(57)【要約】【課題】簡易な構成により、機能液を各画素領域の全域に行き渡らせることができる液滴吐出装置を提供する。【解決手段】基板Ｗに対し、機能液滴吐出ヘッド１７を相対的に移動させながら、バンク部５０７ｂにより画成した基板上の複数の画素領域５０７ａに対し、機能液滴吐出ヘッド１７により機能液をそれぞれ吐出・着弾させる描画手段と、機能液滴吐出ヘッド１７の相対移動に後行して基板Ｗに臨み、基板Ｗ上に雰囲気の疎密波を作用させて、各画素領域５０７ａに着弾した機能液の液面を振動させる振動処理手段５６と、を備えた。【選択図】図６
2007152256.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バンク部により画成した基板上の複数の画素領域に対し、機能液滴吐出ヘッドにより機能液をそれぞれ吐出・着弾させる液滴吐出工程と、
前記基板上に雰囲気の疎密波を作用させて、前記各画素領域に着弾した機能液の液面を振動させる振動処理工程と、
を備えたことを特徴とする液滴吐出装置の描画処理方法。
【請求項２】
バンク部により画成した基板上の複数の画素領域に対し、機能液滴吐出ヘッドにより必要量の機能液の一部を前記各画素領域の隅部近傍にそれぞれ吐出・着弾させる隅部吐出工程と、
前記隅部吐出工程の後、前記基板上に雰囲気の疎密波を作用させて、前記各画素領域の隅部近傍に着弾した機能液の液面を振動させる第１振動処理工程と、
前記第１振動処理工程の後、前記機能液滴吐出ヘッドにより前記必要量の機能液の残りを前記各画素領域の中央部に吐出・着弾させる中央部吐出工程と、
を備えたことを特徴とする液滴吐出装置の描画処理方法。
【請求項３】
前記中央部吐出工程の後、前記基板上に前記疎密波を作用させて、前記各画素領域の中央部に着弾した機能液の液面を振動させる第２振動処理工程を、さらに備えたことを特徴とする請求項２に記載の液滴吐出装置の描画処理方法。
【請求項４】
基板に対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、バンク部により画成した前記基板上の複数の画素領域に対し、前記機能液滴吐出ヘッドにより機能液をそれぞれ吐出・着弾させる描画手段と、
前記機能液滴吐出ヘッドの相対移動に後行して前記基板に臨み、前記基板上に雰囲気の疎密波を作用させて、前記各画素領域に着弾した機能液の液面を振動させる振動処理手段と、
を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項５】
前記描画手段および前記振動処理手段を制御する制御手段を、さらに備え、
前記制御手段は、前記機能液滴吐出ヘッドにより必要量の機能液の一部を前記各画素領域の隅部近傍に吐出・着弾させた後、前記基板上に前記疎密波を作用させて前記各画素領域の隅部近傍に着弾した機能液の液面を振動させ、さらに、前記機能液滴吐出ヘッドにより前記必要量の機能液の残りを前記各画素領域の中央部に吐出・着弾させることを特徴とする請求項４に記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
前記振動処理手段は、前記機能液滴吐出ヘッドに対し、その相対移動方向の前後に配設した一対のもので構成されていることを特徴とする請求項４または５に記載の液滴吐出装置。
【請求項７】
前記振動処理手段を、前記機能液滴吐出ヘッドの相対移動方向に直交する直交方向において、前記描画手段に搭載可能な最大サイズの前記基板の幅に対応させて構成したことを特徴とする請求項４ないし６のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項８】
前記振動処理手段を、前記直交方向に並ぶ複数のスピーカで構成したことを特徴とする請求項７に記載の液滴吐出装置。
【請求項９】
請求項４ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記基板上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項４ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記基板上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１０に記載の電気光学装置を、搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板に対し、インクジェット方式で微小な液滴を吐出することができる機能液滴吐出ヘッドにより機能液を吐出・着弾させて描画処理を行う液滴吐出装置の描画処理方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置等のカラーフィルタの製造工程において、いわゆる印刷方式により、機能液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）を用いてＲ・Ｇ・Ｂ各色の着色層（画素材料）を形成する液滴吐出装置が知られている。すなわち、この液滴吐出装置は、バンク部（隔壁）により画成した基板上の複数の画素領域に対し、Ｒ・Ｇ・Ｂ各色の機能液滴（画素材料溶液）を吐出・着弾させ、着色層を形成するものである。そして、着弾した機能液滴が各画素領域の全域に行き渡るように、基板に超音波振動等の微小振動を作用させながら機能液を吐出することが考えられている（特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００３−１３９９３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、従来の液滴吐出装置では、大型の基板に対して描画処理を行う場合には、大型の基板に微小振動を作用させることになり、それだけエネルギー的に大きな振動を発生する機構が必要となるため、近年の基板大型化の要請に対応することが困難であった。しかも、基板に微小振動を作用させることにより、基板がアライメント位置から位置ズレするおそれがあるため、着弾位置精度が低下するという問題があった。
