(57)【要約】本発明は、干渉計（１１０）への入力光の直交偏光成分の伝播方向での微小角度差を用いる干渉測定装置（１００）を特徴とする。直交偏光成分は、干渉計用の参照光（１７３）及び測定光（１７５）を画成する。この角度差によって、入力光（１７０）の参照光成分と測定光成分を区別でき、干渉計の欠陥に起因する少なくとも幾つかの周期誤差（１９０）の抑制が容易になる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
干渉測定装置であって、
伝播方向での角度差を有する直交偏光成分が含まれる入力光を受光するように構成された干渉計であって、動作中、一方の直交偏光成分の少なくとも一部を参照経路に沿って導いて参照光を画成し、また、他方の直交偏光成分の少なくとも一部を測定経路に沿って導いて測定光を画成し、その後、参照光と測定光を再合成して出力光を画成する前記干渉計と、
出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに平行にするように配置され配向された少なくとも１つの補償光学系と、を含む干渉測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置であって、
前記少なくとも１つの補償光学系が、干渉計から出力光を受光するように、また、その後、出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに平行にするように配置されている装置。
【請求項３】
請求項２に記載の装置であって、
前記少なくとも１つの補償光学系が、複屈折プリズムを含む装置。
【請求項４】
請求項３に記載の装置であって、
前記少なくとも１つの補償光学系が、複屈折プリズムである装置。
【請求項５】
請求項４に記載の装置であって、
前記複屈折プリズムが、干渉計に一体化した装置。
【請求項６】
請求項１に記載の装置であって、
前記少なくとも１つの補償光学系が、干渉計の一部を含む装置。
【請求項７】
請求項６に記載の装置であって、
前記少なくとも１つの補償光学系が、参照経路に沿って配置された鏡を含む装置。
【請求項８】
請求項７に記載の装置であって、
前記鏡の少なくとも一部の角度方位が、出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに平行にするように選択されている装置。
【請求項９】
請求項８に記載の装置であって、
前記鏡が、スプリット参照鏡である装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の装置であって、
前記少なくとも１つの補償光学系が、干渉計内に配置されている装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の装置であって、
前記少なくとも１つの補償光学系が、楔プリズムを含む装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の装置であって、
前記楔プリズムが、非複屈折性である装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載の装置であって、
前記楔プリズムが、参照経路に配置されている装置。
【請求項１４】
請求項１に記載の装置であって、更に、
前記入力光の直交偏光成分間において伝播方向での角度差を生成するように配置された偏光光学系を含む装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の装置であって、
前記偏光光学系が、複屈折プリズムを含む装置。
【請求項１６】
請求項１４に記載の装置であって、
前記偏光光学系が、干渉計に一体化した装置。
【請求項１７】
請求項１４に記載の装置であって、更に、
前記入力光用の光源を含み、前記偏光光学系が、光源に隣接している装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の装置であって、
前記光源が、ゼーマン分裂レーザである装置。
【請求項１９】
請求項１４に記載の装置であって、更に、
前記入力光の直交偏光成分間にヘテロダイン周波数スプリットを生成するための電気光学装置を含み、前記偏光光学系が、電気光学装置に隣接している装置。
【請求項２０】
請求項１に記載の装置であって、更に、
前記入力光の直交偏光成分間にヘテロダイン周波数スプリットを生成するための電気光学装置を含み、前記電気光学装置が、直交偏光成分間において伝播方向での角度差を生成する複屈折要素を含む装置。
【請求項２１】
請求項１に記載の装置であって、
前記干渉計が、マイケルソン干渉計である装置。
【請求項２２】
請求項１に記載の装置であって、
前記干渉計が、平面鏡干渉計である装置。
【請求項２３】
請求項１に記載の装置であって、
前記干渉計が、動的干渉計である装置。
【請求項２４】
請求項１に記載の装置であって、
前記干渉計が、分散干渉計である装置。
【請求項２５】
請求項１に記載の装置であって、
前記干渉計が、多軸干渉計である装置。
【請求項２６】
請求項１に記載の装置であって、更に、
前記出力光の偏光成分を合成するための偏光板と、
その合成された出力光の光学的干渉を測定するための検出器と、を含む装置。
【請求項２７】
請求項２６に記載の装置であって、
前記出力光が、光ファイバを介して検出器に連結されている装置。
【請求項２８】
干渉測定方法であって、
伝播方向での角度差を有する直交偏光成分が含まれる入力光を提供する段階と、
参照経路に沿って一方の直交偏光成分の少なくとも一部を導いて参照光を画成する段階と、
測定経路に沿って他方の直交偏光成分の少なくとも一部を導いて測定光を画成する段階と、
参照光と測定光を合成して出力経路に沿って伝播する出力光を形成する段階と、
出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに平行にする段階と、を含む干渉測定方法。
【請求項２９】
請求項２８に記載の干渉測定方法であって、
前記出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに平行にする段階が、出力経路に複屈折プリズムを配置する段階を含む干渉測定方法。
【請求項３０】
請求項２８に記載の干渉測定方法であって、
前記出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに平行にする段階が、参照及び測定経路の少なくとも１つを画成して、出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに平行にする段階を含む干渉測定方法。
【請求項３１】
請求項３０に記載の干渉測定方法であって、
前記出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに平行にする段階が、参照経路を画成して、出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに平行にする段階を含む干渉測定方法。
【請求項３２】
請求項３１に記載の干渉測定方法であって、
前記参照経路が、参照経路に沿って配置された鏡の角度方位を選択することによって、出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに平行にするように画成される干渉測定方法。
【請求項３３】
請求項３１に記載の干渉測定方法であって、
前記参照経路が、参照経路に楔を配置することによって、出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに平行にするように画成される干渉測定方法。
【請求項３４】
請求項２８に記載の方法であって、
前記入力光の直交偏光成分が、重なり合う方法。
【請求項３５】
請求項２８に記載の方法であって、
前記伝播方向の角度差が、約０．１ｍｒａｄ乃至約１０ｍｒａｄである方法。
【請求項３６】
請求項３５に記載の方法であって、
前記伝播方向の角度差が、約０．５ｍｒａｄ乃至約１０ｍｒａｄである方法。
【請求項３７】
請求項３５に記載の方法であって、
前記伝播方向の角度差が、約０．５ｍｒａｄ乃至約５ｍｒａｄである方法。
【請求項３８】
ウェーハ上に集積回路を製造するために用いるリソグラフィ装置であって、
ウェーハを支持するためのステージと、
空間的にパターン化した照射光をウェーハ上に結像するための照射装置と、
結像された照射光を基準にして、ステージの位置を調節するための位置決め装置と、
ステージの位置を測定するための請求項１の干渉測定装置と、を含むリソグラフィ装置。
【請求項３９】
ウェーハ上に集積回路を製造するために用いるリソグラフィ装置であって、
ウェーハを支持するためのステージと、
照射光源、マスク、位置決め装置、レンズ系、及び請求項１の干渉測定装置を含む照射装置であって、動作中、前記光源がマスクを通して照射光を導いて空間的にパターン化した照射光を生成し、前記位置決め装置が前記光源からの照射光を基準にして前記マスクの位置を調節し、前記レンズ系が、空間的にパターン化した照射光をウェーハ上に結像し、前記干渉測定装置が前記光源からの照射光を基準にしてマスクの位置を測定する、前記照射装置と、を含むリソグラフィ装置。
【請求項４０】
集積回路を製造するためのリソグラフィ装置であって、
第１及び第２構成要素であって、互いに相対的に可動な前記第１及び第２構成要素と、
請求項１の干渉測定装置と、を含み、
前記第１構成要素が、測定経路に沿って配置された測定対象物を含み、前記干渉測定装置が、第２構成要素を基準にして第１構成要素の位置を測定するリソグラフィ装置。
【請求項４１】
集積回路を製造するためのリソグラフィ装置であって、
第１及び第２構成要素であって、互いに相対的に可動な前記第１及び第２構成要素と、
請求項１の干渉測定装置と、を含み、
前記第１構成要素が、測定経路が接触する測定対象物を含み、前記第２成要素が参照経路によって接触され、前記干渉測定装置が、第１及び第２構成要素の相対位置を測定するリソグラフィ装置。
【請求項４２】
リソグラフィマスクを製造するために用いる光書込み装置であって、
基板をパターン化するために書込み光を提供する光源と、
基板を支持するステージと、
書込み光を基板に供給するための光誘導系と、
