(57)【要約】【課題】クラックの伝播を低減する。【解決手段】分離領域３０は、複数の下側遮光膜５０１を互いに隔てるように格子状に延びる領域のうちＹ方向に沿って延びる分離領域Ｒ２に設けられている。引き出し配線２４１ａ及び２４２ａは、絶縁膜９１上においてＹ方向に沿って延在するように夫々形成されており、且つ互いを隔てる分離領域Ｒ１が分離領域Ｒ２に重ならないように平面的に見てＸ方向に沿って配列された配列されている。したがって、液晶装置１の製造時又は動作時に分離領域３０に生じたクラックが絶縁膜９１を介して分離領域Ｒ１に伝播することを低減できる。【選択図】図７
2007072438.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上の画像表示領域に形成された複数の画素と、
前記画像表示領域の周辺に位置する周辺領域において島状に形成された複数の遮光膜と、
前記複数の遮光膜同士の間の領域のうち第１方向に延びる分離領域と、
前記複数の下側遮光膜及び前記分離領域を覆う絶縁膜と、
前記絶縁膜上において、前記第１方向に延在するように夫々形成され、前記第１方向に交差する方向に配列された複数の第１導電膜とを備え、
前記複数の第１導電膜同士の間の領域のうち前記第１方向に延びる分離領域は、前記複数の下側遮光膜の第１方向に延びる分離領域と重ならないこと
を特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記遮光膜は、前記周辺領域に設けられた回路の下側に形成される下側遮光膜であり、
前記複数の第１導電膜の上層側に形成されており、且つ前記下側遮光膜の第１方向に延びる分離領域に少なくとも部分的に重なり、前記第１方向に交わる方向に延在する第２導電膜を備えたこと
を特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記複数の下側遮光膜は、前記周辺領域にマトリクス状に配列されており、
前記複数の第１導電膜は、前記１辺に交わる方向において前記複数の下側遮光膜の間隔に応じた間隔で配列されていること
を特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第１導電膜の平面形状は、前記第１方向に交わる方向において前記分離領域を中心とする対称な形状であること
を特徴とする請求項１から３の何れか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記複数の第１導電膜と異なる層に形成されていると共に前記第１方向に交わる方向に沿って延在されており、且つ前記第１方向において配列された複数の第３導電膜を更に備えており、
前記複数の第１導電膜のうち互いに隣接する一の第１導電膜及び他の第１導電膜は、前記第１方向の長さが互いに異なっており、
前記一の第１導電膜は、前記基板の基板面に交わる方向に延びる一の導電部を介して前記複数の第３導電膜のうち一の第３導電膜と電気的に接続されており、
前記他の第１導電膜は、前記基板面に交わる方向に延びる他の導電部を介して前記複数の第３導電膜のうち他の第３導電膜と電気的に接続されていること
を特徴とする請求項１から４の何れか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記画素電極を夫々含む複数の画素部に夫々電気的に接続された複数のトランジスタを更に備え、
前記一の第１導電膜は、前記複数のトランジスタのうち前記第１方向に沿って互いに隣接するトランジスタのうち一のトランジスタのゲートに電気的に接続されており、
前記他の第１導電膜は、前記互いに隣接するトランジスタのうち他のトランジスタのゲートに電気的に接続されていること
を特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記基板に対向するように配置されており、且つ前記周辺領域のうち前記画像表示領域を規定する額縁領域の外側の領域に設けられたシール部を介して前記基板と相互に接着された対向基板を更に備え、
前記対向基板は、前記基板面に対向する対向面の側において前記額縁領域に形成された上側遮光膜を有しており、
前記下側遮光膜は、前記周辺領域のうち少なくとも前記外側の領域に形成されていること
を特徴とする請求項１から６の何れか一項に記載の電気光学装置。
【請求項８】
基板と、
前記基板上に島状に形成された複数の導電膜と、
前記複数の導電膜同士の間の領域のうち第１方向に延びる分離領域と、
前記複数の導電膜及び前記分離領域を覆う絶縁膜と、
前記絶縁膜上において、前記第１方向に延在するように夫々形成され、前記第１方向に交差する方向に配列された複数の配線とを備え、
前記複数の配線同士の間の領域のうち前記第１方向に延びる分離領域は、前記複数の導電膜の第１方向に延びる分離領域と重ならないこと
を特徴とする配線基板。
【請求項９】
請求項１から７の何れか一項に記載の電気光学装置を具備したこと
を特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置等の電気光学装置の技術分野に属し、特に画像表示領域を規定する額縁遮光膜を備えた電気光学装置及びそのような電気光学装置を備えた電子機器の技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
この種の電気光学装置は、画素電極やストライプ状電極などの表示用電極、データ線や走査線などの各種配線、画素スイッチング用の薄膜トランジスタ（以下適宜、ＴＦＴと称する）や薄膜ダイオード（以下適宜、ＴＦＤと称する）などのスイッチング素子等が形成された素子アレイ基板と、ストライプ状や全面的に形成された対向電極及び遮光膜等が形成された対向基板とが対向配置されている。これら一対の基板間で、液晶等の電気光学物質がシール部により包囲されており、シール部が存在するシール領域よりも中央寄り（即ち、液晶等に面する基板上領域）に、画素電極が配置された画像表示領域が設けられている。ここで特に、平面的に見て（即ち、画像表示領域に対して対向する方向から見て）シール領域の内側輪郭に沿って額縁形に、画像表示領域の額縁領域が、例えば対向基板に設けられた遮光膜と同一膜により規定されている。
【０００３】
画像表示領域の周辺に位置する周辺領域における素子アレイ基板上に、走査線駆動回路、データ線駆動回路、サンプリング回路、検査回路等の周辺回路が作り込まれている、所謂周辺回路内蔵型の電気光学装置も一般化している。従って、周辺領域内には、画像表示領域から周辺領域に引き出される配線が通常存在する。