【０００４】
本発明は、簡易な構成により、機能液を各画素領域の全域に行き渡らせることができる液滴吐出装置の描画処理方法、液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の液滴吐出装置の描画処理方法は、バンク部により画成した基板上の複数の画素領域に対し、機能液滴吐出ヘッドにより機能液をそれぞれ吐出・着弾させる液滴吐出工程と、基板上に雰囲気の疎密波を作用させて、各画素領域に着弾した機能液の液面を振動させる振動処理工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
本発明の液滴吐出装置は、基板に対し、機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、バンク部により画成した基板上の複数の画素領域に対し、機能液滴吐出ヘッドにより機能液をそれぞれ吐出・着弾させる描画手段と、機能液滴吐出ヘッドの相対移動に後行して基板に臨み、基板上に雰囲気の疎密波を作用させて、各画素領域に着弾した機能液の液面を振動させる振動処理手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
これらの構成によれば、機能液に疎密波を作用させ、その液面を振動させることで、機能液の流動性が高まり、濡れ拡がりにくい各画素領域の隅部にまで機能液を濡れ拡がせることができる。したがって、基板を微小振動させる構成のように大掛かりな機構を設ける必要がなく、上方から雰囲気の疎密波を作用させるという簡易な構成により、機能液を各画素領域の全域に行き渡らせることができる。また、機能液を濡れ拡がせることにより、各画素領域の隅部に機能液を行き渡らせることができるため、各画素領域の隅部を狙って機能液を吐出・着弾させる必要がない。したがって、吐出した機能液滴が各画素領域から外れて周囲のバンク部に着弾する危険性を低減することができる。
なお、雰囲気の疎密波とは、例えば超音波であるが、機能液の性質（粘度等）によって周波数を可変とすることが好ましい。
【０００８】
本発明の他の液滴吐出装置の描画処理方法は、バンク部により画成した基板上の複数の画素領域に対し、機能液滴吐出ヘッドにより必要量の機能液の一部を各画素領域の隅部近傍にそれぞれ吐出・着弾させる隅部吐出工程と、隅部吐出工程の後、基板上に雰囲気の疎密波を作用させて、各画素領域の隅部近傍に着弾した機能液の液面を振動させる第１振動処理工程と、第１振動処理工程の後、機能液滴吐出ヘッドにより必要量の機能液の残りを各画素領域の中央部に吐出・着弾させる中央部吐出工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
上記の液滴吐出装置において、描画手段および振動処理手段を制御する制御手段を、さらに備え、制御手段は、機能液滴吐出ヘッドにより必要量の機能液の一部を各画素領域の隅部近傍に吐出・着弾させた後、基板上に疎密波を作用させて各画素領域の隅部近傍に着弾した機能液の液面を振動させ、さらに、機能液滴吐出ヘッドにより必要量の機能液の残りを各画素領域の中央部に吐出・着弾させることが好ましい。
【００１０】
これらの構成によれば、まず、各画素領域の隅部に着弾した機能液に対し、振動処理を行うことで、各機能液が小さい段階でこれに疎密波を作用させることになるため、各機能液の液面を効率良く振動させることができ、的確に濡れ拡がせることができる。
【００１１】
上記の液滴吐出装置の描画処理方法において、中央部吐出工程の後、基板上に疎密波を作用させて、各画素領域の中央部に着弾した機能液の液面を振動させる第２振動処理工程を、さらに備えたことが好ましい。
【００１２】
この構成によれば、各画素領域の隅部に機能液を濡れ拡げた後、各画素領域の中央部に着弾した機能液に対しても、振動処理を行うことで、機能液をより確実に濡れ拡がせることができる。
【００１３】
この場合、振動処理手段は、機能液滴吐出ヘッドに対し、その相対移動方向の前後に配設した一対のもので構成されていることが好ましい。
【００１４】
この構成によれば、基板の往動に伴った液滴吐出処理の後、基板を往動させたまま振動処理を行うことができると共に、基板の複動に伴った液滴吐出処理の後、基板を復動させたまま振動処理を行うことができる。このため、基板の往動に同期して液滴吐出処理を行った場合、および基板の復動に同期して液滴吐出処理を行った場合のいずれも、振動処理のために基板を反対方向に移動させる必要がなく、処理時間を短縮することができる。
【００１５】
これらの場合、振動処理手段を、機能液滴吐出ヘッドの相対移動方向に直交する直交方向において、描画手段に搭載可能な最大サイズの基板の幅に対応させて構成したことが好ましい。
【００１６】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドを１回相対移動させるだけで、基板上の全画素領域にそれぞれ着弾した全機能液に対し、疎密波を作用させることができる。このため、振動処理のために基板を何回も相対移動させる必要がなく、処理時間を短縮することができる。
【００１７】
この場合、振動処理手段を、直交方向に並ぶ複数のスピーカで構成したことが好ましい。
【００１８】
この構成によれば、最大サイズの基板の直交方向における幅に対応させた振動処理手段を、簡易に構成することができる。
