(57)【要約】      （修正有）【課題】コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を提供し、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供する。また、レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供する。【解決手段】レンズ基板の製造方法は、凹部付き部材６の凹部６１が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する工程と、組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、基板本体を検査して、凸レンズが所望の形状に形成されていない不良箇所６１’を特定する工程と、不良箇所６１’に対し、主として基板本体を構成する材料で構成された液滴を吐出し、液滴により不良箇所を補正し、補正基板本体を得る工程と、基板本体の凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、開口部８１を有する遮光部を形成する工程とを有する。【選択図】図５
2007152703.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側の面を検査して、凸レンズが所望の形状に形成されていない不良箇所を特定する基板本体検査工程と、
前記不良箇所に対し、主として前記基板本体を構成する材料で構成された液滴を吐出し、前記液滴により前記不良箇所を補正し、補正基板本体を得る補正工程と、
前記補正基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記補正基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
【請求項２】
前記基板本体検査工程において、前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側の面の画像を撮影し、該画像を画像処理することにより、凸レンズが所望の形状に形成されていない不良箇所を特定する請求項１に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項３】
前記基板本体検査工程において、所定の高さ以下の凸レンズを検出することにより、凸レンズが所望の形状に形成されていない不良箇所を特定する請求項１に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項４】
多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面を検査して、凹部が所望の形状に形成されていない不良箇所を特定する凹部付き部材検査工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
凹部付き部材検査工程において特定された前記不良箇所に対応する、前記基板本体の不良レンズ部に対し、主として前記基板本体を構成する材料で構成された液滴を吐出し、前記液滴により前記不良箇所を補正し、補正基板本体を得る補正工程と、
前記補正基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記補正基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とするレンズ基板の製造方法。
【請求項５】
前記凹部付き部材検査工程において、前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面の画像を撮影し、該画像を画像処理することにより、凹部が所望の形状に形成されていない不良箇所を特定する請求項４に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項６】
前記凹部付き部材検査工程において、所定の深さ以下の凹部を検出することにより、凹部が所望の形状に形成されていない不良箇所を特定する請求項４に記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項７】
前記補正工程において、インクジェット法により前記液滴を吐出する請求項１ないし６のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項８】
前記凸レンズとしてマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板である請求項１ないし７のいずれかに記載のレンズ基板の製造方法。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の方法を用いて製造されたことを特徴とするレンズ基板。
【請求項１０】
請求項９に記載のレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１１】
光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された請求項９に記載のレンズ基板とを備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズ（レンズ部）を備えたレンズ基板が一般的に用いられている。そして、このようなレンズ基板（レンズシート）でにおいて、画像のコントラストを向上させる目的で、レンズ部が設けられた側とは反対側に遮光性層が設けられている。
【０００３】
このようなレンズ基板（レンズシート）の製造においては、一般的に、レンズ部での集光を利用して、開口部（光透過性部分）を有する遮光性層が形成されている（例えば、特許文献１参照）。このような方法で、遮光性層を形成することにより、レンズ部の焦点に対応する部位に開口部（光透過性部分）を形成することができるため、コントラストの向上を図る上で有利である。
【０００４】
ところで、このようなレンズ基板を製造する際、一般に、レンズ部に対応する凹部を有する成形型が用いられるが、成形型の不良等により、形成されるレンズ基板に、形成されるべきレンズが形成されていない領域が存在したり、他のレンズと比べて小さいレンズが形成される場合等がある。このようなレンズ部の不良が存在すると、上記のような遮光性層の形成方法を適用した場合に、遮光性層の、レンズ部が設けられていない部位（平坦部）に対応する部位に、開口部が形成されてしまう。このような開口部が形成されると、透過型スクリーン等において、レンズ部により屈折しない光が、直進光として観察者側に出射してしまう。このような直進光は、スクリーン上において、輝点（白点）として認識され、表示される画像に著しい悪影響を与える。
【０００５】
成形型として、レンズ部に対応する凹部を欠陥のないものを用いることにより、上記のような問題は、防止、抑制することができるが、このうような欠陥のない成形型を製造することは、困難である。
一方、近年のディスプレイ、スクリーンの大型化等に伴い、大型のレンズ基板が求められているが、このような大型のレンズ基板の製造に用いる成形型において、上記のような不良の発生を防止するのは、極めて困難であった。また、大型のレンズ基板製造用の成形型において、上記のような欠陥のないものを製造しようとした場合、その歩留りは、非常に悪く、レンズ基板の生産性、製造コストに大きな影響を与えてしまう。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３６１８７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を提供すること、当該レンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のレンズ基板の製造方法は、多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側の面を検査して、凸レンズが所望の形状に形成されていない不良箇所を特定する基板本体検査工程と、
前記不良箇所に対し、主として前記基板本体を構成する材料で構成された液滴を吐出し、前記液滴により前記不良箇所を補正し、補正基板本体を得る補正工程と、
前記補正基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記補正基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供することができる。
【０００９】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記基板本体検査工程において、前記基板本体の前記凸レンズが設けられた側の面の画像を撮影し、該画像を画像処理することにより、凸レンズが所望の形状に形成されていない不良箇所を特定することが好ましい。
これにより、より効率良く不良箇所を検出・特定することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記基板本体検査工程において、所定の高さ以下の凸レンズを検出することにより、凸レンズが所望の形状に形成されていない不良箇所を特定することが好ましい。
これにより、より効率良く不良箇所を検出・特定することができる。
【００１０】
本発明のレンズ基板の製造方法は、多数の凸レンズを有する基板本体と、遮光性を有する材料で構成され、開口部を有する遮光膜とを有するレンズ基板を製造する方法であって、
前記凸レンズに対応する凹部を有する凹部付き部材を用意する凹部付き部材準備工程と、
前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面を検査して、凹部が所望の形状に形成されていない不良箇所を特定する凹部付き部材検査工程と、
前記凹部付き部材の凹部が設けられた側の面に流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物を固化させ、基板本体を得る固化工程と、
凹部付き部材検査工程において特定された前記不良箇所に対応する、前記基板本体の不良レンズ部に対し、主として前記基板本体を構成する材料で構成された液滴を吐出し、前記液滴により前記不良箇所を補正し、補正基板本体を得る補正工程と、
前記補正基板本体の前記凸レンズが設けられた面側とは反対の面側に、前記遮光膜を形成するための遮光膜形成用材料を付与する遮光膜形成用材料付与工程と、
