(57)【要約】【課題】有機ハイドロパーオキサイドとオレフィンを反応させてエポキシドを得る製造方法であって、目的物であるエポキシドの収率が高いという優れた特徴を有するエポキシドの製造方法を提供する。【解決手段】固体触媒の存在下に、有機ハイドロパーオキサイドとオレフィンを反応させて、エポキシドを得る方法であって、前記固体触媒が下記の工程を有するエポキシドの製造方法。  含浸工程：固体シリカに対し、液体チタン化合物を溶媒を用いずに接触させて、含浸固体を得る工程  乾燥工程：含浸工程で得られた含浸固体を乾燥させて、固体触媒を得る工程  固体シリカは、凝固または相互に結合した非晶質シリカ粒子からなる比較的高密度かつ密充填型の多孔性合成シリカであって、その例にはシリカゲルがあげられる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体触媒の存在下に、有機ハイドロパーオキサイドとオレフィンと反応させてエポキシドを得る方法であって、前記固体触媒が下記の工程を有するエポキシドの製造方法。
含浸工程：固体シリカに対し、液体チタン化合物を溶媒を用いずに接触させて、含浸固体を得る工程
乾燥工程：含浸工程で得られた含浸固体を乾燥させて、固体触媒を得る工程
【請求項２】
請求項１記載の各工程に加え、更に下記の焼成工程を有する請求項１記載のエポキシドの製造方法。
焼成工程：乾燥工程で得られた固体触媒を焼成して、焼成固体触媒を得る工程
【請求項３】
請求項１〜２記載の各工程に加え、更に下記の水和工程を有する請求項１〜２のうちの一の請求項記載のエポキシドの製造方法。
水和工程：乾燥工程で得られた固体触媒、または焼成工程で得られた焼成固体触媒を、水の存在下で加熱して、水和固体触媒を得る工程
【請求項４】
請求項１〜３記載の各工程に加え、更に下記のシリル化工程を有する請求項１〜３のうちの一の請求項記載のエポキシドの製造方法。
シリル化工程：乾燥工程で得られた固体触媒、または焼成工程で得られた焼成固体触媒、または水和工程で得られた水和固体触媒を、シリル化剤で処理して、シリル化された固体触媒を得る工程
【請求項５】
請求項１の工程に加え、更に下記のシリカ乾燥工程を有する請求項１に記載のエポキシドの製造方法。
シリカ乾燥工程：固体シリカを加熱乾燥して、乾燥固体シリカを得る工程
【請求項６】
チタン化合物が四塩化チタンである請求項１に記載のエポキシドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エポキシドの製造方法に関する。より詳細には、有機ハイドロパーオキサイドとオレフィンを反応させて、エポキシドを得る製造方法であって、目的物であるエポキシドの収率が高いという優れた特徴を有するエポキシドの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ハイドロパーオキサイドとオレフィンを、固体シリカおよび無機珪酸塩からなる郡から選ばれる珪素化合物と化学的に結合したチタンを含有する不均一触媒の存在下反応させ、エポキシドを得る方法は公知である。
【０００３】
シリカおよび／または無機珪酸塩と化学的に結合したチタンを含有する不均一触媒は様々な方法で作ることができる。例えば、特許文献１には、シリカおよび／または無機珪酸塩に、ハロゲン化チタンを溶かした溶液を含浸させた後、含浸固体を焼成して触媒組成物を製造する方法が、また特許文献２にはシリカおよび／または無機珪酸塩を、溶媒として炭素原子１個乃至８個のヒドロキシルまたはオキソ置換炭化水素におけるハロゲン化チタンまたはチタニウムアルコラートの実質的無水溶媒で含浸した後、含浸固体から溶媒を除去したのち焼成する触媒の製造法が、また特許文献３には固体シリカおよび／または無機珪酸塩にガス状の四塩化チタンを含浸させた後、焼成、加水分解することによる触媒の製造方法が提供されている。
【０００４】
しかしながら、前記の方法で合成した触媒を用いたエポキシドの製造において、触媒の活性が十分ではないために、エポキシドの収率が低いという課題があった。
【０００５】
【特許文献１】特表２００２−５１４２１８号公報
