(57)【要約】【課題】  薄板を用いた光素子における出力光のＳ／Ｎ比を改善した光素子を提供すること。【解決手段】  電気光学効果を有する材料若しくは非線形光学効果で形成された厚さ２０μｍ以下の薄板１と、該薄板に形成された光導波路４とを有する光素子において、該薄板の光導波路およびその近傍を除く領域に、該薄板内を伝搬する迷光を反射し、反射した迷光を該薄板外に導くための迷光反射手段（１０，２０）が配置されていることを特徴とする。  迷光反射手段には、薄板の角部の面取り部１０や、薄板表面に形成した溝部２０などがある。【選択図】図１
2007272121.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学効果を有する材料若しくは非線形光学効果で形成された厚さ２０μｍ以下の薄板と、
該薄板に形成された光導波路とを有する光素子において、
該薄板の光導波路およびその近傍を除く領域に、該薄板内を伝搬する迷光を反射し、反射した迷光を該薄板外に導くための迷光反射手段が配置されていることを特徴とする光素子。
【請求項２】
請求項１に記載の光素子において、該迷光反射手段は、該薄板の表面又は裏面に対し所定の角度を有し、該薄板の外周面と連続する面により形成されていることを特徴とする光素子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光素子において、該迷光反射手段は、該薄板の角部分を平面状又は曲面状に切除して形成したことを特徴とする光素子。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の光素子において、該迷光反射手段により反射した迷光を吸収する迷光吸収手段を有し、該迷光吸収手段は、該迷光反射手段により反射された迷光が該薄板より放出される位置に形成されることを特徴とする光素子。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれかに記載の光素子において、該薄板に接着層を介して接合された補強基板と、該迷光反射手段により反射した迷光を吸収する迷光吸収手段とを有し、該迷光反射手段は該薄板の反接着面に形成され、該迷光吸収手段は該迷光反射手段により反射された迷光が到達する該補強基板上に形成されることを特徴とする光素子。
【請求項６】
請求項１乃至３のいずれかに記載の光素子において、該迷光反射手段により反射した迷光を除去する迷光放射手段を有し、該迷光放射手段は、該迷光反射手段により反射された迷光が該薄板より放出される位置に形成されることを特徴とする光素子。
【請求項７】
請求項６に記載の光素子において、該迷光放射手段は、基板の表面又は裏面に凹凸を設けることを特徴とする光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光素子に関し、特に、電気光学効果若しくは非線形光学効果をを有する材料で形成された薄板を使用する光素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光通信分野や光測定分野において、電気光学効果を有する基板上に光導波路や変調電極を形成した導波路型光素子が多用されている。
特に、マルチメディアの発展に伴い情報伝達量も増加傾向にあり、光変調周波数の広帯域化が求められている。これを実現する手段として、ＬＮ変調器等による外部変調方式が提供されている。しかし、ＬＮ変調器の広帯域の実現には、変調信号であるマイクロ波と光波との速度整合、及び駆動電圧の低減を図る必要がある。
【０００３】
前記課題の解決手段として、従来より基板の厚みを薄くすることにより、マイクロ波と光波の速度との速度整合条件を満足させ、且つ駆動電圧の低減を同時に図ることが知られている。
以下の特許文献１又は２においては、３０μｍ以下の厚みを有する薄い基板（以下、「第１基板」という。）に、光導波路並びに変調電極を組み込み、第１基板より誘電率の低い他の基板（以下、「第２基板」という。）を接合し、マイクロ波に対する実効屈折率を下げ、マイクロ波と光波との速度整合を図り且つ基板の機械的強度を維持することが行われている。
【特許文献１】特開昭６４−１８１２１号公報
【特許文献２】特開２００３−２１５５１９号公報
【０００４】
特許文献１又は２では、主に、第１基板にはＬｉＮｂＯ３（以下、「ＬＮ」という。）が利用され、第２基板には、石英、ガラス、アルミナなどＬＮより低誘電率の材料が使用されている。これらの材料の組合せでは、線膨張係数の違いにより、温度変化に伴う温度ドリフトやＤＣドリフトが発生することとなる。特許文献２においては、このような不具合を除去するため、第１基板と第２基板との接合を、第１基板に近い線膨張係数を有する接着剤を利用して行うことも開示されている。
