(57)【要約】液晶装置で、基板１が、少なくとも２つの安定もしくは準安定の液晶配向に、異なる方向を与えるように有利に働き、液晶材料を配向間で切り換えさせる切り換え手段が、前記装置を光照射するように構成された手段を含む。光照射手段は、液晶に回転力を誘導して配向方向を決定するために直線偏光３を提供すること、および場合によっては補助および切り換えのための電場Ｖのような第２のエネルギー供給手段と協働することもできる。場合によっては、液晶の配向は、切り換えを補助する熱を生じる役目を果たす電場、光といった第２のエネルギー供給手段によって切り換えられることができる。エネルギー源のいずれかもしくは両方は、選択された領域もしくは画素の切り換えのために局所的に加えられることができる。双安定の基板でのエネルギー準位は、（スベリ表面の）オリゴマー添加剤を使用することによって調節されることができる。
2004504629.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面と接触する液晶材料を含む液晶装置であって、前記表面が、表面での少なくとも第１と第２の安定もしくは準安定の液晶配向に、それぞれ第１および第２の異なる方向を与えるように有利に働き、液晶装置は、さらに、前記配向の間で液晶材料を切り換えさせるための切り換え手段を含み、前記切り換え手段が、前記装置を光照射するように構成された第１のエネルギー供給手段を含む装置。
【請求項２】
前記第１のエネルギー供給手段が、効果的に前記第１と第２の配向のうちの一方を前記第１と第２の配向のうちの他方よりもエネルギー的に有利にしないようにするために選択されるまたは選択可能な、偏光方向とスペクトル成分の直線偏光を提供するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１のエネルギー供給手段が、前記第１と第２の配向の間で液晶配向を変えるように効果的に回転力を液晶分子に誘導するために選択されるまたは選択可能な、偏光方向とスペクトル成分の直線偏光を提供するように構成される、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記液晶材料が２色性添加剤を含まず、前記スペクトル成分が液晶材料の吸収帯域を含む、請求項２または３に記載の装置。
【請求項５】
前記液晶材料が、液晶ホスト中の２色性添加剤を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記スペクトル成分が前記２色性添加剤の吸収帯域を含む、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記スペクトル成分が前記液晶ホストの吸収帯域を含む、請求項５に記載の装置。
【請求項８】
前記切り換え手段が、さらに、前記液晶材料の前記配向間の切り換わりを補助するために第２のエネルギー供給手段を含む、請求項２から７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記第２のエネルギー供給手段が、既存の液晶配向を不安定にするように液晶材料にエネルギーを加えるように構成される、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記第２のエネルギー供給手段からのエネルギーが、前記基板でホメオトロピック配向を誘導させ易いようなものである、請求項８または９に記載の装置。
【請求項１１】
前記第２のエネルギー供給手段からのエネルギーが、前記基板で平面配向を誘導させ易いようなものである、請求項８または９に記載の装置。
【請求項１２】
前記第２のエネルギーが電場によって供給される、請求項８から１１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１３】
前記第２のエネルギー供給手段が、前記配向間の液晶材料の前記切り換わりを促進するように構成されるが、第２のエネルギー供給手段自体で前記切り換わりを引き起こすのに不充分である、請求項８から１２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１４】
前記配向間の液晶材料の切り換わりを補助するために第２のエネルギー供給手段をさらに含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
前記第２のエネルギー供給手段が、前記配向のうちのどれを採用するかを決定するように構成される、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記第１のエネルギー供給手段が、装置と協働して光吸収による熱を発生し、前記第２のエネルギー供給手段との協働で前記切り換わりを引き起こす、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記第２のエネルギー供給手段からのエネルギーが、前記基板でホメオトロピック配向を有利にするようなもの、または前記基板でホメオトロピック配向を有利にするように選択可能である、請求項１５または１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記第２のエネルギー供給手段からのエネルギーが、前記基板で平面配向を有利にするようなもの、または前記基板で平面配向を有利にするように選択可能である、請求項１５から１７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１９】
前記第２のエネルギーが電場によって供給される、請求項１４から１８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２０】
前記液晶材料が、前記第１と第２の配向の間のエネルギーを低減させるためのオリゴマーを含む、請求項１から１９のいずれかに記載の装置。
【請求項２１】
第１のエネルギー供給手段が、装置を局所的に照射するように構成される、請求項１から２０のいずれかに記載の装置。
【請求項２２】
第１の配向が平面配向である、請求項１から２１のいずれかに記載の装置。
【請求項２３】
第２の配向が平面配向である、請求項１から２２のいずれかに記載の装置。
【請求項２４】
第２の配向がホメオトロピック配向である、請求項１から２２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２５】
基板表面と接触する液晶の配向を制御する方法であって、前記基板表面が、基板表面での少なくとも第１と第２の安定もしくは準安定の液晶配向に、それぞれ第１および第２の方向を与えるように有利に働き、装置を光照射するステップを含む方法。
【請求項２６】
前記光照射するステップが直線偏光の提供を含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記直線偏光が、液晶分子に回転力を効果的に課すか、もしくは液晶分子を効果的に回転させるようなものである、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記光照射するステップが非偏光の提供を含む、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記非偏光が液晶材料中で熱を発生させる、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
配向を制御するために、前記装置にさらなるエネルギー入力を供給する追加のステップを含む、請求項２５から２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
前記さらなるエネルギー入力が電場である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記光照射が、前記さらなるエネルギー入力が停止した後も継続する、請求項３０または３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記さらなるエネルギー入力が、前記光照射が停止した後も継続する、請求項３０または３１に記載の方法。
【請求項３４】
前記さらなるエネルギー入力が局所的に加えられる、請求項３０から３３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５】
前記光照射が局所的に当てられる、請求項２５から３４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３６】
一方の配向が平面配向である、請求項２５から３５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３７】
他方の配向が平面配向である、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
他方の配向がホメオトロピック配向である、請求項３６に記載の方法。
【請求項３９】
液晶相にオリゴマーを提供するステップを含む、請求項２５から３８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０】
請求項１から２４のいずれか一項に記載の装置を含むディスプレー。
【請求項４１】
複数の光学装置を含み、少なくとも１つの前記光学装置が、請求項１から２４のいずれか一項に記載の装置である光学システムまたはディスプレー。
【請求項４２】
前記複数の装置が、各々請求項１から２４のいずれか一項に記載の装置である、請求項４１に記載の光学システム。
【請求項４３】
前記複数の装置が共通の平面にタイル状に構成される、請求項４２に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、液晶装置に関し、特に、しかし排他的ではなく、空間光変調器に関連する。
【０００２】
液晶のホスト材料に異方性の２色性材料もしくは染料を組み入れること、および／または少なくとも１つの液晶成分が有意な２色性を有する液晶材料を提供することは知られている。「ホスト−ゲスト」装置として知られる或るタイプの装置では、ゲスト染料分子が、ホスト液晶材料の分子と協働して配向する。例えば電界の印加による液晶配向の切り換えは、染料分子の再配向を引き起こし、それによって装置の光学的特性、特に吸収もしくは色彩が変化する。
【０００３】
しかしながら、例えば染料の吸収帯域にある直線偏光に染料分子を晒すことによって染料分子を操作し、それにより液晶配向に影響を与えることもやはり可能である。偏光は、染料分子の効果的な再配向を生じ易く、これが他方では液晶ホスト材料に小さな回転力を発生させ、そのダイレクタ（ｄｉｒｅｃｔｏｒ）を入射光の偏光方向から遠ざかるようにする。液晶分子が、偏光を直接的に吸収する場合では、同様の効果が起こるが、染料の媒介は無い。
【０００４】
基板の表面に隣接する液晶相の配向が、とりわけ基板表面の特性に左右されることもやはり知られている。エネルギー的に有利である単一の配向を表面に誘導するために、基板表面はしばしば、例えば、ポリマーフィルムをラビングすることや、蒸着することによって処理されるが、エネルギー的に有利である複数の配向が基板表面に生じるように、基板表面を処理することが可能であることは知られている。有利な配向は、あまりエネルギー的に有利ではない介在する配向によって隔てられる、すなわち有利な配向の間にエネルギーバリヤが存在するであろう。有利な配向は、介在する配向に関してエネルギーの面で同等であってもなくてもよいし、あるいは同等に有利であってもよく、後に例を示すように、エネルギーバリヤの高さの制御もある程度存在する。或るケースでは、特に第１の配向が、第２の配向よりもエネルギーの面で安定な場合では、エネルギーバリヤは、第２の配向に関して充分に低くてもよく、例えば第２の配向が準安定状態と考えられるように、第１の配向への緩和が、雰囲気もしくは供給される熱エネルギーに応答して生じる。
【０００５】
少なくとも殆どのケースで、この表面は、各々の安定な配向に対応する処理を受けるであろう。この処理は、各配向についての同じタイプの処理が使用されてもよく、例えば２つの異なる配向されたグレーティング、もしくは２つの異なる角度からの斜め蒸着であってもよく、あるいは、配向のうちの異なるものについて異なるタイプの処理が使用されてもよく、例えば平面配向（ｐｌａｎａｒ　ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のためのグレーティング、およびホメオトロピック配向（ｈｏｍｅｏｔｒｏｐｉｃ　ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）を誘導するための材料コーティングのような表面プロファイルが使用されてもよい。
