(57)【要約】式：Ｗ−Ｙ−Ｏ−Ｚ［式中、Ｗは水素、Ｘ又はＸ−Ｏで、Ｘは一価の不飽和有機部位であり；Ｙは二価の有機部位であり；そしてＺは一価のフッ素化有機部位である］の化合物から誘導された少なくとも１個の反復単位を含むポリマーを含む光学デバイス。【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の式：
Ｗ−Ｙ−Ｏ−Ｚ    （１）
［式中、Ｗは水素、Ｘ又はＸ−Ｏ−で、Ｘは一価の不飽和有機部位であり；Ｙは二価の有機部位であり；Ｚは一価のフッ素化有機部位である］の化合物から誘導された少なくとも１個の反復単位を含むポリマーを含む光学デバイス。
【請求項２】
ＷがＸである、請求項１に記載の光学デバイス。
【請求項３】
Ｘが、置換又は無置換アルケニル、置換又は無置換アルキニル、置換又は無置換アラルキル、置換又は無置換複素環基、及び置換又は無置換ビニルエーテル基からなる群から選ばれる、請求項２に記載の光学デバイス。
【請求項４】
Ｘが、置換又は無置換アルケニル、及び置換又は無置換ビニルエーテル基からなる群から選ばれる、請求項３に記載の光学デバイス。
【請求項５】
Ｘが、ビニル；ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ−；ＣＦ２＝ＣＦ−；ＣＦＣｌ＝ＣＦ−；又は、エチルビニルエーテル、トリメチロールプロパンビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、ペンタエリトリトールビニルエーテル、グリセロールモノビニルエーテル、ペンタエリトリトールジビニルエーテル、グリセロールジビニルエーテル、又はペンタエリトリトールトリビニルエーテルから誘導される基；である、請求項４に記載の光学デバイス。
【請求項６】
ＷがＸ−Ｏ−である、請求項１に記載の光学デバイス。
【請求項７】
Ｘが、ビニル、ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ−、ＣＦ２＝ＣＦ−、ＣＦＣｌ＝ＣＦ−である、請求項４に記載の光学デバイス。
【請求項８】
Ｘが、置換又は無置換アルケニル、置換又は無置換アルキニル、置換又は無置換アラルキル、及び置換又は無置換複素環基からなる群から選ばれる、請求項６に記載の光学デバイス。
【請求項９】
Ｘが、置換又は無置換アルケニルからなる群から選ばれる、請求項７に記載の光学デバイス。
【請求項１０】
Ｘが、ビニル、ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ−、ＣＦ２＝ＣＦ−、又はＣＦＣｌ＝ＣＦ−である、請求項４に記載の光学デバイス。
【請求項１１】
Ｙが、無置換又は置換アルキル、及び無置換又は置換アリールからなる群から選ばれた一価部位から誘導される、請求項１に記載の化合物。
【請求項１２】
Ｙが、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ２ＯＺ）２ＣＨ２−、及び−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−からなる群から選ばれる、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
Ｙが、以下の式：−Ｃ６Ｈ４−ｐ（Ｏ−Ｚ）ｐ−［式中、ｐは約０〜約４である］の部位である、請求項１１に記載の化合物。
【請求項１４】
Ｙが、−Ｃ６Ｈ４−である、請求項１３に記載の化合物。
【請求項１５】
各Ｚが、フッ素化アルキル、フッ素化アルケニル、及びフッ素化アリールからなる群から独立して選ばれる、請求項１に記載の化合物。
【請求項１６】
各Ｚが、−ＣＨＦ−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦ２、−Ｃ（Ｃｌ）Ｆ−ＣＨＦ２、−ＣＦ２−ＣＨ（Ｃｌ）Ｆ、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＣＨＦＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦ２、−ＣＦ（ＣＦ２ＣＦ３）−ＣＨ（ＣＦ３）２、−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−ＣＦ（ＣＦ３）２、−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨＦ−ＣＦ（ＣＦ３）２、−Ｃ（Ｃｌ）＝ＣＦ２、−Ｃ（Ｆ）＝Ｃ（Ｃｌ）Ｆ、−ＣＦ＝ＣＦ−ＣＦ３、−ＣＦ２−ＣＦ＝ＣＦ２、−ＣＦ＝ＣＦ−ＣＦ３、及び−Ｃ（Ｃ２Ｆ５）＝Ｃ（ＣＦ３）２からなる群から独立して選ばれる、請求項１５に記載の化合物。
【請求項１７】
以下の式：
Ｗ−Ｙ−Ｏ−Ｚ    （１）
［式中、Ｗは水素、Ｘ又はＸ−Ｏ−で、Ｘは一価の不飽和有機部位であり；Ｙは二価の有機部位であり；Ｚは一価のフッ素化有機部位である］の化合物から誘導された少なくとも１個の反復単位を含むポリマーを含むフォトレジスト。
【請求項１８】
前記化合物におけるフッ素の水素に対するモル比が約７：３より大きい、請求項１７に記載のフォトレジスト。
【請求項１９】
前記化合物中のフッ素の水素に対するモル比が約７：１以上である、請求項１８に記載のフォトレジスト。
【請求項２０】
以下の式：
Ｗ−Ｙ−Ｏ−Ｚ    （１）
［式中、Ｗは水素、Ｘ又はＸ−Ｏ−で、Ｘは一価の不飽和有機部位であり；Ｙは二価の有機部位であり；Ｚは一価のフッ素化有機部位である］の化合物から誘導された少なくとも１個の反復単位を含むポリマーを含むフォトレジストを基板に塗布し；
前記基板及び前記フォトレジストを約４４０ｎｍ以下の波長を有する光に露出する；
工程を含む、チップを製造するためのフォトリソグラフィー法。
【請求項２１】
前記波長が約２００ｎｍ以下である、請求項２０に記載のフォトリソグラフィー法。
【請求項２２】
前記波長が約１６０ｎｍ以下である、請求項２０に記載のフォトリソグラフィー法。
【請求項２３】
前記化合物におけるフッ素の水素に対するモル比が約７：１以上である、請求項２２に記載のフォトリソグラフィー法。
【請求項２４】
請求項２０に記載の方法から製造されるチップ。
【請求項２５】
以下の式：
Ｗ−Ｙ−Ｏ−Ｚ    （１）
［式中、Ｗは水素、Ｘ又はＸ−Ｏ−で、Ｘは一価の不飽和有機部位であり；Ｙは二価の有機部位であり；そしてＺは一価のフッ素化有機部位である］の化合物から誘導された少なくとも１個の反復単位を含むポリマーを含む導波路。
【請求項２６】
以下の式：
Ｗ−Ｙ−Ｏ−Ｚ    （１）
［式中、Ｗは水素、Ｘ又はＸ−Ｏ−で、Ｘは一価の不飽和有機部位であり；Ｙは二価の有機部位であり；そしてＺは一価のフッ素化有機部位である］の化合物から誘導された少なくとも１個の反復単位を含むポリマーを含む部品を含む光学パッケージ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明の分野
本発明は、一般に、光学コーティング用途に使用される組成物に使用するためのフッ素含有化合物及びそれらから誘導されたポリマーに関する。本発明はさらに、フッ素含有化合物及びそれから誘導されたポリマーの製造法、本発明の化合物及び／又はポリマーを含む組成物、基板の被覆法、及びそれから誘導された被覆製品にも関する。
【背景技術】
【０００２】
発明の背景
特に超高周波数で光学的に透明なコーティング及び導波路が求められている。例えば、フォトリソグラフィーによるチップ製造分野では、１５７ｎｍ程度の波長を有する光を使用することも稀ではない。残念ながら、従来のフォトレジストはこのような周波数の光を吸収する傾向にある。フォトレジストが光を吸収し始めると、チップ上にコントラストのシャープな線を画定する能力が低下し、解像度が失われる。この解像度の損失は、チップ上に作成しうる回路の密度を制限するため、チップの小型化を制限することになる。そこで、比較的高い光周波数でも光学的透明度を維持するコーティング及び導波路が求められている。本発明は、とりわけこの需要に応えるものである。
【発明の開示】
【０００３】
関連出願の相互参照
本願は、米国特許商標庁に２００１年６月１８日に出願された米国仮出願第６０／２９９，０４９号に基づく優先権を主張する。前記出願は引用によって本明細書に援用する。
発明の要旨
本発明は、各種の光学コーティング用途に使用される組成物の製造に使用するためのフッ素含有化合物のファミリー及びそれから誘導されたポリマーに関する。本発明の化合物は、従来光学コーティングの製造に使用されていたフッ素化化合物に優る利点がある。すなわち、本発明の化合物は、従来の化合物よりも容易に生分解しやすく、生分解すると環境的に望ましい低毒性の化合物を形成する傾向にあるという点で好都合である。さらに、本発明の化合物及びポリマーは、比較的高い耐薬品性及び耐熱性、比較的高い電気抵抗、比較的低い表面エネルギー、及び比較的低い屈折率を示すため、光学基板の被覆に使用するのに特に適している。
【０００４】
従って本発明の一側面はフッ素含有化合物に関する。好ましい態様において、本発明は、以下の式：
Ｗ−Ｙ−Ｏ−Ｚ    （１）
