(57)【要約】紫外線を用いた光線治療のための装置が、ＵＶ−Ｂアークランプと、予め決められた範囲内のＵＶ−Ｂ放射線を送出するための出力ポートとを含むベースユニットを有する。可撓性の細長い光導体が、光導体の一端にて出力ポートに連結され、他端にてハンドピースに連結されている。ハンドピースは、光導体からの円形のビームを、直線の縁を有する予め決められた形状、例えば矩形のビームに変換するように配置されており、また、このように成形されたビームを患者のターゲット領域に照射するための、対応した形状の出口開口部を有する。光路に配置されたビーム分離アセンブリが、光導体に向けられる放射線の少なくとも９０％が予め決められた範囲内にあるように、予め決められた範囲のＵＶ−Ｂ放射線をランプ出力から分離する。
2004505734.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線光線治療装置であって、
予め決められた範囲内のＵＶ−Ｂ放射線を送出するための出力ポートを有するベースユニットと、
ベースユニットの出力ポートに連結された入力端と出力端とを有する可撓性の細長い光導体と、
光導体の出力端に連結された入力端と、患者のターゲット領域に放射線を照射するための予め決められた非円形状の出口開口部とを有するハンドピースとを含み、
ベースユニットが、予め決められた範囲のＵＶ−Ｂ放射線を放射するためのＵＶ−Ｂランプと、ＵＶ−Ｂランプからの放射線を光路に沿って光導体の入力端に集束するための集束装置と、予め決められた範囲のＵＶ−Ｂ放射線をランプの出力から分離し、それにより、光導体に向けられる放射線の少なくとも９０％が予め決められた範囲内になる、光路におけるビーム分離アセンブリとを含む、紫外線光線療法装置。
【請求項２】
前記予め決められた範囲が３００ｎｍから３２０ｎｍまでである請求項１に記載の装置。
【請求項３】
ランプがＵＶ−Ｂ放射線を少なくとも２つのピーク波長で放射し、ハンドピースからの出力が、主に２つの放射ピーク波長の混合である請求項１に記載の装置。
【請求項４】
出力される放射線が、約３０２ｎｍと３１２ｎｍのＵＶ−Ｂ放射線の混合である請求項３に記載の装置。
【請求項５】
出力される放射線が、約３０２ｎｍ、約３１２ｎｍおよび約３１８ｎｍの３つの異なる波長のＵＶ−Ｂ放射線の混合である請求項３に記載の装置。
【請求項６】
ビーム分離アセンブリが、予め決められた範囲内の放射線を光路に沿って反射し、かつ範囲外の放射線を透過させるための少なくとも１つのＵＶ−Ｂ反射ダイクロイックミラーを含む請求項１に記載の装置。
【請求項７】
ビーム分離アセンブリが、光路に沿って連続して配置された２つのＵＶ−Ｂ反射ダイクロイックミラーを含む請求項６に記載の装置。
【請求項８】
ビーム分離アセンブリが、さらに、ビーム路において第２のダイクロイックミラーの後ろに配置されたエッジフィルタを含む請求項７に記載の装置。
【請求項９】
ビーム分離アセンブリが回折格子を含む請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
ビーム分離アセンブリが、さらに、ランプからの紫外線の大部分を回折格子に向けさせるために配置された広帯域ダイクロイックＵＶミラーを含む請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
ＵＶランプがアークランプであり、集束装置がリフレクタである請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
リフレクタが、紫外線を反射するダイクロイックコーティングガラスである請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
ＵＶランプがショートアークランプであり、リフレクタが、対称形の楕円形リフレクタを含む請求項１１に記載の装置。
【請求項１４】
ＵＶランプがミディアムアークランプであり、リフレクタがシリンダー状の楕円形リフレクタであり、シリンドリカルレンズが、リフレクタの焦点に、リフレクタから出た光を出力ポートに集束するために配置されている請求項１１に記載の装置。
【請求項１５】
ベースユニットが、ＵＶ−Ａ放射線のための第２の出力ポートを有し、ビーム分離アセンブリが、予め決められた範囲のＵＶ−Ｂ放射線を分離し、前記分離されたＵＶ−Ｂ放射線をＵＶ−Ｂ出力ポートに向けさせるための第１の分離部と、予め決められた範囲のＵＶ−Ａ放射線を分離し、前記分離されたＵＶ−Ａ放射線を第２の出力ポートに向けさせるための第２の分離部とを含む請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
第１分離部が、少なくとも１つのＵＶ−Ｂ反射ダイクロイックミラーを、ランプからＵＶ−Ｂ出力ポートへの光路に、ＵＶ−Ｂ放射線を前記光路に沿って反射しかつＵＶ−Ｂ範囲外の非ＵＶ−Ｂ放射線を実質的に全て第２の光路に沿って透過させるために含み、第２分離部が、第２光路に配置された少なくとも１つのＵＶ−Ａ反射ダイクロイックミラーを、予め決められたＵＶ−Ａ範囲内の放射線を第２出力ポートに反射し、かつＵＶ−Ａ範囲外の放射線を透過させるために含む請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
第１分離部が、連続して配置された２つのＵＶ−Ｂ反射ダイクロイックミラーを含み、第２分離部が、連続して配置された２つのＵＶ−Ａ反射ダイクロイックミラーを含む請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
光導体が、ＵＶ−Ｂ出力ポートまたは第２のＵＶ−Ａ出力ポートに選択的に着脱可能に固定され得る請求項１５に記載の装置。
【請求項１９】
第２出力ポートに固定された第１の端部と第２の端部とを有する第２の光導体と、皮膚の選択された領域にＵＶ−Ａ放射線をターゲット照射するために光導体の第２端部に固定された第２のハンドピースとを含む請求項１５に記載の装置。
【請求項２０】
ランプがショートアーク水銀ランプである請求項１に記載の装置。
【請求項２１】
ランプが、水銀ランプ、キセノン水銀ランプ、および、ドープ水銀ショートアークランプから成る群から選択されるショートアークランプである請求項１に記載の装置。
【請求項２２】
ランプが、ドープメタルハライドランプおよび管状の水銀アークランプから成る群から選択されるミディアムアークランプである請求項１に記載の装置。
【請求項２３】
光導体が、ＵＶ透過性液体光導体、融解石英ファイバオプティック導体、および融解石英ファイバオプティック束から成る群から選択される請求項１に記載の装置。