【０００６】
したがって、基板表面に少なくとも２つの有利な配向を提供する１つの方法は、共通の領域にわたって異なる方向に延びる２セットの平行線（グレーティング）によって規定されるような、適切な表面レリーフパターンを提供することである。深さに応じて、結果的に得られるパターンは、平坦な表面上で分離されたピラーのアレーから、なだらかに変化する「エッグボックス」パターンまで変わることができる。平行線の各セットの通常の間隔は約１ミクロンであり、２つの有利な配向については、２セットの平行線は９０°もしくはそれよりも小さい角度で交差してもよい。有利な液晶相配向にある２つの方位角方向は、対応する角度によって異なることが予期される。このタイプの構成は、「方位角的双安定（ａｚｉｍｕｔｈａｌｌｙ　ｂｉｓｔａｂｌｅ）」として知られており、その詳細は英国特許第０７４４０４１号に見出されるであろう。
【０００７】
場合によってとられる構成では、基板が、所定の方向の平面配向に安定性を与えるように構成される、一方向性の正弦波状グレーティングのような表面レリーフパターンを含む。通常、グレーティングの表面の波形状は、高さ１ミクロン以下であり、フォトリソグラフィあるいはエンボス加工によって形成される。グレーティングの上に設けられるのは、隣接する液晶材料のホメオトロピック配向を誘導するための層である。
【０００８】
ホメオトロピック配向層と表面レリーフパターンは、隣接する液晶のバルクの配向の規定を競合する。配向は、グレーティングの深さが、そのピッチよりもはるかに小さいかはるかに大きいかに応じて、ホメオトロピック配向になるか平面配向になる傾向にあるが、しかしピッチに対する深さの比を、これら２つの極端の間になるように調整することによって、液晶チルト角度に対するエネルギーのプロット（ホメオトロピック配向のエネルギー最小値が、平面配向のエネルギー最小値の両側にある単なる例の方式で示される）として図１に図式的に示したように、双安定領域は、いずれかの配向が（配向の方向が変わると、それぞれのエネルギー最小値に対応する）安定度を有するように配向される。２つの配向の方向は、同じ方位角方向を有してもよく（すなわち同じ方位角平面にある）、あるいはそうでなくてもよい。概して、２つのタイプの配向についてのエネルギー最小値は、等しくてもそうでなくてもよく、等しくないケースでは、いずれかの配向が、部分的には表面レリーフパターンの深さに対するピッチの比によって決定されるであろう、さらに有利な配向に対応するさらに低いエネルギー最小値を有する可能性がある。
【０００９】
表面レリーフパターンの正確なプロファイルは、チルト角度に双安定を確立するのに比較的重要でないように見えるが、それは、２つの有利な配向の間のエネルギーバリヤ、および／または平面配向のための付随するエネルギー最小値に寄与する可能性がある。図１が、必ずしも平面配向とホメオトロピック配向である必要のない２つの安定な配向が、「チルト角」または「天頂角（ｚｅｎｉｔｈａｌ　ａｎｇｌｅ）」の異なる値を有するさらに一般的なケースの例であること、および本発明が、図１に示された状況に限定されず、さらに一般的なケースに及ぶことに留意すべきである。
【００１０】
この構成では、「平面」配向はときには、高チルト角を有することがあり、ときには液晶もしくはネマティックダイレクタに一対の線欠陥を有することで特徴付けられるがゆえに、欠陥状態と呼ばれることがある。安定な平面状態とホメオトロピック状態を有して、液晶ダイレクタが、同じ方位角平面にある構成は、「天頂角双安定構成」として知られ、そのさらなる詳細は、例えば発明者らの英国特許第２３１８４２２号、および発明者らの公告特許出願ＰＣＴ／ＧＢ９８／０３７８７（ＷＯ９９３４２５１号）に見出されるであろう。
【００１１】
他の双安定表面が、天頂角と方位角の両方で異なる少なくとも２つの有利な配向方向を有するであろうことは、理解されるはずである。例えば、二酸化ケイ素を、天頂角と方位角の両方で２つの異なる方向から斜めに堆積することができる。
【００１２】
例えばフォトリソグラフィ技術によって形成されたグレーティングの形の表面プロファイルが、上記で特に述べられたが、斜め蒸着のように、表面プロファイルを提供する他のいかなる方法が使用されてもよい。
【００１３】
さらに、上記で特に説明した２つの双安定構成の両方が、表面プロファイルを含むが、表面プロファイルが、必ずしも表面に複数の安定配向を提供するのに必要でないことは留意されるべきである。上記の交差グレーティングの例のように、各々の好ましい方向について適用される同じ技術の使用によって課されようと、または上記で例示したグレーティングとホメオトロピック表面のケースのように、各々の好ましい方向について異なる技術を使用することによって課されようとも、複数の配向が、エネルギー的に有利であるいかなる構成も使用することができる。
【００１４】
さらに、基板表面の各部分が、両方の配向を有利にするように構成されることは絶対要件ではない。例えば、基板に適切に寸法設定され、かつ／または形状付けられた各２つの混じり合ったセットが、処理されて異なる配向を生じることは可能であり、その後すぐに、いったん領域の１つのセットによって採用されて有利になると、それらの配向のいずれかが、領域の他のセットによって有利な配向に打ち勝つように構成されることも可能である。こうして２つの交互配置されたストライプのセットは、表面処理、コーティング、および／またはプロファイリングといった上述した技術のいずれかを使用して異なって処理され、一方のセットでは有利な平面配向を生じ、他方のセットでは有利な異なる方向の第２の平面配向もしくはホメオトロピック配向を生じる。
【００１５】
液晶材料への適切な添加剤の準備も含めて、液晶材料を慎重に選択することによって、かつ上記に示したように、知られている方法で基板表面を適切に選択および／または処理することによって、２つの有利な配向状態の間のエネルギーバリヤを制御することができる。また、１つの双安定（もしくは多安定）基板とさらなる基板の間に液晶材料の層を含むアセンブリ装置では、他の基板表面に課された配向が、一方の基板で安定状態のエネルギーを変えることもあり得る。
【００１６】
液晶相と表面の間の相互作用を変更する比較的最近の開発は、例えば国際特許出願ＰＣＴ／ＧＢ９８／０３０１１（ＷＯ　９９１８４７４号）（Ｈｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ）に述べられているように、「スベリ（ｓｌｉｐｐｅｒｙ）表面」の名称である。液晶材料中の、一般的にはオリゴマーである添加剤は、基板表面の近傍に集中し易い巨大分子を提供する。結果的に得られる、基板から離れる液晶相の逆方向濃度勾配は、基板および／または基板上の何らかの配向層と液晶との相互作用を低減させ、したがって隣接する液晶材料の配向を、基板および／または基板上の何らかの配向層によって誘導された配向から変化させるのに要するエネルギーを低減させると考えられる。実際には、或る濃度でそのような添加剤は、平面配向表面がその配向方向に関して完全な縮退を有することを可能にするであろう。そのような添加剤の存在は、例えば上述したように、基板表面によって誘導された２つ以上の異なる有利な配向の間のエネルギーバリヤを減少させることによって、本発明の遂行を容易にすることができる。
【００１７】
本発明は、基板表面に接触する液晶材料を含む液晶装置であって、前記表面が、表面での少なくとも第１と第２の安定もしくは準安定液晶配向に、それぞれ第１および第２の異なる方向を与えるように有利に働き、液晶装置が、さらに、液晶材料を前記配向間で切り換える切り換え手段を含み、前記切り換え手段は、前記装置を照明するための照射手段を有する液晶装置を提供する。本発明は、そのような装置を含むディスプレー、および例えば共通平面にタイル状に構成される複数のそのような装置を含むディスプレーもしくは光学システムにまで及ぶ。
【００１８】
本発明はまた、基板表面に接触する液晶材料の配向を制御する方法を提供し、基板表面は、基板表面での第１と第２の安定もしくは準安定な液晶配向に、それぞれ第１および第２の異なる方向を与えるように有利に働き、装置を光照射するステップを含む。
【００１９】
照射手段からくる光は、装置に第１のエネルギー入力を供給し、液晶材料に直接的または間接的に作用することもあり得る。したがって本発明のいくつかの実施形態では、上述されたように、非偏光の光ビームが、準安定の配向からより一層安定な配向へと変換させるために、単独で充分な熱エネルギーを供給することもあり、あるいは熱エネルギーが、以下により詳細に説明するように、第２の配向が、（電場または磁場のような）何らかの他のエネルギー入力の方向性の影響下で有利に採用され得るように、現存の配向もしくは液晶相を壊すのに充分であることができる。
【００２０】
本発明の別の実施形態では、当該技術で知られているように、直接的もしくは間接的のいずれかで液晶分子に効果的な回転力を課すために、あるいは第１と第２の配向のうちの一方を、第１と第２の配向のうちの他方に関してエネルギーの面でより一層有利にするために（これは有効回転（ｅｆｆｅｃｔｉｖｅ　ｒｏｔａｔｉｏｎ）と呼ばれてもよい）、この光は直線偏光であってもよい。
【００２１】
例えば、アゾ化合物、スチルベンあるいはシッフ塩基のように二重結合を含む材料は、普通は低エネルギーのトランス異性体と高エネルギーのシス異性体を有する。二重結合は、可視域もしくは可視域近傍の波長の光を吸収するが、二重結合に関して一方向の偏光を優先的に吸収し、その材料は正の２色性となる。励起状態では、分子は、シス異性体への変換に結果的につながる一連の変化を受けることがあり得る。後に結果として生じるエネルギー的に有利なトランス異性体への緩和は、初期の配向と同様の分子配向、または初期配向に関して有効回転される配向につながることができる。異方性の条件下では、初期配向と回転された配向を区別するものはないが、偏光照明でもって、トランス異性体の配向の一方が優先的に光を吸収し、最終的には大部分の分子がトランス配向となって、入射偏光の吸収を最少限にする。
【００２２】
事象の通常のシーケンスは、図２に図式的に描かれており、そこでは（ａ）はエネルギー的に有利なトランス状態にある本来の配向のアゾ分子を示し、（ｂ）は偏光ｈν１の吸収から生じるさらに高いエネルギーのシス状態を示す。熱および放射（ｈν２）のメカニズムを含む多くのメカニズムを介して、分子（ｂ）は、元の状態（ａ）に戻るか、または分子の長軸方向が、有効回転したトランス状態へと進むことができる（図示したようにこれは紙面で真の回転ではないが、長軸についての分子の回転がエネルギーの面で相対的に容易であり、これが起きても起きなくても、いかなるケースでも誘導されることになる液晶の配向との関連で無関係であることを理解するであろう）。
【００２３】
例えば、照射光のスペクトル成分が、液晶材料の吸収帯域を含む場合、それは、液晶材料に直接的に作用する可能性がある。したがって液晶材料は、液晶の配向の変更を可能にするために２色性添加剤を含む必要がない。さもなければ、照射光のスペクトルの外側にある吸収スペクトルを有する２色性添加剤は、他の目的、例えばゲスト−ホスト可変吸収／色彩装置のように所望の光学的変化を示すために提供されることがあり得る。
【００２４】
場合によっては、液晶材料は、液晶ホスト中に２色性添加剤がある形であってもよく、そこでは照射光の前記スペクトル成分は、２色性添加剤の吸収帯域を含む。このケースでは、２色性添加剤は、照射に直接的に応答し、次に液晶分子に有効回転力を及ぼす。
【００２５】
液晶材料を、光学偏光方向を横切って配向させる傾向がある、正の２色性添加剤に対して参照されたが、液晶を回転させて偏光方向と平行にさせる傾向のある負の２色性材料を使用することは、本発明の範囲内である。
【００２６】
偏光によって誘導される直接的もしくは間接的な回転力は、それ自体、有利な配向間のエネルギーバリヤを克服するのに充分であることもあり得る。回転力が不充分である場合、光の入射エネルギーで充分であるように、エネルギーバリヤを小さくするために液晶材料と基板との間の相互作用を変更すること、あるいは第２の形のエネルギーを入力することによって再配向を補助することのいずれかが可能である。
【００２７】
第１の選択肢で、前述の説明は、既に配向間のエネルギーバリヤを小さくする２つの方法、つまり表面の幾何学形状を変更することによるもの、および「スベリ表面」を提供するために添加剤を組み入れることによるものを簡単に考察しており、これらのいずれかもしくは両方が、本発明の遂行のために利用されることができる。
【００２８】
