(57)【要約】 【課題】  基板の温度調整を的確に行って基板における所定の露光領域に均質に、かつ効率的に露光し、装置の構成を簡単にして、その所要設置空間も小さくする。【解決手段】  露光装置は、基板搬送手段によって一定方向に搬送される基板Ｗに対して、露光領域２７において露光光源からの露光光を露光光学系を通して照射し、基板Ｗ上に所要の露光パターンＰを形成する露光ヘッドを有し、露光領域２７を間にして基板Ｗの搬送方向における上流側と下流側の位置に、基板Ｗの下側へ温度調整された気体を単位パッド（パッド部）２２から噴出させる気体噴出孔３０と単位パッド２２，２２間の凹部２２ａから噴出気体を吸引する気体吸引孔２９を備えて基板Ｗを浮上させた状態で支持する基板支持パッド１１が配置された構成とされている。【選択図】      図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板搬送手段によって一定方向に搬送される基板に対して、露光領域において露光光源からの露光光を露光光学系を通して照射し、前記基板上に所要の露光パターンを形成する露光装置であって、
前記露光領域を間にして前記基板の搬送方向における上流側と下流側の位置に、基板の下側へ温度調整された気体を噴出させて基板を浮上させた状態で支持する基板支持パッドが配置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記基板支持パッドは、上面を平らに形成した突起からなるパッド部を、前記基板の搬送方向とそれに直角な方向に間隔をあけて複数固備えており、気体供給装置に連絡された気体噴出孔が、前記パッド部の上面に開口して設けられると共に、気体吸引装置に連絡させた気体吸引孔が、基板の搬送方向における少なくとも一対のパッド部間に形成された凹部に開口して設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記基板支持パッドに設けた温度センサーによって検出される温度にもとづいて。前記気体供給装置から前記気体噴出孔に供給される気体の温度を調整する温度制御装置が設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネル用カラーフィルタ等を製造する際に用いられる露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶パネル用カラーフィルタの製造において、ブラックマトリックスを形成した基板上に着色層を形成するにあたり、基板に塗布した着色剤に対して露光する場合、前記基板が撓んでいたり、基板の表面に温度差があると露光むらが発生する。
これを防止するために、従来の露光装置においては、塗布装置から露光装置への搬送経路において基板の表面に温度調整された気体をノズルから吹き付けることにより、基板の温度を設定温度に調整するようにした基板温度制御装置を用いることが知られている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
また、温度制御された基板支持プレートの基板載置面に複数の空気孔を設け、該空気孔から流量制御された空気を噴出させて、基板を前記基板載置面上に浮上させた状態で基板支持プレートの温度により熱処理し、または前記空気孔を真空吸引することによって、基板を前記基板載置面に密着させた状態で基板支持プレートにより冷却するようにした基板温度制御装置も知られている（例えば、特許文献３、特許文献４参照）。
【特許文献１】特開２００４−２９６７７３号公報
【特許文献２】特開２００２−７２４９２号公報
【特許文献３】特開２００３−３４７１８３号公報
【特許文献４】特開２００４−３０３９６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、前記露光装置に用いる基板温度制御装置においては、前記基板を露光装置に搬送するに先だって、その搬送経路の途中で基板を温度調整しているので、基板が露光装置に搬送されて露光されるまでの間に温度変化を来たしてしまうおそれがある。そして、基板の温度調整処理が露光処理と別工程で行われるので、基板の露光処理時間が長くなると共に、処理ラインが長くなって装置の所要設置空間が大きくなる問題がある。
また、後者の基板温度制御装置においては、これを露光装置に適用する場合には、基板支持プレートが露光装置と別に設けられることとなり、前者の基板温度制御装置と同様な問題があると共に、強いて基板支持プレートを露光装置に組み込む場合には、基板に照射された露光光の基板支持プレートによる反射光が生じるため、基板の露光を均質に行えない問題がある。
