(57)【要約】【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。【解決手段】シートＷの表面に、エンボスローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法である。帯状可撓性のシートＷを連続走行させる工程と、シートＷの表面に放射線硬化樹脂を塗布し塗布層を形成する工程と、シートＷを回転するエンボスローラ１３に巻き掛け、塗布層にエンボスローラ表面の凹凸を転写する工程と、シートＷがエンボスローラ１３に巻き掛けられている状態で放射線を照射し塗布層を硬化させる工程と、シートＷをエンボスローラ１３から剥離させる工程と、エンボスローラ表面に付着した異物を検出する工程を含むことにより、前記課題を解決する。【選択図】  図１
2007276380.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート状体の表面に、凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法において、
帯状可撓性のシート状体を連続走行させる走行工程と、
連続走行している前記シート状体の表面に放射線硬化樹脂液を塗布し塗布層を形成する塗布工程と、
連続走行している前記シート状体を回転する前記凹凸ローラに巻き掛け、前記塗布層に前記凹凸ローラ表面の凹凸を転写する転写工程と、
連続走行している前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で放射線を照射し前記塗布層を硬化させる硬化工程と、
連続走行している前記シート状体を前記凹凸ローラから剥離させる剥離工程と、
連続走行している前記シート状体が剥離され回転する前記凹凸ローラの表面に付着した異物を検出する異物検出工程と、
を含むことを特徴とする凹凸状シートの製造方法。
【請求項２】
前記異物検出工程において検出された異物の情報に基づいて、回転する前記凹凸ローラの表面を洗浄する洗浄工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項３】
前記洗浄工程は、前記凹凸ローラの表面に対して固体や液体の接触がない状態で行われることを特徴とする請求項２に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項４】
前記異物検出工程は、前記凹凸ローラの表面に対して非接触の状態で行われることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項５】
前記異物検出工程は、ＣＣＤを利用して行われることを特徴とする請求項４に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項６】
前記放射線硬化樹脂が紫外線硬化樹脂であり、前記放射線が紫外線であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項７】
前記シート状体に転写形成された凹凸パターンのピッチが１００μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【請求項８】
前記凹凸状シートが光学フィルムとして使用されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の凹凸状シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸状シートの製造方法に係り、特に、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された反射防止効果等を有するエンボスシート等のシート状物を、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有するエンボスシートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、プリズムシート等のエンボスシートが使用されている。このようなエンボスシートとしては、従来より、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたものが公知である。このような規則的な微細凹凸パターンを形成する手法としては、従来より各種の方法が知られている（特許文献１〜５参照）。
【０００３】
たとえば、図４に示されるような構成の装置において、表面に規則的な凹凸パターンが形成されているエンボスローラ１の表面に塗布手段２で樹脂を塗布し、連続走行されるシート３をエンボスローラ１とニップローラ４とで挟み、エンボスローラ１の樹脂をシート３に接触させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３を剥離ローラ５に巻き掛けてエンボスローラ１より剥離させる内容が開示されている。
【０００４】
また、図５に示されるような構成の装置において、連続走行されるシート３の表面に予め樹脂を塗布しておき、このシート３を、規則的な凹凸パターンが形成されているエンボスローラ１とニップローラ４とで挟み、エンボスローラ１の凹凸パターンを樹脂に転写させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート３を剥離ローラ５に巻き掛けてエンボスローラ１より剥離させる内容が開示されている。
【０００５】
このような方法において、重要なポイントの１つは、転写から硬化、剥離までのプロセスを、欠陥なく、安定な条件で維持することである。特に問題となるのは、大気中の塵埃や剥離不良による硬化樹脂の残留物などの異物がエンボスローラ表面に付着した状態で前記プロセスが繰り返されると、シート上に形成されるパターン構造に致命的な欠陥が生じてしまう恐れがある。また、欠陥が発生するたびに、生産ラインを停止してエンボスローラ表面を洗浄することは極めて非効率である。
【特許文献１】特開平１１−２６２９５８号公報
【特許文献２】特開平１１−３００７６８号公報
【特許文献３】特開２００１−３１４８１５号公報
【特許文献４】特開２００２−６７０５７号公報
