(57)【要約】【課題】  薬液混合率や銀鏡反応速度などの銀鏡反応条件の変化に原因して、銀鏡薄膜に厚みムラや色ムラなどの不良が生じることを抑制する。【解決手段】  混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液Ａ、Ｂを被処理物２の表面又はその近傍で反応させる状態で被処理物２に向けて噴出する薬液噴出手段３Ａ、３Ｂと、この薬液噴出手段３Ａ、３Ｂによる被処理物２に向けた薬液噴出に並行して被処理物２を回転させる回転手段５とを設けてある銀鏡薄膜形成設備において、回転手段５を、薬液噴出手段３による薬液噴出で被処理物２に付着する反応済み薬液を被処理物２から離脱飛散可能な回転速度で被処理物２を回転させる構成にする。【選択図】        図１
2007186731.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段と、この薬液噴出手段による被処理物に向けた薬液噴出に並行して被処理物を回転させる回転手段とを設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記回転手段は、前記薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物に付着する反応済み薬液を遠心作用により被処理物から離脱飛散させる回転速度で被処理物を回転させる構成にしてある銀鏡薄膜形成設備。
【請求項２】
前記回転手段は、被処理物回転速度の変更操作が可能な構成にしてある請求項１記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項３】
前記回転手段は、設定生産スケジュールに従って、又は、検出手段による被処理物の種別の検出に基づいて被処理物の種別に応じ被処理物回転速度を自動的に変更する構成にしてある請求項２記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項４】
前記回転手段は、被処理物回転方向の切り替えが可能な構成にしてある請求項１〜３のいずれか１項に記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項５】
前記回転手段は、設定生産スケジュールに従って、又は、検出手段による被処理物の種別の検出に基づいて被処理物の種別に応じ被処理物回転方向を自動的に選択する構成にしてある請求項４記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項６】
前記薬液噴出手段は、前記回転手段による被処理物の回転において遠心作用により被処理物から離脱飛散する反応済み薬液が形成する飛散域から外れた位置から薬液を噴出する構成にしてある請求項１〜５のいずれか１項に記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項７】
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域を形成する銀鏡処理ブースを設けるとともに、混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で前記作業域内の被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段を設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記作業域の域内温度又は域内湿度を設定値に調整する域内調整手段を設けてある銀鏡薄膜形成設備。
【請求項８】
前記域内調整手段は、設定生産スケジュールに従って、又は、検出手段による被処理物の種別の検出に基づいて被処理物の種別に応じ域内温度又は域内湿度の設定値を自動的に変更する構成にしてある請求項７記載の銀鏡薄膜形成設備。
【請求項９】
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域を形成する銀鏡処理ブースを設けるとともに、混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で前記作業域内の被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段を設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記作業域内に換気用空気を噴出する空気噴出部を作業域の天井部に設けるとともに、
作業域内の空気を作業域外に排出する空気排出部を作業域の下方に設けてある銀鏡薄膜形成設備。
【請求項１０】
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域を形成する銀鏡処理ブースを設けるとともに、混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で前記作業域内の被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段を設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記薬液噴出手段から噴出される薬液の温度、又は、その薬液とともに前記薬液噴出手段により噴出される薬液噴出用空気の温度又は湿度を設定値に調整する調整手段を設けてある銀鏡薄膜形成設備。
【請求項１１】
前記調整手段は、設定生産スケジュールに従って、又は、検出手段による被処理物の種別の検出に基づいて被処理物の種別に応じ薬液の温度、又は、薬液噴出用空気の温度又は湿度の設定値を自動的に変更する構成にしてある請求項１０記載の銀鏡薄膜形成設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、銀鏡薄膜形成設備に関し、より詳しくは、混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段を設けてある銀鏡薄膜形成設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の銀鏡薄膜形成設備は、例えば、表面銀鏡処理用の複数種の薬液として、アンモニア性硝酸銀水溶液やアンモニア性炭酸銀水溶液などのアンモニア性銀塩水溶液と、苛性ソーダ水溶液とブドウ糖や果糖などの炭水化物系の還元剤水溶液との混合液とを被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で被処理物に噴出することにより、アンモニア性銀塩水溶液に含まれる銀イオンが還元されて析出した銀を被処理物の表面に付着させて被処理物の表面に銀鏡薄膜を形成し、これにより、被処理物に金属光沢を付与するものである。
