(57)【要約】【課題】  本発明は、簡易な工程で、かつ目的とする領域に高精細に形成されたスペーサ部を有するカラーフィルタ、およびその製造方法を提供することを主目的としている。【解決手段】  上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層と、前記着色層上および／または前記着色層どうしの境界領域上に形成され、スペーサ部を形成するために用いられるパターニング用層と、前記パターニング用層上に形成された前記スペーサ部とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供する。【選択図】  図１
2007065582.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層と、前記着色層上および／または前記着色層どうしの境界領域上に形成され、スペーサ部を形成するために用いられるパターニング用層と、前記パターニング用層上に形成された前記スペーサ部とを有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２】
前記パターニング用層が、シラン化合物を含有していることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ。
【請求項３】
前記パターニング用層が、フッ素を含有していることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタ。
【請求項４】
前記スペーサ部がビーズを含有していることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ。
【請求項５】
前記着色層と前記パターニング用層との間に、保護層が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ。
【請求項６】
前記着色層と前記パターニング用層との間に、ＩＴＯ層が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ。
【請求項７】
基材と、前記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層とを有するカラーフィルタ用基板の、前記着色層が形成されている側の面に、撥液性材料を含有するパターニング用層を形成するパターニング用層形成工程と、
前記パターニング用層上に、インクジェット法によりスペーサ部を形成するスペーサ部形成工程と、
前記スペーサ部形成工程後、前記スペーサ部が形成されていない領域の前記パターニング用層を除去するパターニング用層除去工程と
を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
基材と、前記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層とを有するカラーフィルタ用基板の、前記着色層が形成されている側の面に、撥液性材料を含有するパターニング用層を形成するパターニング用層形成工程と、
前記パターニング用層上に、インクジェット法によりスペーサ部を形成するスペーサ部形成工程と、
前記スペーサ部形成工程後、前記スペーサ部が形成されていない領域の前記パターニング用層を親液化するパターニング用層親液化工程と
を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に用いられる、スペーサ部を有するカラーフィルタ、およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、カラーフィルタと液晶駆動側基板とを対向させ、両者の間に液晶化合物を封入して薄い液晶層を形成し、液晶駆動側基板により液晶層内の液晶配列を電気的に制御してカラーフィルタの透過光または反射光の量を選択的に変化させることによって表示を行う。
【０００３】
このような液晶表示装置には、スタティック駆動方式、単純マトリックス方式、アクティブマトリックス方式など種々の駆動方式があるが、近年、パーソナルコンピューターや携帯情報端末などのフラットディスプレーとして、アクティブマトリックス方式又は単純マトリックス方式の液晶パネルを用いたカラー液晶表示装置が急速に普及してきている。
【０００４】
図４は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置パネルの一例である。液晶表示装置１０１は、カラーフィルタ１１と液晶駆動側基板であるＴＦＴアレイ基板１２とを対向させて１〜１０μｍ程度の間隙部１３を設け、この間隙部１３内に液晶Ｌを充填し、その周囲をシール材１４で密封した構造をとっている（例えば特許文献１等）。カラーフィルタ１１は、基材１５上に、着色層１７間の境界部を遮光するために所定のパターンに形成された遮光部１６と、複数の色（通常、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色）を所定順序に配列した着色層１７と、オーバーコート層１８と、透明電極膜１９とが、透明基板に近い側からこの順に積層された構造をとっている。
【０００５】
一方、ＴＦＴアレイ基板１２は、透明基板上にＴＦＴ素子を配列し、透明電極膜を設けた構造をとっている（図示せず）。また、カラーフィルタ１１及びこれと対向するＴＦＴアレイ基板１２の内面側には配向膜２０が設けられる。そして、着色層の背後にある液晶層の光透過率を制御することによってカラー画像が得られる。
【０００６】
ここで、間隙部１３の厚さ、すなわちセルギャップ（カラーフィルタと液晶駆動側基板の間隙距離）は液晶層の厚さそのものであり、色ムラやコントラストムラといった表示ムラを防止し、均一な表示、高速応答性、高コントラスト比、広視野角等の良好な表示性能をカラー液晶表示装置に付与するためには、セルギャップを一定且つ均一に維持する必要がある。
【０００７】
セルギャップを維持する方法としては、例えば図４に示すように、間隙部１３内にスペーサとしてガラス、アルミナ又はプラスチック等からなる一定サイズの球状又は棒状粒子のビーズスペーサ２１を多数散在させ、カラーフィルタ１１とＴＦＴアレイ基板１２とを貼り合わせ、液晶を注入する方法がある。この方法においては、ビーズスペーサの大きさをもってセルギャップが決定され、維持される。しかしながら、上記方法では、散布されたスペーサの密度に偏りが生じることがあり、この場合、カラーフィルタと液晶駆動側基板とのギャップを一定に保つことが難しいという問題があった。
【０００８】
また、例えば図５に示すように、カラーフィルタ１１の内面側であって遮光部１６上（非表示領域）に、セルギャップに対応する高さを有する柱状スペーサ２２を形成する方法も一般的に行われている（例えば特許文献２等）。このような柱状スペーサ２２は、カラーフィルタ上に光硬化性樹脂を均一な厚みに塗布し、得られた塗膜をフォトリソグラフィーによってパターン露光して硬化させることにより形成される。しかしながら、この方法においては、工程が煩雑である等の問題があった。
【０００９】
【特許文献１】特開平８−１９４２１６号公報
【特許文献２】特開２００１−１５９７０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
