(57)【要約】本発明は、リソグラフィによる半導体デバイス製造用のシステム（１００）に関し、特に、このようなシステムで用いられるマスクコンテナ（２００：Ｃ１〜Ｃ４）の組立体（２０６）に関する。システムには、２つ以上のコンテナを積層状態で共に搬送し得るように、互いに係合するようになっている複数のマスクコンテナと、複数のリソグラフィ・ベイ（１１０：Ｌ１〜Ｌ４）と、異なるリソグラフィ・ベイ間においてコンテナを搬送するための搬送レールシステム（１０１）と、が含まれる。各リソグラフィ・ベイは、各コンテナに配置されるトラッキングデバイス（２０５）とリソグラフィデータを通信するための送受信ユニット（１７０：Ｄ１〜Ｄ４）を備え、より効率的なマスク管理を可能にする。積層状態でコンテナを搬送することによって、効率が改善される。
2004515913.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々１つ以上のリソグラフィマスクを保持するための複数のマスクコンテナを含む組立体であって、
２つ以上のコンテナが互いに固定された関係で共に積層し得るように、各コンテナは、他のコンテナ上の対応する係合機構と係合するようになっている係合機構を備え、
各マスクコンテナは、電子トラッキングデバイスを有し、トラッキングデバイスは、リソグラフィデータを受信するための受信機ユニットと、リソグラフィデータを記憶するためのメモリと、メモリとの間でリソグラフィデータの読み取り又は書き込みを行なうためのプロセッサユニットと、メモリから読み取られたリソグラフィデータを送信するための送信機ユニットと、を有する組立体。
【請求項２】
請求項１に記載の組立体であって、
係合機構には、２つ以上のマスクコンテナが１つのマスクの掛け金を他のマスクの留め金と係合することによって係合し得るように、コンテナの片面に取り付けられた掛け金と、コンテナの反対の面に取り付けられた留め金と、が含まれる組立体。
【請求項３】
請求項１に記載の組立体であって、
各コンテナは、２つのコンテナが互いに対して正しく配置された時、積層状態の２つの隣接するコンテナ上の接点が電気的接続を形成するように配置された電気接点を有する組立体。
【請求項４】
請求項１に記載の組立体であって、受信機ユニット及び送信機ユニットは、無線周波数の放射線をそれぞれ受信し送信する組立体。
【請求項５】
請求項１に記載の組立体であって、受信機ユニット及び送信機ユニットは、赤外線放射線をそれぞれ受信し送信する組立体。
【請求項６】
請求項１に記載の組立体であって、メモリは、ＥＥＰＲＯＭである組立体。
【請求項７】
請求項１に記載の組立体であって、メモリは、ＳＲＡＭである組立体。
【請求項８】
請求項１に記載の組立体であって、積層状態のマスクコンテナのトラッキングデバイスは、互いにリソグラフィデータを通信するようになっている組立体。
【請求項９】
請求項８に記載の組立体であって、
各コンテナのトラッキングデバイスは、積層状態の他のコンテナを識別し、また、それら自体の間で１つのトラッキングデバイスを選択して積層状態の全てのコンテナを示すリソグラフィデータを送信するようにプログラムされている組立体。
【請求項１０】
半導体デバイスを製造するための製造システムにおいて、
各々１つ以上のリソグラフィマスクを保持するための複数のマスクコンテナであって、２つ以上のコンテナが互いに固定された関係で共に搬送され得るように、各コンテナが、他のコンテナ上の係合機構と係合するようになっている係合機構を有する前記複数のマスクコンテナと、
複数のリソグラフィ・ベイと、
異なるリソグラフィ・ベイ間においてコンテナを搬送するための搬送レールシステムと、が含まれ、
各リソグラフィ・ベイには、リソグラフィデータをそれぞれ送信し受信するための送信機ユニットと受信機ユニットとが含まれ、また、各マスクコンテナには、リソグラフィ・ベイからリソグラフィデータを受信するための受信機ユニットと、リソグラフィデータを記憶するためのメモリと、メモリとの間でリソグラフィデータの読み取り又は書き込みを行なうためのプロセッサユニットと、メモリから読み取られたリソグラフィデータを同じリソグラフィ・ベイ又は他のリソグラフィ・ベイに送信するための送信機ユニットと、が備えられた電子トラッキングデバイスが含まれる製造システム。
【請求項１１】
請求項１０に記載の製造システムであって、
レールシステムに対してマスクコンテナを自動的に搭載したり降ろしたりするためのハンドリング機構が設けられている製造システム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の製造システムであって、
マスクコンテナを積層した状態で互いに係合させるための、また、積層状態からコンテナを解除又はコンテナからマスクを自動的に取り外すためのハンドリング機構が設けられている製造システム。
【請求項１３】
請求項１１に記載の製造システムであって、
