(57)【要約】本発明は、化粧品的に許容可能な担体中に：（ａ）少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体と、（ｂ）ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光感受性の少なくとも一の１，３，５―トリアジン誘導体と、（ｃ）少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン化合物とを含有し、ジベンゾイルメタン誘導体に対する４，４―ジアリールブタジエンの重量比は２．５より大きく、かつシンナマート誘導体を含有しないことを特徴とする、特に皮膚及び毛髪を光保護するための、局所使用される化粧品用又は皮膚用組成物に関する。また本発明は、有効量の少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン化合物と組み合わせて、トリアジン誘導体／ジベンゾイルメタン誘導体を添加することからなる、ジベンゾイルメタン型のＵＶ遮蔽剤の存在下で、光感受性の１，３，５―トリアジン誘導体の光安定性を改善するための方法に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
化粧品的に許容可能な担体中に：
（ａ）少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体と、
（ｂ）ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光感受性の少なくとも一の１，３，５―トリアジン誘導体と、
（ｃ）少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン化合物と
を含有し；ジベンゾイルメタン誘導体に対する４，４―ジアリールブタジエン化合物の重量比が２．５より大きく、かつシンナマート誘導体を含有していないことを特徴とする、特に皮膚及び毛髪を光保護するための、局所使用される化粧品用又は皮膚用組成物。
【請求項２】
１，３，５―トリアジン誘導体が、次の式（Ｉ）：
【化１】
2004517096.tif 000020
｛上式中：
Ａ１、Ａ２及びＡ３基は同一でも異なっていてもよく、次の式（ＩＩ）：
【化２】
2004517096.tif 000021
［上式中：
−  Ｘａは同一でも異なっていてもよく、酸素又は―ＮＨ―基を示し；
の基から選択され、
−  Ｒａは同一でも異なっていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５―Ｃ１２シクロアルキル基；ＯＨ末端基がメチル化された１〜６のエチレンオキシド単位を含むポリオキシエチレン化基；次の式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）：
【化３】
2004517096.tif 000022
（上式中：
−  Ｒ１は水素又はメチル基であり；
−  Ｒ２はＣ１―Ｃ９アルキル基であり；
−  ｑは０〜３の範囲の整数であり；
−  ｒは１〜１０の範囲の整数であり；
−  ＡはＣ４―Ｃ８アルキル基又はＣ５―Ｃ８シクロアルキル基であり；
−  Ｂは直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ８アルキル基；Ｃ５―Ｃ８シクロアルキル基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基から選択される）
の基から選択される］
の基から選択される｝
に相当する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
式（Ｉ）の１，３，５―トリアジン誘導体が、Ａ１、Ａ２及びＡ３基が式（ＩＩ）のものであり、次の特徴：
−  Ｘａ―Ｒａ基の一が―ＮＨ―Ｒａ基を表し、ここで、Ｒａは一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５―Ｃ１２シクロアルキル基；
−  ＢがＣ１―Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である：
式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）の基から選択され；
−  他方の二のＸａ―Ｒａ基が―Ｏ―Ｒａ基を表し、ここで、Ｒａは同一でも異なっていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５―Ｃ１２シクロアルキル基；
−  ＢがＣ１―Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である：
式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）の基から選択される；
を持つものから選択されることを特徴とする請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
１，３，５―トリアジン誘導体が、Ａ１、Ａ２及びＡ３基が式（ＩＩ）のものであり、次の特徴：
−  一又は二のＸａ―Ｒａ基が―ＮＨ―Ｒａ基を表し、ここで、Ｒａは直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５―Ｃ１２シクロアルキル基；
−  ＢがＣ１―Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である：
式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）の基から選択され；
−  他の一又は二のＸａ―Ｒａ基が―Ｏ―Ｒａ基を表し、ここで、Ｒａは同一でも異なっていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５―Ｃ１２シクロアルキル基；
−  ＢがＣ１―Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である：
式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）の基から選択される；
を示すものから選択されることを特徴とする請求項２に記載の組成物。
【請求項５】
１，３，５―トリアジン誘導体は、次の式：
【化４】
2004517096.tif 000023
［上式中、Ｒ´は２―エチルヘキシル基を示し、Ｒはｔｅｒｔ―ブチル基を示す］
に相当するものであることを特徴とする請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
式（Ｉ）に相当する１，３，５―トリアジン誘導体が、Ａ１、Ａ２及びＡ３基が式（ＩＩ）のものであり、次の特徴：
−  Ｘａは同一で酸素を表し；
−  Ｒａは同一でも異なっていてもよく、ＯＨ末端基がメチル化された１〜６のエチレンオキシド単位を含むポリオキシエチレン化基又はＣ６―Ｃ１２アルキル基を表す；
を示すものから選択されることを特徴とする請求項２に記載の組成物。
【請求項７】
１，３，５―トリアジン誘導体が、次の式：
【化５】
2004517096.tif 000024
［上式中、Ｒ´は２―エチルヘキシル基を示す］
に相当するものであることを特徴とする請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
１，３，５―トリアジン誘導体が、組成物の全重量に対して０．５重量％〜１５重量％、好ましくは１重量％〜１０重量％の範囲の含有量で組成物に存在していることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
ジベンゾイルメタン誘導体が：
−  ２―メチルジベンゾイルメタン、
−  ４―メチルジベンゾイルメタン、
−  ４―イソプロピルジベンゾイルメタン、
−  ４―ｔｅｒｔ―ブチルジベンゾイルメタン、
−  ２，４―ジメチルジベンゾイルメタン、
−  ２，５―ジメチルジベンゾイルメタン、
−  ４，４´―ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
−  ４，４´―ジメトキシジベンゾイルメタン、
−  ４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２―メチル―５―イソプロピル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２―メチル―５―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２，４―ジメチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２，６―ジメチル―４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
から選択されることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
ジベンゾイルメタン誘導体が、４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
ジベンゾイルメタン誘導体が、４―イソプロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項９に記載の組成物。
【請求項１２】
ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して０．５重量％〜１５重量％、好ましくは１重量％〜１０重量％の範囲の含有量で存在している、請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
４，４―ジアリールブタジエン化合物が、次の式（ＶＩＩＩ）：
【化６】
2004517096.tif 000025
［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
−  Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ２―Ｃ１０アルケニル基；Ｃ１―Ｃ１２アルコキシ基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルコキシカルボニル基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１２モノアルキルアミノ基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１２ジアルキルアミノ基；アリール；ヘテロアリール又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択され水可溶化置換基を示し；
