(57)【要約】本発明は式（Ｉ）の化合物に関する。本発明の化合物はスルホニル尿素のような除草活性成分を製造するのに適している。【化１】2004504374.tif 000061
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2004504374.tif 000023
［式中、Ｒ１はＨ、（Ｃ１−Ｃ８）アルキル、（Ｃ３−Ｃ８）アルケニルまたは（Ｃ３−Ｃ８）アルキニルであり、最後の３個の基は未置換であるかまたは置換されており、
Ｒ２、Ｒ３は互いに独立してＨまたはアシルであり、
Ｒ４、Ｒ５はＨであり、
Ｒ６はＨ、あるいは未置換または置換された（Ｃ１−Ｃ８）アルキルであり、
Ｒ７は未置換または置換された（Ｃ１−Ｃ８）アルキル、（Ｃ３−Ｃ８）アルケニル、（Ｃ３−Ｃ８）アルキニル、（Ｃ６−Ｃ１４）アリール、あるいはモノ−またはジ−（Ｃ１−Ｃ８）アルキルアミノであり、あるいは
Ｒ６およびＲ７は一緒になって未置換または置換された式−（ＣＨ２）ｍＢｍ１−（式中、ｍは２、３または４であり、ｍ１は０または１であり、そしてＢはＣＯまたはＳＯ２である）の炭素鎖を形成し、
Ｒ８基は同一または異なって未置換または置換された（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、［（Ｃ１−Ｃ４）アルキル］カルボニルまたは［（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ］カルボニルであり、あるいはＲ８はハロゲン、ＮＯ２またはＣＮであり、そして
ｎは０、１、２または３である］の化合物。
【請求項２】
Ｒ１はＨまたは（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、好ましくは（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ２、Ｒ３はＨであり、
Ｒ４、Ｒ５はＨであり、
Ｒ６はＨであり、
Ｒ７は（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、そして
ｎは０である請求項１記載の式（Ｉ）の化合物。
【請求項３】
−ＣＲ４Ｒ５−ＮＲ６−ＳＯ２−Ｒ７基が−ＣＯ−ＯＲ１基のパラ位にある請求項１または２記載の式（Ｉ）の化合物。
【請求項４】
１ａ）　式（ＩＩ）
【化２】
2004504374.tif 000024
の化合物を酸の不在下で接触水素添加により反応させて式（ＩＩＩ）
【化３】
2004504374.tif 000025
の化合物を得るか、または酸Ｈ＋Ｘ−（ここでＸ−は酸アニオンの等価物である）の存在下で接触水素添加により反応させて式（ＩＩＩａ）
【化４】
2004504374.tif 000026
（式中、Ｘ−は酸アニオンの等価物である）の化合物を得、次に
１ｂ）　式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得る工程；あるいは
２ａ） α）　式（ＩＩ）
【化５】
2004504374.tif 000027
の化合物をニトロ化合物に関する慣用の還元法により反応させて式（ＩＶ）
【化６】
2004504374.tif 000028
の化合物を得、次に
β）　式（ＩＶ）の化合物を接触水素添加により、またはニトリルに関する慣用の還元法により反応させて式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物を得、次に
２ｂ）　式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得る工程；あるいは
３ａ） α）　式（ＩＩ）
【化７】
2004504374.tif 000029
の化合物をニトリルに関する慣用の還元法により反応させて式（Ｖ）または（Ｖａ）
【化８】
2004504374.tif 000030
（式中、Ｘ−は式（ＩＩＩａ）で定義された通りである）の化合物を得、次に
β）　式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物をニトロ化合物に関する慣用の還元法により、または接触水素添加により反応させて式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物を得、次に
３ｂ）　式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得る工程；あるいは
４ａ） α）　式（ＩＩ）
【化９】
2004504374.tif 000031
の化合物をニトリルに関する慣用の還元法により反応させて式（Ｖ）または（Ｖａ）
【化１０】
2004504374.tif 000032
（式中、Ｘ−は式（ＩＩＩａ）で定義された通りである）の化合物を得、次に
β）　式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（ＶＩ）
【化１１】
2004504374.tif 000033
の化合物を得、次に
４ｂ）　式（ＶＩ）の化合物をニトロ化合物に関する慣用の還元法により、または接触水素添加により反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得る工程（上記式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＩＩａ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（Ｖａ）および（ＶＩ）のＲ１、Ｒ７、Ｒ８およびｎは請求項１または２の式（Ｉ）で定義された通りである）；および場合により
５）　工程１）〜４）の何れかで得られた式（Ｉ）の化合物をアルキル化剤または還元的アミノ化により反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ６は未置換または置換されたＣ１−Ｃ８−アルキルである）の化合物を得、あるいはアシル化剤と反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２および／またはＲ３はアシルである）の化合物を得る工程
からなる請求項１〜３の何れかの項記載の式（Ｉ）の化合物の製造法。
【請求項５】
Ａ） １ａ）　式（ＩＩ）
【化１２】
2004504374.tif 000034
の化合物を酸の不在下で接触水素添加により反応させて式（ＩＩＩ）
【化１３】
2004504374.tif 000035
の化合物を得るか、または酸Ｈ＋Ｘ−（ここでＸ−は酸アニオンの等価物である）の存在下で接触水素添加により反応させて式（ＩＩＩａ）
【化１４】
2004504374.tif 000036
（式中、Ｘ−は酸アニオンの等価物である）の化合物を得、次に
１ｂ）　式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得；あるいは
２ａ） α）　式（ＩＩ）
【化１５】
2004504374.tif 000037
の化合物をニトロ化合物に関する慣用の還元法により反応させて式（ＩＶ）
【化１６】
2004504374.tif 000038
の化合物を得、次に
β）　式（ＩＶ）の化合物を接触水素添加により、またはニトリルに関する慣用の還元法により反応させて式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物を得、次に
２ｂ）　式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得；あるいは
３ａ） α）　式（ＩＩ）
【化１７】
2004504374.tif 000039
の化合物をニトリルに関する慣用の還元法により反応させて式（Ｖ）または（Ｖａ）
【化１８】
2004504374.tif 000040
（式中、Ｘ−は式（ＩＩＩａ）で定義された通りである）の化合物を得、次に
β）　式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物をニトロ化合物に関する慣用の還元法により、または接触水素添加により反応させて式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物を得、次に
３ｂ）　式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得；あるいは
４ａ） α）　式（ＩＩ）
【化１９】
2004504374.tif 000041
の化合物をニトリルに関する慣用の還元法により反応させて式（Ｖ）または（Ｖａ）
【化２０】
2004504374.tif 000042
（式中、Ｘ−は式（ＩＩＩａ）で定義された通りである）の化合物を得、次に
β）　式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（ＶＩ）
【化２１】
2004504374.tif 000043
の化合物を得、次に
