(57)【要約】本発明は、（Ｒ）配置および（Ｓ）配置の、新規な４−シクロヘキシル置換された１，３，２−オキサザボロリジンのキラルアクセサリー、ならびにこれらを調製するためのプロセスおよび使用するためのプロセスに関する。より具体的には、本発明は、新規なキラルアクセサリーを使用する、プロキラルケトンのキラル二級アルコールへの、エナンチオ選択性還元のためのプロセスに関する。本明細書中に記載されるキラルアクセサリーは、（Ｒ）および（Ｓ）の両方の絶対配置で存在する。
2004509125.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉを有する化合物であって：
【化１】
2004509125.tif 000052
ここで、２つのＲ２基は、同一であり、そして各々が、置換または非置換の、アリール基、アルキル基、シクロアルキル基またはアラルキル基であり；そして
Ｒ３は、水素原子、または置換もしくは非置換の、アルキル基、アリール基、アラルキル基もしくはアルコキシ基であり；
ここで、該Ｒ２基およびＲ３基上の置換基は、実質的に非反応性である、
化合物。
【請求項２】
各Ｒ２が、フェニル基、４−メトキシフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−ナフチルメチル基または２−ナフチルメチル基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ３が、水素原子、またはメチル基、ブチル基、フェニル基もしくはメトキシ基である、請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
各Ｒ２が、フェニル基である、請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ３が、水素原子またはメチル基である、請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ３が、メトキシ基である、請求項４に記載の化合物。
【請求項７】
前記アルコキシ基が、非置換であり、そして式ＯＲ５を有し、ここで、Ｒ５が、非置換アルキル基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
式ＩＩを有する化合物であって：
【化２】
2004509125.tif 000053
ここで、２つのＲ２基は、同一であり、そして各々が、置換または非置換の、アリール基、アルキル基、シクロアルキル基またはアラルキル基であり、
ここで、２つの該Ｒ２基上の置換基が、実質的に非反応性である、
化合物。
【請求項９】
各Ｒ２が、フェニル基、４−メトキシフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−ナフチルメチル基または２−ナフチルメチル基である、請求項８に記載の化合物。
【請求項１０】
各Ｒ２が、フェニル基である、請求項９に記載の化合物。
【請求項１１】
式Ｉを有する化合物を生成するためのプロセスであって：
【化３】
2004509125.tif 000054
ここで、２つのＲ２基は、同一であり、そして各々が、置換または非置換の、アリール基、アルキル基、シクロアルキル基またはアラルキル基であり；そして
Ｒ３が、水素原子、または置換もしくは非置換の、アルキル基、アリール基、アラルキル基もしくはアルコキシ基であり；
ここで、該Ｒ２基およびＲ３基上の置換基が、実質的に非反応性であり、
該プロセスは、以下：
（ａ）式ＩＩＩを有する（Ｒ）または（Ｓ）のシクロヘキシルグリシンエステルの塩酸塩または臭化水素塩化合物：
【化４】
2004509125.tif 000055
を、式Ｒ２ＭｇＸまたはＲ２Ｌｉを有する有機金属試薬と反応させて、式ＩＩを有する化合物：
【化５】
2004509125.tif 000056
を形成する工程であって、
ここで、式ＩＩＩにおいて、
Ｒ４は、アルキル基であり、そして
Ｙは、塩素原子または臭素原子であり、
式Ｒ２ＭｇＸまたはＲ２Ｌｉにおいて、Ｒ２は、該式Ｉを有する化合物について記載されたものと同じであり、そして
Ｘは、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、
式ＩＩにおいて、Ｒ２は、前記式Ｉを有する化合物について規定されたものと同じである、工程；ならびに
（ｂ）該工程（ａ）で形成された式ＩＩを有する化合物を、（ｉ）ＢＨ３、（ｉｉ）Ｒ３Ｂ（ＯＨ）２もしくは（ＢＯＲ３）３、または（ｉｉｉ）Ｂ（ＯＲ５）３と反応させて、該式Ｉを有する化合物を形成する工程、であって、ここで、Ｒ３は、該式Ｉを有する化合物について記載されたものと同じであり、そしてＲ５は、置換または非置換のアルキル基である、工程、
を包含する、プロセス。
【請求項１２】
Ｒ３が、式ＯＲ５を有する非置換アルコキシ基であって、ここでＲ５が、非置換アルキル基である、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
式ＩＶを有するプロキラルなケトンを非対称に還元するためのプロセスであって：
【化６】
2004509125.tif 000057
ここで、ＲＬおよびＲＳは、異なり、そして各々が、非置換または置換の、アリール基、アルキル基、アラルキル基またはヘテロアリール基であり、
該プロセスが、該式ＩＶを有するプロキラルなケトンを、ボラン試薬から誘導されたボランと、式Ｉを有するキラルアクセサリー：
【化７】
2004509125.tif 000058
の存在下で反応させて、式Ｖを有するキラルな２級アルコール：
【化８】
2004509125.tif 000059
を形成する工程であって、
ここで、式Ｉにおいて、２つのＲ２基は、同一であり、そして各々が、置換または非置換の、アリール基、アルキル基、シクロアルキル基またはアラルキル基であり；そして
Ｒ３は、水素原子、または置換もしくは非置換の、アルキル基、アリール基、アラルキル基もしくはアルコキシ基であり、
ここで、該Ｒ２およびＲ３基上の置換基が、実質的に非反応性であり、
式Ｖにおいて、ＲＬおよびＲＳは、該式ＩＶを有するプロキラルなケトンについて上で記載されたものと同じである、工程、
を包含する、プロセス。
【請求項１４】
Ｒ３が、式ＯＲ５を有する非置換アルコキシ基であって、ここでＲ５が、非置換アルキル基である、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記２つのＲ２基の各々が、置換または非置換のフェニル基であり、そしてＲ３が、水素原子、または置換もしくは非置換の、メチル基もえいくはメトキシ基である、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１６】
ＲＬが、非置換または置換の、アリール基またはヘテロアリール基であり、そしてＲＳが、非置換または置換のアルキル基である、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記置換アルキル基が、少なくとも１つのハロゲン原子で置換されたメチル基である、請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記少なくとも１つのハロゲン原子が、塩素または臭素である、請求項１７に記載のプロセス。
【請求項１９】
ＲＬが、トリフルオロメチル基で置換されたフェニル基であり、そしてＲＳが、臭素原子、塩素原子またはメトキシ基で置換されたメチル基である、請求項１３に記載のプロセス。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（発明の背景）
（１．発明の分野）
本発明は、（Ｒ）配置および（Ｓ）配置の、新規な４−シクロヘキシル置換された１，３，２−オキサザボロリジンのキラルアクセサリー、ならびにこれらを調製するためのプロセスおよび使用するためのプロセスに関する。より具体的には、本発明は、新規なキラルアクセサリーを使用する、プロキラルケトンのキラル二級アルコールへの、エナンチオ選択性還元のためのプロセスに関する。
【０００２】
（２．関連技術の説明）
式Ａのキラルアクセサリー（これは、ボランによるケトンのエナンチオ選択性還元を触媒するために有用である）は、当該分野において周知である。例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，第５巻、第２号、１６５〜１６８頁（１９９４）；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，第５巻、第３号、４６５〜４７２頁（１９９４）；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，第９巻、第７号、１０９１〜１０９５頁（１９９８）；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ　Ｒｅｐｏｒｔ　Ｎｕｍｂｅｒ　１３，第１３巻、第１２号、１４７５〜１５０４頁（１９９２）；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，第７巻、第１１号、３１４７〜３１５２頁（１９９６）；およびＳｙｎＬｅｔｔ，２７３−２７４頁（１９９７年３月）を参照のこと。
【０００３】
【化９】
2004509125.tif 000003
ここで、
Ｒ１は、アルキル基またはアリール基であり、
Ｒ２は、アルキル基またはアリール基であり、
Ｒ３は、水素原子、またはアルキル基、アリール基、アラルキル基、またはアルコキシ基である。
【０００４】
これらのキラルアクセサリーは、一般に、エナンチオマー的に純粋なアミノ酸から調製される。その結果、一般に、絶対配置（Ｓ）を有する化合物のみが安価に調製される。なぜなら、（Ｓ）−アミノ酸のみが、代表的に天然において見出されるからである。対照的に、（Ｒ）アミノ酸は、通常、比較的高価である。なぜならこれらは一般に、天然では見出されず、そしてデノボで（これは、ラセミ混合物からの分離を包含する）か、または高価なエナンチオ選択的経路によってかのいずれかで、調製されなければならない。
【０００５】
多くの有用な薬学的薬剤は、それらの製造のために、（Ｒ）絶対配置を有するＡ型のキラルアクセサリーによって導入された絶対配置を有する、キラルな二級アルコール中間体を必要とする。高価な（Ｒ）−アミノ酸が、多くの有用な薬学的薬剤の製造のために必要とされることは、明らかに不利である。数少ない安価な（Ｒ）−アミノ酸の１つは、（Ｒ）−フェニルグリシン（式１）であり、これは、式Ｂの（Ｒ）−４−フェニル−５，５−二置換オキサザボロリジンの前駆体である。（Ｒ）−フェニルグリシンは、比較的安価である。なぜならこれは、ペニシリンＧの合成における中間体として、数トンの規模で製造されるからである。
【０００６】
【化１０】
2004509125.tif 000004
しかし、（Ｒ）−フェニルグリシンから誘導される、式Ｂの（Ｒ）−４−フェニル−５，５−二置換オキサザボロリジンは、しばしば、特別に効率なキラルアクセサリーであるというわけではない。なぜならこれらは、プロキラルケトンのボラン還元生成物において、低い方のエナンチオマー比を導き得るからである。
【０００７】
【化１１】
2004509125.tif 000005
式ＡおよびＡ’の通常の化合物は、末端メチレン部分が、５員環を形成する環上の隣接窒素原子に（水素原子の代わりに）結合した、イソプロピル基または−（ＣＨ２）３−基に等しい置換基Ｒ１を有する。不運なことに、それぞれイソプロピル基、または−（ＣＨ２）３−基に等しいＲ１を有する（Ｒ）配置の公知の化合物は、高価ではない。なぜならこれらは、それぞれ、比較的高価な合成アミノ酸である、（Ｒ）−バリンおよび（Ｒ）−プロリンから誘導されるからである。（Ｒ）配置または（Ｓ）配置を有する、式Ａの質のよい安価なキラルアクセサリーを生成するための、以前の試みは、最小の成功で達成されたのみである。
【０００８】
本発明によって達成される目的は、これらおよび他の先行技術の問題を克服することであった。従って、新規な、質のよい、安価な、（Ｒ）絶対配置または（Ｓ）絶対配置のキラルアクセサリーを含む本発明は、従来技術より優れた利点を提供する。
【０００９】
本発明の課題は、安価な新規な、（Ｒ）絶対配置および（Ｓ）絶対配置のキラルアクセサリーを提供することである。
【００１０】
本発明のさらなる課題は、安価な新規な、（Ｒ）絶対配置および（Ｓ）絶対配置のキラルアクセサリーを生成するためのプロセスを提供することである。
【００１１】
本発明のなお別の課題は、安価な新規な、（Ｒ）絶対配置および（Ｓ）絶対配置のキラルアクセサリーを用いて、プロキラルなケトンを、キラルな二級アルコールに、エナンチオ選択的に還元することである。