ステージと光誘導系を互いに相対的に位置決めするための位置決め装置と、
光誘導系を基準にしてステージの位置を測定するための請求項１の干渉測定装置と、を含む光書込み装置。
【請求項４３】
ウェーハ上に集積回路を製造するために用いるリソグラフィ方法であって、
可動ステージ上にウェーハを支持する段階と、
空間的にパターン化した照射光をウェーハ上に結像する段階と、
ステージの位置を調節する段階と、
請求項２８の干渉測定方法を用いてステージの位置を測定する段階と、を含むリソグラフィ方法。
【請求項４４】
集積回路を製造するために用いるリソグラフィ方法であって、
マスクを通して入力照射光を導いて、空間的にパターン化した照射光を生成する段階と、
入力照射光を基準にしてマスクを位置決めする段階と、
請求項２８の干渉測定方法を用いて、入力照射光を基準にしてマスクの位置を測定する段階であって、マスクを支持するステージと、入力照射光を提供する照射装置との内の１つが、測定経路によって接触される測定対象物を含む前記段階と、
空間的にパターン化した照射光をウェーハ上に結像する段階と、を含むリソグラフィ方法。
【請求項４５】
ウェーハ上に集積回路を製造するために用いるリソグラフィ方法であって、
リソグラフィ装置の第２構成要素を基準にしてリソグラフィ装置の第１構成要素の位置決めを行ない、空間的にパターン化した照射光でウェーハを露光する段階と、
請求項２８の方法を用いて、第２構成要素を基準にして第１構成要素の位置を測定する段階であって、第１構成要素が、測定経路によって接触される測定対象物を含む前記段階と、を含むリソグラフィ方法。
【請求項４６】
リソグラフィマスクの製造に用いるための光書込み方法であって、
書込み光を基板に導いて基板をパターン化する段階と、
書込み光を基準にして基板を位置決めする段階と、
請求項２８の干渉測定方法を用いて、書込み光を基準にして基板の位置を測定する段階と、を含む光書込み方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本願は、２００１年９月１７日出願の米国特許出願第６０／３２２，９５０号、及び２００１年７月６日出願の米国特許出願第６０／３０３，２９９号の優先権を主張するものであり、その両方を本明細書中に引用参照する。
【０００２】
本発明は、例えば、リソグラフィ走査装置又はステッパ装置におけるマスクステージ又はウェーハステージ等の測定対象物の角度変位量及び直線変位量を測定する変位測定及び分散干渉計等の干渉計に関し、また、波長の監視及び気体の固有特性を決定する干渉計に関する。
【背景技術】
【０００３】
変位測定干渉計は、光学的な干渉信号に基づき、参照対象物を基準とした測定対象物の位置変化を監視する。干渉計は、測定対象物から反射した測定光を参照対象物から反射した参照光と重ね合わせて干渉させることによって光学干渉信号を生成する。
【０００４】
多くの用途において、測定及び参照光は、直交偏光を有しており、また周波数が異なる。異なる周波数は、例えば、レーザゼーマン分裂、音響光学変調、又は、複屈折要素等を用いるレーザの内部で生成し得る。直交偏光によって、偏光ビームスプリッタは、測定及び参照光を測定対象物及び参照対象物にそれぞれ導き、反射した測定及び参照光を合成して、重畳出射測定及び参照光を形成し得る。重畳出射光は、この後、偏光板を通過する出力光を形成する。偏光板は、出射測定及び参照光の偏光を合成して、合成光を形成する。合成光における出射測定及び参照光の成分は、互いに干渉して、合成光の強度が出射測定及び参照光の相対位相によって変化する。検出器が、合成光の時間依存性の強度を測定し、その強度に比例する電気的な干渉信号を生成する。測定及び参照光は、周波数が異なるために、電気的な干渉信号は、出射測定及び参照光の周波数間の差に等しいビート周波数を有する“ヘテロダイン”信号を含む。測定及び参照経路長が、例えば、測定対象物を含むステージを並進させることによって相対的に変化する場合、測定されるビート周波数は、２ｖｎｐ／λに等しいドップラシフトを含むが、ここで、ｖは、測定及び参照対象物の相対速度、λは、測定及び参照光の波長、ｎは、空気又は真空等の光が伝わる媒体の屈折率、ｐは、参照及び測定対象物への通過回数である。測定対象物の相対位置の変化は、測定される干渉信号の位相変化に対応し、２πの位相変化は、Ｌにおけるλ／（ｎｐ）の距離変化にほぼ等しいが、ここで、Ｌは、往復距離変化であり、例えば、測定対象物を含むステージに対する距離の変化である。
【０００５】
あいにく、このように等しいと言っても、常に厳密ではない。干渉計には、“周期誤差”として知られる非直線性を含むものが多い。周期誤差は、測定される干渉信号の位相及び／又は強度への影響として表わすことができ、また、光路長ｐｎＬの変化に応じた位相変化及び／又は他のパラメータに応じた位相変化への正弦波的な依存性を有する。例えば、（２πｐｎＬ）／λへの正弦波的な依存性を有する位相には、第１高調波の周期誤差が存在し、２（２πｐｎＬ）／λへの正弦波的な依存性を有する位相には、第２高調波の周期誤差が存在する。また、より高次の高調波の周期誤差及び端数の周期誤差も存在し得る。
【０００６】
周期誤差は、参照光を名目上形成する入力光の一部が、測定経路に沿って伝播し、及び／又は測定光を名目上形成する入力光の一部が、参照経路に沿って伝播する“光線混合”によって生じ得る。このような光線混合は、入力光の偏光状態に対する干渉計の位置ずれと、干渉計の光学的構成要素の複屈折と、例えば、参照及び測定経路にそれぞれ沿って直交偏光入力光を導くために用いる偏光ビームスプリッタの欠陥等の干渉計構成要素における他の欠陥と、によって起こり得る。光線混合及びその結果生じる周期誤差のために、測定される干渉信号の位相における変化と、参照経路と測定経路との間の相対光路長ｐｎＬにおける変化との間に厳密な線形の関係は存在しない。補償がなされない場合、光線混合に起因する周期誤差によって、干渉計によって測定される距離変化の精度に限界が生じ得る。また、周期誤差は、干渉計内で望ましくない多重反射を発生する透過面の欠陥と、干渉計における光の望ましくない偏光の楕円率及び望ましくない偏光面の回転を起こす逆反射体及び／又は位相遅延板等の構成要素の欠陥と、によって生じ得る。周期誤差の理論的原因の一般的な参考文献として、例えば、Ｃ．Ｗ．ウー（Ｗｕ）及びＲ．Ｄ．デスラッテス（Ｄｅｓｌａｔｔｅｓ）による“ヘテロダイン干渉法における周期的非線形性の分析的モデル化法”、１９９８年、応用光学、３７、６６９６−６７００を参照されたい。
【０００７】
分散測定用途において、光路長測定は、例えば、５３２ｎｍ及び１０６４ｎｍ等の複数の波長で行われ、また、距離測定干渉計の測定経路における気体の分散測定に用いられる。分散測定は、距離測定干渉計によって測定される光路長を物理的な長さに変換するために用い得る。測定対象物までの物理的な距離が変わらない場合でも、測定される光路長の変化が、気体の乱れ及び／又は測定アームにおける気体の平均密度の変化によって生じるため、このような変換は重要な場合がある。外因的な分散測定に加えて、光路長の物理長への変換には、気体の固有値に関する知識が必要である。係数Γは適切な固有値であり、また、分散干渉法に用いる波長に対する気体の分散能の逆数である。係数Γは、個別に測定してもよく、又は文献の値に基づいてもよい。干渉計における周期誤差は、分散測定及び係数Γの測定にも影響を及ぼす。更に、周期誤差によって、光の波長を測定及び／又は監視するために用いる干渉計測定値の精度が低下し得る。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、干渉計への入力光の直交偏光成分の伝播方向における微小角度差を用いる干渉測定装置を特徴とする。直交偏光成分は、干渉計の参照及び測定光を画成する。角度差によって、入力光の参照光成分と測定光成分を区別することができ、干渉計の欠陥に起因する少なくとも幾つかの周期誤差の抑制が容易になる。
【０００９】
例えば、干渉計の光学系における複屈折、偏光ビームスプリッティング面の欠陥、及び／又は干渉計における反射面による偏光回転は、参照光のスプリアス部を測定経路の一部又は全体に沿って伝播させる。同様に、測定光のスプリアス部を参照経路の一部又は全体に沿って伝播させ得る。角度差が無い場合、スプリアス光の少なくとも一部は、干渉計が参照光と測定光を再合成した後に生成される干渉出力信号に影響する。この影響によって、干渉信号は、複雑になり、測定の精度が著しく低下する。
【００１０】
しかしながら、角度差は、参照及び測定光各々の所望の部分を、そのスプリアス部と異なる伝播ベクトルで符号化する。例えば、干渉計の欠陥によって参照光のスプリアス部が測定光の経路に沿って伝播する場合、そのスプリアス部は、元々参照光の伝播ベクトルで符号化されたため、測定光の所望の部分とは異なる伝播ベクトルを有する。
【００１１】
次に、干渉測定装置における補償光学系（又は、一組の補償光学系）を用いて、参照及び測定光の所望部分の一方又は両方を再導入し、光学干渉信号の検出の前に伝播の角度差を補償する。スプリアス光成分が、補償光学系において所望の成分と重なり合い、それによって再導入されても、スプリアス成分は、正しい初期の伝播ベクトルで符号化されないため、光検出器に再導入されても最適な干渉には至らない。従って、光検出器において、所望の光成分は、互いに並行になり、一方、スプリアス光は、所望の成分からも又互いにも発散する。このような発散のため、スプリアス光によって生成されるあらゆる光学干渉信号が、検出器の空間的範囲に渡り積分された場合、平均化されてしまう。他の選択肢として、スプリアス光を除去するために、空間的フィルタ処理を用い得る。何れの場合でも、検出した干渉信号への周期誤差の影響は低減される。
【００１２】
偏光光学系は、入力光の直交偏光成分間の角度差を生成するために用い得る。偏光光学系は、例えば、複屈折プリズムであってもよく、単独、又は非複屈折楔、ウォラストン・プリズム、もしくは、調整位置をずらしたマッハ・ツェンダ干渉計を形成する複合光学系等の偏光ビームスプリッティング面を用いる複合光学系等の１つ又は複数の他の光学系との組み合わせでもよい。偏光光学系の機能は、入力光の直交偏光成分間の伝播での角度差を生成することである。角度差の大きさは、例えば、約１ｍｒａｄのオーダであってよい。好適な実施形態において、偏光光学系によって生成される伝播での角度差は、直交偏光成分が参照及び測定経路の名目上の共通部分に沿って重なり続けるほど充分に小さく、これによって、干渉計構造を小型化し得る。偏光光学系は、干渉計に一体化してもよく、あるいは、干渉計内に組み込んでもよい。他の選択肢として、干渉計と離間してもよい。例えば、偏光光学系は、入力光を生成するために用いるレーザ光源の一部及び／又は直交偏光成分間のヘテロダイン周波数シフトを生成するために用いる電気光学系の一部であってもよい。