【特許文献２】特公昭５４−４０５２５号公報
【特許文献３】特公平２−４２０７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
かかる現状に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、有機ハイドロパーオキサイドとオレフィンを反応させてエポキシドを得る製造方法であって、目的物であるエポキシドの収率が高いという優れた特徴を有するエポキシドの製造方法を提供する点にある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち本発明は、固体触媒の存在下に、有機ハイドロパーオキサイドとオレフィンを反応させて、エポキシドを得る方法であって、前記固体触媒が下記の工程を有するエポキシドの製造方法に係るものである。
含浸工程：固体シリカに対し、液体チタン化合物を溶媒を用いずに接触させて、含浸固体を得る工程
乾燥工程：含浸工程で得られた含浸固体を乾燥させて、固体触媒を得る工程
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、固体触媒存在下、オレフィンと有機ハイドロパーオキサイドを反応させてエポキシドを得る方法において、公知法よりエポキシドの収率が高いという優れた特徴を有するエポキシドの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
固体シリカは、凝固または相互に結合した非晶質シリカ粒子からなる比較的高密度かつ密充填型の多孔性合成シリカであって、その例にはシリカゲルがあげられる。市場で入手できるシリカゲルのうちでは、比表面積２５〜７００ｍ2／ｇ、シリカ含有量が９９重量％以上のシリカゲルが好ましい。
【００１０】
別の固体シリカの例としては、凝固作用によって生成し、オープンパック構造を有し、崩壊し易く、かつゆるく結合している非晶質シリカからなる合成シリカ粉末も適当であり、その例には、水素および酸素を四塩化珪素又は四フッ化珪素と燃焼操作を行うことによって得られる焼成シリカ（ｆｕｍｅｄ  ｐｙｒｏｇｅｎｉｃ  ｓｉｌｉｃａ）があげられる。この種のシリカは種々の業者によって製造、販売されており、例えばカボット社（キャブ−Ｏ−ジル）およびデグッサ（エアロジル）から販売されている（前記の「キャブ−Ｏ−ジル」及び「エアロジル」は登録商標である）。これらの焼成シリカのうちでは、比表面積が５０〜５００ｍ2／ｇであり、シリカ含有量が９９％以上である焼成シリカが好ましい。
【００１１】
更に、固体シリカの例として、結晶質の多孔性シリカも適当である。結晶質の多孔性シリカとしては例えばハイシリカゼオライト（アルミ等他の金属が僅かしか入っていないゼオライト）があげられる。ハイシリカゼオライトの例としてはペンタシルゼオライトであるシリカライト等が知られている（Ｒ．  Ｗ．  Ｇｒｏｓｅ  ａｎｄ  Ｅ．  Ｍ．  Ｆｌａｎｉｇｅｎ，  ＵＳ４，０６１，７２４）。また、結晶質ではないが、規則的な細孔構造を有するＭＣＭ−４１（Ｊ．  Ｓ．  Ｂｅｃｋ，  ｅｔ  ａｌ．，  Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  １１４，  １０８３４（１９９２））やＳＢＡ−１５（Ｇ．  Ｄ．  Ｓｔｕｃｋｙ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  １２０，  ６０２４（１９９８））も担体として用いることができる。
【００１２】
液体チタン化合物は、液体のチタン塩およびチタン酸エステルである。液体チタン化合物の例としては、チタン酸テトラエチル、チタン酸テトラプロピル、チタン酸テトライソプロピル、チタン酸テトラブチル、チタン酸テトライソブチル、四塩化チタン、四臭化チタン、チタニウム（ＩＶ）ジイソプロポキシドビスアセチルアセトナートをあげることができる。中でも、四塩化チタンが固体触媒の高い活性が得られるために好ましい。
【００１３】
含浸工程とは、固体シリカに対し、液体チタン化合物を溶媒を用いずに接触させて、含浸固体を得る工程である。