【０００４】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、基板の温度調整を的確に行うことができ、基板における所定の露光領域に均質に、かつ効率的に露光することができると共に、装置の構成が簡単で、その所要設置空間も小さくて済む露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、前記課題を解決するために、以下の点を特徴としている。
すなわち、請求項１に係る露光装置は、基板搬送手段によって一定方向に搬送される基板に対して、露光領域において露光光源からの露光光を露光光学系を通して照射し、前記基板上に所要の露光パターンを形成する露光装置であって、
前記露光領域を間にして前記基板の搬送方向における上流側と下流側の位置に、基板の下側へ温度調整された気体を噴出させて基板を浮上させた状態で支持する基板支持パッドが配置されていることを特徴としている。
【０００６】
請求項２に係る露光装置は、請求項１に記載の露光装置において、前記基板支持パッドが、上面を平らに形成した突起からなるパッド部を、前記基板の搬送方向とそれに直角な方向に間隔をあけて複数固備えており、気体供給装置に連絡された気体噴出孔が、前記パッド部の上面に開口して設けられると共に、気体吸引装置に連絡させた気体吸引孔が、基板の搬送方向における少なくとも一対のパッド部間に形成された凹部に開口して設けられていることを特徴としている。
【０００７】
請求項３に係る露光装置は、請求項１または２に記載の露光装置において、前記基板支持パッドに設けた温度センサーによって検出される温度にもとづいて。前記気体供給装置から前記気体噴出孔に供給される気体の温度を調整する温度制御装置が設けられていることを特徴としている。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、以下の優れた効果を奏する。
請求項１に係る露光装置によれば、露光領域の上流側で基板支持パッドから噴出される温度調整された気体によって、基板が僅かに浮上されながら該気体に接触されるので、気体との熱伝達によって基板を的確に温度調整することができると共に、露光領域の下流側でも基板支持パッドから噴出される気体によって基板が温度調整されるので、基板は、露光領域の上流側と下流側とで温度差が生じることなく、露光領域の全体において温度むらが無くなり、露光領域の全体を均質に露光することができる。
また、基板は温度調整されながら露光領域に移動されて直ちに露光されるので、基板の温度調整と露光を１つの装置内で連続して一工程で行うことができ、基板の露光を効率的に行うことができると共に、露光装置の構成が簡単となり、その所要設置空間も小さくすることができる。
【０００９】
請求項２に係る露光装置によれば、気体供給装置と気体吸引装置の動作を制御して基板支持パッドの気体噴出孔からの気体の噴出圧と気体吸引孔からの気体の吸引圧を調節することにより、基板支持パッドからの基板の浮上量を正確に調整することができ、露光領域において基板の基板支持パッドによる無接触状態での支持を高精度に行うことができる。
【００１０】
請求項３に係る露光装置によれば、気体噴出孔から噴出する気体に接触して気体と等しい温度になっている基板支持パッドの温度を検出することにより、気体の温度を容易に検出することができるので、気体の温度調整を的確に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の一実施の形態に係る露光装置について、添付図面を参照して説明する。
図１〜図３において、１は本発明の一実施の形態に係る露光装置を示す。この露光装置１は、支持脚２ａによって床面に設置された基台２と、該基台２上にＸ軸方向ｘに向けられ、Ｙ軸方向ｙに間隔をあけて立設された一対の正面視（図３）で門型に形成された支柱３ａ，３ａと、前記基台２に設けた支持部材４上に固定したＸ軸レール（案内レール）５に沿ってＸ軸方向ｘに所定ストロークだけ往復移動する支持台６と、該支持台６上の一側部（図１で上側、図３、図４で左側）に固定した架台７に設置されＹ軸方向ｙに向けたＹ軸レール（案内レール）８に沿ってＹ軸方向ｙに往復移動する往復台９とを備えている。なお、前記支柱３ａ，３ａは上端の両端部で互いに接続フレーム３ｂで連結されている。
【００１２】