【００１３】
補償光学系は、干渉計が参照及び測定光成分を再合成した後、参照及び測定光成分を受光するように配置し得る。このような場合、例えば、補償光学系は、角度差を最初に生成する偏光光学系に対する補足的な偏光光学系であってもよい。実際、幾つかの実施形態において、第１偏光光学系及び補償偏光光学系は、同じ成分の異なる領域に対応し得る。他の選択肢として、補償光学系は、干渉計の一部であってもよく、あるいは干渉計内に配置してもよい。例えば、測定又は参照経路の１つを画成する干渉計光学系（例：鏡）を角度差補償のために配置するか、あるいは楔等の光学系を測定又は参照経路の１つに導入して角度差補償のためにに配置してもよい。更に、組み合わせて角度差を補償する複数の補償光学系を用いてもよい。通常、偏光光学系及び補償光学系（１つ又は複数）は、それらの間に見られる干渉計欠陥に関係する周期誤差を補正する。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
一般的に、１つの側面において、本発明は、干渉計と、少なくとも１つの補償光学系とが含まれる干渉測定装置を特徴とする。干渉計は、角度差が伝播方向にある直交偏光成分が含まれる入力光を受光するように構成されている。動作中、干渉計は、参照経路に沿って１つの直交偏光成分の少なくとも一方を導いて参照光を画成し、また測定経路に沿って他方の直交偏光成分の少なくとも一部を導いて測定光を画成する。次に、干渉計は、参照及び測定光を再合成して、出力光を画成する。少なくとも１つの補償光学系が、出力光の参照光成分と測定光成分がほぼ互いに平行になるように配向される。少なくとも１つの補償光学系は、１つ又は複数の光学系によって形成し得る。このような補償光学系は、いずれも干渉計の一部であってよく、又はその内部もしくは外部に配置し得る。
【００１５】
一般的に、他の側面において、本発明は干渉測定法を特徴とする。本方法は、以下の段階を含む。即ち、ｉ）伝播方向に角度差がある直交偏光成分が含まれる入力光を提供する段階とｉｉ）参照経路に沿って直交偏光成分の一方の少なくとも一部を導いて参照光を画成する段階と、ｉｉｉ）測定経路に沿って他方の直交偏光成分の少なくとも一部を導いて測定光を画成する段階と、ｉｖ）参照光と測定光を合成して出力経路に沿って伝播する出力光を形成する段階と、ｖ）出力光の参照光成分と測定光成分をほぼ互いに並行にする段階と、が含まれる。
【００１６】
本発明の実施形態は、以下の利点のいずれかを含み得る。
干渉計検出信号への周期誤差の影響を低減できることで、干渉計測定の精度が改善される。特に、干渉計ガラスにおける複屈折に起因する周期誤差の影響、立方体角逆反射体又はステージ鏡による偏光回転、偏光ビームスプリッタ界面の有限の吸光率、及び／又は干渉計の表面及び界面（例えば、波長板）からのゴースト反射が、減少する。この減少は、１つの入力光を用いて複数組の参照及び測定光を生成する多軸干渉計において特に有用な場合がある。これは、このような干渉計は、ガラス中に長い経路を含み易いためであり、その累積複屈折は、補償がなされない場合、干渉検出信号に相当な周期誤差を生じ得る。しかしながら、本明細書に記載した装置及び方法は、このような周期誤差を抑制し得る。
【００１７】
特に、周期誤差は、参照光から測定光を完全に隔離せずに、即ち、それらの伝播全体において測定光成分から参照光成分を空間的に分離することで、低減し得る。一方、角度差は、直交偏光成分が、参照及び測定経路の名目上の共通部分に沿って重なり続けるのに充分な程小さくてよい。その結果、干渉計は小型化し得る。更に、光は干渉計ガラスの共通領域を通るため、装置は、そうでない場合空間的に分離された光に異なる影響を及ぼす温度勾配及び不均一性の影響を受けにくくなる。
【００１８】
更に、本明細書に記載した干渉測定装置及び方法は、マイクロリソグラフィ及び光書込装置において正確な計測や位置測定を提供するために用い得る。
本発明の他の特徴、目的、及び利点は、以下の詳細な説明と図面、及び請求項から明らかになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明について、単に一例として、添付図面を参照して、より詳細に説明する。
様々な図面中の同様な参照記号は、同様な要素を示す。
本発明は、干渉計への入力光の直交偏光成分の伝播方向における微小角度差を用いる干渉測定装置を特徴とする。この角度差によって、例えば、適度な複屈折率の装置を通過する伝播に起因するスプリアス成分から光の所望成分を区別し得る。
【００２０】
例示のみを目的として、その原理を図１０に示す。共線の直交偏光成分を含む入力光１０００は、複屈折楔１０１０を通過する。楔１０１０は、直交偏光成分の伝播方向において微小（例えば、１ｍｒａｄ）の角度差をもたらすように選択された光軸アライメント及び方位を有する（参照番号１０１２及び１０１４で示す）。図１０に示すように、成分１０１２は、図１０の面で直線偏光され、一方、成分１０１４は、図１０の面に対して垂直な面で直線偏光される。楔１０１０は、各偏光を特定の伝播方向で“符号化”するように機能する。次に、成分１０１２及び１０１４は、ある程度の複屈折率を有する媒体１０２０内に伝播する。複屈折性が適度であると、成分１０１２及び１０１４は、楕円偏光になり、光１０１６及び１０１８として出射する。複屈折性のために、光はもはや直交状態ではなく、また偏光によって互いに分離もされない。しかしながら、複屈折楔１０１０が、初期の偏光成分を特定の伝播方向で符号化したように、第２相補複屈折楔１０３０は、各光が媒体１０２０を通過した後、その光を“復号”するために用い得る。特に、楔１０３０は、成分１０１２及び１０１４の偏光にそれぞれ対応する光１０１６及び１０１８の偏光成分が、互いに並行な直交偏光の主要光１０２２及び１０２４として楔１０３０から出射するように選択された光軸アライメント及び方位を有する。残りの偏光成分光１０１６及び１０１８は、互いに又主要光から発散するスプリアス光１０２６及び１０２８として出射する。従って、複屈折楔対によって、互いに並行な主要光における入力光の直交偏光成分の純度を維持し得る。
【００２１】
図１は、光線混合に起因する非線形性等の非線形性を抑制する干渉測定装置１００を示す。装置１００は、偏光ビームスプリッティング立方体１１２を有するマイケルソン干渉計１１０、参照逆反射体１１６、及び測定逆反射体１１８を含む。ビームスプリッティング立方体１１２は、偏光ビームスプリッティング界面１１４を含む。通常、測定逆反射体１１８は、ビームスプリッティング立方体に対して相対的に移動する測定ステージ（図示せず）に接続される。干渉測定装置１００の目的は、ビームスプリッティング立方体と測定ステージとの間の距離の変化を測定することである。
【００２２】
動作中、干渉計１１０は、参照及び測定光成分を画成する直交偏光成分を有する入力光１７０を受光する。参照光成分は、図の面から飛び出すように直線偏光され、測定光成分は、図の面内において直線偏光される。更に、直交偏光成分は、その成分間にヘテロダイン周波数シフトを含む。干渉計１１０に入射する前に、入力光１７０は、例えば、石英等の単軸結晶体である複屈折プリズム１２０を横断する。プリズム１２０の光軸は、入力光１７０のそれぞれの参照光成分１７２及び測定光成分１７４が、それぞれの偏光状態を維持した状態で、伝播方向に微小差Δ２（図２を参照）で出射するように配向される。
【００２３】
再び図１において、プリズム１２０に続き、また干渉計にどのような欠陥も無い状態で、参照及び測定光成分は、空間的に分離され参照光１７３及び測定光１７５をそれぞれ画成し、偏光ビームスプリッティング界面１１４によってそれぞれ参照及び測定経路に沿って導かれる。参照光１７３は、コーナ立方体参照逆反射体１１６によって界面１１４に再導入され、測定光１７５は、コーナ立方体測定逆反射体１１８によって界面１１４に再導入される。次に、偏光ビームスプリッタ界面は、参照光と測定光を再合成して出力光１８０を形成し、次に、出力光１８０は、複屈折プリズム１２０を横断する。プリズム１２０は、出力光の参照光成分と測定光成分との間の角度差Δ２を補償し、これらの光成分は、補償済出力光１９０として、互いに並行に伝播する。更に、必要に応じて、プリズム１２０による角度補償と共に、補償済出力光の参照光成分と測定光成分を共線にし得るように、参照及び測定逆反射体の一方又は両方の横方向の位置を調節して、補償済出力光の参照光成分と測定光成分との重ね合わせを最適化し得る。測定光の方向は、逆反射体の以後の並進中、導入される測定光に横方向の剪断が生じることがないように、測定逆反射体の並進方向に並行に位置合わせする。
【００２４】
再び図２において、前の段落で述べた出力光の参照及び測定光成分（以降、本明細書では、所望の参照及び測定光成分１８１、１８２と呼ぶ）に加えて、出力光１８０は、スプリアス光成分を含み得る。例えば、ビームスプリッティング立方体１１２の複屈折によって、参照光成分１７２のスプリアス部は、測定光１７５の一部として測定経路に沿って伝播し、また、測定光成分１７４のスプリアス部は、参照光１７２の一部として参照経路に沿って伝播し得る。これらのスプリアス部は、出力光１８０において、スプリアス参照及び測定光成分１８３、１８４として出射する。しかしながら、プリズム１２０に先立ち、所望の参照光部１８１及びスプリアス参照光部１８３は、互いに平行に伝播するが、直交偏光を有する。同様に、所望の測定光部１８２及びスプリアス測定光部１８４は、互いに平行に伝播するが、直交偏光を有する。その結果、複屈折プリズム１２０によって、所望部１８１及び１８２は、補償済出力光１９０において互いに平行に出射し、一方、スプリアス部１８３及び１８４（点線）は、補償済出力光とまた互いに非平行になる。以降の段落で説明するように、スプリアス光が非平行であるため、干渉測定へのそれらの影響が抑制される。またビームスプリッティング立方体１１２における複屈折に加えて、このようなスプリアス部は、様々な種類及び／又は組み合わせの欠陥の中でも、とりわけ欠陥がある偏光ビームスプリッティング界面１１４と、コーナ立方体逆反射体１１６及び１１８のいずれかによる偏光回転との組み合わせによっても生成し得ることに留意されたい。
