(57)【要約】本発明は、ウエハ・キャリア（Ｃ）と共に用いるように構成した半導体取り扱い機器洗浄方法および装置を対象とする。洗浄装置（１０）は、第１開口（２２）および第２開口（１６）を有する基部部分（２４）を備えている。基部（２４）は、ウエハ・キャリア（ｃ）を支持し第１開口（２２）の周囲に密封状態で接触させて支持するように構成されている。第１洗浄流体をキャリア（ｃ）の内面に導くために、第１流体回路（５０）が設けられている。第２洗浄流体をキャリア（ｃ）の外面に導くために、第２流体回路（３０，３８，３４）が設けられている。キャリア（ｃ）は、基部（２４）と共にバリアを形成するので、洗浄媒体が隔離され、外部を洗浄するために用いられる第２流体がキャリア（ｃ）の内部を洗浄するために用いられる第１流体と連通するのを実質的に防止する。ドア洗浄アセンブリ（８６４）を、洗浄装置（１０）の一部として設けることもできる。ドア洗浄アセンブリ（８６４）は、回転ハウジング（８６６）、ハウジング（８６６）内に配された軸（８６８）、および軸（８６８）上かつハウジング（８６６）内部に回転可能に配置されたドア受容アセンブリ（８７２）を備えている。ドア受容アセンブリ（８７２）は、ドア（Ｐ）を安定して受容し、ドア（Ｐ）とドア受容アセンブリ（８７２）との間に液密封止を形成するように構成されている。ドア受容アセンブリ（８７２）は、その中に配置されたキャリアのドア（Ｐ）と共に、第２洗浄流体の第１洗浄流体への混入を最少に抑えるように構成されている。
2004503105.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内面および外面を有する半導体ウエハ・キャリアを洗浄する装置であって、
第１開口および第２開口を有する基部部分であって、その基部が前記第１開口の周囲にウエハ・キャリアを支持するように構成された、基部部分と、
第１流体回路と、
第２流体回路と、
を備え、前記第１流体回路が前記第１開口とウエハ・キャリアの内面との間で流体を循環させ、前記第２流体回路が前記第２開口とウエハ・キャリアの外面との間で流体を循環させ、ウエハ・キャリアの内面および外面からの汚染物を除去し、前記基部部分が、前記第１流体回路を前記第２流体回路から実質的に隔離するように構成されている、装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置において、前記第１流体回路は、流体をウエハ・キャリアの内面へと向かわせる第１アプリケータを備え、前記第２流体回路は、流体をウエハ・キャリアの外面へと向かわせる第２アプリケータを備える、装置。
【請求項３】
請求項２記載の装置において、前記第１アプリケータおよび第２アプリケータが噴霧装置である、装置。
【請求項４】
請求項３記載の装置において、前記第１アプリケータおよび第２アプリケータが、前記ウエハ・キャリアに対して移動する、装置。
【請求項５】
請求項４記載の装置において、前記基部が、側壁と、当該基部部分に接続された後壁とを更に備えている、装置。
【請求項６】
請求項５記載の装置において、前記基部に密封接続可能であり、その中への侵入を可能とするように移動可能なカバーを更に備えている、装置。
【請求項７】
請求項１記載の装置において、前記基部部分が、第３開口を更に備え、前記基部が、前記第３開口の周囲に接触してウエハ・キャリア・ドア保持固定具を支持し、前記第１流体回路が前記第１および第３開口とウエハ・キャリアおよびウエハ・キャリア・ドア保持固定具の内面との間で流体を循環させ、前記第２流体回路が前記第２開口とウエハ・キャリアおよびウエハ・キャリア・ドア保持固定具の外面との間で流体を循環させ、ウエハ・キャリアおよびウエハ・キャリアのドアの内面および外面から汚染物を除去する、装置。
【請求項８】
請求項７記載の装置において、前記第１アプリケータおよび第２アプリケータが噴霧装置である、装置。
【請求項９】
請求項８記載の装置において、前記第１噴霧装置および第２噴霧装置が、前記ウエハ・キャリアおよび前記ウエハ・キャリア・ドア保持固定具に対して移動する、装置。
【請求項１０】
内面および外面を有する半導体ウエハ・キャリアと、内側面および外側面を有するウエハ・キャリアのドアとを洗浄する装置において、
基部と、該基部に配置された１つ以上の洗浄ベイであって、各々が容器洗浄アセンブリを備えている洗浄ベイと、ドア洗浄アセンブリとを備え、第１洗浄流体を用いて前記キャリアの内面および前記ドアの内側面を洗浄し、第２洗浄流体を用いて前記キャリアの外面および前記ドアの外側面を洗浄し、前記洗浄ベイが、前記第２流体の前記第１流体との連通を実質的に防止するように構成されている、装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の装置において、前記第１洗浄流体および前記第２洗浄流体が、各々、同一の化学特性を有する、装置。
【請求項１２】
請求項１０記載の装置において、前記第１洗浄流体および前記第２洗浄流体が、各々、異なる化学特性を有する、装置。
【請求項１３】
請求項１０記載の装置において、前記基部が、同基部内に配置された流体漏れ検出器を含む、装置。
【請求項１４】
請求項１０記載の装置において、前記容器洗浄アセンブリが、可変の停留時間を可能とするように構成されている、装置。
【請求項１５】
請求項１０記載の装置において、前記ドア洗浄アセンブリが、可変の停留時間を可能とするように構成されている、装置。
【請求項１６】
請求項１０記載の装置において、前記容器洗浄アセンブリが、イオン化空気を前記ウエハ・キャリアの内面に導くイオン化器を含む、装置。
【請求項１７】
請求項１０記載の装置において、前記ウエハ・キャリアの内面を、前記ウエハ・キャリアの外面よりも高い圧力に保持する、装置。
【請求項１８】
請求項１７記載の装置において、前記容器洗浄アセンブリが、前記第１流体回路を前記第２流体回路から実質的に隔離するように構成された隆起を含む、装置。
【請求項１９】
請求項１０記載の装置において、更に、前記基部に解放可能に装着されたクロージャを備え、該クロージャと基部との間の界面に液密封止を形成する、装置。
【請求項２０】
請求項１９記載の装置において、前記基部が、動作中に前記液密封止の破損を検出する閉鎖センサを含む、装置。
【請求項２１】
内面および外面を有する半導体ウエハ・キャリアを洗浄する装置であって、第１流体回路および第２流体回路を含む基部部分を備え、前記第１流体回路が前記キャリアの内面と連通し、前記第２流体回路が前記ウエハ・キャリアの外面と連通し、前記第１流体回路を前記第２流体回路から実質的に隔離した、装置。
【請求項２２】
内面および外面を有する半導体ウエハ・キャリアを洗浄する装置であって、第１流体回路および第２流体回路を含む基部部分と、前記第１流体回路を前記第２流体回路から実質的に隔離する手段とを備えている、装置。
【請求項２３】
請求項２２記載の装置において、前記隔離手段が、前記第１流体回路を前記第２流体回路から機械的に隔離する手段を含む、装置。
【請求項２４】
請求項２２記載の装置において、前記隔離手段が、空気圧によって前記第１流体回路を前記第２流体回路から隔離する手段を含む、装置。
【請求項２５】
内面および外面を有する半導体ウエハ・キャリアと、内側面および外側面を有するウエハ・キャリアのドアとを洗浄する装置であって、
基部と、該基部に配置された１つ以上の洗浄ベイであって、各々、容器洗浄アセンブリを備えている、洗浄ベイと、ドア洗浄アセンブリとを備え、第１洗浄流体を用いて前記キャリアの内面および前記ドアの内側面を洗浄し、第２洗浄流体を用いて前記キャリアの外面および前記ドアの外側面を洗浄し、前記洗浄ベイが、前記第２流体の前記第１流体との連通を実質的に防止するように構成されている、洗浄装置。
【請求項２６】
請求項２５記載の装置において、前記第１洗浄流体および前記第２洗浄流体が、各々、同一の化学特性を有する、装置。
【請求項２７】
請求項２５記載の装置において、前記第１洗浄流体および前記第２洗浄流体が、各々、異なる化学特性を有する、装置。
【請求項２８】
請求項２５記載の装置において、前記ドア洗浄アセンブリが、
回転ハウジングと、
前記ハウジング内に配置された軸と、
前記軸上および前記ハウジング内部に回転可能に配置されたドア受容アセンブリとを備え、該ドア受容アセンブリは前記ドアを確実に受容し、前記ドアと該ドア受容アセンブリとの間に液密封止を形成するように構成されており、
前記ドア受容アセンブリおよびその中に配置されたドアによって前記第１流体の前記第２流体との連通を防止するようにした、装置。
【請求項２９】
請求項２８記載の装置において、前記ドア洗浄アセンブリが、更に、前記ハウジング上に固定可能に配置され、前記第１流体を前記ドアの内側に導入する複数のノズルを備えている、装置。
【請求項３０】
請求項２９記載の装置において、前記ノズルが、前記ドアの内側に対してある角度をなして前記第１流体の噴霧装置を向けるように構成されている、装置。
【請求項３１】
請求項２８記載の装置において、前記ドア洗浄アセンブリが、更に、前記回転ハウジング内部に配置された１つ以上の空気注入ノズルを備え、該ノズルが、前記ドア受容アセンブリを時計回りおよび反時計回り方向双方に空気圧によって回転させるように構成されている、装置。
【請求項３２】
請求項２６記載の装置において、前記ドア受容アセンブリが、更に、その周囲に沿って配置された複数のノッチを備えている、装置。
【請求項３３】
請求項２８記載の装置において、前記ドア受容アセンブリが、回転速度と、任意で回転位置とを検出する１つ以上の回転検知装置を含む、装置。
【請求項３４】
請求項２５記載の装置において、前記基部が、同基部内に配置された流体漏れ検出器を含む、装置。
【請求項３５】
請求項２５記載の装置において、更に、前記基部に装着されたクロージャを備え、該クロージャと基部との間の界面に液密封止を形成する、装置。
【請求項３６】
請求項３５記載の装置において、前記基部が、動作中に前記液密封止の破損を検出する閉鎖センサを含む、装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（関連出願）
本願は、米国予備特許出願第６０／２１６，８７３号に基づいており、１９９８年１月９日に出願した米国予備特許出願第６０／０７２，４５８号に基づき、現在米国特許第６，２４８，１７７号となっている、１９９９年１月８日出願の第０９／２２７，７０２号の一部継続出願でもある。これらの出願は双方ともこの言及により、その全体が本願にも含まれることとする。
【０００２】
（発明の背景）
