(57)【要約】オレフィンの重合用触媒組成物は、（Ａ）少なくとも１種のか焼処理したマナセアイト、（Ｂ）少なくとも１種の有機遷移金属化合物、（Ｃ）必要により、１種以上のカチオン形成化合物、及び（Ｄ）少なくとも１種の有機マグネシウム化合物、を含んでいる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）少なくとも１種のか焼処理したマナセアイト、
（Ｂ）少なくとも１種の有機遷移金属化合物、
（Ｃ）必要により、１種以上のカチオン形成化合物、及び
（Ｄ）少なくとも１種の有機マグネシウム化合物、
を含むオレフィン重合用触媒組成物。
【請求項２】
アルミニウム−マグネシウムの混合酸化物をか焼処理したマナセアイトとして使用する請求項１に記載の触媒組成物。
【請求項３】
有機マグネシウム化合物（Ｄ）が少なくとも１種のＣ１〜Ｃ２０炭化水素基を含む請求項１または２に記載の触媒組成物。
【請求項４】
カチオン形成化合物（Ｃ）が、式（Ｘ）または（ＸＩ）：
【化１】
2004503621.tif 000032
［但し、Ｒ２１がＣ１〜Ｃ４アルキル基を表わし、ｍが５〜３０までの整数を表す］
で表される鎖状または環式のアルミノキサン化合物である請求項２または３に記載の触媒組成物。
【請求項５】
更に、追加成分（Ｅ）として、式（ＸＶ）：
【化２】
2004503621.tif 000033
［但し、ＭＦがＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｂｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウムまたはタリウムを表わし、
Ｒ１Ｆが水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリールまたはアリールアルキルを表わし、
Ｒ２Ｆ及びＲ３Ｆがそれぞれ水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリール、アリールアルキルまたはアルコキシを表わし、
ｒＦが１〜３までの整数を表わし、
ｓＦ及びｔＦが０〜２までの整数を表わし、且つｒＦ、ｓＦ及びｔＦの合計がＭＦの原子価に相当する］
で表される１種以上の金属化合物を含む請求項１〜４のいずれかに記載の触媒組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の触媒組成物と、この組成物に重合される直鎖のＣ２〜Ｃ１０−１−アルケンを１：０．１〜１：２００の質量比で含む予備重合触媒組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の触媒組成物をオレフィンの重合または共重合に使用する方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれかに記載の触媒組成物の存在下にオレフィンを重合または共重合することによってポリオレフィンを製造する方法。
【請求項９】
重合に使用されるモノマーがエチレン、又はエチレンおよび／またはエチレン含有率５０モル％以上のＣ３〜Ｃ１２−１−アルケンのモノマー混合物である請求項８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、
（Ａ）少なくとも１種のか焼処理したマナセアイト（ハイドロタルク石）、
（Ｂ）少なくとも１種の有機遷移金属化合物、
（Ｃ）必要により、１種以上のカチオン形成化合物、及び
（Ｄ）少なくとも１種の有機マグネシウム化合物、
を含む触媒組成物に関する。
【０００２】
更に本発明は、オレフィンの重合または共重合用触媒組成物の使用法及び触媒組成物の存在下にオレフィンを重合または共重合することによるポリオレフィンの製造方法に関する。
【０００３】
メタロセン錯体等の有機遷移金属化合物は、オレフィン重合用触媒として、その重要性が増している。なぜなら、この化合物により、従来からのチーグラ−ナッタ触媒を使用して得られなかったポリオレフィンの合成が可能となるからである。例えば、かかるシングルサイト触媒により、モル質量分布が狭く且つコモノマーを均一に取り込んでいるポリマーが得られる。この触媒に関して、気相または懸濁液での重合処理において良好に使用可能とするために、メタロセンを固体の状態で使用するのが有効な場合があり、即ち、このメタロセンを固体の担体に施す場合に固体の状態で使用するのが有効である。更に、この担持触媒は、高い生産率を有している。
【０００４】
オレフィン重合用触媒の固体担体材料として、屡々、シリカゲルを使用可能である。なぜなら、オレフィン重合用担体として適当な状態とする寸法及び構造を有する粒子が、この材料から製造可能だからである。一次粒子として知られている、小さな顆粒状の粒子である球形の凝集物から構成される噴霧乾燥シリカゲルは、この目的のために特に有用であると見出された。
【０００５】
しかしながら、担体材料としてシリカゲルを使用するのは、特定の用途において不都合であることが見出された。フィルム製品の製造において、ポリマー中に残るシリカゲルの粒子により生じる小班点が形成され得る。繊維製品の製造においても不都合となる。ここでは、紡糸前に、溶融ろ過（ｍｅｌｔ ｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）を行うのが一般的である。ポリマー中の粒子状触媒残留物の量が極めて多い場合、篩板上で圧力が構築され得る。これにより、フィルター操作時間の短縮等のプロセス工学が相当に困難となる。粒子状の触媒残留物は、最少篩分率の篩い分けポリマー（汚染物質中に際立って豊富に含まれている）の溶融調製物を光学顕微鏡で試験することによって、分析的に測定可能である。
【０００６】
マナセアイトは無機材料であり、この材料から、オレフィン重合用触媒の製造する場合に担体として適当であると明らかになる寸法で且つモルホロジーを示す粒子を同様に製造可能となる。次のか焼処理により、特に、ヒドロキシル基の所望の含有量を設定可能となる。更に、結晶構造を変化させる。
【０００７】
ＣＡ−Ａ２２３７２３１では、元素周期表３〜１０族の金属とシクロペンタジエニル型である少なくとも１種の配位子との有機金属錯体、活性化剤及びマナセアイトを含む不均一系オレフィン重合触媒組成物について記載しており、この触媒組成物は、各成分の混合物を噴霧乾燥することによって製造される。
【０００８】
ＷＯ９０／１３５３３では、か焼処理マナセアイトが脂肪酸エステルのエポキシル化またはプロポキシル化用触媒として作用することについて開示している。更に、ＤＥ−Ａ２１６３８５１では、か焼後にハロゲン化されたか焼処理マナセアイトがオレフィン重合用チーグラ−ナッタ触媒の担体材料として適当であることを開示している。
【０００９】
しかるに、本発明は、妨害粒子状触媒残留物がポリマー中に残っていたとしても極めて微量となる触媒組成物を提供するものであり、この触媒組成物により、重合処理中の触媒活性が高くなり、且つ重合後にポリマーの簡易な後処理が可能となる。
【００１０】
本発明者等は、上記目的が、
（Ａ）少なくとも１種のか焼処理したマナセアイト、
（Ｂ）少なくとも１種の有機遷移金属化合物、
（Ｃ）必要により、１種以上のカチオン形成化合物、及び
（Ｄ）少なくとも１種の有機マグネシウム化合物、
を含むオレフィン重合用触媒組成物により達成されることを見出した。
【００１１】
更に本発明者等は、この触媒組成物をオレフィンの重合または共重合に使用する方法及びこの触媒固体の存在下にオレフィンを重合または共重合することによるポリオレフィンの製造方法を見出した。
【００１２】
本発明の触媒組成物は、オレフィンの重合に適当であり、特にα−オレフィン、即ち末端二重結合を有する炭化水素の重合に適当である。モノマーとしては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミド誘導体（例えば、アクリレート、メタクリレートまたはアクリロニトリル）等の官能化オレフィン性不飽和化合物も適当である。アリール置換のα−オレフィンを含む非極性オレフィン化合物が好ましい。特に好ましいα−オレフィンは、直鎖又は分岐のＣ２〜Ｃ１０−１−アルケン、特に直鎖のＣ２〜Ｃ１０−１−アルケン、例えばエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ペンテン、１−オクテン、１−デセン、または分岐のＣ２〜Ｃ１０−１−アルケン、例えば４−メチル−１−ペンテン、共役及び非共役ジエン、例えば１，３−ブタジエン、１，４−ヘキサジエンまたは１，７−オクタジエンまたは芳香族ビニル化合物、例えばスチレン若しくは置換スチレンであり、種々のα−オレフィンの混合物を重合することも可能である。
【００１３】
オレフィンとしては、二重結合が１種以上の環式基を有することが可能である環式構造の一部であるオレフィンも適当である。例としては、シクロペンテン、ノルボルネン、テトラシクロドデセン及びメチルノルボルネン、そしてジエン、例えば５−エチリデン−２−ノルボルネン、ノルボナジエンまたはエチルノルボナジエンである。
【００１４】
２種以上のオレフィンの混合物も重合可能である。特に、本発明の触媒組成物は、エチレン又はプロピレンの重合または共重合に使用可能である。エチレンの重合におけるコモノマーとして、Ｃ３〜Ｃ８−α−オレフィン、特に１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセンおよび／または１−オクテンを使用するのが好ましい。プロピレンの重合において、好ましいコモノマーは、エチレンおよび／またはブテンである。
【００１５】
本発明の触媒組成物は、少なくとも１種のか焼処理マナセアイトを含んでいる。
【００１６】
鉱物学において、マナセアイトは、以下の理想式：
【００１７】
【化３】
2004503621.tif 000002
を有する天然物質であり、その構造は、ブルース石Ｍｇ（ＯＨ）２の構造から誘導される。ブルース石は、最密ヒドロキシルイオンの二層の間にある８面体の穿孔中に金属イオンを有しているシート構造で結晶化し、その際、８面体の穿孔のあらゆる第２の層だけに含まれている。マナセアイトにおいて、層の一群がプラスの電荷を帯びた結果、マグネシウムイオンの一部をアルミニウムイオンに置き換える。これは、各層の間における結晶化の水と共に配置されるアニオンによって補償される。
【００１８】
かかるシート構造は、マグネシウム−アルミニウムの水酸化物のみならず、一般に、下式：
【００１９】
【化４】
2004503621.tif 000003
【００２０】
［但し、Ｍ（ＩＩ）が２価の金属、例えばＭｇ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃａおよび／またはＦｅを表わし、
Ｍ（ＩＩＩ）が３価の金属、例えばＡｌ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｌａ、Ｃｅおよび／またはＣｒを表し、
ｘが０．５間隔で０．５〜１０までを表し、
Ａが格子間アニオンを表わし、
ｎが上記格子間アニオン上での電荷であり、１〜８、通常１〜４までが可能であり、
ｚが１〜６までの整数、特に２〜４までを表す］
で表され、シート構造を有する混合金属水酸化物においても見出された。考え得る格子間アニオンは、アルコキシドアニオン、アルキルエーテルスルフェート、アリールエーテルスルフェート若しくはグリコールエーテルスルフェート等の有機アニオン、特に炭酸塩、炭酸水素塩、硝酸塩、塩化物、硫酸塩若しくはＢ（ＯＨ）４−等の無機アニオン、またはＭｏ７Ｏ２４６−若しくはＶ１０Ｏ２８６−等のポリオキシ金属アニオンである。しかしながら、かかる複数のアニオンからなる混合物を存在させることも可能である。
【００２１】
従って、シート構造を有するかかる混合金属水酸化物の全ては、本発明の目的のために使用されるマナセアイトとみなされる。
【００２２】
好適なマナセアイトは、一般に、人工的に製造される。考えられる一法としては、複数の金属塩を溶液として、これを所定の条件下で相互に組み合わせることである。ＷＯ９６／２３７２７に記載されている方法は、２価の金属のアルコキシドと３価の金属のアルコキシドとを混合する工程と、この混合物を水で加水分解する工程とを含むものであり、かかる方法は、本発明に従い好ましい。
【００２３】
か焼処理マナセアイトは、か焼、即ち加熱によってマナセアイト（ヒドロタルサイト石）から製造可能である。本発明により使用されるか焼処理マナセアイトの製造は、１８０℃を超える温度下で行われるのが一般的である。２５０〜１０００℃、特に４００〜７００℃の温度で３〜２４時間か焼するのが好ましい。か焼中に空気又は不活性ガスを固体上に通過させることも、真空を用いることも可能である。
【００２４】
加熱時に、天然または人工のマナセアイトから最初に水を放出する、即ち乾燥させる。更に加熱時に、即ち、実際の加熱時に、金属水酸化物を金属酸化物にヒドロキシル基と格子間アニオンを除去することによって転化する；ＯＨ基または格子間アニオン、例えば炭酸塩は、依然としてか焼処理マナセアイトに含まれたままであることも可能である。これの測定は強熱減量である。この強熱減量は、最初に乾燥炉において２００℃で３０分間、次に、マッフル炉において９５０℃で１時間の２工程で加熱されるサンプルを用いることにより経験される損失質量である。
