(57)【要約】寸法の安定した可とう性支持体上に、エラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な、熱的及び／又は光化学的架橋可能な層を含んでおり、この層が、８０〜１００％の１，２−架橋ブタジエン単位含量、５〜３０％の結晶度、及び２００００〜３０００００ｇ／モルの平均分子量を有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンの５質量％以上をバインダとして含むことを特徴とする、レーザー製版可能なフレキソ印刷要素。好ましくは次の成分：（ａ）  成分Ａとして、（ａ１）  成分Ａ１として、８０〜１００％の１，２−架橋ブタジエン単位含量、５〜３０％の結晶度、及び２００００〜３０００００ｇ／モルの平均分子量を有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンを５〜１００質量％と、（ａ２）  成分Ａ２として、さらにバインダを０〜９５質量％、からなる１種以上のバインダを５０〜９９．９質量％、（ｂ）  成分Ｂとして、主鎖に反応性の基及び／又は反応性のペンダント基、及び／又は末端基を含有する、架橋性オリゴマー性可塑剤を０．１〜３０質量％、（ｃ）  成分Ｃとして、エチレン性不飽和単量体を０〜２５質量％、（ｄ）  成分Ｄとして、光開始剤及び／又は熱分解性開始剤を０〜１０質量％、（ｅ）  成分Ｅとして、レーザー照射吸収剤を０〜２０質量％、（ｆ）  成分Ｆとして、さらに通常の添加剤を０〜３０質量％、を含んでなるエラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な層。【特許請求の範囲】
【請求項１】
寸法の安定した可とう性支持体上に設けられた、エラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な、熱的及び／又は光化学的架橋可能な層を含み、この層が、８０〜１００％の１，２−架橋ブタジエン単位含量、５〜３０％の結晶度、及び２００００〜３０００００ｇ／モルの平均分子量を有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンを５質量％以上の量でバインダとして含むことを特徴とするレーザー製版可能なフレキソ印刷要素。
【請求項２】
エラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な層が、
（ａ）  成分Ａとして、
（ａ１）  成分Ａ１として、８０〜１００％の１，２−架橋ブタジエン単位含量、５〜３０％の結晶度、及び２００００〜３０００００ｇ／モルの平均分子量を有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンを５〜１００質量％と、
（ａ２）  成分Ａ２として、さらにバインダを０〜９５質量％、
とを、成分Ａ１とＡ２との和が１００質量％となるように含んでなる１種以上のバインダを５０〜９９．９質量％、
（ｂ）  成分Ｂとして、主鎖に反応性の基及び／又は反応性のペンダント基、及び／又は末端基を含有する、架橋性オリゴマー性可塑剤を０．１〜３０質量％、
（ｃ）  成分Ｃとして、エチレン性不飽和単量体を０〜２５質量％、
（ｄ）  成分Ｄとして、光開始剤及び／又は熱分解性開始剤を０〜１０質量％、
（ｅ）  成分Ｅとして、レーザー照射吸収剤を０〜２０質量％、
（ｆ）  成分Ｆとして、さらに通常の添加剤を０〜３０質量％、
を、成分Ａ〜Ｆまでの総和が１００質量％となるように含んでなる、請求項１に記載のレーザー製版可能なフレキソ印刷要素。
【請求項３】
成分Ｂが、末端官能基を含有し、２５℃で５００〜１５００００ｍＰａｓの粘度を有するアリル基含有可塑剤、ポリイソプレンオイル、ポリブタジエンオイルからなる群より選択される、請求項１又は請求項２に記載のレーザー製版可能なフレキソ印刷要素。
【請求項４】
成分Ｂが２５℃で５００〜１０００００ｍＰａｓの粘度を有するポリブタジエンオイルである、請求項３に記載のレーザー製版可能なフレキソ印刷要素。
【請求項５】
次の工程；
（ｉ）  請求項１〜４のいずれかに記載のフレキソ印刷要素のエラストマー性レリーフ形成性の層の熱的又は光化学的架橋、
（ｉｉ）  架橋された、エラストマー性レリーフ形成性の層への印刷レリーフのレーザー製版、
を含むレリーフ印刷要素の製造方法。
【請求項６】
８０〜１００％の１，２−架橋ブタジエン単位含量、５〜３０％の結晶度、及び２００００〜３０００００ｇ／モルの平均分子量を有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンを、レーザー製版可能な印刷要素のエラストマー性レリーフ形成性の層において、バインダとして使用する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、シンジオタクチック１，２−ポリブタジエンを含有するレリーフ形成性エラストマー性の層を有するレーザー製版可能なフレキソ印刷要素に関するものであり、レーザー製版可能なフレキソ印刷要素からのレリーフ印刷要素の製造方法に関するものであり、そしてエラストマー性レリーフ形成性の層におけるバインダとしてのシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンの使用に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
感光マスクを光重合性の（感光性樹脂の）記録要素の上に設け、化学線（化学作用のある光）をこのマスクを介して照射し、現像液を使用して露光した要素の未重合領域を洗浄除去することによるフレキソ印刷プレートの通常の製造方法は、レーザーを使用する方法に次第に置き換わっている。
【０００３】
レーザー直接製版においては、凹部は、十分な出力のレーザー、特にＩＲレーザーを使用して、この目的に適したエラストマー性の層へと直接に製版され、印刷に適したレリーフを形成する。この最後に、多量の物質、印刷レリーフを構成する多量の物質を除去しなければならない。典型的フレキソ印刷プレートは、例えば０．５〜７ｍｍの厚みを有し、プレートの非印刷凹部は０．３〜３ｍｍの深さを有している。ＣＯ２レーザーを使用したラバー（ゴム）印刷シリンダのレーザー製版は、１９６０年代後期から原理的には知られているのではあるが、フレキソ印刷プレートの製造のためのレーザー直接製版方法は、近年の改良されたレーザーシステムの出現によって、それゆえようやく商業的に重要なものとなった。レーザー製版によるレリーフ印刷要素の製造のための出発物質として好適なレーザー製版可能なフレキソ印刷要素の需要は、そのため有意に増大してきている。