【０００３】
ところで、従来、この種の設備では、被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域を形成する銀鏡処理ブースを設けるとともに、銀鏡処理用の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で作業域内の被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段としての噴出ノズルを設け、そして、被処理物を載せた載置台を銀鏡処理ブース内に搬送する搬送装置と、薬液噴出手段による被処理物への薬液噴出に並行して被処理物を回転させる回転手段とを設け、その回転手段による被処理物の回転により噴出ノズルに対する被処理物の対向面を入れ替えることで、被処理物の各面に対しもれ無く薬液が噴出されるようにしていた。（下記特許文献１参照）
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−１５２８２７号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記の如き従来の銀鏡薄膜形成設備では、被処理物の回転により被処理物の各面に薬液が噴出されるようにしているものの、被処理物の表面に形成される銀鏡薄膜に厚みムラや色ムラなどの不良が生じ、製品の品質低下を招くことがある問題があった。
【０００６】
この実情に鑑み、本発明の主たる課題は、合理的な改良により上記の如き問題を効果的に解消する点にある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１特徴構成は銀鏡薄膜形成設備に係り、その特徴は、
混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段と、この薬液噴出手段による被処理物に向けた薬液噴出に並行して被処理物を回転させる回転手段とを設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記回転手段は、前記薬液噴出手段による薬液噴出で被処理物に付着する反応済み薬液を遠心作用により被処理物から離脱飛散させる回転速度で被処理物を回転させる構成にしてある点にある。
【０００８】
つまり、この種の銀鏡処理について鋭意研究を行った結果、単に噴出ノズルに対する対向面の入れ替えのために被処理物を回転させるだけの先述の従来設備では、噴出した複数種の薬液どうしを銀鏡反応させることにおいて、被処理物の表面に分散して付着した反応済み薬液が、後続の未反応薬液と混合することで、その後続未反応薬液の濃度が不確定に変化したり、また、被処理物の表面に分散して付着した反応済み薬液が、反応による析出銀と被処理物の表面との間に介在したりするなどのことが生じ、それらのことで、銀鏡薄膜に厚みムラや色ムラなどの不良が生じてしまうことを知見した。
【０００９】
これに対し、上記第１特徴構成であれば、被処理物の表面に付着した反応済み薬液を回転手段による被処理物の回転において遠心作用により被処理物から離脱飛散させることができるから、上記の如き反応済み薬液に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に防止することができ、これにより、製品品質を大幅に向上することができるとともに、製品の歩留まりも大幅に向上することができる。
【００１０】
なお、上記第１特徴構成の実施において、被処理物の表面に付着した反応済み薬液を遠心作用により離脱飛散させる回転速度は、被処理物の種別や使用薬液の種別、或いは、作業域の温湿度状態等の種々の条件によって異なるが、概ね８０〜１４０回転／分を目安とした回転速度が好適である。
【００１１】
本発明の第２特徴構成は、第１特徴構成の実施に好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記回転手段は、被処理物回転速度の変更操作が可能な構成にしてある点にある。
【００１２】
つまり、上記第２特徴構成であれば、被処理物の種別や使用薬液の種別、或いは、作業域の温湿度状態等の種々の条件によって、適度な反応時間を確保しながら反応済み薬液を極力効果的に離脱飛散させ得る最適の被処理物回転速度が異なる場合でも、上記の変更操作により、それら条件に応じた最適の回転速度で被処理物を回転させることができ、このことにより、前述の如き反応済み薬液に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を一層効果的かつ確実に防止することができる。
【００１３】
本発明の第３特徴構成は、第２特徴構成の実施において好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記回転手段は、設定生産スケジュールに従って、又は、検出手段による被処理物の種別の検出に基づいて被処理物の種別に応じ被処理物回転速度を自動的に変更する構成にしてある点にある。
【００１４】
つまり、上記第３特徴構成にあれば、複数の被処理物を順次に銀鏡処理する場合において、適度な反応時間を確保しながら反応済み薬液を極力効果的に離脱飛散させ得る最適の被処理物回転速度が順次処理する被処理物の種別によって異なることにかかわらず、被処理物の回転速度を被処理物夫々の種別に応じた最適な回転速度に自動的に変更することができ、これにより、前述の如き反応済み薬液に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に防止しながら生産工程の自動化を図ることが可能となる。
【００１５】