なお、スピーカとしては、ダイナミックスピーカ（ホーン型等）、平面スピーカ、コンデンサスピーカおよび圧電スピーカ等を用いることができる。
【００１９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２１】
これらの構成によれば、簡易な構成により、機能液を各画素領域の全域に行き渡らせることができる液滴吐出装置により製造することで、色むら等の無い高品質なワークを効率良く生産することができる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２２】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２３】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付の図面を参照して、本発明に係る液滴吐出装置の一実施形態について説明する。本実施形態の液滴吐出装置は、液晶表示装置のカラーフィルタ等の製造ラインに組み込まれた描画システムに設置されており、特殊なインクや発光性の樹脂液等の機能液を機能液滴吐出ヘッドに導入して、カラーフィルタ等の基板上に機能液による成膜部を形成するものである。そこで、まず、液滴吐出装置による機能液滴の吐出対象（描画対象）となる基板について説明する。
【００２５】
図１に示すように、基板Ｗは、ガラス板（石英ガラス）やポリイミド樹脂等で構成されており、その周縁部の前後２箇所には、搬入された液滴吐出装置１（図２参照）により位置認識される一対の基板アライメントマークＷｍ、Ｗｍがそれぞれ形成されており、その周縁部を除いた範囲には、区画壁部５０７ｂ（バンク部）により画成した複数の画素領域５０７ａがマトリクス状に配列されている。
【００２６】
各画素領域５０７ａは、区画壁部５０７ｂで囲まれた平面視長方形の凹部となっており、液滴吐出装置１に搭載された機能液滴吐出ヘッド１７（図２参照）により、Ｒ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂ（成膜部）を形成する際に、機能液滴の着弾領域となる（図８参照）。この場合、機能液滴が着弾した３個の画素領域５０７ａ、すなわち、Ｒの機能液滴が着弾した画素領域５０７ａと、Ｇの機能液滴が着弾した画素領域５０７ａと、Ｂの機能液滴が着弾した画素領域５０７ａとにより、いわゆる画素が構成される。
【００２７】
各画素領域５０７ａには、吐出を考慮した濃度に調製された機能液を導入した機能液滴吐出ヘッド１７により、乾燥処理後の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの膜厚が一定となるように、必要量の機能液（所定のショット数の機能液滴）を吐出・着弾させる。
【００２８】
各画素領域５０７ａは、詳細は後述するが、表面処理により親液（親水）性となっており、着弾した機能液滴が各画素領域５０７ａ内で濡れ拡がりやすくなっている。一方、区画壁部５０７ｂは、疎液（疎水）性の樹脂材料等で構成されているため、区画壁部５０７ｂに機能液滴が着弾しても、その機能液滴は隣接する画素領域５０７ａ内へ流れ込むようになっている。もっとも、各画素領域５０７ａの周縁部は、区画壁部５０７ｂを構成するレジスト層５０４（図８参照）の残渣等の影響により、疎液性となっている。このため、各画素領域５０７ａに着弾した機能液は、その周縁部、特に隅部（角部）では濡れ拡がりにくくなっている。本実施形態の液滴吐出装置１は、この濡れ拡がりにくい隅部にも、機能液を行き渡らせるものである（詳細は後述する）。
【００２９】
次に、本発明に係る液滴吐出装置１について説明する。カラーフィルタを製造する描画システムには、Ｒ・Ｇ・Ｂの各色にそれぞれ対応した３台の液滴吐出装置１が設置されており、各液滴吐出装置１は、順次導入された基板Ｗ上に着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを１色分ずつ形成するように設計されている。もちろん、１台の液滴吐出装置１によりＲ・Ｇ・Ｂ３色の描画を一括して行うようにしてもよい。
【００３０】
図２に示すように、液滴吐出装置１は、複数（４個）の機能液滴吐出ヘッド１７を搭載した描画装置２と、描画装置２に添設されたメンテナンス装置３と、基板Ｗに着弾した機能液に疎密波を作用させる（疎密波を印加する）振動処理装置４と、アライメント処理等のために画像認識を行う画像認識装置５とを備えている。また、この液滴吐出装置１には、同図では図示省略したが、各部を統括制御するコントローラ６（図５参照）等が設置されている。なお、同図では、簡便のため、機能液滴吐出ヘッド１７を単一のものとして示している。
【００３１】
描画装置２は、機能液滴吐出ヘッド１７により基板Ｗ上に機能液を吐出・着弾させる液滴吐出処理を行うものであって、Ｘ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３から成るＸＹ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられたキャリッジ１４と、キャリッジ１４に垂設され、４個の機能液滴吐出ヘッド１７を装着したヘッドユニット１５（図３参照）とを備えている。
【００３２】
そして、Ｘ軸テーブル１２による基板Ｗの移動軌跡と、Ｙ軸テーブル１３によるキャリッジ１４の移動軌跡とが交わる領域が、液滴吐出処理を行う吐出処理エリア９１となっている。また、Ｙ軸テーブル１３によるヘッドユニット１５の移動軌跡上のＸ軸テーブル１２から外側（図示右側）に外れた領域が、メンテナンスエリア９２となっており、このメンテナンスエリア９２にメンテナンス装置３が設置されている。
【００３３】