【０００４】
ＷＯ９３／２３２５２は、支持体上にバインダとして１種以上の熱可塑性エラストマーを含むレーザー製版可能なエラストマー性の層を含むレーザー製版可能なフレキソ印刷要素、及びフレキソ印刷プレートの製造方法を開示している。この方法において、レーザー製版可能なエラストマー性の層は、加温により熱化学的に、又は化学線の照射により光化学的に強化され、印刷レリーフは続けてレーザーによって製版される。バインダとして、明細書は、ブタジエン及びスチレンのコポリマー、イソプレン及びスチレンのコポリマー、スチレン−ジエン−スチレン３−ブロックコポリマー（例、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン（ＳＢＳ）、ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン（ＳＩＳ）、又はポリスチレン−ポリ（エチレンブチレン）−ポリスチレン（ＳＥＢＳ））に言及している。さらに、一般的な非架橋ポリブタジエン及びポリイソプレンへも言及している。
【０００５】
ＥＰ−Ａ００７６５８８は、５〜２０％の結晶度、８５％の１，２−架橋単位（ユニット）含量、及び１０００００ｇ／モルを超過する分子量を有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンを３０〜７０％と、シス−１，４−ポリイソプレンを７０〜３０％の混合物を含む光架橋可能なフレキソ印刷要素を開示している。この印刷要素は、イメージ（映像）法でＵＶ光に露光され、有機溶媒を使用して未架橋領域を洗浄除去されて現像される。
【０００６】
ＵＳ４５１７２７８は、これはエチレン性不飽和単量体（ＩＩ）の溶液で膨張（膨潤）したシンジオタクチック１，２−ポリブタジエン（Ｉ）を含む感光性モールド組成物から溶融プレスされたフレキソ印刷プレート、及び光開始剤（ＩＩＩ）を開示している。（Ｉ）は、１００００〜３０００００ｇ／モルの平均分子量、８０％以上の１，２−架橋単位（ユニット）含量、及び１０〜３０％の結晶度を有している。（ＩＩ）は、Ｃ４〜Ｃ２０アルカノールのメタクリル酸エステルであり、（ＩＩＩ）は、ベンゾイン、又はベンゾインアルキルエーテルである。製造のために、（Ｉ）のペレットは、（ＩＩ）の溶液で膨張（膨潤）され、続けて溶融プレスされて０．１〜１０ｍｍの厚みを有するプレートが得られる。この方法は、非連続的にのみ実施可能であり、複雑である。この実施例で製造される印刷プレートは、現像のための洗浄除去剤としてキシレンを必要とする。６０〜６５のショアーＡ硬度は、相対的に多量の非架橋可塑剤（例、ビニルエステル、又はフタレート）の同時使用によってのみ達成される。これらは、レーザー製版の間に、溶融端部（メルトエッジ）を形成する。
【０００７】
公知のバインダは、エラストマー性レリーフ形成性の層の光化学架橋する間の長時間の露光時間の場合に欠点を有しており、製版印刷レリーフの鮮明さと解像度とが必ずしも十分には得られない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、改良されたレーザー製版可能なフレキソ印刷要素を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、本発明の目的が、エラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な、熱的又は光化学的架橋可能な層を含み、その層は可とう性の支持体上に、８０〜１００％の１，２−架橋ブタジエン単位含量、５〜３０％の結晶度、及び２００００〜３０００００ｇ／モルの平均分子量を有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンの５質量％以上をバインダとして含んでいる、レーザー製版可能なフレキソ印刷要素によって達成されることを見いだした。
【００１０】
本発明の目的においては、レーザー製版可能なという用語は、エラストマー性レリーフ形成性の層が、十分な強度のレーザービームで露光される点で、それが除去され又は少なくともゆるめられる（loosen)ようなやりかたで、レーザー照射、特にＩＲレーザーの照射を吸収する性質を有していることを意味している。その層は、この方法において、あらかじめ溶融されることなく、好ましくは蒸発され、又は熱的又は酸化的に分解され、そしてその分解生成物は、その層から加熱された気体、蒸気、煙霧又は微細な粒子の形態で除去される。
【００１１】
特定のシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンをバインダとして使用して製造されるこのエラストマー性レリーフ形成性の層は、レーザー製版において非常に鮮明で高解像度のレリーフ要素をもたらす。レーザー製版の際に、溶融したエッジ（縁部）を形成しないが、代わりにわずかに沈着（デポジット）を生じ、これは機械的に、又は水かアルコールによる簡単な後処理によって除去可能である。さらに、エラストマー性レリーフ形成性の層は、ＵＶ−Ａ光の照射によって極めて迅速に光架橋可能である。
【００１２】
上記の利点は、レリーフ形成性エラストマー性の層において、可塑剤、エチレン性不飽和架橋単量体、又は開始剤のような添加剤の付随使用なしでも、達成される。
【００１３】
しかし、レリーフ形成性エラストマー性レーザー製版可能なの層は、好ましくは以下の
（ａ）  ５０〜９９．９質量％、好ましくは６０〜８５質量％の、１又はそれ以上のバインダを成分Ａとして
（ａ１）  成分Ａ１として、８０〜１００％の１，２−架橋ブタジエン単位含量、５〜３０％の結晶度、及び２００００〜３０００００ｇ／モルの平均分子量を有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンを５〜１００質量％、好ましくは５０〜８５質量％と、
（ａ２）  成分Ａ２として、さらにバインダを０〜９５質量％、好ましくは０〜５０質量％、
