(57)【要約】【課題】基板の内周側と外周側とで膜厚が均一な色素記録層を有する光記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】同心円状又はスパイラル状の溝を設けた基板上に有機色素を含む溶液をスピンコート法により塗布して色素記録層を製膜する工程を有し、半径Ｒ＿ｄｉｓｋ（但し、Ｒ＿ｄｉｓｋは４０ｍｍ以上）の回転する基板上に溶液を吐出するノズルを、基板の内周から外周に滑らかに移動し、溶液吐出を打ち切る位置Ｒ＿ｓｔｏｐを３０．０ｍｍ≦Ｒ＿ｓｔｏｐ≦Ｒ＿ｄｉｓｋ−１．０ｍｍとし、吐出中のノズル移動速度平均Ｖを５ｍｍ／ｓｅｃ≦Ｖ≦１５ｍｍ／ｓｅｃとする光記録媒体の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
色素記録層を有する光記録媒体の製造方法であって、同心円状又はスパイラル状の溝を設けた基板上に、少なくとも、有機色素を含む溶液をスピンコート法により塗布して前記色素記録層を製膜する工程を有し、前記色素記録層を製膜する工程において、前記基板の半径をＲ＿ｄｉｓｋ（但し、Ｒ＿ｄｉｓｋは４０ｍｍ以上とする。）とし、前記基板を回転させながら該基板上に前記溶液を吐出するノズルを当該基板の内周から外周に滑らかに移動させながら前記溶液を吐出し、前記ノズルからの当該溶液の吐出を打ち切る位置Ｒ＿ｓｔｏｐを、３０．０ｍｍ≦Ｒ＿ｓｔｏｐ≦Ｒ＿ｄｉｓｋ−１．０ｍｍとし、吐出中のノズル移動速度平均Ｖを、５ｍｍ／ｓｅｃ≦Ｖ≦１５ｍｍ／ｓｅｃとすることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記ノズルからの前記溶液の吐出を打ち切る時点で、前記基板の最内周部分における塗布した溶液の乾燥が開始していることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記色素記録層を製膜する工程において、前記基板上に直接又は他の層を介して、前記溶液を塗布する前に、予め、当該溶液又は所定の溶媒を用いて当該基板の全面又は前記他の層を非乾燥状態にすることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記ノズルから前記溶液を吐出しつつ、当該基板の回転数を増大させながら、当該ノズルを前記基板の半径（Ｒ＿ｄｉｓｋ）の２分の１（Ｒ＿ｄｉｓｋ／２）より大きい位置である外周側から、当該基板の半径（Ｒ＿ｄｉｓｋ）の２分の１（Ｒ＿ｄｉｓｋ／２）より小さい位置である内周側に移動させることを特徴とする請求項３記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記溶液は、前記有機色素とフッ素系溶媒とを含むことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記色素記録層を製膜する工程において、フッ素系溶媒に対する前記有機色素の濃度が０．４％〜２．０％の範囲で調製した前記溶液を前記基板上に塗布し、前記溶液を吐出するノズルが前記基板の最内周に位置するときに当該基板を５００ｒｐｍ以上で回転し、且つ、前記溶液の吐出を停止した後に、前記基板を最大回転速度２０００ｒｐｍ以上７０００ｒｐｍ以下の範囲で回転することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載された光記録媒体の製造方法により製造されたことを特徴とする光記録媒体。
【請求項８】
ポリカーボネート樹脂よりなる基板上に少なくとも情報を記録する前記記録層及び反射層を有し、該記録層、該反射層を挟んで前記基板に対向する位置に対向基板を接着し、かつ前記基板を通して青色レーザーで情報の記録再生を行う光記録媒体であって、前記基板の６５０ｎｍ±５ｎｍの波長で測定した対向基板接着前の面内複屈折が、ユーザーが記録再生に使用する領域において−３０ｎｍ〜＋１０ｎｍの範囲であり、かつ最大値と最小値の差が３５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項７記載の光記録媒体。
【請求項９】
６５０ｎｍ±５ｎｍの波長で測定した面内複屈折が、ユーザーが記録再生に使用する領域において−３０ｎｍ〜＋１０ｎｍの範囲であり、かつ最大値と最小値の差が３５ｎｍ以下であることを特徴とする、ポリカーボネート樹脂より成る青色レーザーで情報の記録再生を行う光記録媒体に用いる基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体の製造方法に関し、より詳しくは、均一に塗布された色素記録層を有する光記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＣＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体の色素記録層を形成する方法としてスピンコート法が知られている。スピンコート法では、通常、基板の最内周側（２０ｍｍ〜３０ｍｍ）に所定のノズルの先端から色素溶液を吐出し、すみやかに吐出を停止して、その後、基板を高速（３０００ｒｐｍ〜７０００ｒｐｍ）で回転し、その遠心力で色素溶液を最内周から基板全面に拡げ、色素記録層を形成している。
また、スピンコート法では、基板の最も内周側に形成される色素記録層の膜厚が薄くなりやすく、外周が厚くなりやすい。そこで、特に内周側の色素記録層の膜厚分布を均一にする手法として、ノズルの先端から色素溶液を吐出しつつ、ノズルを基板の外周側から内周側に移動し、且つ、基板の回転数を増大させる手法が報告されている（特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−１５５９９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、近年、情報の大容量化に応じ、記録再生光の短波長化、光記録媒体の高密度化が進み、基板に形成されるトラックピッチの狭小化が進められている。このような状況下で、色素記録層は、膜厚制御性をこれまで以上に高める必要がある。
しかし、従来のスピンコート法では、基板の内周側に吐出した色素溶液を、基板を高速回転することにより基板全面に広げるため、基板の内周側と外周側とで媒体設計上、予期しない色素記録層の膜厚の分布を生じやすい。また、基板の内周側と外周側とでは、塗布された色素溶液の乾燥時間、遠心力等に差があり、色素記録層に不均一性を生じる要因の一つとなっている。また、記録高密度化、短波長化に伴い、さらなる高精度な薄膜化塗布技術が要求されており、スピンドル回転数、回転時間を、より厳密に制御する必要が生じている。
【０００５】
また、製膜条件をより高精度に制御したとしても、特に、青色レーザ（４０５ｎｍ近傍）等の短波長レーザでの記録に使用する記録層を製膜する基板には、種々の課題がある。特に、以下のような、基板の複屈折の問題である。
我々の検討によると青色のレーザを用いた場合、ＰＰ信号（本発明では、プッシュプル信号をＰＰ信号という。）は複屈折に非常に大きく依存する。これに対し赤色のレーザ（６５０ｎｍ〜６６０ｎｍ近傍）の場合は複屈折のＰＰ信号への大きな影響は見られなかった。この原因は詳細には定かではないが、以下のように説明できる。
【０００６】
上記定義の複屈折は赤色レーザでも青色レーザでも大きな違いはなく、高々１０％程度の違いであることが知られている。ところが、青色レーザは赤色レーザに比べ波長が短いために同じ複屈折であっても位相差に換算したときの差が大きくなる。例えば波長λに対し同じ複屈折ＢＲであったときに、その位相の差δは、
δ＝２π・ＢＲ／λ
であるので、λがＨＤ−ＤＶＤでの４０５ｎｍではＤＶＤでの６５０ｎｍの場合に対し約１．６倍の位相差が生じる。光の楕円化は位相差によって決まるため、同じ複屈折でも青色レーザの場合は赤色レーザに比べ大きな楕円化を生じてしまう。
【０００７】
一方、ＰＰ信号を生じるのは溝によって回折された光、すなわち一次光と呼ばれるものであるが、この光は回折によって溝方向（周方向）とそれに直交する方向（半径方向）とにやはり位相差を発生する。この位相差が複屈折による位相差と足し合わされる場合は、より大きな楕円化を発生し、打消しあう場合は楕円化は小さくなる。サーボ信号検出の光学系は、途中に偏光ビームスプリッター（ＰＢＳ）が入っているため、楕円化が大きくなると通過する光量が低下して信号が小さくなる。青色レーザの記録再生の場合、このようにして面内複屈折の符号によってＰＰ信号の大きな違いが発生しているものと推察される。
【０００８】
尚、ＰＰ信号は、例えばＤＶＤ  Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎ  ｆｏｒ  Ｒｅｃｏｒｄａｂｌｅ  Ｄｉｓｃ  ｆｏｒ  Ｇｅｎｅｒａｌ  ｖｅｒ２．０などにおいてＰＰｂ（Ｔｈｅ  ｒａｄｉａｌ  ｐｕｓｈ−ｐｕｌｌ  ａｍｐｌｉｔｕｄｅ  ｂｅｆｏｒｅ  ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ）と記載される信号を意味し、具体的には、以下のとおりである。
【０００９】
信号再生装置（ＤＶＤ評価機やＤＶＤプレーヤー、ＤＶＤレコーダー）のピックアップの４分割フォトディテクターの溝横断信号（ディスク面内の案内溝に、フォーカスをかけて溝横断信号を得る。）の半径方向の差信号（（Ｉａ＋Ｉｂ）−（Ｉｃ＋Ｉｄ））のＡＣ成分のｐｅａｋ  ｔｏ  ｐｅａｋ値（絶対値）を、和信号（Ｉａ＋Ｉｂ＋Ｉｃ＋Ｉｄ）のＤＣ成分で割った値をプッシュプル信号（プッシュプル信号振幅ともいう。）とする。
即ち、
ＰＰ信号＝（（Ｉａ＋Ｉｂ）−（Ｉｃ＋Ｉｄ））のＡＣ成分のｐｅａｋ  ｔｏ  ｐｅａｋ値（絶対値）／（Ｉａ＋Ｉｂ＋Ｉｃ＋Ｉｄ）のＤＣ成分
である。
尚、Ｉａ、Ｉｂ、Ｉｃ、Ｉｄは、上記４分割フォトディテクターの溝横断信号の出力値を意味する。
【００１０】
本発明は、こうした実状に鑑みなされたものである。
