(57)【要約】【課題】周辺部における対向基板のたわみを抑制することによって、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】アレイ基板１２と対向基板１４との間に挟持された液晶層ＬＱを備え、マトリクス状に配置された複数の表示画素ＰＸからなる表示部１０Ａと表示部１０Ａの周囲の周辺部１０Ｂとを有する液晶表示装置であって、アレイ基板１２および対向基板１４の間に所定のギャップを形成するとともに、周辺部１０Ｂにおいて表示部１０Ａよりもその配置された密度が大きくなるように配置された複数のスペーサＳＳを備えた液晶表示装置。【選択図】    図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板との間に挟持された液晶層を備え、マトリクス状に配置された複数の表示画素からなる表示部と前記表示部の周囲の周辺部とを有する液晶表示装置であって、
前記第１基板および前記第２基板の間に所定のギャップを形成するとともに、前記周辺部において前記表示部よりもその配置された密度が大きくなるように配置された複数のスペーサを備えた液晶表示装置。
【請求項２】
前記複数のスペーサが前記周辺部に配置されるピッチは、前記表示部に配置されるピッチよりも小さい請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記複数のスペーサが前記周辺部に配置されるピッチは、前記周辺部の前記表示部の近くに配置されるピッチの方が前記表示部から離れた位置に配置されるピッチよりも大きい請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記複数のスペーサは前記第１基板に設けられているとともに、柱状であって、
前記周辺部に配置されたスペーサは、前記表示部に配置されたスペーサよりも前記第２基板に接する面積が大きい請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記周辺部において、前記表示部から離れた位置に配置されたスペーサの方が前記表示部近傍に配置されたスペーサよりも前記第２基板に接する面積が大きい請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１基板は着色層と前記着色層の下に配置された金属層を有し、
前記金属層は切欠きを有し、
前記複数のスペーサは、前記切欠きと重なる位置に配置されている請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第１基板は着色層と前記着色層の下に配置された金属層を有し、
前記金属層には前記表示部において切欠きが設けられ、
前記表示部に配置されたスペーサは前記切欠きと重なる位置に配置され、前記周辺部に配置されたスペーサは前記金属層と重なる位置に配置されている請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１基板は、前記着色層の下に配置された複数の配線を有し、
前記複数の配線が重なる位置において前記複数の配線の少なくとも１つに前記切欠きが設けられている請求項１記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示装置に関し、特に、アクティブマトリクス型の液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置は画像が表示される表示部を備えた液晶表示パネルと、液晶表示パネルを照明するバックライトを有している。液晶表示パネルは、互いに対向するアレイ基板と対向基板とを備えている。アレイ基板と対向基板との間には所定のギャップを形成するように複数のスペーサが配置されている。アレイ基板と対向基板との間には液晶層が挟持されている。また、液晶表示装置は、マトリクス状に配置された表示画素からなる表示部と表示部を囲む周辺部とを備えている。
【０００３】
表示部には、赤、緑、青の着色層（以下それぞれを赤色層、緑色層、青色層とする）が各表示画素に対応して配列されている。周辺部には、各種配線や内蔵回路等のパターン間を透過するバックライト光の遮光、および、パネル外光による反射光の抑制のための遮光層が配置されている。
【０００４】
従来、上記の液晶表示パネルにおいて、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせた際に、表示部における両基板間のギャップと周辺部における両基板間のギャップとが異なることによって、表示部と周辺部との境界近傍に表示不良が発生することがあった。
