(57)【要約】涙流を増大させた有孔コンタクトレンズを提供する。有孔コンタクトレンズは、眼の表面に隣接して配置されるように適合された、内面及び外面を有するレンズ本体を含む。レンズ本体は、それを貫通して延びる第一の複数の孔を有し、これらの孔は、涙液流を装用者の眼の表面と前記コンタクトレンズの内面との間の第一の位置からコンタクトレンズの外面に隣接する第二の位置に向けるように偏向している。レンズ本体はまた、それを貫通して延びる第二の複数の孔を有し、これらの孔は、涙液流をコンタクトレンズの外面に隣接する第三の位置から眼の表面と前記コンタクトレンズの内面との間の第四の位置に向けるように偏向している。
2004510199.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有孔コンタクトレンズであって、
眼の表面に隣接して配置されるように適合され、内面及び外面を有するレンズ本体を含み、
前記レンズ本体が、それを貫通して延びる第一の複数の孔を有し、前記第一の複数の孔が、涙液流を前記眼の表面と前記コンタクトレンズの内面との間の第一の位置からコンタクトレンズの外面に隣接する第二の位置に向けるように偏向しており、
前記レンズ本体がまた、それを貫通して延びる第二の複数の孔を有し、前記第二の複数の孔が、涙液流をコンタクトレンズの外面に隣接する第三の位置から眼の表面と前記コンタクトレンズの内面との間の第四の位置に向けるように偏向している有孔コンタクトレンズ。
【請求項２】
前記孔が、前記指向性流れの偏向を提供するための先細りした断面を有する、請求項１記載の有孔コンタクトレンズ。
【請求項３】
前記孔が、コンタクトレンズ本体の表面とで垂直にならない角度で配置されて、前記指向性流れの偏向を提供する、請求項１記載の有孔コンタクトレンズ。
【請求項４】
前記有孔コンタクトレンズが装用者の眼の中に載置されると、前記第一の複数の孔が前記眼の辺縁区域上に位置する、請求項１記載の有孔コンタクトレンズ。
【請求項５】
前記有孔コンタクトレンズが装用者の眼の中に載置されると、前記第二の複数の孔が前記眼の中央区域上に位置する、請求項１記載の有孔コンタクトレンズ。
【請求項６】
前記有孔コンタクトレンズが装用者の眼の中に載置されると、前記第一の複数の孔が前記眼の辺縁区域上に位置し、前記第二の複数の孔が前記眼の中央周囲区域上に位置する、請求項１記載の有孔コンタクトレンズ。
【請求項７】
前記第一及び第二の複数の孔が同心環状に配列されている、請求項１記載の有孔コンタクトレンズ。
【請求項８】
前記孔が、レーザミリング及びイオンビームミリングからなる群より選択される手段によって形成されたものである、請求項１記載の有孔コンタクトレンズ。
【請求項９】
前記孔が０．１ミクロン〜２００ミクロンの範囲の大きさを有する、請求項１記載の有孔コンタクトレンズ。
【請求項１０】
前記孔が、親水性を高め、閉塞を防ぐため、高分子電解質被膜で被覆されている、請求項１記載の有孔コンタクトレンズ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、コンタクトレンズに関し、特に、コンタクトレンズを通過して装用者の角膜表面に達する酸素及び栄養素を含んだ涙の流れを増す方法に関する。
【０００２】
従来技術の説明
ハードコンタクトレンズは、長寿命、生適合性、強度、耐久性、湿潤性及び一部のタイプの乱視を補正する能力という利点を有する。しかし、従来のハードコンタクトレンズはまた、角膜表面への酸素及び栄養素の流れを減らす障壁として働き、それが浮腫及び他の望ましくない影響を招くおそれがある。ハードコンタクトレンズよりも高い酸素透過性を有し、それにより、浮腫及び同様な影響の発生を減らすソフトコンタクトレンズが開発された。しかし、酸素透過性のコンタクトレンズでさえ、酸素及び栄養素を含んだ涙の角膜への流れを減らす。この涙流の減少が、角膜細胞からの代謝産物のレンズの背面への蓄積、レンズ背面における細菌増殖及び一般的な装用不快感をもたらすことがある。
【０００３】
これらの問題を部分的に緩和するために以前に開示された一つの方法は、レンズを通過して眼の表面に達する多量の涙流及び溶解した酸素の移送を可能にするため、レンズを完全に貫通する穴を設けることによってコンタクトレンズを穿孔する方法であった。コンタクトレンズの穿孔のために種々の技術が提案されている。たとえば、あるシステム（米国特許第３，２２７，８５５号を参照）は、スパークを使用して局所的に焼いてレンズに小さな穴を空ける。他のもの（米国特許第３，８３３，７８６号及び米国特許第３，９７１，９１０号を参照）は、集束ビーム光線を使用してレンズを焼いて穴を設けるレーザベースのシステムを記載している。さらに他のシステムは、ドリルを使用してレンズを機械的に穿孔する（米国特許第６，１０１，２１９号を参照）。