本発明は、クリーン・ルーム型環境において用いられるキャリアに関し、更に特定すれば、半導体製造業界において用いられるキャリアを洗浄する装置および方法に関する。
【０００３】
半導体ウエハまたはその他の繊細な電子素子を有用な商品に形成するプロセスでは、高いレベルの精密性および洗浄度が要求される。これらの商品が増々複雑化しかつ微細化するに連れて、汚染に対する懸念が増加する。汚染は、空気や取り扱い器具および機器を介して基板に混入する場合がある。汚染によって、回路素子の歩留まり低下を招き、対応して製造コストの上昇を引き起こす。
【０００４】
空中汚染は、多くの場合、クリーン・ルームとして知られている、制御された製造環境を設けることによって、大幅に低減される。クリーン・ルームは、周囲の空気中に見られる空中汚染物を効果的に除去するが、同じクリーン・ルーム環境内でウエハを完成まで処理することは不可能か、または推奨できない場合が多い。更に、全ての汚染物が排除される訳ではない。この理由およびその他の理由のために、半導体ウエハは、保護キャリアやポッドのような、特殊な補助取り扱い機器を用いて、一括して輸送し、格納し、製造する。これらのキャリアは、通常、クロージャ（ｃｌｏｓｕｒｅ） を備えているので、キャリアやポッドがそれら自体のマイクロ環境を維持することが可能となっている。これによって、更に、空中粒子からの汚染の潜在的可能性が低下する。
【０００５】
汚染および汚染物の発生ならびにウエハまたは基板への混入は、取り扱い機器を介して発生する場合がある。例えば、ウエハがウエハ・キャリアに挿入されたり取り出され、ドアがキャリアに取り付けられたり取り外されるときに、粒子がウエハによって機械的に発生する可能性があり、あるいは異なる処理流体に対する反応において、化学的に粒子が発生する可能性がある。また、汚染は、キャリア上におけるガス抜き、人間の活動による生物的な根元の結果であったり、あるいはキャリアの洗浄が不適当または不完全であった結果としても発生する可能性がある。また、汚染は、キャリアを処理中にステーション間で輸送する際に、キャリアの外部に蓄積する可能性もある。
【０００６】
特殊取り扱い機器の汚染は、前記機器を周期的に洗浄および／または洗浄することによって低減することができる。トンプソン（Ｔｈｏｍｐｓｏｎ）らの米国特許第５，５６２，１１３号、カワノらの米国特許第５，３６３，８６７号、およびＢａｌｌａｒｄ の米国特許第４，１３３，３４０号は、各々、ウエハ・キャリア洗浄装置を開示している。トンプソン、カワノおよびバラード（Ｂａｌｌａｒｄ ）は、各々、単一の流体回路を採用している。キャリアの外面を洗浄するために用いられる流体、およびキャリアの内面を洗浄するために用いられる流体は、共通の貯蔵器から流出し、機器から共通のドレインに排出される。
【０００７】
動作において、キャリアの外面は環境に露出されているので、より多くの汚染物が蓄積する。洗浄プロセスにおいて使用した洗浄流体はリサイクルされる場合もある。しかしながら、このようなリサイクルされた流体は、キャリアの内部に導入することは望ましくない。何故なら、外部からの懸濁汚染物が内部を汚染する虞れがあるからである。
【０００８】
共通の流体ダクトを使用する場合も、洗浄装置はキャリアの内面および外面上で異なる洗浄流体を用いることができない。異なる洗浄流体が望ましいことが多いのは、ウエハ容器の外面および内面の洗浄特性が異なるからである。別個の流体を内部および外部に使用可能な従来技術の洗浄装置では、使用された流体が全て混合して収集され、もはや洗浄には適さないので、リサイクルはできない。
【０００９】
従来技術の洗浄装置に伴う問題がいくつかある。これらは、リサイクルができないので、大量の洗浄流体を用いる。リサイクルを行わない洗浄装置は、外面および内面双方に特別な要望に合わせて流体を調合することができない。また、これらはドアやクロージャのような付属品の洗浄も行うことができない。
【００１０】
したがって、外面および内面用洗浄流体間における相互汚染を極力抑えたウエハ・キャリア洗浄装置、貴重な資源を節約するウエハ・キャリア洗浄装置、ドアの洗浄が可能なウエハ・キャリア洗浄装置、および適度に制御した環境において動作可能なウエハ・キャリア洗浄装置が求められている。
【００１１】
（発明の概要）
本発明は、ウエハ・キャリアと共に用いるように構成した半導体取り扱い機器洗浄方法および装置を対象とする。洗浄装置は、第１開口および第２開口を有する基部部分を備えている。基部は、ウエハ・キャリアを第１開口の周囲に密封状態で接触させて支持するように構成されている。第１洗浄流体をキャリアの内面に導くために、第１流体回路が設けられている。第２洗浄流体をキャリアの外面に導くために、第２流体回路が設けられている。キャリアは、基部と共にバリアを形成するので、洗浄媒体が隔離され、外部を洗浄するために用いられる第２流体がキャリアの内部を洗浄するために用いられる第１流体と連通するのを実質的に防止する。ドア洗浄アセンブリを、洗浄装置の一部として設けることもできる。ドア洗浄アセンブリは、回転ハウジング、ハウジング内に配された軸、および軸上かつハウジング内部に回転可能に配置されたドア受容アセンブリを備えている。ドア受容アセンブリは、ドアを確実に受容し、ドアとドア受容アセンブリとの間に液密封止を形成するように構成されている。ドア受容アセンブリは、その中に配置されたキャリアのドアと共に、第２洗浄流体の第１洗浄流体への混入を最少に抑えるように構成されている。
【００１２】
洗浄流体は、ウエハ・キャリアの内面および外面の周期的な洗浄、すすぎ洗い、乾燥、またはそれ以外の準備（例えば、汚染除去）を行うために用いられる。好ましくは、流体は専用の噴霧装置を介して適用され、該噴霧装置は流体回路に移動可能に接続されている。流体回路は、必要かつ適切なドレイン、バルブ、フィルタ、およびポンプを、内部に供給される流体および外部に供給される流体に対してそれぞれ備えている。必要に応じて、バルブによって、流体回路内の流体をリサイクルし、結合し、洗浄し、再度充填することが可能となる。
【００１３】
別の実施形態では、多数のウエハ・キャリアを同時に洗浄することができる。ウエハ・キャリアを２台とした特定的な場合では、固定具を設けて、ウエハ・キャリアおよび付随するドア全体を同時に準備できるようにした。洗浄装置上においてドアの取り外しおよび取付を行うには、手作業あるいはロボットおよび／または自動化手段を用いることができる。
【００１４】
更に別の実施形態は、複数の支持部を有する基部を備える。該支持部は基部から上方に延出し、キャリアを多少上昇させた位置で保持する。基部には、更に、キャリアの外側で用いられる洗浄流体の流れが、キャリアの内側で用いられる流体と連通するのを抑制するように構成された隆起が設けられている。任意に、複数の保持ブロックを設けて、キャリアを支持部上に固着させてもよい。
【００１５】
更に別の実施形態では、１つ以上の洗浄ベイを備えた洗浄装置を提供する。各洗浄ベイは、容器洗浄アセンブリおよびドア洗浄アセンブリを備え、複数のウエハ・キャリアおよびそれらに対応するドアを同時に洗浄する。容器洗浄アセンブリは、容器を洗浄ベイ上に垂直に保持する複数の支持構造８２４と、内部噴霧装置と、外部噴霧装置とを備えている。ドア洗浄アセンブリは、容器のドアを受容するように構成されたドア受容アセンブリを備えている。ドア受容アセンブリおよびドアによって液密封止されるので、ドアの内側に導入された洗浄流体は、ドアの外側およびウエハ・キャリアの外側に送出された流体とは独立して維持される。
【００１６】
ドアは、ドア・クロージャと、当該ドア・クロージャを受けるように構成された溝との係合によって、ドア受容アセンブリ内において拘束されてもよいし、あるいは回転装着装置に別個の閉鎖機構を設けてもよい。
【００１７】
本発明のある実施形態の目的および利点は、ウエハ・キャリアの外面を準備および／または洗浄するために用いられる流体を、ウエハ・キャリアの内面を準備および／または洗浄するために用いられる流体から実質的に隔離することによって、相互汚染を低減することである。
【００１８】
本発明のある実施形態の目的および利点は、外部および内部準備流体（ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｆｌｕｉｄ） が実質的に別個の流体回路内に収容されるが、内面を洗浄する流体をリサイクルし、外面を洗浄するために使用し得ることである。
【００１９】
本発明のある実施形態の目的および利点は、流体の有効寿命を延長させ、その無駄を低減することである。
本発明のある実施形態の目的および利点は、専用の流体回路が、異なる処理工程を実行するために用いられる異なる組み合わせおよび種類の流体の供給（ｄｅｌｉｖｅｒｙ）を簡略化することである。
【００２０】
本発明のある実施形態の目的および利点は、広範囲の構成部材を洗浄するように容易かつ迅速に本装置の構成を変更できることである。
本発明のある実施形態の目的および利点は、適切な流体制御の使用によって、流体回路の再充填、洗浄、混和、またはそれ以外の操作が行えることである。
【００２１】
本発明のある実施形態の目的および利点は、流体回路に接続した専用の噴霧装置が、ウエハ・キャリアの内面および外面の準備を行うことである。
本発明のある実施形態の目的および利点は、ウエハ・キャリアおよびドア、または多数のウエハ・キャリアおよびドアを同時に準備できることである。
【００２２】
本発明のある実施形態の目的および利点は、多重ドア保持固定具を設けることによって、複数のドアの洗浄を簡略化することである。
本発明のその他の目的および利点については、部分的に以下の説明および添付図面に明記してある。本発明のその他の目的および利点は、以下の説明を検討することによって、当業者には明白となろう。あるいは本発明の実施によって拾得することができる。本発明の目的および利点は、添付した特許請求の範囲に特定的に指摘した手段および組み合わせによって実現および達成することができる。
【００２３】
（詳細な説明）
上述の図は例示のみを目的とし、特許請求する発明の範囲を限定する意図はないことは理解されよう。
「ウエハ・キャリア」という用語は、半導体業界において用いられている半導体ウエハを保持するように設計または構成された容器を含むこととする。ウエハ・キャリアは、従来のＨ−バー・ウエハ・キャリア、前面開き一体形ポッド（ＦＯＵＰ：Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）、標準的な機械式インターフェース・ポッド（ＳＭＩＦ；Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ Ｐｏｄ ）、ウエハ・キャリア・ドア保持固定具、および微小電子部品業界において半導体チップ、フェライト・ヘッド、磁気共鳴読み取りヘッド、薄膜ヘッド、ベア・ダイ、バンプ・ダイ、基板、光学素子、レーザ・ダイオード、プリフォーム、および種々雑多の機械的素子のような小型電子素子を貯蔵、輸送、製造、および全般的に保持するために用いられるその他のキャリアを含むが、これらに限定される訳ではない。
