(57)【要約】【課題】平滑なミラー面を得ることが可能で、容易に作製できる薄膜を積層した構造の可変形ミラーを提供する。【解決手段】可変形ミラー６は、基板７と、基板７上に配置される下部電極膜８と、下部電極膜８上に配置される圧電膜９と、圧電膜９上に配置される上部電極膜１０と、下部電極膜８と圧電膜９と上部電極膜１０とで構成される駆動部１１に取り囲まれるように配置され、基板７上に直接設けられるミラー膜１２と、から構成される。ミラー膜１２は、基板７に設けられる可動部７ｂに配置されており、駆動部１１の少なくとも一部は、可動部７ｂ上に設けられる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電膜と該圧電膜を挟む第１電極膜及び第２電極膜とから成る駆動部と、該駆動部を支持し、一部を薄く加工することによって形成された可動部を有する基板と、を備え、
前記駆動部の駆動により、前記可動部上に直接形成されるミラー膜を変形させる可変形ミラーにおいて、
前記ミラー膜は、前記駆動部と重ならないように、又は前記第１電極膜と前記第２電極膜のうちのいずれか一方の電極膜と一体となるように、前記基板の前記可動部を形成するために加工される面の裏面側に設けられ、
前記駆動部の少なくとも一部は前記可動部上に設けられることを特徴とする可変形ミラー。
【請求項２】
前記駆動部は、前記ミラー膜の周りに配置されることを特徴する請求項１に記載の可変形ミラー。
【請求項３】
前記駆動部は、前記ミラー膜の外周を囲むように配置されることを特徴とする請求項２に記載の可変形ミラー。
【請求項４】
前記第１電極膜と前記第２電極膜のうち、少なくとも一方の電極のパターンは複数に分割されていることを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか１項に記載の可変形ミラー。
【請求項５】
請求項１から請求項４のうちのいずれか１項に記載の可変形ミラーを備えることを特徴とする光ピックアップ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ピックアップ装置等に備えられるミラーの鏡面形状を変形できる可変形ミラーに関し、より詳細には、薄膜による積層構造の可変形ミラーの構成に関する。また、本発明は、そのような可変形ミラーを備えた光ピックアップ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ピックアップ装置を使って、ＣＤ（コンパクトディスク）やＤＶＤ（デジタル多用途ディスク）等の光ディスクの情報を読み書きする際、光ピックアップ装置の光軸とディスク面の関係は、垂直であることが理想である。しかし、実際にディスクが回転している際、この関係は常に垂直というわけではない。このため、ＣＤやＤＶＤ等の光ディスクでは、ディスク面が光軸に対して傾いた時に、レーザ光の光路が曲げられて波面収差（主にコマ収差）が発生する。また、光ピックアップ装置で再生する光ディスクの交換により光ディスクの基板の厚さが変化すると、波面収差（主に球面収差）が発生する。
【０００３】
このような波面収差が発生した場合、光ディスク上に照射されたレーザ光のスポット位置は正しい位置からずれるため、波面収差が許容値を超えると、情報の正しい読み書きができないという問題が発生する。このため、従来から、可変形ミラーを用いて波面収差の補正が行われており、様々な可変形ミラーが提案されている。
【０００４】
例えば、特許文献１においては、薄いシリコン基板と薄い圧電薄膜で構成された可変形ミラーであって、シリコン基板の一方の面に鏡面が設けられ、シリコン基板のもう一方の面と薄い圧電薄膜の間には絶縁層が設けられ、薄い圧電薄膜の両面に接している電極の少なくとも片方の面の電極は分割され、分割された電極パターンに応じてミラー面を変形させる可変形ミラーが提案されている。
【０００５】
