(57)【要約】      （修正有）【課題】ＩＳＰモードの液晶表示装置に使用したときに、長期にわたって安定して黒表示時の光漏れや色抜け（着色）を防止し、全方位で高いコントラスト比が得られるなど良好な視野角補償効果を奏する光学フィルム、該光学フィルムを有する偏光板、および該光学フィルムまたは偏光板を有する液晶表示装置を提供。【解決手段】環状オレフィン系樹脂からなるフィルムａと、該フィルムａ上に設けられたホメオトロピック配向性を有する光学異方性層ｂとを有することを特徴とし、下記式（１）〜（３）を満たすことが好ましい。（１）−６００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦２００ｎｍ（２）０ｎｍ≦Ｒ≦６００ｎｍ（３）ＮＺ≦１〔式（１）〜（３）中、Ｒｔｈは波長５５０ｎｍにおける光学フィルムの厚み方向の位相差を表し、Ｒは波長５５０ｎｍにおける光学フィルム面内の位相差を表し、ＮＺ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）である〕【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状オレフィン系樹脂からなるフィルムａと、該フィルムａ上に設けられた、ホメオトロピック配向性を有する光学異方性層ｂとを有することを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
下記式（１）〜（３）を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
（１）−６００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦２００ｎｍ
（２）０ｎｍ≦Ｒ≦６００ｎｍ
（３）ＮＺ≦１
〔式（１）〜（３）中、Ｒｔｈは波長５５０ｎｍにおける光学フィルムの厚み方向の位相差を示し、Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄで表され、
Ｒは波長５５０ｎｍにおける光学フィルム面内の位相差を示し、Ｒ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表され、ＮＺ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で表され、
ｎｘはフィルム面内の最大屈折率、ｎｙはフィルム面内でｎｘに対して直交する方向の屈折率、ｎｚはｎｘおよびｎｙに対して直交するフィルム厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である〕
【請求項３】
（ｉ）前記環状オレフィン系樹脂が、全構成単位１００ｍｏｌ％に対して、下記式（Ｉ）で表される構成単位を３０〜１００ｍｏｌ％と、下記式（ＩＩ）で表される構成単位を０〜７０ｍｏｌ％含有し、
（ｉｉ）前記フィルムａの厚みが１０，０００ｎｍ〜２００，０００ｎｍである
ことを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
【化１】
2007065575.tif 000010
〔式（Ｉ）中、ｍは１以上の整数であり、ｐは０または１以上の整数であり、
Ｄは、独立に−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ2ＣＨ2−で表される基であり、
Ｒ1〜Ｒ4は、各々独立に水素原子；ハロゲン原子；極性基；または酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有してもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
Ｒ1とＲ2および／またはＲ3とＲ4は一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、
Ｒ1またはＲ2と、Ｒ3またはＲ4とは相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環は、単環構造でも多環構造でもよい〕
【化２】
2007065575.tif 000011
〔式（ＩＩ）中、Ｅは、独立に−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ2ＣＨ2−で表される基であり、Ｒ5〜Ｒ8は、各々独立に水素原子；ハロゲン原子；極性基；または酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有してもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
Ｒ5とＲ6、および／または、Ｒ7とＲ8は、一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、
Ｒ5またはＲ6と、Ｒ7またはＲ8とは相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環は、単環構造でも多環構造でもよい〕
【請求項４】
前記フィルムａが下記式（４）および（５）を満たすことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
（４）０ｎｍ≦Ｒaｔｈ≦６００ｎｍ
（５）０ｎｍ≦Ｒa≦６００ｎｍ
〔式（４）および（５）中、Ｒaｔｈは波長５５０ｎｍにおけるフィルムａの厚み方向の
位相差を示し、Ｒaｔｈ＝［（ｎｘa＋ｎｙa）／２−ｎｚa］×ｄaで表され、
Ｒaは波長５５０ｎｍにおけるフィルムａ面内の位相差を示し、Ｒa＝（ｎｘa−ｎｙa）×ｄaで表され、
ｎｘaはフィルムａ面内の最大屈折率、ｎｙaはフィルムａ面内でｎｘaに対して直交する
方向の屈折率、ｎｚaはｎｘaおよびｎｙaに対して直交するフィルムａの厚み方向の屈折
率、ｄaはフィルムａの厚み（ｎｍ）である〕
【請求項５】
前記光学異方性層ｂが下記式（６）および（７）を満たすことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
（６）−１０００ｎｍ≦Ｒbｔｈ≦０ｎｍ
（７）０ｎｍ≦Ｒb≦５０ｎｍ
〔式（６）および（７）中、Ｒbｔｈは波長５５０ｎｍにおける光学異方性層ｂの厚み方
向の位相差を示し、Ｒbｔｈ＝［（ｎｘb＋ｎｙb）／２−ｎｚb］×ｄbで表され、
Ｒbは波長５５０ｎｍにおける光学異方性層ｂの面内の位相差を示し、Ｒb＝（ｎｘb−ｎ
ｙb）×ｄbで表され、
ｎｘbは光学異方性層ｂの面内の最大屈折率、ｎｙbは光学異方性層ｂの面内でｎｘbに対
して直交する方向の屈折率、ｎｚbはｎｘbおよびｎｙbに対して直交する光学異方性層ｂ
の厚み方向の屈折率、ｄbは光学異方性層ｂの厚み（ｎｍ）である〕
【請求項６】
前記光学異方性層ｂが、前記フィルムａ上に液晶性化合物を塗布して形成されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記光学異方性層ｂが、粘着フィルム層ｄによって前記フィルムａ上に転写、貼合されて積層されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記フィルムａと光学異方性層ｂとの間に、薄膜層ｃを有することを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルムを有することを特徴とする偏光板。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルムを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
液晶セルの駆動方式がインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）方式であることを特徴とする請求項１０または１１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、偏光板および液晶表示装置に関する。より詳しくは、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モードの液晶表示装置の視野角補償フィルムとして用いることができる光学フィルム、該光学フィルムを有する偏光板、および該光学フィルムまたは偏光板を有する液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、非常に薄くコンパクトで低消費電力といった利点を有することから、携帯電話、ノートパソコン、カーナビゲーション、液晶テレビなど種々の製品に利用されている。中でも、透過型液晶ディスプレイを用いた液晶テレビは、今後さらなる需要が見込まれるとともに、ディスプレイの大型化に伴い、広視野角で高輝度といった高精細な表示および低コスト化がこれまで以上に要求されている。
【０００３】
このような要求に対応するため、液晶に印加する電界の方向が基板に対して平行な方向であるＩＰＳモードの液晶表示装置が提案されている。従来のＩＰＳモードの液晶表示装置は視野角が広く、正面および上下左右方向では高コントラストが得られるものの、方位角４５度の方向から画面を斜めに見ると、一対の偏光板の吸収軸のなす角度が直角でなくなり光が漏れるため、黒表示時に光漏れが生じ、コントラストが低下するという問題があった。
【０００４】
特許文献１には、偏光板の光透過軸と平行または垂直な遅相軸を有する光学補償フィルムを用いた液晶表示装置が提案されている。これによると、厚み方向の屈折率が大きい、すなわち厚み方向のリターデーションの小さい光学補償フィルムを用いることによって、正面方向の特性を低下させず、視野特性を向上させること、具体的には、黒表示時、斜め方向から見た場合の光漏れを防ぐことができることがわかる。しかしながら、特許文献１には、偏光板や光学補償フィルムのリターデーションは開示されているものの、このような偏光板や光学補償フィルム、特に、厚み方向のリターデーションが小さい光学補償フィルムを得る方法については、何ら提案されていない。
【０００５】
通常の延伸方法では、上記のような厚み方向の屈折率が大きい光学フィルムを得ることは困難であり、熱収縮フィルムを用いて、面内方向には収縮させ、かつ厚み方向には膨張させるという特殊な延伸方法が必要であった。ところが、このような特殊な延伸方法は、難易度が高く、工業的には不向きであった。
【０００６】
ところで、特許文献２には、シクロオレフィン系化合物を含有する透明位相差板および液晶性化合物を含有する光学異方性層からなる光学積層体が開示されている。また、特許文献３には、熱可塑性樹脂フィルムを延伸した光学異方性フィルムと、液晶化合物の固定化膜からなる光学異方性層とを有する広帯域１／４波長板およびこれを用いた表示装置が開示されている。しかしながら、これらの特許文献には、光学基板の厚み方向の屈折性については何ら開示されていない。
【０００７】
特許文献４には、液晶性化合物がホメオトロピック配向して硬化した光学異方性層が開示されている。しかし、用いる基材がガラスであり、位相差の自在な制御が困難であるとともに、ロールとして取り扱うことができるフィルムに比べ製造効率が劣るため、視野角補償のための光学異方性層として用いるには不向きであった。
【特許文献１】特開平１１−３０５２１７公報
【特許文献２】特開２００３−１９５０４１号公報
【特許文献３】特開２００４−２２６６８６号公報
【特許文献４】特開２００５−１６５２４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記のような従来技術に伴う問題を解決しようとするものであって、ＩＳＰモードの液晶表示装置に使用したときに、長期にわたって安定して黒表示時の光漏れや色抜け（着色）を防止し、全方位で高いコントラスト比が得られるなど良好な視野角補償効果を奏する光学フィルム、該光学フィルムを有する偏光板、および該光学フィルムまたは偏光板を有する液晶表示装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記問題点を解決すべく鋭意研究した結果、環状オレフィン系樹脂からなるフィルム上にホメオトロピック配向性を有する光学異方性層を形成することによって、厚み方向の屈折率が大きい視野角補償フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明に係る光学フィルムは、環状オレフィン系樹脂からなるフィルムａと、該フィルムａ上に設けられた、ホメオトロピック配向性を有する光学異方性層ｂとを有することを特徴とする。
【００１１】
上記光学フィルムは、下記式（１）〜（３）を満たすことが好ましい。
（１）−６００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦２００ｎｍ
（２）０ｎｍ≦Ｒ≦６００ｎｍ
（３）ＮＺ≦１
式（１）〜（３）中、Ｒｔｈは波長５５０ｎｍにおける光学フィルムの厚み方向の位相差を示し、Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄで表され、
Ｒは波長５５０ｎｍにおける光学フィルム面内の位相差を示し、Ｒ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表され、ＮＺ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で表され、
ｎｘはフィルム面内の最大屈折率、ｎｙはフィルム面内でｎｘに対して直交する方向の屈折率、ｎｚはｎｘおよびｎｙに対して直交するフィルム厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。
【００１２】
上記光学フィルムにおいて、（ｉ）前記環状オレフィン系樹脂が、全構成単位１００ｍｏｌ％に対して、下記式（Ｉ）で表される構成単位を３０〜１００ｍｏｌ％と、下記式（ＩＩ）で表される構成単位を０〜７０ｍｏｌ％含有し、（ｉｉ）前記フィルムａの厚みが１０，０００ｎｍ〜２００，０００ｎｍであることが好ましい。
【００１３】
【化１】
2007065575.tif 000002
【００１４】
式（Ｉ）中、ｍは１以上の整数であり、ｐは０または１以上の整数であり、
Ｄは、独立に−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ2ＣＨ2−で表される基であり、
Ｒ1〜Ｒ4は、各々独立に水素原子；ハロゲン原子；極性基；または酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有してもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
Ｒ1とＲ2および／またはＲ3とＲ4は一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、
Ｒ1またはＲ2と、Ｒ3またはＲ4とは相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環は、単環構造でも多環構造でもよい。
【００１５】
【化２】
2007065575.tif 000003
【００１６】
式（ＩＩ）中、Ｅは、独立に−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ2ＣＨ2−で表される基であり、Ｒ5〜Ｒ8は、各々独立に水素原子；ハロゲン原子；極性基；または酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有してもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表し、
