(57)【要約】【課題】本発明は、公知のチオール基の保護基では、保護基としての機能を果たし得なかった反応条件、例えば、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応又はブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応の条件いった反応条件にも保護基としての機能を発揮できる保護基を提供することにある。【解決手段】式（Ｉ）：2007176846.tif 000097で表される２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基からなるチオール基の保護基。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2007176846.tif 000095
で表される２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基からなるチオール基の保護基。
【請求項２】
２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基をチオール基の保護基として使用することができる反応が、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応又はブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応であることを特徴とする、請求項１記載のチオール基の保護基。
【請求項３】
２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基をチオール基の保護基として使用することができる反応が、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応であることを特徴とする、請求項１記載のチオール基の保護基。
【請求項４】
２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基をチオール基の保護基として使用することができる反応が、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応であることを特徴とする、請求項１記載のチオール基の保護基。
【請求項５】
２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基をチオール基の保護基として使用することができる反応が、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応であることを特徴とする、請求項１記載のチオール基の保護基。
【請求項６】
２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基をチオール基の保護基として使用することができる反応が、ブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応であることを特徴とする、請求項１記載のチオール基の保護基。
【請求項７】
式（Ｉ）：
【化２】
2007176846.tif 000096
で表される２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基によるチオール基の保護方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、医薬品、電子材料、接着剤又は塗料等のチオール化合物の製造に有用な、新規なチオール基の保護基に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
化学的に性質の異なる、複数の官能基を有する化合物を製造する場合に、特定の官能基を保護基で保護し、次いで、他の官能基を製造するということが、頻繁に行なわれ、保護基についても非常に多く開発されている。（非特許文献１）本発明のチオール基の保護基を利用し、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応又はブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応のようなクロスカップリング反応を利用して製造されうる、医薬品として有用な化合物は、例えば、マトリックス  メタロプロテアーゼ阻害作用を有し、変形性関節症、腫瘍の転移又は浸潤、うっ血性心不全又は腎炎の治療剤として有用な化合物（特許文献１、２及び３、並びに非特許文献３）、蛋白チロシンホスファターゼＰＴＰ−１Ｂの阻害作用を有し、２型糖尿病の治療剤に有用な化合物（特許文献４）又はＰＰＡＲ−γ受容体のモジュレーターとして作用し、肥満症又は糖尿病の治療剤としての有用な化合物（特許文献５）が挙げられ、電子材料として有用な化合物としては、有機エレクトロルミネッセンス素子の薄膜（特許文献６及び７）が挙げられる。
【０００３】
非特許文献３では、以下の反応式で示されるスズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応において、ＲＰ（チオール基の保護基）として、アセチル基、ピバロイル基、トリクロロアセチル基、ベンゾイル基、フェロセノイル基、２，４，６−トリイソプロピル基、ジメチルフェニルアセチル基、２−メトキシイソブチリル基又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である化合物を用いて、以下の反応式で示されるスズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応を実施し、当該チオール基の保護基を脱離した場合、ＲＰとして２−メトキシイソブチリル基である化合物を用いた場合、当該チオール化合物が５５％の収率で得られる以外、いずれの当該チオール基の保護基を使用した化合物の収率は非常に低い。したがって、この非特許文献３に開示された、２−メトキシイソブチリル基を含むチオール基の保護基を、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応に使用することは、収率の面から工業的に好ましくない。
【０００４】
【化１】
2007176846.tif 000002
【０００５】
【非特許文献１】セオドラ  ダブリュー．  グリーン（Ｔｈｅｏｄｏｒａ  Ｗ．  Ｇｒｅｅｎｅ）及びピーター  ジー．  エム．ウッツ（Ｐｅｔｅｒ  Ｇ．  Ｍ．  Ｗｕｔｓ）著、プロテクティブ  グループス  イン  オーガニック  シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）第３版４８０ページ（ジョン  ワイリー  ＆  サンズ，インク．（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）刊、１９９９年）
【非特許文献２】シェリー  レ  ディグァーハーら（Ｔｈｉｅｒｒｙ  Ｌｅ  Ｄｉｇｕａｒｈｅｒ  ｅｔ  ａｌ．）ジャーナル  オブ  メディシナル  ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第４６巻（第１８号）３８４０ページ（２００３）
【非特許文献３】ベジョーン  ツェイジングら（Ｂｊｏｒｎ  Ｚｅｙｓｉｎｇ  ｅｔ  ａｌ．）オーガニック  レターズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ）第２巻（第１３号）１８４３ページ（２００４）
【特許文献１】ＰＣＴ国際公開特許公報  ＷＯ  ０３／１０１９４４号公報
【特許文献２】日本公開特許公報  特開平１１−２４６５２７号公報
【特許文献３】ＰＣＴ国際公開特許公報  ＷＯ  ９７／２７１７４号公報
【特許文献４】ＰＣＴ国際公開特許公報  ＷＯ  ０１／７０７５３号公報
【特許文献５】ＰＣＴ国際公開特許公報  ＷＯ  ２００４／５２８４０号公報
【特許文献６】日本公開特許公報  特開平１１−１０２７８３号公報
【特許文献７】ＰＣＴ国際公開特許公報  ＷＯ  ０２／０８５８４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、例えば、医薬品、電子材料、接着剤又は塗料等に使用されるチオール化合物の製造に有用な、新規なチオール基の保護基に関するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、チオール化合物の効率的な製造法について、鋭意研究した結果、２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基が、酸性条件下に加え、例えばスズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応又はブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応の条件のような弱い塩基性条件下においてもチオール基の保護基として機能し、しかも、温和な条件下で強塩基による処理で容易に除去できることから、チオール基の保護基として有用であること見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、以下の（ｉ）〜（ｖｉ）に記載された発明に関する。
【０００８】
（ｉ）式（Ｉ）：
【０００９】
【化２】
2007176846.tif 000003
で表される２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基からなるチオール基の保護基。
（ｉｉ）２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基をチオール基の保護基として使用することができる反応が、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応又はブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応であることを特徴とする、（ｉ）記載のチオール基の保護基。
