(57)【要約】【課題】  広い露光フィールドと充分な光量を有し、更にコストを抑えた良好な反射屈折光学系を提供する。【解決手段】  物体面Ｍより光の進行方向に沿って、所望の屈折力を有する第１の屈折レンズ群Ｇ１と、発散作用を有する第１の反射レンズ群Ｇ２と、集光作用を有し、中心部に開口を有する第２の反射レンズＧ３群と、３枚以上のレンズで構成され、最も前記第２の反射レンズＧ３群側に第１集光レンズ群Ｇ５を有し、前記光の進行方向に沿って正負正の屈折力配置を有する第２屈折レンズ群Ｇ４を備え、  （１）−０．９  ＜  φ１／φｒ２  ＜  １．７  （２）−１．５  ＜  φｒ１／φｒ２  ＜  −０．５  （３）  ０．１  ＜  φ２／φｒ２  ＜  ０．７  （４）  ０．３  ＜  φ２ａ／φ２    ＜  １．４の条件を満足する。但し、φ１は、第１の屈折レンズ群の屈折力、φｒ１は、第１の反射レンズ群の屈折力、φｒ２は、第２の反射レンズ群の屈折力、φ２は、第２の屈折レンズ群の屈折力、φ２ａは、第２屈折レンズ群中の第１集光レンズ群の屈折力。【選択図】図１
2007206319.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体面より光の進行方向に沿って、
所望の屈折力を有する第１の屈折レンズ群と、
発散作用を有する第１の反射レンズ群と、
集光作用を有し、中心部に開口を有する第２の反射レンズ群と、
３枚以上のレンズで構成され、最も前記第２の反射レンズ群側に第１集光レンズ群を有し、前記光の進行方向に沿って正負正の屈折力配置を有する第２屈折レンズ群を備え、
以下に示す（１）〜（４）の条件を満足することを特徴とする反射屈折光学系。
（１）−０．９  ＜  φ１／φｒ２  ＜  １．７
（２）−１．５  ＜  φｒ１／φｒ２  ＜  −０．５
（３）  ０．１  ＜  φ２／φｒ２  ＜  ０．７
（４）  ０．３  ＜  φ２ａ／φ２    ＜  １．４
但し、
φ１  ：第１の屈折レンズ群の屈折力
φｒ１：第１の反射レンズ群の屈折力
φｒ２：第２の反射レンズ群の屈折力
φ２  ：第２の屈折レンズ群の屈折力
φ２ａ：第２屈折レンズ群中の第１集光レンズ群の屈折力
【請求項２】
軸外より最終像面に向かう光束の主光線が光軸に近づく方向に傾斜していることを特徴とする請求項１記載の反射屈折光学系。
【請求項３】
最大物体高の前記物体面より入射する光束の主光線の傾斜角θ１が、以下に示す条件を満足することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の反射屈折光学系。
−１０゜＜θ１＜２゜
ただし、物体から発せられた光線が光軸から離れる方向の傾斜角度を＋とする。
【請求項４】
前記第１の屈折レンズ群、前記第１の反射レンズ群、前記第２の反射レンズ群及び前記第２屈折レンズ群を構成する屈折部材は全て同一の硝材で構成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の反射屈折光学系。
【請求項５】
前記同一の硝材は、石英であることを特徴とする請求項４記載の反射屈折光学系。
【請求項６】
光源から射出される照明光により照明された所定のパターンを投影光学系を介して感光性基板上に露光する露光装置において、
請求項１乃至請求項５の何れか一項に記載の反射屈折光学系により構成される投影光学系を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体露光装置、液晶基板露光装置、プリント基板露光装置といった、所望の面に精密なパターンを投射して回路パターンを形成する露光装置に用いる反射屈折光学系、該反射屈折光学系を備える露光装置、該露光装置を用いるマイクロデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、パソコン、テレビ等に用いられる表示素子として、液晶表示パネルが多用されるようになっている。液晶表示パネルは、ガラス基板（プレート）上に透明薄膜電極をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターンニングすることによって製造される。このフォトリソグラフィ工程のための装置として、マスク上に形成された原画パターンを屈折型の投影光学系を介してプレート上のフォトレジスト層に投影露光する投影露光装置が用いられている。
【０００３】
投影露光装置が備える投影光学系には、屈折光学部材だけにより構成される屈折光学系、屈折光学系及び反射光学系により構成される反射屈折光学系等が存在するが、反射屈折光学系は、光学系内に反射面を持つため、色収差の発生が少なく、ペッツバール和の増大を抑えることが比較的容易で平坦な像を得やすいという光学的な利点を有する（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開平７−５７９８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら上述の反射屈折光学系は、視野をプリズム等で分割して、一方を物体面、他方を像面としていたため、実質的に視野をイメージサークルの半分以下しか採ることが出来ず、縦横比が等しい正方形に近い形で大きな露光フィールドを得ることは困難であった。
【０００６】
この発明の課題は、広い露光フィールドと充分な光量を有し、更にコストを抑えた良好な反射屈折光学系、該反射屈折光学系を備えた露光装置、該露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明の反射屈折光学系は、物体面より光の進行方向に沿って、所望の屈折力を有する第１の屈折レンズ群（Ｇ１）と、発散作用を有する第１の反射レンズ群（Ｇ２）と、集光作用を有し、中心部に開口を有する第２の反射レンズ群（Ｇ３）と、３枚以上のレンズで構成され、最も前記第２の反射レンズ群側に第１集光レンズ群（Ｇ５）を有し、前記光の進行方向に沿って正負正の屈折力配置を有する第２屈折レンズ群（Ｇ４）を備え、以下に示す（１）〜（４）の条件を満足することを特徴とする。
【０００８】
（１）−０．９  ＜  φ１／φｒ２  ＜  １．７
（２）−１．５  ＜  φｒ１／φｒ２  ＜  −０．５
（３）  ０．１  ＜  φ２／φｒ２  ＜  ０．７
（４）  ０．３  ＜  φ２ａ／φ２    ＜  １．４
但し、
φ１  ：第１の屈折レンズ群の屈折力
φｒ１：第１の反射レンズ群の屈折力
φｒ２：第２の反射レンズ群の屈折力
φ２  ：第２の屈折レンズ群の屈折力
φ２ａ：第２屈折レンズ群中の第１集光レンズ群の屈折力。
【０００９】
また、この発明の露光装置は、光源から射出される照明光により照明された所定のパターンを投影光学系を介して感光性基板（Ｐ）上に露光する露光装置において、この発明の反射屈折光学系により構成される投影光学系（ＰＬ１）を備えることを特徴とする。
【００１０】
また、この発明のマイクロデバイスの製造方法は、この発明の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板（Ｐ）上に露光する露光工程と、前記露光工程により露光された前記感光性基板（Ｐ）を現像する現像工程とを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
この発明の反射屈折光学系によれば、上記（１）の条件式の下限値を下回る場合、物体からの光束が強く発散されて大きく広がってしまうため、第１の反射レンズ群が大きくなって光束の中心部分の不使用領域が大きくなり、良好な結像性能が得られない。また光量も低下してしまう。また、上記（１）の条件式の上限を上回る場合、第１の屈折レンズ群と第１の反射レンズ群とを充分に離したレイアウトを実現することが困難となり、第１の屈折レンズ群が第１の反射レンズ群と第２の反射レンズ群の間に配置されるようなレイアウトになってしまい、レンズ保持などの物理的な構成が困難になってしまうほか、光束のけられ量が大きくなり、良好な結像性能が得られずまた光量も低下してしまう。
【００１２】
また、上記（２）の条件式の下限値を下回る場合、または上限値を上回る場合は、どちらもペッツバール和を０近傍にすることが困難となり像面湾曲の補正が困難となる。更に、上記（３）の条件式の下限値を下回る場合、第２の反射レンズ群にて集光される集光角が大きくなるため第１の反射レンズ群でけられる光束が大きくなり、良好な結像性能が得られずまた光量も低下してしまう。上記（３）の条件式の上限値を上回る場合、第２屈折レンズ群のパワーが強くなりすぎて屈折レンズによる色収差の発生が甚大となり補正困難となる。
【００１３】
また、上記（４）の条件式の下限値を下回る場合、第２の屈折レンズ群を構成する、正負正のレンズ群のうちの像面に近い側の正の群が強くなりすぎ、これに伴うコマ収差の発生が甚大となり補正困難となる。また上記（４）の条件式の上限値を上回る場合、第２の屈折レンズ群を構成する、正負正のレンズ群のうちの物体面に近い側の正の群が強くなりすぎ、これに伴うコマ収差の発生が甚大となり補正困難となる。
【００１４】
また、この発明の露光装置によれば、広い露光フィールドと充分な光量を有し、更にコストを抑えた良好な反射屈折光学系を備えるため、広い露光フィールドで良好な露光を行うことができる。
【００１５】
また、この発明のマイクロデバイスの製造方法によれば、広い露光フィールドと充分な光量を有し、更にコストを抑えた良好な反射屈折光学系を備える露光装置により露光を行なうため、良好なマイクロデバイスの製造を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態について説明する。図１〜図１２は、この発明の第１〜第１２の実施の形態にかかる反射屈折光学系の構成を示す図である。各実施の形態にかかる反射屈折光学系ＰＬ１〜ＰＬ１２は、軸外より最終像面（ウエハ面）に向かう光束の主光線ｂ１〜ｂ１２が光軸に近づく方向に傾斜しており、また、最大物体高の物体面（マスク面）より入射する光束の主光線ａ１〜ａ１２の傾斜角θ１が、
−１０゜＜θ１＜２゜
の条件を満足する。ただし、この場合に物体面から発せられた光線が光軸から離れる方向の傾斜角度を＋とする。
【００１７】
各実施の形態にかかる反射屈折光学系ＰＬ１〜ＰＬ１２は、物体面（即ちマスクＭ１〜Ｍ１２側）より光の進行方向に沿って、所望の屈折力を有する第１の屈折レンズ群Ｇ１と、発散作用を有する第１の反射レンズ群Ｇ２と、集光作用を有し、中心部に開口を有する第２の反射レンズ群Ｇ３と、３枚以上のレンズで構成され、最も前記第２の反射レンズ群側に第１集光レンズ群Ｇ５を有し、光の進行方向に沿って正負正の屈折力を有する第２屈折レンズ群Ｇ４を備え、以下に示す（１）〜（４）の条件を満足する。
【００１８】
（１）−０．９  ＜  φ１／φｒ２  ＜  １．７
（２）−１．５  ＜  φｒ１／φｒ２  ＜  −０．５
（３）  ０．１  ＜  φ２／φｒ２  ＜  ０．７
（４）  ０．３  ＜  φ２ａ／φ２    ＜  １．４
但し、
φ１  ：第１の屈折レンズ群の屈折力
φｒ１：第１の反射レンズ群の屈折力
φｒ２：第２の反射レンズ群の屈折力
φ２  ：第２の屈折レンズ群の屈折力
φ２ａ：第２屈折レンズ群中の第１集光レンズ群の屈折力