前記補正基板本体を介して前記遮光膜形成用材料に光を照射する処理を施し、前記開口部を有する前記遮光部を形成する開口部形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供することができる。
【００１１】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記凹部付き部材検査工程において、前記凹部付き部材の前記凹部が設けられた側の面の画像を撮影し、該画像を画像処理することにより、凹部が所望の形状に形成されていない不良箇所を特定することが好ましい。
これにより、より効率良く不良箇所を検出・特定することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記凹部付き部材検査工程において、所定の深さ以下の凹部を検出することにより、凹部が所望の形状に形成されていない不良箇所を特定することが好ましい。
これにより、より効率良く不良箇所を検出・特定することができる。
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記補正工程において、インクジェット法により前記液滴を吐出することが好ましい。
これにより、容易かつ確実に、不良箇所に選択的に所望の量の液滴を吐出することができる。
【００１２】
本発明のレンズ基板の製造方法では、前記凸レンズとしてマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板であることが好ましい。
これにより、各方向（例えば、縦方向および横方向）での視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板の製造においては、レンズ部の不良を生じ易く、これにより、表示される画像において直進光による輝点等が特に発生し易かったが、本発明によれば、マイクロレンズ基板においても、輝点の発生を十分に防止することができる。したがって、マイクロレンズ基板の製造に本発明を適用することにより、その効果はより顕著に発揮される。
【００１３】
本発明のレンズ基板は、本発明の方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるレンズ基板を提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明のレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができる透過型スクリーンを提供することができる。
【００１４】
本発明の透過型スクリーンは、光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された本発明のレンズ基板とを備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができる透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができるリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明のレンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
本発明のレンズ基板の用途は、特に限定されないが、以下の説明では、レンズ基板を、主に、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として用いるものとして説明する。
【００１６】
《レンズ基板および透過型スクリーン》
まず、本発明のレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、本発明のレンズ基板（凸レンズ基板）および透過型スクリーンの構成について説明する。
図１は、本発明のレンズ基板（マイクロレンズ基板）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）の平面図、図３は、図１に示すレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「（光の）入射側」、「（光の）出射側」とは、それぞれ、画像光（映像光）を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
【００１７】
マイクロレンズ基板（レンズ基板）１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ（凸レンズ）２１を備えた基板本体（補正基板本体）２と、遮光性を有する材料で構成されたブラックマトリックス（遮光膜）３とを備えている。
基板本体２は、通常、透明性を有する材料で構成される。
基板本体２の構成材料は、特に限定されないが、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。
【００１８】
基板本体２を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として）用いることができる。
【００１９】
基板本体２の構成材料（固化した状態の材料）は、一般に、各種気体（マイクロレンズ基板１が用いられる雰囲気）より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、１．４〜１．５８であるのが好ましく、１．５〜１．５６であるのがより好ましい。基板本体２の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光（入射光）の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
マイクロレンズ基板１は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ２１を複数個備えている。
【００２０】
本実施形態において、マイクロレンズ（凸レンズ）２１は、マイクロレンズ基板１を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。マイクロレンズ２１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
【００２１】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９０の関係を満足するのがより好ましく、０．６５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００２２】
平面視したときのマイクロレンズ２１の短軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の縦幅）は、１０〜２００μｍであるのが好ましく、３０〜１５０μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２３】
また、平面視したときのマイクロレンズ２１の長軸方向の長さ（マイクロレンズ２１の横幅）は、１５〜２５０μｍであるのが好ましく、４５〜２００μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。
【００２４】
また、マイクロレンズ２１の曲率半径は、７．５〜１２５μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、３０〜６０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ２１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
【００２５】
また、マイクロレンズ２１の高さは、７．５〜１２５μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、３０〜６０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ２１の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、マイクロレンズ（凸レンズ）２１は球面を有するものであり、隣接するマイクロレンズ２１同士の頂部間の距離（ピッチ）は、マイクロレンズ２１の曲率半径に２を乗じた値より小さいものであるのが好ましい。これにより、後述するようなマイクロレンズ基板（レンズ基板）１の製造方法において、レンズ面側遮光部４を目的とする部位により選択的に形成することができ、表示される画像をより好適なものとすることができる。また、マイクロレンズ基板１の光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
【００２６】
また、これら複数個のマイクロレンズ２１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このようにマイクロレンズ２１が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ２１の大きさ等によっては、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００２７】
上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ２１は、マイクロレンズ基板１を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ２１で構成される第１の行２５と、それに隣接する第２の行２６とが、縦方向（マイクロレンズ２１の短軸方向）に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００２８】
なお、マイクロレンズ２１の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列（マイクロレンズ基板１の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ２１が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよい。
また、マイクロレンズ基板１を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ２１が形成されている有効領域において、マイクロレンズ２１の占有率は、９５〜１１５％であるのが好ましい。マイクロレンズ２１の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。