［式中、Ｗは水素、Ｘ又はＸ−Ｏ−で、Ｘは一価の不飽和有機部位であり；Ｙは二価の有機部位であり；そしてＺは一価のフッ素化有機部位である］で表されるフッ素含有化合物を提供する。
【０００５】
本発明の別の側面は、本発明の化合物から誘導された少なくとも１個の反復単位を含むポリマーのファミリーである。好ましい態様において、本発明のポリマーは式（１）の化合物から誘導された少なくとも１個の反復単位を含む。
【０００６】
本発明の化合物とポリマーは光学基板の被覆のための組成物に有用である。従って、本発明のさらに別の側面は、本発明のポリマーを含む組成物である。
本発明のさらに別の側面は、本発明の組成物で光学基板を処理する方法に関し、該方法は本発明の組成物の層を基板上に塗布し、該基板上の該組成物を硬化させることを含む。
【０００７】
本発明の方法によって光学コーティングを有する製品が製造される。従って、本発明のさらに別の側面は、本発明の方法によって製造された耐水性及び／又は耐土性コーティングを有する基板である。
【０００８】
本発明のポリマー又は化合物を含む組成物は硬化によりフィルムを形成しうる。従って、本発明の別のアピールは、本発明の組成物を硬化して製造されるフィルムも含む。
好ましい態様の説明
モノマー化合物
ある態様において、本発明は、以下の式：
Ｗ−Ｙ−Ｏ−Ｚ    （１）
［式中、Ｗは水素、Ｘ又はＸ−Ｏ−で、Ｘは一価の不飽和有機部位であり；Ｙは二価の有機部位であり；そしてＺは一価のフッ素化有機部位である］で表されるフッ素含有アミド化合物を提供する。
【０００９】
Ｘは、少なくとも１個の二重結合、三重結合、又は環状部分を含む任意の適切な一価部位であり得る。適切な不飽和有機部位の例は、置換又は無置換アルケニル、置換又は無置換アルキニル、置換又は無置換アラルキル、置換又は無置換複素環基、置換又は無置換ビニルエーテル、置換又は無置換カルボニル含有基、例えばケテンアセタール、ウレタン、アクリレートなどから誘導されたものなどである。
【００１０】
置換又は無置換アルケニルとしてのＸは、約２〜約２０個の炭素原子を有する任意の置換又は無置換、直鎖又は分枝アルケニル基であり得る。適切なフッ素化Ｃ２−Ｃ２０アルケニル基の例には、例えば、ビニル、アリル、ｎ−プロペニル、イソプロペニル、ｎ−ブテニル、イソブテニル、ｓｅｃ−ブテニル、ｎ−ペンテニル、イソペンテニル、ネオペンテニル、ｔｅｒｔ−ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル基など、並びにアレン、ペンタ−２，４−ジエンなどのジエンなどが挙げられる。これらの基のいずれも、例えばハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アリールアルキル基などでさらに置換されていてもよい。好ましいアルケニルのクラスでは、Ｘは置換又は無置換Ｃ２−Ｃ６アルケニルであり、例えば、ビニル；ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦ−、ＣＦ２＝ＣＦ−、ＣＦＣｌ＝ＣＦ−などの過ハロゲン化アルケニル；並びに、ハロゲン化２−メチル−３−ブテニル、ハロゲン化ブテニル、ハロゲン化３−メチル−２−ブテニル、ハロゲン化３−ブテニル、ハロゲン化３−メチル−３−ブテニル、ハロゲン化２−ブテニル、ハロゲン化２−メチル−２−ブテニル、１，４−ジハロ−２−ブテン、１，２−ジハロ−２−プロパン、２−メチル１，４−ジハロ−２−ブテン、１，１，２トリフルオロ−３−ハロ−１−プロペンから誘導されるようなハロ置換アリル；などが挙げられる。
【００１１】
置換又は無置換アルキニルとしてのＸは、約２〜約２０個の炭素原子を有する任意の置換又は無置換、直鎖又は分枝アルキニル基であり得る。適切なＣ２−Ｃ２０アルキニル基の例には、置換又は無置換プロパルギル基；並びに１−ハロ−２−ブチン、１，４−ジハロ−２−ブチン、１−ハロ−３−ブチンなどから誘導されるアルキニル；などが挙げられる。これらの基のいずれも、例えばハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アリールアルキル基などでさらに置換されていてもよい。好ましいアルキニルのクラスでは、Ｘは置換又は無置換Ｃ２−Ｃ６アルキニルである。
【００１２】
置換又は無置換アラルキルとしてのＸは、約６〜約２０個の炭素原子を有する任意の置換又は無置換アラルキル基であり得る。適切なＣ６−Ｃ２０アラルキル基の例には、ビニルベンジル及びジビニルベンジル基などが挙げられる。これらの基のいずれも、例えばハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アリールアルキル基などでさらに置換されていてもよい。好ましいアラルキルのクラスでは、Ｘは、ビニルベンジル、ハロ置換ビニルベンジル、ジビニルベンジル、及びハロ置換ジビニルベンジルなどの置換又は無置換Ｃ９−Ｃ１２アラルキルである。
【００１３】
置換又は無置換複素環基としてのＸには、環構造中に少なくとも１個のヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、又はＳ）を有する任意の置換又は無置換環状化合物であり得る。適切な複素環基には、約２〜約２０個の炭素原子を有する基、例えば、置換又は無置換エポキシ基；オキセタン基、例えば３−ブロモメチル−３−メチルオキセタン、３−ブロモメチルオキセタンなどから誘導されるようなハロ置換オキセタン基；並びに、ビス−ヒドロキシ−メチルフランなどのフルフリルアルコールから誘導される基；などが挙げられる。
【００１４】
置換又は無置換ビニルエーテル基としてのＸは、任意の置換又は無置換ビニルエーテル、アルキルビニルエーテル、環状ビニルエーテル、線状又は分枝ジビニルエーテル、又は線状又は分枝トリビニルエーテルから誘導されうる。適切なビニルエーテル基の例には、エチルビニルエーテル、トリメチロールプロパンビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、ペンタエリトリトールビニルエーテル、グリセロールモノビニルエーテル、ペンタエリトリトールジビニルエーテル、グリセロールジビニルエーテル、又はペンタエリトリトールトリビニルエーテルなどから誘導されるものなどが挙げられる。これらの基のいずれも、例えばハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アリールアルキル基などでさらに置換されていてもよい。
【００１５】
本発明の化合物において、Ｙは、Ｗ基への結合に利用できる炭素原子と−Ｏ−Ｚ基への結合に利用できる炭素原子を含む二価の有機部位である。Ｗ及び−Ｏ−Ｚ基への結合に利用できる炭素原子は同じ炭素原子であっても異なる炭素原子であってもよい。二価の有機部位としてのＹは、任意の適切な二価の置換又は無置換脂肪族若しくは芳香族部位であり得る。
【００１６】
適切な二価の置換又は無置換の脂肪族又は芳香族部位には、一価の脂肪族又は芳香族基から誘導されるものなどが挙げられる。当業者に認識されている通り、二価のラジカルは、広範囲の一価脂肪族又は芳香族基の炭素原子から１個の水素を除去することにより、その一価の基から誘導できる。例えば、本発明での使用に適した二価の脂肪族部位には、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルキニル、ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル、アリール、アラルキル、及びそれらの二つ以上の組合せから誘導されるものなどが挙げられる。
【００１７】
二価の脂肪族部位としてのＹは、前述の通り、広範囲の任意のアルキル基から誘導できる。好ましくは、Ｙは、約１〜約２０個の炭素原子を有するアルキル基から誘導される。Ｃ１−Ｃ２０アルキル基は、直鎖又は分枝状分子であってよく、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシルなどである。さらに、Ｙが誘導されるアルキル基のいずれも、アルコキシ及びアリールオキシ基、例えば−Ｏ−Ｚ基（式１の化合物中の各Ｚは独立して選ばれる）、並びにハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリールアルキル基などの他の置換基でさらに置換されていてもよい（本明細書中で使用される“独立して選ばれる”という用語は、式１の所定の化合物中の各Ｚ基が該化合物中に存在する１個以上の任意のＺ基と同じでも異なっていてもよいことを意味する）。好ましい二価部位のクラスにおいて、Ｙは置換又は無置換Ｃ２−Ｃ６アルキル、更に好ましくは置換又は無置換Ｃ２−Ｃ４アルキルから誘導される。そのようなより好ましいＹ部位の例には、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ２ＯＺ）２−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−などが挙げられる。
【００１８】
