(57)【要約】【課題】ワーク上の塵埃を除去し、塵埃による描画不良を防止することのできる液滴吐出装置を提供する。【解決手段】ワークＷに対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッド１７を相対的に移動させながらワークＷ上に機能液滴を吐出して描画を行う描画手段３と、機能液滴吐出ヘッド１７に向かって相対的に移動するワークＷに臨み、ワークＷ上の塵埃を吸引するエアー吸込み口５と、エアー吸込み口５に連なるエアー吸引手段３１と、を備えた。【選択図】図１
2007152258.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら前記ワーク上に機能液滴を吐出して描画を行う描画手段と、
前記機能液滴吐出ヘッドに向かって相対的に移動する前記ワークに臨み、前記ワーク上の塵埃を吸引するエアー吸込み口と、
前記エアー吸込み口に連なるエアー吸引手段と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記機能液滴吐出ヘッドに向かって相対的に移動する前記ワークに臨むと共に、前記エアー吸込み口に平行に且つ隣接して配設され、前記ワーク上の塵埃を舞い上げるようエアーを吹き出すエアー吹出し口と、
前記エアー吹出し口に連なり、エアーを送気するエアー送出手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記エアー吹出し口は前記ワークの移動方向先方に配設され、前記エアー吸込み口は前記ワークの移動方向後方に配設されていることを特徴とする請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記エアー吹出し口は、吹き出されるエアーが前記エアー吸込み口側に傾いて吹き出されるよう構成されていることを特徴とする請求項２または３に記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記ワークはセットテーブルにセットされ、
前記エアー吸込み口および前記エアー吹出し口は、前記セットテーブルにセット可能な最大ワークを横断するように配設されていることを特徴とする請求項２ないし４のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
前記エアー吹出し口の内部には、吹出し方向に延在する複数の隔板が設けられていることを特徴とする請求項２ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項７】
前記描画手段、前記エアー吸込み口および前記エアー吹出し口を収容するチャンバルームと、送気側を前記チャンバルームの送気口に連通し吸気側を前記チャンバルームの排気口に連通した清浄エアー供給ユニットとを有するチャンバ装置を、更に備え、
前記エアー吸引手段は前記清浄エアー供給ユニットで構成され、且つ前記エアー吸込み口は前記排気口に連通していることを特徴とする請求項２ないし６のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項８】
前記エアー吸込み口と前記排気口とを連通する前記エアー吸込み流路には、吸込み流量調整手段が介設されていることを特徴とする請求項７に記載の液滴吐出装置。
【請求項９】
前記エアー送出手段は前記清浄エアー供給ユニットで構成され、且つ前記エアー吹出し口は前記送気口に連通していることを特徴とする請求項２ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１０】
前記エアー吹出し口と前記送気口とを連通する前記エアー吹出し流路には、吹出し流量調整手段が介設されていることを特徴とする請求項９に記載の液滴吐出装置。
【請求項１１】
前記エアー吸込み口および前記エアー吹出し口と前記ワークとの離間距離を調整する間隙調整手段を備えたことを特徴とする請求項２ないし７のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１２】
前記エアー送出手段は、前記エアー吸引手段を兼ねると共に送風機で構成され、
前記エアー吹出し口は前記送風機の吹出し側に連通し、前記エアー吸込み口は、前記送風機の吸込み側に連通しており、
前記送風機の吹出し側および吸込み側のいずれか一方には、クリーンフィルタが設けられていることを特徴とする請求項２ないし６のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワークに前記機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１ないし１２のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記ワークに前記機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１３に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１４に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板等のワーク上に付着した塵埃を除去する機能を備えた液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の液滴吐出装置として、機能液滴吐出ヘッドにより基板に描画を行う描画装置と、描画装置を収容するチャンバルームを有するチャンバ装置とを備えたものが知られている（特許文献１参照）。チャンバ装置は、チャンバルームに併設した清浄エアー供給ユニットを備えており、常時チャンバルーム内にクリーンエアーを供給し、チャンバルーム内を所定のクリーン度に維持するようにしている。
【特許文献１】特開２００４−２０２３２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、チャンバルーム外からルーム内に搬入した基板上には塵埃が付着していたり、あるいは、メンテナンス等により作業者がチャンバルーム内に入ることで、その際に進入した塵埃がチャンバルーム内の雰囲気中を浮遊し、基板上に付着してしまう虞があった。このため、基板上に塵埃が付着したまま描画を行うと、基板が描画不良となってしまう問題があった。
【０００４】
本発明は、ワーク上の塵埃を除去し、塵埃による描画不良を防止することのできる液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の液滴吐出装置は、ワークに対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながらワーク上に機能液滴を吐出して描画を行う描画手段と、機能液滴吐出ヘッドに向かって相対的に移動するワークに臨み、ワーク上の塵埃を吸引するエアー吸込み口と、エアー吸込み口に連なるエアー吸引手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
