(57)【要約】【課題】透明樹脂等の樹脂が有する熱的特性等の各種特性を損なうことなく屈折率を制御できる添加剤等の用途に好適に使用することができるベンゾニトリル化合物、その製造方法、並びに、このようなベンゾニトリル化合物を含んでなる樹脂用添加剤及び樹脂組成物を提供する。【解決手段】下記一般式（１）；2007176921.tif 000055（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ａは、１〜５の整数であり、ｂ及びｃは、同一又は異なって、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＝５である。Ａは、同一又は異なって、下記一般式（２）；2007176921.tif 000056（式中、Ｘは、Ｏ又はＳである。Ｒ１は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。ｄ及びｅは、同一又は異なって、０〜５の整数であり、ｄ＋ｅ＝５である。）で表される基である。）で表されるベンゾニトリル化合物である。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）；
【化１】
2007176921.tif 000044
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ａは、１〜５の整数であり、ｂ及びｃは、同一又は異なって、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＝５である。Ａは、同一又は異なって、下記一般式（２）；
【化２】
2007176921.tif 000045
（式中、Ｘは、Ｏ又はＳである。Ｒ１は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。ｄ及びｅは、同一又は異なって、０〜５の整数であり、ｄ＋ｅ＝５である。）で表される基である。）で表されることを特徴とするベンゾニトリル化合物。
【請求項２】
前記一般式（１）におけるａ及びｃは、同一又は異なって、１〜４の整数であり、ｂは、０〜３の整数であることを特徴とする請求項１記載のベンゾニトリル化合物。
【請求項３】
前記一般式（１）におけるＲ２は、前記ｂが４の場合には、その全てがＦ（フッ素原子）を表すものではないことを特徴とする請求項１に記載のベンゾニトリル化合物。
【請求項４】
下記一般式（３）；
【化３】
2007176921.tif 000046
（式中、Ｙは、Ｂｒ又はＩを表す。Ｚは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩを表し、かつ、ＹとＺとは異なるものである。）で表されることを特徴とするベンゾニトリル化合物。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載のベンゾニトリル化合物を製造する方法であって、
該製造方法は、下記一般式（４）；
【化４】
2007176921.tif 000047
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ｂは１〜５の整数、ｃは０〜４の整数であり、ｂ＋ｃ＝５である。）で表される化合物と、下記一般式（５）；
【化５】
2007176921.tif 000048
（式中、Ｘは、Ｏ又はＳである。Ｒ１は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。ｄ及びｅは、同一又は異なって、０〜５の整数であり、ｄ＋ｅ＝５である。）で表される化合物とを反応させる工程を含んでなることを特徴とするベンゾニトリル化合物の製造方法。
【請求項６】
下記一般式（６）；
【化６】
2007176921.tif 000049
（式中、Ｍは、ＣＮ、ＮＯ２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ３又はＣＦ３を表す。Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。Ｒ６は、水素原子又は有機基を表す。ｑ及びｒは、同一又は異なって、０〜５の整数である。Ｘ１は、同一又は異なって、Ｏ、Ｓ又はＮである。Ｑは、同一又は異なって、有機基であり、Ｘ１を含む環状構造となっていてもよい。hは、０〜１、ｕは、１〜６、ｖは、１〜６、ｗは、０〜５の整数である。）で表される化合物を含んでなることを特徴とする樹脂用添加剤。
【請求項７】
請求項６に記載の樹脂用添加剤を含んでなることを特徴とする樹脂組成物。
【請求項８】
下記式；
【化７】
2007176921.tif 000050
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ａは、１〜５の整数であり、ｂ及びｃは、同一又は異なって、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＝５である。Ａは、同一又は異なって、下記一般式；
【化８】
2007176921.tif 000051
（式中、Ｒ１は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。ｄ及びｅは、同一又は異なって、０〜５の整数であり、ｄ＋ｅ＝５である。）で表される基である。Ｒ７は、下記式；
【化９】
2007176921.tif 000052
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ｂ及びｃは、同一又は異なって、０〜４の整数であり、ｂ＋ｃ＝４である。））で表されることを特徴とするトリフルオロメチルベンゼン含有化合物。
【請求項９】
下記式；
【化１０】
2007176921.tif 000053
（式中、Ｍは、ＣＮ、ＮＯ２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ３又はＣＦ３を表す。Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。α及びβは、同一又は異なって、０〜４の整数であり、α＋β＝４であり、γは、２〜６の整数である。Ｘ２は、同一又は異なって、Ｏ、Ｓ、ＮＨ又は下記式；
【化１１】
2007176921.tif 000054
（式中、Ｍは、ＣＮ、ＮＯ２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ３又はＣＦ３を表す。Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。α及びβは、同一又は異なって、０〜４の整数であり、α＋β＝４であり、γは、２〜６の整数である。）である。Ｑ１は、同一又は異なって、有機基である。）で表されることを特徴とするベンゼン環含有化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ベンゾニトリル化合物、その製造方法及び用途に関する。より詳しくは、各種工業製品の原料の他、様々な用途への適用が検討されているベンゾニトリル化合物、その製造方法、並びに、このようなベンゾニトリル化合物を用いた樹脂用添加剤及び樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ベンゾニトリル化合物とは、ベンゼン環に１個のシアノ基が置換した構造を有する化合物であり、従来から、各種工業製品の原料として広く使用されている。そして昨今では、極性基であるシアノ基に起因する特性から、様々な用途への適用が検討されている。例えば、光ファイバー、光導波路、光記録ディスク、光学フィルム、表示用基板等の光学材料分野においては、近年の情報技術の急速な発展に伴って、光学材料に使用される透明樹脂の種々の特性を改善又は向上すべく、現在試行錯誤が重ねられており、シアノ基に起因する特性を発揮することができるベンゾニトリル化合物もまた、このような分野への利用が検討されているものの１つであるが、未だ満足できるものは開発されていないのが現状である。
【０００３】
従来のベンゾニトリル化合物に関し、特定の構造を有するテトラフルオロベンゾニトリル誘導体（例えば、特許文献１参照。）、含ハロゲン芳香族化合物（例えば、特許文献２、３参照。）、含フッ素化合物（例えば、特許文献４参照。）等が開発されており、これらの化合物は、各種性能に優れ、工業的に非常に汎用性の高いものとなっている。しかしながら、光学材料用途のように開発が強く要望されている分野等においても、更に充分な性能を発揮することができるものとするための工夫の余地があった。
【特許文献１】特開２００２−１２６６２号公報（第２頁、請求項３）
【特許文献２】特開２００３−１４０２０９号公報（第２頁、請求項１）
【特許文献３】特開２００３−１３７８５５号公報（第２頁、請求項１）
【特許文献４】特開２００４−１０７９６号公報（第２頁、請求項３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、透明樹脂等の樹脂が有する熱的特性等の各種特性を損なうことなく屈折率を制御できる添加剤等の用途に好適に使用することができるベンゾニトリル化合物、その製造方法、並びに、このようなベンゾニトリル化合物を含んでなる樹脂用添加剤及び樹脂組成物を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、ベンゾニトリル化合物について種々検討した結果、１個のシアノ基を置換基として有するベンゼン環の水素原子の一部又は全てが特定の置換基に置換され、該置換基のうち少なくとも１つの基は、酸素原子（Ｏ）又は硫黄原子（Ｓ）を介してベンゼン環に結合した構造を有する基であるベンゾニトリル化合物を見いだした。そして、この化合物を透明樹脂等の樹脂に添加剤として使用した場合には、樹脂が本来有する熱的特性等の各種特性を損なうことなく屈折率制御が可能となることを見いだし、このようなベンゾニトリル化合物を含んでなる添加剤を含有する樹脂組成物が、例えば、光ファイバー、光導波路、光記録ディスク、光学フィルム、表示用基板等の光学材料に特に好適に適用し得るものであることも見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到した。また併せて、このような特定構造を有するベンゾニトリル化合物を効率的に製造する方法も見いだした。更に、新規なトリフルオロメチルベンゼン化合物、ベンゼン環化合物をも見いだし、本発明に到達したものである。
