(57)【要約】【課題】電子写真感光体用基材のホーニング処理において、研磨剤の基材内面への付着を防止する。【解決手段】電子写真感光体用基材のホーニング処理において、保持手段で基材の少なくとも下端の開口部を塞ぐように保持して、ホーニング中に研磨剤、研磨液の侵入による基材内面への研磨剤の付着を防止することにより、基材内面の研磨剤の残存による塗膜欠陥の発生を抑制することができ、更に研磨剤の消費量を低減することができる電子写真感光体の製造装置、電子写真感光体の製造方法、及びその装置により製造される電子写真感光体を提供することができる。【選択図】図１
2007072179.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒状の電子写真感光体用基材の表面を研磨剤により粗面化するホーニング処理を行うための電子写真感光体の製造装置であって、
前記基材を保持する保持手段と、
前記基材の表面に前記研磨剤を吹き付ける吹付手段と、
を有し、
前記保持手段は、保持具で前記基材の下端の開口部を塞ぐように保持することを特徴とする電子写真感光体の製造装置。
【請求項２】
円筒状の電子写真感光体用基材の表面を研磨剤により粗面化するホーニング処理を行うための電子写真感光体の製造装置であって、
前記基材を保持する保持手段と、
前記基材の表面に前記研磨剤を吹き付ける吹付手段と、
を有し、
前記保持手段は、保持具で前記基材の下端及び上端の開口部を塞ぐように保持することを特徴とする電子写真感光体の製造装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電子写真感光体の製造装置を用いて製造されることを特徴とする電子写真感光体。
【請求項４】
円筒状の電子写真感光体用基材の表面を研磨剤により粗面化するホーニング処理を行うための電子写真感光体の製造方法であって、
前記基材に前記研磨剤を吹き付けて基材表面を粗面化処理する粗面化処理工程と、
前記粗面化処理された基材の表面に残存する研磨剤を洗浄する洗浄工程と、
を含み、
前記粗面化処理工程において、前記基材の下端の開口部を塞ぐように保持することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項５】
円筒状の電子写真感光体用基材の表面を研磨剤により粗面化するホーニング処理を行うための電子写真感光体の製造方法であって、
前記基材に前記研磨剤を吹き付けて基材表面を粗面化処理する粗面化処理工程と、
前記粗面化処理された基材の表面に残存する研磨剤を洗浄する洗浄工程と、
を含み、
前記粗面化処理工程において、前記基材の下端及び上端の開口部を塞ぐように保持することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体用基材の表面の粗面化処理を行うための電子写真感光体の製造装置、電子写真感光体の製造方法、及びその装置を用いて製造される電子写真感光体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真プリンタ、電子写真複写機等の電子写真装置において、電子写真感光体上への画像形成にレーザ光が用いられることが多くなっている。このような、レーザ光をライン走査する方式の電子写真装置においては、レーザ光を用いて形成する画像に干渉縞模様が現れるという特有の問題がある。この干渉縞の発生は、電子写真感光体の感光層内で吸収されなかったレーザの透過光が感光層内あるいは感光体基材で多重反射され、感光層表面において入射光と干渉することに起因するものとされている。
【０００３】
この干渉縞の発生を防止する手段として、特許文献１において、感光体基材又は感光層の表面を粗面化し、これらの表面に光散乱性を付与する技術が示されている。そして、そのような、感光体基材表面又は感光層の表面に光散乱性を付与する方法として、陽極酸化法、バフ研磨法、ホーニング法等が知られている。このうち、ホーニング法としては、研磨剤をノズルから噴射させて、基材の表面に衝突させることにより、基材の表面を粗面化する乾式ホーニング法、研磨剤を水等に均一に分散させた研磨液を、圧縮空気によりノズルから噴射させて、基材の表面に衝突させることにより、基材の表面を粗面化する湿式ホーニング法が知られている。例えば、特許文献２〜特許文献７等には、湿式ホーニング法の例が記載されている。
【０００４】