【特許文献５】特開２００２−３６５４０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このようなエンボスシートの生産ラインに関する既述の特許文献１〜５には、オンラインでエンボスローラ表面の欠陥（異物）を検出する方法については開示されていない。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、前記目的を達成するために、シート状体の表面に、凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法において、帯状可撓性のシート状体を連続走行させる走行工程と、連続走行している前記シート状体の表面に放射線硬化樹脂液を塗布し塗布層を形成する塗布工程と、連続走行している前記シート状体を回転する前記凹凸ローラに巻き掛け、前記塗布層に前記凹凸ローラ表面の凹凸を転写する転写工程と、連続走行している前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で放射線を照射し前記塗布層を硬化させる硬化工程と、連続走行している前記シート状体を前記凹凸ローラから剥離させる剥離工程と、連続走行している前記シート状体が剥離され回転する前記凹凸ローラの表面に付着した異物を検出する異物検出工程と、を含むことを特徴とする凹凸状シートの製造方法を提供する。
【０００９】
本発明によれば、シート状体が連続走行しているオンライン中に、凹凸ローラにおいて、転写、硬化、剥離、異物検出の各プロセスが繰り返し行われるので、即ち、シート状体の剥離から次の転写が行われるまでの間に凹凸ローラの表面に付着している異物の検出が行われるので、凹凸ローラ表面に付着した異物を迅速且つ的確に除去することができ、凹凸ローラに対するシート状体の剥離性が向上する。これにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
【００１０】
「異物の情報」とは、異物の位置、種類、大きさなどをいう。
【００１１】
なお、本明細書において「凹凸ローラ」とは、円柱状のローラの表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたエンボスローラのみならず、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものをも含むものとする。このようなベルト状体であっても、円柱状のエンボスローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
【００１２】
本発明において、前記異物検出工程において検出された異物の情報に基づいて、回転する前記凹凸ローラの表面を洗浄する洗浄工程を含むことが好ましい。異物検出工程だけでなく、更に、洗浄工程を含めることにより、凹凸ローラ表面に付着した異物をより迅速且つ的確に除去することができるようになる。
【００１３】
また、本発明において、前記洗浄工程は、前記凹凸ローラの表面に対して固体や液体の接触がない状態で行われることが好ましい。たとえば、活性エネルギーを照射することにより実現することができる。活性エネルギーとしては、レーザ、電子線、プラズマなどがあり、凹凸ローラの表面材質や硬化樹脂の種類などに応じて最適なものを選ぶことが好ましい。凹凸ローラ表面に形成される微細凹凸パターンを傷つけることなく、凹凸ローラ表面に付着した異物を除去することができ、高精度な凹凸パターンの転写が可能となる。
【００１４】
また、本発明において、前記異物検出工程は、前記凹凸ローラの表面に対して非接触の状態で行われることが好ましく、ＣＣＤを利用して行われることが更に好ましい。凹凸ローラ表面に形成される微細凹凸パターンを傷つけることなく、凹凸ローラ表面に付着した異物を検出することができる。
【００１５】
また、本発明において、前記放射線硬化樹脂が紫外線硬化樹脂であり、前記放射線が紫外線であることが好ましい。また、前記シート状体に転写形成された凹凸パターンのピッチが１００μｍ以下であることが好ましい。また、前記凹凸状シートが光学フイルムとして使用されることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様について説明する。図１は、本発明が適用されるエンボスシートの製造装置１０の構成を示す構成図である。
【００１８】
このエンボスシートの製造装置１０は、シート供給手段１１と、塗布手段１２と、乾燥手段１９と、凹凸ローラであるエンボスローラ１３と、ニップローラ１４と、樹脂硬化手段１５と、剥離ローラ１６と、欠陥検査手段２１と、保護フィルム供給手段１７と、シート巻き取り手段１８等とより構成される。そして、シート状体であるシートＷが、上流側（シート供給手段１１）より下流側（シート巻き取り手段１８）まで、ガイドローラＧ、Ｇ…に支持されて搬送されるようになっている。
【００１９】
シート状体供給手段であるシート供給手段１１は、シート状体であるシートＷを送り出すもので、シートＷが巻回された送り出しロール等より構成される。
【００２０】
シート供給手段１１と塗布手段１２との間には、第１のサクションドラム２４が設けられている。この第１のサクションドラム２４は、後述する第２のサクションドラム２６と同様に、シートＷを吸引保持するとともに所定の周速度で回転駆動することにより、シートＷを連続走行させる手段である。シートＷの吸引保持は、ドラムの外周面に形成された多数の孔からの吸引による構成でもよく、ドラムの外周面に形成された複数の溝により保持する構成（グルーブドサクションドラム）でもよい。
【００２１】
第１のサクションドラム２４の下流には、除塵機２８が設けられている。この除塵機２８により、シートＷの表面に付着した塵を取り除くことができるようになっている。除塵機２８の形式としては、静電除塵された乾燥エアを吹き付けるタイプのものや、図示のように、粘着ローラにシートＷを巻き掛けるタイプのもの等、公知の各種のタイプが採用できる。
【００２２】
塗布手段１２は、シートＷの表面に放射線硬化樹脂液を塗布する装置であり、放射線硬化樹脂液を供給する液供給源と、液供給装置（送液ポンプ）と（以上、図示略）、塗布ヘッド１２Ｃと、塗布の際にシートＷを巻き掛けて支持する支持ローラ１２Ｄと、液供給源より塗布ヘッド１２Ｃまで放射線硬化樹脂液を供給するための図示しない配管等より構成される。なお、塗布ヘッド１２Ｃとしては、ダイコータ（エクストルージョン方式のコータ）の塗布ヘッドが採用されている。