【００２５】
再び図１において、偏光板１９５は、補償済出力光１９０の所望部分の直交偏光を合成して、信号光１９２を生成するように配置され、信号光１９２の経時変化する強度が、光検出器１９６によって監視される。強度信号は、入力光１７０の参照光成分と測定光成分との間における周波数シフトのヘテロダイン干渉信号を含む。干渉信号は、例えば、測定逆反射体１１８の相対位置変化等、参照経路と測定経路との間の経路長差の変化を示す。また、スプリアス光成分も、偏光板１９５を通り光検出器１９６上に伝播し得るが、それらによって生成されるあらゆる光学的干渉信号が、補償済出力光からも又互いにも分散するため、検出器の空間的範囲に渡って積分されると、平均化されてしまう。また、必要ならば、スプリアス光は、空間的フィルタ処理によっても除去し得る（図１には図示せず）。他の実施形態において、出力光は、光ファイバ（例えば、光ファイバピックアップ）を介して検出器に連結し得る。
【００２６】
本発明による干渉測定装置の他の実施形態において、干渉計は、図１に示すマイケルソン干渉計１１０と異なっていてもよく、例えば、干渉計は、微分平面鏡干渉計、二重光路干渉計、複数の波長（例えば、１０６４ｎｍ及び５３２ｎｍ等の高調波）を用いる分散干渉計、又は動的光操作要素を備える干渉計であってもよい。干渉計は、例えば、光路長の変化、物理的経路長の変化、屈折率の変化、光の波長の変化、光の伝播方向の変化、又は経路長に沿う固有気体特性の変化を監視するように構成し得る。一般的に、干渉計は、（参照対象物と接触し得る）参照経路に沿って参照光を導き、また、測定対象物（例えば、リソグラフィステージ）と接触する測定経路に沿って測定光を導き、こうして参照光と測定光を合成して、重なり合った対の出射光を形成する。分散干渉計の用途において、複数の波長各々に対して、重なり合う対の出射光が存在する。重なり合う対の出射光間における干渉には、参照経路と測定経路との間の相対的な光路長差に関する情報が含まれる。幾つかの実施形態において、参照経路は固定され、従って、光路長差の変化は、測定経路の光路長差の変化に対応する。しかしながら、他の実施形態においては、参照経路及び測定経路両方の光路長が変化する場合がある。例えば、参照経路は、干渉計に対して相対的に移動し得る参照対象物（例えば、参照コラム）と接触し得る。この後者の場合、光路長差の変化は、参照対象物に対する測定対象物の位置の変化に対応する。
【００２７】
更に、幾つかの実施形態において、干渉計は、複数の組の参照及び測定光を生成して、複数の軸に沿って、対応する測定値を提供する多軸干渉計であってもよい。例えば、このような多軸干渉計の１つが、ヘンリ・ヒル（Ｈｅｎｒｙ＿Ｈｉｌｌ）らによる２００１年７月６日出願された共同所有の同時系属出願中の米国暫定特許・表題“高性能多軸干渉計”に開示されており、その内容は本明細書に引用参照する。このような実施形態において、偏光光学系により付与される角度差は、入力光の２次入力光へのスプリティングの前に起こることがあり、各２次入力光は、この後、対応する参照及び測定光に分離される。
【００２８】
また、図１に示すものとは異なる本発明の実施形態において、偏光光学系は、複屈折プリズム１２０と異なってもよい。例えば、図９ａにおいて、偏光光学系は、複屈折楔９２２及び等方楔９２４の組み合わせによって形成される複合光学系９２０であってもよい。楔の材料及び方位は、選択した直線偏光（実線）を有する光９７２が、如何なる角度偏向も無い状態で、複合光学系を通過するように、一方、直交直線偏光（点線）を有する光９７４が、複合光学系によって角度偏向を受けるように、選択し得る。従って、例えば、複合光学系９２０は、それぞれ入力光１７０及び補償済出力光１９０が、測定逆反射体１９０への測定光経路に平行な軸に沿って、干渉計１１０に対して入射し出射し得るように、図１の複屈折プリズム１２０と置き換え得る。このような対称性によって、干渉測定装置のアライメントを簡略化し得る。
【００２９】
偏光光学系の他の例を図９ｂに示すが、ここで、複合光学系９３０は、偏光ビームスプリッティング面９３２を画成する。偏光ビームスプリッティング面９３２は、わずかな位置ずれのある状態で、入力光９８０の直交直線偏光成分９８２及び９８４を分離してから再合成して、微小角度差が直交直線偏光成分間に在る出力光９８６を生成する。複合光学系９３０は、調整位置をずらしたマッハ・ツェンダ干渉計の一例である。更に他の実施形態において、偏光光学系は、ウォラストン・プリズム等であってもよい。このような偏光光学系は、いずれも以下に説明する実施形態において実装し得る。一般的に、偏光光学系は、入力光の直交偏光成分であって、通常、直線直交偏光成分間に角度差をもたらす何らかの光学系又は何らかの組の光学系である。多くの実施形態において、透過する成分が干渉計を通る後続の伝播と重なる状態を維持するのに充分な程、角度差は、一般的に小さい。
【００３０】
更に、図１及び図２に示す実施形態は、入力光の直交偏光成分間に角度差をもたらすように配置された偏光光学系と、参照及び測定光の所望部分間の角度差を補償するために配置された補償光学系との両方の機能を果たす複屈折プリズム１２０を有するが、他の実施形態においては、これらの機能は別々の光学系によって実行し得る。例えば、複屈折プリズム１２０は、２つのより小さい複屈折プリズムと置き換えてもよく、その両方共、干渉計１１０に一体化してもしなくてもよい。このような実施形態の１つとして、高安定平面鏡干渉計の場合を図３に示す。
【００３１】
図３において、光線混合に起因するような非線形性等の非線形性を抑制する干渉測定装置３００には、偏光ビームスプリッティング立方体３１２を有する高安定平面鏡干渉計（ＨＳＰＭＩ）３１０、参照鏡３１６、参照１／４波長板３１７、測定鏡３１８、測定１／４波長板３１９、及びコーナ立方体逆反射体３１３が含まれる。ビームスプリッティング立方体３１２は、偏光ビームスプリッティング界面３１４を含む。通常、測定鏡３１８は、ビームスプリッティング立方体に対して相対的に移動する測定ステージ（図示せず）に接続される。
【００３２】
動作中、干渉計３１０は、参照及び測定光成分を画成する直交偏光成分を有する入力光３７０を受光する。参照光成分は、図の面から飛び出すように直線偏光され、測定光成分は、図の面内において直線偏光される。更に、直交偏光成分は、その成分間にヘテロダイン周波数シフトを含む。干渉計３１０への入射に先立ち、入力光３７０は、例えば、石英等の単軸結晶体等の複屈折プリズム３２０を横断する。プリズム３２０の光軸は、入力光３７０の参照及び測定光成分が、それらの伝播方向において微小な差のある状態で出射するように配向される。即ち、入力光に関しては、プリズム３２０は、図１及び２の実施形態における複屈折プリズム１２０と同一である。しかしながら、プリズム１２０とは異なり、プリズム３２０は、干渉計３１０からの出射光と接触しない程充分に小さい。
【００３３】
プリズム３２０に続き、また、干渉計に何ら欠陥が無い状態で、参照及び測定光成分は、空間的に分離され、それぞれ参照光３７３及び測定光３７５を画成し、また、偏光ビームスプリッティング界面３１４によって、それぞれ参照及び測定経路に沿って導かれる。参照光３７３は、最初、界面３１４によって反射され、１／４波長板３１７を通過して参照鏡３１６上に達し、参照鏡３１６によって反射され、１／４波長板３１７を経由して、界面３１４へ戻る。１／４波長板３１７を２回通過するため、参照光は、次に、界面３１４を透過して逆反射体３１３へ進み、逆反射体３１３は、参照光を横方向に並進させ反射して、界面３１４を通って戻し、参照鏡３１６への２回目の通過が起こる。この２回目の通過時、参照光は、再度、１／４波長板３１７を２回通過することから、参照鏡によって２回目に反射されて界面３１４に戻ると、次に、界面３１４によって反射され出力光３８０の参照光成分を形成する。測定光３７５は、最初、界面３１４によって透過され、１／４波長板３１９を通過して測定鏡３１８上に達し、測定鏡３１８は、測定光３７５を反射して、１／４波長板３１９を経由して界面３１４へ戻す。１／４波長板３１９を２回通過することから、測定光は、次に、界面３１４によって反射され逆反射体３１３に至り、逆反射体３１３は、光を横方向に並進して反射し界面３１４に戻し、界面３１４によって反射され、測定鏡３１８への２回目の通過が起こる。この２回目の通過時、測定光は、また、１／４波長板３１９を２回通過することから、測定鏡によって２回目に反射され界面３１４に戻ると、次に、界面３１４によって透過され、出力光３８０の測定光成分を形成する。この時点で、出力光３８０の参照及び測定光成分は、複屈折プリズム３２０によって付与される角度差を保持する。次に、出力光３８０は、ビームスプリッティング立方体３１２に一体化された第２の複屈折プリズム３３０に入射する。図２に示すものと同様に、複屈折プリズム３３０は、プリズム３２０と同じ特性を有し、参照光成分と測定光成分との間の伝播での差を補償して、補償済出力光３９０を生成する。更に、必要ならば、参照鏡３１６及び測定鏡３１８の一方又は両方の角方位は、プリズム３３０による角度補償と共に、補償済出力光の参照及び測定光成分が共線状態になり得るように、補償済出力光の参照及び測定光の重ね合わせを最適化するために調整し得る。測定光の方向は、測定鏡の以後の並進中、導入される出力測定光に横方向剪断が生じないように、測定鏡の公称角度位置に対して垂直に調整される。
【００３４】
図１及び２の実施形態のように、干渉測定装置３００に欠陥があると、出力光３８０は、前出の段落で説明した出力光の参照及び測定光成分（以降、本明細書では、所望の参照及び測定光成分と呼ぶ）に加えて、スプリアス光を含むことがある。例えば、ビームスプリッティング立方体３１２における複屈折によって、入力光３７０における参照光成分のスプリアス部が、測定光３７５の一部として測定経路の一部又は全体に沿って伝播し、また、入力光３７０の測定光成分のスプリアス部が、参照光３７２の一部として参照経路の一部又は全体に沿って伝播し得る。これらのスプリアス部は、出力光におけるスプリアス参照及び測定光成分（点線）として出射する。しかしながら、図２に示す実施形態のように、このようなスプリアス光は、プリズム３３０を横断する際に適切な偏光を有さないため、プリズム３３０によって補償されない角度差であって、プリズム３２０によって付与される角度差を有し、従って、出力光におけるスプリアス光は、所望の光成分からも又互いにも分散する。