図１に示す第１の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ１側)から像面Ｗ１に向けて光線の進行方向に沿って、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ１１、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ１２、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ１３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ１４により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ１４は、裏面反射鏡として用いられる。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ１５により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ１５は、裏面反射鏡として用いられる。
【００１９】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１６、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ１７、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１８により構成される。なお、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１６は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成し、第２屈折レンズ群Ｇ４は、レンズＬ１６，Ｌ１７，Ｌ１８で正負正の屈折力配置（パワー配置）を有する。
【００２０】
図２に示す第２の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ２側)から像面Ｗ２に向けて光線の進行方向に沿って、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ２１、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ２２、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ２３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、両凹レンズＬ２４により構成されている。なお、両凹レンズＬ２４は、裏面反射鏡として用いられる。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ２５により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ２５は、裏面反射鏡として用いられる。
【００２１】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ２６、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ２７、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ２８、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ２９により構成される。なお、正メニスカスレンズＬ２６及び正メニスカスレンズＬ２７は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成する。または、第２屈折レンズ群Ｇ４は、レンズＬ２６とＬ２７で正、レンズＬ２８で負、レンズＬ２９で正のパワー配置を有する。
【００２２】
図３に示す第３の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ３側)から像面Ｗ３に向けて光線の進行方向に沿って、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ３１、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ３２、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ３３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、両凹レンズＬ３４により構成されている。なお、両凹レンズＬ３４は、裏面反射鏡として用いられる。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ３５により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ３５は、裏面反射鏡として用いられる。
【００２３】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ３６、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ３７、両凹レンズＬ３８、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ３９、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ４０により構成される。なお、正メニスカスレンズＬ３６及び正メニスカスレンズＬ３７は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成し、第２屈折レンズ群Ｇ４は、レンズＬ３６とＬ３７で正、レンズＬ３８とＬ３９で負、レンズＬ４０で正のパワー配置を有する。
【００２４】
図４に示す第４の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ４側)から像面Ｗ４に向けて光線の進行方向に沿って、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ４１、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ４２、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ４３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ４４により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ４４は、裏面反射鏡として用いられる。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ４５により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ４５は、裏面反射鏡として用いられる。
【００２５】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、両凸レンズＬ４６、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ４７、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ４８により構成される。なお、両凸レンズＬ４６は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成する。
【００２６】
図５に示す第５の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ５側)から像面Ｗ５に向けて光線の進行方向に沿って、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ５１、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ５２、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ５３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、両凹レンズＬ５４により構成されている。なお、両凹レンズＬ５４は、裏面反射鏡として用いられる。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ５５により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ５５は、裏面反射鏡として用いられる。
【００２７】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ５６、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ５７、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ５８、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ５９により構成される。なお、正メニスカスレンズＬ５６及び正メニスカスレンズＬ５７は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成する。また、第２屈折レンズ群Ｇ４は、レンズＬ５６とＬ５７で正、レンズＬ５８で負、レンズＬ５９で正のパワー配置を有する。
【００２８】
図６に示す第６の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ６側)から像面Ｗ６に向けて光線の進行方向に沿って、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ６１、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ６２、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ６３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、両凹レンズＬ６４により構成されている。なお、両凹レンズＬ６４は、裏面反射鏡として用いられる。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ６５により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ６５は、裏面反射鏡として用いられる。
【００２９】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ６６、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ６７、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ６８、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ６９、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ７０により構成される。なお、正メニスカスレンズＬ６６、Ｌ６７は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成する。第２屈折レンズ群Ｇ４は、レンズＬ６６とＬ６７で正、レンズＬ６８で負、レンズＬ６９とＬ７０で正のパワー配置を有する。
【００３０】