４ｂ）　式（ＶＩ）の化合物をニトロ化合物に関する慣用の還元法により、または接触水素添加により反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得（上記式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＩＩａ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（Ｖａ）および（ＶＩ）のＲ１、Ｒ７、Ｒ８およびｎは請求項１または２の式（Ｉ）で定義された通りである）；そして次に場合により
５）　工程Ａ１）〜Ａ４）の何れかで得られた式（Ｉ）の化合物をアルキル化剤または還元的アミノ化により反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ６は未置換または置換されたＣ１〜Ｃ８−アルキルである）の化合物を得る
ことにより請求項１または２に記載の式（Ｉ）（式中、Ｒ２およびＲ３はＨである）の化合物を製造し；次に
Ｂ） ６）　工程Ａ）で得られた式（Ｉ）の化合物を反応させて式（ＶＩＩ）
【化２２】
2004504374.tif 000044
の化合物を得、すなわち式（Ｉ）の化合物を酸の存在下でジアゾ化剤と、続いて銅触媒および酸の存在下でＳＯ２源と反応させることにより式（ＶＩＩ）（式中、Ｒ１、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびｎは請求項１または２の式（Ｉ）で定義された通りであり、そしてＹはハロゲンである）の化合物を製造し；次に
Ｃ）　Ｃ１）　工程Ｂ６）で得られた式（ＶＩＩ）の化合物をＭＯＣＮ（ここでＭはアンモニウムイオンまたはアルカリ金属イオンである）の存在下で式（ＸＩＩ）
【化２３】
2004504374.tif 000045
のアミンと反応させて式（ＸＩＩＩ）の化合物を得ることにより式（ＸＩＩＩ）の化合物を製造し；または
Ｃ２．１） ７）　工程Ｂ６）で得られた式（ＶＩＩ）の化合物を反応させて式（ＶＩＩＩ）
【化２４】
2004504374.tif 000046
の化合物を得、すなわち式（ＶＩＩ）の化合物を適当な溶媒中でアンモニアによるアミノ分解に付して式（ＶＩＩＩ）（式中、Ｒ１、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびｎは請求項１または２の式（Ｉ）で定義された通りである）の化合物を製造し；次に
Ｃ２．２） ９）　式（ＶＩＩＩ）の化合物を式（ＩＸ）
【化２５】
2004504374.tif 000047
の化合物と反応させて式（ＸＩＩＩ）の化合物を得る；または
１０）　式（ＶＩＩＩ）の化合物を式（Ｘ）
【化２６】
2004504374.tif 000048
のイソシアネートと反応させて式（ＸＩＩＩ）の化合物を得る；または
１１）　式（ＶＩＩＩ）の化合物をアルキルイソシアネートおよびホスゲンと反応させて式（ＸＩ）
【化２７】
2004504374.tif 000049
の化合物を得、次にそれを式（ＸＩＩ）
【化２８】
2004504374.tif 000050
のアミンと反応させて式（ＸＩＩＩ）の化合物を得る；または
１２）　式（ＶＩＩＩ）の化合物をカルボン酸誘導体Ｒ−ＣＯ−ＯＰｈ（ここでＰｈは未置換または置換されたフェニルであり、そしてＲはハロゲン、あるいは未置換または置換されたフェノキシである）と反応させて式（ＸＩＶ）
【化２９】
2004504374.tif 000051
の化合物を得、次にそれを式（ＸＩＩ）
【化３０】
2004504374.tif 000052
のアミンと反応させて式（ＸＩＩＩ）の化合物を得る（上記式（ＸＩ）および（ＸＩＶ）のＲ１、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびｎは請求項１または２の式（Ｉ）で定義された通りであり、上記式（ＩＸ）、（Ｘ）および（ＸＩＩ）のＲｘ、ＲｙおよびＸは本請求項の式（ＸＩＩＩ）で定義された通りであり、そして上記式（ＩＸ）および（ＸＩＶ）のＰｈは未置換または置換されたフェニルである）ことにより式（ＸＩＩＩ）の化合物を製造する工程からなる式（ＸＩＩＩ）
【化３１】
2004504374.tif 000053
（式中、Ｒ１、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびｎは請求項１または２の式（Ｉ）で定義された通りであり、Ｒｘ、Ｒｙは互いに独立して水素原子、ハロゲン、それぞれ未置換であるか、またはハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシおよび（Ｃ１−Ｃ４）アルキルチオからなる群より選択される１個以上の基により置換された（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルチオ；あるいはモノ−またはジ［（Ｃ１−Ｃ４）アルキル］アミノ、（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル、（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル、（Ｃ３−Ｃ６）アルケニルオキシまたは（Ｃ３−Ｃ６）アルキニルオキシであり、そしてＸはＣＨまたはＮである）の化合物の製造法。
【請求項６】
請求項５で定義された工程Ｂ）およびＣ１）またはＢ）、Ｃ２．１）およびＣ２．２）からなる請求項５記載の式（ＸＩＩＩ）
【化３２】
2004504374.tif 000054
の化合物の製造法。
【請求項７】
Ｒ２、Ｒ３がＨである請求項１または２記載の式（Ｉ）の化合物を酸の存在下でジアゾ化し、次に銅触媒および酸の存在下でＳＯ２源と反応させる請求項５記載の式（ＶＩＩ）
【化３３】
2004504374.tif 000055
の化合物の製造法。
【請求項８】
Ａ）　Ｒ２、Ｒ３がＨである請求項１記載の式（Ｉ）の化合物を反応させて式（ＶＩＩ）
【化３４】
2004504374.tif 000056
の化合物を得、すなわち式（Ｉ）の化合物を酸の存在下でジアゾ化し、次に銅触媒および酸の存在下でＳＯ２源と反応させ、次に
Ｂ）　式（ＶＩＩ）の化合物を反応させて式（ＶＩＩＩ）
【化３５】
2004504374.tif 000057
の化合物を得、すなわち式（ＶＩＩ）の化合物を適当な溶媒中でアンモニアによるアミノ分解に付す工程からなる請求項５記載の式（ＶＩＩＩ）
【化３６】
2004504374.tif 000058
の化合物の製造法。
【請求項９】
請求項１または２記載の式（Ｉ）の化合物の製造における請求項４記載の式ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＩＩａ）、（ＩＶ）、（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物の使用。
【請求項１０】
スルホニル尿素の製造における請求項１または２記載の式（Ｉ）の化合物の使用。
【請求項１１】
請求項５記載の式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）または（ＸＩＩＩ）の化合物の製造における請求項１または２記載の式（Ｉ）の化合物の使用。
【請求項１２】
式（ＶＩ）
【化３７】
2004504374.tif 000059
（式中、Ｒ１、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびｎは請求項１または２の式（Ｉ）で定義された通りである）の化合物。
【請求項１３】
スルホニル尿素の製造における請求項１２記載の式（ＶＩ）の化合物の使用。
【請求項１４】
請求項１または２記載の式（Ｉ）の化合物、あるいは請求項５記載の式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）または（ＸＩＩＩ）の化合物の製造における請求項１２記載の式（ＶＩ）の化合物の使用。
【請求項１５】
式（Ｚ）または（Ｚａ）
【化３８】
2004504374.tif 000060
（式中、Ｒ１、Ｒ８およびｎは請求項１または２の式（Ｉ）で定義された通りであり、そしてＺはＮＨ２またはＮＯ２である）の化合物。
【請求項１６】
スルホニル尿素の製造における請求項１５記載の式（Ｚ）または（Ｚａ）の化合物の使用。
【請求項１７】
請求項１または２記載の式（Ｉ）の化合物、あるいは請求項５記載の式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）または（ＸＩＩＩ）の化合物の製造における請求項１５記載の式（Ｚ）または（Ｚａ）の化合物の使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は活性物質、特に除草活性スルホニル尿素の製造における中間体の技術分野に関する。
芳香族アミンを反応させてスルホクロリドのようなスルホン酸誘導体、さらにスルホンアミドを得ることができ、それは除草活性スルホニル尿素の製造において使用できることが知られている（ＭｅｅｒｗｅｉｎらのＣｈｅｍ． Ｂｅｒｉｃｈｔｅ ９０， ８４１〜８５２（１９５７年） およびＥＰ−Ａ−５７４４１８）。
【０００２】
