(57)【要約】各々異なる幾何学的アライメント手段を有する２つのランプ源を具えたプロジェクションディスプレイシステム用の均一光効率照明装置である。円環状断面ビームを有する第１の光源と該円環状断面ビームの円形内部空間に一致する大きさの円形断面を有する際２の光源を合成することにより、低コスト素子を用いて従来得られていた光ビームより明るく高いビーム均一性を有する光ビームを生成する。円環状ビームは、光軸に向け配置された後部球面リフレクタと前部放物面リフレクタを有する第１のランプにより発生させる。円形ビームは、前部球面リフレクタと後部本発明物面リフレクタを有するとともに前記光軸に対し直角方向に向け配置された第２のランプにより発生させる。２つのビームを前記光軸に対し４５°に配置された楕円形平面リフレクタで合成して相補ビームを形成し、高い効率均一分布光源を提供する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２つのランプとリフレクタを具えビームを供給する照明装置と、
前記ビームを画像情報で変調する光バルブと、
変調されたビームをスクリーン上に投写する投写レンズと、
を具え、画像情報をスクリーン上に投写するプロジェクションディスプレイ装置において、前記照明装置は、
第１の光源と第１の反射手段を有し、環状ビームパターンを有する照明パターンを光軸方向に発生する第１のランプと、
第２の光源と第２の反射手段を有し、円形の照明パターンを前記第１のランプの光軸に対し所定の角度の方向に発生する第２のランプと、
前記第１ランプの環状ビーム内の円形暗空間の大きさ及び形に一致する大きさ及び形を有する平面ミラーと、
前記平面ミラーを前記第１及び第２の光源からの光ビームの結合部の中心に固定手段で保持する透明マウント構造体であって、前記平面ミラーを前記第２光源の照明パターンが前記第１ランプの環状ビームの円形暗空間を照明するように前記第１ランプの光軸に対し所定の角度に向ける透明マウント構造体と、
前記第１ランプの光軸に垂直の平面を有し、前記２つの光パターンが供給されるアパーチュアと、
を具えるプロジェクションディスプレイ装置。
【請求項２】
前記第１反射手段は球面状後部と放物面状前部を有するリフレクタを具え、該リフレクタは前記光軸の方向に向いていることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記第２反射手段は球面状前部と放物面状後部を有するリフレクタを具え、該リフレクタは前記所定の角度と関連する軸線の方向に向いていることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記第１及び第２の各光源は加圧容器内で２つの電極間に電気放電を生ずるアーク管を具えることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記平面ミラーは楕円形を有し、該楕円形が前記アパーチュアの透視図から見て円形に見える向きに配置されていることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記平面ミラーは、前記アパーチュアの透視図から見て、前記第１ランプにより発生される環状照明パターン内の非照明領域の大きさに一致する大きさを有することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記固定手段は前記平面ミラーと前記透明マウント構造体との間の複数の共通接続点に加えた機械的固着作用要素又は処理であることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項８】
前記平面ミラーは前記の大きさと前記の形状を有する高反射性被膜であり、前記マウント構造体は前記被膜用の薄い透明平面基板であり、前記基板のミラー区域外は反射損失を最小にするために反射防止膜処理され、前記反射性被膜は前記基板の前記第２ランプに対面する側に被着され、前記基板は前記第１ランプの開口の外部に延在することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項９】
前記第２光源は前記第１光源の照明エネルギーより小さい照明エネルギーを有することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項１０】
前記平面ミラーは前記第１光源の光軸に対し４５度の角度で配置されていることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項１１】