【００２４】
「流体」および「流動性の」という用語は、実質的に気体、液体、またはその組み合わせ、即ち、流動可能な物質の状態のことを指す。また、「流体」または「流動性の」は、液体または気体搬送流体における固体粒子の懸濁も含む。
【００２５】
図１を参照すると、本発明のウエハ・キャリア洗浄装置が全体的に１０で識別されている。例示の目的上、ウエハ・キャリアＣは、洗浄プロセス中に見えるように描かれている。
【００２６】
ウエハ・キャリア洗浄装置１０は、第１側壁１４、後壁１８、第２側壁２０、および基部２４を有するチャンバ１２を備えている。第１側壁１４は、第１即ち外部噴霧装置３０の一部を受容する大きさの開口１６を有し、第２側壁２０は、外部噴霧装置３０の別の部分を受容する大きさの支持／開口２２を有する。基部は、第１開口および第２開口（この図には示されていない）を含む。これらについては以下で説明する。尚、外部噴霧装置３０は、ウエハ・キャリアの外面に外接するように構成されている点に留意されたい。チャンバ１２にはカバー即ちクロージャＡ（破線で示す）が設けられ、該クロージャＡは使用中チャンバを閉鎖する。カバーＡは蝶番でチャンバに取り付けられ、カバーＡにはチャンバを効果的に密封するようにガスケットが設けられる。加えて、カバーに補助器具および固定器具を設けて、取り扱いを容易にしてもよい。
【００２７】
図２Ａを参照すると、外部噴霧装置３０は、全体的にＵ字型であり、第１脚部３４、スパン３６、および第２脚部３８を有する。第１脚部３４、スパン３６および第２脚部３８には、少なくとも１つの開口（図示せず）が設けられており、洗浄流体の流れを、ウエハ・キャリア構成部材Ｃの外面に向かわせる。第１延長部３２は第１脚部３４に取り付けられ、第２延長部４０は第２脚部３８に取り付けられている。延長部３２，４０は、それぞれ、側壁１４，１６において開口１６および支持／開口２２と協働することによって、噴霧装置３０はウエハ・キャリアＣの周囲で揺動するように回転することができる。外部即ち第１噴霧装置を全体的にＵ字状に描いたが、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、異なる形状の噴霧装置も使用可能であることは理解されよう。例えば、外部噴霧装置をＣ字状とし、垂直軸を中心に回転可能に装着することも可能である。あるいは、外部噴霧装置を全体的に閉ループとし、これを介してウエハ・キャリアが移動するようにしてもよい。あるいは、噴霧装置を固定することも可能である。内部即ち第２噴霧装置５０が、基部２４の開口２６を貫通して突出するように配置されている。内部噴霧装置５０には少なくとも１つの開口（この図には示されない）が設けられており、洗浄流体の流れをウエハ・キャリアの内面へと向かわせる。図示した噴霧装置は開口２６を貫通して突出しているが、基部２４の面の下に位置する噴霧装置を設けることも本発明の範囲に該当する。
【００２８】
方向矢印で示すように、異なる供給源からの洗浄流体を内部噴霧装置および外部噴霧装置に供給することができる。この流体の分離は、洗浄動作の間中維持され、そのために、基部２４には開口２６，２８が設けられており、内部噴霧装置５０の使用済み流体即ち灰色流体は、第２開口２８を通じて導出される。分離された使用済み流体は、次に、第１および第２貯蔵部８０，８６に導かれ、必要に応じて処理および／またはリサイクルされる。処理には、再噴霧、濾過、再加熱、瀉化、脱イオン化、混和、冷却、および希釈を含むが、これらに限定される訳ではない。図１に示すように、ウエハ・キャリア洗浄装置の制御部を第３貯蔵部９２に内蔵して、自動化を促進してもよい。
【００２９】
図２Ｂを参照すると、外部噴霧装置３０は、先に論じたのと本質的に同一であり、ここでは繰り返さない。内部噴霧装置６０の内部噴霧装置５０との相違は、複数の開口の代わりにスロットを利用して、洗浄流体を表面に送り出すことにある。この種の開口は、気体流体を送り出すのに最も有用であり、これを用いると、ある範囲を「拭取り」乾燥させることができる。動作において、内部噴霧装置６０は、ウエハ・キャリアの内面最上部から開始し、キャリアのいずれかの側面に沿って移動する。このために、噴霧装置６０には、必要に応じて噴霧装置６０の運動を指示するトラック（破線で示す）を設けることができる。あるいは、噴霧装置６０をその長手方向軸に沿って回転可能に装着すれば、ウエハ・キャリアの内部を洗浄／ふき取りが可能となる。
【００３０】
図２Ｃを参照すると、内部噴霧装置６０は、洗浄流体を表面に送り出すために用いるスロット６１を含む。液体がスロット６１から退出すると、その液体は薄板状になる。
【００３１】
図２Ｄを参照すると、図２Ａ、図２Ｂおよび図２Ｃの内部噴霧装置が組み合わされている。明確化のため、外部噴霧装置は省略されている。この図では、内部噴霧装置５０は上下方向に移動可能であり、ウエハ・キャリアまたはポッドの内部に噴霧することができる。また、追加の噴霧装置（図示せず）が２つあり、その移動行程は、平行なトラックにある溝によって制限される。溝は、各噴霧装置の両端から延出する突出部を摺動可能に受容する（図２Ｅおよび図２Ｆ参照）。
【００３２】
図２Ｅを参照すると、トラック５４，５４’は全体的に逆「Ｕ」状をなしており、形状は同一である。トラックは溝５６，５６’，５８，５８’を含む。これらの溝５６，５６’，５８，５８’は、長手方向軸に沿って噴霧装置の両端から延出している相補形状の突出部の双方と協働する。尚、図では、１つの長手方向噴霧装置のみを図示していることに留意されたい。
【００３３】
図２Ｆを参照すると、長手方向噴霧装置６０はスロット６１を含む。スロット６１は、噴霧装置６０の長さに沿って延び、端部６２，６３（図示せず）にて終端する。噴霧装置６０には、突出部６４，６４’（図示せず）が設けられている。これらは、端部６２，６３から延出し、トラック５４，５４’の溝５６，５６’と協働して、噴霧装置がトラック５４，５４’に対して移動するに連れて、噴霧装置がウエハ・キャリアまたはポッドの内部を掃引するようになっている。また、長手方向噴霧装置６０には、従来の形状をした噴霧装置も設けられている。これらは、突出部に位置し、そこから延出している。従来の噴霧装置は、前述の噴霧装置の長手方向軸に直交する範囲に噴霧する際に用いられる。
【００３４】
図２Ｇ、図２Ｈ、図２Ｉ、図２Ｊ、図２Ｋおよび図２Ｌを参照すると、長手方向噴霧装置は、対向端部６２，６３を有し全体的に矩形のブロック６０、および長手方向チャネル６７を備えている。長手方向チャネルはスラット６５で覆われている。スラット６５がブロック６０のチャネル６７上にあるとき、幅０．０００〜６．３５ｍｍ（０．０００インチ〜０．２５インチ）の間の長手方向スロット６１が形成される。スロット６１の好ましい幅は、約０．１ｍｍ（０．００４インチ）である。この距離はランド７０によって維持される。スラット６５は、長手方向ランド６９に沿って、ブロック６０に接着することが好ましい。一旦スラット６５を取り付けると、該スラット６５はスロット６１を形成し、このスロット６１を通じて洗浄流体および乾燥流体（ｄｒｙｉｎｇ ｆｌｕｉｄ）が供給される。
【００３５】
図２Ｄ乃至図２Ｌを参照すると、好適な構成は、内部噴霧装置５０によって供給される液状流体、および長手方向噴霧装置によって供給される気体状流体を有することになる。加えて、噴霧のための移動は上から下に向かうことが理解されよう。これは、重力を利用するため、および汚染流体が洗浄面に落下または跳ね返る機会を減らすためである。
【００３６】
尚、トラック５４，５４’を同様の構成で用いても、ウエハ・キャリアまたはポッドの外面を洗浄できることが理解されよう。
図３を参照すると、ウエハ・キャリア洗浄装置１００は、第１側壁１１４、後壁１１８、第２側壁１２０および基部１２４を有するチャンバ１１２を備えている。第１側壁１１４は、外部噴霧装置１３０の一部を受容する大きさの開口１１６を有し、第２側壁１２０は、外部噴霧装置１３０の別の部分を受容する大きさの支持／開口１２２を有する。チャンバ１１２は、２台のウエハ・キャリアＣを洗浄可能なように構成されている。基部１２４は、第１開口、第２開口および第３開口（図示せず）を含む。これらについては以下で説明する。尚、外部噴霧装置１３０は、２台のウエハ・キャリアＣの外面に外接するように構成されていることに留意されたい。
【００３７】
図４を参照すると、外部噴霧装置１３０は、全体的にＭ字状をなし、第１脚部１３４、スパン１３６、第２脚部１３８、および中間脚部１４２を有する。第１脚部１３４、スパン１３６、中間脚部および第２脚部１３８には、開口（図示せず１４１）が設けられており、該開口は洗浄流体の流れをウエハ・キャリアＣの外面へと向かわせる。第１延長部１３２が第１脚部１３４に取り付けられ、第２延長部１４０が第２脚部１３８に取り付けられている。延長部１３２，１４０は、それぞれ、側壁１１４，１２０内の開口１１６および支持／開口１２２と協働することにより、噴霧装置が２台のウエハ・キャリアＣを中心に揺動状に回転することが可能となっている。内部噴霧装置１５０，１６０は、基部１２４における開口１２６、１２７を貫通して突出するように配置されている。内部噴霧装置１５０，１６０には、少なくとも１つの開口（図示せず）が設けられており、その開口は洗浄流体の流れをウエハ・キャリアＣの内面へと向かわせる。図示した噴霧装置は開口１２６，１２７を貫通して突出しているが、基部１２４の面の下に位置する１つまたは複数の噴霧装置を設けることも本発明の範囲に該当する。方向矢印で示すように、異なる供給源からの洗浄流体が、内部噴霧装置および外部噴霧装置に供給される。前述のように、流体の分離は、洗浄動作にわたって維持される。
【００３８】
図５Ａおよび図５Ｂを参照すると、ウエハ・キャリア洗浄装置２００は、第１側壁２１４、後壁２１８、第２側壁２２０および基部２２４を有するチャンバ２１２を備えている。第１側壁２１４は、外部噴霧装置２３０の一部を受容する大きさの開口２１６を有し、第２側壁２２０は、外部噴霧装置２３０の別の部分を受容する大きさの支持／開口２２２を有する。基部は、第１開口２２６、第２開口、第３開口、および第４開口（図示せず）を備える。これらについては、以下で説明する。尚、外部噴霧装置２３０は、複数のウエハ・キャリアＣの外面に外接するように構成されていることに留意されたい。図５Ｂでは、ウエハ・キャリアの内１台を除去し、開口２２６およびそれに関連する内部噴霧装置１５０を示している。