図７に示す第７の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ７側)から像面Ｗ７に向けて光線の進行方向に沿って、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ７１、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ７２、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ７３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ７４、物体側に凸面である反射面を向けた反射鏡Ｒ７１により構成されている。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ７５、像側に凹面である反射面を向けた反射鏡Ｒ７２により構成されている。
【００３１】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ７６、両凹レンズＬ７７、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ７８により構成される。なお、正メニスカスレンズＬ７６は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成する。
【００３２】
図８に示す第８の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ８側)から像面Ｗ８に向けて光線の進行方向に沿って、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ８１、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ８２、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ８３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ８４により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ８４は、裏面反射鏡として用いられる。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ８５により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ８５は、裏面反射鏡として用いられる。
【００３３】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、両凸レンズＬ８６、両凹レンズＬ８７、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ８８により構成される。なお、両凸レンズＬ８６は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成する。
【００３４】
図９に示す第９の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ９側)から像面Ｗ９に向けて光線の進行方向に沿って、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ９１、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ９２、両凸レンズＬ９３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、両凹レンズＬ９４により構成されている。なお、両凹レンズＬ９４は、裏面反射鏡として用いられる。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ９５により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ９５は、裏面反射鏡として用いられる。
【００３５】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、両凸レンズＬ９６、両凹レンズＬ９７、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ９８により構成される。なお、両凸レンズＬ９６は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成する。
【００３６】
図１０に示す第１０の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ１０側)から像面Ｗ１０に向けて光線の進行方向に沿って、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ１０１、両凹レンズＬ１０２、両凸レンズＬ１０３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ１０４により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ１０４は、裏面反射鏡として用いられる。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ１０５により構成されている。なお、負メニスカスレンズＬ１０５は、裏面反射鏡として用いられる。
【００３７】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、両凸レンズＬ１０６、両凹レンズＬ１０７、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１０８により構成される。なお、両凸レンズＬ１０６は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成し、第２屈折レンズ群Ｇ４は、レンズＬ１０６，Ｌ１０７，Ｌ１０８で正負正のパワー配置を有する。
【００３８】
図１１に示す第１１の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ１１側)から像面Ｗ１１に向けて光線の進行方向に沿って、両凹レンズＬ１１１、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ１１２、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ１１３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１１４、物体側に凸面である反射面を向けた反射鏡Ｒ１１１により構成されている。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ１１５、像側に凹面である反射面を向けた反射鏡Ｒ１１２により構成されている。
【００３９】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１１６、両凹レンズＬ１１７、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１１８により構成される。なお、正メニスカスレンズＬ１１６は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成する。
【００４０】
図１２に示す第１２の実施の形態において、第１の屈折レンズ群Ｇ１は、物体面(マスクＭ１２側)から像面Ｗ１２に向けて光線の進行方向に沿って、両凹レンズＬ１２１、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズＬ１２２、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズＬ１２３により構成されている。第１の反射レンズ群Ｇ２は、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１２４、物体側に凸面である反射面を向けた反射鏡Ｒ１２１により構成されている。第２の反射レンズ群Ｇ３は、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ１２５、像側に凹面である反射面を向けた反射鏡Ｒ１２２により構成されている。
【００４１】
第２屈折レンズ群Ｇ４は、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１２６、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズＬ１２７、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズＬ１２８により構成される。なお、正メニスカスレンズＬ１２６は、第１集光レンズ群Ｇ５を構成する。
【００４２】
上述の第１〜第１２の反射屈折光学系ＰＬ１〜ＰＬ１２によれば、上記（１）の条件式を満たすため、物体からの光束の発散を小さくし第１の反射レンズ群を小さくでき、また光束の中心部分の不使用領域を小さくでき、良好な結像性能を得ることができる。また光量の低下も抑制することができる。また、上記（１）の条件式を満たすため、第１の屈折レンズ群と第１の反射レンズ群とを充分に離したレイアウトを実現することができ、光束のけられ量を小さくすることができ、光量の低下を抑制し良好な結像性能を得ることができる。
【００４３】
また、上記（２）の条件式を満たしているため、ペッツバール和を０近傍にすることが容易になり像面湾曲の補正を容易に行うことができる。更に、上記（３）の条件式を満たしているため、第２屈折レンズ群のパワーの増大を抑制し、色収差の発生を小さく抑えることができる。また、第２の反射レンズ群にて集光される集光角を小さくでき、第１の反射レンズ群でけられる光束を小さくでき、光量の低下を抑制し良好な結像性能を得ることができる。
【００４４】
また、上記（４）の条件式を満たしているため、第２の屈折レンズ群を構成する、正負正のレンズ群のうちの像面に近い側の正の群が強くなりすぎるのを防止でき、コマ収差の発生量を小さく抑えることができ補正を容易に行うことができる。また上記（４）の条件式を満たすため、第２の屈折レンズ群を構成する、正負正のレンズ群のうちの物体面に近い側の正の群が強くなりすぎるのを防止でき、コマ収差の発生量を小さく抑えることができ、補正を容易に行うことができる。
【００４５】
また、最大物体高の物体面より入射する光束の主光線ａ１〜ａ１２の傾斜角θ１が、
−１０゜＜θ１＜２゜
の条件を満足しているため、第１反射レンズ群Ｇ２の反射面を小さくすることができる。
【００４６】
次に、図１３を参照して、第１３の実施の形態としての、上述の第１〜第１２の実施の形態にかかる反射屈折光学系ＰＬ１〜ＰＬ１２を備えた投影露光装置について説明する。図１３は、この発明の第１３の実施の形態にかかるステップアンドリピート方式の投影露光装置の概略構成を示す図である。また、以下の説明においては、図１３中に示すＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＹ軸がウエハＷに対して平行となるよう設定され、Ｚ軸がウエハＷに対して直交する方向に設定されている。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。
【００４７】
この第１３の実施の形態にかかる投影露光装置は、図１３に示すように、光源を含み、オプティカル・インテグレータ、視野絞り、コンデンサレンズ等から構成される照明光学系ＩＬを備えている。光源から射出された露光光は、照明光学系ＩＬを通過し、マスクＭに設けられたパターンを照明する。マスクＭを通過した光は、第１〜第１２の実施の形態にかかる反射屈折光学系ＰＬ１〜ＰＬ１２の何れかを介して、外径が５００ｍｍより大きいフラットパネルディスプレイ用のプレート（またはウエはＷ）Ｐ上の露光領域に投影露光する。ここで、外径が５００ｍｍよりも大きいとは、一辺若しくは対角線が５００ｍｍよりも大きいことをいう。