湿式ホーニング法は、短時間の加工で容易に安定して粗面化させることが出来ること、所望の粗さを正確に得ることが出来ること、及び塗膜欠陥の原因となる異常凹凸部が極めて少ない均一な粗さを持つ粗面が得られること等の生産上の観点から、また、干渉縞模様をより低減することができ画質安定性に優れる点等から、陽極酸化法あるいはバフ研磨法等の他の粗面化処理法に比べて優れているものである。
【０００５】
【特許文献１】特公平５−２６１９１号公報
【特許文献２】特開平２−３７３５８号公報
【特許文献３】特開平２−１９１９６３号公報
【特許文献４】特開平５−２１６２６１号公報
【特許文献５】特開平１１−２３１５６０号公報
【特許文献６】特公平６−４１１０８号公報
【特許文献７】特開２００２−１０７９５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、湿式ホーニング法において、湿式ホーニング処理用の研磨剤の平均粒子径が塗膜厚さに比較して大きいので、研磨剤が少しでも基材表面に残存してしまうと白点や黒点の画質欠陥を発生させてしまう。そのため、近年の電子写真の高画質化に対応するためには、湿式ホーニング処理後の電子写真感光体の基材表面（円筒状基材の内面及び外面）に付着した多数の研磨剤をより高い精度で除去することが必要とされる。しかしながら、後工程で洗浄を行ったとしても基材表面の研磨剤を完全に除去することは困難である。
【０００７】
また、基材表面への研磨剤の付着は、基材外面に研磨剤が付着するだけではなく、ホーニング処理時に円筒状基材を縦方向に配置し円筒状基材の上端を保持した場合、ホーニング処理中に基材下端部から研磨剤が円筒状基材の空洞部に侵入し、研磨剤が基材内面へも付着する。このようなホーニング時の基材内面への研磨剤の付着も、研磨剤残留による画像欠陥の原因となる。すなわち、ホーニング液を噴射すると、ホーニング時に基材下端部から研磨剤が基材内部に吹き付けられ、基材内面に研磨剤が付着する。そして、基材内面に付着した研磨剤がその後工程のすすぎ槽にて水槽内に浮遊し、基材表面に付着することによって画質欠陥が発生する。
【０００８】
基材内面への研磨剤の侵入を防ぐ解決策として、特許文献７に記載されているように、円筒状基材を縦方向に配置しホーニング液の噴射方向を下斜め方向にすることにより、基材内部への噴射をある程度防止することが出来る。但し、下斜め方向に噴射しただけでは基材の粗面形状に方向性が生じ、ドラム上に画像を形成するためにレーザを照射する際、レーザの反射率にも方向性が生じ易くなり、画質の低下を招く。したがって、このような方法によらずにホーニング処理時の基材内面への研磨剤の付着を防止する必要がある。また、湿式ホーニング法に比べると可能性は少ないが、乾式ホーニング法においても基材下端部から研磨剤が侵入して基材内面に研磨剤が付着することが起こり得る。
【０００９】
一方、基材内面への研磨剤の付着は研磨剤の消費量を増大させる。ホーニング処理した基材は研磨剤が付着したまま次工程に搬送されるため、ホーニング設備から研磨剤を持ち出し、湿式ホーニングの場合、研磨液の濃度を低下させ、粗面品質を悪化させてしまう。そのため、研磨剤を随時追加する必要があり、研磨剤のランニングコストがかかってしまう。研磨剤のランニングコストを抑制させるためにも、基材内面への研磨剤の付着を防止する必要がある。
【００１０】
本発明は、電子写真感光体用基材のホーニング処理において、研磨剤の基材内面への付着を防止して、基材内面の研磨剤の残存による塗膜欠陥の発生を抑制することができ、更に研磨剤の消費量を低減することができる電子写真感光体の製造装置、電子写真感光体の製造方法、及びその装置、方法により製造される電子写真感光体である。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、円筒状の電子写真感光体用基材の表面を研磨剤により粗面化するホーニング処理を行うための電子写真感光体の製造装置であって、前記基材を保持する保持手段と、前記基材の表面に前記研磨剤を吹き付ける吹付手段と、を有し、前記保持手段は、保持具で前記基材の下端の開口部を塞ぐように保持する。
【００１２】
また、本発明は、円筒状の電子写真感光体用基材の表面を研磨剤により粗面化するホーニング処理を行うための電子写真感光体の製造装置であって、前記基材を保持する保持手段と、前記基材の表面に前記研磨剤を吹き付ける吹付手段と、を有し、前記保持手段は、保持具で前記基材の下端及び上端の開口部を塞ぐように保持する。
【００１３】
