(57)【要約】【課題】  使用環境及び個々の可変形状ミラーの製造誤差などに合わせてＺｅｒｎｉｋｅ電圧テンプレートをキャリブレーションできる収差補正装置を提供する。【解決手段】  複数電極部に印加された静電電圧により歪みを生じる反射面を備え、反射面の反射光を検出して、所望の反射面形状をなすときの各電極部への印加電圧を測定し、一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を１つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を予め記憶し、前記記憶された電極部と印加電圧との組を重ね合わせることにより所望の形状に反射面を変形させる可変形状ミラーを備えた収差補正装置おいて、記憶された検出信号と、実際に検出された検出信号とを比較し、記憶された検出信号を湿度や製造誤差等の使用環境条件をもとに補正して所望の検出信号を出力する補正値演算手段を備える。【選択図】  図１
2007021045.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電極部と、これらの電極と対向して配置され電極部に印加された静電電圧により歪みを生じる薄膜状の反射面とを備え、所定の形状に変形され反射面光束の波面ひずみを補正する可変形状ミラーと、
一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を１つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を記憶した記憶部と、
可変形状ミラーにより反射された対象物からの光の収差を検出する収差検出部と、
記憶部に記憶された一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を１つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を補正する演算手段とを有することを特徴とする収差補正装置。
【請求項２】
複数の電極部と、これらの電極と対向して配置され電極部に印加された静電電圧により歪みを生じる薄膜状の反射面とを備え、所定の形状に変形され反射面光束の波面ひずみを補正する可変形状ミラーと、
一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を１つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を記憶した記憶部と、
可変形状ミラーにより反射された対象物からの光の収差を検出する収差検出部と、
前記予め記憶部に記憶された検出信号と、その後実際に検出された検出信号とを比較し、記憶された検出信号を個体の実際の使用条件をもとに補正して所望の検出信号が得られる補正値を算出する補正値演算手段を備えたことを特徴とする収差補正装置。
【請求項３】
前記個体の実際の使用条件は、個体の製造誤差条件、及び可変形状ミラーを含む装置全体の組立て調整誤差、及び使用雰囲気の湿度、温度、気圧を含む使用条件のうちの少なくとも１つの条件であることを特徴とする請求項１または２の収差補正装置。
【請求項４】
前記反射面の基準反射面形状をｚｅｒｎｉｋｅ多項式の所定の次元の要素に対応して備えていることを特徴とする請求項１ないし３の収差補正装置
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかの収差補正装置を備えたことを特徴とする光学装置。
【請求項６】
請求項１ないし４のいずれかの収差補正装置を備えたことを特徴とする眼底観察装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被写体に照射した光の収差を補正するための可変形状ミラーを使用する収差補正装置、光学装置及び眼底観察装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の光学装置において、被写体に照射した光の光学的歪みを補正するためにＤｅｆｏｒｍａｂｌｅ  Ｍｉｒｒｏｒ（以下、可変形状ミラーと略称する）が用いられている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。
【０００３】
また、眼底観察装置等において、眼底からの反射光は、眼光学系が不完全であるため収差を含み、鮮明な眼底像は得られない。この光学的ひずみを可変形状ミラーで補正することができる（例えば、特許文献３参照）。この眼底観察装置は、撮影光源から出射された光束を被検者の眼（被検眼という）に照射して、その眼底で反射された反射光束を撮影光として記録手段に導いて被検眼の眼底像の記録を行う装置である。
