(57)【要約】【課題】【解決手段】本発明は、冷却しながらの材料の絞りと、これに続く０、３―１０００Ｈｚの周波数と０、０５乃至１の変調深度とを有する振幅変調される剪断応力の作用とを有する、高分子材料を処理するための方法と装置に関する。前記剪断応力の最大値は、１から５０Ｎ／ｍｍ２までである。絞りは、０、７乃至１００ＭＰａの圧力で果たされ、振幅変調される剪断応力の作用は、圧力下で及び冷却されながら働かせられる。装置は、ケーシング（１）、押圧スクリュー（５）、回転子（８）、及び押圧スクリュー（５）と回転子（８）との間に、並びに／もしくはケーシング（１）の内面に配置された剪断応力モジュレーター（７、１５）を有する。剪断応力モジュレーター（７）は、押圧スクリュー（５）と回転子（８）との間に配置され、回転可能なように設けられている。
2004513803.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
材料の絞りとこれに続く圧力下での剪断応力の作用とを有する、高分子材料を処理するための方法において、前記材料の絞りは、０、７乃至１００ＭＰａの圧力下で果たされ、また、前記作用は０、３乃至１０００Ｈｚの周波数と０、０５乃至１の変調の深度とを有する振幅変調される剪断応力によって果たされ、剪断応力の最大値は１から５０Ｎ／ｍｍ２であり、前記絞りとこの後に続く振幅変調される剪断応力による作用とは、冷却しながら材料に働かせられることを特徴とする方法。
【請求項２】
供給開口部（２）と排出開口部（３）とを備えた円筒形のケーシング（１）を具備し、このケーシング内の圧縮区域（４）内に螺旋形の溝部が表面に設けられた押圧スクリュー（５）が配置され、粉砕区域（６）内に回転本体の形状に設計されてケーシング（１）の内面に対して同軸的に設けられた回転子（８）が、前記内面との間で環状クリアランス（１０）を形成し、回転可能で、押圧スクリュー（５）の一直線上に並ぶように設けられており、また、
前記回転子並びに／もしくは粉砕区域（６）内のケーシングを冷却するための手段を具備している、高分子材料を処理するための装置において、
前記押圧スクリュー（５）と回転子（８）との間もしくはケーシング（１）の内面に位置された剪断応力モジュレーター（７、１５）を付加的に具備し、粉砕区域（６）内で、押圧スクリュー（５）と回転子（８）との間に設けられた剪断応力モジュレーター（７）は、楕円形シリンダーの形状にされこれの軸がこれの母線に平行にかつ重心を通り、回転子（８）の回転軸と一致するように位置されるか、もしくは、正多面プリズムの形状でありこれの軸がこれのエッジに対して平行で重心を通り、回転子（８）の回転軸と一致するように位置されるか、もしくは、回転本体の形状に、少し高くなった本体として設計され、これの側面に長手方向の並びに／もしくは傾斜された複数の凹部が形成され、この本体は、これの回転軸が回転子（８）の回転軸と一致するように位置され、剪断応力モジュレーター（７）は回転可能なように、ケーシング（１）の内面との間にリング形スロット部（９）を形成するように設けられており、また、ケーシング（１）の内面に位置された剪断応力モジュレーター（１５）は、リング形突出部の形状に少し高くなった本体として設計され、この突出部の表面に長手方向の並びに／もしくは傾斜された複数の凹部が形成され、回転子（８）の表面との間にリング形スロット部（９）を形成するように設けられ、これらリング形スロット部（９）の狭い断面の幅が環状クリアランス（１０）の幅の１０−９０％に等しく、また、
押圧スクリューを冷却するための手段（１２）並びに／もしくは圧縮区域（４）内のケーシングを冷却するための手段を付加的に具備していることを特徴とする装置。
【請求項３】
前記押圧スクリュー（５）の直径に対する剪断応力モジュレーター（７、１５）の高さの割合は、（０、０１−０、５）：１に等しいことを特徴とする、請求項２の装置。
【請求項４】
前記剪断応力モジュレーター（７）の回転本体は、ディスクもしくは円錐楕円体の形状を有することを特徴とする、請求項２の装置。
【請求項５】
前記長手方向の並びに／もしくは傾斜された複数の凹部は、楕円形のシリンダーもしくは正多面プリズムの側面に形成されていることを特徴とする、請求項２の装置。
【請求項６】
前記断面が楕円形のシリンダーの短軸の長さは、回転子（８）の直径の長さに等しく、前記断面の長軸の長さは、回転子（８）の直径と環状クリアランス（１０）の幅との合計に等しいことを特徴とする、請求項２の装置。
【請求項７】
前記剪断応力モジュレーター（７）には付加的に冷却手段（１３）が設けられていることを特徴とする、請求項２の装置。
【請求項８】
混錬用のピン並びに／もしくは板が、回転子（８）の側面に設けられていることを特徴とする、請求項２の装置。
【請求項９】
前記排出開口部（３）への材料の移動を容易にする螺旋形の溝部が、回転子（８）の側面に設けられていることを特徴とする、請求項２の装置。
【請求項１０】
前記押圧スクリュー（５）と回転子（８）との間に配置された剪断応力モジュレーター（７）は、回転子（８）並びに／もしくは押圧スクリュー（５）と共にもしくは夫々独立して回転可能なように設けられていることを特徴とする、請求項２の装置。
【請求項１１】
前記リング形突出部は、矩形もしくは台形形状に設計されていることを特徴とする、請求項２の装置。
【請求項１２】
前記圧縮区域（４）内のケーシングを冷却するための手段と粉砕区域（６）内のケーシングを冷却するための手段とは、圧縮区域及び粉砕区域内のケーシングを冷却するための手段（１１）として共働可能なように設計されていることを特徴とする、請求項２の装置。
【請求項１３】
供給開口部（２）と排出開口部（３）とを備えた円筒形ケーシング（１）を具備し、このケーシング内の圧縮区域（４）内には、螺旋形の溝部が表面に設けられた押圧スクリュー（５）が配置され、粉砕区域（６）内には、回転本体の形状に設計されてケーシングの内面と同軸的に設けられた回転子（８）が、内面との間で環状クリアランス（１０）を形成するように、及び回転可能かつ押圧スクリュー（５）と一直線上に設けられ、また、
回転子（８）並びに／もしくは粉砕区域（６）内のケーシングを冷却するための手段（１４）を具備している、高分子材料を処理するための装置において、
