(57)【要約】シリカを融解して該シリカを所望の形状に融合させるためのるつぼ（１０）。内面及び外面を有する本体を含むるつぼ（１０）は、耐火材（１１）からなる。さらに、少なくとも融解域（１４）の内面はレニウム、オスミウム、イリジウム及びこれらの混合物からなる群から選択される材料からなる実質的に気密の遮断層（２４）を含んでいる。【選択図】図１
2004514634.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリカを所望の形状へと融解するための炉であって、当該炉は融解域（１４）と引抜き域（２８）とを有する本体を含んでおり、融解域（１４）は、非反応性遮断材の実質的に気密な内側ライニング（１３）を有する耐火材壁（１１）からなる、炉。
【請求項２】
前記遮断材がレニウム、オスミウム、イリジウム又はこれらの混合物からなる、請求項１記載の炉。
【請求項３】
前記耐火材（１１）がタングステン、モリブデン又はこれらの混合物からなる、請求項１記載の炉。
【請求項４】
融解域（１４）へのガス供給口（５８）を含んでいて、ガス供給口（５８）と前記遮断材との間に気密シール（５９）が設けられている、請求項１記載の炉。
【請求項５】
シリカを融解して所望の形状へと融合させるための炉であって、当該炉は略鉛直方向に向いた軸線を有するチャンバ（１０）を形成する本体を含んでいて、チャンバ（１０）は少なくとも上方の融解域（１４）と下方の引抜き域（２８）とを含み、融解域（１４）は耐火材（１１）の第１の層と第１の層の内面に設けられたレニウム、オスミウム、イリジウム及びこれらの混合物から選択される保護材からなる遮断層（１３）とからなり、遮断層は少なくとも融解線の下方からチャンバの頂壁及び側壁まで延在し、遮断層（１３）は融解域（１４）内に実質的に気密の雰囲気を形成しており、当該炉は壁を貫通して融解域（１４）の上方部分に通じるシリカ供給部材（２０）も含んでいて、該供給部材は遮断層と共に気密シール（２７）を形成する、炉。
【請求項６】
前記耐火材（１１）がタングステン、モリブデン又はこれらの混合物からなる、請求項５記載の炉。
【請求項７】
前記保護材がレニウムからなる、請求項５記載の炉。
【請求項８】
前記遮断層の厚さが約０．０１０〜０．０５０インチである、請求項５記載の炉。
【請求項９】
前記遮断層が前記第１の層に化学的に結合している、請求項５記載の炉。
【請求項１０】
前記遮断層が前記第１の層に物理的に取り付けられている、請求項５記載の炉。
【請求項１１】
前記遮断層がリベット、ボルト又はねじで第１の層に取り付けられている、請求項５記載の炉。
【請求項１２】
前記遮断層が前記第１の層と同心嵌合する寸法のスリーブからなる、請求項１１記載の炉。
【請求項１３】
融解域（１４）への１以上のガス入口（５８）を含んでいて、ガス入口（５８）は遮断層と共に気密シール（５９）を形成している、請求項５記載の炉。
【請求項１４】
遮断層がるつぼの引抜き域内にも配置されている、請求項５記載の炉。
【請求項１５】
細長い融解石英部材の連続製造方法であって、
（ａ）レニウム、オスミウム、イリジウム及びこれらの混合物から選択される材料からなる気密内面を含む誘導加熱炉内に、概ねＳｉＯ２ からなる粒状原料を連続的に供給する工程と、
（ｂ）融解温度に維持しながら不活性ガス雰囲気を供給した炉内で原料を連続的に融解する工程と、
（ｃ）炉から溶融原料を連続的に引抜く工程と
を含んでなる方法。
【請求項１６】
材料がレニウムからなる、請求項１１記載の方法。
【請求項１７】
融解温度が約２３５０℃を上回る、請求項１１記載の方法。
【請求項１８】
９９％以上のＳｉＯ２ からなり、タングステン及びモリブデンを約１．０ｐｐｂ未満しか含まない、略管形状又は略棒形状の細長い融解石英部材。
【請求項１９】
タングステン及びモリブデンを１ｐｐｂ未満しか含まない、請求項１４記載の部材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の背景】
本発明は、結晶質石英その他のガラス様材料から管、棒などを製造するための装置に関する。具体的には、本発明はシリカ融液から細長い石英部材を製造するのに用いる装置に関する。本発明は、特に光ファイバの製造に用いられる融解石英管の製造に関する。
【０００２】
各種の細長い部材の連続生産は電気加熱炉内で石英結晶又はけい砂を融解して、原料融解後、炉の底部の適当なオリフィス又はダイを通して所望の形状のものを炉から引抜くことによって行われてきた。例えば融解石英管の連続製造装置の一例は、ケイン、棒又は管を引抜くための適当なオリフィス又はダイを底部に有する鉛直に支持されたタングステン内張りモリブデンるつぼである。るつぼの周囲には、るつぼ加熱用のタングステン発熱体又は発熱棒が配置されている。るつぼは、その加熱装置と共に、水冷式金属ジャケットで支持された耐火室内に収容される。るつぼは窒素と水素の還元雰囲気中で加熱される。