【００３５】
更に、干渉測定装置３００は、補償済出力光３９０の所望部分の直交偏光を合成して信号光３９２を生成するために配置された偏光板３９５を含み、信号光３９２の経時変化する強度は、光検出器３９６によって監視される。この強度信号は、入力光３７０の参照光成分と測定光成分との間における周波数シフトのヘテロダイン干渉信号を含む。この干渉信号は、例えば、測定鏡３１８の相対位置の変化等、参照経路と測定経路との間の光路長差の変化を示す。また、スプリアス光成分も、偏光板３９５を通り光検出器３９６上に伝播し得るが、それらによって生成される何らかの光学的干渉信号は、補償済出力光からも又互いにも分散するため、検出器の空間的範囲に渡って積分されると、平均化されてしまう。他の実施形態において、出力光は、光ファイバ（例えば、光ファイバピックアップ）を介して検出器に連結し得る。
【００３６】
一般的に、偏光光学系によって導入される角度差によって、補償光学系（１つ又は複数）は、角度差の生成に続き、干渉測定装置に見られる欠陥に起因するスプリアス光を区別し得る。図１及び２の実施形態及び図３の実施形態において、角度差の導入は、干渉計における光伝播に先立って起こり、角度差の補償は、干渉計における伝播後に行われる。特に、これらの実施形態において、補償光学系（それぞれ複屈折プリズム１２０及び３３０）は、各様に直交偏光成分を導く点において、偏光光学系でもある。他の実施形態において、角度差の補償は、干渉計の参照及び測定経路の一方又は両方において行ない得る。このような場合、干渉計自体は参照及び測定光の所望部分を分離するため、偏光光学系は、補償光学系として必要ではない。このような実施形態の１つを図４に示す。
【００３７】
図４において、光線混合に起因する非線形性等の非線形性を抑制する干渉測定装置４００は、偏光ビームスプリッティング立方体４１２を有する高安定平面鏡干渉計（ＨＳＰＭＩ）４１０、第一部分４１６ａ及び第２部分４１６ｂを含むスプリット参照鏡４１６、参照１／４波長板４１７、測定鏡４１８、測定１／４波長板４１９、及びコーナ立方体逆反射体４１３を含む。偏光ビームスプリッティング立方体４１２は、偏光ビームススプリッタ界面４１４を含む。通常、測定鏡４１８は、ビームスプリッティング立方体に対して相対的に移動する測定ステージ（図示せず）に接続される。
【００３８】
動作中、干渉計４１０は、参照及び測定光成分を画成する直交偏光成分を有する入力光４７０を受光する。参照光成分は、図の面から飛び出すように直線偏光され、測定光成分は、図の面内において直線偏光される。更に、直交偏光成分は、その成分間にヘテロダイン周波数シフトを含む。干渉計４１０への入射に先立ち、入力光４７０は、例えば、石英等の単軸結晶体等、複屈折プリズム４２０を横断する。プリズム４２０の光軸は、入力光４７０の参照及び測定光成分が、それらの伝播方向において微小な差のある状態で出射するように配向される。即ち、プリズム４２０は、図３の実施形態における複屈折プリズム３２０と同一である。
【００３９】
プリズム４２０に続き、また、干渉計に何ら欠陥が無い状態で、参照及び測定光成分は、空間的に分離され、それぞれ参照光４７３及び測定光４７５を画成し、また、偏光ビームススプリッタ界面４１４によって、それぞれ参照及び測定経路に沿って導かれる。参照光４７３は、最初、界面４１４によって反射され、１／４波長板４１７を通過して参照鏡４１６（スプリット参照鏡の特定部分４１６ａ）上に達し、参照鏡４１６によって反射され、１／４波長板４１７を経由して、界面４１４へ戻る。１／４波長板４１７を２回通過するため、参照光は、次に、界面４１４を透過して逆反射体４１３へ進み、逆反射体４１３は、参照光を横方向に並進させ反射して、界面４１４を通って戻し、参照鏡４１６（スプリット参照鏡の特定部分４１６ｂ）への２回目の通過が起こる。この２回目の通過時、参照光は、１／４波長板４１７を２回通過することから、参照鏡によって２回目に反射され界面４１４に戻ると、次に、界面４１４によって反射され出力光４８０の参照光成分を形成する。測定光４７５は、最初、界面４１４によって透過され、１／４波長板４１９を通過して測定鏡４１８上に達し、測定鏡４１８は、測定光４７５を反射して、１／４波長板４１９を経由して界面４１４へ戻す。１／４波長板４１９を２回通過することから、測定光は、次に、界面４１４によって反射され逆反射体４１３に至り、逆反射体４１３は、光を横方向に並進して反射し界面４１４に戻し、界面４１４によって反射され、測定鏡４１８への２回目の通過が起こる。この２回目の通過時、測定光は、再度、１／４波長板４１９を２回通過することから、測定鏡によって２回目に反射され界面４１４に戻ると、次に、界面４１４によって透過され、出力光４８０の測定光成分を形成する。
【００４０】
プリズム４２０によって導入される角度差は、スプリット参照鏡４１６によって補償される。単一の平坦な参照鏡を含む従来のＨＳＰＭＩとは異なり、参照鏡４１６は、互いに異なる方向に配向された２つの部分、４１６ａ及び４１６ｂを含む。例えば、図４において、４１６ａ部分は、測定経路に合わせて調整され、一方、４１６ｂ部分は、測定経路に対して僅かに角度をつけて調整される。４１６ａ部分と４１６ｂ部分との間における角方位の差は、複屈折プリズム４２０によって導入される角度差を補償するために選択され、これによって、出力光４８０の参照及び測定光成分は、互いに平行に伝播する。更に、スプリット参照鏡４１６の角方位（即ち、部分４１６ａおよび４１６ｂの両方の方位）は、全体的に、出力光４８０の参照及び測定光成分の重なりを最適化するように、例えば、それらが共線状態になるように、調整し得る。他の選択肢として又は組み合わせて、このような重なりは、測定鏡の角方位を調整することによって最適化し得る。測定光の方向は、測定鏡の以後の並進中、導入される出力測定光に横方向剪断が生じることがないように、測定鏡の公称角度位置に対して垂直に調整される。
【００４１】
図１及び２の実施形態及び図３の実施形態のように、干渉測定装置４００に欠陥があると、出力光４８０が、前出の段落で説明した出力光の参照及び測定光成分（以降、本明細書では、所望の参照及び測定光成分と呼ぶ）に加えて、スプリアス光を含むことがある。例えば、ビームスプリッティング立方体４１２における複屈折によって、入力光４７０の参照光成分のスプリアス部は、測定光４７５の一部として測定経路の一部又は全体に沿って伝播することができ、入力光４７０の測定光成分のスプリアス部は、参照光４７２の一部として参照経路の一部又は全体に沿って伝播し得る。これらのスプリアス部は、出力光４８０においてスプリアス参照及びスプリアス測定光成分（点線）として出射する。しかしながら、このようなスプリアス光は、スプリット参照鏡部分４１６ｂによって補償されない角度差であって、プリズム４２０によって付与される角度差、又は複屈折プリズム４２０によって予め如何なる補償もされないスプリット参照鏡部分４１６ｂによって付与される角度差のいずれかを有するため、出力光４８０のスプリアス光は、所望の光成分からも又互いにも分散する。
【００４２】
偏光板４９５は、出力光４８０の所望部分の直交偏光を合成するように配置され、信号光４９２を生成し、信号光４９２の経時変化する強度は、光検出器４９６によって監視される。この強度信号は、入力光４７０の参照光成分と測定光成分との間における周波数シフトのヘテロダイン干渉信号を含む。この干渉信号は、例えば、測定鏡４１８の相対位置の変化等、参照経路と測定経路との間の光路長差の変化を示す。また、スプリアス光成分も、偏光板４９５を通り光検出器４９６上に伝播し得るが、それらによって生成される何らかの光学的干渉信号は、補償済出力光からも又互いにも分散するため、検出器の空間的範囲に渡って積分されると、平均化されてしまう。他の実施形態において、出力光は、光ファイバ（例えば、光ファイバピックアップ）を介して検出器に連結し得る。
【００４３】
他の実施形態において、スプリット参照鏡４１６は、従来の平面鏡と置き換え可能であり、角度補償は、測定及び参照経路の一方又は両方において、１つ又は複数の光学系を設けることによって達成し得る。例えば、図４の実施形態に関して、スプリット参照鏡の部分４１６ｂによって提供される角度補償は、参照鏡への２回目の通過時、楔（例えば、非複屈折性の楔）を配置することによって達成し得る。同様に、図１及び２の実施形態において、複屈折プリズム１２０は、プリズム３２０と同様に、入力光とのみ接触するより小さいプリズムと置き換え可能であり、角度補償は、参照逆反射体１１６が参照光をビームスプリッティング界面１１４に戻るように導く参照経路に、楔（例えば、非複屈折性の楔）を配置することによって達成し得る。
【００４４】
このような置き換えが示すように、参照光、測定光、及び出力光経路の一方又は両方における１つ又は複数の光学系の様々な組み合わせを用いて、入力光の直交偏光成分に付与される伝播での初期角度差を補償することができ、参照及び測定光成分の所望部分が検出器において互いに平行になることを理解されたい。
【００４５】
更なる実施形態において、干渉測定装置は、参照光、測定光、入力光、及び出力光の内、１つ又は複数を再導入して、測定対象物の角方位及び／又は位置の変化に応じて、出力光の参照及び測定光を互いに平行に維持する動的に調整可能な要素を含む動的干渉測定装置であってよい。このような動的干渉測定装置が、例えば、ヘンリ＿Ａ．ヒル（Ｈｅｎｒｙ＿Ａ．Ｈｉｌｌ）らによる２００１年６月２６日に出願された米国特許第６，２５２，６６７号・表題“動的光操作系を有する干渉計”、及びヘンリ＿Ａ．ヒルによる１９９９年８月２７日に出願された米国特許出願第０９／３８４，８５１号・表題“角度及び距離を測定するための動的光操作アセンブリを有する干渉測定装置”に記載されており、これらの内容を本明細書に引用し参照する。このような実施形態において、また偏光光学系を用いて、入力光の参照及び測定光成分の伝播方向において微小角度差を付与する。この出力光における角度差の補償は、動的要素によって自動的に提供される。この意味で、動的要素は、本発明の補償光学系に相当する。
【００４６】
