(57)【要約】装置（１）は、水をＲＦプラズマからの波に晒す。これにより、１クラスター当たり約４分子を下回るクラスターサイズを特徴とする「活性水」を連続的に生成することができ、水は、ｐＨが４を下回り或いは１０を上回り、ＯＲＰが−３５０ｍＶを下回り或いは＋８００ｍＶを上回る。プラズマの基本周波数は０．４４ＭＨｚから４０．６８ＭＨｚであることが好ましく、プラズマは１０ｋＨｚから３４ｋＨｚの周波数で変調されることが好ましい。一般に、流量は２０リットル／時から約２０００リットル／時である。ワークテーブル、床、壁、ナイフ、輸送および例えば食肉加工設備や病院の他の面の抗菌清掃を含む多くの目的に活性水を使用することができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線周波数の波を発生させる波発生器と処理容器とを備える装置であって、
前記処理容器が、十分な時間の間水を波に晒すことにより、平均クラスターサイズが１クラスター当たり４分子を下回る、測定ｐＨが４を下回る、測定ｐＨが１０を上回る、測定ＯＲＰが−３５０ｍＶを下回る、測定ＯＲＰが＋８００ｍＶを上回るという特徴のうちの、少なくとも１つの特徴を有する処理水を生成する、装置。
【請求項２】
前記周波数が、１０ｋＨｚから３４ｋＨｚである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記処理水の第１の部分を、４を下回るｐＨで前記容器の第１の出口から排出し、前記処理水の第２の部分を、１０を上回る測定ｐＨで前記容器の第２の出口から排出する、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
少なくとも２０リットル／時の速度で前記処理水が、前記容器を通過することを許容する流路を更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記流路が、少なくとも２０００リットル／時の速度で処理水の前記容器の通過を許容する、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記波発生器が、プラズマ発生器を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記プラズマ発生器が、基本周波数が０．４４ＭＨｚから４０．６８ＭＨｚのコールドプラズマを生成する、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記プラズマが、１０ｋＨｚから３４ｋＨｚの変調周波数に晒される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記処理水の第１の部分を、４を下回るｐＨで容器の第１の出口から排出し、前記処理水の第２の部分を、１０を上回る測定ｐＨで容器の第２の出口から排出する、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
バクテリア群を有する表面を清浄する方法であって、
水の測定ｐＨを４を下回る値に変化させるＲＦエネルギ源に水を晒し、
バクテリア群の少なくとも８０％を殺菌する条件下で、前記変化させた水を前記表面に適用する、方法。
【請求項１１】
前記表面が、食肉加工設備に置かれる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記表面が、医療設備に置かれる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
測定ｐＨが、４を下回る或いは１０を上回る連続的に処理された水。
【請求項１４】
少なくとも９９．９ｗｔ％のＨ２Ｏを含む、請求項１３に記載の水。
【請求項１５】
９９．９ｗｔ％を下回るＨ２Ｏを含む、請求項１３に記載の水。
【請求項１６】
前記測定ｐＨが、２．５を下回る、請求項１３に記載の水。
【請求項１７】
前記測定ｐＨが、１１．５を上回る、請求項１３に記載の水。
【請求項１８】
測定酸化還元電位（ＯＲＰ）が、−３５０ｍＶを下回る或いは＋８００ｍＶを上回る連続的に処理された水。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
発明の分野は水処理である。
【０００２】
【従来の技術】
