(57)【要約】光電子工学的マイクロ電子構造において、光電子工学的に活性なダイオード部分は、半導体基板（２０）で空乏層を構成しているゾーン（２４，２５，２６，２７）によって形成されており、半導体基板（２０）の上に直立しているメサ（２６）において、その延長方向に延びている。光波導体（２８）は、メサの側面を経由してこのダイオード部分に光が連結されるように、このダイオード部分に光学的に連結されている。
2004500704.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
集積フォトダイオードを有する光電子工学的マイクロ電子構造であって、
フォトダイオードの光電子工学的に活性なダイオード部分が、半導体基板（２０）に、空乏層を形成するゾーン（２４，２５，２６，２７；２６，４４，４５）によって形成されており、
光波導体（２８；４７）が、上記光電子工学的に活性なダイオード部分に光学的に連結されており、
上記光電子工学的に活性なダイオード部分は、半導体基板（２０）の上に垂直に立っているメサ（２６）において、その延長方向に延びており、
上記光波導体（２８；４７）が、メサの側壁を経由して光が光電子工学的に活性なダイオード部分に連結されるように、このダイオード部分に設けられている光電子工学的マイクロ電子構造において、
上記半導体基板（２０）に、任意の電導性タイプを有する領域（２１）が配置されており、上記メサ（２６）が、上記任意の電導性タイプを有する領域（２１）と同じ電導性タイプを有するとともに同じドーピング濃度であることを特徴とする光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項２】
上記の光電子工学的に活性なダイオード部分は、ゾーン（２７）ならびにゾーン（２４もしくは２５）によって形成されており、
上記ゾーン（２７）は、任意の電導性タイプを有する上記領域（２１）に面していないメサ（２６）の側面にあり、
上記ゾーン（２４もしくは２５）は、任意の電導性タイプを有するとともに、任意の電導性タイプを有する領域（２１）内におけるメサ（２６）の下にあり、任意の電導性タイプを有する領域（２１）のドーピング濃度と比較して高いドーピング濃度を有していることを特徴とする請求項１に記載の光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項３】
任意の電導性タイプの領域（２１）と面していないメサ（２６）の側面にある上記ゾーン（２７）が、シリコンから形成されていることを特徴とする請求項２に記載の光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項４】
任意の電導性タイプの領域（２１）と面していないメサ（２６）の側面にある上記ゾーン（２７）が、逆の電導性タイプを有するゾーンを備えており、このゾーンが、上記任意の電導性タイプを有する領域（２１）のドーピング濃度と比較して高いドーピング濃度であることを特徴とする請求項２に記載の光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項５】
上記の光電子工学的に活性なダイオード部分は、任意の電導性タイプを有する領域（２１）のメサ（２６）にあるゾーン、ならびに、各ゾーン（４４，４５）によって構成されており、
上記各ゾーン（４４，４５）は、任意の電導性タイプあるいは逆の電導性タイプを有し、任意の電導性タイプを有する領域（２１）と比較して高いドーピング濃度であり、上記各ゾーンは、メサ（２６）の下にある任意の電導性タイプを有する領域（２１）に形成され、メサ（２６）の縁に沿って延びていることを特徴とする請求項１に記載の光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項６】
上記光波導体（２８；４７）が、上記メサ（２６）を環状に取り囲んでいることを特徴とする上記請求項１〜５のいずれかに記載の光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項７】
請求項１〜６の何れかに記載の、フォトダイオードを有する光電子工学的マイクロ電子構造の製造方法であって、
メサ（２６；６５）にある光電子工学的に活性なトランジスター部分、あるいは、光電子工学的に活性なダイオード部分を有する、補足的な垂直ＭＯＳ電解効果トランジスターおよびフォトダイオードを、ＣＭＯＳプロセスで製造することを特徴とする光電子工学的マイクロ電子構造の製造方法。