【０００４】
この種の電気光学装置では、素子アレイ基板上における額縁領域に存在する配線や回路素子からなるパターン部は、パターニングされたＡｌ膜等の導電膜により形成される。このため、特にプロジェクタ用途などのように入射光が強力であり且つ斜め成分を大量に含む場合には、入射光がパターン部の反射率に応じてその表面で反射すると共に入射光がパターン部の隙間を通過する。このようにパターン部で反射した光が、対向基板上のＣｒ（クロム）等からなる額縁遮光膜により、反射されたりする。
【０００５】
額縁遮光膜で反射された内面反射光やパターン部を透過した光は、例えば素子アレイ基板の裏面で反射してなる反射光、額縁遮光膜で反射された内面反射光、パターン部を透過した光、電気光学装置の出射側に取り付けられた偏光板、位相差板、防塵ガラスなどの光学要素で反射された反射光、複数の電気光学装置をライトバルブとして組み合わせて複板式プロジェクタとした場合における他の電気光学装置から出射されて合成光学系を突き抜けて来る戻り光、及びパターン部や額縁遮光膜等によって反射された内面反射光を含んでおり、これら光が最終的に出射光に混じって電気光学装置から出射される。
【０００６】
この結果、パターン部における反射や透過に応じた明暗パターン（例えば、配線が複数配列されている場合には、縞模様等の明暗パターン）が表示画像の縁付近に映し出されてしまうという問題点がある。この問題点を解決するための手段の一例として、特許文献１は、素子アレイ基板上の額縁領域の一部に下側遮光膜が形成された電気光学装置を開示している。
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−１７７４２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、このような電気光学装置では、その製造時或いは駆動時に下側遮光膜を互いに隔てる領域にクラックが発生する場合がある。このクラックが、平面的に見て下側遮光膜の縁及びコーナー部に沿って素子アレイ基板上の多層構造を伝播し、下側遮光膜の上層側に形成された配線を切断しまうことがある。したがって、クラックの伝播により、電気光学装置の製造時の歩留まりの低下、又は電気光学装置の信頼性の低下を招く問題点がある。より具体的には、例えば電源配線がクラックの伝播により切断された場合、電気光学装置を駆動することが困難になる。特許文献１に開示された技術は、表示画像の不具合を防止する観点から下側遮光膜を素子アレイ基板に形成することを提供しているに過ぎない。また、特許文献１によれば、発生したクラックを素子アレイ基板上に伝播させないための多層構造について言及されていない。加えて、特許文献１には、クラックの伝播に起因する配線の切断等によって不具合が生じる可能性について示唆する記載も見受けられない。
【０００９】
よって、本発明は上記問題点等に鑑みてなされたものであり、例えば、電気光学装置の素子アレイ基板上の多層構造にクラックが発生することを低減し、且つ仮にクラックが発生した場合でもクラックの伝播を抑制できる電気光学装置、配線装置及び電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る電気光学装置は上記課題を解決するために、基板と、前記基板上の画像表示領域に形成された複数の画素と、前記画像表示領域の周辺に位置する周辺領域において島状に形成された複数の遮光膜と、前記複数の遮光膜同士の間の領域のうち第１方向に延びる分離領域と、前記複数の下側遮光膜及び前記分離領域を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜上において、前記第１方向に延在するように夫々形成され、前記第１方向に交差する方向に配列された複数の第１導電膜とを備え、前記複数の第１導電膜同士の間の領域のうち前記第１方向に延びる分離領域は、前記複数の下側遮光膜の第１方向に延びる分離領域と重ならないことを特徴とする。
【００１１】
なお、前記遮光膜は、前記周辺領域に設けられた回路の下側に形成される下側遮光膜であることが好ましい。
このような本発明に係る電気光学装置によれば、分離部で発生したクラックが、分離領域及び下側遮光膜を覆う絶縁膜を介して伝播することを低減できる。したがって、絶縁膜の上層側に形成された多層構造がクラックの伝播によって損傷を受けることを低減できる。加えて、後述するように、基板上に形成された複数の下側遮光膜及び複数の第１導電膜のレイアウトによって、基板上の各層におけるクラックの発生を低減できる。
【００１２】
下側遮光膜は、例えば額縁遮光膜で反射された内面反射光等に起因して表示画像に生ずる縞状の明暗パターンを低減するために設けられている。下側遮光膜は、前記画像表示領域の周辺に延びる周辺領域において、基板に直接、或いは間接的に形成されている。
【００１３】
絶縁膜の一部は、複数の下側遮光膜を互いに隔てる領域のうち下側遮光膜の１辺に沿って延びる分離領域に設けられており、例えば複数の下側遮光膜を覆う絶縁膜を形成する際に、この絶縁膜を構成する絶縁材料の一部が分離領域で硬化したものである。
【００１４】
ここで、分離領域の幅が１μｍ未満の場合には分離領域に絶縁材料が一様に入り込み、分離領域に延びる絶縁膜の一部の上面は平坦面となる。したがって、クラックが発生する一因である窪みが分離領域に形成されない。また、分離領域の幅が６μｍ以上の場合には分離領域に延びる絶縁膜の上面はクラックを発生させない程度になだらかになり、分離領域にクラックが発生しにくい。分離領域の幅が３μｍ以上５μｍ以下の場合には、実験的或いは理論的に分離領域の上面に窪みが発生しやすくなり、クラックの発生を招く場合が多い。よって、後述するように、第１導電膜及び下側遮光膜の位置関係によって分離領域の幅が３μｍ以上５μｍ以下の場合にクラックの発生及び伝播を効果的に低減できる。尚、上述したクラックが発生し易い分離領域の幅は一例であり、分離領域に生じる窪みは、絶縁膜を構成する絶縁材料及び製造条件によって変動することに留意されたい。
【００１５】
複数の第１導電膜は、前記絶縁膜上において前記１辺に沿って延在するように夫々形成されており、且つ互いを隔てる領域が前記分離領域に重ならないように平面的に見て前記１辺に交差する方向に沿って配列されている。複数の第１導電膜を互いに隔てる領域が平面的に分離領域に重なっていないため、電気光学装置の製造時又は駆動時に分離部から下側遮光膜の１辺及び複数の第１導電膜を互いに隔てる領域に渡ってクラックが伝播することを低減できる。より具体的には、例えばアルミニウム又はクロム等の金属膜によって構成された下側遮光膜、及び半導体膜によって構成された第１導電膜に比べて機械的強度が劣る部分が重なることによってクラックの発生及び伝播が容易に生じることを抑制できる。
