(57)【要約】タンクまたは導管からプロセスをサンプリングするための弁は、少なくとも１個の入口（２０）および出口（３２）と連通する内部空所（１１）を包含する。弁作動ロッド（１３０）は、その一端に取付けられたシーリング尖端（６２）を含む。弁作動ロッド（１３０）は入口（２０）を開閉するために、内部空所（１１）に対し可動である。更に、プロセス物質、清掃物質、蒸気等を弁の内部空所（１１）の外へ完全に排出するために、シール（５６）が内部空所（１１）の底部壁のプロセス側上に形成される。
2004519630.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一入口と、
出口と、
前記第一入口および前記出口を連通する内部空所と、
ダイヤフラムと、
シーリング尖端と、
弁作動ロッドであって、前記ダイヤフラムの非プロセス側に連結され、そして可動であって、前記第一入口の周りで環状面とシーリング接触状態にある前記シーリング尖端を前記内部空所中に運動させて、プロセスとの連通から内部空所を可逆的にシールするものと、
シールであって、前記内部空所の底部壁の第一、上部プロセス側と前記ダイヤフラムのプロセス側との間に形成されて、プロセスから前記弁作動ロッドおよび周囲の外部環境を隔離するものと
を有するタンクまたは導管からプロセスをサンプリングするための弁。
【請求項２】
前記内部空所の前記底部壁が、前記弁作動ロッドを受けるための、それを貫通する孔を含み、また前記底部壁は、前記孔の周りの第一部分であって、それに直ぐ隣接する前記底部壁の第二部分に対して上昇されるものを包含し、前記第一部分は前記シールによってシールされている請求項１に記載の弁。
【請求項３】
前記シーリング尖端は前記ダイヤフラムの中間部により形成され、前記弁作動ロッドの頂部に取り付けられた拡張されたインサートを超えて延在する前記中間部は、前記弁作動ロッドの頂部に取り付けられた拡張インサートを超えて延在する請求項１に記載の弁。
【請求項４】
前記シーリング尖端は前記ダイヤフラムとは別の可撓性エレメントにより形成され、前記弁作動ロッドの頂部に取り付けられた拡張されたインサートを超えて延在する前記別の可撓性エレメントは、前記弁作動ロッドの頂部に取り付けられた拡張インサートを超えて延在する請求項１に記載の弁。
【請求項５】
前記底部壁の前記第一上面が、前記第一入口の上方に位置決めされている請求項１に記載の弁。
【請求項６】
第一入口と、
出口と、
前記第一入口および前記出口を連通する内部空所であって、その中に形成される孔を有する底部壁を含むものと、
ダイヤフラムと、
前記底部壁内の前記孔を経由して前記内部空所内に延在する弁作動ロッドと、
前記弁作動ロッドに取り付けられたシーリング尖端であって、前記弁作動ロッドは、前記シーリング尖端を可逆的に運動させて、前記第一入口の周りで環状面とシーリング接触状態とするために、前記内部空所へ可動であって、プロセスとの連通から内部空所を可逆的にシールするものと、
第一静的シールであって、前記シーリング尖端のプロセス側と前記ダイヤフラムの第一プロセス側との間に形成されるものと、
第二静的シールであって、前記内部空所の前記底部壁の第一上方プロセス側と前記ダイヤフラムの前記第一プロセス側との間に形成されて、プロセスから前記弁作動ロッドおよび周囲の外部環境を隔離するものと
を有するタンクまたは導管からプロセスをサンプリングするための弁。
【請求項７】
前記底部壁が、前記孔の周りに第一部分を包含し、これが前記底部壁の第二部分に関してその直ぐ隣に上昇され、前記第一部分は前記第二静的シールによってシールされる請求項６に記載の弁。
【請求項８】
前記シーリング尖端が前記ダイヤフラムとは別の可撓性エレメントにより形成され、前記弁作動ロッドの頂部に取り付けられた拡張されたインサートを超えて延在する前記別の可撓性エレメントは、前記弁作動ロッドの頂部に取り付けられた拡張インサートを超えて延在する請求項６に記載の弁。
【請求項９】
第一入口と、
出口と、
前記第一入口および前記出口を連通する内部空所と、
シーリング尖端と、
弁作動ロッドであって、前記シーリング尖端に連結され、そして可動であって、前記第一入口の周りで環状面とシーリング接触状態にある前記シーリング尖端を前記内部空所中に運動させて、プロセスとの連通から内部空所を可逆的にシールするものと、
シールであって、前記内部空所の底部壁のプロセス側と前記シーリング尖端のプロセス側との間に形成されて、プロセスから前記弁作動ロッドおよび周囲の外部環境を隔離するものと
を有するタンクまたは導管からプロセスをサンプリングするための弁。
【請求項１０】
前記内部空所の前記底部壁が、前記弁作動ロッドを受けるための、それを貫通する孔を含み、また前記底部壁は前記孔の周りに第一部分であって、それに直ぐ隣接する前記底部壁の第二部分に対して上昇されるものを包含し、前記第一部分は前記シールによってシールされている請求項９記載の弁。
【請求項１１】
前記上昇された部分は、外径を有する円筒部であり、また前記シーリング尖端は、前記円筒部の前記外径上を摺動するためのシーリングスリーブを含み、前記シールが前記シーリングスリーブと前記円筒部との間に配置される請求項１０記載の弁。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、改良された衛生関係弁デザインを指向する。特に、本発明は、自然排液のプロセス、また材料の滅菌および洗浄を可能とする衛生関係弁デザインを指向する。
【０００２】
衛生処理が失敗し、製品の損失をもたらす数多くの場合があった。ある場合には、消費者に損害を与えることがみられた。多くの場合、汚染源の具体的な性質が特定されぬままである。しかし、数多くの他の場合には、汚染源は適切に洗浄されていなかったドレン弁に由来していたし、更に、手順がそれを具体化する数多くの場合には、プロダクションランの間で滅菌されていなかった。
【０００３】
衛生関係の応用例において、たとえば、チューリップ弁、ケトル弁やプラグ弁およびボール弁が使用される際、従来のように問題があると思われる場合、失敗は弁デザインに限定されるものではなく、むしろ特に、衛生関係応用例に適する、現在のところ最新技術デザインと考えられているウェア式ダイヤフラム弁およびラジアル式ダイヤフラム弁のデザインをも包含することになる。
【０００４】
これらの失敗の原因は、ほとんど例外なく、低い、排液不能な貯液領域ならびに狭い裂け目領域における材料の蓄積に関し、特にそれらが運動部分、たとえば摺動または回転Ｏリングシールと関連する場合に関する。深く、緊密な継手、特に運動部分の周囲は材料を蓄積する主要部位であり、また微生物の増殖にとって理想的な安全避難所ともなる。これらの部位は非常に栄養豊富なプロセス物質によって緊密に包まれる可能性があり、これらは洗浄および殺菌剤からの隔離および保護をもたらし、著しい微生物個体群を時の経過と共に発育させる。緊密に粘着している有機および無機物質から成る堆積物は苛性および酸性洗浄液、攪拌および高速循環による機械的剪断力の効果ならびに細流滅菌の効果に抵抗するものである。大量の堆積物が時の経過とともに弁内で発達する可能性があり、弁についての選択の結果は現場プロセスの洗浄性および滅菌性を超える、デザインの堅固性および機械的信頼性を際立たせることになる。プロセス生成物のイニシエーションに引き続く清掃および滅菌は、大量の堆積物または蓄積物を軟化かつ、ぬかるませ、あるいは折り取り、それらを下流のプロセス物質内に混合させて、プロセスの重大な汚染を意味する。これら大量の堆積物は、特に影響を有している。それはそれらが、従来非常に頑強なものと考えられている、たとえばある種の食品、飲料および化学製品に関してすら、製品性能およびプロセスの成果に大きな影響を及ぼすに、充分過ぎる汚染の脅威を示しているからである。
【０００５】
