(57)【要約】仮保護カバーを保持する基体並びに該基体の製造法および加工法が開示される。一つの態様においては、該基体は仮保護カバーを保有する耐久性外部表面を有し、該カバーは該耐久性外部表面を汚染から保護すると共に、所定の洗浄液を用いる洗浄によって該耐久性外部表面から容易に除去される。
2004509047.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
選択される洗浄液に対して耐性を示す外部表面を有する基体であって、該外部表面がスパッターフィルムを含む仮保護カバーを保有し、該フィルムが該外部表面を汚染から保護すると共に該洗浄液を用いる洗浄によって該外部表面から容易に除去される該基体。
【請求項２】
外部表面が基体自体によって形成される請求項１記載の基体。
【請求項３】
外部表面が、基体上の耐久性コーティングによって形成される請求項１記載の基体。
【請求項４】
カバーが水の存在下においては安定であるが、弱酸又は弱塩基の存在下では崩壊する請求項１記載の基体。
【請求項５】
カバーが約６００℃のオーダーの高温において耐性を示す請求項１記載の基体。
【請求項６】
カバーが金属の酸化物を含有する請求項１記載の基体。
【請求項７】
カバーが、亜鉛、ビスマス、カドミウム、鉄およびニッケルから成る群から選択される金属の酸化物を含有する請求項６記載の基体。
【請求項８】
カバーが酸化亜鉛を含有する請求項７記載の基体。
【請求項９】
カバーが約２５００オングストロームよりも小さい厚さを有する請求項１記載の基体。
【請求項１０】
カバーが約１００オングストロームよりも小さい厚さを有する請求項９記載の基体。
【請求項１１】
カバーが約２５〜約６０オングストロームの厚さを有する請求項１１記載の基体。
【請求項１２】
カバーが水の存在下では安定であるが、ビネガーの存在下で崩壊する請求項１記載の基体。
【請求項１３】
耐久性コーティングが基体上に直接的に形成される請求項３記載の基体。
【請求項１４】
カバーが耐久性コーティング上に直接的に形成される請求項３記載の基体。
【請求項１５】
耐久性コーティングが酸化物である請求項１４記載の基体。
【請求項１６】
酸化物が基体上に直接的に形成される請求項１５記載の基体。
【請求項１７】
耐久性コーティングが親水性コーティングである請求項３記載の基体。
【請求項１８】
親水性コーティングが、カバーが除去されたときに、水に対して約２５度よりも小さい接触角を示す請求項１７記載の基体。
【請求項１９】
親水性コーティングが二酸化珪素を含有する請求項１７記載の基体。
【請求項２０】
二酸化珪素が実質的に非多孔性である請求項１９記載の基体。
【請求項２１】
親水性コーティングが、基体上に予め形成された赤外線反射性コーティング上に形成される請求項１７記載の基体。
【請求項２２】
赤外線反射コーティングが少なくとも１種の熱分解的に付着される層を含む請求項２１記載の基体。
【請求項２３】
耐久性コーティングが熱分解作用によって形成されるコーティングである請求項３記載の基体。
【請求項２４】
カバーが無機物質を含有する請求項２３記載の基体。
【請求項２５】
熱分解作用によって形成されるコーティングがチタン酸化物を含有する請求項２３記載の基体。
【請求項２６】
基体の内部表面上に形成される赤外線反射性コーティングをさらに保有する請求項１記載の基体。
【請求項２７】
赤外線反射性コーティングが、基体から外側に向かって、少なくとも１種の誘電性層、金属層および別の誘電性層を含有する請求項２６記載の基体。
【請求項２８】
選択される洗浄液に対して耐性を示す外部コーティングを保持する基体であって、該外部コーティングが、その上に直接的にスパッターされるフィルムを含む仮保護カバーを保有し、該カバーが該外部コーティングを汚染から保護すると共に該洗浄液を用いる洗浄によって該外部コーティングから容易に除去される該基体。
【請求項２９】
外部コーティングが金属の酸化物を含有する請求項２８記載の基体。
【請求項３０】
スパッターフィルムが金属の酸化物を含有する請求項２８記載の基体。
【請求項３１】
スパッターフィルムが、亜鉛、ビスマス、カドミウム、鉄およびニッケルから成る群から選択される金属の酸化物を含有する請求項３１記載の基体。
【請求項３２】
スパッターフィルムが酸化亜鉛を含有する請求項３１記載の基体。
【請求項３３】
選択される洗浄液に対して耐性を示す外部表面を有する基体であって、該外部表面が、該外部表面を汚染から保護する仮保護カバーを保有し、該カバーが約６００℃のオーダーの高温において耐性を示すと共に該洗浄液を用いる洗浄によって該外部表面から容易に除去される該基体。
【請求項３４】
カバーが水の存在下では安定であるが、弱酸または弱塩基の存在下で崩壊する請求項３３記載の基体。
【請求項３５】
カバーが金属の酸化物を含有する請求項３３記載の基体。
【請求項３６】
カバーが、亜鉛、ビスマス、カドミウム、鉄およびニッケルから成る群から選択される金属の酸化物を含有する請求項３５記載の基体。
【請求項３７】
カバーが酸化亜鉛を含有する請求項３６記載の基体。
【請求項３８】
カバーが約２５００オングストロームよりも小さい厚さを有する請求項３３え記載の基体。
【請求項３９】
カバーが約１００オングストロームよりも小さい厚さを有する請求項３８記載の基体。
【請求項４０】
カバーが約２５〜約６０オングストロームの厚さを有する請求項３９記載の基体。
【請求項４１】
カバーがスパッターフィルムを含む請求項３３記載の基体。
【請求項４２】
間隔をあけて配設される複数のペインを具有する絶縁性ガラスユニットであって、該ペインがそれらの間の空間を制限する対置内部表面を有し、該ペインの少なくとも１つが選択される洗浄液に対して耐性を示す外部表面を有し、該外部表面がスパッターフィルムを含む仮保護カバーを保有し、該フィルムが該外部表面を汚染から保護すると共に該洗浄液を用いる洗浄によって該外部表面から容易に除去される該絶縁性ガラスユニット。
【請求項４３】
スパッターフィルムが水の存在下で安定である請求項４２記載の絶縁性ガラスユニット。
【請求項４４】
スパッターフィルムが緩酸または緩塩基の存在下で崩壊する請求項４３記載の絶縁性ガラスユニット。
【請求項４５】
ペインがガラスであり、少なくともカバー保有ペインが焼入れガラスである請求項４２記載の絶縁性ガラスユニット。
【請求項４６】
スパッターフィルムが約６００℃のオーダーの高温において耐性を示す請求項４２記載の絶縁性ガラスユニット。
【請求項４７】
スパッターフィルムが金属の酸化物を含有する請求項４２記載の絶縁性ガラスユニット。
【請求項４８】
スパッターフィルムが、亜鉛、ビスマス、カドミウム、鉄およびニッケルから成る群から選択される金属の酸化物を含有する請求項４７記載の絶縁性ガラスユニット。
【請求項４９】
スパッターフィルムが酸化亜鉛を含有する請求項４８記載の絶縁性ガラスユニット。
【請求項５０】
スパッターフィルムが約１００オングストロームよりも小さい厚さを有する請求項４２記載の絶縁性ガラスユニット。
【請求項５１】
スパッターフィルムが約２５〜約６０オングストロームの厚さを有する請求項５０記載の絶縁性ガラスユニット。
【請求項５２】
対置内部表面の少なくとも１つが赤外線反射性コーティングを保持する請求項４２記載の絶縁性ガラスユニット。
【請求項５３】
赤外線反射性コーティングが、基体から外側へ向かって少なくとも１つの誘電性層、金属層および別の誘電性層を含む請求項５２記載の絶縁性ガラスユニット。
【請求項５４】
下記の工程（ａ）〜（ｃ）を含む基体の製造方法：
（ａ）一般に対置する内部表面と外部表面を有する基体を供給し、
（ｂ）選択される洗浄液に対して耐性を示す物質を含有する耐久性コーティングを該基体の外部表面上に形成させ、次いで
（ｃ）該耐久性コーティングを汚染から保護すると共に該洗浄液を用いる洗浄によって容易に除去される物質を含有する仮保護カバーを、スパッタリングによって該耐久性コーティング上に形成させる。
【請求項５５】
耐久性コーティングをスパッタリングによって形成させる請求項５４記載の方法。
【請求項５６】
耐久性コーティングが、酸化性雰囲気中での珪素ターゲットのスパッタリングによって沈着される親水性コーティングである請求項５４記載の方法。
【請求項５７】
耐久性コーティングが、チタン含有ターゲットのスパッタリングによって沈着される光触媒性コーティングである請求項５４記載の方法。
【請求項５８】
亜鉛、ビスマス、カドミウム、鉄およびニッケルから成る群から選択される金属の酸化物の耐久性コーティング上へのスパッタリングによって仮保護カバーが形成される請求項５４記載の方法。
【請求項５９】
覆われた基体の焼入れ工程をさらに含み、仮保護カバーが約６００℃のオーダーの高温において耐性を示す請求項５４記載の方法。
【請求項６０】
覆われた基体の絶縁性ガラスユニット内への組入れ工程をさらに含む請求項５４記載の方法。
【請求項６１】
覆われた基体の顧客への配送工程をさらに含む請求項５４記載の方法。
【請求項６２】
覆われた基体のウインドーフレーム内への設置工程をさらに含む請求項５４記載の方法。
【請求項６３】
下記の工程（ａ）および（ｂ）を含む基体の加工方法：
（ａ）選択される洗浄液に対して耐性を示す外部表面を有する基体であって、該外部表面がスパッターフィルムを含む仮保護カバーを保持し、該フィルムが該外部表面を汚染から保護すると共に該洗浄液を用いる洗浄によって該外部表面から容易に除去される該基体を供給し、次いで
（ｂ）基体の覆われた外部表面を該洗浄液で洗浄することによって該カバーの少なくとも一部を除去し、これによって該カバーの下に存在する該外部表面を露出させる。
【請求項６４】
洗浄液が緩酸または緩塩基を含有する請求項６３記載の方法。
【請求項６５】
洗浄液がビネガーを含有する請求項６４記載の方法。
【請求項６６】
洗浄によってカバーの実質上全てが除去される請求項６５記載の方法。
【請求項６７】
洗浄工程の前に、覆われた基体を絶縁性ガラスユニット内へ組入れる工程をさらに含む請求項６６記載の方法。
【請求項６８】
洗浄工程前に、覆われた基体を顧客に配送する工程をさらに含む請求項６６記載の方法。
【請求項６９】
洗浄工程前に、覆われた基体をウインドーフレーム内へ設置する工程をさらに含む請求項６６記載の方法。
【請求項７０】
覆われた基体の焼入れ工程をさらに含み、該カバーが約６００℃のオーダーの高温において耐性を示す請求項６６記載の方法。
【請求項７１】
下記の構成要素（ａ）および（ｂ）を含むウインドーアセンブリー：
（ａ）選択される洗浄液に対して耐性を示す外部表面を有するウインドーペインであって、該外部表面が、該洗浄液を用いる洗浄によって容易に除去されるスパッターフィルムを含む仮保護カバーを保持する該ウインドーペイン、および
（ｂ）シーラントのビードによって該ペインが固定されたフレーム構造部材であって、該ビードが第１側部において該保護カバーの周縁部へ直接的に接着され、該周縁部が該ペインの外部表面の周縁領域上に位置し、また、該ビードが第２側部において該構造部材へ接着される該フレーム構造部材。
【請求項７２】
カバーがペインの外部表面の中央部から除去される請求項７１記載のウインドーアセンブリー。
【請求項７３】
下記の工程（ａ）〜（ｃ）を含む基体の加工方法：
（ａ）内部表面と外部表面を有する基体を供給すると共に、直列接続されるスパッタリング室を具有するスパッタリングラインであって、各々のスパッタリング室がその中に配設された基体サポートを保有し、第１スパッタリング室が第１室内のサポートの下方に配設された第１下方ターゲットを保有し、第２スパッタリング室が第２室内のサポートの下方に配設された第２下方ターゲットを保有する該スパッタリングラインを供給し、
（ｂ）サポート上の基体を、該基体の外部表面が第１下方ターゲットの方向を向くように第１スッパタリング室内に配設した後、第１下方ターゲットをスパッターさせることによって、選択される洗浄液に対して耐性を示す物質を含有する第１コーティングを基体の外部表面上へ沈着させ、次いで
（ｃ）サポート上の基体を、該基体の外部表面が第２下方ターゲットの方向を向くように第２スパッタリング室内に配設した後、第２下方ターゲットをスパッターさせることによって、選択される洗浄液を用いる洗浄によって該第１コーティングから容易に除去される物質を含有する第２コーティングを該第１コーティング上へ沈着させる。
【請求項７４】
第１コーティングが親水性コーティングであり、第１下方ターゲットが珪素を含有し、第１下方ターゲトが酸化性雰囲気中でスパッターされる請求項７３記載の方法。
【請求項７５】
第１コーティングが光触媒性コーティングであり、第１下方ターゲットがチタンを含有し、第１下方ターゲットが不活性ガス雰囲気中または不活性ガスと酸素を含有する雰囲気中でスパッターされる請求項７３記載の方法。
【請求項７６】
第２コーティングが仮保護カバーであり、第２下方ターゲットが金属を含有し、第２下方ターゲットが酸化性雰囲気中でスパッターされる請求項７３記載の方法。
【請求項７７】
第２コーティングが仮保護カバーであり、第２下方ターゲットが、亜鉛、ビスマス、カドミウム、鉄およびニッケルから成る群から選択される金属を含有し、第２下方ターゲットが酸化性雰囲気中でスパッターされる請求項７３記載の方法。
【請求項７８】
第２コーティングが仮保護カバーであり、第２下方ターゲットが亜鉛を含有し、第２下方ターゲットが酸化性雰囲気中でスパッターされる請求項７３記載の方法。
【請求項７９】
下方スパッタリング室をさらに具有し、該下方スパッタリング室が、該室内のサポートの上方に配設される上方ターゲットを保有し、該上方ターゲットをスパッターすることによって、基体の内部表面上または該内部表面上に予め沈着されるフィルム上に内部コーティングを沈着させる請求項７３記載の方法。
【請求項８０】
内部コーティングが低放射率コーティングまたは低放射率コーティングの一部を形成するフィルムであり、上方ターゲットが金属を含有し、該上方ターゲットが酸化性雰囲気中でスパッターされる請求項７９記載の方法。
【請求項８１】
二方向スパッタリング室をさらに具有し、該二方向スパッタリング室が、該室内のサポートの上方に配設される第２上方ターゲットおよび該室内のサポートの下方に配設される第３下方ターゲットを保有し、該第２上方ターゲットと該第３下方ターゲットが実質上同時にスパッターされる請求項７３記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（技術分野）
本発明は、基体（ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）、例えば、ガラス等に対する仮保護カバー（ｔｅｍｐｏｒａｒｙ ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｃｏｖｅｒ）を提供する。特に本発明は、基体表面に適用して該表面を汚染から保護することができる仮保護カバーを提供する。
【０００２】
（背景技術）
製造直後のガラスやその他の基体への製造環境からの汚染物の蓄積を防止することは困難である。この種の製造環境は、被製造基体を汚染する有機物やその他の残渣を一般に含んでいる。例えば、ガラスの製造に用いられる種々の溶剤、硬化物およびシーラント（ｓｅａｌａｎｔ）並びにガラス製品は被製造ガラスの表面上に蓄積する残渣を生成する。製造工場内の空気は、製造されたガラス上に凝縮するか、または該ガラスを汚染する蒸気も含有している。例えば、シリコーンは、絶縁性ガラスユニット（ＩＧユニット）の製造におけるシーラントとして一般に使用されている。シリコーンは沈着直後からかなりの時間にわたってガスを放出する。その結果、ガラスを周囲の製造環境に単にさらしただけでシリコーン残渣がガラスに蓄積する。それどころか、このようなシリコーン汚染の防止は非常に困難であることが判明している。しかも、シリコーン汚染物を除去することは極めて困難である。
【０００３】
汚染は製造工程中のいくつかの別の過程においても発生する。例えば、ガラスシートは一般に被覆されるときにローラーを横断して搬送されるが、ガラスシートの底部面はローラーと支持接触し、これによって少量の不純物または痕跡物がガラスに付着する。このような汚染は非常にわずかなものであるが、望ましくないので、可能な限り回避されるべきである。ガラス製品の製造に用いられる取扱い装置もガラスに痕跡を残す。例えば、真空化吸引カップはガラスシートを取扱うために一般に使用されているが、この取扱いによっても、少なくともある場合には、吸引カップの痕跡がガラスの表面上に残存することが判明している。ガラスの製造中においては、ステッカーやその他のマーキングも適用される。これらのステッカーやマーキングは容易に除去されるものであるが、除去後にガラス表面上に永続的な影響を確実に残さないようにすることは困難である。
【０００４】
ガラスシートやその他の基体は、製造工場から出荷された後においても別の汚染源にさらされる。例えば、ガラス製品は最終的な目的地に到達する前に、種々の保管環境や輸送環境にさらされる。製造工場の場合のように、保管環境や輸送環境も、製品に蓄積して該製品を汚染させる残渣や蒸気を含んでいる。例えば、保管環境と輸送環境にあるＩＧユニットやその他の製品は、かなりの期間にわたってガスを放出するシリコーンシーラントやその他の物質を含有している。もちろん、これらの環境の多くは製造業者が制御できないものである。このように、製造業者は自己の製造工場や保管工場の内部の環境を制御することはできるが、ガラス製品等を最終的な消費者に配送する前に該製品等がさらされる環境を調整することは非常に困難である。
【０００５】
汚染はガラス製品の設置時または最終作業時にも発生する。新しい住宅の所有者に最もよく知られている汚染は、窓枠の塗装時に塗料の一部が不用意にも窓ガラスに付着するときに発生する。設置業者や塗装業者は隣接するガラスの表面を、例えば「マスキングテープ（ｍａｓｋｉｎｇ ｔａｐｅ）」の適用によって一時的にマスクする対策を取ることができるが、ガラスの表面全体をマスクすることは困難である。このため、マスクされない表面領域の一部は依然として意図されない塗料の「こぼれ」や「したたり」の影響を受けやすい状態にある。さらに、これらのマスキングテープは接着剤を用いて付着されるので、該テープの剥離後に接着剤の残渣をガラス上に残存させないようにすることは困難である。
【０００６】
このような汚染源は、表面汚染のないガラスやその他の基体の製造、輸送、取付けおよび仕上げ処理を著しく困難にする。この問題の最も簡単な解決策は、汚染された表面を水洗または他の洗浄法によって表面上の汚染物を単に除去する方法である。例えば、ウインドーペインから塗料汚染物を除去するために種々の磨き剤やエッチング剤が使用されている。レザーブレード（ｒａｚｏｒｂｌａｄｅ）を用いて塗料等をガラスからけずり取る方法も知られている。しかしながら、このような攻撃的な洗浄法はガラスの一部も除去して曇り領域またはかき傷のある領域を残存させる。この種の攻撃的洗浄法を用いたとしても、特定の汚染物（例えば、シリコーン等）を除去することは実際上不可能である。
【０００７】
他の解決策は、基体を汚染の可能性のある潜在的な期間にわたって一時的に保護する方法である。過去においては、除去可能な紙やプラスチックスを用いてガラスを保護する試みがなされている。一般的には、このような紙やプラスチックスは基体から機械的に剥離させることによって除去される。次の米国特許の明細書にはこれに関連する技術が開示されている：第１，２５６，８１８号（ナイル）、第５，１０７，６４３号（スベンセン）、第５，５９９，４２２号（Ｊｒ．アダムスら）および第５，８６６，２６０号（Ｊｒ．アダムスら）（これらの特許明細書の開示内容も本明細書の一部を成すものである）。