【００２５】
従って、成分（Ａ）として使用されるか焼処理マナセアイトは、２価及び３価の金属Ｍ（ＩＩ）及びＭ（ＩＩＩ）の混合酸化物であり、その際、Ｍ（ＩＩ）のＭ（ＩＩＩ）に対するモル比は、一般に、０．５〜１０の範囲であり、０．７５〜８の範囲が好ましく、特に１〜４の範囲である。更に、例えばＳｉ、Ｆｅ、Ｎａ、ＣａまたはＴｉ等の不純物を一般的な量で含むことも可能である。
【００２６】
好ましいか焼処理マナセアイト（Ａ）は、Ｍ（ＩＩ）がマグネシウムであり、Ｍ（ＩＩＩ）がアルミニウムである混合酸化物である。かかるアルミニウム−マグネシウムの混合酸化物は、Ｃｏｎｄｅａ Ｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨ， Ｈａｍｂｕｒｇの商品名プラロックスＭｇ（Ｐｕｒａｌｏｘ Ｍｇ）で市販されている。
【００２７】
本発明により使用されるか焼処理マナセアイトにおいて、ヒドロキシル基若しくは格子間アニオンの除去または金属酸化物への転化は、完全に行われる必要がない、即ち、部分的にか焼処理したマナセアイトを、本発明による触媒固体の製造に使用することも可能である。構造上の変換が完全または実質上完全である、か焼処理マナセアイトも好ましい。か焼、即ち構造の変換は、例えばＸ線回折パターンを用いることによって確認可能である。
【００２８】
アルミニウム−マグネシウムの混合酸化物は、種々のか焼時間（Ｃｕ　Ｋα輻射線を使用）後、シーメンス社の粉末回折計Ｄ５０００で試験された。図１は、か焼処理アルミニウム−マグネシウムの混合酸化物のＸ線回折パターンを示している。このパターンは、３５〜３７°、４３〜４５°及び６２から６４°の条件下、２シータ（θ）のスケールでのピークによって特徴付けられている。図４は、特に１１〜１４°及び２２〜２５°でピークを示す出発材料のＸ線回折パターンを示している。図２は、本発明による部分か焼処理担体材料のＸ線回折パターンを示している。これも同様に、図４に示されている出発材料から得られた。出発材料のピークとか焼処理アルミニウム−マグネシウムの混合酸化物のピークの両方を見出すことが可能であった。それにもかかわらず、Ｘ線回折パターンは、非か焼処理出発材料のＸ線回折パターンと大幅に異なっていた。
【００２９】
本発明により使用されるか焼処理マナセアイトは、一般に、平均粒径ｄ５０が５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍ、特に好ましくは１５〜１００μｍ、特に２０〜７０μｍの微粉砕粉末として使用される。
【００３０】
粒子状のか焼処理マナセアイトは、通常、０．１〜１０ｃｍ３／ｇ、好ましくは０．２〜４ｃｍ３／ｇの細孔容積及び３０〜１０００ｍ２／ｇ、好ましくは５０〜５００ｍ２／ｇ、特に１００〜３００ｍ２／ｇの比表面積を有している。
【００３１】
本発明により使用される担体材料は、更に、アルキル金属等の一般的な乾燥剤を用いて化学的に処理可能である。適当な処理法は、例えばＷＯ００／３１０９０に記載されている。例えばホスゲンを用いる担体材料の塩素化（塩素処理）は回避される。
【００３２】
有機遷移金属化合物（Ｂ）として、周期表３〜１２族の遷移金属またはランタノイドの化合物全てを原則として使用可能であり、この化合物は、有機基を含み、且つ（Ｄ）及び必要により（Ｅ）の存在下に成分（Ｃ）との反応後にオレフィン重合用活性触媒を好ましくは形成する。この化合物は、通常、少なくとも１種の単座または多座の配位子が、シグマ結合若しくはパイ結合を介して、中心原子に結合されている化合物である。考え得る配位子は、シクロペンタジエニル基を含む配位子と、シクロペンタジエニル基を含まない配位子の両方である。オレフィンの重合に適当であるかかる化合物（Ｂ）の大多数は、Ｃｈｅｍ． Ｒｅｖ． ２０００， 第１００巻， Ｎｏ ４に記載されている。更に、多核のシクロペンタジエニル錯体もオレフィンの重合に適当である。
【００３３】
好適な化合物（Ｂ）は、例えば、式Ｆ−Ｉ〜Ｆ−Ｖ：
【００３４】
【化５】
2004503621.tif 000004
【００３５】
［但し、遷移金属が単体のＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｃ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔならびに希土類金属の単体から選択される］
で表される少なくとも１種の配位子を含む遷移金属錯体である。中心金属としてニッケル、鉄、コバルト及びパラジウムを有する化合物を使用するのが好ましい。
【００３６】
Ｅは、元素周期表第１５族の元素であり、ＮまたはＰが好ましく、Ｎが特に好ましい。分子中において２個または３個の原子Ｅが同一であってもまたは異なっていても良い。
【００３７】
基Ｒ１Ａ〜Ｒ１９Ａは、配位子系Ｆ−Ｉ〜Ｆ−Ｖの範囲内で同一でもまたは異なっていても良く、以下を表す：即ち、
Ｒ１Ａ及びＲ４Ａが相互に独立して、それぞれ炭化水素基又は置換炭化水素基を表し、好ましくは元素Ｅに隣接する炭素原子が少なくとも２個の炭素原子に結合されている炭化水素基を表し、
Ｒ２Ａ及びＲ３Ａが相互に独立して、それぞれ水素、炭化水素基または置換炭化水素基を表し、且つＲ２Ａ及びＲ３Ａが合体して、１種以上のヘテロ原子を含んでいても良い環式基を形成しても良く、
Ｒ６Ａ及びＲ８Ａが相互に独立して、それぞれ炭化水素基又は置換炭化水素を表わし、
Ｒ５Ａ及びＲ９Ａが相互に独立して、それぞれ水素、炭化水素基又は置換炭化水素基を表し、且つ
Ｒ６ＡとＲ５ＡまたはＲ８ＡとＲ９Ａが合体して環式基を形成しても良く、
Ｒ７Ａが相互に独立して、それぞれ水素、炭化水素基又は置換炭化水素基を表し、且つ２個のＲ７Ａが合体して環式基を形成しても良く、
Ｒ１０Ａ及びＲ１４Ａが相互に独立して、それぞれ炭化水素基又は置換炭化水素を表わし、
Ｒ１１Ａ、Ｒ１２Ａ、Ｒ１２Ａ’及びＲ１３Ａが相互に独立して、それぞれ水素、炭化水素基又は置換炭化水素を表わし、且つ２個以上のゲミナル基またはビシナル基Ｒ１１Ａ、Ｒ１２Ａ、Ｒ１２Ａ’及びＲ１３Ａが合体して環式基を形成しても良く、
Ｒ１５Ａ及びＲ１８Ａが相互に独立して、それぞれ水素、炭化水素基又は置換炭化水素を表わし、
Ｒ１６Ａ及びＲ１７Ａが相互に独立して、それぞれ水素、炭化水素基又は置換炭化水素を表わし、
Ｒ１９Ａが、５〜７員の置換されていても良い、特に不飽和若しくは芳香族の複素環式基を形成し、特にＥと合体して、ピリジン基を形成する有機基を表し、
ｎ１Ａが０または１を表わし、且つｎ１Ａが０である場合、Ｆ−ＩＩＩはマイナスに荷電されており、
ｎ２Ａが１〜４までの整数を表わし、２または３を表すのが好ましい。
【００３８】
式Ｆ−Ｉ〜Ｆ−ＩＶで表される配位子を含む特に有用な遷移金属錯体は、例えば、遷移金属Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＰｄまたはＰｔと式Ｆ−Ｉで表される配位子との錯体である。ＮｉまたはＰｄのジイミン錯体が特に好ましく、例えば、
ジ（２，６−ジ−ｉ−プロピルフェニル）−２，３−ジメチルジアザブタジエンパラジウムジクロリド、
ジ（ジ−ｉ−プロピルフェニル）−２，３−ジメチルジアザブタジエンニッケルジクロリド、
ジ（２，６−ジ−ｉ−プロピルフェニル）ジメチルジアザブタジエンジメチルパラジウム、
ジ（２，６−ジ−ｉ−プロピルフェニル）−２，３−ジメチルジアザブタジエンジメチルニッケル、
ジ（２，６−ジメチルフェニル）−２，３−ジメチルジアザブタジエンパラジウムジクロリド、
ジ（２，６−ジメチルフェニル）−２，３−ジメチルジアザブタジエンニッケルジクロリド、
ジ（２，６−ジメチルフェニル）−２，３−ジメチルジアザブタジエンジメチルパラジウム、
ジ（２，６−ジメチルフェニル）−２，３−ジメチルジアザブタジエンジメチルニッケル、
ジ（２−メチルフェニル）−２，３−ジメチルジアザブタジエンパラジウムジクロリド、
ジ（２−メチルフェニル）−２，３−ジメチルジアザブタジエンニッケルジクロリド、
ジ（２−メチルフェニル）−２，３−ジメチルジアザブタジエンジメチルパラジウム、
ジ（２−メチルフェニル）−２，３−ジメチルジアザブタジエンジメチルニッケル、
ジフェニル−２，３−ジメチルジアザブタジエンパラジウムジクロリド、
ジフェニル−２，３−ジメチルジアザブタジエンニッケルジクロリド、
ジフェニル−２，３−ジメチルジアザブタジエンジメチルパラジウム、
ジフェニル−２，３−ジメチルジアザブタジエンジメチルニッケル、
ジ（２，６−ジメチルフェニル）アザナフテンパラジウムジクロリド、
ジ（２，６−ジメチルフェニル）アザナフテンニッケルジクロリド、
ジ（２，６−ジメチルフェニル）アザナフテンジメチルパラジウム、
ジ（２，６−ジメチルフェニル）アザナフテンジメチルニッケル、
１，１’−ビピリジルパラジウムジクロリド、
１，１’−ビピリジルニッケルジクロリド、
１，１’−ビピリジル（ジメチル）パラジウム、
１，１’−ビピリジル（ジメチル）ニッケル、
である。
【００３９】
特に有用な化合物Ｆ−Ｖには、Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． １２０， ４０４９頁以降 （１９９８）， Ｊ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． Ｃｏｍｍｕｎ． １９９８， ８４９に記載されている化合物も含まれる。配位子Ｆ−Ｖを含む好ましい錯体は、遷移金属Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｐｄ及びＰｔ、特にＦｅの２，６−ビス（イミノ）ピリジル錯体である。
【００４０】
イミノフェノキシド錯体は、有機遷移金属化合物（Ｂ）としても使用可能である。この錯体の配位子は、例えば、置換または非置換のサリチルアルデヒド及び第一級アミン、特に置換されていても良いアリールアミンから製造可能である。π系に１個以上のヘテロ原子を有しているπ配位子、例えばボラタベンゼン配位子（ｂｏｒａｔａｂｅｎｚｅｎ ｌｉｇａｎｄ）、ピロリルアニオンまたはホスホリルアニオンとの遷移金属錯体は、有機遷移金属化合物（Ｂ）として使用可能でもある。
【００４１】
特に有用な有機遷移金属化合物（Ｂ）には、少なくとも１種のシクロペンタジエニル型配位子を有する化合物が含まれ、この化合物は、一般に、メタロセン錯体と称されている。
【００４２】
特に有用なメタロセン錯体は、式（Ｉ）：
【００４３】
【化６】
2004503621.tif 000005
【００４４】
［但し、Ｍがチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン若しくはタングステンまたは周期表第３族及びランタノイドの元素を表わし、
Ｘがフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ１５アリール、アルキル部分の炭素原子数が１〜１０個で且つアリール部分の炭素原子数が６〜２０個であるアルキルアリール、−ＯＲ６又は−ＮＲ６Ｒ７を表し、または２個の基Ｘが置換されていても良いジエン配位子、特に１，３−ジエンを形成しても良く、
　ｎが１、２又は３を表し、且つＭの原子価に応じて、式（Ｉ）で表されるメタロセン錯体が非電荷状態となるような値を有し、
上記Ｒ６及びＲ７がＣ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリール、アルキルアリール、アリールアルキル、フルオロアルキル又はフルオロアリール｛それぞれアルキルの炭素原子数が１〜１０個で且つアリールの炭素原子数が６〜２０個である｝を表し、
基Ｘが同一でもまたは異なっていて、相互に結合しても良く、
Ｒ１〜Ｒ５が水素、Ｃ１〜Ｃ２２アルキル、置換基としてＣ１〜Ｃ１０アルキルを有していても良い５〜７員のシクロアルキル若しくはシクロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ２２アルケニル、Ｃ６〜Ｃ２２アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキル（但し、隣接する２個の基が合体して、炭素原子数４〜４４個の飽和又は不飽和環式基を形成しても良い）、又はＳｉ（Ｒ８）３を表し、
上記Ｒ８が同一でもまたは異なっていても良く、それぞれＣ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリール、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシまたはＣ６〜Ｃ１０アリールオキシを表し、そして
ＺがＸと同義であるか、または下式：
【００４５】
【化７】
2004503621.tif 000006
【００４６】
｛式中、Ｒ９〜Ｒ１３が水素、Ｃ１〜Ｃ２２アルキル、置換基としてＣ１〜Ｃ１０アルキルを有していても良い５〜７員のシクロアルキル若しくはシクロアルケニル、Ｃ２〜Ｃ２２アルケニル、Ｃ６〜Ｃ２２アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキル（但し、隣接する２個の基が合体して、炭素原子数４〜４４個の飽和又は不飽和環式基を形成しても良い）、又はＳｉ（Ｒ１４）３を表し、
