(57)【要約】【課題】流路形成基板と接合基板とが良好に接合され、両基板の剥離を防止することができる液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供する。【解決手段】ノズル開口に連通する圧力発生室を含む液体流路が設けられた流路形成基板１０と、流路形成基板１０の一方面側に振動板を介して設けられる下電極６０、圧電体層７０及び上電極８０を含む圧電素子と、流路形成基板１０の一方面側に接着層３５によって接合される接合基板３０とを具備し、流路形成基板１０の一方面側の接合基板３０との接合領域の少なくとも一部に圧電素子を構成する各層を少なくとも含み接合基板３０が実質的に当接する当接部１２０を設け、且つ接合基板３０の流路形成基板１０との接合面に、当接部１２０で画成される凹部１２１に対向する領域に当接部１２０と高さが同一又はそれよりも小さい凸部１２２を設ける。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズル開口に連通する圧力発生室を含む液体流路が設けられた流路形成基板と、該流路形成基板の一方面側に振動板を介して設けられる下電極、圧電体層及び上電極を含む圧電素子と、前記流路形成基板の前記一方面側に接着層によって接合される接合基板とを具備し、前記流路形成基板の前記一方面側の前記接合基板との接合領域の少なくとも一部に前記圧電素子を構成する各層を少なくとも含み前記接合基板が実質的に当接する当接部が設けられ、且つ前記接合基板の前記流路形成基板との接合面には、前記当接部で画成される凹部に対向する領域に前記当接部と高さが同一又はそれよりも小さい凸部が設けられていることを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項２】
前記振動板が酸化シリコンからなる弾性膜を含み前記凹部の底面が前記弾性膜で構成されていると共に、前記凸部の上面が酸化シリコンからなる酸化膜で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の液体噴射ヘッド。
【請求項３】
前記当接部がそれぞれ独立して島状に設けられると共に、前記凹部がこれら前記当接部の周囲に連続的に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液体噴射ヘッド。
【請求項４】
前記接着層が、エポキシ系又はシリコーン系接着剤からなることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の液体噴射ヘッド。
【請求項５】
前記凹部及び前記凸部が、前記流路形成基板の周縁部に設けられていることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の液体噴射ヘッド。
【請求項６】
前記接合基板が、前記圧電素子に対向する領域に当該圧電素子を保護するための空間である圧電素子保持部を有する保護基板であることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の液体噴射ヘッド。
【請求項７】
請求項１〜６の何れかの液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体噴射ヘッド及び液体噴射装置に関し、特に、インク滴を吐出するノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板の表面に圧電素子を形成して、圧電素子の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
インク滴を吐出するノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧してノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式記録ヘッドには、圧電素子の軸方向に伸長、収縮する縦振動モードの圧電アクチュエータを使用したものと、たわみ振動モードの圧電アクチュエータを使用したものの２種類が実用化されている。
【０００３】
たわみ振動モードの圧電アクチュエータを使用したインクジェット式記録ヘッドとしては、例えば、圧力発生室が形成される流路形成基板の一方面に振動板を介して圧電素子が形成されると共に、圧電素子に対向する領域に圧電素子を保護するための圧電素子保持部を有する保護基板（接合基板）が接合され、この流路形成基板の保護基板との接合領域に、圧電素子を構成する各層からなる積層膜が設けられているものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
このような構成のインクジェット式記録ヘッドでは、流路形成基板と保護基板とを接合する際に、積層膜（金属配線層）の上面に保護基板を当接させて保護基板の表面を均等に押圧することができるため、保護基板が流路形成基板の一方面側に傾斜することなく確実に接着することができるという効果がある。