【００１６】
以上により、本発明に係る電気光学装置によれば、クラックの発生及び伝播を低減でき、例えば複数の第１導電膜の上層側に形成された層がクラックで切断されることを低減することが可能である。これにより、本発明に係る電気光学装置は、電気光学装置の製造時に生じる不具合を低減することによって歩留まりを高めることが可能である。加えて、本発明にかかる電気光学装置によれば、駆動時に不具合が発生することを低減でき、信頼性に優れた電気光学装置を提供できる。
【００１７】
本発明に係る電気光学装置に一の態様では、前記複数の第１導電膜の上層側に形成されており、且つ前記下側遮光膜の第１方向に延びる分離領域に少なくとも部分的に重なり、前記第１方向に交わる方向に延在された第２導電膜を更に備えていてもよい。
【００１８】
この態様によれば、クラックの伝播によって第２導電膜が切断されることを低減できる。第２導電膜は、前記分離領域に部分的に重なるように前記１辺に交わる方向に沿って延在されているため、例えば下側遮光膜の１辺に沿ってクラックが伝播した場合には、第２導電膜は切断されてしまう。したがって、１辺に沿ってクラックが伝播しないようにすることによって第２導電膜が切断されることを低減できる。
【００１９】
ここで、「第２導電膜」とは、例えばアルミニウム等の金属膜であり、より具体的には例えば電気光学装置が備える各種回路を駆動するための駆動電源を供給する電源配線である。このような電源配線が切断されることを低減することによって、例えば電気光学装置が備える各回路を正常に駆動させることが可能である。
【００２０】
本発明に電気光学装置に他の態様では、前記複数の下側遮光膜は、前記周辺領域にマトリクス状に配列されており、前記複数の第１導電膜は、前記１辺に交わる方向において前記複数の下側遮光膜の間隔に応じた間隔で配列されていてもよい。
【００２１】
この態様によれば、下側遮光膜が周辺領域において一枚の遮光膜として形成されている場合に比べて、複数の下側遮光膜をマトリクス状に配列しておくことによって下側遮光膜の上層及び下層側に加わる応力を緩和でき、クラックの発生及び伝播を低減できる。より具体的には、例えば下側遮光膜を一枚の遮光膜として周辺領域に形成した場合、特に周辺領域の縁の領域において下側遮光膜と、下側遮光膜の上層或以下層との間に加わる応力が大きくなり、クラックの発生及び伝播が発生し易い。そこで、複数の下側遮光膜がマトリクス状に配列されていることによって、応力が緩和され、且つ戻り光等を低減できる。
【００２２】
加えて、複数の下側遮光膜を互いに隔てる領域を介して画像表示領域に抜ける光が表示画像に影響を与えない程度に複数の下側遮光膜を互いに隔てる領域を狭く設定しておけば、表示画像の画質の維持しつつ、クラック発生及びクラックの伝播を低減できる。更に、複数の第１導電膜は、前記１辺に交わる方向において前記複数の下側遮光膜の間隔に応じた間隔で配列されているため、複数の第１導電膜及び複数の下側遮光膜間に作用する応力も低減できる。
【００２３】
本発明に電気光学装置に他の態様では、前記第１導電膜の平面形状は、前記第１方向に交わる方向において前記分離領域を中心とする対称な形状であってもよい。
【００２４】
この態様によれば、例えば、蒸着法或いはスパッタ法等の薄膜形成法を用いて絶縁膜上に第１導電膜を成膜する際に、第１導電膜から絶縁膜に作用する応力を低減でき、間接的に分離部に作用する応力を低減できる。したがって、分離領域で発生するクラックを低減できると共に、第１導電膜の下層側に応力が作用することによってクラックが伝播しやすくなることを抑制することが可能である。
【００２５】
本発明に電気光学装置に他の態様では、前記複数の第１導電膜と異なる層に形成されていると共に前記第１方向に交わる方向に沿って延在されており、且つ前記第１方向において配列された複数の第３導電膜を更に備えており、前記複数の第１導電膜のうち互いに隣接する一の第１導電膜及び他の第１導電膜は、前記第１方向の長さが互いに異なっており、前記一の第１導電膜は、前記基板の基板面に交わる方向に延びる一の導電部を介して前記複数の第３導電膜のうち一の第３導電膜と電気的に接続されており、前記他の第１導電膜は、前記基板面に交わる方向に延びる他の導電部を介して前記複数の第３導電膜のうち他の第３導電膜と電気的に接続されていてもよい。
【００２６】
この態様によれば、基板上に形成された各導電膜及び絶縁膜を含む多層構造を複雑な層構造にすることなく、一の第１導電膜及び他の第１導電膜の夫々を複数の第３導電膜に電気的に接続できる。
【００２７】
一の第１導電膜及び他の第１導電膜は１辺に沿って互いに隣接しており、１辺に沿った長さが互いに異なっている。より具体的には、１辺に交わる方向に沿って一の第１導電膜と、１辺に沿った長さが一の第１導電膜より短い又は長い他の第１導電膜が周辺領域に配列されている。
【００２８】
このような一の第１導電膜及び他の第１導電膜を含む複数の第１導電膜は、例えばコンタクトホール等である一の導電部及び他の導電部の夫々を介して前記複数の第１導電膜と異なる同一の層に夫々形成された複数の第３導電膜に電気的に接続されている。
【００２９】
この態様では、前記画素電極を夫々含む複数の画素部に夫々電気的に接続された複数のトランジスタを更に備え、前記一の第１導電膜は、前記複数のトランジスタのうち前記第１方向に沿って互いに隣接するトランジスタのうち一のトランジスタのゲートに電気的に接続されており、前記他の第１導電膜は、前記互いに隣接するトランジスタのうち他のトランジスタのゲートに電気的に接続されていてもよい。
【００３０】
この態様では、一の第１導電膜が電気的に接続された一の第３導電膜は、例えば一のトランジスタをスイッチングするためのスイッチング信号を供給する配線である。同様に、他の第３導電膜は、他のトランジスタにスイッチング信号を供給できる。
【００３１】
この態様によれば、例えば複数のトランジスタを含むトランスミッションゲートを介して複数の画素部の良否を判定するための情報を含む検査信号を周辺領域に設けられた検査回路に出力できる。
【００３２】