【００１２】
本発明のこれらおよび他の課題は、以下の説明および特許請求の範囲を読んだ後に、明らかとなる。
【００１３】
（用語の定義および使用）
用語「エナンチオ選択的触媒」とは、本明細書中で使用される場合、ボラン試薬と一緒になって、プロキラルなケトンを光学活性なアルコールに還元する化合物をいう。
【００１４】
用語「キラルアクセサリー」は、本明細書中で使用される場合、用語「エナンチオ選択的触媒」と同義である。
【００１５】
用語「プロキラルなケトン」とは、本明細書中で使用される場合、還元の際に光学活性なアルコールを生成し得るケトンを意味する。さらに、プロキラルなケトンは、そのカルボニル基に結合した、構造的に異なる部分を有する。
【００１６】
用語「アルキル」とは、本明細書中で使用される場合、非置換または置換の、直鎖または分枝鎖の、炭化水素鎖を意味する。「低級アルキル」は、１〜８個の炭素原子、好ましくは、１〜４個の炭素原子を有する。
【００１７】
用語「シクロアルキル」とは、本明細書中で使用される場合、非置換または置換の、飽和炭素環式環を意味する。「低級シクロアルキル」は、３〜８個の炭素を有する。
【００１８】
用語「アリール」とは、本明細書中で使用される場合、置換または非置換の、芳香族炭素環式環を意味する。好ましいアリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、クメニルおよびナフチル（ｎａｐｔｈｙｌ）が挙げられる。
【００１９】
用語「アラルキル」とは、本明細書中で使用される場合、アリール基で置換されたアルキル部分を意味する。好ましいアラルキルとしては、ベンジル、フェニルエチル、ならびに１−ナフチルメチルおよび２−ナフチルメチルが挙げられる。
【００２０】
用語「アルコキシ」とは、本明細書中で使用される場合、化合物の別の原子に結合した酸素原子に結合した、直鎖または分枝鎖の、炭化水素鎖を意味する。「低級アルコキシ」は、１〜８個の炭素原子、好ましくは、１〜４個の炭素原子を有する。
【００２１】
用語「二級キラルアルコール」および「光学活性なアルコール」とは、本明細書中で使用される場合、各々、水素原子および２つの他の同一でない基を保有する炭素原子に結合したヒドロキシル基を有する、アルコール化合物を意味する。
【００２２】
用語「実質的に非反応性の置換基」とは、本明細書中で使用される場合、ケトンのキラルなボランによる還元の間に使用される試薬または溶媒のいずれによっても、顕著に影響を受けない置換基を意味する。すなわち、問題の化合物またはプロセスの光学的効力および化学的効力に顕著に影響を与える、その置換基が関与する有意な副反応が起こらない。
【００２３】
用語「エナンチオマー過剰率」（ｅｅ）とは、本明細書中で使用される場合、エナンチオマーの混合物中の、一方のエナンチオマーの、他方のエナンチオマーに対する過剰量を意味し、百分率に換算して表される。例えば、Ｒ：Ｓの９：１の比は、（Ｒ）の８０％エナンチオマー過剰率（ｅｅ）に等しい。
【００２４】
用語「ボラン試薬」とは、本明細書中で使用される場合、ボランの供給源である試薬または反応中にボランを供給する試薬を意味する。ボランの供給源である代表的な試薬としては、ジボランガス（Ｈ３Ｂ−ＢＨ３）、ボラン−ＴＨＦ錯体（ＴＨＦ溶液中）、ボラン−ジメチルスルフィド錯体、およびボラン−１，４−オキサチアン錯体が挙げられる。
【００２５】
本明細書中に記載されるキラルアクセサリーは、（Ｒ）および（Ｓ）の両方の絶対配置で存在することが、当業者によって理解される。（Ｓ）配置とは、不斉炭素原子の周囲の、優先の高い置換基から低い置換基への、反時計回りの配置をいう。（Ｒ）配置とは、不斉炭素原子の周囲の、優先の高い置換基から低い置換基への、時計回りの配置をいう。（Ｒ）絶対配置を有する化合物は、本明細書中で特に所望である。しかし、（Ｓ）配置もまた、適切に配置された出発物質から生成され得ることが、当業者に公知である。本明細書中に記載され、そして特許請求される化合物は、そのエナンチオマー、ならびにその溶媒和物および塩を含む。
【００２６】
本発明の化合物において定義される置換基は、それら自体が、種々の基（例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヒドロキシ基およびアルコキシ基）、または種々の原子（例えば、ハロゲン原子）で置換され得ることもまた、当業者に公知である。これらの基および原子は、実質的に非反応性の置換基である。
【００２７】
（発明の要旨）
本発明は、式Ｉを有する化合物に関する：
【００２８】
【化１２】
2004509125.tif 000006
ここで、２つのＲ２基は同一であり、そして置換または非置換のアリール、アルキル、シクロアルキル、またはアラルキルであり、そしてＲ３は、Ｈ、または置換もしくは非置換の、アリール、アルキル、アラルキル、もしくはアルコキシであり、例えば、アルコキシ基、ＯＲ５であり、ここでＲ５は、置換または非置換のアルキル基であり、そしてＲ２およびＲ３における置換基は、実質的に、非反応性である。
【００２９】
この化合物は、キラルアクセサリーとして有用である。
【００３０】
本発明はまた、式ＩＩを有する化合物に関する：
【００３１】
【化１３】
2004509125.tif 000007
ここで、Ｒ２基は、式Ｉの化合物に対する上記のものと同じに定義され、そしてここで、これらの置換基は、実質的に非反応性である。
【００３２】
式ＩＩの化合物は、式Ｉの化合物の調製のために有用な前駆体である。本発明はさらに、式ＩまたはＩＩを有する化合物を生成するためのプロセスに関する。このプロセスは、以下の工程を包含する：
（ａ）式ＩＩＩ
【００３３】
【化１４】
2004509125.tif 000008
（ここで、Ｒ４＝アルキルであり、そしてＹ＝ＣｌまたはＢｒである）を有する、（ＲまたはＳ）−シクロヘキシルグリシンエステル塩酸塩または臭化水素酸塩化合物を、式Ｒ２ＭｇＸまたはＲ２Ｌｉ（ここで、Ｒ２は、式Ｉの化合物に対する上記のものと同じに定義され、そしてＸは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩである）を有する有機金属試薬と反応させて、式ＩＩの化合物を形成する工程；ならびに
（ｂ）工程（ａ）で形成した式ＩＩの化合物を、それぞれ（ｉ）ＢＨ３、（ｉｉ）（ＢＯＲ３）３もしくはＲ３Ｂ（ＯＨ）２または（ｉｉｉ）Ｂ（ＯＲ５）３（ここで、Ｒ３およびＲ５は、式Ｉの化合物に対する上記のものと同じに定義される）と反応させて、式Ｉの化合物を形成する工程であって、ここでそれぞれ、Ｒ３は、（ｉ）Ｈ、（ｉｉ）アルキル、アリールもしくはアラルキル、または（ｉｉｉ）ＯＲ５である、工程。
【００３４】
さらに、本発明は、プロキラルケトンを二級キラルアルコールに不斉還元するためのプロセスに関し、このプロセスは、式ＩＶ
【００３５】
【化１５】
2004509125.tif 000009
を有するプロキラル化合物（ここで、ＲＬおよびＲＳは、同一ではない、非置換または置換のアリール基、アルキル基、アラルキル基、またはヘテロアリール基である）を、ボラン試薬から誘導されたボランと、上記の本発明による式Ｉを有するキラルアクセサリー化合物の存在下で反応させる工程を包含する。
【００３６】
（好ましい実施形態の説明）
本発明の化合物は、本明細書中において、それらの絶対的なキラル配置（（Ｒ）もしくは（Ｓ））なしで、または（Ｒ）配置で、表される。本発明はさらに、当業者に公知であるように、（Ｓ）配置の化合物を包含する。例えば、式Ｉの化合物は、これらが調製される出発物質（例えば、式ＩＩおよびＩＩＩの化合物）の絶対配置に依存して、（Ｒ）または（Ｓ）のいずれの絶対配置でも存在し得る。
【００３７】
式Ｉの化合物において、２つのＲ２基は、同一であり、好ましくは、置換または非置換の、アリールまたはアラルキル（例えば、アリールメチル）であり、より好ましくは、置換または非置換の、フェニル、ベンジル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、１−ナフチルまたは２−ナフチルであり、そして最も好ましくは、置換または非置換のフェニルである。さらに、式Ｉの化合物において、Ｒ３は、好ましくは、水素原子、あるいは置換または非置換のアルキル基、アリール基（例えば、フェニル基）、アラルキル基またはアルコキシ基であり、そしてより好ましくは、水素原子、あるいは置換または非置換の低級アルキル基（例えば、１〜８炭素原子）または低級アルコキシ基（例えば、１〜８炭素原子）である。最も好ましくは、Ｒ３は、水素原子、またはメトキシ基、メチル基またはブチル基である。
【００３８】
代表的な式Ｉの化合物を、以下に示す：
【００３９】
【化１６】
2004509125.tif 000010
Ｉ．１：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００４０】
【化１７】
2004509125.tif 000011
Ｉ．２：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−２−メチル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００４１】
【化１８】
2004509125.tif 000012
Ｉ．３：（Ｒ）−２−ブチル−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００４２】
【化１９】
2004509125.tif 000013
Ｉ．４：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−２，５，５−トリフェニル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００４３】
【化２０】
2004509125.tif 000014
Ｉ．５：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−２−メトキシ−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００４４】
【化２１】
2004509125.tif 000015
Ｉ．６：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（１−ナフチルメチル）−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００４５】
【化２２】
2004509125.tif 000016
Ｉ．７：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（１−ナフチルメチル）−２−メチル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００４６】
【化２３】
2004509125.tif 000017
Ｉ．８：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（１−ナフチルメチル）−２−ブチル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００４７】
【化２４】
2004509125.tif 000018
Ｉ．９：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（１−ナフチルメチル）−２−フェニル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００４８】
【化２５】
2004509125.tif 000019
Ｉ．１０：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（１−ナフチルメチル）−２−メトキシ−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００４９】
【化２６】
2004509125.tif 000020
Ｉ．１１：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（２−ナフチルメチル）−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００５０】
【化２７】
2004509125.tif 000021
Ｉ．１２：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（２−ナフチルメチル）−２−メチル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００５１】
【化２８】
2004509125.tif 000022