【０００６】
すなわち本発明は、下記一般式（１）；
【０００７】
【化１】
2007176921.tif 000002
【０００８】
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ａは、１〜５の整数であり、ｂ及びｃは、同一又は異なって、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＝５である。Ａは、同一又は異なって、下記一般式（２）；
【０００９】
【化２】
2007176921.tif 000003
【００１０】
（式中、Ｘは、Ｏ又はＳである。Ｒ１は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。ｄ及びｅは、同一又は異なって、０〜５の整数であり、ｄ＋ｅ＝５である。）で表される基である。）で表されるベンゾニトリル化合物である。
以下に本発明を詳述する。
【００１１】
本発明のベンゾニトリル化合物は、上記一般式（１）で表されるものである。すなわち、上記一般式（１）で示されるように、ベンゾニトリルの少なくとも一の位置にＡ基が結合し、かつ残位に水素原子（Ｈ）及び／又はＲ２基が結合した化合物である。
上記一般式（１）において、Ｒ２は、ハロゲン原子、すなわちフッ素原子（Ｆ）、塩素原子（Ｃｌ）、臭素原子（Ｂｒ）若しくはヨウ素原子（Ｉ）、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表すが、Ｒ２の少なくとも１つが、ハロゲン原子であることが好適である。より好ましくは、Ｒ２の全てがハロゲン原子であることであり、これにより、例えば樹脂に添加して用いた場合には、屈折率の制御のみならず、吸水性を充分に低下させ、撥水化させることができるため、光学材料等により好適に用いることが可能となる。また、光学材料においては、材料等に含まれるＣ−Ｈ（炭素−水素）結合による伸縮振動が伝送対象の光を吸収する場合があるが、ハロゲン原子を用いて、炭素−水素結合を炭素−ハロゲン結合とすることで、このような伝送損失を低減させることができる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子が好ましい。これにより、屈折率制御と吸水性低下とを更に充分に両立させることが可能となる。なお、Ｒ２が複数存在する場合には、それぞれ同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
なお、上記一般式（１）におけるＲ２は、上記ｂが４の場合には、その全てがＦ（フッ素原子）を表すものではないことが好適である。すなわち、−（Ｒ２）４の場合は、−Ｆ４ではないことが好適である。
【００１２】
上記Ｒ２としては、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３であることが好適である。酸素原子は、原子屈折率が高いことから、例えば、光学材料等において好適に使用することができる。ここで、Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表すが、重水素化アルキル基とは、アルキル基を構成する炭素原子に結合した水素原子の一部又は全てが重水素基で置換されたものであり、ハロゲン化アルキル基とは、アルキル基を構成する炭素原子に結合した水素原子の一部又は全てがハロゲン原子（すなわち、フッ素原子（Ｆ）、塩素原子（Ｃｌ）、臭素原子（Ｂｒ）及びヨウ素原子（Ｉ）のうち少なくとも１種以上の原子）で置換されたものである。これらの基の構造は特に限定されず、直鎖、分岐鎖、環状アルキル基のいずれの構造であってもよい。このように、Ｒ３は重水素原子やハロゲン原子を有する基であることから、Ｃ−Ｈ結合の伸縮振動による伝送損失が低減し、好適に用いることができる。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基であればよいが、重水素化アルキル基又は全ハロゲン化アルキル基であることが好適である。このように、上記一般式（１）であらわされる化合物であって、Ｒ３は、重水素化アルキル基又は全ハロゲン化アルキル基を表すものであるベンゾニトリル化合物もまた、本発明の好ましい形態の一つである。
上記アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基において、これらのアルキル基を構成する炭素数としては、１〜１２であることが好適であり、より好ましくは、１〜８である。また、炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基等が好適である。
【００１３】
上記一般式（１）において、ａ、ｂ及びｃは、ベンゾニトリルへのＡ基の結合数、Ｒ２基の結合数及び水素原子（Ｈ）の結合数を表し、それぞれ上述した範囲であれば特に限定されないが、（Ｉ）Ａ基とＲ２基とから構成される（ｃが０である）形態、（ＩＩ）水素原子が含まれる（ｃが０でない）形態が好ましい。まず、（Ｉ）の形態について、説明する。
上記（Ｉ）の形態としては、下記一般式（７）；
【００１４】
【化３】
2007176921.tif 000004
【００１５】
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ｎは、１〜５の整数であり、ｍは、０〜４の整数であり、ｎ＋ｍ＝５である。Ａは、同一又は異なって、下記一般式（８）；
【００１６】
【化４】
2007176921.tif 000005
【００１７】
（式中、Ｘは、Ｏ又はＳである。Ｒ１は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。）で表される基である。）で表されるベンゾニトリル化合物である形態が好ましい。なお、上記式（７）及び（８）において、ｎ、ｍはそれぞれ、上記式（１）におけるａ、ｂと同じである。
【００１８】
上記一般式（１）において、ａは、ベンゾニトリルへのＡ基の結合数を表し、１、２、３、４又は５の数である。中でも、１、２又は３であることが好ましく、耐熱性を考慮すると、より好ましくは１である。Ａ基のベンゾニトリルへの結合位置としては、Ａ基の結合数や種類、得られるベンゾニトリル化合物に要求される特性等によっても異なるが、例えば、ａ＝１の場合には、ベンゾニトリルの反応性を考慮すると、ベンゾニトリルの４位又は２位若しくは６位、特に好ましくは４位に結合することが好ましい。ａ＝２の場合には、４位及び２位又は６位に結合することが好ましい。ａ＝３の場合には、４位、２位及び６位に結合することが好ましい。ａ＝４の場合には、４位、２位、６位及び５位又は３位に結合することが好ましい。
【００１９】
上記一般式（１）において、ｂは、ベンゾニトリルへのＲ２基の結合数を表し、０、１、２、３又は４の数である。中でも、２、３又は４であることが好ましく、耐熱性を考慮すると、より好ましくは４である。なお、上記式（１）において、ｃが０であることから、ａ及びｂの合計は、常に５である（ａ＋ｂ＝５）。また、Ａ基のベンゾニトリルへの結合位置としては、上述したとおりであることが好ましい。
ａ及びｂの好ましい組み合わせを（ａ、ｂ）で表すと、（１、４）、（２、３）、（３、２）、（４、１）であり、より好ましくは、（１、４）、（２、３）、（３、２）であり、更に好ましくは、（１、４）である。このように、（Ｉ）の形態においては、Ｒ２基が多い形態が好ましい。Ｒ２基が多いと、該ベンゾニトリル化合物を含んでなる樹脂用添加剤は、母材の可塑化がおこりにくくなり、各種用途に好適に用いることができる。
【００２０】
上記一般式（１）においてはまた、Ａは、上記一般式（２）で表される基である。すなわち、フェノキシ基（Ｃ６Ｈ５Ｏ−）又はチオフェノキシ（Ｃ６Ｈ５Ｓ−）基の一部又は全ての残位に、Ｒ１基が結合した基である。
上記一般式（２）において、Ｘは、Ｏ又はＳであり、共に、原子屈折率が高い原子であり、ベンゾニトリル化合物の屈折率を高いものとすることができる。上記一般式（２）において、Ｒ１は、ハロゲン原子、すなわちフッ素原子（Ｆ）、塩素原子（Ｃｌ）、臭素原子（Ｂｒ）若しくはヨウ素原子（Ｉ）、シアノ基（ＣＮ）、トリフルオロメチル基（ＣＦ３）、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表すが、Ｒ１の少なくとも１つが、ハロゲン原子であることが好適である。これにより、例えば樹脂に添加して用いた場合には、屈折率の制御と樹脂の吸水性の低下とを充分に両立することが可能となる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であることが好ましい。この場合、屈折率制御と吸水性低下とを更に充分に両立させることが可能となる。なお、Ｒ１が複数存在する場合には、それぞれ同一であってもよいし、異なるものであってもよい。また、Ｒ３については、上述したとおりである。
【００２１】
上記一般式（２）において、ｄ及びｅは、それぞれ水素原子（Ｈ）の結合数及びＲ１基の結合数を表す。これらは、上述した範囲であれば特に限定されないが、上記（Ｉ）の形態においては、ｄは、０〜５の整数である。中でも、０、１、２又は３であることが好ましい。この場合、ｅは、０〜５の整数であり、好ましくは、２、３、４又は５である。なお、ｄ及びｅの合計は、常に５である（ａ＋ｂ＝５）。
