(57)【要約】【課題】液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層等を安定的に作製するのに有用なポリマーを提供する。【解決手段】フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基を有する構成単位、及び下記一般式（Ａ）で表される構成単位を含むポリマーである。一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは円盤状置換基を表す。一般式（Ａ）2007231193.tif 000069【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基を有する構成単位、及び下記一般式（Ａ）で表される構成単位を含むポリマー：
一般式（Ａ）
【化１】
2007231193.tif 000057
一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは円盤状置換基を表す。
【請求項２】
フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基を有し、且つ下記一般式（Ａ）で表される構成単位の少なくとも一種を含むポリマー：
一般式（Ａ）
【化２】
2007231193.tif 000058
一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは円盤状置換基を表す。
【請求項３】
フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基を側鎖に有する請求項１又は２に記載のポリマー。
【請求項４】
フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基を有する構成単位が、下記一般式（Ｂ）で表される請求項１に記載のポリマー：
一般式（Ｂ）
【化３】
2007231193.tif 000059
一般式（Ｂ）中、Ｍｐ'は３価の基を表し、Ｌ'は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。
【請求項５】
一般式（Ａ）で表される構成単位中、Ｘがトリフェニレン基である請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリマー。
【請求項６】
液晶性を示すポリマーである請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリマー。
【請求項７】
ブロック共重合体である請求項１又は３〜６のいずれか１項に記載のポリマー。
【請求項８】
少なくとも一種の液晶性化合物と、請求項１〜７のいずれか１項に記載のポリマーの少なくとも一種とを含有する組成物。
【請求項９】
少なくとも一種の液晶性化合物の粘度が、８０〜１５０℃において、５００〜１０００ｍＰａsである請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
少なくとも一種の液晶性化合物が、下記一般式（ＤＩ）で表される化合物である請求項８又は９に記載の組成物：
【化４】
2007231193.tif 000060
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｌ1、Ｌ2及びＬ3はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表し；Ｈ1、Ｈ2及びＨ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）又は下記一般式（ＤＩ−Ｂ）で表される基であり；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ｒ）で表される基であり；
【化５】
2007231193.tif 000061
一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1及びＹＡ2はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊はＬ1〜Ｌ3のいずれかと結合する位置を表し；＊＊はＲ1〜Ｒ3のいずれかと結合する位置を表し；
【化６】
2007231193.tif 000062
一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1及びＹＢ2はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊はＬ1〜Ｌ3のいずれかと結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3のいずれかと結合する位置を表し；
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｆ1）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ1、Ｈ2又はＨ3に結合する位置を表し；Ｆ1は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基を表し；Ｌ21は単結合又は２価の連結基を表し；ｎ１は０〜４の整数を表し；Ｌ22は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ≡Ｃ−を表し；Ｌ23は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、これらの基のうち水素原子を含む基は、該水素原子が置換基で置き換わっていてもよく；Ｑ1は重合性基又は水素原子を表す。
【請求項１１】
少なくとも一種の液晶性化合物が、下記一般式（ＤＩＩ）で表される液晶性化合物、又は下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される液晶性化合物である請求項８〜１０のいずれか１項に記載の組成物：
【化７】
2007231193.tif 000063
一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ31、Ｙ32及びＹ33はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｒ31、Ｒ32及びＲ33はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される基であり；
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）
【化８】
2007231193.tif 000064
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ31及びＡ32はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ3は酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｆ2は６員環状構造を有する２価の環状連結基を表し；ｎ３は、１〜３整数を表し；Ｌ31は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ≡Ｃ−を表し；Ｌ32は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、これらの基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わっていてもよく；Ｑ3は重合性基又は水素原子を表し；
【化９】
2007231193.tif 000065
一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ41、Ｙ42及びＹ43はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｒ41、Ｒ42及びＲ43はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）で表される基であり；
【化１０】
2007231193.tif 000066
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45及びＡ46はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ41は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｌ41は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し；Ｌ42は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、これらの基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ4は、重合性基又は水素原子を表し；
【化１１】
2007231193.tif 000067
一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55及びＡ56はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し、Ｘ52は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｌ51は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し；Ｌ52は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、これらの基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わっていてもよく；Ｑ5は重合性基又は水素原子を表し；
【化１２】
2007231193.tif 000068
一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64、Ａ65及びＡ66はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ63は、酸素原子、硫黄原子、メチン又はイミノを表し；Ｌ61は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し；Ｌ62は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、これらの基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ6は重合性基又は水素原子を表す。
【請求項１２】
請求項８〜１１のいずれか１項に記載の組成物からなる光学異方性層を有する位相差板。
【請求項１３】
請求項１２に記載の位相差板を有する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学異方性層の形成に有用なポリマー、及び、それを含有する組成物、更にその組成物を用いて作製された位相差板、及び該位相差板を有する液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、通常、液晶セルを挟んで第１の偏光板と第２の偏光板とが設けられ、液晶セルは一対の基板間に棒状液晶を含有する液晶層を有する。棒状液晶を用いた液晶セル内で生じる位相差を、ディスコティック液晶性化合物（円盤状液晶性化合物）（例えば、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ｛４−（４−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ｝トリフェニレン等）から形成される光学異方性層を有する光学補償シート（例えば、特許文献１）によって相殺する場合、棒状液晶とディスコティック液晶性化合物との波長分散性が異なるために全ての光の波長について同時に位相差を相殺できず、変色（黒の色味が出ない等）が生じる場合がある。
【０００３】
ヘテロ環基による３置換ベンゼン化合物が報告されている（非特許文献１）。この化合物の使用によって低い波長分散性を達成することは容易でなく、より波長分散性の小さい（Ｒｅ（短波長（例えば４５０ｎｍ））／Ｒｅ（長波長（例えば６５０ｎｍ））の値が小さい）化合物が望まれている。
【０００４】
位相差板のレターデーションＲｅ（λ）は、補償しようとする液晶セルの光学的性質に応じて決定する必要がある。ここで、レターデーション（△ｎｄ）は、光学異方性層の屈折率異方性（△ｎ）と光学異方性層の厚さ（ｄ）との積であり、光学異方性層の屈折率異方性（△ｎ）が大きければ、層の厚さ（ｄ）が薄くても液晶セルを補償できる。また、液晶を配向固定化して作製された位相差板においては、配向した液晶の配向角度（チルト角、平均チルト角）によってレターデーションＲｅが変化するため、その配向角度を制御する必要がある。
【０００５】
しかしながら、ヘテロ環基の置換した３置換ベンゼン型のディスコティック液晶の場合、配向角度を制御するのが困難であり、特に、低いチルト角でハイブリッド配向させることが困難であったことから、ディスコティック液晶性化合物の配向角度を所望の角度に低下することができる配向制御剤が望まれていた。
【０００６】
一方、液晶性化合物に、配向制御剤もしくは配向促進剤を添加する例が開示されているが、３置換ベンゼン型のディスコティック液晶性化合物に対する効果は明示されておらず、また従来の技術では配向角度を所望の角度に制御するのには不十分であった（特許文献２）。
【０００７】
また、配向角度の制御に関し、特に、配向を固定化するために行われる重合時の温度が変化しても配向角度の変化が小さいことが望まれているが、これまでは配向角度の温度依存性が大きく、その改善が望まれていた。
【０００８】
また、例えば非特許文献２及び３に、円盤状置換基であるトリフェニレン基を側鎖に有するポリマーが記載されているが、これらはスチレンとのブロック共重合体やポリプロピレンイミンに置換したデンドリマーであり、配向制御剤として有効なフッ素原子が置換したモノマーとの共重合体については従来知られていなかった。
【０００９】
【特許文献１】特開平８−５０２０６号公報
【特許文献２】特開２００２−１２９１６２号公報
【非特許文献１】Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ  ａｎｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ，２００１年，３７０巻，３９１頁
【非特許文献２】Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２００３年，３６巻，３４３２頁
【非特許文献３】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ，２００５年，１２７巻，６９１頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層等を安定的に作製するのに有用な組成物、及び、それに好適に用いられるポリマーを提供することを課題とする。特に、ディスコティック液晶性化合物のハイブリッド配向によって発現された光学異方性を示す光学異方性層を、光学特性値のバラツキや配向不良等に起因する欠陥なく（又は欠陥を軽減して）作製するのに有用なポリマー及び組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶表示装置の光学補償に有用な位相差板、及び良好な表示特性の液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］  フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基を有する構成単位、及び下記一般式（Ａ）で表される構成単位を含むポリマー：
【００１２】
一般式（Ａ）
【化１】
2007231193.tif 000002
一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは円盤状置換基を表す。
【００１３】
［２］  フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基を有し、且つ下記一般式（Ａ）で表される構成単位の少なくとも一種を含むポリマー：
【００１４】
一般式（Ａ）
【化２】
2007231193.tif 000003
一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは円盤状置換基を表す。
【００１５】
［３］  フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基を側鎖に有する［１］又は［２］のポリマー。
［４］  フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基を有する構成単位が、下記一般式（Ｂ）で表される［１］のポリマー：
