(57)【要約】本発明は、トレンチキャパシタ（１）と縦型選択トランジスタ（２）とをそれぞれ有するダイナミックメモリーセル（１０）を備えた半導体メモリーセル構造に関するものである。この縦型選択トランジスタ（２）は、トレンチキャパシタ（１）上にほぼ配置されており、トレンチキャパシタ（１）の内部電極からずれて配置され、かつ、トレンチキャパシタ（１）の内部電極（１１）と連結した層配列を備えている。活性中間層（２２）は、絶縁層（２４）とワード線（７）に連結しているゲート電極層（２５）とによって完全に取り囲まれている。ダイナミックメモリーセル（１０）は、マトリックスの形状に配置されており、トレンチキャパシタ（１）とそれに属するダイナミックメモリーセル（１０）の縦型選択トランジスタ（２）とは、行および／または列状にそれぞれ連続している。
2004505466.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トレンチキャパシタ（１）と縦型選択トランジスタ（２）とをそれぞれ備え、
上記トレンチキャパシタ（１）は、ブロック状の内部電極（１１）と、前記内部電極（１１）を取り囲む誘電性の中間層（１３）と、前記誘電性の中間層（１３）と接触している外部電極とを備え、
上記縦型選択トランジスタ（２）は、トレンチキャパシタ（１）のほぼ上部に配置され、かつ、層配列を有しており、前記層配列は、トレンチキャパシタ（１）の内部電極からずれて配置され、ビット線（６）に連結した第１電極（２１）と、活性中間層（２２）と、トレンチキャパシタ（１）の内部電極（１１）に連結した第２電極（２３）とを含み、
上記活性中間層（２２）は、絶縁層（２４）、および、ワード線（７）と連結しているゲート電極層（２５）によって完全に取り囲まれており、
上記ワード線（７）およびビット線（６）は互いに交差している、ダイナミックメモリーセル（１０）を備えた半導体メモリーセル構造であって、
上記ダイナミックメモリーセル（１０）は、マトリックス形状に配置されており、つまり、上記ダイナミックメモリーセル（１０）のトレンチキャパシタ（１）と、関連の縦型選択トランジスタ（２）とが、それぞれ互いに行および／または列状に並んでいることを特徴とする半導体メモリーセル構造。
【請求項２】
上記の縦型選択トランジスタ（２）のチャネルを中に形成できる活性中間層（２２）は、隣接しているトレンチキャパシタ（１）のトレンチ間に主として配置されていることを特徴とする、請求項１に記載の半導体メモリーセル構造。
【請求項３】
上記ダイナミックメモリーセル（１０）は、主に選択トランジスタ（２）を第１支えとして配置し、主にトレンチキャパシタ（１）を第２支えとして配置するように形成されていることを特徴とする、請求項１または２に記載の半導体メモリーセル構造。
【請求項４】
上記ダイナミックメモリーセル（１０）のトレンチキャパシタ（１）は、半導体基板（１０１）の、ｘ方向へトレンチを等間隔に形成し、ｙ方向へもトレンチを等間隔に形成することによって形成され、
上記トレンチは、薄い誘電層（１３）によって内側を覆われ、内部電極であるブロック状の高ドープ半導体層（１１）が充填され、絶縁層（１０４）によって覆われており、
上記薄い誘電層（１３）は、外部電極である半導体基板に埋設された高ドープ平板と接触していることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の半導体メモリーセル構造。
【請求項５】
ダイナミックメモリーセルのトレンチキャパシタ（１）が形成されるトレンチは、断面が楕円形、長方形または正方形であることを特徴とする、請求項４に記載の半導体メモリーセル構造。
【請求項６】
上記の選択キャパシタ（２）は、内部キャパシタ電極の上端領域に、高ドープ層である第２電極（２３）と、第２電極上に低ドープ層が配置された活性領域（２２）と、高ドープ層として配置された第１電極（２１）とを有するＭＩＳＦＥＴトランジスタであり、導電連結部（４）が、ＭＩＳＦＥＴトランジスタの第２電極（２３）とトレンチキャパシタの内部電極（１１）との間に、トレンチの内側を覆う誘電層（１８）を貫いて形成されていることを特徴とする、請求項４または５に記載の半導体メモリーセル構造。
【請求項７】
上記トレンチキャパシタに関連のＭＩＳＦＥＴトランジスタの支えと、前記の支えと並んでいるトレンチキャパシタに関連のＭＩＳＦＥＴトランジスタの支えとの間に位置するトレンチキャパシタ（１）の内部電極（１１）を覆う絶縁層（１０４）上に、ゲート電極層配列が埋設されており、前記ゲート電極層配列とは、主に、ＭＩＳＦＥＴトランジスタの全活性領域（２２）を取り囲んで伸びており、ゲート誘電体層（２４）と、ゲート電極層（２５）と、ワード線として機能する伝導層（７）とを含んでいることを特徴とする、請求項６に記載の半導体メモリーセル構造。
【請求項８】
同じワード線（７）にあって、並んでいるビット線（６）毎にある選択トランジスタ（２）の間に、前記選択トランジスタを備えた支えに対して好ましくは平行に伸びる支柱（１０８）が形成されており、ゲート電極層配列が、選択トランジスタの支えと、支柱との間毎に備えられていることを特徴とする、請求項７に記載の半導体メモリーセル構造。
【請求項９】
トレンチキャパシタ（１）と縦型選択トランジスタ（２）とをそれぞれ有するダイナミックメモリーセル（１０）を備えた半導体メモリーセル構造の製造方法であって、
ダイナミックメモリーセル（１０）のトレンチキャパシタ（１）と関連の縦型選択トランジスタ（２）とが、それぞれ互いに行および／または列状に並んだ、マトリックス形状に配置されたトレンチキャパシタを形成し、
ブロック状の内部電極（１１）と、誘電性の中間層（１３）と、外部電極とを形成し、このとき、トレンチキャパシタ（１）のトレンチに誘電性の中間層（１３）を形成し、次に、トレンチキャパシタ（１）のトレンチに内部電極を埋設し、
上記トレンチキャパシタ（１）の内部電極（１１）からずれて配置され、かつ、第１上部電極（２１）と、活性中間層（２２）と、第２下部電極（２３）とを有する層配列を備えた、縦型選択トランジスタ（２）をトレンチキャパシタ（１）のほぼ上部に形成し、下部電極（２３）をトレンチキャパシタ（１）の内部電極（１１）と連結し、上部電極（２１）をビット線（６）と連結し、
上記の活性中間層（２２）を取り囲むゲート酸化物である絶縁層（２４）を形成し、このとき、上記の中間層（２２）は、絶縁層（２４）によって完全に取り囲まれており、
上記の絶縁層（２４）上にゲート電極層（２５）を蒸着し、このとき、中間層（２２）は完全に取り囲まれ、ワード線（７）はゲート電極層（２５）に隣接する選択トランジスタ（２）によって形成され、
ワード線（７）と交差するビット線（６）を形成する工程を有する、トレンチキャパシタ（１）と縦型選択トランジスタ（２）とをそれぞれ有するダイナミックメモリーセル（１０）を備えた半導体メモリーセル構造の製造方法。
【請求項１０】
半導体基板を用意し、
上記半導体基板にトレンチを生成し、
上記トレンチにトレンチキャパシタ（１）を形成し、
スペーサー技術を用いて、縦型選択トランジスタ（２）の支えと、トレンチキャパシタ（１）に連結する支えとを形成し、
選択トランジスタ（２）の第２電極（２３）と、活性領域（２２）と、第１電極（２１）とからなる縦型層配列を形成し、