【００２３】
乾燥手段１９は、たとえば図１に示されるトンネル状の乾燥装置のように、シートＷに塗布された塗布液を均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものが採用できる。たとえば、ヒータによる輻射加熱方式のもの、熱風循環方式のもの、遠赤外線方式のもの、真空方式のもの等が採用できる。
【００２４】
図１に示される乾燥手段１９は、４ブロックのトンネル状装置に分割されており、上流側より、第１ブロック１９Ａ、第２ブロック１９Ｂ、第３ブロック１９Ｃ、第４ブロック１９Ｄの順で配されており、個別に温度設定ができるようになっている。
【００２５】
エンボスローラ１３としては、シートＷの表面に、ローラ表面の凹凸を転写形成できる、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このようなエンボスローラ１３としては、金属製のローラが好ましい。
【００２６】
エンボスローラ１３の外周面には、規則的な微細凹凸パターンが形成されている。このような規則的な微細凹凸パターンは、製品としてのエンボスシート表面の微細凹凸パターンを反転した形状であることが求められる。エンボスローラ１３の概略断面図を図２に示す。
【００２７】
製品としてのエンボスシートとしては、微細凹凸パターンが二次元配列された、たとえばレンチキュラーレンズや、微細凹凸パターンが三次元配列された、たとえばフライアイレンズ、円錐、角錐等の微細な錐体をＸＹ方向に敷きつめた平板レンズ等が対象となり、エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンは、これに対応させる。
【００２８】
エンボスローラ１３の外周面の規則的な微細凹凸パターンの形成方法としては、エンボスローラ１３の表面をダイヤモンドバイト（シングルポイント）で切削加工する方法、エンボスローラ１３の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法が採用でき、また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法が採用できる。
【００２９】
その他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ１３とする方法も採用できる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、１つの原盤（マザー）より複数の同一形状の板状体が得られるという特長がある。
【００３０】
エンボスローラ１３の表面には、離型処理を施すことが好ましい。このように、エンボスローラ１３の表面に離型処理を施すことにより、微細凹凸パターンの形状が良好に維持できる。離型処理としては、公知の各種方法、たとえば、フッ素樹脂によるコーティング処理が採用できる。なお、エンボスローラ１３には駆動手段が設けられていることが好ましい。エンボスローラ１３は、図示の矢印ように、時計方向（ＣＷ）に回転する。
【００３１】
ニップローラ１４は、エンボスローラ１３と対になってシートＷを押圧しながらローラ成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。ニップローラ１４表面の縦弾性係数（ヤング率）は、小さ過ぎるとローラ成形加工が不十分となり、大き過ぎるとゴミ等の異物の巻き込みに敏感に反応し欠点を生じやすいことより、適宜の値とすることが好ましい。なお、ニップローラ１４には駆動手段が設けられていることが好ましい。ニップローラ１４は、反時計方向（ＣＣＷ）に回転する。
【００３２】
エンボスローラ１３とニップローラ１４との間に所定の押圧力を付与するべく、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに加圧手段を設けることが好ましい。同様に、エンボスローラ１３とニップローラ１４との隙間（クリアランス）を正確に制御できるような微調整手段を、エンボスローラ１３とニップローラ１４のいずれかに設けることが好ましい。
【００３３】
樹脂硬化手段１５は、ニップローラ１４の下流側においてエンボスローラ１３に対向して設けられる光照射手段である。この樹脂硬化手段１５は、光照射によってシートＷを透過して樹脂液層を硬化させるもので、樹脂の硬化特性に応じた波長の光（放射線）を照射でき、シートＷの搬送速度に応じた量の放射線を照射できることが好ましい。樹脂硬化手段１５として、たとえば、シートＷの幅と略同一長さの円柱状照射ランプが採用できる。また、この円柱状照射ランプを複数本平行に設けることもでき、この円柱状照射ランプの背面に反射板を設けることもできる。なお、図１では、円柱状照射ランプを筐体内部に配したランプハウスが２組配されている。
【００３４】
剥離ローラ１６は、エンボスローラ１３と対になってエンボスローラ１３からシートＷを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、エンボスローラ１３の周面上に巻き掛けられたシートＷを回転するエンボスローラ１３と剥離ローラ１６とで挟みながら、シートＷをエンボスローラ１３から剥離させて剥離ローラ１６に巻き掛ける。この動作を確実にすべく、剥離ローラ１６には駆動手段が設けられていることが好ましい。剥離ローラ１６は、反時計方向（ＣＣＷ）に回転する。
【００３５】
なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時にシートＷを冷却させて剥離を確実にすべく、剥離ローラ１６に冷却手段を設ける構成も採用できる。
【００３６】
なお、図示は省略したが、エンボスローラ１３の押圧箇所（３時の位置）から剥離箇所（９時の位置）までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとエンボスローラ１３とでシートＷを押圧しながら硬化処理を行う構成も採用できる。
【００３７】
