(57)【要約】一般式(I)を有する化合物。（式中、Rは水素原子、C1-C8アルキル基又はハロアルキル基、C2-C8アルコキシアルキル基又はハロアルコキシアルキル基、C2-C8アルケニル基又はハロアルケニル基、C2-C8アルキニル基又はハロアルキニル基、ハロゲン原子及び/又はC1-C4アルキル基又はハロアルキル基で置換されていてもよいC3-C8シクロアルキル基又はC4-C9シクロアルキルアルキル基、C2-C8アルコキシル基又はハロアルコキシル基、NRaRb基であり; RaとRbは同じか又は異なる、水素原子; C1-C8アルキル基; ハロゲン原子、CN基、NO2基、C1-C4アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシル基、ハロアルコキシル基で置換されていてもよいフェニル基又はベンジル基であり; 又はRaとRbが結合して酸素原子で中断されていてもよいC2-C8アルキレン鎖でもあり; Rnは水素原子、又はC1-C4アルキル基又はハロアルキル基であり; R1は水素原子、ハロゲン原子、C1-C4アルキル基又はハロアルキル基、C1-C4アルコキシル基又はハロアルコキシル基、C1-C4アルキルチオ基又はハロアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基であり; R2はC1-C4アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシル基、ハロアルコキシル基、アルキルチオ基又はハロアルキルチオ基、又はハロゲン原子であり; XとX1は同じか又は異なる、水素原子又はハロゲン原子であり; Aは酸素原子、-CR3R4O-基、-OCR3R4-基であり、ここで、R3とR4は同じか又は異なる、水素原子又はC1-C4アルキル基、ハロアルキル基である。）【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式(I)を有する化合物。
【化１】
2004534096.tif 000012
（式中、Rは水素原子、C1-C8アルキル基又はハロアルキル基、C2-C8アルコキシアルキル基又はハロアルコキシアルキル基、C2-C8アルケニル基又はハロアルケニル基、C2-C8アルキニル基又はハロアルキニル基、ハロゲン原子及び/又はC1-C4アルキル基又はハロアルキル基で置換されていてもよいC3-C8シクロアルキル基又はC4-C9シクロアルキルアルキル基、C1-C8アルコキシル基又はハロアルコキシル基、NRaRb基であり、
RaとRbは同じか又は異なる、水素原子; C1-C8アルキル基; ハロゲン原子、CN基、NO2基、C1-C4アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシル基、ハロアルコキシル基で置換されていてもよいフェニル基又はベンジル基であり; 又はRaとRbが結合して酸素原子で中断されていてもよいC2-C8アルキレン鎖でもあり、
Rnは水素原子、又はC1-C4アルキル基又はハロアルキル基であり、
R1は水素原子、ハロゲン原子、C1-C4アルキル基又はハロアルキル基、C1-C4アルコキシル基又はハロアルコキシル基、C1-C4アルキルチオ基又はハロアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基であり、
R2はC1-C4アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシル基、ハロアルコキシル基、アルキルチオ基又はハロアルキルチオ基、又はハロゲン原子であり、
XとX1は同じか又は異なる、水素原子又はハロゲン原子であり、
Aは酸素原子、-CR3R4O-基、-OCR3R4-基であり、ここで、R3とR4は同じか又は異なる、水素原子又はC1-C4アルキル基、ハロアルキル基である。）
【請求項２】
一般式(I)を有する化合物の調製方法であって、一般式(II)を有するアミン誘導体と一般式(III)を有する化合物とを下記反応スキーム１に従って反応させる、前記方法。
スキーム１
【化２】
2004534096.tif 000013
（式中、R、Rn、R1、R2、X、X1、Aは上記意味を有し、Zはハロゲン原子、アルコキシル基、ヒドロキシル基である。）
【請求項３】
Zがハロゲン原子であり、反応が不活性溶媒中有機塩基又は無機塩基の存在下に-20℃から反応混合物の沸点までの範囲にある温度で行われる、請求項２記載の方法。
【請求項４】
一般式(I)(式中、Aは-CR3R4O-基である。)を有する化合物の調製方法であって、一般式(IV)を有する誘導体と一般式(V)を有するフェノールとを下記反応スキーム２に従って縮合させて一般式(Ia)を有するエーテルを得るステップを含み、その反応が１種以上の不活性有機溶媒と塩基の存在下に-10℃から反応混合物の沸点までの範囲にある温度で行われる、前記方法。
スキーム２
【化３】
2004534096.tif 000014
（式中、R、Rn、R1、R2、R3、R4、X、X1は上で定義した意味を有し、Z1はハロゲン原子、又はRzSO3基であり、ここで、RzはC1-C4アルキル基又はC1-C4アルキル基で置換されていてもよいフェニル基である。）
