(57)【要約】本発明は、式（Ｉ）の１−インダノン類及びその異性体を製造する方法において、ここでＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は独立してＨ又はＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基を表すか、又はＲ１とＲ２又はＲ２とＲ３又はＲ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は、それらが結合する炭素原子と一緒に飽和又は不飽和の５又は６員環を形成し、前記炭化水素基及び／又は前記環は随意的に１つ又はより多くのヘテロ原子を含んでもよく、前記環は随意的にＣ１〜Ｃ４炭化水素基で置換されていてもよい、前記方法は、式ＩＩの化合物と塩素化剤との反応、ここでＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は上で定義されたものと同じ意味を有する、及び続いてフリーデル−クラフツ触媒による反応を含むところの方法に関する。本発明はさらに対応するインデン類の製造に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉの１−インダノン類及びその異性体を製造する方法において、
2004513103.tif 000021
ここでＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は独立してＨ又はＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基を表すか、又はＲ１とＲ２又はＲ２とＲ３又はＲ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は、それらが結合する炭素原子と一緒に飽和又は不飽和の５又は６員環を形成し、前記炭化水素基及び／又は前記環は随意的に１つ又はより多くのヘテロ原子を含んでもよく、前記環は随意的にＣ１〜Ｃ４炭化水素基で置換されていてもよい、
前記方法は式ＩＩの化合物と塩素化剤との反応
2004513103.tif 000022
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は上で定義されたものと同じ意味を有する、及び続いてフリーデル−クラフツ触媒による反応を含むところの方法。
【請求項２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は独立してＨ又はＣ１〜Ｃ２０のアルキル基を表すか、又はＲ１とＲ２又はＲ２とＲ３又はＲ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は、それらが結合する炭素原子と一緒に飽和又は不飽和の５又は６員環を形成し、前記環は随意的にＣ１〜Ｃ４炭化水素基で置換されていてもよいことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ケトン（ＩＩ）と塩素化剤とのモル比が１：１〜１：２であることを特徴とする請求項１〜２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４】
塩素化剤が塩化スルフリルであることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
フリーデル−クラフツ触媒とケトン（ＩＩ）とのモル比が１：１〜３：１であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
フリーデル−クラフツ触媒が塩化アルミニウム又は塩化鉄（ＩＩＩ）であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
フリーデル−クラフツ触媒による反応が、ヘプタン又は他の炭化水素溶媒及びジクロロメタン又は他のハロゲン化アルカンの混合物中で行われることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
式ＩＩＩのインデン類及びその異性体を製造する方法において、
2004513103.tif 000023
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は独立してＨ又はＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基を表すか、又はＲ１とＲ２又はＲ２とＲ３又はＲ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は、それらが結合する炭素原子と一緒に飽和又は不飽和の５又は６員環を形成し、前記炭化水素基及び／又は前記環は随意的に１又はより多いヘテロ原子を含んでもよく、前記環は随意的にＣ１〜Ｃ４炭化水素基で置換されていてもよい、式ＩＩの化合物は、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法により式Ｉの化合物へと転化され、引き続き、自体公知の方法により、不活性溶媒中で初めに還元剤と反応され、次に酸脱水剤と反応されることを特徴とする方法。
【請求項９】
還元剤が、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ−Ｈ）、及び水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムからなる群から選択されることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