【０００５】
ここで、インクジェット式記録ヘッドの各部材は、一般的に異なる材料で形成されておおり各部材の線膨張係数は異なるため、環境温度の変化によって各部材間で剥離が生じてしまうという問題がある。また、例えば、特許文献１にも記載されているリード電極が設けられ、積層膜の上面が金属配線層で構成されている場合、金属配線層と接着剤との密着性が不十分であるため上述した剥離が生じるリスクが高い。
【０００６】
このため、流路形成基板と接合基板（保護基板）との接合領域に、積層膜を部分的に設け、この積層膜の間に、振動板と接合基板とが接着剤によって接合される凹部を設けるようにするのが好ましい。このような凹部を設けることで、接合強度を向上することはできる。しかしながら、このように凹部を設けた構造では、この凹部内に気泡が残留し易く、気泡が残留してしまうと接合強度を十分に向上することができない虞がある。
【０００７】
なお、このような問題は、インクを吐出するインクジェット式記録ヘッドだけではなく、勿論、インク以外の液滴を吐出する他の液体噴射ヘッドにおいても、同様に存在する。
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−２５４６２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明はこのような事情に鑑み、流路形成基板と接合基板とが良好に接合され、両基板の剥離を防止することができる液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決する本発明の第１の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室を含む液体流路が設けられた流路形成基板と、該流路形成基板の一方面側に振動板を介して設けられる下電極、圧電体層及び上電極を含む圧電素子と、前記流路形成基板の前記一方面側に接着層によって接合される接合基板とを具備し、前記流路形成基板の前記一方面側の前記接合基板との接合領域の少なくとも一部に前記圧電素子を構成する各層を少なくとも含み前記接合基板が実質的に当接する当接部が設けられ、且つ前記接合基板の前記流路形成基板との接合面には、前記当接部で画成される凹部に対向する領域に前記当接部と高さが同一又はそれよりも小さい凸部が設けられていることを特徴とする液体噴射ヘッドにある。
かかる第１の態様では、接合基板に、流路形成基板の凹部に対応する領域に凸部が設けられていることで、凹部内に気泡が残留することがないため、流路形成基板と接合基板とが良好且つ強固に接合される。これにより、環境温度の変化等に起因する両基板間での剥離の発生を防止することができる。
【００１１】
本発明の第２の態様は、前記振動板が酸化シリコンからなる弾性膜を含み前記凹部の底面が前記弾性膜で構成されていると共に、前記凸部の上面が酸化シリコンからなる酸化膜で構成されていることを特徴とする第１の態様の液体噴射ヘッドにある。
かかる第２の態様では、接着層との密着性が高い弾性膜及び酸化膜を露出されることで、流路形成基板と接合基板との接合強度がさらに向上する。
【００１２】
本発明の第３の態様は、前記当接部がそれぞれ独立して島状に設けられると共に、前記凹部がこれら前記当接部の周囲に連続的に設けられていることを特徴とする第１又は２の態様の液体噴射ヘッドにある。
かかる第３の態様では、凹部の面積が比較的広くなり、流路形成基板と接合基板との接合強度がさらに向上する。
【００１３】
本発明の第４の態様は、前記接着層が、エポキシ系又はシリコーン系接着剤からなることを特徴とする第１〜３の何れかの態様の液体噴射ヘッドにある。
かかる第４の態様では、所定の接着剤を用いることで、流路形成基板と接合基板との接合強度がさらに向上する。
【００１４】
本発明の第５の態様は、前記凹部及び前記凸部が、前記流路形成基板の周縁部に設けられていることを特徴とする第１〜４の何れかの態様の液体噴射ヘッドにある。
かかる第５の態様では、剥離が生じやすい流路形成基板の周縁部での接合強度が向上することで、流路形成基板と接合基板との剥離がより確実に防止される。
【００１５】
本発明の第６の態様では、前記接合基板が、前記圧電素子に対向する領域に当該圧電素子を保護するための空間である圧電素子保持部を有する保護基板であることを特徴とする第１〜５の何れかの態様の液体噴射ヘッドにある。
かかる第６の態様では、流路形成基板と保護基板とが良好且つ強固に接合され、これにより圧電素子保持部内の圧電素子を確実に保護することができる。
【００１６】
本発明の第７の態様は、第１〜６の何れかの態様の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。