Ｉ．１３：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（２−ナフチルメチル）−２−ブチル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００５２】
【化２９】
2004509125.tif 000023
Ｉ．１４：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（２−ナフチルメチル）−２−フェニル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００５３】
【化３０】
2004509125.tif 000024
Ｉ．１５：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（２−ナフチルメチル）−２−メトキシ−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００５４】
【化３１】
2004509125.tif 000025
Ｉ．１６：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジベンジル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００５５】
【化３２】
2004509125.tif 000026
Ｉ．１７：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジベンジル−２−メチル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００５６】
【化３３】
2004509125.tif 000027
Ｉ．１８：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジベンジル−２−ブチル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００５７】
【化３４】
2004509125.tif 000028
Ｉ．１９：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジベンジル−２−フェニル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００５８】
【化３５】
2004509125.tif 000029
Ｉ．２０：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジベンジル−２−メトキシ−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００５９】
【化３６】
2004509125.tif 000030
Ｉ．２１：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（１−ナフチル）−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００６０】
【化３７】
2004509125.tif 000031
Ｉ．２２：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（１−ナフチル）−２−メチル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００６１】
【化３８】
2004509125.tif 000032
Ｉ．２３：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（１−ナフチル）−２−フェニル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００６２】
【化３９】
2004509125.tif 000033
Ｉ．２４：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（１−ナフチル）−２−メトキシ−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００６３】
【化４０】
2004509125.tif 000034
Ｉ．２５：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（２−ナフチル）−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００６４】
【化４１】
2004509125.tif 000035
Ｉ．２６：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（２−ナフチル）−２−メチル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００６５】
【化４２】
2004509125.tif 000036
Ｉ．２７：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（２−ナフチル）−２−フェニル−１，３，２−オキサザボロリジン；
【００６６】
【化４３】
2004509125.tif 000037
Ｉ．２８：（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジ（２−ナフチル）−２−メトキシ−１，３，２−オキサザボロリジン。
【００６７】
本発明は、さらに、式Ｉの上記化合物の対応する（Ｓ）エナンチオマーを含む。同様に、本発明に従う式ＩＩを有する化合物はまた、（Ｒ）配置で、本明細書中で示されるが、式ＩＩの化合物は、式Ｉの化合物と同様に、それらが調製される開始物質の配置に依存して、（Ｓ）配置でも存在し得ることが当業者に理解される。
【００６８】
式Ｉの化合物と同様に、式ＩＩの化合物の２つのＲ２基が、同一であり、好ましくは、置換または非置換のアリール基、またはアラルキル基、例えば、アリールメチル基、より好ましくは、置換または非置換のフェニル基、ベンジル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフチル基または２−ナフチル基である。より好ましくは、２つのＲ２基は、置換または非置換のフェニル基である。
【００６９】
代表的な式ＩＩの化合物は、以下に示される：
【００７０】
【化４４】
2004509125.tif 000038
ＩＩ．１：（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１−ジフェニルエタノール；
【００７１】
【化４５】
2004509125.tif 000039
ＩＩ．２：（Ｒ）−２−アミノ−１，１−ジベンジル−２−シクロヘキシルエタノール；
【００７２】
【化４６】
2004509125.tif 000040
ＩＩ．３：（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１−ジ（１−ナフチルメチル）エタノール；
【００７３】
【化４７】
2004509125.tif 000041
ＩＩ．４：（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１−ジ（２−ナフチルメチル）エタノール；
【００７４】
【化４８】
2004509125.tif 000042
ＩＩ．５：（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１−ジ（１−ナフチル）エタノール；および
【００７５】
【化４９】
2004509125.tif 000043
ＩＩ．６：（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１−ジ（２−ナフチル）エタノール。
【００７６】
式ＩＩの上記化合物についての対応する（Ｓ）エナンチオマーもまた、本発明によって包含される。
【００７７】
式ＩＩＩを有する（ＲまたはＳ）−シクロヘキシルグリシンエステル塩酸塩または臭化水素酸塩化合物は、式Ｉを有する化合物を作製するための本発明のプロセスにおいて使用され得る。本発明のプロセスの工程（ａ）において、反応スキームは、有利には、以下のように進行する：
【００７８】
【化５０】
2004509125.tif 000044
ここで、Ｒ４は、アルキル、好ましくは、低級アルキル（例えば、１〜８個の炭素原子）であり；Ｙは、ＣｌまたはＢｒであり；Ｘは、Ｃｌ、ＢｒまたはＩであり；そしてＲ２基は、同一であり、そして置換または非置換のアリール、アルキル、シクロアルキルまたはアラルキルである。
【００７９】
過剰の適切な有機金属試薬、Ｒ２ＭｇＸまたはＲ２Ｌｉ（不活性な溶媒中の溶液として）（好ましくは、約３〜６当量、最も好ましくは、約６当量）は、有利には、窒素雰囲気下で、式ＩＩＩを有する（ＲまたはＳ）−シクロヘキシルグリシンエステル塩酸塩または臭化水素酸塩化合物の不活性溶媒（好ましくは、乾燥不活性溶媒）中の溶液または懸濁液に添加される。好ましい有機金属試薬は、有機マグネシウム（グリニャール）試薬および有機リチウム試薬である。本発明のプロセスに有用な有機金属試薬（Ｒ２ＭｇＸまたはＲ２Ｌｉ）は、当該分野で周知であり、しばしば、市販されるか、またはアルキルハライド、シクロアルキルハライド、アリールハライドまたはアラルキルハライドから、当該分野で公知の方法によって調製され得る。
【００８０】
好ましい不活性な（すなわち、非反応性）溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシメタン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、塩化メチレンおよびこれらの混合物が挙げられる。最も好ましい不活性溶媒は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、またはトルエンおよびテトラヒドロフランの混合物である。反応温度は、好ましくは、約−２０℃〜還流、より好ましくは、約−１０℃〜＋４５℃、そして最も好ましくは、約０℃〜＋４５℃である。反応は、有利には、完了するまで実行され、これは、一般的には、２４時間未満を費やし、希薄な水性酸を添加することによってクエンチされる。副生成物の金属塩が形成され得、例えば、濾過または抽出によって分離され得る。生成物化合物含有混合物は、有利には、生成物の回収の前では、アルカリ状態である。好ましくは、ｐＨは、約９以上に調節され、そして式ＩＩの生成物化合物は、当業者に周知の技術（例えば、抽出、クロマトグラフィー、結晶化、昇華など）によって単離および精製され得る。
【００８１】
式Ｉの化合物を作製するための上記プロセスの工程（ｂ）において、反応スキームは、有利には、ホウ素含有試薬の構造に依存して、３つの異なる方法（（ｉ）、（ｉｉ）または（ｉｉｉ））によって進行する。第１に、（ｉ）ＢＨ３について、反応スキームは、以下のように進行し得る：
【００８２】
【化５１】
2004509125.tif 000045
ここで、Ｒ２は、上と同じに規定され、そしてボラン試薬は、Ｒ３がＨであることを生じる。
【００８３】
Ｒ３が水素原子である式Ｉの化合物について、不活性溶媒、好ましくは、乾燥不活性溶媒中の式ＩＩの化合物の溶液は、有利には、窒素下で、ボランの供給源を提供する試薬と反応する。ボランの供給源である試薬としては、ジボランガス（Ｈ３Ｂ−ＢＨ３）、ボラン−テトラヒドロフラン錯体（テトラヒドロフラン溶液中）、ボランジメチルスルフィド錯体およびボラン１，４−オキサチアン錯体が挙げられる。好ましい不活性溶媒としては、エーテル、炭化水素および塩素化炭化水素が挙げられる。より好ましい不活性溶媒としては、トルエン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジエトキシメタンおよびｔ−ブチルメチルエーテルが挙げられる。最も好ましい不活性溶媒は、テトラヒドロフランである。好ましい反応温度は、約−２０℃〜＋４０℃である。より好ましい反応温度は、約−２０℃〜室温である。反応は、通常、２時間未満で完了する。Ｒ３が水素原子である式Ｉの化合物は、通常、単離されず、好ましくは、プロキラルなケトンのキラル還元を行うために溶液で生成され使用される。
【００８４】
第２に、（ｉｉ）（ＢＯＲ３）３またはＲ３Ｂ（ＯＨ）２について、Ｒ３がアルキル基、アリール基またはアラルキル基である式Ｉの化合物を作製するための上記プロセスの工程（ｂ）において、反応は、有利には、以下のスキームに従って、行われる。
【００８５】
【化５２】
2004509125.tif 000046