【発明の詳細な説明】
本発明は、請求項１の前提構成による光電子工学的マイクロ電子構造、および、請求項７によるその製造方法に関するものである。
【０００１】
マイクロ電子工学では、トランジスター、ダイオード、およびキャパシタ等の電子機能ユニットが半導体基板に集積された集積半導体回路のような純粋な電子構造の他に、このような電子機能ユニットと光学素子とを組み合わせることも一般的となっている。ここでは、最新の半導体技術によって、フォトダイオードの形状のフォトセンサーと、例えば増幅器のような電子システムを有する光波導体とを、一体式構造で集積することが可能となる。また、このような集積は、例えば、ＭＯＳ技術で実施されている。この技術では、フォトダイオードの形状のフォトセンサーおよび光波導体の製造は、電子増幅器機能ユニットの製造と互換性がある。
【０００２】
上記したようなタイプの光電子光学的マイクロ電子構造は、基本的には、「マイクロ電子工学技術」１９９１年１５巻２８９頁〜２９２頁から周知である。この文献では、ＮＭＯＳトランジスターおよびＰＭＯＳトランジスター、ならびにフォトダイオードを有するＣＭＯＳ技術における集積構造に基づいて、一体式構造集積の技術が説明されている。
【０００３】
図１に、周知のフォトダイオードの基本構造を示す。シリコン基板１０は、弱くドーピングされた、任意の電導性タイプ（例えばｐ電導性タイプ）の基板である。この基板１０では、上述のＭＯＳトランジスターのような電子機能ユニット（図示せず）に対する絶縁のために、トレンチ絶縁１１，１２が設けられている。これらトレンチ絶縁物１１，１２は、酸化シリコンを有するいわゆるＳＴＩ領域（皿状トレンチ絶縁物）である。トレンチ絶縁物１１，１２の間の領域には、ゾーン１３ならびにゾーン１４がある。ゾーン１３は、任意の電導性タイプ、つまり、例えばｐ電導性タイプであり、ゾーン１４は、逆の電導性タイプ、つまり、例えばｎ電導性タイプである。これらのゾーンは、基板１０のドーピング濃度と比較して、高いドーピング濃度を有している。基板のドーピングに関する上記した「弱いドーピング」という表現は、つまり、ゾーン１３，１４のドーピング濃度と比較して低いドーピング濃度であることを意味する。従って、ゾーン１３，１４の間には、弱くドープされたゾーン１５がある。このゾーン１５は、実際的に、本質的なゾーン（ｉｎｔｒｉｎｓｉｓｃｈｅ Ｚｏｎｅ）とも呼ぶことができる。従来のように、低いドーピング濃度をマイナスで、高いドーピング濃度をプラスで示す場合、上記に例としてあげた基板１０ならびにゾーン１３，１４の電導性タイプでは、光電子工学的に活性なダイオード部分は、連続ゾーン、すなわち、ｐ＋（ゾーン１３）、ｐ―（ゾーン１５）、ならびにｎ＋（ゾーン１４）を有することとなる。
【０００４】
トレンチ絶縁物１１，１２、およびゾーン１３，１４，１５を有する基板の上に、光波導体１６が設けられている。この光波導体１６は、例えば窒化シリコン／酸化シリコンから構成される。この光波導体１６を流れる、矢印１７で図示した光波から、漏波カプラーを介して、光電子工学的に活性なダイオード部分に光が連結される。図１において、光波導体１６からゾーン１５への光連結を矢印１８で示す。なお、当然、ゾーン１３，１４を経由して連結される光もあるが、特に示していない。連結された光は、ゾーン１５で荷電キャリアを生成し、この荷電キャリアが、ゾーン１５側でダイオードフォト電流を生成する。
【０００５】
上述した形状のフォトダイオードは、ラテラルもしくはプレーナ形ダイオードである。このとき、良い発光量、つまり大きなフォト電流を実現できるよう、光電子工学的に活性なダイオード部分の表面は、側面方向に見られるように、できる限り大きくなければならない。このことは、しかし、集積回路システム中のこのような平坦なフォトダイオードが、大きなチップ面を必要とすることを意味しているため、集積密度を減少させてしまう。大規模集積システムでは、小型構造化への傾向がますます進んでおり、例えば、ＭＯＳトランジスターのチャネル長はより一層小さくなっている。このように得られたチップ面も、プレーナ形フォトダイオードを用いることによって、少なくとも部分的には再び無駄となる。この点は、経済的にも特に不利である。なぜなら、チップ面は、大変重要なコスト要因だからである。
