(57)【要約】式（ＩＩ）のアミド類を希釈剤の存在下でＮ−脱アシル化剤と反応させることにより式（Ｉ）の２，５−ビスアリール−△１−ピロリン類を製造することができ、Ａｒ１、Ａｒ２およびＲ９は明細書に示された意味を有する。
2004509165.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ＩＩ）
【化１】
2004509165.tif 000036
［式中、
Ａｒ１は基
【化２】
2004509165.tif 000037
を表し、
Ａｒ２は基
【化３】
2004509165.tif 000038
を表し、
ｍは０、１、２、３または４を表し、
Ｒ１はハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｒ２およびＲ３は互いに独立して水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｒ４はハロゲンまたは以下の基
（ｌ）−Ｘ−Ａ
（ｍ）−Ｂ−Ｚ−Ｄ
（ｎ）−Ｙ−Ｅ
の１つを表し、
Ｒ５はハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、トリアルキルシリル、アルコキシカルボニル、−ＣＯＮＲ７Ｒ８、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｘは直接結合、酸素、−Ｓ（Ｏ）ｏ−、−ＮＲ６−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、オキシスルホニル（ＯＳＯ２）、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、アルキレンオキシ、オキシアルキレン、オキシアルキレンオキシ、−Ｓ（Ｏ）ｏ−アルキレン、シクロプロピレンまたはオキシラニレンを表し、
Ａは各々が場合によりリストＷ１からの基によりモノ−もしくはポリ置換されていてもよいフェニル、ナフチルまたはテトラヒドロナフチルを表すか、或いは窒素、酸素および硫黄よりなる群からの１個もしくはそれ以上のヘテロ原子を含有し且つ各場合とも場合によりリストＷ２からの基によりモノ−もしくはポリ置換されていてもよい５−〜１０−員の飽和もしくは不飽和ヘテロシクリルを表し、Ｂは場合によりリストＷ１からの基によりモノ−もしくはジ置換されていてもよいｐ−フェニレンを表し、
Ｚは−（ＣＨ２）ｎ−、酸素またはＳ（Ｏ）ｏ−を表し、
Ｄは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキルスルホニルまたはジアルキルアミノスルホニルを表し、
Ｙは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、ハロアルキレン、ハロアルケニレン、アルキレンオキシ、オキシアルキレン、オキシアルキレンオキシまたはチオアルキレンを表し、
Ｅは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキルスルホニルまたはジアルキルアミノスルホニルを表し、
Ｗ１はシアノ、ハロゲン、ホルミル、ニトロ、アルキル、トリアルキルシリル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、ハロアルケニルオキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＳＯ２ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｗ２はシアノ、ハロゲン、ホルミル、ニトロ、アルキル、トリアルキルシリル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルケニルオキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニルまたは−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６を表し、
ｎは０、１、２、３または４を表し、
ｏは０、１または２を表し、
Ｒ６は水素、アルキルまたはハロアルキルを表し、
Ｒ７およびＲ８は互いに独立して水素、アルキル、ハロアルキルを表すか、或いは一緒になってアルキレンまたはアルコキシアルキレンを表し、そして
Ｒ９はアルキル、ハロアルキル、場合により置換されていてもよいアリールもしくはアラルキルを表す］
のアミド類を希釈剤の存在下でＮ−脱アシル化剤と反応させることを特徴とする、式（Ｉ）
【化４】
2004509165.tif 000039
［式中、
Ａｒ１およびＡｒ２は以上で定義された通りである］
の２，５−ビスアリール−△１−ピロリン類の製造方法。
【請求項２】
使用される出発物質が式（ＩＩ）
【化５】
2004509165.tif 000040
［式中、
Ａｒ１は基
【化６】
2004509165.tif 000041
を表し、
Ａｒ２は基
【化７】
2004509165.tif 000042
を表し、
ｍは０、１、２または３を表し、
Ｒ１はハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｒ２およびＲ３は互いに独立して水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｒ４は弗素、塩素、臭素、ヨウ素または以下の基
（ｌ）−Ｘ−Ａ
（ｍ）−Ｂ−Ｚ−Ｄ
（ｎ）−Ｙ−Ｅ
の１つを表し、
Ｒ５はハロゲン、ヒドロキシル、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、トリ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）シリル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、−ＣＯＮＲ７Ｒ８、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｘは直接結合、酸素、−Ｓ（Ｏ）ｏ−、−ＮＲ６−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、オキシスルホニル（ＯＳＯ２）、Ｃ１−Ｃ４−アルキレン、Ｃ２−Ｃ４−アルケニレン、Ｃ２−Ｃ４−アルキニレン、Ｃ１−Ｃ４−アルキレンオキシ、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレン、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレンオキシ、−Ｓ（Ｏ）ｏ−Ｃ１−Ｃ４−アルキレン、シクロプロピレンまたはオキシラニレンを表し、
Ａは各々が場合によりリストＷ１からの基によりモノ−ないしテトラ置換されていてもよいフェニル、ナフチルまたはテトラヒドロナフチルを表すか、或いは１もしくは２個の芳香族環並びに０〜４個の窒素原子、０〜２個の酸素原子および０〜２個の硫黄原子から選択される１〜４個のヘテロ原子を含有し且つ各場合とも場合によりリストＷ２からの基によりモノ−ないしテトラ置換されていてもよい５−〜１０−員のヘテロシクリル（特にテトラゾリル、フリル、ベンゾフリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピロリル、インドリル、オキサゾリル、ベンゾキサゾリル、イソキサジル、イミダジル、ピラジル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダジル、トリアジニル、トリアジル、キノリニルまたはイソキノリニル）を表し、
Ｂは場合によりリストＷ１からの基によりモノ−もしくはジ置換されていてもよいｐ−フェニレンを表し、
Ｚは−（ＣＨ２）ｎ−、酸素または−Ｓ（Ｏ）ｏ−を表し、
Ｄは水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルスルホニルまたはジ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）アミノスルホニルを表し、
Ｙは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキレン、Ｃ２−Ｃ６−アルケニレン、Ｃ２−Ｃ６−アルキニレン、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキレン、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニレン、Ｃ１−Ｃ４−アルキレンオキシ、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレン、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレンオキシまたはＣ１−Ｃ４−チオアルキレンを表し、
Ｅは水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルスルホニルまたはジ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）アミノスルホニルを表し、
