(57)【要約】部分的にフッ素化されたポリマーおよび完全にフッ素化されたポリマーと、部分的にフッ素化された液体および完全にフッ素化された液体とを含む組成物が開示されており、前記組成物は、約１５０ナノメートルから２００ナノメートルまでの波長におる紫外線放射に対して実質的に透明である物品の製造に有用である。
2004535486.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビニルフルオロポリマーと、
ｉ）炭素原子を２個から１０個有する環式、直鎖または分枝鎖フッ化炭化水素であって、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、−ＣＨ２ＣＨ３基が存在せず、かついずれの環も５員以上であるフッ化炭化水素、
ｉｉ）Ｘ−Ｒｆａ［ＯＲｆｂ］ｎＯＲｆｃＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、水素またはフッ素であり、かつＲｆａ、ＲｆｂおよびＲｆｃは独立して、炭素数１個から３個のフッ化炭素またはフッ化炭化水素基であり、直鎖または分枝鎖であり、ここでは水素より多いフッ素が存在し、かつ２個以下の隣接炭素原子が水素に結合している）、
ｉｉｉ）ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙ（式中、ｎ＝２から１０であり、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、かつ−ＣＨ２ＣＨ３基が存在しない）、
ｉｖ）ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＦＨＣＦＨＣｍＦ２ｍ＋１（式中、ｎおよびｍは１から４である）、
ｖ）Ｘ（ＣＦ２ＣＨ２）ｎＹ（式中、ｎ＝１から５であり、ＸおよびＹは独立して、Ｈ、ＣｌまたはＦである）、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦ２ＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ２（ＯＣＦ２）ｎ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２Ｈ（式中、ｎ＋ｍ＝１から８である）、および
ｉｘ）ＸＲｆＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲｆＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、ＨまたはＦであり、ＲｆはＣｎＦ２ｎフッ化炭素基であり、ここではｎ＝１から６である）
からなる群より選択される液体と、を含むフルオロポリマー組成物。
【請求項２】
前記液体の濃度が１０重量％以下である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記フルオロポリマーが非晶質である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記フルオロポリマーが、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールもしくはＣＸ２＝ＣＹ２（式中、Ｘは−Ｆまたは−ＣＦ３であり、かつＹはＨである）から誘導されたモノマー単位またはそれらのコポリマーを含む、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記コポリマーが、コポリマー中にランダムに組み入れられた、２５モル％までの１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
前記コポリマーが、コポリマー中に非ランダムに、ほぼ交互の形態で組み入れられた、４０モル％から６０モル％の１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項４に記載の組成物。
【請求項７】
前記非晶質フルオロポリマーが、Ａ群から選択されるホモポリマー、またはＢ、ＣおよびＤ群からのコポリマーをさらに含み、
Ａ群は、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３のホモポリマーからなり、
Ｂ群は、フッ化ビニリデンから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）から誘導されたモノマー単位を２５モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｃ群は、次の構造
【化１】
2004535486.tif 000009
（式中、ＲａおよびＲｂは独立して、Ｆ、または任意にエーテル酸素により置換された直鎖−ＣｎＦ２ｎ＋１であり、ここではｎ＝１から５である）を有する１，３−ペルフルオロジオキソールから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかの酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）またはそれらの混合物から誘導されたモノマー単位を１０モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｄ群は、フッ化ビニリデンおよび／またはフッ化ビニルから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、次式
【化２】
2004535486.tif 000010
（式中、ｇおよびＱは独立して、Ｆ（しかしながら、両方がＦではない）、Ｈ、Ｒｆまたは−ＯＲｆであり、ここではＲｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ５のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）で表されるモノマーから誘導されたモノマー単位を４０モル％から６０モル％まで含むコポリマーからなる、請求項３に記載の組成物。
【請求項８】
前記非晶質フルオロポリマーが、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が７５％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ヘキサフルオロプロピレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が５０％から７０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が６０％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロメチルビニルエーテル）、トリフルオロエチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（トリフルオロエチレン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／フッ化ビニル）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／トリフルオロエチレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＨ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ］、ＰＤＤモノマー単位のモル濃度が５０％から８０％の範囲であるポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）、ポリ（ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２）、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３モノマー単位のモル濃度が５０％より多いポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３）からなる群より選択される、請求項３に記載の組成物。
【請求項９】
前記液体が、Ｆ（ＣＦ２）ｎＣＦＨＣＦＨ（ＣＦ２）ｍＦ（式中、ｎおよびｍは独立して、１から４である）、ＣＦ３（ＣＨ２ＣＦ２）ｎＣＨ３（式中、ｎ＝１から４である）、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が６０℃から１６０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＯＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝０から３である）、Ｆ（ＣＦ２）ｎＦ（式中、ｎ＝６から８である）、およびＸ（ＣＦ２）ｍＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＦ２）ｎＹ（式中、ｎおよびｍは独立して、１から４であり、かつＸおよびＹは独立して、ＨおよびＦである）からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。最も好ましいのは。
【請求項１０】
前記液体が、ＣＦ３ＣＦＨＣＦＨＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が８０℃から１４０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、Ｆ（ＣＦ２）６Ｆ、およびＦ（ＣＦ２）８Ｆからなる群より選択される、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
１５０ナノメートルから２６０ナノメートルの波長範囲における電磁放射線を供給源から放射させる工程と、
それによって標的表面の少なくとも一部が照射されるように、前記電磁放射線の少なくとも一部の経路に標的表面を配置する工程と、
前記標的表面と前記供給源との間の前記電磁放射線の少なくとも一部の経路に、ビニルフルオロポリマーならびに
ｉ）炭素原子を２個から１０個有する環式、直鎖または分枝鎖フッ化炭化水素であって、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、−ＣＨ２ＣＨ３基が存在せず、かついずれの環も５員以上であるフッ化炭化水素、
ｉｉ）Ｘ−Ｒｆａ［ＯＲｆｂ］ｎＯＲｆｃＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、水素またはフッ素であり、かつＲｆａ、ＲｆｂおよびＲｆｃは独立して、炭素数１個から３個のフッ化炭素またはフッ化炭化水素基であり、直鎖または分枝鎖であり、ここでは水素より多いフッ素が存在し、かつ２個以下の隣接炭素原子が水素に結合している）、
ｉｉｉ）ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙ（式中、ｎ＝２から１０であり、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、かつ−ＣＨ２ＣＨ３基が存在しない）、
ｉｖ）ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＦＨＣＦＨＣｍＦ２ｍ＋１（式中、ｎおよびｍは１から４である）、
ｖ）Ｘ（ＣＦ２ＣＨ２）ｎＹ（式中、ｎ＝１から５であり、ＸおよびＹは独立して、Ｈ、ＣｌまたはＦである）、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦ２ＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ２（ＯＣＦ２）ｎ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２Ｈ（式中、ｎ＋ｍ＝１から８である）、および
ｉｘ）ＸＲｆＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲｆＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、ＨまたはＦであり、ＲｆはＣｎＦ２ｎフッ化炭素基であり、ここではｎ＝１から６である）
からなる群より選択される液体を含むフルオロポリマー組成物を含む成形物品を挿入する工程と、を含む方法がさらに提供される。
【請求項１２】
前記フルオロポリマー組成物中の前記液体の濃度が１０重量％以下である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記フルオロポリマーが非晶質である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記フルオロポリマーが、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールもしくはＣＸ２＝ＣＹ２（式中、Ｘは−Ｆまたは−ＣＦ３であり、かつＹはＨである）から誘導されたモノマー単位またはそれらのコポリマーを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記コポリマーが、コポリマー中にランダムに組み入れられた、２５モル％までの１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記コポリマーが、コポリマー中に非ランダムに、ほぼ交互の形態で組み入れられた、４０モル％から６０モル％の１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記非晶質フルオロポリマーが、Ａ群から選択されるホモポリマー、またはＢ、ＣおよびＤ群からのコポリマーをさらに含み、
Ａ群は、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３のホモポリマーからなり、
Ｂ群は、フッ化ビニリデンから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）から誘導されたモノマー単位を２５モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｃ群は、次の構造
【化３】
2004535486.tif 000011
（式中、ＲａおよびＲｂは独立して、Ｆ、または任意にエーテル酸素により置換された直鎖−ＣｎＦ２ｎ＋１であり、ここではｎ＝１から５である）を有する１，３−ペルフルオロジオキソールから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかの酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）またはそれらの混合物から誘導されたモノマー単位を１０モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｄ群は、フッ化ビニリデンおよび／またはフッ化ビニルから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、次式