本発明に電気光学装置に他の態様では、前記基板に対向するように配置されており、且つ前記周辺領域のうち前記画像表示領域を規定する額縁領域の外側の領域に設けられたシール部を介して前記基板と相互に接着された対向基板を更に備え、前記対向基板は、前記基板面に対向する対向面の側において前記額縁領域に形成された上側遮光膜を有しており、前記下側遮光膜は、前記周辺領域のうち少なくとも前記外側の領域に形成されていてもよい。
【００３３】
この態様によれば、画像表示領域から最終的に画像表示用の表示光として出射される出射光に混ざる戻り光等を低減でき、画像表示領域の縁付近に映し出される縞模様の明暗パターンの発生を抑制することが可能である。したがって、上側遮光膜だけでは抑制する困難な表示不良を低減できる。
【００３４】
本発明に係る配線基板は上記課題を解決するために、基板と、前記基板上に島状に形成された複数の導電膜と、前記複数の導電膜同士の間の領域のうち第１方向に延びる分離領域と、前記複数の導電膜及び前記分離領域を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜上において、前記第１方向に延在するように夫々形成され、前記第１方向に交差する方向に配列された複数の配線とを備え、前記複数の配線同士の間の領域のうち前記第１方向に延びる分離領域は、前記複数の導電膜の第１方向に延びる分離領域と重ならないことを特徴とする。
【００３５】
本発明に係る配線基板によれば、上述の本発明の電気光学装置と同様に、クラックの発生及び伝播を低減でき、例えば複数の導電膜の上層側に形成された層がクラックで切断されることを低減することが可能である。
【００３６】
本発明に係る電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置を備えている。
【００３７】
本発明に係る電子機器によれば、上述した本発明に係る電気光学装置を具備してなるので、高品位の表示が可能な、投射型表示装置、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明に係る電子機器として、例えば電子ペーパなどの電気泳動装置等も実現することが可能である。
【００３８】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、図面を参照しながら本発明に係る電気光学装置、配線基板及び電子機器の各実施形態を説明する。本実施形態では、駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置１を電気光学装置の一例に挙げる。
【００４０】
図１は、ＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ´断面図である。
【００４１】
図１及び図２において、液晶装置１は、ＴＦＴアレイ基板１０と、ＴＦＴアレイ基板１０に対向するように配置された対向基板２０とを備えている。
【００４２】
対向基板２０は、画像表示領域１０ａの周辺に延びる周辺領域に設けられたシール部５２を介してＴＦＴアレイ基板１０と相互に接着されている。液晶層５０がＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０間に封入されている。対向基板２０は、後述するようにＴＦＴアレイ基板１０に対向する対向面の側の額縁領域の外側に配置されたシール部５２を介してＴＦＴアレイ基板１０と相互に接着されている。
【００４３】
シール部５２は、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とを貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。シール部５２中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。即ち、液晶装置１は、プロジェクタのライトバルブ用として小型で拡大表示を行うのに適している。但し、液晶装置１が液晶ディスプレイや液晶テレビのように大型で等倍表示を行う液晶装置であれば、このようなギャップ材は、液晶層５０中に含まれてもよい。
【００４４】
対向基板２０は、画像表示領域１０ａを規定する額縁領域に、本発明の「上側遮光膜」の一例である遮光性の額縁遮光膜５３を備えている。額縁遮光膜５３は、シール部５２が配置されたシール領域の内側に並行して延びる額縁領域に形成されている。但し、このような額縁遮光膜の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００４５】
ＴＦＴアレイ基板１０は、額縁領域からその外側の領域に形成された下側遮光膜５０１を備えている。下側遮光膜５０１は、画像表示領域１０ａの外周から周辺側に至る額縁遮光膜５３の外側に部分的に形成されている。下側遮光膜５０１は、額縁領域及びその外側の領域において、後述するデータ線からＴＦＴ等の回路素子を介して引き出された配線、トランスミッションゲートを構成するＴＦＴをオンオフするためのスイッチング信号を供給するための配線、及び液晶装置１が備える各種回路を駆動するための電源配線の下層側に形成されている。下側遮光膜５０１は、画像表示領域１０ａの周辺領域において、各種配線等によって反射された反射光及びこれら配線間の隙間を透過する透過光を低減する。これにより、最終的に表示用の出射光に混ざる反射光及び透過光の光量は、下側遮光膜５０１で吸収又は反射された分だけ顕著に減少する。したがって、液晶装置１は、画像表示領域１０ａから最終的に画像表示用の表示光として出射される出射光に混ざる戻り光等を低減でき、画像表示領域１０ａの縁付近に映し出される縞模様の明暗パターンの発生を抑制することが可能である。即ち、液晶装置１は、上側遮光膜だけでは抑制する困難な表示不良を低減できる。
【００４６】
画像表示領域１０ａの周辺に広がる領域のうち、シール部５２が配置されたシール領域の外側に位置する周辺領域には、Ｘ−ドライバ回路１０１（データ線駆動回路１０１とも呼ぶ）及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられており、Ｙ−ドライバ回路１０４（走査線駆動回路１０４とも呼ぶ）が、この一辺に隣接する２辺に沿って設けられている。更にＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺には、画像表示領域１０ａの両側に設けられた走査線駆動回路１０４間をつなぐための複数の配線１０５が設けられている。図１に示すように、対向基板２０の４つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導通材１０６が配置されている。他方、ＴＦＴアレイ基板１０にはこれらのコーナーに対向する領域において上下導通端子が設けられている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００４７】