不検知のままの製品の暴露は、ある場合に、有害乃至破滅的である可能性すらある。この理由によって、レギュレータならびに調整工業は、問題の源およびそれを最小とする方法についてのサーチを、より綿密に探求することを開始した。この努力の重要な部分は、より有効な予防的メンテナンスおよび弁に関する点検プログラムが実施されることであった。しかしながら、幾つかのポイントでは、増大する人間の関与は実用的では無いと同時にコストの異常な高騰を招く。努力の他の部分は、問題の根本原因が再検証されることであった。特に、プロダクションランにおける弁メンテナンスの努力が実用的には現場清掃、洗浄および蒸気滅菌に限定されて来た衛生関係プロセスの応用例における現在の弁デザイン性能を再検証することであった。
【０００６】
理解されるように、Ｏリングシールを摺動または回転させることに依存する弁（すなわち、ボール弁、プラグ弁、チューリップ弁およびケトル弁）デザインを包含する、プロセスに向かう顕著な食い違いではあるが、プロセスの失敗はこれらのデザインに限定されるものではない。Ａｏｋｉの米国特許第３，９４９，９６３号およびＬｅｒｍａｎ他の米国特許第４，８２２，５７０号は、プロセスの失敗を経験する可能性ある弁デザインについて若干の代表的実施例を開示している。たとえ、実施されている数多くの新規な衛生関係プロセスが、最新技術のウエア式ダイヤフラムおよびラジアル式ダイヤフラムドレン弁のデザインを包含するものであっても、失敗は、たとえ減少した割合であるにせよ、これらのプロセス中に依然として残っている。上記弁デザインの代表的な例は、Ｂｕｔｌｅｒ他の米国特許第５，２７７，４０１号、Ｈｏｏｂｙａｒの米国特許第５，１５２，５００号およびＬａｄｉｓｃｈの米国特許第４，８３６，２３６号中にある。
【０００７】
運動弁部および周囲の外部環境からプロセスを隔離しながら、弁を作動させる可撓性ダイヤフラムを備えたダイヤフラム弁は、通常、より少ない裂け目領域を含み、そして円滑な表面を有しており、それらの全てが該弁をＣＩＰ（清掃実施）およびＳＩＰ（蒸気滅菌実施）衛生関係プロセス応用例において、使用可能な最良の候補者となる。他方、より慣用的な弁デザイン、すなわちチューリップおよびケトル弁デザインが衛生関係プロセス応用例中に最も屡々見出だされる。これらの弁は相対的に安価に据え付けおよび維持され、そして単純かつ機械的な信頼性を有するものである。さらに、それらはダイヤフラム弁と比較して、たとえ一層裂け目を有しているにせよ、それらの利点はそれらの弱点より大きく、またそれらの弱点は、各バッチの前段のＣＩＰおよびＳＩＰ工程において必要とされるプロセス、特により頑強な食品、飲料および化学処理応用例中でそれらの使用を制限することに関し、それほど深刻ではないと考えられている。
【０００８】
今日市販されている弁の点検およびその背景技術は、Ｏリングシールを使用させるドレン弁のみならず、また両タイプのダイヤフラムドレン弁においても共通のある特徴を示している。特に、弁本体とダイヤフラムまたはＯリングとの間に形成されるシールは、第二の、弁本体内部空所における底部壁の下面により形成されている。その結果、窪みの壁からの第一（プロセス）側と第二（ノンプロセス）側との間の底部壁の厚さでは、排液し、そしてプロセス物質、洗浄剤、すすぎ水および蒸気凝縮液をエントラップし、かつ避難させることが不可能である。あるダイヤフラムのデザインにおいて、この窪み、とはいうものの、直径は非常に大きく、従って大容量を収容し得るものは、相対的に言えば、窪み壁に直ぐ隣接する領域を除き、ほとんどの領域を清潔に洗浄することが可能である。Ｏリングシールを備えた弁に関連する問題は、一般的に言えば、まさに正反対である。シール上方の窪みは、非常に狭いものとなる。それは、狭い許容範囲ならびに弁の操作ロッドおよびＯリング／Ｏリング溝組合わせ間の比較的緊密な、なじみの故である。窪みの容量は言うまでもないが、適切なＣＩＰおよびＳＩＰ手順についての効果的なアクセスは一貫して不可能である。
【０００９】
底部シール機構のデザインに関連する弁の他の問題領域は、弁の内部空所に対し少なくとも部分的にフラットな底部壁を有するという、それらの一般的傾向である。これらの壁部はこれらの弁を製作するのを容易にするが、フラットな表面部は弁内からの物質の確実な排液を達成するのに寄与はしない。多くの場合、留まっている液体はエントラップされた物質のように、汚染の大きな脅威の可能性があり、大量の水、すなわち微生物の増殖にとって重要な要素の存在故に、時にはそれ以上のものとなる。
【００１０】
このディスカッションにおいて述べた装置は、衛生関係プロセスにおけるドレン弁または同様の応用例として用いられる際には、ある種の弱点を有するかも知れないが、それらは他の応用には完璧に適合する。しかし、数種類の新規な特徴であって、概念がフレキシブル、かつそれら自体を一層慣用的なドレン弁デザインについて改良させるものを含む弁デザインの説明が、本発明者の意図である。中でも、弁の内部空所の底部壁中のシール窪みの除去が特徴であり、これはドレン開口部に向かって傾斜した底部表面の導入部と結合させることが可能であり、その結果、弁の底部壁はプロセス物質、清浄溶液、洗浄液および蒸気凝縮物を活発に押出して弁を流下させ、そして流出させる。他の特徴には、弁を通過する物質の渦巻き、洗い落とし作用を促進するように、二次的入口およびドレン出口を選択可能に再配置し、その結果、より効果的なＣＩＰおよびＳＩＰ結果を達成し得る。新規なデザインは、ダイヤフラムおよびＯリングタイプシールデザイン双方において例証されることになる。
【００１１】
本発明の目的は改良された、一般的な弁デザインを提供することであり、これは、多くの方向におけるプロセス隔離および現場清浄可能性について良好な特性を有すると共に、導管あるいはタンク底部弁応用例において使用した場合の背景技術を超える清浄可能性および排液可能性パフォーマンス・ケイパビリティにおける具体的な改良を提供するものである。
【００１２】
本発明の他の効果は、チューリップ、ケトルおよび他のＯリングベース・シールデザインについて、改良された自由な排液、クリーナ・シーリングアレンジメントであり、それはまた、たとえ弁が作動中であっても、ディスクリプタの連続基準のプロセスサイドとは独立して、背後の、非プロセスサイドからの清掃および滅菌を可能とするものである。
【００１３】
本発明の別の目的は、タンクの底部に直接装着し得る弁を提供し、そしてこれはダイヤフラム構造において、弁構成要素および外部の周囲環境からのプロセスの完全な隔離を提供し得るものである。さらに、Ｏリングデザインの場合、本発明は、弁構成要素および外部の周囲環境からプロセスの高度な隔離を提供することが出来る。
【００１４】
本発明装置の効果は、スムースで裂け目のない流路を提供することであり、これはタンクまたは導管からプロセス物質の非常に効果的な排液を許容することになる。
【００１５】
本発明の他の目的は、面一に装着可能なデザインであって、それにより弁内への入口におけるデッドゾーンの形成を排除し得るものを提供することである。
【００１６】
本発明のさらに他の目的は、弁デザインであって、弁本体とシーリング本体（ダイヤフラムまたはＯリング）との間に形成されたシールからプロセス物質、清浄溶液、洗浄水および蒸気凝縮物を流下し、排液して、物質が収集され、かつ除去が困難となる、先行技術では発生していた排液不能窪みまたは汚水だめ領域を除去するものを提供することである。
【００１７】
本発明の他の目的は、第二の入口を備えた内部弁本体デザインであり、該第二入口は出口と同一平面あるいはその上方に位置し、そして第二入口からの流れが、改良されたＣＩＰおよびＳＩＰ性能を提供するように円形または螺旋状流路内の弁の内部空所内、周囲および外部へ流れるように指向するものを提供することである。
【００１８】
本発明のさらに他の目的は、手動または自動で作動し得るデザインであり、またそれは部分的あるいは完全に開放することが出来、それによって弁を利用して流れを調整するものを提供する。
【００１９】