第２の選択肢で、再配向は、照射手段からの光が供給される液晶材料にエネルギーを効果的に入れることによって補助されることができる。液晶ホスト−ゲスト添加材料のケースでは、協働配向は、エネルギーがホスト材料またはゲスト材料のいずれかに供給されてもよく、これらのどちらが偏光によって励起されるかは無関係であることを意味している。
【００２９】
第２のエネルギーは、第２のエネルギー自体で液晶材料の配向を変えるのに充分である場合もあるが、最終的な配向は、それでも照射手段から入る光学的入力によって決まる（下記のケースＡの２つのパラグラフ参照）ことができ、あるいは再配向は、照射手段から入る光学入力が、第２のエネルギー入力と組み合わされて作用することを必要とする（下記のケースＢの２つのパラグラフ参照）ことがある。
【００３０】
配向を変えるのに液晶を励起するために、電場もしくは磁場の印加、電流通過（イオン輸送）、および音響照射を含めて数多くの方法が知られている。
【００３１】
これらのうちおそらく電場の印加が、最も容易に達成できそうであり、しばしば最も効果的である。例えば、液晶の配向が、第１と第２のホモジニアスな（平行）状態の間で切り換えられ、正の誘電異方性を有する場合、第１の状態で層の厚さを横切る電場を印加してホメオトロピック（直角）配向を誘導することは、その後、適切に方向を決められた直線偏光の影響下で電場を停止すると、液晶材料が第２の状態を有利にとることを可能にする（ケースＡ）。確かに、たとえ電場の大きさ（または何らかの他のエネルギー供給手段の作用の大きさ）が、別の配向を生じるのにそれ自体不充分であるとしても、元の有利な配向のエネルギーは、偏光が加えられると第２の配向への液晶材料の再配向を補助するのに充分なほどに高められる可能性がある（ケースＢ）。
【００３２】
２つの基板の間に層が挟み込まれるとき、層の厚さを横切って電場を印加するために、各々の基板が連続的な電極を担持してもよい。特に互いにかみ合った電極の両方の部分が同じ方法で給電される場合に、いずれかもしくは両方の連続的な電極は、同じ目的で互いにかみ合った電極に置き換えられることができる。
【００３３】
互いにかみ合った電極はまた、層の平面に電場を印加するのに使用されることもできる。例えば、正の誘電異方性の液晶材料の平面配向を切り換えることで、液晶材料を有利な配向間で最大のエネルギー状態もしくはその近傍に置くために、２つの有利な配向方向を有する基板上で互いにかみ合った電極が使用されることがある。適切な偏光方向と強度の直線偏光の存在下で電場を取り除くことは、偏光方向により決定される有利な配向への液晶の緩和を誘導する。
【００３４】
多くのケースで、照射光の偏光方向は、結果的に生じる液晶の配向を、特に他のエネルギー入力が供給されない場合に、単独で決定する可能性がある。これはまた、第２のエネルギー入力は供給されるが、結果的に生じる配向に影響を与えることのできる方向特性を有していない場合にも当てはまる。
【００３５】
しかしながら、或る他のケースでは、第２のエネルギー入力が、方向性を有して、結果的に生じる配向に影響を与えることのできるものであり、例えば電場である。これが望ましくない場合、第２のエネルギー入力は、照射光がオフにされる前に正常に消滅しなければならない。
【００３６】
場合によっては、もしも所望であれば、照射光の停止の後も第２のエネルギー入力を維持することが、結果的に生じる配向の第２のエネルギー入力による決定につながることもできる。
【００３７】
さらに、照射光が偏光でない場合、照射光はそれ自体で結果的に生じる配向を決定することができない。そのようなケースでは、結果的に生じる配向を決定するのは第２のエネルギー入力であり、照射光は、例えば直接的もしくは間接的のいずれかで液晶材料を加熱することによる、同様に液晶材料もしくはその成分、または液晶セルの他の成分の光学的吸収による、再配向を補助するのに少なめではあるが必要な機能を遂行することに属する。
【００３８】
多くのケースで、有利な配向間で両方向に切り換えを行なうために、照射手段から入力を供給することを含む同じタイプの方法が使用されるであろう。しかしながら、他のケースでは、少なくとも１つの切り換え方向が照射手段からの照射を含むという条件で、様々な切り換え方向のために様々な方法が使用されるであろう。
【００３９】
一方の配向が準安定であるケースを含む、有利な配向のエネルギー最小値が等しくない場合にこれは特にそうであり、それによってエネルギーバリヤは、切り換え方向によって決まる。例えば、より不安定もしくは準安定の配向から１つの方向への切り換えは、照射手段からの非偏光もしくは偏光しか必要としないこともあり得る。逆方向への切り換えは、単独もしくは照射手段からの適切な光と併せて使用される電場のような第２のエネルギー入力を必要とする可能性がある。場合によっては、１つの方向への切り換えが、第２のエネルギー入力によって影響を受け、逆方向への切り換えが、第２のエネルギー入力と照射手段からの適切な光との組み合わせを必要とすることもあり得る。
【００４０】
照射手段からの光は、装置の領域を横切って異なる配向を生じるように、局所的に当てられることもあり得る。電界のような第２のエネルギー入力もやはり必要とされる場合、いかなる時間でも装置の限定された領域だけが書き込まれ得るように、第２のエネルギーもやはり局所的に印加される。このケースでは、照射と第２のエネルギー入力のうちの一方が、広く加えられて他方が局所的に加えられ、それによって、どの領域を切り換えるかを局所的入力が決定することもできる。場合によっては両方の入力が、ことによると異なる分布で局所的に加えられ、それによって両方の入力が生じる領域だけが切り換えられる、すなわちＡＮＤ論理となることもあり得る。他の論理構成も当業者なら為し得る。
【００４１】
装置の選択された領域を切り換える可能性は、ディスプレーおよび光学的データ処理を含めたいくつかの目的に利用可能であることを意味する。例えば、発明者らの同時係属国際特許出願ＰＣＴ／ＧＢ９８／０１８６６（ＷＯ　９９００９９３）は、ディスプレーのアセンブリがタイル状に構成されたオートステレオスコープのディスプレーを述べており、国際特許出願ＰＣＴ／ＧＢ９８／０３０９７（ＷＯ　９９１９７６７）は、ホログラフィ目的の個別ディスプレーのアセンブリを示している。
【００４２】
本発明の他の特徴および利点は、参照される添付の特許請求項を考慮し、添付の図面を参照してなされる以下の本発明による例示的実施形態の説明を読むと明らかになるであろう。
【００４３】
第１の実施形態
２色性添加剤を含む液晶材料の層が、第１と第２の基板の間に挟み込まれる。第１の基板は、方位角的に双安定の配向（異なる方位角方向を有する２つの安定もしくは有利な平面配向）のための表面プロファイルを有し、第２の表面は、ラビングされたならば、平面配向を促進するタイプのポリマーのラビングされていない表面を含む。液晶材料は、第２の基板表面の（平面）配向を縮退させるのに充分であるが、第１の基板の表面の配向の双安定を壊すには不充分な濃度のスベリ表面添加剤を含む。この構造は、第１の基板表面の２つの双安定の配向のいずれかが、異なる方位角方向で液晶層を横切ってそれぞれ均一な平面状テクスチャを生じることを意味する。
【００４４】
充分な強度と液晶材料に対する適切な偏光方向の直線偏光を当てることは、一方の均一な平面状テクスチャを他方に、もしくはその逆に変換するのに充分である。偏光の強度は、他の因子の中でもとりわけ、第１の基板の表面幾何学形状、およびスベリ表面添加剤の濃度によって決定される、双安定の配向間のエネルギーバリヤによって決定されるであろう。
【００４５】
第２の実施形態
これは第１の実施形態と類似しているが、しかし（ａ）双安定の配向間のエネルギーバリヤは、２つの平面状テクスチャ間の変換を引き起こすのに、偏光単独では不充分となるような大きさであり（または、もしも充分な光強度の偏光源が、変換を引き起こすのに利用可能であると、それはセルに有害になる）、（ｂ）各々の基板は、液晶層の厚さを横切って電場を印加するための連続的な電極を設けられる。層にホメオトロピック配向を誘導するのに充分な強度で電場が印加され、その後、直線偏光の存在下で取り除かれるとき、第１の基板の液晶材料の配向は、偏光の方向によって決定される有利な配向へと緩和する。
【００４６】
図３（ａ）から３（ｄ）は、この実施形態の動作を図式的に描いており、方位角的に双安定の間にある液晶層３を含むセルのために、第１の電極が基板１に提供され、（非配向の）第２の電極が基板２に提供される。図３（ａ）から３（ｃ）は、直線偏光Ｌが、（液晶分子に回転力を誘導するのに効果的に）当てられる期間を網羅する。その期間内の図３（ｂ）で、基板電極間の電位差Ｖを印加することによってセルを横切って電場が印加されて、ホメオトロピック配向が生じる。電場が取り除かれると、基板１での配向は、照明Ｌの偏光方向によって決定される配向へと緩和する（図３（ｃ））。双安定の基板での液晶の配向は、スベリ表面の効果によって許容されるように、バルクの液晶層を通って他方の基板へと伝えられる（図３（ｄ））。
【００４７】
この実施形態は、装置が、電場が印加されるときのみ更新可能となり、そうでないときは安定であるという利点を有する。電場がそれ自体で、ホメオトロピック配向を生じるのに充分であり、その後に偏光を当てることによって決定される状態に緩和するように構成することは可能である。異なる光学的偏光で様々な領域を選択的に照明することによって、画像を書き込むことができる。
【００４８】
しかしながら、光学的および電気的の両方でアドレス指定される液晶の部分だけが、ホメオトロピック状態にされるように構成することもやはり可能であり、そのケースでは、セルを選択的に空間的光学的アドレス指定することが、セルの選択領域だけの書き込みとラッチを可能にさせ、単一の電極対で複雑な画像を、例えば高密度画像および画像もしくはデータの記憶のために、書き込む可能性を生じさせる。
【００４９】
実験では、方位角的に双安定のグレーティング表面は、清浄なガラス基板をエッチングされた酸化インジウム−スズでコーティングすることによって準備された。Ｓｈｉｐｌｅｙ　Ｅｕｒｏｐｅ　Ｌｉｍｉｔｅｄにより供給されるフォトレジストＭｉｃｒｏｐｏｓｉｔ　Ｓ１８０５が、このコーティングの上にスピンコートされて、名目上０．５ミクロンの厚さの層を生じた。その後、１ミクロンピッチの２値のグレーティングマスクが、フォトレジストに接して置かれ、広帯域のＵＶ光源（約１５０ｍＪ／ｃｍ２で３６５ｎｍ、４０４ｎｍ、および４３５ｎｍ）を使用して露光された。その後、グレーティングが９０°回され、露光が繰り返された。仕様書に従って露光されたフォトレジストを現像させた後に、１５分間ＵＶ光によるソフトベーク（約９ｍＷ／ｃｍ２で２５４ｎｍの光）を行ない、１８０℃で２時間ハードベークを行なった。上記の基板および同様の処理された基板を使用するが、しかしながら、グレーティングを形成するためにフォトレジストを露光することなくセルを構築した。基板間の隙間は、名目上５ミクロンであり、室温でネマティック相であるＭｅｒｃｋ社の標準混合物Ｅ６３を使用して充填された。この混合物に、やはりＭｅｒｃｋ社の２色性染料Ｄ２を２重量パーセント、および３Ｍ　Ｂｅｌｇｉｕｍ　Ｎ．Ｖ．から供給されるオリゴマー３Ｍ　Ｆｌｏｕｒａｄ　ＦＣ４３０を２重量パーセント加えた。染料は、４８７ｎｍに吸収ピークを有し、６００ｎｍ近くでゼロに低下する。
【００５０】
偏光方向を制御するための回転可能な１／２波長板を介して、セルで１ｍｍ２のガウスビームプロファイルを示す２０ｍＷのアルゴンイオンレーザ（波長４４８ｎｍ）を使用して、セルのアドレス指定を行なった。セルの光学的応答は、５ｍＷのＨｅＮｅレーザ（波長６６３ｎｍ）からの直線偏光ビームに加えて、セルにおいてアルゴンイオンレーザのスポットサイズよりも小さいスポットサイズに焦点集束させる直線偏光子を使用してモニタした。６３３ｎｍの光の放射強度は、リニア検光子、およびＨｅＮｅ光以外はほぼすべての可視波長を除外するノッチフィルタが取り付けられたフォトダイオードによって検出した。二極性の電気パルスで装置をアドレス指定し、セルをホメオトロピック状態に切り換えた。互いに９０°に配向する双安定の液晶セルを、垂直方向と水平方向に設定し、それに対して偏光子と検光子は、それぞれプラス４５°とマイナス４５°にそれぞれ設定した。安定状態は、交差した偏光子間で同等の光学透過率を有するので、２つの状態を見分けるために１／４波長板をセルの後ろに組み入れた。
【００５１】
図４および５には装置の切り換えが描かれており、約５０秒間の時間期間にわたって時間ｔの関数で透過率Ｔを示している。垂直方向（図４）および水平方向（図５）のいずれかの直線偏光の４８８ｎｍの照明を当てている間で、８０ｍＶで１０ｍｓｅｃの二極性電気パルスＶＰをもまた印加し、これがオシロスコープによるデータ収集にトリガをかけた。引き続いて約５秒後の時点Ｔ１で照明を除くと、液晶は最終的な配向に（おそらく数百ミリ秒の間で）緩和することが可能となり、図４と５の最終部分の比較で理解できるように、これは４８８ｎｍ照明の偏光方向によって選択することができた。