【請求項２４】
さらに、ランプから出力ポートへの光路に取り付けられたビームシャッタであって、放射線の出力ポートへの伝達を遮断する延ばされた状態の閉鎖位置と、放射線の出力ポートへの伝達を可能にする引き込み状態の開放位置との間を移動可能であるビームシャッタと、プログラムされた処置サイクルに従ってシャッタの動作を制御するための制御ユニットとを含む請求項１に記載の装置。
【請求項２５】
ハンドピースが、断面が矩形でありかつＵＶ遮断性材料からつくられた中空の管を含み、前記管が、光導体の第２端部が連結される入力ポートを有する第１の端部壁と、断面が矩形の出口開口部を有する第２端部とを有して、前記断面に対応した断面のビームをハンドピースの下の皮膚領域に照射する請求項１に記載の装置。
【請求項２６】
前記管が、入力ポートと出口開口部の間に、ビームを円形から矩形に成形するための内部チャンバを有する請求項２５に記載の装置。
【請求項２７】
断面が矩形の融解石英ロッドがハンドピースの管の第２端部に固定され、ロッドが、前記出口開口部を画成する外端面を有する請求項２５に記載の装置。
【請求項２８】
さらに、管の第２端部に固定されかつ管から出口開口部を超えて突出する矩形のチップを含み、チップがＵＶ遮断性材料からつくられている請求項２５に記載の装置。
【請求項２９】
チップが管に着脱可能に固定される請求項２８に記載の装置。
【請求項３０】
チップが、光透過性でかつＵＶ遮断性の材料からつくられている請求項２８に記載の装置。
【請求項３１】
チップが外周縁を有し、少なくとも１つの多孔質パッドが、外周縁の少なくとも一部の周りに延在しかつ処置中に患者の皮膚に接触するように固定され、多孔質パッドが、処置が終わった領域を示すために患者の皮膚に印をつけるためのマーキング材料を含む請求項２８に記載の装置。
【請求項３２】
病巣組織をＵＶ−Ｂ放射線のターゲット照射により治療する方法であって、
ＵＶ−Ｂランプ源からの放射線を光路に沿って方向付けるステップと、
予め決められたＵＶ−Ｂ範囲の放射線を、ランプ源により発光された放射線スペクトルから分離し、分離されたＵＶ−Ｂ放射線を操作可能な細長い光導体の一端に向けさせるステップと、
前記分離された放射線を処置される組織の予め決められたターゲット領域に向けさせるための予め決められた非円形の出口開口部を有するハンドピースに、光導体の他端を連結するステップと、
ハンドピース内で、ビームを、断面が円形のビームから、出口開口部から放射される、直線の縁を有する断面のビームに光学的に成形するステップと、
ＵＶ−Ｂ放射線をターゲット領域に、予め決められた時間にわたって照射するステップと、
隣接した領域にハンドピースを移動し、前記隣接した領域に前記時間と同一の時間にわたって放射線を照射するステップと、
病巣全体が処置されるまで手順を繰り返すステップとを含む方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
発明の背景
本発明は、概して、皮膚病または皮膚障害、例えば、乾癬、白斑、湿疹、酒さ、脱毛症などを治療するための紫外線（ＵＶ）を用いた光線治療の装置および方法に関し、特には、連続した特定の病巣の領域に放射線を照射する、ＵＶターゲット（ｔａｒｇｅｔｅｄ）照射による光線治療の装置および方法に関する。
【０００２】
光線療法は、皮膚病（乾癬、白斑、酒さ、脱毛症、湿疹）に対する治療効果を達成するために紫外線照射を用いる。ＵＶスペクトルは、ＵＶ−Ａ（長波長紫外線）（３２０〜４００ｎｍ）、ＵＶ−Ｂ（中波長紫外線）（２９０〜３２０ｎｍ）、および、ＵＶＣ（短波長紫外線）（１００〜２９０ｎｍ）に区分される。ＵＶ−Ａ領域は、タンニング作用をもたらす長波ＵＶスペクトルとされており、ＵＶ−Ｂ領域は、日焼け領域（紅斑領域）とされており、ＵＶＣは殺菌領域とされている。一般に、ＵＶ−Ａ放射線およびＵＶ−Ｂ放射線の両方が皮膚病の治療に用いられてきた。ＵＶ−Ａ放射線を用いた治療は光化学療法と称され、感光剤ソラレンの使用およびＵＶ−Ａ放射線の照射を含む。光線療法の基本は、所定の周波数の光と組織との直接の相互作用が免疫反応に変化を生じさせることであると考えられている。ウルリッチ（Ｕｌｌｒｉｃｈ）による米国特許第５，６９６，０８１号に、ＵＶ−Ａ放射線、およびＵＶ−Ｂ放射線により生じる免疫反応が記載されている。
【０００３】
光線療法には乾癬の治療の長い歴史があり、１９２６年に遡ると、自然の太陽光線療法、例えばＧｏｅｋｅｒｍａｎ養生法および（死海のＵＶ−Ｂが豊富な太陽光の）日光療法が行われていた。日光療法は今日でもまだ行われている。しかし、これらの自然の太陽光線療法は、大部分は人工的なＵＶ−Ａおよび／またはＵＶ−Ｂ放射線を提供する近代的なブースまたはチャンバ（部屋）に取って代わられた。ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂの利点は皮膚病の治療において知られているが、健康な組織に対する、特にＵＶ−Ｂ放射線の有害な影響もまた良く知られており、医学的な関心事である。
【０００４】
光線療法のために設計された装置の多くは、ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂのいずれに関しても、顔面または足に放射線を照射するための卓上型プロジェクタ、または、ブースもしくはチャンバタイプの装置（サンルーム）である。種々のＵＶブース装置が、米国特許第４，０９５，１１３号、４，１０３，１７５号、４，１００，４１５号、４，７０３，１８４号、４，１７７，３８４号、４，９５９，５５１号、４，４６９，９５１号および４，３０９，６１６号に開示されている。これらの装置の全ては、ＵＶ源として管状の蛍光球または管状の水銀球を用いている。ブースは、概して多数の電球の列（ｂａｎｋ）を含み、広範な面積、通常は身体全体を照射する。身体の治療されない多くの部分は、覆うかまたは包み込む材料により保護されることができるが、これは多くの臨床的使用に非実用的である。これらの装置の、広い範囲（身体または四肢全体）を照射するパターンは、光源の放射特性によるものである。これらの細長い円柱状の電球からの拡散する均等な（ｌａｍｂｅｒｔｉａｎ）放射パターンは、特定の領域に目標を絞って向けられることが難しい。治療効果をもたらすのに十分な放射線レベルを得るためには、実際的な制限時間内で治療を成し遂げるために多数の電球が必要である。これらの実際のフルエンス（流束量）レベルを得るためには、通常、１つのブースに２４個〜４８個の電球が必要である。
【０００５】