【０００８】
しかしながら、保護用の紙やプラスチックスは多くの欠点を有する。例えば、これらは一般に接着剤を用いて適用される。この種の接着剤はガラスと反応してその除去を困難にするだけでなく、ガラスの表面特性を変化させる可能性がある。このことは特にガラスを長期間にわたってマスクする場合やマスクされたガラスを高温または実質的な放射（例えば、日光放射）にさらした場合に問題となる。ある種の紙やプラスチックスの成分、例えば、シリコーン含有成分はこのような過程においてガラスと反応する。接着剤を使用しない適用法、例えば、静的な粘着性に基づく適用法も可能である。しかしながら、このような方法によって適用される紙やプラスチックは期待されるほどの安全性がなく、取扱い中に脱離することがある。さらに、除去される保護用の紙やプラスチックスは廃棄またはリサイクルされなければならない付加的な廃棄物を発生させるので、付加的な労働力と費用を必要とする。
【０００９】
種々の湿式沈着法（例えば、塗布法、浸漬法または噴霧法等）によって液状被覆組成物を適用することによってガラスを一時的に保護する方法もおこなわれている。得られるコーティングはその組成を変化させるが、これらの多くは剥離処理または水洗処理によって除去されるポリマー材料である。これに関しては次の特許文献が例示される：米国特許第５，４５３，４５９号（ロバーツ）、同第５，８６６，１９９号（スウィドラー）、同第６，１２４，０４４号（スウィドラー）、ＰＣＴ公報ＷＯ００／５０３５４号（マクドナルド）およびＷＯ０１／０２４９６号（メドウィックら）各明細書。メドウィックらの文献には、ガラスの仮保護に利用できるスパッター炭素含有コーティングも開示されている。このコーティングは燃焼によって除去できるとされている。例えば、メドウィックらは該コーティングが焼入れ中に酸化されて除去されることを明言している。しかしながら、全てのこれらの試みは理想的な方法とはほど遠いものである。
【００１０】
これらの試みの制限は、一般的なウインドーが耐える加工工程の全範囲を考慮するときにより明白になる。ガラスシートは多くの方法によって形成され、最も一般的な方法はフロートガラス法（ｆｌｏａｔ ｇｌａｓｓ ｐｒｏｃｅｓｓ）である。この方法においては、ガラスの基本的成分を一緒にした後、炉内で２９００°Ｆのオーダーの温度で加熱してガラスを溶融させる。このガラスのリボンを溶融スズ浴の頂上に浮遊させ、該浴中で冷却を開始させ、次いで所望の幅と厚さに機械加工される。得られたガラスはより小さなシートに切断される。
【００１１】
ガラスシートは種々の異なる被覆法を用いて種々の異なるコーティングによって被覆することができる。スパッター沈着法は表面積の大きな基体、例えば、建築用ガラス等をコーティングするための一般的方法である。ガラスシートをスパッター沈着法で被覆する場合、ガラスシートはスパッタリング室内へ搬送される。一般的には、ガラスは、連結された一連のスパッタリング室（即ち、スパッタリングライン）を通して搬送される。各々のスパッタリング室は制御されたスパッタリング雰囲気を有する。ガラスシートがスパッタリングラインを通して搬送されると、所望のコーティングがガラス表面上へスパッターされる。スパッタリングラインの出口において、ガラスは制御されたスパッタリング雰囲気から解放され、周囲のガラス加工雰囲気にさらされる。この時点から、被覆されたガラスへの環境からの汚染物の蓄積が開始される。
【００１２】
このように、被覆されたガラスは、制御されたコーティング環境から解放されると、一般に汚染されやすくなる。その結果、基体を被覆するときに、被覆された基体を一時的に保護することが望ましい。例えば、ガラスをスパッタリングラインから取り出す前に、スパッター被覆されたガラスに一時的な保護カバーを適用することが望ましい。
【００１３】
スパッタリング室の内部において、紙、プラスチックまたは液状コーティング組成物を適用することは困難である。例えば、スパッタリング中に生ずる基体の高温化はこのような適用に問題をもたらす。スパッタリング中においては、ガラスは一般に１００〜２００℃のオーダーの温度に達し、場合によってはより高い温度に達するかもしれない。このような温度は、紙またはプラスチックスを適用するために使用される多くのプラスチックスや多くの接着剤の軟化点を越える。さらに、常套のスパッタリング室は湿式沈着法に適合するように設計されていない。従って、スパッタリング室内において、これらの保護材料を適用することは、不可能ではないとしても、実用的ではない。これらの保護材料をスパッタリング室内において適用することは可能であるが、該保護材料で被覆された後の多くの基体が付される加工条件に該保護材料は耐えることはできない。
【００１４】
コーティング雰囲気（例えば、スパッタリング室内の雰囲気）から解放されたガラスは、所謂「セパレーター（ｓｅｐａｒａｔｏｒ）」によって覆われるのが一般的である。一般的なセパレーターは保護粉末（例えば、アジピン酸粉末）を含有しており、該保護粉末は湿気によるガラスの腐蝕を保護する。該粉末は一般に小さなビーズ（例えば、ナイロンビーズ）を含有しており、該ビーズは、ガラスシートが相互に積み重ねられたときに該シートを分離させる。この種のビーズは積み重ねられた状態における隣接表面が相互に接触するのを防止し、これによって摩耗やその他の損傷を最小にする。
【００１５】
前述のように、ガラスシートはしばしばＩＧユニットに組立てられる。この工程の第一段階として、ガラスシートからセパレーターが洗い流されるのが一般的である。この処理は、ガラスシートを工業用ガラス洗浄機内を通過させることによって簡便におこなわれている。工業用ガラス洗浄機は水（熱水のこともある）が使用され、所望により洗剤が使用される。大部分の保護用の紙やプラスチックスが工業用ガラス洗浄機内を通過した後に残存することは期待できない。さらに、これらの保護材料の劣化によって洗浄機内に問題となる廃棄物が形成され、これによって洗浄機が詰まり、その維持管理が複雑になる。さらにまた、液状で使用される多くの保護用材料は水溶性である。従って、工業的洗浄に耐え得る仮の保護カバーを提供することが望ましい。
【００１６】
被覆されたガラスは種々の高温工程、例えば、熱による焼入れや曲げ処理にも付される。例えば、焼入れ工程中、ガラスは一般に約６００℃（１１１２°Ｆ）のオーダーの温度においてかなりの間（例えば、数時間）加熱されるのが一般的である。残念ながら、大部分の保護用の紙、プラスチックスおよびポリマー材料は、高温での処理過程において焼尽くされるか、または少なくとも著しく劣化される。同様に、メドウィックらの文献に記載されている炭素含有保護コーティングは焼入れ工程中に焼尽くされると言われている。焼入れされたガラスは焼入れ後、例えば、その後の貯蔵、搬送、設置および仕上げ処理において汚染源にさらされるので、焼入れに対して耐性のある仮保護カバーを提供することが有効である。
【００１７】
（発明の開示）
（発明が解決しようとする技術的課題）
コーティング工程の一部として、被覆された基体に適用することができる仮保護カバーを提供することが望ましい。例えば、制御されたスパッタリング環境内において、スパッター被覆されたガラスに適用することができる仮カバーを提供することが有効である。ガラスやその他の基体が一般的に耐える加工処理の全範囲において十分な耐性を示す仮カバーを提供することが特に望ましい。例えば、工業的なガラス洗浄等に対して耐性を示す仮カバーを提供することが有効である。高温での加工処理（例えば、熱による焼入れや曲げ処理）に対して耐性を示す仮カバーを提供することが特に望ましい。同時に、設置後もしくは仕上げ処理後、または下地表面を露出することが望まれるいずれかの段階において、容易に除去できる仮カバーを提供することが望ましい。
【００１８】
（その解決方法）
耐久性外部表面を有する基体（例えば、ガラス等）（該外部表面は、基体自体によって構成されていてもよく、あるいは該基体上に形成されるコーティングによって構成されていてもよい）が、基体の該耐久性表面を崩壊させない洗浄液を用いて洗浄することによって崩壊されて除去される仮保護カバーを該耐久性表面上に形成させることによって、汚染から保護されることが判明した。該カバーは、該耐久性表面が、例えば、ウインドー工業で使用されているシリコーン等で汚染されるのを防止する。カバーが不要になったときには、該カバーは洗浄液（例えば、酸性またはアルカリ性の水溶液、例えば、ビネガー等）を用いて耐久性表面から容易に除去することができる。それ自体が汚染されることもある保護カバーを除去することによって、基体の清浄なもとの耐久性表面が露出する。
【００１９】
本発明の一つの態様によれば、選択される洗浄液に対して耐久性のある外部表面を有する基体が提供される。この外部表面は、スパッターフィルムを含む仮保護カバーを保持しており、該フィルムは該外部表面を汚染から保護すると共に、該洗浄液を用いる洗浄によって該外部表面から容易に除去することができる。
【００２０】
本発明の別の態様によれば、選択される洗浄液に対して耐久性のある外部コーティングを保持する基体が提供される。外部コーティングは、その上に直接的にスパッターされたフィルムを含む仮保護カバーを保有する。該カバーは該外部コーティングを汚染から保護すると共に、選択される洗浄液を用いる洗浄によって該外部コーティングから容易に除去される。
【００２１】
本発明のさらに別の態様によれば、選択される洗浄液に対して耐久性のある外部表面を有する基体が提供される。該外部表面は、該表面を汚染から保護する仮保護カバーを保有する。該カバーは約６００℃のオーダーの高温に対して耐性を示すと共に、選択される洗浄液を用いる洗浄によって該外部表面から容易に除去される。
【００２２】
本発明の他の態様においては、間隔を設けて複数のペイン（ｐａｎｅ）を具有する絶縁性ガラスユニットであって、該ペインが、ペイン間の空間を制限する対向内部表面を有する該ガラスユニットを提供する。ペインの少なくとも一枚は、選択される洗浄液に対して耐性を示す外部表面を有する。この外部表面は仮保護カバーを保有しており、該カバーは、該外部表面を汚染から保護するが、選択される洗浄液を用いる洗浄によって該外部表面から容易に除去されるスパッターフィルムを具有する。
【００２３】
本発明の他の態様によれば、基体の製造法が提供される。この方法には、一般的には対置する内部表面と外部表面を有する基体を供給する工程が含まれる。耐久性コーティングは基体の外部表面上に形成される。該コーティングは選択される洗浄液に対して耐久性を示す。仮保護カバーは耐久性コーティング上にスパッターされる。該カバーは、該耐久性コーティングを汚染から保護すると共に、選択される洗浄液を用いる洗浄によって容易に除去される材料を含有する。
【００２４】
本発明の他の態様においては、基体の加工法が提供される。該加工法は、選択される洗浄液に対して耐性を示す外部表面を有する基体を調製することを含む。該外部表面は仮保護カバーを保有しており、該カバーは、該外部表面を汚染から保護すると共に選択される洗浄液を用いる洗浄によって該外部表面から容易に除去されるスパッターフィルムを具有する。基体の覆われた外部表面を選択される洗浄液で洗浄することによって該カバーの少なくとも一部が除去され、これによってその下に存在する外部表面の少なくとも一部を露出させる。
【００２５】
本発明の別の態様によれば、、ウインドーアセンブリーが提供される。このアセンブリーは、選択される洗浄液に対して耐久性のある外部表面を有するウインドーペインを含む。外部表面は、選択される洗浄液を用いる洗浄によって容易に除去されるスパッターフィルムを含む仮保護カバーを保有する。このアセンブリーは、シーラントのビードによってペインが固定されたフレーム構造を含む。シーラントのビードは、第１側部においては保護カバーの周縁部に直接的に結合され、また。第２側部においてはフレーム構造に結合される。
【００２６】
本発明のさらにまた別の態様によれば、基体の加工法が提供される。この方法には、内部表面と外部表面を有する基体を供給する工程が含まれる。直列状に連結されたスパッタリング室を含むスパッタリングラインであって、各々のスパッタリング室内に基体サポートが配設されたスパッタリングラインも供給される。第１スパッタリング室は、第１室内のサポートの下方に配置された第１下方ターゲットを保有する。第２スパッタリング室は、第２室内のサポートの下方に配置された第２下方ターゲットを保有する。基体は第１スパッタリング室内のサポート上において、該基体の外部表面が第１下方ターゲットの方向へ向くと共に、第１下方ターゲットがスパッターされて該基体の外部表面上に第１コーティングが沈着されるような態様で配置される。第１コーティングは、選択される洗浄液に対して耐久性のある物質を含有する。基体は第２スパッタリング室内のサポート上において、該基体の外部表面が第２下方ターゲットの方向へ向くと共に、第２下方ターゲットがスパッターされて該第１コーティング上に第２コーティングが沈着されるような態様で配置される。第２コーティングは、選択される洗浄液を用いる洗浄によって第１コーティングから容易に除去することができる物質を含む。
【００２７】
さらに別の態様においては、本発明は、所望の洗浄液に対して高い耐性を示す外部表面を有する基体、例えば、ガラスシート等を提供する。該外部表面は基体の表面であってもよく、あるいは基体上にコーティングを沈着させることによって得られる表面であってもよい。常套の洗浄法または所望の洗浄液に対して十分な耐性を示さない表面とコーティングは、この態様において使用するにはあまり望ましいものではない。外部表面上に仮保護カバーを直接的に沈着させる。該カバーは外部表面をシリコーンゴム配合物等による汚染から保護すると共に所望の洗浄溶液（好ましくは水溶液、最も好ましくは少なくとも幾分塩基性もしくは酸性の溶液）によって容易に崩壊されて該外部表面から洗い流されるような材質と厚さを有するカバーである。
【００２８】
さらにまた別の態様においては、本発明は、ウインドーの製造と設置において使用できる方法を提供する。この方法には、（ｉ）所定の洗浄液に対して耐性を示す外部表面をウインドーに付与し、（ｉｉ）該外部表面上に、該表面を汚染から保護する保護カバーを形成させ、次いで（ｉｉｉ）該保護カバーを崩壊させるが該外部表面には損傷をもたらさない洗浄液を用いて該保護カバーを該外部表面から洗い流す工程が含まれる。
【００２９】
図１は、本発明の一態様による仮カバーを保有する表面を有する基体の模式的断面図である。
図２は、本発明の別の態様による仮カバーを保有する被覆表面を有する基体の模式的断面図である。
図３は、２つの被覆表面を有する基体であって、該被覆表面の一方が、本発明のさらに別の態様による仮カバーを保有する該基体の模式的断面図である。
図４は、多重ペイン（ｍｕｌｔｉｐｌｅ−ｐａｎｅ）で絶縁分離されたガラスユニットであって、該ペインの一枚の被覆表面が本発明によるさらに別の態様による仮カバーを保有する該ガラスユニットの模式的断面斜視図である。
図５は、２つの被覆表面を有する基体であって、各々の被覆表面が本発明による他の態様による仮カバーを保有する該基体の模式的断面図である。
図６は、被覆表面を有する基体であって、該被覆表面が本発明のさらにまた別の態様による仮カバーを保有する該基体の模式的断面図である。
図７は、本発明の一つの方法に使用するための二方向スパッタリング室の模式的構成図である。
図８は、本発明の別の方法に使用するための多領域／二方向スパッタリング室の模式的模式図である。
図９は、本発明の他の態様によるウインドーアセンブリーの部分的な模式的断面図である。
図１０は、本発明のさらに別の態様によるウインドーアセンブリーの部分的な模式的断面図である。
【００３０】
（発明を実施するための最良の形態）
以下、本発明の好ましい態様を添付図に基づいて詳細に説明する。添付図において、同じ要素は同じ参照番号で示す。必ずしも寸法が必要でないこれらの添付図は本発明の選択された態様を示すものであるが、本発明の範囲を制限するものではない。選択された要素に対しては、構造、材料、寸法および製造プロセスが例示されるが、その他の全ての要素に対しては当業者に既知のものが用いられる。当業者に認識されるように、本明細書に示す例示的態様には、本発明の範囲内に含まれる利用可能な多くの適当な代替的態様が包含される。
【００３１】
図１は、本発明による仮保護カバー９０を保持する外部表面１２を有する基体１０を示す。基体の外部表面および内部表面はそれぞれ参照番号１２および１４で示される。この場合の「内部」表面および「外部」表面という表示は幾分任意的なものである。例えば、このような要求が特に明示されない限り、戸外環境にさらされるのは必ずしも外部表面または内部表面でなければならないことはない。
【００３２】
本発明において使用するのに適当な基体には、一般的には平らなシート状基体を含む特定の基体群が包含される。この種の基体は、典型的には、一般に対置した２つの主表面１２および１４を有する。例えば、この種の基体群にはガラス等のシートが包含される。実際上は、本発明による仮保護カバーはガラス製基体の汚染を保護するのに極めて都合よく利用することができる。ガラス製品（例えば、絶縁性ガラスユニット）の製造において一般的に使用されているガラス製基体としては、一般にソーダ石灰ガラスと呼ばれているタイプのものが挙げられる。適当な他のタイプのガラスには次のものが包含される：アルカリ石灰−二酸化珪素ガラス、硼素−シリコンジオキシデート（ｓｉｌｉｃｏｎ ｄｉｏｘｉｄａｔｅ）ガラス、アルミノシリコンジオキシデートガラス、硼素−アルミノシリコンジオキシデートガラス、ホスフェートガラスおよび溶融二酸化珪素ガラス。基体１０は透明である必要はない。例えば、不透明な基体が有用な場合がある。しかしながら、大部分の用途に対しては、基体は透明材料または半透明材料、例えばガラスまたは透明プラスチックを含有することが予想されている。
【００３３】
本発明による仮カバーは実質上どのような基体表面またはコーティングの汚染防止にも使用することができる。好ましくは、該カバーは耐久性外部表面によって保持される。耐久性外部表面は基体自体によって形成されていてもよい。あるいは、該外部表面は基体上のコーティングによって形成されていてもよい。望ましくは、外部表面は良好な機械的耐久性を有する。例えば、この表面は、一般的なウインドー洗浄技術の過酷さに対して、許容できないかき傷等の損傷を受けないような十分な機械的耐久性を有するのが好ましい。また、該耐久性表面は、少なくとも幾分酸性または塩基性の洗浄液によって侵されないような耐性を示す（即ち、該洗浄液の存在下で安定である）のが望ましい。好ましくは、この表面は緩酸または緩塩基によって侵されないような耐性を示す。最適な該表面は緩酸または緩塩基との接触によって全く影響を受けない。
【００３４】
耐久性外部表面は保護カバー９０の除去後に露出するので、該外部表面は露出される環境に対して十分な耐性を示すことが望ましい。場合によっては、該外部表面は戸外環境にさらされるように予定される。このような場合、該外部表面は外部の（即ち、戸外の）天候条件、例えば、周期的な雨（即ち、幾分酸性または塩基性の水）との接触等に長期間さらされる環境に対して耐性（即ち、適応耐性）を示すのが好ましい。従って、カバーを保有する該外部表面は物理的にも化学的にも耐性を示すことが望ましい。
【００３５】
図１に示す態様においては、基体１０は、該基体の表面上に直接的に形成された仮保護カバー９０を有する。即ち、カバー９０は、基体１０の外部表面１２上に保持される。この態様においては、基体１０の内部表面１４はカバー９０によって保護されない。しかしながら、該基体が全く被覆されていないか、または表面１２と１４の一方もしくは両方が被覆されているにかかわらず、所望により、保護カバー９０が基体の両面に保持されていてもよい。例えば、図５に示す態様においては、基体１０は、内部表面１４上に第１カバー９０を保持する第１コーティング２０を有すると共に、外部表面１２上に第２カバー９０を保持する第２コーティング２０を有する。このような態様においては、基体１０の主要な表面１２および１４は汚染から保護される。