上記Ｒ１４が同一でもまたは異なっていても良く、それぞれＣ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリール、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシまたはＣ６〜Ｃ１０アリールオキシを表す｝
を表わし、あるいは
基Ｒ４とＺが合体して、−Ｒ１５−Ａ−基を形成しても良く、且つ
上記Ｒ１５が、
【００４７】
【化８】
2004503621.tif 000007
【００４８】
｛但し、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８が同一又は異なっていても良く、それぞれ水素、ハロゲン、トリメチルシリル、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ１〜Ｃ１０フルオロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１０フルオロアリール、Ｃ６〜Ｃ１０アリール、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１５アルキルアリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ１０アルケニル、Ｃ７〜Ｃ４０アリールアルキル、Ｃ８〜Ｃ４０アリールアルケニル又Ｃ７〜Ｃ１５アルキルアリールの各基を表すか、または２個の隣接基がそれらに結合する原子と共に炭素原子数４〜１５個の飽和若しくは不飽和環を形成し、
Ｍ１がケイ素、ゲルマニウム又はスズを表す｝
を表わし、
上記Ａが、
【００４９】
【化９】
2004503621.tif 000008
【００５０】
｛但し、Ｒ１９が相互に独立して、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリール、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ７〜Ｃ１８アルキルアリール又はＳｉ（Ｒ２０）３を表し、
上記Ｒ２０が水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、置換基としてＣ１〜Ｃ４アルキルを有しても良いＣ６〜Ｃ１５アリール又はＣ３〜Ｃ１０シクロアルキルを表す｝を表わし、あるいは
Ｒ４及びＲ１２が合体して、基−Ｒ１５−を形成しても良い］
で表されるメタロセン錯体である。
【００５１】
式（Ｉ）中の基Ｘは同一であるのが好ましく、それぞれフッ素、塩素、臭素、Ｃ１〜Ｃ７アルキル又はアラルキルを表すのが好ましく、特に塩素、メチル又はベンジルを表す。
【００５２】
式（Ｉ）で表されるメタロセン錯体の中で、下式：
【００５３】
【化１０】
2004503621.tif 000009
【化１１】
2004503621.tif 000010
【化１２】
2004503621.tif 000011
【化１３】
2004503621.tif 000012
が好ましい。
【００５４】
式（Ｉａ）で表される化合物の中で、
Ｍがチタン、ジルコニウムまたはハフニウムを表わし、
Ｘが塩素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、フェニル、アルコキシまたはアリールオキシを表わし、
ｎが１または２であり、そして
Ｒ１〜Ｒ５がそれぞれ水素またはＣ１〜Ｃ４アルキルを表している、メタロセン錯体が特に好ましい。
【００５５】
式（Ｉｂ）で表される化合物の中で、
Ｍがチタン、ジルコニウムまたはハフニウムを表わし、
Ｘが塩素、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはベンジルを表わし、または２個の基Ｘが置換されていても良いブタジエン配位子を形成し、
ｎが２であり、
Ｒ１〜Ｒ５がそれぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＳｉ（Ｒ８）３を表し、
Ｒ９〜Ｒ１３がそれぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＳｉ（Ｒ１４）３を表しているか、あるいは
２個の基Ｒ１〜Ｒ５および／またはＲ９〜Ｒ１３がＣ５環と共に、インデニルまたは置換インデニル基を形成している、メタロセン錯体が好ましい。
【００５６】
式（Ｉｂ）で表される化合物は、シクロペンタジエニル基が同一であるのが特に好ましい。
【００５７】
特に有用な化合物の例は、
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ビス（１−ｎ−ブチル−３−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ビス（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、そして更に対応するジメチルジルコニウム化合物である。
【００５８】
式（Ｉｃ）で表される特に有用な化合物は、
Ｒ１及びＲ９が同一でもまたは異なっていても良く、水素又はＣ１〜Ｃ１０アルキルを表し、
Ｒ５及びＲ１３が同一でもまたは異なっていても良く、水素、又はメチル、エチル、イソプロピル又はｔｅｒｔ−ブチルを表し、
Ｒ３及びＲ１１がＣ１〜Ｃ４アルキルを表し、
Ｒ２及びＲ１０が水素を表すか、あるいは
２個の隣接基Ｒ２及びＲ３又はＲ１０及びＲ１１が合体して炭素原子数４〜４４個の飽和または不飽和環式基を形成し、
Ｒ１５が、
【００５９】
【化１４】
2004503621.tif 000013
を表し、
Ｍがチタン、ジルコニウム又はハフニウムを表し、そして
Ｘが同一でもまたは異なっていても良く、塩素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル、ベンジル、フェニルまたはＣ７〜Ｃ１５アルキルアリールオキシを表す場合の化合物である。
【００６０】
式（Ｉｃ）で表される極めて有用な化合物は、式（Ｉｃ’）：
【００６１】
【化１５】
2004503621.tif 000014
【００６２】
［但し、基Ｒ’が同一でもまたは異なっていても良く、水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル若しくはＣ３〜Ｃ１０シクロアルキルを表わし、好ましくはメチル、エチル、イソプロピル若しくはシクロヘキシルを表わし、Ｃ６〜Ｃ２０アリールを表わし、好ましくはフェニル、ナフチル若しくはメシチルを表わし、Ｃ７〜Ｃ４０アリールアルキル、Ｃ７〜Ｃ４０アルキルアリールを表わし、好ましくは４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル若しくは３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルを表わし、またはＣ８〜Ｃ４０アリールアルケニルを表わし、
Ｒ５及びＲ１３が同一でもまたは異なっていても良く、それぞれ水素またはＣ１〜Ｃ６アルキルを表わし、好ましくはメチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシルまたはｔｅｒｔ−ブチルを表し、そして
環ＳとＴが同一でもまたは異なっていても良く、飽和、不飽和または部分飽和状態である］
で表される化合物である。
【００６３】
式（Ｉｃ’）で表されるメタロセンのインデニルまたはテトラヒドロインデニル配位子は、２位、２，４位、４，７位、２，４，７位、２，６位、２，４，６位、２，５，６位、２，４，５，６位または２，４，５，６，７位、特に２，４位で置換されているの好ましく、且つ、以下の命名法：
【００６４】
【化１６】
2004503621.tif 000015
を、この置換部位に使用する。
【００６５】
錯体（Ｉｃ’）として、Ｒａｃまたはｐｓｅｕｄｏ−Ｒａｃ形式の架橋ビスインデニル錯体を使用するのが好ましく、その際、ｐｓｅｕｄｏ−Ｒａｃなる用語は、錯体の他の置換基全てを無視する場合、２個のインデニル配位子が相互にＲａｃ配置にある錯体を意味する。
【００６６】
特に有用な錯体（Ｉｃ）及び（Ｉｃ’）の例としては、
ジメチルシランジイルビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
エチレンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
エチレンビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド、
テトラメチルエチレン−９−フルオレニルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリド、
【００６７】
ジメチルシランジイルビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジエチルシランジイルビス（２−メチルインデニル）ジルコニウムジブロミド、
ジメチルシランジイルビス（３−メチル−５−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（３−エチル−５−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−エチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４，５−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−エチル−４，５−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、
メチルフェニルシランジイルビス（２−エチル−４，５−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、
メチルフェニルシランジイルビス（２−メチル−４，５−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジフェニルシランジイルビス（２−メチル−４，５−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、
【００６８】
ジフェニルシランジイルビス（２−エチル−４，５−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジフェニルシランジイルビス（２−メチルインデニル）ハフニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−エチル−４−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４−（１−ナフチル）インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−エチル−４−（１−ナフチル）インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−プロピル−４−（１−ナフチル）インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−ｉ−ブチル−４−（１−ナフチル）インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−プロピル−４−（９−フェナントリル）インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２，７−ジメチル−４−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４，６−ジイソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４−［ｐ−トリフルオロメチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４−［３’，５’−ジメチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
【００６９】