【請求項５】
一般式(I)(式中、Aは-OCR3R4-基である。)を有する化合物の調製方法であって、一般式(VI)を有するフェノールと一般式(VII)を有する誘導体とを下記反応スキーム３に従って反応させて一般式(Ib)を有するエーテルを得るステップを含み、該反応が１種以上の不活性有機溶媒と塩基の存在下に-10℃から該反応混合物の沸点までの範囲の温度で行われる、前記方法。
スキーム３
【化４】
2004534096.tif 000015
（式中、R、Rn、R1、R2、R3、R4、X、X1は上で定義した意味を有し、Z2はハロゲン原子、又はRzSO3基であり、ここで、RzはC1-C4アルキル基又はC1-C4アルキル基で置換されていてもよいフェニル基である。）
【請求項６】
除草剤としての請求項１記載の化合物の使用。
【請求項７】
固体担体、液体希釈剤、界面活性剤又は他の特別な添加剤と、請求項１記載の化合物の少なくとも１種とを含む、除草剤組成物。
【請求項８】
該化合物の濃度が１〜90％の範囲にある、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
他の除草剤も含む、請求項８記載の組成物。
【請求項１０】
耕作面積内の雑草を防除する方法であって、請求項１記載の化合物又は請求項７記載の組成物を前記面積に施用することからなる方法。
【請求項１１】
活性化合物が１ヘクタール当たり１ｇ〜1000ｇの範囲にある用量で施用される、請求項10記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、新規な置換アニリン誘導体に関する。
更に詳細には、本発明は、除草活性の高い新規なオルト置換アニリン誘導体、その調製方法及び農業作物における雑草を防除する除草剤としての使用に関する。
ドイツ特許出願第2,855,699号には、除草活性を有するメタ置換アニリン誘導体が記載されている。しかしながら、これらの化合物は、高い施用量を必要とする点で除草剤として適当でないと思われる。
国際出願第98/03500号には、アミン基について“オルト”位に、種々に置換されたフェノキシ基、フェノキシメチル基又はフェニルメトキシ基で置換されたヘテロシクリル又はフェニルカルボキシアニリドが記載されている。上記特許出願の生成物は、実質的に殺真菌剤や殺虫剤として活性である。
そこで、本出願人は、これに対して、アミン基について“オルト”位に、特定の分類によって置換されたフェノキシメチル基、フェニルメトキシ基又はフェノキシ基で置換された一連の新規なアニリン誘導体が、驚くべきことに高除草活性を有し、農地対象の１種以上の栽培に対する低薬害を合わせもっていることを見出した。
従って、本発明の目的は、下記一般式(I)を有する新規な化合物に関する。
【０００２】
【化１】
2004534096.tif 000002
【０００３】
（式中、Rは水素原子、C1-C8アルキル基又はハロアルキル基、C2-C8アルコキシアルキル基又はハロアルコキシアルキル基、C2-C8アルケニル基又はハロアルケニル基、C2-C8アルキニル基又はハロアルキニル基、ハロゲン原子及び/又はC1-C4アルキル基又はハロアルキル基で置換されていてもよいC3-C8シクロアルキル基又はC4-C9シクロアルキルアルキル基、C1-C8アルコキシル基又はハロアルコキシル基、NRaRb基であり、
RaとRbは同じか又は異なる、水素原子; C1-C8アルキル基; ハロゲン原子、CN基、NO2基、C1-C4アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシル基、ハロアルコキシル基で置換されていてもよいフェニル基又はベンジル基であり; 又はRaとRbが結合して酸素原子で中断されていてもよいC2-C8アルキレン鎖でもあり、
Rnは水素原子、又はC1-C4アルキル基又はハロアルキル基であり、
R1は水素原子、ハロゲン原子、C1-C4アルキル基又はハロアルキル基、C1-C4アルコキシル基又はハロアルコキシル基、C1-C4アルキルチオ基又はハロアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基であり、
R2はC1-C4アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシル基、ハロアルコキシル基、アルキルチオ基又はハロアルキルチオ基、又はハロゲン原子であり、
XとX1は同じか又は異なる、水素原子又はハロゲン原子であり、
Aは酸素原子、-CR3R4O-基、-OCR3R4-基であり、ここで、R3とR4は同じか又は異なる、水素原子又はC1-C4アルキル基、ハロアルキル基である。）
活性が興味深い一般式(I)を有する化合物の個々の例を下記表１に明記する。
【０００４】
【表１】
2004534096.tif 000003
【０００５】
【表２】
2004534096.tif 000004
【０００６】
本発明の目的は、更に、一般式(I)を有する化合物の調製方法に関する。