とを、成分Ａ１とＡ２との和が１００質量％となるように含んでなる１種以上のバインダを５０〜９９．９質量％、好ましくは６０〜８５質量％、
（ｂ）  成分Ｂとして、主鎖に反応性の基及び／又は反応性のペンダント基、及び／又は末端基を含有する、架橋性オリゴマー性可塑剤を０．１〜３０質量％、好ましくは５〜２０質量％、
（ｃ）  成分Ｃとして、エチレン性不飽和単量体を０〜２５質量％、５〜２０質量％、
（ｄ）  成分Ｄとして、光開始剤及び／又は熱分解性開始剤を０〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％、
（ｅ）  成分Ｅとして、レーザー照射吸収剤を０〜２０質量％、好ましくは０〜１０質量％、
（ｆ）  成分Ｆとして、さらに通常の添加剤を０〜３０質量％、好ましくは０〜１０質量％、
を、成分Ａ〜Ｆまでの総和が１００質量％となるように含んでなるものである。
【発明の効果】
【００１４】
通常のフレキソ印刷要素（比較例）と比べて、１，２−ポリブタジエン（実施例）に基づくフレキソ印刷要素にレーザー製版して製造されたレリーフ要素の優越している品質は、評価した特徴から明らかである。本発明の全ての実施例において、ネガの線の組が示すように極めて精細な（優れた）レリーフ要素が、高品質でイメージ（造影）可能である。さらに、シンジオタクチック１，２−ポリブタジエンに基づくフレキソ印刷要素において、広範囲に製版されたレリーフ要素の品質は、文字Ａの部分による例に示されているように、有意に良質であり、これは印刷表面における強度の溶融現象又は物質デポジット（沈着）が防止されているためである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
このエラストマー性レリーフ形成性の層は、成分Ａ１として、８０〜１００％の１，２−架橋ブタジエン単位含量、５〜３０％の結晶度、及び２００００〜３０００００ｇ／モルの平均分子量を有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンを含む。この１，２−架橋ブタジエン単位含量は、好ましくは９０〜９５質量％、特に好ましくは９０〜９２質量％であり、結晶度は、好ましくは１０〜３０質量％、特に好ましくは１５〜３０質量％であり、平均分子量は、好ましくは８００００〜２０００００ｇ／モル、特に好ましくは、１０００００〜１５００００ｇ／モルである。
【００１６】
所望により、エラストマー性レリーフ形成性の層は、成分Ａ２としてさらにバインダを含む。原則として、エラストマー性バインダ、及び熱可塑性エラストマー性バインダの両方が好適である。適したバインダの例には、ＳＩＳ又はＳＢＳタイプの既知の３−ブロックコポリマーがあり、これは完全に又は部分的に水素化されていてもよい。エチレン−プロピレン−ジエンタイプのエラストマー性ポリマー、エチレン−アクリル酸ゴム、又はアクリレート又はアクリレートコポリマーに基づくエラストマー性ポリマーを使用することも可能である。さらに、適したポリマーの例は、ＤＥ−Ａ２２１５０９０、ＥＰ−Ａ０８４８５１、ＥＰ−Ａ８１９９８４、又はＥＰ−Ａ５５３６６２において開示されている。さらに２以上の異なったバインダを使用することも可能である。
【００１７】
このエラストマー性レリーフ形成性の層は、成分Ｂとして、主鎖に反応性の基及び／又は反応性のペンダント基、及び／又は末端基を含有する、架橋性オリゴマー性可塑剤を含む。適した可塑剤の例としては、末端官能基（例、水酸基）を含有し、２５℃で５００〜１５００００ｍＰａｓの粘度を有する、アリル基含有合成可塑剤、アリルシトレート（クエン酸塩／エステル）、ポリイソプレンオイル、及びポリブタジエンオイルが挙げられる。同様に好適なものには、不飽和脂肪酸及びそれらの誘導体があり（例えば、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、ウンデカン酸、エルカ酸及びそれらの誘導体、例えばそれらのエステル等）、及び不飽和テルペンとそれらの誘導体が挙げられる。
【００１８】
好ましい架橋性オリゴマー性可塑剤には、上記ポリブタジエンオイルとポリイソプレンオイルが挙げられる。これらは、２５℃で好ましくは５００〜１０００００ｍＰａｓ、特に好ましくは５００〜１００００ｍＰａｓの粘度を有している。好適なものには、例えば、ポリブタジエンオイル（Ｃｈｅｍｅｔａｌｌ，Ｈuｌｓ  ａｎｄ  Ｅｌｆ  Ａｔｏｃｈｅｍ製）が挙げられる。これらは、約１０００〜約３０００ｇ／モルの平均分子量、しばしば４０〜５０％の、あるいはまたしばしばわずか２０％又は１％の１，２−架橋単位含量、１７０℃〜３００℃の引火点、及び２５℃で７００〜１００００ｍＰａｓの粘度を有している。  架橋性オリゴマー性可塑剤の使用によって、レーザー製版の間の溶融現象は、特に効果的に避けられる。さらに、例えば、水を基材とする、又はアルコールを基材とする印刷インク、又はＵＶ硬化性印刷インクの使用によって、印刷レリーフ層への特に良好なインク（インキ）転写が達成される。
【００１９】
エラストマー性レリーフ形成性の層は、所望により、成分Ｃとして、エチレン性不飽和単量体を含む。エチレン性不飽和単量体は好適であるが、必要不可欠ではなく、それはエラストマー性レリーフ形成性の層はそれらの非存在下でも架橋可能であるためである。単量体は、バインダと相溶可能なものでなければならず、少なくとも１個の重合（ポリマー化）可能な、エチレン性不飽和二重結合を有している。適した単量体は、一般に、大気圧下で１００℃を超える沸点、３０００ｇ／モルまで、好ましくは２０００ｇ／モルまでの平均分子量を有している。モノ−又は多価のアルコール、アミン、アミノアルコール、及びヒドロキシエーテル及びヒドロキシエステルと、アクリル酸及びメタクリル酸のアミドとのエステル、スチレン及びスチレン置換体、フマル酸及びマレイン酸のエステル、アリル化合物は、特に好適であることが分かっている。適した単量体（モノマー）の例としては、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジオクチルフマレート、及びＮ−ドデシルマレイミドをあげることができる。異なった単量体の混合物を使用することも可能である。
【００２０】