Ｒ5とＲ6、および／または、Ｒ7とＲ8は、一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、
Ｒ5またはＲ6と、Ｒ7またはＲ8とは相互に結合して炭素環または複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環は、単環構造でも多環構造でもよい。
【００１７】
前記フィルムａは下記式（４）および（５）を満たすことが好ましい。
（４）０ｎｍ≦Ｒaｔｈ≦６００ｎｍ
（５）０ｎｍ≦Ｒa≦６００ｎｍ
式（４）および（５）中、Ｒaｔｈは波長５５０ｎｍにおけるフィルムａの厚み方向の位
相差を示し、Ｒaｔｈ＝［（ｎｘa＋ｎｙa）／２−ｎｚa］×ｄaで表され、
Ｒaは波長５５０ｎｍにおけるフィルムａ面内の位相差を示し、Ｒa＝（ｎｘa−ｎｙa）×ｄaで表され、
ｎｘaはフィルムａ面内の最大屈折率、ｎｙaはフィルムａ面内でｎｘaに対して直交する
方向の屈折率、ｎｚaはｎｘaおよびｎｙaに対して直交するフィルムａの厚み方向の屈折
率、ｄaはフィルムａの厚み（ｎｍ）である。
【００１８】
前記光学異方性層ｂは下記式（６）および（７）を満たすことが好ましい。
（６）−１０００ｎｍ≦Ｒbｔｈ≦０ｎｍ
（７）０ｎｍ≦Ｒb≦５０ｎｍ
式（６）および（７）中、Ｒbｔｈは波長５５０ｎｍにおける光学異方性層ｂの厚み方向
の位相差を示し、Ｒbｔｈ＝［（ｎｘb＋ｎｙb）／２−ｎｚb］×ｄbで表され、
Ｒbは波長５５０ｎｍにおける光学異方性層ｂの面内の位相差を示し、Ｒb＝（ｎｘb−ｎ
ｙb）×ｄbで表され、
ｎｘbは光学異方性層ｂの面内の最大屈折率、ｎｙbは光学異方性層ｂの面内でｎｘbに対
して直交する方向の屈折率、ｎｚbはｎｘbおよびｎｙbに対して直交する光学異方性層ｂ
の厚み方向の屈折率、ｄbは光学異方性層ｂの厚み（ｎｍ）である。
【００１９】
前記光学異方性層ｂは、前記フィルムａ上に液晶性化合物を塗布して形成されることが好ましく、また、粘着フィルム層ｄによって前記フィルムａ上に転写、貼合されて積層されることも好ましい。
【００２０】
上記光学フィルムは、前記フィルムａと光学異方性層ｂとの間に、薄膜層ｃを有することが好ましい。
本発明に係る偏光板および液晶表示装置は、上記光学フィルムを有することを特徴とする。また、本発明に係る液晶表示装置は、上記偏光板を有することが好ましく、液晶セルの駆動方式がインプレーンスイッチング（ＩＰＳ）方式であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によると、従来の環状オレフィン系樹脂系フィルムの特長である高透明性および低複屈折性、延伸配向した場合の均一で安定した位相差発現性などの光学特性や、耐熱性、他材料との密着性および接着性などを維持するとともに、厚み方向の屈折率が大きい光学フィルムを得ることができる。また、このような厚み方向の屈折率が大きい光学フィルムを用いることによって、ＩＰＳモードの液晶表示装置において、斜め方向から観察したときの液晶表示装置の光漏れを防止し、高コントラスト比を得ることができ、良好な視野角補償効果を安定して得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明に係る光学フィルム、偏光板および液晶表示装置について、詳細に説明する。
［光学フィルム］
＜構成および光学特性＞
本発明に係る光学フィルムは、環状オレフィン系樹脂からなるフィルムａと、該フィルムａ上に設けられたホメオトロピック配向性を有する光学異方性層ｂとを有する。本発明において、上記光学フィルムは、下記式（１）〜（３）を満たすことが好ましい。
（１）−６００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦２００ｎｍ
（２）０ｎｍ≦Ｒ≦６００ｎｍ
（３）ＮＺ≦１
上記式（１）〜（３）中、Ｒｔｈは波長５５０ｎｍにおける光学フィルムの厚み方向の位相差を示し、Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄで表され、Ｒは波長５５０ｎｍにおける光学フィルム面内の位相差を示し、Ｒ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表され、ＮＺ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で表され、ｎｘはフィルム面内の最大屈折率、ｎｙはフィルム面内でｎｘに対して直交する方向の屈折率、ｎｚはｎｘおよびｎｙに対して直交するフィルム厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。
【００２３】
本発明の光学フィルムは、環状オレフィン系樹脂からなるフィルムａが延伸処理されていない場合、上記式（１）に示すように、Ｒｔｈが−６００ｎｍ〜２００ｎｍ、好ましくは−５００ｎｍ〜１００ｎｍ、より好ましくは−４００ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあり、また、上記式（２）に示すように、Ｒが０〜６００ｎｍ、好ましくは０ｎｍ〜１００ｎｍ、より好ましくは０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲にあり、さらに、上記式（３）に示すように、ＮＺが１以下、好ましくは０．３以下、より好ましくは０以下である。環状オレフィン系樹脂からなるフィルムａが延伸処理されている場合、上記式（１）に示すように、Ｒｔｈが−６００ｎｍ〜２００ｎｍ、好ましくは−５００ｎｍ〜１５０ｎｍ、より好ましくは−４００ｎｍ〜１００ｎｍの範囲にあり、また、上記式（２）に示すように、Ｒが０〜６００ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ〜５００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲にあり、さらに、上記式（３）に示すように、ＮＺが１以下、好ましくは−１以上０．９以下、より好ましくは−０．８以上０．８以下である。これにより、特にＩＰＳモードの液晶表示装置において、斜め方向から観察したときの液晶表示装置の光漏れを防止し、高コントラスト比を得ることができる。
【００２４】
＜フィルムａ＞
本発明の光学フィルムを構成するフィルムａは環状オレフィン系樹脂からなり、下記式（４）および（５）を満たすことが好ましい。
（４）０ｎｍ≦Ｒaｔｈ≦６００ｎｍ
（５）０ｎｍ≦Ｒa≦６００ｎｍ
上記式（４）および（５）中、Ｒaｔｈは波長５５０ｎｍにおけるフィルムａの厚み方
向の位相差を示し、Ｒaｔｈ＝［（ｎｘa＋ｎｙa）／２−ｎｚa］×ｄaで表され、Ｒaは波長５５０ｎｍにおけるフィルムａ面内の位相差を示し、Ｒa＝（ｎｘa−ｎｙa）×ｄaで表され、ｎｘaはフィルムａ面内の最大屈折率、ｎｙaはフィルムａ面内でｎｘaに対して直
交する方向の屈折率、ｎｚaはｎｘaおよびｎｙaに対して直交するフィルムａの厚み方向
の屈折率、ｄaはフィルムａの厚み（ｎｍ）である。
【００２５】
上記フィルムａが延伸処理されていない場合、上記式（４）に示すように、Ｒaｔｈが
０ｎｍ〜６００ｎｍ、好ましくは０ｎｍ〜１５０ｎｍ、より好ましくは０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲にあり、また、上記式（５）に示すように、Ｒaが０ｎｍ〜６００ｎｍ、好まし
くは０ｎｍ〜５０ｎｍ、より好ましくは０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にある。上記フィルムａが延伸処理されている場合、上記式（４）に示すように、Ｒaｔｈが０ｎｍ〜６００ｎｍ
、好ましくは３０ｎｍ〜５００ｎｍ、より好ましくは５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲にあり、また、上記式（５）に示すように、Ｒaが０ｎｍ〜６００ｎｍ、好ましくは５０ｎｍ〜
５００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲にある。これにより、延伸処理されたフィルムａ、延伸処理されていないフィルムａを使い分けることで、光学異方性層ｂと合計した光学特性において、幅広くきめ細かい光学特性の制御が可能であり、特にＩＰＳモードの液晶表示装置において、良好な視野角補償効果が得られる。
【００２６】
上記フィルムａの厚みは、延伸処理の有無に関わらず、液晶パネルの薄型化の観点から、１０，０００ｎｍ〜２００，０００ｎｍ、好ましくは３０，０００ｎｍ〜１００，０００ｎｍ、特に好ましくは４０，０００ｎｍ〜７０，０００ｎｍであることが望ましい。
【００２７】
上記フィルムａを構成する環状オレフィン系樹脂としては、高透明性、低複屈折性、延伸配向した場合の均一で安定した位相差発現性などの光学特性が得られるとともに、耐熱性、他材料との密着性や接着性などに優れ、吸水変形が小さいことから、下記式（Ｉ）で表される構成単位（以下、構成単位（Ｉ）ともいう）３０〜１００ｍｏｌ％と、下記式（ＩＩ）で表される構成単位（以下、構成単位（ＩＩ）ともいう）０〜７０ｍｏｌ％とを有する環状オレフィン系樹脂が好ましい。ただし、該環状オレフィン系樹脂の全構成単位を１００ｍｏｌ％とする。
【００２８】
【化３】
2007065575.tif 000004
【００２９】
【化４】
2007065575.tif 000005
【００３０】
上記式（Ｉ）中、ｍは１以上の整数であり、ｐは０または１以上の整数である。
また、上記式（Ｉ）および（ＩＩ）中、ＤおよびＥは、それぞれ独立に−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ2ＣＨ2−で表される基である。
【００３１】
Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ独立に、水素原子；フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子；極性基；または酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有してもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基を表す。
【００３２】
上記炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基などが挙げられる。また、上記炭化水素基は直接環構造に結合していてもよく、また連結基（ｌｉｎｋａｇｅ）を介して結合していてもよい。
【００３３】
このような連結基としては、炭素原子数１〜１０の２価の炭化水素基（たとえば、−（ＣＨ2）k−（ｋは１〜１０の整数）で表されるアルキレン基）；酸素、窒素、イオウまたはケイ素を含む連結基（例えば、カルボニル基（−ＣＯ−）、オキシカルボニル基（−Ｏ（ＣＯ）−）、スルホン基（−ＳＯ2−）、エーテル結合（−Ｏ−）、チオエーテル結合
（−Ｓ−）、イミノ基（−ＮＨ−）、アミド結合（−ＮＨＣＯ−，−ＣＯＮＨ−）、シロキサン結合（−ＯＳｉ（Ｒ2）−（Ｒはメチル、エチル等のアルキル基））などが挙げら
れ、これらの複数を含む連結基であってもよい。
【００３４】
また、Ｒ1とＲ2、および／または、Ｒ3とＲ4は一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、Ｒ1またはＲ2と、Ｒ3またはＲ4とは相互に結合して炭素環または複素環を形成し
てもよく、該炭素環または複素環は、単環構造でも多環構造でもよい。Ｒ5〜Ｒ8についても同様である。
【００３５】
上記極性基としては、水酸基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（たとえば、メトキシ基、エトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（たとえば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリーロキシカルボニル基（たとえば、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等）、シアノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基（たとえば、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等）、トリオルガノシリル基（たとえば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基等）、アミノ基（たとえば、第１級アミノ基等）、アシル基、アルコキシシリル基（たとえば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等）、スルホニル含有基およびカルボキシル基などが挙げられる。
【００３６】
本発明で用いられる上記環状オレフィン系樹脂の好ましい態様としては、
・上記構成単位（Ｉ）１００ｍｏｌ％からなる樹脂、
・環状オレフィン系樹脂の全構成単位１００ｍｏｌ％に対して、上記構成単位（Ｉ）５０〜９５ｍｏｌ％と、上記構成単位（ＩＩ）５〜５０ｍｏｌ％とからなり、上記式（Ｉ）中のＲ1およびＲ2が水素原子、Ｒ3がメチル基、Ｒ4がメトキシカルボニル基、ｍ＝１、ｐ＝０であり、上記式（ＩＩ）中のＲ5〜Ｒ8が水素原子または炭化水素基である樹脂、
・環状オレフィン系樹脂の全構成単位１００ｍｏｌ％に対して、上記構成単位（Ｉ）５０〜９５ｍｏｌ％と、上記構成単位（ＩＩ）５〜５０ｍｏｌ％とからなり、上記式（Ｉ）中のＲ1およびＲ2が水素原子、Ｒ3がメチル基、Ｒ4がメトキシカルボニル基で、ｍ＝１、ｐ＝０であり、上記式（ＩＩ）中のＲ5またはＲ6、およびＲ7またはＲ8が水素原子であり、かつ、Ｒ5〜Ｒ8の残余の基が相互に結合して炭素数３の２価の直鎖状炭化水素基を形成している樹脂
などが挙げられる。
【００３７】
上記構成単位（Ｉ）を形成し得る単量体は、下記一般式（Ｉ’）で表される。
【００３８】
【化５】
2007065575.tif 000006
【００３９】
上記式（Ｉ’）中、ｍ、ｐ、Ｒ1〜Ｒ4は、上記式（Ｉ）中のｍ、ｐ、Ｒ1〜Ｒ4と同義である。
このような単量体（以下、単量体（Ｉ’）ともいう）の具体例を以下に示すが、本発明はこれら具体例に限定されるものではない。また、下記単量体（Ｉ’）は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４０】
単量体（Ｉ’）の具体例としては、
テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
ペンタシクロ［６．５．１．１3,6．０2,7．０9,13］−４−ペンタデセン、
ペンタシクロ［７．４．０．１2,5．１9,12．０8,13］−３−ペンタデセン、
８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデ
セン、
８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデ
セン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセ
ン、
８−フェノキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
、
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３
−ドデセン、