リソグラフィデータをマスクコンテナ及びリソグラフィ・ベイと交信するための入力及び出力ポートを有する中央コンピュータが設けられている製造システム。
【請求項１４】
請求項１３に記載の製造システムであって、
レールシステムには、マスクコンテナを移動するための牽引機構が設けられており、牽引機構は、中央コンピュータによって制御される製造システム。
【請求項１５】
半導体デバイスを製造するための製造システムにおいて、
各々１つ以上のリソグラフィマスクを保持するための複数のマスクコンテナと、
複数のリソグラフィ・ベイと、
異なるリソグラフィ・ベイ間においてコンテナを搬送するための搬送レールシステムであって、搬送装置と、レールシステムがマスクコンテナを搬送し得るように搬送装置と係合するための係合機構を各々備えたマスクコンテナとを有する前記搬送レールシステムと、が含まれ、
各リソグラフィ・ベイには、リソグラフィデータをそれぞれ送信し受信するための送信機ユニットと受信機ユニットとが含まれ、また、各マスクコンテナには、リソグラフィ・ベイからリソグラフィデータを受信するための受信機ユニットと、リソグラフィデータを記憶するためのメモリと、メモリとの間でリソグラフィデータの読み取り又は書き込みを行なうためのプロセッサユニットと、メモリから読み取られたリソグラフィデータを同じリソグラフィ・ベイ又は他のリソグラフィ・ベイに送信するための送信機ユニットと、が備えられた電子トラッキングデバイスが含まれる製造システム。
【請求項１６】
請求項１５に記載の製造システムであって、前記レールシステムは、マスクコンテナを積層状態で搬送する製造システム。
【請求項１７】
請求項１５に記載の製造システムであって、前記レールシステムは、スロット付きのフレームでマスクコンテナを搬送する製造システム。
【請求項１８】
各々１つ以上のリソグラフィマスクを保持するための複数のマスクコンテナを含む組立体であって、
２つ以上のコンテナが互いに固定された関係で共に積層し得るように、各コンテナは、他のコンテナ上の係合機構と係合するようになっている係合機構を備え、
各マスクコンテナは、電子トラッキングデバイスを有し、トラッキングデバイスは、第１リソグラフィデータを受信するための受信機ユニットと、第１リソグラフィデータを一時的に記憶するためのメモリと、第１リソグラフィデータを処理し第２リソグラフィデータを提供するためのプロセッサユニットと、第２リソグラフィデータを送信するための送信機ユニットと、を有する組立体。
【請求項１９】
半導体デバイス製造システムを動作する方法において、製造システムには、各々１つのマスクを含む複数のマスクコンテナが含まれ、各コンテナには、コンテナ内のマスクに対応するデータを送信し受信するためのトラッキングデバイスが備えられている前記方法であって、
複数のマスクコンテナからリソグラフィデータを受信し、受信されたリソグラフィデータに基づき２つ以上のコンテナを選択する段階と、
積層形態の選択されたコンテナを共にグループ化し、また、露光ツール機構を備えたリソグラフィ・ベイに接続するレールシステム上に積層体を配置するように第１自動ハンドリングデバイスを動作する段階と、
リソグラフィ・ベイに積層体を搬送するようにレールシステムを動作する段階と、
更に、露光ツール機構を動作させ、積層状態にある少なくとも１つのマスクコンテナからリソグラフィデータを受信する段階と、
積層状態のマスクコンテナから受信されたデータに基づきリソグラフィツールを動作する段階であって、
・マスクをコンテナから取り外すステップと、
・マスクをコンテナに挿入するステップと、
・マスクを取り外し、そのマスクをコンテナに戻し、引き続き、他のマスクを異なるコンテナから取り外すステップと、
・積層状態のコンテナを降ろすステップと、
・積層を再組立するステップと、
・データを電子的形態でマスクに付加するステップと、
・マスクからデータを読み取るステップと、
・マスクを介した電磁放射の送出によって、半導体ウェハや他の何らかの加工物を露光するステップと、
・マスクを保管するステップと、
・マスクを製造するステップと、
・マスクの保守を行なうステップと、
・マスクの送信特性をモニタするステップと、
・マスクへの損傷、マスクの処分、マスクの再利用、又は工場からマスクを除去する他のあらゆる動作のステップと、
・マスクの特性を直接的又は間接的にテスト及び測定するステップと、
・マスクに識別子を割当てるステップと、
・複数のマスクに識別子を割当てるステップと、
・マスクに関する情報を第１コンテナの第１電子デバイスから他のコンテナにおける他の電子デバイスに転送するステップと、の内少なくとも１つのステップが含まれるリソグラフィツールを動作する前記段階と、が含まれる方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
発明の分野
本発明は、半導体デバイスの製造に関し、特に、半導体集積回路の製造に用いるマスクコンテナの組立体に関する。
【０００２】
発明の背景