液体および固体の形態を成す水は、明らかに、自然状態においては、独立したＨ２Ｏ分子としてではなく、約１０から２４個のＨ２Ｏ分子から成るクラスターとして存在する。幾つかの化学反応中および化学反応の直後においては、中間体として、一時的に、液体状態および略真空状態で単分子の水が明らかに存在し得る。しかしながら、気体状ではない大量の水においては、水がそのようなクラスターを形成する傾向はかなりある。絶えず形成されて壊される多数の水素結合によってクラスターが互いに保持されているというのが、現在の学説である。水のクラスターは、水素結合に影響を及ぼす多数の要因によってサイズが変化すると考えられている。
【０００３】
ここでは、平均サイズが１クラスター当たり５から６個の水分子しか有さないのものとして定義される小クラスター（ＳＣ）の水は、多くの有用な特徴を有していると報告されている。特に、小クラスターの水は、食べ物の味を向上させ、消化管を通じた薬および食物の吸収を速め、腸内での突然変異原の形成および腸内微生物および消化管組織細胞の活動を低下させることにより癌を防止すると言われている。これについては、ツノダら（Ｔｓｕｎｏｄａ  ｅｔ  ａｌ．）に対して付与された米国特許第５８２４３５３号明細書（１９９８年１０月）を参照のこと。ツノダらおよびここで扱われる他の全ての刊行物は、これら全てを参照することにより、本願に組み込まれる。
【０００４】
小クラスターの水を生成するのに、電気的、磁気的、化学的、音響的な方法が使用されてきた。すなわち、電気的および磁気的な方法は、一般に、接近した間隔で設けられた電極を通過する水流を含んでいる。その例は、いいずれもイボット（Ｉｂｂｏｔｔ）に対して付与された米国特許第５３８７３２４号明細書（１９９５年２月）および米国特許第６１６５３３９号明細書（２０００年１２月）に記載されている。通常、場の強さは、電極または磁石を互いに移動させることにより調整される。これについては、ボガティンら（Ｂｏｇａｔｉｎ  ｅｔ  ａｌ．）に対して付与された米国特許第５８６６０１０号明細書（１９９９年２月）を参照のこと。他の例では、場の強さは、水の経路を変更することにより調整される。これについては、磁場を貫通する湾曲管について述べたストラスウィッツ（Ｓｔｒａｃｈｗｉｔｚ）の米国特許第５６５６１７１号明細書（１９９７年８月）を参照のこと。いずれもロレンツェン（Ｌｏｒｅｎｚｅｎ）に対して付与された米国特許第６０３３６７８号明細書（２０００年３月）および米国特許第５７１１９５０号明細書（１９９８年１月）には、蒸気に磁場を横切らせることによりクラスターの減少した水を生成することが記載されている。
【０００５】
化学的な方法は、一般に、電解液および極性化合物を加えることを含んでいる。ツノダらに対して付与された米国特許第５８２４３５３号明細書は、１００ｐｐｍ以上の濃度のカリウムイオンを使用することにより、クラスタサイズが減少した水を生成することを教示している。この場合、生成されるクラスター水は、カリウムイオンとマグネシウムイオンとカルシウムイオンとを含んでおり、これらの重量比は、カリウムイオン：マグネシウムイオン：カルシウムイオン＝１：０．３から４．５：０．５から８．５である。他の化学的な方法は、界面活性剤の使用、および、１種類の分子をキャビティ内すなわち他の種類の格子内に封入するクラスレート構造の使用を含んでいる。これについては、ジョンソンら（Ｊｏｈｎｓｏｎ  ｅｔ  ａｌ．）に対して付与された米国特許第５９９７５９０号明細書（１９９９年１２月発行）を参照のこと。
【０００６】
音響的な方法は、一般に、水を超音波に晒すことを含んでいる。これについては、ジョンソンらに対して付与された米国特許第５９９７５９０号明細書（１９９９年１２月発行）を参照のこと。
【０００７】
現在、日本の会社は、５から６分子のクラスターザイズを有する水を生成すると言われる水浄化システムを販売している。このシステムは、マイクロウォーター（登録商標）という名前で市場に出されており、水道水に電極を通過させる。陽極の近傍を通過した水は、酸性になる傾向がある。この会社の文献では、酸性水（酸化された或いは超酸化された水と称されている）はまな板を殺菌し、簡単な傷を治す酸化剤として役に立つと報告されている。他の提示された用途は、スポーツ選手の足、軽い火傷、虫刺され、擦り傷、床擦れ、手術後の傷を治すことである。また、この会社の文献では、酸性水を農業に使用して菌類および他の植物の病気を殺菌することも報告されている。陰極の近傍を通過する水は、アルカリ性になる傾向がある。アルカリ水（還元水と称される）は、体内で摂取されると有益であると言われている。このような水は、硫化水素、アンモニア、ヒスタミン、インドール、フェノール、スカトール等の代謝体を直接減らすことにより、消化管内の過剰な発酵を抑制すると言われている。