ここで、Ｒ２は、上と同じに規定され、そしてＲ３は、置換または非置換アルキル、アリールまたはアラルキルである。
【００８６】
Ｒ３がアルキル基、アリール基またはアラルキル基である式Ｉの化合物について、不活性溶媒、好ましくは、乾燥不活性溶媒中の式ＩＩの化合物の溶液は、有利には、窒素下で、トリアルキルボロキシンまたはトリアリールボロキシンまたはアルキルまたはアリールホウ酸と反応する。溶媒は、有利には、蒸留され、新鮮な乾燥溶媒が、反応が完了するまで添加される。Ｒ３がアルキル基、アリール基またはアラルキル基である式Ｉの化合物は、残りの溶媒すべての除去によって（例えば、蒸留によって）単離され得、当該分野で周知の方法（例えば、蒸留、結晶化、およびクロマトグラフィー）によって精製され得る。好ましい不活性溶媒としては、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン）および芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、およびキシレン）が挙げられる。より好ましい不活性溶媒は、テトラヒドロフランおよびトルエンである。好ましい試薬としては、トリメチルボロキシン、トリ−ｎ−ブチルボロキシン、トリフェニルボロキシン、メチルホウ酸、ブチルホウ酸およびフェニルホウ酸が挙げられる。最も好ましくは、トリメチルボロキシン、トリ−ｎ−ブチルボロキシンおよびフェニルホウ酸が試薬として使用される。Ｒ３がアルキル基、アリール基またはアラルキル基である式Ｉの化合物は、単離される必要はなく、プロキラルケトンのキラルボラン還元において使用される溶液中で調製され得る。
【００８７】
第３に、（ｉｉｉ）Ｂ（ＯＲ５）３について、Ｒ３が、有利には、置換または非置換のアルコキシ、例えば、ＯＲ５（ここで、Ｒ５は、非置換アルキル基である）である式Ｉの化合物を作製するための上記プロセスの工程（ｂ）において、反応は、有利には、以下のスキームに従って、行われる：
【００８８】
【化５３】
2004509125.tif 000047
ここで、Ｒ２は、上と同じに規定され、そしてＲ３は、置換または非置換のアルコキシ、ＯＲ５（ここで、Ｒ５は、非置換アルキル基である）である。
【００８９】
Ｒ３が、アルコキシ基である式Ｉの化合物について、不活性溶媒（好ましくは、乾燥不活性溶媒）中の式ＩＩの化合物の溶液は、有利には、窒素下で、ホウ酸トリアルキルと反応する。溶媒を蒸留し、そして新鮮な乾燥溶媒を、反応が完了するまで添加する。Ｒ３が、アルコキシ基である式Ｉの化合物は、蒸留によって残りの溶媒を全て除くことによって単離され得、そして当該分野で周知の方法（例えば、蒸留、結晶化、およびクロマトグラフィー）によって精製され得る。好ましい不活性溶媒は、Ｒ３が、アルキル基、アリール基またはアラルキル基である化合物について上に規定される溶媒と同じである。好ましい試薬としては、トリメチルボレートおよびトリ−ｎ−ブチルボレートが挙げられる。Ｒ３が、アルコキシ基である式Ｉの化合物は、単離される必要はなく、プロキラルケトンのキラルボラン還元において使用される溶液中で調製され得る。Ｒ基上の置換基は、実質的に非反応性である。
【００９０】
式Ｉの化合物の存在下での、プロキラルケトンの第２級キラルアルコールへの不斉ボラン還元についての反応は、有利には、以下のスキームに従って、行われる：
【００９１】
【化５４】
2004509125.tif 000048
ここで、ＲＬおよびＲＳは、同一ではなく、非置換または置換の、アリール基、アルキル基、アラルキル基またはヘテロアリール基であり；そしてＲ２およびＲ３は、上記式Ｉと同じに規定される。
【００９２】
さらに、プロキラルケトンの第２級キラルアルコールへの不斉還元についての本発明のプロセスにおいて、ＲＬは、好ましくは、置換または非置換のアリール基であり、そしてＲＳは、好ましくは、置換または非置換の、アルキル基、特にハロゲン化アルキル基（例えば、ＣＦ３、ＣＣｌ３、ＣＨ２ＢｒまたはＣＨ２Ｃｌ）である。より好ましくは、ＲＬは、置換または非置換のフェニル基（例えば、ＣＦ３−フェニル）であり、そして、ＲＳは、ＣＨ２Ｂｒ、ＣＨ２ＣｌまたはＣＨ２ＯＣＨ３である。
【００９３】
式Ｉの化合物は、相対的に不安定である。従って、最適な効率のために、上記のように、式ＩＩの化合物および適切な（ｉ）ボラン試薬、（ｉｉ）置換ボロキシンまたはホウ酸あるいは（ｉｉｉ）ボレートから、不活性溶媒（例えば、テトラヒドロフラン）中で、窒素下で、無水の条件下で、これらの物質を作製することが好ましいが、必須ではない。反応は、式Ｉの化合物の単離なしに、達成され得る。従って、Ｒ３が（ｉ）水素原子、（ｉｉ）アルキル基、アリール基またはアラルキル基、あるいは（ｉｉｉ）アルコキシ基である、式Ｉの化合物について、不活性溶媒中の式ＩＩの化合物の溶液は、それぞれ、（ｉ）ボラン試薬から誘導されるボラン、（ｉｉ）（ＢＯＲ３）３またはＲ３Ｂ（ＯＨ）２あるいは（ｉｉｉ）Ｂ（ＯＲ５）３のいずれかと反応する。ボランの供給源である試薬としては、ジボランガス（Ｈ３Ｂ−ＢＨ３）、ボラン−ＴＨＦ錯体（ＴＨＦ溶液中）、ボランジメチルスルフィド錯体およびボラン１，４−オキサチアン錯体が挙げられる。好ましい不活性溶媒としては、エーテル、炭化水素および塩素化炭化水素が挙げられる。より好ましい不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジエトキシメタン、ｔ−ブチルメチルエーテル、トルエン、キシレンおよび塩化メチレンが挙げられる。最も好ましい溶媒は、ＴＨＦおよびトルエンである。
【００９４】
溶媒中で式Ｉの化合物を形成するための本反応は、有利には、約１当量のホウ素含有試薬と行われる。好ましい反応温度は、約−２０℃〜＋４０℃である。より好ましい反応温度は、約−２０℃〜＋２０℃である。型（ＢＯＲ３）３、Ｒ３Ｂ（ＯＨ）２またはＢ（ＯＲ５）３の試薬が使用される場合、溶媒の蒸留は、式Ｉの化合物の形成を完了するために必要とされ得る。この反応は、通常、１２時間未満で完了する。Ｒ３が水素原子であるか、あるいは、置換または非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基またはアルコキシ基である式Ｉの化合物のインサイチュ形成の後に、ボラン試薬が添加され、続いて、プロキラルケトン（ニートまたは不活性溶媒中の溶液として、徐々にまたは全て一度に添加され得る）が添加される。反応は、通常、約−４０℃〜＋５０℃、好ましくは、約−２０℃〜＋５０℃、そして最も好ましくは、約０℃〜＋４５の温度で実行される。
【００９５】
式Ｉの化合物：プロキラルケトン化合物のモル比は、有利には、約１：２００〜３：１である。式Ｉの化合物：プロキラルケトン化合物の最適のモル比は、基質（特に、プロキラルケトン化合物が、ボランと錯体を形成し得る置換基を含む場合）に依存する。プロキラルケトン化合物：ボラン試薬のモル比は、好ましくは、約１：０．３〜１：６である。プロキラルケトンの還元において最適なエナンチオ選択性を達成するために選択される正確な反応試薬および条件（式Ｉのキラル触媒化合物の構造および反応温度、試薬の比および使用される溶媒の型を含む）は、式ＩＶのケトンのＲＬ基およびＲＳ基の構造に依存する。ケトンの還元が、実質的に完了する（通常、２時間未満）とき、キラルな第２級アルコール生成物は、希薄な水性酸を用いて反応をクエンチし、そして生成物を有機溶媒に抽出することによって単離され得る。式ＩＩの化合物は、通常、水相から単離され、精製され、そして再使用され得る。キラルな第２級アルコール生成物は、有機相から単離され、そして当業者に周知の技術（例えば、抽出、クロマトグラフィー、蒸留、結晶化など）によって精製され得る。
【００９６】
（Ｒ）配置の本発明の化合物を作製するための一般的な反応経路は、以下に示される：
【００９７】
【化５５】
2004509125.tif 000049
（Ｒ）−および（Ｓ）−シクロヘキシルグリシン酸付加塩（式４の化合物）ならびに（Ｒ）−および（Ｓ）−シクロヘキシルグリシン低級アルキル（例えば、１〜８個の炭素原子）エステル酸付加塩（式ＩＩＩの化合物）は、当該分野において公知である（例えば、Ａｎｎａｌｅｎ　ｄｅｒ　Ｃｈｅｍｉｅ、５２３、１９９頁（１９３６）を参照のこと）か、または当該分野で周知の手順（例えば、それぞれ、（Ｒ）−および（Ｓ）−フェニルグリシン（式１の化合物）および（Ｒ）−ならびに（Ｓ）−フェニルグリシン低級アルキルエステル酸付加塩（式２の化合物）の触媒性水素化）によって調製され得る。代表的には、有機金属試薬、Ｒ２ＭｇＸ（グリニャール）（例えば、フェニルマグネシウムクロリドおよび１−ナフチルマグネシウムブロミド）、ならびにＲ２Ｌｉ（有機リチウム）（例えば、フェニルリチウム）は、市販されるかまたは当該分野で公知の方法によって調製され得る。一般的に、ボランＢＨ３は、ボラン試薬（例えば、ジボランガスまたはテトラヒドロフランもしくはジオキサンのいずれかと錯体化されたボラン）の形態で送達されるか、あるいはスルフィドに錯体化される（例えば、ジメチルスルフィド−ボラン錯体または１，４−オキサチアン−ボラン錯体）か、あるいはビススルフィドに錯体化される（例えば、１，２−ビス−（ｔ−ブチルチオ）エタン−ジボラン錯体または１，２−ビス−（ベンジルチオ）ブタン−ジボラン錯体）。アルキルホウ酸、アリールホウ酸またはアラルキルホウ酸、［Ｒ３（ＯＨ）２］、トリアルキルボレート、トリアリールボレートまたはトリアラルキルボレート、［Ｂ（ＯＲ５）３］、およびトリアルキルボロキシン、トリアリールボロキシンまたはトリアラルキルボロキシン、［（ＢＯＲ３）３］の試薬はまた、市販されるか、または当該分野で公知の方法によって調製され得る。
【００９８】
式Ｉの本発明の化合物は、キラルアクセサリーとして有用である。キラルアルコールは、有利には、式Ｉによって規定される本発明のキラルアクセサリーの存在下で、プロキラルケトンとボラン試薬を反応させることによって調製される。これらのキラルアクセサリーは、有利には、プロキラルケトンのキラルアルコールへのボラン還元のためのエナンチオ選択的触媒として役立つ。本発明の式ＩＩの化合物は、式Ｉの化合物を調製するための前駆体として有用である。本発明のキラルアクセサリーを用いて調製されるいくつかの有用なキラル中間体およびキラル化合物、ならびにいくつかの代表的な本発明のプロセスを以下に示す。他の有用な中間体および化合物は、当業者に明らかである。
【００９９】
【化５６】
2004509125.tif 000050
2004509125.tif 000051
以下の非制限的な実施例は、式ＩＩおよび式Ｉの化合物の調製および本発明のプロセスを例示する。
【０１００】
（実施例１）
（（Ｒ）−シクロへキシルグリシンヒドロクロリドの調製）
Ｄ−フェニルグリシン（３０ｇ）を、２Ｎの塩酸（３００ｍＬ）中に溶解し、５％の炭素担持白金触媒（８ｇ）を添加した。この混合物を、３当量の水素が消費されるまで、７０℃および６０ｐｓｉで水素付加した。この触媒を、濾過によりこの温溶液から除去し、そして濾液を結晶が形成するまで濃縮した。この混合物を室温まで冷却し、そしてこの結晶を濾別した。
【０１０１】
（Ｒ）−シクロヘキシグリシンヒドロクロリドの収率：＝２１．４ｇ、ｍ．ｐ．＝２６７〜２６９℃および［α］Ｄ２６℃＝−３１°。
【０１０２】
（実施例２）
（（Ｒ）−シクロへキシルグリシンメチルエステルヒドロクロリドの調製）
塩化チオニル（２４ｍＬ）を、メタノール（１５０ｍＬ）にゆっくり添加し、温度を−１０℃に保った。この混合物に、（Ｒ）−シクロへキシルグリシンヒドロクロリド（２４ｇ）を添加し、再び温度を−１０℃に保ち、そしてこれを１．５時間保持した。次いで、この混合物を、４５℃で２時間加熱した。この溶媒を、エバポレーションによって除去し、そしてこの残渣を、ジエチルエーテル（１５０ｍＬ）中でスラリーにした。（Ｒ）−シクロへキシルグリシンメチルエステルヒドロクロリドを濾別し、そして４５℃で乾燥した。
【０１０３】
収率＝２２．６ｇ、ｍ．ｐ．＝１８５．５〜１８７℃および［α］Ｄ２６℃＝−２３°（水Ｃ＝２）。
【０１０４】
（実施例３）
（（Ｒ）−シクロへキシルグリシンメチルエステルヒドロクロリドの調製）
酸化白金触媒（７８．０２％、３．５ｇ）を、メタノール（１Ｌ）中の（Ｒ）−フェニルグリシンメチルエステルヒドロクロリド（１４０ｇ、０．６９４ｍｏｌ）の溶液に添加し、そしてこの混合物を、５５ｐｓｉの水素雰囲気下で、１８時間攪拌した。この触媒を濾過により除去し、そしてメタノール溶液を減圧下で濃縮し、固体の残渣を得た。ジエチルエーテル（４００ｍＬ）をこの残渣に添加し、そしてこの生成物を得られたスラリーから濾別した。この（Ｒ）−シクロへキシルグリシンメチルエステルヒドロクロリドを、減圧下、４５℃で乾燥した。
【０１０５】
