(57)【要約】ブタジエン対イソプレンのモル比が３：１未満である、不飽和ニトリル、ブタジエンおよびイソプレンのコポリマーの水素化物は、有用な低温特性を示す。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブタジエン対イソプレンのモル比が３：１またはそれ未満である、不飽和ニトリル、ブタジエンおよびイソプレンを含んでなる水素化コポリマー。
【請求項２】
ブタジエン対イソプレンのモル比が２：１またはそれ未満である請求項１に記載のコポリマー。
【請求項３】
ブタジエン対イソプレンのモル比が０．１：１以上である請求項１に記載のコポリマー。
【請求項４】
ブタジエン対イソプレンのモル比が０．５：１以上である請求項１に記載のコポリマー。
【請求項５】
ブタジエン対イソプレンのモル比が０．７５：１〜１：０．７５の範囲にある請求項１に記載のコポリマー。
【請求項６】
不飽和ニトリルがアクリロニトリルである請求項１〜５のいずれかに記載のコポリマー。
【請求項７】
不飽和ニトリルがメタクリロニトリルである請求項１〜５のいずれかに記載のコポリマー。
【請求項８】
コポリマーが３６％以下のニトリルを含む請求項１〜７のいずれかに記載のコポリマー。
【請求項９】
コポリマーが１５〜３０％のニトリルを含む請求項１〜７のいずれかに記載のコポリマー。
【請求項１０】
３０％以下の残存二重結合を有する請求項１〜９のいずれかに記載のコポリマー。
【請求項１１】
１０％以下の残存二重結合を有する請求項１０に記載のコポリマー。
【請求項１２】
ブタジエン対イソプレンのモル比が３：１以下である不飽和ニトリル、ブタジエンおよびイソプレンを共重合し、得られるコポリマーを選択的水素化に付すことを含んでなる請求項１〜１１のいずれかに記載の水素化コポリマーの製造方法。
【請求項１３】
選択的水素化を、触媒としてのロジウム含有化合物および助触媒配位子の存在下に行う請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
ロジウム含有化合物が、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリドであり、助触媒配位子がトリフェニルホスフィンである請求項１３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（技術分野）
本発明は、改良された低温特性を有する新規ニトリルゴムに関する。
【０００２】
（背景技術）
水素化ニトリルブタジエンゴム（ＨＮＢＲ）は、高引張強度、耐磨耗性、高耐油性および抗酸化性を含む独特の特性の組み合わせにより知られる、重要なエラストマーである。これらの重要な特性を低温で示すエラストマーに対する需要が増加している。自動車製造業者は、−４０〜＋１５５℃の温度範囲で使用可能なエラストマーを求めている。航空宇宙用途では、使用可能温度範囲が−６０℃または−７０℃まで引き下げられたエラストマーが要求されている。
【０００３】
低温で有用である既知のＨＮＢＲがある。良好な低温特性を有するＨＮＢＲが市販されている。Ｂａｙｅｒから販売されているＴｈｅｒｂａｎ（登録商標）ＸＮ５３５Ｃは、アクリロニトリル２１％、アクリル酸エステルおよびブタジエンからなり、５．５％の残存二重結合含量（ＲＤＢ）および−３８℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を有するターポリマーである。Ｔｈｅｒｂａｎ（登録商標）ＶＰ ＫＡ ８７９８は、０．９％未満のＲＤＢを有する他は類似の製品であり、これも−３８℃のＴｇを有する。
【０００４】