【０００４】
一般に、図６及び図７に示すように、可変形状ミラー３００は、は室内雰囲気（空気）中に配置され、枠３０２に張設された薄膜ミラー（メンブレン）３０１と、この薄膜ミラー３０１に所定の間隔を開けて形成した電極３０５を備えて構成されている、薄膜ミラー３０１は、表面を光反射面とした可撓性の膜体であり、電極３０５は平板状の基板で形成された基板３０４上面に複数（この例では５つ、３０５−１〜３０５−５）配置されている。本例では、各電極３０５−１〜３０５−５にはそれぞれ所定の電圧Ｖ１〜Ｖ５を印加できる電源３０６が接続され、各電極３０５に所定電圧を印加することにより、印加電圧Ｖと薄膜ミラー電極間距離に応じた静電力によって電極３０５に対向した部位の薄膜ミラー３０１を引き寄せ所望の歪みが発生するように変形させる。なお、図中符号３０７は、薄膜ミラー３０１と基板３０４との間隔を保持する間隔保持部材を示している。このような可変形状ミラー３００は、図７示すように、各電極３０５−１〜３０５−５に所定の電圧Ｖ１〜Ｖ５を印加すると、所望の形状に変形する。
【０００５】
また、非特許文献１に示すように、複数の電極部と、これらの電極と対向して配置され電極部に印加された静電電圧により歪みを生じる薄膜状の反射面とを備え、反射面光束の波面ひずみを補正する可変形状ミラーの変形方法において、前記反射面の反射光を検出して、所望の反射面形状をなすときの各電極部への印加電圧を測定し、一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を１つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を記憶し、前記記憶された電極部と印加電圧との組を重ね合わせることにより所望の形状に反射面を変形させる可変形状ミラーの変形方法や、その方法を用いた光学装置、眼底観察装置などが知られている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−２４７９４７号公報
【特許文献２】特開平９−１５２５０５号公報
【特許文献３】特開平１１−１３７５２２号公報
【非特許文献１】“Compensation of model eye‘s aberration by using deformable mirror”,Proceedings of SPIE, MEMS/MOEMSComponents and Their Applications II,Volume5717, p.219-229,2005
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、上述した従来の可変形状ミラーにあっては、製造・組立てやミラー材料であるSOIウェハの残留応力によってミラー表面形状及び変形特性に個体差が生じてしまう。また、可変形状ミラーを含む装置全体の組立て調整誤差により、ミラーの変形性能に差が生じてしまう。また、可変形状ミラーが配置される雰囲気の湿度、気温や気圧などの駆動環境が変化することでミラーの表面形状及び変形特性に変化が生じてしまう。そのため、所望の反射面形状をなすときの各電極部への印加電圧を測定し、一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を１つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を記憶し、前記記憶された電極部と印加電圧との組を重ね合わせる方法を用いたとしても、ミラーの表面形状及び変形特性が変化してしまっており、当初の記憶値に基づいてミラーを変形させてもミラー形状は所望の形状にならず、出力される信号のひとつの成分に他の成分が混ざった形状となってしまう。
【０００８】
例えば、眼底観察装置などで収差を補正する場合、各Ｚｅｒｎｉｋｅ次数の形状のための電圧テンプレートを使って変形させたミラー形状は所望の形状にならず、単一のＺｅｒｎｉｋｅ次数の形状に他の成分が混ざった形状となってしまう。そのようなＺｅｒｎｉｋｅ電圧テンプレートを使用して収差補正を行うと、完全に収差を補正することはできない。
【０００９】