収率＝１３７．５ｇ、ｍ．ｐ．＝１８２〜１８４℃および［α］Ｄ２０℃＝−３３．４°（１３．６２ｍｇ／ｍＬのＭｅＯＨ）。１Ｈ　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ０．９４−１．７６（１０Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−）；δ１．８４（１Ｈ，ｍ，−ＣＨ−）；δ３．７４（３Ｈ，ｓ，−ＯＣＨ３）；δ３．８１（１Ｈ，ｄ，−ＣＨ−Ｎ）；δ８．６１（３Ｈ，ｓ，−ＮＨ３）。
【０１０６】
（実施例４）
（（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジフェニルエタノールの調製）
フェニルマグネシウムブロミドの溶液（３Ｍ（ジエチルエーテル中）、２００ｍＬ）に、乾燥テトラヒドロフラン（３００ｍＬ）を添加し、そしてこの混合物を０℃まで冷却した。（Ｒ）−シクロへキシルグリシンメチルエステルクロリド（２０．７７ｇ）を、温度を約０℃に保った状態で、少しずつ添加した。この反応混合物を、室温まで温め、そして１６時間攪拌した。氷および２Ｎの塩酸（２８０ｍＬ）を反応物に添加し、続いて水酸化アンモニウム（３０ｍＬ）を添加してｐＨ＝９にした。得られたマグネシウム塩の沈殿物を、濾過により除去し、そして酢酸エチルで洗浄した。この濾液を２つの相に分離し、そして水相を酢酸エチル（４×１５０ｍＬ）で抽出した。この抽出物を、元々の有機層と合わせて、そして減圧下で濃縮し、固体の残渣生成物を得た。酢酸エチルによる残渣の再結晶によって、（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジフェニルエタノールを得た。
【０１０７】
収率＝１１．３３ｇ、ｍ．ｐ．＝１８１−１８２℃および［α］Ｄ２０℃＝＋１１４．２°（１０．０７ｍｇ／ｍＬ、ＣＨＣｌ３）。
【０１０８】
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ０．８９−１．６８（１０Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−）；δ１．９５（１Ｈ，ｍ，−ＣＨ−）；δ３．７５（１Ｈ，ｄ，−ＣＨ−Ｎ）；δ７．１６−７．６１（１０Ｈ，ｍ，Ｐｈ）。
【０１０９】
ＨＲ−ＭＳ（Ｍ＋Ｈ）において、Ｃ２０Ｈ２５ＮＯの計算値は、２９６．２０１４であり、そして実測値は、２９６．２０１５であった。Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤ−Ｒカラム（２５ｃｍ×４．６ｍｍ）（アセトニトリル／７５ｍＭの水性過塩素酸ナトリウム　４：６の移動相、１ｍｌ／分、２５℃）を使用するＨＰＬＣによって、エナンチオマー過剰率が、９９．７％（Ｒ）と決定された。ＵＶの検出：２１０ｎｍ。
【０１１０】
（実施例５）
（（Ｓ）−シクロへキシルグリシンメチルエステルヒドロクロリドの調製）
酸化白金触媒（７８．０２％、１．５ｇ）を、（Ｓ）−フェニルグリシンメチルエステルヒドロクロリド（６０ｇ、０．２９７ｍｏｌ）のメタノール（４２５ｍＬ）溶液に添加し、そしてこの混合物を、６０ｐｓｉの水素雰囲気下で１６時間攪拌した。この触媒を濾過により除去し、そしてメタノール溶液を減圧下で濃縮し、固体の残渣を得た。ジエチルエーテル（４００ｍＬ）をこの残渣に添加し、そしてこの生成物を得られたスラリーから濾別した。この（Ｓ）−シクロへキシルグリシンメチルエステルヒドロクロリドを、減圧下、４５℃で乾燥した。
【０１１１】
収率＝５８．７ｇ、ｍ．ｐ．＝１８３〜１８５℃および［α］Ｄ２０℃＝＋３３．２°（１４．８ｍｇ／ｍＬのＭｅＯＨ）。１Ｈ　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：δ０．９４−１．７６（１０Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−）；δ１．８４（１Ｈ，ｍ，−ＣＨ−）；δ３．７４（３Ｈ，ｓ，−ＯＣＨ３）；δ３．８１（１Ｈ，ｄ，−ＣＨ−Ｎ）；δ８．６１（３Ｈ，ｓ，−ＮＨ３）。
【０１１２】
（実施例６）
（（Ｓ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジフェニルエタノールの調製）
フェニルマグネシウムブロミドの溶液（３Ｍ（ジエチルエーテル中）、１００ｍＬ）に、乾燥テトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）を添加し、そしてこの混合物を５℃まで冷却した。（Ｓ）−シクロへキシルグリシンメチルエステルクロリド（１０．３５ｇ、０．３ｍｏｌ）を、温度を約５℃に保った状態で、少しずつ添加した。この反応混合物を、４５℃まで１時間かけて温め、次いで室温で約１６時間攪拌した。氷および２Ｎの塩酸（１００ｍＬ）をこの反応物に添加し、続いて水酸化アンモニウム（３０ｍＬ）を添加してｐＨ＝９にした。得られたマグネシウム塩の沈殿物を、濾過により除去し、そして酢酸エチルで洗浄した。この濾液および洗浄物を２つの層に分離し、そして水層を酢酸エチル（４×７５ｍＬ）で抽出した。この抽出物を、元々の有機層と合わせて、そして減圧下で濃縮し、固体の残渣生成物を得た。酢酸エチルによる残渣の再結晶によって、（Ｓ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジフェニルエタノールを得た。Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤ−Ｒカラム（２５ｃｍ×４．６ｍｍ）（アセトニトリル／７５ｍＭの水性過塩素酸ナトリウム　４：６の移動相、１ｍｌ／分、２５℃）を使用するＨＰＬＣによって、エナンチオマー過剰率が、９８．９％（Ｓ）と決定された。ＵＶ検出により、２１０ｎｍにおいて観測した。
【０１１３】
収率＝６．５ｇ、ｍ．ｐ．＝１８１−１８２℃および［α］Ｄ２０℃＝−１２４．１°（１３．０６ｍｇ／ｍＬ、ＣＨＣｌ３）。
【０１１４】
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ０．８９−１．６８（１０Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−）；δ１．９５（１Ｈ，ｍ，−ＣＨ−）；δ３．７５（１Ｈ，ｄ，−ＣＨ−Ｎ）；δ７．１６−７．６１（１０Ｈ，ｍ，Ｐｈ）。
【０１１５】
（実施例７）
（（Ｓ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ビス−（４−メトキシフェニル）エタノールの調製）
４−メトキシフェニルマグネシウムブロミド（２１．１３ｇ、０．１ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）の溶液を、０℃と５℃との間に冷却した。（Ｓ）−シクロへキシルグリシンメチルエステルヒドロクロリド（３．４５ｇ、０．０１６６ｍｏｌ）を、温度を約５℃未満に保った状態で、少しずつ添加した。この反応混合物を、４５℃まで２時間かけて温め、次いで室温まで冷却し、そして約１６時間この温度で攪拌した。この混合物を、再び０℃と５℃との間まで冷却し、そして３Ｎの塩酸（２０ｍＬ）を、２０℃未満に温度を保った状態でこの反応混合物に添加した。水酸化アンモニウム溶液を、ｐＨ＝９になるまで添加した。得られたマグネシウム塩の沈殿物を、濾過により除去し、そして酢酸エチルで洗浄した。この濾液および洗浄物を２つの層に分離し、そして水層を酢酸エチル（２×２０ｍＬ）で抽出した。この抽出物を、元々の有機層と合わせて、そして減圧下で濃縮し、固体の残渣の形態で生成物を得た。この残渣を塩化メチレン／酢酸エチルの勾配で溶出するシリカゲルのクロマトグラフィーにかけ、２．４５ｇの生成物を得た。酢酸エチルによる結晶化により、（Ｓ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ビス−（４−メトキシフェニル）エタノールを得た。
【０１１６】
収率＝２．４５ｇ、ｍ．ｐ．＝１４６−１４７℃および［α］Ｄ２０℃＝−１１２．９°（１０ｍｇ／ｍＬ、ＣＨＣｌ３）。
【０１１７】
Ｃ２２Ｈ２９ＮＯ３の質量分析の計算値は、Ｃ，７４．３３％；Ｈ，８．２２％およびＮ，３．９４％であった。実測値は、Ｃ，７４．４０％；Ｈ，８．２２％およびＮ，３．８５％であった。
【０１１８】
１Ｈ　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）；δ０．７５−１．６１（１２Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−およびＮＨ２）；δ１．８６（１Ｈ，ｂｄ，−ＣＨ−）；δ３．４５（１Ｈ，ｄ，−ＣＨ−Ｎ）；δ３．６８（６Ｈ，ｓ，−ＯＣＨ３）；δ５．１１（１Ｈ，ｓ，−ＯＨ）；δ６．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，Ａｒ）；δ６．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，Ａｒ）；δ７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，Ａｒ）；δ７．４１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ，Ａｒ）。ＨＲ−ＭＳにおいて、Ｃ２２Ｈ３０ＮＯ３の計算値は、３５６．２２２６である一方で、実測値は、３５６．２２３１であった。
【０１１９】
（実施例８）
（（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ビス−（２−ナフチル）エタノールの調製）
マグネシウム研削物（１．６６ｇ、６８ｍｍｏｌ）および乾燥テトラヒドロフラン（４５ｍＬ）をフラスコに添加し、次いで、これを窒素でフラッシュした。次いで、２−ブロモナフタレン（１１．８ｇ、５７ｍｍｏｌ）の乾燥テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液を、穏やかに温めた状態でゆっくり添加した。この添加物が完了したときに、この反応物を３０分間還流し、次いで、０℃まで冷却した。テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）を添加し、続いて（Ｒ）−シクロへキシルグリシンメチルエステルヒドロクロリド（３．１６ｇ、１５．２ｍｍｏｌ）を、温度を約０℃に保った状態で、少しずつ添加した。次いで、この反応混合物を、２５℃まで温め、そして１６時間攪拌した。この反応物を、氷浴で冷却し、そして氷および２Ｎの塩酸（６０ｍＬ）を添加することによってクエンチした。水酸化アンモニウム（６ｍＬ）をｐＨ＝９になるまで混合物に添加した。この得られたマグネシウム塩の沈殿物を、濾過により除去し、そして酢酸エチルで洗浄した。この濾液および洗浄物を２つの層に分離し、そして水層を酢酸エチルで３回抽出した。この抽出物を、元々の有機層と合わせて、そして減圧下で濃縮し、固体残渣として粗生成物を得た。これを、ヘキサン／酢酸エチルの勾配で溶出する、シリカゲルのカラムクロマトグラフィーによって精製した。この純粋な生成物を含む画分を合わせて、そして残渣へと濃縮した。これを、酢酸エチルにより結晶化して、（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ビス−（２−ナフチル）エタノールを得た。
【０１２０】
ｍ．ｐ．＝２０５−２０６℃および［α］Ｄ２０℃＝＋２４８°（１０．４ｍｇ／ｍＬ、ＣＨＣｌ３）。
【０１２１】
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ０．８４−１．６１（１２Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−，ＮＨ２）；δ２．０５（１Ｈ，ｂｒ　ｓ，−ＣＨ−）；δ４．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，−ＣＨＮ）；δ７．３８−７．５１（５Ｈ，ｍ，Ａｒ）；δ７．６８−７．７５（５Ｈ，ｍ，Ａｒ）；δ７．８１−７．８７（１２Ｈ，ｍ，Ａｒ）；δ８．０９（２Ｈ，ｓ，Ａｒ）。１３Ｃ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ２６．１３６；δ２６．３０４；δ２６．７７１；δ２６．８４７；δ３３．１３１；δ３８．４２３；δ６０．２１３；δ８０．２３１；δ１２３．６７０；δ１２４．１０５；δ１２４．２５１；δ１２５．３４８；δ１２５．５６８；δ１２５．７９０；δ１２５．８３３；；δ１２６．０３２；δ１２７．４１４；δ１２７．５６７；δ１２８．１９５；δ１２８．２５２；δ１２８．３２１；δ１３２．１０７；δ１３２．２１７；δ１３３．１００；δ１３３．２５９；δ１４２．０４４；δ１４５．１９３。ＨＲ−ＭＳにおいて、Ｃ２８Ｈ３０ＮＯの計算値は、３９６．２３２７である一方で、実測値は、３９６．２３３２であった。