前記第１及び第２光源の照明パターンは前記アパーチュアで相補的に合成され、互いに殆ど重なり合わないことを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項１２】
前記第２反射手段は放物面リフレクタを備え、該リフレクタは前記平面ミラーに供給する光束が最大になるように前記第２光源の特性に従って決定された焦点距離及び開口を有することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項１３】
前記第２反射手段は、前記平面ミラーの投影直径に等しい通径を有するとともに該通径より大きい開口直径を有する放物面リフレクタを具え、該放物面の焦点に第２光源が位置し、前記放物面リフレクタの光軸に中心が位置し前記通径に等しい直径を有する透明円形領域を有する平面ミラーが前記放物面リフレクタの開口の外側に該リフレクタの光軸に垂直に配置されていることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項１４】
前記第２反射手段は、楕円面リフレクタを該リフレクタの光軸に沿って配置された少なくとも１つのレンズとともに具え、前記リフレクタと前記レンズの特性が前記第２光源により発生され前記平面ミラーに到達する光ビームの光束及びコリメーション度が最大になるように選択されていることを特徴とする請求項１記載のプロジェクションディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロジェクションシステムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶光変調器を使用する慣例のプロジェクタでは、通常単一のランプで照明を行っている。代表的には、このランプは、簡単化、コスト及びサイズのために、単純円錐リフレクタ、即ち通常二次屈折光学系を具えた放物面又は楕円面リフレクタ内に配置された高強度放電光源からなる。最近のプロジェクションシステムにおいては光学系の相対的に小さい実効エテンデュー（etendue）又は光学範囲（optical extent）が照明装置から集光し得る光量を制限し、殆どの場合に十分な光を供給するために放電光源が要求される。光変調器のサイズはシステムのコストを低減するために減少しつづけているため、光学系のエテンデューが制限され、従って慣例の照明装置を用いてスクリーン輝度を増大もしくは維持することが一層難しくなっている。錐断面リフレクタは、更に、投写光学系に中継するアーク像の倍率がアパーチュアの位置に応じて変化する欠点を有する。更に、照明は放電光源からの放射パターンの結果としてアパーチュア断面上で通常均一にならない。後者の欠点は、通常、像平面にてこれらの局部強度パターンを重畳して比較的均一な照明を提供するフライアイアレイ、光パイプ又は光ファイババンドルのような光インテグレータで解決される。前者の欠点は集光の低減を生じるが、徹底的なインテグレータ設計により幾分軽減することができる。しかし、これらの設計は困難であるとともに製造に費用がかかる。現在、集光が緊急の問題であるが、均一性も依然として重要である。
【０００３】
単一ランプからの集光はリフレクタの設計により改善することができ、代表的には２つの方法で実行されている。第１の、いわゆる「一定倍率」法では、リフレクタのプロファイルを放物面又は楕円面から、アパーチュア全体に一定サイズの像を生成するように修正する。この方法は通常補助光学系を必要とし、この光学系は出力の強度分布を均一にするのにも役立だてることもできる。（Ｔｒｕｅ他の発明及び清水の発明参照）。第２の方法では、もっと複雑なリフレクタを工夫することができる。（Ｔｒｕｅ他の特許出願及び清水の特許出願参照）。Ｔｒｕｅ他は、第１焦点に放電光源を備える楕円面部分を有する複合リフレクタが開示している。楕円面の第１焦点より前方の部分を球面リフレクタ部分と置換し、この部分に衝突した光は放電管を通して楕円面リフレクタ部分に反射バックされ、そこから第２焦点に反射される。光屈折集光板と共同して、比較的短いリフレクタにおいて大きな焦点距離を使用することができる。このようなシステムの両部分からの集光は向上するが、単一光源からの利用可能光量で制限される。清水の発明による一定倍率システムは、高品質放物面リフレクタとＵＨＰ（ultra-high pressure）短アーク放電管を用いる低エテンデューシステムにおいて、１２〜２０％の集光の改善を示している。
【０００４】
多数の光ビームを用いてスループットを向上させることもできるが、各ビームのエテンデューが加算されるため、プロジェクタ光学系のエテンデューが入力を利用するのに十分な大きさでなければ、予想されるほど有利にはならない。大きなシステムエテンデューに対してのみ、集光の増倍数は光源の数に近くなる。例えば、各々面積Ａの２つのビームを何らかの光学手段により同様に面積Ａのアパーチュア上に重畳する場合、これは、その結果得られるビームの発散角が２倍になる場合にしか達成し得ない。小さい発散角を維持する必要がある場合には、ビームを２Ａに近い面積内で合成するしかない。
