(57)【要約】【課題】本発明は、液晶パネルの欠陥画素を修正する修正作業の効率を向上することができる液晶パネルの欠陥画素修正装置を提供する。【解決手段】液晶パネルの欠陥画素修正装置１０は、レーザ出力部１１と、計測機構４０とを備える。レーザ出力部１１は、レーザの強度を調整する調整機能を有する。それゆえ、レーザ出力部１１は、弱い強度を有する計測用レーザＬ２を出力する。計測機構４０は、輝点欠陥２１で反射された計測用レーザＬ２の強度を計測する。【選択図】図１
2007206550.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶パネル上の欠陥画素にレーザを照射することによって前記欠陥画素を修正する液晶パネルの欠陥画素修正装置であって、
レーザを出力するとともに、前記レーザの強度を調整する調整機能を有するレーザ出力部と、
前記欠陥画素から反射された前記レーザの強度を計測する計測機構と、
を具備することを特徴とする液晶パネルの欠陥画素修正装置。
【請求項２】
前記計測機構は、前記光路上から外れる位置まで移動可能であることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネルの欠陥画素修正装置。
【請求項３】
前記計測機構は、
前記欠陥画素から反射されたレーザを偏光する偏光フィルタと、
前記偏光フィルタを任意の配置方向に固定するように前記偏光フィルタを回転し保持する回転機構と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネルの欠陥画素修正装置。
【請求項４】
液晶パネル上の欠陥画素にレーザを照射することによって前記欠陥画素を修正する液晶パネルの欠陥画素修正装置であって、
レーザを出力するとともに、前記レーザの強度を調整する調整機能を有するレーザ出力部と、
前記欠陥画素に向かって観察用の光を出力する光源と、前記欠陥画素で反射される光のうち特定の波長の光の一部を透過するバンドパスフィルタと、前記欠陥画素で反射され前記バンドパスフィルタを透過した光を撮影する撮影部とを具備する観察部と、
を具備することを特徴とする液晶パネルの欠陥画素修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば輝点欠陥にレーザを照射して輝点欠陥を滅点化する修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルは、ガラス基板から構成されるアレイ基板と、ガラス基板から構成されるカラーフィルタ基板と、これら各基板間に挟みこまれる液晶とを備えている。
【０００３】
アレイ基板は、多数の信号線とＧａｔｅ線とがマトリクス状に配置されている。信号線とＧａｔｅ線の交差部に画素電極に電荷を放電するためのＴＦＴ（Thin Film Transistor
s）が設けられている。このＴＦＴに隣接して、１００〜４００μｍ程度の大きさを有する多数の画素電極がマトリクス状に設けられている。カラーフィルタ基板には、着色層と、保護膜と、透明導電膜とが形成されている。各ガラス基板の表面には、偏光フィルタが設けられている。また、液晶パネルが商品として出荷される際には、液晶パネルの表面には、保護フィルムが設けられる。
【０００４】
一方、液晶パネルでは、ＴＦＴが誤差動する部位があったり、または、画素電極が正常に形成されない部位がある場合に、これらの不良部に対応する画素が透過光を遮断することができなくなる。このような場合、この画素は輝点欠陥として現れる。
【０００５】
輝点欠陥を修正する方法として、輝点欠陥を滅点化することが行われている。具体的には、基板上の配線を切断しまたは金属層を溶融することによって、輝点欠陥を滅点化している。
【０００６】
このように、被加工対象の欠陥部を修正するために、レーザが用いられている（例えば、特許文献１〜３を参照）。
【０００７】
（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平７−１２４７６４号公報
【特許文献２】特開平１１−９０６５９号公報