前記粉砕区域（６）内に設けられた２部材剪断応力モジュレーターを付加的に具備し、これの第１部材（１６）は押圧スクリュー（５）と回転子（８）との間に配置され、第２部材（１７）はケーシング（１）の内面に位置され、この第１部材（１６）は、楕円形シリンダーの形状でありこれの軸がこれの母線に対して平行で重心を通り、回転子（８）の回転軸と一致するように位置されるか、もしくは、正多面プリズムの形状でありこれの軸がこれのエッジに対して平行で重心を通り、回転子（８）の回転軸と一致するように位置されるか、もしくは、回転本体の形状に、少し高くなった本体として設計され、これの側面に長手方向の並びに／もしくは傾斜された複数の凹部が形成され、この本体はこれの回転軸が回転子（８）の回転軸と一致するように位置され、モジュレーターの第１部材（１６）は、回転可能に、かつ第２部材（１７）の表面との間にリング形スロット部（９）を形成するように設けられ、第２部材（１７）は、リング形突出部の形状の少し高くなった本体として設計され、この突出部の表面に長手方向並びに／もしくは傾斜された複数の凹部が形成されて、剪断応力モジュレーターの表面との間にリング形スロット部（９）を形成するように設けられ、このリング形スロット部（９）の狭い断面の幅は、環状クリアランス（１０）の幅の１０−９０％に等しく、また、
前記押圧スクリューを冷却するための手段（１２）並びに（もしくは）圧縮区域（４）内のケーシングを冷却するための手段を付加的に具備していることを特徴とする装置。
【請求項１４】
前記剪断応力モジュレーターの第２部材（１７）は、全体が第１部材の表面の上方か、一部分が第１部材（１６）の表面の上方で一部分が回転子（８）の表面の上方に配置されていることを特徴とする、請求項１３の装置。
【請求項１５】
前記押圧スクリュー（５）の直径に対する剪断応力モジュレーターの部材（１６、１７）の半分の高さの合計の割合は、（０、０１−０、５）：１であることを特徴とする、請求項１３の装置。
【請求項１６】
前記剪断応力モジュレーターの第１部材（１６）の回転本体は、ディスクもしくは円錐楕円体の形状を有することを特徴とする、請求項１３の装置。
【請求項１７】
前記長手方向の並びに／もしくは傾斜された複数の凹部は、楕円形シリンダーもしくは正多面プリズムの側面に形成されていることを特徴とする、請求項１３の装置。
【請求項１８】
前記断面が楕円形のシリンダーの短軸の長さは、回転子（８）の直径の長さに等しく、前記断面の長軸の長さは、回転子（８）の直径と環状クリアランス（１０）の幅との合計に等しいことを特徴とする、請求項１３の装置。
【請求項１９】
前記剪断応力モジュレーターの第１部材（１６）並びに／もしくは第２部材（１７）には、冷却手段が付加的に設けられていることを特徴とする、請求項１３の装置。
【請求項２０】
前記剪断応力モジュレーターの第１部材（１６）は、回転子（８）並びに／もしくは押圧スクリュー（５）と共にもしくは夫々独立して回転可能なように設けられていることを特徴とする、請求項１３の装置。
【請求項２１】
混錬用のピン並びに／もしくは板が、回転子（８）の側面に設けられていることを特徴とする、請求項１３の装置。
【請求項２２】
前記排出開口部１３への材料の移動を容易にする螺旋形溝部が、回転子（８）の側面に形成されていることを特徴とする、請求項１３の装置。
【請求項２３】
前記リング形突出部は、矩形もしくは台形の形状に設計されていることを特徴とする、請求項１３の装置。
【請求項２４】
前記圧縮区域（４）内のケーシングを冷却するための手段と、粉砕区域（６）内のケーシングを冷却するための手段とは、これらが圧縮区域及び粉砕区域内のケーシングを冷却するための手段（１１）として共働するように設計されていることを特徴とする、請求項１３の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高分子材料の処理の分野、特に、高分子材料から粉末を作るための方法並びに装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
本発明は、例えば、高強度の繊維及び金属製ワイヤで補強された高分子材料の粉砕に適用され得、続いて利用される。
【０００３】
工業用ゴム製品を処理するための先行技術の方法が公知であり、これに係って、金属で補強された工業用ゴム製品は、これら製品の材料を分解してゴムから金属補強材を選別する機械的な力の作用を受ける。この機械的な作用は、０、０１−１０％のオゾンを含む気体状の媒体中で果たされ、ゴムを変形させる応力が適用される際に、工業用度無製品の変形値が１％に劣らないレベルに維持される（ロシア連邦特許 Ｎ ２０６０８８２、Ｉｎｔ．Ｃｌ．Ｂ ２９ Ｂ １７／０２、１９９２年９月１７日（１７．０９．９２））。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、処理がオゾンを含む媒体中で進むことから、このように作られたゴム片が酸化された表面を占有し、これにより、処理物がかなり限定された有用性を有する。特に、これらの片から作られたゴム製品は即座に劣化する。こうしたゴム製品は、保管されているとき及び作動状況下にあるとき、これらの主要なパラメータが最初の酸化されていないゴムから作られたものより３−１０倍早く損なわれる。
【０００５】
作業チャンバを有し、このチャンバ内に工業用ゴム製品の破壊のための粉砕手段がガス状媒体の送り手段と共に設けられ、オゾン含有ガスの源が送り手段として用いられる、金属コードによって補強された工業用ゴム製品を処理するための装置（ロシア連邦特許 Ｎ ２０６０８８２、Ｉｎｔ．Ｃｌ．Ｂ２９Ｂ　１７／０２、１９９２年９月１７日（１７．０９．９２））が公知である。
【０００６】
しかしながら、公知の装置は、相当に低いアウトプットを有し、また、運転中の複雑さによって特徴付けられる。これは、装置が運転されているとき、相当に高い酸化パワーを所有しているオゾン含有ガスが周囲に漏れるのに対してスタッフを保護するための特化された手段を必要とする。
【０００７】
先行技術の中で本発明に係る方法に最も近いのは、材料の絞りと、これに続く剪断応力及び圧力の同時作用とによって高分子材料を粉砕する方法である。この際、材料の中でも特に、加硫ゴム、ゴムスクラップ、ゴム繊維材料もしくは合成ゴムが粉砕を受ける。絞りは、０、２−０、７ＭＰａの圧力下で果たされ、これに続いて、圧力０、２−５０、０ＭＰａで０、０３−５、０Ｎ／ｍｍ２に等しい剪断応力が圧縮された材料に作用し、絞り、剪断応力及び圧力の作用が、２００−１００℃までの加熱と、単一のスクリューもしくは２つのスクリュー押出し成形機内での１００−３０℃までの冷却とを連続して繰り返して、果たされる（ソ連の発明者許可証 Ｎ １４３４６６３、Ｉｎｔ Ｃｌ．Ｂ ２９ Ｂ １３／１０、１７／１０、Ｂ ０２Ｃ １９／２２、１９９０年９月１５日（１５．０９．９０））。