そこで、本発明では、可変形状ミラーを備え、眼底観察装置等の光学装置に使用される収差補正装置において、各Ｚｅｒｎｉｋｅ次数の形状のための電圧テンプレート（電圧補正のための表）を使用環境及び個々の可変形状ミラーの製造誤差などに合わせてキャリブレーション（作り変え）し、収差補正に適したＺｅｒｎｉｋｅ電圧テンプレートを使用することができるものとすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１の発明は、複数の電極部と、これらの電極と対向して配置され電極部に印加された静電電圧により歪みを生じる薄膜状の反射面とを備え、所定の形状に変形され反射面光束の波面ひずみを補正する可変形状ミラーと、一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を１つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を記憶した記憶部と、可変形状ミラーにより反射された対象物からの光の収差を検出する収差検出部と、記憶部に記憶された一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を１つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を補正する演算手段とを有することを特徴とする収差補正装置である。
【００１１】
請求項２の発明は、複数の電極部と、これらの電極と対向して配置され電極部に印加された静電電圧により歪みを生じる薄膜状の反射面とを備え、所定の形状に変形され反射面光束の波面ひずみを補正する可変形状ミラーと、
一の基準となる反射面形状に対応する各電極部への印加電圧を１つの組として、所定の異なる数の反射面形状に対応する所定の組数を記憶した記憶部と、可変形状ミラーにより反射された対象物からの光の収差を検出する収差検出部と、前記予め記憶部に記憶された検出信号と、その後実際に検出された検出信号とを比較し、記憶された検出信号を個体の実際の使用条件をもとに補正して所望の検出信号が得られる補正値を算出する補正値演算手段を備えたことを特徴とする収差補正装置である。
【００１２】
請求項３の発明は、請求項１または２の収差補正装置において、前記個体の実際の使用条件は、個体の製造誤差条件、及び可変形状ミラーを含む装置全体の組立て調整誤差、及び使用雰囲気の湿度、温度、気圧を含む使用条件のうちの少なくとも１つの条件であることを特徴とする。
【００１３】
請求項４の発明は、請求項１または２の光学装置の収差補正装置において、前記反射面の基準反射面形状をｚｅｒｎｉｋｅ多項式の所定の次元の要素に対応して備えていることを特徴とする。
【００１４】
請求項５の発明は、請求項１ないし４のいずれかの収差補正装置を備えたことを特徴とする光学装置である。
【００１５】
請求項６の発明は、請求項１ないし４のいずれかの収差補正装置を備えたことを特徴とする眼底観察装置である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、収差補正装置において、可変形状ミラーが製造・組立てやミラー材料であるSOIウェハの持っている応力によってミラー表面形状及び変形特性に個体差が生じてしまったり、湿度、気温や気圧などの駆動環境が変化したりすることでミラーの表面形状及び変形特性に変化が生じてしまったとしても、可変形状ミラーの個体差の影響をなくすことができ、また、可変形状ミラーを含む装置全体の組立て調整誤差がミラーの変形性能に与える影響をなくすことができ、また、例えば湿度、気温や気圧等の環境変化に影響されず所望のミラー変形を実現させ、可変形状ミラーを真空に密封することもなく、安価に製造できる。
【００１７】
また、例えば眼底観察装置などの光学装置においても、各Ｚｅｒｎｉｋｅ次数のための電圧テンプレート（電圧補正のための表）を使用環境及び個々の可変形状ミラーに合わせてキャリブレーション（補正）し、収差補正に適したＺｅｒｎｉｋｅ電圧テンプレートを使用することができ、精確な収差補正を獲得することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下本発明に係る眼底観察装置の実施の形態について説明する。図１は実施の形態に係る可変形状ミラーの変形方法を適用する眼底観察装置の例を示す断面図、図２は実施の形態に係る可変形状ミラーの変形方法を適用する眼底観察装置の他の例を示す断面図、図３は実施の形態に係る眼底観察装置において電圧テンプレートのキャリブレーション方法を示すフローチャート、図４は各Ｚｅｒｎｉｋｅ次数の形状と共に電圧テンプレート（電圧補正のための表）を示す図、図５は測定Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値が目標Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値に補正（キャリブレーション）される一例を示す図である。