【特許文献３】特開２００５−３３００７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記のように、レーザを照射することよって輝点欠陥を滅点化するためには、所定の強度のレーザが輝点欠陥に到達する必要がある。しかしながら、レーザ出力部から照射されたレーザは、偏光フィルタよって偏光されるため、その強度が弱められる。さらに、液晶パネルによっては保護フィルムに傷が付いていたりする。この傷の影響などにより、保護フィルム上でレーザが散乱する。
【０００９】
上記のようにレーザ出力部から出力されたレーザのうち、輝点欠陥に到達するのは一部である。つまり、レーザ出力部から出力されたレーザの強度のうち実際に輝点欠陥に到達するレーザの強度の割合は、液晶パネルごとによって異なる。
【００１０】
それゆえ、レーザ出力部で出力を一定にして輝点欠陥を修正する場合の成功率が低くなる。更に、輝点欠陥を観察しながら修正されるまでレーザ照射を繰り返すため、作業効率が悪くなる。
【００１１】
したがって、本発明の目的は、液晶パネルの欠陥画素を修正する成功率や修正作業の効率を向上することができる液晶パネルの欠陥画素修正装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の液晶パネルの欠陥画素修正装置は、液晶パネル上の欠陥画素にレーザを照射することによって前記欠陥画素を修正する液晶パネルの欠陥画素修正装置である。液晶パネルの欠陥画素修正装置は、レーザ出力部と、計測機構とを備える。前記レーザ出力部は、レーザを出力するとともに、前記レーザの強度を調整する調整機能を有する。前記計測機構は、前記欠陥画素から反射された前記レーザの強度を計測する。
【００１３】
また、本発明の液晶パネルの欠陥画素修正装置の別の形態は、レーザ出力部と、観察部とを備える。前記レーザ出力部は、レーザを出力するとともに、前記レーザの強度を調整する調整機能を有する。前記観察部は、光源と、バンドパスフィルタと、撮影部とを備える。前記光源は、観察用の光を前記欠陥画素に向かって光を出力する。前記バンドパスフィルタは、前記欠陥画素で反射される光のうち特定の波長の光の一部を透過する。前記撮影部は、前記欠陥画素で反射され前記バンドパスフィルタを透過した光を撮影する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、液晶パネルの欠陥画素を修正する成功率や修正作業の作業効率が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の第１の実施形態に係る液晶パネルの欠陥画素修正装置を、図１を用いて説明する。図１は、修正装置１０の概略的構成図である。修正装置１０は、液晶パネル２０の輝点欠陥２１を修正する装置である。
【００１６】
図１に示すように、液晶パネル２０は、パネル本体２２と、偏光板２３と、保護フィルム２４とを備えている。パネル本体２２は、図示しない一対のガラス基板と、これら一対のガラス基板間に収容される液晶とを備えて構成されている。
【００１７】
一方のガラス基板は、アレイ基板となっている。アレイ基板には、多数本の信号線とＧａｔｅ線とがマトリクス状に形成されている。信号線とＧａｔｅ線との交差部に、画素電極に電荷を充放電するＴＦＴ（Thin Film Transistors）が設けられている。アレイ基板上には、ＴＦＴに隣接して１００〜４００μｍ程度の大きさを有する多数の画素電極がマトリクス状に設けられている。
【００１８】
もう一方のガラス基板は、カラーフィルタ基板となっている。カラーフィルタ基板には、着色層と保護膜と透明導電膜とが形成されている。透明導電膜は、液晶パネル２０の共通電極を形成するもので、カラーフィルタ基板の液晶側表面全体を覆っている。輝点欠陥２１は、パネル本体２２中に形成されている。輝点欠陥２１は、本発明で言う欠陥画素の一例である。
【００１９】
液晶パネル２０では、ＴＦＴが誤差動する部位があったり、または、画素電極が正常に形成されない部位がある場合に、これらの不良部に対応する画素が透過光を遮断することができなくなる。このような場合、この画素は輝点欠陥として現れる。
【００２０】
偏光板２３は、パネル本体２２の表面に設けられている。保護フィルム２４は、偏光板２３の表面に設けられている。
【００２１】
修正装置１０は、レーザ出力部１１と、第１のミラー１２と、第１の集光レンズ１３と、液晶パネル２０が載置されるＸＹステージ１４と、ステージ駆動部１５と、制御部１６と、観察部３０と、計測機構４０とを備えている。