酸が、硫酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、及び燐酸からなる群から選択されることを特徴とする、請求項８〜９のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は１−インダノン類の製造方法に関する。本発明はさらに対応するインデン類の製造に関する。
【０００２】
１−インダノン類は公知の方法により対応するインデン誘導体に転化されることができ、典型的には共触媒例えばメチルアルミノキサンと組み合わせて、エチレン性不飽和モノマー類の（共）重合、例えばイソタクチックポリプロピレンの製造のために使用されるメタロセン触媒の合成において重要な中間体である。
【０００３】
【従来の技術】
プロピオン酸又はアクリル酸誘導体から出発する１−インダノン類のいくつかの製造方法が先行技術において公知であるが、本発明の製造方法を記載した先行技術文書は皆無である。
【０００４】
例えば、米国特許第５，８４０，９４８号は、ベンゼン又はその誘導体とα位に脱離基を有するプロピオン酸の誘導体から、フリーデル−クラフツ触媒を用いて１−インダノンを製造する１段階製法を記載している。この方法における出発物質は典型的には２つのハロゲン原子、好適には臭素又は塩素を含む。すべての実施例において、ジブロム化されたプロピオン酸誘導体が使用されている。
米国特許第５，８４０，９４８号の方法の欠点は、反応の結果生じる臭素又は臭化水素酸が、臭素含有生成物の存在及び量に関して、廃棄物問題を起こすことである。
【０００５】
ドイツ特許第１９６３７１２８号は、インダン又はテトラリン誘導体と置換されたアクリロイルハロゲン化物とのフリーデル−クラフツ触媒を用いる反応を記載している。
ドイツ特許第１９６３７１２８号に記載された製造方法の欠点は、アクリロイル含有出発物質が、二量体化及び重合しやすいこと及び毒性があることである。
【０００６】
Ｒ．Ｗ．レイヤー及びＩ．Ｒ．マックレガーは“ジャーナル　オブ　オーガニック　ケミストリー”、第２１巻、１９５６年、１１２０〜１１２３ページにおいて、１―インダノン類をα−ブロモアラルキルケトン類から製造する方法を記載している。α−ブロモアラルキルケトン類は容易に入手できるので使用されることが言及されている。実施例において、臭素はα―ブロモアラルキルケトン類を製造するために使用されている。
上に記載されたように、臭素の使用及び臭素含有生成物の形成は廃棄物問題を起こす。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の製造方法はこれらの欠点を回避し、廃棄物問題に解決策を与え、高収率及び高選択性での１−インダノン類の製造を可能にする。
【０００８】
【発明の実施の態様】
本発明により、式Ｉの１−インダノン類及びその異性体を製造する方法において、
2004513103.tif 000002
ここでＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は独立してＨ又はＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基を表すか、又はＲ１とＲ２又はＲ２とＲ３又はＲ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は、それらが結合する炭素原子と一緒に飽和又は不飽和の５又は６員環を形成し、前記炭化水素基及び／又は前記環は随意的に１つ又はより多くのヘテロ原子を含んでもよく、前記環は随意的にＣ１〜Ｃ４炭化水素基で置換されていてもよい、
前記方法は式ＩＩの化合物と塩素化剤との反応、
2004513103.tif 000003
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は上で定義されたものと同じ意味を有する、及び続いてフリーデル−クラフツ触媒による反応を含むところの方法が提供される。
【０００９】
フリーデル−クラフツ触媒による閉環反応の位置選択性は、式ＩＩの化合物におけるＲ−基置換基の有無及びそのタイプに依存することは注目されなければならない。下に記載される実施例３に見られることができるように、１より多い異性体がこの閉環反応中に形成されるうる。従って、本発明の方法は式Ｉの１−インダノン類及びその異性体に関する。
【００１０】
適切なＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基はＣ１〜Ｃ２０のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０のアルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０のアルキニル基、Ｃ６〜Ｃ２０のアリール基、Ｃ６〜Ｃ２０のアリールオキシ基、Ｃ７〜Ｃ２０のアリールアルキル基、およびＣ７〜Ｃ２０のアルキルアリール基を含み、それらの基は随意的に１つ又はより多いヘテロ原子例えばＯ、Ｓｉ，及びハロゲン原子を含んでいてもよい。前記基は直鎖又は分岐であってよい。
【００１１】
