(57)【要約】有機材料を保有する物体の滅菌を提供する方法に関する。本方法は、物体をイオン化ガスのプラズマに曝露し、それによって、物体上の有機材料をプラズマと反応させて１以上の揮発性生成物を発生し、その後これを除去するものである。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機材料を保有する物体を滅菌する方法であって、該方法が、該物体をイオン化ガスのプラズマに曝露し、これによって、該物体上の有機材料がプラズマと反応し、１以上の揮発性生成物を発生し；及び該生成物を除去することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記有機材料がプリオンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記プラズマが、酸素又はフッ素ガスベースのプラズマである、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
更に、モニター物体(２０)を同じプラズマに同時に曝露することを含み、該モニター物体が、プラズマと反応して目に見える変化を起こす物質を保有する基材を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記基材が、フォトレジスト(２１)を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記物質が不透明であり、前記基材が前記物質で被覆されている表示を有し、続く物質とプラズマとの反応で明らかになる、請求項４又は５に記載の方法。
【請求項７】
更に、モニター物体をモニターしてプラズマの曝露が生じているか否か決定することを含む、請求項４〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
プラズマがチャンバー(２)内で発生し、及び、物体をプラズマに曝露する間、１以上のガスをチャンバーに供給し及びチャンバーから除去し、実質的に一定の圧力をチャンバー内で維持する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
チャンバーに供給されるガスが、プラズマを発生するプロセスガスである、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
チャンバーから除去されるガスが、揮発性生成物を含む、請求項８又は９に記載の方法。
【請求項１１】
実質的に一定のプラズマ条件を、物体の曝露の間、チャンバー内に維持する、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、有機材料に混入する物体を滅菌する方法に関する。
従来、医療機器等は、医療処置に使用する前に注意深く滅菌する必要があった。滅菌を達成するための多くの技術、例えば、高温で加熱すること、又は、過酸化水素、エチレンオキサイド等の抗菌剤の使用がある。最近はCJD及びプリオンのような有機混入による類似の疾病の伝達の問題の増加と共に、従来の滅菌技術は、安全でないと考えられ、使い捨て機器が、ある種の医療処置において発展しており、これは、使用後に破壊される。これは、許容できるアプローチではあるが、しばしば複雑で、１回の使用で捨てるには高価なある種の機器では問題が生じている。
本発明に従い、有機材料を保有する物体の滅菌方法は、物体をイオン化ガスのプラズマに曝露し、ここで物体上の有機材料がプラズマと反応し、１以上の揮発性生成物を生成し、及びこの生成物を除去することを含む。
発明者らは、滅菌を達成するためにプラズマを使用すると、上記概説した問題を克服し得ることを知得した。プラズマの使用は、半導体製造の分野ではよく知られている。発明者らは、多くのプロセスが有機化合物に立脚しているので、驚くべきことに、このプラズマの使用が、滅菌に対して適用できることを知得した。本発明の文脈において、「滅菌」の語は、クリーンな(無菌の)環境を、すべての形態の有機材料の破壊及び／又は除去によって実施するための方法を意味することを意図する。特に、有機材料は、プリオンのような「生きていない」存在物を含むことを意図する。
【０００２】
本発明の重要な用途は、従って、他の滅菌技術と同様に、有機材料が、プリオンを含むが、他の有機材料、例えば、「生きている」材料にも使用され得るところにある。
プラズマは、典型的に、イオン化された酸素を含むが、フッ素ベースガス、例えば、四フッ化炭素のような他のガスを使用又は加えてもよい。フッ素ベースガスの他の例は、CHF3及びC2F6である。有機材料のエッチングに通常使用される他のガスは、CH4，BCl3，Ar及びN2である。