かかる第７の態様では、耐久性等の各種性能を向上した液体噴射装置を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１に係るインクジェット式記録ヘッドの平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ’断面図である。流路形成基板１０は、面方位（１１０）のシリコン単結晶基板からなり、図示するように、その一方の面には、二酸化シリコンからなり厚さ０．５〜２μｍの弾性膜５０が形成されている。この流路形成基板１０には、複数の圧力発生室１２がその幅方向に沿って並設された列が２列設けられている。また、流路形成基板１０の各圧力発生室１２の列の外側には、それぞれ連通部１３が形成されている。連通部１３と各圧力発生室１２とは、圧力発生室１２よりも狭い幅で形成されるインク供給路１４を介して連通している。なお、連通部１３は、後述するリザーバ形成基板のリザーバ部と連通して各圧力発生室１２の共通のインク室となるリザーバの一部を構成する。インク供給路１４は、連通部１３から圧力発生室１２に流入するインクの流路抵抗を一定に保持している。
【００１８】
流路形成基板１０の弾性膜５０とは反対側の面には、各圧力発生室１２のインク供給路１４とは反対側の端部近傍に連通するノズル開口２１が穿設されたノズルプレート２０が接着剤や熱溶着フィルム等を介して固着されている。なお、ノズルプレート２０は、例えば、ガラス、セラミックス、シリコン単結晶基板、ステンレス鋼（ＳＵＳ）等からなる。例えば、本実施形態では、ノズルプレート２０がステンレス鋼で形成されている。
【００１９】
一方、このような流路形成基板１０の開口面とは反対側には、上述したように、厚さが例えば約１．０μｍの弾性膜５０が形成され、この弾性膜５０上には、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）からなり厚さが例えば、約０．４μｍの絶縁体膜５５が形成されている。さらに、この絶縁体膜５５上には、白金（Ｐｔ）及びイリジウム（Ｉｒ）からなり厚さが例えば、約０．２μｍの下電極膜６０と、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）からなり厚さが例えば、約１．０μｍの圧電体層７０と、イリジウム（Ｉｒ）からなり厚さが例えば、約０．０５μｍの上電極膜８０とが、後述するプロセスで積層形成されて、圧電素子３００を構成している。
【００２０】
なお、圧電体層７０の材料としては、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）等の強誘電性圧電性材料に、ニオブ、ニッケル、マグネシウム、ビスマス又はイットリウム等の金属を添加したリラクサ強誘電体等を用いてもよい。その組成は、圧電素子の特性、用途等を考慮して適宜選択すればよいが、例えば、ＰｂＴｉＯ３（ＰＴ）、ＰｂＺｒＯ３（ＰＺ）、Ｐｂ（ＺｒｘＴｉ１−ｘ）Ｏ３（ＰＺＴ）、Ｐｂ（Ｍｇ１／３Ｎｂ２／３）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＭＮ−ＰＴ）、Ｐｂ（Ｚｎ１／３Ｎｂ２／３）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＺＮ−ＰＴ）、Ｐｂ（Ｎｉ１／３Ｎｂ２／３）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＮＮ−ＰＴ）、Ｐｂ（Ｉｎ１／２Ｎｂ１／２）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＩＮ−ＰＴ）、Ｐｂ（Ｓｃ１／３Ｔａ２／３）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＳＴ−ＰＴ）、Ｐｂ（Ｓｃ１／３Ｎｂ２／３）Ｏ３−ＰｂＴｉＯ３（ＰＳＮ−ＰＴ）、ＢｉＳｃＯ３−ＰｂＴｉＯ３（ＢＳ−ＰＴ）、ＢｉＹｂＯ３−ＰｂＴｉＯ３（ＢＹ−ＰＴ）等が挙げられる。
【００２１】
ここで圧電素子３００とは、下電極膜６０、圧電体層７０及び上電極膜８０を含む部分をいう。一般的には、圧電素子３００の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極及び圧電体層７０を圧力発生室１２毎にパターニングして構成する。本実施形態では、下電極膜６０を圧電素子３００の共通電極とし、上電極膜８０を圧電素子３００の個別電極としているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。また、圧電素子３００の個別電極である各上電極膜８０には、リード電極９０が接続されており、このリード電極９０を介して、各圧電素子３００に電圧が印加されるようになっている。
【００２２】