本発明の第４特徴構成は、第１〜第３特徴構成のいずれかの実施において好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記回転手段は、被処理物回転方向の切り替えが可能な構成にしてある点にある。
【００１６】
つまり、上記第４特徴構成であれば、被処理物の表面の凹凸形状などにより、被処理物を一方向に回転させるだけでは被処理物表面の反応済み薬液を十分に離脱飛散させることができないような場合でも、上記回転方向の切り替えにより被処理物から確実に反応済み薬液を離脱飛散させることができるから、前述の如き反応済み薬液に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を一層効果的かつ確実に防止することができる。
【００１７】
なお、第４特徴構成の実施において、回転手段を被処理物の種別に応じた経時的切り替えパターンで被処理物回転方向を自動的に切り替える構成にすれば、被処理物の形状等の種別によらず一層効果的かつ確実に反応済み薬液を被処理物から離脱飛散させることができて、前述の如き反応済み薬液に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良をさらに効果的かつ確実に防止することができる。
【００１８】
本発明の第５特徴構成は、第４特徴構成の実施において好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記回転手段は、設定生産スケジュールに従って、又は、検出手段による被処理物の種別の検出に基づいて被処理物の種別に応じ被処理物回転方向を自動的に選択する構成にしてある点にある。
【００１９】
つまり、上記第５特徴構成であれば、複数の被処理物を順次に銀鏡処理する場合において、被処理物表面の反応済み薬液を十分に離脱飛散させることのできる最適の被処理物回転方向が順次処理する被処理物の種別によって異なることにかかわらず、被処理物夫々の種別に応じた最適の回転方向が自動的に選択されるようにすることができ、これにより、前述の如き反応済み薬液に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を一層効果的かつ確実に防止しながら生産工程の自動化を図ることが可能となる。
【００２０】
本発明の第６特徴構成は、第１〜第５特徴構成のいずれかの実施に好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記薬液噴出手段は、前記回転手段による被処理物の回転において遠心作用により被処理物から離脱飛散する反応済み薬液が形成する飛散域から外れた位置から薬液を噴出する構成にしてある点にある。
【００２１】
つまり、被処理物に向けて表面銀鏡処理用の薬液を噴出するのに、被処理物から離脱飛散する反応済み薬液が形成する飛散域から薬液を噴出する場合、その噴出薬液と飛散域内を飛散する反応済み薬液との衝突の確率が高くなって、被処理物に到達する未反応薬液の量や被処理物に到達する析出銀量が変化したり、或いはまた、噴出薬液と飛散域内を飛散する反応済み薬液とが混合して未反応の噴出薬液の濃度が変化するなどのことが生じ、そのことで、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を防止する効果が制限されることになる。
【００２２】
それに対して、反応済み薬液の飛散域から外れた位置から薬液を噴出する上記第６特徴構成であれば、被処理物に向けて噴出される表面銀鏡処理用の薬液と被処理物から離脱飛散する反応済み薬液との衝突の確率を低減することができるから、その衝突に原因する上記の如き不都合を効果的に回避することができ、これにより、銀鏡薄膜に厚みムラや色ムラなどの不良が生じることを一層効果的かつ確実に防止することができる。
【００２３】
本発明の第７特徴構成は銀鏡薄膜形成設備に係り、その特徴は、
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域を形成する銀鏡処理ブースを設けるとともに、混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で前記作業域内の被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段を設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記作業域の域内温度又は域内湿度を設定値に調整する域内調整手段を設けてある点にある。
【００２４】
つまり、この種の銀鏡処理について鋭意研究の結果、被処理物に銀鏡処理を施す作業域の域内温度や域内湿度によって銀鏡反応速度などの銀鏡反応条件が変化し、これら域内温度や域内湿度の変化による反応条件の変化も銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良の一因となることを知見した。
【００２５】
これに対し、被処理物に銀鏡処理を施すための作業域の域内温度又は域内湿度を設定値に調整する上記第７特徴構成であれば、域内温度又は域内湿度の変化に原因する銀鏡反応条件の変化を抑制することができて、作業域の域内温度又は域内湿度を銀鏡反応上の好適な温度又は湿度に保つことができ、これにより、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に防止することができて、製品品質を大幅に向上することができ、また、製品の歩留まりも大幅に向上することができる。
【００２６】
なお、上記第７特徴構成を前記第１〜第６特徴構成と併せて実施すれば、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良をさらに効果的に防止することができる。
【００２７】
本発明の第８特徴構成は、第７特徴構成の実施において好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記域内調整手段は、設定生産スケジュールに従って、又は、検出手段による被処理物の種別の検出に基づいて被処理物の種別に応じ域内温度又は域内湿度の設定値を自動的に変更する構成にしてある点にある。
【００２８】