前記支持台６の中央の上面にはテーブル１０が固定されており、該テーブル１０上には露光対象である基板Ｗを気体圧力で支持して通過させる基板支持パッド１１が取り付けられている。また、前記支持台６上には、前記基板支持パッド１１を間にしてそのＹ軸方向ｙの前後（図１で左右）に前記基板Ｗを下から支える一対の搬送台１２，１２が設置されている。そして、前記往復台９には、前記搬送台１２上に支持された基板Ｗの側縁部（図１で上側縁）を上下一対のグリップ１３ａ，１３ａ（図４参照）で把持する基板把持部１３が複数取り付けられ、往復台９がＹ軸方向ｙに往復することにより、前記基板把持部１３が基板Ｗを掴んで一方の搬送台１２から前記基板支持パッド１１の区間を通過して他方の搬送台１２まで搬送するようになっている。
また、前記支持台６上には、基板ＷのＸ軸方向ｘの端部に位置決め部材１４ａを当接させて基板ＷをＸ軸方向ｘに位置決めして前記基板把持部１３に把持させるためのＸ軸位置調節装置１４と、基板ＷのＹ軸方向ｙの端部に位置決め部材１５ａを当接させて基板ＷをＹ軸方向ｙに位置決めして基板把持部１３に把持させるためのＹ軸位置調節装置１５とが設備されている。
【００１３】
また、前記門型の支柱３ａ，３ａの一方（図２で左方）の上部ビーム３ｃには、そのＸ軸方向の中央部に位置して第１の露光ヘッド１６Ａが、他方の（図２で右方）の上部ビーム３ｃには、第１の露光ヘッド１６ＡのＸ軸方向ｘにおける両側に位置して第２、第３の露光ヘッド１６Ｂ，１６Ｃがそれぞれ取り付けられている。
前記各露光ヘッド１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃは、それぞれ、露光光源１７と、反射鏡１８と投影レンズ１９を有する露光光学系２０と、反射鏡１８と投影レンズ１９との間にあって露光光学系２０の光軸Ｌ上に設けたマスク２１とを備え、前記露光光源部１７からの露光光を前記マスク２１の開口部を通して前記基板支持パッド１１上にある基板Ｗに照射して、前記開口部の像（露光パターン）を基板Ｗの表面に転写するようになっている。
【００１４】
前記基板支持パッド１１は、図５、図６に示すように、前記露光ヘッド１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃに対応させて、Ｘ軸方向ｘに３つに区分されて前記テーブル１０の上板１０ａ上に配置されたパッド集合体１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃからなっている。各パッド集合体１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃは、それぞれ、突起からなる単位パッド（パッド部）２２をＸ軸方向ｘとＹ軸方向ｙにＸ軸溝２３およびＸ軸方向ｘに沿う凹部２２ａとＹ軸溝２４を隔てて複数個（図示の例ではＸ軸方向ｘに８個、Ｙ軸方向ｙに１２個）配置して構成されている。さらに、各パッド集合体１１Ａ，１１Ｂ，１１ＣはＹ軸方向ｙに３固ずつのブロック１１ａ，１１ｂ，１１ｃに分けられて、それぞれ、周囲の３箇所に設けた取付フランジ２５を介して、ボルトと位置決めピンからなる固定具２６によって前記テーブル１０の上板１０ａに固定されている。
【００１５】
各パッド集合体１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃの各ブロック１１ａ，１１ｂ，１１ｃの相互間におけるＸ軸溝２３ａの間隔は、他の箇所のＸ軸溝２３の間隔より広く設定されており、前記露光ヘッド１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃによる露光領域２７に対応する露光部２８とされ、その下方はパッド構成部材が存在しない空間とされている。各パッド集合体１１Ａ，１１Ｂ，１１ＣのＸ軸方向ｘの幅は前記露光領域２７（露光部２８）のＸ軸方向ｘにおける幅の略３個分に相当している。
また、基板支持パッド１１には、図７に示すように、一対の単位パッド２２，２２をＹ軸方向ｙに隔てる前記凹部２２ａに開口する気体吸引孔２９が上下方向に向けて設けられ、前記凹部２２ａのＹ軸方向ｙにおける両側の単位パッド２２，２２に、それらの上面２２ｂに開口する一対の気体噴出孔３０，３０が上下方向に向けて設けられている。そして、前記各単位パッド２２の上面は平滑に仕上げられている。
【００１６】
