(57)【要約】光学部品は、光出射面２を持つ第１の素子１と、光入射面４を持つ第２の素子３とを有しており、面２と面４との間に素子１，３を相互接続する接合層５が位置している。接合層５は、光学的に透明なパラフィンの層であり、第１の素子１からの光を第２の素子３に結合し、素子１と素子３とを互いに対して正確に配置する。この光学部品の製造方法では、第１の素子１と第２の素子３とが、細い管状の空間７を形成するように、面２，４を接合することによって合わせられ、上記細い管状の空間に液状のパラフィンを吸引させることによって、細い管状の空間７が埋められ、細い管状の空間７に透明なパラフィンの接合層５を形成するように、パラフィンが冷却され、固体化される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光出射面を持つ第１の素子と、光入射面を持つ第２の素子とを有し、前記素子を相互接続する接合層が、前記面の間に位置する光学部品であって、
前記接合層がパラフィンの透明な層であることを特徴とする光学部品。
【請求項２】
前記パラフィンが、細い管状の空間を埋めていることを特徴とする請求項１記載の光学部品。
【請求項３】
前記パラフィンの透明な層が、５０℃よりも低い温度で固体物質であることを特徴とする請求項１又は２記載の光学部品。
【請求項４】
前記パラフィンの層が、最大で２００μｍの厚さを有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光学部品。
【請求項５】
前記パラフィンの透明な層及び前記第２の素子が、前記光入射面において実質的に等しい屈折率を有していることを特徴とする請求項１記載の光学部品。
【請求項６】
前記第２の素子が、前記第１の素子と共に画像ピックアップ装置を形成する受光画像センサであることを特徴とする請求項１記載の光学部品。
【請求項７】
前記第１の素子が、前記光出射面に通じるファイバのバンドルを収容するプレートであることを特徴とする請求項６記載の光学部品。
【請求項８】
光出射面を持つ第１の素子と、光入射面を持つ第２の素子とを有し、前記素子を相互接続する接合層が、前記面の間に位置する光学部品の製造方法であって、
前記第１の素子と前記第２の素子とが、細い管状の空間を形成するように、前記面を接合することによって合わせられ、前記細い管状の空間に液状のパラフィンを吸引させることによって、前記細い管状の空間が埋められ、前記細い管状の空間に透明なパラフィンの接合層を形成するように、前記パラフィンが冷却され、固体化されることを特徴とする光学部品の製造方法。
【請求項９】
前記素子の前記面が、互いに対して押圧されることを特徴とする請求項８記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光出射面を持つ第１の素子と、光入射面を持つ第２の素子とを有し、前記素子を相互接続する接合層が、前記面の間に位置する光学部品に関する。
【０００２】
本発明は、また、光出射面を持つ第１の素子と、光入射面を持つ第２の素子とを有し、前記素子を相互接続する接合層が、前記面の間に位置する光学部品の製造方法に関する。
【０００３】
【従来の技術】
上述したような光学部品及びその製造方法は、米国特許第５，０７４，６８３号公報に開示されている。
【０００４】
既知の方法では、２つの光学部品が接合層により相互接続され、その距離は、スペーサ層によって与えられ、変動し得る。上記スペーサ層は、第１の光学部品の一部にのみ設けられ、その結果、第１の光学素子と第２の光学素子との間に自由空間（ｏｐｅｎ ｓｐａｃｅ）が形成され、この空間には、上記第１の光学部品の屈折率に本質的に等しい屈折率を持つ結合体（ｃｏｕｐｌｉｎｇ ｍａｓｓ）が充填される。上記結合体は、エポキシ、ゲル又は同等の材料である。
【０００５】
上記第１の光学部品の面と第２の光学部品の面との間の空間は、スペーサ層の厚さを選択することにより、正確に調節することができる。スペーサの厚さは、典型的には６００μｍである。既知の方法は、主に、光ファイバーのフェースプレートを電荷結合素子（ＣＣＤ）を有するセンサに固定するために用いられている。上記結合体は、ＣＣＤセンサに損傷を与えることなく十分な光学結合を得るために、主として光ファイバーのフェースプレートとセンサの活性領域との間に設けられる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
