(57)【要約】ローターを有するローターダイナミックシステムにおける動荷重を測定するシステムは、ローターの周りに配置され複数の磁石を有する磁気ベアリングを具備する。また、このシステムは、それぞれの磁石のポールに関連させられた少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージを具備する。光ファイバーひずみゲージは、動荷重に起因するそれぞれのポールのひずみを探知するために動作する。探知されたひずみは、動的な負荷を示す。
2004521313.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ローターを有するローターダイナミックシステムにおける動荷重を測定するシステムであって：
上記ローターの周りに配置され複数の磁石を有する磁気ベアリング；および
上記複数の磁石の内の少なくとも１つ磁石のポールに関連させられた少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージであり、上記動荷重に起因する上記ポールのひずみを探知するために動作するところの光ファイバーひずみゲージ；
を有することを特徴とするシステム。
【請求項２】
上記光ファイバーひずみゲージの第一端部が上記ローターに近接する上記ポールの一端に直近して配置されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
上記光ファイバーひずみゲージが上記ポールの外表面に結合されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
上記光ファイバーひずみゲージが上記ポールの内部に配置されることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
上記少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージが、上記複数の磁石の内の２つ磁石のポールに関連させられた２つの光ファイバーひずみゲージを有し、当該２つの光ファイバーひずみゲージは上記ローターに関してお互いに対しておよそ９０度ずれるように方向づけられることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
上記少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージは、上記複数の磁石の内の４つ磁石のポールに関連させられた４つの光ファイバーひずみゲージを有し、当該４つの光ファイバーひずみゲージは、上記ローターに関してお互いに対しておよそ９０度ずれるように方向づけられることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
上記少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージは、上記複数の磁石の内の３つの磁石のポールに関連させられた３つの光ファイバーひずみゲージを有し、当該３つの光ファイバーひずみゲージは、上記ローターに関してお互いに対しておよそ１２０度ずれるように方向づけられることを特徴とする請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
ローターを有するローターダイナミックシステムにおける動荷重を測定するシステムであって：
上記ローターの周りに配置され複数の磁石を有する磁気ベアリングであり、当該複数の磁石の各々は２つのポールを有し、当該複数の磁石の各々は複数の金属板を含むところの磁気ベアリング；
第一光ファイバーひずみゲージであり、当該第一光ファイバーひずみゲージの端部が上記複数の磁石の内の第一磁石のポールの端部に直近するように当該第一光ファイバーひずみゲージが当該第一磁石の内部に配置されるところの第一光ファイバーひずみゲージ；および
第二光ファイバーひずみゲージであり、当該第二光ファイバーひずみゲージの端部が上記複数の磁石の内の第二磁石のポールの端部に直近するように当該第二光ファイバーひずみゲージが当該第二磁石の内部に配置され、当該第二光ファイバーひずみゲージは上記ローターに関して上記第一光ファイバーひずみゲージからおよそ９０度ずれるように方向づけられるところの第二光ファイバーひずみゲージ；
を有し、上記第一光ファイバーひずみゲージと上記第二光ファイバーひずみゲージは、それぞれ上記動荷重に起因する上記第一磁石の第一ひずみと上記第二磁石の第二ひずみを探知することを特徴とするシステム。
【請求項９】
