(57)【要約】次の成分（Ａ）  少なくとも１種のメタロセン触媒を使用して製造した少なくとも１種のポリオレフィンＡ）、及び（Ｂ）  次のグループｂ１）〜ｂ４）から選択される、少なくとも１種の安定剤Ｂ）（ｂ１）  グリコールウリルをベースとする立体障害アミン、（ｂ２）  ４−ホルミルアミノピペリジンをベースとする立体障害アミン、（ｂ３）  マレイン酸イミド−α−オレフィン−コポリマーをベースとする立体障害アミン、（ｂ４）  所定の単独の化合物から選択される立体障害アミンを含有する安定化された熱可塑性成形材料。【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分
Ａ）  少なくとも１種のメタロセン触媒を使用して製造した少なくとも１種のポリオレフィンＡ）、及び
Ｂ）  次のグループｂ１）〜ｂ４）から選択される、少なくとも１種の安定剤Ｂ）
ｂ１）  グリコールウリルをベースとする立体障害アミン、
ｂ２）  ４−ホルミルアミノピペリジンをベースとする立体障害アミン、
ｂ３）  マレイン酸イミド−α−オレフィン−コポリマーをベースとする立体障害アミン、
ｂ４）  次のものから選択される立体障害アミン、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６，−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−（２−ヒドロキシ−エチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸とからなる縮合生成物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
トリス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ニトリロトリアセテート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、
１，１′−（１，２−エチレン）−ビス（３，３，５，５−テトラメチル−ピペラジノン）、
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
ビス（１，２，２，６，６，−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジル）マロネート、
３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノ−プロピルアミノ）エタンとからなる縮合生成物、
２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチル−ピペリジン−４−イル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノ−プロピルアミノ）エタンとからなる縮合生成物、
８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザ−スピロ［４．５］−デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ピロリジン−２，５−ジオン、
３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ピロリジン−２，５−ジオン、
４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンからなる混合物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）−エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、
Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、
２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］−デカン、
７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンとからなる縮合生成物、
４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジンとテトラメチロールアセチレン二尿素とからなる縮合生成物、及び
ポリ（メトキシ−プロピル−３−オキシ）−［４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジニル］シロキサン
を含有する安定化された熱可塑性成形材料。
【請求項２】
安定剤の全量は、安定化された熱可塑性成形材料に対して０．００１〜１０質量％である、請求項１記載の成形材料。
【請求項３】
グリコールウリルをベースとするアミンｂ１）として、次の式
【化１】
2004525251.tif 000046
［式中、Ｒは水素又はメチルを表す］のアミンを使用する、請求項１から２までのいずれか１項記載の成形材料。
【請求項４】
４−ホルミルアミノピペリジンをベースとするアミンｂ２）として、次の式
【化２】
2004525251.tif 000047
［式中、Ｒは水素又はメチルを表す］のアミンを使用する、請求項１から３までのいずれか１項記載の成形材料。
【請求項５】
マレイン酸イミド−α−オレフィン−コポリマーをベースとするアミンｂ３）として、次の式
【化３】
2004525251.tif 000048
［式中、Ｒは水素又はメチルを表し、ｎは分子量が約３５００となるように選択される］のアミンを使用する、請求項１から４までのいずれか１項記載の成形材料。
【請求項６】
ポリオレフィンＡ）とは異なるポリマーと、安定剤Ｂ）とは異なる他の添加剤から選択される成分Ｃ）を含有する、請求項１から５までのいずれか１項記載の成形材料。
【請求項７】
成形品、シート及び繊維を製造するための、請求項１から６までのいずれか１項記載の成形材料の使用。
【請求項８】
請求項１から６までのいずれか１項記載の成形材料からなる成形品、シート及び繊維。
【請求項９】
成分Ａ）、Ｂ）及び場合によりＣ）を１５０〜３００℃で溶融させながら混合装置中で混合することを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項記載の成形材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、次の成分を含有する安定化された熱可塑性成形材料に関する
Ａ）  少なくとも１種のメタロセン触媒を使用して製造した少なくとも１種のポリオレフィンＡ）、及び
Ｂ）  次のグループｂ１）〜ｂ４）から選択される、少なくとも１種の安定剤Ｂ）
ｂ１）  グリコールウリルをベースとする立体障害アミン、
ｂ２）  ４−ホルミルアミノ−ピペリジンをベースとする立体障害アミン、
ｂ３）  マレイン酸イミド−α−オレフィン−コポリマーをベースとする立体障害アミン、
ｂ４）  次のものから選択される立体障害アミン、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６，−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−（２−ヒドロキシ−エチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸とからなる縮合生成物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
トリス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）ニトリロトリアセテート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、
１，１′−（１，２−エチレン）−ビス（３，３，５，５−テトラメチル−ピペラジノン）、
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
ビス（１，２，２，６，６，−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジル）マロネート、
３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノ−プロピルアミノ）エタンとからなる縮合生成物、
２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチル−ピペリジン−４−イル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノ−プロピルアミノ）エタンとからなる縮合生成物、
８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザ−スピロ［４．５］−デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ピロリジン−２，５−ジオン、
３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ピロリジン−２，５−ジオン、
４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンからなる混合物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）−エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、
Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、
２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］−デカン、
７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンとからなる縮合生成物、
４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジンとテトラメチロールアセチレン二尿素とからなる縮合生成物、及び
ポリ（メトキシ−プロピル−３−オキシ）−［４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジニル］シロキサン。
【０００２】
さらに、本発明は、成形品、シート及び繊維を製造するための成形材料の使用、並びに前記の成形材料から製造された成形品、シート及び繊維に関する。最後に、本発明は成形材料の製造方法に関する。
【０００３】
ポリマー中に光安定剤及び老化防止剤として立体障害アミンを使用することは公知である。これは、光により引き起こされ、例えば黄変、変色、亀裂形成又は脆化として徴候が現れるポリマーの老化及び分解に抵抗する。
【０００４】
メタロセン触媒を用いて製造されたポリオレフィン（いわゆるメタロセン−ポリオレフィン）の安定化のために、DE-A 100 03 866は所定の置換ピペリジンと所定の置換トリアジンを立体障害アミンとして含有する安定剤混合物を提案している。この安定化メタロセン−ポリオレフィンの特性プロフィールは全ての点で満足できない。
【０００５】
本発明の課題は、前記の欠点を是正し、かつ最適な特性プロフィールを示す安定化メタロセン−ポリオレフィンを提供することであった。
【０００６】
従って、冒頭に定義した安定化された熱可塑性成形材料が見出された。さらに、成形品、シート及び繊維を製造するための成形材料の使用、並びに前記の成形材料からなる成形品、シート及び繊維、並びに成形材料の製造方法が見出された。
【０００７】
この成形材料の成分を次に詳細に記載する。
【０００８】
成分Ａ）
成分Ａ）として成形材料は、少なくとも１種のメタロセン−触媒を使用して製造した少なくとも１種のポリオレフィンを含有する。この種のポリオレフィンは、メタロセン−ポリオレフィンともいわれる。メタロセン−触媒を併用して製造した全てのポリオレフィンは成分Ａ）として適している。次に記載するメタロセン−触媒は例であり、確定的な列挙ではない。
【０００９】
メタロセン触媒を用いて重合することができるオレフィンは、特にエチレン及びα−オレフィン、例えばプロピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、５−メチル−１−ヘキセン；イソヘキセン、イソオクテン；シクロオレフィン（例えばシクロペンタジエン（モノマー又はダイマー）又はノルボルネン）；又はスチレン及びオレフィンの混合物、例えばエチレン−プロピレン又は少量の高級α−オレフィンを混入したプロピレンである。この場合に、Ｃ２−又はＣ３−オレフィン及びこのコポリマーが有利である。
【００１０】
ポリマーとは、ホモポリマー、並びに主要モノマーとして前記のモノマーとコモノマーとして他のモノマーとからなるコポリマーであると解釈される。
【００１１】
有利なポリオレフィンは、エチレンのホモポリマー及びコポリマー並びにプロピレンのホモポリマー及びコポリマーである。これらは次に詳細に記載する。
【００１２】
エチレン−ポリマー：
メタロセン触媒を使用して製造したポリエチレンは、例えばLuflexen（Ｒ）（Fa. Basell）として市販されている。このメタロセン触媒系は次に詳細に記載する。
【００１３】
メタロセン成分として、例えば次の一般式の化合物が適している：
【００１４】
【化１】
2004525251.tif 000002
式中、置換基は次の意味を有する：
Ｍは  チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ又はタンタル、
Ｘは  フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、水素又はＣ１〜Ｃ１０−アルキル、
Ｒ８〜Ｒ１２は  水素、Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル、５〜７員のシクロアルキル（これはそれ自体Ｃ１〜Ｃ１０−アルキルを置換基として有していてもよい）、Ｃ６〜Ｃ１５−アリール又はアラルキル（その際、場合により２個の隣接する基は一緒になって４〜１５個のＣ原子を有する環式基を表すことができる）又はＳｉ（Ｒ１３）３、その際、
Ｒ１３は  Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ１０−シクロアルキル又はＣ６〜Ｃ１５−アリール、
Ｚは  Ｘ又は
【００１５】
【化２】
2004525251.tif 000003
を表し、
その際、基
Ｒ１４〜Ｒ１８は  水素、Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル、５〜７員のシクロアルキル（これはそれ自体Ｃ１〜Ｃ１０−アルキルを置換基として有していてもよい）、Ｃ６〜Ｃ１５−アリール又はアラルキルを表し、かつ場合により２個の隣接する基は一緒になって４〜１５個のＣ原子を有する環式基を表すことができる、又はＳｉ（Ｒ１９）３を表し、その際、