【０００５】
しかし、従来から製造されていたＬＮ基板を用いた変調器とＬＮ基板の厚さを薄くした変調器とを比較した場合、基板の厚みが薄くなるに従い、光導波路から放射又は漏出した光や入射用光ファイバーから光導波路以外に入射した光など（以下、「迷光」という）が基板内に閉じ込められる傾向が強くなる。これは従来のＬＮ基板は、基板の厚さ（例えば５００〜１０００μｍ）が厚いため、導波路（例えば深さ数μｍ）に影響を及ぼさない領域が十分に有り、迷光となっている光の空間分布密度（以下、「迷光密度」という。）が低くなり、その結果迷光の影響があまり問題とならなかった。しかし基板の厚さを導波路の深さ方向の距離と同じくらいにした場合、基板内における基板表面に沿った方向を伝搬する迷光密度が高くなるため、迷光が基板内を伝搬し、光導波路に再入射したり、光素子に接続された出射用光ファイバに入射するなどの現象が生じ、結果として出力光のＳ／Ｎ比が劣化する原因となっていた。
【０００６】
しかも、光素子に薄板を使用する場合には、薄板のみでは機械的強度は不足する関係から、上述したように第１基板の薄板と第２基板の補強板とを接着剤などで接合する必要がある。この際、接着剤の屈折率が薄板のものより低い場合には、上記迷光の閉じ込めがより顕著となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明が解決しようとする課題は、上述した問題を解決し、薄板を用いた光素子における出力光のＳ／Ｎ比を改善した光素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、請求項１に係る発明では、電気光学効果を有する材料若しくは非線形光学効果で形成された厚さ２０μｍ以下の薄板に形成された光導波路とを有する光素子において、該薄板の光導波路およびその近傍を除く領域に、該薄板内を伝搬する迷光を反射し、反射した迷光を該薄板外に導くための迷光反射手段が配置されていることを特徴とする。
【０００９】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載の光素子において、該迷光反射手段は、該薄板の表面又は裏面に対し所定の角度を有し、該薄板の外周面と連続する面により形成されていることを特徴とする。
【００１０】
請求項３に係る発明は、請求項１又は２に記載の光素子において、該迷光反射手段は、該薄板の角部分を平面状又は曲面状に切除して形成したことを特徴とする。
【００１１】
請求項４に係る発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の光素子において、該迷光反射手段により反射した迷光を吸収する迷光吸収手段を有し、該迷光吸収手段は、該迷光反射手段により反射された迷光が該薄板より放出される位置に形成されることを特徴とする。
【００１２】
請求項５に係る発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の光素子において、該薄板に接着層を介して接合された補強基板と、該迷光反射手段により反射した迷光を吸収する迷光吸収手段とを有し、該迷光反射手段は該薄板の反接着面に形成され、該迷光吸収手段は該迷光反射手段により反射された迷光が到達する該補強基板の上に形成されることを特徴とする。なお、「反接着面」とは、接着に使用されていない面を意味する。
【００１３】
請求項６に係る発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の光素子において、該迷光反射手段により反射した迷光を除去する迷光放射手段を有し、該迷光放射手段は、該迷光反射手段により反射された迷光が該薄板より放出される位置に形成されることを特徴とする。
【００１４】
請求項７に係る発明は、請求項６に記載の光素子において、該迷光放射手段は、基板の表面又は裏面に凹凸を設けることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１に係る発明により、電気光学効果を有する材料若しくは非線形光学効果で形成された厚さ２０μｍ以下の薄板と、該薄板に形成された光導波路とを有する光素子において、該薄板の光導波路およびその近傍を除く領域に、該薄板内を伝搬する迷光を反射し、反射した迷光を該薄板外に導くための迷光反射手段が配置されているため、例えば、基板内の基板表面に沿った方向を伝搬する迷光の伝搬方向を基板の厚み方向に変換できるため、光導波路に再入射したり、光素子に接続された出射用光ファイバに入射するなど、迷光による不具合を抑制でき、結果として出力光のＳ／Ｎ比を向上させた光素子を提供することが可能となる。