第三光ファイバーひずみゲージであり、当該第三光ファイバーひずみゲージの端部が上記複数の磁石の内の第三磁石のポールの端部に直近するように当該第三光ファイバーひずみゲージが当該第三磁石の当該ポールの内部に配置され、当該第三光ファイバーひずみゲージが上記ローターに関して上記第一光ファイバーひずみゲージからおよそ１８０度ずれるように方向づけられるところの第三光ファイバーひずみゲージ；および
第四光ファイバーひずみゲージであり、当該第四光ファイバーひずみゲージの端部が上記複数の磁石の内の第四磁石のポールの端部に直近するように当該第四光ファイバーひずみゲージが当該第四磁石の当該ポールの内部に配置され、当該第四光ファイバーひずみゲージが上記ローターに関して上記第二光ファイバーひずみゲージからおよそ１８０度ずれるように方向づけられるところの第四光ファイバーひずみゲージ；
をさらに有することを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
第三光ファイバーひずみゲージをさらに有し、当該第三光ファイバーひずみゲージの端部が上記複数の磁石の内の第三磁石のポールの端部に直近するように当該第三光ファイバーひずみゲージが当該第三磁石の当該ポールの内部に配置され、上記第一光ファイバーひずみゲージと上記第二光ファイバーひずみゲージと上記第三光ファイバーひずみゲージとが、上記ローターに関してお互いに対しておよそ１２０度ずれるように方向づけられることを特徴とする請求項８に記載のシステム。
【請求項１１】
ローターを有するローターダイナミックシステムにおける動荷重を測定する方法であって：
複数の磁石を有する磁気ベアリングを上記ローターの周りに配置するステップ；
少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージを上記複数の磁石の内の少なくとも１つの磁石のポールに関連させるステップ；および
上記少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージによって上記動荷重に起因する上記ポールのひずみを探知するステップ；
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
上記光ファイバーひずみゲージの第一端部を上記ローターに近接する上記ポールの端部に直近するように配置するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
上記光ファイバーひずみゲージを上記ポールの外表面に結合させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
上記光ファイバーひずみゲージを上記ポールの内部に配置するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
上記少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージを上記複数の磁石の内の上記少なくとも１つの磁石のポールに関連させる上記ステップが：
２つの光ファイバーひずみゲージを上記複数の磁石の内の２つの磁石のポールに関連させるステップ；および
上記２つの光ファイバーひずみゲージを上記ローターに関してお互いに対しておよそ９０度ずれるように方向づけるステップ；
を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
上記少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージを上記複数の磁石の内の上記少なくとも１つの磁石のポールに関連させる上記ステップが：
４つの光ファイバーひずみゲージを上記複数の磁石の内の４つの磁石のポールに関連させるステップ；および
上記４つの光ファイバーひずみゲージを上記ローターに関してお互いに対しておよそ９０度ずれるように方向づけるステップ；
を含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
上記少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージを上記複数の磁石の内の上記少なくとも１つの磁石のポールに関連させる上記ステップが：
３つの光ファイバーひずみゲージを上記複数の磁石の内の３つの磁石のポールに関連させるステップ；および
上記３つの光ファイバーひずみゲージを上記ローターに関してお互いに対しておよそ１２０度ずれるように方向づけるステップ；
をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
ローターを有するローターダイナミックシステムにおける動荷重を測定する方法であって：
上記ローターの周りに磁気ベアリングを配置するステップであり、当該磁気ベアリングは複数の磁石有し、当該複数の磁石の各々は２つのポールを有し、当該複数の磁石の各々は複数の金属板を含むところのステップ；
第一光ファイバーひずみゲージを当該第一光ファイバーひずみゲージの端部が上記複数の磁石の内の第一磁石のポールの端部に直近するように当該第一磁石の当該ポールの内部に配置するステップ；
第二光ファイバーひずみゲージを当該第二光ファイバーひずみゲージの端部が上記複数の磁石の内の第二磁石のポールの端部に直近するように当該第二磁石の当該ポールの内部に配置するステップ；
上記第二光ファイバーひずみゲージを上記ローターに関して上記第一光ファイバーひずみゲージからおよそ９０度ずれるように方向づけるステップ；および
上記第一光ファイバーひずみゲージと上記第二光ファイバーひずみゲージによって、上記動荷重に起因する上記第一磁石の上記ポールの第一ひずみと上記第二磁石の上記ポールの第二ひずみを探知するステップ；
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１９】
第三光ファイバーひずみゲージを当該第三光ファイバーひずみゲージの端部が上記複数の磁石の内の第三磁石のポールの端部に直近するように当該第三磁石の当該ポールの内部に配置するステップ；
上記第三光ファイバーひずみゲージを上記ローターに関して上記第一光ファイバーひずみゲージからおよそ１８０度ずれるように方向づけるステップ；
第四光ファイバーひずみゲージを当該第四光ファイバーひずみゲージの端部が上記複数の磁石の内の第四磁石のポールの端部に直近するように当該第四磁石の当該ポールの内部に配置するステップ；および
上記第四光ファイバーひずみゲージを上記ローターに関して上記第二光ファイバーひずみゲージからおよそ１８０度ずれるように方向づけるステップ；
をさらに含むことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
第三光ファイバーひずみゲージを当該第三光ファイバーひずみゲージの端部が上記複数の磁石の内の第三磁石のポールの端部に直近するように当該第三磁石の当該ポールの内部に配置するステップ；および
上記第一光ファイバーひずみゲージと上記第二光ファイバーひずみゲージ
と上記第三光ファイバーひずみゲージとを上記ローターに関してお互いに対しておよそ１２０度ずれるように配置するステップ；
をさらに含むことを特徴とする請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
シャフトを支持する磁気ベアリングに関連させられた光ファイバーひずみゲージを較正する方法であって：
力を上記シャフトに加えるステップ；
上記磁気ベアリングに関連させられた較正システムを使用して上記力の第一の大きさを測定するステップ；
上記光ファイバーひずみゲージを用いて、上記磁気ベアリングの磁石のポールのひずみを探知するステップ；
上記探知されたひずみに基づいて、上記力の第二の大きさを決定するステップ；
上記第一の大きさと上記第二の大きさを比較するステップ；および
上記比較に基づいて上記光ファイバーひずみゲージを調整するステップ；
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２２】
上記シャフトに上記力を加える上記ステップが、一般的な低周波数で上記シャフトに上記力を加えるステップを含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
上記一般的な低周波数で上記シャフトに上記力を加える上記ステップが、およそ１ヘルツから５ヘルツの間の周波数で上記シャフトに上記力を加えるステップを含むことを特徴とする請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
上記シャフトに上記力を加える上記ステップが、上記磁気ベアリングに関連させられた制御部にエラー信号を入力するステップを含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
上記磁気ベアリングに関連させられた上記較正システムを用いて上記力の上記第一の大きさを測定する上記ステップが、上記磁気ベアリングに関連させられた較正ロードセルを用いて上記力の第一の大きさを測定するステップを含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
