(57)【要約】露光装置用の流体マウント（１０）は、第一のサブシステム（１２）と第二のサブシステム（１４）とを備えている。第一のサブシステム（１２）は第一のシリンダ（１８）と第一のピストン（２０）とを備え、第一のピストン（２０）が第一のシリンダ（１８）内にて第一の軸（２６）に沿って移動し、第二のサブシステム（１４）が第二のシリンダ（２２）と第二のピストン（２４）とを有し、第二のピストン（２４）が第二のシリンダ（２２）内にて第二の軸（２８）に沿って移動する。ここで、（ｉ）第二のサブシステム（１４）が第一のサブシステム（１２）の上端に重なり、（ｉｉ）第二の軸（２８）が第一の軸と基本的に同軸をなし、（ｉｉｉ）第一のピストン（２０）と第二のピストン（２４）とが機械的に連結されていることが重要である。これらの構成の結果、この流体マウント（１０）は、設置面積が小さく、かつ相対的に大きな耐荷重を有する。
2004525315.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一のシリンダと、第一のシリンダ内にて移動する第一のピストンとを備える第一のサブシステムを備えるとともに、第二のシリンダと、第二のシリンダ内にて移動する第二のピストンとを備える第二のサブシステムを備え、第二のピストンが第一のピストンと連動する流体マウント。
【請求項２】
第一のピストンが第一の軸に沿って移動し、第二のピストンが第一の軸と基本的に同軸をなす第二の軸に沿って移動する請求項１に記載の流体マウント。
【請求項３】
第一のピストンと第二のピストンとが連動するよう第一のピストンと第二のピストンとを連結するピストンコネクタを備える請求項１に記載の流体マウント。
【請求項４】
ピストンコネクタが第二のシリンダの周囲に延設されている請求項４に記載の流体マウント。
【請求項５】
ピストンコネクタが第二のシリンダで囲まれている請求項３に記載の流体マウント。
【請求項６】
第一のピストンと第一のシリンダとにより第一のチャンバを形成するとともに、第二のピストンと第二のシリンダとにより第二のチャンバを形成する請求項１に記載の流体マウント。
【請求項７】
第一のチャンバと第二のチャンバ間で流体が流通する請求項６に記載の流体マウント。
【請求項８】
第一のチャンバと第二のチャンバとの間に位置する中間チャンバを備える請求項６に記載の流体マウント。
【請求項９】
中間チャンバ内の圧力を大気圧より低くなるよう調整する制御系を備える請求項８に記載の流体マウント。
【請求項１０】
少なくとも一つのチャンバ内の圧力を調整する制御系を備える請求項８に記載の流体マウント。
【請求項１１】
第二のサブシステムが第一のサブシステムの直上に位置している請求項１に記載の流体マウント。
【請求項１２】
第二のサブシステムが第一のサブシステムの上端に重ねられている請求項１１に記載の流体マウント。
【請求項１３】
（１）第三のシリンダと、第三のシリンダ内にて移動する第三のピストンとを備える第三のサブシステムと、（２）第一のピストンと第二のピストンと第三のピストンとを、これらのピストンが連動するよう連結するピストンコネクタとを備える請求項１に記載の流体マウント。
【請求項１４】
第三のピストンが、第一の軸及び第二の軸と基本的に同軸をなす第三の軸に沿って移動する請求項１３に記載の流体マウント。
【請求項１５】
請求項１に記載の流体マウントを備える絶縁系。
【請求項１６】
装置フレームと、装置フレームを基礎に固定する請求項１に記載の流体マウントとを備える露光装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の露光装置により製造されたデバイス。
【請求項１８】
請求項１６に記載の露光装置により形成された像を有するウエハ。
【請求項１９】
第一のシリンダと、第一のシリンダ内にて第一の軸に沿って移動する第一のピストンとを備える第一のサブシステムを備えるとともに、第二のシリンダと、第二のシリンダ内にて第二の軸に沿って移動する第二のピストンとを備える第二のサブシステムを備え、第二の軸が第一の軸と基本的に同軸をなす流体マウント。
【請求項２０】
第一のピストンと第二のピストンとが連動するよう第一のピストンと第二のピストンとを連結するピストンコネクタを備える請求項１９に記載の流体マウント。
【請求項２１】
ピストンコネクタが第二のシリンダの周囲に延設されている請求項１９に記載の流体マウント。
【請求項２２】
ピストンコネクタが第二のシリンダで囲まれている請求項１９に記載の流体マウント。
【請求項２３】
第一のピストンと第一のシリンダとにより第一のチャンバを形成するとともに、第二のピストンと第二のシリンダとにより第二のチャンバを形成し、かつ第一のチャンバと第二のチャンバ間で流体が流通する請求項１９に記載の流体マウント。
【請求項２４】
第一のチャンバと第二のチャンバとの間に位置する中間チャンバと、中間チャンバ内の圧力を大気圧より低くなるよう調整する制御系とを備える請求項２３に記載の流体マウント。
【請求項２５】
少なくとも一つのチャンバ内の圧力を調整する制御系を備える請求項２３に記載の流体マウント。
【請求項２６】
第二のサブシステムが第一のサブシステムの直上に位置し、第二のサブシステムが第一のサブシステムの上端に重ねられている請求項１９に記載の流体マウント。
【請求項２７】
第三のシリンダと、第三のシリンダ内にて（第一の軸及び第二の軸と基本的に同軸をなす）第三の軸に沿って移動する第三のピストンとを備える第三のサブシステムを備える請求項１９に記載の流体マウント。
【請求項２８】
第一のピストンと第二のピストンと第三のピストンとを連結し、これらのピストンを連動させるピストンコネクタを備える請求項２７に記載の流体マウント。
【請求項２９】
請求項１９に記載の流体マウントを備える絶縁系。
【請求項３０】
装置フレームと、装置フレームを基礎に固定する請求項１９に記載の流体マウントとを備える露光装置。
【請求項３１】
請求項３０に記載の露光装置により製造されたデバイス。
【請求項３２】
請求項３０に記載の露光装置により形成された像を有するウエハ。
【請求項３３】
第一のシリンダと、第一のシリンダ内にて移動する第一のピストンとを備える第一のサブシステムを提供する工程と、第二のシリンダと、第二のシリンダ内にて移動する第二のピストンとを備える第二のサブシステムを提供する工程と、第一のピストンと第二のピストンとが連動するよう第一のピストンと第二のピストンとをピストンコネクタで連結する工程とを含む流体マウントの製造方法。
【請求項３４】
第一のピストンが第一の軸に沿って移動し、第二のピストンが第二の軸に沿って移動するとともに、第二の軸が第一の軸と基本的に同軸をなすよう第二のサブシステムを第一のサブシステムに対し位置決めする工程を含む流体マウントの製造方法。
【請求項３５】
第二のサブシステムを第一のサブシステムに対し位置決めする工程が、第二のサブシステムを第一のサブシステムの上端に直接重ねる工程を含む請求項３４に記載の流体マウントの製造方法。
【請求項３６】
個々のサブシステム内の圧力を制御系により調整する工程を含む請求項３３に記載の流体マウントの製造方法。
【請求項３７】