つまり、上記第８特徴構成であれば、複数の被処理物を順次に銀鏡処理する場合において、銀鏡反応上の好適な域内温度又は域内湿度が順次処理する被処理物の種別によって異なることにかかわらず、作業域の域内温度又は域内湿度を被処理物夫々の種別に応じた銀鏡反応上の好適な温度又は湿度に自動的に変更することができ、これにより、域内温度又は域内湿度の不適合に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に防止しながら生産工程の自動化を図ることが可能となる。
【００２９】
本発明の第９特徴構成は銀鏡薄膜形成設備に係り、その特徴は、
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域を形成する銀鏡処理ブースを設けるとともに、混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で前記作業域内の被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段を設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記作業域内に換気用空気を噴出する空気噴出部を作業域の天井部に設けるとともに、
作業域内の空気を作業域外に排出する空気排出部を作業域の下方に設けてある点にある。
【００３０】
つまり、この種の銀鏡処理について鋭意研究の結果、被処理物に銀鏡処理を施す作業域内は薬液噴出に伴い多量のミスト状薬液が浮遊することになるが、このミスト状の薬液が被処理物の表面における形成後の銀鏡薄膜に付着したり、或いは、ミスト状の薬液が後続の噴出薬液と空中で混合することで複数種の薬液の混合比率が変化したりするなどのことが生じ、それらのことで、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良の一因となることを知見した。
【００３１】
これに対し、上記第９特徴構成であれば、作業域内に上方から下方に向かう空気流を生じさせて、この空気流と重力とにより作業域内に浮遊するミスト状の薬液を効率良く作業域外に排出することができから、上記の如き作業域内に浮遊するミスト状の薬液に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に防止することができ、これにより、製品品質を大幅に向上することができるとともに、製品の歩留まりも大幅に向上することができる。
【００３２】
なお、上記第９特徴構成を前記第１〜第８特徴構成と併せて実施すれば、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良をさらに効果的に防止することができる。
【００３３】
本発明の第１０特徴構成は銀鏡薄膜形成設備に係り、その特徴は、
被処理物の表面に銀鏡処理を施すための作業域を形成する銀鏡処理ブースを設けるとともに、混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液を被処理物の表面又はその近傍で反応させる状態で前記作業域内の被処理物に向けて噴出する薬液噴出手段を設けてある銀鏡薄膜形成設備であって、
前記薬液噴出手段から噴出される薬液の温度、又は、その薬液とともに前記薬液噴出手段により噴出される薬液噴出用空気の温度又は湿度を設定値に調整する調整手段を設けてある点にある。
【００３４】
つまり、この種の銀鏡処理の変化について鋭意研究の結果、薬液噴出手段から噴出される薬液の温度や、その薬液とともに薬液噴出手段により噴出される薬液噴出用の空気の温湿度によって銀鏡反応速度などの銀鏡反応条件が変化し、これら噴出薬液の温度変化や薬液噴出用空気の温湿度変化による反応条件の変化も、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良の一因となることを知見した。
【００３５】
これに対し、薬液噴出手段から噴出される薬液の温度、又は、その薬液とともに噴出手段により噴出される薬液噴出用空気の温度又は湿度を設定値に調整する上記第１０特徴構成であれば、噴出薬液の温度、又は、薬液噴出用空気の温度又は湿度の変化に原因する銀鏡反応条件の変化を抑制することができて、噴出薬液の温度、又は、薬液噴出用空気の温度又は湿度を銀鏡反応上の好適な温度又は湿度に保つことができ、これにより、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に防止することができて、製品品質を大幅に向上することができるとともに、製品の歩留まりも大幅に向上することができる。
【００３６】
なお、上記第１０特徴構成を前記第１〜第９特徴構成と併せて実施すれば、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良をさらに効果的に防止することができる。
【００３７】
本発明の第１１特徴構成は、第１０特徴構成の実施に好適な実施形態を特定するものであり、その特徴は、
前記調整手段は、設定生産スケジュールに従って、又は、検出手段による被処理物の種別の検出に基づいて被処理物の種別に応じ薬液の温度、又は、薬液噴出用空気の温度又は湿度の設定値を自動的に変更する構成にしてある点にある。
【００３８】
つまり、上記第１１特徴構成であれば、複数の被処理物を順次に銀鏡処理する場合において、銀鏡反応上の好適な薬液の温度、又は、薬液噴出用空気の温度又は湿度が順次処理する被処理物の種別によって異なることにかかわらず、薬液の温度又は薬液噴出用空気の温度又は湿度を被処理物夫々の種別に応じた銀鏡反応上の好適な温度又は湿度に自動的に変更することができ、これにより、薬液の温度、薬液噴出用空気の温度又は湿度の不適合に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に防止しながら生産工程の自動化を図ることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