前記各搬送台１２，１２は、前記支持台６の上面に固定された受け台１２ａにＸ軸方向ｘに間隔をあけて複数の支持部材１２ｂが立設され、各支持部材１２ｂの上端にＹ軸方向ｙに向けて水平にローラ保持材１２ｃが固定され、そして、該ローラ保持材１２ｃにＹ軸方向ｙに所定間隔をあけて配置され、水平軸に支持されてＹ軸方向ｙに沿う面内で回転するローラ１２ｄを設けて構成されている。前記ローラ１２ｄの上面は、前記基板支持パッドの１１の単位パッド２２の上面２２ｂより微小距離ｅだけ高くなるように設定されている。
【００１７】
なお、前記支持台６には制御ボックス３１が設置されている。該制御ボックス３１は支持台６をＸ軸方向ｘに往復移動させるＸ軸駆動手段、前記往復台９を作動させて前記基板把持部１３を介して基板ＷをＹ軸方向ｙに往復移動させるＹ軸駆動手段、前記基板把持部１３を作動させてグリップ１３ａで基板Ｗを把持、開放させる把持部作動手段、前記Ｘ軸，Ｙ軸位置調節装置１４，１５を操作する位置決め作動手段等を制御する動作制御部、前記各露光ヘッド１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃの動作を制御する露光ヘッド制御手段や、前記基板支持パッド１１による基板Ｗの温度を調整するための基板温度制御装置３２が格納されている。前記架台７、Ｙ軸レール８、往復台９、搬送台１２、基板把持部１３等によって基板搬送手段Ｆが構成されている。
【００１８】
前記基板温度制御装置３２は、図７に示すように、前記基板支持パッド１１の単位パッド２２に設けた前記気体噴出孔３０に配管３３によって連絡され、気体噴出孔３０に圧縮空気等の気体を供給するエアコンプレッサー等の気体供給装置３４と、前記配管３３に設けられて圧縮気体供給装置３４から送り出された気体の温度を調整する気体冷却装置３５と、該気体冷却装置３５の出口側における配管３３に設けられ管内を流れる気体の流量を調節する気体流量調節弁３６と、前記配管３３の気体流量調節弁３６の下流側に設けられ管内を流れる気体の温度を検出する温度センサー３７と、前記基板支持パッド１１の単位パッド２２に設けた前記気体吸引孔２９に配管３８によって連絡され、単位パッド２２の凹部２２ａ内の気体を吸引する真空ポンプ等の気体吸引ポンプ（気体吸引装置）３９と、前記配管３８の上流側（気体吸引孔２９に近い側）に設けられ管内を流れる気体の温度を検出する温度センサー４０と、前記配管３８を開閉する開閉弁４１と、前記単位パッド２２に装着されて単位パッド２２の温度を検出する温度センサー４２と、前記単位パッド２２上の基板Ｗに一定の気体圧を作用させるように前記気体供給装置３４と気体吸引ポンプ３９の作動を制御すると共に、前記温度センサー３７，４０，４２の検出温度にもとづいて前記気体冷却装置３５と気体流量調節弁３６の作動を制御する制御部（温度制御装置）４３とを備えている。
【００１９】
次に、上記のように構成された露光装置１の作用について説明する。
先ず、前記制御ボックス３１を操作して露光装置１を動作状態とした後に、基板Ｗを搬送台１２に載置して、Ｘ軸、Ｙ軸位置調節装置１４，１５によってＸ，Ｙ軸方向ｘ、ｙにおける基板Ｗの位置をその大きさに応じて調節してから、基板把持部１３のグリップ１３ａで基板Ｗを把持する。そして、前記支持台６をＸ軸方向ｘの一方（図１、図５で下方）に移動させて、各パッド集合体１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃにおける第１の露光部２８ａ（２８）の中央が、露光ヘッド１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃの投影レンズ１９の光軸Ｌの下方位置を通過するように合わせる。
【００２０】
しかる後に、往復台９を作動させて基板把持部１３を介して基板Ｗを、例えば、図１、図５で右端側の待機位置からＹ軸方向ｙにおける左方へ一定速度で移動させ、基板Ｗの左端縁が第２、第３の露光ヘッド１６Ｂ，１６Ｃの光軸Ｌを少し通過した露光開始位置まで移動されたとき、前記露光ヘッド１６Ｂ，１６Ｃを動作させて第２、第３のパッド集合体１１Ｂ，１１Ｃにおける第１の露光部２８ａで基板Ｗに対する露光を開始し、また、基板Ｗの左端が第１の露光ヘッド１６Ａを少し通過したところで、該露光ヘッド１６Ａを動作させて第１のパッド集合体１１Ａにおける第１の露光部２８ａで基板Ｗに対する露光を開始する。そして、基板ＷがＹ軸方向ｙへ所定距離だけ移動して、各露光ヘッド１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃによって基板Ｗに対する露光が連続して行われる。これにより、前記露光部２８（２８ａ）では、各露光ヘッド１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃのマスク２１の開口部で画成される露光領域２７に対応して基板Ｗ上に露光パターンＰが投影されて露光され、基板Ｗの移動により、Ｘ軸方向ｘに所定の幅を有し基板Ｗの移動距離に相当する長さを有する帯状をした第１の露光帯域の露光が行われる。第１露光帯域の露光が終了すると、各露光ヘッド１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃによる基板Ｗの露光が一旦中断される。