【００５２】
セルの挙動のさらなる知見は、約２００秒間の時間期間にわたって時間ｔの関数として透過率Ｔを示す図６および７を考慮することから得ることができる。図６で、セルは以下の一連のステップをとられる。
１１．水平方向の偏光オン、
１２．電圧パルス印加、
１３．水平方向の偏光オフ、
１４．水平方向の偏光オン、
１５．電圧パルス印加、
１６．水平方向の偏光オフ、
１７．垂直方向の偏光オン、
１８．電圧パルス印加、
１９．垂直方向の偏光オフ、
２０．垂直方向の偏光オン、
２１．電圧パルス印加、
２２．垂直方向の偏光オフ。
【００５３】
これは、アドレス指定のサイクル、すなわちステップ４から６、および１０から１２の繰り返しの正味の作用が無いことを示す。しかしながら、ステップ１７から１９のように、新たな配向を特定するアドレス指定するサイクルが実行されると、液晶の配向は、第２の安定状態に変化する（ステップ１８）。
【００５４】
図７は、電圧パルスの必要性を例示するものであって、以下の事象のシーケンスを示す。
３１．水平方向の偏光オン、
３２．電圧パルス印加、
３３．水平方向の偏光オフ、
３４．垂直方向の偏光オン、
３５．垂直方向の偏光オフ、
３６．垂直方向の偏光オン、
３７．電圧パルス印加、
３８．垂直方向の偏光オフ。
【００５５】
水平方向の偏光照明を伴なうステップ３１から３３は、セルの状態に影響を与えるように意図されていないが、水平方向の偏光照明によって誘導される状態にあることを確実にする。同様に印加電圧の不在下で垂直偏光の照射を伴なうステップ３４と３５は、セルの状態を変えない。しかしながら、垂直方向偏光で照明するステップ３６から３８の間に、電圧パルス３７を挿入すると、状態の変更にトリガがかかり、ステップ３８で照明を取り除くと液晶の配向が変わる。
【００５６】
第３の実施形態
２色性添加剤を含む液晶材料の層は、第１と第２の基板の間に挟み込まれ、第１の基板は、方位角的に双安定の表面配向を提供する表面プロファイルを有し、第２の表面は、第１の基板での有利な配向のうちの一方と平行の平面配向を表面で促進するようにラビングされたポリマー表面を含む。装置の一方の状態で、液晶層を横切って均一な平面状テクスチャが存在し、他方の状態で液晶が捻じられるように、第２の基板での平面配向は持続する。液晶材料はまた、エネルギーを均一にし、かつ捻じれた状態を概して（かつ好ましくは実質的に）等しくさせて、それにより、適切な直線偏光方向と強度の光を当てることで配向の間の切り換えを容易にするようにカイラル添加剤をも含む。
【００５７】
場合によっては、液晶材料は、第１および第２の実施形態のようにではあるが、第２の表面での平面配向が無効化されるほど高濃度ではない程度に、スベリ表面添加剤を含んでもよく、および／または装置が、第２の実施形態のように層の厚さを横切る電場を印加するための電極を含んでもよい。
【００５８】
第４の実施形態
２色性添加剤を含む液晶材料の層は、第１と第２の基板の間に挟み込まれ、第１の基板は、方位角的に双安定の表面配向を提供する表面プロファイルを有し、第２の表面は、第１の基板での有利な配向の間の平面配向を表面で促進するようにラビングされたポリマー表面を含む。その構造は、層の厚さを横切って通過すると、第１の基板で採用された配向に応じて、配向が一方の方向もしくは他方に捻じれるようにされる。
【００５９】
装置の２つの状態のエネルギーは、実質的に等しいことが好ましいが、しかしこれは、第１の基板での有利な配向間のエネルギーの関係によって決まる。第２の基板での配向が、第１の基板での有利な配向間のエネルギー最大値に対応する方向と実質的に平行であることが好ましい。第１の基板での２つの有利な配向のエネルギーが等しい場合、この方向は、有利な配向間の中間となる可能性がある。第１の基板での２つの有利な配向のエネルギーが等しくない場合、この方向は、有利な配向間の中間となるかそうならない可能性がある。しかしながら、第２の基板での配向は、偏光（もしくは他の何らかのエネルギー入力）の強度が、再配向に充分であるという条件で、理想的な位置から逸脱し得る。
【００６０】
場合によっては、液晶材料は、第１および第２の実施形態のようにではあるが、第２の表面での平面配向が無効化されるほど高濃度ではない程度に、スベリ表面添加剤を含んでもよく、および／または装置が、第２の実施形態のように層の厚さを横切る電場を印加するための電極を含んでもよい。
【００６１】
第５の実施形態
２色性添加剤を含む液晶材料の層は、第１と第２の基板の間に挟み込まれ、第１の基板は、方位角的に双安定の表面配向を提供する表面プロファイルを有し、第２の表面は、ホメオトロピック配向を表面で促進するように処理された表面を含む。一方の基板から他方へと通ると、第１の基板での配向方向に関係無く配向方向において捻じれが存在し、それによって装置の２つの状態のエネルギーは、（第１の基板での配向間のエネルギーの関係に応じて）概してもしくは実質的に等しくなる。
【００６２】
場合によっては、液晶材料は、第１および第２の実施形態のようにではあるが、第２の表面での平面配向が無効化されるほどでない量で、スベリ表面添加剤を含んでもよく、および／または装置が、第２の実施形態のように層の厚さを横切る電場を印加するための電極を含んでもよい。
【００６３】
第１から第５の実施形態の各々で、第１の基板での２つの有利な方位角的配向は、互いに９０°であることが好ましい。
【００６４】
第６の実施形態
第１から第５の実施形態は、方位角的に双安定の基板表面を組み入れているが、これは既に概して図１に関して例示したタイプの天頂方向に双安定の基板表面１、およびホメオトロピック配向のための第２の基板２を組み入れている。グレーティングの深さに対するピッチの比を調整すること、および特に比較的浅いグレーティングを使用することによって、これは、当該の装置および液晶の他のパラメータによって決まるが、図８に示したエネルギープロファイルに到達することは可能であり、そこでは平面状態は安定であるが、少ない活性化エネルギーＥだけでホメオトロピック状態に切り換わる。グレーティングの深さに対するピッチの比が、平面状態を全体として不安定にするほど低くならないように注意を払う必要がある。液晶材料は、２色性染料を組み入れている。
【００６５】
普通は、装置は、図９（ａ）のようにホメオトロピック配向になる。電場もしくは電圧パルスは、双安定の基板１の表面での配向を平面配向に切り換えるのに使用することができる（図９（ｂ））。この平面配向は、とりわけ活性化エネルギーＥによって決定される速度で、図９（ａ）のホメオトロピック配向へと緩和する傾向にあり、これは充分に緩やかであり、装置の選択された領域は、液晶材料に回転力を加えるように構成された偏光Ｌを当てることによって、さらに速く切り換えられる可能性がある（図９（ｃ））。したがって、装置に一時的に画像を書き込むことが可能であり、それは適切な速度で繰り返し更新することができる。
【００６６】
平面状態では、液晶分子は溝に対して直角である。液晶に入射し、かつ溝に対して直角に直線偏光にされた光は、２色性染料によって吸収され、その後に液晶分子に回転力を加えて、液晶分子を偏光方向から遠ざかるようにする。結果として、そのように照明された液晶は、エネルギー的に有利なホメオトロピック配向になる傾向を示すであろう。
【００６７】
この実施形態の変形では、表面２は、高いかもしくは低いプレチルト角を有する平面配向を提供し、および／またはそれはまた、別のグレーティング表面であってもよい。いかなる変形もまた、非直線、例えば円偏光の照明で動作することができる。
【００６８】
第７の実施形態
これは第６の実施形態に類似しているが、グレーティングがさらに深く、それゆえにエネルギー準位が逆転し、平面状態を一層エネルギー的に有利にする。選択された領域をさらに高いエネルギーのホメオトロピック状態に切り換えるために、電気的および光学的アドレス指定の組み合わせが使用され、電場は、照明の不在下で切り換えを行なう閾値よりも下である。このケースでは、準安定であるのはホメオトロピック状態であり、平面状態へと緩和する。平面状態へと遷移させるには、軸を外された照明を必要とする。電気的パルスのブランキングを使用して、液晶層全体を横切って平面状態を誘導することができる。
【００６９】
第８の実施形態
第６および第７の実施形態は、天頂方向に双安定の装置の極端な例を表わすものであり、前に述べたように平面状態は、ときには高いチルト角度、もしくはネマティックダイレクタ内の線欠陥を伴なう欠陥状態を含む。図１０に示したように、両方のタイプの配向について、さらに一層明確なエネルギーの凹部を提供するような他のグレーティングプロファイルを使用することが可能であり、それは概して図１に類似している。そのようなケースでは、電気的および光学的アドレス指定の連携使用が好ましく、すなわち、（平面）状態Ａからいわば状態Ｂへと切り換えるのに電場を使用することができ、その点で、照明領域が（ホメオトロピックの）凹部Ｃへと通過することができる（または反対方向のＣからＡへとそのプロセスが生じ得る）。照明されない領域は、電場と照明を取り除くと状態Ａへと緩和する。
【００７０】
第９の実施形態
これは第８の実施形態の変形であって、そこでは照明ではなく局所的な加熱によって、エネルギーの円丘状の高い部分にわたる最終的な軽い変化がもたらされる。そのような局所的な加熱は、染料もしくは他の光吸収材料、例えば液晶材料内もしくはグレーティングによる光吸収を介して生じる。非２色性染料は、偏光に感度を示さない装置を提供するが、それに対して液晶ホスト内の適切に配向された２色性染料は、入射照明の偏光によって決まる加熱効果を与える。装置の切り換わり方向は、光で誘導される回転力ではなく印加電場の極性によって決定される。
【図面の簡単な説明】
【図１】天頂方向で双安定の表面上の液晶材料の天頂角に伴なうエネルギーの変化を図式的に描いた図である。
【図２】アゾ化合物への光の作用を図式的に描いた図である。
【図３】方位角方向で双安定の表面を使用する例である第２の実施形態の動作を図式的に描いた図である。
【図４】第２の実施形態のセルの応答を描いた電圧−時間のグラフである。
【図５】第２の実施形態のセルの応答を描いた電圧−時間のグラフである。
【図６】第２の実施形態のセルで、この実施形態で電場を印加されることを必要とするセルの応答をさらに描いた電圧−時間のグラフである。
【図７】第２の実施形態のセルで、この実施形態で電場を印加されることを必要とするセルの応答をさらに描いた電圧−時間のグラフである。
【図８】図１のエネルギーバリアに関してエネルギーバリヤを変更されたことで効果的に単安定である、天頂方向に「双安定」の表面を図式的に描いた図である。
【図９】図８の表面を組み入れた液晶セルの動作を描いた図である。
【図１０】図１と概して類似しており、電気的および光学的の連携したアドレス指定を例示するのに使用される図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際公開パンフレット】
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【手続補正書】
【提出日】平成14年7月23日(2002.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【書類名】明細書
【発明の名称】双安定液晶装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】基板（１）の表面と接触する液晶材料（３）を含む液晶装置であって、前記表面が、表面での少なくとも第１と第２の安定もしくは準安定の液晶配向に、それぞれ第１および第２の異なる方向を与えるように有利に働き、液晶装置は、さらに、前記配向の間で液晶材料を切り換えさせるための切り換え手段（Ｌ、ｖ）を含み、前記切り換え手段が、前記装置を光照射するように構成された第１のエネルギー供給手段（Ｌ）を含む装置。
【請求項２】基板（１）の表面と接触する液晶材料（３）を含む液晶装置であって、前記表面が、表面での少なくとも第１と第２の安定もしくは準安定の液晶配向に、それぞれ第１および第２の異なる方向を与えるように有利に働き、液晶装置は、さらに、前記配向の間で液晶材料を切り換えさせるための切り換え手段（Ｌ、ｖ）を含み、前記切り換え手段が、前記液晶材料に光学放射（Ｌ）を当てるように構成された第１のエネルギー供給手段を含み、前記液晶材料および前記光学放射が、前記液晶材料によって前記放射が有意に吸収されるように選択されることを特徴とする装置。