スペーサーであるゲート電極層（２５）が選択トランジスタ（２）の全活性領域（２２）を取り囲んで形成され、隣接する選択トランジスタ（２）のゲート電極層（２５）が互いに接触しあってワード線（７）を形成するように、導電層を塗布およびエッチバックし、
上記の選択トランジスタ（２）のソース電極（２１）との接触部を形成し、
ビット線（６）を形成するプロセス工程を特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
上記半導体基板にトレンチを形成する前に、選択トランジスタ（２）用の縦型層配列の第２下部電極（２３）を、エピタキシー成長によって基板上に成長させ、このとき、ｎ型の高ドープ層が、第２下部電極（２３）用に形成され、活性中間層（２２）の低ドープ層とともに過剰に成長することを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
上記半導体基板にトレンチを形成する前に、選択トランジスタ（２）用の縦型層配列の第２下部電極（２３）が、注入によって成長し、ｎドーピング剤が、埋設層として基板に埋設されることを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
上記トレンチを半導体基板に形成した後、トレンチキャパシタ（１）の内部電極（１１）からドーピング剤を拡散することによって、選択トランジスタ（２）用の縦型層配列の下部第２電極（２３）を形成することを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
上記トレンチは、半導体基板のｘ方向に等間隔に配置され、ｙ方向にも等間隔に配置されるように、フォトリソグラフィー工程を用いて限定され、トレンチの断面が楕円形、長方形または正方形であることを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
上記の縦型選択トランジスタ（２）を備えた領域と、関連のトレンチキャパシタ（１）と連結している領域とは、
上記トレンチキャパシタ（１）上のトレンチにスペーサー構造を形成し、
上記スペーサー構造の片側をドープし、
リソグラフィー工程を用いてスペーサー構造を分割し、
様々にドープされたスペーサー領域に基づいてスペーサー構造を選択的にエッチングするプロセス過程を経て限定されることを特徴とする、請求項１０〜１４のいずれかに記載の方法。
【請求項１６】
ハードマスクリソグラフィープロセスを用いて、スペーサーを分割することを特徴とする、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
内部電極（１１）からドーピング剤を拡散することによって、選択トランジスタ（２）の第２電極（２３）において、拡散（Ｄ）を形成することを特徴とする、請求項１０〜１６のいずれかに記載の方法。
【請求項１８】
ゲート層配列を形成するために、
上記トレンチのトレンチキャパシタ（１）上に絶縁層を形成し、
上記選択トランジスタ（２）の活性領域を有する支えの周りに、ゲート誘電体層（２４）と、ゲート電極層（２５）と、ワード線（７）として機能する伝導層とを形成し、
スペーサーを形成するために、上記ゲート電極層（２５）と伝導層とを異方性エッチングし、
絶縁層を蒸着するプロセスサイクルを行うことを特徴とする、請求項１０〜１７のいずれかに記載の方法。
【請求項１９】
並んでいるビット線（６）にあって、ただし、同じワード線（７）にあるそれぞれの選択トランジスタ（２）間に、スペーサー技術を用いて支柱を形成することを特徴とする、請求項１０〜１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２０】
支柱と選択トランジスタの活性領域を有する支えとの間に、ゲート電極層配列を縦型に形成することを特徴とする、請求項１９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
本発明は、選択トランジスタとメモリーキャパシタとをそれぞれ有するダイナミックメモリーセル（省略してＤＲＡＭ）を備えた半導体メモリーセル構造に関するものである。このようなＤＲＡＭセル構造では、メモリーセル内の情報は、電荷の形式で格納される。メモリー状態「０」および「１」が、プラスおよびマイナスに帯電されたメモリーキャパシタに相当する。メモリーセルの選択トランジスタとメモリーキャパシタとは、ワード線を介して選択トランジスタを駆動する場合にビット線を介してキャパシタの電荷を読み込みおよび読み出しできるように、互いに連結している。ＤＲＡＭセル構造を技術発展させる際の主な目的は、実装密度の高い、つまりメモリーセル当たりの所要面積の小さな、正確に駆動するＤＲＡＭを製造することにある。この場合、特に重要なのは、相当の読取り信号を確保し、かつ、α微粒子に反応しないメモリー容量を、メモリーキャパシタが備えることである。セル面積が小さい場合にも十分なメモリー容量を供給するために、立体性を用いたメモリーキャパシタが発展してきた。このような立体のメモリーキャパシタは、特に、半導体基板に誘電層と第１メモリー電極とを用いて充填されるトレンチがエッチングされているトレンチキャパシタの形状をしている。このとき、半導体基板は第２メモリー電極として機能する。ＤＲＡＭセルの選択トランジスタは、通常、平坦な半導体表面上にトレンチキャパシタと並んで形成される。トレンチキャパシタと平坦な選択トランジスタとを備えたこのようなセル構造には、少なくとも８Ｆ２のチップ平面が必要である。Ｆは、リソグラフィー技術を用いて製造可能な最小の構造寸法を示している。ＤＲＡＭセルの実装密度をさらに高めるために、一方では構造寸法Ｆの縮小、もう一方ではチップ面積全体の拡大が、メモリー世代からメモリー世代へと代々引き続いて行われる。しかし、このＤＲＡＭの発展に関して、チップ収率の低さと、チップ製造における構造縮小化に基づく極端なコスト高と、トレンチ容量とビット線長との比のさらなる縮小化とに起因した問題が発生する。このために、ＤＲＡＭの技術発展において、実装密度を高めるために、ＤＲＡＭのセル面を縮小することも試みられている。ＤＲＡＭのセル寸法の縮小化は、メモリーキャパシタと同様に、選択トランジスタを立体的に設計することによって可能となる。ＭＩＳＦＥＴとしてほぼ縦型に形成された選択トランジスタとトレンチキャパシタとを連結する様々なＤＲＡＭセル構想が、すでに知られている。しかし、縦型ＭＩＳＦＥＴトランジスタとトレンチキャパシタとを備えた周知のＤＲＡＭセルを実施する上での問題点として、ソース電極とドレイン電極との間に位置する活性領域が、ＤＲＡＭセルに隣接した、当該のＤＲＡＭセルの制御には使用されないワード線またはビット線の影響を受けるという点が挙げられる。これによって、特にＤＲＡＭの構造寸法が小さい場合、ＭＩＳＦＥＴの活性領域を貫く漏れ電流が発生し、それと共にメモリーセルの情報損失が起こる。縦型ＭＩＳＦＥＴトランジスタの活性領域の影響を排除するために、および、それによって漏れ電流を防止するために、ＵＳ　５，５１９，２３６には、縦型選択トランジスタのソース電極と���レイン電極との間に位置する活性領域をゲート構造によって完全に取り囲む半導体メモリーセル構造が、開示されている。これによって、活性領域は、隣接するワード線またはビット線から保護されている。