一般式(I)を有する化合物は、一般式(II)を有するアミン誘導体と一般式(III)を有する化合物とを下記スキーム１に従って反応させることにより調製することができる。
スキーム１
【０００７】
【化２】
2004534096.tif 000005
【０００８】
前記式においては、R、Rn、R1、R2、X、X1、Aは上記意味を有し、Zはハロゲン原子、アルコキシル基、ヒドロキシル基である。
上記方法を行う反応条件は、式(III)を有する化合物の種類に関して変えることができる。
例えば、Zがハロゲン原子である場合、反応は不活性溶媒の存在下と有機塩基と無機塩基の存在下に-20℃から反応混合物の沸点までの範囲にある温度で行うことが好ましい。
上記反応に使用し得る溶媒の例としては、脂肪族炭化水素又は脂環式炭化水素(石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン等)、塩素化炭化水素(塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等)、芳香族炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等)、エーテル(ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等)、エステル(酢酸エチル等)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等)、ニトリル(アセトニトリル、ベンゾニトリル等)、非プロトン性双極性溶媒(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド、ジメチルスルホキシド、スルホン、N-メチルピロリドン等)が挙げられる。
上記反応に使用し得る無機塩基は、例えば、水酸化物、炭酸ナトリウムや重炭酸ナトリウム、炭酸カリウムや重炭酸カリウムである。
上記反応に使用し得る有機塩基は、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、4-N,N-ジメチルアミノピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N-メチルピペリジン、ルチジン、ジアザビシクロオクタン(DABCO)、ジアザビシクロノネン(DBN)、ジアザビシクロウンデセン(DBU)である。
また、Aが-CR3R4O-基である一般式(I)を有する化合物は、一般式(IV)を有する誘導体と一般式(V)を有するフェノールとを下記スキーム２に従って縮合させて一般式(Ia)を有するエーテルを得ることにより調製することができる。
スキーム２
【０００９】
【化３】
2004534096.tif 000006
【００１０】
この反応スキームにおいて明記された一般式においては、R、Rn、R1、R2、R3、R4、X、X1は上で定義した意味を有し、Z1はハロゲン原子、好ましくは塩素又は臭素、又はRzSO3基であり、ここで、RzはC1-C4アルキル基又はC1-C4アルキル基で置換されていてもよいフェニル基である。
エーテル化反応は、１種以上の不活性有機溶媒と塩基の存在下に-10℃から反応混合物の沸点までの範囲にある温度で行われることが好ましい。
上記反応に使用し得る有機溶媒は、例えば、芳香族炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等)、エーテル(ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン等)、アルコールやグリコール(メタノール、エタノール、メチセロソルブ、エチレングリコール等)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等)、ニトリル(アセトニトリル、ベンゾニトリル等)、非プロトン性双極性溶媒(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、N-メチルピロリドン等)である。
上記反応に用いられる無機塩基は、例えば、水素化ナトリウム又は水素化カリウム、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムである。
反応は、有利には、溶媒として水と水と混じらない有機溶媒を用いる二相系で、Dehmlow & Dehmlow, “Phase Transfer Catalysis”(1983), Verlag Chemieに記載されている相転移触媒の存在下に行うことができる。
同様に、一般式(I)(式中、Aは-OCR3R4-基である。)を有する化合物は、一般式(VI)を有するフェノールと一般式(VII)を有する誘導体とを下記反応スキーム３に従って反応させて一般式(Ib)を有するエーテルを得ることにより調製することができる。
スキーム３
【００１１】
【化４】
2004534096.tif 000007
【００１２】
この反応スキームに明記された一般式においては、R、Rn、R1、R2、R3、R4、X、X1は上で定義した意味を有し、Z2はハロゲン原子、好ましくは塩素又は臭素、又はRzSO3基であり、ここで、RzはC1-C4アルキル基又はC1-C4アルキル基で置換されていてもよいフェニル基である。