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジエチルシランジイルビス（２−メチル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−エチル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−プロピル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−イソプロピル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−ｎ−ブチル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−ヘキシル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−イソプロピル−４−フェニルインデニル）（２−メチル−４−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−イソプロピル−４−（１−ナフチル）インデニル）（２−メチル−４−（１−ナフチル）インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−イソプロピル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）（２−メチル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−イソプロピル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）（２−エチル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−イソプロピル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）（２−メチル−４−［３’，５’−ビス−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、
【００７０】
ジメチルシランジイルビス（２−イソプロピル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）（２−メチル−４−［１’−ナフチル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、及び
エチレン（２−イソプロピル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）（２−メチル−４−［４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］インデニル）ジルコニウムジクロリド、更に対応するジメチルジルコニウム化合物、モノクロロモノ（アルキルアリールオキシ）ジルコニウム化合物及びジ（アルキルアリールオキシ）ジルコニウム化合物を挙げることができる。
【００７１】
式（Ｉｄ）で表される特に有用な化合物は、
Ｍがチタンまたはジルコニウムを表わし、特にチタンを表わし、
Ｘが塩素、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはフェニルを表わし、または２個の基Ｘが置換されていても良いブタジエン配位子を形成し、
Ｒ１５が
【００７２】
【化１７】
2004503621.tif 000016
を表し、
Ａが、
【００７３】
【化１８】
2004503621.tif 000017
を表し、
Ｒ１〜Ｒ３とＲ５がそれぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル（好ましくはメチル）、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリールまたはＳｉ（Ｒ８）３を表し、または２個の隣接基が炭素原子数４〜１２個の環式基を形成し、その際、Ｒ１〜Ｒ３とＲ５が特に好ましくはメチルを表す化合物である。
【００７４】
式（Ｉｄ）で表される他の特に有用な化合物群は、
Ｍが酸化状態ＩＩＩのチタンまたはクロムを表わし、
Ｘが塩素、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはフェニルを表わし、または２個の基Ｘが置換されていても良いブタジエン配位子を形成し、
Ｒ１５が
【００７５】
【化１９】
2004503621.tif 000018
を表し、
Ａが、−Ｏ−Ｒ１９、−ＮＲ１９２、−ＰＲ１９２を表し、
Ｒ１〜Ｒ３とＲ５がそれぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリールまたはＳｉ（Ｒ８）３を表し、または２個の隣接基が炭素原子数４〜１２個の環式基を形成する化合物である。
【００７６】
かかる錯体の合成は、それ自体公知の方法で行われ得るものであり、好ましくは適当な置換の環式アニオンをチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタルまたはクロムのハロゲン化物と反応させることにより行われ得る。
【００７７】
適当な製造法の例が、特に、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， ３６９ （１９８９）， ３５９−３７０頁に記載されている。
【００７８】
他の好適な有機金属化合物（Ｂ）は、シクロペンタジエニルまたはヘテロシクロペンタジエニルと縮合複素環（ｆｕｓｅｄ−ｏｎ ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅ）から形成されている少なくとも１種の配位子を有するメタロセンであり、この複素環は、芳香族性であり且つ窒素および／または硫黄を含んでいるのが好ましい。かかる化合物は、例えばＷＯ９８／２２４８６に記載されている。この化合物は、特に
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４−フェニルインデニル）（２，５−ジメチル−Ｎ−フェニル４−アザペンタアレン）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−メチル−４−フェニル−４−ヒドロアズレニル）ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシランジイルビス（２−エチル−４−フェニル−４−ヒドロアズレニル）ジルコニウムジクロリド、
である。
【００７９】
本発明の目的に適当である有機遷移金属化合物（Ｂ）は、クロム、モリブデンまたはタングステンの置換されているモノシクロペンタジエニル錯体、モノインデニル錯体、モノフルオレニル錯体またはヘテロシクロペンタジエニル錯体であり、その際、シクロペンタジエニル環の置換基の少なくとも１個が、ｓｐ３混成の炭素またはケイ素原子を介してのみ結合されていない剛性供与体官能基（ｒｉｇｉｄ ｄｏｎｏｒ ｆｕｎｃｔｉｏｎ）を有している。
【００８０】
供与体官能基への直接結合の殆んどは、少なくとも１個のｓｐ−またはｓｐ２混成の炭素原子、好ましくは１〜３個のｓｐ２混成の炭素原子を含んでいる。直接結合は、不飽和二重結合を含み、芳香族化合物またはこれと供与体との組合せは、部分不飽和または芳香族の複素環基を形成する。
【００８１】
この有機遷移金属化合物（Ｂ）において、シクロペンタジエニル環は、ヘテロシクロペンタジエニル配位子であっても良く、即ち、少なくとも１個の炭素原子を、第１５または１６族のヘテロ原子で置き換えることが可能である。この場合、Ｃ５環の炭素原子は、リンに置き換えられるのが特に好ましい。特に、シクロペンタジエニル環は、他のアルキル基で置換され、これはテトラヒドロインデニル、インデニル、ベンゾインデニルまたはフルオレニル等の５員環または６員環も形成可能である。
【００８２】
考え得る供与体は、周期表第１５または１６族の元素を含む非荷電官能基、例えばアミン、イミン、カルボキシアミド、カルボン酸エステル、ケトン（オキソ）、エーテル、チオケトン、ホスフィン、ホスフィト、ホスフィンオキシド、スルホニル、スルホンアミドまたは非置換、置換若しくは縮合された部分不飽和複素環式若しくはヘテロ芳香族環式基である。
【００８３】
式（ＩＩ）：
【００８４】
【化２０】
2004503621.tif 000019
【００８５】
［但し、Ｍ１Ｂがクロム、モリブデンまたはタングステンを表わし、
Ｚ１Ｂが、式（ＩＩａ）：
【００８６】
【化２１】
2004503621.tif 000020
｛但し、Ｅ１Ｂ〜Ｅ５Ｂがそれぞれ炭素またはＥ１Ｂ〜Ｅ５Ｂの１個以下がリン若しくは窒素を表わし、
Ａ１ＢがＮＲ５ＢＲ６Ｂ、ＰＲ５ＢＲ６Ｂ、ＯＲ５Ｂ、ＳＲ５Ｂ、または非置換、置換若しくは縮合の、部分不飽和複素環若しくはヘテロ芳香族の環式基を表わし、
ＲＢが以下の基：
【００８７】
【化２２】
2004503621.tif 000021
を表わし、更に、Ａ１Ｂが非置換、置換若しくは縮合の、部分不飽和複素環またはヘテロ芳香族の環式基である場合、以下の式：
【００８８】
【化２３】
2004503621.tif 000022
であっても良い｝
を有し、且つ
Ｌ１、Ｌ２がそれぞれケイ素または炭素を表わし、
ｋが１であるか、またはＡ１Ｂが非置換、置換または縮合の、部分不飽和複素環またはヘテロ芳香族の環式基である場合、ｋが０であっても良く、
Ｘ１Ｂが相互に独立して、それぞれフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリール、ＮＲ１５ＢＲ１６Ｂ、ＯＲ１５Ｂ、ＳＲ１５Ｂ、ＳＯ３Ｒ１５Ｂ、ＯＣ（Ｏ）Ｒ１５Ｂ、ＣＮ、ＳＣＮ、β−ジケトネート、ＣＯ、ＢＦ４−、ＰＦ６−または嵩高い非配位アニオンを表わし、
Ｒ１Ｂ〜Ｒ１６Ｂが相互に独立して、それぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリール、ＳｉＲ１７Ｂ３を表わし、且つ有機基Ｒ１Ｂ〜Ｒ１６Ｂがハロゲンで置換されていたも良く、そして２個のゲミナルまたはビシナルな基Ｒ１Ｂ〜Ｒ１６Ｂが合体して、５員環または６員環を形成しても良く、
Ｒ１７Ｂが相互に独立して、それぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリールを表わし、そして２個のゲミナルまたはビシナルな基Ｒ１７Ｂが合体して、５員環または６員環を形成しても良く、
ｎ１Ｂが１、２または３を表わし、そして
ｍ１Ｂが１、２または３を表す］
で表される置換モノシクロペンタジエニル、モノインデニル、モノフルオレニルまたはヘテロシクロペンタジエニル錯体を使用するのが好ましい。
【００８９】
遷移金属Ｍ１Ｂとして、クロムが特に好ましい。
【００９０】
Ｚ１Ｂが置換シクロペンタジエニル環式基であり、そして基−ＲＢｋ−Ａ１Ｂが剛性の結合状態供与体官能基を有する。シクロペンタジエニル環は、η５結合を介して、遷移金属に結合されている。供与体は、配位結合を介して結合されていても、または配位されていなくても良い。供与体は、金属中心に分子内配位されているのが好ましい。
【００９１】
Ｅ１Ｂ〜Ｅ５Ｂは４個の炭素原子及び１個のリン原子であるか、または炭素原子のみであるのが好ましく、Ｅ１Ｂ〜Ｅ５Ｂの全てが炭素であるのが特に好ましい。
【００９２】
Ａ１Ｂは、例えば、ブリッジＲＢと共に、アミン、エーテル、チオエーテルまたはホスフィンを形成可能である。更に、Ａ１Ｂは非置換、置換または縮合の、複素環式の芳香族環式基であっても良く、これは、環の炭素の他に、酸素、硫黄、窒素及びリンから選択されるヘテロ原子を含むことが可能である。炭素の他に、１〜４個の炭素原子および／または１個の硫黄若しくは酸素原子を含むことが可能である５員のヘテロアリール基の例は、２−フリル、２−チエニル、２−ピロリル、３−イソキサゾリル、５−イソオキサゾリル、３−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル、１−ピラゾリル、３−ピラゾリル、５−ピラゾリル、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イルまたは１，２，４−トリアゾール−３−イルである。１〜４個の窒素原子および／または１個のリン原子を含むことが可能である６員のヘテロアリール基の例は、２−ピリジニル、２−ホスファベンゾリル、３−ピリダジニル、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、２−ピラジニル、１，３，５−トリアジン−２−イル及び１，２，４−トリアジン−３−イル、１，２，４−トリアジン−５−イルまたは１，２，４−トリアジン−６−イルである。５員または６員のヘテロアリール基は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ６〜Ｃ１０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜１０個のアルキルアリール、トリアルキルシリルまたはフッ素、塩素若しくは臭素等のハロゲンで置換されていること可能であり、または１種以上の芳香族化合物若しくはヘテロ芳香族化合物と縮合していても良い。ベンゾ縮合の５員へテロアリール基の例は、２−インドリル、７−インドリル、２−クマロニル、７−クマロニル、２−チアナフテニル、７−チアナフテニル、３−インダゾリル、７−インダゾリル、２−ベンゾイミダゾリルまたは７−ベンゾイミダゾリルである。ベンゾ縮合の６員へテロアリール基の例は、２−キノリル、８−キノリル、３−シノリル、８−シノリル、１−フタラゾリル、２−キナゾリル、４−キナゾリル、８−キナゾリル、５−キノオキサリル、４−アクリジル、１−フェナントリジルまたは１−フェナジリルである。複素環の命名法及び数え方は、Ｌ． Ｆｉｅｓｅｒ ａｎｄ Ｍ． Ｆｉｅｓｅｒ， Ｌｅｈｒｂｕｃｈ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ， 第３版の改訂版， Ｖｅｒｌａｇ Ｃｈｅｍｉｅ， Ｗｅｉｎｈｅｉｍ １９５７に記載されている。好ましい形態において、Ａ１Ｂは非置換、置換または縮合の、ヘテロ芳香族の環式基であるか、またはＮＲ５ＢＲ６Ｂを表す。ここでは、入手が容易で且つ安価である簡素な環式基が好ましく、以下の基：
