(57)【要約】【課題】本発明は、耐湿熱性を向上した、すなわち高温高湿環境下においても金属の凝集などによる劣化のない、高透明性、反射防止性、さらには帯電防止機能に優れ、防汚機能を有するディスプレイ用反射防止フィルムとその製造方法、およびその反射防止フィルムを前面に備えたディスプレイを提供することを目的とする。【解決手段】少なくともトリアセチルセルロースフィルム基材上に、ハードコート層、金属薄膜層及び金属酸化物層を積層してなる導電性多層膜を有する積層体であって、前記トリアセチルセルロースフィルム基材のハードコート層を設ける側の反対側の面のみがケン化処理されていることを特徴とする反射防止フィルムとその製造方法、およびその反射防止フィルムを備えたディスプレイである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともトリアセチルセルロースフィルム基材上に、ハードコート層、金属薄膜層及び金属酸化物層を積層してなる導電性多層膜を有する積層体であって、
前記トリアセチルセルロースフィルム基材のハードコート層を設ける側の反対側の面のみがケン化処理されていることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記導電性多層膜が、高屈折率金属酸化物層／金属薄膜層を１〜５回の範囲内で繰り返し積層し、最外層に高屈折率金属酸化物層を設けてなることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記金属薄膜層が銀または銀を含む合金であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記導電性多層膜上に、低屈折率層を設けてなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
最外層に防汚層を設けてなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
少なくともトリアセチルセルロースフィルム基材上にハードコート層を設ける工程、該トリアセチルセルロースフィルム基材のハードコート層を設ける側の反対側の面のみをケン化処理する工程、該ハードコート層上に金属薄膜層及び金属酸化物層を積層してなる導電性多層膜を積層する工程、を有することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記導電性多層膜が、高屈折率金属酸化物層／金属薄膜層を１〜５回の範囲内で繰り返し積層し、最外層に高屈折率金属酸化物層を設けてなることを特徴とする請求項６記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記金属薄膜層が銀または銀を含む合金であることを特徴とする請求項６または７に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記導電性多層膜上に、低屈折率層を設ける工程を有することを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１０】
最外層に防汚層を設ける工程を有することを特徴とする請求項６〜９のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムをディスプレイの前面に設けたことを特徴とするディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムに関し、さらに詳細には、耐湿熱性の向上、すなわち高温高湿環境下においても金属の凝集などによる劣化のない、高透明性、反射防止性、さらには帯電防止機能に優れ、防汚機能を有する反射防止フィルムとその製造方法、およびその反射防止フィルムを前面に備えたディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
多くのディスプレイは、室内外を問わず外交などが入射するような環境下で使用される。この外光などの入射光は、ディスプレイ表面等において反射され、反射像が表示光と混合し表示画像を見にくくしている。特に、オフィスのＯＡ化に伴い、コンピュータを使用する頻度が増し、ディスプレイと相対していることが長時間化した。これにより反射像等による表示品質の低下は、目の疲労などを引き起こす要因とも考えられる。
【０００３】
携帯電話やカーナビゲーションシステムの普及により、室外でディスプレイを使用する機会が増える傾向にあり、また、液晶ディスプレイの省電力化に伴い、ディスプレイ表面の反射光を低減し、表示画像を明確することが要求されてきている。
【０００４】
これらの要求を満たす為に、ディスプレイの表面に、反射防止の光学理論に基づいて、金属酸化物などからなる高屈折率層と低屈折率層を積層させたフィルム、あるいは無機または有機フッ素化合物などの低屈折率層を積層させたフィルムを貼りつけて可視光の反射防止を行ってきた。
【０００５】
これらの反射防止部材は、第一に可視光の反射率低減、第二に表示品質を向上させるためにディスプレイの色味を大きく変化させることは望ましくないため着色が少ないこと、第三にディスプレイの最前面に設置されるので、汚れ付着防止（防汚性）があること、第四に加工工程上及び使用中の帯電による塵付着防止の観点から、導電性があることが求められている。