（ｉｉｉ）２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基をチオール基の保護基として使用することができる反応が、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応であることを特徴とする、（ｉ）のチオール基の保護基。
（ｉｖ）２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基をチオール基の保護基として使用することができる反応が、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応であることを特徴とする、（ｉ）のチオール基の保護基。
（ｖ）２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基をチオール基の保護基として使用することができる反応が、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応であることを特徴とする、（ｉ）のチオール基の保護基。
（ｖｉ）２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基をチオール基の保護基として使用することができる反応が、ブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応であることを特徴とする、（ｉ）記載のチオール基の保護基。
（ｖｉｉ）前記式（Ｉ）で表される２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基によるチオール基の保護方法。
【００１０】
言い換えれば、本発明の保護基を使用したチオール化合物の製造法の一例を示すと、以下の製法（ｖｉｉ）〜製法（ｘ）で表されるチオール化合物の製造法が挙げられる。
【００１１】
製法（ｖｉｉ）：
一般式（Ｉ）：
【００１２】
【化３】
2007176846.tif 000004
（式中、Ｘ１は、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子又はトリフルオロメチルスルフォニルオキシを、Ａ１は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。）で表される化合物に、パラジウム触媒−ａ、リガンド−ａ及び塩基−ａの存在下で、
一般式（ＩＩ）：
【００１３】
【化４】
2007176846.tif 000005
（式中、Ｒ１は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を、Ｒ２及びＲ３は、同一又は異なっていてもよく、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、ベンジル基、アリル基又はアルキル基を示す。）で表されるボロン化合物と反応させて、一般式（ＩＩＩ）：
【００１４】
【化５】
2007176846.tif 000006
（式中、Ｒ１及びＡ１は、前記の意味を有する。）で表される化合物を得、次いで得られた一般式（ＩＩＩ）を塩基で処理することを特徴とする、一般式（ＩＶ）：
【００１５】
【化６】
2007176846.tif 000007
（式中、Ｒ１及びＡ１は、前記の意味を有する。）で表されるチオール化合物の製造法。
なお、パラジウム触媒−ａ、リガンド−ａ及び塩基−ａは、後記の意味を有する。
【００１６】
製法（ｖｉｉｉ）：
一般式（Ｖ）：
【００１７】
【化７】
2007176846.tif 000008
（式中、Ｘ２は、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子又はトリフルオロメチルスルフォニルオキシを、Ａ２は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。）で表される化合物に、パラジウム触媒−ｂ、リガンド−ｂ及び塩基−ｂの存在下で、
一般式（ＶＩ）：
【００１８】
【化８】
2007176846.tif 000009
（式中、Ｒ６は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を、Ｒ４及びＲ５は、同一又は異なっていてもよく、水素原子、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、ベンジル基、アリル基又はアルキル基を示す。）で表される化合物と反応させて、一般式（ＶＩＩ）：
【００１９】
【化９】
2007176846.tif 000010
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＡ２は、前記の意味を有する。）で表される化合物を得、次いで得られた一般式（ＶＩＩ）を塩基で処理することを特徴とする、一般式（ＶＩＩＩ）：
【００２０】
【化１０】
2007176846.tif 000011
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＡ２は、前記の意味を有する。）で表されるチオール化合物の製造法。
なお、パラジウム触媒−ｂ、リガンド−ｂ及び塩基−ｂは、前記の意味を有する。
【００２１】
製法（ｉｘ）：
一般式（ＩＸ）：
【００２２】
【化１１】
2007176846.tif 000012
（式中、Ｘ３は、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子を、Ａ３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。）で表される化合物に、パラジウム触媒−ｃ、塩基−ｃ及び添加物の存在下で、
一般式（Ｘ）：
【００２３】
【化１２】
2007176846.tif 000013
（式中、Ｒ７は、Ｙ９は、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又はヒドロキシアルキル基を示す。）で表される化合物と反応させて、一般式（ＸＩ）：
【００２４】
【化１３】
2007176846.tif 000014
（式中、Ｒ７及びＡ３は、前記の意味を有する。）で表される化合物を得、次いで得られた一般式（ＸＩ）を塩基で処理することを特徴とする、
一般式（ＸＩＩ）：
【００２５】
【化１４】
2007176846.tif 000015
（式中、Ｒ７及びＡ３は、前記の意味を有する。）で表されるチオール化合物の製造法。
なお、パラジウム触媒−ｃ、塩基−ｃ及び添加物は、後記の意味を有する。
【００２６】
製法（ｘ）：
一般式（ＸＩＩＩ）：
【００２７】
【化１５】
2007176846.tif 000016
（式中、Ｘ４は、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子を、Ａ４は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。）で表される化合物に、パラジウム触媒−ｄ、リガンド−ｄ及び塩基−eの存在下で、
一般式（Ｘ）：
【００２８】
【化１６】
2007176846.tif 000017
（式中、Ｒ８は、アリール基又はヘテロアリール基を示す）で表される化合物又は、一般式（ＸＶ）：
【００２９】
【化１７】
2007176846.tif 000018
（式中、Ｒ９又はＲ１０は、同一又は異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示すが、同時に水素原子に示すことはない。また、Ｒ９又はＲ１０は、お互いに結合して、炭素鎖中に酸素原子又は一般式：
【００３０】
【化１８】
2007176846.tif 000019
（式中、Ｒ１１は、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。）で表される基が介在していてもよいアルキレン基を形成してもよい。）で表される化合物と反応させて、一般式（ＸＶＩ）：
【００３１】
【化１９】
2007176846.tif 000020
（式中、Ａ４は、前記の意味を有し、Ｒ１２は、式：
【００３２】
【化２０】
2007176846.tif 000021
（式中、Ｒ８は、前記の意味を有する。）で表される基又は
【００３３】
【化２１】
2007176846.tif 000022
（式中、Ｒ９及びＲ１０は、前記の意味を有する。）で表される基を示す。）で表される化合物を得、次いで得られた一般式（ＸＶＩ）を塩基で処理することを特徴とする、
一般式（ＸＶＩＩ）：
【００３４】
【化２２】
2007176846.tif 000023
（式中、Ｒ１２及びＡ４は、前記の意味を有する。）で表されるチオール化合物の製造法。
なお、パラジウム触媒−ｄ、リガンド−ｄ及び塩基−ｅは、後記の意味を有する。
【発明の効果】
【００３５】
本発明の、新規なチオール基の保護基の場合、公知のチオール基の保護基では、保護基としての機能を果たし得なかった反応条件、例えば、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応又はブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応といった反応条件にも保護基としての機能を発揮できるので、例えば、当該反応により製造される、医薬品、電子材料、接着剤又は塗料等の製造中間体として有用なチオール化合物を効率よく製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下に本明細書中において用いられる用語の意味を説明する。
【００３７】
「スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応」とは、例えば、ノリオ  ミヤウラ（Ｎｏｒｉｏ  Ｍｉｙａｕｒａ）、アキラ  スズキ（Ａｋｉｒａ  Ｓｕｚｕｋｉ）ケミカル  レビュー（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｒｅｖｉｅｗ）第９５巻（第７号）２４５７ページ（１９９５）に開示されている、有機ハライド化合物又はパーフロロスルホン酸化合物が、有機ボロン化合物と、パラジム触媒の存在下でカップリングする、立体選択的又は位置選択的な反応である。すなわち、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応は、反応式で示すことができる。
【００３８】
【化２３】
2007176846.tif 000024