ｄ及びｅの好ましい組み合わせを（ｄ、ｅ）で表すと、（０、５）、（１、４）、（２、３）、（３、２）である。このように、（Ｉ）の形態においては、伝達損失を低下させるため、Ｒ１基が多い形態が好ましい。但し、Ｘが硫黄の場合には、屈折率制御、樹脂に対する溶解性より（ｄ、ｅ）で（５、０）、（１、４）も好ましい。
【００２２】
上記一般式（２）において、ｅが１〜４の場合、Ｒ１基の結合位置としては、Ａ基やＲ２基の結合数や種類、得られるベンゾニトリル化合物に要求される特性等によっても異なるが、例えば、ｅ＝１の場合には、ベンゾニトリルの反応性を考慮すると、Ｘが結合している炭素原子を１位として、４位又は２位若しくは６位、特に好ましくは４位に結合することが好ましい。ｅ＝２の場合には、４位及び２位又は６位に結合することが好ましい。ｅ＝３の場合には、４位、２位及び６位に結合することが好ましい。ｅ＝４の場合には、４位、２位、６位及び５位又は３位に結合することが好ましい。
【００２３】
上記（Ｉ）の形態において、上記一般式（１）で表される化合物の特に好適な形態としては、添加剤の樹脂への溶解性の観点から、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一つにフッ素原子が含まれていることが好ましい。この場合、例えば、フッ素原子が一つ含まれる場合、Ｒ１のうちの少なくとも一つにフッ素原子が含まれる形態、又は、Ｒ２のうちの少なくとも一つにフッ素原子が含まれる形態が挙げられるが、フッ素原子は多く含まれる方が好ましい。
また屈折率制御の点から、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一つに塩素原子及び／又は臭素原子が含まれることが好ましい。この場合、例えば、塩素原子又は臭素原子が一つ含まれる場合、Ｒ１のうちの少なくとも一つに塩素原子又は臭素原子が含まれる形態、又は、Ｒ２のうちの少なくとも一つに塩素原子又は臭素原子が含まれる形態が挙げられる。
より好ましくは、フッ素原子は、Ｒ１及びＲ２に少なくとも１つ含まれ、求める屈折率により残りのＲ１及びＲ２の少なくとも一つは、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子のうちのいずれか一つの原子が含まれる形態である。更に好ましくは、フッ素原子は、Ｒ１及びＲ２に少なくとも１つ含まれ、残りのＲ１及びＲ２の少なくとも一つは、塩素原子及び臭素原子のうちのいずれか一つの原子が含まれる形態である。特に好ましくは、Ｒ１及びＲ２のいずれかに、フッ素原子が少なくとも一つ含まれ、他方に、塩素原子及び／又は臭素原子が少なくとも一つ含まれる形態である。この場合、例えば、Ｒ１のうちの少なくとも一つにフッ素原子が含まれる場合、Ｒ２のうちの少なくとも一つに塩素原子及び／又は臭素原子が含まれる形態が挙げられる。
例えば、上記一般式（１）で表される化合物としては、下記式や実施例で表されるような化合物であることが好ましい。なお、下記式中、Ｒ４は、同一若しくは異なって、Ｆ又はＣｌである。最も好ましくは、下記式中、Ｒ４が全てＦであるか、又は、全てＣｌである形態である。
【００２４】
【化５】
2007176921.tif 000006
【００２５】
次に、（ＩＩ）の形態について説明する。
上記（ＩＩ）の形態としては、上記一般式（１）におけるａ及びｃは、同一又は異なって、１〜４の整数であり、ｂは、０〜３の整数であるベンゾニトリル化合物である形態が好ましい。
【００２６】
上記一般式（１）において、ｃは、ベンゾニトリルへの水素原子（Ｈ）の結合数を表し、１、２、３又は４の数である。中でも、２、３又は４であることが好ましく、より好ましくは４である。ａとしては、１、２、３又は４の数であり、中でも、１、２又は３であることが好ましく、より好ましくは１である。ｂとしては、０、１、２又は３の数である。中でも、０、１又は２であることが好ましく、より好ましくは０である。なお、上記式（１）において、ａ、ｂ及びｃの合計は、常に５である（ａ＋ｂ＋ｃ＝５）。また、Ａ基のベンゾニトリルへの結合位置としては、上述したとおりであることが好ましい。
ａ、ｂ及びｃの好ましい組み合わせを（ａ、ｂ、ｃ）で表すと、（１、０、４）、（１、１、３）、（１、２、２）、（１、３、１）であり、より好ましくは、（１、０、４）、（１、１、３）であり、更に好ましくは、（１、０、４）である。このように、（ＩＩ）の形態においては、水素原子が多く、Ｒ２基が少ない形態が好ましい。Ｒ２基が少ないと、ベンゾニトリル化合物の分子量が小さいものとなり、例えば、該ベンゾニトリル化合物を含んでなる樹脂用添加剤は、少量の添加量で屈折率差をつき易くすることができ、熱特性の低下を抑えることができ、各種用途に好適に用いることができる。
上記一般式（１）におけるＡ、Ｒ３、及び、上記一般式（２）におけるＲ１、Ｘの好適な例としては上記（Ｉ）の形態におけるものと同様であることが好ましい。上記Ｒ１としてより好ましくは、塩素原子、臭素原子である。
【００２７】
上記一般式（２）において、ｄは、０〜５の整数である。中でも、２、３、４又は５であることが好ましく、より好ましくは４又は５である。この場合、ｅは、０〜５の整数であり、好ましくは、０、１、２又は３であり、より好ましくは、０又は１である。なお、ｄ及びｅの合計は、常に５である（ａ＋ｂ＝５）。
ｄ及びｅの好ましい組み合わせを（ｄ、ｅ）で表すと、（５、０）、（４、１）、（３、２）、（２、３）であり、より好ましくは、（５、０）、（４、１）である。このように、（ＩＩ）の形態においては、Ｒ１基が少ない形態が好ましい。
上記一般式（２）において、Ｒ１基の結合位置としては、上記（Ｉ）の形態におけるものと同様であることが好ましい。
【００２８】
上記一般式（１）で表される化合物の特に好適な形態としては、下記式で表されるように、ａ＝１、ｂ＝０、ｃ＝４である化合物等である。なお、下記式中、Ｒ５は、同一若しくは異なって、Ｂｒ又はＣｌである。Ｒ５の結合位置としては、下記式中、硫黄原子が結合している炭素原子を１位として、Ｒ５が４位に結合する形態が好ましい。
【００２９】
【化６】
2007176921.tif 000007
【００３０】
本発明は、また、上記ベンゾニトリル化合物を製造する方法であって、該製造方法は、下記一般式（４）；
【００３１】
【化７】
2007176921.tif 000008
【００３２】
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ｂは１〜５の整数、ｃは０〜４の整数であり、ｂ＋ｃ＝５である。）で表される化合物と、下記一般式（５）；
【００３３】
【化８】
2007176921.tif 000009
【００３４】
（式中、Ｘは、Ｏ又はＳである。Ｒ１は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。ｄ及びｅは、同一又は異なって、０〜５の整数であり、ｄ＋ｅ＝５である。）で表される化合物とを反応させる工程（以下、単に「反応工程」ともいう。）を含んでなるベンゾニトリル化合物の製造方法でもある。すなわち、本発明のベンゾニトリル化合物としては、例えば、上記一般式（４）で表される化合物と、上記一般式（５）で表される化合物とを反応させることにより得ることができる。なお、これらの化合物は、それぞれ１種又は２種以上を使用することができる。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基であればよいが、重水素化アルキル基又は全ハロゲン化アルキル基であることが好適である。このように、上記一般式（４）であらわされる化合物であって、Ｒ３は、重水素化アルキル基又は全ハロゲン化アルキル基を表すものであるベンゾニトリル化合物の製造方法もまた、本発明の好ましい形態の一つである。
【００３５】
上記一般式（４）で表される化合物において、Ｒ２は、ハロゲン原子、すなわちフッ素原子（Ｆ）、塩素原子（Ｃｌ）、臭素原子（Ｂｒ）若しくはヨウ素原子（Ｉ）、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表すが、Ｒ２の少なくとも１つが、ハロゲン原子であることが好適である。これにより、一般式（５）で表される化合物との反応性をより充分に向上させることができ、効率よく上記一般式（１）で表される化合物を製造することが可能となる。より好ましくは、Ｒ２の全てがハロゲン原子であることである。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子が好ましい。なお、Ｒ２が複数存在する場合には、それぞれ同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
【００３６】
以下に、上記ベンゾニトリル化合物が、上記（Ｉ）の形態（上記一般式（１）において、式（１）がＡ基とＲ２基とから構成される化合物）である場合について、上記製造方法を具体的に説明する。なお、本発明のベンゾニトリル化合物は、上記製造方法により好適に製造できるものであり、以下の説明についても、これらの場合に好適に適応できる。
なお、上記Ｒ３基で表されるアルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基、ｂで表されるＲ２基の結合数、ｃ並びにｄで表される水素原子の結合数、ｅで表されるＲ１基の結合数の好ましい形態については、上述したとおりである。
【００３７】
上記式（５）のｅとしては、上述のとおりであるが、ｅ＝５であることが好ましい。このように、上記ベンゾニトリル化合物を製造する方法であって、該製造方法は、下記一般式（１１）；
【００３８】
【化９】
2007176921.tif 000010
【００３９】
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ｍは、１〜５の整数である。）で表される化合物と、下記一般式（１２）；
【００４０】
【化１０】
2007176921.tif 000011
【００４１】