【０００６】
前述の有機フッ素化合物などの低屈折率層のみを積層させた反射防止部材は層数が少ないため、低コストで、且つ、フッ素成分により汚れが付着しにくい反射防止部材ができるが、低屈折率のフィルム基材では十分な反射防止性能を持たせることが難しい。また、低屈折率層に導電性を付与させる為に、導電微粒子や４級アミン等を加えることにより達成できるが、低屈折率層の屈折率が上昇し、また、機械強度の低下につながり、実質的に反射防止と導電性を同時に付与することは難しい。
【０００７】
単層よりも反射率を低減させ、且つ、最もコストの低い反射防止膜は２層である。この場合、最表面層の低屈折率層として光学的に理想的な無機化合物は、フッ化マグネシウムに代表されるフッ素化合物が挙げられる。しかしながら、フッ素化合物をもちいると反射防止部材の密着性等の機械強度が十分でないためにほとんど用いられていない。強度を持たせる為に、フッ素化合物の代わりに酸化ケイ素が用いると機械強度は満足するもものの、屈折率がフッ素化合物よりも高い為に色味が青くなり、ディスプレイの表示品質を低下させる。加えて、ディスプレイの最表面に用いる場合には最表面に汚れ防止等を目的とした防汚層が必要となる。
【０００８】
これまで、ディスプレイ等に使用される、単層よりも反射率の低い機械強度の必要な反射防止部材は、３層以上の構成により作製されてきた。この場合、金属酸化物からなる高
屈折率層と低屈折率層を３層以上積層させ、最表面に汚れ防止等の目的とした防汚層設置させるが、層数が多いためにコスト上昇を招いていた。また、積層体上にさらに反射防止層を形成するため積層体自身の反射光の問題やコスト面で問題がある。（例えば、特許文献１、２など参照）
従来、ディスプレイの前面板などに用いられる表面部材として、基材上にハードコート、高屈折率酸化物と銀を含む金属薄膜層を多数積層した導電性反射防止フィルムは知られている。基材として、ポリエステル系フィルム、トリアセチルセルロース系フィルム等を用いることが一般的だが液晶ディスプレイに用いる場合、光学的な優位性からトリアセチルセルロース系フィルムを用いることが多い。トリアセチルセルロース系フィルムは、偏光板の構成要素であるポリビニルアルコールとの密着性を向上させるため、ケン化処理を行う必要がある。上記の構成においては、トリアセチルセルロース系フィルム上にハードコート層を設けた後、積層体全体をケン化処理液に浸漬するのが一般的である。
【０００９】
しかし、ハードコート層上に銀などの金属を含む多層膜を積層する場合、高温高湿環境下に置かれたとき、銀などの金属が、ケン化処理液に含まれるナトリウムで凝集してしまう問題があった。
【特許文献１】特公平８−３２４３６号公報
【特許文献２】特公平１１−１０７５９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記の従来技術の問題点を考慮してなされたものであって、耐湿熱性を向上した、すなわち高温高湿環境下においても金属の凝集などによる劣化のない、高透明性、反射防止性、さらには帯電防止機能に優れ、防汚機能を有するディスプレイ用反射防止フィルムとその製造方法、およびその反射防止フィルムを前面に備えたディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を達成するために、すなわち、請求項１に記載の発明は、少なくともトリアセチルセルロースフィルム基材上に、ハードコート層、金属薄膜層及び金属酸化物層を積層してなる導電性多層膜を有する積層体であって、
前記トリアセチルセルロースフィルム基材のハードコート層を設ける側の反対側の面のみがケン化処理されていることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、前記導電性多層膜が、高屈折率金属酸化物層／金属薄膜層を１〜５回の範囲内で繰り返し積層し、最外層に高屈折率金属酸化物層を設けてなることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルムである。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、前記金属薄膜層が銀または銀を含む合金であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルムである。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、前記導電性多層膜上に、低屈折率層を設けてなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、最外層に防汚層を設けてなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、少なくともトリアセチルセルロースフィルム基材上にハードコート層を設ける工程、該トリアセチルセルロースフィルム基材のハードコート層を設ける側の反対側の面のみをケン化処理する工程、該ハードコート層上に金属薄膜層及び金属