（式中、Ｙ１及びＹ２は、同一又は異なっていてもよく、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を、Ｙ３及びＹ４は、同一又は異なっていてもよく、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、ベンジル基、アリル基又はアルキル基を、Ｌ１は、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子又はトリフルオロメチルスルフォニルオキシ基を示す。
パラジウム触媒−ａは、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応に使用されている公知のパラジウム触媒を意味し、例えば、酢酸パラジウム、ＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）２、Ｐｄ（ＤＩＰＨＯＳ）２、Ｐｄ２（ｄｂａ）３、Ｐｄ（ｄｂａ）２、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、
【００３９】
【化２４】
2007176846.tif 000025
【００４０】
【化２５】
2007176846.tif 000026
で表される化合物、又はＰｄ（ｄｐｐｆ）Ｃｌ２が挙げられる。
リガンド−ａは、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応に使用されている公知のリガンドを意味し、例えば、
式：
【００４１】
【化２６】
2007176846.tif 000027
で表される化合物、
式：
【００４２】
【化２７】
2007176846.tif 000028
で表される化合物、
式：
【００４３】
【化２８】
2007176846.tif 000029
で表される化合物、
式：
【００４４】
【化２９】
2007176846.tif 000030
で表される化合物、
式：
【００４５】
【化３０】
2007176846.tif 000031
で表される化合物、
式：
【００４６】
【化３１】
2007176846.tif 000032
で表される化合物、
式：
【００４７】
【化３２】
2007176846.tif 000033
で表される化合物、
式：
【００４８】
【化３３】
2007176846.tif 000034
で表される化合物、
式：
【００４９】
【化３４】
2007176846.tif 000035
で表される化合物、
式：
【００５０】
【化３５】
2007176846.tif 000036
で表される化合物、
式：
【００５１】
【化３６】
2007176846.tif 000037
で表される化合物、
式：
【００５２】
【化３７】
2007176846.tif 000038
で表される化合物、
式：
【００５３】
【化３８】
2007176846.tif 000039
で表される化合物、
式：
【００５４】
【化３９】
2007176846.tif 000040
で表される化合物、
式：
【００５５】
【化４０】
2007176846.tif 000041
で表される化合物、
式：
【００５６】
【化４１】
2007176846.tif 000042
で表される化合物、
式：
【００５７】
【化４２】
2007176846.tif 000043
で表される化合物、
式：
【００５８】
【化４３】
2007176846.tif 000044
で表される化合物、
式：
【００５９】
【化４４】
2007176846.tif 000045
で表される化合物（ザントホス）、
式：
【００６０】
【化４５】
2007176846.tif 000046
で表される化合物、
式：
【００６１】
【化４６】
2007176846.tif 000047
で表される化合物及び
式：
【００６２】
【化４７】
2007176846.tif 000048
で表される化合物、
トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）（メチル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ−（４−メトキシフェニル）ホスフィン、トリ−（２−メチルフェニル）ホスフィン、又は［Ｐ（ｔ−Ｂｕ）３Ｈ］ＢＦ４が挙げられる。
塩基−ａは、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応に使用されている公知の塩基を意味し、例えば、フッ化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、ナトリウム  フェノレート、水酸化セシウム、水酸化ナトリウム、ナトリウム  エトキサイド、酢酸カリウム、水酸化チタニウム、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、テトラブチルアンモニウム  ブロミド又はリン酸三カリウムが挙げられる。）
【００６３】
「ヘック（Ｈｅｃｋ）反応」とは、例えば、ウオルター  キャブリら（Ｗａｌｔｅｒ  Ｃａｂｒｉ  ｅｔ  ａｌ．）アカウンツ  オブ  ケミカル  リサーチ（Ａｃｃｏｕｎｔｓ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ）第２８巻２ページ（１９９５）及びクリスチャン  アマトーレら（Ｃｈｒｉｓｔｉａｎ  Ａｍａｔｏｒｅ  ｅｔ  ａｌ．）アカウンツ  オブ  ケミカル  リサーチ（Ａｃｃｏｕｎｔｓ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ）第３３巻３１４ページ（２０００）に開示されている、有機ハライド化合物又はパーフロロスルホン酸化合物が、アルケン化合物と、パラジム触媒の存在下でカップリングする、立体選択的な反応である。
【００６４】
すなわち、ヘック反応は、以下の反応式で示すことができる。
【００６５】
【化４８】
2007176846.tif 000049
（式中、Ｙ５は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を、Ｙ６、Ｙ７及びＹ８は、同一又は異なっていてもよい、水素原子、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、ベンジル基、アリル基又はアルキル基を、Ｌ２は、ヨウ素原子、臭素原子又はトリフロロメタンスルフォニルオキシ基を、パラジウム触媒−ｂは、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応に使用されている公知のパラジウム触媒を意味し、例えば、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、Ｐｄ（ｄｂａ）３又はＰｄ（ＰＰｈ３）４を、リガンド−ｂは、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応に使用されている公知のリガンドを意味し、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ（ペンタフルオロフェニル）ホスフィン、ＢＩＮＡＰ、（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ、（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ又はｄｐｐｐを、塩基−ｂは、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応に使用されている公知のリガンドを意味し、例えば、炭酸カリウム、炭酸銀、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピル（エチル）アミン又は酢酸ナトリウムを示す。）
「ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応」とは、例えば、
モーアッド  アラミら（Ｍｏｕａｄ  Ａｌａｍｉ  ｅｔ  ａｌ．）ジャーナル  オブ  オルガノメタリック  ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第６２４巻１１４ページ（２００１）、
ケンキチ  ソノガシラら（Ｋｅｎｋｉｃｈｉ  Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ  ｅｔ  ａｌ．）テトラヘドロン  レターズ（テトラヘドロン  レターズ）４４６７ページ（１９７５）、
アナ  エス．  アベルーら（Ａｎａ  Ｓ．  Ａｂｅｒｕ  ｅｔ  ａｌ．）ヨーロピアン  ジャーナル  オブ  オルガニック  ケミストリー）３９８５ページ（２００４）、
チャン  シク  チョ（Ｃｈａｎ  Ｓｉｋ  Ｃｈｏ）ジャーナル  オブ  オルガノメタリック  ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第６９０巻４０９４ページ（２００５）、
ボ  リアング（Ｂｏ  Ｌｉａｎｇ）ジャーナル  オブ  オルガニック  ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第７０巻３９１ページ（２００５）及び
ジンヘング  リーら（Ｊｉｎ−Ｈｅｎｇ  Ｌｉ  ｅｔ  ａｌ．）シンセシス  （Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）８０４ページ（２００５）に開示されている、有機ハライド化合物が、アルキン化合物と、パラジム触媒、リガンド及び塩基の存在下でカップリングする反応である。
【００６６】
すなわち、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応は、以下の反応式で示すことができる。
【００６７】
【化４９】
2007176846.tif 000050
（式中、Ｙ９は、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又はヒドロキシアルキル基を、Ｙ１０は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基、Ｘ２は、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を、