Ｒ１９は  Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５−アリール又はＣ３〜Ｃ１０−シクロアルキル、
又は、その際、基Ｒ１１及びＺは一緒に原子団−Ｒ２０−Ａ−を形成し、その際、
Ｒ２０は
【００１６】
【化３】
2004525251.tif 000004
＝ＢＲ２２、＝ＡｌＲ２２、−Ｇｅ−、−Ｓｎ−、−Ｏ−、−Ｓ−、＝ＳＯ、＝ＳＯ２、＝ＮＲ２２、＝ＣＯ、＝ＰＲ２２又は＝Ｐ（Ｏ）Ｒ２２であり、
その際、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は
同じ又は異なり、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０フルオロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１０−フルオロアリール基、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール基、Ｃ１〜Ｃ１０−アルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ１０−アルケニル基、Ｃ７〜Ｃ４０−アリールアルキル基、Ｃ８〜Ｃ４０−アリールアルケニル基又はＣ７〜Ｃ４０−アルキルアリール基を表すか、又はその際、２個の隣接する基はそれぞれこれらが結合している原子と一緒に環を形成し、かつ
Ｍ３は  ケイ素、ゲルマニウム又はスズであり、
Ａは
【００１７】
【化４】
2004525251.tif 000005
を表し、その際、
Ｒ２４は  Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５−アリール、Ｃ３〜Ｃ１０−シクロアルキル又はＳｉ（Ｒ２５）３であり、
Ｒ２５は  水素、Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５−アリール（これ自体はＣ１〜Ｃ４−アルキル基により置換されていてもよい）又はＣ３〜Ｃ１０−シクロアルキルであり、
又は、その際、基Ｒ１１及びＲ１７は一緒に原子団−Ｒ２０−を形成する。
【００１８】
特に適当なメタロセン錯体は、例えばDE-A 198 06 435に第３頁６８行〜第５頁６７行に記載されている。明確に前記の文書の箇所が参照される。
【００１９】
この種の錯化合物の合成は自体公知の方法で行うことができ、その際、相応する置換された環式炭化水素アニオンを、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ又はタンタルのハロゲン化物と反応させるのが有利である。相応する製造方法の例は、特にJournal of Organometallic Chemistry, 369 (1989), 359-370に記載されている。
【００２０】
多様なメタロセン錯体の混合物を使用することもできる。
【００２１】
一般に、このメタロセン錯体は活性化化合物により活性化される。適当な活性化剤は特にメタロセニウム−イオンを形成させる化合物である。適当なメタロセニウムイオン形成化合物は、特に強ルイス酸、中性ルイス酸、ルイス酸カチオンを有するイオン性化合物及びカチオンとしてブレンステッド酸を有するイオン性化合物から選択される錯化合物である。
【００２２】
強ルイス酸、中性ルイス酸として、次の一般式の化合物
Ｍ４Ｘ１Ｘ２Ｘ３
が有利であり、その際、
Ｍ４は  周期表の第ＩＩＩ主族の元素を表し、特にＢ、Ａｌ又はＧａを表し、
Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は
水素、Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５−アリール、アルキルアリール、アリールアルキル、ハロゲンアルキル又はハロゲンアリール（これらはそれぞれアルキル基中に１〜１０個のＣ原子を有し、アリール基中に６〜２０個のＣ原子を有する）又はフッ素、塩素、臭素又はヨウ素を表し、特にハロゲンアリールは、有利にペンタフルオロフェニルである。
【００２３】
ルイス酸カチオンを有するイオン性の化合物として、次の一般式の化合物
［（Ｙａ＋）Ｑ１Ｑ２．．．Ｑｚ］ｄ＋
が適しており、その際、
Ｙは  周期表の第Ｉ〜ＶＩ主族又は第Ｉ〜ＶＩＩＩ副族の元素を表し、
Ｑ１〜Ｑｚは  簡単に負に荷電される基、例えばＣ１〜Ｃ２８−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５−アリール、アルキルアリール、アリールアルキル、ハロゲンアルキル、ハロゲンアリール（これらはそれぞれアリール基中に６〜２０個のＣ原子を有し、アルキル基中に１〜２８個のＣ原子を有し）、Ｃ１〜Ｃ１０−シクロアルキル（これは場合によりＣ１〜Ｃ１０−アルキル基により置換されていてもよい）、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２８−アルコキシ、Ｃ６〜Ｃ１５−アリールオキシ、シリル基又はメルカプチル基を表し、
ａは  １〜６の整数を表し、
ｚは  ０〜５の整数を表し、
ｄは  ａ−ｚの差に相当するが、この場合にｄは１以上である。
【００２４】
カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン及びスルホニウムカチオン並びにカチオン性の遷移金属錯体が特に適している。特にトリフェニルメチルカチオン、銀カチオン及び１，１′−ジメチルフェロセニルカチオンを挙げることができる。これらは有利に、配位しない対イオン、特にホウ素化合物（例えばWO-A 91/09882に挙げられている）、特にテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを有している。
【００２５】
カチオンとして及び有利に同様に配位しない対イオンとしてブレンステッド酸を有するイオン性化合物は、WO-A 91/09882に記載されており、有利なカチオンはＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムである。
【００２６】
エチレン−コポリマーとして、市販のエチレンコポリマー、例えばLuflexen（Ｒ）タイプ（Basell社）、Nordel（Ｒ）（DuPont）、Engage（Ｒ）、Affinity（Ｒ）、Elite（Ｒ）（全てDow）及びFinacene（Ｒ）（Atofina）が適している。コモノマーとして３〜１０個のＣ原子を有する全てのα−オレフィンが適しており、特にプロピレン、ブト−１−エン、ヘキシ−１−エン及びオクト−１−エン、さらにアルキル基中に１〜２０個のＣ原子を有するアルキルアクリレート及び−メタクリレート、特にブチルアクリレートが適している。他の適当なコモノマーはジエン、例えばブタジエン、イソプレン及びオクタジエン並びにジシクロペンタジエンである。
【００２７】
通常、ランダムコポリマー又はブロックコポリマー又はインパクトコポリマーである。
【００２８】
エチレンとコモノマーとからなるブロックコポリマー又はインパクトコポリマーは、第１段階でコモノマーのホモポリマー又はコモノマーと、エチレン１５質量％まで、有利に６質量％までとのランダムコポリマーであり、次いで第２段階でエチレン含有量１５〜８０質量％を有するコモノマー−エチレンコポリマーにさらに重合させたポリマーである。一般に、第２段階において生じたコポリマーは最終生成物中に３〜６０％の割合で含まれる程度にコモノマー−エチレン−コポリマーをさらに重合させる。
【００２９】
エチレン−コモノマー−コポリマーを製造する重合は、前記したようなメタロセン触媒系を用いて行う。
【００３０】
メタロセン触媒を使用して製造したポリエチレンに対してさらに、本発明による成形材料は古典的な方法もしくは重合活性金属錯体をベースとする触媒系を用いて製造したポリエチレンを含めることができる。
【００３１】
適当な古典的なポリエチレン（ＰＥ）ホモポリマーは例えば次のものである：
−  ＰＥ−ＬＤ（ＬＤ＝低密度）、高圧法（ＩＣＩ）により１０００〜３０００ｂａｒでかつ１５０〜３００℃で、触媒として酸素又はペルオキシドを用いてオートクレーブ又は反応管中で製造。多様な長さの分枝鎖で著しく分枝、結晶度は４０〜５０％、密度は０．９１５〜０．９３５ｇ／ｃｍ３、平均分子量は６０００００ｇ／ｍｏｌまでである。
【００３２】
−  ＰＥ−ＬＬＤ（ＬＬＤ＝線状低密度）、金属錯体−触媒を用いて、低圧法で気相から、溶液（例えばベンジン）から、懸濁液の形で又は改良高圧法を用いて製造。それ自体分枝していない側鎖でわずかに分枝、分子量はＰＥ−ＬＤの場合よりも高い。
【００３３】
−  ＰＥ−ＨＤ（ＨＤ＝高密度）、中圧−（フィリップス）法又は低圧−（チーグラー）法により製造。フィリップス法により、３０〜４０ｂａｒ、８５〜１８０℃、触媒として一酸化クロム、分子量約５００００ｇ／ｍｏｌ。チーグラー法により、１〜５０ｂａｒ、２０〜１５０℃、触媒としてハロゲン化チタン、チタンエステル又はアルミニウムアルキル、分子量約２０００００〜４０００００ｇ／ｍｏｌ。懸濁液、溶液、気相又は塊状で実施。極めてわずかに分枝、結晶度６０〜８０％、密度０．９４２〜０．９６５ｇ／ｃｍ３。
【００３４】
−  ＰＥ−ＨＤ−ＨＭＷ（ＨＭＷ＝高分子量）、チーグラー法、フィリップス法又は気相法により製造。高密度及び高分子量。
【００３５】
−  ＰＥ−ＨＤ−ＵＨＭＷ（ＵＨＭＷ＝超高分子量）、改良チーグラー触媒を用いて製造、分子量３００００００〜６００００００ｇ／ｍｏｌ。
【００３６】
特に適しているのは、気相流動層法で（通常の担持）触媒を使用して製造したポリエチレン、例えばLupolen（Ｒ）（Basell社）である。
【００３７】
プロピレン−ポリマー：
ポリプロピレンの名称とは、以後プロピレンのホモポリマー並びにコポリマーであると解釈される。プロピレンのコポリマーは副次的量でプロピレンと共重合可能なモノマー、例えばＣ２〜Ｃ８−アルク−１−エン、例えば特にエチレン、ブト−１−エン、ペント−１−エン又はヘキシ−１−エンを含有する。２種以上の異種コモノマーを使用することもできる。
【００３８】
適当なポリプロピレンは、特にプロピレンのホモポリマー又は５０質量％まで重合により組み込むことができる他の、８個までのＣ原子を有するアルク−１−エンとプロピレンとのコポリマーである。このプロピレンのコポリマーは、この場合ランダムコポリマー又はブロックコポリマー又はインパクトコポリマーである。プロピレンのコポリマーがランダムに構成されている場合、これらは一般に１５質量％まで、有利に６質量％まで他の、８個までのＣ原子を有するアルク−１−エン、例えばエチレン、ブト−１−エン又はエチレンとブト−１−エンとの混合物を含有する。
【００３９】
プロピレンのブロックコポリマー又はインパクトコポリマーは、第１段階でプロピレンホモポリマー又は１５質量％まで、有利に６質量％まで他の、８個までのＣ原子を有するアルク−１−エンとプロピレンとのランダムコポリマーを製造し、次いで第２段階で１５〜８０質量％までのエチレン含有量を示すプロピレン−エチレン−コポリマーにさらに重合させ、その際プロピレン−エチレン−コポリマーは付加的になお他のＣ４〜Ｃ８−アルク−１−エンを含有することもできるポリマーである。一般に、第２段階において生じたコポリマーは最終生成物中に３〜６０％の割合で含まれる程度にプロピレン−エチレン−コポリマーをさらに重合させる。
【００４０】
このポリプロピレンはメタロセン−触媒を使用して製造される。
【００４１】
メタロセンとは、この場合に、有機リガンドを備えた周期表の副族の金属からなる錯化合物であると解釈され、これはメタロセンニウムイオンを形成する化合物と一緒に有効な触媒系が生じる。ポリプロピレンの製造に使用するために、このメタロセン錯体は触媒系中で通常担持されて存在している。担体として頻繁に無機酸化物が使用されるが、しかしながらポリマー、例えばポリオレフィンの形の有機担体も使用できる。チタン含有固体成分ａ）の製造のためにも使用される前記の無機酸化物が有利である。
【００４２】
通常使用されるメタロセンは中心原子としてチタン、ジルコニウム又はハフニウムを含有し、この場合ジルコニウムが有利である。一般に、中心原子はπ結合を介して少なくとも１つの、一般に置換されたシクロペンタジエニル基並びに他の置換基と結合している。他の置換基はハロゲン、水素又は有機基であることができ、この場合、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素又はＣ１〜Ｃ１０−アルキル基が有利である。
【００４３】
シクロペンタジエニル基は、相応するヘテロ芳香族系の成分であることもできる。
【００４４】
有利なメタロセンは、２つの同種の又は異種のπ結合を介して２つの置換シクロペンタジエニル基に結合している中心原子を含有し、その際、シクロペンタジエニル基の置換基は２つのシクロペンタジエニル基と結合しているのが特に有利である。置換又は非置換のシクロペンタジエニル基は付加的に２つの隣接するＣ原子の環式基により置換されている錯体が特に有利であり、この場合、この環式基はヘテロ芳香族系の形で組み込まれていてもよい。
【００４５】
有利なメタロセンは、置換又は非置換の一つのシクロペンタジエニル基を含有し、この基はしかしながら少なくとも１つの基で置換されていて、この基は中心原子と結合しているようなものである。
【００４６】
適当なメタロセン化合物は、例えば次のようなものである、
エチレンビス（インデニル）−ジルコニウムジクロリド、
エチレンビス（テトラヒドロインデニル）−ジルコニウムジクロリド、
ジフェニルメチレン−９−フルオレニルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（−３−ｔ−ブチル−５−メチルシクロペンタジエニル）−ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイル（２−メチル−４−アザペンタレン）（２−メチル−４（４′−メチルフェニル）−インデニル）−ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイル（２−メチル−４−チアペンタレン）（２−エチル−４（４′−ｔ−ブチルフェニル）−インデニル）−ジルコニウムジクロリド、