図５において、光線混合に起因する非線形性等の非線形性を抑制する干渉測定装置５００には、偏光ビームスプリッタ５１２を有する１回通過の動的干渉計５１０、参照鏡５１６、参照１／４波長板５１７、測定鏡５１８、測定１／４波長板５１９、参照逆反射体５１５、測定逆反射体５１１、及び動的に配向可能な鏡５３５が含まれる。ビームスプリッタ立方体５１２は、偏光ビームスプリッティング界面５１４及び逆反射界面５１３を含む。通常、測定鏡５１８は、干渉計台に対して相対的に移動する測定ステージ（図示せず）に接続される。動的配向可能鏡５３５は、サーボ制御装置（図示せず）に接続され、サーボ制御装置が、出力光の特性を監視し、それに応じて鏡５３５の方位を調整する。
【００４７】
動作中、干渉計５１０は、参照及び測定光成分を画成する直交偏光成分を有する入力光５７０を受光する。測定光成分は、図の面から飛び出すように直線偏光され、参照光成分は、図の面内において直線偏光される。更に、直交偏光成分は、その成分間にヘテロダイン周波数シフトを含む。干渉計５１０への入射に先立ち、入力光５７０は、例えば、石英等の単軸結晶体等、複屈折プリズム５２０を横断する。プリズム５２０の光軸は、入力光５７０の参照及び測定光成分が、それらの伝播方向において微小な差のある状態で出射するように配向される。
【００４８】
プリズム５２０に続き、また、干渉計に何ら欠陥が無い状態で、参照及び測定光成分は、空間的に分離され、それぞれ参照光（点線）及び測定光５７５を画成し、また、偏光ビームススプリッタ界面５１４によって、それぞれ参照及び測定経路に沿って導かれる。参照光は、最初、偏光界面５１４を透過し、界面５１３によって、測定逆反射体５１１の開口部に向かって反射され、１／４波長板５１７を通り、参照鏡５１６上に至り、参照鏡５１６は、参照光を反射して、１／４波長板５１７を通過させて、界面５１４に戻す。１／４波長板５１７を２回通過するため、参照光は、次に、界面５１４によって反射され動的鏡５３５に至り、動的鏡５３５は、参照光を参照逆反射体５１５に導き、そして、参照逆反射体５１５は、光を横方向に並進して反射し、動的鏡５３５へ戻す。その後、動的鏡５３５は、参照光を偏光界面５１４に導いて戻し、偏光界面５１４は、参照光を出力光５８０の参照光成分として反射する。測定光は、偏光界面５１４によって反射され測定逆反射体５１１に至り、測定逆反射体５１１は、測定光を横方向に並進し反射して、偏光界面５１４に戻し、そして、偏光界面５１４は、測定光を動的鏡５３５に反射する。次に、動的鏡５３５は、参照逆反射体５１５の開口部に向けて導き、１／４波長板５１９を通って測定鏡５１８上に導き、測定鏡５１８は、測定光を反射して、１／４波長板５１９を通って動的鏡５３５に戻し、次に、動的鏡５３５は、測定光を偏光界面５１４に反射する。１／４波長板５１９を２回通過するため、測定光は、偏光界面５１４によって透過され、次に、界面５１３によって反射され偏光界面５１４を通って戻り、出力光５８０の測定光成分を形成する。
【００４９】
動的鏡５３５の方位は、プリズム５２０によって付与される角度差を補償して、出力光５８０の参照及び測定光成分が互いに平行になるように調整し得る。更に、動的鏡５３５の方位は、測定鏡５１８の角方位の変化に応じて、出力光５８０の参照及び測定光成分が互いに平行になるように調整し得る。このような変化が起き得るのは、測定鏡が、動作中に走査される並進ステージに接続される場合である。測定鏡の公称方位に対して、必要ならば、参照鏡５１６の角方位、反射界面５１３の角方位、及び逆反射体５１１及び５１５の横方向位置の内、任意の組み合わせを設定して、出力光５８０の参照及び測定光成分の重なりを最適化し得る。
【００５０】
前述の実施形態のように、入力光の参照及び測定光成分に付与される伝播での角度差、及び動的鏡５３５による補償によって、干渉計の欠陥によって生成されるスプリアス光の少なくとも一部が、互いに及び所望の参照及び測定光成分から分散する成分として出力光に現れる。その結果、このようなスプリアス光によって生成される如何なる光学的干渉信号も、検出器の空間的範囲に渡って積分されると、平均化されてしまう。
【００５１】
前述の実施形態のように、偏光光学系は、干渉計に一体化される。他の実施形態において、入力光の参照及び測定光成分の伝播方向の角度差を生成する偏光光学系は、干渉計と離間してもよい。例えば、後述のように、入力光の一部として含み得る。
【００５２】
上述のように、通常、本明細書に記載した干渉測定装置は、入力光を用いるが、この入力光は、直交偏光成分を有し、直交偏光成分間には、ヘテロダイン周波数シフトがある。通常、このような入力光用の光源は、レーザを含み、様々な周波数変調器及び／又はレーザのいずれであってもよい。例えば、このレーザは、当業者には公知の様々な従来技術のいずれかで安定化されるＨｅＮｅ等の気体レーザであってもよい。例として、Ｔ．ベア（Ｂａｅｒ）らによる“０．６３３μｍＨｅ−Ｎｅ縦ゼーマンレーザの周波数安定化”、応用光学、１９、３１７３−３１７７（１９８０年）、バーグワルド（Ｂｕｒｇｗａｌｄ）らによる１９７５年６月１０日発効の米国特許第３，８８９，２０７号、及びサンドストーム（Ｓａｎｄｓｔｏｒｍ）らによる１９７２年５月９日発効の米国特許第３，６６２，２７９号を参照されたい。他の選択肢として、このレーザは、当業者には公知の様々な従来技術の１つにおいて周波数が安定化されるダイオードレーザであってもよく、例として、Ｔ．オコシ（Ｏｋｏｓｈｉ）及びＫ．キクチ（Ｋｉｋｕｃｈｉ）による“ヘテロダイン型光通信システム用半導体レーザの周波数安定化”、電子工学投稿、１６、１７９−１８１（１９８０年）及びＳ．ヤマグチ（Ｙａｍａｑｇｕｃｈｉ）及びＭ．スズキ（Ｓｕｚｕｋｉ）による“クリプトンの光ガルヴァニ効果を用いたＡｌＧａＡｓ半導体レーザの周波数及び出力の同時安定化”、ＩＥＥＥ＿Ｊ．量子電子工学、ＱＥ−１９、１５１４−１５１９（１９８３年）を参照されたい。
【００５３】
ヘテロダイン周波数シフトは、以下の手法のいずれかによって生成し得る。即ち、（１）ゼーマンスプリットレーザの使用。例として、バグリ（Ｂａｇｌｅｙ）らによる１９６９年７月２９日発効の米国特許第３，４５８，２５９号、Ｇ．ボユス（Ｂｏｕｗｈｕｉｓ）による“気体レーザによる干渉測定法（Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｉｅ＿Ｍｉｔ＿Ｇａｓｌａｓｅｒｓ）”、Ｎｅｄ．Ｔ．Ｎａｔｕｕｒｋ、３４、２２５−２３２（１９６８年８月）、バグリらによる１９７２年４月１８日発効の米国特許第３，６５６，８５３号、及びＨ．マツモト（Ｍａｔｓｕｍｏｔｏ）による“安定化レーザを用いた最新の干渉計による測定法”、精密工学、６（２）、８７−９４（１９８４年）を参照されたい。（２）音響光学的ブラッグセル対の使用。例として、Ｙ．オオツカ（Ｏｈｔｓｕｋａ）及びＫ．イトウ（Ｉｔｏｈ）による“低周波数帯における微小変位測定用２周波数レーザ干渉計”、応用光学、１８（２）、２１９−２２４（１９７９年）；Ｎ．マッシ（Ｍａｓｓｉｅ）らによる“６４チャネル・ヘテロダイン干渉計によるレーザ流れ場の測定法”、応用光学、２２（１４）、２１４１−２１５１（１９８３年）；Ｙ．オオツカ及びＭ．ツボカワ（Ｔｓｕｂｏｋａｗａ）による“微小変位測定用動的２周波数干渉計による測定法”、光学とレーザ技術、１６、２５−２９（１９８４年）；同書中のＨ．マツモト（Ｍａｔｓｕｍｏｔｏ）；Ｐ．ダークセン（Ｄｉｒｋｓｅｎ）らによる１９９６年１月１６日発効の米国特許第５，４８５，２７２号、Ｎ．Ａ．リザ（Ｒｉｚａ）及びＭ．Ｍ．Ｋ．ハウレイダ（Ｈｏｗｌａｄｅｒ）による“調整可能な低周波数信号の生成と制御用音響光学システム”、光工学、３５（４）、９２０−９２５（１９９６年）を参照されたい。（３）単一の音響光学的ブラッグセルの使用。例として、Ｇ．Ｅ．ゾンマグレン（Ｓｏｍｍａｒｇｒｅｎ）による１９８７年８月４日発効の共同所有である米国特許第４，６８４，８２８号、Ｇ．Ｅ．ゾンマグレンによる１９８７年８月１８日発効の共同所有である米国特許第４，６８７，９５８号、同書中のＰ．ダークセンらを参照されたい。（４）ランダムに偏光されたＨｅＮｅレーザの２つの縦モードを使用する手法。例として、Ｊ．Ｂ．ファーガソン（Ｆｅｒｇｕｓｏｎ）及びＲ．Ｈ．モリス（Ｍｏｒｒｉｓ）による“６３２８ÅのＨｅＮｅレーザにおける単一モード崩壊”、応用光学、１７（１８）、２９２４−２９２９（１９７８年）を参照されたい。（５）レーザ内部の複屈折要素等の使用。例として、Ｖ．エフツホフ（Ｅｖｔｕｈｏｖ）及びＡ．Ｅ．シーグマン（Ｓｉｅｇｍａｎ）による“レーザ共振器における軸方向に均一なエネルギ密度を得するためのねじれモード手法“、応用光学、４（１）、１４２−１４３（１９６５年）を参照されたい。又は、ヘンリ＿Ａ．ヒル及びピータ＿デ＿グルート（Ｐｅｔｅｒ＿ｄｅ＿Ｇｒｏｏｔ）による２００１年５月２２日発効の米国特許第６，２３６，５０１号Ｂ１・表題“２つの非平行伝播光成分を２つの直交偏光光成分への変換装置”、及びヘンリ＿Ａ．ヒルによる２０００年１２月５日発効の米国特許第６，１５７，６６０号・表題“直交直線偏光光生成用装置”に記載されている装置の使用。これら両特許の内容を本明細書に引用し参照する。
【００５４】
図６において、前述の干渉測定装置は、いずれも直交偏光間にヘテロダイン周波数シフトを有する光６０４を生成するためのレーザ光源６０２（例えば、ゼーマンスプリットヘリウムネオンレーザ）を含み得る。従って、光６０４は、偏光光学系６２０に入射し、偏光光学系６２０は、直交偏光成分間において伝播での微小角度差を導入して、干渉計６１０への入力光６７０を生成する。偏光光学系は、上述のいずれであってもよい。角度差の補償は、前述の実施形態において説明したように干渉計６１０中又はその後に行われる。特に、偏光光学系６２０は、干渉計６１０から離間される。また、偏光光学系６２０は、光源６０２に一体化し得る。
【００５５】
他の実施形態において、図７に示すように、レーザ光源７０２は、光７０１を生成し、そして、光７０１は、電気光学的変調装置７０６に送られ、直交偏光間にヘテロダイン周波数シフトを有する光７０４が生成される。電気光学的変調装置は、上述したもの等、１つ又は複数の音響光学的ブラッグセルを含み得る。従って、光７０４は、偏光光学系７２０上に入射し、偏光光学系７２０は、直交偏光成分間に伝播での微小角度差を導入して、干渉計７１０への入力光７７０を生成する。角度差の補償は、前述の実施形態において説明したように、干渉計７１０中又はその後に行われる。また、偏光光学系７２０は、干渉計７１０から離間されている。また、電気光学的装置７０６に一体化し得る。