Ｘ軸テーブル１２の手前側の領域は、液滴吐出装置１に対する基板Ｗの搬出入を行う基板搬出入エリア９３となっている。また、Ｘ軸方向に吐出処理エリア９１を間に挟んで一対の振動処理エリア９４が配設されており、この一対の振動処理エリア９４に後述する振動処理ユニット５６がそれぞれ設けられ、振動処理が行われる。なお、詳細は後述するが、基板Ｗの往動時（図示下側から上側への移動時）には、図示上側の振動処理エリア９４において振動処理が行われるため、これを往動時振動処理エリア９４ａとし、基板の復動時（図示上側から下側への移動時）には、図示下側の振動処理エリア９４において振動処理が行われるため、これを復動時振動処理エリア９４ｂとする。
【００３４】
Ｘ軸テーブル１２は、床上に直接載置されており、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＸ軸スライダ（図示省略）を有し、これに基板Ｗを吸着セットする吸着テーブル（図示省略）、および基板Ｗのθ位置を微調整する基板θ軸テーブル（図示省略）等から成るセットテーブル２１を移動自在に搭載して、構成されている。
【００３５】
そして、Ｘ軸スライダをＸ軸方向に移動すると、セットテーブル２１上にセットされた基板ＷがＸ軸方向に移動する。例えば、Ｘ軸テーブル１２により基板Ｗを往動させると、往動時振動処理エリア９４ａに設けられた振動処理ユニット５６を、機能液滴吐出ヘッド１７の相対移動に後行して基板Ｗに臨ませることができる。
【００３６】
Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２を跨ぐようにして、床上に立設した左右の支柱（図示省略）に支持されており、Ｙ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＹ軸スライダ（図示省略）を有し、Ｙ軸スライダにキャリッジ１４を介してヘッドユニット１５を移動自在に搭載して、構成されている。
【００３７】
キャリッジ１４は、ヘッドユニット１５を保持すると共に、これをθ補正するヘッドθ軸テーブル２６を有している。なお、本実施形態では、単一のキャリッジ１４（ヘッドユニット１５）を備えているが、その個数は任意である。
【００３８】
図３に示すように、ヘッドユニット１５は、４個の機能液滴吐出ヘッド１７と、これを位置決めして装着するヘッドプレート３１と、ヘッドプレート３１に突設した２個の基準ピン３２とから構成されており、ヘッドプレート３１を介してキャリッジ１４に搭載される。２個の基準ピン３２は、後述するヘッド認識カメラ６２により画像認識されるものであり、これにより、ヘッドユニット１５がキャリッジ１４に位置決め状態で搭載される。なお、同図の符号３３は、ヘッドθ軸テーブル２６によるヘッドユニット１５の回転中心である。
【００３９】
４個の機能液滴吐出ヘッド１７は、後述する２列のノズル列４２の列方向が相互に平行になるように装着されており、キャリッジ１４に搭載された状態では、各ノズル列４２がＹ軸方向と平行になるように配設されている。なお、機能液滴吐出ヘッド１７の個数や配置をこれに限られず、任意である。
【００４０】
図４に示すように、各機能液滴吐出ヘッド１７は、図示しない機能液パック等から機能液が供給され、インクジェット方式（例えば圧電素子駆動）で機能液を吐出するものであって、ノズル面４１に相互に平行に形成した２列のノズル列４２を有している。各ノズル列４２は、複数（例えば１８０個）のノズル４３が等ピッチ（例えば１４１・ｍ）で並べられて構成されている。そして、コントローラ６からヘッドドライバ（図示省略）を介して駆動波形を印加することにより、各ノズル４３から機能液滴が吐出される。
【００４１】
図２に示すように、メンテナンス装置３は、メンテナンスエリア９２において、吐出処理エリア９１から遠い側（図示右側）から順に、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル４３から機能液を吸引する吸引ユニット５１、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４１を払拭するワイピングユニット５２、機能液滴の飛行状態を観測する飛行観測ユニット５３等を備えている。
【００４２】
振動処理装置４は、往動時振動処理エリア９４ａおよび復動時振動処理エリア９４ｂにそれぞれ設けられた一対の振動処理ユニット５６で構成されている。各振動処理ユニット５６は、各振動処理エリア９４に臨んだ基板Ｗに対し、上方から雰囲気の疎密波を作用させるものである（詳細は後述する）。
【００４３】
各振動処理ユニット５６は、Ｙ軸方向に並ぶ複数のスピーカ５７から成り、セットテーブル２１をＹ軸方向に横断するように設けられている。すなわち、各振動処理ユニット５６は、セットテーブル２１に搭載可能な最大サイズの基板ＷのＹ軸方向の幅に対応させて構成されている。これによれば、基板ＷをＸ軸方向に１回移動（往動または復動）させるだけで、基板Ｗ上の全画素領域５０７ａにそれぞれ着弾した全機能液に対し、疎密波を作用させることができる。このため、振動処理のために基板Ｗを何回も移動させる必要がなく、処理時間を短縮することができる。
【００４４】
各スピーカ５７は、図示省略したが、永久磁石、ボイスコイル、振動板およびホーン等から成るダイナミックスピーカ（ホーン型）で構成されている。各スピーカ５７は、発生させる疎密波の周波数を可変に構成されている。このため、振動させる機能液の性質等に応じた所定の周波数の疎密波（例えば超音波）を発生させ、基板Ｗ上の機能液に作用させることができる。
【００４５】
なお、各スピーカ５７は、ダイナミックスピーカのほか、高分子フィルムにボイスコイルをプリントした振動板を用いた平面スピーカ、一対の固定電極を対向配置し且つこの固定電極間に振動体を配置したコンデンサスピーカ（静電型スピーカ）、および圧電素子を有する圧電振動板を用いた圧電スピーカ等であってもよい。