【０００６】
独国特許公開２６２４４３６Ａ１（ＤＥ２６２４４３６Ａ１）で示されるフォトダイオード構造では、光の連結を改善するため、基板から突き出るメサ形状の構造が用いられている。メサ中の垂直部材に光が連結されるので、結合度は増加する。また、このメサは、エピタキシャル層に形成される。なお、同様のフォトダイオード構造が、独国特許３９２０２１９Ｃ２（ＤＥ３９２０１２９Ｃ２）に示されている。
【０００７】
本発明の目的は、所定の発光量に関して、チップ表面を節約するフォトダイオード構造、特に、より小さなチャネル長を有するトランジスター構造のためのＭＯＳ技術に適応されるトランジスター構造を提供することにある。
【０００８】
この目的は、上述した形状の光電子工学的マイクロ電子構造において、請求項１の特徴部分による処置によって解決される。
【０００９】
また、本発明による光電子工学的マイクロ電子構造の製造方法は、請求項７に基づいている。
【００１０】
また、上記の構造に関する本発明の基本概念の発展形は、従属請求項に基づいている。
【００１１】
以下に、図面に応じた実施形態の説明に基づき、本発明を詳細に説明する。
なお、図１は、上述した周知のフォトダイオードの構造を示す図である。また、図２Ａは、垂直フォトダイオードにおける第１実施形態の断面図である。また、図２Ｂは、図２Ａに示した垂直フォトダイオードのレイアウトの一部を示す図である。また、図３は、垂直フォトダイオードにおける第２実施形態の断面図である。また、図４は、垂直ＭＯＳ電界効果トランジスターの実施形態を示す図であり、これらのようなトランジスターと垂直フォトダイオードとを有する光電子工学的マイクロ電子構造の製造に関する可能性を説明する図である。
【００１２】
実施形態の詳細な説明の前に、図面の図は、単に図式的描写であることを指摘する。図面を簡易化するため、例えば、実際の大きさの比率、または、絶縁層またはドープされたゾーンの製造において生じる辺の湾曲などは考慮されていない。
【００１３】
図２Ａに示すように、任意の電導性タイプ（好ましくはｎ電導性タイプ）の領域２１が、窪み（Ｗａｎｎｅ）によってシリコン基板２０に形成されている。また、ＭＯＳ電界効果トランジスターのような更なる機能ユニットが、マイクロ電子構造に設けられている。さらに、この機能ユニットに対する絶縁のため、基板２０には、トレンチ絶縁物２２，２３が、ＳＴＩ領域の形態で設けられている。さらに、基板２０におけるトレンチ絶縁物２２，２３の内側には、ゾーン２４，２５がある。任意の電導性タイプであるゾーン２４，２５は、窪み領域２１のドーピング濃度に対して高いドーピング濃度を有している。窪み領域２１がｎ電導性タイプであることから考えると、これらのゾーンはｎ＋電導性タイプである。
【００１４】
垂直フォトダイオードの構造にとって、メサ２６の構造は重要である。メサ２６は、基板２０から形成され、その上に垂直に立っているため、窪み領域２１と同じドーピング濃度で、同じ電導性タイプである。このメサの中で、窪み領域２１に面していない側面上に、ゾーン２７が設けられている。このゾーン２７は、窪み領域とは逆の電導性タイプに設定されており、さらに、比較的に高いドーピング濃度であることが好ましい。窪み領域２１がｎ電導性タイプであることを再び考慮すると、ゾーン２７はｐ＋電導性タイプである。
【００１５】
これまでに述べた実施形態では、光電子工学的に有効なダイオード部分は、ゾーン２４，２５（１つの統合されたソーンでもよい）、ゾーン２７の下のメサ２６のゾーン、ならびにゾーン２７によって形成されている。窪み領域２１を本質的領域と仮定すると、ピンダイオード構造が考えられる。
【００１６】
実施形態の改良形として、ｐ＋ゾーン２７の替わりに、シリコン層を使用してもよい。このことにより、ショットキーダイオード構造を得られる。
【００１７】
どちらの場合にも、ゾーンもしくは層２７によって、１つの空乏層（Ｓｐｅｅｒｓｃｈｉｃｈｔ）が形成される。
【００１８】
メサ２６は、光波導体２８によって取り囲まれている。光波導体２８は、上記したように、窒化シリコン／酸化シリコンから形成できる。この光波導体２８は、基板２０の上、好ましくは光学的なコーティング（Ｖｅｒｇｕｅｔｕｎｇ）層３２の上で、酸化物（ｏｘｉｄ）の上にある。ゾーン２７下のメサ２６のゾーン領域における光電子工学的に活性なダイオード部分に対する、光波導体２８からの光の連結を、矢印３３によって示す。