【００１６】
一般式（Ｂ）
【化３】
2007231193.tif 000004
一般式（Ｂ）中、Ｍｐ'は３価の基を表し、Ｌ'は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。
【００１７】
［５］  一般式（Ａ）で表される構成単位中、Ｘがトリフェニレン基である［１］〜［４］のいずれかのポリマー。
［６］  液晶性を示すポリマーである［１］〜［５］のいずれかのポリマー。
［７］  ブロック共重合体である［１］又は［３］〜［６］のいずれかのポリマー。
［８］  少なくとも一種の液晶性化合物と、［１］〜［７］のいずれかのポリマーの少なくとも一種とを含有する組成物。
［９］  少なくとも一種の液晶性化合物の粘度が、８０〜１５０℃において、５００〜１０００ｍＰａsである［８］の組成物。
［１０］  少なくとも一種の液晶性化合物が、下記一般式（ＤＩ）で表される化合物である［８］又は［９］の組成物：
【００１８】
【化４】
2007231193.tif 000005
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｌ1、Ｌ2及びＬ3はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表し；Ｈ1、Ｈ2及びＨ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）又は下記一般式（ＤＩ−Ｂ）で表される基であり；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ｒ）で表される基であり；
【００１９】
【化５】
2007231193.tif 000006
一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1及びＹＡ2はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊はＬ1〜Ｌ3のいずれかと結合する位置を表し；＊＊はＲ1〜Ｒ3のいずれかと結合する位置を表し；
【００２０】
【化６】
2007231193.tif 000007
一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1及びＹＢ2はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊はＬ1〜Ｌ3のいずれかと結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3のいずれかと結合する位置を表し；
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｆ1）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ1、Ｈ2又はＨ3に結合する位置を表し；Ｆ1は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基を表し；Ｌ21は単結合又は２価の連結基を表し；ｎ１は０〜４の整数を表し；Ｌ22は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ≡Ｃ−を表し；Ｌ23は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、これらの基のうち水素原子を含む基は、該水素原子が置換基で置き換わっていてもよく；Ｑ1は重合性基又は水素原子を表す。
【００２１】
［１１］  少なくとも一種の液晶性化合物が、下記一般式（ＤＩＩ）で表される液晶性化合物、又は下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される液晶性化合物である［８］〜［１０］のいずれかの組成物：
【００２２】
【化７】
2007231193.tif 000008
一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ31、Ｙ32及びＹ33はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｒ31、Ｒ32及びＲ33はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される基であり；
【００２３】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）
【化８】
2007231193.tif 000009
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ31及びＡ32はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ3は酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｆ2は６員環状構造を有する２価の環状連結基を表し；ｎ３は、１〜３整数を表し；Ｌ31は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ≡Ｃ−を表し；Ｌ32は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、これらの基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わっていてもよく；Ｑ3は重合性基又は水素原子を表し；
【００２４】
【化９】
2007231193.tif 000010
一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ41、Ｙ42及びＹ43はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｒ41、Ｒ42及びＲ43はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）で表される基であり；
【００２５】
【化１０】
2007231193.tif 000011
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45及びＡ46はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ41は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｌ41は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し；Ｌ42は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、これらの基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ4は、重合性基又は水素原子を表し；
【００２６】
【化１１】
2007231193.tif 000012
一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55及びＡ56はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し、Ｘ52は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｌ51は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し；Ｌ52は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、これらの基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わっていてもよく；Ｑ5は重合性基又は水素原子を表し；
【００２７】
【化１２】
2007231193.tif 000013
一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64、Ａ65及びＡ66はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ63は、酸素原子、硫黄原子、メチン又はイミノを表し；Ｌ61は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し；Ｌ62は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、これらの基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ6は重合性基又は水素原子を表す。
【００２８】
［１２］  ［８］〜［１１］のいずれかの組成物からなる光学異方性層を有する位相差板。
［１３］  ［１２］の位相差板を有する液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層を安定的に作製するのに有用なポリマー及び組成物を提供することができる。本発明によれば、特に、ディスコティック液晶性化合物のハイブリッド配向によって発現された光学異方性を示す光学異方性層を、配向温度の僅かな変動に起因した光学特性値のバラツキや、配向不良等に起因する欠陥なく又は軽減して作製するのに有用な組成物を提供することができる。また、本発明によれば、液晶表示装置の光学補償に有用な位相差板、及び良好な表示特性の液晶表示装置を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【００３０】
以下、本発明について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
まず、本明細書における、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）、チルト角及び平均チルト角の詳細について以下に記す。
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターでーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：  セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
【００３１】
また、本明細書において、光学異方性層中のディスコティック液晶性化合物の分子の平均チルト角とは、光学異方性層の一方の面（例えば、配向膜表面）と光学異方性中のディスコティック液晶性化合物の分子の物理的な対象軸とのなす角度をチルト角θ１、及び、他方の面（例えば、空気界面）とのなす角度をチルト角θ２とし、その平均値（（θ１＋θ２）／２）として定義する。しかしながら、θ１及び他方の面のチルト角θ２を、直接的にかつ正確に測定することは困難である。そこで本明細書においては、θ１及びθ２は、以下の手法で算出する。本手法は実際の配向状態を正確に表現していないが、光学フィルムのもつ一部の光学特性の相対関係を表す手段として有効である。
本手法では算出を容易にすべく、下記の２点を仮定し、光学異方性層の２つの界面におけるチルト角とする。
１．光学異方性層は円盤状化合物や棒状化合物を含む層で構成された多層体と仮定する。さらに、それを構成する最小単位の層（円盤状化合物又は棒状化合物のチルト角は該層内において一様と仮定）は光学的に一軸と仮定する。
２．各層のチルト角は光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化すると仮定する。
具体的な算出法は下記のとおりである。
（１）各層のチルト角が光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化する面内で、光学異方性層への測定光の入射角を変化させ、３つ以上の測定角でレターデーション値を測定する。測定及び計算を簡便にするためには、光学異方性層に対する法線方向を０°とし、−４０°、０°、＋４０°の３つの測定角でレターデーション値を測定することが好ましい。このような測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ及びＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測器（株）製）、透過型のエリプソメーターＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０及びＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行うことができる。
（２）上記のモデルにおいて、各層の常光の屈折率をｎｏ、異常光の屈折率をｎｅ（ｎｅは各々すべての層において同じ値、ｎｏも同様とする）、及び多層体全体の厚みをｄとする。さらに各層におけるチルト方向とその層の一軸の光軸方向とは一致するとの仮定の元に、光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１及び他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１及びθ２を算出する。
ここで、ｎｏ及びｎｅは文献値、カタログ値等の既知の値を用いることができる。値が未知の場合はアッベ屈折計を用いて測定することもできる。光学異方性層の厚みは、光学干渉膜厚計、走査型電子顕微鏡の断面写真等により測定数することができる。
【００３２】
本発明は、フッ素原子を含む少なくとも一種の置換基、及び下記一般式（Ａ）で表される構成単位の少なくとも一種を含むポリマーに関する。また、本発明は、該ポリマーの少なくとも１種と、液晶性化合物の少なくとも１種とを含有する組成物にも冠する。前記組成物から光学異方性層を形成することができ、該光学異方性層を有する本発明の位相差板を作製することができる。本発明のポリマーの存在下で液晶性化合物をハイブリッド配向させると、平均チルト角が小さいハイブリッド配向を実現できる。さらに、液晶性化合物の分子をかかる配向状態に重合により固定して光学異方性層を形成する際に、重合温度の変動に起因したチルト角度の変化がない又は少ないという特徴がある。したがって、本発明によれば、所望の性能の光学異方性層を安定的に形成することができ、本発明は、光学異方性層を有する位相差板の製造安定性の改善にも寄与する。
【００３３】
以下、本発明のポリマー、組成物、及び、位相差板について順次説明する。
（１）  本発明のポリマー
（１）−１  一般式（Ａ）で表される構成単位
本発明のポリマーは、下記一般式（Ａ）で表される構成単位を少なくとも一種含む。
【００３４】
一般式（Ａ）
【化１３】
2007231193.tif 000014
【００３５】
一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは円盤状置換基を表す。ただし、「円盤状置換基」の用語は、一つのコアとなる基に３個以上の環状置換基が直接又は連結基を介して置換した円盤状置換基、及びコアとなる環状置換基に他の環が縮環してなる４環以上の円盤状置換基のいずれも含む意味で用いる。
【００３６】
一般式（Ａ）中、Ｍｐは３価の基であり、本発明のポリマーの主鎖を構成する。後述するとおり、これ以外の繰り返し単位を含んで主鎖を構成していてもよい。Ｍｐは、−ＣＲ2−ＣＲ2−（Ｒは、それぞれ、水素原子又は置換基）、−ＣＲ＝ＣＲ−（Ｒは、それぞれ、水素原子又は置換基）及び−ＣＣ−のいずれか１以上の構造のみからなる基（例えば、置換もしくは無置換のエチレン基、置換もしくは無置換のブチレン基、置換もしくは無置換のビニレン基、置換もしくは無置換の環状アルキレン基、置換もしくは無置換のフェニレン基等）、酸素原子を含む基（例えば、エーテル基、アセタール基、エステル基、カルボネート基等）、窒素原子を含む基（例えば、アミノ基、イミノ基、アミド基、ウレタン基、ウレイド基、イミド基、イミダゾール基、オキサゾール基、ピロール基、アニリド基、マレインイミド基等）、硫黄原子を含む基（例えば、スルフィド基、スルホン基、チオフェン基等）、リン原子を含む基（例えば、ホスフィン基、リン酸エステル基など）、珪素原子を含む基（例えば、シロキサン基等）の基、及びこれらの基を二つ以上連結して形成される３価の基が含まれる。
【００３７】
以下に、Ｍｐの好ましい具体例を示すが、Ｍｐはこれに限定されるものではない。また、Ｍｐ中の＊で表される部位はＬと連結する部位を表す。
【００３８】
【化１４】
2007231193.tif 000015
【００３９】
Ｍｐとして好ましくは、−ＣＲ2−ＣＲ2−（Ｒは、それぞれ、水素原子又は置換基）、−ＣＲ＝ＣＲ−（Ｒは、それぞれ、水素原子又は置換基）及び−ＣＣ−のいずれか１以上の構造のみからなる基であり、より好ましくは、−ＣＲ2−ＣＲ2−（Ｒは、それぞれ、水素原子又は置換基）構造のみからなる基であり、さらに好ましくは置換もしくは無置換のエチレン基であり、特に好ましくは、Ｍｐ-１及びＭｐ−２である。
【００４０】