【０００８】
しかしながら、公知の方法によるゴムのスクラップ及び合成コードを有する工業用ゴム製品の処理は、不当に高いエネルギー消費量を必要とする。これは、押出し成形機内での材料の処理中に最大剪断応力が、スクリューの係合（接触）点近くに位置されたマイクロ領域内で果たされることによる。更に、このように粉砕可能な材料の組み合わせは限られる。なぜなら、この方法では、金属コードもしくはスチールワイヤを有するタイヤ片をスクリューの係合点近くのマイクロ領域中に進入させることによりスクリューの損傷及び破損が生じるため、金属コードを有するタイヤの処理が不可能であることによる。この結果、押出し成形機を用いて、金属コードで補強されたスクラップタイヤを処理する全ての試みが、コードからのゴムの選別及び微紛化において不成功に終わっている。更に、連続して繰り返される材料の加熱と冷却が、同じ回数だけ処理の生産力を低下させ、エネルギー消費量を増加させる（我々のデータにかかわれば、ゴムスクラップとゴム繊維製品を粉砕するための特定のエネルギー消費量は、この方法を用いると、１ｋｇにつき０、５−０、７ｋＷ程度である。例えば、ソ連の発明者許可証 Ｎ １４３４６６３ の例７に従って２倍の（ｔｗｏｆｏｌｄ）加熱及び冷却を受ける場合は、繊維コードを有するイソプレンゴムを粉砕するための特定のエネルギー消費量は１ｋｇにつき０、６ｋＷに等しい。特に、航空機スクラップタイヤの処理は、１ｋｇにつき１−１、５ｋＷ．ｈの大きな特定のエネルギー消費量によっても、ゴムの破壊及びこれのコードからの完全な選別とを提供できない。この場合、ゴムの５０％まではコードに接着されたままで、これに続く選別によって分離不可能である。）更に、公知の方法による幾つかの高強度の高分子材料の処理では、これら材料の粉砕がより大きな剪断応力値を必要とすることから、これら材料から細かい粉末を作ることは不可能である。
【０００９】
本発明の技術的な主題に関連して、本発明に係る装置に最も近い先行技術は、以下のような装置である。この装置は、供給開口部及び排出開口部を備えた円筒形ケーシングを具備し、このケーシング内の圧縮区域内に押圧スクリューが配置され、粉砕区域内に粉砕用回転子が配置されている。押圧スクリューの表面には螺旋形の溝部が設けられ、これら溝部の深度は排出開口部に向かって徐々に減じられている。粉砕回転子は、ケーシングの内面との間で環状クリアランスを形成し、回転可能で、押圧スクリューと一直線上に並ぶように同軸的に設けられている。押圧スクリューの表面の、粉砕回転子に隣接した端部には、並びに／もしくは、粉砕回転子の表面の、押圧スクリューに隣接した端部には、リング形穴部が開けられている。この装置には、粉砕回転子並びに／もしくは粉砕区域内のケーシングを冷却するための冷却手段が設けられている（ロシア連邦特許Ｎ ２０５７０１３、Ｉｎｔ．Ｃｌ．Ｂ ２９ Ｂ １７／００、１９９６年３月２７日（２７．０３．９６））。
【００１０】
公知の装置は、幅広い高分子材料、金属コードを有する工業用ゴム製品の処理を確実にさせ、特に、この装置を用いたこれらの処理は、相当に高い特定のエネルギー消費量（金属コードで補強されたゴム１ｋｇにつき１ｋＷを超える）を伴う。このように高いエネルギー消費量によっても、この処理では、２−５ｍｍの大きさの大きな粒子から成る片を多く含有し、小さな特定の表面領域を有する粗いゴム粉末のみを生じる。このような粉末は、再使用が制限される。更に、公知の装置によると、金属コードからのゴムの選別の程度は、不十分に生じ、約９０−９２％である。幾つかのケースではこれは８０％にのみ等しい。これは、１ｋｇにつき０、５−１、０ｋＷ未満のエネルギー消費量によっても、公知の装置が材料のバルク内で適度に高い剪断応力を実現することができないことによる。同じ理由で、例えば低密度ポリエチレン、穀物、そばの種の殻の含有量が低い積層された紙のような高分子化合物と、金属ワイヤもしくは合成コードで補強され後者の含有量が高い合成物と同様の他の物とが、公知の装置を用いて処理され得る。
【００１１】
更に、公知の装置において粉砕区域内にのみ配置された冷却手段は、運転中に材料の最大温度を変化させることで粉砕区域内を１０−２０°にすることから、処理された材料の適度に有効な冷却を可能にし、これにより粉砕処理を不安定にさせ得る。この結果、結果としてできた材料の主要部分は、多数の小さい粒子が結合されてあるいは互いに融合されてできた長い凝集物の形状を有するか、隔離された粗い不完全な粉砕粒子を表わす。これによって装置のアウトプットが減少し、付加的に全体のエネルギー消費量が増加する。
【００１２】
本発明の技術的な成果は、エネルギー消費量を減じて、圧力及び剪断応力両方の作用下で粉砕され得る物の範囲を広げる、高分子材料を処理するための高い有効性を有する方法の発展と、この方法を実行するための装置の発展とである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
技術的な成果は、材料の絞りとこれに続く圧力下での剪断応力の作用とを有する、高分子材料を処理するための方法を用いて果たされる。本発明に係れば、前記材料の絞りは０、７乃至１００ＭＰａの圧力下で果たされ、前記作用は０、３乃至１０００Ｈｚの周波数と０、０５乃至１の変調の深度（ｄｅｐｔｈ）とを有する振幅変調される剪断応力によって果たされ、剪断応力の最大値は１から５０Ｎ／ｍｍ２であり、前記絞りとこの後に続く振幅変調される剪断応力による作用とは、冷却しながら材料に働かせられる。
【００１４】
技術的な成果は、以下の装置によって果たされる。この装置とは、供給開口部と排出開口部とを備えた円筒形のケーシングを具備し、このケーシング内の圧縮区域内に螺旋形の溝部が表面に設けられた押圧スクリューが配置され、粉砕区域内に回転本体の形状に設計されてケーシングの内面に対して同軸的に設けられた回転子が、前記内面との間で環状クリアランスを形成し、回転可能で、押圧スクリューの一直線上に並ぶように設けられている。この装置にはまた、回転子並びに／もしくは粉砕区域内のケーシングを冷却するための手段が設けられている。本発明に係れば、装置には、押圧スクリューと回転子との間もしくはケーシングの内面に位置された剪断応力モジュレーターが付加的に設けられている。