置換アントラニル酸はＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．第２９巻，Ｎｏ．４，第５８５頁（１９８６年）からトリプシンのような酵素を不活性化するのに適した特定の酸無水物の製造における中間体として知られている。
【０００３】
本発明は除草活性スルホニル尿素の製造に適した新規な化合物を提供することを目的とする。驚くべきことに、本目的は式（Ｉ）
【化３９】
2004504374.tif 000002
［式中、Ｒ１はＨ、（Ｃ１−Ｃ８）アルキル、（Ｃ３−Ｃ８）アルケニルまたは（Ｃ３−Ｃ８）アルキニルであり、最後の３個の基は未置換であるか、または例えばハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルチオ、［（Ｃ１−Ｃ４）アルキル］カルボニルおよび［（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ］カルボニルからなる群より選択される１個以上の基により置換されており、
Ｒ２、Ｒ３は互いに独立してＨまたはアシル、好ましくはＨであり、
Ｒ４、Ｒ５はＨであり、
【０００４】
Ｒ６はＨ、あるいは未置換または例えばハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルチオ、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルスルフィニル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルスルホニル、［（Ｃ１−Ｃ４）アルキル］カルボニルおよびＣＮからなる群より選択される１個以上の基により置換された（Ｃ１−Ｃ８）アルキル、好ましくはＨであり、
Ｒ７は未置換または例えばハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシおよび（Ｃ１−Ｃ４）アルキルチオからなる群より選択される１個以上の基により置換された（Ｃ１−Ｃ８）アルキル、（Ｃ３−Ｃ８）アルケニルまたは（Ｃ３−Ｃ８）アルキニルであり、あるいはＲ７は未置換または例えばハロゲン、ＮＯ２、ＣＮ、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、（Ｃ１−Ｃ４）ハロアルキルおよび（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシからなる群より選択される１個以上の基により置換された（Ｃ６−Ｃ１４）アリール（例えばフェニル）であり、あるいはＲ７は未置換または例えばハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルチオ、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルスルフィニル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルスルホニル、［（Ｃ１−Ｃ４）アルキル］カルボニル、［（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ］カルボニルおよびＣＮからなる群より選択される１個以上の基により置換されたモノ−またはジ−（Ｃ１−Ｃ８）アルキルアミノであり、あるいは
【０００５】
Ｒ６およびＲ７は一緒になって未置換または例えば１個以上の（Ｃ１−Ｃ４）アルキル基により置換された式−（ＣＨ２）ｍＢｍ１−（式中、ｍは２、３または４であり、ｍ１は０または１であり、そしてＢはＣＯまたはＳＯ２である）の炭素鎖を形成し、
Ｒ８基は同一または異なって未置換または例えばハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルチオ、［（Ｃ１−Ｃ４）アルキル］カルボニルおよび［（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ］カルボニルからなる群より選択される１個以上の基により置換された（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、［（Ｃ１−Ｃ４）アルキル］カルボニルまたは［（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ］カルボニルであり、あるいはＲ８はハロゲンまたはＮＨ２であり、そして
ｎは０、１、２または３、好ましくは０である］の化合物により達成される。
【０００６】
好ましい式（Ｉ）の化合物は、Ｒ１がＨまたは（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、好ましくは（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、
Ｒ２およびＲ３がＨであり、
Ｒ４およびＲ５がＨであり、
Ｒ６がＨであり、
Ｒ７が（Ｃ１−Ｃ４）アルキルであり、そして
ｎが０である化合物である。
【０００７】
特に重要な式（Ｉ）の化合物は、ＣＲ４Ｒ５−ＮＲ６−ＳＯ２−Ｒ７基が−ＣＯ−ＯＲ１基のパラ位にある化合物である。Ｒ６およびＲ７が一緒になって式−（ＣＨ２）ｍＢｍ１−（式中、ｍ１は１である）の炭素鎖を形成する場合、Ｂはそれに結合したＲ６を有する窒素原子と結合していることが好ましい。
【０００８】
式（Ｉ）の化合物の例を下記の表１に挙げる：
【化４０】
2004504374.tif 000003
【表１】
2004504374.tif 000004
【０００９】
【表２】
2004504374.tif 000005
【００１０】
【表３】
2004504374.tif 000006
表１中、Ｍｅ＝メチル、Ｅｔ＝エチル、ｎＰｒ＝ｎ−プロピル、ｉＰｒ＝イソプロピル、ｎＢｕ＝ｎ−ブチル、Ｐｈｅ＝フェニルである。
【００１１】
「アシル」なる用語が本明細書で使用される場合、それは形式的に有機酸からＯＨ基を除去することにより生じる有機酸の基、例えばカルボン酸の基およびチオカルボン酸、場合によりＮ−置換されたイミノカルボン酸のようなカルボン酸から誘導される酸の基、またはカルボン酸モノエステル、場合によりＮ−置換されたカルバミン酸、スルホン酸、スルフィン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸の基を意味する。
【００１２】
アシル基は好ましくはホルミル、またはＣＯ−Ｒｘ、ＣＳ−Ｒｘ、ＣＯ−ＯＲｘ、ＣＳ−ＯＲｘ、ＣＳ−ＳＲｘ、ＣＲｘ＝ＮＲｙ、ＳＯＲｙおよびＳＯ２Ｒｙからなる群より選択されるアシルであり、ここでＲｘおよびＲｙはそれぞれ未置換または例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのようなハロゲン、アルコキシ、ハロアルコキシ、ヒドロキシル、アミノ、ニトロ、シアノおよびアルキルチオからなる群より選択される１個以上の置換基により置換されたＣ１〜Ｃ１０−アルキルまたはＣ６〜Ｃ１０−アリールのようなＣ１〜Ｃ１０−炭化水素基であり、あるいはアシルは未置換または例えばアルキルおよびアリールからなる群より選択される置換基によりＮ−一置換またはＮ，Ｎ−二置換されたアミノカルボニルまたはアミノスルホニルである。アシルは例えばホルミル、ハロアルキルカルボニル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルカルボニルのようなアルキルカルボニル、フェニル環が置換可能なフェニルカルボニル、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシカルボニルのようなアルコキシカルボニル、フェニルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルスルホニルのようなアルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ４（アルキルスルフィニル）のようなアルキルスルフィニル、Ｎ−（Ｃ１−Ｃ４）−１−イミノ−（Ｃ１−Ｃ４）アルキルのようなＮ−アルキル−１−イミノアルキル、および他の有機酸の基である。
【００１３】
式（Ｉ）および下記で使用される一般式において、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシおよびアルキルチオ基とその相当する置換された基はそれぞれ直鎖状または分枝状の炭素骨格を有する。特に断りがなければ、これらの基の中で低級炭素骨格、例えば１〜４個の炭素原子を有するものが好ましい。アルコキシ、ハロアルキルなどのような合成用語にも存在するアルキル基は例えばメチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｔ−または２−ブチル、ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｉ−ヘキシルおよび１，３−ジメチルブチルのようなヘキシル、ｎ−ヘプチル、１−メチルヘキシルおよび１，４−ジメチルペンチルのようなヘプチルであり；アルケニルおよびアルキニル基はアルキル基に対応する可能な不飽和基を意味する；例えばアルケニルはアリル、１−メチルプロパ−２−エン−１−イル、２−メチルプロパ−２−エン−１−イル、ブタ−２−エン−１−イル、ブタ−３−エン−１−イル、１−メチルブタ−３−エン−１−イルおよび１−メチルブタ−２−エン−１−イルであり；アルキニルは例えばプロパルギル、ブタ−２−イン−１−イル、ブタ−３−イン−１−イル、１−メチルブタ−３−イン−１−イルである。