図１は、銀鏡薄膜形成設備の全体構成を示し、この設備では、例えば、セラミック、金属、合成樹脂などを材料とした被処理物の表面に銀鏡薄膜を形成する銀鏡処理を実施する。１はトンネル状の銀鏡処理ブースであり、この銀鏡処理ブース１は、被処理物２に向けて活性剤Ｅを噴出することで被処理物２に活性処理を施す活性化室Ｕ１、活性処理後の被処理物２を静置する静置室Ｕ２、静置後の被処理物２に向けて洗浄液Ｄを噴出することで被処理物２に付着した余剰活性剤Ｅを除去する活性剤洗浄室Ｕ３、静置に続き洗浄した被処理物２に向けて表面銀鏡処理用の薬液Ａ（例えば、アンモニア性銀塩水溶液）、及び、薬液Ｂ（例えば、苛性ソーダ水溶液と還元剤水溶液との混合液）を噴出することで被処理物２に銀鏡処理を施す銀鏡室Ｕ４、銀鏡処理後の被処理物２に向けて洗浄液Ｃを噴出することで被処理物２に付着した余剰薬液Ａ、Ｂを除去する銀鏡薬液洗浄室Ｕ５、銀鏡処理に続き洗浄した被処理物２に向けて水切用空気Ａ１を噴出することで被処理物２に付着した洗浄液Ｅを吹き飛ばす水切室Ｕ６を、その順に被処理物搬送方向の上手側から並べて配置した構成にしてある。
【００４０】
前記活性化室Ｕ１、活性剤洗浄室Ｕ３、銀鏡室Ｕ４、銀鏡薬液洗浄室Ｕ５の各々には、銀鏡処理ブース１外に配置された薬液Ａ〜Ｅごとの圧送タンクＴａ〜ＴｅからポンプＰにより薬液供給路Ｒａ〜Ｒｅを通じて個別に導かれた所定薬液を被処理物２の上方から被処理物２に向けて噴出する薬液噴出ユニット３Ａを配設するとともに、同様にして導かれた所定薬液を被処理物２の側方から被処理物２に向けて噴出する補助薬液噴出ユニット３Ｂ（図２、図３を参照のこと）を配設してある。また、水切室Ｕ６には、銀鏡処理ブース１外に配置された空調機ＳＡ１で新鮮空気Ａｏを温湿度調整して生成したのちにファンｄにより空気供給路ＲＡ１を通じて導かれた水切用空気Ａ１を被処理物２の上方から被処理物２に向けて噴出する空気噴出具４を配設してある。
【００４１】
６は、被処理物２を載置する略円盤形状の載置台Ｔを活性化室Ｕ１に給送する被処理物供給部、７は水切室Ｕ６から載置台Ｔを受ける被処理物受け部である。また、８は複数の載置台Ｔを被処理物供給部６から各室Ｕ１〜Ｕ６を経て被処理物受け部７まで順次に搬送する搬送手段である。
【００４２】
５は、各室Ｕ１〜Ｕ６の各々に配設された回転手段としての回転支持装置であり、この回転支持装置５は、搬送手段８により室内に搬送された載置台Ｔを支持するとともに、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２への薬液噴出に並行して載置台Ｔとともに被処理物２を縦軸芯Ｘ周りで適宜回転させるものである。
【００４３】
９は、室天井部から垂下して各室Ｕ１〜Ｕ６の上部域どうしを仕切ることで隣接室間での噴出薬液の混和を阻止する透光性の仕切壁であり、各室Ｕ１〜Ｕ６どうしの間、被処理物供給部６と活性化室Ｕ１との間、水切室Ｕ６と被処理物受け部７との間に夫々配設してある。
【００４４】
１０は、（図２、図３を参照）各室Ｕ１〜Ｕ６において仕切壁９の下に形成される室出入口夫々の扉体１０Ａを開閉操作する扉開閉装置であり、この扉開閉装置１０は、被処理物２を各室Ｕ１〜Ｕ６に搬出入するときに扉体１０Ａを開き操作して被処理物２の搬出入を許し、そして、室内部で被処理物２に上述の各処理を行うときには扉体１０Ａを閉じ操作する。
【００４５】
つまり、この銀鏡薄膜形成設備は、扉開閉装置１０との連携下で搬送手段８により複数の被処理物２を各室Ｕ１〜Ｕ６に順次に搬送するとともに、各室Ｕ１〜Ｕ６において搬送手段８との連携下で回転支持装置５により被処理物２を適宜回転させながら各処理を実行することで、被処理物２の表面に銀鏡薄膜を形成する銀鏡処理を複数の被処理物２に対し順次、自動的に実施する構成にしてある。なお、銀鏡処理ブース１内で噴出された各薬液Ａ〜Ｅは、銀鏡処理ブース１下部の薬液ごとの専用回収槽１５に貯留されたのち、専用排液通路１６を通じて廃棄又は再利用される。
【００４６】
１１は、予め記憶させた設定生産スケジュールに従って、又は、被処理物受け部６に装備した検出手段としての被処理物検出器１７による被処理物２の形状種や素材種などの種別の検出に基づいて、後述する各制御を行う制御盤である。
【００４７】
ＳＡ２は、空気供給部から供給された新鮮空気Ａｏの温度及び湿度を調整して換気用空気Ａ２を生成する空調機であり、１３は、ファンｄにより空調機ＳＡ２から空気供給路ＲＡ２を通じて各室Ｕ１〜Ｕ６の室天井部に導かれた換気用空気Ａ２を室天井部のほぼ全面から室内に下向き層流状に噴出するエアチャンバである。また、１４は、各室Ｕ１〜Ｕ６の室内空気Ａｕを下方から排出するとともに、その排出空気をファンｄにより排気路１４ａを通じて外部に排出する排出口であり、空調機ＳＡ２により各室Ｕ１〜Ｕ６における室内空気Ａｕの温度及び湿度を調整するとともに、エアチャンバ１３からの空気吹き出しと室内空気Ａｕの下方への排出とで発生する層流状の下向き室内気流及び重力により室内におけるミスト状の浮遊薬液（すなわち、噴出に伴いミスト化した薬液や後述する被処理物２の回転による被処理物２からの離脱飛散に伴いミスト化した薬液など）を室内から効率良く排出する。
【００４８】
図２〜図５は銀鏡室Ｕ４を示し、これに代表するように、前記回転支持装置５は、室内の平面視中央部において上向きに突出する縦ケース部と、その縦ケース部の下端部からブース横側方に延びる横ケース部とからなる正面視Ｌ字状の載置台支持ケース５Ａを備えており、縦ケース部の上端には、載置台Ｔの中央部に形成した嵌合孔ｔに対し下方から嵌入させる位置決め手段としての嵌入凸部５ｅを設けた載置台受座５ｄを縦軸芯Ｘ周りで回転自在に設けてある。
【００４９】
また、載置台支持ケース５Ａには、ブース外側面部に設置したモータ５Ｂの回転力を載置台受座５ｄに伝達する回転シャフト５ａ、５ｃ、べベルギア５ｂを内装してあり、嵌入凸部５ｅを嵌合孔ｔに嵌入させて載置台Ｔを載置台受座５ｄに受け止め支持させた状態において、モータ５Ｂの回転により載置台受座５ｄを回転させることで載置台Ｔをそれに載置の被処理物２とともに縦軸芯Ｘ周りで回転させる構成にしてある。
【００５０】
前記回転モータ５Ｂは、活性化室Ｕ１、洗浄室Ｕ３、Ｕ５、及び、水切室Ｕ６においては、比較的低い各々所定の回転速度（例えば、３０回転／分程度）で被処理物２を回転させるように速度調整され、また、銀鏡室Ｕ４においては、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂによる被処理物２に向けた薬液噴出に並行して、その薬液噴出で被処理物２に付着した反応済み薬液を遠心力により被処理物２から離脱飛散させる比較的高い回転速度（例えば、１２０回転／分程度）で被処理物２を回転させるように速度調整される。