【０００８】
デグチら（Ｄｅｇｕｃｈｉ  ｅｔ  ａｌ．）に対して付与された米国特許第５６２４５４４号明細書（１９９７年４月）は、このようなシステムを開示している。デグチらは、流れを酸化してｐＨを４．５まで下げ、流れを還元してｐＨを９．５まで上げることを連続的に行なうことができると主張しているが、ｐＨが２．５から３．２またはｐＨが１１．５から１２．５の水を長い時間にわたって連続的に生成することができないと主張している。これらの限界は、周知の方法および装置ではクラスターサイズを、約４分子／クラスターを下回るまで効果的に減少させることができないことに起因すると考えられる。
【０００９】
したがって、１クラスター当たり４分子を下回るクラスターサイズの多量の水、ｐＨが４を下回り或いは１０を上回る多量の水、ＯＲＰが−３５０ｍＶを下回り或いは＋８００ｍＶを上回る多量の水を連続的に生成することができる方法および装置を提供する必要性がある。これらの特徴を有する水は、周知の水よりも十分に活性が高い。したがって、そのような活性が高い水を生成できる方法および装置を提供する必要性が引き続きある。
【００１０】
【特許文献１】
米国特許第５８２４３５３号明細書
【特許文献２】
米国特許第５３８７３２４号明細書
【特許文献３】
米国特許第６１６５３３９号明細書
【特許文献４】
米国特許第５８６６０１０号明細書
【特許文献５】
米国特許第５６５６１７１号明細書
【特許文献６】
米国特許第６０３３６７８号明細書
【特許文献７】
米国特許第５７１１９５０号明細書
【特許文献８】
米国特許第５９９７５９０号明細書
【特許文献９】
米国特許第５６２４５４４号明細書
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、１クラスター当たり約４分子を下回るクラスターサイズを有する水、あるいは、ｐＨが４を下回り或いは１０を上回る水、または、ＯＲＰが−３５０ｍＶを下回り或いは＋８００ｍＶを上回る水を連続的に生成する方法および装置を提供する。用語「連続的に生成する」および「連続的に生成された」は、本明細書では、これらの特徴を有する水を１つの装置によって少なくとも１時間の間、少なくとも８００ｍｌ／分で中断無く生成できることを意味するために使用される。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
好ましいクラスの装置は、水をＲＦプラズマからの波に晒す。プラズマの基本周波数は０．４４ＭＨｚから４０．６８ＭＨｚであることが好ましく、また、プラズマは１０ｋＨｚから３４ｋＨｚの周波数で変調されることが好ましい。一般に、２つの出口が使用され、一方の出口は、測定ｐＨが４を下回る酸性水を排出し、他方の出口は、測定ｐＨが１０を上回るアルカリ水を排出する。一般に、流量は２０リットル／時から約２０００リットル／時の範囲であるが、複数の構成およびサイズの装置も考えられ、これによって、流量を少なくしたり多くしたりすることができる。
【００１３】
ワークテーブル、床、壁、ナイフ、輸送および他の面の抗菌清掃を含む多くの目的に活性水を使用することができる。特に、食肉加工設備および病院での使用が考えられる。
【００１４】
本発明の様々な目的、特徴、態様、利点は、本発明の好ましい実施形態に関する以下の詳細な説明および添付図面から一層明らかになる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図１において、一般に、活性水生成器１は、１つの入口２０と２つの出口２２、２４を有し、プラズマ発生器３０を取り囲む、容器１０を備える。プラズマは、荷電粒子と、中性粒子と、集積効果を呈する磁場とから成る導電性の集合体である。プラズマ発生器３０は、「コールド」タイプのプラズマ装置であることが好ましく、この「コールド」という用語は、ここでは、１００００°Ｋよりも低い温度のイオン化原子から成るガスを意味するために使用される。容器１０とプラズマ発生器３０との間に配置された膜４０は、内部空間１２と外部空間１４とを規定する。プラズマ発生器３０を作動させると、第１の水流５２が、入口２０から容器１０内に入り、内部空間１２を通って流れ、出口２２で容器から排出される。また、第２の水流５４は、入口２０から容器１０内に入り、外部空間１４を通って流れ、出口２４で容器から排出される。