また、本発明は、前記電子写真感光体の製造装置を用いて製造される電子写真感光体である。
【００１４】
また、本発明は、円筒状の電子写真感光体用基材の表面を研磨剤により粗面化するホーニング処理を行うための電子写真感光体の製造方法であって、前記基材に前記研磨剤を吹き付けて基材表面を粗面化処理する粗面化処理工程と、前記粗面化処理された基材の表面に残存する研磨剤を洗浄する洗浄工程と、を含み、前記粗面化処理工程において、前記基材の下端の開口部を塞ぐように保持する。
【００１５】
さらに、本発明は、円筒状の電子写真感光体用基材の表面を研磨剤により粗面化するホーニング処理を行うための電子写真感光体の製造方法であって、前記基材に前記研磨剤を吹き付けて基材表面を粗面化処理する粗面化処理工程と、前記粗面化処理された基材の表面に残存する研磨剤を洗浄する洗浄工程と、を含み、前記粗面化処理工程において、前記基材の下端及び上端の開口部を塞ぐように保持する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明では、電子写真感光体用基材のホーニング処理において、保持手段で基材の少なくとも下端の開口部を塞ぐように保持して、ホーニング中に研磨剤、研磨液の侵入による基材内面への研磨剤の付着を防止することにより、基材内面の研磨剤の残存による塗膜欠陥の発生を抑制することができ、更に研磨剤の消費量を低減することができる電子写真感光体の製造装置、電子写真感光体の製造方法、及びその装置により製造される電子写真感光体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の実施の形態について以下説明する。
【００１８】
本実施形態に係る電子写真感光体製造装置の一例の概略を図１に示す。本実施形態に係る電子写真感光体の製造装置（ホーニング装置）１は、保持手段であるチャック装置１０と、基材設置台１２と、吹付手段である噴射ノズル１８と、研磨液導入管２０と、圧縮空気導入管２２と、ポンプ２４と、湿式ホーニング槽２６とを備える。ここでは、円筒状の基材３２のチャック方式として空気圧方式のチャック装置を例にとり説明するが、本実施形態はこの方式に限定されるものではない。
【００１９】
図２には、空気圧方式によるチャック装置１０の一例の概略図を示す。基材３２を保持する保持手段であるチャック装置１０は、支持体１４と、カバー１６と、支柱１７と、ガイド２８，２９と、保持具である空気圧方式によるチャック部材３１とを備える。支持体１４の下部にカバー１６が設けられ、支持体１４の先端でカバー１６の下に支柱１７とチャック部材３１が設けられ、その下にガイド２８が設けられている。チャック部材３１は、ゴム等の弾性体でできた風船状のものを周囲に有するものであり、エアを出し入れする事によりこの風船状のものを膨張、収縮させ、基材３２の内周面をチャッキングするものである。また、チャック装置１０は、ホーニング装置内の基材設置台１２に置かれた基材３２をチャック装置１０が自ら昇降して保持するものであることが好ましい。
【００２０】
基材３２のチャッキングは、上記チャック部材３１を収縮させた状態でチャック装置１０を下降させ、ガイド２８により基材３２上部からチャック部材３１を挿入し、基材３２の上端をカバー１６に押し当てる。次いでチャック部材３１にエアを導入して膨張させ、基材３２をチャック装置１０に固定させる。
【００２１】
空気圧方式以外のチャッキング方式としては、例えば、ゴムやプラスチック等の弾性体を潰すことにより、円筒状基材の内面を固定する方式等その他公知のチャッキング方式が挙げられる。
【００２２】
カバー１６は、基材３２への研磨剤の付着を防止する付着防止手段であり、基材３２の外径より大きな径を有して基材３２の少なくとも上端部を覆うものである。カバー１６の取り付け場所としては、基材３２の表面への研磨剤の付着を防止することができる場所であれば特に制限はないが、基材３２を保持する保持手段であるチャック装置１０に設けられることが好ましい。これにより、チャック装置１０が上昇する際、チャック装置１０の支持体１４等に付着した研磨液が伝わって落下したときに研磨液が基材３２の内外面に付着するのを防止することができる。カバー１６の形状としては、基材３２の外径より大きな径を有して基材３２の表面への研磨剤の付着を防止することができる形状であれば、特に制限はないが、傘状等の覆い形状を有することが好ましい。なお、カバー１６は必ずしも設置する必要はないが、基材３２の内外面への研磨剤の付着を防止することができるためカバー１６を設置することが好ましい。