ここで、圧電素子３００の共通電極である下電極膜６０は、本実施形態では、圧力発生室１２の長手方向では圧力発生室１２に対向する領域内に形成され、圧力発生室１２の並設方向では複数の圧力発生室１２に対応する領域に亘って連続的に設けられている。また、下電極膜６０は、圧力発生室１２の並設方向では、圧力発生室１２の列の外側まで延設され、本実施形態では、並設された複数の圧電素子３００及びリード電極９０の周囲に連続的に設けられている。なお、このような下電極膜６０が、圧力発生室１２の列毎にそれぞれ形成されている。一方、圧電素子３００を構成する圧電体層７０及び上電極膜８０は、基本的には圧力発生室１２に対向する領域内に設けられているが、圧力発生室１２の長手方向では、下電極膜６０の端部よりも外側まで延設されている。
【００２３】
流路形成基板１０の圧電素子３００側の面には、接合基板の一例である保護基板３０が接合されている。保護基板３０は、圧電素子３００を保護するための圧電素子保持部３１を有し、各圧電素子３００はこの圧電素子保持部３１内に形成されているため外部環境の影響を殆ど受けない状態で保護されている。なお、圧電素子保持部３１は、密封されていてもよいが、密封されていなくてもよい。また、保護基板３０には、流路形成基板１０の連通部１３に対応する領域にリザーバ部３２が設けられている。このリザーバ部３２は、本実施形態では、保護基板３０を厚さ方向に貫通して圧力発生室１２の並設方向に沿って設けられており、上述したように流路形成基板１０の連通部１３と連通して各圧力発生室１２の共通のインク室となるリザーバ１００を構成している。また、保護基板３０の中央領域、すなわち、圧電素子保持部３１のリザーバ部３２とは反対側の領域には、その厚さ方向に貫通してリード電極９０及び下電極膜６０を露出させる露出孔３３が形成されている。そして、図示しないが、この露出孔３３内に延設される接続配線によって、保護基板３０上に実装される駆動ＩＣと、リード電極９０及び下電極膜６０とが電気的に接続されている。
【００２４】
このような保護基板３０の材料としては、例えば、ガラス、セラミックス、金属、樹脂等が挙げられるが、流路形成基板１０の熱膨張率と略同一の材料で形成されていることがより好ましく、本実施形態では、流路形成基板１０と同一材料のシリコン単結晶基板を用いて形成した。
【００２５】
ここで、このような保護基板３０は、例えば、エポキシ系あるいはシリコーン系接着剤からなる接着層３５によって流路形成基板１０と接合されている。そして、本発明では、図３及び図４に示すように、流路形成基板１０と保護基板３０とが接着層３５を介して接合される接合領域の一部に、保護基板３０が実質的に当接する複数の当接部１２０が設けられている。その結果、これら複数の当接部１２０の周囲（当接部１２０と当接部１２０との間の領域）には凹部１２１が形成されている。すなわち、流路形成基板１０の保護基板３０との接合面には、複数の当接部１２０と、これら当接部１２０によって画成される凹部１２１とが形成されている。なお、ここでいう「実質的に当接する」とは、当接部１２０の表面と保護基板３０の流路形成基板１２０側の面との間に微量の接着剤を存在させている状態を含む。
【００２６】
当接部１２０は、圧電素子３００を構成する層を含み、流路形成基板１０上にほぼ一定の高さで複数突設されている。この当接部１２０の高さは、後述するように保護基板３０に塗布する接着剤（接着層）の厚さを考慮して適宜決定されればよいが、塗布する接着剤の厚さよりも低い厚さであることが好ましい。例えば、本実施形態では、塗布する接着剤の厚さが３μｍ程度であるため、当接部１２０の高さも３μｍよりも低い高さとなるように形成している。具体的には、本実施形態に係る各当接部１２０は、絶縁体膜５５、下電極膜６０、圧電体層７０、上電極膜８０及びリード電極９０を構成する各層で構成されており、このような当接部１２０によって画成される凹部１２１の底面は、二酸化シリコン膜からなる弾性膜５０によって構成されている。このように圧電素子３００等を構成する層で当接部１２０を形成することで、コストアップすることなく当接部１２０を容易に形成することができる。なお、当接部１２０を構成するこれらの各層は、圧電素子３００とは不連続に形成されているので駆動することはない。
【００２７】
そして、本実施形態では、流路形成基板１０の長手方向両端部近傍の領域に、複数の独立する当接部１２０がマトリックス状に配置されており、これら複数の当接部１２０の間の領域には、凹部１２１が格子状に連続的に形成されている。
【００２８】
一方、保護基板３０の流路形成基板１０との接合面には、凹部１２１に対向する領域に、当接部１２０の高さと同一又はそれよりも低い高さで保護基板３０側から突き出るように凸部１２２が設けられている。例えば、本実施形態では、各凸部１２２が、溝状の凹部１２１が交差する交差部に対応する位置に、横断面が略十字形状になるように形成されている。また、本実施形態では、保護基板３０の表面には、例えば、シリコン単結晶基板からなる保護基板３０を熱酸化することによって形成した二酸化シリコンからなる酸化膜３４が設けられており、勿論、凸部１２２の上面にもこの酸化膜３４が形成されている。
【００２９】