【００９３】
【化２４】
2004503621.tif 000023
から選択される。
【００９４】
考え得る置換基Ｒ１８Ｂ〜Ｒ２７Ｂは、Ｒ１Ｂ〜Ｒ１６Ｂと同じ基及びフッ素、塩素または臭素等のハロゲンであり、その際、２個のビシナル基Ｒ１８Ｂ〜Ｒ２７Ｂが合体して、５員環または６員環を形成可能であり且つフッ素、塩素または臭素等のハロゲンで置換可能である。好ましい基Ｒ１８Ｂ〜Ｒ２７Ｂは、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ペンチル、ｎ−オクチル、ビニル、アリル、ベンジル、フェニル、ナフチル、ビフェニル及びアントラニルであり、更に、フッ素、塩素及び臭素である。考え得る有機ケイ素置換基は、特に、アルキル基の炭素原子数１〜１０個のトリアルキルシリル基、特にトリメチルシリル基である。置換されていても良いＡ１Ｂ、例えばアルキル置換のキノリル、特に８位で結合されているキノリル、例えば８−キノ、８−（２−メチルキノリル）、８−（２，３，４−トリメチルキノリル）、８−（２，３，４，５，６，７−ヘキサメチルキノリル）でが特に好ましい。このＡ１Ｂは、製造が極めて簡易であり、これと同時に極めて良好な活性を付与するの容易である。
【００９５】
シクロペンタジエニル環と官能基Ａ１Ｂの間にある剛性なブリッジＲＢは、炭素および／またはケイ素単位を含み且つ連鎖長が１〜３の有機ジラジカルである。ＲＢは、Ｌ１またはＣＲ９を介して、Ａ１Ｂに結合され得る。製造が容易であるため、ＲＢ＝ＣＨ＝ＣＨまたは１，２−フェニレンとＡ１Ｂ＝ＮＲ５ＢＲ６Ｂとの組み合わせ、更にＲＢ＝ＣＨ２、Ｃ（ＣＨ３）２またはＳｉ（ＣＨ３）２とＡ１Ｂ＝置換されていても良い８−キノリル若しくは置換されていても良い２−ピリジルとの組合せが好ましい。ｋが０であるブリッジＲＢを含んでいない環式基が極めて簡易に得られる。この場合、Ａ１Ｂは置換されていても良いキノリル、特に８−キノリルであるのが好ましい。
【００９６】
配位子Ｘ１Ｂの数ｎ１Ｂは、遷移金属Ｍ１Ｂの酸化状態に応じて異なる。従って、数ｎ１Ｂは、一般的な用語で形成され得ない。触媒活性錯体中の遷移金属Ｍ１Ｂの酸化状態は、通常、当業者に知られている。クロム、モリブデン及びタングステンは、主として＋３の酸化状態で存在する。しかしながら、酸化状態が活性触媒の酸化状態に対応していない錯体を使用することも可能である。かかる錯体を、好適な活性化剤で適当に還元または酸化可能である。酸化状態が＋３のクロム錯体を使用するのが好ましい。
【００９７】
式（ＩＩ）で表される遷移金属錯体は、モノマー、ダイマーまたはトリマーの化合物であり、その際、ｍ１Ｂは１、２または３である。例えば、１種以上の配位子Ｘ１Ｂが２個の金属中心Ｍ１Ｂに架橋することも可能である。
【００９８】
好ましい錯体は、以下の通りである：
１−（８−キノリル）−２−メチル−４−メチルシクロペンタジエニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−キノリル）−３−イソプロピル−５−メチルシクロペンタジエニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−キノリル）−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルシクロペンタジエニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−キノリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−キノリル）テトラヒドロインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−キノリル）インデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−キノリル）−２−メチルインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−キノリル）−２−イソプロピルインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−キノリル）−２−エチルインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−キノリル）−２−ｔｅｒｔ−ブチルインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−キノリル）ベンゾインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−キノリル）−２−メチルベンゾインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−（２−メチルキノリル））−２−メチル−４−メチルシクロペンタジエニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−（２−メチルキノリル））−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−（２−メチルキノリル））テトラヒドロインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
【００９９】
１−（８−（２−メチルキノリル））インデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−（２−メチルキノリル））−２−メチルインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−（２−メチルキノリル））−２−イソプロピルインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−（２−メチルキノリル））−２−エチルインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−（２−メチルキノリル））−２−ｔｅｒｔ−ブチルインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、
１−（８−（２−メチルキノリル））ベンゾインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド、または
１−（８−（２−メチルキノリル））−２−メチルベンゾインデニルクロム（ＩＩＩ）ジクロリド。
【０１００】
官能性シクロペンタジエニル配位子の製造法は、以前から知られている。この複合配位子の種々の合成経路について、例えばＭ． Ｅｎｄｅｒｓ ｅｔ ａｌ． ｉｎ Ｃｈｅｍ． Ｂｅｒ． （１９９６）， １２９， ４５９−４６３頁またはＰ． Ｊｕｔｚｉ ａｎｄ Ｕ． Ｓｉｅｍｅｌｉｇ ｉｎ Ｊ． Ｏｒｇｍｅｔ． Ｃｈｅｍ． （１９９５）， ５００， １７５−１８５頁に記載されている。
【０１０１】
金属錯体、特にクロム錯体は、これに対応する金属塩、例えば金属塩化物を、配位子アニオンと反応させることにより簡易な形態で得られる（例えば、ＤＥ−Ａ１９７１０６１５の実施例に類似の方法を用いる）。
【０１０２】
本発明の目的に適当な他の有機遷移金属化合物（Ｂ）は、式（ＩＩＩ）：
【０１０３】
【化２５】
2004503621.tif 000024
【０１０４】
［但し、ＲＣがＲ１ＣＣ＝ＮＲ２Ｃ、Ｒ１ＣＣ＝Ｏ、Ｒ１ＣＣ＝Ｏ（ＯＲ２Ｃ）、Ｒ１ＣＣ＝Ｓ、（Ｒ１Ｃ）２Ｐ＝Ｏ、（ＯＲ１Ｃ）２Ｐ＝Ｏ、ＳＯ２Ｒ１Ｃ、Ｒ１ＣＲ２ＣＣ＝Ｎ、ＮＲ１ＣＲ２Ｃ若しくはＢＲ１ＣＲ２Ｃ、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリール、このＲＣが炭素原子に結合されている場合に水素を表わし、その際、有機基Ｒ１Ｃ及びＲ２Ｃが不活性置換基を有していても良く、
Ｘ１Ｃが相互に独立して、それぞれフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ＮＲ３ＣＲ４Ｃ、ＮＰ（Ｒ３Ｃ）３、ＯＲ３Ｃ、ＯＳｉ（Ｒ３Ｃ）３、ＳＯ３Ｒ３Ｃ、ＯＣ（Ｏ）Ｒ３Ｃ、β−ジケトネート、ＢＦ４−、ＰＦ６−または嵩高い弱配位若しくは非配位アニオンを表わし、
Ｒ１Ｃ〜Ｒ４Ｃが相互に独立して、それぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリール、この基が炭素原子に結合されている場合に水素を表わし、且つ有機基Ｒ１Ｃ〜Ｒ４Ｃが不活性置換基を有していても良く、
ｎ１Ｃが１または２であり、
ｍ１Ｃが１、２または３であり、且つ式（ＩＩＩ）で表されるメタロセン錯体が非電荷状態の場合、Ｃｒの原子価に応じた値を有し、
Ｌ１Ｃが非荷電の供与体を表わし、そして
ｙが０〜３までを表す］
で表されるイミドクロム化合物である。
【０１０５】
これらの化合物及びその製造法は、例えばＷＯ０１／０９１４８に記載されている。
【０１０６】
他の好適な有機遷移金属化合物（Ｂ）は、三座の大環状配位子を含む遷移金属錯体である。
【０１０７】
特に、好適な有機遷移金属化合物（Ｂ）は、式（ＩＶ）：
【０１０８】
【化２６】
2004503621.tif 000025
【０１０９】
［但し、Ｍ１Ｄが周期表第３〜１２族の遷移金属を表わし、
Ｚ１Ｄ〜Ｚ３Ｄが、以下の基：
【０１１０】
【化２７】
2004503621.tif 000026
【０１１１】
｛但し、Ｅ１Ｄ〜Ｅ３Ｄがそれぞれケイ素または炭素を表す｝
から選択されるジラジカルであり、
Ａ１Ｄ〜Ａ３Ｄがそれぞれ窒素又はリンであり、且つ
Ｒ１Ｄ〜Ｒ９Ｄがそれぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、置換基としてＣ６〜Ｃ１０アリール基を有していても良い５〜７員のシクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリール、ＳｉＲ１０Ｄ３を表わし、且つ有機基Ｒ１Ｄ〜Ｒ９Ｄがハロゲン及び他の官能基（元素周期表の第１５および／または１６族の元素を含んでいるのが好ましい）で置換されていても良く、そして２個のゲミナルまたはビシナルな基Ｒ１Ｄ〜Ｒ９Ｄが合体して、５員環または６員環を形成しても良く、
Ｘ１Ｄが相互に独立して、それぞれフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリール、ＮＲ１０Ｄ２、ＯＲ１０Ｄ、ＳＲ１０Ｄ、ＳＯ３Ｒ１０Ｄ、ＯＣ（Ｏ）Ｒ１０Ｄ、ＣＮ、ＳＣＮ、＝Ｏ、β−ジケトネート、ＢＦ４−、ＰＦ６−または嵩高い非配位アニオンを表わし、
Ｒ１０Ｄが相互に独立して、それぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、置換基としてＣ６〜Ｃ１０アリール基を有していても良い５〜７員のシクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリールを表わし、そして２個の基Ｒ１０Ｄが合体して、５員環または６員環を形成しても良く、
ｎ１Ｄが、式（ＩＶ）で表されるメタロセン錯体が非電荷状態である場合、１〜４までの数字を表す］
で表される化合物も含まれる。
【０１１２】
式（ＩＶ）で表される好ましい有機遷移金属化合物は、
［１，３，５−トリ（メチル）−１，３，５−トリアザシクロヘキサン］クロムトリクロリド、
［１，３，５−トリ（エチル）−１，３，５−トリアザシクロヘキサン］クロムトリクロリド、
［１，３，５−トリ（オクチル）−１，３，５−トリアザシクロヘキサン］クロムトリクロリド、
［１，３，５−トリ（ドデシル）−１，３，５−トリアザシクロヘキサン］クロムトリクロリド、及び
［１，３，５−トリ（ベンジル）−１，３，５−トリアザシクロヘキサン］クロムトリクロリドである。
【０１１３】
成分（Ｂ）として、種々の遷移金属化合物の混合物を使用することも可能である。
【０１１４】
触媒組成物は、成分（Ｃ）として、更に少なくとも１種のカチオン形成化合物を含んでいるのが好ましい。
【０１１５】
遷移金属化合物（Ｂ）と反応して、カチオン化合物に転化可能である好適なカチオン形成化合物（Ｃ）は、例えば、アルミノキサン、非電荷の強ルイス酸、ルイス酸カチオン含有イオン性化合物またはカチオンとしてのブレンステッド酸を含むイオン性化合物である。有機遷移金属化合物（Ｂ）としてメタロセン錯体の場合、カチオン形成化合物（Ｃ）は、メタロセンイオン形成化合物と屡々称されることもある。
【０１１６】
アルミノキサンとして、例えばＷＯ００／３１０９０に記載されている化合物を使用可能である。特に有用なアルミノキサンとしては、式（Ｘ）または（ＸＩ）：
【０１１７】
【化２８】
2004503621.tif 000027
【０１１８】
［但し、Ｒ２１がＣ１〜Ｃ４アルキル基を表し、メチル又はエチルを表すのが好ましく、
ｍが５〜３０までの整数であり、１０〜２５を表すのが好ましい］
で表される鎖状または環式のアルミノキサン化合物である。
【０１１９】