【００３６】
前述のように、本発明によるカバー９０は、基体コーティングの汚染を防止すするために極めて都合よく使用することができる。このような仮保護に有利なコーティングの種類に関しては実質上制限はない。従って、本発明によるカバー９０は、どのような種類や性状のコーティングを保護するために使用することができる。先に説明したように、保護カバー９０の下に存在するコーティングは、該保護カバーの除去によって曝されることになる環境に対して十分な耐久性を示すのが望ましい。
【００３７】
図２に示す態様においては、基体１０は、仮保護カバー９０を保有するコーティング２０を保持する外部表面１２を有する。コーティング２０はいずれかの所望の単層コーティングまたは多層フィルム積層体であってもよい。いくつかの有用なコーティングについて以下に説明するが、利用しうるコーティングの種類についての検討は本発明の範囲外の事項である。さらに、当業者であれば、問題なく、異なる用途に対しては異なるコーティング２０を選択することができる。
【００３８】
本発明による仮保護カバー９０は、親水性表面特性を有する基体を保護するのに有用である。前述のように、当初は親水性表面特性を有するガラスシートは種々の製造工程において汚染される。例えば、被覆ガラスを汚染させるシリコーンのような物質を含有しない親水性コーティングを保持する建築用ガラスを製造するが驚くほど困難であることが判明している。残念ながら、シリコーンや他の汚染物質は、親水性表面を望ましくない疎水性にする。しかしながら、製造されたばかりの親水性コーティングを本発明によるカバー９０で一時的に保護することによって、メーカーは、最終的な消費者が該コーティングの所望の親水性特性を利用できることをより確実に保証することができる。
【００３９】
親水性コーティングを保持するガラスを製造することは非常に望ましい。親水性コーティングは水に対して親和性を有しており、付着水を流延させやすい。親水性表面特性を有するガラスやその他の基体の製造に関しては驚くほど多くの試みがなされている。米国特許出願第０９／８６８５４２号、同第０９／８６８５４３号、同第０９／５９９３０１号および第０９／５７２７６６号各明細書に記載されているように、親水性コーティングは建築用のガラスやその他の基体上に適用したときに特に有利である（これらの明細書の全記載内容も本明細書の一部を成すものである）。例えば、このようなコーティングは水の染み形成を防止することによって、より長い期間にわたる清浄な外観の維持に寄与する。
【００４０】
一つの態様においては、図２に示すような基体１０は親水性コーティング２０を保持する。この図示する態様においては、親水性コーティング２０は基体１０の外部表面１２上へ直接的に形成されるが、このことは必要要件ではない。以下に説明するように、親水性コーティング２０は、基体１０上にあらかじめ沈着された１または複数のフィルム上に形成させてもよい。親水性コーティング２０は本発明による仮保護カバー９０を保有する。図示するカバー９０は親水性コーティング２０上に直接的に形成されるが、このことは必要要件ではない。図示する態様においては、基体１０の内部表面１４は保護カバーを保有していないが、必要な場合には保護カバーを付与してもよい。
【００４１】
本発明による仮保護カバー９０は、どのような種類の親水性コーティングまたは表面が汚染されるのも都合よく保護するのに利用できる。図２においては、基体１０は分離した親水性コーティング２０を保持しているが、これは本発明の必要要件ではない。例えば、基体１０の表面はそれ自体が親水性であってもよい。これは基体材料の固有の特性であってもよく、あるいは基体１０を特定の表面処理に付して得られる特性であってもよい。本明細書で用いる「親水性（ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｉｃ）」という用語は、水を付着させたコーティングまたは表面が該水を玉のようにせずに、一面に広がるようにする特性を示す。例えば、親水性のコーティングおよび表面は、汚染される前の状態において、水に対して約２５度よりも小さな接触角を示すことが期待される。
【００４２】
本発明によるカバー９０は、いずれかの所望の親水性コーティングと併用することができる。以下に説明するように、特に好ましい態様においては、親水性コーティング２０は酸化物である。しかしながら、これは必要要件ではなく、種々の適材を使用することができる。好ましくは、親水性コーティング２０は、いずれかの環境汚染にさらされる前であって、仮カバー９０が除去された後において、水に対して約２５度よりも小さな接触角を示す材料から形成させる。
【００４３】
特に好ましい態様においては、親水性コーティング２０は、特定の好ましい水流延性コーティング（ｐｒｅｆｅｒｒｅｄ ｗａｔｅｒ−ｓｈｅｅｔｉｎｇ ｃｏａｔｉｎｇ）である。このようなコーティングは米国特許出願第０９／８６８５４２号および同第０９／５９９３０１号各明細書に詳細に記載されており、該明細書の全記載内容も本明細書の一部を成すものである。このコーティングは二酸化珪素から成っており、実質的に非多孔性であるのが有利である。以下に説明するように、この二酸化珪素製コーティングの外部面は不規則表面を有していてもよい。従って、この種のコーティングを特定の厚さにすることは幾分困難であり、不正確である。しかしながら、約１５オングストロームと約３５０オングストロームの間の中間厚さが好ましく、特に約１５オングストロームと約１５０オングストロームとの間の中間厚さが好ましい。最低のコストで得られるこのコーティングの主要な利点は約２０オングストロームと約１２０オングストロームとの中間厚さのときに実証されると考えられる。
【００４４】
好ましい水流延性コーティング２０はスパッタリングによって形成させるのが好ましい。スパッタリング法とその実施装置は当該分野においては周知である。例えば、マグネトロン・スパッタリング室と関連装置が多数のメーカーから市販されている［例えば、レイボルド（Ｌｅｙｂｏｌｄ）社およびＢＯＣコーティング・テクノロジー社等］。有用なマグネトロン・スパッタリング室と関連装置は米国特許第４１６６０１８号（チャピン）および同第５６４５６９９号（シエック）各明細書にも開示されており、これらの明細書の全記載内容も本明細書の一部を成すものである。
【００４５】
一般的に言えば、マグネトロン・スパッタリング法には、基体１０に沈着されるべき材料から形成された少なくとも１つのターゲットを供給する過程が含まれる。この方法においては、清浄な基体（例えば、ガラス）をコーティング室内に設置する。コーティング室は、好ましくは１０−４ｔｏｒｒ よりも低圧、より好ましくは２×１０−５ｔｏｒｒ よりも低圧に排気される。ターゲットには負電荷が付与され、正に荷電された陽極をターゲットに隣接して設置する。ターゲットに隣接する該室内へ比較的少量の所望ガスを導入することによって、該ガスのプラズマを発生させることができる。プラズマ中の粒子（例えば、イオン）はターゲットに衝突させることによってターゲット構成物質をターゲットからたたき出して基体上へのスパッタリングをおこなう。この方法を促進させるために、ターゲットの背後に磁石を設置することが知られており、これによってターゲットのスパッタリング表面の近くにプラズマが集中するように調整する。
【００４６】
常套のマグネトロン・スパッタリング法と関連装置は、好ましい水流延性コーティング２０の形成に使用することができる。例えば、このコーティング２０は、不活性雰囲気中での二酸化珪素ターゲットのスパッタリングによって沈着させることができる。しかしながら、二酸化珪素の信頼できるスパッタリングは極めて困難である。この理由は、ターゲットが常套のマグネトロン・スパッタリング法においては陰極として機能し、また、二酸化珪素が弱い導体であるからである。この結果、水流延性コーティング２０は、二酸化珪素よりも金属珪素を含有するターゲットを用いて沈着させるのが好ましい。基体上に実際に沈着する金属珪素は、酸素を含有するスパッタリング雰囲気を用いることによって二酸化珪素に変換させることができる。
【００４７】
珪素ターゲットは純粋な珪素から構成されないのが好ましい。ターゲットは珪素とアルミニウムとのコンパウンドを含有するのがより好ましい。純粋な珪素ターゲットを安定な制御された状態でスパッターすることは困難である。これは珪素が半導体であるからである。この結果、純粋な珪素ターゲットのスパッタリング時に放出される非電導性の二酸化珪素の一部はターゲットの表面並びにスパッタリング室内の陽極および包囲シールドに再沈着される。これによって電流の流れが悪影響を受け、スパッタリングが続行されるときにはアークの発生がもたらされる。従って、アークの発生を低減させるためには、ターゲットにアルミニウム等を約５％含有させるのが好ましい。このような特性を有するターゲットは周知のメーカー、例えば、ベッケルト社（Ｂｅｋａｅｒｔ ＶＤＳｎｖ）（ダインツェ、ベルギー）等から入手することができる。
【００４８】
スパッタリング室内の雰囲気は最適なスパッタリング速度を達成するために変化させることができる。珪素ターゲットまたは珪素−アルミニウムターゲットを使用する場合には、酸化性のスパッタリング雰囲気を用いるのが好ましい。もちろん、このような場合においては、スパッタリング雰囲気は純粋な酸素である必要はない。反対に、酸素と不活性ガス（例えば、アルゴン）を含有する混合物はスパッタリング速度を高める傾向がある。例えば、酸素および約４０％まで（好ましくは０〜２０％）のアルゴンを含有すると共に約３×１０−３ｍｂａｒ に調圧されたスパッタリング雰囲気が十分であると考えられている。ターゲットに印加される電力は、アークの発生を低減させると共にスパッタリング速度を最大にするように最適化するのが好ましい。
【００４９】
良好な結果をもたらす１つの製造装置においては、約５％のアルミニウムをドープした３つの珪素製の回転性スパッタリングターゲット（約９５％の珪素と約５％のアルミニウムから成るターゲット）を使用し、各々のターゲットには約４２ｋＷの電力を印加する。スパッタリング室内の雰囲気は約２．５〜４．５ｍＴｏｒｒの１００％Ｏ２ を含有していてもよい。あるいは、約８０％の酸素と約２０％のアルゴンを含有する雰囲気を約３×１０−３ｍｂａｒ に調圧し手使用してもよい。基体１０は約１００〜５００インチ／分の速度でスパッタリングターゲットの近くを通過させることができる。もちろん、好ましい水流延性コーティング２０に適用される精密な操作条件（例えば、基体の移動速度、出力、プラズマ組成、ターゲット組成等）は、異なる厚さの該コーティング２０の沈着が最適におこなわれるように変化させることができる。本発明の教示内容が規準として与えられるならば、当業者は、異なる厚さの水流延性コーティング２０に適用される適当な操作条件を容易に選択して適宜変更させることができる。
【００５０】
従って、本発明の特に好ましい方法においては、好ましい水流延性コーティング２０は、複数の珪素−アルミニウムターゲットの下方を、基体１０を移動させると共に、該ターゲットを酸化性雰囲気中でスパッタリングさせる。所望により、この雰囲気は酸素と不活性ガスのみから成っていてもよい。このことは必要要件ではないが、このような組成を有するスパッタリング雰囲気は良好な結果をもたらす。このような方法によって沈着されるコーティング２０は二酸化珪素のみから成ることが期待されるが、少なくとも最初に沈着されるときには、導電率を高めるためにターゲットに添加される少量のアルミニウムまたは他の金属が該コーティングに含まれることがある。
【００５１】
本発明によって基体上にスパッター沈着される二酸化珪素は、非被覆ガラス表面に比べて著しく不規則な表面を有するコーティングをもたらす。好ましい水流延性コーティング２０の顕微鏡写真（該写真は前記の米国特許出願第０９／８６８，５４２号明細書に開示されている）によれば、該コーティングの表面は、間隔をあけて該表面の残りの部分よりも著しく隆起したかなり鋭利な複数の異なるピークによって特徴づけられる。これらの顕微鏡写真はこのようなーティングの全表面の代表的なものではないが、本発明によって形成される水流延性コーティング２０の表面が不規則であって、実質上非多孔性であることを示唆するものと考えられる。
【００５２】
好ましい水流延性コーティング２０を保持するガラスシートの目視的状態は、該コーティングを保持しない同じガラスシートの状態とは異なる。好ましい水流延性コーティング２０を保持するガラス表面は、同じ条件下の非被覆ガラスシートに比べて、水を容易に流延させると共に、目視的な筋や欠陥が存在しなくなる状態まで著しく容易に清浄化することができる。
【００５３】
好ましい水流延性コーティング２０およびコーティングを保持しない直接的に比較し得るガラスシートを正確に比較するために、比較試料を調製した。平らな未処理ガラスペインを十分に洗浄した後、一組のローラー上に水平に載置した。正方形の小さなガラス片をペインの上部表面上に載置して該ペインの表面の一部を被覆するテンプレートとして使用した。ペインとその上に載置したテンプレートをマグネトロン・スパッタリング室内へ移動させ、ＳｉＯ２製のコーティング（厚さ：約３５オングストローム）を沈着させた。テンプレートを除去して得られたペインはその大部分の表面上に好ましい水流延性コーティング２０を有すると共に、スパッタリング中はテンプレートの下方に位置した未被覆領域を有する。ガラスの反対側、即ち、ＳｉＯ２コーティングを有する側とは反対の側は、輻射率が低い赤外線反射性フィルム積層体によって被覆される。該積層体は、複数の誘電性層によって相互に隔離されると共にガラスから隔離された２つの銀層を有する。
【００５４】
ガラスペインの部分的被覆表面を目視観察した。洗浄を十分におこなった場合、スパッタリング中はテンプレートの下方に位置した未被覆領域の境界は裸眼によっては実質上検出されなかった。このことは、水流延性コーティングがガラスの基本的な光学的特性に対して最低限の影響しか与えなかったことを示す。噴霧水滴の微噴霧を、家庭用洗浄製品の噴霧に常用されているタイプの簡単な手動操作式スプレーボトルを用いて、ガラス表面上へ適用した。噴霧水が適用されると、未被覆領域の境界は容易に目視観察された。コーティングを支持する領域上の水は流延して明らかに均一な水膜を形成したが、コーティングを有さない領域は均一性の劣る外観を呈した。
【００５５】
「ウィンデックス（Ｗｉｎｄｅｘ）」の商標で市販されている常套の洗浄溶液をガラスペインの表面上へ噴霧し、該表面を、紙タオルを用いて、水流延性コーティングを支持する領域が外見上乾燥して筋が目視観察されなくなるまで拭いた。この時点では、未被覆領域においては湿気の筋が依然として目視観察された。未被覆領域上におけるこのような筋は、最終的にはガラス上に実質的に残存する筋を残こすことなく乾燥されるが、平均的作業者であれば、目視観察されるこれらの筋が消失するまで該領域をふく作業を続行すると考えられる。このことは、作業者が水流延性コーティング２０を保持するガラス製品の洗浄作業に要する時間と労力は、このようなコーティングを有さないガラス製品の洗浄作業の場合よりも少なくなることを意味する。これらの結果は、好ましい水流延性コーティング２０によって、該コーティングを有するガラスの洗浄が未被覆ガラスの洗浄に比べて著しく容易になることを示す。
【００５６】
上述のように、親水性コーティング２０は二酸化珪素のスパッタリングによって形成させるのが極めて好都合であるが、これは必要要件ではない。いずれの望ましい親水性コーティングも使用することができる。例えば、その他の有用な親水性コーティングは米国特許出願第０９／５７６７６６号明細書に記載されており、該明細書の全教示内容も本明細書の一部を成すものである。さらに、当業者であれば、本発明によるカバー９０から特定の利点を得る別のタイプの親水性コーティングを使用することを望むであろう。
【００５７】
本発明によるカバー９０は、光触媒表面を汚染から保護するのにも有効に利用することができる。例えば、図２に示す態様における外部コーティング２０は光触媒コーティングであってもよい。光触媒表面は有機物質を化学的に分解させるものとして知られている。光触媒表面を汚染から保護することの利点は、光触媒作用を包括的に概説することなく例示するすることができる。手短に言えば、特定の金属酸化物は、紫外線を吸収して有機物質、例えば、オイル、プラント材料（ｐｌａｎｔ ｍａｔｔｅｒ）、脂肪およびグリース等を分解させる特性を有することが古くから知られている。従って、光触媒表面は、幾分自浄性の表面特性を発揮する。最も強力な光触媒物質はチタニアであると考えられているが、その他の金属酸化物も光活性を発揮すると考えられている。
【００５８】
光触媒性コーティングを保持するガラスやその他の基体は多種多様な潜在的用途を有している。例えば、自浄性ウインドーはもちろん非常に望ましいものである。自家所有者には周知のように、ウインドーやその他のガラス表面を清浄に維持するためには比較的多くの時間を必要とする。数枚のウインドウーを清浄に維持することは非常に困難なことではないが、非常に多くの枚数のウインドーを清浄に維持することは著しい負担となる。例えば、近代的なガラス製オフィスタワーのクリーニングには、複数のウインドーウォッシャーチームによる定期的な洗浄が必要となるので、非常に多くの時間と費用がかかる。従って、自浄性ウインドーの潜在的な利点は明白である。
【００５９】
光触媒活性の高いコーティングが製造されたとしても、該コーティングの光触媒特性は、表面汚染によって低下する。例えば、光触媒表面は有機汚染物を分解する傾向はあるが、該表面は一般的には無機物質は分解しない。この結果、光触媒性ウインドー等は無機残留物による汚染を受けやすくなる。従って、本発明によるカバー９０の特に有利な用途は、光触媒性表面の汚染からの保護である。本発明によるカバー９０を製造直後の光触媒性コーティングに適用することによって、製造業者は、製造、貯蔵、輸送、取付けおよび仕上げ処理の各工程中において、該コーティングを汚染から保護することができる。
【００６０】
種々の沈着法を利用することによって、多種多様なコーティングを形成させることができる。例えば、有用な光触媒性コーティングは下記の米国特許の各明細書に記載されており、これらの明細書の全記載内容も本明細書の一部を成すものである：第５８７４７０１号（ワタナベら）、第５８５３８６６号（ワタナベら）、第５９６１８４３号（ハヤカワら）、第６１３９８０３号（ワタナベら）、第６１９１０６２号（ハヤカワら）、第５９３９１９４号（ハシモトら）、第６０１３３７２号（ハヤカワら）、第６０９０４８９号（ハヤカワら）、第６２１０７７９号（ワタナベら）、第６１６５２５６号（ハヤカワら）、第５６１６５３２号（ヘラーら）、第５８４９２００号（ハヤカワら）および第５８４５１６９号（ハヤカワら）。本発明によるカバー９０は、実質上どのような光触媒性コーティング（現在のところ見出されていない光触媒性コーティングを含む）を保護するためにも有用であることが予想されるので、全ての既知の光触媒性コーティングに関する説明は本発明の範囲外の事項である。最も適当な光触媒コーティングは無機チタン化合物、例えば、チタンの酸化物を含有するものであると考えられる。
【００６１】
