(57)【要約】  【課題】プラズマディスプレイ装置において、放電効率、発光効率、輝度を確保すると共に、コストダウンを図ることにある。また、ＩＴＯ無しのプラズマディスプレイ装置に於いて、放電効率、発光効率、輝度の特性を向上させることにある。【解決手段】上部基板に互いに平行するように形成された第１電極及び第２電極と、前記上部基板と対向する下部基板に形成されて放電空間を区画する隔壁を含んで構成され、前記第１電極及び第２電極は所定の厚さで放電空間に突出するように形成する。上部基板に形成された前記第１電極及び第２電極間対向放電が発生して静特性電圧マージンが向上することによって、安定的に動作可能な駆動電圧範囲が広くなり、放電電流が減少して消費電力を減らすことができ、全体の発光効率及び放電効率が向上する効果がある。【選択図】  図３
2007149628.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に形成された第１主電極と、前記第１主電極から前記第１主電極から突出して形成された第１副電極とを含む第１電極と、
前記第１基板に前記第１主電極と平行に形成された第２主電極と、前記第２主電極から前記第１副電極に向かって突出して形成された第２副電極とを含む第２電極と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第２基板に形成される第３電極と、
前記第２基板に形成されて放電空間を区画する隔壁とを備え、
前記第１電極及び前記第２電極は、前記第２基板に向かって少なくとも２つ以上の層をなして形成されたことを特徴とする、プラズマディスプレイ装置。
【請求項２】
前記プラズマディスプレイ装置は、前記第１副電極と前記第２副電極との間に放電空間が形成されたことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項３】
前記第１電極及び前記第２電極は金属電極であることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項４】
前記第１電極及び前記第２電極において、主電極と副電極とは互いに異なる種類の金属電極であることを特徴とする、請求項３に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項５】
前記第１電極及び前記第２電極の各電極層の厚さは略１０μｍであることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項６】
前記プラズマディスプレイ装置は、前記第１電極及び前記第２電極の各電極層間に形成される第１誘電体層を更に含んで構成されることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項７】
前記第１誘電体層の厚さは、前記第１電極及び前記第２電極の主電極または副電極の厚さと実質的に同一であることを特徴とする、請求項６に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項８】
前記第１誘電体層は複数の層からなり、
前記複数の第１誘電体層は各層毎に誘電率が異なる誘電体で形成されたことを特徴とする、請求項７に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項９】
前記プラズマディスプレイ装置は、前記第１電極及び前記第２電極の各々を所定の膜厚で覆う２つの誘電体層からなる第２誘電体層を更に含んで構成されることを特徴とする、請求項１乃至８の何れかに記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記プラズマディスプレイ装置は、前記第１基板と最も第１基板側に形成された電極層との間に形成される第３誘電体層を更に含んで構成されることを特徴とする請求項９に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１１】
前記第３誘電体層の厚さは、前記第１電極又は前記第２電極の主電極または副電極の厚さと実質的に同一であることを特徴とする、請求項１０に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１２】
第１基板と、
前記第１基板に互いに平行に形成された第１電極及び第２電極と、
前記第１基板と対向する第２基板と、
前記第２基板に形成された第３電極と、
前記第２基板に形成されて放電空間を区画する隔壁と、を備え、
前記第１電極及び第２電極は、前記第２基板方向に向かって少なくとも２つ以上の層が積層されて形成されたことを特徴とする、プラズマディスプレイ装置。
【請求項１３】
前記プラズマディスプレイ装置は、前記第１電極と前記第２電極との間に放電空間が形成されたことを特徴とする、請求項１２に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１４】
前記第１電極及び第２電極は金属電極であることを特徴とする、請求項１２に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１５】
前記第１電極及び第２電極が第２基板方向に突出した全体の厚さは略５０μｍであることを特徴とする、請求項１２に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１６】