【０００５】
この問題に対し、表示部に配置されたスペーサと周辺部に配置されたスペーサおよび遮光層の高さの和とを等しくして、表示部と周辺部との境界近傍の表示不良の発生を抑制する表示装置が提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００５−２６６０１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記の表示装置のように表示部に配置されたスペーサと、周辺部に配置されたスペーサおよび遮光層の高さの和とを等しくしても、周辺部では対向基板の自重によって対向基板がたわみ、境界近傍において所望のギャップを形成できず表示不良が発生することがあった。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の態様による液晶表示装置は、第１基板と第２基板との間に挟持された液晶層を備え、マトリクス状に配置された複数の表示画素からなる表示部と前記表示部の周囲の周辺部とを有する液晶表示装置であって、前記第１基板および前記第２基板の間に所定のギャップを形成するとともに、前記周辺部において前記表示部よりもその配置された密度が大きくなるように配置された複数のスペーサを備える。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によれば、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置及びその製造方法について図面を参照して説明する。本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置は、図１に示すように、略矩形平板状の液晶表示パネル１０を備えている。液晶表示パネル１０は、互いに対向する一対の基板、すなわちアレイ基板１２および対向基板１４を有している。アレイ基板１２と対向基板１４との間には液晶層ＬＱが挟持されている。
【００１１】
液晶表示パネル１０は、マトリクス状に配置された複数の表示画素ＰＸからなる表示部１０Ａと、表示部１０Ａの周囲の周辺部１０Ｂとを有している。
【００１２】
表示部１０Ａには、複数の表示画素ＰＸが配置された行に沿って複数の走査線ＳＬが配置され、複数の表示画素ＰＸが配置された列に沿って複数の信号線ＤＬが配置されている。複数の走査線ＳＬは、周辺部１０Ｂに配置された走査線駆動回路ＣＳＬに接続されている。複数の信号線ＤＬは、周辺部１０Ｂに配置された信号線駆動回路ＣＤＬに接続されている。
【００１３】
図１及び図２に示すように、各表示画素ＰＸは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）からなる画素スイッチＳＷを有している。画素スイッチＳＷのゲート電極は、対応する走査線ＳＬに接続されている（あるいは一体に形成されている）。画素スイッチＳＷのソース電極は、対応する信号線ＤＬに接続されている（あるいは一体に形成されている）。画素スイッチＳＷのドレイン電極は、各表示画素ＰＸに配置された画素電極ＰＥにコンタクトホールＣＨによって接続されている。
【００１４】
走査線ＳＬは走査線駆動回路ＣＳＬによって順次選択され、選択された走査線ＳＬに接続された画素スイッチＳＷを介して、信号線駆動回路ＣＤＬから出力された画像データが画素電極ＰＥに印加される。
【００１５】
図３および図４に示すように、表示部１０Ａにおいて、画素スイッチＳＷ等の上には各表示画素ＰＸにそれぞれ対応する着色層ＣＦ、すなわち、赤色層Ｒ、緑色層Ｇ、青色層Ｂのいずれかが配置されている。
【００１６】
赤色層Ｒ、緑色層Ｇ、および青色層Ｂの膜厚は、液晶表示装置が表現できる色再現範囲とパネル透過率（パネル輝度）とに大きく関わるため、各製品の仕様を満足するようにその膜厚が設計される。本実施形態の液晶表示装置では、赤色層Ｒ、緑色層Ｇ、および青色層Ｂの膜厚は約３μｍである。着色層ＣＦ上には、信号線ＤＬと補助容量線Ｃｓとが重なる位置に対応してスペーサＳＳが配置され、アレイ基板１２と対向基板１４との間に所定のギャップを形成している。
【００１７】
一方、図２に示すように、周辺部１０Ｂには表示部から延びる補助容量線Ｃｓおよび補助容量線Ｃｓに対して略平行に延びるダミー補助容量線ＤＣｓが配置さている。補助容量線Ｃｓおよびダミー補助容量線ＤＣｓ上には、表示部１０Ａから延びる信号線ＤＬおよび信号線ＤＬに対して略平行に延びるダミー信号線ＤＤＬが絶縁層を介して配置されている。周辺部１０Ｂには、図３及び図４に示すように黒色の着色層Ｋおよびダミー着色層ＤＧが配置されている。
【００１８】