【００４８】
また、マスクＭはマスクステージＭＳＴ上に保持されている。マスクステージＭＳＴは、Ｘ方向、Ｙ方向に微動可能、及びＺ方向を軸として微小に回転可能に構成されている。マスクステージＭＳＴは、マスクレーザ干渉計（図示せず）によってＸ方向、Ｙ方向及び回転方向の位置をリアルタイムに計測され、且つ制御されている。
【００４９】
また、プレートＰはプレートステージＰＳＴ上に保持されている。プレートステージＰＳＴは、Ｘ方向、Ｙ方向に移動可能、及びＺ方向を軸として回転可能に構成されている。プレートステージＰＳＴは、ウエハレーザ干渉計（図示せず）によってＸ方向、Ｙ方向及び回転方向の位置をリアルタイムに計測され、且つ制御されている。
【００５０】
この投影露光装置に備えられている制御部６は、マスクレーザ干渉計により計測された計測値に基づいてマスクＭのＸ方向、Ｙ方向及び回転方向の位置の調整を行なう。即ち、制御部６は、マスクステージ駆動部８に制御信号を送信し、マスクステージＭＳＴを微動させることによりマスクＭの位置調整を行なう。
【００５１】
また、制御部６は、プレートレーザ干渉計により計測された計測値に基づいてプレートＰのＸ方向、Ｙ方向及び回転方向の位置の調整を行なう。即ち、制御部６は、基板ステージ駆動部１０に制御信号を送信し、基板ステージ駆動部１０によりプレートステージＰＳＴを駆動させることによりプレートＰのＸ方向、Ｙ方向及び回転方向の位置調整を行なう。
【００５２】
露光時には、制御部６は、基板ステージ駆動部１０に制御信号を出力し、プレートＰを載置するプレートステージＰＳＴを駆動させることによりプレートＰ上の各ショット領域を順次露光位置にステップ移動させる。即ち、ステップアンドリピート方式によりマスクＭのパターン像をプレートＰ上に露光する動作を繰り返す。
【００５３】
この第１３の実施の形態にかかる投影露光装置によれば、広い露光領域、高い解像力及び良好な光学特性を有する反射屈折光学系を備えているため、プレート上に微細なパターンを高スループットで露光することができる。
【００５４】
なお、第１３の実施の形態はマスクＭのパターン像をプレートＰ上に一括露光する露光装置であったが、これに限られることなく、反射屈折光学系ＰＬ１〜ＰＬ１２に対してプレートＰを走査方向に移動させつつ露光を行う走査型露光装置（ステップアンドスキャン方式の露光装置）としても良い。
【００５５】
なお、本発明による反射屈折型光学系ＰＬ１〜ＰＬ１２は、装置の仕様あるいはレイアウトの都合により、前述の説明とは逆方向に光学系を通して使用してもよい。この場合、光学倍率βがβ＝−１の光学系については倍率は変わらないが、それ以外のものについては拡大光学系は縮小光学系に、縮小光学系については拡大光学系となる。
【００５６】
上述の実施の形態にかかる投影露光装置では、照明光学系によってマスクＭを照明し（照明工程）、この発明の第１〜第１２の実施の形態にかかる反射屈折光学系ＰＬ１〜ＰＬ１２を備える露光装置を用いて、マスクに形成された転写用のパターンを感光性基板（プレート）に露光する（露光工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて感光性基板としてのプレート等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図１４のフローチャートを参照して説明する。
【００５７】
先ず、図１４のステップ３０１において、１ロットのプレート上に金属膜が蒸着される。次のステップ３０２において、その１ロットのプレート上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ３０３において、上述の実施の形態にかかる露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その１ロットのプレート上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ３０４において、その１ロットのプレート上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ３０５において、その１ロットのプレート上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各プレート上の各ショット領域に形成される。
【００５８】
その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、高解像度を有し、かつ収差が良好に補正されている投影光学系を備えた露光装置を用いて露光を行なっているため、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスを得ることができる。なお、ステップ３０１〜ステップ３０５では、プレート上に金属を蒸着し、その金属膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチングの各工程を行っているが、これらの工程に先立って、プレート上にシリコンの酸化膜を形成後、そのシリコンの酸化膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチング等の各工程を行っても良いことはいうまでもない。
【００５９】
また、上述の実施の形態にかかる露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図１５のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図１５において、パターン形成工程４０１では、本実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィ工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルタ形成工程４０２へ移行する。
【００６０】
次に、カラーフィルタ形成工程４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルタの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルタを形成する。そして、カラーフィルタ形成工程４０２の後に、セル組み立て工程４０３が実行される。セル組み立て工程４０３では、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルタ形成工程４０２にて得られたカラーフィルタ等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。セル組み立て工程４０３では、例えば、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルタ形成工程４０２にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。
【００６１】
その後、モジュール組み立て工程４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、高解像度を有し、かつ収差が良好に補正されている投影光学系を備えた露光装置を用いて露光しているため、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子を得ることができる。
【００６２】
以下に実施例１〜実施例１２について説明するが、実施例１〜実施例１２にかかる反射屈折光学系の構成は、図１〜図１２に示す第１〜第１２の実施の形態にかかる反射屈折光学系の構成とそれぞれ同一であるため、実施例１〜実施例１２にかかる反射屈折光学系の説明には、第１〜第１２の実施の形態にかかる反射屈折光学系の説明で用いた符号を用いる。また、実施例１〜実施例１２にかかる反射屈折光学系ＰＬ１〜ＰＬ１２の光学部材諸元を表１〜表１２に示す。表１〜表１２の光学部材諸元においては、第１カラムの面番号は物体側からの光線進行方向に沿った面の順序、第２カラムは各面の曲率半径（ｍｍ）、第３カラムの面間隔は光軸上の面間隔（ｍｍ）、第４カラムは光学部材の硝材の種類をそれぞれ示している。
【００６３】
また、図１６〜図２７は第１〜第１２実施例にかかる反射屈折光学系ＰＬ１〜ＰＬ１２のタンジェンタル方向及びサジタル方向における収差図である。図１６〜図２７において、Ｙは物体高を示し、一点鎖線は波長３６５．０１５０ｎｍ、破線は波長４０４．６５６０ｎｍ、実線は波長４３５．８３５０ｎｍにおける収差をそれぞれ示している。
【実施例１】
【００６４】
実施例１にかかる反射屈折光学系ＰＬ１の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −１倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝１．０２２  
φｒ１／φｒ２＝−０．８０１  
φ２／φｒ２＝０．２８１  
φ２ａ／φ２＝０．６２１  
θ１＝−３．４９
（表１）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材      
OBJ:        INFINITY       40.000000                        
1:      -128.68355       21.966714       'SIO2'       
2:      -122.12281       11.906648                
3:       -94.81246       20.000000       'SIO2'        
4:      -144.01630        2.000000                     
5:      -830.19014       32.681562       'SIO2'        
6:      -138.57267      277.050429                      
7:      1463.56525       60.000000       'SIO2'         
STO:      1243.01126      -60.000000  REFL 'SIO2'         
9:      1463.56525     -325.605353                     
10:       611.52098      -20.000000       'SIO2'         
11:       825.10003       20.000000  REFL 'SIO2'          
12:       611.52098      385.605353                      
13:       488.61920       60.000000       'SIO2'          
14:      1203.81126      548.555628                       
15:       194.85133       60.000000       'SIO2'          
16:        85.71301        2.000000                      
17:        83.10690       60.000000       'SIO2'          
18:       168.88493       43.839019                       
IMG:        INFINITY        0.000000                      