Ｂａｙｅｒ ＡＧの欧州特許４７１２５０（１９９２年２月発行）は、水素化ブタジエン／イソプレン／（メタ）アクリロニトリルコポリマーを開示している（その開示はここに参照して組み込む）。同特許は、ＨＮＢＲ（水素化度９７．１〜９８．６％、すなわちＲＤＢ２．９〜１．４％）のイソプレン変性が低温での圧縮永久歪を改良することを示している。同特許は、共重合されたイソプレン３．５〜２２質量％および、共重合されたアクリロニトリルまたはメタクリロニトリル１８〜５０質量％を含み、ポリマーのＣ＝Ｃ二重結合に基づき水素化度が少なくとも８５％（すなわち、ＲＤＢは１５％以下）を有するコポリマーを開示している。実施例は、アクリロニトリル含量３４．１％、３３．３％および３３．５％、およびイソプレン含量４．１％、７．９％および１２．０％で、各場合、残部がブタジエンであるコポリマーを使用している。イソプレンの水素化度は、それぞれ、８６．３％、８６．６％および８２．９％であった。
【０００５】
（発明の開示）
コポリマー含量を注意深く選択することにより、欧州特許４７１２５０に開示されたコポリマーと比較して、低温特性が顕著に改良されたエラストマーを得ることができることを見出した。驚くべきことに、本発明者らは、特にＧｅｈｍａｎおよび温度収縮試験により示される低温柔軟性の顕著な改良、および示差走査熱量計（ＤＳＣ）により確認される低下したガラス転移温度を見出した。
従って、本発明は、ブタジエン対イソプレンのモル比が３：１未満である、不飽和ニトリル、ブタジエンおよびイソプレンの水素化コポリマーを提供する。
【０００６】
驚くべきことに、水素化コポリマー中のブタジエン：イソプレンのモル比を小さくすることにより、ＨＮＢＲの他の特性に明らかな悪影響を与えることなく、低温特性の改良効果が得られることが見出された。前記欧州特許４７１２５０中で最も低いブタジエン：イソプレンモル比は、４．５：１よりも大きい。本発明によれば、ブタジエン：イソプレン比は、３：１未満、好ましくは２：１未満である。この比は、０．１：１まで低くできるが、好ましくは０．５：１以上である。良好な結果が１：１の比で得られ、好ましい範囲は、０．７５：１から１：０．７５の範囲である。
【０００７】
ブタジエンおよびイソプレンは合わせて、通常コポリマーの約５０〜８５％を構成し、ニトリルは通常コポリマーの約１５〜５０％を構成する。低温特性に関する本発明により、ニトリル含量は、通常３６％以下であり、好ましくは３０％以下である。低ニトリル含量のコポリマーは耐油性を失うので、ニトリル含量の通常の下限は１５％である。しかし、耐油性が重要でない用途に関して、低ニトリル含量（１０％または５％まで低下）のものは許容される。多くの用途には、１５〜２５％のニトリル含量が好ましい。
ニトリルは、通常、アクリロニトリル、メタクリロニトリルまたはα−クロロアクリロニトリルであり、なかでもアクリロニトリルが好ましい。
【０００８】
ポリマーは、通常約１０％を超えない程度の量の共重合可能な別のモノマー、例えば、不飽和酸のエステル（例えば、アクリル酸またはメタクリル酸のエチル、プロピルまたはブチルエステル）、或いは、ビニル化合物（例えば、スチレン、α−メチルスチレンまたはフェニル環にアルキル置換基を有する相当する化合物（例えば、ｐ−メチルスチレンなどのｐ−アルキルスチレン））を含んでもよい。他の共重合可能なモノマーは、α，β−不飽和酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、エタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸（無水物であってもよい）、フマル酸、イタコン酸）、他の共役ジエン（例えば、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエンおよびピペリレン）を含む。コポリマーは、好ましくは約６００００を超える、特に好ましくは約１０００００を超える分子量を有する固体である。
【０００９】
水素化されるコポリマーは、乳化重合または溶液重合などの既知の方法で製造され、統計的なポリマーを与える。コポリマーは、もっぱら炭素原子を含む主鎖を有して良い。コポリマーは、重合中に起こる共役ジエンの１，２−付加により、ビニル側鎖を有しても良い。コポリマーは、ジエンの１，４−付加により、主鎖に二重結合を含んでもよい。これらの二重結合の一部はシス配置であり、一部はトランス配置であってよい。これらの炭素−炭素二重結合は、ポリマー中に存在するニトリル基の水素化を伴わずに、本発明の方法により選択的に水素化される。カルボキシル基（α，β−不飽和酸由来）が存在するなら、好ましくは、これらは水素化されるべきでない。