着色層Ｋは、液晶表示パネル１０の背面側に配置されたバックライト（図示せず）から入射した光の遮光、および、外光の反射を抑制する。本実施形態では、着色層Ｋの膜厚は４〜５μｍ程である。
【００１９】
ダミー着色層ＤＧは、周辺部１０Ｂの表示部１０Ａ近傍に配置されている。ダミー着色層ＤＧ上には、表示部１０Ａに配置されたものと同様のスペーサＳＳが配置されている。スペーサＳＳは、表示部１０Ａから延びる信号線ＤＬ（またはダミー信号線ＤＤＬ）と表示部１０Ａから延びる補助容量線Ｃｓ（またはダミー補助容量線ＤＣｓ）とが重なる位置に対応して、表示部１０Ａ内と同様のスペーサＳＳが配置されている。このとき周辺部１０ＢのスペーサＳＳは、表示部１０Ａ内よりも高い密度で配置される。
【００２０】
すなわち、図２乃至図４に示すように、単位面積あたりに配置されたスペーサＳＳの数が表示部１０Ａ内よりも周辺部１０Ｂで多くなるようにスペーサＳＳを配置する。従って、スペーサＳＳが周辺部１０Ｂに配置されるピッチは、表示部１０Ａに配置されるピッチよりも小さくなる。本実施形態では、表示部１０ＡにスペーサＳＳが配置されているピッチは500μｍであって、周辺部１０ＢにスペーサＳＳが配置されているピッチは410μｍである。
【００２１】
上記の液晶表示装置の製造方法について説明する。まず、複数のアレイ基板となる第1マザー基板を製造する。すなわち、第1ガラス基板上に酸化珪素（ＳｉＯｘ）および窒化珪素（ＳｉＮｘ）からなるアンダーコート層（図示せず）およびアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）層を順に堆積する。
【００２２】
その後に、ａ−Ｓｉ層をエキシマレーザアニール処理（ＥＬＡ：Excimer Laser Anneal crystallization）により多結晶化させ、ポリシリコン膜を形成する。その後、このポリシリコン膜をパターニングすることにより画素スイッチＳＷの半導体層や走査線駆動回路ＣＳＬ等の内蔵回路に必要となる部分を形成する。
【００２３】
続いて、薄膜トランジスタのゲート絶縁膜（図示せず）として窒化珪素（ＳｉＮｘ）あるいは酸化珪素（ＳｉＯｘ）を成膜する。その後、例えばモリブデンおよびタングステンの合金からなる金属層を形成し、その金属層をパターニングする。その結果、走査線ＳＬ、補助容量線Ｃｓ、ダミー補助容量線ＤＣｓ、および、その他信号バス配線（図示せず）等が形成される。
【００２４】
さらに、窒化珪素（ＳｉＮｘ）や酸化珪素（ＳｉＯｘ）からなる層間絶縁膜Ｌ１を形成し、その上に例えばモリブデン、アルミニウム、モリブデンの積層体からなる金属層を形成しパターンニングする。これにより、信号線ＤＬ、画素スイッチＳＷのソース電極、ドレイン電極、およびダミー信号線ＤＤＬ等が形成される。
【００２５】
その後、各表示画素ＰＸの表示色となる赤色層Ｒ、緑色層Ｇ、青色層Ｂの各層を成膜およびパターンニングして着色層ＣＦを形成する。このとき、周辺部１０Ｂの表示部１０Ａ近傍のダミー補助容量線ＤＣｓ上、および、ダミー信号線ＤＤＬ上にも着色層、例えば緑色層Ｇと同一材料からなるダミー着色層ＤＧを形成する。また、着色層ＣＦを形成する際、画素スイッチＳＷのドレイン電極まで貫通するコンタクトホール（ＣＨ）を同時に形成する。
【００２６】
その後、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電層の堆積およびパターニングを行うことによってコンタクトホールＣＨを介して画素スイッチＳＷにコンタクトした画素電極ＰＥを形成する。さらには、遮光層である着色層Ｋを周辺部１０Ｂに形成する。
【００２７】
その後、有機絶縁膜を成膜およびパターンニングすることにより、表示部１０Ａ内において、信号線ＤＬと補助容量線Ｃｓとの交差部にスペーサＳＳを形成するとともに、周辺部１０Ｂにおいて、ダミー信号線ＤＤＬ（または信号線ＤＤＬ）とダミー補助容量線ＤＣｓ（または補助容量線ＤＣｓ）との交差部にスペーサＳＳを形成する。
【００２８】
このとき、周辺部１０Ｂでは表示部１０ＡよりもスペーサＳＳが配置される密度が大きくなるようにスペーサＳＳが形成される。特に、図２乃至図４に示した第１実施形態では、周辺部１０Ｂに配置するスペーサＳＳの形状およびサイズは表示部１０Ａ内のスペーサＳＳと同一であるが、配置するピッチを表示部１０Ａ内よりも小さくする。このような工程により、第１マザー基板が形成される。
【００２９】