異物検出手段４０は、回転するエンボスローラ１３のシートＷが剥離される位置（剥離ローラ１６の位置）より下流側において、エンボスローラ１３に対向して設けられる。この異物検出手段４０は、剥離ローラ１６によりシートＷがエンボスローラ１３から剥離された後において、エンボスローラ表面に付着している異物を検出するものである。異物検出手段４０として、たとえば、エンボスローラ１３よりも幅の広いＣＣＤラインセンサやＣＣＤエリアセンサを採用することができる。また、幅狭のセンサをエンボスローラ１３の幅方向にスキャンさせながら異物を検出するようにしてもよい。また、エンボスローラ１３の大きさや検出速度・精度に応じて複数のセンサを備えてもよい。図１の異物検出手段４０は、（株）キーエンス社製の小型画像センサ（ＣＶ−Ｓ２００Ｍ）を、５０ｍｍおきに、エンボスローラ１３の幅方向に一列に並べて配置し、各々のセンサをコントローラに接続することにより、実現されている。
【００３８】
このような異物検出手段４０によれば、エンボスローラ表面に非接触の状態で異物の検出を行うことができるので、エンボスローラ表面に形成される微細凹凸パターンを傷つけることなく、エンボスローラ表面に付着した異物を検出することができる。
【００３９】
また、異物検出手段４０は、エンボスローラ表面に付着している異物を検出した後、その異物に関する情報（以下、「異物情報」という。）を出力する機能を備えている。異物情報としては、たとえば、異物検出手段４０により検出された異物の位置、種類、大きさなどが挙げられる。異物検出手段４０から出力される異物情報は、次に説明する洗浄手段４２により利用される。
【００４０】
洗浄手段４２は、回転するエンボスローラ１３の異物検出手段４０が配置される位置よりも下流側であり、且つ、シートＷがエンボスローラ１３に巻き掛けられ、ニップローラ１４によって転写が行われる位置よりも上流側において、エンボスローラ１３に対向して設けられる。この洗浄手段４２は、剥離ローラ１６によりシートＷがエンボスローラ１３から剥離された後において、異物検出手段４０から出力される異物情報に基づいて、エンボスローラ表面を洗浄するものである。
【００４１】
洗浄手段４２として、たとえば、エンボスローラ表面に対して所定のレーザを照射するレーザ照射手段を採用することができる。このレーザ照射手段で用いられるレーザとしては、たとえば、ＴＥＡ−ＣＯ２レーザ、ＹＡＧレーザ、エキシマレーザなどが挙げられる。また、電子線照射手段やプラズマ照射手段なども採用することができる。エンボスローラ表面の材質や硬化樹脂の種類などに応じて、最適な活性エネルギー線（レーザ、電子線、プラズマなど）を照射するエネルギー照射手段を選ぶことが好ましい。また、洗浄手段４２として、ドライアイススノー噴射装置を用いることも好適である。
【００４２】
このような洗浄手段４２によれば、エンボスローラ表面に固体や液体の接触がない状態で洗浄することができるので、エンボスローラ表面に形成される微細凹凸パターンを傷つけることなく、エンボスローラ表面に付着した異物を除去することができ、高精度な凹凸パターンの転写が可能となる。
【００４３】
シートＷが連続走行しているオンライン中において、転写から硬化、剥離までの各プロセスが繰り返され、エンボスローラ表面に異物が付着した状態になると、エンボスローラ１３に対するシートＷの剥離性が低下してしまう。本発明においては、シートＷの剥離から次の転写が行われるまでの間に、異物検出手段４０によりエンボスローラ表面に付着している異物が検出され、洗浄手段４２により異物検出手段４０から出力される異物情報に基づいてエンボスローラ表面の洗浄が行われるので、エンボスローラ表面に付着した異物を迅速且つ的確に除去することが可能である。即ち、エンボスローラ１３において、転写、硬化、剥離、異物検出、洗浄の各プロセスを繰り返し行うことにより、エンボスローラ１３に対するシートＷの剥離性が向上し、剥離不良による欠陥のない、高品質な製品を製造することができる。
【００４４】
洗浄手段４２によってエンボスローラ表面から除去された異物などを吸引する吸引手段（不図示）が設けられていることが好ましい。吸引手段としては、ノズルとホースに真空ポンプ等を接続して除去される異物の吸引を行うこと方式を採用することができる。吸引ノズルは、紫外線照射される位置と走行するシートＷがニップされる位置の間のエンボスローラ表面付近にて設置するとよい。また、付着物の除去をより完全にするために、空気を吹き付ける手段を併設してもよい。即ち、空気吹付けにより付着物を浮遊しやすくさせて、吸引することで、より確実な効果を得ることができる。
【００４５】
剥離ローラ１６の下流側には、欠陥検査手段２１が配されている。このような欠陥検査手段２１により、シートＷに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査でき、欠陥部分の排除が容易となる。欠陥検査手段２１の形式としては、公知の各種タイプの検査装置（たとえば、ＣＣＤ撮像装置）が使用できる。
【００４６】
欠陥検査手段２１の下流側には、張力制御手段であるダンサーローラ３０が配されている。このダンサーローラ３０は、固定ローラ３０Ａ及び３０Ｂと、固定ローラ３０Ａ、３０Ｂの間に設けられた移動ローラ３０Ｃにより構成される。そして、移動ローラ３０Ｃの昇降動作によりシートＷの張力が制御されるようになっている。
【００４７】
ダンサーローラ３０の下流側には、第２のサクションドラム２６が配されている。この第２のサクションドラム２６は、既述したように、第１のサクションドラム２４と同様に、シートＷを吸引保持するとともに所定の周速度で回転駆動することにより、シートＷを連続走行させる手段である。
【００４８】
第２のサクションドラム２６の下流側には、エッジ位置制御手段（エッジポジションコントローラ）３２が配されている。このエッジ位置制御手段３２は、連続走行しているシートＷの幅方向の端部位置を検出してシートＷの幅方向位置を制御する装置である。
【００４９】
このエッジ位置制御手段３２は、固定ローラ３２Ａ及び３２Ｂと、固定ローラ３２Ａ、３２Ｂの間に設けられた傾斜ローラ３２Ｃ及び３２Ｄにより構成される。そして、図示しないエッジ位置センサ（たとえば、レーザ方式の位置センサ）の検出結果により、シートＷの幅方向位置が正規に位置になるように、傾斜ローラ３２Ｃ及び３２Ｄの傾斜動作によりシートＷの幅方向位置が制御されるようになっている。
【００５０】