【化４】
2004535486.tif 000012
（式中、ｇおよびＱは独立して、Ｆ（しかしながら、両方がＦではない）、Ｈ、Ｒｆまたは−ＯＲｆであり、ここではＲｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ５のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）で表されるモノマーから誘導されたモノマー単位を４０モル％から６０モル％まで含むコポリマーからなる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
前記非晶質フルオロポリマーが、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が７５％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ヘキサフルオロプロピレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が５０％から７０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が６０％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロメチルビニルエーテル）、トリフルオロエチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（トリフルオロエチレン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／フッ化ビニル）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／トリフルオロエチレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＨ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ］、ＰＤＤモノマー単位のモル濃度が５０％から８０％の範囲であるポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）、ポリ（ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２）、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３モノマー単位のモル濃度が５０％より多いポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３）からなる群より選択される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
前記液体が、Ｆ（ＣＦ２）ｎＣＦＨＣＦＨ（ＣＦ２）ｍＦ（式中、ｎおよびｍは独立して、１から４である）、ＣＦ３（ＣＨ２ＣＦ２）ｎＣＨ３（式中、ｎ＝１から４である）、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が６０℃から１６０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＯＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝０から３である）、Ｆ（ＣＦ２）ｎＦ（式中、ｎ＝６から８である）、およびＸ（ＣＦ２）ｍＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＦ２）ｎＹ（式中、ｍおよびｎは独立して、１から４であり、かつＸおよびＹは独立して、ＨおよびＦである）からなる群より選択される、請求項１１に記載の方法。最も好ましいのは。
【請求項２０】
前記液体が、ＣＦ３ＣＦＨＣＦＨＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が８０℃から１４０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、Ｆ（ＣＦ２）６Ｆ、およびＦ（ＣＦ２）８Ｆからなる群より選択される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記成形物品が、写真平版で使用するためのペリクルフィルムである、請求項１１に記載の方法。
【請求項２２】
前記供給源が、１５７ｎｍの電磁放射線を放射するレーザーである、請求項１１に記載の方法。
【請求項２３】
前記標的表面が感光性ポリマーを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項２４】
前記成形物品がレンズであり、かつ前記フルオロポリマー組成物がその表面上に配置されたコーティングである、請求項１１に記載の方法。
【請求項２５】
前記フルオロポリマー組成物が、接着剤組成物の成分である、請求項１１に記載の方法。
【請求項２６】
前記成形物品が、前記フルオロポリマー組成物から形成されたレンズである、請求項１１に記載の方法。
【請求項２７】
１５０ナノメートルから２６０ナノメートルの波長範囲における電磁放射線の活性化可能な供給源と；ビニルフルオロポリマー、ならびに
ｉ）炭素原子を２個から１０個有する環式、直鎖または分枝鎖フッ化炭化水素であって、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、−ＣＨ２ＣＨ３基が存在せず、かついずれの環も５員以上であるフッ化炭化水素、
ｉｉ）Ｘ−Ｒｆａ［ＯＲｆｂ］ｎＯＲｆｃＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、水素またはフッ素であり、かつＲｆａ、ＲｆｂおよびＲｆｃは独立して、炭素数１個から３個のフッ化炭素またはフッ化炭化水素基であり、直鎖または分枝鎖であり、ここでは水素より多いフッ素が存在し、かつ２個以下の隣接炭素原子が水素に結合している）、
ｉｉｉ）ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙ（式中、ｎ＝２から１０であり、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、かつ−ＣＨ２ＣＨ３基が存在しない）、
ｉｖ）ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＦＨＣＦＨＣｍＦ２ｍ＋１（式中、ｎおよびｍは１から４である）、
ｖ）Ｘ（ＣＦ２ＣＨ２）ｎＹ（式中、ｎ＝１から５であり、ＸおよびＹは独立して、Ｈ、ＣｌまたはＦである）、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦ２ＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ２（ＯＣＦ２）ｎ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２Ｈ（式中、ｎ＋ｍ＝１から８である）、および
ｉｘ）ＸＲｆＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲｆＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、ＨまたはＦであり、ＲｆはＣｎＦ２ｎフッ化炭素基であり、ここではｎ＝１から６である）
からなる群より選択される液体を含むフルオロポリマー組成物を含む成形物品と、を含む装置が本発明においてさらに提供される。
【請求項２８】
前記フルオロポリマー組成物中の前記液体の濃度が１０重量％以下である、請求項２７に記載の装置。
【請求項２９】
前記フルオロポリマーが非晶質である、請求項２７に記載の装置。
【請求項３０】
前記フルオロポリマーが、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールもしくはＣＸ２＝ＣＹ２（式中、Ｘは−Ｆまたは−ＣＦ３であり、かつＹはＨである）から誘導されたモノマー単位またはそれらのコポリマーを含む、請求項２９に記載の装置。
【請求項３１】
前記コポリマーが、コポリマー中にランダムに組み入れられた、２５モル％までの１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項３０に記載の装置。
【請求項３２】
前記コポリマーが、コポリマー中に非ランダムに、ほぼ交互の形態で組み入れられた、４０モル％から６０モル％の１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項３０に記載の装置。
【請求項３３】
前記非晶質フルオロポリマーが、Ａ群から選択されるホモポリマー、またはＢ、ＣおよびＤ群からのコポリマーをさらに含み、
Ａ群は、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３のホモポリマーからなり、
Ｂ群は、フッ化ビニリデンから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）から誘導されたモノマー単位を２５モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｃ群は、次の構造
【化５】
2004535486.tif 000013
（式中、ＲａおよびＲｂは独立して、Ｆ、または任意にエーテル酸素により置換された直鎖−ＣｎＦ２ｎ＋１であり、ここではｎ＝１から５である）を有する１，３−ペルフルオロジオキソールから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかの酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）またはそれらの混合物から誘導されたモノマー単位を１０モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｄ群は、フッ化ビニリデンおよび／またはフッ化ビニルから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、次式
【化６】
2004535486.tif 000014
（式中、ｇおよびＱは独立して、Ｆ（しかしながら、両方がＦではない）、Ｈ、Ｒｆまたは−ＯＲｆであり、ここではＲｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ５のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）で表されるモノマーから誘導されたモノマー単位を４０モル％から６０モル％まで含むコポリマーからなる、請求項２９に記載の装置。
【請求項３４】
前記非晶質フルオロポリマーが、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が７５％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ヘキサフルオロプロピレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が５０％から７０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が６０％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロメチルビニルエーテル）、トリフルオロエチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（トリフルオロエチレン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／フッ化ビニル）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／トリフルオロエチレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＨ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ］、ＰＤＤモノマー単位のモル濃度が５０％から８０％の範囲であるポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）、ポリ（ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２）、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３モノマー単位のモル濃度が５０％より多いポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３）からなる群より選択される、請求項２９に記載の装置。
【請求項３５】
前記液体が、Ｆ（ＣＦ２）ｎＣＦＨＣＦＨ（ＣＦ２）ｍＦ（式中、ｎおよびｍは独立して、１から４である）、ＣＦ３（ＣＨ２ＣＦ２）ｎＣＨ３（式中、ｎ＝１から４である）、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が６０℃から１６０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＯＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝０から３である）、Ｆ（ＣＦ２）ｎＦ（式中、ｎ＝６から８である）、およびＸ（ＣＦ２）ｍＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＦ２）ｎＹ（式中、ｍおよびｎは独立して、１から４であり、かつＸおよびＹは独立して、ＨおよびＦである）からなる群より選択される、請求項２７に記載の装置。最も好ましいのは。
【請求項３６】
前記液体が、ＣＦ３ＣＦＨＣＦＨＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が８０℃から１４０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、Ｆ（ＣＦ２）６Ｆ、およびＦ（ＣＦ２）８Ｆからなる群より選択される、請求項３５に記載の装置。
【請求項３７】
前記活性化可能な光源が、１５７ｎｍの電磁放射線を放射するレーザーである、請求項２７に記載の装置。
【請求項３８】
標的表面をさらに含む、請求項２７に記載の装置。
【請求項３９】
前記標的表面が感光性ポリマーを含む、請求項３７に記載の装置。
【請求項４０】
前記成形物品がレンズであり、かつ前記フルオロポリマー組成物がその表面上に配置されたコーティングである、請求項２７に記載の装置。
【請求項４１】
前記フルオロポリマー組成物が、接着剤組成物の成分である、請求項２７に記載の装置。
【請求項４２】
前記成形物品が、前記フルオロポリマー組成物から形成されたレンズである、請求項２７に記載の装置。
【請求項４３】
前記成形物品が、写真平版で使用するためのペリクルフィルムである、請求項２７に記載の装置。
【請求項４４】