次に、複数の対向基板１４となる第２マザー基板（図示せず）を形成する。すなわち、第２ガラス基板にＩＴＯなどの透明導電層を堆積し対向電極ＣＥを形成し第２マザー基板を形成する。第１マザー基板と第２マザー基板とのそれぞれにポリイミド（ＰＩ）膜などからなる配向膜（図示せず）を塗布してラビング処理を行う。さらに、これらの少なくとも一方のマザー基板にシール材を描画して一対の基板を貼り合わせた後に、割断および液晶注入をして液晶表示パネル１０が完成する。なお、その後の偏光板の貼り付け等を行うが、以降の工程についての説明はここでは省略する。
【００３０】
上記のように、本実施形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネル１０では、表示部１０Ａ近傍の周辺部１０Ｂに表示部１０Ａ内よりも大きい密度でスペーサＳＳを配置する。すなわち、スペーサＳＳが周辺部１０Ｂに配置されるピッチは、表示部１０Ａに配置されるピッチよりも小さくなっている。このことによって、図４に示したように周辺部１０Ｂにおける支持強度を増すことが可能となり、周辺部１０Ｂにおける対向基板１４のたわみを抑制することができる。
【００３１】
さらに、上記の実施形態では、着色層ＣＦがアレイ基板１２側に配置されていることから、対向基板１４側に着色層ＣＦを配置する表示装置よりも対向基板１４の自重を着色層ＣＦの分だけ軽くすることができ、対向基板１４のたわみを効果的に抑制することができる。
【００３２】
したがって、本実施形態に係る液晶表示装置によれば、表示部１０Ａ内と周辺部１０Ｂとの境界近傍で液晶層ＬＱのギャップムラを改善することが可能となり、表示部１０Ａ内の周辺部１０Ｂとの境界近傍での表示不良を抑制することができる。
【００３３】
ここで、スペーサＳＳは、前述したように信号線ＤＬ（またはダミー信号線ＤＤＬ）と補助容量線ＤＣｓ（またはダミー補助容量線ＤＣｓ）との交差部上に配置されている。上述したような構成の場合、スペーサＳＳの下には２層の金属層（すなわち信号線ＤＬなどの金属層および補助容量線Ｃｓなどの金属層）と、３層の絶縁膜（すなわち、アンダーコート層、ゲート絶縁膜、層間絶縁膜Ｌ１）と、さらに着色層ＣＦとがある。
【００３４】
これらの各層において、アレイ基板１２面内での膜厚差が生じる。例えば、スペーサＳＳの下に配置された２層の金属層と３層の絶縁膜との各層に約１０％の膜圧差が生じた場合、最大約０．５μｍの膜圧差が生じることになる。このため、液晶層ＬＱにおいて、最大約０．５μｍだけのギャップ差を生じるおそれがある。
【００３５】
このとき、図５および図６に示すように、補助容量線Ｃｓおよびダミー補助容量線ＤＣｓに切欠きＮＴを形成し、この切欠きＮＴと重なる位置にスペーサＳＳを配置することが望ましい。このことによって、スペーサＳＳの下に配置される層数が減るため、図２に示す場合よりもさらにギャップ均一性を高めることができる。
【００３６】
なお、切欠きＮＴを信号線ＤＬおよびダミー信号線ＤＤＬに形成した場合でも、上記と同様にギャップ均一性を高めることができる。さらには、補助容量線Ｃｓと信号線ＤＬとの交差部にそれぞれの切欠きＮＴを形成し、これらの切欠きＮＴと重なる位置にスペーサＳＳを配置することが望ましい。そうすることによって、さらにスペーサＳＳの下に配置される層数が減るためより効果的にギャップ均一性を高めることができる。
【００３７】
また、周辺部１０Ｂでは対向基板１４の自重によって、スペーサＳＳの変形量が表示部１０Ａよりも大きくなることがある。このことから、図７および図８に示すように、表示部１０Ａでは補助容量線Ｃｓあるいは信号線ＤＬに形成した切欠きＮＴと重なる位置にスペーサＳＳを配置し、周辺部１０Ｂではダミー信号線ＤＤＬとダミー補助容量線ＤＣｓとの交差部に配置する。
【００３８】
つまり、スペーサＳＳ自体の高さは同一であったとしても、スペーサＳＳの下に配置される層数が表示部１０Ａより周辺部１０Ｂで多くなるように形成することによって、ガラス基板表面からスペーサＳＳの先端までの高さ（スペーサＳＳ自体の高さとその下に配置される各層の膜厚との和）が表示部１０Ａよりも周辺部１０Ｂの方が高くなる。
【００３９】
上記のように表示部１０Ａと周辺部１０ＢとにスペーサＳＳを配置すると、周辺部１０Ｂに配置されたスペーサＳＳの変形量が大きくなる場合であってもアレイ基板１２と対向基板１４との間のギャップ均一性を高めることができる。
【００４０】
次に本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置について説明する。図９および図１０に示すように、表示部１０Ａ近傍の周辺部１０Ｂにダミー着色層ＤＧを配置して、その上にスペーサＳＳを配置することは前述の第1実施形態と同様である。以下の説明では、第１実施形態と同じ構成には同じ符号を付して説明を省略する。
【００４１】