また、知られているセル構造は、トレンチおよび支柱がチェス盤型配列（Ｓｃｈａｃｈｂｒｅｔｔｍｕｓｔｅｒａｎｏｒｄｎｕｎｇ）となるように半導体基板に形成されている。メモリーキャパシタはトレンチに、関連の選択トランジスタは隣接する支えに対して垂直に、位置しており、ゲート電極層は選択トランジスタの活性層を完全に取り囲んでいる。このゲート電極層は、ＤＲＡＭに組み込まれたワード線の一部であってもよい。さらに、ＤＲＡＭセルのビット線は、トレンチキャパシタに対してずれて（ｖｅｒｓｅｔｚｔ）、関連の縦型選択トランジスタの支え上に垂直に伸びるように、かつ、縦型選択トランジスタのソース電極と連結するように、配置されている。しかし、ＤＲＡＭセルを配置するためのＵＳ５，５１９，２３６において用いられているチェス盤型の所要面積が大きいので、半導体基板上に位置するＤＲＡＭセルの最大実装密度は制約される。さらに、ＵＳ５，５１９，２３６によるＤＲＡＭセルの設計に必要なのは、ワード線をパターン化するために、コスト高な複数のリソグラフィー工程をマスクプロセスを用いて実施することである。なお、このマスクプロセスによって、所定の最小セル寸法が再び不可欠となり、したがってＤＲＡＭセル構造の最大実装密度が強く縮小される。したがって、本発明の目的は、実装密度を高く、つまりＤＲＡＭセルごとの所要面積を縮小できる、ダイナミックメモリーセルを備えた半導体メモリーセル構造を製造することである。本目的を、請求項１に基づく半導体メモリーセル構造によって、および、請求項１０に基づくこのような半導体メモリーセル構造の製造方法によって達成し、有効な形態を従属請求項に提示する。本発明の場合、トレンチキャパシタと関連の選択トランジスタとを備えたダイナミックメモリーセルを、それぞれ行および／または列状に並べて配置する。この形態によってＤＲＡＭセルのできる限り最大の立体の実装密度を達成することによって、個々のＤＲＡＭセル用のセル面を４Ｆ２〜６Ｆ２の面積寸法に縮小できる。Ｆは、リソグラフィープロセス後の最小構造寸法に相当する。さらに、ＤＲＡＭセル構造がマトリックスの形状しているので、個々のＤＲＡＭセルのセル面に関するトレンチキャパシタの断面図を最大に拡張できる。これによって、トレンチキャパシタの容量値を改善できる。
【０００１】
本発明の有効な実施形態に従って、トレンチキャパシタと関連のダイナミックメモリーセルの縦型選択トランジスタとを主に関連のビット線の下に形成することによって、個々のＤＲＡＭセルの立体的で最も密度の高いこの実装を達成する。これによって、個々のＤＲＡＭセルの間隔を互いに狭く形成でき、同時に、ゲート電極構造を用いてこの活性領域を取り囲むことにより、選択トランジスタの活性領域を、隣接しているワード線およびビット線から確実に遮断することができる。
【０００２】
他の有効な実施形態に従って、縦型選択トランジスタを有する領域と、縦型選択トランジスタおよび関連のトレンチキャパシタの連結とを定義するために、この領域を自己整合的に固定すると共にＤＲＡＭセルにおける構造寸法を最小にできるスペーサー技術を使用する。
【０００３】
他の実施形態に従って、縦型選択トランジスタを限定するために、特に、様々にドープされた領域を備えたスペーサーを用いる。これにより、様々なドーピングに対する選択的なエッチングプロセスを用いて、縦型選択トランジスタの自己整合的な限定が生じる。さらに、これによって、選択トランジスタの下部電極とトレンチキャパシタの内部電極との間に位置する連結領域が、正確に固定される。
【０００４】
他の有効な実施形態に従って、選択トランジスタの下部電極をドーピングの注入および拡散によって形成する。トレンチキャパシタの内部電極と導電している結合部（ｌｅｉｔｅｎｄｅ Ｖｅｒｂｉｎｄｕｎｇ）もまたドープされ、したがって結合部は自己整合的に製造される。
【０００５】
他の有効な実施形態に従って、選択トランジスタの上部電極のパターン化は、トレンチ絶縁技術を用いて行われ、その結果最小のプロセスコストで確実に絶縁することができる。
【０００６】
他の有効な実施形態に従って、選択トランジスタの活性領域を取り囲むゲート電極層配列を、スペーサー技術を用いて埋設する。これにより、リソグラフィープロセスを用いずに、ワード線領域を面積を縮小して自己整合的に形成することができる。
【０００７】
他の有効な実施形態に従って、特に組をなすビット線相互接続（ｖｅｒｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｎ Ｂｉｔｌｅｉｔｕｎｇｓ−Ｖｅｒｓｃｈａｌｔｕｎｇ）を製造するために、並んでいるビット線毎にあって、同じワード線にある選択キャパシタ間に支柱構造を形成する。スペーサー技術を用いてこの支柱構造を形成することによって、コンパクトかつ自己整合的に形成することができる。
【０００８】
本発明を添付図面に基づいて詳述する。図１〜図１２は、本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示す図である。図１〜図１１は、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。図１３は、本発明による半導体メモリーセル構造の第２実施形態を示す図である。また、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。図１４は、トレンチキャパシタを形成するためのプロセス工程後に行われる第３実施形態を示す平面図である。図１５は、トレンチキャパシタを形成するためのプロセス工程後に行われる第４実施形態を示す平面図である。図１６は、ダイナミック読み／書きメモリーの回路図である。
【０００９】
ダイナミック読み／書きメモリー（ＤＲＡＭ）では、主に、いわゆる１−トランジスタセル（１−Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ−Ｚｅｌｌｅｎ）（この回路図を図１６に示す）が用いられる。この１−トランジスタセルは、メモリーキャパシタ１と選択トランジスタ２とを含んでいる。選択トランジスタ２は、電界効果トランジスタとして設計されることが好ましい。この電界効果トランジスタは、第１電極２１と第２電極２３とを備えており、これらの間には、中に導電チャネルを形成できる活性領域２２が配置されている。活性領域２２の上には、絶縁層２４とゲート電極２５とが配置されており、これらは、活性領域２２において電荷キャリア密度に影響を及ぼす平板キャパシタのように作用する。電界効果トランジスタ２（以下では簡略化してＭＩＳＦＥＴとすることもある）は、エンハンスメント型である。つまり、電界効果トランジスタ２は、閾値電圧をゲート電極２５に印加すると、ようやく活性領域２２を介して第１電極２１と第２電極２３との間に電流が流れるのである。
【００１０】
