(57)【要約】本装置は、光パルスを供給する少なくとも３つのパルスレーザ（２，４，６）と、これらパルスを、ほぼ同時に、実質的に同一の目標点（１６）に方向付ける手段（１４）とを備える。レーザは、連続的に作動するダイオードによってポンピングされる。
2004510356.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−　光パルスを供給するための、連続的に動作するダイオード（４０）によりポンピングされる３つ以上の固体パスルレーザ（２，４，６）と、
−　前記光パルスを、ほぼ同時に、実質的に同一の目標点（１６）に方向付ける手段（１４）と
を備えることを特徴とするレーザ装置。
【請求項２】
連続的に動作するダイオード（４０）によりポンピングされるレーザは、増幅器なしでオシレータに搭載されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
レーザにより供給される光パルスの付加により生じる光パルスの空間的分配を変更させる手段（７４，７６，７８）をさらに備えることを特徴とする、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
レーザにより供給される光パルスの付加により生じる光パルスの時間的分配を変更させ、複合パルスを生成することが可能なレーザ制御手段（１８）をさらに備えることを特徴とする、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項５】
各複合パルスの種類には、光パルスと目標物の相関により生成されるプラズマに点火するための、プラズマが成長する時間であってエネルギーが最小値を取る時間に相当する長さの第一パルスと、プラズマの成長に基づくシーケンスに従う、複数の基本的パルスから構成される第二パルスとがあることを特徴とする、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
レーザが発する光パルスの繰り返し率、またはレーザが発する前記光パルスのシーケンスの繰り返し率を変更する手段をさらに備えることを特徴とする、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
収束率の高い第一のビーム（Ｆ１）を目標物に方向付けし、残りの光エネルギーの収束を広げて目標物に当てることができる、請求項４または５に記載の装置。
【請求項８】
レーザ（２，４，６）がＹＡＧレーザである、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】
目標物（１６）は、レーザ（２，４，６）が発する光パルスとの相関により極紫外領域の光を供給する目的で配設される、請求項１ないし８のいずれか１項に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
技術分野
本発明は、高ピーク出力、平均出力、および高繰り返し率を有し、しかもコストと複雑さが最小なレーザ装置に関する。
【０００２】
本発明は特に、極紫外線領域の光の生成に適用できる。
【０００３】
この領域に属する放射は「ＥＵＶ放射」とも呼ばれ、その波長範囲は８ないし２５ナノメートルである。
【０００４】
本発明の目的である装置により生成されるＥＵＶ放射は、光パルスを生成することにより得られ、適当な目標物と相関させることができるためにその用途は広く、特に物性物理学、顕微鏡検査、および中でも超微細化リソグラフィの分野において集積回路に非常に高度な集積化を達成するために利用される。超微細化リソグラフィへの応用のためには、高ピーク出力レーザに獲得することが非常に難しい、高繰り返し率を実現することが特に有利である。
【０００５】
本発明は、超微細化リソグラフィに必要とされるものと同種の励起レーザを必要とするいかなる分野にも応用可能である。
【０００６】
先行技術
ＥＵＶリソグラフィは、０．１マイクロメートル未満の集積回路を製造するためにマイクロエレクトロニクスの分野で必要とされている。ＥＵＶ放射源の中には、レーザにより生成されるプラズマを使用するものがある。
【０００７】
そのようなプラズマの生成には、レーザにより生成される高ピーク照射を利用することが必要である。よって、このために、例えば約３００ｍＪ／パルス以上のエネルギーを供給するパルスレーザが使用される。
