(57)【要約】【課題】本発明の目的は、溶融流延法によるセルロースエステルフィルムの製造において膜厚バラツキ、リターデーション値バラツキの低減したセルロースエステルフィルムの製造方法、セルロースエステルフィルム、光学フィルム、偏光板及び表示装置を提供することにある。【解決手段】セルロースエステルの溶融物を混錬する際に高圧の炭酸ガスを供給し、次いで該セルロースエステルの溶融物をフィルタを通過させた後該炭酸ガスを排出する溶融流延法によるセルロースエステルフィルムの製造方法であって、該炭酸ガスの排出時の圧力降下速度Ｓを０．０１≦Ｓ≦０．２（ＭＰａ／ｓｅｃ）の範囲に入るように調整することを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステルの溶融物を混錬する際に高圧の炭酸ガスを供給し、次いで該セルロースエステルの溶融物をフィルタを通過させた後、該炭酸ガスを排出する溶融流延法によるセルロースエステルフィルムの製造方法であって、該炭酸ガスの排出時の圧力降下速度Ｓを０．０１≦Ｓ≦０．２（ＭＰａ／ｓｅｃ）の範囲に入るように調整することを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項２】
前記炭酸ガスを排出する際、排出口を複数設置し段階的に炭酸ガスを排出することを特徴とする請求項１に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項３】
前記炭酸ガスの供給圧力が３．０〜２０．０ＭＰａであることを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項４】
前記フィルタを通過させた後のセルロースエステルの溶融物の圧力が、フィルタ通過前の該溶融物の圧力の７０％〜１００％の範囲内に調整することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項５】
前記セルロースエステルの溶融温度ＴをＴｇ≦Ｔ≦Ｔｇ＋１３０（℃）に調整することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
（但し、Ｔｇはセルロースエステルのガラス転移温度（℃）を表す）
【請求項６】
請求項１〜５に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法を用いて製造されることを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【請求項７】
請求項６に記載のセルロースエステルフィルムを用いることを特徴とする光学フィルム。
【請求項８】
請求項７に記載の光学フィルムを少なくとも一方の面に用いることを特徴とする偏光板。
【請求項９】
請求項７に記載の光学フィルムまたは請求項８に記載の偏光板の少なくとも一方を用いることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はセルロースエステルフィルムの製造方法、セルロースエステルフィルム、光学フィルム、偏光板及び表示装置に関し、特にセルロースエステルの溶融物を混錬する際に高圧炭酸ガスを供給し、フィルタを通した後、該炭酸ガスの排出速度を調整することにより、膜厚バラツキ、リターデーション値バラツキの低減したセルロースエステルフィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースエステルフィルムは、その高い透明性・低複屈折性・偏光子との易接着性などから、写真用ネガフィルムの支持体や、液晶ディスプレイに用いられる偏光子を保護するフィルムとして、偏光板などに多く用いられてきた。
【０００３】
液晶ディスプレイは、その奥行きの薄さ、軽さから近年大幅に生産量が増大しており、需要が高くなっている。また液晶ディスプレイを用いたテレビは、薄く軽いという特徴を有し、ブラウン菅を用いたテレビでは達成されなかったような大型のテレビが生産されるようになっており、それに伴って液晶ディスプレイを構成する偏光子、偏光子保護フィルムも需要が増大してきている。
【０００４】
これらのセルロースエステルフィルムは、これまで、専ら溶液流延法によって製造されてきた。溶液流延法とは、セルロースエステルを溶媒に溶解した溶液を流延してフィルム形状を得た後、溶媒を蒸発・乾燥させてフィルムを得るといった製膜方法である。溶液流延法で製膜したフィルムは平面性が高いため、これを用いてムラのない高画質な液晶ディスプレイを得ることが出来る。
【０００５】
しかし溶液流延法は多量の有機溶媒を必要とし、環境負荷が大きいことも課題となっていた。セルロースエステルフィルムは、その溶解特性から、環境負荷の大きいハロゲン系溶媒を用いて製膜されているため、特に溶剤使用量の削減が求められており、溶液流延製膜によってセルロースエステルフィルムを増産することは困難となってきている。
【０００６】
そこで近年銀塩写真用（例えば、特許文献１参照。）或いは偏光子保護フィルム用（例えば、特許文献２参照。）として、セルロースエステルを溶融製膜する試みが行われているが、セルロースエステルは溶融時の粘度が非常に高い高分子であり、かつガラス転移温度も高い高分子であるため、溶融流延が非常に困難であり、特に、フィルタによる異物除去の際の圧力損失が非常に高く問題となる。
【０００７】
そこで、超臨界流体を混入することで、溶融樹脂の粘度を低下させる技術が公開されている（例えば、特許文献３参照。）。該特許文献には、連続成形の記載もありセルロースエステルフィルムの製造にも応用することが出来る。
【０００８】
しかしながら、上記特許の記載の技術を用いてセルロースエステルフィルムを製造すると、フィルム内に微小な気泡が残って製膜故障が発生したり、気泡がない場合でも膜厚のバラツキや、製造したフィルムのリターデーション値のバラツキが大きいことが問題となることが分かってきた。
【特許文献１】特表平６−５０１０４０号公報
【特許文献２】特開２０００−３５２６２０号公報
【特許文献３】特開２００２−２７３７７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って本発明の目的は、溶融流延法によるセルロースエステルフィルムの製造において膜厚バラツキ、リターデーション値バラツキの低減したセルロースエステルフィルムの製造方法、セルロースエステルフィルム、光学フィルム、偏光板及び表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【００１１】
１．セルロースエステルの溶融物を混錬する際に高圧の炭酸ガスを供給し、次いで該セルロースエステルの溶融物をフィルタを通過させた後、該炭酸ガスを排出する溶融流延法によるセルロースエステルフィルムの製造方法であって、該炭酸ガスの排出時の圧力降下速度Ｓを０．０１≦Ｓ≦０．２（ＭＰａ／ｓｅｃ）の範囲に入るように調整することを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１２】
２．前記炭酸ガスを排出する際、排出口を複数設置し段階的に炭酸ガスを排出することを特徴とする前記１に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１３】
３．前記炭酸ガスの供給圧力が３．０〜２０．０ＭＰａであることを特徴とする前記１または２に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１４】
４．前記フィルタを通過させた後のセルロースエステルの溶融物の圧力が、フィルタ通過前の該溶融物の圧力の７０％〜１００％の範囲内に調整することを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
【００１５】
５．前記セルロースエステルの溶融温度ＴをＴｇ≦Ｔ≦Ｔｇ＋１３０（℃）に調整することを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
（但し、Ｔｇはセルロースエステルのガラス転移温度（℃）を表す）
６．前記１〜５に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法を用いて製造されることを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【００１６】
７．前記６に記載のセルロースエステルフィルムを用いることを特徴とする光学フィルム。
【００１７】
８．前記７に記載の光学フィルムを少なくとも一方の面に用いることを特徴とする偏光板。
【００１８】
９．前記７に記載の光学フィルムまたは前記８に記載の偏光板の少なくとも一方を用いることを特徴とする表示装置。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、溶融流延法によるセルロースエステルフィルムの製造において膜厚バラツキ、リターデーション値バラツキの低減したセルロースエステルフィルムの製造方法、セルロースエステルフィルム、光学フィルム、偏光板及び表示装置を提供することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２１】
本発明は、セルロースエステルの溶融物を混錬する際に高圧の炭酸ガスを供給し、次いで該セルロースエステルの溶融物をフィルタを通過させた後、該炭酸ガスを排出する溶融流延法によるセルロースエステルフィルムの製造方法であって、該炭酸ガスの排出時の圧力降下速度Ｓを０．０１≦Ｓ≦０．２（ＭＰａ／ｓｅｃ）の範囲に入るように調整することを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法であり、これらの手段、構成により、膜厚バラツキ、リターデーション値バラツキの低減したセルロースエステルフィルムが得られるものである。
【００２２】
炭酸ガスを排出する方法に特に制限はなく、例えばタンクにセルロースエステルの溶融物を入れ、徐々にガスを抜いていくという方法や、押出しの過程で混錬と同時に炭酸ガスの排出を行う方法等が挙げられるが、好ましくは図１で示す押出しの過程で排出する方法である。
【００２３】
図１は、本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の１つの実施形態を示す概略フローシートである。但し本発明はこれに限定されるものではない。
【００２４】
本発明には、セルロースエステルを用いて溶融フィルム形成する際に、２台以上の押出機を直列につなぐタンデム方式とし、２台以上の押出機の間に、目の細かいフイルターを配置し、上流の押出機から炭酸ガスを導入し、下流側の押出機が炭酸ガスを除去する機構を有する製造装置を用いることが好ましい。
【００２５】
セルロースエステル及び添加剤は、乾燥機１により乾燥され、ストレージタンク２に一旦保管された後、ホッパー３よりスクリューフィーダー４により上流側の二軸押出機６に供給される。二軸押出機で上記セルロースエステル及び添加剤を溶融し混錬する過程において、炭酸ガス圧入装置７から炭酸ガスを供給する。本発明者らの検討によれば、炭酸ガスをセルロースエステル溶融物へ混入することで溶融物の可塑化が見込まれ、例えば１０ＭＰａの炭酸ガスを混入することで、２５０℃の溶融セルロースエステルの粘度が、およそ１／２程度になることが分かってきている。溶融物粘度は、オフラインでフィルタサイズ、溶融物流量、導管径を相似条件に設定したフローテスターを用いて測定し、せん断速度１００ｓｅｃ-1での粘度値に換算し求めることが出来る。
【００２６】
本発明では、炭酸ガスの供給圧力が３．０〜２０．０ＭＰａであることが粘度を調整する上で好ましい。また、炭酸ガスの温度はセルロースエステル溶融物の温度を低下させないことが好ましく、セルロースエステルのＴｇ〜Ｔｇ＋５０℃の範囲にヒーター等を用いて温度調整されることが好ましい。
【００２７】
次いで、溶融流延法による光学用フィルム製膜のためには、材料を溶融し、フィルタ８を通過させることにより異物の除去を行う。この際、フィルタを通過させた後のセルロースエステルの溶融物の圧力が、フィルタ通過前の該溶融物の圧力の７０％〜１００％の範囲内に調整することが好ましい。フィルタを通過させた後の圧力の調整は、材料の供給量と二軸押出機のスクリュー回転数で制御することが出来る。該溶融物の圧力が７０％〜１００％の範囲内であれば急激な発泡等が起こらずに溶融物を濾過することが可能である。
【００２８】
溶融物の圧力は、配管中に市販の圧力ゲージ等を組み込み測定することが出来る。
【００２９】
また、本発明においては、該フィルタのメッシュが２００メッシュ以上、８００メッシュ以下であることが好ましい。フィルタサイズが、２００メッシュ以下では、光学用途フィルムとしては問題となる２０μｍ以上の異物が捕集しきれず、８００メッシュ以上では、炭酸ガスを導入した系においても、圧力損失が大き過ぎるため、溶融物の流速が上げられず、溶融セルロースエステルの滞留時間が延びることになり、着色の原因になってしまう。フイルターの材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、フッ素樹脂、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススチール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。本発明に用いられるフィルタの濾材としては、金属の繊維や粉末を圧縮、成形後高温で焼結した多孔質の金属焼結体を用いることが好ましい。濾材の材質は、特に限定はされないが、ステンレススチール、ブロンズ、銅などの金属が適し、樹脂との反応性、耐腐食性の点でステンレススチールが好ましい。ステンレススチールの中でもＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌ、ＳＵＳ４３０などが加工性や耐腐食性の点で特に好適である。また、濾材以外の支持体、溶接などの他部材の材質についても、ステンレススチール、ブロンズ、銅などの金属が適し、ステンレススチールの中でもＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６、ＳＵＳ３１６Ｌ、ＳＵＳ４３０などが特に好適である。
【００３０】
金属粉末焼結体の濾材は、例えば、粉末の素材がステンレススチールの場合は、数１０μｍから数１００μｍの金属粉末を圧縮成型後、１，２００℃から１，３００℃程度の温度で１時間から３時間程度焼結して得られる。用いる粉末の径は１種類でも２種類以上を混合したものでもよい。
【００３１】
金属繊維焼結体は、好ましくは、直径数μｍから数１０μｍ程度の繊維を重ね合わせて圧縮成形後、金属粉末焼結体よりはやや低い温度で焼結したものであり、金属繊維の径は１種類でも、２種類以上でもよく、数種の異なる径の繊維を混合して焼結したものでも、また、直径の異なる繊維を個々に重ね合わせて焼結したものでも良い。
【００３２】
濾材は、金属粉末焼結体、金属繊維焼結体それぞれを単体で用いても、これらを積層、混合したものでも、用途に応じて選択出来る。これら濾材の中でも金属粉末焼結体が、特に好ましく、樹脂濾過用のフィルタとしての性能が優れている。
【００３３】
次いで、下流側の二軸押出機１０に溶融物を導入し、ベント口には樹脂を排出せずにガスのみ排出する多孔質膜を配置し、炭酸ガスを炭酸ガス排出装置１１〜２０により段階的に炭酸ガスを排出する。該炭酸ガス排出装置は、炭酸ガスの排出圧力を調整するため、レギュレーターを設置し、ガスの圧力が一定値を超えた場合に、排出する機構を採用している。
【００３４】
本発明では、炭酸ガスの排出時の圧力降下速度Ｓを０．０１≦Ｓ≦０．２（ＭＰａ／ｓｅｃ）の範囲に入るように調整することが特徴である。これは上記炭酸ガス排出装置のレギュレーターの種類、設定を適宜選択し、圧力調整を複数台で順次行うことにより達成することが出来る。即ち、上流側から下流側へ隣り合う炭酸ガス排出装置の炭酸ガス排出圧力差が上記範囲内に設定されていることが必要である。
【００３５】