【００１４】
例えば「（Ｃ３−Ｃ８）アルケニル」形態のアルケニルは好ましくは３〜８個の炭素原子を有し、二重結合が化合物（Ｉ）の残りの部分に結合する炭素原子（“イル”位）に存在しないアルケニル基である。これはアルキニル基にもあてはまる。
【００１５】
ハロゲンは例えばフッ素、塩素、臭素または沃素である。ハロアルキル、ハロアルケニルおよびハロアルキニルはそれぞれハロゲン、好ましくはフッ素、塩素および／または臭素、特にフッ素または塩素により部分的にまたは完全に置換されたアルキル、アルケニルまたはアルキニル、例えばＣＦ３、ＣＨＦ２、ＣＨ２Ｆ、ＣＦ３ＣＦ２、ＣＨ２ＦＣＨＣｌ２、ＣＣｌ３、ＣＨＣｌ２、ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌであり；ハロアルコキシは例えばＯＣＦ３、ＯＣＨＦ２、ＯＣＨ２Ｆ、ＣＦ３ＣＦ２Ｏ、ＯＣＨ２ＣＦ３およびＯＣＨ２ＣＨ２Ｃｌである；これはハロアルケニルオキシおよび他のハロゲン置換された基にもあてはまる。
【００１６】
置換炭化水素基、例えば置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、例えばフェニルのような置換された基は例えば未置換の炭素骨格から誘導される置換された基であり、その置換基は例えばハロゲン、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシル、アミノ、ニトロ、カルボキシル、シアノ、アジド、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニル、ホルミル、カルバモイル、モノ−およびジアルキルアミノカルボニル、置換アミノ、例えばアシルアミノ、モノ−およびジアルキルアミノ、アルキルスルフィニル、ハロアルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、環状基の場合はさらにアルキルおよびハロアルキル、上記の飽和炭化水素を含有する基に対応する不飽和脂肪族基、例えばアルケニル、アルキニル、アルケニルオキシ、アルキニルオキシなどからなる群より選択される１個以上、好ましくは１、２または３個の基である。炭素原子を有する基の場合、１〜４個の炭素原子、特に１または２個の炭素原子を有するものが好ましい。一般に、ハロゲン、例えばフッ素および塩素、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、好ましくはメチルまたはエチル、（Ｃ１−Ｃ４）ハロアルキル、好ましくはトリフルオロメチル、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、好ましくはメトキシまたはエトキシ、（Ｃ１−Ｃ４）ハロアルコキシ、ニトロおよびシアノからなる群より選択される置換基が好ましい。特に好ましい置換基はメチル、メトキシおよび塩素である。
【００１７】
場合により置換されるフェニルまたはフェノキシは好ましくはそれぞれ未置換またはハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）ハロアルキル、（Ｃ１−Ｃ４）ハロアルコキシおよびニトロからなる群より選択される同一または異なる基により一置換または好ましくは三置換まで多置換されたフェニルまたはフェノキシ、例えばｏ−、ｍ−およびｐ−トリル、ジメチルフェニル、２−、３−および４−クロロフェニル、２−、３−および４−トリフルオロフェニル、２−、３−および４−トリクロロフェニル、２，４−、３，５−、２，５−および２，３−ジクロロフェニル、ｏ−、ｍ−およびｐ−メトキシフェニルである。
【００１８】
置換が一群の基から選択される１個以上の基により行なわれる場合、これは１個以上の同一基による置換および異なる基による一置換または多置換を包含する。
【００１９】
本発明はまた、式（Ｉ）に包含されるすべての立体異性体およびそれらの混合物に関する。このような式（Ｉ）の化合物は式（Ｉ）で特に表示されていない１個以上の不斉炭素原子を含有する。それらの特定の空間的配置により定められる可能な立体異性体、例えばエナンチオマーまたはジアステレオマーはすべて式（Ｉ）に包含され、立体異性体混合物から慣用の方法により、または立体化学的に純粋な出発物質を使用する立体選択的反応により得られる。式（Ｉ）はまた、それらがプロトン移動により生成し、化学的に安定ならば上記化合物の互変異性体を包含する。
【００２０】
式（Ｉ）の化合物は酸性水素原子が適当なカチオンにより置換された塩を生成することができる。これらの塩は例えば金属塩、好ましくはアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、特にナトリウム塩およびカリウム塩、あるいはアンモニウム塩または有機アミンの塩である。また、塩の生成はアミノのような塩基性基と酸の付加反応により行なうことができる。この目的に適した酸は強力な無機酸および有機酸、例えばＨＣｌ、ＨＢｒ、Ｈ２ＳＯ４、ＨＮＯ３またはギ酸である。
【００２１】
式（Ｉ）の化合物は下記の式（ＩＩ）の化合物から出発して非常に良好な収率および純度で首尾よく合成される。
【００２２】
したがって、本発明はまた、
１ａ）　式（ＩＩ）
【化４１】
2004504374.tif 000007
の化合物を酸の不在下で接触水素添加により反応させて式（ＩＩＩ）
【化４２】
2004504374.tif 000008
の化合物を得るか、または酸、例えばＨ＋Ｘ−（ここでＸ−は酸アニオンの等価物、例えばＣｌ−、Ｂｒ−またはＩ−のようなハロゲン、あるいはＨＳＯ４−、１／２ ＳＯ４２−、Ｈ２ＰＯ４−、１／２ ＨＰＯ４２−、１／３ ＰＯ４３−または−ＯＣＯＲ（ここでＲはＨまたは（Ｃ１−Ｃ８）アルキルである）である）の存在下で接触水素添加により反応させて式（ＩＩＩａ）
【化４３】
2004504374.tif 000009
（式中、Ｘ−は酸アニオンの等価物、例えばＣｌ−、Ｂｒ−またはＩ−のようなハロゲン、あるいはＨＳＯ４−、１／２ ＳＯ４２−、Ｈ２ＰＯ４−、１／２ ＨＰＯ４２−、１／３ ＰＯ４３−または−ＯＣＯＲ（ここでＲはＨまたは（Ｃ１−Ｃ８）アルキルである）である）の化合物を得、次に
【００２３】
１ｂ）　式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得る工程；あるいは
【００２４】
２ａ） α）　式（ＩＩ）
【化４４】
2004504374.tif 000010
の化合物をニトロ化合物に関する慣用の還元法により反応させて式（ＩＶ）
【化４５】
2004504374.tif 000011
の化合物を得、次に
β）　式（ＩＶ）の化合物を接触水素添加により、またはニトリルに関する慣用の還元法により反応させて式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物を得、次に
【００２５】
２ｂ）　式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得る工程；あるいは
【００２６】
３ａ） α）　式（ＩＩ）
【化４６】
2004504374.tif 000012
の化合物をニトリルに関する慣用の還元法により反応させて式（Ｖ）または（Ｖａ）
【化４７】
2004504374.tif 000013
（式中、Ｘ−は式（ＩＩＩａ）で定義された通りである）の化合物を得、次に
β）　式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物をニトロ化合物に関する慣用の還元法により、または接触水素添加により反応させて式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物を得、次に
【００２７】
３ｂ）　式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得る工程；あるいは
【００２８】
４ａ） α）　式（ＩＩ）
【化４８】
2004504374.tif 000014
の化合物をニトリルに関する慣用の還元法により反応させて式（Ｖ）または（Ｖａ）
【化４９】
2004504374.tif 000015
（式中、Ｘ−は式（ＩＩＩａ）で定義された通りである）の化合物を得、次に
β）　式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物をスルホン酸誘導体と反応させて式（ＶＩ）
【化５０】
2004504374.tif 000016
の化合物を得、次に
【００２９】
４ｂ）　式（ＶＩ）の化合物をニトロ化合物に関する慣用の還元法により、または接触水素添加により反応させて式（Ｉ）（式中、Ｒ２、Ｒ３およびＲ６はＨである）の化合物を得る工程
からなる式（Ｉ）の化合物の製造法に関する。
式（ＩＩＩ）、（ＩＩＩａ）、（Ｖ）、（Ｖａ）および（ＶＩ）の化合物は新規であり、本発明の対象である。