しかしながら、特許文献１に示される構成の可変形ミラーの場合、薄いシリコン基板上に圧電薄膜や圧電薄膜を駆動するための電極を形成しているために、可変形ミラーを作製する際のハンドリングが非常に悪く、作業効率の面で問題が有り、更に可変形ミラーの作製中にミラーが破壊されてしまう可能性もある。
【０００６】
この点、特許文献２や特許文献３の可変形ミラーは以下に示すように、ミラー面を形成する基板のうち、ミラーの可動を行いたい部分のみを薄く加工する構成としているためにハンドリング等の面では優れる。特許文献２においては、図６に示すように、基板１０５の裏側に設けられる円形のキャビティ側に反射膜１０１が形成され、基板１０５の表側に、下部電極１０３、圧電薄膜１０２、分割された上部電極１０４が形成された可変形ミラーが紹介されている。
【０００７】
また、特許文献３においては、図７に示すように、鏡材２０１がミラー基板２０５のエッチング加工しない側の面に形成され、エッチング加工する側の面に、圧電素子２０２と、圧電素子２０２に電圧を印加するための電極２０３ａ、２０４ａと、さらに配線電極２０３ｂ、２０４ｂが形成されている。ここで、配線電極２０３ｂ、２０４ｂは、主にＡｌスパッタ膜で作製され、ミラー基板２０５の裏面全面に成膜された後、フォトリソグラフィ法によりパターニングされている。
【０００８】
しかしながら、特許文献２のように、ミラー面を基板のエッチング加工等の加工を施した面に形成する場合、加工を施した面は平滑性が悪いために、平滑なミラー面を得るのが難しいという問題がある。そして、平滑なミラー面が形成できない場合、可変形ミラーを用いて収差補正を正確に行うことが困難となる。
【０００９】
一方、特許文献３ではミラー面を基板のエッチング加工しない面に形成しているために、平滑なミラー面を得ることは可能であるが、エッチング加工した面に電極パターンを形成する構成となっており、このような加工を施した面に電極の配線をパターニングするのは作業的に難しいという問題がある。
【特許文献１】特開２００２−２７９６７７号公報
【特許文献２】特開２００５−３２２８６号公報
【特許文献３】特開２００４−１５１６３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
以上の問題点に鑑み、本発明の目的は、平滑なミラー面を得ることが可能で、容易に作製できる薄膜を積層した構造の可変形ミラーを提供することである。また、本発明の他の目的は、平滑なミラー面を有し、容易に作製できる可変形ミラーを備えることにより、収差の補正を正確に行え、作製時の作業負担が少ない光ピックアップ装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために本発明は、圧電膜と該圧電膜を挟む第１電極膜及び第２電極膜とから成る駆動部と、該駆動部を支持し、一部を薄く加工することによって形成された可動部を有する基板と、を備え、前記駆動部の駆動により、前記可動部上に直接形成されるミラー膜を変形させる可変形ミラーにおいて、前記ミラー膜は、前記駆動部と重ならないように、又は前記第１電極膜と前記第２電極膜のうちのいずれか一方の電極膜と一体となるように、前記基板の前記可動部を形成するために加工される面の裏面側に設けられ、前記駆動部の少なくとも一部は前記可動部上に設けられることを特徴としている。
【００１２】
また、本発明は、上記構成の可変形ミラーにおいて、前記駆動部は、前記ミラー膜の周りに配置されることを特徴としている。
【００１３】
また、本発明は、上記構成の可変形ミラーにおいて、前記駆動部は、前記ミラー膜の外周を囲むように配置されることを特徴としている。
【００１４】
また、本発明は、上記構成の可変形ミラーにおいて、前記第１電極膜と前記第２電極膜のうち、少なくとも一方の電極のパターンは複数に分割されていることを特徴としている。
【００１５】