（式中、Ｘは、Ｏ又はＳである。Ｒ１は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。）で表される化合物とを反応させる工程を含んでなるベンゾニトリル化合物の製造方法もまた、本発明の好ましい形態の一つである。なお、上記式（４）において、ｍはｂと同じである。
【００４２】
上記一般式（４）で表される化合物の特に好適な形態としては、ペンタクロロベンゾニトリル、ペンタフルオロベンゾニトリル４−クロロベンゾニトリル、４−フルオロベンゾニトリル、３，５−ジクロロ−２，４，６−トリフルオロベンゾニトリル等が挙げられる。
【００４３】
上記一般式（４）で表される化合物としてはまた、以下のような化合物を用いることも好適である。
すなわち、下記一般式（３）；
【００４４】
【化１１】
2007176921.tif 000012
【００４５】
（式中、Ｙは、Ｂｒ又はＩを表す。Ｚは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩを表し、かつ、ＹとＺとは異なるものである。）で表されるベンゾニトリル化合物もまた、本発明の１つである。このような化合物は、上記一般式（１）で表される化合物の原料としても好適であるが、該化合物単独であっても、例えば樹脂に添加して用いた場合に、樹脂の屈折率を充分に制御でき、しかも樹脂の吸水性を充分に低減できるという作用効果を充分に発揮することが可能である。
【００４６】
上記一般式（３）で表される化合物において、Ｙ及びＺは、それぞれ異なるハロゲン原子を表すが、中でも、Ｚがフッ素原子（Ｆ）であることが好ましく、これにより、例えば樹脂に添加して用いた場合には、屈折率制御と吸水性低下とをより充分に両立することが可能となり、光学材料用途に更に好適なものとすることができる。上記化合物の特に好適な形態は、下記式で表される化合物である。
【００４７】
【化１２】
2007176921.tif 000013
【００４８】
上記一般式（３）で表される化合物の製造方法としては、例えば、ベンゾニトリルの残位全てがＺで置換された化合物に、アルカリ金属のハロゲン（ハロゲン原子：Ｙ）化物を反応させることにより得ることができる。具体的には、例えば、ペンタフルオロベンゾニトリルに、臭化リチウムを反応させることにより、上記一般式（３）中、Ｙ＝Ｂｒ、Ｚ＝Ｆの化合物を得ることが可能である。
なお、アルカリ金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等が好適である。
【００４９】
上記製造方法において、ベンゾニトリルの残位全てがＺで置換された化合物と、アルカリ金属のハロゲン（Ｙ）化物との反応モル比としては、例えば、ベンゾニトリルの残位全てがＺで置換された化合物１モルに対し、アルカリ金属のハロゲン（Ｙ）化物が３〜１０モルであることが好適である。３モル未満であると、上記一般式（３）で表される化合物をより高収率で得ることができないおそれがあり、１０モルを超えると、副生成物の発生を充分に低減することができないおそれがある。より好ましくは、３〜８モルである。
【００５０】
上記反応としては、有機溶媒中で行うことが好適である。有機溶媒としては特に限定されず、通常使用されるものを用いればよいが、例えば、後述する化合物等の１種又は２種以上を使用することができる。中でも、アセトニトリル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、Ｎ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）及びジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）が好ましい。より好ましくは、Ｎ−メチルピロリジノン（Ｎ−メチルピロリドン）である。
上記有機溶媒の使用量としては、反応を効率良く進行できる量であれば特に限定されないが、例えば、ベンゾニトリルの残位全てがＺで置換された化合物が、有機溶媒１００質量％中に０．１〜５０質量％となるように設定することが好ましい。より好ましくは０．５〜３０質量％となる量である。
【００５１】
上記製造方法における反応条件としては、上記反応が効率良く進行できる条件であれば特に限定されず、原料化合物の種類や量、その他各種条件等によって適宜選択すればよい。例えば、反応温度としては、１００〜３００℃で行うことが好ましく、より好ましくは１５０〜２５０℃である。また、反応時間は、０．１〜４０時間とすることが好ましく、より好ましくは０．１〜３０時間である。また、上記反応工程は、加圧下、常圧下又は減圧下のいずれの圧力下で行ってもよいが、取扱性や設備面を考慮すると、常圧下で行うことが好適である。
上記製造方法において、上述した反応以外の工程については特に限定されるものではないが、例えば、上記反応終了後、まず冷却し、その後、析出塩を取り除いたうえで溶媒留去を行った後に蒸留したり、溶媒留去後、有機溶媒により抽出し、カラムクロマトグラフを用いる等の方法により、反応生成物とその他の成分とを分離したりすることが好適である。
【００５２】
上記一般式（５）で表される化合物において、Ｒ１は、ハロゲン原子、すなわちフッ素原子（Ｆ）、塩素原子（Ｃｌ）、臭素原子（Ｂｒ）若しくはヨウ素原子（Ｉ）、シアノ基（ＣＮ）、トリフルオロメチル基（ＣＦ３）、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表すが、Ｒ１の少なくとも１つが、ハロゲン原子であることが好適である。これにより、一般式（４）で表される化合物との反応性をより充分に向上させることができ、効率よく上記一般式（１）で表される化合物を製造することが可能となる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であることが好ましい。なお、Ｒ１が複数存在する場合には、それぞれ同一であってもよいし、異なるものであってもよい。また、Ｒ３については、上述したとおりである。
【００５３】
上記（Ｉ）の形態においては、上記一般式（５）で表される化合物の特に好適な形態としては、Ｒ１基の少なくとも１つがフッ素原子である形態である。
【００５４】
上記反応工程において、上記一般式（４）で表される化合物及び一般式（５）で表される化合物の使用量としては、一般式（５）で表される化合物の一般式（４）で表される化合物への付加モル数（すなわち、上記一般式（１）におけるａ）によって異なり、これらが効率よく反応し得る量であれば特に限定されないが、反応効率や反応選択性を考慮すると、一般式（４）で表される化合物が、一般式（５）で表される化合物に対して過剰量であることが好適である。
【００５５】
具体的には、例えば、一般式（５）で表される化合物の一般式（４）で表される化合物への付加モル数が１である（すなわち、上記一般式（１）中のａが１である）場合には、一般式（４）で表される化合物は、一般式（５）で表される化合物１モルに対して、１〜４０モルであることが好ましい。より好ましくは１〜２０モルである。
上記付加モル数が２である（すなわち、上記一般式（１）中のａが２である）場合には、一般式（４）で表される化合物は、一般式（５）で表される化合物１モルに対して、０．５〜２０モルであることが好ましい。より好ましくは０．５〜１０モルである。
上記付加モル数が３である（すなわち、上記一般式（１）中のａが３である）場合には、一般式（４）で表される化合物は、一般式（５）で表される化合物１モルに対して、０．３〜１５モルであることが好ましい。より好ましくは０．３〜７モルである。
上記付加モル数が４である（すなわち、上記一般式（１）中のａが４である）場合には、一般式（４）で表される化合物は、一般式（５）で表される化合物１モルに対して、０．２〜１０モルであることが好ましい。より好ましくは０．２〜５モルである。
ここで、一般式（４）で表される化合物が上述した下限値を下回ると、一般式（５）で表される化合物と充分に反応できないおそれがあり、目的物であるベンゾニトリル化合物の収率を高めることができず、反応選択率が充分とはならないおそれがある。また、一般式（４）で表される化合物が上述した上限値を超えても、添加に見合う作用効果が得られず経済的でないうえ、過剰の一般式（４）で表される化合物が残存し、回収コストを充分に低減することができないおそれがある。
【００５６】
上記反応工程は、触媒の存在下で行うことが好ましく、触媒としては、塩基触媒であることが好適である。塩基触媒としては特に限定されず、通常使用されるものを用いればよいが、例えば、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム、フッ化リチウム、フッ化セシウム、塩化カリウム、塩化ナトリウム、塩化リチウム及び塩化セシウム等のアルカリ金属塩；塩化カルシウム及び塩化マグネシウム等のアルカリ土類金属塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸カリウム及び炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩；炭酸カルシウム及び炭酸マグネシウム等のアルカリ土類金属の炭酸塩；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリシクロヘキシルアミン、トリベンジルアミン、トリフェニルアミン及びピリジン等の第三級アミン等が挙げられ、これらの１種又は２種以上を用いることができる。中でも、フッ化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、トリプロピルアミン及びピリジンが好ましい。
上記触媒の使用量としては、上記一般式（４）で表される化合物及び一般式（５）で表される化合物との反応を効率良く進行できる量であれば特に限定されないが、例えば、一般式（５）で表される化合物１モルに対し、０．５〜２０モルであることが好ましい。より好ましくは１〜１０モルである。
上記反応工程においてはまた、上記一般式（５）で表される化合物のアルカリ金属塩やアルカリ土類金属塩を反応に供することもできる。
【００５７】
