(57)【要約】広範囲の液晶表示装置で使用される下記式（式Ｉ）の化合物が提供され、式中、ｎは０、１または２であることができ；Ａ１、Ａ２、Ａ３は独立に、１，４−ジ置換ベンゼン、２，５−ジ置換ピリジン、２，６−ジ置換ナフタレン；側方置換された１，４−ジ置換ベンゼン、側方置換された２，５−ジ置換ピリミジン、側方置換された２，５−ジ置換ピリジン、側方置換された２，６−ジ置換ナフタレンであって、前記側方置換基が独立にＦ、Ｃｌ、ＢｒまたはＣＮから選択され、使用可能ないかなる置換位置に存在していても良いもの；１，４−ジ置換ビシクロ（２．２．２）オクタン、トランス−１，４−ジ置換シクロヘキサン、トランス−２，５−ジ置換ジオキサン、１，４−ジ置換ピペリジンから選択され；Ｚ１、Ｚ２は独立に、直接結合、ＣＯＯ、ＯＯＣ、Ｃ２Ｈ４、ＣＨ２Ｏ、ＯＣＨ２、Ｃ４Ｈ８、Ｃ３Ｈ６Ｏ、（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ４、（Ｚ）−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２、（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２Ｏ、−Ｃ≡Ｃ−から選択され；Ｚ３はＣ４Ｈ８、ＯＣ３Ｈ６、（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ４、（Ｚ）−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２、（Ｅ）−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ、−Ｃ≡Ｃ−、Ｃ２Ｈ４であることができ；Ｒはアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルカノイルオキシ、アルケノイルオキシまたはＯＣｍＦ２ｍ＋１であることができ；Ｒは１〜２０個の炭素原子を有することができ、分岐または直鎖であることができ；ｍは１〜２０である。
2004507438.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式Ｉで示されるる化合物。
【化１】
2004507438.tif 000010
［式中、
ｎは０、１または２であることができ；
Ａ１、Ａ２、Ａ３は独立に、１，４−ジ置換ベンゼン、２，５−ジ置換ピリミジン、２，５−ジ置換ピリジン、２，６−ジ置換ナフタレン；側方置換された１，４−ジ置換ベンゼン、側方置換された２，５−ジ置換ピリミジン、側方置換された２，５−ジ置換ピリジン、側方置換された２，６−ジ置換ナフタレンであって、前記側方置換基が独立にＦ、Ｃｌ、ＢｒまたはＣＮから選択されて、使用可能ないかなる置換位置に存在していても良いもの；１，４−ジ置換ビシクロ（２．２．２）オクタン、トランス−１，４−ジ置換シクロヘキサン、トランス−２，５−ジ置換ジオキサン、１，４−ジ置換ピペリジンから選択され；
Ｚ１、Ｚ２は独立に、直接結合、ＣＯＯ、ＯＯＣ、Ｃ２Ｈ４、ＣＨ２Ｏ、ＯＣＨ２、Ｃ４Ｈ８、Ｃ３Ｈ６Ｏ、（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ４、（Ｚ）−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２、（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２Ｏ、−Ｃ≡Ｃ−から選択され；
Ｚ３はＣ４Ｈ８、ＯＣ３Ｈ６、（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ４、（Ｚ）−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２、（Ｅ）−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ、−Ｃ≡Ｃ−、Ｃ２Ｈ４であることができ；
Ｒはアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルカノイルオキシ、アルケノイルオキシまたはＯＣｍＦ２ｍ＋１であることができ；Ｒは１〜２０個の炭素原子を有することができ、分岐または直鎖であることができ；
ｍは１〜２０である。］
【請求項２】
下記式の化合物。
【化２】
2004507438.tif 000011
2004507438.tif 000012
［式中、
Ｚ３は（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ４または（Ｅ）−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨであり；
Ｒはアルキル、アルコキシ、アルケニルまたはアルケニルオキシであって、１〜７個の炭素原子を有する。］
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の１以上の化合物を含む液晶混合物。
【請求項４】
それぞれが電極構造を有し配列層を有する１以上の対向表面が処理されている２個の互いに隔たったセル壁、該セル壁間に封入された液晶材料層を有する装置であって、請求項１または２に記載の化合物を含む装置。
【請求項５】
それぞれが電極構造を有し配列層を有する１以上の対向表面が処理されている２個の互いに隔たったセル壁、該セル壁間に封入された液晶材料層を有する装置であって、請求項３に記載の液晶混合物を含む装置。
【請求項６】
前記装置がアクティブマトリクス装置である請求項４または５に記載の液晶装置。
【請求項７】
前記装置がＳＴＮ装置である請求項４、５および６のいずれかに記載の液晶装置。
【請求項８】
前記装置がＴＮ装置である請求項４、５および６のいずれかに記載の液晶装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（技術分野）
本発明は新規化合物について説明するものである。詳細には本発明は、液晶混合物で使用される化合物および液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）で使用される化合物あるいは特にネマチック液晶またはキラルネマチック液晶混合物を利用するサーモグラフィーに関する利用分野で使用される化合物について説明するものである。
【０００２】
（背景技術）
コンピュータモニター、ラップトップもしくはノート型コンピュータ、携帯電話、ビデオ電話、携帯情報端末などに向けて、多重ねじれネマチックＴＮ−ＬＣＤ、超ねじれネマチックＳＴＮ−ＬＣＤ、超複屈折ＳＢＥ−ＬＣＤ、電気制御複屈折ＥＣＢ−ＬＣＤまたはフレキソエレクトリック（ｆｌｅｘｏｅｌｅｃｔｒｉｃ）ＬＣＤなどのＬＣＤが現在使用されているか開発中である。コントラスト、閾値および駆動電圧ならびに応答時間などのそのようなディスプレイの光学的、電気的および時間的性能は全く、弾性定数（ｋ３３、ｋ２２、ｋ１１）の比とセル間隙ｄによって決まる。ＳＴＮ−ＬＣＤなどの複雑な大量情報ＬＣＤ用に現在市販のネマチック混合物には、シクロヘキサン環に直接結合した末端アルケニル鎖を有する（すなわち、炭素−炭素二重結合を有する）トランス−１，４−ジ置換−シクロヘキシル誘導体が組み込まれて、短い応答時間、高い多重化速度および低い駆動電圧を得る上で必要な弾性定数比を得るようになっている。そのような材料はコストが高く、１，４−ジ置換シクロヘキサン環のトランス配置が必要であることならびにそのトランス−１，４−ジ置換−シクロヘキシル中間体からの段階的な炭素−炭素二重結合合成が必要であるために合成が困難である。炭素−炭素二重結合に両方の炭素原子で置換がある場合、それはトランス（Ｅ）配置を有して、有利な弾性定数の組合せを示し、許容できる程度に高いネマチック−等方性転移温度（Ｎ−Ｉ）を有するようになっていなければならない。次に、前段階のウィティッヒ反応によって生じたシス（Ｚ）型の異性化によってトランス配置を形成する。それらの材料は、飽和シクロヘキサン環が存在するために、示す複屈折値（Δｎ）が低いか中程度である。比ｄ．ΔｎがＴＮ−ＬＣＤの光学特性を決定し、第１または第２の極小でＬＣＤを駆動するよう固定されることから、Δｎの値が低いほどセル間隙が小さくなると考えられることは明らかである。ＴＮ−ＬＣＤの応答時間ｔｏｎはｄ２に反比例することから、セル間隙の減少はｔｏｎに大きく影響する。ｔｏｎが低値であるとさらに、フレーム時間が短縮されるために色またはより強い色の濃さを使用することができる。さらに、アクティブアドレス指定用の背面板として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いるＴＮ−ＬＣＤは、正の誘電異方性（Δε）および非常に高い抵抗（保持率（ｈｏｌｄｉｎｇ ｒａｔｉｏ）≧９８％）を有するネマチック液晶混合物を使用することで、絶縁破壊やディスプレイ性能低下を回避する必要がある。末端シアノ基を有する標準的なネマチック液晶は、一部には配列（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）層および電極に存在するイオンを溶媒和する能力が原因で抵抗値を低くすることから、ＴＮ−ＴＦＴ−ＬＣＤには適さないことが明らかになっている。これによって、末端トリフルオロメトキシ（ＤＥ３７３２８４Ａ１）、ジフルオロメチル（ＷＯ９０／０１０５６）またはフッ素末端基（ＪＰ２−２３３６２６、ＥＰＡ０５６８０４０Ａ１、ＥＰＡ０５６３９８１Ａ２）および／またはいくつかの側方のフッ素置換基を有する「超フッ素化」ネマチック液晶が広く使用されるようになった。しかしながらそれによって、２環式化合物においてネマチック−等方性転移温度���Ｎ−Ｉ）が低くなる。それには３環式化合物の不均一な使用が必要となり、ネマチック混合物の粘度が高くなる。従って、正の誘電異方性、高抵抗および比較的高いＮ−Ｉ値の合成的に容易に製造可能なネマチック液晶が必要とされている。