このような凸部１２２の形状、形成位置等は、特に限定されるものではないが、凸部１２２の大きさ（断面積）は、当接部１２０に接触しない程度に比較的大きいことが望ましい。また、凸部１２２の形成方法は、特に限定されないが、例えば、本実施形態では、凸部１２２は、保護基板３０をウェットエッチングすることにより、この保護基板３０に一体的に形成されている。
【００３０】
なお、流路形成基板１０と保護基板３０との接合手順は、特に限定されないが、例えば、図５に示すように、保護基板３０の凸部１２２側の表面に、例えば、フィルム転写によって接着剤を塗布して接着層３５を形成し、その後、保護基板３０を流路形成基板１０の当接部に実質的に当接させて位置決めした状態で接着層３５を硬化させる（図３参照）。このように接合された保護基板３０と当接部１２０との間には、接着層３５が存在するがその膜厚は非常に薄く、保護基板３０は当接部１２０に実質的に当接した状態となっている。
【００３１】
そして、このように接合された流路形成基板１０と保護基板３０とは良好且つ強固に接合される。すなわち、流路形成基板１０に当接部１２０及び凹部１２１が設けられていると共に、保護基板３０に凸部１２２が設けられていることで、両基板は接着層３５によって良好且つ強固に接合される。例えば、図６に示すように、当接部１２０及び凹部１２１を設けた流路形成基板１０と、凸部が設けられていない保護基板３０とを接合した場合、凹部１２１に対応する領域では、流路形成基板１０と保護基板３０との隙間が広くなりすぎて気泡２００が残留してしまうことがある。このように気泡２００が残留していると、流路形成基板１０と保護基板３０との接合強度が低くなり、環境温度の変化等に起因して両基板間で剥離が生じてしまう虞がある。しかしながら、本発明では、保護基板３０に凸部１２２を設けているため、凹部１２１に対応する領域においても、流路形成基板１０と保護基板３０との隙間は極めて狭くなる。このため、凹部１２１内に気泡が残留することがなく流路形成基板１０と保護基板３０とが良好且つ強固に接合される。
【００３２】
また、上述したように、本実施形態では、底面が二酸化シリコンからなる弾性膜５０で構成される凹部１２１が流路形成基板１０の比較的広い範囲に形成され、一方、保護基板３０の表面には二酸化シリコンからなる酸化膜３４が形成されている。そして、これら弾性膜５０及び酸化膜３４である二酸化シリコンと接着層３５とは密着性が極めて高いため、流路形成基板１０と保護基板３０とを特に強固に接合することができる。
【００３３】
さらに本実施形態では、当接部１２０及び凹部１２１を、特に剥離の生じやすい流路形成基板１０の長手方向両端部近傍のみに設けるようにしたが、これに限定されず、これら当接部１２０等は、例えば、流路形成基板１０の周縁部に全周に亘って設けられていてもよいし、勿論、流路形成基板１０の保護基板３０との接合領域の全域に設けられていてもよい。ただし、凹部１２１は、インク供給路１４等、流路形成基板１０を貫通する流路が形成されている領域には設けられていないことが望ましい。インク流路に対応する部分の弾性膜５０等にはクラックが生じ易いからである。
【００３４】
また、各当接部１２０は、保護基板３０を当接させる際に変形しない程度にできるだけ小さく形成し、凹部１２１ができるだけ広い領域に形成されているようにするのが好ましい。これにより、流路形成基板１０と保護基板３０とをさらに強固に接合することができるからである。
【００３５】
そして以上のように、本発明によれば流路形成基板１０と保護基板３０とが良好且つ強固に接合されるため、環境温度の変化等に起因する両基板間での剥離の発生を防止することができる。
【００３６】
なお、保護基板３０上には、封止膜４１及び固定板４２とからなるコンプライアンス基板４０が接合されている（図２参照）。封止膜４１は、剛性が低く可撓性を有する材料（例えば、厚さが６μｍのポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）フィルム）からなり、この封止膜４１によってリザーバ部３２の一方面が封止されている。また、固定板４２は、金属等の硬質の材料（例えば、厚さが３０μｍのステンレス鋼（ＳＵＳ）等）で形成される。この固定板４２のリザーバ部３２に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部４３となっているため、リザーバ部３２の一方面は可撓性を有する封止膜４１のみで封止されている。
【００３７】
このような本実施形態のインクジェット式記録ヘッドでは、図示しない外部インク供給手段からインクを取り込み、リザーバ１００からノズル開口２１に至るまで内部をインクで満たした後、保護基板３０上に実装される駆動ＩＣ（図示なし）からの記録信号に従い、圧力発生室１２に対応するそれぞれの下電極膜６０と上電極膜８０との間に電圧を印加し、弾性膜５０、絶縁体膜５５、下電極膜６０及び圧電体層７０をたわみ変形させることにより、各圧力発生室１２内の圧力が高まりノズル開口２１からインク滴が吐出する。
