(57)【要約】【課題】光学異方性層においてハイブリッド配向した液晶性化合物の傾斜角が制御された光学補償シートの提供。【解決手段】支持体上に、少なくとも１種の液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層および配向膜を有する光学補償シートであって、該光学異方性層が下記一般式（III）または（IV）で表される化合物の少なくとも一種を含有し、かつ、該光学異方性層または該配向膜が、オニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩、および有機酸を中和して得られる塩から選択される少なくとも一種の塩を含有する光学補償シート。2007156162.tif 000074［式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表し、ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。］2007156162.tif 000075［式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。］【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、少なくとも１種の液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償シートであって、該光学異方性層が下記一般式（III）または（IV）で表される化合物の少なくとも一種と、オニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩、および有機酸を中和して得られる塩から選択される少なくとも一種の塩とを含有する光学補償シート。
【化１】
2007156162.tif 000070
［式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表し、ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。］
【化２】
2007156162.tif 000071
［式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。］
【請求項２】
支持体上に、少なくとも１種の液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層および配向膜を有する光学補償シートであって、該光学異方性層が請求項１に記載の一般式（III）または（IV）で表される化合物の少なくとも一種を含有し、かつ、該光学異方性層または該配向膜が、オニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩、および有機酸を中和して得られる塩から選択される少なくとも一種の塩を含有する光学補償シート。
【請求項３】
前記光学異方性層または前記配向膜が、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される少なくとも一種のオニウム塩を含有する請求項１または２に記載の光学補償シート。
【化３】
2007156162.tif 000072
（Ｍaは窒素原子又はリン原子を表し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14はそれぞれ、脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表し、Ｘan-はｎ価のアニオンを表し、ｎは１〜３の整数を表す。）
【化４】
2007156162.tif 000073
（Ｍbは窒素原子を表し、Ｙ＝Ｍbは窒素原子と炭素原子の二重結合を表し、Ｙ及びＺはＹとＭbとＺとによって含窒素へテロ環を形成するに必要な残基を表し、Ｒ21は、脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表し、Ｘbn-はｎ価のアニオンを表し、ｎは１〜３の整数を表す。）
【請求項４】
液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学補償シート。
【請求項５】
前記液晶性化合物の分子の傾斜角が、該分子が透明支持体面から離れるに伴って減少し、かつ空気界面側で５°以下である請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学補償シート。
【請求項６】
前記光学異方性層が、さらに、フルオロ脂肪族基含有ポリマーを含有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学補償シート。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学補償シートを有する偏光板。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学補償シートまたは偏光板を有する液晶表示装置。
【請求項９】
透明支持体上の表面にダイコーティング法によって、光学異方性層形成用組成物または配向膜形成用組成物を塗布する工程を含む請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学補償シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な光学補償シートに関する。特に、ディスコティック液晶組成物からなる光学異方性層中の液晶分子の配向膜側、空気界面側における液晶の傾斜角を制御した光学補償シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学補償シートは画像着色解消や視野角拡大のために、様々な液晶表示装置で用いられている。従来から光学補償シートとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、透明支持体上に液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。この光学異方性層は、通常、ディスコティック液晶性化合物を含む組成物を配向膜上に塗布し、配向温度よりも高い温度に加熱してディスコティック液晶性化合物を配向させ、その配向状態を固定することにより形成される。一般に、ディスコティック液晶性化合物は、大きな複屈折率を有するとともに、多様な配向形態がある。そして、液晶性化合物を用いることで、従来の延伸複屈折フィルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になってきている。
【０００３】
前記のように、ディスコティック液晶性化合物では多様な配向形態が存在するため、所望の光学特性の発現には光学異方性層におけるディスコティック液晶性化合物の配向を制御する必要がある。特に光学補償性能の発現には、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角を支持体面からの距離に伴って変化するように配向させる、いわゆる「ハイブリッド配向」の状態を実現することが重要であり、光学補償シートの性能、すなわち、視野角拡大、視角変化によるコントラスト低下、階調反転、黒白反転、および色相変化等を決める最も重要な因子となる。このハイブリッド配向は、ディスコティック液晶性化合物の配向の方位角を規制する目的で支持体上に設けられる配向膜表面の傾斜角と光学補償シートの最外面である空気側界面の傾斜角との差を利用して実現されている。ディスコティック液晶性化合物を用いて光学補償シートを塗設、乾燥した後、ディスコティック液晶性化合物は、空気界面と配向膜界面の両方でそれぞれ安定な傾斜角でモノドメイン配向する。その結果、膜の厚み方向に連続的に傾斜角が変化した配向状態が形成される。ディスコティック液晶性化合物は、空気界面では５０°以上の高い傾斜角を持つ性質があるため、従来、ハイブリッド配向の実現のために配向膜界面の傾斜角を空気界面の傾斜角より大幅に小さくするための技術が開発されてきている。例えば、ポリビニルアルコールを用いた配向膜は、目的のハイブリッド配向の実現に好適に用いられる（特許文献１）。
【０００４】
さらに、空気界面側の傾斜角、配向膜側の傾斜角を制御するため、例えば、セルロース部分のエステル化物を添加する方法や特定構造のポリマー化合物を添加し、通常の空気界面で得られる傾斜角である５０°を凌ぐ角度を得る方法が提案されている（特許文献２）。しかし、本発明者がこれらの光学補償シートを実際に使用してみたところ、偏光板の斜め方向からの光漏れが認められ、視野角が充分に拡大しないものもあることが判明した。光学補償機能が不十分になる理由の一つとしてディスコティック液晶性化合物の傾斜角が充分に制御できていないことがある。
【０００５】
また、従来の技術では、主に、１５インチ以下の小型あるいは中型の液晶表示装置を想定して、光学補償シートが開発されていた。しかし、最近では、１７インチ以上の大型、かつ輝度の高い液晶表示装置も想定する必要がある。大型の液晶表示装置の偏光板に、従来技術の光学補償シートを保護フィルムとして装着したところ、パネル上にムラが発生していることが判明した。このムラは、小型あるいは中型の液晶表示装置では、あまり目立っていなかったが、大型化、高輝度化に対応して、光漏れムラに対処した光学フィルムをさらに開発する必要が生じている。ムラの改良を行う技術として、重合性液晶にレベリング剤を含有させる方法が開示されている（例えば、特許文献３参照）。しかしながら、この方法は重合性液晶がホモジニアス配向の場合にのみ有効であり、ハイブリット配向をはじめとした複雑な配向には、適用できないことが判った。
さらに、ムラの発生の原因としては、光学補償シートの塗布方式による原因が考えられる。これまで主に用いられてきたワイヤーバーを用いた方法は液受け槽中の塗布液振動、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。これらの課題を解決するために、スロットダイコーターでのウェブ上への連続的な精密薄膜塗布、特に湿潤膜厚２０μｍ以下の薄膜塗布の方法に対する要求が高まっている。上述のような光学異方性層における液晶性化合物の配向が制御された光学補償シートの製造のために、高精度な薄層塗布技術の提案がなされている（特許文献４）が、求められる塗布膜厚精度及び塗膜性状は厳しく、満足な技術は得られていない。
【０００６】
【特許文献１】特開平８−５０２０６号公報
【特許文献２】特開平８−９５０３０号公報
【特許文献３】特開平１１−１４８０８０号公報
【特許文献４】特表平９−５１１６８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、光学異方性層においてハイブリッド配向する液晶性化合物の傾斜角を制御し、光学補償機能に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に、ムラを生じることなく、色味の視角依存性の小さい表示品位の高い画像を表示することができる光学補償シートを提供することを課題とする。とりわけ、空気界面側、支持体面側（配向膜側）の傾斜角を制御し、ハイブリッド配向したディスコティック液晶性化合物を光学異方性層に含有する、ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＶＡモード、ＩＰＳモード等の液晶表示装置の視野角改善に寄与する光学補償シートを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本願発明の目的は、下記により達成された。
（１）支持体上に、少なくとも１種の液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償シートであって、該光学異方性層が下記一般式（III）または（IV）で表される化合物の少なくとも一種と、オニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩、および有機酸を中和して得られる塩から選択される少なくとも一種の塩とを含有する光学補償シート。
【０００９】
【化１】
2007156162.tif 000002
［式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表し、ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。］
【００１０】
【化２】
2007156162.tif 000003
［式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。］
（２）支持体上に、少なくとも１種の液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層および配向膜を有する光学補償シートであって、該光学異方性層が上記一般式（III）または（IV）で表される化合物の少なくとも一種を含有し、かつ、該光学異方性層または該配向膜が、オニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩、および有機酸を中和して得られる塩から選択される少なくとも一種の塩を含有する光学補償シート。
（３）前記光学異方性層または前記配向膜が、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される少なくとも一種のオニウム塩を含有する（１）または（２）に記載の光学補償シート。
【００１１】
【化３】
2007156162.tif 000004
（Ｍaは窒素原子又はリン原子を表し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14はそれぞれ、脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表し、Ｘan-はｎ価のアニオンを表し、ｎは１〜３の整数を表す。）
【００１２】
【化４】
2007156162.tif 000005
（Ｍbは窒素原子を表し、Ｙ＝Ｍbは窒素原子と炭素原子の二重結合を表し、Ｙ及びＺはＹとＭbとＺとによって含窒素へテロ環を形成するに必要な残基を表し、Ｒ21は、脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表し、Ｘbn-はｎ価のアニオンを表し、ｎは１〜３の整数を表す。）
（４）液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である（１）〜（３）のいずれか一項に記載の光学補償シート。
（５）前記液晶性化合物の分子の傾斜角が、該分子が透明支持体面から離れるに伴って減少し、かつ空気界面側で５°以下である（１）〜（４）のいずれか一項に記載の光学補償シート。
（６）前記光学異方性層が、さらに、フルオロ脂肪族基含有ポリマーを含有する（１）〜（５）のいずれか一項に記載の光学補償シート。
（７）（１）〜（６）のいずれか一項に記載の光学補償シートを有する偏光板。
（８）（１）〜（７）のいずれか一項に記載の光学補償シートまたは偏光板を有する液晶表示装置。
（９）透明支持体上の表面にダイコーティング法によって、光学異方性層形成用組成物または配向膜形成用組成物を塗布する工程を含む（１）〜（６）のいずれか一項に記載の光学補償シートの製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によって、ハイブリッド配向する液晶性化合物の傾斜角（空気界面側および配向膜側の傾斜角）を制御させ、特に光学異方性層における液晶性化合物の分子の傾斜角が、該分子が透明支持体面から離れるに伴って減少している光学補償シートを得ることができる。本発明の光学補償シートを種々のモードの液晶表示装置に適用することによって、視野角特性が改善され、ムラを生じない、色味変化の小さい表示品位に優れた液晶表示装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。また、本明細書における「重合」とは、共重合も含む意味である。さらに、本明細書において「支持体上」または「配向膜上」という場合には、該支持体等の直接の表面をいう場合と、該支持体等の上に何らかの層（膜）を設けた表面をいう場合の両方が含まれる。
【００１５】
［光学異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）の測定］