【００１６】
容器１０は、適当な任意のサイズおよび形状であっても良く、ただ処理される水がその所望の特性を生成する条件下でプラズマからのエネルギに晒されれば良い。したがって、図１の容器１０は断面が円形である略円筒状を成しているが、他の適当な容器で、多角形、楕円、あるいは、他の水平断面を有していても良い。例えば、容器のキャビティがわずか約２００ミリリットル以下である小さなユニットも考えられる。一方、少なくとも１０リットルの内容積および２００ミリリットルから１０リットルの内容積を有する大きなユニットも考えられる。別途定めない限り、範囲には、ここでは、定められた終点を含むと見なされる。容器１０は、腐食作用を低減するため、ステンレス鋼３１６によって構成されていることが好ましいが、例えばチタン、タンタル、チタンでコーティングされたステンレス鋼、モリブデン、プラチナ、イリジウム等といった、強度および耐久性が十分にある任意の材料を使用することもできる。複数の水生成器を用いて水を並行して或は連続的に処理しても良い。
【００１７】
任意の適当な方法で、水をプラズマ放射に晒すことができる。これは、水を、プラズマ発生器３０を通過して流すことによって有利に行なうことができるが、バッチモードで行なうこともできる。例えば、プラズマ発生器を水が蓄えられた容器内に配置し、水が十分に処理された後にプラズマ発生器を取り除いても良い。このような状況下においては、その場で、すなわち、水を土中或は何か他の物質中で処分する場所で、汚染水を処理するのに使用しても良い。汚染は、バクテリア、ウイルス、寄生虫、あるいは、他の微生物が殺され、または、不活性化される、生物学的なもの、あるいは、酸化、還元、酵素破壊などによって化学物質が無害化される、化学的なものであっても良い。また、水は、最終的に使用される場所外でバッチモードで処理されても良い。
【００１８】
処理される（すなわち、活性化される）水が、実質的に任意の実用的な純度を有していても良いと考えられる。水を処理するのに好ましい水は、約９５％から９９．９９％のＨ２Ｏを含むが、Ｈ２Ｏが９５％、９０％、８５％、８０％や、５０％さえをも下回る水も考えられる。水道水は、一般的には、約９５％から９９．９９％のＨ２Ｏを含むと考えられており、処理のための良好な水源であると見なされる。蒸留水は、溶解塩を殆ど含んでおらず、あるいは、全く含んでいないため、あまり適していない。処理される水が幾らかの導電性を有している場合には、標準的なマッチングネットワークシステムを使用して、プラズマパラメータと水パラメータとを一致させることは容易である。この場合、ＲＦ電力発生器の効率は最大であり、反射された出力は最小である。
【００１９】
この特定の例において、プラズマ発生器３０は、ガス３４と、ＲＦ電極３６と、複数の外部電極３８とを有する石英チューブ３２を備えている。チューブ３２は、約６０ｍｍから約５００ｍｍの長さであればどのような長さであっても良く、あるいは、それよりも長くても良い。ガス３４は、例えばアルゴン、アルゴン＋ヘリウム、アルゴン＋ネオン、ネオン＋ヘリウム＋アルゴンを含む任意の適当なプラズマガスであり、ここで、１００Ｔｏｒｒを下回る圧力を意味する、低圧に保持される。図１の実験装置で使用されるガスは、アルゴンであり、約１０Ｔｏｒｒの圧力で満たされる。幾つかの実験データを表１に示す。
【表１】
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【００２０】
あるいは、プラズマ発生器は、「オープン」圧力すなわち作動圧力が最大１気圧であっても良く、または、高い作動圧力、例えば最大５０気圧の圧力で封入されていても良い。
【００２１】
電極３６、３８は、容器１０と同じタイプの材料によって形成されていることが好ましいが、他の任意の適当な材料によって形成することも考えられる。安全のため及び他の理由で電気的に接地された容器１０とＲＦ電極３６との間に第１の電圧５００Ｖを印加し、これにより、基本周波数が０．４４ＭＨｚから４０．６８ＭＨｚの波を発生し、発生した波がプラズマとなるガス３４を刺激する。第２の電圧１００ＶをＲＦ電極３６と外部電極３８との間に印加し、１０ｋＨｚから３４ｋＨｚでプラズマを変調する波を発生する。
【００２２】