既知の方法の欠点は、層の乾燥の結果、エポキシ及びゲルが概して収縮してしまう点である。エポキシ又はゲルがＣＣＤセンサの活性部分に設けられた場合、機械的応力により該センサの寿命は悪影響を受ける。上記センサとエンベロープとを電気的に接続するワイヤが、外れたり、やがて破損される可能性がある。
【０００７】
また、既知の結合体の重大な問題は、ＣＣＤセンサと光ファイバのフェースプレートとの間のエポキシ又はゲルの内部に気泡が生じることが多く、その結果、センサが用をなさなくなってしまう点である。製造工程の最後におけるそのようなセンサの不良は、非常に多大なコストを要する。
【０００８】
本発明の目的は、信頼性が高く、簡単な手法で作製され得る、冒頭の段落で述べたタイプの光学部品を提供することにある。
【０００９】
本発明の他の目的は、信頼性が高く、簡単な手法で行われ、製造の不具合がかなり低減されることを可能にする、冒頭の段落で述べたタイプの光学部品の製造方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
光学部品に関しては、本発明によれば、上述した目的は、接合層がパラフィンの透明な層であることにより達成される。
【００１１】
光学的相互接続部材のような光学部品は、データ通信システム及びマルチチップモジュールに頻繁に用いられている。光学的相互接続部材は、光伝送（ｐｈｏｔｏｎｉｃｓ）に関してはＧａＡｓが用いられ、電子伝送（ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ）に関してはＳｉが用いられるハイブリッド型のチップであり得る。光出射面を持つ上記第１の素子は、例えばＧａＡｓレーザ又は発光ダイオード（ＬＥＤ）であり、光入射面を持つ上記第２の素子は、例えば光検出器である。上記ＧａＡｓレーザ又はＬＥＤとＳｉ光検出器とが、パラフィンの透明な層によって互いに結合され、エンベロープにおける最終的な組立のために、ボンディングワイヤが頻繁に用いられる。本発明に係る光学部品のパラフィンの透明な層は、非常に優れた接合層であり、可視光の波長範囲において優れた透過性を持つ媒体である。パラフィンは、エポキシやゲルと比較してかなり柔らかいので、レーザ又は光検出器のような素子に伝達される機械的な応力が非常に小さい。ボンディングワイヤが外れてしまったり、破損されてしまうような、上述した接合層により引き起こされる素子の寿命に関する問題が生じない。この光学部品は、液体のパラフィンを第１の素子の光出射面に塗布し、上記光出射面の上に、光入射面を有する第２の素子を置くことにより製造され得る。
【００１２】
上記光学部品は、素子の光出射面と光入射面との間に細い管状の（ｃａｐｉｌｌａｒｙ）空間を有していてもよい。この細い管状の空間は、パラフィンの透明な層により埋められている。この光学部品は、例えば、細い管状の空間を形成するように素子の面を近づけて（ｂｒｉｎｇ ｔｏｇｅｔｈｅｒ）第１の素子と第２の素子とを接合し、細い管状の空間に透明なパラフィンの接合層を得るように、液体のパラフィンを細い管状の空間に吸引させて細い管状の空間を埋め、パラフィンを冷却し、パラフィンを固体化することにより得ることができる。
【００１３】
上記パラフィンの透明な層の利点は、ファンデアワールス力の結果、素子の光出射面と光入射面との接着が非常に良好であることである。細い管状の空間にパラフィンが存在すると、細い管状の空間の側面において消失する材料の量が非常に少なく、これがパラフィンの低い蒸気圧を幾分かもたらし得る。
【００１４】
パラフィンは、脂肪族炭化水素の混合物である。固体状態では、パラフィンは白ないし明るい黄色の脂肪分の多いペーストである。上記混合物の組成に依存して、パラフィンの融点は４５℃から６５℃の範囲内に存在する。実際的な用途に関して、透明なパラフィン層が５０℃よりも低い温度で固体であれば有利である。素子が互いに不適切に（例えば不適切に位置合わせされて）取り付けられた場合、これらの素子は、細い管状の空間のパラフィン層を融点よりも高い温度まで加熱することにより簡単に外れる。そのため、製造中に不良品となる光学部品の数が、かなり低減される。
【００１５】