概して、ブースにおいて照射されるＵＶ−Ｂ放射線量は、紅斑（日焼け）作用により制限される。照射される人間が火傷する前に耐えられるＵＶ−Ｂの絶対量は皮膚のタイプや以前の放射線暴露により異なる。この絶対量は、またＵＶ−Ｂの組成により変化する。なぜなら、より短い波長ほど、より大きい紅斑作用を有するからである。通常、治療を行う前に、各患者に関する、紅斑を生じる最小放射線量（ＭＥＤ）が、健康な組織に小さいパッチにて種々の放射線量を照射することにより決定される。これらのパッチは、患者を日焼けさせるエネルギーの量（通常ｍｊ／ｃｍ２で示される）を示す。典型的には、２４時間後にパッチを観察して、僅かにピンク色になっているパッチをＭＥＤレベルであると見なす。１回のブースでの治療は、このＭＥＤのある割合（しばしば７０％）にて開始し、その後に続くセッションにおいては、タンニングにより耐性がつくられるために放射線量は増大され得る。ブースにおいて治療の効果が得られる典型的な治療の周期は、週に通常２〜３回処置を行う１５〜３０回の処置である。所与のセッションに与えられる放射線量は、健康な組織の放射線暴露により制限される。全身の日焼けは痛みを伴うだけでなく、医学的に愚かな行為である。
【０００６】
類似の技術がＵＶ−Ａ治療のために用いられているが、照射線量はＭＰＤ（最大許容放射線量）と呼ばれ、パッチの読み取りは一般に暴露の７２時間後である。しかし、いずれの場合においても、健康な（非損傷の）組織への照射によりＭＥＤまたはＭＰＤが決定される。
【０００７】
ＵＶ−Ａ療法の多くは、光化学療法と称されるＰＵＶ−Ａ療法に取って代わられた。この治療法においては、光増感剤ソラレンまたはその誘導剤の１つがＵＶ−Ａ放射線と共に用いられる。ＰＵＶ−Ａ治療は、ＵＶ−Ｂ治療によっては見られない長期間にわたる腫瘍の発現をもたらすことがわかっている。しかし、ＵＶ−Ｂ治療が成功していない場合、別の選択肢であるＰＵＶ−Ａが、たとえ健康に危害を与える可能性があっても代用物となる。
【０００８】
病巣（損傷のある）組織（例えば乾癬プラーク（斑））のなかに、健康な組織よりもかなり多くのＵＶ−Ｂ照射に耐えられるものがあることが示されてきた。これは、主にプラーク領域の厚みによるものである。しかし、ブース治療においてプラークに照射される放射線は、隣接する健康な組織が耐えられる放射線量までに制限される。ブースでのＵＶ−Ｂ治療には３つの好ましくない要素がある。第１に、放射線は健康な組織と病巣組織の両方に照射されるため、全身のＵＶ−Ｂ暴露量が増大する。この累積的な全身暴露が発癌性と密接な関係を有することは証明されてきた。第２に、健康な組織の低い放射線閾値が、１回のセッションで病巣領域に照射され得る放射線の量を制限することである。この最適に及ばない放射線量は、結果として処置の回数を増大させ、治療の成功のために必要な病巣照射を累積する。第３に、プラークへの低い照射線量から生じる処置の回数の増加もまた、全身が受ける放射線量を増やすことになる。
【０００９】
Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｉｖｅ　Ｄｅｒｍａｔｏｌｏｇｙ，　Ｖｏｌ．７６，Ｎｏ．５，ｐ．３５９〜３６２（１９８１）に公開された、ジョン　Ａ．　パリッシュ（Ｊｏｈｎ　Ａ．Ｐａｒｒｉｓｈ）医学博士とカート　Ｆ．　ジェニック（Ｋｕｒｔ　Ｆ．Ｊａｅｎｉｃｋｅ）文学士による「乾癬の光線治療のための作用スペクトル（Ａｃｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｕｍ ｆｏｒ Ｐｈｏｔｏｔｈｅｒａｐｙ ｏｆ Ｐｓｏｒｉａｓｉｓ）」と題された論文は、乾癬に作用する２５３ｎｍ〜３１３ｎｍのスペクトルを記載している。この論文の結論は、２９６ｎｍより短い波長の放射線は非常に紅斑を生じやすく治療向きでないことを示している。この論文は、また、３００ｎｍで１ＭＥＤを照射するための放射レベルが、３１３ｎｍで１ＭＥＤを達成するのに必要な放射レベルの約１／１０であると報告している。これは、より短い波長のＵＶ−Ｂが、より高い紅斑作用を有することを確証している。慣用のＵＶ−Ｂ蛍光源は、蛍光材料の帯域幅により２７５〜３４０ｎｍのＵＶ放射線をもたらし、したがって、治療効果を有さずに紅斑作用を生じるかなりの放射線をもたらす。この慣用の蛍光照射は、かなり非治療的であり、紅斑作用において制限があるため、より多くの回数の処置を必要とする。
【００１０】
慣用の光源からの、紅斑作用において制限がある非治療的な放射線は、光線治療のためのより効率的なＵＶ−Ｂランプの開発を導いた。３０８ｎｍの単波長放射線の光源が、エキシマランプ（米国特許第５，９５５，８４０号）の形態で利用可能である。また、３１１ｎｍのほぼ単波長の出力（米国特許第４，３５４，１３９号）を有する管状蛍光ランプが利用可能である。これらのランプ源は、共に、照射面積が広い、すなわち、１回の処置の紅斑作用による制限および健康な組織への照射という不利点を有する。しかし、これらのランプからの単波長のＵＶ−Ｂの利点に関する多くの報告も得られている。１つの利点は、２９６ｎｍより短い、非治療的な紅斑作用のある放射線がないことである。これは、照射されるＵＶ−Ｂ放射線のより多くが、ＭＥＤに到達する前の治療的値であることを可能にする。２７５〜３４０ｎｍの広範囲にて動作する慣用のＵＶ−Ｂ電球は、細胞の増殖を促進する望ましくない放射線をもたらすことがある。
【００１１】
このような広面積の照射と反対に、ターゲット（目標を定めた）光線治療は、照射装置の幾何学的形状または出口開口部により画定される特定の領域に放射線を照射する。放射線量は、病巣への照射を通じて、必然的ではないが概して一定である。照射周期中に照射される放射線量が分かり、照射領域の境界が分かる。それは、ペンライトを皮膚に押し当てることのように考えられよう。照射領域はペンライトの出口面積と考えられ、ターゲット光線治療の場合、放射線量が制御され得る。ペンライト状の出口面を病巣に当てるこのパターンを繰り返すことにより、病巣を完全にカバーすることが可能になる。管状の蛍光ランプは、概して、放射線をターゲット照射するために効率的に用いられることができない。これは、これらの細長い拡散光源からの光を集め、皮膚の上または光導体内に集束させるのが困難であることによる。放射線のターゲット照射またはスポット照射は、概して、光源が平行であるか、または、ファイバオプティック（光ファイバ）の効率的な連結を可能にするアーク強度の小さい光源であることを必要とする。ＵＶターゲット照射による光線治療システムは、典型的にはレーザを用い、非常に高価である。
【００１２】