酸化物層を積層してなる導電性多層膜を積層する工程、を有することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法である。
【００１７】
請求項７に記載の発明は、前記導電性多層膜が、高屈折率金属酸化物層／金属薄膜層を１〜５回の範囲内で繰り返し積層し、最外層に高屈折率金属酸化物層を設けてなることを特徴とする請求項６記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１８】
請求項８に記載の発明は、前記金属薄膜層が銀または銀を含む合金であることを特徴とする請求項６または７に記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００１９】
請求項９に記載の発明は、前記導電性多層膜上に、低屈折率層を設ける工程を有することを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００２０】
請求項１０に記載の発明は、最外層に防汚層を設ける工程を有することを特徴とする請求項６〜９のいずれかに記載の反射防止フィルムの製造方法である。
【００２１】
請求項１１に記載の発明は、請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムをディスプレイの前面に設けたことを特徴とするディスプレイである。
【発明の効果】
【００２２】
本発明により、耐湿熱性を向上した、すなわち高温高湿環境下においても金属の凝集などによる劣化のない、高透明性、反射防止性、さらには帯電防止機能に優れ、防汚機能を有するディスプレイ用反射防止フィルムとその製造方法、およびその反射防止フィルムを前面に備えたディスプレイを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態の一例について図面を参照して説明する。図１は、本発明の反射防止フィルムの構成の一例を示す模式断面図である。図１で示すように、本発明の一実施例としての反射防止フィルム（１０）は、片面にハードコート層（２）を設けたトリアセチルセルロースフィルム基材（１）のハードコート層（２）上に、高屈折率透明薄膜層（３）と、金属薄膜層（４）とが、交互に積層した高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層を繰返し単位として１回以上繰り返して積層された導電性多層膜（５）、さらにその上に、高屈折率透明薄膜層（３）が積層された透明積層体に、さらにその外層に積層された低屈折層（６）よりなる反射防止層が形成され、反射防止層を設けた反対面の基材表面のみがケン化処理されたケン化処理層（１ａ）から構成されている。
【００２４】
本発明におけるケン化処理とは、次工程における貼り合わせの際の密着不良を避けるため濡れ性を改善させる湿式処理全般を指している。本発明におけるケン化処理としては、アルカリ処理法、酸処理法、塗工法などを挙げることができる。一般的に濡れ性の向上には湿式法が優れており、特に、アルカリ処理が濡れ性向上に対しては有効である。通常、アルカリ処理法に使用するアルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液、それらに更にアルコール等の各種有機溶媒を加えたアルカリ水溶液等を挙げることができる。アルカリ処理の条件は、例えば、水酸化ナトリウム水溶液を用いた場合、０．１〜１０Ｎの濃度の水溶液として使用することが望ましく、更には、１〜２Ｎの濃度が望ましい。また、アルカリ水溶液の温度は、０〜１００℃、好ましくは、２０〜８０℃である。アルカリ処理の時間は、０．０１〜１０時間、好ましくは、０．１〜１時間である。ただし、このようなアルカリ洗浄を行った場合にはアルカリ成分が残留しないように洗浄をしっかりと行うことが望ましい。
【００２５】
本発明における基材としては、ポリエステル系フィルム、トリアセチルセルロース系フ
ィルム等を用いることが一般的だが液晶ディスプレイに用いる場合、光学的な優位性からトリアセチルセルロース系フィルムを用いることが多い。トリアセチルセルロース系フィルムは、偏光板の構成要素であるポリビニルアルコールとの密着性を向上させるため、ケン化処理を行う必要がある。上記の構成においては、トリアセチルセルロース系フィルム上にハードコート層を設けた後、積層物全体をケン化処理液に浸漬するのが一般的である。
【００２６】
また、トリアセチルセルロースフィルム基材は可撓性を有しており透明導電層をロール・ツー・ロール法で連続的に形成することができるため、これを使用した場合には効率よく、また、長尺大面積に反射防止フィルムを生産できることや、フィルム状の透明積層体をディスプレイのガラスに貼り付けることによりガラス破損時の飛散防止になることから、これもまた好適に使用できる。この場合フィルムの厚さは通常１０〜２５０μｍのものが用いられる。フィルムの厚さが１０μｍ未満では、基材としての機械的強度に不足し、厚さが２５０μｍを超えると可撓性が不足するためフィルムをロールで巻きとって利用するのに適さない。
【００２７】
