(57)【要約】【課題】  本発明は、第一ギャップ層上にフィルタ層などを積層しても、該第一ギャップ層が軟化することなく、積層した該フィルタ層などにしわやひび割れなどの弊害が生じない光記録媒体であって、第一ギャップ層の厚みの均一性が安定した光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】  ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、第一の基板と、第二の基板と、第一ギャップ層と、第二ギャップ層と、フィルタ層とを有し、前記第一ギャップ層の組成物の荷重たわみ温度が、７０℃以上の非熱軟化性材料であることを特徴とする光記録媒体である。【選択図】      図４
2007072192.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、第一の基板と、第二の基板と、第一ギャップ層と、第二ギャップ層と、フィルタ層とを有し、前記第一ギャップ層の組成物の荷重たわみ温度が、７０℃以上の非熱軟化性材料であることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
非熱軟化性材料が、樹脂からなる請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法に用いられる請求項１から２のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項４】
少なくとも請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法であって、記録層形成工程と、第一ギャップ層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
第一ギャップ層形成工程が、非熱軟化性材料をスピン塗布することにより第一ギャップ層を形成する請求項４に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
第一ギャップ層形成工程が、非熱軟化性シートを貼り付けることにより第一ギャップ層を形成する請求項４に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項７】
第一ギャップ層形成工程が、無機材料を蒸着及びスパッタリングの少なくともいずれかにより第一ギャップ層を形成する請求項４に記載の光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラフィを利用して情報が記録される光記録媒体及びその製造方法、並びに、光記録媒体の記録方法及び光記録媒体の再生方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の書換型光記録媒体やＣＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体については既に実用化されているが、光記録媒体の更なる大容量化に対する要求は高まる一方である。
しかし、従来から提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録することができるホログラム型光記録方法が注目されている。
前記ホログラム型光記録方法は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉像を利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報の読み出し（再生）は、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光を前記記録層から出射させることにより行われる。
このホログラム型光記録方法では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成されるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち、多重記録が可能であり、大容量化の要請にマッチしている。このような多重記録にデジタルボリュームホログラフィを利用した場合には、１スポットの信号対雑音比（ＳＮ比）は極めて高くなるので、重ね書きによりＳＮ比が多少低くなっても元の情報を忠実に再現できるホログラム型の光記録媒体が得られる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容量を著しく増大させることができる（特許文献１参照）。
【０００３】
このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図１に示すように、第二の基板１表面にサーボピットパターン３を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム等からなる反射膜２と、この反射膜上に記録層４と、この記録層上に第一の基板５とを有する光記録媒体２０が提案されている（特許文献２参照）。
更に、図２に示す光記録媒体２０ａのように、第二の基板１と記録層４の間に、第二の基板１の表面を平滑化し、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整する第一ギャップ層８、前記情報光及び参照光の波長のみを選択して反射するフィルタ層６及び１／４波長板９を形成し、前記情報光及び参照光による効率のよい記録を得る光記録媒体の改善がなされている（特許文献３参照）。
しかしながら、このような光記録媒体の場合、前記第一ギャップ層８の組成物に粘着材料を用いて第二の基板１の表面の平滑化を図っているため、該第一ギャップ層８上に前記フィルタ層６などを積層する際の熱により、該第一ギャップ層８が軟化してしまい、積層した該フィルタ層６にしわやひび割れを生じさせる原因となるという問題がある。
また、前記軟化により積層した第一ギャップ層８の厚みの均一性が損なわれ、第一ギャップ層８の機能である第二の基板１の表面を平滑化し、記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整することができなくなるという問題もある。
そこで、前記第一ギャップ層上にフィルタ層などを積層しても、該第一ギャップ層が熱などの影響を受けて軟化することなく、積層した該フィルタ層などにしわやひび割れなどの弊害が生じない光記録媒体であって、第一ギャップ層の厚みの均一性が安定し、第二の基板１の表面を平滑化し、記録層内に生成されるホログラムの大きさを好適に調整することができる光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法が望まれている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１２３９４９号公報
【特許文献２】特開平１１−３１１９３６号公報
【特許文献３】特開２００４−２６５４７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、第一ギャップ層上にフィルタ層などを積層しても、該第一ギャップ層が軟化することなく、積層した該フィルタ層などにしわやひび割れなどの弊害が生じない光記録媒体であって、第一ギャップ層の厚みの均一性が安定した光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、第一の基板と、第二の基板と、第一ギャップ層と、第二ギャップ層と、フィルタ層とを有し、前記第一ギャップ層の組成物の荷重たわみ温度が、７０℃以上の非熱軟化性材料であることを特徴とする光記録媒体である。
該＜１＞に記載の光記録媒体においては、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層と、第一の基板と、第二の基板と、第一ギャップ層と、第二ギャップ層と、フィルタ層とを有し、前記第一ギャップ層の組成物の荷重たわみ温度が、７０℃以上の非熱軟化性材料であるため、前記第一ギャップ層上にフィルタ層などを積層しても、該積層時の熱により、前記第一ギャップ層が軟化することはなく、前記フィルタ層に悪影響を与えることはない。
＜２＞  非熱軟化性材料が、樹脂である前記＜１＞に記載の光記録媒体である。
該＜２＞に記載の光記録媒体においては、前記非熱軟化性材料が樹脂であると、ＪＩＳ  Ｋ７２０７における、４．６ｋｇｆ／ｃｍ２の条件下で、７０℃以上の、耐熱性があるため、前記積層時の熱による軟化が生ずることはない。なお、前記非熱軟化性材料が、無機材料の場合は、前記積層時の熱による軟化は生じにくいが、ＪＩＳ  Ｋ７２０７における、４．６ｋｇｆ／ｃｍ２の条件下に準ずる条件の下で測定した場合に、前記樹脂と同様に７０℃以上の、耐熱性は少なくとも有している。
＜３＞  光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法に用いられる前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
【０００７】
＜４＞  フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層を有する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜５＞  フィルタ層が、顔料及び染料の少なくともいずれかの色材を含有する色材含有層と、該色材含有層上にコレステリック液晶層とを有する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜６＞  色材が、赤色顔料である前記＜４＞から＜５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜７＞  赤色顔料における５３２ｎｍの光に対する透過率が、３３％以下であり、かつ６５５ｎｍの光に対する透過率が、６６％以上である前記＜６＞に記載の光記録媒体である。
＜８＞  フィルタ層が、色材含有層上に誘電体蒸着層を有する前記＜４＞から＜７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜９＞  色材含有層が、バインダー樹脂を含有し、該バインダー樹脂がポリビニルアルコール樹脂である前記＜４＞から＜８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１０＞  色材含有層表面が、ラビング処理されている前記＜４＞から＜９＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１１＞  フィルタ層が、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層した誘電体蒸着層を有する前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１２＞  誘電体蒸着層が、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層した前記＜１１＞に記載の光記録媒体である。
＜１３＞  誘電体蒸着層が、誘電体薄膜を２〜２０層積層した前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１４＞  フィルタ層が、単層のコレステリック液晶層を有する前記＜１＞から＜１３いずれかに記載の光記録媒体である。
＜１５＞  フィルタ層が、コレステリック液晶層を２層以上積層した積層体である前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
該＜１５＞に記載の光記録媒体においては、コレステリック液晶層を２層以上積層しており、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、記録又は再生時に用いられる情報光及び参照光、更に再生光は、反射膜に到達しないので、反射面上での乱反射による拡散光が発生することを防ぐことができる。従って、この拡散光によって生じるノイズが再生像に重畳されてＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ上で検出されることもなく、再生像が少なくともエラー訂正可能な程度に検出することができるようになる。拡散光によるノイズ成分はホログラムの多重度が大きくなればなるほど大きな問題となる。つまり、多重度が大きくなればなるほど、例えば多重度が１０以上になると、１つのホログラムからの回折効率が極めて小さくなり、拡散ノイズがあると再生像の検出が非常に困難となるのである。この構成によれば、このような困難性は除去することができ、今までにない高密度画像記録が実現できる。
＜１６＞  コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が連続的である前記＜１４＞から＜１５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１７＞  フィルタが、単層のコレステリック液晶層を有し、該コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する前記＜１＞から＜１６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１８＞  コレステリック液晶層が、円偏光分離特性を有する前記＜１４＞から＜１７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜１９＞  コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに同じである前記＜１４＞から＜１８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２０＞  コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なる前記＜１４＞から＜１９＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２１＞  コレステリック液晶層における選択反射波長帯域幅が１００ｎｍ以上である前記＜１４＞から＜２０＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２２＞  フィルタ層が、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射する前記＜１＞から＜２１＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２３＞  第一の波長の光が、３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の波長の光が６００〜９００ｎｍである前記＜２２＞に記載の光記録媒体である。