【００１９】
フォトダイオード構造は、ゾーン２７とゾーン２４もしくは２５との電気的接触２９，３０によって完成される。最後に、酸化物および／または窒化物からなる、一点鎖線で示した不活性部（Ｐａｓｓｉｖｉｅｒｕｎｇ）３１が設けられる。
【００２０】
上記した形状のフォトダイオードにおいて、直立のメサ、従って、垂直に立っている光電子工学的に活性なダイオード部分は、光波導体により取り囲まれていることが発明の要点である。つまり、光波導体は、メサに対しても、光電子工学的に活性なダイオード部分に対しても平行に延びている。これにより、メサの垂直な側壁を経由して、光電子工学的に活性なダイオード部分に光が連結される。このことにより、比較的小さなメサの基本面に、側面の方向に大きな光連結面を形成できる。小さな基本面であるため、図１に示した周知の平坦化構造に対して、より大きい発光量、従ってより大きなフォト電流を得られる。さらに、メサの縦延長方向に対して平行に延びている光波導体によって、光電子工学的に活性なダイオード部分に対する望ましい大きな光結合を、基板を介する望ましくない光連結から分離できる。
【００２１】
図２Ｂに示したレイアウト描写に応じた、光波導体２８およびメサ２６の閉環状構造では、発光量がさらに高まる。なぜなら、いったん反射された光の部分が、後で吸収されるからである。図２Ｂにおいて、多数の入射光を意味している矢印３３により、この現象を図式的に示す。
【００２２】
図３に示した垂直フォトダイオードの実施形態（図２Ａ，２Ｂにおける同じ部材を、同じ符号で示す）では、図２Ａ，２Ｂに示した実施形態と同様に、基板２０は、窪み領域２１、トレンチ絶縁物２２，２３、およびメサ２６を備えている。この実施形態で図２Ａ・２Ｂと異なる点は、互いに異なる電導性タイプを示す高ドープされた２つのゾーン４４，４５が設けられており、これらのゾーンが、メサ２６の下の窪み領域２１からその縁に沿って延びていることである。ここでも、窪み領域２１がｎ電導性タイプであると、例えば、ゾーン４４はｎ＋電導性タイプ、ゾーン４５はｐ＋電導性タイプである。この実施形態においても、メサ２６は、影付きで描写された光波導体４７によって、環状に取り囲まれていることが好ましい。この光波導体４７から、同様に、メサ２６の垂直な側壁を経由して光が連結される。これを矢印５２で示す。これにより、図２Ａ，２Ｂに示した実施形態に基づいて説明した有利な効果が同様に生じる。
【００２３】
図３に示したフォトダイオードは、ゾーン４４，４５ならびに一点鎖線で示された不活性部５１のための電気的接触４８，４９によって完成される。
【００２４】
上述の形態にかかる本発明のフォトダイオードは、従来の垂直ＭＯＳ電界効果トランジスターを有する集積回路に対する集積に好適である。このようなトランジスターを図４に示す。このトランジスターは、同様に窪み領域６１を備える基板６０の上に形成される。ｎチャネルＭＯＳトランジスターの場合、この窪み領域６１はｐ電導性タイプである。集積回路の他の機能ユニットに対する絶縁物は、トレンチ絶縁物６２，６３（ＳＴＩ領域）により形成されている。窪み領域６１には、隣接ゾーン６４が設けられている。このゾーン６４は、窪み領域６１の電導性タイプとは逆の電導性タイプを有し、比較的に高いドーピング濃度である。この窪み領域がｐ電導性タイプであると、ゾーン６４はｎ＋電導性タイプである。ゾーン６６は、メサ６５の、窪み領域６１に面していない側面上にある。窪み領域６１、ゾーン６４、ならびにメサ６５が上述した電導性タイプである場合、このゾーン６６は、ｎ＋電導性タイプである。トランジスターの構造は、スペーサー６７，接触６８，６９および一点鎖線で描写された不活性部７０によって完成される。スペーサー６７は、メサ基板に対して絶縁されているポリシリコンまたは非結晶シリコンである。また、接触６８，６９は、ゾーン６４，６６のためのものである。
【００２５】
なお、ｐチャネルトランジスターを形成するために、窪み領域６１、ゾーン６４、メサ６５およびゾーン６６の電導性タイプを、上記と反対にすることもできる。
【００２６】