【００３９】
図６を参照すると、外部噴霧装置２３０は、全体的に櫛状をなし、第１脚部２３４、スパン２３６、第２脚部２３８、第３脚部２４２および第４脚部２４６を有する。第１脚部２３４、スパン２３６、第２脚部２３８、第３脚部２４２、および第４脚部２４６には、開口（図示せず）が設けられており、その開口は洗浄流体の流れをウエハ・キャリアＣの外面へと向かわせる。第１延長部２３２が第１脚部２３４に取り付けられており、第２延長部２４０が第２脚部２３８に取り付けられている。延長部２３２，２４０は、それぞれ、側壁２１４，２１６内の開口２１６および支持／開口２２２と協働することにより、噴霧装置はウエハ・キャリアＣを中心として揺動するように回転することができる。内部噴霧装置２５０が、基部２２４の開口２２６を貫通して突出するように配置されている。内部噴霧装置２５０、２６０、および２７０には、少なくとも１つの開口（図示せず）が設けられており、洗浄流体の流れを複数のウエハ・キャリアＣの内面へと向かわせる。図示した噴霧装置は開口２２６，２２７，２２９を貫通して突出しているが、基部２２４の面の下に位置する噴霧装置を設けることも本発明の範囲に該当する。方向矢印で示すように、異なる供給源からの洗浄流体を内部噴霧装置および外部噴霧装置に供給する。この流体の分離は、洗浄動作の間中維持され、このために、基部２２４には４つの開口２２６，２２８，２２７，２２９が設けらており、内部噴霧装置２５０，２６０，２７０の使用済み流体即ち灰色流体は第２開口２２８を通じて導出される。分離された使用済み流体は、次に、第１および第２貯蔵部に導かれ、必要に応じて処理および／またはリサイクルされる。
【００４０】
図７および図８を参照すると、外部噴霧装置３３０および内部噴霧装置３５０が互いに接続され、同期した運動が可能となっている。外部噴霧装置３３０は、全体的にＵ字状をなし、第１脚部３３４、スパン３３６および第２脚部３３８を有する。第１脚部３３４、スパン３３６および第２脚部３３８には、少なくとも１つの開口（３４１図示せず）が設けられており、洗浄流体の流れをウエハ・キャリアＣの外面へと向かわせる。第１延長部３３２が第１脚部３３４に取り付けられ、第２延長部３４０が第２脚部３３８に取り付けられている。延長部３３２，３４０は、それぞれ、側壁３１４，３１６の開口３１６および支持／開口３２２と協働することによって、噴霧装置はウエハ・キャリアＣを中心として揺動するように回転することが可能となっている。内部噴霧装置３５０は、基部３２６の開口３２６を介して流体を放出するように配置されている。内部噴霧装置３５０には少なくとも１つの開口（図示せず）が設けられており、その開口は、洗浄流体の流れをウエハ・キャリアの内部へと向かわせる。
【００４１】
内部噴霧装置および外部噴霧装置は１台のウエハ・キャリアを洗浄するように図示されているが、多数のウエハ・キャリア洗浄チャンバにこの構成を用いてもよいことは理解されよう。外部噴霧装置および内部噴霧装置の開口は、従来のように構成してもよく、または、例えば、エア・ナイフにおけるように、１つの縦長スロットとして構成してもよい。噴霧装置には、複数のスロットまたはスロットと開口の組み合わせを設けて、所望の洗浄パターンを得るようにしてもよい。内部噴霧装置および外部噴霧装置３５０，３３０の同期を取るには、１対のプーリ３６０，３６２を外部噴霧装置および内部噴霧装置にそれぞれ取り付け、それらの間にベルト３６４を架設する。外部噴霧装置が移動すると、内部噴霧装置も移動する。異なるサイズのプーリを用いれば、異なる相対回転速度が得られる。プーリにねじれを付ければ、逆回転させることができる。ベルトおよびプーリを図示したが、本発明の範囲から逸脱することなく、同期運動のために他の機構を利用することも、本発明の範囲に該当する。
【００４２】
図９乃至図１３を参照すると、チャンバ４００，５００は、複数のウエハ・キャリアおよび複数のウエハ・キャリアのドアの洗浄を示す。ドアは、ドア洗浄アダプタに着脱可能に取り付けられる。ウエハ・キャリアおよびドアは、各々キャリアの構成部材であり、各々内面および外面を有する。
【００４３】
更に具体的には、図９乃至図１１は、２台のウエハ・キャリアおよび互いに平行な２つのドアを洗浄可能なチャンバを示している。一方、図１２および図１３は、２台のウエハ・キャリアおよび互いに角度をなす２つのドアを洗浄可能なチャンバを示している。図９を参照すると、ウエハ・キャリア洗浄装置４００は、第１側壁４１４、後壁４１８、第２側壁４２０および基部４２４を有するチャンバ４１２を備えている。第１側壁４１４は、外部噴霧装置４３０の一部を受容する大きさの開口４１６を有し、第２側壁４２０は外部噴霧装置４３０の別の部分を受容する大きさの支持／開口４２２を有する。尚、外部噴霧装置４３０は、複数のウエハおよびドア洗浄アダプタまたは固定具４５０の外面に外接するように構成されていることに留意されたい。
【００４４】
図１０Ａを参照すると、ドア洗浄アダプタ４５０は、フレームを含む。フレームは、全体的に矩形状をなし、第１側面および第２側面４５２，４５４を含む。第１側面および第２側面４５２，４５４は、解放可能にウエハ・キャリアのドアＰを保持する大きさの開口４５３，４５５を含む。ドアには掛け金チップＬが設けられており、この掛け金チップＬをドアに対して引き出したり引っ込めることによって、ドアをアダプタに解放可能に保持することが可能となっている。アダプタ４５０は、上壁４５１、縁壁４５６，４５８、および開口４６０を有する基部４５９を含む。開口４６０にはスロット４６１が設けられており、スロット４６１が先端Ｌと協働することにより、ドアをアダプタ４５０に解放可能に保持する。開口４６０は、洗浄アダプタおよびウエハ・キャリアのドアによって画定される空間内に、内部洗浄流体が入ることができる大きさに形成されている。
【００４５】
図１０Ｂを参照すると、ドア洗浄アダプタ４５０は、ジグ即ち固定具４５７を含み、該固定具の上にはドアＰが着脱可能に取り付けられている。ジグ即ち固定具４５７は着脱可能にドア洗浄アダプタ４５０に取り付けられている。ドアＰをジグ４５７に取り付けるには、スロット４６１’と協働するピンＬを用いる。ジグ即ち固定具４５７を同様に（図示せず）アダプタ４５０に取り付けることもできる。また、ジグ即ち固定具４５７は、必要であれば、直接接続の代わりに、洗浄チャンバの基部にウエハ・キャリアを解放可能に保持するように用いることもできる。ジグ即ち固定具４５７は、必要であれば、図１１および図１３に示すアダプタと共に用いることもできる。
【００４６】
代用となるドア洗浄アダプタを図１１に示す。ここでは、アダプタ４６２は全体的に矩形状のフレームを備え、そのフレームは第１および第２Ｕ字状チャネル４６３，４６５を有する。これらのチャネル４６３，４６５は、ウエハ・キャリアのドアＰ受容するように、またはこれに代わって、ジグ即ち固定具４５７’に取り付けられたドアＰを受容するように適合されている。アダプタは、縁壁４６４，４６６，４６９を含む。縁壁４６９は、開口（破線で示す）を含み、ここを内部噴霧装置または内部洗浄流体が通過することができる。アダプタ４６２には蝶番付縁壁を設けてエンクロージャを形成するようにしてもよく、あるいはアダプタ自体を縁４６７（図示せず）において基部に蝶番を用いて取り付けることもできる。いずれの場合でも、内部空間が形成され、ウエハ・キャリアまたはポッドと同様に、この空間が洗浄されることが理解されよう。
【００４７】
図１２Ａおよび図１２Ｂを参照すると、ウエハ・キャリア洗浄装置５００は、第１側壁５１４、後壁５１８、第２側壁５２０、基部５２４、流体供給開口５２５、および自動制御装置ＡＣを有するチャンバ５１２を備えている。第１側壁５１４は、第１のＵ字状外部噴霧装置５３１の一方の端部を受容する大きさの開口５１６を有し、第２側壁５２０は、第２のＵ字状外部噴霧装置５３２の一方の端部を受容する大きさの開口５２２を有する。第１噴霧装置および第２噴霧装置５３１，５３２の他方の端部は、支柱５２９によって回転可能に支持されている。支柱５２９は、チャンバ５１２の基部から上向きに突出している。第１噴霧装置および第２噴霧装置の最内側脚部は、ウエハ・キャリアＣの外面、および固定具５５０に取り付けられ、中央に位置するドア・パネルＰの外面（即ち逆方向）に流体を供給することができる。個別に制御可能な噴霧装置５３１，５３２により、必要に応じて洗浄および洗浄を変更することができる。例えば、チャンバ５１２の左側に配置される比較的きれいなキャリアおよびドアを準備するために要する時間は、チャンバ５１２の右側に配置される比較的汚れたキャリアおよびドアを準備するために要する時間よりも短くて済む。ウエハ・キャリアＣは、固着部材５２７によって、基部部分５２４に着脱可能に固着することができる。固着部材５２７を回転させてキャリアＣとの係合および解除が行われる。
【００４８】
ウエハ・キャリア洗浄装置５００の動作（ａｃｔｉｏｎ）は、適切に構成したコンピュータ制御部ＡＣを用いて自動化することが好ましい。前記コンピュータ制御部ＡＣは、噴霧装置の駆動機構（図示せず）ならびに流体回路（図１５参照）のバルブ、ポンプ、およびフィルタ・エレメントに接続されている。このような自動制御は従来と同様であり、当業者には周知であるので、これ以上詳細な説明は行わない。例えば、米国特許第５，６１６，２０８号を参照のこと。該特許は、コンピュータ化した制御装置を示している。当該特許は、この言及により本願に援用されることとする。
【００４９】
図１３を参照すると、ドア洗浄アダプタ５５０は、全体的に三角形をなすフレームを含み、このフレームは第１端面および第２端面５５２，５５４ならびに第１側面および第２側面５５６，５５８を含む。第１側面および第２側面５５６，５５８は、ウエハ・キャリアのドアＰを解放可能に保持する大きさの開口５６０、５６２を含む。あるいは、固着部材５６７によって、ドアＰを解放可能にアダプタ５５０に保持してもよい。固着部材５６７を回転させることによって、ドアＰとの係合および解除を行う。アダプタ５５０は、上壁５６４、および開口５６６を有する基部を含む。開口５６６は、洗浄アダプタおよびウエハ・キャリアのドアによって画定される空間内に、内部洗浄流体が入ることができる大きさである。
【００５０】
図９乃至図１３に関して、前述のアダプタは、２つよりも多いドアまたはパネルを洗浄できるように構成可能であることは理解されよう。例えば、ブラケットまたはフレームまたは固定具を立体的にすれば、３つ、４つ、または５つのドアを洗浄することが可能となり、あるいは五角形または六角形にすれば、ドアを別の組み合わせで洗浄することが可能となる。加えて、ブラケットまたはフレームまたは固定具を２台のウエハ・キャリアの間に図示したが、チャンバのいずれの側に位置してもよいことは理解されよう。