＜２４＞  フィルタ層内の±４０°以内の光における６５５ｎｍでの光透過率が、５０％以上であり、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上である前記＜１＞から＜２３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２５＞  フィルタ層が、入射角度±４０°における６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上であり、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上である前記＜１＞から＜２４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２６＞  フィルタ層のλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上である前記＜１＞から＜２５＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２７＞  フィルタ層のλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が、４０％以上である前記＜１＞から＜２６＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２８＞  フィルタ層が、ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる前記＜１＞から＜２７＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜２９＞  フィルタ層が、光反応型カイラル化合物を有し、該光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位がイソソルビド化合物、イソマンニド化合物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも１種である前記＜１＞から＜２８＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３０＞  光反応性基が、光照射により炭素−炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を生じる基である前記＜２９＞に記載の光記録媒体である。
＜３１＞  基板が、サーボピットパターンを有する前記＜１＞から＜３０＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３２＞  サーボピットパターン表面に反射膜を有する前記＜３１＞に記載の光記録媒体である。
＜３３＞  反射膜が、金属反射膜である前記＜３２＞に記載の光記録媒体である。
＜３４＞  フィルタ層と反射膜との間に、第二の基板表面を平滑化するための第一ギャップ層を有する前記＜１＞から＜３３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜３５＞  記録層とフィルタ層との間に、第二ギャップ層を有する前記＜１＞から＜３４＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
【０００８】
＜３６＞  前記＜１＞から＜３５＞のいずれかに記載の光記録媒体に対する情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸となるようにして行われることを特徴とする光記録方法である。
【０００９】
＜３７＞  少なくとも前記＜１＞から＜３５＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法であって、記録層形成工程と、第一ギャップ層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
＜３８＞  第一ギャップ層形成工程が、非熱軟化性材料をスピン塗布することにより第一ギャップ層を形成する前記＜３７＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
＜３９＞  第一ギャップ層形成工程が、非熱軟化性シートを貼り付けることにより第一ギャップ層を形成する前記＜３７＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
＜４０＞  第一ギャップ層形成工程が、無機材料を蒸着及びスパッタリングの少なくともいずれかにより第一ギャップ層を形成する前記＜３７＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
＜４１＞  光記録媒体におけるフィルタ層からなる光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板と貼り合わせてフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含む前記＜３７＞から＜４０＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
＜４２＞  第二の基板上に、コレステリック液晶層を２層以上積層した積層体からなるフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含む前記＜３７＞から＜４１＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
【００１０】
＜４３＞  前記＜３６＞に記載の光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光と同じ再生光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することを特徴とする光記録再生方法である。
＜４４＞  再生光が、光記録媒体の記録に用いられた参照光と同じ角度になるようにして、該再生光を干渉像に照射して記録情報を再生する前記＜４３＞に記載の光記録再生方法である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によると、従来における諸問題を解決でき、第一ギャップ層上にフィルタ層などを積層しても、該第一ギャップ層が軟化することなく、積層した該フィルタ層などにしわやひび割れなどの弊害が生じない光記録媒体であって、第一ギャップ層の厚みの均一性が安定した光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく製造することができる光記録媒体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
（光記録媒体）
本発明の光記録媒体は、第一の基板と、記録層と、第二ギャップ層と、フィルタ層と、第一ギャップ層と、第二の基板とを有し、必要に応じて適宜選択したその他の層を有する光記録媒体である。本発明の光記録媒体は、前記第一ギャップ層の組成物が、非熱軟化性材料であることが特徴である。また、本発明の光記録媒体は、前記情報光及び参照光の照射が、該情報光の光軸と該参照光の光軸とが同軸になるようにして行われる光記録方法（コリニア方式）に用いられる。
【００１３】
＜第一ギャップ層＞
前記第一ギャップ層は、前記サーボ基板の表面を平滑化する目的で形成され、サーボ信号光の焦点とホログラム信号光の焦点をずらすことによって、ホログラム信号光のＳ／Ｎ比を上げるというメカニズムにより、前記記録層内に生成されるホログラムの大きさを調整するのにも有効である。
前記第一ギャップ層の材料は、該第一ギャップ層上にフィルタ層などを積層しても、積層時の熱により該第一ギャップ層が軟化することはなく、該フィルタ層にしわやクラックが発生することのない耐熱性の面で安定した材料であることが好ましく、非熱軟化性材料であることが好ましい。
【００１４】
−非熱軟化性材料−
前記非熱軟化性材料としては、ＪＩＳ  Ｋ７２０７における荷重たわみ温度が、４．６ｋｇｆ／ｃｍ２の条件下で、７０℃以上であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機材料でもよく、無機材料でもよい。
前記非熱軟化性材料が、無機材料の場合は、前記積層時の熱による軟化は生じにくいが、ＪＩＳ  Ｋ７２０７における、４．６ｋｇｆ／ｃｍ２の条件に準ずる条件の下で測定した場合に、前記樹脂と同様に７０℃以上の、耐熱性は少なくとも有する。
前記ＪＩＳ  Ｋ７２０７に準ずる条件としては、例えば、大きさ、１２７ｍｍ×１２．７ｍｍ、厚み０．１ｍｍの加重たわみ温度が十分に低いフィルム材料に無機材料を蒸着などにより成膜したものを用いて、試験片を作製し、樹脂と同一の４．６ｋｇｆ／ｃｍ２の条件の下、昇温速度２℃／分により測定することができる。
【００１５】
前記有機材料としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロースなどのアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルポルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート系樹脂及びアクリル系樹脂が好ましい。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１６】
前記無機材料としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＮｉＯ、ＳｉＯ、ＴｉＯ、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＭｇＦ２、Ｔｉ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＢａＴｉＯ３などが挙げられる。これらの中でも、屈折率、透明性及び汎用性の観点からＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３などが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１７】
−第一ギャップ層の形成方法−
前記第一ギャップ層の形成方法として、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、サーボ基板上に対して、スピン塗布による方法、非熱軟化性シートを貼付する方法、蒸着、スパッタリング、バーコータ、スリットコータ、プラズマＣＶＤなどが挙げられる。これらの中でも、前記第一ギャップ層を均一に形成でき、膜厚のコントロールが容易であるできる観点からスピン塗布による方法、非熱軟化性シートを貼付する方法、蒸着、スパッタリングがより好ましい。
【００１８】
−−スピン塗布−−
前記スピン塗布は、材料を溶媒に溶解させた塗布液を、高速で回転する基板上に滴下し、回転の遠心力を利用して基板表面に均一に塗布し、その後、熱処理を加えて溶媒の揮発除去と原料の化学反応を行って層として形成する方法である。
前記スピン塗布に用いる塗布装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコータ、スリットコータ、バーコータなどが挙げられる。
【００１９】
前記材料としては、前記非熱軟化性材料における有機材料のうち、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル−ポリメチルメタクリルレート（ＰＭＭＡ）などのような樹脂が、透明性の観点から好ましい。
【００２０】
前記スピン塗布用の塗布液としては、例えば、前記ポリカーボネート（ＰＣ）や、前記ポリメタクリル酸メチル−ポリメチルメタクリルレート（ＰＭＭＡ）にＵＶ硬化材料を添加したものなどが挙げられる。
前記ポリカーボネート（ＰＣ）の場合、溶媒として、メチルエチルケトンを用いて、溶解、分散し調製したものを用いることができる。
前記ポリカーボネート（ＰＣ）にＵＶ硬化材料を添加した塗布液としては、モノマー、オリゴマー、光開始剤及びその他の添加剤などからなる塗布液を調製したものを用いることができる。
前記モノマーとしては、東亞合成製アロニックスＭ−３０９，Ｍ−３１０などが挙げられる。
前記オリゴマーとしては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートなどが挙げられる。
前記光開始剤としては、ＣＩＢＡ製ＩＲＧＡＣＵＲＥシリーズなどが挙げられる。
【００２１】
前記塗布液の塗布領域は、前記サーボ基板におけるサーボピットパターンなどが形成されている側の表面の全面、該表面に反射膜などが形成されている場合には、該反射膜面の全面となる。
【００２２】
前記塗布後は、６０〜１００℃、１０〜６０分間乾燥させて硬化してもよく、波長１００〜４００ｎｍの紫外線を照射し、該紫外線エネルギーを用いて化学変化させ硬化させてもよい。
【００２３】
−−非熱軟化性シート−−
前記非熱軟化性シートは、非熱軟化性材料からなるフィルム状のシートであり、該シートを前記サーボ基板におけるサーボピットパターンなどが形成されている側の表面、該表面に反射膜などが形成されている場合には、該反射膜面に、接着剤などを用いて貼付して前記第一ギャップ層を形成することができる。
【００２４】
前記非熱軟化性シートの材料としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル−ポリメチルメタクリルレート（ＰＭＭＡ）などのような透明樹脂フィルム、又はＪＳＲ社製商品名ＡＲＴＯＮフィルム、日本ゼオン社製商品名ゼオノアのようなリボルネン系樹脂フィルムなどが挙げられる。
これらの中でも、等方性の高いフィルムが好ましく、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、商品名ＡＲＴＯＮフィルム、商品名ゼオノアが特に好ましい。
【００２５】
前記非熱軟化性シートの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５〜２００μｍが好ましく、１０〜１００μｍがより好ましい。
【００２６】
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ接着剤、アクリル接着剤、エポキシ接着剤、ゴム系接着剤などが挙げられる。これらの中でも、透明性、硬化の簡便性の観点からＵＶ接着剤が好ましい。
前記接着条件としては、温度２０〜３０℃、湿度２０〜８０％などが好ましい。
【００２７】
前記非熱軟化性シートの貼付方法としては、前記サーボ基板表面を洗浄、乾燥し、該非熱軟化性シートをラミネーター（型名ＨＡＬＬ１１０ａａ、三共社製）、真空貼り付け装置（芝浦メカトロニクス社製）などを用いて圧着することにより貼付することができる。ラミネーターでの圧着条件は、圧着ロール温度２０〜３０℃、圧着ロール圧力０．１〜１．０ＭＰａ、そして圧着速度０．１〜５．０ｍ／分が好ましい。