好適にはＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は独立してＨ又はＣ１〜Ｃ２０のアルキル基を表すか、又はＲ１とＲ２又はＲ２とＲ３又はＲ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は、それらが結合する炭素原子と一緒に飽和又は不飽和の５又は６員環を形成し、前記環は随意的にＣ１〜Ｃ４炭化水素基で置換されてもよい。よりに好適には、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は独立してＨ又はＣ１〜Ｃ４のアルキル基を表すか、又はＲ１とＲ２又はＲ２とＲ３又はＲ３とＲ４及び／又はＲ５とＲ６は、それらが結合する炭素原子と一緒に飽和又は不飽和の５又は６員環を形成する。さらにより好適にはＲ１、Ｒ４、及びＲ５はＨを表し、Ｒ２及びＲ３はそれらが結合する炭素原子と一緒に飽和５又は６員環を形成し、Ｒ６はＨ又はＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す。最も好適には、Ｒ６はＣ１〜Ｃ４アルキル基を表す。
特に好適なＣ１〜Ｃ４アルキル基はメチル基である。
式ＩＩの適切な出発物質は、市販入手可能であるか又は当業者に公知である方法、例えば、フリーデル−クラフツのアシル化により製造されることができる。
【００１２】
本発明の文脈の中で、用語「塩素化剤」により意味されることは当業者には周知である。炭化水素の塩素化は一般的な有機反応であり、適切な塩素化剤は、塩素、Ｎ−クロロコハク酸イミド、及び塩化スルフリルを含む。他の適切な塩素化剤に対しては、Ｊ．マーチ、“アドバンスト　オーガニック　ケミストリー”、第４版、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ、ニューヨーク、１９９２年、５８７〜５９０ページを参照されたい。好適な塩素化剤は塩素及び塩化スルフリルである。本発明の方法において最も好適に塩化スルフリルが使用される。塩素化反応の結果生じる塩素含有塩は典型的には排水を通して廃棄される。驚いたことに、塩素化剤、特に塩化スルフリルの使用は非常に高い収率、ほとんど定量的な収率で塩素化生成物を与える（実施例を参照）。
【００１３】
典型的には、従来の量における酸又は塩基の触媒が塩素化反応において使用される。実用的な酸触媒は硫酸、メタンスルホン酸、又はｐ−トルエンスルホン酸である。好適な塩素化触媒は濃硫酸である。
【００１４】
塩素化は溶媒の不在又は存在において実施されることができる。適切な溶媒は、炭化水素溶媒、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、及びトルエン、及びハロゲン化アルカン類例えばジクロロメタンを含む。溶媒の混合物もまた使用されてもよい。好適には反応は溶媒例えばヘプタンの最小量を使用して実行される。
【００１５】
本発明の長所は、本発明の方法が比較的高濃度において実行されうることであり、それは結果として、従来技術の方法に比較して、より高い反応器の充填及びより経済的な方法をもたらす。
【００１６】
塩素化は広い温度範囲で実行されることができる。典型的には、それは０℃から１００℃までにおいて、好適には室温から１００℃までにおいて行われる。パイロットプラントスケール（典型的には１，０００リットルの反応器で実行される）で塩素を実行するための好適な温度範囲は、５０〜７０℃である。
【００１７】
典型的には、ケトン（ＩＩ）の塩素化剤に対するモル比は１：１〜１：２である。好適には１：１〜１：１．５、より好適には１：１．１〜１：１．２である。最も好適には、塩素化剤の約１０％のモル過剰が使用される。好適には、塩素化剤の過剰量は、その後の反応の前に、従来方法、例えば気化又は水による分解によって反応生成物から除去される。
【００１８】
塩素化反応の典型的な反応時間は１５分間〜４時間のオーダーである。
【００１９】
本発明の方法においては、塩素化反応の後にフリーデル−クラフツ触媒を用いる閉環反応が続く。
【００２０】
適切なフリーデル−クラフツ触媒は先行技術において公知であり、例えば　Ｊ．マーチ、“アドバンスト　オーガニック　ケミストリー”第４版、５３５〜５４２ページにおいて記載されている。典型的にはこれらの触媒はルイス酸触媒である。適切な触媒の例は、塩化アルミニウム及び塩化鉄（ＩＩＩ）を含む。好適な触媒は塩化アルミニウムである。
【００２１】
典型的には、閉環反応は慣用の溶媒の存在において実行される。適切な溶媒は、トルエンを除いて、塩素化反応のための上に記載された溶媒であり、同じ溶媒又は溶媒の混合物が閉環反応のために使用されてもよい。好適にはハロゲン化アルカン例えばジクロロメタンを含む溶媒が閉環反応のために使用される。炭化水素溶媒例えばヘプタンとハロゲン化溶媒例えばジクロロメタンの混合物は閉環反応を実行するために特に適切である。好適には閉環反応は、塩素化反応のために使用された炭化水素溶媒例えばヘプタンとハロゲン化溶媒例えばジクロロメタンの混合物中において実行される。
【００２２】
閉環反応は広い温度範囲で実行されることができる。典型的には、０℃から１００℃までにおいて、特には、室温から１００℃までにおいて行われる。閉環反応を実験室スケールならびにパイロットプラントスケールにおいて実行するための実際的温度は、室温である。
【００２３】
典型的には、本発明の製造方法において使用されるフリーデル−クラフツ触媒とケトン（ＩＩ）とのモル比は１：１〜３：１である。好適には１：１〜１．５：１、より好適には１．２：１〜から１．３：１である。
【００２４】
閉環反応の典型的な反応時間は１５分間〜２時間であるが、より長い反応時間がいくつかの実験において観察された。
【００２５】
本発明の方法はこの技術分野における当業者に周知の手段及び装置を用いて実行されることができる。
【００２６】
本発明の方法は、２−置換１−インダノン類の製造に対して特に適切である。実施例は下に記載される。
【００２７】
当業者に公知であるように、式Ｉの１−インダノン類は、不活性溶媒中において、還元剤及び酸脱水剤を用いる２つの反応ステップにおいて、対応するインデン類に還元されうる。