即ち、本発明の目的は、スピンドルを従来よりも低回転数で制御する等により装置に負担をかけずに、そして、従来と同一、あるいはより短いタクト時間で、青色レーザ等の短波長レーザでのＰＰ（プッシュプル）の面内分布を均一にする技術、あるいは、色素薄膜を均一にする技術、もしくは媒体設計上で意図する所望の膜厚分布に塗布する技術を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ディスク基板上にスピンコート法により色素記録層を成膜する際に、ノズルの先端から有機色素を含む溶液を吐出しつつ、ノズルを基板の内周側から所定の半径の外周側までに所定の速度で移動させることにより、従来よりも柔軟に膜厚を制御できること、製造装置に負担をかけないことを見出し、この知見に基づき本発明を完成した。
【００１２】
従来のスピンコート法では、内周と外周で均一に膜厚を塗布するため、溶液吐出を切った後、回転数を時間経過に添って単調に増加させることが一般的である。すなわち、これは内周と外周の膜厚を均一にするためには、スピンコートの原理上、回転数を序所に上げなければならないことを意味している。したがって、例えば、媒体設計上、外周を内周と比較して薄い膜を塗布したい場合は、さらに回転数を上昇させなければならないことがわかる。      
【００１３】
また、速い回転数で塗布すれば、タクトタイムを短くすることが可能であることも事実である。しかしながら、より速い回転数、及び回転時間を厳密に制御することは、スピンドルモーター性能上の制限を考えれば、不利であることは明らかである。すなわちスピンドルモーターの性能上限に近い回転数、及び回転時間の制御は困難であるし、モーター回転の急激な加速減速は、部品の寿命を短くしてしまう。一方、低い回転数で長時間回転させる条件を製造条件として採用した場合は、ディスク一枚の塗布に必要なタクトタイムが長くなり、製品生産上は不利益であり、一長一短となる。総合的な利益を確立するためには、タクトタイムを伸ばさずに、回転数を下げることができれば非常に有効である。従来方法では、これが困難であったが、本発明によれば、上記の最大回転数を低減することができ、さらには従来困難であった、外周膜厚を内周よりも、より薄く塗布できるという点においても、より優れた方法である。もちろん従来どおり、内周から外周へ向けて均一に塗布することも可能である。
【００１４】
さらに、我々の検討によると、特に青色レーザなどの短波長での記録再生のためには、ＰＰ信号を均一にするために複屈折の分布を一定の範囲に抑えることが重要であり、かつ複屈折が大きくマイナス側の場合はＰＰ信号が著しく小さくなりサーボがかかりにくくなるために、−３０よりも＋側にすることが好ましい事、そして、複屈折があまり＋側に大きな値となると、今度はＰＰ信号が大きくなり過ぎる上、再生信号品質の悪化をもたらす事、従って、面内複屈折（本願発明においては、集光しないで測定した複屈折を面内複屈折といい、本明細書において「複屈折」という場合もある。）が−３０ｎｍ〜＋１０ｎｍの範囲であり、かつ樹脂基板全面の面内複屈折の最大値と最小値の差が３５ｎｍ以下のものを用いれば、ＰＰ信号の大きさが十分であり、かつ分布も小さく、再生信号も良好な結果を得ることができることを見出した。
【００１５】
なお、一般に好ましいＰＰ信号は０．３５程度より大きな値が必要であり、かつ０．６０程度より小さい値である。また安定したサーボ動作のためには半径方向でのＰＰ信号の許容される変動は３０％以下が好ましい。
【００１６】
かくして本発明によれば、下記（１）〜（９）が提供される。
（１）  色素記録層を有する光記録媒体の製造方法であって、同心円状又はスパイラル状の溝を設けた基板上に、少なくとも、有機色素を含む溶液をスピンコート法により塗布して前記色素記録層を製膜する工程を有し、前記色素記録層を製膜する工程において、前記基板の半径をＲ＿ｄｉｓｋ（但し、Ｒ＿ｄｉｓｋは４０ｍｍ以上とする。）とし、前記基板を回転させながら該基板上に前記溶液を吐出するノズルを当該基板の内周から外周に滑らかに移動させながら前記溶液を吐出し、前記ノズルからの当該溶液の吐出を打ち切る位置Ｒ＿ｓｔｏｐを、３０．０ｍｍ≦Ｒ＿ｓｔｏｐ≦Ｒ＿ｄｉｓｋ−１．０ｍｍとし、吐出中のノズル移動速度平均Ｖを、５ｍｍ／ｓｅｃ≦Ｖ≦１５ｍｍ／ｓｅｃとすることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
（２）  前記ノズルからの前記溶液の吐出を打ち切る時点で、前記基板の最内周部分における塗布した溶液の乾燥が開始していることを特徴とする前記（１）記載の光記録媒体の製造方法。
（３）  前記色素記録層を製膜する工程において、前記基板上に直接又は他の層を介して、前記溶液を塗布する前に、予め、当該溶液又は所定の溶媒を用いて当該基板の全面又は前記他の層を非乾燥状態にすることを特徴とする前記（１）記載の光記録媒体の製造方法。
（４）  前記ノズルから前記溶液を吐出しつつ、当該基板の回転数を増大させながら、当該ノズルを前記基板の半径（Ｒ＿ｄｉｓｋ）の２分の１（Ｒ＿ｄｉｓｋ／２）より大きい位置である外周側から、当該基板の半径（Ｒ＿ｄｉｓｋ）の２分の１（Ｒ＿ｄｉｓｋ／２）より小さい位置である内周側に移動させることを特徴とする前記（３）記載の光記録媒体の製造方法。
（５）  前記溶液は、前記有機色素とフッ素系溶媒とを含むことを特徴とする前記（１）記載の光記録媒体の製造方法。
（６）  前記色素記録層を製膜する工程において、フッ素系溶媒に対する前記有機色素の濃度が０．４％〜２．０％の範囲で調製した前記溶液を前記基板上に塗布し、前記溶液を吐出するノズルが前記基板の最内周に位置するときに当該基板を５００ｒｐｍ以上で回転し、且つ、前記溶液の吐出を停止した後に、前記基板を最大回転速度２０００ｒｐｍ以上７０００ｒｐｍ以下の範囲で回転することを特徴とする前記（１）記載の光記録媒体の製造方法。
【００１７】
（７）  前記（１）乃至（６）のいずれかに記載された光記録媒体の製造方法により製造されたことを特徴とする光記録媒体。
（８）  ポリカーボネート樹脂よりなる基板上に少なくとも情報を記録する前記記録層及び反射層を有し、該記録層、該反射層を挟んで前記基板に対向する位置に対向基板を接着し、かつ前記基板を通して青色レーザで情報の記録再生を行う光記録媒体であって、前記基板の６５０ｎｍ±５ｎｍの波長で測定した対向基板接着前の面内複屈折が、ユーザーが記録再生に使用する領域において−３０ｎｍ〜＋１０ｎｍの範囲であり、かつ最大値と最小値の差が３５ｎｍ以下であることを特徴とする前記（７）記載の光記録媒体。
（９）  ６５０ｎｍ±５ｎｍの波長で測定した面内複屈折が、ユーザーが記録再生に使用する領域において−３０ｎｍ〜＋１０ｎｍの範囲であり、かつ最大値と最小値の差が３５ｎｍ以下であることを特徴とする、ポリカーボネート樹脂より成る青色レーザで情報の記録再生を行う光記録媒体に用いる基板。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、設計で定めた所望の膜厚どおりに制御され、かつ、タクトタイムを延ばさず、さらには、製造装置に負担をかけずに媒体を製造することが可能となる。また、同手法により、設計上、意図した膜厚の色素記録層を有する光記録媒体が得られる。
また、本発明によれば、例えば青色レーザによる記録再生においても、ユーザーが使用する領域でＰＰ信号が大きく、安定なサーボ特性が得られやすくなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態）について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することが出来る。
本実施の形態が適用される光記録媒体の製造方法により製造が可能な光記録媒体としては、色素記録層を有する追記型の光記録媒体のいずれにも適用することができ、特に限定されないが、記録・再生用のレーザ光の入射方向によって、基板面入射型と膜面入射型とに分けることができる。現在実用化されている光記録媒体の具体例としては、例えば、ポリカーボネート基板が１．２ｍｍであるＣＤ−Ｒ、ポリカーボネートの厚さを半分（０．６ｍｍ）にし、２枚の基板を貼合わせるＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒが挙げられる。
【００２０】
ここで、膜面入射型の光記録媒体の製造方法の場合は、通常、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂を用いて、射出成形または圧縮成形等により基板を成形する工程と、成形した基板上に、スパッタリング等により反射層を形成する工程と、反射層上にスピンコート法により有機色素を含む色素記録層を製膜する工程と、さらにこの上に保護層（又は、カバー層）を設ける工程とを有している。
一方、基板面入射型の光記録媒体の場合は、通常、基板を成形する工程と、スピンコート法により色素記録層を製膜する工程と、反射層、保護層をこの順に設ける工程とを有している。光記録媒体を構成する各層については後述する。
【００２１】
次に、スピンコート法により、同心円状又はスパイラル状の溝を設けた基板上に、直接又は他の層を介して、有機色素を含む色素記録層を製膜する工程について説明する。
図１は、本実施の形態において使用するスピンコート装置を説明するための図である。図１に示すように、スピンコート装置１００は、有機色素を含む溶液（以下、「塗布液」と称することがある。）を供給する塗布液供給装置１０と、中央部に中心孔を設け、所定の半径（Ｒ＿ｄｉｓｋ）を有するディスク状の基板Ｓを水平に保持するとともに所定の回転数で回転するスピナーヘッド装置２０と、基板Ｓの外周縁部から外側に放出された余分な塗布液が周辺に飛散するのを防止する飛散防止装置３０とを有している。
【００２２】
塗布液供給装置１０は、塗布液を先端から吐出するノズル１１と、ノズル１１を支持するアーム１２とを有し、図示しないハンドリング機構によって、待機位置から基板Ｓの上方の位置に旋回移動し、所定量の塗布液を、ノズル１１を通して基板Ｓ表面上に吐出する。
【００２３】
スピナーヘッド装置２０は、着脱可能な固定具２１により、基板Ｓを回転テーブル２２上に水平に保持するとともに、図示しない駆動モータにより、所定の回転数で回転する。スピナーヘッド装置２０により回転する基板Ｓ上に、塗布液供給装置１０のノズル１１から吐出した塗布液は、基板Ｓの表面上を外周側に流延する。余分の塗布液は基板Ｓの外周縁部で振り切られ、次いで塗膜を乾燥し、基板Ｓ表面上に色素記録層を製膜する。