また、本発明は、上記構成の可変形ミラーを備える光ピックアップ装置であることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の第１の構成によれば、圧電膜と圧電膜を挟む２つの電極膜とから成る駆動部が、基板を薄く加工することによって形成した可動部の一部に配置されているために、電極に電圧を印加して駆動部を駆動させた場合に、可動部に配置されたミラー面を容易に変形可能となっている。そして、このような薄膜を積層する構造の可変形ミラーにおいて、駆動部と、ミラー膜との両方を基板の加工が施されない側の面に形成する構成となっているので、平滑なミラー面を得ることが可能であり、且つ、基板上に電極パターンを容易に形成できる。
【００１７】
また、本発明の第２の構成によれば、上記第１の構成の可変形ミラーにおいて、駆動部によって、ミラー膜の変形を効率良く行うことが可能であり、構成上、その作製も容易である。
【００１８】
また、本発明の第３の構成によれば、上記第２の構成の可変形ミラーにおいて、ミラー膜を効率良く、所望の形状に変形することが可能となる。
【００１９】
また、本発明の第４の構成によれば、上記第１から第３のいずれかの構成の可変形ミラーにおいて、少なくとも一方の電極のパターンを複数に分割しているために、圧電極性が一方向の圧電膜のみを用いて、収差の補正が可能な可変形ミラーを提供できる。
【００２０】
また、本発明の第５の構成によれば、上記第１から第４のいずれかの構成の可変形ミラーを備える光ピックアップ装置において、平滑なミラー面を有する可変形ミラーを備えるために、正確に収差の補正が行え、更に、可変形ミラーの作製が容易に行えるため、作製時の作業負担の少ない光ピックアップ装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に本発明の実施形態を、図面を用いて説明する。なお、ここで示す実施形態は一例であり、本発明はここに示す実施形態に限定されるものではない。
【００２２】
図１は、本発明の可変形ミラーを備える光ピックアップ装置の光学系を示す概略図である。図１において、光ピックアップ装置１は、ＣＤ、ＤＶＤ、大容量の高品位ＤＶＤである青色ＤＶＤなどの光記録媒体２３上にレーザビームを照射して反射光を受光することにより光記録媒体２３の情報記録面に記載された情報を読み取ったり、光記録媒体２３上に光ビームを照射して記録面に情報を書き込んだりすることを可能とする装置である。光ピックアップ装置１は、例えば、レーザ光源２と、コリメートレンズ３と、ビームスプリッタ４と、１／４波長板５と、可変形ミラー６と、対物レンズ２０と、集光レンズ２１と、受光部２２と、を備えている。
【００２３】
レーザ光源２は、所定の波長のレーザビームを出射する半導体レーザダイオードである。例えば、ＣＤ用には７８５ｎｍ、ＤＶＤ用には６５０ｎｍ、青色ＤＶＤ用には４０５ｎｍの波長のレーザビームを出射できる半導体レーザダイオードが使用される。なお、本実施形態では１つのレーザ光源２から出射されるレーザビームの波長は１種類であるが、複数の波長のレーザビームを出射できるレーザ光源を用いても構わない。レーザ光源２を出射されたレーザビームは、コリメートレンズ３に送られる。
【００２４】
コリメートレンズ３は、レーザ光源２より出射されたレーザビームを平行光に変換するレンズである。ここで、平行光とは、レーザ光源２から出射されたレーザビームの全ての光路が光軸とほぼ平行である光をいう。コリメートレンズ３を透過した平行光は、ビームスプリッタ４に送られる。
【００２５】
ビームスプリッタ４は、コリメートレンズ３を透過してきたレーザビームを透過すると共に、光記録媒体２３で反射されたレーザビームをさらに反射して受光部２２へと導く。ビームスプリッタ４を透過したレーザビームは、１／４波長板５に送られる。
【００２６】
１／４波長板５は、ビームスプリッタ４と協同して光アイソレータとして機能する。１／４波長板５を透過したレーザビームは、可変形ミラー６に送られる。
【００２７】
可変形ミラー６は、例えば、レーザ光源２から出射されるレーザビームの光軸と４５°傾けられており、１／４波長板５を透過してきたレーザビームを反射して対物レンズ２０へと導く。また、可変形ミラー６に備えられる鏡面を変形して、レーザビームの波面収差の補正をも行う。なお、可変形ミラー６の構成の詳細については後述する。
