(57)【要約】スラリーを基板（２）に塗布するための装置（１）。装置は、スラリーの層を支持するために配置される分配表面（５）と合体した分配ドラム（４）を含む。スパッタリングローラ（８）は、前記分配ドラムに近接して配置され、分配表面から基板にスラリーをスパッタリングするように回転可能である。調節手段は、分配表面から基板へのスラリーの流れを選択的に、変更し、または変更を中断するか、または該流れを中断する。
2004523351.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スラリーを基板に塗布するための装置であって、
スラリーの層を支持するために配置される分配表面と、
該分配表面に近接して配置され、分配表面から基板にスラリーをスパッタリングするように移動可能に構成されたスパッタリング手段と、
分配表面から基板へのスラリーの流れを選択的に変更するか、または中断する調節手段と
を含んでいる装置。
【請求項２】
前記調節手段の上流にスラリーを収納するための容器をさらに含んでなる請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記容器が、供給源からスラリーを通す入口と前記調節手段と関連する出口を含んでいる請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記調節手段が、可変可能な効果的な断面流動面積の中間隙間スペースを形成するために、選択的に移動自在の一対のバリア要素を含んでおり、これにより前記出口を介して各バリア要素間の前記容器からのスラリーの流量の調節を前記分配表面に対して選択的に許容する請求項１、２または３記載の装置。
【請求項５】
前記バリア要素が、近接した形態において、前記容器と分配表面とのあいだの流れを遮断するよう構成されてなる請求項４記載の装置。
【請求項６】
前記１つのバリア要素が、第１軸の回りに回転自在な第１の円筒形ローラからなる請求項４または５記載の装置。
【請求項７】
前記もう１つのバリア要素が、第１軸に平行な第２軸の回りに回転自在な第２の円筒形ローラである請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記第１および第２ローラがそれぞれ反対方向へ回転するように構成されてなる請求項７記載の装置。
【請求項９】
前記第１ローラが分配ドラムの形であり、その表面は前記分配表面を構成しており、前記第２ローラが該分配表面に向かってまたは離れるように選択的に移動自在である計測ローラの形である請求項８記載の装置。
【請求項１０】
さらに前記分配ドラムを支持するフレーム本体と前記計測ローラを取り付ける第１サブフレームを含んでおり、該第１サブフレームが第２軸に平行で、かつ離れたところの第３軸の回りに回転自在にされており、それらの平行な方向を維持しながら前記分配ドラムに向かったりまたは離れるように前記計測ローラを調節自在に移動する請求項９記載の装置。
【請求項１１】
互いに向かうまたは離れるように前記計測ローラと分配ドラムを調節して移動させるために、前記フレーム本体と第１サブフレームとのあいだに効果的に延設する第１アクチュエータ手段をさらに含む請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
前記第１アクチュエータ手段が圧縮空気または油圧シリンダーを含んでなる請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
前記スパッタリング手段が、第４軸の回りに回転自在な円筒体から半径方向外側に伸びるブリストル形状の弾性で柔軟な複数の細長いスパッタリング要素を含んでなる請求項１１記載の装置。
【請求項１４】
請求項１０に従属する場合において、前記第４軸が前記第１、第２および第３軸に一般的に平行である請求項１３記載の装置。
【請求項１５】
前記円筒体とスパッタリング要素とが一緒にスパッタリングローラを構成する請求項１３または１４記載の装置。
【請求項１６】
前記スパッタリングローラが取り付けられる第２サブフレームをさらに含んでおり、該第２サブフレームが実質的に前記第４軸に平行で、かつ該第４軸から隔てたところに位置する第５軸の回りに回転自在にされている請求項１５記載の装置。
【請求項１７】