この構成によれば、描画直前に、エアー吸込み口からワーク上に付着した塵埃を吸い込んで除去することができる。これにより、機能液吐出ヘッドにより描画する際は、ワーク上に塵埃が付着していないため、適切に描画を行うことができ、塵埃による描画不良を防止することができる。
【０００７】
この場合、機能液滴吐出ヘッドに向かって相対的に移動するワークに臨むと共に、エアー吸込み口に平行に且つ隣接して配設され、ワーク上の塵埃を舞い上げるようエアーを吹き出すエアー吹出し口と、エアー吹出し口に連なり、エアーを送気するエアー送出手段と、を更に備えたことが、好ましい。
【０００８】
この構成によれば、ワークに強く付着している塵埃を舞い上げることで塵埃を吸い込みやすくすることができ、効率的に塵埃を除去することができる。また、エアー吹出し口から吹き出された吹出しエアーを隣接したエアー吸込み口が吸い込むことで、吹出しエアーのショートサーキットにより、舞い上げた塵埃をエアー吸込み口に効率よく吸引することができる。
【０００９】
この場合、エアー吹出し口はワークの移動方向先方に配設され、エアー吸込み口はワークの移動方向後方に配設されていることが、好ましい。
【００１０】
この構成によれば、エアー吹出し口から吹き出されたエアーが周囲の雰囲気内に流出することを極力小さくすることができる。
【００１１】
この場合、エアー吹出し口は、吹き出されるエアーがエアー吸込み口側に傾いて吹き出されるよう構成されていることが、好ましい。
【００１２】
この構成によれば、塵埃をより効果的に舞い上がらせることができ、且つ塵埃をエアー吸込み口に吸い込みやすくすることができる。
【００１３】
この場合、ワークはセットテーブルにセットされ、エアー吸込み口およびエアー吹出し口は、セットテーブルにセット可能な最大ワークを横断するように配設されていることが、好ましい。
【００１４】
この構成によれば、相対的にワークを移動させることで、最初の走査でワーク全面の塵埃を処理することができる。
【００１５】
この場合、エアー吹出し口の内部には、吹出し方向に延在する複数の隔板が設けられていることが、好ましい。
【００１６】
この構成によれば、エアー吹出し口から吹き出されるエアーを層流とすることができ、ワークにあたるエアーの風圧を均一にすることができる。なお、エアー吸込み口に複数の隔板を設けてもよい。これにより、エアー吸込み口からエアーを一様に吸い込むことができる。
【００１７】
この場合、描画手段、エアー吸込み口およびエアー吹出し口を収容するチャンバルームと、送気側をチャンバルームの送気口に連通し吸気側をチャンバルームの排気口に連通した清浄エアー供給ユニットとを有するチャンバ装置を、更に備え、エアー吸引手段は清浄エアー供給ユニットで構成され、且つエアー吸込み口は排気口に連通していることが、好ましい。
【００１８】
この構成によれば、チャンバ装置に設けられた清浄エアー供給ユニットを利用して、エアー吸込み口から塵埃を吸引することができるため、新たにエアー吸引手段を設ける必要がない。
【００１９】
この場合、エアー吸込み口と排気口とを連通するエアー吸込み流路には、吸込み流量調整手段が介設されていることが、好ましい。
【００２０】
この構成によれば、エアー吸込み口から吸い込むエアーの流量を調整することで、エアーの流れを局所的なものとすることができるため、気流により機能液滴吐出ヘッドの飛行曲がりや機能液の増粘等、描画に影響を与える虞がない。
【００２１】
この場合、エアー送出手段は清浄エアー供給ユニットで構成され、且つエアー吹出し口は送気口に連通していることが、好ましい。
【００２２】
この構成によれば、チャンバ装置に設けられた清浄エアー供給ユニットを利用して、エアー吹出し口からエアーを吹き出すことができるため、新たにエアー送気手段を設ける必要がない。しかも、吹き付けをクリーンエアーで行うことができる。
【００２３】
この場合、エアー吹出し口と送気口とを連通するエアー吹出し流路には、吹出し流量調整手段が介設されていることが、好ましい。
【００２４】
この構成によれば、エアー吹出し口から吹き出すエアーの流量を調整することで、エアーの流れを局所的なものとすることができるため、描画に影響を与える虞がない。
【００２５】
この場合、エアー吸込み口およびエアー吹出し口とワークとの離間距離を調整する間隙調整手段を備えたことが、好ましい。
【００２６】
この構成によれば、エアー吸込み口およびエアー吹出し口を上昇させることで、描画時において、ワークに吹き出すエアーおよび吸い込むエアーを弱くすることができるため、エアーによる描画への影響を排除することができる。
【００２７】
この場合、エアー送出手段は、エアー吸引手段を兼ねると共に送風機で構成され、エアー吹出し口は送風機の吹出し側に連通し、エアー吸込み口は、送風機の吸込み側に連通しており、送風機の吹出し側および吸込み側のいずれか一方には、クリーンフィルタが設けられていることが、好ましい。
【００２８】
この構成によれば、ワーク上の塵埃を除去する構成を、独立したものすることができる。このため、単体として取り扱うことができ、既設の装置にも容易に設置することができる。
【００２９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記の液滴吐出装置を用い、前記ワークに前記機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００３０】
また、本発明の電気光学装置は、上記の液滴吐出装置を用い、前記ワークに前記機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００３１】
これらの構成によれば、上記の液滴吐出装置を用いているため、ワークの描画不良を軽減することができ、電気光学装置を効率よく製造することができる。なお、電気光学装置（デバイス）としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置またはＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００３２】
本発明の電子機器は、上記の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００３３】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、添付の図面を参照して、本発明の液滴吐出装置について説明する。液滴吐出装置は、フラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、インクジェットヘッドである機能液滴吐出ヘッドを用いた印刷技術（インクジェット法）により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を基板上の形成するものである。その際、描画品質を考慮し基板上に付着した塵埃を除去する機能を有するものである。