そこで、簡易な工程で、かつ目的とする領域に高精細に形成されたスペーサ部を有するカラーフィルタ、およびその製造方法の提供が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、基材と、上記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層と、上記着色層上および／または上記着色層どうしの境界領域上に形成され、スペーサ部を形成するために用いられるパターニング用層と、上記パターニング用層上に形成された上記スペーサ部とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供する。
【００１２】
本発明によれば、上記パターニング用層が形成されていることから、上記スペーサ部が、上記パターニング用層の特性等を利用して、目的とする領域に高精細なパターン状かつ均一な高さに形成されたものとすることができる。
【００１３】
また上記発明においては、上記パターニング用層が、シラン化合物を含有しているものとしてもよく、上記パターニング用層が、フッ素を含有しているものとしてもよい。
【００１４】
また、上記発明においては、上記スペーサ部がビーズを含有しているものとしてもよい。この場合、スペーサ部がより均一な高さで形成されたものとすることができるという利点を有している。
【００１５】
また本発明は、基材と、上記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層とを有するカラーフィルタ用基板の、上記着色層が形成されている側の面に、撥液性材料を含有するパターニング用層を形成するパターニング用層形成工程と、上記パターニング用層上に、インクジェット法によりスペーサ部を形成するスペーサ部形成工程と、上記スペーサ部形成工程後、上記スペーサ部が形成されていない領域の上記パターニング用層を除去するパターニング用層除去工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。
【００１６】
本発明においては、パターニング用層が撥液性材料を含有していることから、スペーサ部を形成するためのスペーサ部形成用塗工液がパターニング用層上で濡れ広がってしまうことを防止することができる。これにより目的とする領域のみに、所定の量、スペーサ部形成用塗工液を塗布することが可能となり、均一な高さで高精細なパターン状にスペーサ部を形成することが可能となる。またさらに、本発明においては、上記パターニング用層除去工程を行うことから、上記スペーサ部が形成された領域以外の領域に、例えば配向膜等を均一に形成することが可能となる。またさらに、本発明によれば、上記スペーサ部をインクジェット法により形成することから、簡易な工程で効率よくカラーフィルタを製造することが可能であるという利点も有している。
【００１７】
またさらに、本発明は基材と、上記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層とを有するカラーフィルタ用基板の、上記着色層が形成されている側の面に、撥液性材料を含有するパターニング用層を形成するパターニング用層形成工程と、上記パターニング用層上に、インクジェット法によりスペーサ部を形成するスペーサ部形成工程と、上記スペーサ部形成工程後、上記スペーサ部が形成されていない領域の上記パターニング用層を親液化するパターニング用層親液化工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。
【００１８】
本発明によれば、パターニング用層が撥液性材料を含有していることから、スペーサ部を形成するためのスペーサ部形成用塗工液がパターニング用層上で濡れ広がってしまうことを防止することができる。これにより目的とする領域のみに所定の量、スペーサ部形成用塗工液を塗布することが可能となり、均一な高さで高精細なパターン状にスペーサ部を形成することが可能となる。また本発明においては、上記パターニング用層親液化工程を行うことから、上記スペーサ部が形成された領域以外の領域に、例えば配向膜等を均一に形成することが可能となる。またさらに、本発明によれば、上記スペーサ部をインクジェット法により形成することから、簡易な工程で効率よくカラーフィルタを製造することが可能であるという利点も有している。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、上記スペーサ部が、上記パターニング用層の特性等を利用して、目的とする領域に、高精細なパターン状、かつ均一な高さに形成されたものとすることができるという効果を奏するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明は、液晶表示装置に用いられるスペーサ部を有するカラーフィルタ、およびその製造方法に関するものである。以下、それぞれについてわけて説明する。
【００２１】
Ａ．カラーフィルタ
まず、本発明のカラーフィルタについて説明する。本発明のカラーフィルタは、基材と、上記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層と、上記着色層上および／または上記着色層どうしの境界領域上に形成され、スペーサ部を形成するために用いられるパターニング用層と、上記パターニング用層上に形成された上記スペーサ部とを有することを特徴とするものである。
【００２２】
本発明のカラーフィルタは、例えば図１に示すように、基材１と、上記基材１上にパターン状に形成された着色層２と、上記着色層２上（図中ａで示される領域）および／または上記着色層２どうしの境界領域（図中ｂで示される領域）に形成されたパターニング用層３と、上記パターニング用層３上に形成されたスペーサ部４とを有するものである。なお上記着色層どうしの境界領域とは、隣接する着色層と着色層との間隙、もしくは隣接する着色層どうしが重なる領域等、カラーフィルタが液晶表示装置に用いられた際、色表示に寄与しない、隣接する着色層と着色層との間の領域をいうこととする。上記境界領域ｂには、例えば図１に示すように、遮光部５が形成されていてもよい。
【００２３】
本発明によれば、上記パターニング用層が形成されていることから、上記スペーサ部が、上記パターニング用層の特性等を利用して、高精細なパターン状に、かつ均一な高さに形成されたものとすることができる。また、本発明によればスペーサ部が、上記パターニング層を利用して形成されるものであることから、目的とする領域のみに形成されたものとすることができる。したがって、スペーサ部の密度に偏り等が生じることなく、カラーフィルタと液晶駆動側基板との間隙を一定に保つことが可能なスペーサ部を有するカラーフィルタとすることができるのである。
以下、本発明のカラーフィルタの各構成ごとに詳しく説明する。
【００２４】
１．パターニング用層
まず、本発明に用いられるパターニング用層について説明する。本発明に用いられるパターニング用層は、上記着色層上および／または上記着色層どうしの境界領域上に形成されているものであって、後述するスペーサ部の形成に用いられるものであれば、特に限定されるものではない。例えば上記着色層およびその境界領域を覆うように形成されているものであってもよく、また上記着色層上にのみ形成されているものであってもよい。またさらに上記着色層どうしの境界領域上にのみ形成されているものであってもよい。ここで上記着色層上のみ、もしくは上記着色層どうしの境界領域のみにパターニング用層が形成されている場合、パターニング用層は、全ての着色層上、もしくは全ての境界領域上に形成されているものであってもよく、一部の着色層上、もしくは一部の境界領域上にのみ形成されているものであってもよい。