シート巻き取り手段１８は、剥離後のシートＷを収納するもので、シートＷを巻き取る巻き取りロール等より構成される。このシート巻き取り手段１８において、隣接して設けられる保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態で、シート巻き取り手段１８に収納される。
【００５１】
次に、本発明に適用される各材料について説明する。シートＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。
【００５２】
シートＷの幅としては、０. １〜３ｍが、シートＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、シートＷの厚さとしては、１〜３００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。
【００５３】
これらのシートＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。シートＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００５４】
また、シートＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。同様に、シートＷとして１層構成のもののみならず、２層以上の構成のものも採用できる。また、シートＷは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。
【００５５】
本発明に使用可能な樹脂は（メタ）アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。
【００５６】
特に硬化の速さからは、（メタ）アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも（メタ）アクリレ−ト、ウレタン（メタ）アクリレ−ト、エポキシ（メタ）アクリレ−ト、ポリエステル（メタ）アクリレ−トなどの（メタ）アクロイル基含有化合物が好ましい。
【００５７】
この（メタ）アクロイル基含有化合物としては（メタ）アクロイル基が１個あるいは２個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物（モノマ−）は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。
【００５８】
このような、（メタ）アクロイル基含有化合物としては、たとえば、（メタ）アクロイル基含有化合物を１個だけ含有する単官能モノマ−としてイソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００５９】
更に芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６０】
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ、ライトエステルＰＯ（以上、共栄社化学（株）製）、ニューフロンティアＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００６１】
また、（メタ）アクリロイル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。
【００６２】
ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６３】
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業（株）製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学（株）製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬（株）製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬（株）製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子（株）製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ（株）製）等が挙げられる。
【００６４】
更に、３官能以上の（メタ）アクリレート不飽和モノマ−としては、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスＭ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０８（以上、東亞合成（株）製）、ビスコート＃２９５、＃３００、＃３６０、ＧＰＴ、３ＰＡ、＃４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ＮＫエステルＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ（以上、新中村化学（株）製）、ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ、ＴＭＰ−６ＥＯ−３Ａ、ＰＥ−３Ａ、ＰＥ−４Ａ、ＤＰＥ−６Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０、ＧＰＯ−３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＰＡ−３２０、ＤＰＨＡ、Ｄ−３１０、ＤＰＣＡ−２０、ＤＰＣＡ−６０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
【００６５】
加えてウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール；コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ（無水）フタル酸、ヘキサヒドロ（無水）フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール；ポリε−カプロラクトン変性ポリオール；ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ等のビスフェノールＡ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール；エチレンオキシド付加ビスフェノールＦ、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＦ等のビスフェノールＦ骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートから製造されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、本発明の硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。
【００６６】
これらウレタン（メタ）アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスＭ１２０、Ｍ−１５０、Ｍ−１５６、Ｍ−２１５、Ｍ−２２０、Ｍ−２２５、Ｍ−２４０、Ｍ−２４５、Ｍ−２７０（以上、東亞合成（株）製）、ＡＩＢ、ＴＢＡ、ＬＡ、ＬＴＡ、ＳＴＡ、ビスコート＃１５５、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５８、＃１９０、＃１５０、＃３２０、ＨＥＡ、ＨＰＡ、ビスコート＃２０００、＃２１００、ＤＭＡ、ビスコート＃１９５、＃２３０、＃２６０、＃２１５、＃３３５ＨＰ、＃３１０ＨＰ、＃３１０ＨＧ、＃３１２（以上、大阪有機化学工業（株）製）、ライトアクリレートＩＡＡ、Ｌ−Ａ、Ｓ−Ａ、ＢＯ−Ａ、ＥＣ−Ａ、ＭＴＧ−Ａ、ＤＭＰ−Ａ、ＴＨＦ−Ａ、ＩＢ−ＸＡ、ＨＯＡ、ＨＯＰ−Ａ、ＨＯＡ−ＭＰＬ、ＨＯＡ−ＭＰＥ、ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ、４ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＮＰ−Ａ、１，６ＨＸ−Ａ、ＤＣＰ−Ａ（以上、共栄社化学（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ、ＨＤＤＡ、ＮＰＧＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤＡ、ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）製）、ＦＡ−５１１Ａ、５１２Ａ、５１３Ａ（以上、日立化成（株）製）、ＶＰ（ＢＡＳＦ製）、ＡＣＭＯ、ＤＭＡＡ、ＤＭＡＰＡＡ（以上、興人（株）製）等が挙げられる。
【００６７】
ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーは、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート、（ｂ）有機ポリイソシアネート及び（ｃ）ポリオールの反応物として得られるものであるが、（ａ）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレートと（ｂ）有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで（ｃ）ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。
【００６８】
以上の不飽和モノマ−は単独で用いても良く、必要に応じて複数種を混合して用いても良い。
【００６９】
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００７０】
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばＩｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８、８８９３Ｘ（以上ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）、ＫＩＰ１５０（ランベルティ社製）等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８８９３Ｘが好ましい。
【００７１】
光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、０．０１〜１０重量％、特に０．５〜７重量％配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。
【００７２】
本発明の組成物には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００７３】
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。
【００７４】
ここで、酸化防止剤としては、たとえばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ａｎｔｉｇｅｎ  Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ  Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成（株）製）等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばＴｉｎｕｖｉｎ  ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、サノールＬＳ７７０（三共（株）製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ＴＭ−０６１（住友化学工業（株）製）等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業（株）製）等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ  コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ  コーニング・シリコーン（株）製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業（株）製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー（株）製）、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはＦＣ-430、ＦＣ-171（以上  ３Ｍ（株））、メガファックＦ-176、Ｆ-177、Ｒ-08、F780（以上、大日本インキ（株）製）等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。