【０１２２】
（実施例９）
（（Ｓ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジベンジルエタノールの調製）
ベンジルマグネシウムクロリドの溶液（２Ｍ（テトラヒドロフラン中）、７５ｍＬ）に、乾燥テトラヒドロフラン（７５ｍＬ）を添加し、そしてこの反応混合物を、５℃まで冷却した。（Ｓ）−シクロへキシルグリシンメチルエステルヒドロクロリド（５．７１５ｇ、０．１５ｍｏｌ）を、温度を約５℃に保った状態で、少しずつ添加した。この反応混合物を、４５℃まで１時間かけて温め、次いで室温で約１６時間攪拌した。氷および２Ｎの塩酸（５００ｍＬ）を反応物に添加し、続いて水酸化アンモニウム（３０ｍＬ）を添加してｐＨ＝９にした。得られたマグネシウム塩の沈殿物を、濾過により除去し、そして酢酸エチルで洗浄した。この濾液および洗浄物を２つの層に分離し、そして水層を酢酸エチル（２×３５ｍＬ）で抽出した。この抽出物を、元々の有機層と合わせて、そして減圧下で濃縮し、固体の残渣として生成物を得た。ヘキサンによる残渣の再結晶によって、（Ｓ）−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジベンジルエタノールを得た。
【０１２３】
収率＝４．３ｇ、ｍ．ｐ．＝８０−８１℃および［α］Ｄ２０℃＝−１１．２°（７ｍｇ／ｍＬ、ＣＨＣｌ３）。
【０１２４】
Ｃ２２Ｈ２９ＮＯの質量分析の計算値は、Ｃ，８１．６９％；Ｈ，９．０４％およびＮ，４．３３％である一方で、実測値は、Ｃ，８１．２２％；Ｈ，８．９６％およびＮ，４．３２％であった。
【０１２５】
１Ｈ　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）；δ０．９８−１．７４（１０Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−）；δ１．８０（１Ｈ，ｄ，−ＣＨ−）；δ２．６５（２Ｈ，ｑ，−ＣＨ２Ｐｈ）；δ２．７０（２Ｈ，ｑ，ＣＨ２Ｐｈ）；δ３．３２（１Ｈ，ｂｓ，−ＣＨ−Ｎ）；δ４．５３（１Ｈ，ｂｓ，−ＯＨ）；δ７．０８−７．４６（１０Ｈ，ｍ，Ｐｈ）。
【０１２６】
（実施例１０）
（（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンの調製）
（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジフェニルエタノール（２．９５ｇ、１０ｍｍｏｌ）を、窒素雰囲気下で、乾燥テトラヒドロフラン（１９ｍＬ）に添加し、そしてこの溶液を０℃まで冷却した。ボラン−テトラヒドロフラン錯体（１Ｍ溶液（テトラヒドロフラン中）、１１ｍＬ）を添加した。この反応混合物を、室温で２時間保ち、次いでテトラヒドロフランで希釈し、（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジン（３．０７ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）ストック溶液を生成した。
【０１２７】
（実施例１１）
（（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンの調製）
（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジフェニルエタノール（２．９５ｇ、１０ｍｍｏｌ）を、窒素雰囲気下で乾燥テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に添加し、そしてこの溶液を、０℃まで冷却した。ボラン−硫化ジメチル錯体（１．０ｍＬ、１０ｍｍｏｌ）を添加した。この反応混合物を、室温で２時間保ち、次いで乾燥テトラヒドロフランで希釈し、（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジン（３．０７ｇ）の０．１Ｍストック溶液（テトラヒドロフラン中、１００ｍＬ）を生成した。
【０１２８】
（実施例１２）
（（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−２−メチル−１，３，２−オキソアザボロリジンの調製）
（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジフェニルエタノール（２．９５ｇ、１０ｍｍｏｌ）およびトルエン（６０ｍＬ）を、デーンシュタルクトラップを取り付けた１００ｍＬの一口フラスコに充填し、次いで、これを窒素でフラッシュした。この混合物を、大気圧下での蒸留により、３０ｍＬの体積まで濃縮した。次いで、トルエン（３０ｍＬ）を添加し、そして混合物を再び蒸留することによって３０ｍＬまで濃縮した。トルエン（３０ｍＬ）を再び添加し、そして混合物を再び蒸留により３０ｍＬまで濃縮した。この反応混合物を、室温まで冷却し、トリメチルボロキシン（０．９４ｍＬ、６．７ｍｍｏｌ）を添加し、そしてこの反応混合物を室温で１６時間攪拌した。トルエン（２０ｍＬ）を添加し、そして３０ｍＬの溶媒を留去した。さらなるトルエン（３０ｍＬ）を添加し、そして３０ｍＬ以上の溶媒を留去した。さらにもう一度、さらなるトルエン（３０ｍＬ）を添加し、次いで全ての溶媒を蒸留により除去し、（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−２−メチル−１，３，２−オキソアザボロリジンを得た。
【０１２９】
収率＝３．１９ｇ。
【０１３０】
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ０．４２（３Ｈ，ｓ，−ＢＣＨ３−）；δ０．７６−１．６２（１０Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−）；δ１．７４（１Ｈ，ｍ，−ＣＨ−）；δ３．５０（１Ｈ，ｂｓ，−ＮＨ−）；δ４．１４（１Ｈ，ｄ，−ＣＨ−Ｎ）；δ７．２３−７．６６（１０Ｈ，ｍ，Ｐｈ）。
【０１３１】
上で生成した固体生成物を、乾燥テトラヒドロフラン中に溶解し、０．３３Ｍの（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−２−メチル−１，３，２−オキソアザボロリジンのストック溶液（３０ｍＬ）を生成した。
【０１３２】
（実施例１３）
（（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−２−メトキシ−１，３，２−オキソアザボロリジンの調製）
（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジフェニルエタノール（２．９５、１０ｍｍｏｌ）のトルエン（３４ｍＬ）溶液を、溶媒（１０ｍＬ）を除去するために蒸留した。さらなるトルエン（１７ｍＬ）を添加し、そしてさらに１７ｍＬの溶媒を留去した。さらなる５８ｍＬのトルエンを添加し、そしてさらに１７ｍＬの溶媒を留去した。さらに１７ｍＬのトルエンを添加し、続いてトリメチルボロキシン（０．９３ｍＬ、６．６８ｍｍｏｌ）を室温で添加した。この反応混合物を３０分間、室温に保ち、１０ｍＬの体積まで濃縮した。トルエン（１７ｍＬ）を再び添加し、そしてさらに１７ｍＬの蒸留物を留去した。さらなるトルエン（１７ｍＬ）を添加し、そしてそれ以上、蒸留物が除去されなくなるまで、大気圧で蒸留し続けた。乾燥テトラヒドロフランをこの残渣に添加し、この生成物（（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−２−メトキシ−１，３，２−オキソアザボロリジン）（３．２ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）のストック溶液を得た。
【０１３３】
（実施例１４）
（ボランおよび（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いたブロモアセトフェノンのキラル還元）
（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジフェニルエタノール（５９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン（２ｍＬ）およびボラン−硫化ジメチル錯体（１００μＬ，１．０ｍｍｏｌ）を、窒素雰囲気下で乾燥フラスコに添加した。この反応混合物を、室温で１．５時間攪拌し、（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンを形成した。ブロモアセトフェノン（１９９ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）の乾燥テトラヒドロフラン（４ｍＬ）溶液を、ボラン／（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジン錯体にシリンジポンプを用いて９ｍＬ／時間の速度で添加した。得られた混合物を、室温でさらに１．５時間攪拌した。メタノールを添加して、この反応をクエンチし、次いで、この溶媒を、エバポレーションにより除去した。得られた残渣を、シリカゲルのクロマトグラフ（ヘキサン／酢酸エチル，２５：１）にかけ、同じ画分を合わせ、続いて溶媒を除去し、（Ｒ）−２−ブロモ−１−フェニルエタノール（１７０ｍｇ、９７．９％ｅｅ）を得た。このエナンチオマー過剰率を、ＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤ−Ｈカラム、移動相、ヘキサン／２−プロパノール　９：１、流速＝０．７ｍＬ／分）によって測定した。
【０１３４】
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ２．５３（１Ｈ，ｂｓ，−ＯＨ）；δ３．６１（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ２Ｂｒ）；δ４．８９（１Ｈ，ｄｄ，−ＣＨ−）；δ７．２９−７．４２（５Ｈ，ｍ，−Ｐｈ）。
【０１３５】
（実施例１５）
（ボランおよび（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−２−メトキシ−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いたブロモアセトフェノンのキラル還元）
（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ジフェニルエタノール（５９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン（２ｍＬ）およびトリメチルボロキシン（２７．２μＬ、０．２４ｍｍｏｌ）を、窒素雰囲気下で乾燥フラスコに添加し、次いで１．５時間攪拌し、（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−２−メトキシ−１，３，２−オキソアザボロリジンの溶液を形成した。ボラン−硫化ジメチル錯体（１００μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を添加し、そしてこの反応物を３０分間攪拌した。次いで、ブロモアセトフェノン（１９９ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）の乾燥テトラヒドロフラン（４ｍＬ）溶液を、シリンジポンプを用いて９ｍＬ／時間の速度で添加した。１．５時間後、メタノールを添加して、この反応をクエンチし、次いで、この溶媒を、エバポレーションにより除去した。得られた残渣を、シリカゲルのクロマトグラフ（ヘキサン／酢酸エチル，２０：１）にかけ、同じ画分を合わせ、続いて溶媒を除去し、（Ｒ）−２−ブロモ−１−フェニルエタノール（１３０ｍｇ、９８．７％ｅｅ）を得た。このエナンチオマー過剰率を、ＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤ−Ｈカラム、移動相、ヘキサン／２−プロパノール　９：１、流速＝０．７ｍＬ／分）によって測定した。
【０１３６】
（実施例１６）
（ボランおよび（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−２−メチル−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いたブロモアセトフェノンのキラル還元）