データ線駆動回路１０１から供給される画像信号をサンプリングするサンプリング回路１１０が、額縁遮光膜５３からなる額縁領域内に配置されている。即ち、サンプリング回路１１０を構成するＴＦＴ等の回路素子が額縁領域内に配置されている。更に、画像表示領域１０ａ内に配線されたデータ線からサンプリング回路１１０に至る配線部分、データ線駆動回路１０１からサンプリング回路１１０に至る配線部分、画像表示領域１０ａ内に配線された走査線から走査線駆動回路１０４に至る配線部分等の各種配線部分は、額縁領域又は額縁領域の外側の領域に形成されている。
【００４８】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極９ａ上に、配向膜が形成されている。他方、対向基板２０上には、対向電極２１の他、最上層部分に配向膜が形成されている。また、液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【００４９】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４、サンプリング回路１１０等に加えて、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、液晶装置１の製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等が形成されていてもよい。
【００５０】
次に図３を参照しながら、ＴＦＴアレイ基板１０の主要な回路構成を説明する。図３は、ＴＦＴアレイ基板１０の主要な回路構成を示す回路図である。尚、ＴＦＴアレイ基板１０は、本発明に係る配線基板の応用例の一つである。図３は、図１に示した平面図に対して、上下が逆転した回路図である。
【００５１】
図３において、液晶装置１は、ＴＦＴアレイ基板１０上に、複数の走査線Ｇｊ（ｊ＝１、２、・・・ｎ）、複数のデータ線Ｓｉ（ｉ＝１、２、・・・、ｍ）、Ｙ−ドライバ回路１０４、Ｘ−ドライバ回路１０１、サンプリング回路１１０、複数の画素部７０、テスト回路４０、及び本発明の「第２導電膜」の一例である電源配線９０を備えている。
【００５２】
複数の走査線Ｇｊ及び複数のデータ線Ｓｉは、画像表示領域１０ａに互いに交差するように配線されている。
【００５３】
Ｙ−ドライバ回路１０４は、画素部７０の検査時において、スイッチング信号を走査線毎に順次供給する。ここで、スイッチング信号とは、画像を表示する際に画素部７０に供給される画像表示用の走査信号とは異なる信号であり、後述する検査出力信号を画素部７０から出力させるために画素部７０が備えるＴＦＴをオン状態に切り換えるための信号である。
【００５４】
Ｘ−ドライバ回路１０１は、サンプリング回路１１０を構成するサンプリングスイッチ１１１にサンプリング信号を供給し、これらサンプリングスイッチ１１１をオン状態に切り換える。ここで、「サンプリング信号」とは、検査する際に、データ線Ｓｉにリフレッシュ信号、画素部に不具合が生じているか否かを判定するための信号等を、画像信号線１１２を介して供給するために、Ｘ−ドライバ回路１０１からサンプリング回路１１０に供給される信号である。
【００５５】
サンプリング回路１１０は、複数のサンプリングスイッチ１１１からなり、サンプリングスイッチ１１１は、Ｘ−ドライバ回路１０１から供給されるサンプリング信号に応じて、オンオフが切り換えられる。
【００５６】
画素部７０は、図２に示した画素電極９ａ、Ｙ−ドライバ回路１０４から供給されるスイッチング信号によってオンオフが切り換えられるＴＦＴ、及び画像表示が行われる際に画素部７０に供給された画像信号を一時的に保持し、複数の画素部７０のアクティブマトリクス駆動を可能にする蓄積容量を備えている。
【００５７】
テスト回路４０は、テストイネーブルスイッチ２４１及び２４２、テストイネーブル（以下、ＴＥと称す。）回路２１０、プルダウン回路３５、本発明の「第１導電膜」の夫々一例である引き出し配線２４１ａ及び２４２ａ、テストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２、並びにＰＡＤ６０を備えている。
【００５８】
ＰＡＤ６０は、図１及び図２において、外部回路接続端子１０２の一つとして構成されていてもよいし、これとは別に専用のパッドとして設けられてもよい。
【００５９】
テストイネーブルスイッチ２４１及び２４２は、ＴＦＴアレイ基板上の基板面における画像表示領域１０ａの周辺領域に設けられている。テストイネーブルスイッチ２４１及び２４２は、データ線群Ｇｒｋを構成する２本のデータ線の夫々に対応して設けられており、後述するテストイネーブル回路２１０から供給されるテストイネーブル信号に応じてオン状態に切り換えられる。テストイネーブルスイッチ２４１及び２４２がオン状態に切り換えられることによって、データ線群Ｇｒｋ毎に、後述する検査すべき一のデータ線Ｓｉを介して各画素部７０から検査対象となる信号がＰＡＤ６０を介して検査回路３００及びメモリ３１０に出力される。
【００６０】
テストイネーブル回路２１０は、テストイネーブルスイッチ２４１及び２４２のゲートにテストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２を夫々介して電気的に接続されている。テストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２は、テストイネーブルスイッチ２４１及び２４２の夫々のゲートに電気的に接続されている。テストイネーブル回路２１０は、検査時にテストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２、並びに引き出し配線２４１ａ及び２４２ａを介してテストイネーブル信号をテストイネーブルスイッチ２４１および２４２の夫々に供給する。これにより、テストイネーブルスイッチ２４１及び２４２がオンオフされ、各画素部７０から出力される検査対象となる検査信号を引き出し配線２４１ｂ及び２４２ｂ、テスト配線ＴＸ並びにＰＡＤ６０を介して検査回路３００及びメモリ３１０に出力する。メモリ３１０に一次的に記録された検査信号又はメモリ３１０を介して直接検査回路３００に供給された検査信号に基づいて検査回路３００が、画素部７０に不具合が生じているか否かを判定する。