【０００８】
励起波長は重要でないため、これより本発明は、例えば、多くの産業分野で大きな発展を遂げたＹＡＧレーザを使用する。しかし、その他の固定レーザ、つまりその増幅媒体が固定であるレーザも本発明に使用することができる。
【０００９】
照射ごとに非常に高いエネルギー安定度を得るために、レーザダイオードポンピングを使用することが周知である。
【００１０】
さらに、光リソグラフィのためのＥＵＶ放射を生成するために必要なピーク出力を得るために、パルスダイオードを使用することが周知である。
【００１１】
この分野について、以下の文献を参照することができる：
（１）Ｈ．Ｒｉｅｇｅｒ他による論文「Ｈｉｇｈ　ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ　ａｎｄ　ｐｏｗｅｒ　Ｎｄ：ＹＡＧ　ｌａｓｅｒ」（新型固定化レーザ，１９９９年，マサチューセッツ州ボストン，４９−５３頁）
この文献は、比較的低い繰り返し率で高振幅レーザパルスを生成する、光リソグラフィのための装置について記載している。
【００１２】
また、必要なピーク出力を得るために、発振器および増幅器の使用が周知である。結果としてそのようなレーザは複雑で高価なものとなる。
【００１３】
この分野について、以下の文献を参照することができる：
（２）Ｇ．Ｈｏｌｌｅｍａｎ他による論文「Ｍｏｄｅｌｉｎｇ　ｈｉｇｈ　ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ　ｋＷ　ｓｏｌｉｄ−ｓｔａｔｅ　ｌａｓｅｒｓ」（ＳＰＩＥ，　第２９８９巻，　１５−２２頁）
この文献は、パワーレーザの、２つの相反する技術に対応する２つの要件、すなわち：
一方で、長パルスを発するレーザを必要とする、技術的に単純な技術で得られる、溶接、機械加工または加工助剤の使用、および
他方で、できれば高速の、短パルスを必要とする、特に２つの光増幅段階を使用する非常に高度で高価な技術により得られる、光リソグラフィの使用
について記述している。
【００１４】
高ピーク出力レーザ装置の開発を目的とした、以下の文献も参照することができる：
（３）Ｇ．Ｋｕｂｉａｋ他による論文「Ｓｃａｌｅ−ｕｐ　ｏｆ　ａ　ｃｌｕｓｔｅｒ　ｊｅｔ　ｌａｓｅｒ　ｐｌａｓｍａ　ｓｏｕｒｃｅ　ｆｏｒ　Ｅｘｔｒｅｍｅ　Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ　ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ」（ＳＰＩＥ，　第３６７６巻，１９９９年，６６９−６７８頁）
【００１５】
この文献（３）に記載の装置は、光リソグラフィに関する他の先行技術と同様、パルスダイオードによってポンピングされるＹＡＧレーザを使用する。それに加えて、該装置は複雑で高価な光増幅器も使用する。さらに、この文献（３）で目標とされる繰り返し率は、エネルギー２８０ｍＪ／パルスに対して６ｋＨｚである。
【００１６】
本発明の概要
本発明の目的は、高繰り返し率で動作しながら、少なくとも従来と同様のピーク出力を有することが可能で、且つ既知のレーザ装置よりも単純で安価なレーザ装置を提供することにより、これらの欠点を克服しようとするものである。
【００１７】
具体的には、本発明の目的は：
−　光パルスの供給を目的として連続的に動作するダイオードによってポンピングされる、少なくとも３つの固体パルスレーザと、
−　これら光パルスを、ほぼ同時に、実質的に同一の目標点に方向付ける手段と
を備えることを特徴とするレーザ装置である。
【００１８】
本発明の目的である装置の好適な実施形態では、レーザは増幅器なしでオシレータに搭載される。
【００１９】
本発明の目的である装置は、少なくとも３つ、好適には４つ以上のパルスレーザを備える。
【００２０】
本発明の目的である装置の好適な実施形態では、この装置は、レーザが供給する光パルスの付加により生じる光パルスの空間的分配を変更する手段をさらに備える。
【００２１】
別の実施形態では、該装置はレーザの制御手段を具備し、該制御手段はレーザが供給する光パルスの付加により生じる光パルスの時間的分配を変更し、それにより複合パルスを生成することができる。
【００２２】