上記第一の大きさと上記第二の大きさを比較する上記ステップが、フーリエ変換を使用して伝達関数を生成するステップを含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（発明の属する技術分野）
本発明は、一般的に、磁気ベアリングに関し、特に、磁気ベアリングにおける動荷重（ｄｙｎａｍｉｃ  ｌｏａｄ）を測定するシステム及び方法に関する。
【０００２】
（従来の技術および発明が解決しようとする課題）
磁気ベアリングは、多くの産業上で適用され使用されている。磁気ベアリングは、回転ターボ機械、工作機械の軸・支軸及び他の回転軸を支持するためにますます使用されている。磁気ベアリングは、電磁石の引力・磁力を使用して機械のローターを空中に浮揚させる。磁気ベアリングは本質的に不安定なので、安定性を得るために、電磁石に供給される電流の能動制御（ａｃｔｉｖｅ  ｃｏｎｔｒｏｌ）を補助する相対変位センサが使用される。加工を行う工作機械のようなある適用においては、ベアリングによって発生させられローターに作用する力学的な力を正確に測定することが、重要である。
【０００３】
磁気ベアリングによって発生させられる力学的な力を測定し見積もる一つの方法では、ベアリングのポール（ｐｏｌｅｓ）に供給される制御電流を測定する。しかしながら、この近似では、ベアリングの完全な荷重・負荷容量の２％から１０％の不正確さの見積もりとなってしまう。
【０００４】
上記力学的な力を測定するまたは見積もる別の方法では、従来の電気的ひずみゲージを有しているロードセル（ｌｏａｄ  ｃｅｌｌｓ）にベアリングを設置する。しかしながら、この近似では、一般的に、ロードセルを収容する・受けるために機械支持構造の望ましくない修正が必要となる。また、通常、始動後に磁気ベアリングの温度は上昇する。従って、従来の電気的ひずみゲージは温度上昇によって引き起こされたひずみを測定することとなり、一般的に、動作温度での較正が必要とされる。圧電性のロードセルが、過渡的な負荷・荷重（ｌｏａｄ）の直接的な測定の一つの可能な代替的手段である。しかし、通常、この圧電性のロードセルの取り付けのために、機械の覆い・ケースのさらに広範囲にわたる修正が必要とされる。また、圧電性のロードセルは、時間変化する荷重を測定するが、ベアリングによって加えられる一様・一定な荷重を測定しない。
【０００５】
磁気ベアリングによって発生させられた力学的な力を測定する更なる方法では、磁束および推定した力（ｉｎｆｅｒ  ｆｏｒｃｅｓ）を測定するために、ホール磁束センサ（Ｈａｌｌ  ｆｌｕｘ  ｓｅｎｓｏｒ）を電磁石の面に取り付けることが可能である。しかしながら、この磁束センサを収納するために、電磁石のこの面とローターの間の隔たりを増加させなければならない。
【０００６】
（課題を解決するための手段）
本発明によると、磁気ベアリングにおける動荷重（ｄｙｎａｍｉｃ  ｌｏａｄ）を測定するシステム及び方法が提供される。
【０００７】
本発明の１つの実施形態では、ローター（ｒｏｔｏｒ）を有するローターダイナミックシステム（ｒｏｔｏｒ  ｄｙｎａｍｉｃ  ｓｙｓｔｅｍ）における動荷重を測定するシステムは、このローターの周りに配置され複数の磁石を有する磁気ベアリング（ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｂｅａｒｉｎｇ）と、複数の磁石の内の少なくとも１つの磁石のポールに関連させられた少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージを具備する。光ファイバーひずみゲージは、動荷重に起因するそれぞれのポールのひずみを探知するために動作する。探知されひずみは動荷重を示す。
【０００８】
本発明のいくつかの実施形態によると、多くの技術的な利点が得られる。本発明の実施形態は、これらの利点のすべてまたはいくつかを有していてもよいし、これらの利点のどれも有していなくてもよい。発生させられた実際の力学的な力を光ファイバーひずみゲージを用いて測定することによって、磁気ベアリングの設計を改善することが可能である。また、これらの光ファイバーひずみゲージは、従来の電気的ひずみゲージよりも低いレベルのひずみを測定することが可能である。さらに、電磁干渉が、光ファイバーひずみゲージに起こらない。光ファイバーひずみゲージは、広い負荷・荷重範囲にわたる優れた耐久性と、高温に対する高い耐性を有している。また、光ファイバーひずみゲージは、磁気ベアリングの能力を悪化させることなく磁気ベアリングに効果的に取り付けることができる。