（１）第三のシリンダと、第三のシリンダ内にて移動する第三のピストンとを備える第三のサブシステムを提供する工程と、（２）第一のピストンと第二のピストンと第三のピストンとを、これらのピストンが連動するようピストンコネクタで連結する工程とを備える請求項３３に記載の流体マウントの製造方法。
【請求項３８】
第三のピストンが第三の軸に沿って移動するとともに、第三の軸が第一の軸及び第二の軸と基本的に同軸をなすよう第三のサブシステムを第一のサブシステム及び第二のサブシステムに対し位置決めする工程を含む流体マウントの製造方法。
【請求項３９】
請求項３３に記載の流体マウントの製造工程を含む絶縁系の製造方法。
【請求項４０】
装置フレームを、請求項３３による流体マウントにより基礎に固定する工程を備える露光装置の製造方法。
【請求項４１】
請求項４０に記載の方法で製造された露光装置を用いたウエハの製造方法。
【請求項４２】
少なくとも請求項４０に記載の方法で製造された露光装置を用いた露光工程を含むデバイスの製造方法。
【請求項４３】
第一のシリンダと、第一のシリンダ内にて第一の軸に沿って移動する第一のピストンとを備える第一のサブシステムを提供する工程と、第二のシリンダと、第二のシリンダ内にて、第一の軸と基本的に同軸をなす第二の軸に沿って移動する第二のピストンとを備える第二のサブシステムを提供する工程と、第一のピストンに負荷に連結させる工程と、第二のピストンを負荷に連結させる工程とを含む負荷の支持方法。
【請求項４４】
少なくとも一つのサブシステム内の圧力を制御する工程を含む請求項４３に記載の負荷の支持方法。
【請求項４５】
少なくとも一つのサブシステム内の圧力を制御する工程が、個々のサブシステム内の圧力を独立して制御する工程を含む請求項４４に記載の負荷の支持方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体マウントに関し、特に、露光装置用の、複数のチャンバを備える流体マウント及び、振動を低下させるための複数のチャンバを備える流体マウントの製造方法に関する。更に、本発明は、高い振動遮断性を有する露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置は、半導体製造工程において、レチクル上の像を半導体ウエハに転写するために一般的に使用されている。典型的な露光装置は、装置フレームと、測定系、制御系、光源、光学部材、レチクルを保持するレチクルステージ、及び半導体ウエハを保持するウエハステージを備えている。
【０００３】
装置フレームは通常、測定系、光源、レチクルステージ、光学部材、及びウエハステージを、地表上に支持している。測定系は光学部材のような基準に対する各ステージの位置をモニタしている。光学部材は、レチクルを通過した光を照射及び／または集束させる。一つ以上の移動装置が、光学部材に対しレチクルステージを正確に位置決めしており、同様に、一つ以上の移動装置が、光学部材に対しウエハステージを正確に位置決めしている。
【０００４】
レチクルからウエハに転写される像のサイズ及びその形状は極めて微細である。従って、光学部材に対しウエハ及びレチクルを正確に位置決めすることは、高密度な半導体を製造するために極めて重要である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、露光装置の装置フレームの機械的振動や変形が、露光装置の精度に影響する場合がある。例えば、ステージを移動させる移動装置は露光装置の装置フレームを振動させる反力を発生させる。また、装置フレームには、地表からも振動が伝達される。
【０００６】
装置フレームの振動や変形により、ステージ及び光学部材の正確な位置決めが不可能となる可能性がある。また、装置フレームの振動や変形により、測定系が光学部材に対する各ステージの位置を正しく測定できなくなる可能性がある。更に、光学部材の振動は、光学部材内の光学素子を変形させ、光学的な像の質を低下させる可能性がある。その結果、露光装置の精度及び、ウエハから製造された集積回路の品質を損なう可能性がある。
【０００７】
この問題を解決するための一手段として、地表上に装置フレームを固定する際におけるエアマウントの使用がある。このエアマウントは、装置フレームの振動の原因となる、地表からの振動の影響を低下させる。また、装置フレームに対して露光装置の部品を固定する際に、一つ以上のエアマウントを使用してもよい。しかしながら、十分な振動減衰能力を有するエアマウントは設置面積が相対的に大きく、その結果、露光装置が大型化してしまう。更に、エアマウントの設置が、露光装置を構成する他の部品への接触を制限する可能性がある。
【０００８】
上記事情に鑑み、より優れた振動遮断系を備えた露光装置が望まれている。また、設置面積が相対的に小さく、かつ相対的に高い振動減衰能力を有する流体マウントが望まれている。更に、高密度な半導体ウエハのような高精度なデバイスを製造可能な露光装置が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記の要求を満たす露光装置用の流体マウントに関する。すなわち、この流体マウントは、第一のサブシステムと第二のサブシステムとを備えている。また、第一のサブシステムは第一のシリンダと第一のピストンとを備え、第一のピストンが第一のシリンダ内にて第一の軸に沿って移動し、第二のサブシステムが第二のシリンダと第二のピストンとを有し、第二のピストンが第二のシリンダ内にて第二の軸に沿って移動する。
【００１０】
ここで、第二の軸が第一の軸と基本的に同軸をなし、第一のピストンと第二のピストンとが機械的に連結され、第二のサブシステムが第一のサブシステムの上端に重なっていることが重要である。これらの構成の結果、この流体マウントは、設置面積が小さく、かつ相対的に大きな耐荷重を有する。
【００１１】
ここで、第一のピストンと第一のシリンダとにより第一のチャンバを形成し、第二のピストンと第二のシリンダとにより第二のチャンバを形成する。また、第一のチャンバと第二のチャンバ間では、流体の流通が可能となっている。
【００１２】
更に、この流体マウントが、第二のサブシステム上に重なる第三のサブシステムを備えていてもよい。第三のサブシステムは第三のシリンダと第三のピストンとを有し、第三のピストンが第三のシリンダ内にて第三の軸に沿って移動する。また、第三の軸は、第一の軸及び第二の軸が基本的に同軸をなしている。この例では、第一のピストンと第二のピストンと第三のピストンとが連結され、協同して移動する。また、個々のピストンにより負荷を支えることができる。
【００１３】
本発明は、露光装置の一部に用いて効果的である。例えば、一つ以上の流体マウントを、露光装置の装置フレームを基礎に固定するフレーム絶縁系（アイソレーションシステム）の一部に使用可能である。この構成によれば、装置フレーム及び装置フレームに固定された部材を振動させるような基礎の振動の影響が、フレーム絶縁系により減少する。
【００１４】
更に、一つ以上の流体マウントを、露光装置を構成する一つ以上の部材を装置フレームを固定するために使用可能である。例えば、一つ以上の流体マウントを、ステージ部または光学部材を装置フレームに固定する絶縁系（アイソレーションシステム）の一部に使用可能である。この構成によれば、ステージ部または光学部材を振動させるような装置フレームの振動の影響が、絶縁系により減少する。