【００２２】
レーザ出力部１１は、ＸＹステージ１４に載置された液晶パネル２０に向かってレーザを出力する。レーザ出力部１１は、出力するレーザの強度を調整する機能を有している。
【００２３】
第１のミラー１２は、レーザの光路上においてレーザ出力部１１の下流に配置されており、レーザの一部を反射してその光路を変更している。第１のミラー１２の透過率および反射率は、予め、求められている。
【００２４】
第１の集光レンズ１３は、レーザの光路上において第１のミラー１２の下流に配置されている。第１の集光レンズ１３は、第１のミラー１２によって反射されたレーザを集光する。
【００２５】
ステージ駆動部１５は、ＸＹステージ１４を駆動する。具体的には、ステージ駆動部１５は、液晶パネル２０中の輝点欠陥２１を、第１の集光レンズ１３によって集光されたレーザによる加工点上に移動する。
【００２６】
観察部３０は、光源３１と、第２のミラー３２と、第２の集光レンズ３３と、ＣＣＤカメラ３５とを備えている。
【００２７】
光源３１は、液晶パネル２０に向かって光Ｌ１を出力する。なお、図中、光Ｌ１は、１点鎖線で示されており、一部は省略されている。
【００２８】
第２のミラー３２は、光源３１の光路において光源３１の下流に配置されている。光源３１から出力された光Ｌ１の一部は、第２のミラー３２に反射されてその光路が変更され、第２の集光レンズ３３に導かれる。第２のミラー３２の透過率および反射率は、予め求められている。
【００２９】
第２の集光レンズ３３は、光源３１の光路において第２のミラー３２の下流に配置されている。第２の集光レンズ３３に到達した光は、第２の集光レンズ３３によって集光される。第２の集光レンズ３３で集光された光Ｌ１の一部は、第１のミラー１２と第１の集光レンズ１３とを透過して、レーザ出力部１１によって出力されたレーザによる加工点に到達する。
【００３０】
ＣＣＤカメラ３５は、光源３１の光路において加工点の下流に配置されている。加工点に導かれた光Ｌ１は、輝点欠陥２１で反射した後、光源３１から輝点欠陥２１までの往路をそのまま逆向きに進み、その過程で第１，２の集光レンズ１３，３３及び第１、２のミラー１２、３２とを透過して、ＣＣＤカメラ３５に到達し撮影される。観察部３０は、上記構成によって、液晶パネル２０上の輝点欠陥２１の様子をモニタする。ＣＣＤカメラ３５は、本発明で言う撮影部の一例である。
【００３１】
計測機構４０は、基部４１と、第３のミラー４２と、偏光フィルタ４３と、偏光フィルタ回転機構４４と、フォトダイオード４５とを備えている。第３のミラー４２と、偏光フィルタ４３と、偏光フィルタ回転機構４４と、フォトダイオード４５とは、基部４１に固定されている。
【００３２】
第３のミラー４２は、レーザ出力部１１から出力されるレーザの光路上に配置される。第３のミラー４２は、輝点欠陥２１で反射されたレーザの一部を反射して後述されるフォトダイオード４５に導く。第３のミラー４２の透過率および反射率は、予め求められている。基部４１は、駆動部を有しており、移動可能である。基部４１は、第３のミラー４２がレーザの光路から外れる位置まで移動できる。
【００３３】
偏光フィルタ４３は、輝点欠陥２１で反射されたレーザの光路において第３のミラー４２の下流に配置されている。偏光フィルタ４３は、液晶パネル２０からの反射光および外部からの光のうち、輝点欠陥２１の加工部からの光と同一の偏光方向を持つ光のみを選択的に透過する。
【００３４】
具体的に説明すると、レーザ出力部１１から出力されたレーザのうち、保護フィルム２４の表面や偏光板２３の表面で反射したレーザは、輝点欠陥２１で反射されたレーザの偏光方向とは異なる。それゆえ、偏光フィルタ４３の配置方向を輝点欠陥２１で反射したレーザの偏光方向に合わせることによって、輝点欠陥２１からの反射光を選択的に透過させることができる。
【００３５】
偏光フィルタ回転機構４４は、偏光フィルタ４３の配置方向を任意の方向に調整する。フォトダイオード４５は、輝点欠陥２１で反射されたレーザの光路において偏光フィルタ４３の下流に配置されている。フォトダイオード４５は、輝点欠陥２１で反射されたレーザの強度を計測する。
【００３６】