【０００４】
従来の有孔コンタクトレンズは、酸素及び／又は涙流の両方向拡散を提供することを意図した穴を有する。しかし、これらのコンタクトレンズは、その受動的で非指向性の性質により、最適に満たない涙流しか有さず、それが潜在的に角膜の特定区域への涙及び酸素流を減らすおそれがある。これらの孔はまた、閉塞を起こして涙流を損なわせる傾向がある。角膜の健康を改善し、角膜細胞の酸素又は栄養素窮乏による角膜損傷の危険を減らすために、改善された涙流を有する有孔コンタクトレンズの必要性が明らかにある。
【０００５】
したがって、本発明の目的は、角膜表面への酸素及び涙流を増大させた有孔コンタクトレンズを提供することである。
【０００６】
本発明のもう一つの目的は、涙流を所望のパターンに向けて角膜への涙流を最適化する有孔コンタクトレンズを提供することである。
【０００７】
本発明のさらに別の目的は、増大した涙流特性を有する有孔コンタクトレンズを製造する方法を提供することである。
【０００８】
以下、本発明の詳細な開示を読むことにより、本発明の他の目的、態様及び利点が当業者に明らかになるであろう。
【０００９】
発明の簡単な説明
上記目的は、本発明にしたがって、涙流を増大させた有孔コンタクトレンズを提供することによって達成される。したがって、本発明は、有孔コンタクトレンズであって、
眼の表面に隣接して配置されるように適合され、内面及び外面を有するレンズ本体を含み、
前記レンズ本体が、それを貫通して延びる第一の複数の孔を有し、前記第一の複数の孔が、涙液流を前記眼の表面と前記コンタクトレンズの内面との間の第一の位置からコンタクトレンズの外面に隣接する第二の位置に向けるように偏向しており、
前記レンズ本体がまた、それを貫通して延びる第二の複数の孔を有し、前記第二の複数の孔が、涙液流をコンタクトレンズの外面に隣接する第三の位置から眼の表面と前記コンタクトレンズの内面との間の第四の位置に向けるように偏向している有孔コンタクトレンズに関する。
【００１０】
以下、本発明を実施するための構造及び設計をその他の特徴とともに記載する。本発明は、以下の詳細な説明を読み、その一部を構成する、本発明の一例が示されている添付図面を参照することにより、より容易に理解されよう。
【００１１】
好ましい実施態様の詳細な説明
図面をより詳細に参照して、本発明を詳細に説明する。図１に示すように、本発明にしたがってレンズ装用者の眼の角膜表面への涙流を増すために、好ましい実施例の有孔コンタクトレンズＡが提示されている。有孔コンタクトレンズＡは、効果的な位置でその中を貫通して延びる複数の孔１２を有するレンズ本体１０を含む。孔１２のうち、内向きに偏向したサブセット１４は、装用者によって装用されたとき眼の涙生成領域２２の上に位置し、涙流を眼の表面に向けて内向きに与えるように偏向している。孔１２のうち、外向きに偏向したサブセット１６は、眼のより中央寄りの非涙生成領域２４に隣接して位置し、涙流を眼の表面から外向きに与えるように偏向している。これらの内向き及び外向きの流れ偏向した孔の組み合わせが、図１に示すような正味の涙流を設定することを可能にする。
【００１２】
例示のために、レンズ本体１０は、中央領域２４、涙領域２２及び周辺領域２６に区別することができる。レンズ本体１０はまた、装用されると装用者の眼３２の角膜表面に隣接して位置する内面２８と、装用されると装用者の瞼３４及び涙管３６に隣接して位置する外面３０とを有する。レンズ本体１０の全体寸法は、ハード又はソフトコンタクトレンズにとって通常の範囲内である。レンズ本体１０の外径は、代表的には約５〜２０ミリメートルであり、特殊な場合には他の直径も可能であり、より代表的には約１０ミリメートルである。レンズ本体１０は、横方向又は断面の厚さが一般に約０．０５ミリメートル〜１．０ミリメートルであり、より好ましくは０．０５〜０．５ミリメートルの範囲である。
【００１３】
レンズ本体１０は、非球面又は球面湾曲コンタクトレンズを形成することができる公知の機械加工又は成形法のいずれかによって製造することができる。レンズ本体１０を製造するのに使用される材料は、酸素透過性ハード、セミハード及びソフトヒドロゲルの角膜コンタクトレンズに使用される従来のポリマーのいずれであることもできる。