本発明の弁デザイン概念の、別の効果は、それが数多くのデザイン形式において使用可能であり、それらの全ては、排液可能シールおよび内部弁空所との組合わせにおけるダイヤフラムの隔離を提供し得るものである。
【００２０】
本発明の他の目的は、弁本体デザインであって、単一ピースとして製作可能なものを提供することである。
【００２１】
本発明のさらに他の効果は、同一の弁本体を数多くの異なる据え付け構造に使用可能なことであり、これは接続フランジを弁本体とは別のピースとして構成し得るからであり、それを、容器や導管に既に据え付けたクランプまたはボルト・パターンに適合するよう変更するものである。
【００２２】
本発明の付加的効果は、ダイヤフラム配置弁を、製品に可撓性を付与し、かつ異なった物質プロセスの多様性において使用するように、数多くのタイプの物質を構成し得ることである。
【００２３】
本発明の弁デザイン概念のさらに別の効果は、たとえ、ダイヤフラム隔膜がより大きなまたはより小さな硬度、可撓性または弾力性を示したとしても、弁のシーリング尖端に関する運動のより大きな範囲を提供するために、どのようにダイヤフラムを単一または複数セクションに包含させるかを例証し、そしてどのようにそれらを弁内のシーリング配置内に組み込むかを案内することである。
【００２４】
本発明による弁の他の効果は、より大きな据え付け融通性を提供するように、それが３６０度回転可能とすることである。
【００２５】
本発明のさらに他の目的は、簡単で、経済的デザインであって、メンテナンス目的のために容易に分解出来るものを提供することである。
【００２６】
本発明の他の目的は、タンクまたは導管排液応用例以外の、据え付けおよび応用例における他の従来技術デザインを超える、大きな効果を利用出来るデザインであって、この場合、超クリーン・イン・プレース（ｃｌｅａｎ−ｉｎ−ｐｌａｃｅ）およびステリライズ・イン・プレース（ｓｔｅｒｉｌｉｚｅ−ｉｎ−ｐｌａｃｅ）ならびに排液可能特性を明示するものを提供することである。
【００２７】
本発明適用可能性の、さらなる範囲は、以下に示される詳細な説明から明らかとなろう。しかしながら、発明の好ましい実施態様を示すことによる、詳細な説明および具体例は例証の目的によってのみ付与されるものであることが理解されるべきである。それは発明の精神および範囲内の各種の変更および変形が、この詳細な説明から当業者には明かとなるものだからである。
【００２８】
本発明は、以下に示される、例証の目的のみよって与えられる詳細な説明および添付図面から、より一層完全に理解されるであろう。従って、本発明は限定的なものではない。
【００２９】
一般に、本発明の装置は、手動、自動またはそれらの組合わせアクチュエータを備えた弁本体を含み、このアクチュエータは弁作動ロッドに取付けられたシーリング尖端を、第一の入口流路を取り囲む弁シートによって、弁本体の内部空所へ、シーリング状態で可逆的に移動させることが出来る。弁本体は、内部弁本体空所の底部に配置された少なくとも１個の出口流路を有して、排液を受け、その底部は好ましくは、しかし必ずしも必然的ではなく、片持ち梁されるか、そうでなければ、排液を少なくとも１個の流路に流下させるのを補助するように形成される。シールは静的弁本体および動的弁作動ロッド間に形成され、ここにおいてＯリングシールあるいはダイヤフラムシールが用いられて、シーリングエレメント間のインターフェースが、自己排液シーリングインターフェースを創生するように、また、背景技術において見出だされる上向きシール上方の環状スペース内で生ずる排液溜めまたは窪み領域と関連する液溜まりを除去するように構成される。この装置の、一つの好ましい配列は、内部空所の頂部近傍、第一入口近傍ではあるが、それから半径方向に離間した位置に配置された、第二入口を包含するものであり、第二入口の開口部および出口の開口部は、第二入口を介して供給される流動可能物質を、対面する底部出口内に直接流入する前に、渦巻き状に下降させ、かつ動き回わらせて内部空所の側面を掃除し、そして磨くことになる。この装置は各種配列の若干のものにおいて、以下に詳細に説明するものとするが、それを本発明の主概念が理解されるように、一度デザインしてみてもよい。
【００３０】
弁デザイン配列を説明するものとするが、これはシーリング尖端と共にワン・ピース可撓性ダイヤフラムを包含するものであり、これは弁作動ロッドによって作動される際、弁および取り囲む外部環境のプロセスの整合性とは別のそれを維持しながら、弁全体を経由するプロセス流の制御を許容するように、ダイヤフラムのシーリング尖端をして、弁本体と共に可逆的プロセスシールを形成させるものである。
【００３１】
図１は、底部ドレン弁として適所に示された、本発明の装置についての一つの好ましい実施態様を示す中央横断面図である。図示のように、弁アセンブリ１は、弁本体サブアセンブリ２、ダイヤフラムアセンブリ３、弁アクチュエータロッド・サブアセンブリ４およびアクチュエータ装置５であって、この場合は手動アクチュエータであるものを包含する。弁の内部通路であって、プロセス物質と接触している場所は全てあらゆるシャープな角、すなわち、ここではプロセス物質、洗剤、蒸気等が蓄積する可能性がある、を回避するために丸くされるべきことに注目されねばならない。本願中の幾つかの図は、湾曲した角を含むことが好ましいのであるが、シャープな角を例示している。
【００３２】
弁本体サブアセンブリ２をここで説明する。弁本体サブアセンブリ２は、弁本体１０およびカバープレート１００であって、共にアタッチメント手段１０７によって連結されているものを含む。弁本体１０は、上部第一側８５および下部第二側８６を有する底部壁１２を備える内部空所１１を有し、上部第一側８５はプロセスに対して暴露されており、下部第二側８６はプロセスから排除されている。内部空所１１または弁本体１０は、少なくとも１個のドレン出口３０および少なくとも１個の第一入口２０と連通している。
【００３３】
カバープレート１００の上面１０２は、タンクまたは導管（図示せず）のドレン窪地１０３を形成する。カバープレート１００の下面は、内部空所１１の屋根１３を形成する。
【００３４】
示された例において、第一入口２０は、カバープレート１００の上面１０２によって形成される底部を有するドレン窪地１０３の底部において、中央に配置される。カバープレート１００の第二側は、内部空所１１の屋根１３の最上側を形成する。第一入口２０に直ぐ隣接する屋根１３の環状面は、入口環状シーリング面２１を形成し、それが作動キャップまたはシーリング尖端８３上の環状ダイヤフラムシーリング尖端面６３と結合すると、それによってシールが可逆的に形成される。
【００３５】
図１は、円錐形の輪郭を有し、第一入口２０までテーパーを付したものを示すことに注目すべきである。必ずしも必要ではないが、テーパーは弁を経由する流れを改良し、また環状ダイヤフラムシーリング尖端面６３を結合入口環状シーリング面２１上に中心合わせするガイドとして機能し得るものである。
【００３６】
実施例として、カバープレート１００は、導管または容器（図示せず）の壁内に溶接された上部フランジ１０５を備えて、例示される。しかし、カバープレート１００は、数多くの他の形態、たとえば内径が第一入口２０と同一である衛生フェルールであって、それに弁アセンブリーを取り付けることが出来る形態を取ってもよい。
【００３７】
さらに、取り付け手段１０７、たとえば図３および図４に示されるようにボルト１０８およびねじ山１０９により、あるいは図１および図２に示されるように嵌合フランジを設けたエレメントによって、カバープレート１００を弁本体１０に取り付けることが出来る。クランプ１１３は、上方に位置するカバープレート・フランジ１０１および下方に位置する弁装着フランジ１１２を、スウィベル・ショルダー１１１の回りに共に締め付ける。スウィベル・ショルダー１１１は装着フランジ・ショルダー１１４と係合する。もし、取り付け手段が、図１に示すように一緒に締め付けられた２個のフランジであれば、弁を３６０度超えてあらゆる位置に旋回させ得るために、スウィベル・ショルダー１１１は必要ではない。しかしながら、取り付け手段１０７がボルトパターンを含んでいれば、アセンブリーはある位置に回転可能であるに過ぎない。図１に示すように、弁本体１０とは別個の片として弁装着フランジ１１２を有する大きな利益は、一つの標準弁本体を、様々な予め存在するボルトおよびクランプ・パターンと結合させることになるということである。