Ｗ１はシアノ、ハロゲン、ホルミル、ニトロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、トリ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）シリル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニルオキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＳＯ２ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｗ２はシアノ、ハロゲン、ホルミル、ニトロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、トリ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）シリル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニルオキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルまたは−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６を表し、
ｎは０、１、２、３または４を表し、
ｏは０、１または２を表し、
Ｒ６は水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキルまたはＣ１−Ｃ６−ハロアルキルを表し、
Ｒ７およびＲ８は互いに独立して水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルを表すか、或いは一緒になってＣ２−Ｃ６−アルキレンまたはＣ１−Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ４−アルキレン（例えばモルホリン）を表し、そして
Ｒ９はＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−ハロアルキル、場合により置換されていてもよいフェニルもしくはアラルキルを表す］
のアミド類であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
使用される出発物質が式（ＩＩ）
【化８】
2004509165.tif 000043
［式中、
Ａｒ１は基
【化９】
2004509165.tif 000044
を表し、
Ａｒ２は基
【化１０】
2004509165.tif 000045
を表し、
ｍは０、１または２を表し、
Ｒ１は弗素、塩素、臭素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキルもしくはＣ１−Ｃ６−アルコキシを表し、
Ｒ２およびＲ３は互いに独立して水素、弗素、塩素、臭素、ヨウ素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキルもしくはＣ１−Ｃ６−アルコキシを表し、
Ｒ４は塩素、臭素、ヨウ素または以下の基
（ｌ）−Ｘ−Ａ
（ｍ）−Ｂ−Ｚ−Ｄ
（ｎ）−Ｙ−Ｅ
の１つを表し、
Ｒ５は弗素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキルもしくはＣ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシカルボニル、−ＣＯＮＲ７Ｒ８、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｘは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、オキシスルホニル（ＯＳＯ２）、Ｃ１−Ｃ４−アルキレン、Ｃ２−Ｃ４−アルケニレン、Ｃ２−Ｃ４−アルキニレン、Ｃ１−Ｃ４−アルキレンオキシ、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレン、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレンオキシ、−Ｓ（Ｏ）ｏ−Ｃ１−Ｃ４−アルキレン、シクロプロピレンまたはオキシラニレンを表し、
Ａは各々が場合によりリストＷ１からの基によりモノ−ないしトリ置換されていてもよいフェニル、ナフチルまたはテトラヒドロナフチルを表すか、或いは１もしくは２個の芳香族環並びに０〜４個の窒素原子、０〜２個の酸素原子および０〜２個の硫黄原子から選択される１〜４個のヘテロ原子を含有し且つ各場合とも場合によりリストＷ２からの基によりモノ−ないしトリ置換されていてもよい５−〜１０−員のヘテロシクリル（特にテトラゾリル、フリル、ベンゾフリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピロリル、インドリル、オキサゾリル、ベンゾキサゾリル、イソキサジル、イミダジル、ピラジル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダジル、トリアジニル、トリアジル、キノリニルまたはイソキノリニル）を表し、
Ｂは場合によりリストＷ１からの基によりモノ−もしくはジ置換されていてもよいｐ−フェニレンを表し、
Ｚは−（ＣＨ２）ｎ−、酸素またはＳ（Ｏ）ｏ−を表し、
Ｄは水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニルもしくはＣ１−Ｃ４−アルキルスルホニルを表すか、或いはジ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）アミノスルホニルを表し、
Ｙは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキレン、Ｃ２−Ｃ６−アルケニレン、Ｃ２−Ｃ６−アルキニレン、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキレンもしくはＣ２−Ｃ６−アルケニレンを表すか、Ｃ１−Ｃ４−アルキレンオキシ、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレン、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレンオキシまたはＣ１−Ｃ４−チオアルキレンを表し、
Ｅは水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニルもしくはＣ１−Ｃ６−アルキルスルホニルを表すか、或いはジ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）アミノスルホニルを表し、
Ｗ１はシアノ、弗素、塩素、臭素、ヨウ素、ホルミル、ニトロ、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ２−Ｃ４−アルケニル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシもしくはＣ２−Ｃ６−アルケニルオキシを表すか、或いはＣ１−Ｃ４−アルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシカルボニル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＳＯ２ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｗ２はシアノ、弗素、塩素、臭素、ホルミル、ニトロ、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシもしくはＣ２−Ｃ６−アルケニルオキシを表すか、或いはＣ１−Ｃ４−アルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシカルボニル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６を表し、
ｎは０、１、２または３を表し、
ｏは０、１または２を表し、
Ｒ６はＣ１−Ｃ６−アルキルまたは各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたメチルもしくはエチルを表し、
Ｒ７およびＲ８は互いに独立してＣ１−Ｃ６−アルキル、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキルを表すか、或いは一緒になってＣ４−Ｃ５−アルキレンを表すか、或いは−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−を表し、そして
Ｒ９はメチル、エチル、フェニルまたはベンジルを表す］
のアミド類であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
使用される出発物質が式（ＩＩ）
【化１１】
2004509165.tif 000046
［式中、
Ａｒ１は基
【化１２】
2004509165.tif 000047
を表し、
Ａｒ２は基
【化１３】
2004509165.tif 000048
を表し、
ｍは０、１または２を表し、
Ｒ１は弗素、塩素、臭素、メチルまたはメトキシを表し、
Ｒ２およびＲ３は互いに独立して水素、弗素、塩素、臭素、メチルまたはメトキシを表し、
Ｒ４は塩素、臭素または以下の基
（ｌ）−Ｘ−Ａ
（ｍ）−Ｂ−Ｚ−Ｄ
（ｎ）−Ｙ−Ｅ
の１つを表し、
Ｒ５は弗素、塩素、臭素、ヒドロキシル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメチル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、−ＣＯ２ＣＨ３または−ＳＯ２ＣＦ３を表し、
Ｘは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−（ＥもしくはＺ）、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−（ＣＨ２）２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＨ２Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）ｏ−ＣＨ２−または−Ｓ（Ｏ）ｏ−（ＣＨ２）２−を表し、