【００５１】
図１４を参照すると、基部６２４は、ウエハ・キャリアによって着脱可能に保持されるように構成され、かつドア（図示せず）と形状が同様である。図２と比較すると、基部６２６は、内部噴霧装置６５０を受容する、別の開口６２５を含む。開口６２５は、内部噴霧装置６５０を基部６２４に効果的に密封するような大きさに形成されている。開口６２５にＯリングのようなシールを設ければ、内部噴霧装置を基部６２４に対して移動または回転させることが可能となる。内部洗浄流体は、図２に示すように、開口６２６に導かれる。基部６２６は、別の開口６２７を備える。その開口６２７を通じて加圧流体が供給され、ウエハ・キャリア（図示せず）および基部６２４によって画定された空間内に正の差圧が生ずる。内部噴霧装置６５０によって一連の洗浄流体を供給することができるが、洗浄流体の一部または全部を別々にしておくことが望ましい場合もある。このためには、別の噴霧装置６２９（破線で示す）を追加するとよい。追加の噴霧装置は、異なる洗浄流体のいずれもが互いに接触しない程度に設けられると、相互汚染を低減することができる。
【００５２】
外部噴霧装置６３０は、少なくとも１つの開口６４１を有し円弧状をなす１本の脚部６３４を備えている。噴霧装置を回転させると噴霧装置の脚部６３４がウエハ・キャリアの外面に外接するように、外部噴霧装置を回転可能に装着する。脚部６３４を通じて一連の洗浄流体を供給することができるが、洗浄流体の一部または全部を別々にしておくことが望ましい場合もある。このためには別の脚部を設ければよい。図示した別の脚部６３８（破線で示す）は脚部６３４と類似しているが、少なくとも１つのエア・ナイフを含む。２脚構成では、ウエハ・キャリアの外面に外接するように、脚部６３４，６３８の双方を回転可能に装着する。追加の脚部は、異なる洗浄流体が互いに接触しない程度に設けられると、相互汚染を低減することができる。分流加減器またはバルブを設け、各流体をウエハ・キャリアに供給する際にこれらを開放または閉鎖することによって、排出を個々の流体に専用とすることも可能である。
【００５３】
ウエハ・キャリアの内部を洗浄する必要がない場合、図１４の基部６２４に類似した偽のドアを利用して、ウエハ・キャリアの外面を洗浄している間汚染を防止するようにするとよい。これら２つにおける相違は、偽のドアには開口が１つも設けられていないことである。
【００５４】
図１５を参照すると、外部流体噴霧装置３０がウエハ・キャリアＣの一方の側にあり、内部流体噴霧装置５０がウエハ・キャリアＣの他方の側にある。流体が外部噴霧装置３０から噴霧されると、基部の開口２８に流れ込む。ここから、流体はバルブ９１によってレセプタクル８６または共通レセプタクル８７に導かれる。貯蔵部８６は、外部洗浄流体をリサイクルし、再使用できるようにする。外部流体をリサイクルする際、粒子検出器（図示せず）を備えたフィルタ８８およびポンプ９０を通過させるとよい。
【００５５】
流体が内部噴霧装置５０から噴霧されると、これは基部の開口２６に流れ込む。ここから、バルブ８５によって貯蔵部８０、貯蔵部８６、または共通貯蔵部８７に導くことができる。内部流体をリサイクルする場合、貯蔵部８０に導く。ここから、粒子検出器（図示せず）を備えたフィルタ８２およびポンプ８４を通過することができる。これに代わって、内部洗浄流体を外部流体貯蔵部に導くこともでき、この場合、使用寿命（ｕｓｅｆｕｌ ｌｉｆｅ） を延長させることができる。第３の選択肢として、内部洗浄流体を共通貯蔵部８７に導き、更に処理するかまたは廃棄する。図１５における循環システムは、すすぎ洗い用水のような単一流体について図示したが、各流体に同様の構成を設けられることは理解されよう。
【００５６】
図１６を参照すると、外部流体噴霧装置３０がウエハ・キャリアＣの一方側にあり、内部流体噴霧装置５０がウエハ・キャリアＣの他方側にある。流体が外部噴霧装置３０から噴霧されると、基部の開口２８に流れ込む。ここから、バルブ９１によって、貯蔵部８６または共通貯蔵部８７に導くことができる。貯蔵部８６は、外部洗浄流体をリサイクルして再使用することを可能にする。外部流体は、ポンプ９０を通過し、粒子検出器（図示せず）を備えた任意のフィルタ９６を通過させることもできる。フィルタ９５およびバルブ９４を備えた供給線を通じて、別の洗浄流体をシステムに追加してもよい。バルブは、計測バルブ（ｍｅｔｅｒｉｎｇ ｖａｌｖｅ）とすれば、正確な量の流体をシステムに添加することができる。
【００５７】
流体が内部噴霧装置５０から噴霧されると、基部の開口２６に流れ込む。ここから、バルブ８５によって、貯蔵部８０、貯蔵部８６、または共通貯蔵部８７に導くことができる。内部流体をリサイクルする場合、貯蔵部８０に導く。ここから、ポンプ８４を通過し、更に粒子検出器（図示せず）を備えたフィルタ９９を通過させてもよい。代わりとして、内部洗浄流体を外部流体貯蔵部に導くこともでき、この場合有効期限を延長させることができる。第３の選択肢では、内部洗浄流体を共通貯蔵部８７に導き、更に処理するかまたは廃棄する。図１６における循環システムは、すすぎ洗い用水のような単一流体について図示したが、各流体に同様の構成を設けられることは理解されよう。
【００５８】
フィルタ９８およびバルブ９７を備えた供給線を通じて、別の洗浄流体をシステムに追加してもよい。バルブは、計測バルブ（ｍｅｔｅｒｉｎｇ ｖａｌｖｅ）とすれば、正確な量の流体をシステムに追加することができる。外部洗浄流体側の動作は、内部洗浄流体側の動作と本質的に同一であるので、外部洗浄側についてのみ説明する。バルブ９４が開き、所定量の洗浄流体、例えば、濾過し、脱イオン化し、加熱した水を回路に流入させる。次に、ポンプ９０を始動させ、外部噴霧装置３０を作動させる。洗浄流体を開口２８内に収集し、貯蔵部８６または共通貯蔵部８７に戻すことができる。洗浄流体を共通貯蔵部に導く場合、追加分の洗浄流体がシステムに供給される。
【００５９】
一般に、チャンバ１２，１１２，２００，４００，５００にはカバー（例えば、図１において破線でＡとして示す）が設けられており、洗浄プロセスの間チャンバの上面および前面を覆い、チャンバを効果的に密封することができる。カバーを設けることによって、チャンバは超清浄（ｕｌｔｒａ−ｃｌｅａｎ） ではない条件下で作動することが可能となる。更に相互汚染を低減するためには、洗浄対象のウエハ・キャリアの外部および内部間に正差圧を発生させるとよい。そして、更に相互汚染を低減するには、チャンバと環境との間にも正差圧を発生させるとよい。このように、異質の汚染物を、比較的清浄な環境から比較的汚れた環境に導き出すことが好ましい。差圧を発生させるには、正圧力、負圧力、または正および負圧力の組み合わせを用いればよい。
【００６０】
加えて、チャンバ１２，１１２，２００，４００，５００の基部部分には、適切に構成された密封要素を基部部分とウエハ・キャリアとの界面に配置して設けて、流体回路間の相互汚染を一層効果的に防止してもよい。
【００６１】
次に、使用方法について端的に論ずる。洗浄対象のウエハ・キャリアをチャンバ域に搬入する。ウエハ・キャリアにパネルまたはドアがあれば、これを取り外し、ドア洗浄アダプタ（図１７Ａ、図１７Ｂおよび図１７Ｃ参照）に取り付けることが好ましい。次に、ウエハ・キャリアをチャンバ内部に配置し、これが第２即ち内部噴霧装置を覆うようにする。次に、チャンバのカバーを閉じて、チャンバを効果的に密封し、この時点で洗浄サイクルを開始する。次に、別個の洗浄流体を内面および外面に適用するが、これらは性質上液体およびまたは気体でもよく、更に加熱または冷却されていてもよい。洗浄サイクルが完了した後、ＮＯ２のような気体流体を用いてウエハ・キャリアおよびパネルを乾燥させることが好ましい。気体流体を加熱し、乾燥時間を短縮するとよい。必要であれば、内部気体流を外面に導けば、乾燥を早めることができる。乾燥サイクルが完了した後、ウエハ・キャリアおよびパネルを搬出し、再度組み立てる。尚、キャリアの移動、転送、ならびに開放および閉鎖は、手作業でも自動化手段でも行えることは言うまでもない。
【００６２】
移動噴霧装置によってウエハ・キャリアまたはポッドの内面を乾燥させる代わりに、ウエハ・キャリアまたはポッドによって画定される空間のほとんどを占める大きさのブロックまたはマンドレルを設けることによって内面を乾燥させてもよい。この場合、乾燥流体は、ウエハ・キャリアまたはポッドおよびブロックによって画定される開放空間の一部に沿って導入される。ブロックは、ウエハ・キャリアまたはポッドによって画定される空間を実質的に占めるような大きさなので、乾燥流体の移動は、ブロックとウエハ・キャリアとによって画定される開放空間内に制限されることになる。したがって、乾燥流体は比較的高い速度を得ることができ、これによって乾燥時間を短縮する。乾燥流体およびブロックまたはマンドレル双方を加熱すれば、乾燥時間量を更に削減することができる。
【００６３】
また、マンドレルまたはブロックを可動噴霧装置と組み合わせてもよく、この場合、噴霧装置は、前述のようなトラックではなく、マンドレルの輪郭に沿って移動する。
【００６４】
図２０を参照すると、代用となる乾燥構成が示されている。乾燥ガス放出部材７０６、７０８が破線で示す通路７１８，７２０に沿って、内面７１０または外面７１２に沿って移動する。これに伴い、負圧を有する１つ以上の水分収集部材７２４，７２６，７２８が、乾燥ガス放出部材と共に移動し、放出した乾燥ガスおよび水分、粒子、および／またはポッドＣの表面または構造に付着している可能性があるその他のごみを効率的に収集する。乾燥ガスおよび水分を吸引すると、乾燥プロセスが促進される。何故なら、水滴は、再凝集（ｒｅｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）する虞れがあるように単に表面に吹き飛ぶだけではなく、ほぼ回収されるからである。乾燥ガス放出部材および収集部材は、図１および図２Ａに示す単一噴霧装置、または図示のような別の多重噴霧装置構成に適した構成とし動作させるとよい。加えて、これらの部材は、図２Ｅおよび図２Ｄに示すように、適当にトラックに装着してもよい。
【００６５】
本発明の好適な実施形態を図２１乃至図３９に示す。図２１を参照すると、ウエハ・キャリア構成部材洗浄装置８００は、２つの洗浄ベイ８０４および蓋８０６を有する本体８０２を備えている。本発明では、１つ以上の洗浄ベイを想定する。制御パネル８０８を本体８０２に設ければ、ユーザが装置８００を操作することができる。電力遮断スイッチ８１２を備えたブレーカ・ボックス８１０を、当業者には公知の総合給電接続システムの一部として設けるとよい。