【００１４】
含浸工程では固体シリカに対し、液体チタン化合物を溶媒を用いずに接触させる必要がある。
【００１５】
固体シリカに対し、液体チタン化合物を溶媒を用いて接触させた場合には、活性が高い触媒が得られず、エポキシドの収率が低下するために不都合である。
【００１６】
含浸工程は、通常０〜１５０℃で０．１〜１０時間行われる。
【００１７】
乾燥工程とは、含浸工程で得られた含浸固体を乾燥させて、固体触媒を得る工程である。
【００１８】
乾燥工程では、余剰の液体チタン化合物が含浸固体から分離される。
【００１９】
含浸固体を乾燥する方法としては、蒸留が含浸固体から余剰の液体チタン化合物を有効に除去できるため好ましい。
【００２０】
乾燥工程は、通常１５０〜３００℃で１〜２４時間行われる。
【００２１】
得られた固体触媒は、焼成工程を行うことにより、焼成固体触媒とすることが好ましい。焼成工程とは、乾燥工程で得られた固体触媒を焼成して、焼成固体触媒を得る工程である。焼成工程は不活性ガス雰囲気下、例えば窒素、アルゴン、二酸化炭素の雰囲気下で行うことが好ましい。焼成温度は、通常３００〜９００℃、加熱時間は０．１〜１０時間で行われる。焼成工程を行わない場合には、活性が高くない場合がある。
【００２２】
得られた固体触媒あるいは焼成固体触媒は、水和工程を行うことにより、水和固体触媒とすることが好ましい。水和工程とは、乾燥工程で得られた固体触媒、または焼成工程で得られた焼成固体触媒を、水の存在下で加熱して、水和固体触媒を得る工程である。水和工程は、液体の水、あるいは水蒸気の存在下で実施することができる。水和温度は、通常５０〜５００℃で、水和時間は０．１〜６時間であることが好ましい。水和工程を行わない場合には、選択性が高くない場合がある。
【００２３】
得られた固体触媒あるいは焼成固体触媒あるいは水和固体触媒は、シリル化工程によりシリル化された固体触媒とすることが好ましい。シリル化工程とは、乾燥工程で得られた固体触媒、または焼成工程で得られた焼成固体触媒、または水和工程で得られた水和固体触媒を、シリル化剤で処理して、シリル化された固体触媒を得る工程である。シリル化工程は、気相あるいは液相で触媒とシリル化剤を接触させることによって行うことができる。シリル化工程は、通常０〜２００℃で、０．１時間〜１０時間行われる。シリル化工程を行わないと、活性が高くない場合がある。
【００２４】
シリル化剤の例としては、有機シラン、有機シリルアミン、有機シリルアミドとその誘導体、および有機シラザンおよびその他のシリル化剤があげられる。有機シランの例としては、クロロトリメチルシラン、ジクロロジメチルシラン、クロロブロモジメチルシラン、ニトロトリメチルシラン、クロロトリエチルシラン、ヨードジメチルブチルシラン、クロロジメチルフェニルシラン、クロロジメチルシラン、ジメチルｎ−プロピルクロロシラン、ジメチルイソプロピルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチルクロロシラン、トリプロピルクロロシラン、ジメチルオクチルクロロシラン、トリブチルクロロシラン、トリヘキシルクロロシラン、ジメチルエチルクロロシラン、ジメチルオクタデシルクロロシラン、ｎ−ブチルジメチルクロロシラン、ブロモメチルジメチルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン、３−クロロプロピルジメチルクロロシラン、ジメトキシメチルクロロシラン、メチルフェニルクロロシラン、トリエトキシクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラン、メチルフェニルビニルクロロシラン、ベンジルジメチルクロロシラン、ジフェニルクロロシラン、ジフェニルメチルクロロシラン、ジフェニルビニルクロロシラン、トリベンジルクロロシラン、３−シアノプロピルジメチルクロロシランがあげられる。
【００２５】