【００２４】
飛散防止装置３０は、基板Ｓの外周縁部から外側に放出された塗布液の飛散を防止するコータカバー３１と、遠心力で振り切られた塗布液のミストが、基板Ｓ及び回転テーブル２２の下側に回り込むのを防止する整流部材３２とを有する。インナーカップ４１は、スピンコートの際に基板Ｓの外周縁部から外側に放出された余剰の塗布液を回収する。コータカップ４２の下側に設けた排気口から、塗布液中の溶剤等のガスが排気される。
【００２５】
次に、スピンコート装置１００の動作を説明する。スピンコート装置１００に基板Ｓを投入し、スピナーヘッド装置２０の回転テーブル２２上に固定具２１により水平に保持する。次に、図示しない駆動モータを低速回転し、塗布液供給装置１０のノズル１１から塗布液を基板Ｓ上に円環状又は螺旋上に吐出してから駆動モータを高速回転し、回転テーブル２２と一緒に基板Ｓを高速回転して、基板Ｓ上の塗布液を展延する。このとき、余剰の塗布液を遠心力によって振り切り、振り切られた塗布液はコータカバー３１にぶつかり、インナーカップ４１内に吐出する。また、塗布液供給装置１０のアーム１２は、ノズル１１の先端が塗布液を吐出しながら、基板Ｓの内周側から外周側に所定の速度で移動するように旋回する。
【００２６】
続いて、スピンコート装置１００を用いて、色素記録層を製膜する工程について説明する。
（１）初めに、基板Ｓを回転テーブル２２上に固定具２１により水平に保持する。ノズル１１を保持する半径位置には特に制限はないが、ディスク全面に均一に溶液を塗布するためには、基板の半径Ｒ＿ｄｉｓｋの２分の１（Ｒ＿ｄｉｓｋ／２）より大きい位置とすることが好ましい。次に、図示しない駆動モータを回転し、回転開始後、上記の位置から溶液の吐出を開始する。次に回転テーブル２２と一緒に基板Ｓを回転するのと並行して、塗布液供給装置１０のアーム１２を旋回し、ノズル１１の先端を、基板Ｓの最内周側（例えば、基板の半径（ｒ）２０ｍｍ）の位置まで初期の回転速度を維持、あるいは増加させながら滑らかに移動させる。
【００２７】
溶液吐出開始時の基板Ｓの回転数は、通常、１００ｒｐｍ〜３００ｒｐｍが好ましい。最内周位置到達時の回転数は５００ｒｐｍ〜２０００ｒｐｍが好ましい。
回転数が、これよりも遅い場合は、例えば内周位置での全回転数が少なく、半径方向の均一性が損なわれる可能性があり、また低い回転数で周方向の均一性を確保するためには、吐出時間を長くする必要があり、好ましくない。逆に回転数が、これよりも速い場合は、内周部の膜厚が極端に薄くなり、極端な場合、ノズル１１から吐出された液がディスク面での大きい遠心力により生じる力で、弾かれてしまう可能性があり、塗布できなくなる可能性があり、好ましくない。ここまでの段階に至るノズル１１の移動、回転速度の制御の方法は、様々考えられるが、この段階でディスク全面を塗液が完全に覆うことが均一塗布を達成する上で好ましい。
【００２８】
（２）次に、基板Ｓの回転数を５００ｒｐｍ〜２０００ｒｐｍに保持したまま、引き続き塗布液を吐出しながら、アーム１２を旋回して、ノズル１１の先端を基板Ｓの最内周側から外周側Ｒ＿ｓｔｏｐまで所定の速度（ノズル１１の移動速度平均Ｖ）で滑らかに移動させる。Ｒ＿ｓｔｏｐにノズル１１が到達すると同時に、溶液の吐出は停止させる。（ノズル１１自体は動いていても良いが、溶液の吐出停止は必須）ノズル１１移動の途中における回転数は、最内周の回転速度をそのまま維持するか、内周の膜厚、乾燥状態を制御するために緩やかに上昇させてもよい。
【００２９】
ノズル１１から塗布液の吐出を打ち切る半径位置（Ｒ＿ｓｔｏｐ）は、３０ｍｍ以上が好ましく、さらに好ましくは４０ｍｍ以上である。ノズル１１から塗布液の吐出を打ち切る半径位置（Ｒ＿ｓｔｏｐ）を４０ｍｍ以上とすると、所望の膜厚（ＯＤ値）にするのに必要とされる最高回転数が３０００ｒｐｍ前後〜２０００ｒｐｍと安定して低い最高回転数による膜厚の最適化が可能となる（ディスク半径６０ｍｍの場合）。
Ｒ＿ｓｔｏｐが３０ｍｍ未満では、所望の膜厚（ＯＤ値）にするために必要な塗布中の最高回転数が７０００ｒｐｍを超えて上昇してしまい、本出願の効果が著しく小さくなる恐れがある。またＲ＿ｓｔｏｐ位置の上限は特に存在しないが、ディスク外周端まで溶液を吐出させると、外周エッジによる不必要な溶液はじきや、ディスク裏面まで液が回りこむ可能性があるので、ディスク半径（Ｒ＿ｄｉｓｋ）よりも１ｍｍ以上内周で溶液の吐出を停止させることが好ましい。Ｒ＿ｓｔｏｐの位置を変化させることにより、膜厚の内外分布のフレキシブルな制御が可能となる。
【００３０】
また、ノズル１１の外周への上記移動速度平均Ｖは、通常、５ｍｍ／ｓｅｃ〜１５ｍｍ／ｓｅｃが好ましい。ノズル１１の移動速度平均Ｖが５ｍｍ／ｓｅｃ以上であれば、内周の乾燥が遅くなりすぎないので好ましい。これよりもノズル１１移動が遅すぎると、溶液濃度が薄いままで保持されるため、内周の乾燥開始が遅れ、タクト時間が遅くなったり、膜厚が薄くなりすぎるので、好ましくない。一方、ノズル１１の移動速度平均Ｖが１５ｍｍ／ｓｅｃ以下であれば、次工程で記述する最高到達回転数を実用上好ましい範囲に制御（２０００ｒｐｍ〜７０００ｒｐｍ）することで、外周の膜厚をフレキシブル、特に薄めに制御できるので好ましい。ノズル１１の移動速度平均Ｖが１５ｍｍ／ｓｅｃを超えた場合は、内周の乾燥が始まる前に溶液吐出が終了してしまうため、ディスク内外での溶液の乾燥を自由に制御することができず、本発明の効果が小さくなったり、ほとんどなくなったりするので好ましくない。
尚、ノズル１１の移動速度平均Ｖは、一定の速度（１つのステップで移動させる）であってもよいし、段階的にノズル１１の移動速度を変化させ（複数のステップでノズル１１の移動速度を設定して、例えば、極めて緩やかにノズル１１の移動速度を変える等）、それらの平均値であってもよい。
【００３１】
後述するように、上記工程で、所望の膜厚（ＯＤ値）とするために必要とされる最高到達回転数は、ノズル１１の移動速度平均Ｖとも相関がある。即ち、ノズル１１の移動速度平均Ｖが大きいほど、所望の膜厚（ＯＤ値）とするためには大きな最高回転数が必要となる。
従って、ノズル１１の移動平均速度Ｖは、上記最高回転数を低減する効果をより発揮させるためには、より好ましくは１３ｍ／ｓ以下、さらに好ましくは１０ｍ／ｓ以下である。
【００３２】
（３）溶液吐出停止後も引き続き、さらに図示しない回転モータの回転数を最高回転数にまで増加させ、基板Ｓの全面が乾燥するまで、最高回転数を保持する。乾燥終了後、速やかに回転モータの回転を停止する。かかる最高回転数は、通常、２０００ｒｐｍ〜７０００ｒｐｍである。
【００３３】
前述の回転数が遅ければ、乾燥時間が長くなりすぎたり、所望の値よりも膜厚が厚くなりすぎるので好ましくない。また、回転数が速ければ、乾燥時間は短くなるが、使用するモーターの制約により最高回転数は制限される。またスピンドルモーター能力上限に近い回転、及び急激な加減速は、回転機器の寿命を縮めたり、モーターに対する微小な応答時間のずれが、膜厚の制御を困難にするので好ましくない。従って、最高回転数は、７０００ｒｐｍ以下が好ましく、より好ましくは５０００ｒｐｍ以下である。また、基板回転の最高回転数に達するタイミングは、塗布した溶液がディスク全体に展開し、その後、塗布した溶液の乾燥状態が、内周で始まった後のタイミングに設定されていることが好ましい。
【００３４】
尚、ノズル１１の先端が基板Ｓの所定の半径（Ｒ＿ｓｔｏｐ）に到達し、塗布液の吐出を打ち切る時点において、基板Ｓの最内周に塗布した塗布液の乾燥が始まるように、塗布液の濃度、吐出量、基板Ｓの回転数が調整される方が好ましい。尚、ここで乾燥とは、基板Ｓ上に吐出した塗布液中の溶媒が蒸発し、物質状態が液体から固体へと変化する過程をいう。例えば可視光記録用色素の場合、乾燥、非乾燥状態の遷移は、ディスク回転中においても色素色の変化として目視により確認できる。
【００３５】
上述した塗布液の濃度は、使用する溶媒、色素記録膜の厚さ等に応じて種々選択され特に限定されないが、通常、０．２％〜２％、好ましくは、０．５％〜１．８％である。濃度が薄い場合は溶液粘度が低くなり、膜厚が著しく薄くなったり、あるいは乾燥時間が長くなり好ましくない。逆に、濃度が濃すぎる場合は、膜厚が必要以上に厚くなったり、色素自体が溶け難くなり、その結果析出が起こりやすくなることから好ましくない。
【００３６】
ノズル１１の先端から吐出する塗布液の吐出量は、塗布液の濃度、色素記録膜の厚さ等に応じて種々選択され特に限定されないが、通常、０．０５ｇ／ｓｅｃ〜０．２ｇ／ｓｅｃである。また、吐出量の合計は、通常、１．０ｇ以下である。
吐出速度は少なすぎると、ノズル１１から吐出させることそれ自体が困難になるし、仮に連続的な吐出が可能であったとしても、ディスク全面を覆うためには、ディスク全回転数を増やす必要があり好ましくない。吐出速度が多い場合は、不必要な溶液を使用するだけなので好ましくない。
全吐出量に関しても、ほぼ同様であり、吐出が少なすぎる場合は、ディスク全面を覆うことが困難になり、好ましくない。逆に吐出量が多すぎる場合は、溶液を無駄にするだけなので経済的観点から好ましくない。
【００３７】
本実施の形態が適用される光記録媒体の製造方法において、上述した工程を経て色素記録層を製膜する際に、予め、有機色素を含む溶液又は所定の溶媒を用いて、基板Ｓの全面を非乾燥状態にしておいても良い。以下、かかる基板Ｓの全面を非乾燥状態にするためあらかじめ塗布する、有機色素を含む溶液又は所定の溶媒を、「前処理用の溶液又は所定の溶媒」という。ここで、液の非乾燥状態とは、本発明において、ディスクの回転時に、溶液もしくは溶媒が溝を横切ってディスク面上を流動できる状態である。
この前処理用の溶液又は所定の溶媒は具体的には、例えば、以下の操作により、基板Ｓの全面を非乾燥状態にすることができる。
【００３８】
先ず、基板Ｓを回転テーブル２２上に固定具２１により水平に保持した後、塗布液供給装置１０のアーム１２を旋回し、ノズル１１の先端を、基板Ｓの所定の半径（ｒ）位置に移動する。半径（ｒ）位置は、特に限定されないが、通常、基板Ｓの半径（Ｒ＿ｄｉｓｋ）の２分の１（Ｒ＿ｄｉｓｋ／２）より大きい位置である。例えば、基板Ｓの半径が６０ｍｍの場合は、通常、３０ｍｍ〜５９ｍｍ（Ｒ＿ｄｉｓｋ−１ｍｍ）の範囲で適宜選択する。