【００１９】
本例では、可変形状ミラーは、従来例として図６に示したものと同様の構造を備える。即ち可変形状ミラー１０は、SOIウェハをエッチングした可撓性を有するＳi薄膜にアルミニウム性の反射膜を形成した薄膜ミラーと、この薄膜ミラーとの間にスペーサを配し所定の間隔を開けて配置した基板と、基板に配置された電極とからなる。本例では電極は８５個の電極部材を配置して構成している。
【００２０】
本例では、各電極部材には従来例と同様の電源（図示していない）が接続され、各電極部材に所定電圧を印加することにより、印加電圧Ｖと薄膜ミラー電極間距離に応じた静電力によって各電極部材に対向した部位の薄膜ミラーを引き寄せ所望の歪みが発生するように変形させる。なお、電源それぞれの電極部材に任意の電圧を印加できる構造となっている。
【００２１】
この可変形状ミラーは例えば以下の材料で構成される。薄膜ミラーは厚さ０.５ｍｍ程度のSOIウェハをエッチングによって加工して製作する。この薄膜ミラーは厚さ数μｍ程度が望ましく、また上面にはアルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）などを蒸着して反射部を形成する。なお、本例では薄膜ミラー部は電気的にグランドにしている。基板はガラスやガラスエポキシ、Ｓｉ、また、電極部材は金（Ａｕ）などの金属薄板を貼着して形成することができる他、Ａｕなどを蒸着して形成することができる。
【００２２】
次に、本件に係る可変形状ミラーを使用した眼底観察装置について説明する。本例に係る眼底観察装置を図１に示す。この眼底観察装置１００は、可変形状ミラー１０と収差測定装置とを備えたアダプティブオプティクスシステムである。本例に係る眼底観察装置の光学系は、可変形状ミラー１０、水晶体や角膜などの眼光学系で発生する収差を測定する収差測定装置であるシャックハルトマン波面センサー２０、およびビーム伝搬光学系３０からなる。
【００２３】
このような装置において人眼の眼底を観察する際、眼の収差が眼底像を劣化させるため、可変形状ミラー１０で収差を補正することにより、良好な眼底像を得るようにしている。このような装置において、本例では、各Ｚｅｒｎｉｋｅ次数のための電圧テンプレート（電圧補正のための表）を使用環境及び個々の可変形状ミラーに合わせてキャリブレーション（補正）するため、人眼測定の際に人眼の来る位置に無収差模型眼４０を使用する。つまり、キャリブレーション時にのみ、無収差模型眼４０を取り付ける。ビーム伝搬光学系３０はビームスプリッタ３１，３４、可動プリズム３２，ダイクロイックミラー３３、眼底照明用のレーザダイオード３５（波長λ２）、眼底撮影用の高感度ＣＣＤ３６、収差測定用のシャックハルトマン波面センサー２０の光源としてスーパールミネッセントダイオード（ＳＬＤ）３７（波長λ１）を備えている。上記ダイクロイックミラー３３は前記レーザダイオード３５の光（波長λ２）とスーパールミネッセントダイオード（ＳＬＤ）３７（波長λ１）の光を分離する。
【００２４】
また、本例では、眼底観察装置１００には、可変形状ミラー１０を駆動させるドライバ５２を備えている。また、本例では、前記シャックハルトマン波面センサー２０からの信号を受け、可変形状ミラー１０のドライバ５２及び後述する可動プリズム３２を制御する演算制御部５１（ＰＣ）が設けられている。
【００２５】
このような眼底観察装置１００において、デフォーカス量は可動プリズム３２を用いて光路長を調整することにより、自動的に補正される。なお、本例において、可変形状ミラー１０の有効径は７．５ｍｍである。可変形状ミラー１０の入射角は１５度である。
【００２６】
シャックハルトマン波面センサー２０は、公知であり、ハルトマンプレート２１（即ち、マイクロレンズアレイ）とＣＣＤ２２から成る。ＣＣＤ２２はマイクロレンズの焦点位置に配置される。可変形状ミラー１０とハルトマンプレート２１は光学的に共役位置にある。波長８４０ｎｍのＳＬＤ３７が、不要な干渉ノイズを避けるため、シャックハルトマン波面センサー２０の光源に使用されている。スーパールミネッセントダイオード３７、模型眼４０の眼底、ＣＣＤ２２は共役位置にある。
【００２７】
