(57)【要約】【課題】量子計算、量子メモリ、及び量子情報処理の目的のために利用できる拡張性のある半導体量子ドット装置が提供される。【解決手段】本発明によれば、半導体量子ドット装置は、基板、バックゲート電極層、量子井戸層、量子井戸層とバックゲートの間のトンネル障壁層、及び量子井戸層の上の障壁層を持った複層半導体構造を含む。複層半導体構造上には複数の離間された電極ゲートが形成される。この電極ゲートは、その下に量子ドットが定義される領域により互いに離間されている。電極へ適当な電圧を加えると、量子ドットの発展と適当な位置付けが可能になり、ドット間の適当な結合により多数の量子ドットを直列に形成することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）半導体基板、バックゲート電極、量子井戸層、量子井戸層とバックゲート層との間のトンネル障壁層、及び量子井戸層の上の上側障壁層を含んだ複層半導体構造と、
（ｂ）前記複層半導体構造上に形成された複数の離間した電極ゲートであって、互いに離間した領域の下に量子ドットが定義できる前記電極ゲートと、
を含んだ半導体量子ドット装置。
【請求項２】
（ａ）半導体基板、バックゲート電極、量子井戸層、量子井戸層とバックゲート層との間のトンネル障壁層、及び量子井戸層の上の上側障壁層を含んだ複層半導体構造と、
（ｂ）前記複層半導体構造上に形成された複数の離間した電極ゲートであって、互いに離間した領域の下に量子ドットが定義できる前記電極ゲートと、
（ｃ）前記バックゲート電極に接続されてそこにバイアス電圧を供給するためのバイアス電圧源及び前記電極ゲートの１つ又は複数へ選択された電圧を加えるために接続された電圧源と、
を含んだ半導体量子ドット装置。
【請求項３】
前記複層半導体構造がヘテロ構造である請求項１又は２に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項４】
前記半導体構造がトップ層としてキャツピング層を含み、前記ゲートがキャツピング層上に形成される請求項１又は２に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項５】
前記キャツピング層がシリコンから形成される請求項４に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項６】
前記キャツピング層がガリウム砒素から形成される請求項４に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項７】
少なくとも２対の対向する前記ゲートを含む請求項１又は２に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項８】
前記半導体基板がシリコン・ゲルマニウムから形成され、前記バックゲート層がドープされたシリコン・ゲルマニウムから形成され、前記障壁層がシリコン・ゲルマニウムから形成された請求項１又は２に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項９】
前記障壁層上にトップ層として形成されたキャツピング層がシリコンから形成され、キャツピング層上に前記ゲートが形成される請求項８に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項１０】
前記量子井戸層が、１つの層がシリコン・ゲルマニウム及び別の層がゲルマニウムの２つの半導体材料の層を含む請求項８に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項１１】
前記量子井戸層が、純粋なシリコンから形成される請求項８に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項１２】
前記シリコン・ゲルマニウム障壁層が、歪み緩和のために勾配を持つシリコン・ゲルマニウム組成でもって形成される請求項８に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項１３】
前記障壁層の組成が分離したステップの勾配を持つ請求項１２に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項１４】
前記量子井戸層が約６ｎｍの厚さを持ち、前記障壁層が１０乃至２０ｎｍの範囲内の厚さを持つ請求項８に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項１５】
前記半導体基板がガリウム砒素から形成され、前記バックゲートがドープされたガリウム砒素から形成され、前記障壁層がアルミニウム・ガリウム砒素から形成された請求項１又は２に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項１６】
前記障壁層上にトップ層として形成されたキャツピング層がガリウム砒素から形成され、前記ゲートがキャツピング層上に形成される請求項１５に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項１７】
前記量子井戸層がガリウム砒素から形成される請求項１５に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項１８】
前記量子井戸層が約１５ｎｍの厚さを持ち、前記障壁層が１０乃至３０ｎｍの範囲内の厚さを持つ請求項１７に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項１９】
前記バックゲート電極に接続されてそこにバイアス電圧を供給するためのバイアス電圧源及び前記電極ゲートの１つ又は複数へ選択された電圧を加えるために接続された電圧源とをさらに含んだ請求項１に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項２０】
電荷の変化を検出するためにゲートに結合された電荷センサーを含む請求項２又は１９に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項２１】
前記電荷センサーが、前記量子ドット装置の前記ゲートに電気的に接続したゲートを持つＦＥＴを含む請求項２０に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項２２】
前記電極ゲートが互いに１０ｎｍ乃至５０ｎｍの範囲の距離で離間されている請求項１又は２に記載の半導体量子ドット装置。
【請求項２３】
量子ドットの配列を含み、前記電極ゲートが量子ドット間の位置に延びてキュービットを絞るように内側に延びた部分を持つゲートを含み、そして、各量子ドットの互いの反対側から離間した位置に延びる電極ゲートをさらに含む請求項１又は２に記載の半導体量子ドット装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、半導体装置の分野及び半導体装置内で実行される量子計算法に関する。