一般式（Ａ）中のＬで表される２価の連結基としては、置換もしくは無置換の炭素原子数１〜２０のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソプロピレン基など）、炭素原子数２〜２０のアルケニレン基（例えば、ビニレン基、ブテン基等）、置換もしくは無置換のアリーレン基（例えば、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、１，４−ナフチレン基等）、−Ｏ−、−ＮＲa1−、−Ｓ−、−ＰＲa2−、−Ｓｉ（Ｒa3）（Ｒa4）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲa5−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲa6−、−ＮＲa7Ｃ（＝Ｏ）ＮＲa8−、−（−Ｏ）2ＣＨ−等を表す。尚、上記Ｒa1〜Ｒa8は置換可能な置換基を表し、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（１以上の環構造を含むモノシクロアルキル基、ビシクロアルキル基等のシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールアゾ基、ヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。
また、上記連結基を２つ以上連結させて形成される、以下に示すような連結基でもよい。また、Ｌ中の＊で表される部位はＭｐと連結する部位を表す。
【００４１】
【化１５】
2007231193.tif 000016
【００４２】
一般式（Ａ）中のＬとしてより好ましくは、−Ｏ−、−ＮＲa11−（但し、Ｒa11は水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）2−、及び、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基である。前記２個以上連結して形成される２価の連結基としては、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）maＯ−（但し、ｍａは１〜２０の整数を表す）等）が挙げられる。
【００４３】
さらに、一般式（Ａ）中のＭｐが、前記Ｍｐ-１又はＭｐ−２を表す場合には、Ｌは、−Ｏ−、−ＮＲa11−（Ｒa11は、水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基、又は、炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）2−、及び、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましく、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、ならびに、これらの１以上とアルキレン基との組み合わせからなる２価の連結基から選択される基がより好ましい。例えば、前記Ｌ−１、Ｌ−２、及びＬ−３等である。
【００４４】
一般式（Ａ）中のＸで表される円盤状置換基は、一つのコアとなる基（以下Ｘｃと表す）に少なくとも３個以上の環状置換基（以下、Ｘｄと表す）が直接もしくは連結基（以下ＸＬと表す）を介して置換した円盤状置換基、又は、コアとなる基（Ｘｃ）が環状置換基であり、そのコアを中心として他の環状置換基（Ｘｄ）が縮環してなる４環以上の円盤状置換基であるのが好ましく、それぞれの好ましい連結方式としては、以下の一般式Ｘ−１及びＸ−２が挙げられる。ただし、一般式（Ａ）中のＬと連結する部位は、Ｘｃ、Ｘｄ及びＸＬのいずれの部位でもよい。
【００４５】
【化１６】
2007231193.tif 000017
【００４６】
コアとなる基（Ｘｃ）としては、メチン、窒素原子、３〜８の環状脂肪族炭化水素基（例えば、シクロプロパン、シクロヘキシル等）、６〜１０のアリール基（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環等）、及びヘテロ環基（例えば、１，３，５−トリアジン環、１，３−ピリミジン環等）が挙げられ、好ましくはベンゼン環である。
【００４７】
また、前記コアに置換もしくは縮環して形成する環状置換基（Ｘｄ）としては、置換及び無置換の炭素数３〜３０の環状脂肪族炭化水素基（例えば、置換シクロヘキシル基等）、置換及び無置換の炭素数６〜３０のアリール基（例えば、置換もしくは無置換フェニル基、置換もしくは無置換ナフチル基等）が挙げられ、置換する環状置換基として好ましくは、置換フェニル基、置換ナフチル基であり、縮環して形成する場合はベンゼン環が好ましい。
【００４８】
また、ＸｃとＸｄの連結基ＸＬとしては、単なる結合、置換もしくは無置換の炭素原子数１〜２０のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソプロピレン基など）、炭素原子数２〜２０のアルケニレン基（例えば、ビニレン基、ブテン基等）、−Ｏ−、−ＮＲx1−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲx2−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲx3−、−（−Ｏ）2ＣＨ−等を表す。尚、上記Ｒx1〜Ｒx3は置換可能な置換基を表し、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（１以上の環構造を含むモノシクロアルキル基、ビシクロアルキル基等のシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基等が例として挙げられる。
【００４９】
以下に一般式（Ａ）として好ましい構成単位の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００５０】
【化１７】
2007231193.tif 000018
【００５１】
【化１８】
2007231193.tif 000019
【００５２】
【化１９】
2007231193.tif 000020
【００５３】
【化２０】
2007231193.tif 000021
【００５４】
【化２１】
2007231193.tif 000022
【００５５】
本発明のポリマーは、フッ素原子を含む置換基を少なくとも一種有する。該置換基は、ポリマーの側鎖中に存在するのが好ましい。前記フッ素原子を含む置換基は、前記一般式（Ａ）で表される構成単位中に含まれていてもよく、かかる場合は、側鎖を構成する連結基Ｌ、又は円盤状置換基Ｘ中の置換基として存在しているのが好ましい。前記フッ素原子を含む置換基が、記一般式（Ａ）で表される構成単位中に含まれている場合は、本発明のポリマーは、１種のモノマーから誘導されるホモポリマーであってもよい。前記一般式（Ａ）で表される構成単位中に含まれるフッ素原子を含む置換基の好ましい例については、後述する一般式（Ｂ）で表される構成単位が有するフッ素原子を含む置換基の好ましい例と同様である。
【００５６】
（１）−２  フッ素原子が置換された基からなる構成単位
本発明のポリマーの一態様は、前記一般式（Ａ）で表される基である構成単位の他に、フッ素原子を含む置換基を少なくとも一種有する構成単位とを有するコポリマーである。このような構成単位としては、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位が好ましく、下記一般式（Ｂ）で表される構成単位がより好ましい。以下に一般式（Ｂ）で表される基についての詳細を記す。
【００５７】
一般式（Ｂ）
【化２２】
2007231193.tif 000023
【００５８】
一般式（Ｂ）中、Ｍｐ'は３価の基を表し、Ｌ'は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。
【００５９】
Ｍｐ'は、一般式（Ａ）中のＭｐと同義であり、好ましい範囲も同義である。
Ｌ'は、好ましくは、−Ｏ−、−ＮＲa11−（但し、Ｒa11は水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）2−、及び、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基である。前記２個以上連結して形成される２価の連結基としては、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）maＯ−（但し、ｍａは１〜２０の整数を表す）等が挙げられる。
【００６０】
さらに、一般式（Ｂ）中のＭｐ'が前記Ｍｐ-１又はＭｐ−２を表す場合には、Ｌ'は、−Ｏ−、−ＮＲa11−（Ｒa11は、水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基、又は、炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）2−、及び、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましく、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、ならびに、これらの１以上とアルキレン基との組み合わせからなる基から選択される２価の連結基（例えば、前記Ｌ−１、Ｌ−２、及び、Ｌ−３等）がより好ましい。
【００６１】
Ｒｆは、少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基であり、その好ましい例には、少なくとも一つのフッ素原子が置換した炭素原子数１〜３０の脂肪族炭化水素基（例えば、トリフルオロエチル基、パーフルオロヘキシルエチル基、パーフルオロヘキシルエトキシエチル基、パーフルオロヘキシルプロピル基、パーフルオロブチルエチル基、パーフルオロオクチルエチル基等）、少なくとも一つのフッ素原子が置換した炭素原子数６〜２０のアリール基（例えば、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−（パーフルオロヘキシルエトキシ）エトキシフェニル基等）が含まれる。また、Ｒｆは、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有することが好ましく、ＣＦ3基を有することがより好ましい。
【００６２】
一般式（Ｂ）中のＲｆは、炭素原子数１〜２０のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数４〜１６のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数４〜８のアルキル基であることがさらに好ましい。
Ｒｆとしてより好ましくは、末端にＣＦ3基を有するアルキル基又は末端にＣＦ2基を有するアルキル基である。末端にＣＦ3基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。末端にＣＦ3基を有するアルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているアルキル基が好ましく、６０％以上が置換されているアルキル基がより好ましく、７０％以上が置換されているアルキル基が特に好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された置換基によって置換されていてもよい。
末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上が置換されているのが特に好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された置換基によって置換されていてもよい。
【００６３】
置換基群Ｄ
本明細書において、置換基群Ｄには、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１２、特に好ましくは炭素原子数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１２、特に好ましくは炭素原子数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１２、特に好ましくは炭素原子数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは炭素原子数６〜２０、特に好ましくは炭素原子数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは炭素原子数０〜１０、特に好ましくは炭素原子数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる）、
【００６４】
アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１２、特に好ましくは炭素原子数１〜８のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素原子数６〜１２のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２アシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは炭素原子数７〜１６、特に好ましくは炭素原子数７〜１０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、
【００６５】
アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは炭素原子数７〜１６、特に好ましくは炭素原子数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは炭素原子数０〜１６、特に好ましくは炭素原子数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００６６】
アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは炭素原子数６〜１６、特に好ましくは炭素原子数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは炭素原子数３〜３０、特に好ましくは、炭素原子数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい
【００６７】
末端にＣＦ3基を有するアルキル基又は末端にＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。
Ｒ１：ｎ−Ｃ8Ｆ17−
Ｒ２：ｎ−Ｃ6Ｆ13−
Ｒ３：ｎ−Ｃ4Ｆ9−
Ｒ４：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）2−
Ｒ５：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−
Ｒ６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−
Ｒ７：Ｈ−（ＣＦ2）8−
Ｒ８：Ｈ−（ＣＦ2）6−
Ｒ９：Ｈ−（ＣＦ2）4−
Ｒ１０：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−
Ｒ１１：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−
Ｒ１２：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−
Ｒ１３：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）3−Ｏ−
Ｒ１４：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−Ｏ−
Ｒ１５：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−Ｏ−
【００６８】
以下に、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される好ましい繰り返し単位の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によってなんら限定されるものではない。
【００６９】
【化２３】
2007231193.tif 000024
【００７０】
【化２４】
2007231193.tif 000025
【００７１】
また、本発明のポリマーには、一般式（Ａ）で表される構造を含有する構成単位、及びフッ素原子が置換した構成単位の他、これらの構成単位を形成するモノマーと共重合可能なモノマーより誘導される構成単位を含有してもよい。
共重合可能なモノマーとしては、特に制限はない。好ましいモノマーとしては、例えば、炭化水素系ポリマー（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリマレインイミド、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリアクリルアニリド等）、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカルボナート、ポリアミド、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリウレタン及びポリウレイドを構成するモノマーである。