【００５６】
他の実施形態において、図８に示すように、レーザ光源８０２は、光８０１を生成し、次に、光８０１は、電気光学的変調装置８０６に送られ、直交偏光間にヘテロダイン周波数シフトを有する入力光８７０が生成される。また、電気光学的変調装置８０６は、上述したもの等、１つ又は複数の音響光学的ブラッグセルを含み得る。しかしながら、本実施形態においては、偏光光学系８２０は、電気光学的変調装置８０６の一部として含まれ、入力光８７０が、その直交偏光成分間における伝播での微小角度差を有するようになる。また、角度差の補償は、前述の実施形態において説明したように、干渉計８１０中又はその後に行われる。このような装置は、１つ又は複数の複屈折光学系を含むことが多いため、偏光光学系８２０は、電気光学的変調装置８０６の一部として含み得る。例えば、上述の電気光学的変調装置には、音響光学的ブラッグセルが、複屈折性材料でできているものがある（例えば、先に参照した米国特許第４，６８７，９５８号及び第６，１５７，６６０号を参照）。従って、このようなセルの形状及び構造は、ヘテロダイン周波数シフトを有する直交偏光成分間における伝播での所望の角度差を生成するように選択し得る。このような実施形態において、ブラッグセルは、偏光光学系である。他の実施形態において、上述の幾つかの電気光学的変調装置は、周波数スプリットされた、非平行伝播する、直交偏光成分を平行に伝播させる複屈折プリズムを含む（例えば、先に参照した米国特許第４，６８４，８２８号及び第６，２３６，５０７号Ｂ１を参照）。本実施形態において、このような装置は、成分を平行に伝播させるのではなく、複屈折プリズムが、入力光８７０の参照及び測定光成分間における伝播での所望の角度差を導入するように配向及び／又は形成されるように改造する。更に、複屈折プリズム及び他の複屈折及び非複屈折光学要素は、出力光の参照及び測定光成分間に所望の空間的関係を実現するように、光源において参照光成分と測定光成分との間に横方向剪断を導入するように配向及び／又は形成し得る。
【００５７】
本発明の他の実施形態において、干渉測定装置は、ヘテロダイン干渉測定装置である必要は無い。その代わり、例えば、本明細書に開示する原理と特徴（例えば、スプリアス光システムから干渉を抑制するために、入力光の直交偏光成分の伝播方向における角度差を使用する方法）は、参照及び測定光が何らかのドップラシフトが生じる前に同じ周波数を有するホモダイン装置において用い得る。
【００５８】
上述の干渉測定装置は、干渉計の欠陥から生じるスプリアス光から干渉を抑制する。その結果、このような干渉測定装置は、測定精度が高い。このような装置は、コンピュータチップ等の大規模集積回路の製造に用いるリソグラフィ用途において特に有用であり得る。リソグラフィは、半導体製造産業にとって重要な牽引技術である。オーバレイ改善は、１００ｎｍ線幅（デザインルール）以下に対する５つの最も困難な課題の１つである（例えば、半導体産業ロードマップ、ｐ８２（１９９７年）を参照）。
【００５９】
オーバレイは、ウェーハ及びレチクル（即ち、マスク）ステージの位置決めに用いられる距離測定干渉計の性能、即ち、正確さ及び精度を直接左右する。リソグラフィ機器によって、年に５０００万ドル乃至１億ドルの製品が製造されるため、距離測定干渉計の性能向上による経済的価値は極めて大きい。リソグラフィ機器の１％の歩留まり改善毎に、集積回路製造業者にとっては、１年当り約１００万ドルの経済的利益がもたらされ、リソグラフィ機器販売業者にとっては、大きな競争力がもたらされる。
【００６０】
リソグラフィ機器の機能は、フォトレジストで被覆したウェーハ上に空間的にパターン化された照射光を当てることである。この工程には、ウェーハのどの位置が照射光を受けるかの決定（アライメント）と、その位置のフォトレジストへの照射（露光）が含まれる。
【００６１】
ウェーハを適切に位置決めする場合、ウェーハは、専用センサによって測定し得るウェーハ上のアライメントマークを含む。アライメントマークの測定位置は、機器内でのウェーハの位置を規定する。この情報は、ウェーハ表面の所望のパターンの仕様に加えて、空間的にパターン化された照射光を基準としてウェーハのアライメントを手引きする。このような情報に基づいて、フォトレジストで被覆したウェーハを支持する並進可能なステージは、ウェーハの適切な位置が照射光で露光されるように、ウェーハを移動させる。
【００６２】
露光中、照射光源は、パターン化したレチクルを照射し、レチクルは、照射光を散乱して、空間的にパターン化した照射光を生成する。レチクルはマスクとも呼ばれ、これらの用語は、以降、互換可能に用いる。縮小リソグラフィの場合、縮小レンズは、散乱照射光を集光して、レチクルパターンの縮小像を形成する。他の選択肢として、近接焼付けの場合、散乱照射光は、微小距離（通常、ミクロンオーダ）を伝わった後、ウェーハに届き、レチクルパターンの１：１像を生成する。照射光によって、照射光パターンをレジスト内の潜像に変換する光化学処理がレジスト中で開始される。
【００６３】
干渉測定装置は、ウェーハ及びレチクルの位置を制御し、また、ウェーハ上にレチクル像の位置合わせを行なう位置決め機構の重要な構成要素である。このような干渉測定装置が上述の特徴を含む場合、装置により測定される距離の精度は、距離測定に対する周期誤差の影響が軽減されるにつれて向上する。
【００６４】
一般的に、リソグラフィ装置は、露光装置とも呼ばれ、通常、照射装置及びウェーハ位置決め装置を含む。照射装置は、紫外線、可視光、Ｘ線、電子線、又はイオン照射光等の照射光を提供するための照射光源と、照射光にパターンを付与するためのレチクル即ちマスクを含み、これによって、空間的にパターン化した照射光が生成される。更に、縮小リソグラフィの場合、照射装置は、空間的にパターン化した照射光をウェーハ上に結像するためのレンズ系を含み得る。結像された照射光は、ウェーハを覆うレジストを露光する。また、照射装置は、マスク支持用のマスクステージと、マスクを通して導かれる照射光を基準としてマスクステージの位置を調整するための位置決め装置も含む。ウェーハ位置決め装置は、ウェーハ支持用のウェーハステージと、結像された照射光を基準としてウェーハステージの位置を調整するための位置決め装置を含む。集積回路の製造には、複数の露光ステップを含み得る。リソグラフィについての一般的な参考文献として、例えば、Ｊ．Ｒ．シーツ（Ｓｈｅａｔｓ）及びＢ．Ｗ．スミス（Ｓｍｉｔｈ）による“マイクロリソグラフィ：科学と技術”（ニューヨーク、マルセルデッカー社、１９９８年）を参照されたい。この内容は、本明細書に引用し参照する。
【００６５】
上述の干渉測定装置を用いて、レンズ系、照射光源、又は支持構造物等、露光装置の他の構成要素を基準として、ウェーハステージ及びマスクステージ各々の位置を精確に測定し得る。このような場合、干渉測定装置は、静止構造物に取り付け、測定対象物は、マスク及びウェーハステージの１つ等の可動要素に取り付け得る。他の選択肢として、この状態を逆にして、干渉測定装置を可動対象物に取り付け、測定対象物を静的対象物に取り付けてもよい。
【００６６】
更に一般的には、このような干渉測定装置を用いて、露光装置のいずれか１つの構成要素の位置を、露光装置の他のいずれかの構成要素を基準として測定してもよく、ここで、干渉装置は、構成要素の１つに取り付けるか、もしくは、それで支持するか、又は、測定対象物は、他の構成要素に取り付けるか、もしくは、それで支持する。
【００６７】
干渉測定装置１１２６を用いるリソグラフィ走査装置１１００の例を図１１ａに示す。干渉測定装置は、露光装置内のウェーハ（図示せず）の位置を精確に測定するために用いる。ここで、ステージ１１２２は、露光ステーションを基準としてウェーハの位置決めと支持のために用いる。走査装置１１００は、フレーム１１０２を含み、フレーム１１０２は、他の支持構造物及びそれらの構造物に搭載される様々な構成要素を備える。露光支持台１１０４の上には、レンズ筐体１１０６が設置されており、その上には、レチクル即ちマスクの支持に用いるレチクル即ちマスクステージ１１１６が設置されている。露光ステーションを基準としてマスクの位置決めをするための位置決め装置を、概略的に要素１１１７によって示す。位置決め装置１１１７は、例えば、圧電変換素子及び対応する制御回路を含み得る。ここで説明する実施形態には含まれないが、１つ又は複数の上述の干渉測定装置を用いて、マスクステージの位置だけでなくリソグラフィ構造物を製造するためのプロセス中において正確に監視しなければならない位置を有する他の可動要素の位置も精確に測定し得る（前掲のシーツ及びスミスによる“マイクロリソグラフィ：科学と技術”を参照）。
【００６８】
ウェーハステージ１１２２を備える支持台１１１３が、露光支持台１１０４の下に吊り下げてある。ステージ１１２２は、干渉測定装置１１２６によってステージに導かれる測定光１１５４を反射する平面鏡１１２８を含む。干渉測定装置１１２６を基準としてステージ１１２２を位置決めする位置決め装置を、概略的に要素１１１９で示す。位置決め装置１１１９は、例えば、圧電変換素子及び対応する制御回路を含み得る。測定光は、露光支持台１１０４に設置された干渉測定装置に戻るように反射される。干渉測定装置は、前述の実施形態のいずれでもよい。
【００６９】
動作中、ＵＶレーザ（図示せず）からの紫外線（ＵＶ）光等の照射光１１１０は、光整形光学部品１１１２を通過し、鏡１１１４で反射した後、下方へと進む。その後、照射光は、マスクステージ１１１６に搭載されるマスク（図示せず）を通過する。マスク（図示せず）は、レンズ筐体１１０６に搭載されるレンズ系１１０８を介して、ウェーハステージ１１２２上のウェーハ（図示せず）に結像される。支持台１１０４及びそれで支持される様々な構成要素は、ばね１１２０で示す減衰装置によって、周囲環境の振動から隔離される。
【００７０】
リソグラフィ走査装置の他の実施形態において、１つ又は複数の前述の干渉測定装置を用いて、多軸に沿う距離の測定、また、例えば、これに限定しないが、ウェーハ及びレチクル（即ち、マスク）ステージに対応する角度の測定を行ない得る。ＵＶレーザビーム以外に、例えば、Ｘ線ビーム、電子ビーム、イオンビーム、及び可視光ビーム等、他のビームを用いてウェーハを露光してもよい。