【００１５】
本発明は更に、この露光装置により製造されるデバイス、この露光装置により製造されるウエハ、流体マウントの製造方法、絶縁系の製造方法、露光装置の製造方法、デバイスの製造方法、及びウエハの製造方法にも関する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明における新規な構成及び、本発明に係る構造並びに動作は、明細書の記載に関連する、添付の図面から最も良く理解できる。なお、これらの図面において、同様の部材には同一の符号が付されている。
【００１７】
図１〜３にまず示すように、本発明は、複数のチャンバを備える流体マウント１０に関する。この中には、互いに異なる二つの実施例の流体マウント１０が含まれる。個々の実施例において、流体マウント１０は、第一のサブシステム１２と、第二のサブシステム１４と、ピストンコネクタ１６とを備えている。第一のサブシステム１２は、第一のシリンダ１８と、第一のピストン２０を備え、第二のサブシステム１４は、第二のシリンダ２２と、第二のピストン２４を備えている。また、第一のピストン２０は、第一のシリンダ１８内にて、第一の軸２６に沿って移動し、第二のピストン２４は、第二のシリンダ２２内にて、第二の軸２８に沿って移動する。
【００１８】
ここに示す個々の実施例において、第二のサブシステム１４は、第一のサブシステム１２の直上に位置し、その上端に重ねられている。また、第一の軸２６は、第二の軸２８と略同軸をなしている。また、ピストンコネクタ１６は第一のピストン２０及び第二のピストン２４に機械的に接続されてこれらを連結し、その結果、第一のピストン２０及び第二のピストン２４は同時に移動する。この構成では、ピストン２０，２４が協同して振動を減衰させるとともに負荷を支え、また、サブシステム１２，１４は事実上平行に取付られている。その結果、この流体マウント１０は、相対的に小さい設置面積で相対的に高い耐負荷性を有している。
【００１９】
この流体マウント１０を使用する機械のタイプは多様である。例えば、図４に示すように、露光装置３２用のフレーム絶縁系３０の一部分に、一つ以上の流体マウント１０が使用可能である。本実施例では、絶縁系３０が、露光装置３２の装置フレーム３４を架台３６に対して固定している。架台３６は地盤、基礎、床、あるいは他の支持構造であってもよい。この構成では、絶縁系３０が、装置フレーム３４及び装置フレーム３４に固定された露光装置３２の振動源となる架台３６の振動の影響を低減させる。
【００２０】
上記の通り、この流体マウント１０は、相対的に小さい設置面積で相対的に高い耐負荷性を有している。この構成では、露光装置３２内における流体マウント１０の設置面積が減少するため、流体マウント１０を露光装置３２内に容易に設置可能となる。また、露光装置３２を構成する他の部品のためのスペースが増加するとともに、流体マウント１０及び露光装置３２を構成する他の部品に点検や調整の目的で接触するためのスペースが増大する。
【００２１】
なお、図中には、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示す座標系が含まれているが、この座標系は参照用のものであって変更可能であることはもちろんである。例えば、Ｚ軸をＹ軸に換えるか、及び／または露光装置３２を回転させてもよい。
【００２２】
また、流体マウント１０の構成は、その設計上の要求に合致するよう変更可能である。上記の通り、ここでは、互いに異なる二つの実施例の流体マウント１０が示されている。具体的には、図１Ａ及び図１Ｂには流体マウント１０の第一実施例が示され、図２Ａ〜図２Ｃには流体マウント１０の第二実施例が示され、図３には流体マウント１０の第三実施例が示されている。個々の実施例において、流体マウント１０は、第一のサブシステム１２と、第二のサブシステム１４と、ピストンコネクタ１６とを備えている。また、個々の実施例において、第一のサブシステム１２は、第一のシリンダ１８と、第一のピストン２０と、第一のチャンバ４２の形状に対応した第一のシール３８及び第一のクランプ４０とを備え、同様に、個々の実施例において、第二のサブシステム１４は、第二のシリンダ２２と、第二のピストン２４と、第二のチャンバ４８の形状に対応した第二のシール３４及び第一のクランプ４６とを備えている。
【００２３】
個々のシリンダ１８，２２のサイズ及び形状は、流体マウント１０の設計上の要求に合致するよう変更可能である。図１Ａ及び図１Ｂに示す実施例では、個々のシリンダ１８，２２は円筒状の壁面と閉鎖された底面とを有している。なお、図示の各実施例では、個々のシリンダ１８，２２の壁面は一般に円環状をなしているが、この壁面が角筒状をなしていてもよい。
【００２４】
第一のピストン２０のサイズ及び形状は、第一のシリンダ１８に適合しつつ、第一のシリンダ１８中を移動可能となるよう設定されている。同様に、第二のピストン２４のサイズ及び形状は、第二のシリンダ２２に嵌合しつつ、第二のシリンダ２２中を移動可能となるよう設定されている。また、図示の実施例では、個々のピストン２０，２４は、略円状の断面を有する略円盤状をなしている。
【００２５】
第一のシール３８は、第一のピストン２０と第一のシリンダ１８との間をシールし、かつ第一のピストン２０を第一のシリンダ１８に対し相対移動可能とするもので、同様に、第二のシール４４は、第二のピストン２４と第二のシリンダ２２との間をシールし、かつ第二のピストン２４を第二のシリンダ２２に対し相対移動可能とするものである。また、個々のシール３８，４４は設計変更が可能である。図示の実施例では、個々のシール３８，４４は、ゴムのような弾性材製の平らな膜状をなしている。更に、第一のピストン２０の底部は第一のシール３８の頂部に固定され、同様に、第二のピストン２４の底部は第二のシール４４の頂部に固定されている。
【００２６】
個々のシール３８，４４には、対応するピストン２０，２４の外周近傍に位置する環状の溝５０を設けることが望ましい。第一のシール３８の溝５０は、第一のシール３８の他の部位を変形させることなく第一のピストン２０が第一のシリンダ１８に対し相対移動可能となるよう偏向されている。同様に、第二のシール４４の溝５０は、第二のシール４４の他の部位を変形させることなく第二のピストン２４が第二のシリンダ２２に対し相対移動可能となるよう偏向されている。
【００２７】
第一のクランプ４０は、第一のシール３８を第一のシリンダ１８に固定するとともに密着させるもので、同様に、第二のクランプ４６は、第二のシール４４を第二のシリンダ２２に固定するとともに密着させるものである。また、個々のクランプ４０，４６は設計変更が可能である。図１Ａ及び図１Ｂに示す実施例では、個々のクランプ４０，４６は円環状をなしている。更に、第一のクランプ４０は、第一のクランプ４０と第一のシリンダ１８との間に位置する第一のシール３８の外周部とともに、第一のシリンダ１８の頂部に固定され、同様に、第二のクランプ４６は、第二のクランプ４６と第二のシリンダ２２との間に位置する第二のシール４４の外周部とともに、第二のシリンダ２２の頂部に固定されている。