【００１６】
請求項２に係る発明により、迷光反射手段は、薄板の表面又は裏面に対し所定の角度を有し、該薄板の外周面と連続する面により形成されているため、基板の表面又は裏面より機械加工、エッチング等の手段により容易に形成可能となる。
【００１７】
請求項３に係る発明により、迷光反射手段は、薄板の角部分を平面状又は曲面状に切除して形成しているため、迷光反射手段が容易に形成可能となる。
【００１８】
請求項４に係る発明により、迷光反射手段により反射した迷光を吸収する迷光吸収手段を有し、該迷光吸収手段は、該迷光反射手段により反射された迷光が該薄板より放出される位置に形成されるため、例えば、迷光反射手段により基板の厚み方向に偏向した迷光を効率的に吸収可能となり、光導波路に再入射したり、光素子に接続された出射用光ファイバに入射するなど、迷光による不具合を抑制でき、結果として出力光のＳ／Ｎ比を向上させた光素子を提供することが可能となる。
【００１９】
請求項５に係る発明により、薄板に接着層を介して接合された補強基板と、迷光反射手段により反射した迷光を吸収する迷光吸収手段とを有し、該迷光反射手段は該薄板の反接着面に形成され、該迷光吸収手段は該迷光反射手段により反射された迷光が到達する該補強基板の上に形成されるため、例えば、迷光反射手段により基板の厚み方向に偏向した迷光を効率的に吸収可能となり、光導波路に再入射したり、光素子に接続された出射用光ファイバに入射するなど、迷光による不具合を抑制でき、結果として出力光のＳ／Ｎ比を向上させた光素子を提供することが可能となる。
【００２０】
請求項６に係る発明により、迷光反射手段により反射した迷光を除去する迷光放射手段を有し、該迷光放射手段は、該迷光反射手段により反射された迷光が該薄板より放出される位置に形成されるため、例えば、迷光反射手段により基板の厚み方向に偏向した迷光を効率的に除去可能となり、光導波路に再入射したり、光素子に接続された出射用光ファイバに入射するなど、迷光による不具合を抑制でき、結果として出力光のＳ／Ｎ比を向上させた光素子を提供することが可能となる。
【００２１】
請求項７に記載の発明により、迷光放射手段は、基板の表面又は裏面に凹凸を設けることにより形成されるため、迷光放射手段は容易に形成可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明について好適例を用いて詳細に説明する。
図１は、本発明が適用される薄板を利用した光を強度変調させる光素子の斜視図である。電気光学効果を有する材料で形成された薄板１には、光導波路４や不図示の変調電極（信号電極や接地電極等）などが形成され、補強基板３は薄板1に対し接着剤２等により接合されている。なお、光導波路は、薄板の裏面に形成することも可能である。
【００２３】
光導波路の形成方法としては、Ｔｉなどを熱拡散法やプロトン交換法などで基板表面に
拡散させることにより形成することができる。また、特許文献３のように薄板１の表面に
光導波路の形状に合わせてリッジを形成し、光導波路を構成することも可能である。
信号電極や接地電極などの変調電極は、Ｔｉ・Ａｕの電極パターンの形成及び金メッキ
方法などにより形成することが可能である。さらに、必要に応じて光導波路形成後の基板
表面に誘電体ＳｉＯ２等のバッファ層（不図示）を設け、バッファ層の上に変調電極を形
成することも可能である。
【特許文献３】特開平６−２８９３４１号公報
【００２４】
電気光学効果を有する材料としては、例えば、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、ＰＬＺＴ（ジルコン酸チタン酸鉛ランタン）、及び石英系の材料及びこれらの組み合わせが利用可能である。特に、電気光学効果の高いニオブ酸リチウム（ＬＮ）結晶が好適に利用される。
【００２５】
光素子を含む薄板１の製造方法は、数百μｍの厚さを有する基板に上述した光導波路を形成し、基板の裏面を研磨して、２０μｍ以下の厚みを有する薄板を作成する。その後薄板の表面に変調電極を作り込む。また、光導波路や変調電極などの作り込みを行った後に、基板の裏面を研磨することも可能である。なお、光導波路形成時の熱的衝撃や各種処理時の薄膜の取り扱いによる機械的衝撃などが加わると、薄板が破損する危険性もあるため、これらの熱的又は機械的衝撃が加わり易い工程は、基板を研磨して薄板化する前に行うことが好ましい。