さらに、主鎖構造が、一般式（Ａ）で表される基が構成するものと、同一となる構成単位が好ましい。
【００７２】
以下に共重合可能な構成単位の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。
【００７３】
【化２５】
2007231193.tif 000026
【００７４】
【化２６】
2007231193.tif 000027
【００７５】
本発明のポリマー中、一般式（Ａ）で表される構成単位の含有率としては、１〜９０質量％が好ましく、５〜８０質量％がより好ましい。
本発明のポリマー中、フッ素原子を含む置換基を有する構成単位（好ましくは、一般式（Ｂ）で表される基）の含有率としては、５〜９０質量％が好ましく、１０〜８０％がより好ましい。
上記２種以外の構成単位の含有率としては、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。
【００７６】
また、これらの共重合体は、各構成単位が不規則的に導入されたランダム共重合体であっても、規則的に導入されたブロック共重合体であってもよく、ブロック共重合体である場合の各構成単位は、如何なる導入順序で合成されたものであってもよく、同一の構成成分を２度以上用いてもよい。
また、一般式（Ａ）で表される基、一般式（Ｂ）で表される基等は、１種類のみであってもよいし、２種類以上であってもよい。２種類以上の場合、上記含有率は、合計含有率である。
【００７７】
さらに、本発明のポリマーの分子量範囲は、重量平均分子量（Ｍｗ）で、好ましくは１０００〜１００万であり、より好ましくは２０００〜２０万であり、さらに好ましくは３０００〜１０万である。また、本発明のポリマーの分子量分布は、１〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。
【００７８】
本発明のポリマーの添加量範囲は、液晶性化合物に対して、好ましくは０．００１〜１０質量％であり、より好ましくは、０．００５〜５．０質量％であり、さらに好ましくは、０．０１〜１．０質量％である。
【００７９】
また、本発明のポリマーは、液晶性を示す液晶性ポリマーであるのが好ましい。さらに、液晶性を２５℃〜２５０℃の間で示す液晶性ポリマーであるのがより好ましい。
ここでいう液晶性とは、結晶と液体の間に示す高粘で流動性のある状態を言い、熱的にその状態が変化するサーモトロピック液晶性と濃度による状態が変化するリオトロピック液晶性のどちらでもよいが、前者のサーモトロピック液晶性であることが好ましい。更にサーモトロピック液晶性においてもその配列状態によって、ネマチック液晶性、スメクチック液晶性などがあり、本発明においてはどのような配列状態の液晶であってもよいが、好ましくは、ネマチック液晶性である。
【００８０】
本発明のポリマーの具体例を以下の表１に示す。
【００８１】
【表１】
2007231193.tif 000028
【００８２】
本発明のポリマーの合成は、既知の方法を適用して行うことができる。本発明のポリマーは、付加、縮合及び置換反応などのいずれか又はこれを組み合わせて合成することができる。特に制限はないが、前記ポリマーがエチレン性の繰り返し単位を含有する場合は、該繰り返し単位に相当するエチレン性不飽和化合物のラジカル重合反応を利用して合成するのが簡便で好ましい。
【００８３】
（２）本発明の組成物
本発明の組成物は、本発明のポリマーの少なくとも一種と、液晶性化合物の少なくとも一種とを含有する。以下に本発明の組成物に好適に用いられる液晶性化合物について説明する。
（２）−１  液晶性化合物
本発明で用いられる液晶性化合物は特に定めるものではないが、ディスコティック液晶性を示す化合物であることが好ましく、ディスコティックネマチック相を示す化合物であることがより好ましい。
本発明で用いられる液晶性化合物としては、一般式（ＤＩ）で表されるものが例示される。
【００８４】
［一般式（ＤＩ）で表される化合物］
本発明に用いられる一般式（ＤＩ）表される化合物は、ディスコティック液晶性を示すことが好ましく、特に、ディスコティックネマチック相を示すことが好ましい。
【００８５】
【化２７】
2007231193.tif 000029
【００８６】
一般式（ＤＩ）中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ｙ11、Ｙ12及びＹ13がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子及びシアノ基を挙げることができる。これらの中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がより好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がさらに好ましい。
【００８７】
Ｙ11、Ｙ12、Ｙ13は、すべてメチンであることが好ましく、またメチンは無置換であることが好ましい。
【００８８】
一般式（ＤＩ）中、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基である。前記２価の連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ7−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、２価の環状基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ7は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基又は水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
【００８９】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3で表される２価の環状基は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環及びナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。環状基は、芳香族環及び複素環を含んでいるのが好ましい。
【００９０】
前記２価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基及びナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。
【００９１】
Ｌ1、Ｌ2又はＬ3で表される前記２価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜１６のアルキル基、炭素原子数が２〜１６のアルケニル基、炭素原子数が２〜１６のアルキニル基、炭素原子数が１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１６のアシル基、炭素原子数が１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数が２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。
【００９２】
Ｌ1、Ｌ2及びＬ3としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−２価の環状基−、＊−Ｏ−ＣＯ−２価の環状基−、＊−ＣＯ−Ｏ−２価の環状基−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−２価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−２価の環状基−、＊−２価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−２価の環状基−ＣＯ−Ｏ−、＊−２価の環状基−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−２価の環状基−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。特に、単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−２価の環状基−又は＊−Ｃ≡Ｃ−２価の環状基−がより好ましく、単結合がさらに好ましい。ここで、＊は一般式（Ｉ）中のＹ11、Ｙ12及びＹ13を含む６員環に結合する位置を表す。
【００９３】
一般式（ＤＩ）中、Ｈ1、Ｈ2及びＨ3はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）もしくは下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。
【００９４】
【化２８】
2007231193.tif 000030
【００９５】
一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ1及びＹＡ2はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。ＹＡ1及びＹＡ2は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表す。ＸＡは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。
【００９６】
【化２９】
2007231193.tif 000031
【００９７】
一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ1及びＹＢ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。ＹＢ1及びＹＢ2は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表す。ＸＢは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ〜Ｌ3と結合する位置を表し、＊＊はＲ1〜Ｒ3と結合する位置を表す。
【００９８】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｆ1）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
【００９９】
一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ1、Ｈ2又はＨ3に結合する位置を表す。Ｆ1は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基を表す。Ｌ21は単結合又は２価の連結基を表す。Ｌ21が２価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ7−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ7は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基又は水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
【０１００】
Ｌ21は単結合、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−（ここで、＊＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ21の左側を表す）が好ましい。特に、単結合が好ましい。
【０１０１】
一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＦ1は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の環状連結基を表す。環状構造は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状構造は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。
【０１０２】
Ｆ1のうち、ベンゼン環を有するものとしては、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有するものとしては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有するものとしては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有するものとしてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有するものとしては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。Ｆ1は、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレンナフタレン−２，６−ジイル基及び１，４−シクロへキシレン基が好ましい。
【０１０３】
Ｆ1は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。該置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が好ましい。
【０１０４】
ｎ１は０〜４整数を表す。ｎ１としては、１〜３の整数が好ましく、１又は２が好ましい。なお、ｎ１が０の場合は、式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ22が直接、前記一般式（Ｄ１）中のＨ1〜Ｈ3と結合する。ｎ１が２以上の場合、それぞれの−Ｌ21−Ｆ1は同一でも異なっていてもよい。
【０１０５】
Ｌ22は、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＨ2−である。
ここで、上記のうち水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。
【０１０６】
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基である。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、他の置換基に置き換えられていてもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。これらの置換基に置き換えられることにより、前記一般式（ＤＩ）で表される化合物の溶媒に対する溶解性を向上させることができ、容易に、塗布液として本発明の組成物を調製することができる。
【０１０７】
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群から選ばれる連結基であることが好ましい。Ｌ23は、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。さらに、Ｌ23は−ＣＨ2−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個含有することがより好ましい。
【０１０８】
Ｑ1は重合性基又は水素原子である。一般式（ＤＩ）で表される化合物を、光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないことを必要とする光学フィルム等の作製に用いる場合には、Ｑ1は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【０１０９】
【化３０】
2007231193.tif 000032
【０１１０】
さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基又は開環重合性基が好ましい。
【０１１１】
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。
【０１１２】
【化３１】
2007231193.tif 000033
【０１１３】
式（Ｍ−３）、式（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。Ｒとしては、水素原子又はメチル基が好ましい。上記（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中でも、（Ｍ−１）又は（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。
【０１１４】
開環重合性基として好ましいのは、環状エーテル基であり、中でもエポキシ基又はオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。