【００２５】
本発明においては特に、少なくとも上記着色層どうしの境界領域上に、上記パターニング用層が形成されていることが好ましい。これにより、後述するスペーサ部を上記境界領域に形成することができ、カラーフィルタが液晶表示装置に用いられた際、スペーサ部の存在によって着色層の光の透過率を低下させることのないものとすることができるからである。
【００２６】
ここで、上記パターニング用層が上記スペーサ部の形成に用いられるとは、例えばパターニング用層の撥液性や形状、接着性等の特性を利用して、後述するスペーサ部が形成されることをいう。本発明においては特に、上記パターニング用層の撥液性を利用して上記スペーサ部が形成されるものであることが好ましい。これにより、スペーサ部を形成するスペーサ部形成用塗工液がパターニング用層上に塗布された際、パターニング用層の撥液性によって濡れ広がらないものとすることができ、目的とする領域上にのみ所定の量、スペーサ部形成用塗工液を塗布することが可能となる。したがって、形成されるスペーサ部の形状を容易に制御することが可能となり、スペーサ部を高精細なパターン状、かつ所定の高さで形成することが可能となるからである。
【００２７】
ここで、撥液性を有するパターニング用層は、スペーサ部が形成された後にスペーサ部が形成されている領域以外の領域が分解除去される層、またはスペーサ部が形成された後にスペーサ部が形成されている領域以外の領域が親液化される層であることが好ましい。これにより、スペーサ部を形成した後、さらにカラーフィルタ上に配向膜や、液晶配向制御用突起状部材（リブ）等を形成する際に、上記パターニング用層がこれらの部材を形成するための機能性層形成用塗工液等をはじいてしまうこと等を防ぐことができ、安定してカラーフィルタ上に配向膜やリブ等の部材を形成することが可能となるからである。
【００２８】
上記スペーサ部を形成する際に撥液性を有し、スペーサ部形成後に分解除去される層の形成には、例えば紫外光の照射や、酸素プラズマの照射によって、分解除去される材料等を用いることができる。具体的には、一般的に撥液性の薄膜を形成する際に用いられる材料を用いることができ、これらを１種または２種以上混合して用いることができる。本発明においては、上記の中でもフッ素を含有する材料が用いられることが好ましく、撥液性の薄膜を形成する際に用いられるフッ化炭素等が用いられることが好ましい。これにより、パターニング用層の撥液性を高いものとすることができ、よりスペーサ部を形成するためのスペーサ部形成用塗工液が濡れ広がらないものとすることが可能となるからである。なお、上記フッ素の存在は、Ｘ線光電子分光分析装置（XPS：ESCALAB  220i-XL）による分析において、着色層とスペーサ部との間に残存するパターニング用層より検出される全元素中のフッ素元素の割合を測定することにより確認することができる。
【００２９】
また、上記スペーサ部を形成する際に撥液性を有し、スペーサ部を形成した後に分解除去されるパターニング用層の膜厚としては、１μｍ以下とされることが好ましく中でも０．００１μｍ〜０．５００μｍ程度、特に０．００１μｍ〜０．１００μｍ程度とされることが好ましい。このような膜厚とすることにより、スペーサ部を形成した後に、上記パターニング用層が除去されるものとすることができるからである。なお、上記材料を用いてパターニング用層を形成する方法や、スペーサ部が形成された領域以外のパターニング用層を除去する方法等については、後述する「Ｂ．カラーフィルタの製造方法」の第１実施態様で詳しく説明するので、ここでの説明は省略する。
【００３０】
また、上記スペーサ部を形成する際に撥液性を有し、スペーサ部形成後に親液化される層の形成には、例えば紫外光や酸素プラズマ等のエネルギー照射によって、表面の有機基が分解や変性等されて、親液化される材料等を用いることができ、例えばシラン化合物を含有する層等が挙げられる。具体的には、バインダの主骨格が上記エネルギーによって分解されないような高い結合エネルギーを有し、かつ上記エネルギー照射により分解されるような有機置換基を有するオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。このようなオルガノポリシロキサンとしては、例えば（１）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、（２）撥水牲や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。
【００３１】
上記の（１）の場合、一般式：
ＹｎＳｉＸ（４−ｎ）
（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、クロロアルキル基、イソシアネート基、もしくはエポキシ基、またはこれらを含む有機基であり、Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）
で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。なお、ここでＸで示されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。また、Ｙで示される有機基全体の炭素数は１〜２０の範囲内、中でも５〜１０の範囲内であることが好ましい。
【００３２】
このようなオルガノポリシロキサンをパターニング用層に用いることにより、オルガノポリシロキサンを構成するＹにより表面を撥液性とすることができる。また、紫外光やプラズマ等のエネルギー照射によって、そのＹが分解等され、親液性とすることが可能となる。
【００３３】
また、特に上記オルガノポリシロキサンを構成するＹがフルオロアルキル基であるオルガノポリシロキサンを用いた場合には、エネルギー照射前のパターニング用層の撥液性を特に高いものとすることができることから、好ましい。このようなオルガノポリシロキサンとしては、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られたものの１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、例えば特開２００１−０７４９２８に記載されているようなものを用いることができる。
【００３４】
また、上記の（２）の反応性シリコーンとしては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げることができる。
【００３５】
【化１】
2007065582.tif 000003
【００３６】
ただし、ｎは２以上の整数であり、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であり、モル比で全体の４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルである。また、Ｒ１、Ｒ２がメチル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モル比でメチル基が６０％以上であることが好ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少なくとも１個以上の水酸基等の反応性基を有する。