【００６６】
図２２および図２５を参照すると、本体８０２には、可調節プラットフォーム８１４を設けることができる。プラットフォーム８１４は、可調節アーム８１８に旋回可能に取り付けられたベース８１６を備えている。プラットフォーム８１４は、ユーザがウエハ容器の操作を補助するための作業面（ｗｏｒｋｉｎｇ ｓｕｒｆａｃｅ） を所望するまで、図２５に示す退避形態で維持される。作業面が所望されると、アーム８１８が水平になるまでプラットフォーム８１４を回転させる。すると、ベース８１６が、ユーザが望むいずれの方向にも旋回することができる。ベース８１６は、ウエハ容器の各部分と接続するように構成することもできる。
【００６７】
図２６および図２７を参照すると、洗浄装置には、前方取り付け脚部８２０および後方取り付け脚部８２２を設けることができる。前方脚部８２０の高さは、高さ調整ナット８２１を回転することにより、調節可能となっている。また、前方脚部８２２は、地震係留装置（ｓｅｉｓｍｉｃ ｔｉｅ ｄｏｗｎ）として使用するように構成されている。後方脚部８２２は垂直方向に調節可能であり、地震係留装置として使用するように構成されている。これに代わり、または加えて、図２１および図２５に示すように、洗浄装置にキャスタ８２３を設けて移動できるようにしてもよい。
【００６８】
図２１を参照すると、各洗浄ベイ８０４は、キャリア洗浄アセンブリ８３８およびドア洗浄アセンブリ８６４を備えている。キャリア洗浄アセンブリ８３８は、複数の容器支持構造８２４、着脱可能なカラー８２６、内部噴霧ノズル８３０、左右の回転取付台８３４に回転可能に取り付けられた外部噴霧ベイ８３２、排出ダクト８３７、導入ダクト８３６、およびドア洗浄アセンブリ８６４を備えている。外部噴霧ベイ８３２には、その内部円弧周囲に複数のノズルが設けられ、キャリアの外面上に洗浄流体を噴霧するようになっている。外部噴霧ベイ８３２の外部円弧の一部にも、複数のノズルが設けられており、ドアの外側に洗浄流体を送出するように構成されている。
【００６９】
カラー８２６と一体的に、垂直方向に延びる隆起８２８が形成されている。隆起８２８は、キャリアの外面に送出された流体が、キャリアの内側に送出される流体を収容する流体回路に侵入するのを防止するように機能する。カラー８２６は、洗浄ベイから容易に取り外すことができるので、異なるキャリアの設計に合わせて構成したカラーを挿入することができる。このように取り外しができるようにしたことにより、洗浄装置は種々の容器形状、様式および大きさに容易に合わせることができる。
【００７０】
図２１、図２８および図４２を参照すると、少なくとも１つの支持支柱即ち構造８２４が、カラーに接する代わりに、洗浄ベイ８０４に堅固に取り付けられている。洗浄ベイ８０４に固定された支持ポスト８２４は、開口８４０を貫通してカラー８２６内にはめ込むことによって、支持構造８２４の残り部分と同じ高さまで延出している。カラー８２６を凹陥８４８内に配し、洗浄ベイの床面８５０と面一にできることが好ましい。洗浄ベイ８０４の内部流体貯蔵部８４２には、内側領域８４５および外側領域８４６を分離する分岐隆起８２８が設けられている。内側領域８４５は、キャリアの内側を洗浄する際に使用した流体を貯蔵し、外側領域８４６は、キャリアの外側を洗浄する際に使用した流体の漏れを全て貯蔵する。
【００７１】
図２８を参照すると、支持構造８２４は、容器を垂直に拘束する平坦支持領域８５４、開口８５２、および容器を水平に拘束するリップ８５６を備えている。開口８５２は、洗浄装置８００が洗浄ベイ８０４内に容器があることを感知できるように機能する。開口９５２によって小量の空気流が検知され、空気流センサによって監視する。キャリアを支持部８２４上に配置すると、開口８５２は隠蔽され、空気流は遮断される。センサは、空気流の変化を検出し、この情報をユーザまたは制御システムに中継する。当業者には、別の種類のセンサも使用可能であることが認められよう。
【００７２】
洗浄ベイ内に装着すると、ウエハが容器の縁とカラー８２６との間にギャップを形成する。これは、キャリアが洗浄ベイ８０４上で維持され、容器と洗浄ベイ８０４との間の接触点のみが支持構造８２４にあるという事実を示す。容器との接触面積を極力減らすことによって、乾燥時間が大幅に短縮する。隆起８２８は、容器（図示せず）の最下点から上方向に延出している。また、容器の内側と隆起８２８との間のギャップが最少となるので、隆起は容器と接触せず、その間に流体が溜まることもない。
【００７３】
場合によっては、容器の内側で使用した洗浄流体が小量外側流体回路に紛れ込む場合もある。何故なら、完璧な液密封止は存在しないからである。漏れ量はたいしたことなく、使用済みの外部流体と比較すれば、この流体は比較的きれいであるため、このような最小限の漏れは容認できる。当業者には認められようが、主な関心事は、容器の内側で使用された流体を収容する流体通路に容器の外側から入り込む使用済み流体を極力抑えるように万全を期すことである。しかしながら、使用済みの外部洗浄流体が極小量通過するのであれば、洗浄の有効性を損なう訳ではないので、許容できよう。
【００７４】
任意に、流体回路の一方または双方にセンサを配置することもできる。これらのセンサは、使用済み洗浄流体の状態をサンプリングし測定して、洗浄対象のキャリア構成部材の清浄性を判定することができる。このような清浄性尺度の１つに、流体内における粒子量がある。オペレータまたは制御システムは、洗浄プロセスを監視し、所定レベルの清浄性に達したときに、プロセスを開始または停止するように制御することができる。このようなセンサを設けることによって、キャリア構成部材を所定の仕様まで洗浄することができ、あるいは追跡して所定のキャリアの汚染レベルを提示することもできる。この機能のためには、過度の経験を必要とすることなく、種々の相応しいセンサが利用可能である。
【００７５】
また、洗浄装置には、空気循環システムも設けることが好ましい。洗浄サイクル中に洗浄ベイに導入する空気には、高圧および低圧の２種類がある。高圧空気は、洗浄サイクルの乾燥部分に使用し、乾燥を促進する。内部噴霧装置取付具８３０が比較的高い圧力の空気打撃（ｂｕｓｔ）を発生し、容器内部の乾燥を促進することができる。洗浄サイクルに導入される低圧空気は、イオン化を導入し、洗浄ベイ８０４内の空気を脱湿するために用いられる。
【００７６】
図２１を参照すると、空気排出ダクト８３７および空気導入ダクト８３６が示されている。循環システムは、環境またはその他の供給源から比較的乾燥した空気を取り込み、この空気を暖めて、導入ダクト８３６を通じて洗浄ベイ８０４にこれを導入する。洗浄ベイ８０４後部の排出ダクト８３７は、洗浄ベイから空気を除去する。除去された空気は、洗浄プロセスの一部として、洗浄流体からの水分の存在によって、比較的湿度が高くなっている。また、循環システムは、入ってくる空気を濾過し、入ってくる空気による粒子の混入から洗浄ベイ８０４を保護する。また、ドア洗浄アセンブリ８６４の回転ハウジング８６６にも空気を循環させる。
【００７７】
ダクト８３６およびダクト８３７は、それぞれ、洗浄ベイ８０４に対して低圧イオン化空気を導入および除去するために用いられる。イオン化空気を洗浄ベイ８０４に導入する前に、加熱し、濾過し、イオン化する。イオン化を行うには、空気ダクト内にイオン化器を設ける。洗浄ベイ毎に別のイオン化器８６２を設けた場合、イオン化器８６２は洗浄対象のウエハ容器の内面と連通する。イオン化器８６２は、洗浄サイクル中、加熱し濾過しイオン化した空気を容器の内部に供給する。
【００７８】
容器の内部に導入する空気の体積は、容器の内側における空気圧が当該容器の外側における圧力よりも多少高くなるようにする。正差圧が空気バリアとなり、外部洗浄流体の内部への伝達を最少に抑える。差圧は、圧力センサによって水のインチ単位（インチＨ２Ｏ）で差圧を測定することによって、監視することができる。
【００７９】
正差圧による空気バリアと、カラーおよびその他の洗浄ベイの構造によって得られる機械的バリアとの組み合わせによって、容器の内部を外部洗浄流体から隔離する機能が得られ、これによって２つの流体回路を実質的に分離して維持する。このような隔離は、界面に沿った実際の物理的密封を必要としなくても、ほぼ達成することができる。物理的界面がないと、乾燥効率が向上するので、有利である。ドアの内面も同様に、ドアの外面に用いる流体から隔離される。
【００８０】
図２９を参照すると、ドア洗浄アセンブリ８６４が示されている。ドア洗浄アセンブリ８６４は、回転ハウジング８６６、およびドア受容アセンブリ８７２を備えている。ドア受容アセンブリ８７２は、ハブ８７０と、これに締結されたフレーム８８４とから成る。回転ハウジングには、ハブ８７０を受けるように構成された、図３４に示す軸８６８が設けられている。固定アセンブリ８８１が、ハブ８７０を軸８６８に回転可能に装着するように設けられる。固定アセンブリは、ベアリング８８５を保持するベアリング・リテーナ８８２と、滑車またはリング８８３を備えている。ベアリング・リテーナおよび滑車は、好ましくは、図３０、図３１、図３２および図３３に示すように構成し、軸８６８を中心として回転するようにハブ８７０を固定する。また、固定アセンブリ８８１の一部として、ベアリング・シールを含ませてもよい。
【００８１】
好ましい多重部品設計では、ドア保持アセンブリ８７２の動揺を最少に抑えられる。軸はシールを用いて嵌合させてもよい。ドア保持アセンブリは、任意に、補助ドア拘束具８７８を含み、ドアをフレーム８８４内に保持してもよい。
【００８２】
図３５を参照すると、ドア保持アセンブリ８７２および構成部材を取り除いて、ドア洗浄アセンブリ８６４の回転ハウジング８６６が、示されている。複数のノズル８８０がハウジング８６６上に配されている。ノズル８８０は、直線状ではなく、角度をなして、洗浄プロセスを援助することが好ましい。また、ノズル８８０は直線に沿って配することも好ましい。あるいは、ノズルを制御可能とし、洗浄サイクル中、特定の洗浄目標に照準を当てたり、あるいはその他の洗浄の要望に対処するようにしてもよい。ハウジング８６６は、複数の開口８８７も備える。該開口は、空気が当該ハウジングを通過し、回転アセンブリ８７２内のノッチ８７４に接触することを可能にしている。好ましくは、２つの開口８８７をハウジング８６６の各側に設け、時計回りおよび反時計回りの両方向に、空気にアセンブリ８７２を回転させる。
【００８３】