二価の脂肪族部位としてのＹは、広範囲の任意のアルケニル基から誘導できる。好ましくは、Ｙは、約２〜約２０個の炭素原子を有するアルケニル基から誘導される。Ｃ２−Ｃ２０アルケニルは、直鎖又は分枝状分子であってよく、例えば、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、２−エチルヘキセニル、ノネニル、デセニルなどである。さらに、Ｙが誘導されるアルケニル基のいずれも、アルコキシ及びアリールオキシ基、例えば−Ｏ−Ｚ基（式１の化合物中の各Ｚは独立して選ばれる）、並びにハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリールアルキル基などの他の置換基でさらに置換されていてもよい。
【００１９】
二価の脂肪族部位としてのＹは、広範囲の任意のアルキニル基から誘導できる。好ましくは、Ｙは、約２〜約２０個の炭素原子を有するアルキニル基から誘導される。Ｃ２−Ｃ２０アルキニルは、直鎖又は分枝状分子であってよく、例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、２−エチルヘキシニル、ノニニル、デシニルなどである。さらに、Ｙが誘導されるアルキニル基のいずれも、アルコキシ及びアリールオキシ基、例えば−Ｏ−Ｚ基（式１の化合物中の各Ｚは独立して選ばれる）、並びにハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリールアルキル基などの他の置換基でさらに置換されていてもよい。
【００２０】
シクロアルキル基から誘導される二価の脂肪族部位としてのＹは、好ましくは約３〜約２０個の炭素原子を有するシクロアルキルから誘導される。適切なＣ３−Ｃ２０シクロアルキルの例には、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシルなどが挙げられる。さらに、Ｙが誘導されるシクロアルキル基のいずれも、アルコキシ及びアリールオキシ基、例えば−Ｏ−Ｚ基（式１の化合物中の各Ｚは独立して選ばれる）、並びにハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリールアルキル基などの他の置換基でさらに置換されていてもよい。
【００２１】
シクロアルケニル基から誘導される二価の脂肪族部位としてのＹは、好ましくは約５〜約２０個の炭素原子を有するシクロアルケニルから誘導される。適切なＣ５−Ｃ２０シクロアルケニルの例には、例えばシクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロオクテニル、シクロノネニル、シクロデセニルなどが挙げられる。さらに、Ｙが誘導されるシクロアルケニル基のいずれも、アルコキシ及びアリールオキシ基、例えば−Ｏ−Ｚ基（式１の化合物中の各Ｚは独立して選ばれる）、並びにハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリールアルキル基などの他の置換基でさらに置換されていてもよい。
【００２２】
シクロアルキニル基から誘導される二価の脂肪族部位としてのＹは、好ましくは約５〜約２０個の炭素原子を有するシクロアルキニルから誘導される。適切なＣ５−Ｃ２０シクロアルキニルの例には、例えばシクロペンチニル、シクロヘキシニル、シクロヘプチニル、シクロオクチニル、シクロノニニル、シクロデシニルなどが挙げられる。さらに、Ｙが誘導されるシクロアルキニル基のいずれも、アルコキシ及びアリールオキシ基、例えば−Ｏ−Ｚ基（式１の化合物中の各Ｚは独立して選ばれる）、並びにハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリールアルキル基などの他の置換基でさらに置換されていてもよい。
【００２３】
ヘテロアルキル、ヘテロアルケニル、又はヘテロアルキニルから誘導されるＹは、好ましくは、前述の通り窒素（Ｎ）及び／又は硫黄（Ｓ）などの少なくとも１個のヘテロ原子をさらに含む鎖状又は環状のアルキル、アルケニル、又はアルキニル基から誘導される二価部位を含む。
【００２４】
アリール基から誘導される二価の芳香族部位としてのＹは、好ましくは約５〜約２０個の炭素原子を含むアリールから誘導される。適切なＣ５−Ｃ２０アリールは、例えばフェニル、ｏ−トリル、ｍ−トリル、ｐ−トリル、ｏ−キシリル、ｍ−キシリル、ｐ−キシリル、α−ナフチル、β−ナフチルなどであり得る。さらに、Ｙが誘導されるアリール基のいずれも、アルコキシ及びアリールオキシ基、例えば−Ｏ−Ｚ基（式１の化合物中の各Ｚは独立して選ばれる）、並びにハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリールアルキル基などの他の置換基でさらに置換されていてもよい。好ましい二価部位のクラスにおいて、Ｙは、次式：−Ｃ６Ｈ４−ｐ（Ｏ−Ｚ）ｐ−（式中、ｐは約０〜約４である）の化合物を含む置換又は無置換Ｃ６−Ｃ８アリールから誘導される。より好ましくは、Ｙは、−Ｃ６Ｈ４−又は−Ｃ６Ｈ３（ＯＺ）−などのオキシ置換Ｃ６アリールである。
【００２５】
アラルキルから誘導されるＹは、好ましくは約６〜約２０個の炭素原子を有するアラルキルから誘導される。Ｃ６−Ｃ２０アラルキルは、例えばベンジル、４−メチルベンジル、ｏ−メチルベンジル、ｐ−メチルベンジル、ジフェニルメチル、２−フェニルエチル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピルなどであり得る。さらに、Ｙが誘導されるアラルキル基のいずれも、アルコキシ及びアリールオキシ基、例えば−Ｏ−Ｚ基（式１の化合物中の各Ｚは独立して選ばれる）、並びにハロゲン、アルキル、フルオロアルキル、アリールアルキル基などの他の置換基でさらに置換されていてもよい。
【００２６】
更なる実例として、本発明での使用に適した二価の脂肪族及び芳香族Ｙ基の更なる例が誘導されうる化合物のリストを以下に示す。一般的に、適切なＹ基は、以下に掲載した化合物から、例えば炭素原子から水素又は水酸基を除去することによって（アミドの窒素に結合する炭素原子を形成するため）、及び炭素原子（窒素に結合する炭素原子と同じでも異なっていてもよい）から水素又は水酸基を除去して−Ｏ−Ｚ基に結合する炭素原子を形成することによって誘導されうることは理解されよう。そのような化合物は以下の通りである。
【００２７】
脂肪族アルコール、例えば、１，３−プロパンジオール、１，２−プロパンジオール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ジヒドロキシブタン、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、２−ペンテン１，５−ジオール、２−ペンテン１，４−ジオール、２−ペンテン４，５−ジオール、１−ペンテン３，４−ジオール、１−ペンテン４，５−ジオール、１−ペンテン３，５−ジオール、２−ブテン１，４−ジオール、１−ブテン３，４−ジオール、２−ブチン１，４−ジオール、１−ブチン３，４−ジオール、ペンタン１，５−ジオール、ペンタン１，４−ジオール、ペンタン１，３−ジオール、ペンタン１，２−ジオール、ペンタン２，５−ジオール、ペンタン２，４−ジオール、ペンタン２，３−ジオール、２−メチル−１，１，２，３−プロパントリオール、ペンタン−１，２，３−トリオール、ペンタン−１，２，４−トリオール、ペンタン−１，２，５−トリオール、ペンタン−１，３，５−トリオール、ペンタン−１，３，４−トリオール、ペンタン−２，３，４−トリオール、２−エチル１，２，３−プロパントリオール、ブタン１，２，３，４−テトラオール、ペンタエリテキシトール（pentaerytheixtol）、ペンタン１，２，３，４−テトラオール、ペンタン１，２，３，５−テトラオール、ペンタン１，２，４，５−テトラオール、２−メチレン−プロパン−１，３−ジオール、２−エチリデン−プロパン−１，２−ジオール、１−イソプロピリデン−プロパン−１，３−ジオール、２，３−ジメチル−ブタ−２−エン−１，４−ジオール、２−エチル−ブタ−２−エン−１，４−ジオール、及び２−メチル−ブタ−２−エン−１，４−ジオール、２−ヒドロキシメチル−２−メチル−プロパン−１，３−ジオール、２−ヒドロキシメチル−プロパン−１，３−ジオール、２−エチル−２−ヒドロキシメチル−プロパン−１，３−ジオール、２−ヒドロキシメチル−プロパン−１，２，３−トリオール、２−ヒドロキシメチル−ブタン−１，２，３−トリオール、２−ヒドロキシメチル−ブタン−１，２，４−トリオール、３−ヒドロキシメチル−ブタン−１，２，４−トリオール、１，２，３トリヒドロキシプロパン、ペンタエリトリトール、ジ−ペンタエリトリトール、トリペンタエリトリトール、グリセロールプロポキシレート、メソ−エリトリトール、ＨＯＣＨ２［ＣＨ（ＯＨ）］２ＣＨ２ＯＨ、トレイトールＤＬ、１，２，３，４ブタンテトロール、ソルビトール、ＨＯＣＨ２［ＣＨ（ＯＨ）］４ＣＨ２ＯＨ、マンニトール、ＨＯＣＨ２［ＣＨ（ＯＨ）］４ＣＨ２ＯＨ、ズルシトール、イジトール、Ｌ−ソルボース、ＨＯＣＨ２（ＨＣＯＨ）３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＯＨ、１，１，１トリス（ヒドロキシメチル）エタン、１，２，３トリヒドロキシヘキサン、１，２，６トリヒドロキシヘキサン、トリメチロールプロパン  ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）３、トリメチロールプロパンエトキシレート  ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｘＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）３、トリメチロールプロパンプロポキシレート  ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（ＣＨ２Ｏ（ＣＨ３ＣＨ��Ｈ２Ｏ）ｘＣＨ３ＣＨＣＨ２ＯＨ）３、トリメチロールプロパンアリルエーテル、１，４−ジヒドロキシ−２−ブテン  ＨＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２ＯＨ、１，４−ジヒドロキシ−２−ブチン  ＨＯＣＨ２ＣＣＣＨ２ＯＨ、３−メチル−３−オキセタンメタノール  ＣＨ３Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２、３−エチル−３−オキセタンメタノール  ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２、Ｎ，Ｎビス（ヒドロキシエチル）アクリル−アミド、Ｎ，Ｎビス（２−ヒドロキシプロピル）アクリルアミド、環状ポリオール、例えば１，２−シクロペンタンジオール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロペンタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，２−シクロペンタンジオール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，３，５−シクロヘキサントリオール、トリエタノールアミン、テトラヒドロキシエチルエチレンジアミン、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール  （ＨＯＣＨ２）２ＣＣＨ３ＮＨ２、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン  （ＨＯＣＨ２）３ＣＮＨ２、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメチルアクリルアミド  （ＨＯＣＨ２）３ＣＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２、メチロールアクリルアミド  （ＨＯＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２）、ジヒドロキシエチルアクリルアミド  （ＨＯＣＨ２ＣＨ２）２ＮＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２）、ジヒドロキシメチルアクリルアミド  （（ＨＯＣＨ２）２ＮＣ（Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２）、及びメチル置換アクリルアミド；
アリールアルコール、例えば、ベンゼン１，２ジオール；ベンゼン１，２，３，４テトラオール；ベンゼン１，３ジオール；ベンゼン１，２，３，５テトラオール；ベンゼン１，４ジオール；ベンゼン１，２，４，５テトラオール；ベンゼン１，２，４トリオール；ビスフェノールＡ；ベンゼン１，３，４トリオール；ビスフェノールＡＦ；ベンゼン１，２，３トリオール；４−ヘキサフルオロアセトン（６ＦＫ）フェノール；１，３ビス６ＦＫベンゼン；１，４ビス６ＦＫベンゼン；２−ヒドロキシベンジルアルコール；３−ヒドロキシベンジルアルコール；４−ヒドロキシベンジルアルコール；フェニレン１，３−ジアミン；１，２−ベンゼンジメタノール；フェニレン１，３−ジアミン；１，３−ベンゼンジメタノール；フェニレン１，４−ジアミン；１，４−ベンゼンジメタノール；１，２，３−ベンゼントリメタノール；１，２，４，５−ベンゼンテトラメタン；１，２，４−ベンゼントリメタノール；１，２，３，４−ベンゼンテトラメタン；１，３，５−ベンゼントリメタノール；１，２，３，４−ベンゼンテトラメタン；アニリン；フェノールスルホン酸；
アルコール官能基を有するポリマー及びコポリマー、例えば“遊離”水酸基を含有するモノマー、例えばヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、アリルアルコール、及びヒドロキシビニルエーテル、例えばヒドロキシエチルビニルエーテル及びヒドロキシブチルビニルエーテルなどを用いて多数のコポリマーが製造できる。例えば、ポリ（２−ヒドロキシエチルアクリレート）、ポリ（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（２−ヒドロキシプロピルアクリレート）、ポリ（４−ヒドロキシスチレン）、ポリ（ヒドロキシエチルビニルエーテル）、ポリ（ヒドロキシブチルビニルエーテル）、ポリ（スチレン−コ−アリルアルコール）、ポリビニルアルコール、ポリ（ビニルアルコール−コ−エチレン）、ポリ（塩化ビニル−コ−酢酸ビニル−コ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート）、ポリ（ビニルフェノール−コ−メチルメタクリレート）、ポリ（ビニルフェノール−コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ビニルピリジン−コ−２−ヒドロキシメチルアクリレート）；
サッカリド、本明細書中で使用しているサッカリドとは、サッカリドのアノマー性炭素原子に結合している水酸基から水素原子が除去され、重合可能な部分で置換されたサッカリド残基を意味する；残存する水酸基は部分的に又は完全にフルオロエーテルによって置換されている；更に詳しくは、それらは約１〜約１０、好ましくは約１〜約５、さらに好ましくは約１〜約３個の糖単位を有するモノサッカリド又はオリゴサッカリドのサッカリド残基である；及びそれらの対応するグリカン、例えばメチルｇｌｕｅｔｈ−１０、又は該サッカリドの他のエチレンオキシド又はプロピレンオキシド付加物；
水溶性ゴム、例えばグアゴム、アラビアゴム、カラヤゴム、トラガカントゴム、キサンタンゴム；
ビニルエーテル、例えばエチルビニルエーテル、トリメチロールプロパンビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、ペンタエリトリトールビニルエーテル、グリセロールモノビニルエーテル、ペンタエリトリトールジビニルエーテル、グリセロールジビニルエーテル、ペンタエリトリトールトリビニルエーテル、ジオキソール；
フルフリルアルコール、ビス−ヒドロキシ−メチルフラン、式ＣｎＨ２ｎＯ２（式中、ｎは約４〜約１０の整数）の線状又は分枝ケテンアセタール；
式ＣｎＦ２ｎ＋１ＸＣｌｘＯ及びＲｆＣ２Ｆ２Ｏ（式中、ｎは０〜８の整数、及びＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１又はＣｌ、Ｆ、Ｂｒ、Ｉを含むハロゲンラジカル）の電子不足ビニルエーテル；例えばＣＦ３ＣＦ＝ＣＦＯ、ＣＦ２＝ＣＦＯ、ＣＦＣｌ−ＣＦＯ；
式ＣｎＨ２ｎ−１Ｘの線状又は分枝へテロアリル、及び式ＣｎＨ２ｎＸ２の線状又は分枝ジ−ハロへテロアリル（式中、ｎは３〜８の整数、及びＸはハロゲンラジカル、Ｃｌ、Ｆ、Ｂｒ、Ｉ）；並びに
官能基化アリルアルコール、プロパルギルアルコール、ヒドロキシビニルエーテル、ヒドロキシブチルエーテル、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、ＨＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ（−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）ｘＣＯＲ＝ＣＨ２、ＨＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ−）ｘＣＯＲ＝ＣＨ２、ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）ｘＣＯＲ＝ＣＨ２、グリセリンアクリレート、グリセリンメタクリレート、グリセリンジアクリレート、グリセリンジメタクリレート、ペンタエリトリトールアクリレート、ペンタエリトリトールジアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトールメタクリレート、ペンタエリトリトールジメタクリレート、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、メチル２−ヒドロキシメチル−メチルアクリレート、ＣＨ３ＯＣ（Ｏ）（ＨＯＣＨ２）Ｃ＝ＣＨ２、ＣＦ３ＣＨＦＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、及びＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、並びに
１個以上の水酸基が−Ｏ−Ｚ基で置換されたいずれかの上記化合物。