エタンジイル（２−エチル−４−アザペンタレン）（２−エチル−４（４′−ｔ−ブチルフェニル）−インデニル）−ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４−アザペンタレン）−ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４−チアペンタレン）−ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（−２−メチルインデニル）−ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（−２−メチルベンズインデニル）−ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（−２−メチル−４−フェニルインデニル）−ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（−２−メチル−４−ナフチルインデニル）−ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（−２−メチル−４−イソプロピルインデニル）−ジルコニウムジクロリド又は
ジメチルシランジイルビス（−２−メチル−４，６−ジイソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド並びに相応するジメチルジルコニウム化合物。
【００４７】
このメタロセン化合物は公知であるか又は自体公知の方法により得ることができる。触媒作用のために、この種のメタロセン化合物の混合物を使用することもでき、さらにEP-A 416 815に記載されたメタロセン錯体を使用することもできる。
【００４８】
さらに、このメタロセン−触媒系はメタロセニウムイオンを形成する化合物を含有する。強ルイス酸、中性ルイス酸、ルイス酸カチオンを有するイオン性化合物、又はブレンステッド酸を有するイオン性化合物がカチオンとして適している。これについての例は、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート又はＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムの塩である。同様にメタロセニウムイオンを形成する化合物として適しているのは、開鎖又は環式のアルミノキサン化合物である。これは通常はトリアルキルアルミニウムと水との反応により製造され、一般に多様な長さの線状鎖並びに環鎖の分子の混合物として存在する。
【００４９】
さらに、メタロセン−触媒系は周期表の第Ｉ、第ＩＩ又は第ＩＩＩ主族の金属の有機金属化合物、例えばｎ−ブチルリチウム、ｎ−ブチル−ｎ−オクチルマグネシウム又はトリ−イソブチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム又はトリメチルアルミニウムを含有する。
【００５０】
メタロセン触媒を使用して製造したポリプロピレンに対してさらに、本発明による成形材料は古典的な方法もしくは重合活性金属錯体をベースとする触媒系を用いて製造したポリプロピレンを含めることができる。
【００５１】
ポリプロピレンの古典的な製造のための重合は、チーグラーナッタ触媒系を用いて行うことができる。この場合、特にチタン含有固体成分ａ）の他になお有機アルミニウム化合物の形の助触媒ｂ）及び電子供与体化合物ｃ）を含有するような触媒系を使用する。
【００５２】
特に、通常のチーグラーナッタ−触媒系はチタン含有固体成分ａ）、特に三価又は四価のチタンのハロゲン化物又はアルコール、さらにハロゲン化マグネシウム化合物、無機酸化物、例えば担体としてのシリカゲル並びに電子供与体化合物ｃ）を含有する。それ自体、特にカルボン酸誘導体並びにケトン、エーテル、アルコール又は有機ケイ素化合物が挙げられる。
【００５３】
このチタン含有固体成分は、自体公知の方法により製造することができる。この例は、特にEP-A 45 975, EP-A 45 977, EP-A 86 473, EP-A 171 200, GB-A 2 111 066, US-A 4 857 613及びUS-A 5 288 824に記載されている。DE-A 195 29 240から公知の方法が有利に使用される。
【００５４】
適当なアルミニウム化合物ｂ）はトリアルキルアルミニウムの他に、アルキル基がアルコキシ基により又はハロゲン原子、例えば塩素又は臭素により置き換えられているような化合物でもある。このアルキル基は同じであるか又は相互に異なることもできる。線状鎖又は分枝鎖のアルキル基が挙げられる。トリアルキルアルミニウム化合物を使用するのが有利であり、このアルキル基はそれぞれ１〜８個のＣ原子を有し、例えばトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−イソブチルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム又はメチルジエチルアルミニウム又はこれらの混合物が有利である。
【００５５】
アルミニウム化合物ｂ）の他に、一般に助触媒として電子供与体化合物ｃ）、たとえば単官能性又は多官能性カルボン酸、カルボン酸無水物又はカルボン酸エステル、さらにケトン、エーテル、アルコール、ラクトン並びに有機リン化合物及び有機ケイ素化合物が使用され、この場合、電子供与体化合物ｃ）はチタン含有固体成分ａ）の製造に使用した電子供与体化合物と同じであるか又は異なることができる。
【００５６】
ポリプロピレンの製造は、少なくとも１つの、頻繁に２つ又はそれ以上の直列接続された反応区域中で（反応器カスケード）、気相中で、懸濁液中で又は液相中で（バルク層）中で重合させることにより実施される。通常、Ｃ２〜Ｃ８−アルク−１−エンの重合のために使用される反応器を使用することができる。適当な反応は、特に連続的に運転される撹拌釜、ループ型反応器又は流動層反応器である。反応器のサイズはこの場合にあまり重要ではない。このサイズは、個々の反応区域中で達成すべき生産能力に依存する。
【００５７】
反応器として特に流動層反応器並びに水平又は垂直に撹拌する粉末層反応器が使用される。この反応層は、一般に個々の反応器中で重合されるＣ２〜Ｃ８−アルク−１−エンからの重合からなる。
【００５８】
使用されるポリプロピレンを製造するための重合は、通常の反応条件下で、４０〜１２０℃、特に５０〜１００℃の温度で、１０〜１００ｂａｒ、特に２０〜５０ｂａｒの圧力で行う。
【００５９】
適当なポリプロピレンは、通常、２３０℃でかつ２．１６ｋｇの重量のもとで、ＩＳＯ１１３３による溶融流速（ＭＦＲ）０．１〜２００ｇ／１０ｍｉｎ、特に０．２〜１００ｇ／１０ｍｉｎを示す。
【００６０】
成分Ｂ）
成分Ｂ）として成形材料は、次のグループｂ１）〜ｂ４）から選択される少なくとも１種の安定剤を含有する：
ｂ１）  グリコールウリルをベースとする立体障害アミン、
ｂ２）  ４−ホルミルアミノピペリジンをベースとする立体障害アミン、
ｂ３）  マレイン酸イミド−α−オレフィン−コポリマーをベースとする立体障害アミン、
ｂ４）  次のものから選択される立体障害アミン、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、
ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（１，２，２，６，６，−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、
１−（２−ヒドロキシ−エチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸とからなる縮合生成物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
トリス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ニトリロトリアセテート、
テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、
１，１′−（１，２−エチレン）−ビス（３，３，５，５−テトラメチル−ピペラジノン）、
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
ビス（１，２，２，６，６，−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジル）マロネート、
３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノ−プロピルアミノ）エタンとからなる縮合生成物、
２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチル−ピペリジン−４−イル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノ−プロピルアミノ）エタンとからなる縮合生成物、
８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］−デカン−２，４−ジオン、
３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ピロリジン−２，５−ジオン、
３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ピロリジン−２，５−ジオン、
４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンからなる混合物、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）−エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとからなる縮合生成物、
４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、
Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、
２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］−デカン、
７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンとからなる縮合生成物、
４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとテトラメチロールアセチレン二尿素とからなる縮合生成物、及び
ポリ（メトキシプロピル−３−オキシ）−［４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジニル］シロキサン。
【００６１】
アミンｂ４）は単独の化合物であり、詳細に記載する必要はない。この単独の化合物は公知であり、市販されている。
【００６２】
グループｂ１）〜ｂ３）のアミンについては次のことがいえる。
【００６３】
ｂ１）  グリコールウリルをベースとするアミン（グループｂ１））
グリコールウリルをベースとするアミンとして一般式（Ｉ）の化合物を使用するのが有利である
【００６４】
【化５】
2004525251.tif 000006
式中：
ｎは１〜７０の数を表し、
Ｒ１及びＲ２は相互に無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ７〜Ｃ１２−アラルキル、アリール又はカルボンエステル基を表すか、又はＲ１及びＲ２は一緒にテトラ−、ペンタ−又はヘキサメチレン基又は場合により置換された次の式の基
【００６５】
【化６】
2004525251.tif 000007
を表し、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は相互に無関係にアルキルを表し、
Ｒ７及びＲ８は相互に無関係に、水素又はアルキルを表すか、又は所属する炭素原子と共に
【００６６】
【化７】
2004525251.tif 000008
を形成し、
Ｘ及びＹは相互に無関係に、酸素、硫黄又はＮＲ１０を表し、その際、Ｒ１０は水素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル又はＣ７〜Ｃ１２−アラルキルを表し、
Ｒ９は水素、Ｃ１〜Ｃ２２−アルキル（これはヒドロキシ、カルボニル、カルボンエステル、カルボキシル、カルバモイル、スルホニル、スルフィニル又はチオール基で置換されていてもよい）、Ｃ３〜Ｃ２２−アルケニル、Ｃ３〜Ｃ２２−アルキニル、Ｃ７〜Ｃ１２−アラルキル、Ｃ１〜Ｃ２２−アルキル、Ｃ４〜Ｃ２２−シクロアルキルアルキル、場合により置換された複素環式基、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシ、アルコキシ、カルボキシル、カルボンエステル、スルホンアミド、場合により置換されたカルバモイル、尿素原子団、ウレタン基を表すか、又は
−（−ＣＨ２−）ｋ−Ｄ
を表し、その際、ｋは１〜１０の数を表し、Ｄは−ＣＮ、−ＮＨ２、−ＮＨＲ１１又は−ＮＲ１１Ｒ１２を表し、その際、Ｒ１１及びＲ１２は同じ又は異なり、Ｃ１〜Ｃ２２−アルキル、Ｃ−アシル、カルバモイル、スルホニル、スルフィニル、Ｃ２〜Ｃ２２−アルケニル、Ｃ３〜Ｃ２２−アルキニル、Ｃ３〜Ｃ１２−シクロアルキル、アラルキル、オリゴマー又はポリマーのポリアミンを表し、その際この基はさらに置換されていてもよく、又はその際、Ｒ１１及びＲ１２はこれらが結合している窒素原子と一緒になって３〜２０員の環系を形成し、
Ａは同じ又は異なり、直接結合、又は架橋員を表し、但し、基Ａの少なくとも１つは、Ｒ９が−（−ＣＨ２−）ｋ−Ｄを有していない場合に架橋員を表し、かつ
Ｂは他の架橋員又は直接結合を表す］、及び一般式Ｉの化合物の酸付加塩及び水和物を使用するのが有利である。
【００６７】
個々の基Ｒ１及びＲ２は水素の他に、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェニルブチル、メチルベンジル、フェニル、トリル、カルボメトキシ、カルボエトキシ、カルボプロポキシ又はカルボブトキシである。
【００６８】
Ｒ１及びＲ２はエチル、ベンジル、カルボメトキシ又はカルボエトキシであるのが有利であり、特に水素、メチル又はフェニルであるのが有利である。
【００６９】
Ｒ９は有利に水素、Ｃ１〜Ｃ２２−アルキル、特にＣ１〜Ｃ４−アルキル、有利にメチル（これはヒドロキシル基又はカルボキシル基により置換されていてもよい）、Ｃ３〜Ｃ８−アルケニル、特にアリル、Ｃ７〜Ｃ１２−アラルキル、特にベンジル、−ＣＨ２−ＣＮ、−（ＣＨ２）２−ＣＮ；Ｒ９のさらに有利なものは次に挙げるものである：
【００７０】
【化８】
2004525251.tif 000009
【００７１】
【化９】
2004525251.tif 000010
その際、ｏ＝１〜２１、及びｒ＝１〜２０である。
ｎは有利に１〜４０、特に有利に１を表す。
【００７２】
基Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は有利にＣ１〜Ｃ６−アルキル基、特にＣ１〜Ｃ４−アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルを表す。特に有利なのはメチル及びエチルである。
【００７３】