請求項１に記載の組成物を含む成形物品。
【請求項４５】
写真平版法で使用するためのペリクルフィルムの形状である、請求項４４に記載の成形物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フッ素化されたポリマーと、フッ素化された液体とを含む組成物に関し、前記組成物は、約１５０ナノメートルから２００ナノメートルまでの波長における紫外放射線に対して実質的に透明である物品の製造に有用である。
【背景技術】
【０００２】
半導体産業は、１兆ドル電子産業の基盤である。主に、より微小な特徴をシリコンに印刷する光学的リソグラフィーの能力の絶え間ない改良のため、半導体産業はムーアの法則の要求に応じ続け、それに従って集積回路密度は１８ヶ月毎に増倍する。回路パターンはフォトマスクに含まれ、このマスクパターンをシリコンウエハ上のフォトレジスト層中へと投影するために、光学的ステッパーを使用する。１５７ｎｍは、その範囲が１８６ｎｍから５０ｎｍ未満までに及ぶ真空ｕｖ（ＶＵＶ）と称されるスペクトル領域に位置する。このＶＵＶリソグラフィーの使用は、この範囲において透明である材料を必要とする。
【０００３】
（特許文献１）は、任意にシロキサン骨格を有するシリコーンポリマーとの組み合わせで、単独でＣおよびＦからなる樹脂を、１４０ｎｍから２００ｎｍのＵＶ波長において０．１から１．０の吸光度／マイクロメートルを有するペリクル膜として使用することを開示する。
【０００４】
フレンチ（Ｆｒｅｎｃｈ）ら、（特許文献２）および（特許文献３）は、１４０ｎｍから１８６ｎｍの波長において１以下の吸光度／ミクロン（Ａ／マイクロメートル）を示す真空紫外線（ＶＵＶ）透明材料を開示する。
【０００５】
【特許文献１】
ＷＯ９８３６３２４号明細書
【特許文献２】
ＷＯ０１３７０４４号明細書
【特許文献３】
ＷＯ０１３７０４３号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、ビニルフルオロポリマーと、
ｉ）炭素原子を２個から１０個有する環式、直鎖または分枝鎖フッ化炭化水素であって、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、−ＣＨ２ＣＨ３基が存在せず、かついずれの環も５員以上であるフッ化炭化水素、
ｉｉ）Ｘ−Ｒｆａ［ＯＲｆｂ］ｎＯＲｆｃＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、水素またはフッ素であり、かつＲｆａ、ＲｆｂおよびＲｆｃは独立して、炭素数１個から３個のフッ化炭素またはフッ化炭化水素基であり、直鎖または分枝鎖であり、ここでは水素より多いフッ素が存在し、かつ２個以下の隣接炭素原子が水素に結合している）、
ｉｉｉ）ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙ（式中、ｎ＝２から１０であり、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、かつ−ＣＨ２ＣＨ３基が存在しない）、
ｉｖ）ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＦＨＣＦＨＣｍＦ２ｍ＋１（式中、ｎおよびｍは１から４である）、
ｖ）Ｘ（ＣＦ２ＣＨ２）ｎＹ（式中、ｎ＝１から５であり、ＸおよびＹは独立して、Ｈ、ＣｌまたはＦである）、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦ２ＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ２（ＯＣＦ２）ｎ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２Ｈ（式中、ｎ＋ｍ＝１から８である）、および
ｉｘ）ＸＲｆＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲｆＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、ＨまたはＦであり、ＲｆはＣｎＦ２ｎフッ化炭素基であり、ここではｎ＝１から６である）
からなる群より選択される液体と、を含むフルオロポリマー組成物を提供する。
【０００７】
さらに、
１５０ナノメートルから２６０ナノメートルの波長範囲における電磁放射線を供給源から放射させる工程と、
それによって標的表面の少なくとも一部が照射されるように、前記電磁放射線の少なくとも一部の経路に標的表面を配置する工程と、
前記標的表面と前記供給源との間の前記電磁放射線の少なくとも一部の経路に、ビニルフルオロポリマーと、
ｉ）炭素原子を２個から１０個有する環式、直鎖または分枝鎖フッ化炭化水素であって、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、−ＣＨ２ＣＨ３基が存在せず、かついずれの環も５員以上であるフッ化炭化水素、
ｉｉ）Ｘ−Ｒｆａ［ＯＲｆｂ］ｎＯＲｆｃＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、水素またはフッ素であり、かつＲｆａ、ＲｆｂおよびＲｆｃは独立して、炭素数１個から３個のフッ化炭素またはフッ化炭化水素基であり、直鎖または分枝鎖であり、ここでは水素より多いフッ素が存在し、かつ２個以下の隣接炭素原子が水素に結合している）、
ｉｉｉ）ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙ（式中、ｎ＝２から１０であり、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、かつ−ＣＨ２ＣＨ３基が存在しない）、
ｉｖ）ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＦＨＣＦＨＣｍＦ２ｍ＋１（式中、ｎおよびｍは１から４である）、
ｖ）Ｘ（ＣＦ２ＣＨ２）ｎＹ（式中、ｎ＝１から５であり、ＸおよびＹは独立して、Ｈ、ＣｌまたはＦである）、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦ２ＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ２（ＯＣＦ２）ｎ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２Ｈ（式中、ｎ＋ｍ＝１から８である）、および
ｉｘ）ＸＲｆＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲｆＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、ＨまたはＦであり、ＲｆはＣｎＦ２ｎフッ化炭素基であり、ここではｎ＝１から６である）
からなる群より選択される液体とを含む成形物品を挿入する工程と、を含む方法が提供される。
【０００８】
本発明においては、さらに、１５０ナノメートルから２６０ナノメートルの波長範囲における電磁放射線の活性化可能な供給源と；ビニルフルオロポリマー、ならびに
ｉ）炭素原子を２個から１０個有する環式、直鎖または分枝鎖フッ化炭化水素であって、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、−ＣＨ２ＣＨ３基が存在せず、かついずれの環も５員以上であるフッ化炭化水素、
ｉｉ）Ｘ−Ｒｆａ［ＯＲｆｂ］ｎＯＲｆｃＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、水素またはフッ素であり、かつＲｆａ、ＲｆｂおよびＲｆｃは独立して、炭素数１個から３個のフッ化炭素またはフッ化炭化水素基であり、直鎖または分枝鎖であり、ここでは水素より多いフッ素が存在し、かつ２個以下の隣接炭素原子が水素に結合している）、
ｉｉｉ）ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙ（式中、ｎ＝２から１０であり、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、かつ−ＣＨ２ＣＨ３基が存在しない）、
ｉｖ）ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＦＨＣＦＨＣｍＦ２ｍ＋１（式中、ｎおよびｍは１から４である）、
ｖ）Ｘ（ＣＦ２ＣＨ２）ｎＹ（式中、ｎ＝１から５であり、ＸおよびＹは独立して、Ｈ、ＣｌまたはＦである）、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦ２ＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ２（ＯＣＦ２）ｎ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２Ｈ（式中、ｎ＋ｍ＝１から８である）、および
ｉｘ）ＸＲｆＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲｆＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、ＨまたはＦであり、ＲｆはＣｎＦ２ｎフッ化炭素基であり、ここではｎ＝１から６である）
からなる群より選択される液体を含む成形物品と、を含む装置が提供される。
【０００９】
本発明の目的に対して、フッ素化ポリマーが溶解または分散される液体媒体を意味するために、用語「溶媒」を利用する。用語「溶媒」は、ポリマー中に組み入れることができ、かつポリマーを可塑化する効果を有する液体を意味するものとしても解釈される。
【００１０】
部分的または完全にフッ素化された場合の両方を意味するために、用語「フッ素化」を利用し、すなわち用語「フッ素化」は、フッ化炭化水素およびペルフッ化炭素の両方を包括する。
【００１１】
用語「非晶質」を利用することにより、ＡＳＴＭ  Ｄ−４５９１−０１による示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で１ジュール／グラムより大きい吸熱を示さないことを意味する。対照的に「結晶性」ポリマーは、同一試験において５ジュール／グラムより大きい融解吸熱を示す。
【００１２】
光源が紫外線領域内である分光法、顕微鏡法および写真平版のような高い透明性を必要とする様々な用途で利用される成形物品の形成においてフッ素化ポリマーを利用することは、当該分野において周知である。例えば、フッ素化ポリマーは、ポリマーの溶液または分散系から沈着されたフィルムまたはコーティングの形状であってよい。ある場合では、得られるポリマーフィルムまたはコーティングから溶媒の全痕跡を除去することは非常に困難となる可能性がある。使用間、ポリマーフィルムまたはコーティング中には１０重量％程度の溶媒が残存し得る。１５７ｎｍ写真平版におけるような、いわゆる真空紫外線（ＶＵＶ）に位置する、より短波長の使用に商業的感心を移すと、十分な透明性を有するポリマーおよび溶媒を識別することが大きく問題となる。特に、より長波長での写真平版用途において有用な様々な溶媒は、ここで感心が持たれている１４０ｎｍから２８６ｎｍの、より短波長において、高く吸収することが見出されている。１４０ｎｍから２８６ｎｍの波長範囲において非常に透明である溶媒を見出す必要がある。
【００１３】
１つの実施形態において、本発明は、ビニルフルオロポリマーと、
ｉ）炭素原子を２個から１０個有する環式、直鎖または分枝鎖フッ化炭化水素であって、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、−ＣＨ２ＣＨ３基が存在せず、かついずれの環も５員以上であるフッ化炭化水素、
ｉｉ）Ｘ−Ｒｆａ［ＯＲｆｂ］ｎＯＲｆｃＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、水素またはフッ素であり、かつＲｆａ、ＲｆｂおよびＲｆｃは独立して、炭素数１個から３個のフッ化炭素またはフッ化炭化水素基であり、直鎖または分枝鎖であり、ここでは水素より多いフッ素が存在し、かつ２個以下の隣接炭素原子が水素に結合している）、
ｉｉｉ）ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙ（式中、ｎ＝２から１０であり、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、かつ−ＣＨ２ＣＨ３基が存在しない）、
ｉｖ）ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＦＨＣＦＨＣｍＦ２ｍ＋１（式中、ｎおよびｍは１から４である）、
ｖ）Ｘ（ＣＦ２ＣＨ２）ｎＹ（式中、ｎ＝１から５であり、ＸおよびＹは独立して、Ｈ、ＣｌまたはＦである）、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦ２ＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ２（ＯＣＦ２）ｎ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２Ｈ（式中、ｎ＋ｍ＝１から８である）、および
ｉｘ）ＸＲｆＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲｆＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、ＨまたはＦであり、ＲｆはＣｎＦ２ｎフッ化炭素基であり、ここではｎ＝１から６である）
からなる群より選択される液体と、を含む組成物を提供する。
【００１４】
本発明の実施における使用に適切なビニルフルオロポリマーに関する制限はない。当業者は、ＵＶ用途、最も特に写真平版に利用される多数のかかるポリマーを知っているだろう。関心のある波長における分光学的透過率は、１つのポリマーからもう１つのポリマーへと大幅に変化するだろうこと、および両波長が１４０ｎｍから２８６ｎｍの範囲内にある場合でも、１つの波長において好ましいポリマーは、もう１つの波長ではあまり好ましくないであろうことを、当業者は認識するだろう。さらに、ポリマーの熱機械特性も重要であること、ならびにいずれかの特定のポリマーおよびポリマー／溶媒の組み合わせの選択は、おそらく適切なポリマー組成物の多くの特性に関わる交換条件を表すであろうことを、当業者は認識するであろう。
【００１５】
結晶性および非晶質ポリマーの両方が、本発明の実施に適切である。しかしながら、写真平版におけるような画像転送の観点から、光散乱が減少するため、非晶質ポリマーが好ましい。顕微鏡試験を受ける表面の照射におけるもののような、拡散透過が好ましい他の用途においては、一般的に優れた熱機械特性を示す結晶性ポリマーが好ましい。本発明における主要な焦点は１５７ｎｍにおける写真平版であるが、本発明の発明者らは、本発明により包括される組成物、方法および装置の非常に広範囲の適応性を考慮している。
【発明の効果】
【００１６】