【００１４】
好ましい実施態様によると、涙領域２２が、孔１２の内向きサブセット１４に好ましい位置である。１０００個もの孔を０．１μｍから２００μｍまでの異なるサイズで使用することができる。好ましい実施態様では、孔は、４０μｍ〜１００μｍの範囲の大きさを有し、涙液の通過を可能とするのに十分な大きさである。孔同士の間隔は、図２に示す一連の対称な円のように対称であってもよいし、図３に示すように涙領域２２全体でランダムであってもよい。当業者は、孔１２のサブセット１４及び１６の他の配置もまた、涙流を方向付けするのに有効であることを認識するであろう。孔は、好ましくは円形の穴である。しかし、孔は、レンズ本体１０の内面と外面との間で流体連絡を提供するという条件で、楕円形、溝状又は他の所望の形であってもよい。
【００１５】
図２の実施態様では、孔１２の内向きサブセット１４は、孔１２の内方に偏向したサブセット１４がレンズ本体１０の涙領域２２に沿って第一の環を形成する一つの同心パターンで配列されている。涙管３６から新鮮な涙液が放出されると、レンズ本体１０の外面３０と装用者の瞼３４の内面との間で貯涙領域３８に溜まる。孔１２の内向きサブセット１４は、新鮮な涙流をレンズ本体１０の内面２８と装用者の角膜３２の表面との間の区域に導くため、この貯涙領域３８に隣接して配置されている。孔１２の外方に偏向したサブセット１６は、涙生成領域２２から離れた眼の中心部分の近くに配置された第一の環を少なくとも含む。好ましくは、孔の両セットは、装用者の視野の外にくるように配置される。
【００１６】
図１に示すように、レンズ本体１０の内面２８と装用者の角膜３０の表面との間の区域に入った涙液は、孔１２の第一のサブセット１６から外に出てレンズ本体１０の周縁２６及び中央区域２４に向けて流れる。そのとき、涙液は、レンズ本体１０の中央区域の孔１２の外方に偏向したサブセット１６を通ってレンズ本体１０の内面２８と装用者の角膜３０の表面との間の区域を出る。その結果として得られる図１に示す正味の流れは、孔のセットとセットとの間で角膜表面全体に沿って涙液の改善された輸送を生じさせ、角膜細胞への酸素及び栄養素の流れを改善するはずである。
【００１７】
当業者は、方向的に偏った孔のより複雑なパターンが同様に改善された涙液の流れにつながることを認識するであろう。たとえば、非限定的に、図３Ａに示すように、内方に配置された孔１２と外方に配置された孔１２との交互の同心円をレンズ本体１０の全域で配列して、はるかに短い距離の増大した涙流を提供してもよい。同様に、図３Ｂに示すように、内方に偏向した孔１２と外方に偏向した孔１２との組み合わせをレンズ本体１０の全域でランダムに展開して全体的な涙液流を増大させてもよい。
【００１８】
図４に示すように、好ましい実施態様で、流れが起こることが望まれる側が大径であり、流れが向けられる側が小径である先細りベンチュリ様の断面を備えた孔により、孔を偏向させて指向性の涙流を提供してもよい。装用者が瞬きするとき貯涙部３８に加わる圧力を介して、又は単に涙管３６からの涙液の注入によって圧力差が生じると、流体は優先的に孔１２を通過して流れる。したがって、装用者の瞬きは、角膜表面の全域で涙液流を積極的に駆動するためのポンプ作用として機能することができる。
【００１９】
図５に示すように、指向性の涙流を生じさせるのに十分であろうもう一つの機構は、レンズ本体１０の中に斜めに配置された孔１２の包含であろう。涙液は、圧力が加わるか、分泌されると、涙管３６又は貯涙部３８から自然に流れ出す。孔を斜めに設けることにより、涙液の一部をレンズ本体１０の内面と装用者の眼３０の表面との間の区域に向ける正味の流れを生じさせることができる。レンズ本体１０の中央区域における斜め又は規則的な孔の同様なセットもまた、レンズと眼との間の区域から涙液を出させることができるであろう。
【００２０】
図６に示すさらに別の代替環境では、涙液流を所望の方向に限定するための逆止弁として効果的に作用する可撓性部材４０を含めることにより、孔を偏向させて指向性の涙流を提供することができる。孔１２の涙源側からの涙流は、可撓性部材４０同士を離れさせながら孔１２を通過する。しかし、逆方向への涙流は、可撓性部材４０を共に駆動させて、孔１２を通過する流れを遮断する。
【００２１】