アリールの概念は、特にフェニル、このＣ１〜Ｃ４−アルキル−又はＣ１〜Ｃ４−アルコキシ置換生成物、例えばトリル又はキシリル、並びにハロゲンフェニル及び場合により置換されたナフチルを表す。
【００７４】
Ｃ3〜Ｃ12−シクロアルキルの概念は有利に次のものを表す
【００７５】
【化１０】
2004525251.tif 000011
【００７６】
【化１１】
2004525251.tif 000012
【００７７】
基Ｒ７及びＲ８は有利に水素又はＣ１〜Ｃ４−アルキル、例えばメチルを表す。ここで使用したＣ１〜Ｃ２２−アルキルの概念は、直鎖及び分枝鎖の基、特にＣ１〜Ｃ６−アルキル、特にメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ブチル、ペンチル及びヘキシルを包含する。他の分枝したアルキル基の例は次のものである：
【００７８】
【化１２】
2004525251.tif 000013
Ｃ７〜Ｃ１２−アラルキルの概念は、有利にＣ７〜Ｃ１２−フェニルアルキル、例えばベンジル又はフェニルエチル、並びにそのＣ１〜Ｃ４−アルキル−又はＣ１〜Ｃ４−アルコキシ−置換生成物を包含する
【００７９】
【化１３】
2004525251.tif 000014
【００８０】
カルボンエステルの概念は特に次の基を表す
【００８１】
【化１４】
2004525251.tif 000015
【００８２】
Ｃ３〜Ｃ２２−アルケニルの概念は直鎖又は分枝鎖の並びに複数箇所不飽和を有する基を包含する。Ｃ３〜Ｃ１２−アルケニル、例えばアリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル又はヘプテニルが有利である。
【００８３】
Ｃ３〜Ｃ２２−アルキニルの概念は、直鎖又は分枝鎖の、１箇所又は数箇所不飽和を有する基を表す。Ｃ３〜Ｃ１２−アルキニル、例えばプロパルギル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル又はオクチニルが有利である。
【００８４】
「オリゴマー又はポリマーのポリアミン」の概念は例えば次の原子団を表す
【００８５】
【化１５】
2004525251.tif 000016
【００８６】
場合により置換されたカルバモイルの概念は、例えば（Ｒ１３）２ＮＣＯ−を表し、その際、Ｒ１３は水素又はＣ１〜Ｃ４−アルキルを表す。
【００８７】
架橋員Ａ及びＢは二価の脂肪族、芳香脂肪族又は脂肪族の基を表し、前記基は場合によりヘテロ原子として酸素、窒素又は硫黄を含有することができる。この架橋員は、特に末端位に、原子団−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ１４、−ＳＯ２−Ｏ−、−ＳＯ２−ＮＲ１４−を有することができ、この場合、Ｒ１４は水素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ７〜Ｃ１２−アラルキル、Ｃ２〜Ｃ４−ヒドロキシアルキル、Ｃ５〜Ｃ７−シクロアルキル、Ｃ７〜Ｃ１２−シクロアルキルアルキル又はエーテル酸素を含有するＣ２〜Ｃ９−アルキルを表す。
【００８８】
Ｒ１４は特に、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メチルプロピル、ベンジル、フェニルエチル、メトキシフェニルエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル又はメチルシクロヘキシルであることができる。
【００８９】
エーテル酸素を含有するアルキル基Ｒ１４は例えば次のものである：
【００９０】
【化１６】
2004525251.tif 000017
【００９１】
特に、Ａ及びＢについて、アルキレン基、シクロアルキレン基、アラルキレン基、ＣＯ又はＳＯ２で置換されたアルキレン基又はアラルキレン基が挙げられる。
【００９２】
個々の架橋員は例えば次のようなものである：
【００９３】
【化１７】
2004525251.tif 000018
式中、ｐ＝１〜２０及びｑ＝０〜４。
架橋員−Ｂ−の他の例は次のものである：
【００９４】
【化１８】
2004525251.tif 000019
【００９５】
【化１９】
2004525251.tif 000020
有利な架橋員は（ＣＨ２）ｎであり、その際、ｎは特に１〜５、特に１、２、５である。
【００９６】
化合物ｂ１）において複素環式基、特に非芳香族の複素環式基が存在する場合、これらは例えば次のものであることができる：
【００９７】
【化２０】
2004525251.tif 000021
【００９８】
例示的な尿素原子団は次のものである：
【００９９】
【化２１】
2004525251.tif 000022
【０１００】
例示的なウレタン原子団は次のものである：
【０１０１】
【化２２】
2004525251.tif 000023
【０１０２】
Ｙ及びＺは相互に無関係に、特に酸素、その他に硫黄又は−ＮＲ１０である。
【０１０３】
Ｒ１０は水素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル又はＣ７〜Ｃ１２−アラルキルである。
【０１０４】
Ｒ１１及びＲ１２は相互に無関係に、特に水素、その他に次のものでもある
【０１０５】
【化２３】
2004525251.tif 000024
Ｒ１１とＲ１２とはこれらが結合している窒素原子と一緒になって環系を形成する場合、例えば次のものであることができる：
【０１０６】
【化２４】
2004525251.tif 000025
及びＲ１５はＲ９の前記した全ての意味を表すことができる。
【０１０７】
ｎ＝１であり、架橋員Ａは原子団−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ９−、−ＳＯ２−ＮＲ９−を表す一般式（Ｉ）の化合物は、次の一般式ＩＩの化合物
【０１０８】
【化２５】
2004525251.tif 000026
を、FR-A-2 291 203の方法と同様に、アミノカルボン酸エステルＨ２Ｎ−Ｂ−ＣＯＯＲ又はアミノスルホン酸Ｈ２−Ｂ−ＳＯ３又は相応するアルキルエステル、例えばエチルエステルと反応させ、及び引き続き触媒を用いてエステル交換又は置換ピペリジン−４−アミン又はピペリジン−４−オールでエステル化することにより製造することができる。次の反応式は例示的化合物ＩＩＩの反応順序を表す。
【０１０９】
【化２６】
2004525251.tif 000027
【０１１０】
第２の反応工程の触媒は、アルカリ金属アルコラート、例えばナトリウムメチラート、アルカリ金属ヒドロキシド、例えば水酸化ナトリウム、酸又は有利にテトラアルキルオルトチタネート、例えばテトラブチルオルトチタネートであることができる。
【０１１１】
一般式Ｉの化合物は、さらに一般式ＩＩの化合物を次の一般式ＩＶの化合物と反応させることにより製造できる。
【０１１２】
【化２７】
2004525251.tif 000028
【０１１３】
式ＩＩの化合物は、この場合に次の一般式Ｖ
【０１１４】
【化２８】
2004525251.tif 000029
の化合物と、ホルムアルデヒド又はホルムアルデヒド供給源との反応によりin situで製造することができる。
【０１１５】
式Ｉ（その際、Ｂ−Ｒ９＝Ｈ）の化合物は、文献公知の方法により、例えば還元アミノ化により、例えばＢ−Ｒ９＝ＣＨ３の化合物に変換することができる。
【０１１６】
Ｒ９は−（ＣＨ２）−ＣＮである一般式Ｉの化合物を、有利に次の一般式ＶＩ
【０１１７】
【化２９】
2004525251.tif 000030
の化合物と、グリコール酸ニトリル又はグリコール酸ニトリル供給源との反応によっても製造することができる。グリコール酸ニトリルと立体障害アミンとの反応は、DE-A-3 208 570に記載されている。
【０１１８】
化合物ｂ１）は遊離塩基の形で、ヒドレートとして又は塩として存在することができる。適当なアニオンは例えば無機酸及び特に有機カルボン酸並びに有機スルホン酸から誘導される。
【０１１９】
無機アニオンは、例えばクロリド、ブロミド、スルフェート、メトスルフェート、テトラフルオロボレート、ホスフェート又はロダニドである。
【０１２０】
カルボン酸−アニオンは例えば次のものである：ホルメート、アセテート、プロピオネート、ヘキサノエート、シクロヘキサノエート、ラクテート、ステアレート、ドデシルベンゾエート、ベンゾエート、アクリレート、メタクリレート、シトレート、マロネート又はスクシネート、並びにＣＯＯＨ基を３０００個まで有するポリカルボン酸のアニオン。
【０１２１】
スルホン酸−アニオンは例えばベンゼンスルホネート又はトシレートである。
【０１２２】
アミンｂ１）についての他の詳細はEP-A 272 590に記載されている。
グリコールウリルをベースとするアミンｂ１）として次の式（ｂ１）の化合物が特に有利に使用される
【０１２３】
【化３０】
2004525251.tif 000031
式中、Ｒは水素又はメチルを表す。Ｒ＝ＨのものはＢＡＳＦ社のUvinul（Ｒ） 4049 Hとして市販されている。
【０１２４】
ｂ２）  ４−ホルミルアミノピペリジンをベースとするアミン（グループｂ２））
４−ホルミルアミノピペリジンをベースとするアミンとして一般式（Ｉ）の化合物を使用するのが有利である
【０１２５】
【化３１】
2004525251.tif 000032
式中、
ｎは１又は２、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は相互に無関係に、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルを表すか、又は
Ｒ１及びＲ２又はＲ３及びＲ４は一緒になってテトラメチレン基又はペンタメチレン基を表し、
Ｒ５は水素又はＣ１〜Ｃ４−アルキルを表し、
Ｒ６は水素、Ｃ１〜Ｃ２２−アルキル、Ｃ３〜Ｃ２２−アルケニル、場合によりＣ１〜Ｃ４−アルキル、フッ素、塩素、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ及び／又はジＣ１〜Ｃ４−アルキルアミノにより置換されたＣ７〜Ｃ１２−フェニルアルキル、Ｃ１〜Ｃ２２−アルカノイル、Ｃ２〜Ｃ３−シアノアルキル、Ｃ１〜Ｃ２２−ヒドロキシアルキル又はＣ２〜Ｃ２２−アミノアルキルを表し、かつ
ｎ＝１の場合には、
Ｙは水素、Ｃ１〜Ｃ２２−アルキル、Ｃ３〜Ｃ２２−アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２−シクロアルキル又はビシクロアルキル、シアン、ヒドロキシ又はカルボ−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシにより置換されたＣ２〜Ｃ２２−アルキル、エーテル酸素、窒素又は硫黄により中断されたＣ４〜Ｃ２２−アルキル、場合によりＣ１〜Ｃ４−アルキル、フッ素、塩素、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ又はジ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルアミノにより置換されたＣ７〜Ｃ２２−フェニル−又はジフェニルアルキル、場合によりＣ１〜Ｃ４−アルキル又はカルボ−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシにより置換されたフェニル、複素環式基を含有するＣ１〜Ｃ２２−アルキル又は次の式の基
【０１２６】
【化３２】
2004525251.tif 000033
ｎ＝２の場合には、
ＹはＣ２〜Ｃ２２−アルキレン、Ｃ５〜Ｃ２２−シクロアルキレン、Ｃ８〜Ｃ１４−フェニルアルキレン、フェニレン又はエーテル酸素、窒素、硫黄又は５員又は６員の複素環式基により中断されたＣ４〜Ｃ３０−アルキレンを表し、
並びにこの化合物の酸付加塩を使用するのが有利である。
【０１２７】
化合物ｂ２）は極めて良好に安定化特性を有し、固有色がなく、有機ポリマーと相容性であり、低い蒸気圧を示し、かつ熱分解に対して安定である。
【０１２８】
Ｒ１〜Ｒ４はメチルを表すのが有利である。Ｒ５は水素を表すのが有利である。
【０１２９】
Ｒ６は水素の他に、例えば詳細には次のものが挙げられる：
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル；ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、メチルベンジル；アリル；アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ベンゾイル；シアノメチル、ヒドロキシエチル及びアミノエチル。
【０１３０】
Ｒ６についてはメチル、アセチル、シアノメチル、アミノエチル及び特に水素が有利である。
【０１３１】
Ｙにつてはさらに、水素の他に、例えば次のものが挙げられる：
ａ）  Ｃ１〜Ｃ２２−アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−及びｉ−プロピル、ｎ−及びｉ−ブチル、ｎ−及びｉ−ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、オクタデシル、ピバリル、３，３−ジメチルブチル−２、ネオペンチル、４−メチルペンチル−２及び２−エチルヘキシル；
ｂ）  Ｃ３〜Ｃ２２−アルケニル、例えばアリル、ブテニル、ペンテニル及びオレイル；
ｃ）  Ｃ３〜Ｃ１２−シクロアルキル、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロドデシル及びビシクロヘプチル、その中でシクロペンチル及びシクロヘキシルが有利である；
ｄ）  シアン、ヒドロキシ又はカルボアルコキシにより置換されたＣ２〜Ｃ２２−アルキル、シアノメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル、カルボメトキシエチル及びカルボエトキシエチル；
ｅ）  エーテル酸素又は窒素で中断され、かつ場合によりヒドロキシで置換されたＣ４〜Ｃ２２−アルキル、例えば−（ＣＨ２）３Ｎ（ＣＨ３）２、−（ＣＨ２）３Ｎ（Ｃ２Ｈ５）２、−（ＣＨ２）３−ＯＣＨ３、−（ＣＨ２）３−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）２、−（ＣＨ２）２Ｏ−（ＣＨ２）２−ＯＨ、−ＣＨ２−（ＣＨ２）２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ２）３、−（ＣＨ２）２−Ｎ［ＣＨ（ＣＨ３）２］２、−（ＣＨ２）２−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）２、−（ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ３）２、−（ＣＨ２）２ＯＣＨ３及び−（ＣＨ２）２ＯＣＨ２ＣＨ３；