Ａは場合によりリストＷ１からの基によりモノ−もしくはジ置換されていてもよいフェニルを表すか、或いは各々が場合によりリストＷ２からの基によりモノ−もしくはジ置換されていてもよいテトラゾリル、フリル、ベンゾフリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピロリル、インドリル、オキサゾリル、ベンゾキサゾリル、イソキサジル、イミダジル、ピラジル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダジル、トリアジニル、トリアジルを表し、
Ｂは場合によりリストＷ１からの基によりモノ置換されていてもよいｐ−フェニレンを表し、
Ｚは酸素、硫黄または−ＳＯ２−を表し、
Ｄは水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２−プロペニル、ブテニル、プロパルギル、ブチニル、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＣｌＦ２、−ＣＦ２ＣＨＦＣｌ、−ＣＦ２ＣＨ２Ｆ、−ＣＦ２ＣＣｌ３、−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＣＨ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＳＯ２ＣＦ３、−ＳＯ２（ＣＦ２）３ＣＦ３または−ＳＯ２ＮＭｅ２を表し、
Ｙは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−（ＥもしくはＺ）、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−（ＣＨ２）２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＨ２Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ２−または−Ｓ（ＣＨ２）２−を表し、
Ｅは水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２−プロペニル、ブテニル、プロパルギル、ブチニル、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＣｌＦ２、−ＣＦ２ＣＨＦＣｌ、−ＣＦ２ＣＨ２Ｆ、−ＣＦ２ＣＣｌ３、−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＣＨ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＳＯ２ＣＦ３、−ＳＯ２（ＣＦ２）３ＣＦ３または−ＳＯ２ＮＭｅ２を表し、
Ｗ１はシアノ、弗素、塩素、臭素、ホルミル、メチル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、トリフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＣｌＦ２、−ＣＦ２ＣＨＦＣｌ、−ＣＦ２ＣＨ２Ｆ、−ＣＦ２ＣＣｌ３、−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＣＨ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＯＣＨ２ＣＦ３、−ＳＣＦ３、−ＳＣＨＦ２、−ＳＯＣＨＦ２、−ＳＯ２ＣＨＦ２、−ＳＯＣＦ３、−ＳＯ２ＣＦ３または−ＳＯ２ＮＭｅ２を表し、
Ｗ２は弗素、塩素、臭素、メチル、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、−ＣＯ２ＣＨ３または−ＳＯ２ＣＦ３を表し、
ｏは０、１または２を表し、そして
Ｒ９はメチル、フェニルまたはベンジルを表す］
のアミド類であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
使用される出発物質が式（ＩＩ−１）
【化１４】
2004509165.tif 000049
の化合物であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
使用される出発物質が式（ＩＩ−２）
【化１５】
2004509165.tif 000050
の化合物であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
使用される出発物質が式（ＩＩ−３）
【化１６】
2004509165.tif 000051
の化合物であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
使用されるＮ−脱アシル化剤がプロトン酸、有機酸、無機塩基または生物変換（ｂｉｏｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎ）であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
使用されるＮ−脱アシル化剤が水性塩酸、水性臭化水素酸、トリフルオロ酢酸、水酸化バリウム、水酸化ナトリウムまたはアシラーゼ類を使用する生物変換であることを特徴とする請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
使用されるＮ−脱アシル化剤が水性塩酸であることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
使用される希釈剤が水もしくはアルコールまたは水とアルコールとの混合物であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
使用される希釈剤が水、メタノール、エタノールまたはこれらの希釈剤の２種もしくは３種の混合物であることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
反応を２０℃〜２００℃の間の温度において行うことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
式（ＩＩ−ａ）
【化１７】
2004509165.tif 000052
［式中、
Ｒ１−１は弗素または塩素を表し、
Ｒ２−１は水素、塩素または弗素を表し、そして
Ａｒ２およびＲ９は請求項１〜４のいずれかで定義された通りである］
の化合物。
【請求項１５】
式（ＩＩＩ−ａ）
【化１８】
2004509165.tif 000053
［式中、
Ｒ１−１は弗素または塩素を表し、
Ｒ２−１は水素、塩素または弗素を表し、そして
Ａｒ２は請求項１〜４のいずれかで定義された通りである］
の化合物。
【請求項１６】
式（Ｉ−ａ）
【化１９】
2004509165.tif 000054
［式中、
Ａｒ１は請求項１〜４のいずれかで定義された通りであり、
Ａｒ２は基
【化２０】
2004509165.tif 000055
を表し、
Ｒ４およびｍは請求項１〜４のいずれかで定義された通りであり、
Ｒ５−１はヒドロキシル、トリアルキルシリル、アルコキシカルボニル、−ＣＯＮＲ７Ｒ８または−ＮＲ７Ｒ８を表し、そして
Ｒ７およびＲ８は請求項１〜４のいずれかで定義された通りである］
の２，５−ビスアリール−△１−ピロリン類。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、２，５−ビスアリール−△１−ピロリン類の新規な製造方法に関する。
【０００２】
△１−ピロリン類、それらの製造方法および有害生物防除剤としてのそれらの使用はＷＯ ００／２１９５８、ＷＯ ９９／５９９６８、ＷＯ ９９／５９９６７およびＷＯ ９８／２２４３８に記載されている。しかしながら、これらの方法は収率、反応の実施法、副生物の数、処理のタイプ、製造される廃棄物の量およびエネルギー消費に関して不満足である。従って、上記の欠点の１つもしくはそれ以上を克服する新規な方法に関する絶えざる要望がある。
【０００３】
今回、式（ＩＩ）
【０００４】
【化２１】
2004509165.tif 000003
【０００５】
［式中、
Ａｒ１は基
【０００６】
【化２２】
2004509165.tif 000004
【０００７】
を表し、
Ａｒ２は基
【０００８】
【化２３】
2004509165.tif 000005
【０００９】
を表し、
ｍは０、１、２、３または４を表し、
Ｒ１はハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｒ２およびＲ３は互いに独立して水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキシアルキル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｒ４はハロゲンまたは以下の基
（ｌ）−Ｘ−Ａ
（ｍ）−Ｂ−Ｚ−Ｄ
（ｎ）−Ｙ−Ｅ
の１つを表し、
Ｒ５はハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、トリアルキルシリル、アルコキシカルボニル、−ＣＯＮＲ７Ｒ８、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｘは直接結合、酸素、−Ｓ（Ｏ）ｏ−、−ＮＲ６−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、オキシスルホニル（ＯＳＯ２）、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、アルキレンオキシ、オキシアルキレン、オキシアルキレンオキシ、−Ｓ（Ｏ）ｏ−アルキレン、シクロプロピレンまたはオキシラニレンを表し、