３０８ｎｍの単波長放射線は、塩化キセノンエキシマーレーザによりもたらされることができ、このような光源は、コヒーレントビームにより部位指向性（位置へ向けた）照射が可能である。このような光源の不利点は、設備のコストおよび関連するメンテナンス費が高いことである。これらのレーザ装置は非常に高価な額で販売されており、定期的に交換されなければならない高圧有毒ガスを含む。
【００１３】
発明の概要
本発明の目的は、皮膚疾患に紫外放射線をターゲット照射する光線治療のための改良された新しい装置および方法を提供することにある。
【００１４】
本発明の一態様に従えば、紫外線を用いた光線治療装置であって、予め決められた範囲内のＵＶ−Ｂ放射線を送出するための出力ポートを有するベースユニットと、ベースユニットの出力ポートに連結された入力端と出力端とを有する光導体と、光導体の出力端に連結された入力端と、患者のターゲット領域に放射線を照射するための予め決められた非円形状の出口開口部とを有するハンドピースとを含み、ベースユニットが、予め決められた範囲のＵＶ−Ｂ放射線を放射するためのＵＶ−Ｂランプと、ＵＶ−Ｂランプからの放射線を光路に沿って光導体の入力端に集束するための集束装置と、ランプからのＵＶ−Ｂ放射線の予め決められた範囲をランプの出力の残りの部分から分離し、それにより、光導体に向けられる放射線の少なくとも９０％が予め決められた範囲内になる、光路におけるビーム分離アセンブリとを含む、紫外線を用いた光線療法装置が提供される。
【００１５】
一例において、前記予め決められた範囲は３００ｎｍと３２０ｎｍの間であった。ビーム分離アセンブリは、３００ｎｍから３２０ｎｍまでの範囲内の放射線を光路に沿って反射し、かつ前記望ましい範囲外のほぼ全ての放射線を透過させるための少なくとも１つのＵＶ−Ｂ反射ダイクロイックミラーを含み得る。好ましい実施形態において、２つのＵＶ−Ｂ反射ダイクロイックミラーが、不要な放射線をさらに減じるために光路に沿って連続的に配置される。本発明の一実施形態において、ベースユニットに、ＵＶ−Ｂ放射線のための第１の出力ポート、および、ＵＶ−Ａ放射線のための第２の出力ポートとが設けられている。第１の光導体およびハンドピースが第１出力ポートに連結され、第２の光導体およびハンドピースが第２出力ポートに連結され得る。ビーム分離アセンブリは、予め決められた範囲のＵＶ−Ｂ放射線を分離して、前記分離されたＵＶ−Ｂ放射線を第１出力ポートに向けさせるための機構と、予め決められた範囲のＵＶ−Ａ放射線を分離して、前記分離されたＵＶ−Ａ放射線を第２出力ポートに向けさせるための機構とを含む。これにより、第１ハンドピースを用いた、方向付けられたＵＶ−Ｂによる治療と、第２の出力ポートおよびそれに連結されたハンドピースを用いた、方向付けられたＵＶ−Ａによる治療すなわち光化学治療とが選択的に提供される。
【００１６】
ＵＶ−Ｂランプは、好ましくは、中圧の、ショートアークまたはミディアムアーム水銀ランプ、例えば、水銀ランプ、キセノン水銀ランプ、またはドープ水銀ショートアークである。このタイプのランプは、３００ｎｍから〜３２０ｎｍのＵＶ−Ｂ範囲での出力の比率が最も高く、また、小さい寸法の光導体の入力端に、集束アセンブリによって容易にかつ正確に方向付けられる出力を有し、この点が管状の蛍光ランプと異なる。
【００１７】
一実施形態において、ハンドピースは、光導体から出力された円形のビームを、より大きい正方形のビームに拡張するビーム成形光学素子（光学部品）を含む。一例において、ハンドピースは、研磨された内壁を有する矩形の管であり得る。正方形のビームの出力は、病巣内の隣り合う領域を、処置領域を全く重複せずに連続的に次々と処置することを可能にする。
【００１８】
本発明の別の態様に従えば、病巣組織をＵＶ−Ｂのターゲット照射により治療する方法であって、ＵＶ−Ｂランプ源からの放射線を光路に沿って方向付けるステップと、予め決められたＵＶ−Ｂ範囲の放射線を、ランプ源により発光された放射線スペクトルから分離し、前記分離されたＵＶ−Ｂ放射線を光導体の一端に向けさせるステップと、処置される組織の予め決められたターゲット領域に前記分離された放射線を向けさせるための予め決められた非円形の形状を有する出口開口部を有するハンドピースに、光導体の他端を連結するステップとを含む方法が提供される。
【００１９】
現在まで、望ましくない放射線を病巣の周りの健康な皮膚に照射せずに病巣の特定の領域に放射線をターゲット照射する光線治療のための装置は、塩化キセノンエキシマーレーザをＵＶ−Ｂ光源として用いたものだけであった。これらの装置は、大きく、非常に高価で、頻繁なメンテナンスを必要とし、高圧有毒ガスを用いるため、一般に、病院や医院でのみ用いられることができ、患者が家で用いることができない。本発明の装置および方法は、かなり小型の装置、および、放射線源としての安価なＵＶ−Ｂランプを用いるＵＶ−Ｂターゲット照射光線治療を提供する。本発明の装置は、かなり安価で、メンテナンスも少なくて済み、患者が自宅で便利に用いることができる。
【００２０】
以下に、本発明の幾つかの例示的な実施形態を、添付図面に関連して詳細に説明することにより、本発明が一層良好に理解されるであろう。図面中、類似の参照番号は類似の部品を示す。
【００２１】
図１は、本発明の第１の例示的な実施形態に従うＵＶターゲット照射光線療法装置を示す。この装置は、基本的に、ＵＶ−Ｂランプ１２を収容し、ＵＶ−Ｂ放射線のための出力ポート１４を有するベースユニットすなわちハウジング１０と、出力ポート１４に連結された第１の端部と第２の端部とを有する細長い光導体１６と、光導体１６の第２端部に連結されたハンドピース１８とを有する。ハンドピースは、図３および４を参照して以下にさらに詳細に論じるように、皮膚の治療すべき領域にＵＶ−Ｂ放射線をターゲット照射するように設計されている。
【００２２】
ＵＶ−Ｂランプ１２は、効率が非常によく、ＵＶ−Ｂ放射率の高い出力を有するように特別に選択される。好ましくは、ランプは、中圧のショートアークまたはミディアムアークの水銀ランプ、例えば、水銀ランプ、ドープ水銀ランプ、またはキセノン水銀ランプである。ハウジングすなわちベースユニット１０内の光学アセンブリが、ランプ１２からの予め決められたＵＶ−Ｂ範囲の放射線を出力ポート１４に向けさせる。光学アセンブリは、ランプを取り囲む対称のリフレクタ（反射器）２０と、一連の２つのＵＶ−Ｂ反射ミラー２２，２４とを光路に有して、予め決められた範囲の放射線を出力ポートに向けさせる。エッジフィルタ２６およびシャッタ２８が、第２ミラー２４から出力ポート１４への光路に配置されている。
【００２３】