ｆ）  場合により置換されたＣ７〜Ｃ２２−フェニル−及びジフェニルアルキル、例えばベンジル、メトキシベンジル、メチルベンジル、エチルベンジル、イソプロピルベンジル、トリメチルベンジル、フルオロベンジル、クロロベンジル、メチレンジオキシベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル及びフェニルブチル、ジメチルアミノベンジル、ジフェニルメチル及び１，３−ジフェニルプロピル−２；
ｇ）  場合により置換されたフェニル、例えばフェニル、トリル及びカルボ−Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシにより置換されたフェニル
ｈ）  次の式の複素環式基
【０１３２】
【化３３】
2004525251.tif 000034
式中、Ｒ１〜Ｒ６は前記した意味を表す；
ｉ）  複素環式基を有するＣ１〜Ｃ２２−アルキル、例えば
【０１３３】
【化３４】
2004525251.tif 000035
ｋ）  Ｃ２〜Ｃ２２−アルキレン及びＣ５〜Ｃ２２−シクロアルキレン、例えば−（ＣＨ２）ｏ−ＣＨ２（その際、ｏ＝１〜２１）；
【０１３４】
【化３５】
2004525251.tif 000036
ｌ）  Ｃ８〜Ｃ１４−フェニルアルキレン及びフェニレン、例えば
【０１３５】
【化３６】
2004525251.tif 000037
ｍ）  エーテル酸素、窒素又は複素環式基により中断されたアルキレン、例えば
【０１３６】
【化３７】
2004525251.tif 000038
【０１３７】
一般式（Ｉ）の化合物は次の一般式（ＩＩ）の化合物をギ酸又はギ酸エステルと反応させることにより製造できる。このために、メチルエステル及びエチルエステルが有利である。この場合、触媒を使用して又は使用せずに作業することができる。触媒は、この場合にルイス酸であり、その中で特にチタンオルトエステル及びこの場合に特別にチタンオルトブチレートを挙げることができる。
【０１３８】
【化３８】
2004525251.tif 000039
【０１３９】
Ｒ６＝Ｈの一般式（Ｉ）の化合物は自体公知の方法により、例えばアルキル化、還元アミノ化、グリコール酸ニトリルとの反応により、特にＲ６≠Ｈの一般式（Ｉ）の化合物に変換することができる。
【０１４０】
化合物ｂ２）は遊離塩基の形で又は塩として存在することができる。適当なアニオンは例えば無機酸及び特に有機カルボン酸並びに有機スルホン酸から誘導される。
【０１４１】
無機アニオンとして、例えばクロリド、ブロミド、スルフェート、メトスルフェート、テトラフルオロボレート、ホスフェート又はロダニドが挙げられる。
【０１４２】
カルボン酸アニオンとして、例えば、ホルメート、アセテート、プロピオネート、ヘキサノエート、シクロヘキサノエート、ラクテート、ステアレート、ドデシルベンゾエート、ベンゾエート、アクリレート、メタクリレート、シトレート、マロネート又はスクシネート、並びにＣＯＯＨ基を３０００個まで有するポリカルボン酸のアニオンが挙げられる。
【０１４３】
スルホン酸−アニオンは例えばベンゼンスルホネート又はトシレートである。
【０１４４】
アミンｂ２）についての他の詳細はEP-A 316 582に記載されている。
【０１４５】
４−ホルミルアミノピペリジンをベースとするアミンｂ２）として次の式（ｂ２）の化合物が特に有利に使用される
【０１４６】
【化３９】
2004525251.tif 000040
式中、Ｒは水素又はメチルを表す。Ｒ＝ＨのものはＢＡＳＦ社のUvinul（Ｒ） 4050 Hとして市販されている。
【０１４７】
ｂ３）  マレイン酸イミド−α−オレフィン−コポリマーをベースとするアミン（グループｂ３））
マレイン酸イミド−α−オレフィン−コポリマーをベースとするアミンとして、次の一般式（Ｉ）の構造単位から構築された化合物が特に有利である
【０１４８】
【化４０】
2004525251.tif 000041
式中、Ｒ１は次の式ＩＩのテトラメチルピペリジニル基、
【０１４９】
【化４１】
2004525251.tif 000042
式中、Ｒ３は水素、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、ホルミル、Ｃ２〜Ｃ６−アルカノイル、Ｃ１〜Ｃ１２−アルコキシ、Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルコキシ、シアノメチル、２−ヒドロキシエチル、ベンジル又は式−ＣＲ４＝ＣＨ−ＣＯ−ＯＲ５の基を表し、その際、
Ｒ４は水素、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル又は式−ＣＯ−ＯＲ５の基を表し、かつ
Ｒ５はＣ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ５〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ７〜Ｃ１８−アラルキル、フェニル又はトリルを表し、
を表し、その際、
Ｒ１はＩＩに対して８ｍｏｌ％までの量で、水素、Ｃ１〜Ｃ２２−アルキル又はＣ５〜Ｃ８−シクロアルキルを表すことができ、かつ
Ｒ２はＣ１４〜Ｃ２８−アルキル基からなる混合形であり、その際、Ｃ原子２個分よりも大きく異なってはならないこれらの２種のアルキル基はそれぞれこの混合形の少なくとも３０％であり、
平均分子量１０００〜５００００を示す。
【０１５０】
平均分子量１５００〜１００００、特に２０００〜５０００の平均分子量を示すマレイン酸イミド−α−オレフィン−コポリマーが有利である。分子量数値は数平均分子量である。
【０１５１】
基Ｒ２は、Ｃ１４〜Ｃ２８−アルキル基、有利にＣ１６〜Ｃ２４−アルキル基、特にＣ１８〜Ｃ２２−アルキル基からなる混合形であり、コポリマーにはつまりＣ１６〜Ｃ３０−α−オレフィン、有利にＣ１８〜Ｃ２６−α−オレフィン、特にＣ２０〜Ｃ２４−α−オレフィンが構成単位として基礎となる。Ｒ２は有利に線状のアルキル基である。
【０１５２】
Ｒ２に対してアルキル基の混合形は、存在するコポリマー分子の総数に関する統計的な平均において、Ｃ原子２個分よりも大きく異なってはならない所定の２種のアルキル基が、この混合形のそれぞれ少なくとも３０％、有利にそれぞれ少なくとも４０％で存在すると解釈される。３種の所定のアルキル基、例えばオクタデシル、エイコシル及びドコシルの混合形は特別であり、この場合、Ｃ原子２個分だけ異なるこれらの基の２種は、混合形の４０％より多く、第３の基は混合形の３〜１８％であり、この場合にＣ原子１８個より少ないより他のアルキル基又はＣ原子２２個より多いアルキル基はわずかな量で、通常２％より少なく混合形中に存在する。
【０１５３】
Ｃ１〜Ｃ６−アルキル基（Ｒ３及びＲ４について）、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル基（Ｒ５について）及びＣ１〜Ｃ２２−アルキル基（Ｒ１について）の形で挙げられたアルキル基として、分枝鎖、特に直鎖の代表物が挙げられ、特にメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−アミル、イソアミル、ｓ−アミル、ｔ−アミル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−ノニル、イソノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、イソトリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシル、ｎ−エイコシル及びｎ−ドコシルが挙げられる。
【０１５４】
Ｒ３についての直鎖又は分枝鎖のＣ２〜Ｃ６−アルカノイルとして、特にアセチル、その他にもプロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル及びヘキサノイルが挙げられる。
【０１５５】
Ｒ３についての直鎖又は分枝鎖のＣ１〜Ｃ１２−アルコキシ基として、特にＣ６〜Ｃ８−アルコキシ基、ｎ−ヘキソキシ、イソヘキソキシ、ｎ−オクトキシ、２−エチルヘキソキシ及びイソオクトキシが挙げられ、その他にメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｎ−ノノキシ、ｎ−デコキシ、ｎ−ウンデコキシ及びｎ−ドデコキシが適している。
【０１５６】
Ｒ３についてのＣ５〜Ｃ６−シクロアルコキシ基は、特にシクロペントキシ及びシクロヘキソキシである。
【０１５７】
Ｒ１及びＲ５についてのＣ５〜Ｃ８−シクロアルキル基として、特にシクロペンチル及びシクロヘキシル、その他にシクロヘプチル、シクロオクチル、メチルシクロペンチル、ジメチルシクロペンチル、メチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキシル、及びジメチルシクロヘキシルが挙げられる。
【０１５８】
Ｒ５についてのＣ７〜Ｃ１８−アラルキル基として、例えばナフチルメチル、ジフェニルメチル及びメチルベンジル、特にＣ７〜Ｃ１８−フェニルアルキル、例えば１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、２−フェニルプロプ−２−イル、４−フェニルブチル、２，２−ジメチル−２−フェニルエチル、５−フェニル−アミル、１０−フェニルデシル、１２−フェニルドデシル又は特にベンジルが適している。
【０１５９】
トリル基として、オルト−、メタ−及び特にｐ−トリル基が挙げられる。
【０１６０】
基Ｒ１は有利にテトラメチルピペリジニル基ＩＩが挙げられ、その際、Ｒ３は水素、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、特にメチル、又は式−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−ＯＲ６の基を表し、その際、Ｒ６はＣ１〜Ｃ６−アルキル、特にメチル又はエチルを表す。
【０１６１】
マレイン酸イミド−窒素の置換基Ｒ１として、水素、Ｃ１〜Ｃ２２−アルキル又はＣ５〜Ｃ８−シクロアルキルが、ＩＩに対して８モル％まで、特に５モル％まで存在することは、構造単位Ｉを有する存在する全てのコポリマー分子の総数に関する統計学的平均で、これがテトラメチルピペリジニル−基ＩＩと他の置換基Ｒ１とからの混合形で生じることができると解釈される。テトラメチルピペリジニル置換基とは異なる基Ｒ１の少量の組み込みは、マレイン酸イミド−α−オレフィン−コポリマーｂ２）の特性において極めてわずかな変性が生じる。
【０１６２】
マレイン酸イミド−α−オレフィン−コポリマーの製造のために、例えば次の式ＩＩＩの構造単位から構築されたマレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーを、
【０１６３】
【化４２】
2004525251.tif 000043
次の一般式ＩＶの４−アミノ−テトラメチルピペリジン
【０１６４】
【化４３】
2004525251.tif 000044
及び所望の場合に、ＩＶに対して８モル％まで、特に５モル％までアンモニア、Ｃ１〜Ｃ２２−アルキルアミン又はＣ５〜Ｃ８−シクロアルキルアミンと、有機溶剤中で１００〜２２０℃で反応させることができる。この場合、無水物基ＩＩＩ対第１アミンＩＶのモル比は有利に１：１又はほぼ１：１である。
【０１６５】
有機溶剤として、特に芳香族炭化水素、トルエン、キシレン又はメシチレン及びハロゲン又はニトロ炭化水素、例えばシクロベンゼン、ジクロロベンゼン又はニトロベンゼンが適している。このような芳香族化合物の特別な工業的混合物が重要である。その他にも、相応して高い沸点を有する場合には、芳香族不含の炭化水素混合物も使用可能である。
【０１６６】
反応温度として、１２０〜２００℃、特に１４０〜１７５℃の範囲内で選択するのが有利である。反応時に形成される水は有利に共沸により留去される。この反応は通常は常圧で実施され、一般に１〜５時間で完全に進行する。
【０１６７】
出発材料として使用された、構造単位ＩＩＩを有するマレイン酸無水物−α−オレフィン−コポリマーは、公知の製造方法により、例えばHouben-Weyl, Methoden der Organischen. Chemie, Band E20/2, p. 1237-1248 (1987)により、マレイン酸無水物を相応するα−オレフィン混合物と重合させることにより得られる。
【０１６８】
構造単位Ｉを有するマレイン酸イミド−α−オレフィン−コポリマーｂ３）も出発物質として使用される構造単位ＩＩＩを有するマレイン酸無水物−α−オレフィン−コポリマーも、一般にマレイン酸誘導体とオレフィンとから構築された１：１の交互共重合体である。
【０１６９】
アミンｂ３）についての他の詳細はWO-A 94/12544に記載されている。
【０１７０】
次の式（ｂ３）の化合物
【０１７１】
【化４４】
2004525251.tif 000045
［式中、ＲはＣ１〜Ｃ６−アルキルを表す］を、式ＩＩＩのコポリマーと相応する式ＩＶの１−アルキル置換４−アミノテトラメチルピペリジン（つまりＲ３はＣ１〜Ｃ６−アルキルに相当）とを反応させることにより製造するだけでなく、例えば、Ｒが水素を表す式（ｂ３）の化合物から出発して通常のアルキル化剤を用いた等重合度アルキル化により製造する。
【０１７２】
ピペリジン環の１位へのメチル基の等重合度導入（つまり式（ｂ３）中のＲはメチルを表す）は、洗練された方法でLeuckart-Wallach反応を用いて同様に相応する非置換の化合物から出発して行う。非置換のコポリマーを、この場合に、例えば式ＩＩＩのマレイン酸無水物−α−オレフィン−コポリマーと式ＩＶの４−アミノ−テトラメチルピペリジンとの反応ついて予め記載された通常の不活性な有機溶剤中で溶解させ、高めた温度で続けてホルムアルデヒドとギ酸と反応させる。反応条件についての詳細は、刊行物WO 01/74777の第８及び第９頁に記載されている。
【０１７３】
アミンｂ３）として式（ｂ３）のマレイン酸イミド−α−オレフィンコポリマーが特に有利に使用され、その際、Ｒは水素又はメチルを表し、その際、ｎは分子量がほぼ３５００になるように選択される。この化合物はＲ＝Ｈの場合にUvinul（Ｒ） 5050H（ＢＡＳＦ社）として市販されている。
【０１７４】
量比
この安定化は本発明による成形材料中に通常の量で含まれている。安定剤の総量（全てのアミンｂ１）〜ｂ４）の合計）は、安定化された熱可塑性成形材料に対して０．００１〜１０、特に有利に０．１〜５、殊に０．２〜１質量％である。
【０１７５】
個々のアミンｂ１）、ｂ２）、ｂ３）及びｂ４）の有利な割合は、公知のように本発明による安定化された熱可塑性成形材料の所望の特性プロフィールに従い、使用した（安定化されていない）ポリオレフィンＡの特性に依存する。
【０１７６】
特に有利な実施態様の場合には、安定化された熱可塑性成形材料に対してそれぞれ、前記の式ｂ１）（例えばUvinul（Ｒ） 4049 H）の単独の化合物の割合は０．１〜０．３質量％であり、