従って、本発明は式ＩＩＩのインデン類及びその異性体の製造のための方法にもまた関する。
2004513103.tif 000004
ここでＲ１〜Ｒ６は上に記載された意味を有し、本製造法は式ＩＩの化合物が上に記載された方法に従って式Ｉの化合物に転化され、引き続き自体公知の反応に従って、不活性溶媒中において、初めに還元剤、次に酸脱水剤による反応が続くことを特徴とする。
【００２８】
適切な還元剤は水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＬ−Ｈ）及び水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウムを含む。これら及び他の適切な還元剤に対しては、Ｊ．マーチ、“アドバンスト　オーガニック　ケミストリー”第４版、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ、ニューヨーク、１９９２年、９１０〜９１８ページを参照されたい。特に好適な還元剤はＤＩＢＡＬ−Ｈである。
適切な酸は、硫酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、及び燐酸を含む。これら及び他の適切な酸に対しては、Ｊ．マーチ、“アドバンスト　オーガニック　ケミストリー”第４版、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ、ニューヨーク、１９９２年、１０１１〜１０１２ページを参照されたい。特に適切な酸はｐ−トルエンスルホン酸である。
適切な溶媒はアルカン類、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、及びキシレン、ハロゲン化アルカン類例えばジクロロメタン及びクロロフォルム、及びエーテル類例えばテトラヒドロフランを含む。
【００２９】
本発明は以下の実施例により説明される。
【実施例】
実施例１．　２−メチル−インデンの合成
２−クロロ−２−メチルプロピオフェノンの製造：
2004513103.tif 000005
イソブチロフェノン（３０．０ｇ、０．２０モル）がヘプタン（１０ｍＬ）に溶解され、塩化スルフリル（３５ｇ、０．２６モル）が一度に添加された。数分後、気体の発生が起きた。室温において３時間の攪拌後、反応混合物は濃縮された。濃縮物はヘプタン（２５０ｍＬ）に溶解され、１５０ｍＬの水性の２重量％炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄された。硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶媒は減圧下で除去された。２−クロロ−２−メチルプロピオフェノンの収率は３６．４ｇ即ち９８％であった。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：１．８６（ｓ，６Ｈ），７．４２（ｔ、２Ｈ），７．５３（ｔ，１Ｈ），８．１３（ｄ，２Ｈ）．
【００３０】
２−メチル−１−インダノンの製造：
2004513103.tif 000006
塩化アルミニウム（４５ｇ、０．３４モル）が２００ｍＬの無水ジクロロメタンに懸濁された。３０ｍＬのヘプタン中の２−クロロ−２−メチルプロピオフェノン（３０．０ｇ、０．１６モル）がゆっくりこの懸濁液に添加された。添加中（３０分）温度は室温に保たれた。添加が完了した後、反応混合物は一晩室温において攪拌された。
反応混合物は４００ｇの氷水上に注がれ、有機層は分離された。有機層は、続いて、水性の５重量％の塩酸溶液（１００ｍＬ）で２度、水性の２重量％の炭酸水素ナトリウム溶液（１５０ｍＬ）で１度洗浄された。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶液は減圧下で濃縮された。未精製の２−メチル−１−インダノンの収率は２２．６ｇ即ち９４％であった。未精製物の蒸留は２−メチル−１−インダノンを淡黄色の液体として与えた。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．３１（ｄ，３Ｈ），２．７３（ｍ，２Ｈ），３．４０（ｄｄ，１Ｈ），７．３６（ｔ，１Ｈ），７．４５（ｄ，１Ｈ），７．５８（ｔ，１Ｈ），７．７５（ｄ，１Ｈ）．
【００３１】
２−メチルインデンの製造：
2004513103.tif 000007
水素化ジイソブチルアルミニウム（６ｇ、４２ミリモル）が、５０ｍＬの無水トルエンに溶解された２−メチル−１−インダノン（５．０ｇ、３４ミリモル）に滴加される間、反応温度は室温に保たれた。反応混合物は添加後０．５時間攪拌された。反応混合物は、７０℃において硫酸（水性２５重量％、５０ｍＬ）に滴加されることにより、加水分解された。添加後、水性層は廃棄され、有機層は硫酸（水性５重量％、５０ｍＬ）で２度、水（５０ｍＬ）で１度洗浄された。
【００３２】
ｐ−トルエンスルホン酸（５０ｍｇ）が有機層に添加され、反応混合物は還流下、水を分離しながら１時間加熱された。室温にまで冷却したのち、有機層は炭酸水素ナトリウム（水性２重量％、５０ｍＬ）で洗浄され、硫酸マグネシウム上で乾燥され、注意深く減圧下で濃縮された。２−メチルインデンの収率は４．２ｇ即ち９４％であった。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：２．１３（ｓ，３Ｈ），３．２７（ｓ，２Ｈ），６．４７（ｓ，１Ｈ），７．０８（ｄ，１Ｈ），７．０９〜７．１７（ｍ，２Ｈ），７．３３（ｄ，１Ｈ）．