ＭＩＳＦＥＴ２の第２電極２３は、連結線４を介してメモリーキャパシタ１の第１電極１１と連結している。そして、メモリーキャパシタ１の第２電極１２は、好ましくはＤＲＡＭセル構造の全てのメモリーキャパシタに共通のキャパシタ平板５に接続している。メモリーキャパシタ１に電荷の形式で格納された情報を読み込んだり読み出したりするために、ＭＩＳＦＥＴ２の第１電極２１は、ビット線６と連結している。この読み込みおよび読み出し工程は、電圧を印加することによって第１電極２１と第２電極２３との間に位置する活性領域２２の導電チャネルを製造するために、ＭＩＳＦＥＴ２のゲート電極２４と連結しているワード線７を介して制御される。図１２は、図１６の回路図に示したようなＤＲＡＭセルを備えた半導体メモリーセル構造の、本発明による第１実施形態を示す図である。本実施形態において、上述のリソグラフィー技術を用いて製造できる構造寸法Ｆの最小値は、０．１μｍである。つまり、ビット線、ワード線、接触ホールの幅は、通常、約０．１μｍである。しかし、記載図の比率は正確ではないということに、注意すべきである。さらに、本発明は上述の構造寸法に制約されたものではない。図１２Ｂに示した半導体メモリーセル構造の平面図に関して、破線部はＤＲＡＭセル１０を限定している。このＤＲＡＭセルは、主に、メモリー構造の上でｘ方向に等間隔に伸びるビット線６の下に縦に配置されている。そして、ＤＲＡＭセル１０の領域においてビット線６とその都度交差するワード線７が、このビット線６に対して垂直に半導体基板のｙ方向に、ビット線６と同じく等間隔に伸びている。図１２Ａは、ビット線６に沿って切断した半導体メモリーセル構造を貫く断面図を示している。図１２Ｃは、ワード線７に沿って切断した半導体メモリーセル構造を貫く断面図を示している。ビット線６に沿ってほぼ並べられたＤＲＡＭセルは、中に主にＭＩＳＦＥＴ選択トランジスタ２が形成されている支え１０１と、中に主にメモリーキャパシタ１が形成されているトレンチ１０２とから形成されている。
【００１１】
図示したセル構造を、シリコン半導体技術を用いて製造する。土台には、低ドープされたｐ型基板を使用する。このｐ型半導体基板１０３には、ｎ型に埋設された高ドープ平板（図示せず）を形成する。この平板は、セル構造の全トレンチキャパシタ用に共通の第２外部電極１２として用いられるものである。埋設され、ｎ型にドープされた平板と接触している半導体基板において、図１２Ａに示したように、好ましくは楕円形または長方形に形成されるが、任意の形状を有することのできるトレンチを、等間隔に形成する。このトレンチの下部を誘電体層１３によって覆い、ｎドープされたポリシリコンをこの領域に充填する。このｎドープされたポリシリコン充填剤は、メモリーキャパシタ１の第１内部電極１１をも構成している。なお、電極を絶縁化するために、トレンチ内の誘電体層１３としてＳｉＯ２を用いることが好ましい。また、図１２Ａの断面図に示したように、ビット線６の下に伸びているトレンチの間に位置する半導体支え１０１の中に、ＭＩＳＦＥＴ選択トランジスタ２をそれぞれ形成する。このＭＩＳＦＥＴトランジスタは、トレンチ内のポリシリコン層１１、つまりトレンチキャパシタの内部電極の上端領域において、高ドープされたｎ型層である第２電極２３を備えている。このｎ型層の上には、ｐ型に低ドープされた活性領域２２を形成する。そして、この活性領域２４上に、高ドープされたｎ型層である第１電極２１を形成する。ＭＩＳＦＥＴトランジスタ２の第２電極２３とトレンチキャパシタ１の内部電極１１との間には、トレンチを覆う誘電体層１３貫いて導電連結部４を形成する。この連結部４は、選択トランジスタ２の第２電極２３とメモリーキャパシタ１の内部ポリシリコン電極１１との間に位置し、ｎドープされたポリシリコン層を含んでいることが好ましい。
【００１２】
さらに、トレンチキャパシタの内部電極１１の上に形成された絶縁層１０４の上では、トレンチキャパシタと関連のある選択トランジスタの支えと、隣接する（ｄａｒａｕｆｆｏｌｇｅｎｄｅｎ）トレンチキャパシタの支えとの間に、層配列を縦型に埋設する。この層配列は、選択トランジスタの全活性領域２２をほぼ超えて広がっており、好ましくはＳｉＯ２を含んだ薄いゲート絶縁層２４と、好ましくはポリシリコンを含んだゲート電極層２５と、ワード線７として機能する好ましくはタングステンを含んだ他の導電層とから構成されている。この層配列は、図１２Ａではビット線および図１２Ｃではワード線に沿って切断した断面図に示しているように、全活性領域２４を取り囲む選択トランジスタの支えを完全に取り囲んでいる。選択トランジスタ２の活性領域２４を取り囲むゲート電極層配列は、好ましくはＳｉ３Ｎ４を含んだ絶縁層１０５によって区切られている。この絶縁層１０５は、選択トランジスタ２に沿って、上部電極２１から、ゲート電極層配列を介して、トレンチキャパシタ１の内部電極１１上に位置する絶縁層１０４まで伸びている。トレンチ領域において、隣接するＤＲＡＭセルのゲート電極層配列を区切る絶縁層１０５の間に位置する領域には、ＳｉＯ２層１０６を充填することが好ましい。このように、ゲートが取り囲まれることによって、並んでいる選択トランジスタの活性領域の相互作用を確実に遮断する。つまり、ＭＩＳＦＥＴの活性領域を通る対応（ｅｎｔｓｐｒｅｃｈｅｎｄ）するリーク電流が発生せず、したがってメモリーセル内の情報損失が発生しないのである。図１２Ｃの断面図に示しているように、並んでいるビット線６、つまり同じワード線７にそれぞれ関連の選択トランジスタの間で、かつ、半導体基板上に位置する選択トランジスタを備えた並んだ支えの間に、支柱１０８を形成する。この支柱１０８は、選択トランジスタを備えた支え１０１に対して好ましくは平行に伸びている。選択トランジスタの支え１０１と、好ましくはポリシリコンを含んだ支柱１０８との間に、層配列をそれぞれ形成する。この層配列では、選択トランジスタの活性領域２４までＳｉＯ２を含んだ絶縁層１０９が伸びている。また、層配列の上では、ゲート電極層配列が縦型に配置されている。そして、この層配列は、並んでいる２つの選択トランジスタ支えの間で、支柱１０８を越えて伸びる絶縁層１０５によって覆われている。さらに、選択トランジスタ２の上部電極２１は、柱のような形状をした導電層１１０を介して、関連のビット線６と連結している。この導電層１１０は、ポリシリコンを含んでいることが好ましく、ビット線６は、タングステンを含んでいることが好ましい。ビット線間に位置する隙間には、ＳｉＯ２層１０６を充填する。図１２に基づいて実施例に示したように、本発明による半導体メモリーセル構造は、ＤＲＡＭメモリーセル１０をマトリックの形状に配置することを特徴としている。このＤＲＡＭセルを、縦型選択トランジスタ２とトレンチキャパシタ１とが関連の各ビット線６の下に伸び、かつ、メモリーセルがそれぞれ列状に上下に配置されているように、設計する。この構造を用いて、ＤＲＡＭセルの立方体の実装密度を最大にし、それによってセル面積を最小にしたセル構造を実現できる。さらに、本発明による形態の場合、選択トランジスタの活性領域は、ゲート電極層配列と関連のワード線７とによって完全に囲まれているということが、重要である。この結果、当該のＤＲＡＭセルと関連しない隣接するワード線およびビット線からの影響を避けることができる。図１２の実施例では、２Ｆ（Ｆは最小構造寸法である。）の場合の隣接する２本のワード線の間隔を最短にすることができる。さらに、図１２に示した実施例では、隣接するビット線間に支柱１０８を形成することによって、ビット線を２本１組に組み合わせできるＤＲＡＭセルの相互接続が可能になる。本発明によって、ビット線を組にして相互接続すると、セルの最小寸法は５Ｆ２〜６Ｆ２に達する。また、図１２に示した、組み合わせられたビット線相互接続に代わって、本発明は、他の知られたビット線相互接続をも使用できる。図１３Ｂは、いわゆるオープンビット線相互接続用の半導体メモリーセル構造を示す平面図である。この第２実施形態では、図１２に示した支柱構造を使用しない。図１３Ａに示したようなビット線６に沿って切断した断面図については、図１２Ａの第１実施形態の場合と同じ断面図となるが、しかし、図１３Ｃに示す断面図は、ワード線に沿って切断されたものである。