【００３０】
式（Ｉ）（式中、Ｒ２および／またはＲ３はアシルである）の化合物は式（Ｉ）（式中、Ｒ２およびＲ３はＨである）の化合物を慣用の方法によりアシル化剤、例えばハロゲン化カルボニル、ハロゲン化スルホニルおよびハロゲン化カルバモイル、無水カルボン酸、無水スルホン酸、ハロギ酸エステルまたはイソシアネートでアシル化することにより得られる（例えばＬ．Ｆ．Ｔｉｅｔｚｅ，Ｔｈ．Ｅｉｃｈｅｒの Ｒｅａｋｔｉｏｎｅｎ ｕｎｄ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｎ ｉｍ ｏｒｇａｎｉｓｃｈ−ｃｈｅｍｉｓｃｈｅｎ Ｐｒａｋｔｉｋｕｍ， Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ　Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ／Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，第１３１，３１６，３１８，３４５頁（１９８１年）；Ｒ．Ｃ．Ｌａｒｏｃｋの Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ， 第９７９、９８１頁（１９８９年）を参照）。適当な溶媒の例はジクロロメタン、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエンまたはクロロベンゼンのような非プロトン性溶媒であり、好ましくは温度は０℃〜溶媒の沸点である。
【００３１】
式（Ｉ）（式中、Ｒ６は未置換または置換されたＣ１−Ｃ８−アルキルである）の化合物は例えば式（Ｉ）（式中、Ｒ６はＨである）の化合物を慣用の方法によりアルキル化剤、例えばハロゲン化アルキル、硫酸ジメチルのような硫酸アルキルまたはアルキルトシレートでアルキル化することにより得られる。適当な溶媒の例はアセトンおよびジメチルホルムアミドである（例えばＲ．Ｃ．Ｌａｒｏｃｋの Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ， 第３９８頁（１９８９年）；Ｌ．Ｆ．Ｔｉｅｔｚｅ，Ｔｈ．Ｅｉｃｈｅｒの Ｒｅａｋｔｉｏｎｅｎ ｕｎｄ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｎ ｉｍ ｏｒｇａｎｉｓｃｈ−ｃｈｅｍｉｓｃｈｅｎ Ｐｒａｋｔｉｋｕｍ， Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ　Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ／Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，第７５頁（１９８１年）；Ｏｒｇａｎｉｋｕｍの Ｏｒｇａｎｉｓｃｈ−ｃｈｅｍｉｓｃｈｅｓ Ｇｒｕｎｄｐｒａｋｔｉｋｕｍ， ＶＥＢ， Ｂｅｒｌｉｎ（１９８１年）を参照）。アルキル化はＫ２ＣＯ３、ＮａＨまたはアルコキシド、例えばナトリウムアルコキシドのような塩基の存在下で行なうことができる。出発物質は好ましくは式（Ｉ）（式中、Ｒ２およびＲ３はアシルである）の化合物である。
【００３２】
式（Ｉ）（式中、Ｒ６は未置換または置換されたＣ１−Ｃ８−アルキルである）の化合物はまた、例えば還元的アミノ化により、例えばＨ２／触媒、ギ酸、亜鉛／ＨＣｌ、ホウ水素化ナトリウムまたはシアノホウ水素化ナトリウムのような還元剤の存在下でアルデヒドまたはケトンを使用して得ることができる。１つの例はホルムアルデヒドおよびギ酸を使用するＬｅｕｃｋａｒｄ−Ｗａｌｌａｃｈ反応である。
【００３３】
好ましい方法は式（ＩＩ）の化合物のニトロおよびニトリル基を変法１ａ）に従って接触水素添加により１つの工程で一緒に還元して式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物を得る方法である。
本発明の方法において中間体として得られる式（ＩＩＩ）および（Ｖ）のアミノ化合物はそれらの塩（ＩＩＩａ）および（Ｖａ）の形態でも生成することができ、反応または後処理が酸性媒質中で行なわれる場合、さらに反応させることができる。
【００３４】
式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＩＩａ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（Ｖａ）および（ＶＩ）に記載の記号はそのために挙げた好ましい範囲を含む式（Ｉ）と同じ定義を有する。好ましい式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＩＩａ）、（ＩＶ）、（Ｖ）、（Ｖａ）および（ＶＩ）の化合物は−ＣＮ（式（ＩＩ）および（ＩＶ））、−ＣＨ２−ＮＨ２（式（ＩＩＩ）および（Ｖ））、−ＣＨ２−ＮＨ３＋Ｘ−（式（ＩＩＩａ）および（Ｖａ））および−ＣＨ２−ＮＲ６−ＳＯ２−Ｒ７（式（ＶＩ））基が−ＣＯ−ＯＲ１基のパラ位にある化合物である。
【００３５】
さらに、本発明の方法の各工程もまた本発明の対象である。
式（ＩＩ）の化合物は知られている（例えばＤＥ２２３９７９９Ｃ３または Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ， ９９，６７２１（１９７７年）を参照）。
【００３６】
変法１ａ）による式（ＩＩ）の化合物、変法２ａβ）による式（ＩＶ）の化合物、変法３ａβ）による式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物、あるいは変法４ｂ）による式（ＶＩ）の化合物の接触水素添加は慣用の水素添加法により首尾よく行なわれる。使用することができる水素源の例は水素気体、ヒドラジンまたはＨＮ＝ＮＨである。特に好適な水素化触媒は貴金属触媒、例えばＰｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｉｒ、ＮｉまたはＣｏ触媒である。貴金属は元素形態、あるいは酸化物またはハロゲン化物の形態で使用することができる。貴金属触媒は必要に応じて活性炭、けいそう土、ケイ酸塩のような担体材料なしで、または好ましくはそれを用いて使用することができる。
【００３７】
水素化は大気圧により、または一般に１〜１００バール、好ましくは１〜５０バールの過水素圧を加えることにより行なうことができる。一般に、好適な温度は−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１２０℃の範囲である。
水素化に適した溶媒の例は水、メタノールまたはエタノールのようなアルコール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンのようなエーテル、ジメチルホルムアミドまたはジメチルアセトアミドのようなアミド、酢酸エチルのようなエステル、ギ酸または酢酸のような有機カルボン酸、トルエン、キシレンおよびクロロベンゼンのような芳香族炭化水素、あるいはＣＨ２Ｃｌ２のようなハロゲン化脂肪族炭化水素からなる群の溶媒であり、これらの溶媒は純粋な形態で、または混合物として使用することができる。
【００３８】
変法１ａ）による式（ＩＩ）の化合物または変法２ａβ）による式（ＩＶ）の化合物の接触水素添加は好ましくは１〜１０モル当量の酸の存在下で行なわれる。好ましく使用される溶媒はメタノールまたはエタノールのようなアルコール、あるいは水である。好適な酸の例は無機酸またはカルボン酸である。好ましくは、式Ｈ＋Ｘ−（ここでＸ−は酸部分の等価物、例えばＣｌ−、Ｂｒ−またはＩ−のようなハロゲン、あるいはＨＳＯ４−、１／２ ＳＯ４２−、Ｈ２ＰＯ４−、１／２ ＨＰＯ４２−、１／３ ＰＯ４３−または−ＯＣＯＲ（ここでＲはＨまたは（Ｃ１−Ｃ８）アルキルである）の酸、例えば塩酸または臭化水素酸のようなハロゲン化水素酸、硫酸、リン酸、ギ酸または酢酸である。例えば最後に挙げた２つの酸が使用される場合、その酸は完全に溶媒の役割を担うこともできる。
【００３９】
式（ＩＶ）の化合物の接触水素添加はまた、１〜１０モル当量のアンモニアを使用して行なうことができ、好ましくはラネーニッケルまたはラネーコバルトのようなニッケルまたはコバルト触媒が使用される。これに関して好ましく使用される溶媒はメタノールまたはエタノールのようなアルコールである。
【００４０】
変法２ａα）による式（ＩＩ）の化合物、変法３ａβ）による式（Ｖ）および（Ｖａ）の化合物、または変法４ｂ）による式（ＶＩ）の化合物のニトロ基の還元は芳香族ニトロ化合物に関する慣用の還元剤を使用して行なうことができる。このような還元剤および反応条件は例えばＲ．Ｃ．Ｌａｒｏｃｋの Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ， ＶＣＨ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ Ｉｎｃ．， 第４１１〜４１５頁（１９８９年）およびその中で引用された文献に記載されている。好ましい還元剤の例はＦｅ、Ｚｎ、Ｓｎまたはそれらの塩、例えばＦｅＳＯ４またはＳｎ−ＩＩ塩、例えばＳｎＣｌ２である。好適な溶媒の例は有機カルボン酸、アルコールおよび／または鉱酸である。一般に、反応温度は０℃〜溶媒の沸点である。