パラジウム触媒−ｃは、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応に使用されている公知のパラジウム触媒を意味し、例えば、Ｐｄ２（ＣＮ）２、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、ＰｄＣｌ２、ＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）2、ＰｄＣｌ２（ＰｈＣＮ）2、Ｐｄ（ＯＡｃ）２又はＮａＰｄＣｌ４を、
塩基−ｃは、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応に使用されている公知の塩基を意味し、例えばピペリジン、ピロリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムクロライド、ジエチルアミン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム又はＤａｂｃｏが挙げられる。
添加物としては、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応に使用されている公知の塩基を意味し、例えば、Ｐ（ｔ−Ｂｕ）３、Ｄａｂｃｏ又はヨウ化銅（Ｉ）（ＣｕＩ）が挙げられるが、場合によっては、添加物は、非存在でもよい。）
【００６８】
「ブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応」とは、例えば、ハートウィックら（Ｈａｒｔｗｉｇ，Ｊ．Ｆ．  ｅｔ  ａｌ．）ジャーナル  オブ  ザ  アメリカン  ケミカル  ソサエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第１１６巻５９６９ページ（１９９４）、
ブライヤント  エイチ．  ヤングら（Ｂｒｙａｎｔ  Ｈ．  Ｙａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．）ジャーナル  オブ  オルガノメタリック  ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第５７６巻１２５ページ（１９９９）及びブックバルト  エス．  エル．ら（Ｂｕｃｈｗａｌｄ，Ｓ．Ｌ．  ｅｔ  ａｌ．）ジャーナル  オブ  ザ  アメリカン  ケミカル  ソサエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第１１６巻７９０１ページ（１９９４）に開示されている、有機ハライド化合物が、１級又は２級アミン化合物と、パラジウム触媒、リガンド及び塩基の存在下でカップリングする反応である。
【００６９】
すなわち、ブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応は、以下の反応式で示すことが出来る。
【００７０】
【化５０】
2007176846.tif 000051
（式中、Ｙ１1又はＹ１２は、同一又は異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、炭素鎖中に窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が介在していてもよい、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリル基、アリール基、ベンジル基又はヘテロアリール基を示し、さらに、Ｙ１1とＹ１２とが結合して、炭素鎖中に窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が介在していてもよい、炭素数４〜６個のアルキレン基を形成してもよい。ただし、Ｙ１1及びＹ１２が共に水素原子であることはない。Ｙ１３は、アリール基を、Ｘ３は、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子又はトリフルオロメチルスルフォニルオキシ基を、
パラジウム触媒−ｄは、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応に使用されている公知のパラジウム触媒を意味し、例えば酢酸パラジウム、塩化パラジウム、（ＤＰＰＦ）ＰｄＣｌ２、Ｐｄ（ｄｂａ）３、Ｐｄ２（ｄｂａ）３又はＰｄ（ＰＰｈ３）４を
リガンド−ｄは、ブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）に使用されている公知のリガンドを意味し、例えば、トリフェニルホスフィン、Ｐ（ｔ−Ｂｕ）３、ＢＩＮＡＰ、ＤＰＰＦ、ｄｐｐｐ、
式：
【００７１】
【化５１】
2007176846.tif 000052
で表される化合物（ＰＰＦ−ＯＭｅ）、式：
【００７２】
【化５２】
2007176846.tif 000053
で表される化合物（式中、Ｃｙはシクロヘキシル基を示す。）、式：
【００７３】
【化５３】
2007176846.tif 000054
で表される化合物（ＰＰＦＡ）、式：
【００７４】
【化５４】
2007176846.tif 000055
で表される化合物、式：
【００７５】
【化５５】
2007176846.tif 000056
で表される化合物（Ｃｙは、前記の意味を有する。）、式：
【００７６】
【化５６】
2007176846.tif 000057
で表される化合物（Ｃｙは、前記の意味を有する。）又は式：
【００７７】
【化５７】
2007176846.tif 000058
塩基−ｄは、ブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）に使用されている公知の塩基を意味し、例えば、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキサイド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキサイド、Ｋ３ＰＯ４、炭酸セシウム又は炭酸カリウムを示す。）
【００７８】
「ｄｐｐｆ」とは、ジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］（ｄｉｃｈｏｒｏ［１，１’−ｂｉｓ（ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｏ）ｆｅｒｒｏｃｅｎｅ］を意味する。
【００７９】
「ｄｂａ」とは、ジベンジリデンアセトン（ｄｉｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅａｃｅｔｏｎｅ）を意味する。
【００８０】
「ＢＩＮＡＰ」とは、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（２，２’−ｂｉｓ（ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｏ）−１，１’−ｂｉｎａｐｈｔｈｙｌ）を意味する。
【００８１】
「ｄｐｐｐ」とは、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン（１，３−ｂｉｓ（ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｏ）ｐｒｏｐａｎｅ）を意味する。
【００８２】
「ＤＩＰＨＯＳ」とは、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（１，２−ｂｉｓ（ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｏ）ｅｔｈａｎｅ）を意味する。
【００８３】
「Ｄａｂｃｏ」とは、１，５−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（１，５−ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［２．２．２］ｏｃｔａｎｅ）を意味する。
【００８４】
「アルキル基」とは、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１，２，２−トリメチルプロピル基又は１−エチル−２−メチルプロピル基等の炭素数１〜６個のアルキル基を意味する。
【００８５】
「炭素鎖中に窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が介在していてもよい、シクロアルキル基」とは、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アゼピニル基、モルホリニル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基又はピペラジニル基等が挙げられる。
【００８６】
「ヘテロアリール基」とは、例えばチアゾリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基、１，３，４−チアジアゾリル基、１，２，４−チアジアゾリル基、１，２，４−トリアゾリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピリジル基、イミダゾリル基、イソキサゾリル基、４−メトキシメチル−イソキサゾリル基、ピラゾリル基、ピリドチアゾ−ル基、キノリル基、イソキノリル基、フタラジニル基、１，８−ナフチジニル基又はキノキサリニル基等の置換基が挙げられる。
【００８７】
「アリール基」としては、例えばフェニル基又はナフチル基が挙げられる。
【００８８】
「アルケニル基」としては、例えばビニル基、アリル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基又はイソプロペニル基が挙げられる。
【００８９】
「アルキニル基」としては、例えばエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、又は２−ブチニル基が挙げられる。
【００９０】
「ヒドロキシアルキル基」としては、例えばヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、又は４ヒドロキシブチル基が挙げられる。