【００１０】
ＮＢＲの水素化の方法は既知であり、本発明の水素化生成物の製造に使用してよい。ロジウムまたはチタンが一般に触媒として用いられるが、金属の形で白金、イリジウム、パラジウム、レニウム、ルテニウム、オスミウム、コバルトまたは銅を使用してもよいが、好ましくは金属化合物の形で使用する（例えば、ＵＳ３７００６３７、ＤＥ−ＰＳ２５３９１３２、ＥＰ１３４０２３、ＤＥ−ＯＳ３５４１６８９、ＤＥ−ＯＳ３５４０９１８、ＥＰ−Ａ２９８３８６、ＤＥ−ＯＳ３５２９２５２、ＤＥ−ＯＳ３４３３３９２、ＵＳ４４６４５１５およびＵＳ４５０３１９６参照）。
【００１１】
均一相での水素化に適した触媒および溶媒は、以下で説明するが、ＧＢ１５５８４９１（Ｂａｙｅｒ ＡＧ）およびＥＰ４７１２５０にも記載されている。本発明のための水素化に有用な触媒および溶媒を限定することは意図しておらず、これらは例示の目的にのみ提供される。
【００１２】
選択的水素化は、ロジウム含有触媒を用いて達成することができる。好ましい触媒は、式：
【化１】
（ＲｍＢ）ｌＲｈＸｎ
［式中、各Ｒは、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル基、Ｃ４〜Ｃ８−シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５−アリール基またはＣ７〜Ｃ１５−アラルキル基であり、Ｂはリン、ヒ素、硫黄またはスルホキシド基Ｓ＝Ｏである。Ｘは水素またはアニオン、好ましくはハロゲンイオン、より好ましくは塩素または臭素イオンである。ｌは２、３または４であり、ｍは２または３であり、ｎは１、２または３、好ましくは１または３である。］
で示される。
【００１３】
好ましい触媒は、トリス（トリフェニルホスフィン）−ロジウム（Ｉ）クロリド、トリス（トリフェニルホスフィン）−ロジウム（ＩＩＩ）クロリドおよびトリス（ジメチルスルホキシド）−ロジウム（ＩＩＩ）クロリド、および式（（Ｃ６Ｈ５）３Ｐ）４ＲｈＨで示されるテトラキス（トリフェニルホスフィン）ロジウムハイドライド、並びにそれらのトリフェニルホスフィン部分をトリシクロヘキシルホスフィン部分により置換した相当する化合物である。触媒は、少量で使用することができる。ポリマーの質量に基づき、０．０１〜１．０質量％、好ましくは、０．０３〜０．５質量％、特に好ましくは、０．１〜０．３質量％の範囲の量が適している。
【００１４】
式：ＲｍＢ［式中、Ｒ、ｍおよびＢは、先に定義したとおりである。ｍは好ましくは３である。］で示される配位子である助触媒と共に、触媒を使用することが知られている。好ましくは、Ｂはリンであり、Ｒ基は、同一でも異なっていてもよい。従って、トリアリール、トリアルキル、トリシクロアルキル、ジアリールモノアルキル、ジアルキルモノアリール、ジアリールモノシクロアルキル、ジアルキルモノシクロアルキル、ジシクロアルキルモノアリールまたはジシクロアルキルモノアリール助触媒を用いることができる。助触媒配位子の例は、米国特許４６３１３１５に開示され、その開示は参照により組み込まれる。好ましい助触媒配位子は、トリフェニルホスフィンである。助触媒配位子は、コポリマーの質量に基づき、好ましくは０．３〜５質量％、より好ましくは０．５〜４質量％の範囲の量で用いられる。ロジウム含有触媒化合物の助触媒に対する質量比は、好ましくは１：３〜１：５５、より好ましくは１：５〜１：４５の範囲である。助触媒の量は、ゴム１００質量部に基づき、適切には０．１〜３３、より適切には０．５〜２０、好ましくは１〜５、特に好ましくは２より大きく５未満の範囲である。
【００１５】