好ましい実施態様では、周知のプラズマ又は積層技術によって孔１２を薄い親水性被膜層で被覆して、孔の内面の疎水性を下げる。被膜の付加は、被膜なしでは孔をすぐに閉塞させるであろう疎水性の屑の蓄積を最小限にするのに役立つ。親水性被膜は、従来の手段、たとえばプラズマ被着により、代表的にはレンズ表面全体に被着される被膜と同時に被着させることができる。より好ましくは、ＷＯ９９／３５５２０で教示されている高分子電解質積層によって表面を被着する。
【００２２】
本発明の孔１２は、完成したレンズに対し、レーザ（単一ビーム又は拡散ビーム）、ＣＮＣ旋盤、ハンドドリル、手動旋盤及び精密ドリルの使用をはじめとする多様な公知の方法によって形成することができる。あるいはまた、孔１２は、レンズ重合過程でレンズ表面に実際に成形してもよい。
【００２３】
好ましい実施態様では、孔１２は、パルスエキシマレーザを使用して、完成したコンタクトレンズの表面を彫刻することによって形成される。エキシマレーザは、紫外線領域を通じて一定の波長で作動することができるパルスガスレーザである。レージングは、高圧ガス中で発生するパルス放電の結果として起こる。一般に使用される３成分ガス混合物は、バッファガス、たとえばネオン、少量の希ガス、たとえばアルゴン、クリプトンもしくはキセノン及びトレース量のハロゲン供与体、たとえば塩化水素又はフッ素で主にできている。ハロゲンに対する希ガスの相対的な比率が出力波長を決定し、もっとも強力な３種のエキシマレーザは、１９３ｎｍのフッ化アルゴン（ＡｒＦ）、２４８ｎｍのフッ化クリプトン（ＫｒＦ）及び３０８ｎｍの塩化キセノン（ＸｅＣｌ）である。エキシマレーザはパルスモードでのみ作動し、パルス幅は代表的には１０ナノ秒のオーダであり、パルスあたりの出力エネルギーは数百ミリジュールである。これは、紫外線出力と高いピーク出力との独自の組み合わせであり、融食の過程を通じて材料を除去することができる。エキシマレーザは、コンタクトレンズ周辺領域に熱の影響を受けた区域を実質的に残さずに非常に高い精度で材料を除去することができるため、コンタクトレンズにおける孔の形成に特に適している。孔１２は、レンズがまだ型の片側に付いている間にレンズに穿孔することもできるし、特別に適合させた台座の上で穿孔することもできる。
【００２４】
完全には満たない焼き抜きを達成するためにレーザ露光を制御するならば、レーザによって穿孔される穴の幅は当然、レンズの厚さを通じて異なる。レーザ露光を変化させることにより、これらの穴の出口径は、薄い部分（１５０ミクロン未満）での２０ミクロンから厚い部分（１５０ミクロン超）での１〜２ミクロンまで簡単に変えることができる。マスクの使用が、所望の数のレーザパルスの一回の適用で複雑な穴パターンの形成を可能にし、ビームを複雑に動かす必要性を回避させる。
【００２５】
代替態様では、本発明の孔は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を使用してレンズ型の表面を精密に倣い削りし、同時に、レンズ型表面の詳細な検査を可能にすることで形成することもできる。ＡＦＭは、その従来の意味で、レコードの溝の輪郭に沿うプレーヤ針のトラッキングを思い出させるような方法で可撓性探針によって表面を感知することによって作用する。しかし、ＡＦＭでは、その探針ははるかに小さい（５０ｎｍ程度）。ＡＦＭ探針とサンプルとの間の力の相互作用は、原子同士を共に保持する力よりも小さく、探針の移動は原子の寸法の一部分まで計測することができ、そのチップは単一の原子を終端させることができる。この独自の特徴の組み合わせが、非摂動的に表面の原子規模までの検査を可能にする。
【００２６】
ＡＦＭの技術をレンズ金型及びプラスチックレンズ型の検査に応用すると、他のやり方では得られないであろう形状及び表面粗さに関する情報を得ることができる。この新たな情報は、製造条件を最適化するため、プロセスのフィードバックを提供するのに役立つ。
【００２７】
ＡＦＭの標準的な像形成用途の他に、そのプラットフォームを構造の変形に利用することができる。代表的な進歩した型作製は、切削工具の鋭利さ及びアスペクト比によって制限されることがある。ＡＦＭチップは、非常に鋭利な高アスペクト比構造である点で独特である。このチップを像形成モードで使用して型上の「工具線引きされた」形状を識別したのち表面に押し込んで、造作を高い解像度で実際に変形することができる。
【００２８】
探針の精巧さは表面の大規模変形を防止する。しかし、切削のパラメータが適切にスケーリングされるならば、チップの損傷及び摩耗をうまく扱うことができる。チップ曲率半径を犠牲にして、ダイヤモンド又はダイヤモンド様被膜によって探針の頑丈さを改善することができる。