【０１１５】
さらに本発明に用いられるディスコティック液晶性化合物として下記一般式（ＤＩＩ）で表される液晶性化合物又は下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される液晶性化合物を用いるのがより好ましい。
【０１１６】
【化３２】
2007231193.tif 000034
【０１１７】
一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ31、Ｙ32、Ｙ33はそれぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ｙ31、Ｙ32及びＹ33は各々、一般式（ＤＩ）中のＹ11、Ｙ12及びＹ13の定義とそれぞれ同一であり、好ましい範囲も同義である。
【０１１８】
Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33はそれぞれ独立に一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。
【０１１９】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）
【化３３】
2007231193.tif 000035
【０１２０】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ31、Ａ32は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ａ31及びＡ32としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることが最も好ましい。
Ｘ3は酸素原子、硫黄原子、メチレン、又はイミノを表す。Ｘ3としては、酸素原子であることが好ましい。
【０１２１】
一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ｆ2は６員環状構造を有する２価の環状連結基を表す。Ｆ2に含まれる６員環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。Ｆ2に含まれる６員環は、芳香族環、脂肪族環及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。
【０１２２】
２価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基及び１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基及びナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。２価の環状基としては、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基及び１，４−シクロへキシレン基が好ましい。
【０１２３】
Ｆ2は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。２価の環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、さらに、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がより好ましい。
【０１２４】
ｎ３は、１〜３整数を表す。ｎ３としては、１又は２が好ましい。ｎ３が２以上の場合、それぞれのＦ2は同一でも異なっていてもよい。
【０１２５】
Ｌ31は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｌ31の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ22と同一である。
【０１２６】
Ｌ32は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｌ32の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ23と同一である。
【０１２７】
Ｑ3は重合性基又は水素原子を表し、好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ1と同一である。
【０１２８】
次に、一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の詳細を記す。
【０１２９】
【化３４】
2007231193.tif 000036
【０１３０】
一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ41、Ｙ42及びＹ43は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｙ41、Ｙ42及びＹ43がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は、置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子及びシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がさらに好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基が特に好ましい。
Ｙ41、Ｙ42及びＹ43は、いずれもメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることがより好ましい。
【０１３１】
Ｒ41、Ｒ42及びＲ43は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表す。
波長分散性の小さい位相差板等を作製する場合は、Ｒ41、Ｒ42及びＲ43は、それぞれ、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）又は一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）で表されるものが好ましく、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）で表されるものがより好ましい。
【０１３２】
【化３５】
2007231193.tif 000037
【０１３３】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ａ44、Ａ45、Ａ46は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ａ41及びＡ42は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ43、Ａ44、Ａ45及びＡ46は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ43、Ａ44、Ａ45及びＡ46がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有する置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ41は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１３４】
【化３６】
2007231193.tif 000038
【０１３５】
一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ51、Ａ52、Ａ53、Ａ54、Ａ55及びＡ56はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ａ51及びＡ52は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ53、Ａ54、Ａ55及びＡ56は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ53、Ａ54、Ａ55及びＡ56がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ52は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１３６】
【化３７】
2007231193.tif 000039
【０１３７】
一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64、Ａ65及びＡ66はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ａ61及びＡ62は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ63、Ａ64、Ａ65及びＡ66は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ63、Ａ64、Ａ65及びＡ36がそれぞれメチンの場合、該メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ63は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。
【０１３８】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ41、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ51、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ61はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＨ2−である。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。
このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【０１３９】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ42、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ52、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ62はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【０１４０】
Ｌ42、Ｌ52及びＬ62はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましい。Ｌ42、Ｌ52、Ｌ62はそれぞれ独立して、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個含有することがより好ましい。さらに、Ｌ42、Ｌ52、Ｌ62はそれぞれ独立して、−ＣＨ2−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ2−を２〜１２個含有することがさらに好ましい。
【０１４１】
一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＱ4、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＱ5及び一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＱ6は、それぞれ独立して、重合性基又は水素原子を表す。これらの好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ1と同一である。
【０１４２】
以下に、一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４３】
【化３８】
2007231193.tif 000040
【０１４４】
【化３９】
2007231193.tif 000041
【０１４５】
【化４０】
2007231193.tif 000042
【０１４６】
【化４１】
2007231193.tif 000043
【０１４７】
以下一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物を示す。
【０１４８】
【化４２】
2007231193.tif 000044
【０１４９】
前記液晶性化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相及びディスコティックネマチック相（ＮＤ相）を挙げることができる。これらの液晶相の中では、良好なモノドメイン性を示すディスコティックネマチック相（ＮＤ相）が好ましい。
【０１５０】
前記一般式（ＤＩ）で表される化合物は、液晶相を２０℃〜３００℃の範囲で発現することが好ましく、４０℃〜２８０℃の範囲で発現することがより好ましく、６０℃〜２５０℃の範囲で発現することがさらに好ましい。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（具体的に例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（具体的に例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。
【０１５１】
本発明に用いられる一般式（ＤＩ）で表される化合物の合成は、既知の方法を適用して合成することができる。
【０１５２】
本発明に用いられる液晶性化合物の粘度は、好ましくは、８０〜１５０℃において、５００〜１０００ｍＰａ.sであり、より好ましくは、同温度において、（６００〜９００）ｍＰａ.sである。
【０１５３】
（３）本発明の位相差板
本発明の位相差板は、本発明の組成物からなる光学異方性層を有することを特徴とする。本発明の位相差板の一態様は、支持体と、該支持体上に形成された配向膜と、該配向膜によって配向制御され、且つその配向状態に固定された本発明の組成物からなる光学異方性層とを有する態様である。
以下に、光学異方性層、配向膜及び支持体について順次詳細に説明する。
【０１５４】
（３）−１光学異方性層
前記光学異方性層は、本発明の組成物からなる、好ましくは、前記一般式（ＤＩ）で表される液晶性化合物の少なくとも一種、及び本発明のポリマーの少なくとも一種を含有する組成物からなる。前記組成物は、この他にも所望により重合開始剤や他の添加剤を含んでいてもよい。本発明の組成物を塗布液として調製し、例えば支持体上に形成された配向膜の表面に塗布し、液晶性化合物を配向した後、固定化することで形成してもよい。液晶性化合物を配向及び固定化した後は、支持体を剥離してもよい。
【０１５５】
（３）−１−ａ  形成方法
前記光学異方性層は、液晶性化合物及び本発明のポリマーを可溶できる溶媒に溶解して調製した塗布液を、支持体上に形成され、且つ、配向性が付与された配向膜上に塗布することによって作製することができる。また、可能であれば蒸着による形成でもよいが、塗布による形成が好適に用いられる。塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。次いで、２５℃〜１３０℃において用いた溶媒を乾燥すると同時に、前記液晶性化合物の分子を配向させ、さらに、紫外線照射等によって固定化することによって、光学異方性層を形成してもよい。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ2〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。このようにして形成された光学異方性層の厚さは、光学補償等の用途によって、最適なレターデーションの値によって異なるが、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。
【０１５６】
前記液晶性化合物の分子は、光学異方性層中では、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがより好ましく、重合反応により液晶性化合物が固定されていることがさらに好ましい。
【０１５７】
前記光学異方性層の形成に用いられる組成物における、液晶性化合物又は該液晶性化合物の重合物の含有率は、１０〜１００質量％であることが好ましく、３０〜９９質量％であることがより好ましく、５０〜９９質量％であることがさらに好ましい。
【０１５８】
（３）−１−ｂ  光学異方性層の形成に用いられるその他の材料