上記素子間の媒体における光の散乱の程度は、光損失を最小にするように小さいと都合がよい。光学素子間の距離が短いと非常に好ましい。１０％よりも大きな光損失が起きないことが好ましく、パラフィン層に関して選択される厚さは最大で２００μｍである。
【００１６】
上記面の面粗さまでの距離をできる限り小さくすることにより、層の厚さに小さな変動しか存在せず、光の散乱はレイリーの散乱に実質上限定される。
【００１７】
上記面における反射ができる限り生じないことが好ましい。接合層の材料の屈折率を、上記素子の屈折率にできる限り近づくように選択することにより、上記面における光の反射はかなり低減される。パラフィンは、典型的には１．４４０〜１．４８４の可視光に関する好ましい屈折率を有しており、この屈折率は、１．４６の屈折率を有する石英のような半導体技術において重要な材料の屈折率にかなり近い。そのため、光ファイバのバンドルを収容する石英のプレートは、実質的に反射を伴うことなく、パラフィン層を介して、Ｓｉ半導体光検出器の表面のＳｉＯ２不動態化層に結合され得る。
【００１８】
カメラ、カメラ一体型ビデオ及びデジタルカメラのような画像ピックアップ装置は、一般に、画像センサを有している。この画像センサは、感光性の画素アレイを有している。光は、固体画像装置、例えばフォトダイオード又はＣＣＤにより、画素毎に画像センサに変換される。
【００１９】
受光画像センサに加えて、ピックアップ装置は、一般に、光出射面に通じるファイバのバンドルを収容するプレートも有している。上記透明なパラフィン層は、プレートと画像センサの光入射面との間に延在している。プレートは、パラフィンにより、画像センサに対して正確に固定されている。光は、光ファイバを介して、画像センサの１つ又はそれ以上の画素に入射する。画素毎の光の量が、電気信号に変換され、これは、電気信号処理後に画像を構築するために用いられる。
【００２０】
本発明によれば、方法に関する本発明の目的は、第１の素子と第２の素子とが、細い管状の空間を形成するように面を接合することによって合わせられ（ｆｉｔ）、細い管状の空間に液状のパラフィンを吸引させることによって、細い管状の空間が埋められ、細い管状の空間に透明なパラフィンの接合層を得るように、パラフィンが冷却され、固体化されることにより達成される。
【００２１】
本発明に係る方法の非常に好ましい効果は、素子間の表面エネルギーの最小化が、液体のパラフィンが吸引されるプロセスを、細い管状の空間が満たされるまで続けさせることである。非常に驚くべきことに、パラフィン層は、固体化後も透明のままであることが見出された。この方法を用いることにより、パラフィンの層に気泡が全く又はほとんど生じない。この方法は、とても簡単であると共に、安価である。融点よりも高い温度にパラフィンを加熱することにより、素子が簡単に外れるので、製造工程の最終段階における製品不良が生じない。この方法は、繰り返され得る。
【００２２】
上記素子は、液体のパラフィンが吸引されるプロセスの間、圧力をかけられることが好ましい。この圧力の結果、上記素子は、互いに対して動くことができず、互いに対してより正確に配置された状態となる。
【００２３】
本発明のこれらの観点及びその他の観点は、以下に説明する実施態様から明らかであり、以下に説明する実施態様を参照して理解されるであろう。
【００２４】
【発明の実施の形態】
図１ａ及び図１ｂに示した光学部品は、光出射面２を持つ第１の素子１と、光入射面４を持つ第２の素子３とを有しており、面２と面４との間に素子１，３を相互接続する接合層５が位置している。接合層５は、パラフィンの透明層である。図示した実施態様では、光学部品は、第１の素子１が発光ダイオード（ＬＥＤ）であり、第２の素子３がファイバであり、これら素子が上記パラフィンの透明層により互いに接続されている光学的相互接続部である。上記ＬＥＤは、ヘテロ接合のＬＥＤであり、ＡｌｘＧａ１−ｘＡｓ／ＡｌｙＧａ１−ｙＡｓ（但し、ｘ＜ｙ）のヘテロ構造により構成されている。ＧａＡｓ基板は、ｎ型ドーピング領域１１とｐ型ドーピング領域１２とを有している。このＬＥＤにおいて注入されている電荷担体は、再結合が起こる狭い領域１３に閉じ込められる。再結合領域の周囲の材料はより大きなバンドギャップを有しているので、内部における光吸収が小さい。０．８５μｍの波長を持つ光が、光出射面２により発せられる。ｎ型ドーピング領域１１のエッチングされた開口部１４は、ファイバの光入射面４が光出射面２に近づいて配置されることを可能にする。上記ファイバのコア部の直径は、光出射面２の水平部分よりもわずかに長い。ファイバのコア部の直径は、典型的には８０μｍである。