前記プラズマディスプレイ装置は、前記第１電極及び前記第２電極の各電極層間に形成される第１誘電体層を更に含んで構成されることを特徴とする、請求項１２に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１７】
前記第１誘電体層の厚さは、前記電極層の厚さと実質的に同一であることを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１８】
前記プラズマディスプレイ装置は、前記第１電極の全体及び第２電極の全体を各々を所定の膜厚で覆う２つの誘電体層からなる第２誘電体層を更に含んで構成されることを特徴とする、請求項１２乃至１７の何れかに記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１９】
前記プラズマディスプレイ装置は、前記第１基板と最も第１基板側に形成された電極層との間に形成される第３誘電体層を更に含んで構成されることを特徴とする請求項１８に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項２０】
第１基板に互いに平行に形成された第１電極及び第２電極と、
前記第１電極及び第２電極の各々を所定の膜厚で覆う２つの誘電体層と、を含んで構成され、
前記第１電極及び第２電極は、前記第１基板と対向する第２基板方向に各々略５０μｍの厚さを有するように形成されたことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【請求項２１】
第１基板と、
前記第１基板に形成され、第１電極及び該第１電極を覆う第１誘電体層を含む第１の電極構造体と、
前記第１基板上に前記第１の電極構造体と所定の間隔を持って略平行に形成され、第２電極及び該第２電極を覆う第２誘電体層を含む第２の電極構造体と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第２基板に形成された第３電極とを備え、
前記第１電極構造体と前記第２電極構造体との間で対向放電を発生することを特徴とする、プラズマディスプレイ装置。
【請求項２２】
前記第２基板に形成されて放電空間を区画する隔壁を更に備え、
前記第１の電極構造体及び前記第２の電極構造体の高さは、前記隔壁の高さの略１／２以下であることを特徴とする、請求項２１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ装置に関し、特に、同一基板に形成された複数の電極を含むプラズマディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイ装置は、上部ガラス基板と下部ガラス基板との間に形成された隔壁によって区画された単位セルをなして、各セル内にはヘリウム−キセノン（Ｈｅ−Ｘｅ）、ヘリウム−ネオン（Ｈｅ−Ｎｅ）などのような不活性ガスが高周波電圧により放電する際、真空紫外線（Vacuum Ultraviolet rays）が発生されて隔壁間に形成された蛍光体を発光させて画像を具現する装置である。このようなプラズマディスプレイ装置は、単純構造による製作の容易性と外形が薄型であり、低い消費電力などの特徴を有しているので、次世代ディスプレイ装置として現在脚光を浴びている。
【０００３】
図１は、従来のＩＴＯ−ｌｅｓｓ（ＩＴＯ無し；以下、ＩＴＯレスと称す）のプラズマディスプレイ装置の構造が図示された断面図である。ここで、前記図１は、説明の便宜上、上部基板を９０度回転させた断面を図示した図であり、一つの放電セルを基準にして表示した図である。
【０００４】
一般に、従来のプラズマディスプレイ装置は、蛍光体から発生する可視光線が前記上部基板を通じて画像を表現するために、スキャン電極及びサステイン電極を透明電極で形成する。ここで、前記透明電極は可視光線が透過できる透過性を有する電極としてＩＴＯ（Indium Tin Oxide）と酸化錫（ＳｎＯ２）が一般的に使われる。
しかしながら、前記透明電極は電気的抵抗が大きいので、これを補完するために金属電極であるバス電極が共に使われてきた。
このような構造の場合には光透過性を向上させるためにＩＴＯパターニング（Patterning）工程が必須的であり、ＩＴＯパターンの形成は放電効率に大きい影響を及ぼす。しかしながら、ＩＴＯのミスアライン（misalign）、即ち位置合わせずれ及びＩＴＯ切断などの問題が発生する時には、放電特性の低下及び放電効率の低下を生じる虞があり、ＩＴＯ形成による人件費及び材料費の増大はＰＤＰの価格競争力も低下させている実状である。
したがって、現在ＩＴＯ形成工程を除去したＩＴＯレス技法が試みられているが、図１を参照してその構造を考察する。
【０００５】
図１に図示した従来のＩＴＯレスプラズマディスプレイ装置は、上部ガラス基板１０に一対のスキャン電極１１とサステイン電極１２が形成され、背面ガラス基板２０に前記電極１１、１２と交差する方向にアドレス電極２１が形成される。
ここで、前記スキャン電極１１及びサステイン電極１２は金属電極であるバス電極だけで構成される。
また、上部基板には前記スキャン電極１１及びサステイン電極１２を覆うように上部誘電体層１３が形成され、前記誘電体層の表面には放電により前記電極及び誘電体層を保護し、２次電子発生率が高いＭｇＯ保護膜１４が形成される。
【０００６】