ＵＶリフレクタは、ＵＶ反射性の金属またはダイクロイックコーティングガラスからつくられることができる。これは、反射光から不要な輻射の７５％をも排除することができる。加熱ひずみを回避するために、冷却エアがフィルタ付きファン３０からリフレクタに送出される。ＵＶリフレクタは、図１に示されているように、放射線を集めて出力ポート１４に集束させるように配置されている。リフレクタ２０は、ランプ１２から集めた放射線を、光路に対して４５度の角度で配置された第１のＵＶ−Ｂ反射ダイクロイックミラー２２に向けさせる。このミラーが、受けたＵＶ−Ｂ放射線の９５％を第２のＵＶ−Ｂ反射ダイクロイックミラー２４へ反射し、そして同時に、予め決められたＵＶ−Ｂ範囲外の不要な放射線の大部分はミラー２２を透過して、黒体吸収性材料によりコーティングされたファンおよび放熱アセンブリ３２により集められる。第２のミラーもまた、必要なＵＶ−Ｂ放射線の９５％をエッジフィルタ２６に反射する。２つのミラーは、２８０ｎｍ〜３２５ｎｍの範囲の波長の約９５％を反射する。水銀ランプは３２０ｎｍ〜３２５ｎｍの有意な出力を有さないため、第２ミラーから反射される放射線は主に２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲となる。エッジフィルタ２６は、３００ｎｍより短い波長の放射線、例えば２５４ｎｍの残留放射線、および、２９６ｎｍの水銀線を排除しまたは減じて、主に（少なくとも９０％が）３００ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲内の放射線から成る出力ビームを生成する。エッジフィルタは、好ましくは、少量の放射線を連続エネルギーモニタまたはセンサ３６に向けさせるビームスピリッタを含む。ビームスピリッタは、水銀ランプスペクトルの２９６ｎｍの線を減じるためにＳｃｈｏｔｔ　ＷＧ　２９５材料からつくられ得る。
【００２４】
ミラーの配置は、非常に非効率的な帯域通過フィルタとは異なり、所望のＵＶ−Ｂ範囲内で損失される放射線が約１０％しかないことを確実にする。範囲外の不要な放射線の約５％が各ミラーにより反射されてＵＶ−Ｂビームに含まれるであろうが、２つのミラーを用いることにより、この不要な放射線は０．２５％にまで減少される。適切なＵＶ−Ｂダイクロイックミラーは、コネチカット州、ストラトフォードのＯｒｉｅｌ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社、および他の光学機器メーカから入手可能である。
【００２５】
ショートアーク水銀ランプの場合、ランプから伝達されるビームは連続的でなく、主に、３００ｎｍ、３０２ｎｍ、および３１３ｎｍのピークから成る。適切なランプの選択により、３０７ｎｍおよび３１８ｎｍの任意のドーパントピークをもたらすことができる。範囲内の波長の実際の混合は、選択される実際の水銀ランプのピークに依存する。従って、水銀キセノンランプに関しては、出力の９０％が３０２ｎｍと３１３ｎｍの間となろう。必要であれば、水銀キセノンランプに、３１８ｎｍの放射ピークを有する添加剤でドープ処理を施して、波長の範囲を拡張し得る。このように、範囲は３００ｎｍ〜３２０ｎｍに定められるが、放射線は、実際には、この範囲内の異なる特定の波長の混合となり、これは、選択されるランプの特定のタイプに依存する。先に述べたように、水銀キセノン光源は３０２ｎｍおよび３１３ｎｍの強力な線を有する。これら２つの波長における放射線の混合により、長波長のＵＶ−Ｂ放射線の付加されたプラーク浸透力と、短波長のＵＶ−Ｂ放射線のより速いプラーク除去速度とが得られる。単一波長のＵＶ−ＢではなくＵＶ−Ｂ波長を混合することは、より大きい治療性をもたらすことになる。ランプのサイズは５００ワット〜１２００ワットであってよく、これは、ハンドピースから２．０〜４．８ワットの照射をもたらすことになる。
【００２６】
光路にてエッジフィルタ２６と出力ポートとの間に配置されたビームシャッタ２８は、ＵＶ−Ｂ放射線の、ベースユニットから光導体およびハンドピースへの出力を制御するように働く。シャッタの構造は、平均で２〜４ワットのエネルギーを散逸させるための十分な面積を有して冷却を可能にする。あるいは、シャッタは、適切に配置された放熱器に、閉鎖位置へ延在する時にビームを反射するように配置されてもよい。開放時は、シャッタは光導体１６の中に反射ビームのための確かな光路をもたらす。
【００２７】
ランプ１２は、ハウジングまたはベースユニット内の適切な電源および点火ユニット３８に連結されている。あるいは、ユニット３８を、適切な制御および出力連結部を有する独立した囲いに入れてベースユニットに設けてもよい。ランプの動作を監視および制御する制御ユニット４０もハウジング１０内に取り付けられている。制御ユニットは、シャッタ２８およびセンサ３６の出力部、そして、ランプ電源および点火ユニット３８に連結されている。制御ユニットは、ハウジング１０の外側の制御パネル（図示せず）に、ユーザによる制御のための入力およびモニタリングのために関連付けられている。キャリブレーションポート４２がハンドピース１８のために設けられている。キャリブレーションポート４２は、その側壁に、ハンドピースの挿入を検知するためのスイッチ４４を有し、ポート４２の内側端部に、ハンドピースの出力を監視するためのセンサ４６を有する。センサ４６の出力もまた制御ユニット４０に連結されている。フットスイッチ４８などのスイッチが、装置のオンとオフを切り換えるために設けられ得る。あるいは、手操作のオン／オフスイッチを制御パネルに設けてもよい。
【００２８】
光導体１６は、液体の光導体、または、石英もしくは融解石英（フューズドシリカ）ファイバオプティク導体である。光導体の開口数（ＮＡ）が入力許容角度を画定するのであり、この角度は、連結を最高にするためにリフレクタの円錐角度または集束角度と同等かまたはそれを超える角度である。入力面の直径が８ｍｍまでの、流体が充填された可撓性の光導体が利用可能であり、これは、０．５５もの高い開口数を有して、出力ポート１４への容易な直接の連結をもたらす。より小さい直径のファイバオプティク導体を、融解石英レンズを用いて連結することができる。
【００２９】
光導体１６の末端部はハンドピース１８に連結されている。ハンドピース１８は、病巣領域への直接的なＵＶ−Ｂ放射線のターゲット照射のために設計されている。ハンドピース１８は、図３および４に、より詳細に示されている。ハンドピースは、基本的に、断面が正方形の管５０を含み、管５０は、その一端に、光導体の出口端５４を受けるための入力ポートを備えた底部５２を有し、また、内部チャンバ５５、および、断面が正方形の融解石英ロッド５６がセメント接合された開放出口端部を有する。セメントは、融解石英よりも低い屈折指数を有し、液体シールとして作用して、ハンドピースのチャンバ内に汚染物質が入ることを防止する。光導体１６の端部は、管５０の入力ポートに、適切なコネクタ５３により固定されている。