【００２８】
Ｚは任意の適切なフッ素化有機部位であり得る。適切なフッ素化有機部位は、フッ素化アルキル基、フッ素化アルケニル基、フッ素化アリール基、フッ素化エーテル基などである。一般に、式１の化合物中に２個以上のＺ基が存在する場合（Ｙ部分上の場合による置換基も含む）、そのようなＺ基は分子内で互いに独立して選ばれる。
【００２９】
フッ素化アルキル基としてのＺは、約１〜約２０個の炭素原子と少なくとも１個のフッ素置換基を有する任意の置換又は無置換、直鎖又は分枝アルキル基を含みうる。適切なフッ素化アルキル基には、過フッ素化及び部分フッ素化アルキルを含み、例えば、過フッ素化及び部分フッ素化メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル基、並びに式Ｆ（ＣＦ２）ａ−、Ｆ（ＣＨ２）ａ（ＣＨ２）ａ−、Ｃｌ（ＣＦ２ＣＦＣｌ）ａ−、ＨＯ（ＣＨ２）ｂ（ＣＦ２）ａ−、Ｃｌ（ＣＦ２ＣＦＣｌ）ｎ（ＣＨ２）ｍ−、Ｈ（ＣＦ２）ｂ（ＣＨ２）ａ−（式中、ａは約１〜約１６の整数であり、ｂは約１〜約８の整数である）で表される他のフッ素化アルキルなどが挙げられる。これらの基のいずれも、例えば、塩素、ヒドロキシル、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アリールアルキル基などでさらに置換されていてもよい。好ましいフッ素化アルキルのクラスにおいて、ＸがＲ２−置換窒素の場合、Ｚは置換又は無置換Ｃ１−Ｃ７フッ素化アルキル、例えば、−ＣＨＦ−ＣＦ３又は−ＣＦ２ＣＨＦ２などのテトラフルオロエチルの異性体、−Ｃ（Ｃｌ）Ｆ−ＣＨＦ２又は−ＣＦ２−ＣＨ（Ｃｌ）Ｆなどのクロロトリフルオロエチルの異性体、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＣＨＦＣＦ２ＣＦ３、又は−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦ２などのヘキサフルオロプロピルの異性体、あるいは−ＣＦ（ＣＦ２ＣＦ３）−ＣＨ（ＣＦ３）２、−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−ＣＦ（ＣＦ３）２及び−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨＦ−ＣＦ（ＣＦ３）２などのフッ素化Ｃ６アルキルである。特に好ましい一定の態様において、Ｚは、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＣＦ（ＣＦ２ＣＦ３）−ＣＨ（ＣＦ３）２、−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−ＣＦ（ＣＦ３）２又は−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨＦ−ＣＦ（ＣＦ３）２である。Ｘが酸素の場合の好ましい一定の態様において、Ｚは、Ｃ、Ｈ及びＦ原子のみを含み、−ＣＨ２−基を持たないＣ１−Ｃ７フッ素化アルキルである。特に好ましいＺ基の例には、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＣＦ（ＣＦ２ＣＦ３）−ＣＨ（ＣＦ３）２、−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−ＣＦ（ＣＦ３）２及び−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨＦ−ＣＦ（ＣＦ３）２が挙げられる。
【００３０】
フッ素化アルケニル基としてのＺは、約２〜約２０個の炭素原子と少なくとも１個のフッ素置換基とを有する任意の置換又は無置換の直鎖又は分枝アルケニル基を含みうる。適切なフッ素化Ｃ２−Ｃ２０アルケニル基の例には、過フッ素化及び部分フッ素化アルケニルを含み、例えば、過フッ素化及び部分フッ素化エテニル、ｎ−プロペニル、イソプロペニル、ｎ−ブテニル、イソブテニル、ｓｅｃ−ブテニル、ｎ−ペンテニル、イソペンテニル、ネオペンテニル、ｔｅｒｔ−ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル基などが挙げられる。これらの基のいずれも、例えば、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アリールアルキル基などでさらに置換されていてもよい。好ましいフッ素化アルケニルのクラスにおいて、ＸがＲ２−置換窒素の場合、Ｚは置換又は無置換Ｃ２−Ｃ１８アルケニルであり、例えば、−Ｃ（Ｃｌ）＝ＣＦ２及び−Ｃ（Ｆ）＝Ｃ（Ｃｌ）Ｆなどのクロロジフルオロエテニルの異性体、トリフルオロエテニル、−ＣＦ＝ＣＦ−ＣＦ３及び−ＣＦ２−ＣＦ＝ＣＦ２のようなペンタフルオロプロペニルの異性体、ヘキサフルオロプロペンから誘導された、例えば−ＣＦ＝ＣＦ−ＣＦ３などのフッ素化アルケニル、及びヘキサフルオロプロペンの二量体及び三量体である。特に好ましい一定の態様において、Ｚは、−ＣＦ＝ＣＦ−ＣＦ３又は−Ｃ（Ｃ２Ｆ５）＝Ｃ（ＣＦ３）２などのＣ２−Ｃ６アルケニルである。Ｘが酸素の場合の好ましい一定の態様において、Ｚは、Ｃ、Ｈ、及びＦを含むがＣＨ２基を持たないＣ２−Ｃ６アルケニルである。
【００３１】
フッ素化アリール基としてのＺは、約２〜約２０個の炭素原子と少なくとも１個のフッ素置換基を有する任意の置換又は無置換アリール基を含みうる。フッ素化アリール基の例は、フッ素化フェニル、トリル、キシリル基などである。これらの基のいずれも、例えば、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、フルオロアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アリールアルキル基などでさらに置換されていてもよい。好ましいフッ素化アリールのクラスにおいて、Ｚは約６個以下の炭素原子を有するフッ素化アリールである。
【００３２】
ある態様において、Ｚは置換又は無置換エーテル基である。置換又は無置換エーテル基としてのＺは、任意の直鎖又は分枝エーテル基を含みうる。適切なエーテル基の例には、式（ＣＦ３）２ＣＦＯ（ＣＦ２）ａ−、（ＣＦ３）２ＣＦＯ（ＣＦ２）ａ−、ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｃ−（ＣＦ２ＣＦ２））ｃ−（ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２Ｏ）ｃ（ＣＨ２）ｂ−（式中、ｃは約１〜約２０であり、ａ及びｂは前述の定義の通り）で表されるものなどである。
【００３３】
他の適切なＺ基には、Ｆ−テロマー、ヘキサフルオロアセトン（６ＦＫ）、ペンタフルオロプロペン、過フルオロ芳香族化合物、ポリフルオロビニルエーテル（ＰＦＶＥ）、フルオロクロロオレフィン、過フルオロイソブチレン（ＰＦＩＢ）、ヘキサフルオロイソブチレン（ＨＦＩＢ）、及びそれらの誘導体から誘導されるアルキル、アルケニル、又はアリール基、及び過フルオロメチルビニルエーテル、過フルオロプロピルビニルエーテル、及び１，１，１，３，３ペンタフルオロプロパンから誘導されるＣＦ３ＣＨ＝ＣＦ２及びＣＦ３ＣＦ＝ＣＦＨなどのペンタフルオロプロペンなどが挙げられる。
【００３４】
前述の通り、一定の態様においてＷは水素である。Ｗが水素の場合の本発明の態様における好ましい化合物の例には、ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２ＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−ＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦＯ＝（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ２、及び関連ジオール、ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−ＣＨ（ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２Ｏ−（ＣＨ２）ｎ）−（ＣＨ２）ｎ−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ２（式中、ｎは１〜２０の整数）；トリオール、例えばヘキサフルオロプロペンを２個の適切なオレフィンと、又は２個のヘキサフルオロプロピル（ＨＦＰ）ラジカルを１個の適切なオレフィンとカップリングさせることによって形成されるトリオール；テトラオール、例えば１個のＨＦＰラジカルを３個の適切なオレフィンと、若しくは２個のＨＦＰラジカルを２個の適切なオレフィンと、若しくは３個のＨＦＰラジカルを１個の適切なオレフィンとカップリングさせることによって形成されるテトラオール、又は、式（ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦＯＣＨ２）４Ｃ若しくは（ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２ＯＣＨ２）４Ｃのような組合せの４個のＨＦＰラジカルから形成されるテトラオール；などが挙げられる。Ｗが水素の場合の式１の特に好ましい化合物の例には、ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ＝ＣＨ２（分子量２３８．１４、Ｈ／１００のａｍｕ比３．３６）、ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ＝ＣＨ２（分子量２１８．１３、Ｈ／１００のａｍｕ比３．２１）、ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３（分子量３２２．１２、Ｈ／１００のａｍｕ比１．２４）、及びＣ２Ｈ５Ｃ［ＣＨ２ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３］３（分子量５２４．２５、Ｈ／１００のａｍｕ比２．０９）などである。