【００１３】
図１３Ｃに示した断面図では、隣接するビット線６に関連のある２つの選択トランジスタ間に位置するワード線７に沿って、層配列が形成されている。この層配列に関して、ゲート誘電体２４とゲート電極層２５とを備え、かつ、ワード線７に用いられる層とそれぞれ連結したゲート電極層配列が、ＳｉＯ２層１０９上に選択トランジスタの活性層を取り囲んでそれぞれ配置されている。この構造によって、４Ｆ２〜５Ｆ２という最小のセル寸法を達成できる。
【００１４】
図１〜１１に基づいて、図１２に示しているような半導体メモリーセル構造を製造するための適切な（ｍｏｅｇｌｉｃｈｅ）プロセス過程について詳述する。出発材料（Ａｕｓｇａｎｇｓｍａｔｅｒｉａｌ）は、ｐ型にドープされたシリコン基板Ｓ１である。この出発材料の上に、複数の洗浄工程後に、厚さ約８ｎｍのＳｉＯ２層（図示せず）を蒸着する。この酸化物層の上に、厚さ約２００ｎｍのＳｉ３Ｎ４層Ｓ２を形成する。この窒化物層の上に、厚さ約８００ｎｍのＳｉＯ２層を再び形成する。この層配列は、次のトレンチエッチング用のマスク層として機能する。さらに、トレンチキャパシタを限定するために、マスクを用いてフォトリソグラフィーを実施する。このフォトリソグラフィー工程後に、マスク層を異方性エッチングする。このとき、酸化エッチングには例えばＣＨＦ３とＯ２とを、窒化エッチングには例えばＣ２Ｆ６とＯ２とを使用する。メモリーキャパシタが形成されるトレンチ用のエッチングマスクを形成した後、フォトリソグラフィー用のレジストマスクを除去する。次に、メモリーキャパシタ用のトレンチを露出するために、ＨＢｒとＨＦとを用いてエッチングマスクの露出領域に、シリコン層を約１０μｍの深さまで異方性エッチングする。続いて、シリコン基板におけるメモリーキャパシタの共通の第２電極用に、好ましくはヒ素ガラスを用いて埋設された平板を形成する。このために、厚さ約２ｎｍのヒ素ガラス層を形成することが好ましい。このヒ素ガラス層上に、エッチングされたトレンチを充填する厚さ約５００ｎｍのポリマーフォトレジスト（好ましくはＰＭＭＡ）を形成する。このポリマーフォトレジスト層を、トレンチの外部で、Ｏ２を用いて厚さ約２μｍにエッチバックする。続いて、トレンチに位置するポリマーフォトレジスト上において、例えばＨＦを用いてヒ素ガラスをエッチングし、トレンチに位置するポリマーフォトレジスト層をＯ２を用いて除去する。半導体メモリーセル構造の全メモリーキャパシタの共通の外部電極を構成する埋設されてｎ型に強くドープされた層を形成するために、ヒ素ガラスからｐ型にドープされたシリコンにヒ素を拡散する。そして、残りのヒ素ガラスをＨＦエッチングを用いて除去する。
【００１５】
トレンチにメモリーキャパシタの誘電層を形成するために、ＯＮＯ蒸着（酸化物・窒化物・酸化物）を行う。まず、層の厚さＳ３を約３ｎｍに選択する。続いて、トレンチを充填するために、ｎ型に高ドープされた厚さ約２００ｎｍのポリシリコンＳ４を蒸着する。次に、トレンチの外部に突き出たこのポリシリコンをエッチバックする。さらに、トレンチの上に突き出たＯＮＯ誘電体を、ＨＦを用いて除去する。そして、好ましくはＴＥＯＳ法を用いて、厚さ約２０ｎｍのＳｉＯ２層を形成し、ＣＨＦ３とＯ２とを用いて異方性エッチングによってこの層を除去する。続いて、高ドープされた厚さ約２００ｎｍのポリシリコンを再度蒸着し、約８００ｎｍまでエッチバックする。これにより、図１Ｂの平面図に示したような構造になる。図１Ａは、線ＡＡに沿って切断された、メモリーキャパシタ用のトレンチを貫く断面図である。
【００１６】
図１Ｂに示したメモリーキャパシタ用の楕円形のトレンチに代わるものとして、例えば図１４および１５に示したように、メモリーキャパシタ用のトレンチを他の形状に形成することもできる。特に、側壁面積が広く、そのためにキャパシタのメモリー容量の高いトレンチの形状を、選択できる。
【００１７】
例えば、トレンチキャパシタのトレンチの形状によって、縦型選択トランジスタを配置するリブ（Ｓｔｅｇｅ）の形状を決定できる。トレンチを長方形の形状に形成した場合、例えばワード線と平行して選択トランジスタを備えた板と板との隙間は、ビット線方向のそれよりも狭い。これによって、スペーサーへの蒸着を用いて、連続的かつ互いに分離したワード線となる。
【００１８】
半導体基板に位置するトレンチのメモリーキャパシタを形成した後、図１Ａおよび１Ｂに示しているように、選択トランジスタをパターン化する。このために、第１に、厚さ約４ｎｍの薄いＳｉ３Ｎ４層Ｓ５を形成する。このＳｉ３Ｎ４層Ｓ５上に、厚さ約２０ｎｍのアモルファスシリコンを含むドープされていない層Ｓ６を蒸着する。次に、このアモルファスシリコンを、例えばＣ２Ｆ６とＯ２とを用いてエッチバックする。この結果、アモルファスシリコンは、なおもトレンチの側壁に残ってスペーサーを形成する。続いて、トレンチの片側の側壁に位置するスペーサーを高ドープする。このとき、ｎ型ドーピングとｐ型ドーピングとのいずれが行われてもよい。図２Ａおよび図２Ｂは、この最終プロセス工程後のシリコンウェハを示しており、Ｓ７がこのドープ層である。
【００１９】
さらに、フォトリソグラフィー工程を用いて、アモルファスシリコンスペーサーを分離する（Ａｕｓｔｒｅｎｎｕｎｇ）。このフォトリソグラフィー工程をハードマスク方法（Ｈａｒｔｍａｓｋｅｎｖｅｒｆａｈｒｅｎｓ）を用いて行う場合、ＴＥＯＳ法（ＴＥＯＳ−Ｖｅｒｆａｈｒｅｎ）を行った後、初めに、厚さ８０ｎｍの酸化物層Ｓ８を形成する。次に、この酸化物を、例えばＣＨＦ３およびＯ２エッチングを用いてパターン化し、続いて、露出箇所において、例えばＣ２Ｆ６およびＯ２を用いて、アモルファスシリコンスペーサーＳ６・Ｓ７を選択的に除去する。このプロセス工程後に、図３Ｂに示したような半導体構造の平面図となる。ここで明確にしておきたいのは、アモルファスシリコンスペーサーＳ６・Ｓ７を、トレンチの露出領域において、除去するということである。図３Ａは、残りの酸化物面（Ｏｘｉｄ−Ｂａｈｎ）Ｓ８に沿って切断した、シリコンウェハを貫く断面図を示している。トレンチに位置するアモルファスシリコンスペーサーＳ６・Ｓ７を選択的にエッチングした後、酸化物Ｓ８をＣＨＦ３およびＯ２を用いて完全に除去する。なお、記載したハードマスクフォトリソグラフィー工程に代わるものとして、酸化物マスクの代わりに従来のレジストマスクを使用してもよい。
【００２０】
酸化物マスクを除去した後、１つのトレンチ側面上のアモルファスシリコンスペーサーＳ７のドーピング剤を熱を加えて活性化させる。アモルファスシリコンスペーサーＳ６・Ｓ７は再結晶化する。次に、他のフォトリソグラフィー工程を用いて、ドープされていないシリコンスペーサーＳ６を除去する。初めに、厚さ約５００ｎｍのポリマーフォトレジストＳ９（好ましくはＰＭＭＡ）を回転塗布する。次に、このポリマー層を、トレンチの外部において、例えばＯ２を用いて完全にエッチバックする。続いて、ドープされていないシリコンスペーサーを、ｐ型またはｎ型に高ドープされたシリコンスペーサーに対して選択的に除去する。そして、ＨＦを用いて、ＯＮＯ層を約４０ｎｍに等方的にエッチバックする。このプロセス工程後に、図４Ｂに示したような、シリコンウェハの平面図となる。図４Ａは、線ＡＡに沿って切断した断面図である。