【００２６】
補強基板３に使用される材料としては、種々のものが利用可能であり、例えば、薄板と同様の材料を使用する他に、石英、ガラス、アルミナなどのように薄板より低誘電率の材料を使用したり、上記特許文献３のように薄板と異なる結晶方位を有する材料を使用することも可能である。ただし、線膨張係数が薄板と同等である材料を選定することが、温度変化に対する光素子の変調特性を安定させる上で好ましい。仮に、同等の材料の選定が困難である場合には、特許文献２のように薄板と補強板とを接合する接着剤に、薄板と同等な線膨張係数を有する材料を選定する。
【００２７】
薄板１と補強基板３との接合には、接着層２として、エポキシ系接着剤、熱硬化型接着剤、紫外線硬化性接着剤、半田ガラス、熱硬化性、光硬化性あるいは光増粘性の樹脂接着剤シートなど、種々の接着材料を使用することが可能である。
【００２８】
図１のような光素子においては、光導波路の光分岐部や合波部、また、不図示の入射用光ファイバと光素子との接合部などから、光導波路以外の薄板内に迷光が発生し、薄板の厚みが薄く、特に２０μｍ以下に設定されている場合には、該迷光が薄板内を伝搬し光導波路や出射用光ファイバに入射するという不具合を生じることが、本発明者らにより見出され、本発明をなすに至ったものである。
【００２９】
本出願人は、上記問題を解決するため、下記特許文献４において、電気光学効果を有する材料で形成された厚さ２０μｍ以下の薄板と、該薄板の表面又は裏面に形成された光導波路と、該薄板の表面に形成され、該光導波路内を通過する光を変調するための変調電極とを含む光変調器において、該薄板内又は該薄板に近接して、迷光除去手段が配置されていることを特徴とする光変調器を提案した。
【００３０】
特に、迷光除去手段としては、以下のようなものを例示している。
（１）光導波路及びその近傍を除く薄板の外表面に接して配置された光吸収部
（２）光導波路又はその近傍の一部に、薄板の外表面に接して配置された高屈折率部
（３）光導波路を除く薄板の表面又は裏面に形成された光ガイド部
（４）光導波路を除く薄板の表面又は裏面に形成された凹部であり、必要に応じて該凹部には、光吸収材料を充填する。
【特許文献４】特願２００５−９６４４７号（出願日：平成１７年３月２９日）
【００３１】
しかしながら、これらの方法では、迷光除去手段の設置場所が限定されるため、基板内部に拡散して伝搬している多くの迷光を除去するには、依然として不十分であり、特に、基板表面又は裏面と平行な方向に伝搬する多くの迷光を効果的に除去することが難しい。
このため、本発明においては、電気光学効果を有する材料で形成された厚さ２０μｍ以下の薄板と、該薄板の表面又は裏面に形成された光導波路とを有する光素子において、該薄板の光導波路およびその近傍を除く領域に、該薄板内を伝搬する迷光を反射し、反射した迷光を該薄板外に導くための迷光反射手段が配置されていることを特徴とする。
【００３２】
本発明に適用される迷光反射手段としては、種々のものが利用可能であるが、特に、図１に示すような基板の角部の面取り１０、あるいは基板表面又は裏面に設けた溝２０などによる凹部などが好適に使用可能である。
図２は、図１に示す光素子の一点鎖線Ａにおける断面図を示したものである。
【００３３】
分岐光導波路などの薄板１に形成された光導波路４を伝搬する光波を、迷光反射手段である面取り１０で反射しないように配慮するため、面取り１０は、光導波路４及びその近傍を避けるように配置されている。迷光反射手段の作成方法は、基板厚さが数百μｍ以上の厚さ有している状態で、基板の角部に研磨若しくはエッチング等により所定の位置に設ける方法や、２０μｍ以下の厚みを有する薄板を作成した後、前記方法により迷光反射手段を設ける方法もある。
また、迷光反射手段は、基板角部の面取りのみならず、図３に示すように、角部を曲面状に切除してＲ加工１１を施したり、図１又は２に示すように、基板の表面に溝２０を設ける方法もある。
【００３４】
さらに、図１乃至３に一例を示すように、反射された迷光５，６を除去する手段として、基板表面に設けられた迷光反射手段の形成部に対向する薄板裏面に、迷光吸収手段３０又は３１を配し、基板内を浮遊し迷光反射手段（１０，１１，２０）により反射された迷光を吸収することにより、基板内の迷光を除去することができる。
【００３５】