【背景技術】
【０００２】
量子計算は、計算プロセスを実行するために量子粒子を利用する。量子情報の基本的単位は、量子ビット又はキュービットと呼ばれる。キュービットは同時にゼロ及び１の両方であることができる。一例は電子のスピンである。上又は下スピンが、ゼロ又は１に対応し、また、状態の重ね合せは同時に上及び下の両方である。電子を用いた計算は本質的にゼロ及び１について同時的な演算を実行する。量子計算の実験的な進歩は核磁気共鳴（ＮＭＲ）とイオントラップ・システムにおいて最も速い。このようなシステムでの僅かなキュービット量子計算の成功は、多数のキュービットへ拡張できる量子計算スキームの緊急の必要性を示している。ソリッド・ステート・キュービットは、主要な候補の１つである。ソリッド・ステート量子計算機についた数多くの提案がなされている。これらの提案は原子核スピンを、キュービットとして使用することを含むもの（非特許文献１）、及び、電子スピンを量子ドットとして使用するもの（非特許文献２）である。
【０００３】
【非特許文献１】
ビー・イー・ケイン、「シリコンベースの原子核スピン量子計算機」、ネイチャー、Ｖｏｌ．３９３（６６８１）、１９９８、ｐｐ．１３３−１３７
【非特許文献２】
デイビンセンゾ等、「量子計算機及び量子コヒーレンシー」、ジャーナル・オブ・マグネテズム・アンド・マグネテイック・マテリアルズ、Ｖｏｌ．２００、（１−３）、１９９９、ｐｐ．２０２−２１８
【０００４】
これらの提案されたシステムの潜在的な問題は、個々の不純物スピン、及び量子ドットの読取り方法とゲート操作を含む。
【０００５】
スピンは、空間的に均一な無線周波数（すなわち、ＧＨｚの周波数）と組合せられた強いＤＣ磁場を使用して操作できる。小さなｇ要素勾配の存在で、スピンは個別にアドレスできる。１つのスピンを他と絡み合わせることは、スピン間の障壁をゲーテイングすることにより発生できる。これは時間依存交換相互作用、Ｈ（ｔ）＝Ｊ（ｔ）Ｓ1・Ｓ2、を発生する。これらの操作を２つのキュービットについて適当な順番で作用させる組合せは、制御されたＮＯＴゲート（Ｃ−ＮＯＴ）を生ずる（非特許文献３参照）。
【０００６】
【非特許文献３】
アール・ビリジェン等、「量子計算のための電子スピン共鳴トランジスタ及びシリコンゲルマニウム・ヘテロ構造」、フイジックス・レビューＡ（原子、分子、及び光物理）、Ｖｏｌ．６２（１）、２０００、ｐｐ．０１２３０６／１−１０
【０００７】
量子計算はまた、ｇ要素チューニング及びｇ要素チューニングが可能とする高周波数放射を介しての個別のスピン回転なくして実行できる。その代わり、時間依存交換相互作用、Ｈ（ｔ）＝Ｊ（ｔ）Ｓ1・Ｓ2、がコードされたキュービットと組合せて使用できる。非特許文献４には１つのキュービットがいくつかの個別のスピンの全波動関数により表わされている。このようにして、交換相互作用のみでユニバーサルな量子計算が可能である。
【０００８】
【非特許文献４】
ディ・ピー・デイビンセンゾ、ディー・ベーコン、ジェー・ケンプ、ジイー・バーカード、ケー・ビー・ウェレイ、ネイチャー（ロンドン）４０８、３３９（２０００）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明によれば、電子量子ドット半導体装置は、量子計算、量子メモリ、及び量子情報処理のような目的のために利用できる。本発明は、固体中に個別の電子を捕獲し、これら電子を互いに近くに持って来て、電子の位相干渉性（コヒーレンス）を維持し、そして電子のスピンの個別の回転を可能にするために半導体へテロ構造中に実現できる。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によれば、半導体量子ドット装置は、量子井戸、バックゲート電極、及び複数の離間された表面電極ゲートを有する複層半導体構造を含む。電極ゲートは、その下に量子ドットが定義される領域により互いに離間される。トンネル障壁層がバックゲートと量子井戸との間に設けられ、そして障壁層が量子井戸層の上に形成される。電極へ適当な電圧を加えると、量子ドットの発展と適当な位置付けが可能になる。本発明によるこの構成は、各々が少なくとも１つの電子を含む多数の量子ドットを量子ドット間の適当な結合と直列的に形成でき、多数のキュービットを用いた量子計算を可能にする。本発明の実施の形態の量子計算機に加えて、本発明は単一電子トランジスタなど及び１つ又は数少ない電子の制御が望ましい集積回路などの他の応用においても実現できる。
結合された量子ドットの生成を可能にするヘテロ構造と分割された上ゲートは、集積回路を横断して電子を伝えるためにも使用される。この動作モードにおいて、個別の電子が、例えば、量子メモリの読取りを可能にする一続きの装置内を通過して移動できるチャンネルを提供するために、本発明は量子井戸内のポテンシャルの局所的なチューニングを提供する。
本発明のさらなる目的、特徴及び利点は添付図面を参照した以下の詳細な説明から明らかとなるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明は、多くの隣接ドット間の結合を同時に可能にするような態様で、半導体中に単一電子量子ドット又はいくつかの電子量子ドットの製造ができる。本発明は、量子計算のためのスピンに基づいたキュービットを提供し、そして小さな量子ドット中の個別のスピン状態の測定を可能にする。本発明は、量子ドット・セルラオートマタなどの低占量子ドット結合について利点を提供し、そして隣接ドット間のトンネリングを可能にするため複数の単一電子又は全ドットを一緒に結合することを可能にする。
【００１２】
図１の３０により本発明による量子ドット相互作用を提供する典型的な半導体装置が一般的に示される。そして、図２、図３、図４の断面図に装置３０の材料システムの例が示されている。図１の装置は、半導体構造３１を含み、その上に複数の表面電極ゲート３２及び３３が形成される。すなわち、少なくとも１つの３２及び１つのゲート３３が、図１に示すように、ゲート間領域３４により互いに分離され、複数の分離されたゲート３２及び３３が２つの量子ドット３６及び３７を定義するために利用できる。量子ドット３６及び３７は、チューニング可能な結合領域３８により分離されている。図２、図３、図４の断面図に示されるように、半導体構造３１は好ましくは、実効基板４０、高ドープ及び導電性バックゲート４１、及びバックゲート上に形成されたトンネル障壁４２を含んだヘテロ構造である。第１量子井戸層４４及び、選択的に、第２量子井戸層４５が下側障壁層４２と上側スペーサー又は障壁層４７（例えば、３０ｎｍ厚さ）の間に形成される。
【００１３】