【００２９】
上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述するようなブラックマトリックス３を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果（例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等）が得られる。
【００３０】
また、各マイクロレンズ２１は、入射側に突出した凸レンズとして形成されており、焦点ｆが、後述するブラックマトリックス（遮光膜）３に設けられた開口部（非遮光部）３１の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板１に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光Ｌａ（後述するフレネルレンズ部６からの平行光Ｌａ）は、マイクロレンズ基板１の各マイクロレンズ２１によって集光され、ブラックマトリックス３の開口部３１近傍で焦点ｆを結ぶ。このように、ブラックマトリックス３の開口部３１の近傍でマイクロレンズ２１が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。その結果、マイクロレンズ基板を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３１】
また、基板本体２の光の出射側の面には、ブラックマトリックス３が設けられている。ブラックマトリックス３は、遮光性を有する材料で構成され、膜状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス３を有することにより、当該ブラックマトリックス３に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。特に、前述したようなレンズ面側遮光部４を有するとともに、ブラックマトリックス３を有することにより、マイクロレンズ基板１による画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３２】
このようなブラックマトリックス３は、各マイクロレンズ２１を透過した光の光路上に開口部３１を有している。これにより、各マイクロレンズ２１で集光された光を、効率良く、ブラックマトリックス３の開口部３１を通過させることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の光利用効率を高いものとすることができる。
開口部３１は、ブラックマトリックス３の開口部３１以外の部位で外光の反射を効果的に防止しつつ、画像形成用の光がブラックマトリックス３により吸収、反射されるのを十分に防止するような大きさで設けられている。なお、本発明において、「開口部」とは、遮光性を有する遮光膜において、光が透過することができる部位を指し、実質的に着色されていない材料（光透過性を有する材料）で充填されているような部位等も含む概念である。
【００３３】
ブラックマトリックス３は、後に詳述するように（後に詳述するような方法により）、レンズに対応しない部位に開口部が形成されるのが防止されている。これにより、マイクロレンズ基板１の視野角特性、光の利用効率を特に優れたものとすることができるとともに、投影される画像のコントラストをより高いものとすることができる。
ブラックマトリックス３の開口部３１は、いかなる形状のものであってもよいが、平面視したときの形状が略円形であるのが好ましい。開口部３１が略円形である場合、開口部３１の大きさは、特に限定されないが、その直径が、５〜８０μｍであるのが好ましく、１５〜６０μｍであるのがより好ましく、２０〜５０μｍであるのがさらに好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
【００３４】
また、ブラックマトリックス３の厚さ（平均厚さ）は、０．３〜８μｍであるのが好ましく、０．６〜５μｍであるのがより好ましく、０．８〜１．５μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス３の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス３の不本意な剥離、クラック等をより確実に防止しつつ、ブラックマトリックス３としての機能（すなわち、画像のコントラストを向上させる機能）をより効果的に発揮させることができ、例えば、マイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３５】
また、平面視したときの開口部３１のブラックマトリックス３に対する面積比（開口率）は、３〜４０％であるのが好ましく、５〜３０％であるのがより好ましく、１０〜２５％であるのがさらに好ましい。開口率が前記範囲内の値であると、外光（例えば、光の入射側とは反対側から不本意に入射した外光等）が、出射側に反射するのを十分に低く抑えることができ、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、開口率が前記下限値未満であると、光の利用効率、視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、開口率が前記上限値を越えると、外光反射を十分に低く抑えることが困難となり、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。
【００３６】
また、マイクロレンズ基板１の光の出射側の面には、拡散部４が設けられている。拡散部４は、入射した光（入射光）を乱反射させることにより拡散させる機能を有するものである。このような拡散部４を有することにより、視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、拡散部４を有することにより、光を乱反射させることができるため、表示される画像における輝点の発生をさらに効果的に防止することができる。また、拡散部４は、ブラックマトリックス３より光の出射側に形成された領域を有するものである。このような構成であることにより、拡散部４に入射した光を、出射側（光の入射側とは反対側の方向）に効率よく向かわせることができ、光の利用効率が低下するのを効果的に防止しつつ、透過型スクリーン１０の視野角特性を特に優れたものにすることができる（スクリーンに投影される画像を好適に視認することができる視野角を特に大きいものとすることができる）。本実施形態では、拡散部４は、光透過性に優れた実質的に透明な材料（例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等）中に、拡散材が分散した構成になっている。拡散材としては、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、１〜５０μｍであるのが好ましく、２〜１０μｍであるのがより好ましい。
【００３７】
また、拡散部４の厚さは、特に限定されないが、０．５〜１０ｍｍであるのが好ましく、０．７〜５ｍｍであるのがより好ましく、１．０〜３ｍｍであるのがさらに好ましい。拡散部４の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、拡散部４の厚さが前記下限値未満であると、拡散部４を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、拡散部４の厚さが前記上限値を超えると、光（光子）と拡散材とが衝突する確率（頻度）が急激に高くなる傾向を示し、消光が起こり易く、また、拡散部内に入射した光（光子）が、再び入射側に戻る可能性も高くなる。その結果、光の利用効率を十分に高めるのが困難になる可能性がある。
【００３８】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部５と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部５は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部５を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部５は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ５１を有している。このフレネルレンズ部５は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
【００３９】
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部５によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１のマイクロレンズ２１が形成された面側から入射し、各マイクロレンズ２１によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。開口部３１を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【００４０】
《レンズ基板の製造方法の第１実施形態》
次に、前述したマイクロレンズ基板１の製造方法の第１実施形態について説明する。
図４は、レンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図、図５は、図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図、図６は、基板本体の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図、図７は、基板本体の検査および補正に用いる検査補正装置を示す模式図、図８は、補正基板本体に遮光部を形成する方法の一例を示す縦断面図である。
また、凹部付き部材の製造においては、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ用凹部）を形成し、マイクロレンズ基板（基板本体）の製造においては、実際には多数の凸部（凸レンズ）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
【００４１】