Ａは各々が場合によりリストＷ１からの基によりモノ−もしくはポリ置換されていてもよいフェニル、ナフチルまたはテトラヒドロナフチルを表すか、或いは窒素、酸素および硫黄よりなる群からの１個もしくはそれ以上のヘテロ原子を含有し且つ各場合とも場合によりリストＷ２からの基によりモノ−もしくはポリ置換されていてもよい５−〜１０−員の飽和もしくは不飽和ヘテロシクリルを表し、Ｂは場合によりリストＷ１からの基によりモノ−もしくはジ置換されていてもよいｐ−フェニレンを表し、
Ｚは−（ＣＨ２）ｎ−、酸素またはＳ（Ｏ）ｏ−を表し、
Ｄは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキルスルホニルまたはジアルキルアミノスルホニルを表し、
Ｙは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、ハロアルキレン、ハロアルケニレン、アルキレンオキシ、オキシアルキレン、オキシアルキレンオキシまたはチオアルキレンを表し、
Ｅは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキルスルホニルまたはジアルキルアミノスルホニルを表し、
Ｗ１はシアノ、ハロゲン、ホルミル、ニトロ、アルキル、トリアルキルシリル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、ハロアルケニルオキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＳＯ２ＮＲ７Ｒ８を表し、
Ｗ２はシアノ、ハロゲン、ホルミル、ニトロ、アルキル、トリアルキルシリル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルケニルオキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニルまたは−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６を表し、
ｎは０、１、２、３または４を表し、
ｏは０、１または２を表し、
Ｒ６は水素、アルキルまたはハロアルキルを表し、
Ｒ７およびＲ８は互いに独立して水素、アルキル、ハロアルキルを表すか、或いは一緒になってアルキレンまたはアルコキシアルキレンを表し、そして
Ｒ９はアルキル、ハロアルキル、場合により置換されていてもよいアリールもしくはアラルキルを表す］
のアミド類を希釈剤の存在下でＮ−脱アシル化剤と反応させることにより式（Ｉ）
【００１０】
【化２４】
2004509165.tif 000006
【００１１】
［式中、
Ａｒ１およびＡｒ２は以上で定義された通りである］
の２，５−ビスアリール−△１−ピロリン類を製造することができることが見いだされた。
【００１２】
式Ｉの２，５−ビスアリール−△１−ピロリン類を本発明に従う方法により円滑な反応で妨害性の副反応なしに製造することができることは非常に驚異的である。
【００１３】
本発明に従う方法は多くの利点を有する。それ故、本発明に従う方法は広範囲の出発物質を使用できるため、先行技術から既知である方法より明らかに優れている（ＷＯ ９８／２２４３８）。さらに、本発明に従う方法では、位置異性体が生成せず、式（Ｉ）の生成物をより高い収率で与える。先行技術に比べた別の利点は、本発明に従う方法は有機金属化合物の使用を省略するため標的化合物の工業的により好ましい達成が可能になることである。さらに、本発明に従う方法の使用は、多くの反応段階が０℃〜４０℃において、しばしば特に好ましくは室温において、進行するため実施のためのエネルギー必要量を減少しうるという利点も与える。
【００１４】
Ｎ−［１−（４−ブロモフェニル）−４−（２，６−ジフルオロフェニル）−４−オキソブチル］アセトアミドを出発物質として使用すると、本発明に従う方法の工程は以下の反応式により示すことができる。
【００１５】
【化２５】
2004509165.tif 000007
【００１６】
式（ＩＩ）は本発明に従う方法を行うための出発物質として必要なアミド類の一般的定義を与える。
【００１７】
上記の式（ＩＩ）の出発物質の式における好ましい置換基または範囲を以下で説明する。
【００１８】
Ａｒ１は好ましくは基
【００１９】
【化２６】
2004509165.tif 000008
【００２０】
を表す。
【００２１】
Ａｒ２は好ましくは基
【００２２】
【化２７】
2004509165.tif 000009
【００２３】
を表す。
【００２４】
ｍは好ましくは０、１、２または３を表す。
【００２５】
Ｒ１は好ましくはハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表す。
【００２６】
Ｒ２およびＲ３は互いに独立して好ましくは水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表す。
【００２７】
Ｒ４は好ましくは弗素、塩素、臭素、ヨウ素または以下の基
（ｌ）−Ｘ−Ａ
（ｍ）−Ｂ−Ｚ−Ｄ
（ｎ）−Ｙ−Ｅ
の１つを表す。
【００２８】
Ｒ５は好ましくはハロゲン、ヒドロキシル、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、トリ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）シリル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、−ＣＯＮＲ７Ｒ８、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表す。
【００２９】
Ｘは好ましくは直接結合、酸素、−Ｓ（Ｏ）ｏ−、−ＮＲ６−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、オキシスルホニル（ＯＳＯ２）、Ｃ１−Ｃ４−アルキレン、Ｃ２−Ｃ４−アルケニレン、Ｃ２−Ｃ４−アルキニレン、Ｃ１−Ｃ４−アルキレンオキシ、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレン、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレンオキシ、−Ｓ（Ｏ）ｏ−Ｃ１−Ｃ４−アルキレン、シクロプロピレンまたはオキシラニレンを表す。
【００３０】
Ａは好ましくは各々が場合によりリストＷ１からの基によりモノ−ないしテトラ置換されていてもよいフェニル、ナフチルまたはテトラヒドロナフチルを表すか、或いは１もしくは２個の芳香族環並びに０〜４個の窒素原子、０〜２個の酸素原子および０〜２個の硫黄原子から選択される１〜４個のヘテロ原子を含有し且つ各場合とも場合によりリストＷ２からの基によりモノ−ないしテトラ置換されていてもよい５−〜１０−員のヘテロシクリル（特にテトラゾリル、フリル、ベンゾフリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピロリル、インドリル、オキサゾリル、ベンゾキサゾリル、イソキサジル、イミダジル、ピラジル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダジル、トリアジニル、トリアジル、キノリニルまたはイソキノリニル）を表す。
【００３１】
Ｂは好ましくは場合によりリストＷ１からの基によりモノ−もしくはジ置換されていてもよいｐ−フェニレンを表す。
【００３２】
Ｚは好ましくは−（ＣＨ２）ｎ−、酸素または−Ｓ（Ｏ）ｏ−を表す。
【００３３】
Ｄは好ましくは水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルスルホニルまたはジ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）アミノスルホニルを表す。
【００３４】
Ｙは好ましくは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキレン、Ｃ２−Ｃ６−アルケニレン、Ｃ２−Ｃ６−アルキニレン、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキレン、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニレン、Ｃ１−Ｃ４−アルキレンオキシ、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレン、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレンオキシまたはＣ１−Ｃ４−チオアルキレンを表す。
【００３５】
Ｅは好ましくは水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルスルホニルまたはジ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）アミノスルホニルを表す。
【００３６】
Ｗ１は好ましくはシアノ、ハロゲン、ホルミル、ニトロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、トリ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）シリル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニルオキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＳＯ２ＮＲ７Ｒ８を表す。
【００３７】