圧力降下速度Ｓが上記範囲内であれば、急激な発泡等が起こらず溶融物をダイへ供給することが可能となり、本発明の優れた効果を実現することが出来る。
【００３６】
このような段階的な炭酸ガスの排出は、ベント口を５〜２０個（図１では１０個）設けて、炭酸ガスを排出することにより達成出来る。その際、各ベント口部で圧力の制御が必要となり、二軸押出機のスクリューでシール機構が必要となる。この場合、図２で示すようなスクリューデザインにより、各仕切り部にシールリングによる高圧部を設け、ガスの行き来をなくす構成とすることが好ましい。
【００３７】
また、上記多孔質膜は、ベント口にガスのみを通し液体等を通さない性質の膜であり、市販の具体例では日東電工のテミッシュ等が挙げられる。更に、この多孔質膜の内側（樹脂側）に金属メッシュを配置し、溶融物の漏れを防止することが好ましい。
【００３８】
又、本発明において、前記炭酸ガスを排出した後にセルロースエステル溶融物の炭酸ガス圧力は、０．２〜１．０ＭＰａであることが本発明の効果をより奏する点で好ましい。これは、ダイから溶融物を押出しする際に、発泡しない程度の炭酸ガスが溶け込んでいることにより、溶融物の粘度が低下し、押出直後のフィルム膜表面の平滑化に寄与するためと推定している。
【００３９】
更に本発明においては、前記セルロースエステルの溶融温度ＴをＴｇ≦Ｔ≦Ｔｇ＋１３０（℃）に調整することが本発明の効果をより奏する点で好ましい。
【００４０】
図３は、排出された炭酸ガスの再利用を考慮した装置を示す概略フローシートである。
【００４１】
炭酸ガス排出装置１１〜２０より排出された炭酸ガスを回収し、フィルタ２３で清浄化した後ポンプで炭酸ガス圧入装置７へ供給する。この際適当な温調器で炭酸ガスを加熱することが好ましい。
【００４２】
（セルロースエステル）
本発明に用いられるセルロースエステルについて、詳述する。
【００４３】
本発明に係るセルロースエステルフィルムは、溶融流延法により製造される。溶融流延法はフィルム製造時の有機溶媒使用量を、大幅に少なくすることが出来るため、従来の有機溶媒を多量に使用する溶液流延法に比較して、環境適性が大幅に向上したフィルムが得られる。
【００４４】
セルロースエステルフィルムを構成するセルロースエステルとしては、溶融製膜可能なセルロースエステルであれば特に限定はされない。例えば芳香族カルボン酸エステルなども用いられるが、光学特性等の得られるフィルムの特性を鑑みると、セルロースの低級脂肪酸エステルを使用することが好ましい。本発明においてセルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が５以下の脂肪酸を意味し、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースピバレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ましいものとして挙げられる。炭素原子数が６以上の脂肪酸で置換されたセルロースエステルでは、溶融製膜性は良好であるものの、得られるセルロースエステルフィルムの力学特性が低く、実質的に光学フィルムとして用いることが難しいためである。力学特性と溶融製膜性の双方を両立させるために、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等のように混合脂肪酸エステルを用いてもよい。なお溶液流延製膜で一般に用いられているセルロースエステルであるトリアセチルセルロースについては、溶融温度よりも分解温度の方が高いセルロースエステルであるため、溶融製膜には用いることは出来ない。
【００４５】
従って、最も好ましいセルロースの低級脂肪酸エステルは炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、酢酸による置換度、即ちアセチル基の置換度をＸとし、炭素数３〜５の有機酸による置換度、即ち、特に炭素数３〜５の脂肪族有機酸から導かれるアシル基、例えば、プロピオニル基またはブチリル基等のアシル基による置換度をＹとした時、下記式（１）、（２）を満たすセルロースエステルが好ましい。
【００４６】
式（１）  ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（２）  ０．０≦Ｘ≦２．５
この中でも、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．５≦Ｘ≦２．５であり、０．１≦Ｙ≦２．０であるセルロースエステルを用いることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することが出来る。
【００４７】
本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．０〜５．５のものが用いられ、特に好ましくは１．４〜５．０であり、更に好ましくは２．０〜３．０である。また、Ｍｗは１０万〜５０万、中でも１５万〜３０万のものが好ましく用いられる。
【００４８】
セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することが出来る。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を算出する。
【００４９】
測定条件は以下の通りである。
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔にすることが好ましい。
【００５０】
本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することが出来る。
【００５１】
例えば、綿花リンター由来セルロース樹脂：木材パルプ（針葉樹）由来セルロース樹脂：木材パルプ（広葉樹）由来セルロース樹脂の比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることが出来る。
【００５２】
セルロースエステルは、例えば、原料セルロースの水酸基を無水酢酸、無水プロピオン酸及び／または無水酪酸を用いて常法によりアセチル基、プロピオニル基及び／またはブチル基を上記の範囲内に置換することで得られる。このようなセルロースエステルの合成方法は、特に限定はないが、例えば、特開平１０−４５８０４号或いは特表平６−５０１０４０号に記載の方法を参考にして合成することが出来る。
【００５３】
アセチル基、プロピオニル基、ブチル基等のアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することが出来る。
【００５４】
また、工業的にはセルロースエステルは硫酸を触媒として合成されているが、この硫酸は完全には除去されておらず、残留する硫酸が溶融製膜時に各種の分解反応を引き起こし、得られるセルロースエステルフィルムの品質に影響を与えるため、本発明に用いられるセルロースエステル中の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で０．１〜４０ｐｐｍの範囲であることが好ましい。これらは塩の形で含有していると考えられる。残留硫酸含有量が４０ｐｐｍを超えると熱溶融時のダイリップ部の付着物が増加するため好ましくない。また、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティングの際に破断しやすくなるため好ましくない。少ない方が好ましいが、０．１未満とするにはセルロースエステルの洗浄工程の負担が大きくなり過ぎるため好ましくないだけでなく、逆に破断しやすくなることがあり好ましくない。これは洗浄回数が増えることが樹脂に影響を与えているのかもしれないがよく分かっていない。更に０．１〜３０ｐｐｍの範囲が好ましい。残留硫酸含有量は、同様にＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６により測定することが出来る。
【００５５】
また、その他（酢酸等）の残留酸を含めたトータル残留酸量は１０００ｐｐｍ以下が好ましく、５００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１００ｐｐｍ以下がより好ましい。
【００５６】
合成したセルロースエステルの洗浄を、溶液流延法に用いられる場合に比べて、更に十分に行うことによって、残留酸含有量を上記の範囲とすることが出来、溶融流延法によってフィルムを製造する際に、リップ部への付着が軽減され、平面性に優れるフィルムが得られ、寸法変化、機械強度、透明性、耐透湿性、後述するリターデーションＲｔ値、Ｒｏ値が良好なフィルムを得ることが出来る。また、セルロースエステルの洗浄は、水に加えて、メタノール、エタノールのような貧溶媒、或いは結果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の混合溶媒を用いることが出来、残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物を除去する事が出来る。更に、セルロースエステルの洗浄は、ヒンダードアミン、亜リン酸エステルといった酸化防止剤の存在下で行うことが好ましく、セルロースエステルの耐熱性、製膜安定性が向上する。
【００５７】
また、セルロースエステルの耐熱性、機械物性、光学物性等を向上させるため、セルロースエステルの良溶媒に溶解後、貧溶媒中に再沈殿させ、セルロースエステルの低分子量成分、その他不純物を除去する事が出来る。この時、前述のセルロースエステルの洗浄同様に、酸化防止剤の存在下で行うことが好ましい。
【００５８】
更に、セルロースエステルの再沈殿処理の後、別のポリマー或いは低分子化合物を添加してもよい。
【００５９】
また、本発明で用いられるセルロースエステルはフィルムにした時の輝点異物が少ないものであることが好ましい。輝点異物とは、２枚の偏光板を直交に配置し（クロスニコル）、この間にセルロースエステルフィルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、もう一方の面からセルロースエステルフィルムを観察した時に、光源の光が漏れて見える点のことである。このとき評価に用いる偏光板は輝点異物がない保護フィルムで構成されたものであることが望ましく、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。輝点異物はセルロース樹脂に含まれる未酢化若しくは低酢化度のセルロースがその原因の１つと考えられ、輝点異物の少ないセルロースエステルを用いる（例えば、置換度の分散の小さいセルロースエステルを用いる）ことと、溶融したセルロースエステルを濾過すること、或いはセルロースエステルの合成後期の過程や沈殿物を得る過程の少なくとも何れかにおいて、一度溶液状態として同様に濾過工程を経由して輝点異物を除去することも出来る。溶融樹脂は粘度が高いため、後者の方法のほうが効率がよい。
【００６０】
フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルムに含まれるセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物は少なくなる傾向があるが、輝点異物は、輝点の直径０．０１ｍｍ以上が２００個／ｃｍ2以下であることが好ましく、更に１００個／ｃｍ2以下であることが好ましく、５０個／ｃｍ2以下であることが好ましく、３０個／ｃｍ2以下であることが好ましく、１０個／ｃｍ2以下であることが好ましいが、皆無であることが最も好ましい。また、０．００５〜０．０１ｍｍ以下の輝点についても２００個／ｃｍ2以下であることが好ましく、更に１００個／ｃｍ2以下であることが好ましく、５０個／ｃｍ2以下であることが好ましく、３０個／ｃｍ2以下であることが好ましく、１０個／ｃｍ2以下であることが好ましいが、皆無であることが最も好ましい。
【００６１】
輝点異物を溶融濾過によって除去する場合、セルロースエステルを単独で溶融させたものを濾過するよりも可塑剤、劣化防止剤、酸化防止剤等を添加混合したセルロースエステル組成物を濾過することが輝点異物の除去効率が高く好ましい。もちろん、セルロースエステルの合成の際に溶媒に溶解させて濾過により低減させてもよい。紫外線吸収剤、その他の添加物も適宜混合したものを濾過することが出来る。濾過はセルロースエステルを含む溶融物の粘度が１００００Ｐ以下で濾過されるこが好ましく、更に好ましくは５０００Ｐ以下が好ましく、１０００Ｐ以下であることが更に好ましく、５００Ｐ以下であることが更に好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などの弗素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられるが、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。絶対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく用いられ、３０μｍ以下のものが更に好ましく、１０μｍ以下のものが更に好ましく、５μｍ以下のものが更に好ましく用いられる。これらは適宜組み合わせて使用することも出来る。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプでも用いることが出来るが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用いられる。
【００６２】
別の実施態様では、原料のセルロースエステルは少なくとも一度溶媒に溶解させた後、溶媒を乾燥させたセルロースエステルを用いても良い。その際には可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、酸化防止剤及びマット剤の少なくとも１つ以上と共に溶媒に溶解させた後、乾燥させたセルロースエステルを用いる。溶媒としては、メチレンクロライド、酢酸メチル、ジオキソラン等の溶液流延法で用いられる良溶媒を用いることが出来、同時にメタノール、エタノール、ブタノール等の貧溶媒を用いてもよい。溶解の過程で−２０℃以下に冷却したり、８０℃以上に加熱したりしても良い。このようなセルロースエステルを用いると、溶融状態にした時の各添加物を均一にしやすく、光学特性を均一に出来ることがある。
【００６３】
本発明のセルロースエステルフィルムはセルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにした時の透過率が８０％以上、更に好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上であることが好ましい。
【００６４】
（添加剤）
添加剤としては、可塑剤、酸化防止剤、酸捕捉剤、光安定剤、過酸化物分解剤、ラジカル捕捉剤、金属不活性化剤、マット剤、染料、顔料、蛍光体、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、二色性色素、屈折率調整剤、リターデーション制御剤、ガス透過抑制剤、抗菌剤、導電性付与剤、生分解性付与剤、ゲル化防止剤、粘度調整剤、粘度低下剤等の各種の機能を有する添加剤などが挙げられる。また、上記機能を有するものであれば、これに分類されない添加剤も用いられる。
【００６５】
本発明のセルロースエステルは２００〜２８０℃といった高温下で溶融して製膜されるため、従来の溶液流延製膜に比べてセルロースエステルの分解・劣化が起きやすいプロセスである。セルロースエステル組成物の酸化防止、分解して発生した酸の捕捉、光または熱によるラジカル種基因の分解反応を抑制または禁止する等、解明出来ていない分解反応を含めて、着色や分子量低下に代表される変質や材料の分解による揮発成分の生成を抑制するために添加剤を用いる。
【００６６】