【００３８】
取り付け手段１０７が締められると、弁本体１０の上部マージン１１６は、ガスケット１１５の底部と接触状態に移行する。一方、カバープレート１００の環状凹所１１７は、ガスケット１１５の頂部と接触状態に移行して、カバープレート１００と弁本体１０との間にシールを生成する。ダイヤフラムの交換および他のメンテナンス手順のために、弁本体１０および取り付けアクチュエータ装置５は、取り付け手段１０７を取り除くことによって、カバープレート１００から迅速かつ容易に取り外すことが出来る。
【００３９】
弁本体１０は、図１に示すように、弁本体１０の側壁内の第二入口開口部１６１を経由して内部空所１１中に入る第二入口１６０を有していてもよい。この付加的入口は、通常、洗剤、洗浄水、および蒸気を供給して、使用中に現場で弁を清浄にするため用いられる。図１に示すように、弁本体１０の側壁内に第二入口を配置することは、弁における数多くの他の場所に配置するよりも一層簡単であるが、最も効果的な位置決めは、内部空所１１の頂部略近傍であって、ダイヤフラムから半径方向、かつ一つの側からオフセットしており、好ましくは下降螺旋状パターンにおける入口流を指向する方角におけるそれであり、この流れは、排液通路開口部３１内へ直接流れ込むように定位される。図２は、第二入口１６０の効果的な位置決めの一例を示している。排液通路開口部３１は、内部空所１１の底部において中央に配置されて示されている。排液通路開口部３１は、より完全に第二入口流を捕捉するように、側方に移動すれば、最も効果的かも知れない。
【００４０】
排液通路開口部３１と連通している排液出口３０は、排液通路３２内に開口し、これは順次、排液通路出口３３に繋がる。排液通路出口３３は、弁アセンブリーを経由して排液される物質を運ぶように、下流配管に対する接続を形成するための排液接続手段３４を含む。具体例の目的で、排液接続手段３４は、ここで衛生関係クランプ接続部として示されているが、排液された物質を運ぶことが出来る、如何なる適切な形態の接続部であってもよい。示された好ましい実施態様において、底部壁１２は、排液通路開口部３１に下降して示されている。必ずしも必要ではないが、このアレンジメントは一般に望ましいものと考えられている。それは、底部壁１２の傾斜および排液通路開口部３１を横切って、排液通路３２の下降方向と組み合わされた排液通路３２内へのスムースで遮断されない移行が、弁内から物質を無抵抗に追い立てるからである。この特徴は、背景技術ならびに今日入手可能な装置において通常欠如しており、その詳細は以下で論述することにする。
【００４１】
衛生関係応用例において、排液弁として使用された弁に生ずる問題の主要原因は、弁本体と弁作動ロッドとの間に作成されるシール・アレンジメントに関する。今日、用いられる弁デザインに関して、シールは内部空所の底部壁の第二側とシーリング・エレメント間に形成され、それはＯリングまたはダイヤフラムであるものとする。このシールは、底部壁の第二側の後方に形成されているので、この部分の位置は、排液出口に対する開口部より一層下方の内部空所における最低地点である。その結果、今日用いられている排液弁は全て、シールの周りに形成された窪地に物質を集める傾向を有している。第一プロセス側および第二非プロセス側間の底部壁の厚さは、シールの周りの液溜め領域について、如何に容易に物質を流し出すかを示している。最良の状況においてすら、これは依然としてオペレータの関心事である。
【００４２】
本発明の目的は、新規なシーリング装置を提供することであり、これは弁の底部に見出だされる窪みまたは裂け目領域を取り除くものであり、その結果、プロセス汚染の重大な危険因子を排除するものである。
【００４３】
他の弁において見出だされるＯリングかダイヤフラムを結合するための弁本体１０の底部壁１２の第二側上のシール面を供えた穿孔の代わりに、本発明は、中央部が上昇した環状構造またはペデスタル５０を含んでいる。ダイヤフラム・クランプスリーブ４０のショルダー４３は、ダイヤフラムショルダー凹所６４に挿入される。ダイヤフラム・クランプスリーブ４０の下部は、ペデスタル中央穿孔５１に挿入される。さらに、ダイヤフラム・クランプスリーブ４０は、中央穿孔４１を含み、これを経由して弁作動ロッド１３０が通過する。ダイヤフラム・クランプスリーブ４０がペデスタル中央穿孔５１内にさらに引き込まれると、ショルダー４３は底部、プロセス側表面またはダイヤフラム６０のショルダー６８を引き下ろし、そしてペデスタル５０の頂部環状面５３と接触する。リテーナ・ナット１４０のねじ山１４２が、ダイヤフラム・クランプスリーブ４０のクランプのねじ山４２上にさらに締め付けられると、リテーナ・ナット１４０の上面は、底部壁１２の第二側８６と接触状態に入り、ダイヤフラム・クランプスリーブ４０をさらにペデスタル中央穿孔５１内に引き下ろし、そしてペデスタル５０の頂部環状面５３に抗してショルダー４３をして、ダイヤフラム６０のショルダー６８を押しつけせしめ、それとともに反転シール５６を形成する。反転シールおよび同様な他のシールであって、以下に論述するものは全て、露出シールである。それらは現場で清掃するのが容易であり、また受動的な自己排液シールであり、それはプロセス物質を収集するよりはむしろそれらを流す傾向がある。リテーナ・ナット１４０は、リテーナ・ナットフラット１４１を含み、これはレンチと係合して、リテーナ・ナット１４０を締め付けるためのものである。図１はショルダー６８の上部リップ６９および下部リップ７０を示し、これらはショルダー４３上のリップ４４と連動し、かつ外部環状リップ５２を頂部環状面５３上にそれぞれ上昇させる。これらの連動構造は、遭遇するであろう物理的および化学的プロセス条件に依存して、形成はされるが、必須ではないシールの安定性を付加する。ペデスタル５０の頂部環状面５３のダイヤフラム６０のショルダー６８とダイヤフラムクランプ・スリーブのショルダー４３との嵌合面は全て、一般に水平なものとして示されているが、この場合のようであることが必要とされるものではない。水平か、あるいはペデスタルの外径に対して排出を促進するように角度を付すことが好ましいが、ペデスタル５０の内側に下降または向かう角度を有するアレンジメントもまた、良好な結果をもたらす。
【００４４】
ダイヤフラム６０は、図１に示すように、ねじ山を付した尖端インサート８１を設けたワン・ピースユニットとして形成すればよい。ダイヤフラム６０はまた、可撓性上部ベースショルダー６７、ネック６５およびシーリング尖端６２を包含する。弁作動ロッド１３０の尖端上のねじ山１３２は、インサート８１中のねじ山８７に螺着すればよい。作動中、弁作動ロッド１３０がインサート８１から緩まないことを保証するために、弁作動ロッド１３０をダイヤフラム・クランプスリーブ４０を介して挿入すると、ダイヤフラム・クランプスリーブ４０の壁内の穴４７を通って部分的に挿入することが出来る結果、それは弁作動ロッド１３０の側面内の長手方向キー溝１３６中に延在する。同様に、ダイヤフラム・クランプスリーブ４０を回転させないように、長手方向キー溝４５はピン４６を備えており、これは凹所ノッチ４８であって、底部壁１２の第二側８６中に切り込まれたものの中に延びる。ピン４６はリテーナ・ナット１４０の上面による下方からの圧力によってノッチ４８内に固定される。
【００４５】