【００２５】
図１ａでは、パラフィンが細い管状の空間７を埋めている。図示した実施態様では、細い管状の空間７は、第１の素子１、すなわちＬＥＤの光出射面２と、第２の素子３、すなわちファイバの光入射面４との間に位置している。上記パラフィンは、素子１，３を固定している。
【００２６】
上記パラフィンの透明層は、５０℃よりも低い温度では固体である。図示した実施態様では、ＬＥＤの通常の動作温度は、典型的には２０℃である。大きな電流の結果、ＬＥＤの温度は約４０℃に局所的に上昇する。２０℃から４０℃までの温度上昇において、ＬＥＤの電力放出は約１．６倍減少する。この電力放出の差は、高温になるほどヘテロ接合の障壁の高さがより小さくなることによるものであり、その結果、電荷担体は、再結合が起こる狭い領域１３にもはや完全には閉じ込められない。上記パラフィンが局所的に融解しないことを確実にするため、図示した実施態様では、パラフィンは５０℃よりも低い温度において固体物質である。
【００２７】
図１では、パラフィンの層は、最大で２００μｍの厚さを有している。図示した実施態様では、光出射面２とファイバの光入射面４との間における光ビームの広がりが実質的に起こらないようなＬＥＤからの小さな距離で、ファイバがパラフィンの層により固定されている。開口部１４の壁面１５の急峻さを変化させることにより、パラフィンの層の厚さは正確に調節され得る。上記光ビームの形状は、ほぼランベルトであり、その強度は、光の出射方向と出射面に対する法線との間の角度θに依存する。上記光ビームの強度は、Ｉ（θ）＝Ｉ０ｃｏｓθに基づいて角度依存性を有している。２００μｍのパラフィン層の厚さの場合、強度は、依然として最大強度Ｉ０にほぼ等しい。
【００２８】
図示した実施態様では、パラフィン層と第２の素子３とは、光入射面４においてほぼ等しい屈折率を有している。
【００２９】
上記パラフィン層が存在しない場合、空気とファイバの光入射面４との界面に、更なる小さなフレネル反射の損失が生じる。ＬＥＤの出射面では、この損失は、光出射面２と光入射面４との間の細い管状の空間７に、適切な屈折率を持つ材料を充填することにより除去され得る。しかしながら、ＬＥＤの光出射面２と細い管状の空間７に充填された材料との異なる屈折率の結果、それでもまだ、５％から２０％までの範囲の大きな損失が起こる可能性がある。ＬＥＤとファイバとの間の薄いパラフィン層を用いることにより、両方の面における上記損失は、０．１５の開口率を有するファイバに関して最大で４％に抑えられ得る。
【００３０】
図１ａ及び図１ｂに示した実施態様の光学部品は、細い管状の空間７を形成するように面２，４を接合して第１の素子１及び第２の素子３を合わせることにより、製造され得る（図１ｃ参照）。ファイバは、ＬＥＤの光出射面上に光入射面４を伴って配置されることが好ましい。ＬＥＤ及びファイバは、例えば、焼付け（ｂａｋｉｎｇ）シート１６上に置かれ、パラフィンの融点よりも高い温度に加熱される。代替として、加熱は例えばオーブン内で行われてもよい。リザーバ１７内のパラフィンは、融点よりも高い温度、典型的には約６０℃〜８０℃に加熱される。細い管状の空間７の開放されている側に、液体のパラフィンが供給される。この供給は、供給管１８を介して行われることが好ましい。細い管状の空間７は、該空間に液状のパラフィンを吸引させることにより充填される。素子１，３の面２，４間の液体パラフィンの表面張力の結果、液体のパラフィンは、細い管状の空間７に引き寄せられる。パラフィンが液体状態にある間は、この系は表面エネルギーを最小に低減するようにし続けており、その結果、液体のパラフィンを吸い上げるプロセスは、細い管状の空間７にパラフィンが完全に充填されるまで続く。液体のパラフィンの供給が停止される。焼付けシート１６の温度が、パラフィンの融点より低くなるまで低減され、これはパラフィンを冷却すると共に固体化する。細い管状の空間７に、透明なパラフィンの接合層５が形成される。
【００３１】