８−メチル−８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３
−ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10
］−３−ドデセン、
８−メチル−８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10
］−３−ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］
−３−ドデセン、
８−メチル−８−フェノキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−
３−ドデセン、
ペンタシクロ［８．４．０．１2,5．１9,12．０8,13］−３−ヘキサデセン、
ヘプタシクロ［８．７．０．１3,6．１10,17．１12,15．０2,7．０11,16］−４−エイコ
セン、
ヘプタシクロ［８．８．０．１4,7．１11,18．１13,16．０3,8．０12,17］−５−ヘンエ
イコセン、
８−エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−フェニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−フェニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
、
８−フルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−フルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−ジフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−ペンタフルオロエチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
、
８，８−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３
−ドデセン、
８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３
−ドデセン、
８−メチル−８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３
−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
、
８，８，９−トリス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10
］−３−ドデセン、
８，８，９，９−テトラフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ド
デセン、
８，８，９，９−テトラキス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5
．１7,10］−３−ドデセン、
８，８−ジフルオロ−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメチル
テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメトキシテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，８，９−トリフルオロ−９−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ［４．４．０．１2,5．17,10］−３−ドデセン、
８−フルオロ−８−ペンタフルオロエチル−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８，９−ジフルオロ−８−ヘプタフルオロｉｓｏ−プロピル−９−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−クロロ−８，９，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−
３−ドデセン、
８，９−ジクロロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン
などを挙げることができる。
【００４１】
上記具体例の中では、８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４．４．０．１2,5．１7,10〕−３−ドデセンが、得られる共重合体のガラス転移温度を高め、吸水
による変形等の悪影響を殆ど受けず、かつ、他材料との密着性や接着性が良好となる程度の吸水性を維持できることから好ましい。
【００４２】
上記構成単位（ＩＩ）を形成し得る単量体は、下記一般式（ＩＩ’）で表される。
【００４３】
【化６】
2007065575.tif 000007
【００４４】
上記式（ＩＩ’）中、Ｒ5〜Ｒ8は上記式（ＩＩ）中のＲ5〜Ｒ8と同義である。
このような単量体（以下、単量体（ＩＩ’）ともいう）の具体例を以下に示すが、本発明はこれら具体例に限定されるものではない。また、下記単量体（ＩＩ’）は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４５】
上記単量体（ＩＩ’）の具体例としては、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
トリシクロ［４．３．０．１2,5］−３−デセン、
トリシクロ［４．３．０．１2,5］−デカ−３，７−ジエン、
トリシクロ［４．４．０．１2,5］−３−ウンデセン、
５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチル−５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−エチリデンビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フェニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−ナフチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（α，βの両タイプとも可）、
５−フルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−ペンタフルオロエチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリス（フルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６，６−テトラフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６，６−テトラキス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５−ジフルオロ−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロ−５−ペンタフルオロエチル−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジフルオロ−５−ヘプタフルオロ−ｉｓｏ−プロピル−６−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−クロロ−５，６，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，６−ジクロロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−６−トリフルオロメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５，５，６−トリフルオロ−６−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−（４−フェニルフェニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
４−（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イル）フェニルスルホニルベンゼン
などを挙げることができる。
【００４６】
これらのうち、一般式（ＩＩ’）のＲ5〜Ｒ8について、全てが水素原子である単量体、何れか１つが炭素原子数１〜３０の炭化水素基であり他が水素原子である単量体、または
、何れか２つが炭素数３〜５のアルキレン基で連結されている単量体は、得られる光学用フィルムの靭性および耐熱性を向上させる効果が大きい点で好ましい。特に、Ｒ5〜Ｒ8について、全てが水素原子である単量体、何れか１つがメチル基、エチル基またはフェニル基であり他が全て水素原子である単量体、または、Ｒ5もしくはＲ6およびＲ7もしくはＲ8が水素原子であり、かつ、Ｒ5〜Ｒ8の残余の基が相互に結合して炭素数３〜５の２価の直鎖状炭化水素基を形成している単量体は、耐熱性の観点からも好ましい。さらに、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、トリシクロ［４．３．０．１2,5］−３−デセン、トリシクロ［４．３．０．１2,5］−デカ−３，７−ジエンは、その合成が容易である点で好ましい。
【００４７】
上記環状オレフィン系樹脂は、公知の方法（たとえば、特開２００３−１４９０１号公報に記載の方法）により、上記単量体（Ｉ’）と、必要に応じて単量体（ＩＩ’）とを開環（共）重合させることにより得られる。また、上記単量体（Ｉ’）および（ＩＩ’）以外の単量体、たとえば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のシクロオレフィンなどを共重合させてもよい。さらに、得られた開環（共）重合体の水素添加物を環状オレフィン系樹脂として用いてもよい。
【００４８】
上記環状オレフィン系樹脂のクロロホルム中（３０℃）で測定した対数粘度は、０．２〜５ｄｌ／ｇ、好ましくは０．３〜４ｄｌ／ｇ、特に好ましくは０．５〜３ｄｌ／ｇである。上記範囲を超えると、溶液粘度が高くなりすぎ、加工性が悪化することがあり、上記範囲よりも低いと、フィルム強度が低下することがある。
【００４９】
上記環状オレフィン系樹脂の分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ、カラム：東ソー（株）製ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ７０００ＨXL×１、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨXL×２およびＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００ＨXL×１の４本直列、溶媒：テトラヒドロフラン）で測定されるポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が、通常、８，０００〜１，０００，０００、好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは２０，０００〜１００，０００であり、また、重量平均分子量（Ｍｗ）が、通常、２０，０００〜３，０００，０００、好ましくは３０，０００〜１００，００００、特に好ましくは４０，０００〜５００，０００の範囲である。また、分子量分布は、上記のＭｗ／Ｍｎが、通常、１．５〜１０、好ましくは２〜８、特に好ましくは２．５〜５である。
【００５０】
上記環状オレフィン系樹脂の２３℃における飽和吸水率は、通常、１重量％以下、好ましくは０．０５〜１重量％、さらに好ましくは０．１〜０．７重量％、特に好ましくは０．１〜０．５重量％である。飽和吸水率がこの範囲内であると、各種光学特性、たとえば、透明性、位相差、位相差の均一性および寸防精度が、高温多湿のような条件下でも維持されるとともに、他材料との密着性や接着性に優れることから、使用途中で剥離などが発生せず、また、酸化防止剤等の添加物との相溶性も良好であることから、添加の自由度が大きくなる。なお、上記飽和吸水率はＡＳＴＭ  Ｄ５７０に準拠し、２３℃水中で１週間浸漬して増加重量を測定することにより求められる値である。
【００５１】
上記環状オレフィン系樹脂のＳＰ値（溶解度パラメーター）は、好ましくは１０〜３０（ＭＰａ1/2）、さらに好ましくは１２〜２５（ＭＰａ1/2）、特に好ましくは１５〜２０（ＭＰａ1/2）である。ＳＰ値が上記範囲にあることにより、ノルボルネン系樹脂を汎用
の溶剤に良好に溶解でき、安定したフィルムの製造ができるとともに、得られるフィルムの特性が均一となり、接着性および基板との密着性を良好なものとすることができ、さらに吸水率を適度にコントロールすることが可能となる。
【００５２】
上記環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、ノルボルネン系樹脂の構成単位（Ｉ）および構成単位（ＩＩ）の種類、組成比、添加剤等の有無により異なるが、通常
、８０〜３５０℃、好ましくは１００〜２５０℃、さらに好ましくは１２０〜２００℃である。Ｔｇが上記範囲よりも低いと、熱変形温度が低くなり、耐熱性に問題が生じるおそれがあり、また、得られる光学フィルムの温度による光学特性の変化が大きくなることがある。一方、Ｔｇが上記範囲よりも高いと、延伸加工等にＴｇ近辺まで加熱して加工する場合に樹脂が熱劣化する可能性が高くなる。
【００５３】
上記ノルボルネン系樹脂には、透明性・耐熱性を損なわない範囲で公知の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、ゴム質重合体、有機微粒子、無機微粒子、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤、難燃剤、抗菌剤、木粉、カップリング剤、石油樹脂、可塑剤、着色剤、滑剤、帯電防止剤、シリコーンオイル、発泡剤などを配合しても良い。
【００５４】
＜光学異方性層ｂ＞
本発明の光学フィルムを構成する光学異方性層ｂはホメオトロピック配向性を示す。このような光学異方性層ｂは、ホメオトロピック配向性を有する液晶性化合物を硬化させることにより形成することができる。この光学異方性層ｂは下記式（６）および（７）を満たすことが好ましい。
（６）−１０００ｎｍ≦Ｒbｔｈ≦０ｎｍ
（７）０ｎｍ≦Ｒb≦５０ｎｍ
上記式（６）および（７）中、Ｒbｔｈは波長５５０ｎｍにおける光学異方性層ｂの厚
み方向の位相差を示し、Ｒbｔｈ＝［（ｎｘb＋ｎｙb）／２−ｎｚb］×ｄbで表され、Ｒbは波長５５０ｎｍにおける光学異方性層ｂの面内の位相差を示し、Ｒb＝（ｎｘb−ｎｙb
）×ｄbで表され、ｎｘbは光学異方性層ｂの面内の最大屈折率、ｎｙbは光学異方性層ｂ
の面内でｎｘbに対して直交する方向の屈折率、ｎｚbはｎｘbおよびｎｙbに対して直交する光学異方性層ｂの厚み方向の屈折率、ｄbは光学異方性層ｂの厚み（ｎｍ）である。
【００５５】
上記光学異方性層ｂは、上記式（６）に示すように、Ｒbｔｈが−１０００ｎｍ〜０ｎ
ｍ、好ましくは−７００ｎｍ〜−３０ｎｍ、より好ましくは−５００ｎｍ〜−５０ｎｍの範囲にあり、また、上記式（７）に示すように、Ｒbが０ｎｍ〜５０ｎｍ、好ましくは０