【０００３】
トリフルオロメチル基を有する液晶が公知であり、例えばラ・バーネイらの報告（Ｐ． Ｌｅ Ｂａｒｎｅｙ， Ｇ． Ｒａｖａｕｘ， Ｊ． Ｃ． Ｄｕｂｏｉｓ ａｎｄ Ｊ． Ｐ． Ｐａｍｅｉｘ， Ｍｏｌ． Ｃｒｙｓｔ． Ｌｉｑ． Ｃｒｙｓｔ．， （１９８５）， Ｖｏｌ．１２７， ｐｐ４１３）およびＥＰＡ０４８０２１７に記載されている。
【０００４】
含フッ素末端基を有する液晶材料は、ＷＯ９８／１３３２１、ＷＯ９６／０５１５９、ＷＯ９０／１３６１０、ＤＥ４４１５８８２およびＤＥ４２２２３７１に記載されている。
【０００５】
上記のいずれの特許出願においても通常は、単一の化合物が全ての特性において改善されていることはなく、混合した場合に所望の相および必要な特性を誘導する化合物の混合物を用いるのが普通である。
【０００６】
本発明は、上記の問題の一部を克服または軽減することを目的とするものである。
【０００７】
（発明の開示）
本発明によれば、下記式Ｉの化合物が提供される。
【０００８】
【化３】
2004507438.tif 000003
式中、
ｎは０、１または２であることができ；
Ａ１、Ａ２、Ａ３は独立に、１，４−ジ置換ベンゼン、２，５−ジ置換ピリミジン、２，５−ジ置換ピリジン、２，６−ジ置換ナフタレン；側方置換された１，４−ジ置換ベンゼン、側方置換された２，５−ジ置換ピリミジン、側方置換された２，５−ジ置換ピリジン、側方置換された２，６−ジ置換ナフタレンであって、前記側方置換基が独立にＦ、Ｃｌ、ＢｒまたはＣＮから選択され、使用可能ないかなる置換位置に存在していても良いもの；１，４−ジ置換ビシクロ（２．２．２）オクタン、トランス−１，４−ジ置換シクロヘキサン、トランス−２，５−ジ置換ジオキサン、１，４−ジ置換ピペリジンから選択され；
Ｚ１、Ｚ２は独立に、直接結合、ＣＯＯ、ＯＯＣ、Ｃ２Ｈ４、ＣＨ２Ｏ、ＯＣＨ２、Ｃ４Ｈ８、Ｃ３Ｈ６Ｏ、（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ４、（Ｚ）−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２、（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２Ｏ、−Ｃ≡Ｃ−から選択され；
Ｚ３はＣ４Ｈ８、ＯＣ３Ｈ６、（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ４、（Ｚ）−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２、（Ｅ）−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ、−Ｃ≡Ｃ−、Ｃ２Ｈ４であることができ；
Ｒはアルキル、アルコキシ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルカノイルオキシ、アルケノイルオキシまたはＯＣｍＦ２ｍ＋１であることができ；Ｒは１〜２０個の炭素原子を有することができ、分岐または直鎖であることができ；
ｍは１〜２０である。
【０００９】
（発明を実施するための最良の形態）
特に望ましい液晶特性、詳細にはネマチック相での誘電率および高抵抗、高ネマチック−等方性液転移温度および市販の原料（その一部はすでに所望の配置および位置で１以上の炭素−炭素二重結合を有していても良い）からの容易な合成からなる特性の有利な組合せに基づいて、構造的およびその他の点で好ましいものを以下に示す。
【００１０】
式Ｉについて概略的な好ましい構造を以下に挙げる。
【００１１】
【化４】
2004507438.tif 000004
好ましくはｎは０または１である。
好ましくはＡ１、Ａ２、Ａ３は、１，４−ジ置換ベンゼン、２，５−ジ置換ピリミジン、トランス−２，５−ジ置換ジオキサン、１，４−ジ置換ピペリジンまたはトランス−１，４−ジ置換シクロヘキサンであり；
好ましくはＺ１、Ｚ２は、直接結合、Ｃ２Ｈ４または−Ｃ≡Ｃ−であり；
好ましくはＺ３は（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ４または（Ｅ）−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨであり；
好ましくはＲはアルキル、アルコキシ、アルケニルまたはアルケニルオキシであって、１〜７個の炭素原子を有する。
【００１２】
式Ｉについて特に好ましい構造を以下に挙げる。
【００１３】
【化５】
2004507438.tif 000005
2004507438.tif 000006
好ましくはＺ３は（Ｅ）−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ４または（Ｅ）−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨであり；
好ましくはＲはアルキル、アルコキシ、アルケニルまたはアルケニルオキシであって、１〜７個の炭素原子を有する。
【００１４】
式Ｉの化合物は各種経路で製造することができる。代表的にはエーテルは、トリフェニルホスフィン、ジエチルアゾジカルボキシレートなどの脱水剤およびテトラヒドロフランもしくはＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミドなどの好適な溶媒存在下に、フェノール化合物とω，ω，ω−トリフルオロアルコールとのミツノブ反応（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ， （１９８１） ｐｐ１）によって製造することができる。別法としてそれは、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどの好適な塩基およびｔｅｒｔ−ブチル−メチルエーテルもしくは１，２−ジメトキシエタンなどの好適な溶媒存在下に、ω，ω，ω−トリフルオロアルキルブロマイドもしくは適切なω，ω，ω−トリフルオロアルコールのトシレートを用いた２級アルカノールのアルキル化によって合成することができる（Ｊ． Ｍａｔｅｒ． Ｃｈｅｍ．， （１９９４） Ｖｏｌ．４， ｐｐ１６７３）。別法としてそれは、炭酸カリウムなどの好適な塩基およびエチルメチルケトンもしくはシクロヘキサノンなどの好適な溶媒存在下に、ウィリアムソンのエーテル合成でω，ω，ω−トリフルオロアルキルブロマイドもしくは適切なω，ω，ω−トリフルオロアルコールのトシレートを用いたフェノール化合物のアルキル化によって合成することができる。ジオキサン類は、水の共沸除去を行いながら、硫酸もしくはトルエン−４−スルホン酸などの少量の酸を触媒として、トルエンなどの好適な溶媒中にてアルデヒドと２−置換１，３−ジオールとを反応させることで製造することができる。Ｎ−アリールピペリジン類は、アセトニトリルまたはヘキサメチルホスホリックトリアミドなどの好適な溶媒中、炭酸カリウムなどの適切な塩基を用いて、４−置換ピペリジンとアリールフルオライドとを縮合させることで得ることができる（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ， （１９８１）， ｐｐ６０６）。（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル置換化合物は、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドまたはブチルリチウムなどの適切な塩基とともにテトラヒドロフランまたはジメトキシエタンなどの好適な溶媒中で４，４，４−トリフルオロブタナールおよび適切なウィティッヒ塩（ＥＰＡ０４８０２１７Ａ２）が関与するウィティッヒ反応を用いて製造することができる。相当する５，５，５−トリフルオロペンチル置換化合物は、トルエンまたは酢酸エチルなどの適切な溶媒中、パラジウム／活性炭などの好適な触媒で水素を用いて（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル置換化合物を水素化することで製造することができる。１，２−ジ置換アセチレン類およびトラン類は、トリエチルアミンなどの適切な塩基ならびにテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）およびヨウ化銅（Ｉ）もしくは酢酸パラジウム（ＩＩ）およびトリオルトトルイルホスフィン配位子類などの適切な金属に基づく触媒の存在下、アリールおよびシクロヘキシルハライド類もしくはトリフレート類とモノ置換アセチレン類との金属触媒交差カップリング反応によって製造することができる（Ｍｏｌ． Ｃｒｙｓｔ． Ｌｉｑ． Ｃｒｙｓｔ．， （１９９０）， Ｖｏｌ． １４８， ｐｐ１９３； Ｍｏｌ． Ｃｒｙｓｔ． Ｌｉｑ． Ｃｒｙｓｔ．， （１９９５）， Ｖｏｌ． ２６０， ｐｐ９３）。エステル類は、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの脱水剤ならびに塩化メチレンもしくはＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミドなどの好適な溶媒の存在下、適切なフェノール化合物または２級アルコールをアルカン酸もしくはアルケン酸によってエステル化することで製造することができる（Ａｎｇｅｗａｎｄｔｅ Ｃｈｅｍｉｅ （１９７８） Ｖｏｌ． ９０， ｐｐ５５６）。別法としてそれは、ピリジンもしくはトリエチルアミンなどの塩基およびトルエンもしくは塩化メチレンなどの好適な溶媒の存在下、適切なフェノール化合物または２級アルコールをアルカン酸もしくはアルケン酸の塩化物（例えば、相当するアルカン酸もしくはアルケン酸から、塩化チオニルもしくはオキサリルクロライドの作用によって製造）によってエステル化することで合成することができる。