【００７５】
本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。
【００７６】
有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製晶の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼす懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。
【００７７】
ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。
【００７８】
したがって、有機溶剤の沸点としては５０°Ｃ以上、１５０°Ｃ以下が好ましく、７０°Ｃ以上、１２０°Ｃ以下がより好ましい。素材の溶解性や、沸点の観点から、有機溶剤としてはメチルエチルケトン（ｂｐ．７９．６°Ｃ）、１−プロパノール（ｂｐ．９７．２°Ｃ）などが好ましい。
【００７９】
本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、充分に塗布性が改善されるためには、１０重量％以上、４０重量％以下の範囲であり、好ましくは１５重量％以上、３０重量％以下の範囲である。有機溶剤の添加量があまり少量だと、粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく、塗布性が充分に改良されない。
【００８０】
しかし、樹脂液を多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液が回るなどの問題が発生する。また、乾燥工程において充分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼす懸念が生じる。
【００８１】
本発明の樹脂液は、前記の各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常１０〜５００００ｍＰａ・ｓ／２５°Ｃである。
【００８２】
シートＷやエンボスローラ１３に樹脂液を供給する場合には、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を充分に発揮できない。
【００８３】
特に、ラインスピードを高速化したときにその傾向が顕著になる。したがって、この場合には液粘度は低い方が好ましく、１０〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、１０〜５０ｍＰａ・ｓがより好ましい。このような低い粘度は、有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。また、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。
【００８４】
一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎると、エンボスローラ１３で型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合がある。好ましい粘度は１０〜３０００ｍＰａ・ｓである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスローラ１３で型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスローラ１３で型押しする際は、有機溶剤を乾燥させ、より高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。
【００８５】
本発明の樹脂液を放射線によって硬化させることにより得られる硬化物は、プリズムレンズシートの場合、以下の物性（屈折率、軟化点）を有するものであることが特に好ましい。
【００８６】
屈折率としては、硬化物の２５°Ｃにおいて１．５５以上が好ましく、１．５６以上がより好ましい。硬化物の２５°Ｃにおける屈折率が１．５５未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、充分な正面輝度を確保することができない場合が生じるからである。
【００８７】
軟化点としては、４０°Ｃ以上が好ましく、５０°Ｃ以上がより好ましい。軟化点が４０°Ｃ未満の場合には耐熱性が充分でない場合があるからである。
【００８８】
次に、図１に戻って、エンボスシートの製造装置１０の作用について説明する。シート供給手段１１より、一定速度でシートＷを送り出す。シートＷは第１のサクションドラム２４に巻き掛けられ、吸引保持されて連続走行する。次いで、シートＷは除塵機２８へ送り込まれ、シートＷの表面に付着した塵が取り除かれる。
【００８９】
次いで、シートＷは塗布手段１２へ送り込まれ、シートＷの表面に樹脂液が塗布される。塗布後に乾燥手段１９によりシートＷに塗布された樹脂液が乾燥され、溶剤分が蒸発する。このように、シートＷをエンボスローラ１３に巻き掛けて硬化させる前に、この塗布層に含まれる溶剤を乾燥させる工程を設けているために、添加した溶剤が硬化後も残ることによる製品の機能劣化や硬化膜の強度劣化の心配はない。同様に、製品使用中に溶剤が放出されて悪臭を発生したり、健康に悪影響を与えたりする心配もない。
【００９０】
次いで、シートＷはエンボスローラ１３とニップローラ１４からなる成形手段へ送り込まれる。これにより、連続走行するシートＷを、エンボスローラ１３の３時の位置において、回転するエンボスローラ１３とニップローラ１４とで押圧しながらローラ成形加工がなされる。すなわち、シートＷを、回転するエンボスローラ１３に巻き掛け、樹脂層にエンボスローラ１３表面の凹凸を転写する。