【発明の開示】
【０００５】
本発明の目的は、プロジェクションシステムのアパーチュアを通過する光ビームの量と質を向上させることにある。
この目的のために、本発明のプロジェクションシステムは請求項１に記載された構成とする。
【０００６】
従って、本発明によれば、直交配置された安価なリフレクタを有する２つの光源と、２つの光源からのビームを合成する固定ミラーとを具える照明装置の使用により、液晶ディスプレイプロジェクタのアパーチュアを通過する光ビームの量と品質を従来より高めることができる。第１光源は球面後部リフレクタと放物面前部リフレクタを有し、アパーチュアに環状（例えばドーナッツ状）の光パターンを発生する。第２光源は放物面後部リフレクタと球面前部リフレクタを有し、前記環状光パターンの中心暗部を照明する相補円形光パターンを発生する。前記ミラーは楕円形を有し、光軸に対し４５度に配置されるとともに両光ビームの中心に位置して高効率且つ均一分布照明光を発生する。
【０００７】
２つの光源の出力を、重畳しないで、主として空間的に補完しあうように合成する。この方法は、安価なリフレクタで実現でき、屈折光学素子を必要としないため、簡単、コンパクト及び低コストである利点を有する。更に、慣例の錐断面リフレクタにより発生されるものより均一な照明を光学系の入力アパーチュアに提供する利点を有する。
【０００８】
反射素子及び屈折素子を用いて光ビームを空間的に重畳してプロジェクタの輝度を向上させる技術は、例えば特開平５-１９３５５号公報及び特開平６-２４２３９７号公報及びＥＰ６８３４２５に開示されている。
【０００９】
本発明の他の有利な実施態様は従属請求項に記載されている。
本発明のこれらの特徴及び他の特徴は以下に記載する種々の実施例の説明を参照すると明らかになる。
【００１０】
図１ａ及び１ｂはビデオ又はデータ／グラフィックスプロジェクタの照明装置用のいくつかの慣例の装置を示す。図１ａにおいて、放物面リフレクタ１２の焦点に位置する光源１０からの光は光軸１６に(代表的には数度の範囲内で)平行な出力ビーム１４を発生する。しかし、ビーム１４の強度及び角度偏差はアパーチュア１８上で均一にならない。強度分布は光源の放射パターンにより支配され、ランプ構成要素によるエミッションの陰影妨害及び光源容器による屈折及び／又は散乱により代表的には中心部が暗い円柱ビームを生ずる。
【００１１】
光線束の角度分布は光源の実効サイズ及び錐断面リフレクタの公知の収差、主としてこま収差とにより抑制される。均一化光学系が通常必要とされ、この光学系をここではフライアイインテグレータアレイとして示すが、光パイプ、光ファイババンドル等とすることもできる。このような光学系はプロジェクタ内の規定位置の光源のオバーラップ像を発生し、強度分布をかなり均一化する。入力ビームを均一にすればするほど、インテグレータ光学系を簡単にすることができる。
【００１２】
図１ｂでは、楕円面リフレクタ２０が光源１０からの光をほぼ第２焦点に向け反射し、次いで(１以上の)レンズ２２でコリメートされる。リフレクタ２０と有限光源１０の組合せからのビームの収差及び強度分布は代表的には追加の均一化光学系を必要とする。
【００１３】
他の例では、楕円面リフレクタ２０を通径２４で切断して短くし、第１楕円焦点に中心を有する球面リフレクタ部分２６を付加して図１ｃに示すような照明装置２８を形成することができる。球面部分２６を楕円２０の通径２４にて直径に沿って切断し両部分２０、２６を完全回転面にすると、光ビーム３０が発生する。照明装置２８は第１及び第２焦点距離の適切な選択により更に短くすることができる。複合リフレクタの使用は従来既知である（例えば、P.J. Brownscombeの米国特許第３，０７８，７６０号明細書参照）。
【００１４】
図１ｃに示す照明装置はTrue及びGoodの米国特許第４，３０５，０９９号明細書に提案されている複合リフレクタに類似する。これは前者の特許と１つの点で相違し、True及びGoodの設計は２つのリフレクタ部分を、循環放射が光源の中心を通過しないようにオフセットさせている。その理由は、指定されたランプ内の放電が光学的に濃密（高吸収性）であるためである。従って、リフレクタの光学精度が低下する。
【００１５】
図１ｃに示す例では、リフレクタ部分２０，２６は、最大可能の光がアークを通って戻り最良の光学性能が達成されるようにするために上述したように精密に整列させる。この例は、光学的に細い放電を含む超高圧水銀放電（ＵＨＰ）光源を使用するとき可能である。