エラストマー性レリーフ形成性の層は、所望により、成分Ｄとして、光開始剤及び／又は熱分解性開始剤を含む。光開始剤の存在は、必要不可欠ではないが、好適であり、これはエラストマー性レリーフ形成性の層が、光開始剤の非存在下でも光化学的に架橋することも可能であるためである。エラストマー性レリーフ形成性の層が、熱的に架橋される場合には、成分Ａ〜Ｆの総量に対して０．１〜５質量％の量での熱的分解性開始剤の存在が、概して必要である。エラストマー性レリーフ形成性の層は、光化学的及び熱的架橋をされてもよく、この場合に、光開始剤及び／又は熱的分解性開始剤が成分Ｄとして存在してもよい。
【００２１】
好適な光開始剤（光反応開始剤）には、ベンゾイン及びベンゾイン誘導体（例、メチルベンゾイン及びベンゾインエステル）、ベンジル誘導体（例、ベンジルケタール）、アシルアリールホスフィン酸化物、アシルアリールホスフィン酸エステル、及び多環式キノンなどがあり、この一覧に挙げたものに限定されるものではない。３００〜４５０ｎｍの間に高い吸収を有する光開始剤が好適である。
【００２２】
適した熱的分解性開始剤の例には、ペルオキシエステル（例、ペルオクタン酸ｔ−ブチル、ペルオクタン酸ｔ−アミル、ｔ−ブチルペルオキシイソブチレート、ペルオキシマレイン酸ｔ−ブチル、過安息香酸ｔ−アミル、ジ−ｔ−ブチルジペルオキシフタレート、過安息香酸ｔ−ブチル、ｔ−ブチルペルアセテート、及び２，５−ジ（ベンゾイルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン）、ある種のジペルオキシケタール（例、１，１−ジ（ｔ−アミルペルオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、２，２−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）ブタン、及びエチル３，３−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）ブチレート）、ある種のジアルキルペルオキシド（例、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ｔ−ブチルクメンペルオキシド、ジクメンペルオキシド、及び２，５−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン）、ある種のジアシルペルオキシド（例、ジベンゾイルペルオキシド、及びジアセチルペルオキシド）、ある種のｔ−アルキルヒドロペルオキシド（例、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ｔ−アミルヒドロペルオキシド、ピナンヒドロペルオキシド、及びクメンペルオキシド）が挙げられる。同様に適しているものには、ある種のアゾ化合物（例、１−（ｔ−ブチルアゾ）ホルムアミド、２−（ｔ−ブチルアゾ）イソブチロニトリル、１−（ｔ−ブチルアゾ）シクロヘキサンカルボニトリル、２−（ｔ−ブチルアゾ）−２−メチルブタンニトリル、２，２’−アゾビス（２−アセトオキシプロパン）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、及び２，２’−アゾビス（２−メチルブタニトリル）等）が挙げられる。
【００２３】
エラストマー性レリーフ形成性の層は、成分Ｄとして、レーザー照射の吸収剤を含んでもよい。吸収剤の存在は好適であるが、バインダが既に適した波長（例えば、ＣＯ２レーザーの波長）のレーザー照射を吸収する限りは、必要不可欠ではない。レーザー照射の好適な吸収剤は、レーザー波長の領域において高い吸収を有する。特に好適な吸収剤は、近赤外線において、及び電磁スペクトルの長波長ＶＩＳ領域において、高い吸収を有するものである。このタイプの吸収剤は、高出力Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（１０６４ｎｍ）及びＩＲダイオードレーザーからの照射の吸収に特に好適であり、これらのレーザーは、典型的には７００〜９００ｎｍの間、及び１２００〜１６００ｎｍの間の波長を有している。
【００２４】
レーザー照射の好適な吸収剤の例としては、赤外線スペクトル（波長領域）において強い吸収をする色素（ダイ）(dye)があり、これには例えば、フタロシアニン、ナフタロシアニン、シアニン、キノン、金属複合色素（例、ジチオレン）、及び光互変性色素が挙げられる。
【００２５】
さらに好適な吸収剤には、無機顔料（ピグメント）、特に強い有色の無機顔料（例、クロム酸化物、鉄酸化物、カーボンブラック、又は金属粒子）が挙げられる。
【００２６】
レーザー照射の特に好適な吸収剤は、１０〜５０ｎｍの粒径を有する微細に分割されたカーボンブラックグレードである。
【００２７】
レーザー照射のさらに特に好適な吸収剤は、鉄含有の固体であり、特に強い有色の鉄酸化物である。このタイプの鉄酸化物は、市販されており、通常は有色顔料、又は磁気記録用の顔料として使用されている。レーザー照射の好適な吸収剤には、例えばＦｅＯ、針鉄鉱（α−ＦｅＯＯＨ）、赤金鉱（β−ＦｅＯＯＨ）、鱗鉄鉱（γ−ＦｅＯＯＨ）、ヘマタイト（赤鉄鉱）（α−Ｆｅ２Ｏ３）、マグヘマイト（γ−Ｆｅ２Ｏ３）、マグネタイト（Ｆｅ３Ｏ４）、及びベリソライド(berthollides)が挙げられる。さらに、ドープされた鉄酸化物又は鉄と他の金属との酸化物の混合物を使用することも可能である。酸化物混合物の例としては、ウンブラＦｅ２Ｏ３ ｘ ｎ  ＭｎＯ２、又はＦｅｘＡｌ（１−ｘ）ＯＯＨ、特に種々の針状黒色顔料（例、Ｃｕ（Ｃｒ，Ｆｅ）２Ｏ４、Ｃｏ（Ｃｒ，Ｆｅ，Ｍｎ）２Ｏ４）が挙げられる。ドープ剤の例としては、例えば、Ｐ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｚｎ、及びＣｒが挙げられる。このタイプのドーパントは、粒径と粒状を制御するために、酸化物の合成の間に、概して少量での添加がなされる。この鉄酸化物は、被覆されていてもよい。このタイプの被覆（コーティング）は、例えば粒子の分散性を改善するために、施される。これらの被覆は、例えば、無機化合物（例、ＳｉＯ、及び／又はＡｌＯＯＨ）からなるものとできる。しかし、有機被覆、例えば有機接着プロモータ（例、アミノプロピル（トリメトキシ）シラン）を施すことも可能である。レーザー照射の吸収剤として特に好適であるのは、ＦｅＯＯＨ、Ｆｅ２Ｏ３、及びＦｅ３Ｏ４であり、特に非常に好適であるのはＦｅ３Ｏ４である。
【００２８】