【００３９】
続いて、図示しない駆動モータを、例えば、２００ｒｐｍ程度の低速で回転し、基板Ｓを回転する。次に、有機色素を含む溶液を、ノズル１１から吐出する。次に、有機色素を含む溶液をノズル１１から吐出しながらノズル１１を基板Ｓの内周側の所定の半径（Ｒ＿ｄｉｓｋ）位置に移動する。その半径（ｒ）位置は、特に限定されないが、通常、基板Ｓの半径（Ｒ＿ｄｉｓｋ）の２分の１（Ｒ＿ｄｉｓｋ／２）より小さい位置であり、最内周側が好ましい。例えば、基板Ｓの半径が６０ｍｍの場合は、半径（ｒ）位置は２０ｍｍである。
【００４０】
ノズル１１が基板Ｓの内周側の所定の半径（ｒ）位置に到達後、基板Ｓの回転数を、例えば、９００ｒｐｍ程度に増大し、基板Ｓの全面に有機色素を含む溶液を拡げ、基板Ｓの全面を非乾燥状態にする。尚、有機色素を含む溶液の代わりに、溶媒のみを使用することもできる。
このように、色素記録層を製膜する際に、予め、有機色素を含む前処理用の溶液又は所定の溶媒を用いて、基板Ｓの全面を非乾燥状態にすることにより、後工程の色素記録層を製膜する工程において、均一な色素記録層を製膜することができる。
【００４１】
上記の方法により色素記録層を製膜する基板は、適度な加工性と剛性を有するプラスチック、金属、ガラス等を用いることができる。基板面入射型の光記録媒体の場合は、基板は入射するレーザ光に対して透明である必要がある。膜面入射型の光記録媒体では、通常、レーザ光が基板を透過することがないので、基板はレーザ光に対して透明である必要はない。
基板は、金属、ガラスでは、表面に光や熱硬化性の薄い樹脂層を設け、そこに、溝を形成する必要がある。この点、プラスチック材料を用い、射出成型によって、基板の形状、特に円盤状、と表面の案内溝を一挙に形成するほうが製造上は好ましい。
【００４２】
射出成型できるプラスチック材料としては、従来、ＣＤやＤＶＤで用いられたポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。基板の厚さとしては０．５ｍｍ〜１．２ｍｍ程度とするのが好ましい。その中で、一般的には、ポリカーボネート樹脂を材料とする基板が使用される。
ポリカーボネート樹脂は、記録再生光に対し透明であり、射出成形により溝、ピット等の細かいパターンを正確に転写することが可能であり、必要十分な耐熱性、強度を有しており、かつ汎用樹脂であるため低コストである等光学記録媒体の基板として多くの利点を持っている。基板の作成方法としては、高速で、かつ転写性にも優れた射出成形が好ましい。
【００４３】
一方で、ポリカーボネート樹脂からなる基板の欠点としては複屈折を有することが挙げられる。この欠点が問題となるのは、基板面入射型の光記録媒体においてである。複屈折は構造に起因する固有複屈折と射出成形に起因する分子配向の両因子の積で表されるため、射出成形の条件である程度制御可能であることが知られている。複屈折は記録再生光を楕円化させ信号に悪影響を及ぼすことが知られており、例えばＤＶＤ等の規格でも一定の値以下に抑えることが求められている。
【００４４】
ところが先に述べた通り、特に、基板面入射型の青色レーザ記録用の記録層においては、記録再生信号品質にとっては全く問題の無いレベルの複屈折であってもＰＰ信号に影響を与える。そのために十分なＰＰ信号を得るために基板の複屈折は−３０ｎｍ乃至それより大きくなくてはならず、再生信号品質を確保するためには＋１０ｎｍ乃至それより小さい必要があり、かつＰＰ信号の分布を小さくするためには最大値と最小値の差を３５ｎｍ以下にする必要がある。複屈折においてより好ましくは−２５ｎｍより大きい値であり、かつ＋５ｎｍより小さい値である。複屈折の最大値と最小値の差は３０ｎｍ以下であることがより好ましい。さらに好ましくは２５ｎｍ以下である。
【００４５】
尚、本発明での複屈折は対向基板貼合わせ直前の値で定義される。これは貼合わせた状態での複屈折測定が非常に困難だからである。貼合わせたディスク（例えば、市販のディスク）から貼合わせる直前の複屈折を測定するには、貼合わせを剥がし、記録層、反射層を除去することで基板そのものの複屈折が測定可能となる。複屈折は貼合わせ工程によっても変化するが、我々の検討では以下に述べる実験群４の図９に示すように貼合わせ後の複屈折も貼合わせ直前の複屈折とよく相関しているために、貼合わせ直前の複屈折を規定することで、最終的な特性を規定することが可能である。
このように規定することにより、実際のプロセスでは成形後に加熱や対向基板との接着を行うために、各々のプロセスで基板複屈折の変動が起こる貼合わせ後の複屈折の目安、即ち、完成したディスク構成での複屈折を所望の範囲とすることが可能となる目安が得られるのである。
【００４６】
上記の本願発明を満たす基板は、具体的には、以下に挙げられる方法により、実現可能である。即ち、
（１）樹脂の組成の調整
（２）樹脂温度を通常よりも高めに設定する、
（３）金型温度を通常よりも高めに設定する、
等の樹脂の流動性を高め、樹脂の配向性を調整できる公知の方法に加えて、
（４）金型の型締め圧を冷却中に適切な範囲で変化させる
ことにより、複屈折の絶対値や符号をディスク面内で調整できる。そして、複屈折のディスク面内のプロファイルを最適化できるのである。
【００４７】
（有機色素）
ここで、色素記録層に含まれる有機色素としては、特に限定されないが、通常、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポルフィリン色素等の大環状アザアヌレン系色素；シアニン色素、メロシアニン色素、スクワリリウム色素等のポリメチン系色素；ピロメテン系色素、アントラキノン系色素、アズレニウム系色素、含金属アゾ系色素、含金属インドアニリン系色素等が挙げられる。さらに、スチルベン、（カルボ）スチリル、クマリン、ピロン、カルコン、トリアゾール、スルホニルイミン系、アズラクトン系化合物等及びこれらの混合物が挙げられる。
【００４８】
色素記録層に使用される有機色素は、３５０ｎｍ〜９００ｎｍ程度の可視光〜近赤外域に最大吸収波長λｍａｘを有する。また、青色レーザ用の光記録媒体の場合は、青色〜近マイクロ波レーザでの記録に適する色素化合物が好ましい。具体的には、通常、ＣＤ−Ｒに用いられるような波長７７０ｎｍ〜８３０ｎｍ程度の近赤外レーザ（代表的には、７８０ｎｍ、８３０ｎｍ等）や、ＤＶＤ−Ｒに用いられるような波長６２０ｎｍ〜６９０ｎｍ程度の赤色レーザ（代表的には、６３５ｎｍ、６６０ｎｍ、６８０ｎｍ等）、あるいは、波長４０５ｎｍや５１５ｎｍ等のいわゆる青色レーザ等での記録に適する色素がより好ましい。
【００４９】
有機色素は一種でもよいし、同じ種類のものや異なる種類のものを二種以上混合して用いても良い。さらに、複数の波長の記録光に対し、各々での記録に適する有機色素を併用して、複数の波長域でのレーザ光による記録に対応する光記録媒体とすることもできる。
【００５０】
また、色素記録層は、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等や、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００５１】
（溶媒）
上述した有機色素を含む溶液を調製するために使用する溶媒としては、特に限定されないが、例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ溶媒；２，２，３，３−テトロフルオロ−１−プロパノール、オクタフルオロペンタノール等のフッ素系溶媒；乳酸メチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシエチル溶媒等が好適に使用される。
【００５２】
さらに、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；シクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等のアルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類等を挙げることができる。
これらの中でも、フッ素系溶媒が好ましい。上述した溶剤は、使用する有機色素の溶解性を考慮して単独または二種以上を適宜併用することができる。
【００５３】
尚、色素記録層の厚さは、記録方法等により、適した膜厚が異なるため、特に限定されないが、十分な変調度を得るために、通常、５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上であり、特に好ましくは２０ｎｍ以上である。但し、光を透過させる必要があるため、通常、３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。特に６６０ｎｍ未満の短波長レーザ用途には、１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは６０ｎｍ以下である。
【００５４】
（光記録媒体）
次に、光記録媒体について説明する。
上述したように、本実施の形態が適用される光記録媒体の製造方法が適用できる光記録媒体としては、記録・再生用のレーザ光の入射方向によって、基板面入射型と膜面入射型とに分けることができる。
膜面入射型の光記録媒体の場合は、通常、中央部に中心孔を設け、所定の半径（Ｒ）を有するディスク状の基板の上に、反射層、色素記録層、及び保護層（又は、カバー層）をこの順に設ける構造を有している。ここで、色素記録層と保護層との間に無機材料（例えば、ＺｎＳ／ＳｉＯ２）で形成されるバッファー層を設けてもよい。また、基板面入射型の光記録媒体の場合は、通常、基板上に、色素記録層、反射層、保護層をこの順に設ける構造を有している。尚、基板面入射型の光記録媒体には、基板上にハードコート層を設けてもよい。また、膜面入射型の光記録媒体には、保護層上にハードコート層を設けてもよい。
次に、光記録媒体を構成する各層について説明する。尚、色素記録層については、既に説明したので、ここでは省略する。
【００５５】