【００２１】
ここでは、トレンチキャパシタの内部ポリシリコン層Ｓ４の上角の一部Ｓ１０が露出している様子が見られる。この領域には、トレンチキャパシタの内部電極と関連の選択トランジスタとの連結部を形成する。スペーサーを用いてこの接触箇所を形成するための上述のプロセス過程によって、この接触箇所を自己整合的にパターン化し、非常に小さなセル構造を形成することができる。注目に値するのは、特に、シリコンスペーサーの片側をドープする技術である。これによって、スペーサー構造の選択的エッチングプロセスが可能になる。この結果、トレンチキャパシタと関連の選択トランジスタとの間に位置する接触箇所を、正確で自己整合的に固定できる。
【００２２】
接触箇所とトレンチキャパシタの内部電極とを固定する機能を有するＯＮＯ層Ｓ３を等方的にエッチバックした後、この接触箇所を充填する。初めに、例えばＯ２を用いてＰＭＭＡ層Ｓ９を完全に除去する。続いて、ドープされた残りのポリシリコンスペーサーＳ７をエッチングによって除去し、層の厚さが約１５ｎｍのドープされていないアモルファスシリコンＳ１１を、半導体構造上に蒸着する。次に、このアモルファスシリコンを、Ｃ２Ｆ６とＯ２とを用いて等方的にエッチバックする。これにより、トレンチに位置する接触箇所以外において、アモルファスシリコンを再び完全に除去する。このプロセス工程後のシリコンウェハが、図５Ｂの平面図、および、図５Ａの線ＡＡに沿って切断した断面図である。
【００２３】
接触箇所を充填した後、トレンチに隣接する支えに選択トランジスタをパターン化するための前処理を行う。初めに、好ましくはＴＥＯＳ法に従って、厚さ約８０ｎｍの酸化物Ｓ１２を蒸着するプロセス過程を行う。次に、このＳｉＯ２層を、ＣＨＦ６とＯ２とを用いて約１３０ｎｍだけエッチバックする。これにより、上部Ｓｉ３Ｎ４層の領域のトレンチ間に位置する支えが露出する。そして、このＳｉ３Ｎ４層を、例えばＨ３ＰＯ４を用いて完全に除去する。続いて、Ｏ２を用いてＳｉＯ２層を約１０ｎｍだけ再度エッチバックする。このプロセス工程後のシリコンウェハが、図６Ｂの平面図、および、図６Ａの線ＡＡに沿って切断した断面図である。
【００２４】
次に、トレンチに配置されたメモリーキャパシタの側面に、縦型選択トランジスタを形成する。ｎチャネルトランジスタ領域を固定するために、第１工程では、セル領域にイオン注入を行うことによって、ｎ型の高ドーピング（好ましくはヒ素ドーピング）を行い、拡散後には、このドーピングは５×１０１９／ｃｍ３で深さ約１００ｎｍまで広がっている。この上部ｎドープ層Ｓ１３は、トランジスタの第１電極を固定する。第２電極を形成するために、好ましくは同様にヒ素を用いてイオン注入を行うことによって、最深が約４００ｎｍの領域に位置する埋設層Ｓ１４をセル領域に形成し、拡散後に、縦型層の厚さは約２００ｎｍになる。このｎ型層については、約５×１０１８／ｃｍ３のドーピングを選択する。そして、最後の拡散工程において、第２電極とトレンチキャパシタの内部電極との間に位置する接触箇所Ｓ１１のドーピングも同時に行われる。
【００２５】
第１電極と第２電極とを形成した後、チャネル領域をウェル注入によって固定する。このために、ｐ型にドープするために、イオン注入を好ましくはホウ素を用いて行う。例えば、深さ約１μｍの地点で１×１０１６／ｃｍ３のドーピングを発生させる。次に、拡散によってウェルＳ１５を形成する。拡散工程を、続くゲート酸化工程と平行して行うこともできる。ｐ型ウェルＳ１へのドーピングを調整することによって、自己遮断的に形成されたｎ型チャネルトランジスタの開始電圧を固定する。図７Ｂは、選択トランジスタの限定後におけるシリコンウェハの平面図を示している。図７Ａは、図７Ｂの線ＡＡに沿って切断した断面図を、図７Ｃは、図７Ｂの線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。第２電極をイオン注入と拡散とによって形成することによって、トレンチキャパシタの内部電極を自己整合的に接続できる。なぜなら、拡散によって、接触箇所が自動的にドープされるからである。
【００２６】
第１および第２電極領域、および、選択トランジスタのチャネル領域を限定した後、この選択トランジスタを、トレンチ絶縁（ＳＴＩ）技術を用いて、垂直（つまりｙ）方向に絶縁する。このために、第１に、プロセス過程において、フォトリソグラフィー技術を用いて、厚さ約１００ｎｍに蒸着したＳｉ３Ｎ４層Ｓ１６をパターン化する。トレンチキャパシタ上においてトレンチキャパシタと関連している各選択トランジスタの領域を固定する窒化物層のストライプがｘ方向に残るように、窒化物層Ｓ１６を、例えばＣ２Ｆ６とＯ２とを用いて選択的にエッチングする。レジストマスクを除去した後、トレンチキャパシタ間において、露出したシリコン層を例えばＣ２Ｆ６とＯ２とを用いて深さ約６００ｎｍまでエッチングする。このプロセス工程の終了後のシリコンウェハを、図８Ｂの平面図、図８Ａの線ＡＡに沿って切断した断面図、および、図８Ｃの線ＣＣに沿って切断した断面図に示している。選択されたトレンチ絶縁技術によって、選択トランジスタをｙ方向に簡単にパターン化し、絶縁することによって、この絶縁にかかるプロセスコストを抑えることができる。
【００２７】
続いて、他のプロセス過程では、図１２の実施形態に示しているように、組をなすビット線構造を備えた半導体メモリーセル構造を形成するために、選択トランジスタ間にスペーサー構造を垂直方向に形成する。このために、第１に、ＴＥＯＳ法を用いて、ＳｉＯ２層を厚さ約５０ｎｍに蒸着する。続いて、酸化物層Ｓ１２のスペーサーエッチングを、Ｃ２Ｆ６とＯ２とを用いて行う。このとき、約８０ｎｍのオーバーエッチング（Ｕｅｂｅｒａｅｔｚｅｎ）を行う。そして、スペーサー間に位置する露出したトレンチにおいて、選択的にドープされないポリシリコンを厚さ約５５０ｎｍに成長させることにより、支柱構造が生じる。さらに、シリコンと、Ｓｉ３Ｎ４と、他の適切な材料とを切断（Ａｂｓｃｈａｌｔｅｎ）およびエッチバックすることによって、支柱構造を形成できる。支柱構造を形成した後、シリコンウェハの平面図は、図９Ｂに示したようになる。図９Ａは、線ＡＡに沿って切断した断面図を、図９Ｃは、線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【００２８】
図１２に示したような組をなすビット線相互接続の代わりに、図１３の実施形態に示したようなオープンビット線相互接続を用いることが意図されるとき、支柱構造は必要ではない。これによって、図８のプロセスイメージ（ｐｒｏｚｅｓｓａｂｂｉｌｄ）から図９のプロセスイメージへのプロセスサイクルを用いなくてもよくなる。
【００２９】
支柱構造を形成した後、メモリーキャパシタを絶縁するために、メモリーキャパシタの上に上端酸化物（Ｔｏｐ−Ｏｘｉｄｓ）を形成する。このために、第１工程では、Ｈ３ＰＯ４を用いてＳｉ３Ｎ４層を完全に除去する。その後、残ったＳｉＯ２層を、ＣＨＦ３とＯ２とを用いて深さ約３８０ｎｍまでエッチバックする。エッチングプロセスは、Ｓｉ３Ｎ４に対して選択的ではない。これによって、トランジスタ構造と支柱構造とを備えた支えを完全に露出できる。続いて、メモリーキャパシタを絶縁するために、トレンチ上端酸化物Ｓ１８を、好ましくは厚さ４０ｎｍに形成する。なお、プロセス工程後のシリコンウェハを、図１０Ｂの平面図、図１０Ａの線ＡＡに沿って切断した断面図、および、図１０Ｃの線ＣＣに沿って切断した断面図に示している。