【００５１】
なお、静置室Ｕ２においては、載置台Ｔを回転させることなく、その載置台Ｔに載置の被処理物２を静置する。
【００５２】
前記薬液噴出ユニット３Ａは、略下向き四つ又形状の支持部材３ａにおける下方先端部の夫々に薬液噴出ガン３ｂを被処理物搬送方向に駆動揺動させる状態に取り付けるとともに、駆動チェーン３ｃを介して支持部材３ａの上部に連結した駆動モータ３ｄの正逆回転により被処理物搬送方向に対して直交する横方向（以下、搬送直交方向と称することがある。）で往復移動する構成にしてあり、これら揺動動作及び往復移動により被処理物２に対して噴出角度、噴出位置を変更しながら均一に各薬液Ａ〜Ｅを噴出するようにしてある。
【００５３】
また、前記補助薬液噴出ユニット３Ｂは、室内壁部に配設された略横向き二又形状の支持部の先端に一対の薬液噴出ガン３ｂを取り付けて構成し、この補助薬液噴出ユニット３Ｂにより被処理物２の側面にも各薬液Ａ〜Ｅを噴出するようにしてある。
【００５４】
薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂの薬液噴出ガン３ｂには、図示しないが、対応の各薬液Ａ〜Ｅを各別に供給する薬液供給路Ｒａ〜Ｒｅと空気供給路ＲＡ３とを接続してあり、空調機ＳＡ３で温湿度調整した新鮮空気Ａｏを薬液噴出用空気Ａ３として空気供給路ＲＡ３を通じ薬液供給路Ｒａ〜Ｒｅからの各薬液Ａ〜Ｅとともに薬液噴出ガン３ｂに個別に供給するようにしてある。
【００５５】
すなわち、空気供給路ＲＡ３を通じて薬液噴出ガン３ｂに供給した薬液噴出用空気Ａ３を薬液噴出ガン３ｂから各薬液Ａ〜Ｅとともに被処理物２に向けて噴出させ、これにより、各薬液Ａ〜Ｅを噴霧状態（すなわち、スプレー状態）で被処理物２に向けて噴出させる。
【００５６】
銀鏡室Ｕ４の薬液噴出ガン３ｂは、図６に示すように、一対の薬液噴出ガン３ｂを一セットとして、一方の薬液噴出ガン３ｂに薬液Ａ供給用の薬液供給路Ｒａを接続し、他方の薬液噴出ガン３ｂに薬液Ｂ供給用の薬液供給路Ｒｂを接続してあり、その一セットの薬液噴出ガン３ｂを、それらの先端部どうしが近づく側に夫々所定角度に傾けて配置することで、一方の薬液噴出ガン３ｂから噴出される薬液Ａと他方の薬液噴出ガン３ｂから噴出される薬液Ｂとが被処理物２の近傍から被処理物２の表面に至る重複領域Ｐ２で混合して銀鏡反応を発現する構成にしてある。
【００５７】
つまり、この銀鏡薄膜形成設備では、銀鏡室Ｕ４において、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂから被処理物２に向けて噴出された銀鏡処理用の薬液Ａ、Ｂが被処理物２への到達直後又は到達過程である重複領域Ｐ２で銀鏡反応を発現するため、この銀鏡反応による析出銀と反応済み薬液との両方が被処理物２の表面に分散して付着することになるが、前述のように被処理物２の回転による遠心作用により付着反応済み薬液を被処理物２から離脱飛散させることによって、その付着反応済み薬液が後続の未反応薬液Ａ、Ｂと混合して、その後続未反応薬液Ａ、Ｂの濃度が不確定に変化したり、また、付着反応済み薬液が後続薬液Ａ、Ｂの反応による析出銀と被処理物２の表面との間に介在したりするなどのことに原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を効果的に防止する。
【００５８】
また、銀鏡室Ｕ４の薬液噴出ガン３ｂにおける薬液供給路Ｒａ、Ｒｂの接続部から薬液吐出口３ｅに至る薬液通路には、その先端の薬液吐出口３ｅに極力近付けて、薬液通路開閉用の開閉弁３ｆを設けてあり、これにより、開閉弁３ｆを開いた薬液噴出状態から開閉弁３ｆを閉じて薬液噴出を停止したときの薬液吐出口３ｆからの薬液落下を防止して、その落下薬液が銀鏡処理済みの被処理物２に付着することによる品質低下を防止するようにしてある。
【００５９】
さらにまた、銀鏡室Ｕ４の薬液噴出ガン３ｂは、図３に示す如く、回転支持装置５による被処理物２の回転で被処理物２の周りに形成される反応済み薬液飛散域Ｐ１の上方位置に配置することで、この飛散域Ｐ１から外れた位置から薬液Ａ、Ｂを噴出するようにしてあり、これにより、これら薬液噴出ガン３ｂから噴出された薬液Ａ、Ｂと飛散域Ｐ内を飛散する反応済み薬液との衝突の確率を低減するようにしてある。
【００６０】
前記空気供給路ＲＡ２の銀鏡室Ｕ４に対する分流路部分には、銀鏡室Ｕ４に供給する換気用空気Ａ２の温湿度を個別に調整する空調機１８を介装してあり、具体的には、この空調機１８は、銀鏡室Ｕ４内に配設した温湿度検出器１９により検出される銀鏡室Ｕ４の室内温度及び室内湿度に基づき銀鏡室Ｕ４に対する換気用空気Ａ２の温湿度を個別に調整することで、銀鏡室Ｕ４の室内温度又は室内湿度を設定値に調整する構成にしてある。
【００６１】
これに対し、前記制御盤１１は、前記の設定生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４の室内温湿度の設定値を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４の室内温湿度を被処理物２夫々の種別に応じた銀鏡反応上の好適な温湿度に自動的に変更するようにしてある。
【００６２】
また、銀鏡室Ｕ４で用いる銀鏡処理用薬液Ａ、Ｂの圧送タンクＴａ、Ｔｂには、それら圧送タンクＴａ、Ｔｂ内の薬液Ａ、Ｂの温度（つまり、銀鏡室Ｕ４において薬液噴出ガン３ｂから噴出する薬液Ａ、Ｂの温度）を設定値に調整する薬液温度制御器Ｓ１、Ｓ２を設け、これに対し、前記制御部１１は、前記の生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、薬液Ａ、Ｂの温度の設定値を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４において薬液噴出ガン３ｂから噴出する薬液Ａ、Ｂの温度を被処理物２夫々の種別に応じた銀鏡反応上の好適な温度に自動的に変更するようにしてある。