前記第２アクチュエータ手段が、調節手段の一部として前記スパッタリングプロセスの変更や中断を選択できるように、前記分配ドラムに向かってまたは離れるように前記スパッタリングローラの調節可能な移動を単独で達成させるために、前記フレーム本体と第２サブフレームとのあいだに効果的に延設されている請求項１６記載の装置。
【請求項１８】
前記第２アクチュエータ手段が圧縮空気または油圧シリンダーを含んでなる請求項１７記載の装置。
【請求項１９】
前記スラリーの供給を収納するタンクと該タンクから前記容器に入口を通してスラリーを配送する配送導管とをさらに含んでなる請求項９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７または１８記載の装置。
【請求項２０】
前記容器が前記分配ドラムと計測ローラの真上に配置されるタンクにより形成されてなる請求項１９記載の装置。
【請求項２１】
前記容器が調節ローラ間に形成される封じ込め領域からなる請求項１９記載の装置。
【請求項２２】
前記封じ込め領域が前記分配ローラ上に配置される計測ローラとともに、前記分配ドラムと接近するアイドラーローラとのあいだに形成されてなる請求項２１記載の装置。
【請求項２３】
シリカ、セメント、水および随意的に他の添加物の混合から形成されるセメント質のスラリーと共に使用するために適応される請求項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１または２２記載の装置。
【請求項２４】
前記セメント質のスラリーが５０％と約９０％のあいだの固形分を有する自己均一性の脱水可能なスラリーである請求項２３記載の装置。
【請求項２５】
前記スラリーが、下にある基板を介してスラリーの脱水を可能にするために、充分な量の脱水補助剤を含む請求項２４記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、以下のオーストラリアの仮特許出願から優先権を請求し、その全内容は、クロスリファレンスによって本明細書に織り込まれている。
【０００２】
2004523351.tif 000003
【０００３】
本発明は、流動性物質のアプリケータ、好ましい形態では、スパッタリングによってスラリーを基板に塗布する装置に関する。
【０００４】
本発明は、本来、セメント質のスラリーからファイバー鉄筋コンクリート（“ＦＲＣ”）のシートを形成するのに使用するために開発されたものである。そのため、主としてそれが本出願に関して記述されている。しかしながら、本発明は、この特定の分野での使用に限定されることがないことは明らかである。
【背景技術】
【０００５】
従来技術についての以下の議論は、適切な技術的背景において本発明を述べ、そして、それの趣旨が適切に認識されることを可能とするように意図されている。しかしながら、明白に示されていないかぎり、本明細書におけるあらゆる従来技術に対する言及は、そのような技術が、広範囲に知られているか、または、その分野において一般に普通の知識の一部分を形成することを認めているものとみなされるべきではない。
【０００６】
液体を基板に塗布する種々の装置が知られている。たとえば、１つのプロセスは、スプレーバーを使用し、それによって、ペイントまたはプライマーなどの液体コーティングは、一般にコンベヤのスプレーバーの下を漸次に通過する基板をコーティングするように、間隔がおかれて離れているノズルを介して噴出されて、霧化される。このタイプの装置に伴う１つの問題は、均一のコーティングを必要とする霧化の程度を達成するのに必要とされる比較的精度の高いノズルが、とくに、縣濁液中に固体成分を含有するスラリーの場合、すぐに詰まることである。これにより、相互に調和しない塗布という結果となり、そして、頻繁にクリーニングをすることが必要となり、それは、時間の浪費であり、費用が高くなり、かつ、製造プロセスを中断させることになる。霧化は、粘性の高い液体およびスラリーの場合に問題を含むことになる。
【０００７】
別の知られている装置は、移動する基板の上に掛け、そして、直接ぬぐう作用によってコーティングを塗布する、軟質ファブリック材料のシートまたはカーテンを使用するカーテンコーティング装置である。しかしながら、カーテンコーティング装置は、相互に調和しない塗布になりがちであり、スラリーとの使用にあまり適切でなく、それらが製造環境において効果的に作動することが可能な速度の点において制約され、そして比較的厚いコーティングを塗布するようには適切には構成されていない。