【００４１】
変法２ａβ）による式（ＩＶ）の化合物と変法３ａα）および４ａα）による式（ＩＩ）の化合物のニトリル基の還元はニトリルに関する慣用の還元剤により行なうことができる。このような還元剤および反応条件は例えばＲ．Ｃ．Ｌａｒｏｃｋの Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ， ＶＣＨ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ Ｉｎｃ．， 第４３７〜４３８頁（１９８９年）およびその中で引用された文献に記載されている。好ましい還元剤の例は水素化ホウ素化合物または水素化アルミニウム化合物、例えばＢＨ３／ＴＨＦ、ＢＨ３／ＤＭＳおよびそれらの塩、例えばＮａＢＨ４である。好適な溶媒の例はジオキサンまたはテトラヒドロフランのようなエーテルである。反応温度は一般に０℃〜溶媒の沸点である。還元生成物が続いて酸性媒質、例えばメタノール／ＨＣｌ中で後処理される場合、式（ＩＩＩ）の化合物（変法２ａβ）または式（Ｖ）の化合物（変法３ａαおよび４ａα）はそれぞれ式（ＩＩＩａ）または（Ｖａ）の塩の形態で得ることができ、それぞれ化合物（ＩＩＩ）または化合物（Ｖ）と同様にさらに反応させることができる。
【００４２】
スルホン酸誘導体を使用する変法１ｂ）、２ｂ）または３ｂ）による式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物、あるいは変法４ａβ）による式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物のアシル化はアシル化反応において慣用の条件下で行なうことができ、式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物の場合は式（ＶＩ）の化合物が得られ、あるいは式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）の化合物の場合は本発明の式（Ｉ）の化合物が得られる。
【００４３】
例えば、式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）、あるいは式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物を適当な溶媒中、酸受容体のような塩基の存在下でスルホン酸誘導体と反応させると、それぞれ式（Ｉ）または（ＶＩ）の化合物が得られる。アシル化に適した溶媒の例は水、メタノールまたはエタノールのようなアルコール、ＣＨ２Ｃｌ２のようなハロゲン化脂肪族炭化水素、トルエン、クロロベンゼンまたはキシレンのような芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンのようなエーテル、アセトンまたはメチルイソブチルケトンのようなケトン、酢酸エチルのようなエステル、およびアセトニトリル、ジメチルホルムアミドまたはジメチルアセトアミドのような非プロトン性溶媒からなる群の溶媒であり、これらの溶媒は純粋な形態で、または混合物として使用することができる。好ましくは、水、水と上記群から選択される水溶性有機溶媒の混合物である。
【００４４】
適当な塩基は無機または有機塩基、例えばＫ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３またはＮａＨＣＯ３のような炭酸塩、ＮａＯＨ、ＫＯＨまたはＣａ（ＯＨ）２のようなアルカリ金属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物、あるいはトリエチルアミンのようなアミンである。一般に、塩基は式（ＩＩＩ）または（Ｖ）の化合物の１〜１０モル当量、好ましくは１〜５モル当量で使用される；式（ＩＩＩａ）または（Ｖａ）の化合物が使用される場合、使用する塩基の最小量は少なくとも２モル当量である。
【００４５】
適当なスルホン酸誘導体の例はフッ化物、塩化物、臭化物または沃化物のようなハロゲン化スルホニル、および無水スルホン酸である。好ましくは、式Ｒ７−ＳＯ２−Ｚ（式中、Ｒ７は式（Ｉ）で定義された通りであり、そしてＺはハロゲン（例えばフッ素、塩素、臭素または沃素）またはＯ−ＳＯ２−Ｒｚ（ここでＲｚは式（Ｉ）のＲ７で定義された通りである）のような脱離基である）のスルホン酸誘導体である。アシル化は例えば式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）、あるいは式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物を一般に−２０〜１００℃の温度において適当な溶媒中、適当な塩基の存在下でスルホン酸誘導体と反応させるような方法で行なわれる。好ましくは、−１０〜５０℃の温度である。スルホン酸誘導体の量は一般に式（ＩＩＩ）または（ＩＩＩａ）、あるいは式（Ｖ）または（Ｖａ）の化合物の１〜１０モル当量、好ましくは１〜５モル当量である。
【００４６】
式（Ｉ）の化合物およびそれらの製造の他に、本発明はまた、式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）の化合物を得る反応に関する。このために、式（Ｉ）（式中、Ｒ２および／またはＲ３はアシルである）の化合物を最初に慣用の方法により式（Ｉ）（式中、Ｒ２およびＲ３はＨである）の化合物に変換する必要があり、これらをさらに反応させて式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）の化合物を得る。式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）で使用される記号はそのために挙げた好ましい範囲を含む式（Ｉ）と同じ定義を有し、式（ＶＩＩ）のＹはフッ素、塩素、臭素または沃素のようなハロゲンである。好ましい式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）の化合物は−ＣＨ２−ＮＲ６−ＳＯ２−Ｒ７基が−ＣＯ−ＯＲ１基のパラ位にある化合物である。
【００４７】
ＥＰ−Ａ−７２３５３４に記載のように、式（ＶＩＩ）および式（ＶＩＩＩ）の化合物は強力な除草性スルホニル尿素の製造に適した前駆物質であり、式（ＶＩＩ）および式（ＶＩＩＩ）の化合物の製造は特に本発明の工程に従えば効果的であり、式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）の化合物は非常に良い収率および純度で得られる。
【００４８】
【化５１】
2004504374.tif 000017
【００４９】
アニリンをハロゲン化スルホニルに変換する方法６）は知られている（例えばＨ． ＭｅｅｒｗｅｉｎらのＣｈｅｍ． Ｂｅｒｉｃｈｔｅ ９０，８４１〜８５２ （１９５７年）を参照）。驚くべきことに、式（Ｉ）（式中、Ｒ２およびＲ３はＨである）の化合物を文献記載の手順に従って反応させて式（ＶＩＩ）の化合物を得る。したがって、式（Ｉ）（式中、Ｒ２およびＲ３はＨである）の化合物を適当な条件下でジアゾ化し、次に酸、例えば酢酸のようなカルボン酸、または無機酸、例えばＨＣｌまたはＨＢｒのようなハロゲン化水素酸ＨＹと触媒、例えばＣｕ（Ｉ）および／またはＣｕ（ＩＩ）塩に基づく銅触媒の存在下で適当なＳＯ２源、例えばＳＯ２気体、Ｎａ２Ｓ２Ｏ５またはＮａＨＳＯ３と結合させて式（ＶＩＩ）のハロゲン化スルホニルを得ることができる。
【００５０】
ジアゾ化は酸、例えば無機酸、好ましくはＨＣｌまたはＨＢｒのようなハロゲン化水素酸ＨＹの存在下でＮａＮＯ２のような適当なジアゾ化剤を使用して行なうことができる。使用される溶媒は好ましくは水／酸混合物、特に水／カルボン酸（例えば酢酸）または水／鉱酸（例えばＨＣｌまたはＨＢｒのようなハロゲン化水素酸ＨＹ）の混合物である。一般に、反応温度は−２０〜５０℃、好ましくは−１０〜２０℃である。
【００５１】
引き続く結合反応の溶媒として使用できる例は次の通りである：水、酢酸のようなカルボン酸、酢酸エチルのようなカルボン酸エステル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンのようなエーテル、ＣＨ２Ｃｌ２またはジクロロエタンのようなハロゲン化脂肪族炭化水素、トルエン、クロロベンゼンまたはキシレンのような芳香族炭化水素、あるいはアセトンまたはメチルイソブチルケトンのようなケトン。さらに、反応混合物は酸、例えば酢酸のようなカルボン酸、またはハロゲン化水素酸ＨＹのような鉱酸、例えばＨＣｌまたはＨＢｒを含有し、それらは何れもジアゾ化反応から存在しており、そして／または結合反応が行なわれる時に加えられる。使用できるＳＯ２源の例は触媒、例えばＣｕＣｌ（１〜２０モル％）、ＣｕＣｌ２（１〜２０モル％）、ＣｕＢｒ（１〜２０モル％）またはＣｕＢｒ２（１〜２０モル％）のような銅触媒の存在下、例えばＳＯ２気体（１〜１０当量）、Ｎａ２Ｓ２Ｏ５（１〜１０当量）またはＮａＨＳＯ３（１〜１０当量）である。