上記基材は、その表面に予めスパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理や、下塗り処理を施して、この基材上に形成される薄膜層の上記基材に対する密着性を向上させるようにしてもよい。透明基材もしくはハードコート層と薄膜層との密着力を増強させるために、例えば、その間に任意の無機物層を形成してもよい。具体的な材料としては、シリコン、ニッケル、クロム、金、銀、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金、酸化物等があげられるが、特にこれらに限定されるものではない。その厚さは、透明性を損なわない程度の厚さであればよく、好ましくは０．２ｎｍ〜１０ｎｍ程度である。無機物層の厚さが薄いと密着力向上の十分な効果が得られず、逆に厚すぎると透明性が損なわれる。形成される薄膜層が酸化物であると、該無機物層の金属の一部または全部は、実際には金属酸化物となっているが、密着力向上の効果に問題はない。また、薄膜層を成膜する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理を施してもよい。
【００２８】
本発明においては、ハードコート層を設けたトリアセチルセルロースフィルム基材のハードコート層上に、高屈折率透明薄膜層と、金属薄膜層を交互に積層し、最外層には低屈折率透明薄膜層を積層する。その際、各金属薄膜層は、それぞれ両面から高屈折率透明薄膜層によってはさまれるように配置する。この際に高屈折率透明薄膜層と金属薄膜層の界面に酸素や水、アルカリ、ハロゲンなどを遮蔽する保護層を設けることにより金属薄膜層の劣化を押さえることが可能となる。また、保護層を金属化合物とした場合には高屈折率透明薄膜層の成膜時に生ずる金属薄膜層の劣化を押さえる効果も期待できる。保護層の材料としてはシリコン、クロム、金、白金、チタン、パラジウム、ビスマス等の金属材料や酸化珪素、酸化チタン等の酸化物、窒化珪素、窒化チタン等の窒化物およびこれらの組み合わせ等が上げられるが特にこれらに限定されるものではない。その厚さは、透明性を損なわない程度の厚さであればよく、好ましくは０．２ｎｍ〜１５ｎｍ程度である。
【００２９】
可視光線透過率が低いと、ディスプレイ設置時に画像の鮮明さが低下するため、反射防止フィルムの可視光線透過率は高い方が良く、少なくとも４０％以上、好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８５％以上必要である。本発明における可視光線透過率、可視光線反射率とは、透過率及び反射率の波長依存性から、ＪＩＳ  Ｒ−３１０６に従って計算されるものである。
【００３０】
本発明の反射防止フィルムに用いる高屈折率透明薄膜層としては酸化インジウムと酸化セリウムからなる薄膜、酸化ニオブ薄膜、酸化タンタル薄膜、酸化チタン薄膜などが上げ
られるがこれに限定されるものではなく、透明性が高く屈折率が１．７以上であれば自由に選択することが可能である。金属薄膜層は、光学特性の観点から主に銀合金よりなる薄膜層が選択されるが、光学的に反射防止性能と透過率を満足すればこれに限定されるものではない。低屈折率透明薄膜層としては主として二酸化珪素薄膜が上げられるが透明性が高く屈折率が１．７以下であればこれに限定されるものではなく、自由に選択することが可能である。
【００３１】
高屈折率透明薄膜層としては反射防止性能と可視光における高い透過性を維持するためには屈折率が高いほうが好ましく、かつ、導電性の高い材料であればＤＣスパッタリング法により成膜出来るため生産性が高い。金属ターゲットから反応性スパッタ法により高屈折率材料を成膜する方法も可能であるが、この場合には保護層等を用いて金属薄膜層を保護することが必要になる場合もある。上記の条件検討より導電性が高くＤＣスパッタリング法により成膜出来る、酸化インジウムと酸化セリウムからなる薄膜や酸化ニオブ薄膜が特に好ましい。
【００３２】
銀は、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れているため好適に使用できる。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水、酸素、アルカリ、ハロゲン、硫黄、熱、光等によって劣化、凝集するため、銀に、金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ、ビスマス等の環境に安定な貴金属や銀の界面付近に移動し保護層を形成する希土類などの金属を一種以上含んだ合金も好適に使用できる。特に銀に金および／またはＰｄを添加することによって銀の大幅な安定性向上が可能となる。ここで、銀合金における金および／またはＰｄの含有率は、銀単体薄膜の導電性、光学特性を維持しつつ、安定性を向上させるために１０ａｔ％以上３０ａｔ％以下とすることが好ましい。これは、本用途においては積層膜が最表面に露出するため透明電極等の内部使用用途よりも高い安定性を求められるためである。
【００３３】
本発明において、繰り返し積層数は、１回〜５回が好ましい。これは、繰り返し回数が６回以上だと生産装置の制限、生産性の問題が大きくなるためである。