【請求項３】前記第１のエネルギー供給手段が、効果的に前記第１と第２の配向のうちの一方を前記第１と第２の配向のうちの他方よりもエネルギー的に有利にしないようにするために選択されるまたは選択可能な、偏光方向とスペクトル成分の直線偏光を提供するように構成される、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】前記第１のエネルギー供給手段が、前記第１と第２の配向の間で液晶配向を変えるように効果的に回転力を液晶分子に誘導するために選択されるまたは選択可能な、偏光方向とスペクトル分成の直線偏光を提供するように構成される、請求項１または２に記載の装置。
【請求項５】前記液晶材料が２色性添加剤を含まず、前記スペクトル成分が液晶材料の吸収帯域を含む、請求項３または４に記載の装置。
【請求項６】前記液晶材料が、液晶ホスト中の２色性添加剤を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】前記スペクトル成分が前記２色性添加剤の吸収帯域を含む、請求項６に記載の装置。
【請求項８】前記スペクトル成分が前記液晶ホストの吸収帯域を含む、請求項６に記載の装置。
【請求項９】前記切り換え手段が、さらに、前記液晶材料の前記配向間の切り換わりを補助するために第２のエネルギー供給手段（ｖ）を含む、請求項３から８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】前記第２のエネルギー供給手段が、既存の液晶配向を不安定化するように液晶材料にエネルギーを加えるように構成される、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】前記第２のエネルギー供給手段からのエネルギーが、前記基板でホメオトロピック配向を誘導させ易いようなものである、請求項９または１０に記載の装置。
【請求項１２】前記第２のエネルギー供給手段からのエネルギーが、前記基板で平面状配向を誘導させ易いようなものである、請求項９または１０に記載の装置。
【請求項１３】前記第２のエネルギーが電場（ｖ）によって供給される、請求項９から１２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１４】前記第２のエネルギー供給手段が、前記配向間の液晶材料の前記切り換わりを促進するように構成されるが、第２のエネルギー供給手段自体で前記切り換わりを引き起こすのに不充分である、請求項９から１３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１５】前記配向間の液晶材料の切り換わりを補助するために第２のエネルギー供給手段をさらに含む、請求項１または２に記載の装置。
【請求項１６】前記第２のエネルギー供給手段が、前記配向のうちのどれを採用するかを決定するように構成される、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】前記第１のエネルギー供給手段が、装置と協働して光吸収による熱を発生し、前記第２のエネルギー供給手段との協働で前記切り換わりを引き起こす、請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】前記第２のエネルギー供給手段からのエネルギーが、前記基板でホメオトロピック配向を有利にするようなもの、または前記基板でホメオトロピック配向を有利にするように選択可能である、請求項１６または１７に記載の装置。
【請求項１９】前記第２のエネルギー供給手段からのエネルギーが、前記基板で平面配向を有利にするようなもの、または前記基板で平面配向を有利にするように選択可能である、請求項１６から１８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２０】前記第２のエネルギーが電場によって供給される、請求項１５から１９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２１】前記液晶材料が、前記第１と第２の配向の間の前記エネルギーを低減させるためのオリゴマーを含む、請求項１から２０のいずれかに記載の装置。
【請求項２２】第１のエネルギー供給手段が、装置を局所的に照射するように構成される、請求項１から２１のいずれかに記載の装置。
【請求項２３】第１の配向が平面配向である、請求項１から２２のいずれかに記載の装置。
【請求項２４】第２の配向が平面配向である、請求項１から２３のいずれかに記載の装置。
【請求項２５】第２の配向がホメオトロピック配向である、請求項１から２３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項２６】前記配向層がグレーティング構造を有する、請求項１から２５のいずれかに記載の装置。
【請求項２７】基板表面と接触する液晶の配向を制御する方法であって、前記基板表面が、基板表面での少なくとも第１と第２の安定もしくは準安定の液晶配向に、それぞれ第１および第２の方向を与えるように有利に働き、装置を光照射するステップを含む方法。
【請求項２８】光照射のステップが、液晶材料による有意な吸収のために選択される放射を提供する、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】前記光照射するステップが直線偏光の提供を含む、請求項２７または２８に記載の方法。
【請求項３０】前記直線偏光が、液晶分子に回転力を効果的に課すか、もしくは液晶分子を効果的に回転させるようなものである、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】前記光照射するステップが非偏光の提供を含む、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】前記非偏光が液晶材料中で熱を発生させる、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】配向を制御するために、前記装置にさらなるエネルギー入力を供給する追加のステップを含む、請求項２７から３１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４】前記さらなるエネルギー入力が電場である、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】前記光照射が、前記さらなるエネルギー入力が停止した後も継続する、請求項３３または３４に記載の方法。
【請求項３６】前記さらなるエネルギー入力が、前記光照射が停止した後も継続する、請求項３３または３４に記載の方法。
【請求項３７】前記さらなるエネルギー入力が局所的に加えられる、請求項３３から３６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３８】前記光照射が局所的に当てられる、請求項２７から３７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９】一方の配向が平面配向である、請求項２７から３８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０】他方の配向が平面配向である、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】他方の配向がホメオトロピック配向である、請求項３９に記載の方法。
【請求項４２】液晶相にオリゴマーを提供するステップを含む、請求項２７から４１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４３】前記基板表面がグレーティング構造として供給される、請求項２７から４２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４４】請求項１から２６のいずれか一項に記載の装置を含むディスプレー。
【請求項４５】複数の光学装置を含み、少なくとも１つの前記光学装置が、請求項１から２６のいずれか一項に記載の装置である光学システムまたはディスプレー。
【請求項４６】各々が請求項１から２６のいずれか一項に記載の前記複数の装置を含む光学システム。
【請求項４７】前記複数の装置が共通の平面にタイル状に構成される、請求項４５または４６に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、液晶装置に関し、特に、しかし排他的ではなく、空間光変調器に関連する。
【０００２】
液晶のホスト材料に異方性の２色性材料もしくは染料を組み入れること、および／または少なくとも１つの液晶成分が有意な２色性を有する液晶材料を提供することは知られている。「ホスト−ゲスト」装置として知られる或るタイプの装置では、ゲスト染料分子が、ホスト液晶材料の分子と協働して配向する。例えば電界の印加による液晶配向の切り換えは、染料分子の再配向を引き起こし、それによって装置の光学的特性、特に吸収もしくは色彩が変化する。
【０００３】
しかしながら、例えば染料の吸収帯域にある直線偏光に染料分子を晒すことによって染料分子を操作し、それにより液晶配向に影響を与えることもやはり可能である。偏光は、染料分子の効果的な再配向を生じ易く、これが他方では液晶ホスト材料に小さな回転力を発生させ、そのダイレクタ（ｄｉｒｅｃｔｏｒ）を入射光の偏光方向から遠ざかるようにする。液晶分子が、偏光を直接的に吸収する場合では、同様の効果が起こるが、染料の媒介は無い。
【０００４】
基板の表面に隣接する液晶相の配向が、とりわけ基板表面の特性に左右されることもやはり知られている。エネルギー的に有利である単一の配向を表面に誘導するために、基板表面はしばしば、例えば、ポリマーフィルムをラビングすることや、蒸着することによって処理されるが、エネルギー的に有利である複数の配向が基板表面に生じるように、基板表面を処理することが可能であることは知られている。有利な配向は、あまりエネルギー的に有利ではない介在する配向によって隔てられる、すなわち有利な配向の間にエネルギーバリヤが存在するであろう。有利な配向は、介在する配向に関してエネルギーの面で同等であってもなくてもよいし、あるいは同等に有利であってもよく、後に例を示すように、エネルギーバリヤの高さの制御もある程度存在する。或るケースでは、特に第１の配向が、第２の配向よりもエネルギーの面で安定な場合では、エネルギーバリヤは、第２の配向に関して充分に低くてもよく、例えば第２の配向が準安定状態と考えられるように、第１の配向への緩和が、雰囲気もしくは供給される熱エネルギーに応答して生じる。
【０００５】
少なくとも殆どのケースで、この表面は、各々の安定な配向に対応する処理を受けるであろう。この処理は、各配向についての同じタイプの処理が使用されてもよく、例えば２つの異なる配向されたグレーティング、もしくは２つの異なる角度からの斜め蒸着であってもよく、あるいは、配向のうちの異なるものについて異なるタイプの処理が使用されてもよく、例えば平面配向（ｐｌａｎａｒ　ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のためのグレーティング、およびホメオトロピック配向（ｈｏｍｅｏｔｒｏｐｉｃ　ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）を誘導するための材料コーティングのような表面プロファイルが使用されてもよい。
【０００６】
したがって、基板表面に少なくとも２つの有利な配向を提供する１つの方法は、共通の領域にわたって異なる方向に延びる２セットの平行線（グレーティング）によって規定されるような、適切な表面レリーフパターンを提供することである。深さに応じて、結果的に得られるパターンは、平坦な表面上で分離されたピラーのアレーから、なだらかに変化する「エッグボックス」パターンまで変わることができる。平行線の各セットの通常の間隔は約１ミクロンであり、２つの有利な配向については、２セットの平行線は９０°もしくはそれよりも小さい角度で交差してもよい。有利な液晶相配向にある２つの方位角方向は、対応する角度によって異なることが予期される。このタイプの構成は、「方位角的双安定（ａｚｉｍｕｔｈａｌｌｙ　ｂｉｓｔａｂｌｅ）」として知られており、その詳細は英国特許第０７４４０４１号に見出されるであろう。
【０００７】
場合によってとられる構成では、基板が、所定の方向の平面配向に安定性を与えるように構成される、一方向性の正弦波状グレーティングのような表面レリーフパターンを含む。通常、グレーティングの表面の波形状は、高さ１ミクロン以下であり、フォトリソグラフィあるいはエンボス加工によって形成される。グレーティングの上に設けられるのは、隣接する液晶材料のホメオトロピック配向を誘導するための層である。