【００１５】
以下、例示のみを目的として実施例および図面を参照しながら、本発明について説明する。
【００１６】
図１は、マトリクス多重アドレス指定液晶ディスプレイの平面図である。
図２は、透過モードで使用される図１などのディスプレイの断面図である。
図３は、図２と同様であるが反射モードで動作する。
【００１７】
以下の実施例において、Ｋは結晶状態を指し、Ｎはネマチック相を指し、ＳｍＡはスメクチックＡ相を指し、ＳｍＢはスメクチックＢ相を指し、ＳｍＸは不確定の結晶スメクチック相を指す。括弧［ ］内にある値は、個々の化合物および市販の（Ｍｅｒｃｋ， Ｄａｒｍｓｔａｄｔ）ネマチック混合物ＺＬＩ３０８６の混合物から外挿されるネマチック−等方性転移温度である。
【００１８】
実施例１：１−（４−ペンチルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼンの製造
４，４，４−トリフルオロ−１−ブロモブタン（０．１９ｇ）、４−（４−ペンチルビシクロ［２．２．２］オクチル）フェノール（０．２５ｇ）［Ｍｏｌ． Ｃｒｙｓｔ． Ｌｉｑ． Ｃｒｙｓｔ．， （１９８５） Ｖｏｌ．１２９， ｐｐ３０１］、炭酸カリウム（０．５０ｇ）およびブタノン（４０ｃｍ３）の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去した。残留物について、溶離液を９５：５ヘキサン／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、１−（４−ペンチルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン、Ｋ６５℃、Ｎ５１℃、Ｉ（０．０４ｇ）を得た。
【００１９】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【００２０】
１−（４−プロピルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（４−ヘプチルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
４−プロピル−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル、Ｋ９７℃、ＳｍＢ１０８℃、ＳｍＡ１１６℃、Ｉ；
４−ペンチル−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル、Ｋ６３℃、ＳｍＢ９９℃、ＳｍＡ１０３℃、Ｉ：［Ｎ６３℃、Ｉ］；
４−ヘプチル−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル、Ｋ２９℃、ＳｍＸ４０℃、ＳｍＢ９８℃、Ｉ：［Ｎ３６℃、Ｉ］；
４−プロピル−３’−フルオロ−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−ペンチル−３’−フルオロ−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−ヘプチル−３’−フルオロ−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル、Ｋ５６℃、ＳｍＡ５２℃、Ｉ：［Ｎ−５℃、Ｉ］；
１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン、Ｋ５０℃、Ｉ；
１−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン、Ｋ４９℃、Ｉ：［Ｎ２１℃、Ｉ］；
１−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−３−フルオロ−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−フルオロ−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−３−フルオロ−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−［２−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−エチル］−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−［４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−ブチル］−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−［４−（Ｅ）−（４−トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−ブト−１−エニル］−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−［３−（Ｅ）−（４−トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−１−プロプ−２−エニルオキシ］−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−４［（Ｅ）−プロプ−１−エニル］シクロヘキシル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−４−［（Ｅ）−ペント−１−エニル］シクロヘキシル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−４−［（Ｚ）−ペント−２−エニル］シクロヘキシル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−４−［（Ｅ）−ペント−３−エニル］シクロヘキシル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−４−［ペント−４−エニル］シクロヘキシル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
４−（４−プロピルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（４−ペンチルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル、Ｋ８０℃、ＳｍＢ２０５℃、ＳｍＡ２４７℃；
４−（４−ヘプチルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−プロピル−４”−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）−ｐ−テルフェニル；
４−ペンチル−４”−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）−ｐ−テルフェニル、Ｋ２０３℃、ＳｍＡ２６７℃、Ｉ；
４−ヘプチル−４”−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）−ｐ−テルフェニル；
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル、Ｋ５４℃、ＳｍＢ１１３℃、ＳｍＡ１６７℃、Ｎ１７１℃、Ｉ；
４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−３’−フルオロ−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３’−フルオロ−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル、Ｋ７６℃、ＳｍＢ１１９℃、ＳｍＡ１７７℃、Ｉ；
４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−３’−フルオロ−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
１−（５−プロピルピリミジン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（５−ペンチルピリミジン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（５−ヘプチルピリミジン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（５−プロピルピリジン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（５−ペンチルピリジン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（５−ヘプチルピリジン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
４−（５−プロピルピリミジン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（５−ペンチルピリミジン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（５−ヘプチルピリミジン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（５−プロピルピリジン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（５−ペンチルピリジン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（５−ヘプチルピリジン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル。
【００２１】