特に有効な態様においては、光触媒性コーティングは、スパッターされたチタン酸化物フィルムを含む。チタン酸化物はいくつかの方法によってスパッター沈着させることができる。第一に、金属チタンから形成されたターゲットを酸化性雰囲気中でスパッターさせることができる。残念ながら、この方法は極めて遅い。第二に、二酸化チタンから形成されたターゲトを不活性雰囲気中でスパッターさせることができる。しかしながら、二酸化チタンには導電率が低いという難点があるために、該化合物は高電力で安定にスパッターさせることが困難である。従って、二酸化チタンターゲットを用いて本発明による光触媒性二酸化チタンコーティングを沈着させる場合には、このような方法は、低電力／低沈着速度でのスパッタリング法に限定するのが好ましい。
【００６２】
好ましい方法においては、本発明による光触媒性コーティングは、化学量論的に不十分な二酸化チタンターゲットのスパッタリングによって沈着させる。このようなターゲトは高い導電率を有するので特に好ましく、高速度でスパッターさせることができる。このような特性を有するターゲットは、米国特許出願第６０／２６２８７８号明細書に記載されており、該明細書の全記載内容も本明細書の一部を成すものである。このような特性を有するターゲットは周知のメーカー、例えば、ベッケルト ＶＤＳ ｎｖ 社（ダインツェ、ベルギー）から入手可能である。従って、好適な方法においては、好ましいチタン酸化物フィルムは、１または複数の化学量論的に不十分なチタン酸化物ターゲットの下方に基体を配置させることによって沈着させる。このようなターゲットは、最も好ましくは、アルゴン、酸素、またはアルゴンと酸素の混合物を含有するスパッタリング雰囲気中でスパッターする。適当な混合物は７０〜９０容量％のアルゴンと１〜３０容量％の酸素を含有する。化学量論的に不十分なチタン酸化物ターゲットは、ヴァンデルシュトレーテンによる次の米国特許出願の各明細書に記載されており、これらの明細書の全教示内容も本明細書の一部を成すものである：第０９／０２４２４０号、第０９／０２４０７１号および第０９／０４４６８１号。
【００６３】
本発明によるカバー９０は、光触媒性コーティング上に保持させる場合には、無機物を含有するのが特に望ましい。例えば、図２に示す外部コーティング２０は光触媒性コーティングであってもよい。前述のように、光触媒性表面は有機物質を化学的に分解させる傾向を示す。従って、有機物質から成るカバー９０を光触媒性コーティング上に直接的に保持させる場合には、該カバー９０は、光触媒性コーティングの分解能の結果として、劣化するかもしれない。このため、保護カバー９０を光触媒性コーティング２０上に直接的に保持させる態様においては、該カバー９０は、該コーティング２０の光活性に対して耐久性のある無機物を含有するのが好ましい。
【００６４】
図２に示す態様においては、基体１０はその外部表面１２上に光触媒性コーティング２０を保持するが、その内部表面１４は被覆されていない。別の態様（図示せず）においては、図２に示すような基体１０内部表面１４は反射性コーティング３０を有する。この反射性コーティング３０はその所望の特性に応じて、いずれかの所望の形態をとることができる。例えば、図３に関連して説明したような赤外線反射性コーティング３０を用いるのが有効である。さらに、このような反射性コーティング上には仮保護カバーを形成させるのが有利である。
【００６５】
図２に示す基体１０は、その外部表面１２上に光触媒性コーティング２０を直接的に保持する。光触媒性コーティング２０は、基体１０の外部表面１２上に予め沈着させたフィルムじょうに保持させてもよい。このようなフィルムは、基体に所望の特性を付与するために選択された１または複数の層を含んでいてもよい。このような特性を有する態様については、図６に関連して説明する。
【００６６】
仮保護カバー９０は非常に薄い（例えば、２５００オングストロームのオーダーまたはそれ以下の厚さ）フィルムを含むのが望ましい。実際上は、保護カバー９０の全厚さは約１００オングストロームよりも小さくするのが好ましい。この範囲の厚さが好ましい理由は、所望の洗浄液を用いて基体の覆われた表面を洗浄する場合において、カバー９０の均一で完全な除去が促進されるからである。本明細書で用いる「覆われた表面（ｃｏｖｅｒｅｄ ｓｕｒｆａｃｅ）」および「覆われた基体（ｃｏｖｅｒｅｄ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）」という用語は、カバー９０が存在するとき（即ち、カバーが除去される前）の表面および基体をそれぞれ示す。
【００６７】
１００オングストロームよりも大きな厚さを有するカバー９０は特定の用途に対して有益である。しかしながら、このようなカバーは容易に洗い流されないことが判明した。例えば、通常、厚いカバーは長い洗浄時間を必要とすることが判明した。さらに、洗浄工程において、このようなカバーを完全かつ均一に除去するためには注意が必要である。さらにまた、格別に厚いカバーを使用するときには、洗浄によってカバー９０から除去されない残留物を保有する不規則表面が形成されやすくなる。このような不規則表面は望ましくない波状またはしみ状の外観を呈する。また、格別に厚いカバー９０を使用するときには、カバー９０の全部が洗い流された時点を決定することが困難であることが判明した。
【００６８】
しかしながら、カバー９０の厚さは上記の好ましい範囲を越えてもよいことに留意すべきである。例えば、仮保護カバー９０の厚さを、光学的に意味のない厚さにすることは必要要件ではない。本発明によるカバー９０は除去されるべきものである。従って、該カバーは光学的に意味のある厚さで沈着させることができる。しかしながら、多くの場合、光学的に重要でないカバー９０の使用が好ましいことがある。例えば、両方の主要表面（即ち、内部表面と外部表面）上に仮保護カバー９０を保有するガラスシートを製造することが望ましい場合がある。ガラスシートを多重ペインＩＧユニット内へ組入れるときには、ペインの内部表面は、ペイン間の保護空間（即ち、「ペイン間の空間」）に露出されるが、外部表面はＩＧユニットの外側の環境に露出する（即ち、外部表面はペイン間の空間内に包囲されない）。従って、ＩＧユニットのペイン間の空間内に包囲される表面上の保護カバー９０に柔軟性が付与されるのが望ましい。これらの場合、ガラス上に存在するカバー９０は、もちろん、ＩＧユニットの光学的特性を変化させないようにするのが好ましい。ＩＧユニットの包囲表面が目視的に汚染されない限りは、これらの表面からカバー９０を除去することは不要である。
【００６９】
大抵の場合には、保護カバー９０の好ましい厚さの範囲は約１００オングストロームよりも小さい。前述のように、カバー９０は弱酸または弱塩基を用いて洗浄したときに除去されるのが好ましい。従って、特定の最大厚さは要求されない。しかしながら、カバー９０は、シリコーンおよびその他の環境中の有機物や残留物による汚染に対する保護手段となるのに十分な厚さを有しているべきである。即ち、カバー９０は、この種の汚染物がカバー９０を透過してその下に存在する表面を汚染することを防止するのに十分な厚さと緻密性を有しているのが好ましい。本発明に従って形成される保護カバー９０であって、厚さが約５〜１０オングストロームのカバーはこのような目的に供するのに適している。しかしながら、本発明によるカバー９０の主要な利点、即ち、汚染に対する保護性と予測される均一除去性は、厚さが約２５〜約６０オングストローム、最適には約２５〜約４５オングストロームのときに得られると考えられる。
【００７０】
特定のカバー９０の最適な厚さは該カバーが適用される基体の種類と製造方法によって左右される。例えば、ガラスシートは製造工程において、通常は焼入れされる。焼入れはガラスの機械的硬度を増大させるため、またはガラス内に内部応力を発生させるためにおこなってもよく、これによって、ガラスシートが破損したときに該ガラスは危険で大きな破片にならずに多くの小片に粉砕される。焼入れ中、ガラスは、制御された冷却速度で冷却される前に高温処理に付される。例えば、焼入れガラスは一般にガラスの融点またはその近くまで加熱される。より具体的に言えば、６００℃のオーダーの焼入れ温度が一般的である。さらに、ガラスはこのような高温処理に長い時間（例えば、複数時間）付してもよい。
【００７１】
残念ながら、前述の現存する保護コーティング（例えば、紙、プラスチックおよびポリマー等）に対しては、ガラスの焼入れ時の高温に耐えることは期待できない。例えば、前記のメドウィックらによる文献には、焼入れ中に焼失するものとして明確に記載されているスパッターされた炭素含有コーティングが開示されている。これに対して、本発明による保護カバー９０はガラスの焼入れに対しても十分に耐えることが判明した。それどころか、本発明によるカバー９０は、被覆された後で焼入れ（または別の熱処理）されるガラスに適用するには理想的なものであると考えられる。約２０オングストロームよりも小さい厚さを有する特定の保護カバー９０はガラスの焼入れ処理によって不利な影響を受けることが判明した。以下に説明するように、これらのカバーは、ガラスの焼入れ処理に付した後においては、所望の保護性よりも低い保護性を有するようになる。この現象の満足すべき説明はなされていないが、焼入れ過程中におけるカバー９０の構成材料の再結晶化と密度変化に起因すると考えられる。従って、本発明によるカバー９０の望ましい厚さは、該カバーが焼入れまたは別の熱処理に付される場合には、少なくとも約２０オングストローム、より好ましくは少なくとも約２５オングストロームである。焼入れできない基体を保護する場合には、数オングストロームの厚さを有するカバー９０でも十分に有効であると考えられる。
【００７２】
仮保護カバー９０は、所望の特性を有するいずれかの適当な材料製のフィルムを含んでいてもよい。上述のように、約６００℃のオーダーの高温（例えば、ガラス焼入れ温度）に耐性を示す材料製の保護カバー９０を形成させるのが有効である。一つの態様においては、カバー材料は、中性ｐＨの水の存在下においては安定であるが、少なくとも幾分酸性または幾分塩基性である洗浄液の存在下においては崩壊、溶解、軟化または劣化する材料である。例えば、カバー９０は緩酸または緩塩基の存在下で崩壊する材料から形成させてもよい。好ましい態様においては、カバー９０は弱有機酸、例えば一般的な家庭用ビネガーの存在下で崩壊する材料から形成される。異なるビネガーの酸性度は変化させてもよいが、一般的な家庭用ビネガーのｐＨは約３である。あるいは、仮カバー９０は弱塩基、例えば弱いアンモニア溶液の存在下で崩壊する材料から形成できる。例えば、一つのこのような態様においては、カバー９０は一般的な家庭用アンモニア溶液（ｐＨは約１１〜約１２．５である）の存在下で崩壊する材料を含む。
【００７３】
本発明による仮カバー９０は酸性または塩基性であるいずれかの所望の洗浄液の存在下で崩壊する材料から形成できる。もちろん、カバー９０の下方に存在する外部表面は所望の洗浄液に対して耐性を示す材料から形成させるのが好ましい。大抵の場合、保護カバー９０は工業用ガラス洗浄プロセスに対して耐性を示す材料から形成させるが好ましいので、所望の洗浄液は、一般的には少なくとも幾分酸性または塩基性の洗浄液である。
【００７４】
保護カバー９０の組成は、該カバーを保持する耐久性表面の組成を補足するように選択するのが好ましい。より詳細には、選択される洗浄液の存在下で崩壊する材料から保護カバー９０を形成させるのが好ましく、該洗浄液は該カバーの下方に存在する該表面を同時に崩壊しないか、または該表面に悪影響を及ぼさない。例えば、カバー９０は、選択される洗浄液を用いて洗浄するときに完全かつ均一に除去される材料から形成させるのが好ましい。さらに、保護カバー９０を支持すると共に最終的には該カバーの除去によって露出する外部表面は選択される洗浄液に対して耐性を示すのが好ましい（即ち、該コーティングは該洗浄液の存在下において実質上崩壊せず、溶解せず、軟化せず、または劣化しない）。従って、カバー９０の材料は、仮に保護するための該表面の特性を補足するように選択するのが有利である。即ち、カバー９０は、その下に存在する該表面が耐性を示す洗浄液と接触したときに崩壊するように選択される材料から形成させる。
【００７５】
従って、カバー９０がガラスシートによって保持される場合、カバー９０は常套のガラス製造の過酷さに耐える材料から形成させるのが有利である。このような態様の場合、カバー９０は、熱水や常套のガラス洗浄剤（例えば、工業用ガラス洗浄機内に存在させることのある洗浄剤）の存在下において安定であるのが好ましい。
【００７６】
前述のように、仮カバー９０は無機材料から形成させるのが有利である。例えば、この態様は、下方に存在する表面が光触媒効果を発揮する場合に好ましい。光触媒性表面によってカバー９０が保持される場合、カバー９０は光触媒表面の分解能の結果として劣化してもよい。無機材料は光活性に対して耐性を示すと一般に考えられている。従って、保護カバー９０が光触媒性表面上に支持される場合、カバー９０を無機材料から形成させるのが特に好ましい。
【００７７】
本発明の一つの態様においては、仮保護カバー９０は金属酸化物を含有する。本明細書において、「金属（ｍｅｔａｌ）」という用語は、金属およびメタロイド（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）または半金属を示す。金属酸化物は多くの理由から有効である。例えば、前述のメドウィックらによる文献によれば、炭素含有コーティングは、該コーティングが沈着される機能層（ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ ｌａｙｅｒ）から、該層中に酸素が残存する範囲内において、酸素を放出させてもよい。これに対して、金属酸化物製の保護カバー９０を使用する場合には、金属酸化物は既に酸化されているので、このような現象の発生は期待できない。金属酸化物も望ましい程度の耐久性を有する。さらに、金属酸化物は一般に種々の沈着法によって沈着させることができる。特に好ましい態様においては、カバー９０は１種または複数種の好ましい金属酸化物を含有する。これらの好ましい金属酸化物には、亜鉛、ビスマス、カドミウム、鉄およびニッケルから成る群から選択される金属の酸化物が包含される。これらの群から選択される金属の酸化物は水中では安定であるが、弱酸または弱塩基の存在下においては崩壊されるので、緩酸性または緩塩基性の洗浄液を用いる洗浄によって容易に除去される。これらの金属酸化物は、本明細書に記載の範囲の望ましい厚さを有するときには十分な保護性を発揮する。
【００７８】
仮保護カバー９０の材質としては、酸化亜鉛が非常に適していることが判明した。多くの理由から、酸化亜鉛は特に好ましい。例えば、約１００オングストロームよりも小さい厚さの酸化亜鉛製カバーは、その下に存在する表面を表面汚染から保護するのに有効である。実際上は、酸化亜鉛製保護カバー９０は、約２０オングストロームまたはそれ以下の厚さのときに表面汚染を保護するのに有効であることが判明した。もっとも、カバー９０がガラス焼入れ処理に付されるときには、少なくとも約２５オングストロームの厚さが好ましい。さらに、酸化亜鉛は、弱酸または弱塩基（例えば、ビネガー）を用いて洗浄するときに完全かつ均一な状態で特に容易に除去されることが判明した。酸化亜鉛は非常に高速度でスパッタリングすることができ、比較的低いコストで沈着させることができる。
【００７９】
一つの好ましい態様においては、仮カバー９０は酸化亜鉛のスパッターフィルムを含んでおり、該フィルムの厚さは少なくとも約２５オングストローム、より好ましくは約２５〜約６０オングストローム、最適には約２５〜約４５オングストロームである。以下に説明するように、このような範囲の厚さを有するスパッタリングされた酸化亜鉛カバー９０は、基体表面を汚染（例えば、シリコーンにさらされるときの汚染）から保護するのに特に有効であると共に、弱酸または弱塩基を適用したときに完全かつ均一な状態で確実に除去される。さらに、このよう酸化亜鉛カバーはガラス焼入れ過程において耐性を示す。
【００８０】
従って、本発明による仮カバー９０はいくつかの特徴を有するのが望ましい。第１に、耐久性表面上へ容易に除去可能な厚さで適用されたときに、該表面を汚染、例えば、シリコーンの蒸気または残渣による汚染から保護する機能を有する。第２に、使用する厚さを有する仮カバーは、所望の洗浄液（例えば、少なくとも幾分塩基性または幾分酸性の水溶液）を用いる洗浄処理に付されたときに崩壊して下方に存在するから比較的容易に除去される特性を有する。本明細書において使用する「崩壊される」または「崩壊する」という用語は、仮カバー９０が洗浄過程中に実際に除去されることを示す。該カバーは、保護されるべき表面から保護ポリマーフィルムが機械的にはがれたり引き裂かれたりする状態では除去されない。むしろ、仮カバー９０は所望の洗浄液中において溶解するか、または洗浄液中において少なくとも軟化もしくは膨潤することによって洗浄過程中に崩壊する。好ましくは、実質上全てのカバー９０は洗浄中に除去される。理想的には、カバー９０は洗浄処理中に下方に存在する表面から完全に除去される。さらに、該耐久性表面は、保護カバー９０の除去に必要な洗浄処理によって損傷を受けないのが好ましい。
【００８１】
本発明の好ましい態様においては、保護カバー９０はスパッタリングされた材料製のフィルムを含む。スパッタリングされた保護カバー９０は多くの利点を有する。例えば、該カバーは制御されたスパッタリング条件下で沈着させることができるので、被覆基体がスパッタリング室から離反すると直ちに汚染からの保護機能を発揮する。さらに、スパッタリングされた保護カバー９０の厚さは非常に高い精度と均一性で調整することができるので、基体の均一的な保護が保証される。同様に、実質的に非多孔性であるために、汚染に対する望ましい保護手段となる保護カバー９０もスパッタリングによって容易に形成させることができる。驚くべきことには、スパッターカバー９０は１０オングストロームのような小さな厚さでも表面汚染を有効に保護することが判明した。しかしながら、焼入れ基体には幾分厚めの（例えば、少なくとも２５オングストローム）カバー９０を付与するのが好ましい。
【００８２】
前述のように、カバー９０はスパッター金属酸化物フィルムから都合よく形成させることができる。スパッター金属酸化物フィルムは種々のスパッター沈着法を用いて沈着させることができる。この種のフィルムの１つの沈着法としては、非反応性雰囲気、例えばアルゴン中において、所望の金属酸化物自体によって形成されたターゲットをスパッターする方法が考えられる。しかしながら、金属酸化物製ターゲットは純粋な金属ターゲットのような信頼性の高いスパッタリングをおこなうことができない。これは金属酸化物の伝導性が対応する金属よりも低いからである。従って、ＤＣスパッタリング装置内における金属酸化物ターゲットの信頼性の高いスパッタリングは困難である。この結果、金属酸化物フィルムは、酸化性雰囲気中での金属ターゲットのスパッタリングによって沈着させるのがより一般的である。例えば、酸化亜鉛の保護フィルム９０は、酸化性雰囲気（例えば、約８×１０−３ｍｂａｒの酸素）中での亜鉛ターゲットのスパッタリングによって沈着させることができる。
【００８３】
従って、特に好ましい態様においては、保護カバー９０は、酸化性雰囲気中での金属ターゲットのスパッタリングによって形成される。当業者には容易に理解されるように、所望のスパッタリング速度を得るためにスパッタリング雰囲気を変化させることができる。例えば、スパッタリング雰囲気は純粋な酸素から成っていてもよいが、これは必要要件ではない。実際は、酸素と不活性ガスとの混合物はスパッタリング速度を増大させる。従って、酸素および約４０％まで（好ましくは０〜２０％）のアルゴンを含有するスパッタリング雰囲気を使用するのが有利であると考えられる。当業者には容易に理解されるように、スパッタリングターゲットに印加される出力を変化させることによってスパッタリング速度を調整すると共にアーキング（ａｒｃｉｎｇ）を低減させることができる。
