(57)【要約】容器（２）を滅菌する方法および装置を提案する。少なくとも１つの方法ステップでチャンバ（５）内で電磁振動を励起させることにより、プラズマ（８）が真空中で容器（２）の滅菌したい領域の近傍に励起させられるようにプラズマ処理を実施して、容器（２）を滅菌する方法において、容器（２）および／または電磁振動を発生させる装置（９）を運動させながら、容器（２）の滅菌したい領域をチャンバ（５）内のロックゲート式の装入部（４）とロックゲート式の取出し部（６）との間で一回または複数回、所定の時間にわたって、電磁振動を発生させる装置（９）に接近させて、当該領域で容器の内部および／または外部にプラズマ（８）を励起させるようにした。チャンバ（５）内には搬送装置が設けられており、該搬送装置が、チャンバ（５）内でのロックゲート式の装入部（４）からロックゲート式の取出し部（６）への搬送中に容器（２）の、主として回転する運動を生ぜしめるようにした。
2004538218.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの方法ステップでチャンバ（５）内で電磁振動を励起させることにより、プラズマ（８）が真空中で容器（２）の滅菌したい領域の近傍に励起させられるようにプラズマ処理を実施して、容器（２）を滅菌する方法において、容器（２）および／または電磁振動を発生させる装置（９）を常時運動させながら、容器（２）の滅菌したい領域をチャンバ（５）内のロックゲート式の装入部（４）とロックゲート式の取出し部（６）との間で一回または複数回、所定の時間にわたって、電磁振動を発生させる装置（９）に接近させて、当該領域で容器の内部および／または外部にプラズマ（８）を励起させることを特徴とする、容器を滅菌する方法。
【請求項２】
プラズマ処理が滅菌および／または発熱物質除去である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
特に光線の発生、持続時間およびスペクトル成分に関する光線エミッションを測定することにより、プラズマ（８）の滅菌効果を求める、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１項記載の方法を実施するための装置において、チャンバ（５）内に搬送装置が設けられており、該搬送装置が、チャンバ（５）内でのロックゲート式の装入部（４）からロックゲート式の取出し部（６）への搬送中に容器（２）の、主として回転する運動を生ぜしめるようになっており、電磁振動を発生させる装置を備えたプラズマ源（９）が、チャンバ（５）の外部に取り付けられていて、チャンバ（５）の内部から入力結合装置によって分離されており、該入力結合装置によって、チャンバ（５）内への、ひいては容器（２）の滅菌したい領域への電磁振動の入力結合が行われると共に、チャンバ（５）の真空と、チャンバ（５）の外部の、チャンバ（５）内の真空とは異なる圧力との分離が行われるようになっていることを特徴とする、容器を滅菌する装置。
【請求項５】
請求項１から３までのいずれか１項記載の方法を実施するための装置において、チャンバ（５）内に搬送装置が設けられており、該搬送装置がチャンバ（５）内でのロックゲート式の装入部（４）からロックゲート式の取出し部（６）への搬送中に容器（２）の、主として回転する運動を生ぜしめるようになっており、電磁振動を発生させる装置を備えた少なくとも１つのプラズマ源（９）が、チャンバ（５）の内部に取り付けられており、チャンバ（５）自体は分割されていて、該分割部によりプラズマ源（９）がチャンバ（５）の処理室から分離されており、ただしそれにもかかわらず、１つまたは複数の容器（２）内へ電磁界が入力結合可能であることを特徴とする、容器を滅菌する装置。
【請求項６】
前記少なくとも１つのプラズマ源が、容器を運動させかつ搬送するための１つまたは複数の搬送ローラ（１０，１１）内に設けられている、請求項５記載の装置。
【請求項７】