【００３３】
実施例２．２，４，６−トリメチルインデンの合成
２，２´，４´‐トリメチルプロピオフェノンの製造：
2004513103.tif 000008
塩化アルミニウム（２８．０ｇ、０．２１モル）が２００ｍＬの無水ジクロロメタンに懸濁され、０℃まで冷却された。５０ｍＬの無水ジクロロメタン中のｍ−キシレン（２１．２ｇ，０．２モル）及び塩化イソブチリル（２１．３ｇ、０．２０モル）の溶液がゆっくりこの懸濁液に添加された。添加が完了した後、反応混合物は０℃において１時間攪拌された。
反応混合物は３００ｇの氷水上に注がれ、有機層は分離された。有機層は、続いて、５重量％の水性塩酸溶液（１５０ｍＬ）で２度、２重量％の水性炭酸水素ナトリウム溶液（１５０ｍＬ）で１度洗浄された。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶液は減圧下で濃縮された。２，２´，４´‐トリメチルプロピオフェノンの収率は３５．０ｇ即ち９９％であった。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．１７（ｄ，６Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ），２．４１（ｓ，３Ｈ），３．３７（ｍ，１Ｈ），７．０３（ｄ，１Ｈ），７．０４（ｓ，１Ｈ），７．４８（ｄ，１Ｈ）．
【００３４】
２−クロロ−２，２´，４´−トリメチルプロピオフェノンの製造：
2004513103.tif 000009
２，２´，４´−トリメチルプロピオフェノン（３０．０ｇ、０．１７モル）がヘプタン（１０ｍＬ）に溶解され、塩化スルフリル（３５ｇ、０．２６モル）が一度に添加された。約５分後気体の発生が起きた。室温において３時間の攪拌後、反応混合物は濃縮された。濃縮物はヘプタン（２００ｍＬ）に溶解され、１５０ｍＬの２重量％水性炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄された。硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶媒は減圧下で濃縮された。２−クロロ−２，２´，４´−トリメチルプロピオフェノンの収率は３５．５ｇ即ち９９％であった。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．８１（ｓ，６Ｈ），２．２７（ｓ，３Ｈ），２．３４（ｓ，３Ｈ）７．００（ｄ，１Ｈ），７．０６（ｓ，１Ｈ），７．４９（ｄ，１Ｈ）．
２，５，７−トリメチル−１−インダノンの製造：
2004513103.tif 000010
塩化アルミニウム（３８ｇ，０．２９モル）が２００ｍＬの無水ジクロロメタンに懸濁された。３０ｍＬのヘプタン中の２−クロロ−２，２´、４´−トリメチルプロピオフェノン（３０．０ｇ、０．１４モル）がゆっくりこの懸濁液に添加された。添加中（３０分）温度は室温に保たれた。添加が完了した後、反応混合物は１時間室温において攪拌された。反応混合物は４００ｇの氷水上に注がれ、有機層は分離された。有機層は続いて５重量％の水性塩酸溶液（１５０ｍＬ）で２度、２重量％の水性炭酸水素ナトリウム溶液（１５０ｍＬ）で１度洗浄された。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶液は減圧下で濃縮された。未精製の２，５，７−トリメチル−１−インダノンの収率は２２．９ｇすなわち９２％であった。サンプルがペンタンから結晶化され、結晶物を与えた。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．２７（ｄ，３Ｈ），２．３６（ｓ，３Ｈ），２．５８（ｓ，３Ｈ），３．２５（ｄｄ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．０４（ｓ，１Ｈ）．
【００３５】
２，４，６−トリメチルインデンの製造：
2004513103.tif 000011
水素化ジイソブチルアルミニウム（４．５ｇ，３２ｍｍｏｌ）が無水トルエン５０ｍＬ中の２，５，７−トリメチル−１−インダノン（５．０ｇ，２９ｍｍｏｌ）の溶液に滴加される間、反応温度は室温に保たれた。反応混合物は滴加後０．５時間攪拌された。反応生成物は、反応混合物が７０℃において硫酸（水性２５重量％、５０ｍＬ）にゆっくり滴加されることにより、加水分解された。添加後、水性層は廃棄され、有機層は硫酸（水性５重量％、５０ｍＬ）で２度、水（５０ｍＬ）で１度洗浄された。
【００３６】
ｐ−トルエンスルホン酸（５０ｍｇ）が有機層に添加され、反応混合物は還流下、水を分離しながら１時間加熱された。室温まで冷却した後、有機層は炭酸水素ナトリウム（水性２重量％、５０ｍＬ）で洗浄された後、硫酸マグネシウム上で乾燥され、減圧下で濃縮された。２，４，６−トリメチルインデンの収率は４．４ｇ即ち９７％であった。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：２．１２（ｓ，３Ｈ），２．３１（ｓ，３Ｈ），２．３３（ｓ，３Ｈ），３．２３（ｓ，３Ｈ），６．５２（ｓ，１Ｈ），６．８３（ｓ，１Ｈ），７．０１（ｓ，１Ｈ）．
【００３７】
実施例３．テトラヒドロ−２−メチルベンズインデン類の合成
２−メチル−１−（５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフタレニル）−１−プロパノンの製造：
2004513103.tif 000012