上記反応工程はまた、有機溶媒中で行うことが好適である。有機溶媒としては特に限定されず、通常使用されるものを用いればよいが、例えば、アセトニトリル及びベンゾニトリル等のニトリル類；アセトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びシクロヘキサノン等のケトン類；クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素、クロロエタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン及びテトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジフェニルエーテル、ベンジルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル及びシクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル及び酢酸ブチル等のエステル類；Ｎ−メチルピロリジノン（Ｎ−メチルピロリドン）（ＮＭＰ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）及びジメチルアセトアミド等が挙げられ、これらの１種又は２種以上を用いることができる。中でも、アセトニトリル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、Ｎ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）及びジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ジメチルアセトアミドが好ましい。
上記有機溶媒の使用量としては、反応を効率良く進行できる量であれば特に限定されないが、例えば、上記一般式（４）で表される化合物と上記一般式（５）で表される化合物との合計量が、該合計量と有機溶媒との総量１００質量％に対し、１〜５０質量％となるように設定することが好ましい。より好ましくは１〜４０質量％となる量であり、更に好ましくは１〜２０質量％となる量である。
【００５８】
上記反応工程における反応条件としては、上記一般式（４）で表される化合物と上記一般式（５）で表される化合物との反応が効率良く進行できる条件であれば特に限定されず、これらの化合物や塩基、有機溶媒等の反応原料の種類や量、その他各種条件等によって適宜選択すればよい。例えば、反応温度としては、−２０〜２００℃で行うことが好ましく、より好ましくは−５〜１５０℃である。また、反応時間は、０．１〜４０時間とすることが好ましく、より好ましくは０．１〜２０時間である。また、上記反応工程は、加圧下、常圧下又は減圧下のいずれの圧力下で行ってもよいが、取扱性や設備面を考慮すると、常圧下で行うことが好適である。
【００５９】
上記製造方法としては、上述した反応工程を含むものである限り、その他の工程については特に限定されるものではないが、例えば、上記反応工程後、析出塩を取り除いたうえで溶媒留去を行った後に蒸留したり、溶媒留去後、有機溶媒により抽出し、カラムクロマトグラフを用いる等の方法により、反応生成物とその他の成分とを分離したりすることが好適である。
【００６０】
本発明のベンゾニトリル化合物としては、各種工業製品の原料として好適に用いることが可能であるが、中でも、樹脂に添加する剤、すなわち樹脂用添加剤として特に好適に用いることができ、樹脂用添加剤として用いた場合には、樹脂が本来有する各種特性を損なうことなく屈折率制御が可能となり、しかも樹脂の吸水性を充分に低下させることも可能となる。このように、本発明のベンゾニトリル化合物を含んでなる樹脂用添加剤もまた、本発明の好適な形態の１つである。
【００６１】
本発明はまた、下記の構成からなる樹脂用添加剤としても同様の作用効果を奏することができる。
すなわち、下記一般式（６）；
【００６２】
【化１３】
2007176921.tif 000014
【００６３】
（式中、Ｍは、ＣＮ、ＮＯ２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ３又はＣＦ３を表す。Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。Ｒ６は、水素原子又は有機基を表す。ｑ及びｒは、同一又は異なって、０〜５の整数である。Ｘ１は、同一又は異なって、Ｏ、Ｓ又はＮである。Ｑは、同一又は異なって、有機基であり、Ｘ１を含む環状構造となっていてもよい。hは、０〜１、ｕは、１〜６、ｖは、１〜６、ｗは、０〜５の整数である。）で表される化合物を含んでなる樹脂用添加剤もまた、本発明の１つである。
【００６４】
上記一般式（６）で表される化合物としては、本発明の作用効果を発揮する限り特に限定されないが、（１）ｕ＝１であって、ｗ＝０〜５である形態、（２）ｗ＝１であって、ｕ＝２〜６である形態が好ましい。なお、上記形態（１）及び（２）においては、一般式（６）中、Ｒ６が有機基である場合の具体例としては、下記式；
【００６５】
【化１４】
2007176921.tif 000015
【００６６】
であることが好適である。
上記（１）の形態としては、Ｍ基（ＣＮ基、ＮＯ２基、ＣＯＯＨ基、ＣＯＯＲ３基、ＣＦ３基）で表される電子吸引性基を有するベンゼン環１つに対し、〔Ｘ１（Ｒ６h）〕ｖ−Ｑ  （Ｘ１は、Ｏ、Ｓ又はＮ）で表される電子供与基を０〜５置換有する化合物である。一方、上記（２）の形態としては、〔Ｘ１（Ｒ６h）〕ｖ−Ｑ  （Ｘ１は、Ｏ、Ｓ又はＮ）で表される電子供与基１つに対し、Ｍ基（ＣＮ基、ＮＯ２基、ＣＯＯＨ基、ＣＯＯＲ３基、ＣＦ３基）で表される電子吸引性基を有するベンゼン環を１〜６置換有する化合物である。
【００６７】
上記（１）の形態においては、Ｑは、同一又は異なって、有機基であり、Ｘ１を含む環状構造となっていてもよい。上記有機基としては、炭素数１〜１８の炭化水素基、炭素数１〜１８炭化フッ素基、炭素数６〜１８の芳香族基等の１種又は２種以上が好ましい。
上記炭素数１〜１８の炭化水素基、炭素数１〜１８の炭化フッ素基は、直鎖、分岐鎖又は環状であってもよく、窒素元素、酸素元素、硫黄元素を含んでいてもよい。また、これらの炭素数としては、１〜１８であることが好ましく、１〜１０であることがより好ましい。
Ｑが炭素数１〜１８の炭化水素基である場合の〔Ｘ１（Ｒ６h）〕ｖ−Ｑの具体例としては、下記式；
【００６８】
【化１５】
2007176921.tif 000016
【００６９】
等が挙げられる。なお、上記炭素数１〜１８の炭化水素基、炭素数１〜１８の炭化フッ素基が、環状である場合の一例として、５員環である場合の〔Ｘ１（Ｒ６h）〕ｖ−Ｑを記載した。
上記Ｑが、炭素数６〜１８の芳香族基である場合の〔Ｘ１（Ｒ６h）〕ｖ−Ｑの具体例としては、下記式；
【００７０】
【化１６】
2007176921.tif 000017
【００７１】
等が挙げられる。
上記（１）の形態の好ましい例としては、下記式；
【００７２】
【化１７】
2007176921.tif 000018
【００７３】
等が挙げられる。
また上記（１）の形態においては、Ｍは、ＣＮ、ＮＯ２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ３又はＣＦ３であればよいが、ＣＮ又はＣＦ３であることが好ましい。特に、ＣＮであると、透明樹脂等の樹脂が有する熱的特性等の各種特性を損なうことなく屈折率を抑制するという作用効果を充分に発揮できることとなる。このように、ベンゾニトリル化合物を含んでなる樹脂用添加剤であって、該ベンゾニトリル化合物は、下記一般式（９）；
【００７４】
【化１８】
2007176921.tif 000019
【００７５】
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ｐ、ｑ及びｒは、同一又は異なって、０〜５の整数であり、ｐ＋ｑ＋ｒ＝５である。Ａは、同一又は異なって、下記一般式（１０）；
【００７６】
【化１９】
2007176921.tif 000020
【００７７】
（式中、Ｘは、Ｏ又はＳである。Ｒ１は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。ｓ及びｔは、同一又は異なって、０〜５の整数であり、ｓ＋ｔ＝５である。）で表される基である。）で表されるものである樹脂用添加剤もまた、本発明の好ましい形態の１つである。上記樹脂用添加剤において、Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基であればよいが、重水素化アルキル基又は全ハロゲン化アルキル基であることが好適である。このように、上記一般式（９）であらわされる化合物であって、Ｒ３は、重水素化アルキル基又は全ハロゲン化アルキル基を表すものである樹脂用添加剤もまた、本発明の好ましい形態の一つである。
【００７８】
上記一般式（９）において、ｐ、ｑ及びｒは、それぞれベンゾニトリルへのＡ基の結合数、Ｒ２基の結合数及び水素原子（Ｈ）の結合数を表し、それぞれ上述した範囲であれば特に限定されないが、（ＩＩＩ）Ｒ２基が多い形態、又は、（ＩＶ）Ｒ２基が少ない形態が好ましい。
まず、（ＩＩＩ）の形態について、説明する。
上記（ＩＩＩ）の形態としては、ベンゾニトリル化合物を含んでなる樹脂用添加剤であって、該ベンゾニトリル化合物は、下記一般式（１３）；
【００７９】
【化２０】
2007176921.tif 000021
【００８０】
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ｐ及びｑは、同一又は異なって、０〜５の整数である。Ａは、同一又は異なって、下記一般式（１４）；
【００８１】
【化２１】
2007176921.tif 000022
【００８２】
（式中、Ｘは、Ｏ又はＳである。Ｒ１は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。ｒは、０〜５の整数である。）で表される基である。）で表されるものである樹脂用添加剤が好ましい。