また、添加剤自身にも高い耐熱性が要求される。添加剤の耐熱性として、１％質量減少温度Ｔｄ１が２５０℃以上である事が好ましい。（１％質量減少温度Ｔｄ１は、ＪＩＳ  Ｋ７１２０「プラスチックの熱重量測定方法」記載のＴＧ曲線より求められる、熱変性、分解により試料質量が１％減少する時温度である。本発明では、示差熱重量同時測定装置ＴＧ／ＤＴＡ（セイコーインスツル株式会社製）を用い、窒素流量１００ｎ・ｍｌ／分の下、開始／終了温度  ３０／５００℃、昇温速度１０℃／分にて測定を行った。）
セルロースエステル組成物を加熱溶融すると分解反応が著しくなり、この分解反応によって着色や分子量低下に由来した該構成材料の強度劣化を伴うことがある。またセルロースエステル組成物の分解反応によって、好ましくない揮発成分の発生も併発することもある。セルロースエステル組成物を加熱溶融するとき、上述の添加剤が存在することは、材料の劣化や分解に基づく強度の劣化を抑制すること、または材料固有の強度を維持出来る観点で優れており、本発明のセルロースエステルフィルムを製造出来る観点から上述の添加剤が存在することが必要である。
【００６７】
このような添加剤としては、例えば、酸化防止剤、酸捕捉剤、ヒンダードアミン光安定剤、紫外線吸収剤、過酸化物分解剤、ラジカル捕捉剤、金属不活性化剤、などが挙げられるが、これらに限定されない。これらは、特開平３−１９９２０１号公報、特開平５−１９０７０７３号公報、特開平５−１９４７８９号公報、特開平５−２７１４７１号公報、特開平６−１０７８５４号公報などに記載がある。これらの中から選ばれる少なくとも１種を、フィルム形成材料中に含むことが好ましい。
【００６８】
また、添加剤の存在は、加熱溶融時において可視光領域の着色物の生成を抑制すること、または揮発成分がフィルム中に混入することによって生じる透過率やヘイズ値といった光学フィルムとして好ましくない性能を抑制または消滅出来る点で優れている。
【００６９】
本発明において液晶表示画像の表示画像は、本発明の構成の光学フィルムを用いるとき１％を超えると影響を与えるため、好ましいヘイズ値は１％未満、より好ましくは０．５％未満である。
【００７０】
また、偏光子保護フィルム、位相差フィルム等として本発明のセルロースエステルフィルムを用いる場合、偏光子が紫外線に対して弱いため、少なくとも偏光子に対して光が入射する側のセルロースエステルフィルムには紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。
【００７１】
また、本発明のセルロースエステルフィルムを位相差フィルムとして用いる場合には、リターデーションを調節するための添加剤を含有させることが出来る。リターデーションを調節するために添加する化合物は、欧州特許９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているようなリターデーション制御剤を使用することも出来る。
【００７２】
また、加熱溶融時の粘度制御やフィルム加工後のフィルム物性を調整するために、有機高分子または無機高分子をセルロースエステルフィルムに添加することも出来る。
【００７３】
セルロースエステルやこれらの添加剤を添加する際は、それらを含めた総量が、セルロースエステルの質量に対して１〜３０質量％であることが好ましい。１質量％以下では溶融製膜性が低下し、３０質量％以上では得られるセルロースエステルフィルムの力学特性や保存安定性などが確保出来なくなることがあるためである。
【００７４】
上述のセルロースエステル組成物の保存或いは製膜工程において、空気中の酸素による劣化反応が併発することがある。この場合、上記添加剤の安定化作用とともに、空気中の酸素濃度を低減させる効果を用いることも本発明を具現化する上で併用出来る。これは、公知の技術として不活性ガスとして窒素やアルゴンの使用、減圧〜真空による脱気操作、及び密閉環境下による操作が挙げられ、これら３者の内少なくとも１つの方法を、上記添加剤を存在させる方法と併用することが出来る。セルロースエステル組成物が空気中の酸素と接触する確率を低減することにより、該材料の劣化が抑制出来、本発明の目的のためには好ましい。
【００７５】
本発明のセルロースエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして活用するため、本発明の偏光板及び偏光板を構成する偏光子に対して経時保存性を向上させる点からセルロースエステル組成物中に上述の添加剤が存在することが好ましい。
【００７６】
本発明の偏光板を用いた液晶表示装置において、本発明のセルロースエステルフィルムに上述の添加剤が存在するため、上記の変質や劣化を抑制する点からセルロースエステルフィルムの経時保存性が向上出来るとともに、液晶表示装置の表示品質向上においても、セルロースエステルフィルムが付与された光学的な補償設計が長期にわたって機能発現出来る。
【００７７】
以下、添加剤について、更に詳述する。
【００７８】
（可塑剤）
本発明のセルロースエステルフィルムは、多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤または多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤から選ばれる少なくとも一種以上のエステル系可塑剤を含むことが好ましい。
【００７９】
可塑剤とは、一般的には高分子中に添加することによって脆弱性を改良したり、柔軟性を付与したりする効果のある添加剤であるが、本発明においては、セルロースエステル単独での溶融温度よりも溶融温度を低下させるため、また同じ加熱温度においてセルロースエステル単独よりも可塑剤を含むフィルム組成物の溶融粘度を低下させるために、可塑剤を添加する。また、セルロースエステルの親水性を改善し、光学フィルムの透湿度を改善する透湿防止剤としても添加される。
【００８０】
ここで、フィルム組成物の溶融温度とは、該材料が加熱され流動性が発現された状態の温度を意味する。セルロースエステルを溶融流動させるためには、少なくともガラス転移温度よりも高い温度に加熱する必要がある。ガラス転移温度以上においては、熱量の吸収により弾性率或いは粘度が低下し、流動性が発現される。しかしセルロースエステルでは高温下では溶融と同時に熱分解によってセルロースエステルの分子量の低下が発生し、得られるフィルムの力学特性等に悪影響を及ぼすことがあるため、なるべく低い温度でセルロースエステルを溶融させる必要がある。フィルム組成物の溶融温度を低下させるためには、セルロースエステルのガラス転移温度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつ可塑剤を添加することで達成することが出来る。本発明に用いられる、下記一般式（１）で表される有機酸と多価アルコールが縮合した構造を有する多価アルコールエステル系可塑剤は、セルロースエステルの溶融温度を低下させ、溶融製膜プロセスや製造後にも揮発性が小さく工程適性が良好であり、かつ得られるセルロースエステルフィルムの光学特性・寸法安定性・平面性が良好となる点で優れている。
【００８１】
多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤はセルロースエステルと親和性が高く好ましい。
【００８２】
多価アルコールエステル系の一つであるエチレングリコールエステル系の可塑剤：具体的には、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジブチレート等のエチレングリコールアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジシクロプロピルカルボキシレート、エチレングリコールジシクロヘキルカルボキシレート等のエチレングリコールシクロアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジベンゾエート、エチレングリコールジ４−メチルベンゾエート等のエチレングリコールアリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にエチレングリコール部も置換されていてもよく、エチレングリコールエステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００８３】
多価アルコールエステル系の一つであるグリセリンエステル系の可塑剤：具体的にはトリアセチン、トリブチリン、グリセリンジアセテートカプリレート、グリセリンオレートプロピオネート等のグリセリンアルキルエステル、グリセリントリシクロプロピルカルボキシレート、グリセリントリシクロヘキシルカルボキシレート等のグリセリンシクロアルキルエステル、グリセリントリベンゾエート、グリセリン４−メチルベンゾエート等のグリセリンアリールエステル、ジグリセリンテトラアセチレート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンアセテートトリカプリレート、ジグリセリンテトララウレート、等のジグリセリンアルキルエステル、ジグリセリンテトラシクロブチルカルボキシレート、ジグリセリンテトラシクロペンチルカルボキシレート等のジグリセリンシクロアルキルエステル、ジグリセリンテトラベンゾエート、ジグリセリン３−メチルベンゾエート等のジグリセリンアリールエステル等が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にグリセリン、ジグリセリン部も置換されていてもよく、グリセリンエステル、ジグリセリンエステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００８４】
その他の多価アルコールエステル系の可塑剤としては、具体的には特開２００３−１２８２３号公報の段落３０〜３３記載の多価アルコールエステル系可塑剤が挙げられる。
【００８５】
これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更に多価アルコール部も置換されていてもよく、多価アルコールの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００８６】
上記多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤の中では、アルキル多価アルコールアリールエステルが好ましく、具体的には上記のエチレングリコールジベンゾエート、グリセリントリベンゾエート、ジグリセリンテトラベンゾエート、特開２００３−１２８２３号公報の段落３２記載例示化合物１６が挙げられる。
【００８７】
多価カルボン酸エステル系の一つであるジカルボン酸エステル系の可塑剤：具体的には、ジドデシルマロネート（Ｃ１）、ジオクチルアジペート（Ｃ４）、ジブチルセバケート（Ｃ８）等のアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロペンチルサクシネート、ジシクロヘキシルアジーペート等のアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルサクシネート、ジ４−メチルフェニルグルタレート等のアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジヘキシル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート、ジデシルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロヘキシル−１，２−シクロブタンジカルボキシレート、ジシクロプロピル−１，２−シクロヘキシルジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニル−１，１−シクロプロピルジカルボキシレート、ジ２−ナフチル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロプロピルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルフタレート、ジ４−メチルフェニルフタレート等のアリールジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また一置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００８８】
その他の多価カルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的にはトリドデシルトリカルバレート、トリブチル−ｍｅｓｏ−ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロヘキシルトリカルバレート、トリシクロプロピル−２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボキシレート、テトラ３−メチルフェニルテトラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、テトラヘキシル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボキシレート、テトラブチル−１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、テトラシクロプロピル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボキシレート、トリシクロヘキシル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート、ヘキサ４−メチルフェニル−１，２，３，４，５，６−シクロヘキシルヘキサカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、トリドデシルベンゼン−１，２，４−トリカルボキシレート、テトラオクチルベンゼン−１，２，４，５−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロペンチルベンゼン−１，３，５−トリカルボキシレート、テトラシクロヘキシルベンゼン−１，２，３，５−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤トリフェニルベンゼン−１，３，５−テトラカルトキシレート、ヘキサ４−メチルフェニルベンゼン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また１置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００８９】
上記多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤の中では、ジアルキルカルボン酸アルキルエステルが好ましく、具体的には上記のジオクチルアジペート、トリデシルトリカルバレートが挙げられる。
【００９０】
更に本発明のセルロースエステルフィルムは、可塑剤として、下記一般式（１）で表される有機酸と３価以上のアルコールが縮合した構造を有するエステル化合物を、可塑剤として１〜２５質量％含有することが特に好ましい。１質量％よりも少ないと可塑剤を添加する効果が認められず、２５質量％よりも多いとブリードアウトが発生しやすくなり、フィルムの経時安定性が低下するために好ましくない。より好ましくは上記可塑剤を３〜２０質量％含有するセルロースエステルフィルムであり、更に好ましくは５〜１５質量％含有するセルロースエステルフィルムである。
【００９１】
【化１】
2007276381.tif 000002
【００９２】
上記一般式（１）において、Ｒ1〜Ｒ5は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらは更に置換基を有していて良く、Ｒ1〜Ｒ5のうち、少なくとも何れかは１つは水素原子ではない。Ｌは２価の連結基を表し、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表す。