また、下部基板には前記アドレス電極２１を覆うように下部誘電体層２３が形成され、前記下部誘電体層の上部に放電セルを区画する隔壁２２が形成される。
前記隔壁２２により区画される各放電セルには、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の何れかの蛍光体２４が塗布される。
【０００７】
上記のように構成される従来のプラズマディスプレイ装置は、ＩＴＯ電極がないことによりバス電極間で放電ギャップが大きくなって放電を発生させるために放電電圧を高めなければならない問題がある。この場合、放電電圧が高くなることにより放電効率が低下する問題がある。
この問題を解決するために、バス電極間放電ギャップを縮めて放電効率を向上させようとする試みがある。図２は、このような従来のＩＴＯレスプラズマディスプレイ装置の電極構造中の一例が図示された図であって、放電空間２５上に形成された各スキャン電極１１及びサステイン電極１２毎に多数のバス電極を並べて水平方向に形成して効率を向上させようとした。しかしながら、多数のバス電極が水平方向に形成されることにより、開口率が低くなって蛍光体から発生する可視光線の透過性が低下し、それによって輝度低下が発生する問題があり、前記バス電極間に発生する放電が前記バス電極を覆うように形成された上部誘電体層（図１の１３）の表面を通じた面放電であるので、発光効率のよくないという問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、プラズマディスプレイ装置において、放電効率、発光効率等の特性の劣化を防止して、コストダウンを図ることにある。
また、本発明は、ＩＴＯ無しのプラズマディスプレイ装置に於いて、放電効率、発光効率等の特性の劣化を向上させることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１特徴に係るプラズマディスプレイ装置は、第１基板に互いに平行に形成された第１主電極及び第２主電極と、前記第１主電極から前記第２主電極の方向に突出して形成された第１副電極と、前記第２主電極から前記第１主電極方向に突出して形成された第２副電極と、前記第１基板と対向する第２基板に形成される第３電極と、前記第２基板に形成されて放電空間を区画する隔壁とを含んで構成されている。そして、前記各主電極及び副電極は、前記第２基板方向に少なくとも２つ以上の層をなして形成されたことを特徴とする。第１主電極と第１副電極とは第１電極を構成し、第２主電極と第１副電極とは第２電極を構成する。
【００１０】
本発明の第２特徴に係るプラズマディスプレイ装置は、第１基板に互いに平行に形成された第１電極及び第２電極と、前記第１基板と対向する第２基板に形成された第３電極と、前記第２基板に形成されて放電空間を区画する隔壁と、を含んで構成されている。そして、前記第１電極及び第２電極は、前記第２基板方向に少なくとも２つ以上の層をなして形成されたことを特徴とする。
【００１１】
本発明の第３特徴に係るプラズマディスプレイ装置は、第１基板に互いに平行するように形成された第１電極及び第２電極と、前記第１電極及び第２電極を一定の厚さで覆いかぶせるように形成された誘電体層と、を含んで構成されている。そして、前記第１電極及び第２電極は、前記第１基板と対向する第２基板方向に各々略５０μｍの厚さを有するように形成されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
上記のように構成される本発明によるプラズマディスプレイ装置は、第１基板に形成された電極間に対向放電が発生するようにして、静特性マージンが向上することによって、安定的に動作可能な駆動電圧範囲が広くなり、放電電流が減少して電力消耗を減らすことができ、全体発光効率及び放電効率が向上する長所がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の好ましい実施形態を添付の図面を参照しつつ詳細に説明する。 
本発明に係るプラズマディスプレイ装置は、基本的に上部基板に互いに平行に形成された第１電極及び第２電極を含んで構成され、前記第１電極及び第２電極は所定の厚さで放電空間に突出するように形成される。
前記第１電極及び第２電極は透明電極（ＩＴＯ電極）を含まず、金属電極であるバス電極だけで構成され（ＩＴＯ−ｌｅｓｓ）、前記第１電極及び第２電極は各々が、主電極と副電極から構成されたり、前記副電極がない主電極だけで構成されることができる。前記副電極は、前記互いに対向する主電極方向に突出するように形成されて放電ギャップを縮めて放電電圧を低めるように機能する補助電極をいう。
【００１４】
＜第１実施形態＞
図３は、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第１実施形態が図示された図である。前記図３は、説明の便宜上、上部基板を９０度回転させたプラズマディスプレイ装置の単位放電セルに該当する部分の断面図である。また、図４は本発明に係る第１実施形態の電極を上部から見た形態が図示された図であり、図５は本発明に係る第１実施形態の電極層が分離されて図示された図である。
【００１５】