【０００８】
ホメオトロピック配向層と表面レリーフパターンは、隣接する液晶のバルクの配向の規定を競合する。配向は、グレーティングの深さが、そのピッチよりもはるかに小さいかはるかに大きいかに応じて、ホメオトロピック配向になるか平面配向になる傾向にあるが、しかしピッチに対する深さの比を、これら２つの極端の間になるように調整することによって、液晶チルト角度に対するエネルギーのプロット（ホメオトロピック配向のエネルギー最小値が、平面配向のエネルギー最小値の両側にある単なる例の方式で示される）として図１に図式的に示したように、双安定領域は、いずれかの配向が（配向の方向が変わると、それぞれのエネルギー最小値に対応する）安定度を有するように配向される。２つの配向の方向は、同じ方位角方向を有してもよく（すなわち同じ方位角平面にある）、あるいはそうでなくてもよい。概して、２つのタイプの配向についてのエネルギー最小値は、等しくてもそうでなくてもよく、等しくないケースでは、いずれかの配向が、部分的には表面レリーフパターンの深さに対するピッチの比によって決定されるであろう、さらに有利な配向に対応するさらに低いエネルギー最小値を有する可能性がある。
【０００９】
表面レリーフパターンの正確なプロファイルは、チルト角度に双安定を確立するのに比較的重要でないように見えるが、それは、２つの有利な配向の間のエネルギーバリヤ、および／または平面配向のための付随するエネルギー最小値に寄与する可能性がある。図１が、必ずしも平面配向とホメオトロピック配向である必要のない２つの安定な配向が、「チルト角」または「天頂角（ｚｅｎｉｔｈａｌ　ａｎｇｌｅ）」の異なる値を有するさらに一般的なケースの例であること、および本発明が、図１に示された状況に限定されず、さらに一般的なケースに及ぶことに留意すべきである。
【００１０】
この構成では、「平面」配向はときには、高チルト角を有することがあり、ときには液晶もしくはネマティックダイレクタに一対の線欠陥を有することで特徴付けられるがゆえに、欠陥状態と呼ばれることがある。安定な平面状態とホメオトロピック状態を有して、液晶ダイレクタが、同じ方位角平面にある構成は、「天頂角双安定構成」として知られ、そのさらなる詳細は、例えば発明者らの英国特許第２３１８４２２号、および発明者らの公告特許出願ＰＣＴ／ＧＢ９８／０３７８７（ＷＯ９９３４２５１号）に見出されるであろう。
【００１１】
他の双安定表面が、天頂角と方位角の両方で異なる少なくとも２つの有利な配向方向を有するであろうことは、理解されるはずである。例えば、二酸化ケイ素を、天頂角と方位角の両方で２つの異なる方向から斜めに堆積することができる。
【００１２】
例えばフォトリソグラフィ技術によって形成されたグレーティングの形の表面プロファイルが、上記で特に述べられたが、斜め蒸着のように、表面プロファイルを提供する他のいかなる方法が使用されてもよい。
【００１３】
さらに、上記で特に説明した２つの双安定構成の両方が、表面プロファイルを含むが、表面プロファイルが、必ずしも表面に複数の安定配向を提供するのに必要でないことは留意されるべきである。上記の交差グレーティングの例のように、各々の好ましい方向について適用される同じ技術の使用によって課されようと、または上記で例示したグレーティングとホメオトロピック表面のケースのように、各々の好ましい方向について異なる技術を使用することによって課されようとも、複数の配向が、エネルギー的に有利であるいかなる構成も使用することができる。
【００１４】
さらに、基板表面の各部分が、両方の配向を有利にするように構成されることは絶対要件ではない。例えば、基板に適切に寸法設定され、かつ／または形状付けられた各２つの混じり合ったセットが、処理されて異なる配向を生じることは可能であり、その後すぐに、いったん領域の１つのセットによって採用されて有利になると、それらの配向のいずれかが、領域の他のセットによって有利な配向に打ち勝つように構成されることも可能である。こうして２つの交互配置されたストライプのセットは、表面処理、コーティング、および／またはプロファイリングといった上述した技術のいずれかを使用して異なって処理され、一方のセットでは有利な平面配向を生じ、他方のセットでは有利な異なる方向の第２の平面配向もしくはホメオトロピック配向を生じる。
【００１５】
液晶材料への適切な添加剤の準備も含めて、液晶材料を慎重に選択することによって、かつ上記に示したように、知られている方法で基板表面を適切に選択および／または処理することによって、２つの有利な配向状態の間のエネルギーバリヤを制御することができる。また、１つの双安定（もしくは多安定）基板とさらなる基板の間に液晶材料の層を含むアセンブリ装置では、他の基板表面に課された配向が、一方の基板で安定状態のエネルギーを変えることもあり得る。
【００１６】
液晶相と表面の間の相互作用を変更する比較的最近の開発は、例えば国際特許出願ＰＣＴ／ＧＢ９８／０３０１１（ＷＯ　９９１８４７４号）（Ｈｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ）に述べられているように、「スベリ（ｓｌｉｐｐｅｒｙ）表面」の名称である。液晶材料中の、一般的にはオリゴマーである添加剤は、基板表面の近傍に集中し易い巨大分子を提供する。結果的に得られる、基板から離れる液晶相の逆方向濃度勾配は、基板および／または基板上の何らかの配向層と液晶との相互作用を低減させ、したがって隣接する液晶材料の配向を、基板および／または基板上の何らかの配向層によって誘導された配向から変化させるのに要するエネルギーを低減させると考えられる。実際には、或る濃度でそのような添加剤は、平面配向表面がその配向方向に関して完全な縮退を有することを可能にするであろう。そのような添加剤の存在は、例えば上述したように、基板表面によって誘導された２つ以上の異なる有利な配向の間のエネルギーバリヤを減少させることによって、本発明の遂行を容易にすることができる。
【００１７】
本発明は、基板表面に接触する液晶材料を含む液晶装置であって、前記表面が、表面での少なくとも第１と第２の安定もしくは準安定液晶配向に、それぞれ第１および第２の異なる方向を与えるように有利に働き、液晶装置が、さらに、液晶材料を前記配向間で切り換える切り換え手段を含み、前記切り換え手段は、前記装置を照明するための照射手段を有する液晶装置を提供する。本発明は、そのような装置を含むディスプレー、および例えば共通平面にタイル状に構成される複数のそのような装置を含むディスプレーもしくは光学システムにまで及ぶ。
【００１８】
本発明はまた、基板表面に接触する液晶材料の配向を制御する方法を提供し、基板表面は、基板表面での第１と第２の安定もしくは準安定な液晶配向に、それぞれ第１および第２の異なる方向を与えるように有利に働き、装置を光照射するステップを含む。
【００１９】
照射手段からくる光は、装置に第１のエネルギー入力を供給し、液晶材料に直接的または間接的に作用することもあり得る。したがって本発明のいくつかの実施形態では、上述されたように、非偏光の光ビームが、準安定の配向からより一層安定な配向へと変換させるために、単独で充分な熱エネルギーを供給することもあり、あるいは熱エネルギーが、以下により詳細に説明するように、第２の配向が、（電場または磁場のような）何らかの他のエネルギー入力の方向性の影響下で有利に採用され得るように、現存の配向もしくは液晶相を壊すのに充分であることができる。
【００２０】
本発明の別の実施形態では、当該技術で知られているように、直接的もしくは間接的のいずれかで液晶分子に効果的な回転力を課すために、あるいは第１と第２の配向のうちの一方を、第１と第２の配向のうちの他方に関してエネルギーの面でより一層有利にするために（これは有効回転（ｅｆｆｅｃｔｉｖｅ　ｒｏｔａｔｉｏｎ）と呼ばれてもよい）、この光は直線偏光であってもよい。
【００２１】
例えば、アゾ化合物、スチルベンあるいはシッフ塩基のように二重結合を含む材料は、普通は低エネルギーのトランス異性体と高エネルギーのシス異性体を有する。二重結合は、可視域もしくは可視域近傍の波長の光を吸収するが、二重結合に関して一方向の偏光を優先的に吸収し、その材料は正の２色性となる。励起状態では、分子は、シス異性体への変換に結果的につながる一連の変化を受けることがあり得る。後に結果として生じるエネルギー的に有利なトランス異性体への緩和は、初期の配向と同様の分子配向、または初期配向に関して有効回転される配向につながることができる。異方性の条件下では、初期配向と回転された配向を区別するものはないが、偏光照明でもって、トランス異性体の配向の一方が優先的に光を吸収し、最終的には大部分の分子がトランス配向となって、入射偏光の吸収を最少限にする。
【００２２】
事象の通常のシーケンスは、図２に図式的に描かれており、そこでは（ａ）はエネルギー的に有利なトランス状態にある本来の配向のアゾ分子を示し、（ｂ）は偏光ｈν１の吸収から生じるさらに高いエネルギーのシス状態を示す。熱および放射（ｈν２）のメカニズムを含む多くのメカニズムを介して、分子（ｂ）は、元の状態（ａ）に戻るか、または分子の長軸方向が、有効回転したトランス状態へと進むことができる（図示したようにこれは紙面で真の回転ではないが、長軸についての分子の回転がエネルギーの面で相対的に容易であり、これが起きても起きなくても、いかなるケースでも誘導されることになる液晶の配向との関連で無関係であることを理解するであろう）。
【００２３】
例えば、照射光のスペクトル成分が、液晶材料の吸収帯域を含む場合、それは、液晶材料に直接的に作用する可能性がある。したがって液晶材料は、液晶の配向の変更を可能にするために２色性添加剤を含む必要がない。さもなければ、照射光のスペクトルの外側にある吸収スペクトルを有する２色性添加剤は、他の目的、例えばゲスト−ホスト可変吸収／色彩装置のように所望の光学的変化を示すために提供されることがあり得る。
【００２４】
場合によっては、液晶材料は、液晶ホスト中に２色性添加剤がある形であってもよく、そこでは照射光の前記スペクトル成分は、２色性添加剤の吸収帯域を含む。このケースでは、２色性添加剤は、照射に直接的に応答し、次に液晶分子に有効回転力を及ぼす。
【００２５】
液晶材料を、光学偏光方向を横切って配向させる傾向がある、正の２色性添加剤に対して参照されたが、液晶を回転させて偏光方向と平行にさせる傾向のある負の２色性材料を使用することは、本発明の範囲内である。
【００２６】
偏光によって誘導される直接的もしくは間接的な回転力は、それ自体、有利な配向間のエネルギーバリヤを克服するのに充分であることもあり得る。回転力が不充分である場合、光の入射エネルギーで充分であるように、エネルギーバリヤを小さくするために液晶材料と基板との間の相互作用を変更すること、あるいは第２の形のエネルギーを入力することによって再配向を補助することのいずれかが可能である。
【００２７】
第１の選択肢で、前述の説明は、既に配向間のエネルギーバリヤを小さくする２つの方法、つまり表面の幾何学形状を変更することによるもの、および「スベリ表面」を提供するために添加剤を組み入れることによるものを簡単に考察しており、これらのいずれかもしくは両方が、本発明の遂行のために利用されることができる。
【００２８】
第２の選択肢で、再配向は、照射手段からの光が供給される液晶材料にエネルギーを効果的に入れることによって補助されることができる。液晶ホスト−ゲスト添加材料のケースでは、協働配向は、エネルギーがホスト材料またはゲスト材料のいずれかに供給されてもよく、これらのどちらが偏光によって励起されるかは無関係であることを意味している。
【００２９】
第２のエネルギーは、第２のエネルギー自体で液晶材料の配向を変えるのに充分である場合もあるが、最終的な配向は、それでも照射手段から入る光学的入力によって決まる（下記のケースＡの２つのパラグラフ参照）ことができ、あるいは再配向は、照射手段から入る光学入力が、第２のエネルギー入力と組み合わされて作用することを必要とする（下記のケースＢの２つのパラグラフ参照）ことがある。
【００３０】
配向を変えるのに液晶を励起するために、電場もしくは磁場の印加、電流通過（イオン輸送）、および音響照射を含めて数多くの方法が知られている。
【００３１】
これらのうちおそらく電場の印加が、最も容易に達成できそうであり、しばしば最も効果的である。例えば、液晶の配向が、第１と第２のホモジニアスな（平行）状態の間で切り換えられ、正の誘電異方性を有する場合、第１の状態で層の厚さを横切る電場を印加してホメオトロピック（直角）配向を誘導することは、その後、適切に方向を決められた直線偏光の影響下で電場を停止すると、液晶材料が第２の状態を有利にとることを可能にする（ケースＡ）。確かに、たとえ電場の大きさ（または何らかの他のエネルギー供給手段の作用の大きさ）が、別の配向を生じるのにそれ自体不充分であるとしても、元の有利な配向のエネルギーは、偏光が加えられると第２の配向への液晶材料の再配向を補助するのに充分なほどに高められる可能性がある（ケースＢ）。