【００２３】
本実施形態において、基材設置台１２の基材保持部１３が上下動することが好ましい。すなわち、基材最下端部をチャック部材３１で保持する場合、図１の基材設置台１２の基材保持部１３が固定されていると、基材３２内部にチャック装置１０を挿入した際に、チャック装置１０の先端のガイド２８が基材設置台１２の基材保持部１３に衝突し、チャック部材３１を基材下端部まで挿入させることが出来ない。そこで基材保持部１３とチャック装置１０のガイド２８との衝突を回避するために、基材設置台１２の基材保持部１３は上下に動くようにし、チャック装置１０が下降すると、基材保持部１３がチャック装置１０のガイド２８に押されて基材保持部１３が基材設置台１２の内部に下降するようにすることが好ましい。それによりチャック装置１０のチャック部材３１を基材最下端部に位置させることができる。
【００２４】
図５には、シリンダ方式の基材設置台についての一例の概略図を示す。基材設置台１２の基材保持部１３は伸縮部材１５により上下に自由に動くことができる。基材保持部１３を上下させる伸縮部材１５としてスプリングを例に取るが、必ずしもスプリングに限定されるものではなく、エアー、スポンジ等による伸縮方式も挙げられる。基材保持部１３の材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、フッ素樹脂、塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、アクリル樹脂等の樹脂またはそれらの材料を２種類以上混合したものや、ステンレス等の金属等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。基材保持部１３の耐磨耗性を考慮すると、材質は樹脂が好ましい。
【００２５】
本実施形態に係る電子写真感光体の製造方法及び製造装置１の動作について説明する。電子写真感光体の製造装置１による湿式ホーニング処理において、まず、図１の基材設置台１２に置かれた基材３２の上端部よりチャック装置１０を下降させ、図６に示すように基材設置台の基材保持部１３を押し込ませる。図２のようにチャック装置１０のチャック部材３１にエアを送り込みチャック部材３１の有している上記風船状のものを膨らませて基材３２下端の開口部を塞ぐようにして、基材３２をチャック装置１０に保持する。チャック装置１０を上昇させることにより基材３２を上昇させ、図１のように湿式ホーニング槽２６の所定の位置に配置する。チャック装置１０を基材３２の軸中心に回転させると共に、基材３２を垂直方向（軸方向）に移動させ、ポンプ２４により撹拌槽３４から送液される研磨液３６を、エアの圧力を利用して噴射ノズル１８から噴射させることによって、基材３２の表面の粗面化を行う。なお、このとき、基材３２を垂直方向に移動させずに、噴射ノズル１８を基材３２の垂直方向に沿って移動させてもよい。
【００２６】
ホーニング処理終了後、チャック装置１０を下降させることにより、基材設置台１２の基材保持部１３を下に押し込ませ、基材３２をアンチャックし、基材３２を基材設置台１２に置く。チャック装置１０の上昇と同時に、基材設置台１２に押し込まれた基材保持部１３が上昇し、基材３２が固定される。基材設置台１２上の基材３２を別の基材３２に入れ替え、同様のホーニング処理を行うことができる。基材設置台１２の基材保持部１３は必ずしも上下に動かす必要は無いが、基材保持部１３が固定の場合は、チャック装置１０のガイド２８の下端と基材３２の下端との間に、ガイド２８の高さ以上の距離が必要となる。
【００２７】
本実施形態に係る電子写真感光体の製造装置において、基材３２への研磨剤の付着を防止する手段として、チャック装置１０が基材下端の開口部を塞ぐ様に膨らんで保持するチャック部材３１を備える。チャック部材３１の取り付け位置としては、基材３２の内面への研磨剤の付着を防止することができる場所であれば特に制限はないが、図３のように基材下端部に加えて基材上端部にも設置することで基材上端部からの研磨剤の侵入を防止することができるため、研磨剤付着防止にとってより好ましい。
【００２８】