まず、レンズ基板の製造に用いる凹部付き部材の構成およびその製造方法について説明する。
凹部付き部材６は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材６の構成材料としては、例えば、各種ガラス材料、各種樹脂材料等が挙げられる。ガラス材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられ、また、樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリ−（４−メチルペンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。この中でも、凹部付き部材６の構成材料としては、ガラス材料が好ましく、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスがより好ましい。このような材料は、一般に、形状の安定性に優れている。また、ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００４２】
凹部付き部材６は、マイクロレンズ２１の配列方式に対応する方式（転写された位置関係）で配列した、複数個の凹部６１を備えている。そして、これらの凹部６１は、マイクロレンズ２１が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ２１に対応する形状（転写された形状である以外は実質的に同一の形状）、寸法を有している。
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部６１は、凹部付き部材６を平面視した際の縦幅（鉛直方向の幅）が横幅（水平方向の幅）よりも小さい扁平形状（略楕円形、略俵形）を有している。凹部６１がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板１の製造に好適に用いることができる。
【００４３】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向（縦方向）の長さをＬ１［μｍ］、長軸方向（横方向）の長さをＬ２［μｍ］としたとき、０．５０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９９の関係を満足するのが好ましく、０．６０≦Ｌ１／Ｌ２≦０．９０の関係を満足するのがより好ましく、０．６５≦Ｌ１／Ｌ２≦０．８０の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。
【００４４】
また、平面視したときの凹部６１の短軸方向の長さは、１０〜２００μｍであるのが好ましく、３０〜１５０μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４５】
また、平面視したときの凹部６１の長軸方向の長さは、１５〜２５０μｍであるのが好ましく、４５〜２００μｍであるのがより好ましく、７０〜１５０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、得られるマイクロレンズ基板１の視野角特性、およびマイクロレンズ基板１により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部６１の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板１（凹部付き部材６）の生産性をさらに高めることができる。
【００４６】
また、凹部６１の曲率半径は、７．５〜１２５μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、３０〜６０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の曲率半径が前記範囲内の値であると、得られるマイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部６１は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。
また、凹部６１の深さは、７．５〜１２５μｍであるのが好ましく、１５〜９０μｍであるのがより好ましく、３０〜６０μｍであるのがさらに好ましい。凹部６１の深さが前記範囲内の値であると、得られるマイクロレンズ基板１の視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
【００４７】
また、これら複数個の凹部６１は、千鳥状（千鳥格子状）に配列している。このように凹部６１が配列することにより、得られるマイクロレンズ基板１を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、凹部の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部の大きさ等によっては、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率（光の利用効率）を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
【００４８】
また、上記のように、凹部６１は、凹部付き部材６を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部６１で構成される第１の行と、それに隣接する第２の行とが、縦方向（凹部６１の短軸方向）に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板１を用いた際に、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止することができるとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００４９】
次に、凹部付き部材の製造方法について、図５を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
＜Ａ１＞まず、凹部付き部材６を製造するに際し、基板６０を用意する（図５（ａ）参照）。
この基板６０は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板６０は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
【００５０】
＜Ａ２＞用意した基板６０の表面に、多数個の初期孔（開口部）８１を有するマスク８を形成するとともに、基板６０の裏面（マスク８が形成される面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する（マスキング工程、図５（ｂ）、図５（ｃ）参照）。
特に、本実施形態では、まず、図５（ｂ）に示すように、用意した基板６０の裏面に裏面保護膜８９を形成するとともに、基板６０の表面にマスク形成用膜８０を形成し（マスク形成用膜形成工程）、その後、図５（ｃ）に示すように、マスク形成用膜８０に初期孔８１を形成すること（初期孔形成工程）によりマスク８を得る。マスク形成用膜８０および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
【００５１】
マスク形成用膜８０は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜８０（マスク８）は、エッチングレートが、基板６０と略等しいか、または、基板６０に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００５２】
かかる観点からは、マスク形成用膜８０（マスク８）を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜８０（マスク８）は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
【００５３】
上記のように、マスク形成用膜８０（マスク８）の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜８０は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜８０を用いて得られるマスク８は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している（後述するエッチング工程において基板６０をより確実に保護することができる）。また、基板６０がガラス材料で構成されたものであり、かつマスク形成用膜８０（マスク８）が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜８０（マスク８）は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板６０との密着性（特に、エッチング工程における密着性）に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜８０（マスク８）を用いることにより、所望の形状の凹部６１を容易かつ確実に形成することができる。
【００５４】
マスク形成用膜８０の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜８０（マスク８）をクロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化クロム）、またはこれらの複合材料（例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等）で構成されたものとする場合、マスク形成用膜８０は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜８０（マスク８）をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜８０は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００５５】