チャンバ内への、ひいては容器の滅菌したい領域への電磁振動の入力結合を行う入力結合装置が、石英、酸化物セラミックスまたはテフロンから成る層またはその他の装置である、請求項５または６記載の装置。
【請求項８】
マイクロ波領域の電磁振動を発生させるための前記少なくとも１つのプラズマ源が、マイクロ波透過性の管またはプレートによりチャンバから分離されており、チャンバ内へのマイクロ波入力結合が、スロット出力結合部によって実施可能であるか、または導波管のホーン拡張部から実施可能である、請求項４から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
電磁振動を発生させるための前記少なくとも１つのプラズマ源が電極であり、該電極を用いてイオン衝撃によるチャンバ内への容量式の高周波入力結合が実施可能である、請求項４から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】
電磁振動を発生させるための前記少なくとも１つのプラズマ源がコイルであり、該コイルを用いて、プラズマ源をチャンバから分離するための装置に設けられた対応する窓を通じてチャンバ内への誘導式の高周波入力結合が実施可能である、請求項４から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１１】
プラズマ源をチャンバから分離するための装置に設けられた窓にファラデーシールドが取り付けられており、該ファラデーシールドを用いて、入射された界の磁気作用が電気作用から少なくとも部分的に分離可能である、請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
容器が、チャンバ内での搬送時に水平方向で搬送方向に沿って少なくとも２つの搬送ローラに載置されており、容器がプラズマ源の入力結合領域の傍らを通って回転させられながら搬送されるように前記搬送ローラが、同じく水平方向で搬送方向に沿って位置する回転軸線を中心にして駆動されるようになっている、請求項４から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１３】
容器がチャンバ内での搬送時に、回転する管内に位置しており、該管の中央または該管を取り囲むように前記少なくとも１つのプラズマ源が配置されており、容器がプラズマ源の入力結合領域の傍らを通って回転させられながら搬送されるように前記管が、水平方向で搬送方向に沿って位置する回転軸線を中心にして駆動されるようになっている、請求項４から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１４】
容器がチャンバ内での搬送時に、傾斜した平面に載置されており、容器が搬送方向に対して直交する方向の回転軸線を中心にして転動するようになっていて、容器がプラズマ源の入力結合領域の傍らを通って回転させられながら搬送されるようになっている、請求項４から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１５】
容器がチャンバ内での搬送時に、ウォーム状の螺条またはその他の、比較的高い摩擦を有するねじ山状のパターンを備えた少なくとも１つのローラに載置されているか、または接触しており、容器がプラズマ源の入力結合領域の傍らを通って回転させられながら搬送されるように前記ローラが、水平方向で搬送方向に沿って位置する回転軸線を中心にして駆動されるようになっている、請求項４から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１６】
容器がチャンバ内での搬送時に、搬送方向に運動可能な装置に載置されており、該装置が、搬送方向に対して直交する方向に回転可能な複数のローラから成っており、該ローラの間にそれぞれ容器が位置しており、容器が、搬送方向における前記装置の運動時に、搬送方向に対して直交する方向の回転軸線を中心にして転がって、容器がプラズマ源の入力結合領域の傍らを通って回転させられながら搬送されるようになっている、請求項４から１１までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１７】