本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈは、それぞれ波長λにおける正面方向のレターデーション及び膜厚方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)は、"ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ"｛王子計測機器（株）製｝を用い、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは、該Ｒｅ、面内の遅相軸（"ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ"により判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の、合計３つの方向で測定したレターデーション値、平均屈折率の仮定値並びに、入力された膜厚値を基に"ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ"が算出する。
【００１６】
ここで平均屈折率の仮定値は、「ポリマーハンドブック」（"ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ  ＆  ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレートフィルム（１．４８）、シクロオレフィンポリマーフィルム（１．５２）、ポリカーボネートフィルム（１．５９）、ポリメチルメタクリレートフィルム（１．４９）、ポリスチレンフィルム（１．５９）。
【００１７】
さらに、本明細書において、「実質的に平行」「実質的に直交」とは、厳密な角度±１０゜未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがより好ましい。
また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００１８】
本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板及び液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。
【００１９】
光学異方性層中の一般式（III）および（ＩＶ）で表される化合物は液晶性化合物、特にディスコティック液晶性化合物の分子を空気海面側近傍で小さい傾斜角で配向させるのに寄与する。
以下一般式（III）で表される化合物について説明する。
式（III）中、Ｒで表される置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００２０】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、
【００２１】
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００２２】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、１，３，５−トリアジル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００２３】
Ｒで表される置換基として好ましくは、アルキル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基又はハロゲン原子である。
【００２４】
ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。
【００２５】
前記一般式（III）で表される化合物の中でも、下記一般式（IIIａ）で表される化合物が特に好ましい。
【００２６】
【化５】
2007156162.tif 000006
式中、Ｒｆ1a、Ｒｆ2a及びＲｆ3aは各々独立に、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｙ1a、Ｙ2a及びＹ3aは各々独立に、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表す。
【００２７】
Ｒｆ1、Ｒｆ2及びＲｆ3で表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数４〜２０であり、さらに好ましくは炭素数４〜１６であり、特に好ましくは６〜１６である。なお、上記の炭素数は末端のＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基の炭素を含む数である。分岐鎖状である場合は少なくとも1つの鎖の末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有すればよく、主鎖の末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有することが好ましい。Ｒｆ1、Ｒｆ2及びＲｆ3で表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、フッ素原子以外の置換基を有していてもよいが、末端の炭素原子（上記ＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基における炭素原子）以外の炭素原子に結合する水素原子もフッ素原子で置換されていることが好ましく、この場合、アルキル基（無置換）中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上を置換されているのが特に好ましい。Ｒｆ1、Ｒｆ2及びＲｆ3で表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。
【００２８】
Ｒｆ１：ｎ−Ｃ8Ｆ17−
Ｒｆ２：ｎ−Ｃ6Ｆ13−
Ｒｆ３：ｎ−Ｃ4Ｆ9−
Ｒｆ４：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ５：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ７：Ｈ−（ＣＦ2）8−
Ｒｆ８：Ｈ−（ＣＦ2）6−
Ｒｆ９：Ｈ−（ＣＦ2）4−
Ｒｆ１０：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１１：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１２：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−
【００２９】
Ｙ1、Ｙ2及びＹ3はそれぞれ、好ましくは、アルキレン基、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表し、特に好ましくは、アルキレン基、−ＮＨ−、−Ｏ−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表し、最も好ましくは、アルキレン基、−Ｏ−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基である。
【００３０】
次に、一般式（IV）にて表される化合物について説明する。
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9でそれぞれ表される置換基としては、一般式（III）におけるＲで表される置換基と各々同義であり、その好ましい範囲も同一である。
【００３１】
前記一般式（IV）で表される化合物の中でも、下記一般式（IVａ）で表される化合物が特に好ましい。
【００３２】
【化６】
2007156162.tif 000007
式中、Ｒｆ11a、Ｒｆ22a、Ｒｆ33a、Ｒｆ44a、Ｒｆ55a及びＲｆ66aは各々独立して、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｙ11a、Ｙ22a、Ｙ33a、Ｙ44a、Ｙ55a及びＹ66aは各々独立して、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表す。
【００３３】
Ｒｆ11a、Ｒｆ22a、Ｒｆ33a、Ｒｆ44a、Ｒｆ55a及びＲｆ66aでそれぞれ表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基としては、前記一般式（IIIa）におけるＲｆ1、Ｒｆ2及びＲｆ3で表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｙ11a、Ｙ22a、Ｙ33a、Ｙ44a、Ｙ55a及びＹ66aとしては、前記一般式（IIIa）における。Ｙ1、Ｙ2及びＹ3と同義であり、その好ましい範囲も同一である。最も好ましくは、アルキレン基、−Ｏ−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基である。
【００３４】
前記一般式（III）又は（IV）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。下記の具体例中、Ｎｏ．Ｉ−４０〜５０は一般式（III）、Ｎｏ．Ｉ−５１〜５９は一般式（IV）で表される化合物の例である。
【００３５】
【化７】
2007156162.tif 000008
【００３６】
【化８】
2007156162.tif 000009
【００３７】
【化９】
2007156162.tif 000010
前記一般式（III）〜（IV）にて表される化合物の添加量としては、ディスコティック液晶性化合物の量に対して０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０３〜５質量％がより好ましく、０．０５〜３質量％がさらに好ましい。なお、前記一般式（III）〜（IV）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００３８】
（オニウム塩）
本発明の光学補償シートにおける光学異方性層または配向膜では、オニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩（「無機酸の塩」という場合がある）および有機酸を中和して得られる塩（「有機酸の塩」という場合がある）から選択される少なくとも一種の塩を含有することを特徴とする。
光学異方性層中または配向膜中のオニウム塩は、液晶性化合物、特にディスコティック液晶性化合物の分子を配向膜近傍で大きい傾斜角で配向させるのに寄与する。本発明に使用可能なオニウム塩には、アンモニウム塩（但しＮＨ4+は除く）、ホスホニウム塩等の４級オニウム塩が含まれる。より好ましくは、下記一般式Ｉ又はIIで表される化合物である。
まず、一般式Ｉで表される化合物について説明する。
【００３９】
【化１０】
2007156162.tif 000011
Ｍaは窒素原子又はリン原子を表し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14はそれぞれ、脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表し、Ｘan-はｎ価のアニオンを表し、ｎは１〜３の整数を表す。
【００４０】
まず、前記一般式Ｉについて説明する。
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14はそれぞれ、脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表し、脂肪族基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基が挙げられ、芳香族基としてはアリール基又は複素環基が挙げられる。
【００４１】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14がアルキル基を表す場合は、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基（より好ましくは炭素数１〜８の置換もしくは無置換のアルキル基）である。これらは、直鎖状、分岐鎖状、あるいは環状であってもよい。これらの例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、ネオペンチル、シクロヘキシル、アダマンチル及びシクロプロピル等が挙げられる。
【００４２】
アルキル基の置換基の例としては、以下のものを挙げることができる。炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルケニル基（例、ビニル）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルキニル基（例、エチニル）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基（例、フェニル、ナフチル）；ハロゲン原子（例、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例、フェノキシ、ビフェニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシ）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールチオ基（例、フェニルチオ）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシル基（例、アセチル、プロピオニル）；
【００４３】
炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基（例、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）；炭素数７〜１１の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基（例、ナフトキシカルボニル）；無置換のアミノ基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換アミノ基（例、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニルアミノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、メチルカルバモイルアミノ、エチルチオカルバモイルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、アセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、エチルチオカルバモイルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、クロロアセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ）；
【００４４】
炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル、ピロリジノカルバモイル）；無置換のスルファモイル基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換スルファモイル基（例、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル）；シアノ基；ニトロ基；カルボキシ基；水酸基；ヘテロ環基（例、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、クマリン環）。アルキル基の置換基としては、特に好ましくは、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基である。
【００４５】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14で各々表されるアルケニル基は、炭素数２〜１８の置換もしくは無置換のアルケニル基（より好ましくは炭素数２〜８の置換もしくは無置換のアルケニル基）であり、例えば、ビニル、アリル、１−プロペニル、１，３−ブタジエニル等が挙げられる。アルケニル基の置換基としては、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。
【００４６】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14で各々表されるアルキニル基は、炭素数２〜１８の置換もしくは無置換のアルキニル基（より好ましくは炭素数２〜８の置換もしくは無置換のアルキニル基）であり、例えば、エチニル、２−プロピニル等が挙げられる。アルキニル基の置換基は、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。