【００８４】
良好な結果をもたらす一つの製造装置においては、単一平面状の金属亜鉛製ターゲットが使用される。このターゲットは、１００％Ｏ２を含有するスパッタリング雰囲気中において、約１２ｋＷの電力でスパッターされる。ガラスは約３００インチ／分の速度でスパッタリングターゲットを通過させる。
【００８５】
図３は本発明の別の態様を示すものであって、基体１０は一方の側１２に外部コーティング２０と仮保護カバー９０を有すると共に、他方の側１４に反射性コーティング３０を有する。この態様の外部コーティング２０は、いずれかの所望のタイプのコーティングであってもよい。例えば、該外部コーティングは、前述の好ましいタイプの親水性コーティングまたは光触媒性コーティングであってもよ、あるいは基体に所望の特性を付与するいずれかの別のコーティングであってもよい。さらに、この外部コーティング２０は所望要件であって、所望により省略してもよい。
【００８６】
当業者には明らかなように、この反射性コーティング３０は所望の特性に応じていずれかの望ましい形態をとることができる。例えば、被覆物品を鏡として使用する場合には、反射性コーティング３０は１または複数の比較的厚い反射性金属層を含んでいてもよい（図示する態様の場合には、特に好ましい多層コーティング３０を示す）。多種多様な反射性フィルムが当該分野においては知られており、この種の反射性コーティング３０の詳細な特性は本発明の範囲外である。
【００８７】
図３に示す特に好ましい態様には、赤外線反射性コーティング（例えば、低放射率コーティングとして一般に使用されているコーティング）として類型化される特に有用な反射性コーティング３０が示される。一般的には、これらのコーティングは、一対の誘電性層（例えば、金属酸化物または窒化金属）の間にはさまれた金属層を有する。この構造を繰り返すことによって、フイルム積層体の赤外線反射特性をさらに高めてもよい。有用な赤外線反射性フィルム積層体の一例はエバイらによる米国特許第５３０２４４９号明細書に開示されており、該明細書の全記載内容も本明細書の一部を成すものである。
【００８８】
図３に示す反射性コーティング３０は、１または複数の誘電性材料製層を含んでいてもよいベースコート（ｂａｓｅ ｃｏａｔ）３２を具有する。例えば、このベースコート３２は約１５０〜約２７５オングストロームの厚さを有する酸化亜鉛層を含んでいてもよい。第１金属層３４はこのベースコート３２の上部に直接設けることができる。この金属層は、例えば、約１００〜約１５０オングストロームの厚さを有する銀層であってもよい。第２誘電性層３８は第１金属層３４上に設けることができる。この誘電性層３８の厚さは、少なくとも、第２金属層４０がフィルム積層体中に含まれるかどうかによって左右される。図示するように、２つの金属層を有するフィルム積層体においては、この第２誘電性層３８は一般的には比較的厚い金属酸化物層、例えば、７００〜７５０オングストロームの酸化亜鉛層を含んでいてもよい。好ましくは、金属層３４と誘電性層３８の間に比較的薄い保護層３６が設けられる。該保護層は、誘電性層３８のスパッタリング沈着過程中において金属層３４を保護するのに役立つ。保護層３６は、例えば、２５オングストロームまたはそれ以下の厚さを有する金属チタン層またはニオブ層を含んでいてもよい。
【００８９】
図３に示す態様においては、第２金属層４０は第２誘電性層３８上に形成される。第２金属層４０は、通常は第１金属層３４と同じ材料から形成される。例えば、第２金属層４０は約１２５〜約１７５オングストロームの銀を含んでいてもよい。チタンまたはニオブ等から形成される第２保護層４２（厚さ：約２５オングストローム）は該金属層４０上に形成させるのが好ましい。前述のように、該保護層４２はその上に位置する誘電性層４４および４６の沈着過程中において該金属層を保護する。第３誘電性層４４は保護層４２上に形成される。該誘電性層４４は金属酸化物または金属窒化物、例えば、酸化亜鉛の層（厚さ：約２５０〜約３００オングストローム）であってもよい。この場合、機械的および／または化学的に耐性のある保護材料製の外側層４６は該誘電性層４４上に形成させることができる。１つの好ましい態様においては、該保護層４６は約５０〜約６０オングストロームの厚さを有するＳｉ３Ｎ４フィルムを含む。
【００９０】
図３に示す基体１０の内部表面１４上の反射性コーティング３０は保護カバー９０を保有しない。しかしながら、所望により、保護カバー９０を該反射性コーティング３０上に形成させることができる。従って、本発明の別の態様においては（図示せず）、図３に示すような基体１０であって、該基体１０の内部表面１４の反射性コーティング３０上に保護カバー９０を有する基体１０が含まれる。
【００９１】
図３に示すような基体は低放射率物品に使用するのに十分に適している。例えば、このような特性を有する基体は多重ペインで絶縁されたガラスユニット（ＩＧユニット）に一般的に組込まれる。ＩＧユニットは当該分野においては周知であり、これについて詳述する必要はないと考えられるが、簡単に説明する。ＩＧユニットはスペーサーによって間隔を設けて保持された２またはそれ以上のペイン（例えば、ガラスのペイン）を一般に保有する。スペーサー１０１は金属製またはプラスチック製の中空チューブから一般に形成される。スペーサー１０１は、ペイン間の空間１１５内のガスと連絡する乾燥剤１０３を所望により保有していてもよい。このような乾燥剤はペイン間に浸透する湿気を除去するのに有用である。エッジシール（ｅｄｇｅ ｓｅａｌ）１０５をスペーサーの外周縁部のまわりに塗布することによってガスや湿気に対するバリヤーを形成させてもよい。例えば、エッジシール１０５は、前述のように、長期間にわたってガス放出するシリコーンを一般に含有する。このようなエッジシール１０５は、絶縁性ガラスユニットのペイン１０および１００に対する汚染源と非常に密接する。
【００９２】
図４はＩＧユニットを示すものであって、間隔をあけた２つのペイン１０および１００の向かい合った内部表面１４および１１４は、これらの表面の間において、封止可能なペイン間の空間１１５を制限する。放射率の低い絶縁性ガラスユニットの場合のように、保護内部表面のうちの１つは赤外線反射性コーティング３０を保持する。図示する態様においては、反射性コーティング３０は外側ペイン１０の内部表面１４上に保持される。この態様においては、外部表面１２は、仮保護カバー９０を有する耐久性外部コーティング２０を保持する。耐久性コーティング２０は親水性コーティング、光触媒性コーティング、またはいずれかの所望のタイプのコーティングであってもよい。図示するＩＧユニットの外部表面１２および１１２の一方１２のみが外部コーティング２０と保護カバー９０を保持しているが、所望により、これらの表面の両方１２および１１２に所望のコーティング２０および／または保護カバー９０を設けてもよい。例えば、該表面１１２がいずれのコーティングも保持していないときであっても、内側ペイン１００の外部表面１１２に保護カバー９０を設けるのが望ましい。
【００９３】
図５に示す態様においては、基体１０はその外部表面１２上および内部表面１４上にそれぞれ第１コーティング２０および第２コーティング２０を有する。所望により、両方のコーティング２０は親水性コーティングであってもよい。この態様は、基体１０の両方の表面１２および１４が周期的に水と接触する場合に特に望ましい。例えば、両方の表面が戸外環境にさらされる場合がこれに該当する。あるいは、これらの両方のコーティング２０は光触媒性コーティングであってもよい。さらにまた、これらのコーティング２０の一方が親水性コーティングであって、他方が光触媒性コーティングであってもよい。
【００９４】
図５に示す態様においては、基体１０上の両方のコーティング２０は仮保護カバー９０を保持する。従って、いずれかの覆われた表面が汚染されると、汚染されたカバー９０は容易に除去されて該カバーの下に存在するコーティング２０の本来の表面が現われる。しかしながら、所望により、図５に示すような基体１０上の保護カバー９０の一方は省略してもよい。このような態様（図示せず）においては、コーティング２０の一方のみに保護カバー９０が付与される。
【００９５】
図２に示す態様においては、基体１０はその外部表面１２上に直接形成された耐久性外部コーティング２０を保持する。しかしながら、前述のように、これは必要要件ではない。例えば、外部コーティング２０は、基体１０の外部表面１２上に予め沈着されたいずれかの所望の特性を有するタイプの単数または複数のフィルム上に沈着させることができる。図６はこのような態様の一例を示すもので、外部コーティング２０は、予め沈着された低放射率層８０上に沈着される。このようにして得られる多層コーティング７０は保護カバー９０も有する。この態様においては、低放射率第１層８０は基体１０の外部表面１２上に直接形成され、第２外部層２０は低放射率第１層８０上に直接形成される。図示する態様における外部コーティング２０はいずれかの所望のタイプのコーティングであってもよい。しかしながら、特に有利な態様においては、外部コーティング２０は親水性コーティングである。米国特許出願第０９／８６８，５４３号明細書において十分に議論されているように、このようにして被覆された基体は、自動車の風防ガラス（ｗｉｎｄｓｈｉｅｌｄ）として使用するのに非常に有効である（該明細書の全教示内容も本明細書の一部を成すものである）。
【００９６】
低放射率第１層８０は熱分解作用によって形成される誘電性層を含むのが望ましい。この熱分解層は基体１０の外部表面上に直接形成させるが好ましい。また、この熱分解層は、平らな未被覆ガラスに比べて十分な耐久性を示すと共に商業的に許容される放射率低下をもたらすコーティングを付与するいずれかの所望の材料から形成させることができる。図６の態様に示す低放射率第１層８０は単一材料層から形成される。しかしながら、この低放射率第１層８０は多重層を有するフィルム積層体の形態を有していてもよい。多種多様な熱分解低放射率コーティングが当該分野においては周知である。従って、全ての熱分解コーティング法および組成に関する詳細な教示内容は本発明の開示内容の範囲外である。
【００９７】
多数の熱分解作用によって形成されるコーティングとこれらの沈着法は当該分野においては古くから周知であり、発行された文献に記載されている。１つの適当な熱分解型低放射率フィルムは、「エナジー・アドバンテージ（Ｅｎｅｒｇｙ Ａｄｖａｎｔａｇｅ）」の商品名［リベイ・オーウェンス・フォード・オブ・トレド社（オハイオ、米国）製］で市販されている熱分解酸化スズである。「エナジー・アドバンテージ」製品による詳細なコーティングにつぃては十分には知られていないが、例えば酸化スズを熱分解的にコーティングするための広く知られたいずれかの方法に従って適当な層がもたらされると考えられる。
【００９８】
熱分解的に形成される酸化スズのような層の導電率を高めるため（従って、放射率を改良するため）のドーパントとしては多くのものが当該分野においては知られている、例えば、フッ素はこの種のドーパントとしては最も一般的である。フッ素をドープした熱分解酸化スズコーティングの１つの形成方法は、ソーベイランドらによる米国特許第５，６９８，２６２号明細書に詳細に記載されており、該明細書の全教示内容も本明細書の一部を成すものである。読者はこの種のコーティングに関する該特許明細書の極めて詳細な説明を参照することができるが、該説明内容をここで簡単に要約する。一般に、酸化スズは化学蒸着法（ＣＶＤ）によって適用される。この場合、選択される反応体と組合せて均一な蒸気化反応体流を形成させ、該反応体流を熱ガラス基体上へ送給する。蒸気化反応体流は熱ガラス基体の表面上おいて反応してフッ素をドープした酸化スズを沈着させる。熱ガラスの表面に存在する酸化性雰囲気中においては、有機スズコーティング化合物が熱分解して酸化スズコーティングを形成する。
【００９９】
ＣＶＤ熱分解沈着は、一般的にはフロートガラス法によるガラスの製造プロセス中で実施され、フロート金属浴もしくはレア（ｌｅｈｒ）または該浴とレアの間の移行領域でおこなわれる。ガラス基体は一般に約７５００°Ｆ〜約１５０００°Ｆの温度で供給される。このような温度は、フロートガラスを製造するときの種々の段階におけるガラスに対する一般的な温度である。
【０１００】
ソーベイランドらによって酸化スズを沈着させるために使用されたＣＶＤ反応体流には、前進するガラスリボン表面の所定部位または該表面の近くへ蒸発して送給される有機スズコーティング化合物が含まれる。適当な有機スズ化合物としては次のものが例示される：ジメチルスズジクロリド、ジエチルスズジクロリド、ジブチルスズジアセテート、テトラメチルスズ、メチルスズトリクロリド、トリエチルスズクロリド、トリメチルスズクロリド、エチルスズトリクロリド、プロピルスズトリクロリド、イソプロピルスズトリクロリド、ｓｅｃ−ブチルスズトリクロリド、ｔ−ブチルスズトリクロリド、フェニルスズトリクロリドおよびカルベトキシエチルスズトリクロリド等並びにこれらの任意の混合物。ソーベイランドらによれば、ジメチルスズジクロリドが好ましいとされている。有機スズ化合物および所望によるキャリヤーガス、酸化剤、安定剤、炭化水素および不活性ガス等は蒸発化処理に付されてガス状の有機スズ反応体流を形成する。
【０１０１】
ソーベイランドらによれば、気化有機スズ化合物は下記の米国特許の各明細書のいずれかに記載の方法によって調製できるとされており、これらの明細書の全教示内容も本明細書の一部を成すものである：第３，８５２，０９８号、第２，７８０，５５３号、第４，３５１，８６１号、第４，５７１，３５０号、第３，９７０，０３７号、第４，２１２，６６３号および第４，２６１，７２２号。ソーベイランドらによれば、気化有機スズ化合物含有反応体流は、例えば、米国特許第５，０９０，９８５号明細書に記載のようにして、ブレンドガスを存在させた薄膜蒸発器内において該化合物を蒸発させることによって調製され、この明細書の全教示内容も本明細書の一部を成すものである。一般的には不活性キャリヤーガス（例えば、ヘリウム、窒素、アルゴンまたはこれらの任意の混合物）を含有するこのガス状反応体流は所望により水または酸素のような酸化剤を含有する。好ましいキャリヤーガスは、酸化剤として酸素を含有するヘリウム、窒素またはこれらの混合物であるとされている。得られる気化有機スズ化合物含有反応体流は一般に約２５０°Ｆ〜約４５０°Ｆまで加熱された後、加熱ガラス基体の表面の反応ゾーンへ送給される。
【０１０２】
ガス状のフッ化水素またはフッ化水素酸（本明細書で使用する「ＨＦ」はフッ化水素またはフッ化水素酸を示す）は気化有機スズ化合物と反応させる。ソーベイランドらは、一般的にはＨＦとキャリヤー（好ましくは水蒸気）から成る別のＨＦ含有反応体流を調製している。ＨＦ含有反応体流へ水を添加することによって、フッ素をドープした酸化スズ沈着物の生長速度が増大するが、被覆ガラスの放射率が低下するといわれている。ＨＦ含有反応体流はさらに付加的に常套の補助剤、例えばヘリウム、窒素、アルゴンおよびこれらの任意の混合物並びに酸化剤、例えば酸素等を含有していてもよい。
【０１０３】
ＨＦ含有反応体流および有機スズ反応体流は、コーティングが沈着されるべき加熱ガラス基体の表面（好ましくは該表面に比較的近接した位置）へ該反応体流が送給される前に反応させる。ＨＦ含有反応体流は、有機スズ化合物の気化に関連して先に言及したいずれかの方法を用いて該化合物を蒸発させるか、またはＨＦをガスとして供給することによって調製することができる。ＨＦ含有気化反応体流と気化有機スズ化合物含有反応体流との反応は、これらの２種のガス流を、該ガス流が加熱ガラス基体の表面へ送給される前に混合することによっておこなうことができる。あるいは、液体状または溶液状のＨＦ含有反応体流を、気化有機スズ化合物を含有する加熱反応体流中へ注入することによってフッ素を含有する溶液または液状化合物を蒸発させ、次いで、気化状の有機スズ化合物とＨＦの反応体、水および酸素を加熱ガラス基体の表面へ送給することによって該表面上においてこれらの反応体を反応させ、フッ素がドープされたスズ酸化物のコーティングを該表面上に沈着させる。
【０１０４】
ソーベイランドらは、加熱ガラス基体の表面へ送給される代表的なガス状反応体混合物として次の組成を有する混合物を教示している：酸素約１０〜約６０モル％、水約２〜約５０モル％およびＨＦ約０．２〜約２モル％含有する混合物、最も好ましくは酸素約３０〜約５０モル％、水約１５〜約３５モル％およびＨＦ約０．５〜約１．５モル％含有する混合物。均一なガス状反応体混合物は有機スズ化合物も含有しており、該化合物の望ましい濃度はスズ酸化物コーティングの所望の厚さと基体のライン速度の関数である。従って、ソーベイランドらによれば、基体の所望のライン速度において所望の厚さのコーティングが形成されるのに十分な量の有機スズ化合物がガス状反応体混合物中へ供給される。一般的な商業ベースでの操作条件下においては、ガス状反応体混合物は一般に有機スズ化合物を約０．０１〜約８モル％含有する。
【０１０５】
ソーベイランドらは、ガラスシートの外部表面およびフッ素がドープされたスズ酸化物コーティングの間のナトリウム拡散バリヤーとして作用する材料製の層を形成させることが望ましいことを教示している。彼らは次のことを見出している。即ち、フッ素をドープしたスズ酸化物コーティングを、ガラス上に直接沈着させずに、ナトリウム拡散層を介在させてガラス上に形成させる場合には、被覆ガラス製品はより低い放射率、より低いシート抵抗およびより低い曇り度を示す。このナトリウム拡散層は二酸化珪素から形成させるのが好ましい。この二酸化珪素の層は常套のＣＶＤ法を用いて形成させるのが好ましい。
【０１０６】
ソーベイランドらによる好ましい態様（図１に示す熱分解積層２５として組入れた態様）においては、加熱ガラス基体の外部表面上にスズ酸化物の薄膜を最初に沈着させた後、二酸化珪素薄膜をその上に沈着させることによって、ガラスとその後で沈着されるフッ素をドープしたスズ酸化物層の中間にスズ酸化物／二酸化珪素の基層構造が形成される。ソーベイランドらは、二酸化珪素膜がナトリウム拡散バリヤーとして作用するだけでなく、第１の未ドープスズ酸化物膜と協働して、得られる被覆ガラス製品中の真珠光を抑制するのに役立つことを示している。このような真珠光防止層（ａｎｔｉ−ｉｒｉｄｅｓｃｅｎｔ ｌａｙｅｒ）を用いることは米国特許第４，３７７，６１３号明細書に開示されており、該明細書の全開示内容も本明細書の一部を成すものである。
【０１０７】
図６に示すように、外部コーティング２０は、必ずしも必要ではないが、低放射率第１層８０の外部面上に直接的に沈着させるのが望ましい。前述のように、この態様における外部コーティング２０はいずれかの所望のタイプのコーティングを含んでいてもよい。このコーティング２０が親水性コーティングである場合、前記の好ましい水流延性コーティングは、熱分解的に形成される低放射率第１層との関連において特に良好に機能する。このような場合、親水性コーティングは、前述のようにして、スパッタリングによって低放射率第１層８０上に形成させるのが望ましい。例えば、低放射率第１層８０の外部面は、酸化性スパッタリング雰囲気中に存在する１または複数の珪素ターゲットの下方に配設させ、該ターゲットのスパッタリングによって、低放射率第１層８０上に二酸化珪素を直接的に沈着させることができる。前述のように、親水性コーティング２０が形成される正確な操作条件は、所望厚さの該コーティングの沈着が調整されるように必要に応じて変化させることができる。このコーティング２０の厚さは、図２に示す態様における親水性コーティング２０と同じオーダーの厚さにすることができる。例えば、好ましい厚さは約１５〜約３５０オングストローム、より好ましくは約１５〜約１５０オングストローム、最適には約２０〜約１２０オングストロームである。本発明の教示内容を規準として与えられる当業者であれば、このコーティング２０を異なる厚さで沈着するための適当な操作条件を容易に選択し、また、変化させることができる。