エラストマー性レリーフ形成性の層は、成分Ｆとして、さらに添加剤を含んでもよい。さらなる添加剤は、非架橋性可塑剤、フィラー（充填剤）、色素（ダイ）、相溶剤（混和剤）、及び分散促進剤である。
【００２９】
本発明のフレキソ印刷要素は、通常の層構造を有し、柔軟な（可とう性のある）、寸法の安定した支持体（サポート）、所望によりエラストマー性の下位層（サブレイヤー）、１以上のエラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な層、これらの種々の層は接着層により接着されてもよく、及び保護フィルム（所望により剥離層により被覆される）から構成される。
【００３０】
本発明のフレキソ印刷要素は、柔軟な（可とう性のある）、寸法の安定した支持体（サポート）を含む。レーザー製版可能なフレキソ印刷要素に好適な柔軟な（可とう性のある）、寸法の安定した支持体（サポート）の例には、プレート、ホイル（箔）、フィルム、及びコニカル（円錐形）及びシリンダー（円柱形）の金属（例、鉄、アルミ、銅、又はニッケル）製又は樹脂（例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリカーボネート）製のスリーブがあり、これは織布又は不織布製とする（例、グラスファイバー）ことも複合材料（例、グラスファイバーと樹脂からなる複合材料）製とすることも可能である。
【００３１】
特に好適であるのは、柔軟な（可とう性のある）金属支持体で、非常に薄くて印刷シリンダーに沿って曲げることが可能であるものである。しかしながら、他方、これは寸法が安定して十分な厚みのあるものでもあるので、支持体がレーザー製版要素の製造や、完成した印刷プレートの印刷シリンダーへの装着の間によじれたりしない。
【００３２】
エラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な層は、支持体のうえに、所望によりエラストマー性下位層（サブレイヤー）のうえに、設置される。
【００３３】
エラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な層は、多層構造（マルチレイヤーストラクチャー）を有していてもよい。これらのレーザー製版可能な、架橋可能な部分層は、同一の、ほぼ同一の、又は異なった物質構成（材料組成）であってもよい。このタイプの多層構造、特に２層構造は、表面特性及び層特性を、最適の印刷結果を得るように互いに独立に最適化することができるために、しばしば好適である。レーザー製版可能フレキソ印刷要素は、例えば、レーザー製版可能な薄い表面層を有するものとしてもよく、この表面層の組成
（構成）は最適なインク転写に関連して選択され、またさらに基底となる層の組成
（構成）は、最適な硬度又は弾性に関連して選択される。
【００３４】
エラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な層、又は全てのレリーフ形成性の層の厚みはいずれも、概して０．１〜７ｍｍである。この厚みは、印刷プレートの所望の使用に応じて、当業者によって選択される。
【００３５】
本発明のレーザー製版可能な、フレキソ印刷要素は、所望によりさらに層を含んでもよい。例えば、レーザー製版可能となるのに必ずしも必要ではないエラストマー性の下位層（サブレイヤー）を、支持体とレーザー製版可能な層との間に設置してもよい。このタイプの下位層は、レリーフ印刷プレートの機械的強度を、事実上印刷レリーフ層の特性に影響を与えることなく、変更することができる。いわゆる弾性下位層は、レーザー製版可能な層から、寸法的に安定した支持体の反対側に設置され、同じ目的を果たす。
【００３６】
さらに、支持体を重なっている層に接着（結合）し、又は種々の層を互いに接着（結合）する接着層を設けてもよい。
【００３７】
さらに、レーザー製版可能なフレキソ印刷要素は、保護フィルム（例、ＰＥＴからなるもの）によって、機械的損傷から保護してもよく、これはどんな場合にも最表面層に設置され、レーザー製版の前にどんな場合にも除去される。簡単に剥離除去するために、保護フィルムはシリコン処理してもよく、又は適切な剥離層を設けてもよい。
【００３８】
レーザー製版可能な、フレキソ印刷要素は、例えば、適当な溶媒中に全ての構成成分を溶解又は分散し、次いで支持体上にキャストして（型に沿って流し込んで）、製造することが可能である。多層（マルチレイヤー）要素の場合には、それ自体公知の方法によって、大半の層は、他の層の上に（表面に）キャストすることが可能である。代わりに、個々の層は、例えば、一時的な支持体上にキャスト可能であり、その層は続けてラミネーション（積層形成）によって他の層と互いに接着可能である。特に、光化学的架橋系（システム）は、押し出し、及び／又はカレンダー（圧延）によって製造可能である。処理温度で架橋しない構成成分のみを使用する限りは、この方法は、原則的に、熱的架橋系（システム）にも使用可能である。
【００３９】
本発明のレーザー製版可能なフレキソ印刷要素のエラストマー性レリーフ形成性の層の熱的及び／又は光化学的架橋と、印刷レリーフの製版は、レリーフ印刷要素をもたらす。
【００４０】
そのゆえ、本発明は、次の工程（ステップ）
（ｉ）  本発明のフレキソ印刷要素のエラストマー性レリーフ形成性の熱的又は光化学的架橋、及び
（ｉｉ）  架橋されたエラストマー性レリーフ形成性の層への、本発明の印刷レリーフのレーザー製版、
を有するレリーフ印刷要素の製造方法にも関する。
【００４１】
エラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な層は、光化学的及び／又は熱的架橋可能である。光化学的架橋は、特に短波長可視又は長波長ＵＶ光の照射によって行われる。しかしながら、本来は、高エネルギー照射（例、短波長ＵＶ光、又はＸ線）も、又は（適切な増感とともに）より長波長の光であっても、原則的には好適である。電子線照射はこの架橋に特に好適である。
【００４２】
特に短い照射時間は、本発明のレーザー製版可能なフレキソ印刷要素を使用した光化学的架橋を生じさせる。本発明によれば、先行技術による物質を使用した場合の５〜３０分間と比べて、１０秒〜５分間という短時間で可能である。
【００４３】
熱的架橋は、概して、フレキソ印刷要素を、２〜３０分間の間、一般には８０〜２２０℃、好ましくは１２０〜２００℃の温度に加熱することで行われる。
【００４４】