【００１６】
図１cに示す照明装置の変形例は、楕円面後部ではなく放物面後部を有する複合リフレクタを備える。放物面部分に衝突した光はほぼ平行にアパーチュアに向けられる。球面部分に衝突した光はアークを通って再循環して放物面鏡部分に戻り、そこでほぼ平行な光線束になる。この場合には、通径により放物面のアパーチュアが決まり、従って放物面の焦点距離を同一アパーチュアサイズの単純リフレクタの場合より著しく大きくすることができる。これは、リフレクタのＦナンバーの増大と等価であり、出力ビームの角度偏差が低減する。
【００１７】
照明装置２８のように構成された装置の場合には、再利用ビームの角度偏差が僅かに増大するが、このような複合リフレクタは、アーク光源が過度に吸収性でない限り、図１ａに示す単純放物面より高い性能を示す。しかし、上述したように、放電ランプの放射パターンのために円形ビームに中心暗部を生ずる。
【００１８】
図２は本発明の１つの目的に従って構成したリフレクタを有する装置３２を示す。アーク光源１０は半球面リフレクタ部分３４の中心に位置し、後向き放射を半球面部分３４から反射して光源１０を通して放物面部分３６に戻し、ここでほぼコリメートした出力ビーム３８として前方に供給する。放物面部分は半球面の直径が位置する通径２４で切断されている。従って、光源１０は球面３４の中心に位置するとともに放物面３６の焦点に位置する。
【００１９】
当業者に既知のように、放物面の焦点に位置する点光源から出た光は該放物面に衝突してリフレクタの光軸にほぼ平行に反射され、射出ビームの発散はごく僅かである。しかし、実際のランプからのビームは実光源の有限長のために必然的に発散する。また、実ランプからのビームの発散又は角度倍率は光軸からの距離に伴い減少するとともに放物面の焦点距離の増大とともに減少する。この設計のリフレクタから発生するビームは、ある場合には、標準放物面のリフレクタからの光より小さい平均発散角、従って低いビームエテンデューを有するものとすることができる。従って、この場合には、プロジェクタ光学系により一層効率よく集光することができる。ビーム３８はプロジェクタアパーチュアにおいて環状パターン４０を生成する。
【００２０】
球面部分３４の直径は任意の実用値にすることができ、図２に示す例のように放物面３６の通径に等しくする必要はない。図示の例は１つのピースに精密に成形し得るため、製造に最も容易な構成であるが、もっと大きな球面直径を使用することにより光学的に有利とすることができる。
【００２１】
このような複合リフレクタは投写光学系に使用するアーク光源出力の集光効率を改善するが、出力光は単一ランプの使用により依然として制限される。従って、本発明の他の目的は特定の設計の２つのランプを具え、投写光学系のアパーチュアにおける光強度及び光束均一性を増大するように構成した照明装置を提供することにある。
【００２２】
特に、これらのランプを、第１ランプの出力ビームが第２ランプの出力ビームを補完するよう配置し、プロジェクタ光学系が合成した光を受光して総合光出力が単一ランプ及びリフレクタからの総合光出力より大きくなるようにする。
【００２３】
従って、図３に本発明による２つの光源を用いるビデオプロジェクタ用照明装置４４を示す。照明装置４４は図２に示すようなランプ３２からの光パターンを第２光源４６と合成する。第２光源４６はランプ３２のビームパターンの中心暗部４２を満たすビームパターンを発生する図１ｃに示すランプ２８に概念的に類似するランプ、又は他の設計のランプ単独又は追加の光学素子が付加されたものとすることができる。
【００２４】
ランプ４６からの光は楕円形のミラー５２によりアパーチュア４８及びプロジェクタ光学系５０に向けられる。このミラー５２は透明構造体５４に、ランプ３２からの光ビームの中心に位置するように永久的に固定される。ランプ３２の光源及びリフレクタからの環状ビームは透明構造体５４を僅かな減衰で通過する。
【００２５】
一実施例では、ミラー５２は透明基板上に堆積し、ミラー部分の外部は反射損失を最小にするために反射防止膜で被覆し、ランプ３２からのビームがミラー３２の周囲を通過するようにする。他の実施例では、ミラー５２を細い構造部材で支持し、これらの構造部材で、ミラー５２をランプ３２からのビームを妨害しないように位置させる。楕円形ミラー５２はランプ３２からのビームに対して円形目標を与え、ランプ４６からの光ビームをアパーチュア４８に向けるためにランプ３２の暗領域と相補的に適切にフィットする大きさに定める。更に説明すれば、アパーチュア４８の光軸に対し４５度に配置された楕円形ミラーはアパーチュア４８の透視図から見ると円として見える。
【００２６】