塩化アルミニウム（２８．０ｇ、０．２１モル）が２００ｍＬの無水ジクロロメタン（２００ｍＬ）中に懸濁され、０℃まで冷却された。５０ｍＬの無水ジクロロメタン中の１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン（２６．５ｇ，０．２モル）及び塩化イソブチリル（２１．３ｇ，０．２０モル）の溶液がゆっくりこの懸濁液に添加された。添加が完了した後、反応混合物は０℃において１時間攪拌された。反応混合物は３００ｇの氷水上に注がれ、有機層は分離された。有機層は続いて５重量％の水性塩酸溶液（１５０ｍＬ）で２度、２重量％の水性炭酸水素ナトリウム溶液（１５０ｍＬ）で１度洗浄された。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶液は減圧下で濃縮された。２−メチル−１−（５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフタレニル）−１−プロパノンの収率は３９．７ｇすなわち９８％であった。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．１７（ｄ，６Ｈ），１．８０（ｍ、４Ｈ），２．８０（ｍ，４Ｈ），３．５３（ｍ，１Ｈ），７．１２（ｄ，１Ｈ），７．６６（ｍ，２Ｈ）．
【００３８】
２−クロロ−２−メチル−１−（５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフタレニル）−１−プロパノンの製造
2004513103.tif 000013
２−メチル−１−（５，６，７，８−テトラヒドロー２−ナフタレニル）−１−プロパノン（３０．０ｇ，０．１５モル）がヘプタン（１０ｍＬ）に溶解され、塩化スルフリル（３５ｇ、０．２６モル）が一度に添加された。約５分後気体の発生が起きた。室温において３時間の攪拌後、反応混合物は濃縮された。濃縮物はヘプタン（２００ｍＬ）に溶解され、１５０ｍＬの２重量％の水性炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄された。硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶媒は減圧下で除去された。２−クロロー２−メチルー１−（５，６，７，８−テトラヒドロー２−ナフタレニル）−１−プロパノンの収率は３４．５ｇ即ち９８％であった。１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．８０（ｍ，４Ｈ），１．８７（ｓ，６Ｈ），２．８１（ｍ，４Ｈ），７．０６（ｄ，１Ｈ），７．８４（ｓ，１Ｈ），７．９０（ｄ，１Ｈ）．
【００３９】
２，３，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｅ］インデン−１−オン、２，３，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｆ］インデン−１−オン、及び１，２，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−２−メチル−３Ｈ−ベンズ［ｅ］インデン−１−オンの製造：
2004513103.tif 000014
塩化アルミニウム（３５ｇ、０．２６モル）が２００ｍＬの無水ジクロロメタン（２００ｍＬ）中に懸濁された。３０ｍＬのヘプタン中の２−クロロ−２−メチル−１−（５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフタレニル）−１−プロパノン（３０．０ｇ、０．１３モル）がゆっくりこの懸濁液に添加された。添加中（３０分）温度は室温に保たれた。添加が完了した後、反応混合物は１時間室温において攪拌された。反応混合物は４００ｇの氷水上に注がれ、有機層は分離された。有機層は続いて５重量％の水性塩酸溶液（１５０ｍＬ）で２度、２重量％の水性炭酸水素ナトリウム溶液（１５０ｍＬ）で１度洗浄された。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶液は減圧下で濃縮された。未精製のベンズインデン−１−オン類の混合物の収率は２４．５ｇすなわち９７％であった。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトルから、異性体のモル比が決定された：
２，３，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｅ］インデン−１−オン：７０％
２，３，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｆ］インデン−１−オン：２４％
１，２，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−２−メチル−３Ｈ−ベンズ［ｅ］インデン−１−オン：６％
【００４０】
試料はペンタンから結晶化され、ＧＣ純度９９．１面積％を有する結晶の２，３，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｅ］インデン−１−オンを与えた。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．２９（ｄ，３Ｈ），１．８５（ｍ，４Ｈ），２．５０（ｄｄ，１Ｈ），２．６８（ｍ，３Ｈ），２．８０（ｍ，２Ｈ），３．２０（ｄｄ，１Ｈ），７．０８（ｄ，１Ｈ），７．４８（ｄ，１Ｈ）．