前記ローラの回転運動がチェーン駆動装置または歯駆動装置により行われるようになっており、該チェーン駆動装置または歯駆動装置に沿って、搬送方向に運動可能な装置が運動可能であり、さらにチェーン駆動装置または歯駆動装置に、ローラに設けられた対応する歯が噛み合っている、請求項１６記載の装置。
【請求項１８】
チャンバの下方および／または側方に、少なくとも１つの別のプラズマ源が配置されており、該プラズマ源を用いて搬送装置の滅菌および／または搬送装置から落下した容器（２）の滅菌が実施可能である、請求項４から１７までのいずれか１項記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
背景技術
本発明は、請求項１の上位概念部に記載の、容器を滅菌する方法ならびに請求項４および請求項５の上位概念部にそれぞれ記載の、前記方法を実施するための装置に関する。
【０００２】
医学または食品工学における容器、例えばアンプル、セプタムグラス（Ｓｅｐｔｅｎｇｌａｓ）、注射器、バイアルもしくはその他のいわゆる「非経口剤包装物」または飲料瓶等の容器内の有害な微生物または細菌を除去するために、物理的な方法または化学的な方法を使用することがよく知られている。
【０００３】
乾熱作用を用いた器具および包装物の滅菌は、例えば国際公開第９８３９２１６号パンフレットまたはヨーロッパ特許出願公開第０５１２２４４号明細書に基づき公知である。
【０００４】
さらに、水による前洗浄を行う自体公知の水蒸気法の場合には、規定された時間にわたって容器を熱い水蒸気もしくは過熱された水蒸気にさらすことができる。このプロセスにかかる時間に基づき、製造ラインに組み込んた形で高い個数を滅菌できるようにするためには大きな設備が必要となる。ただし、この水蒸気滅菌は、死滅された細菌の、発熱性の、つまり炎症を引き起こす作用を持った分解生成物および細胞残留成分を完全に除去することはできない。
【０００５】
上で挙げた２つの方法はそれぞれ固有の欠点を具備している。乾熱作用のためには、処理したい器具が熱安定性の材料、例えば鋼、セラミックスまたはガラスから製造されていなければならない。さらに、熱処理に続いて、他ならぬ非経口剤の充填領域において、室温では温度過敏性の作用物質を充填できるようにするために冷却が行われなければならないが、この冷却は特にエネルギ、スペースおよび投資コストの点で手間がかかる。
【０００６】
したがって、滅菌のためには、しばしば化学薬品、例えば過酢酸または過酸化水素が蒸気相の形で使用される（例えばドイツ連邦共和国特許出願公開第２４３５０３７号明細書に基づき公知）か、またはガス状の酸化エチレンが使用される。例えば過酸化水素蒸気を用いる処理は、確かに、死滅した細胞成分の酸化をもたらすが、しかし慎重な清浄化および相応して大きな手間を必要とする。さらに、多くの包装材料、例えば多くのプラスチックは、過酸化水素に対して安定性を有しない。両方法は、これまでガラス容器においてしか使用され得ない。なぜならば、必要となる温度がプラスチック容器にとっては高すぎるからである。
【０００７】
さらに、ドイツ連邦共和国特許出願公開第２５３０１１３号明細書に基づき自体公知のＵＶ放射線つまり紫外線を用いた方法または国際公開第９５３３６５１号パンフレットに基づき公知のガンマ放射線を用いた方法は、これらの放射線の滅菌特性を利用したものであり、したがって対象物および包装物の滅菌に使用される。
【０００８】
ヨーロッパ特許出願公開第０３７７７９９号明細書に基づき公知の方法では、対象物を滅菌するためにプラズマが、約２．４５ＧＨｚの周波数を有する電磁放射線により形成させられる。このためには、対象物が低圧プラズマに完全に暴露され、そして拡張形では付加的な熱源によっても照射される。プラズマを用いた滅菌の使用は、これまで主として医療器具の処理、例えばカテーテルまたは輸血器具の処理に限定されている。
【０００９】