【００４７】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14で各々表されるアラルキル基は、炭素数７〜１８の置換もしくは無置換のアラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル、メチルベンジル、ビフェニルメチル、ナフチルメチル等が好ましい。アラルキル基の置換基としては、前記アルキル基の置換基として挙げたものが挙げられる。
【００４８】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14で各々表される芳香族基は、炭素数６〜１８の置換もしくは無置換の芳香族基が好ましく、例えば、フェニル、ナフチル、フルオレニル等が挙げられる。芳香族基の置換基は前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。またこれらの他に、アルキル基（例えば、メチル、エチル等）、アルキニル基、ベンゾイル基も好ましい。
【００４９】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14が複素環基を表す場合は、炭素原子と窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１種の原子とから構成される５〜６員環の飽和又は不飽和の複素環であり、これらの例としては、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、及びクマリン環が挙げられる。複素環基は置換されていてもよく、その場合の置換基としては、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14で各々表される複素環基としては、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環が特に好ましい。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14のうち任意の２つが結合して環を形成していてもよく、形成される環としてはピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、ピラジン環などが挙げられる。
【００５０】
Ｘan-で表されるアニオンは無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、ハロゲン陰イオン（例え、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなど）、スルホネートイオン（例えば、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン、１，３−ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５−ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６−ナフタレンジスルホン酸イオンなど）、硫酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロほう酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、ギ酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、リン酸イオン（例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン）、水酸イオンなどが挙げられる。Ｘan-は、好ましくは、ハロゲン陰イオン、スルホネートイオン、水酸イオンである。
またＲ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14の置換基としてカルボキシル基、スルホ基、ホスホ基などの解離してアニオンとなりうる置換基が置換している場合には、一般式ＩにおいてＸan-がなく、分子内塩を形成している化合物も一般式Ｉの範囲内に含まれるものとする。
【００５１】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は各々好ましくは、置換もしくは無置換の、アルキル基、アラルキル基、アリール基又は複素環基である。
以下に一般式Ｉで表される化合物の具体例を示すが本発明はこれに限定されるものではない。
【００５２】
【化１１】
2007156162.tif 000012
【００５３】
【化１２】
2007156162.tif 000013
【００５４】
【化１３】
2007156162.tif 000014
【００５５】
次に一般式ＩＩについて説明する。
【００５６】
【化１４】
2007156162.tif 000015
Ｍbは窒素原子を表し、Ｙ＝Ｍbは窒素原子と炭素原子の二重結合を表し、Ｙ及びＺはＹとＭbとＺとによって含窒素へテロ環を形成するに必要な残基を表し、Ｒ21は、脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表し、Ｘbn-はｎ価のアニオンを表し、ｎは１〜３の整数を表す。
【００５７】
Ｙ、Ｍb及びＺによって表される含窒素へテロ環は、炭素原子と、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる少なくとも１種とによって構成される５〜６員環の飽和又は不飽和の複素環であり、これらの例としては、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、ピラゾール環、ピロール環、キノリン環、イソキノリン環、ピリミジン環、ピラジン環、及びトリアジン環が挙げられる。複素環基は置換されていてもよく、その場合の置換基としては、前記一般式Ｉのアルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。ＹとＭbとＺとによって表される含窒素へテロ環としては、イミダゾール環、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環が特に好ましい。
【００５８】
Ｒ21は、脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表す。Ｒ21は一般式ＩにおけるＲ11と同義であり、好ましい範囲も同じである。
Ｘbn-はアニオンを表す。Ｘbn-は一般式ＩにおけるＸbn-と同義であり、好ましい範囲も同じである。
【００５９】
以下に一般式IIで表される具体的な化合物を例示するが本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６０】
【化１５】
2007156162.tif 000016
【００６１】
【化１６】
2007156162.tif 000017
【００６２】
【化１７】
2007156162.tif 000018
【００６３】
第４級オニウム塩は、一般に第３級アミン（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミンなど）、第３級ホスフィン（例えば、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、など）あるいは含窒素複素環（ピリジン環、ピコリン環、２，２’−ビピリジル環、４，４’−ビピリジル環、１，１０−フェナントロリン環、キノリン環、オキサゾール環、チアゾール環、Ｎ−メチルイミダゾール環、ピラジン環、テトラゾール環など）を、アルキル化（メンシュトキン反応）、アルケニル化、アルキニル化あるいはアリール化して得られる。
光学異方性層形成用組成物または配向膜形成用組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中の前記４級オニウム塩の含有量は、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましい。
【００６４】
（無機塩、無機酸の塩又は有機酸の塩）
本発明の光学補償シートにおいて、無機塩、無機酸の塩又は有機酸の塩は、ディスコティック液晶性化合物を配向膜近傍で大きい傾斜角で配向規制するのに寄与する。なお、本明細書において、「有機酸」の用語は、酸性をもつ有機化合物全ての総称として用い、カルボン酸のみならず、有機スルホン酸等全ての酸性有機化合物が含まれる。無機酸の塩及び有機酸の塩のカウンターカチオンは、金属イオン等の無機系のものであっても、アルキルアンモニウム塩等の有機系のものであってもよい。
【００６５】
上記無機塩、無機酸の塩又は有機酸の塩としては、好ましくは、一般式V：
ＭＸ
で表される化合物である。一般式V中、Ｍは１族から１５族までの金属イオン又は下記一般式VIを表し、Ｘはアニオンを表す。
【００６６】
【化１８】
2007156162.tif 000019
一般式VI中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14はそれぞれ、水素原子、脂肪族基、芳香族基又はへテロ環基を表し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14のうち少なくとも１つは水素原子である。
【００６７】
以下一般式Vについて説明する。
Ｍで表される金属イオンとしては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ+，Ｎａ+，Ｋ+，Ｒｂ+、Ｃｓ+）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ2+，Ｍｇ2+など）、希土類イオン（ランタノイドイオン（Ｓｍ3+，Ｙｂ3+，Ｌｕ3+など））、遷移金属イオン（Ｃｕ2+，Ｆｅ3+、Ｎｉ2+イオンなど）、典型元素イオン（Ｂｉ3+、Ｓｎ2+、など）が挙げられる。好ましくはアルカリ金属イオン（Ｌｉ+，Ｎａ+，Ｋ+，Ｒｂ+、Ｃｓ+）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ2+Ｍｇ2+など）、希土類イオン（Ｓｍ3+，Ｙｂ3+，Ｌｕ3+など）、である。
【００６８】
一般式VIにおいて、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ、水素原子、脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表し、少なくとも１つは水素原子である。脂肪族基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基が挙げられ、芳香族基としてはアリール基又は複素環基が挙げられる。
【００６９】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14でそれぞれ表されるアルキル基は、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のアルキル基（より好ましくは炭素数１〜８の置換もしくは無置換のアルキル基）である。これらは、直鎖状、分岐鎖状、あるいは環状であってもよい。これらの例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、ネオペンチル、シクロヘキシル、アダマンチル及びシクロプロピル等が挙げられる。
【００７０】
アルキル基の置換基の例としては、以下のものを挙げることができる。炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルケニル基（例、ビニル）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルキニル基（例、エチニル）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール基（例、フェニル、ナフチル）；ハロゲン原子（例、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例、メトキシ、エトキシ）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例、フェノキシ、ビフェニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシ）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルキルチオ基（例、メチルチオ、エチルチオ）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリールチオ基（例、フェニルチオ）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシル基（例、アセチル、プロピオニル）；
【００７１】
炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基（例、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例、アセトキシ、プロピオニルオキシ）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）；炭素数７〜１１の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基（例、ナフトキシカルボニル）；無置換のアミノ基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換アミノ基（例、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アニリノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニルアミノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、メチルカルバモイルアミノ、エチルチオカルバモイルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、アセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、エチルチオカルバモイルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、クロロアセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ）；
【００７２】
炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル、ピロリジノカルバモイル）；無置換のスルファモイル基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換スルファモイル基（例、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイル）；シアノ基；ニトロ基；カルボキシ基；水酸基；ヘテロ環基（例、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、クマリン環）が挙げられる。
アルキル基の置換基としては、特に好ましくは、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールスルホニル基、アリールオキシカルボニル基である。
【００７３】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14でそれぞれ表されるアルケニル基は、炭素数２〜１８の置換もしくは無置換のアルケニル基（より好ましくは炭素数２〜８の置換もしくは無置換のアルケニル基）であり、例えば、ビニル、アリル、１−プロペニル、１，３−ブタジエニル等が挙げられる。アルケニル基の置換基としては、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。
【００７４】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14でそれぞれ表されるアルキニル基は、炭素数２〜１８の置換もしくは無置換のアルキニル基（より好ましくは炭素数２〜８の置換もしくは無置換のアルキニル基）であり、例えば、エチニル、２−プロピニル等が挙げられる。アルキニル基の置換基は、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。
【００７５】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14でそれぞれ表されるアラルキル基は、炭素数７〜１８の置換もしくは無置換のアラルキル基が好ましく、例えば、ベンジル、メチルベンジル、ビフェニルメチル、ナフチルメチル等が好ましい。アラルキル基の置換基としては、前記アルキル基の置換基として挙げたものが挙げられる。