【００２８】
ピストンコネクタ１６は、第一のピストン２０を、第二のピストン２４に機械的かつ強固に連結させるもので、その結果、第一のピストン２０と第二のピストン２４とは協同して移動し、共に負荷を受ける。ピストンコネクタ１６は、流体マウント１０の設計上の要求に合致するよう変更可能である。図１Ａ及び図１Ｂに示す実施例では、ピストンコネクタ１６は第二のシリンダ２２を囲む略矩形枠状をなしている。また、本実施例では、ピストンコネクタ１６は、（１）第一のピストン２０の上方に位置する第一のプレート５２と、（２）第一のプレート５２と第一のピストン２０との間に配設され、第一のピストン２０の頂部を第一のプレート５２の底面に固定保持する、環状をなす第一のスペーサ５４と、（３）第二のピストン２４上に配設された、第一のプレート５２と略平行な第二のプレート５６と、（４）第二のプレート５６と第二のピストン２４との間に配設され、第二のピストン２４の頂部を第二のプレート５６の底面に固定保持する、環状をなす第二のスペーサ５８と、（５）第一のプレート５２を第二のプレート５６に機械的に連結する第一の側方プレート６０と、（６）第一の側方プレート６０と略平行かつ離間し、第一のプレート５２を第二のプレート５６に機械的に連結する第二の側方プレート６２とを備えている。なお、個々のプレート５２，５６，６０，６２は一般に剛体製とされるとともに、ピストンコネクタ１６の第二のプレート５６が、流体マウント１０により支持される露光装置のような負荷を受けるようになっている。
【００２９】
更に、本実施例では、第一のシリンダ１８が第二のシリンダ２２に固定保持されている。その結果、第一のシリンダ１８が第二のシリンダ２２が協同して移動する。図１Ａ及び図１Ｂに示す実施例の流体マウント１０では、シリンダコネクタ６４により、第一のシリンダ１８が第二のシリンダ２２に機械的に連結されている。また、本実施例では、シリンダコネクタ６４は、（１）第一のシリンダ１８の下方に位置し、これに固定された第一の連結プレート６６と、（２）第二のシリンダ２２の下方に位置し、第一の連結プレート６６と略平行な第二の連結プレート６８と、（３）第一の連結プレート６６を第二の連結プレート６８に機械的に連結する第一の側方連結プレート７０と、（４）第一の側方連結プレート７０と略平行かつ離間し、第一の連結プレート６６を第二の連結プレート６８に機械的に連結する第二の側方連結プレート７２とを備えている。なお、個々のプレート６６，６８，７０，７２は一般に剛体製とされている。
【００３０】
個々のチャンバ４２，４８のサイズ及び形状は、流体マウント１０を構成する他の部材の設計に応じて変更可能である。流体マウント１０は、個々のチャンバ４２，４８内の圧力を制御、調整する制御系７４を備えることが望ましい。この制御系７４は、一つ以上の流体ポンプ（図示せず）を備えている。この構成では、制御系７４により、流体マウント１０の振動減衰性及び高さを容易に調整可能である。
【００３１】
また、図示の各実施例では、流体マウント１０が、第一のチャンバ４２と第二のチャンバ４８を、両者の間で流体が連絡するよう連結する流体コネクタ７６を備えている。図１Ａ及び図１Ｂに示す実施例では、個々のシリンダ１８、２２の壁面にそれぞれ開口部７８が形成され、流体コネクタ７６が、これら開口部７８間に延びる管路となっている。この構成では、第一のチャンバ４２及び第二のチャンバ４８内の圧力が基本的に同一となる。また、この構成では、制御系７４により、個々のチャンバ４２，４８内の圧力が容易に調整可能である。個々のチャンバ４２，４８間で流体が連絡している場合、流体マウント１０の動作中、個々のサブシステム１２，１４間における流体の移動が極めて少量に抑制されていることが望ましい。
【００３２】
一方、例えば、制御系７４が、個々のチャンバ４２，４８にそれぞれ接続されていてもよい。この場合、制御系７４が、個々のチャンバ４２，４８内の圧力を独立して制御可能となる。更に、個々のチャンバ４２，４８が外気に対し密閉あるいは排気可能とされていてもよい。また、個々のチャンバ４２，４８内で使用される流体の種類も変更可能である。更にまた、一方のチャンバが密閉され、制御系７４が、他方のチャンバの圧力のみを制御する構成としてもよい。
【００３３】
上述の通り、図２Ａないし図２Ｃには、流体マウント１０の第二実施例が示されている。本実施例は、（１）第一のシリンダ１８と、（２）第一のシール３８と、（３）第二のシール４４と、（４）第二のクランプ４６とは、上述した図１Ａ及び図１Ｂにおける対応する部材と基本的に同様である。しかしながら、（１）第二のシリンダ２２と、（２）第一のピストン２０と、（３）第二のピストン２４と、（４）第一のクランプ４０と、（５）ピストンコネクタ１６とは、上述した図１Ａ及び図１Ｂにおける対応する部材とは異なっている。
【００３４】
図２Ａないし図２Ｃに示す実施例では、ピストンコネクタ１６が、第一のピストン２０の頂部から、第二の軸２８に沿って、第二のピストン２４の底部に延び、かつ本実施例では、ピストンコネクタ１６を構成する部材の一部が、第一のピストン２０及び第二のピストン２４の一部を形成している。更に詳しくは、図２Ａないし図２Ｃに示すように、（１）第二のシリンダ２２は単に円筒状の壁部をなし、（２）第一のピストン２０は円盤状をなすとともに、第一のピストン２０の上面中央部から第一のクランプ４０を介して上方に延びる円柱状の上部マウント８０を備え、（３）第二のピストン２０は、円盤状をなすピストン底部８２と、ピストン底部８２の中央部から下方に延びる連結シャフト８４と、連結シャフト８４の底部に位置する底部ピストンコネクタ８５と、円盤状をなすピストン頂部プレート８６と、ピストン底部８２とピストン頂部プレート８６とを、それらの間に第二のシール４４を介在させた状態で固定する、互いに離間する複数のピストンボルト８８とを備え、（４）第一のクランプ４０は、第一のシール３８を固定するとともに第一のシリンダ１８にシールする環状部９０と、第二のシリンダ２２の底面となる円盤状部９２と、第一のクランプ４０の中央部に延び、第一のピストン２０の上部マウント８０と第二のピストン８４の連結シャフト８４とを連結可能とする、円形の連結口部９４とを備えている。また、第一のクランプ４０の円盤状部９２は、第一のピストン２０の上方への過度の移動を防止する停止部材としても作用する。更に、第一のピストン２０が第二のピストン２４に連結されているため、第一のクランプ４０は、第二のピストン２４の上方への過度の移動をも防止する。
【００３５】
上記の通り、ピストンコネクタ１６は、第一のピストン２０と第二のピストン２４とを機械的かつ強固に連結している。図２Ａないし図２Ｃに示す実施例では、ピストンコネクタ１６は、上部マウント８０と、連結シャフト８４と、底部ピストンコネクタ８５と、第一の連結クランプ９６と、第一の連結シール９８とを備えている。第一の連結シール９８は膜状をなし、第一の連結シール９８の他の部位を変形させることなく第一のピストン２０及び第二のピストン２４を移動可能とする円環状の溝１００を備えている。本実施例では、（１）上部マウント８０は、底部ピストンコネクタ８５に、それらの間に第一の連結シール９８を介在させた状態で固定され、（２）第一の連結クランプ９６は第一の連結シール９８の外周部を第一のクランプ４０の円盤状部９２の頂部に固定している。この構成では、第一の連結シール９８により第二のチャンバ４８の底部がシールされるとともに、連結シャフト８４が第二のチャンバ４８を通って伸長可能となっている。また、ピストンコネクタ１６のピストン頂部プレート８６が、流体マウント１０により支持される露光装置のような負荷を受けるようになっている。