【００２８】
−−蒸着−−
前記蒸着の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、真空蒸着、分子線蒸着（ＭＥＢ）、イオンプレーティング、イオンビーム蒸着、電子ビーム蒸着法などが挙げられる。前記真空蒸着は、真空容器の中に蒸発源と被蒸着基板を載置し、通常、１０−２〜１０−４Ｐａ程度の圧力下で成膜する。
前記分子線蒸着（ＭＥＢ）は、ほぼ方向のそろった分子線を用い、蒸発源は抵抗過熱のルツボの蒸気噴出口にオリィフィスを付けたクヌーセンセル（Ｋセル）が用いられ、通常、１０−７〜１０−９Ｐａの超高真空下で、単原子単位で成膜する。前記イオンプレーティングは、種々の方法があるが、例えば、マトックス法では、被蒸着基板に数ｋＶの負電圧を印加し、数Ｐａの圧力下で成膜する方法で、導入されたイオンを高速度で被蒸着基板に衝突させ、該エネルギーで付着させるため付着力の強い膜を得ることができる。前記イオンビーム蒸着は、イオン源で薄膜物質のイオンビームを作り、これを加速して薄膜化する方法で、前記イオンプレーティングの１種でもあり、クラスタイオンビーム蒸着が代表的な方法で結晶性の良好な膜が得られる。
前記蒸発源としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記無機材料の中から、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３が、屈折率、透明性及び汎用性の観点から好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
蒸着領域は、前記サーボ基板におけるサーボピットパターンなどが形成されている側の表面の全面、該表面に反射膜などが形成されている場合には、該反射膜面の全面となる。
【００２９】
−−スパッタリング−−
前記スパッタリングは、１．３×１０−２〜１．３Ｐａの真空中にＡｒガスなどの不活性ガスを導入しながら、被成膜基板とターゲット（成膜させる物質）間に直流高電圧を印加し、グロー放電によりイオン化したＡｒなどを陰極である前記ターゲットに衝突させて、はじき飛ばされた（スパッタリング）前記ターゲット物質を陽極である被成膜基板に成膜させる方法である。また、前記Ａｒガスと共に微量のＯ２、Ｎ２ガスなどの反応性ガスを入れることにより、反応性スパッタリング（ＩＴＯ、ＴｉＮなど）を行うことができる。
前記ターゲットとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記無機材料の中から、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３が、屈折率、透明性及び汎用性の観点から好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記スパッタリング領域は、前記サーボ基板におけるサーボピットパターンなどが形成されている側の表面の全面、該表面に反射膜などが形成されている場合には、該反射膜面の全面となる。
【００３０】
−−第一ギャップ層の厚み−−
前記スピン塗布、乾燥後、前記非熱軟化性シート貼付後、前記蒸着後、前記スパッタリング後の前記第一ギャップ層の各々の場合の厚みは、５〜２００μｍが好ましく、１０〜１００μｍがより好ましい。前記厚みが、５μｍ未満であると、サーボ信号光とホログラム信号光が混合され、ホログラム信号光のＳ／Ｎ比が低下して、エラーレートがアップすることがあり、２００μｍを超えると製造時の第一ギャップ層の形成時間が多くかかったり、ディスク総厚みが厚くなりディスク重量が大きくなることがある。
【００３１】
＜第二ギャップ層＞
前記第二ギャップ層は、前記記録層と前記フィルタ層との間に形成される。
前記第二ギャップ層は、光記録媒体の多重記録能力の低下を防止する機能がある。即ち、前記情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが前記記録層内に存在するが、このフォーカシングエリアをフォトポリマーで埋めていると、過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こってしまい、多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第二ギャップ層を設けることにより、無反応領域が形成され前記過剰消費を抑制することができ、高多重記録能を維持することができる。
【００３２】
前記第二ギャップ層の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスルホン（ＰＳＦ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリメタクリル酸メチル＝ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のような透明樹脂フィルム、又は、ＪＳＲ社製商品名ＡＲＴＯＮフィルムや日本ゼオン社製商品名ゼオノアのような、ノルボルネン系樹脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも、等方性の高いものが好ましく、ＴＡＣ、ＰＣ、商品名ＡＲＴＯＮ、及び商品名ゼオノアが特に好ましい。
【００３３】
前記第二ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜２００μｍが好ましく、３０〜１００μｍがより好ましい。
前記第二ギャップ層の厚みが、１μｍ未満であると、ホログラム記録時のホログラム記録層の中のモノマーの消費が大きすぎて感度低下や多重度低下を招くことがあり、２００μｍを超えるとホログラム記録時のホログラム記録層の領域が焦点から遠のくため感度低下や多重度低下を招くことがある。
【００３４】
＜第一の基板＞
前記第一の基板は、図３及び図４に示すように、記録層４の表面に積層され、記録層４の表面を保護するとともに、光記録媒体２１の機械的強度メンバーとして作用する支持体でもある。
【００３５】
前記第一の基板としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状平板状、シート状などが挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、前記大きさとしては、前記光記録媒体の大きさ等に応じて適宜選択することができる。
【００３６】
前記第一の基板の材料としては、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機材料及び有機材料のいずれをも好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ乳酸系樹脂、プラスチックフィルムラミネート紙、合成紙などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、成形性、剥離性、コストの点から、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
【００３７】
前記第一の基板としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記第一の基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、５〜１２００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。前記支持体厚みが、５μｍ未満であると、記録層を保護する役割が低下することがあり、１２００μｍを超えると、ディスク表面から記録層、ピットが形成された層までの距離が遠くなり、記録再生の光の焦点距離が長すぎることがある。
【００３８】
＜第二の基板＞
前記第二の基板は、前記第一の基板と対向配置され、最外層に位置し、光記録媒体へ記録するための前記情報光及び参照光の照射位置に関する情報が形成されるとともに、前記光記録媒体の機械的強度メンバーとして作用する支持体としての機能を有する。
【００３９】
前記第二の基板は、その形状、構造、大きさ等については、目的に応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状などが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる形状のものを選定する必要があるが、前記第一の基板と外形状が同形状であることが好ましい。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記第二の基板の材料としては、通常、ガラス、セラミックス、樹脂、などが用いられるが、成形性、コストの点から、樹脂が特に好適である。
前記樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂、などが挙げられる。これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂が特に好ましい。
前記第二の基板としては、前記第一の基板と同様に、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
【００４０】
前記第二の基板における光照射位置に関する情報としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トラッキング情報、フォーカス情報、アドレス情報、ディスク条件情報などが挙げられる。
前記トラッキング情報は、例えば、ウォブルピット、ウォブルグルーブ、トラッキングピットなどが挙げられる。
前記フォーカス情報は、例えば、該第二の基板表面に形成した反射膜、フォーカス用ミラー部分、フォーカス用ピットなどが挙げられる。
アドレス情報は、例えば、前記ウォブルピット上に形成した凹凸、エンコードしたピット列、ウォブル変調信号などが挙げられる。
前記各情報を複合的に形成してもよい。例えば、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス−サーボエリアを所定の角度間隔で設け、隣り合うアドレス−サーボエリア間の扇形の区間をデータエリアとしてもよい。該アドレス−サーボエリアには、サンプルドサーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス情報とが、予めエンボスピット（サーボピット）等によってサーボピットパターンを記録することにより形成してもよい（プリフォーマット）。
なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くてもよい。
【００４１】
前記第二の基板の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５ｍｍが好ましく、０．３〜２ｍｍがより好ましい。前記第二の基板の厚みが、０．１ｍｍ未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、５ｍｍを超えると、ディスク全体の重量が大きくなってドライブモーターに過剰な負荷をかけることがある。
【００４２】
前記第二の基板における前記サーボピットパターンの表面に前記反射膜を形成してもよい。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高い反射率を有する材料を用いることが好ましい。使用する光の波長が４００〜７８０ｎｍである場合には、例えば、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が６５０ｎｍ以上である場合には、Ａｌ、Ａｌ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ａｕ、Ｃｕ合金、ＴｉＮ、などを使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な光記録媒体、例えば、ＤＶＤ（ディジタル  ビデオ  ディスク）などを用い、ホログラムをどのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えずに追記及び書き換えすることも可能となる。
【００４３】
前記反射膜の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、各種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みとしては、十分な反射率を実現し得るように、５０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましい。
【００４４】
＜記録層＞
前記記録層は、ホログラフィを利用して情報が記録され得る層であり、所定の波長の電磁波（γ線、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外線、電波など）を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変化する材料が用いられる。
【００４５】
前記記録層の材料はフォトポリマー及び必要に応じて適宜選択したその他の成分が含まれる。
【００４６】
−フォトポリマー−
前記フォトポリマーとしては、光照射で重合反応が起こり高分子化するものや光照射で分解するものなどが挙げられ、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤、オリゴマー、バインダー等のその他の成分を含有してなる。
【００４７】
前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」（工業調査会、１９８９年）、「フォトポリマーテクノロジー」（日刊工業新聞社、１９８９年）、ＳＰＩＥ予稿集  Ｖｏｌ．３０１０  ｐ３５４−３７２（１９９７）、及びＳＰＩＥ予稿集
Ｖｏｌ．３２９１  ｐ８９−１０３（１９９８）に記載されているものなどが挙げられる。また、米国特許第５，７５９，７２１号明細書、同第４，９４２，１１２号明細書、同第４，９５９，２８４号明細書、同第６，２２１，５３６号明細書、米国特許第６，７４３，５５２号明細書、国際公開第９７／４４７１４号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、同第９９／２６１１２号パンフレット、同第９７／１３１８３号パンフレット、特許第２８８０３４２号公報、同第２８７３１２６号公報、同第２８４９０２１号公報、同第３０５７０８２号公報、同第３１６１２３０号公報、特開２００１−３１６４１６号公報、特開２０００−２７５８５９号公報などに記載されているフォトポリマーなどが挙げられる。
【００４８】
−モノマー−