【００９３】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるシクロアルキル基としては、同様に炭素数３〜８のシクロアルキル基が好ましく、具体的にはシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の基である。これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によって更に置換されていてもよい）、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によって更に置換されていてもよい）、フェノキシ基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によって更に置換されていてもよい）、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数２〜８のアシル基、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００９４】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、γ−フェニルプロピル基等の基を表し、また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることが出来る。
【００９５】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアルコキシ基としては、炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、２−エチルヘキシルオキシ、もしくはｔ−ブトキシ等の各アルコキシ基である。また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい）、アルケニル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によって更に置換されていてもよい）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によって更に置換されていてもよい））、アセチル基、プロピオニル基等のアシル基が、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のアシルオキシ基、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられる。
【００９６】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるシクロアルコキシ基としては、無置換のシクロアルコキシ基としては炭素数１〜８のシクロアルコキシ基が挙げられ、具体的には、シクロプロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ等の基が挙げられる。また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることが出来る。
【００９７】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアリールオキシ基としては、フェノキシ基が挙げられるが、このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等前記シクロアルキル基に置換してもよい基として挙げられた置換基で置換されていてもよい。
【００９８】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙げられ、これらの置換基は更に置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることが出来る。
【００９９】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数２〜８の無置換のアシル基が挙げられ（アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。）、これらの置換基は更に置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることが出来る。
【０１００】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のアシルオキシ基（アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。）、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられるが、これらの基は更に前記シクロアルキル基に置換してもよい基と同様の基により置換されていてもよい。
【０１０１】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、またフェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基を表す。これらの置換基は更に置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることが出来る。
【０１０２】
また、Ｒ1〜Ｒ5で表されるオキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基等の炭素数１〜８のアルコキシカルボニルオキシ基を表し、これらの置換基は更に置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることが出来る。
【０１０３】
また、これらＲ1〜Ｒ5のうち、少なくとも何れかは１つは水素原子ではない。なおＲ1〜Ｒ5のうちの何れか同士で互いに連結し、環構造を形成していても良い。
【０１０４】
また、Ｌで表される連結基としては、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表すが、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等の基であり、これらの基は、更に前記のＲ1〜Ｒ5で表される基に置換してもよい基としてあげられた基で置換されていてもよい。
【０１０５】
中でも、Ｌで表される連結基として特に好ましいのは直接結合であり芳香族カルボン酸である。
【０１０６】
またこれら本発明において可塑剤となるエステル化合物を構成する、前記一般式（１）で表される有機酸としては、少なくともＲ1またはＲ2に前記アルコキシ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニルオキシ基を有するものが好ましい。また複数の置換基を有する化合物も好ましい。
【０１０７】
なお本発明においては３価以上のアルコールの水酸基を置換する有機酸は単一種であっても複数種であってもよい。
【０１０８】
本発明において、前記一般式（１）で表される有機酸と反応して多価アルコールエステル化合物を形成する３価以上のアルコール化合物としては、好ましくは３〜２０価の脂肪族多価アルコールであり、本発明おいて３価以上のアルコールは下記の一般式（３）で表されるものが好ましい。
【０１０９】
一般式（３）  Ｒ′−（ＯＨ）ｍ
式中、Ｒ′はｍ価の有機基、ｍは３以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性水酸基を表す。特に好ましいのは、ｍとしては３または４の多価アルコールである。
【０１１０】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，３−ヘキサントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ガラクチトール、グルコース、セロビオース、イノシトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ましい。
【０１１１】
一般式（１）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールのエステルは、公知の方法により合成出来る。実施例に代表的合成例を示したが、前記一般式（１）で表される有機酸と、多価アルコールを例えば、酸の存在下縮合させエステル化する方法、また、有機酸を予め酸クロライド或いは酸無水物としておき、多価アルコールと反応させる方法、有機酸のフェニルエステルと多価アルコールを反応させる方法等があり、目的とするエステル化合物により、適宜、収率のよい方法を選択することが好ましい。
【０１１２】
一般式（１）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールのエステルからなる可塑剤としては、下記一般式（２）で表される化合物が好ましい。
【０１１３】
【化２】
2007276381.tif 000003
【０１１４】
前記一般式（２）において、Ｒ6〜Ｒ20は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらは更に置換基を有していて良い。Ｒ6〜Ｒ10のうち、少なくとも何れか１つは水素原子ではなく、Ｒ11〜Ｒ15のうち、少なくとも何れか１つは水素原子ではなく、Ｒ16〜Ｒ20のうち、少なくとも何れか１つは水素原子ではない。また、Ｒ21はアルキル基を表す。
【０１１５】
Ｒ6〜Ｒ21のシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基については、前記Ｒ1〜Ｒ5と同様の基が挙げられる。
【０１１６】
この様にして得られる多価アルコールエステルの分子量には特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、４００〜１０００であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１１７】
以下に、本発明に係わる多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。
【０１１８】
【化３】
2007276381.tif 000004
【０１１９】
【化４】
2007276381.tif 000005
【０１２０】
【化５】
2007276381.tif 000006
【０１２１】
【化６】
2007276381.tif 000007
【０１２２】
【化７】
2007276381.tif 000008
【０１２３】
【化８】
2007276381.tif 000009
【０１２４】
【化９】
2007276381.tif 000010
【０１２５】
【化１０】
2007276381.tif 000011
【０１２６】
【化１１】
2007276381.tif 000012
【０１２７】
【化１２】
2007276381.tif 000013
【０１２８】
【化１３】
2007276381.tif 000014
【０１２９】
本発明に好ましい可塑剤である前記一般式（１）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールからなるエステル化合物は、セルロースエステルに対する相溶性が高く、高添加率で添加することが出来る特徴があるため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウトを発生することがなく、必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用することが出来る。
【０１３０】
（その他の可塑剤）
本発明に用いられるその他の可塑剤としては、更にリン酸エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる。
【０１３１】
リン酸エステル系の可塑剤：具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等のリン酸アルキルエステル、トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等のリン酸シクロアルキルエステル、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート等のリン酸アリールエステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。
【０１３２】
またエチレンビス（ジメチルホスフェート）、ブチレンビス（ジエチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアルキルホスフェート）、エチレンビス（ジフェニルホスフェート）、プロピレンビス（ジナフチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアリールホスフェート）、フェニレンビス（ジブチルホスフェート）、ビフェニレンビス（ジオクチルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアルキルホスフェート）、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）、ナフチレンビス（ジトルイルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアリールホスフェート）等のリン酸エステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。
【０１３３】
更にリン酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、リン酸アリールエステル、アリーレンビス（ジアリールホスフェート）が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）が好ましい。
【０１３４】
ポリマー可塑剤：具体的には、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリＮ−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ４−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。数平均分子量は１０００〜５０００００程度が好ましく、特に好ましくは、５０００〜２０００００である。１０００以下では揮発性に問題が生じ、５０００００を超えると可塑化能力が低下し、セルロースエステルフィルムの機械的性質に悪影響を及ぼす。これらポリマー可塑剤は１種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを２種以上併用して用いてもよい。
【０１３５】
本発明の可塑剤は、前述のセルロースエステル同様に、残留酸、無機塩、有機低分子等の不純物を除去する事が好ましく、より好ましくは純度９９％以上である。残留酸、及び水としては、０．０１〜１００ｐｐｍであることが好ましく、セルロースエステルを溶融製膜する上で、熱劣化を抑制出来、製膜安定性、フィルムの光学物性、機械物性が向上する。
【０１３６】
（安定化剤）
（酸化防止剤）
セルロースエステルは、溶融製膜が行われるような高温環境下では熱だけでなく酸素によっても分解が促進されるため、本発明のセルロースエステルフィルムにおいては安定化剤として酸化防止剤を含有することが好ましい。
【０１３７】