−  Ｒ３は、基ＣＯＯＲ５；ＣＯＲ５；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮ；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ２―Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルケニル基；Ｃ６―Ｃ１８アリール；Ｃ３―Ｃ７ヘテロアリールを示し；
−  Ｒ４は、基ＣＯＯＲ６；ＣＯＲ６；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮ；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ２―Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
−  Ｒ５及びＲ６は同一でも異なっていてもよく、水素；［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＰＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ２―Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
−  Ｖは、基―ＣＨ２―ＣＨ２―Ｗ―、―ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｗ―、―ＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２―Ｗ―、―ＣＨ２―ＣＨ２―ＣＨ２―ＣＨ２―Ｗ―又は―ＣＨ２―ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）―Ｗ―を示し；
−  Ｄは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
−  Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は―Ｎ（Ｒ８）４＋を示し、
−  Ｗは、Ｏ又はＮＨを示し；
−  Ｒ７及びＲ８は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ６アルキル基；直鎖状又は分枝状のＣ２―Ｃ６アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ６アシル基を示し；
−  Ｒ９は、水素、直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ６アルキル基；Ｃ２―Ｃ６アルケニル基を示し；
−  Ｉは１〜３の範囲であり；
−  ｏは０〜１５０の範囲である］
に相当するものである、請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１４】
式（ＶＩＩＩ）の化合物が、次の式（ＶＩＩＩａ）：
【化７】
2004517096.tif 000026
［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
−  Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ１―Ｃ８アルキル基；Ｃ１―Ｃ８アルコキシ基；カルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
−  Ｒ３は、基ＣＯＯＲ５；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮを示し；
−  Ｒ４は、基ＣＯＯＲ６；ＣＯＮＲ５Ｒ６を示し；
−  Ｒ５は、水素；［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｒ６は、［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｖは、―ＣＨ２―ＣＨ２―Ｏ―、―ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２―Ｏ―基を示し；
−  Ｄは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
−  Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は―Ｎ（Ｒ８）４＋を示し、
−  Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ３アルキル基を示し；
−  Ｉは１〜３の範囲であり；
−  ｏは０〜５０の範囲である］
のものから選択される、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
式（ＶＩＩＩ）の化合物が、次の式（ＶＩＩＩｂ）：
【化８】
2004517096.tif 000027
［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
−  Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ１―Ｃ８アルキル基；Ｃ１―Ｃ８アルコキシ基を示し；
−  Ｒ３は、基ＣＯＯＲ５；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮを示し；
−  Ｒ４は、基ＣＯＯＲ６；ＣＯＮＲ５Ｒ６を示し；
−  Ｒ５は、水素；［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｒ６は、［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｖは、―ＣＨ２―ＣＨ２―Ｏ―、―ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２―Ｏ―基を示し；
−  Ｄは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
−  Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は―Ｎ（Ｒ８）４＋を示し、
−  Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ３アルキル基を示し；
−  ｏは０〜５０の範囲である］
に相当するものから選択される、請求項１４に記載の組成物。
【請求項１６】
式（ＶＩＩＩ）の化合物が、次の式（ＶＩＩＩｃ）：
【化９】
2004517096.tif 000028
［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
−  Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ１―Ｃ８アルキル基；Ｃ１―Ｃ８アルコキシ基を示し；
−  Ｒ３は、基ＣＯＯＲ５；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮを示し；
−  Ｒ４は、基ＣＯＯＲ６；ＣＯＮＲ５Ｒ６を示し；
−  Ｒ５は、水素；［Ｘ］ｐ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｙ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｒ６は、［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｖは、―ＣＨ２―ＣＨ２―Ｏ―、―ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２―Ｏ―基を示し；
−  Ｄは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
−  Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は―Ｎ（Ｒ８）４＋を示し、
−  Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ３アルキル基を示し；
−  ｏは０〜５０の範囲である］
に相当するものから選択される、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
式（ＶＩＩＩ）の化合物が、次の化合物：
【化１０】
2004517096.tif 000029
2004517096.tif 000030
のものから選択される、請求項１３ないし１６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１８】
４，４―ジアリールブタジエン化合物が、次の式（ＩＸ）：
【化１１】
2004517096.tif 000031
［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
−  Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＩは、請求項１７に記載の式（ＶＩＩＩ）におけるものと同じ定義を有し；
−  Ｙ´は、基―Ｏ―又は―ＮＲ１０―を示し；
−  Ｒ１０は、水素；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ２―Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
−  Ｘ´は、結合価ｑと、２〜１０のヒドロキシル基を有する脂肪族又は脂環式で、直鎖状又は分枝状のポリオール残基を示し；該残基の炭素ベース鎖は一又は複数の硫黄又は酸素原子；一又は複数のイミン基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキルイミノ基が挿入されていてもよく；
−  ｑは２〜１０の範囲である］
に相当するオリゴマーである、請求項１ないし１２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１９】