【００８３】
上記（ＩＩＩ）Ｒ２基が多い形態としては、上記一般式（９）で表されるベンゾニトリル化合物において、ｐは、ベンゾニトリルへのＡ基の結合数を表し、０〜５の整数である。中でも、１、２、３又は４の数であることが好ましく、より好ましくは、１、２又は３であり、耐熱性を考慮すると、更に好ましくは１である。また、ｑは、ベンゾニトリルへのＲ２基の結合数を表し、０〜５の整数である。中でも、１、２、３又は４の数であることが好ましく、より好ましくは、２、３又は４であり、耐熱性を考慮すると、更に好ましくは４である。ｒは、ベンゾニトリルへの水素原子の結合数を表し、０〜５の整数である。中でも、０、１、２又は３の数であることが好ましく、より好ましくは、０、１又は２であり、更に好ましくは０である。なお、ｐ及びｑの合計は、５であることが好適である。また、上記Ａ基におけるｔは、０〜５の整数であるが、中でも５であることが好ましい。
上記式（９）において、ｐ及びｑの組み合わせ、Ａの結合位置、これら以外の記号については、上記一般式（１）において、（Ｉ）の形態として上述したとおりであることが好ましい。
このように、上記ｐ、ｑ及びｒは、それぞれ上述した一般式（１）におけるａ、ｂ及びｃであることが好適であり、また、上記ｓは０、ｔは５であることが好ましい。すなわち、上記一般式（９）で表される化合物は、上記一般式（１）で表されるものであることが好ましく、上記一般式（８）で表されるものであることが特に好ましい。
【００８４】
次に、（ＩＶ）Ｒ２基が少ない形態について、説明する。
上記（ＩＶ）Ｒ２基が少ない形態としては、ｐは、上記（ＩＩＩ）の形態の場合のｐと同じであることが好ましい。ｑとしては、０〜５の整数であるが、０、１、２又は３の数であることが好ましい。より好ましくは、０、１又は２であり、更に好ましくは、０である。ｒは、ベンゾニトリルへの水素原子の結合数を表し、０〜５の整数である。中でも、１、２、３又は４の数であることが好ましく、より好ましくは、２、３又は４であり、更に好ましくは４である。なお、ｐ、ｑ及びｒの合計は、５であり、上記Ａ基におけるｔは、０〜５の整数であるが、中でも０、１であることが好ましい。
上記式（９）において、ｐ、ｑ及びｒの組み合わせ、Ａの結合位置、これら以外の記号については、上記一般式（１）において、（ＩＩ）の形態として上述したとおりであることが好ましい。このように、上記ｐ、ｑ及びｒは、それぞれ上述した一般式（１）におけるａ、ｂ及びｃであることが好適であり、また、上記ｓ及びｔは、上述した一般式（２）におけるｄ及びｅであることが好ましい。すなわち、上記一般式（９）で表される化合物は、上記一般式（１）で表されるものであることが好ましく、上記一般式（１）におけるａ及びｃは、同一又は異なって、１〜４の整数であり、ｂは、０〜３の整数であるものであることが特に好ましい。
【００８５】
上記（ＩＩＩ）及び（ＩＶ）の形態としては、ベンゾニトリル化合物の用途等に応じて適宜選択することができる。例えば、樹脂用添加剤として工業的に有用なものとしては、伝送損失が出にくく、屈折率差がつき易く、母材の可塑化が起こりにくいものであることが好適であり、これらのバランスのとれた添加剤が好ましい。
【００８６】
上記（２）の形態としては、〔Ｘ１（Ｒ６h）〕ｖ−Ｑ  （Ｘ１は、Ｏ、Ｓ又はＮ）で表される電子供与基１つのものである。上記（２）の形態においては、Ｑ、Ｍ、Ｒ２は、上記（１）の形態のものと同様であることが好ましい。
上記（２）の形態の好ましい例としては、下記式；
【００８７】
【化２２】
2007176921.tif 000023
【００８８】
等が挙げられる。
【００８９】
本発明の樹脂用添加剤に含まれる化合物としては、芳香族求核置換反応によって得られることが好ましい。例えば、オクタフルオロトルエンを例として説明すると、ＣＮ基、ＮＯ２基、ＣＯＯＨ基、ＣＯＯＲ基、ＣＦ３基などの電子吸引性基が、Ｆのような脱離基は、水酸基のような電子供与性基と置換することが可能となる。置換する電子供与性基としては、芳香族及び脂肪族のアルコール、チオール、アミン等が好適であり、オクタフルオロトルエンに呈して反応させることにより得ることができる。例えば、下記反応がおこることとなり、上記形態（１）の化合物が得られる。
【００９０】
【化２３】
2007176921.tif 000024
【００９１】
このような反応は、多数の電子供与性基を持つ化合物で行った場合、例えば、下記反応がおこることとなり、上記形態（２）の化合物が得られる。
【００９２】
【化２４】
2007176921.tif 000025
【００９３】
本発明の樹脂用添加剤は、上記一般式（９）で表されるベンゾニトリル化合物を含有するものであるが、このような構造を有することに起因して、透明樹脂等の樹脂が有する熱的特性等の各種特性を損なうことなく屈折率を制御するという作用効果を充分に発揮できることとなる。
このような樹脂用添加剤において、上記ベンゾニトリル化合物の含有割合としては、樹脂用添加剤１００質量％に対し、１〜１００質量％であることが好適であり、より好ましくは２０〜１００質量％である。
【００９４】
上記樹脂用添加剤としては、樹脂に配合して用いることが好ましく、上記樹脂用添加剤を含んでなる樹脂組成物もまた、本発明の１つである。
このような樹脂組成物において、本発明の樹脂用添加剤の含有割合としては特に限定されず、例えば、樹脂１００重量部に対し、上記ベンゾニトリル化合物が１〜１００重量部となるようにすることが好適である。１重量部未満であると、屈折率を充分に制御することができないおそれがあり、また、樹脂が充分に低吸水率化、撥水化されないおそれがある。１００重量部を超えると、樹脂が有し得る透明性や機械的強度等の基本特性が充分に発揮されないおそれがある。下限値として好ましくは、１であり、より好ましくは５であり、更に好ましくは、１０である。上限値として好ましくは、１００であり、より好ましくは、８０であり、更に好ましくは、７０である。範囲としては、例えば、５〜８０重量部であることがより好ましく、更に好ましくは５〜７０重量部である。また、５〜１００重量部であることが好ましく、１０〜１００重量部であることがより好ましい。
【００９５】
上記樹脂組成物としては、樹脂を含むものであればよいが、中でも、透明性をもつ成形物を形成する重合体を含有するものであることが好適である。このような重合体は、透明性をもつ成形物を形成するものであればよく、該重合体を含有する樹脂組成物としては、例えば、後述するようなアクリル系樹脂等の透明樹脂を含有するものが特に好ましい。
ここで、透明性とは、高い光線透過率を有していることを意味し、透明性をもつ成形物を形成する重合体を含有する樹脂組成物とは、全光線透過率が７０％以上であるものを指している。全光線透過率としては、好ましくは、８０％以上、より好ましくは９０％以上である。その測定方法は、例えば、測定装置として、測色色差計  ＮＤＨ−１００１ＤＰ型（日本電色工業社製）を用いた方法等が挙げられる。
【００９６】
上記成形物としては、ファイバー、成形体、厚膜フィルム等が好適である。ファイバーとは、繊維状の成形物であり、その直径は、１０μｍ以上、１００００μｍ以下であることが好ましい。成形体とは、所定の形状を有する成形物であり、例えば、ペレット形状、平板や波板等のシート形状、パイプ形状等の成形体；半円、Ｌ字形、Ｔ字形、Ｕ字形、山形等の形状をしている異形の成形体が挙げられる。厚膜フィルムとは、フィルム又はシート状の成形物であり、厚さとしては、１０μｍ以上、１０００μｍ以下であることが好ましい。
上記成形物の成形方法としては、射出成形、押出成形、真空成形、ブロー成形、熱成形、圧縮成形、カレンダー成形、粉末成形、発泡成形、積層成形、溶剤キャスト法等の方法が好適である
【００９７】
上記透明樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、フッ素系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、シリコン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリケトン系樹脂等が好適であり、これらの１種又は２種以上を使用することができる。より好ましくは、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂である。
上記アクリル系樹脂としては、（メタ）アクリル酸やそのエステル化合物を必須成分として含む単量体成分を重合して得られる重合体を含んでなるものであることが好ましく、例えば、ポリメチルメタクリレート、他種の単量体を共重合したポリメチルメタクリレート、マレイミド変性ポリメチルメタクリレート、重水素化ポリメチルメタクリレート等が好適である。また、これらのアクリル系樹脂の混合物又は共重合物も好適である。
上記ポリカーボネート樹脂としては、主鎖にカーボネート結合（−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−）を有する重合体を含んでなるものであることが好ましい。
【００９８】
本発明の樹脂組成物は、基板や反射防止層、屈折率制御層、光学補償層等に用いられる光学フィルム、光ファイバーや光導波路、光スイッチ等の光通信材料、光記録ディスク等の記録材料、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、デジタルペーパー、有機ＥＬ、無機ＥＬ、リアプロ等の表示用基板等の各種光学材料用途に特に好適に用いることができるものであり、例えば、光ピックアップレンズ、レーザービームプリンター用ｆθレンズ、眼鏡レンズ、カメラレンズ、ビデオカメラレンズ、ランプレンズ等のレンズ；ビデオディスク、オーディオディスク、コンピューター用追記型ディスク等のディスク；プラスチック光ファイバー（ＰＯＦ）、光コネクター、導光体等の光伝送材等に用いることが可能である。このような本発明の樹脂組成物を用いてなる光ファイバー、光導波路、光記録ディスク、光学フィルム、表示用基板もまた、本発明の好ましい実施形態の１つである。