【０００３】
別の装置では、気泡含量を低減させるため特定のガス雰囲気下で電気抵抗加熱した耐火金属るつぼ内に天然石英結晶を供給して融解石英管を製造する。結晶と融解石英の粘稠溶融塊との間にガスが閉込められて形成された気泡は、溶融ガラスから容易に脱出せず、融解石英の融液から引抜いた製品に気泡又は線として残る。溶融材料を通して容易に拡散する融解雰囲気ガス（例えば、純ヘリウム、純水素又はこれらのガスの混合物）で置換することにより、気泡中のガス圧が低下して気泡のサイズが縮小する。この方法では８０体積％のヘリウムと２０体積％の水素との混合物が使用される。
【０００４】
さらに別の方法では、誘導加熱したるつぼの上部領域に実質的に純粋な二酸化ケイ素の粒状原料を連続的に供給し、約２０５０℃以上の融解温度に維持しながら水素とヘリウムの雰囲気中でるつぼ上方の誘導加熱域内で原料を連続的に融解して製品を得る。溶融材料はるつぼの下方領域で溶融材料は別の誘導加熱手段で加熱され、溶融材料中の温度は独立に調節される。溶融材料は、非酸化性キャリヤガスを含有する水素雰囲気の存在下、成形手段を通してるつぼの下方領域から連続的に引抜かれる。
【０００５】
残念なことに、以上の装置のるつぼで使用される耐火性金属及び非金属材料の大半は、引抜いた石英製品中での存在が望ましくない不純物である。かかる耐火材による汚染は、石英ガラスに着色及び吸蔵を引起こす。さらに、耐火材粒子が存在すると、得られる石英製品の強度が損なわれかねない。その上、かかる粒子は引抜き製品の欠陥となってストランドの破断を引き起こすことがある。
【０００６】
そこで、当技術分野では炉の構築に用いた耐火材から生ずる溶融ガラスの汚染を低減させる必要性がある。近年かかる方法で得られるガラス製品の主な用途である半導体及び光ファイバ製造プロセスで一段と高レベルの純度及び性能が要求されるようになってきたため、かかる必要性は一段と高まっている。
【０００７】
残念なことに、炉は通例耐火材から構築されるので、製造プラントは普通耐火材で汚染される。そこで、耐火材から遮断した融解域と引抜き域を有する炉であっても、汚染を完全に防ぐことはできない。そこで、得られる石英製品に対する耐火材汚染の影響の除去及び／又は低減に役立つ装置が利用できれば望ましい。
【０００８】
【発明の概要】
本発明の一実施形態では、シリカを融解して所望の形状に引抜く炉は、耐火金属からなる外面と、少なくとも融解線の若干下方から炉の融解域全体に広がる実質的にガス不透過性内側ライニングとを含む本体からなる。ライニングは非反応性遮断材からなる。ライニングは好ましくはレニウム、オスミウム、イリジウム、白金又はこれらの混合物からなる。好ましくは、炉は融解域へのガス導入用の入口管を含んでおり、入口管の外周はライニングと共に気密シールを形成する。さらに、シリカ原料供給管又は管周囲に保護シースが設けられ、供給管の外周はライニングと共に気密シールを形成する。
【０００９】
本発明のるつぼ構造は幾多の利点を提供する。具体的には、融解域を実質的に気密のレニウム、イリジウム、白金及び／又はオスミウムで内張りした炉は、融液中の耐火金属の含量が格段に低い製品を製造できる。例えば、シリカ中の溶解金属を約１ｐｐｂ未満、好ましくは１ｐｐｂ未満に低減でき、好ましくは現時点でのＮＡＡ検出限界未満に低減させることができる。シリカ融液中の耐火金属汚染物の量が低減すると、石英ガラスの化学組成が改善され、着色及び表面曇りが減る。さらに、融解域に非反応性ライニングを設けたつぼを備える炉を使用すると、最適温度域で、汚染を低減又は解消するための望ましい雰囲気の存在下で運転を行うことができる。
【００１０】
「石英」及び「シリカ」という用語は本明細書を通して同義に用いられ、いずれも化合物ＳｉＯ２ を総称する。ただし、本発明は、融解炉内に導入される原料として、特に限定されないが天然シリカ／石英及び合成シリカを始めとするどんな原料の使用も包含する。
【００１１】
本発明の好ましい実施形態の構造、操作及び利点は、添付の図面と共に以下の説明を参照することで一段と明らかになろう。
【００１２】
【発明の実施の形態】