制御部１６は、レーザ出力部１１とステージ駆動部１５と基部４１と偏光フィルタ回転機構４４の動作を制御する。また、制御部１６は、レーザ出力部１１から出力されたレーザの強度とフォトダイオード４５によって計測されたレーザの強度とを比較し、輝点欠陥２１に到達するまでに損失されるレーザの損失割合を求める。
【００３７】
つぎに、液晶パネル２０の輝点欠陥２１を修正する場合を一例に、修正装置１０の動作を説明する。
【００３８】
まず、液晶パネル２０がＸＹステージ１４上に載置される。ついで、輝点欠陥２１の位置を加工点上に移動すべく、ステージ駆動部１５が駆動される。さらに、第３のミラー４２がレーザの光路上に配置されるように、計測機構４０の基部４１が駆動される。
【００３９】
ついで、レーザ出力部１１から計測用レーザＬ２が照射される。なお、計測用レーザＬ２は、強度の弱いレーザである。具体的には、計測用レーザＬ２の強度は、輝点欠陥２１を修正するために必要と想定される強度よりも弱い。
【００４０】
なお、レーザ出力部１１が出力するレーザは、保護フィルム２４と偏光板２３とを加工することがなく、かつ、パネル本体２２の各ガラス基板に形成される配線だけを切断するためにメタル系の材料に吸収される波長が用いられている。
【００４１】
計測用レーザＬ２の一部は、第３のミラー４２を透過する。第３のミラー４２を透過する計測用レーザＬ２の強度は、第３のミラー４２の透過率に対応する。
【００４２】
第３のミラー４２を透過した計測用レーザＬ２は、第１のミラー１２によってその光路が変更される。第１のミラー１２によって反射される計測用レーザＬ２の強度は、第１のミラー１２の反射率に対応する。第１のミラー１２で反射された計測用レーザＬ２は、第１の集光レンズ１３によって集光された後、液晶パネル２０に到達する。
【００４３】
液晶パネル２０に到達した計測用レーザＬ２は、まず保護フィルム２４に入射する。保護フィルム２４の表面には、液晶パネル２０の搬送過程における外的要因によって、傷がついていることがある。
【００４４】
この傷によって保護フィルム２４に到達した計測用レーザＬ２のうち一部は、反射する。それゆえ、保護フィルム２４を通過する計測用レーザＬ２は、保護フィルム２４に到達した計測用レーザＬ２のうちの一部である。なお、保護フィルム２４の表面に形成される傷は、液晶パネル２０を破壊するほど大きいものではなく、液晶パネル２０を移動したりするなど液晶パネル２０の製造過程で自然に形成されるものである。
【００４５】
保護フィルム２４を透過した計測用レーザＬ２は、偏光板２３に到達する。偏光板２３に到達した計測用レーザＬ２は、偏光板２３を透過して偏光板２３の偏光方向に沿った直線偏光になる。それゆえ、偏光板２３を透過する計測用レーザＬ２は、偏光板２３に到達した計測用レーザＬ２のうち一部である。
【００４６】
偏光板２３を透過した計測用レーザＬ２は、輝点欠陥２１に到達する。上記のように、輝点欠陥２１に到達する計測用レーザＬ２は、第１，３のミラー１２，４２による影響と保護フィルム２４による影響と偏光板２３による影響とによって、レーザ出力部１１から出力された計測用レーザＬ２のうち一部である。
【００４７】
輝点欠陥２１に到達した計測用レーザＬ２は、輝点欠陥２１で反射される。反射された計測用レーザＬ２は、偏光板２３を透過し、保護フィルム２４に到達する。
【００４８】
保護フィルム２４において偏光板２３側の表面には傷がつきにくく、それゆえ、傷による光の散乱の影響を略無視できるので、反射後、保護フィルム２４に到達する計測用レーザＬ２は、略そのまま保護フィルム２４を透過する。
【００４９】
保護フィルム２４を透過した計測用レーザＬ２の一部は、第１のミラー１２で再び反射される。第１のミラー１２で再び反射された計測用レーザＬ２は、第３のミラー４２に到達する。第３のミラー４２に到達した計測用レーザＬ２の一部は、第３のミラー４２で反射されて偏光フィルタ４３に到達する。
【００５０】
偏光フィルタ４３の配置方向は、偏光フィルタ回転機構４４によって、予め反射された計測用レーザＬ２の偏光方向と同一方向に調整されている。それゆえ、偏光フィルタ４３に到達した計測用レーザＬ２のうち、輝点欠陥２１からの反射光は、略そのままフォトダイオード４５に到達する。フォトダイオード４５は、到達した計測用レーザＬ２の強度を計測する。
【００５１】