図３６および図３７を参照すると、回転アセンブリ８７２のフレーム８８４が示されている。フレーム８８４の周囲には、複数のノッチ８７４、または同等の構造をその周囲に設けることが好ましい。含まれる空気ノズルからの空気ストリームが開口８８７を通過し、ノッチ８７４に対抗することによって、アセンブリ８７２を回転させる。空気ノズルは、好ましくは、アセンブリ８７２を時計回りおよび反時計周りの両方向に回転させるように構成する。回転アセンブリ８７２は、プラスチック、フルオロポリマ、またはその他の相応しい非金属材料で構成することが好ましい。
【００８４】
両方向に回転可能とすることによって、一層効果的な洗浄が可能となる。ドア保持アセンブリ８７２は、洗浄の間毎分約３００回転で回転することが好ましいが、他の速度も本発明の範囲に該当する。洗浄サイクル中、アセンブリ８７２を両方向に回転させてもよい。
【００８５】
キャリアのドアの回転によって生ずる遠心力は、洗浄流体をドアに向けて噴霧している間に洗浄プロセスの効率を高めるだけでなく、洗浄プロセスの完了後に洗浄流体がドアから排出する時間を短縮する。
【００８６】
フレーム８８４には、回転センサ８７６が設けられている。このセンサは、フレーム８８４自体に埋め込んだ磁石であることが好ましい。回転毎に所与の点を通過する磁界を、洗浄装置８００によって検知することができる。これによって、洗浄装置８００は、１分当たりの回転数（ＲＰＭ）を監視し、これに応じて空気ノズルを調節し、所望のＲＰＭを維持することが可能となる。複数の回転センサを設けて、ドアの割り出し（ｉｎｄｅｘｉｎｇ）が行えるようにすることもできる。
【００８７】
図３８および図３９を参照すると、ドア保持アセンブリ８７２のハブ８７０が示されている。ハブ８７０は、中央部８９０および複数の延長部８９２を備えている。各延長部８９２の端部８９３には、取付台８９４が取り付けられている。取付台８９４は、回転フレーム８８４と協働し、アセンブリを形成するように構成されている。
【００８８】
図４０、図４１、図４３および図４４を参照すると、本発明の容器洗浄アセンブリの別の実施形態が示されている。洗浄ベイは、回転容器ハウジング９００を設けるように構成することができる。ハウジング９００は、回転する回転台９０２、シュラウド９０４、複数の固定外部噴霧ノズル９０６、非回転内部噴霧ヘッド９０８、および駆動モータ９１０を備えている。
【００８９】
前述のように、キャリアまたは容器Ｃを回転台９０２上に配置する。回転台９０２は、洗浄サイクルの間、駆動モータ９１０によって移動する。これによって、キャリアＣが回転し、固定外部噴霧ノズル９０６が洗浄流体をキャリアの外側に導く。ノズル９０６およびヘッド９０８のいずれかまたは双方は、容器のそれぞれの表面に空気を導くように構成することができる。容器を回転させ固定ノズルを用いることによって、洗浄効率を高めることができる。加えて、キャリアの位置制御を行って、キャリアが所定の範囲に停留する時間を延長し、洗浄効果を高めることができる。キャリアは比較的低い速度で回転する。このような回転の目的は、遠心力でキャリアを乾燥させないためである。洗浄プロセスの間にキャリアの位置制御を行なうために回転が与えられる。
【００９０】
複数の位置センサを、回転容器ハウジング９００と共に用いて、当該ハウジングのインデックス化が行えるようにすることもできる。
図４３および図４４は、本発明による駆動モータ９１０の回転台９０２との係合を示す。駆動車輪９１２を駆動モータ９１０の出力軸９１１に固定する。駆動車輪９１２は、接線界面９１８において回転台９０２の長手方向面９１６と係合する長手方向面９１４を備えている。界面９１８における静摩擦が十分な牽引力を発生し、回転台９０２を回転させる。また、正摩擦は、回転台９０２が引っかかった場合に駆動モータを滑動させるクラッチ機能も与える。界面９１８において一定の牽引力を得るには、ばねのような弾性手段を設けて、一定の放射力により駆動車輪９１２を回転台９０２に圧迫すればよい。このような弾性手段によって、駆動システムは、回転台９０２および駆動車輪９１２のいずれかまたは双方の磨耗を補償することが可能となる。スパー（ｓｐｕｒ）およびピニオン、またはその他のギア駆動系、ならびにベルト駆動系を用いても、回転台９０２を回転させることができ、本発明の範囲から逸脱しないことを当業者は認めよう。
【００９１】
洗浄ベイ内部にある全ての洗浄装置の構成部材および表面は、プラスチックおよび／またはフルオロポリマで形成することが好ましい。注意に値する唯一の例外は、ハブ８７０をアルミニウムで構成し、非反応性材料を被覆することである。ハブ８７０をアルミニウムで構成するのが好ましいのは、使用条件下で歪む可能性が低いので、寿命が長くなり動作が改善するからである。
【００９２】
動作において、ドアをフレーム８８４に挿入する。ドア・ラッチを作動させることによって、ドアを適所に保持する。ラッチは、このラッチを受容するように構成された溝を有するフレーム８８４の部分に係合する。すると、ドアは、洗浄サイクルを受ける準備が整う。洗浄サイクルの間、対応するキャリアまたは容器を支持部８２４上に配置する。蓋８０６を閉じると、洗浄サイクルを開始することができる。完了したなら、ドアおよびキャリアをそれぞれの位置から取り出すことができる。
【００９３】
本発明の別の態様は、洗浄プロセスを行う方法に関する。即ち、噴霧ノズルを連続的に移動させると、洗浄流体の最適な使用ができず、ウエハ・キャリアおよびウエハ・キャリアのドアからの汚染除去を所望のレベルで行えないことがわかった。
【００９４】
ウエハ・キャリアおよびウエハ・キャリアのドアのある領域は、汚染物の除去に対して障害となる。このような領域の１つは、ウエハ・キャリアの構成部材を接合したところである。
【００９５】
噴霧ノズルを移動させる速度をウエハ・キャリア全域で変化させて、より多くの洗浄が必要な範囲には、余分な洗浄が不要な他の範囲よりも停留時間を長くすることが見出された。
【００９６】
噴霧ノズルが洗浄の難度が高いウエハ・キャリアの範囲に向けられたときには、噴霧ノズルの移動を停止させることが好ましい。所定時間の後、噴霧ノズルの移動を再開する。このような洗浄手順を用いることにより、洗浄プロセスの長さを短縮するだけでなく、洗浄プロセスの間に用いられる洗浄流体の量も減少する。このような噴霧ノズルの管理、およびキャリアの構成部材の位置制御は、プログラム可能な制御システムによって提供することができる。
【００９７】
本発明は、その精神または本質的な属性から逸脱することなく、他の特定形態で具体化することもでき、したがって本実施形態はあらゆる観点において限定ではなく例示として解釈し、本発明の範囲を示すに当たっては、前述の説明ではなく、添付した特許請求の範囲を参照することを希求する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の斜視図。
【図２Ａ】本発明の正面断面図。
【図２Ｂ】本発明の別の実施形態の正面断面図。
【図２Ｃ】図２Ｂの内部噴霧装置の斜視図。
【図２Ｄ】内部噴霧装置構成の部分側面図。
【図２Ｅ】図２Ｄの部分分解斜視図。
【図２Ｆ】図２Ｅの流体アプリケータの斜視図。
【図２Ｇ】図２Ｆの流体アプリケータの分解斜視図。
【図２Ｈ】図２Ｇの流体アプリケータの正面図。
【図２Ｉ】線２Ｉ−２Ｉに沿って描いた図２Ｈの端部断面図。
【図２Ｊ】線２Ｊ−２Ｊに沿って描いた図２Ｇの正面断面図。
【図２Ｋ】線２Ｋ−２Ｋに沿って描いた図２Ｊの端部断面図。
【図２Ｌ】線２Ｌ−２Ｌに沿って描いた図２Ｇの流体アプリケータの部分正面図。
【図３】本発明の第２実施形態の斜視図。
【図４】本発明の第２実施形態の正面断面図。
【図５Ａ】本発明の第３実施形態の斜視図。
【図５Ｂ】本発明の第３実施形態の斜視図。
【図６】本発明の第３実施形態の正面断面図。
【図７】同期噴霧装置機構の正面断面図。
【図８】同期噴霧装置機構の斜視図。
【図９】本発明の第４実施形態の斜視図。
【図１０Ａ】第４実施形態の中央区域の別の実施形態。
【図１０Ｂ】ドア・アダプタの斜視図。
【図１１】第４実施形態の中央区域の別の実施形態。
【図１２Ａ】第４実施形態の中央区域の別の実施形態の斜視図。
【図１２Ｂ】図１２Ａの正面断面図。
【図１３Ａ】図１２に示す中央区域の側面図。
【図１３Ｂ】図１２に示す中央区域の斜視図。
【図１４】本発明の別の実施形態の斜視図。
【図１５】本発明の概略図。
【図１６】本発明の別の概略図。
【図１７Ａ】ウエハ・キャリア洗浄装置と共に用いるドア解除ステーションを示す側面図。
【図１７Ｂ】ウエハ・キャリア洗浄装置と共に用いるドア解除ステーションを示す正面図。
【図１７Ｃ】ウエハ・キャリア洗浄装置と共に用いるドア解除ステーションを示す正面図。
【図１８】ウエハ・キャリア洗浄装置に隣接するドア解除ステーションの上面図。
【図１９】単一ウエハ・キャリア洗浄ステーションの正面断面図。
【図２０】別の乾燥装置を示す側断面図。
【図２１】本発明の一実施形態の正面斜視図。
【図２２】図２１に示す洗浄装置の背面斜視図。
【図２３】図２１に示す洗浄装置の正面図
【図２４】図２１に示す洗浄装置の右側面図。
【図２５】図２１に示す洗浄装置の左側面図。
【図２６】後方取り付け脚部の詳細図。
【図２７】前方取り付け脚部の正面図。
【図２８】流体分離カラーを取り除いて、図２１に示す洗浄装置の基部のウエハ容器受容部を示す、洗浄盆の部分詳細図。
【図２９】ドア洗浄アセンブリの部分切欠図。
【図３０】本発明の一実施形態によるベアリング・リテーナの斜視図。
【図３１】本発明の一実施形態によるベアリング・リテーナの側面図。
【図３２】本発明の一実施形態による固定滑車の斜視図。
【図３３】本発明の一実施形態による固定滑車の側面図。
【図３４】本発明の一実施形態による軸の斜視図。
【図３５】本発明の一実施形態による回転ハウジングの斜視図。
【図３６】本発明の一実施形態による回転フレームの斜視図。
【図３７】本発明の一実施形態による回転フレームの斜視図。
【図３８】本発明の一実施形態による回転ハブの正面図。
【図３９】本発明の一実施形態による回転ハブの側面図
【図４０】本発明の一実施形態による回転容器ハウジングの上部斜視図。
【図４１】本発明の一実施形態による回転容器ハウジングの底部斜視図。
【図４２】線Ａ−Ａに沿って描いた、図２８の部分切欠断面図。
【図４３】本発明の一実施形態による、駆動車輪の回転台との係合の平面図。
【図４４】本発明の一実施形態による、駆動車輪の回転台との係合の側面図。
【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【手続補正書】