通常、半導体集積回路の製造は、一連の段階を含む。これらの段階の多くには、フォトレジストで半導体ウェハをコーティングする段階と、マスク（レチクルとしても知られる）を通過する光によって、コーティング済ウェハを露光する段階と、が含まれる。このようなウェハの露光は、通常リソグラフィ・ベイの一部である露光ツールを用いて実行され、従って、マスクは、リソグラフィマスクと称することがある。
【０００３】
同じ露光ツールが、製造手順の異なる段階用の異なるマスクと共に用いられたり、あるいは、露光ツールが、製造手順における特定の段階の専用であったり、１つのマスクだけを用いたりすることがある。何れにせよ、通常、マスクは、露光ツールから取り外し可能である。
【０００４】
集積回路が製造される工場、特に、３００ｍｍのウェハを処理する工場では、通常、数多くの露光ツールが同時に稼動する。１つのマスクは、１つ以上の露光ツールに用いなければならず、従って、マスクは、１つの露光ツールから他の露光ツールに移動しなければならない。
【０００５】
通常、マスクは、異なる露光ツール間又は露光ツールと保管領域との間で作業者によって搬送される。搬送や保管の際、マスクは、その破損や浮遊塵から保護するために、マスクコンテナ（マスクホルダとしても知られる）に保管される。通常、コンテナは、プラスチック製である。
【０００６】
代表的な集積回路工場では、多くのマスクが循環して使用されているため、これらのマスクの使用を整合して、露光ツールが、必要なマスクが到着するまでに待機しなければならない時間を短縮することは、困難な場合がある。
本発明の目的は、これらの問題に対処することである。
【０００７】
好適な実施形態の詳細な説明
本発明の１つの側面によれば、各々１つ以上のリソグラフィマスクを保持するための複数のマスクコンテナを含む組立体が提供される。この組立体においては、２つ以上のコンテナが互いに固定された関係で共に積層し得るように、各コンテナは、他のコンテナ上の対応する係合機構と係合するようになっている係合機構を有する。また、各マスクコンテナは、電子トラッキングデバイスを有し、このトラッキングデバイスは、リソグラフィデータを受信するための受信機ユニットと、リソグラフィデータを記憶するためのメモリと、メモリとの間でリソグラフィデータの読み取り又は書き込みを行なうためのプロセッサユニットと、メモリから読み取られたリソグラフィデータを送信する送信機ユニットと、を有する。
【０００８】
リソグラフィデータという用語には、半導体デバイスの製造において生成され、使用され、又は、転送され得るあらゆる種類のデータを含み得ることを理解されたい。
【０００９】
１つのセットとして連続的に用いられるマスク又は他の方法で関連付けられたマスクを含むマスクコンテナは、積層状態で共に係合又はロックし得る。この積層状態のマスクコンテナは、露光ツールを有するリソグラフィ・ベイに搬送し得る。積層マスクコンテナは、リソグラフィ・ベイに配置することが可能であり、また、各マスクは、露光ツールに搭載するために一度に１つずつコンテナから取り外し得る。コンテナの積層体は、分解する必要がないために、マスクをそれらの正しいコンテナに戻すことがより簡単になり、また、マスクがその組の他のマスクから分離される可能性が減少する。
【００１０】
一旦、積層状態のマスクが露光ツールによって用いられると、積層体は、保管領域に戻すことが可能であり、あるいは、他の露光ツールが同じ組のマスクを必要とする場合、その露光ツールに積層体を搬送し得る。マスクコンテナは、積層状態で共に係合されるため、より簡単に搬送することが可能であり、マスクの順番が乱れたり紛失したりする可能性が低減する。
【００１１】
各コンテナは、電子トラッキングデバイスを有するため、コンテナ内のマスクに対応するデータは、コンテナを開ける必要無く得られる。
係合機構は、ラッチ機構を含み、２つ以上のマスクが１つのマスクの留め金を他のマスクの掛け金と係合することによって係合し得るように、コンテナの片面は、バネ掛け金を有し、コンテナの反対の面は、留め金を有する。好適には、ラッチ機構によって、２つのコンテナは、共にカチッと嵌め合うことが出来る。ラッチ機構は、プッシュプル型であり、レバーによって解除可能であってよい。
【００１２】
好適には、コンテナは、それらの側面が互いに揃うように積層されるが、コンテナは、段階的に積層してよい。
トラッキングデバイスに記憶されるリソグラフィデータには、その種類、バージョン又はコンテナに保持されるマスクの他の仕様、マスクの位置合わせマークに関する情報、マスクを識別する固有のコード、マスクを用いるための処理条件（例えば、露光時間、波長）、及び、マスクが適している露光ツール及び処理ステップの種類等の仕様データを含み得る。また、リソグラフィデータには、マスクが用いられた処理ステップの履歴、マスクが用いられた又は用いられる露光ツールの詳細、マスクの既知の欠陥、又はその使用上の問題等の状態データを含み得る。
【００１３】