ランプ３２に対し直交配置されたランプ４６及び光軸に対し４５度に配置されたミラー５２を示す図３は一例にすぎない。円形の第２ビームをアパーチュア４８の中心に向けるためには他の角度配置を使用することもできる。これに対応してミラー５２の形もアパーチュア４８から見て円形が維持されるように変更する必要がある。図示のランプ４６も一例であり、所定のシステムに対する最良のランプ設計はこれから相違させることができ、投写光学系のエテンデューに依存する。
【００２７】
図４は図３に例示する２つのランプのビームパターンを示す。ビームパターン５４はランプ３２により発生され、円環状の照明パターンを形成する。パターン５４をランプ４６からミラー５２を経て供給されるビームパターン５６と合成すると、ビームパターン５８が生成され、顕著な暗領域を含まないものとなる（光源の放射パターンによる小さな中心暗部が存在しうるが、設計によりなくすことができる）。
【００２８】
図５は２ランプ照明装置の第２の実施例を示す。本例では、ランプ３２とともに第２のランプ６０を具える。このランプ６８は、放電光源６２と、楕円面リフレクタ６４と、ランプ６０の光軸上でリフレクタ６４の第２焦点距離より先で且つミラー５２の前に位置する１以上の屈折素子６６とを具える。レンズ６６は当業者に既知のようにミラー５２におけるビームコリメーションを改善する。最終レンズ径及び位置、及びリフレクタの焦点距離は投写光学系への光転送が最大になるように選択する。
【００２９】
図６は２ランプ照明装置の第２の実施例を示す。本例では、ランプ３２とともに第２のランプ６８を具える。このランプ６８は放電光源７０と放物面リフレクタ７２を具える。リフレクタ７２は前記光源から投写光学系への光転送を最大にすべく最適化された開口及び長い焦点距離を有する。選択した光源の放射パターン７４のために、ランプ開口をミラー５２の投影面積より大きくすれば、有用出力を所定の状況において最大にすることができること明らかである。
【００３０】
図７は２ランプ照明装置の第４の実施例を示す。本例では、ランプ３２とともに第２のランプ７６を具える。このランプ７６は、放電光源７８と、ランプ７６の光軸方向におけるミラー５２の投影直径に等しい通径を有する放物面リフレクタ８０と、前記光軸に中心を合わせて配置された前記通径に等しい直径の透明区域を有する平面ミラー８２とを具える。通径の後方の放物面リフレクタ８０に衝突した放射は前方に反射され、そこから平面ミラー８２の孔（透明区域）を通ってミラー５２に直接到達する。通径の前の放物面リフレクタ８０に衝突した放射は前方に向い、平面ミラー８２から放物面リフレクタ８０に反射されてほぼ光源位置を通って放物面リフレクタ８０の通径の背後部分に衝突し、最後に前方に反射されて平面ミラーの孔（透明区域）を通ってミラー５２に到達する。
【００３１】
図５〜図７はそれぞれのリフレクタ内の模範的な有限光源からの仮想ビームパターンも示している。図８は第１の実施例における２つのランプ３２及び４６の理想化したビーム光路を示す。光源１０からランプ３２のリフレクタの通径の前方に放射された光ビームは放物面で点８４において反射し、アパーチュア点８６に到達する。光源１０からランプ３２の通径の後方に放射された光ビームは半球面で点８８において反射し、光源１０を通過して放物面の点９０に衝突し、そこからアパーチュア点９２に到達する。この光ビームは光源１０から放物面点９０で反射してアパーチュア点９２に到達する前方放射ビームに加わり、ビーム強度を増大する。
【００３２】
模範的実施例では環状パターンの形状を円形としたが、ランプの特定の形状に依存して種々の形状が考えられる。他の形状の実施例では、ミラー５２及び第２ランプを環状パターンに対応する形状に構成することができる。
【００３３】
図８に戻り更に説明すると、ランプ４６の光源９６からの後方放射光ビーム９４は放物面点９８で反射し、アパーチュア点１００に到達する。光源９６からの前方放射ビーム１０２は球面点１０４で反射され、光源９６を通過して放物面点１０６に衝突し、そこからミラー５２及びアパーチュア点１０８に到達する。このビームは、光源９６から前記放物面点１０６で反射して前記アパーチュア点１０８に到達する前方放射ビームに加わり、ビーム強度を増大する。
【００３４】
本発明の主目的は投写光学系に利用し得る光束を増大することにあり、ビーム均一性はあまり考慮していない。このような照明装置においては均一性を改善するためにインテグレータ光学系の使用を想定している。従って、各ランプにより発生されるビームの強度を同一にする必要はない。しかし、これを設計目標とするならば、本発明の所定の実施例では、第２ランプの特性出力を設計又は入力パワー制御により調整可能にして一層良好な均一性を提供することができる。第２ランプの出力特性のこのような調整は、後続する投写光学系の設計及び特性を考慮しないで行うことができる。