基板には、通常、トラッキング用の案内溝が形成されている。トラックピッチは、光記録媒体の記録再生に用いるレーザ光の波長によって異なる。具体的には、ＣＤ系の光記録媒体では、トラックピッチは、通常１．５μｍ〜１．６μｍである。ＤＶＤ系（赤色レーザ用）の光記録媒体では、トラックピッチは、通常０．７μｍ〜０．８μｍである。青色レーザ用の光記録媒体では、トラックピッチは、通常０．２μｍ〜０．５μｍである。一方、溝の深さも光記録媒体の記録再生に用いるレーザ光の波長によって異なる。具体的には、ＣＤ系の光記録媒体では、溝深さは、通常１０ｎｍ〜３００ｎｍである。ＤＶＤ系の光記録媒体では、溝深さは、通常１０ｎｍ〜２００ｎｍである。青色レーザ用の光記録媒体では、溝深さは、通常１０ｎｍ〜１３０ｎｍである。
【００５６】
反射層の材料としては、再生光の波長において充分高い反射率を有する材料、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ等の金属を、単独あるいは合金にして用いることができる。これらの中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く、反射層の材料として適している。また、これらの金属を主成分とした上で、加えて他の材料を含有させても良い。ここで主成分とは、含有率が５０％以上のものをいう。
【００５７】
主成分以外の他の材料としては、例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｄ等の金属及び半金属を挙げることができる。中でもＡｇを主成分とするものは、コストが安い点、高反射率が出やすい点、後述する印刷受容層を設けた場合に地色が白く美しいものが得られる点等から、特に好ましい。例えば、ＡｇにＡｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、及びＮｄから選ばれる一種以上を０．１原子％〜５原子％程度含有させた合金は、高反射率、高耐久性、高感度且つ低コストであり好ましい。
【００５８】
具体的には、例えば、ＡｇＰｄＣｕ合金、ＡｇＣｕＡｕ合金、ＡｇＣｕＡｕＮｄ合金、ＡｇＣｕＮｄ合金等である。金属以外の材料としては、低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、これを反射層として用いることも可能である。
反射層の膜厚は、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍである。反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板の上や反射層の下に、反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために、公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００５９】
また、青色レーザ用の光記録媒体の場合は、特に、青色波長域で高反射率を示すものとして、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ及びこれらを主成分とする合金が挙げられる。より好ましくは、λ＝４０５ｎｍでの反射率が高く、吸収が小さい合金である。例えば、Ａｇを主成分として、Ａｕ、Ｃｕ、希土類元素（特に、Ｎｄ）、Ｎｂ、Ｔａ、Ｖ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ等を０．０１原子％〜１０原子％添加することで、水分、酸素、硫黄等に対する耐食性が高めることができ好ましい。この他に、誘電体層を複数積層した誘電体ミラーを用いることも可能である。
【００６０】
保護層の材料は、反射層を外力から保護するものであれば、特に限定されず、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等の有機材料；酸化ケイ素、窒化ケイ素、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２等の無機材料が挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等を用いる場合は、適当な溶剤に溶解して調製した塗布液を反射層の上に塗布して乾燥させれば、保護層を形成することができる。紫外線硬化性樹脂を用いる場合は、そのまま反射層の上に塗布するか、または適当な溶剤に溶解して調製した塗布液を反射層の上に塗布し、紫外線光を照射して硬化させることによって、保護層を形成することができる。
【００６１】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。また、保護層は、単層として形成しても、多層として形成してもよい。
保護層の形成方法としては、色素記録層と同様に、スピンコート法やキャスト法等の塗布法や、スパッタリング法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、中でもスピンコート法が好ましい。保護層の膜厚は、その保護機能を果たすためにはある程度の厚さが必要とされるため、一般に０．１μｍ以上であり、好ましくは３μｍ以上である。但しあまり厚すぎると、効果が変わらないだけでなく保護層の形成に時間がかかったりコストが高くなるおそれがあるので通常１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以下である。なお、保護層に樹脂（例えば、ポリカーボネート）や金属等の板状の部材を用いる場合には、これら部材を、接着剤を用いて、記録層、バッファー層または反射層に接着すればよい。
【００６２】
また、膜面入射型の青色レーザ用の光記録媒体の場合は、保護層（又は、カバー層）は、記録再生光に対して透明で複屈折の少ない材料が選ばれ、通常は、プラスチック板（シートと呼ぶ）を接着剤で貼り合せるか、塗布後、光、放射線、または熱等で硬化して形成する。保護層は、記録再生光波長に対して透過率７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
シート剤として用いられるプラスチックは、ポリカーボネート、ポリオレフィン、アクリル、三酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート等である。接着には、光、放射線硬化、熱硬化樹脂や、感圧性の接着剤が用いられる。接着剤としてはアクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用できる。
【００６３】
例えば、青色レーザ用の光記録媒体の保護層（又は、カバー層）を形成する場合は、保護層（又は、カバー層）を構成する光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調整した後、この塗布液を色素記録層または界面層上に塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜上にポリカーボネートシートを重ね合わせる。その後、必要に応じて重ね合わせた状態で、媒体を回転させる等して塗布液をさらに延伸展開した後、ＵＶランプで紫外線を照射して硬化させる。あるいは、感圧性接着剤をあらかじめシートに塗布し、このシートを色素記録層あるいは界面層上に重ね合わせた後、適度な圧力で押さえつけて圧着する。また、塗布法によって保護層を形成する場合には、スピンコート法、ディップ法等が用いられるが、特に、スピンコート法を用いることが多い。塗布による保護層の材料としては、ウレタン、エポキシ、アクリル系の樹脂等を用い、塗布後、紫外線、電子線、放射線を照射し、ラジカル重合もしくは、カチオン重合を促進して硬化する。
【００６４】
また、光記録媒体としては、２個の色素記録層を有する２層型の光記録媒体が挙げられる。２層型の光記録媒体は、通常、記録再生光が入射する側から、第１基板、第１色素記録層、第１（半透明）反射層、透明接着層、第２色素記録層、第２反射層及び第２基板を、この順番に積層した構造を有する。
第１基板と第１色素記録層を構成する材料としては、前述した本発明の基板及び（有機色素）と同様なものが挙げられる。
【００６５】
第１（半透明）反射層は、ある程度の光透過率を持つ反射層である。つまり、記録再生光の吸収が小さく、光透過率が４０％以上あり、かつ適度な光反射率（通常、３０％以上）を持つ反射層である。例えば、反射率の高い金属を薄く設けることにより適度な透過率を持たせることができる。また、ある程度の耐食性があることが望ましい。更に、第１（半透明）反射層の上層（ここでは透明接着層）の浸み出しにより第１色素記録層が影響されないよう遮断性を持つことが望ましい。
高透過率を確保するために、第１（半透明）反射層の厚さは通常、５０ｎｍ以下が好適である。より好適には３０ｎｍ以下である。更に好ましくは２５ｎｍ以下である。但し、第１色素記録層が第１（半透明）反射層の上層により影響されないために、ある程度の厚さが必要であり、通常３ｎｍ以上とする。より好ましくは５ｎｍ以上とする。
【００６６】
第１（半透明）反射層の材料としては、再生光の波長で反射率が適度に高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ及び希土類金属等の金属及び半金属を単独あるいは合金にして用いることが可能である。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く、第１（半透明）反射層の材料として適している。これらを主成分とする以外に他成分を含んでいても良い。また、第１（半透明）反射層としてＳｉからなる層を用いることも可能である。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００６７】
透明接着層は、透明である必要があるほか、接着力が高く、硬化接着時の収縮率が小さいと媒体の形状安定性が高く好ましい。透明接着層の屈折率（記録光又は再生光の波長に対する屈折率）は、通常１．４０以上１．８０以下である。また、透明接着層は、第２色素記録層にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、透明接着層は通常、樹脂からなるため第２色素記録層と相溶しやすく、これを防ぎダメージを抑えるために両層の間に後述のバッファー層を設けることが望ましい。さらに、透明接着層は、第１（半透明）反射層にダメージを与えない材料からなることが望ましい。但し、ダメージを抑えるために両層の間に公知の無機系又は有機系の保護層を設けることもできる。