【００２１】
次に、前記支持台６がＸ軸方向ｘの他端側（図１、図５で上端側）へ所定距離だけ移動された後に、基板Ｗが前記と反対であるＹ軸方向ｙにおける右側へ移動されて、前記と同様にして各パッド集合体１１Ａ〜１１Ｃにおける第２の露光部２８ｂで基板Ｗに対する露光が行われる。そして、基板Ｗが右端側に所定距離だけ移動して第１の露光帯域に隣接した第２の露光帯域の露光が終了すると、前記支持台６が更にＸ軸方向ｘの他端側へ所定距離だけ移動された後、再び、基板ＷがＹ軸方向ｙにおける左側へ移動されながら、各パッド集合体１１Ａ〜１１Ｃにおける第３の露光部２８ｃで基板Ｗに対する露光が行われる。これにより、第２の露光帯域に隣接して第３の露光帯域が露光されて基板Ｗに対する露光が完了する。このようにして、基板Ｗの表面にＸ軸方向ｘに間隔をあけて複数の平行な露光帯域が露光されることとなる。
なお、前記露光ヘッド１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃは、前記基板Ｗの大きさ（Ｘ軸方向ｘにおける大きさ）によって、所要のものを１つまたは複数選択して使用する。
【００２２】
前記露光中は、基板温度制御装置３２の制御部４３が動作して、気体流量調節弁３４と開閉弁４１が開かれると共に気体供給装置３４から配管３３を通して圧力を調整された気体が、前記基板支持パッド１１における単位パッド２２の気体噴出孔３０から、単位パッド２２の上方を移動される基板Ｗの下面に噴射されることにより、基板Ｗが単位パッド２２の上面２２ｂから僅かな距離ｅ、例えば、数十ミクロンだけ浮上した状態で移動される。また、同時に、前記気体吸引装置３９が作動されて基板Ｗの下面に噴射された気体が前記気体吸引孔２９から吸引されることにより、気体噴出孔３０から噴出される気体による基板Ｗの浮上圧力と気体吸引孔２９から吸引される気体による基板Ｗの押し下げ圧力とが平衡され、基板Ｗの下面に発生する圧力が一定に保持されて、基板Ｗは上下に振動することなく安定した状態で円滑に露光部２３ａを移動される。
【００２３】
また、露光中は、前記気体噴出孔３０から噴出される気体の熱伝達によって前記基板Ｗが冷却される。その際、前記温度センサー３７により検出された気体噴出孔３０に供給される気体の温度と、前記温度センサー４０により検出された気体吸引孔２９から気体吸引装置３９に吸引される気体の温度と、温度センサー４２によって検出された単位パッド２２の温度とにもとづいて、前記制御部４３が前記気体冷却装置３５により配管３３内を流れる空気の冷却温度を調節すると共に、配管３３を経て前記気体噴出孔３０から噴出される気体の流量を調節することにより、基板Ｗの下面に供給される気体の温度を設定温度に調節される。
【００２４】
また、前記基板Ｗは、Ｘ，Ｙ軸方向ｘ，ｙに複数配置された単位パッド２２の気体噴出孔３０から噴出される気体によって全体が冷却され、特に、露光領域２７のＹ軸方向ｙ（基板Ｗの搬送方向）における両側（上流側と下流側）に近接した位置において、対をなす単位パッド２２，２２からの噴出空気で冷却されるので、基板Ｗは搬送方向に温度勾配が生じることなく、露光領域２７における温度を極めて均一に保持することができ、これにより、基板Ｗに対する露光がむら無く、均質に行われる。しかも、基板Ｗの露光領域２７の下方は、基板支持パッド１１を構成する部材の無い空間となっているので、露光光の反射波が生じることがなく、この点でも露光を均質に行える。
【００２５】
以上説明したように、実施の形態に係る露光装置１は、基板搬送手段Ｆによって一定方向に搬送される基板Ｗに対して、露光領域２７で露光光源１７からの露光光を露光光学系２０を通して照射し、前記基板Ｗ上に所要の露光パターンＰを形成する露光装置であって、前記露光領域２７を間にして前記基板Ｗの搬送方向における上流側と下流側の位置に、基板Ｗの下側へ温度調整された気体を噴出させて基板Ｗを浮上させた状態で支持する基板支持パッド１１が配置された構成とされている。
【００２６】