図４のようにチャック装置１０にて基材上端のみで保持する場合、噴射ノズル１８から噴射した研磨剤が基材下端の開口部より侵入し、基材３２内面に付着する。特に基材３２の軸方向に対して垂直方向、又は上斜め向きに噴射した場合、研磨剤の侵入量が多くなる。基材３２内面への研磨剤の侵入を防止するには、基材下端部の穴（開口部）を塞ぐことであり、その手段としてはチャック装置１０のチャック部材３１を基材下端部に位置させエアによりチャック部材３１の有する風船状のものを膨らますことである。それと同時に基材３２がチャック装置１０に保持される。基材下端の開口部はチャック部材３１により完全に塞がれるため、基材３２内部への研磨剤の侵入を防止することができる。
【００２９】
一方、基材上端部はチャック装置１０のカバー１６に密着しているが、ホーニングの噴射圧力により、その密着面の隙間から基材３２内部に僅かながら研磨剤が入り込む場合がある。そのため基材３２内面に研磨剤が付着する。基材３２内部への研磨剤の侵入を防止するには基材上端側にも空気圧方式のチャック部材３０を設置し、上端開口部も塞ぐことが好ましい。
【００３０】
なお、本実施形態において、保持手段であるチャック装置１０のチャック部材３１により、少なくとも基材下端の開口部を塞ぐように保持して基材３２内面への研磨剤の付着を防止しているが、基材の保持手段と基材下端開口部を塞ぐ手段とは別の手段であってもよい。例えば、保持手段により基材の上端部等を保持し、別途チャック部材等により基材の下端の開口部を塞いでもよい。
【００３１】
円筒状の電子写真用感光体の基材３２としては、銅，アルミニウム，ニッケル，鉄等の金属基材が好ましく挙げられ、この中でもアルミニウムが特に好ましい。
【００３２】
ホーニング処理における研磨剤としては、体積平均粒径が１０μｍ〜１００μｍの範囲にある微粉末が用いられ、形状は特に制限がないが、球状のものが好ましく用いられる。研磨剤の材質としては、鉄、ガラス、酸化アルミニウム、フェライト、ジルコニア、酸化クロム、炭化珪素、炭化ホウ素、窒化ホウ素等の無機微粉末、エポキシ樹脂、ＰＭＭＡ樹脂、ポリフッ化ビニリデン、ポリウレタン系粒子、メラミン樹脂粒子等の有機微粉末が挙げられる。
【００３３】
湿式ホーニング処理においては、上記研磨剤を水等の溶媒に懸濁させ、高速度で円筒状の基材３２に吹き付けて、基材３２の表面の粗面化を行う。この場合、ホーニング処理による基材３２の表面粗さの程度は、吹き付け時の圧力及び速度、使用する研磨剤の量、種類、形状、大きさ、比重、及び粒度分布等の諸条件を適宜選択することにより制御することができる。
【００３４】
ここでは、ホーニング処理方法として湿式ホーニング法を例として説明したが、乾式ホーニング法においても、本実施形態のようなチャック装置１０を備えることにより、基材３２の表面への研磨剤の付着を抑制することが可能である。
【００３５】
また、上記のホーニング処理の後、水等の洗浄液を用いて基材３２の洗浄を行うことが好ましいが、研磨液３６よりも低濃度（好ましくは０．１〜１．０重量％）の研磨剤を含有する洗浄液を噴射ノズル１８から噴射させて感光体基材３２の表面を洗浄することが、研磨剤を後工程に持ち出さずに済み、且つ後述する洗浄工程において洗浄の精度及び効率が向上する傾向にあるのでより好ましい。
【００３６】
また、粗面化された基材３２は、基材３２の表面に付着した研磨剤を除去する為にブラシやスポンジなどの摺擦部材での洗浄及び水による濯ぎ洗浄等がさらになされることが好ましい。
【００３７】
濯ぎ洗浄等された基材３２は、感光層の塗布前に基材３２に付着した水分を除去する為に乾燥させることが好ましい。乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥、送風乾燥、温風乾燥、自然乾燥等が挙げられるが、温風乾燥機を使用した温風乾燥が好ましい。水滴の残留は基材３２上にシミを発生させ、画質欠陥の原因となる可能性がある。乾燥後の基材３２は放冷等により冷却され、塗布工程へ移載される。
【００３８】
塗布工程においては、基材３２の表面に下引き層を含む感光層を塗布する。例えば、基材３２上に下引き層、電荷発生層、電荷輸送層等を構成する。塗布方法については、浸漬塗布、スプレ塗布、フローコート塗布等の様々な塗布方法があるが、感光層の塗布液の特性に応じた塗布方法を選択するものであり、塗布方法を限定するものではない。また、１層塗布毎に塗液面を乾燥させる必要があるが、塗液の種類により強制乾燥が不要なものもあるため、必ずしも乾燥機を使用する必要はない。
【００３９】
以上のような塗布工程によって基材３２上に感光層が積層され、その結果、電子写真感光体が製造される。
【００４０】