【００２８】
対物レンズ２０は、可変形ミラー６で反射されたレーザビームを光記録媒体２３の内部に形成された情報記録面上に集光させる。
【００２９】
光記録媒体２３上で反射されたレーザビームは、対物レンズ２０を透過して、可変形ミラー６で反射される。そして、可変形ミラー６で反射されたレーザビームは、１／４波長板５を透過し、ビームスプリッタ４で反射されて、集光レンズ２１に送られる。集光レンズ２１は、光記録媒体２３から反射されてきたレーザビームを受光部２２に集光する。
【００３０】
受光部２２は、レーザビームを受光後、光情報を電気信号に変換して、例えば、図示しない光ディスク装置等に備えられるＲＦアンプ等に出力する。この電気信号は、記録面に記録されているデータの再生情報と、光ピックアップ装置１自体及び対物レンズ２０の位置制御に必要な情報（サーボ情報）などを含む。
【００３１】
次に、本実施形態における可変形ミラー６の構成の詳細について説明する。図２は、本実施形態の光ピックアップ装置１における可変形ミラー６の構成を示す図で、図２(ａ)は、可変形ミラー６をミラー面側から見た場合の概略正面図、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＡＡ線における概略断面図、図２（ｃ）は、図２（ａ）の可変形ミラー６を裏から見た図である。
【００３２】
図２に示すように、本実施形態における可変形ミラー６は、基板７と、基板７上に配置される下部電極膜８と、下部電極膜８上に配置される圧電膜９と、圧電膜９上に配置される上部電極膜１０と、下部電極膜８と圧電膜９と上部電極膜１０とで構成される駆動部１１に取り囲まれるように配置され、基板７上に直接形成されるミラー膜１２と、を備えている。
【００３３】
基板７は、駆動部１１とミラー膜１２を支持する役割を果たす。また、基板７は、厚い部分７ａと薄い部分７ｂとで構成されており、薄い部分７ｂは可動部（以下、７ｂを可動部とする。）としての役割を果たす。可動部７ｂの可動状態については後述する。なお、可動部７ｂは、例えば、厚い板状に構成される基板７の一部をエッチング処理する等により形成される。なお、本実施形態においては、可動部７ｂの形状を楕円形状としているが、これに限定される趣旨ではなく、本発明の目的を逸脱しない範囲で変形可能である。例えば、可動部７ｂの形状を矩形状等にしても構わない。また、基板７の形状についても、本実施形態では矩形状であるが、これに限らず円形状でも、多角形状等でも構わない。
【００３４】
基板７に用いる材料としては、ガラスやセラミックス等の絶縁体が挙げられるが、特に制限はない。ただし、圧電膜９の圧電特性を良好とするために、例えばシリコンや酸化マグネシウム等の材料で基板７を構成するのが好ましい。また、基板７に絶縁体を用いない場合には、基板７と下部電極膜８との間に、絶縁材料で形成される絶縁層を設ける必要がある。
【００３５】
図３は、本実施形態の可変形ミラー６における下部電極膜８の構成を示す概略平面図である。なお、図３は基板７上に下部電極膜８のみが形成された状態を示している。下部電極膜８は、図３の斜線で示す部分に、分割されることなく形成される。また、下部電極膜８は、駆動回路（図示せず）へと接続される第１の電極端子１３と、引き回し線１４によって結線されている。
【００３６】
なお、基板７上の図２（ａ）の斜線で示す部分に相当する場所には、ミラー膜１２を直接基板７上に形成できるように、下部電極膜８は配置されていない。また、図３の８ａ〜８ｄで示す部分にも、上部電極膜１０の引き回し線１６ａ〜１６ｄを配線できるように、下部電極膜８は配置されていない。更に、下部電極膜８の形状は、本実施形態の形状に限らず、変更可能であり、例えば、上部電極膜１０と同一の大きさ、同一形状（ただし、電極の分割はしない）に形成するようにしても構わない。また、下部電極膜８を分割する構成としても構わない。
【００３７】