弁作動ロッド１３０は、長いネック１２１を含み、これはダイヤフラムネック６５の内側に嵌合する。長いネック１２１のベースには、ダイヤフラム・サポートショルダー１２２が存在し、これはダイヤフラム６０の可撓性上部ベースショルダー６７と結合し、それはサポートを備えて提供される。ダイヤフラム・サポートショルダー１２２の直ぐ下方には、Ｏリング１３４および溝１３５が存在し、これらは弁作動ロッド１３０とダイヤフラム・クランプスリーブ４０の中央穿孔４１との間をシールする。弁作動ロッド１３０の下部本体１２３は、Ｔ−キャップ１３７中で終結する。Ｔ−キャップ１３７は、ハンドホイール１４４内に形成されたＴ−スロット１４６に嵌め込まれるが、このハンドホイールはねじ山１４５を備えていて、これは、ボンネット１６３内に形成された対向するボンネットねじ山１５５と嵌合する。ハンドホイール１４４の下部は、ハンドグリップ１５６内の中央穿孔１６５に収まり、そこでは、ハンドグリップは係止ピン１４８によって固定されるが、この係止ピンは、ハンドグリップ１５６の側面を経由して横方向に延びる穿孔１５８およびハンドホイール１４４内の同様な穿孔１４７中に挿入される。
【００４６】
ハンドグリップ１５６はハンドルスリーブ１５７を有し、これはボンネットネック１６４の外側の周囲にフィットし、そしてそれに抗して、Ｏリングおよび溝組合せ体１５９によりシールを行う。図１において、ボンネット１６３は、整列リップ１５４を伴うベースプレート１５１およびボンネット凹所１５２を有し、そしてこれは、ベースプレート１５１内に形成されたボルト孔１５３中に挿入されたボルト１４９によって弁本体１０に固定され、かつ弁本体１０に螺着されて、示されている。この取り付け方法は、数多くの異なった方法であって、ボンネット１６３を弁本体１０に取り付けるために利用出来るものの、簡単な一例である。
【００４７】
ハンドグリップ１５６を回転させると、ハンドホイール１４４は、ボンネット１６３内で、ねじ山によって上昇または下降されて、弁作動ロッド１３０および取り付けたシーリング尖端６２を押し引きし、ダイヤフラム６０のシーリング尖端６２をして、弁を可逆的にシールおよび開放させる。
【００４８】
図２は、開放状態の弁を示している。図２はまた、第二入口１６０の代替的位置を示しており、これは図１に示された状態を超える改良された清掃、すすぎおよび滅菌に関する効果を提供するものである。図２の残りの構成要素は図１のそれらと同様であり、従って、これ以上の説明は行わない。
【００４９】
図３は一つの代替的ダイヤフラムデザインを示すもので、ダイヤフラム６０の一体的部分として、ベローズ６６を組み込むことによって、運動のより大きい範囲を提供するものである。図３の実施例は、図１および図２の第二入口１６０を含まないものであるが、応用例によっては第二入口１６０を含んでいてもよいことが理解されるべきである。図３の残りの構成要素は図１および図２のそれらと略同一であり、従ってこれ以上の説明は行わない。
【００５０】
図４は本発明の、転倒シールデザインの他のアレンジメントを示しており、ここにおいて、ダイヤフラム６０は環状あるいは円錐台状、かつ二重層となっている。このアレンジメントは、２層シーリングキャップ８３でさらに、インサート８１を覆って固定出来る、一方法を示す他に、内径および外径シーリング・アレンジメントを示している。図４はまた、先に説明した、弁本体１０をカバープレート１００に接続するための他の取り付け手段１０７を示している。ここにおいて、ボルト１０８およびねじ１０９が用いられてエレメントをともに固定する。
【００５１】
図５は、図４中に示される弁１のシーリング装置のクローズアップである。明瞭に理解し得るように、シーリングキャップ８３は２層を含んでいる。すなわち、第一外層８８および第二内層８９である。さらに、ダイヤフラム６０は二つの層９４および９５を有している。
【００５２】
食品、飲料および薬品工業において使用されるダイヤフラムは、通常、ブナＮ（ブタジエン／アクリロニトリル）、ＥＰＤＭ（エチレン／プロピレン／ジエン）、ヴィトン（Ｖｉｔｏｎ）（フルオロカーボン）、シリコーン（医療用グレードシリコーン）あるいはテフロン（登録商標）（ＰＴＦＥまたはポリテトラフルオロエチレン）製である。
【００５３】
ダイヤフラムの純度あるいは不活性なものが望ましい場合、射出可能な数多くの製品のように、ＰＴＦＥがしばしば使用される。ＰＴＦＥに伴う問題は、それが、ゴムというよりはかなりプラスチックに近く、低温塑性流れの傾向があり、これはたとえば、本日ぴったり締め付けたとしても、時間の経過と加圧下で、それが側方に膨れ、そして再び緩くなることを意味している。何故、その後方にゴム（エラストマー）の裏打ち材から成るあるタイプの層を設けるかというかなり一般的な理由が、それに関している。その方法によって、たとえ、加圧下で、低温塑性流れが始まったとしても、ゴム物質がテフロン（登録商標）を結合シーリング面に押圧し続ける。実際に、ＰＴＦＥ製のシールは、裏打ち無しで、水密状態を一週間乃至一ヶ月間持続するが、ゴムの裏打ち材を設けると、それは何年にも亘って保持され続ける。
【００５４】
図１〜図３に例示された本発明の実施態様は、２層のダイヤフラムをさらに含んでいてもよく、そして図４および図５の実施態様は、弁１の特定応用例に依存して、シーリングキャップ８３およびダイヤフラム６０のために、１層の材料をもって製造してもよいことに注目すべきである。
【００５５】
例示のために、図６ａ乃至６ｅは、数種類の他の方法を示し、それによって転倒シーリングアレンジメントを製造することが出来る。
【００５６】
図６ａは、他の方法であって、ここにおいて転倒シールの概念を適用することが出来る。本図における弁は、図１におけるそれと類似である。図６ａの実施態様は、図１に示すように、ダイヤフラム６０がネック６５およびショルダー６７を含まないが、その代わりに、インサート８１のショルダー１８７によって下方から支持されるシーリング尖端６２を備えるショルダー６８のみを包含し、それによって第一入口２０の回りに環状シーリング面２１と共に可逆的シールを形成する点が異なっている（図１参照）。
【００５７】
別な差異は、ショルダー６８が、弁作動ロッド１３０の中心軸に向かって、さらに内方に延在して、そこでは、それがペデスタル５０とともにシールを形成することである。その結果、ダイヤフラム６０の底部プロセス側とペデスタル５０の頂部プロセス側との間に静的なシールを形成するために必要とされるペデスタル５０およびダイヤフラム・クランプスリーブ４０は、同一サイズの弁に関して図１に示されたよりも多分狭くなるであろう。それは、ダイヤフラム６０の可撓性部分５９が、今や図１のように、ショルダー６７中よりもむしろ、ショルダー６８内に形成されるからである。さらに、もし弁が図１中に示されるものと通常同一の寸法を有していれば、ペデスタル５０およびダイヤフラム・クランプスリーブ４０は、ダイヤフラム６０の新たに配置されたシーリング面６３を、第一入口２０の周りのシーリング面２１と接触させ得るように、一層長いことが必要とされるであろう。図６ａに示される他の相違は、下部本体と弁作動ロッド１３０との間のショルダー１２２の排除である。下からダイヤフラム６０の可撓性上部ショルダー６７を支持するためにデザインされたこの構造は、図４に示されたのと同様に、ペデスタル５０に組み込まれたショルダー４９として包含されることが可能である。
【００５８】
図６ａはまた、図１との他の点についての差異を示している。インサート８１のショルダー１８７は、逃げ溝１８１を含み、そこではダイヤフラム６０の厚さをより厚くする。この厚さまたはリブ１８２は、ダイヤフラム６０を安定させるために機能し、そしてショルダー６８に沿って発生する動きを減衰し、ダイヤフラム６０を介して、そのダイヤフラム６０のシーリング面６３であって、そこでは第一入口２０の周りで、シーリング面２１により可逆的にシールするものに至るまで、その移動を阻止する。別の安定ダイヤフラムの含有は、インサート８１の外方リム近傍のダイヤフラム６０内に位置する第一リング１８３である。ショルダー６８の収縮によって惹き起こされる運動の移行を減衰させるために機能する他に、リブ１８２および第一リング１８３の両者は、インサート８１に関して適所に、ダイヤフラム６０を移動から保持する傾向を有している。