【００３７】
ここで、上記スペーサ部を形成する際に撥液性を有し、スペーサ部を形成した後に親液化されるパターニング用層の膜厚としては、１μｍ以下、中でも０．００１μｍ〜０．５００μｍ程度、特に０．００１μｍ〜０．１００μｍ程度とされることが好ましい。これにより、上記パターニング用層が例えばＩＴＯ層上に形成されている場合であっても、対向電極とＩＴＯ層との導通を妨げることの少ないものとすることができ、高品質な色表示が可能なカラーフィルタとすることができるからである。なお、このような親液化可能な材料を用い、パターニング用層を形成する方法や、スペーサ部形成後にパターニング用層を親液化する方法等については、後述する「Ｂ．カラーフィルタの製造方法」の第２実施態様で詳しく説明するので、ここでの説明は省略する。
【００３８】
２．スペーサ部
次に、本発明に用いられるスペーサ部について説明する。本発明に用いられるスペーサ部は、上記パターニング用層上に形成されているものである。このようなスペーサ部は、本発明のカラーフィルタが液晶表示装置に用いられる際、カラーフィルタと液晶駆動側基板とのギャップを一定に保つための部材として用いられる。
【００３９】
上記スペーサ部が形成される領域としては、上記パターニング用層が形成されている領域により適宜選択され、例えば上記着色層上に形成されたパターニング用層上であってもよいが、本発明においては特に、上記着色層どうしの境界領域上に形成されたパターニング用層上に形成されていることが好ましい。これにより、カラーフィルタが液晶表示装置に用いられた際、スペーサ部の存在によって着色層の透過率を低下させることがなく、輝度が高いものとすることができるからである。
【００４０】
また上記スペーサ部の大きさや形状等としては、カラーフィルタの種類等に応じて適宜選択されることとなるが、本発明においては、個々のスペーサ部の断面積が５００μｍ２〜８０００μｍ２程度、中でも７００μｍ２〜２８００μｍ２程度、特に１２５０μｍ２〜１６００μｍ２程度とされていることが好ましい。これにより、スペーサ部の存在によってカラーフィルタの輝度を低下させることの少ないものとすることができ、高輝度な液晶表示装置を形成可能なカラーフィルタとすることができるからである。
【００４１】
また、上記スペーサ部の形状としては、特に限定されるものではないが、通常円柱状とされることが好ましい。また、本発明においては、１０００μｍ角に形成されるスペーサ部の断面積の合計が２０００μｍ２〜９６０００μｍ２程度、中でも５０００μｍ２〜１３０００μｍ２程度となるように、個数が調整されてスペーサ部が形成されていることが好ましい。このような密度でスペーサ部が形成されているものとすることにより、本発明のカラーフィルタが液晶表示装置に用いられた際、カラーフィルタと液晶駆動側基板との間隙を一定に保つことが可能となるからである。
【００４２】
また、上記スペーサ部の高さは、カラーフィルタの種類等により適宜選択されるが、通常１．０μｍ〜８μｍ程度、中でも２μｍ〜６μｍ程度とされることが好ましい。
【００４３】
ここで、上述したようなスペーサ部は、樹脂のみからなるものであってもよく、また樹脂中にビーズが含有されているもの等であってもよい。上記ビーズが含有されているものとすることにより、スペーサ部がより均一な高さで形成されたものとすることができるという利点を有する。
【００４４】
上記樹脂としては、所定の硬度を有し、本発明のカラーフィルタと、対向して配置される液晶駆動側基板との間隙を一定に保つことが可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば光硬化性樹脂であってもよく、また熱硬化性樹脂等であってもよい。このような硬化性樹脂に用いられる材料としては、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。
【００４５】
また、上記スペーサ部に用いられるビーズとしては、上記樹脂と相溶性を有するものであれば、特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタにビーズスペーサとして用いられるものと同様のものを用いることができる。例えば、ガラス、シリカ、金属酸化物（ＭｇＯ、Ａｌ2Ｏ3）などの無機化合物の多孔質体や非多孔質体、中空体等や、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアクリル、ナイロン、シリコーン樹脂などのプラスチック類等を用いることができる。またこのようなビーズの表面は、上記樹脂との接着性を良好なものとするため、表面処理が施されたもの等であってもよい。
【００４６】
ここで上記ビーズの形状についても、特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタにビーズスペーサとして用いられるものと同様の形状を有するものを用いることができるが、特にスペーサ部の高さの制御の面から球状であることが好ましい。またこの際、粒子径は１．０μｍ〜８．０μｍ程度、中でも２．５μｍ〜５．５μｍ程度であることが好ましい。これにより、スペーサ部の高さを上述したような範囲とすることができるからである。
【００４７】
また、上記ビーズが、スペーサ部中に含有されている場合には、上記スペーサ部の固形分中に７５質量％〜９５質量％程度、中でも８５質量％〜９０質量％程度、樹脂が含有されていることが好ましい。これにより、上記ビーズが樹脂によって強固に固定されているものとすることができ、例えばカラーフィルタ上に形成された配向膜のラビングの際にスペーサ部が剥がれてしまうこと等のないものとすることができるからである。
【００４８】
３．着色層
次に、本発明に用いられる着色層について説明する。本発明に用いられる着色層は、後述する基材上に、パターン状に、かつ複数形成されるものであれば特に限定されるものではない。隣り合う着色層と着色層との間には、間隙が設けられていてもよく、また隣接する着色層どうしが重なりあうように、形成されていてもよい。また上述したように、隣接する着色層どうしの間に、遮光部が設けられていてもよい。
【００４９】
このような着色層は、通常、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、および青（Ｂ）の３色で形成される。また上記着色層における着色パターン形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列とすることができ、着色面積は任意に設定することができる。
【００５０】
ここで、本発明に用いられる着色層については、公知のカラーフィルタの着色層に用いられる材料や形成方法等により、形成することが可能であるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００５１】
４．基材
次に、本発明に用いられる基材について説明する。本発明に用いられる基材としては、通常カラーフィルタに用いられるものであれば特に限定されるものではなく、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。
【００５２】
５．カラーフィルタ