有機シリルアミンの例としては、Ｎ−トリメチルシリルイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブチルジメチルイミダゾール、Ｎ−ジメチルシリルイミダゾール、Ｎ−ジメチルシリルｎ−プロピルイミダゾール、Ｎ−ジメチルイソプロピルシリルイミダゾール、Ｎ−トリメチルシリルジメチルアミン、Ｎ−トリメチルシリルジエチルアミン、Ｎ−トリメチルシリルピロール、Ｎ−トリメチルシリルピロリジン、Ｎ−トリメチルシリルピペリジン、ペンタフルオロフェニルジメチルシリルアミン、１−シアノエチル（ジエチルアミノ）ジメチルシランがあげられる。
【００２６】
有機シリルアミドとその誘導体の例としては、Ｎ，Ｏ−ビストリメチルシリルトリフルオロアセトアミド、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルトリフルオロアセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルヘプタフルオロブチルアミド、Ｎ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ−トリフルオロアセトアミド、Ｎ，Ｏ−ビス（ジエチルハイドロシリル）トリフルオロアセトアミドがあげられる。
【００２７】
有機シラザンの例としては、ヘキサメチルジシラザン、ヘプタメチルジシラザン、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ビス（クロロメチル）テトラメチルジシラザン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ジフェニルテトラメチルジシラザンがあげられる。
【００２８】
その他のシリル化剤としては、Ｎ−メトキシ−Ｎ，Ｏ−ビストリメチルシリルトリフルオロアセトアミド、Ｎ−メトキシ−Ｎ，Ｏ−ビストリメチルシリルカーバメート、Ｎ，Ｏ−ビストリメチルシリルスルファメート、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート、Ｎ，Ｎ−ビストリメチルシリル尿素があげられる。
【００２９】
好ましいシリル化剤はヘキサメチルジシラザンである。
【００３０】
固体シリカは、含浸工程の前にシリカ乾燥工程を行うことにより、乾燥固体シリカとすることが好ましい。シリカ乾燥工程とは、固体シリカを加熱乾燥して、乾燥固体シリカを得る工程である。シリカ乾燥工程は、空気雰囲気下、または不活性ガス雰囲気、例えば窒素、アルゴン、二酸化炭素の雰囲気下で行うことができる。シリカ乾燥工程は２００〜９００℃、０．０１〜２００ｋＰａで０．１〜２４時間行うことが好ましい。
【００３１】
前記の触媒は、例えば粉末、フレーク、球状粒子、ペレットといった任意の物理的形態で使用できる。
【００３２】
上述の方法により調製した固体触媒の存在下、有機ハイドロパーオキサイドとオレフィンとのエポキシ化反応によってエポキシドが製造される。
【００３３】
有機ハイドロパーオキサイドは、一般式Ｒ−ＯＯＨ（ここでＲは炭化水素基である）を有する化合物であって、好ましくは、Ｒは炭素原子を３〜２０個を有する炭化水素基である。さらに好ましくは、炭素原子３〜１０の炭化水素基、特に、第２又は第３アルキル基又はアリール基置換アルキル基である。
【００３４】
第２アルキル基の例としてはシクロペンチル基やシクロヘキシル基があげられ、また第３アルキル基の例としては第３ブチル基や第３ペンチル基があげられる。
アリール基置換アルキル基の例としては１−フェニル−１−エチル基や２−フェニル−２−プロピル基があげられる。
【００３５】
有機ハイドロパーオキサイドは、希薄または濃厚な精製物または非精製物であってよい。
【００３６】
有機ハイドロパーオキサイド（一般式Ｒ−ＯＯＨ）は、オレフィンと反応してヒドロキシル化合物（一般式Ｒ−ＯＨ）を生成する。有機ハイドロパーオキサイドとして、エチルベンゼンハイドロパーオキサイドを使用した場合には、その結果得られるヒドロキシル化合物は１−フェニルエタノールであり、これは脱水反応によりスチレンへと変換できる。クメンハイドロパーオキサイドを使用した場合には、その結果得られるヒドロキシル化合物は２−フェニル−２−プロパノールであり、これは脱水反応によってα−メチルスチレンに変換できる。スチレンおよびα−メチルスチレンの両者は工業的に有用な物質である。