好ましい実施形態では、本発明の融解石英製品は図１に示す特徴をもった構成の炉で製造できる。さらに、図１は本発明の構築技術が既存の炉構造の再構成に適していることを示している。具体的には、炉は略円筒形の形状を有する。好ましくは、タングステン、モリブデン又はこれらの組合せなどの耐火金属層１１からなる細長い円筒形の融解るつぼ１０が使用される。融解るつぼ１０は、耐火金属層１１の表面に連続レニウムライニング１３をさらに含んでおり、ライニング１３は上部融解域１４全体に設けられ、融液１８の中まで延在する。
【００１３】
精製けい砂原料は上部開口管１２を通してるつぼ１０の上部融解域１４に供給される。上部開口管１２には跳ね上げ戸のような可動式閉鎖手段１６が設けられており、融液１８の液位の観察時及びるつぼ１０への原料１９の供給時を除いて閉鎖状態に保つことができる。るつぼ１０内の原料を所定液位に維持するため、るつぼ１０の上部開口には自動供給装置２０が設けられている。供給装置は、融解の起こる上部融解域１４内に原料が供給されるようにるつぼ１０に出口を有する排出管２２と、パージガス入口管２４と、排出管に自動的に供給される原料供給源を収容した貯蔵手段２６とを含む。適当に制御された融解域ガス雰囲気を供給するため、上部開口管１２は好ましくは、レニウムライニング１３と共に気密シールを形成すべくその外周２７が溶接される。
【００１４】
けい砂粒子の融解に伴ってるつぼ内の融液液位が下がると、原料は単に重力によってるつぼ部材の融解域へと流れ込む。供給装置に送られるパージガスは、融解石英の融液に気泡を生じかねない原料混入ガスを除去するのに役立つ。パージガスの組成は、最終製品中の気泡及びうねを低減させるように選択され、体積比で４０〜１００％の水素と６０〜０％のヘリウムとの混合ガスからなるものでよい。さらに、非反応性レニウムで形成される実質的に気密な環境は、所望に応じて反応性ガスの導入も容易にする。
【００１５】
るつぼ１０の下部領域２８（引抜き域）は、開口から粘稠材料を引抜いて細長い融解石英部材を連続的に成形するための中心開口３２を有する環状リング３０を含んでいる。コア３４が開口３２の中心に配置され、融液から引抜かれる粘稠材料から管を成形するための手段として環状リングの下方まで延在している。当業者に公知の通り、コアの位置は所望寸法の押出物を製造するため必要に応じて移動させてることもできる。るつぼの壁には支持部材３５が取付けられており、コアを固定支持して、製品が引抜かれる開口の寸法を一定に保つ。コアは中空内部空間３６をもつように作られ、内部空間３６は、るつぼの融解域に供給されるものとは組成の異なる非酸化性ガスを管４０の引抜き時の成形雰囲気として供給できるように入口管３８と通じている。本発明では、上部融解域１４を密閉状態に維持するため、入口管３８は４１の位置でレニウムライニング１３に溶接（又はその他の方法で封止）されている。
【００１６】
第２の入口管４２は成形雰囲気を供給し、この成形雰囲気はるつぼの外壁を取り囲む保護雰囲気として、窒素などの非酸化性キャリヤガス中に水素を水素１〜２０％及びキャリアガス９９〜８０％の体積比で混ぜた混合気とし得る。成形ガスの供給はるつぼのハウジング手段で画成される環状空間４４に対して行われ、中央底部開口４６は、炉から引抜かれる細長い融解石英部材の外面を成形ガスが取り囲むように環状空間から成形ガスを排出する。環状空間の外壁は耐火性円筒４８からなり、炉構造体の外部ハウジング５０と共に装置の誘導加熱コイルの収容手段として役立つ。具体的には、耐火性円筒４８の外壁とハウジング５０の内壁との間に同心通路５２が画成され、その内部に２つのらせん形誘導加熱コイル５４及び５６が配置され、それぞれるつぼの上部領域及び下部領域用の独立した加熱源を提供する。無論、炉の寸法に応じて追加のコイルを用いてもよく、例えば、清澄域５７に追加のコイルを設けるのが有利なこともある。
【００１７】
加熱源とその電源は従来の構成のものでよく、例えば、水冷のため中空の電気導体を挙げることができ、本発明の実施に利用される独立加熱用の別個のＡＣ電源に電気的に接続される。通路のうちコイル占有部分以外の残部は、好ましくは炉内の熱を保つためジルコニアのような安定な耐火性絶縁材で充填される。
【００１８】
第３の供給管５８が外部ハウジング５０の頂部に設けられ、るつぼの融解域１４にパージガス混合物（又は所望ならば反応性ガス）を供給する。勿論、管５８とレニウムライニング１４との間に気密シールを形成すべく溶接を５９の位置に施す。以上説明した炉は従来の管又は棒引抜き機械と接続して操作されるが、かかる機械は本発明の一部をなすものではないので図面から省略してある。
【００１９】
勿論、本発明に係る非反応性るつぼライニングの使用は、図１に示した炉又はるつぼのみに限定されない。実際、非反応性ライニングの使用は当業者に公知のあらゆる形態の炉／るつぼ（例えば、図２）での使用に適している。