代替的に、図３及び図４に示すように、層４４及び４５は単一層４４に結合できる。この場合、単一層（４４、４５）の構成は、スピン・コヒーレンスを最大にするため又はバンドオフセットを精密調整するために選ぶことができる。例えば、Ｓｉのキャツピング層４８が、上側層障壁４７上に形成され、そして、例えば、金又は他の金属で形成されたゲート（ゲート３３が図２に示される）がキャツピング層４８の上に堆積される。ここで使用されるヘテロ構造は、一つ又は複数の層内に電子又は正孔を閉じ込めることができるように選択された一連のエピタキシャル層である。エピタキシャルとは、層間のインターフェイスにおいて結晶構造が中断されないことを意味する。
【００１４】
上述の半導体へテロ構造内の各層はさまざまな材料から形成される。例えば、基板、バックゲート、及びトンネル障壁は全てＳｉＧｅから形成できる。量子井戸の二重の層は、ＳｉＧｅの第１層とＧｅの第２層から形成できる。代替的に、スピン・コヒーレンスを最大にするために１００％Ｓｉの単一層から形成でき、又は、バンドオフセットの精密調整のためにＳｉＧｅの層から形成できる。最後に、キャツピング層はＳｉの層から形成できる。図２及び図３にこのような実施の形態が示されている。代替的に、基板、バックゲート、及び量子井戸は各々がＧａＡｓから形成でき、そしてトンネル障壁及び上側スペーサー層がＡｌＧａＡｓから形成できる。この構成では、ＧａＡｓのキャツピング層が上側障壁４７上に形成される。図４は、このような半導体へテロ構造を示す。図２−４に複層ヘテロ構造３１の典型的な層厚と組成が示されている（寸法は等しくない）。これらの材料システムは、説明の目的のために示されていて、他の材料システムも使用できることが理解できる。好ましくは、量子井戸層４５とヘテロ構造の上のゲート３２及び３３の間の間隔は約３０乃至５０ｎｍの範囲である（例えば、図２−４では３３ｎｍとして示される）。そして、ゲート電極３２と３３の間、そして隣接電極３２と隣接電極３３の間、の好適な間隔は約１０ｎｍ乃至５０ｎｍの範囲である。
【００１５】
装置３０のキュービットは、量子ドット３６と３７の中の単一電子（又は、いくつかの電子）のスピンである。ヘテロ構造３１は、層及び装置表面に対して垂直な方向に電子を閉じ込めるＳｉＧｅ電界効果型トランジスタ（ＦＥＴ）構造を提供する。これに対してゲート３２と３３は横方向の閉じ込めを提供する。読み出し可能制御ＮＯＴ（Ｃ−ＮＯＴ）ゲートは、ドットの間に約１００ｎｍの分離を持ち行に配された３つのこのようなドットを使用する。全てのドットは、フィールドの熱的緩和により、「上」状態として準備できる。第１ドット３６は制御ドット（ＤＯＴ１）であり、第２ドット３７は目標ドット（ＤＯＴ２）である。２つのドットは、ＧＨｚパルスを使用して個別に操作できる。２つのドット間の障壁が部分的に下げられる時、スピン−スピン相互作用、Ｈ（ｔ）＝Ｊ（ｔ）Ｓ1・Ｓ2（Ｓ1はＤＯＴ１のスピン、Ｓ2はＤＯＴ２のスピン）は、Ｊ（ｔ）が選択できるように調整される。この相互作用は、２つのドットのスピンをからみ合わせる。そして、Ｊ（ｔ）は、ユニバーサル制御ＮＯＴゲートを含む１組の操作の実行を可能にするため、単一キュービット操作と同様に制御できる。第３ドット（ＤＯＴ３、図１には示されていない）は読み出しドットとして機能する。もし、ＤＯＴ１とＤＯＴ３の間の障壁が下げられると（相対的に大きな量）、ＤＯＴ２からＤＯＴ３へのトンネリングが誘起される。トンネリングを誘起するのに必要なエネルギーの測定は、ＤＯＴ２がスピン上向き又はスピン下向き状態にあったかを決定する。この測定は、量子計算の最終的読出しを可能にするのに十分であるという意味において、「強い」。この構成は、標準のリソグラフイ技術を使用して多数のドット（例えば、何十、何百又はそれ以上）に拡大できる。
【００１６】
明確にするため、用語「ゲート」は異なるタイプの構造を指すためにここで使用されることに注意する。表面ゲート３２及び３３は、電界効果型トランジスタのゲートの様に動作する半導体表面上の金属膜である。表面ゲートは大変小さい寸法、例えば、横方向の大きさが４０ｎｍ又はそれ以下、でパターン付けできる。バックゲート４１は、量子ドットの下のドープされた層であり、ドットを静電気的に定義するために金属（高い導電性）板として動作する。それは、ドット中の電子又は正孔の源でもある。表面ゲート及びバックゲートは共に物理的存在である。量子ゲートは量子ビット（キュービット）に適用される操作である。量子ゲートはこれらの操作をいい、量子ゲートの効果を達成するために１つのキュービットに加えられる電圧パルスの物理的一続きに適用できる。量子ゲートの一例は、制御ＮＯＴゲート、又は、Ｃ−ＮＯＴゲートである。
【００１７】
本発明はいくつかの利点を有する。いくつかの従来のソリッド・ステート設計とは異なり、本発明は個々の電子をキュービットとして束縛するのに不純物を使用しない。その代わりに、単一電子占有に最適化された新しいタイプの量子ドットを使用する。これは、実際に行なうのが困難で確かめられていない製造技術を必要とするゲートを未知の位置の不純物に整列させる必要がないために重要である。これに加えて、各キュービットはポテンシャル井戸に閉じ込められた電子又は正孔であり、この井戸は垂直方向にバンド端エンジニアリングで形成され、横方向に静電気ゲートにより形成される。本発明においては、トンネル結合バックゲート４１が半導体構造３１中に組込まれており、次の最近のドット又は横方向電子貯蔵への横方向距離に関係なくドットについてのキャリア数のチューニングを可能にして、これにより頑強な単一の又はいくつかの電子量子ドット（人工的不純物）を可能にする。さらに、本発明は好ましくはキュービットを定義するためにデプレション・ゲート（ゲート３２及び３３）を使用する。これらのデプレション・ゲートは、最終キュービットを暴露するためにバックゲートを介して後で後ろに押された連続的な導電層を覆う。本デザインの対称性は、各キュービットの閉じ込め井戸の位置を調節することにより、キュービットの横方向のシフトを可能にして、キュービット間のクーロン交換結合の制御を可能にする。
【００１８】
本発明は、バンド構造エンジニアリングが一続きの層のバンドギャップの歪み操作又は組成により実行できるどんな半導体へテロ構造中にでも実現できる。
本発明は、その個々のキュービットを測定及び取扱う能力により、成功的にソリッドステート量子計算装置の要件を満足する。測定及び取扱いは個々のキュービットを検出するのに十分に感度が高く、無視できる程度のクロス汚染で隣り合うキュービットを取扱うことができるように十分に局所化され、そしてエラー修正が効率的であるように個々のキュービットに対する干渉性の消失時間と高速に比較できる。
【００１９】
キュービットの状態は、ソリッド・ステート環境にある単一スピンの状態である。このようなスピンのそれらの磁気モーメントのみによる検出は現在は実用的でない。本発明においては、個々の電荷の検出は、共に個々の電子の電荷を検出するのに十分な感度を持つ低雑音電界効果型トランジスタ又は単一電子トランジスタを使用して実行できる。電界効果型トランジスタ（ＦＥＴ）は大規模製造に対する自然な選択である。単一電子トランジスタは単一のリソグフイック工程で製造できるため、研究のための製造については実際に簡単である。