医学における対象物を、例えば医療器具の使用または非経口剤の包装のためには、発芽性の有機体の滅菌、つまりこのような有機体の濃度低減が、前で説明した公知の方法では不十分となる。この場合、さらに、死滅された細菌の、炎症を引き起こす作用のある残留成分である「内毒素（エンドトキシン）」が除去されるか、少なくともその発熱作用の点で永続的に不活化されることが確保されなければならない。このことは、とりわけグラム陰性菌の「リポ多糖体」に云える。リポ多糖は、細胞壁の外部に存在していて、このリポ多糖体が血液循環路に侵入すると、種々の防衛反応を引き起こす恐れがある。
【００１０】
熱作用による十分な内毒素濃度低減は、最低でも３００℃の容器温度を必要とし、かつ現在では５分間を超える長い熱作用時間と、これに続くなお一層長い冷却段階とによってしか達成されない。過酸化水素を用いたプラズマ滅菌の場合では、プラズマは基体から過酸化物残分を除去するためにしか働かない。滅菌作用は過酸化水素の慣用化学的作用である。したがって、プロセス時間は相応して長く、一般には３０分よりも長い。
【００１１】
したがって、このようなプラズマプロセスは高い所要時間と、器具を引き続き使用する前に残分なく完全に除去されなければならないアグレッシブな化学薬品、例えば過酸化水素または過酢酸の使用とを必要とする。さらに、中空体の場合に、中空体内部でも十分な細菌濃度低減および内毒素濃度低減を確保するためには、例えばアメリカ合衆国特許第５２００１５８号明細書に記載されているような特殊な装置が必要となる。
【００１２】
さらに、専門論文（Ｒ．Ｅ．ＰｅｅｐｌｅｓおよびＮ．Ｒ．Ａｎｄｅｒｓｏｎ著、「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐａｒｅｎｔｅｒａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」、第３９／１巻、第９頁〜１５頁、１９８５年）に基づき公知の方法では、マイクロ波入力結合を用いて、内毒素濃度低減の目的でバイアル内でプラズマを点火させることができた。プラズマはこの場合、レーザフラッシュを用いて点火され、僅か数秒間維持された。このときに、バイアル内部では大きな温度勾配が生ぜしめられ、例えば底部では３１℃、リップ部では１６６５℃であった。マイクロ波源およびレーザの使用に伴う技術的な手間や、特に種々異なる中空体サイズの場合に生じる不満足な点火確実性や、極端な温度勾配は、殊に包装技術における使用のためには不都合となる。
【００１３】
発明の利点
本発明によれば、プラズマが真空中で容器の滅菌したい領域の近傍に励起可能となるように電磁振動の励起を実施して、容器または対象物を滅菌する方法が、請求項１の特徴部に記載の特徴によって有利に改良される。このために本発明の方法では、容器および／または電磁振動を発生させる装置を運動させることにより、容器の滅菌したい領域をチャンバ内のロックゲート式の装入部とロックゲート式の取出し部との間で一回または複数回、所定の時間にわたって、電磁振動を発生させる装置に接近させて、当該領域で容器の内部および／または外部にプラズマを励起させるようにした。
【００１４】
本発明による方法ならびに本発明による方法を実施するために構成可能な装置の、以下に説明する実施態様は、低圧領域もしくは真空内での高周波プラズマまたはマイクロ波プラズマの励起を利用するものであり、この場合、このことは、接触汚染を回避しながら全ての側での処理を可能にするために、冒頭で述べた種類の処理したい容器を回転させると同時にプラズマ源もしくはプラズマ源カスケードに沿って搬送させて当該容器をマイクロ波界の入力結合部に対して規定の間隔を置いて案内することにより実現される。この場合、搬送装置の、容器と接触し得る全ての表面がプラズマに曝されることが特に有利となる。
【００１５】