組成物の製造法
出願人らはいかなる特定の操作理論にも拘束されることは望まないが、反応スキームＩに、式Ａの化合物をフルオロオレフィン（Ｚ−Ｖ、式中ＶはＨ又はＦ）と反応させることにより本発明のある化合物を形成するための一つの可能性ある機構を示す。
反応スキームＩ
ＣＨ２＝ＣＲ１Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｙ−Ｏ−Ｈ（Ａ）  ＋  Ｚ−Ｖ
→  ＣＨ２＝ＣＲ１Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｙ−Ｏ−Ｚ（Ｂ）        （Ｉ）
当然のことながら、化合物ＡのＲ２又はＹ基上に存在する任意の−ＯＨ基が、スキームＩに示した反応の中で−Ｏ−Ｚ基に転化されていてもよい。
【００３５】
本発明の化合物の製造に広範囲の任意の化合物Ａが使用できる。そのような化合物の例は、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートなどである。各種のそうした化合物は市販品を入手することもでき、当該技術分野で認知されている方法によって得ることもできる。例えば、化合物Ａの構造を有する化合物は以下の反応：
Ｈ−Ｏ−Ｙ−Ｏ−Ｈ  ＋  ＣＨ２＝ＣＲ１Ｃ（Ｏ）Ｃｌ
→  ＣＨ２＝ＣＲ１Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｙ−Ｏ−Ｈ
によって慣用的に製造できる。
【００３６】
当業者であれば、本発明に従って使用される化合物Ａ及びフルオロオレフィン化合物の量は、使用される特定の試薬及び反応から得られる所望の収量など多くの変数によって決まることはわかるであろう。使用される試薬の量は、好ましくは、化合物Ａの出発物質から所望の化合物Ｂの生成物への転化が約３０％以上、さらに好ましくは約５０％以上、なおさらに好ましくは約８０％以上、及びなおさらに好ましくは約９０％以上を達成するのに有効な量である。一般的に、−Ｏ−Ｚ基に転化される化合物Ａの−ＯＨ部位のフルオロオレフィンに対する比は、約２：１〜約１：２の範囲で変動しうる。好ましくは、−ＯＨ部位のフルオロオレフィンに対する比は、約１．５：１〜約１：１．５、更に好ましくは約１：１．０５〜約１：１．４である。
【００３７】
使用するフルオロオレフィンは液体の状態でも気体の状態でもよい。過フルオロ−２−メチル−２−ペンテンなどの液体フルオロオレフィンの場合、広範囲の任意の公知法を用いてフルオロオレフィンを反応混合物に加える。気体フルオロオレフィンの場合、フルオロオレフィン試薬は、水面下で通気して反応混合物に加えることができる。
【００３８】
ある態様において、スキームＩの反応は塩基の存在下で起こる。本発明による反応には広範囲の任意の塩基が使用できる。適切な塩基の例には、有機塩基、例えばアンモニア、第二級アミン、トリエチルアミンなどの第三級アミン、ジメチルアニリン、ピリジンなど；並びに、無機塩基、例えば土類金属の水酸化物（例えば水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム）及び土類金属の炭酸塩（例えば炭酸カリウム及び炭酸ナトリウム）；などである。ある好ましい塩基はｐＫａ値が約９〜約１１のものなどである。好ましい塩基の例には、トリエチルアミン、炭酸カリウム及び炭酸ナトリウムなどが挙げられる。
【００３９】
本発明の反応には任意の適切な量の塩基が使用できる。使用される塩基の量は少なくとも触媒量を提供するに足る量でなければならない。それより多量の塩基を使用すれば、反応によって形成したフッ化水素及び／又は塩化水素の副生成物に部分的に又は完全に結合することがある。過剰の塩基、例えば約５当量までの塩基を使用できる。生成物の分布は使用される塩基の量を因子として変化しうる。本明細書中の開示内容に照らして、当業者は所定の用途に使用する塩基の量を、過度の実験をせずとも容易に決定することができる。
【００４０】
ある好ましい態様において、本発明の反応は溶媒中で実施される。適切な溶媒には、実質的に無水の非プロトン性溶媒、例えば塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、テトラメチレンスルホン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、グライム、ジグライム、テトラヒドロフランなどが挙げられる。好ましい溶媒には、ジメチルホルムアミド及びアセトニトリルなどが挙げられる。
【００４１】
当業者であれば、温度、圧力及び反応時間が含まれる反応条件は、使用される特定の出発試薬及び所望の反応収量などが含まれる多数の要因に左右されることはわかるであろう。本明細書中に含有される教示を考慮し、当業者は特定の所望の結果を達成するために適切な反応条件を選ぶことができるであろう。ある好ましい態様において、反応は約−２０℃〜約５０℃の範囲、さらに好ましくは約−１０〜約２５℃、なおさらに好ましくは約−５〜約１０℃の範囲の温度で実施される。
【００４２】
前述の反応で得られた構造Ｂの化合物は当業者に公知の従来法によって精製できる。例えば、水洗、乾燥、減圧下での濃縮、蒸留、ＨＰＬＣによる分離などが使用できる。
あるいは、本発明の化合物は、式ＨＯ−Ｙ−ＯＨのジオールを式Ｚ−Ｖのフルオロオレフィンと反応させて、式ＨＯ−Ｙ−Ｏ−Ｚのアルコールを形成し、このアルコールをエステル化反応条件下に置き、本発明の化合物を形成させることによって得ることもできる。そのような反応スキームに適した反応条件及び出発物質の例は、特開昭６２−１０３０３４号（ＮＥＯＳ  Ｃｏ．Ｌｔｄに対して発行）に記載されている。前記特許は引用によって本明細書に援用する。
ポリマー及び重合法
本発明はさらに、本発明の化合物、又は本発明の二つ以上の化合物の混合物から誘導された反復単位を含むポリマーも提供する。
【００４３】
ある態様において、本発明のポリマーは、本発明の同じ化合物からすべて誘導された反復単位を含むホモポリマーを含む。別のある態様において、本ポリマーの反復単位は本発明の複数の化合物から誘導される。そのような組成物は、コポリマー、ブロックコポリマー、ターポリマー、４種類以上の異なるクラスの反復単位を含むポリマー、それらの二つ以上の組合せなどであり得る。
【００４４】
さらに別の態様において、本発明のポリマーには、本発明の少なくとも一つの化合物と共重合体されている他のモノマー、オリゴマー、又はポリマー化合物から誘導された１個以上の反復単位を含むこともできる。適切な他のモノマー、オリゴマー、及びポリマー化合物は、例えば、疎水性モノマー、例えばアクリル又はメタクリル酸のエステル、並びに長鎖アルキル、ジアルキル及びアリールのアクリルアミド（アルキル又はアリール基は次のものを含む：メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、アミル、ヘキシル、フェノール及び置換フェノール（例えば２，６ジメチルフェノール）、ベンジル及び置換ベンジル物質、オクチル、イソオクチル、エチルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、ラウリル、ステアリル、シクロペンチル、シクロヘキシル）、及び他のビニル化合物（例えばスチレン、ａ−メチルスチレン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アクリロニトリル、塩化ビニル、フッ化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン、ブタジエン、イソプレン）など；並びに、親水性モノマー、例えば親水性オレフィン及び単純／短鎖アクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート／メタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート／メタクリレート、２−ジメチルアミノ−、２−ジエチルアミノ−、３−ジメチルアミノプロピル−、３−ジエチルアミノプロピル−、ポリエチレングリコールモノアクリレート又はメチレート（これらは長鎖であり得る、ＭＷ２０００）、アクリルアミド、メチロールアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド、アクリル酸、メタクリル酸、ｎ−ビニルピロリドン、２及び４ビニルピリジン、ビニルカルバゾール、ＡＭＰＳ：２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキシシクロヘキシル−ビニルエーテルなどである。