【００３５】
図１および図２に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機台２上の全域に広く載置され、機能液滴吐出ヘッド１７を搭載すると共に基板Ｗ（ワーク）をセットした描画装置３と、セットされた基板Ｗに対峙するエアー吸込み口５と、エアー吸込み口５に隣接して配設したエアー吹出し口６と、描画装置３のメンテナンスに供するメンテナンス装置４と、描画装置３、エアー吸込み口５、エアー吹出し口６およびメンテナンス装置４を収容し、内部雰囲気を所定のクリーン度に維持するチャンバ装置７と、を備えている。エアー吸込み口５とエアー吹出し口６とは、ホーム位置にある基板Ｗと機能液滴吐出ヘッド１７との間に配設され、相互に平行に且つ基板Ｗ（セットテーブル２２）を横断するように配設されている。
【００３６】
液滴吐出装置１は、メンテナンス装置４により機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理（機能維持・回復）を行うと共に、描画装置３によりチャンバ装置７外部から搬入された基板Ｗ上に機能液滴を吐出させる描画動作を行うようにしている。また、図示しないが、液滴吐出装置１には、各構成部品へ駆動・制御用の圧縮エアーを供給するエアー供給装置や、パソコン等で構成され、液滴吐出装置１の各部を制御する制御装置等が組み込まれている。
【００３７】
描画装置３は、Ｘ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３（ヘッド移動手段）から成るＸＹ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられたキャリッジ１４と、キャリッジ１４に垂設したヘッドユニット１５とを有している。そして、ヘッドユニット１５には、機能液滴吐出ヘッド１７が搭載されている。一方、基板Ｗは、Ｘ軸テーブル１２の端部に臨む一対の基板認識カメラ（図示省略）により、Ｘ軸テーブル１２に位置決めされた状態で搭載されている。なお、本実施形態では、単一の機能液滴吐出ヘッド１７を搭載しているが、その個数は任意である。
【００３８】
Ｘ軸テーブル１２は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＸ軸スライダ２１を有し、これに吸着テーブル２３および基板θテーブル２４等から成るセットテーブル２２を移動自在に搭載して、構成されている。同様に、Ｙ軸テーブル１３は、Ｙ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＹ軸スライダ２６を有し、これに上記のキャリッジ１４を介してヘッドユニット１５を移動自在に搭載して、構成されている。Ｘ軸テーブル１２は、機台２上に立設した４本のＸ軸支柱２８に支持される一方、Ｙ軸テーブル１３も同様に、機台２上に立設した４本のＹ軸支柱２７に支持されており、Ｘ軸テーブル１２とメンテナンス装置４とを跨ぐように延在している。
【００３９】
そして、Ｙ軸テーブル１３は、これに搭載したヘッドユニット１５を、Ｘ軸テーブル１２の直上部に位置する描画エリア９１と、メンテナンス装置４の直上部に位置するメンテナンスエリア９２との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２にセットした基板Ｗに描画動作を行う場合には、ヘッドユニット１５を描画エリア９１に臨ませ、機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理を行う場合には、ヘッドユニット１５をメンテナンスエリア９２に臨ませる。また、Ｘ軸テーブル１２は、図示左側に位置し、基板Ｗがセットされる基板セットエリア９３と、描画エリア９１との相互間で、適宜移動させる。すなわち、基板Ｗの搬入搬出の際には、基板セットエリア９３に臨ませ、基板Ｗの交換を行い、セットした基板Ｗに描画動作を行う場合には、基板Ｗを描画エリア９１に臨ませる。
【００４０】
チャンバ装置７は、上記の描画装置３、エアー吸込み口５、エアー吹出し口６およびメンテナンス装置４を収容するチャンバルーム３０と、チャンバルーム３０に併設され、チャンバルーム３０内にクリーンエアーを供給する清浄エアー供給ユニット３１と、を備えている。
【００４１】
チャンバルーム３０は、四方を囲む側壁３３、床壁３４および天壁３５で略長方体に形成され、基板セットエリア９３側の側壁には、基板Ｗを搬入搬出するためのシャッタ付きの基板搬入出口３６が形成されている。チャンバルーム３０の天面の略全域には複数のＨＥＰＡフィルタ３７が設けられており、ＨＥＰＡフィルタ３７の背面側空間である天井内送気室３８には、清浄エアー供給ユニット３１の送気側に連通する円形の送気口３９が形成されている。また、チャンバルーム３０の側壁下部には、清浄エアー供給ユニット３１の吸気側に連通する円形の排気口４０が形成されている。なお、同図に示すように、天井内送気室３８に、送気口３９からＨＥＰＡフィルタ３７に向かって延びる複数枚の天井内風向板４１を設け、エアーをＨＥＰＡフィルタ３７に均一に導くようにしてもよい。これにより、ＨＥＰＡフィルタ３７から構成装置に向かって流れるエアーは、均一なダウンフローとなる。
【００４２】
清浄エアー供給ユニット３１は、図示しないがファン、コイルおよびフィルタを内蔵し、適宜外気を取り入れると共に、所定の温度および湿度に調整したクリーンエアーを生成し送気する。清浄エアー供給ユニット３１の送気側は、送気ダクト４５を介して上記の送気口３９に接続され、吸気側は、吸気ダクト４６を介して上記の排気口４０に接続されている。すなわち、清浄エアー供給ユニット３１は、チャンバルーム３０内の雰囲気を所定の換気回数で循環させ、チャンバルーム３０内を、所定の温度、湿度およびクリーン度に且つ正圧に維持する。実施形態の清浄エアー供給ユニット３１は、チャンバルーム３０内に、いわゆるドライクリーンエアー（ドライエアー）を供給するが、使用する機能液によっては、ドライエアーに代えて不活性ガス（窒素、二酸化炭素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンおよびラドン）を供給するようにしてもよい。
【００４３】
図３に示すように、エアー吸込み口５は、正面視略扇状の吸込み口本体５０と、吸込み口本体５０の下端に連なる吸込みノズル５１と、吸込み口本体５０の上部から側方に延びる吸込み接続口５２と、を有し、板金等で一体に形成されている。吸込みノズル５１は、Ｙ軸方向に延在するようスリット状のノズル口５３を有し、セットテーブル２２にセット可能な最大基板Ｗよりも幅広（Ｙ軸方向に長い）に形成されている。これにより、エアー吸込み口５は、基板ＷがＸ軸方向に１度走査するだけで、基板Ｗの全面を吸い込むことができるようになっている。また、吸込み口本体５０から吸込みノズル５１にかけてのエアー吸込み口５の内部には、エアーの吸込み方向を規制する複数枚の隔板５４が設けられている（図３（ｂ）参照）。この複数枚の隔板５４により、ノズル口５３はその延在方向（Ｙ軸方向）において均一な負圧状態となり、塵埃を含んだエアーを一様に吸い込むことができようになっている。