【０００９】
当業者は、他の技術的な利点を以下の説明と添付の図面と特許請求の範囲の記載からたやすく理解できるであろう。
【００１０】
（発明の実施の形態）
本発明と本発明の利点のより完全な理解のための説明が添付の図面に関連して以下で述べられる。
【００１１】
本発明の例示的な実施形態と本発明の利点は図１から図８を参照することによりよく理解される。これらの図において、同様の部分には同様の参照符号がつけられている。
【００１２】
図１はローターダイナミックシステム１００の一部の斜視図であり、ローター１０６を支持しケース１０４内に設けられた磁気ベアリング１０２を示している。ローターダイナミックシステム１００は、回転するローターを有するどんな適当なダイナミックシステムでもよい。例えば、ローターダイナミックシステム１００は、ポンプ、圧縮機、工作機械または他の適当な回転機械であってよい。磁気ベアリング１０２は、ローターを支持するための電磁力を使用するどんな適当なベアリングであってもよい。
【００１３】
また、図１は、ローター１０６を支持して安定させるために磁気ベアリング１０２と協働する制御システム１０８を示している。図示された実施形態において、制御システム１０８は、センサ信号調整部（ｓｅｎｓｏｒ  ｓｉｇｎａｌ  ｃｏｎｄｉｔｉｏｎｅｒ）１１０、制御部１１２、増幅器１１４を有している。しかしながら、制御システム１０８は、磁気ベアリング１０２の機能を制御するどんな適当な制御システムでもよい。磁気ベアリングの制御システムは磁気ベアリングの技術分野においてよく知られているので、センサ信号調整部１１０、制御部１１２及び増幅器１１４については詳細に説明しない。
【００１４】
電磁力はローター１０６を支持するために使用されるので、磁気ベアリング１０６によってローター１０６に加えられる静力学的および動力学的な力を測定することがしばしば重要である。磁気ベアリングによって加えられる静力学的及び動力学的な力を測定する以前の試みにおいて、静荷重を測定するための十分な・適当なシステム及び方法があるが、動荷重を測定するための十分な・適当なシステム及び方法がないことが示された。従って、本発明の技術によると、光ファイバーひずみゲージ２００（図１には明確に示されていない）が、ローターダイナミックシステム１００における動荷重を測定するために使用される。１つの実施形態では、光ファイバーひずみゲージ２００は、信号調整部１１６に接続される。光ファイバーひずみゲージの使用は、図２Ａから図５に関連させて以下で詳細に説明される。
【００１５】
図２Ａを参照すると、磁気ベアリング１０２は、複数の磁石・電磁石２０２を有している。これらの複数の磁石２０２は、ローター１０６を支持し安定させるためにローター１０６の周りに配置される。各磁石２０２は、電磁力を供給するのに使用される２つのポール２０４を有している。電磁力を発生させるために、各ポールに、絶縁された伝導コイル２０６が巻かれている。磁石２０２は、代表的には、２つまたはそれ以上の引力（電磁力）の軸に沿ってペアで作用・機能する。即ち、ペアの一方の磁石２０２はローター１０６の一方の側に配置され、ペアの他方の磁石２０２はローター１０６の他方の側に配置される。ここで、ペアの磁石２２０は、ローター１０６に関してお互いに対しておよそ１８０度ずれるように方向づけられている。
【００１６】
上述したように、光ファイバーひずみゲージ２００は、ローターダイナミックシステム１００における動荷重（ｄｙｎａｍｉｃ  ｌｏａｄ）を測定するために使用される。この測定を容易にするために、少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージ２００が少なくとも１つの磁石２０２と関連させられる。図２Ａと図２Ｂと図２Ｃにおいて、光ファイバーひずみゲージ２００の例示的な配置が示されている。図２Ａと図２Ｂと図２Ｃに示された光ファイバーひずみゲージの数と配置はお互いに異なっていてよい。
【００１７】
図２Ａに図示されているように、２つの光ファイバーひずみゲージ２００は、２つの磁石のそれぞれのポール２０４に関連させられている。これらの２つの光ファイバーひずみゲージ２００は、ローター１０６に関してお互いに対しておよそ９０度ずれるように方向づけられている。図２Ｂに図示されているように、４つの光ファイバーひずみゲージ２００は４つの磁石２０２のそれぞれのポール２０４に関連させられている。これらの４つの光ファイバーひずみゲージ２０２は、ローター１０６に関してお互いに対しておよそ９０度ずれるように方向づけられている。この実施形態では、お互いに対しておよそ１８０度ずれている光ファイバーひずみゲージ２００によって測定されたひずみの平均値をとることにより、これらのそれぞれの磁石２０２によって加えられた力学的な力が得られる。図２Ｃに図示されているように、３つの光ファイバーひずみゲージ２００は、３つの磁石２０２のそれぞれのポールに関連させられている。これらの３つの光ファイバーひずみゲージ２００は、ローター１０６に関してお互いに対しておよそ１２０度ずれるように方向づけられてよい。