したがって、前記実施の形態に係る露光装置１によれば、露光領域２７の上流側で基板支持パッド１１から噴出される温度調整された気体によって、基板Ｗが僅かに浮上されながら該気体に接触されるので、気体との熱伝達によって基板Ｗを的確に温度調整することができると共に、露光領域２７の下流側でも基板支持パッド１１から噴出される気体によって基板Ｗが温度調整されるので、基板Ｗは、露光領域２７の上流側と下流側とで温度差が生じることなく、露光領域の全体において温度むらが無くなり、露光領域２７の全体を均質に露光することができる。
また、基板Ｗは温度調整されながら露光領域２７に移動されて直ちに露光されるので、基板Ｗの温度調整と露光を１つの装置内で連続して一工程で行うことができ、基板Ｗの露光を効率的に行うことができると共に、露光装置１の構成が簡単となり、その所要設置空間も小さくすることができる。
【００２７】
そして、前記露光装置１において、前記基板支持パッド１１が、上面２２ｂを平らに形成した突起からなる単位パッド２２を、前記基板Ｗの搬送方向（Ｙ軸方向ｙ）とそれに直角な方向（Ｘ軸方向ｘ）に間隔をあけて複数固備えており、気体供給装置３４に連絡された気体噴出孔３０が、前記単位パッド２２の上面２２ｂに開口して設けられると共に、気体吸引装置３９に連絡させた気体吸引孔２９が、基板Ｗの搬送方向における少なくとも一対の単位パッド２２，２２間に形成された凹部２２ａに開口して設けられた構成とされる場合には、前記気体供給装置３４と気体吸引装置３９の動作を制御して基板支持パッド１１の気体噴出孔３０からの気体の噴出圧と気体吸引孔からの排気圧を調節することにより、基板支持パッド１１からの基板Ｗの浮上量を正確に調整することができ、露光領域２７において基板Ｗの基板支持パッド１１による無接触状態での支持を高精度に行うことができる。
【００２８】
また、前記露光装置１において、前記基板支持パッド１１の単位パッド２２に設けた温度センサー４２によって検出される温度にもとづいて、前記気体供給装置３４から前記気体噴出孔３０に供給される気体の温度を調整する制御部４３が設けられた構成とした場合には、気体噴出孔３０から噴出する気体に接触して気体と等しい温度になっている前記単位パッド２２の温度を検出することにより、基板Ｗに噴出される気体の温度を容易に検出することができるので、該気体の温度調整を的確に行うことができる。
【００２９】
なお、前記実施の形態に係る露光装置１においては、露光ヘッド１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃのマスク２１の露光パターンを投影レンズ１９によって基板Ｗ上に投影して露光する投影露光方式の露光装置に適用した例を示したが、本発明はこれに限らず、結像レンズを通した露光光をマスクの露光パターンを通して基板Ｗに転写するプロキシ露光方式の露光装置に適用してもよく、ＤＭＤ（デジタル・マイクロミラー・デバイス）露光装置に適用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の一実施の形態に係る露光装置を示す平面図である。
【図２】図１のイ−イ断面図である。
【図３】本発明に一実施の形態に係る露光装置の正面図である。
【図４】同じく露光装置における基板搬送手段を示す正面図である。
【図５】同じく露光装置における露光部を示す拡大平面図である。
【図６】同じく露光装置における露光部を示す拡大側面図である。
【図７】同じく露光装置の基板温度制御部を示す系統図である。
【符号の説明】
【００３１】
１  露光装置
２  基台
３  支柱
６  支持台
９  移動台
１０  テーブル
１１  基板支持パッド
１２  搬送台
１３  基板把持部
１６Ａ，１６Ｂ，１６Ｃ  露光ヘッド
１９  投影レンズ
２０  露光光学系
２１  マスク
２２  単位パッド（パッド部）
２７  露光領域
２８，２８ａ，２８ｂ，２８ｃ  露光部
２９  気体吸引孔
３０  気体噴出孔
３２  基板温度制御装置
３４  気体供給装置
３５  気体冷却装置
３６  気体流量調節弁
３７，４０，４２  温度センサー
３９  気体吸引装置
４３  制御部
Ｗ  基板
【図１】
2007072267.tif 000003
【図２】
2007072267.tif 000004
【図３】
2007072267.tif 000005
【図４】
2007072267.tif 000006
【図５】
2007072267.tif 000007
【図６】
2007072267.tif 000008
【図７】
2007072267.tif 000009