実施例２：１−（４−ペンチルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼンの製造
トルエン−４−スルホン酸（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニル（０．７ｇ）、４−（４−ペンチルビシクロ［２．２．２］オクチル）フェノール（０．５ｇ）、炭酸カリウム（１．１ｇ）およびブタノン（４０ｃｍ３）の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去した。残留物について、溶離液を９５：５ヘキサン／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、１−（４−ペンチルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン、Ｋ６８℃、Ｎ４２℃、Ｉ（０．０５ｇ）を得た。
【００２２】
原料として必要なトルエン−４−スルホン酸（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルは、以下のようにして製造することができた。
【００２３】
トルエン−４−スルホニルクロライド（１１．４ｇ）の塩化メチレン（１０ｃｍ３）溶液を、（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エン−１−オール（０．４０ｇ）、ピリジン（６．３ｇ）および塩化メチレン（４０ｃｍ３）の溶液に０℃でゆつくりと加えた。反応混合物を０℃で２４時間撹拌し、希塩酸（５０ｃｍ３で２回）、水（５０ｃｍ３で２回）および希炭酸ナトリウム溶液（５０ｃｍ３で２回）で洗浄し、脱水し（ＭｇＳＯ４）、濾過し、溶媒留去して、所望のトシル酸エステル５．４ｇを得た。それはそれ以上精製しなかった。
【００２４】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【００２５】
１−（４−プロピルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（４−ヘプチルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
４−プロピル−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル、Ｋ＜２５℃、ＳｍＸ１０６℃、ＳｍＢ１３６℃、Ｉ；
４−ペンチル−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル、Ｋ６６℃、ＳｍＸ１１６℃、ＳｍＢ１２３℃、Ｉ：［Ｎ５３℃、Ｉ］；
４−ヘプチル−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル、Ｋ＜２５℃、ＳｍＸ１０７℃、ＳｍＢ１１７℃、Ｉ：［Ｎ４８℃、Ｉ］；
４−プロピル−３’−フルオロ−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−ペンチル−３’−フルオロ−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−ヘプチル−３’−フルオロ−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル、Ｋ６４℃、ＳｍＢ６０℃、ＳｍＡ６３℃、Ｉ：［Ｎ２０℃、Ｉ］；
１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン、Ｋ５０℃、Ｉ；
１−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン、Ｋ４１℃、Ｉ：［Ｎ１５℃、Ｉ］；
１−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−３−フルオロ−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３−フルオロ−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−３−フルオロ−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
４−（４−プロピルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（４−ペンチルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル、Ｋ１１１℃、ＳｍＡ１６９℃、Ｎ２３５℃；
４−（４−ヘプチルビシクロ［２．２．２］オクチル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−プロピル−４”−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］−ｐ−テルフェニル；
４−ペンチル−４”−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］−ｐ−テルフェニル、Ｋ２３９℃、ＳｍＢ２４５℃、ＳｍＡ２７０℃、Ｉ；
４−ヘプチル−４”−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］−ｐ−テルフェニル；
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル、Ｋ９１℃、ＳｍＢ１６７℃、Ｎ２６９℃、Ｉ；
４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−３’−フルオロ−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−３’−フルオロ−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル、Ｋ９４℃、ＳｍＢ１１０℃、ＳｍＡ１６１、Ｉ；
４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−３’−フルオロ−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
１−（５−プロピルピリミジン−２−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（５−ペンチルピリミジン−２−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（５−ヘプチルピリミジン−２−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（５−プロピルピリジン−２−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（５−ペンチルピリジン−２−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（５−ヘプチルピリジン−２−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
４−（５−プロピルピリミジン−２−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（５−ペンチルピリミジン−２−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（５−ヘプチルピリミジン−２−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（５−プロピルピリジン−２−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（５−ペンチルピリジン−２−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（５−ヘプチルピリジン−２−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル。
【００２６】
実施例３：１−（４−プロピルピペリド−１−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼンの製造
４−プロピルピペリジン（０．７ｇ）、１−フルオロ−４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］ベンゼン（０．５ｇ）、炭酸カリウム（１．１ｇ）、アリクアット（Ａｌｉｑｕａｔ）３３３（４滴）およびアセトニトリル（４０ｃｍ３）の混合物を９０℃で終夜加熱し、水（５００ｃｍ３）に投入する。有機層を分液し、水層を酢酸エチルで抽出する（１００ｃｍ３で４回）。合わせた有機層をブラインで洗浄し（２００ｃｍ３で２回）、脱水し（ＭｇＳＯ４）、濾過および溶媒留去を行った。残留物について、溶離液を９５：５ヘキサン／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、１−（４−プロピルピペリド−１−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン０．６ｇを得る。
【００２７】
原料として必要な１−フルオロ−４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］ベンゼンは以下のようにして製造することができた。
【００２８】
４，４，４−トリフルオロブチルブロマイド（０．７ｇ）、４−フルオロフェノール（１．０ｇ）、炭酸カリウム（１．１ｇ）およびブタノン（４０ｃｍ３）の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去を行う。残留物について、溶離液を９５：５ヘキサン／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行って、１−フルオロ−４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］ベンゼン０．８ｇを得る。
