(57)【要約】【課題】  ガスケット付フィルタの着脱が容易で、かつ漏れ検査を容易に行うことができるガス供給機器用流路ブロック及び半導体製造用ガス供給ユニットを提供する。【解決手段】  流体が流れる流路２１を有する本体部材２と流路２１と連通す流路３１を有する継手部材３とがボルト５により締結されて流路ブロックが形成されるとともに、継手部材３に設けられた突出部３１ｃと本体部材２に設けられた突出部２１ｄとの間にガスケット付フィルタ４が挟着され、このフィルタの外径側にそれよりも内径が大きくかつスリット６１を有するガイドリング６が圧入され、このスリットを通してブロックの内部は外気と連通される。【選択図】  図２
2007321833.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体が流れる第１の流路を有する第１の流路部材と、前記第１の流路部材に着脱自在に締結され、前記第１の流路と連通可能な第２の流路を有する第２の流路部材と、前記第１の流路部材と前記第２の流路部材とで挟着される円環状ガスケットとその内部に外周縁部が保持されかつ前記第１の流路と前記第２の流路を仕切る円板状フィルタを有するガスケット部材と、前記ガスケット部材の外周側を取り囲みかつ前記流路部材の一方に圧入され、前記各流路を外気と連通させる開口を有するガイドリングを有することを特徴とするガス供給機器用流路ブロック。
【請求項２】
前記開口は、前記ガイドリングの一方の端面から長さ方向の途中まで形成されたスリットであることを特徴とする請求項１に記載のガス供給機器用流路ブロック。
【請求項３】
前記第１の流路部材は、前記第１の流路の一端部が存在する上面に、そこに装着される部材の一部を受取る位置決め穴を有するとともに、前記上面と反対側の下面に、そこに装着される部材に差込まれる位置決めピンを有することを特徴とする請求項１又は２に記載のガス供給機器用流路ブロック。
【請求項４】
ベースプレートの上面に、複数の流路ブロックを介して連結された複数の流体制御機器が搭載された半導体製造用ガス供給ユニットにおいて、流体の入口側及び／又は出口側に設けられた流体制御機器と前記ベースプレートとの間に、請求項１〜３のいずれかに記載のガス供給機器用流路ブロックが設置されていることを特徴とする半導体製造用ガス供給ユニット。
【請求項５】
ベースプレートの上面に、複数の流路ブロックを介して連結された複数の流体制御機器が搭載された半導体製造用ガス供給ユニットにおいて、流体の入口側及び／又は出口側に設けられた流体制御機器の一部を前記第１の流路部材として含む請求項１〜３のいずれかに記載のガス供給機器用流路ブロックを有することを特徴とする半導体製造用ガス供給ユニット。
【請求項６】
前記流体の入口側及び／又は出口側に設けられた流体制御機器は開閉弁であることを特徴とする請求項４又は５に記載半導体製造用ガス供給ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスを供給するために用いられる流路ブロック、及びそれを備えた半導体製造装置用ガス供給ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体の製造プロセスにおいては、薄膜形成工程などで微量（例えば３〜３０ＳＣＣＭ）の成膜ガスあるいはエッチングガスが使用されるので、質量流量を検出するセンサ部と流量制御弁を有するマスフローコントローラに開閉弁、レギュレータなどの制御機器を接続してガス供給ユニットを構成し、質量流量（マスフロー）を計測して高精度（例えば±１．０％以下のフローレート）でガスの供給を制御することが行われている。この種ガス供給ユニットにおいては、ガスに混入したコンタミネ−ションが開閉弁の弁座部や、センサ部などに付着すると、開閉弁の閉動作ができなくなる、あるいはレギュレータによる圧力制御やマスフローコントローラによる流量制御に誤差が生じてしまうので、通常は各制御機器の接続部などにフィルタを設け、微細なコンタミネーションの除去を行っている。またコンパクトな制御機器を構成するために、デッドボリュームを最小限に止めるための工夫もなされている。
【０００３】