【００６１】
電源配線９０は、部分的にテストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２に沿ってＴＦＴアレイ基板１０の周辺領域に引き回されている。電源配線９０は、ＴＥ回路２１０、Ｘ−ドライバ回路１０１、Ｙ−ドライバ回路１０４、及びＴＦＴアレイ基板１０上に形成された不図示の各回路を駆動するための駆動電源ＶＤＤを各回路に供給する。
【００６２】
プルダウン回路３５は、テストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２を介してテストイネーブルスイッチ２４１及び２４２に夫々供給されるテストイネーブル信号が変動しないようにテストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２の電位を安定化させる。
【００６３】
尚、下側遮光膜５０１は、ＴＦＴアレイ基板１０の画像表示領域１０ａの周辺領域に形成されている。より具体的には、画像表示領域１０ａの周辺領域のうちテスト回路４０が形成された領域において、テスト回路４０を構成するスイッチング素子や容量などの各種素子、あるいは配線などの下層側にも形成されている。
【００６４】
次に図３を参照しながら、画素部７０の検査手順について説明する。尚、画素部７０の検査は、液晶装置１でＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０が貼り合わされる前段階で好ましくは実施される。
【００６５】
図３において、この検査時には、例えば、先ず、画素部７０が備える蓄積容量に検査信号が供給される。
【００６６】
次に、画素部７０毎に設けられた画素スイッチング用のＴＦＴがオフ状態にされる。
【００６７】
次に、複数のデータ線Ｓｉの電位が０Ｖにされる、即ち電位が０Ｖであるリフレッシュ信号が供給され、リフレッシュされる。この際、画素スイッチング用のＴＦＴはオフ状態であるので、画素部７０の蓄積容量に供給された検査信号はそのまま保持されている。
【００６８】
次に、データ線群Ｇｒｋ毎に、テストイネーブル回路２１０から供給されるテストイネーブル信号に応じてテストイネーブルスイッチ２４１又は２４２がオンオフされることによって、２本のデータ線のうち検査すべき一のデータ線Ｓｉを介して検査信号がテスト配線８０に出力される。本実施形態では、各画素部７０から出力される検査信号はデータ線群Ｇｒｋ毎に、データ線Ｓｉの並び順に順次出力される。これにより、テスト配線ＴＸを介して検査回路３００およびメモリ３１０に検査信号が供給され、各画素部７０の不具合の有無が検査される。
【００６９】
以上のような検査は走査線Ｇｊ毎及びデータ線Ｓｉ毎に行われる。
【００７０】
本実施形態の液晶装置によれば、液晶パネルを有する液晶装置においても欠陥画素の発見を容易に行うことができる。しかも製造諸工程における比較的早い段階で、画素部７０の不具合の有無、即ち画素部の良否を判定することができるので、液晶装置の歩留まりを高めることができ、製造コストを低減することも可能である。
【００７１】
次に、図４乃至図９を参照しながら本実施形態の電気光学装置の中心的な内容を説明する。図４乃至図６は、周辺領域のうちテスト回路４０が設けられた領域Ａにおける配線構造の平面図であり、太い実線及び点線で各部を重ねて図示している。尚、図４乃至図６において、この順でＴＦＴアレイ基板１０の下層側に設けられた部分を太字で示している。より具体的には、図４は、ＴＦＴアレイ基板１０の第１層の部分を実線で示している。図５及び図６は、図４の上層側にある第２層及び第３層に設けられた部分を夫々太い実線で図示している。図７は、図４乃至図６のＶＩＩ−ＶＩＩ´線断面図であり、図８は、図４乃至図６のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ´線断面図である。
【００７２】
図４乃至図６において、ＴＦＴアレイ基板１０は、複数の下側遮光膜５０１、分離領域３０、絶縁膜９１及び９２、引き出し配線２４１ａ及び２４２ａ、電源配線９０、本発明の「第３導電膜」の夫々一例であるテストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２、並びにテスト配線ＴＸ、本発明の「導電部」の夫々一例であるコンタクトホールＣ１、Ｃ２及びＣ３を備えている。
【００７３】
図４において、下側遮光膜５０１は、画像表示領域１０ａの周辺に延びる周辺領域において平面的に見て夫々矩形の島状に形成されており、引き出し配線２４１ａ及び２４２ａが延びる方向（図中Ｙ方向）及びこの方向に交わる方向（図中Ｘ方向）に沿ってマトリクス状に形成されている。
【００７４】
なお、下側遮光膜５０１の形状は、設計上矩形にするのが最も簡易的であるが、完全な矩形に限らず、例えば、矩形の角を切り落とした八角形状や、矩形の角を曲線状にした形状など、外形が矩形に近い形状であればどのような形状であっても良い。
【００７５】
このような下側遮光膜５０１によれば、周辺領域に一枚の遮光膜が形成されている場合に比べて、下側遮光膜５０１の上層及び下層側に加わる応力を緩和でき、後述するクラックの発生及び伝播を低減できる。加えて、複数の下側遮光膜を互いに隔てる領域を狭く設定しておけば、複数の下側遮光膜５０１を互いに隔てるように格子状に延びる領域を介して画像表示領域１０ａに抜ける光をより低減でき、表示画像に影響を与えない程度に表示画像の画質の維持しつつ、クラック発生及びクラックの伝播を低減できる。
【００７６】
下側遮光膜５０１は、１種類の金属膜又は複数の金属膜によって構成されており、額縁遮光膜５３で反射された内面反射光等に起因して表示画像に生ずる縞状の明暗パターンを低減する。下側遮光膜５０１は、アルミニウム又はクロム等の遮光性を有する金属膜、或いはこれら金属膜が複数積層されることによって構成されている。下側遮光膜５０１は、画像表示領域１０ａの周辺に延びる周辺領域において、ＴＦＴアレイ基板１０に直接、下地絶縁膜或いは他の回路を構成する多層構造を介して間接的に形成されている。
【００７７】
図７において、分離領域３０は、複数の下側遮光膜５０１を互いに隔てるように格子状に延びる領域のうち下側遮光膜５０１の１辺に沿って（図中Ｙ方向に沿って）延びる分離領域Ｒ２に設けられている。分離領域３０は、複数の下側遮光膜５０１を覆う絶縁膜９１を形成する際に、絶縁膜９１を構成する絶縁材料の一部が分離領域Ｒ２において硬化したものである。