【００４６】
そして、一対の振動処理ユニット５６は、後述するコントローラ６により、それぞれ駆動制御されており、往動時振動処理エリア９４ａおよび復動時振動処理エリア９４ｂに交互に臨む基板Ｗに対し（詳細は後述する）、交互に駆動するようになっている。なお、各振動処理ユニット５６の複数のスピーカ５７を、個別に駆動制御する構成としてもよい。
【００４７】
画像認識装置５は、基板搬出入エリア９３の前後両側に臨むように配設され、基板Ｗの一対の基板アライメントマークＷｍをそれぞれ画像認識する２台の基板認識カメラ６１と、Ｘ軸テーブル１２のＸ軸スライダに連結され、ヘッドユニット１５の２つの基準ピン３２を画像認識するヘッド認識カメラ６２と、吐出処理エリア９１と往動時振動処理エリア９４ａとの間に配設され、基板Ｗ等に対する描画結果を画像認識する描画観測カメラ６３と、Ｙ軸テーブル１３と平行に延在し、描画観測カメラ６３をＹ軸方向に移動させるカメラ移動機構６４とを有している。
【００４８】
図５に示すように、コントローラ６は、液滴吐出装置１の各種処理を制御する制御部７１を備えている。制御部７１は、各種の制御を行うＣＰＵ７５、ＲＯＭ７６、ＲＡＭ７７およびインターフェース７８を備え、これらは互いにバス７９を介して接続されている。ＲＯＭ７６は、ＣＰＵ７５で処理する制御プログラムや制御データを記憶する領域を有している。ＲＡＭ７７は、制御処理のための各種作業領域として使用される。インターフェース７８には、ＣＰＵ７５の機能を補うと共に周辺回路とのインターフェース信号を取り扱うための論理回路が組み込まれている。
【００４９】
インターフェース７８には、上記のＸ軸テーブル１２、Ｙ軸テーブル１３、機能液滴吐出ヘッド１７、振動処理装置４およびメンテナンス装置３の各ユニットが、それぞれドライバ（図示省略）を介して接続されている。さらに、インターフェース７８には、検出部７２として、上記の基板認識カメラ６１等の各種カメラが接続されている。そして、ＣＰＵ７５は、ＲＯＭ７６内の制御プログラムに従って、インターフェース７８を介して各種検出信号、各種指令、各種データを入力し、ＲＡＭ７７内の各種データ等を制御し、インターフェース７８を介して各種の制御信号を出力する。
【００５０】
すなわち、ＣＰＵ７５は、基板Ｗがセットされると、基板認識カメラ６１の認識結果に基づいて、基板θ軸テーブルにおける角度補正および吐出パターンデータ（吐出タイミング）の補正を行う。また、ＣＰＵ７５は、機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンスに際し、メンテナンス装置３の各ユニットを制御する。さらに、詳細は後述するが、ＣＰＵ７５は、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出駆動を制御すると共に、Ｘ軸テーブル１２およびＹ軸テーブル１３の移動動作を制御して、基板Ｗ上に液滴吐出処理を行わせる一方、各振動処理ユニット５６を駆動制御すると共に、Ｘ軸テーブル１２の移動動作を制御し、基板Ｗに着弾した機能液に疎密波を作用させ、描画処理を行わせる。
【００５１】
ここで、液滴吐出装置１による基板Ｗへの一連の描画処理について詳細に説明する。はじめに、基板搬出入エリア９３に移動させたセットテーブル２１に基板Ｗをセットすると共に、機能液を吐出する前の準備として、基板アライメント動作を行う。
【００５２】
続いて、基板Ｗに対し、機能液滴吐出ヘッド１７を相対的に移動させながら機能液を吐出させる。すなわち、Ｘ軸テーブル１２により基板ＷをＸ軸方向に往復動させながら、吐出処理エリア９１に臨む基板Ｗに対して各機能液滴吐出ヘッド１７から機能液をそれぞれ吐出・着弾させる主走査と、Ｙ軸テーブル１３によりヘッドユニット１５をＹ軸方向に移動させる副走査とを繰り返し行って、基板Ｗの端から端まで描画処理を行う。
【００５３】
本実施形態では、各画素領域５０７ａに必要量の機能液を吐出・着弾させるべく、このような描画処理を複数回行っている。そして、各画素領域５０７ａに着弾した機能液がその全域に行き渡るように、第１回目の描画処理において、振動処理を行うようにしている。
【００５４】
すなわち、図６に示すように、第１回目の描画処理において、基板Ｗの往動時には、基板搬出入エリア９３（復動時振動処理エリア９４ｂ）から吐出処理エリア９１に臨んだ基板Ｗに対し、各機能液滴吐出ヘッド１７により、未描画の各画素領域５０７ａの隅部近傍（周縁部）に必要量の機能液の一部を吐出・着弾（隅部吐出処理）させる（同図（ａ）参照）。さらに、機能液滴吐出ヘッド１７の相対移動に後行して基板Ｗに臨む振動処理ユニット５６により、基板Ｗ上に雰囲気の疎密波を作用させる。すなわち、隅部吐出処理の後、基板Ｗを引き続き往動させ、往動時振動処理エリア９４ａに臨んだ基板Ｗに対し、同エリア９４ａに設けた振動処理ユニット５６を駆動させ、各画素領域５０７ａに着弾した機能液に対し疎密波を作用させる（同図（ｂ）参照）。
【００５５】
ヘッドユニット１５の副走査後、基板Ｗの復動時には、同様に、往動時振動処理エリア９４ａから吐出処理エリア９１に臨んだ基板Ｗに対し、各機能液滴吐出ヘッド１７により、未描画の各画素領域５０７ａの隅部近傍に必要量の機能液の一部を吐出・着弾させる（同図（ａ）参照）。さらに、基板Ｗを引き続き復動させ、復動時振動処理エリア９４ｂに臨んだ基板Ｗに対し、同エリア９４ｂに設けた振動処理ユニット５６を駆動して、各画素領域５０７ａに着弾した機能液に対し疎密波を作用させる（同図（ｂ）参照）。
【００５６】