【００２０】
ソリッド・ステート・スピン・キュービットの取扱いは２つのプロトコルを介して進められる。単一量子ドット・キュービット量子計算は２つのプロセスを含む：個々のスピンの回転、及び既知の相互作用強度における特定の時間内の交換クーロン相互作用を介して隣接スピンの結合。コード化されたキュービット量子計算は、交換クーロン相互作用のみが必要とされて単一スピン回転を必要としないという利点を持つため、単一キュービットを表わすためにいくつかの量子ドットを用いる。
【００２１】
個別スピンの取扱いは、各スピンのｇ要素をチューニングすることにより、例えば、シリコン（ｇ≒２）及びゲルマニウム（ｇ≒１．６）中の電子について異なるｇ要素を利用することにより、達成できる。図２のキュービット装置３０において、電子は緩和ＳｉＧｅ閉じ込め障壁４２と４７を持つシリコン量子井戸４４−４５中に閉じ込められる。大部分がＳｉの量子井戸中にＧｅの小さな垂直勾配を加えることが可能である。キュービットの電子数を変えるのに不十分なゲート電圧の小さな変化であっても、全ての他のキュービットに関して電子スピン共鳴線を動かすために電子ｇ要素をチューニングするのには十分である。隣接キュービット間の結合は、キュービット間の間隔３８の長さ寸法を調節できるキュービットの位置を制御し、そしてキュービット間の障壁高さをチューニングすることにより、調節できる。このような操作は、キュービットを定義する一続きの離間されたゲート３２及び３３により可能である。量子ドットを定義するためのこのような融通性は本発明の重要な利点である。交換相互作用の制御は、各キュービットの特性記述を必要とし、これは多数のキュービットに拡張するためにコンピュータ制御の下で自動化できる工程である。
【００２２】
電圧の操作と測定は、低温において秒の大きさの干渉性の消失時間と比べて相対的に小さい時間で実行される。実際の計算では、局所電子回路がＭＨｚ速度又はそれ以上で動作できるように、干渉性の消失時間よりも百万倍程度以上に早い速度が必要とされる。システムをより高温で動作させると干渉性の消失時間は減少し、より速い制御を必要とする。
【００２３】
以下は、図１及び図２に示される量子ドット装置３０の模範的な製造プロセスである。このプロセスは例示目的のみであり、多くの変形が可能であることが理解される。例えば、ｅビーム書込みの使用に代えてｘ線リソグラフイ又はホトリソグラフイを使用すること、広い種類の食刻を使用すること等である。
【００２４】
最初の工程は、バックゲートと量子井戸４４、４５との間のトンネリングを可能にするためバックゲートに十分に近く且つバックゲート４１の直上に位置する量子井戸内に、二次元的電子又は正孔層を閉じ込める半導体へテロ構造３１を成長させることである。量子井戸は、上ゲート３２及び３３へ加えられる電圧によりｇ要素のチューニングを可能にするため組成中に勾配を含むことができる。
【００２５】
バックゲート４１への接触が量子井戸内のキャリアに接触することなく形成できる。これは、半導体チップ構造上の領域を食刻することで、例えば、ホトリソグラフイの後にバックゲート４１下の深さまでの反応性イオン食刻又は湿式食刻をし、その後にバックゲートへのオーミック・コンタクトを形成することにより、達成できる。
【００２６】
そして、電子ビーム・リソグラフイが、図１に示されるようなゲート３２及び３３の配列のパターンを作るために使用できる。ゲートは、通常の方法の金属堆積及びリフトオフにより製造できる。
【００２７】
装置３０は、個々の表面ゲート３２及び３３へバックゲート４１に対する選択された電圧を適用することにより、機能する。静電気的反発が、キャリア（正孔又は電子）を表面ゲート下の及び周囲領域の量子井戸４４、４５から取除く。１つ又はいくつかのキャリアがゲート３２及び３３の間の露呈された領域３４内に残される。これら隔離された領域は量子ドットとなる。
【００２８】
図３に示すように、装置からの読出しを可能にするため、ＦＥＴ５６を含む電荷センサー５５が接続されて、図５に示すようなＡＣ及びＤＣ電源を含む源５７から選択された電圧が電極ゲート（例えば、ゲート３２の１つ）へ加えられる。好ましくは、選択された電圧はゲート３２及び３３の各々に個別に加えることができる。源５８からバックゲート４１へ選択された電圧が加えられ、バックゲートへバイアス電圧がバイアス電圧源５９から供給される。電荷センサー５５の目的は、量子ドット内の電荷をモニターして、電荷の変化を検出することである。回路は、ドットへのトンネリングが発生しないときにバランスするＡＣブリッジであり、そしてＦＥＴは信号を記録しない。ゲート電圧がトンネリングを許すように調節されている時、余分な電荷がバックゲートから流れ、そして信号電荷がＦＥＴ上に記録される。小規模な操作において、電荷センサーは短い線によりゲート３２へ電気的に接続されたゲートを持つ商業用電界効果型トランジスタ５６でよい。図５に示されるように、単一量子ドットの場合はＦＥＴをバックゲート４１に取り付けることができるが、多くのドットが線形配列に結合される場合は興味の有るドットの近くの上ゲート３２又は３３に取り付けられる。
【００２９】
本発明の利点は、その拡張性である。上述の製造工程は、図６に示される複数の線形に整列された量子ドット６０により示されるように、直列に製造されるドットの数を制限しない。線形結合が示されたが、ドット６０のチェインは半導体チップ上に高密な充填を可能にするために曲がることもできる。ドット間のゲート３２及び３３は、量子ゲート操作を作るために必要なチューニング可能な結合を可能にする。大規模な操作では、電界効果型トランジスタが標準のシリコンプロセス技術により製造でき、そしてドットを定義するゲートの配列に接続される。各々の場合において、単一電子トランジスタが電界効果型トランジスタの代わりに使用できる。
【００３０】
上述の装置は、スピン干渉性時間を増加できるという理由で、好ましくは４．２ケルビン以下の温度で機能するように形成される。
【００３１】
各量子ドットは、半導体構造中の不秩序のため、その隣り及び他のドットとは異なることに注意する。この理由のため、計算機は各キュービットを特徴付けるために使用でき、そしてドットを定義するために各ゲート３２及び３３に適用される電圧を決定するために使用できる。操作は、隣接ドット中の電子又は正孔間の交換結合を制御するためにゲート上の電圧を変化させることより実行され、ユニバーサル（万能）な量子計算を可能にする。隣接ドット間の結合に加えて、単一スピン回転が電子のｇ要素をチューニングすることで達成でき、無線周波数フィールドが各スピンを個々に且つ干渉性を保ったまま回転することを可能にする。この特徴はコード化されたキュービット・モードの操作には必要でない。
【００３２】