【００５２】
式（ＶＩＩ）のハロゲン化スルホニルから出発して式（ＶＩＩＩ）のスルホン酸アミドを生成するアミノ分解７）は驚くべきことに式（ＶＩＩ）の化合物を例えば適当な溶媒中でアンモニアと反応させることにより高い効率および高い収率で首尾よく行なわれる。
【００５３】
アミノ分解は溶媒、例えばアセトンまたはメチルイソブチルケトンのようなケトン、ＣＨ２Ｃｌ２のようなハロゲン化脂肪族炭化水素、キシレン、トルエンまたはクロロベンゼンのような芳香族炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサンのようなエーテル、酢酸エチルのようなエステル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドまたはアセトニトリルのような非プロトン性溶媒、あるいはこれらの溶媒の混合物の存在下で適当な試薬、例えば２〜１０モル当量のアンモニア水溶液またはＮＨ３気体を使用して行なうことができる。一般に、反応温度は−１０〜１００℃、好ましくは−１０〜４０℃、特に好ましくは−１０〜２０℃である。
【００５４】
次に、式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）の化合物を様々な方法で反応させてスルホニル尿素、好ましくは式（ＸＩＩＩ）のスルホニル尿素および／またはそれらの塩を得ることができる：例えば
８）　式（ＶＩＩ）のハロゲン化スルホニルを塩基の存在下でシアネートＭＯＣＮ（ここでＭはアンモニウムイオンまたはアルカリ金属イオン、例えばＬｉ、ＮａまたはＫである）および式（ＸＩＩ）のアミノ複素環と反応させてスルホニル尿素を得る；
【化５２】
2004504374.tif 000018
あるいは
【００５５】
９）　式（ＶＩＩＩ）の化合物を式（ＩＸ）（式中、Ｐｈは未置換または置換フェニルである）の複素環式カルバメートと反応させてスルホニル尿素を得る；
【化５３】
2004504374.tif 000019
あるいは
【００５６】
１０）　ａ） 最初に式（ＸＩＩ）のアミノ複素環をトリアルキルアミン、例えばトリエチルアミンのような塩基の存在下でホスゲンと反応させて式（Ｘ）のヘテロシクリルイソシアネートを得、そしてｂ） 生成した式（Ｘ）のヘテロシクリルイソシアネートを式（ＶＩＩＩ）のフェニルスルホンアミドと反応させてスルホニル尿素を得る；
【化５４】
2004504374.tif 000020
あるいは
【００５７】
１１）　ａ） 式（ＶＩＩＩ）の化合物をアルキルイソシアネート、例えばＲＮＣＯ（ここでＲはＣ１〜Ｃ１０−アルキルである）およびホスゲンと反応させて式（ＸＩ）のスルホニルイソシアネートを得、そしてｂ） 生成した式（ＸＩ）のスルホニルイソシアネートを式（ＸＩＩ）のアミノ複素環と反応させてスルホニル尿素を得る；
【化５５】
2004504374.tif 000021
あるいは
【００５８】
１２）　式（ＶＩＩＩ）の化合物をＲ−ＣＯ−ＯＰｈ（ここでＰｈは未置換または置換フェニルであり、Ｒはハロゲン、あるいは未置換または置換フェノキシである）のようなカルボン酸誘導体と反応させて式（ＸＩＶ）のフェニルスルホニルカルバメートを得、そしてｂ） 生成した式（ＸＩＶ）（式中、Ｐｈは未置換または置換フェニルである）のフェニルスルホニルカルバメートを式（ＸＩＩ）のアミノ複素環と反応させてスルホニル尿素を得る。
【化５６】
2004504374.tif 000022
【００５９】
式（ＩＸ）、（Ｘ）、（ＸＩ）、（ＸＩＩ）、（ＸＩＩＩ）および（ＸＩＶ）で使用される記号はそのために挙げた好ましい範囲を含む式（Ｉ）と同じ定義を有する；さらに、次の意味もまたその中で使用される：
Ｒｘ、Ｒｙは互いに独立して水素原子、ハロゲン、それぞれ未置換またはハロゲン、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシおよび（Ｃ１−Ｃ４）アルキルチオからなる群より選択される１個以上の基により置換された（Ｃ１−Ｃ４）アルキル、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、（Ｃ１−Ｃ４）アルキルチオ；あるいはモノ−またはジ［（Ｃ１−Ｃ４）アルキル］アミノ、（Ｃ２−Ｃ６）アルケニル、（Ｃ２−Ｃ６）アルキニル、（Ｃ３−Ｃ６）アルケニルオキシまたは（Ｃ３−Ｃ６）アルキニルオキシであり、
ＸはＣＨまたはＮであり、そして
Ｙはハロゲン、例えばフッ素、塩素、臭素または沃素、好ましくは塩素である。
【００６０】
好ましい式（ＸＩ）、（ＸＩＩＩ）および（ＸＩＶ）の化合物は−ＣＨ２−ＮＲ６−ＳＯ２−Ｒ７基が−ＣＯ−ＯＲ１基のパラ位にある化合物である。
【００６１】
式（ＸＩＩＩ）の化合物のようなスルホニル尿素は−ＳＯ２−ＮＨ−基の水素が農業的に適したカチオンにより置換される塩を生成することができる。これらの塩の例は金属塩、特にアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、特にナトリウム塩およびカリウム塩、あるいはアンモニウム塩または有機アミンとの塩である。同様に、塩の生成は酸と塩基性基、例えばアミノおよびアルキルアミノとの付加反応により行なうことができる。この目的に適した酸は強い無機酸および有機酸、例えばＨＣｌ、ＨＢｒ、Ｈ２ＳＯ４またはＨＮＯ３である。本明細書において式（ＸＩＩＩ）の化合物のようなスルホニル尿素の記載がある場合、それぞれそれらの塩を含むものと理解される。
【００６２】
変法８）において、ハロゲン化スルホニル（ＶＩＩ）の反応は式（ＸＩＩ）のアミノ複素環およびシアネートＭＯＣＮを使用し、好ましくは塩基触媒と共に不活性の非プロトン性有機溶媒、例えば酢酸エチル、テトラヒドロフラン、トルエンまたはアセトニトリル中、０℃〜溶媒の沸点で行なわれる。適当な塩基の例は有機アミン塩基、特にピリジンまたは３−メチルピリジンのようなピリジンである。
【００６３】
変法９）において、式（ＶＩＩＩ）および（ＩＸ）の化合物の反応は好ましくは塩基触媒と共にジクロロメタン、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフランまたは酢酸エチルのような不活性有機溶媒中、０℃〜溶媒の沸点で行なわれる。使用される塩基の例はＫ２ＣＯ３または有機アミン塩基、例えば１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）である。
【００６４】
変法１０）において、式（Ｘ）のヘテロシクリルイソシアネートを得る式（ＸＩＩ）の化合物の反応は例えば酢酸エチル、ジオキサンのような不活性有機溶媒またはクロロベンゼンのような芳香族溶媒中でホスゲンを使用し、適当ならばトリエチルアミンのような有機アミン塩基を添加して、一般に０℃〜溶媒の沸点で行なわれる。引き続く式（Ｘ）の化合物と式（ＶＩＩＩ）の化合物との反応は例えば酢酸エチル、ジオキサンのような不活性溶媒またはクロロベンゼンのような芳香族溶媒中、好ましくはＫ２ＣＯ３またはトリアルキルアミン、例えばトリエチルアミンまたはトリブチルアミンのような塩基の存在下、一般に−２０℃〜溶媒の沸点の温度で行なわれる（例えばＥＰ−Ａ−２３２ ０６７またはＥＰ−Ａ−１６６５１６を参照）。
【００６５】
変法１１）において、式（ＸＩ）のフェニルスルホニルイソシアネートを得る式（ＶＩＩＩ）の化合物の反応は例えばジクロロメタン、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエンまたはクロロベンゼンのような不活性溶媒中、アルキルイソシアネートおよびホスゲンを使用し、一般に２０℃〜溶媒の沸点の温度で行なわれる。引き続く式（ＸＩ）の化合物と式（ＸＩＩ）の複素環との反応は例えばジクロロメタン、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエンまたはクロロベンゼンのような不活性溶媒中、一般に０℃〜溶媒の沸点の温度で行なわれる（例えばＵＳ ４，４８１，０２９を参照）。
【００６６】
変法１２）において、式（ＸＩＶ）のフェニルスルホニルカルバメートを得る式（ＶＩＩＩ）の化合物とカルボン酸誘導体、例えばカルボン酸ジフェニルまたはクロロギ酸フェニルとの反応は例えばキシレン、ジクロロメタン、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエンまたはクロロベンゼンのような不活性溶媒中、好ましくはＫ２ＣＯ３のような塩基またはトリエチルアミンのような有機アミン塩基の存在下、好ましくは２０℃〜溶媒の沸点の温度で行なわれる（例えばＵＳ ４，６８４，３９３およびＵＳ ４，７４３，２９０を参照）。引き続く式（ＸＩＶ）の化合物と式（ＸＩＩ）のアミノ複素環との反応は例えばキシレン、ジクロロメタン、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエンまたはクロロベンゼンのような不活性溶媒中、一般に２０℃〜溶媒の沸点の温度で行なわれる。
【００６７】
このように、本発明の式（Ｉ）の化合物は除草性スルホニル尿素および他の活性物質の有効な製造を可能にする。