水素化反応は溶液中で実施することができる。溶媒は、ブタジエンニトリルゴムを溶解可能なものであるべきである。この制限により、未置換脂肪族炭化水素の使用は排除される。適当な有機溶媒は、６〜１２個の炭素原子のハロゲン化芳香族化合物を含む芳香族化合物である。好ましいハロゲンは塩素であり、好ましい溶媒は、クロロベンゼン、特にモノクロロベンゼンである。使用可能な他の溶媒は、トルエン、ハロゲン化脂肪族化合物（特に塩素化脂肪族化合物）、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトンなどのケトン、テトラヒドロフラン、およびジメチルホルムアミドを含む。溶媒中のポリマーの濃度は特に臨界的ではないが、適当には１〜３０質量％、好ましくは２．５〜２０質量％、より好ましくは６〜１５質量％、特に好ましくは１０〜１５質量％の範囲である。溶液の濃度は、水素化されるコポリマーゴムの分子量に依存してよい。より高分子量のゴムは、溶解がより困難であり、そのため低濃度で用いられる。
【００１６】
反応は、１０〜２５０ａｔｍ、好ましくは５０〜１００ａｔｍの広い圧力範囲で行うことができる。温度範囲は広くてもよい。６０〜１６０℃、好ましくは１００〜１６０℃の温度が適当であり、１１０〜１５０℃が好ましい。これらの条件下で、水素化は通常約３〜７時間で完了する。好ましくは、反応はオートクレーブ中で攪拌しながら実施される。
【００１７】
炭素−炭素二重結合の水素化は、ポリマーの様々な特性、特に耐酸化性を改良する。存在する炭素−炭素二重結合の少なくとも７０％を水素化することが好ましい。ある用途のためには、全ての炭素−炭素二重結合を除去することが望ましく、二重結合の全てまたは少なくとも９９％を除去するまで水素化を実施する。しかし、ある別の用途のためには、ある程度の残存炭素−炭素二重結合が要求され、例えば結合の９０〜９５％が水素化されるまで、反応を実施してもよい。水素化度は、ポリマーの赤外分光分析または１Ｈ−ＮＭＲ分析により決定される。
【００１８】
ある状況において、水素化度をヨウ素価測定により決定できる。これは、とくに正確な方法ではなく、トリフェニルホスフィンの存在下で使用することはできないから、ヨウ素価の使用は好ましくない。
どのような条件およびどの程度の反応時間が特定の水素化度を得るのに必要かは、ルーチン実験により決定することができる。水素化反応を、予め特定した水素化度で停止させることが可能である。水素化度はＡＳＴＭ Ｄ５６７０−９５により決定することができる。Ｄｉｅｔｅｒ Ｂｒｕｅｃｋ， Ｋａｕｔｓｃｈｕｋ ＋ Ｇｕｍｍｉ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅ， Ｖｏｌ ４２， Ｎｏ ２／３ （１９８９）を参照されたい。
【００１９】
水素化混合物からポリマーを取り出すために、混合物をある適当な方法により処理することができる。一つの方法は、溶媒を留去することである。別の方法は、スチーム導入に続いて、ポリマーを乾燥させることである。別の方法は、ポリマーを凝固させるためにアルコールを加えることである。
米国特許４９８５５４０中に記載されているように、触媒は、ロジルムを吸着する樹脂カラムを使って回収することができる。
【００２０】
本発明の水素化イソプレン・ニトリル・ブタジエンゴム（ＨＩＮＢＲ）は架橋することができる。すなわち、ＨＩＮＢＲは、硫黄または硫黄含有加硫剤を用いて既知の方法で加硫することができる。硫黄加硫は、架橋として働く硫黄原子の添加に対してポリマー中で反応部位として働く不飽和炭素−炭素二重結合がいくらか存在することを必要とする。従って、ポリマーを硫黄架橋する場合は、所望の残存二重結合数を有する生成物を得るために、水素化度を制御する。多くの目的にとって、最初存在した二重結合の量に基づき、約３〜４％の残存二重結合（ＲＤＢ）を有する水素化度が適当である。
【００２１】
過酸化物架橋剤により、既知の方法でＨＩＮＢＲを架橋することができる。過酸化物架橋は、ポリマー中に二重結合を必要とせず、硫黄含有架橋ではなく炭素含有架橋を与える。過酸化物架橋剤としては、ジクミルペルオキシド、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、過酸化ベンゾイル、２，２’−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）ジイソプロピルベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）ヘキシン−３、および２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルペルオキシ）ヘキサンなどが挙げられる。それらは、ゴム１００質量部あたり、約０．２〜２０質量部、好ましくは１〜１０質量部の量で適切に使用される。