上述のとおり、読出し可能な制御ＮＯＴ（Ｃ−ＮＯＴ）ゲートの構造は、３つの量子ドットをドット間に約１００ｎｍの分離で一列にしたものを使用する。全ドットはフィルードの熱的緩和により「上」状態に準備でき、ここで第１ドット（ドット１）は制御ドット、第２ドット（ドット２）は目標ドット、そして第３ドット（ドット３）は読出しドットである。ドット１及び２は、電圧パルスにより個別に操作できる。ドット１及び２の間の障壁が部分的に下げられると、相互作用がドット１及び２のスピンを絡み合わせるＪ（ｔ）が選択できるように、スピン−スピン相互作用がオンになる。単一ビット・キュービット操作と同じく、Ｊ（ｔ）はユニバーサルＣ−ＮＯＴゲートを含む所望の操作組を可能にするため制御される。もし、ドット２と３の間の障壁が下げられると（相対的に大きな量だけ）、ドット２からドット３へトンネリングが誘起される。トンネリングを誘起するために必要なエネルギーの測定が、ドット２がスピン上向き又はスピン下向きであったかどうかを決定する。この測定は「強い」。この３つのドットは、以下のように基本的な操作を有することのできるＣ−ＮＯＴゲートを作るのに十分である。３つのドットは、１秒乃至１ミリ秒の範囲にあると推定される環境の干渉性消失時間と比較して長い時間の半導体ウェハに垂直な２−５ＴのＤＣ磁場中で緩和することができる。その時点において、３つのドットの３つのスピンは全て「上向き」状態にある。そして、システムは約５０ＧＨで動作するフィルードＨ0の中に置かれる。スピン１は、その共振周波数が加えられた周波数と一致するまで、静電気的にＧｅに富んだ領域を移動され、そしてそこに時間ｔ＝ｈ／４μBＨ0の間保持され、そして共振に持ちこまれる。すなわち、π／２パルスの下にある。そして、同様な操作が、スピン２について実行される。この後に、スピン１及び２の間の障壁が相対的に小さい量だけ静電気的に下げられ、スピン１及び２をＨ（ｔ）＝Ｊ（ｔ）Ｓ１・Ｓ２を介して相互作用させる。ゲートはこの相互作用が時間ｔ＝ｈ／４Ｊｏ続くようにタイミングを取られる（これは矩形パルスについてであり、より一般的には、Ｊ（ｔ）の時間積分はｈ／４である）。これは、２つのスピンの向きが交換されるスワップ操作の平方根である。そして、スピン１は、πパルスの下にある。最後に、平方根スワップが繰り返さられる。５つの操作のシーケンスが、完全なＣ−ＮＯＴ論理ゲートであり、その操作がゲート操作のタイミング・シーケンスを示す図７に概略的に示されている。スピン１及び２（上の２つのライン）は、回転（斜線ボックス）を受けて、そして相互に相互作用（波線で表わされる）をする。Ｖ１及びＶ２はそれぞれドット１及び２に隣接したゲートの電圧であり、Ｖ３はそれらの間のゲート上の電圧である。
【００３３】
スピン２についての読出しは、非対称性態様で相対的に大きな量だけスピン２及び３の間の障壁を下げることにより実行される。この非対称性は、スピン２（又は、ドット２中の電子）がドット３内にトンネルする可能性を高める。スピン３は「上向き」状態に留まっている。したがって、もし、スピン２も上向きの場合、パウリの原理によりトンネリングは相対的に禁止されるであろう。すなわち、電荷の移動又は移動のないことを検出することにより、スピン２の状態を読み出すことができる。図８にこのシーケンスが説明されている。スピン下向き電子（ａ）は、より容易にスピン上向きの読出しドット（スピン３）内にトンネルする。この結果、ドット２及び３の間の障壁（Ｖ２３）が低下された後に、ドット３についてバックゲート電圧を徐々に下げるとスピン下向き電子がより早くトンネルし、これが電荷３の増加として読み出される。
【００３４】
図２及び３のヘテロ構造は、歪み緩和高ゲルマニウム濃度を必要とする。歪み緩和高ゲルマニウム濃度エピタキシャル成長を可能にする２つの利用可能な手法が存在する。第１は、不一致転位発生により緩和する、Ｓｉ（００１）上に高Ｇｅ濃度合金を成長させることである。組成的に勾配を持つ膜を成長させることにより、結果として得られる膜は転位密度が１ｘ１０6／ｃｍ2と低い。この低いスレッデイング転位密度は大部分のパターン化されたドットに欠陥がないことを保証する。第２の手法は、Ｇｅ（００１）を出発基板として使用することである。
【００３５】
複数の半導体層が、ＳｉＧｅ膜を成長するためにＳｉＨ4及びＧｅＨ4を使用する低圧化学蒸着（ＣＶＤ）反応器を含む、通常の堆積システムを使用して成長できる。このようなシステムは、膜の個性化のために本来の場所で差動的にポンプされるＲＨＥＥＤシステムと共に利用可能であり、成長中にｐタイプ及びｎタイプの両方のドーピングをするためにジボラン及びホスフエイトの流れを可能にする装置と共に利用可能である。ＳｉＧｅ蒸発能力を持つ分子ビーム・エピタキシー・システムも利用できる。低エネルギー電子顕微鏡がＳｉＧｅ構造の本来の場所での個性化を与えるために使用できる。
【００３６】
本発明では、電子がエネルギー的にそのようにすることが好ましい時は何時でも、バックゲート４１から量子ドットへトンネルすることができる。これが、普通はバックゲートへの及びからのトンネリングを許さない大部分の従来の横方向に結合した２つのドット・システムと異なる。本発明では、電子の特にドット１からドット２へのトンネルを誘起するために、このプロセスは電子がバックゲート４１からドット２へトンネルするプロセスよりもより有利でなければならない。本発明では、静電気力がそのプロセスを助ける。ドット１とドット２の間には容量性結合が存在する。もしドット１が空である場合にのみ、ドット２がそのエネルギーを低下するために第２電子を必要とするようにゲート電圧を変化することが可能である。このクロス結合を理解するために、ドット１は事実としてドット２の観点からは追加ゲートであることに注目する。電子によるドット１の占有は正確にこの「実効ゲート」上の負ゲート電圧に等しい。もし、ドット１が空である場合にのみドット２が電子を要求するようにゲート電圧を調節すれば、唯一エネルギー的に許されるトンネリング事象は、ドット１内の電子がドット２内にトンネルすることである。これはドット１を同時的に空にし、そしてドット２に２重の占有を与える。
【００３７】
高速の電圧操作と測定のために、走査フォース顕微鏡のプローブ位置付け及びイメージング能力に基づいたマイクロマシニング技術を使用して、組合せられたスキャニング遠／近フイールド・マイクロ波プローブを形成できる。シールドされたシリコン／ポリシリコン同軸先端ジオメトリイが走査フォース顕微鏡カンチレバーに沿って集積化された広帯域伝送線と組合せることができる。この手法は、局所電界の非接触ナノメートル空間及びピコ秒時間的解像度を可能にする。
【００３８】
