
【図６】オフセットグラビアロール方式を用いた第３実施形態の塗布装置の模式図である。
【図７】３本リバースロール方式を用いた第４実施形態の塗布装置の模式図である。
【図８】枚葉のウェブに複数の塗膜領域を形成するときに、プラズマ処理が施される領域を示す図である。
【図９】枚葉のウェブにハート型の塗膜領域を形成するときに、プラズマ処理が施される領域を示す図である。
【図１０】実施例、比較例の計測方法を示す図である。
【符号の説明】
【００５８】
１０、２０、３０、４０  塗布装置
１５  プラズマジェットノズル
Ｃ、ＣＬ１〜ＣＬ４、ＣＬ  塗膜（塗膜領域）
Ｗ、ＷＬ  ウェブ（表面基材・塗布基材）
Ｔ、ＴＬ１〜ＴＬ４、ＴＬ  耳高が形成される領域（プラズマ照射領域）
Ｌ  塗液
【図１】
2007181770.tif 000004
【図２】
2007181770.tif 000005
【図３】
2007181770.tif 000006
【図４】
2007181770.tif 000007
【図５】
2007181770.tif 000008
【図６】
2007181770.tif 000009
【図７】
2007181770.tif 000010
【図８】
2007181770.tif 000011
【図９】
2007181770.tif 000012
【図１０】
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