【００５９】
図６ａはまた、第二リング１８４を包含し、これはダイヤフラム６０の中央孔７２の周りで、かつダイヤフラム６０が、内部空所１１の底部壁１２の第一、上方、プロセス側によって静的シールを形成する場所に隣接して、ダイヤフラム６０内に位置している。本開示中で提供されるダイヤフラムの他の全ての表示において、ダイヤフラム６０は全く介在物を有さず、そしてダイヤフラム６０を安定させるために、そこでは弁エレメントによって静的シールを形成することが望ましく、リップ６９および７０は、結合弁エレメントにおいて対向リップ４４および５２と連動するダイヤフラム６０中に構成されて示されている。連動する組合せを含むことは一般により高価となる。従って、可能であり、また受容出来るなら、これらのリップをダイヤフラム６０の構成ならびに弁エレメント中の双方において排除することが望ましい。代替的アプローチであって、時に受容可能であり、またある場合には好ましいのは、内部安定エレメントを使用することであり、ここではリング１８３および１８４として示される。他のアプローチは、鑽孔ワッシャー挿入体、布またはワイヤーメッシュならびに数多くの、それ以上の用品を包含する。もし、適切に安定化されると、本開示の実施態様のいずれにおいても図６ａ中に示すように、ダイヤフラム・クランプスリーブ４０およびペデスタル５０双方上のリップを排除することが可能である。
【００６０】
時として、これらの介在物は、製造およびアセンブリーの課題をもたらす。この場合、ダイヤフラム６０は、図示された環状カットアウト１８５内に入れ子式とされたダイヤフラム・クランプスリーブ４０とともにねじ山を付したインサート８１の回りに成形することが出来る。成形工程の間、リング１８３および１８４は、インサート８１およびダイヤフラム・クランプスリーブ４０から安定化することが可能である。
【００６１】
最後に、図６ａ中のダイヤフラムのショルダー６８の外部マージンは比較的シャープなエッジとなるが、構造は、本明細書中の他の図面には示されていない。これはドリップリップ１８６であって、物質がシーリング尖端６２の上面を流下して、ダイヤフラム６０の下面に粘着するよりむしろ垂れ、そしてシールを越えて流下し、かつペデスタル５０の側方を下降するようにデザインされている。
【００６２】
図６ｂは、弁（図示せず）の周縁構造に関する図６ａと同様である。図６ｂはまた、ダイヤフラム６０の収縮が、屈曲部５９によって例示されるショルダー上で起こるという点で類似している。図６ｂ中には、ダイヤフラム６０の２層のそれぞれにおいて形成されるとともに、図示された結合弁エレメント状態の保持連動リップ構造１８７および１８８が示されている。図６ｂは、図４、図５、図６ｃ、図６ｄおよび図６ｅにおいてそうであるように、二重層ダイヤフラム６０を含んでいる。図６ｂはまた、（図６ａに関する論述において記載したように）ペデスタルショルダー４９を示しており、これはダイヤフラム６０のショルダー６８に遙かに近接して位置しており、ここにおいて示されるように、シーリングアセンブリーが後退したとき、それがどのようにして下方からの支持がもたらされるかを一層明瞭に例示している。従って、図６ａは、延長されたアセンブリーを示している。図６ａおよび図６ｂに示されたアセンブリー間の他の相違は、図６ａ中のダイヤフラム６０は上部が閉じられているのに対し、図６ｂ中のそれは開放されて示されている。この相違を示した目的は、再びダイヤフラム６０は、数多くのやり方で製造してもよいということ、たとえば上部を開放するが、弁作動ロッドに取り付けられたカバーによりシールを形成する、あるいは上部を閉止し、そしてインサート８１に固定し、これが順次、弁作動ロッドに固着し、その結果、これら双方の場合に、弁作動ロッドはアセンブリーを運動させることが可能で、シーリング尖端６２を可逆的に第一入口２０の周りで環状シーリング面２１を接触状態として、弁を開放および閉塞することを例示するためである。図１〜図５、図６ｃ、６ｄ、６ｅおよび図７は全て、製造可能な数多くの異なったアレンジメントの幾つかを示すものであり、それらの全ては静的シールであって、第一の、底部壁１２のプロセス側または内部空所１１の底部壁１２の上昇面と第一の、ダイヤフラム６０のプロセス側との間に形成されるものを含んでいる。
【００６３】
説明を続けると、図６ｂ中のダイヤフラム６０は、ツーピースインサートにより下方から支持された短い上部ショルダー５８を有しており、その内方片１７１は弁作動ロッド１３０内に形成されたリップまたはステップ１３１に抗して静置される。この短い上部ショルダー５８は、シーリング面６３を形成し、これは第一入口２０の周りでシーリング面２１と嵌合する。入れ子式ツーピースインサートの形状は、半硬質ダイヤフラム６０を支持インサート構造上に組み立てるのを容易とするようにデザインされる。ダイヤフラム凹所に嵌め込む外方入れ子式インサート１７２は、パイ区画に垂直方向に区分して組み立てを容易にすることが出来る。ツーピース入れ子式インサートが適所に収まった後、ねじを切ったキャップ７４を弁作動ロッド１３０上に締着すると、アセンブリーは自動位置合わせしながら、同時にダイヤフラム６０の短い上部ショルダー５８によって上部プロセス側シールを形成する。短い上部ショルダー６８の傾斜は、流下およびねじ切りキャップ７４のリップによるシーリングインターフェースからの離脱を保証する。ペデスタル５０によってダイヤフラム６０の下面に形成されるシールは、図６（ａ）におけるものと同一である。図６ｂ中のダイヤフラム６０はまた、リブ１８２を含んでいて、弁が図６ａにおけるように作動されると、ダイヤフラム６０のショルダー６８の収縮運動の移行を減衰させる。
【００６４】
図６ｃは、図６ｂに示されるように、短い上部ショルダー５８と長い下部ショルダー６８とを組み合わせているが、図６ｂの付加リブ１８２を伴わないものである。その代わりに、図４および図５に示されるのと同様に、別のシーリングキャップ８３が包含されるが、これは図６ｂに示されるように、頂部において開放されるものである。ねじ山１８９を最上部インサート１９０の内径に沿って設けることにより、キャップ７４を弁作動ロッド１３０の端部に形成することが出来る。最上部インサート１９０上の適所のダイヤフラムカバーにより、その頂部において緊密なシールが形成されるまで、それを弁作動ロッド１３０のねじ山に螺着することが出来る。図６ｂおよび他におけるように、排液シールが達成される。下方にねじ山を付したインサート１７５の外部エッジを、下部収縮ダイヤフラム６０の短い上部ショルダー５８の下方凹所１９１内に挿入し、そしてシーリングキャップ８３の底部シーリング面および底部収縮ダイヤフラム６０の頂部シーリング面と嵌合するように設計された、対向するシーリング面を備えたスペーサ１７６は、それらの間に配置され、また下部ねじ切りインサート１７５は最上部インサート１９０に螺着される。下部ねじ切りインサート１７５を最上部インサート１９０内に締め付けることがエレメントを押圧し、そしてシーリングキャップ８３の下部ショルダーおよび下部ダイヤフラム６０の上部ショルダーの周りに緊密なシールを形成する。収縮ダイヤフラムとペデスタル５０とダイヤフラム・クランプスリーブ４０との間に形成される最後のシールは、図６（ｂ）におけるのと同じ態様およびエレメントにおいて形成される。
【００６５】
図６ｃの実施態様における効果の一つは、使用されるダイヤフラムおよびシーリングキャップを、それらが比較的フラットで、かつ開放されるように設計出来ることであり、そのことがそれらの製造をより容易とし、かつより安価にするものである。さらに、本図および図６ｄは、数多くのアレンジメントの幾つかが可能であることを示す他に、同一のダイヤフラムを数多くのアレンジメントおよび配置を実現するために利用し得ることを示している。図６ｃおよび図６ｄに示されたダイヤフラムおよびシーリングキャップ片の４個全てが、同一である。この種デザインアレンジメントの一つの実用的効果は、一種類の交換パーツの貯蔵を要するに過ぎないことである。