次に、本発明のカラーフィルタについて説明する。本発明のカラーフィルタは、上述した基材、着色層、パターニング用層、およびスペーサ部を有するものであれば、その構成は特に限定されるものではなく、カラーフィルタの種類等に応じて適宜選択される。
【００５３】
例えば上述したように、上記着色層どうしの境界領域に、遮光部が形成されていてもよい。また上記カラーフィルタが、配向した液晶分子を透明基板に対して平行な方向に回転させるＩＰＳ（In-Plane Switching）方式の液晶表示装置に用いられる場合等には、上記着色層とパターニング用層との間に、保護層等を有していてもよい。
【００５４】
また、例えば上記カラーフィルタが、捩れ配向モード（ＴＮ方式）の液晶表示装置や、垂直配向モード（ＶＡ（Vertical Aligned）方式）の液晶表示装置等に用いられる場合には、上記着色層とパターニング用層との間にＩＴＯ層を有していてもよく、また保護層およびＩＴＯ層を有していてもよい。また上記カラーフィルタが視野角度改善モードの一つである複数配向分割型垂直配向モード、すなわちMulti-domain Vertical Aligned（ＭＶＡ）方式の液晶表示装置に用いられる場合、上記着色層とパターニング用層との間に液晶配向制御用突起状部材（リブ）等を有するものであってもよく、またパターニング用層上にリブを有するもの等であってもよい。
【００５５】
またさらに、本発明のカラーフィルタには、上記着色層やパターニング用層等の上に配向膜が形成されているもの等であってもよい。ここで、本発明に用いられる上記遮光部や、保護層、ＩＴＯ層、液晶配向制御用突起状部材、配向膜等については、一般的なカラーフィルタに用いられるものと同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００５６】
Ｂ．カラーフィルタの製造方法
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明する。本発明のカラーフィルタの製造方法は、２つの実施態様がある。それぞれについてわけて説明する。
【００５７】
１．第１実施態様
まず、本発明のカラーフィルタの製造方法の第１実施態様について説明する。本発明のカラーフィルタの製造方法の第１実施態様は、基材と、上記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層とを有するカラーフィルタ用基板の、上記着色層が形成されている側の面に、撥液性材料を含有するパターニング用層を形成するパターニング用層形成工程と、上記パターニング用層上に、インクジェット法によりスペーサ部を形成するスペーサ部形成工程と、上記スペーサ部形成工程後、上記スペーサ部が形成されていない領域の上記パターニング用層を除去するパターニング用層除去工程とを有することを特徴とするものである。
【００５８】
本実施態様のカラーフィルタの製造方法は、例えば図２に示すように、基材１と、その基材１上にパターン状に形成された着色層２とを有するカラーフィルタ用基板６の、着色層２側の面に、撥液性材料を含有するパターニング用層３を形成するパターン形成工程（図２（ａ））と、上記パターニング用層３上に、インクジェット法によりスペーサ部４を形成するスペーサ部形成工程（図２（ｂ））と、上記スペーサ部形成工程後、上記スペーサ部４が形成されていない領域のパターニング用層３を除去するパターニング用層除去工程（図２（ｃ））とを有する方法である。
【００５９】
本実施態様によれば、撥液性を有するパターニング用層上に、スペーサ部がインクジェット法により形成されることから、スペーサ部を形成するためのスペーサ部形成用塗工液が濡れ広がってしまうことを防止することができる。これにより目的とする領域上にのみ、所定の量、スペーサ部形成用塗工液を塗布することが可能となり、均一な高さで高精細なパターン状にスペーサ部を形成することが可能となる。またさらに、本実施態様においては、上記パターニング用層除去工程を行うことから、例えば本実施態様により製造されたカラーフィルタ上にさらに配向膜やリブ等の他の部材を形成する際、上記パターニング用層が、これらの機能性部を形成する機能性部形成用塗工液をはじいてしまうこと等を防ぐことができ、安定してこれらの部材を形成することが可能となるのである。またさらに、本実施態様においては、上記スペーサ部をインクジェット法により形成することができることから、特別な装置等を用いることなく、簡易な工程で効率よくカラーフィルタを製造することができるという利点も有している。
以下、本実施態様の各工程ごとに詳しく説明する。
【００６０】
（１）パターニング用層形成工程
まず、本実施態様におけるパターニング用層形成工程について説明する。本実施態様におけるパターニング用層形成工程は、基材と、上記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層とを有するカラーフィルタ用基板の、上記着色層が形成されている側の面に、撥液性材料を含有するパターニング用層を形成する工程である。
【００６１】
本実施態様においては、上記カラーフィルタ用基板の着色層側の面に、上記パターニング用層を形成可能であれば、パターニング用層の形成方法は特に限定されるものではない。例えば後述する材料を、適宜必要に応じて溶媒や添加剤等と混合したパターニング用層形成用組成物を、カラーフィルタ用基板上にスピンコート法やダイコート法等の塗布法により塗布してパターニング用層を形成する方法であってもよく、また例えば後述する材料を用いてプラズマＣＶＤ法や熱ＣＶＤ法等の化学気相蒸着法（ＣＶＤ）法により、上記パターニング用層を形成する方法であってもよい。また例えば上記パターニング用層形成用組成物中に、上記カラーフィルタ用基板を浸漬等させて、カラーフィルタ用基板表面にパターニング用層を自己組織化させる方法等であってもよい。なお本実施態様において、上記パターニング用層は、パターン状に形成されるものであってもよいが、通常、全面に形成されることとなる。
【００６２】
ここで、本実施態様において、パターニング用層の形成に用いられる撥液性材料としては、撥液性を有する材料であって、後述するパターニング用層除去工程で、除去可能なものであれば特に限定されるものではなく、パターニング用層の形成方法等により適宜選択される。このような撥液性材料としては、例えば「Ａ．カラーフィルタ」のパターニング用層の項で説明した分解除去可能な材料等が挙げられる。
【００６３】
また本実施態様に用いられる上記パターニング用層は、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が、５０°以上、中でも７０°以上である層であることが好ましい。またこの層の純水との接触角は９０°以上、中でも１００°以上であることが好ましい。これにより、後述するスペーサ部形成工程において、パターニング用層上にインクジェット法によりスペーサ部を形成するスペーサ部形成用塗工液を塗布する際、スペーサ部形成用塗工液が濡れ広がらないものとすることができ、目的とする領域にのみ、所定の量を塗布することが可能となる。したがって、高精細なパターン状に、均一な高さでスペーサ部を形成することが可能となるからである。なお、ここでいう液体との接触角は、種々の表面張力を有する液体や純水との接触角を接触角測定器（協和界面科学（株）製ＣＡ−Ｚ型）を用いて測定（マイクロシリンジから液滴を滴下して３０秒後）し、その結果から、もしくはその結果をグラフにして得られるものである。また、この測定に際して、種々の表面張力を有する液体としては、純正化学株式会社製のぬれ指数標準液を用いる。