【００３５】
本発明の本質的な特徴は、第１及び第２ランプからの２つのビームを、例えば特開平６−２４２３９７号公報において忠地が提案している楕円面リフレクタ及び特開平５−１９３５５号公報において池田が提案している単一リフレクタ内の２重光源のように大きく重畳させるのではなく、相補的に合成する点にある。この相補的合成はビームを重畳する方法より大きな使用可能な光束を投写光学系に導く。例えば、約１２ｍｍ２−ｓｒのエテンデューを有するシステムに対し（重畳ビームではなく）相補合成ビームを使用することにより、本発明の模範的な実施例によれば、当該システムに対し適正サイズの単純放物面リフレクタ内の同一の光源から得られる利用可能光の約１．７５倍の利用可能光を発生することができる。
【００３６】
本発明の場合には、理想的なパターン又は強度分布を有し得ない低エテンデュービームを発生するリフレクタを用い、その出力を、第２ランプからの幾分高いエテンデューの第２ビームで補完してプロジェクタ光学系に利用可能な光束を向上させるとともに得られる総合ビームパターン及び強度分布を改善することができる。
【００３７】
以上から明らかなように、本発明は、デュアルランプのその他の実施上の光学的又は機械的複雑性なしに、高品質の光ビームを発生することができる、更に、固定のミラー５２及び第２ランプ４６，６０，６８，７６とランプ３２とを組み合わせることにより光束、ビーム品質、簡単性、信頼性及びコストの著しい改善が得られる。
【００３８】
図９は２ランプ照明装置を具えるビデオプロジェクション装置を示す。このビデオプロジェクション装置は第１ランプ３２と、第２ランプ４６と、照明ビーム供給用の固定ミラー５２とを具える。このビームプロジェクション装置は、例えば赤、緑及び青の３つの異なる色の部分を有するビームを供給するためにモータ９４により回転可能なカラーフィルタホイール９５を具えることができる。
【００３９】
更に、このビデオプロジェクション装置は、ビデオディスプレイパネル、例えば液晶ディスプレイパネル９６と、液晶ディスプレイパネル９６の制御信号を発生するとともにモータ９４の駆動信号を発生するビデオ処理システム９３を具える。ビデオ処理システム９３は、動作中、ビデオソース９１により供給されるビデオ信号から制御信号を発生し、液晶ディスプレイパターン９６に供給する。この制御信号はカラーフィルタホイール９５の回転と同期する。
【００４０】
動作中、ランプ３２及び４６からの複合照明ビームが液晶ディスプレイパネル９６に入射する。カラーフィルタホイールが液晶ディスプレイパネル９６の１以上のラインを走査し、すべてのラインが照明ビームの赤、緑及び青色部分で連続的に照明される。液晶ディスプレイパネルに入射するビームの各部分は制御信号により画像情報に従って変調される。投写レンズ９７は変調されたビームをスクリーン（図示せず）に結像する。
【００４１】
プロジェクションディスプレイシステム９０には他の構成の光バルブディスプレイを使用することもでき、例えばディジタルマイクロミラー（ＤＭＤ）デバイス又はリキッドクリスタルオンシリコン（ＬＣＯＳ）デバイスを使用することができる。
【００４２】
以上の記載を考慮すれば、本発明の種々の変更例や変形例が当業者に明らかである。従って、以上の記載は例示にすぎず、当業者が本発明を最良の形態で実施可能とするためである。実施例の細部は本発明の範囲から逸脱することなく変更可能であり、本発明の範囲に含まれるすべての変更の独占的使用も留保される。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】１ａ−１ｃはビデオプロジェクタ用のいくつかの慣例の照明装置を示す図である。
【図２】本発明の１つの目的に従って構成したリフレクタを有するランプを示す図である。
【図３】本発明による２つの光源を用いるビデオプロジェクタ用の照明装置を示す図である。
【図４】図３に示す装置の２つの光源のビームパターンを示す図である。
【図５】第２ランプが楕円面リフレクタとコリメータレンズを用いる２ランプ照明装置の他の実施例を示す図である。
【図６】第２ランプが放物面リフレクタを用いる２ランプ照明装置の他の実施例を示す図である。
【図７】第２ランプが追加の平面ミラーを含む２ランプ照明装置の他の実施例を示す図である。
【図８】図３に示す照明装置の２つの光源のビーム光路を示す図である
【図９】２ランプ聡明装置を具えるビームプロジェクタシステムを示す図である
【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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