本明細書に定義された本発明の液体と、いずれかの具体的な用途における使用に適切ないずれかのビニルフルオロポリマーとの組み合わせは、本発明の所望の利益を提供し、すなわち、ポリマー−液体混合物の液体成分からの吸収への寄与をほとんど排除する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
好ましいフルオロポリマーは、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールまたはＣＸ２＝ＣＹ２（式中、Ｘは−Ｆまたは−ＣＦ３であり、かつＹはＨである）を含む非晶質フルオロポリマーであり、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールとＣＸ２＝ＣＹ２とのコポリマーは、コポリマー中にランダムに組み入れられた、２５モル％までの１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含んでもよい。
【００１８】
前記ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールとＣＸ２＝ＣＹ２とのコポリマーは、コポリマー中に非ランダムに、ほぼ交互の形態で組み入れられた、４０モル％から６０モル％の１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは、−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含んでもよい。
【００１９】
本発明の実施に好ましい非晶質フルオロポリマーは、Ａ群から選択されるホモポリマー、またはＢ、ＣおよびＤ群からのコポリマーをさらに含み、
Ａ群は、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３のホモポリマーからなり、
Ｂ群は、フッ化ビニリデンから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）から誘導されたモノマー単位を２５モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｃ群は、次の構造
【００２０】
【化１】
2004535486.tif 000003
【００２１】
（式中、ＲａおよびＲｂは独立して、Ｆ、または任意にエーテル酸素により置換された直鎖−ＣｎＦ２ｎ＋１であり、ここではｎ＝１から５である）を有する１，３−ペルフルオロジオキソールから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかの酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）またはそれらの混合物から誘導されたモノマー単位を１０モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｄ群は、フッ化ビニリデンおよび／またはフッ化ビニルから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、次式
【００２２】
【化２】
2004535486.tif 000004
【００２３】
（式中、ｇおよびＱは独立して、Ｆ（しかしながら、両方がＦではない）、Ｈ、Ｒｆまたは−ＯＲｆであり、ここではＲｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ５のフルオロアルキル基であり、
【００２４】
ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）で表されるモノマーから誘導されたモノマー単位を４０モル％から６０モル％まで含むコポリマーからなる。
【００２５】
より好ましくは、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が７５％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ヘキサフルオロプロピレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が５０％から７０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が６０％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロメチルビニルエーテル）、トリフルオロエチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（トリフルオロエチレン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／フッ化ビニル）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／トリフルオロエチレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＨ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ］、ＰＤＤモノマー単位のモル濃度が５０％から８０％の範囲であるポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）、ポリ（ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２）、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３モノマー単位のモル濃度が５０％より多いポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３）を含む、０．０３のＡ（μｍ−１）を示す非晶質フルオロポリマーである。
【００２６】
本発明の組成物は、ペリクル、レンズ、光ガイド、反射防止コーティングおよび層、窓、保護コーティングならびに接着剤を形成するために有用である。本発明は、大部分の液体が除去された後、１０％までの加工液がポリマー中に残渣として残存し、残渣液が、１５０ｎｍから２８６ｎｍの波長の真空紫外線における吸収に対して最小限度で寄与するようなポリマーのスピンコーティング、沈殿および取扱いに有用なポリマー−液体組成物を提供する。
【００２７】
本発明の１つの実施形態において、本発明の組成物は、電子回路を作製する目的のための１５７ｎｍ写真平版で有用なペリクルフィルムに利用される。代表的な用途において、本発明を実施するために好ましいポリマーは、ガラスまたシリカ基材にスピンコーティングされる。回転時、フィルムは１０重量％までの残渣溶媒を含有し得る。電子工業での代表的な工業的プロセスにおいて、過剰量の溶媒は焼成によって除去される。しかしながら、これは全ての溶媒を除去するためには有効ではなく、代表的に厚さ０．８マイクロメートルの薄ペリクルフィルムを損傷する可能性がある。
【００２８】
１５７ｎｍ放射線に関する用途で有用性の高い成形物品を作製するための、ビニルフルオロポリマーとの組み合わせで使用するための溶媒を提供することが、本発明の目的である。かかる有用性の１つの基準として、１マイクロメートルの厚さのポリマーフィルム中に１０重量％の濃度で存在し得る溶媒を提供することが望ましく、前記溶媒は前記フィルムの、１００％透過率に対する１％点以下までの光透過の低下を引き起こす。この基準は、本発明の実施に適切な溶媒が、１５０ｎｍから２００ｎｍの波長範囲において〜０．０４４より低いＡ／μの逆マイクロメートル（μｍ−１）の単位の吸光度を示さなければならない所要量に換算される。取扱いの容易さのため、好ましい液体は−４０℃から２００℃、好ましくは５０℃から１８０℃、最も好ましくは１００℃から１５０℃の範囲における沸点を示す。
【００２９】
ＦＣ−４０、ノベック（Ｎｏｖｅｃ）（登録商標）ＨＦＥ−７５００、ヘキサフルオロプロピレン／プロピレン環式ダイマーおよびヘキサフルオロベンゼンのような、ペリクルフィルムに利用されるフルオロポリマーのスピンコーティング溶液を形成するために有用であるものとして当該分野において既知である多くの溶媒は、１５７ｎｍにおいては容認不可能な高レベルの吸収を示す。本発明の発明者らは、本明細書に記載の用途とは関連のない用途においてそれらの有用性が当該分野において既知である、ある種の溶媒が、１５０ｎｍから２００ｎｍの波長範囲において高い透明性を示し、本明細書に記載の用途において有用な成形物品の作製での使用に非常に適切となることを発見した。以下の表１に、多くのフッ化炭素液体に関して測定された透明性を示す。
【００３０】
これらの液体は、−４０℃から２００℃、好ましくは５０℃から１８０℃、最も好ましくは１００℃から１５０℃の沸点を有する。
【００３１】
本発明の実施に好ましい溶媒としては、Ｆ（ＣＦ２）ｎＣＦＨＣＦＨ（ＣＦ２）ｍＦ（式中、ｎおよびｍは独立して、１から４である）、ＣＦ３（ＣＨ２ＣＦ２）ｎＣＨ３（式中、ｎ＝１から４である）、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が６０℃から１６０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＯＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝０から３である）、Ｆ（ＣＦ２）ｎＦ（式中、ｎ＝６から８である）、およびＸ（ＣＦ２）ｍＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＦ２）ｎＹ（式中、ｍおよびｎは独立して、１から４であり、かつＸおよびＹは独立して、ＨおよびＦである）が挙げられる。最も好ましくは、ＣＦ３ＣＦＨＣＦＨＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が８０℃から１４０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、Ｆ（ＣＦ２）６Ｆ、およびＦ（ＣＦ２）８Ｆである。
【００３２】
ポリマー溶液または分散系中のポリマーの濃度および特性次第で、本発明の組成物は、ＵＶ透明材料のシート、層、コーティング、フィルムの製造において有用であり、これらはそれぞれ順に、光吸収が低くなるように要求されるペリクル、レンズ、光ガイド、反射防止コーティングおよび層、窓、保護コーティング、ならびに膠における光学的用途において使用される。
【００３３】
ポリマーを粉末へと低温粉砕して、次いで撹拌しながら、そのようにして粉砕されたポリマーを溶媒に添加して、成形物品またはコーティングを形成する目的のための約３０％固体溶液を形成することにより、本発明の組成物を都合よく調製することもできる。その形成後、そのようにして形成された物品に加熱および／または真空を受けさせ、残渣溶媒を除去することができる。本発明に従って、そのようにして形成された成形物品の透過性に及ぼす影響は無視することができるであろうことから、成形物品中に１０重量％程度の溶媒を残存させることが好都合であることが見出される。
【００３４】
さらなる実施形態において、本発明は、１５０ナノメートルから２６０ナノメートルの波長範囲における電磁放射線を供給源から放射させる工程と、それによって標的表面の少なくとも一部が照射されるように、前記電磁放射線の少なくとも一部の経路に標的表面を配置する工程と、前記標的表面と前記供給源との間の前記電磁放射線の少なくとも一部の経路に、１５０ｎｍから２６０ｎｍの波長範囲で１以下の吸光度／マイクロメートル、および１Ｊ／ｇ未満の融解熱を示すフルオロポリマー組成物を含む成形物品を挿入する工程と、を含む方法を提供する。ランプ（例えば、水銀または水銀−キセノンランプ、重水素ランプ、または密封もしくは流動ガス型のいずれかの他のガス放出ランプ）、エキシマーランプ（例えば、１７２ｎｍ放射線を生じるもの、または他のランプ）、レーザー（例えば、ＫｒＦガスからの２４８ｎｍ電磁放射線、ＡｒＦガスからの１９３ｎｍ放射線もしくはＦ２ガスからの１５７ｎｍを生じるエキシマーガス放出レーザー、または放射線が紫外線、可視線もしくは赤外線にあるレーザーの非線形光学的プロセスにより転換された振動数）、少なくとも２０００度ケルビンの温度における黒体光源（かかる黒体光源の例は、強力レーザーが金属、セラミックまたはガス標的上の微小サイズに焦点を合わせているレーザープラズマ光源であり、かつプラズマは、例えば、それによって２５０，０００度ケルビンの次数の黒体温度が達成されるサマリウムレーザープラズマ光源の形態で形成され、ＬＰＬＳ光源は、Ｒ．Ｈ．フレンチ（Ｒ．Ｈ．Ｆｒｅｎｃｈ），「レーザー−プラズマにより供給される、温度依存ＶＵＶ分光光度計を使用する分散分析（Ｌａｓｅｒ−Ｐｌａｓｍａ  Ｓｏｕｒｃｅｄ，Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  Ｄｅｐｅｎｄｅｎｔ  ＶＵＶ  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ  Ｕｓｉｎｇ  Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）」，フィジカ  スクリプタ（Ｐｈｙｓｉｃａ  Ｓｃｒｉｐｔａ），４１，４，４０４−８，（１９９０）に詳細に論じられている）のような電磁放射線供給源は、１５０ｎｍから２６０ｎｍの波長範囲における放射線を放射する。好ましい実施形態において、供給源は、１５７ｎｍ、１９３ｎｍまたは２４８ｎｍ、最も好ましくは１５７ｎｍで放射するエキシマーガス放出レーザーである。
【００３５】
供給源から放射される光の少なくとも一部は標的表面に向けられており、その少なくとも一部は入射光によって照射されている。好ましい実施形態において、標的表面は、放射線の入射に応じて光誘発化学反応を受ける感光性ポリマー表面である。クラリアント（Ｃｌａｒｉａｎｔ）は、ＡＺ  ＥＸＰ  ＦＸ  １０００Ｐの名称の下で、１５７ｎｍフルオロポリマーレジストを導入しており、これはおそらく、エッチ安定性のための環構造および水性塩基溶解性のためのフルオロアルコール基を組み入れたフッ化炭化水素ポリマーである。
【００３６】
半導体デバイスの製造プロセスにおいて、非常に微細な特徴が、基材、代表的にシリコンウエハー上にエッチングされる。シリコンウエハーに適用されたフォトレジスト組成物において衝突して像様露光される電磁放射線により、基材上で特徴が形成される。電磁放射線に露光されるフォトレジスト組成物の領域は、化学的および／または物理的に変化し、半導体デバイス製作のための像に加工することが可能な潜像を形成する。一般的に、半導体デバイス製造のために、ポジティブワーキングフォトレジスト組成物が利用される。
【００３７】
代表的に、フォトレジスト組成物は、スピンコーティングによってシリコンウエハーに適用される。シリコンウエハーは、追加的な加工工程でそれに適用される種々の他の層を有し得る。当該分野で既知のかかる追加的な層の例としては、制限されないが、代表的に二酸化ケイ素または窒化ケイ素のハードマスク層、および反射防止層が挙げられる。代表的に、レジスト層の厚さは、パターンをシリコンウエハーへ転写する時に使用される乾燥化学エッチングプロセスに抵抗するのに十分である。
【００３８】