当業者であれば、図１の好ましい実施形態に対して、プラズマを生成するが、多数の変形が可能であることを認めるであろう。例えば、石英チューブをパイレックス（登録商標）に取って代えても良く、外部電極３８の数は図示した数より多くても少なくても良く、外部電極同士の間隔は異なっても良い。外部電極３８は、放射線が水へ逃げることができるように穴があいていなければならない。結果として得られるプラズマが、容器１０を通過する水に対して所望の効果を達成するのに十分な周波数および出力のエネルギーを与えることができれば、他の基本周波数および変調周波数を使用しても良い。
【００２３】
膜４０は、イオンを透過させることができるが、その限度内で、膜４０は多くの様々なタイプの材料によって形成することができる。シリカ系、酸化ジルコニウム系、酸化イットリウム系等をベースとするセラミック材料を含む、孔の多い材料および孔の少ない材料が考えられる。イオン交換によりｐＨの勾配を得ることができるように、ある程度の多孔性が必要である。図１の実験版においては、膜の長さが約３００ｍｍであった。この長さは、プラズマチャンバの長さよりも約２０％長い。
【００２４】
膜４０は、プラズマ発生器３０の出力およびシステムの設計流量に基づいて寸法付けられた隙間分だけ、プラズマ発生器３０および容器１０から離間している。図１の実験版において、膜４０とプラズマ発生器３０との間の隙間は２．５ｍｍであり、膜４０と容器１０との間の隙間は約１．５ｍｍである。容器１０を通過する水の流量（すなわち、入口から入って、いずれかの出口から出る）は、約７リットル／分である。
【００２５】
膜４０は、外部電極３８のほぼ全長にわたって延びることが好ましいが、それよりも短くても良く、あるいは、長くても良く、実際には、全長にわたっては必要ではない。膜４０の主な目的は、ｐＨが低い水とｐＨが高い水とを分けることにより、これらの水を異なる出口から排出させることである。このような分離が重要でない場合には、単一の出口（図示せず）を使用しても良く、また、膜４０を省いても良い。しかしながら、処理された水が依然として低いクラスターサイズを有し、クラスターサイズが減少するにつれて水の活性が高まることが分かっているため、利益を得ることができる。微小クラスター水（ｖｅｒｙ  ｓｍａｌｌ  ｃｌｕｓｔｅｒ  （ＶＳＣ）  ｗａｔｅｒ）とは、ここでは、クラスター当たりの水分子の数が４つを下回る平均クラスターサイズを有する水のことを意味するものとして規定される。用語「平均クラスターサイズ」とは、ここでは、水の容積におけるクラスターサイズの算術平均を意味するために使用される。単分子（ＭＭ）水とは、ここでは、クラスター当たりの水分子の数が２つを下回る平均クラスターサイズを有する水を意味するものとして規定されており、極めて活性であると見なされる。ＶＳＣ水およびＭＭ水は共に、通常の水（クラスター当たりの分子数が１０から２４個）またはＳＣ水（クラスター当たりの分子数が５から６個）よりも十分に活性が高い。
【００２６】
当業者であれば分かるように、図１の装置を拡大または縮小することができる。例えば、図１の装置は、別途、その全長が約１００ｃｍ、膜とプラズマ発生器との間の隙間が約７ｍｍ、膜と容器との間の隙間が約３ｍｍであると見なすこともできる。そのような装置は、少なくとも１２００リットル／時の速度でＶＳＣ水またはＭＭ水を連続的に生成することができる。さらに、これよりも更に大きな装置も考えられる。
【００２７】
ここに説明した装置および方法を使用すれば、非常に活性が高い水、または、極めて活性が高い水を生成することができると考えられる。これは、水のクラスターを分解する周波数で、あるいは、それに近い周波数でプラズマが動作するためである。理論上は、このような周波数は、処理される水の中に存在する不純物に応じて若干変化すべきであり、それは、正に見出されるものである。実験のための水源として、米国の複数の都市からの水道水を使用し、所与の変調周波数が異なる結果を生むことが分かった。したがって、活性水生成器１は、クラスターの分解を高めるように「調節」されることが好ましい。そのような調節は、容器１０から排出される処理水流の一方の酸化還元電位を測定するＯＲＰ計測器の出力を観察しつつ、変調周波数およびバイアス電圧を変化させることにより有利に行なうことができる。クラスターの分解は、プラスの測定電位を最大に、またはマイナスの測定電位を最小にしようとすることにより、最適化されると考えられる。実験において、ニューヨーク市の水道水の活性は、約２２．７ｋＨｚの変調周波数で最適化されると思われる。シカゴ地域の水道水の活性は、約２１．６ｋＨｚの変調周波数で最適化されると思われる。ロサンゼルス市の水道水の活性は、約２１．０ｋＨｚの変調周波数で最適化されると思われる。ここで、外部電極３８にマイナス電圧によってバイアスをかけると、出口２２から排出される処理水は、１．８から４のｐＨおよび＋９００ｍＶから＋１１５０ｍＶのＯＲＰを有することが明らかになった。クラスターサイズは、１から３分子／クラスターであると見積もられた。外部電極３８にプラス電圧によってバイアスをかけると、出口２２から排出される処理水は、９から１１のｐＨおよび−６８０ｍＶから＋１００ｍＶのＯＲＰを有することが明らかになった。クラスターサイズは、再び、１から３分子／クラスターであると見積もられた。