上部電極膜１０は、下部電極膜８と組になって、下部電極膜８と上部電極膜１０との間に挟まれる圧電膜９に電圧を印加する役割を果たす。上部電極膜１０は、図２に示すように、４つの分割電極膜１０ａ〜１０ｄに分かれており、４つの分割電極膜１０ａ〜１０ｄはミラー膜１２を囲むように配置されている。そして、向かい合う分割電極膜（１０ａと１０ｃ、１０ｂと１０ｄ）は対称に配置されている。分割電極膜１０ａ〜１０ｄのそれぞれは、駆動回路（図示せず）へと接続される第２の電極端子１５ａ〜１５ｄに引き回し線１６ａ〜１６ｄによって結線されている。
【００３８】
なお、上部電極膜１０を分割することにより、各分割電極膜１０ａ〜１０ｄと下部電極膜８との間に挟まれる圧電膜９に対して、異なる電圧を供給することが可能となる。このため、各分割電極膜１０ａ〜１０ｄと下部電極膜８に挟まれる圧電膜９の変形量や変形方向を制御可能となり、ミラー膜１２を所望の形状に変形することが可能となる。
【００３９】
下部電極膜８と上部電極膜１０を構成する材料としては、導電性の高い金属が用いられ、例えば、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｉｒ、それらの合金等の低抵抗の材料が用いられる。ただし、可変形ミラー６の作製工程において、高温で処理する工程が存在する場合には、高温に強い材料を用いるのが好ましい。下部電極膜８及び上部電極膜１０の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、蒸着法等が使用されるが、薄膜形成ができればよく、特に薄膜形成の手法に限定はない。
【００４０】
なお、下部電極膜８と上部電極膜１０とは、同じ材料で形成しても構わないし、別々の材料で形成しても構わない。また、本実施形態においては、上部電極膜１０を４つに分割し、向かい合う電極を対称に配置する構成としているが、これに限定される趣旨ではない。所望のミラーの形状を得るために、上部電極膜１０についても分割しない構成としても構わないし、２つ、３つ、又は５つ以上に電極を分割する構成としても構わない。
【００４１】
圧電膜９は、下部電極膜８の上に下部電極膜８と同一の形状で形成される。圧電膜９は下部電極膜８と上部電極膜１０の間に電圧が印加されると、その極性に応じて伸縮を行い、ミラー膜１２が形成される可動部７ｂを変形して、同時にミラー膜１２も変形させる。圧電膜９を構成する材料としては、例えば、ＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛、Ｐｂ（ＺｒxＴｉ1-x）Ｏ3）が用いられるが、その他の圧電セラミックスを用いても構わない。また、ポリフッ化ビニリデンのような圧電高分子等を用いても構わない。ただし、圧電定数が高く、電圧を印加したときの変位が大きい圧電体がより好ましい。
【００４２】
圧電膜９の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、蒸着法、化学蒸着法（ＣＶＤ法）、ゾルゲル法、エアロゾルデポジション法(ＡＤ法)等があるが、薄膜形成ができればよく、特に薄膜形成の手法に限定はない。なお、本実施形態においては、圧電膜９の圧電極性は、一方向のものを一枚だけ用いる構成としているが、これに限る趣旨ではなく、例えば、圧電極性の異なる圧電膜９を２種類以上用いる構成としても構わない。
【００４３】
ミラー膜１２はレーザ光源２（図１参照）から出射されたレーザビームや、光記録媒体２３（図１参照）から反射されてきたレーザビームを反射する役割を果たす。また、圧電膜９の伸縮により、ミラー膜１２は所望の形状に変形されて、光ピックアップ装置１（図１参照）において発生する球面収差、コマ収差等の収差を補正する役割を果たす。そして、本実施形態においては、可変形ミラー６にレーザビームが斜めに入射した場合にも収差の補正を的確に行えるように楕円形状のミラー膜１２を形成している。
【００４４】