前記モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル基やメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマー、エポキシ環やオキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノマーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であってもよい。また、光架橋反応を利用したものであってもよい。
【００４９】
前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アクリロイルモルホリン、フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールＰＯ変性ジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、２−ナフト−１−オキシエチルアクリレート、２−カルバゾイル−９−イルエチルアクリレート、（トリメチルシリルオキシ）ジメチルシリルプロピルアクリレート、ビニル−１−ナフトエート、Ｎ−ビニルカルバゾール、２，４，６−トリブロムフェニルアクリレート、ペンタブロムアクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどが挙げられる。
【００５０】
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフェノールＡエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサングリシジルエーテル、ビニルトリメトキシシラン、４−ビニルフェニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式（Ｍ１）〜（Ｍ６）で表される化合物などが挙げられる。これらのモノマーは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５１】
【化１】
2007072192.tif 000003
【００５２】
−光開始剤−
前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなく、光照射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げられる。
前記光開始剤としては、例えば、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，１’−ビイミダゾール、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシフェニルビニル）−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ジ−ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、４−ジエチルアミノフェニルベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゾイン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−２−オン、ベンゾフェノン、チオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルアシルホスフィンオキシド、トリフェニルブチルボレートテトラエチルアンモニウム、ビス（η−５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）、ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）フェニルチタニウム〕、ジフェニル−４−フェニルチオフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併用してもよい。
【００５３】
−増感色素−
前記増感色素としては、「Ｒｅｓｅａｒｃｈ  Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ，Ｖｏｌ．２００，１９８０年１２月、Ｉｔｅｍ  ２００３６」や「増感剤」（ｐ．１６０〜ｐ．１６３、講談社；徳丸克己、大河原信／編、１９８７年）等に記載された公知の化合物を使用することができる。
【００５４】
前記増感色素として、分光増感色素などが挙げられる。該分光増感色素として、例えば、特開昭５８−１５６０３号公報に記載の３−ケトクマリン化合物、特開昭５８−４０３０２号公報に記載のチオピリリウム塩、特公昭５９−２８３２８号公報、同６０−５３３００号公報に記載のナフトチアゾールメロシアニン化合物、特公昭６１−９６２１号公報、同６２−３８４２号公報、特開昭５９−８９３０３号公報、同６０−６０１０４号公報に記載のメロシアニン化合物などが挙げられる。
また、「機能性色素の化学」（１９８１年、ＣＭＣ出版社、ｐ．３９３〜ｐ．４１６）や「色材」（６０〔４〕２１２−２２４（１９８７））等に記載された色素も挙げることができ、具体的には、カチオン性メチン色素、カチオン性カルボニウム色素、カチオン性キノンイミン色素、カチオン性インドリン色素、カチオン性スチリル色素が挙げられる。
さらに、クマリン（ケトクマリンまたはスルホノクマリンも含まれる。）色素、メロスチリル色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等のケト色素；非ケトポリメチン色素、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、アントラセン色素、ローダミン色素、アクリジン色素、アニリン色素、アゾ色素等の非ケト色素；アゾメチン色素、シアニン色素、カルボシアニン色素、ジカルボシアニン色素、トリカルボシアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素等の非ケトポリメチン色素；アジン色素、オキサジン色素、チアジン色素、キノリン色素、チアゾール色素等のキノンイミン色素等も分光増感色素に含まれる。
前記分光増感色素は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５５】
−バインダー樹脂−
前記バインダー樹脂は、塗膜性、膜強度、及びホログラム記録特性向上の効果を高める目的で使用されるものであり、ホログラム材料および光熱変換物質との相溶性を考慮して適宜選択される。前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができる。例えば、ポリビニルアルコール樹脂、ゼラチン、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体；塩化ビニル、酢酸ビニルとビニルアルコール、マレイン酸及びアクリル酸の少なくともいずれかとの共重合体；塩化ビニル／塩化ビニリデン共重合体；塩化ビニル／アクリロニロリル共重合体；エチレン／酢酸ビニル共重合体；ニトロセルロース樹脂等のセルロース誘導体；ポリアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ノボラック樹脂、可溶性ナイロン、ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、フォルマリン樹脂などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、分散性及び耐久性を更に高めるため、以上に挙げたバインダー樹脂分子中に、極性基（エポキシ基、ＣＯ２Ｈ、ＯＨ、ＮＨ２、ＳＯ３Ｍ、ＯＳＯ３Ｍ、ＰＯ３Ｍ２、ＯＰＯ３Ｍ２（ただし、Ｍは水素原子、アルカリ金属、又はアンモニウムであり、一つの基の中に複数のＭがあるときは互いに異なっていてもよい）を導入したものが好ましい。該極性基の含有量としては、バインダー樹脂１グラム当り１０−６〜１０−４当量が好ましい。以上列挙したバインダー樹脂は、ヘミアセタール系やイソシアネート系の公知の架橋剤を添加して硬化処理しても良い。
【００５６】
前記記録層の固形分中のバインダーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１０〜９５質量％であることが好ましく、３５〜９０質量％であれることがより好ましい。前記含有量が、１０質量％未満であると、安定な干渉像が得られないことがあり、９５質量％を超えると、回折効率の点で望ましい性能が得られないことがある。
前記バインダーの感光層中における含有量は、全感光層固形分中、１０〜９５重量％が好ましく、３５〜９０重量％がより好ましい。
【００５７】
−重合禁止剤及び酸化防止剤−
前記記録層の貯蔵安定性を改良する目的でフォトポリマーの重合禁止剤や酸化防止剤を加えてもよい。重合禁止剤、酸化防止剤としては例えば、ハイドロキノン、ｐ−ベンゾキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、２，６−ジターシヤリ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ターシヤリ−ブチルフェノール）、トリフェルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト，フェノチアジン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミンなどが挙げられる。使用量としては組成物に使用するモノマーの全量に対して３重量％以内であり、３重量％を越えると重合が遅くなるか、著しい場合は重合しなくなる。
【００５８】
−記録層に含まれるその他の成分−
前記記録層の感度を向上させる目的で光熱変換材料を含有させることもできる。光熱変換材料としては、特願２００５−８４７８０号明細書の記載を参考にすることができる。
また、重合時の体積変化を緩和するため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよく、あるいは、酸開裂構造を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。
【００５９】
＜フィルタ層＞
前記フィルタ層は、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する機能がある。前記光記録媒体に前記フィルタ層を積層することにより、高解像度、回折効率の優れた光記録が得られる。
前記光記録媒体用フィルタの機能は、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射することが好ましく、前記第一の波長の光が３５０〜６００ｎｍであり、かつ第二の波長の光が６００〜９００ｎｍであることが好ましい。そのためには、光学系側から見て、記録層、フィルタ層、及びサーボビットパターンの順に積層されている構造の光記録媒体であることが好ましい。
また、前記フィルタ層は、入射角度±４０°における、６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上であり、８０％以上が好ましく、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上であり、４０％以上が好ましい。
前記フィルタ層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、誘電体蒸着層、単層又は２層以上のコレステリック層、更に必要に応じてその他の層の積層体により形成される。また色材含有層を有していてもよい。
前記フィルタ層は、直接記録層など共に、前記支持体上に塗布などにより積層してもよく、フィルムなどの基材上に積層して光記録媒体用フィルタを作製し、該光記録媒体用フィルタを、支持体上に積層してもよい。
【００６０】
−誘電体蒸着層−
前記誘電体蒸着層は、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数層積層してなり、波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層することが好ましいが、２種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。また色材含有層を設ける場合は、誘電体蒸着層の下に形成する。
前記積層数は、２〜２０層が好ましく、２〜１２層がより好ましく、４〜１０層が更に好ましく、６〜８層が特に好ましい。前記積層数が、２０層を超えると、多層蒸着により生産効率性が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
【００６１】
前記誘電体薄膜の積層順については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、隣接する膜の屈折率が高い場合にはそれより低い屈折率の膜を最初に積層する。その逆に隣接する層の屈折率が低い場合にはそれより高い屈折率の膜を最初に積層する。前記屈折率が高いか低いかを決めるしきい値としては１．８が好ましい。なお、屈折率が高いか低いかは絶対的なものではなく、高屈折率の材料の中でも、相対的に屈折率の大きいものと小さいものとが存在してもよく、これらを交互に使用してもよい。
【００６２】
前記高屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｓｂ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｄ２Ｏ３、Ｐｒ６Ｏ１１、Ｓｃ２Ｏ３、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＴｌＣｌ、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２などが挙げられる。これらの中でも、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＣｅＦ３、ＨｆＯ２、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２が好ましく、これらの中でも、ＳｉＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＺｒＯ２がより好ましい。
【００６３】
前記低屈折率の誘電体薄膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＬａＦ３、ＰｂＣｌ２、ＰｂＦ２、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＮｄＦ３、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３、ＮａＦ、ＴｈＯ２、ＴｈＦ４などが挙げられる。これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＢｉＦ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３が好ましく、これらの中でも、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＦ２、ＭｇＦ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｏ３がより好ましい。