本発明による第１実施形態に係るプラズマディスプレイ装置は、上部基板１００に互いに平行に形成された第１電極１１０及び第２電極１１０’を備えている。第１電極１１０は、第１主電極１１０ｂと、第１副電極１１０ａとを有する。第２電極１１０’は、第２主電極１１０ｂ’と、第２副電極１１０ａ’とを有する。第１主電極１１０ｂ及び第２主電極１１０ｂ’は、図３に示すように、上部基板１００上に形成されている。第１副電極１１０ａは、前記第１主電極１１０ｂから第２主電極１１０ｂ’の方向に突出して形成されている。第２副電極１１０ａ’は、前記第２主電極１１０ｂ’から第１主電極１１０ｂの方向に突出して形成されている。第１電極１１０及び第２電極１１０’は、図３及び図５に示すように、複数の電極層が積層されて下部基板２００に向かって突出している。言い換えれば、前記各主電極１１０ｂ，１１０ｂ’及び副電極１１０ａ，１１０ａ’は、少なくとも２つ以上の層をなして放電空間に突出するように形成される。
【００１６】
図３乃至図５を参照して説明すれば、上部ガラス基板１００上に第１電極１１０及び第２電極１１０’が形成される。そして、下部ガラス基板２００上に第３電極２１０が前記第１電極１１０及び第２電極１１０’と交差する方向に形成され、前記第３電極２１０を覆うように下部誘電体層２３０が形成される。 
前記下部誘電体層２３０の上部に放電セルを区画する隔壁２２０が形成され、前記放電セルの内部には蛍光体２４０が塗布される。蛍光体２４０は、隔壁２２０の間から露出する下部誘電体層２３０上と、隔壁２２０の側面とに塗布される。
例えば、前面パネル（上板）は、上部ガラス基板１００と、第１電極１１０及び第２電極１１０’とを含み、背面パネル（下板）は、下部ガラス基板２００と、第３電極２１０と、下部誘電体層２３０と、隔壁２２０と、蛍光体２４０とを含むように構成することができる。
【００１７】
前記第１主電極１１０ｂ及び第１副電極１１０ａはスキャン電極であり、前記第２主電極１１０ｂ’及び第２副電極１１０ａ’はサステイン電極であり、互いに対称に形成される。したがって、以下、前記第１電極または第２電極のうち、いずれか一つを基準にして説明するが、互いに対応する相対電極も実質的に同一に構成される。
【００１８】
前記主電極１１０ｂ及び副電極１１０ａは金属電極であり、同一な金属または互いに異なる種類の金属で形成されることができる。
前記金属電極としては、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ及びＡｌなどが使われることができる。このような前記金属電極はフォトリソエッチング工程（フォトリソグラフィー及びエッチング工程）や感光ペースト工程で形成することができるが、これらに限るのではない。
フォトリソエッチング工程では、ドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）等のレジスト膜を金属電極上に形成し、レジスト膜を露光及び現像工程により所定の形状にパターニングした後、レジスト膜のパターンを介して金属電極をウェットエッチング又はドライエッチングすることで、金属電極を所定の形状にパターニングする。パターニング後には、レジスト膜は、アッシング又はウェットエッチングで除去される。
感光性ペースト工程では、金属電極の材料となる感光性ペーストを上部基板上に形成した後、感光性ペーストを乾燥させて溶剤成分を除去する。次に、所定の形状が形成されたフォトマスクを介して感光性ペーストを紫外線により露光し、感光性ペーストを所定の形状で硬化させる。その後、現像またはウェットエッチングにより非硬化部分を除去することにより、感光性ペーストを所定の形状にパターニングする。その後、感光性ペーストのパターンを焼成して樹脂成分を除去して、金属電極を形成する。
【００１９】
前記主電極１１０ｂ，１１０ｂ’は、各行方向の全放電セルに共通するように上部基板に連続して形成される。
前記主電極１１０ｂ，１１０ｂ’の幅Ｂｗ１は、約７０μｍ程度であり、仮に約７０μｍ以下になる場合、工程上、前記主電極を形成する際に開放現象（OPEN）が発生することがあり、断面積の減少による抵抗の増加により電流が流れ難くなることにより輝度の低下が発生する可能性がある。 
前記主電極１１０ｂ，１１０ｂ’の幅Ｂｗ１の最大値は放電ギャップＧの大きさによって異なるが、約１５０μ程度まで可能であり、これより大きい場合には放電セルの上部を遮って 蛍光体により放出する可視光線を遮断して輝度が低下する現状が発生する。 
【００２０】
前記副電極１１０ａ，１１０ａ’は、各放電セル毎に前記主電極から、対向する主電極の方向に突出するように形成される。 
前記副電極１１０ａの幅Ｂｗ２は、約３０μｍ程度であり、前記対向する主電極間の放電ギャップＧを減らす機能をする。したがって、前記副電極の幅Ｂｗ２は放電ギャップＧの大きさ及びプラズマディスプレイ装置の解像度による放電セルの大きさによって約１５０μｍ程度まで拡張されることができる。しかしながら、前記副電極の幅Ｂｗ２が長くなるほど放電電圧は減少するが、前記副電極の面積の増加によって可視光線を遮断する面積が広くなって輝度が減少し、効率が落ちる可能性がある。
【００２１】
前記主電極と副電極は、説明の便宜上、別に区分したが、一つの工程により同時に形成されることができ、全体的に一つの電極を形成することができる。 
前記主電極と副電極は少なくとも２つ以上の層を持って形成される。即ち、前記主電極と副電極を２つ以上の層をなすようにして電極の全体が一定の厚さを持つようにするものである。 
前記主電極層と副電極層は下板（背面パネル）方向に積層するので、下板方向に突出する電極構造を有する。 
【００２２】