【００９１】
次に、本発明の保護基を使用したチオール化合物の製造法の一例として挙げられる製法（ｖｉｉ）〜製法（ｘ）で表されるチオール化合物の製造法について具体的に説明する。
【００９２】
製法（ｖｉｉ）：
一般式（Ｉ）：
【００９３】
【化５８】
2007176846.tif 000059
（式中、Ｘ１は、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子又はトリフルオロメチルスルフォニルオキシを、Ａ１は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。）で表される化合物に、パラジウム触媒−ａ、リガンド−ａ及び塩基−ａの存在下で、
一般式（ＩＩ）：
【００９４】
【化５９】
2007176846.tif 000060
（式中、Ｒ１は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を、Ｒ２及びＲ３は、同一又は異なっていてもよく、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、ベンジル基、アリル基又はアルキル基を示す。）で表されるボロン化合物と反応させて、一般式（ＩＩＩ）：
【００９５】
【化６０】
2007176846.tif 000061
（式中、Ｒ１及びＡ１は、前記の意味を有する。）で表される化合物を製造する工程は、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応としての公知の反応条件で実施することができるが、その一例を挙げるとすれば、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、化合物（Ｉ）１モルに対して、０．０１〜１モル％のパラジウム触媒−ａ、０．０１〜２モル％のリガンド−ａ及び１．１〜２モルの塩基−ａの存在下で、１．５〜３モルの一般式（ＩＩ）で表されるボロン酸と、３時間〜２０時間、室温〜１００℃で反応させることにより、実施することができる。
ここで、「反応に悪影響を及ぼさない溶媒」とは、スズキ反応に使用される公知の溶媒を意味し、例えばトルエン、テトラヒドロフラン、ジメチルエチルエーテル又はジメチルホルムアミド等が挙げられる。
なお、パラジウム触媒−ａ、リガンド−ａ及び塩基−ａは、前記の意味を有する。
【００９６】
前工程で得られた一般式（ＩＩＩ）：
【００９７】
【化６１】
2007176846.tif 000062
（式中、Ｒ１及びＡ１は、前記の意味を有する。）で表される化合物から、本発明の保護基を塩基と反応させて、一般式（ＩＶ）：
【００９８】
【化６２】
2007176846.tif 000063
（式中、Ｒ１及びＡ１は、前記の意味を有する。）で表されるチオール化合物の製造する、本発明の保護基を除去する工程は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、化合物（ＩＩＩ）１モルに対して、１．１〜２．０モルの強塩基を３時間〜２０時間、室温〜５０℃で反応させることにより、実施することができる。
ここで、「反応に悪影響を及ぼさない溶媒」とは、例えばエタノール、トルエン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン又はジメチルホルムアミドが挙げられる。
「この工程で使用される強塩基」としては、例えばナトリウム  メトキシド、カリウム  エトキシド、ナトリウム  エトキシド、カリウム  エトキシド、カリウム  ｎ−プロポキシド、ナトリウム  ｎ−プロポキシド、カリウム  ｎ−ブトキシド、ナトリウム  ｎ−ブトキシド、カリウム  ｔ−ブトキシド又はナトリウム  ｔ−ブトキシド等の強塩基が挙げられる。
【００９９】
製法（ｖｉｉｉ）：
一般式（Ｖ）：
【０１００】
【化６３】
2007176846.tif 000064
（式中、Ｘ２は、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子又はトリフルオロメチルスルフォニルオキシを、Ａ２は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。）で表される化合物に、パラジウム触媒−ｂ、リガンド−ｂ及び塩基−ｂの存在下で、
一般式（ＶＩ）：
【０１０１】
【化６４】
2007176846.tif 000065
（式中、Ｒ６は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を、Ｒ４及びＲ５は、同一又は異なっていてもよく、水素原子、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、ベンジル基、アリル基又はアルキル基を示す。）で表される化合物と反応させて、一般式（ＶＩＩ）：
【０１０２】
【化６５】
2007176846.tif 000066
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＡ２は、前記の意味を有する。）で表される化合物を製造する工程は、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応としての公知の反応条件で実施することができるが、その一例を挙げるとすれば、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、化合物（Ｖ）１モルに対して、０．０１〜０．１モルのパラジウム触媒−ｂ、０．０１〜０．２モルのリガンド−ｂ及び１．１〜２．０モルの塩基−ｂの存在下で、１．１〜２．０モルの一般式（ＶＩ）で表されるアルケンと、３時間〜２０時間、５０℃〜１００℃で反応させることにより、実施することができる。
ここで、「反応に悪影響を及ぼさない溶媒」とは、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応に使用される公知の溶媒を意味し、例えばトルエン、テトラヒドロフラン、又はジメチルホルムアミドが挙げられる。
なお、パラジウム触媒−ｂ、リガンド−ｂ及び塩基−ｂは、前記の意味を有する。
【０１０３】
前工程で得られた一般式（ＶＩＩ）：
【０１０４】
【化６６】
2007176846.tif 000067
で表される化合物を塩基で処理することにより、一般式（ＶＩＩＩ）：
【０１０５】
【化６７】
2007176846.tif 000068
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＡ２は、前記の意味を有する。）で表されるチオール化合物を製造する、本発明の保護基を除去する工程は、前記の一般式（ＩＩＩ）で表される化合物から一般式（ＩＶ）で表される化合物を製造する工程の反応条件と同様に実施することができる。
【０１０６】
製法（ｉｘ）：
一般式（ＩＸ）：
【０１０７】
【化６８】
2007176846.tif 000069
（式中、Ｘ３は、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子を、Ａ３は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。）で表される化合物に、パラジウム触媒−ｃ、塩基−ｃ及び添加物の存在下で、
一般式（Ｘ）：
【０１０８】
【化６９】
2007176846.tif 000070
（式中、Ｒ７は、Ｙ９は、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又はヒドロキシアルキル基を示す。）で表される化合物と反応させて、一般式（ＸＩ）：
【０１０９】
【化７０】
2007176846.tif 000071
（式中、Ｒ７及びＡ３は、前記の意味を有する。）で表される化合物を製造する工程は、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応としての公知の反応条件で実施することができるが、その一例を挙げるとすれば、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、化合物（I）１モルに対して、０．０１〜０．１モルのパラジウム触媒−ｃ、０．０１〜０．２モルの塩基−ａ及び１．１〜２．０モルの添加物の存在下又は非存在下で、１．１〜２．０モルの一般式（Ｘ）で表されるアルキンと、３時間〜２０時間、５０℃〜１００℃で反応させることにより、実施することができる。
ここで、「反応に悪影響を及ぼさない溶媒」とは、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応に使用される公知の溶媒を意味し、例えばトルエン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド又はＮ−メチルピロリジノンが挙げられる。
なお、パラジウム触媒−ｃ、塩基−ｃ及び添加物は、前記の意味を有する。
【０１１０】
製法（ｘ）：
次いで得られた一般式（ＸＩ）：
【０１１１】
【化７１】
2007176846.tif 000072
（式中、Ｒ７及びＡ３は、前記の意味を有する。）で表される化合物を塩基で処理する、
一般式（ＸＩＩ）：
【０１１２】
【化７２】
2007176846.tif 000073
（式中、Ｒ７及びＡ３は、前記の意味を有する。）で表されるチオール化合物を製造する工程は、本発明の保護基を除去する工程は、前記の一般式（ＩＩＩ）で表される化合物から一般式（ＩＶ）で表される化合物を製造する工程の反応条件と同様に実施することができる。
【０１１３】
一般式（ＸＩＩＩ）：
【０１１４】
【化７３】
2007176846.tif 000074
（式中、Ｘ４は、塩素原子、ヨウ素原子又は臭素原子を、Ａ４は、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。）で表される化合物に、パラジウム触媒−ｄ、リガンド−ｄ及び塩基−ｅの存在下で、
一般式（Ｘ）：
【０１１５】
【化７４】
2007176846.tif 000075
（式中、Ｒ８は、アリール基又はヘテロアリール基を示す）で表される化合物又は、一般式（ＸＶ）：
【０１１６】
【化７５】
2007176846.tif 000076