【００２８】
ここで説明した、非常に活性化された水および極めて活性化された水は、活性水に関して既に知られる全ての態様において有用であると考えられる。特に、ｐＨが約３を下回る水、または、ｐＨが約１２を上回る水は、抗菌効果において有用であり、バクテリア、ウイルス、または他の微生物が問題であると考えられる任意の表面上で有利に使用することができる。そのような水を使用して、例えばワークテーブル、床、壁、ナイフ、輸送、および食肉加工工場における他の表面を有利に処理することができる。有利に処理できる他の考えられる表面には、病院、医師の事務所、または他の医療設備、ならびに化粧室、および血液および糞尿が存在する他の場所における表面が含まれる。抗菌剤として有効となるためには、適用後４５秒以内にバクテリアの少なくとも５０％を殺し或は不活性にすることが好ましいが、適用後１分以内にバクテリアの少なくとも７０％、８０％、更には９０％を殺し或は不活性にすることがより好ましい。アルカリ水、特に少なくともｐＨが１０である水は、還元特性を有するために、有用であると考えられる。したがって、そのような水は、酸化によって生じる変色の劣化を遅らせるのに役立つため、食品処理において有用となるかもしれない。劣化を遅らせる能力は、摂取すると、人間および他の動物の健康促進に有用である。そのような水は、工場散水に有利に使用できる。
【００２９】
実験結果によれば、室温において、ここで教示された内容にしたがって処理された水は、生成後、数時間の間、「活性」を維持することができるが、その後、最長で１から２日以内に普通の水に戻る。時間に伴いｐＨの劣化として得られる、この戻りプロセスは、水の温度を低下させることによって遅らせることができる。冷凍すれば、少なくとも数週間、「活性」水が通常の水に戻ることを防止できると思われる。また、結晶粘土鉱物を加えることにより、少なくとも酸性水の戻りを防止することも考えられる。これについては、デグチらに対して付与された米国特許第５６２４５４４号明細書（１９９７年４月）を参照のこと。また、メタシリケート塩安定剤を使用することにより、活性水を安定させることができる。これについては、ロレンツェンに対して付与された米国特許第６０３３６７８号明細書（２０００年３月）を参照のこと。無論、殺菌剤、あるいは、他の方法で水を使用することは、特定の資質を「攻撃し」、そのような資質を殆ど直ちに破壊し得る。
【００３０】
以上のように、微小クラスター（ＶＳＣ）水および単分子（ＭＭ）水の特定の実施形態および用途を開示してきた。しかしながら、当業者であれば分かるように、ここに示した本発明の概念から逸脱することなく、前述した以外に多くの変形が可能である。したがって、本発明の主題は、頭書の請求の精神以外では、限定されない。さらに、明細書および請求の範囲の両方の解釈においては、文脈に沿い可能な限り広く全ての用語を解釈するべきである。特に、用語「備え、備える」は、包括的な態様で要素、構成要素、またはステップを参照するものとして解釈されるべきであり、参照した要素、構成要素、またはステップが、特に参照されない他の要素、構成要素、またはステップと共に、存在し、あるいは、使用され、あるいは、組み合わされても良いことを示すものとして解釈されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】
活性水生成器の垂直方向の断面図である。
【符号の説明】
１  活性水生成器
１０  容器
１２  内部空間
１４  外部空間
２０  入口
２２、２４  出口
３０  プラズマ発生器
３２  石英チューブ
３４  ガス
３６  ＲＦ電極
３８  外部電極
４０  膜
５２  第１の水流
５４  第２の水流
【図１】
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【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004517725.tif 000019