また、前記プラズマディスプレイ装置は、前記各電極層間に形成される第１誘電体層を更に含んで構成される。 
図５は、３つの電極層が形成された場合を、例えば電極構造を分離して図示した図であって、前記３つの電極層の層間には２つの第１誘電体層１２０ａ、１２０ｂが形成される。第１誘電体層１２０ａ、１２０ｂは、第１電極１１０及び第２電極１１０’にそれぞれ同様の構造で形成される。図５において上方に上部ガラス基板１００が配置されおり、最も上部ガラス基板１００側の電極層から順番に１番目、２番目、３番目の電極層とすると、１番目の電極層と２番目の電極層との間に第１誘電体層１２０ａが形成されており、２番目の電極層と３番目の電極層との間に第１電極層１２０ｂが形成されている。第１誘電体層１２０ａ、１２０ｂは、主電極１１０ｂ（１１０ｂ’）と副電極１１０ａ（１１０ａ’）を合わせた形状に対応して形成されている。
【００２３】
上記のように、電極層と誘電体層を交互に積み重ねることによって、パネルの寄生キャパシタンス値を減少させ、面放電型構造に比べて長い放電経路を有するので、プラズマの損失を減らすことができ、高い電荷励起効率により駆動時の電流の消耗量が低減する。 
また、前記第１誘電体層１２０ａ，１２０ｂは、パネル特性によって各層毎に誘電率が異なる誘電体で形成することが可能である。
ここで、前記プラズマディスプレイ装置は、第１電極１１０（前記主電極１１０ｂ及び副電極１１０ａ）の全体、及び、第２電極１１０’（前記主電極１１０ｂ’及び副電極１１０ａ’）の全体の各々を所定の膜厚で覆う２つの誘電体層からなる第２誘電体層１３０を更に含んで構成される。第１誘電体層１２０ａ，１２０ｂ、第２誘電体層１３０は、それぞれ、第１電極１１０及び第２電極１１０’ごとに分離されて形成されている。
前記第２誘電体層１３０は、電極の側面と最下層の電極の底面を覆いかぶせるように形成される。また、前記第２誘電体層１３０を前記第１誘電体層１２０より厚く形成して寄生キャパシタンスを減少させることができる。
ここで、第１電極１１０と、第１電極１１０の各電極層の層間に形成される第１誘電体層１２０ａ，１２０ｂと、第１電極１１０を覆う第２誘電体層１３０とを含む多層構造膜を、第１電極構造体１５０とする。第２電極１１０’と、第２電極１１０’の各電極層の層間に形成される第１誘電体層１２０ａ，１２０ｂと、第２電極１１０’を覆う第２誘電体層１３０とを含む多層構造膜を、第２電極構造体１５０’とする。
【００２４】
図６は、本発明に係る第１実施形態の電極の断面が図示された図であって、上部ガラス基板１００上に形成された３つの電極層１１０と第１誘電体層１２０及び第２誘電体層１３０からなる第１電極構造体１５０の厚さが図示されている。第２電極構造体１５０’についても同様である。 
前記主電極層または副電極層の一層の厚さＢｈは、約１０μｍ程度であり、前記第１誘電体層の厚さＤｈ１も前記電極層の厚さと実質的に同一であるように形成する。 
ここで、多数の電極層を用いて全体の電極が一定の高さを有するようにする本実施形態の場合、いくつの電極層と誘電体層を形成するかによって違うだろうが、前記一つの電極層の厚さＢｈが約１０μｍよりも小さくなると、開放（OPEN）の危険や抵抗の増加による輝度の減少がある。 
仮りに、一つの電極層及び第１誘電体層が約１０μｍよりも大きくなると、全体の電極の厚さ、即ち電極構造体１５０，１５０’の厚さ（図３のＨ、図６ではＢｈ＊３+Ｄｈ１＊２+Ｄｈ２）が厚くなる。それによって、電極と下部基板との間の間隔があまりに近くなって左右側の隔壁部分に形成された蛍光体の活用率が低下し、また左右側の蛍光体から発生する可視光線が前記放電空間に突出した電極により多く遮断されるので輝度低下が発生する可能性がある。
【００２５】
したがって、電極層の数及び誘電体層の数によって全体の電極の厚さ（図３のＨ、図６ではＢｈ＊３＋Ｄｈ１＊２＋Ｄｈ２）と上部基板と下部基板との間の間隔（または、隔壁の高さ、図３のＲｈ）を考慮して、各電極層及び第１誘電体層と第２誘電体層の厚さを適切に決定するものの、前記全体の電極の厚さＨが隔壁高さＲｈの約１／２以下に形成されるようにすることが好ましい。
【００２６】
（第２実施形態）
図７は、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第２実施形態が図示された図である。
【００２７】
図７を参照すれば、本発明の第２実施形態に係るプラズマディスプレイ装置は、前記第１実施形態とその基本的な構造は同一であるが、前記第１実施形態の電極構造で副電極無しに主電極だけで構成されることが特徴である。
【００２８】
即ち、前記第２実施形態は上部基板に互いに平行するように形成された第１電極及び第２電極を含んで構成され、前記第１電極及び第２電極は少なくとも２つ以上の層をなして放電空間に突出するように形成される。
【００２９】
前記第１実施形態とその機能及び構成は実質的に同一である。但し、前記第１実施形態の第１電極１１０及び第２電極１２０から副電極が省略されて、主電極のみで構成される第１電極１１０及び第２電極１２０の間で対向放電を発生させる。副電極がなくなることにより、開口率が向上して輝度が明るくなる長所がある。但し、対向する前記第１電極及び第２電極間の放電ギャップが遠ざかることによる駆動電圧を上昇させなければならないが、全体的に効率面では従来の面放電電極構造よりは向上する長所がある。
【００３０】