前記の式ｂ２）（例えばUvinul（Ｒ） 4050 H）の単独の化合物の割合は０．１〜０．５質量％であり、もしくは、
前記の式ｂ３）（例えばUvinul（Ｒ） 5050 H）の単独の化合物の割合は０．２〜０．８質量％である。
【０１７７】
付加的成分Ｃ）
本発明による成形材料は、所望の場合に、他の成分Ｃ）又は複数の他の成分Ｃ′）、Ｃ″）などを含むことができる。
【０１７８】
適当な成分Ｃ）は、ポリオレフィンＡ）とは異なるポリマー及び安定剤Ｂ）とは異なる他の添加物とから選択される。
【０１７９】
例えばポリマーＣ）として次のものが挙げられる：
メタロセン触媒を用いて製造されていないポリオレフィン、
ビニルポリマー、特にホモポリマー及びスチレンと塩化ビニルとのコポリマー、
フルオロホモポリマー及びコポリマー、
ポリアクリルポリマー及びポリメタクリルポリマー、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、
ポリオキシメチレン、
ポリアミド、
芳香族ポリエステル、特にポリカーボネート及びテレフタル酸のポリエステル、
芳香族ポリスルフィド及びポリスルホン、
芳香族ポリエーテル、
芳香族ポリエステル（ポリグリコール）、
ポリアリールエーテルケトン、
ポリイミド、
液晶性ポリマー、
ポリウレタン、
熱可塑性エラストマー、
天然由来のポリマー、例えばセルロースベース又はでんぷんベース、
光分解性もしくは生分解性ポリマー及び水溶性ポリマー、
導電性ポリマー。
【０１８０】
これらのポリマーは公知であり、例えばSaechtling (Hg.), Kunststoff-Taschenbuch, 第２７版, Hanser-Verlag Muenchen 1998, 第371-595頁に記載されている。これらは市販されているため、詳細な記載は行わない。
【０１８１】
成分Ｃ）として他の添加物が特に適している。この添加物Ｃ）は安定剤Ｂ）とは異なるものと解釈される。この他の添加物Ｃ）の例は、次の番号１〜１４に挙げられている。
【０１８２】
１．  酸化防止剤
１．１．  アルキル化モノフェノール、
例えば、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、
２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、
２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、
２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、
２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、
２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、
ノニルフェノール、これは側鎖において線状又は分枝鎖である、
例えば、
２，６−ジノニル−４−メチルフェノール
２，４−ジメチル−６−（１′−メチルウンデカ−１′−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１′−メチルヘプタデカ−１′−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１′−メチルトリデカ−１′−イル）フェノール
及びこれらの混合物。
【０１８３】
１．２．  アルキルチオメチルフェノール、
例えば、
２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、
２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、
２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、
２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【０１８４】
１．３．  ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
例えば、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、
２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、
２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、
２，６−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、
２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、
ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【０１８５】
１．４．  トコフェロール、
例えば、
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びこれらの混合物（ビタミンＥ）。
【０１８６】
１．５．  ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
例えば、
２，２′−チオビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、
４，４′−チオビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、
４，４′−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、
４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【０１８７】
１．６．  アルキリデンビスフェノール、
例えば、
２，２′−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、
２，２−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、
２，２′−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、
２，２′−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、
２，２′−エチリデンビス（６−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、
２，２′−メチレンビス［α−メチルベンジル］−４−ノニルフェノール］、
２，２′−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、
４，４′−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、
４，４′−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、
１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
２，６−ビス（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、
１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、
１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、
ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、
ビス［２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、
１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、
２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
１，１，５，５−テトラ−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン、
１．７．  Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、
例えば、
３，５，３′，５′−テトラ−ｔ−ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジルエーテル、
オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、
トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジルメルカプトアセテート、
トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、
ビス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、
ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、
イソオクチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【０１８８】
１．８．  ヒドロキシベンジル化マロネート、
例えば、
ジオクタデシル−２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、
ジオクタデシル−２−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、
ジオクタデシルメルカプトエチル−２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、
ビス（４−（１，１，３，３−テトラエチルブチル）フェニル）−２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【０１８９】
１．９．  芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
例えば、
１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、
１，４−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、
２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。、
１．１０．  トリアジン化合物、
例えば、
２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、
２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、
１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、
１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、
２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、
１，３，５−トリス−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【０１９０】
１．１１．  ベンジルホスホネート
例えば、
ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、
ジエチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、
ジオクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、
ジオクタデシル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【０１９１】
１．１２．  アシルアミノフェノール、
例えば、
４−ヒドロキシラウルアニリド、
４−ヒドロキシステアルアニリド、
オクチル−Ｎ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【０１９２】
１．１３．  β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と、一価又は多価アルコールとのエステル、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリット、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチルロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１９３】
１．１４．  β−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と、一価又は多価アルコールとのエステル、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリット、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチルロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１９４】
１．１５．  β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と、一価又は多価アルコールとのエステル、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリット、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチルロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１９５】
１．１６．  ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と、一価又は多価アルコールとのエステル、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリット、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチルロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【０１９６】
１．１７．  β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
例えばＮ，Ｎ′−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、