式（ＩＸ）の化合物が：
−  Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ１―Ｃ１２アルキル基；Ｃ１―Ｃ８アルコキシ基；カルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
−  Ｒ３は、基ＣＯＯＲ５；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮ；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基を示し；
−  Ｒ５及びＲ６は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基；置換されていてもよいナフチル又はフェニルを示し；
−  Ｘ´は、２〜６、特に２〜４のヒドロキシル基を有するポリオール残基を示す；
ものから選択される、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
式（ＩＸ）の化合物が：
−  Ｘ´がエタノール又はペンタエリトロール残基を示す；
ものから選択される、請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
式（ＩＸ）の化合物が、次の化合物：
【化１２】
2004517096.tif 000032
のものから選択される、請求項２０に記載の組成物。
【請求項２２】
ＵＶ―Ａ活性及び／又はＵＶ―Ｂ活性の他の有機遮蔽剤をさらに含有していることを特徴とする、請求項１ないし２１のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２３】
付加的な有機ＵＶ遮蔽剤が、アントラニラート類；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β，β´―ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；非光感受性トリアジン誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ビス―ベンザゾリル誘導体；ｐ―アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体；メチレンビス（ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類；α―アルキルスチレンから誘導された二量体から選択される、請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
有機ＵＶ遮蔽剤が次の化合物：
−  サリチル酸エチルヘキシル、
−  オクトクリレン、
−  フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
−  ベンゾフェノン―３、
−  ベンゾフェノン―４、
−  ベンゾフェノン―５、
−  ４―メチルベンジリデンショウノウ、
−  テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
−  フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
−  ２，４，６―トリス（ジイソブチル―４´―アミノベンザルマロナート）―ｓ―トリアジン、
−  アニソトリアジン、
−  メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
−  ドロメトリゾールトリシロキサン、
及びそれらの混合物、
から選択されることを特徴とする、請求項２３に記載の組成物。
【請求項２５】
被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし２４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２６】
前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非被覆の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にするための少なくとも一の薬剤をさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし２６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２８】
脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカル捕捉剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α―ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、噴霧剤、酸性化又は塩基性化剤及び着色料から選択される少なくとも一のアジュバントをさらに含有していることを特徴とする請求項１ないし２７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項２９】
ヒトの表皮を保護するための組成物又は抗日光組成物であり、非イオン性の小胞体分散液、水中油型エマルション等のエマルション、クリーム、ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、固形チューブ、ムース又はスプレーの形態であることを特徴とする請求項１ないし２８のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３０】
まつげ、眉毛又は皮膚をメークアップするための組成物であり、固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、又はエマルション、懸濁液又は分散液の形態であることを特徴とする請求項１ないし２９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３１】
紫外線から毛髪を保護するための組成物であり、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態であることを特徴とする請求項１ないし２９のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３２】
太陽光線等の紫外線から、皮膚及び／又は毛髪を保護するための化粧品用又は皮膚用組成物の調製における、請求項１ないし２９のいずれか１項に記載の組成物の使用。
【請求項３３】
１，３，５―トリアジン誘導体のＵＶ線に対する安定性（光安定性）を改善するための、請求項１ないし８のいずれか１項に記載の少なくとも一の光感受性１，３，５―トリアジン誘導体と組み合わせて少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚用組成物の調製における、請求項１ないし３２のいずれか１項に記載の４，４―ジアリールブタジエン化合物の使用。
【請求項３４】
請求項１ないし３３のいずれか１項に記載のジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光感受性である１，３，５―トリアジン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善する方法であって、請求項１ないし３３のいずれか１項に記載の４，４―ジアリールブタジエン化合物を有効量、ジベンゾイルメタン誘導体と１，３，５―トリアジン誘導体の組み合わせ物に添加することからなることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の開示】
【０００１】
本発明は、化粧品的に許容可能な担体中に：
（ａ）少なくとも一のジベンゾイルメタン誘導体と、
（ｂ）ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光感受性の少なくとも一の１，３，５―トリアジン誘導体と、
（ｃ）少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン化合物とを含有し、
ジベンゾイルメタン誘導体に対する４，４―ジアリールブタジエン化合物の重量比が２．５より大きく、かつシンナマート誘導体を含有しないことを特徴とする、特に皮膚及び毛髪を光保護するための、局所使用される化粧品用又は皮膚用組成物に関する。
また本発明は、有効量の少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン化合物と組み合わせて、トリアジン誘導体／ジベンゾイルメタン誘導体を添加することからなる、ジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ遮蔽剤の存在下で、１，３，５―トリアジン誘導体の光安定性を改善するための方法に関する。
【０００２】
２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮はサンタン状態となり、特にＵＶ―Ｂ線として知られている２８０ｎｍと３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は、自然なサンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態となったり、紅斑が形成されたりすることが知られている。これらの理由並びに美観的理由から、自然なサンタンを調節して皮膚の色をコントロールする手段が変わらず必要とされている；よって、ＵＶ―Ｂ線は遮蔽すべきである。
【０００３】
また、皮膚を褐色化する３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を有するＵＶ―Ａ線が皮膚に好ましくない変化を引き起こすおそれがあることが知られており、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている皮膚の場合にしかりである。ＵＶ―Ａ線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。ＵＶ―Ａ線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個人においてはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。従って、例えば皮膚本来の弾力性を保持するという美観的及び美容的理由から、益々多くの人々が皮膚へのＵＶ―Ａ線の影響をコントロールすることを望んでいる。よって、ＵＶ―Ａ線も遮蔽することが望ましい。