図１６の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【実施例２】
【００６５】
実施例２にかかる反射屈折光学系ＰＬ２の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −１倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝１．６７７  
φｒ１／φｒ２＝−０．９８４  
φ２／φｒ２＝０．６１３  
φ２ａ／φ２＝  １．１５３
θ１＝１．６３
（表２）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材      
OBJ:        INFINITY       40.000000                    
1:      -244.47557       60.000000       'SIO2'        
2:      -135.32018       19.331452                     
3:       -84.50694       20.000000       'SIO2'        
4:       -95.22919        2.000000                    
5:      -492.74833       20.000000       'SIO2'           
6:      -174.34368      339.046163                     
7:     -1395.29887       20.000000       'SIO2'           
STO:      2325.15288      -20.000000  REFL 'SIO2'          
9:     -1395.29887     -360.377615                       
10:       615.17311      -60.000000       'SIO2'           
11:       878.28164       60.000000  REFL 'SIO2'           
12:       615.17311      400.377615                        
13:    -20090.06594       23.541244       'SIO2'      
14:      -940.61600        2.000000                    
15:       439.29212       60.000000       'SIO2'          
16:      1338.53273       15.287882                        
17:      9991.50867       60.000000       'SIO2'          
18:       352.37670      132.365630                        
19:       256.95911       60.000000       'SIO2'            
20:       606.24089      346.427629                        
IMG:        INFINITY        0.000000                                         
図１７の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【実施例３】
【００６６】
実施例３にかかる反射屈折光学系ＰＬ３の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −１倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝１．３６８  
φｒ１／φｒ２＝−０．９１８  
φ２／φｒ２＝  ０．４８０
φ２ａ／φ２＝  ０．８７３
θ１＝−０．８７
（表３）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材        
OBJ:        INFINITY       40.000000                   
1:      -196.08960       50.804280       'SIO2'        
2:      -138.83997       16.777937                      
3:       -88.01280       20.000000       'SIO2'        
4:      -108.82948        2.000000                       
5:      -353.82910       20.482245       'SIO2'         
6:      -140.43347      301.773448                         
7:     -2324.62408       60.000000       'SIO2'           
STO:      2076.38768      -60.000000  REFL 'SIO2'           
9:     -2324.62408     -326.754637                         
10:       633.73300      -45.083273       'SIO2'         
11:       871.89316       45.083273  REFL 'SIO2'           
12:       633.73300      386.754637                         
13:     -2520.75987       20.000000       'SIO2'             
14:      -868.48671        2.000000                           
15:       528.46406       26.663164       'SIO2'       
16:      1637.20578       15.889081                          
17:    -28763.25747       20.000000       'SIO2'           
18:      1748.95577      344.910312                         
19:       948.77723       60.000000       'SIO2'           
20:       230.21114        2.000000                         
21:       185.82488       29.528268       'SIO2'              
22:      1122.29727      207.171313                          
IMG:        INFINITY        0.000000                        
図１８の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【実施例４】
【００６７】
実施例４にかかる反射屈折光学系ＰＬ４の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −１倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝１．３６８  
φｒ１／φｒ２＝−０．７１９  
φ２／φｒ２＝０．１８９  
φ２ａ／φ２＝０．３３３  
θ１＝−１．４５
（表４）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材        
OBJ:        INFINITY       40.000000                      
1:      -182.26665       20.000000       'A'         
2:      -107.01388       10.530709                         
3:       -91.60197       20.000000       'B'          
4:      -125.38744        2.000000                         
5:      -256.55857       59.955150       'A'         
6:      -150.57380      325.634144                           
7:      7549.50633       60.000000       'SIO2'             
STO:      2202.23545      -60.000000  REFL 'SIO2'            
9:      7549.50633     -398.120003                          
10:       661.06247      -20.000000       'SIO2'            
11:       963.65521       20.000000  REFL 'SIO2'             
12:       661.06247      458.120003                         
13:      1868.89762       20.000000       'A'         
14:    -11114.24047        2.000000                        
15:       421.50116       60.000000       'B'         
16:       349.63933        2.000000                         
17:       343.87316       60.000000       'A'         
18:       795.31102      557.868753                        
IMG:        INFINITY        0.000000                        
図１９の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【実施例５】
【００６８】
実施例５にかかる反射屈折光学系ＰＬ５の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −１倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝１．４９３  
φｒ１／φｒ２＝−０．７９３  
φ２／φｒ２＝０．４９２  
φ２ａ／φ２＝１．０１９  
θ１＝−０．１０
