(57)【要約】本発明は工業用ガスからガス成分を除去するための方法である。この場合、ガス成分をガス洗浄装置（２）を用いて、工業用ガス（１）から洗浄除去するとともに、ガス洗浄後ガス成分で汚染された洗浄剤を独立した再生工程（８）内でこれらの成分から再度除去し、ガス洗浄装置内のガス成分を、＋１５℃から−６０℃の温度で洗浄除去する。その際洗浄剤としてエチレングリコールジメチルエーテルあるいは種々のエチレングリコールジメチルエーテル類の混合物を使用し、この洗浄剤は−３０℃未満の凝固点と常圧で２７５℃未満の沸騰温度とを有し、かつ２３０ｇ／ｍｏｌ未満のモル質量を有する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス成分をガス洗浄装置を用いて工業用ガスから洗浄除去するとともに、ガス成分で汚染された洗浄剤を、洗浄後、独立した再生工程内でこれらの成分から再度除去し、その際洗浄剤として、−３０℃未満の凝固点と常圧時に２７５℃未満の沸騰温度を有し、かつ２３０ｇ／ｍｏｌ未満のモル質量を有するエチレングリコールジメチルエーテルあるいは種々のエチレングリコールジメチルエーテル類の混合物を使用する工業用ガスからガス成分を除去するための方法において、
洗浄装置内におけるガス成分を−１８℃から−６０℃の温度で洗浄除去することを特徴とする方法。
【請求項２】
モノ−，ジ−，トリ−およびテトラ−エチレングリコールジメチルエーテルあるいはこれらのエチレングリコールジメチルエーテル類から成る混合物を洗浄剤として使用することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
１３４ｇ／ｍｏｌから１７８ｇ／ｍｏｌの平均モル質量を備えたジ−およびトリ−エチレングリコールメチルエーテル、あるいはこれらのエチレングリコールジメチルエーテル類から成る混合物を洗浄剤として使用することを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】
ガス成分の洗浄除去を−２０℃から−４０℃の温度で行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス成分を低温で行われる洗浄によって、各工業用ガスから洗浄除去するとともに、洗浄剤としてエチレングリコールジメチルエーテル−以下ＥＤＧＭＥと呼ぶ−を使用する、例えば天然ガス、合成ガスおよびプロセスガスのような工業用ガスからガス成分を除去するための方法に関する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】
本発明の課題は、例えば天然ガスや、メタノールやアンモニアの生産に必要な合成ガスや、石炭、石油、及びリサイクル材料のガス化により発生するプロセスガスのような工業用ガスから、不必要なガス成分−すなわち、水、硫化水素、二酸化炭素、硫化カルボニル、シアン化水素、二硫化炭素、アンモニア、メルカプタン、チオフェン、カルボニル、ナフタレン、パラフィン（Ｃ３＋）および有機炭化水素類でまとめられるが、これらは全て同時に存在する必要はない−を除去するための特に経済的な方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００３】
本発明の課題は、ガス洗浄装置内のガス成分を、−１８℃から−６０℃の温度で洗浄除去することによって解決される。その際洗浄剤として、−３０℃未満の凝固点と、常圧で２７５℃未満の沸騰温度を有し、かつ２３０ｇ／ｍｏｌ未満のモル質量を有する、ＥＤＧＭＥあるいは種々のＥＤＧＭＥ類の混合物を使用し、ガス成分で汚染された洗浄剤は、ガス洗浄後、独立した再生装置内でこれらのガス成分から再度除去する。ガス成分は洗浄工程時に洗浄剤で物理的に溶解されるかあるいは吸収され、洗浄剤とは一切化合しない。
【０００４】
本方法の実施形態においては、モノ−，ジ−，トリ−及びテトラ−ＥＤＧＭＥ、あるいはこれらのＥＤＧＭＥ類から成る混合物を使用する。好ましくは、平均モル質量が１３４ｇ／ｍｏｌから１７８ｇ／ｍｏｌであるジ−及びトリ−ＥＤＧＭＥ、あるいはこれらのＥＤＧＭＥ類から成る混合物を使用する。
【０００５】
本発明による方法の他の実施形態では、ガス成分の洗浄除去は−２０℃から−４０℃の温度で行なわれる。
【０００６】
本発明による方法は、他の比較可能な方法に比べて、わずかな容量の洗浄剤を洗浄循環内で移送すればよいにすぎないという長所を有しており、それによりポンプと導管の寸法を決める際に多大な節約ができ、さらに循環ポンプ使用時の電力消費量を低減することができる。
【０００７】
高温で使用される従来の洗浄剤に比べて、本発明による洗浄剤の長所は、特に対応する洗浄装置の装置直径寸法を小さくすることができ、かつ洗浄工程中に気化した洗浄剤を、洗浄工程に引き続いて、次の工程段階で、浄化された工業用ガスから再度析出するために、何の処理も講じる必要がないということである。
これらの理由から、特に本発明による方法はかなり大きな容量の設備に適しており、この設備はこのやり方でさらに一作業ラインで構成することができる。その際さもなくば、必要な大きさにより多作業ラインの構成が必要となるであろう。
【０００８】
さらに本方法は、洗浄された工業用ガス内においてｐｐｍのレンジにまで達するかなり高い純度が達せられるという長所を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
【実施例】
【００１０】
本発明による方法を、図１を基にして表１の計算例を参照して詳しく説明するが、この場合、数多くの可能な実施形態を代表して、ガス洗浄装置２と同様に再生装置８を単にブロックとして説明する。汚染された工業用ガス１はガス洗浄装置２内で洗浄剤３を用いて洗浄作用を受け、浄化される。浄化された工業用ガス４はガス洗浄装置２を出る。汚化した洗浄剤５は洗浄装置２から吸引され、膨張タービン６を用いて減圧され、その際洗浄剤は冷却する。減圧された洗浄剤は再生装置８内に案内され、そこでガス洗浄装置２内で析出したガス成分は減圧によりその一部が放出され、その他の部分はストリッピングガス９によって、この実施例では窒素によって洗浄剤から放出される。放出されたガス成分は他の処理工程１０において使用するために導出される。ガス成分を含んでいない溶剤１１は圧縮装置１２内で圧力上昇させることにより再度使用圧力まで圧縮され、かつ冷却器１３内で使用温度まで再冷却される。
【００１１】
表１においては、モル質量が１７８ｇ／ｍｏｌであるＥＤＧＭＥが使用されており、不必要なガス成分として二酸化炭素は除かれることが計算の基礎となっている。
【００１２】
【表１】
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【００１３】
ガス洗浄装置２内で洗浄された凝縮可能な他の成分が、再生装置８内で洗浄剤から再度分離される場合には、この成分はストリッピング媒体としての水蒸気を使用せずに蒸留することもできる。これは単に軽量のＥＤＧＭＥが既存の洗浄剤と異なり蒸留し易いので可能なだけである。この構成は、ストリッピング工程に引き続いて、注入されるストリッピング蒸気から生じる、どんな種類の注入される水も、一切洗浄剤から再度除去する必要はないという長所を有しており、このことは本発明の他の長所でもある。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明による方法のブロック図である。
【符号の説明】
【００１５】
１    ガス
２    ガス洗浄装置
３    洗浄剤
４    ガス
５    洗浄剤
６    膨張タービン
８    再生装置
９    ストリッピングガス
１０  他の処理工程
１１  溶剤
１２  圧縮装置
１３  冷却器
【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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