【００３７】
第３ペンチルハイドロパーオキサイドを使用したときに得られる第３ペンチルアルコールの脱水反応によって得られる第３アミレンは、イソプレンの前駆体として有用な物質である。また、第３ブチルハイドロパーオキサイドを使用したときに得られる第３ブチルアルコールは、オクタン価向上剤であるメチル第３ブチルエーテルの前駆体として有用な物質である。
【００３８】
オレフィンは、少なくとも一つの炭素−炭素二重結合を有する化合物である。オレフィンは非環式、単環式、二環式または多環式化合物であってよく、かつ、炭素−炭素二重結合を一つ以上有していてよい。炭素原子２〜６０個のオレフィンが一般に好ましい。このようなオレフィンの例にはエチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブチレン、１−ヘキセン、２−ヘキセン、３−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、スチレン、シクロヘキセン、ブタジエン、イソプレンがあげられる。
【００３９】
また、オレフィンとしては、置換基を有する化合物であってもよい。置換基の例としてはハロゲン原子や、酸素、硫黄、窒素原子を、水素および／または炭素原子と共に含有する置換基があげられる。ハロゲン原子の例としてはフルオロ原子、クロロ原子、ブロモ原子、ヨード原子があげられ、酸素、硫黄、窒素原子を、水素および／または炭素原子と共に含有する置換基としては、ヒドロキシル基、ホルミル基、メルカプト基、スルフィニル基、スルホニル基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、イミノ基があげられる。このような置換基を有するオレフィンの例には、アリルアルコール、クロチルアルコール、アリルクロライドがあげられる。
【００４０】
オレフィンの使用量は、（有機ハイドロパーオキサイド１モルあたり）１〜２０モルであることが好ましい。
【００４１】
エポキシ化反応は、溶媒及び／又は希釈剤を用いて液相中で実施できる。溶媒および希釈剤は、反応時の温度及び圧力のもとで液体であり、かつ、反応体及び生成物に対して実質的に不活性なものでならねばならない。溶媒は使用される有機ハイドロパーオキサイド溶液中に存在する物質からなるものであってよい。例えばクメンハイドロパーオキサイド（ＣＭＨＰ）がＣＭＨＰとその原料であるクメンとからなる混合物である場合には、とくに溶媒を添加することなく、これを溶媒の代用とすることも可能である。
【００４２】
希釈剤として更に第２の溶媒を用いることができ、希釈剤として有用な溶媒としては、芳香族の単環式化合物及びアルカンなどがあげられる。芳香族の単環式化合物の例としてはベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、オルトジクロロベンゼンがあげられ、アルカンの例としてはヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカンがあげられる。また、余剰量のオレフィンを溶媒として使用することも可能である。すなわち、有機ハイドロパーオキサイドと一緒に供給された溶媒と共に、余剰量のオレフィンが溶媒として使用できる。溶媒全体の使用量は、（有機ハイドロパーオキサイド１モルあたり）２０モル以下であることが好ましい。
【００４３】
エポキシ化反応温度は、通常２５〜２００℃、好ましくは２５〜１５０℃である。圧力は、反応混合物を液体の状態に保つために充分な圧力でよく、１００〜１００００ｋＰａであることが好ましい。
【００４４】
エポキシ化反応の終了時に、所望生成物を含有する液状混合物を固体触媒から容易に分離することができる。ついで液状混合物を適当な方法によって精製することができる。精製方法としては、分別蒸留、選択抽出があげられる。溶媒、触媒、未反応オレフィン、未反応有機ハイドロパーオキサイドは再循環して再び使用することができる。本発明の方法は、スラリーまたは固定床によって実施することができる。大規模な工業的操作の場合には、固定床を用いるのが好ましい。本発明の方法は、回分法、半連続法または連続法によって実施することができる。有機ハイドロパーオキサイドとオレフィンを含有する液を固定床に通した場合には、反応帯域から出た液状混合物には、触媒が全く含まれていないか又は実質的に含まれていない。