【００４４】
吸込み接続口５２には、エアー吸込みダクト５５（パイプでも可）の上流端が接続されている。そして、エアー吸込みダクト５５の下流端は、排気口４０に差し込むようにして開放されている。排気口４０は、清浄エアー供給ユニット３１の吸引作用により負圧になっており、塵埃を含んだエアーは排気口４０に吸い込まれるようにして、流出する。また、エアー吸込みダクト５５には、排気ダンパー５６（吸込み流量調整手段）が介設されており、排気ダンパー５６はボリュームダンパーで構成されている。排気ダンパー５６の羽根板を角度調整することにより、全閉から全開の間で、吸込みエアーの流量が調整される。
【００４５】
図４に示すように、エアー吹出し口６は、エアー吸込み口５の機能液滴吐出ヘッド１７側に隣接して配設されており、上記吸込み口本体５０と同形の吹出し口本体６０と、吹出し口本体６０の下端に連なる吹出しノズル６１と、を有しており、吹出し口本体６０の上端には変形ダクトとなるエアー吹出し流路６２が、板金等で一体に形成されている。吹出しノズル６１は、吸込みノズル５１と同様に、Ｙ軸方向に延在するようスリット状のノズル口６３を有し、セットテーブル２２にセット可能な最大基板Ｗよりも幅広（Ｙ軸方向に長い）に形成されている。また、吹出しノズル６１は、ノズル口６３が斜めエアー吸込み口５側に向くように、その下部が側面視屈曲形成されており、吹出しエアーは基板Ｗに向かって斜めに吹き付けられる。
【００４６】
さらに、吹出し口本体６０から吹出しノズル６１にかけてのエアー吹出し口６の内部には、エアー吸込み口５と同様に、エアーの吹出し方向を規制する複数枚の隔板６４が設けられている（図４（ｂ）参照）。この複数枚の隔板６４により、ノズル口６３はその延在方向（Ｙ軸方向）において均一な正圧状態となり、基板Ｗに向かってエアーを一様に吹き出すようになっている。なお、本実施形態では、吹出しノズル６１の下部を、屈曲形成したが、これに代えて、吹出しノズル６１の下部内部に風向板を設けてもよい。
【００４７】
エアー吹出し流路６２は、下流端が吹出し口本体６０の上端に直接接続され、上流端が上記の送気口３９近傍の天井内送気室３８に開放されており、ＨＥＰＡフィルタ３７の部分を境に上下に２分割されている。すなわち、エアー吹出し流路６２の上流路部６５は上側から、下流路部６６は下側から、それぞれＨＥＰＡフィルタ３７の取付け枠６７に固定されて、流路接続されている。天井内送気室３８に開放されたエアー吹出し流路６２の上流端部には、送気ダンパー６８（吹出し流量調整手段）が介設されており、送気ダンパー６８はボリュームダンパーで構成されている。送気ダンパー６８の羽根板を角度調整することにより、全閉から全開の間で、吹出しエアーの流量が調整される。この送気ダンパー６８と上記の排気ダンパー５６とは、基板Ｗ上の塵埃を舞い上げ且つ吸引することが可能な限りにおいて、吹出しエアーおよび吸込みエアーを調整するものである。これにより、機能液滴吐出ヘッド１７のヘッド面に気流が生ずることがなく、風圧による飛行曲がりや乾燥による機能液の増粘を防止することができる。
【００４８】
基板搬入出口３６からチャンバルーム３０内に基板Ｗを搬入し、セットテーブル２２に基板Ｗをセットすると、先ず、閉塞状態の送気ダンパー６８および排気ダンパー５６を開放して、エアー吸込み口５からの吸引とエアー吹出し口６からの吹出しとを開始させ、この状態でＸ軸テーブル１２を、Ｘ軸方向に描画移動させる。Ｘ軸方向に移動した基板Ｗは、エアー吸込み口５、エアー吹出し口６の順に臨むことで、エアー吹出し口６から吹き出されたエアーが周囲の雰囲気内に流出することを極力小さくすることができ、基板Ｗ上の塵埃が吸い取られ、エアー吹出し口６通過後の基板Ｗ上に、機能液滴吐出ヘッド１７により描画が行われる。
【００４９】
以上の構成によれば、基板Ｗ上に塵埃等が付着していたとしても、描画直前に吸い取り除去することができるため、塵埃による描画不良を防止することができる。なお、エアー吹出し口６から吹き出されるエアーおよびエアー吸込み口５から吸い込まれるエアーの流量を各ダンパー５６、６８により調整したが、エアー吹出し口６およびエアー吸込み口５と基板Ｗとの間隙を調整する間隙調整手段（例えば昇降機構）により間隙を調整し、基板Ｗに吹き当てられるエアーや吸い込まれるエアーの強さを調整してもよい。また、本実施形態では、エアー吹出し口６を設けたが、エアー吹出し口６を設けることなく、エアー吸込み口５のみで構成してもよい。
【００５０】
次に、図５および図６を参照して、本発明の第２実施形態について説明する。なお、重複した記載を避けるため、異なる部分についてのみ説明する。この実施形態の液滴吐出装置１は、吸込みおよび吹出し源として、送風機７０およびフィルタ７１を内蔵したブロワーユニット７２を備えている。ブロワーユニット７２の吹出し側には、エアー送風ダクト７３（パイプでも可）を介してエアー吹出し口６に接続され、吸込み側には、エアー吸引ダクト７４（パイプでも可）を介してエアー吸込み口５が接続されている。この場合、エアー吹出し口６は第１実施形態のものと異なり、エアー吸込み口５と同一の基本形態を有している。
【００５１】
ブロワーユニット７２の駆動により、エアー吹出し口６から基板Ｗにエアーが吹き出され、塵埃を含むエアーがエアー吸込み口５に吸引される。エアー吸込み口５に吸引されたエアーは、ブロワーユニット７２に戻り、ここでフィルタ７１により塵埃を除去され、循環使用される。この実施形態では、基板Ｗに付着した塵埃を除去する構成を塵埃除去ユニット７５として独立したものとしている。これにより、既設の液滴吐出装置１にも、簡単に組み込むことができる。なお、この場合も、エアー送風ダクト７３およびエアー吸引ダクト７４に、それぞれボリュームダンパーを介設することが、好ましい。
【００５２】
以上の構成によれば、基板Ｗ上に塵埃等が付着していたとしても、描画前に吸い取り除去することができるため、塵埃による描画不良を防止することができ、また、塵埃除去ユニット７５として独立した構成とすることができるため、単体として用いることが可能となると共に、制御においても、単体としての制御を行えばよいため、制御を容易なものとすることができる。