図１ｃに示した方法では、面２，４を接合することにより、素子１，３が共に固定される。図示した実施態様では、ＬＥＤの光出射面２に対してファイバの光入射面４がしっかりと押圧される。ファイバは、例えば、ホルダ又はピンセットに固定され、例えば、開口部１４においてファイバの適切な位置を決定するために光学顕微鏡を用いて正確に配置され得る。パラフィンが細い管状の空間７に吸引される際、ファイバをわずか２０００Ｐａの小さな圧力にさらすことにより、該ファイバは正確な位置を維持する。この方法によって、パラフィン層に気泡が全く封入されないか、又はほとんど封入されない。
【００３２】
図２及び図３では、図１ａ，図１ｂ又は図１ｃの部分に対応する部分は、同一の参照符号により示されている。
【００３３】
図２に示した光学部品の第２の実施態様は、マルチチップモジュールにおける光学的な相互接続を模式的に示したものである。この光学的相互接続の第１の素子１は、ＧａＡｓ基板２２上のレーザであり、この光学的相互接続の第２の素子３は、シリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）基板２１上の受光用光電式集積回路である。ＧａＡｓ基板２２上のレーザとＳＯＩ基板２２との間に、細い管状の空間７が存在しており、この空間７は、パラフィンの透明な接合層５により充填されている。レーザから発生する光がパラフィン層を介して光ファイバの光入射面４に伝送される効率は、当該光の波長に依存する。レーザは、例えば、光出射面２に直角に出射する円光線（ｃｉｒｃｕｌａｒ ｌｉｇｈｔ）を出射する垂直共振面発光レーザである。この垂直共振面発光レーザ１は、典型的には、有機金属化学気相成長（ＭＯＣＶＤ）によりｎ型ドーピング層２３及びｐ型ドーピング層２４が成長したＧａＡｓ基板２２上に製造される。上記レーザは、ｎ型ドーピング層２３及びｐ型ドーピング層２４によって囲まれた中央の光学的空洞部２５を有しており、上記ドーピング層２３，２４は光導波路として役割を果たしている。典型的には０．８５μｍの波長を持つ円光ビームとビームの小さな開きとが、上記パラフィン層を介して光ファイバに結合され、導波路２６を介して例えばＳｉＧｅ（Ｃ）の光検出器２７に伝送される。チップ間又はチップの実装基板間の光学的な相互接続は、高周波データ通信の速度を高めると共に、高周波データ通信にとって重要である。
【００３４】
図３に示した光学部品の第２の素子３は、第１の素子１と共に画像ピックアップ装置８を形成する受光画像センサである。この画像センサは、Ｓｉ基板３３内に作成されていることが好ましい。パラフィンの透明な接合層５は、第１の素子１と第２の素子３との間に位置している。パラフィンは、細い管状の空間７を埋めている。画像ピックアップ装置８は、例えば、放射線医学（ｒａｄｉｏｌｏｇｙ）用のＸ線画像検出器に用いられる。Ｘ線は、シンチレータにより、上記受光画像センサに入射する可視光に変換される。
【００３５】
図示した実施態様では、第１の素子１は、光出射面２に通じているファイバ６のバンドルを収容するプレート１０である。このプレート１０は、ガラスよりなることが好ましい。パラフィン層は、ガラスのプレート１０を固定している。可視光は、光ファイバ６のバンドルを介して上記受光画像センサに入射する。上記画像センサは、感光性画素３２のアレイを有している。ファイバからの光は１つ又はそれ以上の画素に入射する。この光は、固体画像装置、例えばフォトダイオード又はＣＣＤによって画素毎に電気信号に変換される。画素３２の径は、典型的には１２μｍ×１２μｍである。このような画素では、入射光がシリコン基板３３において電荷担体を生成し、該電荷担体は収集され、上記アレイの周囲に電子的に増大する。入射光は、高い効率で電気信号に変換される。変調伝達関数（ＭＴＦ）の不完全さは、１２μｍ×１２μｍの大きな画素サイズに関して１０％のオーダーである。パラフィンは、エポキシ又はゲルと比較してかなり柔かいので、画像センサに伝達される機械的応力が小さい。エンベロープ３５に画像センサを最終的に組み立てるために、ボンディングワイヤ３４が用いられる。このボンディングワイヤ３４は、一般に、パラフィンにより包囲されている。
【００３６】
上述した透明なパラフィン層は、５０℃よりも低い温度では固体物質である。画像センサの動作温度は、典型的には２０℃である。画像センサは、とりわけ暗電流に対して試験され、約４０℃の高温において寿命が確保されている。従って、この用途では、パラフィンの透明層は５０℃よりも低い温度で固体物質であることが望ましい。