【００３８】
（他の実施形態）
以上、本発明の一実施形態を説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。例えば、上述の実施形態では、流路形成基板１０に、それぞれ独立する島状の複数の当接部１２０を設けると共に、これら当接部１２０との間に連続する凹部１２１を設けた例を説明したが、勿論、これに限定されるものではない。例えば、図７に示すように、当接部１２０Ａが帯状に連続して設けられると共に、この当接部１２０Ａの間にそれぞれ独立する凹部１２１Ａが設けられていてもよい。また、例えば、上述した実施形態では、接合基板として保護基板３０を例示したが、接合基板は、保護基板３０に限定されず、流路形成基板に接合される基板であれば、何れの基板であってもよい。
【００３９】
なお、上述した実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図８は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。図８に示すように、インクジェット式記録ヘッドを有する記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、インク供給手段を構成するカートリッジ２Ａ及び２Ｂが着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３は、装置本体４に取り付けられたキャリッジ軸５に軸方向移動自在に設けられている。この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、例えば、それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物を吐出するものとしている。そして、駆動モータ６の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト７を介してキャリッジ３に伝達されることで、記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３はキャリッジ軸５に沿って移動される。一方、装置本体４にはキャリッジ軸５に沿ってプラテン８が設けられており、図示しない給紙ローラなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シートＳがプラテン８上を搬送されるようになっている。
【００４０】
また、上述した実施形態においては、本発明の液体噴射ヘッドの一例としてインクジェット式記録ヘッドを説明したが、液体噴射ヘッドの基本的構成は上述したものに限定されるものではない。本発明は、広く液体噴射ヘッドの全般を対象としたものであり、インク以外の液体を噴射するものにも勿論適用することができる。その他の液体噴射ヘッドとしては、例えば、プリンタ等の画像記録装置に用いられる各種の記録ヘッド、液晶ディスプレー等のカラーフィルタの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ＥＬディスプレー、ＦＥＤ（面発光ディスプレー）等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオｃｈｉｐ製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】実施形態１に係る記録ヘッドの平面図である。
【図２】実施形態１に係る記録ヘッドの断面図である。
【図３】実施形態１に係る当接部、凹部及び凸部の配置を示す平面図である。
【図４】実施形態１に係る記録ヘッドの要部を示す断面図である。
【図５】実施形態１に係る流路形成基板と保護基板との接合手順を示す図である。
【図６】従来技術に係る記録ヘッドの要部を示す断面図である。
【図７】他の実施形態に係る当接部、凹部及び凸部の配置を示す平面図である。
【図８】一実施形態に係る記録装置の概略斜視図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０  流路形成基板、  １２  圧力発生室、  １３  連通部、  １４  インク連通路、  １５  インク供給路、  ２０  ノズルプレート、  ２１  ノズル開口、  ３０  保護基板、  ３１  圧電素子保持部、  ３２  リザーバ部、  ３５  接着層、  ４０  コンプライアンス基板、  ６０  下電極膜、  ７０  圧電体層、  ８０  上電極膜、  ９０  リード電極、  １００  リザーバ、  １２０  当接部、  １２１  凹部、  １２２  凸部、  ３００  圧電素子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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