本実施形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネル１０も、表示部１０Ａ近傍の周辺部１０Ｂに表示部１０Ａ内よりも大きい密度でスペーサＳＳを配置する。本実施形態では、周辺部１０Ｂでは、スペーサＳＳは表示部１０Ａ内と同一のピッチで配置される。ここで、周辺部１０Ｂに配置されるスペーサＳＳは、表示部１０Ａに配置されるスペーサＳＳより太くなっている。すなわち、単位面積あたりにおいてスペーサＳＳが対向基板１４と接する面積は、表示部１０Ａよりも周辺部１０Ｂの方が大きい。
【００４２】
本実施形態の場合、表示部１０Ａに配置されているスペーサＳＳの径は16.5μｍであって、周辺部１０Ｂに配置されているスペーサＳＳの径は19.0μｍである。
【００４３】
上記ように、周辺部１０Ｂに配置したスペーサＳＳを、表示部１０Ａに配置したスペーサＳＳよりも太くすることによって、単位面積に占めるスペーサＳＳの密度が表示部１０Ａ内よりも周辺部１０Ｂで大きくなる。このことから、周辺部１０Ｂにおける支持強度が増し対向基板１４の自重によるたわみを抑制することができる。
【００４４】
したがって、本実施形態に係る液晶表示装置によれば、表示部１０Ａと周辺部１０Ｂの境界近傍において均一なセルギャップを保つことができ、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することができる。
【００４５】
次に第３実施形態に係る液晶表示装置ついて説明する。図１１及び図１２に示すように、表示部１０Ａ近傍の周辺部１０Ｂにダミー着色層ＤＧを配置して、その上にスペーサＳＳを配置する。このことは前述の第1及び第２実施形態と同様である。以下の説明では、第１実施形態と同様の構成については同じ符号を付して説明を省略する。
【００４６】
本実施形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネル１０でも第１実施形態に係る液晶表示装置と同様に、表示部１０Ａ近傍の周辺部１０Ｂに表示部１０Ａ内よりも大きい密度でスペーサＳＳを配置する。図１１および図１２に示すように、本実施形態では周辺部１０Ｂにおいて表示部１０Ａから離れた位置に配置されたスペーサＳＳの方が、表示部１０Ａ近傍に配置されたスペーサＳＳよりも、対向基板１４に接する面積が大きい。すなわち、周辺部１０Ｂに配置されるスペーサＳＳの配置位置が表示部１０Ａより離れるに従って太くなっている。
【００４７】
本実施形態では、周辺部１０Ｂの表示部１０Ａ近傍に配置されたスペーサＳＳの径は16.5μｍであって、周辺部１０Ｂの表示部から離れた位置に配置されたスペーサＳＳの径は20.0μｍである。
【００４８】
各スペーサＳＳが支えなければならない対向基板１４の自重は、液晶表示パネル１０の端に近いほど大きくなるが、上述の様に、表示部１０Ａから離れるにつれてスペーサＳＳが対向基板１４に接する面積を大きくすることで、周辺部１０Ｂにおける支持強度が増し、対向基板１４のたわみをより効果的に抑制することができる。
【００４９】
さらに、上述の様に表示部１０Ａから離れるに従ってスペーサＳＳを太くする事によって、周辺部１０Ｂに配置されたスペーサＳＳによってより効果的に対向基板１４を支えることができるため、ダミー着色層ＤＧが配置される範囲を小さくすることができる。
【００５０】
ダミー着色層ＤＧは金属配線上に形成されているためバックライト光を透過させることはないが、例えば緑色層Ｇと同一の層から形成した場合には、液晶表示パネル１０に入射する外光を反射して、液晶表示パネル１０の周辺部１０Ｂ近郊の表示部１０Ａを緑がかったように見せてしまうことがある。従って、上記の様にダミー着色層ＤＧを配置する範囲を小さくすることによって、より表示品位の良い液晶表示装置を提供することができる。
【００５１】
すなわち、本実施形態によれば、前述の第１および第２実施形態の場合と同様に、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することができる。
【００５２】
次に第４実施形態に係る液晶表示装置について説明する。図１３及び図１４に示すように、表示部１０Ａ近傍の周辺部１０Ｂにダミー着色層ＤＧを配置して、その上にスペーサＳＳを配置する。このことは前述の第1乃至第３実施形態と同様である。以下の説明では、第１実施形態と同様の構成については同じ符号を付して説明を省略する。
【００５３】