【００３０】
トレンチ上端酸化物Ｓ１８を形成した後、他のプロセス工程では、選択トランジスタ用のゲート構造の形成、および、ワード線の形成を行う。このために、第１プロセス工程では、好ましくは厚さ約４ｎｍの熱酸化物（ｔｈｅｒｍｉｓｃｈｅｓ Ｏｘｉｄ）として、ゲート誘電体Ｓ１９を成長させる。続いて、厚さ約２０ｎｍで高ドープされたポリシリコン層Ｓ２０を蒸着する。このポリシリコン層Ｓ２０は、選択トランジスタ用のゲート電極として機能する。次に、各ゲート電極を連結するワード線を形成する。このために、第１に、タングステン窒化物からなる厚さ約２ｎｍの障壁層（図示せず）を形成する。その上に、層の厚さが約２０ｎｍのタングステンを蒸着する。
【００３１】
選択トランジスタのゲート電極と関連のワード線とをパターン化するために、好ましくはＣ２Ｆ６とＯ２とを用いて、ポリシリコン層Ｓ２０と、障壁層と、タングステン層Ｓ２１とを、約５０ｎｍまで異方性エッチングする。これにより、選択トランジスタを備えた支えの周囲に、ゲート電極構造およびワード線構造からなるスペーサーを形成する。このとき、上部電極と下部電極との間に位置する活性領域は、選択トランジスタを備えた支えの中に完全に含まれる。ゲート電極とワード線とのスペーサーをパターン化した後、他のプロセス工程では、約２０ｎｍと薄くて強いＳｉ３Ｎ４層Ｓ２２を蒸着し、この上には、好ましくはＴＥＯＳ法を用いて厚さ約２００ｎｍのＳｉＯ２層Ｓ２３を形成する。そして、この酸化物層Ｓ２３を、好ましくは化学的機械研磨を用いて、窒化物層Ｓ２２の上角まで平坦に研磨する。続いて、Ｃ２Ｆ６とＯ２とを用いて窒化物を選択的にエッチングする。好ましくはＨＦを用いて約４０ｎｍまで酸化物をエッチバックした後、図１１Ｂの平面図、図１１Ａの線ＡＡに沿って切断した断面図、および、図１１Ｃの線ＣＣに沿って切断した断面図に示しているような構造が、シリコンウェハにおいて生じる。
【００３２】
図１１に示したプロセス構造を前提として、他のリソグラフィープロセス順序（Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｅｐｒｏｚｅｓｓｆｏｌｇｅ）において、選択トランジスタの上部電極用のポリシリコン接触部と、ビット線を形成するためのタングステン金属被膜（Ｗｏｌｆｒａｍｍｅｔａｌｌｉｓｉｅｒｕｎｇ）とを形成する。これによって、図１２Ａ〜Ｃに示したようなＤＲＡＭメモリーセル構造が生じる。これに代わるものとして、支柱構造を形成するプロセス順序を使用しない場合には、図１３Ａ〜Ｃに示したＤＲＡＭメモリーセル構造が生じる。
【００３３】
本発明によるプロセス過程によって、トレンチキャパシタと縦型選択トランジスタとを備えたＤＲＡＭメモリーセル構造を形成できる。このＤＲＡＭメモリーセル構造の選択トランジスタの活性領域は、ゲート構造とワード線構造によって完全に取り囲まれており、所要面積が最小であるという特徴を有している。上述したように、ＤＲＡＭセルの実装密度を、特に、ワード線用に自己整合的にメモリーをパターン化することによって最大化できる。
【００３４】
図１、図１４、図１５に示したトレンチ形状と並んで、このキャパシタのメモリー容量を高めることもできるメモリーキャパシタ用のさらに他の断面図を実現するために、提示した実施形態に代わるものとして、本発明において、特にトレンチキャパシタを拡大するための異方性プロセスおよび／または結晶方向プロセスを行う。
【００３５】
さらに、本発明によるＤＲＡＭメモリーセル構造を形成するために、本発明において、上述の実施例に基づいて、提供された寸法、濃度、材料およびプロセスを適切に調整できる。特に、選択トランジスタ（とりわけソース／ドレイン領域）を形成するために、知られているプロセス順序を用いることができる。加えて、半導体構造におけるドープされた領域の伝導型を実施することができる。さらに、提示された誘電体に代わるものとして、他の知られている誘電体を使用してもよい。シリコン酸化物に代わって、例えばシリコン窒化物、アルミニウム酸化物、ジルコン酸化物、酸化物‐窒化物‐混合物および低ｋ材料（Ｌｏｗ−ｋ−Ｍａｔｅｒｉａｌｉｅｎ）を使用できる。メモリーキャパシタに位置するＯＮＯ中間層に代わるものとして、例えばアルミニウム酸化物、ジルコン酸化物、タンタル酸化物、ハフニウム酸化物、ペロブスカイト、特にＢＳＴのような高誘電率を有する他の知られている誘電体を使用できる。ワード線用にスペーサー構造を形成するタングステンに代わるものとして、例えばタングステンケイ化物またはチタンとコバルトとを含んだケイ化物のような例えばケイ化物、または、ドープされたポリシリコンをも使用できる。さらに、提示した層と並んで、特に障壁を形成するための他の層配列を、望ましくない拡散を避けるために半導体構造に埋設できる。最後に、提示したパターン化プロセスにおいて適切な場合に、選択性とマスク順序とを本発明の範囲からそれることなく変えることができる。
【００３６】
上述の明細書、図面および請求項において開示した本発明の特徴は、様々な形態において本発明を実施するために、個々にも、任意に組み合わせても意味をなすものである。
【００３７】
図１３Ａに関して、ＤＲＡＭメモリーセルの縦型選択トランジスタ２は、ｎ＋にドープされた上部電極２１と、ｐ型に低ドープされた活性中間層２２と、上部電極２１と同様にｎ＋にドープされた下部電極２３とを含んでいる。下部電極２３には、さらに拡散剤Ｄを埋設する。この拡散剤Ｄのドーピング剤は、トレンチキャパシタ１の内部電極１１から導電連結部４を介して下部電極２３に拡散される。
【００３８】
縦型選択トランジスタ２を、幅Ｂの板に形成する。この幅Ｂを、トランジスタ２のチャネルを配置している活性中間層２２を完全に使い尽くす（ｖｅｒａｒｕｂａｒ）ことができるように、狭く選択する。このことは、例えば、隣接する板に隣接する中間層を２Ｆラスター（２Ｆ−Ｒａｓｔｅｒ）に配置することによって達成される。Ｆとは、基板上において、リソグラフィーによって造られた（ａｂｇｅｂｉｌｄｅｔｅ）周期的な最小の構造を意味する。板の幅Ｂは、主として、板の間に位置する隙間よりも狭い。これにより、トレンチキャパシタを配置している板の間に位置する隙間は１Ｆ〜２Ｆの幅を有し、板は２Ｆからトレンチの幅Ｂを引いた幅Ｂを有している。したがって、この板は、サブリソグラフィー的な（ｓｕｂｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｓｃｈ）幅Ｂを有している。
【００３９】
図１３Ｂは、本発明によるメモリーセル領域を示す俯瞰図である。選択トランジスタを構成する板は、幅Ｂと長さＬとを有している。長さＬはワード線の方向に伸び、幅Ｂはビット線の方向に伸びている。ここでは、長さＬは幅Ｂよりも長く構成されている。本発明によって、板に蒸着したスペーサー構造を用いて、貫通するようにワード線を形成できる。長さＬは、スペーサー蒸着部と隣接する板とが互いに接することによって貫通したワード線を構成するように、選択される。そして、板の幅Ｂを板の長さＬよりも狭く構成しているので、隣接するワード線をビット線方向に沿って互いに分離する。これにより、隣接するスペーサー蒸着部はビット線の方向に互いに接しない。
【００４０】