マスク形成用膜８０（マスク８）の厚さは、マスク形成用膜８０（マスク８）を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０１〜０．３μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜８０の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程（開口部形成工程）において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板６０のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜８０の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜８０（マスク８）の内部応力によりマスク形成用膜８０（マスク８）が剥がれ易くなる場合がある。
【００５６】
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板６０の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板６０の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク形成用膜８０（マスク８）と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜８９は、マスク形成用膜８０の形成と同時に、マスク形成用膜８０と同様に設けることができる。
【００５７】
＜Ａ３＞次に、図５（ｃ）に示すように、マスク形成用膜８０に、複数個の初期孔（開口部）８１を形成し、マスク８を得る（初期孔形成工程）。本工程で形成される初期孔８１は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔８１の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔８１を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部６１の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔８１をレーザの照射により形成することにより、凹部付き部材を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜８０に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部（初期孔８１）を形成することができる。
【００５８】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。
【００５９】
本工程で形成する初期孔８１は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。ただし、初期孔８１が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の幅（短軸方向の長さ）は、特に限定されないが、０．８〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１０μｍであるのがより好ましく、１．５〜５μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１を確実に形成することができる。
【００６０】
また、本工程で形成する初期孔８１が扁平形状のものである場合、初期孔８１の長さ（長軸方向の長さ）は、０．５〜３０μｍであるのが好ましく、１．０〜１５μｍであるのがより好ましく、１．５〜１０μｍであるのがさらに好ましい。初期孔８１の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部６１をより確実に形成することができる。
【００６１】
＜Ａ４＞次に、図５（ｄ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板６０にエッチングを施し、基板６０上に多数の凹部６１を形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００６２】
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板６０に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｄ）に示すように、基板６０は、マスク８が存在しない部分（マスク８の初期孔８１に対応する部位）より食刻され、基板６０上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１が千鳥状（千鳥格子状）の配置であるため、形成される凹部６１は、基板６０の表面に千鳥状（千鳥格子状）に配置されたものとなる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板６０をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００６３】
マスク８（マスク形成用膜８０）が主としてクロム、酸化クロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素および／または硫酸が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
【００６４】
＜Ａ５＞次に、図５（ｅ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去する。
マスク８が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより好適に行うことができる。
以上のようにして、図４に示すように、基板６０上に多数の凹部６１が千鳥状に形成された凹部付き部材６が得られる。
【００６５】
基板６０上に千鳥状に配された複数個の凹部６１を形成する方法は、特に限定されるものではないが、上述したような方法（レーザ光の照射によりマスク形成用膜８０に初期孔８１を形成してマスク８を得、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板６０上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
【００６６】
すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜８０に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部（初期孔８１）を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材６を提供することができる。
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の基板（凹部付き部材、レンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
【００６７】
また、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔８１の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
なお、凹部付き部材６に対しては、例えば、前述したような離型処理部を形成する目的で、離型処理を施してもよい。離型処理としては、例えば、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン（［（ＣＨ３）３Ｓｉ］２ＮＨ）等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。
【００６８】
ところで、上記のようにして得られる凹部付き部材６は、多数個の凹部６１を形成するものであるため、凹部６１を形成すべき部位に、目的とする（所望の形状の）凹部が形成されていない場合がある。すなわち、図に示したように、凹部６１が設けられるべき部位に凹部６１が設けられていなかったり、形成すべき凹部６１よりも小さい凹部が形成されているような不良箇所６１’が存在する。このような場合、上記のような部位またはその周囲に、所定の大きさ以上の平坦部が存在する。このような平坦部が存在する凹部付き部材を用いて製造される基板本体は、対応する部位に平坦部を有するものとなる。マイクロレンズ基板（レンズ基板）が、上記のような平坦部を有する基板本体を備えたものである場合、光の入射側（基板本体のマイクロレンズ（凸レンズ）が設けられた面側）から、光（入射光）が平坦部に入射した場合、平坦部においては、レンズ部のような集光機能がないため、入射光は直進光として出射し、観察者面側（透過型スクリーン上）において、輝点として認識され、表示される画像に著しい悪影響を及ぼす。上記のような不良は、例えば、凹部付き部材の製造時において、マスク形成用膜の初期孔を形成すべき部位に初期孔を確実に形成することができなかったり、エッチングの際等に、マスクの初期孔近傍に汚れが付着した場合等に発生する。マスクの形成条件、エッチング条件を最適化することにより、上記のような不良の発生の抑制を試みることはできるが、大型のレンズ基板（例えば、対角線長が１００ｃｍ以上のレンズ基板）の製造に用いる凹部付き部材においては、上記のような不良の発生を完全に防止することは極めて困難である。
【００６９】
そこで、本発明では、後に詳述するような方法により、このような凹部付き部材６を用いて得られた後述するような基板本体２’の凸レンズが設けられた側の面を検査し、凸レンズが所望の形状に形成されていない不良箇所（前述した不良箇所６１’に対応する部位）を特定し、該不良箇所を補正することにより、上記のような問題を解決することできることを見出した点に特徴を有している。なお、本明細書中において、「不良箇所」とは、所望の形状の凸レンズが形成されていないものや、形成すべき位置に目的とする凸レンズが形成されていないものを意味する。
【００７０】
以下、上記のような凹部付き部材６を用いて基板本体２’を形成する方法の一例について説明する。
＜Ｂ１＞まず、凹部付き部材６の用意する。
＜Ｂ２＞次に、図６（ａ）に示すように、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、流動性を有する状態の組成物２３（例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合（未硬化）の樹脂材料）を付与し（組成物付与工程）、その上に、基材フィルム２４を載せ、この基材フィルム２４を介して、組成物２３を平板（押圧部材）１１で押圧する（押圧工程）。