【００９１】
次いで、シートＷがエンボスローラ１３に巻き掛けられている状態で、樹脂硬化手段１５によりシートＷを透過して樹脂液層に放射線照射を行い、樹脂液層を硬化させる。その後、エンボスローラ１３の９時の位置において、シートＷを剥離ローラ１６に巻き掛けることによりエンボスローラ１３から剥離する。
【００９２】
なお、図１には示していないが、シートＷを剥離した後、硬化を更に促進させるため、再度放射線照射を行うこともできる。
【００９３】
シートＷが剥離されたエンボスローラ１３に対しては、異物検出手段４０によってエンボスローラ表面に付着している異物の検出を行い、洗浄手段４２によって、異物検出手段４０から出力される異物情報（検出された異物の位置、種類、大きさなどの情報）に基づいてエンボスローラ表面の洗浄を行い、エンボスローラ表面に付着した異物を除去する。
【００９４】
このように、エンボスローラ１３において、転写、硬化、剥離、異物検出、洗浄の各プロセスが繰り返し行われるので、エンボスローラ表面に付着した異物は定期的に除去され、エンボスローラ１３に対するシートＷの剥離性が向上し、剥離不良による欠陥のない、高品質な製品を製造することができる。
【００９５】
特に、連続走行しているシートＷを停止することなく（即ち、オフラインにすることなく）、オンライン中にエンボスローラ表面を洗浄することができ、また、ラインスピードを速くしても、シートＷの剥離から次の転写が行われるまでの間にエンボスローラ表面に付着した異物を迅速且つ的確に除去することができるので、生産性が向上し、生産量の増加に対応することができる。
【００９６】
剥離されたシートＷは、欠陥検査手段２１に搬送され、シートＷに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査される。このような欠陥検査手段２１により、シートＷに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査でき、欠陥部分の排除が容易となる。
【００９７】
次いで、シートＷはダンサーローラ３０に搬送され、固定ローラ３０Ａ、３０Ｂの間に設けられた移動ローラ３０Ｃの昇降動作によりシートＷの張力が制御される。このようなダンサーローラ３０（張力制御手段）によりシートＷの張力を制御するので、シートＷの走行速度が安定し、転写形状が良好となる。
【００９８】
次いで、シートＷは第２のサクションドラム２６に巻き掛けられ、吸引保持されて連続走行する。
【００９９】
次いで、シートＷはエッジ位置制御手段３２に搬送され、シートＷの幅方向位置が制御される。本発明の凹凸状シートは、シート表面に微細なパターンを形成するため、シート搬送時の寄りや変動があると、非常に敏感に欠陥発生につながるが、このように、シート状体の幅方向位置を制御することができれば、上記の欠陥発生を有効に防止できる。
【０１００】
次いで、シートＷは、シート巻き取り手段１８に搬送され、保護フィルム供給手段１７より供給される保護フィルムＨがシートＷの表面に供給され、両フィルムが重なった状態でシート巻き取り手段１８の巻き取りロールにより巻き取られ、収納される。このようなシートＷの完成後の概略断面形状を図３に示す。シートＷの表面には、エンボスローラ１３表面の凹凸が転写された樹脂層Ｆが形成されている。
【０１０１】
この巻き取りロールにより巻き取られ、収納された完成後のシートＷを一連の工程の後にオフラインで製品サイズに裁断することもできる。このような完成後のシートＷは光学フイルムとして好ましく使用される。
【０１０２】
以上説明した本実施の形態によれば、上流側からの一連の工程により、連続走行しているシートＷの表面に放射線硬化樹脂を塗布し、このシートＷをエンボスローラ１３に巻き掛け表面の凹凸を転写している状態で放射線を照射して塗布層を硬化させ、このシートＷをエンボスローラ１３から剥離し、片面又は両面に保護フイルムＨをラミネートし、ロール状に巻き取る。したがって、一連の工程で巻き取りまで行えるので、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
【０１０３】
特に、エンボスローラ１３において、転写、硬化、剥離、異物検出、洗浄の各プロセスが繰り返し行われるので、エンボスローラ表面には異物が付着していない状態で剥離が行われるので剥離性が向上し、剥離不良による欠陥のない、高品質な製品を製造することができる。
【０１０４】
以上、本発明に係る凹凸状シートの製造方法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【０１０５】
たとえば、本実施形態の例では、ローラ状のエンボスローラ１３を使用する態様を採用したが、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン（エンボス形状）が形成されたものを使用する態様も採用できる。このようなベルト状体であっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】本発明が適用されるエンボスシートの製造装置の構成を示す図
【図２】エンボスローラの概要を示す断面図
【図３】エンボスシートの概要を示す断面図
【図４】従来例のエンボスシートの製造装置の構成を示す概念図
【図５】従来例のエンボスシートの製造装置の他の構成を示す概念図
【符号の説明】
【０１０７】
１０…エンボスシートの製造装置、１１…シート供給手段、１２…塗布手段、１３…エンボスローラ、１４…ニップローラ、１５…樹脂硬化手段、１６…剥離ローラ、１７…保護フィルム供給手段、１８…シート巻き取り手段、２１…欠陥検査手段、２４…第１のサクションドラム、２６…第２のサクションドラム、２８…除塵機、３０…ダンサーローラ、３２…エッジ位置制御手段、４０…異物検出手段、４２…洗浄手段、Ｈ…保護フィルム、Ｗ…シート
【図１】
2007276380.tif 000003
【図２】
2007276380.tif 000004
【図３】
2007276380.tif 000005
【図４】
2007276380.tif 000006
【図５】
2007276380.tif 000007