【００２９】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【００３０】
１−（４−ブチルピペリド−１−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（４−ペンチルピペリド−１−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（４−ヘキシルピペリド−１−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（４−ヘプチルピペリド−１−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（４−オクチルピペリド−１−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
４−（４−プロピルピペリド−１−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（４−ブチルピペリド−１−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（４−ペンチルピペリド−１−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（４−ヘキシルピペリド−１−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（４−ヘプチルピペリド−１−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（４−オクチルピペリド−１−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
１−（４−プロピルピペリド−１−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（４−ブチルピペリド−１−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（４−ペンチルピペリド−１−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（４−ヘキシルピペリド−１−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（４−ヘプチルピペリド−１−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
１−（４−オクチルピペリド−１−イル）−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ベンゼン；
４−（４−プロピルピペリド−１−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（４−ブチルピペリド−１−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（４−ペンチルピペリド−１−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（４−ヘキシルピペリド−１−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（４−ヘプチルピペリド−１−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル；
４−（４−オクチルピペリド−１−イル）−４’−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］ビフェニル。
【００３１】
実施例４：１−（トランス−５−プロピルジオキサン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼンの製造
１，３−ジヒドロキシ−２−プロピルプロパン（０．３ｇ）、４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］ベンズアルデヒド（０．５ｇ）、トルエン−４−スルホン酸（０．１ｇ）およびトルエン（４０ｃｍ３）の混合物を、水が共沸しなくなるまで加熱還流し、溶媒を留去する。残留物について、溶離液を９５：５ヘキサン／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、１−（トランス−５−プロピルジオキサン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン０．３ｇを得る。
【００３２】
原料として必要な４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］ベンズアルデヒドは以下のようにして製造することができた。
【００３３】
４，４，４−トリフルオロブチルブロマイド（０．７ｇ）、４−ヒドロキシベンズアルデヒド（０．５ｇ）、炭酸カリウム（１．１ｇ）およびブタノン（４０ｃｍ３）の混合物を終夜加熱還流し、濾過して無機物を除去し、溶媒留去を行う。残留物について、溶離液を９５：５ヘキサン／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］ベンズアルデヒド０．６ｇを得る。
【００３４】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【００３５】
１−（トランス−５−ブチルジオキサン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−５−ペンチルジオキサン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−５−ヘキシルジオキサン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−５−ヘプチルジオキサン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
１−（トランス−５−オクチルジオキサン−２−イル）−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ベンゼン；
４−（トランス−５−プロピルジオキサン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（トランス−５−ブチルジオキサン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（トランス−５−ペンチルジオキサン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（トランス−５−ヘキシルジオキサン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（トランス−５−ヘプチルジオキサン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル；
４−（トランス−５−オクチルジオキサン−２−イル）−４’−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ）ビフェニル。
【００３６】
実施例５：トランス−１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］シクロヘキサンの製造
４，４，４−トリフルオロブタナール（１．０ｇ）、４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）メチルホスホニウムブロマイド（３．１ｇ）およびテトラヒドロフラン（１００ｃｍ３）の混合物に、カリウムｔｅｒｔ−ブチレート（２．９ｇ）の混合物を０℃で滴下する。反応液をさらに室温で２時間撹拌し、水（５００ｃｍ３）に投入する。有機層を分液し、水層をジエチルエーテル抽出する（１００ｃｍ３で４回）。合わせた有機層をブラインで洗浄し（２００ｃｍ３で２回）、脱水し（ＭｇＳＯ４）、濾過し、溶媒留去する。トランス−１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ／Ｚ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］シクロヘキサンの粗異性体混合物をエタノール（５０ｃｍ３）、水（１ｃｍ３）および製造したばかりのベンゼンスルフィン酸（２ｇ）の混合物に溶かし、６５℃で４８時間加熱し、水（５００ｃｍ３）に投入する。有機層を分液し、水層をジエチルエーテル抽出する（１００ｃｍ３で４回）。合わせた有機層をブラインで洗浄し（２００ｃｍ３で２回）、脱水し（ＭｇＳＯ４）、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を９５：５ヘキサン／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、トランス−１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］シクロヘキサン１．３ｇを得る。
【００３７】
原料として必要な４，４，４−トリフルオロブタナールは次のようにして製造することができた。
【００３８】