【００７６】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14でそれぞれ表される芳香族基は、炭素数６〜１８の置換もしくは無置換の芳香族基が好ましく、例えば、フェニル、ナフチル、フルオレニル等が挙げられる。芳香族基の置換基は前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。またこれらの他に、アルキル基（例えば、メチル、エチル等）、アルキニル基、ベンゾイル基も好ましい。
【００７７】
上記Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14でそれぞれ表される複素環基は、炭素原子、窒素原子、酸素原子、あるいは硫黄原子から構成される５〜６員環の飽和又は不飽和の複素環であり、これらの例としては、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドレニン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、スルホラン環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、及びクマリン環が挙げられる。複素環基は置換されていてもよく、その場合の置換基としては、前記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。
【００７８】
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14のうち任意の２つが結合して環を形成していてもよく、形成される環としてはピリジン環、イミダゾール環、ピペリジン環、ピロリジン環、モルホリン環、ピラジン環などが挙げられる。但し、ピリジン環、イミダゾール環などの炭素窒素二重結合が形成される含窒素不飽和へテロ環の場合は、Ｒ11〜Ｒ14のうち、２つは環形成に用いられ、１つは水素原子を表し、残る１つは炭素窒素二重結合に用いられることを示す。
【００７９】
一般式VIで表されるアンモニウムイオンとしてはアンモニア、１級アミン、２級アミン、３級アミン、１級アニリン、２級アニリン、３級アニリン、含窒素へテロ環（ピリジン、モルホリン、ピロリジン、ピペラジン、イミダゾール）、などにプロトンがついたものが挙げられる。好ましくはアンモニア、１級アミン、２級アミン、３級アミン、含窒素へテロ環（ピリジン、モルホリン、ピロリジン、ピペラジン）、である。
【００８０】
Ｘはアニオンを表し、Ｍのイオン価に等しい価数を有する。具体的には無機イオン（Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＣＮ-、ＮＯ3-、ＣＯ32-、ＨＣＯ3-、ＳＯ42-、ＨＳＯ4-、ＳＯ32-、ＨＳＯ3-、ＰＯ43-、ＨＰＯ42-、Ｈ2ＰＯ4-、Ｂ4Ｏ72-、など）、有機酸の遊離イオン（ＨＣＯ2-、ＣＨ3ＣＯ2-などのカルボン酸の遊離イオン、ＣＨ3ＳＯ3-、Ｃ6Ｈ5ＳＯ3-、ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-などのスルホン酸の遊離イオン）が挙げられる。好ましくは無機イオンとしてＦ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＮＯ3-、ＣＯ32-、ＳＯ42-、ＨＳＯ4-、有機酸の遊離イオンとしてＨＣＯ2-、ＣＨ3ＣＯ2-、ＣＨ3ＳＯ3-、Ｃ6Ｈ5ＳＯ3-、ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3-である。なお、一般式IIのＲ11〜Ｒ14のいずれかの置換基にカルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基が置換しているアミノ酸（たとえばグリシンやタウリンなど）等のように分子内で塩を形成するものの場合には、それらの置換基がＸとして機能していることを示す。
【００８１】
以下に一般式Vで表される化合物の具体例を示すが本発明はこれに限定されるものではない。
【００８２】
V−１ ＬｉＣｌ
V−２ ＬｉＢｒ
V−３ ＮａＣｌ
V−４ ＮａＢｒ
V−５ ＮａＩ
V−６ ＫＦ
V−７ ＫＣｌ
V−８ ＫＢｒ
V−９ ＫＩ
V−１０ ＣｓＣｌ
V−１１ ＣｓＢｒ
V−１２ ＣａＣｌ2
V−１３ ＭｇＳＯ4
V−１４ Ｎａ2ＳＯ4
V−１５ Ｋ2ＳＯ4
V−１６ Ｎａ2ＣＯ3
V−１７ Ｋ2ＣＯ3
V−１８ ＮａＨＣＯ3
V−１９ ＫＨＣＯ3
V−２０ ＮａＮＯ3
V−２１ ＫＮＯ3
V−２２ Ｎａ2ＨＰＯ4
V−２３ ＣＨ3ＣＯ2Ｋ
V−２４ ＨＣＯ2Ｋ
V−２５ ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3Ｎａ
V−２６ ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3Ｋ
V−２７ ＮＨ4Ｃｌ
V−２８ Ｈ2ＮＣＨ2ＣＯＯＨ
V−２９ Ｈ2ＮＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｈ
V−３０ Ｃ5Ｈ5Ｎ・ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ3Ｈ
V−３１ ＦｅＣｌ3
V−３２ ＣｕＣｌ2
V−３３ Ｆｅ2（ＳＯ4）3
V−３４ ＣｕＳＯ4
V−３５ ＦｅＣｌ2
【００８３】
光学異方性層形成用組成物または配向膜形成用組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）における無機塩、無機酸の塩又は有機酸の塩の含有量は、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましい。
【００８４】
一般式VにおいてＭが遷移金属イオンの場合、配位子を併用してもよい。併用する配位子としては、坂口武一・上野影平共編、金属キレート［Ｉ］ 南江堂及び基礎錯体工学研究会編、新版錯体化学 講談社サイエンティフィックに記載されているものを用いることができる。具体的には、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、ピリジン、２，２'−ビピリジン、イミダゾール、ジメイルグリオキシム、ジフェニルホスフィンエタン、シュウ酸、アセチルアセトン、グリシン、アラニン、エチレンジアミン四酢酸、シクロペンタジエン、ノルボルネンなどが挙げられる。
【００８５】
［光学異方性層］
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するように設計することが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なる。この液晶セル中の液晶化合物の配向状態に関しては、ＩＤＷ’００，ＦＭＣ７−２、４１１〜４１４ページに記載されている。
光学異方性層は、支持体上に直接液晶性分子から形成するか、もしくは配向膜を介して液晶性分子から形成する。配向膜は、１０μｍ以下の膜厚を有することが好ましい。
光学異方性層の形成に用いる液晶性化合物には、棒状液晶性化合物およびディスコティック液晶性化合物が含まれる。棒状液晶性化合物およびディスコティック液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、液晶性化合物としては、以下に例示する液晶性を示す化合物のほか、これらの化合物が重合することによって、もはや液晶性を示さなくなったものも含まれる。
本発明の光学補償シートにおける光学異方性層は、液晶性化合物、上記一般式（III）または（IV）で表される化合物の少なくとも一種、および必要に応じて、オニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩、および有機酸を中和して得られる塩から選択される少なくとも一種の塩、重合性開始剤や任意の成分を含む組成物を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
本発明の配向膜として好ましい例は、特開平８−３３８９１３号公報に記載されている。
【００８６】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
本発明のように非常に均一性の高い光学フィルムを作製する場合には、表面張力が２５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることがさらに好ましい。
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
【００８７】
光学異方性層における液晶性化合物の分子の傾斜角が制御された光学補償シートを得るために好ましいダイコーティング法塗布について以下説明する。
図１はスロットダイを用いたコーターの概略図である。コーター１０は、バックアップロール１１に支持されて連続走行するウェブ１２に対して、スロットダイ１３から塗布液１４をビード１４ａにして塗布することにより、ウェブ１２に塗布膜１４ｂを形成する。
【００８８】
スロットダイ１３は、その内部にポケット１５、スロット１６が形成されている。ポケット１５は、その形状の断面が曲線及び直線で構成される。例えば図１に示すような略円形でもよいし、半円形でもよい。ポケット１５は、スロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット１５への塗布液１４の供給は、スロットダイ１３の側面から、あるいはスロットとは反対側の面中央から行い、ポケット１５には塗布液１４が漏れ出ないようにするための栓を設けている。
【００８９】
スロット１６は、ポケット１５からウェブ１２への塗布液１４の流路であり、ポケット１５と同様にスロットダイ１３の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部１６ａは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット１６の、スロット先端におけるバックアップロール１１のウェブ走行方向の接線とのなす角は、一般に３０°以上９０°以下であり、さらに、本発明の効果は上記形状のスロットダイに限定されるものではない。
【００９０】
スロット１６の開口部１６ａが位置するスロットダイ１３の先端リップ１７は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部１７ａとされている。この平坦部１７ａであって、スロット１６に対してウェブ１２の進行方向の上流側を以下、上流側リップランド１８と称し、下流側を下流側リップランド１９と称する。
【００９１】
下流側リップランド１９のウェブ走行方向における長さＩLOは３０μｍ〜５００μｍが好ましく、より好ましくは３０μｍ〜１００μｍ、さらに好ましくは３０μｍ〜６０μｍである。また、上流側リップランド１８のウェブ進行方向における長さＩUPは特に限定されないが、５００μｍ〜１ｍｍの範囲で好ましく用いられる。
【００９２】
図２は、スロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示すもので、（Ａ）は本発明において好ましく用いられるスロットダイ１３を示し、（Ｂ）は従来のスロットダイ３０を示している。従来のスロットダイ３０では、下流側リップランド３１のランド長さＩLOについて考慮されておらず、ほぼ上流側リップランドの長さＩUPと同様の長さとされている。なお、符号３２はポケット、３３はスロットを示している。これに対して、本発明において好ましく用いられるスロットダイ１３では、下流側リップランド長さＩLOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が２０μｍ以下の塗布を精度良くおこなうことができる。しかも、この下流側リップランド１９のランド長さＩLOを３０μｍ〜１００μｍの範囲にすることで、寸法精度のよいリップランドを形成することができる。
【００９３】
また、塗膜の膜厚を高精度で均一化するためには、下流側リップランド１９のランド長さＩLOのスロットダイ１３の幅方向における変動幅を２０μｍ以内にする。これは下流側リップランド１９のランド長さＩLOが大きくなると、ビードの形成が不安定になるからである。しかも、かすかな外乱でビードが不安定となって、製造適性がなくなる。このため、スロットダイ１３の幅方向での変動幅が２０μｍ以内におさまるようにスロットダイ１３を制作する。
【００９４】
スロット１６の開口部ａを含む先端リップ１７の強度や表面状態の向上対策としては、少なくともこの箇所を含むスロットダイの材質を、ＷＣを主成分とする超硬材質にする。超硬材質を用いることにより、表面形状の均質性と併せ、常に吐出される塗布液による先端リップの摩耗への対策にもなる。塗布液として研磨材を含む磁性液等を塗布する場合は特に有効である。超硬材質としては、平均粒径５μｍのＷＣ炭化物結晶をＣｏをはじめとする結合金属で結合してなる材質を使用するが、結合金属はこれに限定されず、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂをはじめとする各種金属を使用することもできる。なお、ＷＣ結晶の平均粒径は５μｍ以内であれば、任意の平均粒径のものを用いてよい。
【００９５】
さらに、薄層の塗布膜厚を高精度に均一に維持するためには、下流側リップランド１９のランド長さＩLOの塗布幅方向における寸法精度を維持するほかに、スロットダイ１３の先端リップ１７とバックアップロール１１の両方の真直度も重要である。これはスロットダイ１０の先端部とバックアップロール１３の真直度の２つの組み合わせにより達成されるので、どちらかのみを精度良くしても意味が無い。必要真直度は下記の式（１）を利用して、概算ではあるが、実用的に十分な精度で求めることができるが、これに限定されない。ここで、図３に示すようにＰ0 はウェブ１２の進行方向側におけるビードメニスカス外の圧力、Ｐp はポケット１５の内圧であり、以下図示しないが、σは塗布液１４の表面張力、μは塗布液１４ａの粘度、Ｕは塗布速度、ｈは膜厚、ｄは下流側リップランド１９とウェブ１２との隙間の長さ、Ｌはスロットダイ１３のスロット１６の長さ、Ｄはスロットダイ１３のスロット間隙である。そしてスロットダイ１３のポケット１５の内圧ＰP とウエブ進行方向側のビードメニスカス外の圧力ＰO の差圧Ｐ0−ＰP を、スロットダイ１３の幅方向に一定として、下記（１）式を用いて、必要真直度を求める。これは、スロットダイ１３の先端部とバックアップロール１１との隙間の長さｄが変化しても、スロットダイ１３のポケット１５の中と前記ビードメニスカス外の差圧が一定となるように、スロットダイ１３の幅方向の流れがポケット１５の中で発生して、流量分布となることによる。
Ｐ0 −Ｐp ＝１．３４σ／ｈ ・（μＵ／σ）2/3 ＋１２μＵＩLO（ｄ／２−ｈ）／ｄ3 −１２μｈＵＬ／Ｄ3 ・・・（１）
【００９６】
上記（１）式を用いることにより、条件により厳密には異なるが、一般の工業的生産に用いられる塗布系においては、５μｍ程度のダイブロック幅方向の真直度で、塗布膜厚分布が２％程度発生することになる。従って、高精度の薄膜塗布を実施する際の限界はこの数字であるとみなすことができる。これにより、前記スロットダイ１３を塗布位置にセットしたときに，前記先端リップとウェブとの隙間の前記スロットダイ幅方向における変動幅が５μｍ以内となるように、先端リップと前記バックアップロールの真直度を出す。
【００９７】
（棒状液晶性化合物）
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は棒状液晶性分子が（液晶）ポリマーと結合した化合物であってもよい。
棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基またはエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。
【００９８】
（ディスコティック液晶性化合物）
ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年））に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０））に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年））に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年））、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年））に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