これによれば、各画素領域５０７ａの隅部近傍に着弾した機能液に疎密波を作用させ、その液面を振動させることで、機能液の流動性が高まり、濡れ拡がりにくい各画素領域５０７ａの隅部にまで機能液を濡れ拡がせることができる。このため、各画素領域５０７ａの全域に機能液を確実に行き渡らせることができる（同図（ｃ）参照）。また、機能液を濡れ拡がせることにより、各画素領域５０７ａの隅部に機能液を行き渡らせることができるため、各画素領域５０７ａの隅部を狙って機能液を吐出・着弾させる必要がない。したがって、吐出した機能液滴が各画素領域５０７ａから外れて周囲の区画壁部５０７ｂに着弾する危険性を低減することができる。
【００５７】
なお、振動処理エリア９４は、吐出処理エリア９１に対しＸ軸方向の手前側および奥側のいずれかのみに設けてもよい。もっとも、本実施形態では、手前側および奥側の双方に振動処理エリア９４（往動時振動処理エリア９４ａおよび復動時振動処理エリア９４ｂ）を設けたことで、基板Ｗの往動に伴った液滴吐出処理の後、基板Ｗを往動させたまま振動処理を行うことができると共に、基板Ｗの複動に伴った液滴吐出処理の後、基板Ｗを復動させたまま振動処理を行うことができる。このため、基板Ｗの往動に同期して液滴吐出処理を行った場合、および基板Ｗの復動に同期して液滴吐出処理を行った場合のいずれも、振動処理のために基板Ｗを反対方向に移動させる必要がなく、処理時間を短縮することができる。
【００５８】
このようにして第１回目の描画処理が終了すると、第２回目以降の描画処理では、各画素領域５０７ａに中央部に機能液を吐出・着弾（中央部吐出処理）させ、必要量の機能液の残りを満たすようにする（同図（ｄ）参照）。もちろん、各画素領域５０７ａの中央部に加えて、隅部近傍に機能液を吐出・着弾させてもよい。
【００５９】
また、第２回目以降の描画処理においても、液滴吐出処理（中央部吐出処理）の後、振動処理を行うようにしてもよい。もっとも、第１回目の描画処理により、機能液が各画素領域５０７ａの隅部に濡れ拡がっているため、以降の中央部吐出処理により着弾した機能液滴は、疎密波が作用されずとも、各画素領域５０７ａの全域に濡れ拡がるものとなる。したがって、振動処理は、第１回目の描画処理時（隅部吐出処理の後）のみに行えばよく、第２回目以降の描画処理時（中央部吐出処理の後）には行わずに、各振動処理ユニット５６をＯＦＦにしておいてもよい。
【００６０】
さらに、第１回目の描画処理時に代えて、他の回の描画処理時にのみ振動処理を行って、機能液を濡れ拡がせるようにしてもよい。もっとも、本実施形態のように、第１回目の描画処理時に振動処理を行うことで、各機能液が小さい段階でこれに疎密波を作用させることになるため、各機能液の液面を効率良く振動させることができ、的確に濡れ拡がせることができる。なお、第１回目の描画処理でなくとも、各画素領域５０７ａの隅部に着弾した機能液滴が、それ以前の液滴吐出処理による機能液と合わさって大きな機能液となっていない限り、同様の効果を得ることができる。
【００６１】
以上のように、本実施形態の液滴吐出装置１によれば、振動処理ユニット５６により、上方から雰囲気の疎密波を機能液に作用させるという簡易な構成により、機能液を各画素領域５０７ａの全域に行き渡らせることができる。
【００６２】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【００６３】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図７は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図８は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図８（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００６４】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図８（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図８（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１７により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００６５】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【００６６】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図８（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００６７】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図８（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００６８】
図９は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図８に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００６９】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００７０】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図９において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００７１】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００７２】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００７３】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。