上記の半導体製造プロセスでは、腐食性を有する反応性ガスガスが用いられことがあるので、継続的に制御ユニットが継続して使用されると、ガス供給制御機器の内部に生成物が付着することが避けられない。特に微細な多孔質構造であるフィルタ部に生成物が付着するとフィルタが目詰まりを起こし、必要な流量を確保できなくなる。そこで定期的に各制御機器のメンテナンスが行われ、フィルタは定期的に交換されている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、入口通路および出口通路が形成されたブロック状本体に、流体の圧力および流量のいずれかを検出するセンサと、センサからの信号に基づいて流体の通路の開閉度を制御するアクチュエータとが取り付けられ、本体の入口通路に通じる導入通路を有する通路ブロックが本体に突き合わせられており、本体の入口通路と通路ブロックの導入通路との突き合わせ部にガスケットフィルタが装着されている流体制御器が記載されている。このガスケットフィルタは、シール性を確保するとともに、フィルタ機能を果たすために、円環状のガスケット本体と、溶接などによりこれと一体化された、多数の孔があけられた金属製円板状体からなるフィルタとを備えている。
【０００５】
また、特許文献２には、互いに連通する流体通路を有している第１および第２の継手部材と、両継手部材の突き合わせ端面間に介在させられる円環状ガスケットと、ガスケットを保持するリテーナとを備えている流体継手において、各継手部材の突き合わせ端面にリテーナ収納凹所が設けられ、各リテーナ収納凹所の底面に環状突起付きのガスケット押さえ用環状突出部が設けられており、リテーナが、ガスケットの外周面を保持していずれか一方の継手部材の環状突出部外周に取り付けられるリテーナ本体と、両継手部材突き合わせ時に同他方の継手部材のリテーナ収納凹所周面を案内するガイドリング部とよりなる流体継手が記載されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１６７３１８号公報（第４〜５頁、図１、図２）
【特許文献２】特開平１１−２８０９６７号公報（第３〜５頁、図１、図２、図３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
この種のガスケットフィルタは、良好なシール性を確保するためには、流体制御機器の入口通路の中心と、導入通路ブロックの流路の中心と、ガスケットフィルタの中心が一致した状態であることが必要となる。しかしながら、特許文献１に記載された構造では、ガスケットフィルタは２つのブロックで挟着されて支持されているので、ブロックの上面又は下面に流路が設けられている場合は、比較的容易に各中心を一致させることは可能であるが、流路がブロックの側面に設けられている場合には、ガスケットフィルタを流路の中心と一致させることが極めて困難となり、良好なシール性を確保できなくなるおそれがある。
【０００８】
また、特許文献２に記載の流体継手はリテーナがガスケットの外周を保持し、リテーナ収容凹所周面を案内するガイドリング部を具備しているので、嵌め合わせによる径方向へのずれ防止ができるので、各部材の中心を一致させることは可能である。しかして、上記のガス供給ユニットの流路には、特殊材料ガスが導入され、通常はシラン（ＳｉＨ４）、ホスフィン（ＰＨ３）などの強い毒性をもつガスが導入されるので、外部リーク量は、例えば５×１０−１２Ｐａ・ｍ３／ｓｅｃ以下といった非常に微小レベルに維持される。このように微小なリーク量を測定するためにヘリウムリークディテクタが用いられる。しかしながら、特許文献２では、ガスケットの外周をリテーナとガイドリングで覆っているために、漏れ検査に使用するヘリウム等の検査用ガスの侵入路が塞がれてしまい、適切な漏れ検査ができない、或いは、ヘリウムの侵入に長時間要してしまい検査時間が長くなるという別の問題を伴う。さらに、リテーナとガイドリングとガスケットが一体化されているので、メンテナンス時にはリテーナ及びガイドリングが付属したままでガスケットを廃却交換することになるので、メンテナンス費用が高騰するという問題もある。
【０００９】
従って本発明の目的は、ガスケット付フィルタの着脱が可能でしかもガス漏れを容易に検出することが可能なガス供給機器用流路ブロック、及び半導体製造用ガス供給ユニットを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明のガス供給機器用流路ブロックは、流体が流れる第１の流路を有する第１の流路部材と、前記第１の流路部材に着脱自在に締結され、前記第１の流路と連通可能な第２の流路を有する第２の流路部材と、前記第１の流路部材と前記第２の流路部材とで挟着される円環状ガスケットとその内部に外周縁部が保持されかつ前記第１の流路と前記第２の流路を仕切る円板状フィルタを有するガスケット部材と、前記ガスケット部材の外周側を取り囲みかつ前記流路部材の一方に圧入され、前記各流路を外気と連通させる開口を有するガイドリングを有することを特徴とする。