【０１０８】
あるいは、図６に示すような基体１０の外部表面２０は光触媒性コーティングであってもよい。このような場合、光触媒性２０は、前述のようにして、第１低放射率層８０の外部表面を１または複数のチタン含有ターゲットの下方に配置させて該ターゲットをアルゴン、酸素または酸素とアルゴンの混合物を含有する雰囲気中でスパッターすることによって沈着させることができる。
【０１０９】
図６に示す態様においては、基体１０の内部表面１４は仮保護カバー９０を保持していない。しかしながら、この内部表面１４は、所望により、保護カバーを保持していてもよい。従って、別の態様（図示せず）においては、図６に示すような基体１０は、その外部表面１２上の親水性の低放射率コーティング７０によって保持された第１カバー９０および未被覆内部表面１４上に形成された第２カバー９０を保有する。
【０１１０】
さらに、図６に示す基体１０の内部表面１４は被覆されていない。しかしながら、この種の基体１０の内部表面１４には、いずれかのタイプのコーティング２０を付与するのが望ましい。例えば、この表面上には親水性コーティング、光触媒性コーティング、または基体に所望の特性を付与するその他のコーティングを形成させるのが望ましい。内部表面１４は択一的または付加的に反射性コーティング３０を保有していてもよく、該反射性コーティングは、被覆基体の所望特性に応じていずれかの適当な形態を有することができる。例えば、該コーティングは、図３に示す態様に関連して先に説明した特性を有する赤外線反射性コーティング３０であってもよい。該赤外線反射性コーティングは所望によりそれ自体の保護カバーを保有していてもよい。このようにして被覆される基体は特に低い放射率をもたらすが、可視的な透過率と反射率は用途によっては理想的ではないかもしれない。
【０１１１】
所望により、本発明によるカバー９０はウインドーフレームやウインドーサッシ等に直接的に結合させることができる。これに対して、従来の紙製、プラスチック製、およびポリマー製の保護コーティングはこのような結合には十分に適したものではない。例えば、保護紙や保護プラスチックの周縁領域は、ウインドーフレーム等に結合させる前に切除するか、または他の方法で除去しなければならない。例えば、保護紙または保護プラスチックは経時的に劣化するので、該紙やプラスチックを保持する設置ペインを包囲フレーム内で潜在的にゆるませることが判明している。これに対して、本発明による保護カバー９０はこのような問題をもたらすことはない。
【０１１２】
図９および図１０の態様においては、ウインドーペイン１０を有するウインドーアセンブリーが示されており、該ウインドーペインは、選択される洗浄液、例えば、緩酸または緩塩基に対して耐久性を示す外部表面１２を有する。外部表面１２は、選択される洗浄液を用いる洗浄によって容易に除去することができるスパッターされたフィルムを含む仮保護カバー９０を保有する。カバー９０は本明細書に記載のような特性を有するタイプのものである。従って、一つの態様においては、カバー９０は、水の存在かでは安定であるが、緩酸または緩塩基の存在かでは崩壊するスパッターされたフィルムを有する。
【０１１３】
図９および図１０に示すウインドーアセンブリーは、ウインドーペイン１０が固定されるフレーム構造体５０（例えば、ウインドーフレームやウインドーサッシ等）を具有する。図示するフレーム構造体５０は非常に基本的なものであり、いずれかの所望の形態を有するフレーム構造体（ペインまたはＩＧユニットの周縁エッジ上に設置される簡単なケーシングを含む）を用いることもできる。ペイン１０は、該ペイン上の保護カバー９０へ直接的に付着されたシーラント７７のビードによってフレーム５０へ固定される。シーラント７７のビードは、第１側部上において保護カバー９０の周縁部へ直接的に結合され、該周縁部はペインの外部表面１２の周縁領域上に位置する。従って、カバー９０の周縁部はペイン１０を取付ける前に除去する必要はない。むしろ、該周縁部は、フレーム５０へ永続的に結合させることができるシーラント７７に永続的に結合させることができる。シーラント７７は、第２側部においてフレーム５０（または、該フレームに固定された別の構造体または部材）に結合される。
【０１１４】
図１０において最もよく示されているように、覆われた基体１０はフレーム５０内へ取り付けることができ、また随意に、フレームまたはその他の周縁部材が仕上げ処理（例えば、塗装処理）に付された後は、カバー９０をペインの外部表面１２の中央領域Ｃから除去することができる。従って、カバー９０の周縁部は、ペイン１０上に残存させてシーラント７７のビードへ永続的に結合させることができる。この態様は、保護カバー９０を、ペイン１０の取付け前に除去されるエッジにする必要がないので、有利である。
【０１１５】
本発明は多数の新規な基体製造法にも拡張される。例えば、本発明の一つの方法においては、一般に対置した内部表面１４と外部表面１２を有する基体が提供される（これら表面は一般的には該基体の主要な表面である）。耐久性コーティング２０は、基体１０の外部表面１２上に形成される。前述のように、耐久性コーティング２０は選択される洗浄液に対して耐性を示す物質を含有するのが好ましい。一つの態様においては、コーティング２０は、弱酸または弱塩基の作用に対して耐性を示す物質から形成される。所望により、コーティング２０は親水性コーティングであってもよい。親水性コーティング２０は基体上に直接的に形成させてもよいが、これは必ず必要な要件ではない。特に好ましい態様においては、親水性コーティング２０は、二酸化珪素のスパッタリングによって基体１０上に形成される。例えば、このコーティングの形成は、前述のようにして、珪素ターゲットの酸化性雰囲気中でのスパッタリングによっておこなうことができる。あるいは、コーティング２０は、前述のようにして、チタン含有ターゲットのスパッタリングによって沈着させることができる光触媒性コーティングであってもよい。次いで、仮保護カバー９０を耐久性コーティング２０上に形成させることができる。カバー９０は、前述のように、弱酸または弱塩基の存在下において崩壊する材料を含有するのが好ましい。一つの態様においては、カバー９０は６００℃のオーダーの高温において耐性を示す材料から形成される。好ましい態様においては、カバー９０は、ビスマス、カドミウム、鉄、ニッケルおよび亜鉛から成る群から選択される金属（亜鉛が最適である）の酸化物のスパッタリングによって外部コーティング２０上に形成される。
【０１１６】
別の態様においては、該方法には、前述のようにして、覆われた基体をＩＧユニット内へ組入れる過程がさらに含まれる。さらに別の態様においては、該方法には、覆われた基体を顧客へ配送する過程がさらに含まれる。さらにまた別の態様においては、該方法には、覆われた基体をウインドーフレーム内へ設置する過程がさらに含まれ、該ウインドーフレームは次いで所望により建築物の壁部に設置してもよい。
【０１１７】
本発明は基体の加工方法にも拡張される。例えば、一つの方法においては、選択される洗浄液（例えば、緩酸または緩塩基）に対して耐性を示す外部表面を有する基体が提供される。この外部表面は仮保護カバー９０を保有しており、該カバーは、該外部表面を汚染から保護すると共に所定の洗浄液を用いる洗浄によって該外部表面から容易に除去されるスパッターフィルムを含むのが有利である。前述のように、選択される洗浄液は緩酸または緩塩基であってもよい。例えば、カバー９０は、家庭用ビネガー、例えば、ｐＨが一般に約３のビネガーを用いる洗浄によって除去される材料から形成させることができる。保護カバー９０は、該外部表面を露出させることが望まれるときには該外部表面から除去することができる。覆われた基体は、例えば、ＩＧユニットまたはウインドーの製造業者、販売業者、家または建築物の所有者、または覆われた基体を最終的な適用場所（例えば、建築物の壁部）へ設置する建築業者もしくは請負業者によって提供される。
【０１１８】
本発明方法には、基体の覆われた外部表面を所定の洗浄液で洗浄することによってカバー９０の少なくとも一部を除去し、これによってその下に存在する表面の少なくとも一部を露出させる過程が含まれる。好ましくは、カバー９０の実質上全てがこの洗浄処理によって除去される。この洗浄過程は常套のいずれかの洗浄法によっておこなうことができる。例えば、覆われた外部表面は、平均的な自家所有者が窓を清浄化する場合と同様の方法に従って、所望の洗浄液（該洗浄液は緩酸性または緩塩基性の溶液であってもよい）で湿らすか、または該洗浄液を含浸させたタオル等を用いて洗浄することができる。あるいは、覆われた外部表面を、所望の洗浄液を保有する常套のスクィージー装置を用いて洗浄することによってカバー９０を除去することが可能である。
【０１１９】
この洗浄過程は、カバー９０のを下に存在する表面を露出させることが必要なときにおこなうことができる。例えば、基体が汚染物の多い環境である製造施設から搬送されるまでは、保護カバー９０を除去しないのが好ましい。前述のように、基体は、製造環境から離れた後であっても、種々の汚染源にさらされる。例えば、ＩＧユニットに組立てられたペインは、ＩＧユニットの組立て中に一般的に使用されるシリコーンシーラントに極めて近接してさらされるのが一般的である。このような場合、基体１０がＩＧユニットまたはその他の組立製品に組入れられるまではカバー９０を該基体１０上に残存させておくのが有利である。実際は、覆われた基体が設置場所または最終的な消費者（例えば、自家所有者）へ配送された後に洗浄処理をおこなうのが好ましい。場合によっては、覆われた外部表面が戸外環境に向けられて配設されるように該基体が設置された後で、洗浄処理をおこなってもよい。このような場合、洗浄処理によって外部表面が露出し、該表面は水との周期的な接触にさらされる。覆われた基体が最終的な位置（例えば、所望により建築物の壁部内に取付けられていてもよいウインドーフレーム）に設置されるまでは洗浄処理をおこなわないのがより好ましい。基体上またはその周囲におけるいずれかの仕上処理（例えば、周囲フレームの塗装処理）が完了するまで洗浄処理をおこなわないのが最適である。保護カバー９０をこのような遅い段階で除去することによって、覆われた外部表面は、製造過程、保管過程、搬送過程、設置過程および仕上過程において汚染から保護される。従って、全ての設置作業と仕上処理が完結した後で洗浄処理をおこなつてカバー９０を基体１０から除去するのが最も好ましい。
【０１２０】
前述のように、仮保護カバー９０はスパッタリングによって形成させるのが望ましい。同様に、外部コーティング２０と赤外線反射性コーティング３０の一方または両方を存在させる場合には、これらのコーティングもスパッタリングによって形成させるのが好ましい。前記のように、本発明の特定の態様には、両方の主要表面（即ち、内部表面および外部表面）上においてコーティングを保持する基体が包含される。このような態様においては、両方のコーティング（即ち、内部コーティングおよび外部コーティング）は、常套のスパッタリング装置を使用する該コーティングのスパッタリングライン内通過によって沈着される。
【０１２１】
本発明による一つの方法においては、赤外線反射性コーティング３０を基体１０の内部表面１４上へスパッターする前に、外部コーティング２０と保護カバー９０を基体１０の外部表面１２上へスパッターする。このようなスパッタリングは、所望の外部コーティング２０の材料をスパッターするように適合された１または複数のターゲットの下方に基体１０の外部表面１２を配置させることによっておこなうことができる。例えば、外部コーティング２０が親水性コーティングの場合には、このような１または複数のターゲットは、前述のように、珪素ターゲットであってもよい。あるいは、外部コーティングが光触媒性コーティングの場合には、このような１または複数のターゲットは、前述のように、チタン含有ターゲットであってもよい。次いで、１または複数のターゲットのスパッタリングによって、基体１０の外部表面１２上に所望の外部コーティング２０を沈着させることができる。その後、外部コーティング２０の外部面を、所望の保護カバー９０の材料（例えば、酸化亜鉛）をスパッターするように適合された１または複数のターゲット（例えば、亜鉛ターゲット）の下方へ配置させる（例えば、後続のスパッタリング室内へ搬送する）。次いで、該ターゲットを、例えば、酸化性雰囲気中においてスパッターすることによって、外部コーティング２０の外部面上に保護カバー９０を沈着させる。その後、基体１０の内部表面１４を、赤外線反射性コーティング３０の１または複数のフィルムをスパッターするように適合された１または複数のターゲットの下方に配置させる。次いで、該ターゲットをスパッターさせることによって、基体１０の内部表面１４上に赤外線反射性コーティング３０を沈着させる。もちろん、沈着の順序は所望により逆にしてもよい。即ち、所望により、外部コーティング２０とカバー９０を外部表面１２上へ沈着させる前に、赤外線反射性コーティング３０を内部表面上に沈着させることができる。
【０１２２】
図７は、本発明の一つの態様による二方向スパッタリング室を模式的に示す。前述のように、マグネトロン・スパッタリング室は当該分野においては周知であり、また、多くのメーカーから市販されている。従って、常套のマグネトロン・スパッタリング室の詳細な説明は本発明の範囲外の事項である。図７において、被覆されるべき基体１０は複数の支持ローラー２１０上に配置される。支持ローラー２１０はスパッタリング室２００の長さ方向に沿って間隔を置いて配置される。これらのローラー２１０の正確な間隔は、以下に詳述する理由により、変化させることができるが、スパッタリング室２００の少なくとも中間の長さに沿ってわずかな間隔を置いてこれらのローラーを配置させることが望ましく、これによって下方ターゲット２６０からの有効コーティング面積を増大させることができる。
【０１２３】
図示する態様においては、基体１０はローラーを水平方向に横切って、例えば、左側から右側へ移動するように配置される。基体１０の内部表面１４は上向きに配置され、一方、該基体の外部表面１２は下向きに配置されてローラー２１０上に載置される（例えば、該ローラーに対して直接的に支持的接触させる）。このような配置は最も一般的な配置であるが、スパッタリング室２００の内部における基対１０の相対的な方向は逆転させてもよく、また、上方ターゲット２２０ａおよび２２０ｂ並びに下方ターゲット２６０の相対的配置も逆転させてもよい。従って、「上方」ターゲットおよび「下方」ターゲットという表示は単なる便宜的なものであって、スパッタリング室内におけるこれらのターゲットの相対的方向は所望により容易に逆転させることができる。
【０１２４】
図７に示すスパッタリング室２００は、間隔を置いて配置された２つの上方スパッタリングターゲット２２０ａおよび２２０ｂを具有する。これらのターゲットは平坦状ターゲットであってもよいが、図中においては、所謂回転状または円筒状ターゲットとして示してある。これらのターゲットは一般に相互に平行に配設され、また、水平方向に延びた複数の陽極２３０は一般にこれらのターゲットに対して平行に配設される。シエックによる米国特許第５，６４５，６９９号明細書に提案されているように、中間の陽極２３０はこれらの２つのターゲット間に配置させることもできる（該明細書の全教示内容も本明細書の一部を成すものである）。
【０１２５】
ガス分配システムを使用することによって、ターゲット２２０ａおよび２２０ｂに隣接する室内へスパッタリングガスを供給する。種々のガス分配システムが当該分野において知られているが、この分配システムは、一般にターゲットに向けて間隔を置いて配設された複数の開口部またはノズルを具有する一対のパイプ２３５を単に含むものであってもよい。
【０１２６】
マグネトロン・スパッタリング室内において、基体の上方に配置させた複数個のターゲットを使用することは当該分野においては常套法である。しかしながら、図７に示すスパッタリング室２００の特有な点は、下方ターゲット２６０を存在させる点である。下方ターゲットは、基体１０の外部表面１２上へ外部コーティング２０（例えば、親水性コーティングおよび光触媒性コーティング等）をスパッター沈着させ、次いで該外部コーティング２０上へ保護カバー９０をスパッター沈着させるのに有効に使用することができる。以下に説明するように、上方ターゲットは、赤外線反射性コーティング３０が存在するときには、該コーティングの単数または複数のフィルム（例えば、金属酸化物製フィルム）を基体１０の内部表面１４上に沈着させるのに有効に使用することができる。
【０１２７】
図７には１個の下方ターゲット２６０を有するスパッタリング室２００が示されているが、該室２００は所望により２個またはそれよりも多くの下方ターゲットを具有することができる。上方ターゲット２２０ａおよび２２０ｂの場合のように、下方ターゲット２６０は少なくとも１個の陽極２７０、好ましくは安定なプラズマを発生させるのに十分に近接させて配設される２個の陽極２７０を具有する。上方ターゲット２２０ａおよび２２０ｂに近接して配設されるガス分配パイプ２３５は下方ターゲット２６０から望ましくないほど離れており、また、基体１０がスパッタリング室２００内へ周期的に導入されることによって、該スパッタリング室は２つの別々に機能する領域に有効に分割される。従って、下方ターゲット２６０に近接するガスの下方に配設された分離状ガス分配パイプ２７５を設置するのが好ましく、これによって、下方ターゲット２６０に近接するプラズマに対する安定したガス供給が保証される。所望により、下方パイプ２７５と上方パイプ２３５は同一のガス分配システムの一部であってもよい（即ち、両方のパイプのセットは単一のガス供給源に接続することができる）。
【０１２８】
上方パイプ２３５および下方パイプ２７５によって供給されるガスの性状は上方スパッタリングターゲット２２０と下方スパッタリングターゲット２６０の組成に少なくとも部分的に依存する。常套のマグネトロン・スパッタリングにおいては、ターゲットは陰極として機能する。前述のように、多くの一般的な沈着材料、例えば、金属や半金属の酸化物等を高い信頼性でスパッターすることは、これらの材料の電気的絶縁特性に起因して困難である。この結果、このような場合には、純粋な金属および／または半金属を含有するターゲットをスパッターすることが好ましい。実際に沈着される材料は、スパッタリング室内へ供給されるガス中へ酸素を含有させることによって酸化される。
【０１２９】
基体１０はスパッタリング室をある程度分割するが、該室内のいずれかの移動空間から該室内の１つの領域内へ導入されるガスがこれによって排除されるものではない。従って、下方パイプ２７５によって供給されるガスが上方ターゲット２２０ａおよび２２０ｂのスパッタリングに不都合な影響を及ぼさないことが好ましい。もちろん、同様に、下方ターゲット２６０のスパッタリングが上方パイプ２３５を通して供給されるガスの存在によって不都合な影響を受けないことが好ましい。例えば、このような二方向スパッタリング室２００の使用は、ガラスの一方の側に酸化物コーティングを沈着させると共に他方の側に酸素の影響を受けやすい金属を沈着させる場合には有利でない。
【０１３０】