４，４，４−トリフルオロブタノール（１０ｇ）の塩化メチレン（２０ｃｍ３）溶液を、クロロギ酸ピリジン（１５ｇ）および塩化メチレン（１００ｃｍ３）の懸濁液に室温で滴下する。反応混合物を室温で２時間撹拌し、ジエチルエーテル（５０ｃｍ３）を加える。反応混合物をさらに１５分間撹拌してから有機層を傾斜法によって除去し、残留物をエーテルで洗浄する。合わせた有機層をブラインで洗浄し（１００ｃｍ３で２回）、脱水し（ＭｇＳＯ４）、濾過し、溶媒留去して、４，４，４−トリフルオロブタナール（６．２ｇ）を得る。それをそれ以上精製せずに使用する。
【００３９】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【００４０】
トランス−１−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］シクロヘキサン；
トランス−１−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］シクロヘキサン；
トランス−１−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］シクロヘキサン；
トランス−１−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］シクロヘキサン；
トランス−１−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］シクロヘキサン；
１−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ベンゼン；
１−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ベンゼン；
１−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ベンゼン；
１−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ベンゼン；
１−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ベンゼン；
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４’−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ビフェニル；
４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ビフェニル；
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ビフェニル；
４−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ビフェニル；
４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ビフェニル；
４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−４’−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ビフェニル。
【００４１】
実施例６：１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ベンゼンの製造
１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４−［（Ｅ）−５，５，５−トリフルオロペント−１−エニル］ベンゼン（１．０ｇ）、１０％パラジウム／活性炭（０．２ｇ）およびトルエン（２０ｃｍ３）の混合物を、水素吸収が終了するまで水素化する。無機物を濾去し、濾液を溶媒留去する。残留物について、溶離液を９５：５ヘキサン／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ベンゼン０．７ｇを得る。
【００４２】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【００４３】
１−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ベンゼン；
１−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ベンゼン；
１−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ベンゼン；
１−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ベンゼン；
１−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ベンゼン；
４−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４’−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ビフェニル；
４−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ビフェニル；
４−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４’−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ビフェニル；
４−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）−４’−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ビフェニル；
４−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ビフェニル；
４−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−４’−（５，５，５−トリフルオロペンチル）ビフェニル；
トランス−１−（トランス−４−プロピルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）シクロヘキサン；
トランス−１−（トランス−４−ブチルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）シクロヘキサン；
トランス−１−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）シクロヘキサン；
トランス−１−（トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）シクロヘキサン；
トランス−１−（トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）シクロヘキサン；
トランス−１−（トランス−４−オクチルシクロヘキシル）−４−（５，５，５−トリフルオロペンチル）シクロヘキサン。
【００４４】
実施例７：１−（４−テトラデシルフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレンの製造
１−ヨード−４−（４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］ベンゼン（０．５０ｇ）、４−テトラデシルフェニルアセチレン（０．６５ｇ）、ヨウ化銅（Ｉ）（０．０１ｇ）およびトリエチルアミン（２０ｃｍ３）の混合物を９０℃で終夜加熱し、水（５００ｃｍ３）に投入し、ジエチルエーテルで抽出する（１００ｃｍ３で４回）。合わせた有機層をブラインで洗浄し（２００ｃｍ３で２回）、脱水し（ＭｇＳＯ４）、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を９５：５ヘキサン／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、１−（４−テトラデシルフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン０．７ｇを得る。
【００４５】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【００４６】
１−（４−プロピルフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン、Ｋ１０６℃、Ｉ：［Ｎ８３℃、Ｉ］；
１−（４−ブチルフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ペンチルフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン、Ｋ９８℃、ＳｍＸ８６℃、Ｉ：［Ｎ８５℃、Ｉ］；
１−（４−ヘキシルフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ヘプチルフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン、Ｋ７６℃、ＳｍＸ９１℃、Ｉ：［Ｎ８５℃、Ｉ］；
１−（４−オクチルフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ノニルフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−デシルフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−プロピルフェニル）−２−（４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン、Ｋ１３０℃、Ｉ：［６７℃］；
１−（４−ブチルフェニル）−２−（４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ペンチルフェニル）−２−（４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン、Ｋ１０６℃、ＳｍＢ１２０℃、Ｉ：［Ｎ７４℃、Ｉ］；