本発明において有用な酸化防止剤としては、酸素による溶融成形材料の劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることが出来るが、中でも有用な酸化防止剤としては、フェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物、耐熱加工安定剤、酸素スカベンジャー等が挙げられる。これらの中でも本発明では、特にフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物から選ばれる少なくとも１種以上の酸化防止剤（安定剤）を含有することが特徴である。これらの化合物を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、溶融成型時の熱や熱酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止出来る。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは２種以上を組み合わせて用いることが出来る。
【０１３８】
フェノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されており、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。このような化合物のうち好ましい化合物として、下記一般式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
【０１３９】
【化１４】
2007276381.tif 000015
【０１４０】
式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15は置換基を表す。置換基としては、水素原子、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン−オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げらる。これらの置換基は更に置換されても良い。また、Ｒ11は水素原子、Ｒ12、Ｒ16はｔ−ブチル基であるフェノール系化合物が好ましい。フェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（��−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリトリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトール−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、”Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６”及び”Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０”という商品名で市販されている。
【０１４１】
本発明のヒンダードアミン系化合物としては、下記一般式（Ｂ）で表される化合物が好ましい。
【０１４２】
【化１５】
2007276381.tif 000016
【０１４３】
式中、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26及びＲ27は置換基を表す。置換基とは前記一般式（Ａ）記載と同義の基を示す。Ｒ24は水素原子、メチル基、Ｒ27は水素原子、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ25、Ｒ26はメチル基が好ましい。
【０１４４】
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。また、高分子タイプの化合物でも良く、具体例としては、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン・Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］などの、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物などの、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物などで、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
【０１４５】
上記タイプのヒンダードフェノール化合物は、例えば、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、”Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４”及び”Ｔｉｎｕｖｉｎ７７０”、旭電化工業株式会社から”ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ−５２”という商品名で市販されている。
【０１４６】
本発明のリン系化合物としては、下記一般式（Ｃ−１）、（Ｃ−２）、（Ｃ−３）、（Ｃ−４）、（Ｃ−５）で表される部分構造を分子内に有する化合物が好ましい。
【０１４７】
【化１６】
2007276381.tif 000017
【０１４８】
【化１７】
2007276381.tif 000018
【０１４９】
【化１８】
2007276381.tif 000019
【０１５０】
【化１９】
2007276381.tif 000020
【０１５１】
【化２０】
2007276381.tif 000021
【０１５２】
式中、Ｐｈ1及びＰｈ’1はフェニレン基を表し、該フェニレン基の水素原子はフェニル基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基又は炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。Ｐｈ1及びＰｈ’1は互いに同一でもよく、異なってもよい。Ｘは単結合、硫黄原子又は−ＣＨＲ6−基を表す。Ｒ6は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を表す。Ｐｈ2及びＰｈ’2はフェニル基又はビフェニル基を表し、該フェニル基又はビフェニル基の水素原子は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基又は炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。Ｐｈ2及びＰｈ’2は互いに同一でもよく、異なってもよい。Ｐｈ3はフェニル基又はビフェニル基を表し、該フェニル基又はビフェニル基の水素原子は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基又は炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。またこれらは前記一般式（Ａ）記載と同義の置換基により置換されても良い。
【０１５３】
式中、Ｐｈ3は置換基を表す。置換基とは前記一般式（Ａ）記載と同義の基を示す。より好ましくは、Ｐｈ3はフェニル基又はビフェニル基を表し、該フェニル基又はビフェニル基の水素原子は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基又は炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。またこれらは前記一般式（Ａ）記載と同義の置換基により置換されても良い。
【０１５４】
式中、Ｐｈ4は置換基を表す。置換基とは前記一般式（Ａ）記載と同義の基を示す。より好ましくは、Ｐｈ4は炭素数１〜２０のアルキル基又はフェニル基を表し、該アルキル基又はフェニル基の水素原子は前記一般式（Ａ）記載と同義の置換基により置換されても良い。
【０１５５】
式中、Ｐｈ5、Ｐｈ’5及びＰｈ”5は置換基を表す。置換基とは前記一般式（Ａ）記載と同義の基を示す。より好ましくは、Ｐｈ5、Ｐｈ’5及びＰｈ”5は炭素数１〜２０のアルキル基又はフェニル基を表し、該アルキル基又はフェニル基の水素原子は前記一般式（Ａ）記載と同義の置換基により置換されても良い。
【０１５６】
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］ジオキサホスフェピンなどのモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）などのジホスファイト系化合物などが挙げられる。上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学工業株式会社から、”スミライザーＧＰ”、旭電化工業株式会社からＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−２４Ｇ”及び”ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−３６”という商品名で市販されている。
【０１５７】
また、本発明ではイオウ系化合物を酸化防止剤として用いることも好ましく、下記一般式（Ｄ）で表される化合物が好ましい。
【０１５８】
【化２１】
2007276381.tif 000022
【０１５９】
式中、Ｒ31及びＲ32は置換基を表す。置換基とは前記一般式（Ａ）記載と同義の基を示す。Ｒ31及びＲ32はアルキル基が好ましい。
【０１６０】
イオウ系化合物の具体例としては、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが挙げられる。上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、住友化学工業株式会社から、”スミライザーＴＰＬ−Ｒ”及び”スミライザーＴＰ−Ｄ”という商品名で市販されている。
【０１６１】
酸化防止剤は、前述のセルロースエステル同様に、製造時から持ち越される、或いは保存中に発生する残留酸、無機塩、有機低分子等の不純物を除去する事が好ましく、より好ましくは純度９９％以上である。残留酸、及び水としては、０．０１〜１００ｐｐｍであることが好ましく、セルロースエステルを溶融製膜する上で、熱劣化を抑制出来、製膜安定性、フィルムの光学物性、機械物性が向上する。
【０１６２】
（酸掃去剤）
酸掃去剤とは製造時から持ち込まれるセルロースエステル中に残留する酸（プロトン酸）をトラップする役割を担う剤である。また、セルロースエステルを溶融するとポリマー中の水分と熱により側鎖の加水分解が促進し、ＣＡＰならば酢酸やプロピオン酸が生成する。酸と化学的に結合出来ればよく、エポキシ、３級アミン、エーテル構造等を有する化合物が挙げられるが、これに限定されるものでない。
【０１６３】
具体的には、米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されている酸掃去剤としてのエポキシ化合物を含んでなるのが好ましい。このような酸掃去剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシドなどの縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（即ち、４，４′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２〜２２この炭素原子の脂肪酸の４〜２個程度の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）など）、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドなど（例えば、エポキシ化大豆油などの組成物によって代表され、例示され得る、エポキシ化植物油及び他の不飽和天然油（これらは時としてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している））が含まれる。特に好ましいのは、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物  ＥＰＯＮ  ８１５ｃ、及び一般式（４）の他のエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生成物である。
【０１６４】
【化２２】
2007276381.tif 000023
【０１６５】
上式中、ｎは０〜１２に等しい。用いることが出来る更に可能な酸掃去剤としては、特開平５−１９４７８８号公報の段落８７〜１０５に記載されているものが含まれる。
【０１６６】
酸掃去剤は、前述のセルロースエステル同様に、製造時から持ち越される、或いは保存中に発生する残留酸、無機塩、有機低分子等の不純物を除去する事が好ましく、より好ましくは純度９９％以上である。残留酸、及び水としては、０．０１〜１００ｐｐｍであることが好ましく、セルロースエステルを溶融製膜する上で、熱劣化を抑制出来、製膜安定性、フィルムの光学物性、機械物性が向上する。
【０１６７】
なお酸掃去剤は酸捕捉剤、酸捕獲剤、酸キャッチャー等と称されることもあるが、本発明においてはこれらの呼称による差異なく用いることが出来る。
【０１６８】
（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤としては、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることが出来るが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、紫外線吸収剤の構造は、紫外線吸収能を有する部位が一分子中に複数存在している二量体、三量体、四量体等の多量体でも良く、特開平１０−１８２６２１号公報、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
【０１６９】
有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。
【０１７０】
また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（何れもチバ−スペシャルティ−ケミカルズ社製）を用いることも出来る。
【０１７１】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることが出来るが、これらに限定されるものではない。
【０１７２】
本発明においては、紫外線吸収剤は０．１〜２０質量％添加することが好ましく、更に０．５〜１０質量％添加することが好ましく、更に１〜５質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。
【０１７３】
（粘度低下剤）
本発明において、溶融粘度を低減する目的として、水素結合性溶媒を添加する事が出来る。水素結合性溶媒とは、Ｊ．Ｎ．イスラエルアチビリ著、「分子間力と表面力」（近藤保、大島広行訳、マグロウヒル出版、１９９１年）に記載されるように、電気的に陰性な原子（酸素、窒素、フッ素、塩素）と電気的に陰性な原子と共有結合した水素原子間に生ずる、水素原子媒介「結合」を生ずることが出来るような有機溶媒、即ち、結合モーメントが大きく、かつ水素を含む結合、例えば、Ｏ−Ｈ（酸素水素結合）、Ｎ−Ｈ（窒素水素結合）、Ｆ−Ｈ（フッ素水素結合）を含むことで近接した分子同士が配列出来るような有機溶媒をいう。これらは、セルロースエステルの分子間水素結合よりもセルロースとの間で強い水素結合を形成する能力を有するもので、本発明で行う溶融流延法においては、用いるセルロースエステル単独のガラス転移温度よりも、水素結合性溶媒の添加によりセルロースエステル組成物の溶融温度を低下する事が出来る、または同じ溶融温度においてセルロースエステルよりも水素結合性溶媒を含むセルロースエステル組成物の溶融粘度を低下する事が出来る。
【０１７４】