【００３６】
本実施例では、第一のシール３８と第一の連結シール９８との間に中間チャンバ１０１が形成されている。ここで、中間チャンバ１０１内の圧力は、流体マウント１０の動作に応じて調整可能となっている。例えば、中間チャンバ１０１内の圧力を制御するため、流体マウント１０内の間隙開口部１０４に連結する間隙調整機構１０２を設けてもよい。また、この間隙調整機構１０２は、中間チャンバ１０１内を真空とするポンプ（図示せず）を備えていることが望ましい。その結果、流体マウント１０の搭載荷重が増加するとともに、流体マウント１０の固有振動数が減少する。一方、例えば間隙調整機構１０２が中間チャンバ１０１内を加圧可能であってもよく、あるいは、中間チャンバ１０１内が外気と換気可能であってもよい。
【００３７】
図２Ａないし図２Ｃに示す実施例において、コネクタシャフト８４と底部ピストンコネクタ８５の存在に伴い、第一のサブシステム１２は、第二のサブシステム１４より大きな耐荷重を有している。より詳しくは、第二のチャンバ４８内の流体の圧力は底部ピストンコネクタ８５を押し下げる方向に作用し、その結果、第二の実施例の流体マウント１０の総耐荷重は、第一の実施例の流体マウント１０より小さくなる。換言すれば、第二の実施例の流体マウント１０は、第一の実施例の流体マウント１０より僅かに大きな設置面積を有している。
【００３８】
上述の通り、図３には、流体マウント１０の第三実施例が示されている。本実施例の流体マウント１０は、第二実施例の流体マウント１０と部分的に類似しているが、第二のサブシステム１４上には、第三のサブシステム１１０が重ねられている。ここに示す通り、流体マウント１０の設置面積を増加させずにその耐荷重を増加させるためには、何段のサブシステムを重ねてもよい。
【００３９】
第三のサブシステム１１０は、第三のシリンダ１１２と、第三のピストン１１４と、第三のシール１１６と、第三のクランプ１１８とを備え、これらにより第三のチャンバ１２０が構成されている。第三のピストン１１４のサイズ及び形状は、第三のシリンダ１１２に適合しつつ、第三のシリンダ１２中を、第三の軸１２２に沿って移動可能となるよう設定されている。第三のシール１１６は、第三のピストン１１４と第三のシリンダ１１２との間をシールし、かつ第三のピストン１１４を第三のシリンダ１１２に対し相対移動可能とするもので、第三のクランプ１１８は、第三のシール１１６を第三のシリンダ１１２に固定するとともに密着させるものである。
【００４０】
この実施例では、ピストンコネクタ１６により、第一のピストン２０及び第二のピストン２４とともに、第三のピストン１１４を機械的かつ強固に連結され、その結果、第一のピストン２０と第二のピストン２４及び第三のピストン１１４は協同して移動する。また、第一の軸２６は、第二の軸２８及び第三の軸１２２と基本的に同軸となっている。
【００４１】
図３に示す実施例では、（１）個々のシリンダ１８，２２，１１２は基本的に円筒状をなし、（２）個々のピストン２０，２４，１１４は基本的に円盤状をなすとともに第一のピストン２０及び第二のピストン２４はそれぞれ円筒状の上部マウント８０を有し、（３）個々のシール３８，４４，１１６は環状の溝を有する平らな膜状をなし、（４）個々のクランプ４０，４６，１１８は環状をなしている。
【００４２】
また、図３において、流体マウント１０は、（１）第一のシリンダ１８の底部を形成する底板１２４と、（２）第一のシリンダ１８と第二のシリンダ２２との間に位置し、中央に開口を有する、円盤状をなす第一の中間板１２６と、（３）第二のシリンダ２２と第三のシリンダ１１２との間に位置し、中央に開口を有する、円盤状をなす第二の中間板１２８と、（４）第三のシリンダ１１２の頂部を形成する頂板１３０と、（５）第三のピストン１１４に固定され、このピストンとともに移動する上部プレート１３１とを備えている。また、第一のクランプ４０は、第一のシール３８の外周部を第一の中間板１２６の底部に固定し、第二のクランプ４６は、第二のシール４４の外周部を第二の中間板１２８の底部に固定し、第三のクランプ１１８は、第三のシール１１６の外周部を頂板１３０の底部にする。更に、この実施例では、（１）第一の中間板１２６は、第一のピストン２０の上方への過度の移動を防止する停止部材としても作用し、（２）第二の中間板１２８は、第二のピストン２４の上方への過度の移動を防止する停止部材としても作用し、（３）頂板１３０は、第三のピストン１１４の上方への過度の移動を防止する停止部材としても作用する。
【００４３】
本実施例では、ピストンコネクタ１６は、第一のピストン２０と第二のピストン２４及び第三のピストン１１４を機械的かつ強固に連結している。また、図３に示す実施例では、ピストンコネクタ１６は、（１）第一のピストン２０の頂部から第二のピストン２４の底部まで、第二のチャンバ４８を介して第二の軸２８に沿って延び、（２）第二のピストン２４の頂部から第三のピストン１１４の底部まで、第三のチャンバ１２０を介して第三の軸１２２に沿って延びている。また、この実施例では、ピストンコネクタ１６を構成する部材の一部が、第一のピストン２０、第二のピストン２４、及び第三のピストン１１４の一部を形成している。更に詳しくは、図３に示すように、ピストンコネクタ１６は、（１）第一のピストン２０の上部マウント８０から第二のピストン２４の底部まで延びる、円筒状をなす第一の連結シャフト１３２と、（２）第二のピストン２４の上部マウント８０から第三のピストン１１４の底部まで延びる、円筒状をなす第二の連結シャフト１３４と、（３）第三のピストン１１４と、第二の連結シャフト１３４と、第二のピストン２４と、第一の連結シャフト１３２ととに形成された中央連結開口部１３６内に延設されて第一のピストン２０に差し込まれ、これらピストン２０、２４、１１４を強固に連結する連結ボルト（図示せず）と、（４）第二のチャンバ４８の底部をシールする膜状をなす第一の連結シール１３８と、（５）第一の連結シール１３８の外周部を第一の中間板１２６の頂部に固定する第一の連結クランプ１４０と、（６）第三のチャンバ１２０の底部をシールする膜状をなす第二の連結シール１４２と、（７）第二の連結シール１４２の外周部を第二の中間板１２８の頂部に固定する第二の連結クランプ１４４とを備えている。
【００４４】