【００３０】
ロッド５５の入口面５７は、入ってくる放射線の拡散を増大するために粗面にされている。ロッドの出口面５８は、ＵＶ−Ｂ放射線のための出口開口部を画成している。管５０は、管から出口開口部５８を介さずに放射線が漏れることを防ぐために、ＵＶ−Ｂ放射線に対して不透過性の材料からつくられる。好適な材料は、アルミニウムおよびＵＶ遮断プラスチックまたはガラス材料である。材料は、照射される領域がより良好に見えるように、可視領域においては放射線を透過させるように選択されてもよい。これは、種々のプラスチック、例えばポリカーボネート、およびＵＶ遮断性ガラス材料により可能となる。チャンバ５５の内壁は、拡散放射線をロッド５６の入口面５７に再配向するために研磨されていることが好ましい。透明なＵＶ遮断プラスチック材料からつくられた使い捨てのスライドオン（嵌め込み）チップまたはシールド６０が、管５０の開放端から突出してロッド５６の出口面５８を超えるように取り付けられている。このチップは、処置中にＵＶ放射線が室内へ漏出しないように皮膚に配置されるように設計されている。チップは透明なあるいは透き通って見えるプラスチックからつくられているため、処置中も病巣領域を目視することができる。インクもしくは染料を含有するフェルトまたは多孔質パッド６２を、チップ６０の端部に、処置されている皮膚領域にマーキング（印付け）するために取り付けてもよい。パッド６２は、処置が済んだ正方形の領域の上端および下端に印を付ける。あるいは、断面が正方形のパッドが、照射される領域全体を取り囲んでもよく、または、照射される領域に印を付けるために他の装置を設けてもよい。
【００３１】
別の装置において、マーキングパッド６２は用いられずともよく、その代わりに、病巣または治療される皮膚領域を、光脱色性または感光性の染料の希釈水溶液を用いて覆い、またはストライプ模様を付ける。このような染料は、ＵＶ光に暴露されると色または輝度を失う。紫外線に暴露されると変色する光変色染料も容易に入手でき、マーキングのために用いることができる。染料の濃度を低く保つことにより、および、ローラまたはスタンプによりつくられる細いストライプ模様を用いることにより、染料により吸収されるＵＶの量は最小に抑えられるであろう。プラークの分散特性が、照射される放射線による完全な被覆を確実にするであろう。
【００３２】
ハンドピースの出口開口部の幾何学的形状が、照射される形状および面積を常に確立する。ハンドピースは、光導体からの出力ビームを、円形のビームから、より大きい正方形の（スクエア）ビームに拡張および成形するように光学的に設計されている。正方形または矩形で放出されるビームを形成することにより、隣りの領域にハンドピースを繰り返し当てることにより、照射すべき領域は、既に処置された領域と重複せずに完全に処置されることができる。この目的のために、出口開口部は、湾曲しない直線の縁部を有さなくてはならない。出口開口部のための他の好適な形状は、正三角形であろう。ハンドピースの内部は、光導体から出る、断面積が小さい円形断面のビームを、出口開口部５８からの、より面積が大きい正方形の断面からの出力に拡張および均質化するように設計されている。このようなビームの成形は、正方形のビームを放射する正方形の融解石英ロッド５６により達成される。必要であれば、均質でない出力を減じるために拡散プレートを追加してもよく、また、照射を好都合に行うためにハンドピースに直角の曲りが必要であれば、ミラーを用いることもできる。
【００３３】
ここで、図１，３および４の装置の動作をさらに詳細に説明する。ハンドピースの出口開口部５８は、一回の照射で照射することができる放射の面積を決定する。一例において、出口開口部５８は、各辺の長さが２ｃｍの正方形である。病巣は、ハンドピースを皮膚の各４ｃｍ２の領域に所望の照射量に応じた所定の時間だけ当てるチェッカーボード形式でカバーされる。
【００３４】
最初に、各患者のためのＭＥＤ（紅斑を生じる最小放射線量）を、健康な皮膚の一連の小さいパッチに、例えば４０ｍｊ／ｃｍ２〜１２０ｍｊ／ｃｍ２の範囲の放射線量を照射することにより決定する。パッチは、患者に日焼けを生じさせるエネルギー量を示す。パッチが薄いピンク色になればＭＥＤレベルとみなす。一旦患者のＭＥＤ線量が決定したならば、外科医は、この放射線量の何倍を病巣に照射するかを選択する。標準的な範囲は０．７〜６．０倍のＭＥＤであろう。これは、パッチの厚さ、および外科医に知られている他の要素、例えば、以前の光線治療に対する患者の反応、および病巣の位置によって決まる。病巣を取り囲む健康な皮膚領域は、酸化亜鉛またはＵＶ吸収性オイルのコーティングにより、処置開始前に保護される。
【００３５】
ハウジング上の制御パネルは、一回の照射のために必要なエネルギー密度を医師が選択することを可能にする。選択された照射線量が５００ｍｊ／ｃｍ２であれば、各照射の照射周期は約１秒になるであろう。制御ユニット内のマイクロプロセッサが、ランプが十分に昇温したと判断された後にこの時間にわたってシャッタ２８を開き、周期の最後にシャッタを再び閉じて、１つの照射領域に対する周期が完了したことを示す可聴表示または可視表示をユーザにもたらすようにプログラミングされている。装置に最初にスイッチを入れたとき、および、ランプが昇温（ウォームアップ）したとき、センサ３６の出力が監視される。シャッタ２６は、ランプの昇温期間中、閉じられる。出力が安定していると検知されると、操作者はハンドピースのキャリブレーション（検定）を行うよう促される。操作者はハンドピースをキャリブレーションポート４２に挿入し、フットスイッチ４８またはハンドピース上のスイッチを押す。スイッチが動作されると、シャッタ２６が開き、光がハンドピースの中に入り、キャリブレーションポート内のエネルギーセンサ４６により測定される。ソフトウェアによる診断が出力の安定性を測定する。エネルギーセンサ４６が放射線を全く検知しなければ、シャッタ２６が閉鎖し、操作者は、メンテナンスが必要な問題が生じている可能性を警告される。
【００３６】