【００１５】
この装置では、剪断応力モジュレーターが構造的な部材を表わす。これを用いると、処理される材料に働かされる剪断応力値の変化が、規則正しい時間間隔で成される、この剪断応力の変化は、特定のパラメータ、即ち、変調周波数、剪断応力の最大値、及び変調の深度によって果たされる。
【００１６】
押圧スクリューと回転子との間に設けられた剪断応力モジュレーターは、楕円形シリンダーの形状にされこれの軸がこれの母線に平行にかつ重心を通り、回転子の回転軸と一致するように位置されるか、もしくは、正多面プリズム（ｒｉｇｈｔ ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ ｐｒｉｓｍ）の形状でありこれの軸がこれのエッジに対して平行で重心を通り、回転子の回転軸と一致するように位置されるか、もしくは、回転本体の形状に、少し高くなった本体として設計され、これの側面に長手方向の並びに／もしくは傾斜された複数の凹部が形成され、この本体は、これの回転軸が回転子の回転軸と一致するように位置されている。剪断応力モジュレーターは回転可能なように、ケーシングの内面との間にリング形スロット部を形成するように設けられている。
【００１７】
ケーシングの内面に位置された剪断応力モジュレーターは、リング形突出部の形状に少し高くなった本体として設計され、この突出部の表面に長手方向の並びに／もしくは傾斜された複数の凹部が形成され、回転子の表面との間にリング形スロット部を形成するように設けられている。
【００１８】
上記の説明のいずれか１つの剪断応力モジュレーターによって、リング形スロット部の狭い断面の幅が環状クリアランスの幅の１０−９０％に等しい。
【００１９】
更に、圧縮区域内のケーシング並びに／もしくは押圧スクリューには付加的に冷却手段が設けられている。
【００２０】
リング形スロット部の幅という用語は、リング形スロット部の領域に関連して使用されており、これは、最小限の幅を有する。
【００２１】
剪断応力モジュレーターの少し高くなった本体としての設計において、高くなった（ｈｅｉｇｈｔ）という用語は回転子軸に沿った本体の全長に関連して使用されている。
【００２２】
少し高くなった本体という用語は、押圧スクリューの直径がこの本体の高さを２倍未満だけ超えるような高さを有する本体に関連して使用されている。
【００２３】
特に、本装置の設計では、押圧スクリューの直径に対する剪断応力モジュレーターの高さの割合は、（０、０１−０、５）：１に等しい。
【００２４】
剪断応力モジュレーターが押圧スクリューと回転子との間に配置され、回転本体の形状を有する本装置の実施形態に係れば、この本体は、ディスクもしくは円錐楕円体の形状を有する。剪断応力モジュレーターが楕円形シリンダーもしくは正多面プリズムの形状を有する本装置の実施形態に係れば、長手方向の並びに／もしくは傾斜された複数の凹部が、前記プリズムの側面に形成されている。
【００２５】
回転本体としての剪断応力モジュレーターの設計では、長手方向の凹部という用語は、本体の回転軸に沿って方向付けられた軸を有する凹部に関連して使用されている。楕円形シリンダーとしての剪断応力モジュレーターの設計では、長手方向の凹部という用語は、シリンダーの母線に平行でかつ重心を通る軸に沿って方向付けられた軸を有する凹部に関連して使用されている。正多面プリズムとしての剪断応力モジュレーターの設計では、長手方向の凹部という用語は、プリズムのエッジに平行でかつ重心を通る軸に沿って方向付けられた軸を有する凹部に関連して使用されている。
【００２６】
傾斜された凹部という用語は、上述されたような軸に対して角度を付けて方向付けられた軸を有する凹部に関連して使用されている。傾斜された凹部は、０、１−８９°に等しい、及びリング形スロット部の幅の５倍未満である斜面を有して形成され得る。
【００２７】
上述された傾斜された凹部と共に、楕円形シリンダー、及び回転本体もしくは正多面プリズムの側面には、付加的な傾斜された凹部が形成され、これらの凹部の斜面は、上述された傾斜された凹部の斜面とは異なり、両タイプの凹部が繰り返し交差する。
【００２８】
剪断応力モジュレーターが押圧スクリューと回転子との間に配置されて多面プリズムの形状を有する、本装置の実施形態に係れば、前記プリズムの外エッジが丸いオフエッジ（ｒｏｕｎｄｅｄ ｏｆｆ ｅｄｇｅ）として設計されることができ、例えば、丸みの半径は、０、３−５ｍｍに等しくされ得る。楕円形シリンダーの形状の剪断応力モジュレーターを有する本装置の実施形態では、シリンダーの断面の短軸の長さが回転子の直径の長さに等しくされ得る。また、断面の長軸の長さが回転子の直径と環状クリアランスの幅との合計に等しくされ得る。
【００２９】
特に、剪断応力モジュレーターには、付加的に冷却手段が設けられ得る。
【００３０】
ケーシングの内面のリング形突出部の形状である剪断応力モジュレーターの設計では、この突出部の表面に、長手方向並びに／もしくは傾斜された凹部が形成されている。長手方向の凹部という用語は、ケーシングの軸に沿って方向付けられた軸を有する凹部に関連して使用されている。傾斜された凹部という用語は、ケーシングの軸に対して角度を付けて方向付けられた凹部に関連して使用されている。傾斜された凹部は、０、１−８９°に等しく、リング形スロット部の幅の５倍未満の深度を有する斜面を有して形成され得る。
【００３１】
特に、混錬用のピン並びに／もしくは板が、回転子の側面に設けられ得るか、または、螺旋形の溝部が、回転子の側面に排出開口部への材料の移動を容易にするように設けられ得る。
【００３２】
剪断応力モジュレーターが押圧スクリューと回転子との間に配置され得る本装置の実施形態に係れば、モジュレーターは回転子並びに／もしくは押圧スクリューと共にもしくは夫々独立して回転可能なように設けられ得る。
【００３３】
特に、リング形突出部は、矩形、三角形、台形形状に設計され得る。
【００３４】
特に、この装置では、圧縮区域内のケーシングを冷却するための手段と粉砕区域内のケーシングを冷却するための手段とが、圧縮区域及び粉砕区域内のケーシングを冷却するための手段として共働可能なように設計され得る。
【００３５】