図７に示すような二方向スパッタリング室内の一回の通過によって、基体１０の内部表面１４上に第１コーティングを沈着させると共に該基体１０の外部表面１２上に第２コーティングを沈着させるのがより有利である。例えば、第１および第２の親水性コーティング２０は、二方向スパッタリング室２００内を一回通過させることによって、図５に示すような基体１０の上に都合よく形成させることができる。このコーティング形成は、珪素から形成された上方ターゲット２２０ａおよび２２０ｂ並びに下方ターゲット２６０を使用し、これらのターゲットを酸化性雰囲気中において実質上同じ時に（例えば、同時に）スパッターすることによっておこなうことができる。同様にして、第１および第２の光触媒性コーティング２０は同様の方法により、上方のチタン含有ターゲット２２０ａおよび２２０ｂ並びに下方のチタン含有ターゲット２６０を酸化性雰囲気中においてスパッターさせることによって都合よく沈着させることができる。二方向スパッタリング室２００は、図５に示すような基体上に第１および第２の保護カバー９０を沈着させる場合にも都合よく使用することができる。このカバー形成は、亜鉛から形成された上方ターゲット２２０ａおよび２２０ｂ並びに下方ターゲット２６０を使用し、これらのターゲットを酸化性雰囲気中において実質上同じ時に（例えば、同時に）スパッターすることによっておこなうことができる。これらの方法における酸化性雰囲気は、酸素または酸素とアルゴンの混合物を上方パイプ２３５と下方パイプ２７５を通して該室内へ導入することによって発生させることができる。このような方法においては、２つのパイプセット２３５および２７５を通して導入されるガスの混合は、内部コーティングまたは外部コーティングの沈着に不都合な影響を及ぼすべきではない。
【０１３１】
図７に示すような二方向スパッタリング室２００は組成の異なる内部コーティングと外部コーティングを沈着させるのにも使用することができる。例えば、このような室は、図３に示すような基体１０上に親水性コーティング２０および赤外線反射性コーティング３０の１つの誘電性層を沈着させるのに使用できる。また、例えば、この沈着法は所望の金属（例えば、亜鉛）から形成される上方ターゲット２２０ａおよび２２０ｂ並びに珪素から形成される下方ターゲットを用いておこなうことができる。次いで、これらのターゲットは酸化性雰囲気中において実質上同じ時に（例えば、同時に）スパッターすることができる。従って、該室内を一回通過させる工程において、赤外線反射性層３０の金属酸化物（例えば、酸化亜鉛）を基体１０の内部表面１４上に沈着させると共に、親水性コーティング（例えば、二酸化珪素）２０を基体１０の外部表面１２上に沈着させることができる。
【０１３２】
同様にして、二方向スパッタリング室２００は、図３に示すような基体１０上に外側の光触媒性コーティング２０および内側の赤外線反射性コーティング３０の１つの誘電性層を沈着させるのに使用できる。例えば、この沈着法は、所望の金属（例えば、亜鉛）から形成される上方ターゲット２２０ａおよび２２０ｂ並びにチタン含有下方ターゲットを用いておこなうことができ、これらのターゲットは酸化性雰囲気中において実質上同じ時に（例えば、同時に）スパッターすることができる。従って、該室内を一回通過させる工程において、赤外線反射性層３０の金属酸化物（例えば、酸化亜鉛）を基体１０の内部表面１４上に沈着させると共に、光触媒性コーティング（例えば、酸化チタン）２０を基体１０の外部表面１２上に沈着させることができる。
【０１３３】
あるいは、保護カバー９０および赤外線反射性コーティング３０の１つの誘電性層は、二方向スパッタリング室２００内を一回通過させることによって、図３に示すような基体１０上に沈着させることができる。例えば、この沈着法は、それぞれ所望の金属から形成された上方ターゲット２２０ａおよび２２０ｂ並びに下方のターゲット（例えば、全てのターゲットは亜鉛であってもよい）を使用することによっておこなうことができる。次いで、これらのターゲットは酸化性雰囲気中において実質上同じ時に（例えば、同時に）スパッターすることができる。従って、該室内を一回通過させる工程において、赤外線反射性層３０の金属酸化物（例えば、酸化亜鉛）を基体１０の内部表面１４上に沈着させると共に、金属酸化物（例えば、酸化亜鉛）製の保護カバー９０を基体１０の外部表面１２上に沈着させることができる。
【０１３４】
内部コーティング（例えば、赤外線反射性コーティング３０）の誘電性層が窒化物等を含有するときであっても、外部コーティング（例えば、親水性もしくは光触媒性コーティング２０または保護カバー９０）は金属酸化物を含有するが、本発明の１つの態様に従えば、このような材料は、沈着されるべき窒化物への金属酸化物の導入または金属酸化物への窒化物の導入によって、形成されるいずれかのコーティングが不都合な影響を受けない限り、二方向スパッタリング室２００の内部において同時にスパッターすることができる。理想的には、内部表面１４上に沈着されるべきコーティング層は、外部表面１２上に沈着されるコーティング２０または保護カバー９０が金属酸化物のときには、酸化物または部分酸化物である。これによつて、２つのパイプセット２３５および２７５を通して導入されるガスの混合がこれらのコーティングのいずれかの沈着に不都合な影響を及ぼさないことが保証される。
【０１３５】
常套のマグネトロン・スパッタリング室内においては、基体を支持するために使用されるローラー２１０の間隔をかなり小さくすることにより、基体がローラー間に落下する危険を伴うことなく、比較的小さな基体をライン上で加工することが可能となる。コーティングを基体の外部表面上に形成させるときのローラーの妨害を最小限にするためには、この間隔を広くすることができる。
【０１３６】
安全な最大間隔は、被加工基体のサイズの所定の範囲に対して個別的に決定する必要がある。しかしながら、下方ターゲット２６０から基体の外部表面１２への経路内に配設されるローラー間の間隔が大きいほど、基体上に沈着されるスパッター材料の量は多くなる。もちろん、スパッタリング装置の他の領域内のローラーの間隔は通常の間隔に維持することができる。二方向スパッタリング室２００内の数個のローラーが容易に除去されることによって、該室が図示する形態から、基体の一方の側のみを被覆すると共により近接するローラー間隔を有するより一般的に操作される形態へ変換されるようにすることが望ましい。ローラー間の間隔を変更させないで、より小さな直径を有するローラーを製造することができる。サポートに沿った基体の移送速度を同じ速度に維持するためには、これらの直径の小さなローラーを例えば、所望のギア比を有する一対のギアを用いて、より速く回転させることができる。
【０１３７】
ローラー２１０はいずれかの常套の構造を有するものであってもよい。常套のローラーは中空の金属管である。所望により、ローラーは、例えば硬質フォームを充填することによって剛化させてもよい。「ケブラー（Ｋｅｖｌａｒ）」（登録商標）（ロープ）を巻きつけた円筒状アルミニウム製ローラーを使用するときに良好な結果が得られることが判明した。「ケブラー」は、基体が直接的に接触する表面を付与する。
【０１３８】
特殊な適用においては、図７に示す二方向スパッタリング室２００は、所望の内部コーティングと外部コーティングを完全に形成させるのに十分である。多くの場合、スパッタリング室２００は、直列のスパッタリング室を含むスパッタリングラインの一部を形成する。ライン中の各々のスパッタリング室は上方ターゲットと下方ターゲットの両方を含むことができるが、最も一般的な適用においては、基体の上部表面に形成されるフィルム積層体（例えば、赤外線反射性フィルム積層体）は、基体の下部表面に形成される１または複数のコーティングに比べて、より厚く、より複雑である（即ち、異なる組成を有する一連の異なる層を含む）。従って、スパッタリングライン中の大部分の室は、上方ターゲットのみを有し、サポートの下方に配置されたターゲットを有さない常套の下方スパッタリング室を具有することができる。スパッタリングラインが下方スパッタリング室と二方向スパッタリング室２００を併有する場合には、スパッタリングラインに沿った二方向スパッタリング室の位置は変化させることができる。例えば、酸化物を含有する保護カバー９０または親水性コーティング２０を酸化性雰囲気中における下方ターゲット２６０のスパッタリングによって形成させる場合には、同じ室内のガラスの上部表面上へ非酸化層（例えば、低放射率フィルム積層体に常用されているような赤外線反射性銀層）を沈着させるべきではない。純粋な金属層のスパッタリングに用いられる室を下方スパッタリング室または上方スパッタリング室として作動させるのが好ましいが、下方ターゲットを省くことによって、二方向スパッタリング室として作動させないのが好ましい。
【０１３９】
図７に示すような二方向スパッタリング室２００は、基体の両方のサイドをコーティングする場合のコストを最小にすると共に生産能率を最大にすると考えられる。あまり望ましくはないが、基体の内側のコーティング（例えば、低放射率フィルム積層体）は一回目の室内通過で形成させ、基体の外側のコーティング（例えば、親水性もしくは光触媒性コーティングと保護カバー）は二回目の室内通過で形成させ、一回目と二回目の室内通過の間においてガラスをフリッピング（ｆｌｉｐｐｉｎｇ）させることによって、スパッタリング室またはスパッタリングライン内のサポートの同じ側に全てのターゲットを配置させることが可能となる。しかしながら、この方法は、先に略述した方法に比べて効率的ではないので、低コストでの商業的基体生産にとって有利ではないと考えられる。
【０１４０】
基体が室内を移動することにつれて、ガラスが上方ターゲット２００ａおよび２００ｂを下方ターゲット２６０から有効に遮蔽しないときまたは該下方ターゲットを該上方ターゲットから有効に遮蔽しないときが出現する。この結果、上方ターゲットからの材料は下方ターゲット上に沈着し、また、下方ターゲットからの材料は上方ターゲットの一方もしくは両方に沈着する。実質上同一の組成を有する上方ターゲット２２０ａおよび２２０ｂ並びに下方ターゲット２６０を具有する図７に示すようなスパッタリング室２００を提供することが理想的である。例えば、上方ターゲット２２０ａおよび２２０ｂ並びに下方ターゲット２６０は全て亜鉛ターゲットにすることができる。この場合、上方パイプ２３５と下方パイプ２７５を通して酸素または酸素とアルゴンの混合物を供給することによって、酸化亜鉛カバー９０が基体１０の外部表面１２上に形成されると同時に赤外線反射性コーティング３０の酸化亜鉛誘電性層が基体１０の内部表面上に沈着される。上方ターゲットが下方ターゲットとは異なる組成を有するときには、異なるターゲットの交差汚染によってスパッタリングに関する問題または一定の製品品質の維持に関する問題がもたらされると考えられる。
【０１４１】
少なくとも理論的には、このような問題は、各々のスパッタリングターゲットに供給される電力を個別的に制御することにより、基体が上方ターゲットと下方ターゲットを相互に遮蔽するように配置されたときにのみ各々のターゲットのスパッタリングを確実におこなわせることによって解決される。しかしながら、現在市販されている電力供給制御器はこのような方式の構成を有していない。さらに、このような配置の制御論理は、一定のサイズではなくて異なるサイズの基体を被覆するためにスパッタリングラインを使用するときには非常に困難となる。
【０１４２】
図８は、スパッタリングターゲットの実質的な交差汚染を伴うことなく、一回の室内通過によって基体１０の内部表面１４と外部表面１２の両方を被覆するのに使用できるスパッタリング室３００の一態様を示す。図７に示す構成要素と類似の機能をする構成要素は類似の参照番号（但し、１００が加算された数である）で示す。例えば、図８に示す上方ガス分配パイプ３３５は図７に示す上方ガス分配パイプ２３５と類似の機能をする。
【０１４３】
図８に示すスパッタリング室３００は、一対のバリヤー３４０によって実際上３つのコーティング領域に分割されている。１つのコーティング領域内のガスの一部は別のコーティング領域内へ流入することがあるので、３つのコーティング領域においては類似の雰囲気を用いるのが最適である。しかしながら、バリヤー３４０は、１つのコーティング領域内でスパッターされた材料であって、他のコーティング領域内のターゲットに達する該材料の量を効果的に制限する。
【０１４４】
図８に示す態様においては、３つのコーティング領域３００ａ〜３００ｃの各々は４つのターゲットを保持するのに適合しており、２つのターゲットは基体の上方に配置され、残りの２つのターゲットは基体の下方に配置される。従って、基体の経路の上方には６つの上方ターゲット取付台３２１〜３２６が配置され、また、基体の経路の下方には６つの下方ターゲット取付台３６１〜３６６が配置される。異なる特性を有する製品を製造するためにこの単一の多領域スパッタリング室３００を使用する場合、この態様によって最大の融通性が得られる。図８には、下方ターゲット取付台３６１〜３６６の各々に対してそれぞれ垂直的に配列された上方ターゲット取付台３２１〜３２６の各々が模式的に示される。しかしながら、ターゲットは図示するように垂直的に配列される必要はなく、水平方向に互い違い配列させる態様の方が有効である。図８に示す態様においては、第１コーティング領域３００ａは下方へのスパッタリング領域であって、２つの上方ターゲット（３２０ａおよび３２０ｂ）を有するが、下方ターゲット取付台３６１または３６２には下方ターゲットを保有しない。
【０１４５】
スパッタリングガスは上方ガス分配パイプ３３５へ供給されるべきであり、また、電力は第１コーティング領域内の上方陽極３３０へ供給されるべきであるが、下方ガス分配パイプ３７５へはガスを送給する必要はなく、また、下方陽極３７０への電力供給は不要である。第２コーティング領域３００ｂ上方へのスパッタリング領域であって、２つの下方ターゲット３６０ｃおよび３６０ｄを有するが、上方ターゲット取付台３２３および３２４はスパッタリングターゲットを保有しない。同様に、第３コーティング領域３００ｃは２つの下方ターゲット３６０ｃおよび３６０ｆを有するが、上方ターゲット取付台３２５および３２６はスパッタリングターゲットを保有しない。
【０１４６】
図８の多領域スパッタリング室３００内のターゲットの配置は単なる例示的なものであって、異なる製品に対しては、生産効率を最大にするようにターゲットの配置を変化させることができる。例えば、同じ基体速度においてより厚い親水性または光触媒性コーティング２０が要求される場合には、珪素またはチタン含有ターゲットを下方ターゲット取付台３６１〜３６６の各々に設置すると共に、上方ターゲット取付台３２１〜３２６にはターゲットを設置しないようにすることができる。より薄い親水性または光触媒性コーティング２０で十分な場合（または、室内を通過する基体の速度を適当に低減させる場合）には、最後の２つの下方ターゲット取付台３２５および３２６のみにターゲットを設置すると共に、最初の４つの上方ターゲット取付台３２１〜３２４にスパッタリングターゲットを設置することができる。もちろん、１または複数のコーティング領域３００ａ〜３００ｃは、図７に示す二方スパッタリング室２００の場合のようにして、同じ領域の上方ターゲット取付台と下方ターゲット取付台にターゲットを設置することによって操作することができる。
【０１４７】
本願においては、図７および図８に示す装置およびこれらのコーティングシステムを用いる沈着被覆法は、基体の一方の側に赤外線反射性コーティング３０を形成させると共に、基体１０の他方の側に親水性もしくは光触媒性コーティング２０および／または保護カバー９０を形成させる態様に関連して説明している。しかしながら、このような装置や方法は、基体に付着されるコーティングの性状にかかわらず、該基体の両側に所望のコーティングを形成させるのに使用することができる。例えば、この種の装置は、基体１０の一方の側１４に保護カバー９０を形成させると共に、他方の側１２に所望のコーティング２０（例えば、親水性コーティング、光触媒性コーティング、またはその他のタイプのコーティング）を形成させるのに使用することができる。
【０１４８】
図７および図８に示すシステムの利点は、基体１０を一定の方向に維持した状態で（即ち、該基体は裏返したり、回転させたり、またはその他の操作に付す必要はない）コーティング装置を一回通過させることによっ、基体１０の両側１２および１４に同一または異なる組成のスパッターされたコーティングを形成させることができることである。これによって、標準的な移送ローラーの簡単なセットを用いて基体を製造ラインに沿って移動させることができる。本発明を適用しない場合においては、一般的には別々の操作過程において手動で基体を裏返してコーティング装置内を逆移送させるか、または基体を保持して生産過程のいずれかの時点で裏返さなければならない複雑な基体操作システムを使用しなければならない。これによって、両側にコーティングを有する基体を、コーティングの品質を損うことなく、特に経済的に生産することが可能となる。
【０１４９】
従来、基体の底面を被覆する場合には、ローラーとの接触によって、コーティングの形成前にコーティングのかき傷および／または基体底面の損傷をもたらすものと考えられていた。しかしながら、驚くべきことには、本発明によれば、基体の両側が一回の通過によって優れた効果を伴って被覆できることが立証された。
【０１５０】
本発明により種々のコーティングを形成させる詳細な操作条件（例えば、ターゲット組成およびプラズマ組成等）は、所望のコーティングの沈着を最適化するために、必要に応じて変化させることができる。本発明の教示内容が規準として与えられるならば、当業者であれば、過度の実験をおこなうことなく、本発明による所定のコーティングを形成させるための適当な操作条件を選択することができる。
【０１５１】
以下の非制限的な実施例は、汚染からの基体の保護に関する本発明による仮カバー９０の有効性を例証するものである。比較サンプルは、本発明による保護カバー９０を保持する親水性表面を、該カバー９０を保持しない直接的に比較できる親水性表面と正確に比較するために調製した。実施例１〜３においては、２つの試験サンプル（サンプルＡおよびサンプルＢ）を調製した。サンプルＡは親水性コーティングを保持するガラスシートを含む。サンプルＢはサンプルＡの親水性コーティングを保持すると共に該親水性コーティング上に保護カバー９０を保有するガラスシートを含む。
【０１５２】
サンプルＡのガラスシートは次のようにして調製した。ソーダ石灰ガラスの清浄表面を、酸素８０％とアルゴン２０％を含む酸化性雰囲気中において、二酸化珪素のスパッタリングによって被覆した。珪素約９５％とアルミニウム約５％含有する３つの回転性ターゲットを約１００ｋＷの電力で操作し、ガラスの移動速度は約３００インチ／分とした。得られた二酸化珪素のコーティングの厚さは約５３オングストロームであった。
【０１５３】
サンプルＢのガラスシートは次のようにして調製した。ソーダ石灰ガラスの清浄表面を、サンプルＢの場合と同様にして、二酸化珪素のスパッタリングによって被覆した。次いで、酸化亜鉛を含有する仮保護カバー９０を二酸化珪素コーティング上にスパッターした。酸化亜鉛は、酸素１００％含有酸化性雰囲気中において平面状亜鉛ターゲットからスパッターした。このターゲットは約１２ｋＷの電力で操作し、ガラスの移動速度は約３００インチ／分とした。得られた酸化亜鉛カバーの厚さは約１６オングストロームであった。
【０１５４】
実施例１
未硬化のバルク状シリコーンゴム材料を含有するガラス加工装置隣接バレル内にサンプルＡとサンプルＢのガラスシートを設置した。この環境に約６時間さらした後、両方のサンプルのガラスシートを汚染試験に供した。被覆されたガラス表面の汚染化度を評価するために２種類の異なる試験をおこなった。第１の試験においては、被覆されたガラス表面の接触角を市販の測定器具を用いて１回または２回測定した。前述の条件下で沈着された親水性二酸化珪素コーティングは、いずれかの環境にさらす前には、水に対して２５度よりも十分に小さい接触角を示すことが予想された。また、前述の条件下で沈着された酸化亜鉛コーティングは、いずれかの環境にさらす前には、水に対して約３０度よりも小さい接触角を示すことが予想された。