【００３４】
金属薄膜層の厚さは導電性、光学特性等から光学設計的かつ実験的に求められ、透明積層体が要求特性を持てば特に限定されるものではないが、導電性等の観点から、金属薄膜層における金属原子の集合状態が島状構造ではなく連続状態であることが望ましいため、金属薄膜層の４ｎｍ以上であることが望ましい。金属薄膜層が厚すぎると透明性が問題になるので３０ｎｍ以下が望ましい。
【００３５】
金属薄膜層に隣接する透明薄膜層が酸化物であると、金属薄膜層の金属の一部は、実際には金属酸化物となっていることがある。しかしながら、金属薄膜層におけるこのような金属酸化物の領域は、非常に薄い領域であるため光学設計及び成膜上において、問題となることはない。また、ｎ層ある金属薄膜層は、同じ厚さとは限らない。各金属薄膜層の組成も同一とは限らない。すなわち、金属薄膜層の積層順に応じて、金属薄膜層中の銀の含有量や、銀以外に使用する金属の含有率を変えるようにしてもよい。金属薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００３６】
各透明薄膜層の厚さは、透明基材の光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特性、および、透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的に求められ、特に限定されるものではないが、５ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上、１５０ｎｍ以下である。また、ｍ層（ｍ≧４）ある透明薄膜は、同じ厚さとは限らず、また、同じ比率の透明薄膜材料でなくともよい。透明薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方
法のいずれでも採用できる。
【００３７】
透明基材の透明積層体を形成していない側に透明な粘着層を設けても良い。具体的な材料として、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等があげられる。このような透明な粘着材や接着剤の光学特性は、５００〜６００ｎｍにおいて屈折率は１．４５〜１．７程度、消光係数はほぼ０である。
【００３８】
また、ディスプレイへの照明器具等の映り込みによって表示画面が見づらくなってしまうため、反射防止機能を有することも重要となる。これは層数及び／またはそれぞれの層の厚さを制御することにより可能となるが、可視光線反射率が２．０％以下、好ましくは１．０％以下、より好ましくは０．５％以下の性能を有することが望ましい。
【００３９】
本発明において、透明積層体の機械的強度や耐環境性を向上させるために、反射防止フィルムの積層体の下に透明性を有するハードコート層を設けている。ハードコート層は、透明プラスチック基材表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、透明プラスチックフィルム基材の屈曲による反射防止層のクラック発生を抑制することができ、反射防止フィルムの機械的強度が改善できる。ハードコート層は１分子中に２個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能性モノマーを主成分とする重合物からなる。
【００４０】
多官能性モノマーとしては、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２，３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１，  ２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３，８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エボキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。特に紫外線硬化型であるアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のアクリル系や、有機珪素系の樹脂、熱硬化型のポリシロキサン樹脂等が好適である。ハードコート層は透明基材と屈折率が同等若しくは近似していることがより好ましい。多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、２種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
【００４１】
また、上記ハードコート層中に平均粒径０．０１３μｍの無機あるいは有機物微粒子を混合分散させ、表面形状を凹凸させることで一般的にアンチグレアと呼ばれる光拡散性処
理を施すことができる。これらの微粒子は透明であれば特に限定されるものではないが、低屈折率材料が好ましく、酸化珪素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等で好ましい。特に中空の酸化珪素は屈折率が特に低くより好ましい。膜厚は３〜２０μｍの範囲であれば十分な機械強度が発現するが、透明性、塗工精度、取り扱いから、より望ましくは５〜１５μｍの範囲が好ましい。