なお、前記誘電体薄膜の材料においては、原子比についても特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、成膜時に雰囲気ガス濃度を変えることにより、原子比を調整することができる。
【００６４】
前記誘電体薄膜の成膜方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティング、イオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）などが挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法、スパッタリングが好ましく、スパッタリングがより好ましい。
前記スパッタリングとしては、成膜レートの高いＤＣスパッタリング法が好ましい。なお、ＤＣスパッタリング法においては、導電性が高い材料を用いることが好ましい。
また、前記スパッタリングにより多層成膜する方法としては、例えば、（１）１つのチャンバで複数のターゲットから交互又は順番に成膜する１チャンバ法、（２）複数のチャンバで連続的に成膜するマルチチャンバ法とがある。これらの中でも、生産性及び材料コンタミネーションを防ぐ観点から、マルチチャンバ法が特に好ましい。
前記誘電体薄膜の膜厚としては、光学波長オーダーで、λ／１６〜λの膜厚が好ましく、λ／８〜３λ／４がより好ましく、λ／６〜３λ／８が特に好ましい。
【００６５】
−コレステリック液晶層−
前記コレステリック液晶層は、少なくとも、コレステロール誘導体、又はネマチック液晶化合物及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
前記コレステリック液晶層は、単層コレステリック液晶層及び２層以上の複数層コレステリック液晶層のいずれであってもよい。
【００６６】
前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向（右回り又は左回り）と円偏光方向とが一致し、波長が液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成分の光だけを反射する波長選択反射特性を有する。このコレステリック液晶層の波長選択反射特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から特定波長の円偏光のみを透過分離し、その残りを反射する。
【００６７】
前記光記録媒体用フィルタは、垂直入射を０°とし±２０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ２０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが好ましく、垂直入射を０°とし±４０°の範囲であるλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であることが特に好ましい。前記λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上であれば、照射光反射の角度依存性を解消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。このためにはコレステリック液晶層の選択反射波長幅が大きいことが好ましい。
具体的には、（１）単層コレステリック液晶層の場合には、コレステリック液晶層の選択反射波長領域幅Δλは、下記数式１で表されことから、（ｎｅ−ｎｏ）の大きな液晶を用いることが好ましい。
＜数式１＞
Δλ＝２λ（ｎｅ−ｎｏ）／（ｎｅ＋ｎｏ）
ただし、前記数式１中、ｎｏは、コレステリック液晶層に含有されるネマチック液晶分子の正常光に対する屈折率を表す。ｎｅは、該ネマチック液晶分子の異常光に対する屈折率を表す。λは、選択反射の中心波長を表す。
また、特願２００４−３５２０８１号明細書記載のように、カイラル化合物として感光性を有し、光によって液晶の螺旋ピッチを大きく変化させることができる光反応型カイラル化合物を用い、該光反応型カイラル化合物の含有量やＵＶ照射時間を調整することにより、螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に連続的に変化した光記録媒体用フィルタを用いることが好ましい。
【００６８】
また、（２）複数層コレステリック液晶層の場合には、選択反射中心波長が互いに異なり、前記各コレステリック液晶層の螺旋の回転方向が互いに同じであるコレステリック液晶層を積層することが好ましい。
前記コレステリック液晶層は、上記特性を満たせば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、上述したように、ネマチック液晶化合物、及びカイラル化合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分を含有してなる。
【００６９】
−ネマチック液晶化合物−
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定化することを特徴とし、その屈折率異方性Δｎが、０．１０〜０．４０の液晶化合物、高分子液晶化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基板を用いるなどにより配向させ、そのまま冷却等して固定化させることにより固相として使用することができる。
【００７０】
前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、十分な硬化性を確保する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましく、これらの中でも、紫外線（ＵＶ）重合性液晶が好適である。該ＵＶ重合性液晶としては、市販品を用いることができ、例えば、ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２；Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｅ７；Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社製の商品名ＬＣ−Ｓｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７；高砂香料株式会社製の商品名Ｌ３５、Ｌ４２、Ｌ５５、Ｌ５９、Ｌ６３、Ｌ７９、Ｌ８３などが挙げられる。
【００７１】
前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し３０〜９９質量％が好ましく、５０〜９９質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある。
【００７２】
−カイラル化合物−
前記カイラル化合物としては、（２）複数層コレステリック液晶層の場合には、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、液晶化合物の色相、色純度改良の観点から、例えば、イソマンニド化合物、カテキン化合物、イソソルビド化合物、フェンコン化合物、カルボン化合物、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、前記カイラル化合物としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名Ｓ１０１、Ｒ８１１、ＣＢ１５；ＢＡＳＦ社製の商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６などが挙げられる。
【００７３】
前記（２）複数層コレステリック液晶層の各液晶層におけるカイラル化合物の含有量としては、前記各コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜３０質量％が好ましく、０〜２０質量％がより好ましい。前記含有量が３０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００７４】
−重合性モノマー−
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射による液晶の捻れ力を変化（パターンニング）させた後（例えば、選択反射波長の分布を形成した後）、その螺旋構造（選択反射性）を固定化し、固定化後のコレステリック液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマーなどが挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モノマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記重合性モノマーの添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０〜５０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。前記添加量が５０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
【００７５】
−その他の成分−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合開始剤、増感剤、バインダー樹脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤などが挙げられる。
【００７６】
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシフェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、アシルホスフィン誘導体、チオキサントン／アミンなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例えば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア７８４、イルガキュア８１４；ＢＡＳＦ社製の商品名ルシリンＴＰＯなどが挙げられる。
【００７７】
前記光重合開始剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量が０．１質量％未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、２０質量％を超えると、紫外線領域から可視光領域での光透過率が劣ることがある。
【００７８】
前記増感剤は、必要に応じて、コレステリック液晶層の硬化度を上げるために添加される。
前記増感剤としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
前記増感剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に対し０．００１〜１．０質量％が好ましい。
【００７９】
前記バインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール；ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレン化合物；メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース等のセルロース樹脂；側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体；ポリビニルフォルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体；アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー；その他の水酸基を有するポリマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル酸のホモポリマー）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーの多元共重合体などが挙げられる。
【００８０】
前記バインダー樹脂の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形質量に対し０〜８０質量％が好ましく、０〜５０質量％がより好ましい。前記添加量が８０質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
【００８１】
前記重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノン、又はこれらの誘導体などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し０〜１０質量％が好ましく、１００ｐｐｍ〜１質量％がより好ましい。
【００８２】
前記溶媒としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３−メトキシプロピオン酸メチルエステル、３−メトキシプロピオン酸エチルエステル、３−メトキシプロピオン酸プロピルエステル、３−エトキシプロピオン酸メチルエステル、３−エトキシプロピオン酸エチルエステル、３−エトキシプロピオン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類；２−メトキシプロピルアセテート、２−エトキシプロピルアセテート、３−メトキシブチルアセテート等のアルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸エステル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００８３】
前記コレステリック液晶層の形成方法としては、例えば、前記溶媒を用いて調製したコレステリック液晶層用塗布液（複数層の場合には各コレステリック液晶層用塗布液）を前記基材上に塗布し、乾燥させて、例えば紫外線照射することにより、コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のよい手法としては、前記基材をロール状に巻いた形で準備しておき、該基材上にコレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコート、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