【００９９】
本発明は更にまた、下記式；
【０１００】
【化２５】
2007176921.tif 000026
【０１０１】
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ａは、１〜５の整数であり、ｂ及びｃは、同一又は異なって、０〜４の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＝５である。Ａは、同一又は異なって、下記一般式；
【０１０２】
【化２６】
2007176921.tif 000027
【０１０３】
（式中、Ｒ１は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮ、ＣＦ３、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。ｄ及びｅは、同一又は異なって、０〜５の整数であり、ｄ＋ｅ＝５である。）で表される基である。Ｒ７は、下記式；
【０１０４】
【化２７】
2007176921.tif 000028
【０１０５】
（式中、Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。ｂ及びｃは、同一又は異なって、０〜４の整数であり、ｂ＋ｃ＝４である。））で表されるトリフルオロメチルベンゼン含有化合物でもある。
【０１０６】
上記一般式において、ａは、トリフルオロメチルベンゼンへのＡ基の結合数を表し、１、２、３、４又は５の数である。中でも、１、２又は３であることが好ましく、耐熱性を考慮すると、より好ましくは１である。Ａ基のトリフルオロメチルベンゼンへの結合位置としては、Ａ基の結合数や種類、得られるトリフルオロメチルベンゼン化合物に要求される特性等によっても異なるが、例えば、ａ＝１の場合には、トリフルオロメチルベンゼンの反応性を考慮すると、トリフルオロメチルベンゼンの４位又は２位若しくは６位、特に好ましくは４位に結合することが好ましい。ａ＝２の場合には、４位及び２位又は６位に結合することが好ましい。ａ＝３の場合には、４位、２位及び６位に結合することが好ましい。ａ＝４の場合には、４位、２位、６位及び５位又は３位に結合することが好ましい。
【０１０７】
上記一般式において、ｂは、トリフルオロメチルベンゼンへのＲ２基の結合数を表し、０、１、２、３又は４の数である。中でも、２、３又は４であることが好ましく、耐熱性を考慮すると、より好ましくは４である。なお、上記一般式において、ｃが０であることから、ａ及びｂの合計は、常に５である（ａ＋ｂ＝５）。また、Ａ基のトリフルオロメチルベンゼンへの結合位置としては、上述したとおりであることが好ましい。
ａ及びｂの好ましい組み合わせを（ａ、ｂ）で表すと、（１、４）、（２、３）、（３、２）、（４、１）であり、より好ましくは、（１、４）、（２、３）、（３、２）であり、更に好ましくは、（１、４）である。このように、Ｒ２基が多い形態が好ましい。Ｒ２基が多いと、該トリフルオロメチルベンゼン化合物を含んでなる樹脂用添加剤は、母材の可塑化がおこりにくくなり、各種用途に好適に用いることができる。
本発明はそして、下記式；
【０１０８】
【化２８】
2007176921.tif 000029
【０１０９】
（式中、Ｍは、ＣＮ、ＮＯ２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ３又はＣＦ３を表す。Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。α及びβは、同一又は異なって、０〜４の整数であり、α＋β＝４であり、γは、２〜６の整数である。Ｘ２は、同一又は異なって、Ｏ、Ｓ、ＮＨ又は下記式；
【０１１０】
【化２９】
2007176921.tif 000030
【０１１１】
（式中、Ｍは、ＣＮ、ＮＯ２、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ３又はＣＦ３を表す。Ｒ２は、同一若しくは異なって、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯＯＲ３又はＯＲ３を表す。Ｒ３は、アルキル基、重水素化アルキル基又はハロゲン化アルキル基を表す。α及びβは、同一又は異なって、０〜４の整数であり、α＋β＝４であり、γは、２〜６の整数である。）である。Ｑ１は、同一又は異なって、有機基である。）で表されるベンゼン環含有化合物でもある。
上記一般式において、Ｍとして好ましくは、ＣＮ、ＣＦ３であり、より好ましくは、ＣＦ３である。Ｒ２として好ましくは、Ｆ、Ｃｌであり、より好ましくは、Ｆである。αは、４が好ましい。γは、２、３、４が好ましく、より好ましくは、２、３である。Ｘ２は、Ｏ、Ｓが好ましく、より好ましくは、Ｏである。
このような化合物は、トリフルオロメチルベンゼンを有することにより、屈折率を下げるといった作用効果を発揮し、上述したような樹脂組成物、樹脂用添加剤等の種々の用途に好適に用いることができるものである。上記化合物の具体例としては、下記式；
【０１１２】
【化３０】
2007176921.tif 000031
【０１１３】
で表される化合物が好ましい。
【発明の効果】
【０１１４】
本発明のベンゾニトリル化合物、トリフルオロメチルベンゼン化合物は、上述のような構成であり、透明樹脂等の樹脂が有する熱的特性等の各種特性を損なうことなく屈折率を制御できる添加剤等の用途に好適に使用可能であることから、光ファイバー、光導波路、光記録ディスク、光学フィルム、表示用基板等の各種光学材料用途に特に好適に用いることができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０１１５】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」は「質量％」を意味するものとする。
下記の実施例等において、１９Ｆ−ＮＭＲ測定は、以下の条件下で行った。
＜１９Ｆ−ＮＭＲ測定条件＞
Ｕｎｉｔｙ  Ｐｌｕｓ  ４００（Ｖａｒｉａｎ社製）を用い、溶媒重アセトンを使用して、Ｆ−ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ）スペクトルを測定することにより、構造分析を行った。なお、Ｆ−ＮＭＲスペクトルは、内部標準としてヘキサフルオロベンゼンのＦの位置を０ｐｐｍとした。
【０１１６】
実施例１
撹拌装置、冷却装置、滴下ロート、温度計を備えた５００ｍＬ四つ口フラスコに、ペンタクロロベンゾニトリル１０．００ｇ（３６．３２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１．００ｇ（７．２６ｍｍｏｌ）、エチルメチルケトン２００ｇを加え、窒素下、還流条件で撹拌した。滴下ロートよりエチルメチルケトン５０ｇに溶解したペンタフルオロフェノール０．６７ｇ（３．６３ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下しながら３時間反応を行った。冷却後、ろ過し、ろ液を水１０００ｇに加え、白色固体を得た。得られた白色固体をメタノールで再結晶し、過剰のペンタクロロベンゾニトリルを除いた。下記式の化合物が、１．２３ｇ（２．９１ｍｍｏｌ）得られた。収率は８０％であった。
ガスクロマトグラフィーを用いて分析したところ、目的物の純度は９０％であった。
１９Ｆ−ＮＭＲ化学シフト（標準物質：ヘキサフルオロベンゼン）：０．６ｐｐｍ、１．９ｐｐｍ、６．３ｐｐｍ
【０１１７】
【化３１】
2007176921.tif 000032
【０１１８】
実施例２
撹拌装置、冷却装置を備えた５０ｍＬ三つ口フラスコに、ペンタフルオロベンゾニトリル１．９３ｇ（０．０１ｍｏｌ）、臭化リチウム２．６１ｇ（０．０３ｍｏｌ）、Ｎ−メチルピロリドン１７．４ｇを加え、１８０℃で１４時間反応した。冷却後、水８０ｇに反応溶液を加えた。析出した固体をろ過し、水１０ｇで３回洗浄した。ろ物を乾燥し、生成物３．５ｇを得た。生成物をガスクロマトグラフで分析したところ、下記式で表される化合物（ａ）が１９％、化合物（ｂ）が７８％、化合物（ｃ）が３％であった。
なお、化合物（ｂ）の物性値は、以下の通りであった。
１９Ｆ−ＮＭＲ化学シフト（標準物質：ヘキサフルオロベンゼン）：７１ｐｐｍ
【０１１９】
【化３２】
2007176921.tif 000033
【０１２０】
実施例３
撹拌装置、冷却装置を備えた５０ｍＬ三つ口フラスコに、ペンタフルオロベンゾニトリル１．９３ｇ（０．０１ｍｏｌ）、臭化リチウム４．３４ｇ（０．０５ｍｏｌ）、Ｎ−メチルピロリドン１７．４ｇを加え、２００℃で６時間反応した。冷却後、水８０ｇに反応溶液を加えた。析出した固体をろ過し、水１０ｇで３回洗浄した。ろ物を乾燥し、生成物３．５ｇを得た。生成物をガスクロマトグラフで分析したところ、上記式で表される化合物（ａ）が８％、化合物（ｂ）が７７％、化合物（ｃ）が１５％であった。
【０１２１】
実施例４
攪拌装置、冷却装置、滴下ロート、温度計を備えた５００ｍＬ四つ口フラスコに、チオフェノール５０．００ｇ（０．４５３８ｍｏｌ）、炭酸カリウム６２．７２ｇ（０．４５３８ｍｏｌ）、エチルメチルケトン３００ｇを加え、窒素下、室温で攪拌した。滴下ロートよりペンタフルオロベンゾニトリル８７．６２ｇ（０．４５３８ｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、室温で１２時間攪拌した。反応液を吸引ろ過し、ろ液を濃縮して黄色固体を得た。得られた黄色固体を昇華精製し、下記式の化合物が、１１４．５３ｇ（０．４０４４ｍｏｌ）の無色針状結晶として得られた。収率は８９％であった。
ガスクロマトグラフィーを用いて分析したところ、目的物の純度は１００％であった。
【０１２２】
【化３３】
2007176921.tif 000034
【０１２３】