時々、装置が、プラズマを発生し損なって、オペレーターが物体を降ろして次の製造ステージに渡しているいるときにこれに気づかないことが、半導体産業において見受けられる。これは、半導体産業及び方法において広く認められており、チェックがこれを対処するために発展している。これは、別の機器を使用してプラズマが点火しているかチェックすることを典型的に含む。例えば、光検出器は、放電からの光を検出するためにしばしば使用される。しかしながら、複数の故障(failure)が考えられる場合、一連の状況を想像することによって、機械が成功裏に作動すると思われるが実際はそうでないことがあり得る。この可能性は半導体産業においては許容できるほど低いが、滅菌処置においては、許容できないだろう。
【０００３】
好ましくは、方法は、さらに、同じプラズマに対するモニター物体を同時に曝露することを含み、このモニター物体は、プラズマと反応して目に見える変化を起こす物質を保有する基材を含む。
この方法において、オペレーターは、モニター物体を、プラズマと反応しているか否かを見てチェックでき、及びもし反応している場合、これは、プラズマが発生し、物体が滅菌されていることを確認するだろう。
典型的に、この物質は、プラズマと反応して１以上の揮発性生成物を発生し、従って、フォトレジスト等を含んでもよい。都合よく、この物質は不透明であり、この基材は、この物質で被覆されている表示(indicia)を有し、及びこれは、続く物質とプラズマとの反応で明らかになる。
すべての従来のプラズマ発生装置は、この方法を実行するために使用され得、特に好適な装置は、バレルリアクター(Barrel Reactor)である。
【０００４】
本発明の方法を実行するための装置の例を、ここで添付図面を参照して述べる。
図面は、オックスフォードインスツルメントプラズマテクノロジー社(Oxford Instruments Plasma Technology Limited)によって、PlasmalabTMの名称で販売されるバレルリアクターを図示する。このリアクターは、後ろ板３をボルトで留め又は溶接した水平なアルミニウムシリンダー２を有するバレルチャンバー１を含む。
２つのアルミニウムケージを有する一対の電極４，５を、一つを他の内側に設ける。外側電極５をバレル２にボルトで留め、内側の４を外側の５に固定するが、それらがセラミックスペーサー６によって互いに絶縁している。フィードスルー６Ａは、ＲＦ電源入力を運ぶ。
ポンプ９を、外側ケージ５の下のチャンバーと平行に沿って走っている大口径チューブ１０に接続し、大口径延長チューブ１を経由してチャンバーを出て行く。このチューブは、Ｏリングで後ろ板３にシールされていて、ポンプ９にスロットルバルブ１３を経由して接続される高真空バルブ１２で終わる。
チャンバーは、パイレックスガラス覗き窓を有するフロントドア１４を有し、ドア開口部を囲むＯリングで、調節可能なスプリングヒンジ（図示せず）によってシールし、これは、平行閉鎖行為(parallel closing action)を可能にする。
【０００５】
図４を参照すると、ステップ１００の操作において、滅菌される機器は、内側ケージ４に支持されてチャンバー２中に配置される。加えて、モニター物体は、チャンバー内に配置される。
モニター物体の例を、図２及び３に示す。物体は、ベース２０を含み、この上にフォトレジスト２１を堆積する。ベース２０は、図３の２２に見られる印刷されたメッセージを保有する。このメッセージは、フォトレジスト２１によって最初に隠される。
チャンバードア１４を、その後閉じ、及びチャンバーとポンプの間の隔離バルブ１２（これは、通常連続的に作動する）を開く。空気は、その後チャンバー外にポンピングされ、非常に「高い」真空をステップ１０１で作り出す。
プロセスガスを、その後、ガスポッド２５を経由してチャンバーに、２つのチューブ８(一つのみ図示)を通して導入する。ガスは、電気的に操作されるバルブ及びマスフローコントローラー(図示せず)によってコントロールされる。典型的に、圧力は約133.322Pa(１トール)、大ざっぱに言って１０００気圧であり、これは、ゲージ２６でモニターされる。
高周波(ＲＦ)発生装置２７を、その後、ステップ１０３でスイッチを入れる。これは、チャンバー内の電極４，５と、オートマッチユニット(Automatch unit)２９を経由してつながれる。
【０００６】
真空インターロックスイッチ２８は、チャンバー圧力がセットしたレベルより低い前に、ＲＦとプロセスガスのいずれも有効にならないことを保証する。
チャンバー内の加工圧力は、ポンプ９と隔離バルブ１２との間に配置されたスロットルバルブ１３によって手動で、又は、別の圧力及びガスフローコントロールを提供する完全自動適応圧力コントローラーによってコントロールされる。