スーパールミネッセントダイオード３７からの光（波長λ１）は、ビームスプリッタ３４、いつくかのレンズ（図示されていない）、ダイクロイックミラー３３、可変形状ミラー１０、ビームスプリッタ３１を介して模型眼４０内を照明する。
【００２８】
模型眼４０の眼底からの反射光は、この光路を逆向きに戻り、シャックハルトマン波面センサー２０へ照射される。シャックハルトマン波面センサー２０は演算制御部５１に波面情報を出力する。この波面情報に基づき演算制御部５１は可変形状ミラーの制御信号を出力して可変形状ミラー１０を変形させる。
【００２９】
図２には、図１のようにテンプレートのキャリブレーション毎に無収差模型眼を着脱させることなく、装置内に同様の機能を備え、各Ｚｅｒｎｉｋｅ次数のための電圧テンプレート（電圧補正のための表）を使用環境及び個々の可変形状ミラーに合わせてキャリブレーション（補正）するための眼底観察装置２００が示されている。本例の光学系は、前記眼底観察装置１００の光学系に固定ミラー６１、移動ミラー６２、レンズ６３を追加して配置したものである。
【００３０】
前記移動ミラー６２は、眼底観察時は光路から除かれ、電圧テンプレートのキャリブレーション時には光路に入れられる。このミラーの移動は、演算制御部５１で制御している。また、固定ミラー６１へ向かう光路にはレンズ６３が配置されており、このレンズは、シャックハルトマン波面センサー２０へ向かう像を反転させるためのものである。これにより、眼底観察時の眼底像と同じ関係が満足される。なお、このレンズ６３と固定ミラー６１で無収差模型眼と同等となる。
レンズ６３、可変形状ミラー１０、シャックハルトマン波面センサー２０のハルトマンプレート２１は光学的に共役な位置に配置されている。
【００３１】
次に本例に係る眼底観察装置における可変形状ミラーを変形させる手順について説明する。本例では、各Ｚｅｒｎｉｋｅ次数の形状のための電圧テンプレート（電圧補正のための表）を使用環境及び個々の可変形状ミラーの製造誤差などに合わせてキャリブレーション（作り変え）し、収差補正に適したＺｅｒｎｉｋｅ電圧テンプレートを使用するものである。図３は実施の形態に係る眼底観察装置において電圧テンプレートのキャリブレーション方法を示すフローチャートである。
なお、収差はＺｅｒｎｉｋｅ多項式で展開して次式で表される。
全収差＝Σzij×Ｚ（ｉ，ｊ）
ここで、Ｚ（ｉ，ｊ）は各Ｚｅｒｎｉｋｅ次数を表し、zijはその係数を表す。
理想的なある次数Ｚ（ｉ，ｊ）の電圧テンプレートとは、Ｚ（ｉ，ｊ）の係数がある値zijで、他のＺｅｒｎｉｋｅ次数の係数がすべてゼロの形状を作るように可変形状ミラーに印加する電圧配列のことである。
【００３２】
本例では補正値演算手段は、以下の手順でキャリブレーションを行う。すべてのＺｅｒｎｉｋｅ次数のテンプレートが初期値として演算制御部ＰＣの記憶部に記憶されていることが前提条件である。
まず、図１に示した眼底観察装置１００、または図２に示した眼底観察装置２００において、参照する収差（リファレンス）の測定を開始する（図３中Ｓ１）。これは可変形状ミラー１０の初期形状およびビーム伝搬光学系３０で発生する収差の測定である。次に、予め演算制御部ＰＣの記憶部に記憶されているＺｅｒｎｉｋｅ次数の形状のための電圧テンプレート（電圧補正のための表）を演算制御部ＰＣの記憶部から読み込み、可変形状ミラーの電極部１〜８５に各々の電圧を印加し、可変形状ミラーを変形させる（同Ｓ２）。
【００３３】
そして、このときの収差を測定し（同Ｓ３）、各Ｚｅｒｎｉｋｅ次数の係数を計算する（同Ｓ４）。ここで、新たに測定した収差から、最初に測定したリファレンス収差を差し引いておく。そして、可動プリズムを移動させ、光路長を補正する（同Ｓ５）。
【００３４】
次に、電圧テンプレート（電圧補正のための表）から電極部１〜８５の電圧配列を計算する（同Ｓ６）。そして、可変形状ミラーの電極部１〜８５に各々の電圧を印加し、可変形状ミラーを変形させる（同Ｓ７）。そして、このときの収差を測定し（同Ｓ８）、各Ｚｅｒｎｉｋｅ次数の係数を計算する（同Ｓ９）。ここでも、新たに測定した収差から、最初に測定したリファレンス収差を差し引いておく。そして、可動プリズムを移動させ、光路長を補正する（同Ｓ１０）。
【００３５】
そして、目標とするＺｅｒｎｉｋｅ次数の形状に一致するかどうか比較し（Ｓ１１）、目標とするＺｅｒｎｉｋｅ次数の形状に略一致するまでＳ６からＳ１０までの処理を行う。さらに、これをすべてのＺｅｒｎｉｋｅ次数Ｚ（ｉ，ｊ）に対して行う。
【００３６】
このとき、可変形状ミラーの各電極に印加する電圧配列を計算する際、以下の式で表される演算を行う。
Ｖｎ＝ｓｑｒｔ（Σ（ｚij／ｚ０ij＊Ｖij２）＋Ｖｎ-1２）