【００３２】
２つの基板の間に層が挟み込まれるとき、層の厚さを横切って電場を印加するために、各々の基板が連続的な電極を担持してもよい。特に互いにかみ合った電極の両方の部分が同じ方法で給電される場合に、いずれかもしくは両方の連続的な電極は、同じ目的で互いにかみ合った電極に置き換えられることができる。
【００３３】
互いにかみ合った電極はまた、層の平面に電場を印加するのに使用されることもできる。例えば、正の誘電異方性の液晶材料の平面配向を切り換えることで、液晶材料を有利な配向間で最大のエネルギー状態もしくはその近傍に置くために、２つの有利な配向方向を有する基板上で互いにかみ合った電極が使用されることがある。適切な偏光方向と強度の直線偏光の存在下で電場を取り除くことは、偏光方向により決定される有利な配向への液晶の緩和を誘導する。
【００３４】
多くのケースで、照射光の偏光方向は、結果的に生じる液晶の配向を、特に他のエネルギー入力が供給されない場合に、単独で決定する可能性がある。これはまた、第２のエネルギー入力は供給されるが、結果的に生じる配向に影響を与えることのできる方向特性を有していない場合にも当てはまる。
【００３５】
しかしながら、或る他のケースでは、第２のエネルギー入力が、方向性を有して、結果的に生じる配向に影響を与えることのできるものであり、例えば電場である。これが望ましくない場合、第２のエネルギー入力は、照射光がオフにされる前に正常に消滅しなければならない。
【００３６】
場合によっては、もしも所望であれば、照射光の停止の後も第２のエネルギー入力を維持することが、結果的に生じる配向の第２のエネルギー入力による決定につながることもできる。
【００３７】
さらに、照射光が偏光でない場合、照射光はそれ自体で結果的に生じる配向を決定することができない。そのようなケースでは、結果的に生じる配向を決定するのは第２のエネルギー入力であり、照射光は、例えば直接的もしくは間接的のいずれかで液晶材料を加熱することによる、同様に液晶材料もしくはその成分、または液晶セルの他の成分の光学的吸収による、再配向を補助するのに少なめではあるが必要な機能を遂行することに属する。
【００３８】
多くのケースで、有利な配向間で両方向に切り換えを行なうために、照射手段から入力を供給することを含む同じタイプの方法が使用されるであろう。しかしながら、他のケースでは、少なくとも１つの切り換え方向が照射手段からの照射を含むという条件で、様々な切り換え方向のために様々な方法が使用されるであろう。
【００３９】
一方の配向が準安定であるケースを含む、有利な配向のエネルギー最小値が等しくない場合にこれは特にそうであり、それによってエネルギーバリヤは、切り換え方向によって決まる。例えば、より不安定もしくは準安定の配向から１つの方向への切り換えは、照射手段からの非偏光もしくは偏光しか必要としないこともあり得る。逆方向への切り換えは、単独もしくは照射手段からの適切な光と併せて使用される電場のような第２のエネルギー入力を必要とする可能性がある。場合によっては、１つの方向への切り換えが、第２のエネルギー入力によって影響を受け、逆方向への切り換えが、第２のエネルギー入力と照射手段からの適切な光との組み合わせを必要とすることもあり得る。
【００４０】
照射手段からの光は、装置の領域を横切って異なる配向を生じるように、局所的に当てられることもあり得る。電界のような第２のエネルギー入力もやはり必要とされる場合、いかなる時間でも装置の限定された領域だけが書き込まれ得るように、第２のエネルギーもやはり局所的に印加される。このケースでは、照射と第２のエネルギー入力のうちの一方が、広く加えられて他方が局所的に加えられ、それによって、どの領域を切り換えるかを局所的入力が決定することもできる。場合によっては両方の入力が、ことによると異なる分布で局所的に加えられ、それによって両方の入力が生じる領域だけが切り換えられる、すなわちＡＮＤ論理となることもあり得る。他の論理構成も当業者なら為し得る。
【００４１】
装置の選択された領域を切り換える可能性は、ディスプレーおよび光学的データ処理を含めたいくつかの目的に利用可能であることを意味する。例えば、発明者らの同時係属国際特許出願ＰＣＴ／ＧＢ９８／０１８６６（ＷＯ　９９００９９３）は、ディスプレーのアセンブリがタイル状に構成されたオートステレオスコープのディスプレーを述べており、国際特許出願ＰＣＴ／ＧＢ９８／０３０９７（ＷＯ　９９１９７６７）は、ホログラフィ目的の個別ディスプレーのアセンブリを示している。
【００４２】
「Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ　ｏｆ　Ｎｅｍａｔｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　ｂｙ　Ｍｅａｎｓ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ　Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅｓ　ａｓ　ａｎ　Ａｌｉｇｈｎｍｅｎｔ　Ｌａｙｅｒ（配向層としての感光性ポリイミドによる、ネマチック液晶の光スイッチング）」Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｈｙｓｉｃｓ　Ｌｅｔｔｅｒｓ，２９　Ｎｏｖｅｍｂｅｒ　１９９９，ｐｐ３４５８〜６０で、Ｋｉｍらが或る装置を記述している。この装置では、２つの液晶配向の間の切り換わりのための閾値電圧は、ポリイミド層照射によって影響され、ポリイミド層が、「光物理学的変化」を受けることを示唆している。一定電圧の存在下で照射を変えることによって、液晶の切り換えを行なうことができる。しかしながら、配向層それ自体が、複数の配向方向を有利にするものとして述べられているわけではない。さらに、述べられているようにこの装置は、その特性を変えるのに配向層の照射を必要とするが、それに対して本発明の実施形態では、液晶材料に関連して光のスペクトル成分が選択され、それによって回転力を液晶材料に課すか、または切り換え目的で液晶材料の温度を変える。
【００４３】
同様に、「Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ　ｏｆ　ａ　Ｎｅｍａｔｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｉｎｄｕｃｅｄ　ｂｙ　Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ　Ｐｈｏｔｏ−Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ　Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ　Ｆｉｌｍｓ（感光性ポリイミドフィルムの異方性光酸化によって誘起されたネマチック液晶の配向）」Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｈｙｓｉｃｓ　Ｌｅｔｔｅｒｓ，１５　Ｏｃｔｏｂｅｒ　１９９８，ｐａｇｅｓ４５７３〜８で、Ｗａｎｇらは或る方法を述べており、そこではポリイミドフィルムの配向特性は、直線偏光のレーザ光で照射することによって変えることができる。しはしながら、やはり、層が、２つの配向のいずれかを同時に支えることができるとの示唆はない。
【００４４】
本発明の他の特徴および利点は、参照される添付の特許請求項を考慮し、添付の図面を参照してなされる以下の本発明による例示的実施形態の説明を読むと明らかになるであろう。
【００４５】
第１の実施形態
２色性添加剤を含む液晶材料の層が、第１と第２の基板の間に挟み込まれる。第１の基板は、方位角的に双安定の配向（異なる方位角方向を有する２つの安定もしくは有利な平面配向）のための表面プロファイルを有し、第２の表面は、ラビングされたならば、平面配向を促進するタイプのポリマーのラビングされていない表面を含む。液晶材料は、第２の基板表面の（平面）配向を縮退させるのに充分であるが、第１の基板の表面の配向の双安定を壊すには不充分な濃度のスベリ表面添加剤を含む。この構造は、第１の基板表面の２つの双安定の配向のいずれかが、異なる方位角方向で液晶層を横切ってそれぞれ均一な平面状テクスチャを生じることを意味する。
【００４６】
充分な強度と液晶材料に対する適切な偏光方向の直線偏光を当てることは、一方の均一な平面状テクスチャを他方に、もしくはその逆に変換するのに充分である。偏光の強度は、他の因子の中でもとりわけ、第１の基板の表面幾何学形状、およびスベリ表面添加剤の濃度によって決定される、双安定の配向間のエネルギーバリヤによって決定されるであろう。
【００４７】
第２の実施形態
これは第１の実施形態と類似しているが、しかし（ａ）双安定の配向間のエネルギーバリヤは、２つの平面状テクスチャ間の変換を引き起こすのに、偏光単独では不充分となるような大きさであり（または、もしも充分な光強度の偏光源が、変換を引き起こすのに利用可能であると、それはセルに有害になる）、（ｂ）各々の基板は、液晶層の厚さを横切って電場を印加するための連続的な電極を設けられる。層にホメオトロピック配向を誘導するのに充分な強度で電場が印加され、その後、直線偏光の存在下で取り除かれるとき、第１の基板の液晶材料の配向は、偏光の方向によって決定される有利な配向へと緩和する。
【００４８】
図３（ａ）から３（ｄ）は、この実施形態の動作を図式的に描いており、方位角的に双安定の間にある液晶層３を含むセルのために、第１の電極が基板１に提供され、（非配向の）第２の電極が基板２に提供される。図３（ａ）から３（ｃ）は、直線偏光Ｌが、（液晶分子に回転力を誘導するのに効果的に）当てられる期間を網羅する。その期間内の図３（ｂ）で、基板電極間の電位差Ｖを印加することによってセルを横切って電場が印加されて、ホメオトロピック配向が生じる。電場が取り除かれると、基板１での配向は、照明Ｌの偏光方向によって決定される配向へと緩和する（図３（ｃ））。双安定の基板での液晶の配向は、スベリ表面の効果によって許容されるように、バルクの液晶層を通って他方の基板へと伝えられる（図３（ｄ））。
【００４９】
この実施形態は、装置が、電場が印加されるときのみ更新可能となり、そうでないときは安定であるという利点を有する。電場がそれ自体で、ホメオトロピック配向を生じるのに充分であり、その後に偏光を当てることによって決定される状態に緩和するように構成することは可能である。異なる光学的偏光で様々な領域を選択的に照明することによって、画像を書き込むことができる。
【００５０】
しかしながら、光学的および電気的の両方でアドレス指定される液晶の部分だけが、ホメオトロピック状態にされるように構成することもやはり可能であり、そのケースでは、セルを選択的に空間的光学的アドレス指定することが、セルの選択領域だけの書き込みとラッチを可能にさせ、単一の電極対で複雑な画像を、例えば高密度画像および画像もしくはデータの記憶のために、書き込む可能性を生じさせる。
【００５１】
実験では、方位角的に双安定のグレーティング表面は、清浄なガラス基板をエッチングされた酸化インジウム−スズでコーティングすることによって準備された。Ｓｈｉｐｌｅｙ　Ｅｕｒｏｐｅ　Ｌｉｍｉｔｅｄにより供給されるフォトレジストＭｉｃｒｏｐｏｓｉｔ　Ｓ１８０５が、このコーティングの上にスピンコートされて、名目上０．５ミクロンの厚さの層を生じた。その後、１ミクロンピッチの２値のグレーティングマスクが、フォトレジストに接して置かれ、広帯域のＵＶ光源（約１５０ｍＪ／ｃｍ２で３６５ｎｍ、４０４ｎｍ、および４３５ｎｍ）を使用して露光された。その後、グレーティングが９０°回され、露光が繰り返された。仕様書に従って露光されたフォトレジストを現像させた後に、１５分間ＵＶ光によるソフトベーク（約９ｍＷ／ｃｍ２で２５４ｎｍの光）を行ない、１８０℃で２時間ハードベークを行なった。上記の基板および同様の処理された基板を使用するが、しかしながら、グレーティングを形成するためにフォトレジストを露光することなくセルを構築した。基板間の隙間は、名目上５ミクロンであり、室温でネマティック相であるＭｅｒｃｋ社の標準混合物Ｅ６３を使用して充填された。この混合物に、やはりＭｅｒｃｋ社の２色性染料Ｄ２を２重量パーセント、および３Ｍ　Ｂｅｌｇｉｕｍ　Ｎ．Ｖ．から供給されるオリゴマー３Ｍ　Ｆｌｏｕｒａｄ　ＦＣ４３０を２重量パーセント加えた。染料は、４８７ｎｍに吸収ピークを有し、６００ｎｍ近くでゼロに低下する。