【００８４】
前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、照射紫外線は、１６０〜３８０ｎｍが好ましく、２５０〜３８０ｎｍがより好ましい。照射時間としては、例えば、０．１〜６００秒が好ましく、０．３〜３００秒がより好ましい。紫外線照射の条件を調整することによって前記反応性カイラル剤を用いた光コレステリック液晶層における螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に沿って連続的に変化させることができる。
【００８５】
前記紫外線照射の条件を調整するために、前記コレステリック液晶層に紫外線吸収剤を添加することもできる。該紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤などが好適に挙げられる。これらの紫外線吸収剤の具体例としては、特開昭４７−１０５３７号公報、同５８−１１１９４２号公報、同５８−２１２８４４号公報、同５９−１９９４５号公報、同５９−４６６４６号公報、同５９−１０９０５５号公報、同６３−５３５４４号公報、特公昭３６−１０４６６号公報、同４２−２６１８７号公報、同４８−３０４９２号公報、同４８−３１２５５号公報、同４８−４１５７２号公報、同４８−５４９６５号公報、同５０−１０７２６号公報、米国特許第２，７１９，０８６号明細書、同第３，７０７，３７５号明細書、同第３，７５４，９１９号明細書、同第４，２２０，７１１号明細書などに記載されている。
【００８６】
前記複数層の場合には各コレステリック液晶層の厚みは、例えば、１〜１０μｍが好ましく、２〜７μｍがより好ましい。前記厚みが１μｍ未満であると、選択反射率が十分でなくなり、１０μｍを超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
また、各コレステリック液晶層の合計厚み（単層の場合にはコレステリック液晶層の厚み）は、例えば、１〜３０μｍが好ましく、３〜１０μｍがより好ましい。
【００８７】
＜コレステリック層を有する光記録媒体用フィルタの製造方法＞
前記光記録媒体用フィルタの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光記録媒体用フィルタは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、基材ごとディスク形状に加工（例えば、打ち抜き加工）されて、光記録媒体の第二の基板上に配置されるのが好ましい。また、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には、基材を介さず直接第二の基板上に設けることもできる。
【００８８】
−基材−
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記第一の形態に用いられた支持体と同じ材料を用いることができる。
【００８９】
前記基材としては、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１０〜５００μｍが好ましく、５０〜３００μｍがより好ましい。前記基材の厚みが、１０μｍ未満であると、基板の撓みにより密着性が低下することがある。一方、５００μｍを超えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイズが大きくなってしまう。波長選択膜の貼り合わせには、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。
【００９０】
なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。
【００９１】
（光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、組成物調製工程と、記録層積層工程と、フィルタ層形成工程と、第一ギャップ層形成工程と、積層体形成工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
【００９２】
＜組成物調製工程＞
前記組成物調製工程は、光記録用組成物を調製する工程であり、モノマー、光開始剤、増感剤、オリゴマー及びバインダーなどからなるフォトポリマー及び必要に応じて適宜選択したその他の成分を含む光記録用組成物を、溶剤により、溶解、分散、混合などにより調製する。前記調製の条件としては、例えば、温度２３℃、湿度１０％、低湿度乾燥の環境で行われる。
【００９３】
＜記録層積層工程＞
前記記録層積層工程は、前記フィルタ層上、又は該フィルタ層上に第二ギャップ層が積層されている場合は、該第二ギャップ層上に、ホログラフィにより情報を記録する記録層を積層する工程であり、前記組成物調製工程において調製された光記録用組成物を塗工などにより積層する工程である。
前記記録層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、湿式成膜法による積層方法などが挙げられる。前記湿式成膜法は、前記記録層材料を溶剤に溶解乃至分散させた溶液（塗布液）を用いる（塗布し乾燥する）ことにより形成する方法であり、該湿式成膜法としては、特に制限はなく、目的に応じて公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダーコート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法などが挙げられる。
【００９４】
前記記録層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１〜１，０００μｍが好ましく、１００〜７００μｍがより好ましい。
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、１０〜３００多重のシフト多重を行っても十分なＳ／Ｎ比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそれが顕著である点で有利である。
【００９５】
＜フィルタ層形成工程＞
前記フィルタ層形成工程は、本発明の前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記第二の基板に貼り合わせてフィルタ層を形成する工程である。ここで、前記光記録媒体用フィルタの製造方法については、上述した通りである。なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。例えば、基板上に色材含有層用塗布液を塗布して色材含有層を形成し、該色材含有層上にスパッタリング法により誘電体蒸着膜を形成する方法などが挙げられる。
前記光記録媒体形状としては、ディスク形状、カード形状、などが挙げられ、前記加工としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、プレスカッターによる切り出し加工、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、などが挙げられる。前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないようにフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＵＶ硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げられ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。
前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。また、粘着剤の場合、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましい。
【００９６】
＜第一ギャップ層形成工程＞
前記第一ギャップ層形成工程は、前記第二の基板と前記フィルタ層との間に、第一ギャップ層を形成する工程である。該第一ギャップ層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第二の基板上に対して、前記スピン塗布による方法、前記非熱軟化性シートを貼付する方法、前記蒸着及び前記スパッタリングなどが挙げられる。
【００９７】
＜積層体形成工程＞
前記積層体形成工程は、前記記録層積層工程、前記フィルタ層形成工程及び前記第一ギャップ層形成工程により、前記記録層、前記フィルタ層及び第一ギャップ層が形成された第二の基板と、前記第一の基板とを貼り合わせて積層体を形成し、必要に応じて適宜選択したその他の工程を含む工程である。
前記貼り合わせ方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記第一の基板と前記第二の基板と必要に応じて適宜選択したその他の層とを、接着剤で接着する方法、接着剤を用いず圧着する方法、真空中で貼り合わせる方法などが挙げられる。
前記接着剤で接着する方法は、前記第一の基板と、前記第二の基板と、必要に応じて適宜選択したその他の層とを、外周を合致させ、各層間に接着剤を塗布し、外側から０．００１〜０．５ＭＰａの圧力をかけて、２３〜１００℃で接着する。
該接着の際に気泡が無く密着させるためには、真空中で貼りあわせることが好ましい。
【００９８】
−接着剤−
前記接着剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤、ゴム系接着剤などが挙げられる。
これらの中でも、透明性の観点から、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤がより好ましい。
【００９９】
前記接着剤を用いず圧着する方法は、各層の有する接着性を利用して密着させて積層体を形成することも可能である。前記第一の基板と、前記第二の基板と、必要に応じて適宜選択したその他の層とを、各外周を合致させ、外側から０．００１〜０．５ＭＰａの圧力をかけて、２３〜１００℃で接着する。該密着の際に、気泡が無く密着させるためには、真空中で貼りあわせることが好ましい。
【０１００】
＜その他の工程＞
前記その他の工程としてとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記記録層と前記フィルタ層の間に第二ギャップ層を形成する第二ギャップ層形成工程などが挙げられる。
【０１０１】
（光記録方法及び光再生方法）
前記光記録方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録層に記録するいわゆるコリニア方式による光記録方法である。
前記再生方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光記録方法により記録層に形成された干渉像に参照光と同じ光を照射して該干渉像に対応した記録情報を再生することができる。
【０１０２】
前記光記録方法及び再生方法では、二次元的な強度分布が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す（再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。
ここで、前記光記録方法及び再生方法は、以下に説明する光記録再生装置を用いて行われる。
【０１０３】
前記光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置について図９を参照して説明する。
図９は、前記光記録再生装置の全体構成図である。なお、光記録再生装置は、光記録装置と再生装置を含んでなる。この光記録再生装置１００は、光記録媒体２１が取り付けられるスピンドル８１と、このスピンドル８１を回転させるスピンドルモータ８２と、光記録媒体２１の回転数を所定の値に保つようにスピンドルモータ８２を制御するスピンドルサーボ回路８３とを備えている。
また、光記録再生装置１００は、光記録媒体２１に対して情報光と記録用参照光とを照射して情報を記録すると共に、光記録媒体２１に対して再生用参照光を照射し、再生光を検出して、光記録媒体２１に記録されている情報を再生するためのピックアップ３１と、このピックアップ３１を光記録媒体２１の半径方向に移動可能とする駆動装置８４とを備えている。
【０１０４】
光記録再生装置１００は、ピックアップ３１の出力信号よりフォーカスエラー信号ＦＥ、トラッキングエラー信号ＴＥ、及び再生信号ＲＦを検出するための検出回路８５と、この検出回路８５によって検出されるフォーカスエラー信号ＦＥに基づいて、ピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズ（不図示）を光記録媒体２１の厚み方向に移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路８６と、検出回路８５によって検出されるトラッキングエラー信号ＴＥに基づいてピックアップ３１内のアクチュエータを駆動して対物レンズを光記録媒体２１の半径方向に移動させてトラッキングサーボを行うトラッキングサーボ回路８７と、トラッキングエラー信号ＴＥ及び後述するコントローラからの指令に基づいて駆動装置８４を制御してピックアップ３１を光記録媒体２１の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路８８とを備えている。
【０１０５】
光記録再生装置１００は、更に、ピックアップ３１内の後述するＣＭＯＳ又はＣＣＤアレイの出力データをデコードして、光記録媒体２１のデータエリアに記録されたデータを再生したり、検出回路８５からの再生信号ＲＦより基本クロックを再生したりアドレスを判別したりする信号処理回路８９と、光記録再生装置１００の全体を制御するコントローラ９０と、このコントローラ９０に対して、種々の指示を与える操作部９１とを備えている。
コントローラ９０は、信号処理回路８９より出力される基本クロックやアドレス情報を入力すると共に、ピックアップ３１、スピンドルサーボ回路８３、及びスライドサーボ回路８８等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路８３は、信号処理回路８９より出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ９０は、ＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（リード  オンリ  メモリ）、及びＲＡＭ（ランダム  アクセス  メモリ）を有し、ＣＰＵが、ＲＡＭを作業領域として、ＲＯＭに格納されたプログラムを実行することによって、コントローラ９０の機能を実現するようになっている。
【０１０６】