技術的な成果は、供給開口部と排出開口部とを備えた円筒形ケーシングを具備し、このケーシング内の圧縮区域内には、螺旋形の溝部が表面に設けられた押圧スクリューが配置され、粉砕区域内には、回転本体の形状に設計されてケーシングの内面と同軸的に設けられた回転子が、内面との間で環状クリアランスを形成するように、及び回転可能かつ押圧スクリューと一直線上に設けられている、高分子材料を処理するための装置を用いることによって果たされる。この装置には、回転子並びに／もしくは粉砕区域内のケーシングを冷却するための手段が設けられている。本発明に係れば、この装置には、粉砕区域内に２部材剪断応力モジュレーターが付加的に設けられている。これの第１部材は、押圧スクリューと回転子との間に配置され、第２部材はケーシングの内面に位置されている。第１部材は、楕円形シリンダーの形状でありこれの軸がこれの母線に対して平行で重心を通り、回転子の回転軸と一致するように位置されるか、もしくは、正多面プリズムの形状でありこれの軸がこれのエッジに対して平行で重心を通り、回転子の回転軸と一致するように位置されるか、もしくは、回転本体の形状に、少し高くなった本体として設計され、これの側面に長手方向の並びに／もしくは傾斜された凹部が形成され、この本体はこれの回転軸が回転子の回転軸と一致するように位置されている。モジュレーターの第１部材は、回転可能に、かつ第２部材の表面との間にリング形スロット部を形成するように設けられている。第２部材は、リング形突出部の形状の少し高くなった本体として設計され、この突出部の表面に長手方向並びに／もしくは傾斜された凹部が形成されており剪断応力モジュレーターの表面との間にリング形スロット部を形成するように設けられ、このリング形スロット部の狭い断面の幅は、環状クリアランスの幅の１０−９０％に等しい。圧縮区域並びに／もしくは押圧スクリュー内の装置のケーシングには、冷却手段が付加的に設けられている。
【００３６】
剪断応力モジュレーターの部材の少し高くなった本体としての設計では、高くなった（ｈｅｉｇｈｔ）という用語は、回転子の軸に沿った（もしくは、装置の軸に沿って）本体の全長に関連して使用されている。
【００３７】
少し高くなった（ｓｍａｌｌ ｈｅｉｇｈｔ）本体という用語は、押圧スクリューがこの本体の高さを２倍未満で超えるような高さを有する本体に関連して使用されている。
【００３８】
特に、この装置には剪断応力モジュレーターの第２部材が、全体が第１部材の表面の上方か、一部分が第１部材の表面の上方で一部分が回転子の表面の上方に配置されている。モジュレーターの第１部材の表面の上方の剪断応力モジュレーターの第２部材の位置という用語は、剪断応力モジュレーターの第２部材の重心が回転軸に平行でかつ第１部材の重心を通る平面上に位置する位置に関連して使用されている。一部分が第１部材の表面の上方で一部分が回転子の表面の上方にある剪断応力モジュレーターの第２部材の位置という用語は、第１部材及び第２部材の本体の半分の高さの合計の距離だけ排出開口部に向かう平面からずらされている位置に関連して使用されている。上述されたずれは、例えば、合計の（０、１−１）に等しい。
【００３９】
リング形スロット部の狭い断面の幅という用語は、剪断応力モジュレーターの第１部材の表面とモジュレーターの第２部材の内面との間の最小限の距離に関連して使用されている。
【００４０】
特に、この装置では、押圧スクリューの直径に対する剪断応力モジュレーターの部材の半分の高さの合計の割合は、（０、０１−０、５）：１である。
【００４１】
剪断応力モジュレーターの第１部材が回転本体の形状を有する場合、この本体は、ディスクもしくは円錐楕円形に設計され得る。
【００４２】
剪断応力モジュレーターの第１部材が楕円形シリンダーもしくは正多面プリズムの形状を有する場合、長手方向の並びに／もしくは傾斜された複数の凹部が、楕円形シリンダーもしくは正多面プリズムの側面に形成されている。
【００４３】
回転本体の形状の剪断応力モジュレーターの第１部材の設計では、長手方向の凹部という用語は、本体の回転軸に沿って方向付けられた軸を有する凹部に関連して使用されている。楕円形シリンダーとしての剪断応力モジュレーターの第１部材の設計では、長手方向の凹部という用語は、シリンダーの母線に平行でかつ重心を通る軸に沿って方向付けられた軸を有する凹部に関連して使用されている。正多面プリズムとしての剪断応力モジュレーターの第１部材の設計では、長手方向の凹部という用語は、プリズムのエッジに平行でかつ重心を通る軸に沿って方向付けられた軸を有する凹部に関連して使用されている。
【００４４】
傾斜された凹部という用語は、上記の軸に対して角度を付けて方向付けられた軸を有する凹部に関連して使用されている。傾斜された凹部には、０、１−８９°に等しい、リング形スロット部の幅の５倍未満の深さを有する斜面が設けられ得る。
【００４５】
楕円形シリンダー、回転本体もしくは正多面プリズムの側面の上述された傾斜された凹部と共に、付加的な傾斜された凹部が形成され、これらの凹部の斜面は、上述された傾斜された凹部の斜面とは異なり、また、両タイプの凹部は繰り返し交差している。
【００４６】
剪断応力モジュレーターの第１部材が多面プリズムの形状を有するこの装置の実施形態に係れば、プリズムの外エッジは、特に丸いオフエッジとして設計されてよく、この、丸みの半径は０、３−５ｍｍに等しい。
【００４７】
特に、剪断応力モジュレーターの第１部材が楕円形シリンダーとして設計されているこの装置の実施形態に係れば、このシリンダーのだ面の短軸の長さは、回転子の直径の長さに等しく、断面の長軸の長さは、回転子の直径と環状クリアランスの幅との合計に等しい。
【００４８】
特に、剪断応力モジュレーターの第１部材並びに／もしくは第２部材には、冷却手段が付加的に設けられている。
【００４９】
特に、リング形突出部は、矩形もしくは台形の形状に設計されている。
【００５０】
特に、この装置では、圧縮区域内のケーシングを冷却するための手段と、粉砕区域内のケーシングを冷却するための手段とは、これらが圧縮区域及び粉砕区域内のケーシングを冷却するための手段として共働するように設計されている。
【００５１】
楕円形シリンダーの形状の剪断応力モジュレーター（もしくは装置の代わりの実施形態のモジュレーターの第１部材）の実施形態は、合成コードのみで補強されたタイヤスクラップを処理するために好ましい。金属及び合成両方のコードで補強されたスクラップの処理及び粉砕のために、長手方向の並びに／もしくは傾斜された複数の凹部が側面に形成された回転本体の形状の剪断応力モジュレーター（もしくはモジュレーターの第１部材）の実施形態は、価値がある。正多面プリズムの形状の剪断応力モジュレーター（もしくは装置の代わりの実施形態のモジュレーターの第１部材）の実施形態は、駆動ゴムベルトのスクラップを処理するためだけでなく、合成コードの含有量が相当に高い有する工業用ゴム製品のスクラップを処理するためにも好ましい。