また、前記第１電極及び第２電極の隔離距離である放電ギャップを前記第１実施形態より狭く形成して駆動電圧を実質的に前記第１実施形態と同一にすることができる。
【００３１】
（第３実施形態）
図８は、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第３実施形態が図示された図である。図８を参照すれば、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第３実施形態は、前記第１実施形態及び第２実施形態と同様に金属電極を少なくとも２つ以上の層をなすようにして放電空間に突出するように形成される点ではその構造が同一であるが、上部ガラス基板１００と最初に積層される金属電極１００との間に第３誘電層１２０ａが更に形成される点が特徴である。
【００３２】
前記第３実施形態では前記第１実施形態のように主電極及び副電極を全て有するＴ字形電極構造や前記第２実施形態のように副電極がない主電極だけでなされた一字形（直線状）電極構造の両方とも適用することができる。 
各金属電極層間に第１誘電体層１２０ｂが形成され、前記金属電極層のうち、第１電極１１０及び第２電極１１０’の最上層と上部ガラス基板１００との間に第３誘電体層１２０ａが形成されている。これにより、全体的にパネル寄生キャパシタンスを低めることができ、電極構造体１５０，１５０’の全体の厚さも誘電体層をもう一つ使用することによって厚く形成できるので、第１電極と第２電極との間に対向放電が発生し易くするようにできる。第１誘電体層１２０ｂ、第２誘電体層１３０及び第３誘電体層１２０ａは、それぞれ、第１電極１１０及び第２電極１１０’ごとに分離されて形成されている。
【００３３】
また、前記金属電極層と前記第１誘電体層１２０ｂ及び第３誘電体層１２０ａからなる多層膜を全て覆いかぶせるように、該多層膜の外郭には第２誘電体層１３０が形成される。
【００３４】
ここで、前記第１誘電体層１２０ｂ、第２誘電体層１３０及び第３誘電体層１２０ａの誘電率は、パネル特性を考慮して互いに同一または相異する誘電率を有する物質で形成することができる。 
また、前記第１実施形態と同様に、電極層の数及び誘電体層の数によって全体電極の厚さと、上部基板と下部基板との間の間隔（または、隔壁の高さ）とを考慮して各電極層、第１誘電体層、第２誘電体層、そして第３誘電体層の厚さを適切に決めるものの、前記の全体の電極の厚さＨが隔壁高さＲｈの約１／２以下に形成されるようにすることが好ましい。
【００３５】
＜第４実施形態＞ 
図９は、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第４実施形態が図示された図である。図９を参考すれば、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第４実施形態は、上部ガラス基板１００に一定の厚さを有する第１電極１１０及び第２電極１１０’が形成され、前記第１電極１１０及び第２電極１１０’を各々所定の膜厚で覆う誘電体層１３０が形成されて、放電空間に電極が突出するように形成される。誘電体層１３０は、第１電極１１０及び第２電極１１０’ごとに分離されて形成されている。
【００３６】
前記第１電極１１０及び第２電極１１０’は金属電極であって、その構成物質は前記第１実施形態と実質的に同一である。但し、第１実施形態とは異なり、各電極は、離隔されて層を構成せず、各金属電極が一定の厚さを有するように形成される。但し、このような構造の第１電極１１０及び第２電極１１０’も、各層の層間に誘電体層を介在させずに複数の層から構成されている。
この場合、前記金属電極の断面積が広くて電気的抵抗が低減する長所がある。
前記金属電極は、外部的には一つの金属電極のように見えても、製造工程上、薄い金属電極を多重積層させて金属電極層が離隔されず連続に層をなして一定の厚さを有するように形成することができる。即ち、第１実施形態とは異なり、前記薄い金属電極層間に誘電体層を形成しないようにする。言い換えれば、前記金属電極は、金属層の間に誘電体膜を形成せず、金属層の成膜工程を複数回繰り返すことにより製造することが可能である。 
【００３７】
また、この場合にも前記金属電極を上から見た場合、主電極と副電極を有するＴ字形電極構造や、副電極がない一字形（直線状）電極構造で形成することができる。
【００３８】
＜第５実施形態＞
図１０は、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第５実施形態が図示された図である。図１０を参照すれば、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第５実施形態は、上部ガラス基板１００に先に一定の厚さを有する第１誘電体層１２０が形成され、その上に一定の厚さを有する第１電極１１０及び第２電極１１０’が形成された後、前記第１電極１１０及び第２電極１１０’を各々所定の膜厚で覆う第３誘電体層１３０が形成されて、放電空間に電極が突出するように構成される。第１誘電体層１２０及び第３誘電体層１３０は、それぞれ、第１電極１１０及び第２電極１１０’ごとに分離されて形成されている。
基本的な構造及び機能は前記第４実施形態と類似しているが、前記上部ガラス基板１００と金属電極１１０との間に第１誘電体層１２０が形成されることが特徴である。
【００３９】
前記金属電極１１０、第１誘電体層１２０及び第２誘電体層１３０の材質及び誘電率などは、前記第１実施形態と実質的に同一である。 