【００１８】
ローターダイナミックシステム１００における力学的な力を測定するために、１つまたはそれ以上の光ファイバーひずみゲージ２００が、図２Ａに示されているように、信号調整部１１６に接続される。後で図５と関連させてより詳しく説明されるように、信号調整部１１６は光ファイバーひずみゲージからの信号を受けて、これらの信号を対応するひずみに変換する。このひずみは、特定の光ファイバーひずみゲージ２００が関連させられているポール２０４のひずみを示している。この測定されたひずみは、磁石２０２がローター１０６に与えている力の測定に変換される。光ファイバーひずみゲージ２００をポール２０４と関連づける別の方法が、図３と図４に示されている。
【００１９】
図３は、磁石２０２のポール２０４の外表面に結合させられた光ファイバーひずみゲージ２００を示してしる。１つの実施形態では、光ファイバーひずみゲージ２００は、エポキシを使用してポール２０４の外表面に結合させられが、光ファイバーひずみゲージ２００をポール２０４の外表面に結合させる他の適当な方法が用いられてよい。光ファイバーひずみゲージ２００の探知端３００がポール２０４の端部３０２に近接・直近（ｐｒｏｘｉｍａｔｅ）して配置されるように、光ファイバーひずみゲージ２００がポール２０４の外表面に結合させられる。他の実施形態では、光ファイバーひずみゲージ２００の端部３００が、端部３０２に直近しないように、光ファイバーひずみゲージ２００がポール２０４の外表面に結合させられる。しかしながら、一般的には、光ファイバーひずみゲージ２００を端部３０２に直近して配置することによって、よりよい結果が得られる。
【００２０】
図４は、磁石２０２の端部の図であり、磁石２０２のポール２０４内に組み込まれた光ファイバーひずみゲージ２００を示している。光ファイバーひずみゲージ２００は、どんな適当な方法で磁石２０２のポール２０４に埋め込まれてもよい。図４に示されるように、磁気ベアリング１０２の代表的なポール２０４は、複数の積層された金属板４００から構成される。図示された実施形態では、光ファイバーひずみゲージ２００は２つの金属板４００の間に組み込まれる。また、光ファイバーひずみゲージ２００は、ポール２０４内のどんな適切な位置に組み込まれてもよい。光ファイバーひずみゲージ２００をポール２０４内に組み込む１つの理由は、光ファイバーひずみゲージ２００を外部にさらさないようにして光ファイバーひずみゲージ２００の使用期間・寿命を長くするためである。光ファイバーひずみゲージ２００をポール２０４に結合させる他の方法を利用してもよい。
【００２１】
図５は、光ファイバーひずみゲージ２００の１つの実施形態を示す図である。この図示された実施形態では、ファイバーファブリーペロー干渉計（ｆｉｂｅｒ  Ｆａｂｒｙ−Ｐｅｒｏｔ  ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ  （ＦＦＰＩ））であるが、光ファイバーを有する他の適切な光ファイバーひずみゲージ２００が使用されてもよい。ＦＦＰＩの原理は本明細書に組み込まれている米国特許第５，５５７，４０６号に説明されている。光ファイバーひずみゲージ２００は温度補正を使用しても使用しなくてもよい。
【００２２】
光ファイバーひずみゲージは探知の技術分野においてよく知られており、ここでは詳細に説明しない。一般的に、光ファイバーひずみゲージ２００の一端は、信号調整部１１６に接続される。信号調整部１１６は、代表的には、様々なオプトエレクトロニクス、電源及びディジタル信号処理能力を有している。信号調整部１１６は、光ファイバー５００を下る（光ファイバーの下流に）光を送るためのレーザー源（例えば、レーザーダイオード）を有している。光ファイバー５００内において、光の１部はお互いに対して距離５０４だけ離れて配置された２つの内部反射板５０２によって反射され進行方向が逆になる。反射された光の１部は、信号調整部１１６内に設けられた光検出器へガイドされる。この光検出器は、反射される位置の間の（反射板５０２の間の距離に対応する）位相変化・位相変位（代表的には、電圧によって表される）を検出する。反射される位置の間の位相の変位は、内部反射板５０２の間の距離の関数である。干渉計を使用して位相の変位を測定することにより、光ファイバー５００の張力または圧縮（ｃｏｍｐｒｅｓｓｉｏｎ）が正確に決定される。結果としてポール２０４が受けるひずみの量が測定され、このひずみは、適当な方法によって力に変換される。レーザーによって発生される光を使用することで、大きなコイル電流によって引き起こされる電磁干渉（ＥＭＩ）を回避することができる。