（式中、Ｒ９又はＲ１０は、同一又は異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基を示すが、同時に水素原子に示すことはない。また、Ｒ９又はＲ１０は、お互いに結合して、炭素鎖中に酸素原子又は一般式：
【０１１７】
【化７６】
2007176846.tif 000077
（式中、Ｒ１１は、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。）で表される基が介在していてもよいアルキレン基を形成してもよい。）で表される化合物と反応させて、一般式（ＸＶＩ）：
【０１１８】
【化７７】
2007176846.tif 000078
（式中、Ａ４は、前記の意味を有し、Ｒ１２は、式：
【０１１９】
【化７８】
2007176846.tif 000079
（式中、Ｒ８は、前記の意味を有する。）で表される基又は
【０１２０】
【化７９】
2007176846.tif 000080
（式中、Ｒ９及びＲ１０は、前記の意味を有する。）で表される基を示す。）で表される化合物を製造する工程は、ブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応としての公知の反応条件で実施することができるが、その一例を挙げるとすれば、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、化合物（Ｉ）１モルに対して、０．０１〜０．１モルのパラジウム触媒−ｄ、０．０１〜０．２モルのリガンド−ｄ及び１．１〜２．０モルの塩基−ｄの存在下で、１．１〜２．０モルの一般式（ＸＶ）で表されるアミンと、３時間〜２０時間、５０℃〜１００℃で反応させることにより、実施することができる。
ここで、「反応に悪影響を及ぼさない溶媒」とは、ブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応に使用される公知の溶媒を意味し、例えばトルエン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド又はジメトキシエタンなどが挙げられる。
塩基−ｅは、例えば、Ｋ３ＰＯ４、炭酸セシウム又は炭酸カリウムを意味する。
なお、パラジウム触媒−ｄ及びリガンド−ｄは、前記の意味を有する。
【０１２１】
前工程で得られた一般式（ＸＶＩ）： 
【０１２２】
【化８０】
2007176846.tif 000081
（式中、Ａ４は、前記の意味を有し、Ｒ１２は、式：
【０１２３】
【化８１】
2007176846.tif 000082
（式中、Ｒ８は、前記の意味を有する。）で表される基又は
【０１２４】
【化８２】
2007176846.tif 000083
（式中、Ｒ９及びＲ１０は、前記の意味を有する。）で表される基を示す。）で表される化合物を塩基で処理して
【０１２５】
【化８３】
2007176846.tif 000084
（式中、Ｒ１２及びＡ４は、前記の意味を有する。）で表されるチオール化合物を製造する、本発明の保護基を除去する工程は、前記の一般式（ＩＩＩ）で表される化合物から一般式（ＩＶ）で表される化合物を製造する工程の反応条件と同様に実施することができる。
【０１２６】
以上の各工程で製造られる生成物は、それ自体既知の方法、例えばシリカゲル又は吸着樹脂等を用いるカラムクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、溶媒抽出又は再結晶・再沈殿等の常用の分離精製造方法を必要に応じて単独又は適宜組み合わせて用いることにより精製・単離することができる。
【０１２７】
本発明の製造法に使用する、一般式（Ｉ）、一般式（Ｖ）、一般式（ＩＸ）及び一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は、タカヒロ  イトウら（Ｔａｋａｈｉｒｏ  Ｉｔｏｈ  ｅｔ  ａｌ．）オーガニック  レターズ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ）第６巻（第２４号）４５８７ページ（２００４）又はそれに準ずる製法で製造できる。
【０１２８】
試験例：
式（ａ）：
【０１２９】
【化８４】
2007176846.tif 000085
で表される化合物のスズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応条件における安定性
式（ａ）で表される化合物を、無水のトルエン又はトルエン−水（１：１）中で表−１に示した塩基の何れか一種の存在下で、２時間還流させた。
いずれの塩基の場合にも、高速液体クロマトグラフィーによる分析では、式（ａ）で表される化合物が、９５％以上分解されずに存在することが確認した。
この実験結果から、本発明の保護基である２−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基でチオール基を保護した場合、通常のスズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応の条件（トルエンの沸点は１１０．６℃）では分解を受けないことが明らかである。
表−１
2007176846.tif 000086
ＤＢＵ：１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン
【実施例】
【０１３０】
以下に実施例・参考例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。
【０１３１】
Ｐｄ（ＯＡｃ）２，  Ｐｄ２（ｄｂａ）３，  Ｐｄ（ＰＰｈ３）４  及び  Ｄ−ｔ−ＢＰＦは、ジョンソン  アンド  マッセイ（Ｊｏｈｎｓｏｎ  ＆  Ｍａｔｔｈｅｙ）より購入した。その他のリンリガンドはアルドリッチ（Ａｌｄｒｉｃｈ）より購入した。
Ｎａ２ＣＯ３，  ｉ−Ｐｒ２ＮＨ  及び  ＮａＯｔ−Ｂｕは、和光純薬工業より購入した。その他の試薬は、和光純薬工業又は東京化成より購入した。
有機溶媒は、和光純薬工業より購入し、４Ａモレキュラーシーブで乾燥後使用した。
高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）は、以下のようにして測定した。
測定装置：  Ｈｉｔａｃｈｉ  Ｄ−７０００  ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ
カラム：  ＹＭＣ  ｂａｓｉｃ  ｒｅｖｅｒｓｅ−ｐｈａｓｅ  ｃｏｌｕｍｎ
薄層クロマトグラフィー：
プレートとしてＳｉｌｉｃａｇｅｌ（シリカジェル）  ６０Ｆ２４５（Ｍｅｒｃｋ）を、検出法としてＵＶ検出器、モリブデン酸試薬  ／  ニンヒドリン溶液による発色法を用いた。
カラム用シリカゲル：
ＥＭ  ｓｉｌｉｃａ  ｇｅｌ  ６０  （０．０４〜０．６３μｍ  ｐａｒｔｉｃｌｅ  ｓｉｚｅ）を使用した。
ＮＭＲ：
Ｂｒｕｋｅｒ  ＡＶ−５００により測定した。
マススペクトル（ＨＲＭＳ）
ＪＥＯＬ  ｍｏｄｅｌ  ＪＭＳ−７００Ｖにより測定した。
以下の分子式で示される化合物の名称は以下のとおりである。
ＣＤＣｌ３：重クロロホルム
ＤＭＳＯ−ｄ６：重ジメチルスルホキシド
下記に核磁気共鳴スペクトルにおける略号の意味を示す。
ｓ  ：シングレット
ｄ  ：ダブレット
ｄｄ：ダブルダブレット
ｔ  ：トリプレット
ｍ  ：マルチプレット
ｂｒ：ブロード
ｑ  ：カルテット
Ｊ  ：カップリング定数
Ｈｚ：ヘルツ
以下の実施例の反応は、すべて乾燥した窒素ガス雰囲気下で実施した。
【０１３２】
実施例１
３−（４−ブロモ−フェニルチオ）プロピオン酸  ２−エチルヘキシルエステルの製造
【０１３３】
【化８５】
2007176846.tif 000087
方法Ａ：丸底フラスコにパラ−ブロモ−ヨードベンゼン（８５０ｍｇ、３ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（１．０４ｍＬ、６ｍｍｏｌ）と無水トルエン（１７ｍＬ）を加えた。混合液を窒素で３回脱気した。トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム（６９ｍｇ、０．０７５ｍｍｏｌ）、ザントフォス（８７ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）とイソオクチル  ３−メルカプトプロピオネート（０．６９ｍＬ、３ｍｍｏｌ）を加え、混合液を窒素で２回脱気した。混合液を４時間還流し、高速液体クロマトグラフィーを用いて反応の完結を確認した。反応液を放置し室温にまで冷却した。反応液を濾過し、濃縮した。
粗化合物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、３−（４−ブロモフェニルチオ）プロピオン酸２−エチルヘキシルエステル（８１３ｍｇ、９０％収率）を淡黄色のオイルとして得た。
方法Ｂ：丸底フラスコにｐ−ブロモベンゼンチオール（５．７ｇ、３０ｍｍｏｌ）、イソオクチルアクリレート（５．５ｇ、３０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（５７ｍＬ）とテトラブチルアンモニウムフルオライド（３０ｍＬ，３０ｍｍｏｌ、１規定テトラヒドロフラン溶液）を加え、室温で１５時間攪拌した。反応液を酢酸エチル（５０ｍＬ）と水（３０ｍＬ）に注いだ。分液した後に水層を酢酸エチル（５０ｍＬ）で抽出し、有機層を合わせ濃縮乾固した。粗化合物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、３−（４−ブロモフェニルチオ）プロピオン酸２−エチルヘキシルエステル（１０．５ｇ、９３％収率）を淡黄色のオイルとして得た。
カラム展開溶媒（ヘキサン／酢酸エチル＝１００：１）Ｒｆ  ＝  ０．３３（ヘキサン／酢酸エチル＝１００：１）．  
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  ５００  ＭＨｚ）  δ：