第一の連結シール１３８は、第一の連結シール１３８の他の部位を変形させることなく第一のピストン２０及び第二のピストン２４を移動可能とする円環状の溝を備えている。この構成では、第一の連結シール１３８により第二のチャンバ４８の底部がシールされるとともに、第一の連結シャフト１３２が第二のチャンバ４８を通って伸長可能となっている。同様に、第二の連結シール１４２は、第二の連結シール１４２の他の部位を変形させることなく第二のピストン２４及び第三のピストン１１４を移動可能とする円環状の溝を備えている。この構成では、第二の連結シール１４２により第三のチャンバ１２０の底部がシールされるとともに、第二の連結シャフト１３４が第三のチャンバ１２０を通って伸長可能となっている。また、ピストンコネクタ１６の上部プレート１３１が、流体マウント１０により支持される露光装置のような負荷を受けるようになっている。
【００４５】
本実施例では、第一のシール３８と第一の連結シール１３８との間に第一の中間チャンバ１４６が設けられるとともに、第二のシール４４と第二の連結シール１４２との間に第二の中間チャンバ１４８が設けられている。ここで、中間チャンバ１４６，１４８内の圧力は、流体マウント１０の動作に応じて調整可能となっている。例えば、中間チャンバ１４６，１４８内の圧力を制御するため、中間チャンバ１４６，１４８に連結する間隙調整機構１０２を設けてもよい。また、この間隙調整機構１０２により、中間チャンバ１４６，１４８内を真空にできることが望ましい。その結果、流体マウント１０の搭載荷重が増加するとともに、流体マウント１０の固有振動数が減少する。一方、例えば間隙調整機構１０２が中間チャンバ１４６，１４８内を加圧であってもよく、あるいは、中間チャンバ１４６，１４８内が外気と換気可能であってもよい。
【００４６】
また、本実施例では、チャンバ４２，４８，１２０間における流体の流通を可能とする流体コネクタ７６が、シリンダ１８，２２，１１２の壁部内に形成された流路とされている。
【００４７】
図４は、本発明の構成を備える露光装置３２の側断面図である。この露光装置３２は、装置フレーム３４と、照明系２０４（照射装置）と、レチクルステージ部２０６と、光学部材２０８（レンズアッセンブリ）と、ウエハステージ部２１０と、フレーム絶縁系３０と、レチクルステージ絶縁系２１４と、ウエハステージ絶縁系２１６と、光学部材絶縁系２１７と、測定系２１８とを備えている。また、フレーム絶縁系３０、レチクルステージ絶縁系２１４、ウエハステージ絶縁系２１６、及び／または光学部材絶縁系２１７には、一つ以上の流体マウント１０が使用可能とされている。
【００４８】
露光装置３２は、特に、レチクル２２０における集積回路のパターン（図示せず）を半導体ウエハ２２２のようなデバイス上に転写する転写装置として有用なもので、例えば地表、床、あるいは他の支持構造のような基礎３６上に載置されている。
【００４９】
装置フレーム３４は剛体製とされ、露光装置３２の部品を支持している。また、装置フレーム３４の構成は、露光装置３２の設計上の要求に合致するよう変更可能である。図４に示す装置フレーム３４は、光学部材２０８及び照明系２０４と、レチクルステージ部２０６と、ウエハステージ部２１０とを、基礎３６上に支持している。
【００５０】
照明系２０４は、光源２２６と照明光学系２２８とを備えている。光源２２６は、光エネルギーのビームを出射（投影）する。照明光学系２２８は、光源２２６からの光エネルギービームを光学部材２０８に導入するもので、このビームはレチクル２２０上の異なる箇所を選択的に照射し、半導体ウエハ２２２を露光する。図４において、光源２２６は、レチクルステージ部２０６の上方に位置しているが、通常は、装置フレーム３４の一方の側面に固定された光源２２６からのエネルギービームが、照明光学系２２８によりレチクルステージ部２０６の上方に誘導される。
【００５１】
光学部材２０８は、レチクルを通過した光をウエハに照射及び／または集束させるもので、露光装置３２の設計に応じ、レチクルにより照射された像を拡大または縮小可能となっている。
【００５２】
レチクルステージ部２０６は、レチクル２２０を光学部材２０８及びウエハ２２２に対し相対的に支持するとともに位置決めするもので、一般的には、レチクルステージ台２３０と、レチクル２２０を保持するレチクルステージ２３２と、レチクルステージ２３２をウエハ２２２に対し相対移動させるレチクルステージ移動部２３４とを備えている。レチクルステージ移動部２３４が、設計に応じ、レチクルステージ２３２を移動させる一つ以上のアクチュエータ及びモータを備えていてもよい。
【００５３】
また、ウエハステージ部２１０は、ウエハ２２２をレチクル２２０の照射部位にて投影される像に対し相対的に支持するとともに位置決めするもので、一般的には、ウエハステージ台２３６と、ウエハ２２２を保持するウエハステージ２３８と、ウエハステージ２３８を移動させるウエハステージ移動部２４０とを備えている。ウエハステージ移動部２４０が、設計に応じ、ウエハステージ２３８を移動させる一つ以上のアクチュエータ及びモータを備えていてもよい。
【００５４】
フレーム絶縁系３０は、装置フレーム３４を基礎３６に固定し、装置フレーム３４を振動させるような基礎３６の振動の影響を減少させるもので、本実施例では、（１）剛性を低下させて高い振動遮断性を得るよう互いに離間して配置された、装置フレーム３４の重量を支持する複数の流体マウント１０と、（２）互いに離間して配置された、装置フレーム３４の振動を遮断するとともに、基礎３６に対する装置フレーム３４の位置を制御する複数のアクチュエータ２４８とを備えている。
【００５５】
また、フレーム絶縁系３０における流体マウント１０及びアクチュエータ２４８の数は変更可能である。フレーム絶縁系３０は、例えば、互いに離間して配置された３個の流体マウントを備えている。
【００５６】
制御系７４は、ステージ部２０６，２１０における重心ずれのような低周波域での障害を相殺するために、流体マウント１０の圧力を能動的に調整することが望ましい。また、制御系７４は、個々の流体マウント１０の圧力を、装置フレーム３４が静止時または低周波数位置にある時に対応し、かつ剛性を低下させて高い振動遮断性を得るよう調整する。
【００５７】
アクチュエータ２４８は、基礎３６に対する装置フレーム３４の位置を、３自由度、より望ましくは６自由度で調節することが望ましい。また、アクチュエータ２４８の設計は変更可能である。図示の例では、個々のアクチュエータ２４８はボイスコイルモータ（ＶＣＭ）とされている。一方、個々のアクチュエータを、リニアモータ、電磁アクチュエータ、あるいは他のアクチュエータとしてもよい。制御系７４は、個々のアクチュエータ２４８に対する電流を管理、制御することにより、装置フレーム３４の振動を能動的に減衰させ、かつその位置を制御する。
【００５８】
基礎３６に対する装置フレーム３４の加速度及び位置は、一つ以上の位置及び／または加速度センサ（図示せず）によりモニタすることが望ましい。制御系７４は、これらのセンサからの情報により、基礎３６に対する装置フレーム３４の位置を調整、制御するよう、フレーム絶縁系３０を制御することが可能となる。
【００５９】
レチクルステージ絶縁系２１４は、レチクルステージ台２３０を装置フレーム３４に固定、支持させ、レチクルステージ台２３０を振動させるような装置フレーム３４の振動の影響を減少させるもので、本実施例では、（１）剛性を低下させて高い振動遮断性を得るよう互いに離間して配置された、レチクルステージ台２３０の重量を支持する複数の流体マウント１０と、（２）互いに離間して配置された、レチクルステージ台２３０の振動を遮断するとともに、装置フレーム３４に対するレチクルステージ台２３０の位置を制御する複数のアクチュエータ２５０とを備えている。