【００５３】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【００５４】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図７は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図８は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図８（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００５５】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図８（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図８（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１７により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００５６】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【００５７】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図８（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００５８】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図８（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００５９】
図９は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図８に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００６０】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００６１】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図９において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００６２】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００６３】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００６４】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。
【００６５】
図１０は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００６６】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【００６７】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００６８】
図１１は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００６９】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【００７０】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００７１】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００７２】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００７３】
次に、図１２は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【００７４】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００７５】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【００７６】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【００７７】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【００７８】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【００７９】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【００８０】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【００８１】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００８２】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【００８３】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【００８４】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【００８５】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１３〜図２１を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１３に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【００８６】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１４に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１５に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【００８７】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【００８８】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図２に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【００８９】
図１６に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１７から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図１７に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【００９０】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【００９１】
そして次に、図１８に示すように、各色のうちのいずれか（図１８の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【００９２】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図１９に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【００９３】
同様に、機能液滴吐出ヘッド１７を用い、図２０に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００９４】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【００９５】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２１に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【００９６】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【００９７】
次に、図２２は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【００９８】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【００９９】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１００】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１０１】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１７により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１０２】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１０３】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１７から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１０４】
次に、図２３は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１０５】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１０６】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１０７】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１０８】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１０９】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２４（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２４（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１１０】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】本実施形態に係る液滴吐出装置の上面図である。
【図２】本実施形態に係る液滴吐出装置の側面図である。
【図３】（ａ）は、エアー吸込み口の側面図であり、（ｂ）は、エアー吸込み口の断面図である。
【図４】（ａ）は、エアー吹出し口の側面図であり、（ｂ）は、エアー吹出し口の断面図である。
【図５】第２実施形態に係る液滴吐出装置の上面図である。
【図６】第２実施形態に係る液滴吐出装置の側面図である。
【図７】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図８】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図９】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１０】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１１】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１２】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１３】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１４】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１５】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１６】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１７】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１８】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１９】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２０】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２１】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２２】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２３】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２４】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１１２】
１…液滴吐出装置  ３…描画装置  ５…エアー吸込み口  ６…エアー吹出し口  ７…チャンバ装置  １７…機能液滴吐出ヘッド  ２２…セットテーブル  ３０…チャンバルーム  ３１…清浄エアー供給ユニット  ３７…ＨＥＰＡフィルタ  ３９…送気口  ４０…排気口  ５４…隔板  ５６…排気ダンパー  ６４…隔板  ６８…送気ダンパー  ７０…送風機  ７１…フィルタ  Ｗ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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