【提出日】平成14年2月7日(2002.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内面および外面を有する半導体ウエハ・キャリアと、内側面および外側面を有するウエハ・キャリアのドアとを洗浄する装置であって、
基部と、該基部に配置された１つ以上の洗浄ベイとを備え、洗浄ベイの各々は容器洗浄アセンブリとドア洗浄アセンブリとを備え、前記ドア洗浄アセンブリが、
回転ハウジングと、
前記ハウジング内に配置された軸と、
前記ハウジング内部において前記軸上に回転可能に配置されたドア受容アセンブリとを備え、
第１洗浄流体を用いて前記キャリアの内面および前記ドアの内側面を洗浄し、第２洗浄流体を用いて前記キャリアの外面および前記ドアの外側面を洗浄する、洗浄装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置において、前記洗浄ベイが、前記第１流体と前記第２流体とを実質的に隔離するように構成されている、装置。
【請求項３】
請求項１記載の装置において、前記第１洗浄流体および前記第２洗浄流体が、各々、同一の化学特性を有する、装置。
【請求項４】
請求項１記載の装置において、前記第１洗浄流体および前記第２洗浄流体が、各々、異なる化学特性を有する、装置。
【請求項５】
請求項１記載の装置において、ドア受容アセンブリは内部に配置されたドアを有して、前記第１流体の前記第２流体との連通を防止するように構成されている、装置。
【請求項６】
請求項１記載の装置において、前記ドア洗浄アセンブリが、前記ハウジング上に固定可能に配置され、前記第１流体を前記ドアの内側に導入する複数のノズルを更に備えている、装置。
【請求項７】
請求項６記載の装置において、前記ノズルが、前記ドアの内側に対してある角度をなして前記第１流体の噴霧を向けるように構成されている、装置。
【請求項８】
請求項１記載の装置において、前記ドア受容アセンブリが、その周囲に沿って配置された複数のノッチを更に備えている、装置。
【請求項９】
請求項１記載の装置において、前記ドア洗浄アセンブリが、更に、前記回転ハウジング内部に配置された１つ以上の空気注入ノズルを備え、該ノズルが、前記ドア受容アセンブリを空気圧によって時計回りおよび反時計回りの両方向に回転させるように構成されている、装置。
【請求項１０】
請求項１記載の装置において、前記ドア受容アセンブリが、回転速度と、任意で回転位置とを検出する１つ以上の回転検知装置を含む、装置。
【請求項１１】
請求項１記載の装置において、前記基部が、その中に配置された流体漏れ検出器を備える、装置。
【請求項１２】
請求項１記載の装置において、更に、前記基部に装着されるクロージャを備え、該クロージャは同クロージャと基部との間の界面に液密封止を形成するように構成されている、装置。
【請求項１３】
請求項１２記載の装置において、前記基部が、動作中に前記液密封止の破損を検出する閉鎖センサを含む、装置。
【請求項１４】
請求項１記載の装置において、前記容器洗浄アセンブリが、
内部に配置された容器支持構造と、
前記内面と連通する内部噴霧装置と、
前記外面と連通する外部噴霧装置と、
を更に備えている、装置。
【請求項１５】
請求項１４記載の装置において、前記外部噴霧装置が、前記基部上に回動可能に配された、ほぼＵ字状の噴霧バーである、装置。
【請求項１６】
請求項１４記載の装置において、前記容器支持構造が、回転ハウジング・アセンブリを備えている、装置。
【請求項１７】
請求項１６記載の装置において、前記回転ハウジング・アセンブリが、
前記基部内に配置された回転可能な回転台と、
前記回転台上に配置されたシュラウドと、
前記基部内に配置され、前記回転台を回転させるように構成された駆動モータと、
を備えている、装置。
【請求項１８】
請求項１記載の装置において、前記容器洗浄アセンブリが、更に、前記基部に設けられた調節可能なプラットフォームを備えている、装置。
【請求項１９】
請求項１記載の装置において、更に、前記基部上に配置され、地震係留装置として機能するように構成された、調節可能な前方脚部および後方脚部を備えている、装置。
【請求項２０】
請求項１記載の装置において、更に、前記基部上に配置され、容易な移動を可能にするキャスタを備えている、装置。
【請求項２１】
請求項１記載の装置において、前記基部が、前記第１洗浄流体および第２洗浄流体のうちの少なくとも一方の状態を検出するセンサを含む、装置。
【請求項２２】
内面および外面を有する半導体ウエハ・キャリアと、内側面および外側面を有するウエハ・キャリアのドアとを洗浄する装置において、
基部と、該基部に配置された１つ以上の洗浄ベイであって、各々、容器洗浄手段およびドア洗浄手段を備えている、洗浄ベイと、
第１洗浄流体と、
第２洗浄流体と、
前記第１洗浄流体を前記内面に導く手段と、
前記第１洗浄流体を前記内側面に導く手段と、
前記第２洗浄流体を前記外面に導く手段と、
前記第２洗浄流体を前記外側面に導く手段と、
を備えている、装置。
【請求項２３】
請求項２２記載の装置において、前記第２洗浄流体の前記第１洗浄流体への混入を最少に抑える手段を更に備えている、装置。
【請求項２４】
請求項２２記載の装置において、前記ドア洗浄手段が、洗浄の間に前記ドアを回転させる手段を含む、装置。
【請求項２５】
請求項２２記載の装置において、前記容器洗浄手段が、前記キャリアを回転させる手段を含む、装置。
【請求項２６】
内面および外面を有する半導体ウエハ・キャリアと、内側面および外側面を有するウエハ・キャリアのドアとを洗浄する装置であって、
基部と、該基部に配置された１つ以上の洗浄ベイとを備え、該洗浄ベイは各々、容器洗浄アセンブリとドア洗浄アセンブリとを備え、前記容器洗浄アセンブリが、
回転可能な回転台と、
前記回転台上に配置されたシュラウドと、
前記外面と連通する１つ以上の外部噴霧ノズルと、
前記内面と連通する内部噴霧ノズルと、
前記基部内に配置され、前記回転台を回転するように構成された駆動モータとを備え、
第１洗浄流体を用いて前記キャリアの内面および前記ドアの内側面を洗浄し、第２洗浄流体を用いて前記キャリアの外面および前記ドアの外側面を洗浄する、洗浄装置。
【請求項２７】
請求項２６記載の装置において、前記洗浄ベイが、前記第１洗浄流体と前記第２洗浄流体とを少なくとも実質的に隔離するように構成されている、装置。
【請求項２８】
請求項２６記載の装置において、前記外部噴霧ノズルが前記キャリアの外面に対して固定位置に保持される、装置。
【請求項２９】
請求項２６記載の装置において、前記容器洗浄アセンブリが、内部に配置され前記ウエハ・キャリアの向きを検知する位置センサを更に備えている、装置。
【請求項３０】
請求項２６記載の装置において、前記容器洗浄アセンブリが、前記駆動モータ上に配され、前記回転台と摩擦接触することによって該回転台を回転させるように構成された駆動ホイールを更に備えている、装置。
【請求項３１】
請求項３０記載の装置において、前記容器洗浄アセンブリが、前記駆動ホイールを前記回転台に圧迫する弾性手段を更に備えている、装置。
【請求項３２】
ウエハ・キャリア構成部材の洗浄方法であって、
ウエハ・キャリア構成部材をウエハ・キャリア洗浄装置内に配置するステップと、前記構成部材は第１側面および第２側面を有することと、
第１洗浄流体を固定ノズル位置から前記第１側面上に噴霧するステップと、
前記キャリア構成部材を、前記第１洗浄流体が第１側面上に噴霧されているところまで移動するように回転させるステップと、
から成る方法。
【請求項３３】
請求項３２記載の方法であって、選択的に回転速度を変化させるステップを更に含む、方法。
【請求項３４】
請求項３２記載の方法であって、第２洗浄流体を前記第２側面上に噴霧するステップを更に含む、方法。
【請求項３５】
請求項３４記載の方法であって、前記第１洗浄流体と前記第２洗浄流体とを少なくとも実質的に隔離するステップを更に含む、方法。
【請求項３６】
請求項３２記載の方法であって、基準位置に対して前記構成部材の位置を検知するステップを更に含む、方法。
【請求項３７】
請求項３２記載の方法であって、前記キャリアの第１側面にイオン化空気を導くステップを更に含む、方法。
【請求項３８】
請求項３２記載の方法であって、前記第１側面の周囲において、前記第２側面に対して高い圧力を維持することによって、差圧を規定するステップを更に含む、方法。
【請求項３９】
内面および外面を有する半導体ウエハ・キャリアと、内側面および外側面を有するウエハ・キャリアのドアとを洗浄する装置において、
基部と、該基部に配置された１つ以上の洗浄ベイとを備え、該洗浄ベイの各々は容器洗浄アセンブリとドア洗浄アセンブリとを備え、前記容器洗浄アセンブリは、
前記基部内に配置された複数の容器支持構造と、
前記支持構造の周囲に配置された着脱可能なカラーであって、前記支持構造が当該カラーの上に延出する、カラーと、
前記内面と連通する内部噴霧ノズルと、
前記基部に回動可能に装着され、かつ前記外面と連通する、ほぼＵ字状の外部噴霧バーとを備え、
第１洗浄流体を用いて前記キャリアの内面および前記ドアの内側面を洗浄し、第２洗浄流体を用いて前記キャリアの外面および前記ドアの外側面を洗浄する、洗浄装置。
【請求項４０】
請求項３９記載の装置において、前記外部噴霧バーが前記ドアの外側面と連通する、装置。
【請求項４１】
請求項３９記載の装置において、前記カラーが、前記第２洗浄流体の前記第１洗浄流体との連通を最少に抑えるように構成された、垂直に延出する隆起を含む、装置。
【請求項４２】
請求項３９記載の装置において、前記基部が、前記第１洗浄流体および第２洗浄流体のうちの少なくとも一方の状態を検出するセンサを含む、装置。
【請求項４３】
請求項４２記載の装置において、前記洗浄ベイが、空気循環システムを更に含む、装置。
【請求項４４】
請求項４３記載の装置において、前記空気循環システムが、前記洗浄ベイ内に配置された空気排出ダクトと、前記洗浄ベイ内に配置された空気導入ダクトとを備え、前記空気排出ダクトが前記洗浄ベイから空気を除去し、前記空気導入ダクトが前記洗浄ベイに空気を導入する、装置。
【請求項４５】
請求項４３記載の装置において、前記空気循環システムが、空気濾過装置を含む、装置。
【請求項４６】
請求項３９記載の装置において、更に、前記洗浄ベイ内に配置され、イオン化空気を前記ウエハ・キャリアの内部に導入するイオン化デバイスを備えている、装置。
【請求項４７】
請求項３９記載の装置において、前記洗浄ベイが、前記第１洗浄流体と第２洗浄流体とを少なくとも実質的に隔離するように構成されている、装置。
【国際調査報告】
2004503105.tif 000069
2004503105.tif 000070