【００７１】
幾つかの実施形態において、リソグラフィ走査装置は、参照コラムとして当該技術分野では公知のものを含み得る。このような実施形態において、干渉測定装置１１２６は、例えば、レンズ筐体１１０６等の照射光を導く何らかの構造物に取り付けられる参照鏡（図示せず）と接触する外部参照経路に沿って、参照光（図示せず）を導く。参照鏡は、参照光を反射して、干渉測定装置に戻す。ステージ１１２２から反射される測定光１１５４とレンズ筐体１１０６に搭載された参照鏡から反射される参照光を合成する際、干渉測定装置１１２６によって生成される干渉信号は、照射光を基準とするステージ位置の変化を示す。更に、他の実施形態において、干渉測定装置１１２６は、レチクル（即ち、マスク）ステージ１１１６又は走査装置における他の可動構成要素の位置変化を測定するように配置し得る。最後に、本干渉測定装置は、走査装置に加えて又はその代わりに、ステッパを含むリソグラフィ装置に同様に用い得る。
【００７２】
当該技術分野では公知のように、リソグラフィは、半導体装置を作るための製造方法の重要な部分である。例えば、米国特許第５，４８３，３４３号は、このような製造方法のステップの概要を示す。これらのステップを図１１ｂ及び１１ｃを参照して以下に述べる。図１１ｂは、半導体チップ（例：ＩＣ又はＬＳＩ）、液晶パネル、又はＣＣＤ等、半導体装置製造の手順を示すフローチャートである。ステップ１１５１は、半導体装置の回路を設計する設計工程である。ステップ１１５２は、回路パターン設計に基づきマスクを製造する工程である。ステップ１１５３は、シリコン等の材料を用いることによって、ウェーハを製造する工程である。
【００７３】
ステップ１１５４は、前処理工程と呼ばれるウェーハ工程であり、ここでは、然るべく準備されたマスク及びウェーハを用いることによって、リソグラフィによりウェーハ上に回路を形成する。充分な空間分解能でマスク上のパターンに対応する回路をウェーハ上に形成する場合、ウェーハを基準にしたリソグラフィ機器の干渉計による位置決めが必要である。本明細書に記載した干渉測定の方法と装置は、ウェーハ工程に用いられるリソグラフィの効率改善に特に有用である。
【００７４】
ステップ１１５５は、後処理工程と呼ばれる組み立て工程であり、ここで、ステップ１１５４で処理されたウェーハが、半導体チップになる。このステップは、組み立て（ダイシング及びボンディング）及びパッケージング（チップ封止）を含む。ステップ１１５６は、検査工程であり、ここで、ステップ１１５５で生成された半導体装置の動作性能検査や耐久性検査等が実施される。これらの工程によって、半導体装置を完成して出荷する（ステップ１１５７）。
【００７５】
図１１ｃは、ウェーハ工程の詳細を示すフローチャートである。ステップ１１６１は、ウェーハ表面を酸化させる酸化工程である。ステップ１１６２は、ウェーハ表面に絶縁膜を形成するＣＶＤ工程である。ステップ１１６３は、蒸着によってウェーハに電極を形成する電極形成工程である。ステップ１１６４は、ウェーハにイオン注入を行なうイオン注入工程である。ステップ１１６５は、ウェーハにレジスト（感光性材料）を塗布するレジスト工程である。ステップ１１６６は、露光（即ち、リソグラフィ処理）によって、上述の露光装置を介して、ウェーハ上にマスクの回路パターンを焼き付ける露光工程である。上述のように、ここでもまた、本明細書に記載の干渉測定装置と方法を用いることによって、このようなリソグラフィ工程の精度と分解能が改善される。
【００７６】
ステップ１１６７は、露光済みウェーハを現像する現像工程である。ステップ１１６８は、現像済みのレジスト像以外の部分を除去するエッチング工程である。ステップ１１６９は、エッチング工程を終えた後、ウェーハ上に残るレジスト材料を剥離させるレジスト剥離工程である。これらの工程を繰り返すことによって、回路パターンがウェーハ上に形成され重ね合わされる。
【００７７】
また、上述の干渉測定装置は、対象物の相対位置を精確に測定する必要がある他の用途においても用い得る。基板又は光のいずれかの動きに合わせて、例えば、レーザ、Ｘ線、イオン、又は電子ビーム等の書込光が、基板上にパターンを描く用途において、干渉測定装置は、基板と書込光との間の相対運動を測定するために用い得る。
【００７８】
例として、書込光装置１２００の概略図を図１２に示す。光源１２１０は、書込光１２１２を生成し、また光集束系１２１４は、可動ステージ１２１８で支持される基板１２１６に照射光を導く。ステージの相対位置を決定するために、干渉測定装置１２２０は、光集束系１２１４に搭載した鏡１２２４に参照光１２２２を導き、ステージ１２１８に搭載した鏡１２２８に測定光１２２６を導く。参照光は、光集束系に搭載した鏡と接触するため、光書込装置は、参照コラムを用いる装置の一例である。干渉測定装置１２２０は、前述の干渉測定装置のいずれでもよい。干渉測定装置によって測定される位置の変化は、基板１２１６上での書込光１２１２の相対位置の変化に対応する。干渉測定装置１２２０は、測定信号１２３２を、基板１２１６上の書込光１２１２の相対位置を示す制御装置１２３０に送る。制御装置１２３０は、出力信号１２３４を、ステージ１２１８を支持し位置決めする支持台１２３６に送る。更に、制御装置１２３０は、信号１２３８を光源１２１０に送り、書込光１２１２の強度を変えたり、書込光１２１２を遮断したりするため、書込光は、基板の選択された位置においてのみ、物理光学的又は化学光学的変化を引き起こすのに充分な強度で基板と接触する。
【００７９】
更に、幾つかの実施形態において、制御装置１２３０は、光集束系１２１４によって、例えば、信号１２４４を用いて、基板の領域を書込光で走査し得る。その結果、制御装置１２３０は、基板にパターン形成するように、装置の他の構成要素に指示する。通常、パターン形成は、制御装置に記憶された電子的な設計パターンに基づく。幾つかの用途において、書込光は、基板を覆うレジストにパターン形成し、また、他の用途においては、基板に直接パターン形成、例えば、エッチングを行なう。
【００８０】
このような装置の重要な用途は、前述のリソグラフィ法で用いられるマスク及びレチクルの製造である。例えば、リソグラフィマスクを製造する場合、電子ビームを用いて、クロム被覆のガラス基板にパターン形成し得る。このような書込光が電子ビームである場合、光書込装置は、電子ビーム経路を真空中に密封する。また、書込光が、例えば、電子又はイオンビームである場合、光集束系は、真空下で基板上に荷電粒子を集束させ導くための４極レンズ等の電界発生器を含む。書込光が、例えば、Ｘ線、ＵＶ又は可視照射光等、他の照射光である場合、光集束系は、基板に照射光を集束させ導くための対応する光学系を含む。
【００８１】
本発明の多くの実施形態について説明した。しかしながら、様々な修正が、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく実施し得ることを理解されたい。従って、他の実施形態も、上述した請求項の範囲内にある。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】装置特性に起因する非線形性を抑制する干渉測定装置１００の実施形態を示す概略図。本実施形態の干渉計１１０は、マイケルソン干渉計であり、偏光光学系及び補償光学系は、共通の複屈折プリズム１２０によって形成され、複屈折プリズム１２０は、干渉計に取り付けられ、干渉計への入力光及び干渉計から出射する重畳参照及び測定光を受光するように配置されている。
【図２】図１の実施形態における複屈折プリズム１２０及びそれぞれの光成分に対するその影響を示す概略図。
【図３】装置特性に起因する非線形性を抑制する干渉測定装置３００の他の実施形態を示す概略図。本実施形態における干渉計３１０は、高安定平面鏡干渉計（ＨＳＰＭＩ）である。偏光光学系は、入力光を受光するために配置された複屈折プリズム３２０である。補償光学系は、干渉計から出射する参照及び測定光の受光のために、また、参照及び測定光の所望部分に対してプリズム３２０によって付与された角度差の補償のために配置される同様な複屈折プリズム３３０である。
【図４】装置特性に起因する非線形性を抑制する干渉測定装置４００の他の実施形態を示す概略図。本実施形態における干渉計４１０は、高安定平面鏡干渉計（ＨＳＰＭＩ）である。偏光光学系は、入力光を受光するために配置された複屈折プリズム４２０である。補償光学系は、参照鏡４１６のスプリット部４１６ｂである。このスプリット部は、参照光が参照鏡を一旦通過するとプリズム４２０によって付与される角度差を補償する。
【図５】装置特性に起因する非線形性を抑制する干渉測定装置５００の他の実施形態を示す概略図。前述の実施形態と同様に、本実施形態における干渉計５１０は、入力光を受光するために配置される偏光光学系として、複屈折プリズム５２０を含む。しかしながら、補償光学系は、動的鏡要素５３２によって形成され、この動的鏡要素５３２は、測定ステージ鏡５４０の方位の角度変化も補償する。
【図６】偏光光学系が、レーザ光源に隣接して配置される実施形態を示す概略図。
【図７】偏光光学系が、ヘテロダイン周波数スプリットを生成するための電気光学変調器に隣接して配置される実施形態を示す概略図。
【図８】偏光光学系が、ヘテロダイン周波数スプリッティングを生成するための電気光学変調器の一部である実施形態を示す概略図。
【図９ａ】図１及び図２の実施形態における偏光光学系１２２の他の実施形態。
【図９ｂ】図１及び図２の実施形態における偏光光学系１２２の更に他の実施形態。
【図１０】１つの光線における２つの直交偏光成分の伝播方向での角度差を用いて、どのように偏光分離を行ない得るか示す概略図。
【図１１ａ】本明細書に記載した干渉測定装置を含み、集積回路製造に用いるリソグラフィ装置の概略図。
【図１１ｂ】集積回路製造ステップを説明するフローチャート。
【図１１ｃ】集積回路製造ステップを説明するフローチャート。
【図１２】本明細書に記載した干渉測定装置を含む光書込装置の概略図。
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１２】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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