ここで、
ｚij＝ｚｍ−ｚtarget
Ｖｎ：       ｎ回目補正印加電圧
ｚij：       補正したいＺｅｒｎｉｋｅ係数値
ｚｍ：       測定Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値
ｚtarget：  目標Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値
ｚ０ij：      Ｚｅｒｎｉｋｅ電圧テンプレートでの係数値
Ｖij：       テンプレート電圧
【００３７】
これを電極番号1〜85まですべて計算し、各電極に印加する電圧配列を求める。
なお、この数式では説明を省略しているが、キャリブレーションするテンプレートのＺｅｒｎｉｋｅ次数以外の次数（つまりここでは不要な次数となる）の係数の極性を考慮する必要がある。例えば、収差測定の結果、不要なＺｅｒｎｉｋｅ次数の係数がマイナスであった場合、同じ次数で係数がプラスのほうのテンプレートを使う必要があることを補足しておく（図４に正負のテンプレートがあるのを参照）。
【００３８】
このようにして、測定Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値ｚｍと目標Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値ｚtargetとの差を求めて補正したいＺｅｒｎｉｋｅ係数値ｚijを求め、Ｚｅｒｎｉｋｅ電圧テンプレートでの係数値ｚ０ijとの比を割り出し、テンプレート電圧Ｖijの二乗値に掛け、総和を求めることにより、新たなテンプレート電圧値を決めることができる。
【００３９】
図５に示すテンプレートのグラフを用いて、測定Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値が目標Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値に補正（キャリブレーション）される一例を説明する。
【００４０】
図５（ａ）（図面の左側のグラフ）に示すように、目標をＺｅｒｎｉｋｅ次数Ｚ（３，１）のテンプレートで係数を−０．４μｍとした場合、
測定Ｚｅｒｎｉｋｅ次数値がＺ（２，-２）で−０．４μｍ、Ｚ（２，２）で＋０．２μｍ、Ｚ（３，−３）で＋０．０２μｍ、Ｚ（３，−１）で＋０．０２μｍ、Ｚ（３，１）で−０．４５μｍ、Ｚ（３，３）で＋０．０１μｍ、Ｚ（４，４）で＋０．０３μｍ、Ｚ（４，−２）で＋０．０２μｍ、Ｚ（４，０）で＋０．０２μｍ、Ｚ（４，２）で０μｍ、Ｚ（４，４）で−０．０２μｍを示している。
【００４１】
これに、上述した補正を行うことにより、補正（キャリブレーション）した電圧テンプレートは、Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値がＺ（２，-２）で−０．０５μｍ、Ｚ（２，２）で＋０．０５μｍ、Ｚ（３，−３）で＋０．０１μｍ、Ｚ（３，−１）で＋０．０１μｍ、Ｚ（３，１）で−０．３５μｍ、Ｚ（３，３）で＋０．０２μｍ、Ｚ（４，４）で−０．０２μｍ、Ｚ（４，−２）で＋０．０１μｍ、Ｚ（４，０）で＋０．０１μｍ、Ｚ（４，２）で＋０．０２μｍ、Ｚ（４，４）で０μｍを示し、目標とするＺｅｒｎｉｋｅ係数値に補正（キャリブレーション）することができた。不要なＺｅｒｎｉｋｅ次数の係数を大幅に減少した形に補正できていることが分かる。
【００４２】
また、図５（ｂ）（図面の右側のグラフ）に示すように、目標をＺｅｒｎｉｋｅ次数Ｚ（４，４）のテンプレートで、係数を＋０．４μｍとした場合、
測定Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値がＺ（２，-２）で−０．０２μｍ、Ｚ（２，２）で＋０．１μｍ、Ｚ（３，−３）で−０．１μｍ、Ｚ（３，−１）で＋０．０２μｍ、Ｚ（３，１）で０μｍ、Ｚ（３，３）で＋０．２μｍ、Ｚ（４，４）で＋０．５５μｍ、Ｚ（４，−２）で０μｍ、Ｚ（４，０）で＋０．０２μｍ、Ｚ（４，２）で−０．０１μｍ、Ｚ（４，４）で−０．０２μｍを示している。
【００４３】