【００４５】
エポキシドは有用な工業用化学品である。プロピレンをエポキシ化することによって得られるプロピレンオキサイドは、プロピレングリコールあるいはポリプロピレングリコールの原料として工業的に重要である。塩化アリルをエポキシ化することによって得られるエピクロロヒドリンは、グリシジルエーテルあるいはグリセリンの原料として工業的に重要である。アリルアルコールをエポキシ化して得られるエポキシドもまた、グリセリンの原料として重要である。
【実施例】
【００４６】
以下に実施例により本発明を説明する。
実施例１
含浸工程：窒素雰囲気下、冷却器、および窒素導入口を設けた１００ｍＬ２口ナスフラスコに、シリカ（富士シリシア製、商品名Ｇ−１０）３．００  ｇを入れ、そこに四塩化チタン（和光純薬製、１級）１２．４２  ｇを加えた。このナスフラスコをオイルバスに浸し、オイルバスの温度が１４０  ℃となるように２時間加熱した後、オイルバスからナスフラスコを上げて冷却し、含浸固体を得た。
【００４７】
乾燥工程：含浸固体を入れたナスフラスコに蒸留装置を取り付けオイルバスに浸し、オイルバスの温度が１５５℃となるように加熱し、余剰の液体を蒸留にて留去した。その後、オイルバスの温度を２００℃に上げ、その温度で２時間乾燥させ、固体触媒３．３４  ｇを得た。
【００４８】
焼成工程：得られた固体触媒３．３４  ｇを石英管に入れ、電気炉で内温が６００℃程度となるように設定し、窒素を０．８３  ｃｍ3／ｓの流量で導入しながら２時間加熱し、焼成固体触媒を得た。
【００４９】
水和工程：得られた焼成固体触媒を石英管に入れ、電気炉で内温が４００℃程度となるように設定し、水蒸気を飽和に含む窒素を０．８３  ｃｍ3／ｓの流量で導入しながら２時間加熱し、水和固体触媒２．９７  ｇを得た。
【００５０】
シリル化工程：窒素雰囲気下、冷却器、および窒素導入口を設けた１００ｍＬ２口ナスフラスコに、水和固体触媒２．９７  ｇ、トルエン２９．７  ｇ、ヘキサメチルジシラザン２．０  ｇを加えた後、オイルバスに浸し、オイルバスの温度が１１０℃となるように設定し、１．５時間加熱した。加熱終了後、オイルバスからナスフラスコを上げて冷却した後、デカンテーションにて固体と液体を分離した。固体を１１０℃、１．３３×１０3  Ｐａで１．５時間乾燥させ、シリル化された固体触媒３．１２  ｇを得た。
【００５１】
１−オクテンのクメンハイドロパーオキサイド（ＣＭＨＰ）を用いるエポキシ化反応によるオクテンオキサイド（ＯＯ）の合成：合成したシリル化された固体触媒（０．３ｇ）、２５重量％のクメンハイドロパーオキサイドを含むクメン（１５ｇ）、１−オクテン（２２．  １  ｇ）を磁気攪拌機付きオートクレーブに仕込み、１０５℃で１．５時間反応した。エポキシ化反応成績を表１に示す。ここで、
ＣＭＨＰ転化率  ＝  消費ＣＭＨＰ（ｍｏｌ）／仕込みＣＭＨＰ（ｍｏｌ）×１００
ＯＯ  収率  ＝  生成ＯＯ（ｍｏｌ）／消費ＣＭＨＰ（ｍｏｌ）
ＯＯ選択率  ＝  生成ＯＯ（ｍｏｌ）／（生成ＯＯ（ｍｏｌ）＋生成オクテングリコール（ｍｏｌ））×１００
であらわされる。
【００５２】
比較例１
含浸工程でシリカと四塩化チタン以外に、溶媒としてヘプタン（和光純薬製、特級）３０ｇを用いたことと、オイルバスの温度が１１５  ℃となるように加熱したこと以外は、実施例１と同様に触媒を製造して、オクテンオキサイドの合成を行った。結果を表１に示す。
【００５３】
【表１】
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【００５４】
表１より、溶媒を用いずに含浸を行い、その後乾燥を行う方が、溶媒を用いて含浸を行い、その後乾燥を行うときに比べエポキシドの収率が高い触媒を得ることができることが明らかである。