これらオリゴマーのアルミノキサン化合物は、通常、トリアルキルアルミニウム溶液を水と反応させることによって調製される。一般に、このようにして得られたオリゴマーのアルミノキサン化合物は、種々の鎖長の鎖状と環式鎖分子の両方からなる混合物の状態であるので、ｍは平均と考えられる。アルミノキサン化合物を、他のアルキル金属、好ましくはアルキルアルミニウムと混合して存在させることも可能である。
【０１２０】
更に、炭化水素基または水素原子の一部をアルコキシ、アリールオキシ、シリルオキシまたはアミド基で置き換えた変性アルミノキサンを、式（Ｘ）または（ＸＩ）で表されるアルミノキサン化合物の代わりに成分（Ｃ）として使用可能である。
【０１２１】
有機遷移金属化合物（Ｂ）及びアルミノキサン化合物を、アルミノキサン化合物におけるアルミニウムの、有機遷移金属化合物（Ｂ）における遷移金属に対する原子比が１０：１〜１０００：１の範囲、好ましくは２０：１〜５００：１の範囲、特に３０：１〜４００：１の範囲となるような量で使用するのが有用であると見出された。
【０１２２】
非電荷の強ルイス酸として、式（ＸＩＩ）：
【０１２３】
【化２９】
2004503621.tif 000028
【０１２４】
［但し、Ｍ２が元素周期表第１３族の元素、特にＢ、ＡｌまたはＧａを表わし、Ｂであるのが好ましく、
Ｘ１、Ｘ２及びＸ３がそれぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリール、アルキル基の炭素原子数１〜１０個及びアリール基の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリール、アリールアルキル、ハロアルキル若しくはハロアリール、またはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素を表わし、特にハロアリールを表し、ペンタフルオロフェニルを表すのが好ましい］
で表される化合物が好ましい。
【０１２５】
非電荷の強ルイス酸に関する他の例は、ＷＯ００／３１０９０に示されている。
【０１２６】
Ｘ１、Ｘ２及びＸ３が同一であり、好ましくはトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランを表す式（ＸＩＩ）の化合物が特に好ましい。
【０１２７】
カチオン形成化合物（Ｃ）として適当な非電荷の強ルイス酸には、ホウ酸と２当量のトリアルキルアルミニウムとの反応生成物またはトリアルキルアルミニウムと２当量の酸性のフッ素化、特に過フッ素化炭素化合物、例えばペンタフルオロフェノール若しくはビス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸との反応生成物も含まれる。
【０１２８】
ルイス酸カチオンを有する適当なイオン性化合物には、式（ＸＩＩＩ）：
【０１２９】
【化３０】
2004503621.tif 000029
【０１３０】
［但し、Ｙが元素周期表第１〜１６族の元素であり、
Ｑ１〜Ｑｚがマイナス１価に荷電された基、例えばＣ１〜Ｃ２８アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリール、アリール基の炭素原子数６〜２０個及びアルキル基の炭素原子数１〜２８個のアルキルアリール、アリールアルキル、ハロアルキル、ハロアリール、置換基としてＣ１〜Ｃ１０アルキル基を有していても良いＣ３〜Ｃ１０シクロアルキル、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ２８アルコキシ、Ｃ６〜Ｃ１５アリールオキシ、シリルまたはメルカプチル基を表し、
ａが１〜６までの整数であり、
ｚが０〜５までの整数であり、
ｄがａ−ｚの差であるが、ｄは１以上である］
で表される塩様化合物が含まれる。
【０１３１】
特に有用なカチオンは、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン及びスルホニウムカチオンであり、更にカチオン性の遷移金属化合物である。トリフェニルメチルカチオン、銀カチオン及び１，１’−ジメチルフェロセニルカチオンが特記に値する。これらは、非配位対イオンを有しているのが好ましく、特にＷＯ９１／０９８８２にも記載されているホウ素化合物、好ましくはテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを有している。
【０１３２】
非配位アニオンを有する塩は、ホウ素またはアルミニウム化合物、例えばアルキルアルミニウムを、第２の化合物（反応して、２種以上のホウ素またはアルミニウム原子と結合可能である）、例えば水と、そして第３の化合物（ホウ素またはアルミニウム化合物を含むイオン化イオン性化合物を形成する）、例えばトリフェニルクロロメタンとを組み合わせることによって調製可能である。更に、同様にホウ素またはアルミニウム化合物と反応する第４の化合物、例えばペンタフルオロフェノールを添加可能である。
【０１３３】
カチオンとしてブレンステッド酸を含むイオン性化合物は、同様に、非配位対イオンを有しているのが好ましい。ブレンステッド酸として、プロトン化アミンまたはアニリン誘導体が特に好ましい。好ましいカチオンは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアンモニウム及びＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアンモニウム、更に後者の２つの誘導体である。
【０１３４】
好ましいイオン性化合物（Ｃ）は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート及び、特に、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート及びＮ，Ｎ−ジメチルベンジルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
【０１３５】
２種以上のボレートアニオンを、ジアニオン［（Ｃ６Ｆ５）２Ｂ−Ｃ６Ｆ４−Ｂ（Ｃ６Ｆ５）２］２−のように、相互に合体させることも可能であり、あるいはボレートアニオンは、ブリッジを介して、担体表面の適当な官能基に結合されることも可能である。
【０１３６】
他の好適なカチオン形成化合物（Ｃ）は、ＷＯ００／３１０９０に列挙されている。
【０１３７】
非電荷の強ルイス酸、ルイス酸カチオンを有するイオン性化合物またはカチオンとしてブレンステッド酸を含むイオン性化合物の量は、有機遷移金属化合物（Ｂ）に対して、０．１〜２０当量、好ましくは１〜１０当量であるのが好ましい。
【０１３８】
好適なカチオン形成化合物（Ｃ）には、ジ［ビス（ペンタフルオロフェニル）ボロキシ］メチルアラン等のホウ素−アルミニウム化合物が含まれる。かかるホウ素−アルミニウム化合物の例は、ＷＯ９９／０６４１４に記載されている。
【０１３９】
上述したカチオン形成化合物（Ｃ）全ての混合物を使用することも可能である。好ましい混合物は、アルミノキサン、特にメチルアルミノキサン、及びイオン性化合物、特にテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニオンを含む化合物、および／または非電荷の強ルイス酸、特にトリス（ペンタフルオロフェニル）ボランである。
【０１４０】
有機遷移金属化合物（Ｂ）とカチオン形成化合物（Ｃ）の両方を、溶剤、好ましくは炭素原子数６〜２０個の芳香族炭化水素、特にキシレンまたはトルエン中で使用するのが好ましい。
【０１４１】
触媒組成物は、追加成分（Ｄ）として、少なくとも１種の有機マグネシウム化合物を含んでいる。有機マグネシウム化合物（Ｄ）は、酸化状態２のマグネシウムを含み、これは、炭化水素、アルコキシド及びアリールオキシド、アミド、カルボキシレートならびにアセチルアセトネートから選択される少なくとも１種の配位子を有している。好ましい有機マグネシウム化合物（Ｄ）は、配位子として少なくとも１種のＣ１〜Ｃ２０炭化水素基を有している。これは、例えば、式（ＸＩＶ）：
【０１４２】
【化３１】
2004503621.tif 000030
【０１４３】
［但し、Ｒ１Ｅが水素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜１９個のアルキルアリールまたはアリールアルキル、ＳｉＲ３Ｅ３を表わし、
Ｒ２Ｅが水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜１９個のアルキルアリール、アリールアルキル、またはアルコキシを表わし、
Ｒ３ＥがＣ１〜Ｃ２０アルキル、Ｃ６〜Ｃ２０アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜１９個のアルキルアリールまたはアリールアルキルを表し、
ｒが１または２を表す］
で表される有機マグネシウム化合物である。
【０１４４】
好適なカルボ有機基Ｒ１Ｅ及びＲ２Ｅは、例えば、以下の基：直鎖でも、または分岐していても良いＣ１〜Ｃ２０アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルまたはｎ−ドデシル；置換基としてＣ６〜Ｃ１０アリール基を有していても良い５〜７員のシクロアルキル、例えばシクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナンまたはシクロドデカン；直鎖でも、環式でも、または分岐していても良く、且つ二重結合を内部または末端に有していても良いＣ２〜Ｃ２０アルケニル、例えばビニル、１−アリル、２−アリル、３−アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニルまたはシクロオクタジエニル；置換基として他のアルキル基を有していても良いＣ６〜Ｃ２０アリール、例えばフェニル、ナフチル、ビフェニル、アントラニル、ｏ−、ｍ−、ｐ−メチルフェニル、２，３−、２，４−、２，５−若しくは２，６−ジメチルフェニル、２，３，４−、２，３，５−、２，３，６−、２，４，５−、２，４，６−若しくは３，４，５−トリメチルフェニル；または、置換基として他のアルキル基を有していても良いアリールアルキル、例えばベンジル、ｏ−、ｍ−、ｐ−メチルベンジル、１−若しくは２−エチルフェニルであり、且つＲ１Ｅ及びＲ２Ｅは、合体して、５員環または６員環を形成しても良く、そして、有機基Ｒ１Ｅ及びＲ２Ｅは、フッ素、塩素または臭素等のハロゲンで置換されていても良い。好ましい基Ｒ１Ｅ及びＲ２Ｅは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ビニル、アリル、ベンジル、フェニルまたはナフチルである。有機ケイ素基ＳｉＲ３Ｅ３の基Ｒ３Ｅは、Ｒ１Ｅ及びＲ２Ｅに関して上記に詳細に説明したものであり、その際、２個のＲ３Ｅが合体して、５員環または６員環を形成しても良い。好適な有機ケイ素基の例は、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ブチルジメチルシリル、トリブチルシリル、トリアリルシリル、トリフェニルシリルまたはジメチルフェニルシリルである。
【０１４５】
特に有用な有機マグネシウム化合物は、メチルマグネシウムクロリド、メチルマグネシウムブロミド、エチルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムブロミド、ｎ−ブチルマグネシウムクロリド、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジ−ｎ−ブチルマグネシウム、ｎ−ブチル−ｎ−オクチルマグネシウム及びｎ−ブチル−ｎ−ヘプチルマグネシウムであり、特にｎ−ブチル−ｎ−オクチルマグネシウムである。
【０１４６】
１種以上の有機マグネシウム化合物（Ｄ）を使用することも可能である。１種の有機マグネシウム化合物（Ｄ）を使用するのが好ましい。有機マグネシウム化合物（Ｄ）は、触媒組成物中に、Ｍｇの有機遷移金属化合物（Ｂ）における遷移金属に対するモル比が２０００：１〜０．１：１、好ましくは８００：１〜０．２：１、特に好ましくは１００：１〜１：１となるような量で含まれている。
【０１４７】
更に触媒組成物は、追加成分（Ｅ）として、式（ＸＶ）：
【０１４８】
【化３２】
2004503621.tif 000031
【０１４９】
［但し、ＭＦがＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｂｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウムまたはタリウムを表わし、
Ｒ１Ｆが水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリールまたはアリールアルキルを表わし、
Ｒ２Ｆ及びＲ３Ｆがそれぞれ水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ６〜Ｃ１５アリール、アルキル部分の炭素原子数１〜１０個及びアリール部分の炭素原子数６〜２０個のアルキルアリールまたはアリールアルキルを表わし、
ｒＦが１〜３までの整数を表わし、
ｓＦ及びｔＦが０〜２までの整数を表わし、且つｒＦ、ｓＦ及びｔＦの合計がＭＦの原子価に相当する］
で表される金属化合物を含むことが可能であり、その際、成分（Ｅ）は、成分（Ｃ）と同一ではない。式（ＸＶ）で表される種々の金属化合物の混合物を使用することも可能である。