水素結合性溶媒としては、例えば、アルコール類：例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、２−エチルヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、ドデカノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ヘキシルセロソルブ、グリセリン等、ケトン類：アセトン、メチルエチルケトン等、カルボン酸類：例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等、エーテル類：例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等、ピロリドン類：例えば、Ｎ−メチルピロリドン等、アミン類：例えば、トリメチルアミン、ピリジン等、等を例示することが出来る。これら水素結合性溶媒は、単独で、又は２種以上混合して用いることが出来る。これらのうちでも、アルコール、ケトン、エーテル類が好ましく、特にメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、オクタノール、ドデカノール、エチレングリコール、グリセリン、アセトン、テトラヒドロフランが好ましい。更に、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、グリセリン、アセトン、テトラヒドロフランのような水溶性溶媒が特に好ましい。ここで水溶性とは、水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ以上のものをいう。
【０１７５】
（リターデーション制御剤）
本発明のセルロースエステルフィルムにおいて配向膜を形成して液晶層を設け、光学フィルムと液晶層由来のリターデーションを複合化して光学補償能を付与した偏光板加工を行ってもよいし、リターデーションを制御するための化合物をセルロースエステルフィルムに含有させてもよい。
【０１７６】
リターデーションを制御するために添加する化合物は、欧州特許第９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物を使用することも出来る。また２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に不飽和ヘテロ環である。中でも１，３，５−トリアジン環を有する化合物が特に好ましい。
【０１７７】
（マット剤）
本発明のセルロースエステルフィルムには、滑り性を付与するためにマット剤等の微粒子を添加することが出来、微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。マット剤はできるだけ微粒子のものが好ましく、微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることが出来る。中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを低く出来るので好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下出来るため好ましい。
【０１７８】
表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどが挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。また、微粒子の二次粒子の平均粒径は０．０５〜１．０μｍの範囲である。好ましい微粒子の二次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍが好ましく、更に好ましくは７〜１４ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、光学フィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させる為に好ましく用いられる。微粒子のセルロースエステルフィルム中の含有量はセルロースエステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。
【０１７９】
二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル（株）製のアエロジル（ＡＥＲＯＳＩＬ）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることが出来、好ましくはアエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することが出来る。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９：０．１の範囲で使用出来る。
【０１８０】
上記マット剤として用いられるフィルム中の微粒子の存在は、別の目的としてフィルムの強度向上のために用いることも出来る。また、フィルム中の上記微粒子の存在は、本発明のセルロースエステルフィルムを構成するセルロースエステル自身の配向性を向上することも可能である。
【０１８１】
（高分子材料）
本発明のセルロースエステルフィルムはセルロースエステル以外の高分子材料やオリゴマーを適宜選択して混合してもよい。前述の高分子材料やオリゴマーはセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにしたときの透過率が８０％以上、更に好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上であることが好ましい。セルロースエステル以外の高分子材料やオリゴマーの少なくとも１種以上を混合する目的は、加熱溶融時の粘度制御やフィルム加工後のフィルム物性を向上するために行う意味を含んでいる。この場合は、上述のその他添加剤として含むことが出来る。
【０１８２】
（成型物の製造方法及びその大きさ）
ペレット状の成型物を得る方法としては、二軸押出機にてセルロースエステルのガラス転移温度以上融点＋３０℃以下の温度にて溶融押出しして棒状のストランドを得た後、所望の大きさに裁断する方法などが挙げられる。
【０１８３】
セルロースエステルは熱による劣化が著しい材料のため、劣化しない温度にて成型する方法が好ましい。
【０１８４】
セルロースエステルと有機系添加剤を混合し得られた成型物の大きさは、１ｍｍ×１ｍｍ×１ｍｍ〜２０ｍｍ×２０ｍｍ×２０ｍｍの立方体の範囲内であることが本発明の効果を得る上で好ましい。溶融押出し法においては、１ｍｍ×１ｍｍ×１ｍｍより小さいと、成型物投入時にブロッキングを起こし供給が安定せず、また、２０ｍｍ×２０ｍｍ×２０ｍｍより大きいと、成型物の溶融及び粉砕性が悪く、結果投入口で詰まり、生産性が著しく悪くなる恐れがある。また、１ｍｍ×１ｍｍ×１ｍｍより小さいと、成型物の比表面積が大きくなるため空気（特に酸素と水）との接触面積も大きくなり、セルロースが劣化しやすくなり、分子量が低下し、結果、機械的強度が低下する恐れがある。加圧加熱溶融法においては、２０ｍｍ×２０ｍｍ×２０ｍｍより大きいと膜厚の小さい（１００μｍ以下）フィルムが得られにくくなる。また、膜厚にムラが出来やすくなる。（膜厚精度が悪くなる。）
成型物にすると、樹脂と添加剤が密着するため、混合・分散性が高まる。また、空気（特に酸素と水）との接触面積が小さくなるためセルロースエステルの劣化にも有利である。
【０１８５】
例えば、本発明に用いられるセルロースエステル及び添加剤の混合物を、熱風乾燥又は真空乾燥した後、溶融押出し、Ｔ型ダイよりフィルム状に押出しして、静電印加法等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸フィルムを得る。
【０１８６】
本発明のセルロースエステル及び添加剤は、０．１〜２０ｍｍ程度の粉体、またはペレットである。原料によっては含有する水分の量が多く、乾燥が必要なものもある。乾燥は、単独に乾燥しても良く、複数の原料を混合してから乾燥しても良い。セルロースエステルは加熱により酸を発生することがあり、この酸により分解劣化が進行するので、酸を発生させないように６０〜９０℃程度で乾燥することが好ましい。到達乾燥レベルを上げるために、露点の低い乾燥空気を使用するか、減圧ないし真空乾燥することも好ましい。好ましい露点は−２０℃以下、更に好ましくは−３０℃以下である。添加剤によっては融点が低いものもあり、混合してから乾燥する場合は、乾燥中に粘着して固まらないように、使用材料中最も融点の低い物質の融点以下で乾燥する必要がある。もちろん単独に乾燥してから混合すればよいのであるが、混合中に吸湿することがあるので、混合してから乾燥するのが好ましい。
【０１８７】
乾燥終了した原料は、すぐ押出機に送るか、吸湿を防止するために高温低露点ないし減圧に維持されたストックタンクに保管された後、押出機に送る。
【０１８８】
原料として、製膜後スリットしたり、巻き取った後製品にならなかったロスフィルムを回収再使用することが出来る。回収フィルムは通常粉砕して供給するが、それだけでペレットに成形したり、造粒して供給することも出来る。回収フィルムも乾燥が必要であるが、単独で乾燥しても良いし、バージンのポリマー原料と混合してから乾燥しても良いし、添加剤と混合してから乾燥しても良い。
【０１８９】
溶融押出しは、一軸押出機、二軸押出機、更に２台の押出機を直列に連結するタンデム押出しなどが挙げられるが、本発明では２台の押出機を直列に連結するタンデム押出しが好ましい。
【０１９０】
該押出し機下流にダイを設置して直接押出し製膜しても良いし、ストランドダイを設置していったんペレット化してからそのペレットを押出し製膜しても良い。
【０１９１】
更に、原料タンク、原料の投入部、押出機内といった原料の供給、溶融工程を、窒素ガス等の不活性ガスで置換、或いは減圧することが好ましい。本発明では、セルロースエステルと複数の添加剤を混合するため、混練性能に優れた二軸押出機を使用してペレット化した後、定量性の良い単軸押出機を用いて溶融押出し製膜するのが好ましい。
【０１９２】
特にフィルムを製造する上で留意することは、なるべく機械的ストレスを与えずに加熱溶融させる方法が好ましい。既存の装置としては、１軸押出機、ホットプレス機などがある。１軸押出機の場合、透明なフィルムを得ることが出来る温度において、出きる限り低温にて短時間で押出しすことが望ましい。投入口からダイまでの経路においては、セルロースエステルのガラス転移温度：Ｔｇ〜融点：Ｔｍ＋５０℃の温度に設定しておくことが望ましく、ダイに近づくにつれて温度を段階的に上げるのが好ましい。ダイの温度は、Ｔｍ〜Ｔｍ＋３０℃に設定するのが好ましい。
【０１９３】
滞留時間（押出し時間）は、可能な限り短時間の方が好ましい。２０〜３６０秒が好ましく、より好ましくは２０〜６０秒であった。滞留時間が長いと、劣化が著しくなる恐れがあり、また、あまりにも短時間すぎると、溶融が不十分になる恐れがある。滞留時間は、シャフトの回転数、成型物の粘弾性、加熱温度などによって調整される。
【０１９４】
本発明の前記溶融押出し時の温度はセルロースエステルのＴｇ≦Ｔ≦Ｔｇ＋１３０（℃）の範囲であることが好ましい。より好ましくはＴｇ＋５０≦Ｔ≦Ｔｇ＋１３０（℃）の範囲である。
【０１９５】
押出機下流に、ギヤポンプ、フィルタを配置するのが好ましい。ギヤポンプは溶融樹脂を定量的に搬送出来るので、引取りフィルムの膜厚を均一にするために好ましく適用出来る。ギヤポンプ直前に、ギヤポンプ保護のためのフィルタを配置するのが好ましい。ギヤポンプは、２ギヤタイプ、３ギヤタイプなどあるが、定量性のより良い３ギヤタイプが好ましい。ギヤポンプ下流にメインフィルタを配置する。メインフィルタは製品フィルム中の異物を減らし、製品品質を向上する。
【０１９６】
ダイは、Ｔダイが好ましい。押し引きボルト、リップヒータ、ヒートボルトなどのリップ間隙調整機構を備え、膜厚を均一に調整する。リップを傷つきにくくするために、メッキしたり、ダイヤモンドライクカーボンのような超硬度処理することも好ましい。吐出する方向は、水平方向でも垂直方向でも良い。引取りロールにあわせて斜め下に吐出することも適用出来る。
【０１９７】
吐出された溶融フィルムの引取りは、静電印加法等により冷却ドラムに密着させて引取りる方法、または２本のロールの間に溶融フィルムを挟んで引取りる方法も好ましく適用出来る。冷却ドラムの温度はセルロースエステルのＴｇ−１００〜Ｔｇに維持されていることが好ましい。ダイ出口から冷却ドラムや引取りロールの周辺雰囲気を吸引することが好ましく行われる。溶融押出しされたフィルムからポリマー分解物や可塑剤などの添加剤が揮発し、ダイリップやロールに付着汚染するのを防ぐためである。吸引は、ダイリップから樹脂が吐出された直後に設置することが好ましい。揮発ガスの除去効果を上げるために周辺を囲むことも好ましい。囲って吸引すると、隙間を通して周囲から空気を吸い込むことにより、ダイリップから吐出された樹脂フィルムがゆらいで膜厚ムラとなることがあるので、吸引風量と同量の新鮮空気を囲いの中に供給することも好ましい。供給する空気の温度が振れると樹脂フィルムの温度が変化して膜厚ムラを生じるので、温度も一定に制御することが好ましい。このような措置を施したとしても、溶融フィルムからの揮発ガスによるロール汚染を完全になくすわけにいかないので、引取りロールや冷却ドラムに清掃装置を設置することが好ましく行われる。清掃装置はフィルム成形中もずっと継続して機能するタイプと、定期的にフィルム成形を中断して機能するタイプのどちらも適用出来る。
【０１９８】
本発明の偏光板保護フィルム用のセルロースエステルフィルムは、幅手方向もしくは製膜方向に延伸製膜されたフィルムであることが特に好ましい。
【０１９９】
前述の冷却ドラムから剥離され、得られた未延伸フィルムを複数のロール群及び／又は赤外線ヒーター等の加熱装置を介してセルロースエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）からＴｇ＋１００℃の範囲内に加熱し、一段又は多段縦延伸することが好ましい。延伸の倍率は５〜２００％の範囲で製品に要求されるリタデーションを満足するように選択される。
【０２００】
次に、上記のようにして得られた縦方向に延伸されたセルロースエステルフィルムを、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇ＋２０℃の温度範囲内で、５〜２００％の範囲で横延伸し、次いで熱固定することが好ましい。
【０２０１】
横延伸する場合、２つ以上に分割された延伸領域で温度差を１〜５０℃の範囲で順次昇温しながら横延伸すると、幅方向の物性の分布が低減でき好ましい。更に横延伸後、フィルムをその最終横延伸温度以下でＴｇ−４０℃以上の範囲に０．０１〜５分間保持すると幅方向の物性の分布が更に低減でき好ましい。延伸の順番は、タテ、ヨコの順に限らず、ヨコ、タテの順でもかまわない。
【０２０２】
また同時二軸延伸も好ましく適用出来る。逐次延伸では２段目の延伸時に破断しやすい傾向があるが、同時二軸延伸は破断しにくく、縦横の配向が均一に出来るメリットがある。
【０２０３】
熱固定は、その最終横延伸温度より高温で、Ｔｇ＋５０℃以下の温度範囲内で通常０．５〜３００秒間熱固定する。この際、２つ以上に分割された領域で温度差を１〜１００℃の範囲で順次昇温しながら熱固定することが好ましい。
【０２０４】
熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ−３０℃以上の温度範囲内で、横方向及び／又は縦方向に０．１〜１０％弛緩処理することが好ましい。又冷却は、最終熱固定温度からＴｇまでを、毎秒１００℃以下の冷却速度で徐冷することが好ましい。冷却、弛緩処理する手段は特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の温度領域で順次冷却しながらこれらの処理を行うことがフィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。尚、冷却速度は、最終熱固定温度をＴ１、フィルムが最終熱固定温度からＴｇに達するまでの時間をｔとしたとき、（Ｔ１−Ｔｇ）／ｔで求めた値である。
【０２０５】
これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件のより最適な条件は、フィルムを構成するセルロースエステルにより異なるので、得られた延伸フィルムの物性を測定し、好ましい特性を有するように適宜調整することにより決定すればよい。