【００７１】
基材フィルム２４は、組成物２３（固化後の組成物２３）と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、基材フィルム２４の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましい。基材フィルム２４は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。また、基材フィルム２４は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
【００７２】
なお、平板１１による押圧は、例えば、凹部付き部材６と、基材フィルム２４との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体２の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物２３を固化する際に、凹部付き部材６と基材フィルム２４との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材６の凹部６１が形成された側の面に、付与する樹脂として予めスペーサーが分散された組成物２３を用いてもよいし、凹部付き部材６上にスペーサーを配した状態で組成物２３を付与してもよいし、組成物２３の供給後にスペーサーを付与してもよい。
【００７３】
スペーサーを用いる場合、当該スペーサーは、固化後の組成物２３と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、スペーサーの構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物２３の絶対屈折率との差の絶対値が、０．２０以下であるのが好ましく、０．１０以下であるのがより好ましく、０．０２以下であるのがさらに好ましく、固化後の組成物２３とスペーサーとが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサーの形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサーがこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
【００７４】
＜Ｂ３＞次に、組成物２３を固化（ただし、硬化（重合）を含む）させ、凹部６１に対応するマイクロレンズ２１を備えた基板本体２’を得る（固化工程。図６（ｂ）参照）。本実施形態では、基板本体２’は、組成物２３の固化物と基材フィルム２４との接合体として得られる。また、得られる基板本体２’は、凹部付き部材６の不良箇所６１’に対応する部位に不良箇所２１’を有している。
【００７５】
組成物２３の固化を硬化（重合）により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
なおここで、必要に応じて組成物２３および／または基材フィルム２４の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物２３および／または基材フィルム２４全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。
【００７６】
＜Ｂ４＞次に、形成された基板本体２’から、平板１１および凹部付き部材６を取り除く（押圧部材・凹部付き部材除去工程。図６（ｃ）参照）。取り外された平板１１、凹部付き部材６は、基板本体２’（マイクロレンズ基板１）の製造に繰り返し使用することができる。
【００７７】
次に、このようにして得られた基板本体２’の不良箇所の検査および補正方法について説明する。
基板本体２’の不良箇所の検査・補正は、図７に示すような検査補正装置１５０を用いて行うことができる。
基板本体２’の検査補正装置１５０は、ＣＣＤカメラ１５１と、液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１５２と、基板本体２’を載置する載置台１５３と、移動ステージ１５４と、画像処理部を内蔵した制御装置１５５とを有している。
【００７８】
ＣＣＤカメラ１５１は、基板本体２’の凸レンズが形成されている側の面の画像を撮影する機能を有している。
また、液滴吐出ヘッド１５２は、不良箇所２１’に対して、主として基板本体２’を構成する材料で構成された液滴２０を吐出し、不良箇所２１’を補正する機能を有している。
【００７９】
移動ステージ１５４は、ＣＣＤカメラ１５１および液滴吐出ヘッド１５２をそれぞれ載置台に対して平面的（Ｘ−Ｙ方向、Ｒ−θ方向等）に移動するものである。
また、制御装置１５５は、ＣＣＤカメラ１５１の検査信号が入力されると、これを画像処理して、基板本体２’の不良箇所（凸レンズが所望の形状に形成されていない箇所）２１’が検出された場合には、不要箇所２１’の位置を記憶する機能を有している。
【００８０】
この検査補正装置１５０は、基板本体２’の検査と補正工程とを同一の装置で実行するものであり、まず、ＣＣＤカメラ１５１でもって基板本体２’の全範囲（凸レンズ部が形成された有効領域）に走査する。そして、検査信号を画像処理部に入力し、画像処理して不良箇所２１’を検出する。そして、不良箇所２１’が検出された場合には、その位置を制御装置１５５に記憶する（基板本体検査工程）。なお、このときに、不良箇所２１’の大きさ等を記憶し、基板本体２’を補正する際に、液滴の吐出量を制御するのに用いる。
【００８１】
そして、基板本体２’に不良箇所２１’が検出され、該位置が特定された場合、画像処理部からの位置信号に基づいて、制御装置１５５は、図７に示すように、液滴吐出ヘッド１５２を不良箇所２１’の真上に移動させ、液滴吐出ヘッド１５２によって、主として基板本体２’を構成する材料で構成された液滴２０を吐出して、不良箇所２１’を補正する（補正工程）。なお、補正された部位には、液滴を構成する材料（基板本体２’を構成する材料）の種類に応じて、紫外線照射処理や加熱処理等の固化処理を施す。
【００８２】
以上のようにして、基板本体（補正基板本体）２が得られる。
本実施形態によれば、検査と補正とが一連の流れで行うことができ、より効率良く不良箇所２１’を補正することができる。また、検査方法として画像処理を用いることにより、より効率良く不良箇所２１’を検出・特定することができる。
また、液滴の吐出方法としては、特に限定されないが、インクジェット法を適用するのが好ましい。インクジェット法によれば、基板本体２’の不良箇所２１’に、液滴２０を選択的に、かつ確実に吐出することができる。また、インクジェット法によれば、液滴２０の吐出を高速化できるとともに、有効に吐出する材料を利用することができ、省資源の観点からも好ましい。
【００８３】
なお、不良箇所２１’の検査は、前述したような画像処理によるものに限定されず、例えば、凸レンズの高さを測定し、所定の高さ以下の凸レンズを検出することによっても行うことができる。これにより、より効率良く不良箇所を検出・特定することができる。このような検査は、例えば、段差測定器等を用いて行うことができる。
次に、上記のようにして得られた基板本体２を用いてマイクロレンズ基板を形成する。
【００８４】
＜Ｃ１＞まず、上記のようにして作製された基板本体２の出射側表面に、ブラックマトリックス（遮光膜）３を形成する。
本実施形態では、遮光層の形成を、基板本体に遮光層形成用材料を付与し、当該遮光層形成用材料を露光する処理を用いて行う。遮光層形成用材料としては、感光性を有する成分を含むものであればいかなるものであってもよいが、以下の説明では、主に、遮光層形成用材料３２として、ポジ型のフォトポリマー３２を用いるものとして説明する。
【００８５】
まず、図８（ｄ）に示すように、基板本体２の出射側表面に、遮光性を有するポジ型のフォトポリマー（遮光膜形成用材料）３２を付与する（遮光膜形成用材料付与工程）。基板本体２表面へのフォトポリマー３２の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。フォトポリマー３２は、遮光性を有する樹脂で構成されたものであってもよいし、（遮光性の低い）樹脂材料に、遮光性の材料が分散または溶解したものであってもよい。フォトポリマー３２の付与後、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００８６】
＜Ｃ２＞次に、図８（ｅ）に示すように、基板本体２に、入射側表面に対して垂直方向の露光用光Ｌｂを照射する。照射された露光用光Ｌｂはマイクロレンズ２１に入射することにより屈折し、集光する。そして、集光されることにより、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位のフォトポリマー３２が露光され、それ以外の部分のフォトポリマー３２は露光されないか、または露光量が少なくなり、光度（光束）の大きくなった光が照射された部位のフォトポリマー３２のみが感光する。
【００８７】
その後、現像を行う。ここで、このフォトポリマー３２はポジ型のフォトポリマーであるので、感光した焦点ｆ近傍のフォトポリマー３２が現像により溶解、除去される。その結果、図８（ｆ）に示すように、マイクロレンズ２１の光軸Ｌに対応する部分に開口部３１が形成されたブラックマトリックス３が形成される。現像の方法は、フォトポリマー３２の組成等により異なるが、例えば、ＫＯＨ水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
このように、フォトポリマーにマイクロレンズによって集光させた露光用光を照射しブラックマトリックスを形成することにより、例えばフォトリソグラフィ技術を使用するのに比べて、簡易な工程でブラックマトリックスを形成することができる。
【００８８】
特に、基板本体２は、上記のように補正されたものである。このため、マイクロレンズ２１によって集光させた露光用光を照射してブラックマトリックスを形成する際に、不本意な位置に開口部が形成されるのが防止される。その結果、得られるマイクロレンズ基板１は、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができる。
なお、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００８９】