本発明の別の実施形態では、各複合パルスに含まれるパルスの種類には、光パルスと目標物の相関により生成されるプラズマに点火するための、プラズマが成長する時間であってエネルギーが最小値を取る時間に相当する長さの第一パルスと、プラズマの成長に基づくシーケンスに従う、複数の基本的パルスから構成される第二パルスとがある。
【００２３】
本発明の目的である装置は、レーザが発する光パルスの繰り返し率、またはレーザが発するこれら光パルスのシーケンスの繰り返し率を変更する手段をさらに有する。
【００２４】
複合パルスが生成される場合、本発明の目的である装置は、好適には、収束率の高い第一のビームを目標物に方向付けし、残りの光エネルギーの収束を広げて目標物に当てることができる。
【００２５】
本発明で使用するレーザは、ＹＡＧレーザなどの固定レーザである。
【００２６】
本発明の目的である装置のレーザが発する光パルスが方向付けられる目標物は、これら光パルスとの相関により極紫外領域の光を供給することができるものとすることができる。
【００２７】
しかし、本発明の用途はＥＵＶ放射に限定されるものではなく、目標物に対して高ピーク出力レーザビームを方向付けることが必要ないかなる分野にも応用可能である。
【００２８】
本発明では空間的重畳を使用し、１つの実施形態では時間的順序付けを利用する。
【００２９】
「空間的重畳」という表現は、複数のレーザビームを、ほぼ同時に、実質的に同一の目標点に重畳することを意味する。「ほぼ同時に」という表現は、本レーザ装置の固定レーザが供給した異なる基本パルス間の時間的オフセットが、これらレーザの繰り返し時間と比較して小さいことを意味する。この重畳により、パスルあたりのエネルギーとピーク出力を増加させることが可能になる。
【００３０】
以下に示すように、レーザビームを、ほぼ同時に、実質的に同一の目標点に重畳することにより、使用に柔軟性を持たせることができる。このような使用の柔軟性により、生成されたプラズマからの発光を最適化することができる。
【００３１】
本発明において、以下に述べる（ａ）ないし（ｄ）の４点が重要である。
【００３２】
（ａ）空間的重畳
これによりピーク出力を増加させることができ、レーザが発する基本的光パルスの付加により生じる光パルスの空間的分布を、非常に柔軟に変更することが可能になる。
【００３３】
例えば、本発明の好適な実施例では、他よりも収束率の高い光パルスを使用することにより、局所的に大きな照射を獲得することができる。これを、単純化のためにビームを２つだけ考慮した図１および２に概略的に示した。
【００３４】
図１は、第一光ビームＦ１および第二光ビームＦ２の断面を、２つの直行する軸ＯｘおよびＯｙによって画定された平面上に示している。２つのビームに共通の軸はＯｙである。
【００３５】
該２つのビームはこの軸Ｏｙについて実質的に軸対称であり、点Ｏの近傍で収束している。該点Ｏは、軸ＯｘおよびＯｙと直交して点Ｏを通る軸と、軸Ｏｙとが定義する観察平面に実質的に含まれる。
【００３６】
２つのビームの収束は異なり、第一ビームＦ１の収束率は第二ビームＦ２の収束率より高い。
【００３７】
図２は、観察面における照射Ｉの変化を、横軸ｘの関数として軸Ｏｘ上の曲線に示したものである。
【００３８】
ビームＦ１の収束はビームＦ２の５倍であり、２つのビームが同じ出力を有しているとき、このビームＦ１によって軸Ｏｙ上に生成される照射は、ビームＦ２の２５倍である。しかし、本発明では、出力が同一のビームを使用してもよく、対照的に出力が互いに異なる、または互いに大きく異なるビームを使用してもよいことに注意されたい。
【００３９】
このように、同時に複数のビームを同一の目標物に「空間的重畳」することにより、より短い時間間隔で各基本レーザのパルスの照射時刻をオフセットすることが可能になる。
【００４０】
（ｂ）異なるレーザパルスの時間的順序付け
（ｂ１）第一モード
複数のレーザを同一の目標物に収束させるとき、それらパルスの発生を実質的に規則的な間隔で交互に行い、それによりピーク出力を増加させずに繰り返し率を高める方法が知られている。
【００４１】
（ｂ２）第二モード
別の方法としてパルスのバーストを生成することができる。その際、２つの基本的レーザの２つのパルス間の時間的オフセットは、２つのバースト間の繰り返し時間と比較して非常に小さい。そのようなバーストを、複合パルスと考えることができる。