Ｗ２は好ましくはシアノ、ハロゲン、ホルミル、ニトロ、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、トリ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）シリル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、Ｃ２−Ｃ６−ハロアルケニルオキシ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシカルボニルまたは−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６を表す。
【００３８】
ｎは好ましくは０、１、２、３または４を表す。
【００３９】
ｏは好ましくは０、１または２を表す。
【００４０】
Ｒ６は好ましくは水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキルまたはＣ１−Ｃ６−ハロアルキルを表す。
【００４１】
Ｒ７およびＲ８は互いに独立して好ましくは水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルを表すか、或いは一緒になってＣ２−Ｃ６−アルキレンまたはＣ１−Ｃ４−アルコキシ−Ｃ１−Ｃ４−アルキレン（例えばモルホリン）を表す。
【００４２】
Ｒ９は好ましくはＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−ハロアルキル、場合により置換されていてもよいフェニルもしくはアラルキルを表す］。
【００４３】
Ａｒ１は特に好ましくは基
【００４４】
【化２８】
2004509165.tif 000010
【００４５】
を表す。
【００４６】
Ａｒ２は特に好ましくは基
【００４７】
【化２９】
2004509165.tif 000011
【００４８】
を表す。
【００４９】
ｍは特に好ましくは０、１または２を表す。
【００５０】
Ｒ１は特に好ましくは弗素、塩素、臭素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキルもしくはＣ１−Ｃ６−アルコキシを表す。
【００５１】
Ｒ２およびＲ３は互いに独立して特に好ましくは水素、弗素、塩素、臭素、ヨウ素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキルもしくはＣ１−Ｃ６−アルコキシを表す。
【００５２】
Ｒ４は特に好ましくは塩素、臭素、ヨウ素または以下の基
（ｌ）−Ｘ−Ａ
（ｍ）−Ｂ−Ｚ−Ｄ
（ｎ）−Ｙ−Ｅ
の１つを表す。
【００５３】
Ｒ５は特に好ましくは弗素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシル、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキルもしくはＣ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシカルボニル、−ＣＯＮＲ７Ｒ８、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＮＲ７Ｒ８を表す。
【００５４】
Ｘは特に好ましくは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、オキシスルホニル（ＯＳＯ２）、Ｃ１−Ｃ４−アルキレン、Ｃ２−Ｃ４−アルケニレン、Ｃ２−Ｃ４−アルキニレン、Ｃ１−Ｃ４−アルキレンオキシ、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレン、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレンオキシ、−Ｓ（Ｏ）ｏ−Ｃ１−Ｃ４−アルキレン、シクロプロピレンまたはオキシラニレンを表す。
【００５５】
Ａは特に好ましくは各々が場合によりリストＷ１からの基によりモノ−ないしトリ置換されていてもよいフェニル、ナフチルまたはテトラヒドロナフチルを表すか、或いは１もしくは２個の芳香族環並びに０〜４個の窒素原子、０〜２個の酸素原子および０〜２個の硫黄原子から選択される１〜４個のヘテロ原子を含有し且つ各場合とも場合によりリストＷ２からの基によりモノ−ないしトリ置換されていてもよい５−〜１０−員のヘテロシクリル（特にテトラゾリル、フリル、ベンゾフリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピロリル、インドリル、オキサゾリル、ベンゾキサゾリル、イソキサジル、イミダジル、ピラジル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダジル、トリアジニル、トリアジル、キノリニルまたはイソキノリニル）を表す。
【００５６】
Ｂは特に好ましくは場合によりリストＷ１からの基によりモノ−もしくはジ置換されていてもよいｐ−フェニレンを表す。
【００５７】
Ｚは特に好ましくは−（ＣＨ２）ｎ−、酸素またはＳ（Ｏ）ｏ−を表す。
【００５８】
Ｄは特に好ましくは水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニルもしくはＣ１−Ｃ４−アルキルスルホニルを表すか、或いはジ（Ｃ１−Ｃ４−アルキル）アミノスルホニルを表す。
【００５９】
Ｙは特に好ましくは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、カルボニルオキシ、オキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキレン、Ｃ２−Ｃ６−アルケニレン、Ｃ２−Ｃ６−アルキニレン、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキレンもしくはＣ２−Ｃ６−アルケニレンを表すか、Ｃ１−Ｃ４−アルキレンオキシ、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレン、Ｃ１−Ｃ４−オキシアルキレンオキシまたはＣ１−Ｃ４−チオアルキレンを表す。
【００６０】
Ｅは特に好ましくは水素、Ｃ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニルもしくはＣ１−Ｃ６−アルキルスルホニルを表すか、或いはジ（Ｃ１−Ｃ６−アルキル）アミノスルホニルを表す。
【００６１】
Ｗ１は特に好ましくはシアノ、弗素、塩素、臭素、ヨウ素、ホルミル、ニトロ、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ２−Ｃ４−アルケニル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシもしくはＣ２−Ｃ６−アルケニルオキシを表すか、或いはＣ１−Ｃ４−アルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシカルボニル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６または−ＳＯ２ＮＲ７Ｒ８を表す。
【００６２】
Ｗ２は特に好ましくはシアノ、弗素、塩素、臭素、ホルミル、ニトロ、Ｃ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシ、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ４−アルキル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシもしくはＣ２−Ｃ６−アルケニルオキシを表すか、或いはＣ１−Ｃ４−アルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ４−アルコキシカルボニル、−Ｓ（Ｏ）ｏＲ６を表す。
【００６３】
ｎは特に好ましくは０、１、２または３を表す。
【００６４】
ｏは特に好ましくは０、１または２を表す。
【００６５】
Ｒ６は特に好ましくはＣ１−Ｃ６−アルキルまたは各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたメチルもしくはエチルを表す。
【００６６】
Ｒ７およびＲ８は互いに独立して特に好ましくはＣ１−Ｃ６−アルキル、各場合とも弗素−もしくは塩素−置換されたＣ１−Ｃ６−アルキルを表すか、或いは一緒になってＣ４−Ｃ５−アルキレンを表すか、或いは−（ＣＨ２）２−Ｏ−（ＣＨ２）２−を表す。
【００６７】
Ｒ９は特に好ましくはメチル、エチル、フェニルまたはベンジルを表す。
【００６８】
Ａｒ１は非常に特に好ましくは基
【００６９】
【化３０】
2004509165.tif 000012
【００７０】
を表す。
【００７１】
Ａｒ２は非常に特に好ましくは基
【００７２】
【化３１】
2004509165.tif 000013
【００７３】
を表す。
【００７４】
ｍは非常に特に好ましくは０、１または２を表す。
【００７５】
Ｒ１は非常に特に好ましくは弗素、塩素、臭素、メチルまたはメトキシを表す。
【００７６】
Ｒ２およびＲ３は互いに独立して非常に特に好ましくは水素、弗素、塩素、臭素、メチルまたはメトキシを表す。
【００７７】
Ｒ４は非常に特に好ましくは塩素、臭素または以下の基
（ｌ）−Ｘ−Ａ
（ｍ）−Ｂ−Ｚ−Ｄ
（ｎ）−Ｙ−Ｅ
の１つを表す。
【００７８】
Ｒ５は非常に特に好ましくは弗素、塩素、臭素、ヒドロキシル、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオロメチル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、−ＣＯ２ＣＨ３または−ＳＯ２ＣＦ３を表す。