【００６３】
さらに、前記空気供給路ＲＡ３の銀鏡室Ｕ４に対する分流路部分には、銀鏡室Ｕ４に供給する薬液噴出用空気Ａ３の温湿度を設定値に調整する空調機２０を介装し、これに対し、前記制御盤１１は、前記の生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４に供給する薬液噴出用空気Ａ３の設定値を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４において噴出する薬液噴出用空気Ａ３の温湿度を被処理物２夫々の種別に応じた銀鏡反応上の好適な温湿度に自動的に変更するようにしてある。
【００６４】
そしてまた、制御盤１１は、前記の設定生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４の回転モータ５Ｂの回転速度を銀鏡室Ｕ４に搬入される被処理物２の種別に応じて自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４における被処理物２の回転速度を被処理物２夫々の種別に応じて、適度な反応時間を確保しながら反応済み薬液を極力効果的に離脱飛散させ得る最適の回転速度に自動的に変更するようにしてある。
【００６５】
加えて、制御盤１１は、前記の生産スケジュールに従って、又は、被処理物検出器１７による被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４の回転モータ５Ｂの回転方向、及び、回転方向の経時的切り替えパターンを自動的に変更する構成にしてあり、これにより、銀鏡室Ｕ４における被処理物２の回転方向、及び、回転方向の経時的切り替えパターンを被処理物２夫々の種別に応じて、被処理物２から反応済み薬液を効果的かつ確実に離脱飛散させ得る最適なものに自動的に変更するようにしてある。
【００６６】
すなわち、この銀鏡薄膜形成設備では、設定生産スケジュール、又は、被処理物検出器１７からの被処理物２の種別の検出に基づいて、銀鏡室Ｕ４内に搬送された被処理物２の種別に応じ、被処理物２の回転速度、被処理物２の回転方向及び回転方向の経時的切り替えパターンを被処理物２夫々に応じた最適なものに自動変更するとともに、薬液噴出用空気Ａ３の温湿度、銀鏡処理用の薬液Ａ、Ｂの温度、銀鏡室Ｕ４の室内温湿度を被処理物２夫々に応じた好適なものに自動変更することで、複数の被処理物２を順次、自動的に処理する場合において、銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良を一層効果的かつ確実に防止する。
【００６７】
前記扉体１０Ａは、図３に示す如く、それが閉じ状態にあるとき、被処理物２の搬送方向視で隣室から見て被処理物２及びその周囲を十分に覆い隠し、かつ、上縁部が仕切壁９の下縁部とラップする横寸法Ｌ１と縦寸法Ｌ２とを有するものにしてあり、本例では、被処理物２を載置する載置台Ｔの直径Ｒよりも大なる横寸法Ｌ１で、かつ、仕切壁９の下縁部から載置台Ｔの下端までの長さＬよりも大なる縦寸法Ｌ２にしてある。
【００６８】
前記扉開閉装置１０は、図２〜図５に示す如く、被処理物受け部７付近に配設のエアシリンダ１０Ｃに連結された各室Ｕ１〜Ｕ６に対する共通回動シャフト１０Ｂに、各室Ｕ１〜Ｕ６に対する前記扉体１０Ａを取り付けて構成してあり、搬送手段８との連携下でエアシリンダ１０Ｃにより共通回動シャフト１０Ｂをシャフト軸芯周り約９０度の範囲で回動操作することで、扉体１０Ａを共通回動シャフト１０Ｂのシャフト軸芯周りで揺動させて、図３、図５に示す閉じ状態と図２、図４に示す開き状態とに切り替えるようにしてある。そして、開き状態では、被処理物２の通過ライン直上域ｈから側方に外れた位置に位置するようにしてある。
【００６９】
つまり、この扉開閉装置１０は、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂからの薬液噴出の際、扉体１０Ａを前記閉じ状態にしておくことで、噴出薬液が隣室に浸出するのを防止し、特に銀鏡室Ｕ４については、回転支持装置５による回転遠心力で被処理物２から離脱飛散する反応済み薬液が隣室まで飛散して被処理物２に付着することを防止する。
【００７０】
また、被処理物２を搬送するときに扉体１０Ａを開き状態にするのに、扉体１０Ａを被処理物２の通過ライン直上域ｈから側方に外れた位置に位置させることで、扉体１０Ａに付着した薬液（特に、銀鏡室Ｕ４については回転遠心力により被処理物２から離脱飛散して閉じ状態の扉体１０Ａに付着した反応済み薬液）が室出入口を通過する被処理物２に落下付着することを防止し、これらのことにより、それら薬液の落下付着に原因する銀鏡薄膜の厚みムラや色ムラなどの不良も効果的かつ確実に防止する。
【００７１】
前記搬送手段８は、図７、図８に示す如く、載置台Ｔを被処理物搬送方向の上手室における回転支持装置５の載置台受座５ｄから下手側隣接室における回転支持装置５の載置台受座５ｄまで略水平に移送する移送装置８Ａと、この移送装置８Ａを昇降させることで、各室Ｕ１〜Ｕ６における回転支持装置５の載置台受座５ｄに対して載置台Ｔを離着座させる昇降装置８Ｂとから構成してあり、昇降装置８Ｂによる移送装置８Ａの上昇により載置台Ｔを載置台受座５ｄから上方に離座させる上昇工程と、離座させた載置台Ｔを移送装置８Ａにより下手側隣接室へ移送する往動工程（図７（イ）〜（ロ）参照）と、昇降装置８Ｂによる移送装置８Ａの下降により載置台Ｔを下手側隣接室の載置台受座５ｄに着座させる下降工程（図８（イ）〜（ロ）参照）と、載置台Ｔを下手側隣接室に残して下降状態の移送装置８Ａを上手側に戻す復動工程とを、その順に繰り替えることで載置台Ｔ及びそれに載置の被処理物２を搬送方向下手側へ順次送るようにしてある。
【００７２】
前記移送装置８Ａは、搬送対象の載置台Ｔを載置支持する一対の搬送レール８ａをブース長手方向にわたらせた状態で複数のレール受け部材８ｂにより被処理物搬送方向に摺動自在に支持するとともに、この搬送レール８ａを被処理物搬送方向で押し引き操作するレール駆動部８ｃをレール受け部材８ｂの下部に固定して構成してあり、このレール駆動部８ｃによる押し引き操作により搬送レール８ａを被処理物搬送方向で往復摺動させることで、その往動をもって前記往動工程を行い、また、その復動をもって前記復動工程を行うようにしてある。