【０１５０】
式（ＸＶ）で表される金属化合物の中で、ＭＦがリチウムまたはアルミニウムであり、Ｒ２Ｆ及びＲ３ＦがそれぞれＣ１〜Ｃ１０アルキルである金属化合物が好ましい。
【０１５１】
特に好ましい式（ＸＶ）の金属化合物は、ｎ−ブチルリチウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムフロリド、メチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド及びトリメチルアルミニウムならびにこれらの混合物である。アルキルアルミニウムとアルコールとの部分加水分解生成物を使用することも可能である。
【０１５２】
金属化合物（Ｅ）を使用する場合、触媒組成物中に、式（ＸＶ）におけるＭＦの、有機遷移金属化合物（Ｂ）における遷移金属に対するモル比が２０００：１〜０．１：１、好ましくは８００：１〜０．２：１、特に好ましくは１００：１〜１：１となるような量で含まれるのが好ましい。
【０１５３】
本発明の触媒組成物は、原則として、担体上の少なくとも１種の成分（Ｂ）または（Ｃ）を、物理吸着または化学反応、即ち各成分の共有結合により、担体表面の反応性基で固定化することにより調製される。
【０１５４】
担体成分、成分（Ｂ）及び任意の成分（Ｃ）を組み合わせる順序は重要でない。成分（Ｂ）及び（Ｃ）を相互に独立して添加するか、または同時に添加することが可能である。個々の処理工程後、固体を適当な不活性溶剤、例えば脂肪族または芳香族炭化水素で洗浄可能である。
【０１５５】
好ましい形態において、有機遷移金属化合物（Ｂ）を適当な溶剤中でカチオン形成化合物（Ｃ）と接触させ、これにより、可溶性反応性生物、付加体または混合物を形成するのが一般的である。その後、このようにして得られた調製物を、予備処理したか焼処理マナセアイト（Ａ）と接触させ、そして溶剤を完全にまたは部分的に除去する。これにより、易流動性粉末状の固体を得る。上記処理に関する工業的手段の例は、ＷＯ９６／００２４３、ＷＯ９８／４０４１９またはＷＯ００／０５２７７に記載されている。他の好ましい形態では、最初に、カチオン形成化合物（Ｃ）をか焼処理マナセアイト（Ａ）に施し、次いで、この担持カチオン形成化合物を有機遷移金属化合物（Ｂ）と接触させる。
【０１５６】
有機マグネシウム化合物（Ｄ）も同様に、成分（Ａ）、（Ｂ）ならびに必要により（Ｃ）及び（Ｅ）と任意の順序で反応させることが可能である。最初に、（Ｄ）を成分（Ａ）と接触させ、その後、成分（Ｂ）及び（Ｃ）と上述したように処理するのが好ましい。更に別の好ましい形態において、触媒固体を、上述したように成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）から調製し、そして重合中、重合開始時または重合直前に成分（Ｄ）と接触させる。最初に、（Ｄ）を重合すべきα−オレフィンと接触させ、次いで、上述したように成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）から誘導される触媒固体を添加するのが好ましい。成分（Ｅ）は、任意である。他の成分（Ｅ）を使用しないのが好ましい。成分（Ｅ）を使用する場合、成分（Ｄ）と（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）との接触に関する好ましい形態と同一の形態を用いる。
【０１５７】
触媒組成物を、最初にα−オレフィン、好ましくは直鎖のＣ２〜Ｃ１０−１−アルケン、特にエチレン又はプロピレンと予備重合させ、これにより得られた予備重合触媒固体を実際の重合に使用するのも可能である。予備重合に使用される触媒固体の、これに重合すべきモノマーに対する質量比は、通常、１：０．１〜１：２００の範囲である。
【０１５８】
更に、少量のオレフィン、好ましくはα−オレフィン、例えばビニルシクロヘキサン、スチレンまたはフェニルジメチルビニルシラン（変性成分として使用する）、帯電防止剤または適当な不活性化合物、例えばワックスまたは油を、担持触媒組成物の調製中または調製後に添加剤として添加可能である。添加剤の、遷移金属化合物（Ｂ）に対するモル比は、通常、１：１０００〜１０００：１の範囲であり、１：５〜２０：１の範囲が好ましい。
【０１５９】
重合は、オレフィンの重合に使用される一般的な反応器中で、バルク（塊状）、懸濁、気相または超臨界媒体にて公知の方法により行われ得る。重合は、バッチ式または好ましくは連続的に一段階以上で行われ得る。管型反応器若しくはオートクレーブにおける高圧重合処理、溶液処理、懸濁処理、撹拌気相処理または気相の流動床処理の全てが可能である。
【０１６０】
重合は、一般に、０．５〜４０００バール（５．０×１０４〜４．０×１０８Ｐａ）の圧力及び０．５〜５時間、好ましくは０．５〜３時間の平均滞留時間の条件下、−６０〜３５０℃で行われ得る。重合を行う場合に有効な圧力及び温度範囲は、重合法に大きく依存している。１０００〜４０００バール（１０８〜４．０×１０８Ｐａ）、特に２０００〜３５００バール（２．０×１０８〜３．５×１０８Ｐａ）の圧力条件下で行われる高圧重合法の場合、高い重合温度を設定するのが一般的である。この高圧重合処理に関する有効な温度範囲は、２００〜２８０℃であり、特に２２０〜２７０℃の範囲である。低圧重合法の場合、ポリマーの軟化点より少なくとも数℃低い温度を設定するのが一般的である。特に、５０〜１８０℃の温度、好ましくは７０〜１２０℃の温度をこの重合処理に設定する。懸濁重合の場合、重合は、懸濁媒体中、好ましくは不活性炭化水素、例えばイソブタンまたはその他にモノマーそれ自体中で行われるのが一般的である。重合温度は、一般に、−２０〜１１５℃の範囲であり、圧力は、１〜１００バール（１０５〜１０７Ｐａ）の範囲が一般的である。懸濁液の固体含有率は、１０〜８０％の範囲が一般的である。この処理は、バッチ式、例えば撹拌オートクレーブ、または連続的に、例えば管型反応器、好ましくはループ式反応器中で行われ得る。特に、ＵＳ−Ａ３２４２１５０及びＵＳ−Ａ３２４８１７９に記載されているフィリップスＰＦ法を用いることができる。
【０１６１】
上述した重合法の中で、気相重合、特に気相の流動床反応器、溶液重合及び懸濁重合、特にループ式反応器及び撹拌器付タンク反応器が特に好ましい。気相重合を、凝縮または過凝縮方式で行うことができ、これにおいて、循環ガスの一部を露点未満に冷却し、そして２相混合物として反応器に給送する。必要により、異なるまたは同一の重合処理を連続して結び付けて、重合カスケードを形成することも可能である。更に、モル質量調節剤、例えば水素、または従来からの添加剤、例えば耐電防止剤を重合に使用可能である。
【０１６２】
本発明の触媒組成物により、オレフィンの重合における生産性が極めて高くなり、重合後のポリマーの後処理において有効となるので、ポリマー中の触媒残留物に関する不都合が大幅に少なくなる。本発明の触媒組成物を使用して調製されるポリマーは、高い生成物純度を必要とする用途に特に有用である。本発明の触媒組成物は、アルミノキサンの有機遷移金属化合物に対するモル比が比較的低い条件下で良好な活性も示す。
【０１６３】
【実施例】
サンプルを特徴付けるために、以下の試験を行った：
マグネシウムとアルミニウム含有率の測定：
マグネシウム及びアルミニウムの含有率は、ドイツ国、クレーヴェ、スペクトロ社製（Ｓｐｅｃｔｒｏ， Ｋｌｅｖｅ， Ｇｅｒｍａｎｙ）の誘導結合プラズマ原子発光分析計を用い、濃硝酸、リン酸及び硫酸の混合物中で温浸されるサンプルで測定され、その際、測定を、マグネシウムの場合に２７７．９８２ｎｍ及びアルミニウムの場合に３０９．２７１ｎｍのスペクトル線を使用して行った。
【０１６４】
比表面積の測定：
ドイツ工業規格６６１３１に準拠する窒素吸着により行った。
【０１６５】
細孔容積の測定：
ドイツ工業規格６６１３３に準拠する水銀多孔度計により行った。
【０１６６】
ｄ１０、ｄ５０及びｄ９０の測定：
粒子の粒径分布を、イギリス国、マルベルン（Ｍａｌｖｅｒｎ）社製のマスターサイザーＸ（Ｍａｓｔｅｒｓｉｚｅｒ Ｘ）を用いるレーザー光散乱によって、イソプロパノール分散液中で測定した。パラメータｄ１０、ｄ５０及びｄ９０は、直径に対する体積基礎百分位数である。ｄ５０は、同時に粒径分布のメジアンである。
【０１６７】
強熱減量の測定：
強熱減量は、２工程で加熱される、即ち最初に乾燥炉において２００℃で３０分間、その後、マッフル炉において９５０℃で１時間加熱されるサンプルにより経験される損失質量である。
【０１６８】
Ｘ線回折：
Ｘ線回折パターンは、Ｃｕ−Ｋα放射線を用いるシーメンス社製の粉末回折計Ｄ５０００によって測定された。
【０１６９】
ＯＨ数の測定：
約２０ｇの試験される固体を２５０ｍｌのヘプタンに懸濁させ、そして懸濁液を撹拌しながら０℃に冷却した。一定温度下で、４０ｍｌの、トリエチルアルミニウムをヘプタンに溶解した２Ｍ溶液を３０分で連続的に添加した。形成したエタンを集めて、その体積を測定した。ＯＨ数は、形成したエタンのモル量を、用いられる担体の質量で割り算したものである。
【０１７０】
残留水分含有量の測定：
残留水分含有量を、スイス国、グレイフェンシー（Ｇｒｅｉｆｅｎｓｅｅ）、メトラー−トレド（Ｍｅｔｔｌｅｒ−Ｔｏｌｅｄｏ）社製のメトラーＬＪ１６水分分析器を用い、不活性ガス雰囲気条件下での測定によって得られる揮発性物質の含有量である。
【０１７１】
η値の測定：
１３０℃で溶剤としてのデカリンを用い、自動ウッベローデ粘度計（ラウダＰＶＳ１（Ｌａｕｄａ ＰＶＳ １））を使用して行われた（１３０℃、０．００１ｇ／ｍｌのデカリン条件にてＩＳＯ１６２８を準拠）。
【０１７２】
使用される担体材料は、Ｃｏｎｄｅａ Ｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨ製のプラロックスＭＧ６１（Ｐｕｒａｌｏｘ ＭＧ ６１）であった。これは、ＭｇＯ含有率６１質量％、比表面積１５６ｍ２／ｇ、細孔容積１．４ｍｌ／ｇ及び２１．１／４４．０／７１．０ｍｍのｄ１、／ｄ５０／ｄ９０比により特徴付けられる粒径分布を有し、且つロータリー管型炉において５５０℃にて３時間か焼されたマグネシウム−アルミニウムの混合酸化物である。１１．６質量％の強熱減量を、出発材料で測定した。図１は、このマグネシウム−アルミニウムの混合酸化物に関するＸ線回折パターンを示している。
【０１７３】
上記で使用される出発混合酸化物を３時間か焼したが、僅か２５０℃で加熱した。図２は、この部分か焼処理マグネシウム−アルミニウムの混合酸化物に関するＸ線回折パターンを示している。
【０１７４】
上記で使用される出発混合酸化物を３時間か焼したが、８００℃でか焼した。図３は、この部分か焼処理マグネシウム−アルミニウムの混合酸化物に関するＸ線回折パターンを示している。これは、比表面積１３８ｍ２／ｇ、細孔容積１．５９ｍｌ／ｇ及び強熱減量３．７４質量％を有していた。
【０１７５】
比表面積２３６ｍ２／ｇ、細孔容積１．１２ｍｌ／ｇ及び強熱減量４５．６質量％を有する非か焼処理出発材料（比較実施例３を参照）に関するＸ線回折パターンを図４に示す。
【０１７６】
［実施例１］
（ａ）担体の予備処理
１００ｇのプラロックスＭＧ６１を最初に１８０℃及び１ミリバール（１０２Ｐａ）で３０時間乾燥し、次いで、窒素雰囲気下で保存した。これにより、強熱減量が７．１質量％に低減した。
【０１７７】
［実施例１］
（ａ）担体の予備処理
１００ｇのＣｏｎｄｅａ Ｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨ製プラロックスＭＧ６１を１５０℃で６時間加熱した。その後、担体は、担体１ｇに対して０．１９ミリモルのＯＨ数を有していた。
【０１７８】
（ｂ）メタロセン／ＭＡＯの付与（装填）
２８７．１ｍｇの（ｎＢｕ−Ｃｐ）２ＺｒＣｌ２（ヴィトコ（Ｗｉｔｃｏ）社製、ユレセン５０３１（Ｅｕｒｅｃｅｎ ５０３１））を４．１ｍｌのトルエンに懸濁させ、１８．６ｍｌの、ＭＡＯをトルエンに溶解した４．７５Ｍ溶液（アルベマーレ（Ａｌｂｅｍａｒｌｅ）社製）と混合し、そして４５分間撹拌した。メタロセン／ＭＡＯ溶液を１０分に亘って、１４．２ｇの、実施例１ａ）で得られた失活担体に添加し、そして混合物を更に６０分間撹拌した。その後、触媒を室温及び１０−３ミリバール（１０−１Ｐａ）下で乾燥した。これにより、２０．２ｇの淡黄−ベージュ色固体が得られた。
【０１７９】
［実施例２］重合
４００ｍｌのイソブタン及び３ｍｌの、ブチルオクチルマグネシウムをヘプタンに溶解した２０質量％溶液（１５０ｍｇのブチルオクチルマグネシウムに相当する）を、アルゴンで不活性状態にした１Ｌ（リットル）のオートクレーブに導入し、そして実施例１ｂ）で得られた２４．０ｍｇの触媒固体を導入した。重合は、４０バール（４．０×１０６Ｐａ）のエチレン圧条件下、７０℃で９０分間行われた。圧力を開放することによって重合を停止させ、そして生成物を、底部弁を介して排出した。これにより、４００ｇのη値３．６８ｄｌ／ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、１６６７０ｇのＰＥ。
【０１８０】
［比較実施例Ｃ１］重合