【００４２】
ハードコート層上に透明積層体を形成する前に、表面処理を行うことが好ましい。表面処理を行うことにより、ハードコート層と透明積層体との密着性を向上させることができる。ハードコート層の表面処理としては、高周波放電プラズマ法、電子ビーム法、イオンビーム法、蒸着法、スパッタリング法、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等を挙げることができる。特に、高周波放電プラズマ法とスパッタリング法は成膜装置内にインラインで組み込めるため好ましい。
【００４３】
防汚層としてはケイ素酸化物、フッ素含有ケイ素化合物、フルオロアルキルシラザン、フルオロアルキルシラン、フッ素含有シラン化合物、パーフルオロポリエーテル基含有シランカップリング剤等が上げられるがこれに限定されるものではない。
【実施例】
【００４４】
以下に具体的な実施例を挙げて本発明を説明する。
【００４５】
（実施例１）
ＴＡＣ基材（トリアセチルセルロースフィルム基材）上にアクリル系のハードコート層を設け、ハードコート層を設けたのと反体面のみをアルカリ処理法によりケン化し、ハードコート上に：酸化インジウムと酸化セリウムからなる高屈折透明薄膜層（以下ＩＣＯと略す）４０ｎｍ、ＡｇＡｕ合金：１０ｎｍ、ＩＣＯ：４０ｎｍ、の順に成膜し、さらにその上に二酸化珪素よりなる低屈折率透明薄膜層を４０ｎｍ成膜、最表面にフッ素系の防汚層を設けた試料を作成した。
【００４６】
（比較例１）
ＴＡＣ基材上にアクリル系のハードコート層を設け、基材両面をアルカリ処理法（ＮａＯＨ）によりケン化し、ハードコート上に：酸化インジウムと酸化セリウムからなる高屈折透明薄膜層（以下ＩＣＯと略す）４０ｎｍ、ＡｇＡｕ合金：１０ｎｍ、ＩＣＯ：４０ｎｍ、の順に成膜し、さらにその上に二酸化珪素よりなる低屈折率透明薄膜層を４０ｎｍ成膜、最表面にフッ素系の防汚層を設けた試料を作成した。
【００４７】
（比較例２）
ＴＡＣ基材上にアクリル系のハードコート層を設け、基材両面を酸処理法（ＨＣｌ）によりケン化し、ハードコート上に：酸化インジウムと酸化セリウムからなる高屈折透明薄膜層（以下ＩＣＯと略す）４０ｎｍ、ＡｇＡｕ合金：１０ｎｍ、ＩＣＯ：４０ｎｍ、の順に成膜し、さらにその上に二酸化珪素よりなる低屈折率透明薄膜層を４０ｎｍ成膜、最表面にフッ素系の防汚層を設けた試料を作成した。
【００４８】
（比較例３）
ＴＡＣ基材上にアクリル系のハードコート層を設け、ケン化処理を行わず、ハードコート上に：酸化インジウムと酸化セリウムからなる高屈折透明薄膜層（以下ＩＣＯと略す）４０ｎｍ、ＡｇＡｕ合金：１０ｎｍ、ＩＣＯ：４０ｎｍ、の順に成膜し、さらにその上に二酸化珪素よりなる低屈折率透明薄膜層を４０ｎｍ成膜、最表面にフッ素系の防汚層を設けた試料を作成した。
【００４９】
＜耐湿熱試験＞
６０℃−９０％ＲＨの環境下で実施例１、比較例１〜３の試験片（１００ｍｍ角）の保存試験を５００時間まで実施。目視にて凝集点が観察された場合にはその時点で試験を終了し、その時間を記録した。その結果を表１に示す。
【００５０】
【表１】
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表１より、実施例１で得られた本発明の反射防止フィルムは、耐湿熱性に優れ、すなわち高温高湿環境下においても金属の凝集などによる劣化がないことが確認された。
【００５１】
＜密着性＞
実施例１、比較例１〜３の試験片のＴＡＣ面にポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を押し出し法により積層させその密着性を目視により、優（○）、良（△）、不可（×）の３段階評価した。その結果を表２に示す。
【００５２】
【表２】
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表２より、実施例１で得られた本発明の反射防止フィルムは、光学的な優位性から基材としてトリアセチルセルロース系フィルムを用いているために、液晶ディスプレイに用いる場合、偏光板の構成要素であるポリビニルアルコールとの密着面となる基材表面にケン化処理を施してあることでポリビニルアルコールとの密着性に優れている。なお、比較例１で得られた反射防止フィルムも密着性に優れているものであるが、表１で示すように、明らかに、比較例１の反射防止フィルムは耐湿熱性に劣るものであるから本発明の主旨から逸脱するものである。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の反射防止フィルムの構成の一例を示す模式断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１・・・トリアセチルセルロースフィルム基材
１ａ・・・ケン化処理層
２・・・ハードコート層
３・・・高屈折率透明薄膜層
４・・・金属薄膜層
５・・・導電性多層膜
６・・・低屈折層
１０・・・反射防止フィルム
【図１】
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