【００１１】
上記ガス供給機器用流路ブロックにおいて、前記開口は、前記ガイドリングの一方の端面から厚さ方向の途中まで形成されたスリットであることが好ましい。このスリットの長さは、漏れ検査に使用するヘリウムガスの侵入路を確保することができ、確実な漏れ検査を行なうことができるような長さ、例えば第２の流路部材に達するような長さに設定されることがより好ましい。
【００１２】
上記ガス供給機器用流路ブロックにおいて、この流路ブロックを半導体製造用ガス供給ユニットの所定位置に容易に組付けるようにするために、前記第１の流路部材は、前記第１の流路の一端部が存在する上面に、そこに装着される部材の一部を受取る位置決め穴を有するとともに、前記上面と反対側の下面に、そこに装着される部材に差込まれる位置決めピンを有することが好ましい。
【００１３】
本発明の半導体製造用ガス供給ユニットは、ベースプレートの上面に、複数の流路ブロックを介して連結された複数の流体制御機器が搭載された半導体製造用ガス供給ユニットであって、流体の入口側及び／又は出口側に設けられた流体制御機器と前記ベースプレートとの間に、上記ガス供給機器用流路ブロックが設置されている構造とすることができる。
【００１４】
本発明の半導体製造用ガス供給ユニットは、ベースプレートの上面に、複数の流路ブロックを介して連結された複数の流体制御機器が搭載された半導体製造用ガス供給ユニットであって、流体の入口側及び／又は出口側に設けられた流体制御機器の一部を前記第１の流路部材として含む上記ガス供給機器用流路ブロックを有する構造とすることもできる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の半導体製造用ガス供給ユニットによれば、２つの流路部材をボルトで締結することにより、これらの間にガスケット付フィルタ保持すると共に、ガスケット付フィルタの外径側にそれも内径が大きいガイドリングを着脱自在にセットするので、ガスケット付フィルタをガイドリングの内径に沿って挿入するだけでフィルタの取り付けを行うことが可能となり、またボルトを緩めるだけで容易にガスケット付フィルタのみを流路部材から取り外すことができる。したがって本発明の半導体製造用ガス供給ユニットによれば、ガスケット付フィルタのメンテナンスに要する時間と費用を従来よりも節約することができる。
【００１６】
また本発明の半導体製造用ガス供給ユニットによれば、ガスケット付フィルタを取り囲むガイドリングに外気と連通する開口が設けられているので、そこから容易にヘリウムガスが進入し、もって確実な漏れ検査が可能となる。
【００１７】
本発明の半導体製造用ガス供給ユニットは、ベースプレートの上面に、複数の流路ブロックを介して連結された複数の流体制御機器が搭載されることに加えて、流体の入口側及び／又は出口側に設けられた流体制御機器とベースプレートとの間に、上記ガス供給機器用流路ブロックが設置されている構造なので、デッドスペースの少ないガス供給ユニットが得られる。特に、流体の入口側及び／又は出口側に設けられた流体制御機器の一部を前記第１の流路部材として含む上記ガス供給機器用流路ブロックを有する構造とすることにより、さらにコンパクトでデッドスペースの少ない半導体製造用ガス供給ユニットとすることができる。
【００１８】
上記ガス供給ユニットの入口側及び／又は出口側に設けられた前記ブロックに流体制御機器として開閉弁を接続することにより、ガスケット付フィルタの着脱を行う際に、開閉弁を閉じておけば、ガス供給ユニット内は密閉状態に維持され、外部からのコンタミネーションの混入が防止されるので、常にクリーンなガス供給が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の詳細を添付図面により説明する。図１は本発明の実施の形態に係るガス供給ユニットの側面図、図２は本発明の実施の形態に係るガス供給機器用流路ブロックの一部を破断した側面図、図３は図２の一部を破断した平面図、図４は本発明のガイドリングの一例を示す一部を破断した側面図、図５は図２の要部を示す拡大断面図、図６は図１のガス供給機器用流路ブロックの組立手順を説明するための分解斜視図、図７は図１のガス供給機器用流路ブロックの分解手順を説明するための分解斜視図である。