【００２０】
上述の装置で本発明の方法を実施するに当たっては、化学的処理によって下記の公称不純物含量にまで精製し、米国篩サイズで−５０メッシュの公称粒度を有する天然けい砂を装置のるつぼ部材の上部開口に供給する。
【００２１】
2004514634.tif 000003
【００２２】
上記の原料は、２０５０℃を上回る温度、好ましくは約２３５０℃を上回る温度に加熱されたるつぼ部材に供給される。るつぼ内の融解石英が所定の融液液位に達し、るつぼ部材の底部中心の開口３２から溶融材料が重力によって流れ始めたら、管又は棒を成形ガス雰囲気の存在下で引抜き機械（図示せず）で連続的に引抜く。このようにして管／棒を連続的に引抜く場合には、下部の加熱コイル５６に供給される電力は、通例、引抜き時の材料の温度を２０５０℃未満の温度に下げるため上部の加熱コイル５４に供給される電力よりも低レベルに維持される。
【００２３】
上記の通り、炉のるつぼ１０の融解域１４の内面はレニウム、オスミウム又はイリジウムのシート又はコーティング１３を有する。コーティング１３は、化学蒸着、電解、プラズマ溶射その他当業者に公知の技術（以下、「化学的結合」という。）で耐火金属層１１に取り付けられる。非反応性層１３は、リベット、ボルト、ねじなど（好ましくは非反応性ライニング自体と同一又は類似の材料で作られたもの）でつぼの壁にシートを直接取付けることによって、耐火金属層１１に物理的に取り付けてもよい。別法として、適当な形のレニウムスリーブをるつぼ内に挿入してもよい。実際、るつぼアセンブリを構成するセグメントの幾何学的複雑さに応じて複数のコーティング又は内張り法を組合せて使用してもよい。なお、本発明では、以上の固定方法にさらにライニングの外側からの気相移動を防ぐため締結具の封止も必要とされることがある。
【００２４】
次いで図２を参照すると、本発明のコーティングをるつぼ全体に適用した応用例が示してある。さらに、レニウムコーティング１１３がるつぼ１１９の内壁１１７に施工される。こうして、系全体が遮断層によってタングステン／モリブデン汚染から保護される。管１２１を通してカップ１１３と壁１１７の間の空間１２３に乾燥水素ガスを供給して、保護を補完する。融解域１１５に湿潤水素を供給するため管１２５が設けられ、湿潤水素ガスを排出するため管１２６が設けられる。勿論、カップ１１３内にガスバリヤを形成するため、管１２５とけい砂供給管１２７との間には適当なシールが設けられる。当技術分野で公知の通り、タングステン壁１１７と誘導加熱コイル１３１との間に絶縁材層１２９が配置される。この実施形態に示す通り、けい砂原料１３３は、次第に製品へと成形するため溶融状態１３５へと融解する際、湿潤水素環境１１９下にある。
【００２５】
以上、本発明を好ましい実施形態に関して説明してきたが、本発明の技術範囲から逸脱せずに、様々な改変を加えたり構成要素を均等物で置換し得ることは当業者には自明であろう。また、本発明の基本的な技術的範囲から逸脱せずに、本発明の教示内容を特定の状況又は材料に適合させるべく変更を加えてもよい。従って、本発明は、その最良の実施の形態として開示した実施形態のみに限定されるものではなく、特許請求の範囲に属するすべての実施形態を包含する。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の炉を示す縦断面図である。
【図２】
本発明の構造を示す炉の略図である。
【符号の説明】
１０　るつぼ又はチャンバ
１１　耐火金属壁
１３　内側ライニング
１４　融解域
２０　シリカ供給部材
２７　気密シール
２８　引抜き域
５８　ガス入口
５９　気密シール
【国際公開パンフレット】
2004514634.tif 000004
2004514634.tif 000005
2004514634.tif 000006
2004514634.tif 000007
2004514634.tif 000008
2004514634.tif 000009
2004514634.tif 000010
2004514634.tif 000011
2004514634.tif 000012
2004514634.tif 000013
2004514634.tif 000014
2004514634.tif 000015
2004514634.tif 000016
2004514634.tif 000017
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004514634.tif 000018
【国際調査報告】
2004514634.tif 000019
2004514634.tif 000020