迷光吸収手段３０，３１は、迷光反射手段と向い合う基板裏面に光の吸収係数が０より大きい材料を配するもので、その形成方法は、蒸着、スパッタ、メッキ等、種々の方法がある。
また、迷光吸収手段の形成位置は、迷光反射手段を基板角部に設けた場合、迷光吸収手段３０は、迷光反射手段と向い合う基板裏面に端面から１０μｍ以上の幅ｂで設けることが好ましい。
【００３６】
また、迷光反射手段が基板の表面に溝２０を設ける方法の場合は、迷光吸収手段３１は、迷光反射手段と向い合う基板裏面部より基板中心側へ１０μｍ以上の幅ｃで該裏面部に設けることが好ましい。
また、基板が２０μｍ以下と薄いため、例えば基板表面から光導波路を形成したとしても、導波する光波は裏面近辺にまで到達している為、導波路近辺にまで迷光吸収手段３０，３１が形成されていた場合、導波路を伝搬する光波まで吸収されてしまう。そこで迷光吸収手段３０，３１は、光導波路端部から２０μｍ以上離間する位置に形成することが好ましい。したがって、図２に示す光導波路の中心から迷光吸収手段までの距離ａは、光導波路の幅の半分に２０μｍを加算したものより大きくする必要がある。
【００３７】
光素子が薄板、補強基板及び両者を接続する接着層を有している場合には、迷光吸収手段３０，３１は、図２に示すように、薄板の裏面上に形成するだけでなく、図４に示すように、迷光反射手段に対向する補強基板の接着層側に形成することも可能である。
迷光吸収手段３０’，３１’を補強基板上に形成する場合には、迷光吸収手段の図面横方向の形成位置は基本的に図２のものと同様であるが、面取り１０に対向する迷光吸収手段３０’の補強基板の接着剤側部から基板中心方向への幅ｂ’や、溝２０に対向する迷光吸収手段３１’の溝の下方から基板中心方向への幅ｃ’は、２０μｍ以上の幅であれば好適である。
また、接着層２が薄板１より低屈折率である場合は、迷光吸収手段と光導波路との距離はａ’は図２の場合と異なり、光導波路の下部領域にまで迷光吸収手段３０’，３１’が形成されたとしても、低屈折率の接着層を介しているため導波路を伝搬する光波を吸収することはない。
【００３８】
迷光吸収手段の材料としては、Ａｌ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｆｅ、Ｙ、Ｌａ、等の光吸収係数の高い金属などが好適に使用可能である。これらは、基板内を浮遊し迷光反射手段により反射された迷光を吸収し、基板内の迷光を除去するものである。
【００３９】
また、上記とは別の反射された迷光を除去する手段としては、図５に一例を示すように、反射された迷光を除去する手段として、基板表面に設けられた迷光反射手段の形成部に対向する薄板裏面に迷光放射手段４０を配し、基板内を浮遊し該迷光反射手段により反射された迷光を基板外部へ放射することにより、基板内の迷光を除去するものである。
【００４０】
迷光放射手段は、光反射手段に対向する基板裏面に凹凸をつけるもので、その形成方法は、基板裏面の所定の位置をサンドブラスト加工、ＧＣ砥粒研磨、エチッチング等により基板裏面を加工する方法がある。
【００４１】
迷光放射手段の形成位置は、迷光反射手段を基板角部に設けた場合、迷光放射部４０は、図２と同様に基板端面から１０μｍ以上の幅で基板裏面に設けることが好ましい。
迷光反射手段が基板の表面に溝（不図示）を設ける方法の場合は、図２と同様に、迷光放射部は、迷光反射手段と向い合う基板裏面部より基板中心側へ１０μｍ以上の幅で該裏面部に設けることが好ましい。
また、基板が２０μｍ以下と薄いため、例えば基板表面から光導波路を形成したとしても、導波する光波は裏面近辺にまで到達している為、導波路近辺にまで迷光放射部４０が形成されていた場合、導波路を伝搬する光波を基板外へしまう。そこで、図２と同様に迷光放射部４０は、光導波路端部から２０μｍ以上離間する位置に形成することが好ましい。
【００４２】
以上の説明では、電気光学効果を有する材料からなる薄板の表面に電極と光導波路を形成する例を中心として、光素子について説明したが、本発明は非線形効果を有する材料からなる薄板の表面に光導波路を形成する光素子についても同様に適用できる。
また、本発明の光素子は、薄板の裏面に光導波路を形成するものであっても良い。また、迷光反射手段の形成位置についても、薄板の表面に限らず、裏面側に形成することも可能である。なお、裏面側に迷光反射手段を形成する場合には、迷光吸収手段や迷光放射部は薄板の表面側に形成することとなる。
【実施例】
【００４３】
次に、本発明の光素子に係る具体的な実施例及びその試験について説明する。
（実施例１）