レーザー製版に特に好適であるのは、１０６４０ｎｍの波長を有するＣＯ２レーザーであるが、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー（１０６４ｎｍ）及びＩＲダイオードレーザー又は固体レーザー（典型的には、７００〜９００ｎｍの間、及び１２００〜１６００ｎｍの間の波長を有する）でもよい。しかし、適した強度を有するのであれば、より短波長のレーザーを使用することもできる。例えば、周波数二重（５３２ｎｍ）又は周波数三重（３５５ｎｍ）Ｎｄ：ＹＡＧレーザー又はエキシマレーザー（例えば２４８ｎｍ）を使用することもできる。製版されるイメージ（画像）情報は、レイアウト（設計）コンピュータシステムからレーザー装置へと直接に転送される。レーザーは、連続又はパルスモードのいずれでも運用可能である。
【００４５】
レリーフ層は、レーザーによって非常に完全に除去され、これは徹底的な後洗浄が概して不必要であることを意味する。しかし、所望により、得られた印刷プレートは、後洗浄可能である。このタイプの洗浄工程（ステップ）は、ほぐされた(loosened)層構成成分を除去するが、プレート表面から完全には除去し得ない。一般に、水又はメタノールによる簡単な処理で、全く十分である。
【実施例】
【００４６】
以下の実施例によって本発明を詳細にわたり説明する。
【００４７】
実施例１〜６及び比較例Ａ及びＢ
［出発物質］
Ｋｒａｔｏｎ（登録商標）Ｄ−１１６１    ＳＩＳブロックコポリマー、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ製  （バインダ）
Ｋｒａｔｏｎ（登録商標）Ｄ−１１０２    ＳＩＳブロックコポリマー、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ製  （バインダ）
ＪＳＲ  ＲＢ８１０    シンジオタクチック１，２−ポリブタジエン、ＪＳＲ製、１，２−ユニット（単位）９０％含有、結晶度約１５％、平均分子量約１２００００ｇ／モル  （バインダ）
Ｌｉｔｈｅｎｅ（登録商標）ＰＨ    オリゴマー性ポリブタジエンオイル、Ｃｈｅｍｅｔａｌｌ  ＧｍｂＨ製、平均分子量約２６００ｇ／モル  （可塑剤）
ラウリルアクリレート    （架橋単量体）
１，６−ヘキサンジオール    （架橋単量体）
ジアクリレート
１，６−ヘキサンジオールジビニル    （架橋単量体）
エーテル
Ｐｌａｓｔｏｍｏｌｌ（登録商標）ＤＮＡ    ジイソノニルアジペート
Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＢＤＫ    ベンジルジメチルケタール、ＢＡＳＦ  ＡＧ製  （光開始剤）
ジクミルペルオキシド    （熱開始剤）
Ｋｅｒｏｂｉｔ（登録商標）ＴＢＫ    ２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール  Ｒａｓｃｈｉｇ製  （安定化剤）
Ｐｒｉｎｔｅｘ（登録商標）Ａ    微細分割カーボンブラック、Ｄｅｇｕｓｓａ−Ｈｕｅｌｓ製  （レーザー照射吸収剤）
トルエン    （溶剤）
【００４８】
［実施例１］
ＪＳＲ  ＲＢ８１０を１２４ｇ、Ｌｉｔｈｅｎｅ  ＰＨを１６ｇ、ラウリルアクリレートを１６ｇ、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＢＤＫを２．４ｇ、及びＫｅｒｏｂｉｔ（登録商標）ＴＢＫを１．６ｇ、２４０ｇのトルエンに１１０℃で溶解した。得られた均一溶液を、７０℃に冷却し、ナイフコーター（塗布機）を使用して多数(plurarilty)の透明ＰＥＴフィルムに施して、そのようにして１．２０ｍｍ厚の均一な乾燥した層をいずれの場合にも得た。この方法で製造された層は、最初に２５℃で１８時間乾燥し、次いで、５０℃で３時間乾燥した。乾燥した層は、続いて同じサイズの１枚の第二のＰＥＴフィルム上へラミネート（積層）した。１日の保管の後に、この層は上述したように光化学的に架橋し、以下に説明するように特性決定した。
【００４９】
［実施例２］
層を、実施例１に記載した方法と同様に製造し、ただし、ＪＳＲ  ＲＢ８１０を１１６ｇ、Ｌｉｔｈｅｎｅ  ＰＨを２４ｇ、ラウリルアクリレートを１６ｇ、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＢＤＫを２．４ｇ、及びＫｅｒｏｂｉｔ（登録商標）ＴＢＫを１．６ｇ、２４０ｇのトルエンに１１０℃で溶解したことが異なる。
【００５０】
［実施例３］
層を、実施例１に記載した方法と同様に製造し、ただし、ＪＳＲ  ＲＢ８１０を１１６ｇ、Ｌｉｔｈｅｎｅ  ＰＨを１６ｇ、ラウリルアクリレートを１６ｇ、ヘキサンジオールジアクリレートを８ｇ、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＢＤＫを２．４ｇ、及びＫｅｒｏｂｉｔ（登録商標）ＴＢＫを１．６ｇ、２４０ｇのトルエンに１１０℃で溶解したことが異なる。
【００５１】
［実施例４］
層を、実施例１に記載した方法と同様に製造し、ただし、ＪＳＲ  ＲＢ８１０を１１６ｇ、Ｌｉｔｈｅｎｅ  ＰＨを１６ｇ、ヘキサンジオールジビニルエーテルを２４ｇ、ヘキサンジオールジアクリレートを８ｇ、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＢＤＫを２．４ｇ、及びＫｅｒｏｂｉｔ（登録商標）ＴＢＫを１．６ｇ、２４０ｇのトルエンに１１０℃で溶解したことが異なる。
【００５２】
［実施例５］
層を、実施例１に記載した方法と同様に製造し、ただし、ＪＳＲ  ＲＢ８１０を９２ｇ、Ｋｒａｔｏｎ（登録商標）Ｄ−１１６１を３２ｇ、Ｌｉｔｈｅｎｅ  ＰＨを１６ｇ、ラウリルアクリレートを８ｇ、ヘキサンジオールジアクリレートを８ｇ、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＢＤＫを２．４ｇ、及びＫｅｒｏｂｉｔ（登録商標）ＴＢＫを１．６ｇ、２４０ｇのトルエンに１１０℃で溶解したことが異なる。
【００５３】
［実施例６］
ＪＳＲ  ＲＢ８１０を１０８．８ｇ、Ｐｌａｓｔｏｍｏｌｌ（登録商標）ＤＮＡを１６ｇ、Ｌｉｔｈｅｎｅ  ＰＨを１６ｇ、Ｋｅｒｏｂｉｔ（登録商標）ＴＢＫを１．６ｇ、Ｐｒｉｎｔｅｘ（登録商標）Ａを１６ｇ、特定温度１００℃で１５分間、実験室用のコンパウンダー（混合機）で混合した。