【００２０】
［ガス供給ユニット］
図１に示すようにガス供給ユニット１００は、紙面に向かって右側から左側にガスが流動するように、開閉弁１０３ａ…１０３ｄ、レギュレータ１０４、マスフローコントローラ１０５及び圧力センサ１０６を含む複数の流体制御機器を有する。これらの流体制御機器は、ベースプレート１０１の上面に設置された略Ｖ字状の連結流路（例えば１０２ｉ）を有する複数の流路ブロック１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ、１０２ｄ、１０２ｆ及び１０２ｇを介して連結されている。マスフローコントローラ１０５に隣接する開閉弁１０３ｃ及び１０３ｄには各々、窒素ガス等のパージガスを導入するパージライン流路１０２ｊを有する流路ブロック１０２ｅ及びガス供給ユニット出口流路１０２ｋを有する流路ブロック１０２ｈが接続されている。
【００２１】
また各流路ブロックをベースプレートの所定位置に固定し、隣設する流体ブロックの上面に設けた接続口の間隔を流体制御機器の接続口の間隔と一致させるために、流路ブロック１０２ａ…１０２ｄ、１０２ｊ、１０２ｇには、ブロック締結用ボルト（例えば１０１ａ）が内装されるとともに、これらの下面には位置決めピン（図示を省略）が突出して設けられ、一方ベースプレート１０１には、ブロック締結用ボルト１０１ａがねじ込まれるねじ穴と位置決めピンが挿入されるピン穴（いずれも図示を省略）が形成されている。
【００２２】
図１に示すガス供給ユニット１００は、流体制御機器にコンタミネーションが混入しないようにするために、ガス流入側には、ガスケット付フィルタ４を内蔵したガス供給機器用流路ブロック１が設置されている。なお流路ブロック１はガスの流入側に設置するだけでなく、ガス供給ユニットの下流に位置する半導体製造装置（図示を省略）にコンタミネーションを流さないようにするために、ガス供給ユニットのガスの流出側に設置してもよい。
【００２３】
上記のガス供給ユニットによれば、ガス供給機器用流路ブロック１に内蔵されたフィルタによりコンタミネーションを除去し、開閉弁１０３ａを経由して、レギュレータ１０４にガスが導入される。ここで導入ガスの圧力が制御され、圧力センサ１０６で圧力制御の結果がモニターされる。次いで導入ガスは開閉弁１０３ｂ、１０３ｃを経由した後、マスフローコントローラ１０５で質量流量が制御され、開閉弁１０３ｄから下流へ導出される。また、パージライン流路１０２ｊを有する流路ブロック１０２ｅに接続された開閉弁１０３ｃは、三方弁で、初期のガス系の立ち上げ時、マスフローコントローラなどの流体制御機器の交換時や、ガス種を変更するときなどにここから窒素ガス等を導入してパージする。
【００２４】
［流路ブロック］
ガス供給機器用流路ブロック１の詳細を図２〜図５により説明する。図２及び図３に示すようにガス供給機器用流路ブロック１は、内部に流体が流れる下り勾配の流路２１を有する第１の流路部材（以下本体部材という）２と、流路２１と連通する直線状の流路３１が貫通するように設けられた第２の流路部材（以下継手部材という）３と、本体部材２と継手部材３との間に挟着されたガスケット付フィルタ４と、その外周側を取り囲むガイドリング６と、本体部材２と継手部材３とを締結する一対のボルト５を有する。流路ブロックの各部の詳細は次の通りである。
【００２５】
［本体部材］
本体部材２は、流路２１の上面に本体側接続部２１ｃが形成されかつその下部に本体側流路出口２１ａが設けられるとともに、その側面に本体側流路入口２１ｂに臨む本体側接続部２１ｄが設けられている。本体部材２の上面には、ガス供給機器用流路ブロック１の下面にガス供給ユニットのベースプレートを、またブロック１の上面に流体機器を取り付けるために、２箇所の締結用ボルト穴２３と、２箇所の締結用ねじ部２４と、２箇所の位置決めピン穴２５ａとが形成されている。本体部材２の継手部材３と対向する側の面には、ガスケット付フィルタ４に当接する円環状の突出部２１ｄが設けられている。本体部材２の下面には、位置決めピン２６ａが設けられ、このピンをベースプレート１０１（図１参照）の位置決めピン穴に挿入することにより、本体部材２はベースプレート１０１の所定の位置に取り付けられる。