フォトダイオード４５で計測された計測用レーザＬ２は、輝点欠陥２１に到達した計測用レーザＬ２が第１，３のミラー１２，４２で反射したものである。それゆえ、第１，３の１２，４２での反射率に基づいて逆算することによって、輝点欠陥２１に到達した計測用レーザＬ２の強度が求められる。
【００５２】
上記のように求められた輝点欠陥２１に到達した計測用レーザＬ２の強度とレーザ出力部１１から出力された計測用レーザＬ２の強度とを比較し、レーザ出力部１１から出力された計測用レーザＬ２のうち輝点欠陥２１に到達するまでに損失された計測用レーザＬ２の損失割合が求められる。
【００５３】
ついで、制御部１６は、第３のミラー４２が光路上から外れるように、計測機構４０の基部４１を移動させる。
【００５４】
ついで、制御部１６は、輝点欠陥２１を修正するためにレーザ出力部１１から出力されるべきレーザの強度を求める。具体的には、輝点欠陥２１を修正するためにレーザ出力部１１から照射されるべきレーザの強度は、予め計測された保護フィルム２４および偏光板２３による影響を無視した場合における輝点欠陥２１を修正するために必要なレーザの強度に、上記の損失割合を考慮した上乗せ分が付加された強度となる。
【００５５】
なお、保護フィルム２４および偏光板２３による影響を無視した場合における輝点欠陥２１を修正するために必要なレーザの強度は、液晶パネル２０に固有のものではなく、同じように製造された液晶パネルに対して共通の値となる。それゆえ、予めこの種の液晶パネルの修正用のために、保護フィルム２４および偏光板２３がない状態における輝点欠陥を修正するために必要なレーザの強度を求めておくことが好ましい。
【００５６】
ついで、制御部１６は、レーザ出力部１１からレーザを照射させる。このレーザによって、輝点欠陥２１は修正される。
【００５７】
このように構成される液晶パネルの欠陥画素修正装置１０では、修正前に必要なレーザ強度が分かるため、修正の成功率が向上する。更に、一つの輝点欠陥を修正するために、計測用と修正用との計２回レーザを出力すればよいので、一つの輝点欠陥を修正するために必要なレーザの出力回数が抑えられ、輝点欠陥を修正する修正作業の効率が向上する。
【００５８】
また、計測機構４０の基部４１が移動可能であって修正用のレーザが出力される際には第３のミラー４２が光路上に位置しないので、修正用レーザは、第３のミラー４２よる影響を受けることなく輝点欠陥２１に到達する。それゆえ、第３のミラー４２による修正用のレーザの強度ロスが無くなるので、輝点欠陥２１が効率よく修正される。なお、本実施形態では、基部４１が移動することによって第３のミラー４２が移動されるが、これに限定されない。例えば、第３のミラー４２だけが移動可能になっていてもよい。
【００５９】
また、計測機構４０が偏光フィルタ回転機構４４を備えていることによって、偏光フィルタ４３の配置方向を、反射した計測用レーザＬ２の偏光方向に合わせることができる。それゆえ、反射した計測用レーザＬ２を精度よく計測できるようになる。
【００６０】
つぎに、本発明の第２の実施形態に係る液晶パネルの欠陥画素修正装置を、図２を用いて説明する。なお、第１の実施形態と同様な機能を有する構成は同一の符号を付して説明を省略する。本実施形態では、観察部の光源を利用して、レーザ出力部１１から出力されるべき修正用レーザの出力を求める点が第１の実施形態と異なる。他の点については、第１の実施形態と同様であってよい。上記異なる点について、具体的に説明する。
【００６１】
図２は、本実施形態の修正装置１０を示している。図２に示すように、本実施形態では、修正装置１０は、バンドパスフィルタ１００を備えている。バンドパスフィルタ１００は、光源３１から出力される光Ｌ１の光路において第２のミラー３２よりも下流であってかつＣＣＤカメラ３５の上流に配置されている。バンドパスフィルタ１００は、光路の光軸に垂直に設置されている。
【００６２】
バンドパスフィルタ１００は、光源３１から出力された光Ｌ１のうち、レーザ出力部１１から出力される計測用レーザＬ２の波長またはその近傍の波長の光の一部を透過する。
【００６３】
このため、光源３１から出力された光Ｌ１のうち、レーザ出力部１１から出力されるレーザの波長またはその近傍の波長の光においてバンドパスフィルタ１００を透過した一部がＣＣＤカメラ３５によって撮影される。光Ｌ１のうちレーザ出力部１１から出力されるレーザの波長の近傍の波長の光が輝点欠陥２１に到達するまでの損失割合は、光源３１から出力される光Ｌ１のうちレーザ出力部１１から出力されるレーザの波長と同じ波長を有する光と略同じである。