ｎｍ〜３０ｎｍ、より好ましくは０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲にある。ＲbｔｈおよびＲbが上記範囲にあることは、少なくともｎｚb≧ｎｙbであり、多くの場合ｎｚb≧ｎｘbであることを意味する。これにより、環状オレフィン系樹脂からなるフィルムａと合計した光学特性において、厚み方向の屈折率が大きくなり、上記式（３）を満たし、特にＩＰＳモードの液晶表示装置において、良好な視野角補償効果が得られる。
【００５６】
上記光学異方性層ｂの厚みは、配向の均一性を得るため、５０ｎｍ〜５０００ｎｍ、好ましくは８０ｎｍ〜４０００ｎｍ、特に好ましくは１００ｎｍ〜３０００ｎｍであることが望ましい。
【００５７】
このような光学異方性層ｂは、ホメオトロピック配向性を有し、かつ（メタ）アクリル基などの重合性官能基を有する重合性液晶化合物および光重合開始剤等を含む液晶組成物を上記フィルムａ上、あるいは上記フィルムａ上に設けられた薄膜層ｃ上に塗工し、加熱処理によって溶剤を蒸発させるとともに液晶状態を発現させてホメオトロピック配向させ、光重合により硬化させることによって液晶硬化層として形成させることができる。薄膜層ｃは、ホメオトロピック配向を発現しやすくするため、垂直配向膜としての機能を有することが好ましい。さらに、上記液晶組成物中に配向助剤が含まれていてもよい。また、光学異方性層ｂは上記フィルムａ上あるいは上記フィルムａ上に設けられた薄膜層ｃ上に必ずしも塗工して形成させる必要はなく、ＰＥＴフィルム、ガラス等の他の基材上に上記方法と同様にして形成させた後、この光学異方性層ｂを粘着フィルム層ｄを用いて上記フィルムａ上あるいは上記フィルムａ上に設けられた薄膜層ｃ上に転写し、本発明の光学フィルムを形成してもよい。
【００５８】
上記ホメオトロピック配向性を有する液晶性化合物としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶を挙げることができる。これらのうち、ネマチック液晶が好ましく、例えば、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、またはキュバン系液晶などを好適に用いることができる。中でも、ビフェニレン基および／あるいはフェニレン基を有するエステル系液晶を用いることがより好適である。加えて、本発明で用いる液晶性化合物は、ホメオトロピック配向させた後、光硬化させて配向を固定し光学異方性層ｂを形成するため、重合性の官能基を有する必要があり、重合性の官能基として一官能あるいは二官能のアクリル基を分子末端に有することが望ましい。本発明で用いる液晶性化合物は単独でまたは二種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００５９】
上記光重合開始剤としては、「イルガキュア９０７」や「イルガキュア１８４」（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）が挙げられる。重合開始剤の添加量は、上記液晶化合物１００重量部に対して、通常０．１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部であることが望ましい。光重合開始剤の添加量が上記範囲よりも少ないと液晶化合物の硬化が十分に進行せず、十分な硬度を有する光学異方性層ｂが得られないことがある。また、光重合開始剤の添加量が上記範囲を超えると、光学異方性層ｂの保存安定性が低下したり、液晶化合物が均一に配向しないことがある。
【００６０】
上記液晶化合物および光重合開始剤を含む液晶組成物に用いられる溶剤は、上記液晶化合物、光重合開始剤を溶解または分散し、安定に貯蔵しうるものであれば特に制限はない。たとえば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、シクロペンタン、シクロヘキサン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコール、ジオキサン、ジメトキシエタン、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｔ−ブチル、乳酸エチル、乳酸−ｔ−ブチル、１−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドおよび水などが挙げられる。これらは単独でまたは二種類以上を組み合わせて用いることができる。
上記液晶組成物の市販品としては、たとえば、ＲＭＳ０３−０１５（メルク株式会社製）が挙げられる。
【００６１】
＜フィルムａと光学異方性層ｂからなる光学フィルムの製造方法＞
本発明の光学フィルムは、上記環状オレフィン系樹脂からなる未延伸のフィルムａ、あるいは特定の光学特性を有するように一軸延伸または二軸延伸処理したフィルムａ上に、上記液晶性化合物および上記光重合開始剤等からなる液晶組成物を塗工し、加熱により乾燥させるとともにホメオトロピック配向させ、光重合させて液晶硬化層からなる光学異方性層ｂを形成することによって製造することができる。
【００６２】
また、本発明の光学フィルムは、上記環状オレフィン系樹脂からなる未延伸フィルムａ上に、上記液晶組成物を塗工して加熱乾燥するとともにホメオトロピック配向させ、光重合させて液晶硬化層からなる光学異方性層ｂを形成して積層フィルムを作製した後、この積層フィルムを一軸延伸または二軸延伸することにより製造することもできる。
【００６３】
上記フィルムａには、光学異方性層ｂとの密着性を得るため、あるいは液晶化合物のホメオトロピック配向発現を補助するために表面処理が施されていてもよい。
上記液晶組成物の塗工方法は特に限定されないが、たとえばスピンコート、ワイヤーコート、バーコート、ロールコート、ブレードコート、カーテンコート、スクリーン印刷等の各種方法を用いることができる。
【００６４】
また、液晶組成物の乾燥温度としては、特に限定されないが、たとえば、６０〜１５０℃である。
さらに、上記液晶組成物を光硬化させる際の光照射量は、３００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、４００〜１５００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましく、５００〜１２００ｍＪ／ｃｍ2が特に好ましい。
【００６５】
＜薄膜層ｃ＞
本発明の光学フィルムは、上記フィルムａと光学異方性層ｂとの間に、少なくとも１層の薄膜層ｃを有していてもよい。この薄膜層ｃは、上記フィルムａを液晶組成物の溶剤から保護する機能、液晶化合物のホメオトロピック配向発現を補助する機能、上記フィルムａと光学異方性層ｂとの密着性を得る機能のうち少なくとも１つの機能を有することが望ましい。薄膜層ｃの材質は特に限定されないが、アクリル系ポリマー、ポリウレタン、ポリシロキサン、ポリイミドなどを使用することができる。
【００６６】
上記薄膜層ｃの厚みは、特に限定されないが、好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜７μｍの範囲である。厚みが上記範囲より薄い場合には、光学異方性層ｂの効果が不十分となる場合がある。また、上記範囲より厚い場合には、製膜性が低下する場合がある。
【００６７】
（ｉ）アクリル系ポリマー薄膜層
上記アクリル系ポリマー薄膜層を構成するアクリル系ポリマーとしては、分子内に少なくとも一つの（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物をモノマー単位として有するポリマーであれば特に制限されるものではない。このような（メタ）アクリレート化合物としては、たとえば、単官能（メタ）アクリレート化合物および多官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。これらのうち、上記フィルムａと光学異方性層ｂとの間の密着性を向上させることができることから、多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
【００６８】
上記単官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート類；
ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類；フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等のフェノキシアルキル（メタ）アクリレート類；
メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、プロポキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のポリエチレングリコール（メタ）アクリレート類；
ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート類；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート類；
ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの単官能（メタ）アクリレート化合物は、１種単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【００６９】
上記多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート類；
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリヒドロキシエチルトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；
イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート等のイソシアヌレートのポリ（メタ）アクリレート類；
トリシクロデカンジイルジメチルジ（メタ）アクリレート等のシクロアルカンのポリ（メタ）アクリレート類；
ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とから得られる（メタ）アクリレート等のビスフェノールＡの（メタ）アクリレート誘導体類；
３，３，４，４，５，５，６，６−オクタフルオロオクタンジ（メタ）アクリレート、３−（２−パーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−ジ（メタ）アクリロイルプロパン、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ−２，３−ジ（メタ）アクリロイルプロピルパーフルオロオクチルスルホンアミド等の含フッ素（メタ）アクリレート類が挙げられる。これらの多官能（メタ）アクリレート化合物は、１種単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【００７０】
これらの多官能（メタ）アクリレート化合物のうち、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートなど、１分子内に含まれるアクリロ
イル基の数が多く、架橋密度の向上が図れ、優れた密着性を与える多官能（メタ）アクリレート化合物が特に好ましい。
【００７１】
アクリル系ポリマー薄膜層は、上記フィルムａの表面に、アクリル系ポリマー溶液を塗布して乾燥させる方法、または上述した（メタ）アクリレート化合物と重合開始剤とを含有する組成物を上記フィルムａの表面に塗布して重合させる方法等より形成することができる。
【００７２】
上記（メタ）アクリレート化合物を上記フィルムａの表面に塗布して重合させる際には、重合開始剤として、熱重合開始剤、光重合開始剤を用いることができるが、保存安定性、生産性の観点より光重合開始剤を用いることが好ましい。
【００７３】
上記光重合開始剤の具体例としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイルプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンなどが挙げられる。これらの光重合開始剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７４】
これらの光重合開始剤のうち、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが好ましい。
【００７５】
また、このような光重合開始剤は、市販品を用いることができる。たとえば、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オンは、「イルガキュア９０７」（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）として、また、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンは、「イルガキュア１８４」（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）として入手することができる。
【００７６】
上記光重合開始剤の添加量は、十分に硬化反応が進行する量であれば特に制限されないが、（メタ）アクリレート化合物１００重量部に対して、通常０．１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部であることが望ましい。光重合開始剤の添加量が上記範囲よりも少ないと（メタ）アクリレート化合物の硬化反応が十分に進行せず、十分な硬度を有する薄膜層ｃが得られないことがある。また、光重合開始剤の添加量が上記範囲を超えると、薄膜層ｃの保存安定性が低下することがある。
【００７７】
上記（メタ）アクリレート化合物を含有する組成物は、溶剤を添加して用いることが製膜性の観点から好ましい。その場合、溶剤は上記（メタ）アクリレート化合物を溶解または分散するものであれば特に制限はない。また、上記組成物は有機溶剤系であってもよく、エマルジョン、コロイド分散液、水溶液等の水系であってもよい。
【００７８】
有機溶剤としては、たとえば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ
−ブチルアルコール、アセトン、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチルなどが用いられる。特に、基材との密着性や製膜性に優れるといった観点から、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類の単独または２種以上の混合による使用が好ましい。また、上記有機溶剤は水を含んでいてもよい。
【００７９】
（ｉｉ）ポリウレタン薄膜層
上記ポリウレタン薄膜層は、上記フィルムａの表面に、ポリウレタン組成物を塗布することにより形成することができる。このようなポリウレタン組成物には、ポリウレタンおよび溶剤が含有される。
【００８０】
上記ポリウレタンとしては、複数のウレタン結合を有するポリマーであれば特に限定されず、たとえば、ポリオール化合物とポリイソシアネートとを反応させて得られるポリウレタンなどが挙げられる。
【００８１】
上記ポリウレタンを安定的に有機溶剤および／または水に溶解または分散させ、さらに、接着剤の塗工性、および基材と接着剤の接着性を向上させるために、重合成分としてポリオール化合物とポリイソシアネートに加えて、親水基含有化合物を添加することも好ましい。
【００８２】