薄板の光素子は、基板に厚み５００μｍのＸカット型のＬＮ基板を使用し、Ｔｉ拡散プロセスなどにより、基板表面に図１のようなマッハツェンダー型の光導波路を形成する。
基板表面に熱可塑性樹脂を塗布し、研磨ダミー基板を貼り付ける。基板の裏面を、研磨機で基板の厚さが２０μｍとなるまで研磨し、メッキプロセスで高さ１４μｍの変調電極を形成することで、光素子を組み込んだ薄板を製作する。
上記の方法で製作した薄板の表面の光の導波方向の基板角部を面取り加工する。
【００４４】
（実施例２）
実施例２においては、実施例1で製作したＬＮ薄板の基板表面に設けられた面取り加工部と向い合う薄板裏面の端面から１０μｍの幅でＡｌ膜を蒸着した。
【００４５】
（実施例３）
実施例３においては、実施例1で製作したＬＮ薄板の基板表面に設けられた面取り加工部と向い合う薄板裏面の端面から２０μｍの幅でＴｉ膜を蒸着した。
【００４６】
（実施例４）
実施例４においては、実施例1で製作したＬＮ薄板の基板表面に設けられた面取り加工部に対向する薄板裏面の端面から１０μｍの幅でエッチングを行った。
【００４７】
（実施例５）
薄板の光素子は、基板に厚み５００μｍのＸカット型のＬＮ基板を使用し、Ｔｉ拡散プロセスなどにより、基板表面に図１のようなマッハツェンダー型の光導波路を形成する。
基板表面に熱可塑性樹脂を塗布し、研磨ダミー基板を貼り付ける。基板の裏面を、研磨機で基板の厚さが２０μｍとなるまで研磨し、メッキプロセスで高さ１４μｍの変調電極を形成することで、光素子を組み込んだ薄板を製作する。
上記の方法で製作した薄板の表面にスライシングソーでＶ溝（１０）を設ける。
【００４８】
（実施例６）
実施例６においては、実施例５で製作したＬＮ薄板の基板表面に設けられたＶ溝と向い合う薄板裏面の端面から１０μｍの幅でＡｌ膜を蒸着した。
【００４９】
（実施例７）
実施例７においては、実施例５で製作したＬＮ薄板の基板表面に設けられたＶ溝と向い合う薄板裏面の端面から２０μｍの幅でＴａ膜を蒸着した。
【００５０】
（実施例８）
実施例８においては、実施例５で製作したＬＮ薄板の基板表面に設けられたＶ溝と向い合う薄板裏面の端面から１０μｍの幅でエッチング処理を行った。
【００５１】
（実施例９）
実施例９においては、実施例1で製作したＬＮ薄板の基板表面に設けられた面取り加工部と向い合う補強基板の接着剤側に端面から１０μｍの幅でＡｌ膜を蒸着した。
【００５２】
（比較例）
上記実施例１と同様に製作した薄板（厚さ２０μｍ）において、光素子を組み込んだ薄板に対し、薄板の面取りを行わず、薄板と同じの材料の基板を補強板として、薄板の裏面に接着剤を介して接合した。
【００５３】
（試験方法）
実施例１〜９及び比較例の各光素子に光ファイバを接続した。次に、入射用光ファイバに試験光を入射し、出射用光ファイバからの出力光を、パワーメータにより計測し、各光素子の出力光のＳ／Ｎ比を測定した。測定結果を、表１に示す。
【００５４】
【表１】
2007272121.tif 000003
【００５５】
消光比（ｄＢ）の良否判定は、以下の評価で行った。
・２０ｄＢ以上は、○（使用可能）
・２０ｄｂ未満は、×（使用不可）
表１の結果から、比較例と比較し、実施例１乃至９のいずれにおいても、出力光のＳ／Ｎ比が改善されていることが理解される。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
以上説明したように、本発明によれば、厚さ２０μｍ以下の薄板を用いた光素子における出力光のＳ／Ｎ比を改善した光素子を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の光素子の斜視図である。
【図２】図１の光素子の断面図の一部を示す。
【図３】迷光反射手段として薄板の角部を曲面状とする光素子の断面図の一部を示す。
【図４】迷光反射手段を有し、迷光吸収手段を補強基板上に配置する光素子の断面図の一部を示す。
【図５】迷光反射手段と迷光放射部とを有する光素子の断面図の一部を示す。
【符号の説明】
【００５８】
１  薄板
２  接着層
３  補強基板
４  光導波路
５，６，７  迷光
１０  面取り部
１１  曲面状の切除部
２０  溝部
３０，３０’，３１，３１’  迷光吸収手段
４０  迷光放射部
【図１】
2007272121.tif 000004
【図２】
2007272121.tif 000005
【図３】
2007272121.tif 000006
【図４】
2007272121.tif 000007
【図５】
2007272121.tif 000008