さらに、容器装入部（ロックゲート式装入部）と容器取出し部（ロックゲート式取出し部）との間に延在されたプラズマゾーンを確実に形成することができることも特に有利である。全ての対象物、ガスまたは粒子は、ロックゲート式装入部からロックゲート式取出し部へ到達するために、このプラズマゾーンを横断しなければならない。これにより、取出し部に位置する無菌の充填領域が装入領域からの持込み汚染を受ける恐れがなくなることが確保されている。プラズマゾーンの長さに基づき、処理時間にわたって容器表面に付与されるプラズマ作用が場合によっては局所的または時間的に不均一になることも確実に補償される。この場合、相応する安全性付加ファクタを考慮するだけで済む。
【００１６】
それどころか、表面しか処理されないという理由から短いプロセス時間および高い処理効率が得られることに基づき、容器材料としてプラスチックを使用することが可能となる。それに対して従来では、公知の装置のうちのたいていの装置で加熱トンネルが使用されていることに基づき、容器材料としてガラスしか使用可能でなかった。
【００１７】
本発明による装置の第１の構成では、チャンバ内に搬送装置が設けられており、該搬送装置が、チャンバ内でのロックゲート式の装入部からロックゲート式の取出し部への搬送中に容器の、主として回転する運動を生ぜしめるようになっている。この場合、有利には、プラズマ源、つまり電磁振動を発生させる装置が、チャンバの外部に取り付けられており、この装置はチャンバの内部から入力結合装置によって分離されており、該入力結合装置によって、チャンバ内への、ひいては容器の滅菌したい領域への電磁振動の入力結合が行われると共に、チャンバの真空と、チャンバの外部の、チャンバ内の真空とは異なる圧力との分離が行われるようになっている。
【００１８】
本発明による装置の第２の構成では、チャンバ内に搬送装置が設けられており、該搬送装置が、チャンバ内でのロックゲート式の装入部からロックゲート式の取出し部への搬送中に容器の、主として回転する運動を生ぜしめるようになっている。しかしこの場合、電磁振動を発生させる装置を備えた少なくとも１つのプラズマ源が、チャンバの内部に取り付けられていて、チャンバの内部から入力結合装置によって分離されている。この入力結合装置により、チャンバ内への、ひいては容器の滅菌したい領域への電磁振動の入力結合が実施可能となる。前記少なくとも１つのプラズマ源は、容器を運動させかつ搬送するための１つまたは複数の搬送ローラ内に直接に取り付けられていてもよい。
【００１９】
本発明の有利な構成では、チャンバ内への、ひいては容器の滅菌したい領域への電磁振動の入力結合を行う前記入力結合装置が、石英、酸化物セラミックスまたはテフロン（ポリテトラフルオロエチレン）から成る層である。
【００２０】
本発明の別の有利な構成では、少なくとも１つのプラズマ源が例えば、マイクロ波領域の電磁振動を発生させるために形成されていることができ、この場合、プラズマ源はマイクロ波透過性の管またはプレートによりチャンバから分離されていて、チャンバ内へのマイクロ波入力結合が、導波管のホーン拡張部からまたはスロット出力結合部を通して実施可能である。その一方で、少なくとも１つのプラズマ源はまた、電磁振動を発生させるために電極を有していてよく、該電極を用いてチャンバ内へのイオン衝撃による容量式の高周波入力結合が実施可能である。本発明のさらに別の有利な構成では、コイルもしくは渦巻形アンテナを備えた装置も使用可能であって、該コイルもしくは渦巻形アンテナを用いて、プラズマ源をチャンバから分離するための装置に設けられた対応する窓を通じてチャンバ内への誘導式の高周波入力結合が実施可能である。さらに、プラズマ源をチャンバから分離するための装置に設けられた窓に、ファラデーシールドが取り付けられており、該ファラデーシールドを用いて、入射された界の磁気作用が電気作用から少なくとも部分的に分離可能である。
【００２１】
本発明による装置を用いた容器の搬送は、搬送装置の第１の実施形態により、簡単な形式で以下のように実施されることが可能である。容器は、チャンバ内での搬送時に水平方向で搬送方向に沿って少なくとも２つの搬送ローラに載置されており、これらの搬送ローラは、同じく水平方向で搬送方向に沿って位置する回転軸線を中心にして駆動されている。それによって、容器がプラズマ源の入力結合領域の傍らを回転させられながら搬送されるようになっている。