ハンドピースからの正しい出力をエネルギーセンサが検知したとしてキャリブレーションが完了すると、照射周期を開始することができる。操作者は、ハンドピースの出口開口端を病巣の第１の領域に押し当て、次いで、フットスイッチ４８を押し、またはハンドピース上のスイッチを作動することにより照射を開始する。これにより、再びシャッタが、選択されたエネルギー照射量により制御された予め決められた時間にわたって開く。周期の正確な所要時間は、マイクロプロセッサ、キャリブレーションデータ、および、医師による一回の照射線量の選択によって決定される。第１の周期の終わりに、操作者は病巣内の隣りの領域を覆うためにハンドピースを移動する。そして、手順を繰り返し、病巣領域全体が処置されるまで、処置中に同じ領域が２回以上処置されないことを確実にするために各処置領域をインクパッドなどでマーキングしながらチェッカーボード形式で病巣を覆い続ける。ハンドピースは使用中に滅菌溶液中に浸すことができる。スライドオンチップは、汚れていない新しいチップが各処置に用いられるように使い捨てであることが好ましい。
【００３７】
典型的な皮膚病巣の面積は約１００ｃｍ２であろう。この装置を用いると、病巣領域全体を３分間未満で治療することができる。ハンドピースの出口開口部の面積が４ｃｍ２であれば、病巣領域は約２５回の照射でカバーされることができる。したがって、各照射が約１秒であれば、隣接した健康な皮膚を保護オイルで覆うのに約３０秒を要し、連続する「チェッカーボード型」照射の間にハンドピースを移動するのに２秒かかるとしても、必要な全体の時間は２分未満となるだろう。
【００３８】
ハンドピースは、放射線照射のための安定した操作し易い手段をもたらし、出口開口部に覆われた領域のみへの正確なターゲット照射を確実にする。これにより、健康な組織への照射が回避され、また、病巣組織はＵＶ−Ｂ放射線に対して健康な組織よりも耐えられることが分かっているため、１回の処置において光線治療ブースでの照射よりも高い照射量を照射することが可能になる。したがって、必要な全処置回数は、光線治療ブースでの治療の回数よりもかなり減るであろう。以前は、ＵＶ−Ｂ放射線のターゲット照射は、コヒーレントビームにより部位指向型照射が可能である塩化キセノンエキシマーレーザをＵＶ−Ｂ源として用いる場合のみ可能であった。しかし、レーザは非常に高価であり、設備が大きくて場所をとることになり、頻繁で費用のかかるメンテナンスを必要とする。本発明は、ＵＶ放射線源として安価でメンテナンス費の低いランプを、ＵＶ−Ｂ範囲外の放射線を実質的に排除し、かつ、ランプから放射されるＵＶ−Ｂ放射線の約９０％を光導体の入力端に向けさせる光学アセンブリと共に提供する。
【００３９】
図２は、本発明の第２の例示的な実施形態によるターゲット光線治療装置を示す。この装置は、また、必要であれば患者へのＵＶ−Ａ放射線のターゲット照射を行う付加機能を有する。装置は、図１の装置と類似であり、類似の部品には類似の番号を対応させて付した。しかし、この装置においては、ハウジング１０が、第１のＵＶ−Ｂ出口１４に加えて第２の出口７０を有する。光学アセンブリが、ランプ１２から放射されるＵＶ−Ａ放射線を第２出口７０に方向付けるために設けられている。このアセンブリは、基本的に、第１のＵＶ−Ｂミラー２２により透過された放射線を受けるように配置された第１のＵＶ−Ａ反射ミラー７２と、ミラー７２から反射された放射線を受け、かつ、ＵＶ−Ａ放射線を出口７０に反射させるための第２のＵＶ−Ａ反射ミラー７４とを含む。シャッタ７６が、第２ミラー７４から出口７０への光路に、ポート７０からのＵＶ−Ａ放射線の出力を、ＵＶ−Ｂポートのためのシャッタ２８と同様の方法で制御するために配置されている。
【００４０】
第２の光導体１６’が出口７０に連結されており、ハンドピース１８と同一のハンドピース１８’が、光導体１６’の末端部に、ＵＶ−Ａ放射線を選択された処置領域に向けるために連結されている。光導体およびハンドピースをそれぞれ２つ別々に設ける代わりに、１つの光導体およびハンドピースを用いて、ＵＶ−Ｂ処置またはＵＶ−Ａ処置のどちらが望ましいかによって単に適切な出口１４または７０に連結してもよい。
【００４１】
ミラー７２および７４は、３３０ｎｍ〜３８０ｎｍのＵＶ−Ａ範囲の放射線を反射するダイクロイックミラーを含むことが適切である。この波長範囲において９８％の放射線を反射するダイクロイックミラーが市販されており、カットオフ波長を有して、不要な可視光線および赤外線を遮る。ＵＶ−Ａの約８５％が第１ＵＶ−Ｂミラーを透過し、２つのＵＶ−Ａミラーを通過した後、もとの３６５ｎｍのＵＶ−Ａ水銀線の８０％が保持される。出力ポート７０は、ＵＶ−Ａを方向付け、すなわちターゲット照射する光線療法または光化学療法に、図１に関して先に記載した類似の手順で用いられ得る。
【００４２】
図２の装置において、操作者は、１つの光導体およびハンドピースのみが設けられている場合には、ＵＶ−ＢモードまたはＵＶ−Ａモードを制御パネル上で選択し、光導体およびハンドピースを適切な出力ポートに連結する。オン／オフスイッチを押すと、選択されたポートのためのシャッタが開き、光がハンドピースに入り、光は、キャリブレーションポート内のエネルギーセンサにより測定される。キャリブレーションステップは、ＵＶ−Ｂ放射線またはＵＶ−Ａ放射線のための正しい波長スペクトルが処置の開始前にセンサ４６により検知されることを確実にする。
【００４３】
図１および２の実施形態において、ランプ１２は、水銀キセノンランプ、水銀ランプ、またはドープ水銀のショートアークランプであり、ランプからの放射線は、光導体への接続を可能にするために、対称な楕円形（長円形）または放物面状のリフレクタ２０により集められて第１ミラー２２に向けられる。あるいは、図１および２のランプ１２を、図４および５に示されているようなドープメタルハライドランプまたは管状の水銀アークランプ８０に替えてもよい。ランプ８０は１〜３インチのアークを有する。このタイプのランプは、優れたＵＶ−Ｂ生成をもたらすが、出力の光導体への接続がより複雑になる。したがって、この別の例においては、図１および２の対称の楕円形リフレクタ２０は、図５および６に示されているようなシリンダー状の楕円形リフレクタ８２に替えられる。シリンダー状の楕円形リフレクタは、反射光の点でなく線を第２の焦点にもたらす。シリンドリカルレンズ８４が、線を点に変換するために第２の焦点に配置される。レンズ８４とリフレクタ８２は異なる焦点を有し、リフレクタからのレンズのずれは、２つの焦点が出力ポート１４にて光導体への入力部付近に一致するように配置される。用いられる光学素子は、ＵＶ−Ｂ放射線の透過を確実にするために融解石英が好適である。その他の光学素子は、図１および２と同一である。
【００４４】