【００２９】
この工具がスケーリングされた旋盤工具を超えるものであることを記すことが重要である。この工具は、表面を変形することなく、表面の形状に関する情報を非常に正確に提供する。ひとたび造作が識別されると、それをチップによって変形することができる。このタイプの変形はまた、規則的な旋盤切削パターンで側壁傾斜及び角の忠実度を改善しようとするときに有用である。
【００３０】
本発明の孔を形成するもう一つの方法は、高共振マイクロミルを使用して型表面を旋盤と同様な方法で倣い削りすることを含むことができる。レンズを製造するとき、標準的な旋盤は、対称の制約のせいで設計選択を制限する。理想的なレンズ工具製造機は、ミルと旋盤とのハイブリッドであろう。ミルプラットフォームがレンズ型の表面への独立したアクセスを提供する一方、旋盤が超微細切削工具の精度を提供する。根本的には、旋盤の切削動をミルプラットフォーム上で再現することができる。
【００３１】
ＣＮＣ旋盤は、現在のレンズ工具を製造するための主流である。いかなる旋盤ででも、旋盤工具と工作物との間の局所的相互作用は線形であり、原則的に、その線形相互作用を使用して任意の形状を得ることができる（図７を参照）。実際には、工作物を回転させ、工具を固定することが旋盤の自由を制限し、ひいては円筒対称への製造を制限するため、この線形相互作用は、旋盤の機械設計のせいで利用することはできない。
【００３２】
しかし、旋盤構造の向きを変えることにより、新たなミル工具を創造することが可能である。この新たな配置は、非円筒対称工作物の製造を可能にする形状で旋盤の工具／工作物相互作用を再現する。
【００３３】
図８は、この変形機械構造を示す。切削工具は旋盤の切削工具であり、工作物はフライス盤のプラットフォームに取り付けられる。旋盤工具のステージ。先の図から、標準的な配置における旋盤工具の局所的相互作用が線形であり、したがって、新たな配置でも工作物との工具の相互作用が同一であることがわかる。
【００３４】
ハイブリッド機の動作は、工作物全面上を水平方向にラスタ走査し、同時に切削工具を垂直方向に動かして表面構造を変調することであろう。また、所与の区分に関して切削工具がたどるであろう軌跡線が示されている。この軌跡から、カット全体が１回のパスでは形成されず、まさに旋盤の動作のように、工具のパスごとに深さが増すということが見てとれる。軌跡線は連続するものとして示されているが、実際、ラスタ走査面は順次にカットされてゆくことが理解されよう。
【００３５】
予備的な計算は、旋盤上で経験される工具／工作物相互作用を新たな配置で再現できることを示す。それゆえに、工具は、工作物がその下で回転させられるのか並進させられるのかを知る由もないため、変形の質は同一であるはずである。
【００３６】
直径１ｃｍのスチール片を旋盤で切削する場合、推奨される回転速度は４００ＲＰＭである。これは、縁部での２０ｃｍ／ｓと中心部での０ｃｍ／ｓまでの工作物の線形速度に相当する。
【００３７】
線形配置システムの製造者は多様なステージを製造している。彼らのカタログをざっと調べただけでも、この速度規格を満たすステージは多数ある。たとえば、Ｎｅｗｐｏｒｔ ＰＭ５００−８Ｌは、２５ｎｍの位置解像度で１０ｃｍ／ｓの移動速度で８を有する。低速走査の規格ははるかに寛容であり、広い範囲の市販のステージで満たすことができる。
【００３８】
Ｚアクチュエータ要件に関して概算を行うことができる。最大性能は、複合システムを使用して得ることができる。長距離低速アクチュエータがレンズのゆっくりと変化する背景形状を追跡し、短距離高速アクチュエータが鋭利な造作を追跡するであろう。いずれの場合でも、切削掃引範囲はおよそ１ｃｍであり、切削速度は１０ｃｍ／ｓである。低速アクチュエータの場合、最大変位が５ｍｍであり、かつ空間周波数が正弦期間の０．５であると仮定すると、このアクチュエータの帯域幅、あるいは共振周波数は５Ｈｚにならなければならず、ｚ運動の応答は５ｃｍ／ｚになる。高速アクチュエータの場合、１掃引あたり１０期間及び変位１０μｍで、アクチュエータ要件は１００Ｈｚ及び０．２ｃｍ／ｓになる。
【００３９】
この新たな設計は、ミルと旋盤との、両機の有利な側面だけが引き出されるハイブリッドと考えることができる。ミルは、工作物表面上のいかなるＸ、Ｙ及びＺ点をも別個に指定する自由を有するため、三次元の任意のパターンを容易に形成することができる。ミルは、ピクセル解像度が回転ビットによって制限されるため、レンズ工具製造の用途に直接応用することはできない。他方、旋盤は、鋭利な切削工具のおかげで、ピクセル制限されない。しかし、従来の具現化では、旋盤は、表面上の独立したＸ、Ｙ及びＺ点を指定する能力を有しない。したがって、このハイブリッド機は、速やかなレンズ試作、開発及び製造に好ましい工具であることがわかる。