本実施形態に係る電子写真感光体の製造装置、及び電子写真感光体の製造方法において、保持手段で基材の少なくとも下端の開口部を塞ぐように保持して、ホーニング中に研磨剤、研磨液の侵入による基材内面への研磨剤の付着を防止することにより、円筒状の基材３２の表面、特に円筒状の基材３２の内面への研磨剤の残留を十分に防止することができるため、白点、黒点および干渉縞模様等の画質欠陥の発生を抑制することができ、極めて高品質な電子写真感光体を得ることができる。
【実施例】
【００４１】
以下、実施例および比較例を挙げ、本発明をより具体的に詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。電子写真感光体用の基材を湿式ホーニング処理する方法について具体的に説明する。
【００４２】
＜電子写真感光体の製造＞
（実施例１）
アルミニウムを主成分とする基材（以下、アルミニウム管とする）をダイヤモンドバイトを用いて外径φ６０ｍｍ、内径φ５７ｍｍ、長さ３４０ｍｍに切削加工した後、表面粗さＲａが０．０３μｍ〜０．０６μｍの範囲の平滑面に仕上げた。切削工程終了後、脱脂洗浄、濯ぎ洗浄そして温純水引き上げ、乾燥工程の順で処理を行った。脱脂洗浄工程及び濯ぎ洗浄工程は３５ｋＨｚ〜４０ｋＨｚの超音波発振機により洗浄中の基材に超音波を印加した。脱脂洗浄工程においては、界面活性剤として非イオン性界面活性剤を使用した。脱脂洗浄工程においては、水として０．１μＳ／ｃｍ以下のイオン交換水を使用した。
【００４３】
次に、図１に示す電子写真感光体の製造装置１を使用して、湿式ホーニング法により、このアルミニウム管基材３２の表面の粗面化処理を行った。基材３２をホーニング工程前後に搬送させる際と、基材３２をチャック装置１０に保持する際には、図５に示すシリンダ方式の基材設置台１２を使用した。基材設置台１２の基材保持部１３の材質は超高分子量ポリエチレン製（作新工業製、ニューライトＮＬ−ＨＣ５００：粘度平均分子量５５０万）とし、基材保持部の高さは７０ｍｍとした。チャック装置１０は図２に示すようにチャック装置１０の先端に空気圧方式によるチャック部材３１を１個設置し、基材３２下端とこのチャック部材３１の下端が一致するようにした。基材３２上端部はチャック装置１０に設置された基材の突き当て部にチャック部材３１の膨張圧力により圧接された。ホーニング時の基材３２の回転数は１００ｒｐｍとし、基材３２の上端から粗面化を開始した。その粗面化処理においては、酸化アルミニウムを主成分とする研磨剤（昭和電工株式会社製、アルナビーズ（ＣＢ−Ａ３５Ｓ、体積平均粒径３５μｍ）を１０重量％で水に懸濁させて研磨液３６とし、これを１０ｋｇ／ｍｉｎの流量で噴射ノズル１８にポンプ２４で送り込んで、基材３２の軸方向に対するノズル角度９０°、噴射角度３０°、基材３２の軸方向の処理速度１１００ｍｍ／ｍｉｎ、圧縮空気圧０．１ＭＰａ〜０．２ＭＰａで基材３２の表面に吹き付け、表面粗さＲａ：０．１〜０．３μｍ、Ｒｚ：１．０〜２．０μｍになるようにした。表面粗さは、表面粗さ測定装置（株式会社東京精密製、サーフコム１４００Ａ型）により測定した。
【００４４】
この粗面化した基材３２について、以下の洗浄処理を行った。粗面化した基材に対し、まず水でシャワーを吹きかけ、その後、水を吹きかけながら、処理部材としてのナイロン製ブラシを基材に接触させ、基材と共に同方向に１００ｒｐｍで回転させながら６０秒間押付処理を行った。次に導電度０．１μＳ／ｃｍ〜１．０μＳ／ｃｍ、温度１８℃〜２５℃の純水による濯ぎ洗浄を行い、５０℃の温純水引き上げ後に１３５℃で熱風乾燥を行った。
【００４５】
次に、これらの洗浄処理を行った基材上に、有機ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックスＺＣ５４０、松本製薬（株）製）１００部、シランカップリング剤（商品名：Ａ１１００、日本ユニカ（株）製）１０部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−Ｓ、積水化学（株）製）１０部及びｎ−ブチルアルコール１３０部を混合し、得られた塗布液を、浸漬塗布法により塗布し、１４０℃で１５分間加熱して、１．０μｍの下引き層を形成した。
【００４６】
次に、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学（株）製）の２％シクロヘキサノン溶液に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を、顔料と樹脂との比を２：１となるように混合して、次いでサンドミルにより３時間分散処理を行った。得られた分散液をさらに酢酸ｎ−ブチルで希釈して下引き層上に浸漬塗布し、０．１５μｍ厚の電荷発生層を形成した。