【００５２】
正リング形スロット部の狭い断面が変化に富むことにより、このスロット部内に発生される剪断応力を、環状クリアランス内で発生される剪断応力と比較して数倍も上昇させることが可能であり、かくして、高分子材料の最も有効な分解及び補強部材からのこれの分離との可能性と、特定のエネルギー消費量の減少と、装置の生産力の上昇とが提供される。
【００５３】
制限（０、０１−０、２５）：１内で押圧スクリューの直径に対する剪断応力モジュレーター（もしくは装置の代わりの実施形態のモジュレーターの第１部材）の高さの割合が変化に富むことにより、合成及び金属コードの粒子だけでなく作られる高分子化合物の粒子の平均の大きさと形状とにも影響を与えることができる。
【００５４】
上述の実施形態のいずれか１に係る高分子材料を処理するための装置の実施形態が、冷却しながらの材料の絞りと、これに続く冷却しながら及び圧力下での振幅変調される剪断応力の作用とを実現可能にする。
【００５５】
かくして、高分子材料の処理は、本発明に係る方法を用いて実行される。圧力下で冷却しながら材料に振幅変調される剪断応力を作用させることで、予備的に絞られた材料の分解処理の開始が容易にされる。これは、剪断応力がこれの最大値を達成した時点で始まる。上記の要素の協働作用により、効果が高い分解処理が可能になり、小さな高分子化合物粒子を有する粉末と、特定の場合には、破壊された補強繊維の片とワイヤ片とが形成される。振幅変調される剪断応力の作用の元で合成コードによって二重にされた繊維をわずか０、０１−０、１ｍｍの厚さを有する片に迅速に分解すること、即ち、合成コードを毛羽に迅速に変えることが有意である。
【００５６】
請求された技術的な解決法とこれに最も近い技術との比較により、請求されている技術的な解決法が新規性の基準に合致しており、また、公知の技術には請求されている方法並びに装置の独特の特徴が見られないことが請求されている技術的な解決法が“発明の新規性”の基準に合致することを意味することを主張することが可能である。
【００５７】
請求されている方法並びに装置の仮の審査は、これらの幅広い工業的な応用の可能性を支持するであろう。
【００５８】
【発明の実施の形態】
図１に示された高分子材料の処理のための装置は、供給開口部２と排出開口部３とを備えたケーシング１を具備する。このケーシング１内の圧縮区域４内に、螺旋形の溝部が表面に与えられた押圧スクリュー５が配置されている。粉砕区域６内には、剪断応力モジュレーター７と回転子８とが配置されている。剪断応力モジュレーター７は、正多面プリズムの形状に設計され、ケーシングの内面との間にリング形スロット部９を形成している。回転子８は、ケーシングの内面との間で環状クリアランス１０を形成するように配置されている。押圧スクリュー５と回転子８とは一直線上に設けられており、正多面プリズムのエッジに平行でこれの重心を通る軸が回転子の回転軸と一致している。この装置には、ケーシングを冷却するための手段１１が圧縮区域内に設けられ、押圧スクリューを冷却するための手段１２が粉砕区域内に設けられ、かつ、回転子を冷却するための手段１４はもちろんのこと剪断応力モジュレーターを冷却するための手段１３も設けられている。
【００５９】
図２に示された高分子材料を処理するための装置は、供給開口部２と排出開口部３とを備えたケーシング１を具備する。このケーシング１内の圧縮区域４内に、螺旋形の溝部が表目に与えられた押圧スクリュー５が配置され、粉砕区域６内には、回転子８が、ケーシングの内面との間に環状クリアランスを形成し、押圧スクリュー５と一直線上に並ぶように設けられている。粉砕区域６内のケーシングの内面には、リング形突出部として設計された剪断応力モジュレーター１５が配置され、この突出部の表面に長手方向の溝部が形成されている。剪断応力モジュレーター１５と回転子８との間には、リング形スロット部９が形成されている。この装置には、圧縮及び粉砕区域内のケーシングを冷却するための手段１１と、押圧スクリューを冷却するための手段１２と、回転子を冷却するための手段１４とが設けられている。
【００６０】
図３に示された高分子材料を処理するための装置は、供給開口部２と排出開口部３とを備えたケーシング１を具備する。このケーシング１内の圧縮区域４内に、螺旋形の溝部が表面に与えられた押圧スクリュー５が配置され、粉砕区域６内には、楕円形シリンダー１６の形状に設計された剪断応力モジュレーターの第１部材と回転子８とが配置されている。また、粉砕区域６内の、モジュレーター１６の第１部材の表面の上方のケーシングの内面には、剪断応力モジュレーター１７の第２部材が配置されている。第２部材は、リング形突出部として設計され、これの表面には長手方向の複数の凹部が形成されている。剪断応力モジュレーターの第１部材１６と第２部材１７との間に、リング形スロット部９が形成されている。回転子８は、ケーシングの内面との間で環状クリアランス１０を形成するように配置されている。押圧スクリュー５と回転子８とは一直線上に配置され、楕円形シリンダーの軸は、このシリンダーの母線に対して平行で、重心を通り、回転子の回転軸と一致している。装置には、圧縮及び粉砕区域のケーシングを冷却するための手段１１と、押圧スクリューを冷却するための手段１２と、剪断応力モジュレーターの第１部材を冷却するための手段１３と、回転子を冷却するための手段１４とが設けられている。
【００６１】
図４に示された高分子材料を処理するための装置は、供給開口部２と排出開口部３とを備えたケーシング１を具備する。このケーシング１内の、圧縮区域４内には、表面に螺旋形の溝部を与えられた押圧スクリュー５が配置され、もう一方で、粉砕区域６内には、ディスクの形状に設計され、側面に長手方向の複数の凹部が形成された剪断応力モジュレーターの第１部材が配置されている。更に、粉砕区域６内のケーシングの内面に、剪断応力モジュレーター１７の第２部材が配置され、リング形突出部として設計され、この突出部の表面に長手方向の複数の凹部が形成されている。モジュレーター１７の第２部材は、一部分が第１部材の表面の上方で、一部分が回転子の表面の上方に配置されている。モジュレーター１６の第１部材とモジュレーター１７の第２部材とは、これらの間にリング形スロット部９を形成するように配置され、回転子８はケーシングの内面との間で環状クリアランス１０を形成するように配置されている。押圧スクリュー４と回転子８とは、一直線上に設けられ、第１の部材１６の回転軸は、回転子の回転軸と一致する。本装置には、圧縮区域及び粉砕区域のケーシングを冷却するための手段１１と、押圧スクリューを冷却するための手段１２と、剪断応力モジュレーターの第１部材を冷却するための手段１３と、及び回転子を冷却するための手段１４とが設けられている。