【００６４】
また本工程に用いられるカラーフィルタ用基板は、基材および着色層を有するものであれば特に限定されるものではなく、必要に応じて適宜他の部材が形成されていてもよい。例えば各着色層間に遮光部が形成されているもの等であってもよく、上記着色層上に保護層が形成されているものであってもよい。また上記着色層上にＩＴＯ層が設けられているものであってもよく、保護層およびＩＴＯ層が積層されているもの等であってもよい。またさらに必要に応じて、液晶配向制御用突起状部材等が形成されているものであってもよい。このようなカラーフィルタ用基板に用いられる基材や着色層、遮光部、ＩＴＯ層、保護層、および液晶配向制御用突起状部材等については、上述した「Ａ．カラーフィルタ」で説明したものと同様のものを用いることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００６５】
また本実施態様においては、本工程終了後に、パターニング用層表面に存在する未反応物や不純物等を除去する洗浄工程等を行ってもよい。これにより、より不純物の少ない高品質なカラーフィルタを製造することが可能となる。このような洗浄工程としては、例えばエアナイフによる洗浄や純水シャワーによる洗浄等が挙げられる。
【００６６】
（２）スペーサ部形成工程
次に、本実施態様におけるスペーサ部形成工程について説明する。本実施態様におけるスペーサ部形成工程は、上記パターニング用層上に、インクジェット法によりスペーサ部を形成する工程である。
【００６７】
本工程において、上記スペーサ部が形成される領域としては、上記パターニング用層が形成されている領域であれば特に限定されるものではない。例えば着色層上に形成されたパターニング用層上にスペーサ部を形成してもよいが、本実施態様においては特に隣接する着色層どうしの境界領域、すなわちカラーフィルタが液晶表示装置に用いられた際、色表示に寄与しない、着色層と着色層との間の領域に形成されたパターニング用層上にスペーサ部形成することが好ましい。これにより、カラーフィルタが液晶表示装置に用いられた際、スペーサ部の存在によって、着色層の光の透過率を低下させることがないものとすることが可能となるからである。なお、上記スペーサ部の形成位置や形成密度等については、カラーフィルタの種類や、カラーフィルタと対向して配置されることとなる液晶駆動側基板の構造等により適宜選択され、例えば「Ａ．カラーフィルタ」で説明したものと同様とすることができる。
【００６８】
また、本工程において塗布されるスペーサ部を形成するためのスペーサ部形成用塗工液としては、インクジェット法により塗布することが可能なものであって、硬化した後スペーサとして用いることが可能なものであれば特に限定されるものではない。例えば硬化性樹脂、溶媒、および適宜添加剤を含有するもの等とすることができる。また本実施態様においては、上記スペーサ部形成用塗工液中にビーズを含有するもの等としてもよい。スペーサ部形成用塗工液中にビーズが分散されている場合、形成されるスペーサ部の高さを、より均一なものとすることができるという利点を有する。
【００６９】
上記スペーサ部形成用塗工液中に含有される硬化性樹脂としては、熱硬化性樹脂であってもよく、また光硬化性樹脂等であってもよく、このような硬化性樹脂としては例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。また上記スペーサ部形成用塗工液に用いることが可能なビーズとしては、例えば「Ａ．カラーフィルタ」で説明したものと同様とすることができる。また上記スペーサ部形成用塗工液に用いられる溶媒や、添加剤等としては、一般的なインクジェット用インクに用いられるものと同様とすることができ、硬化性樹脂の種類等に合わせて適宜選択されることとなる。
【００７０】
なお、上記スペーサ部形成用塗工液中にビーズを含有させる場合、ビーズと上記硬化性樹脂との固形分比は、ビーズの含有量１に対して硬化性樹脂の含有量が３〜２０の範囲内、中でも６〜１０の範囲内とされることが好ましい。これにより、硬化性樹脂によってビーズを固定することが可能となり、カラーフィルタ上に形成された配向膜がラビングされる際等に、スペーサ部が剥がれてしまうこと等のないものとすることができるからである。
【００７１】
また本工程においては、上記インクジェット法によりスペーサ部形成用塗工液を塗布した後、上記硬化性樹脂の種類等に合わせて適宜硬化を行うこととなる。上記硬化方法としては、一般的な硬化性樹脂の硬化方法と同様とすることができる。
【００７２】
（３）パターニング用層除去工程
次に、本実施態様におけるパターニング用層除去工程について説明する。本実施態様におけるパターニング用層除去工程は、上記スペーサ部形成工程後、上記スペーサ部が形成されていない領域の上記パターニング用層を除去する工程である。
【００７３】
本実施態様においては、上記スペーサ部が形成されていない領域のパターニング用層を除去することが可能な方法であれば、その除去方法は特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば紫外光や、酸素プラズマを、上記スペーサ部が形成されている側から全面に照射する方法等とすることができる。本実施態様においては、上記の中でも、パターニング用層の除去効率の面から１００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内、特に１５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内の真空紫外光を照射する方法、または酸素プラズマを照射する方法が用いられることが好ましい。
【００７４】
上記真空紫外光を照射可能な光源としては、例えばエキシマランプ、低圧水銀ランプ等を挙げることができる。また上記真空紫外光の照射量としては、上記パターニング用層が除去されるのに必要な量とされる。
【００７５】
また上記酸素プラズマを照射する方法としては、例えば真空中でプラズマ照射する方法であってもよく、また大気圧下でプラズマ照射する方法であってもよいが、本実施態様においては特に上記プラズマ照射が大気圧下で行われることが好ましい。これにより、減圧用の装置等が必要なく、コストや製造効率等の面から好ましいものとすることができるからである。このような大気圧プラズマの照射条件としては、以下のようなものとすることができる。例えば、電源出力としては、一般的な大気圧プラズマの照射装置に用いられるものと同様とすることができる。また、この際、照射されるプラズマの電極と、上記パターニング用層との距離は、０．２ｍｍ〜２０ｍｍ程度、中でも１ｍｍ〜５ｍｍ程度とされることが好ましい。また基板搬送速度は０．１ｍ／ｍｉｎ〜１０ｍ／ｍｉｎ程度、中でも０．５ｍ／ｍｉｎ〜５ｍ／ｍｉｎ程度が好ましい。
【００７６】
（４）その他の工程
本実施態様においては、上記パターニング用層形成工程、上記スペーサ部形成工程、および上記パターニング用層除去工程以外に、例えばカラーフィルタ用基板を形成するカラーフィルタ用基板形成工程や、上記パターニング用層除去工程後に、配向膜を形成する配向膜形成工程等を有していていもよい。
【００７７】