【００５４】
得られた混合物（１５８．４ｇ）を２４０ｇのトルエンに１１０℃で溶解した。溶液を６０℃に冷却した後に、１．６ｇのジクミルペルオキシドを添加した。攪拌して均一化した後に、得られた溶液をナイフコーター（塗布機）を使用して多数(plurarilty)の透明ＰＥＴフィルムに施して、そのようにして１．２０ｍｍ厚の均一な乾燥した層をいずれの場合にも得た。この方法で製造された層は、最初に２５℃で１８時間乾燥し、次いで、５０℃で３時間乾燥した。乾燥した層は、続いて同じサイズの１枚の第二のＰＥＴフィルム上へラミネート（積層）した。１日の保管の後に、この層は上述したように１６０℃で１５分間、熱的に架橋し、以下に説明するように特性決定した。
【００５５】
［比較例Ａ］
Ｋｒａｔｏｎ（登録商標）Ｄ−１１６１を１２４ｇ、Ｌｉｔｈｅｎｅ（登録商標）ＰＨを１６ｇ、ラウリルアクリレートを１６ｇ、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＢＤＫを２．４ｇ、及びＫｅｒｏｂｉｔ（登録商標）ＴＢＫを１．６ｇ、２４０ｇのトルエンに１１０℃で溶解した。得られた均一溶液を、７０℃に冷却し、ナイフコーター（塗布機）を使用して多数(plurarilty)の透明ＰＥＴフィルムに施して、そのようにして１．２０ｍｍ厚の均一な乾燥した層をいずれの場合にも得た。この方法で製造された層は、最初に２５℃で１８時間乾燥し、次いで、５０℃で３時間乾燥した。乾燥した層は、続いて同じサイズの１枚の第二のＰＥＴフィルム上へラミネート（積層）した。１日の保管の後に、この層は上述したように光化学的に架橋し、以下に説明するように特性決定した。
【００５６】
［比較例Ｂ］
層を、比較例Ａに記載した方法と同様に製造し、ただし、Ｋｒａｔｏｎ（登録商標）Ｄ−１１６１を１２４ｇ、Ｌｉｔｈｅｎｅ（登録商標）ＰＨを１６ｇ、ラウリルアクリレートを１６ｇ、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＢＤＫを２．４ｇ、及びＫｅｒｏｂｉｔ（登録商標）ＴＫを１．６ｇ、２４０ｇのトルエンに１１０℃で溶解したことが異なる。
【００５７】
［架橋］
光化学的架橋
記載した実施例の層の光化学的架橋は、ＢＡＳＦ  Ｄｒｕｃｋｓｙｓｔｅｍｅ  ＧｍｂＨ製のｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）Ｆ  ＩＩＩ露光ユニットを使用し、最初に透明なＰＥＴ保護フィルムを除去し、続いて、露出（露光）系列の各継続時間の間、真空吸引なしで、層に全領域にわたってＵＶＡ光を照射することにより行った。
【００５８】
熱的架橋
熱的架橋のために、最初に透明ＰＥＴ保護フィルムを除去し、次いで層を、架橋時間の間、不活性化なしで、選択した温度で加熱した。
【００５９】
架橋継続時間
実施例及び比較例から得られた層を、１分間の露出時間の工程で、それぞれ光化学的又は熱的に架橋した。破断応力が最大になる露出時間を、１４３５型引張試験機（Ｚｗｉｃｋ  ＧｍｂＨ＆Ｃｏ．製）での機械的測定によって最適架橋時間ｔｏｐｔとして決定（測定）し、未架橋層は、全ての実施例及び比較例でこの最適架橋時間の間、架橋をした。この方法で架橋した層、及びリファレンス（対照）として対応する未架橋層の下記の特性は、次のように決定（測定）した：
・最適架橋時間での引裂強度及び破断点伸び（Ｚｗｉｃｋ  ＧｍｂＨ＆Ｃｏ．製、１４３５型引張試験機を使用）
・ＤＩＮ５３５０５に従ったショアーＡでの硬度（Ｈｅｉｎｒｉｃｈ  Ｂａｒｅｉｓｓ  Ｐｒｕｅｆｇｅｒａｅｔｅｂａｕ  ＧｍｂＨ製、Ｕ７２／８０Ｅ型硬度測定機を使用）
架橋条件（最適架橋時間ｔｏｐｔ及び架橋タイプ）及び得られた測定値を、表１に示した。
【００６０】
【表１】
2004523401.tif 000002
【００６１】
［レーザー製版実験］
レーザー製版実験は、出力２５０ＷでＣＯ２レーザーを備え、回転外部ドラムを備えたレーザーユニット（ＡＬＥ  Ｍｅｒｉｄｉａｎ  Ｆｉｎｅｓｓｅ）を使用して行った。レーザービームは、２０μｍの直径で、集束した。製版するフレキソ印刷要素は、粘着テープを使用してドラムへとスタックして（貼り付けて）、ドラムは２５０ｒｐｍで加速した。
【００６２】
レーザー製版結果を評価するために、いずれの場合にも文字Ａ（Ｈｅｌｖｅｔｉｃａフォント、フォントサイズ２４ｐｔ）を架橋した物質へとポジ（陽画）として製版した。解像度は、１２７０ｄｐｉであった。この品質を評価するために、製版された文字Ａの部分を、３２倍の倍率の光学顕微鏡で写真投影した。さらに２２０μｍ間隔の０μｍの幅の線を、各物質に製版した。ネガの線の組の走査型電子顕微鏡写真を作成した。
【００６３】
２要素（文字Ａとネガの線の組）について、それぞれ３つの特徴を１〜５の得点範囲で評価した。
【００６４】
ＥＳ  縁部鮮明性（表面の縁部（エッジ）の鮮明さ）
１：  不規則性又は突出がない
２：  波形又は突出が単発的にある
３：  突出及び低強度の歪みが繰り返しある
４：  不規則性、突出、歪みが多数ある
５：  鮮明な縁部の部分が存在せず、輪郭の見分けがつかない
ＤＤ  深部明確性（レリーフの深部の形状と一様性）
１：  深部に明確な境界があり、側面が一様である
２：  深部がわずかに歪み、側面がわずかにうねっている
３：  深部の歪みが繰り返しあり、側面がうねり、又は不明瞭である
４：  深部が頻繁に歪み、側面が不規則で大きくうねっている
５：  深部が明確でなく、深部が覆われ又は一様に溶融（消滅）している
ＳＱ  表面品質（レリーフ表面の品質）
１：  表面に明白なデポジット（沈着）がない
２：  表面にわずかなデポジット、個々の粒子のみがある
３：  デポジットと残渣が繰り返しある
４：  多くのデポジット、及び残渣、塊及び集積がある
５：  表面全体が汚れ、一斉に溶融し、デポジットで覆われている
【００６５】
図１．１〜１．８及び２．１〜２．８に、この評価の基になった写真（光学写真）及び走査型電子顕微鏡写真を示す。
【００６６】
図１．１  「Ａ」の部分の写真を示す（実施例１）
図１．２  「Ａ」の部分の写真を示す（実施例２）
図１．３  「Ａ」の部分の写真を示す（実施例３）
図１．４  「Ａ」の部分の写真を示す（実施例４）
図１．５  「Ａ」の部分の写真を示す（実施例５）