【００７３】
前記レール駆動部８ｃは、ボールネジ８ｅを回転自在な状態でレール受け部材８ｂに対し連結固定するとともに、そのボールネジ８ｅに螺合させたスライダ８ｆの上端を搬送レール８ａに連結して構成してあり、搬送レール８ａの押し引き操作としては、駆動モータ８ｄによるボールネジ８ｅの正逆回転駆動によりスライダ８ｆを被処理物搬送方向で往復移動させることで、搬送レール８ａを図７（イ）の状態と図７（ロ）の状態とに亘って室間隔で往復移動させる構成にしてある。
【００７４】
前記昇降装置８Ｃは、一対の長尺角棒状の支持フレーム８ｇを被処理物供給部６と被処理物受け部７とにわたらせて固設し、この支持フレーム８ｇを基台として、エアシリンダ８ｈによる共通操作棒８ｉの押し引き操作により移送装置８Ａのレール受け部材８ｂを昇降させるリンクユニット８Ｄを２室ごとに１個の間隔で複数個設けて構成してある。
【００７５】
前記リンクユニット８Ｄは、上端を前記レール受け部材８ｂに枢支連結した第１リンク部材８ｊと、上端を第１リンク部材８ｊの中央部に枢支連結するとともに、下端を支持フレーム８ｇに枢支連結した第２リンク部材８ｋとを備え、これら第１、第２リンク部材８ｊ、８ｋは、レール受け部材８ｂと第１リンク部材８ｊとの枢支点が側面視で支持フレーム８ｇと第２リンク部材８ｋとの枢支点の直上方に位置する状態に組み付けてある。
【００７６】
また、第１リンク部材８ｊの下端には、支持フレーム８ｇ上を被処理物搬送方向に転動させる転輪８ｍを取り付けてあり、各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを前記共通操作棒８ｉに対し枢着することで、エアシリンダ８ｈによる共通操作棒８ｉの押し引き操作により各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを支持フレーム８ｇ上で同調させて転動させる構成にしてある。
【００７７】
つまり、共通操作棒８ｉの押し引き操作により各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを第２リンク部材８ｋ側に寄せて、各第１リンク部材８ｊの傾き角度をＫ２からＫ１にする（図８（イ）（ロ）参照）ことで、レール受け部材８ｂを上昇させて搬送レール８ａを上昇させる前記上昇工程を行い、また、共通操作棒８ｉの押し引き操作により各第１リンク部材８ｊの転輪８ｍを第２リンク部材から離れる側に寄せて、各第１リンク部材８ｊの傾き角度をＫ１からＫ２にすることで、レール受け部材８ｂを下降させて搬送レール８ａを下降させる前記下降工程を行うようにしてある。
【００７８】
なお、薬液噴出ユニット３Ａ及び補助薬液噴出ユニット３Ｂは、混合により銀鏡反応を発現する表面銀鏡処理用の複数種の薬液Ａ、Ｂを被処理物２の表面又はその近傍で反応させる状態で被処理物２に向けて噴出する薬液噴出手段を構成し、銀鏡室Ｕ４は、被処理物２の表面に銀鏡処理を施すための作業域を構成し、エアチャンバ１３は、作業域内に換気用空気Ａ２を噴出する空気噴出部を構成し、排気口１４は、作業域内の空気（本例では、銀鏡室Ｕ４の室内空気Ａｕ）を作業域外に排出する空気排出部を構成する。
【００７９】
また、空調機１８、温湿度検出器１９により作業域の域内温度又は域内湿度（本例では、銀鏡室Ｕ４の室内温度又は室内湿度）を設定値に調整する域内調整手段を構成し、薬液温度制御器Ｓ１、Ｓ２、空調機２０により薬液噴出手段から噴出される薬液Ａ、Ｂの温度、又は、その薬液Ａ、Ｂとともに前記薬液噴出手段により噴出される薬液噴出用空気Ａ３の温度又は湿度を設定値に調節する調整手段を構成する。
【００８０】
［別実施形態］
次に本発明の別実施形態を列記する。
前述の実施形態では、活性化室Ｕ１、活性剤洗浄室Ｕ２、銀鏡室Ｕ４、銀鏡薬液洗浄室Ｕ５の夫々を１室づつ設けていたが、これらの室を必要に応じて分割してもよい。
【００８１】
また、上述の如く室を分割した場合において、分割した室の前段と後段とで、回転支持装置５による回転速度や回転方向、回転方向の切り替えパターンを必要に応じ変更してもよく、また、薬噴出手段から噴出される薬液Ａ〜Ｅの濃度や噴出量、銀鏡処理用薬液Ａ、Ｂの混合比率などを必要に応じ変更してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】銀鏡薄膜形成設備の全体構成を示す説明図
【図２】被処理物搬送時における銀鏡室の被処理物搬送直交方向断面図
【図３】薬液噴出時における銀鏡室の被処理物搬送直交方向断面図
【図４】被処理物搬送時における銀鏡室の被処理物搬方向断面図
【図５】薬液噴出時における銀鏡室の被処理物搬送方向断面図
【図６】銀鏡処理用薬液の噴出状態を示す説明図
【図７】搬送装置の説明図
【図８】搬送装置の説明図
【符号の説明】
【００８３】
１                  銀鏡処理ブース
２                  被処理物
３Ａ                薬液噴出手段（薬液噴出ユニット）
３Ｂ                薬液噴出手段（補助薬液噴出ユニット）
５                  回転手段（回転支持装置）
８                  搬送手段
１３                空気流入部（エアチャンバ）
１４                空気排出部（排出口）
１７                検出手段
Ａ、Ｂ              銀鏡処理用の薬液
Ｕ４                作業域（銀鏡室）
Ａｕ                域内空気（室内空気）
Ａ２                換気用空気
Ａ３                薬液噴出用空気
Ｐ１                飛散域
１８、１９          域内調整手段
２０、Ｓ１、Ｓ２    調整手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2007186731.tif 000009
【図８】
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