【００４０】
本発明の孔を形成するためのさらに別の手段は、レンズ型表面を彫刻するための集束イオンビーム（ＦＩＢ）の使用である。集束イオンビームシステムは、多様な表面に対して精密変形を加えるために使用されてきた。これらの変形は、１個の穴のように簡単なものであることもあるし、三次元切断のように複雑なものであることもある。ＦＩＢ技術の主要能力は、変形を、改変を要する区域だけに限局化するその能力である。
【００４１】
走査電子顕微鏡と同様に、ＦＩＢシステムは、走査イオン顕微鏡として機能して、非常に小さな物体、たとえば今日の最先端コンタクトレンズのサブミクロン造作の大きく拡大された高解像画像を生成することができる。走査電子顕微鏡とは違い、ＦＩＢシステムはまた、イオンビームを使用して切断又は切削することによって材料を除去することができる。このようにして、ＦＩＢシステムは、解析に備えて、型を速やかかつ正確に変形又は試作することができる。あるいはまた、多重半径レンズ構造における線を正確に切断又は鋭利化することもできる。最後に、ＦＩＢシステムは、絶縁又は導電材料を基材上に正確に被着させることができる。これは、ＦＩＢが実際に材料を任意のパターンで型に加えることができることを意味する。ＦＩＢ「マイクロ手術」として知られる、サブミクロン造作を切断及び接合するこの能力がＦＩＢ技術を技術革新の最先端に置く。
【００４２】
集束イオンビーム技術は、速やかな装置改変を実施することにより、コンタクトレンズ設計及び製造における支援として利用することができる。集束イオンビーム技術は、ガリウムイオンのビームを使用し、これをサンプル表面上に集束させ、走査する。イオンビームとサンプルとの相互作用が、表面からの原子の放出（スパッタリング）ならびに二次電子及びイオンの生成を起こす。二次の帯電した粒子を収集し、それらの信号を増幅し、表示して表面の画像を形成することができる。５００オングストローム未満の解像度が可能である。この画像は、構造的情報及び材料のコントラストを示し、サンプルの周囲のナビゲーションに使用することができる。
【００４３】
放出された中性原子の生成は一般にスパッタリングと呼ばれる。一つの区域をビームで長時間ラスタ走査するならば、その区域から材料が除去される。このプロセスを使用すると、構造の所望の変形に依存して、現在の型設計で任意の形状を加工したり、エッジをシャープにしたりすることができる。切削に代表的な解像度は約０．１μｍである。穴及び切り欠きは非常に正確に配置することができ（約０．１μｍ以内）、埋め込み層に達して、深さ：幅のアスペクト比を３：１未満に維持することができる。ガスを伴ったエッチングは、アスペクト比６：１か、それ以上に増加させることができる。
【００４４】
有機金属ガス、たとえばＷ（ＣＯ）６が、イオンビームの区域に導入されるならば、走査パラメータを調節して分子を分解させることができ、この分子が表面に吸着し、金属層を形成する。ビームで繰り返しラスタ走査することが金属層の形成に至り、この金属層を使用して、新規なレンズ設計を製造するための区域を構築することができる。残念ながら、被着される金属膜はどちらかというと純度が低い。
【００４５】
薄膜被着に使用されるものと同様な方法を適用することにより、ＦＩＢを使用して高品質な酸化物を被着させることができる。シロキサン系のガス及び酸素を作業区域でイオンビームの経路に導入する。酸素の存在における複雑なケイ素担持分子の分解が表面への吸収及び二酸化ケイ素絶縁層の形成を導く。
【００４６】
現在の成形技術の限界は、プラスチック部品が、本発明で考慮されるような非常に小さな孔の形成に要求されるような非常に小さな許容誤差に対しその形状を保持し得ないことである。プラスチック型部品を使用する利点は、それが、ヒドロゲルレンズを硬化させるのに必要であるＵＶ光に対して透過性であるということである。しかし、型の重要な側、すなわち複雑な方の側が金属製であり、他方の側がプラスチックであるならば、各材料の利点は保持される。
【００４７】