操作手順と、スキーム３で定義したエーテル化反応に使用し得る溶媒と塩基の種類は、スキーム２の反応に指定されたものと全く同じである。
一般式(II)、(III)、(IV)、(V)、(VI)、(VII)を有する中間体は、それ自体がまだ知られていない場合、有機化学の実験において既知の方法に従って容易に調製することができる。
既に述べたように、一般式(I)を有する化合物は、有用な作物を雑草から保護するために農耕地での使用に適する除草活性が高い。
特に本発明の目的の化合物は、多くの単子葉植物や双子葉植物の発芽前と発芽後双方の防除に有効である。同時に、これらの化合物は、発芽前及び/又は発芽後の処理に用いられる作物について適合性を示し、毒性作用もない。
一般式(I)を有する化合物を用いて効果的に防除し得る雑草の例は、イチビ(Abutilon theophrasti)、サジオモダカ(Alisma plantago)、アマランサス属(Amaranthus spp.)、アムニ・マイウス(Amni maius)、ナズナ(Capsella bursa pastoris)、シロザ(Chenopodium album)、シロバナヒルガオ(Convolvulus sepium)、ヤエムグラ(Galium aparine)、イタヤカエデ(Geranium dissectum)、イポメア属(Ipomea spp.)、シカギク属(Matricaria spp.)、グビジンソウ(Papaver rhoeas)、リョクトウ(Phaseolus aureus)、ハルタデ(Polygonum persicaria)、ハナスベリヒユ(Portulaca oleracea)、アメリカキンゴジカ(Sida spinosa)、ノハラガラシ(Sinapis arvensis)、イヌホウズキ(Solanum nigrum)、ウシハコベ(Stellaria media)、イヌノフグリ属(Veronica spp.)、スミレ属(Viola spp.)、オナモミ属(Xanthium spp.)、ノスズメノテッポウ(Alopecurus myosuroides)、カラスムギ(Avena fatua)、カヤツリグサ属(Cyperus spp.)、ディジタリア・サンギナリス(Digitaria sanguinalis)、イヌビエ属(Echinocloa spp.)、ヘレノカリス・アビクラリス(Heleocharis avicularis)、ヘテランテラ属(Heteranthera spp.)、キビ属(Panicum spp.)、イチゴツナギ属(Poa spp.)、アブラガヤ属(Scirpus spp.)、モロコシ属(Sorghum spp.)等である。
農地に用いられる施用量においては、上記化合物はイネ(Oryza sativa)、コムギ(Triticum sp.)、オオムギ(Hordeum vulgare)、トウモロコシ(Zea mays)、ダイズ(Glycine max)のような重要な農作物のいずれに対しても毒性作用を示さない。
【００１３】
本発明の目的は、更に、一般式(I)を有する化合物の施用によって耕作面積における雑草を防除する方法に関する。
所望の効果を得るために施用される化合物の量は、使用化合物、保護すべき作物、駆除すべき雑草、被害の程度、気候条件、土地の特徴、施用法等の種々の要因に関して変えることができる。
一般的には１ヘクタール当たり１ｇ〜1000ｇの範囲にある化合物の施用量によって十分に防除される。
農業に使用する場合、活性物質として一般式(I)を有する1種以上の化合物を、おそらく異性体の混合物としても含有する除草活性を有する組成物を用いることがしばしば有利である。
組成物は、乾燥粉末、水和性粉末、乳化できる濃縮物、ミクロエマルジョン、ペースト、顆粒、溶液、懸濁液等の形で用いることができ、組成物の種類の選択は個々の使用に左右される。
本組成物は、既知の方法に従って、例えば、活性物質を溶媒及び/又は固体希釈媒体で、場合によっては界面活性剤の存在下に希釈又は溶解することにより調製される。
固体不活性希釈剤、又は担体として、カオリン、アルミナ、シリカ、タルク、ベントナイト、チョーク、石英、ドロマイト、アタパルガイト、モンモリロナイト、ケイソウ土、セルロース、デンプン等が使用し得る。
液体不活性希釈剤として、水、又は有機溶媒、例えば、芳香族炭化水素(キシロール、アルキルベンゾールの混合物等)、脂肪族炭化水素(ヘキサン、シクロヘキサン等)、ハロゲン化芳香族炭化水素(クロロベンゾール等)、アルコール(メタノール、プロパノール、ブタノール、オクタノール等)、エステル(酢酸イソブチル等)、ケトン(アセトン、シクロヘキサノン、アセトフェノン、イソホロン、エチルアミルケトン等)、又は植物油又は鉱油又はその混合物等が使用し得る。
界面活性剤として、非イオン型(ポリエトキシル化アルキルフェノール、ポリエトキシル化脂肪アルコール等)、アニオン型(アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩等)、カチオン型(第四級アルキルアンモニウム塩等)の湿潤剤や乳化剤が使用し得る。