【０００８】
別の知られている形状のアプリケータは、通常、フラッドコーティング装置と呼ばれており、そのフラッドコーティング装置は、本質的に、基板の上に液体のたまりを形成し、そして、基板の上の該たまりをエアジェットで広げることによって作動する。しかしながら、塗布の均一性、使用可能な液体またはスラリーの粘性、および塗布可能な層またはコーティングの厚さの点からみるとこの技術にも制約がある。
【０００９】
したがって、一般に、これらの知られている形状の装置は、詰まりによる故障発生度、相互に調和しない塗布、速度における制約、コーティングが塗布されることが可能なシート材料の幅における制約、塗布可能な液体またはスラリーの軟度における制約、これらの欠点の１つ以上のいくつかの組み合わせを含む様々な制約を受けやすい。それらは、さらに、かなりの厚さの中間層とは異なり、一般に、積層シートの一部として比較的薄い外側表面コーティングを塗布するように構成されている。これらの制約は、従来の装置を、シート物質、とくにＦＲＣシートの実質的なサイズで、比較的高速での製造に使用するのに一般に不適切にしている。
【００１０】
別の知られている形状の装置は、スパッタリングコーティング装置であり、そのスパッタリングコーティング装置は、基板にコーティングをスパッタリングするために、半径方向の配列のフレキシブルなフィラメントまたはブリストル（bristle）を組み込んだ回転ローラを使用する。スパッタリングコーティング装置は、たとえば、製造ラインで、表面コーティングを粘土またはメーソンリータイルに塗布するのに使用される。スパッタリングコーティング装置は、とくに、詰まりの点からみると、他の知られている形状のコーティング装置の欠点のいくつかをある程度解消できる。しかしながら、シート材料の製造に関して、知られているスパッタリングコーティング装置は、さらに、固有の制約を受ける。
【００１１】
とくに、知られているスパッタリングコーティング装置は、精密に制御されたコーティングまたは積層を可能とするために、断続的に、塗布プロセスを精密に停止および再開始することができない。これは、スラリーの供給が停止されるかまたはスパッタリングローラが一時的に停止されるとしても、“自己均一化”を確実とするのに必要とされる比較的やわらかくて液状化した軟度と、その結果として過剰のスラリーが基板上に滴下する傾向とのために、とくに、ＦＲＣシートの製造に一般に使用されるスラリータイプの場合にあてはまる。
【００１２】
塗布プロセスの断続的な停止および開始に関するこの精密なコントロールは、異なる層、厚さ、または特性を有する異なる群のシートが、コーティング装置を通って連続して動くのに必要とされ、そして、不正確な変動するコントロールは、まだらな塗布、または製品のつぎの群にはみ出す１つの群のコーティングを結果として生ずる可能性があるという、とくに高速製造環境において重要である。
【００１３】
新たな問題が、セメント質のスラリーを使用してＦＲＣシートまたは他製品の製造において、これが、装置においてまたはプロセスの上流側部分において、スラリーの停滞もしくは集積を結果として生ずるので、装置自体へのスラリーの供給を停止しないことが望ましいという事実により起こる。これは、オーバーフロー、スラリーの軟度または濃度の変化、沈殿もしくは堆積、または好ましくない変化をもたらす結果となりうる。
【００１４】
知られているスパッタリング装置は、スラリー塗布プロセスの精密な中断を行わず、そして、さらに、装置へのスラリーの供給を停止することなく中断することができない。それらは、その結果、とくに、シート材料のための高速製造環境において、精密に制御された断続塗布プロセスを可能とするのには効果的でない。
【００１５】
本発明の目的は、従来技術の１つ以上の制約を解消すること、実質的に改善することまたは少なくとも有益な別の方法を提供することである。
【発明の開示】
【００１６】
したがって、本発明によれば、スラリーを基板に塗布する装置が提供され、該装置は、
スラリーの層を支持するために配置される分配表面と、
該分配表面に近接して配置され、分配表面から基板にスラリーをスパッタリングするように移動可能に構成されたスパッタリング手段と、
分配表面から基板へのスラリーの流れを選択的に変更するか、または中断する調節手段と
を含んでいる。
【００１７】