液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましく、固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基の重合反応によることが好ましい。そのためには、前記組成物中には、重合開始剤を含有させるのが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応、及び電子線を用いるＥＢ硬化が含まれる。このうち、光重合反応（光硬化）及びＥＢ硬化が好ましい。光の作用によりラジカルを発生させる重合開始剤の例としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物等が好ましい。アセトフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシメチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４'−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン等が挙げられる。ベンジル系化合物としては、例えば、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーズケトン、４，４'−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４'−ジクロロベンゾフェノン等が挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。このような芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン系化合物及びベンジル系化合物が、硬化特性、保存安定性、臭気等の面で特に好ましい。これらの芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤は、１種又は２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及びチオキサントン等が含まれる。
【０１５９】
光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。
【０１６０】
光学異方性層形成用の塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、トルエン、ヘキサン）アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）などが含まれる。この中でアルキルハライド、ケトンが好ましい。２種類以上の有機溶剤を併用してもよい。
【０１６１】
本発明の組成物中の液晶性化合物及びその他の添加剤の固形分濃度としては、０．１質量％〜６０質量％が好ましく、０．５質量％〜５０質量％がより好ましく、２質量％〜４０質量％がさらに好ましい。
また、本発明の組成物の粘度は、０．０１ｃｐ〜１００ｃｐが好ましく、０．１ｃｐ〜５０ｃｐがより好ましい。
【０１６２】
（３）−１−ｃ  配向状態
本発明の組成物により形成されてなる光学異方性層は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような液晶表示モードの位相差板として使用する場合においては、ディスコティックネマチック相がハイブリッド配向した状態を固定化することが好ましい。ここで、ハイブリッド配向とは、膜厚方向で液晶性化合物のチルト角が連続的に変化している状態を表す。
【０１６３】
液晶性化合物は支持体上（さらに好ましくは配向膜上）に塗布され後、例えば加熱することで液晶相を発現するため、液晶性化合物は支持体側の界面では支持体面又は塗布膜界面（配向膜を設けた場合には配向膜界面）のチルト角（例えば、ディスコティック液晶性化合物を用いる場合、支持体面の方向と液晶性化合物の円盤面方向のなす角）で配向し、空気との界面では空気界面のチルト角で配向することとなる。
本発明において、光学異方性層の平均チルト角（例えば、支持体面の方向とディスコティック液晶性化合物の円盤面方向のなす角）は、１０〜７０°が好ましく、２０〜６０°がより好ましい。
また、それぞれの界面におけるチルト角は、空気界面のチルト角が０〜５０°、且つ、支持体側界面のチルト角が２０〜９０°の組み合わせ、もしくは、支持体側界面のチルト角が０〜５０°且つ空気界面のチルト角が２０〜９０°の組み合わせが好ましい。特に、空気界面のチルト角が０〜４０°且つ支持体側界面のチルト角が４０〜８０°の組み合わせ、もしくは、支持体側界面のチルト角が０〜４０°、且つ空気界面のチルト角が４０〜８０°の組み合わせが好ましい。
【０１６４】
（３）−２  配向膜
本発明の位相差板の作製には配向膜を用いてもよい。配向膜は、化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
【０１６５】
配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性化合物を配向させる機能のある分子構造を有する。本発明では、液晶性化合物を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、又は、液晶性化合物を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマー又は架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。
【０１６６】
ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］記載のメタクリレート系重合体、スチレン系重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。
【０１６７】
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。
【０１６８】
液晶性化合物を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性化合物の種類及び必要とする配向状態に応じて決定する。
例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性又はブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素原子数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ基、ジアルコキシ基、モノアルコキシ基）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００２２］〜［０１４５］、特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
【０１６９】
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性化合物を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、位相差板の強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【０１７０】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。２種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【０１７１】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、又は、高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【０１７２】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む支持体上に塗布した後、加熱乾燥して架橋させ、必要であればラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で、水：メタノールが０より大きく９９以下：１００未満１以上が好ましく、０より大きく９１以下：１００未満９以上であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少させることができる。
【０１７３】
配向膜形成時に利用する塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、例えば、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、８０℃〜１００℃がより好ましい。乾燥時間は、例えば、１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５が好ましく、５がより好ましい。
【０１７４】
配向膜は、支持体上又は上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、必要であれば表面をラビング処理することにより得ることができる。
【０１７５】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０１７６】
配向膜上で液晶性化合物を配向させた後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させてもよい。配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。前記配向膜用ポリマーを溶媒に溶解して調製した塗布液を、支持体表面に塗布し、２５℃〜１４０℃で塗布液中に含まれる溶媒を乾燥除去することで作製することができる。また、可能であれば蒸着によって形成することもできるが、塗布による形成がより好ましい。このようにして形成された配向膜の厚さは、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。
【０１７７】
前記配向膜形成用塗布液の調製に用いられる溶媒としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル等が挙げられ、好ましくは、水、アルコール類及びこれらの混合溶媒である。前記塗布液中の配向膜用ポリマーの濃度は、０．１質量％〜４０質量％であるのが好ましく、０．５質量％〜２０質量％であるのがより好ましく、２質量％〜１０質量％であるのがさらに好ましい。前記塗布液の粘度は、０．１ｃｐ〜１００ｃｐであるのが好ましく、０．５ｃｐ〜５０ｃｐであるのがより好ましい。
【０１７８】
前記塗布液中には、前記配向膜用ポリマー以外にも、適宜添加剤を添加してもよい。例えば、前記配向膜用ポリマーが水溶性の溶媒に溶解し難い場合は、塩基性化合物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミンなど）や、酸性化合物（例えば、塩酸、酢酸、コハク酸等）を添加して溶解を促進してもよい。
上記方法によって形成された配向膜は、その表面がラビング処理され、液晶配向性が付与されているのが好ましい。ラビング処理としてはポリマー塗布層の表面を、紙や布で一定方向（通常は長手方向）に、数回こすることにより実施することができる。また、ラビング以外の方法としては、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により液晶配向性を付与することもできる。液晶配向性を付与する方法としては、ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。
【０１７９】
（３）−３  支持体
本発明の位相差板は、支持体を有していてもよく、該支持体は、透明支持体であるのが好ましい。前記支持体は、主に、光学的等方性で、光透過率が８０％以上であれば、特に材料の制限はないが、ポリマーフィルムが好ましい。ポリマーの具体例として、セルロースエステル類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下脂肪酸で、炭素原子数は、２、３、４であることが好ましい。具体的には、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート又はセルロースブチレートがあげられる。この中でも、セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開ＷＯ００／２６７０５号パンフレットに記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。
【０１８０】
以下、支持体として好ましく使用されるセルロースエステルについて詳述する。
セルロースエステルとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることがより好ましく、１．４〜１．６であることがさらに好ましい。
セルロースエステルでは、セルロースの２位、３位、６位の水酸基が全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。セルロースの６位水酸基の置換度が、２位、３位に比べて多いほうが好ましい。全体の置換度に対して６位の水酸基が３０％〜４０％で、アシル基で置換されていることが好ましい。アシル基で置換されている率は、３１％以上であることが好ましく、３２％以上であることがより好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素原子数３以上のアシル基（例えば、プロピオニル基、ブチリル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基）で置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。６位水酸基の置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【０１８１】
支持体として用いるポリマーフィルム、特に、セルロースアセテートフィルムは、レターデーション値を調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用してもよい。このようなレターデーション上昇剤を使用する場合、レターデーション上昇剤は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。さらに、レターデーション上昇剤として、２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
ここでいう芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環の他、芳香族性ヘテロ環を含む趣旨である。
【０１８２】
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環及び１，３，５−トリアジン環がより好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１，３，５−トリアジン環を有することがさらに好ましい。
【０１８３】
芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが特に好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合及び（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。このようなレターデーション上昇剤については国際公開ＷＯ０１／８８５７４号パンフレット、国際公開ＷＯ００／２６１９号パンフレット、特開２０００−１１１９１４号公報、特開２０００−２７５４３４号公報、特開２００２−３６３３４３号公報等に記載されている。
【０１８４】
セルロースアセテートフィルムは、調製されたセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加してもよい。ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許第６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号公報、特公昭４９−５６１４号公報、特開昭６０−１７６８３４号公報、特開昭６０−２０３４３０号公報、特開昭６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラム又はバンドから剥ぎ取り、さらに１００〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラム又はバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０１８５】
ドープは、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解する。セルロースアシレートを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし、地球環境や作業環境の観点では、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアシレートフィルム及びその製造法については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７４５号と略す）に記載されている。