フォトレジストは、代表的に、ポリマー、スピンコーティング溶媒および少なくとも１つの光活性成分から構成される。フォトレジストは、ポジティブワーキングまたはネガティブワーキングのいずれでもあり得る。ポジティブワーキングフォトレジストが好ましい。これらのフォトレジストは、任意に、当該分野で共通して利用されるような溶解抑制剤および／または他の追加成分を含み得る。追加成分の例としては、制限されないが、分解能向上剤、接着促進剤、残渣減少剤、コーティング助剤、可塑剤およびＴｇ（ガラス転移温度）調節剤が挙げられる。
【００３９】
フォトレジスト組成物のための種々のポリマー製品は、Ｌ．Ｆ．トンプソン（Ｌ．Ｆ．Ｔｈｏｍｐｓｏｎ）、Ｃ．Ｇ．ウィルソン（Ｃ．Ｇ．Ｗｉｌｌｓｏｎ）およびＭ．Ｊ．ボウデン（Ｍ．Ｊ．Ｂｏｗｄｅｎ）による、マイクロリソグラフィー序論、第二版（Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ｔｏ  Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ，Ｓｅｃｏｎｄ  Ｅｄｉｔｉｏｎ）（アメリカン  ケミカル  ソサエティー（Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ）、ワシントンＤＣ（Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ，ＤＣ）、１９９４年）に記載されている。
【００４０】
フォトレジスト組成物は、一般的に、１以上の光活性成分を含有する光活性および感光性組成物であり得るフィルム形成ポリマーを含む。電磁放射線（例えば、ＵＶ光）への露光時に、光活性成分は、流体力学的状態、溶解性、表面特性、屈折率、色、光学的特性またはフォトレジスト組成物の他のかかる物理的または化学的特性を変化させるように作用する。
【００４１】
波長が短いほど、より高い分解能に相当する。
【００４２】
像様露光
本発明の方法における使用に適切なフォトレジスト組成物は、電磁スペクトルの紫外線領域、特にそれらの３６５ｎｍ以下の波長において感応性である。制限されないが、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、およびより低波長を含む多くの異なるＵＶ波長において、本発明のレジスト組成物の像様露光を実行することができる。像様露光は、好ましくは２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍまたはより低波長の紫外線光により実行され、より好ましくは１９３ｎｍ、１５７ｎｍまたはより低波長の紫外線光により実行され、そして最も好ましくは１５７ｎｍまたはより低波長の紫外線光により実行される。また、レーザーまたは同等のデバイスでデジタル式に、またはフォトマスクの使用により非デジタル式に、像様露光を実行することができる。本発明の組成物の像化に適切なレーザーデバイスとしては、制限されないが、１９３ｎｍにおけるＵＶ出力によるアルゴン−フッ素エキシマーレーザー、２４８ｎｍにおけるＵＶ出力によるクリプトン−フッ素エキシマーレーザー、および１５７ｎｍにおける出力によるフッ素（Ｆ２）レーザーが挙げられる。これらのエキシマーレーザーをデジタル像化のために使用することができるが、それらはまた、光学的ステッパーにおいてフォトマスクを使用する非デジタル像化の基礎でもある。２４８ｎｍ用の光学的ステッパーは、ランプまたはＫｒＦエキシマーレーザー光源を使用することができ、１９３ｎｍおよび１５７ｎｍにおいては、光源はエキシマーレーザーであり、１９３ｎｍ＝ＡｒＦおよび１５７ｎｍ＝Ｆ２のエキシマーレーザーである。前記において論じられたように、像様露光に関して、より低い波長のＵＶ光の使用は、より高い分解能に相当するため、より低波長（例えば１９３ｎｍもしくは１５７ｎｍ、またはより低波長）の使用は一般的に、より高波長（例えば２４８ｎｍ以上）の使用よりも好ましい。
【００４３】
現像
選択的に水性塩基で洗浄されるようにＵＶ光に露光される領域が十分に酸性になるポジティブレジストとして、本発明における使用に適切なポリマーを調合することができる。水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液または水酸化テトラメチルアンモニウム溶液のような塩基性現像剤を使用する水性現像が可能であるように、十分な酸性度は、酸または保護された酸（脱保護が露光の間に起こって、現像のために提供されるのに十分な遊離酸が得られるという条件で、露光前に１００％保護された形態であり得る）によってコポリマーに付与される。本発明において、使用時の水性加工性（水性現像）に関して与えられたコポリマーは代表的に、（露光後に）少なくとも１つの遊離カルボン酸基および／またはフルオロアルコール基を含有するカルボン酸含有および／またはフルオロアルコール含有コポリマーである。酸基（例えば、遊離カルボン酸またはフルオロアルコール基）の濃度は、水性アルカリ現像剤における良好な現像のために必要とされる量を最適化することによって、与えられた組成物に関して決定される。
【００４４】
水性加工性フォトレジストが基材にコーティングされているか、または他の方法で適用されてＵＶ光に像様露光される場合、ＵＶへの露光時に露光されたフォトレジストが塩基性溶媒において現像可能となるように、フォトレジストのコポリマーは、十分な保護された酸基および／または未保護の酸基を有さなければならない。ポジティブワーキングフォトレジスト層の場合、ＵＶ放射線に露光された部分で現像間にフォトレジスト層が除去されるが、未露光部分においては、０．２６２Ｎ水酸化テトラメチルアンモニウム（２５℃で通常１２０秒以内の現像による）または１重量％炭酸ナトリウム（３０℃の温度で通常２分以内の現像による）を含有する完全に水性の溶液のような水性アルカリ液による現像間に実質的に影響を受けない。ネガティブワーキングフォトレジスト層の場合、ＵＶ放射線に露光されていない部分で現像間にフォトレジスト層が除去されるが、露光部分においては、臨界流体または有機溶媒のいずれかを使用する現像間に実質的に影響を受けない。
【００４５】
ハロゲン化溶媒が好ましく、フッ素化溶媒がより好ましい。
【００４６】
さらなる実施形態において、標的表面は、時間を基準とする、波長を基準とする、または空間的に分離された光通信システムにおいて使用される光学的、電気光学的または電子的検出器における信号または像様レシーバーにおけるような入射放射線に応じて、電子的信号、光学的信号または化学的信号を生じる光学的センサーであってよい。これらの場合において、標的表面における電磁放射線の入射、ならびにその時間変化、空間的変化、および／またはその波長（スペクトル）変化を使用して情報を暗号化することができ、この情報は、次いで検出器において解読することができる。もう１つの実施形態において、標的表面は、光からエネルギーへの転換のために使用される種類の電気光学的レセプターであってもよい。もう１つの実施形態において、標的表面は、１５０ｎｍ〜２６０ｎｍの波長範囲における顕微鏡試験を受ける試験片であってよい。さらにもう１つの実施形態において、標的表面は、光学像化ディスプレーとして使用される像化システムにおけるような本発明の方法で利用される１５０ｎｍ〜２６０ｎｍ放射線の入射時に発光が引き起こされる発光性表面であってよい。もう１つの実施形態においては、標的表面は、１５０ｎｍから２６０ｎｍの波長範囲におけるレーザーアブレーション、レーザートリミング、レーザー溶融、レーザーマーキングのような材料加工を受ける試験片であってよい。
【００４７】
本発明の方法に従って、本明細書において以下に記載されるような透明フルオロポリマー組成物を含む成形物品は、光源と標的との間に挿入される。本発明の方法の１つの実施形態において、本発明のフルオロポリマー組成物は、接着剤中に利用される。本方法のもう１つの実施形態においては、フルオロポリマー組成物は、系において異種材料の照射下での脱ガスを提供して、より光学的に吸収する材料による光学的汚染を減少するためのコーティングまたは素子として利用される。もう１つの実施形態において、接着剤様材料は、コーティングまたは素子として、あるいは、微粒子汚染物質を捕捉および固定化して系におけるそれらのさらなる移動および沈着を回避するために使用される。もう１つの実施形態において、本発明のフルオロポリマー組成物は、非光学素子（例えば、光学器械における支持構造）、光学素子（例えば、ミラー、レンズ、ビームスプリッター、チューンドエタロン、検出器、ペリクル）上のコーティングとして使用される。さらなる実施形態において、フルオロポリマー組成物はそれ自体で、レンズまたは他の光学素子（例えば、ミラー、レンズ、ビームスプリッター、チューンドエタロン、検出器、ペリクル）、あるいは非光学的構成要素（例えば、光学器械における支持構造）のような成形物品である。最も好ましい実施形態において、フルオロポリマー組成物は、１５０ｎｍから２６０ｎｍの波長範囲において実行される写真平版法で利用されるフォトマスクの表面上に（接着により、または磁気のような他の方法を使用して）取り付けられた、ペリクル、フレーム（金属、ガラス、ポリマーまたは他の材料であり得る）上に取り付けられた独立膜の形状である。より好ましくは、写真平版法は、１５７ｎｍ、１９３ｎｍまたは２４８ｎｍにおいて放射線を放射するレーザーを利用する。最も好ましくは、写真平版法は、１５７ｎｍの放射線を放射するレーザーを利用する。
【００４８】
さらに、本発明においては、１５０ナノメートルから２６０ナノメートルの波長範囲における電磁放射線の活性化可能な供給源と；１５０ｎｍから２６０ｎｍの波長において１以下の吸光度（μｍ−１）、および１Ｊ／ｇ未満の融解熱を示す本発明のフルオロポリマー組成物を含む成形物品と、を含む装置が提供される。
【００４９】
本発明の装置においては、本発明の方法での使用に適切な、前記種類の活性化可能な光源が利用される。「活性化可能」は、従来の表現で、光源が「オン」または「オフ」であり得ることを意味するが、「オフ」の状態では、従来の手段により電源投入され得る。またこの光源は、異なる波長のランプまたは複数のレーザーの使用による、（光通信の波長分割多重通信で使用されるような）多波長を有してもよい。従って、装置が使用されていない時または運搬時のように、そのように所望される時に「オフ」になり得る光源は、本発明の装置の範囲内に包括される。しかしながら、本発明の光源は、例えば、本発明の方法において使用が所望される時に、活性化可能、すなわち「電源投入」可能である。「電源投入」または活性化された時、光源は、１５０ｎｍから２６０ｎｍの波長範囲における電磁放射線を放射する。本発明の装置における使用に適切な光源としては、ランプ（例えば、水銀または水銀−キセノンランプ、重水素ランプ、または密封もしくは流動ガス型のいずれかの他のガス放出ランプ）、エキシマーランプ（例えば、１７２ｎｍ放射線を生じるもの、または他のランプ）、レーザー（例えば、ＫｒＦガスからの２４８ｎｍ電磁放射線、ＡｒＦガスからの１９３ｎｍ放射線もしくはＦ２ガスからの１５７ｎｍを生じるエキシマーガス放出レーザー、または放射線が紫外線、可視線もしくは赤外線にあるレーザーの非線形光学的プロセスにより転換された振動数）、少なくとも２０００度ケルビンの温度における黒体光源（かかる黒体光源の例は、強力レーザーが金属、セラミックまたはガス標的上の微小サイズに焦点を合わせているレーザープラズマ光源であり、かつプラズマは、例えば、それによって２５０，０００度ケルビンの次数の黒体温度が達成されるサマリウムレーザープラズマ光源の形態で形成され、かつ赤外線からＸ線の領域の黒体放射線が生じ得る）が挙げられ、これは、１５０ｎｍから２６０ｎｍの波長範囲における放射線を放射する。好ましい実施形態において、供給源は、１５７ｎｍ、１９３ｎｍまたは２４８ｎｍ、最も好ましくは１５７ｎｍで放射するエキシマーガス放出レーザーである。
【００５０】
さらに、本発明のフルオロポリマーを含む成形物品が、本発明の装置において利用される。本発明の装置において、成形物品は、供給源が活性化されるか、または「電源投入」される時に供給源から放射される電磁放射線の経路内に位置するように配置される。本発明の装置の１つの実施形態において、成形物品は、接着剤中に本発明のフルオロポリマー組成物を利用する。もう１つの実施形態においては、フルオロポリマー組成物は、光学素子または非光学素子上のコーティングとして利用される。さらなる実施形態において、フルオロポリマー組成物はそれ自体が、レンズまたは他の光学的構成要素のような成形物品へと形成される。最も好ましい実施形態においては、フルオロポリマー組成物は、１５０ｎｍから２６０ｎｍの波長範囲において実行される写真平版法で利用されるフォトマスクの表面上に順番に取り付けられた、ペリクル、フレーム上に取り付けられた代表的に０．６ミクロンから１ミクロンの保護フィルムの形状である。
【００５１】
当業者は、本発明の装置のために考慮される使用方法が幾つかの分類の標的表面を必ず含むことを認識するが、本発明の装置は、標的表面を包括する必要はない。例えば、幾つかの位置で様々な標的表面で使用することができる、光源および一組の光学的構成要素を有する携帯可能または輸送可能な光照射システムとして、本発明の装置を利用することができるだろう。
【００５２】
所望のリソグラフ波長における最大透過スペクトルにおいて、ペリクルが薄フィルム干渉を示すように、ペリクルフィルム厚を最適化することができる。ペリクルフィルムのスペクトル反射率が最小を示す所で、適切なチューンドエタロンペリクルフィルムの透過スペクトルの最大が生じる。
【００５３】
本発明の実施のために適切なポリマーは、少なくとも１未満、好ましくは０．５未満、より好ましくは０．１未満、そして最も好ましくは０．０１未満の、非常に低い吸光度／ミクロンを示す。さらに、隣接光学素子の屈折率に調和する屈折率値を示すものは、反射防止指数が調和する材料および光学的に透明指数が調和する接着剤として重要な用途を有し、光学素子と周囲（例えば、屈折率１を有する）または異なる屈折率の第２の隣接素子のいずれかとの間の中間屈折率値を示すものは、反射防止コーティングとして重要な用途を有し、そして１．８未満、好ましくは１．６未満、またはより好ましくは１．４５未満の低屈折率値を有するものは、多層反射防止コーティングとして非常に重要な用途を有する。比較的、より高屈折率の透明基材表面からの反射光を減少するために、かかるポリマーを使用することができる。反射光におけるこの減少は、透明基材材料を通る透過光の増加の付随を導く。
【実施例】
【００５４】
実施例１〜８および比較例１〜６