ディスコティック液晶性化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。ディスコティック液晶性化合物から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物がディスコティック液晶性化合物である必要はなく、例えば、低分子のディスコティック液晶性化合物が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
【００９９】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。
そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【０１００】
式（ＩＩＩ）  Ｄ（−ＬＱ）n
式（ＩＩＩ）において、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であり、Ｑは重合性基であり、そして、ｎは４〜１２の整数である。
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（またはＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｑ）との組み合わせを意味する。
【０１０１】
【化１９】
2007156162.tif 000020
【０１０２】
【化２０】
2007156162.tif 000021
【０１０３】
【化２１】
2007156162.tif 000022
【０１０４】
【化２２】
2007156162.tif 000023
【０１０５】
【化２３】
2007156162.tif 000024
【０１０６】
【化２４】
2007156162.tif 000025
【０１０７】
【化２５】
2007156162.tif 000026
【０１０８】
【化２６】
2007156162.tif 000027
【０１０９】
（液晶性化合物の分子の傾斜角）
本発明の光学補償シートの光学異方性層における液晶性化合物の分子の傾斜角は、支持体水平面の法線方向に沿った透明支持体面から距離に伴って変化していることが好ましく、透明支持体面から離れるに伴って減少していることがより好ましい。この減少としては、連続的減少、間欠的減少が可能である。間欠的減少は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいてもよく、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として減少していればよい。しかしながら、傾斜角は連続的に変化することが好ましい。なお、本明細書において、傾斜角とは、液晶性化合物の分子の長軸方向、例えば、ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）方向と支持体の水平面とがなす角度を意味する。
【０１１０】
液晶性化合物の支持体面側（配向膜側）の傾斜角は、２０度以上であることが好ましく、３０度以上であることがより好ましく、５０度以上であることが更に好ましい。空気界面側の傾斜角は、１０度以下が好ましく、５度以下がより好ましい。
光学補償シートの光学異方性層における液晶性化合物の傾斜角の測定は、Y. Takahashi, H. Watanabe, and T. Kato, Proceedings of IDW'04 , 651(2004)に記載の方法によって行うことができるが、本明細書においては、便宜的に配向膜近傍の傾斜角及び空気界面近傍の傾斜角は、エリプソメーター（ＡＰＥ−１００、島津製作所（株）製）を用いて観察角度を変えてレターデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想し、Ｄｅｓｉｇｎｉｎｇ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ，ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴ  に記載されている手法で算出した値を用いる。
【０１１１】
ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）の平均方向（各分子の長軸方向の平均）は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気界面側）、支持体面側（配向膜側）のディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）方向は、ディスコティック液晶性化合物あるいはディスコティック液晶性化合物と共に使用する本発明の一般式（III）及び（IV）のいずれかで表される化合物の少なくとも一種、ならびに、オニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩、および有機酸を中和して得られる塩から選択される少なくとも一種の塩を選択することにより調整することができる。
【０１１２】
ディスコティック液晶性化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤および重合性モノマーは、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。添加成分の中でも重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物）の添加が好ましい。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることができる。
【０１１３】
ディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【０１１４】
（液晶性分子の配向状態の固定）
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれ、光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１１５】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
【０１１６】
液晶性化合物の空気界面側、支持体面側（配向膜側）の傾斜角を制御する材料としては、一般にポリマーを好適に用いることができる。
使用するポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報、特開２００４−４６０３８号公報に記載があり、好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、傾斜角を制御する目的で使用されるポリマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１１７】
本発明の光学補償シートにおいて、光学異方性層又は配向膜に、オニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩、および有機酸を中和して得られる塩から選択される少なくとも一種の塩を含有させることによって支持体面側（配向膜側）の傾斜角は変えることができるが、その時の変化量はラビング密度に関係がある。ラビング密度が高い配向膜とラビング密度の低い配向膜を比較すれば、ラビング密度の低い配向膜の方が、同じ添加量であっても、傾斜角は変わりやすい。
したがって、上記塩の添加量は、配向膜のラビング密度および所望の傾斜角の大きさ等によって変わるが、液晶性分子に対して、０．０００１質量％〜３０質量％が好ましく、０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、更に０．００５質量％〜１０質量％が最も好ましい。
【０１１８】
（光学異方性層の他の添加物）
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０１１９】
液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
【０１２０】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号公報明細書中の段落番号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。
【０１２１】
以下、界面活性剤として、特に好ましいフルオロ脂肪族基含有ポリマーについて詳細に説明する。
フルオロ脂肪族基含有ポリマーは下記一般式（４）で表されるモノマーから導かれる繰り返し単位を含む化合物であるアクリル樹脂やメタアクリル樹脂等のポリマー、一般式（４）および（５）で表されるモノマーから導かれる繰り返し単位を含む化合物である、アクリル樹脂やメタアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、さらには一般式（４）および（５）で表されるモノマーと重合可能なビニル系モノマーが重合体したアクリル樹脂やメタアクリル樹脂等のポリマーも好ましい。
【０１２２】
フルオロ脂肪族基含有ポリマーにおけるフルオロ脂肪族基の一つは、テロメリゼーション法（テロマー法ともいわれる）またはオリゴメリゼーション法（オリゴマー法ともいわれる）により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれるものである。これらのフルオロ脂肪族化合物の製造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機能」（監修：石川延男、発行：株式会社シーエムシー、１９８７）の１１７〜１１８ページや、「Chemistry of Organic Fluorine Compounds II」(Monograph 187,Ed by Milos Hudlicky and Attila E.Pavlath,American Chemical Society 1995)の７４７−７５２ページに記載されている。テロメリゼーション法とは、ヨウ化物等の連鎖移動常数の大きい
アルキルハライドをテローゲンとして、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法である（合成法の例を下記Ｓｃｈｅｍｅ−１に示した）。
【０１２３】
【化２７】
2007156162.tif 000028
【０１２４】
得られた末端ヨウ素化テロマーは通常、例えば［Ｓｃｈｅｍｅ２］のごとき適切な末端化学修飾を施され、フルオロ脂肪族化合物へと導かれる。これらの化合物は必要に応じ、さらに所望のモノマー構造へと変換されフルオロ脂肪族基含有ポリマーの製造に使用される。
【０１２５】
【化２８】
2007156162.tif 000029
【０１２６】
次に、一般式（４）について詳述する。
一般式（４）
【０１２７】
【化２９】
2007156162.tif 000030
（一般式（４）中、Ｒ11は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ22）−を表し、Ｈfは水素原子またはフッ素原子を表し、ｍは１〜６の整数、ｎは２〜４の整数を表す。Ｒ22は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【０１２８】
Ｒ11は好ましくは、水素原子、メチル基またはエチル基である。Ｒ22は、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基であり、より好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｘは酸素原子または−Ｎ（Ｒ22）−が好ましく、酸素原子がより好ましい。
ｍは、１または２が特に好ましい。ｎは、２または３が好ましい。
また、一般式（４）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの複数を混合物で用いてもよい。
一般式（４）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーのより具体的なモノマーの例を以下にあげるがこの限りではない。
【０１２９】
【化３０】
2007156162.tif 000031
【０１３０】
【化３１】
2007156162.tif 000032
【０１３１】
【化３２】
2007156162.tif 000033
【０１３２】
【化３３】
2007156162.tif 000034
【０１３３】
【化３４】
2007156162.tif 000035
【０１３４】
【化３５】
2007156162.tif 000036
【０１３５】
【化３６】
2007156162.tif 000037
【０１３６】
次に、一般式（５）について詳述する。
一般式（５）
【０１３７】
【化３７】
2007156162.tif 000038
（一般式（５）中、Ｒ31は水素原子またはメチル基を表し、Ｙは２価の連結基を表し、Ｒ41は置換基を有してもよいポリ（アルキレンオキシ）基または置換基を有してもよい炭素数１〜２１の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。）
【０１３８】
２価の連結基としては、酸素原子、イオウ原子またはＮ（Ｒ51）−が好ましい。ここでＲ51は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましい。Ｒ5のより好ましい形態は水素原子およびメチル基である。
Ｙは、酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−およびＮ（ＣＨ3）−がより好ましい。
Ｒ41は置換基を有してもよいポリ（アルキレンオキシ）基または置換基を有してもよい炭素数１〜２１の直鎖、分岐または環状のアルキル基を表す。
【０１３９】
ポリ（アルキレンオキシ）基は（ＲＯ）xで表すことができ、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、または−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）−であることが好ましい。
前記のポリ（アルキレンオキシ）基中のアルキレンオキシ単位はポリ（プロピレンオキシ）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のアルキレンオキシが不規則に分布されたものであってもよく、直鎖または分岐状のプロピレンオキシまたはエチレンオキシ単位、または直鎖または分岐状のプロピレンオキシ単位のブロックおよびエチレンオキシ単位のブロックのように存在するものであってもよい。
このポリ（アルキレンオキシ）鎖は、複数のポリ（アルキレンオキシ）単位同士が１つまたはそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など、ここでＰｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が３つまたはそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のアルキレンオキシ単位を得るための手段を供する。またこの重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（アルキレンオキシ）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。
【０１４０】
Ｒ41で表される炭素数１〜２１の直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖および分岐してもよいメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基およびビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
【０１４１】
Ｒ41で表されるポリ（アルキレンオキシ）基またはアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるが、これらに限定されない。
【０１４２】
一般式（５）で表されるモノマーは、アルキル（メタ）アクリレートまたはポリ（アルキレンオキシ）（メタ）アクリレートであることが特に好ましい。
【０１４３】
一般式（５）で示されるモノマーの具体例を次に示すが、これらに限定されるものではない。