結晶化の濾液は濃縮され１ＨＮＭＲにより解析された。濃縮物は主として２つの主要な異性体すなわち、線形の２，３，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｆ］インデン−１−オン及び２，３，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｅ］インデン−１−オンの混合物から構成されていた。線形異性体の１ＨＮＭＲは異性体の混合物のスペクトルから決定された。
２，３，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｆ］インデン−１−オンの１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．２８（ｄ，３Ｈ），１．８５（ｍ，４Ｈ），２．６８（ｍ，４Ｈ），２．８０（ｍ，２Ｈ），３．３１（ｄｄ，１Ｈ），７．１３（ｓ，１Ｈ），７．４６（ｓ，１Ｈ）．
【００４１】
６，７，８，９−テトラヒドロ−２−メチル−３Ｈ−ベンズ［ｅ］インデンの製造：
2004513103.tif 000015
水素化ジイソブチルアルミニウム（４．０ｇ，２８ミリモル）が無水トルエン５０ｍＬ中の２，３，５，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｅ］インデン−１−オン（５．０ｇ，２５ミリモル）の溶液に滴加される間、反応温度は室温に保たれた。反応混合物は滴加後０．５時間攪拌された。反応生成物は、硫酸（水性２５重量％、５０ｍＬ）が７０℃においてゆっくり滴加されることにより、加水分解された。添加後、水性層は廃棄され、有機層は硫酸（水性５重量％、５０ｍＬ）で２度、水（５０ｍＬ）で１度洗浄された。
【００４２】
ｐ−トルエンスルホン酸（５０ｍｇ）が有機層に添加され、反応混合物は還流下、水を分離しながら１時間加熱された。室温まで冷却した後、有機層は炭酸水素ナトリウム（水性２重量％、５０ｍＬ）で洗浄され、硫酸マグネシウム上で乾燥され、減圧下で濃縮された。結晶６，７，８，９−テトラヒドロ−２−メチル−３Ｈ−ベンズ［ｅ］インデンの収率は４．４ｇ即ち９６％であった。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．７９（ｍ，４Ｈ），２．１１（ｓ，３Ｈ），２．６６（ｔ，２Ｈ），２．７７（ｔ，２Ｈ），３．０５（ｓ，２Ｈ），６．４０（ｓ，１Ｈ）６．９２（ｄ，１Ｈ），７．００（ｄ，１Ｈ）．
【００４３】
５，６，７，８−テトラヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｆ］インデン及び６，７，８，９−テトラヒドロ−２−メチル−３Ｈ−ベンズ［ｅ］インデンの混合物の製造：
2004513103.tif 000016
水素化ジイソブチルアルミニウム（３．９ｇ，２７ミリモル）が無水トルエン５０ｍＬ中の２，３，５，６，７，８−ヘキサヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｆ］インデン−１−オン及び２，３，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｅ］インデン−１−オン（５．０ｇ，２５ミリモル）の混合物の溶液に滴加される間、反応温度は室温に保たれた。反応混合物は滴加後０．５時間攪拌された。反応生成物は、反応混合物が７０℃において硫酸（水性２５重量％、５０ｍＬ）にゆっくり滴加されることにより、加水分解された。添加後、水性層は廃棄され、有機層は硫酸（水性５重量％、５０ｍＬ）で２度、水（５０ｍＬ）で１度洗浄された。
【００４４】
ｐ−トルエンスルホン酸（５０ｍｇ）が有機層に添加され、反応混合物は還流下、水を分離しながら１時間加熱された。室温まで冷却した後、有機層は炭酸水素ナトリウム（水性２重量％、５０ｍＬ）で洗浄され、硫酸マグネシウム上で乾燥され、減圧下で濃縮された。５，６，７，８，−テトラヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｆ］インデン及び６，７，８，９−テトラヒドロ−２−メチル−３Ｈ−ベンズ［ｅ］インデンの収率は４．３ｇ即ち９３％であった。
線形異性体の１Ｈ−ＮＭＲは異性体の混合物のスペクトルから決定された。
５，６，７，８−テトラヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｆ］インデンの１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．７９（ｍ，４Ｈ），２．１０（ｓ，３Ｈ），２．７５（ｍ，４Ｈ），３．２１（ｓ，２Ｈ），６．３８（ｓ，１Ｈ），６．９３（ｓ，１Ｈ），７．０５（ｓ，１Ｈ）．
【００４５】
実施例４．　２−メチル−３Ｈ−ベンズ［ｅ］インデンの合成
２−メチル−１−（１−ナフタレニル）−１−プロパノンの製造：
2004513103.tif 000017
塩化アルミニウム（２８．０ｇ、０．２１モル）が２００ｍＬの無水ジクロロメタン（２００ｍＬ）中に懸濁され、−３０℃まで冷却された。５０ｍＬの無水ジクロロメタン中のナフタレン（２５．６ｇ、０．２モル）及び塩化イソブチリル（２１．３ｇ、０．２０モル）の溶液がゆっくりこの懸濁液に添加された。添加が完了した後、反応混合物は−３０℃において１時間攪拌された。反応混合物は次に室温にまで温まるのを放置された。反応混合物は３００ｇの氷水上に注がれ、有機層は分離された。有機層は続いて５重量％の水性塩酸溶液（１５０ｍＬ）で２度、２重量％の水性炭酸水素ナトリウム溶液（１５０ｍＬ）で１度洗浄された。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶液は減圧下で濃縮された。２−メチル−１−（１−ナフタレニル）−１−プロパノンの収率は３９．７ｇすなわち９８％であった。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．２５（ｄ，６Ｈ），３．５１（ｍ，１Ｈ），７．４６〜７．６０（ｍ，３Ｈ），７．７３（ｄ，１Ｈ），７．８７（ｄ，１Ｈ），７．９５（ｄ，１Ｈ），８．３３（ｄ，１Ｈ）．