（表５）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材      
OBJ:        INFINITY       40.000000                        
1:      -380.58458       28.823876       'A'        
2:      -115.98600        8.922609                         
3:      -108.05503       60.000000       'B'        
4:      -179.65476       25.226100                          
5:      -389.95912       20.000000       'A'          
6:      -191.29737      323.458206                          
7:     -2328.15819       60.000000       'SIO2'             
STO:      2964.08426      -60.000000  REFL 'SIO2'             
9:     -2328.15819     -406.430790                          
10:       758.10839      -20.000000       'SIO2'            
11:       985.30704       20.000000  REFL 'SIO2'             
12:       758.10839      470.430790                          
13:     -1167.47674       20.000000       'A'         
14:      -851.87171        2.000000                        
15:       519.76066       30.238996       'A'       
16:      1860.89532       20.653358                        
17:     -2548.77614       20.000000       'B'          
18:     -3406.42936        2.000000                         
19:       261.69641       20.421879       'A'        
20:       257.80784      554.254976                        
IMG:        INFINITY        0.000000                       
図２０の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【実施例６】
【００６９】
実施例６にかかる反射屈折光学系ＰＬ６の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −１倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝１．５５３  
φｒ１／φｒ２＝−０．８４６  
φ２／φｒ２＝０．４３５  
φ２ａ／φ２＝０．７７２  
θ１＝−１．２２
（表６）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材            
OBJ:        INFINITY       40.000000                        
1:      -359.16553       44.064511       'A'        
2:      -143.72913       11.890141                         
3:      -113.45572       38.993298       'B'        
4:      -159.01647        2.000000                        
5:      -477.28542       60.000000       'A'        
6:      -192.88255      284.522320                        
7:     -4672.24836       60.000000       'SIO2'           
STO:      2311.52385      -60.000000  REFL 'SIO2'          
9:     -4672.24836     -401.470271                        
10:       690.27591      -20.000000       'SIO2'           
11:       957.23657       20.000000  REFL 'SIO2'           
12:       690.27591      461.470271                         
13:      -732.03816       20.000000       'A'     
14:      -669.85432        2.000000                        
15:       648.48947       30.120469       'A'       
16:      5190.05532       15.074435                         
17:     -3292.54557       20.000000       'B'          
18:     -5184.23683        2.000000                         
19:       329.38117       47.382895       'A'        
20:       357.05000      470.200094                         
21:       160.81515       30.297260       'A'         
22:       152.35487       61.454576                        
IMG:        INFINITY        0.000000                        
図２１の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【実施例７】
【００７０】
実施例７にかかる反射屈折光学系ＰＬ７の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −１倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝０．４５９  
φｒ１／φｒ２＝−０．６２９  
φ２／φｒ２＝０．１８３  
φ２ａ／φ２＝０．３４８  
θ１＝−６．４２
（表７）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材          
OBJ:        INFINITY       40.000000                        
1:      -665.60254       60.000000       'SIO2'           
2:      -559.22013       28.047958                          
3:       -64.24676       20.000000       'SIO2'           
4:       -79.56325        2.000000                         
5:      -244.44268       20.000000       'SIO2'            
6:      -143.74371      260.959184                        
7:      1886.80780       20.000000       'SIO2'             
8:      2994.61611       20.000000                         
STO:      1333.36659      -20.000000  REFL                  
10:      2994.61611      -20.000000       'SIO2'           
11:      1886.80780     -321.007142                         
12:       694.37742      -20.000000       'SIO2'            
13:       953.58946      -30.000000                         
14:       847.09847       30.000000  REFL                    
15:       953.58946       20.000000       'SIO2'             
16:       694.37742      365.007142                        
17:       690.36160       20.000000       'SIO2'            
18:      1540.36815      489.103307                          
19:     -4178.14055       20.000000       'SIO2'           
20:       928.24479        2.000000                          
21:       209.83769       60.000000       'SIO2'           
22:       584.08645      173.889551                       
IMG:        INFINITY        0.000000                        
図２２の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【実施例８】
【００７１】
実施例８にかかる反射屈折光学系ＰＬ８の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −０．８倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝０．２９７  
φｒ１／φｒ２＝−０．９９３  
φ２／φｒ２＝０．３９９  
φ２ａ／φ２＝１．２８１  
θ１＝−５．８１