図２Ａ，２Ｂ，３および４の比較から明らかな通り、本発明による垂直フォトダイオードの構造は、ＣＭＯＳプロセスに対する集積に特に適している。例えば、垂直構造のフォトダイオードーおよびＭＯＳトランジスターを有する光電子工学的マイクロ電子構造の集積において、チップ上の光学伝送経路（ｏｐｔｉｓｃｈｅｎ Ｕｅｂｅｒｔｒａｇｕｎｇｓｓｔｒｅｃｋｅｎ）における受信部としてフォトダイオードを機能させる場合、電気的な接続と端子とに用いるメタライジング層の数を減少できる。さらに、例えば、スペーサー技術などの自己整合技術を使用することにより、リソグラフィーの最小幅より薄いスペーサーを用いることで、集積密度を高められる。
【００２７】
また、図４に示したメサ構造を有する垂直ＭＯＳトランジスターの代わりに、環状もしくは板状のトランジスターを垂直フォトダイオードと共に集積する場合、電気的性質を「能動的に」改良できる。特に、寄生バイポーラ効果および短チャネル効果を回避できる。
【００２８】
本発明による光電子工学的マイクロ電子構造の集積における個々のプロセス工程は、従来の方法である。従って、特に、トレンチ絶縁物を製造するためのＳＴＩ工程において、窪みの埋め込み（Ｉｍｐｌａｎｔａｔｉｏｎｅｎ）、そして、場合によっては図２Ａに示したゾーン２７を形成するための追加の埋め込みの後に、メサの構造のための窒化物マスクを製造することは特別な意味がある。なぜなら、このメサの高さによって、ＭＯＳトランジスターのチャネル長、ならびにフォトダイオードの透過するべき軌道領域の高さが決定されるからである。フォトダイオードの全面は、このメサの高さと、基板における側面方向の幅とによって決定される。ゲート酸化物、ゲートポリシリコンまたはメタルゲート材料については、従来のように成長もしくは析出させる。このとき、ポリシリコンゲートはマスクによって形成される。このマスクは、図２Ａ，２Ｂに示したフォトダイオードの側壁を保護するためにも使用できる。ＭＯＳトランジスターのソース／ドレイン領域、ならびにフォトダイオードのドープ領域については、埋め込み技術（Ｉｍｐｌａｎｔａｔｉｏｎｓｔｅｃｈｎｉｋｅｎ）によって製造する。図２Ａ，２Ｂ，および図３に示した層３２，５０のような酸化コーティング層は、場合によっては、別々に塗付されることもある。また、適切な屈折率を有する材料からなる光波導体を塗付し、マスクによって構造化する。最後に、不活性物質を塗付し、コンタクトホールのエッチング、シリコン化、およびメタライジングなどのプロセスを行う。なお、ショットキーダイオードの形成のために、図２Ａに示したドープされたゾーン２７の替わりにシリコン層を使用する場合には、シリコン化を行う。また、光電子工学材料としては、シリコンの他に、化合物半導体を用いることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
上述した周知のフォトダイオードの構造を示す図である。
【図２Ａ】
垂直フォトダイオードにおける第１実施形態の断面図である。
【図２Ｂ】
図２Ａに示した垂直フォトダイオードのレイアウトの一部を示す図である。
【図３】
垂直フォトダイオードにおける第２実施形態の断面図である。
【図４】
垂直ＭＯＳ電界効果トランジスターの実施形態を示す図であり、これらのようなトランジスターと垂直フォトダイオードとを有する光電子光学的マイクロ電子構造の製造に関する可能性を説明する図である。
【国際公開パンフレット】
2004500704.tif 000003
2004500704.tif 000004
2004500704.tif 000005
2004500704.tif 000006
2004500704.tif 000007
2004500704.tif 000008
2004500704.tif 000009
2004500704.tif 000010
2004500704.tif 000011
2004500704.tif 000012
2004500704.tif 000013
2004500704.tif 000014
2004500704.tif 000015
2004500704.tif 000016
2004500704.tif 000017
【手続補正書】
【提出日】平成14年1月15日(2002.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板（２０）と、
この半導体基板（２０）の中に形成され、ドープされた窪み（２１）と、
上記半導体基板（２０）から垂直に立ち上がっているメサ（２６）であって、上記窪み（２１）と同じ電導性タイプで、同じドーピング濃度の部分（２６）を備えたメサ（２６）と、