他の適切なコモノマーは、架橋モノマー、例えばエチレングリコールジアクリレート／メタクリレート、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ビニルアクリレート又はメタクリレート、アリルアクリレート又はメタクリレート、ジビニルベンゼン、トリメチロールプロパントリアクリレート又はメタクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート又はメタクリレート、ペンタエリトリトールジアクリレート／メタクリレート、グリシジルアクリレート又はメタクリレート、各種グリコールジアクリレート及びメタクリレート、２−クロロエチルアクリレートなど、並びにフッ素化モノマー、例えば２−ヘキサフルオロプロピルアリルエーテル、１，１，２，２テトラフルオロアリルエーテル、２，２，２トリフルオロエチルトリフルオロビニルエーテル、２，２，２トリフルオロエチルビニルエーテル、トリフルオロメチルトリフルオロビニルエーテル、２，２，２トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、トリメチロールプロパンなどが挙げられる。
【００４５】
本発明の化合物を他のモノマー、オリゴマー及びポリマーと共重合体化させることにより、撥水性、撥油性、及び防汚性、並びに種々の特性、例えば耐クリーニング性、耐洗浄性及び耐摩耗性、溶媒中の溶解度、硬度、触感、及びフォトレジストとしての用途などが必要に応じて改良できる。本発明の化合物及び他の化合物の任意の適切な相対量が本発明に従って使用できる。ある好ましい態様において、本発明に使用される他のポリマーの量は本発明のポリマーの約３０〜９０重量％である。本明細書中の開示内容に照らして、当業者は過度の実験をせずとも所定の用途に適した物理的及び化学的性質を有する本発明のポリマーを容易に製造できるであろう。
【００４６】
本発明のポリマーは、一つ以上の本発明の化合物を、場合によりそれと共重合体される任意の追加のモノマー、オリゴマー、又はポリマーの存在下で重合することによって製造される。本発明の化合物を重合するには広範囲の任意の公知法が本発明に従って使用できる。適切な重合法の例は、バルク重合、溶液重合、モノマーがフリーラジカル重合を起こす場合にはエマルジョン重合、イオン重合（適切な触媒を用いるカチオン及びアニオン重合）、ｅ−ビーム誘発重合、ＵＶ重合、ディールス−アルダーカップリング及び縮合反応などの付加重合などである。ある好ましい態様において、本発明のポリマーは塊状又は溶液重合によって製造される。特に好ましい態様において、本発明のポリマーは溶液重合によって製造される。
【００４７】
本発明によるいずれの重合法も、重合開始剤及び／又は界面活性剤の存在下で本発明の一つ以上の化合物を反応させることを含みうる。広範囲の任意の従来型開始剤及び界面活性剤が本発明に従って使用できる。適切な界面活性剤は、アニオン界面活性剤、例えばカルボン酸、リン酸、及びスルホン酸の塩、例えばラウリル硫酸ナトリウム、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム、並びにカチオン界面活性剤、例えばアンモニウム塩、例えば、セチルトリメチルアンモニウムブロミド、及び非イオン性界面活性剤、例えばＴｗｅｅｎ（登録商標）ポリオキシエチレンソルビタンエステル、ソルビタンエステル、及びＢｒｉｊ（登録商標）ポリオキシエチレンエーテルなどである。
【００４８】
本明細書中に記載の開示内容に照らして、当業者は、本発明のポリマーを製造するためのラジカル開始剤、場合により溶媒、その量、及び反応条件を過度の実験をせずとも容易に最適化することができる。ある好ましい態様において、重合は約２５℃〜約１００℃の範囲の温度で、本発明の化合物（単数又は複数）の量に対して約１モルパーセントの開始剤を用いて実施される。
ポリマーの使用
本発明のポリマーは、高周波数の光でも比較的少ない量しか吸収しないことが見出された。例えば、フッ素の水素に対するモル比が約７：１以上であると、本発明のポリマーは１５７ｎｍという波長でも許容可能な光透過率を有することが観察されている。経済的理由（すなわち、フッ素化ポリマーのコストはフッ素化度の増加に伴って増加する傾向にある）及び可能性あるプロセス上の懸念（すなわち、高フッ素化ポリマーは取扱い／溶解が困難であり得る）のため、低周波数用にはフッ素：水素のモル比が低い方が好ましいことがある。例えば、フッ素の水素に対するモル比約７：３以上は、１９３ｎｍの光が関与する用途に使用されるポリマーに適している。本開示内容に照らして、フッ素化度は所定の用途及び光の周波数に対して最適化できることは理解されるべきである。
【００４９】
本発明のポリマーが例外的な光透過率を有することを考えると、広範な用途に有用性が見出される。適切な用途は、例えば、フォトレジスト、導波路（例えばファイバー、基板におけるプレーナガイド、及び光学ブロック）、接着剤、コーティング（ＩＲ反射コーティング、反射防止コーティング、及び保護コーティング）、ファイバークラッド、光電池、及び液晶ディスプレイなどである。
【００５０】
本発明のポリマーの特に興味深い一つの用途は、フォトリソグラフィーにおけるフォトレジストとしての使用である。本発明のポリマーは高周波数でも高い光透過率維持能を発揮するため、例えば４３６ｎｍ（ｇ線）、３６５ｎｍ（ｉ線）、１９３ｎｍ及びさらには１５７ｎｍの波長の光が関与するフォトリソグラフィーの用途に特に適している。従って、好ましい態様において、本発明は、（ａ）式１の化合物から誘導された少なくとも１個の反復単位を含むポリマーを含むフォトレジストを基板に塗布し、そして（ｂ）該基板及び該フォトレジストを約４４０ｎｍ以下の波長を有する光に露出することを含むフォトリソグラフィー法を提供する。更に好ましくは、波長は約２００ｎｍ以下であり、なお更に好ましくは、波長は約１６０ｎｍ以下である。フォトレジストは基板に公知の溶液コーティング法、例えばスピンコーティングを用いて塗布される。
【００５１】
本発明のポリマーの特に興味深い別の用途は、導波路としての使用である。本発明のポリマーの低い光透過率は、該ポリマーをＩＲ領域で動作するシステムに特に適したものにしている。好ましい動作波長は、例えば８５０ｎｍ、１４９０−１５３０ｎｍ（Ｓバンド）、１５３０−１５６０ｎｍ（Ｃバンド）、１５６０−１６０５ｎｍ（Ｌバンド）の信号システムなどである。導波路は、ファイバーやプレーナであってもよく、受動デバイス（例えばアド／ドロップフィルタ、アレイ導波路回折格子（ＡＷＧ）、スプリッタ／カプラ、及び減衰器）又は能動デバイス（例えば光増幅器、トランスミッタ、レシーバ及びトランシーバ）などの光学パッケージに組み込まれた部品の形態であってもよい。従って、好ましい態様において、本発明は、式１の化合物から誘導された少なくとも１個の反復単位を有するポリマーを含む部品を含む光学パッケージを提供する。
【００５２】
本発明は、本発明による少なくとも一つのポリマーを含む組成物も提供する。本発明の組成物は、本発明による一つ以上のポリマーを含み得るが、さらに一つ以上の他の光学ポリマー材料を含んでいてもよい。本発明の組成物に使用する適切な他のポリマー材料の例には、以下のものが挙げられる：アクリレート、例えばメチルメタクリレート及びエチルメタクリレート、ウレタン、ブチラール、スチレン性コポリマー、ポリ酢酸ビニルなどのホモポリマー又はコポリマーなど。ある態様において、好ましい他のポリマー材料は、メチルメタクリレート及びエチルメタクリレートのコポリマーを含む（増量エマルジョンの形態で市販されている）。本発明の他のポリマー材料を本発明のポリマーとブレンド、反応、又は架橋することにより、任意の様々な所望の性質を有する組成物が提供できる。
【００５３】
ある態様において、本発明の組成物はエマルジョン、好ましくは水性エマルジョンである。従って、好ましい態様において、本組成物は溶媒として水を含む。本組成物には任意の適切な量の水が使用でき、本明細書に記載した開示内容に照らして、当業者は所定の用途に適切な水分量を容易に選択することができる。
【００５４】
本発明の好ましい水性組成物は有機共溶媒をさらに含んでいてもよい。好ましい有機共溶媒は、水と混和しやすく低毒性のものである。好ましい他の有機溶媒の例には、アルコール；ケトン；エーテル、例えばジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、水混和性グリコールエーテル、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル；エチレングリコール又はプロピレングリコールのモノアルキルエーテルの低級エステル、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート；並びに、それらの二つ以上の混合物などである。任意の適切な量の他の有機溶媒が使用できる。好ましくは、使用される有機共溶媒の量は、組成物の総重量の１０重量％未満である。