（表８）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材          
OBJ:        INFINITY       40.000000                        
1:      -250.75410       60.000000       'SIO2'             
2:      -287.57900        2.000000                        
3:      -391.43756       60.000000       'SIO2'             
4:      -351.24930        2.000000                         
5:      -964.14703       44.116708       'SIO2'            
6:      -495.51204      270.000000                          
7:      1341.97245       60.000000       'SIO2'             
STO:      1003.77771      -60.000000  REFL 'SIO2'             
9:      1341.97245     -358.116708                          
10:       746.14634      -60.000000       'SIO2'             
11:       893.08296       60.000000  REFL 'SIO2'             
12:       746.14634      422.116708                          
13:       735.16364       35.566737       'SIO2'             
14:     -2040.60333        2.000000                          
15:     -2272.03971       20.000000       'SIO2'            
16:      1827.84037      550.316555                        
17:       196.83632       60.000000       'SIO2'           
18:       203.28445       30.000000                        
IMG:        INFINITY        0.000000                        
図２３の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【実施例９】
【００７２】
実施例９にかかる反射屈折光学系ＰＬ９の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −１．３０倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝１．１８８  
φｒ１／φｒ２＝−０．７８８  
φ２／φｒ２＝０．５１４  
φ２ａ／φ２＝１．２２２  
θ１＝−２．６９
（表９）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材        
OBJ:        INFINITY       40.000000                         
1:      -150.16020       38.231173       'SIO2'            
2:      -191.35567        2.000000                          
3:      -354.26730       20.000000       'SIO2'             
4:      -221.27276        2.000000                         
5:      1844.65368       20.000000       'SIO2'           
6:      -270.56090      270.000000                         
7:     -7931.74554       20.000000       'SIO2'            
STO:      1809.12605      -20.000000  REFL 'SIO2'            
9:     -7931.74554     -310.750869                          
10:       604.40202      -21.480304       'SIO2'             
11:       793.93055       21.480304  REFL 'SIO2'             
12:       604.40202      374.750869                          
13:       596.53328       38.848878       'SIO2'            
14:     -1307.84652        2.000000                          
15:     -1660.66825       20.000000       'SIO2'           
16:      2372.60932      672.919949                          
17:       135.87756       20.000000       'SIO2'           
18:       148.90580       30.000000                         
IMG:        INFINITY        0.000000                        
図２４の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【実施例１０】
【００７３】
実施例１０にかかる反射屈折光学系ＰＬ１０の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −１倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝０．４８６  
φｒ１／φｒ２＝−０．８１３  
φ２／φｒ２＝０．５８３  
φ２ａ／φ２＝１．３４５  
θ１＝−５．２３
（表１０）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材      
OBJ:        INFINITY       40.000000                       
1:      -233.33911       58.692132       'SIO2'            
2:      -221.94528        2.000000                        
3:      -687.01485       20.000000       'SIO2'           
4:       249.55617        8.217248                         
5:       270.18083       20.659958       'SIO2'             
6:      -322.10060      270.000000                         
7:      1642.75845       60.000000       'SIO2'           
STO:      1244.01113      -60.000000  REFL 'SIO2'            
9:      1642.75845     -299.569338                        
10:       624.06033      -60.000000       'SIO2'            
11:       845.19456       60.000000  REFL 'SIO2'            
12:       624.06033      367.569338                         
13:       554.91491       44.898060       'SIO2'          
14:     -1136.53926        2.000000                       
15:     -1166.92955       20.000000       'SIO2'          
16:      1724.58989      645.532602                       
17:       131.38939       20.000000       'SIO2'           
18:       146.87878       20.000000                      
IMG:        INFINITY        0.000000                     
図２５の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【実施例１１】
【００７４】
実施例１１にかかる反射屈折光学系ＰＬ１１の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −０．８０倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝−０．１５９  
φｒ１／φｒ２＝−１．０５２  
φ２／φｒ２＝０．１７６  
φ２ａ／φ２＝０．３７７  
θ１＝−８．８５
（表１１）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材      
OBJ:        INFINITY       40.000000                
1:      -703.68963       44.114025       'SIO2'    
2:       242.85651       51.644222                 
3:       -86.80649       20.000000       'SIO2'    
4:      -112.43547        2.000000                 
5:      -523.24980       20.000000       'SIO2'    
6:      -145.47689      266.363159                 
7:       391.21769       20.000000       'SIO2'    
8:       460.27045        9.537710                 