【００６２】
図１に示された高分子材料を処理するための本装置は、以下のように作動する。
粉砕される材料、平均約３０Ｘ３０Ｘ２０ｍｍの大きさを有する片の形状の合成及び金属コードで補強されたタイヤが、ケーシング１の供給開口部２中に間断なく供給される。圧縮区域４中に入れられる材料は、押圧スクリュー５の螺旋形の溝部によって捕えられ、冷却と同時に漸進的な圧縮（焼きしまり）を受け、剪断応力モジュレーター７の方へ移動される。本装置の冷却は、ケーシングを冷却するための手段１１、押圧スクリューを冷却するための手段１２、剪断応力モジュレーターを冷却するための手段１３、及びに回転子を冷却するための手段１４中に液体冷却剤のフローを供給することによって果たされる。剪断応力モジュレーター７の直前に、及び剪断応力モジュレーター７とケーシング１の内面との間のリング形スロット部９内で、処理された材料の絞り層が形成される。この層が圧力下で及び冷却されながら振幅変調される剪断応力を受けることによって、材料が粉砕区域６中に移動するのにつれて、リング形スロット部９内での漸進的なクラッキング及び分解が開始される。この処理は、タイヤ片内に含まれた様々の含有物の近くで進行するのが最も好ましく、これらのうち金属タイヤの小片と合成コードの繊維とに応力が集中される。この結果、合成及び金属コードからのゴムの迅速な分離が生じ、これと同時に、ゴムがより小さな片に分解される。従って、材料の分解処理が、ケーシング１と回転子８との間の環状クリアランス１０内で果たされ、細かいゴムの粉末と、合成コードの破壊された繊維から作られた金属ワイヤ及び合成毛羽のゴムが含まれない片とが形成される。環状クリアランス１０の内部に沿って排出開口部３に向けて徐々に前進することにより、ゴムの粉末と、ワイヤ片と、合意毛羽との混合物が冷却され、排出開口部３中に吐出される。これの温度は３０−４０℃である。この後、この混合物は、磁気及び振動空気選別によって主要な複数の成分（ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ）（ゴムの粉末、金属ワイヤ、合成コード小さな繊維もしくは毛羽）に容易に選別され得る。
【００６３】
図２に示された高分子材料を処理するための装置は、図１に示されたのと同様の方法で作動する。
図３に示された高分子材料を処理するための装置は、以下の方法で作動する。
【００６４】
粉砕される材料、平均的な大きさが約３０ｘ３０ｘ２０ｍｍの片の形状の、合成及び金属コードによって補強されたタイヤは、ケーシング１の供給開口部２に間断なく供給される。圧縮区域４中に入れられる材料は、押圧スクリュー５の螺旋形の溝部によって捕えられ、冷却されながら漸進的な圧縮を受け、剪断応力モジュレーター１６の第１部材と剪断応力モジュレーター１７の第２部材とによって形成されたリング形スロット部９の方に移動される。この装置の冷却は、剪断応力モジュレーターの第１部材を冷却するための手段１１、押圧スクリューを冷却するための手段１２、剪断応力モジュレーターの第１部材を冷却するための手段１３、及び回転子を冷却するための手段１４中に液状の冷却剤のフローを供給することによって成される。剪断応力モジュレーター１６の第１部材と剪断応力モジュレーター１７の第２部材の直前に、及びリング形スロット部９内で、処理された材料の絞り層が形成される。この層が圧力下で及び冷却されながら振幅変調される剪断応力を受けることによって、材料が粉砕区域６中に移動するのにつれて、リング形スロット部９内での漸進的なクラッキング及び分解が開始される。この処理は、タイヤ片内に含まれた様々の含有物の近くで進行するのが最も好ましく、これらのうち金属タイヤの小片と合成コードの繊維とに応力が集中される。この結果、合成及び金属コードからのゴムの迅速な分離が生じ、これと同時に、ゴムがより小さな片に分解される。従って、材料の分解処理が、ケーシング１と回転子８との間の環状クリアランス１０内で果たされ、細かいゴムの粉末と、合成コードの破壊された繊維から作られた金属ワイヤ及び合成毛羽のゴムが含まれない片とが形成される。環状クリアランス１０の内部に沿って排出開口部３に向けて徐々に前進することにより、ゴムの粉末と、ワイヤ片と、合意毛羽との混合物が冷却され、排出開口部３中に吐出される。これの温度は３０−４０℃である。この後、この混合物は、磁気及び振動空気選別によって主要な複数の成分（ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ）（ゴムの粉末、金属ワイヤ、合成コード小さな繊維もしくは毛羽）に容易に選別され得る。
【００６５】
図４に示された高分子材料を処理するための装置は、図３に示されたのと同様の方法で作動する。
補強された工業用ゴム製品から粉末を作るための方法と本発明に係ってこれを実施するための装置とが、以下の例によって説明され得る。
【００６６】
例１
約２０ｘ２０ｘ１０ｍｍの大きさの片に切断された繊維コードを有するスクラップゴムが、装置の供給開口部中に供給される（この装置の概略的な表現が以下の違いのみを有して図１に示されている。この違いとは、剪断応力モジュレーターが図５の（ｂ）に係って楕円形シリンダーの形状に設計されている点）。材料は最初に、冷却されながら０、７ＭＰａの圧力下で絞りを受け、この後、周波数３Ｈｚと変調の深度０、３とを有する振幅変調される剪断応力を受ける。冷却されながら０、７ＭＰａの圧力下にあるときの、剪断応力の最大値は１、０Ｎ／ｍｍ２である。冷却は、最初の温度が１５°の液状の冷却剤のフロー（水）を、ケーシングの壁内、押圧スクリューの内部、剪断応力モジュレーター、及び回転子に夫々配置された冷却用チャネル中に供給することによって果たされる。
【００６７】