【００４２】
この第二モードでは、光パルスの時間的オフセットにより、プレパルスを生成することもできる。
【００４３】
この分野では、プラズマ点火をつかさどるプレパルス生成の可能性について言及している以下の文献を参照することができる：
（４）Ｍ．Ｂｅｒｇｌｕｎｄ他による「Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ　ｐｒｅｐｕｌｓｅ　ｆｏｒ　ｅｎｈａｎｃｅｄ　Ｘ−ｒａｙ　ｅｍｉｓｓｉｏｎ　ａｎｄ　ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ　ｆｒｏｍ　ｄｒｏｐｌｅｔ−ｔａｒｇｅｔ　ｌａｓｅｒ　ｐｌａｓｍａ」（Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｈｙｓｉｃｓ　Ｌｅｔｔｅｒｓ，第６９巻，１９９６年，１６８３頁）
【００４４】
本発明ではモード（ｂ２）を使用し、一部の実施形態では併せてモード（ｂ１）を使用する。この場合、モード（ｂ２）で複合パルスを生成する複数グループのレーザを定義し、これらグループの一部をモード（ｂ１）と組み合わせる。
【００４５】
したがって、本発明により、非常に柔軟に基本的光パルスの順序付けができるようになり、特に以降大きな利点とみなされる順序付け（ｂ２）を行うことができる。
【００４６】
目標物に高い収束率で収束させた第一パルス（例えば図１のビームＦ１型のパルス）はプラズマに点火し、次いでプラズマが成長する間に目標物に最小またはゼロの照射を当て、プラズマがビームＦ２の直径に達したとき、目標物に最大の光出力を当てる。そのとき、図３に示すように、第一パルスに割り当てるエネルギーを、複合パルスの残りの部分に割り当てるエネルギーより小さくすることが有利である。
【００４７】
この図３は、光パルスの振幅Ａを時間ｔの関数として示す。複合パルスの例Ｉ１が示されている。該複合パルスは、プレパルスＩ２、次いでプレパルスからプラズマの成長に必要な時間Ｔだけ離れた第一組の同時的基本パルスＩ３の組、および第一組に連続する第二組の同時的基本パルスＩ４を含む。
【００４８】
本発明はまた、このシーケンスを基本レーザの数倍の高繰り返し率で繰り返すことを可能にする。それぞれが、収束したパルスまたは１つ以上のその他パルスの適時的オフセットにより形成された複合パルスまたはバーストを生成する、複数グループのレーザを規定することができる。これらグループの複数を組み合わせ、それらの複合パルスを基本パルスに周知の方法により交互に配置する。異なるグループのレーザの搭載は、同一グループのレーザの搭載といずれの点においても同一である。レーザ制御手段（図４の手段１８）により生成されるトリガー時間だけが異なる。
【００４９】
（ｃ）レーザ素材をポンピングする連続ダイオードの使用
連続的にポンピングを行う、ネオジムでドープしたＹＡＧ素材を使用するレーザでは、レーザの上位レベルの寿命、すなわち２５０マイクロ秒近傍では、入力された光出力を正しく取り出すために、５ｋＨｚより大きい速度で動作することが必要である。
【００５０】
（ｄ）増幅器なしで、オシレータにレーザを搭載
本発明は、従来技術とは異なり、ピーク出力に不利な点（ｃおよびｄ）と有利な点（ａ）を組み合わせることにより高ピーク出力を得ようとするものである。
【００５１】
当然のことながら、（ｂ１）、（ｃ）および（ｄ）は高ピーク出力を獲得するのに不利であるが、（ａ）および（ｂ２）の使用によりその欠点が克服可能となる。
【００５２】
本発明では、（ａ）、（ｂ２）および（ｃ）を同時に使用し、高ピーク出力を得るのに有利および不利な点をこのように組み合わせる点で、従来技術とは異なる。（ｄ）に基づく好適な実施形態は、従来技術を一段と進歩させたものである。
【００５３】
高出力および高速のレーザパルスを生成すること以外に、本発明は以下の利点を有する。
【００５４】
一定の平均出力を有するダイオードのコストは、これらダイオードを連続的に動作させると低下する。
【００５５】
さらに、本発明によるレーザ装置は、一連の増幅器を使用しないために従来のレーザ装置よりも単純である。
【００５６】
本レーザ装置の開発および維持にかかるコストは、使用する光学的部品の数が少ないために安価である。
【００５７】