前記光記録方法及び再生方法に使用される光記録再生装置は、本発明の前記光記録媒体を用い、情報光及び参照光による干渉縞の記録と同時に増感光により光熱変換がなされて増感させるので、高解像度であり回折効率の高い光記録媒体が得られる。
【０１０７】
ここで、本発明の光記録媒体の具体例１及び２について、図面を参照して更に詳しく説明する。なお、前記第二ギャップ層を積層せずに光記録媒体を作製してもよい。
【０１０８】
＜光記録媒体の具体例１＞
図５は、本発明の具体例１における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この具体例１に係る光記録媒体２１では、ポリカーボネート樹脂又はガラスの第二の基板１にサーボピットパターン３が形成され、該サーボピットパターン３上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜２が設けられている。なお、図５では第二の基板１全面にサーボピットパターン３が形成されているが、図１に示すように周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットパターン３の高さは、通常１，７５０Å（１７５ｎｍ）であり、基板を始め他の層の厚さに比べて充分に小さいものである。
【０１０９】
第一ギャップ層８は、紫外線硬化樹脂等の材料を第二の基板１の反射膜２上にスピンコート等により塗布して形成される。第一ギャップ層８は、反射膜２を保護すると共に、記録層４内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、記録層４において記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるため、記録層４とサーボピットパターン３との間にギャップを設けると有効である。
第一ギャップ層８上にはフィルタ層６が設けられ、また、フィルタ層６と記録層４との間に第二ギャップ層７が設けられ、該フィルタ層６と第一の基板５（ポリカーボネート樹脂基板やガラス基板）によって第２のギャップ層及び記録層４を挟むことによって光記録媒体２１が構成される。なお、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが存在するが、このフォーカシングエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり、多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第二ギャップ層７を設けることが有効となる。
【０１１０】
図５において、フィルタ層６は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。従って、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層６を透過せず、反射膜２まで達することなく、戻り光となり、入出射面Ａから出射することになる。
このフィルタ層６は、螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層６ａ、６ｂ、６ｃからなる。このコレステリック液晶層からなるフィルタ層６は、第一ギャップ層８上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上にコレステリック液晶層を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層によって、λ０〜λ０／ｃｏｓ２０°、特にλ０〜λ０／ｃｏｓ４０°（ただし、λ０は照射光波長を表す）における光反射率が４０％以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
【０１１１】
具体例１における光記録媒体２１は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記録媒体２１では、第二の基板１は０．６ｍｍ、第一ギャップ層８は１００μｍ、フィルタ層６は２〜３μｍ、第二ギャップ層７は７０μｍ、記録層４は０．６ｍｍ、第一の基板５は０．６ｍｍの厚みであって、合計厚みは約１．９ｍｍとなっている。
【０１１２】
次に、図８を参照して、光記録媒体２１周辺での光学的動作を説明する。まず、サーボ用レーザから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２１に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２１の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一の基板５、記録層４、第二ギャップ層７、フィルタ層６、及び第一ギャップ層８を通過し、反射膜２で反射され、再度、第一ギャップ層８、フィルタ層６、第二ギャップ層７、記録層４、及び第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
なお、図７に示したλ０〜１．３λ０の反射域は、λ０＝５３２ｎｍのとき１．３λ０＝６９２ｎｍとなり、サーボ光が６５５ｎｍの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示すλ０〜１．３λ０の範囲はフィルタ層における±４０°入射光への適性であるが、実際にそうした大きな斜め光まで使用する場合は、入射角±２０°以内のサーボ光をマスキングして使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタ層におけるコレステリック液晶層の螺旋ピッチを十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を±２０°以内で全て設計することも容易であり、その場合はλ０〜１．１λ０のコレステリック液晶層でよいのでサーボ光透過には全く支障がなくなる。
【０１１３】
また、記録用／再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１２によって情報光と記録用参照光が記録層４内で干渉パターンを生成するように光記録媒体２１に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層４を通過し、フィルタ層６に入射するが、該フィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜２までは到達しない。フィルタ層６は螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した３層のコレステリック液晶層から形成され、赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の２０％以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は２０％×２０％＝４％以下となり、実質的に問題とはならない。
【０１１４】
＜光記録媒体の具体例２＞
図６は、前記具体例２における光記録媒体の構成を示す概略断面図である。この具体例２に係る光記録媒体２２では、フィルタ層６以外は具体例１と同様に構成される。
【０１１５】
図６において、フィルタ層６は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さないものである。従って、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるので、フィルタ層６を透過せず、反射膜２まで達することなく、戻り光となり、入出射面Ａから出射することになる。
このフィルタ層６は、色材含有層上に、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜が７層積層された誘電体蒸着層を形成した積層体である。この色材含有層と誘電体蒸着膜との組み合わせであるフィルタ層６は、第一ギャップ層８上に塗布及び蒸着により直接形成してもよいし、基材上に色材含有層及び誘電体蒸着膜を形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜いて配置してもよい。フィルタ層として色材含有層と誘電体蒸着膜との組み合わせを用いることによって、入射角度±４０°における、６５５ｎｍでの光透過率が５０％以上であり、かつ５３２ｎｍでの光反射率が３０％以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることがなくなる。
【０１１６】
前記具体例２における光記録媒体２２の形状は、ディスク形状でもいいし、カード形状であってもよく、具体例１と同様に形成される。
【０１１７】
次に、図８を参照して、光記録媒体２１と同様に構成された光記録媒体２２周辺での光学的動作を説明する。光記録媒体２２では、光記録媒体２１と同様、まず、サーボ用レーザから出射した光（赤色光）は、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、対物レンズ１２を通過する。対物レンズ１２によってサーボ用光は反射膜２上で焦点を結ぶように光記録媒体２２に対して照射される。つまり、ダイクロイックミラー１３は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ１００％反射させるようになっている。光記録媒体２２の光の入出射面Ａから入射したサーボ用光は、第一の基板５、記録層４、第二ギャップ層７、フィルタ層６、及び第一ギャップ層８を通過し、反射膜２で反射され、再度、第一ギャップ層８、フィルタ層６、第二ギャップ層７、記録層４、及び第一の基板５を透過して入出射面Ａから出射する。出射した戻り光は、対物レンズ１２を通過し、ダイクロイックミラー１３でほぼ１００％反射して、サーボ情報検出器（不図示）でサーボ情報が検出される。検出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に用いられる。具体例１と同様に、記録層４を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層４を通過したり、サーボ用光が反射膜２で乱反射したとしても、記録層４には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜２による戻り光は、ダイクロイックミラー１３によってほぼ１００％反射するようになっているので、サーボ用光が再生像検出のためのＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤ１４で検出されることはなく、再生光に対してノイズとなることもない。
【０１１８】
また、記録用／再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板１６を通過して線偏光となりハーフミラー１７を通過して１／４波長板１５を通った時点で円偏光になる。ダイクロイックミラー１３を透過し、対物レンズ１２によって情報光と記録用参照光が記録層４内で干渉パターンを生成するように光記録媒体２２に照射される。情報光及び記録用参照光は入出射面Ａから入射し、記録層４で干渉し合って干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層４を通過し、フィルタ層６に入射するが、該フィルタ層６の底面までの間に反射されて戻り光となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜２までは到達しない。フィルタ層６は色材含有層と誘電体蒸着膜とを組み合わせており、赤色光のみを透過する性質を有するからである。あるいは、フィルタ層を漏れて通過する光を入射光強度の２０％以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる光強度は２０％×２０％＝４％以下となり、実質的に問題とはならない。
【実施例】
【０１１９】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１２０】
（実施例１）
＜光記録媒体の作製＞
実施例１の光記録媒体は、第一の基板と、記録層と、第二ギャップ層と、フィルタ層と、第一ギャップ層と、第二の基板とをこの順に積層することにより、以下のように作製した。前記フィルタ層は、フィルム状のフィルタを作製して、積層することにより以下のように形成した。
【０１２１】
−記録層用の感光性組成物溶液の組成−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・ジ（ウレタンアクリレート）オリゴマー
（Ｅｃｈｏ  Ｒｅｓｉｎｓ社製、ＡＬＵ−３５１）・・・・・・・・５９質量部
・イソボルニルアクリレート・・・・・・・・・・・・・・・・・３０質量部
・ビニルベンゾエート・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１０質量部
・重合開始剤
（チバスペシャルティケミカルズ社製、イルガキュア７８４）・・・・１質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０１２２】
−フィルタの作製−
まず、ポリカーボネートフィルム（三菱瓦斯化学株式会社製、商品名ユーピロン）厚み１００μｍ上に、ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製、商品名ＭＰ２０３）を厚み１μｍとなるように塗布したベースフィルムを用意する。このベースフィルムをラビング装置に通して、ポリビニルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与することができる。
【０１２３】
次に、下記表１に示す組成のコレステリック液晶層用塗布液Ａ、Ｂ及びＣを常法により調製することができる。
【０１２４】
【表１】
2007072192.tif 000004
＊ＵＶ重合性液晶：ＢＡＳＦ社製、商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ２４２
＊カイラル剤：ＢＡＳＦ社製、商品名ＰＡＬＩＯＣＯＬＯＲ  ＬＣ７５６
＊光重合開始剤：チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名イルガキュア３６９
＊増感剤：ジエチルチオキサントン
＊溶剤：メチルエチルケトン（ＭＥＫ）
【０１２５】
次に、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Ａをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、１１０℃にて２０秒間配向熟成した。その後、１１０℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ２で露光して、厚み２μｍのコレステリック液晶層硬化膜Ａを形成した。