Ｎ，Ｎ′−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、
Ｎ，Ｎ′−ビス［２−（３−［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）−エチル］オキサミド。
【０１９７】
１．１８．  アスコルビン酸（ビタミンＣ）
１．１９．  アミン系の酸化防止剤、
例えば、
Ｎ，Ｎ′−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−イソプロピル−Ｎ−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、
４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、
Ｎ，Ｎ′−ジメチル−Ｎ，Ｎ′−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、
ジフェニルアミン、
Ｎ−アリルジフェニルアミン、
４−イソプロポキシジフェニルアミン、
Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、
Ｎ−（４−ｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、
Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、
オクチル化ジフェニルアミン
例えば、
ｐ，ｐ′−ジ−ｔ−オクチルジフェニルアミン、
４−ｎ−ブチルアミノフェノール、
４−ブチリルアミノフェノール、
４−ノナノイルアミノフェノール、
４−ドデカノイルアミノフェノール、
４−オクタデカノイルアミノフェノール、
ビス（４−メトキシフェニル）アミン、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ジメトキシアミノメチルフェノール、
２，４′−ジアミノジフェニルメタン、
４，４′−ジアミノジフェニルメタン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ−テトラメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、
１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、
１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、
（ｏ−トリル）ビグアニド
ビス［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニルアミン
ｔ−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、
モノ−及びジアルキル化ｔ−ブチル−ｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、
モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、
モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、
モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、
モノ−及びジアルキル化ｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、
２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４−Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、
フェノチアジン、
モノ−及びジアルキル化ｔ−ブチル−ｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、
モノ−及びジアルキル化ｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、
Ｎ−アリルフェノチアジン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ′−テトラフェニル−１，４−ジアミノブト−２−エン、
Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリド−４−イル）ヘキサメチレンジアミン、
ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリド−４−イル）セバケート、
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール。
【０１９８】
２．  ＵＶ吸収剤及び光安定剤
２．１．  ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
例えば、
２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、
２−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（５′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２′−ヒドロキシ−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３′−ｓ−ブチル−５′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２′−ヒドロキシ−４′−オクチルオキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、
２−（３′，５′−ジ−ｔ−アミル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３′，５′−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３′−ｔ−ブチル−５′−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２′−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−ベンゾトリアゾール、
２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−ベンゾトリアゾール、
２−（３′−ｔ−ブチル−５′−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール、
２−（３′−ドデシル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、
２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−ベンゾトリアゾール、
２，２′−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；
２−［３′−ｔ−ブチル−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−２′−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００；［Ｒ−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２］２−とのエステル交換生成物、（式中、Ｒ＝３′−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシ−５′−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル）、
２−［２′−ヒドロキシ−３′−（α，α−ジメチルベンジル）−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール；
２−［２′−ヒドロキシ−３′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５′−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
【０１９９】
２．２．  ２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば、
４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクチルオキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ−及び２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−誘導体。
【０２００】
２．３．  置換又は非置換の安息香酸のエステル、
例えば
４−ｔ−ブチルフェニルサリチレート、
フェニルサリチレート、
オクチルフェニルサリチレート、
ジベンゾイルレゾルシン、
ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシン、ベンゾイルレゾルシン、
２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
オクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、
２−メチル−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０２０１】
２．４．  アクリレート、
例えば、
エチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、
イソオクチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、
メチル−α−カルボメトキシシンナメート
メチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート
ブチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート
メチル−α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及び
Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【０２０２】
２．５．  ニッケル化合物、
例えば、
２，２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、
例えば１：１−又は１：２−錯体、これは付加的なリガンド、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンを有するか又は有しない、
ニッケルジブチルジチオカルバメート、
モノアルキルエステルのニッケル塩、
例えば、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジルホスホン酸のメチルエステル又はエチルエステル、
ケトキシムのニッケル錯体、例えば、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、
１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体、これは付加的リガンドを有するかまたは有しない。
【０２０３】
２．６．  オキサミド、
例えば、
４，４′−ジオクチルオキサニリド、
２，２′−ジエトキシオキシオキサニリド、
２，２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ−ｔ−ブトキサニリド、
２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−ｔ−ブトキサニリド、
２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、
２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２′−エトキサニリド及び
これと２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−ｔ−ブトキサニリドとの混合物、
ｏ−及びｐ−メトキシ二置換オキサニリドの混合物及び
ｏ−及びｐ−エトキシ二置換オキサニリドの混合物。
【０２０４】
２．７．  ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
例えば、
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２，４−ジヒドロフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、
２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
３．  金属不活性化剤、
例えば、
Ｎ，Ｎ′−ジフェニルオキサミド、
Ｎ−サリチラール−Ｎ−サリチルオキシヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、
３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、
ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、
オキサニリド、
イソフタロイルジヒドラジド、
セバコイルビスフェニルヒドラジド、
Ｎ，Ｎ′−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、
Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０２０５】
４．  ホスフィット及びホスホニット
例えば、
トリフェニルホスフィット、
ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、
トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
トリラウリルホスフィット、
トリオクタデシルホスフィット、
ジステアリルペンタエリトリットジホスフィット、
トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィット、
ジイソデシルペンタエリトリットジホスフィット、
ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリットジホスフィット、
ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリットジホスフィット、