【０１８６】
調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）を用いて、ドープを２層以上流延することによりフィルム化することもできる。ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。複数のセルロースアセテート溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、及び特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによりフィルム化してもよい。例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、及び特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の、高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、高粘度及び低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフィルムの流延方法を用いてもよい。
【０１８７】
セルロースアセテートフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーション値を調整することができる。延伸倍率は、０〜１００％の範囲にあることが好ましい。本発明で用いるセルロースアセテートフィルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。
【０１８８】
セルロースエステルフィルムには、機械的物性を改良するため、又は乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステル又はカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）及びトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジ−２−エチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）及びｏ−アセチルクエン酸、トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰ及びＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【０１８９】
セルロースエステルフィルムには、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン類）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、特開平５−１９０７０７３号、特開平５−１９４７８９号、特開平５−２７１４７１号、特開平６−１０７８５４号の各公報に記載がある。
劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがより好ましい。添加量を０．０１質量％以上とすることにより、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載がある。
【０１９０】
セルロースアセテートフィルムは、表面処理を施すことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理又は紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−３３３４３３号公報に記載のように、下塗り層を設けることも好ましく利用される。フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてセルロースアセテートフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。
【０１９１】
セルロースアセテートフィルムの表面処理は、配向膜などとの接着性の観点から、酸処理又はアルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に説明する。
アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましく、０．５〜２．０Ｎの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温（例えば、２５℃）〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。
【０１９２】
また、セルロースアセテートフィルムの表面エネルギーは、５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０〜７５ｍＮ／ｍの範囲にあることがさらに好ましい。
セルロースアセテートフィルムの厚さは、５〜５００μｍの範囲が好ましく、２０〜２５０μｍの範囲がより好ましく、３０〜１８０μｍの範囲がさらに好ましく、３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。
【０１９３】
本発明の位相差板は、偏光膜と組み合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型、反射型、及び半透過型液晶表示装置に、偏光膜と組み合わせて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。以下に、位相差板を利用した楕円偏光板及び液晶表示装置について説明する。
【０１９４】
（４）  楕円偏光板
本発明の位相差板と偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。位相差板を利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大し得る楕円偏光板を提供することができる。前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【０１９５】
偏光膜は、位相差板の光学異方性層側に積層する。偏光膜の位相差板を積層した側と反対側の面に保護膜を形成することが好ましい。保護膜は、光透過率が８０％以上の透明保護膜が好ましい。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【０１９６】
（５）  液晶表示装置
本発明の位相差板は、液晶表示装置の視野角の拡大に寄与する。液晶表示装置は、通常、液晶セル、偏光素子及び位相差板（光学補償シート）を有する。前記偏光素子は、一般に偏光膜と保護膜からなり、偏光膜と保護膜については、上記楕円偏光で説明したものを用いることができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報第３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモード又はＦＤＣモードの液晶セル用位相差板は、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモード又はＨＡＮモードの液晶セル用位相差板は、米国特許第５８０５２５３号明細書及び国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレットに記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板は、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板は、特許登録第２８６６３７２号公報に記載がある。
【０１９７】
本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）を作製することができる。位相差板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−ＰＤａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＤＣ（ＦｅｒｒｏｅＤｅｃｔｒｉｃ  Ｄｉｑｕｉｄ  ＣｒｙｓｔａＤ）、ＯＣＢ（ＯｐｔｉｃａＤＤｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（ＶｅｒｔｉｃａＤＤｙ  ＡＤｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  ＡＤｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。位相差板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＯＣＢ（ＯｐｔｉｃａＤＤｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モードの液晶表示装置の光学補償に特に効果がある。
【実施例】
【０１９８】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【０１９９】
［合成例１：Ｄ３−１０及びＤ３−１０の合成］
下記スキームに従って合成した。
【０２００】
【化４３】
2007231193.tif 000045
【０２０１】
（Ｄ３−１０Ａの合成）
３−シアノ安息香酸クロライド２．５ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２０ｍｌに溶解させ、３−クロロ−１−プロパノール１．３ｍｌ、ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）３．０ｍｌを添加後、室温で１時間撹拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を減圧濃縮した。残渣をメタノール（ＭｅＯＨ）１００ｍｌに溶解させ、５０％ヒドロキシルアミン溶液２．８ｍｌを添加後、４０℃で１時間撹拌した。冷却後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾別、乾燥し、Ｄ３−１０Ａを３．４ｇ得た。
【０２０２】
（Ｄ３−１０Ｂの合成）
Ｄ３−１０Ａ３．４ｇをジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１０ｍｌに溶解させ、ピリジン１．２ｍｌ、トリメシン酸クロライド１．２ｇを添加後、１２０℃で１時間撹拌した。冷却後、メタノールを添加し、析出した結晶を濾取、乾燥し、Ｄ３−１０Ｂを３．９ｇ得た。
【０２０３】
（Ｄ３−１０の合成）
Ｄ３−１０Ｂ３．９ｇをジメチルアセトアミド５０ｍｌに溶解させ、炭酸カリウム３．７ｇ、ヨウ化ナトリウム２．０ｇ、アクリル酸１．９ｍｌを添加後、１００℃で３時間撹拌した。反応液に水を加え、析出した結晶をろ過により濾取した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、Ｄ３−１０を３．０ｇ得た。得られたＤ３−１０のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
【０２０４】
1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：２．３０（６Ｈ、ｑｕｉｎｔ）、４．４０（６Ｈ、ｔ）、４．５５（６Ｈ、ｔ）、５．８５（３Ｈ、ｄｄ）、６．１５（３Ｈ、ｄｄ）、６．４５（３Ｈ、ｄｄ）、７．６５（３Ｈ、ｔ）、８．２５（３Ｈ、ｄ）、８．４５（３Ｈ、ｄ）、８．９０（３Ｈ、ｓ）、９．３０（３Ｈ、ｓ）。
【０２０５】
得られたＤ３−１０の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき１１５℃付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、１７８℃を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｄ３−１０は１１５℃から１７８℃の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分った。
【０２０６】
（合成例２）
［ポリマー（ＡＤ−１）の合成例］
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１を合成した。
【０２０７】
【化４４】
2007231193.tif 000046
【０２０８】
（Ａ−１'の合成）
ヒドロキシブチルアクリレート（東京化成品）をアセトニトリル中、メタンスルホニルクロライドによってメタンスルホニル化した後、４−ヒドロキシベンズアルデヒド（和光純薬品）とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド中で反応させ、４−（４−アクリルオキシブトキシ）フェニルアルデヒドを得た。得られたアルデヒド体を、塩素酸ナトリウムで酸化することで、４−（４−アクリルオキシブトキシ）安息香酸を得た。また、ヘキサヒドロキシトリフェニレン（東京化成品）を、Ｎ−メチルピロリドン中、ペンチルブロマイドと炭酸ナトリウムによってヘキサペンチルオキシトリフェニレンを得た後、塩化メチレン中、Ｂ−ブロモカテコールボラン（東京化成品）で一つのペンチル基を除去することによって、モノヒドロキシペンタペンチルオキシトリフェニレンを得た。
この安息香酸とモノヒドロキシペンタペンチルオキシトリフェニレンを、テトラヒドロフラン中、メタンスルホニルクロライド、及び、トリエチルアミンを用いた混合酸無水物法により縮合し、Ａ−１'を全収率３５％で得た。
【０２０９】
（ＡＤ−１の合成）
１００ｍＬの三口フラスコにメチルエチルケトン（５ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−１'（１２ｇ）、Ｂ−３' （ダイキン工業製、８ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製Ｖ−６５、２００ｍｇ）のメチルエチルケトン（２０ｍｌ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で３時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌されたヘキサン（５００ｍＬ）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを吸引ろ過によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明のポリマー（ＡＤ−１）１２．８ｇを得た。得られたポリマーの比率は1Ｈ−ＮＭＲにより確認し、分子量はＧＰＣにより確認した。
【０２１０】
（合成例３）
［ポリマー（ＡＤ−５）の合成例］
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−５を合成した。
【０２１１】
【化４５】
2007231193.tif 000047
【０２１２】
（Ａ−５'の合成）
前記Ａ−１'と同様にして、４−（４−アクリルオキシブトキシ）安息香酸を合成した。また、ファインオキソコール２０００（日産化学製、Ｃ１０Ｈ２１（Ｃ８Ｈ１７）ＣＨＣＨ２ＯＨ）をメタンスルホニルクロライドでメシル化した後、２−ヒドロキシナフトイック酸メチルエステルと反応させ、更に加水分解することによって、２−（３−オクチル）ドデシルオキシナフトイック酸を得た。得られた安息香酸とナフトイック酸を１：２の比率でピロガロール（東京化成品）に対しメタンスルホニルクロライド、及び、トリエチルアミンを用いた混合酸無水物法により縮合し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによってＡ−５'を分取することで全収率２５％で得た。
【０２１３】
（ＡＤ−５の合成）
１００ｍＬの三口フラスコにＮ−メチルエチルケトン（５ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−５'（１２ｇ）、Ｂ−３'（ダイキン工業製、８ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製Ｖ−６５、２００ｍｇ）のメチルエチルケトン（２０ｍｌ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で３時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌されたヘキサン（５００ｍＬ）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを吸引ろ過によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明のポリマー（ＡＤ−５）１１．５ｇを得た。得られたポリマーの比率は1Ｈ−ＮＭＲにより確認し、分子量はＧＰＣにより確認した。
【０２１４】