これらのカラーフィルタ用基板形成工程や、配向膜形成工程等については、一般的なカラーフィルタの製造方法における各工程と同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００７８】
２．第２実施態様
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法の第２実施態様について説明する。本実施態様におけるカラーフィルタの製造方法は、基材と、上記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層とを有するカラーフィルタ用基板の、上記着色層が形成されている側の面に、撥液性材料を含有するパターニング用層を形成するパターニング用層形成工程と、上記パターニング用層上に、インクジェット法によりスペーサ部を形成するスペーサ部形成工程と、上記スペーサ部形成工程後、上記スペーサ部が形成されていない領域の上記パターニング用層を親液化するパターニング用層親液化工程とを有する方法である。
【００７９】
本実施態様のカラーフィルタの製造方法は、例えば図３に示すように、基材１と、その基材１上に形成された着色層２とを有するカラーフィルタ用基板６の着色層２が形成されている側の面に、撥液性材料を含有するパターニング用層３を形成するパターニング用層形成工程（図３（ａ））と、上記パターニング用層３上にインクジェット法によりスペーサ部４を形成するスペーサ部形成工程（図３（ｂ））と、上記スペーサ部形成工程後、上記スペーサ部４が形成されていない領域の上記パターニング用層３を親液化するパターニング用層親液化工程（図３（ｃ））とを有する方法である。
【００８０】
本実施態様によれば、撥液性を有するパターニング用層上に、スペーサ部がインクジェット法により形成されることから、スペーサ部を形成するためのスペーサ部形成用塗工液が濡れ広がってしまうことを防止することができ、形成されるスペーサ部の形状を容易に制御することが可能となる。したがって、目的とする領域のみに高精細なパターン状に、かつ均一な高さでスペーサ部を形成することができるという利点を有している。また本実施態様においては、上記パターニング用層親液化工程を行うことから、上記着色層等の上に、例えばリブや配向膜等、他の部材を形成する際、上記パターニング用層が、これらの機能性部を形成する機能性部形成用塗工液をはじいてしまうこと等を防ぐことができ、安定してこれらの部材を形成することが可能である。またさらに、本実施態様においては、上記スペーサ部をインクジェット法により形成することができることから、特別な装置等を必要とすることなく、簡易な工程で効率よくカラーフィルタを製造することができる。以下、本実施態様におけるパターニング用層形成工程およびパターニング用層親液化工程について説明する。なお、上記スペーサ部形成工程については、上述した第１実施態様で説明したものと同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００８１】
（１）パターニング用層形成工程
まず、本実施態様におけるパターニング用層形成工程について説明する。本実施態様におけるパターニング用層形成工程は、基材と、上記基材上にパターン状に、かつ複数形成された着色層とを有するカラーフィルタ用基板の、上記着色層が形成されている側の面に、撥液性材料を含有するパターニング用層を形成する工程である。
【００８２】
本実施態様においては、上記カラーフィルタ用基板の着色層側の面に、上記パターニング用層を形成することが可能な方法であれば、パターニング用層の形成方法は特に限定されるものではない。例えば後述する材料を、適宜必要に応じて溶媒や添加剤等と混合したパターニング用層形成用組成物を、カラーフィルタ用基板上にスピンコート法やダイコート法等の塗布法により塗布してパターニング用層を形成する方法であってもよく、また例えばプラズマＣＶＤ法や熱ＣＶＤ法等の化学気相蒸着法（ＣＶＤ）法により、上記パターニング用層を形成する方法であってもよい。また例えば上記パターニング用層形成用組成物中に、上記カラーフィルタ用基板を浸漬等させて、カラーフィルタ用基板表面にパターニング用層を自己組織化させる方法等であってもよい。なお、上記パターニング用層はカラーフィルタ用基板上にパターン状に形成されるものであってもよいが、通常、全面に形成されることとなる。
【００８３】
また本工程においてパターニング用層の形成に用いられる撥液性材料としては、撥液性を有する材料であって、後述するパターニング用層親液化工程で、親液化可能なものであれば特に限定されるものではない。このような撥液性材料としては、例えばオルガノポリシロキサン等が挙げられ、具体的には「Ａ．カラーフィルタ」のパターニング用層の項で説明した親液化可能な材料と同様とすることができる。
【００８４】
また本実施態様においても、上記パターニング用層は、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が、５０°以上、中でも７０°以上である層であることが好ましい。またこの層の、純水との接触角は９０°以上、中でも１００°以上であることが好ましい。なお、上記接触角は上述した方法により測定される値である。これにより、上記スペーサ部形成工程において、パターニング用層上にインクジェット法によりスペーサ部を形成するスペーサ部形成用塗工液を塗布する際、スペーサ部形成用塗工液が濡れ広がらないものとすることができ、目的とする領域にのみ、所定の量を塗布することが可能となる。したがって、高精細なパターン状に、均一な高さでスペーサ部を形成することが可能となるからである。
【００８５】
また本実施態様に用いられるカラーフィルタ用基板は、基材および着色層を有するものであれば特に限定されるものではなく、必要に応じて適宜他の部材が形成されていてもよい。このようなカラーフィルタ用基板としては、上述した第１実施態様で説明したものと同様のものを用いることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００８６】
また、本実施態様においても、本工程終了後に、パターニング用層表面に存在する未反応物や不純物等を除去する洗浄工程等を行ってもよい。このような洗浄工程としては、例えばエアナイフによる洗浄や純水シャワーによる洗浄等が挙げられる。
【００８７】
（２）パターニング用層親液化工程
本実施態様におけるパターニング用層親液化工程について説明する。本実施態様におけるパターニング用層親液化工程は、上記スペーサ部形成工程後、上記スペーサ部が形成されていない領域の上記パターニング用層を親液化する工程である。
【００８８】
本工程において、上記パターニング用層を親液化する方法としては、上記スペーサ部が形成されていない領域のパターニング用層を親液化可能な方法であれば、その方法は特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば紫外光や、酸素プラズマを、上記スペーサ部が形成されている側から全面に照射する方法等とすることができる。本実施態様においては、上記の中でも、パターニング用層の親液化する効率の面から１００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内、特に１５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内の真空紫外光を照射する方法、または酸素プラズマを照射する方法が用いられることが好ましい。上記真空紫外光や酸素プラズマの照射方法としては、上述した第１実施態様で説明したものと同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００８９】