本実施形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネル１０でも第１実施形態に係る液晶表示装置と同様に、表示部１０Ａ近傍の周辺部１０Ｂに表示部１０Ａ内よりも大きい密度でスペーサＳＳを配置する。図１３および図１４に示したように、周辺部１０Ｂに配置されたスペーサＳＳのサイズは表示部１０Ａ内と同一である。本実施形態では、周辺部１０Ｂにおいて、スペーサＳＳは表示部１０Ａから離れるに従ってその密度が大きくなるように配置される。すなわち、周辺部１０Ｂの単位面積あたりに配置されるスペーサＳＳの数は、表示部１０Ａの単位面積あたりに配置されるスペーサＳＳの数よりも多い。
【００５４】
本実施形態では、表示部１０Ａに配置されたスペーサＳＳの数密度は1個/dotであって、周辺部１０Ｂに配置されたスペーサＳＳの数密度は1.5個/dotである。尚、１dotとは、赤の画素、緑の画素、青の画素、それぞれ1つずつの3画素をまとめて1dotという。
【００５５】
本実施形態の場合も、第１実施形態と同様の効果を得ることができるとともに、上述の第３実施形態と同様にダミー着色層ＤＧが配置される範囲を小さくにすることによって表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。
【００５６】
すなわち、本発明によれば、周辺部１０Ｂにおける支持強度を増し、対向基板１４のたわみを抑制することによって、表示品位の良好な液晶表示装置を提供することができる。
【００５７】
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。
【００５８】
例えば、上記の本実施形態では低温ポリシリコン技術を用いた液晶表示装置に関して説明したが、本発明はアモルファスシリコン技術による液晶表示装置でも実施可能であり、アルファモスシリコン技術による液晶表示装置に適用しても上記の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００５９】
さらに、ダミー着色層ＤＧを緑色層Ｇと同一層からなる層としているが、赤色層Ｒ、青色層Ｂと同一の層から形成しても同様の効果が得られる。
【００６０】
また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】この発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルを概略的に示す図。
【図２】図１に示す液晶表示パネルのアレイ基板の着色層を除いた一構造例を説明するための平面図。
【図３】図１に示す液晶表示パネルの一例を概略的に示す平面図。
【図４】図３に示す液晶表示パネルを線Ａ−Ａで切断した断面の一例を概略的に示す断面図。
【図５】図１に示す液晶表示パネルのアレイ基板の着色層を除いた他の構造例を説明するための平面図。
【図６】図５に示す液晶表示パネルを図３に示す線Ａ−Ａの位置で切断した断面の一例を概略的に示す断面図。
【図７】図１に示す液晶表示パネルのアレイ基板の着色層を除いた他の構造例を説明するための平面図。
【図８】自７に示す液晶表示パネルを図３に示す線Ａ−Ａの位置で切断した断面の一例を概略的に示す断面図。
【図９】この発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの一例を概略的に示す平面図。
【図１０】図７に示す液晶表示パネルを線Ｂ−Ｂで切断した一例を概略的に示す断面図。
【図１１】この発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの一例を概略的に示す平面図。
【図１２】図９に示す液晶表示パネルを線Ｃ−Ｃで切断した断面の一例を概略的に示す断面図。
【図１３】この発明の第３実施形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの１例を概略的に示す平面図。
【図１４】図１１に示す液晶表示パネルを線Ｄ−Ｄで切断した断面の一例を概略的に示す断面図。
【符号の説明】
【００６２】
ＬＱ…液晶層、ＰＸ…表示画素、ＣＦ…着色層、ＳＳ…スペーサ、１０Ａ…表示部、１０Ｂ…周辺部、１２…アレイ基板、１４…対向基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2007206280.tif 000009
【図８】
2007206280.tif 000010
【図９】
2007206280.tif 000011
【図１０】
2007206280.tif 000012
【図１１】
2007206280.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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