ヒドロゲルレンズを形成するためのプラスチック型を製造するために現在使用されている金型は、現在、＋／−０．０１マイクロメートルの許容誤差の精度に合わせて製造されるが、金属部品を加工するためには有意な時間及び努力を要する。金属マスタから鋳造されるプラスチック型は、同レベルの精度を有することができる。しかし、金属ほどの剛性はなく、レンズ成形及び硬化の工程で容易に許容誤差範囲外まで変形してしまう。
【００４８】
プラスチックレンズ型が使用される理由は二つある。
（１）プラスチックは、ヒドロゲルレンズを硬化させるために使用されるＵＶ光に対して透過性である。
（２）プラスチックは、直前の製造工程による汚染を受けていない新たな型から各レンズが鋳造されるよう、使い捨て可能である。
【００４９】
しかし、プラスチック部品は、レンズ型の片側だけに使用すればよい。他方の側は金属であってもよい。望むときに完成したレンズを離型させるため、金属を非常に薄い被膜で被覆することができる。金属面は、この目的に適切な物質の自己組織化単分子層で覆うことができる。分子１個分の厚さしかない単分子層は、型の寸法を、最終的なレンズ形状に影響するほど変化させないような厚さである。まずはじめに、試験目的のため、テフロン被膜を使用することができる。
【００５０】
光の電場は金属の表面でゼロにならなければならないため、金属の近くでゲルが硬化する問題が出ることを予想するかもしれない。しかし、これは、金属が高反射体である周波数範囲に関してのみ当てはまる。高反射性基材は定常波効果を増すことが知られている。この効果は、レジスト層の下に染料又は反射防止被膜を使用することにより、対処可能なレベルまで減らすことができる。もう一つの手法は、いくつか異なる波長のＵＶ光を使用して定常波を平均化することである。最後に、露光と現像との間の余分なベーキング工程が定常波効果を化学的に除去することができる。
【００５１】
金型の型半はまた、円筒対称でなくてもよいという利点を有する。金属面に転写することができるあらゆる形状が高い忠実度でレンズに再現される。特異な形状のレンズ面に対しては、金属に対して実施することはできるが、プラスチックに対しては実施することができない進歩した加工又はマイクロ加工を使用することができる。
【００５２】
コンタクトレンズの成形で遭遇するさらなる問題は、薄いエッジを形成する困難さである。薄いエッジは、もろく、離型されるときに破れやすいため、問題を呈する。また、ヒドロゲルがレンズエッジの近くの非常に小さな隙間に入ることを許しながら型縁からのヒドロゲルのフラッシング又は漏れを防ぐのに十分な精度で型を加工することは困難である。
【００５３】
薄いエッジを形成するのに有用な一つの方法は、最終製品よりも大きな直径を有するレンズを成形したのち、それを所望のサイズまでトリミングする方法である。このレンズの周部は非常に薄いが、設計パラメータを十分に超えるまでは途切れない。離型させたのち、ナイフ又はより好ましくはレーザによってレンズを所望の直径までトリミングする。
【００５４】
レーザの使用は、レンズのエッジをそれに触れることなく切断することを可能にし、それにより、レンズエッジの破れを回避させる。一つの実施態様では、レーザービームを小さな点に集束させ、所望のカットをたどるように誘導する。より好ましくは、マスクを利用してカット全体を１セットのレーザパルスでレンズ上に正確に焼き付けて、レーザビームの複雑な集束及び誘導の必要性を除くことができる。
【００５５】
薄いエッジを形成するのに有用なもう一つの方法は、硬化工程中に少なめのＵＶ光がレンズエッジを照射するようにする密度可変性被膜で型の縁をマスキングする方法である。これは、レンズエッジにおけるゲルの架橋を弱め、これらの区域で薄めのレンズを生じさせる。薄いエッジの形成に潜在的に有用なさらに別の方法は、定常波効果を利用する方法である。定常波は、ＵＶ硬化光が金型表面に衝突するとき形成して、型表面における強さをゼロに減らす。この効果を利用して、金属面の近くの非常に薄い部分でヒドロゲルの効果を軽減することができる。
【００５６】
一部の進歩したレンズ設計は、レンズを、球対称ではない形状で製造することを要する。このような形状のレンズを形成するための一つの機構がスピン成形である。液体の円盤をその軸を中心に回転させると、液体の表面は放物面状の湾曲した形を帯びる。たとえば、一部の天体望遠鏡には回転水銀鏡が使用されている。回転する液体鏡の焦点距離Ｌはその回転速度の関数である。
Ｌ＝ｇ／２ω２