図１．６  「Ａ」の部分の写真を示す（実施例６）
図１．７  「Ａ」の部分の写真を示す（比較例Ａ）
図１．８  「Ａ」の部分の写真を示す（比較例Ｂ）
図２．１  ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す（実施例１）
図２．２  ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す（実施例２）
図２．３  ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す（実施例３）
図２．４  ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す（実施例４）
図２．５  ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す（実施例５）
図２．６  ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す（実施例６）
図２．７  ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す（比較例Ａ）
図２．８  ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す（比較例Ｂ）
【００６７】
表２は、上記特徴の評価及び全ての特徴の数値平均を示す。
【００６８】
【表２】
2004523401.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１．１】「Ａ」の部分の写真を示す。（実施例１）
【図１．２】「Ａ」の部分の写真を示す。（実施例２）
【図１．３】「Ａ」の部分の写真を示す。（実施例３）
【図１．４】「Ａ」の部分の写真を示す。（実施例４）
【図１．５】「Ａ」の部分の写真を示す。（実施例５）
【図１．６】「Ａ」の部分の写真を示す。（実施例６）
【図１．７】「Ａ」の部分の写真を示す。（比較例Ａ）
【図１．８】「Ａ」の部分の写真を示す。（比較例Ｂ）
【図２．１】ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す。（実施例１）
【図２．２】ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す。（実施例２）
【図２．３】ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す。（実施例３）
【図２．４】ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す。（実施例４）
【図２．５】ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す。（実施例５）
【図２．６】ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す。（実施例６）
【図２．７】ネガの線の組のＳＥＭ顕微鏡写真を示す。（比較例Ａ）
【国際公開パンフレット】
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【手続補正書】
【提出日】平成15年12月17日(2003.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分：
（ａ）  成分Ａとして、
（ａ１）  成分Ａ１として、８０〜１００％の１，２−架橋ブタジエン単位含量、５〜３０％の結晶度、及び２００００〜３０００００ｇ／モルの平均分子量を有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンを５〜１００質量％と、
（ａ２）  成分Ａ２として、さらにバインダを０〜９５質量％、
とを、成分Ａ１とＡ２との和が１００質量％となるように含んでなる１種以上のバインダを５０〜９９．９質量％、
（ｂ）  成分Ｂとして、主鎖に反応性の基及び／又は反応性のペンダント基、及び／又は末端基を含有する、架橋性オリゴマー性可塑剤を０．１〜３０質量％、
（ｃ）  成分Ｃとして、エチレン性不飽和単量体を０〜２５質量％、
（ｄ）  成分Ｄとして、光開始剤及び／又は熱分解性開始剤を０〜１０質量％、
（ｅ）  成分Ｅとして、レーザー照射吸収剤を０〜２０質量％、
（ｆ）  成分Ｆとして、さらに通常の添加剤を０〜３０質量％、
を、成分Ａ〜Ｆまでの総和が１００質量％となるように含んでなる、エラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な、熱的及び／又は光化学的架橋可能な層を含む、レーザー製版可能なフレキソ印刷要素。
【請求項２】
成分Ｂが、末端官能基を含有し、２５℃で５００〜１５００００ｍＰａｓの粘度を有するアリル基含有可塑剤、ポリイソプレンオイル、ポリブタジエンオイルからなる群より選択される、請求項１又は請求項２に記載のレーザー製版可能なフレキソ印刷要素。
【請求項３】
成分Ｂが２５℃で５００〜１０００００ｍＰａｓの粘度を有するポリブタジエンオイルである、請求項２に記載のレーザー製版可能なフレキソ印刷要素。
【請求項４】
次の工程；
（ｉ）  請求項１〜３のいずれかに記載のフレキソ印刷要素のエラストマー性レリーフ形成性の層の熱的又は光化学的架橋、
（ｉｉ）  架橋された、エラストマー性レリーフ形成性の層への印刷レリーフのレーザー製版、
を含むレリーフ印刷要素の製造方法。
【請求項５】
次の工程：
（ｉ）  寸法の安定した可とう性支持体上に、８０〜１００％の１，２−架橋ブタジエン単位含量、５〜３０％の結晶度、及び２００００〜３０００００ｇ／モルの平均分子量を有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンの５質量％以上をバインダとして含む、エラストマー性レリーフ形成性レーザー製版可能な、熱的及び／又は光化学的架橋可能な層を含む、レーザー製版可能なフレキソ印刷要素のエラストマー性レリーフ形成性の層の熱又は光化学的架橋、
（ｉｉ）  架橋されたエラストマー性レリーフ形成性の層への印刷レリーフのレーザー製版、
を含むレリーフ印刷要素の製造方法。
【国際調査報告】
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