７．２９  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．５  Ｈｚ），  ７．２９  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．５  Ｈｚ），  ３．９４  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ５．７  Ｈｚ），  ３．１８  （ｔ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ６．８  Ｈｚ），  ２．６２  （ｔ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ６．８  Ｈｚ），  １．５０−１．５１  （ｍ，  １Ｈ），  １．２４−１．３１  （ｍ，  ８Ｈ），  ０．８２−０．８７  （ｍ，  ６Ｈ）．  
１３Ｃ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  １２５  ＭＨｚ）  δ：
１７１．０４，  １３５．０９，  １３１．８５，  １３０．３５，  １１８．９０，  ６６．１８，  ３８．０９，  ３３．５６，  ２９．７５，  ２８．２９，  ２７．７５，  ２３．１８，  ２２．３８，  １３．８５，  １０．７７．  
ＩＲ  （ｎｅａｔ，  ｃｍ−１）：
２９５８，  ２９２９，  ２８５９，  １７３５，  １４７３，  １３８７，  １３４９，  １２４３，  １１７５，  １０９２，  １０６９，  １００８，  ８１０，  ４８０．  
ＨＲＭＳ  ｍ／ｚ：
ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ１７Ｈ２５ＢｒＯ２Ｓ  ３７２．０７５９；  Ｆｏｕｎｄ，  ３７２．０７１２．
【０１３４】
実施例２
パラジウム触媒を用いたスズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応と脱保護の一般的手法
【０１３５】
【化８６】
2007176846.tif 000088
丸底フラスコに３−（４−ブロモフェニルチオ）−プロピオン酸  ２−エチルヘキシルエステル（３７３ｍｇ、１ｍｍｏｌ）、アリールボロン酸（２ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（２１２ｍｇ、２ｍｍｏｌ）、トルエン（７．５ｍＬ）と水（２．１ｍＬ）を加えた。混合液を窒素で３回脱気した。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（５８ｍｇ、５ｍｏｌ％）を加え、２回窒素で脱気した。混合溶液を１２〜１５時間還流し、高速液体クロマトグラフィーを用いて反応の完結を確認した。反応液を放置し室温にまで冷却し、水層を破棄した。有機層にエタノール（５ｍＬ）、ナトリウム  エトキシド（２１ｗｔ％エタノール溶液、０．７５ｍＬ、２ｍｍｏｌ）を加え、混合液を室温で５時間攪拌した。高速液体クロマトグラフィーを用いて反応の完結を確認した後に、反応液を酢酸エチルと水に注いだ。有機層を分離、濃縮乾固した後にカラムクロマトグラフィーにより精製した。
【０１３６】
実施例４
ビフェニル  ４−チオールの製造
【０１３７】
【化８７】
2007176846.tif 000089
実施例３の一般的手法に従い、アリールボロン酸としてフェニルボロン酸を使用して、１５時間還流させることにより、ビフェニル−４−チオールを淡黄色の固体として８５％の収率で得た。
Ｒｆ  ＝  ０．７８（ヘキサン／酢酸エチル＝１：１）．  
融点；  １０６−１０９  °Ｃ．  
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  ５００  ＭＨｚ）  δ：
７．６３  （ｄｔ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ７．３，  ０．９  Ｈｚ），  ７．５６  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．４  Ｈｚ），  ７．４５  （ｄｔ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ７．９，  ７．５  Ｈｚ），  ７．３３−７．３９  （ｍ，  ３Ｈ），  ５．５１  （ｓ，  １Ｈ）．  
１３Ｃ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  １２５  ＭＨｚ）  δ  １３９．４５，  １３６．７２，  １３１．６８，  １２８．９０，  １２８．８２，  １２７．２７，  １２７．２５，  １２６．２７．  
ＩＲ  （ＫＢｒ，  ｃｍ−１）：
３０５４，  ２５５８，  １９５５，  １９０４，  １６５６，  １５９５，  １５５６，  １４７９，  １４０３，  １２６０，  １１５８，  １１２７，  １１０４，  １００３，  ９１５，  ８２７，  ６９２，  ５４６，  ４７３．  
ＨＲＭＳ  ｍ／ｚ：
ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ１２Ｈ１０Ｓ  １８６．０５０３；  Ｆｏｕｎｄ，  １８６．０４９８．
【０１３８】
実施例３
４‘−フルオロビフェニル−４−チオールの製造
【０１３９】
【化８８】
2007176846.tif 000090
実施例３の一般的手法に従い、アリールボロン酸として４−フルオロフェニルボロン酸を使用して、１３時間還流させることにより、４‘−フルオロビフェニル−４−チオールを淡黄色の固体として８２％の収率で得た。Ｒｆ  ＝  ０．７０（ヘキサン／酢酸エチル＝１：１）．  
融点；  ７２−７５  °Ｃ．  
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  ５００  ＭＨｚ）  δ：
７．６２−７．７１  （ｍ，  ４Ｈ），  ７．５４  （ｄ，  １Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．３  Ｈｚ），  ７．３８  （ｄ，  １Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．３  Ｈｚ），  ７．２５−７．３０  （ｍ，  ２Ｈ），  ５．５１  （ｓ，  １Ｈ）．  
１３Ｃ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  １２５  ＭＨｚ）  δ：
１２８．８１，  １２８．６３，  １２８．５７，  １２８．２６，  １２８．２０，  １２７．８３，  １２７．６４，  １２７．２０，  １１５．８５，  １１５．７５，  １１５．６８，  １１５．５８．  
ＩＲ  （ＫＢｒ，  ｃｍ−１）：
１８９７，  １６５９，  １６００，  １４８１，  １３９３，  １２４３，  １１６１，  １１０７，  １００３，  ８１１，  ７３９，  ６０５．  
ＨＲＭＳ  ｍ／ｚ：
ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ１２Ｈ９ＦＳ  ２０４．０４０９；  Ｆｏｕｎｄ，  ２０４．０４２７．
【０１４０】
実施例４
４‘−メトキシビフェニル−４−チオールの製造
【０１４１】
【化８９】
2007176846.tif 000091
実施例３の一般的手法に従い、アリールボロン酸として４−メトキシフェニルボロン酸を使用して、１２時間還流させることにより、４‘−メトキシ−ビフェニル−４−チオールを淡黄色の固体として８１％の収率で得た。
Ｒｆ  ＝  ０．６６（ヘキサン／酢酸エチル＝１：１）．
融点；  １３２−１３４  °Ｃ．  
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  ５００  ＭＨｚ）  δ：
７．５７  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．７  Ｈｚ），  ７．５０  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．３  Ｈｚ），  ７．３４  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．３  Ｈｚ），  ７．００  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．７  Ｈｚ），  ５．４４  （ｓ，  １Ｈ），  ３．７９  （ｓ，  ３Ｈ）．  
１３Ｃ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  １２５  ＭＨｚ）  δ：
１５８．７８，  １３６．４９，  １３１．８１，  １３０．５２，  １２８．８７，  １２７．３６，  １２６．７４，  １１４．３４，  ５５．１４．  
ＩＲ  （ＫＢｒ，  ｃｍ−１）：
２９５８，  ２８３９，  １６０５，  １５２３，  １４８５，  １３９８，  １２８７，  １２５２，  １２０４，  １１８２，  １１０７，  １０３８，  １０１２，  ８１１，  ４９７．  
ＨＲＭＳ  ｍ／ｚ：
ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ１３Ｈ１２ＯＳ  ２１６．０６０９；  Ｆｏｕｎｄ，  ２１６．０５８８．
実施例１〜実施例４から、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応の反応条件で、本発明に係わるチオール基の保護基が、保護基としての機能を有することが判明した。
【０１４２】
実施例５
３−（４−フェニルエチニル−フェニルチオ）−プロピオン酸  ２−エチルヘキシルエステルの製造
【０１４３】
【化９０】
2007176846.tif 000092
丸底フラスコに３−（４−ブロモフェニルチオ）プロピオン酸  ２−エチルヘキシルエステル（７４７ｍｇ、２ｍｍｏｌ）、アルキン（０．３７３ｍＬ、３．４ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルアミン（４ｍＬ）とジメチルホルムアミド（１１ｍＬ）を加えた。混合液を窒素で３回脱気した。ヨウ化銅（５７ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム（９２ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン（２６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を加え、窒素で２回脱気した。混合溶液を８０℃で８時間攪拌し、高速液体クロマトグラフィーを用いて反応の完結を確認した。反応液を室温にまで自然放冷し、酢酸エチルと水に注いだ。分液した後に有機層を濃縮乾固、粗化合物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、３−（４−フェニルエチニルフェニルチオ）−プロピオン酸  ２−エチル−ヘキシルエステル（７１８ｍｇ、９１％収率）をオイル状物質として得た。