かかる点に関し、現在特に有効な種類のＵＶ―Ａ遮蔽剤は、高い固有の吸収力を有する、特に４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタンのようなジベンゾイルメタン誘導体からなるとされる。これらジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体、ＵＶ―Ａ領域に活性のある遮蔽剤としてよく知られている生成物であり、特に仏国特許出願公開第２３２６４０５号及び仏国特許出願公開第２４４０９３３号、並びに欧州特許出願公開第０１１４６０７号に記載されている；さらに、４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタンは、ホフマン・ラロシュ社（ＨｏｆｆｍａｎｎＬａＲｏｃｈｅ）から「パルソール（Ｐａｒｓｏｌ）１７８９」の商品名で現在市販されている。
【０００４】
１，３，５―トリアジン誘導体は、ＵＶ―Ｂ領域と、また関与する置換基の性質に応じて、これらの化合物の一部ではＵＶ―Ａ領域においても高い活性を示すため、抗日光化粧品に特に所望されている。それらは、特に米国特許第４３６７３９０号、欧州特許出願第８６３１４５号、欧州特許出願第５１７１０４号、欧州特許出願第５７０８３８号、欧州特許出願第５０７６９１号、欧州特許出願第７９６８５１号、欧州特許出願第７７５６９８号、欧州特許出願第８７８４６７号及び欧州特許出願第９３３３７６号に記載されており、特に次のもの：
−  ２，４，６―トリス［ｐ―（２´―エチルヘキシル―１´―オキシカルボニル）アニリノ］―１，３，５―トリアジン、すなわちＢＡＳＦ社から「ユビヌル（Ｕｖｉｎｕｌ）Ｔ１５０」の商品名で販売されている「エチルヘキシルトリアゾン」（ＩＮＣＩ名）、
−  ２―［ｐ―（ｔｅｒｔ―ブチルアミド）アニリノ］―４，６―ビス［ｐ―（２´―エチルヘキシル―１´―オキシカルボニル）アニリノ］―１，３，５―トリアジン、すなわちシグマ（Ｓｉｇｍａ）３Ｖ社から「ユバソーブ（Ｕｖａｓｏｒｂ）ＨＥＢ」の商品名で販売されている「ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン」（ＩＮＣＩ名）、
が知られている。これらはＵＶ―Ｂ線において高い吸収性を有しており、よって上述した４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタンと組み合わせて使用することは、全ＵＶ線領域において広域で効果的な保護性を有する製品を得る目的のためには非常に有利である。
【０００５】
欧州特許出願第０９６７２００号、独国特許出願第１９７４６６５４号、独国特許出願第１９７５５６４９号、欧州特許出願第１００８５８６号、独国特許出願第１０００７０１７号、欧州特許出願第１１３３９８０号及び欧州特許出願第１１３３９８１号には、４，４―ジアリールブタジエン類をベースとし、上述したトリアジン誘導体とジベンゾイルメタン誘導体等の他の付加的な遮蔽剤を含有する抗日光組成物が開示されている。
しかしながら、本出願人は、これら１，３，５―トリアジン誘導体のいくつかは、４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタンが存在する場合に光感受性であり、すなわち、ＵＶ照射下で、実質的な化学的劣化を被るという欠点を有する。これらの条件において二種の遮蔽剤を組み合わせても、もはや、皮膚及び毛髪を長時間、広域に抗日光保護することは不可能であることを見出した。
【０００６】
上述した光保護の分野においてかなり多くの研究を行ったところ、本出願人は、ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光感受性の少なくとも一の１，３，５―トリアジン誘導体と組み合わせて４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタンを含有する組成物に、４，４―ジアリールブタジエン化合物を導入することで、このような組成物においても１，３，５―トリアジン誘導体が光安定性し、よってこれらの組成物の全体的な効果がかなり改善されることを見出した。
この発見が本発明の基礎を形成する。
【０００７】
よって、本発明の主題の一つは、化粧品的に許容可能な担体に、少なくとも：
（ａ）ジベンゾイルメタン誘導体と、
（ｂ）ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光感受性の１，３，５―トリアジン誘導体と、
（ｃ）４，４―ジアリールブタジエン化合物とを含有し、
ジベンゾイルメタン誘導体に対する４，４―ジアリールブタジエン化合物の重量比が２．５より大きく、かつシンナマート誘導体を含有しないことを特徴とする、特に皮膚及び毛髪を光保護するための、局所使用される化粧品用又は皮膚用組成物にある。
よって、本発明の化粧品用及び／又は皮膚用組成物は、少なくとも一の光感受性の１，３，５―トリアジン誘導体と組み合わせて４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタンを含有せしめて調製され、組成物における１，３，５―トリアジン誘導体の濃度は、これらの組成物が光の作用を受けても比較的一定のままである。
【０００８】
また本発明の主題は、少なくとも一の光感受性の１，３，５―トリアジン誘導体と組み合わせてジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚用組成物において、該１，３，５―トリアジン誘導体のＵＶ線に対する安定性（光安定性）を改善するために、該組成物の調製に４，４―ジアリールブタジエン化合物を使用することにある。
また本発明の主題は、ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光感受性の１，３，５―トリアジン誘導体のＵＶ線に対する安定性（光安定性）を改善する方法にあり；該方法は、４，４―ジアリールブタジエン化合物を、該組成物に有効量添加することからなる。
【０００９】
本発明において「有効量の４，４―ジアリールブタジエン」なる表現は、光保護のための化粧品用組成物における１，３，５―トリアジン誘導体の光安定性が顕著にかつ有意に改善されるのに十分な量を意味する。使用される光安定剤のこの最小量は、組成物のために選択される化粧品的に許容可能な担体の性質に依存して変化し得、光安定性を測定するための標準的なテストにより困難なことなく決定することができる。
本発明において、「４，４―ジアリールブタジエン化合物」なる用語は、少なくとも一の４，４―ジアリールブタジエン発色団を有する任意の分子を意味する。この分子は、鎖に発色団がグラフトしたポリマー、オリゴマー又は単純化合物の形態であってよい。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろう。
【００１０】
よって、本発明の組成物の第１の化合物は、ジベンゾイルメタン誘導体の存在下で光感受性の１，３，５―トリアジン誘導体である。
本発明で使用可能な１，３，５―トリアジン誘導体としては、特に次の式（Ｉ）：
【化１】
2004517096.tif 000002
｛上式中：
Ａ１、Ａ２及びＡ３基は同一でも異なっていてもよく、次の式（ＩＩ）：
【化２】
2004517096.tif 000003
［上式中：
−  Ｘａは同一でも異なっていてもよく、酸素又は―ＮＨ―基を示し；
の基から選択され、
−  Ｒａは同一でも異なっていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５―Ｃ１２シクロアルキル基；ＯＨ末端基がメチル化された１〜６のエチレンオキシド単位を含むポリオキシエチレン化基；及び次の式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）：
【化３】
2004517096.tif 000004
（上式中：
−  Ｒ１は水素又はメチル基であり；
−  Ｒ２はＣ１―Ｃ９アルキル基であり；
−  ｑは０〜３の整数であり；
−  ｒは１〜１０の整数であり；
−  ＡはＣ４―Ｃ８アルキル基又はＣ５―Ｃ８シクロアルキル基であり；
−  Ｂは直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ８アルキル基；Ｃ５―Ｃ８シクロアルキル基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基から選択される）
の基から選択される］
の基から選択される｝
に相当するものを使用することができる。
【００１１】
特に欧州特許公開第０５１７１０４号公報に記載されている特に好ましい１，３，５―トリアジン誘導体の第１のファミリーは、Ａ１、Ａ２及びＡ３基が式（ＩＩ）のものであり、次の特徴：
−  Ｘａ―Ｒａ基の一が―ＮＨ―Ｒａ基を表し、ここで、Ｒａは一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５―Ｃ１２シクロアルキル基；
−  ＢがＣ１―Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である：
上述した式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）の基から選択され；
−  他の二のＸａ―Ｒａ基が―Ｏ―Ｒａ基を表し、ここで、Ｒａは同一でも異なっていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５―Ｃ１２シクロアルキル基；
−  ＢがＣ１―Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である：
上述した式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）の基から選択される；
を示す、式（Ｉ）に相当する１，３，５―トリアジンである。
【００１２】
特に、欧州特許公開第０５７０８３８号に記載されている、より好ましい１，３，５―トリアジン誘導体の第２のファミリーは、Ａ１、Ａ２及びＡ３基が式（ＩＩ）であり、次の特徴：