実施例５
攪拌装置、冷却装置、滴下ロート、温度計を備えた５００ｍＬ四つ口フラスコに、２，４−ジブロモフェノール８０．００ｇ（０．３０１７ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．７０ｇ（０．３０１７ｍｏｌ）、エチルメチルケトン３００ｇを加え、窒素下、室温で攪拌した。滴下ロートよりペンタフルオロベンゾニトリル５８．２５ｇ（０．３０１７ｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、室温で１２時間攪拌した。反応液を吸引ろ過し、ろ液を濃縮して黄色液体を得た。得られた黄色液体を蒸留し、下記式の化合物が、９８．２６ｇ（０．２３１２ｍｏｌ）の無色透明液体として得られた。収率は７４％であった。
ガスクロマトグラフィーを用いて分析したところ、目的物の純度は１００％であった。
【０１２４】
【化３４】
2007176921.tif 000035
【０１２５】
実施例６
攪拌装置、冷却装置、滴下ロート、温度計を備えた５００ｍＬ四つ口フラスコに、２，４，６−トリブロモフェノール１００．００ｇ（０．２９６３ｍｏｌ）、炭酸カリウム８１．８９ｇ（０．５９２６ｍｏｌ）、エチルメチルケトン３００ｇを加え、窒素下、還流条件で攪拌した。滴下ロートよりペンタフルオロベンゾニトリル５７．２０ｇ（０．２９６３ｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、１２時間攪拌した。冷却後反応液を吸引ろ過し、ろ液を濃縮して紫色固体を得た。得られた紫色液体を昇華精製し、下記式の化合物が、１０５．９８ｇ（０．２１０３ｍｏｌ）の無色針状結晶として得られた。収率は７１％であった。
高速液体クロマトグラフィーを用いて分析したところ、目的物の純度は１００％であった。
【０１２６】
【化３５】
2007176921.tif 000036
【０１２７】
実施例７
１６．２ｇのクロロホルムに溶解させたポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）１．８ｇに対して実施例１で合成した化合物を０．２ｇ添加した。ガラス板上にキャストし、乾燥させることによりフィルムを得た。各フィルムの熱的特性評価、屈折率及び吸水率測定を行った。熱的特性評価の結果を表１に、屈折率の結果を表２に、吸水率測定の結果を表３に示した。なお、熱的特性評価、屈折率及び吸水率測定は下記の方法により測定した。
【０１２８】
比較例１
比較例として、ＰＭＭＡ単独のものについて実施例７と同様に測定を行った。
実施例８〜１１
１４．４ｇのクロロホルムに溶解させたポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）１．６ｇに対して実施例２の化合物（ｂ）、実施例４〜６で合成した化合物をそれぞれ０．４ｇずつ添加した。ガラス板上にキャストし、乾燥させることによりフィルムを得た。各フィルムの熱的特性評価、屈折率及び吸水率測定を行った。結果を表１〜３に示した。
【０１２９】
実施例１２
１４．４ｇのクロロホルムに溶解させたポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）１．６ｇに対して４−フェノキシ−２，３，５，６−テトラフルオロべンゾニトリルを０．４ｇずつ添加した。ガラス板上にキャストし、乾燥させることによりフィルムを得た。各フィルムの熱的特性評価、屈折率及び吸水率測定を行った。結果を表１〜３に示した。
【０１３０】
実施例１３
１４．４ｇのクロロホルムに溶解させたポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）１．６ｇに対してビス（４−シアノ−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）スルフィドを０．４ｇずつ添加した。ガラス板上にキャストし、乾燥させることによりフィルムを得た。
各フィルムの熱的特性評価、屈折率及び吸水率測定を行った。結果を表１〜３に示した。
【０１３１】
〔熱的特性評価〕
島津示差熱重量同時測定装置（島津製作所社製）を用いて融点、ガラス転移温度オンセット（ガラス転移開始温度）と重量減少温度（５質量％減少）とを測定した。加熱温度は、窒素雰囲気下１０℃／分とした。
【０１３２】
〔吸水率測定〕
得られたフィルムを１３０℃で１０時間乾燥後、２５℃の水に７２時間浸漬させて、その重量変化を測定し、吸湿率を算出した。
【０１３３】
〔屈折率測定〕
プリズムカップラーＳＰＡ−４０００（ＳＡＩＲＯＮ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ社製）を用いて６３２．８ｎｍ、８３０ｎｍ、１３１０ｎｍ及び１５５０ｎｍにおける屈折率を測定した。
【０１３４】
【表１】
2007176921.tif 000037
【０１３５】
【表２】
2007176921.tif 000038
【０１３６】
【表３】
2007176921.tif 000039
【０１３７】
実施例１４
攪拌装置、冷却装置、滴下ロート、温度計を備えた１Ｌ四つ口フラスコに、４−クロロチオフェノール５１．２３ｇ（０．３５４２ｍｏｌ）、炭酸カリウム７３．４４ｇ（０．５３１３ｍｏｌ）、エチルメチルケトン２００ｇを加え、窒素下、還流条件で攪拌した。滴下ロートより４−クロロベンゾニトリル４９．２２ｇ（０．３５４２ｍｏｌ）のエチルメチルケトン溶液をゆっくりと滴下し、１２時間攪拌した。冷却後反応液を吸引ろ過し、ろ液を濃縮して黄色固体を得た。得られた黄色固体を昇華精製し、下記式；
【０１３８】
【化３６】
2007176921.tif 000040
【０１３９】
で表される化合物が、７４ｇ（０．３０１１ｍｏｌ）の無色針状結晶として得られた。収率は８５％であった。
高速液体クロマトグラフィーを用いて分析したところ、目的物の純度は１００％であった。
１Ｈ−ＮＭＲ化学シフト（標準物質：テトラメチルシラン）：７．４ｐｐｍ、７．６ｐｐｍ、７．７ｐｐｍ
【０１４０】
実施例１５
１４．４ｇのクロロホルムに溶解させたポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）１．６ｇに対して実施例１４で合成した化合物をそれぞれ０．４ｇずつ添加した。ガラス板上にキャストし、乾燥させることによりフィルムを得た。
各フィルムの熱的特性評価、屈折率及び吸水率測定を行った。結果を表１〜２に示した。
【０１４１】
実施例１６
攪拌装置、冷却装置、滴下ロート、温度計を備えた３００ｍＬ四つ口フラスコに、アニリン７．８９ｇ（０．０８４７ｍｏｌ）、炭酸カリウム１１．７１ｇ（０．０８４７ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド８５ｇを加え、窒素下、１００℃で攪拌した。滴下ロートよりオクタフルオロトルエン２０．００ｇ（０．０８４７ｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、３時間攪拌した。冷却後反応液を吸引ろ過し、ろ液を濃縮して茶色固体を得た。得られた茶色固体を昇華精製し、下記に示す化合物（１１６）が、７．５３ｇ（０．０１４３ｍｏｌ）の白色固体として得られた。収率は３４％であった。
高速液体クロマトグラフィーを用いて分析したところ、目的物の純度は１００％であった。
１９Ｆ−ＮＭＲ化学シフト（標準物質：ヘキサフルオロベンゼン：１８．５ｐｐｍ、２２．１ｐｐｍ、１０７．８ｐｐｍ）
マススペクトル：ｍ／ｅ  ５２５
【０１４２】
実施例１７
攪拌装置、冷却装置、滴下ロート、温度計を備えた５００ｍＬ四つ口フラスコに、レソルシノール１０．００ｇ（０．０９０８ｍｏｌ）、炭酸カリウム２５．１０ｇ（０．１８１６ｍｏｌ）、エチルメチルケトン２００ｇを加え、窒素下、還流条件で攪拌した。滴下ロートよりオクタフルオロトルエン４２．８８ｇ（０．１８１６ｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、４時間攪拌した。冷却後反応液を吸引ろ過し、ろ液を濃縮して茶色固体を得た。得られた茶色固体を昇華精製し、下記に示す化合物（１１７）が、３５．２０ｇ（０．０６４９ｍｏｌ）の無色針状結晶として得られた。収率は７１％であった。
高速液体クロマトグラフィーを用いて分析したところ、目的物の純度は１００％であった。
１９Ｆ−ＮＭＲ化学シフト（標準物質：ヘキサフルオロベンゼン：１０．４ｐｐｍ、２１．９ｐｐｍ、１０７．９ｐｐｍ）
【０１４３】
実施例１８
攪拌装置、冷却装置、滴下ロート、温度計を備えた５００ｍＬ四つ口フラスコに、フロログルシノール１０．００ｇ（０．０７９３ｍｏｌ）、炭酸カリウム３２．８８ｇ（０．２３７９ｍｏｌ）、エチルメチルケトン２００ｇを加え、窒素下、還流条件で攪拌した。滴下ロートよりオクタフルオロトルエン５６．１６ｇ（０．２３７９ｍｏｌ）をゆっくりと滴下し、６時間攪拌した。冷却後反応液を吸引ろ過し、ろ液を濃縮して茶色固体を得た。得られた茶色固体を昇華精製し、下記に示す化合物（１１８）が、３０．４２ｇ（０．０３９３ｍｏｌ）の白色固体として得られた。収率は５０％であった。
高速液体クロマトグラフィーを用いて分析したところ、目的物の純度は１００％であった。
１９Ｆ−ＮＭＲ化学シフト（標準物質：ヘキサフルオロベンゼン：１０．７ｐｐｍ、２２．２ｐｐｍ、１０７．８ｐｐｍ）
【０１４４】
【化３７】
2007176921.tif 000041
【０１４５】
実施例１９〜２８
実施例８〜１１と同様にして、下記化合物（１０１）〜（１１０）を合成した。得られた化合物を用いて実施例８〜１１と同様にして、フィルムを得、各フィルムの屈折率の測定を行った。結果を表４に示す。なお、各フィルムの熱的特性評価及び吸水率測定を行ったところ、他の実施例と同等の良好な結果が得られた。
【０１４６】
【化３８】
2007176921.tif 000042
【０１４７】
【表４】
2007176921.tif 000043