上記ポリオール化合物としては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリアクリルポリオール等が挙げられる。これらのうち、ポリエーテルポリオールが特に好ましい。このようなポリエーテルポリオールとしては、たとえば、多価アルコールにイオン重合性環状化合物を開環共重合させて得られるポリエーテルポリオールが挙げられる。
【００８３】
上記多価アルコールとしては、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリデカメチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、水添ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＦ、ハイドロキノン、ナフトハイドロキノン、アントラハイドロキノン、１，４−シクロヘキサンジオール、トリシクロデカンジオール、トリシクロデカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジオール、ペンタシクロペンタデカンジメタノールなどが挙げられる。これらは単独でまたは二種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８４】
上記イオン重合性環状化合物としては、たとえば、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、１，２−ブチレンオキシド、ブテン−１−オキシド、イソブテンオキシド、３，３−ビスクロロメチルオキセタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン、テトラオキサン、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシド、エピクロルヒドリン、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルカーボネート、ブタジエンモノオキシド、イソプレンモノオキシド、ビニルオキセタン、ビニルテトラヒドロフラン、ビニルシクロヘキセンオキシド、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、安息香酸グリシジルエステルなどの環状エーテル類が挙げられる。これらは単独でまたは二種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８５】
また、上記イオン重合性環状化合物と、エチレンイミン等の環状イミン類、β−プロピオラクトン、グリコール酸ラクチド等の環状ラクトン酸またはジメチルシクロポリシロキサン類とを開環共重合させたポリエーテルポリオールを使用することもできる。これらの
イオン重合性環状化合物の開環共重合体はランダムに結合していてもよいし、ブロック状に結合をしていてもよい。このようなポリエーテルポリオールとしては、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコールが好ましい。
【００８６】
上記ポリイソシアネートとしては、ポリウレタンの製造に一般的に用いられるポリイソシアネートを特に制限なく使用できる。たとえば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、１，６−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアネートエチル）フマレート、６−イソプロピル−１，３−フェニルジイソシアネート、４−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、２，５（または６）−ビス（イソシアネートメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンなどが挙げられる。これらのポリイソシアネートは、単独であるいは二種類以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、イソホロンジイソシアネートが好ましい。
【００８７】
上記親水基含有化合物としては、分子中に少なくとも１個以上の活性水素原子を有し、かつ、カルボン酸基および／またはスルホン酸基を含有するイオン性化合物が挙げられる。
【００８８】
このような親水性基含有化合物としては、たとえば、２−オキシエタンスルホン酸、フェノールスルホン酸、スルホ安息香酸、スルホ琥珀酸、５−スルホイソフタル酸、スルファニル酸、１，３−フェニレンジアミン−４，６−ジスルホン酸、２，４−ジアミノトルエン−５−スルホン酸等のスルホン酸化合物およびこれらの誘導体、および、２，２−ジメチロールプロピオン酸、２，２−ジメチロール酪酸、２，２−ジメチロール吉草酸、ジオキシマレイン酸、２，６−ジオキシ安息香酸、３，４−ジアミノ安息香酸等のカルボン酸含有化合物およびこれらの誘導体が挙げられる。
【００８９】
上記ポリオール化合物とポリイソシアネートと、必要に応じて親水基含有化合物とを反応させる際、通常、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウリル酸ジｎ−ブチルスズ、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタン、２，６，７−トリメチル−１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタンなどのウレタン化触媒を、反応混合物の総量１００重量部に対して０．０１〜１重量部用いることが好ましい。また、反応温度は、通常１０〜９０℃、好ましくは３０〜８０℃である。
【００９０】
本発明で用いられるポリウレタン樹脂の数平均分子量は、通常、１，０００〜２００，０００、好ましくは３０，０００〜１００，０００程度である。
ポリウレタン組成物に用いられる溶剤は、上記ポリウレタン樹脂を溶解または分散するものであれば特に制限はない。また、ポリウレタン組成物は有機溶剤系であってもよいし、エマルジョン、コロイド分散液、水溶液等の水系であってもよい。
【００９１】
有機溶剤としては、たとえば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、アセトン、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル等が用いられる。また、水系の場合にも、たとえば、上記アルコール類やケトン類を配合することもできる。さらに、水系の場合は、分散剤を用いたり、ポリウレ
タン樹脂にカルボキシル基、スルホニル基、アンモニウム基等の官能基を導入したりしてもよい。
【００９２】
上記溶剤の組合せの中では、上記フィルムａの位相差の変化が少なく、かつ、良好な塗工性を得られるという観点から、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよび水から選ばれる溶剤の単独もしくは２種以上の混合による使用が好ましい。
【００９３】
上記ポリウレタン組成物の固形分濃度は、通常、１〜６０重量％、好ましくは１〜３０重量％、さらに好ましくは１〜１０重量％である。固形分濃度が上記範囲よりも低いと、ポリウレタン層を所望の厚みに形成することが難しくなり、一方、上記範囲を超えると、均一なポリウレタン層を形成することが難しくなる傾向にある。
【００９４】
上記ポリウレタン組成物には、さらに後述する各種添加剤（ｖ）を配合してもよい。特にポリウレタン組成物中に親水基含有化合物としてカルボキシル基を導入した場合には、エポキシ系の架橋剤を用いることが好ましい。
【００９５】
このようなエポキシ架橋剤としては、分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有しているものであれば特に制限されず、たとえば、ビスフェノール型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、ハロゲン化エポキシ化合物などが挙げられる。
【００９６】
より具体的には、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテルなどのビスフェノール型エポキシ化合物；
フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物などのノボラック型エポキシ化合物；
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシ化テトラベンジルアルコール、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ラクトン変性エポキシ化テトラヒドロベンジルアルコール、シクロヘキセンオキサイド、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテルなどの脂環式エポキシ化合物類；
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルなどの脂肪族エポキシ化合物；
臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテルなどのハロゲン化エポキシ化合物；
テトラグリシジルアミノフェニルメタンなどのグリシジルアミン型エポキシ化合物が挙げられる。
【００９７】
また、上記化合物以外に、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルなどのポリアルキレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油などが挙げられる。
【００９８】
また、これらの化合物の１種また２種以上を予め適宜好適な範囲で重合したエポキシ樹脂を使用することもできる。
さらに、本発明に用いることのできるエポキシ化合物として、共役ジエン系モノマーの重合体、共役ジエン系モノマーとエチレン性不飽和結合基を有する化合物との共重合体、ジエン系モノマーとエチレン性不飽和結合性基を有する化合物との共重合体、天然ゴム等の（共）重合体をエポキシ化した化合物も挙げられる。
【００９９】
上記ポリウレタン組成物の市販品としては、たとえば、「ハイドランＷＬＳ−２０１」、「ＷＬＳ−２０２」、「ＷＬＳ−２１０」、「ＷＬＳ−２１３」、「ＷＬＳ−２２０」（大日本インキ化学工業（株）製）などが挙げられる。
【０１００】
（ｉｉｉ）ポリシロキサン系薄膜層
上記ポリシロキサン系薄膜層は、上記フィルムａの表面に、アルキルシラン組成物を塗布することにより形成することができる。このようなアルキルシラン組成物には、アルキルシラン化合物および溶剤が含有される。アルキルシラン化合物の例としては、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、テトラデシルトリクロロシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリクロロシラン、ジエトキシメチルオクタデシルシランなどが挙げられる。アルキルシラン化合物はフッ素を含有していてもよい。また、単独でまたは二種類以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０１】
アルキルシラン化合物は加水分解によってシラノール（Ｓｉ−ＯＨ）となり、シラノールが重縮合しシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）を形成することにより硬化する。アルキルシラン組成物を上記フィルムａに塗布し、加熱乾燥させる際に重縮合が進行し硬化膜が得られる。
【０１０２】
（ｉｖ）ポリイミド系薄膜層
上記ポリイミド系薄膜層は、上記フィルムａの表面に、ポリアミック酸組成物または可溶性ポリイミド組成物を塗布し、塗膜を加熱することにより形成することができる。このようなポリアミック酸組成物または可溶性ポリイミド組成物には、ポリアミック酸および／またはポリイミドと、溶剤とが含有される。ポリイミド樹脂は垂直配向膜としての機能を有するものが望ましい。
【０１０３】
上記ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンを反応させることにより得られる。また、可溶性ポリイミドは、当該ポリアミック酸を脱水閉環反応させることにより得られる。
【０１０４】
上記ポリアミック酸の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、
ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジクロロ−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−テトラメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、３，５，６−トリカルボキシノルボルナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物などの脂肪族および脂環式テトラカルボン酸二無水物；
ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，４，４’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルメタン二無水物、エチレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、プロピレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，４−ブタンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，６−ヘキサンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，８−オクタンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−ビス（アンヒドロトリメリテート）などの芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
【０１０５】
上記ポリアミック酸の合成に用いられるジアミンとしては、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノベンズアニリド、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，５−ジアミノナフタレン、３，３−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、５−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４
−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、２，７−ジアミノフルオレン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、４，４’−メチレン−ビス（２−クロロアニリン）、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、１，４，４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２’−ビス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４，４’−ビス［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキシ］−オクタフルオロビフェニル、下記式（ａ）〜（ｇ）などの芳香族ジアミン；