非線形伝送線だけが、レーザー及び光導電性スイッチを必要とせずそしてクロック分配とエキサイテーションのために使用できるピコ及びサブピコ・パルスを発生するための技術として現在利用可能である。集積化された非線形伝送線は、導波管散乱、相互接続金属化損失、及びダイオード抵抗性損失により制限される。このような伝送線は、室温で約５００フェムト秒ステップ波形を発生するために製造でき、自由空間に極端に短いパルスを放射するための平面的モノポール、スロット及び蝶ネクタイ・アンテナと共に集積化できる。平面的蝶ネクタイ・アンテナは他の競争的な広帯域平面的アンテナに比べて重要な利点を与えるが、同じく限界も有する。それらはデザインが単純であり、原理的に、周波数に依存しないインピーダンスを与える。これに加えて、より長い対数周期又は対数らせんアンテナとは異なり、蝶ネクタイ・アンテナは必ずしも位相分散を示さない。従って、このような平面的アンテナはより効率的な広帯域ラジエターであるが、それらは信号の位相を歪めて、クロック応用については役立つことができない。蝶ネクタイ・アンテナの主な不利な点は、双ローブ放射パターンであり、これは基板レンズを介して軸を外れた焦点により部分的に補償できる。このアンテナとエンクロージャ・システムは、均一な方法でキュービットの配列に適当な形状のクロック波形を分配するように構成できる。
【００３９】
図１と図２の構造３０の変形が、図９と図１０に８０として示されている。これは、電子貯蔵庫としての役割を持つバックゲート８１と、電子を垂直に閉じ込める量子井戸８２と、トンネル障壁８４と、上障壁８５と、集積化領域内に量子ドット８９を定義するために静電気反発による横方向閉じ込めを提供する互いに離間して形成された分離上電極ゲート８７及び８８とを組込んでいる。図２に示された装置の２つの量子井戸層４４及び４５と比べて、この装置では単一量子井戸層８２が使用されている。装置８０は、Ｓｉウェハ上のグレーデッド合成成長により準備され緩和されたＳｉ1-XＧｅX基板９０上に成長される。バックゲート８１はｎドープされたＳｉ1-XＧｅXで形成され、その後にドープされていないＳｉ1-XＧｅX障壁層８４が続く。純Ｓｉ量子井戸８２が緩和された障壁上にスードモルヒカリイに成長されて、その後に別のＳｉ1-XＧｅX障壁層８５が続く。最後に、金属の上ゲート８７及び８８がリソグラフイによりパターン化される。（図９には図２の層４８のようなシリコン・キャツピング層は示されない。）ここで、我々は、量子井戸内の〜８４ｍｅＶの伝導帯オフセットと一致する、Ｘ＝０．００７７を考える。
【００４０】
図１及び図２の装置３０と同じように、この装置の特徴は、分割した上ゲート８７及び８８により定義される横方向結合と共にバックゲート８１を通じての垂直トンネル結合の組合せ使用である。ドット内に単一電子をロードするために、表面とバックゲートの間に負のバイアスが加えられて、量子井戸から電子を空にする。そして、バックゲートから量子ドット内に単一電子がトンネルするまでバイアスがゆっくりと緩和される。従来の横方向に結合されたドットとは異なり、量子井戸層には電気的接続が形成されないことを我々は強調する。
【００４１】
キュービットの時間的発展は、クーロン相互作用のスピン依存部分である交換相互作用により制御される。２つの電子システムについては、時間的発展オペレータ、
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と共に、交換相互作用はＨs（ｔ）＝Ｊ（ｔ）Ｓ1・Ｓ2として表現することができる。交換結合、Ｊ、は電子波動関数が重ね合せられる時にのみ感知できる。それは電子間の静電障壁を高めてこれらを分離させることで消失できる。コード化されたキュービット技術を利用することにより、１キュービット操作の回転と同じように、交換結合は「ルートスワップ」のような両２キュービットゲート操作の基礎として使用できる。制御（Ｃ）−ＮＯＴを含む全ての量子ゲートはこのような基本操作の組合せとして表現できるため、交換結合は量子ドット量子計算のためのユニバーサル（万能）な制御要素となる。
【００４２】
上ゲートの電位と交換結合との間のマッピングＪ（Ｖ1，Ｖ2，…）は簡潔に量子計算機の操作を特徴づける。我々は図９に示される装置についてこのマッピングを数値的に計算して、ドット当り１電子の場合の正確な解を得た。交換結合は、接地と第１励起状態エネルギーとの間の差：Ｊ＝Ｅtrip−Ｅsingとして決定できる。ここで、一重項（ｓｉｎｇ）と三重項（ｔｒｉｐ）は２電子波動関数のスピン対称性をいう。エネルギー・スケールの大きな違い：Ｊ／Ｅtrip＜５ｘ１０-4のため、計算においては重要な数値的正確性が要求される。このシミュレーションにおいては、トンネル障壁８４は１０ｎｍ厚であり、量子井戸８２は６ｎｍ厚であり、障壁８５は２０ｎｍ厚であり、そして上ゲートはリソグラフイによりパターン化された金属である。
【００４３】
図１１にシミュレーションの結果が示されている。解析を簡単にするため、それぞれ外側４つ及び内側２つの上ゲートの電圧に対応する２つの独立なゲート電位Ｖout及びＶinのみを考慮した。バックゲートは接地されている。ゲート電位の範囲について結果が得られた。観察された傾向は、より理想的な閉じ込め電位を使用する前の研究の一致している。量子ドット間の静電障壁が低い（｜Ｖin｜＜＜｜Ｖout｜）時、交換結合は相対的に高い。高い障壁（｜Ｖin｜＞＞｜Ｖout｜）に対しては、交換結合は指数関数的に小さくなる。ここで仮定するゼロ磁場の場合には、高磁場での予想に反して、交換結合はゼロを横断しない。しかし、大きな障壁を作ることにより、Ｊは常に急激に小さくなる。実際、これは「スイッチ・オフ」誤りを制御するために好ましい技術である。
【００４４】
図１２−１５は、装置の操作についての洞察である。図１１の点ＡとＢに対応したゲート電位の２つの構成についての結果が示されている。低い障壁（Ａ）の場合は、ポテンシャル・ランドスケープは長い窪みとなり、電子波動関数の重なり合いを生じて、交換結合を増加する（Ｊ≒２０μｅＶ）。逆に高い障壁（Ｂ）の場合、ポテンシャル井戸と電子は分離して明瞭となり、交換結合が消滅する。バックゲートのイメージ電荷はその近さのため、上ゲートのそれらよりもより重要である。したがって、閉じ込められた電子間のクーロン相互作用は２５ｎｍよりも大きい長さ寸法でスクリーンされる。真の効果は、図１０−１３のポテンシャル・ランドスケープの特徴及びＪのスイッチング特性を増幅する。したがって、イメージ電荷は望ましく、スクリーニング制御は有用な設計ツールを形成する。
【００４５】
量子計算の最中にはエラーが発生し、それらのいくつかは修正できるが、いくつかはできない。後者の場合は「リーケージ」として知られていて、閉じ込められた電子が二次元キュービット・ヒルベルト空間の外のモードに励起される。リーケージは典型的なエラー修正技術（量子「ソフトウェア」）では修正できないため、ハードウェア設計により制御しなければならない。理想は、最も危険な励起（低く存在する軌道モード）が熱的エネルギー・スケールのかなり上で発生する環境を作ることである。幸いに、大部分の励起は接地状態から少なくとも１ｍｅＶ（１０Ｋ）だけ分離されている。例えば、［００１］軸に垂直なノード面を持つｐタイプ励起状態は、接地状態からは約１．５ｍｅＶ（１５Ｋ）上で発生する。励起されたサブバンドは、２０ｍｅＶの程度のずっと大きいエネルギーにより分離されている。これらのモードのどれも低温動作についてはなんら危険を有さない。しかし、単一エンベロープ関数近似を超えると、我々は量子井戸の存在で弱い伝導バレイ−軌道結合に起因して接地状態が分離することを見つけた。このようなバレイ干渉効果はＪの誤りのある行動を生ずることが知られている。上述の装置については、分離は０．１ｍｅＶ（１Ｋ）の程度であるが、ヘテロ構造アーキテクチャアの適当な修正により、５−１０のファクターだけ増加することができる。したがって、全ての軌道リーケージは十分に低い温度では制圧することができる。