【０１４４】
【化３８】
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【０１４５】
【化３９】
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【０１４６】
【化４０】
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【０１４７】
【化４１】
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【０１４８】
【化４２】
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【０１４９】
【化４３】
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【０１５０】
【化４４】
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【０１５１】
【化４５】
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【０１５２】
【化４６】
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【０１５３】
【化４７】
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【０１５４】
【化４８】
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【０１５５】
【化４９】
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【０１５６】
【化５０】
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【０１５７】
なお、ポリ（アルキレンオキシ）アクリレートおよびメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（アルキレンオキシ）材料、例えば商品名“プルロニック”［Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（旭電化工業（株）製）、“アデカポリエーテル”（旭電化工業（株）製）“カルボワックス”［Ｃａｒｂｏｗａｘ（グリコ・プロダクス）］、“トリトン”［Ｔｏｒｉｔｏｎ（ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ製））および“Ｐ．Ｅ．Ｇ”（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。
別に、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。
【０１５８】
フルオロ脂肪族基含有ポリマーとしては、一般式（４）で表されるモノマーのホモポリマーまたは一般式（４）で表されるモノマーとポリアルキレンオキシ（メタ）アクリレートとの重合体が好ましく、ポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートまたはポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレートを含むことが特に好ましい。
【０１５９】
上記一般式（４）で表されるモノマーと一般式（５）で表されるモノマーの重合体は、上述したとおり、上記各モノマーの他に、さらにこれらと重合可能なモノマーをも加えて反応させた重合体であってもよい。この重合可能なモノマーの好ましい重合比率としては、全モノマー中の２０モル％以下、より好ましくは１０モル％以下である。このようなモノマーとしては、PolymerHandbook 2nd ed.,J.Brandrup,Wiley lnterscience(1975)Chapter 2の１〜４８３頁に記載のものを用いることができる。例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
【０１６０】
具体的には、以下のモノマーをあげることができる。
アクリル酸エステル類：
フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど、
メタクリル酸エステル類：
フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど、
【０１６１】
アリル化合物：
アリルエステル類（例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど
【０１６２】
ビニルエーテル類：
アルキルビニルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど
【０１６３】
ビニルエステル類：
ビニルビチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど。
【０１６４】
イタコン酸ジアルキル類：
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど。
フマール酸のジアルキルエステル類またはモノアルキルエステル類：
ジブチルフマレートなど
その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなど。
【０１６５】
本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有ポリマーにおいて、一般式（４）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの含量は、好ましくは該ポリマーの構成モノマー総量の５モル％以上であり、より好ましくは２０モル％以上であり、さらに好ましくは３０モル％以上である。
フルオロ脂肪族基含有ポリマー中の一般式（５）で示されるモノマーの量は、フルオロ脂肪族基含有ポリマーの構成モノマー総量の、好ましく１０モル％以上であり、より好ましくは１５〜７０モル％であり、さらに好ましくは２０〜６０モル％である。
【０１６６】
本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有ポリマーの好ましい重量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、６，０００〜８０，０００がより好ましい。
さらに、液晶化合物を主とする塗布組成物（溶媒を除いた塗布成分）に対するフルオロ脂肪族基含有ポリマーの好ましい含有量は、０．００５〜８質量％の範囲であり、好ましくは０．０１〜１質量％の範囲であり、さらに好ましくは０．０５〜０．５質量％の範囲である。フルオロ脂肪族基含有ポリマーの添加量を０．００５質量％以上とすることにより、より効果が顕著となる。また、８質量％以下とすることにより、塗膜の乾燥が十分に行えるとともに、光学フィルムとしての性能（例えばレターデーションの均一性等）をより効果的に保つことができる。
【０１６７】
本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有ポリマーは公知慣用の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ脂肪族基を有する（メタ）アクリレート、ポリアルキレンオキシ基を有する（メタ）アクリレート等の単量体を含む有機溶媒中に、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。また、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を、さらに添加して上記と同じ方法にて製造することができる。
各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。
【０１６８】
以下、本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有ポリマーの具体的な構造の例を示すが、これらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分の質量比率を示す。Ｍｗは重量平均分子量を表す。
【０１６９】
【化５１】
2007156162.tif 000052
【０１７０】
【化５２】
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【０１７１】
【化５３】
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【０１７２】
【化５４】
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【０１７３】
【化５５】
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【０１７４】
【化５６】
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【０１７５】
【化５７】
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【０１７６】
【化５８】
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【０１７７】
【化５９】
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【０１７８】
［配向膜］
本発明の光学補償シートは、支持体上に任意で配向膜を有していてもよく、該配向膜上に光学異方性層を設けることが好ましい。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜上に設けられる光学異方性層の液晶性分子に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、本発明においては、配向膜側の傾斜角の制御し易さの点から、特にポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では後述するとおり液晶便覧（丸善（株））に記載されている方法により行うことが好ましい。
配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。
配向膜に用いられるポリマーは、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明の光学補償フィルム用の配向膜ではポリビニルアルコール及びその誘導体が好ましく用いられる。特に好ましくは、疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましく、疎水性基の含有量で、前述の配向膜側の傾斜角を制御することもできる。配向膜についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。
【０１７９】
［配向膜のラビング密度］
配向膜のラビング密度を変える方法としては、液晶便覧（丸善（株））に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は式（Ａ）で定量化されている。
式（Ａ）    Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。
ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。
【０１８０】
［透明支持体］
本発明の透明支持体の面内レターデーション（Ｒｅ）は、５乃至１０００ｎｍであることが好ましく、１０乃至３００ｎｍであることがさらに好ましい。光学的二軸性を有する透明支持体の厚み方向のレターデーション（Ｒth）は、１０乃至１０００ｎｍであることが好ましく、１５乃至３００ｎｍであることがより好ましく、２０乃至２００ｎｍであることがさらに好ましい。
【０１８１】
光学的異方性を有する透明支持体としては、一般に合成ポリマー（例、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂）が用いられる。ただし、欧州特許０９１１６５６Ａ２号明細書に記載されている（１）レターデーション上昇剤の使用、（２）セルロースアセテートの酢化度の低下、あるいは（３）冷却溶解法によるフィルムの製造により、 光学的異方性を有するセルロースエステルフィルムを製造することもできる。ポリマーフィルムからなる透明支持体は、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。
【０１８２】
なお、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、ＷＯ’００／２６７０５号明細書に記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、本発明の光学補償シートに用いることもできる。
偏光板保護フィルム、もしくは位相差フィルムに本発明の光学補償シートを使用する場合は、ポリマーフィルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度は、５７．０〜６２．０％であることがさらに好ましい。
【０１８３】
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算によって求められる。
セルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．０〜１．６５であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【０１８４】
セルロースアセテートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるポリマーフィルムでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度または多い方が好ましい。
２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることがさらに好ましく、３２〜４０％であることが最も好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。
各位置の置換度は、ＮＭＲによって測定することできる。
６位置換度が高いセルロースアセテートは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、そして段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【０１８５】
本発明の光学補償シートに用いる透明支持体を得るためには、ポリマーフイルムに延伸処理を実施することが好ましい。透明支持体を製造する場合は、アンバランス二軸延伸処理を実施することが好ましい。アンバランス二軸延伸では、ポリマーフイルムをある方向に一定倍率（例えば３乃至１００％、好ましくは５乃至３０％）延伸し、それと垂直な方向にそれ以上の倍率（例えば６乃至２００％、好ましくは１０乃至９０％）延伸する。二方向の延伸処理は、同時に実施してもよい。延伸方向（アンバランス二軸延伸では延伸倍率の高い方向）と延伸後のフイルムの面内の遅相軸とは、実質的に同じ方向になることが好ましい。延伸方向と遅相軸との角度は、１０゜未満であることが好ましく、５゜未満であることがさらに好ましく、３゜未満であることが最も好ましい。
【０１８６】
上記の透明支持体と、光学的等方性を有する透明支持体（例、セルロースアセテートフィルム）とを積層してもよい。透明支持体の厚さは、１０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは光学異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体に紫外線吸収剤を添加してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。接着層については、特開平７−３３３４３３号公報に記載がある。接着層の厚さは、０．１乃至２μｍであることが好ましく、０．２乃至１μｍであることがさらに好ましい。
［偏光膜］
本発明の光学補償シートは、偏光膜と貼り合せるか、偏光膜の保護フィルムとして使用することで、その機能を著しく発揮する。
偏光膜は、Ｏｐｔｉｖａ社製のものに代表される塗布型偏光膜、もしくはバインダーと、ヨウ素または二色性色素からなる偏光膜が好ましい。
偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素および二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
現在、汎用の偏光子は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。
汎用の偏光膜は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合わせて８μｍ程度）にヨウ素もしくは二色性色素が分布しており、十分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みが必要である。浸透度は、ヨウ素もしくは二色性色素の溶液濃度、同浴槽の温度、同浸漬時間により制御することができる。
上記のように、バインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。一方、厚みの上限については、特に限定はしないが、偏光板を液晶表示装置に使用した場合に発生する光漏れ現象の観点からは、薄ければ薄い程よい。現在、汎用の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。２０μｍ以下であると、光漏れ現象は、１７インチの液晶表示装置で観察されなくなる。
【０１８７】
偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋しているバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーを用いることができる。官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入して得られるバインダーを、光、熱あるいはｐＨ変化により、バインダー間で反応させて偏光膜を形成することができる。
また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてバインダー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、バインダー間を架橋することにより形成することができる。
架橋は一般に、ポリマーまたはポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱を行なうことにより実施される。最終商品の段階で耐久性が確保できればよいため、架橋させる処理は、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行なってもよい。
【０１８８】
偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。ポリマーの例には、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルトルエン、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、塩素化ポリオレフィン（例、ポリ塩化ビニル）、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、カルボキシメチルセルロース、ポリプロピレン、ポリカーボネートおよびそれらのコポリマー（例、アクリル酸／メタクリル酸重合体、スチレン／マレインイミド重合体、スチレン／ビニルトルエン重合体、酢酸ビニル／塩化ビニル重合体、エチレン／酢酸ビニル重合体）が含まれる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【０１８９】
ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールのケン化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましく、９５〜１００％が最も好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００が好ましい。
変性ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールに対して、重合変性、連鎖移動変性あるいはブロック重合変性により変性基を導入して得られる。重合変性では、変性基として、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＨ）3、Ｎ（ＣＨ3）3・Ｃｌ、Ｃ9Ｈ19ＣＯＯ、ＳＯ3Ｎａ、Ｃ12Ｈ25を導入することができる。連鎖移動変性では、変性基として、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、ＳＣ12Ｈ25を導入することができる。変性ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３０００が好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号および同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。
ケン化度が８５〜９５％の未変性ポリビニルアルコールおよびアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。
ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。
【０１９０】
バインダーの架橋剤は、多く添加すると、偏光膜の耐湿熱性を向上させることができる。ただし、バインダーに対して架橋剤を５０質量％以上添加すると、ヨウ素、もしくは二色性色素の配向性が低下する。架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。
バインダーは、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。ただし、残存する架橋剤の量は、バインダー中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。バインダー層中に１．０質量％を超える量で架橋剤が含まれていると、耐久性に問題が生じる場合がある。すなわち、架橋剤の残留量が多い偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、偏光度の低下が生じることがある。
架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。
【０１９１】
二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。
二色性色素の例には、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・イエロー１２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ７２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド７９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８１、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８３、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・バイオレット４８、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー６７、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー９０、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・グリーン５９、Ｃ．Ｉ．アシッド・レッド３７が含まれる。二色性色素については、特開平１−１６１２０２号、同１−１７２９０６号、同１−１７２９０７号、同１−１８３６０２号、同１−２４８１０５号、同１−２６５２０５号、同７−２６１０２４号の各公報に記載がある。二色性色素は、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩またはアミン塩として用いられる。二種類以上の二色性色素を配合することにより、各種の色相を有する偏光膜を製造することができる。偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）を用いた偏光膜、あるいは黒色を呈するように各種の二色性分子を配合した偏光膜または偏光板が、単板透過率および偏光率とも優れており好ましい。
【０１９２】
液晶表示装置のコントラスト比を高めるためには、偏光板の透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にある（偏光板の単板透過率の最大値は５０％である）ことが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。
【０１９３】
偏光膜と光学異方性層、あるいは、偏光膜と配向膜を、接着剤を介して配置することも可能性である。接着剤は、ポリビニルアルコール系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基による変性ポリビニルアルコールを含む）やホウ素化合物水溶液を用いることができる。その中でもポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜５μｍの範囲にあることが特に好ましい。
【０１９４】
（偏光板の製造）
偏光膜は、歩留まりの観点から、バインダーを偏光膜の長手方向（ＭＤ方向）に対して、１０〜８０度傾斜して延伸するか（延伸法）、もしくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。
通常の傾斜角度は４５°である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５°でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
【０１９５】
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。延伸工程は、斜め延伸を含め数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。斜め延伸前に、横あるいは縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。
延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を左右異なる工程で行うことによって実施できる。上記二軸延伸は、通常のフィルム製膜において行われている延伸方法と同様である。
二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のバインダーフィルムの厚みが左右で異なるようにする必要がある。流延製膜では、ダイにテーパーを付けることにより、バインダー溶液の流量に左右の差をつけることができる。
以上のように、偏光膜のＭＤ方向に対して１０〜８０度斜め延伸されたバインダーフィルムが製造される。
【０１９６】
ラビング法では、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されているラビング処理方法を応用することができる。すなわち、膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維を用いて一定方向に擦ることにより配向を得る。一般には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。ロール自身の真円度、円筒度、振れ（偏芯）がいずれも３０μｍ以下であるラビングロールを用いて実施することが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０°が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０°以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。
長尺フィルムをラビング処理する場合は、フィルムを搬送装置により一定張力の状態で１〜１００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送することが好ましい。ラビングロールは、任意のラビング角度設定のためフィルム進行方向に対し水平方向に回転自在とされることが好ましい。０〜６０°の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０°が好ましい。４５°が特に好ましい。
偏光膜の光学異方性層側の面とは反対側の表面には、ポリマーフィルムを配置する（光学異方性層／偏光膜／ポリマーフィルムの配置とする）ことが好ましい。
【０１９７】
〔光学補償シート、偏光板を構成する各層の積層順、積層角度〕
本発明の光学補償シートは、偏光膜と液晶セルの間に、偏光膜側から透明フィルム、光学異方性層の順番で積層される。偏光膜と光学異方性層とは、偏光膜の吸収軸と光学異方性層の遅相軸とが、実質的に直交するようにして積層される。また、偏光板にするときは、偏光板の片側の保護膜を該光学補償シートが兼ねるようにすることが好ましい。
上記各層の間には、配向膜や粘着層、さらなる光学異方性層等、必要に応じて適宜追加することができる。
【０１９８】
〔ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム〕
本発明の光学補償シート及び偏光板、並びに次ぎに記す液晶表示装置にはハードコート層、防眩層、反射防止層の何れか、又は全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されている。
【０１９９】
＜液晶表示装置＞
〔一般的な液晶表示装置の構成〕
本発明の光学補償シートは、偏光膜の透過軸と、光学補償シートの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、２枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された２枚の偏光板、及び該液晶セルと該偏光板の偏光膜との間に少なくとも１枚の光学補償シートを配置した構成を有している。
【０２００】
液晶セルの液晶層は、通常は、２枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層又は（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
【０２０１】
〔液晶表示装置の種類〕
本発明の光学補償シートは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような、様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のセルロースアシレートフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
【０２０２】
［ＴＮ型液晶表示装置］
本発明の光学補償シートは、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートとして用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くからよく知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。
【実施例】
【０２０３】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【０２０４】
参考例１：一般式（III）で表される化合物の合成例
［化合物Ｎｏ．（Ｉ−４５）の合成］
化合物Ｎｏ．（Ｉ−４５）は、以下に記載するスキームで合成することができる。
【０２０５】
【化６０】
2007156162.tif 000061
【０２０６】