前記第１誘電体層１２０の誘電率と前記第２誘電体層１３０の誘電率とは、パネル特性によって変わることができ、前記第２誘電体層１３０の厚さは前記第１誘電体層１２０より厚く形成されることが好ましい。 
【００４０】
そして、前記金属電極及び誘電体層の厚さは、前記全体の電極の厚さＨが隔壁高さＲｈの約１／２以下に形成される範囲内で適切に決まるようにすることが、輝度と効率面で好ましい。 
【００４１】
＜プラズマディスプレイ装置の動作＞
上記のように構成される本発明に係るプラズマディスプレイ装置の動作を考察すれば次の通りである。
【００４２】
図１１は、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の静特性（Static Characteristics）が図示されたグラフである。図１１は駆動電圧及び放電ギャップによって放電セルのＯＮ／ＯＦＦ特性が分かり、それによって、静特性マージン（Static Margin）を観察することができる。
【００４３】
本実験に使われたプラズマディスプレイ装置は、図３の前記第１実施形態または図７の第２実施形態のようなタイプの多層電極構造を有し、具体的に３つの電極層を有する。基本的なスペックは下記の表１の通りである。
【表１】
2007149628.tif 000003
【００４４】
ここで、前記各バス電極幅は主電極及び副電極を有するＴ字形多層構造では主電極と副電極の幅を足した値である。
【００４５】
静特性（Static Characteristics）は、書込パルス（writing pulse）及び消去パルス（erasing  pulse）を加えていない状態で、駆動電圧である維持電圧（Ｖｓ）を順次増加あるいは減少する場合の点火あるいは消去特性である。
【００４６】
ここで、１つのセル（cell）に対しては点火電圧はＶｆで表し、消去電圧は最小（放電）維持電圧Ｖｓｍに表す。 
【００４７】
前記ＶｆはＯＦＦ状態からＯＮに変わる電圧であり、前記ＶｓｍはＯＮ状態からＯＦＦ状態に変わる電圧である。 
Ｎ個のセルを有するプラズマディスプレイ装置において個々のセル特性が全て同一ではないので、ＶｆとＶｓｍは図１２のように４つに分けられる。 
【００４８】
図１２は、Ｎ個のセルで点火電圧と消去電圧による記憶動作が発生する範囲が図示された図である。 
Ｎ個のセルで維持電圧Ｖｓを徐々に増加させて行きながら各セルがＯＮされる時の電圧分布はＶｆ１からＶｆＮの分布を表すが、この際の最大値がＶｆＭであり、最小値がＶｆｍである。即ち、ＶｆＭは維持電圧Ｖｓを順次高めつつ駆動した場合、Ｎ個のセルのうち、一番最後にＯＮされるセルでの電圧をいい、Ｖｆｍは最初にＯＮされるセルでの電圧をいう。 
また、Ｎ個のセルで維持電圧Ｖｓを徐々に減少させつつ各セルがＯｆｆされる時の電圧分布やはりＶｓｍ１からＶｓｍＮの分布を表すが、この際の最大値がＶｓｍＭであり、最小値がＶｓｍｍである。即ち、維持電圧Ｖｓを低めて行く時、最初にＯＦＦされるセルでの電圧をＶｓｍＭとし、最後にＯＦＦされるセルでの電圧をＶｓｍｍとする。 
この際、セルに印加される維持電圧Ｖｓが前記ＶｆｍとＶｓｍＭとの間である場合にセルは、以前のＯＮまたはＯＦＦ状態を維持することになる記憶動作をすることになる。このような記憶動作が起こる電圧範囲、即ち、Ｖｆｍ>Ｖｓ>ＶｓｍＭを満たす範囲が大きいほど静特性マージンが大きいと見ることができる。 
【００４９】
図１１、図１３乃至図１５において、「Ｃｏｐｌａｎａｒ」はスキャン電極及びサステイン電極が同一平面にある、即ち両電極間で面放電を発生させる従来の電極構造であり、「３００μｍ」、「３３０μｍ」、「３５０μｍ」、「３７０μｍ」は各放電ギャップで形成された本発明に係る電極構造の場合である。
【００５０】
また、図１１を参照すれば、従来には前記記憶動作が起こる範囲が２１０Ｖから２６０Ｖ間の約５０Ｖ程度であるが、本発明による場合、特に放電ギャップが３００μｍである場合には２３０Ｖから３４０Ｖ程度で約１１０Ｖの範囲を有する。したがって、本発明の場合には静特性マージンが従来のプラズマディスプレイ装置より６０Ｖマージンが増加することが分かる。
このような静特性マージンはより安定した駆動が可能にする駆動信号を設計することに有用である。即ち、静特性マージンが高いということは、より安定的に動作可能な電圧範囲が広くなるということを意味する。 
【００５１】
図１３は、本発明に係るプラズマディスプレイ装置において駆動電圧に係る輝度変化（Luminance）が図示された図である。 
図１３を参照すれば、従来のプラズマディスプレイ装置と類似な放電ギャップである３００μｍ程度の放電ギャップである場合には、従来のプラズマディスプレイ装置より輝度面では多少暗い特性を帯びる。これは電極の全体の厚さが厚くなることにより、放電セル側面から生じる可視光線が電極により遮断されてパネルの全面に透過する可視光線の量が減るためである。 
しかしながら、この場合、放電ギャップを順次広めれば輝度が明るくなることが分かる。放電ギャップの増加は放電セルの大きさを増加させることを意味し、前記放電セルが大きくなる場合には蛍光体の面積も大きくなるので、輝度が増加されるのである。一方、従来のような程度の放電ギャップ（約３００μｍ）を有する場合でも、減少する輝度の量は動作電圧約２６０Ｖで約１１％程度であるが、これは、以後に考察する全体の効率に比較すれば大きい問題ではない。 
【００５２】