−  一又は二のＸａ―Ｒａ基が―ＮＨ―Ｒａ基を表し、ここで、Ｒａは直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５―Ｃ１２シクロアルキル基；
−  ＢがＣ１―Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である：
上述した式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）の基から選択され；
−  他の一又は二のＸａ―Ｒａ基が―Ｏ―Ｒａ基を表し、ここで、Ｒａは同一でも異なっていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５―Ｃ１２シクロアルキル基；
−  ＢがＣ１―Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である：
上述した式（ＩＩＩ）、（ＩＶ）又は（Ｖ）の基から選択される；
を示す、式（Ｉ）に相当する１，３，５―トリアジンである。
【００１３】
この第２のファミリーの特に好ましい１，３，５―トリアジンは、次の式：
【化４】
2004517096.tif 000005
［上式中、Ｒ´は２―エチルヘキシル基を示し、Ｒはｔｅｒｔ―ブチル基を示す］
に相当し、２―［ｐ―（ｔｅｒｔ―ブチルアミド）アニリノ］―４，６―ビス［ｐ―（２´―エチルヘキシル―１´―オキシカルボニル）アニリノ］―１，３，５―トリアジン、すなわちシグマ３Ｖ社から「ユバソーブＨＥＢ」の商品名で販売されている「ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン」である。
【００１４】
特に、米国特許第４７２４１３７号公報に開示され、本発明で使用可能な好ましい化合物の第３のファミリーは、Ａ１、Ａ２及びＡ３基が式（ＩＩ）であり、次の特徴：
−  Ｘａは同一で酸素を表し；
−  Ｒａは同一でも異なっていてもよく、ＯＨ末端基がメチル化された１〜６のエチレンオキシド単位を含むポリオキシエチレン化基又はＣ６―Ｃ１２アルキル基を表す；
を示す、式（Ｉ）に相当する１，３，５―トリアジンである。
この第３のファミリーの特に好ましい１，３，５―トリアジンは、次の式：
【化５】
2004517096.tif 000006
［上式中、Ｒ´は２―エチルヘキシル基を示す］
に相当し、２，４，６―トリス［ｐ―（２´―エチルヘキシル―１´―オキシカルボニル）アニリノ］―１，３，５―トリアジン、すなわちＢＡＳＦ社から「ユビヌルＴ１５０」の商品名で販売されている「エチルヘキシルトリアゾン」である。
１，３，５―トリアジン誘導体（類）は、組成物の全重量に対して０．５重量％〜１５重量％、好ましくは１重量％〜１０重量％の範囲の含有量で、本発明の組成物中に一般的に存在している。
【００１５】
本発明で目的としている組成物の第２の化合物はジベンゾイルメタン誘導体である。上述したように、本発明で目的としているジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく知られている生成物であり、特に、仏国特許第２３２６４０５号、仏国特許第２４４０９３３号及び欧州特許第０１１４６０７号公報に記載されており、該公報の教示は、これらの生成物の実際の定義に関して、全体が本明細書に出典明示により含まれるものである。
本発明で特に目的としているジベンゾイルメタン誘導体としては、これらに限定されるものではないが、特に：
−  ２―メチルジベンゾイルメタン、
−  ４―メチルジベンゾイルメタン、
−  ４―イソプロピルジベンゾイルメタン、
−  ４―ｔｅｒｔ―ブチルジベンゾイルメタン、
−  ２，４―ジメチルジベンゾイルメタン、
−  ２，５―ジメチルジベンゾイルメタン、
−  ４，４´―ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
−  ４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２―メチル―５―イソプロピル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２―メチル―５―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２，４―ジメチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
−  ２，６―ジメチル―４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、
を挙げることができる。
【００１６】
上述したジベンゾイルメタン誘導体の中でも、４―ｔｅｒｔ―ブチル―４´―メトキシジベンゾイルメタン、特にホフマン・ラロシュ社から「パルソール１７８９」の商品名で販売されている製品が本発明において最も好ましく使用され、この遮蔽剤は次の構造式（ＶＩ）：
【化６】
2004517096.tif 000007
に相当するものである。
【００１７】
本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン誘導体は４―イソプロピルジベンゾイルメタンで、この遮蔽剤はメルク社（Ｍｅｒｃｋ）から「ユーソレックス（Ｅｕｓｏｌｅｘ）８０２０」の名前で販売されており、次の構造式（ＶＩＩ）：
【化７】
2004517096.tif 000008
に相当するものである。
ジベンゾイルメタン誘導体（類）は、組成物の全重量に対して、好ましくは０．５重量％〜１５重量％、特に好ましくは１重量％〜１０重量％の範囲の含有量で本発明の組成物中に存在する。
【００１８】
選択することができる本発明における好ましい４，４―ジアリールブタジエン化合物は、次の式（ＶＩＩＩ）：
【化８】
2004517096.tif 000009
［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
−  Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ２―Ｃ１０アルケニル基；Ｃ１―Ｃ１２アルコキシ基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルコキシカルボニル基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１２モノアルキルアミノ基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ１２ジアルキルアミノ基；アリール；ヘテロアリール又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化（ｈｙｄｒｏ―ｓｏｌｕｂｉｌｉｚｉｎｇ）置換基を示し；
−  Ｒ３は、基ＣＯＯＲ５；ＣＯＲ５；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮ；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ２―Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルケニル基；Ｃ６―Ｃ１８アリール；Ｃ３―Ｃ７ヘテロアリールを示し；
−  Ｒ４は、基ＣＯＯＲ６；ＣＯＲ６；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮ；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ２―Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
−  Ｒ５及びＲ６は同一でも異なっていてもよく、水素；［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＰＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ２―Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
−  Ｖは、基―ＣＨ２―ＣＨ２―Ｗ―、―ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｗ―、―ＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２―Ｗ―、―ＣＨ２―ＣＨ２―ＣＨ２―ＣＨ２―Ｗ―又は―ＣＨ２―ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）―Ｗ―を示し；
−  Ｄは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
−  Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は―Ｎ（Ｒ８）４＋を示し、
−  Ｗは、Ｏ又はＮＨを示し；
−  Ｒ７及びＲ８は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ６アルキル基；直鎖状又は分枝状のＣ２―Ｃ６アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ６アシル基を示し；
−  Ｒ９は、水素、直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ６アルキル基；Ｃ２―Ｃ６アルケニル基を示し；
−  Ｉは１〜３の範囲であり；
−  ｏは０〜１５０の範囲である］
に相当する化合物である。
【００１９】
アルキル基の例としては：メチル、エチル、ｎ―プロピル、１―メチルエチル、ｎ―ブチル、１―メチルプロピル、２―メチルプロピル、１，１―ジメチルエチル、ｎ―ペンチル、１―メチルブチル、２―メチルブチル、３―メチルブチル、２，２―ジメチルプロピル、１―エチルプロピル、ｎ―ヘキシル、１，１―ジメチルプロピル、１，２―ジメチルプロピル、１―メチルペンチル、２―メチルペンチル、３―メチルペンチル、４―メチルペンチル、１，１―ジメチルブチル、１，２―ジメチルブチル、１，３―ジメチルブチル、２，２―ジメチルブチル、２，３―ジメチルブチル、３，３―ジメチルブチル、１―エチルブチル、２―エチルブチル、１，２，２―トリメチルプロピル、１―エチル―１―メチルプロピル、１―エチル―２―メチルプロピル、ｎ―ヘプチル、ｎ―オクチル、ｎ―ノニル、ｎ―デシル、ｎ―ウンデシル、ｎ―ドデシル、ｎ―トリデシル、ｎ―テトラデシル、ｎ―ペンタデシル、ｎ―ヘキサデシル、ｎ―ヘプタデシル、ｎ―オクタデシル、ｎ―ノナデシル又はｎ―エイコシルを挙げることができる。