【０１０６】
【化７】
2007065575.tif 000008
【０１０７】
１，１−メタキシリレンジアミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、４，４−ジアミノヘプタメチレンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ［６．２．１．０２，７］−ウンデシレンジメチルジアミン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）などの脂肪族および脂環式ジアミン；
２，３−ジアミノピリジン、２，６−ジアミノピリジン、３，４−ジアミノピリジン、２
，４−ジアミノピリミジン、５，６−ジアミノ−２，３−ジシアノピラジン、５，６−ジアミノ−２，４−ジヒドロキシピリミジン、２，４−ジアミノ−６−ジメチルアミノ−１，３，５−トリアジン、１，４−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジン、２，４−ジアミノ−６−イソプロポキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−メトキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−メチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、４，６−ジアミノ−２−ビニル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−５−フェニルチアゾール、２，６−ジアミノプリン、５，６−ジアミノ−１，３−ジメチルウラシル、３，５−ジアミノ−１，２，４−トリアゾール、６，９−ジアミノ−２−エトキシアクリジンラクテート、３，８−ジアミノ−６−フェニルフェナントリジン、１，４−ジアミノピペラジン、３，６−ジアミノアクリジン、ビス（４−アミノフェニル）フェニルアミンなどの、分子内に２つの１級アミノ基および該１級アミノ基以外の窒素原子を有するジアミンを挙げることができる。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
【０１０８】
ポリアミック酸の合成反応に用いられるテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物の割合は、ジアミン化合物に含まれるアミノ基１当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が０．２〜２当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは０．３〜１．２当量となる割合である。ポリアミック酸の合成反応は、有機溶媒中において、通常−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃の温度条件下で行われる。ここで、有機溶媒としては、合成されるポリアミック酸を溶解できるものであれば特に制限はなく、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒を挙げることができる。また、有機溶媒の使用量（ａ）は、通常、テトラカルボン酸二無水物およびジアミン化合物の総量（ｂ）が反応溶液の全量（ａ＋ｂ）に対して０．１〜３０重量％になるような量であることが好ましい。なお、前記有機溶媒には、ポリアミック酸の貧溶媒であるアルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類などを、生成するポリアミック酸が析出しない範囲で併用することができる。
【０１０９】
以上のようにして、ポリアミック酸が溶解した反応溶液を得ることができる。そして、この反応溶液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得た後、この析出物を減圧下乾燥することによりポリアミック酸を得ることができる。また、このポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解させ、次いで貧溶媒で析出させる工程を１回または数回行うことにより、ポリアミック酸を精製することができる。
【０１１０】
可溶性ポリイミドは、上記ポリアミック酸を脱水閉環することにより調製することができる。ポリアミック酸の脱水閉環は、（Ｉ）ポリアミック酸を加熱する方法により、または（ＩＩ）ポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加し、必要に応じて加熱する方法により行うことができるが、可溶性ポリイミドを得る方法としては、（ＩＩ）の方法が好ましい。
【０１１１】
上記（ＩＩ）の方法において、脱水剤としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸の繰り返し単位１モルに対して０.０１〜２０モルとするのが好ましい。また
、脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの３級アミンを用いることができるが、これらに限定されるものではない。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤１モルに対して０.０１〜１０モルとするのが好ましい。
【０１１２】
脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成において例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、通常０〜１８０℃、好ましくは１０〜１５０℃である。また、得られた反応溶液に対し、ポリアミック酸の精製方法と同様の操作を行うことにより、ポリイミドを精製することができる。
【０１１３】
上記ポリアミック酸組成物および可溶性ポリイミド組成物の固形分濃度は、好ましくは１〜１０重量％である。組成物を構成する有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成において例示した有機溶媒を挙げることができる。また、ポリアミック酸の合成反応の際に併用可能な貧溶媒も適宜選択して併用することができる。
【０１１４】
上記組成物は、後述する各種添加剤（ｖ）を含有しても良い。また、架橋剤としては特に、上述したエポキシ系架橋剤を好適に用いることができる。
（ｖ）添加剤
薄膜層ｃを形成する上記組成物には、さらに架橋剤、粘着付与剤、酸化防止剤、着色剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、塗面改良剤などを配合してもよい。
【０１１５】
また、ポリマーの架橋密度や製膜性を制御するために、微粒子を添加することも好ましい。具体的には、シリカ、ジルコニア、チタニアまたは酸化スズなどの無機微粒子、あるいはアクリル系重合体からなる有機微粒子を用いることが好ましい。
【０１１６】
＜薄膜層ｃの形成方法＞
上記薄膜層ｃの形成方法としては特に限定されないが、たとえばスピンコート、ワイヤーコート、バーコート、ロールコート、ブレードコート、カーテンコート、スクリーン印刷等の各種方法を用いることができる。
【０１１７】
また、上記組成物の乾燥温度としては、特に限定されないが、たとえば、６０〜１５０℃である。薄膜層ｃが加熱により硬化する場合、乾燥と同時に硬化も進行する温度であることが望ましい。薄膜層ｃ中の残留溶剤量は可能な限り少ない方がよく、通常３重量％以下、好ましくは１重量％以下、さらに好ましくは０．５重量％以下である。
【０１１８】
上記薄膜層ｃを光硬化させる場合の光照射量は、３００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2が好ま
しく、４００〜１５００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましく、５００〜１２００ｍＪ／ｃｍ2が特に好ましい。
【０１１９】
上記薄膜層ｃは、全光線透過率が通常８０％以上、好ましくは９０％以上であることが望ましい。
このようにして、フィルムａと光学異方性層ｂとの間に薄膜層ｃを形成することにより、フィルムａと光学異方性層ｂとを積層させる際に、光学異方性層ｂが長期に渡って安定な密着性を得ることができる。また、光学異方性層ｂを構成する液晶化合物のホメオトロピック配向発現を補助することができる。
【０１２０】
＜薄膜層ｃを有する光学フィルムの製造方法＞
本発明の光学フィルムが上記薄膜層ｃを有する場合、該光学フィルムは、未延伸フィルムａ上あるいは特定の光学特性を有するように一軸延伸または二軸延伸処理して得られたフィルムａ上に、上記薄膜層ｃをコーティングにより形成し、該薄膜層ｃ上に、上記液晶組成物を塗工し、加熱により乾燥させるとともにホメオトロピック配向させ、光重合させて液晶硬化層からなる光学異方性層ｂを形成することにより製造することができる。
【０１２１】
また、薄膜層ｃを有する光学フィルムは、上記環状オレフィン系樹脂からなる未延伸フィルムａ上に、前記薄膜層ｃをコーティングにより形成し、該薄膜層ｃ上に上記液晶組成物を塗工して加熱乾燥するとともにホメオトロピック配向させ、光重合させて液晶硬化層からなる光学異方性層ｂを形成して積層フィルムとした後、該積層フィルムを一軸延伸または二軸延伸することにより製造することもできる。
【０１２２】
このようにしてフィルムａと光学異方性層ｂとの間に薄膜層ｃを形成することにより、光学異方性層ｂの密着性が向上し、フィルム加工時あるいは光学フィルム使用時の製造・性能安定性が得られる。また薄膜層ｃは光学異方性層ｂを構成する液晶化合物のホメオトロピック配向発現を補助することができる。
【０１２３】
＜粘着フィルム層ｄ＞
本発明の光学フィルムは、フィルムａ以外の他の基材上で形成した光学異方性層ｂを、粘着フィルムｄによってフィルムａ上に転写、貼合して積層することで得ることができ、結果として、本発明の光学フィルムは粘着フィルム層ｄを有していてもよい。この光学フィルムは同時に薄膜層ｃを有していてもよく、薄膜層ｃは上記フィルムａと粘着フィルム層ｄとの間にあっても、粘着フィルム層ｄと光学異方性層ｂとの間にあっても、その両方にあってもよい。
【０１２４】
粘着フィルム層ｄは、光学異方性層ｂを転写によって上記フィルムａ上に積層させる機能、上記フィルムａと光学異方性層ｂとを密着させる機能を有することが好ましい。粘着フィルム層ｄの材質は特に限定されないが、アクリル系粘着フィルムが望ましい。
【０１２５】
上記粘着フィルム層ｄの厚みは、特に限定されないが、好ましくは０．１〜１００μｍ、より好ましくは１〜５０μｍの範囲である。厚みが上記範囲より薄い場合には、粘着フィルム層ｄの粘着性が不十分となることがある。また、上記範囲より厚い場合には、製膜性が低下することがある。
【０１２６】
粘着フィルム層ｄとして、両面あるいは片面をセパレータで保護された粘着フィルムロールを使用することができる。
＜粘着フィルム層ｄを有する光学フィルムの製造方法＞
本発明の光学フィルムが上記粘着フィルム層ｄを有する場合、該光学フィルムは、ＰＥＴフィルム上やガラス上に上記液晶組成物を塗布し、加熱により乾燥させるとともにホメオトロピック配向させ、光重合させて液晶硬化層からなる光学異方性層ｂを形成した後、この光学異方性層ｂを、粘着フィルム層ｄによって未延伸フィルムａ上あるいは特定の光学特性を有するように一軸延伸または二軸延伸処理して得られたフィルムａ上に転写、貼合することで製造することができる。
【０１２７】
上記各層は、上記フィルムａと粘着フィルム層ｄとを貼合した後に、この粘着フィルム層ｄに他の基材上で形成した光学異方性層ｂを貼合してもよいし、他の基材上で形成した光学異方性層ｂと粘着フィルム層ｄを貼合した後に、この粘着フィルム層ｄと上記フィルムａとを貼合してもよい。
【０１２８】
＜未延伸樹脂フィルム＞
上記環状オレフィン系樹脂からなる未延伸樹脂フィルムは、溶融成形法や溶液流延法（溶液キャスト法）などの公知の製膜法により得ることができる。なお、膜厚の均一性および表面平滑性が良好になる点から、溶液キャスト法が好ましい。また、生産性やコストの面から溶融成形法も好ましい。
【０１２９】
溶液キャスト法としては、たとえば、環状オレフィン系樹脂を適当な溶媒に溶解または
分散させて適度の濃度の樹脂溶液にし、これを適当な基材上に注ぐかまたは塗布して乾燥した後、得られる樹脂膜を基材から剥離させる方法が挙げられる。
【０１３０】
溶液キャスト法に用いられる基材としては、たとえば、金属ドラム、スチールベルト、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステルフィルム、ポリテトラフルオロエチレン製ベルトなどが挙げられる。
【０１３１】
上記基材としてポリエステルフィルムを用いる場合には、表面処理されたフィルムを使用してもよい。表面処理の方法としては、一般的に行われている親水化処理方法、たとえば、アクリル系樹脂やスルホン酸塩基含有樹脂をコーテイングやラミネートにより積層する方法、あるいは、プラズマ処理やコロナ放電処理等によりフィルムの表面の親水性を向上させる方法などが挙げられる。
【０１３２】
上記樹脂溶液中における樹脂成分の濃度は、通常、０．１〜９０重量％、好ましくは１〜５０重量％、さらに好ましくは５〜３５重量％である。樹脂成分の濃度が上記範囲よりも低い場合には、十分な厚みを有する樹脂フィルムが得られないことがあり、また、溶媒の蒸発に伴って生ずる発泡等によって、良好な表面平滑性を有する樹脂フィルムが得られないことがある。一方、樹脂成分の濃度が上記範囲を超える場合には、樹脂溶液の粘度が高くなりすぎ、厚みや表面状態が均一な樹脂フィルムが得られないことがある。
【０１３３】
また、樹脂溶液は、室温における粘度が、通常、１〜１，０００，０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは１０〜１００，０００ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは１００〜５０，０００ｍＰａ・ｓ、特に好ましくは１，０００〜４０，０００ｍＰａ・ｓである。
【０１３４】
樹脂溶液の調製に用いられる溶媒としては、環状オレフィン系樹脂の場合には、たとえば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１−メトキシ−２−プロパノール等のセロソルブ系溶媒；ジアセトンアルコール、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン、エチルシクロヘキサノン、１，２−ジメチルシクロヘキサン等のケトン系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル等のエステル系溶媒；２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン含有溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；１−ペンタノール、１−ブタノール等のアルコール系溶媒などが挙げられる。上記溶媒は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１３５】
基材に樹脂溶液を塗布する方法としては、ダイス、コーター、ハケなどを用いる方法、スプレー法、ロールコート法、スピンコート法、ディッピング法、グラビア法などを用いることができる。また、所望の厚みの光学フィルムを得るために、樹脂溶液の塗布を繰り返し行ってもよい。