2004517725.tif 000020
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004517725.tif 000021
2004517725.tif 000022
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004517725.tif 000023
2004517725.tif 000024
【手続補正書】
【提出日】平成14年9月11日(2002.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線周波数の波を発生させる電波発生器と処理容器とを備える装置であって、
処理容器が、十分な時間の間水を波に晒すことにより、平均クラスターサイズが１クラスター当たり４分子を下回る、測定ｐＨが４を下回る、測定ｐＨが１０を上回る、測定ＯＲＰが−３５０ｍＶを下回る、測定ＯＲＰが＋８００ｍＶを上回るという特徴のうちの少なくとも１つの特徴を有する処理水を生成し、
処理水の第１の部分を容器の第１の出口から排出し、処理水の第２の部分を容器の第２の出口から排出する、装置。
【請求項２】
前記周波数が、１０ｋＨｚから３４ｋＨｚである、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１の部分を、４を下回るｐＨで前記容器から排出し、前記第２の部分を、１０を上回る測定ｐＨで容器から排出する、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
少なくとも２０リットル／時の速度で前記処理水が、容器を通過することを許容する流路を更に備える、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記流路が、少なくとも２０００リットル／時の速度で処理水の前記容器の通過を許容する、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記波発生器が、プラズマ発生器を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記プラズマ発生器が、基本周波数が０．４４ＭＨｚから４０．６８ＭＨｚのコールドプラズマを生成する、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記プラズマが１０ｋＨｚから３４ｋＨｚの変調周波数に晒される、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記第１の部分を、４を下回るｐＨで容器から排出し、前記第２の部分を、１０を上回る測定ｐＨで容器から排出する、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
バクテリア群を有する表面を清浄する方法であって、
水の測定ｐＨを４を下回る値に変化させるＲＦエネルギ源に水を晒し、
バクテリア群の少なくとも８０％を殺菌する条件下で、前記変化させた水を前記表面に適用し、
前記処理水の第１の部分を前記容器の第１の出口から排出し、前記処理水の第２の部分を前記容器の第２の出口から排出する、方法。
【請求項１１】
前記表面が、食肉加工設備に置かれる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記表面が、医療設備に置かれる、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
水を晒す工程が、測定ｐＨが４を下回る或いは１０を上回る水を連続的に生成することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
少なくとも９９．９ｗｔ％のＨ２Ｏを含む、請求項１３に記載の水。
【請求項１５】
９９．９ｗｔ％を下回るＨ２Ｏを含む、請求項１３に記載の水。
【請求項１６】
前記測定ｐＨが２．５を下回る、請求項１３に記載の水。
【請求項１７】
前記測定ｐＨが１１．５を上回る、請求項１３に記載の水。
【請求項１８】
前記水を晒す工程が、測定酸化還元電位（ＯＲＰ）が−３５０ｍＶを下回る或いは＋８００ｍＶを上回る水を連続的に生成することを含む、請求項１に記載の方法。
【国際調査報告】
2004517725.tif 000025
2004517725.tif 000026