【００２２】
本発明のＨＩＮＢＲは、通常の配合剤、例えば、カーボンブラックまたはシリカなどの充填剤、熱安定剤、抗酸化剤、酸化亜鉛または過酸化亜鉛などの活性化剤、硬化剤、助剤、プロセス油、およびエキステンダーなどのいずれかと配合されてよい。そのような化合物および助剤は当業者に既知である。
【００２３】
本発明の水素化コポリマーの低温特性は、それらを多くの特定の用途に適合させる。それらは、ベルト、ホースおよびエンジンマウントなどのマウントを含む、ボンネット内部の自動車用途の厳しい条件に適している。ロール、特に高硬度ロール用途（例えば金属加工ロール、製紙工業用ロール、印刷ロールおよび繊維ロール用エラストマー成分）を挙げることができる。低いスエルと耐爆発分解性のために、流動（特に攻撃的な添加剤による流動）に対する耐性により、本発明の水素化コポリマーは、シール用途および油井特殊品に有用である。それらは、厳しい環境下で卓越した機械特性と高い柔軟性を要求されるワイヤーおよびケーブル用途においても有用である。それらは、制振剤およびトルクストラットにおける使用にも適している。
【００２４】
（実施例）
以下の（非限定的な）実施例により本発明を更に説明する。
実施例１
アクリロニトリル、ブタジエンおよびイソプレンの様々なコポリマーを、種々のＲＤＢ値まで水素化し、その後、示差走査熱量計（ＤＳＣ）にかけた。
水素化反応は、実験室において下記条件下、２ＵＳガロンＰａｒｒ高圧反応器内で実施した。
【表１】
2004506087.tif 000002
【００２５】
結果を表２に示す。
【表２】
2004506087.tif 000003
（１）ガラス転移温度をＤＳＣ（中点）により決定した。
（２）融解エンタルピー−大きい値は望ましくない結晶性を意味し、小さい値は良好な結果を意味する。ゼロ値は、非晶質ポリマー（結晶性なし）を意味する。値はＤＳＣにより決定した。
（３）残存二重結合含量を１Ｈ−ＮＭＲ分光により決定した。
前記の注記（１）、（２）および（３）は、実施例２の表３に示した結果にも同様に適用する。
【００２６】
サンプルＤおよびＥは比較例であり、イソプレンを含まない。サンプルＤは、市販のブタジエン／アクリロニトリル／アクリレートターポリマー Ｔｈｅｒｂａｎ（登録商標）ＸＮ ５３５Ｃである。サンプルＥは、４．７％のＲＤＢを有するアクリロニトリル１７％およびブタジエン８３％の水素化コポリマーである。
特に、実施例１は、１：１のＢＤ：ＩＰ比を有するサンプルＢが、市販の低温ポリマーである比較サンプルＤよりも低いＴｇ値を有することを示している。
【００２７】
実施例２
アクリロニトリル、ブタジエンおよびイソプレンのコポリマーを、３つの割合のアクリロニトリル、すなわち、１９％、２３％および２５％、および３つのブタジエン対イソプレン比（ＢＤ／ＩＰ）、すなわち、３：１、２：１および１：１で製造し、その後種々のＲＤＢ値に水素化した。結果を表３に示す。サンプルＦ〜Ｋは本発明によるものであり、サンプルＤを再び比較サンプルとして用いた。
【００２８】
【表３】
2004506087.tif 000004
【００２９】
組成について表１のサンプルＢと比較することのできるサンプルＫは改良されたＴｇ値を示し、実施例１の表１の結果を追認している。
イソプレンはブタジエンよりも水素化が容易でなく、ポリマーのイソプレン含量が増すにつれて、水素化はより困難になる。所望のＲＤＢを達成するためには、触媒量の増加、より長い反応時間、またはその両方が必要である。サンプルＩ、ＪおよびＫの水素化の詳細を表４に示す。
【００３０】
【表４】
2004506087.tif 000005
【００３１】
実施例３
実施例１のＨＩＮＢＲを配合して、過酸化物硬化に供した。用いた配合量を表５に示す。
【表５】
2004506087.tif 000006