【００２２】
第２の実施形態では、容器がチャンバ内での搬送時に、回転する管内に位置しており、該管の中心または該管を取り囲むように少なくとも１つのプラズマ源が配置されている。容器がプラズマ源の入力結合領域の傍らを通って回転させられながら搬送されるように前記管は、水平方向で搬送方向に沿って位置する回転軸線を中心にして駆動されるようになっている。
【００２３】
第３の実施形態では、容器がチャンバ内での搬送時に、傾斜した平面に載置されており、容器が搬送方向に対して直交する方向の回転軸線を中心にして転動するようになっていて、容器がプラズマ源の入力結合領域の傍らを通って回転させられながら搬送されるようになっている。
【００２４】
さらに、有利な第４の実施形態では、容器がチャンバ内での搬送時に、ウォーム状の螺条を備えた少なくとも１つのローラに載置されているか、または接触しており、容器がプラズマ源の入力結合領域の傍らを通って回転させられながら搬送されるように前記ローラが、水平方向で搬送方向に沿って位置する回転軸線を中心にして駆動されるようになっている。この実施形態の変化形では、垂直に配置された回転するローラがスクリュー式駆動装置として配置されていてもよく、ローラは容器をその中央で搬送する。この場合、容器は特に有利には容器の口もしくは開口部を下方に向けてプラズマを通って搬送されることができる。
【００２５】
第５の実施形態では、容器がチャンバ内での搬送時に、搬送方向に運動可能な装置に載置されており、該装置が、搬送方向に対して直交する方向に回転可能な複数のローラから成っており、該ローラの間にそれぞれ容器が位置するようになっている。容器が、搬送方向における前記装置の運動時に、搬送方向に対して直交する方向の回転軸線を中心にして転がって、容器がプラズマ源の入力結合領域の傍らを通って回転させられながら搬送されるようになっている。前記ローラの回転運動は簡単な形式でチェーン駆動装置または歯駆動装置により行われるようになっており、該チェーン駆動装置または歯駆動装置に沿って、搬送方向に運動可能な装置は運動可能であり、さらにチェーン駆動装置または歯駆動装置に、ローラに設けられた対応する歯が噛み合っている。
【００２６】
さらに有利には、チャンバの下方および／または側方に並んで、少なくとも１つの別のプラズマ源が配置されており、該プラズマ源を用いて搬送装置の滅菌および／または搬送装置から落下した容器の滅菌が実施可能である。さらに、本発明による方法は、特に光線の発生、持続時間およびスペクトル成分に関する光線エミッションを測定することにより、プラズマの殺菌効果を求めることによって、さらに有利に改良されることが可能である。
【００２７】
実施例の説明
以下に図面を参照しながら本発明の実施例について詳説する。
【００２８】
図１には装置１の第１の実施例が示されている。装置１を用いて、容器２は装置１の非無菌の領域３にロックゲートを介して装入される。次いで容器２は、ここでは詳説されない機械的な装置により、第１のロックゲート４を通じて負圧チャンバまたは真空チャンバ５内に搬送され、この真空チャンバ５内で搬送装置（下で詳しく説明する）により、装置１の無菌の領域７へ取り出すための第２のロックゲート６の方向に運動する。次いで容器２は無菌の領域７から取り出すことができる。
【００２９】
図１には、プラズマ源としてのマイクロ波発信器の界もしくは場（Ｆｅｌｄ）によるチャンバ５内でのプラズマ８の発生が示されており、この場合、このことは矢印９によって概略的に示されている。図２には、図１に示した例のための搬送装置の第１の実施形態が示されている。この実施形態では、容器２が、ロックゲート４からロックゲート６への搬送中に、ローラ１０，１１により回転させられるので、容器２のすべての領域が一様にまんべんなくプラズマ８に曝されている。
【００３０】