【００７９】
Ｘは非常に特に好ましくは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−（ＥもしくはＺ）、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−（ＣＨ２）２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＨ２Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）ｏ−ＣＨ２−または−Ｓ（Ｏ）ｏ−（ＣＨ２）２−を表す。
【００８０】
Ａは非常に特に好ましくは場合によりリストＷ１からの基によりモノ−もしくはジ置換されていてもよいフェニルを表すか、或いは各々が場合によりリストＷ２からの基によりモノ−もしくはジ置換されていてもよいテトラゾリル、フリル、ベンゾフリル、チエニル、ベンゾチエニル、ピロリル、インドリル、オキサゾリル、ベンゾキサゾリル、イソキサジル、イミダジル、ピラジル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピリダジル、トリアジニル、トリアジルを表す。
【００８１】
Ｂは非常に特に好ましくは場合によりリストＷ１からの基によりモノ置換されていてもよいｐ−フェニレンを表す。
【００８２】
Ｚは非常に特に好ましくは酸素、硫黄または−ＳＯ２−を表す。
【００８３】
Ｄは非常に特に好ましくは水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２−プロペニル、ブテニル、プロパルギル、ブチニル、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＣｌＦ２、−ＣＦ２ＣＨＦＣｌ、−ＣＦ２ＣＨ２Ｆ、−ＣＦ２ＣＣｌ３、−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＣＨ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＳＯ２ＣＦ３、−ＳＯ２（ＣＦ２）３ＣＦ３または−ＳＯ２ＮＭｅ２を表す。
【００８４】
Ｙは非常に特に好ましくは直接結合、酸素、硫黄、−ＳＯ２−、カルボニル、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−（ＥもしくはＺ）、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２Ｏ−、−（ＣＨ２）２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＨ２Ｏ−、−Ｏ（ＣＨ２）２Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ２−または−Ｓ（ＣＨ２）２−を表す。
【００８５】
Ｅは非常に特に好ましくは水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２−プロペニル、ブテニル、プロパルギル、ブチニル、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＣｌＦ２、−ＣＦ２ＣＨＦＣｌ、−ＣＦ２ＣＨ２Ｆ、−ＣＦ２ＣＣｌ３、−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＣＨ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＳＯ２ＣＦ３、−ＳＯ２（ＣＦ２）３ＣＦ３または−ＳＯ２ＮＭｅ２を表す。
【００８６】
Ｗ１は非常に特に好ましくはシアノ、弗素、塩素、臭素、ホルミル、メチル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、トリフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、−ＣＦ３、−ＣＨＦ２、−ＣＣｌＦ２、−ＣＦ２ＣＨＦＣｌ、−ＣＦ２ＣＨ２Ｆ、−ＣＦ２ＣＣｌ３、−ＣＨ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＣＨ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、−ＣＦ２ＣＨＦＣＦ３、−ＯＣＨ２ＣＦ３、−ＳＣＦ３、−ＳＣＨＦ２、−ＳＯＣＨＦ２、−ＳＯ２ＣＨＦ２、−ＳＯＣＦ３、−ＳＯ２ＣＦ３または−ＳＯ２ＮＭｅ２を表す。
【００８７】
Ｗ２は非常に特に好ましくは弗素、塩素、臭素、メチル、イソプロポキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、−ＣＯ２ＣＨ３または−ＳＯ２ＣＦ３を表す。
【００８８】
ｏは非常に特に好ましくは０、１または２を表す。
【００８９】
Ｒ９は非常に特に好ましくはメチル、フェニルまたはベンジルを表す。
【００９０】
本発明に従う方法用の特に好ましい出発物質は、式
【００９１】
【化３２】
2004509165.tif 000014
【００９２】
の化合物である。
【００９３】
上記の定義において、オキシアルキレンおよびチオアルキレンは、それぞれ、−Ｏ−アルキル−および−Ｓ−アルキルを表し、ここで例えばＡｒ２に対する結合は、それぞれ、酸素および硫黄原子を介しており、そして−Ｘ−Ａ中のＡのように別の置換基がアルキル基に結合されていてもよい。アルキレンオキシおよびアルキレンチオは、それぞれ、−アルキル−Ｏ−および−アルキル−Ｓ−を表し、ここで例えばＡｒ２に対する結合は各場合ともアルキル基を介しておりそして、適宜、例えば−Ｘ−Ａ中のＡのように別の置換基が、それぞれ、酸素および硫黄原子に結合されていてもよい。オキシアルキレンオキシは−Ｏ−アルキル−Ｏを表す。
【００９４】
この明細書では、ヘテロシクリルは１個もしくはそれ以上の炭素が１個もしくはそれ以上のヘテロ原子により置換されている環式炭化水素を表す。好ましいヘテロ原子はＯ、Ｓ、Ｎ、Ｐ、特にＯ、ＳおよびＮである。
【００９５】
それぞれ、好ましい、特に好ましいおよび非常に特に好ましいとして挙げられた置換基を有する化合物が好ましく、特に好ましく、そして非常に特に好ましい。
【００９６】
飽和もしくは不飽和炭化水素基、例えばアルキルまたはアルケニルは、例えばアルコキシ中のようにヘテロ原子との組み合わせも含め、各場合とも可能な限り直鎖状もしくは分枝鎖状でありうる。
【００９７】
場合により置換されていてもよい基はモノ−もしくはポリ置換されていてもよく、ここでポリ置換の場合には置換基は同一もしくは相異なりうる。同じ指数を有する複数の基、例えば、ｍ＞１の場合のｍ個の基Ｒ５は同一もしくは相異なりうる。
【００９８】
ハロゲン−置換された基、例えば、ハロアルキル、はモノ−もしくはポリハロゲン化されていてよい。ポリハロゲン化の場合には、ハロゲン原子は同一もしくは相異なりうる。ここで、ハロゲンは弗素、塩素、臭素またはヨウ素、特に弗素または塩素を表す。
【００９９】
しかしながら、上記の一般的なもしくは好ましい基の定義または説明は所望するなら互いに、すなわち各々の範囲および好ましい範囲の間で、組み合わせることができる。定義は最終生成物並びに対応して前駆体および中間体の両方に適用される。
【０１００】
本発明に従う方法を行うための出発物質として必要な式（ＩＩ）のアミド類の一部は既知である。式（ＩＩ−ａ）
【０１０１】
【化３３】
2004509165.tif 000015
【０１０２】
［式中、
Ｒ１−１は弗素または塩素を表し、
Ｒ２−１は水素、弗素または塩素を表し、そして
Ａｒ２およびＲ９は以上で定義された通りである］
のアミド類は新規である。
【０１０３】
式（ＩＩ−ａ）のアミド類は、
ａ）式（ＩＩＩ−ａ）
【０１０４】
【化３４】
2004509165.tif 000016
【０１０５】
［式中、Ｒ１−１、Ｒ２−１およびＡｒ２は以上で定義された通りである］
のシクロプロパン類を式（ＩＶ）
2004509165.tif 000017
［式中、Ｒ９は以上で定義された通りである］
のニトリル類およびプロトン酸またはテトラフルオロホウ酸トリメチルシリルと反応させることにより製造することができる。
【０１０６】
式（ＩＩ）のアミド類も同様にして製造することができる。このためには、式（ＩＩＩ）
【０１０７】
【化３５】
2004509165.tif 000018
【０１０８】
［式中、Ａｒ１およびＡｒ２は以上で定義された通りである］
のシクロプロパン類を方法（ａ）に従い反応させる。
【０１０９】
式（ＩＩＩ−ａ）は本発明に従う方法（ａ）を行うための出発物質として必要なシクロプロパン類の一般的定義を与える。この式において、Ａｒ２は好ましくは、特に好ましくはそして非常に特に好ましくは、式（ＩＩ）の出発物質の記述に関してこれらの基に対してそれぞれ好ましい、特に好ましいそして非常に特に好ましいとしてすでに挙げられた意味を有する。Ｒ１−１は好ましくは弗素または塩素を表し、Ｒ２−１は好ましくは水素、弗素または塩素を表す。
【０１１０】
式（ＩＶ）は本発明に従う方法（ａ）を行うための出発物質として必要なニトリル類の一般的定義を与える。この式において、Ｒ９は好ましくは、特に好ましくはそして非常に特に好ましくは、式（ＩＩ）の出発物質の記述に関してこれらの基に対してそれぞれ好ましい、特に好ましいそして非常に特に好ましいとしてすでに挙げられた意味を有する。特に好ましくは、Ｒ９はメチルを表す。
【０１１１】
式（ＩＶ）のニトリル類は既知である。
【０１１２】
本発明に従う方法（ａ）を行うために適するプロトン酸類はこの目的のために一般的に使用される全ての酸類である。硫酸の使用が好ましい。
【０１１３】
本発明に従う方法（ａ）を行うために適するテトラフルオロホウ酸トリメチルシリルは式（Ｖ）