図１４は、本発明に係るプラズマディスプレイ装置において駆動電圧に係る放電電流量（Discharge Current）の変化が図示された図である。 
図１４を参照すれば、従来のプラズマディスプレイ装置に比べて、本発明に係る前記多層型対向放電構造を有するプラズマディスプレイ装置は、動作電圧約２６０Ｖで放電ギャップが約３００μｍである場合に、放電電流が約７０％程度減少される。即ち、電極と誘電体を積み重ねることによりパネルのキャパシタンス値が減少し、面放電型構造に比べて長い放電経路を有するのでプラズマ損失が減り、高い励起効率などの理由により放電電流量が減少される。 
このような放電電流量の減少は、前記輝度値の減少ペナルティと比較してみれば、とても大きい長所である。
【００５３】
図１５は、本発明に係るプラズマディスプレイ装置において駆動電圧による発光効率（Luminous Efficiency）の変化が図示された図である。 
図１５を参照すれば、放電ギャップが増加するほど発光効率が増加する。
特に、駆動電圧が約２６０Ｖであり、放電ギャップが約３００μｍである場合には１．０２ｌｍ／Ｗから１．５２ｌｍ／Ｗ程度に効率が約６７％上昇する。 
したがって、本発明によるプラズマディスプレイ装置は、上部基板に形成されるバス電極を放電空間に突出するように形成して前記バス電極間には対向放電が発生し、これによって輝度面では若干の低下があるが、安定した駆動が可能な電圧範囲が広くなり、放電電流による消費電力が減少して、全体的に発光効率が向上するように構成される。 
上記のように構成される本発明によるプラズマディスプレイ装置は、上部基板に形成されたバス電極間対向放電が発生するようにして静特性マージンが向上することによって安定的に動作可能な駆動電圧の範囲が広くなり、放電電流が減少して消費電力を減らすことができ、全体の発光効率が向上する効果が得られる。
【００５４】
以上のように、本発明に係るプラズマディスプレイ装置を例示された図面を参照しつつ説明したが、本明細書に開示された実施形態と図面により本発明が限るのでなく、技術思想が保護される範囲内で応用されることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】従来のＩＴＯ−ｌｅｓｓプラズマディスプレイ装置の構造が図示された断面図である。
【図２】従来のＩＴＯ−ｌｅｓｓプラズマディスプレイ装置の電極構造が図示された図である。
【図３】本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第１実施形態が図示された図であって、上部基板を便宜上９０度回転して図示された図である。
【図４】本発明に係る第１実施形態の電極を上部から見た形態を示す図である。
【図５】本発明に係る第１実施形態の電極層が分離されて図示された図である。
【図６】本発明に係る第１実施形態の電極の断面が図示された図である。
【図７】本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第２実施形態が図示された図である。
【図８】本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第３実施形態が図示された図である。
【図９】本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第４実施形態が図示された図である。
【図１０】本発明に係るプラズマディスプレイ装置の第５実施形態が図示された図である。
【図１１】本発明に係るプラズマディスプレイ装置の静特性が図示されたグラフである。
【図１２】Ｎ個のセルで点火電圧と消去電圧による記憶動作が発生する範囲が図示された図である。
【図１３】本発明に係るプラズマディスプレイ装置において駆動電圧による輝度変化が図示された図である。
【図１４】本発明に係るプラズマディスプレイ装置において駆動電圧による放電電流量の変化が図示された図である。
【図１５】本発明に係るプラズマディスプレイ装置において駆動電圧による発光効率の変化が図示された図である。
【符号の説明】
【００５６】
１００    上部ガラス基板
１１０    バス電極
１１０ａ    主電極
１１０ｂ    副電極
１２０    第１誘電体層
１３０    第２誘電体層
２２０    隔壁
Ｂｈ    電極層厚さ
Ｄｈ１    第１誘電体層厚さ
Ｄｈ２    第２誘電体層厚さ
Ｂｗ１    主電極の幅
Ｂｗ２    副電極の幅
Ｇ    放電ギャップ 
【図１】
2007149628.tif 000004
【図６】
2007149628.tif 000005
【図９】
2007149628.tif 000006
【図１０】
2007149628.tif 000007
【図２】
2007149628.tif 000008
【図３】
2007149628.tif 000009
【図４】
2007149628.tif 000010
【図５】
2007149628.tif 000011
【図７】
2007149628.tif 000012
【図８】
2007149628.tif 000013
【図１１】
2007149628.tif 000014
【図１２】
2007149628.tif 000015
【図１３】
2007149628.tif 000016
【図１４】
2007149628.tif 000017
【図１５】
2007149628.tif 000018