これに、上述した補正を行うことにより、補正（キャリブレーション）した電圧テンプレートは、Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値がＺ（２，-２）で−０．０１μｍ、Ｚ（２，２）で＋０．０３μｍ、Ｚ（３，−３）で−０．０２μｍ、Ｚ（３，−１）で−０．０１μｍ、Ｚ（３，１）で＋０．０３μｍ、Ｚ（３，３）で＋０．０３μｍ、Ｚ（４，４）で＋０．４μｍ、Ｚ（４，−２）で０μｍ、Ｚ（４，０）で＋０．０２μｍ、Ｚ（４，２）で０μｍ、Ｚ（４，４）で−０．０１μｍを示し、目標とするＺｅｒｎｉｋｅ係数値に補正（キャリブレーション）することができた。不要なＺｅｒｎｉｋｅ次数の係数を大幅に減少した形に補正できていることが分かる。
【００４４】
このように、上述した補正方法により、目標としたＺｅｒｎｉｋｅ係数に近づけることができ、可変形状ミラーによる収差補正の精度を向上させることができる。
また、テンプレートのキャリブレーションを行うことにより、可変形状ミラーの製造・組立てやミラー材料であるSOIウェハの持っている応力によってミラー表面形状及び変形特性に個体差が生じてしまった場合でも、目標としたいＺｅｒｎｉｋｅ次数に近づけることができ、可変形状ミラーによる収差補正の精度を向上させることができる。
【００４５】
図４は、Ｚｅｒｎｉｋｅ次数の形状のための電圧テンプレート（電圧補正のための表）を示す。なお、４次までのテンプレートを示しているが、これに限定されず、５,６次以上の次元のＺｅｒｎｉｋｅ次数の形状のための電圧テンプレートを作成してもよい。また、前述のように、デフォーカスは移動プリズムで補正できるので、次数Ｚ（２，０）のテンプレートは不要である。また、波面の傾き成分である１次のＺｅｒｎｉｋｅ次数も図１および図２で図示していない通常の光学系で補正できるので不要である。
【００４６】
なお、テンプレートのキャリブレーションは、例えば、眼底観察装置の電源投入時に自動的に実施するようにコンピュータプログラムを構成しておけばよい。図１の構成では最初に無収差模型眼４０を取り付ける必要があるが、図２の構成では、無収差模型眼の機能を装置内に備えているので、完全自動でテンプレートのキャリブレーションが可能である。また、眼底観察装置内、特に可変形状ミラー１０の近くに湿度、温度、気圧などを検知するセンサーを備えることにより、環境が著しく変化した場合には、テンプレートのキャリブレーションを行うようにすることも可能である。可変形状ミラー１０の環境依存性の影響も排除できる。このことは、可変形状ミラー１０を真空封止して環境依存性の影響を無くすなどの手段を講じる必要がなく、そのための高価なパッケージなどが不要となるので、可変形状ミラー１０を安価に作ることができる。
【００４７】
なお、上記の実施の形態においては、収差補正装置を用いる光学装置として眼底観察装置を例として説明しているが、収差補正装置を装着する装置としてはヘッドアップディスプレイ、天体望遠鏡、レーザ照射装置等、各種の光学機器に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】実施の形態に係る可変形状ミラーの変形方法を適用する眼底観察装置の例を示す断面図である。
【図２】実施の形態に係る可変形状ミラーの変形方法を適用する眼底観察装置の他の例を示す断面図である。
【図３】実施の形態に係る眼底観察装置において電圧テンプレートのキャリブレーション方法を示すフローチャートである。
【図４】各Ｚｅｒｎｉｋｅ次数の形状と共に電圧テンプレート（電圧補正のための表）を示す図である
【図５】測定Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値が目標Ｚｅｒｎｉｋｅ係数値に補正（キャリブレーション）される一例を示す図である。
【図６】従来の可変形状ミラーの構成を示す断面図である。
【図７】図６に示した可変形状ミラーの作動の状態を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１０・・・可変形状ミラー
２０・・・シャックハルトマン波面センサー
２１・・・ハルトマンプレート
３０・・・ビーム伝搬光学系
３１，３４・・・ビームスプリッタ
３２・・・可動プリズム
３３・・・ダイクロイックミラー
３４・・・ビームスプリッタ
３５・・・レーザダイオード
３６・・・眼底検観察用カメラ
３７・・・スーパールミネッセントダイオード
４０・・・模型眼
５１・・・演算制御部（ＰＣ）
５２・・・ドライバ
６１・・・固定ミラー
６２・・・移動ミラー
６３・・・レンズ
１００・・・眼底観察装置
２００・・・眼底観察装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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