【００６０】
また、レチクルステージ絶縁系２１４における流体マウント１０及びアクチュエータ２５０の数は変更可能である。レチクルステージ絶縁系２１４は、例えば、互いに離間して配置された３個の流体マウントを備えている。
【００６１】
制御系７４は、低周波域での障害を相殺し、レチクルステージ台２３０が静止時または低周波数位置にある時に対応し、かつ剛性を低下させて高い振動遮断性を得るようするために、流体マウント１０の圧力を能動的に調整することが望ましい。
【００６２】
アクチュエータ２５０は、レチクルステージ台２３０の振動を能動的に減衰させ、かつその位置を制御する。アクチュエータ２５０は、レチクルステージ台２３０の位置を、３自由度、より望ましくは６自由度で調節することが望ましい。また、図示の例では、個々のアクチュエータ２５０はボイスコイルモータ（ＶＣＭ）とされている。一方、個々のアクチュエータ２５０を、リニアモータ、電磁アクチュエータ、あるいは他のアクチュエータとしてもよい。制御系７４は、個々のアクチュエータ２５０に対する電流を管理、制御することにより、上記振動を能動的に減衰させ、かつ位置を制御する。また、レチクルステージ台２３０のの加速度及び位置は、一つ以上の位置及び／または加速度センサ（図示せず）によりモニタすることが望ましい。制御系７４は、これらのセンサからの情報により、レチクルステージ台２３０の位置を調整、制御するよう、レチクルステージ絶縁系２１４と協同することが可能となる。
【００６３】
ウエハステージ絶縁系２１６は、ウエハステージ台２３６を装置フレーム３４に固定、支持させ、ウエハステージ台２３６を振動させるような装置フレーム３４の振動の影響を減少させるもので、上記したレチクル絶縁系２１４と同様の構成を有している。光学部材絶縁系２１７は、光学部材２０８を装置フレーム３４に固定、支持させ、光学部材２０８を振動させるような装置フレーム３４の振動の影響を減少させるもので、上記したレチクル絶縁系２１４と同様の構成を有している。
【００６４】
測定系２１８は、光学部材２０８に対するレチクルステージ２３２及びウエハステージ２３８の動きをモニタするもので、その設計は変更可能である。例えば、測定系２１８には、レーザ干渉系、エンコーダ、及び／またはレチクルステージ２３２及びウエハステージ２３８の動きをモニタする他の測定装置が使用可能である。
【００６５】
また、転写装置には、種々の異なるタイプのものがある。例えば、露光装置３２を、レチクルのパターンをウエハに露光し、かつレチクルとウエハとを同期移動させる走査型のフォトリソグラフィー装置に使用可能である。走査型のフォトリソグラフィー装置では、レチクルは、レチクルステージ部２０６により光学部材２０８の軸と直交する方向に移動し、ウエハは、ウエハステージ部２１０により光学部材２０８の軸と直交する方向に移動する。また、レチクル及びウエハへの走査は、レチクルとウエハとを同期移動させつつ行われる。一方、露光装置３２を、レチクルとウエハとを静止させた状態でレチクルを露光するステップ・アンド・スキャン型のフォトリソグラフィー装置に使用可能である。ステップ・アンド・スキャン型の場合、個々の範囲の露光中、ウエハは、レチクル及び光学部材２０８に対し一定の位置にある。連続する露光工程において、ウエハは、ウエハステージにより光学部材２０８の軸と直交する方向に連続的に移動し、その結果、ウエハにおける次の露光範囲が、レチクル及び光学部材２０８に対する露光位置に移動する。そして、この工程の後、レチクルのパターンがウエハに露光され、ウエハにおける次の露光範囲が、レチクル及び光学部材２０８に対して移動する。
【００６６】
しかしながら、本発明に係る露光装置３２の使用は半導体装置製造用のフォトリソグラフィーシステムに限定されず、例えば、液晶ディスプレイのパターンを矩形状のガラス板上に転写するＬＣＤフォトリソグラフィーシステムや、薄膜状磁気ヘッド製造用のフォトリソグラフィーシステムに使用可能である。また、本発明は、マスクを対象に接近させることにより、レンズアッセンブリを使用せずにマスクのパターンを露光する、近接型のフォトリソグラフィーシステムにも使用可能である。更に、本発明の流体マウント１０は、他の半導体製造装置、昇降装置、工作機械、金属切削工具、検査装置、あるいはディスクドライブのような、他の装置にも適用可能である。
【００６７】
光源２２６には、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（４６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、またはＦ２レーザ（１５７ｎｍ）等が使用可能である。一方、光源２２６に、ｘ線や電子ビームのような荷電粒子ビームを使用してもよい。電子ビームを使用する場合、電子銃として、熱電子放出型の六硼化ランタン（ＬａＢ６）またはタンタル（Ｔａ）が使用可能である。また、電子ビームを使用する場合、マスクを使用する構造としても、マスクを使用せず、基板に直接パターンを形成する構造としてもよい。
【００６８】
フォトリソグラフィーシステムにおける光学部材２０の倍率には、縮小系のみならず、等倍または拡大系も含まれる。また、エキシマレーザのような遠紫外線を使用した場合、光学部材２０として、石英や蛍石のような、遠紫外線を透過する晶材を使用することが望ましく、Ｆ２レーザやｘ線を使用した場合、光学部材２０には、反射屈折性または屈折性のものを使用することが望ましい（レチクルにも屈折性のものを使用することが望ましい）更に、電子ビームを使用した場合には、電子光学部材を電子レンズや電子デフレクタから構成することが望ましく、かつ電子ビームの光路を真空とする。
【００６９】
また、露光装置に波長２００ｎｍ以下の真空紫外線（ＶＵＶ）を使用した場合、反射屈折型の光学系の使用が考えられる。反射屈折型の光学系の使用は、特開平８−１７１０５４及び対応する米国特許Ｎｏ．５６６８６７２、並びに特開平１０−２０１９５及び対応する米国特許Ｎｏ．５８３５２７５に例示されている。これらの例において、ビームスプリッタと凹面鏡とを備えた反射屈折型の光学系として、反射光学装置が使用可能である。なお、特開平８−３３４６９５及び対応する米国特許Ｎｏ．５６８９３７７、並びに特開平１０−３０３９及び対応する米国特許出願Ｎｏ．８７３６０５（１９９７年１２月６日出願）では、凹面鏡を備え、ビームスプリッタのない、反射−屈折型の光学系が使用されているが、これらの装置も本発明に使用可能である。これら米国特許及び公開された日本出願の開示内容は、可能な限り本願に含まれる。
【００７０】