また、上記の説明では、遮光層形成用材料として、ポジ型のフォトポリマーを用いて遮光層（ブラックマトリックス３）を形成するものとして説明したが、フォトポリマー以外の材料を用いてもよい。例えば、遮光層形成用材料としては、銀塩感光材料等の反転現像材料を用いてもよい。銀塩感光材料（反転現像材料）を用いた場合、上記のような露光後、一旦、露光部分のみが脱塩されるような処理を施し、その後さらに、全面露光し現像する方法を用いることにより、最初の露光部分を光透過性の非遮光部とし、それ以外の部位を遮光部（遮光領域）とすることができる。
【００９０】
また、上記のような遮光層形成用材料の付与、露光の一連の処理を、繰り返し行ってもよい。これにより、遮光層（ブラックマトリックス）をより厚いものとして形成することができ、コントラストの更なる向上を図ることができる。
また、上記の説明では、基板本体２の表面（光の出射面側の表面）に、直接、遮光層形成用材料を付与するものとして説明したが、遮光層形成用材料は、基板本体２の表面に直接付与されるものでなくてもよい。例えば、基板本体２の表面（光の出射面側の表面）に、露光後に、十分な遮光性を発揮しない感光性材料の付与、現像等の一連の処理を行った後に、上記のような遮光層形成用材料を用いた処理を行ってもよい。これにより、遮光層（ブラックマトリックス）をより厚いものとして形成することができ、コントラストの更なる向上を図ることができる。
【００９１】
＜Ｃ３＞次に、基板本体２のブラックマトリックス３が設けられた面側に、拡散部４を形成し、マイクロレンズ基板１を得る（図１参照）。
拡散部４は、例えば、予め、板状に成形された拡散板を接合したり、拡散材を含み、流動性を有する拡散部形成用材料を付与した後に、当該材料を固化させること等により形成することができる。
拡散部形成用材料の付与方法としては、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法や、基板本体２を拡散部形成用材料中に浸漬するディッピング等の方法が挙げられる。
【００９２】
《レンズ基板の製造方法の第２実施形態》
以下、本発明のレンズ基板の製造方法の第２の実施形態について説明する。なお、以下の説明では、上述した第１実施形態と異なる部分を中心に説明し、同様の部分はその説明を省略する。
本実施形態では、不良箇所の検査を、凹部付き部材６を用いて行う点で、前述した第１実施形態と異なっている。
図９は、レンズ基板の製造において用いる検査装置を示す模式図である。
凹部付き部材６の検査装置１１０は、図９に示すように、ＣＣＤカメラ１１４と、凹部付き部材６を載置する載置台１１５と、移動ステージ１１２と、画像処理部を内蔵した制御装置１１３とを有している。
【００９３】
移動ステージ１１２は、ＣＣＤカメラ１１４を載置台１１５に対して平面的（Ｘ−Ｙ方向、Ｒ−θ方向等）に移動するものであり、制御装置１１３は、ＣＣＤカメラ１１４の検査信号が入力されると、これを画像処理して、凹部６１が所望の形状に形成されていない不良箇所６１’の位置を記憶するものである。これより、より効率良く不良箇所を検出・特定することができる。
【００９４】
具体的には、まず、ＣＣＤカメラ１１４でもって凹部付き部材６の全範囲（凹部が形成された有効領域）に走査する。そして、検査信号を画像処理部に入力し、画像処理して不良箇所を検出する。そして、不良箇所が検出された場合には、その位置を記憶する。また、このときに、不良箇所の大きさ等を記憶し、基板本体２’を補正する際に、液滴の吐出量を制御するのに用いる。
【００９５】
このようにして得られて位置情報を基に、前述した第１実施形態と同様にして、基板本体２’の不良箇所２１’を補正する。
なお、凹部付き部材６の不要箇所の検査は、例えば、凹部６１の深さを測定し、所定の深さ以下の凹部を検出することにより行うこともできる。これにより、より効率良く不良箇所を検出・特定することができる。
このような検査は、例えば、段差測定器等を用いて行うことができる。
【００９６】
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１０は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、上記のような透過型スクリーン１０を備えているので、コントラストに優れるとともに輝点の発生が抑制された、優れた画像を表示することができる。また、視野角特性、光利用効率等も特に優れたにも優れている。
【００９７】
また、特に、前述したマイクロレンズ基板１では、楕円形状のマイクロレンズ２１が千鳥状（千鳥格子状）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００９８】
例えば、凹部付き部材、レンズ基板（マイクロレンズ基板）、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成を追加してもよい。例えば、レンズ基板は、その表面付近に、所定の濃度で着色された着色部を有するものであってもよい。これにより、表示される画像のコントラストをさらに優れたものとすることができる。
【００９９】
また、レンズ基板（マイクロレンズ基板）の製造方法においては、任意の工程を追加してもよい。
また、レンズ基板の製造方法における各工程の順序は、前述したようなものに限定されず、必要に応じて、その順序を変更してもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材の表面に組成物を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面（または平板上に載置された基材フィルム）に組成物を付与し、これを凹部付き部材で押圧することにより、マイクロレンズ基板を製造してもよい。
また、前述した第１実施形態では、検査と補正を同じ装置で行うものとして説明したが、別の装置で行ってもよい。
【０１００】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、層状の拡散部を有するものとして説明したが、拡散部の形状はこれに限定されるものではない。例えば、拡散部は、ブラックマトリックスの開口部に対応する部位に凸状に設けられたものであってもよい。このような場合であっても、前述したような効果が得られる。また、このような拡散部を形成することにより、ブラックマトリックスの開口部以外の部位での外光の反射をより効果的に防止することができるため、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。また、マイクロレンズ基板は、前述したような拡散部を備えていなくてもよい。このような場合、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
【０１０１】
また、前述した実施形態では、レンズ基板がマイクロレンズを備えるマイクロレンズ基板であるものとして説明したが、本発明において、レンズ基板は、例えば、レンチキュラレンズ基板等であってもよい。
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズ部とを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズ部を備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
【０１０２】
また、前述した実施形態では、レンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のレンズ基板は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）のスクリーン（フロントプロジェクションスクリーン）、投射型表示装置（フロントプロジェクタ）の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。
【実施例】
【０１０３】
（実施例１）
以下のように、凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横１．２ｍ×縦０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板（絶対屈折率ｎ２：１．５０）を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【０１０４】
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム／酸化クロムの積層体（クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体）を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム／酸化クロムの積層体で構成されたのマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは０．０３μｍ、酸化クロム層の厚さは０．０１μｍであった。
【０１０５】
次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度１．２Ｊ／ｃｍ２、加工点でのビーム直径２μｍ、走査速度０．１ｍ／秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、略円形の初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の直径は２μｍであった。
【０１０６】
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状（略楕円形状）の凹部（マイクロレンズ形成用凹部）を形成した。形成された凹部は、球面をなすものであり、その短軸方向の長さ（ピッチ）は５４μｍ、長軸方向の長さは７２μｍ、曲率半径は３８μｍ、深さは３８μｍであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は９８％であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は２．０時間とした。
【０１０７】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理（シリル化処理）を行い、離型処理部を形成した。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。
【０１０８】
次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂（ＰＭＭＡ樹脂（メタクリル樹脂））で構成された組成物を付与し、その上に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）で構成された基材フィルム（厚さ：５０ｍｍ）を載せた。基材フィルムを構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５７であった。
【０１０９】
次に、ソーダガラスで構成された平板で、基材フィルムを介して、前記組成物を押圧した。この際、基材フィルムと組成物との間に、空気が侵入しないようにした。
その後、平板で押圧した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状（略楕円形状）をなすものであり、長軸方向の長さが７２μｍ、曲率半径が３８μｍ、高さが３８μｍであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は９８％であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率（絶対屈折率ｎ１）は、１．５６であった。
【０１１０】
次に、基板本体から平板および凹部付き部材を取り除いた。
次に、図７に示した検査補正装置を用いて、基板本体について検査を行い、不良箇所を検出・特定した。そして、その位置情報を基に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂を不良箇所に吐出し、不良箇所を補正した。その後、補正箇所に、紫外線を照射し、硬化させ、補正基板本体を得た。
【０１１１】
次に、補正基板本体の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、遮光性材料（カーボンブラック）が添加されたポジ型のフォトポリマー（ＰＣ４０５Ｇ：ＪＳＲ株式会社製）を、ロールコーターにより付与した。フォトポリマー中における遮光性材料の含有量は、２０ｗｔ％であった。
次に、マイクロレンズが形成されている側の面から、１０ｍＪ/ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した。
【０１１２】
その結果、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位のフォトポリマーを選択的に露光した。
その後、０．５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を用いて、４０秒の現像処理を施した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。開口部は、略円形であり、その直径は３０μｍであった。また、形成されたブラックマトリックスの厚さは１．２μｍであった。また、形成されたブラックマトリックスは、その開口部が、光の出射側に向かって断面積が大きくなるようなテーパ状をなすものであった。また、平面視したときの開口部のブラックマトリックスに対する面積率（開口率）は、１８％であった。
【０１１３】
次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成し、マイクロレンズ基板を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材（平均粒径８μｍのシリカ粒子）が分散した構成の拡散板を熱融着により接合することにより行った。なお、拡散部の厚さは、２.０ｍｍであった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１１４】
（実施例２）
不良箇所の検出手段として、段差測定器を用いた以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（実施例３）
前記実施例１と同様にして凹部付き部材を形成した。
【０１１５】
次に、図９に示すような装置を用いて、不良箇所を検出し、位置を記憶した。
次に、前記実施例１と同様にして基板本体（補正されていない基板本体）を形成した。
次に、検査により得られた位置情報を基に、基板本体の不要箇所に、未重合（未硬化）のアクリル系樹脂を吐出し、不良箇所を補正した。その後、補正箇所に、紫外線を照射し、硬化させ、補正基板本体を得た。
【０１１６】
その後、前述した実施例１と同様にして、ブラックマトリックスを形成し、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
（実施例４）
不良箇所の検出手段として、段差測定器を用いた以外は、前記実施例３と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
【０１１７】
（比較例）
基板本体の補正を行わなかった以外は、前記実施例１と同様にしてマイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
各実施例および比較例について、製造に用いた凹部付き部材の構成や、マイクロレンズ基板の構成を表１にまとめて示す。
【０１１８】
【表１】
2007152703.tif 000003
【０１１９】
［リア型プロジェクタの作製］
前記各実施例および比較例の透過型スクリーンを用いて、図１３に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
［輝点の発生］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させ、表示された画像において、輝点の発生状態を以下の５段階の基準に従い評価した。
【０１２０】
Ａ：輝点が存在しない、または目視で確認できない。
Ｂ：スクリーンの一部に、輝点が少数存在し、わずかに確認することができる。
Ｃ：スクリーンの一部に、輝点が存在し、目視ではっきりと確認できる。
Ｄ：スクリーン全体に、輝点が少数存在し、目視ではっきりと確認できる。
Ｅ：スクリーン全体に、輝点が多数存在し、目視ではっきりと確認できる。
【０１２１】
［コントラストの評価］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタについて、正面コントラストの評価を行った。
コントラスト（ＣＮＴ）として、明室において３７３ｌｘの全白光が入射した時の白表示の正面輝度（白輝度）ＬＷ［ｃｄ／ｍ２］と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度ＬＢ［ｃｄ／ｍ２］との比ＬＷ／ＬＢを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約８２lｘの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が０．１ｌｘ以下の環境下で行った。
【０１２２】
［視野角の測定］
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向（上下方向）および水平方向（左右方向）での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、１度間隔で測定するという条件で行った。
これらの結果を表２にまとめて示す。
【０１２３】
【表２】
2007152703.tif 000004
【０１２４】
表２から明らかなように、本発明では、いずれも、輝点の発生が十分に防止され、かつ、高コントラストの画像を表示することができた。また、視野角特性にも優れていた。これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１２５】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板（レンズ基板）の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示すマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示すマイクロレンズ基板（レンズ基板）を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】レンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図である。
【図５】図４に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図６】基板本体の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図７】基板本体の検査および補正に用いる検査補正装置を示す模式図である。
【図８】補正基板本体に遮光部を形成する方法の一例を示す縦断面図である。
【図９】レンズ基板の製造において用いる検査装置を示す模式図である。
【図１０】本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１２６】
１…マイクロレンズ基板（レンズ基板）  ２…基板本体（補正基板本体）  ２’…基板本体  ２１…マイクロレンズ（凸レンズ）  ２１’…不良箇所  ２３…組成物  ２４…基材フィルム  ２５…第１の行  ２６…第２の行  ２０…液滴  ３…ブラックマトリックス（遮光膜）  ３１…開口部  ３２…フォトポリマー（遮光膜形成用材料）  ４…拡散部  ５…フレネルレンズ部  ５１…フレネルレンズ  ６…凹部付き部材（マイクロレンズ形成用凹部付き部材）  ６０…基板  ６１…凹部（マイクロレンズ形成用凹部）  ６１’…不良箇所  ８…マスク  ８１…初期孔（開口部）  ８９…裏面保護膜  ８０…マスク形成用膜  ９…補正電鋳母型  ９１…導電膜  １１…平板  １０…透過型スクリーン  １１０…検査装置  １１２…移動ステージ  １１３…制御装置  １１４…ＣＣＤカメラ  １１５…載置台  １５０…検査補正装置  １５１…ＣＣＤカメラ  １５２…液滴吐出ヘッド  １５３…載置台  １５４…移動ステージ  １５５…制御装置  ３００…リア型プロジェクタ  ３１０…投写光学ユニット  ３２０…導光ミラー  ３４０…筐体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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