受信機ユニット及び送信機ユニットは、各々、例えば、無線周波数で動作する無線デバイスであってよい。他の選択肢として、受信機ユニットは、赤外線光検出器であってもよく、送信機ユニットは、赤外線ダイオードであってもよい。好適な実施形態において、受信機ユニット及び送信機ユニットは、導電体を介して、データを送信し、また、各々、導電体を接触させるための電気接点を含む。
【００１４】
最初に、まず、マスクがコンテナに配置される際、マスクの仕様に関するデータが、トラッキングデバイスに書き込まれる。
データは、携帯型デバイスからリソグラフィデータを受信するための受信機を有する携帯型機器によって、トラッキングデバイスから読み出される。
【００１５】
露光ツールは、好適には、各々、各マスクコンテナのトラッキングデバイスからリソグラフィデータをダウンロードするための読み取り装置を有する。次に、ダウンロードされたデータは、露光ツールによって用いられ、マスクが用いられる処理シーケンスの特定のステップに適する露光及び他のパラメータを設定する。
【００１６】
更に、露光ツールは、好適には、各々、トラッキングデバイスにリソグラフィデータを通信するための通信装置を有する。マスクコンテナが、初めて用いられるか、新しいマスクに用いられる場合、露光ツールの通信装置は、マスクの仕様に関する仕様データをトラッキングデバイスに通信するために用い得る。一方、トラッキングデバイスにおいて既に仕様データが在る場合、露光ツールに対応する通信装置は、マスクが用いられる次の露光ツールによって用い得るトラッキングデバイスに状態データを通信し得る。トラッキングデバイスに通信された状態データは、好適には、トラッキングデバイスによって既に保持されている何れか既存の状態データに付加されたり又はそのデータを更新したりする。
【００１７】
好適には、少なくとも１つの搬送レールを有するレールシステムが、異なるリソグラフィ・ベイ間において、リソグラフィコンテナを搬送するために設けられる。コンテナは、好適には、各々、移動可能にレールと係合するためのレール係合機構を有し、この機構には、スライド、ベアリング又は回転体を含み得る。好適には、各マスクコンテナのレール係合機構は、解除可能であり、この結果、コンテナは、レールから取り外し可能であり、露光ツールへの搭載が可能な位置に保管又は配置し得る。
【００１８】
また、好適には、レールに沿ってコンテナを移動するための牽引機構が設けられる。牽引機構には、レール上のマスクコンテナと係合し得る可動ベルト又はケーブルが含まれる。他の選択肢として、牽引機構には、各モータが、単一積層のマスクコンテナ（又は、１つのマスクコンテナ）を独立して移動出来るように配置された複数の個別のモータが含まれる。
【００１９】
１グループのコンテナを積層状態で共に係合する場合、積層体のコンテナの内１つだけをレールに係合し得る。（即ち、レールに物理的に接続し得る）。
好適には、レールシステムには、レールに対してマスクコンテナを搭載したり降ろしたりする作業を作業者が手作業で行なうのではなく、自動的に行なうためのハンドリング機構が含まれる。また、ハンドリング機構は、マスクコンテナを互いに積層した状態で係合させ、また、積層体からコンテナを開放し得る。好適には、ハンドリング機構は、リソグラフィデータをマスクコンテナと交信するようになっている中央コンピュータによって制御される。
【００２０】
ノードは、レールシステムに設けられることがあり、この場合、積層状態のマスクコンテナは、作業者又はハンドリング機構の何れかによって、共に又は別々に配置することが出来る。積層体に付加された又は積層体から取り外されたマスクは、ノードに通じるレールに沿って移動し得る。
【００２１】
好適には、マスクコンテナは、入っているマスクが使用中で無い場合、ストッカー室に保管される。一組のマスクが製造工程において用いられる場合、ハンドリング機構は、ストッカーから対応するマスクコンテナを選択し、これらのマスクを積層体として共に係合し得る。次に、積層体は、適する露光ツールまでレール上を搬送し得る。同じ組のマスクが他の露光ツールによって要求される場合、積層体は、その積層体を再組立する必要無くそのツールに簡単に搬送出来る。
【００２２】
積層状態のマスクコンテナのトラッキングデバイスは、互いにリソグラフィデータを通信し得るようになっている。１つの実施形態において、各コンテナのトラッキングデバイスのプロセッサは、積層状態の他のコンテナを識別し、１つのトラッキングデバイスをそれら自体の間で選択して、積層状態の全てのコンテナを示すリソグラフィデータを送信することによって、データ転送の重複を低減するようにプログラムされている。
【００２３】
一組のマスクの改造が必要な場合、マスクコンテナは、レールノードで積層体に付加又は積層体から取り外すことが可能であり、あるいは、新しい積層体をストッカー室からマスクコンテナを選択することによって形成し得る。
【００２４】
好適には、各マスクコンテナは、１つのマスクのみを含むが、幾つかのマスクコンテナは、例えば、常に２つ以上のマスクが次々に用いられる場合、２つ以上のマスクを含むようにできる。