複数のオシレータを平行に配置することにより、使用に柔軟性を持たせることができる。
【００５８】
レーザの数が増加することにより、そららのうちの１つのレーザの瞬間的動作に関する入射への、本発明による装置の感受性が低下する。
【００５９】
本発明のよりよい理解のために、添付図を参照し、非限定的で例示のみを目的とする実施形態について以下に説明する。
【００６０】
実施形態の詳細な説明
本発明による装置は、図４に概略図を示すように、４つ以上（例えば８つ）のパルスレーザを備える。図４には３つのみを示し、それぞれ参照番号２，４および６を付す。
【００６１】
前記パルスレーザ２，４および６からそれぞれ供給される光ビーム（正確には光パルス）８，１０および１２は、それぞれ一組のミラー１４を介し、目標物１６上の実質的に同じ点Ｐに、ほぼ同時に達するように方向付けられている。
【００６２】
同図中に示されるレーザの制御手段１８は、光パルスを得ることを可能にする。
【００６３】
図４にはまた、それぞれ光ビーム８，１０および１２を目標物１６上の点Ｐに収束させるために設けられた収束手段２０，２２および２４を示す。
【００６４】
問題の実施例では、レーザと目標物は、光ビームとこの目標物の相関によりＥＵＶ放射２６が供給されるように選択される。このために、目標物は、例えばノズル３０から供給される集合体（例えばキセノン）のストリーム２８からなる。
【００６５】
このＥＵＶ放射２６は、例えば集積回路３２の超微細化リソグラフィに使用される。図４のブロック３４は、集積回路３２に達する前にＥＵＶ放射を形作る機能を果たす、様々な光学的手段を示す。
【００６６】
レーザ２，４および６は同一である。各レーザはＹＡＧポンプ構造３６を備え、該構造の収差および複屈折は小さい。この構造３６は、連続的に動作する一組のレーザダイオード４０によりポンピングされるロッドレーザ３８を備える。しかし、第一の「プレパルス」となるパルスを生成するために、他とは異なるレーザを選択することが有利である場合もある。
【００６７】
各レーザは、光増幅なしで、オシレータに搭載される。
【００６８】
各レーザは、第一の高反射ミラー４２と、レーザにより生成された光ビームの通過を可能にするよう部分的に反射する第二のミラー４４とが画定するキャビティ内に形成される。
【００６９】
このキャビティは、このビームの発散が回折限度の１．２倍から１０倍の間に相当する小さな値になるよう、さらには５ｎｓから１００ｎｓの長さの、継続時間の短い光パルスが得られるように、短い長さに設計されている。
【００７０】
ミラー４２と４４の間において、ロッドレーザ３８の各側に、２つの発散レンズ４６および４８を配置して使用する。
【００７１】
光学的構成要素間の距離を調整し、キャビティ内に存在する複数のレンズにより、キャビティの基本モードの直径が、増幅ロッドまたはロッドレーザの直径の１．５分の１から１０分の１となるようにする。このような調節のために、当業者には周知の方法で熱による収束を考慮する。
【００７２】
ポンプ構造３６は、例えば、偏向を９０度回転させることにより複屈折の補正および均一なポンピングを行う２つのヘッドを有する。
【００７３】
ロッドレーザ３８の直径は３ｍｍから６ｍｍの間とすることができる。
【００７４】
特に平均出力が高いとき、レーザキャビティの性能を損なわないためにこれらの特徴が有益である。
【００７５】
各レーザがパルスを供給できるように、このレーザのキャビティ内に、音響−光学的手段などの起動手段を配設する。
【００７６】
図４の例では、２つの音響−光学的変更装置５０および５２を使用しており、それらは制御手段１８により制御され、ロッドレーザ３８の各側の、発散レンズ４６と４８により画定される空間に配置されている。
【００７７】
これら２つの音響−光学的変更装置５０および５２は、平均出力１５０Ｗから６００Ｗにおける対応する利得でキャビティを遮断するために使用される。
【００７８】
制御手段１８は、レーザ２，４および６の同期化および超微細化リソグラフィの必要性により、ＥＵＶ供給源を変更し、安定化させることができる。
【００７９】
８つのレーザが単一のグループを形成し、また各パルスが複合パルスであるため、つまり１つのプレパルスとそれに続く７つの基本パルスからなるため、８つのレーザのいずれについても繰り返し周波数は１０ｋＨｚである。
【００８０】