典型的に、ポンプ９は、回転翼タイプである。このような場合、オイルシールされた偏心的にマウントされた翼は、翼を回転させながらガスをトラップし、ガスを出口ポートに押し出す。
ＲＦ発生器の出力は、ガスを２つの電極４，５の間のプラズマに変化させる。
プラズマのインピーダンス(発振電流を有する回路に存在する電気抵抗の形態)は、あるプロセスと他とで、及びプロセスの間に変化する。ＲＦ発生器２７が修正した負荷又はインピーダンスを操作するように設計されているので、素子のインピーダンスが、変化するプラズマ負荷に適合するように自動的に調節するような当該素子を使用しなければならない。オートマッチユニット２９は、コンデンサ及び誘電子の動力化したネットワークであり、この機能を果たす。
【０００７】
より詳細に、プラズマを作り出すために、エネルギーが安定性ガスに与えられ、衝突を引き起こす自由電子を励起し、それによってイオン及びラジカルを作成する。例えば、酸素分子と衝突する電子は、以下のラジカルを生成する：
ｅ ＋ Ｏ2＝＞ Ｏ ＋ Ｏ ＋ ｅ
又は、安定なＯ分子を分離するよりも、電子は、以下を生成して追い出される：
ｅ ＋ Ｏ2＝＞ Ｏ2+＋ ２ｅ
この方法は、比較的不活性のガス分子を非常に反応性のラジカル及びイオンに転換する。
酸素ベースプラズマを有機材料、例えば、ポリエチレン(ＣＨ2)nをエッチングする状況で使用する典型的な反応は、以下の形態を有する。
(ＣＨ2)n＋ ２Ｏ ＝＞ ＣＯ ＋ Ｈ2Ｏ
これとは別に、フッ素ベースガス、例えば、四フッ化炭素で、以下の形態の反応が生じるだろう：
(ＣＨ2)n＋ ６Ｆ ＝＞ ＣＦ4＋ ２ＨＦ
これらの反応のいずれも、揮発性生成物を発生し、これはポンプで取り除かれ、従来の排気処理方法によって無害にされ得る。
【０００８】
この方法のステップ１０３の間、プラズマがチャンバー２の中に存在するとき、すべての有機材料が、モニター物体の上のフォトレジスト層に沿って当該機器上に存在し、プラズマと反応する。上述したような反応は、この有機材料を破壊し、及び得られた揮発性生成物を発生し、これは、その後、チャンバーからガスフローの結果として除去される。
チャンバー内のすべての微生物は、従って、プラズマによって殺される。加えて、及び既知の方法とは対照的に、本発明は、更に、他の有機材料、例えばプリオンを破壊しかつ除去することによって無菌の環境を作る。プリオンは、生きた生物よりも比較的シンプルな有機構造であるが、これは、結果的に無害にするのがより困難である。揮発性生成物の形態による有機材料の破壊及びその除去は、チャンバー内の物体をきれいにする。有機材料は物理的に除去されるからである。
本発明は、所望のプラズマ状態が発生しかつ永久に維持され得る環境を都合よく提供する。これにより、有機材料は、最も耐性のプリオンでさえ破壊しかつ除去することができる長期の攻撃を受け得る。
このプロセスの間、有機の物質の破壊及び除去に対して最適化されたプラズマ条件を生み出すことが重要である。プラズマの行動は、このような条件に強く依存するからである。実際、非理想的条件は、有機材料を当該物体上に事実上「焼く(bake)」ことになるかもしれない。コントロールされたチャンバーからのガスの導入及び除去は、一定で安定な環境を生み、時間の関数として変化しないことを保証する。このような環境は、最適化されたプラズマ条件を生み出すのに理想的である。何十分オーダーの典型的な処理時間がしばしばプリオン材料の完全な除去を保証するために必要であり、及び、この処理時間は、本方法を使用して達成され得る。
【０００９】
ガスフローは、プロセスの間存在するが、チャンバー内のガス組成物の均一性は、注意深い設計によって達成し得る。
一旦、有機材料を除去するプロセスが完了すると、プラズマの発生はステップ１０４で停止する。チャンバーは、その後、大気圧に戻る。ステップ１０５で、モニター物体が視覚的或いは適当な装置の助けによって検査され、フォトレジスト層２１が除去されるか否かを決定し、及びその結果、プラズマプロセスが効果的か否かを決定する。モニターステップ１０５は、機器及びモニター物体は、チャンバー内に存在する間、その場で行われることに注意されたい。これは、ガラス覗き窓をフロントドア１４内で使用することによって達成され得る。
本方法は、従来の滅菌方法と共に、又は代わりに使用されてもよいことが認識される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】装置の概略的ブロック図である。
【図２】モニター物体を通した断面図である。
【図３】フォトレジスト層を除去した図２に示すモニター物体の設計図である。
【図４】装置を使用する実施例の方法の流れ図である。
【図１】
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【図４】