１−（４−ヘキシルフェニル）−２−（４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ヘプチルフェニル）−２−（４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン、Ｋ８７℃、ＳｍＢ１２１℃、Ｉ：［Ｎ７６℃、Ｉ］；
１−（４−オクチルフェニル）−２−（４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ノニルフェニル）−２−（４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−デシルフェニル）−２−（４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−プロピルフェニル）−２−（４−［５，５，５−トリフルオロペンチル］フェニル）アセチレン；
１−（４−ブチルフェニル）−２−（４−［５，５，５−トリフルオロペンチル］フェニル）アセチレン；
１−（４−ペンチルフェニル）−２−（４−［５，５，５−トリフルオロペンチル］フェニル）アセチレン；
１−（４−ヘキシルフェニル）−２−（４−［５，５，５−トリフルオロペンチル］フェニル）アセチレン；
１−（４−ヘプチルフェニル）−２−（４−［５，５，５−トリフルオロペンチル］フェニル）アセチレン；
１−（４−オクチルフェニル）−２−（４−［５，５，５−トリフルオロペンチル］フェニル）アセチレン；
１−（４−ノニルフェニル）−２−（４−［５，５，５−トリフルオロペンチル］フェニル）アセチレン；
１−（４−デシルフェニル）−２−（４−［５，５，５−トリフルオロペンチル］フェニル）アセチレン；
１−（４−ペンチルフェニル）−２−（３，５−ジフルオロ−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ペンチルフェニル）−２−（３−フルオロ４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（２−フルオロ−４−ペンチルフェニル）−２−（３−フルオロ−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（２，６−ジフルオロ−４−ペンチルフェニル）−２−（３−フルオロ−４−［（Ｅ）−４，４，４−トリフルオロブト−２−エニルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ペンチルフェニル）−２−（３，５−ジフルオロ−４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ペンチルフェニル）−２−（３−フルオロ−４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（２−フルオロ−４−ペンチルフェニル）−２−（３−フルオロ−４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（２，６−ジフルオロ−４−ペンチルフェニル）−２−（３−フルオロ−４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン。
【００４７】
実施例８：１−（４−［（Ｅ）−ヘキス−２−エノイルオキシ］フェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレンの製造
（Ｅ）−２−ヘキセン酸（０．１０ｇ）、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン（０．３２ｇ）、４−（ジメチルアミノ）ピリジン（０．０４ｇ）の塩化メチレン（２０ｃｍ３）溶液に、窒素雰囲気下で氷浴（０℃）で冷却しながらＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド（０．２２ｇ）の塩化メチレン（１０ｃｍ３）溶液を加える。反応混合物を終夜撹拌し、濾過して沈殿物を除去し、濾液を減圧下に溶媒留去する。粗生成物について、溶離液を９：１石油エーテル（４０〜６０℃）／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、次にエタノールからの再結晶を行って、１−（４−［（Ｅ）−ヘキス−２−エノイルオキシ］フェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン（０．２６ｇ）を得る。
【００４８】
原料として必要な１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレンは次のようにして製造することができた。
【００４９】
ナトリウムエトキシド（０．７ｇ）、１，２−ジ（４−ヒドロキシフェニル）アセチレン（０．５ｇ）およびトルエン（４０ｃｍ３）の混合物を２時間撹拌し、４，４，４−トリフルオロブチルブロマイド（０．７ｇ）を加え、得られる混合物を３時間加熱還流する。反応混合物を水（５００ｃｍ３）に投入し、有機層を分液する。水層をトルエンで抽出する（５０ｃｍ３で２回）。合わせた有機層を水で洗浄し（２００ｃｍ３で２回）、脱水し（ＭｇＳＯ４）、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を９５：５ヘキサン／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン０．３ｇを得る。
【００５０】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【００５１】
１−（４−［（Ｅ）−ブト−２−エノイルオキシ］フェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−［（Ｅ）−ペント−２−エノイルオキシ］フェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−［（Ｅ）−ヘプト−２−エノイルオキシ］フェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−［（Ｅ）−オクト−２−エノイルオキシ］フェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−アセトキシフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−プロパノイルオキシフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ブタノイルオキシフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ペンタノイルオキシフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ヘキサノイルオキシフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−ヘプタノイルオキシフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン；
１−（４−オクタノイルオキシフェニル）−２−（４−［４，４，４−トリフルオロブチルオキシ］フェニル）アセチレン。
【００５２】
実施例９：１−（４−［トランス−４−ペンチルシクロヘキシル］フェニル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレンの製造
１−ヨード−３，３，３−トリフルオロプロパン（０．５０ｇ）、（４−［トランス−４−ペンチルシクロヘキシル］フェニル）アセチレン（０．６５ｇ）、ヨウ化銅（Ｉ）（０．０１ｇ）およびトリエチルアミン（２０ｃｍ３）の混合物を９０℃で終夜加熱し、水（５００ｃｍ３）に投入し、ジエチルエーテルで抽出する（１００ｃｍ３で４回）。合わせた有機層をブラインで洗浄し（２００ｃｍ３で２回）、脱水し（ＭｇＳＯ４）、濾過し、溶媒留去する。残留物について、溶離液を９５：５ヘキサン／酢酸エチル混合物とするシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー精製を行い、エタノールからの再結晶を行って、１−（４−［トランス−４−ペンチルシクロヘキシル］フェニル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレン０．７ｇを得る。
【００５３】
以下の化合物を同様にして得ることができた。
【００５４】
１−（４−［トランス−４−プロピルシクロヘキシル］フェニル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレン；
１−（４−［トランス−４−ブチルシクロヘキシル］フェニル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレン；
１−（４−［トランス−４−ペンチルシクロヘキシル］フェニル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレン；
１−（４−［トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル］フェニル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレン；
１−（４−［トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル］フェニル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレン；