【００２５】
本発明の他の側面によれば、半導体デバイスを製造するための製造システムが提供される。この製造システムには、
各々１つ以上のリソグラフィマスクを保持するための複数のマスクコンテナであって、２つ以上のコンテナが互いに固定された関係で共に搬送され得るように、各コンテナが、他のコンテナ上の係合機構と係合するようになっている係合機構を有する前記複数のマスクコンテナと、
複数のリソグラフィ・ベイと、
異なるリソグラフィ・ベイ間においてコンテナを搬送するための搬送レールシステムと、が含まれる。
【００２６】
この製造システムにおいて、各リソグラフィ・ベイには、リソグラフィデータをそれぞれ送信し受信するための送信機ユニットと受信機ユニットとが含まれ、また、各マスクコンテナには、リソグラフィ・ベイからリソグラフィデータを受信するための受信機ユニットと、リソグラフィデータを記憶するためのメモリと、メモリとの間でリソグラフィデータの読み取り又は書き込みを行なうためのプロセッサユニットと、メモリから読み取られたリソグラフィデータを同じリソグラフィ・ベイ又は他のリソグラフィ・ベイに送信するための送信機ユニットと、が備えられた電子トラッキングデバイスが含まれる。
【００２７】
本発明の更に他の側面によれば、半導体デバイスを製造するための製造システムが提供される。この製造システムには、
各々１つ以上のリソグラフィマスクを保持するための複数のマスクコンテナと、
複数のリソグラフィ・ベイと、
異なるリソグラフィ・ベイ間においてコンテナを搬送するための搬送レールシステムであって、搬送装置と、レールシステムがマスクコンテナを搬送し得るように搬送装置と係合するための係合機構を各々備えたマスクコンテナとを有する前記搬送レールシステムと、が含まれる。
【００２８】
この製造システムにおいて、各リソグラフィ・ベイには、リソグラフィデータをそれぞれ送信し受信するための送信機ユニットと受信機ユニットとが含まれ、また、各マスクコンテナには、リソグラフィ・ベイからリソグラフィデータを受信するための受信機ユニットと、リソグラフィデータを記憶するためのメモリと、メモリとの間でリソグラフィデータの読み取り又は書き込みを行なうためのプロセッサユニットと、メモリから読み取られたリソグラフィデータを同じリソグラフィ・ベイ又は他のリソグラフィ・ベイに送信するための送信機ユニットと、が備えられた電子トラッキングデバイスが含まれる。
【００２９】
好適には、レールシステムは、マスクコンテナを、例えば、積層状態で又はスロット付きのフレーム（例えば、１つのコンテナに対して１つのスロット）によって搬送する。積層方式では、外側の位置にあるコンテナのみが、取り外し又は付加が可能であり、フレーム方式では、コンテナに対してランダムなアクセスが可能である。当業者は、更に説明の必要無く理解されるが、レールシステムがコンテナを積層体から開放する逆の順番にコンテナをピックアップするような“インテリジェントな”積層方法を提供し得る。言い換えると、コンテナが積層される（位置の観点での）順番によって、コンテナが積層体から解放される（時間の観点での）手順が予め考慮される。
【００３０】
本発明の更に他の側面によれば、各々１つ以上のリソグラフィマスクを保持するための複数のマスクコンテナを含む組立体が提供される。この組立体において、２つ以上のコンテナが互いに固定された関係で共に積層し得るように、各コンテナは、他のコンテナ上の係合機構と係合するようになっている係合機構を備え、また、各マスクコンテナは、電子トラッキングデバイスを有し、トラッキングデバイスは、第１リソグラフィデータを受信するための受信機ユニットと、第１リソグラフィデータを一時的に記憶するためのメモリと、第１リソグラフィデータを処理し第２リソグラフィデータを提供するためのプロセッサユニットと、第２リソグラフィデータを送信するための送信機ユニットと、を有する。
【００３１】
図１において、リソグラフィを用いて半導体デバイスを製造するための製造システム１００を示す。製造システム１００は、複数のリソグラフィ・ベイ１１０（Ｌ１〜Ｌ４）を有し、各リソグラフィ・ベイ１１０は、露光ツール（図示せず）を有する。
【００３２】
複数のマスクコンテナ２００（Ｃ１〜Ｃ４）は、全体的に１０２と称する係合機構によって積層体２０６で共に係合されている。各コンテナ２００には、リソグラフィ・ベイ１１０の内１つの露光ツールに用いるためのマスク２０１が含まれる。４つのマスクコンテナのみを図１に示すが、通常、最大２０個のコンテナが、積層体で共にグループ化されている。
【００３３】
図１に示すコンテナ２００の積層体２０６は、レールシステム１０１で搬送されるが、レールシステム１０１は、異なるリソグラフィ・ベイ１１０とコンテナ２００を保管するための保管領域２０７（Ｓ）との間を結ぶ。レールシステムは、少なくとも１つのノード１６２とつながっている複数のレール１６１を有する。また、レールシステムは、レール１６１に沿ってコンテナを移動するための牽引機構１５１（Ｔ）を備えている。