【００２０】
Ｃ２―Ｃ１０アルケニル基の例としては：エテニル、ｎ―プロペニル、１―メチルエテニル、ｎ―ブテニル、１―メチルプロペニル、２―メチルプロペニル、１，１―ジメチルエテニル、ｎ―ペンテニル、１―メチルブテニル、２―メチルブテニル、３―メチルブテニル、２，２―ジメチルプロペニル、１―エチルプロペニル、ｎ―ヘキセニル、１，１―ジメチルプロペニル、１，２―ジメチルプロペニル、１―メチルペンテニル、２―メチルペンテニル、３―メチルペンテニル、４―メチルペンテニル、１，１―ジメチルブテニル、１，２―ジメチルブテニル、１，３―ジメチルブテニル、２，２―ジメチルブテニル、２，３―ジメチルブテニル、３，３―ジメチルブテニル、１―エチルブテニル、２―エチルブテニル、１，１，２―トリメチルプロペニル、１，２，２―トリメチルプロペニル、１―エチル―１―メチルプロペニル、１―エチル―２―メチルプロペニル、ｎ―ヘプテニル、ｎ―オクテニル、ｎ―ノネニル、ｎ―デセニルを挙げることができる。
Ｒ１及びＲ２基のＣ１―Ｃ１２アルコキシ基としては：メトキシ、ｎ―プロポキシ、１―メチルエトキシ、１―メチルプロポキシ、ｎ―ペントキシ、３―メチルブトキシ、２，２―ジメチルプロポキシ、１―メチル―１―エチルプロポキシ、オクトキシ、エトキシ、ｎ―プロポキシ、ｎ―ブトキシ、２―メチルプロポキシ、１，１―ジメチルプロポキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、２―エチルヘキソキシを挙げることができる。
【００２１】
Ｒ６及びＲ７基で記載されたＣ３―Ｃ１０シクロアルキル基の例は：シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、１―メチルシクロプロピル、１―エチルシクロプロピル、１―プロピルシクロプロピル、１―ブチルシクロプロピル、１―ペンチルシクロプロピル、１―メチル―１―ブチルシクロプロピル、１，２―ジメチルシクロプロピル、１―メチル―２―エチルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニル又はシクロデシルである。
一又は複数の二重結合を有するＲ６及びＲ７基のＣ３―Ｃ１０シクロアルケニル基としては：シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、１，３―シクロヘキサジエニル、１，４―シクロヘキサジエニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シクロオクテニル、１，５―シクロオクタジエニル、シクロオクタテトラエニル、シクロノネニル又はシクロデセニルを挙げることができる。
シクロアルキル又はシクロアルケニル基は、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミノ；Ｃ１―Ｃ４アルキルアミノ；Ｃ１―Ｃ４ジアルキルアミノ；Ｃ１―Ｃ４アルキル；Ｃ１―Ｃ４アルコキシ；ヒドロキシルから選択される一又は複数（好ましくは１〜３）の置換基を有し得る：それらは、１〜３のヘテロ原子、例えば硫黄、酸素又は窒素で、そのフリーの結合価が水素又はＣ１―Ｃ４アルキル基により飽和されていてもよいものをさらに有してもよい。
【００２２】
挙げることのできるアシル基の例には、ホルミル、アセチル、プロピオニル及びｎ―ブチリルが含まれる。
ビシクロアルキル又はビシクロアルケニル基は、例えば、二環式テルペン類、例えばピナン、ボルナン、ピネン、ショウノウ又はアダマンタン誘導体から選択される。
アリール基は、好ましくは、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミノ；Ｃ１―Ｃ４アルキルアミノ；Ｃ１―Ｃ４ジアルキルアミノ；Ｃ１―Ｃ４アルキル；Ｃ１―Ｃ４アルコキシ；ヒドロキシルから選択される一又は複数（好ましくは１〜３）の置換基を有し得るフェニル及びナフチル環から選択される。特に好ましくは、フェニル、メトキシフェニル及びナフチルである。
ヘテロアリール基は、一般的に、硫黄、酸素及び窒素から選択される一又は複数のヘテロ原子を含有する。
【００２３】
水可溶化基は、例えばカルボキシラート又はスルホナート基であり、特に、それらの生理学的に許容可能なカチオンとの塩、例えばアルカリ金属塩又はトリアルキルアンモニウム塩、例えばトリス（ヒドロキシアルキル）アンモニウム又は２―メチル―１―プロパノール―２―アンモニウム塩である。さらに、アンモニウム基、例えばアルキルアンモニウム、及びそれらの生理学的に許容可能なアニオンとの塩の形態を挙げることもできる。
【００２４】
式（ＶＩＩＩ）の好ましい化合物は、次の式（ＶＩＩＩａ）：
【化９】
2004517096.tif 000010
［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
−  Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ１―Ｃ８アルキル基；Ｃ１―Ｃ８アルコキシ基；カルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
−  Ｒ３は、基ＣＯＯＲ５；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮを示し；
−  Ｒ４は、基ＣＯＯＲ６；ＣＯＮＲ５Ｒ６を示し；
−  Ｒ５は、水素；［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｒ６は、［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｖは、―ＣＨ２―ＣＨ２―Ｏ―、―ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２―Ｏ―基を示し；
−  Ｄは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
−  Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は―Ｎ（Ｒ８）４＋を示し、
−  Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ３アルキル基を示し；
−  Ｉは１〜３の範囲であり；
−  ｏは０〜５０の範囲である］
のものから選択される。
【００２５】
式（ＶＩＩＩ）のより好ましい化合物は、次の式（ＶＩＩＩｂ）：
【化１０】
2004517096.tif 000011
［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
−  Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ１―Ｃ８アルキル基；Ｃ１―Ｃ８アルコキシ基を示し；
−  Ｒ３は、基ＣＯＯＲ５；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮを示し；
−  Ｒ４は、基ＣＯＯＲ６；ＣＯＮＲ５Ｒ６を示し；
−  Ｒ５は、水素；［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｒ６は、［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｖは、―ＣＨ２―ＣＨ２―Ｏ―、―ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２―Ｏ―基を示し；
−  Ｄは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
−  Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は―Ｎ（Ｒ８）４＋を示し、
−  Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ３アルキル基を示し；
−  ｏは０〜５０の範囲である］
に相当するものから選択される。
【００２６】
式（ＶＩＩＩ）のさらに好ましい化合物は、次の式（ＶＩＩＩｃ）：
【化１１】
2004517096.tif 000012
［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
−  Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ１―Ｃ８アルキル基；Ｃ１―Ｃ８アルコキシ基を示し；
−  Ｒ３は、基ＣＯＯＲ５；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮを示し；
−  Ｒ４は、基ＣＯＯＲ６；ＣＯＮＲ５Ｒ６を示し；
−  Ｒ５は、水素；［Ｘ］ｐ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｙ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｒ６は、［Ｖ］ｏ―Ｒ７；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―ＳＯ３Ｕ；Ｃ１―Ｃ６―アルキレン―Ｎ（Ｒ８）３＋Ｄ−を示し；
−  Ｖは、―ＣＨ２―ＣＨ２―Ｏ―、―ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ―、―ＣＨ（ＣＨ３）―ＣＨ２―Ｏ―基を示し；
−  Ｄは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ又はＳＯ４Ｒ９を示し；
−  Ｕは、水素、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｌｉ＋、Ａｌ３＋又は―Ｎ（Ｒ８）４＋を示し、
−  Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ３アルキル基を示し；
−  ｏは０〜５０の範囲である］
に相当するものから選択される。
【００２７】
特に好ましい式（ＶＩＩＩ）の化合物は、次の化合物：
【化１２】
2004517096.tif 000013
2004517096.tif 000014
から選択される。