１−（トランス−４−［トランス−４−プロピルシクロヘキシル］シクロヘキシル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレン；
１−（トランス−４−［トランス−４−ブチルシクロヘキシル］シクロヘキシル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレン；
１−（トランス−４−［トランス−４−ペンチルシクロヘキシル］シクロヘキシル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレン；
１−（トランス−４−［トランス−４−ヘキシルシクロヘキシル］シクロヘキシル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレン；
１−（トランス−４−［トランス−４−ヘプチルシクロヘキシル］シクロヘキシル）−２−（３，３，３−トリフルオロプロピル）アセチレン。
【００５５】
本発明によって記載の化合物の一部について、アルキルシクロヘキシル−ＣＯＯ−フェニルＯＲとアルキルシクロヘキシルフェニルＣＮの混合物であるホスト混合物ＤＯＰ−０１７中で調べた。
【００５６】
その化合物を個別にホスト中に１０％ドープし、透明点を測定した。化合物の構造および混合物の相挙動を表１に詳細に示してある。比較のため化合物ＷＤ３０を示してある。
【００５７】
【表１】
2004507438.tif 000007
【００５８】
誘電率および弾性定数を測定し、表２に示した。
【００５９】
【表２】
2004507438.tif 000008
【００６０】
混合物の複屈折率および屈折率を測定し、結果を比較のためのＤＯＰ−０１７とともに表３に示した。
【００６１】
【表３】
2004507438.tif 000009
【００６２】
本発明の材料を組み入れることができる一つの公知の機器は、スライドガラス間にネマチック材料の薄層を用いるねじれネマチック（ＴＮ）装置である。スライドガラスは一方向にラビング処理し、ラビング方向が直交するように組み立てる。ラビングによって、液晶分子に対して表面配列が与えられて、層を横切る方向に漸進的に９０°のねじれが生じる。光学軸がラビング方向に対して垂直または平行となるように偏光子間に置くと、装置はそれのＯＦＦ状態では偏光面を回転させ、ＯＮ状態では回転させずに透過させる。少量のコレステリック材料をネマチック材料に加えることで、英国特許１４７２２４７号および１４７８５９２号に記載のように、９０°ねじれが装置の全面積にわたって同様となるようにすることができる。
【００６３】
大きく複雑なネマチックＬＣＤの性能における改善が１９８２に行われたが、その際には、１８０°〜２７０°の範囲のねじれ角を有するネマチックＬＣ層の透過の電圧依存性が無限に急峻になり得ることが認められている（Ｃ． Ｍ． Ｗａｔｅｒｓ， Ｖ． Ｂｒｉｍｍｅｌｌ ａｎｄ Ｅ． Ｐ． Ｒａｙｎｅｓ， Ｐｒｏｃ． ３ｒｄ Ｉｎｔ． Ｄｉｓｐｌａｙ Ｒｅｓ． Ｃｏｎｆ．， Ｋｏｂｅ， Ｊａｐａｎ， １９８３， ３９６参照）。表面配列と少量のキラルねじれ剤（ｔｗｉｓｔｉｎｇ ａｇｅｎｔ）添加によるネマチック混合物の長ピッチコレステリック混合物への変化とを組み合わせることで、さらに大きいねじれ角が得られる。ねじれ角を大きくすると、それが２７０°ねじれについて双安定性となるまで透過／電圧曲線が急峻となる。２２５°〜２７０°の特定のねじれ角の場合、曲線は無限に急峻となり、多重化に好適である。ねじれ角が大きくなったことで、そのＬＣＤについては高次ねじれネマチック（ＳＴＮ）と称されるようになった。
【００６４】
ＳＴＮの使用について記載の液晶装置は、特許出願ＧＢ８２１８８２１および米国特許４５９６４４６号などの結果的に授与された特許にある。
【００６５】
ＳＩＤ　Ｍ６／１−３７第１巻セミナー講義ノート（１９９８年５月）には、本発明の材料を組み込むことができるアクティブおよびパッシブの両方のＳＴＮが記載されている。
【００６６】
パッシブマトリクスおよびアクティブマトリクス液晶装置としては、２種類の装置が一般に知られている。
【００６７】
図１および２のディスプレイは、ガラス壁３、４間に封じ込まれた，コレステリック液晶材料層２によって形成された液晶セル１を有する。スペーサーリング５が、これらの壁を代表的には６μｍ離れた状態に維持している。パッシブマトリクス装置の場合、例えばＳｎＯ２のストライプ状の行電極６１〜６ｍを一方の壁３上に形成し、同様の列電極７１〜７ｎを他方の壁４上に形成する。ｍ−行電極とｎ−列電極により、これはｍ×ｎ行列のアドレス可能素子を形成する。各素子は、列と行の電極の相互作用によって形成される。アクティブマトリクス装置の場合、トランジスターまたはダイオードのような別個の非線形装置が各画素に関係する。
【００６８】
パッシブマトリクス装置の場合、列ドライバーが各列電極６に電圧を供給する。同様に、行ドライブ９が各行電極７に電圧を供給する。印加電圧の制御は、電圧源１１からの電力とクロック１２からのタイミングを受信する制御ロジック１０からのものである。
【００６９】
薄膜トランジスターアクティブマトリクス液晶装置（ＴＦＴ　ＡＭＬＣＤ）などのアクティブ装置の場合、画素電極、走査電極および信号電極という３種類の電極が存在し、さらには液晶の反対側には共通電極がある。制御電極は、信号電極上の電圧が関連する画素電極に印加されるようにゲートの動作を行う。
【００７０】
以下、本発明を具体化する材料および装置の使用例について図２を参照しながら説明する。
【００７１】
液晶装置は、例えばガラス製である２枚の透明プレート３および４からなり、アクティブマトリクス装置の場合にはそれらはアルミノケイ酸塩（アルカリを含まない）ガラス製であるのが普通であり、多くの場合ＳｉＯ２のパッシベーション層を有する。アクティブマトリクスディスプレイの場合、薄膜トランジスタなどのアクティブ装置を製造し、フルカラーディスプレイの場合にはカラーフィルター層を加える。これらのプレートは、内側面に透明導電性電極６および７がコーティングしてあり、それは多くの場合、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングされたＩＴＯである。配列層をセルの内側表面に組み入れることで、液晶材料を構成する分子の面配向がガラスプレート３および４に対してほぼ平行となる。これは、ガラスプレート３、４を導電性電極で完全にコーティングすることで行われる。各列・行電極間の交差部がアドレス可能素子または画素のｘ，ｙ行列を形成する。一部の種類のディスプレイの場合、配列方向は直交している。セルを構築する前に、配列層を布（例：ベルベット製）で覆ったローラーで所定方向にラビングし、そのラビング方向はセル構築時に平行に配置する（同一または反対方向）。例えばポリメタクリル酸メチル製のスペーサー５によって、ガラスプレート３および４を好適な距離、例えば２〜７μｍ、好ましくは４〜６μｍだけ離す。ガラスプレート３、４間に、プレート間の空隙を充填することで液晶材料２を導入する。これは、標準的な方法を用いてセルを流動充填（ｆｌｏｗ ｆｉｌｌｉｎｇ）することで行うことができる。スペーサー５を、既存の方法を用いて減圧下に接着剤で封止する。偏光子１３をセルの前後に配置することができる。
【００７２】
ラビング、斜方蒸着（ｏｂｌｉｑｕｅ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）などの１以上の標準的な表面処理法によって、あるいは前述のようにポリマー配列層を用いることで、１以上のセル上に配列層を設けることができる。
【００７３】
別の実施態様において、上に配列層を有する基板について加熱・剪断を行うか、別法として配列層を有する基板を、電場印加との併用でガラス転移温度より高く、液晶から等方相転移を起こす温度より低く熱的にアニールする。これらの併用の中には、配列層が必要ないものもある。さらには、本発明によって記載のパッシブおよびアクティブの両方の装置において、いわゆる非接触配列層を用いることもできる。
【００７４】
前記装置は透過モードまたは反射モードで動作することができる。前者では、例えばタングステン電球から装置を通る光を選択的に透過または遮断することで、所望の表示を形成する。反射モードでは、鏡または拡散反射器（１６）が第２の偏光子１３の背後に配置されていることで、セルおよび２個の偏光子から周囲光を反射する。鏡を部分的に反射させることで装置は、透過および反射の両方のモードで動作させることができる。
【００７５】
配列層には２つの機能があり、一方の機能は接触する液晶分子を好ましい方向に配列するというものであり、他方の機能はその分子に対して数度、代表的には４°または５°程度の傾斜、いわゆる表面傾斜を与えるというものである。配列層は、セル壁上に数滴のポリイミドを乗せ、均一な厚さが得られるまで壁を回転させることで形成することができる。次に、所定の時間にわたり所定の温度まで加熱することでポリイミドを硬化させ、続いてナイロン布で覆ったローラーを用いて一方向ラビングを行う。別の実施態様では、１個の偏光子と染料材料を組み合わせることができる。本発明の材料は、例えば薄膜トランジスタなどのアクティブアドレスマトリクスを有するＬＣＤ（ＴＦＴ−ＬＣＤ）またはデュアル走査ＳＴＮなどのパッシブアドレスマトリクスを有するＬＣＤで用いることもできる。ＳＩＤ　Ｍ３／１−５２第１巻セミナー講義ノート（１９９８年５月）には、本発明の材料を組み込むことができる代表的なＡＭＬＣＤが記載されている。
【図面の簡単な説明】
【図１】
マトリクス多重アドレス指定液晶ディスプレイの平面図である。
【図２】
透過モードで使用される図１などのディスプレイの断面図である。
【図３】
図２と同様のディスプレイであって、反射モードで動作するものの断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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