2004509165.tif 000019
の化合物である。
【０１１４】
式（Ｖ）の試薬は既知である（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ． １９８４， ２５， ５７７−５７８ 参照）。
【０１１５】
本発明に従う方法（ａ）を行うための反応温度は比較的広い範囲内で変えることができる。一般的には、この方法は−２０℃〜＋６０℃の間の、好ましくは−１０℃〜３０℃の間の、温度において行われる。
【０１１６】
本発明に従う方法（ａ）を行うための出発物質として必要な式（ＩＩＩ）のシクロプロパン類の一部は既知である。式（ＩＩＩ−ａ）
【０１１７】
【化３６】
2004509165.tif 000020
【０１１８】
［式中、
Ｒ１−１、Ｒ２−１およびＡｒ２は以上で定義された通りである］
のシクロプロパン類は新規である。
【０１１９】
式（ＩＩＩ−ａ）のシクロプロパン類は、
ｂ）式（ＶＩ）
【０１２０】
【化３７】
2004509165.tif 000021
【０１２１】
［式中、Ｒ１−１、Ｒ２−１およびＡｒ２は以上で定義された通りである］
のカルコン類を塩基の存在下でそして、適宜、希釈剤の存在下でトリアルキルスルホキソニウムイリドと反応させる
ことにより製造することができる。
【０１２２】
式（ＩＩＩ）のシクロプロパン類も同様にして製造することができる。
【０１２３】
式（ＶＩ）は本発明に従う方法（ｂ）を行うための出発物質として必要なカルコン類の一般的定義を与える。この式において、Ａｒ２は好ましくは、特に好ましくはそして非常に特に好ましくは、式（ＩＩ）の出発物質の記述に関してこれらの基に対してそれぞれ好ましい、特に好ましいそして非常に特に好ましいとしてすでに挙げられた意味を有する。Ｒ１−１は好ましくは弗素または塩素を表し、Ｒ２−１は好ましくは水素、弗素または塩素を表す。
【０１２４】
本発明に従う方法（ｂ）を行うために好ましく使用されるトリアルキルスルホキソニウムイリドはトリメチルスルホキソニウムイリドである。
【０１２５】
本発明に従う方法（ｂ）を行うために適する塩基は、アルカリ金属水素化物、アルカリ金属アルコキシド類およびアルカリ金属水酸化物である。水素化ナトリウム、カリウム２−メチル−２−プロポキシド、ナトリウムメトキシドまたは水素化カリウムの使用が好ましく、水素化ナトリウムが特に好ましい。
【０１２６】
本発明に従う方法（ｂ）を行うために適する希釈剤はジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、トルエンまたはジエチレングリコール、並びにこれらの混合物である。ジメチルスルホキシドの使用が好ましい（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ １９９８， ９， １０３５ 参照）。
【０１２７】
本発明に従う方法（ｂ）を行うための反応温度は比較的広い範囲内で変えることができる。一般的には、この方法は−２０℃〜＋１２０℃の間の、好ましくは０℃〜６０℃の間の、特に好ましくは２０℃〜４０℃の間の温度において行われる。
【０１２８】
本発明に従う方法（ｂ）を行うために出発物質として必要な式（ＶＩ）のカルコン類は既知である。
【０１２９】
本発明に従う方法を行う場合には、プロトン酸（Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ． １９７８， ４３， ４５９３ 参照）、無機塩基（Ｊ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． １９６４， ４１４２ 参照）、ヒドラジン類（Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ． １９７８， ４３， ３７１１ 参照）または酵素を用いる生物変換（ｂｉｏｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎ）（Ａｐｐｌ． Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌ． Ｂｉｏｔｅｃｈｎｏｌ １９９７， ４７， ６５０ 参照）が式（Ｉ）のピロリン類への転化中に式（ＩＩ）のアミド類をＮ−脱アシル化するために使用される。アミド類を脱アシル化するための他の従来方法は Ｔ． Ｗ． Ｇｒｅｅｎｅ， Ｐ．Ｇ．Ｍ． Ｗｕｔｓ， Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ （Ｅｄ． ３， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ， Ｗｉｌｅｙ １９９９， ｐ．５５３−５５５） に記載されている。
【０１３０】
好ましいＮ−脱アシル化剤はプロトン酸または有機酸、特に好ましくは水性塩酸、水性臭化水素酸またはトリフルオロ酢酸、非常に特に好ましくは水性塩酸、並びに好ましくは無機塩基、特に好ましくは水酸化バリウム［Ｂａ（ＯＨ）２］および水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、並びに好ましくは生物変換、特に好ましくはアシラーゼ類を用いるものである。
【０１３１】
生転換物質によるＮ−脱アシル化は２種のエナンチオマー類の一方が過剰な式（Ｉ）の化合物を与える。
【０１３２】
本発明に従う方法を行うために適する希釈剤は水またはアルコール類およびこれらの混合物である。水、メタノールもしくはエタノール、またはこれらの３種の希釈剤の２種もしくは３種の混合物の使用が好ましい。
【０１３３】
本発明に従う方法を行うための反応温度は比較的広い範囲内で変えることができる。一般的には、この方法は２０℃〜２００℃の間の、好ましくは６０℃〜１４０℃の間の、特に好ましくは８０℃〜１２０℃の間の、温度において行われる。Ｎ−脱アシル化がアシラーゼ類を用いて酵素により行われる場合には、この方法は一般的には２０℃〜６０℃の間、好ましくは２０℃〜４０℃の間で行われる。
【０１３４】
本発明に従う方法並びに方法（ａ）および（ｂ）に従う方法は一般的には各々大気圧において行われる。しかしながら、各場合とも高められたまたは減じられた圧力で行うことも可能である。
【０１３５】
本発明に従う方法を行う場合には、１容量部の式（ＩＩ）のアミドの１０％強度（ｗ／ｖ）アルコール溶液当たり一般的には２容量部のプロトン酸が使用される。しかしながら、反応成分の別の比を使用することも可能である。処理は従来方法により行われる。一般的には、反応混合物を水酸化ナトリウム水溶液で中和しそして次に酢酸エチルで抽出し、そして有機相を乾燥し、濾過しそして濃縮する。
【０１３６】
本発明に従う方法により製造できる式（Ｉ）の２，５−ビスアリール−△１−ピロリン類の一部は既知である。有害生物を防除するためのそれらの使用も既知である。それらは、農業において、林業において、貯蔵製品の保護および材料保護において、並びに衛生分野において遭遇する昆虫、蛛形綱および線虫を防除するために特に適する（ＷＯ ００／２１９５８、ＷＯ ９９／５９９６８、ＷＯ ９９／５９９６７およびＷＯ ９８／２２４３８参照）。
【０１３７】
式（Ｉ−ａ）
【０１３８】
【化３８】
2004509165.tif 000022
【０１３９】
［式中、
Ａｒ１は以上で定義された通りであり、
Ａｒ２は基
【０１４０】
【化３９】
2004509165.tif 000023
【０１４１】
を表し、
Ｒ４およびｍは以上で定義された通りであり、
Ｒ５−１はヒドロキシル、トリアルキルシリル、アルコキシカルボニル、−ＣＯＮＲ７Ｒ８または−ＮＲ７Ｒ８を表し、そして
Ｒ７およびＲ８は以上で定義された通りである］
の２，５−ビスアリール−△１−ピロリン類は新規である。
【０１４２】
式（Ｉ−ａ）の化合物は非常に良好な殺昆虫性質を有しておりそして望ましくない有害生物、例えば昆虫、を防除するために栽培作物保護および材料保護の両方において使用することができる。それらは、農業において、林業において、貯蔵製品の保護および材料保護において、並びに衛生分野において遭遇する昆虫、蛛形綱および線虫を防除するために特に適する（ＷＯ ００／２１９５８、ＷＯ ９９／５９９６８、ＷＯ ９９／５９９６７およびＷＯ ９８／２２４３８参照）。
【０１４３】
本発明に従う方法の実施を以下の実施例により説明する。
製造実施例
実施例１
【０１４４】
【化４０】
2004509165.tif 000024
【０１４５】
段階１
【０１４６】
【化４１】
2004509165.tif 000025
【０１４７】
２３．４０ｇの２，６−ジフルオロアセトフェノン（０．１５モル）、２７．７５ｇの４−ブロモベンズアルデヒド（０．１５モル）、６０ｍｌのメタノールおよび１５０ｍｌの水を最初に三首フラスコ中に充填する。室温において、４５ｍｌの水酸化ナトリウム水溶液（１０％強度水溶液）を滴下し、そして混合物を次に室温において一晩にわたり撹拌する。反応混合物を５℃に冷却し、そして沈澱を濾別しそして１００ｍｌの冷たいメタノール／水（１：３）で洗浄する。
【０１４８】
これが４４．７７ｇ（理論値の９２％）の融点７１℃の（２Ｅ）−３−（４−ブロモフェニル）−１−（２，６−ジフルオロフェニル）−２−プロペン−１−オンを与える。
ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ（ｐＨ２．３）＝３．９８（９８％純度）
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（Ｄ６−ＤＭＳＯ）：δ＝７．２５−７．３５（３Ｈ，ｍ）、７．５４（１Ｈ，ｄ）、７．６２−７．７２（３Ｈ，ｍ）、７．７６（２Ｈ，ｄ）ｐｐｍ。
段階２
【０１４９】
【化４２】
2004509165.tif 000026