重力を利用してロックゲート４とロックゲート６との間の距離を克服するために、図２に示した両搬送ローラ１０，１１を軽度に傾斜させることができる。この場合、容器２を絶え間なく回転させることにより、摩擦は最小限に抑えられる。
【００３１】
プラズマ源の一例は、マイクロ波放射線を同軸的に真空中に案内する線源（Ｌｉｎｉｅｎｑｕｅｌｌｅ）であり、この際、石英管により真空と内側の常圧との間の境界が規定され、かつ内部では、同心的に配置された金属棒が内部導体として働く。石英管の外面に励起されるプラズマは外部導体として働く。この原理は、面状のプラズマを形成するために、複数の上記線源のアレーによってカスケード化されて実施され得る。マイクロ波装置は一般的には３００ＭＨｚ〜３０ＧＨｚの周波数で運転される。
【００３２】
さらに、石英管の代わりに石英プレートも使用可能である。管材料またはプレート材料として石英の代わりに、別のマイクロ波透過性の材料、例えば酸化物セラミックスまたはテフロン（ポリテトラフルオロエチレン）を使用することもできる。スロット出力結合部または導波管のホーン拡張部（Ｈｏｒｎａｕｆｗｅｉｔｕｎｇ）によって、マイクロ波放射線を真空内に面状に入力結合することも可能である。
【００３３】
これに関連して、図１および図２に示した搬送装置に関して、任意の材料から成る横置き式に回転する両搬送ローラ１０，１１の代わりに、内部に銅棒を備えた回転する石英管を使用することもできる。その場合にはローラ１０，１１が固有のプラズマ源となる。
【００３４】
以下に、提案された装置を用いたプラズマ滅菌の原理的な作動方式について説明する。
【００３５】
高周波放射線またはマイクロ波放射線の入力結合部の領域、つまり図１に示したプラズマ源９の領域では、場の強さが最大となり、かつここで最も容易に励起され得る。しかし、放射線を吸収しかつ導出することができることにより、プラズマを電気的な導体としてシールドすることもできる。それにより、放射線が引き続き伝播することが阻止されるかまたは少なくとも弱められる。
【００３６】
プラズマ源９による入力結合部に対する容器２の最小限の距離により、本実施例では、入力結合部と容器２との間の、いわゆる「密なプラズマ」が発生される。したがって、容器２の内部にもプラズマ８を励起させるために、容器２の内部にも入射された出力の十分な部分が提供される。すなわち、容器２の壁と入力結合部との間の間隔は、プラズマが容器の内部にのみまたは少なくとも大部分が内部に発生するように設定されるか、大きな間隔の場合にプラズマが容器の外部にのみ発生するように設定されるか、またはプラズマが容器の内部と外部とに同時に発生するように設定され得る。そこで、複数のプラズマ源９が使用されると、容器２のすべての壁領域の完全な処理を順次に、あるいは同時に達成することができる。
【００３７】
図３には、約１０ｋＨｚ〜２７ＭＨｚの電磁波のための、プラズマを発生させるための容量式の高周波入力結合（ＲＦ）が示されている。入力結合は、電極２０と対向電極２１との間で行われる。対向電極２１は真空チャンバ５の、アース接続されたハウジングであってよい。この際に、電極２０が対向電極２１の著しく大きな面積に比して小さな面積を有していると、電極２０は高いイオン衝撃を保証することができる。
【００３８】
図４には、渦巻形アンテナもしくは平面コイルアンテナ（Ｓｃｈｎｅｃｋｅｎａｎｔｅｎｎｅ）２２としてのコイルによる誘導式の高周波入力結合が示されている。この渦巻形アンテナ２２は大気圧下にあり、かつチャンバ５内で石英窓またはテフロン窓２３の上方に取り付けられており、石英窓またはテフロン窓２３は、真空下にあるチャンバ内部を、常圧もしくは大気圧下にある外部から分離している。
【００３９】
図５には、図４に示したような誘導式の高周波入力結合に、「ファラデーシールド」２３が付加的に取り付けられた構成が示されている。ファラデーシールド２３は、入射された界の磁気作用を電気作用から分離するために働く。
【００４０】
以下の実施例では、装置１内で容器２を回転させながら搬送するための種々異なる手段を説明する。
【００４１】