【００７８】
図５において、引き出し配線２４１ａ及び２４２ａは、絶縁膜９１上においてＹ方向に沿って延在するように夫々形成されており、且つ互いを隔てる分離領域Ｒ１が分離領域Ｒ２に重ならないように平面的に見てＸ方向に沿って配列された配列されている。したがって、液晶装置１の製造時又は動作時に分離領域３０に生じたクラックが絶縁膜９１を介して分離領域Ｒ１に伝播することを低減できる。より具体的には、例えばアルミニウム又はクロム等の金属膜によって構成された下側遮光膜５０１、及び半導体膜によって構成された引き出し配線２４１ａ及び２４２ａ膜に比べて機械的強度が劣る部分が重なることによるクラックの発生及び伝播を抑制できる。これにより、下側遮光膜５０１の上層側に形成された多層構造が、クラックの伝播によって損傷を受けることを低減できる。加えて引き出し配線２４１ａ及び２４２ａは、Ｘ方向に沿って複数の下側遮光膜５０１のピッチに応じたピッチで配列されているため、引き出し配線２４１ａ及び２４２ａと、複数の下側遮光膜５０１との間に作用する応力も低減できる。
【００７９】
テストイネーブルスイッチ２４１及び２４２の夫々のゲートから引き出された引き出し配線２４１ａ及び２４２ａは、コンタクトホールＣ１及びＣ２を介してテストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２の夫々に電気的に接続されている。
【００８０】
テストイネーブルスイッチ２４１及びＴＦＴ２４２の夫々のドレインから延びる引き出し配線２４１ｂ及び２４２ｂは、図中Ｘ方向に沿って配列されている。引き出し配線２４１ｂ及び２４２ｂは、コンタクトホールＣ３を介してテスト配線ＴＸに電気的に接続されており、テストイネーブルスイッチ２４１及び２４２に夫々のオンオフに応じて検査信号をテスト配線ＴＸに出力する。これにより、各画素部７０から出力された検査信号が画像表示領域１０ａの周辺領域又は液晶装置１の外部に設けられた検査回路に出力される。
【００８１】
図６において、テスト配線ＴＸ、テストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２、並びに電源配線９０は、Ｘ方向に沿って延在されている。
【００８２】
図６及び図８において、例えばアルミニウム等の金属膜で構成された電源配線９０は、分離領域３０の上側に延びているものの、分離領域Ｒ１及びＲ２は平面的に見て重なっていない。したがって、分離領域３０で生じたクラックが電源配線９０に伝播し、電源配線９０が切断されることを低減できる。これにより、電源配線９０を介して駆動電源を受け取る、例えばＴＦ回路２１０、Ｙ−ドライバ回路１０４及びＸ−ドライバ回路１０１に駆動電源が支障なく供給される。
【００８３】
次に、本実施形態の分離領域Ｒ１及びＲ２の配置関係が、クラックの伝播を低減する上で特に有用な場合を説明する。図９は、下側遮光膜を互いに隔てる領域の幅と、分離領域３０に発生するクラックとの関係を比較した図であり、図９（ａ）乃至（ｃ）の夫々は、図８の断面図に対応している。尚、以下で述べる分離領域Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ及びＲ２ｃと、分離部におけるクラックの発生との関係は一例であり、下側遮光膜の形状、幅、及び膜厚、下側遮光膜を覆う絶縁膜の膜厚、絶縁膜を構成する絶縁材料並びに硬化条件に応じて、クラックが発生しやすい分離領域の幅寸法は異なることに留意されたい。
【００８４】
図９（ａ）において、分離領域Ｒ２ａの幅が１μｍ未満の場合には分離領域に絶縁材料が一様に入り込み、分離領域３０ａの上面は平坦面となる。したがって、クラックが発生する一因である窪みが分離部に形成されない。
【００８５】
図９（ｃ）において、分離領域Ｒ２ｃの幅が６μｍ以上の場合には分離領域３０ｃの上面はクラックを発生させない程度になだらかになり、分離領域３０ｃにクラックが発生しにくい。
【００８６】
図９（ｂ）において、分離領域Ｒ２ｂの幅が３μｍ以上５μｍ以下の場合には、実験的或いは理論的に分離領域３０ｂの上面に窪みが発生し易くなる。よって、本実施形態では、分離領域Ｒ２の幅が３μｍ以上５μｍ以下の場合にクラックの発生及び伝播を効果的に低減できる。
【００８７】
以上により、本実施形態の液晶装置１によれば、クラックの発生及び伝播を低減でき、例えばテストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２の上層側に形成された電源配線９０がクラックの伝播によって切断されることを低減できる。これにより、液晶装置１の製造時又は動作時に生じる不具合を低減でき、歩留まり及び信頼性の向上を図ることが可能である。
【００８８】
（変形例）
次に図１０を参照しながら、上述の液晶装置１の変形例を説明する。本例の液晶装置が備える引き出し配線によれば、図４乃至図６に示した領域Ｂ１におけるクラックの発生、領域Ｂ１及びＢ２を介して電源配線９０に伝播するクラックを更に効果的に低減できる。尚、以下では、液晶装置１と共通する部分について共通の参照符号を付して説明し、詳細な説明は便宜省略する。図１０は、図４に対応するＴＦＴアレイ基板１０の第１層の部分を示した平面図である。
【００８９】
図１０において、引き出し配線２４１ｃ及び２４２ｃを互いに分離する分離領域Ｒ１ａ及び分離領域Ｒ２に重なっていないため、分離領域３０で発生したクラックの伝播を上述の液晶装置１と同様に低減できる。
【００９０】
加えて、テストイネーブルスイッチ２４１及び２４２のゲートに電気的に接続された引き出し配線２４１ｃ及び２４２ｃの平面形状は、下側遮光膜５０１の分離領域Ｒ２の中心線ＣＬ１及びＣＬ２の夫々を中心としてＸ方向に沿って対称な形状である。
【００９１】
引き出し配線２４１ｃ及び２４２ｃによれば、例えば、引き出し配線２４１ｃ及び２４２ｃを蒸着法或いはスパッタ法等の薄膜形成法を用いて絶縁膜９１上に成膜する際に、これら配線から絶縁膜９１に作用する応力を低減でき、間接的に分離領域３０に作用する応力を低減できる。したがって、分離領域３０で発生するクラックを低減できると共に、引き出し配線２４１ｃ及び２４２ｃの下層側に応力が作用することによってクラックが伝播し易くなることを効果的に抑制できる。より具体的には、図４乃至図６に示した領域Ｂ１及びＢ２を介してクラックが電源配線９０に伝播することを低減できる。
【００９２】