【００４６】
リーケージ・エラーの第２のタイプは、ドット中の電子の数の変動に関連する。いずれのスピン・キュービットについて、キュービット当りの電子数は正確に制御されなければならない。本発明の装置においては、電子位置及び交換結合を制御する同じゲートが、トンネル結合されたバックゲートに関する閉じ込められた電子のエネルギーを上げたり又は下げたりもする。したがって、通常のゲート手順は電子のトンネルを生ずることができる。図１６は、ダブル・ドット中の１つ電子がバックゲートへ（又は、から）トンネルするための励起エネルギーを描いている。２つの望ましい占有数（ドット当り１電子）が、広い範囲のゲート電位について安定的に留まる。最大の安定性（３−４ｍｅＶ）が、曲線ＡＢに沿って発生する。量子井戸のバンド・オフセット、ΔＥｃ、はこの計算については重要な調整可能なパラメータとなる。
【００４７】
修正可能な量子計算エラーは２つのカテゴリーに入る：干渉性（コヒーレンシー）時間τφにより特徴付けられる干渉性消失エラー及び多数の操作が蓄積する小ゲーテイング・エラーである。耐故障技術がエラーを修正するために開発されているが、これらはエラー・レベルが１０-4まで又は１０4操作当りに蓄積された１つのエラーに対してのみ有効である。コード化されたキュービット・スキームでは、単一キュービット操作（Ｃ−ＮＯＴのような）はプリミティブの交換結合（スワップのような）の一続きからなる。このようなプリミティブのエラー・レベルは、エラー修正技術がこのスキームに最適化することが少なくともできるまで、約１０-5である。
【００４８】
環境的結合と関連した干渉性（コヒーレンシー）時間τφは、Ｓｉ中の電子スピンについてはかなり大きい。低温及びフィールドでのバルクＳｉ中のドナー・ボンド電子については、スピン格子緩和時間Ｔ1を３０００ｓよりも大きくすることができる。横方向スピン緩和Ｔ2は、より大きな関心の源である。最初は、エラー修正技術とは干渉することがない急速だが不完全な崩壊が発生する。より長い時間のスケールでは完全に崩壊して、29Ｓｉ原子核の超微細結合からの貢献及び閉じ込められた電子間の磁気双極子相互作用を含む。このような現象は、同位体的に富んだ28Ｓｉ及び希釈されたスピン・システム内の原子核磁気共鳴について開発された補償技術をそれぞれ使用することで制御できる。バルクＳｉ装置内のＴ2についての制限プロセスは、τφ≒Ｔ2≒Ｔ1となるようなスピン格子相互作用であろう。
【００４９】
単軸歪みが加えられる時、τφは多くのオーダーの大きさになる。弱いバレー−軌道結合のため、量子ドット内のさらなる増強が可能である。したがって、装置内のスピン干渉性消失は、Ｇｅ内のより大きいスピン−軌道結合のため、Ｓｉ井戸よりもＳｉＧｅ層と関連したプロセスにより支配される。推計を行なうため、我々は量子障壁内のＧｅ原子で電子が見つかる確率を、Ｇｅ（Ｔ1＞０．００１ｓ）内のＰドナーについての特性干渉性消失レートに乗算する。これは、特に低温度及びフィールドでは実際の値はずっと大きいであろうが、τφ≒１ｓを与える。そして、耐故障エラー修正は、交換結合操作についてスイッチング速度＞１０5Ｈｚを必要とする。
【００５０】
正確なゲーテイングは２つのステップを含む：キュービット対の間の交換結合の初期キャラクタライゼーション、及びゲート操作の正確な実行である。ゲート操作のプロトタイプとして、パルス信号Ｖs（ｔ）と共に実行されるルート・スワップを考慮することができる。Ｖs（ｔ）の特定の形状は任意であるが、積分されたパルスは次の関係を満足しなければならない。
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ここで、τSはスイッチング時間である。そして、関数Ｊ（Ｖ）は図１１で計算された。耐故障エラー修正は、式１が１０-5の正確性を満足することを必要とする。
【００５１】
制御パルスＶs（ｔ）は、決して完全に実行することはできない。しかし、シミュレーションに基づいて制御電子回路について実行基準が特定できる。パルス幅中のエラーが許容レベルまで希釈されるように、固定面積の交換パルスを低く且つ平坦な形状にすることができる。商業的に入手可能なＧＨｚパルス発生器（例えば、アジレントから）の１００ｐｓのパルス幅エラーについては、エラー修正はτS＞１０μｓを必要とする。理論的にはより速い操作が可能であるが、パルス幅のより厳しい制御に依存する。一般に、低周波数（サブＭＨｚ）発生器はよりよい性能特性を示す。エラーを持つパルスに加えて、非断熱スイッチングに関連したゲーテイング・エラーも回避しなければならない。交換結合はゆっくりとオンにされるべきである。幅が１０μｓの上が平坦なパルスについて、１０ｐｓの最小パルス端が計算される。このため、上が平坦な形状が理想的である。
【００５２】
加えられたゲート電位において耐えられるエラー・レベルは、実行に特有であり、モデリングのみにより決定することができる。高さが、
2004533107.tif 000005
の上が平坦なパルスについては、耐故障エラー修正は、
2004533107.tif 000006
のパルス高さ変化を示唆する。
【００５３】
良い近似では、関数Ｊ（Ｖ）は指数関数Ｊ≒Ｊ0ｅ-V/V0であり、制限δＶ＜１０-5Ｖ0を導く。Ｊ（Ｖ）の大きな非線形性はより小さなＶ0と一致し、電圧制御についてより厳しい制限を有する。Ｊについて指数関数形状を図１１の異なる領域に合わせると、δＶ＜２０−５５ｎＶ、又は、δＶ／Ｖ＜５−８ｘ１０-7を生ずる。サブＭＨｚのパルス発生器については、望ましい正確性のレベルは現在のオフザシェルフ電子回路（例えば、ＢＮＣから）の仕様の中にほとんど入る。我々は、近い将来、商業的に入手可能なＭＨｚ技術が量子計算仕様を満足することを期待できる。ＧＨｚの操作については、式２を満足する前には顕著な改良が必要であろう。
【００５４】
量子ドット構造は、ゲーテイングの正確性のためのスケールを設定するＶ0を増加するために最適化できる。Ｖ0がスイッチング末尾で大きい場合、２安定量子ドット設計を作ることにより、特性的にアナログ・ゲーテイング関数Ｊ（Ｖ）を「デジタル化」することも望ましい。
【００５５】
図９の装置のヘテロ構造は、量子井戸を囲む障壁層中の歪み緩和のさまざまな程度でもって成長することができる。図１７は３つの成長層シーケンスを示し、図１８はこれらシーケンスの歪み緩和の計算された程度を示す。図１７では組成が個別のステップで変化することが示されているが、組成の連続的な勾配を持つ緩和も得ることができる。