【０１３６】
基材に塗布された樹脂溶液から溶媒を蒸発させる方法としては、特に制限されるものはなく、一般的に用いられる方法、たとえば、多数のローラーによって乾燥炉中を通過させる方法などを利用することができるが、溶媒の蒸発に伴って気泡が発生すると、得られる光学フィルムの特性が著しく低下することがある。したがって、気泡の発生を回避するために、溶媒の蒸発処理を複数の工程によって行うとともに、各工程における温度および風量を制御することが好ましい。
【０１３７】
樹脂フィルム中に残留する溶媒の量は、通常は２０重量％以下、好ましくは５重量％以下、さらに好ましくは１重量％以下、特に好ましくは０．５重量％以下である。残留溶媒量が上記範囲を超える場合には、当該樹脂フィルムを実際に使用したときに、経時的な寸
法変化が大きくなることがあり、また、残留する溶媒によってガラス転移温度が低くなって耐熱性が低下することがある。
【０１３８】
また、後述する延伸工程を好適に行うためには、樹脂フィルム中に残留する溶媒の量を上記範囲内で適宜調節することが必要となることがある。具体的には、延伸処理による位相差を安定して均一に発現させるために、残留する溶媒の量を、通常２０〜０．１重量％、好ましくは５〜０．１重量％、さらに好ましくは１〜０．１重量％とすることがある。このような範囲に溶媒の量を制御することにより、容易に延伸処理を行うことができ、また、位相差の制御を容易に行うことができる。
【０１３９】
樹脂フィルム中に残留する溶媒の量を上述した範囲でコントロールして延伸工程を経た後に、位相差等の光学特性を安定にするため更に乾燥工程で残留溶媒量を低減させても良い。その場合には、残留溶媒量は好ましくは５〜０．１重量％、さらに好ましくは１〜０．１重量％とする。
【０１４０】
このようにして得られる樹脂フィルムの厚みは、通常０．１〜３，０００μｍ、好ましくは０．１〜１，０００μｍ、さらに好ましくは１〜５００μｍ、特に好ましくは５〜３００μｍである。この厚みが上記範囲よりも小さい場合には、当該樹脂フィルムのハンドリングが実際上困難となる。一方、この厚みが上記範囲を超える場合には、当該樹脂フィルムをロール状に巻き取ることが困難になる。
【０１４１】
上記樹脂フィルムにおける厚み分布は、平均値に対して通常±２０％以内、好ましくは±１０％以内、さらに好ましくは±５％以内、特に好ましくは±３％以内であり、また、１ｃｍあたりの厚みの変動率は、通常は１０％以下、好ましくは５％以下、さらに好ましくは１％以下、特に好ましくは０．５％以下であることが好ましい。このような厚み条件で樹脂フィルムを形成することにより、当該樹脂フィルムを延伸処理したときには、透過光の位相差ムラの発生を防止することができる。
【０１４２】
＜延伸処理＞
上記のようにして得られた未延伸樹脂フィルムを、上述した光学特性を得るために延伸処理する方法としては、公知の自由端一軸延伸、幅拘束一軸延伸または二軸延伸する方法が用いられる。
【０１４３】
一軸延伸処理の場合、延伸速度は、通常１〜５，０００％／分であり、好ましくは５０〜１，０００％／分であり、より好ましくは１００〜１，０００％／分である。
二軸延伸処理法の場合、同時に二方向に延伸処理を行う方法、一軸延伸処理した後に当該延伸処理における延伸方向と異なる方向に延伸処理する方法を利用することができる。このとき、２つの延伸軸の交わり角度は、目的とする光学フィルムに要求される特性に応じて決定され、特に限定されないが、通常、１２０〜６０度の範囲である。また、延伸速度は、各延伸方向で同じであってもよく、異なっていてもよく、通常は１〜５，０００％／分であり、好ましくは５０〜１，０００％／分であり、さらに好ましくは１００〜１，０００％／分であり、特に好ましくは１００〜５００％／分である。
【０１４４】
延伸処理温度は、特に限定されるものではないが、樹脂フィルムのガラス転移温度Ｔｇを基準として、Ｔｇ±３０℃、好ましくはＴｇ±１５℃、さらに好ましくはＴｇ−５〜Ｔｇ＋１５℃の範囲である。延伸処理温度を上記範囲内に設定することにより、得られる延伸フィルムに位相差ムラが発生することを抑制することができ、また、各成分の屈折率の制御が容易となることから好ましい。
【０１４５】
延伸倍率は、目的とする光学フィルムに要求される特性に応じて決定され、特に限定さ
れないが、通常は１．０１〜１０倍、好ましくは１．０３〜５倍、さらに好ましくは１．０３〜３倍である。延伸倍率が上記範囲を超えると、得られる延伸フィルムの位相差の制御が困難になることがある。延伸処理されたフィルムは、そのまま冷却してもよいが、樹脂フィルムのＴｇ−２０℃〜Ｔｇの温度雰囲気下に少なくとも１０秒間以上、好ましくは３０秒間〜６０分間、さらに好ましくは１〜６０分間保持した後に冷却することが好ましい。これにより、透過光の位相差の経時変化が少なく安定した位相差フィルムが得られる。
【０１４６】
上記のようにして延伸処理が施されたフィルムは、延伸処理により分子が配向する結果、透過光に位相差を与えるようになるが、この位相差は、延伸倍率、延伸温度あるいはフィルムの厚さなどにより制御することができる。
【０１４７】
＜用途＞
本発明の光学フィルムは、上述した光学特性を有し、視野角補償効果に優れていることから、液晶表示装置、特にＩＰＳモードの液晶表示装置に用いられる視野角補償フィルムとして好適である。視野角補償フィルム以外にも集光フィルム、輝度向上フィルムの一部としても液晶表示装置に用いることができる。また、これ以外にも、たとえば、携帯電話、デジタル情報端末、ポケットベル、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、ＯＡ機器用ディスプレイ、ＡＶ機器用ディスプレイなどの各種液晶表示素子、エレクトロルミネッセンス表示素子、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）素子またはタッチパネルなどに用いることができる。また、ＣＤ、ＣＤ−Ｒ、ＭＤ、ＭＯ、ＤＶＤ等の光ディスクの記録・再生装置に使用される波長板としても有用である。
【０１４８】
＜偏光板＞
本発明に係る偏光板は、偏光子（偏光フィルム）の片面または両面に、上記本発明の光学フィルムを積層したものである。積層方法としては、偏光子と光学フィルムとを、適当な接着剤または粘着剤を介して直接貼り合わせてもよく、保護フィルムが積層された偏光子に光学フィルムを貼り合わせてもよい。コスト等を考慮すれば、偏光子に本発明の光学フィルムを直接積層することが好ましい。
【０１４９】
上記偏光子（偏光フィルム）としては特に限定されないが、たとえば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタールなどのポリビニルアルコール系樹脂からなるフィルムに、ヨウ素や二色性染料等の偏光成分を含有させて延伸することにより得られるフィルムを用いることができる。
【０１５０】
上記保護フィルムとしては特に限定されないが、たとえば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリエーテルスルホン系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリイミド系フィルム、ポリオレフィン系フィルムなどの透明性、機械的強度、熱安定性などに優れるポリマーフィルムを用いることができる。
【０１５１】
上記偏光子に保護フィルムを積層させる際に用いられる接着剤または粘着剤としては、特に限定されないが、たとえば、アクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーからなる接着剤または粘着剤を用いることができる。特に、偏光子としてＰＶＡからなるフィルムを用いた場合、接着性の観点からＰＶＡ系接着剤を用いることが好ましい。
【０１５２】
上記偏光子に光学フィルムを直接積層させる場合に用いられる接着剤または粘着剤としては、特に限定されないが、たとえば、アクリル酸エステル系ポリマーの水系分散体からなる水系粘着剤などを用いることができる。このような水系粘着剤をもちいることにより、密着性をより向上させて耐久安定性に優れたものとなる点で好ましい。また、保護フィ
ルムが積層された偏光子に光学フィルムを積層させる場合に用いられる接着剤または粘着剤としては、特に限定されず、上述したような接着剤または粘着剤などを適宜用いることができる。
【０１５３】
本発明の偏光板は、視野角補償効果に優れていることから、ＩＰＳモードの液晶表示装置における液晶セルの片面または両面に該偏光板を配置させることにより、黒表示時の光漏れや色抜け（着色）を防止することができるとともに、高いコントラスト比を得ることができる。また、本発明の偏光板は、高温条件下で長時間使用しても特性の変化が小さいことから、幅広い用途に利用することができる。
【０１５４】
［実施例］
以下、実施例を挙げ、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下において、「部」および「％」は、特に断りのない限り「重量部」および「重量％」を意味する。
【０１５５】
本発明における各種測定値の測定方法を以下に示す。
「ガラス転移温度（Ｔｇ）」
セイコーインスツルメンツ社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて、窒素雰囲気、昇温速度：２０℃／分の条件で測定した。
【０１５６】
「飽和吸水率」
ＡＳＴＭ  Ｄ５７０に準拠し、２３℃の水中に１週間サンプルを浸漬し、浸漬前後の重量変化を測定して求めた。
【０１５７】
「全光線透過率、ヘイズ」
スガ試験機社製ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ型）を使用して測定した。
「透過光の位相差」
王子計測機器（株）製「ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ」を用いて測定した。光学異方性層ｂ単独の位相差は、積層した光学フィルムの位相差とフィルムａの位相差との差として求めた。ただし、光学フィルムが薄膜層ｃおよび／または粘着フィルム層ｄを含む場合には、上記「フィルムａの位相差」は、フィルムａと上記層とを含む積層フィルムの位相差とした。
【０１５８】
「光学異方性層ｂの厚み」
大塚電子（株）製「ＦＥ−３０００」を用いて光学フィルムの反射率を測定し、光学異方性層ｂおよびフィルムａの平均屈折率と厚みとから計算できる反射率を実測反射率にフィッティングさせることで厚みを算出した。
【０１５９】
「輝度、視野角およびコントラスト比」
ミノルタ株式会社製の輝度計（ＬＳ−１１０）を用い、液晶パネルの輝度、視野角およびコントラスト比を暗室にて測定した。
【０１６０】
「残留溶媒量」
サンプルを使用溶媒以外の良溶媒に溶解し、得られた溶液をガスクロマトグラフィー（島津製作所製ＧＣ−７Ａ）を用いて分析した。
【０１６１】
「対数粘度」
ウベローデ型粘度計を用いて、クロロホルム、シクロヘキサンまたはＮ−メチル−２−ピロリドン中（試料濃度：０．５ｇ/ｄＬ）、３０℃で測定した。
【０１６２】
＜合成例１＞
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−
３−ドデセン（特定単量体）２５０部と、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部と、トルエン（開環重合反応用溶媒）７５０部とを、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を６０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒としてトリエチルアルミニウム（１．５モル／ｌ）のトルエン溶液０．６２部と、ｔ−ブタノールおよびメタノールで変性した六塩化タングステン（ｔ−ブタノール：メタノール：タングステン＝０．３５モル：０．３モル：１モル）のトルエン溶液（濃度０．０５モル／ｌ）３．７部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であり、得られた開環重合体について、３０℃のクロロホルム中で測定した対数粘度は０．７５ｄｌ／ｇであった。
【０１６３】
このようにして得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ2、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱攪拌して水素添加反
応を行った。
【０１６４】
得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下、「樹脂Ａ１」という）を得た。
【０１６５】
このようにして得られた樹脂Ａ１について、
1Ｈ−ＮＭＲを用いて測定した水素添加率は９９．９％、
ＤＳＣ法により測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は１６５℃、
ＧＰＣ法（カラム：東ソー（株）製ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ７０００ＨXL×１、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨXL×２およびＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００ＨXL×１の４本直列、溶媒：テトラヒドロフラン）により測定した、ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は３２，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）は１３７，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は４．２９、
２３℃における飽和吸水率は０．３％、
ＳＰ値は１９（ＭＰａl/2）、
３０℃のクロロホルム中における対数粘度は０．７８ｄｌ／ｇ
であった。
【０１６６】
＜合成例２＞
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−
３−ドデセン２１５部と、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン３５部とを使用し、１−ヘキセン（分子量調節剤）の添加量を１８部としたこと以外は、合成例１と同様にして水素添加重合体（以下、「樹脂Ａ２」という）を得た。
【０１６７】
得られた樹脂Ａ２について、
水素添加率は９９．９％、
ＤＳＣ法により測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は１２５℃、
ＧＰＣ法（カラムおよび溶媒は合成例１に同じ）により測定した、ポリスチレン換算のＭｎは４６，０００、Ｍｗは１９０，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は４．１５、
２３℃における飽和吸水率は０．１８％、
ＳＰ値は１９（ＭＰａl/2）、
３０℃のクロロホルム中における対数粘度は０．６９ｄｌ／ｇ、
ゲル含有量は０．２％
であった。
【０１６８】
＜合成例３＞
テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン５３部と、８−エチリデ
ンテトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］−３−ドデセン４６部と、トリシクロ［
４．３．０．１2,5］−デカ−３，７−ジエン６６部とを使用し、１−ヘキセン（分子量