【００２６】
［継手部材］
継手部材３は、継手側流路入口３１ｂから継手側流路出口３１ａまで伸長する直線状の流路３１を有するとともに、外周面には、継手側流路出口３１ａ側に形成されたフランジ部３２と、継手側流路入口３１ｂ側に形成された継手部３３を有する。継手部材３の本体部材２と対向する側の面には、ガスケット付フィルタ４に当接する円環状の突出部３１ｃが設けられている。上記フランジ部３２には、２箇所のボルト穴３４が形成されており、そこにボルト５を装着し、本体部材２の側面のボルト穴３４と一致する位置に設けられたねじ穴にねじ込むことにより、継手部材３は本体部材２に結合されて流路ブロック１が組立てられる。この流路ブロック１は、従来のものと比べて、フランジ部３２の厚さ分だけ大きくなるのみで、非常にコンパクトであり、ガス供給ユニットに組み込んだときにデッドスペースを最小限に止めることができる。
【００２７】
ガスケット付フィルタ４を挟着するために、本体部材２に形成された突出部２１ｄと継手部材３に形成された突出部３１ｃは、所定のシール性能を確保するためにスパロールを用いた塑性加工（ローラバニシング）を施すことが好ましい。このスパロール加工によれば、硬くて滑らかなローラで金属表面を転圧するので、加工表面が鏡面仕上げされた状態となりまた同時に加工硬化され、さらに疲労強度も増大するので、シール面の耐久性と気密性を向上することができる。
【００２８】
腐食性ガスに対する耐食性を確保し、コンタミネーションの付着を抑制するために、本体部材２及び継手部材３は、例えば、ＳＵＳ３１６Ｌ等の耐食性を有する金属材料で形成し、流路２１及び流路３１の内表面は、例えば、電解研磨などにより鏡面仕上げを施すことが好ましい。また、シール性の点から、突出部３１ｄは、別配管部材との接続部であって、配管のエッジ部（グランド）間にガスケットを設け、雄ナットと袋ナットでエッジ部を締め付けることにより、ガスケットでシールするようにしたＶＣＲ継手構造（ＶＣＲはＣＡＪＯＮ社（米国）の商品名）とすることが可能である。
【００２９】
［ガスケット付フィルタ］
ガスケット付フィルタ４は、リング状のガスケット部４１とその中央開口内部に固定されたディスク状のフィルタ部４２とからなる。このガスケット付フィルタ４は、本体部材２の突出部２１ｄと継手部材３の突出部３１ｃとの間に狭着され、ボルト５を締め付けることにより、両突出部の間でガスケット部４１が押さえつけられるので、本体部材２と継手部材３とがフィルタ部４２で仕切られかつガスケット部４１でシールされた状態で締結される。リング状のガスケット部４１は、実用上、ニッケル又はステンレス鋼（ＳＵＳ３１６Ｌ）などの耐食性を有する金属材料からなり、表面に銀メッキを施したものが好適である。フィルタ部４２としては、例えば、（１）濾過用の微粉末粒子を充填し所定厚さに焼結一体化してなる濾過材、（２）微細金属繊維をその粒界で粒界腐食することによって切断した例えば太さ０．５〜１０μｍでアスペクト比率２〜２０の金属短繊維を厚さ０．３〜２ｍｍ程度に焼結してなる濾過材、（３）粗大空孔を持つ支持体の表面上に前記と同様程度の金属短繊維の微細粒子を懸濁した懸濁液を吸引法によって例えば厚さ０．１〜０．８ｍｍ程度に吸引積層させ、さらに一体焼結することで形成されてなる積層濾材のいずれかを採用することができる。また、フィルタ部４２は、耐食性を必要とすることから、例えばＦｅ、Ｎｉ、Ｃｏを主成分とする耐熱合金、例えばハステロイ（インコネルなどのＮｉ基超合金）の他、オーステナイト系ステンレス鋼（ＳＵＳ３１６、３１６Ｌ等）やＡｇなどから選択された材料で形成され、単一の材質や粒子形態のもに限らず、複数の材料を混合したあるいは複数の粒子構造（複合構造）を有するように形成した焼結体を採用することもできる。
【００３０】
［ガイドリング］
ガイドリング６は、図４に示すように、ステンレス鋼などの耐食性を有する金属材料で形成され、本体部材２に挿入される大径部６２と、継手部材３に挿入される小径部６３と、大径部６２側端面から小径部６３の一部に延出するように形成された矩形状のスリット６１とからなる。スリット６１が存在することにより、図５に示すようにガイドリング６の大径部６２側が本体部材２の挿入部２７に押し込まれて、半径方向に加圧されると、弾性変形して縮径され、本体部材２に確実に保持され、もって挿入後は脱落を確実に防止することとができる。また、スリット６１の長さは、本体部材２の挿入部２７の深さよりも長くなるように設定することによって、本体部材２の突出部２１ｄと継手部材３の突出部３１ｃとで挟着されたガスケット付フィルタ４のガスケット部４１まで、外気が進入できる侵入路９０が形成される。