【００３２】
硬化コンパウンドの低温特性を表６に示す。サンプルＡ、ＢおよびＣは、実施例１からのものであり、本発明によるものである。サンプルＤ、Ｅ（実施例１より）およびＴｈｅｒｂａｎ（登録商標）Ｃ３４６７は比較例である。
【表６】
2004506087.tif 000007
【００３３】
表６は、１／１のＢＤ対ＩＰ比を有する、１３質量％（サンプルＣ）または２０質量％（サンプルＢ）のアクリロニトリルを含むＨＩＮＢＲサンプルが、低温で非常に低い永久圧縮歪を有することを示している。ＡＣＮ１５質量％のサンプル（サンプルＡ）中の高いブタジエン含量が、高い永久圧縮歪の値の原因である。
１３および２０質量％のＡＣＮを含むＨＩＮＢＲサンプルは、Ｇｅｈｍａｎ試験結果から分かるように、最良の低温特性を発現している。両サンプルは、１／１のＢＤ／ＩＰ比を有している。低温での柔軟性を阻害する低温結晶性の故に、１５質量％ＡＣＮのＨＩＮＢＲサンプル（サンプルＡ）では、Ｇｅｈｍａｎ温度がより高い。
【００３４】
Ｇｅｈｍａｎ試験は、−７０℃〜室温の間で捩れ角を測定することにより、加硫ゴムの相対的剛性特性を決定する。最初の測定を室温で実施する。その後、サンプルを−７０℃に冷却し、昇温しながら捩る。Ｔ２値は、サンプルの硬さが二倍になる（または、サンプルが元の角度の１／２である）温度である。
【００３５】
実施例４
実施例２のＨＩＮＢＲサンプルを配合し、過酸化物硬化に供した。配合は、表７に示す。
【表７】
2004506087.tif 000008
【００３６】
サンプルＪの処方で、用いたＤｉａｋ＃７（５ｐｈｒ）およびＤｉｃｕｐ ４０ＫＥ（９．４ｐｈｒ）の量を変化させた。
サンプルの１７０℃でのＭＤＲ硬化挙動および応力歪データを表８に示す。
【表８】
2004506087.tif 000009
デルタトルクにより測定される硬化の状態は、現行の市販Ｔｈｅｒｂａｎ（登録商標）グレードとの比較である。
低温柔軟性−Ｇｅｈｍａｎ試験および温度収縮率（ＴＲ）を表９に示す。
【表９】
2004506087.tif 000010
サンプルＫは、Ｇｅｈｍａｎ試験中、最も低い温度に達している。温度収縮試験も、Ｔｈｅｒｂａｎ（登録商標）ＸＮ５３５Ｃの−３２℃の値と比較して、−４１℃のＴＲ１０値を与えるサンプルＫの改良された低温柔軟性特性を支持している。温度収縮試験において、ゴム試験片を５０％（それを固定することにより）まで引き伸ばし、続いて、それをエタノール／ドライアイス浴中（−７０℃）で冷却する。その後、浴の温度を１℃／分で昇温する。試験片がそのもとの形の１０、３０、５０および７０％に収縮する温度を記録することにより、弾性収縮を測定した。
【００３７】
表１０中で、サンプルＫの特性をＴｈｅｒｂａｎ（登録商標）ＸＮ ５３５Ｃと比較する。
【表１０】
2004506087.tif 000011
【００３８】
破断点延び（％）は若干低下したが、本発明のＨＩＮＢＲの低温特性は、低温用途用の現行市販グレードの水素化ニトリルゴムよりも改良されている。
【００３９】
３：１またはそれ未満のブタジエン：イソプレン比を有する水素化ニトリル／イソプレン／ブタジエンコポリマーにより、下記の利点が得られる：
・改良され、低下したガラス転移温度（熱分析、ＤＳＣによる非晶ポリマー）
・低温での改良された永久圧縮歪
・増加した低温柔軟性
【００４０】
本明細書で用いるｐｈｒは、ゴム１００質量部あたりの部を意味し、当業者に一般に理解されている。さらに、本明細書で用いるコポリマーなる用語は、２種、３種またはそれ以上のモノマーからなるポリマーを包含することを意図している。
【国際公開パンフレット】
2004506087.tif 000012
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2004506087.tif 000030
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【国際調査報告】
2004506087.tif 000032
2004506087.tif 000033
2004506087.tif 000034