また、フォトリソグラフィーシステムにおいて、ウエハステージ及びマスクステージにリニアモータを用いた場合（米国特許Ｎｏ．５６２３８５３及び５５２８１００）、リニアモータには、空気ベアリングを用いた空気浮揚型のもの、あるいはローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮揚型のものが使用される。更に、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプであっても、ガイドのないガイドレスタイプであってもよい。米国特許Ｎｏ．５６２３８５３及び５５２８１００の開示内容は、可能な限り本願に含まれる。一方、これらのステージの一方が、二次元的に配置されたマグネットを備えるマグネットユニットと、これに対向して二次元的に配置されたコイルを備える電機子コイルとで発生した電磁気力によりステージを駆動するプレーナモータにより駆動されてもよい。この駆動系では、マグネットユニットと電機子コイルの一方がステージに取り付けられ、他方がステージの移動面側に取り付けられる。
【００７１】
上記のようなステージの移動は、フォトリソグラフィーシステムの動作に影響する反力を発生させる。ウエハ（基板）ステージの移動により発生した反力は、米国特許Ｎｏ．５５２８１００及び対応する特願平８−１３６４７５に示すように、フレームを介して機械的に床（地表）に逃がしてもよい。また、レチクル（マスク）ステージの移動により発生した反力は、米国特許Ｎｏ．５８７４８２０及び対応する特願平８−３３０２２４に示すように、フレームを介して機械的に床（地表）に逃がしてもよい。米国特許Ｎｏ．５５２８１００及び５８７４８２０、並びに特願平８−３３０２２４の開示内容は、可能な限り本願に含まれる。
【００７２】
上記の通り、上記実施例に係るフォトリソグラフィーシステム（露光装置）は、本願の請求項に挙げられる個々の構成を含む種々のサブシステムを、機械的精度、電気的精度、及び光学的精度が維持されるよう組み立てることにより構成されている。これら種々の精度を維持するため、個々の光学部材はその光学的精度を確保するよう調整され、同様に、個々の機械系及び個々の電気系はそれぞれ機械的、電気的精度を確保するよう調整される。個々のサブシステムを組み立ててフォトリソグラフィーシステムを形成する工程には、種々のサブシステム間における機械的接続や電気回路の配線、及び空気系統の配管等が含まれる。これらサブシステムは、これらサブシステムによるフォトリソグラフィーシステムの組立前に形成されていることは言うまでもない。サブシステムによりフォトリソグラフィーシステムを組み立てたら、フォトリソグラフィーシステム全体の精度を確認するための調整を行う。なお、露光装置の製造は、温度及び清浄度が制御されたクリーンルーム内で行うことが望ましい。
【００７３】
半導体デバイスは、上記のシステムを用い、図５に概略を示す工程により製造される。ステップ３０１では、デバイスの機能や性能を設計する。次のステップ３０２では、上記ステップに基づき、パターンを有するマスク（レチクル）を製造する。同時に、ステップ３０３では、シリコン材料からウエハを形成する。ステップ３０４では、上述した本発明に係るフォトリソグラフィーシステムを用いて、ステップ３０２で設計されたマスクのパターンをステップ３０３で得られたウエハに露光する。ステップ３０５（ダイシング工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程を含む）では、半導体デバイスを組み立てる。最後に、ステップ３０６にて、半導体デバイスを検査する。
【００７４】
図６は、半導体デバイスを製造する際における、上記したステップ３０４の詳細を例示するフローチャートである。図６において、ステップ３１１（酸化工程）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップ３１２（ＣＶＤ工程）では、ウエハの表面に絶縁皮膜を形成する。ステップ３１３（電極形成工程）では、蒸着によりウエハに電極を形成する。ステップ３１４（イオン注入工程）では、ウエハにイオンを注入する。これら３１１〜３１４で示す工程は、ウエハ製造工程中の、前処理工程となる。また、必要に応じ、個々の工程で、選抜を行ってもよい。
【００７５】
ウエハの処理に際しては、上記前処理工程の完了後、以下に示す後処理工程を行う。すなわち、ステップ３１５（フォトレジスト形成工程）では、ウエハ上にフォトレジストを形成する。次いで、ステップ３１６（露光工程）では、上記の露光装置を用い、マスク（レチクル）の回路パターンをウエハに転写する。ステップ３１７（現像工程）では、露光されたウエハを現像する。ステップ３１８（エッチング工程）では、フォトレジストの残存部分以外（露光された部分）を、エッチングにより除去する。ステップ３１９（フォトレジスト除去工程）では、エッチング後に残存する不要なフォトレジストを除去する。そして、上記前処理及び後処理工程を繰り返すことにより、複数の回路パターンが形成される。
【００７６】
ここに特に詳説した流体マウント１０及び露光装置３２によれば、上述したような目的及び効果を十分に達成または獲得することができるが、これらは単に本発明の好ましい実施例を提示したものに過ぎず、添付した請求項に述べる通り、その構成や設計の詳細は、これらに限定されないことはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１Ａ】本発明の構成を備える流体マウントの第一実施例を示す斜視図である。図
【図１Ｂ】図１Ａの流体マウントの分解斜視図である。
【図２Ａ】本発明の構成を備える流体マウントの第二実施例の断面を示す斜視図であ
【図２Ｂ】図２Ａの流体マウントの上方からの分解斜視図である。
【図２Ｃ】図２Ａの流体マウントの下方からの分解斜視図である。
【図３】本発明の構成を備える流体マウントの第三実施例の断面を示す斜視図である。
【図４】本発明の構成を備える露光装置の側断面図である。
【図５】本発明に係る装置の概略製造工程を示すフローチャートである。
【図６】上記概略製造工程の詳細を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００７８】
１０  流体マウント
１２  第一のサブシステム
１４  第二のサブシステム
１６  ピストンコネクタ
１８  第一のシリンダ
２０  第一のピストン
２２  第二のシリンダ
２４  第二のピストン
２６  第一の軸
２８  第二の軸
３２  露光装置
３４  装置フレーム
３６  基礎
４２  第一のチャンバ
４８  第二のチャンバ
７４  制御系
１０１  中間チャンバ
１１０  第三のサブシステム
１１２  第三のシリンダ
１１４  第三のピストン
１２０  第二のチャンバ
１２２  第三の軸
【図１Ａ】
2004525315.tif 000003
【図１Ｂ】
2004525315.tif 000004
【図２Ａ】
2004525315.tif 000005
【図２Ｂ】
2004525315.tif 000006
【図２Ｃ】
2004525315.tif 000007
【図３】
2004525315.tif 000008
【図４】
2004525315.tif 000009
【図５】
2004525315.tif 000010
【図６】
2004525315.tif 000011
【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
2004525315.tif 000053
2004525315.tif 000054