ただし、ｇは、重力による加速度であり、ωは、ラジアン毎秒による角速度である。液体の放物面状上面は支持体の形状に依存しない。これは、液状ヒドロゲルをして、回転する型によって指定される前面カーブ及び回転速度によって設定される放物面状ベースカーブを有するレンズ形状をとらせることができることを意味する。そして、ＵＶ重合によってその形を固定することができる。また、レンズを一度硬化させたのち、さらなるヒドロゲルを加え、異なる回転速度で再び回転させることにより、多数のベースカーブを形成することもできる。第二の工程で加えられる材料が、異なる曲率半径の部分を形成する（図９を参照）。
【００５７】
回転成形は、非常にシャープなレンズエッジを製造するために使用されることもあるし、丸みのあるエッジを製造するために使用されることもある。エッジプロファイルは、型の疎水性又は親水性を変化させることによって制御することができる（図１０を参照）。疎水面上では、ヒドロゲルは、表面張力によってメニスカスを形成し、したがって、丸みのあるエッジ形状を形成する。親水面上では、レンズエッジは、型表面でのヒドロゲルの延展によってシャープになる。
【００５８】
また、基本的に球面であるが、方形波によって変調されるレンズ表面を製造することが望ましいかもしれないと考えられる。このようなレンズでは、前面オプチカルゾーンは、基本的に球面であるが、幅約０．１〜１．０ｍｍ、深さ５〜１０ミクロンの方形波状の押し込みを含む。レンズの正面から見ると、これらの押し込みは、フレネル帯プレートに類似した環状の隆起を形成する（図１１を参照）。
【００５９】
球面からの逸脱距離はそれらの深さよりもはるかに大きいため、標準的な球面レンズ型から出発し、光リソグラフィー技術を使用して所望のパターンにエッチングすることが可能である（図１２を参照）。マスクとして働く写真乳剤又はフォトレジストでパターンを型表面にプリントして、適切な深さまでの型のプラズマエッチングを可能にする。異方性である（すなわち、側方エッチング速度よりも垂直エッチング速度がはるかに高い）プラズマエッチ法を使用してパターンをエッチングして垂直な側壁を設けることもできる。
【００６０】
この方法の基本工程は、１）標準的技術を使用して球面の型を形成する工程、２）円環パターンで光リソグラフィーマスクを形成する工程、３）型表面をフォトレジストで被覆する工程、４）ＵＶ光を使用してマスクの像を型に投射する工程、５）現像する工程、及び６）基材をドライエッチングしてパターンを型表面に転写する工程である。
【００６１】
ドライエッチングは、半導体処理で広く使用されている技術であり、円環パターンを形成するのに有用である。しかし、当業者は、多様な押し込みパターンを型表面に転写するようにこの方法を適合させてもよいことを理解するであろう。
【００６２】
このように、本発明の目的が十分かつ効果的に達成されたことが理解されよう。しかし前記好ましい具体的な実施態様は、本発明の目的のために示し、記載したものであり、そのような原理を逸することなく変更を受けることがあることが理解されよう。したがって、本発明は、請求の範囲の本質及び範囲に入るすべての変形を包含する。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の有孔レンズの好ましい実施態様を示す断面図である。
【図２】
図１の実施態様の有孔レンズの正面図である。
【図３Ａ】
本発明の代替態様の穿孔パターンを有する有孔レンズの正面図である。
【図３Ｂ】
本発明の代替態様の穿孔パターンを有する有孔レンズの正面図である。
【図４】
本発明の好ましい実施態様にしたがって指向性流を提供する先細り孔の断面図である。
【図５】
本発明の代替態様にしたがって指向性流を提供する斜めの孔の断面図である。
【図６】
本発明のさらに別の代替態様にしたがって指向性流を提供するための逆止弁特性を有する孔の断面図である。
【図７】
従来技術の標準的旋盤の機能を示すブロック図である。
【図８】
本発明の実施態様のミル旋盤の機能を示すブロック図である。
【図９】
本発明のもう一つの実施態様にしたがって多段放物面を形成することができる工法を示す図である。
【図１０】
本発明の実施態様の丸みのあるレンズエッジ及びシャープなレンズエッジを示す断面図である。
【図１１】
本発明の実施態様の方形波状押し込みパターンを有するレンズの正面図である。
【図１２】
本発明の実施態様にしたがってレンズに表面造作を形成するためのフォトエッチング法を示す図である。
【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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