（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−２−メチル−１，３，２−オキソアザボロリジン（０．４ｍＬ）（実施例１２において調製した）の０．２５Ｍテトラヒドロフラン溶液を、窒素下で、ボラン−硫化ジメチル錯体（０．０５ｍＬ、０．５ｍｍｏｌ）を含む乾燥フラスコに添加した。この混合物を、室温で１時間攪拌し、次いでブロモアセトフェノン（９９．５ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）の乾燥テトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液を、ボラン／（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ジフェニル−２−メチル−１，３，２−オキソアザボロリジン錯体にシリンジポンプを用いて２０分かけて添加した。反応物を、室温で２時間攪拌した。メタノールを添加して、この反応をクエンチし、次いで、この溶媒を、エバポレーションにより除去した。得られた残渣を酢酸エチルに溶解し、１Ｍの塩酸で洗浄し、そしてシリカゲルのプラグを通して濾過した。この濾液を濃縮して、（Ｒ）−２−ブロモ−１−フェニルエタノールを提供した。このエナンチオマー過剰率は、９６．２％であり、これは、ＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤ−Ｈカラム、移動相、ヘキサン／イソプロピルアルコール　９：１、流速＝０．６ｍＬ／分）によって測定した。
【０１３７】
（実施例１７）
（ボランおよび（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ビス−（２−ナフチル）−２−メトキシ−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いたブロモアセトフェノンのキラル還元）
（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ビス（２−ナフチル）エタノール（７９．１ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン（２ｍＬ）およびトリメチルボロキシン（２７．２μＬ、０．２４ｍｍｏｌ）を、窒素雰囲気下で乾燥フラスコに添加し、次いで１時間攪拌し、（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ビス（２−ナフチル）−２−メトキシ−１，３，２−オキソアザボロリジンの溶液を形成した。ボラン−硫化ジメチル錯体（１００μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を添加し、そしてこの反応物を３０分間攪拌した。次いで、ブロモアセトフェノン（１９９ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）の乾燥テトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液を、シリンジポンプを用いて９ｍＬ／時間の速度で添加した。２時間後、メタノールを添加して、この反応をクエンチし、続いて、０．５Ｎのエタノール性ＨＣｌ（０．４ｍＬ）を添加した。この溶媒を、減圧下でエバポレーションにより除去し、得られた残渣を、シリカゲルのクロマトグラフ（ヘキサン／酢酸エチル，２５：２）にかけ、同じの画分を合わせ、続いて溶媒を除去し、（Ｒ）−２−ブロモ−１−フェニルエタノール（１３０ｍｇ、収率９３％、９８．３％ｅｅ）を得た。このエナンチオマー過剰率を、ＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤ−Ｈカラム、移動相、ヘキサン／２−プロパノール　９：１、流速＝０．７ｍＬ／分）によって測定した。
【０１３８】
（実施例１８）
（ボランおよび（Ｓ）−４−シクロへキシル−５，５−ビス−（４−メトキシ）フェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いたブロモアセトフェノンのキラル還元）
（Ｓ）−２−アミノ−２−シクロへキシル−１，１−ビス（４−メトキシフェニル）エタノール（７１．２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン（２ｍＬ）およびボラン−硫化ジメチル錯体（１００μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を、窒素雰囲気下で乾燥フラスコに添加した。この混合物を、室温で１．５時間攪拌し、（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ビス−（４−メトキシ）フェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンを形成した。ブロモアセトフェノン（１９９ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）の乾燥テトラヒドロフラン（４ｍＬ）溶液を、ボラン／（Ｒ）−４−シクロへキシル−５，５−ビス（４−メトキシ）フェニル−１，３，２−オキソアゾボロリジン錯体にシリンジポンプを用いて９ｍＬ／時間の速度で添加した。得られた混合物を、室温で、さらに１．５時間攪拌した。メタノールを添加して、この反応をクエンチし、次いで溶媒をエバポレーションにより除去した。得られた残渣を、シリカゲルのクロマトグラフ（ヘキサン／酢酸エチル，２５：１）にかけ、同じ画分を合わせ、続いて溶媒を除去し、（Ｓ）−２−ブロモ−１−フェニルエタノール（１７０ｍｇ、９６．６％ｅｅ）を得た。このエナンチオマー過剰率を、ＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤ−Ｈカラム、移動相、ヘキサン／２−プロパノール　９：１、流速＝０．７ｍＬ／分）によって測定した。
【０１３９】
（実施例１９）
（ボランおよび（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いる（４−クロロアセチル）メタンスルホンアニリドのキラル還元）
窒素下で、乾燥した装置に、（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１−ジフェニルエタノール（２９．５ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン（８ｍＬ）およびボラン／ジメチルスルフィド錯体（５０μＬ）を室温で添加した。この混合物を２時間撹拌して、（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンの溶液を形成した。次いで、乾燥テトラヒドロフラン（４ｍＬ）中の（４−クロロアセチル）−メタンスルホンアニリド（１２３．９ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）の溶液を、シリンジポンプを用いて、９ｍＬ／分の速度で添加した。この反応混合物を一晩撹拌し、次いで、メタノールを添加することによってクエンチした。次いで、この反応混合物を、固体残渣になるまで濃縮し、次いで、この残渣を酢酸エチルに溶解し、そして２Ｎの塩酸で洗浄した。この酢酸エチル層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、そして濃縮して、（Ｒ）−４−（１−ヒドロキシ−２−クロロエチル）メタンスルホニルアニリドを得た。このエナンチオマー比は、９７．５：２．５（Ｒ：Ｓ）であった（キラルＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤ−Ｈカラム、移動相：ヘキサン／酢酸エチル（７：３）、流速＝０．７ｍＬ／分）で測定）。
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ２．７１（１Ｈ，ｄ，−ＯＨ）；δ２．９５（３Ｈ，ｓ，−ＣＨ３）；δ３．６１（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ２Ｃｌ）；δ４．８２（１Ｈ，ｄ，−ＣＨ−）；δ６．７４（１Ｈ，ｓ，−ＮＨ）；δ７．１６（２Ｈ，ｄ，−ＡｒＨ）；δ７．３３（２Ｈ，ｄ，−ＡｒＨ）。
【０１４０】
（実施例２０）
（ボランおよび（Ｒ）−４−シクロヘキシル−２−メトキシ−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いる（４−クロロアセチル）メタンスルホンアニリドのキラル還元）
乾燥したフラスコに、乾燥（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１，−ジフェニルエタノール（１４７．７ｇ、０．５ｍｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン（２．５ｍＬ）、およびトリメチルボレート（６８μＬ）を添加し、そして室温で撹拌して、（Ｒ）−４−シクロヘキシル−２−メトキシ−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンの溶液を生成した。この溶液の０．５ｍＬ（０．１ｍｍｏｌ）を、乾燥したフラスコ中のボラン／ジメチルスルフィド錯体（５０μＬ、０．５ｍｍＯＫ）に添加し、そして乾燥テトラヒドロフラン（３ｍＬ）中の（４−クロロアセチル）メタン−スルホンアニリド（１２４ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）の溶液を、シリンジポンプで２０分かけて添加した。この反応物をさらに２時間撹拌し、この時点で、薄層クロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル　１：１）により、この反応が完了したことが示された。次いで、この反応を、メタノールを添加することによってクエンチし、固体残渣になるまで濃縮し、この残渣を酢酸エチルに溶解し、そして、２Ｎの塩酸で洗浄した。酢酸エチル層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、そして濃縮して、（Ｒ）−４−（１−ヒドロキシ−２−クロロエチル）メタンスルホンアニリドを得た。エナンチオマー過剰率＝９４．３％（Ｒ）（キラルＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤ−Ｈカラム）、移動相：ヘキサン／酢酸エチル（７．３）、流速＝０．７ｍＬ／分）により測定）。
【０１４１】
（実施例２１）
（ボランおよび（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−２−メトキシ−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いる３，５−（ビストリフルオロメチル）アセトフェノンのキラル還元）
乾燥したフラスコに、（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１−ジフェニルメタノール（５９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン（２ｍＬ）、およびトリメチルボレート（２７．２μＬ、０．２４ｍｍｏｌ）を添加し、そして窒素雰囲気下で、１．５時間撹拌した。ボランジメチルスルフィド錯体（１００μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を添加し、そしてこの反応混合物を室温でさらに３０分間撹拌した。テトラヒドロフラン（３ｍＬ）中の３，５−（ビストリフルオロメチル）アセトフェノン（１８０μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を、９ｍＬ／分の速度で、シリンジポンプを用いて添加し、そしてこの反応物をさらに１．５時間撹拌した。薄層クロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル　４：１）により、出発物質が存在しないことが示された。この反応を、メタノールを添加することによってクエンチした。溶媒を減圧下でエバポレートし、そして残渣を酢酸エチルに溶解し、そして１Ｎの塩酸で３回洗浄した。酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、シリカゲルのプラグを通して濾過し、そして濃縮して、（Ｓ）−１−［３，５−（ビストリフルオロメチル）フェニルエタノール］を９２．６％のｅｅで得た。このエナンチオマー比は、ＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤカラム（２５ｃｍ×４．６ｍｍ）、ヘキサン／２−プロパノール（９７：３）の移動相、２５℃で０．７ｍＬ／７分を使用）によって決定した。ＵＶ検出は、２５４ｎｍで行った。