図６および図７に示した実施例では、容器２が、ほぼ水平に位置しているかまたは軽度に傾けられた回転する管２４内に位置しており、この管２４の中心には例えば、図２につき説明したような石英管１２が配置されている。択一的には、回転する管２４を取り巻くように単数または複数のプラズマ源が配置されていてもよい。その場合には管２４は石英またはテフロンもしくはポリテトラフルオロエチレンから製作されている。
【００４２】
図８に示した実施例では、容器２の転動は傾斜した平面２５に沿って行われる。重力により、搬送方向２６に対して直交する向きで位置する容器２は、その長手方向軸線を中心に回転させられる。
【００４３】
図９に示した実施例では、水平に配置された両方のローラ２７，２８（図２に示したローラ１０，１１参照）が、ローラのその他の表面に対して比較的高い摩擦係数を備えた、ねじ山状に載設された区分または螺条を有している。この場合、ローラ２７，２８はスクリュー式駆動装置（Ｓｃｈｎｅｃｋｅｎａｎｔｒｉｅｂ）として働くので、容器２は所定の通りロックゲート４からロックゲート６に搬送され得る。一方のローラにのみそのようなねじ山構造を設け、ねじ山構造のない第２のローラを、場合によっては摩擦係数の低い表面を有した対応支持装置（Ｇｅｇｅｎｌａｇｅｒ）として使用しても十分である。
【００４４】
図９に示した、螺条を備えたローラ２７，２８は、例えば摩擦係数の低い表面を有したプレートまたは第３のローラにより容器２がガイドから脱落しないことが保証される場合、垂直またはほぼ垂直に構成されてもよい。この場合には、容器２はその開口部を下向きに搬送されることもできる。プレートとして、プラズマを真空内で励起するために設けられている、電界の入力結合窓が働くこともできる。
【００４５】
容器は図１０および図１１に示したように、チェーン３３上で歯駆動装置を介して駆動されるローラ３２上で搬送されることも可能である。この場合、チェーンリンクは、その上に位置する容器２がその長手方向軸線を中心に回転させられるように構成されている。
【００４６】
上述した搬送装置の滅菌をさらに確実なものにするために、図１２に示すように、単数または複数の付加的なプラズマ源３４，３５が、本例では例えば図９に示した搬送装置の下方または側方に配置されることができる。搬送装置の下のプラズマ源３５は、場合によっては処理領域から落下した容器２もしくはその他の対象物、部分または粒子を同様に滅菌するために使用されることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
プラズマを励起する負圧チャンバまたは真空チャンバ内に配置された、滅菌したい容器を通過させるための搬送装置を備えた装置の概略図である。
【図２】
図１に示した、２つのローラを備えた搬送装置の断面図である。
【図３】
電磁界の、高周波の容量式の入力結合によりプラズマを励起する原理回路図である。
【図４】
電磁界の、高周波の誘導式の入力結合によりプラズマを励起する原理回路図である。
【図５】
ファラデー遮蔽を備えた、図４に示した装置の変化形を示す図である。
【図６】
容器が、中心にプラズマ源を配置した回転する管の中で運動させられるようになっている搬送装置の実施例の原理図である。
【図７】
図６に示した装置の横断面図である。
【図８】
容器が傾斜した平面に沿って運動するようになっている、搬送装置の実施例の原理図である。
【図９】
容器がスクリュー式駆動装置により運動させられるようになっている、搬送装置の実施例の原理図である。
【図１０】
容器がチェーン搬送装置により運動させられるようになっている、搬送装置の実施例の原理図である。
【図１１】
図１０に示したチェーン搬送装置の平面図である。
【図１２】
チャンバ内でプラズマが２つの対向して位置するプラズマ源により励起されるようになっている、図９に示した搬送装置を備えた装置の概略図である。
【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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