【０２０６】
また、製膜工程において、カットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料として又は異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。
【０２０７】
（延伸操作、屈折率制御）
本発明のセルロースエステルフィルムを位相差フィルムとして用いる場合、延伸操作により屈折率制御を行うことが好ましい。延伸操作としては、セルロースエステルの１方向に１．０〜２．０倍及びフィルム面内にそれと直交する方向に１．０１〜２．５倍延伸することで好ましい範囲の屈折率に制御することが出来る。
【０２０８】
例えばフィルムの長手方向（製膜方向）及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方向に対して、逐次または同時に延伸することが出来る。このとき少なくとも１方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となり破断が発生してしまう場合がある。
【０２０９】
例えば溶融して流延した方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、フィルムの厚み方向の屈折率が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑制或いは、幅方向にも延伸することで改善出来る。幅方向に延伸する場合、幅手で屈折率に分布が生じる場合がある。これは、テンター法を用いた場合にみられることがあるが、幅方向に延伸したことで、フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、所謂ボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。この場合でも、該流延方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制出来、幅手の位相差の分布を少なく改善出来るのである。
【０２１０】
更に、互いに直行する２軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少出来る。セルロースエステルフィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。
【０２１１】
セルロースエステルフィルムの膜厚変動は、±３％、更に±１％の範囲とすることが好ましい。以上の様な目的において、互いに直交する２軸方向に延伸する方法は有効であり、互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に１．０〜２．０倍、幅方向に１．０１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に１．０１〜１．５倍、幅方向に１．０５〜２．０倍に範囲で行うことが好ましい。
【０２１２】
応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、幅方向に延伸することで、セルロースエステルフィルムの遅相軸が幅方向に付与することが出来る。この場合、本発明において、表示品質の向上のためには、セルロースエステルフィルムの遅相軸が、幅方向にあるほうが好ましく、（幅方向の延伸倍率）＞（流延方向の延伸倍率）を満たすことが必要である。
【０２１３】
ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、或いは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことが出来、破断等の危険性が減少出来るので好ましい。
【０２１４】
製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０２１５】
本発明のセルロースエステルフィルムの厚さは１０〜５００μｍが好ましい。特に２０μｍ以上、更に３５μｍ以上が好ましい。又、１５０μｍ以下、更に１２０μｍ以下が好ましい。特に好ましくは２５以上〜９０μｍが好ましい。上記領域よりも偏光板保護フィルムが厚いと偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的には適さない。一方、上記領域よりも薄いと、リターデーションの発現が困難となること、フィルムの透湿性が高くなり偏光子に対して湿度から保護する能力が低下してしまうために好ましくない。
【０２１６】
本発明のセルロースエステルフィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角をθ１とするとθ１は−１°以上＋１°以下であることが好ましく、−０．５°以上＋０．５°以下であることがより好ましい。このθ１は配向角として定義出来、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて行うことが出来る。
【０２１７】
θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与出来、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得ることに寄与出来る。
【０２１８】
（機能性層）
本発明のセルロースエステルフィルムの製造に際し、延伸の前及び／又は後帯電防止層、ハードコート層、反射防止層、易滑性層、易接着層、防眩層、バリアー層、光学補償層等の機能性層を塗設してもよい。特に、帯電防止層、ハードコート層、反射防止層、易接着層、防眩層及び光学補償層から選ばれる少なくとも１層を設けることが好ましい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことが出来る。
【０２１９】
（偏光板）
本発明のセルロースエステルフィルムを有する偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することが出来る。得られたセルロースエステルフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用いて、偏光子の両面にセルロースエステルフィルムを貼り合わせてもよいし、少なくとも一方の面に本発明のセルロースエステルフィルムを偏光子に直接貼合してもよい。もう一方の面には別の偏光板保護フィルムを用いてもよく、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ−Ｎ、以上コニカミノルタオプト（株）製）等が好ましく用いられる。
【０２２０】
また、上記アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、同６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施して偏光板加工を行ってもよい。
【０２２１】
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することが出来る。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。
【０２２２】
（表示装置）
本発明のセルロースエステルフィルムは平面性に優れ、液晶表示装置、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置に好ましく用いられる。
【０２２３】
特に、本発明のセルロースエステルフィルム、偏光板は液晶表示装置に好適である。液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明のセルロースエステルフィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムにはクリアハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に用いることが好ましい。また、延伸した本発明の偏光板保護フィルムは視野角拡大の為の位相差フィルムとして用いることも好ましい。
【０２２４】
本発明のセルロースエステルフィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。特に画面が３０型以上、特に３０型〜５４型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜けなどもなく、その効果が長期間維持され、ＭＶＡ型液晶表示装置では顕著な効果が認められる。特に、色むら、ぎらつきや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
【実施例】
【０２２５】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２２６】
（用いる素材）
〈セルロースエステル〉
Ｃ−１．セルロースアセテートプロピオネート：アセチル置換度２．０８、プロピオニル基置換度０．７２、分子量Ｍｎ＝６８０００、分子量Ｍｗ＝２０００００
Ｃ−２．セルロースアセテートプロピオネート：アセチル置換度１．４５、プロピオニル基置換度１．２６、分子量Ｍｎ＝７００００、分子量Ｍｗ＝１９００００
〈可塑剤〉
Ｐ−１．トリメチロールプロパントリベンゾエート
Ｐ−２．下記例示化合物１
合成例１（例示化合物１の合成）
１０℃に保持した３７質量部のグリセリン、１１１質量部のピリジン、５００質量部のトルエンの混合溶液を攪拌しながら、２０５質量部のｐ−メトキシベンゾイルクロライドを３０分間かけて滴下し、その後、１００℃まで加熱して、３時間攪拌した。反応終了後、室温まで冷却して沈殿物を炉別した後、１モル／Ｌ  ＨＣｌ水溶液を加えて洗浄し、更に１％  Ｎａ2ＣＯ3水溶液を加えて洗浄した後、有機相を分取してトルエンを減圧留去した後、精製を行い１６７質量部（収率８５％）の白色結晶を得た。
【０２２７】
【化２３】
2007276381.tif 000024
【０２２８】
〈酸化防止剤〉
Ａ−１．ＩＲＧＡＮＯＸ−１０１０（チバスペシャルティケミカルズ社製）
Ａ−２．ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ−５２（旭電化工業株式会社製）
Ａ−３．ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ３６（旭電化工業株式会社製）
Ａ−４．Ｔｉｎｕｖｉｎ−１４４（チバスペシャルティケミカルズ社製）
〈紫外線吸収剤〉
ＵＶ−１．下記例示化合物２
ＵＶ−２．下記例示化合物３
合成例２（例示化合物２の合成）
クロロホルム  ７５ｍｌに下記Ｍ−１  ５．２５ｇ、メタクリル酸メチル  ７．５ｇ、２−ヒドロキシルエチルメタクリレート  ２．２５ｇを加えて、次いで２，２’−アゾビズ（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）  ９．０３ｇを加えた。窒素雰囲気下８時間４５℃で撹拌した。反応液を放冷した後、ヘキサン２Ｌ中に滴下した。析出した沈殿物を濾取して４０℃で真空乾燥して、１２ｇの微黄色粉体状の共重合体、例示化合物２を得た。この共重合体は標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分析により、重量平均分子量２４００のものであることを確認した。また、上記共重合体がＭ−１：メタクリル酸メチル：２−ヒドロキシルエチルメタクリレートの組成比が略３５：５０：１５の共重合体であることを確認した。
【０２２９】
【化２４】
2007276381.tif 000025
【０２３０】
合成例３〈例示化合物３の合成〉
下記化合物Ａ  ２ｇをトルエン１０ｍｌに懸濁させ、ＤＭＦ  ０．１ｍｌ、塩化チオニル  １．１４ｇを加えて６０℃に加熱して３０分撹拌した。反応が進行するにつれて溶解し始め、反応終了後均一溶液になった。反応混合液の溶媒を減圧除去した。残渣にアセトニトリル８０ｍｌを加えて懸濁させた。別容器にジエチレングリコール  ０．３４ｇ、ピリジン  ０．７６ｇをアセトニトリルで溶解して、７５℃に加熱して撹拌した。その中へ先ほどのアセトニトリル懸濁液を素早く加えて７５℃を保持したまま２時間撹拌した。反応終了後、冷却した後アセトニトリルを減圧除去して酢酸エチルと水を加えて抽出した。有機層を減圧除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、さらに酢酸エチルから再結晶を行い、例示化合物３を０．４ｇ（収率１８％）得た。構造はＮＭＲとＭａｓｓスペクトルにより確認した。
【０２３１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）：σ１．２８（ｓ，１８Ｈ）；３．９２（ｍ，４Ｈ）；４．５１（ｍ，４Ｈ）；７．０９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）；７．４９（ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．５Ｈｚ，２Ｈ）；７．７１（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）；７．９３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）；７．９９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）；８．６０（ｓ，２Ｈ）；１０．２（ｓ，２Ｈ）
【０２３２】
【化２５】
2007276381.tif 000026
【０２３３】
実施例１
（セルロースエステルフィルム１−０１〜１−２１の作製）
上記セルロース樹脂Ｃ−１を１２０℃で１時間乾燥空気中で熱処理し、乾燥空気中で室温まで放冷した。乾燥したセルロース樹脂Ｃ−１  １００質量部に対して、可塑剤Ｐ−１を１２質量部、酸化防止剤Ａ−１を１．０質量部、酸化防止剤Ａ−２を０．２５質量部、酸化防止剤Ａ−３を０．５質量部、紫外線吸収剤ＵＶ−１を２．０質量部を添加し、ヘンシェルミキサーで混合後、押出機を用い加熱してペレットを作製した。
【０２３４】
このペレットを１２０℃で乾燥後、第１二軸押出機を使用し、２３０℃の溶融温度で加熱溶融した。その際、押出機の混錬ゾーンに設けられたガス圧入部に炭酸ガスボンベを接続し、炭酸ガスを１０ＭＰａになるよう調整し、供給した。その際、導入したガスが、上流側へ漏れないように、ガス導入部直前のスクリューデザインにより、高圧部位を作成し、シール部とした。その後、第１二軸押出機の下流側に、メインフィルタを設置した。フィルタメディアは公称濾過精度１０μのメタルファイバーフィルタを使用し、カプセルツリータイプのものを使用した。その際の溶融物粘度は、オフラインでフィルタサイズ、溶融物流量、導管径を相似条件に設定したフローテスターを用いて測定し、せん断速度１００ｓｅｃ-1での粘度値に換算したところ、３００Ｐａ・ｓであった。
【０２３５】
濾過後の溶融物の圧力は、圧力計を用いて測定し、圧力値は、供給量、スクリュー回転数にて調整したところ、フィルタ後圧力／フィルタ直前圧力は８０％であった。
【０２３６】
更に、フィルタ下流にギヤポンプを設置し、第２二軸押出機への供給樹脂圧を一定にした。第２二軸押出機は、図１で示すように、ベント口を１０箇所設置し、各ベント口の先には、圧力弁を設置し炭酸ガスの圧力降下速度を調整した。
【０２３７】
圧力降下速度は、ベント口１〜１０の溶融物の通過時間を１５０分とし、各ベント口の炭酸ガスの圧力調整を表１のように設定した。更に、ベント口には、多孔質膜を配置し、ガスのみが排出され、樹脂は排出されない機構とした。炭酸ガスの排出降下速度を測定したところ０．００１ＭＰａ／ｓｅｃであった。
【０２３８】
各ベント口直前のスクリューには、樹脂やガスの逆流を防ぐため、スクリューデザインにて、高圧部を設けシール部とし、更に、スクリューデザインにより、各バレルの圧力が適切になるように調整した。第２二軸押出機の下流に、ギヤポンプを設置し、更にその下流には、Ｔダイを設置した。