【００６８】
透明接着層の膜厚は正確に制御することが好ましい。透明接着層の膜厚は、通常５μｍ以上が好ましい。２層の色素記録層に別々にフォーカスサーボをかけるためには両記録層の間にある程度の距離がある必要がある。フォーカスサーボ機構にもよるが、通常５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上が必要である。
一般に、対物レンズの開口数が高いほどその距離は小さくてよい傾向がある。但し、あまり厚いと２層の色素記録層にフォーカスサーボを合わせるのに時間を要し、また対物レンズの移動距離も長くなるため好ましくない。また硬化に時間を要し生産性が低下する等の問題があるため、通常、１００μｍ以下が好ましい。
透明接着層の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂（遅延硬化型を含む）等を挙げることができる。
【００６９】
透明接着層は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、これを第１（半透明）反射層上に塗布し、乾燥（加熱）することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外光を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂には様々な種類があり、透明であればいずれも用いうる。またそれらの材料を単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
塗布方法としては、色素記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。或いは、粘度の高い樹脂はスクリーン印刷等によっても塗布形成できる。紫外線硬化性樹脂は、生産性を２０℃〜４０℃において液状であるものを用いると、溶媒を用いることなく塗布でき好ましい。また、粘度は２０ｍＰａ・ｓ〜１０００ｍＰａ・ｓとなるように調製するのが好ましい。なお、感圧式両面テープを用い、積層構造間にそのテープを挟んで押圧することによって接着層を形成することもできる。
【００７０】
紫外線硬化性接着剤としては、ラジカル系紫外線硬化性接着剤とカチオン系紫外線硬化性接着剤があるが、いずれも使用可能である。ラジカル系紫外線硬化性接着剤としては、公知の全ての組成物を用いることができ、紫外線硬化性化合物と光重合開始剤を必須成分として含む組成物が用いられる。紫外線硬化性化合物としては、単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレートを重合性モノマー成分として用いることができる。これらは、各々、単独または２種類以上併用して用いることができる。ここで、本発明では、アクリレートとメタアクリレートとを併せて（メタ）アクリレートと称する。
【００７１】
第２色素記録層は、入射した光ビームのパワーが第１色素記録層や第１（半透明）反射層の存在等で減少し、約半分程度のパワーで記録するために、通常、片面型記録媒体（例えば、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ）等に用いる記録層よりも高感度であることが必要である。また、良好な記録再生特性を実現するためには低発熱で高屈折率な色素を用いることが望ましい。
【００７２】
第２色素記録層の膜厚は、記録方法等により適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、十分な変調度を得るためには通常１０ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以上であり、特に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、適度な反射率を得るためには厚すぎない必要があるため、通常３μｍ以下であり、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。ここで、第２色素記録層の膜厚は、通常、厚膜部における膜厚をいう。尚、第１色素記録層と第２色素記録層とに用いる材料は同じでも良いし異なっていてもよい。
【００７３】
第２反射層の材料としては、前述したものと同様な材料が挙げられる。第２反射層は、高反射率である必要がある。また、高耐久性であることが望ましい。高反射率を確保するために、第２反射層の厚さは通常、２０ｎｍ以上が好適である。より好適には３０ｎｍ以上である。更に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、生産のタクトタイムを短くし、コストを下げるためにはある程度薄いことが好ましく、通常４００ｎｍ以下とする。より好ましくは３００ｎｍ以下とする。
【００７４】
第２基板は、２層型の光記録媒体がある程度の剛性を有するよう、形状安定性を備えるのが望ましい。即ち、機械的安定性が高く、剛性が大きいことが好ましい。このような材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に、非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるもの、ガラスからなるものを用いることができる。
また、第２基板は、複数の層から成るものであっても良く、例えばガラスや樹脂等の基板上に、光硬化樹脂等の放射線硬化樹脂からなる樹脂層を設けたもの等も第２基板として使用できる。尚、第１基板が十分な形状安定性を備えていない場合は、第２基板は特に形状安定性が高い必要がある。この点で吸湿性が小さいことが望ましい。
【００７５】
第２基板は特には透明である必要はない。このような材料としては、第１基板に用いうる材料と同じものが用い得るほか、例えば、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、Ｍｇを主成分とした例えばＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板、シリコン、チタン、セラミックスのいずれかからなる基板やそれらを組み合わせた基板等を用いることができる。
なお、成形性等の高生産性、コスト、低吸湿性、形状安定性等の点から、上述の樹脂が好ましく、特に、ポリカーボネートが好ましい。耐薬品性、低吸湿性等の点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。また、高速応答性等の点からは、ガラス基板が好ましい。
２層型の光記録媒体に十分な剛性を持たせるために、第２基板はある程度厚いことが好ましく、厚さは０．３ｍｍ以上が好ましい。但し薄いほうが記録再生装置の薄型化に有利であり、好ましくは３ｍｍ以下である。より好ましくは１．５ｍｍ以下である。
【００７６】
また、第２基板の溝の深さ（溝深さ）は、第１基板の溝の深さが、一般的な色素系光記録媒体の溝の深さよりも浅くなるようにするのが好ましい。
ここでは、透明接着層と第２色素記録層との間に中間層としてのバッファー層を設けることが好ましい。バッファー層は２つの層の混和を防止し、相溶を防ぐものである。バッファー層が混和現象を防止する以外の他の機能を兼ねていても良い。また必要に応じてさらに他の中間層を挟んでも良い。
バッファー層の材料は、第２色素記録層や透明接着層と相溶せず、かつ、ある程度の光透過性をもつ必要があるが、公知の無機物及び有機物が用いうる。特性面からは、好ましくは無機物が用いられる。例えば、金属又は半導体、金属又は半導体の酸化物、窒化物、硫化物、酸硫化物、フッ化物又は炭化物、もしくは非晶質カーボン、等が用いられる。中でも、ほぼ透明な誘電体からなる層や、ごく薄い金属層（合金を含む）が好ましい。
【００７７】
その他、バッファー層作製時に第２色素記録層の有機色素を溶解しないようなものであれば樹脂層でも構わない。特に、真空蒸着やＣＶＤ法で作製可能な高分子膜が有用である。
【００７８】
バッファー層の厚さは通常２ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、特に、金属の場合は光の透過率を過度に低下させるため、２０ｎｍ以下程度が好ましい。なお、このほか、第１（半透明）反射層と透明接着層との間等に中間層としてのバッファー層を設けてもよい。
【００７９】
さらに、２層型の光記録媒体において、必要に応じて任意の他の層を挟んでも良い。また、光記録媒体の最外面に任意の他の層を設けても良い。
さらに、記録層を３層以上としても良い。また、本層構成の光記録媒体を２枚、第１基板を外側にして貼合わせて、記録層を４層有する、より大容量媒体とすることもできる。
【００８０】
なお、これら光記録媒体の基板鏡面側（記録光又は再生光の入射面）に、表面保護やゴミ等の付着防止のために紫外線硬化樹脂層や、無機系薄膜（例えば、ＳｉＯ２）等を成膜してもよい。
また、これら光記録媒体には、必要に応じて、記録光又は再生光の入射面ではない面に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、或いは各種筆記具にて記入（印刷）が可能な印刷受容層を設けてもよい。
【実施例】
【００８１】
以下実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例によって限定されるものではない。
（実施例１）
金属キレート錯体（色素Ａ）と金属キレート錯体（色素Ｂ）の重量比５０：５０を溶媒ＴＦＰ（２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール：旭硝子株式会社製）に、重量濃度１．４（ｗｔ％）になるように加えて、有機色素を含む塗布溶液を調液した。溶媒として塗布欠陥を避けるために、直径０．１μｍフィルターを通して溶液を濾過した後、トラックピッチ０．７４μｍ、幅３２０ｎｍ、深さ１６０ｎｍの案内溝を有する、厚さ０．６ｍｍ、基板の半径Ｒ＿ｄｉｓｋが６０ｍｍの射出成形ポリカーボネート基板上に、上記の有機色素を含む溶液をスピンコート法により塗布した。塗布装置はオリジン電気株式会社製ＤＶＤ−ＷＯ色素コーターラインを使用した。具体的な塗布条件は下記の通りである。