本明細書で使用されているような“スパッタ（spatter）”、“スパッタリング（spattering）”などの用語は、あらゆる塗布技術を包含するように意図されるものであり、それによって、スラリーは、ブラシをかけること、跳ね飛ばすこと、回転すること、撹拌すること、霧化すること、または他の離散手段によって製造されるかどうかにかかわりなく、そして、機械的手段、静電気手段、静水圧手段、流体手段、重力手段、または他の手段によって推進されるかどうかにかかわりなく、飛沫、小滴、微粒子または霧化された形状で、表面または基板上に堆積される。
【００１８】
明細書および請求の範囲を通じて、明白に別の方法を要求していないかぎり、‘comprise’、‘comprising’などの言葉は、限定的または網羅的な意味にとは反対に、包括的な意味で、すなわち、“限定されるものでなく、含む”という意味に解釈されるものである。
【００１９】
前記装置は、調整手段の上流側にスラリーを含有する容器を含むことが好ましい。その容器は、供給源からスラリーを方向付けるための入口と、調整手段と関連付けられる出口とを含むことが好ましい。
【００２０】
前記調整手段は、可変式の有効流動面積の中間クリアランススペースを画定するように選択的に移動可能な一対のバリア要素を含み、それによって、バリア要素のあいだのスラリーの流量の調整を選択的に可能とすることが好ましい。バリア要素は、容器と分配表面とのあいだのスラリーの流動を選択的に停止するように閉鎖した形状に構成されることが好ましい。
【００２１】
バリア要素の１つは、第１の軸周りに回転可能な第１の円筒状のローラであることが好ましい。バリア要素の他の１つは、ほぼ第１の軸に平行な第２の軸周りに回転可能な第２の円筒状のローラであることが好ましい。それらのローラは、反対方向に回転するように構成されることが好ましい。
【００２２】
第１のローラは、分配ドラムの形状をとることが好ましく、その外側表面が、分配表面を構成する。第２のローラは、分配ドラムから遠近方向に選択的に移動可能な計測ローラの形状をとる。
【００２３】
前記装置は、さらに、分配ドラムを支持するメインフレームと、計測ローラが配設される第１のサブフレームとを含むことが好ましく、該第１のサブフレームは、第２の軸にほぼ平行で、そして、第２の軸から離間している第３の軸周りに回転可能であり、それによって、分配ローラと計測ローラとのあいだの平行な方向を保ちつつ、分配ローラから遠近方向に計測ローラを調節可能に変位させる。
【００２４】
１つの好ましい実施の形態において、前記装置は、メインフレームと第１のサブフレー間に延びる、計測ローラと分配ドラムとを互いに調節可能に移動させる第１の水力式駆動手段または空気式駆動手段を含んでいる。
【００２５】
スパッタリング手段は、平行な第４の軸周りに回転可能な円筒状の本体から半径方向外方向に延在する複数の弾力的にフレキシブルな細長いスパッタリング要素とを含むことが好ましい。本体およびスパッタリング要素は、一緒にスパッタリングローラを形成することが好ましい。
【００２６】
前記装置は、スパッタリングローラが配設される第２のサブフレームを含むことが好ましく、第２のサブフレームは、第４の軸にほぼ平行でかつ当該第４の軸から離間している第５の軸周りに回転可能である。
【００２７】
前記スパッタリングローラを分配ドラムから遠近方向に独立して変位調節し、調節手段の一部として、スパッタリングプロセスの変更または中断を選択的に可能とするように、メインフレームと第２のサブフレームのあいだに第２のアクチュエータが延びているのが好ましい。
【００２８】
前記装置は、スラリーの供給を収容するタンク、およびスラリーを入口を通ってタンクから容器に配送するための配送導管をさらに含むのが好ましい。
【００２９】
１つの実施の形態において、容器は、分配および計測ローラの真上に位置決めされるタンクによって画定される。別の実施の形態において、容器は、単に、近接したローラ間に、好ましくは、分配ローラと隣接するアイドラーローラとのあいだに画定される閉じ込め領域であり、計測ローラは、分配ローラの上に位置決めされる。
【００３０】
スラリーは、水、セルロースファイバ、シリカ、セメント、および、任意に、他の添加剤の混合物から形成されるセメント質のスラリーであることが好ましい。
【００３１】