上述した式（ＶＩＩＩ）の化合物はそれ自体公知であり、それらの構造及び合成方法は、欧州特許出願第０９６７２００号、独国特許出願第１９７４６６５４号及び独国特許出願第１９７５５６４９号（明細書の内容の一体部分を形成）に記載されている。
【００２８】
本発明において好ましい４，４―ジアリールブタジエン化合物としては、次の式（ＩＸ）：
【化１３】
2004517096.tif 000015
［上式中、ジエン系はＺ，Ｚ；Ｚ，Ｅ；Ｅ，Ｚ又はＥ，Ｅ立体配置又は該立体配置の混合物であり、ここで：
−  Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＩは、上述した式（ＶＩＩＩ）と同様の定義を有し；
−  Ｙ´は、基―Ｏ―又は―ＮＲ１０―を示し；
−  Ｒ１０は、水素；直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ２―Ｃ１０アルケニル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルケニル基；アリール；ヘテロアリールを示し；
−  Ｘ´は、結合価ｑと、２〜１０のヒドロキシル基を有する脂肪族又は脂環式で、直鎖状又は分枝状のポリオール残基を示し；該残基の炭素ベース鎖は一又は複数の硫黄又は酸素原子；一又は複数のイミン基；一又は複数のＣ１―Ｃ４アルキルイミノ基が挿入されていてもよく；
−  ｑは２〜１０の範囲である］
に相当するオリゴマーを挙げることができる。
【００２９】
Ｘ´は２〜１０のヒドロキシル基を有するポリオール残基、特に：
【化１４】
2004517096.tif 000016
のものである。
【００３０】
好ましい式（ＩＸ）の化合物は：
−  Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ１―Ｃ１２アルキル基；Ｃ１―Ｃ８アルコキシ基；カルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
−  Ｒ３は、基ＣＯＯＲ５；ＣＯＮＲ５Ｒ６；ＣＮ；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基を示し；
−  Ｒ５及びＲ６は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のＣ１―Ｃ２０アルキル基；Ｃ３―Ｃ１０シクロアルキル基；Ｃ７―Ｃ１０ビシクロアルキル基；置換されていてもよいナフチル又はフェニルを示し；
−  Ｘ´は、２〜６、特に２〜４のヒドロキシル基を有するポリオール残基を示す；
ものである。
より好ましい式（ＩＸ）の化合物は：
−  Ｘ´がエタノール又はペンタエリトロール残基を示す；
ものである。
【００３１】
特に好ましい式（ＩＸ）の化合物は、次の化合物：
【化１５】
2004517096.tif 000017
から選択される。
上述した式（ＩＸ）の化合物はそれ自体公知であり、それらの構造及び合成方法は、欧州特許出願公開第１００８５８６号（明細書の内容の一体部分を形成）に記載されている。
本発明において、４，４―ジアリールブタジエン化合物は、組成物の全重量に対して、好ましくは０．５重量％〜１５重量％、より好ましくは１重量％〜１０重量％の範囲の含有量で、本発明の組成物中に存在する。
【００３２】
本発明の組成物は、ＵＶ―Ａ及び／又はＵＶ―Ｂ領域に活性のある他の付加的な有機ＵＶ遮蔽剤（吸収剤）をさらに含有可能であり、該遮蔽剤は、水溶性、又は脂溶性、又は一般的に使用されている化粧品用溶媒に不溶である。
付加的な有機ＵＶ遮蔽剤は、特にアントラニラート類；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β，β―ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；非光感受性トリアジン誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；欧州特許第６６９３２３号及び米国特許第２４６３２６４号に記載されているようなビス―ベンザゾリル誘導体；ｐ―アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体；米国特許第５２３７０７１号、米国特許第５１６６３５５号、英国特許出願第２３０３５４９号、独国特許出願第１９７２６１８４号及び欧州特許出願第８９３１１９号に記載されているメチレンビス（ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類、例えば特に国際公開第９３／０４６６５号に記載されているもの；α―アルキルスチレンから誘導された二量体、例えば独国特許出願第１９８５５６４９号に記載されているものから選択される。
【００３３】
付加的なＵＶ―Ａ活性及び／又はＵＶ―Ｂ活性のある有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下に示すものが挙げられる：
パラ―アミノ安息香酸誘導体：
−  ＰＡＢＡ、
−  エチルＰＡＢＡ、
−  エチル―ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、
−  特にＩＳＰ社から「エスカロール（Ｅｓｃａｌｏｌ）５０７」の名称で販売されているエチルヘキシル―ジメチルＰＡＢＡ、
−  グリセリルＰＡＢＡ、
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌル（Ｕｖｉｎｕｌ）Ｐ２５」の名称で販売されているＰＥＧ―２５―ＰＡＢＡ。
【００３４】
サリチル酸誘導体：
−  ロナ（Ｒｏｎａ）／ＥＭインダストリーズ社から「ユーソレックスＨＭＳ」の名称で販売されているホモサラート（ｈｏｍｏｓａｌａｔｅ）、
−  ハーマンアンドレイマー社（ＨａａｒｍａｎｎａｎｄＲｅｉｍｅｒ）から「ネオ・ヘリオパン（ＮｅｏＨｅｌｉｏｐａｎ）ＯＳ」の名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
−  スケル社（Ｓｃｈｅｒ）から「ディピサル（Ｄｉｐｓａｌ）」の名称で販売されているジプロピレングリコールサリチラート、
−  ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
β，β´―ジフェニルアクリラート誘導体：
−  特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品名で販売されているオクトクリレン（Ｏｃｔｏｃｒｙｌｅｎｅ）、
−  特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名で販売されているエトクリレン（Ｅｔｏｃｒｙｌｅｎｅ）。
【００３５】
ベンゾフェノン誘導体：
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売されているベンゾフェノン―１、
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売されているベンゾフェノン―２、
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン―３又はオキシベンゾン、
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン―４、
−  ベンゾフェノン―５、
−  ノルクアイ社（Ｎｏｒｑｕａｙ）から「ヘリソーブ（Ｈｅｌｉｓｏｒｂ）１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン―６、
−  アメリカン・シアナミド社（ＡｍｅｒｉｃａｎＣｙａｎａｍｉｄ）から「スペクトラ―ソーブ（Ｓｐｅｃｔｒａ―Ｓｏｒｂ）ＵＶ―２４」の商品名で販売されているベンゾフェノン―８、
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ―４９」の商品名で販売されているベンゾフェノン―９、
−  ベンゾフェノン―１２。
【００３６】
ベンジリデンショウノウ誘導体：
−  チメックス社（Ｃｈｉｍｅｘ）から「メギゾリル（Ｍｅｘｏｒｙｌ）ＳＤ」の名称で製造されている３―ベンジリデンショウノウ、
−  チメックス社から「メギゾリルＳＬ」の名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸、
−  チメックス社から「メギゾリルＳＯ」の名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム、
−  チメックス社から「メギゾリルＳＸ」の名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
−  チメックス社から「メギゾリルＳＷ」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
フェニルベンゾイミダゾール誘導体：
−  特にメルク社から「ユーソレックス２３２」の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
−  ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＡＰ」の商品名で販売されているベンゾイミダジラート（ｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｉｌａｔｅ）。
【００３７】
トリアジン誘導体：
−  チバ・スペシャリティー・ケミカル（ＣｉｂａＳｐｅｃｉａｌｔｙＣｈｅｍｉｃａｌｓ）から「チノソーブ（Ｔｉｎｏｓｏｒｂ）Ｓ」の商品名で販売されているアニソトリアジン、
−  ２，４，６―トリス（ジイソブチル―４´―アミノベンザルマロナート）―ｓ―トリアジン。
ベンゾトリアゾール誘導体：
−  ロ−ディア・シミー社（ＲｈｏｄｉａＣｈｉｍｉｅ）から「シラトリゾール（Ｓｉｌａｔｒｉｚｏｌｅ）」の名称で販売されているドロメトリゾール（Ｄｒｏｍｅｔｒｉｚｏｌｅ）トリシロキサン、
−  チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社から「チノソーブＭ」の商品名で水性分散液として微小化形態で、もしくはフェアマウント・ケミカル（ＦａｉｒｍｏｕｎｔＣｈｅｍｉｃａｌ）から「ミキシム（ＭＩＸＸＩＭ）ＢＢ／１００」の商品名で固形形態のものとして販売されているメチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール。