【００３１】
ガイドリング６の全長は、ガイドリング６の小径部６３が継手部材３の挿入部３７側へ突出するようにするために、本体部材２に設けられた挿入部２７の深さよりも長く設定されている。また、ガイドリング６の挿入を容易にし、かつ本体部材２の突出部２１ｄと、継手部材３の突出部３１ｃとが、対面するように位置させることができるようにするために、小径部６３の外径は継手部材３に設けられた挿入部３７の内径よりもやや小径に設定されて若干のクリアランスが形成されるような寸法に設定されている。
【００３２】
ガイドリング６は、円周方向の少なくとも１ヶ所にスリット６１を有し、弾性力で本体部材２に保持されるので、本体部材２の挿入部２７の加工深さを最小限にでき、デッドスペースが最小の流路ブロックとすることができると共に、加工費用も低減することができる。これに対して単純なリング状のリテーナを用いてガスケット付きフィルタを本体部材に固定しようとすると、締結用ボルト穴２３と挿入部２７とが緩衝するので、本体部材２の挿入部２７のより長く加工することが必要となり、さらにこれを解消するために全長を長くすると、デッドスペースが増大するので不都合である。
【００３３】
ガス供給機器用流路ブロック１は、スリット６１の長さを本体部材２の挿入部２７の深さよりも長くなるように設けているので、本体部材２の突出部２１ｄと継手部材３の突出部３１ｃとで挟着されたガスケット付フィルタ４のガスケット部４１まで、外気が進入できる侵入路９０が確保され、侵入路９０から容易にヘリウムガスが進入できるので、確実な漏れ検査が可能である。すなわち流路ブロック１が半導体製造用ガス供給ユニットに組み込まれた場合、流路には、シラン（ＳｉＨ４）又はホスフィン（ＰＨ３）といった毒性の強い特殊反応性ガスが導入される。流路ブロック１によれば、ヘリウムガスを吹きつけたとき、確実にブロックの内部（突出部）までヘリウムガスが到達するので、微小な漏れ量を正確に検出することができる。
【００３４】
［流路ブロックの組立］
ガス供給機器用流路ブロック１は、図６に示す手順で組立てることができる。
まず、本体部材２と継手部材３とガスケット付フィルタ４とガイドリング６一対のボルト５を準備し（図７（ａ）参照）、次いで本体部材２にガイドリング６を挿入してから（図７（ｂ）参照）、ガイドリング６の内側にガスケット付フィルタ４を挿入し（図７（ｃ）参照）、最後に一対のボルト５を締め付けることによりフィルタが内蔵されたガス供給機器用流路ブロック（図７（ｄ）参照）を得ることができる。
【００３５】
［流路ブロックの分解］
ガス供給ユニット１に腐食性ガスを流し続けているとやがて微量な生成物が流路内に付着する。特に微細な多孔質であるフィルタは、その影響が顕著で、表面積が大きい分生成物の付着が多く、目詰まりをおこして必要なガス流量を確保できなくなる場合がある。そこで、ガス供給機器用流路ブロック１を図７に示す手順で分解することにより、フィルタを新たなものと交換することができる。図７（ａ）は、ガス供給ユニットを構成する開閉弁１０３ａの一端に流路を連通させる状態でガス供給機器用流路ブロック１が締結された状態を示す。
【００３６】
分解メンテナンスが必要とされる場合には、まず開閉弁１０３ａを閉じ、ガス供給ユニットを密閉状態とする。これにより、ガス供給ユニット内にコンタミネーションが混入する恐れがなく、ガス供給ユニット内はクリーンな状態が維持される。更には、ガス供給ユニットに流動させるガスの種類によっては、反応性の高い生成物が、流路内壁に付着している場合がある。むやみに空気雰囲気に曝すと、有毒ガスを発生させたり、発火したりする場合がある。事前に開閉弁１０３ａを閉じているので、空気雰囲気に曝される流路は最小限であり、安全なメンテナンス作業を行うことができる。
【００３７】
次に、２本のボルト５を緩め、継手部材３を取り外すことにより、ガスケット付フィルタ４と、ガイドリング６とは、本体部材２の一端に露出された状態が現出する（図８（ｂ）参照）。そして、ガイドリング６は、弾性力で本体部材２の挿入部２７に保持されるので、に示すように、ガイドリング６からガスケット付フィルタ４を速やかに取出すことができる（図８（ｃ）参照）。