【００５６】
Ｊのゲート電圧に対する依存性は、量子ドットの幾何学形状をエンジニアリングすることで改良できる。これらゲート電圧には大きな不確実性があってもＪが小さな不確実性でよく制御されて、ゲート電圧が急速に変化できるようにするため、図１９に示すような擬似デジタル関数Ｊ（Ｖ）を有することは役に立つ。
【００５７】
閉じ込められた電子（キュービット）が互いに滑ることができるようにして、図１９に示すように交換結合Ｊ（Ｖ）を「デジタル化」することができる。最も近接した点があり、その点で関数Ｊ（Ｖ）は最大であり、したがって、ゼロ勾配を持つ。図２０はこのコンセプトを示す。その下に量子ドットが定義される領域により互いに離間された端子位置に延びた上及び底制御電極ゲート１００及び１０１に加えられる調節可能な電圧が、この二重ドット内に閉じ込められた電子を上又は下に滑らせる。高速に変化する電圧が図５に示された方法で電圧源から電極ゲート１００及び１０１へ個別に供給できる。電極ゲート１０２がゲート１００と１０１の両側に延びて、正確に定義された電圧が供給される。例えば、非対称電圧がゲート１００及び１０１の隣接する対に加えることができ、右手のキュービット１０３を上側に、そして左手のキュービット１０４を下側に押すことができる。２つのキュービット間に大きな分離がある場合、交換相互作用は小さい。ゲート電圧が減少される時、電子は互いの方向に滑り、最後には互いに整列する。このようにして、Ｊ（Ｖ）が上で平坦となり、そして、
2004533107.tif 000007
となるように、Ｊ（Ｖ）の最大が発生する。
【００５８】
このメカニズムは、真に２安定キュービット設計にも実現できる。図２１は二重ドットについてこのような２安定、「蝶ネクタイ」設計を示し、制御ゲート１０５及び１０６が、量子ドットを絞る内側に延びた部分１１０を持つサイド電極ゲート１０９の間に量子ドットの上部分１０７又は底部分１０８のいずれかの中に電子を絞り込む。左及び右手ドット上のゲート１０５及び１０６上の電圧が対称である時、電子は整列してＪ（Ｖ）の最大が達成される。ゲート１０５及び１０６の隣接対上の電圧が非対称である時、量子ドットは構造の反対側へ押されて、交換結合Ｊは小さい。
【００５９】
図２２は、図２１からキュービットが拡張された配列を示す。各キュービットはその隣りと擬似デジタル交換結合Ｊを持つ。図２２中の点１１１の垂直対は単一のキュービットを表わす。電極ゲートは、量子ドットの間の位置へ延びる電極ゲート１１２及び１１３と各量子ドットの互いに反対側から離れた位置へ延びる電極ゲート１１５及び１１６を含む。図２２に示すように、ゲート１１２及び１１３は図２１のようにキュービットを絞る内側に延びた部分１１８を好ましくは持ち、それに適当なバイアス電圧を加えることができ、そして互いに対面するゲート１１６は上述したように時間変化する電圧が供給される。キュービット情報を運ぶ電子（例えば）はそのキュービット位置に対応する上又は底の円のいずれかに存在する。したがって、この図には１０キュービットが表わされている。しかし、電子が存在する２０の可能な位置がある。最大Ｊを達成するために隣接する電子は中心ドット位置に存在する。電子は小さいＪを達成するために上側又は下側にシフトした位置に存在する。このように、この構成は拡張された擬似デジタル的結合されたキュービットの配列を提供する。
【００６０】
上述した説明は本発明の例示目的のためであり、説明された実施の形態に本発明は限定されない。本発明は特許請求の範囲の中に入る全てを含む。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明による量子ドット半導体装置の部分的な平面図。
【図２】図１の線２−２に沿って切断した図１に示されるタイプの１つの例示的なＳｉＧｅに基づいた半導体装置の簡略化した断面図。
【図３】図１の線２−２に沿って切断した図１に示されるタイプの別の例示的なＳｉＧｅ半導体装置の簡略化した断面図。
【図４】図１の線２−２に沿って切断した図１に示されるタイプの１つの例示的なＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓに基づいた半導体装置の簡略化した断面図。
【図５】量子ドットに接続された電荷センサーの概略的な回路図。
【図６】多数のキュービットに量子計算機を大きくすることを可能にするため、キュービットを並んで製造できる方法を示す図。
【図７】本発明を利用して実現されたＣ−ＮＯＴゲートの動作の時系列を示すタイミング図。
【図８】本発明によるキュービット状態を読み出すためのプロトコル動作の詳細なゲート電圧の時系列を示すタイミング図。
【図９】本発明による量子ドット半導体装置の概略的な斜視図。
【図１０】図９の構造を持つ複数量子ドット装置の平面図。
【図１１】上ゲート電位Ｖout及びＶinの関数として、図９に示されるタイプの簡略された量子ドット装置について計算された交換結合Ｊを示すグラフ。
【図１２】量子井戸の真中で計算された、図１１の点Ａにおいて、図９の装置についての静電場の電位を計算したマップ。
【図１３】量子井戸の真中で計算された、図１１の点Ａにおいて、図９の装置についての電荷密度を計算したマップ。
【図１４】量子井戸の真中で計算された、図１１の点Ｂにおいて、図９の装置についての静電場の電位を計算したマップ。
【図１５】量子井戸の真中で計算された、図１１の点Ｂにおいて、図９の装置についての電荷密度を計算したマップ。
【図１６】ゲート電位Ｖout及びＶinの範囲について、図９の装置について計算された量子ドット被占数を変えるための励起エネルギーを示すグラフ。
【図１７】図９のようなヘテロ構造について成長層の順序のステップ・グレーデイング変化を示すグラフ。
【図１８】図１７のステップ・グレーデイング変化と共に歪み緩和の程度を示すグラフ。
【図１９】ゲート電圧Ｖに関し交換結合Ｊの簡略化した擬デジタル依存性を示すグラフ。
【図２０】パターン化された制御電極ゲートの平面図。
【図２１】２安定キュービット設計を提供するパターン化された制御電極ゲートの別の設計の平面図。
【図２２】各キュービットがその隣りと擬デジタル交換結合Ｊを有し、そして各回路の垂直な対が単一のキュービットを表わす、図２１に示されるタイプの制御電極ゲートの拡張配列を示す図。
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図８】
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【図１１】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【国際調査報告】
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