前記装置は、美的なまたは機能的なコーティング層を既存の基板に塗布するのにとくに適している。１つの実施の形態において、スラリーは、５０％と約９０％とのあいだの固体含有量を有する、自己均一化の脱水可能なセメント質のスラリーである。そのスラリーは、好ましくは、真空の助力があっても、または、真空の助力なくても、基板を通って、スラリーの脱水を可能とするように、充分な量の脱水補助剤を含むことが好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
まず図１〜３を参照して、本発明は製造時の工程で積層シート材料の形になるようにセメント質のスラリーを基板に塗布するための装置１を提供する。大まかにいえば、装置１は、スラリーを含むための細長い容器と、表面張力によって前記容器からの粘着性のスラリー層を支持するために外側分配表面５を有する分配ドラム４とを含んでいる。円筒形の計測ローラ７を含む調節手段６が前記容器から前記分配表面へのスラリーの流量割合を選択的に調節するために採用されている。そして、スパッタリングローラ８が前記分配表面から前記基板上へスラリーをスパッタリングするために配置されている。以下、本発明のこれらの特徴をさらに説明する。
【００３３】
容器３の頂部には、装置の位置より下に位置する５００リットルのスラリー保持タンク本体１０（図３参照）の形をした供給源からスラリーを導く多数の入口９がある。スラリーは、ポンプ（図示せず）によりタンク本体からマニホールド１１を経由して前記容器に分配される。該マニホールドは、図３における矢印Ａによって示されるように、タンク本体１０に連通するヘッダーパイプ１２を含んでおり、複数の平行な分配パイプ１３が入口９を通してヘッダーパイプからスラリーを分配するために容器に通じている。オーバーフローパイプ１４が、矢印Ｂに示されるように、オーバーフローを防ぐために前記容器に予め決められた水準以上のスラリーを前記タンクへ循環するために、該容器とタンク本体とのあいだに接続されている。
【００３４】
前記分配ドラム４は、矢印Ｃによって示される方向の回転のために、フレーム本体１６上の第１軸１５の回りに取り付けられる本質的に円筒形のローラである。該ドラム４は、容器より下に配置され、平行ではあるが、前記容器の中心線とは相対的に縦方向にオフセットされている。前記ドラムは、前記容器の出口１７の下に配置されており、矢印Ｄによって示されるように、容器から下流側に流れるスラリーの通路に存在する。このため、前記容器からのスラリーは分配表面５に直接流れる。
【００３５】
前記分配ドラム４は、前記出口を形成するとともに、前述した調節手段６の一部を形づくる計測ローラ７に連動して作動する。前記計測ローラ７は、前記第１軸１５に平行な第２軸の回りの、矢印Ｅによって示される方向の回転のために第１サブフレーム１８に取り付けられている。該サブフレーム１８は、前記第２軸１９に平行な第３軸２０の回りの回転ためにフレーム本体１６に取り付けられている。前記分配ドラムと計測ローラは、チェーン駆動アセンブリ（図示せず）を経由してモータにより反対方向に回転駆動されている。前記分配ドラムと計測ローラは、所望の表面硬さを与えるためにクロムめっきされている。しかしながら、他の実施例として、前記ドラムとローラは、付加的にまたはもう１つとしてポリウレタン、カーバイトまたは他の適正な表面コーティング、処理すなわち仕上げされる。
【００３６】
ラム２１を含む駆動機構が前記第１サブフレーム１８を調節して回転させるために設けられており、矢印Ｆに示されるように、前記計測ローラ７を分配ドラムに向かってまたは離れるように移動させる。これにより、前記分配ドラムと計測ローラは、前記容器から分配ドラムの表面までのスラリーの流れを導いたり、または塞いだりするために中間隙間スペース２２を調節して形成する、一対のバリア要素として機能することが明らかである。前記分配ドラムに向かうまたは離れる調節ローラの移動は、効果的に前記隙間スペース２２の断面積を変える。そのため、この移動は、前記分配表面へのスラリーの流量を調節する。示される本実施例においては、前記ラム２１はねじを含んでおり、回転駆動される。他の実施例（示していない）では、前記ラムを圧縮空気または油圧式とすることができる。
【００３７】