【００３４】
レール係合手段１５２は、レールシステム１０１のレール又はレール群によりコンテナ２００の内の少なくとも１つ（ここではＣ４と示す）と移動可能に係合するために設けられている。コンテナ２００は、積層体２０６として搬送されるか又は異なるリソグラフィ・ベイ１１０間又はリソグラフィ・ベイ１１０と保管領域２０７との間で個別に搬送されるかの何れかが可能である。
【００３５】
各リソグラフィ・ベイ１１０及び保管領域２０７には、自動的にレールシステム１０１上にマスクコンテナ２００を配置するためのハンドリング機構１１９（Ｈ０〜Ｈ４）であって、マスクコンテナが目的地に到着した時又は積層体がノード１６２で部分的に組立／分解される時、マスクコンテナを取り外すためのハンドリング機構１１９（Ｈ０〜Ｈ４）が設けられている。
【００３６】
各リソグラフィ・ベイ１１０は、リソグラフィデータを送信及び受信するためのデータ送受信機１７０（Ｄ１〜Ｄ４）を有し、各コンテナ２００は、リソグラフィ・ベイ１１０の何れか１つからのリソグラフィデータを受信し記憶するための、また、データの通信を行なうための電子トラッキングデバイス２０５（円記号、図２〜３も参照）を有する。従って、マスクコンテナ２００の積層体２０６がリソグラフィ・ベイ１１０に配送される時、積層中のマスクに関するリソグラフィデータは、リソグラフィ・ベイのリソグラフィツールに転送され、また、リソグラフィツールの露光量又は他の変量は、転送されるリソグラフィデータの関数として設定し得る。
【００３７】
また、リソグラフィデータは、リソグラフィ・ベイ１１０、トラッキングデバイス２０５、及び中央コンピュータ１０５（ＣＩＭ）との間で交信し得る。更に、中央コンピュータ１０５は、マスクコンテナ２００の動きを管理するために、牽引機構１５１を制御し得る。コンテナは、積層体２０６で搬送し得るため、中央コンピュータによって制御しなければならない搬送作業の量は、減少する。
【００３８】
リソグラフィデータは、電波又は赤外放射線等の無線手段を用いて、トラッキングデバイスによって送受信し得る。あるいは、他の選択肢として、レール１６１を用いて、トラッキングデバイス２０５に有線接続できるが、レール係合手段１５２には、ブラシ、又は搬送レールとの他の摺動接点が設けられ、トラッキングデバイスとレール１６１間において移動可能な電気的接触が確立される。また、トラッキングデバイスへの電力は、レール１６１を介して供給してもよく、あるいは、各トラッキングデバイスが電源を備えてもよい。
【００３９】
図２〜３は、更に詳細を示す。図２は、積層体２０６としてコンテナ２００を運ぶための係合機構１０２をより詳細に示し、図３は、個々のコンテナ２００を示す。この例において、レールシステム１０１は、オーバーヘッドレール１６１（その短い区間のみを図２に示す）を使用し、コンテナ２００は、レール１６１下の懸垂位置において移動する。
【００４０】
コンテナ２００は、一対の垂直な保持部材１５３間の両側で保持されが、保持部材１５３は、梁の形態で示す。各保持部材１５３は、その上端において、移動機構１５２によってレール１６１から懸垂されており、移動機構１５２によって、保持部材は、矢印１５７で示す方向にレール１６１上を共に移動することが可能である。
【００４１】
コンテナ２００は、ロック可能なスライド機構１５８によって保持部材１５３に両側１４１で接続され、スライド機構１５８は、例えば、コンテナ２００の搬送中、コンテナ２００の垂直位置を保持する垂直ロック状態で配置したり、あるいは、コンテナ２００が、積み重ね作業や積み下ろし作業のために垂直方向に移動できるようにするロック解除状態で配置したりできる。
【００４２】
ロック可能なスライド機構１５８は、保持部材１５３とコンテナ２００との間の相対的な水平移動を防ぐロックされた水平ロック状態と、コンテナが水平に（矢印１５７の方向に）スライドして保持部材１５３と係合したり係合を解除したりできるロック解除された水平ロック状態と、を有する。スライド機構は、通常、水平ロック状態にあって、コンテナ２００の搬送中、コンテナ２００が保持部材１５３から外れるのを防止する。しかしながら、コンテナをレールシステム１０１上に搭載したり降ろしたりしなければならない場合、ロック可能なスライド機構１５８は、ロック解除された水平ロック状態になる。
【００４３】
積層中、コンテナ２００間の相対的水平移動量を低減するために、複数の凸部１４３が、各コンテナ２００の上面１４２に配置され、凸部は、各コンテナの下面にある対応する凹部と係合する。凸部１４３によって、コンテナは、積層時、互いに係合し得る。好適には、凸部は、ピラミッド形状であるが、他のテーパリング（例えば、円形）も用い得る。
【００４４】
好適には、各コンテナは、その上面に電気接点２０４及び対応する接点２７１をその下面に有し、各接点は、２つ以上のコンテナが正しく積層された時、１つのコンテナの下部接点が、その下のコンテナの上部接点２０４と電気的に接続して電気的閉回路を形成するように配置されている。回路が閉じられた時、コンテナが、正しく積層されたと推定する。円記号（図１参照）によって示すように、デバイス２０５（詳細は図２〜３）は、コンテナ２００に取り付けられる。