結果としてできる混合物は、繊維コードの片即ち毛羽（２−２０ｍｍの長さの繊維）とゴムの粉末とからなる。この混合物は、振動空気選別処理によって選別される。網目の大きさが１ｍｍのふるいによるふるい分け後に得られるゴムの粉末は、約３５ｗｔ．％の残余を与える。コードに接着されたゴムの残余は、ゴムの最初の量の２、５ｗｔ．％に等しい。生産力は、１時間につき３１ｋｇであり、特定のエネルギー消費量は１ｋｇにつき０、４５ｋＷ．ｈに等しい。
【００６８】
例２−９
処理は例１と同様に行われる。
【００６９】
装置の概略的な表現と、剪断応力モジュレーターのタイプと、この処理のパラメータ（圧力、最大剪断応力値、変調の周波数及び深度）と、生産力と特定のエネルギー消費量等だけでなく作られる粉末の特徴とが、全ての例ごとに表にリストアップされている。
【００７０】
結果としてできる混合物は、繊維コードの片即ち毛羽及びゴムの粉末から成り、振動空気選別処理によって選別される。
【００７１】
例１０
粉砕は、ソ連の発明者許可証 Ｎ １４３４６６３ に説明された本方法に係って果たされる。処理のパラメータと作られた粉末の特徴とが、表に示されている。
【００７２】
例１１−１６
処理は例１と同様に行われる。違いは、粉砕される材料が航空機タイヤのスクラップである点のみである。
【００７３】
装置の概略的な表現と、剪断応力モジュレーターのタイプと、この処理のパラメータ（圧力、最大剪断応力値、変調の周波数及び深度）と、生産力と特定のエネルギー消費量等だけでなく作られる粉末の特徴とが、全ての例ごとに表にリストアップされている。
【００７４】
結果としてできる混合物は、コードの片即ち毛羽及びゴムの粉末から成り、振動空気選別処理によって選別される。
【００７５】
例１７
粉砕は、ソ連の発明者許可証 Ｎ １４３４６６３ に説明された本方法に係って果たされる。処理のパラメータと作られた粉末の特徴とが、表に示されている。
【００７６】
例１８−２３
処理は例１と同様に行われる。違いは、粉砕される材料が金属及び繊維コードを有するゴムである点のみである。
【００７７】
装置の概略的な表現と、剪断応力モジュレーターのタイプと、この処理のパラメータ（圧力、最大剪断応力値、変調の周波数及び深度）と、生産力と特定のエネルギー消費量等だけでなく作られる粉末の特徴とが、全ての例ごとに表にリストアップされている。
【００７８】
結果としてできる混合物は、コードの片即ち３−１５ｍｍの長さのワイヤ片と繊維コードの片即ち毛羽とゴムの粉末とから成り、振動空気選別処理によって選別される。
【００７９】
例２４、２５
粉砕は、ソ連の発明者許可証 Ｎ １４３４６６３ に説明された本方法と、ロシア連邦特許 Ｎ ２０５７０１３ の装置とに係って果たされる。処理のパラメータと作られた粉末の特徴とが、表に示されている。
【００８０】
例２６、２８、３０、３２、３４
処理は例１と同様に行われる。
【００８１】
装置の概略的な表現と、材料と、剪断応力モジュレーターのタイプと、この処理のパラメータ（圧力、最大剪断応力値、変調の周波数及び深度）と、生産力と特定のエネルギー消費量等だけでなく作られる粉末の特徴とが、全ての例ごとに表にリストアップされている。
【００８２】
例２７、２９、３１、３３、３５
粉砕は、ロシア連邦特許 Ｎ ２０５７０１３ に説明された装置に係って果たされる。処理のパラメータと作られた粉末の特徴とが、表に示されている。
【００８３】
かくして、本発明に係る本方法と装置とは（上述された全ての実施形態において）、生産力を向上させて高分子材料から粉末を作るためのエネルギー消費量を減少させ、また、混合されていない高分子化合物と高分子廃棄物との両方から、また高強度繊維と金属ワイヤで補強された高分子材料から高品質な粉末を作ることができるようにし、処理され得る物の範囲を広げ、補強繊維及び金属ワイヤから高分子化合物を選別する程度の限界を高くさせる。
【００８４】
示されて説明された本発明の実施形態は好ましい実施形態として捉えられるべきで、本発明の精神及び請求項の範囲から逸脱することなく様々の変形が成され得ることが理解されるだろう。
【００８５】
表
【表１】
2004513803.tif 000003
【表２】
2004513803.tif 000004
【表３】
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【表４】
2004513803.tif 000006
【図面の簡単な説明】
【図１】剪断応力モジュレーターが押圧スクリューと回転子との間に設けられ、正多面プリズムの形状に設計されている、本発明に係る装置のダイアグラム（断面図）が示されている。
【図２】剪断応力モジュレーターがケーシングの内面に設けられている、本発明に係る装置のダイアグラム（断面図）が示されている。
【図３】２部材剪断応力モジュレーターを有し、これの第１部材が押圧スクリューと回転子との間に配置され、第２部材が第１部材の表面の上方のケーシングの内面に位置されている、本発明に係る装置のダイアグラム（断面図）が示されている。
【図４】２部材剪断応力モジュレーターを有し、これの第１部材が押圧スクリューと回転子との間に配置され、第２部材が、ケーシング内で一部分が剪断応力モジュレーターの第１部材の表面の上方で、一部分が回転子の表面の上方に配置されている、本発明に係る装置のダイアグラム（断面図）が示されている。
【図５】剪断応力モジュレーターの様々の実施形態（回転子の回転軸に一致したモジュレーターの軸に直交した断面図）が示されており、（ａ）（ｂ）（ｃ）は、押圧スクリューと回転子との間に設けられた剪断応力モジュレーター（もしくはこれの第１部材）であり、夫々に、側面に長手方向の複数の凹部を有する回転本体の形状、楕円形シリンダーの形状、正多面プリズムの形状に設計されており、（ｄ）は、ケーシングの内面に設けられた剪断応力モジュレーター（もしくは剪断応力モジュレーターの第２部材）である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際公開パンフレット】
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2004513803.tif 000013
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【国際調査報告】
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