【００６６】
上述したように、図６ｄに示されたダイヤフラムおよびキャップエレメントは互いに同一であり、同様に図６（ｄ）に示されたそれらの各々も同一である。シーリングキャップ８３用のシールを形成するために、結合シーリング面およびねじを切った内径を備えた一組のインサート１７７および１７８が導入される。これらは弁作動ロッド１３０の外側のねじ山に螺着可能であり、そしてシーリングキャップのシーリング面と確実に係合し、かつシールを形成する。下部ダイヤフラム６０の上部シールは、第二インサート１７８の底部および第三インサート１７６の頂部によって形成され、さらにその内径のねじ山において、弁作動ロッド１３０上に螺着される。この場合の収縮を行うダイヤフラム６０の下部シールは、図１におけるシールと同一の構成要素ならびに同一の方法によって形成される。第三のインサート１７６は、図１の弁作動ロッド１３０の一部として形成されるショルダー１２２が行ったのと同様の支持ショルダー機能を提供する。最後に、この第三インサート１７６は、二組のＯリング１９５および１９６と共に示されており、ダイヤフラム・クランプスリーブ４０の内径４１に抗してシールするのに対し、図１に示される対応するシーリングアレンジメントは、１個のＯリングシールのみを示している。本開示中にみられる全ての場合において、もしそうすることが望ましいと考えられるなら、１個以上のＯリング−Ｏリング溝シーリング組合せを含むのが可能であることを理解すべきである。
【００６７】
図６ｅ中の構成の全てを、図６ｃ内に見いだすことが出来る。本質的に、図６ｅは、上部および下部二重層ダイヤフラムエレメントを１個のダイヤフラムエレメントに結合するものである。このエレメントは、上方および下方に開放され、各開口部の周りに環状に配置されたリップを備えるシール形成面を有している。図６ｃ中に示されるように、一度インサート１７９をダイヤフラムの凹所内に配置すると、それを弁作動ロッドの尖端近傍のねじ山上に螺着することが出来る。インサート１７９をこれらのねじ山上に締め付けると、そのリップを備えた中央上部環状シール面は、対向する連動シーリング面および弁作動ロッド１３０の尖端の下面に形成されたリップの組合せと、緊密な接触状態に入る。シールは、外方に傾斜した面を有する全てのエレメントと共に形成されるので、ここで用いられ、かつ他の図、たとえば図６ｃおよび図６ｄに示された、このシーリングアレンジメントは排液を行い、かつ物質を収集することは無い。このシーリングアレンジメントは、図６ｂにおけるのと同様であるが、それはさらに上部ショルダー上に形成されて示されており、そして、弁作動ロッド１３０上に螺着されているインサートの代わりに、その尖端はねじ山を設けた別個の片となっており、そして弁作動ロッド１３０の上方から下方へ締着されている。図６ｅ中のペデスタル５０およびダイヤフラム・クランプスリーブ４０とともに形成されている下部ショルダーシールは、本明細書中で図示される他の全ての配列におけるものと同一である。図６ｅはまた、インサート１７９内の凹所１８１に形成されたリブ１８２を備えたダイヤフラム６０を示している。このダイヤフラム・アレンジメントを特別なものとしているのは、そのコンパクトさと、それ自体をインサートとともに適所に製造し、特に、応用例がダイヤフラムを製造するのならば、シールの安定性を保証する助けとしてしばしば必要とされるリップを伴わないという事実によるのである。
【００６８】
図７は、ダイヤフラム・チューリップ弁を例示している。今日、入手可能なチューリップまたはケトル弁は、それらが何年にも亘ってそうであるように、空所の底部壁の第一面の後方に、内部弁空所の底部に配置されたダイナミックＯリングシールを依然として含んでいる。このデザインアプローチは単純であり、機械的に信頼出来、しかも製造に際して安価であるけれど、弁作動ロッドまたはステムとともに形成されたダイナミックＯリングの直ぐ上方に収集窪みまたは液溜めを形成し、そしてそれは後に、プロセスバッチ間で物質を収集し、かつ付着させる部位をもたらし、それは手動の干渉無しでは、現場で除去するのが非常に困難となる。バッチ対バッチ組合せに関する懸念は、ある時間の後、再導入することによって、清掃および滅菌手順から避難するしか無く、それはＯリングを通過して流下し、その結果、そのバッチの汚染をもたらすという事実に基づくデザインによってさらに増強されることになる。これらの問題に拘わらず、チューリップまたはケトル弁は、繰り越し汚染に伴う影響に対し頑強で、かつ抵抗性を有するプロセス、たとえば数多くの食品、飲料および洗面用化粧品ならびに化学製品において、依然として今日非常に広く使用されている。それらは通常、薬品製造または他の工業であって、防腐処理が行われるものにおいては見出だされない。それは、シールの現場清掃および再滅菌の困難を伴う汚染に関する主要な懸念の故である。
【００６９】
ユーザーの特定のプロセスニーズに依存して、ダイヤフラムおよびＯリング配列の両者において上に論述した、新規なシールデザイン・アプローチを適用することにより、チューリップまたはケトル弁に関連する問題は、大方克服することが出来るので、これらを、より多くの、一層要求のある衛生処理応用例ならびに現在の応用例におけるより良好、より信頼性あるサービスにおいて使用されるべき非常に価格効果のあるデザインとするものである。
【００７０】
転倒シールダイヤフラム・テクノロジーの特別な場合において、ペデスタル５０は、第一入口２０を経由して底部壁１２の第一側から延長され、そして収縮ダイヤフラム６０の内径上のリップ７１は、ダイヤフラム・クランピングスリーブ４０をダイヤフラム６０の中央孔７２を介して挿入し、次にペデスタル５０の中央穿孔内に挿入することによって捕捉される。先に説明したように、ダイヤフラム６０の内径（リップ７１を備えていても、備えていなくてもよい）は、リテーナーナット１４０（図１）または他の締め付け手段がダイヤフラム・クランプスリーブ４０の末梢端に適用されると、ダイヤフラム・クランプスリーブ４０のショルダー４３と、ペデスタル５０の頂部環状面５３との間で捕捉される。もし、シールが一体的部分として形成されたダイヤフラムを有していれば、当然、そのダイヤフラムの外径リップはシーリング尖端の一体部分となり、そしてそれはシーリング尖端に対し、さらにそれを固定することを要しなくなる。しかしながら、もしダイヤフラムがシーリング尖端の一体部分として形成されなければ、シーリング尖端上で同様に図７に例示されるように、捕捉されることを要する。従って、図７において、ねじを切ったカラーインサート７３はダイヤフラム６０の一部として形成されるか、またはその外部リム近傍のダイヤフラム６０内の嵌合スペース中に挿入される。さらに、放射状のこのねじ切りカラーが取り付け可能であり、これが運動のより大きな範囲を達成させる。ダイヤフラム・クランピングスリーブ４０の中央穿孔４１中に部分的に挿入された弁作動ロッド１３０の端部に対して、弁作動ロッド１３０の端部に固着されたキャップ７４の嵌合ねじ山７６はカラーインサート７３のねじ山７５上に嵌合および締着可能である。これらのねじ部が締め付けられ、そしてダイヤフラム６０の外部環状面７７がキャップ７４上の対向するシーリング面７８とシーリング接触状態になると、それにより内部シールとの組合せにおいて作成された外部シールは、そのプロセスを弁の内部機械エレメントならびに取り巻く外部環境から密封し、かつ隔離する。そのようにすると、シールアレンジメントがチューリップまたはケトル弁内に作成され、これがチューリップまたはケトル弁のあらゆる効果ならびに現在、衛生関係ダイヤフラムデザインが有する付加的効果であって、現場において有効に清掃かつ滅菌可能であり、更に無菌処理応用例の使用に関して今や受容可能となり、同様に過去に使用されて来た従来の応用例の全てにおける付加的効果を伴う弁を提供する。
【００７１】