【０１５５】
第２の試験においては、各々のサンプルの洗浄の容易性を、市販のガラス洗浄液「ウィンデックス（Ｗｉｎｄｅｘ）」（登録商標）を各々のサンプルの被覆表面上に噴霧することによって評価した。噴霧表面は紙タオルを用いて該表面が実質的に筋がみられなくなるほど清浄化するまで手で払拭した。洗浄の容易性（または「払拭性」）は１〜５の段階で評価した。いずれかの環境にさらす前の通常の非被覆ガラスの洗浄の容易性を「３」とし、ガラス表面が非常に容易に洗浄できるときを「１」とし、また、洗浄が実質上より困難なときを「５」とした。この評価法は幾分主観的であるが、ガラス表面の洗浄容易性のおおよその定性的尺度となる。両方のサンプルの被覆表面を一般的な家庭用ビネガーで洗浄した。この処理は、ビネガーで湿らせたタオルを用いて、通常窓を洗浄するようにしてサンプルをこすり洗いすることによっておこなった。ビネガーを用いた洗浄後、上記の試験を両方のサンプルについて再びおこなった。これらの試験の結果は次の表１に示すとおりである。
【０１５６】
【表１】
2004509047.tif 000003
【０１５７】
汚染にさらした後は、両方のサンプルの被覆された表面は、汚染されていない状態の該表面に対して予想された接触角よりも大きな接触角を示した。本発明による保護カバー９０を保持するガラス（サンプルＢ）の接触角は、カバー９０を保持しないガラス（サンプルＡ）よりも幾分小さいが、いずれのサンプルも特に望ましい接触角は示さなかった。同様に、サンプルＡおよびサンプルＢのいずれも、汚染にさらした後は、前記の方法によって特に容易には洗浄できないような払拭性を示した。
【０１５８】
ビネガーを用いる洗浄処理に付した後、両方のサンプルには次の様な結果が得られた。保護カバー９０を保持する二酸化珪素コーティング（サンプルＢ）は、この種の非汚染二酸化珪素コーティングに対して期待される望ましい親水性表面特性を示した。このサンプルの払拭性は２〜３から１に改善された。このことは、該サンプルが非常に容易に洗浄されることを示す。一方、汚染にさらされたときにカバー９０を保持しない親水性コーティング（サンプルＡ）の払拭性はビネガーを用いる洗浄によって明白な影響を受けなかった。何故ならば、このサンプルの表面の払拭性は、ビネガーを用いる洗浄処理の前後において、中程度の３を示したからである。さらに、カバー９０を保有するサンプルの接触角は１０°〜１１°であったが、この値は、保護カバー９０を保有しないサンプルの最終的な接触角の半分よりも小さい値であった。
【０１５９】
これらの結果は、本発明による保護カバー９０を保持する望ましい二酸化珪素コーティングの親水性表面特性が、覆われた表面がシリコーンで汚染された後であっても、この種の非汚染コーティングに期待されるような非常に望ましい親水性状態へ復帰できることを示す。さらに、これらの結果は、コーティングがいったんシリコーンに直接的にさらされると、この種の汚染物を前記方法で二酸化珪素コーティングから洗浄しようとする試みは非常に非効率的であることを提案する。また、種々の液体を用いる洗浄によっても、本発明によるカバー９０を用いて達成される程度まで払拭性を改善したり、接触角を低減させることはできないことが予想される。
【０１６０】
実施例２
サンプルＡおよびサンプルＢのガラスシートをガラス加工施設内の大型ファンの前に設置した。この環境下に６時間さらした後、両方のサンプルのガラスシートを実施例１の場合と同様の汚染試験に供した。試験結果を次の表２に示す。
【０１６１】
【表２】
2004509047.tif 000004
【０１６２】
実施例１の場合のように、汚染にさらした後では、両方のサンプルは、この種の非汚染表面に対して期待されるよりも望ましくない払拭性と接触角を示した。両方のサンプルをビネガーで洗浄した後では、保護カバー９０を保持する二酸化珪素コーティング（サンプルＢ）は、カバー９０を保持しないサンプルＡに比べてより良い表面特性を示した。サンプルＢの払拭性は３〜４から望ましい値１へ実質上改善された。このことは表面の洗浄が非常に容易であることを示す。前述の場合のように、カバー９０を保持しないサンプル（サンプルＡ）はビネガーを用いる洗浄後であっても払拭性は３〜４であって改善されず、ビネガーを用いる洗浄によって該サンプルの払拭性には明白な効果はもたらされなかった。さらに、カバー９０を保有するサンプルの接触角は１５°および１４°に低下しており、この値は、保護カバー９０を保有しないサンプルＡの一部の領域で測定された値の半分よりも小さい値である。これらの結果は、親水性表面を汚染から保護する場合の本発明によるカバー９０の有効性を裏付けるものである。さらに、これらの結果は、これらのサンプルに一般的なガラス加工施設内のファンによって空気を吹き付けるだけで、これらのガラス表面が驚くほど容易に汚染されることを示す。
【０１６３】
実施例３
サンプルＡおよびサンプルＢの各々のガラスシートの中央部領域にシリコーングリースを付着させた。６時間後、シリコーングリースの付着物（ｄｅｐｏｓｉｔ）をガラスから清浄な紙タオルで実質上ふきとった。次いで、両方のサンプルを実施例１および２の場合と同様にして汚染試験に供した。得られた結果を次の表３に示す。
【０１６４】
【表３】
2004509047.tif 000005
【０１６５】
シリコーングリースに直接さらした後の両方のサンプルは、非汚染状態のこの種の表面に予測された値よりも十分に良好な接触角を示した。両方のサンプルの接触角は、被覆表面の被測定領域によって変化した。より大きな接触角は両方のシートの中央部領域（即ち、シリコーングリースを付着させた領域）の近傍において一般に測定され、より小さな接触角はシートの周縁領域（即ち、シリコーングリースを直接付着させた領域の外側領域）の近傍において一般に測定された。両方のサンプルの中央部領域の接触角は約１０５°であり、この値は、該領域が非常に汚染されたことを示す。両方のサンプルの払拭性は理想的な値よりも悪く、特にガラスの中央部領域における払拭性はいずれのサンプルにおいても中程度の３であった。
【０１６６】
ビネガーを用いる洗浄処理に付した後のサンプルの試験結果は次の通りである。カバー９０で保護した親水性コーティング（サンプルＢ）は非常に望ましい表面特性を示した。このサンプルの払拭性は特徴的な値でない３からより良好な１まで改善され、このことは、該サンプルの表面が非常に容易に洗浄されたことを示す。さらに、ビネガーで洗浄した後の該サンプルの接触角は、一部の領域における非常に疎水的な値（１０５°）から、全表面における望ましい親水的な値（１２°）まで低減した。一方、カパー９０を保持しない親水性コーティング（サンプルＡ）に対しては、ビネガーの良好な洗浄効果はみられなかった。ビネガーで洗浄する前のこのサンプルの払拭性は２〜３であった。このサンプルの一部の領域における払拭性はビネガー洗浄によって改善されたが、ガラスの中央部領域の払拭性は依然として中程度の値であった。同様に、このサンプルの接触角は幾分低下したが、ガラスの中央部領域の接触角は依然として望ましくない疎水的な値（約９６°）であった。これらの結果は、本発明によるカバー９０が、除去するのが非常に困難なシリコーン汚染物を覆われたガラスに直接付着させたときでも、ガラス表面を該汚染物から有効に保護するということを示す。
【０１６７】
実施例４
親水性コーティングを保持するガラスシートを含むサンプル（サンプルＣ）を、サンプルＣの場合と同じ親水性コーティングを保持すると共に該親水性コーティング上に保護カバー９０を有するガラスシートを含む他のサンプル（サンプルＤ）と比較した。
サンプルＣのガラスシートは以下の様にして調製した。ソーダ石灰ガラスの清浄表面上に、酸素８０％とアルゴン２０％を含有する酸化性雰囲気中において、二酸化珪素をスパッターした。珪素約９５％とアルミニウム約５％含有する３つの回転ターゲットを約１１７ｋｗの電力で操作させた。この場合、ガラスの移動速度は約３００インチ／分とした。得られた二酸化珪素コーティングの厚さは約６０オングストロームであった。
サンプルＤのガラスシートは以下の様にして調製した。ソーダ石灰ガラスの平面シート上に、サンプルＣの場合と同様にして、二酸化珪素をスパッターした。次いで、本発明による酸化亜鉛含有仮保護カバー９０を該二酸化珪素コーティング上にスパッターした。酸化亜鉛は酸素１００％含有酸化性雰囲気中でスパッターした。平面状亜鉛ターゲットは約１３ｋＷの電力で操作させ、ガラスの移動速度は約３００インチ／分とした。得られた酸化亜鉛カバーの厚さは約２０オングストロームであった。
【０１６８】
いずれかの環境にさらす前に、サンプルＣおよびサンプルＤのガラスシートを、実施例１〜３の場合と同様にして、払拭性と接触角の試験に供した。得られた結果を表４Ａに示す。
【表４】
2004509047.tif 000006
複数の封止された絶縁性ガラスユニットをサンプルＣのガラスシートを用いて組立てた。同様に、サンプルＤのガラスシートを用いて絶縁性ガラスユニツトを組立てた。親水性コーティングを保持するペインに対置する各ユニットのペイン上に未硬化シリコーンシーラントを付着させた。これらのユニットは研究実験室内の常套のガラスラック上に複数日間垂直に積重ねた。
【０１６９】
サンプルＣユニットとサンプルＤユニットを含む第１ユニット群についての接触角と払拭性に関する試験は３日後におこなった。これらの試験結果を以下の表４Ｂに示す。
【表５】
2004509047.tif 000007
【０１７０】
汚染に３日間さらした後、両方のサンプルの表面特性は、汚染にさらす前の表面特性に比べて実質上望ましくないものであった。両方のサンプルの接触角は、汚染にさらす前のガラスの接触角の３倍以上であった。さらに、サンプルＣおよびサンプルＤの払拭性はそれぞれ１〜２および１からいずれも望ましくない値（４）に変化した。
しかしながら、ビネガーで洗浄した後は、カバー９０を保持するガラスの表面特性は著しく改善された。このサンプル（サンプルＤ）の接触角は７０°から１０°へと劇的に変化した。このサンプルの払拭性も４から１へと著しく改善され、このことは該サンプルが非常に容易に清浄化されたことを示す。
カバー９０を保有しないサンプル（サンプルＣ）の表面特性に対しては、ビネガーを用いる洗浄処理によって同様の効果はもたらされなかった。ビネガー洗浄の後では、このサンプルの接触角は幾分低下したが、その値は５２°であり、この値は、親水性コーティングに対して好ましいとされている値に比べて依然として高い値である。さらに、ビネガー洗浄によって、該サンプルの払拭性に明白な効果はもたらされず、該払拭性は、洗浄後においても望ましくない値（４）であった。
【０１７１】
サンプルＣユニットとサンプルＤユニットを含む第２ユニット群についての払拭性に関する試験は５日後におこない、また、第３ユニット群についての払拭性に関する試験は１９日後におこなった。これらの試験結果を以下の表４Ｃに示す。
【表６】
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【０１７２】
汚染に５日間または１９日間さらした後、全てのサンプルの払拭性は、汚染にさらす前の払拭性よりも望ましくないものであった。このことは、これらのサンプルが汚染されたことを示す。ビネガーを用いる洗浄後、カバー９０を保持するサンプルの払拭性は実質上改善された。例えば、第３群のサンプルＤの払拭性は、４から非常に望ましい値（１）へ劇的に改善された。逆に、カバー９０を保有しないサンプルの払拭性に対しては、ビネガー洗浄によって明白な効果はもたらされなかった。
これらの結果は、本発明によるカバー９０は、汚染に長期間さらしたときであっても、ガラス表面を汚染から保護するのに有効であることを示す。さらに、実施例１〜４の総合的な結果は、本発明による保護カバー９０は、厚みが１６〜２０オングストロームのオーダーであっても、ガラスを汚染から有効に保護することを示す。しかしながら、以下に議論するように、本発明によるカバー９０の厚さは、該カバーをガラスの焼入れ処理に付す場合には、少なくとも約２５オングストロームにするのが望ましいことが判明した。
【０１７３】
実施例５
焼入れガラスを汚染から保護する場合、本発明によるカバー９０の有効性を厚さの異なる該カバーを用いて評価するために、以下の表５Ａに示す比較サンプルを調製した。
【表７】
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【０１７４】
サンプルＥは次の様にして調製した。ソーダ石灰ガラスの清浄表面上に二酸化珪素をスパッターした。二酸化珪素は酸素８０％とアルゴン２０％を含有する酸化性雰囲気中でスパッターした。珪素約９５％とアルミニウム約５％含有する２つの回転ターゲットを約２７ｋＷの電力で操作し、ガラスの移動速度は約２６０インチ／分とした。得られた二酸化珪素コーティングの厚さは約５０オングストロームであった。
サンプルＦ〜Ｉは次の様にして調製した。ソーダ石灰ガラスの清浄表面を、サンプルＥの場合のようにして、二酸化珪素を用いてスパッター被覆した。次いで、亜鉛−スズ酸化物を含有する本発明による仮保護カバー９０を二酸化珪素コーティング上にスパッターした。亜鉛−スズ酸化物のスパッタリングは、酸素８０％とアルゴン２０％含有する酸化性雰囲気中でおこなった。サンプルＦ〜Ｉの亜鉛−スズ酸化物カバーは平面状亜鉛−スズターゲット（例えば、亜鉛および１５％よりも少量のスズ）をそれぞれ約６．８ｋＷ、１３．７ｋＷ、２０．５ｋＷおよび２７．３ｋＷの電力で操作することによって沈着させた。得られたサンプルＦ〜Ｉの亜鉛−スズ酸化物の厚さはそれぞれ約１０オングストローム、２０オングストローム、３０オングストロームおよび４０オングストロームであった。
【０１７５】
サンプルＪはサンプルＥの場合と同様にして調製した。ソーダ石灰ガラスシートの清浄表面上に二酸化珪素をスパッターした。二酸化珪素は酸素８０％とアルゴン２０％含有する酸化性雰囲気中でスパッターした。珪素約９５％とアルミニウム約５％含有する２つの回転ターゲットを約２７ｋＷの電力で操作し、ガラスの移動速度は約３７０インチ／分とした。得られた二酸化珪素コーティングの厚さは約３５オングストロームであった。
サンプルＫ〜Ｎは次の様にして調製した。ソーダ石灰ガラスシートの清浄表面上にサンプルＪの二酸化珪素コーティングをスパッターした。亜鉛−スズ酸化物を含有する本発明による仮保護カバー９０を二酸化珪素コーティング上にスパッターした。亜鉛−スズ酸化物は、酸素８０％とアルゴン２０％含有する酸化性雰囲気中において、平面状亜鉛−スズターゲット（例えば、亜鉛および１５％よりも少量のスズ）からスパッターした。サンプルＫ〜Ｎの亜鉛−スズ酸化物カバーは該ターゲットをそれぞれ約９．７ｋＷ、２０ｋＷ、３０ｋＷおよび４０ｋＷの電力で操作することによって沈着させた。得られたサンプルＫ〜Ｎの亜鉛−スズ酸化物カバーの厚さはそれぞれ約１０オングストローム、２０オングストローム、３０オングストロームおよび４０オングストロームであった。
【０１７６】
１０個のサンプルのガラスシートを常套のガラス焼入れ温度（例えば、約６００℃のオーダーの温度）で処理した。焼入れ後、各々のサンプルの払拭性を測定した。未硬化シリコーンシーラントを各々のガラスシートの中央部領域に直接付着させた。シリコーン付着物をサンプル上に３日間存在させた後、ガラスをタオルで払くことによって該付着物を実質上除去した。次いで、各々のサンプルの払拭性をもう一度測定した。最後に、各々のサンプルについてビネガー洗浄をおこなった後、払拭性を再度測定した。これらの測定結果を次の表５Ｂに示す。
【表８】
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【０１７７】
汚染にさらした後、１０個のサンプルの払拭性は１から望ましくない値（４）まで悪化した。予想されたように、カバー９０を保有しないサンプル（サンプルＥおよびＪ）の払拭性に対してはビネガーの洗浄効果はほとんどみられなかった。さらに、サンプルＦ、Ｇ、ＫおよびＬに対するビネガーの洗浄効果は劣るものであった。これらのサンプルは、厚さが１０オングストロームまたは２０オングストロームのカバー９０を保有するものである。例えば、ビネガーで洗浄した後、サンプルＦおよびＧには、中程度の払拭性（３）を示す局部的表面領域が残存した。同様に、１０オングストロームのカバーを有するサンプルＫは、ビネガーで洗浄した後において望ましくない払拭性（３〜４）を示したが、２０オングストロームのカバーを有するサンプルＬの払拭性は２であった。これに対して、３０オングストロームまたは４０オングストロームのカバーを有するサンプルは、ビネガー洗浄後は一定の払拭性（１）を示した。
これらの結果は、１０オングストロームおよび２０オングストロームのカバー９０が焼入れによって望ましくない影響を受けるということを示す。この影響は、酸化物カバーの再結晶に起因して密度が変化して該カバーが著しく多孔質になるためにもたらされた可能性がある。従って、カバー９０をガラス焼入れ処理に耐えるようにするためには、少なくとも約２５オングストロームの厚さを有する保護カバーを用いるのが望ましいと考えられる。
【０１７８】
以上、本発明の好ましい態様について説明したが、これらの態様に対しては、本発明の技術的思想および特許請求の範囲を逸脱することなく、多種多様な変形、改変および修正を加えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一態様による仮カバーを保有する表面を有する基体の模式的断面図である。
【図２】本発明の別の態様による仮カバーを保有する被覆表面を有する基体の模式的断面図である。
【図３】２つの被覆表面を有する基体であって、該被覆表面の一方が、本発明のさらに別の態様による仮カバーを保有する該基体の模式的断面図である。
【図４】多重ペインで絶縁分離されたガラスユニットであって、該ペインの一枚の被覆表面が本発明によるさらに別の態様による仮カバーを保有する該ガラスユニットの模式的断面斜視図である。
【図５】２つの被覆表面を有する基体であって、各々の被覆表面が本発明による他の態様による仮カバーを保有する該基体の模式的断面図である。
【図６】被覆表面を有する基体であって、該被覆表面が本発明のさらにまた別の態様による仮カバーを保有する該基体の模式的断面図である。
【図７】本発明の一つの方法に使用するための二方向スパッタリング室の模式的構成図である。
【図８】本発明の別の方法に使用するための多領域／二方向スパッタリング室の模式的模式図である。
【図９】本発明の他の態様によるウインドーアセンブリーの部分的な模式的断面図である。
【図１０】本発明のさらに別の態様によるウインドーアセンブリーの部分的な模式的断面図である。
【符号の説明】
１０…基体
２０…親水性コーティング
３０…反射性コーティング
３２…ベースコート
３４…第１金属層
３８…第２誘電性層
４０…第２金属層
４４…第３金属層
８０…低放射率層
９０…仮保護カバー
２００…スパッタリング室
２１０…支持ローラー
２２０ａ、２２０ｂ…上方ターゲット
２６０…下方ターゲット
２３５、２７５…ガス分配パイプ
３００…スパッタリング室
３２１〜３２６…上方ターゲット取付台
３４０…バリヤー
３６１〜３６６…下方ターゲット取付台
【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【国際調査報告】
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