【００２３】
光ファイバー５００は、光を伝達するどんな適切な光ファイバーであってもよい。１つの実施形態では、光ファイバー５００の直径はおよそ０．００５インチであるが、他の大きさの直径であってもよい。内部反射板５０２の間の距離５０４は、代表的には数ミリメートルから数センチメートルであるが、距離５０４はどんな適切な長さであってもよい。特定の実施形態では、距離５０４は、およそ０．５インチである。
【００２４】
磁気ベアリング１０２の動荷重を測定するのに光ファイバーひずみゲージ２００を使用することで多くの技術的な利点が得られる。技術的な利点の１つは、ローターダイナミックシステム１００に関連した磁気ベアリング１０２の非常に小さいひずみを測定するのに使用可能であるという点である。この非常に小さなひずみは従来のひずみゲージでは測定できない。従って、光ファイバーひずみゲージ２００はローターダイナミックシステム１００の伝達関数を得るのに使用可能である。これによって、ローターダイナミックシステムの調整条件（ｔｕｎｉｎｇ  ｒｅｑｕｉｒｅｍｅｎｔｓ）がかなり減る。
【００２５】
図６は、加えられた力及び磁石２０２の１つのポール２０４でのひずみと時間及び変域における周波数（ｄｏｍａｉｎ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）との間の関係を表すグラフ・プロットである。図６におけるグラフ・プロットに示されている信号は、ローター１０６の（長さ方向に関して）中間・真ん中（ｍｉｄｓｐａｎ）に位置するばねに支持されている１１キログラムの質量・質量の物体（１１  ｋｉｌｏｇｒａｍ  ｍａｓｓ）を弾ませることによって得られた。力のスペクトルのピークにおける振幅は、この時間の期間の磁気ベアリング１０２におけるピーク時の力・各ピークの力（ｐｅａｋ−ｔｏ−ｐｅａｋ  ｆｏｒｃｅ）を与える。光ファイバーひずみゲージ２００からの未処理の信号は、通常のノイズやジャンプ（ｊｕｍｐｓ）以外の認識可能な変化を示さない。しかし、同じ信号の周波数スペクトルは、加えられた力と同じ周波数・振動数において明らかにピークを示す。未処理信号のフーリエ解析によって、この反作用の力・反力（ｒｅａｃｔｉｏｎ  ｆｏｒｃｅ）のずっと精度のよい分解度（ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ）が得られる。
【００２６】
図７は、質量とばねの４つの異なる組み合わせに関してのひずみと加えられた力との関係を示すプロットである。図７に示されたデータを得たテストは次のように実行された。質量とばねの４つの異なる組み合わせを使用することによって、４つの異なる周波数を定義する。各周波数に関して数種類の異なる運動振幅が使用された。これらの質量を有する物体を弾ませることによって得られた力は、ロードセルを通して伝達されて２つの磁気ベアリング１０２の中間においてローター１０６に加えられる。データは周波数の変域・範囲にわたる力の範囲を表しており、このデータにおいて各周波数のセットは発生させられた最大の力と最小の力と２つの中間の荷重・力を含んでいる。それぞれの周波数は小さく、周波数間の差は小さいので、データを７秒間抽出し、１０キロヘルツでサンプリングを行い、多くのデータポイントを得た。この多数のデータポイントによって、この周波数範囲において、十分な分解能を得ることが可能である。これらのテストの間に使用されたデータポイントの数は、６５５３６である。これにより、０．１５３ヘルツの分解能が得られる。この結果は、これらのテストから得られた力とひずみの関係を示している。図示されているように、この関係は線形であり、光ファイバーひずみゲージ２００は非常に小さい力を測定するのに著しい能力を示す。
【００２７】