なお、本実施態様においては、上記パターニング用層の表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が、９°以下、特に表面張力６０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０°以下となるように親液化が行われることが好ましい。また、純水との接触角は２０°以下、中でも１０°以下となるように親液化が行われることが好ましい。上記スペーサ部以外の領域のパターニング用層の撥液性が高い場合には、例えば上記パターニング用層上に配向膜や液晶配向制御用突起状部材等の他の部材を形成する際に、パターニング用層の撥液性によって、これらの層を形成する機能性部形成用塗工液をはじいてしまう可能性があり、このような部材を均一に形成することが困難となる場合があるからである。
【００９０】
（３）その他の工程
また本実施態様においては、上記パターニング用層形成工程、上記スペーサ部形成工程、および上記パターニング用層除去工程以外に、例えばカラーフィルタ用基板を形成するカラーフィルタ用基板形成工程や、上記パターニング用層除去工程後に、配向膜を形成する配向膜形成工程等を有していていもよい。
【００９１】
これらのカラーフィルタ用基板形成工程や、配向膜形成工程等については、一般的なカラーフィルタの製造方法における各工程と同様とすることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００９２】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００９３】
＜実施例１＞
（カラーフィルタ用基板の準備）
ガラス基板からなる基材と、上記基材上にパターン状に形成された遮光部と、上記遮光部により区画された開口部に形成された着色層と、上記遮光部および着色層を覆うように形成された透明導電膜とを有するカラーフィルタ用基板を準備した。
【００９４】
（パターニング用層形成工程）
テフロン（登録商標）ＡＦ１６００（デュポン社製）１ｇをフロリナートＦＣ−４３（住友３Ｍ（株）製）２００ｇに溶解させて、パターニング用層形成用塗工液とした。このパターニング用層形成用塗工液を、上記カラーフィルタ用基板の透明導電膜上にスピンコート法により塗布し、１００℃で６０分間の乾燥処理を行うことにより、厚さ１０ｎｍのパターニング用層を得た。上記パターニング用層の純水との接触角は、１０５°であった。上記水との接触角は、接触角測定器（協和界面科学（株）製ＣＡ−Ｚ型）によって測定した。
【００９５】
（スペーサ部形成工程）
上記パターニング用層上に、下記の組成を有するスペーサ部形成用塗工液を、１滴（１５ｐｌ）ずつ、５１０μｍずつ間隙をあけて塗布した。その後、ホットプレートにて８０℃で１０分間乾燥させ、さらにオーブンで２３０℃で３０分間加熱した。その結果、直径４０μｍの円形状のドットが形成され、そのドットの中には平均５個のビーズが含有されているスペーサ部を得た。
［スペーサ部形成用塗工液の組成］
熱硬化性樹脂：アクリル樹脂（主成分グリシジルメタクリレート）…１８．５ｗｔ％
希釈溶剤：ブチルカルビトールアセテート                      …８０ｗｔ％
ビーズ：積水化学社製ミクロパール                            …１．５ｗｔ％
【００９６】
（パターニング用層除去工程）
続いて、真空紫外光の下をコンベアにて、上記スペーサ部が形成されたカラーフィルタ用基板を搬送した。この際、１５Ｊ／ｃｍ２の露光量で波長１７２ｎｍの真空紫外光を照射し、上記スペーサ部が形成されている領域以外のパターニング用層を分解除去した。その結果、上記スペーサ領域以外の領域、すなわち透明導電膜表面の純水との接触角を、接触角測定器（協和界面科学（株）製ＣＡ−Ｚ型）によって測定したところ、１０°であった。
【００９７】
＜実施例２＞
（カラーフィルタ用基板の準備）
ガラス基板からなる基材と、上記基材上にパターン状に形成された遮光部と、上記遮光部により区画された開口部に形成された着色層と、上記遮光部および着色層を覆うように形成された保護層とを有するカラーフィルタ用基板を準備した。
【００９８】
（パターニング用層形成工程）
下記の材料を２４時間常温にて攪拌し、加水分解共重合溶液を作製した。
・フルオロアルキルシラン（TSL8233  ＧＥ東芝シリコーン製）…１５．８ｗｔ％
・テトラメトキシシラン（TSL8114  ＧＥ東芝シリコーン製）  …５２．８ｗｔ％
・０．１Ｎ塩酸                                           …３１．４ｗｔ％
次に、上記加水分解共重合溶液と、イソプロピルアルコールと、１，３−ブタンジオールを重量比１：１０：５で混合し、１０分間攪拌してパターニング用層形成用塗工液とした。このパターニング用層形成用塗工液を、上記カラーフィルタ用基板の保護層上にスピンコート法により塗布し、１５０℃で１０分間乾燥させた。これにより、厚さ１５ｎｍのパターニング用層を得た。上記パターニング用層の純水との接触角は、１０５°であった。上記水との接触角は、接触角測定器（協和界面科学（株）製ＣＡ−Ｚ型）によって測定した。
【００９９】
（スペーサ部形成工程）
上記パターニング用層上に、実施例１と同様のスペーサ部形成用塗工液を、１滴（１５ｐｌ）ずつ、５１０μｍずつ間隙をあけて塗布した。その後、ホットプレートにて８０℃で１０分間乾燥させ、さらにオーブンにて２３０℃で３０分間加熱した。その結果、直径４０μｍの円形状のドットが形成され、そのドットの中には平均５個のビーズが含有されているスペーサ部を得た。
【０１００】
（パターニング用層親液化工程）
続いて、真空紫外光の下をコンベアにて、上記スペーサ部が形成されたカラーフィルタ用基板を搬送した。この際、１５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で波長１７２ｎｍの真空紫外光を照射し、上記パターニング用層の有機基を分解除去した。その結果、上記スペーサ領域以外の領域の純水との接触角を、接触角測定器（協和界面科学（株）製ＣＡ−Ｚ型）によって測定したところ、１０°であった。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】本発明のカラーフィルタの一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程図である。
【図３】本発明のカラーフィルタの製造方法の他の例を示す工程図である。
【図４】従来のカラーフィルタを説明するための説明図である。
【図５】従来のカラーフィルタを説明するための説明図である。
【符号の説明】
【０１０２】
１  …基材
２  …着色層
３  …パターニング用層
４  …スペーサ部
５  …遮光部
【図１】
2007065582.tif 000004
【図２】
2007065582.tif 000005
【図３】
2007065582.tif 000006
【図４】
2007065582.tif 000007
【図５】
2007065582.tif 000008