分散剤(例えば、リグニンやその塩、セルロース誘導体、アルギン酸塩等)、安定剤(例えば、抗酸化剤、紫外線吸収剤等)も添加し得る。
上記組成物の作用範囲を広くするために、例えば、他の除草剤、殺真菌剤、殺虫剤、ダニ駆除剤、肥料のような他の活性成分を添加することが可能である。
【００１４】
一般式(I)を有する1種以上の化合物を含有する組成物に添加し得る他の除草剤の例は次のものである。
アセトクロル(acetochlor)、アシフルオルフェン(acifluorfen)、アクロニフェン(aclonifen)、AKH-7088、アラクロル(alachlor)、アロキシジム(alloxydim)、アメトリン(ametryn)、アミカルバゾン(amicarbgazone)、アミドスルフロン(amidosulfuron)、アミトロール(amitrole)、アニロフォス(anilofos)、アスラム(asulam)、アトラジン(atrazine)、アザフェニジン(azafenidin)、アジムスルフロン(azimsulfuron)、アジプロトリン(aziprotryne)、BAY MKH 6561、ベフルブトアミド(beflubutamid)、ベナゾリン(benazolin)、ベンフルラリン(benfluralin)、ベンフレセート(benfuresate)、ベンスルフロン(bensulfuron)、ベンスリド(bensulide)、ベンタゾン(bentazone)、ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon)、ベンゾフェナップ(benzofenap)、ベンズチアズロン(benzthiazuron)、ビフェノックス(bifenox)、ビラナフォス(bilanafos)、ビスピリバックナトリウム(bispyribac-sodium)、ブロマシル(bromacil)、ブロモブチド(bromobutide)、ブロモフェノキシム(bromofenoxim)、ブロモキシニル(bromoxynil)、ブタクロル(butachlor)、ブタフェナシル(butafenacil)、ブタミフォス(butamifos)、ブテナクロル(butenachlor)、ブトリラリン(butralin)、ブトロキシジム(butroxydim)、ブチレート(butylate)、カフェンストロール(cafenstrole)、カルベトアミド(carbetamide)、カルフェントラゾンエチル(carfentrazone-ethyl)、クロメトキシフェン(chlomethoxyfen)、クロルアンベン(chloramben)、クロルブロムロン(chlorbromuron)、クロルブファム(chlorbufam)、クロルフルレノール(chlorflurenol)、クロルイダゾン(chloridazon)、クロルイムロン(chlorimuron)、クロルニトロフェン(chlornitrofen)、クロロトルロン(chlorotoluron)、クロロキシウロン(chloroxuron)、クロルプロファム(chlorpropham)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、クロルタール(chlorthal)、クロルチアミド(chlorthiamid)、シニドンエチル(cinidon ethyl)、シンメチリン(cinmethylin)、シノスルフロン(cinosulfuron)、クレトジム(clethodim)、クロジナフォプ(clodinafop)、クロマゾン(clomazone)、クロメプロプ(clomeprop)、クロピラリド(clopyralid)、クロランスラムメチル(cloransulam-methyl)、クミルウロン(cumyluron)(JC-940)、シアナジン(cyanazine)、シクロエート(cycloate)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、シクロキシジム(cycloxydim)、シハロフォプブチル(cyhalofop-butyl)、2,4-D、2,4-DB、ダイムロン(daimuron)、ダラポン(dalapon)、デスメジファム(desmedipham)、デスメトリン(desmetryn)、ジカンバ(dicamba)、ジクロベニル(dichlobenil)、ジクロルプロプ(dichlorprop)、ジクロルプロプ-P(dichlorprop-P)、
【００１５】