【００３８】
ガスケットに保持されたフィルタを交換する場合、ガス供給ユニット１００は、ガス供給機器用流路ブロック１が、ガス流入側最初の流路ブロックもしくは末端の流路ブロックとして用いられているので、コンパクトでデッドスペースが最小なガス供給ユニット１００を構成すると共に、ボルト５を緩めるとガスケット付フィルタ４を容易に取り出せ、交換できる。したがって、短時間で容易にメンテナンスができる。
また、メンテナンスのときには、開閉弁１０３ａを予め閉じておくことで、開閉弁１０３ａより下流の流体制御機器は、密閉状態が保たれ、外部からコンタミネーションが混入することを防止できる。従って、ガス供給ユニット１００の流路内部は常にクリーンな状態を保つことができ、流体制御機器の故障や制御誤差の増大を防止することができる。
【００３９】
［ガス供給ユニットの他の形態］
図８は、本発明の他の実施の形態に係るガス供給ユニットの側面図を示している。このガス供給ユニットは、開閉弁本体部材１０３ｅと、継手部材３との間にガスケット付フィルタ４を挟着し、（図示しない）ボルト５で開閉弁本体部材１０３ｅと、継手部材３とを締結していること以外は、その構成および使用方法において、図１に示したガス供給ユニットと同様なので、その説明を省略する。
このガス供給ユニットによれば、開閉弁本体部材１０３ｅと、継手部材３との間にガスケット付フィルタ４を挟着させているので、図１に示したガス供給ユニットよりも更にコンパクトが図られ、デッドスペースを最小とすることができるとともに、ボルト５を緩めるとガスケット付フィルタ４を容易に取り出せ、交換できる。したがって、短時間で容易にメンテナンスができる。
【００４０】
また、メンテナンスのときには、開閉弁１０３ａを予め閉じておくことで、開閉弁１０３ａより下流の流体制御機器は、密閉状態が保たれ、外部からコンタミネーションが混入することを防止できる。従って、ガス供給ユニット１００の流路内部は常にクリーンな状態を保つことができ、流体制御機器の故障や制御誤差の増大を防止することができる。
【００４１】
なお、上記の説明では、ガイドリング６を本体部材２側に装着した形態としたが、継手部材３側に装着しても同様の作用効果が得られることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の実施の形態に係るガス供給ユニットの側面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るガス供給機器用流路ブロックの一部を破断した側面図である。
【図３】図２の一部を破断した平面図である。
【図４】本発明のガイドリングの一例を示す一部を破断した側面図である。
【図５】図２の要部を示す拡大断面図である。
【図６】図１のガス供給機器用流路ブロックの組立手順を説明するための分解斜視図である。
【図７】図１のガス供給機器用流路ブロックの分解手順を説明するための分解斜視図である。
【図８】本発明の他の実施の形態に係るガス供給ユニットの側面図である。
【符号の説明】
【００４３】
１：ガス供給機器用流路ブロック
２：本体部材、２１：流路、２１ａ：本体側流路出口、２１ｂ：本体側流路入口、２１ｃ、２１ｄ：突出部、２２：側面ねじ部、２３：締結用ボルト穴、２４：締結用ねじ部、２５ａ：位置決めピン穴、２６ａ：位置決めピン、２７：挿入部
３：継手部材３、３１：流路、３１ａ：継手側流路出口、３１ｂ：継手側流路入口、３１ｃ、３１ｄ：突出部、３２：フランジ部、３３：継手部、３４：ボルト穴、３７：挿入部
４：ガスケット付フィルタ、４１：ガスケット部、４２：フィルタ部
５：ボルト、
６：ガイドリング、６１：スリット、６２：大径部、６３：小径部
１００：ガス供給ユニット、
１０１：ベースプレート、１０１ａ：ブロック締結用ねじ、１０１ｂ：位置決めピン穴
１０２ａ〜１０２ｈ：流路ブロック、１０２ｉ：流体制御機器連結流路、１０２ｊ：パージライン流路、１０２ｋ：ガス供給ユニット出口流路、１０３ａ〜１０３ｄ：開閉弁、１０３ｅ：開閉弁本体部材、１０４：レギュレータ、１０５：マスフローコントローラ、１０６：圧力センサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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