化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｃ）（３．３２ｇ、６．８ミリモル）、没食子酸メチル（０．３８ｇ、２．１ミリモル）及び炭酸カリウム（０．９４ｇ、６．８ミリモル）をジメチルアセトアミド（１０ｍＬ）に懸濁させた後、１１５℃で６時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌの塩酸（４０ｍＬ）を加えた後、酢酸エチルで抽出し溶媒留去することによって黄色油状物をえた。得られた黄色油状物をエタノール（２０ｍＬ）と水（４ｍＬ）の混合溶媒に懸濁させた後、水酸化カリウム（０．２４ｇ，４．２ミリモル）を加え、２時間加熱還流した。反応液に塩酸水を加えた後、黄色沈殿物を濾取し、ヘキサンで洗浄することによって目的物１．４ｇを得た。これは理論収量の５０％に相当する。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．４（ｓ，２Ｈ），４．３（ｍ，６Ｈ），３．７−３．９（ｍ，１２Ｈ），２．５（ｍ，６Ｈ）
【０２０７】
参考例２：一般式（IV）で表される化合物の合成例
［化合物Ｎｏ．（Ｉ−５６）の合成］
化合物Ｎｏ．（Ｉ−５６）は、以下に記載するスキームで合成することができる。
【０２０８】
【化６１】
2007156162.tif 000062
【０２０９】
化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｃ）（４．９ｇ、０．０１０モル）、化合物Ｎｏ．（Ｉ−５６ａ）（０．４８ｇ、１．４ミリモル）及び炭酸カリウム（２．７６ｇ、０．０２０モル）をジメチルアセトアミド（１０ｍＬ）に懸濁させた後、１１５℃で４時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌの塩酸（４０ｍＬ）を加えた後、白色沈殿物を濾取し、ヘキサンで再結晶することによって目的物２．４ｇを得た。これは理論収量の６３％に相当する。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．９（ｓ，６Ｈ），４．３（ｔ，１２Ｈ），３．８−３．９（ｍ，２４Ｈ），２．５（ｍ，１２Ｈ）。
［実施例１］
（ポリマー基材の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
───────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（質量部）    内層            外層
────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート    １００質量部  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）        ７．８質量部  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）３．９質量部  ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）          ２９３質量部  ３１４質量部
メタノール（第２溶媒）                    ７１質量部    ７６質量部
１−ブタノール（第３溶媒）              １．５質量部  １．６質量部
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０質量部  ０．８質量部
下記レターデーション上昇剤              ２．０質量部      ０質量部
────────────────────────────────────
【０２１０】
【化６２】
2007156162.tif 000063
【０２１１】
得られた内層用ドープおよび外層用ドープを三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１５％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１５５℃の温度で２０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。作製したセルロースアセテートフィルムをポリマー基材として、光学特性を測定した。
ポリマー基材（ＰＫ−１）の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは、７５μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、遅相軸は搬送方向と直交した方向にあり、１６ｎｍであった。また、波長６３０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、９０ｎｍであった。
ポリマー基材（ＰＫ−１）を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このＰＫ−１の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
このＰＫ−１上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【０２１２】
（配向膜塗布液組成）
下記の変性ポリビニルアルコール                        １０質量部
化合物II−36                                        ０．３質量部
水                                                  ３７１質量部
メタノール                                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                        ０．５質量部
【０２１３】
【化６３】
2007156162.tif 000064
【０２１４】
ポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と平行方向に配向膜にラビング処理を実施した。
【０２１５】
（光学異方性層の形成）
光学異方性層組成物Ａ
下記のディスコティック液晶性化合物                      ４１．０１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                      ４．０６質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２  イーストマンケミカル）            ０．１７質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１  イーストマンケミカル）                ０．０６質量部
化合物I-51                                                ０．１０質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）    １．３５質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）          ０．４５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー下記化合物Ｐ−２
Mw=15000                                                  ０．２７質量部
【０２１６】
ディスコティック液晶性化合物
【０２１７】
【化６４】
2007156162.tif 000065
【０２１８】
【化６５】
2007156162.tif 000066
【０２１９】
上記光学異方性層組成物Ａを、メチルエチルケトンにて溶解し、比重０．９２０の塗布液１４とした。
【０２２０】
コーター（図１および図２参照）におけるスロットダイ１３の上流側リップランド長ＩUPを１ｍｍ、下流側リップランド長ＩLOを５０μｍとしたスロットダイ１３を用いて、ウェブ１２上に塗布液１４を５．２ｍｌ／ｍ2で塗布した。塗布速度は６０ｍ／分とした。ウェブ１２には配向膜塗布を行ったポリマー基材（ＰＫ−１）を用い、下流側リップランド１９との隙間の長さは４０μｍに設定した。ラビング処理は、ポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と直交する方向に、配向膜にラビング処理を実施した。塗布液１４を連続的に塗布し、１２５℃の状態で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層付き光学補償シート（ＫＨ−１）を作製した。
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は５０ｎｍであり、液晶性分子のダイレクターの方向を該透明支持体面に投影して得られる線の平行方向とポリマー基材の遅相軸とが実質的に直交しているように配置されていた。
偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出できなかった。
【０２２１】
（偏光子の作製）
平均重合度４０００、鹸化度９９．８ｍｏｌ％のＰＶＡを水に溶解し、４．０％の水溶液を得た。この溶液をテーパーのついたダイを用いてバンド流延して乾燥し、延伸前の幅が１１０ｍｍで厚みは左端が１２０μｍ、右端が１３５μｍになるように製膜した。
このフィルムをバンドから剥ぎ取り、ドライ状態で４５度方向に斜め延伸してそのままよう素０．５ｇ／Ｌ、よう化カリウム５０ｇ／Ｌの水溶液中に３０℃で１分間浸漬し、次いでホウ酸１００ｇ／Ｌ、よう化カリウム６０ｇ／Ｌの水溶液中に７０℃で５分間浸漬し、さらに水洗槽で２０度で１０秒間水洗したのち８０℃で５分間乾燥してよう素系偏光子（ＨＦ−０１）を得た。偏光子は、幅６６０ｍｍ、厚みは左右とも２０μｍであった。
【０２２２】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＫＨ―１（光学補償シート）をポリマー基材（ＰＫ−１）面で偏光子（ＨＦ−０１）の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。この際、  偏光子の透過軸とポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸とは平行になるように配置した。また、偏光子の透過軸と上記トリアセチルセルロースフィルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（ＨＢ−１）を作製した。
【０２２３】
［実施例２〜５、比較例１、２］
実施例１で用いた化合物の添加量、添加層などを変更して、表１の如く特性を変更した以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製した。
【０２２４】
（ＴＮ液晶セルでの評価）
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（LL−191A、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例１で作製した偏光板（ＨＢ−１）を、光学補償シート（ＫＨ−１）が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ1）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。実施例２、比較例１、２についても同様にして液晶表示装置を作製し、視野角コントラストを測定した。コントラスト比が１５以上である視野角結果を表１に示す。
【０２２５】
（液晶表示装置パネル上でのムラ評価）
実施例１、２、比較例１、２の液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価した。結果を表２に示す。
（液晶表示装置パネル上でのムラ評価及び上視野角色味評価）
液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価した。また、黒表示のときの正面方向から見た色味と上６５°方向から見たときの色味の変化を評価した。（Δｕ'ｖ'≦０．０２０以下を○、Δｕ'ｖ'＞０．０２０を×）。以下に示す実施例２〜５、ならびに比較例１、２についても同様に評価した。
Δｕ'ｖ'はＣＩＥ１９７６  ＵＣＳ色度図による色差を指標にした。
【０２２６】
（液晶性化合物の傾斜角評価）
光学補償シートの光学異方性層における液晶性化合物の配向膜近傍の傾斜角及び空気界面近傍の傾斜角は、エリプソメーター（ＡＰＥ−１００、島津製作所（株）製）を用いて観察角度を変えてレターデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想し、Ｄｅｓｉｇｎｉｎｇ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ，ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴ  に記載されている手法で算出した。測定波長は６３２．８ｎｍであった。結果を表１に示す。
【０２２７】
【表１】
2007156162.tif 000067
【０２２８】
【表２】
2007156162.tif 000068
【０２２９】
上記表１に示した実施例１〜５と比較例１、２の結果からわかるように、本発明に係る液晶性化合物、および一般式（III）及び（IV）のいずれかで表される化合物を光学異方性層に含有し、オニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩および有機酸を中和して得られる塩からなる群から選択される少なくとも1種の塩を光学異方性層に含有する光学補償シートでは、液晶表示装置の上視野角からみた色味変化が小さく、視野角も広く、かつムラの発生もない（実施例１〜５）。一方、本発明の範囲にない光学補償シート（比較例１，２）では、色味変化も大きく、狭視野角で、ムラの発生があり、比較例２の構成では配向不良となる。
【０２３０】
（実施例６）
実施例１〜５で用いたオニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩および有機酸を中和して得られる塩からなる群から選択される少なくとも1種の塩の光学異方性層への添加を、配向層に添加して作製したこと以外は、実施例１〜５と同様にして、光学補償シート、さらには光学補償シート付き偏光板を作製した。オオニウム塩、無機塩、無機酸を中和して得られる塩および有機酸を中和して得られる塩からなる群から選択される少なくとも1種の塩を添加する層を配向層にかえても、実施例１〜６で得られた効果と同様の効果が得られた。
（実施例７）
実施例１で用いたレターデーション上昇剤の添加量を変えて、Ｒｔｈを７０、８０、１００、１１０ｎｍにしたポリマー基材を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには光学補償シート付き偏光板を作製した。ポリマー基材のＲｔｈを７０、８０、１００、１１０ｎｍに変えても、上下左右の視野角は実施例１で得られた効果と同様の効果が得られた。
【０２３１】
（実施例８）
実施例１で用いたレターデーション上昇剤を、下記のレターデーション上昇剤に代え、内層の添加量を１．４質量部にし、Ｒｔｈを９５ｎｍにしたポリマー基材を作製した以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには、光学補償シート付き偏光板を作製した。実施例１で得られた効果と同様の効果が得られた。
【０２３２】
【化６６】
2007156162.tif 000069
【０２３３】
（実施例９）
実施例８で用いたレターデーション上昇剤の添加量を変えて、Ｒｔｈを７０、８０、９０、１００、１１０、１２０ｎｍにしたポリマー基材を作製したこと以外は、実施例１と同様にして、光学補償シート、さらには光学補償シート付き偏光板を作製した。ポリマー基材のＲｔｈを７０、８０、９０、１００、１１０、１２０ｎｍに変えても、実施例１で得られた効果と同様の効果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０２３４】
【図１】本発明の光学補償シートにおける光学異方性層又は配向膜の作製に好ましく用いられるスロットダイを用いたコーターの概略図である。
【図２】図１におけるスロットダイ１３の断面形状を従来のものと比較して示す図である。（Ａ）は本発明において用いられるスロットダイを示し、（Ｂ）は従来のスロットダイを示す。
【符号の説明】
【０２３５】
１０：コーター
１１：バックアップロール
１２：ウェブ
１３、３０：スロットダイ
１４：塗布液
１４a：ビート
１４ｂ：塗布膜
１５、３２：ポケット
１６、３３：スロット
１７：先端リップ
１８：上流側リップランド
１９、３１：下流側リップランド
【図１】
2007156162.tif 000076
【図２】
2007156162.tif 000077