【０１５０】
アルゴンの雰囲気下で、４．５０ｇの水素化ナトリウム（油中８０％強度懸濁液、０．１５モル）を最初に１５０ｍｌのＤＭＳＯ中に充填する。３３．０ｇのトリメチルスルホキソニウムヨーダイド（０．１５モル）を一度に少量ずつ加える。室温における２時間の撹拌後に、４４．４０ｇの化合物（ＶＩ−１）（０．１３７モル）の２００ｍｌのＤＭＳＯ中溶液を滴下し、そして混合物をさらに室温において一晩にわたり撹拌する。反応混合物を２リットルの水中に撹拌添加し、そして各場合とも４００ｍｌの酢酸エチルで２回抽出する。一緒にした有機相を２００ｍｌの水で１回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過しそして減圧下で濃縮する。残渣をイソプロパノールと共に粉砕しそして吸引濾別する。
【０１５１】
これが３２．３６ｇ（理論値の６４％）の融点６４〜６５℃の［２−（４−ブロモフェニル）シクロプロピル］（２，６−ジフルオロフェニル）メタノンを与える。
ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ（ｐＨ２．３）＝４．２４（９７％純度）
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．５７（１Ｈ，ｍ）、１．９７（１Ｈ，ｍ）、２．５９（１Ｈ，ｍ）、２．７７（１Ｈ，ｍ）、６．９５（２Ｈ，ｍ）、７．０６（２Ｈ，ｄ）、７．４０（３Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
段階３
【０１５２】
【化４３】
2004509165.tif 000027
【０１５３】
０℃において、１００ｍｌのアセトニトリルを３９．２ｇの濃硫酸（９８％強度）に滴下する。混合物を６０分間にわたり撹拌し、そして３８０ｍｌのアセトニトリル中の３３．７ｇの化合物（ＩＶ−１）（０．１モル）を次に−１０℃において滴下する。反応混合物を室温に自然に暖めそしてこの温度においてさらに１２時間にわたり撹拌する。反応混合物を氷／水酸化アンモニウム溶液（２５％強度）上に注ぎ、そして沈澱を吸引濾別しそして空気中で乾燥する。
【０１５４】
これが２４．３５ｇ（理論値の５６％）のＮ−［１−（４−ブロモフェニル）−４−（２，６−ジフルオロフェニル）−４−オキソブチル］アセトアミドを融点１６２〜１６３℃の固体物質状で与える。
ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ（ｐＨ２．３）＝２．６７（９１．８％純度）
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤ３ＣＮ）：δ＝１．８６（３Ｈ，ｓ）、２．０５（２Ｈ，ｍ）、２．９１（２Ｈ，ｍ）、４．８４（１Ｈ，ｍ）、６．７８（１Ｈ，ｂｒ）、７．０４（２Ｈ，ｍ）、７．２３（２Ｈ，ｄ）、７．４９（３Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
段階４
【０１５５】
【化４４】
2004509165.tif 000028
【０１５６】
０．５７ｇ（１．４ミリモル）の化合物（ＩＩ−１）を５ｍｌのエタノール中に懸濁させる。１０ｍｌの６Ｎ塩酸を加え、そして反応混合物を１００℃（油浴温度）に４０時間にわたり加熱する。冷却後に、反応混合物を水酸化ナトリウム水溶液を用いて中和しそして次に酢酸エチルで抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過しそして減圧下で濃縮する。
【０１５７】
これが０．３０ｇ（理論値の６４％）の２−（４−ブロモフェニル）−５−（２，６−ジフルオロフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピロールを与える。
ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ（ｐＨ２．３）＝２．７４（９０％純度）。
ＬＣ／ＭＳ：３３６／３３８
実施例２
【０１５８】
【化４５】
2004509165.tif 000029
【０１５９】
段階１
【０１６０】
【化４６】
2004509165.tif 000030
【０１６１】
０℃において、２５ｍｌのアセトニトリルを９．８１ｇの濃硫酸に滴下する。混合物を３０分間にわたり撹拌し、そして９０ｍｌのアセトニトリル中の７．３２ｇの［２−（４−クロロフェニル）−シクロプロピル］（２，６−ジフルオロフェニル）メタノン（ＩＶ−２）（２５ミリモル）を次に−１０℃において滴下する。反応混合物を室温に自然に暖めそしてこの温度においてさらに１６時間にわたり撹拌する。反応混合物を氷／４５％強度水酸化ナトリウム水溶液上に注ぎ、そして沈澱を吸引濾別する。
【０１６２】
これが４．７７ｇ（理論値の５０％）のＮ−［１−（４−クロロフェニル）−４−（２，６−ジフルオロフェニル）−４−オキソブチル］アセトアミドを固体状で与える。
ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ（ｐＨ２．３）＝２．５９（９１．８％純度）
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤ３ＣＮ）：δ＝１．８６（３Ｈ，ｓ）、２．０８（２Ｈ，ｍ）、２．９１（２Ｈ，ｍ）、４．８６（１Ｈ，ｍ）、６．８０（１Ｈ，ｂｒ）、７．０４（２Ｈ，ｍ）、７．３０（２Ｈ，ｄ）、７．３２（２Ｈ，ｄ）、７．４８（３Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
【０１６３】
濾液を各場合とも２５０ｍｌの酢酸エチルで２回抽出する。一緒にした有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過しそして減圧下で濃縮する。この第二バッチの生成物をｎ−ヘキサン／酢酸エチル（３：１）と共に粉砕し、そして沈澱を吸引濾別する。
【０１６４】
これがさらに２．１４ｇ（理論値の１８％）のＮ−［１−（４−クロロフェニル）−４−（２，６−ジフルオロフェニル）−４−オキソブチル］アセトアミドを固体状で与える。
ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ（ｐＨ２．３）＝２．５９（６８．７％純度）
段階２
【０１６５】
【化４７】
2004509165.tif 000031
【０１６６】
４．５０ｇ（１２．８ミリモル）の化合物（ＩＩ−２）を５０ｍｌのエタノール中に懸濁させる。１００ｍｌの６Ｎ塩酸を加え、そして反応混合物を１００℃（油浴温度）に４０時間にわたり加熱する。冷却後に、反応混合物を氷冷水酸化ナトリウム水溶液を用いてｐＨ１１に調節しそして次に酢酸エチル（２×３００ｍｌ）で抽出する。一緒にした有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過しそして減圧下で濃縮する。
【０１６７】
これが３．３５ｇ（理論値の９０％）の２−（４−クロロフェニル）−５−（２，６−ジフルオロフェニル）−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピロールを与える。
ＨＰＬＣ：ｌｏｇＰ（ｐＨ２．３）＝２．５９（９６．０％純度）
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＣＤ３ＣＮ）：δ＝１．７７（１Ｈ，ｍ）、２．６０（１Ｈ，ｍ）、３．０３（２Ｈ，ｍ）、５．２７（１Ｈ，ｍ）、７．０７（２Ｈ，ｍ）、７．３３（２Ｈ，ｄ）、７．３６（２Ｈ，ｄ）、７．４６（３Ｈ，ｍ）ｐｐｍ。
【０１６８】
式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）および（ＶＩ）の化合物が上記の工程と同様にして製造された：
【０１６９】
【表１】
2004509165.tif 000032
【０１７０】
【表２】
2004509165.tif 000033
【０１７１】
【表３】
2004509165.tif 000034
【０１７２】
【表４】
2004509165.tif 000035
【０１７３】
上記の表および製造実施例に示されたｌｏｇＰ値は ＥＥＣ Ｄｉｒｅｃｔｉｖｅ ７９／８３１ Ａｎｎｅｘ Ｖ．Ａ８ に従いＨＰＬＣ（高性能液体クロマトグラフィー）により逆相カラム（Ｃ１８）上で測定される。温度：４３℃。
【０１７４】
測定は酸性範囲内でｐＨ２．３において移動相である０．１％水性燐酸およびアセトニトリル；１０％アセトニトリルから９０％アセトニトリルへの線状勾配を用いて行われる。
【０１７５】
目盛り付けは、既知のｌｏｇＰ値（２種の連続するアルカノン類の間の線状内挿法を用いる保持時間によるｌｏｇＰの測定）を有する非分枝鎖状アルカン−２−オン類（炭素数３〜１６）を用いて行われる。
【０１７６】
ラムダ最大値は２００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線スペクトルを用いてクロマトグラフィー信号の最大値で測定された。
【国際公開パンフレット】
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2004509165.tif 000101
2004509165.tif 000102
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004509165.tif 000103
【国際調査報告】
2004509165.tif 000104
2004509165.tif 000105
2004509165.tif 000106
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