図３に示されるハリック  サイエンティフィック  コーポレイション（Ｈａｒｒｉｃｋ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  Ｃｏｒｐ．）（ニューヨーク州オッシニングのハリック  サイエンティフィック  コーポレイション（Ｈａｒｒｉｃｋ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  Ｏｓｓｉｎｉｎｇ，ＮＹ））  デマウンタブル  リキット  セル（Ｄｅｍｏｕｎｔａｂｌｅ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｅｌｌ）モデルＤＬＣ−Ｍ１３を使用して、表１に列挙された流体試験片の透過率測定を実行した。ＶＵＶ−ベース（ＶＵＶ−Ｖａｓｅ）モデルＶＵ−３０２  分光エリプソメーター（ネブラスカ州リンカーンのＪ．Ａ．ウールマン  カンパニー  インコーポレイテッド（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｍａｎ  Ｃｏ．，Ｉｎｃ．Ｌｉｎｃｏｌｎ，ＮＥ））にＤＬＣ−Ｍ１３を取り付けた。平行なＣａＦ２窓の間に形成されたセルの中で、窓の間にテフロン（Ｔｅｆｌｏｎ）（登録商標）環を挿入することにより、試験される液体試料を保持した。多重反射の影響を説明するために、６マイクロメートルおよび２５マイクロメートルの厚さのテフロン（Ｔｅｆｌｏｎ）（登録商標）環を使用した。これにより、同一試料の２つのアリコートを通る２つの光学的経路の長さが提供される。セルに充填している間は、直径８ｍｍの窓開口において発泡を回避するように注意を払った。
【００５５】
方程式１において定義される吸光度Ａ（μｍ−１）は、試験片の厚さ（ｔ）またはそれを通る光学的経路の長さにより除算された、試験波長における試験試料（窓と実験試験片）の透過率により除算された試験波長におけるＣａＦ２窓の透過率の比率の十進法対数である。
【００５６】
方程式１
【数１】
2004535486.tif 000005
【００５７】
試料の光学的経路の長さにおける増加を利用して、両セル厚（ｔ１およびｔ２）および透過率における増加する減少（Ｔ１およびＴ２）において、スペクトル透過率を測定し、方程式２を使用して吸光度／マイクロメートルを算出した。
【００５８】
方程式２
【数２】
2004535486.tif 000006
【００５９】
０．１％までの透過率の誤差は、測定方法の限界に近い。かかる場合、器具の感応性より大きい測定された透過率低下を保持するために、より長い経路長さを有する、より厚い試料が要求される。
【００６０】
１５７ｎｍ、１９３ｎｍおよび２４８ｎｍにおける結果を表１にまとめる。相当する試験片は、相当する数字を有する図に見出される。
【００６１】
【表１】
2004535486.tif 000007
【００６２】
実施例９
４００ｍｌのステンレス鋼オートクレーブに、バゾ（Ｖａｚｏ）（登録商標）５６  ＷＳＰ［２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）ジヒドロクロライド］  ０．２ｇ、および０．１ｇのＦ（ＣＦ２）〜６−８（ＣＨ２）３ＮＨ３Ｃｌを含有する脱イオン水  ２００ｍｌを装填した。オートクレーブを冷却し、真空化し、そしてさらに８０ｇの（ＣＦ３）２Ｃ＝ＣＨ２（ＨＦＩＢ）および２５ｇのＣＨ２＝ＣＨＦ（ＶＦ）を装填した。７０℃で８時間撹拌することにより、懸濁状白色固体と乳白色エマルジョンの混合物が得られ、これを凍結融解によって切断した。これによって少量の液体が得られ、これを濾過し、そして剪断機を使用して多量の残渣の塊をより小さな塊へと切断した。かかる２つの実行から得られた生成物を組み合わせ、ワーリング（Ｗａｒｉｎｇ）ブレンダーにおいて、最初に２００ｍｌのメチルアルコールで、第２回目に１５０ｍｌのメチルアルコールで、そして第３回目に１５０ｍｌのメチルアルコールで洗浄し、それぞれ洗浄後にブフナーフィルターで捕捉した。全４回の実行から得られたポリ（ＨＦＩＢ／ＶＦ）生成物を、ポンプ真空下で６日間乾燥させた。これにより、微細な白色粉末として、２６７ｇのポリ（ＨＦＩＢ／ＶＦ）が得られた。
【００６３】
【表２】
2004535486.tif 000008
【００６４】
前記の通り調製された２ｇのポリ（ＨＦＩＢ／ＶＦ）と１８ｇのソルケン（Ｓｏｌｋａｎｅ）（登録商標）３６５ｍｆｃ（ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３）とを撹拌することにより、溶液を調製した。０．５ｇのクロマトグラフィー用アルミナと０．５ｇのクロマトグラフィー用シリカゲルを添加して、０．４５ミクロン  ＰＴＦＥ  シリンジフィルター（ワットマン（Ｗｈａｔｍａｎ）（登録商標）オートバイアル（Ａｕｔｏｖｉａｌ）（登録商標）０．４５ミクロン  ＰＴＦＥ膜）を通して濾過し、無色透明の濾液を得た。
【００６５】
Ｒ．Ｈ．フレンチ（Ｒ．Ｈ．Ｆｒｅｎｃｈ）、Ｒ．Ｃ．ウェランド（Ｒ．Ｃ．Ｗｈｅｌａｎｄ）、Ｄ．Ｊ．ジョーンズ（Ｄ．Ｊ．Ｊｏｎｅｓ）、Ｊ．Ｎ．ヒルフィカー（Ｊ．Ｎ．Ｈｉｌｆｉｋｅｒ）、Ｒ．Ａ．シノウィッキー（Ｒ．Ａ．Ｓｙｎｏｗｉｃｋｉ）、Ｆ．Ｃ．ズメステグ（Ｆ．Ｃ．Ｚｕｍｓｔｅｇ）、Ｊ．フェルドマン（Ｊ．Ｆｅｌｄｍａｎ）、Ａ．Ｅ．フェイリング（Ａ．Ｅ．Ｆｅｉｒｉｎｇ）、「１５７ｎｍリソグラフィーのためのフルオロポリマー（Ｆｌｕｏｒｏｐｏｌｙｍｅｒｓ  ｆｏｒ  １５７ｎｍ  Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）：ＶＵＶ吸光度およびエリプソメトリー測定からの光学測定（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ  ｆｒｏｍ  ＶＵＶ  Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ  ａｎｄ  Ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｒｙ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔｓ）」、オプティカル  マイクロリソグラフィー  ＸＩＩＩ，スピー（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ  ＸＩＩＩ，ＳＰＩＥ）第４０００巻、Ｃ．Ｊ．プログラー（Ｃ．Ｊ．Ｐｒｏｇｌｅｒ）編、１４９１−１５０２（２０００）に記載されるような、当該分野における標準方法を使用して、ＣａＦ２基材上にスピンコーティングすることにより、前記の通り調製されたポリマー溶液から形成されたフィルムに関して、吸光度／ミクロンを測定した。レーザープラズマ光源、透過率および反射率測定の両方が可能な試料チャンバー、１メートルモノクロメーター、およびサリチル酸ナトリウムリン光体コーティング１０２４素子フォトダイオード検出器を使用するＶＵＶ分光光度計を使用して、ＣａＦ２基材およびＣａＦ２基材上ポリマーフィルムのＶＵＶ透過率を測定した。これは、Ｒ．Ｈ．フレンチ（Ｒ．Ｈ．Ｆｒｅｎｃｈ），「レーザー−プラズマにより供給される、温度依存ＶＵＶ分光光度計を使用する分散分析（Ｌａｓｅｒ−Ｐｌａｓｍａ  Ｓｏｕｒｃｅｄ，Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  Ｄｅｐｅｎｄｅｎｔ  ＶＵＶ  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ  Ｕｓｉｎｇ  Ｄｉｓｐｅｒｓｉｖｅ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）」，フィジカ  スクリプタ（Ｐｈｙｓｉｃａ  Ｓｃｒｉｐｔａ），４１，４，４０４−８，（１９９０）においてより詳細に論じられている。フィルメトリックス（Ｆｉｌｍｅｔｒｉｃｓ）（カリフォルニア州サンディエゴのフィルメトリックス  インコーポレイテッド（Ｆｉｌｍｅｔｒｉｃｓ  Ｉｎｃ．，Ｓａｎ  Ｄｉｅｇｏ，ＣＡ））モデルＦ２０薄フィルム測定システムを使用して、フィルム厚を決定した。方程式１を使用して、１４５ｎｍから、１５７ｎｍ、１９３ｎｍおよび２４８ｎｍを含むより長波長における、ポリマーのスペクトル透過率およびフィルム厚、吸光度／ミクロン値を算出した。
【００６６】
１５００ｒｐｍのスピン速度で、６０秒間、ブルーアー（Ｂｒｅｗｅｒ）ＣＥＥ  １００ｂ  モデル  スピンコーター（米国、６５４０１  ミズーリ州ブルーアードライブ２４０１のブルーアー  サイエンス（Ｂｒｅｗｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，２４０１  Ｂｒｅｗｅｒ  Ｄｒｉｖｅ，Ｒｏｌｌａ，ＭＯ  ６５４０１  ＵＳＡ））を使用して、前記の通り調製された溶液をＣａＦ２基材上にスピンコーティングした。次いで、試料をスピナーから取り外し、後適用焼成のために摂氏６０度におけるスピンコーターのホットプレート上に置いた。これにより、厚さ１９８６ｎｍのフィルムを製造した。
【００６７】
Ａ／μ＝０．００２５の溶媒、ソルケン（Ｓｏｌｋａｎｅ）（登録商標）３６５ｍｆｃからのスピンおよび６０℃における乾燥後、ポリ（ＨＦＩＢ／ＶＦ）フィルムはＡ／μ＝０．０７９を有した。
【００６８】
比較例７
実施例９において調製された２ｇのポリ（ＨＦＩＢ／ＶＦ）と１８ｇのヘキサフルオロベンゼンとを撹拌することにより、溶液を調製した。０．５ｇのクロマトグラフィー用アルミナと０．５ｇのクロマトグラフィー用シリカゲルを添加して、０．４５ミクロン  ＰＴＦＥ  シリンジフィルター（ワットマン（Ｗｈａｔｍａｎ）（登録商標）オートバイアル（Ａｕｔｏｖｉａｌ）（登録商標）０．４５ミクロン  ＰＴＦＥ膜）を通して濾過し、無色透明の濾液を得た。
【００６９】
実施例９の手順に従う。
【００７０】
６０００ｒｐｍのスピン速度で、６０秒間、前記の通り調製された溶液をＣａＦ２基材上にスピンコーティングした。次いで、試料をスピンコーターから取り外し、後適用焼成のために摂氏６０度におけるスピンコーターのホットプレート上に置いた。これにより、厚さ２０９０ｎｍのフィルムが製造された。
【００７１】
Ａ／μ＞＞０．３の溶媒、ヘキサフルオロベンゼンからのスピンおよび６０℃における乾燥後、ポリ（ＨＦＩＢ／ＶＦ）フィルムはＡ／μ＝０．１４１を有した。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】ＣＦ３ＣＦＨＣＦＨＣＦ２ＣＦ３、ベルトレル（Ｖｅｒｔｒｅｌ）（商標）ＸＦに関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。
【図２】ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ソルカン（Ｓｏｌｋａｎｅ）（商標）３６５ｍｆｃに関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。
【図３】ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ、Ｈ−ガルデン（Ｈ−Ｇａｌｄｅｎ）（商標）ＺＴ８５に関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。
【図４】ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、フレオン（Ｆｒｅｏｎ）（商標）Ｅ１に関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。
【図５】ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ、Ｈ−ガルデン（Ｇａｌｄｅｎ）（商標）ＺＴ１３０に関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。
【図６】〜Ｃ８Ｆ１８パフォーマンス  フルイド（Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｆｌｕｉｄ）（商標）５０８０に関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。測定値は１５４ｎｍ未満で飽和した。
【図７】〜ペルフルオロ（ブチルテトラヒドロフラン）、フルオリネート（Ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（商標）ＦＣ−７５に関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。測定値は１５４ｎｍ未満で飽和した。
【図８】〜Ｎ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）３、フルオリネート（Ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（商標）ＦＣ−４０に関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。測定値は１５５ｎｍ未満で飽和した。
【図９】ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＯＣ２Ｈ５）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、ノベック（ＮＯＶＥＣ）（商標）ＨＦＥ−７５００に関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。測定値は１６７ｎｍ未満で飽和した。
【図１０】ヘキサフルオロプロピレン／プロピレン環式ダイマーに関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。測定値は１８０ｎｍ未満で飽和した。
【図１１】ヘキサフルオロベンゼンに関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。測定値は２６６ｎｍ未満で飽和した。
【図１２】ベルトレル（Ｖｅｒｔｒｅｌ）２４５に関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。測定値は１５２ｎｍ未満で飽和した。
【図１３】１，１，２，２−テトラフルオロシクロブタンに関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。測定値は１７５ｎｍ未満で飽和した。
【図１４】１−エトキシ−１，１，２，２−テトラフルオロエタンに関する、ナノメートル単位の波長ラムダ（λ）に対する逆マイクロメートル単位の吸光度を示す。測定値は１４８ｎｍ未満で飽和した。
【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【手続補正書】
【提出日】平成15年8月14日(2003.8.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビニルフルオロポリマーと、
ｉ）炭素原子を２個から１０個有する環式、直鎖または分枝鎖フッ化炭化水素であって、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、−ＣＨ２ＣＨ３基が存在せず、かついずれの環も５員以上であるフッ化炭化水素、
ｉｉ）Ｘ−Ｒｆａ［ＯＲｆｂ］ｎＯＲｆｃＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、水素またはフッ素であり、かつＲｆａ、ＲｆｂおよびＲｆｃは独立して、炭素数１個から３個のフッ化炭素またはフッ化炭化水素基であり、直鎖または分枝鎖であり、ここでは水素より多いフッ素が存在し、かつ２個以下の隣接炭素原子が水素に結合している）、