ミラー膜１２を構成する材料としては、高反射率を有する材料が好ましく、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ等の金属膜や、それらの合金膜等が用いられる。また、ミラー膜１２は複数の膜を重ね合わせて形成しても構わない。ミラー膜１２の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、蒸着法等が使用されるが、薄膜形成ができればよく、特に薄膜形成の手法に限定はない。
【００４５】
下部電極膜８と上部電極膜１０と圧電膜９とで形成される駆動部１１は、図２（ｂ）の破線枠Ｂで示すように、少なくともその一部が可動部７ｂ上に配置されるのが好ましい。駆動部１１が可動部７ｂ上にない場合には、駆動部１１が駆動しても可動部７ｂ上のミラー膜１２はほとんど変形しない。また、駆動部１１は本実施形態のようにミラー膜１２を囲むように配置するのが好ましい。これにより、駆動部１１の駆動によるミラー膜１２の変形を効率良く行うことが可能となる。
【００４６】
次に、以上のように構成される可変形ミラー６の動作について説明する。図４及び図５は、可変形ミラー６の動作を示す図で、図４は、図２（ｂ）の状態から圧電膜９が伸びた状態を示し、図５は、図２（ｂ）の状態から圧電膜９が縮んだ状態を示している。図４、図５において、上部電極膜１０ｂと下部電極膜８との間、及び、上部電極膜１０ｄと下部電極膜８との間に印加される電圧は同一である。
【００４７】
図４の場合には、圧電膜９が伸びるために、基板７が可動する可動部７ｂ側において下向きの力が加わり、可動部７ｂ及びミラー膜１２は下に凸となる。一方、図４の場合と逆極性の電圧が印加された場合が図５の場合で、この場合には圧電膜９は縮むために、基板７が可動する可動部７ｂ側において、上向きの力が加わり、可動部７ｂ及びミラー膜１２は上に凸となる。
【００４８】
なお、以上に示した可変形ミラー６の動作は一例であり、分割された電極膜１０ａ〜１０ｄ毎に、下部電極膜８との間で印加する電圧を変化させれば、種々の変形が可能となる。
【００４９】
次に、本実施形態における可変形ミラー６の製造方法の一例を説明する。まず、平板上の基板７の一方の面をエッチング処理して可動部７ｂを形成する（第１工程）。次に、基板７の反対側の面において、ミラー膜１２を形成する部分（図２（ａ）の斜線部分）及び上部電極膜１０の引き回し線１６ａ〜１６ｄを設ける部分について、金属マスク等を施す（第２工程）。この後、下部電極膜８、圧電膜９、上部電極膜１０の順に、上述のようにスパッタリング法等を用いて薄膜を形成する（第３〜第５工程）。
【００５０】
この後、第２工程における金属マスク等を取り除き、ミラー膜１２をスパッタリング法等を用いて、基板７に直接形成する（第６工程）。更に、下部電極膜８及び上部電極膜１０用の配線をパターニングする（第７工程）。
【００５１】
このように、可変形ミラー６を作製することにより、ミラー膜１２を基板７のエッチング処理等の加工が行われていない面に作製することができ、平滑なミラー面を得ることができる。また、下部電極膜８や上部電極膜１０の配線のパターニングも、基板７の加工が施されていない面にできるために、容易にパターニングができる。更に、基板７は、可動部７ｂ以外の部分７ａは厚く構成されているので、作製時のハンドリングにも優れる。
【００５２】
なお、本発明の可変形ミラー６は、以上に示した実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。すなわち、例えば、ミラー膜１２を変形させる駆動部１１は、ミラー膜１２の周囲を取り囲むように配置せず、例えば、図２（ａ）における、上部電極膜１０ａ及び上部電極膜１０ｃが配置される部分にのみ駆動部１１を配置する構成等としても構わない。
【００５３】
また、図８に示すように、下部電極膜８とミラー膜１２とを同じ物質として、一体的に形成する（１つの膜とする）構成等としても構わない。ここで図８は、図２（ｂ）と同様に示した可変形ミラー６の概略断面図で、下部電極膜８とミラー膜１２が１つの膜で形成されることを除いて、他の部分の構成は基本的に本実施形態と同様である。そして、下部電極膜８とミラー膜１２とを１つの膜とすることは、可変形ミラー６を作製する工程を低減できる点でメリットがある。