【００６８】
【実施例】
実施例１
ａ）３−アミノ−４−メトキシカルボニルベンジルアンモニウムクロリド
３６５ｍｌの濃塩酸（４．３７モル）および９ｇのＰｔＯ２を加えた後、１３．５Ｌのメタノール中における９００ｇ（４．３７モル）のメチル４−シアノ−２−ニトロベンゾエートの懸濁液を最初に室温において１バールの水素圧で水素化した。水素の吸収がおさまった後、１７バールまで加圧し、水素の吸収が完了するまで水素化を続けた。後処理として、圧力を常圧に戻し、シリカゲルを通して触媒をろ過により除去し、ろ液を真空下で完全に濃縮した。残留物を酢酸エチルで蒸解して３−アミノ−４−メトキシカルボニルベンジルアンモニウムクロリドを得た。収量７５７ｇ（８０％）、融点１８５〜１９０℃（分解）。
【００６９】
ｂ）メチル２−アミノ−４−メタンスルホニルアミノメチルベンゾエート
３ｇの３−アミノ−４−メトキシカルボニルベンジルアンモニウムクロリド（１８．８ミリモル）を５０ｍｌのジメチルアセトアミドに溶解し、トリエチルアミン（２．８ｇ、２７．７ミリモル）を加え、次に混合物を０〜１０℃で２０ｍｌのジメチルアセトアミド中におけるメタンスルホニルクロリド（１．６ｇ、１３．８ミリモル）の溶液と反応させた。１時間後、溶媒を真空下で除去し、残留物を水／ジクロロメタンで抽出することにより後処理した。合一した有機抽出物を水で洗浄し、乾燥（Ｎａ２ＳＯ４）し、回転エバポレーターで蒸発させた。得られた残留物を水から結晶させて３ｇ（８４％）のメチル２−アミノ−４−メタンスルホニルアミノメチルベンゾエートを得た。融点１２０〜１２１℃。
【００７０】
ｃ）メチル２−クロロスルホニル−４−メタンスルホニルアミノメチルベンゾエート
５ｍｌの氷酢酸を加えた後、２０ｍｌの濃塩酸中における３ｇ （１１．６ミリモル）のメチル２−アミノ−４−メタンスルホニルアミノメチルベンゾエートの溶液を０〜５℃において０．５時間にわたってＮａＮＯ２水溶液（０．８１ｇ、１１．７ミリモル、１０ｍｌの水）で処理し、攪拌を５℃で０．５時間続けた。同時に、０．３４ｇ（３．５ミリモル）のＣｕＣｌを予めＳＯ２気体で飽和させた３０ｍｌの氷酢酸中で懸濁し、次に混合物を３０ｍｌのトルエンで処理した。この混合物に予め調製したジアゾニウム塩溶液を３５℃で０．５時間にわたって滴加すると気体の発生が自然に始まった。１時間後、混合物を水で処理し、相を分離し、水相を再びジクロロメタンで抽出した。合一した有機相を洗浄し、乾燥（Ｎａ２ＳＯ４）し、真空下で濃縮した。残留物をトルエンと一緒に攪拌することにより抽出して２．５ｇ（６３％）のメチル２−クロロスルホニル−４−メタンスルホニルアミノメチルベンゾエートを得た。融点９３〜９４℃。
【００７１】
ｄ）メチル２−スルファモイル−４−メタンスルホニルアミノメチルベンゾエート　２００ｍｌのＴＨＦ中における１１ｇ（３２ミリモル）のメチル２−クロロスルホニル−４−メタンスルホニルアミノメチルベンゾエートの溶液を０℃において１．１ｇ（６４ミリモル）のＮＨ３気体で処理した。後処理として、混合物を真空下で濃縮した。残留物を水と一緒に攪拌することにより抽出し、次にろ過し、真空下で乾燥して８．３ｇ（８０％）のメチル２−スルファモイル−４−メタンスルホニルアミノメチルベンゾエートを得た。融点１８５〜１８７℃。
【００７２】
ｅ）メチル２−［３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ウレイドスルホニル］−４−メタンスルホンアミノメチルベンゾエート
８７．１５ｇ（０．２６７７モル）のメチル２−スルファモイル−４−メタンスルホニルアミノメチルベンゾエートおよび７４．４２ｇ（０．２６７７モル）のＮ−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）フェニルカルバメートを５℃で氷冷しながら６００ｍｌのアセトニトリル中で懸濁し、混合物を０．５時間にわたって４０．４ｍｌ （０．２６７７モル）の１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンで処理した。室温で２時間後、約２／３の溶媒を真空下で除去し、残留物を６００ｍｌの２Ｎ ＨＣｌおよび４００ｍｌのジイソプロピルエーテルと一緒に激しく攪拌した。沈殿した生成物を吸引ろ過し、水およびジイソプロピルエーテルで連続して（それぞれ２回）洗浄し、真空下で乾燥した。これにより融点１９１〜１９３℃（分解）の１２５ｇのメチル２−［３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ウレイドスルホニル］−４−メタンスルホンアミノメチルベンゾエートを得た。
【００７３】
実施例２
３−アミノ−４−メトキシカルボニルベンジルアンモニウムクロリド
１８．５ｇ（０．０９モル）のメチル４−シアノ−２−ニトロベンゾエートおよび０．９３ｇの水酸化パラジウム（木炭上２０％）をＨａｓｔｅｌｌｏｙ攪拌オートクレーブにおいて８ｍｌの濃塩酸（３０％濃度）および３１５ｍｌの水の混合物中で懸濁した。次に、混合物を水素の取り込みが完了するまで１７バールの水素圧で水素化した。オートクレーブの圧力を開放し、触媒をろ去した後、ろ液を完全に蒸発させた。これにより１９．５ｇ（９７％濃度）の３−アミノ−４−メトキシカルボニルベンジルアンモニウムクロリドを得た。融点２００〜２０５℃。
【００７４】
実施例３
３−アミノ−４−メトキシカルボニルベンジルアンモニウムクロリド
ステンレス鋼オートクレーブ中で８．０ｇの水酸化パラジウム（木炭上２０％）および１００ｍｌの酢酸をＮ２で不活性にした。次に、１７バールの水素圧を加えた。２．６Ｌの酢酸中における３００ｇ（１．４５５モル）のメチル２−ニトロ−４−シアノベンゾエートの溶液を激しく攪拌した混合物に冷却しながら＋２０℃で３時間にわたって計量ポンプを使用して加えた。Ｈ２圧を１７バールに維持した。オートクレーブの圧力を開放し、内容物をＮ２で不活性にした。触媒をろ去し、ろ液を蒸発させた。収率（酢酸塩の生成物）：粘稠な残留物として理論値の９１％。残留物をトルエンに溶解し、０〜１０℃でＨＣｌ気体（１当量）を通して定量的に３−アミノ−４−メトキシカルボニルベンジルアンモニウムクロリドの沈殿を得、それを白色の結晶形態でろ過し、乾燥した（収率９１％、融点２０４〜２０６℃）。
【００７５】
実施例４
ａ）３−ニトロ−４−メトキシカルボニルベンジルアンモニウムクロリド
ＴＨＦ （０．７モル）中の１Ｍ ＢＨ３溶液（７００ｍｌ）を２５０ｍｌのＴＨＦ中における１４４ｇ （０．７モル）のメチル４−シアノ−２−ニトロベンゾエートの溶液に４０〜５０℃で１時間にわたって計量して加え、次に混合物をさらに１．５時間還流した。次に、氷冷しながら反応混合物を塩化水素気体で飽和させた６００ｍｌのメタノールで処理し、１時間還流した。混合物を常圧で完全に濃縮し、７００ｍｌのメタノールで再び蒸発させた。残留物を５００ｍｌの酢酸エチルと一緒に攪拌し、ろ過し、生成物を乾燥した。これにより１１５ｇ （６７％）の３−ニトロ−４−メトキシカルボニルベンジルアンモニウムクロリドを得た。融点２４７〜２４８℃。
【００７６】
ｂ）メチル４−メタンスルホニルアミノメチル−２−ニトロベンゾエート
９．４ｍｌ （０．２４４ ［脱落］）の塩化メタンスルホニルを氷冷しながら３０分にわたって３００ｍｌのジクロロメタン中における３０．１ｇ（０．１２２モル）の３−ニトロ−４−メトキシカルボニルベンジルアンモニウムクロリドおよび３４ｍｌ （０．２４４ ［脱落］）のトリエチルアミンの溶液に計量して加え、混合物の攪拌を１時間続けた。後処理として、反応混合物を氷水で処理し、相を分離し、水相を再びジクロロメタンでさらに２回抽出した。乾燥（Ｎａ２ＳＯ４）し、ろ過し、濃縮して３１．３ｇ（８９％）のメチル４−メタンスルホニルアミノメチル−２−ニトロベンゾエートをシロップ状の油状物として得た。
【００７７】
ｃ）メチル２−アミノ−４−メタンスルホニルアミノメチルベンゾエート
１３．２５ｇ（４６ミリモル）のメチル４−メタンスルホニルアミノメチル−２−ニトロベンゾエートを２００ｍｌのメタノールに溶解した。１．４ｍｌ （４６ミリモル）の濃塩酸および１ｇのＰｄ触媒（活性炭上１０％）を加えた後、混合物を常圧において水素の吸収が完了するまで水素で水素化した。ろ過により混合物から触媒を除去し、ろ液を完全に濃縮した。残留物を水から結晶させて１０．４ｇ（８８％）のメチル２−アミノ−４−メタンスルホニルアミノメチルベンゾエートを得た。融点１２１〜１２２℃。
【国際公開パンフレット】
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2004504374.tif 000063
2004504374.tif 000064
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【国際調査報告】
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2004504374.tif 000109
2004504374.tif 000110
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