制御手段１８は、ポンピングを行うレーザダイオード４０を供給する電流を生成するための手段（図示せず）と、対になっている音響−光学的偏向装置５０および５２の制御を目的とする、変調した無線周波数電流の生成手段（図示せず）とを備える。
【００８１】
さらに、これら制御手段１８を配設する目的は、（レーザビームと目標物１６の相関により生成される）プラズマからの放射を測定する信号にしたがって、レーザ２，４および６を制御することである。前記信号は、センサ５４などに搭載されているような、１つ以上の高速シリコンフォトダイオードなどの、１つ以上の適切なセンサによりスペクトルについてフィルタ処理される。ＥＵＶ放射のためには、このフィルタ処理はジルコニウム、および望ましくは二重の、モリブデン−シリコン多層ミラーにより実行してもよい。プラズマの成長率が観察される場合、このフィルタ処理に変更を加える、またはそのフィルタ処理が可視スペクトルに近い高速フォトダイオードを１つ以上加えることが有意義である。
【００８２】
制御手段１８を配設する目的は、また：
−　集積手段を有する高速シリコンフォトダイオードなどの適切なセンサ５６，５８および６０によりそれぞれ供給される信号であって、レーザ２，４および６から発せられる光パルスのエネルギーを測定するための信号と、
−　信号をその後集積手段の上流に取り込むこと以外はセンサ５６，５８および６０と同一センサとすることが可能な、高速シリコンフォトダイオードなどの３つの適切なセンサ６２，６４および６６によりそれぞれ供給される信号であって、レーザ２，４および６から発せられる光パルスの時間的形状を測定するための信号と
にしたがって、レーザ２，４および６を制御することである。
【００８３】
本発明の仕様では、偏向ミラー１４および収束レンズ２０，２２および２４により形成される光学的手段は、焦点（点Ｐ）の直径の数パーセント、例えば１％から１０％の位置変動を含む空間的重畳が可能であるように選択される。
【００８４】
図４のレーザ装置は、レーザ２，４および６からそれぞれ発せられた光パルスを付加することから生じるパルスの空間的分布を変更するための手段をさらに備える。図中矢印７４，７６および７８で示すこの手段は、例えばレンズ２０，２２および２４を動かし、これらレンズがそれぞれ供給する焦点の大きさを変更するために配設される。
【００８５】
レーザの起動を互いに対して適切にオフセットすることにより、レーザ２，４および６から発せられた光パルスを互いに対して一時的にオフセットするために制御手段１８を配設することもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、局所的に大きな照射を得るために異なる収束のさせ方をした２つのレーザビームを使用した場合を概略的に示す。
【図２】図２は、局所的に大きな照射を得るために異なる収束のさせ方をした２つのレーザビームを使用した場合を概略図に示す。
【図３】本発明に使用できる、複合光パルスの例を概略的に示す。
【図４】本発明の目的である装置の１実施形態の概略図である。
【国際公開パンフレット】
2004510356.tif 000003
2004510356.tif 000004
2004510356.tif 000005
2004510356.tif 000006
2004510356.tif 000007
2004510356.tif 000008
2004510356.tif 000009
2004510356.tif 000010
2004510356.tif 000011
2004510356.tif 000012
2004510356.tif 000013
2004510356.tif 000014
2004510356.tif 000015
2004510356.tif 000016
2004510356.tif 000017
2004510356.tif 000018
2004510356.tif 000019
2004510356.tif 000020
2004510356.tif 000021
2004510356.tif 000022
2004510356.tif 000023
2004510356.tif 000024
【国際調査報告】
2004510356.tif 000025
2004510356.tif 000026
2004510356.tif 000027