【００７４】
図１０は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００７５】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【００７６】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００７７】
図１１は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００７８】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【００７９】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００８０】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００８１】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００８２】
次に、図１２は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【００８３】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００８４】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【００８５】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【００８６】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【００８７】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【００８８】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【００８９】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【００９０】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００９１】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【００９２】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【００９３】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【００９４】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１３〜図２１を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１３に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【００９５】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１４に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１５に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【００９６】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【００９７】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図２に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【００９８】
図１６に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１７から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図１７に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【００９９】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１００】
そして次に、図１８に示すように、各色のうちのいずれか（図１８の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１０１】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図１９に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１０２】
同様に、機能液滴吐出ヘッド１７を用い、図２０に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１０３】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１０４】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２１に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１０５】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１０６】
次に、図２２は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１０７】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１０８】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１０９】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１１０】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１７により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１１１】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１１２】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１７から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１１３】
次に、図２３は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１１４】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１１５】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１１６】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１１７】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１１８】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２４（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２４（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１１９】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２０】
【図１】本発明の一実施形態に係る液滴吐出装置の描画対象となる基板の平面模式図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る液滴吐出装置の平面模式図である。
【図３】液滴吐出装置に搭載したヘッドユニットの平面模式図である。
【図４】機能液滴吐出ヘッドをノズル面側から見た模式図である。
【図５】液滴吐出装置の制御系について説明したブロック図である。
【図６】液滴吐出装置による描画処理を説明する概念図であって、（ａ）は隅部吐出処理を示す図、（ｂ）は振動処理を示す図、（ｃ）は機能液が濡れ拡がった状態を示す図、（ｄ）は中央部吐出処理を示す図である。
【図７】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図８】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図９】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１０】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１１】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１２】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１３】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１４】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１５】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１６】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１７】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１８】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１９】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２０】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２１】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２２】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２３】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２４】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１２１】
１…液滴吐出装置  ２…描画装置  ４…振動処理装置  ６…コントローラ  １７…機能液滴吐出ヘッド  ５６…振動処理ユニット  ５７…スピーカ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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