Ｒｆ  ＝  ０．６５  （ヘキサン／酢酸エチル＝５：１）
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  ５００  ＭＨｚ）  δ：
７．５４−７．７．５６  （ｍ，  ２Ｈ），  ７．４９  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．３  Ｈｚ），  ７．４０−７．４５  （ｍ，  ３Ｈ），  ７．３６  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．３  Ｈｚ），  ３．９５  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ５．７  Ｈｚ），  ３．２４  （ｔ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ６．８  Ｈｚ），  ２．６６  （ｔ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ６．８  Ｈｚ），  １．５１−１．５３  （ｍ，  １Ｈ），  １．２４−１．３２  （ｍ，  ８Ｈ），  ０．８３−０．８７  （ｍ，  ６Ｈ）．  
１３Ｃ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  １２５  ＭＨｚ）  δ：
１７１．０６，  １３７．０２，  １３１．８７，  １３１．２９，  １２８．９５，  １２８．７２，  １２７．７０，  １２２．２６，  １１９．２９，  ８９．６２，  ８８．９９，  ６６．２０，  ３８．１０，  ３３．５２，  ２９．７６，  ２８．３０，  ２７．１２，  ２３．１９，  ２２．３８，  １３．８６，  １０．７８．  
ＩＲ  （ｎｅａｔ，  ｃｍ−１）：
２９５８，  ２８５９，  １７３４，  １５９０，  １４９６，  １４６３，  １３８２，  １３４９，  １２４３，  １１７６，  １０９０，  ８２２，  ７５６，  ６９０，  ５４１，  ５１４．
ＨＲＭＳ  ｍ／ｚ：
ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ２５Ｈ３０Ｏ２Ｓ  ３９４．１９６６；  Ｆｏｕｎｄ，  ３９４．１９１７．
実施例５から、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応の反応条件において、本発明に係わるチオール基の保護基は、保護基としての機能を有することが判明した。
【０１４４】
実施例６
３−（４−スチリルフェニルチオ）プロピオン酸  ２−エチルヘキシルエステルの製造
【０１４５】
【化９１】
2007176846.tif 000093
丸底フラスコに３−（４−ブロモフェニルチオ）プロピオン酸  ２−エチルヘキシルエステル（１．１２ｇ、３ｍｍｏｌ）、スチレン（０．３７８ｍＬ、３．３ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（０．６２７ｍＬ、３．６ｍｍｏｌ）とＮ−メチルピロリジノン（１７ｍＬ）を加えた。混合液を窒素で３回脱気した。テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（３４７ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を加え、２回窒素で脱気した。混合溶液を１３０℃で１０時間攪拌し、高速液体クロマトグラフィーを用いて反応の完結を確認した。反応液を室温にまで自然放冷し、酢酸エチルと水に注いだ。分液した後に有機層を濃縮乾固、粗化合物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、３−（４−スチリル−フェニルチオ）プロピオン酸  ２−エチル−ヘキシルエステル（１．１ｇ、９２％収率）をオイル状物質として得た。
Ｒｆ  ＝  ０．７４（ヘキサン／酢酸エチル＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  ５００  ＭＨｚ）  δ：
７．５６−７．６２  （ｍ，  ２Ｈ），  ７．２１−７．４０  （ｍ，  ８Ｈ），  ３．９４  （ｄｔ，  ２Ｈ，  Ｊ＝５．４，  ５．０  Ｈｚ），  ３．３３  （ｓ，  １Ｈ），  ３．１５−３．２１  （ｍ，  ２Ｈ），  ２．６０−２．６５  （ｍ，  ２Ｈ），  １．５１−１．５３  （ｍ，  １Ｈ），  １．２４−１．３３  （ｍ，  ８Ｈ），  ０．８３−０．８８  （ｍ，  ６Ｈ）．  
１３Ｃ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  １２５  ＭＨｚ）  δ：
１７１．１１，  １３６．９９，  １３５．２９，  １２９．５３，  １２９．０８，  １２８．７３，  １２８．６６，  １２８．６２，  １２８．３８，  １２７．６５，  １２７．６０，  １２７．０９，  １２６．４４，  １２６．４２，  １２６．０４，  ６６．１６，  ６６．１３，  ３８．１０，  ３３．６９，  ２９．７７，  ２８．３０，  ２７．８７，  ２３．１９，  ２２．３８，  １３．８５，  １０．７８．  
ＩＲ  （ｎｅａｔ，  ｃｍ−１）：
２９５８，  ２８６０，  １７３５，  １５８４，  １４６４，  １３８８，  １３４８，  １２４３，  １１７４，  ９６３，  ８１２，  ７４１，  ６９２，  ５４１．  
ＨＲＭＳ  ｍ／ｚ：
ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ２５Ｈ３２Ｏ２Ｓ  ３９６．２１２３；  Ｆｏｕｎｄ，  ３９６．２０９６．
実施例６から、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応の反応条件において、本発明に係わるチオール基の保護基は、保護基としての機能を有することが判明した。
【０１４６】
実施例７
３−（４−ホルミルフェニルチオ）プロピオン酸  ２−エチルヘキシルエステルの製造
【０１４７】
【化９２】
2007176846.tif 000094
丸底フラスコに３−（４−ブロモフェニルチオ）−プロピオン酸  ２−エチルヘキシルエステル（７４７ｍｇ、２ｍｍｏｌ）と無水テトラヒドロフラン（７．５ｍＬ）を加えた。混合液を窒素で３回脱気した後に−７８℃に冷却した。溶液にｎ−ブチルリチウム（１．５ｍＬ、２．２５ｍｍｏｌ、１．５規定ヘキサン溶液）を−７０℃以下に保ちながら加えた。−７０℃以下で１時間攪拌した後に、反応液にジメチルホルムアミド（０．１９４ｍＬ，２．５ｍｍｏｌ）を−７０℃以下で加えた。反応液を−７８℃で１時間攪拌し、室温にまで昇温させ１時間攪拌した。溶液を濃縮乾固後、カラムクロマトグラフィーにより精製し、３−（４−ホルミルフェニルチオ）−プロピオン酸２−エチル−ヘキシルエステル（４６４ｍｇ、７２％収率）をオイル状物質で得た。
Ｒｆ  ＝  ０．６３（ヘキサン／酢酸エチル＝１：１）
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  ５００  ＭＨｚ）δ：
９．９３  （ｓ，  １Ｈ），  ７．８３  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．３  Ｈｚ），  ７．４９  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ８．３  Ｈｚ），  ３．９６  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ５．７  Ｈｚ），  ３．３１  （ｄ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ６．８  Ｈｚ），  ２．７１  （ｔ，  ２Ｈ，  Ｊ  ＝  ６．８  Ｈｚ），  １．５２  （ｔ，  １Ｈ，  Ｊ  ＝  ５．９  Ｈｚ），  １．２３−１．３１  （ｍ，  ８Ｈ），  ０．８２−０．８５  （ｍ，  ６Ｈ）．
１３Ｃ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  １２５  ＭＨｚ）δ：
１９１．９８，  １７１．００，  １４４．９６，  １３３．１７，  １２９．９６，  １２６．４１，  ６６．２５，  ３８．０９，  ３３．２７，  ２９．７５，  ２８．２９，  ２６．２３，  ２３．１７，  ２２．３６，  １３．８５，  １０．７８．
ＨＲＭＳ  ｍ／ｚ：
ｃａｌｃｄ  ｆｏｒ  Ｃ１８Ｈ２６Ｏ３Ｓ  ３２２．１６０３；  Ｆｏｕｎｄ，  ３２２．１５８７．  
実施例７から、ｎ−ブチルリチウムのような強塩基の場合には、−７８℃というような低温条件では、本発明に係わるチオール基の保護基は、保護基としての機能を有することが判明した。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
本発明の、新規なチオール基の保護基の場合、公知のチオール基の保護基では、保護基としての機能を果たし得なかった反応条件、例えば、スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）反応、ヘック（Ｈｅｃｋ）反応、ソノガシラ（Ｓｏｎｏｇａｓｈｉｒａ）反応又はブックバルト（Ｂｕｃｈｗａｌｄ）−ハートウィック（Ｈａｒｔｗｉｇ）反応の反応条件にも保護基としての機能を発揮できるので、例えば、当該反応により製造される、医薬品、電子材料、接着剤又は塗料等の製造中間体として有用なチオール化合物が効率よく製造できる。