引き出し配線２４１ｃ及び２４２ｃは、図中Ｙ方向に沿って互いに異なる長さとなるように形成されている。引き出し配線２４１ｃ及び２４２ｃは、図中Ｙ方向に沿ってずらして配設されたテストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２の夫々にコンタクトホールＣ１ａ及びＣ２ａの夫々を介して電気的に接続されている。したがって、引き出し配線２４１ｃ及び２４２ｃによれば、分離領域Ｒ２上に引き出し配線２４１ｃ及び２４２ｃの夫々を形成しつつ、引き出し配線２４１ｃ及び２４２ｃを同一層に形成されたテストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２の夫々に電気的に接続できる。これにより、ＴＦＴアレイ基板１０上に形成された多層構造を複雑な層構造にすることなく、引き出し配線２４１ｃ及び２４２をテストイネーブル配線Ｔ１及びＴ２に電気的に接続できる。
＜電子機器＞
次に図１１乃至図１３を参照しながら、上述した液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。
【００９３】
まず、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。図１１は、プロジェクタの構成例を示す平面図である。図１１に示されるように、プロジェクタ１１００内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット１１０２が設けられている。このランプユニット１１０２から射出された投射光は、ライトガイド１１０４内に配置された４枚のミラー１１０６および２枚のダイクロイックミラー１１０８によってＲＧＢの３原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇに入射される。
【００９４】
液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるＲ、Ｇ、Ｂの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム１１１２に３方向から入射される。このダイクロイックプリズム１１１２においては、ＲおよびＢの光が９０度に屈折する一方、Ｇの光が直進する。したがって、各色の画像が合成される結果、投射レンズ１１１４を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。
【００９５】
ここで、各液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇによる表示像について着目すると、液晶パネル１１１０Ｇによる表示像は、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂによる表示像に対して左右反転することが必要となる。
【００９６】
なお、液晶パネル１１１０Ｒ、１１１０Ｂおよび１１１０Ｇには、ダイクロイックミラー１１０８によって、Ｒ、Ｇ、Ｂの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルタを設ける必要はない。
【００９７】
次に、液晶装置を、モバイル型のパーソナルコンピュータに適用した例について説明する。図１２は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。図１２において、コンピュータ１２００は、キーボード１２０２を備えた本体部１２０４と、液晶表示ユニット１２０６とから構成されている。この液晶表示ユニット１２０６は、先に述べた液晶装置１５の背面にバックライトを付加することにより構成されている。
【００９８】
さらに、液晶装置を、携帯電話に適用した例について説明する。図１３は、この携帯電話の構成を示す斜視図である。図１３において、携帯電話１３００は、複数の操作ボタン１３０２とともに、反射型の液晶装置１５を備えるものである。この反射型の液晶装置にあっては、必要に応じてその前面にフロントライトが設けられる。
【００９９】
尚、図１１から図１３を参照して説明した電子機器の他にも、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。
【０１００】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置及び該電気光学装置を備えてなる電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ´の断面図である。
【図３】ＴＦＴアレイ基板１０の主要な回路構成を示す回路図である。
【図４】ＴＦＴアレイ基板１０の第１層の平面図である。
【図５】ＴＦＴアレイ基板１０の第２層の平面図である。
【図６】ＴＦＴアレイ基板１０の第３層の平面図である。
【図７】図４乃至図６のＶＩＩ−ＶＩＩ´線断面図である。
【図８】図４乃至図６のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ´線断面図である。
【図９】下側遮光膜を互いに隔てる領域の幅と、分離部に発生するクラックとの関係を比較するための図である。
【図１０】変形例におけるＴＦＴアレイ基板１０の第１層の部分を示した平面図である。
【図１１】電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクタの構成を示す平面図である。
【図１２】電気光学装置を適用した電子機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図１３】電気光学装置を適用した電子機器の一例たる携帯電話の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１０２】
９ａ…画素電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、２０…対向基板、２１…対向電極、３０…分離領域、７０…画素部、９０…電源配線、１０１…Ｘ−ドライバ回路、１０２…外部回路接続端子、１０４…Ｙ−ドライバ回路、２１０…テストイネーブル回路、２４１ａ，２４２ａ，２４１ｃ，２４２ｃ…引き出し配線、Ｔ１，Ｔ２…テストイネーブル配線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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