尚、色素Ａと色素Ｂとは、図示していないが６配位の金属キレート錯体色素である。
（色素Ａ）
【００８２】
【化１】
2007152825.tif 000002
【００８３】
（色素Ｂ）
【００８４】
【化２】
2007152825.tif 000003
【００８５】
温度：２５℃
湿度：４５％
コーターカップの排気速度：０．０ｍ／ｓ〜３．０ｍ／ｓ
ノズル内径：０．３ｍｍ（ユニコントロール株式会社製２３Ｇ）
全吐出量：０．４５ｇ
【００８６】
次に、具体的な操作をプロセスチャートを用いて説明する。図２は、本実施例において、スピンコート法により色素を含む溶液を基板上に塗布する工程を示すプロセスチャートである。
（Ｓｔｅｐ０）
先ず、塗布コーターを低速（２００ｒｐｍ程度）で回転する。次に、上述した有機色素を含むＴＦＰ溶液を、アームに取り付けた吐出用ノズル（ユニコントロール株式会社製２３Ｇ：内径０．３ｍｍ）から、基板の半径（ｒ）５７ｍｍの位置に吐出する。押出圧力を調整し、上記有機色素を含むＴＦＰ溶液の吐出量を０．０８ｇ／ｓｅｃにした。
（Ｓｔｅｐ１）
次に、ノズルを２５ｍｍ／ｓｅｃで、基板の最内周側（基板の半径（ｒ）２０ｍｍ）の位置に移動する。
（Ｓｔｅｐ２）
ノズルが基板の最内周側（基板の半径（ｒ）２０ｍｍ）の位置に到達後、その位置に１．５ｓｅｃ間停止し、同時に基板の回転数を９００ｒｐｍに増大し、基板の全面に有機色素を含むＴＦＰ溶液を拡げ、ポリカーボネート基板の全面を非乾燥状態にした。
【００８７】
続いて、下記（Ｓｔｅｐ３）〜（Ｓｔｅｐ４）により、ポリカーボネート基板上に上記有機色素を含むＴＦＰ溶液を塗布し、色素記録層を製膜した。
（Ｓｔｅｐ３）
前述した（Ｓｔｅｐ２）の状態に続き、基板の回転数を保持したまま（９００ｒｐｍ）、有機色素を含むＴＦＰ溶液を吐出しながらノズルを一定の速度（１０．９ｍｍ／ｓｅｃ：以下の表２より、Ｓｔｅｐ２からＳｔｅｐ３で、半径３８ｍｍの距離を３．５秒で移動した。）で外周側に移動した。ノズルが基板の半径（ｒ）＝４２ｍｍの位置に到達した段階で有機色素を含むＴＦＰ溶液の吐出を打ち切り（Ｒ＿ｓｔｏｐ＝４２ｍｍ）、その後、ノズルを基板の半径（ｒ）＝５８ｍｍの位置まで移動した。
有機色素を含むＴＦＰ溶液の吐出を打ち切ると同時に、基板の回転数を滑らかに２２００ｒｐｍまで増大した。
（Ｓｔｅｐ４）
ノズルを基板の半径（ｒ）＝５８ｍｍの位置まで移動した後、塗布したＴＦＰ溶液の乾燥がＲ＿ｄｉｓｋのおよそ半分のところに達するときに、さらに基板の回転数を３０００ｒｐｍ（最高回転数）に増大（最高回転数）し、基板の全面が乾燥するまで、最高回転数を保持する。乾燥終了後、速やかに回転を停止した。
【００８８】
尚、図２に示すプロセスチャートにおけるスピンコートの実際の条件を表１〜表４に示す。
尚、本発明の製膜条件のすべての表中の下記の項目の意味する内容は、以下のとおりである。
ＡＳＴ（ｓ）：各ステップで所定回転数に到達するまでの秒数
ＣＮＴ（ｓ）：各ステップで所定回転数を保持する秒数
Ｍｏｖｅ（ｓ）：各ステップで所定位置への移動が終了するまでの秒数
ＷＡＩＴ（ｓ）：各ステップで所定位置で停止している秒数
ＯＮ／ＯＦＦ：各ステップで溶液を吐出する場合＝ＯＮ、吐出しない場合＝ＯＦＦ
Ｕｐ／Ｄｏｗｎ：ノズルを吐出高さに移動する＝Ｄｏｗｎ、ノズルを待機高さへ待避する＝Ｕｐ
【００８９】
【表１】
2007152825.tif 000004
【００９０】
【表２】
2007152825.tif 000005
【００９１】
尚、本実施例１においては、ノズル移動速度平均Ｖは、１０．９ｍｍ／ｓｅｃである。
【００９２】
【表３】
2007152825.tif 000006
【００９３】
【表４】
2007152825.tif 000007
【００９４】
ポリカーボネート基板は、上述した操作により有機色素を含むＴＦＰ溶液を塗布した後、７５℃恒温オーブンで２０分間乾燥した。乾燥後、ポリカーボネート基板上に製膜した色素記録層を、波長５９８ｎｍの光学メータにより吸光度（ＯＤ値）を測定したところ、基板の内周側（２４ｍｍ）から外周側（５９ｍｍ）で、所望の平均膜厚（ＯＤ値が０．７０であった。）の色素記録層が製膜されていた。尚、吸光度（ＯＤ値）の測定は、三菱化学エンジニアリング株式会社製「ＤＶＤ−Ｒ膜厚検査機」で行い、あらかじめポリカーボネート基板のみの吸光度を差し引いた値を、吸光度（ＯＤ値）ゼロ点の値として測定した。
この結果から、ポリカーボネート基板上には、所望の膜厚の色素記録層が、最高回転数３０００ｒｐｍという、通常よりも低回転数で、タクトタイム１５．２秒という短いタクトタイムを達成し、基板の内周側から外周側に良好に製膜できることが分かった。
【００９５】
（比較例１）
比較のため、（ＳｔｅｐＡ）〜（ＳｔｅｐＤ）に示すように、従来から行われているスピンコート法により、実施例１で使用したポリカーボネート基板上に色素記録層を製膜した。スピンコート法の条件は下記の通りである。
温度：２５℃
湿度：４５％
コーターカップの排気速度：０．０ｍ／ｓ〜３．０ｍ／ｓ
ノズル内径：０．５ｍｍ（ユニコントロール株式会社製２１Ｇ）
全吐出量：０．４５ｇ
【００９６】
次に、具体的な操作をプロセスチャートを用いて説明する。図３は、本比較例において、スピンコート法により色素を含む溶液を基板上に塗布する工程を示すプロセスチャートである。
（ＳｔｅｐＡ）
先ず、塗布コーターを低速（１５０ｒｐｍ程度）で回転する。次に、実施例１と同様な方法で調液した有機色素を含むＴＦＰ溶液を、内径が実施例１の場合より相対的に大きい吐出用ノズル（ユニコントロール株式会社製２１Ｇ：内径０．５ｍｍ）から、基板の半径（ｒ）３０ｍｍの位置に１．５ｓｅｃ間吐出する。押出圧力を調整し、有機色素を含むＴＦＰ溶液の吐出量を０．２ｇ／ｓｅｃにした。その後、有機色素を含むＴＦＰ溶液を吐出したまま、吐出用ノズルを基板の最内周近傍、即ち、半径（ｒ）２４ｍｍの位置迄移動し、ＴＦＰ溶液の吐出を打ち切った。有機色素を含むＴＦＰ溶液の吐出時間は合計２．６ｓｅｃである。
（ＳｔｅｐＢ）
続いて、有機色素を含むＴＦＰ溶液の吐出を打ち切った吐出用ノズルを基板の半径（ｒ）３０ｍｍの位置迄移動するとともに、基板の回転数を１２００ｒｐｍ迄増大し、有機色素を含むＴＦＰ溶液を基板の全面に拡げた。
（ＳｔｅｐＣ）
さらに、基板の回転数を滑らかに４０００ｒｐｍまで増大し、基板の内周側から外周側へ向けて順次乾燥が開始した。
（ＳｔｅｐＤ）
さらに、基板の回転数を最大回転数７０００ｒｐｍ迄増大し、最外周部まで乾燥させた。乾燥終了後、速やかに基板の回転を停止する。
【００９７】
実施例１の場合と同様に、ポリカーボネート基板は、上述した操作により有機色素を含むＴＦＰ溶液を塗布した後、７５℃恒温オーブンで２０分間乾燥した。乾燥後、ポリカーボネート基板上に製膜した色素記録層を、実施例１と同様に吸光度（ＯＤ値）を測定したところ、基板の内周側（２４ｍｍ）から外周側（５９ｍｍ）に実施例１と同様の、所望の平均膜厚の色素記録層が製膜されていた。この結果より、従来から行われているスピンコート法により、膜厚が均一な有機色素を含む色素記録層を製膜するためには、基板を高速（最大回転数７０００ｒｐｍ）で回転させる必要があることが分かる。
尚、図３に示すプロセスチャートにおけるスピンコートの実際の条件を表５〜表８に示す。
【００９８】
【表５】
2007152825.tif 000008
【００９９】
【表６】
2007152825.tif 000009
【０１００】
【表７】
2007152825.tif 000010
【０１０１】
【表８】
2007152825.tif 000011
【０１０２】
尚、本比較例１において、最大回転数を４０００ｒｐｍに変えた場合（表５のＳｔｅｐＤの回転数）には、外周側の膜厚が厚すぎて、好ましい結果が得られなかった。
【０１０３】
以下の実験群１〜実験群３の表９〜表１１におけるＯＤ（ａｖｅ．）とは、半径２４ｍｍ〜半径５９ｍｍで測定した５９８ｎｍでの吸光度の平均値である。
（実験群１）実験番号１〜実験番号７
実施例１において、ノズル１１から塗布液の吐出を打ち切る半径位置（Ｒ＿ｓｔｏｐ）を表９のようになるように、実施例１の表３のＳｔｅｐ２の時間を変化させた。それと共に、所望の膜厚（ＯＤ値）になるように基板の最高回転数（実施例１の表１のＳｔｅｐ４の基板回転数）を表９に示したように設定した以外は実施例１と同様にして色素記録層を製膜した。その結果を図４に示すように、ノズル１１から塗布液の吐出を打ち切る半径位置（Ｒ＿ｓｔｏｐ）と、所望の膜厚を形成するのに必要な最高回転数とは相関があることがわかる。ノズル１１から塗布液の吐出を打ち切る半径位置（Ｒ＿ｓｔｏｐ）を４０ｍｍ以上とすると、所望の膜厚（ＯＤ値）にするのに必要とされる最高回転数が３０００ｒｐｍ前後〜２０００ｒｐｍと安定して低い最高回転数による膜厚の最適化が可能となる。それに対し、ノズル１１から塗布液の吐出を打ち切る半径位置（Ｒ＿ｓｔｏｐ）３０ｍｍ未満とすると、所望の膜厚（本実験群においてはＯＤ値＝０．６７±０．０１）にするために必要な塗布中の最高回転数が６０００ｒｐｍを超えて上昇した。従って、本発明の効果を十分に得るためには、ノズル１１から塗布液の吐出を打ち切る半径位置（Ｒ＿ｓｔｏｐ）を３０ｍｍよりも大きくすることが必要であり、より好ましくは４０ｍｍ以上、つまり、Ｒが６０ｍｍの本実験群においては、ノズル１１から塗布液の吐出を打ち切る半径位置（Ｒ＿ｓｔｏｐ）を当該基板の半分よりも大きくすることが好ましいことがわかる。
【０１０４】
【表９】
2007152825.tif 000012
【０１０５】
（実験群２）実験番号８〜実験番号１１