次に、コレステリック液晶層Ａ上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Ｂをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、１１０℃にて２０秒間配向熟成した。その後、１１０℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ２で露光して、厚み２μｍのコレステリック液晶層硬化膜Ｂを形成した。
次に、コレステリック液晶層Ｂ上に、前記コレステリック液晶層用塗布液Ｂをバーコーターで塗布し、乾燥させた後、１１０℃にて２０秒間配向熟成した。その後、１１０℃下で超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／ｃｍ２で露光して、厚み２μｍのコレステリック液晶層硬化膜Ｃを形成した。
以上により、円偏光分離特性を有し、各コレステリック液晶層における選択反射中心波長が互いに異なり、かつ各コレステリック液晶層における螺旋の回転方向が互いに右回り方向で同じである３層構造の実施例１の光記録媒体用フィルタを作製した。
【０１２６】
次に、作製した光記録媒体用フィルタを前記基板に設置できるように所定のディスクサイズに打ち抜いた。
【０１２７】
−第一の基板−
前記第一の基板は、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面は滑らかであり、サーボピットパターンなどの凹凸のないものを用いた。
【０１２８】
−第二の基板−
前記第二の基板としては、直径１２０ｍｍ、板厚０．６ｍｍのＤＶＤ＋ＲＷ用に用いられている一般的なポリカーボネート樹脂製基板を使用した。この基板表面には、全面にわたってサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは０．７４μｍであり、溝深さは１７５ｎｍ、溝幅は３００ｎｍである。
まず、第二の基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜した。反射膜材料にはアルミニウム（Ａｌ）を用いた。成膜はＤＣマグネトロンスパッタリング法により厚み２００ｎｍのＡｌ反射膜を成膜した。
【０１２９】
−第一ギャップ層−
−−第一ギャップ層用塗布液の調製−−
ＳＤ−６４０（大日本インキ製）を使用し溶解、分散して、前記第一ギャップ層用の塗布液を調製した。
【０１３０】
得られた第一ギャップ層用塗布液を、Ａｌ反射膜を成膜した前記第二の基板における反射膜表面に、スピンコーター（型名１Ｈ−Ｂ７、ミカサ社製）により、１５００ｒｐｍ、１５秒間条件の下、スピン塗布し、温度２３℃、１５００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ照射硬化した。硬化厚みは２５μｍであった。これを３回繰り返して総膜厚は７５μｍであった。前記第一ギャップ層の硬化後の組成物としては、ＪＩＳ  Ｋ７２０７における荷重たわみ温度が、４．６ｋｇｆ／ｃｍ２の条件下で、７０℃以上であった。
【０１３１】
−第二ギャップ層−
前記第二ギャップ層として、厚み１００μｍのポリカーボネートフィルムを用いた。
【０１３２】
−積層体の形成−
図３に示すように、第一ギャップ層８がスピン塗布された第二の基板上に、前記フィルタを、隙間に気泡が入らないように、ＵＶ接着剤（型名ＳＤ−６４０、大日本インキ社製）を塗布した後、積層してフィルタ層６を形成し、該フィルタ層６上に、ラミネーター装置（型名ＨＡＬ１１０ａａ、三共社製）により、圧着ロール温度２３℃、圧着ロール圧力０．１ＭＰａ、圧着速度１．０ｍ／分条件の下、第二ギャップ層７を貼付した。更に、該第二ギャップ層７の表面に、得られた記録層用感光性組成物塗布液を、スペーサーを土手とした内側に流し込み、８０℃、４０分で硬化して積層し、厚み５００μｍの記録層４を形成した。該記録層４上に、第一の基板５を配置し、該第一の基板の外側及び前記第二の基板の外側を、０．０８ＭＰａの圧力で、８０℃で、４０分間、加圧し、積層体を形成することにより、図２及び図４に示す光記録媒体２１を作製した。
【０１３３】
−光記録媒体の記録及び評価−
得られた光記録媒体を、パルステック工業株式会社製、コリニアホログラム記録再生試験機ＳＨＯＴ−１０００を用いて、記録ホログラムの焦点位置における記録スポットの大きさ直径２００μｍで一連の多重ホログラムを書き込み、感度（記録エネルギー）、多重数について測定、評価を行った。結果を表２に示す。
【０１３４】
−感度の測定−
記録時の照射光パワー（ｍＪ／ｃｍ２）を変化させ、再生信号のエラー確率（ＢＥＲ：Ｂｉｔ  Ｅｒｒｏｒ  Ｒａｔｅ）の変化を測定した。通常、記録光パワーの増加に伴い再生信号の輝度が増加することにともない、再生信号のＢＥＲが徐々に低下する傾向にある。ここでは、ほぼ良好な再生像（ＢＥＲ＜１０−３）が得られる最低の記録光パワーを記録材料の記録感度とした。その結果、記録感度記録光パワー１５０ｍＪ／ｃｍ２にてＢＥＲ＜１０−３が得られた。（記録感度  ７５ｍＪ／ｃｍ２）結果を表２に示す。
【０１３５】
−多重数の評価−
光記録媒体の多重評価手法として、ＩＳＯＭ’０４、Tｈ−J-０６、ｐｐ.１８４−１８５、Oct.2004に記載されている記録スポットをスパイラル状にシフトさせて評価する手法により行った。ここで、記録ホログラム数１３×１３＝１６９ホログラム、記録ピッチは２８．５μｍとした。最終１６９個目のホログラム記録時の多重度は４９多重となる。記録ホログラム数の増加に従い多重度が増加するため、記録材料の多重特性が不十分であると記録数の増加に従いＢＥＲが増加する。ここではＢＥＲ＞１０−３となる記録ホログラム数を材料の多重特性Ｍとした。この手法により多重特性Ｍとして１２０多重相当の特性が得られることを確認した。
【０１３６】
−フィルタ層などへの影響の評価−
前記フィルタ層などへの影響の評価として、第一ギャップ層上へ積層するフィルタ層や記録層の層状態を顕微鏡により測定し、下記の基準により段階評価した。結果を表２に示す。
○  フィルタ層など第一ギャップ層上に積層される層への影響はなく、層状態は極めて良好である。
△：第一ギャップ層がやや軟化し、フィルタ層などの層に部分的にしわが発生した。
×：第一ギャップ層が軟化し、フィルタ層などの層にひび割れが発生した。
【０１３７】
（実施例２）
実施例１において、前記第一ギャップ層の製造方法を、スピン塗布方法に代え、非熱軟化性シートの貼付方法にした以外は、実施例１と同様に実施例２の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及びフィルタ層などへの影響について評価した。結果を表２に示す。
【０１３８】
−非熱軟化性シートの貼付方法−
前記非熱軟化性シートの材料として、厚み８０μｍのポリカーボネート（ＰＣ）フィルムを用い、接着剤としてＳＤ−６４０（大日本インキ製）を用い、前記接着条件として、温度２３℃、湿度５０％の環境で、ラミネーター（型名ＨＡＬＬ１１０ａａ、三共社製）を用いて圧着することにより貼付した。圧着条件は、圧着ロール温度２３℃、圧着ロール圧力０．１ＭＰａ、圧着速度１．０ｍ／分により行った。その後、ＵＶ照射装置において、１５００ｍＪのＵＶ照射を行い、接着剤ＳＤ−６４０を硬化接着させた。
【０１３９】
（実施例３）
実施例１において、前記第一ギャップ層の製造方法を、スピン塗布方法に代え、蒸着する方法にした以外は、実施例１と同様に実施例３の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及びフィルタ層などへの影響について評価した。結果を表２に示す。
【０１４０】
−蒸着−
前記蒸着の方法として、真空蒸着方法により行った。前記真空蒸着は、真空容器の中に蒸発源であるＳｉＯ２及び第二の基板を載置し、０．５Ｐａの圧力下で、前記第二の基板におけるサーボピットパターンが形成されている側の反射膜表面の全面に成膜した。ＳｉＯ２材からなる結晶性の良好な、厚み１００μｍの膜が得られた。
前記膜は、ＪＩＳ  Ｋ７２０７における荷重たわみ温度に準ずる方法、即ち、試験片は、大きさ１２７ｍｍ×１２．７ｍｍ、厚み０．１ｍｍの荷重たわみ温度が十分に低いフィルム材料にＳｉＯ２を蒸着成膜したものを用いて、試験片を作製し、４．６ｋｇｆ／ｃｍ２の条件の下、７０℃以上であった。
【０１４１】
（実施例４）
実施例１において、前記第一ギャップ層の製造方法を、スピン塗布方法に代え、スパッタリングにした以外は、実施例１と同様に実施例４の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及びフィルタ層などへの影響について評価した。結果を表２に示す。
【０１４２】
−−スパッタリング−−
前記スパッタリングは、０．５Ｐａの真空中に、Ａｒガスを導入し、前記第二の基板とターゲット（成膜させる物質：ＳｉＯ２）間に交流高電圧印加し、グロー放電によりイオン化したＡｒガスを陰極である前記ターゲットに衝突させて、はじき飛ばされた（スパッタリング）前記ターゲット物質を陽極である前記第二の基板の表面に成膜させた。
前記スパッタリング領域は、前記第二の基板におけるサーボピットパターンが形成されている側の反射膜表面の全面に成膜した。ＳｉＯ２材からなる結晶性の良好な、厚み１００μｍの膜が得られた。
前記膜は、ＪＩＳ  Ｋ７２０７における荷重たわみ温度に準ずる方法、即ち、試験片は、大きさ１２７ｍｍ×１２．７ｍｍ、厚み０．１ｍｍの荷重たわみ温度が十分に低いフィルム材料にＳｉＯ２を蒸着成膜したものを用いて、試験片を作製し、４．６ｋｇｆ／ｃｍ２の条件の下、７０℃以上であった。
【０１４３】
（比較例１）
実施例１において、前記第一ギャップ層の塗布液の調製に代え、非熱軟化性材料を用いず下記成分からなる塗布液にした以外は、実施例１と同様に比較例１の光記録媒体を作製し、記録感度、多重特性及びフィルタ層などへの影響について評価した。結果を表２に示す。
【０１４４】
−−第一ギャップ層用塗布液の調製−−
前記第一ギャップ層用のＰＣシートを貼り付ける粘着材層として、光学粘着材ＰＤ−Ｓ１（パナック社製）を使用した。
【０１４５】
得られた第一ギャップ層ＰＣシート貼り付け用粘着材を、Ａｌ反射膜を成膜した前記第二の基板における反射膜表面に、ラミネーター（型名ＨＡＬＬ１１０ａａ、三共社製）により、圧着ロール温度２３℃、圧着ロール圧力０．１ＭＰａ、圧着速度１．０ｍ／分条件の下、貼り付けた。その後、剥離セパレータを剥がして、厚み８０μｍのＰＣシートを、粘着材面に、ラミネーター（型名  ＨＡＬＬ１１０ａａ、三共  社製）により、圧着ロール温度２３℃、圧着ロール圧力０．１ＭＰａ、圧着速度１．０ｍ／分の条件の下、貼り付けた。
【０１４６】
【表２】
2007072192.tif 000005
表２の結果から、本発明により、実施例１〜４は、比較例１に対して、フィルタ層などの他の層への影響はなく、第一ギャップ層上にフィルタ層を積層する際の加熱下においても、該第一ギャップ層が軟化することはなく、フィルタ層にしわやひび割れなどは発生しない。比較例１では、前記第一ギャップ層上に前記フィルタ層を積層する際の加熱下において、該第一ギャップ層が軟化し、フィルタ層にしわが発生しており、顕著な改善が図られていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１４７】
本発明の光記録媒体は、第一ギャップ層上にフィルタ層などを積層しても、該第一ギャップ層が軟化することなく、積層した該フィルタ層などにしわやひび割れなどの弊害が生じない光記録媒体であって、第一ギャップ層の厚みの均一性が安定した光記録媒体であり、２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラム、反射型のホログラムなどに幅広く用いられる。
本発明の光記録媒体の製造方法は、第一ギャップ層上にフィルタ層などを積層しても、該第一ギャップ層が軟化することなく、積層した該フィルタ層などにしわやひび割れなどの弊害が生じない光記録媒体であって、第一ギャップ層の厚みの均一性が安定した光記録媒体が得られ、２次元などの情報を記録する比較的薄型の平面ホログラムや立体像など多量の情報を記録する体積ホログラム、反射型のホログラムなどに幅広く用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０１４８】
【図１】図１は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。
【図２】図２は、従来の光記録媒体の構造を示す概略断面図である。
【図３】図３は、本発明の光記録媒体の一例の部分断面図である。
【図４】図４は、本発明の光記録媒体の層構成の一例示す部分断面図である。
【図５】図５は、本発明による具体例１に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図６】図６は、本発明による具体例２に係る光記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図７】図７は、コレステリック液晶層を３層積層したフィルタの正面（０°）からの入射光に対する反射特性を示すグラフである。
【図８】図８は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
【図９】図９は、本発明の光記録再生装置の全体構成の一例を表すブロック図である。
【符号の説明】
【０１４９】
１      第二の基板
２      反射膜
３      サーボビットパターン
４      記録層
５      第一の基板
６      フィルタ層
６ａ、６ｂ、６ｃ      コレステリック液晶層
７      第二ギャップ層
８      第一ギャップ層
９      １／４波長板
１２      対物レンズ
１３      ダイクロイックミラー
１４      検出器
１５      １／４波長板
１６      偏光板
１７      ハーフミラー
２０、２０ａ、２１、２２      光記録媒体
３１      ピックアップ
８１      スピンドル
８２      スピンドルモータ
８３      スピンドルサーボ回路
８４      駆動装置
８５      検出回路
８６      フォーカスサーボ回路
８７      トラッキングサーボ回路
８８      スライドサーボ回路
８９      信号処理回路
９０      コントローラ
９１      操作部
１００      光記録再生装置
Ａ      入出射面
ＦＥ      フォーカスエラー信号
ＴＥ      トラッキングエラー信号
ＲＦ      再生信号
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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