前記スパッタリングローラ８は、円筒体２３および該円筒体から半径方向外側に伸びるブリストル２４の形状の弾性で柔軟な複数の細長いスパッタリング要素を含んでいる。該スパッタリングローラは、他の軸に平行な第４軸２６の回りに回転するために、第２サブフレーム２５に取り付けられている。該第２サブフレーム２５は、平行な第５軸２７の回りに回転するために前記フレーム本体１６に取り付けられている。第２ラムが、その軸２７の回りに第２サブフレーム２５を回転させるとともに、矢印Ｇに示されるように前記スパッタリングローラ８を前記分配ドラム４に向かうまたは離れるように調節して移動させるために、配置されている。前記スパッタリングローラ８は、Ｖベルトとプーリアセンブリ（示してない）を経由してモータによって回転自在に駆動されている。
【００３８】
オーバーフロー溜り２９が、装置の底に与えられており、前記スパッタリングローラ８によって拾い上げられずに前記調節ローラと分配ドラムから、または前記調節ローラと分配ドラムのあいだに落ちる、あふれたスラリーを前記容器から捕捉できるように配置されている。
【００３９】
使用に際し、前記装置は、スラリーから形成される材料層を形成するため、または該層を組み合わせるシートのための製造ラインの一部を構成するコンベヤ（図示せず）を横切って設置される。前記シートは、繊維状であってもよいし、また積層されてもよい。しかしながら、本発明は、理想的には積層された繊維強化セメント（ＦＲＣ）シートの製造に関連して使用され、その意味で、知られているハチェック（Hatschek）プロセスに組み入れられる。
【００４０】
前記シートがコンベヤの真下を通過するとき、装置を作動し、前記容器から回転する分配ドラム４上にスラリーを流す。また、前記スパッタリングローラ８が回転することにより、前記ブリストル２４が前記ドラムの分配表面に形成された層からスラリーを集めるために、前記分配ドラム上に引きずられる。該ブリストルが分配ドラムがないところを移動すると、スラリーを相対的に均一な層に塗布するために、スラリーをはじき飛ばしシート上に撒きつける。
【００４１】
前記調節ローラと対向して回転する分配ドラムとのあいだの距離は、前記中間隙間スペース２２の効果的な断面流動面積やドラム上へのスラリーの流動割合を決める。また、これは、前記スパッタリングローラによるスラリーの飛散率に影響を及ぼす前記分配表面上に形成されるスラリーの層厚さを決める。この厚さは、飛散した層の望ましい厚さを得るために、使用されるスラリーの特別な形状に適すべくラム２１により望むように調節することができる。
【００４２】
前記隙間スペース２２の断面積の調節に加えて、スパッタリング特性は、また前記第２ラム２８を使用して、分配ドラムに向かうまたは離れるようにスパッタリングローラ８を移動して変えることができる。これは、ブリストル２４が前記分配表面上のスラリー層を貫通する度合、分配表面上のブリストル２４の圧力および追加した寸法制御を与えるためのブリストルの変形を変える。さらなる調節およびコントロールは、スパッタリングローラの絶対的な速度、および分配ローラに対する速度の両方の意味で速度を変えることによって達成されることが可能である。これらの様々な操作パラメータを変えることによって、最大約１０ｍｍ以上の異なる厚さが、単一の層、中間の層または表面層において達成されることが可能である。オレンジピール、スタッコなどの異なる表面も達成することが可能である。
【００４３】
前記第２サブフレーム２５は、前記スパッタリングローラ２５を前記分配ドラムの充分なところに移動させるために、軸２７の回りに充分回転することができる。これはさらに以下詳細に記述するように、前記スパッタリングローラとドラムの清掃とメンテナンスを容易にするために塗布プロセスの停止と開始を正確にすることができる。
【００４４】
前記容器から流れるスラリーの幾分は前記分配ドラムより調節ローラ７に乗り上げ、かつ調節ローラ７の回りに運ばれることがわかるであろう。このスラリーは、スパッタリングローラによりすくい上げられなかった出口を通過する他のスラリーと同様に、あふれるように調節ローラから溜り２９に落ちて、重力でもとの供給タンク１０へ供給される。
【００４５】
本装置の一実施例は、異なる特性と組成層を有するシートが素早く連続して製造される製造ラインに使用されるべく適用される。その結果、製造ラインに沿って通過するシートのタイプに対して、１種のシートに関するスパッタリング条件を繰り越さないように急速にかつ正確に、スパッタリングプロセスを一時停止や再開できたり、スラリー流量が調節できる必要がある。
【００４６】