【００３８】
アントラニル誘導体：
−  ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体：
−  エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
ベンザルマロナート誘導体：
−  ホフマン・ラロシェ社から「パルソールＳＬＸ」の商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン。
及びそれらの混合物。
【００３９】
特に好ましい有機ＵＶ遮蔽剤は次の化合物：
−  サリチル酸エチルヘキシル、
−  オクトクリレン、
−  フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
−  ベンゾフェノン―３、
−  ベンゾフェノン―４、
−  ベンゾフェノン―５、
−  ４―メチルベンジリデンショウノウ、
−  テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
−  フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
−  ２，４，６―トリス（ジイソブチル―４´―アミノベンザルマロナート）―ｓ―トリアジン、
−  アニソトリアジン、
−  メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
−  ドロメトリゾールトリシロキサン、
及びそれらの混合物、
から選択される。
【００４０】
さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料（一次粒子の平均粒径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ）、例えば、それ自体、ＵＶ光保護剤としてよく知られている酸化チタン（アモルファス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料をさらに含有してもよい。また、標準的なコーティング剤は、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナノ顔料としては、特に、欧州特許出願公開第０５１８７７２号及び欧州特許出願公開第０５１８７７３号に記載されているものがある。
また、本発明の組成物は、皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色にするための薬剤（自己サンタン剤）、例えばジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ）をさらに含有してもよい。
【００４１】
また本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカル捕捉剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α―ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、酸性化又は塩基性化剤、着色料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組成物の製造において通常使用されている任意の他の成分から選択される標準的な化粧品用アジュバントをさらに含有してもよい。
【００４２】
脂肪物質は油又はロウ又はそれらの混合物からなり得る。「油」という用語は、室温で液状の化合物を意味する。「ロウ」という用語は、室温で固体又は実質的に固体であり、その融点が一般的に３５℃を越える化合物を意味する。それらは、直鎖状又は環状の脂肪酸、脂肪アルコール、及び脂肪酸エステル、例えば安息香酸、トリメリト酸及びヒドロキシ安息香酸の誘導体を含み得る。
挙げることのできる油には、鉱物性油（パラフィン）；植物性油（スイートアルモンド油、マカダミア油、クロフサグスリ種油又はホホバ油）；合成油、例えばペルヒドロスクワレン、脂肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル（例えばファインテックス社（Ｆｉｎｅｔｅｘ）から「フィンソルブ（Ｆｉｎｓｏｌｖ）ＴＮ」の商品名で販売されているＣ１２―Ｃ１５安息香酸アルキル、パルミチン酸オクチル、ラノリン酸イソプロピル、カプリン酸／カプリル酸トリグリセリドを含むトリグリセリド類）、オキシエチレン化又はオキシプロピレン化された脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油（シクロメチコーン、及びポリジメチルシロキサン又はＰＤＭＳ類）又はフッ化油、及びポリアルキレン類が含まれる。
挙げることのできるロウ状化合物には、パラフィン、カルナウバロウ、ミツロウ及び硬化ヒマシ油が含まれる。
【００４３】
有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
言うまでもなく、当業者であれば、本発明の組成物に固有の有利な特性、特にトリアジン誘導体の光安定性が、考えられる添加により悪影響を受けないか、実質的に受けないように留意して、これ又はこれらの任意の付加的な化合物（類）及び／又はその量を選択するであろう。
【００４４】
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製のための技術により調製され得る。
これらの組成物は、特に、単一エマルション又は複合エマルション（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）の形態、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリームゲル；パウダー又は固形チューブの形態であってもよく、また、任意にエアゾールとして包装されてもよく、ムース又はスプレーの形態であってもよい。
エマルションである場合、このエマルションの水相は、公知の方法［バンガム（Ｂａｎｇｈａｍ）、スタンディッシュ（Ｓｔａｎｄｉｓｈ）及びワトキンス（Ｗａｔｋｉｎｓ）、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｂｉｏｌ．１３，２３８（１９６５）、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００４５】
本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日光組成物として又はメークアップ製品として使用することができる。
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒトの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばミルク又はクリーム、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、固形チューブ、パウダー、スティック、エアゾールムース又はスプレーの形態にすることができる。
【００４６】
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線から毛髪を保護するために使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態にすることができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、又はパーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化の処理前、処理中又は処理後に適用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネントウエーブ処理、毛髪のストレート化、染色又は脱色のための組成物を構成し得る。
組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚用のメークアップ製品、例えば、表皮用トリートメントクリーム、ファンデーション、口紅チューブ、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、それは固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液であり得る。
【００４７】
指針として、水中油型エマルション型の担体を有する本発明の抗日光組成物において、水相（特に親水性の遮蔽剤を含有する）は、組成物の全重量に対して、一般的に５０重量％〜９５重量％、好ましくは７０重量％〜９０重量％、油相（特に親油性の遮蔽剤を含有する）は、組成物の全重量に対して５重量％〜５０重量％、好ましくは１０重量％〜３０重量％、（共）乳化剤（類）は、組成物の全重量に対して０．５重量％〜２０重量％、好ましくは２重量％〜１０重量％である。
【００４８】
本記載の最初に挙げたように、本発明の主題の一つは、紫外線、特に太陽光線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用組成物の調製における上述した組成物の使用にある。
【実施例】
【００４９】
以下に、本発明を例証するものであって限定するものではない具体例を付与する。
【表１】
2004517096.tif 000018
【００５０】
【表２】
2004517096.tif 000019
【国際公開パンフレット】
2004517096.tif 000033
2004517096.tif 000034
2004517096.tif 000035
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2004517096.tif 000070
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004517096.tif 000071
【国際調査報告】
2004517096.tif 000072
2004517096.tif 000073
2004517096.tif 000074
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2004517096.tif 000077
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