４００ｍｌのイソブタン及び３ｍｌの、ヘプタン中におけるブチルリチウム溶液（３０ｍｇのブチルリチウムに相当する）を、アルゴンで不活性状態にした１Ｌのオートクレーブに導入し、そして実施例１ｂ）で得られた２２．８ｍｇの触媒固体を導入した。重合は、４０バール（４．０×１０６Ｐａ）のエチレン圧条件下、７０℃で９０分間行われた。圧力を開放することによって重合を停止させ、そして生成物を、底部弁を介して排出した。これにより、２００ｇのη値３．９５ｄｌ／ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、８８００ｇのＰＥ。
【０１８１】
［実施例３］重合
１．５ｍｌの、ヘプタン中における２０質量％濃度ブチルオクチルマグネシウム溶液（７５ｍｇのブチルオクチルマグネシウムに相当する）、１ｍｌのコステラン（Ｃｏｓｔｅｌａｎ）ＡＳ１００溶液（耐電防止剤）及び８ｍｌのヘプタンを、最初の導入物が１００ｇのポリエチレンであり且つアルゴンで不活性状態にした１Ｌのオートクレーブに導入し、そして実施例１ｂ）で得られた４２．０ｍｇの触媒固体を導入した。重合は、１０バール（１０６Ｐａ、全圧で２．０×１０６Ｐａ）のエチレン圧条件下、７０℃で９０分間行われた。圧力を開放することによって重合を停止させ、そして生成物を、底部弁を介して排出した。これにより、９５ｇのη値２．４４ｄｌ／ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、２２００ｇのＰＥ。
【０１８２】
［比較実施例２Ｃ］重合
２ｍｌの、ヘプタン中におけるトリイソプレニルアルミニウム溶液（７５ｍｇのトリイソプレニルアルミニウムに相当する）、１ｍｌのコステランＡＳ１００溶液（耐電防止剤）及び８ｍｌのヘプタンを、最初の導入物が１００ｇのポリエチレンであり且つアルゴンで不活性状態にした１Ｌのオートクレーブに導入し、そして実施例１ｂ）で得られた４０．０ｍｇの触媒固体を導入した。重合は、１０バール（１０６Ｐａ、全圧で２．０×１０６Ｐａ）のエチレン圧条件下、７０℃で９０分間行われた。圧力を開放することによって重合を停止させ、そして生成物を、底部弁を介して排出した。生産率：固体触媒１ｇあたり、１００ｇ未満のＰＥ。
【０１８３】
［比較実施例３Ｃ］
ａ）担体の予備処理
非か焼処理のマグネシウム−アルミニウムの水酸化物を使用した以外、実施例１の操作を繰り返した。これは、２３６ｍ２／ｇの比表面積及び１．１２ｍｌ／ｇの細孔容積を有していた。強熱減量は、４５．６質量％であった。図４は、この材料に関するＸ線回折パターンを示している。
【０１８４】
ｂ）メタロセン／ＭＡＯの付与（装填）
２７６．９ｍｇの（ｎＢｕ−Ｃｐ）２ＺｒＣｌ２（ヴィトコ社製、ユレセン５０３１）を４ｍｌのトルエンに懸濁させ、１７．９ｍｌの、ＭＡＯをトルエンに溶解した４．７５Ｍ溶液（アルベマーレ社製）と混合し、そして混合物を４５分間撹拌した。メタロセン／ＭＡＯ溶液を１０分に亘って、１３．７ｇの、実施例３Ｃａ）で得られた失活担体に添加し、そして混合物を更に６０分間撹拌した。その後、触媒を室温及び１０−３ミリバール（１０−１Ｐａ）下で乾燥した。これにより、１８．８ｇの淡黄−ベージュ色固体が得られた。
【０１８５】
［比較実施例４Ｃ］重合
５０００ｍｌのイソブタン及び２ｍｌの、ヘプタン中における２０質量％濃度ブチルオクチルマグネシウム溶液（１００ｍｇのブチルオクチルマグネシウムに相当する）を、アルゴンで不活性状態にした１０Ｌのオートクレーブに導入し、そして実施例Ｃ３ｂ）で得られた３３０ｍｇの触媒固体を計量導入した。重合は、４０バール（４．０×１０６Ｐａ）のエチレン圧条件下、７０℃で９０分間行われた。圧力を開放することによって重合を停止させ、そして生成物を、底部弁を介して排出した。これにより、９５０ｇのη値３．５８ｄｌ／ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、２８８０ｇのＰＥ。
【０１８６】
［比較実施例５Ｃ］重合
１．５ｍｌの、ヘプタン中における２０質量％濃度ブチルオクチルマグネシウム溶液（７５ｍｇのブチルオクチルマグネシウムに相当する）、１ｍｌのコステランＡＳ１００溶液（耐電防止剤）及び８ｍｌのヘプタンを、最初の導入物が１００ｇのポリエチレンであり且つアルゴンで不活性状態にした１Ｌのオートクレーブに導入し、そして実施例Ｃ３ｂ）で得られた７６．０ｍｇの触媒固体を導入した。重合は、１０バール（１０６Ｐａ、全圧で２．０×１０６Ｐａ）のエチレン圧条件下、７０℃で９０分間行われた。圧力を開放することによって重合を停止させ、そして生成物を、底部弁を介して排出した。これにより、５１ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、６７０ｇのＰＥ。
【０１８７】
［比較実施例Ｃ６］
ａ）担体の予備処理
１００ｇのＥＳ７０Ｘ、即ちグロスフィールド（Ｃｒｏｓｆｉｅｌｄ）社製の噴霧乾燥シリカゲルを６００℃で６時間加熱した。次いで、担体は、１ｇの担体に対して、０．１５ミリモルのＯＨ数を有していた。
【０１８８】
ｂ）メタロセン／ＭＡＯの付与（装填）
２５８．８ｍｇの（ｎＢｕ−Ｃｐ）２ＺｒＣｌ２（ヴィトコ社製、ユレセン５０３１）を０．６ｍｌのトルエンに懸濁させ、１６．７ｍｌの、ＭＡＯをトルエンに溶解した４．７５Ｍ溶液（アルベマーレ社製）と混合し、そして混合物を４５分間撹拌した。メタロセン／ＭＡＯ溶液を１０分に亘って、１２．８ｇの、比較実施例Ｃ６ａ）で調製された失活担体材料（実施例１ｂ）で使用される担体とほぼ同じＯＨ数を有している）に添加し、そして混合物を更に６０分間撹拌した。その後、触媒を室温及び１０−３ミリバール（１０−１Ｐａ）下で乾燥した。これにより、１８．０ｇの淡黄−ベージュ色固体が得られた。
【０１８９】
［比較実施例Ｃ７］重合
比較実施例Ｃ６ｂ）で調製された２４．８ｍｇの触媒固体を使用した以外、実施例２を繰り返した。これにより、３００ｇのη値３．５５ｄｌ／ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、１２１００ｇのＰＥ。
【０１９０】
［比較実施例Ｃ８］重合
比較実施例Ｃ６ｂ）で調製された３２ｍｇの触媒固体を使用した以外、比較実施例Ｃ１を繰り返した。これにより、２６０ｇのη値３．６５ｄｌ／ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、８１００ｇのＰＥ。
【０１９１】
［比較実施例Ｃ９］メタロセン／ＭＡＯの付与
２３４．５ｍｇの（ｎＢｕ−Ｃｐ）２ＺｒＣｌ２（ヴィトコ社製、ユレセン５０３１）を７０ｍｌのトルエンに懸濁させ、１５．１ｍｌの、ＭＡＯをトルエンに溶解した４．７５Ｍ溶液（アルベマーレ社製）と混合し、そして混合物を４５分間撹拌した。メタロセン／ＭＡＯ溶液を１０分に亘って、１１．６ｇの、比較実施例Ｃ６ａ）で調製された失活担体材料（実施例４ｂ）で使用される担体とほぼ同じＯＨ数を有している）に添加し、そして混合物を更に６０分間撹拌した。その後、触媒を室温及び１０−３ミリバール（１０−１Ｐａ）下で乾燥した。これにより、１８．０ｇの淡黄−ベージュ色固体が得られた。
【０１９２】
［比較実施例Ｃ１０］重合
比較実施例Ｃ９で調製された８７ｍｇの触媒固体を使用した以外、実施例３を繰り返した。これにより、８８ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、１０１０ｇのＰＥ。
【０１９３】
［比較実施例Ｃ１１］重合
比較実施例Ｃ９で調製された７０．０ｍｇの触媒固体を使用した以外、比較実施例Ｃ２を繰り返した。これにより、７９ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、１１００ｇのＰＥ。
【０１９４】
［実施例４］
ａ）担体の予備処理
５ｇのプラロックスＭＧ６１を室温及び１ミリバール（１０２Ｐａ）下で８時間乾燥し、次いで窒素雰囲気下に保存した。
【０１９５】
ｂ）メタロセン／ＭＡＯの装填
１３０．３ｍｇのジクロロ［１−（８−キノリル）−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］クロム（０．３５０ミリモル）を、９．２ｍｌの、ＭＡＯをトルエンに溶解した４．７５Ｍ溶液（アルベマーレ社製）（４３．７５ｍｌのＡｌに相当する）に溶解し、そして室温で１５分間撹拌した（Ｃｒ：Ａｌ＝１：１２５）。
【０１９６】
この溶液を、撹拌しながら、実施例４ａ）で予備処理されたか焼処理マナセアイトに直接施し、そして添加完了後、混合物を１時間撹拌した。このようにして得られた反応混合物を２時間放置し、次いで、減圧下に室温で乾燥した。これにより、明紫色の粉末が得られた。
【０１９７】
［実施例５］重合
５０００ｍｌのイソブタン及び２．６ｍｌの、ヘプタン中における２０質量％濃度ブチルオクチルマグネシウム溶液（１３０ｍｇのブチルオクチルマグネシウムに相当する）を、アルゴンで不活性状態にした１０Ｌのオートクレーブに導入し、そして実施例４ｂ）で得られた５５４ｍｇの触媒固体を導入した。重合は、４０バール（４．０×１０６Ｐａ）のエチレン圧条件下、７０℃で９０分間行われた。圧力を開放することによって重合を停止させ、そして生成物を、底部弁を介して排出した。これにより、１６００ｇのη値１４．３６ｄｌ／ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、２９００ｇのＰＥ。
【０１９８】
［比較実施例Ｃ１２］重合
５０００ｍｌのイソブタン及び８０ｍｇのブチルリチウム（ヘプテン中における０．１Ｍ溶液）を、アルゴンで不活性状態にした１０Ｌのオートクレーブに導入し、そして実施例４ｂ）で得られた３４２ｍｇの触媒固体を導入した。重合は、４０バール（４．０×１０６Ｐａ）のエチレン圧条件下、７０℃で６０分間行われた。圧力を開放することによって重合を停止させ、そして生成物を、底部弁を介して排出し、メタノール性のＨＣｌ溶液（５０ｍｌのメタノール中における１５ｍｌの濃塩酸）と混合した。次いで、２５０ｍｌのメタノールを添加し、形成した白色ポリマーをろ別し、メタノールで洗浄し、そして７０℃で乾燥した。これにより、４００ｇのη値１５．５７ｄｌ／ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、１２００ｇのＰＥ。
【０１９９】
［実施例６］メタロセン／ＭＡＯの装填
８４．６ｍｇのジクロロ［１−（８−キノリル）インデニル］クロム（０．２３１ミリモル）を、５ｍｌの、ＭＡＯをトルエンに溶解した４．７５Ｍ溶液（アルベマーレ社製）と０．３ｍｌのトルエンに溶解し、そして室温で１５分間撹拌した（Ｃｒ：Ａｌ＝１：１００）。
【０２００】
この溶液を、撹拌しながら、実施例４ａ）で予備処理された３．３ｇのか焼処理マナセアイトに直接施し、そして添加完了後、混合物を１時間撹拌した。このようにして得られた反応混合物を減圧下に室温で乾燥した。これにより、５ｇの緑色の粉末が得られた。
【０２０１】
［実施例７］重合
実施例６で調製された９０６ｍｇの触媒固体を使用し、そして重合を６０分間だけ行った以外、実施例５を繰り返した。これにより、１６５０ｇのη値１６．６ｄｌ／ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、１８００ｇのＰＥ。
【０２０２】
［比較実施例Ｃ１３］重合
実施例６で調製された９６５ｍｇの触媒固体を使用した以外、比較実施例１２を繰り返した。これにより、１０５０ｇのη値４６．９３ｄｌ／ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、１１００ｇのＰＥ。
【０２０３】
［実施例８］メタロセン／ＭＡＯの装填
３４０．３ｍｇの［１，３，５−トリス−１−（２−フェニルエチル）−１，３，５−トリアザシクロヘキサン］クロムトリクロリド（０．６１ミリモル）を、１６．０５ｍｌの、ＭＡＯをトルエンに溶解した４．７５Ｍ溶液（アルベマーレ社製）（７６．２５ミリモルのＡｌに相当する）に溶解し、そして室温で１５分間撹拌した（Ｃｒ：Ａｌ＝１：１２５）。
【０２０４】
この溶液を、撹拌しながら、実施例４ａ）で予備処理された６．１ｇのか焼処理マナセアイトに直接施し、そして添加完了後、混合物を１時間撹拌した。このようにして得られた反応混合物を減圧下に室温で乾燥した。これにより、１０．５ｇの明緑色の粉末が得られた。
【０２０５】
［実施例９］重合
実施例８で調製された１１７ｍｇの触媒固体を使用し、重合を６０分間だけ行った以外、実施例５を繰り返した。これにより、７６ｇのη値１．３９ｄｌ／ｇのポリエチレンが得られた。生産率：固体触媒１ｇあたり、６５０ｇのＰＥ。
【図面の簡単な説明】
【図１】
マグネシウム−アルミニウムの混合酸化物に関するＸ線回折パターンを示している。
【図２】
部分か焼処理マグネシウム−アルミニウムの混合酸化物に関するＸ線回折パターンを示している。
【図３】
部分か焼処理マグネシウム−アルミニウムの混合酸化物に関するＸ線回折パターンを示している。
【図４】
非か焼処理出発材料（比較実施例３を参照）に関するＸ線回折パターンを図４に示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【国際調査報告】
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