【００３７】
上記パラフィン層の最大の厚さは２００μｍである。この実施態様では、透明なパラフィン層の厚さは、とりわけ、ガラスプレート１０の表面粗さと画像センサの表面粗さとに依存する。図示した実施態様におけるガラスプレート１０の粗さは、典型的には３５μｍである。シリコン基板３３の画像センサは、４μｍの微細構造を有しており、Ｓｉ３Ｎ４及び／又はＳｉＯ２の層により不動態化されていることが好ましい。不動態化層の表面粗さは、化学機械的研磨により数十ｎｍまで低減され得る。その結果、不動態化層を有する画像センサの通常の粗さは、ガラスプレート１０の粗さと比較して無視できるほどになる。
【００３８】
パラフィンの上記透明層及び第２の素子３は、光入射面４においてほぼ等しい屈折率を有している。典型的には１．４４０〜１．４８４であるパラフィン層の好適な屈折率の結果、０．１５μｍから４．５μｍまでの範囲の波長を有する可視光は、１．４６の屈折率を有する画像センサのＳｉＯ２不動態化層に非常に効率的に（すなわち、光損失が４％のみで）結合されている。上記パラフィン層が存在しなければ、真空中における損失は１０％である。
【００３９】
図３に示した実施態様の光学部品は、細い管状の空間７を形成するように表面２，４を接合して第１の素子１及び第２の素子３を合わせることにより製造される。ガラスのプレート１０は、画像センサの光入射面４上に光ファイバ６のバンドルを収容する光放出面２を備えることが好ましい。ガラスのプレート１０を伴う画像センサは、焼付けシート１６の上に設けられ、パラフィンの融点よりも十分に高い温度に加熱されることが好ましい。加熱は、例えば、オーブンの中又はホットプレート上で行われてもよい。例えばリザーバ１７内に存在するパラフィンは、上記融点よりも高い温度、典型的には約６０℃〜８０℃まで加熱される。細い管状の空間７の開放されている側において、液体のパラフィンが供給され、この供給は供給管１８を通って行われることが好ましい。細い管状の空間７に液体のパラフィンを吸引させることにより、該空間７が充填される。素子１，３の面２，４間における液体パラフィンの表面張力の結果、液体のパラフィンが細い管状の空間７に吸引される。パラフィンが液体状態である限り、この系は表面エネルギーを最小にするようにし続けており、その結果、液体のパラフィンを吸引するプロセスは、細い管状の空間７にパラフィンが完全に充填されるまで続く。ガラスのプレート１０を伴うシリコン基板３３の画像センサの加熱を中止することにより、パラフィンは冷却され固体化する。細い管状の空間７に、パラフィンの透明な接合層５が形成される。
【００４０】
素子１，３は、面２，４と共に互いに対して押圧される。図示した実施態様では、例えばガラスのプレート１０上の金属のシート又はブロックにより力が及ぼされる。ガラスのプレート１０にわずか２０００Ｐａの小さな圧力を作用させることにより、ガラスのプレート１０は所定の位置のままであり、液体のパラフィンを吸引するプロセス中、細い管状の空間７の体積はほぼ一定のままである。この方法を適用することによって、パラフィン層に気泡が全く閉じ込められないか、又はほとんど閉じ込められない。
【図面の簡単な説明】
【図１ａ】光学部品の第１の実施態様の模式的な斜視図である。
【図１ｂ】図１ａのＩｂ−Ｉｂ線に沿った光学部品の第１の実施態様の断面図である。
【図１ｃ】図１の部品の中間生成物の断面図であり、液体パラフィンが吸引されている。
【図２】光学部品の第２の実施態様の斜視図である。
【図３】光学部品の第３の実施態様の斜視図である。
【国際公開パンフレット】
2004507786.tif 000003
2004507786.tif 000004
2004507786.tif 000005
2004507786.tif 000006
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2004507786.tif 000017
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【国際調査報告】
2004507786.tif 000019
2004507786.tif 000020