【００５４】
また、上部電極膜１０とミラー膜１２とを一体的に形成する構成としても構わないが、この場合は、上部電極膜１０は分割電極とせず、例えば下部電極膜８側を分割電極とする構成とすることも可能である。なお、その目的によっては、上部電極膜１０も下部電極膜８も分割電極としなくても構わない。
【００５５】
その他、本実施形態においては、本発明の可変形ミラー６を光ピックアップ装置１に備える構成を示したが、本発明の可変形ミラー６は、その他の光学装置（例えば、デジタルカメラやプロジェクタ等に備えられる光学装置）に適用しても構わない。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明は、圧電膜と圧電膜を挟む第１電極膜及び第２電極膜とから成る駆動部と、駆動部を支持し、一部を薄く加工することによって形成された可動部を有する基板と、を備え、駆動部の駆動により、可動部上に直接形成されるミラー膜を変形させる可変形ミラーにおいて、前記ミラー膜は、前記駆動部と重ならないように、又は前記第１電極膜と前記第２電極膜のうちのいずれか一方の電極膜と一体となるように、基板の可動部を形成するために加工される面の裏面側に設けられ、駆動部の少なくとも一部は可動部上に設けられる。
【００５７】
このため、駆動部と、ミラー膜との両方を基板の加工が施されない側の面に形成でき、平滑なミラー面を得ることが可能で、且つ、基板上に電極パターンを形成する時の作業負担を少なくできる。
【００５８】
また、本発明の可変形ミラーは、ミラー膜の回りに配置される構成となっているために、駆動部の駆動によって効率良くミラーを変形できる可変形ミラーを容易に作製可能となる。
【００５９】
また、本発明の可変形ミラーは、ミラー膜の周囲に駆動部が設けられる構成となっているために、駆動部の駆動により効率良くミラーを変形できる。
【００６０】
また、本発明の可変形ミラーは、圧電膜を挟む電極膜の少なくともいずれか一方が分割電極とされているために、一方向の圧電極性を持つ圧電膜を用いて、所望の形状にミラーを変形できる。
【００６１】
また、本発明の可変形ミラーを備える光ピックアップ装置は、平滑なミラー面を有する可変形ミラーを備えるために、正確に収差の補正が行える。更に、可変形ミラーの作製が容易に行えるため、作製時の作業負担の少ない光ピックアップ装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】は、本実施形態の光ピックアップ装置の光学系を示す概略図である。
【図２】は、本実施形態の光ピックアップ装置が備える可変形ミラーの構成を示す概略図である。
【図３】は、本実施形態の可変形ミラーにおける下部電極の構成を示す概略平面図である。
【図４】は、本実施形態の可変形ミラーの動作を示す図で、圧電膜が伸びた状態を示す図である。
【図５】は、本実施形態の可変形ミラーの動作を示す図で、圧電膜が縮んだ状態を示す図である。
【図６】は、従来の可変形ミラーの構成を示す図である。
【図７】は、従来の可変形ミラーの構成を示す図である。
【図８】は、本発明の可変形ミラーの変形例である。
【符号の説明】
【００６３】
１                      光ピックアップ装置
６                      可変形ミラー
７                      基板
７ｂ                    可動部
８                      下部電極膜（第１電極膜又は第２電極膜）
９                      圧電膜
１０                    上部電極膜（第１電極膜又は第２電極膜）
１１                    駆動部
１２                    ミラー膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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