【００５２】
偏光方向を制御するための回転可能な１／２波長板を介して、セルで１ｍｍ２のガウスビームプロファイルを示す２０ｍＷのアルゴンイオンレーザ（波長４４８ｎｍ）を使用して、セルのアドレス指定を行なった。セルの光学的応答は、５ｍＷのＨｅＮｅレーザ（波長６６３ｎｍ）からの直線偏光ビームに加えて、セルにおいてアルゴンイオンレーザのスポットサイズよりも小さいスポットサイズに焦点集束させる直線偏光子を使用してモニタした。６３３ｎｍの光の放射強度は、リニア検光子、およびＨｅＮｅ光以外はほぼすべての可視波長を除外するノッチフィルタが取り付けられたフォトダイオードによって検出した。二極性の電気パルスで装置をアドレス指定し、セルをホメオトロピック状態に切り換えた。互いに９０°に配向する双安定の液晶セルを、垂直方向と水平方向に設定し、それに対して偏光子と検光子は、それぞれプラス４５°とマイナス４５°にそれぞれ設定した。安定状態は、交差した偏光子間で同等の光学透過率を有するので、２つの状態を見分けるために１／４波長板をセルの後ろに組み入れた。
【００５３】
図４および５には装置の切り換えが描かれており、約５０秒間の時間期間にわたって時間ｔの関数で透過率Ｔを示している。垂直方向（図４）および水平方向（図５）のいずれかの直線偏光の４８８ｎｍの照明を当てている間で、８０ｍＶで１０ｍｓｅｃの二極性電気パルスＶＰをもまた印加し、これがオシロスコープによるデータ収集にトリガをかけた。引き続いて約５秒後の時点Ｔ１で照明を除くと、液晶は最終的な配向に（おそらく数百ミリ秒の間で）緩和することが可能となり、図４と５の最終部分の比較で理解できるように、これは４８８ｎｍ照明の偏光方向によって選択することができた。
【００５４】
セルの挙動のさらなる知見は、約２００秒間の時間期間にわたって時間ｔの関数として透過率Ｔを示す図６および７を考慮することから得ることができる。図６で、セルは以下の一連のステップをとられる。
１１．水平方向の偏光オン、
１２．電圧パルス印加、
１３．水平方向の偏光オフ、
１４．水平方向の偏光オン、
１５．電圧パルス印加、
１６．水平方向の偏光オフ、
１７．垂直方向の偏光オン、
１８．電圧パルス印加、
１９．垂直方向の偏光オフ、
２０．垂直方向の偏光オン、
２１．電圧パルス印加、
２２．垂直方向の偏光オフ。
【００５５】
これは、アドレス指定のサイクル、すなわちステップ４から６、および１０から１２の繰り返しの正味の作用が無いことを示す。しかしながら、ステップ１７から１９のように、新たな配向を特定するアドレス指定するサイクルが実行されると、液晶の配向は、第２の安定状態に変化する（ステップ１８）。
【００５６】
図７は、電圧パルスの必要性を例示するものであって、以下の事象のシーケンスを示す。
３１．水平方向の偏光オン、
３２．電圧パルス印加、
３３．水平方向の偏光オフ、
３４．垂直方向の偏光オン、
３５．垂直方向の偏光オフ、
３６．垂直方向の偏光オン、
３７．電圧パルス印加、
３８．垂直方向の偏光オフ。
【００５７】
水平方向の偏光照明を伴なうステップ３１から３３は、セルの状態に影響を与えるように意図されていないが、水平方向の偏光照明によって誘導される状態にあることを確実にする。同様に印加電圧の不在下で垂直偏光の照射を伴なうステップ３４と３５は、セルの状態を変えない。しかしながら、垂直方向偏光で照明するステップ３６から３８の間に、電圧パルス３７を挿入すると、状態の変更にトリガがかかり、ステップ３８で照明を取り除くと液晶の配向が変わる。
【００５８】
第３の実施形態
２色性添加剤を含む液晶材料の層は、第１と第２の基板の間に挟み込まれ、第１の基板は、方位角的に双安定の表面配向を提供する表面プロファイルを有し、第２の表面は、第１の基板での有利な配向のうちの一方と平行の平面配向を表面で促進するようにラビングされたポリマー表面を含む。装置の一方の状態で、液晶層を横切って均一な平面状テクスチャが存在し、他方の状態で液晶が捻じられるように、第２の基板での平面配向は持続する。液晶材料はまた、エネルギーを均一にし、かつ捻じれた状態を概して（かつ好ましくは実質的に）等しくさせて、それにより、適切な直線偏光方向と強度の光を当てることで配向の間の切り換えを容易にするようにカイラル添加剤をも含む。
【００５９】
場合によっては、液晶材料は、第１および第２の実施形態のようにではあるが、第２の表面での平面配向が無効化されるほど高濃度ではない程度に、スベリ表面添加剤を含んでもよく、および／または装置が、第２の実施形態のように層の厚さを横切る電場を印加するための電極を含んでもよい。
【００６０】
第４の実施形態
２色性添加剤を含む液晶材料の層は、第１と第２の基板の間に挟み込まれ、第１の基板は、方位角的に双安定の表面配向を提供する表面プロファイルを有し、第２の表面は、第１の基板での有利な配向の間の平面配向を表面で促進するようにラビングされたポリマー表面を含む。その構造は、層の厚さを横切って通過すると、第１の基板で採用された配向に応じて、配向が一方の方向もしくは他方に捻じれるようにされる。
【００６１】
装置の２つの状態のエネルギーは、実質的に等しいことが好ましいが、しかしこれは、第１の基板での有利な配向間のエネルギーの関係によって決まる。第２の基板での配向が、第１の基板での有利な配向間のエネルギー最大値に対応する方向と実質的に平行であることが好ましい。第１の基板での２つの有利な配向のエネルギーが等しい場合、この方向は、有利な配向間の中間となる可能性がある。第１の基板での２つの有利な配向のエネルギーが等しくない場合、この方向は、有利な配向間の中間となるかそうならない可能性がある。しかしながら、第２の基板での配向は、偏光（もしくは他の何らかのエネルギー入力）の強度が、再配向に充分であるという条件で、理想的な位置から逸脱し得る。
【００６２】
場合によっては、液晶材料は、第１および第２の実施形態のようにではあるが、第２の表面での平面配向が無効化されるほど高濃度ではない程度に、スベリ表面添加剤を含んでもよく、および／または装置が、第２の実施形態のように層の厚さを横切る電場を印加するための電極を含んでもよい。
【００６３】
第５の実施形態
２色性添加剤を含む液晶材料の層は、第１と第２の基板の間に挟み込まれ、第１の基板は、方位角的に双安定の表面配向を提供する表面プロファイルを有し、第２の表面は、ホメオトロピック配向を表面で促進するように処理された表面を含む。一方の基板から他方へと通ると、第１の基板での配向方向に関係無く配向方向において捻じれが存在し、それによって装置の２つの状態のエネルギーは、（第１の基板での配向間のエネルギーの関係に応じて）概してもしくは実質的に等しくなる。
【００６４】
場合によっては、液晶材料は、第１および第２の実施形態のようにではあるが、第２の表面での平面配向が無効化されるほどでない量で、スベリ表面添加剤を含んでもよく、および／または装置が、第２の実施形態のように層の厚さを横切る電場を印加するための電極を含んでもよい。
【００６５】
第１から第５の実施形態の各々で、第１の基板での２つの有利な方位角的配向は、互いに９０°であることが好ましい。
【００６６】
第６の実施形態
第１から第５の実施形態は、方位角的に双安定の基板表面を組み入れているが、これは既に概して図１に関して例示したタイプの天頂方向に双安定の基板表面１、およびホメオトロピック配向のための第２の基板２を組み入れている。グレーティングの深さに対するピッチの比を調整すること、および特に比較的浅いグレーティングを使用することによって、これは、当該の装置および液晶の他のパラメータによって決まるが、図８に示したエネルギープロファイルに到達することは可能であり、そこでは平面状態は安定であるが、少ない活性化エネルギーＥだけでホメオトロピック状態に切り換わる。グレーティングの深さに対するピッチの比が、平面状態を全体として不安定にするほど低くならないように注意を払う必要がある。液晶材料は、２色性染料を組み入れている。
【００６７】
普通は、装置は、図９（ａ）のようにホメオトロピック配向になる。電場もしくは電圧パルスは、双安定の基板１の表面での配向を平面配向に切り換えるのに使用することができる（図９（ｂ））。この平面配向は、とりわけ活性化エネルギーＥによって決定される速度で、図９（ａ）のホメオトロピック配向へと緩和する傾向にあり、これは充分に緩やかであり、装置の選択された領域は、液晶材料に回転力を加えるように構成された偏光Ｌを当てることによって、さらに速く切り換えられる可能性がある（図９（ｃ））。したがって、装置に一時的に画像を書き込むことが可能であり、それは適切な速度で繰り返し更新することができる。
【００６８】
平面状態では、液晶分子は溝に対して直角である。液晶に入射し、かつ溝に対して直角に直線偏光にされた光は、２色性染料によって吸収され、その後に液晶分子に回転力を加えて、液晶分子を偏光方向から遠ざかるようにする。結果として、そのように照明された液晶は、エネルギー的に有利なホメオトロピック配向になる傾向を示すであろう。
【００６９】
この実施形態の変形では、表面２は、高いかもしくは低いプレチルト角を有する平面配向を提供し、および／またはそれはまた、別のグレーティング表面であってもよい。いかなる変形もまた、非直線、例えば円偏光の照明で動作することができる。
【００７０】
第７の実施形態
これは第６の実施形態に類似しているが、グレーティングがさらに深く、それゆえにエネルギー準位が逆転し、平面状態を一層エネルギー的に有利にする。選択された領域をさらに高いエネルギーのホメオトロピック状態に切り換えるために、電気的および光学的アドレス指定の組み合わせが使用され、電場は、照明の不在下で切り換えを行なう閾値よりも下である。このケースでは、準安定であるのはホメオトロピック状態であり、平面状態へと緩和する。平面状態へと遷移させるには、軸を外された照明を必要とする。電気的パルスのブランキングを使用して、液晶層全体を横切って平面状態を誘導することができる。
【００７１】
第８の実施形態
第６および第７の実施形態は、天頂方向に双安定の装置の極端な例を表わすものであり、前に述べたように平面状態は、ときには高いチルト角度、もしくはネマティックダイレクタ内の線欠陥を伴なう欠陥状態を含む。図１０に示したように、両方のタイプの配向について、さらに一層明確なエネルギーの凹部を提供するような他のグレーティングプロファイルを使用することが可能であり、それは概して図１に類似している。そのようなケースでは、電気的および光学的アドレス指定の連携使用が好ましく、すなわち、（平面）状態Ａからいわば状態Ｂへと切り換えるのに電場を使用することができ、その点で、照明領域が（ホメオトロピックの）凹部Ｃへと通過することができる（または反対方向のＣからＡへとそのプロセスが生じ得る）。照明されない領域は、電場と照明を取り除くと状態Ａへと緩和する。
【００７２】
第９の実施形態
これは第８の実施形態の変形であって、そこでは照明ではなく局所的な加熱によって、エネルギーの円丘状の高い部分にわたる最終的な軽い変化がもたらされる。そのような局所的な加熱は、染料もしくは他の光吸収材料、例えば液晶材料内もしくはグレーティングによる光吸収を介して生じる。非２色性染料は、偏光に感度を示さない装置を提供するが、それに対して液晶ホスト内の適切に配向された２色性染料は、入射照明の偏光によって決まる加熱効果を与える。装置の切り換わり方向は、光で誘導される回転力ではなく印加電場の極性によって決定される。
【図面の簡単な説明】
【図１】天頂方向で双安定の表面上の液晶材料の天頂角に伴なうエネルギーの変化を図式的に描いた図である。
【図２】アゾ化合物への光の作用を図式的に描いた図である。
【図３】方位角方向で双安定の表面を使用する例である第２の実施形態の動作を図式的に描いた図である。
【図４】第２の実施形態のセルの応答を描いた電圧−時間のグラフである。
【図５】第２の実施形態のセルの応答を描いた電圧−時間のグラフである。
【図６】第２の実施形態のセルで、この実施形態で電場を印加されることを必要とするセルの応答をさらに描いた電圧−時間のグラフである。
【図７】第２の実施形態のセルで、この実施形態で電場を印加されることを必要とするセルの応答をさらに描いた電圧−時間のグラフである。
【図８】図１のエネルギーバリアに関してエネルギーバリヤを変更されたことで効果的に単安定である、天頂方向に「双安定」の表面を図式的に描いた図である。
【図９】図８の表面を組み入れた液晶セルの動作を描いた図である。
【図１０】図１と概して類似しており、電気的および光学的の連携したアドレス指定を例示するのに使用される図である。
【国際調査報告】
2004504629.tif 000042
2004504629.tif 000043