実施例１において、色素濃度を１．３ｗｔ％にし、ノズル移動速度平均Ｖを表１０に記載するように変え、それに対応させてノズル１１から塗布液の吐出を打ち切る半径位置（Ｒ＿ｓｔｏｐ）を４２．０ｍｍになるように、実施例１の表３のＳｔｅｐ２の時間をそれぞれ設定した以外は実施例１と同様にして色素記録層を製膜した。図５に示すように、ノズル移動速度平均Ｖと所望の膜厚（本実験群においてはＯＤ値＝０．６７〜０．６８）にするために必要な最高回転数とは相関があることがわかる。ノズル移動速度平均Ｖを大きく設定するほど、所望の膜厚（ＯＤ値）にするために必要な最高回転数が大きくなった。ノズル１１の移動速度平均Ｖが、１５ｍｍ／ｓｅｃを越える場合には、必要となる最高回転数が５０００ｒｐｍを越えるため、好ましくないことがわかる。
【０１０６】
【表１０】
2007152825.tif 000013
【０１０７】
（実験群３）実験番号１２〜実験番号１５
実施例１において、色素濃度を１．２ｗｔ％にし、ノズル移動速度平均Ｖを表１１に記載するように変え、それに対応させて、ノズル１１から塗布液の吐出を打ち切る半径位置（Ｒ＿ｓｔｏｐ）を４２．０ｍｍにした以外は実施例１と同様にして色素記録層を製膜した。図６に示すように、ノズル移動速度平均Ｖと膜厚とは相関があり、ノズル移動速度平均Ｖが大きくなるほど、膜厚（ＯＤ値）が大きくなることがわかる。本実験群において、所望の膜厚（ＯＤ値）は０．６５（±０．０１）であるから、ノズル移動速度平均Ｖが５ｍｍ／ｓｅｃ以上であれば、所望の膜厚（ＯＤ値）よりも極端には小さくならないので好ましい。尚、実験群３において、色素濃度を１．３０ｗｔ％、１．４０ｗｔ％と１．５０ｗｔ％にし、ノズル移動速度平均Ｖを６．７３ｍｍ／ｓとしたところ、膜厚（ＯＤ値）は、それぞれ、０．６６、０．６８そして０．７２と、最高回転数３０００ｒｐｍで目的とする膜厚の良好な色素記録層の製膜ができた。
【０１０８】
【表１１】
2007152825.tif 000014
【０１０９】
以上説明したように、本実施の形態が適用される光記録媒体の製造方法によれば、スピンコート法により基板Ｓ上に塗布した塗布液の内周側と外周側との乾燥時間の差が減少し、厚さが均一な色素記録層を製膜することができる。その結果、内外均一性に優れた光記録媒体を製造することができる。
さらに、ノズルの先端から吐出する有機色素を含む溶液の吐出量とタクトタイムを増大せずに、基板Ｓ上に塗布液を効率よく流延させるためのスピンコート装置の最高回転数を低減することができるため、駆動モータの負担が小さくプロセス上においても安定な製造方法を提供することができる。尚、本実験群１〜３のスピンコートのプロセスチャートは、表１〜表４と同じＳｔｅｐ総数で設定した。
【０１１０】
（実験群４）
予備実験
トラックピッチ０．４μｍ、深さ６５ｎｍ、幅０．２２μｍの案内溝を有するスタンパーを用い、ポリカーボネートの射出成形により厚さ０．６ｍｍの基板を作成した。成形条件は固定金型温度、可動金型温度、樹脂温度を変更することで複屈折の分布を様々に変化させ、これらの基板を７０℃４０分加熱させて、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製のＡＲＧＵＳで波長６５０ｎｍでの複屈折を、測定半径を変えながら測定した結果を図７に示す。これらの基板を、ＵＶ硬化型接着剤（ソニーケミカル製ＳＫ７１００）を用いて、０．６ｍｍの対向基板を貼合わせ、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製のＡＲＧＵＳで波長６５０ｎｍでの貼合わせ後の面内複屈折を測定した結果を図７に示す。
【０１１１】
尚、図７では、記録層、反射層を設けずに基板のみを貼合わせすることで、測定光を透過させて測定を可能にし、基板単板と対応させた、貼合わせた状態のディスクの面内複屈折の測定したのである。図７より、貼合わせ前と貼合わせ後の複屈折には相関がみられることがわかる。つまり、この結果は、貼合わせ前の基板の複屈折から、貼合わせ後の複屈折が見積もれる事を意味するのである。
【０１１２】
さらに、波長４０５ｎｍ、ＮＡ（開口数）０．６５のテスター（パルステック社製）を用い、線速度６．６１ｍ／ｓ、再生パワー０．４ｍＷで当該ディスクの測定半径を変えながらＰＰ信号を測定したところ、図８の結果となった。
【０１１３】
図８より、ＰＰ信号と面内複屈折とは相関があることがわかる。尚、ＰＰ信号は、十分なサーボ特性を確保するために、０．３５以上であることが好ましく、また、０．６以下程度とすれば、記録信号にＰＰ信号が大きいことに起因するノイズが十分低くすることができることから、良好な記録信号が確保しやすいと考えられる。図８により、貼合わせ前の面内複屈折を−３０ｎｍ〜１０ｎｍとすることにより、上記の良好なＰＰ信号を確保できる可能性があることがわかる。
【０１１４】
実験群４実施例１
トラックピッチ０．４μｍ、深さ６５ｎｍ、幅０．２２μｍの案内溝を有するスタンパーを用い、ポリカーボネートの射出成形により厚さ０．６ｍｍの基板を作成した。成形条件は固定金型温度を１３０℃、可動金型温度を１１０℃とした。尚、冷却中の型締め圧は、１０ｋＮから７０ｋＮに変化させた。この基板上に、下記の構造式で示される色素Ｃ（林原生物化学研究所製  ＢＬＤ−５０００−１）１．２ｗｔ％のＴＦＰ溶媒溶液をスピンコート法し、色素記録層を製膜した。その後７０℃で４０分加熱し、溶媒を除去した。その上に１２０ｎｍのＡｇ反射膜をスパッタリングで堆積させ、ＵＶ硬化型接着剤（ソニーケミカル製ＳＫ７１００）を用いて、反射膜上に０．６ｍｍの対向基板を貼合わせた。
（色素Ｃ）
【０１１５】
【化３】
2007152825.tif 000015
【０１１６】
同じ基板を７０℃４０分加熱させて、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製のＡＲＧＵＳで波長６５０ｎｍでの複屈折を測定した結果を図９に示す。図９より、ユーザー使用領域である２５ｍｍ〜およそ５８ｍｍまでのいずれの領域においても、複屈折が、最小で約−２０ｎｍ、最大で約−５ｎｍと、小さく、また、複屈折の最大値と最小値の差が１５ｎｍと小さく良好であることがわかる。
波長４０５ｎｍの青色レーザを搭載した、ＮＡ（開口数）０．６５のテスター（パルステック社製）を用い、線速度６．６１ｍ／ｓ、再生パワー０．４ｍＷでＰＰ信号を測定したところ、図１０の結果となった。ＰＰ信号は、ユーザー使用領域全体で０．４０〜０．５０と十分大きく、また、ユーザー使用領域全体でのＰＰ信号の差が小さく、非常に良好な特性であることがわかる。
【０１１７】
実験群４比較例１
トラックピッチ０．４μｍ、深さ６５ｎｍ、幅０．２２μｍの案内溝を有するスタンパーを用い、ポリカーボネートの射出成形により厚さ０．６ｍｍの基板を作成した。成形条件は固定金型温度を１２５℃、可動金型温度を１０７℃とした。尚、冷却中の型締め圧は、２０ｋＮから５０ｋＮに変化させた。この基板上に、実験群４の実施例１と同様に色素記録層を製膜した。その後７０℃で４０分加熱し、溶媒を除去した。その上に１２０ｎｍのＡｇ反射膜をスパッタリングで堆積させ、ＵＶ硬化型接着剤（ソニーケミカル製ＳＫ７１００）を用いて、反射膜上に０．６ｍｍの対向基板を貼合わせた。
【０１１８】
同じ基板を７０℃４０分加熱させて、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製のＡＲＧＵＳで波長６５０ｎｍでの複屈折を測定した結果を図９に示す。実験群４の実施例１とは異なり、ユーザー使用領域の内周側の半径２５ｍｍから半径４０ｍｍまでに、複屈折が＋１０ｎｍから０ｎｍと大きく変化し、さらに半径４０ｍｍから半径５０ｍｍで、複屈折が０ｎｍから−３０ｎｍを下回る値と大きく変化し、さらに外周に向かって複屈折が−１０ｎｍまで変化する、という複屈折の大きな分布（複屈折の最大値と最小値の差が４０ｎｍを越えている。）を示すことがわかる。
【０１１９】
波長４０５ｎｍの青色レーザを搭載した、ＮＡ（開口数）０．６５のテスター（パルステック社製）を用い、線速度６．６１ｍ／ｓ、再生パワー０．４ｍＷでＰＰ信号を測定したところ、図１０の結果となった。ＰＰ信号が、ユーザー領域全体で０．３５を下回る値から０．５５まで、大きく分布を有し、好ましくないことがわかった。
【０１２０】
以上により、固定金型温度、可動金型温度、樹脂温度、さらには成形時の冷却中の金型の型締め圧を適切に変化させることにより、複屈折を小さくし、ユーザー領域全体での複屈折を所定の範囲まで小さくすることが可能であること、そうすることにより、青色レーザで再生しても、十分大きく、半径方法での変動が十分小さいＰＰ信号を得ることができることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】スピンコート装置を説明するための図である。
【図２】実施例において、スピンコート法により色素を含む溶液を基板上に塗布する工程を示すプロセスチャートである。
【図３】比較例において、スピンコート法により色素を含む溶液を基板上に塗布する工程を示すプロセスチャートである。
【図４】実験群１において、ノズルから塗布液の吐出を打ち切る半径位置（Ｒ＿ｓｔｏｐ）と、所望の膜厚を形成するのに必要な最高回転数との関係を説明する図である。
【図５】実験群２において、ノズル移動速度平均Ｖと所望の膜厚にするために必要な最高回転数との関係を説明する図である。
【図６】実験群３において、ノズル移動速度平均Ｖと膜厚（ＯＤ値）との関係を説明する図である。
【図７】実験群４の予備実験において、貼合わせ前と貼合わせ後の複屈折の相関を説明する図である。
【図８】実験群４の予備実験において、貼合わせ前とＰＰ信号との相関を説明する図である。
【図９】実験群４の実施例１と比較例１の基板のみの複屈折のディスク半径依存性を説明する図である。
【図１０】実験群４の実施例１と比較例１の貼合わせディスクのＰＰ信号のディスク半径依存性を説明する図である。
【符号の説明】
【０１２２】
１０…塗布液供給装置、１１…ノズル、１２…アーム、２０…スピナーヘッド装置、２１…固定具、２２…回転テーブル、３０…飛散防止装置、３１…コータカバー、３２…整流部材、４１…インナーカップ、４２…コータカップ、１００…スピンコート装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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