【００４６】
２−クロロ−２−メチル−１−（１−ナフタレニル）−１−プロパノンの製造：
2004513103.tif 000018
２−メチル−１−（１−ナフタレニル）−１−プロパノン（３０．０ｇ、０．１５モル）がヘプタン（１０ｍＬ）に溶解され、塩化スルフリル（３０ｇ、０．２２モル）が一度に添加された。約５分後、気体の発生が起きた。室温において３時間の攪拌後、反応混合物は濃縮された。濃縮物はヘプタン（２００ｍＬ）に溶解され、１５０ｍＬの水性の２重量％炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄された。硫酸マグネシウム上での乾燥した後、溶媒は減圧下で除去された。２−クロロ−２−メチル−１−（１−ナフタレニル）−１−プロパノンの収率は３４．５ｇ即ち９８％であった。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：１．８９（ｓ，６Ｈ），７．４２〜７．５８（ｍ，３Ｈ），７．７４（ｍ，１Ｈ），７．７９（ｄ，１Ｈ），７．８８（ｍ，１Ｈ），７．９２（ｄ，１Ｈ）．
【００４７】
２，３−ジヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｅ］インデン−１−オンの製造：
2004513103.tif 000019
塩化アルミニウム（３５ｇ、０．２６モル）が２００ｍＬの無水ジクロロメタン（２００ｍＬ）中に懸濁された。３０ｍＬのヘプタン中の２−クロロ−２−メチル−１−（１−ナフタレニル）−１−プロパノン（３０．０ｇ、０．１３モル）がゆっくりこの懸濁液に添加された。添加中（３０分）温度は室温に保たれた。添加が完了した後、反応混合物は１時間室温において攪拌された。反応混合物は４００ｇの氷水上に注がれ、有機層は分離された。有機層は続いて５重量％の水性塩酸溶液（１５０ｍＬ）で２度、２重量％の水性炭酸水素ナトリウム溶液（１５０ｍＬ）で１度洗浄された。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶液は減圧下で濃縮された。未精製の２，３−ジヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｅ］インデン−１−オンの収率は２３．４ｇ、即ち９３％であった。未精製の生成物の減圧蒸留（ｂ．ｐ．１３０℃、０．５ｍｂａｒ）は、１８．７ｇ（７５％）の２，３−ジヒドロ−２−メチル−１Ｈ−ベンズ［ｅ］インデン−１−オンを与え、それは、室温において放置すると結晶化した。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１．３７（ｄ，３Ｈ），２．８０（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｄｄ，１Ｈ），７．４６（ｄ，１Ｈ），７．５４（ｔ，１Ｈ），７．６５（ｔ，１Ｈ），７．８６（ｄ，１Ｈ），８．０１（ｄ，１Ｈ），９．１６（ｄ，１Ｈ）．
【００４８】
２−メチル−３Ｈ−べンズ［ｅ］インデンの製造
2004513103.tif 000020
水素化ジイソブチルアルミニウム（４．０ｇ、２８ミリモル）が、５０ｍＬの無水トルエン中の２，３−ジヒドロ−２−メチル−１Ｈ−べンズ［ｅ］インデン−１−オン（５．０ｇ、２６ミリモル）の溶液に滴加される間、反応温度は室温に保たれた。反応混合物は添加後０．５時間攪拌された。反応生成物は、反応混合物が７０℃において硫酸（水性２５重量％、５０ｍＬ）に滴加されることにより、加水分解された。添加後、水性層は廃棄され、有機層は硫酸（水性５重量％、５０ｍＬ）で２度、水（５０ｍＬ）で１度洗浄された。
【００４９】
ｐ−トルエンスルホン酸（５０ｍｇ）が有機層に添加され、反応混合物は還流下、水を分離しながら１時間加熱された。室温にまで冷却したのち、有機層は炭酸水素ナトリウム（水性２重量％、５０ｍＬ）で洗浄され、硫酸マグネシウム上で乾燥され、減圧下で濃縮された。２−メチル−３Ｈ−べンズ［ｅ］インデンの収率は４．１ｇ即ち８９％であった。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：２．２５（ｓ，３Ｈ），３．４２（ｓ，２Ｈ），７．０６（ｓ，１Ｈ），７．４０（ｔ，１Ｈ），７．４５（ｔ，１Ｈ），７．５２（ｄ，１Ｈ），７．５９（ｄ，１Ｈ），７．８４（ｄ，１Ｈ），８．０２（ｄ，１Ｈ）．
【国際公開パンフレット】
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2004513103.tif 000025
2004513103.tif 000026
2004513103.tif 000027
2004513103.tif 000028
2004513103.tif 000029
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【国際調査報告】
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2004513103.tif 000049
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