【００６４】
それゆえ、光源３１から出力される光Ｌ１のうちレーザ出力部１１から出力されるレーザの波長またはその近傍の波長の光の損失割合を調べることによって、レーザ出力部１１から出力されるレーザが輝点欠陥２１に到達するまでの損失割合が求められる。本実施形態では、バンドパスフィルタ１００は、レーザ出力部１１から出力されるレーザと同じ例えば５３０ｎｍの波長の光の一部を透過する。
【００６５】
光源３１から出力される光Ｌ１の光路において第２のミラー３２とバンドパスフィルタ１００との間には、偏光フィルタ４３が配置されている。偏光フィルタ４３は、偏光フィルタ回転機構４４によって配置方向が任意の方向に調整される。
【００６６】
つぎに、本実施形態の修正装置１０の動作を説明する。まず、光源３１から光Ｌ１が出力される。光Ｌ１に含まれる例えば５３０ｎｍの波長の光の強度は、予め求められている。光Ｌ１のうち一部は、第２のミラー３２によって反射される。光Ｌ１のうち５３０ｎｍの波長の光の一部は、第２のミラー３２で反射されるとともに第２のミラー３２を透過する。
【００６７】
第２のミラー３２で反射された光Ｌ１の一部は、第１のミラー１２を透過する。第１のミラー１２を透過した光Ｌ１のうち一部は、第１の実施形態で説明されたように、保護フィルム２４と偏光板２３とを透過した後、輝点欠陥２１に到達する。
【００６８】
輝点欠陥２１に到達した光Ｌ１は、輝点欠陥２１にて反射された後、偏光板２３と保護フィルム２４と第１，２のミラー１２，３２とを透過してバンドパスフィルタ１００に到達する。バンドパスフィルタ１００に到達した光Ｌ１のうち５３０ｎｍの波長の光の一部のみがバンドパスフィルタ１００を透過する。
【００６９】
バンドパスフィルタ１００を透過した５３０ｎｍの波長の光は、偏光フィルタ４３に到達する。偏光フィルタ４３の配置方向は、偏光フィルタ回転機構４４によって、予め反射された光Ｌ１の偏光方向と同一方向に調整されている。偏光フィルタ４３を透過した光Ｌ１は、ＣＣＤカメラ３５に到達し、撮影される。ＣＣＤカメラ３５は、バンドパスフィルタ１００を透過した５３０ｎｍの光の強度を計測する。
【００７０】
上記のように、ＣＣＤカメラ３５によって計測された５３０ｎｍの光の強度は、輝点欠陥２１に到達した５３０ｎｍの波長の光のうち第１のミラー１２と第２のミラー３２で反射された分とバンドパスフィルタ１００を透過しなかった分とを差し引いた分の強度である。
【００７１】
それゆえ、ＣＣＤカメラ３５で計測された５３０ｎｎの波長の光の強度に、第１のミラー１２と第２のミラー３２で反射した分とバンドパスフィルタ１００を透過しなかった分を考慮した分を追加した強度が、輝点欠陥２１に到達した波長の光の強度になる。
【００７２】
制御部１６では、上記のように得られた輝点欠陥２１に到達した５３０ｎｍの波長の光の強度と光源３１から出力された光Ｌ１中の５３０ｎｍの光の強度とを比較することによって、５３０ｎｍの波長の光の損失割合を求める。５３０ｎｍの光の損失割合は、レーザ出力部１１から出力されるレーザの損失割合と略同じである。
【００７３】
制御部１６は、得られた損失割合に基づいて、輝点欠陥２１を修正するため必要なレーザの強度を求める。
【００７４】
本実施形態の修正装置１０では、別途に計測機構４０を用意することなく、既存の観察部３０を利用してレーザの損失割合を求めている。それゆえ、修正装置１０の構造を複雑にすることがなく、簡素な構造にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る液晶パネルの欠陥画素修正装置の概略的構成図。
【図２】本発明の第２の実施形態に係る液晶パネルの欠陥画素修正装置の概略的構成図。
【符号の説明】
【００７６】
１０…液晶パネルの欠陥画素修正装置、１１…レーザ出力部、２０…液晶パネル、２１…輝点欠陥（欠陥画素）、３０…観察部、３１…光源、３５…ＣＣＤカメラ（撮影部）、４０…計測機構、４３…偏光フィルタ、１００…バンドパスフィルタ、Ｌ１…光、Ｌ２…計測用レーザ（レーザ）。
【図１】
2007206550.tif 000003
【図２】
2007206550.tif 000004