【００４５】
好適には、コンテナ２００は、側面１７９を有し、側面１７９は、コンテナ２００内のマスクにアクセスするために開放することが出来る。
オプションとして、各コンテナ２００は、その上面及び下面それぞれに個々の係合機構１４８、１４９を有し、コンテナが、互いに直接係合するようになっている。
【００４６】
本発明によって、各ツール供給業者固有のコンテナを改造できる。改造によって、マスクの搬送やマスクへのアクセスのためのコンテナの基本機能に支障が生じることはない。アクセスは、（広く用いられるように）側面から、又は、他の選択肢として、コンテナの上面から行ない得る。
【００４７】
図４は、本発明に基づく、第１ステーション１１０、第２ステーション１２０、マスクコンテナ２００、及び電子トラッキングデバイス２０５（以下、デバイス）を有するもう１つの半導体ウェハ製造システム１００の簡略化した実施形態を示す概略ブロック図である。デバイス２０５は、マスクコンテナ２００と対応し、以下のものを含む。即ち、第１データ１１１（矢印）を受信するための受信機ユニット２１０と、第１データ１１１を一時的に記憶するためのメモリユニット２２０と、第１データ１１１を処理し第２データ１２２（矢印）を提供するプロセッサユニット２３０と、第２データ１２２を送信するための送信機ユニット２４０と、を含む。
【００４８】
マスクコンテナ２００（以下、コンテナ）は、（例えば、微粒子による）汚染からリソグラフィマスク２０１を保護する何らかの適切な筐体である。またコンテナ２００は、例えば、清掃中のコンテナ２００の場合、空にすることが可能である。
【００４９】
マスクコンテナ２００は、第１リソグラフィ・ベイ（以下、第１ステーション）１１０と第２リソグラフィ・ベイ（以下、第２ステーション）１２０との間でリソグラフィマスク２０１を搬送する。ステーション１１０は、第１プロセスにおいてマスク２０１（又はコンテナ２００）を用い、また、後の時点において、ステーション１２０は、第２プロセスにおいてマスク２０１を用いる。
【００５０】
好適には、第１リソグラフィデータ１１１は、如何にしてステーション１２０がマスク２０１を第１プロセスで用いたかを示し、第２リソグラフィデータ１２２は、如何にしてステーション１２０がマスク２０１を第２プロセスで用いるかを示す。好適には、送信機ユニット２４０は、ステーション１２０が第２プロセスでマスク２０１を用いる前に、ステーション１２０に第２データ１２２を送信する。
【００５１】
好適には、プロセッサユニット２３０は、第１データ１１１を命令１３１と組み合わせることによって、第１データ１１１を処理する。好適には、命令１３１は、コンピュータにより実行可能なプログラムコードの一組の命令である。また好適には、命令１３１は、如何にしてマスク２０１が第２プロセスで用いられるかを示す。受信機ユニット２１０は、例えば、ホストコンピュータから、命令１３１を受信する。受信機ユニット２１０は、第１時点で第１データ１１１を受信し、また、その後に来る第２時点で命令１３１を受信することは好都合である。受信機ユニット２１０及び送信機ユニット２４０との受信や送信を保証するプロトコルは、当技術分野において良く知られている。オプションとして、プロセッサユニット２３０は、マスクコンテナ２００内に配置されたセンサ２７０から第１データ１１１を受信する。
【００５２】
リソグラフィツールを動作させる（及びその言葉のバリエーション）という用語は、少なくとも以下の動作を含むものとする。
・マスク２０１をコンテナ２００から取り外す動作。
・マスク２０１をコンテナ２００に挿入する動作。
・マスクを取り外し、そのマスクをコンテナに戻し、引き続き、他のマスクを異なるコンテナから取り外す動作。
【００５３】
・積層体２０６状態のコンテナ２００を降ろす動作。
・積層を再組立する動作。
・データをマスク２０１に電子的形態で付加する（即ち、電子デバイス２０５に書き込む）、また、オプションとして、（例えば、バーコードラベルを付加することによって）物理的にデータをマスク２０１に付加する動作。
【００５４】
・マスク２０１からデータを読み取る（例えば、バーコードラベルを読み取る）動作。
・マスク２０１を介した電磁放射の送出によって、半導体ウェハ（図示せず）や他の何らかの加工物を露光する動作。
【００５５】
・マスク２０１を保管する動作。
・マスク２１０を製造する動作。
・マスク２１０の保守を行なう動作（例えば、清掃）。
・マスクの送信特性（繰り返し露光により、マスクの放射線の送出が少なくなる等の特性）をモニタする動作。
・マスク２０１への損傷、マスク２０１の処分、マスク２０１の再利用、又は工場からマスク２０１を除去する他のあらゆる動作。
【００５６】