図１および２の実施形態において、望ましい波長範囲である３００ｎｍ〜３２０ｎｍ（ＵＶ−Ｂ）または３３０〜３８０ｎｍ（ＵＶ−Ａ）の放射線が、ＵＶ−Ｂ反射ダイクロイックミラー、またはＵＶ−Ｂ反射ダイクロイックミラーとＵＶ−Ａ反射ダイクロイックミラーの組合せを用いて分離される。図７は、ＵＶ−Ｂ放射線またはＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ放射線を、図１のミラーを別の分離アセンブリ９０に替えて異なる方法で分離する本発明の別の実施形態を示す。図７の装置は、分離アセンブリ９０以外は図１の装置と同一であり、同じ部品には相当する類似の参照番号が付されている。図７のＵＶ分離アセンブリ９０は、広帯域ダイクロイックＵＶミラー９２と枢動可能に取り付けられた回折格子９４との組合せを含む。ＵＶミラー９２は、ランプ１２から発光されるＵＶ光の大部分を回折格子９４に向けて反射する。回折格子９４は、ビームスプリッタ９６（好ましくは５％石英のビームスプリッタ）に面している。ビームスピリッタ９６により放射されたビームの一部は、ランプ出力を連続して監視するためにセンサに向けられ、一方それ以外のビームは出力ポート１４に向けられる。開口部９７が、回折格子と出力ポートの間に、ポート１４に伝達されるスペクトルの部分を決定するために配置されている。
【００４５】
一例において、回折格子９４は、集束ビームが平面回折格子に衝突する場合に用いられるＭｏｎｋ−Ｇｉｌｌｉｅｓｏｎ構造の平面回折格子である。集束ビームは最初に広帯域ダイクロイックＵＶミラーに衝突し、可視波長および赤外波長を排除する。これは回折格子への放射束を著しく減少し、回折格子の有効寿命を長くし、また、無駄なエネルギーが放熱器３２に集中することを可能にする。回折格子は、放射されたスペクトルの予め決められた部分、例えば、ＵＶ−Ｂの３００ｎｍ〜３２０ｎｍの光、またはＵＶ−Ａの３３０ｎｍ〜３８０ｎｍの光が開口部９７を通して出力ポート１４に向けられるように枢動可能である。操作者が回折格子を適切な位置へ枢動させることができるように、ハウジングの制御パネル上に適切な制御部が設けられる。回折格子は、開口部９７を光導体の前に固定できるように調節可能な基台に取り付けられてもよい。これ以外は、図７の装置の動作は、先に記載した実施形態の装置の動作と同じである。
【００４６】
本発明の光線治療装置は、皮膚病にＵＶ放射線を選択的にターゲット照射するための効率的で安価な手段を提供し、乾癬および白斑の治療に特に有用である。この装置は、高価で壊れやすいレーザ基材のシステムのように医院や病院内のみで用いられるのでなく、患者が家で使用することができる。この装置は、主に３００ｎｍ〜３２０ｎｍのＵＶ−Ｂ範囲の放射線を、中圧水銀ランプ、水銀キセノンランプ、またはドープ水銀アークランプを含む安価な放射線源から送出するように設計されており、一実施形態において、主にＵＶ−Ａ範囲の放射線を任意に送出するための追加のポートを有する。放射線は皮膚のプラーク領域のみに照射されるため、照射線量は、健康な皮膚までも暴露されるブースでの処置よりも多くされ、必要な処置の回数を減らすことができる。プラーク領域に限定して照射される線量は、患者の推定されたＭＥＤの６倍までになり得る。この装置により照射される放射線の有効性は、照射される放射線の大部分を、治療に非常に役立つ放射線の範囲に、例えば、ＵＶ−Ｂ放射線を用いた場合には、照射される放射線の９０％が３００ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲にあるように維持することにより、また、非治療的な、従来のＵＶ−Ｂ蛍光球に見られる潜在的に有害な波長を排除することにより増大または最大化される。
【００４７】
先に記載した本発明の第１実施形態において、ＵＶ−Ｂ放射線の望ましい波長範囲は、複数のＵＶ−Ｂコールド（冷却）ミラーにより得られるのであり、透過効率が低く、それゆえ非常に高い出力の光源の使用を必要とする帯域通過フィルタまたは吸収フィルタを用いて得られるのではない。この装置は、望ましい範囲内の放射線の損失を約１０％のみにし、かつ、かなり低出力のＵＶ源を用いることができる。可撓性の光導体に連結されるハンドピースは、ＵＶ放射線の正確なターゲット照射のための操作の容易な安定した手段をもたらし、目標とされている領域外へのＵＶ放射線の漏れをほとんどまたは全くなくす。
【００４８】
以上に本発明の幾つかの例示的な実施形態を、単に例として記載してきたが、開示された実施形態に、特許請求の範囲により画定される本発明の範囲から逸脱せずに修正が加えられ得ることを、当業者は理解するであろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の第１の実施形態に従うＵＶ−Ｂターゲット照射による光線治療装置の構成図である。
【図２】図２は、ＵＶ−ＢまたはＵＶ−Ａを選択してターゲット照射を行う光線治療のための本発明の第２の実施形態に従う装置を示す構成図である。
【図３】図３は、図１または２の装置において用いるためのハンドピースの断面図である。
【図４】図４は、図３のハンドピースの前面図である。
【図５】図５は、図１または図２の装置においてＵＶ−Ｂ源として用いるための別のランプの断面図である。
【図６】図６は、図５の線６−６に沿った断面図である。
【図７】図７は、本発明の別の実施形態に従うＵＶ−Ｂターゲット照射光線治療装置の構成図である。
【国際公開パンフレット】
2004505734.tif 000003
2004505734.tif 000004
2004505734.tif 000005
2004505734.tif 000006
2004505734.tif 000007
2004505734.tif 000008
2004505734.tif 000009
2004505734.tif 000010
2004505734.tif 000011
2004505734.tif 000012
2004505734.tif 000013
2004505734.tif 000014
2004505734.tif 000015
2004505734.tif 000016
2004505734.tif 000017
2004505734.tif 000018
2004505734.tif 000019
2004505734.tif 000020
2004505734.tif 000021
2004505734.tif 000022
2004505734.tif 000023
2004505734.tif 000024
2004505734.tif 000025
2004505734.tif 000026
2004505734.tif 000027
2004505734.tif 000028
2004505734.tif 000029
【国際調査報告】
2004505734.tif 000030
2004505734.tif 000031
2004505734.tif 000032