空乏層を形成するドーピング領域（２４，２５，２６，２７；４４，４５，２６）によって構成されており、一部はメサ（２６）に、一部は半導体基板（２０）に形成された窪み（２１）の内側に配置されている光電子工学的に活性な部分と、
上記半導体基板に形成された窪み（２１）に配置された集積光波導体（２８，４７）であって、メサ（２６）を取り囲むことで、メサ（２６）の側壁および窪み（２１）の表面を経由させて、上記光電子工学的に活性なダイオード部分に光を連結させる集積光波導体（２８，４７）とを含む光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項２】
上記の光電子工学的に活性なダイオード部分が、
上記半導体基板（２０）に面していないメサ（２６）の端部に配置され、窪み（２１）と逆の電導性タイプを生じるドーピングを有するゾーン（２７）と、
半導体基板の表面の窪み（２１）の内側に配置され、上記窪み（２１）と比較して同じ電導性タイプでより高いドーピング剤濃度であるゾーン（２４，２５）と、
上記メサの部分（２６）とを含んでいることを特徴とする請求項１に記載の光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項３】
半導体基板（２０）に面していないメサの端部に配置された上記ゾーン（２７）が、シリコンから構成されていることを特徴とする請求項２に記載の光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項４】
半導体基板（２０）に面していないメサの端部に配置された上記ゾーン（２７）が、窪み（２１）と比較して高いドーピング濃度であることを特徴とする請求項２に記載の光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項５】
上記の光電子工学的に活性なダイオードの部分が、
上記窪み（２１）と同じ電導性タイプを生じるドーピングを有するとともに、窪み（２１）と比較して高いドーピング濃度である第１ゾーン（４４）と、
上記窪み（２１）と逆の電導性タイプを生じるドーピングを有するとともに、窪み（２１）と比較して高いドーピング濃度である第２ゾーン（４５）と、
上記メサの部分（２６）とを有し、
上記第１および第２ゾーン（４４，４５）が、上記メサ（２６）の側壁、ならびに半導体基板（２０）の中に形成された窪み（２１）の表面にそれぞれ配置されていることを特徴とする請求項１に記載の光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項６】
上記光波導体（２８，４７）が、メサ（２６）を環状に取り囲んでいることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光電子工学的マイクロ電子構造。
【請求項７】
垂直ＭＯＳ電界効果トランジスターをさらに含み、このトランジスターが、
上記半導体基板（６０）に形成された、第１電導性タイプを有する窪み（６１）と、
上記半導体基板（６０）から窪みの領域で立ち上がっているメサ（６５）であって、上記窪み（６１）と同じ電導性タイプの部分（６５）を備えたメサ（６５）と、
上記ＭＯＳ電界効果トランジスターの窪みと逆の電導性タイプを有し、上記半導体基板（６０）に形成されたＭＯＳ電界効果トランジスターの窪み（６１）の表面に配置されているドーピング領域と、
上記ＭＯＳ電界効果トランジスターの窪み（６１）と逆の電導性タイプを有し、上記半導体基板（６０）に面していない、ＭＯＳ電界効果トランジスターのメサ（６５）の端部に配置されているドーピング領域（６６）と、
上記ＭＯＳ電界効果トランジスターのメサ（６５）の側壁に配置された、シリコンを含むスペーサーであって、ＭＯＳ電界効果トランジスターのメサにおける上記した部分（６５）に対して絶縁されているスペーサー（６７）とを備えている請求項１〜６のいずれかに記載の光電子工学的マイクロ電子構造。
【国際調査報告】
2004500704.tif 000018
2004500704.tif 000019
2004500704.tif 000020
2004500704.tif 000021
2004500704.tif 000022
2004500704.tif 000023
2004500704.tif 000024
2004500704.tif 000025