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【国際公開パンフレット】
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【手続補正書】
【提出日】平成15年6月27日(2003.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機材料を保有する物体を滅菌する方法であって、該方法が、該物体をイオン化ガスのプラズマに曝露し、及び、モニター物体(２０)を同じプラズマに同時に曝露することを含み、該モニター物体が、物質を保有する基材を含み、
それにより、該物体上の有機材料及び該基材上の該物質がそれぞれプラズマと反応し、１以上の揮発性生成物を発生し、該反応が、前記物質を前記基材から除去することによってモニター物体における目に見える変化を起こし；
前記生成物を除去し；及び
モニター物体をモニターしてプラズマの曝露が生じているか否か決定する、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記有機材料がプリオンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記プラズマが、酸素又はフッ素ガスベースのプラズマである、請求項１又は請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記基材が、フォトレジスト(２１)を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記物質が不透明であり、前記基材が前記物質で被覆されている表示を有し、続く物質とプラズマとの反応で明らかになる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
プラズマがチャンバー(２)内で発生し、及び、物体をプラズマに曝露する間、１以上のガスをチャンバーに供給し及びチャンバーから除去し、実質的に一定の圧力をチャンバー内で維持する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
チャンバーに供給されるガスが、プラズマを発生させるプロセスガスである、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
チャンバーから除去されるガスが、揮発性生成物を含む、請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
実質的に一定のプラズマ条件を、物体の曝露の間、チャンバー内に維持する、請求項６〜８のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、有機材料に混入する物体を滅菌する方法に関する。
従来、医療機器等は、医療処置に使用する前に注意深く滅菌する必要があった。滅菌を達成するための多くの技術、例えば、高温で加熱すること、又は、過酸化水素、エチレンオキサイド等の抗菌剤の使用がある。最近はCJD及びプリオンのような有機混入による類似の疾病の伝達の問題の増加と共に、従来の滅菌技術は、安全でないと考えられ、使い捨て機器が、ある種の医療処置において発展しており、これは、使用後に破壊される。これは、許容できるアプローチではあるが、しばしば複雑で、１回の使用で捨てるには高価なある種の機器では問題が生じている。
本発明に従い、有機材料を保有する物体の滅菌方法は、物体をイオン化ガスのプラズマに曝露し、モニター物体を同じプラズマに同時に曝露することを含み、該モニター物体が、物質を保有する基材を含み、それにより、該物体上の有機材料及び該基材上の該物質がそれぞれプラズマと反応し、１以上の揮発性生成物を発生し、該反応が、前記物質を前記基材から除去することによってモニター物体における目に見える変化を起こし；前記生成物を除去し；及び、モニター物体をモニターしてプラズマの曝露が生じているか否か決定する。
発明者らは、滅菌を達成するためにプラズマを使用すると、上記概説した問題を克服し得ることを知得した。プラズマの使用は、半導体製造の分野ではよく知られている。発明者らは、多くのプロセスが有機化合物に立脚しているので、驚くべきことに、このプラズマの使用が、滅菌に対して適用できることを知得した。本発明の文脈において、「滅菌」の語は、クリーンな(無菌の)環境を、すべての形態の有機材料の破壊及び／又は除去によって実施するための方法を意味することを意図する。特に、有機材料は、プリオンのような「生きていない」存在物を含むことを意図する。




【国際調査報告】
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