ｉｉｉ）ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙ（式中、ｎ＝２から１０であり、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、かつ−ＣＨ２ＣＨ３基が存在しない）、
ｉｖ）ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＦＨＣＦＨＣｍＦ２ｍ＋１（式中、ｎおよびｍは１から４である）、
ｖ）Ｘ（ＣＦ２ＣＨ２）ｎＹ（式中、ｎ＝１から５であり、ＸおよびＹは独立して、Ｈ、ＣｌまたはＦである）、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦ２ＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ２（ＯＣＦ２）ｎ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２Ｈ（式中、ｎ＋ｍ＝１から８である）、および
ｉｘ）ＸＲｆＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲｆＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、ＨまたはＦであり、ＲｆはＣｎＦ２ｎフッ化炭素基であり、ここではｎ＝１から６である）
からなる群より選択される液体と、を含むフルオロポリマー組成物。
【請求項２】
前記液体の濃度が１０重量％以下である、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記フルオロポリマーが非晶質である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記フルオロポリマーが、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールもしくはＣＸ２＝ＣＹ２（式中、Ｘは−Ｆまたは−ＣＦ３であり、かつＹはＨである）から誘導されたモノマー単位またはそれらのコポリマーを含む、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記コポリマーが、コポリマー中にランダムに組み入れられた、２５モル％までの１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】
前記コポリマーが、コポリマー中に非ランダムに、ほぼ交互の形態で組み入れられた、４０モル％から６０モル％の１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項４に記載の組成物。
【請求項７】
前記非晶質フルオロポリマーが、Ａ群から選択されるホモポリマー、またはＢ、ＣおよびＤ群からのコポリマーをさらに含み、
Ａ群は、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３のホモポリマーからなり、
Ｂ群は、フッ化ビニリデンから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）から誘導されたモノマー単位を２５モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｃ群は、次の構造
【化１】
2004535486.tif 000061
（式中、ＲａおよびＲｂは独立して、Ｆ、または任意にエーテル酸素により置換された直鎖−ＣｎＦ２ｎ＋１であり、ここではｎ＝１から５である）を有する１，３−ペルフルオロジオキソールから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかの酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）またはそれらの混合物から誘導されたモノマー単位を１０モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｄ群は、フッ化ビニリデンおよび／またはフッ化ビニルから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、次式
【化２】
2004535486.tif 000062
（式中、ｇおよびＱは独立して、Ｆ（しかしながら、両方がＦではない）、Ｈ、Ｒｆまたは−ＯＲｆであり、ここではＲｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ５のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）で表されるモノマーから誘導されたモノマー単位を４０モル％から６０モル％まで含むコポリマーからなる、請求項３に記載の組成物。
【請求項８】
前記非晶質フルオロポリマーが、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が７５％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ヘキサフルオロプロピレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が５０％から７０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が６０％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロメチルビニルエーテル）、トリフルオロエチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（トリフルオロエチレン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／フッ化ビニル）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／トリフルオロエチレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＨ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ］、ＰＤＤモノマー単位のモル濃度が５０％から８０％の範囲であるポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）、ポリ（ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２）、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３モノマー単位のモル濃度が５０％より多いポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３）からなる群より選択される、請求項３に記載の組成物。
【請求項９】
前記液体が、Ｆ（ＣＦ２）ｎＣＦＨＣＦＨ（ＣＦ２）ｍＦ（式中、ｎおよびｍは独立して、１から４である）、ＣＦ３（ＣＨ２ＣＦ２）ｎＣＨ３（式中、ｎ＝１から４である）、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が６０℃から１６０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＯＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝０から３である）、Ｆ（ＣＦ２）ｎＦ（式中、ｎ＝６から８である）、およびＸ（ＣＦ２）ｍＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＦ２）ｎＹ（式中、ｎおよびｍは独立して、１から４であり、かつＸおよびＹは独立して、ＨおよびＦである）からなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項１０】
前記液体が、ＣＦ３ＣＦＨＣＦＨＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が８０℃から１４０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、Ｆ（ＣＦ２）６Ｆ、およびＦ（ＣＦ２）８Ｆからなる群より選択される、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
１５０ナノメートルから２６０ナノメートルの波長範囲における電磁放射線を供給源から放射させる工程と、
それによって標的表面の少なくとも一部が照射されるように、前記電磁放射線の少なくとも一部の経路に標的表面を配置する工程と、
前記標的表面と前記供給源との間の前記電磁放射線の少なくとも一部の経路に、ビニルフルオロポリマーならびに
ｉ）炭素原子を２個から１０個有する環式、直鎖または分枝鎖フッ化炭化水素であって、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、−ＣＨ２ＣＨ３基が存在せず、かついずれの環も５員以上であるフッ化炭化水素、
ｉｉ）Ｘ−Ｒｆａ［ＯＲｆｂ］ｎＯＲｆｃＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、水素またはフッ素であり、かつＲｆａ、ＲｆｂおよびＲｆｃは独立して、炭素数１個から３個のフッ化炭素またはフッ化炭化水素基であり、直鎖または分枝鎖であり、ここでは水素より多いフッ素が存在し、かつ２個以下の隣接炭素原子が水素に結合している）、
ｉｉｉ）ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙ（式中、ｎ＝２から１０であり、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、かつ−ＣＨ２ＣＨ３基が存在しない）、
ｉｖ）ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＦＨＣＦＨＣｍＦ２ｍ＋１（式中、ｎおよびｍは１から４である）、
ｖ）Ｘ（ＣＦ２ＣＨ２）ｎＹ（式中、ｎ＝１から５であり、ＸおよびＹは独立して、Ｈ、ＣｌまたはＦである）、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦ２ＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ２（ＯＣＦ２）ｎ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２Ｈ（式中、ｎ＋ｍ＝１から８である）、および
ｉｘ）ＸＲｆＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲｆＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、ＨまたはＦであり、ＲｆはＣｎＦ２ｎフッ化炭素基であり、ここではｎ＝１から６である）
からなる群より選択される液体を含むフルオロポリマー組成物を含む成形物品を挿入する工程と、を含む方法。
【請求項１２】
前記フルオロポリマー組成物中の前記液体の濃度が１０重量％以下である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記フルオロポリマーが非晶質である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記フルオロポリマーが、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールもしくはＣＸ２＝ＣＹ２（式中、Ｘは−Ｆまたは−ＣＦ３であり、かつＹはＨである）から誘導されたモノマー単位またはそれらのコポリマーを含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記コポリマーが、コポリマー中にランダムに組み入れられた、２５モル％までの１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記コポリマーが、コポリマー中に非ランダムに、ほぼ交互の形態で組み入れられた、４０モル％から６０モル％の１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記非晶質フルオロポリマーが、Ａ群から選択されるホモポリマー、またはＢ、ＣおよびＤ群からのコポリマーをさらに含み、
Ａ群は、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３のホモポリマーからなり、
Ｂ群は、フッ化ビニリデンから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）から誘導されたモノマー単位を２５モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｃ群は、次の構造
【化３】
2004535486.tif 000063
（式中、ＲａおよびＲｂは独立して、Ｆ、または任意にエーテル酸素により置換された直鎖−ＣｎＦ２ｎ＋１であり、ここではｎ＝１から５である）を有する１，３−ペルフルオロジオキソールから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかの酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）またはそれらの混合物から誘導されたモノマー単位を１０モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｄ群は、フッ化ビニリデンおよび／またはフッ化ビニルから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、次式
【化４】
2004535486.tif 000064
（式中、ｇおよびＱは独立して、Ｆ（しかしながら、両方がＦではない）、Ｈ、Ｒｆまたは−ＯＲｆであり、ここではＲｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ５のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）で表されるモノマーから誘導されたモノマー単位を４０モル％から６０モル％まで含むコポリマーからなる、請求項１３に記載の方法。
【請求項１８】