【０１４２】
（実施例２２）
（ボランおよび（Ｓ）−４−シクロヘキシル−５，５−ビス−（４−メトキシフェニル）−２−メトキシ−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いる３，５−（ビストリフルオロメチル）アセトフェノンのキラル還元）
乾燥したフラスコに、（Ｓ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１−ビス−（４−メトキシフェニル）エタノール（７１．１ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン（２ｍＬ）、およびトリメチルボレート（２７．２μＬ、０．２４ｍｍｏｌ）を添加し、そして窒素雰囲気下で１．５時間撹拌して、（Ｓ）−４−シクロヘキシル−５，５−ビス−（４−メトキシフェニル）−２−メトキシ−１，３，２−オキソアザボロリジンの溶液を生成した。この溶液に、ボランジメチルスルフィド錯体（１００μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を添加し、そしてこの混合物を室温でさらに３０分間撹拌した。テトラヒドロフラン（３ｍＬ）中の３，５−（ビストリフルオロメチル）−アセトフェノン（１８０μＬ、１．０ｍｍｏｌ）溶液を、９ｍＬ／分の速度でシリンジポンプを用いて添加し、次いでこの反応物をさらに１．５時間撹拌した。薄層クロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル　４：１）により、出発物質が存在しないことが示された。この反応を、メタノールを添加することによってクエンチした。溶媒を減圧下でエバポレートし、そして残渣を酢酸エチルに溶解し、そして１ＮのＨＣｌで３回洗浄した。酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、シリカゲルのプラグを通して濾過し、そして濃縮して、（Ｒ）−１−［３，５−（ビストリフルオロメチル）フェニルエタノールを得た。このエナンチオマー比は、ＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＢカラム（２５ｃｍ×４．６ｍｍ）、ヘキサン／２−プロパノール（９７：３）の移動相、２５℃で０．７ｍＬ／７分を使用）によって決定した。ＵＶ検出は、２５４ｎｍで行った。
１Ｈ　ＮＨＲ（ＣＤＣｌ３）；δ１．５６（３Ｈ，ｄ，ＣＨ３−）；δ１．９９（１Ｈ，ｂｒｓ，−ＯＨ）；δ５．０７（１Ｈ，ｑ，−ＣＨ−）；δ７．８０（１Ｈ，ｓ，ＨＡｒ）、δ７．８６（２Ｈ，ｓ，ＨＡｒ）、ｅｅ＝９３．３％。
【０１４３】
（実施例２３）
（ボランおよび（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−２−メトキシ−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いる１−テトラロンのキラル還元）
乾燥したフラスコに、（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１−ジフェニルエタノール（５９ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）、乾燥テトラヒドロフラン（２ｍＬ）、およびトリメチルボレート（２７．２μＬ、０．２４ｍｍｏｌ）を、添加し、そして窒素雰囲気下で１．５時間撹拌して、（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−２−メトキシ−１，３，２−オキソアザボロリジンの溶液を生成した。この溶液に、ボランジメチルスルフィド錯体（１００μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を添加し、そしてこの混合物を室温でさらに３０分間撹拌した。テトラヒドロフラン（５ｍＬ）中の１−テトラロン（１３３μＬ、１．０ｍｍｏｌ）の溶液を、１６ｍＬ／分の速度でシリンジポンプを用いて添加し、次いでこの反応物をさらに１時間撹拌した。薄層クロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル　４：１）により、出発物質が存在しないことが示された。この反応を、メタノールを添加することによってクエンチした。溶媒を減圧下でエバポレートし、そして残渣を酢酸エチルに溶解し、そして１ＮのＨＣｌで３回洗浄した。酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、シリカゲルのプラグを通して濾過し、そして濃縮して、（Ｓ）−１−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロナフタレンを、９６．５％のｅｅで得た。このエナンチオマー比は、ＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＢカラム（２５ｃｍ×４．６ｍｍ）、ヘキサン／２−プロパノール（９：１）の移動相、２５℃で０．７ｍＬ／７分を使用）によって決定した。ＵＶ検出は、２５４ｎｍで行った。
【０１４４】
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３：δ　１．７８−２．１０（４Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−）；δ　２．８１（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−）；δ　４．８０（１Ｈ，ｂｓ，−ＣＨ−）；δ　７．１３（１Ｈ，ｍ，Ａｒ）；δ　７．２４（２Ｈ，ｍ，Ａｒ）；δ　７．４５（１Ｈ，ｍ，Ａｒ）。
【０１４５】
（実施例２４）
（ボランおよび（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いる２−フェニルメトキシ−５−ブロモアセチルベンズアミドのキラル還元）
乾燥した器具中の、乾燥テトラヒドロフラン（５ｍＬ）中の（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１−ジフェニルエタノール（１８４ｍｇ、０．６２５ｍｍｏｌ）の溶液に、室温、窒素雰囲気下で、ボラン／ジメチルスルフィド錯体（１２５μＬ）を添加した。この混合物を１時間撹拌して、（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンの溶液を生成した。乾燥テトラヒドロフラン中の２−フェニルメトキシ−５−ブロモアセチルベンズアミド（１７４ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）の溶液を、ボラン／（Ｒ）−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジン錯体に一度に添加し、そして９０分間撹拌した。この反応混合物を水で希釈し、そしてテトラヒドロフランを、減圧蒸留によって除去した。酢酸エチルおよび２．１ｍＬの９％ＨＣｌをこの残渣に添加し、次いで、沈殿した（Ｒ）−２−アミノ−２−シクロヘキシル−１，１−ジフェニルエタノール塩酸塩を濾去した。濾液の相を分離し、続いて、水相を酢酸エチルで抽出した。抽出物を元の有機酢酸エチル相と合わせ、続いて希塩酸で洗浄し、次いでブラインで洗浄した。酢酸エチルを濃縮し、そして（Ｒ）−２−フェニルメトキシ−５−（１−ヒドロキシ−２−ブロモエチル）ベンズアミドを、分取用薄層クロマトグラフィーで精製した。この生成物を、酢酸エチルから結晶化した。エナンチオマー比を、ＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤ−Ｈカラム、移動相：ヘキサン／エタノール（４：１）、流速：０．６ｍＬ／７分）で決定した。ＵＶ検出は、２５４ｎｍで行った。
収量＝０．２８３ｇ、ｍ．ｐ．＝１８５．５〜１８７℃、および［α］Ｄ２６℃−１７．３°（ｃ＝１．０２５，ＭｅＯＨ）．
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ　２．８０（２Ｈ，ｍ，−ＯＨ）；δ３．６０（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ２Ｂｒ）；δ　４．９７（１Ｈ，ｍ，−ＣＨＯ−）；δ　５．２３（２Ｈ，ｓ，−ＣＨ２Ｐｈ）；δ　５．８２（１Ｈ，ｂｓ，−ＮＨ）；δ　７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ，ＡｒＨ３）；δ　７．３５−７．５３（５Ｈ，ｍ，Ｐｈ）；δ　７．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１０Ｈｚ，ＡｒＨ４）；δ　７．７７（１Ｈ，ｂｓ，−ＮＨ）；δ　８．２６（１Ｈ，ｄ．Ｊ＝２Ｈｚ，ＡｒＨ６）；エナンチオマー比　９５．５：４．５（Ｒ：Ｓ）。
【０１４６】
（実施例２５）
（ボランおよび（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−２−メチル−１，３，２−オキソアザボロリジンを用いる（Ｒ）−３−［５−（４−フルオロフェニル）−１，５−ジケトペンチル］−４−フェニル−１，３−オキソアゾリジン−２−オンのキラル還元）
（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５−ジフェニル−２−メチル−１，３，２−オキソアザボロリジンの１Ｍ溶液を調製した。実施例１３に記載されるようにして、乾燥テトラヒドロフランをこの生成物に添加して、１０ｍＬのテトラヒドロフラン中の（Ｒ）−４−シクロヘキシル−５，５−ジフェニル−２−メチル−１，３，２−オキソアザボロリジン（３．１９ｇ）のストック溶液を得た。ボラン／ジエチルスルフィド錯体（２．８０ｍＬ）およびテトラヒドロフラン（５．６ｍＬ、５．６ｍｍｏｌ）中の（Ｒ）−４−シクロヘキシル−２−メチル−５，５−ジフェニル−１，３，２−オキソアザボロリジンキラル触媒の１Ｍ溶液を、乾燥した２５０ｍＬのフラスコに、室温で添加した。この混合物を室温で１５分間撹拌した。この混合物に、塩化メチレン（５０ｍＬ）中の（Ｒ）−３−［５−（４−フルオロフェニル）−１，５−ジケトペンチル］−４−フェニル−１，３−オキサゾリジン−２−オン（１０ｇ、２８ｍｍｏｌ）の溶液を、４３分で撹拌しながらゆっくりと添加した。３．５時間後に、この反応をクエンチした。９６：４（Ｓ，Ｒ：Ｒ，Ｒ）のジアステレオマー比を、ＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ　ＯＤ−Ｈカラム（１５ｃｍ×４．６ｍｍ）、ヘキサン／エタノール（７：３）の移動相、２５°で０．７ｍＬ／分を使用）によって決定した。ＵＶ検出は、２５４ｎｍで行った。
１Ｈ　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）；δ　１．３７−１．６８（４Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−）；δ　２．８６（２Ｈ，ｍ，−ＣＨ２−）；δ４．１３（１Ｈ，ｍ，−ＣＨ２Ｏ−）；δ　４．５１（１Ｈ，ｍ，−ＣＨＯ−）；δ　４．７２（１Ｈ，ｍ，−ＣＨ２Ｏ−）；δ　５．２０（１Ｈ，ｄ，−ＯＨ）；δ　５．４５（１Ｈ，ｍ，−ＣＨＮ−）；δ７．０９−７．４３（９Ｈ，ｍ，Ａｒ）；１３Ｃ　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）；δ２０．６４；δ３４．９２；δ３８．７８；δ５７．２１；δ７０．４３；δ７１．６７；δ１１４．８３；δ１１５．０４；δ１２６．０１；δ１２７．８９；δ１２７．９７；δ１２８．２８；δ１２９．１４；δ１４０．３５；δ１４２．７１；δ１５４．０７；δ１６０．１５；δ１６２．５６；δ１７２．３６。
【０１４７】
上記の記載は、この記載を読んで当業者に明らかとなる本発明の全ての改変および変更を詳述することを意図しない。しかし、全ての明らかな改変および変更が、上記の特許請求の範囲により規定される本発明の範囲内に含まれることが意図される。
【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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