・マスク２０１の特性について、直接的に（例えば、露光写真を評価する）又は間接的に（例えば、マスクによって放射線で露光されたウェハを評価する）テスト及び測定を行なう動作。
・マスク２０１に識別子を割当てる動作。
・複数のマスク２０１に識別子（例えば、種類の分類）を割当てる動作。
・マスク２０１に関する情報を第１コンテナの第１電子デバイスから他のコンテナにおける他の電子デバイスに転送する動作。
この動作一覧表は、方法と関連して後に参照する。
【００５７】
例えば、また、限定するものではないが、ステーション１１０／１２０は、以下のものを有し得るか又は以下のものである。即ち、コンテナにマスクを挿入し、コンテナからマスクを取り外し、コンテナとの間で複数のマスクを挿入し取り外すためのマスクソータと、マスクを介した電磁放射の送出によって半導体ウェハ（図示せず）又は他の何れかの加工物を露光する（マスクの主な目的）ためのリソグラフィ露光ツールと、マスクに対するデーの書き込みや読み取りのためのツールと、マスクを製造するための製造ツール、又は、１つのマスクに対して１つの識別子もしくは複数のマスクに対して１つの識別子を割当てるための製造ツールと、マスクの特性をテストし測定するための計測ツールと、マスクから汚染物質を除去するための清掃ツールである。
【００５８】
上記動作と関連してマスクという用語を用いることは、好都合であるが、当業者は、本明細書中の開示に基づき、コンテナがマスクを搬送するか否かに拘らず、マスクコンテナ２００による動作に対しても、本発明を実施し得る。
【００５９】
図５は、図４の電子デバイス２０５をより詳細に示した概略ブロック図である。例示した電子デバイス２０５には、受信機ユニット２１０、メモリユニット２２０、プロセッサユニット２３０、送信機ユニット２４０、及び、それらを接続するバス２５０が含まれる。好適には、プロセッサユニット２３０及びメモリユニット２２０は、１つのモノシリック・チップ（破線２０８で示す埋め込みのマイクロプロセッサ）上に実装される。
【００６０】
好適には、受信機ユニット２１０及び送信機ユニット２４０を組み合わせて、送受信機ユニット２６０を形成する。好都合なことに、送受信機ユニット２６０は、無線周波数送受信機（アンテナ２６１参照）として、又は赤外線送受信機（発光ダイオード（ＬＥＤ）及びフォトダイオードの記号を含む光インターフェイス２６２参照）として動作する無線送受信機である。当業者は、本明細書中において更に詳細な説明の必要無く、他の無線送受信機を用い得る。例えば、送受信機は、誘導コイルを含み得る。有線式送受信機の場合、デバイス２０５の環境に対して電気接続が直接行なわれる。
【００６１】
好適には、メモリユニット２２０は、ＥＲＰＲＯＭ又はＳＲＡＭ等の不揮発性メモリである。また揮発性メモリ（例えば、ＤＲＡＭ）も用い得る。また、好都合なことに、メモリユニット２２０に記憶された命令１３１は、他のプロセスについての情報をオプションとして含む。
【００６２】
ユニット２１０／２４０，２２０，２３０用の電源２８０は、長寿命小型バッテリー、光起電力要素、熱変換器、外部印加された電磁エネルギーに依存する誘導電力変換器、又は他の何れか適切な電力供給手段によって実現し得る。
【００６３】
好適には、デバイス２０５は、永久に、また、コンテナ２００の清掃時も、コンテナ２００に取り付けられたままである。便利な取り付け手段は、接着剤２０９、又は、機械的結合手段（例えば、圧入又はワンタッチ接続）、又はそれらの組合せである。好適には、デバイス２０５は、工場１００の全てのコンテナ２００に対して同じ位置に配置される。デバイス２０９をコンテナの外側、例えば、そのプラスチック筐体の外側に取り付けると、好都合である。
【００６４】
更に改造が可能である。例えば、コンテナ２００は、バーコード札を有し得る。また、オペレータインターフェイス（例えば、ディスプレイ、ブザー、鍵）にデバイス２０５を設けてもよい。
【００６５】
本発明は、半導体デバイス工場内のマスクを搬送するための更に効率的な方法を提供し、必要な時正しいマスクが無いことによるリソグラフィ露光ツールの休止時間が短くなることを上記説明から理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に基づく半導体デバイスを製造するための第１製造システムの概略ブロック図。
【図２】１つの実施形態における積み重ねたコンテナを運ぶレールを示す図。
【図３】個々のマスクコンテナを示す図。
【図４】製造システムが、トラッキングデバイスを有する、半導体デバイス製造用の第２製造システムの概略ブロック図。
【図５】図１のトラッキングデバイスの概略ブロック図を更に詳細に示す図。
【図４】
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【図５】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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