前記非晶質フルオロポリマーが、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が７５％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ヘキサフルオロプロピレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が５０％から７０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が６０％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロメチルビニルエーテル）、トリフルオロエチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（トリフルオロエチレン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／フッ化ビニル）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／トリフルオロエチレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＨ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ］、ＰＤＤモノマー単位のモル濃度が５０％から８０％の範囲であるポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）、ポリ（ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２）、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３モノマー単位のモル濃度が５０％より多いポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３）からなる群より選択される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１９】
前記液体が、Ｆ（ＣＦ２）ｎＣＦＨＣＦＨ（ＣＦ２）ｍＦ（式中、ｎおよびｍは独立して、１から４である）、ＣＦ３（ＣＨ２ＣＦ２）ｎＣＨ３（式中、ｎ＝１から４である）、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が６０℃から１６０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＯＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝０から３である）、Ｆ（ＣＦ２）ｎＦ（式中、ｎ＝６から８である）、およびＸ（ＣＦ２）ｍＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＦ２）ｎＹ（式中、ｍおよびｎは独立して、１から４であり、かつＸおよびＹは独立して、ＨおよびＦである）からなる群より選択される、請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
前記液体が、ＣＦ３ＣＦＨＣＦＨＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が８０℃から１４０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、Ｆ（ＣＦ２）６Ｆ、およびＦ（ＣＦ２）８Ｆからなる群より選択される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記成形物品が、写真平版で使用するためのペリクルフィルムである、請求項１１に記載の方法。
【請求項２２】
前記供給源が、１５７ｎｍの電磁放射線を放射するレーザーである、請求項１１に記載の方法。
【請求項２３】
前記標的表面が感光性ポリマーを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項２４】
前記成形物品がレンズであり、かつ前記フルオロポリマー組成物がその表面上に配置されたコーティングである、請求項１１に記載の方法。
【請求項２５】
前記フルオロポリマー組成物が、接着剤組成物の成分である、請求項１１に記載の方法。
【請求項２６】
前記成形物品が、前記フルオロポリマー組成物から形成されたレンズである、請求項１１に記載の方法。
【請求項２７】
１５０ナノメートルから２６０ナノメートルの波長範囲における電磁放射線の活性化可能な供給源と；ビニルフルオロポリマー、ならびに
ｉ）炭素原子を２個から１０個有する環式、直鎖または分枝鎖フッ化炭化水素であって、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、−ＣＨ２ＣＨ３基が存在せず、かついずれの環も５員以上であるフッ化炭化水素、
ｉｉ）Ｘ−Ｒｆａ［ＯＲｆｂ］ｎＯＲｆｃＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、水素またはフッ素であり、かつＲｆａ、ＲｆｂおよびＲｆｃは独立して、炭素数１個から３個のフッ化炭素またはフッ化炭化水素基であり、直鎖または分枝鎖であり、ここでは水素より多いフッ素が存在し、かつ２個以下の隣接炭素原子が水素に結合している）、
ｉｉｉ）ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙ（式中、ｎ＝２から１０であり、フッ素数が水素数以上であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、６個以下の隣接炭素原子がフッ素に結合しており、かつ−ＣＨ２ＣＨ３基が存在しない）、
ｉｖ）ＣｎＦ２ｎ＋１ＣＦＨＣＦＨＣｍＦ２ｍ＋１（式中、ｎおよびｍは１から４である）、
ｖ）Ｘ（ＣＦ２ＣＨ２）ｎＹ（式中、ｎ＝１から５であり、ＸおよびＹは独立して、Ｈ、ＣｌまたはＦである）、
ｖｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉ）Ｆ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＣＦ２ＣＦ３（式中、ｎ＝１から５である）、
ｖｉｉｉ）ＨＣＦ２（ＯＣＦ２）ｎ（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２Ｈ（式中、ｎ＋ｍ＝１から８である）、および
ｉｘ）ＸＲｆＯＣＨ２ＣＨ２ＯＲｆＹ（式中、ＸおよびＹは独立して、ＨまたはＦであり、ＲｆはＣｎＦ２ｎフッ化炭素基であり、ここではｎ＝１から６である）
からなる群より選択される液体を含むフルオロポリマー組成物を含む成形物品と、を含む装置。
【請求項２８】
前記フルオロポリマー組成物中の前記液体の濃度が１０重量％以下である、請求項２７に記載の装置。
【請求項２９】
前記フルオロポリマーが非晶質である、請求項２７に記載の装置。
【請求項３０】
前記フルオロポリマーが、ペルフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールもしくはＣＸ２＝ＣＹ２（式中、Ｘは−Ｆまたは−ＣＦ３であり、かつＹはＨである）から誘導されたモノマー単位またはそれらのコポリマーを含む、請求項２９に記載の装置。
【請求項３１】
前記コポリマーが、コポリマー中にランダムに組み入れられた、２５モル％までの１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項３０に記載の装置。
【請求項３２】
前記コポリマーが、コポリマー中に非ランダムに、ほぼ交互の形態で組み入れられた、４０モル％から６０モル％の１以上のモノマーＣＲａＲｂ＝ＣＲｃＲｄ（式中、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、ＨまたはＦであり、かつＲｄは−Ｆ、−ＣＦ３、−ＯＲｆからなる群より選択され、ここではＲｆはＣｎＦ２ｎ＋１（ｎ＝１から３である）および−ＯＨであるが、ただし、Ｒｆが−ＯＨである場合、ＲｃはＨである）をさらに含む、請求項３０に記載の装置。
【請求項３３】
前記非晶質フルオロポリマーが、Ａ群から選択されるホモポリマー、またはＢ、ＣおよびＤ群からのコポリマーをさらに含み、
Ａ群は、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３のホモポリマーからなり、
Ｂ群は、フッ化ビニリデンから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）から誘導されたモノマー単位を２５モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｃ群は、次の構造
【化５】
2004535486.tif 000065
（式中、ＲａおよびＲｂは独立して、Ｆ、または任意にエーテル酸素により置換された直鎖−ＣｎＦ２ｎ＋１であり、ここではｎ＝１から５である）を有する１，３−ペルフルオロジオキソールから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＨＯＲｆ（式中、Ｒｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ６のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかの酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）またはそれらの混合物から誘導されたモノマー単位を１０モル％より多く含むコポリマーからなり、
Ｄ群は、フッ化ビニリデンおよび／またはフッ化ビニルから誘導されたモノマー単位との組み合わせで、次式
【化６】
2004535486.tif 000066
（式中、ｇおよびＱは独立して、Ｆ（しかしながら、両方がＦではない）、Ｈ、Ｒｆまたは−ＯＲｆであり、ここではＲｆは、式ＣｎＦ２ｎ−ｙ＋１Ｈｙを有する直鎖または分枝鎖Ｃ１からＣ５のフルオロアルキル基であり、ここでは水素数はフッ素数以下であり、２個以下の隣接炭素原子が水素に結合しており、かつエーテル酸素が１個以上の炭素を置換できるが、ただし、いずれかのエーテル酸素に隣接する炭素の少なくとも１個がペルフッ素化されている）で表されるモノマーから誘導されたモノマー単位を４０モル％から６０モル％まで含むコポリマーからなる、請求項２９に記載の装置。
【請求項３４】
前記非晶質フルオロポリマーが、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が７５％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ヘキサフルオロプロピレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が５０％から７０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が６０％から８０％の範囲であるポリ（フッ化ビニリデン／ペルフルオロメチルビニルエーテル）、トリフルオロエチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（トリフルオロエチレン／ペルフルオロジメチルジオキソール）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／フッ化ビニル）、ヘキサフルオロイソブチレンモノマー単位のモル濃度が４５％から５５％の範囲であるポリ（ヘキサフルオロイソブチレン／トリフルオロエチレン）、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＨ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＨ２＝Ｃ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）２］、ＶＦ２モノマー単位のモル濃度が４５％から６０％の範囲であるポリ［フッ化ビニリデン／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ］、ＰＤＤモノマー単位のモル濃度が５０％から８０％の範囲であるポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＦ２＝ＣＨＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３）、ポリ（ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２）、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３モノマー単位のモル濃度が５０％より多いポリ（ペルフルオロジメチルジオキソール／ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３）からなる群より選択される、請求項２９に記載の装置。
【請求項３５】
前記液体が、Ｆ（ＣＦ２）ｎＣＦＨＣＦＨ（ＣＦ２）ｍＦ（式中、ｎおよびｍは独立して、１から４である）、ＣＦ３（ＣＨ２ＣＦ２）ｎＣＨ３（式中、ｎ＝１から４である）、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が６０℃から１６０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｎＯＣＦＨＣＦ３（式中、ｎ＝０から３である）、Ｆ（ＣＦ２）ｎＦ（式中、ｎ＝６から８である）、およびＸ（ＣＦ２）ｍＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ（ＣＦ２）ｎＹ（式中、ｍおよびｎは独立して、１から４であり、かつＸおよびＹは独立して、ＨおよびＦである）からなる群より選択される、請求項２７に記載の装置。
【請求項３６】
前記液体が、ＣＦ３ＣＦＨＣＦＨＣＦ２ＣＦ３、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＨＣＦ２Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｎ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍＣＦ２Ｈ（沸点が８０℃から１４０℃の範囲である）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦＨＣＦ３、Ｆ（ＣＦ２）６Ｆ、およびＦ（ＣＦ２）８Ｆからなる群より選択される、請求項３５に記載の装置。
【請求項３７】
前記活性化可能な光源が、１５７ｎｍの電磁放射線を放射するレーザーである、請求項２７に記載の装置。
【請求項３８】
標的表面をさらに含む、請求項２７に記載の装置。
【請求項３９】
前記標的表面が感光性ポリマーを含む、請求項３７に記載の装置。
【請求項４０】
前記成形物品がレンズであり、かつ前記フルオロポリマー組成物がその表面上に配置されたコーティングである、請求項２７に記載の装置。
【請求項４１】
前記フルオロポリマー組成物が、接着剤組成物の成分である、請求項２７に記載の装置。
【請求項４２】
前記成形物品が、前記フルオロポリマー組成物から形成されたレンズである、請求項２７に記載の装置。
【請求項４３】
前記成形物品が、写真平版で使用するためのペリクルフィルムである、請求項２７に記載の装置。
【請求項４４】
請求項１に記載の組成物を含む成形物品。
【請求項４５】
写真平版法で使用するためのペリクルフィルムの形状である、請求項４４に記載の成形物品。
【国際調査報告】
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