【０２３９】
ダイを通して、目標厚みが８０μｍになるよう、セルロースエステルフィルム製膜を実施した。製膜は、Ｔ型ダイから２３０℃で押出成形し、引き取りロールを介して１５８℃でフィルムの長手方向に１．１倍延伸し、続いて幅方向にテンターを用いて１．１倍延伸後、緩和し、冷却しながら幅手両端部の耳部をスリッティングで除去し、さらに室温（２０℃）まで冷却した後、両端部に高さ１０μｍ、幅１．５ｃｍのナーリングを設け、巻き取ってロール状の膜厚８０μｍの、リターデーション値Ｒｏが５ｎｍ、Ｒｔが３０ｎｍのセルロースエステルフィルム１−０１を得た。
【０２４０】
同様にして、炭酸ガス導入圧力、ベント口１〜１０の溶融物の通過時間、炭酸ガス排出降下速度、フィルタ前後の圧力差、溶融温度、セルロース溶融物粘度を表１、及び表２に記載のように変化して１−０２〜１−２１のセルロースエステルフィルムを得た。
【０２４１】
《評価》
（膜厚ムラ）
作製したフィルムについて、膜厚分布を幅手方向で１０点ずつ、東洋精機社製デジマイクロで測定し、標準偏差を算出した。その標準偏差について、０〜０．３μｍの範囲に入るものは◎、０．３〜０．８μｍの範囲に入るものは○、０．８〜１．５μｍの範囲に入るものを△、それよりも分布の広いものについては×とした。実用上○以上が許容内である。
【０２４２】
（リターデーションムラ）
作製したフィルムについて、自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、作成した試料を２３℃、５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において３次元屈折率測定を行い、屈折率ｎｘ、ｎｙを求めた。下記式に従って面内方向のリターデーション値Ｒｏ、フィルム厚み方向のリターデーション値Ｒｔを算出した。
【０２４３】
式  Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式  Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、ｎｘはフィルムの面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内における進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）をそれぞれ表わす。）
測定は、製膜方向と直交する幅手方向に１０点行い、その平均及び標準偏差から、以下で示すリターデーション変動率を指標とした。評価は、Ｒｏ、Ｒｔの変動率が両者０〜１％を◎、１〜２％を○、２〜５％を△、５％〜を×とした。
【０２４４】
リターデーション変動率＝標準偏差／リターデーション平均値
【０２４５】
【表１】
2007276381.tif 000027
【０２４６】
【表２】
2007276381.tif 000028
【０２４７】
表１、表２より本発明の構成のセルロースエステルフィルムは、種々な条件においても、膜厚・リタデーションの均一性に優れた光学フィルムであることが分かった。
【０２４８】
実施例２
実施例１と同様にして、セルロース樹脂Ｃ−２を１００質量部、可塑剤Ｐ−２を１２質量部、酸化防止剤Ａ−４を０．５質量部、紫外線吸収剤ＵＶ−２を２．０質量部の組成のセルロースエステル溶融物を用いて、製膜を行い、評価を実施した。
【０２４９】
結果、実施例１とほぼ同等な結果が得られた。
【０２５０】
このことより、本発明のセルロースエステルフィルムは、種々の組成においても、膜厚・リタデーションの均一性に優れた光学フィルムであることが分かった。
【０２５１】
実施例３
《偏光板の作製》
実施例１で作製した比較のセルロースエステルフィルム１、本発明のセルロースエステルフィルム４を用いて、下記手順により偏光板を作製した。
【０２５２】
（ハードコート層の形成）
上記セルロースエステルフィルム上に、下記のハードコート層用塗布液を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、９０℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ2で、照射量を０．１Ｊ／ｃｍ2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚７μｍのハードコート層を形成しハードコートフィルムを作製した。
【０２５３】
（ハードコート層塗布液）
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布液とした。
【０２５４】
アクリルモノマー；ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製）                                              ２２０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）        ２０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          １１０質量部
酢酸エチル                                                      １１０質量部
〈反射防止層付き偏光板保護フィルムの作製〉
上記作製したハードコートフィルム上に、下記のように高屈折率層、次いで、低屈折率層の順に反射防止層を塗設し、反射防止層付きセルロースエステルフィルム（反射防止フィルム）１及び４を作製した。
【０２５５】
（反射防止層の形成：高屈折率層）
ハードコートフィルム上に、下記高屈折率層塗布組成物を押出しコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥させ、次いで紫外線を０．１Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させ、更に１００℃で１分熱硬化させ、厚さが７８ｎｍとなるように高屈折率層を設けた。
【０２５６】
この高屈折率層の屈折率は１．６２であった。
【０２５７】
（高屈折率層塗布組成物）
金属酸化物微粒子のイソプロピルアルコール溶液（固形分２０％、ＩＴＯ粒子、粒径５ｎｍ）                                                              ５５質量部
金属化合物：Ｔｉ（ＯＢｕ）4（テトラ−ｎ−ブトキシチタン）       １．３質量部
電離放射線硬化型樹脂：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  ３．２質量部
光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）
０．８質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（ＦＺ−２２０７、日本ユニカー（株）製）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル液          １．５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          １２０質量部
イソプロピルアルコール                                          ２４０質量部
メチルエチルケトン                                                ４０質量部
（反射防止層の形成：低屈折率層）
前記高屈折率層上に下記の低屈折率層塗布組成物を押出しコーターで塗布し、１００℃で１分間乾燥させた後、紫外線ランプにて紫外線を０．１Ｊ／ｃｍ2照射して硬化させ、耐熱性プラスチックコアに巻き長４０００ｍで巻き取り、次いで８０℃３日間の加熱処理を行い反射防止フィルム１及び４を作製した。
【０２５８】
尚、この低屈折率層の厚さ９５ｎｍ、屈折率は１．３７であった。
【０２５９】
（低屈折率層塗布組成物の調製）
〈テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製〉
テトラエトキシシラン２８９ｇとエタノール５５３ｇを混和し、これに０．１５％酢酸水溶液１５７ｇを添加し、２５℃のウォーターバス中で３０時間攪拌することで加水分解物Ａを調製した。
【０２６０】
テトラエトキシシラン加水分解物Ａ                                １１０質量部
中空シリカ系微粒子（下記Ｐ−２）分散液                            ３０質量部
ＫＢＭ５０３（シランカップリング剤、信越化学（株）製）              ４質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（ＦＺ−２２０７、日本ユニカー（株）製）の１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル液              ３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ４００質量部
イソプロピルアルコール                                          ４００質量部
〈中空シリカ系微粒子（Ｐ−２）分散液の調製〉
平均粒径５ｎｍ、ＳｉＯ2濃度２０質量％のシリカゾル１００ｇと純水１９００ｇの混合物を８０℃に加温した。この反応母液のｐＨは１０．５であり、同母液にＳｉＯ2として０．９８質量％のケイ酸ナトリウム水溶液９０００ｇとＡｌ2Ｏ3として１．０２質量％のアルミン酸ナトリウム水溶液９０００ｇとを同時に添加した。その間、反応液の温度を８０℃に保持した。反応液のｐＨは添加直後、１２．５に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度２０質量％のＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3核粒子分散液を調製した。（工程（ａ））
この核粒子分散液５００ｇに純水１７００ｇを加えて９８℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液（ＳｉＯ2濃度３．５質量％）３０００ｇを添加して第１シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。（工程（ｂ））
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度１３質量％になった第１シリカ被覆層を形成した核粒子分散液５００ｇに純水１１２５ｇを加え、更に濃塩酸（３５．５％）を滴下してｐＨ１．０とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、ｐＨ３の塩酸水溶液１０Ｌと純水５Ｌを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第１シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3多孔質粒子の分散液を調製した（工程（ｃ））。上記多孔質粒子分散液１５００ｇと、純水５００ｇ、エタノール１，７５０ｇ及び２８％アンモニア水６２６ｇとの混合液を３５℃に加温した後、エチルシリケート（ＳｉＯ2２８質量％）１０４ｇを添加し、第１シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第２シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度２０質量％の中空シリカ系微粒子（Ｐ−２）の分散液を調製した。
【０２６１】
この中空シリカ系微粒子の第１シリカ被覆層の厚さは３ｎｍ、平均粒径は４７ｎｍ、ＭＯｘ／ＳｉＯ2（モル比）は０．００１７、屈折率は１．２８であった。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定した。
【０２６２】
次いで、厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
【０２６３】
次いで、下記工程１〜５に従って偏光膜と前記反射防止フィルム１及び４、裏面側のセルロースエステルフィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムは実施例１のセルロースエステルフィルム１及び４を作製する際に、フィルムの長手方向に１．１倍延伸し、続いて幅方向にテンターを用いて１．３倍延伸した以外は同様にしてセルロースエステルフィルム１′及び４′を作製し、各々１に対し１′、４に対し４′の組み合わせで用いた。セルロースエステルフィルム１′及び４′のリターデーション値は、Ｒｏ＝４５ｎｍ、Ｒｔ＝１４０ｎｍであった。
【０２６４】
工程１：６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化した前記反射防止フィルム、裏面側セルロースエステルフィルムを得た。
【０２６５】
工程２：前記偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。
【０２６６】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理した反射防止フィルム、セルロースエステルフィルムの上にのせて積層した。
【０２６７】
工程４：工程３で積層した反射防止フィルム、偏光膜とセルロースエステルフィルムを圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ2、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
【０２６８】
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した反射防止フィルム、偏光膜とセルロースエステルフィルムとを貼り合わせた試料を２分間乾燥し、偏光板１、４を作製した。
【０２６９】
《液晶表示装置の作製》
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
【０２７０】
富士通製１５型ディスプレイＶＬ−１５０ＳＤの予め貼合されていた表示側の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。
【０２７１】
その際、その偏光板の貼合の向きは、上記反射防止フィルムの面が液晶セルの表示側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置１、４を各々作製した。
【０２７２】
本発明の反射防止フィルム４、裏面側のセルロースエステルフィルム４′を用いた偏光板４及び液晶表示装置４は比較例１に対し、反射防止性に優れ、膜厚ムラやリターデーションムラによる反射色ムラも無く、また視野角が拡大された優れた視認性を有していた。
【図面の簡単な説明】
【０２７３】
【図１】本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の１つの実施形態を示す概略フローシートである。
【図２】二軸押出機のスクリューデザインである。
【図３】排出された炭酸ガスの再利用を考慮した装置を示す概略フローシートである。
【符号の説明】
【０２７４】
１  乾燥機
２  ストレージタンク
３  ホッパー
４  スクリューフィーダー
５  供給口
６、１０．  二軸押出機
７  炭酸ガス圧入装置
８  フィルタ
１１〜２０．  炭酸ガス排出装置
９、２１  ギヤポンプ
２２  ダイ
２３  フィルタ
【図１】
2007276381.tif 000029
【図２】
2007276381.tif 000030
【図３】
2007276381.tif 000031