ジイソデシルオキシペンタエリトリットジホスフィット、
ビス−（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリットジホスフィット、
ビス（２，４，６−トリス（ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリットジホスフィット、
トリステアリルソルビットトリホスフィット、
テトラキス（２，４−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビスフェニレンジホスフィット、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、
ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、
６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−１２−メチルジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、
２，２′，２″−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３′，５，５′−テトラ−ｔ−ブチル−１，１′−ジフェニル−２，２′−ジイル）ホスフィット］、
２−エチルヘキシル（３，３′，５，５′−テトラ−ｔ−ブチル−１，１′−ビフェニル−２，２′−ジイル）ホスフィット、
５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。
【０２０６】
５．  ヒドロキシルアミン、
例えば、
Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オセアデシルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン、水素化獣脂アミンから誘導。
【０２０７】
６．  ニトロン、
例えば、
Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、
Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、
Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、
Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、
Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、
Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、
Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、
Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、
Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、
Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、
Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、
水素化獣脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン、
７．  チオ相乗剤、
例えば、
ジラウリルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピオネート。
【０２０８】
８．  過酸化物捕捉剤、
例えば、
３−チオジプロピオン酸のエステル、
例えば、
ラウリル−、ステアリル−、ミリスチル−又はトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール、又は２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリットテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０２０９】
９．  ポリアミド−安定剤、
例えば、
ヨージド及び／又はリン化合物と組み合わせた銅塩及び二価マンガンの塩。
【０２１０】
１０．  塩基性補助安定剤、
例えば、
メラミン、
ポリビニル−ピロリドン、
ジシアンジアミド
トリアリルシアヌレート、
尿素誘導体、
ヒドラジン誘導体、
アミン、
ポリアミド、
ポリウレタン、
高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、
例えば、
ステアリン酸カルシウム
ステアリン酸亜鉛、
ベヘン酸マグネシウム、
ステアリン酸マグネシウム、
リシノール酸ナトリウム及びパルミチン酸カリウム、
アンチモンピロカテコラート又は亜鉛ピロカテコラート。
【０２１１】
１１．  成核剤
例えば、
無機材料、タルク、金属酸化物、例えば二酸化チタン又は酸化マグネシウム、有利にアルカリ土類金属のリン酸塩、カルボン酸塩又は硫酸塩；
有機化合物、例えばモノ−又はポリカルボン酸及びその塩、例えば４−ｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、ナトリウムスクシネート、ナトリウムベンゾエート、ポリマーの化合物、例えばイオン性コポリマー（イオノマー）。
１，３；２，４−ビス（３′，４′−ジメチル−ベンジリデン）ソルビット、１，３；２，４−ジ（パラメチルジベンジリデン）ソルビット及び１，３；２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビットが特に有利である。
【０２１２】
１２．  充填剤及び強化剤、
例えば、
炭酸カルシウム、シリカ、ガラス繊維、ガラス中空球、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛、木材チップ及び他の天産物の粉末又は繊維、合成繊維。
【０２１３】
１３．  他の添加剤、
例えば、
可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、放射線反射性材料、放射線拡散剤、流動添加剤、触媒、流動制御剤、蛍光増白剤、難燃剤、帯電防止剤及び発泡剤。
【０２１４】
１４．  ベンゾフラノン及びインドリノン、
例えば、
それぞれUS 4 325 863; US 4 338 244; US 5 175 312; US 5 216 052; US 5 252 643; DE-A-43 16 611; DE-A-43 16 622; DE-A-43 16 876; EP-A-0 589 839又はEP-A-0 591 102に記載されたもの又は
３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−ｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン
５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、
３，３′−ビス［５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン］、
５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、
３−（４−アセトキシエトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン、
３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−ｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン、
３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン
３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−オン
他の添加剤Ｃ）対安定剤Ｂ）の質量比は例えば１００：１〜１：１００である。
【０２１５】
前記の他の添加物Ｃ）は通常の量で、特に安定化された熱可塑性成形材料に対して０．００１〜５０質量％の量で使用される。
【０２１６】
本発明による方法の場合には、安定剤Ｂ）及び、存在する場合に他の成分Ｃ）がポリオレフィンに添加される。この添加は通常のように行う。この安定剤Ｂ）及び場合による他の添加剤Ｃ）は出発材料（オレフィンモノマー）に添加することができ、モノマーと安定剤とからなる混合物を重合させることができる。同様にこの安定剤は重合の間にオレフィンモノマーに添加することもできる。重合の前又は重合の間に添加するためには、安定剤が重合条件で安定である、つまり分解しないかわずかにだけ分解することが前提となる。
【０２１７】
安定剤Ｂ）及び、存在する場合に他の成分Ｃ）は仕上がったポリオレフィンＡ）に添加される。この添加は、通常は、自体公知の混合方法により、例えば混合装置中で１５０〜３００℃の温度で溶融させながら行う。
【０２１８】
しかしながら、これらの成分は溶融させずに「常温」で混合でき、粉末又は顆粒から製造された混合物を初めて加工時に溶融及び均質化させる。
【０２１９】
１種又は数種の安定剤Ｂ）及び成分Ｃ）を一緒に又は相互に別個に、一回で、少しずつ又は連続的に、時間に関して均一で又は勾配に従って添加することができると解釈される。例えば安定剤の一部を既にオレフィンモノマーの重合の間に添加し、残りを仕上がったポリオレフィンに添加することもできる。
【０２２０】
本発明による方法を実施するための混合装置として、例えばスタンプを備えた又は備えていない不連続的に運転する加熱された内部ニーダー、連続的に運転するニーダー、例えば連続的内部ニーダー、軸方向に振動するスクリューを備えたスクリューニーダー、バンバリーニーダー、さらに押出機並びに圧延装置、加熱ローラを備えた混合圧延装置及びカレンダーが挙げられる。
【０２２１】
この混合は、通常の押出機中で行うのが有利であり、その際にこれらの成分が混合されるか又は個々に例えば完全にホッパを介して押出機中へ導入されるか又は押出機の後続する位置に応じて押出機中で溶融して又は固体で存在する生成物に導入することができる。溶融押出のために、例えば一軸又は二軸スクリュー押出機が特に適している。二軸スクリュー押出機が特に有利である。
【０２２２】
得られた混合物は、例えばペレット化されるか又は顆粒化されるか、又は一般に公知の方法で、例えば押出、射出成形、発泡剤を用いた発泡、深絞り成形、中空体ブロー成形又はカレンダー処理により加工することもできる。
【０２２３】
この成形材料から、全ての種類の成形品（半製品、シート、繊維、フィルム及びフォーム）が製造され、例えば日用品、包装材料及びシート、全ての屋外領域での成形品、例えばガレージ用物置、窓及び補強部材、照明ケーシング、自動車外側部材が製造される。この成形品、シート及び繊維も本発明の対象である。
【０２２４】
本発明による成形材料は、最適に調和のとれた特性プロフィールにより優れている。これは同様にこの成形材料から製造された成形品、繊維及びシートにも通用する。
【０２２５】
プラスチック加工の観点から重要な点を最後に挙げる。
【０２２６】
メタロセン触媒により製造したポリオレフィンは、通常狭い分子量分布を特徴とし、単鎖ポリマーの割合はチーグラーナッタ触媒を用いて製造したようなポリオレフィンと比較して明らかに低いことは公知である。溶融破壊（粗面の鱗片状の構造を備えた表面として確認される）を抑制するためにプラスチック加工時に添加されたかもしくは添加される伝統的に使用される加工助剤、例えばワックス、金属ステアリン酸塩及び脂肪酸誘導体は、従ってその性能の限界に達し、次第により有効な助剤、特にフルオロエラストマー及びシリコーンに置き換えられている。
【０２２７】
フルオロエラストマーの作用様式について、少量でポリオレフィンに混合可能でありかつ加工装置、例えば押出機中でポリマー溶融液の表面へ移行し、この表面で溶融液と加工装置との間に潤滑層を形成することからなる。特に溶融破壊を引き起こしかねない付着は抑制される。
【０２２８】
多種の市販されている光安定剤を添加したポリオレフィンを用いた押出試験の場合に、たいていの場合に安定化されていないポリオレフィンと比較して、溶融破壊を抑制するために明らかに多量のフルオロモノマーを添加しなければならないことが、もしくはポリマーに対して約０．１質量％の通常の割合でエラストマーを使用した場合に溶融破壊が生じたことが確認された。この不利な影響は、製品名Tinuvin 622（Ciba社）を使用した場合に比較的わずかであったが、常用のUvinul（Ｒ） 5050Hの場合には明らかに低減することができた。従って、Uvinul（Ｒ）5050Hを添加したポリオレフィンの溶融破壊を引き起こさせずに、通常の濃度を明らかに下回るフルオロエラストマー量に低下することができた。
【国際公開パンフレット】
2004525251.tif 000049
2004525251.tif 000050
2004525251.tif 000051
2004525251.tif 000052
2004525251.tif 000053
2004525251.tif 000054
2004525251.tif 000055
2004525251.tif 000056
2004525251.tif 000057
2004525251.tif 000058
2004525251.tif 000059
2004525251.tif 000060
2004525251.tif 000061
2004525251.tif 000062
2004525251.tif 000063
2004525251.tif 000064
2004525251.tif 000065
2004525251.tif 000066
2004525251.tif 000067
2004525251.tif 000068
2004525251.tif 000069
2004525251.tif 000070
2004525251.tif 000071
2004525251.tif 000072
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2004525251.tif 000100
2004525251.tif 000101
2004525251.tif 000102
2004525251.tif 000103
【国際調査報告】
2004525251.tif 000104
2004525251.tif 000105
2004525251.tif 000106
2004525251.tif 000107
2004525251.tif 000108
2004525251.tif 000109