図６ａ〜図６ｃおよび図６ｅにおける上記ダイヤフラムアレンジメントの全ては、図７におけるように、表面１０２の上方からシールを構成し得るものである。これが、上述したチューリップ弁構成に対し同一の効果を提供する一方、そのプロセスを弁エレメントおよび周囲の外部環境から付加的に隔離するものである。
【００７２】
図８は、Ｏリングシール・チューリップ弁を示している。食品および飲料工業において、数多くのオペレータは、上記したように従来のＯリングベースのチューリップおよびケトル弁デザインを使用し続けている。それは、それらが、相対的に言えば、据え付けおよび維持するのに非常に安価だからである。さらに、殆どの食品および飲料応用例であって、そこではそのプロセスがかなり頑丈で、かつ汚染症状の発現に対して抵抗性があるものに関して、従来の弁デザインは、メンテナンスにとって最小の中断時間とともに長期間のサービスを提供して来た。それにも拘わらず、最近２、３年で数件の事故があり、そこではこれらタイプの弁が、食品および飲料汚染症状の発現であって、人々に深刻な病気をもたらすものの原因とされて来た。これらの弁が、ダイヤフラム弁の導入には至らないプロセス応用例において、しばしば用いられて来たのは、物理的、科学的または経済的理由の何れかであり、将来におけるプロセス汚染事態の危険をさらに減少させるように、それらのデザインに対して改良を試みる価値は依然として存在する。
【００７３】
図８は、実施例であって、どのようにしてチューリップおよびケトル弁を変形し得るか、さらに、転倒シール・テクノロジーを用いながら再アレンジしてそれらを一層容易に現場で清掃かつ滅菌させて、脅威となりそうな微生物を含むプロセス汚染の潜在的な原因としての、それらの脅威を減少させるシーリングシステムを例示している。弁本体１０は、内部弁空所１１の底部壁１２から上に延びるペデスタル５０を有している。弁作動ロッド１３０は、図７に示すように、キャップ７４を備えているか、あるいはそれとともに形成されている。キャップはそれ自体、第一入口２０の周りで入口環状シーリング面２１を伴うシールを形成し得るか、あるいはシーリングエレメント（図示せず）またはシーリング面２１内に一体化されればよく、それによって嵌合したものが、図８から理解し得るように、それと一体化されたシーリングエレメント２３を有していればよい。あらゆる場合において、シールは、第一入口２０の周りでカバープレート１００の上面１０２あるいは下面または屋根１３上の第一入口２０の周りの嵌合環状シーリング面８４と可逆的に形成されればよい。図８中に例示される実施例において、弁作動ロッドは第一入口２０を介して延在し、また固着キャップ７４は開放状態において第一入口２０の上方へ上昇され、そしてこの場合、その下部マージン上に位置決めされたキャップ７４のシーリング面８４をカバープレート１００の表面１０２に沿って配置された上部環状シーリング面２１とシーリング接触状態とし、またシーリングエレメント２３を互いにシーリング接触状態とするように後退させられる。第二の場合（図９参照）、キャップ７４が弁１の内部空所中に位置すると、弁作動ロッド１３０を延在させることが、今やキャップ７４の上部マージン上に位置するシーリング面８４を、第一入口２０の周りで屋根１３およびシーリングエレメント２３上に位置する環状シーリング面２１とシーリング接触状態となる。双方の場合（図８および図９）において、弁作動ロッド１３０と同軸であるシールスリーブ８０は、弁作動ロッド１３０の端部上に形成また固着されたキャップ７４の底部から下方へ延び、またその内径壁７９に沿って、ペデスタル５０の外径壁５４と結合する。Ｏリング溝９１は、その下部マージン９２の直ぐ上方で、シールスリーブ８０の内径壁７９中に切り込まれている。Ｏリング溝９１内に据え付けられたＯリング９３は、ペデスタル５０の外径壁５４と摺動シーリングアレンジメントを形成する。このシーリング手段の効果は、従来のチューリップ、ケトル、プラグ、ボールおよびその他の弁デザインにおいて見られるものを転倒させ、それによって無抵抗な排液シーリングアレンジメントを作り出し、これは先行技術に見られるような、貯留態様において、物質を収集する傾向を有しないものである。更に、シールの非プロセス側へのアクセスは、弁作動ロッド１３０の外径よりも大きな内径を有するペデスタル５０の上部ＸＸＸを構成することにより、図７または図８および図９に示されるように、孔を弁作動ロッドに穿つことによって達成することが出来、有意な寸法としたスペース５５をペデスタル内に作成することが出来る。図８および図９を参照すると、弁本体１０の底部壁１２に供給および排液通路１４および１５を穿孔することが出来、これらは洗剤、すすぎ液および蒸気を高い流速で空所内に供給し得るのに充分であって、目詰まりを伴うことなく、遂行すべき、摺動シーリングアレンジメントの非プロセス側の非常に有効な現場清掃、すすぎおよび滅菌を保証するものである。弁のプロセス側は、第二入口開口部を図１および図２中に示すように、弁本体内部空所１１内に直接包含させ、それを経由して洗剤、すすぎ液および蒸気を直接供給し得ることによって清掃可能となる。これらは、排液出口３０を流下させ、かつこれから排出させることによって、弁内部空所から排液されることになる。このデザインは、プロセスおよび非プロセス側を同時に、非常に効果的に清掃し得るシールデザインの特別な効果を有している。Ｏリングシールを清掃および滅菌するのが最良なので、嵌合面が露出され、かつ洗剤、すすぎ液および殺菌剤にアクセス可能であれば、図８に示され、かつ上で説明された弁は、それが開放（延長）位置にあるとき、最も効果的に清掃かつ滅菌することが出来る。図９に示され、かつまた上に説明された弁は、閉止位置にある間、最も良く清掃することが出来る。
【００７４】
一度、転倒シールテクノロジーの概念が理解されると、この概念に対する他の変形は当業者にとって明白となるであろうことが注目されるべきである。
【００７５】
発明は以上のように説明されたが、それは数多くの方法によって変更可能であることが明白であろう。この種の変更は、発明の精神および範囲から逸脱するものとは見做されず、そして当業者には明白である、全てのこの種の変更は請求の範囲内に包含されるべきものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】
ドレン開口部上方の弁本体側壁を経由して内部空所に通じる第二の入口を備えた閉止位置におけるワン・ピースの「マッシュルーム」ダイヤフラム弁を示す横断面図である。
【図２】
半径方向位置からカバープレートを経由して内部空所に通じる第二の入口を備えた開放位置におけるワン・ピースの「マッシュルーム」ダイヤフラム弁を示す横断面図である。
【図３】
ある代替的ダイヤフラムデザインであって、ベロウズの組み込みによって運動のより大きな範囲を提供するものの横断面を示す斜視図である。
【図４】
ツー・ピース「マッシュルーム」ダイヤフラム弁を示す横断面図である。
【図５】
キャップ内に装着した２層ダイヤフラム・シーリング機構を示すクローズアップ横断面図である。
【図６】
図６ａ、図６ｂ、図６ｃ、図６ｄおよび図６ｅは、他のダイヤフラム・シーリング配置の例を示す中央横断面図である。
【図７】
チューリップ弁構造において、ダイヤフラムを用いて適用された反転シーリング・テクノロジーの例を示す横断面図である。
【図８】
Ｏリング構造において、チューリップ弁デザインに対して適用された反転シーリング・テクノロジーで、かつＣＩＰ／ＳＩＰ機能をシールの非プロセス側ならびにプロセス側に組み込んだものの例を示す横断面図である。
【図９】
Ｏリング構造において、プランジャー弁デザインに対して適用された反転シーリング・テクノロジーで、かつＣＩＰ／ＳＩＰ機能をシールの非プロセス側ならびにプロセス側に組み込んだものの例を示す横断面図である。
【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004519630.tif 000051
2004519630.tif 000052
【国際調査報告】
2004519630.tif 000053