【００５５】
本発明の組成物は他の添加剤を含んでもよい。他の添加剤には、レベリング補助剤、例えばブチルカルビトール、トリメチルペンタンジオールモノイソブチレートなど；塗膜形成ポリマー及びモノマー、例えばポリ（ビニルアルコール）、ジエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、ジエチレングリコール２−エチルヘキシルアクリレート、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテルメタクリレートなど；並びに、織物及び紙型基板の処理のために従来から組成物中に使用されている他の添加剤などである。
【００５６】
任意の適切な量の本発明のポリマー及び添加剤が本発明の組成物に使用できる。ある態様において、組成物は、全組成物の約０．１〜約５０重量％の本発明によるポリマーを含む。ある好ましい態様では約２〜約５０重量％の本発明のポリマーを含む。
【００５７】
ある態様において、本発明の組成物は、本発明の組成物を基板上に塗布し、そして前記基板上の前記組成物を乾燥／硬化させることを含む基板の処理法に使用される。
本発明の組成物を基板へ塗布するには広範囲の任意の方法が本発明に従って使用できる。適切な方法は、例えばパディング(padding)、発泡、噴霧、スピンコーティング、ドローダウン（引落し）、ディップコーティングなどである。
【００５８】
ある好ましい態様において、該組成物は、該組成物に熱を加えることによって乾燥又は硬化される。当然のことながら、該組成物は任意の適切な熱源を用いて硬化できる。好ましい態様は硬化性組成物の熱硬化を含むが、当業者は、硬化性組成物の性質に応じて請求項の範囲内で本方法の多くの変形物がありうることを理解する。例えば、所望であれば、硬化性組成物の硬化は当該技術分野で公知のマイクロ波処理法を用いて促進することができる。
【００５９】
本発明はまた、本発明の硬化性組成物の硬化によって形成されるコーティング又はフィルムも提供する。
【実施例】
【００６０】
以下の実施例で使用されている略語“ＨＦＰ”は、ヘキサフルオロプロペンから誘導された飽和及び不飽和基、すなわち−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３及び−ＣＦ＝ＣＦＣＦ３の両方を意味する。
実施例１
本実施例で、［２−（１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロ−プロポキシ）−エトキシ］エチレン（ＣＦ３ＣＦＨＣＦ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ＝ＣＨ２）の製造法を説明する。
【００６１】
エチレングリコールビニルエーテル（４００ｇ、４．５４モル）、アセトニトリル（８００ｍＬ）、及び炭酸カリウム（３１４ｇ、２．２７モル）の撹拌溶液にヘキサフルオロプロペン（６８１ｇ、４．５４モル）を反応温度＜４５℃を維持する速度で加えた。添加終了後、反応混合物を周囲温度でさらに１時間撹拌し、次いでろ過した。ろ液を水（１．５Ｌ）に注ぎ入れ、０．５時間撹拌し、次いで相分離した。下部有機相を分別蒸留した。沸点３０℃／３ｍｍＨｇの生成物画分を回収し、７６８ｇを得た（収率７１％）。ＧＣ／ＭＳ：ｍ／ｚ２３８（Ｍ＋）；１９Ｆ及び１Ｈのスペクトルデータは構造と一致する。
実施例２
本実施例で、１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−（２−ビニルオキシ−エトキシ）プロペン（ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ＝ＣＨ２）の製造法を説明する。
【００６２】
窒素雰囲気下、実施例１で製造したエテン（２３８ｇ、１モル）をカリウム−ｔ−ブトキシド（１３４．６ｇ、１．２モル）と周囲温度で反応させた。前記ブトキシドは反応温度＜３０℃を維持する速度で加えた。添加終了後、混合物をさらに０．５時間撹拌した。減圧蒸留により生成物を単離した。収量＝１５０．５ｇ（６９％、沸点７０−７５℃／６５ｍｍＨｇ）。１９Ｆ及び１Ｈのｎｍｒスペクトルデータは構造と一致する。
実施例３
本実施例で、１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロ−３−［３−（１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−プロポキシ）−プロポキシ］プロパン（ＣＦ３ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３）の製造法を説明する。
【００６３】
エチレングリコール（６２．０７ｇ、１モル）、アセトニトリル（３００ｍＬ）、及び炭酸カリウム（２５ｇ、０．１８モル）の撹拌溶液にヘキサフルオロプロペン（３２３．４ｇ、２．２モル）を反応温度＜４５℃を維持する速度で加えた。添加終了後、反応混合物を周囲温度で０．５時間撹拌し、次いでろ過した。ろ液を水（５００ｍＬ）に加え、０．５時間撹拌し、次いで相分離した。下部有機相を分別蒸留した。沸点８７−９３℃の生成物画分を回収し、２９７．２ｇを得た（収率７９％）。１９Ｆ及び１Ｈのスペクトルデータは提案された構造と一致する。
実施例４
本実施例で、１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−（３−ペンタフルオロプロペニルオキシ−プロポキシ）−プロペン（ＣＦ３ＣＦ＝ＣＦＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３）の製造法を説明する。
【００６４】
窒素雰囲気下、実施例３で製造したプロパンをカリウム−ｔ−ブトキシド（２３５．７ｇ、２．１モル）と周囲温度で反応させた。前記ブトキシドは反応温度＜３０℃を維持する速度で加えた。添加終了後、混合物をさらに０．５時間撹拌した。減圧蒸留により生成物を単離した。収量＝２６０ｇ（８２％、沸点３３−３８℃／１８ｍｍＨｇ）。１９Ｆ及び１Ｈのスペクトルデータは構造と一致する。
実施例５
本実施例で、１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−［２−（１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロ−プロポキシ）−エトキシ］−プロペン（ＣＦ３ＣＨＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３）の製造法を説明する。
【００６５】
窒素雰囲気下、実施例３で製造したプロパン（５０ｇ、０．１３モル）をカリウム−ｔ−ブトキシド（１５．７ｇ、０．１４モル）と周囲温度で反応させた。前記ブトキシドは反応温度＜３０℃を維持する速度で加えた。添加終了後、混合物をさらに０．５時間撹拌した。減圧蒸留により生成物を単離した。収量＝２２．２ｇ（５０％、沸点４５−５０℃／５０ｍｍＨｇ）。１９Ｆ及び１Ｈのスペクトルデータは構造と一致する。
実施例６
本実施例で、１−［１，１−ビス（１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロポキシ）ブトキシ］−１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン（ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＣＦ３）３）の製造法を説明する。
【００６６】
トリメチロールプロパン（１３４．２ｇ、１モル）、アセトニトリル（５００ｍＬ）、及び炭酸カリウム（２５ｇ、０．１８モル）の撹拌溶液にヘキサフルオロプロペン（４５２．６ｇ、３．１モル）を反応温度＜４５℃を維持する速度で加えた。添加終了後、反応混合物を周囲温度で０．５時間撹拌し、次いでろ過した。ろ液を水（７５０ｍＬ）に注ぎ入れ、０．５時間撹拌し、次いで相分離した。下部有機相を分別蒸留した。沸点９５−１０２℃／２ｍｍＨｇの生成物画分を回収し、４２６．５ｇを得た（収率７３％）。１９Ｆ及び１Ｈのｎｍｒスペクトルデータは構造と一致する。
実施例７
本実施例で、１−（２，２−ビス−ペンタフルオロプロペニルオキシメチル−ブトキシ）−１，２，３，３，３−ペンタフルオロ−プロペン（ＣＨ３ＣＨ２（ＣＨ２ＯＣＦ＝ＣＦＣＦ３）３）の製造法を説明する。
【００６７】
窒素雰囲気下、実施例６で製造したプロパン（１００ｇ、０．１７モル）をカリウム−ｔ−ブトキシド（５７．５ｇ、０．５１モル）と周囲温度で反応させた。前記ブトキシドは反応温度＜３０℃を維持する速度で加えた。添加終了後、混合物をさらに０．５時間撹拌した。減圧蒸留により生成物を単離した。収量＝５８．８ｇ（６６％、沸点１１８−１２５℃／１０ｍｍＨｇ）。１９Ｆ及び１Ｈのスペクトルデータは構造と一致する。
【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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