【００４７】
次に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｍ−トリル）ベンジジン４部及びポリカーボネートＺ樹脂６部を、トルエン３６部に溶解させた溶液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、１１５℃で４０分間乾燥して、２４μｍ厚の電荷輸送層を形成した。以上のようにして電子写真感光体Ａを得た。
【００４８】
（実施例２）
チャック装置１０は図３に示すように、空気圧方式のチャック部材３０の上端が基材の上端面と、空気圧方式のチャック部材３１の下端が下端面とに、それぞれ一致するようにチャック部材を２個設置した。それ以外の条件は実施例１と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体Ｂを得た。
【００４９】
（比較例１）
チャック装置は図４に示すように、空気圧方式のチャック部材３０の上端が基材３２の上端面と一致するように空気圧方式のチャック部材を１個のみ設置し、基材設置台は図７に示すような、基材保持部１９が固定された基材設置台１２を使用した。それ以外の条件は実施例１と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体Ｃを得た。
【００５０】
＜評価結果＞
実施例１、２、及び比較例１により得られた電子写真感光体各々５００本について、ＣＣＤカメラと顕微鏡とからなる表面欠陥評価装置（富士ゼロックス社内製）を用いて感光体表面の研磨剤残存数を測定し、残存率を算出した。結果を表１に示す。研磨剤残留による欠陥発生率が０％〜０．５％未満を◎、０．５％〜１．０％未満を○、１．０％〜２．０％未満を△、２．０％以上を×とした（小数点第２位以下は四捨五入した。）。表１からわかるように、実施例１、２において研磨剤の残存率は０．２％〜０．６％となったのに対し、比較例１の場合は２．６％となった。これにより、実施例１、２の方が、特に実施例２が、研磨剤残存率を十分に低減できることが分かった。
【００５１】
実施例１、２、及び比較例１により得られたホーニング処理基材を水でシャワー洗浄する前に各々２０本抜き取り、基材内面に付着した研磨剤量を測定した。結果を表１に示す。評価方法は、研磨剤が付着した基材内面を水で洗浄し、その洗浄水をメッシュサイズ１５μｍのナイロン製フィルタにろ過し、フィルタ上の研磨剤の重量を測定した。基材内面の研磨剤付着量が０ｍｇ／本〜１５ｍｇ未満／本を◎、１５ｍｇ／本〜３０ｍｇ未満／本を○、３０ｍｇ／本〜６０ｍｇ未満／本を△、６０ｍｇ／本以上を×とした（小数点第１位以下は四捨五入した。）。実施例１、２の方が、特に実施例２が、研磨剤付着量を十分に低減できることが分かった。
【００５２】
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施形態における電子写真感光体製造装置の概略を示す図である。
【図２】本発明の実施形態におけるチャック装置の一例の概略を示す図である。
【図３】本発明の実施形態におけるチャック装置の他の例の概略を示す図である。
【図４】従来のチャック装置の一例の概略を示す図である。
【図５】本発明の実施形態における基材設置台の形状の一例の概略を示す図である。
【図６】本発明の実施形態における基材設置台の動作例の概略を示す図である。
【図７】従来の基材設置台の一例の概略を示す図である。
【符号の説明】
【００５４】
１  電子写真感光体製造装置、１０  チャック装置、１２  基材設置台、１３  基材保持部、１４  支持体、１５  スプリング、１６  カバー、１７  支柱、１８  噴射ノズル、１９  固定式基材保持部、２０  研磨液導入管、２２  圧縮空気導入管、２４  ポンプ、２６  ホーニング槽、２８，２９  ガイド、３０  チャック部材（上端側）、３１  チャック部材（下端側）、３２  基材、３４  撹拌槽、３６  研磨液。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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