（合成例４）
［（ＡＤ−１２）の合成例］
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１２を合成した。
【０２１５】
【化４６】
2007231193.tif 000048
【０２１６】
１００ｍＬの三口フラスコにＮ−メチルピロリドン（５ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−１'（６ｇ）、Ｂ−３'（８ｇ）、Ｃ−１２'（日本油脂製、ブンレンマーＡＰ−４００、６ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６５、２００ｍｇ）のＮ−メチルピロリドン（１５ｍｌ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で３時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌されたメタノール−水混合溶液（８００ｍＬ）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを吸引ろ過によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明のポリマー（ＡＤ−１２）を１０．２ｇ得た。得られたポリマーの比率は1Ｈ−ＮＭＲにより確認した。
【０２１７】
［ポリマー（ＡＤ−１７）の合成例］
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１７を合成した。
【０２１８】
【化４７】
2007231193.tif 000049
【０２１９】
（Ａ−２２'の合成）
ヒドロキシブチルアクリレート（東京化成品）をアセトニトリル中、メタンスルホニルクロライドによってメタンスルホニル化した後、４−ヒドロキシベンズアルデヒド（和光純薬品）とＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド中で反応させ、４−（４−アクリルオキシブトキシ）フェニルアルデヒドを得た。得られたアルデヒド体を、塩素酸ナトリウムで酸化することで、４−（４−アクリルオキシブトキシ）安息香酸を得た。また、ヘキサヒドロキシトリフェニレン（東京化成品）を、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド中、炭酸エチレンでヘキサヒドロキシエチル化、更にメタンスルホニルクロライドでヘキサメタンスルホニルオキシエトキシトリフェニレンを得た。次いで、２−パーフルオロヘキシル）エタノール（ダイキン工業製、Ａ−１６２０）と炭酸ナトリウムによってヘキサ（２−（パーフルオロヘキシル）エトキシエトキシ）トリフェニレンを得た後、塩化メチレン中、Ｂ−ブロモカテコールボラン（東京化成品）で一つの２−（パーフルオロヘキシル）エトキシエトキシ基を除去することによって、モノヒドロキシペンタ（２−（パーフルオロヘキシル）エトキシエトキシ）トリフェニレンを得た。
この安息香酸とモノヒドロキシペンタ（２−（パーフルオロヘキシル）エトキシエトキシ）トリフェニレンを、テトラヒドロフラン中、メタンスルホニルクロライド、及び、トリエチルアミンを用いた混合酸無水物法により縮合し、Ａ−２１'を全収率２５％で得た。
【０２２０】
（ＡＤ−１７の合成）
１００ｍＬの三口フラスコにメチルエチルケトン（５ｇ）を入れ、窒素を３５ｍｌ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−２１'（１０ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製Ｖ−６５、２００ｍｇ）のメチルエチルケトン（１０ｍｌ）溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で３時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌されたヘキサン（３００ｍＬ）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを吸引ろ過によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明のポリマー（ＡＤ−１７）７．５ｇを得た。得られたポリマーの比率は1Ｈ−ＮＭＲにより確認し、分子量はＧＰＣにより確認した。
【０２２１】
［実施例１：本発明の組成物（ＬＭ−１）の調製］
以下に示した組成の割合で、液晶性化合物（Ｄ３−１０）、本発明のポリマー（ＡＤ−１）、光重合開始剤のイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株））、及び、光増感剤のジエチルチオキサントンをそれぞれ秤量し、メチルエチルケトンに溶解することによって、本発明の組成物（ＬＭ−１）を調製した。
【０２２２】
組成物（ＬＭ−１）の組成
・液晶性化合物：  Ｄ３−１０                                    １００質量部
・本発明のポリマー：  ＡＤ−１                                  ０．４質量部
・イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株））  ３．０質量部
・ジエチルチオキサントン                                        １．０質量部
・メチルエチルケトン                                            ２５０質量部
【０２２３】
［実施例２：本発明の組成物（ＬＭ−２〜ＬＭ−６）の調製］
実施例１において、ポリマー（ＡＤ−１）を下記表２に記載のポリマーにそれぞれ変更し、他は同様にして、本発明の組成物（ＬＭ−２）〜（ＬＭ−６）を調製した。
［実施例３：本発明の組成物（ＬＭ−７〜ＬＭ−８）の調製］
実施例１において、下記界面活性剤（Ｗ−１）を０．５質量部添加した本発明の組成物（ＬＭ−７）を調製した。また、組成物（ＬＭ−７）において、ポリマー（ＡＤ−１）を（ＡＤ−１２）に変更し、他は同様にして本発明の組成物（ＬＭ−８）を調製した。
【０２２４】
界面活性剤（Ｗ−１）
【化４８】
2007231193.tif 000050
【０２２５】
［比較例１：比較用組成物（ＬＨ−１、ＬＨ−２）の調製］
ポリマー（ＡＤ−１）を添加しなかった以外は、実施例１の組成物（ＬＭ−１）と全て同様にして、比較用組成物（ＬＨ−１）を調製した。また、ポリマー（ＡＤ−１）を添加しなかった以外は、実施例３の組成物（ＬＭ−７）とすべて同じにして、比較用組成物（ＬＨ−２）を調製した。
【０２２６】
【表２】
2007231193.tif 000051
【０２２７】
［実施例４：本発明の位相差板（ＲＭ−１）の作製］
（透明支持体の作製）
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱攪拌して、セルロースアセテート溶液（以下、ドープと呼ぶことがある）を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度６０．９％のセルロースアセテート                １００質量部
トリフェニルホスフェート                              ６．５質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート                      ５．２質量部
下記のレターデーション上昇剤（１）                    ０．１質量部
下記のレターデーション上昇剤（２）                    ０．２質量部
メチレンクロライド                              ３１０．２５質量部
メタノール                                        ５４．７５質量部
１−ブタノール                                    １０．９５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２２８】
レターデーション上昇剤（１）
【化４９】
2007231193.tif 000052
【０２２９】
レターデーション上昇剤（２）
【化５０】
2007231193.tif 000053
【０２３０】
得られたドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をピンテンターで固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の領域で、幅方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、１２０℃を越える領域で機械方向の延伸率が実質０％、幅方向の延伸率と機械方向の延伸率との比が０．７５となるように調整して、厚さ１００μｍのセルロースアセテートフィルムを作製した。作製したフィルムのレターデーション値を波長６３２．８ｎｍで測定したところ、厚み方向のレターデーション値が４０ｎｍ、面内のレターデーション値が４ｎｍであった。作製したセルロースアセテートフィルムを支持体として用いた。
【０２３１】
（第１下塗り層の形成）
上記透明支持体の上に、下記の組成の塗布液を２８ｍＤ／ｍ2塗布し、乾燥して、第１下塗り層を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
第１下塗り層塗布液組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ゼラチン                                          ５．４４質量部
ホルムアルデヒド                                  １．３８質量部
サリチル酸                                        １．６２質量部
アセトン                                            ３９１質量部
メタノール                                          １５８質量部
メチレンクロライド                                  ４０６質量部
水                                                    １２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３２】
（第２下塗り層の形成）
第１下塗り層の上に、下記の組成の塗布液を７ｍＤ／ｍ2塗布し、乾燥して、第２下塗り層を形成した。
【０２３３】
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
第２下塗り層塗布液組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のアニオン性ポリマー                          ０．７７質量部
クエン酸モノエチルエステル                        １０．１質量部
アセトン                                            ２００質量部
メタノール                                          ８７７質量部
水                                                ４０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３４】
アニオン性ポリマー
【化５１】
2007231193.tif 000054
【０２３５】
（バック層の形成）
透明支持体の反対側の面に、下記の組成の塗布液を２５ｍＤ／ｍ2塗布し、乾燥して、バック層を形成した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
バック層塗布液組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度５５％のセルロースジアセテート              ６．５６質量部
シリカ系マット剤（平均粒子サイズ：１μｍ）        ０．６５質量部
アセトン                                            ６７９質量部
メタノール                                          １０４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３６】
（配向膜の形成）
下記変性ポリビニルアルコールとグルタルアルデヒド（変性ポリビニルアルコールの５質量％）とを、メタノール／水の混合溶媒（容積比＝２０／８０）に溶解して、５質量％の溶液を調製した。
【０２３７】
【化５２】
2007231193.tif 000055
【０２３８】
この溶液を、第２下塗り層の上に塗布し、１００℃の温風で１２０秒間乾燥した後、ラビング処理を行い、配向膜を形成した。得られた配向膜の膜厚は０．５μｍであった。配向膜のラビング方向は、透明支持体の流延方向と平行であった。
（光学異方性層の形成）
前記で作製した配向膜のラビング処理面上に、実施例１で調製した本発明の組成物（ＬＭ−１）の塗布液を、ワイヤーバーを用いて塗布した。上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、１２０℃の恒温槽中にて配向させ、そのままの温度で２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、本発明の位相差板（ＲＭ−１）を作製した。形成した光学異方性層の厚さは約１．０μｍであった。
【０２３９】
［実施例５：本発明の位相差板（ＲＭ−２〜ＲＭ−８）の作製］
実施例４において、組成物（ＬＭ−１）を、組成物（ＬＭ−２）〜（ＬＭ−８）に変更したこと以外は全て同様にして、位相差板（ＲＭ−２）〜（ＲＭ−８）を作製した。
【０２４０】
［比較例２：比較用位相差板（ＲＨ−１、ＲＨ−２）の作製］
実施例４において、組成物（ＬＭ−１）を、組成物（ＬＨ−１）及び（ＬＨ−２）に変更したこと以外は全て同様にして、比較用の位相差板（ＲＨ−１）及び（ＲＨ−２）を作製した。
【０２４１】
［実施例６：位相差板の評価］
（Ｒｅ、Ｒｔｈの測定）
Ｒｅ（５８９ｎｍ）、Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）はそれぞれ、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。実施例４、５及び比較例２で得られた位相差板のＲｅ（５８９ｎｍ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長５８９ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。Ｒｔｈ（５８９ｎｍ）は前記Ｒｅ（５８９ｎｍ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出した。
【０２４２】
（平均チルト角の測定）
上記の光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１及び他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１及びθ２を算出した。
この値の平均値（（θ１＋θ２）／２）から平均チルト角を求めた。
【０２４３】
また、実施例４、５及び比較例２で得られた位相差板の断面の超薄切片を、マイクロトームを用いて作製し、その切片を偏光顕微鏡で観察した。本発明の位相差板ＲＭ−１〜ＲＭ−８及び比較例２のＲＨ−１、２の光学異方性層中、液晶性分子がハイブリッド配向していることが確認できた。
【０２４４】
（平均チルト角の温度依存性）
光学異方性層の形成において、配向後に１００℃まで降温した後、紫外線により配向状態を硬化した以外は同様にして位相差版を作成した後平均チルト角の測定を行い、１２０℃の時と１００℃で配向固定化した時の平均チルト角の差を平均チルト角温度依存性として以下の表３に記載した。
【０２４５】
【表３】
2007231193.tif 000056
【０２４６】
表３の結果から、本発明の位相差板（ＲＭ−１）〜（ＲＭ−８）は、比較例の位相差板（ＲＨ−１）及び（ＲＨ−２）と比較して、平均チルト角が低く、且つ平均チルト角の温度依存性が少ないことが確認された。
これらの結果から、本発明のポリマーを含有した組成物を用いることにより、ディスコティック液晶をチルト角の温度依存性がない又は少ない状態で、ハイブリッド配向させることが可能であること；及び製造工程における温度（特に光学異方性層形成のための重合温度）の変動に起因した性能の変動を生じることなく（又は性能の変動を軽減して）、位相差板を得ることができること；が確認された。