ジクロフォプ(diclofop)、ジクロスラム(diclosulam)、ジエタチル(diethatyl)、ジフェノキシウロン(difenoxuron)、ジフェンゾクアート(difenzoquat)、ジフルフェニカン(diflufenican)、ジフルフェンゾピル(diflufenzopyr)、ジメフロン(dimefuron)、ジメピペレート(dimepiperate)、ジメタクロル(dimethachlor)、ジメタメトリン(dimethametryn)、ジメテンアミド(dimethenamid)、ジニトルアミン(dinitramine)、ジノセブ(dinoseb)、ジノセブアセテート(dinoseb acetate)、ジノテルブ(dinoterb)、ジフェンアミド(diphenamid)、ジプロペトリン(dipropetryn)、ジクアート(diquat)、ジチオピル(dithiopyr)、1-ジウロン(1-diuron)、エグリナジン(eglinazine)、エンドタール(endothal)、EPTC、エスプロカルブ(esprocarb)、エタルフルラリン(ethalfluralin)、エタメトスルフロンメチル(ethametsulfuron-methyl)、エチジムロン(ethidimuron)、エチオジン(ethiozin)(SMY 1500)、エトフメセート(ethofumesate)、エトキシフェンエチル(ethoxyfen-ethyl)(HC-252)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、エトベンズアニド(etobenzanid)(HW 52)、フェノキサプロプ(fenoxaprop)、フェノキサプロプ-P(fenoxaprop-P)、フェントラズアミド(fentrazamide)、フェンウロン(fenuron)、フラムプロプ(flamprop)、フラムプロプ-M(flamprop-M)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、フロラスラム(florasulam)、フルアジフォプ(fluazifop)、フルアジフォプ-P(fluazifop-P)、フルアゾレート(fluazolate)(JV 485)、フルカルバゾンナトリウム(flucarbazone-sodium)、フルクロラリン(fluchloralin)、フルフェナセト(flufenacet)、フルメツラム(flumetsulam)、フルミクロラクペンチル(fulumiclorac-pentyl)、フルミオキサジン(flumioxazin)、フルミプロピン(flumipropin)、フルオメツロン(fluometuron)、フルオログリコフェン(fluoroglycofen)、フルオロニトロフェン(fluoronitrofen)、フルポキサム(flupoxam)、フルプロパネート(flupropanate)、フルピルスルフロン(flupyrsulfuron)、フルレノール(flurenol)、フルリドン(fluridone)、フルロクロリドン(flurochloridone)、フルロキシピル(flupyrsulfuron)、フルルタモン(flurtamone)、フルチアセトメチル(fluthiacet-methyl)、ホメサフェン(fomesafen)、ホラムスルフロン(foramsuluron)、ホスアミン(fosamine)、フリルオキシフェン(furyloxyfen)、グルホシネート(glufosinate)、
【００１６】
グリホセート(glyphosate)、ハロスルフロンメチル(halosulfuron-methyl)、ハロキシフォプ(haloxyfop)、ハロキシフォプ-Pメチル(haloxyfop-P-methyl)、ヘキサジノン(hexazinone)、イマザメタベンズ(imazamethabenz)、イマザモックス(imazamox)、イマザピック(imazapic)、イマザピル(imazapyr)、イマザキン(imazaquin)、イマゼタピル(imazethapyr)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、イマダノファン(indanofan)、ヨードスルフロン(iodosulfuron)、イオキシニル(ioxynil)、イソプロパリン(isopropalin)、イソプロツロン(isoproturon)、イソウロン(isouron)、イソキサベン(isoxaben)、イソキサクロルトール(isoxachlortole)、イソキサフルトール(isoxaflutole)、イソキサピリフォプ(isoxapyrifop)、KPP-421、ラクトフェン(lactofen)、レナシル(lenacil)、リヌロン(linuron)、LS830556、MCPA、MCPAチオエチル(MCPA-thioethyl)、MCPB、メコプロプ(mecoprop)、メコプロプ-P(mecoprop-P)、メフェナセト(mefenacet)、メソトリオン(mesotrione)、メタミトロン(metamitron)、メタザクロル(metazachlor)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、メタゾール(methazole)、メトプロトリン(methoprotryne)、メチルディムロン(methyldymron)、メトベンズロン(metobenzuron)、メトブロムロン(metobromuron)、メトラクロル(metolachlor)、S-メトラクロル(S-metolachlor)、メトスラム(metosulam)、メトキシウロン(metoxuron)、メトリブジン(metribuzin)、メツルフロン(metsulfuron)、モリネート(molinate)、モナリド(monalide)、モノリヌロン(monolinuron)、ナプロアニリド(naproanilide)、ナプロプアミド(napropamide)、ナプタラム(naptalam)、NC-330、ネブロン(neburon)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、ニピラクロフェン(nipyraclofen)、ノルフルラゾン(norflurazon)、オルベンカルブ(orbencarb)、オリザリン(oryzalin)、オキサジアルギル(oxadiargyl)、オキサジアゾン(oxadiazon)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、オキサジクロメホン(oxaziclomefene)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)、パラクアート(paraquat)、ペ
【００１７】
ブレート(pebulate)、ペンジメタリン(pendimethalin)、ペンタノクロル(pentanochlor)、ペントキサゾン(pentoxazone)、ペントキシアミド(pethoxamid)、フェンメジファム(phenmedipham)、ピクロラム(picloram)、ピコリナフェン(picolinafen)、ピペロホス(piperophos)、プレチラクロル(pretilachlor)、プリミスルフロン(primisulfuron)、プロジアミン(prodiamine)、プロフルアゾール(profluazol)、プログリナジン(proglinazine)、プロメトン(prometon)、プロメトリン(prometryne)、プロパクロル(propachlor)、プロパニル(propanil)、プロパキザフォプ(propaquizafop)、プロパジン(propazine)、プロファム(propham)、プロピソクロル(propisochlor)、プロピズアミド(propyzamide)、プロスルフォカルブ(prosulfocarb)、プロスルフロン(prosulfuron)、ピラクロニル(pyraclonil)、ピラフルフェンエチル(pyraflufen-ethyl)、ピラゾリネート(pyrazolynate)、ピラゾスルフロン(pyrazosulfuron)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、ピリダフォル(pyridafol)、ピリデート(pyridate)、ピリフタリド(pyriftalid)、ピリミノバックメチル(pyriminobac-methyl)、ピリチオバックナトリウム(pyrithobac-sodium)、キンクロラック(quinclorac)、キンメラック(quinmerac)、キザロフォップ(quizalofop)、キザロフォップ-P(quizalofop-P)、リムスルフロン(rimsulfuron)、セトキシジム(sethoxydim)、シズロン(siduron)、シマジン(simazine)、シメトリン(simetryn)、スルコトリオン(sulcotrione)、スルフェントラゾン(sulfentrazone)、スルフォメツロンメチル(sulfometuron-methyl)、スルフォスルフロン(sulfosulfuron)、2,3,6-TBA、TCAナトリウム(TCA-sodium)、テブタム(tebutam)、テブチウロン(tebuthiuron)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、テルバシル(terbacil)、テルブメトン(terbumeton)、テルブチルアジン(terbuthyl-azine)、テルブトリン(terbutryn)、テニルクロル(thenylchlor)、チアザフルロン(thiazafluron)、チアゾピル(thiazopyr)、チジアジミン(thiadiazimin)、チフェンスルフロンメチル(thifensulfuron-methyl)、チオベンカルブ(thiobencarb)、チオカルバジル(tiocarbazil)、チオクロリム(tioclorim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)、トリアルレート(tri-allate)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリアジフラム(triaziflam)、トリベヌロン(tribenuron)、トリクロピル(triclopyr)、トリエタジン(trietazine)、トリフロキシスルフロン(trifloxysulfuron)、トリフルラリン(trifluralin)、トリフルスルフロンメチル(triflusulfuron)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、UBI-C4874、ベルノレート(vernolate)。