光ファイバーひずみゲージ２００を較正する方法は、図８と関連させて以下で説明される。図８は、本発明の１つの実施形態による光ファイバーひずみゲージ２００を較正する方法のフローチャートである。ステップ８００において、力がローター１０６に加えられる。このローター１０６は、少なくとも１つの光ファイバーひずみゲージ２００を有する磁気ベアリング１０２に支持されている。１つの実施形態では、一般的な低い周波数でローター１０６に力が加えられる。ここでは、この一般的な低い周波数を５０ヘルツ以下の周波数と定義する。１つの実施形態ではおよそ１ヘルツと５ヘルツの間の周波数でローター１０６に力が加えられる。どのような適当な方法で、ローター１０６に力を加えてもよい。１つの実施形態では、エラー信号が磁気ベアリング１０２の制御部１１２に供給されて磁気ベアリング１０２にローター１０６が望ましくない位置にあると認識させる。制御部１１２は、磁石２０２の内の１つに流れる電流を増加させまたは減少させることによってこのエラー信号に関して補正を行い、ローター１０６に対する力を生み出す。別の実施形態では、ロードセルがローター１０６に力を加えるのに使用されてよい。
【００２８】
ステップ８００で加えられる力の第一の大きさは、磁気ベアリング１０２に関連させられた較正システムを用いてステップ８０３で測定される。１つの実施形態では、較正システムは磁気ベアリング１０２の制御部である。しかしながら、較正ロードセルのような他の適切な較正システムが、力の第一の大きさを測定するのに使用されてもよい。
ステップ８０４において、磁石２０２のポール２０４のひずみが、光ファイバーひずみゲージ２００によって探知される。この探知されたひずみに基づいて、ローター１０６に加えられた力の第二の大きさがステップ８０６で決定される。この第二の大きさはどんな適切な方法で決定されてもよい。例えば、光ファイバーひずみゲージ２００の信号調整部１１６が、力の第二の大きさを決定する適切な論理（ｌｏｇｉｃ）を有するコンピュータに接続されてよい。力の第一の大きさを測定し力の第二の大きさを決定した後、この力の第一の大きさとこの力の第二の大きさとがステップ８０８において比較される。このステップ８０８における比較は、どんな適切な方法で実行されてもよい。例えば、これらの信号に対して高速フーリエ変換を実行して正味・実際の（ｎｅｔｔｉｎｇ）力の信号Ｆ（ｊω）と正味・実際のひずみの信号Ｓ（ｊω）のを得る。伝達関数Ｇ（ｊω）＝Ｓ（ｊω）／Ｆ（ｊω）は、入力周波数（ｉｎｐｕｔ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｉｅｓ）において一定のピークを示し、これらのピークの大きさは、光ファイバーひずみゲージ２００の較正因数を与える。ステップ８０８での比較に基づいて、光ファイバーひずみゲージ２００がステップ８１０において調整され、光ファイバーひずみゲージ２００の較正が終了する。
【００２９】
本発明の実施形態と利点が詳細に説明されたが、当業者は特許請求の範囲に定義された本発明の範囲と概念から逸脱せずに様々な変更、追加及び省略を行うことが可能であろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の実施形態によるローターダイナミックシステムの一部の斜視図であり、シャフトを支持しケースに設けられた磁気ベアリングを示している。
【図２Ａ】
図１のローターダイナミックシステムの正面図であり、図１の磁気ベアリングの磁石のポールに結合させられた光ファイバーひずみゲージの様々な位置を示している。
【図２Ｂ】
図１のローターダイナミックシステムの正面図であり、図１の磁気ベアリングの磁石のポールに結合させられた光ファイバーひずみゲージの様々な位置を示している。
【図２Ｃ】
図１のローターダイナミックシステムの正面図であり、図１の磁気ベアリングの磁石のポールに結合させられた光ファイバーひずみゲージの様々な位置を示している。
【図３】
本発明の１つ実施形態による磁石のポールに結合させられた光ファイバーひずみゲージを示している。
【図４】
図３の磁石の端部の図であり、磁石のポールに組み込まれた光ファイバーひずみゲージを示している。
【図５】
本発明の１つの実施形態による光ファイバーひずみゲージの図である。
【図６】
磁気ベアリングの磁石の１つのポールにおけるひずみと加えられた力の関係を時間と変域周波数によって例示的に示している。
【図７】
質量とばねの別々の組み合わせに関して加えられた力とひずみの関係をプロットした例である。
【図８】
本発明の１つの実施形態による光ファイバーひずみゲージを較正する方法のフローチャートである。
【図１】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【国際調査報告】
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