調節剤）の添加量を１８部とし、開環重合反応用溶媒としてトルエンの代わりにシクロヘキサンを使用したこと以外は、合成例１と同様にして水素添加重合体（以下、「樹脂Ａ３」という）を得た。
【０１６９】
得られた樹脂Ａ３について、
水素添加率は９９．９％、
ＤＳＣ法により測定したガラス転移温度（Ｔｇ）は１３７℃、
ＧＰＣ法（カラムおよび溶媒は合成例１に同じ）により測定した、ポリスチレン換算のＭｎは３９，０００、Ｍｗは１５８，０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は４．０５、
２３℃における飽和吸水率は０．０１％、
ＳＰ値は１７（ＭＰａl/2）、
３０℃のクロロホルム中における対数粘度は０．７０ｄｌ／ｇ、
ゲル含有量は０．２％
であった。
【０１７０】
＜製造例１＞
樹脂フィルム（ａ１−１）の製造
上記樹脂Ａ１をトルエンに３０％濃度（室温での溶液粘度は３０，０００ｍＰａ・ｓ）になるように溶解し、酸化防止剤としてペンタエリスリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］を樹脂１００重量部に対して０．１重量部を添加し、日本ポール製の孔径５μｍの金属繊維焼結フィルターを用い、差圧が０．４ＭＰａ以内に収まるように溶液の流速をコントロールしながら濾過した。得られた溶液を、クラス１０００のクリーンルーム内に設置した井上金属工業製「ＩＮＶＥＸラボコーター」を用い、アクリル酸系で親水化（易接着性化）表面処理した厚さ１００μｍの基材のＰＥＴフィルム（東レ（株）製「ルミラーＵ９４」）上に、乾燥後のフィルム厚みが１００μｍになるように塗布し、これを５０℃で一次乾燥の後、９０℃で二次乾燥を行った。ＰＥＴフィルムを剥がして樹脂フィルム（ａ１−１）を得た。得たフィルムの残留溶媒量は０．５％であり、全光線透過率は９３％であった。
【０１７１】
＜製造例２＞
樹脂フィルム（ａ２−１）の製造
樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ａ２を使用したこと以外は製造例１と同様の方法により、厚さ１００μｍの樹脂フィルム（ａ２−１）を得た。得たフィルムの残留溶媒量は０．５％であり、全光線透過率は９３％であった。
【０１７２】
＜製造例３＞
樹脂フィルム（ａ３−１）の製造
樹脂Ａ１の代わりに樹脂Ａ３を使用し、トルエンの代わりにシクロヘキサンを用いたこと以外は製造例１と同様の方法により、厚さ１５０μｍの樹脂フィルム（ａ３−１）を得た。得たフィルムの残留溶媒量は０．５％であり、全光線透過率は９３％であった。
【０１７３】
＜製造例４＞
延伸フィルム（ａ１−２）の製造
上記樹脂フィルム（ａ１−１）を１８０℃で一方向に１．２２倍延伸処理することにより、膜厚９２μｍの延伸フィルム（ａ１−２）を得た。得た延伸フィルム（ａ１−２）のＲaは１３０ｎｍ、Ｒaｔｈは６８ｎｍであった。
【０１７４】
＜製造例５＞
延伸フィルム（ａ２−２）の製造
上記樹脂フィルム（ａ２−１）を１３３℃で一方向に１．１０倍延伸処理することにより、膜厚９６μｍの延伸フィルム（ａ２−２）を得た。得た延伸フィルム（ａ２−２）のＲaは１０８ｎｍ、Ｒaｔｈは７２ｎｍであった。
【０１７５】
＜製造例６＞
延伸フィルム（ａ３−２）の製造
上記樹脂フィルム（ａ３−１）を１４５℃で一方向に１．１５倍延伸処理することにより、膜厚１４２μｍの延伸フィルム（ａ３−２）を得た。得た延伸フィルム（ａ３−２）のＲaは１５８ｎｍ、Ｒaｔｈは１０４ｎｍであった。
【０１７６】
＜製造例７＞
薄膜層を有するフィルム（ａ１−３）の製造
上記延伸フィルム（ａ１−２）に、紫外線硬化性樹脂である「デソライトＺ７５２４」（ＪＳＲ（株）製）を、固形分濃度５０重量％になるようにメチルエチルケトンで希釈した組成物を、ギャップ１２μｍのワイヤーバーで塗工し、８０℃で３分間加熱して溶剤を揮発させた。その後、塗工面側に水銀ランプを用いて９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射
し、薄膜層を有するフィルム（ａ１−３）を得た。
【０１７７】
＜製造例８＞
薄膜層を有するフィルム（ａ２−３）の製造
延伸フィルム（ａ１−２）の代わりに、延伸フィルム（ａ２−２）を用いた以外は製造例７と同様に行い、薄膜層を有するフィルム（ａ２−３）を得た。
【０１７８】
＜製造例９＞
薄膜層を有するフィルム（ａ３−３）の製造
延伸フィルム（ａ１−２）の代わりに、延伸フィルム（ａ３−２）を用いた以外は製造例７と同様に行い、薄膜層を有するフィルム（ａ３−３）を得た。
【０１７９】
＜製造例１０＞
薄膜層を有するフィルム（ａ１−４）の製造
延伸フィルム（ａ１−２）の代わりに、樹脂フィルム（ａ１−１）を用いた以外は製造例７と同様に行い、薄膜層を有するフィルム（ａ１−４）を得た。
【０１８０】
＜製造例１１＞
薄膜層を有するフィルム（ａ１−５）
上記延伸フィルム（ａ１−２）に、ポリエーテルポリウレタン材料である「ハイドランＷＬＳ−２０１」（大日本インキ化学工業（株）製）を、メチルエチルケトンにて３重量％になるよう希釈した組成物を、ギャップ１２μｍのワイヤーバーを用いて塗布し、８０℃で５分間加熱乾燥させることにより、薄膜層を有するフィルム（ａ１−５）を得た。
【実施例１】
【０１８１】
薄膜層を有するフィルム（ａ１−３）の薄膜層表面に、液晶組成物ＲＭＳ０３−０１５（メルク株式会社製、キシレン溶液）を、ギャップ３μｍのワイヤーバーを用いて塗布し、８０℃で２分間加熱乾燥させた。その後、液晶組成物塗工面側から水銀ランプを用いて９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、薄膜層を有するフィルム（ａ１−３）と液晶硬
化層からなる光学異方性層（ｂ１）が一体になった積層型光学フィルム（１）を得た。得た光学フィルム（１）は、光学異方性層（ｂ１）の厚みが０．０８μｍ、全光線透過率が
９１％であった。
【実施例２】
【０１８２】
薄膜層を有するフィルム（ａ１−３）の代わりに薄膜層を有するフィルム（ａ２−３）を使用したこと、およびギャップ１２μｍのワイヤーバーを用いたこと以外は実施例１と同様の方法により、薄膜層を有するフィルム（ａ２−３）と液晶硬化層からなる光学異方性層（ｂ２）とが一体になった積層型光学フィルム（２）を得た。得た光学フィルム（２）は、光学異方性層（ｂ２）の厚みが０．４１μｍ、全光線透過率が９０％であった。
【実施例３】
【０１８３】
薄膜層を有するフィルム（ａ１−３）の代わりに薄膜層を有するフィルム（ａ３−３）を使用したこと以外は実施例１と同様の方法により、薄膜層を有するフィルム（ａ３−３）と液晶硬化層からなる光学異方性層（ｂ３）とが一体になった積層型光学フィルム（３）を得た。得た光学フィルム（３）は、光学異方性層（ｂ３）の厚みが０．１３μｍ、全光線透過率が９１％であった。
【実施例４】
【０１８４】
薄膜層を有するフィルム（ａ１−３）の代わりに薄膜層を有するフィルム（ａ１−４）を使用したこと、およびギャップ１２μｍのワイヤーバーを用いたこと以外は実施例１と同様の方法により、薄膜層を有するフィルム（ａ１−４）と液晶硬化層からなる光学異方性層（ｂ４）とが一体になった積層型光学フィルム（４）を得た。得た光学フィルム（４）は、光学異方性層（ｂ４）の厚みが０．３μｍ、全光線透過率が９１％であった。
【実施例５】
【０１８５】
薄膜層を有するフィルム（ａ１−３）の代わりに薄膜層を有するフィルム（ａ１−５）を使用したこと以外は実施例１と同様の方法により、薄膜層を有するフィルム（ａ１−５）と液晶硬化層からなる光学異方性層（ｂ５）とが一体になった積層型光学フィルム（５）を得た。得た光学フィルム（５）は、光学異方性層（ｂ５）の厚みが０．１０μｍ、全光線透過率が９１％であった。
【実施例６】
【０１８６】
薄膜層を有するフィルム（ａ１−３）の代わりに延伸フィルム（ａ１−２）を使用したこと、およびギャップ１２μｍのワイヤーバーを用いたこと、液晶組成物ＲＭＳ０３−０１５（メルク株式会社製、キシレン溶液）の溶剤をシクロヘキサノンに置換したこと以外は実施例１と同様の方法により、延伸フィルム（ａ１−２）と液晶硬化層からなる光学異方性層（ｂ６）とが一体になった積層型光学フィルム（６）を得た。得た光学フィルム（６）は、光学異方性層（ｂ６）の厚みが０．１８μｍ、全光線透過率が９１％であった。
【実施例７】
【０１８７】
薄膜層を有するフィルム（ａ１−３）の代わりに厚さ１００μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製「ルミラーＵ９４」）を使用したこと、およびギャップ１２μｍのワイヤーバーを用いたこと以外は実施例１と同様の方法により、ＰＥＴフィルム上に液晶硬化層からなる光学異方性層（ｂ７）を有する積層フィルムを得た。この積層フィルムの光学異方性層（ｂ７）の面にアクリル系粘着フィルム（日東電工（株）製「ＣＳ９６２１」）の一方の面を貼り付け、粘着フィルムの他方の面を延伸フィルム（ａ１−２）に貼り付けた後、ＰＥＴフィルムを剥がし、延伸フィルム（ａ１−２）とアクリル系粘着フィルムと光学異方性層（ｂ７）とが一体になった積層型光学フィルム（７）を得た。得た光学フィルム（７）は、光学異方性層（ｂ７）の厚みが０．４５μｍ、全光線透過率が９２％であった。
【０１８８】
実施例１〜７で得られた光学フィルムの光学特性および膜厚を表１に示す。なお、実施
例１〜５におけるフィルムａの光学特性は、薄膜層を含めた光学特性を示した。
【０１８９】
【表１】
2007065575.tif 000009
【０１９０】
上記結果のうち、例えば実施例２では積層タイプの光学フィルム（２）のフィルム面内の位相差は１０８ｎｍであり、薄膜層を有するフィルム（ａ２−３）のみの面内位相差も１０８ｎｍであり、差が全くない。また、光学フィルム（２）の位相差をフィルム法線方向から傾斜させて測定すると傾斜角が増すにつれ位相差が減少した。Ｒｔｈを計算すると値がマイナスになり、ｎｚすなわち厚み方向の屈折率が相対的に大きいことがわかった。この結果から、光学異方性層（ｂ２）はフィルム面内の位相差がなく厚み方向の屈折率が大きい（ｎｚ＞ｎｘ≒ｎｙ）、いわゆるポジティブＣプレートとなっていることが言える。これは同時に光学異方性層（ｂ２）がホメオトロピック配向であることを意味する。
【０１９１】
また、本発明の光学フィルムは、環状オレフィン系フィルムａの厚みおよび延伸度合いと、光学異方性層ｂの厚みの選択により幅広い光学特性のコントロールが可能であることが明らかとなった。
【０１９２】
＜水系粘着剤の調製例＞
反応容器に蒸留水２５０部を仕込み、当該反応容器にアクリル酸ブチル９０部と、２−ヒドロキシエチルメタクリレート８部と、ジビニルベンゼン２部と、オレイン酸カリウム
０．１部とを添加し、これをテフロン（登録商標）製の撹拌羽根により撹拌して分散処理した。当該反応容器内を窒素置換した後、この溶液を５０℃まで昇温し、過硫酸カリウム０．２部を添加して重合を開始した。２時間経過後、過硫酸カリウム０．１部をさらに添加し、この系を８０℃まで昇温し、１時間にわたり重合反応を継続させて重合体分散液を得た。次いで、エバポレータを用いて、固形分濃度が７０％になるまでこの重合体分散液を濃縮することにより、アクリル酸エステル系重合体の水系分散体からなる水系粘着剤（極性基を有する粘着剤）を得た。
【０１９３】
このようにして得られた水系粘着剤を構成するアクリル酸エステル系重合体について、ＧＰＣ法（カラムおよび溶媒は合成例１に同じ）によりポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）および重量平均分子量（Ｍｗ）を測定したところ、Ｍｎは６９，０００、Ｍｗは１３５，０００であり、３０℃のクロロホルム中で測定した対数粘度は１．２ｄｌ／ｇであった。
【実施例８】
【０１９４】
ポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」ともいう）製フィルムを、ヨウ素濃度が０．０３重量％であり、ヨウ化カリウム濃度が０．５重量％である３０℃水溶液の染色浴にて、延伸倍率３倍で前延伸した後、ほう酸濃度が５重量％であり、ヨウ化カリウム濃度が８重量％である水溶液からなる５５℃の架橋浴中で、さらに延伸倍率２倍で後延伸し、乾燥処理して偏光子を得た。
【０１９５】
また、光学フィルム（１）の液晶硬化層と反対側の面に、ポリエーテルポリウレタン材料である「ハイドランＷＬＳ−２０１」（大日本インキ化学工業（株）製）を、メチルエチルケトンにて３重量％になるよう希釈した組成物を、ギャップ１２μｍのワイヤーバーを用いて塗布し、８０℃で５分間加熱乾燥させることにより、ポリウレタン薄膜層を有する光学フィルム（５）を得た。
【０１９６】
次に、上記偏光子の片面と上記光学フィルム（５）のポリウレタン薄膜層面とを、偏光子の透過軸と光学フィルム（５）の延伸方向の軸が平行になるように、上記水系接着剤を用いて貼付し、上記偏光子のもう一方の面に、トリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」ともいう）製フィルムをＰＶＡ系接着剤を用いて貼付して偏光板（１）を得た。得られた偏光板（１）の透過率および偏光度を調べたところ、それぞれ４３．０％および９９．８％であった。
【０１９７】
また、上記偏光子の両面にトリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」ともいう）製フィルムをＰＶＡ系接着剤を用いて貼付して、位相差フィルムを持たない偏光板（２）を得た。
【０１９８】
上記偏光板（１）の特性を評価するため、ＩＰＳ方式液晶を採用しているＬＧ電子株式会社製液晶テレビ（ＣＲ−Ｌ１７ＳＣ）の液晶パネルの両面に貼付している偏光板および位相差フィルムを剥離し、上記偏光板（１）を、偏光板（１）の位相差フィルム（光学フィルム（５））が液晶セル側になるように液晶パネルの前面（観察者側）に貼付した。さらに、液晶パネルの後ろ面（観察者側と反対側）に、上記偏光板（２）を、その透過軸が偏光板（１）の透過軸と直交するように添付した。
【０１９９】
この偏光板（１）を有する液晶テレビについて、方位角４５度で極角６０度方向でのコントラスト比を確認したところ、５５と高い数値であった。また、全方位で視野角（コントラスト比１０以上の領域）を調べたところ、上下、左右、斜め方向の全てで１７０度以上であった。
【０２００】
また、耐久試験として１００℃の環境下、および６０℃、９０ＲＨ％の環境下にそれぞれ１，０００時間放置した偏光板（１）について偏光度を調べたところ、耐久試験前後での偏光度の変化率［＝（変化前−変化後）×１００／変化前］はいずれも５％以内であった。
【０２０１】
［比較例］
樹脂フィルム（ａ１−１）の代わりにＴＡＣフィルムを使用したこと以外は、製造例６と同様に延伸し、製造例７と同様に薄膜層を形成し、実施例１と同様にして光学異方性層を積層し、実施例８と同様にして偏光板（３）を得た。当該偏光板（３）の透過率および偏光度を調べたところ、それぞれ４３．０％および９９．８％であった。
【０２０２】
偏光板１の代わりに偏光板（３）を実施例５と同様にして液晶テレビに貼付し、反対側の面に実施例５と同様にして偏光板（２）を貼付した。この偏光板（３）を有する液晶テレビについて、方位角４５度で極角６０度方向でのコントラスト比を確認したところ、５０であった。また、全方位で視野角（コントラスト比１０以上の領域）を調べたところ、上下、左右、斜め方向の全てで１７０度以上であった。
【０２０３】
また、耐久試験として１００℃の環境下、および６０℃、９０ＲＨ％の環境下にそれぞれ１，０００時間放置した偏光板（３）について偏光度を調べたところ、偏光度の変化率はいずれも１０％以上であった。