上記組成物中の活性物質の濃度は、広範囲に変動させることができ、活性化合物、予定されている施用、環境条件、使用製剤の種類に左右される。
一般に、活性物質の濃度は１〜90％の範囲にあることが好ましい。
本発明の例示で制限されない実施例を以下に示す。
【００１８】
実施例１
N-[4-メチル-2-(3-トリフルオロメチルフェニル)メトキシフェニル]シクロプロパンカルボキシアミド(C-1)の調製
N,N-ジメチルホルムアミド(DMF; 13 ml)中のN-(2-ヒドロキシ-4-メチルフェニル)シクロプロパンカルボキシアミド(１ｇ; 5.2ミリモル)の溶液を窒素雰囲気下で維持した100 mlのフラスコで調製する。炭酸カリウムを添加し(１ｇ; 7.2ミリモル)、その混合液を室温で撹拌しながら保ち、DMF(２ml)中の3-トリフルオロメチルベンジル(1.1ｇ; 5.6ミリモル)の溶液を添加する。その混合液を撹拌しながら３時間60℃に加熱する。冷却後、水(150 ml)に注入し、酢酸エチル(３×50 ml)で抽出し、有機相を水(２×50 ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、ろ過し、濃縮する。粗生成物(1.6ｇ)をヘキサン/酢酸エチル８：２の混合物から結晶化し、1.3ｇの結晶性固形物、融点153-155℃を得る。
【００１９】
実施例２
N-[4-メチル-2-(3-トリフルオロメチルフェノキシ)メチルフェニル]シクロプロパンカルボキサミド(C-2)の調製
塩化メチレン(５ml)中のシクロプロパンカルボニルクロリド(0.54ｇ; 5.16ミリモル)の溶液を、窒素雰囲気下で維持した100 mlのフラスコ中の塩化メチレン(15 ml)中の4-メチル-2-トリフルオロメチルフェノキシメチル)アニリン(1.4ｇ; ５ミリモル)の混合液に0℃で撹拌しながら滴下する。その混合液を撹拌しながら３時間還流温度まで加熱する。冷却後、その混合液を水(150 ml)に注入し、塩化メチレン(３×50 ml)で抽出し、有機相を水(２×50 ml)で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、ろ過し、濃縮する。1.5 ｇの所望の生成物を得る(1H-NMR、元素分析)。
【００２０】
実施例３
上記実施例１と実施例２と同様に操作して、下記表２に示される一般式(I)を有する化合物(C)を調製した。
【００２１】
【化５】
2004534096.tif 000008
【００２２】
【表３】
2004534096.tif 000009
【００２３】
【表４】
2004534096.tif 000010
【００２４】
実施例４
発芽前の除草活性と植物毒性の定量
発芽前における本発明の化合物の除草活性を次の操作手順に従って評価した。
対象(雑草又は作物)の植物種を、直径が10 cmより大きく、高さが10 cmで、砂質土壌を含むつぼに植え付けた。各々の植物種について10個のつぼを用いた。
つぼを更に２つのグループに分け、各々が各雑草又は作物について５個のつぼを有する。
植え付けの24時間後、つぼの光のシャワを止めた。湿らせた１時間後、第一グループのつぼを10容量％のアセトンと、所望の濃度の評価すべき生成物と、0.5％のトゥイーン20とを含有するヒドロアセトン分散液で処理した。
第二グループは、10容量％のアセトンと、0.5％のトゥイーン20を含有するヒドロアセトン溶液でのみ処理し、比較(ブランク)として用いた。
処理後、すべてのつぼに一様に水をかけ、次の環境状態によって条件付き環境に保持した。
-  温度: 24℃
-  相対湿度: 60％
-  光周期: 16時間
-  光の強さ: 10,000ルクス
処理の28日後、処理されない植物(ブランク)に対して処理された植物について測定した損傷％を示す、次の段階の数値に基づいて評価した。
-  ０＝0〜9％の損傷
-  １＝10〜29％の損傷
-  ２＝30〜49％の損傷
-  ３＝50〜69％の損傷
-  ４＝70〜89％の損傷
-  ５＝90％の損傷  植物の枯死
表３は、次の植物種: アオゲイトウ(Amarantus retroflexus)(AR)、ナズナ(Capsella bursa pastoris)(CP)、アカザ(Chenopodium album)(CA)、ヤエムグラ(Galium aparine)(GA)、カミツレ(Matricaria Chamomilla)(MC)、ヒナゲシ(Papaver rhoeas)(PR)、スベリヒユ(Portulaca oleracea)(PO)、ハコベ(Stellaria media)(SM)、スズメノテッポウ(Alopecurus myosuroides)(AM)、オオクサキビ(Pnicum dicothomiflorum)(PD)、トウモロコシ(M)、コムギ(F)について500 g/haの施用量で評価した化合物C-1、C-2、C-3で得られた結果を示す表である。
【００２５】
【表５】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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