下部電極２３は、板において全長Ｌ×全幅Ｂに広がっているので、活性中間層２２との付加的なボディコンタクトを形成できない。したがって、活性中間層２２は、上部電極２１および下部電極２３と電気的に接続しない。この必要がないのは、幅Ｂを有する板を完全に使い尽くすように、したがって電界効果トランジスタを用いた場合に不都合なフローティング基板バイアス効果（Ｆｌｏａｔｉｎｇ−Ｂｏｄｙ−Ｅｆｆｅｋｔｅ）を回避できるように、本発明は幅Ｂの板を有効な程に狭く形成するからである。
【００４１】
トレンチキャパシタとメモリー構造の板とをパターン化する前に、下部電極２３を例えば埋設層として形成することにより、隣接する選択トランジスタの各下部電極を互いに分離する。それに加えて、下部電極を、ｎ型ドーピングを用いて形成されたエピタキシー成長層として形成できる。そして、エピタキシー成長層２３上において、活性層２２を同様にエピタキシー成長させる。また、それに代わるものとして、注入によって下部電極を製造できる。このとき、この層２３を、埋設層として適切な注入パラメータを用いて注入する。
【００４２】
上述した方法を用いて、次に下部電極２３が形成される層２３の位置および厚さを、非常に正確に設定できる。
【００４３】
続いて、上部電極２１を、トレンチキャパシタ１用のトレンチを形成する前後に、注入を用いて形成できる。
【００４４】
また、ゲート電極およびワード線を、スペーサー技術を用いて形成する。さらに、例えば、選択トランジスタの板の周囲にも沈殿した（ｎｉｄｅｒｓｃｈｌａｅｇｔ）層を、均一に（等方的に）蒸着する。方向性の（ｇｅｒｉｃｈｔｅｔｅｎ）（異方的な）エッチングを用いて以前蒸着した層をエッチバックすることによって、板の周囲にゲート電極が生じる。板の周囲に位置する各ゲート電極は、ワード線の方向に連なっている（ｚｕｓａｍｍｅｎｈａｅｎｇｅｎｄｅ）。なぜなら、ワード線の方向に位置する板の間隔は、連なったワード線が発生するように狭くなっているからである。
【００４５】
中に縦型選択トランジスタ２のチャネルを形成できる活性中間層２２を、主として、隣接するメモリーセルのトレンチ１間に配置する。このとき、選択トランジスタにおいて制御可能な電流は、主にトレンチ間において発生する。
【００４６】
ダイナミックメモリーセル１０のトレンチキャパシタ１と関連の縦型選択トランジスタ２とを、関連のビット線６の下にほぼ配置できる。
【００４７】
隣接する２つのワード線間の最小間隔を、メモリーセルを製造するためのリソグラフィー技術の最小構造寸法と同様に、２倍に形成できる。同様に、隣接する２つのビット線間の最小間隔を、メモリーセルを製造するためのリソグラフィー技術の最小構造寸法と同様に、２倍に形成できる。これにより、４Ｆ２の基板表面を要するメモリーセルが可能になる。
【００４８】
本発明による支柱を用いて、６Ｆ２の基板表面を要するメモリーセルが可能になる。さらに、例えば、読取り増幅器を用いて活性のビット線と不活性のビット線とを比較する折り返しビット線構成を実施するために、より大きな所要面積を用いることができる。本発明により、ワード線を、４Ｆ２のメモリーセルと６Ｆ２のメモリーセルとのためにマスクを用いずに自己整合的に形成できる。マスクを用いた場合は、調整交差用に所要面積を増やす必要はない。
【００４９】
ドープされた個々のスペーサーを選択的にエッチングする場合、トレンチキャパシタ１の内部電極の領域を露出できる。
【００５０】
選択トランジスタ２の上部電極２１を、トレンチ絶縁プロセスによって限定し、続く注入を用いて形成する。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示し、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図２】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示し、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図３】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示し、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図４】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示し、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図５】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示し、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図６】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示し、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図７】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示し、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図８】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示し、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図９】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示し、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図１０】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示し、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図１１】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示し、本半導体メモリーセル構造を製造するための方法工程を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図１２】
本発明による半導体メモリーセル構造の第１実施形態を示す図である。
【図１３】
本発明による半導体メモリーセル構造の第２実施形態を示す図であり、部分図Ｂは平面図を、部分図Ａは線ＡＡに沿って切断した断面図を、部分図Ｃは線ＣＣに沿って切断した断面図を示している。
【図１４】
トレンチキャパシタを形成するためのプロセス工程後に行われる第３実施形態を示す平面図である。
【図１５】
トレンチキャパシタを形成するためのプロセス工程後に行われる第４実施形態を示す平面図である。
【図１６】
ダイナミック読み／書きメモリーの回路図である。
【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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2004505466.tif 000073
【国際調査報告】
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