STO:       699.31129       -9.537710  REFL            
10:       460.27045      -20.000000       'SIO2'    
11:       391.21769     -320.000000                  
12:       611.83838      -52.584205       'SIO2'   
13:       867.57248      -11.537201                
14:       788.75770       11.537201  REFL          
15:       867.57248       52.584205       'SIO2'   
16:       611.83838      361.307488                
17:       721.52317       21.914492       'SIO2'    
18:      1826.06938      475.354847                 
19:      -686.16723       20.000000       'SIO2'    
20:      1863.87984        2.000000                 
21:       226.61283       24.368119       'SIO2'    
22:      1408.06650      210.933649                 
IMG:        INFINITY        0.000000                
図２６の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【実施例１２】
【００７５】
実施例１２にかかる反射屈折光学系ＰＬ１２の諸元の値を示す。
（諸元）
物体側（マスク側）開口数（ＮＡ）：  ０．１６
結像倍率：  −０．４４１倍
条件式の対応値：
φ１／φｒ２＝−０．８５９  
φｒ１／φｒ２＝−１．４６２  
φ２／φｒ２＝０．３１２  
φ２ａ／φ２＝０．９８０  
θ１＝−９．１３
（表１２）
（光学部材諸元）
面番号        曲率半径        面間隔          硝材      
OBJ:        INFINITY       40.000000                  
1:      -447.10117       60.000000       'SIO2'    
2:       193.34516       58.657069                 
3:       -89.99367       20.000000       'SIO2'    
4:      -117.52028        2.000000                 
5:      -483.03153       20.000000       'SIO2'    
6:      -164.05772      407.140239                 
7:       692.56601       21.017219       'SIO2'     
8:      1217.58114       20.000000                 
STO:       560.74258      -20.000000  REFL           
10:      1217.58114      -21.017219       'SIO2'   
11:       692.56601     -457.797309                
12:       735.27525      -60.000000       'SIO2'    
13:      1019.99544      -30.000000                 
14:       921.32636       30.000000  REFL           
15:      1019.99544       60.000000       'SIO2'    
16:       735.27525      545.315704               
17:       581.98435       40.578548       'SIO2'    
18:      2359.33337       15.477703                 
19:     11916.81622       20.000000       'SIO2'    
20:      1372.38247        2.000000                 
21:       268.72172       25.990503       'SIO2'    
22:       315.87791      440.637505                 
IMG:        INFINITY        0.000000                 
図２７の収差図に示すように、この実施例に係る反射屈折光学系は、広い露光フィールド、及び広い波長帯域にわたってきわめて良好な収差補正を実現している。
【００７６】
なお、各実施例で用いられている各硝材の各波長に対する屈折率の値を表１３に示す。
(表１３)
硝材名        ｎ（ｇ）          ｎ（ｈ）       ｎ（ｉ）
'SIO2'（石英）    1.466735        1.469658         1.474552
'Ａ'              1.50455          1.50727          1.51185
'Ｂ'              1.59967          1.60670          1.61928
表１３のｎ（ｇ），ｎ（ｈ），ｎ（ｉ）はそれぞれ、ｇ線（435.835ｎｍ），ｈ線（404.656ｎｍ），ｉ線（365.015ｎｍ）の各波長に対する屈折率である。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】第１の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図２】第２の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図３】第３の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図４】第４の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図５】第５の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図６】第６の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図７】第７の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図８】第８の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図９】第９の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図１０】第１０の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図１１】第１１の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図１２】第１２の実施の形態に係る反射屈折光学系の構成を示す図である。
【図１３】第１３の実施の形態に係る露光装置の構成を示す図である。
【図１４】実施の形態に係るマイクロデバイスの製造方法を示すフローチャートである。
【図１５】実施の形態に係るマイクロデバイスの製造方法を示すフローチャートである。
【図１６】第１の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【図１７】第２の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【図１８】第３の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【図１９】第４の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【図２０】第５の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【図２１】第６の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【図２２】第７の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【図２３】第８の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【図２４】第９の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【図２５】第１０の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【図２６】第１１の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【図２７】第１２の実施例に係る反射屈折光学系の収差図である。
【符号の説明】
【００７８】
Ｇ１…第１の屈折レンズ群、Ｇ２…第１の反射レンズ群、Ｇ３…第２の反射レンズ群、Ｇ４…第２屈折レンズ群、Ｇ５…第１集光レンズ群（Ｇ５）、ＩＬ…照明光学系、Ｍ…マスク、ＰＬ…投影光学系、Ｐ…プレート。
【図１】
2007206319.tif 000003
【図２】
2007206319.tif 000004
【図３】
2007206319.tif 000005
【図４】
2007206319.tif 000006
【図５】
2007206319.tif 000007
【図６】
2007206319.tif 000008
【図７】
2007206319.tif 000009
【図８】
2007206319.tif 000010
【図９】
2007206319.tif 000011
【図１０】
2007206319.tif 000012
【図１１】
2007206319.tif 000013
【図１２】
2007206319.tif 000014
【図１３】
2007206319.tif 000015
【図１４】
2007206319.tif 000016
【図１５】
2007206319.tif 000017
【図１６】
2007206319.tif 000018
【図１７】
2007206319.tif 000019
【図１８】
2007206319.tif 000020
【図１９】
2007206319.tif 000021
【図２０】
2007206319.tif 000022
【図２１】
2007206319.tif 000023
【図２２】
2007206319.tif 000024
【図２３】
2007206319.tif 000025
【図２４】
2007206319.tif 000026
【図２５】
2007206319.tif 000027
【図２６】
2007206319.tif 000028
【図２７】
2007206319.tif 000029