この目的のために、流量の調節は、前記中間隙間スペース２２を調節できるように、前記分配ドラムに対して相対的に前記調節ローラを移動して達成される。スパッタリングプロセスを一時的に停止するために、前記スパッタリングローラが断続的に前記分配ローラから離れるように移動される。このようにして、該スパッタリングローラはまた流動調節手段の一部を構成する。付加的にまたはもう１つとして、隙間スペース２２を完全に閉ざすために、前記調節ローラが直接前記分配ドラムに接触するまで該調節ローラを単に移動する。これにより、関連する出口を通しての前記分配表面にスラリーの供給を遮断する。
【００４７】
しかしながら、このプロセスのあいだに、供給タンク本体１０からから容器３へのスラリーの分配割合を停止または減少させることは、望ましくない。というのは、これが、オーバーフロー、スラリーの軟度もしくは濃度の変化、沈殿もしくは堆積、他のプロセスパラメータの混乱、および／またはパイプの詰まりを含む不利な結果を上流側においてもたらすことがあるからである。したがって、スパッタリングプロセスが中止されるとき、容器からのスラリーの流動割合が減少されるか、または停止されるという結果を生じ、容器内のスラリーのレベルが上がり始める。それが、オーバーフローパイプ１４のレベルに達すると、スラリーは、メインタンクに戻って再循環され始め、そこから、スラリーは、分配が再開するまで容器を行ったり来たり循環し続ける。
【００４８】
図４は、本発明の他の実施の形態を示す概略図であり、その対応する特性は、対応する参照符号で示されている。この場合、容器のための独立したタンクは使用されていない。むしろ、容器は、簡単に、分配ローラ４と、該分配ローラと回転接触しており、かつ該分配ローラに対して並んだ関係で位置決めされるアイドラーローラ３２とのあいだに画定される無蓋閉じ込め領域３０の形状をとっている。アイドラーローラは、ポリウレタンでコーティングされ、そして、駆動されない。アイドラーローラの高さおよび直径は、閉じ込め領域３０内のスラリーが、分配ローラ４と、この実施の形態において、分配ローラの真上に位置決めされている計測ローラとのあいだに画定されるクリアランススペース２２に自然に流動するように構成されている。追加の収集トレー３４は、アイドラーローラからのあらゆるスラリー滴下を収集し、そして、再循環のために、オーバーフロー導管１４を介してタンク本体１０にスラリーを戻すために設けられている。大部分の他の点に関して、この実施の形態は、本質的に、以前に記述されたのと同じ方法で機能する。
【００４９】
装置は、プロセスラインに沿ってあらゆる所望の場所に位置決めされることができ、そしてスパッタリングされた１つの層または複数の層を適切に位置決めするために、断続的に、そしてプロセスにおけるあらゆる所望の段階で、選択的に操作されることができる。たとえば、スパッタリングされた層は、まず、最終的にシートの仕上層となるものを形成するように、フィルムの第１の層としてベルトに塗布されることができる。このことは、たとえば、外側にスパッタリングされた層が、サンドペーパーでのみがきおよび仕上を容易にするための軟質の組成、強く印象付けるためもしくは塗装の必要を回避するための着色組成または所望の美的効果を達成するための織り込まれた層を備えている場合に行われる。同一の考えが、スパッタリングされた層が最終層であって、仕上がったシートの外表面を形成する場合にも適用されることができる。別の方法として、スパッタリングされたスラリーは、内部層を形成するために、中間段階で塗布されることができる。これは、たとえば、防火材料層、水分バリア層、あるいは、構造上のために加えられる層の場合であり、この場合は、表面仕上または美的考慮は、直接には関係がない。全体のシートが単一に均一な層として、または同一のもしくは異なる成分の多層スパッタリング層からスパッタリングにより形成されるのがわかるであろう。これに関連して、さらに一連のスパッタリング装置は、同一のまたは異なるスラリー形成のいずれかを使用する工程ラインに沿って連続して位置づけられることがわかるであろう。シート材料は、他の工程で以前に形成された層または同時に形成された層を含んでいることもわかるであろう。さらに本装置は、成分においてセメント質であろうとなかろうと、塗料下塗剤、下塗り、シーラントまたはその他表面塗料を塗布するために用いられる。
【００５０】
本発明は、シート材料を製造するための効果的で充分な方法および装置を提供する。好ましい用途において、ＦＲＣの製造では、広い様々な性能基準および美的特性を達成するために、容易に作られかつ最適化されることが可能な積層シート材料を精密に製造する手段を提供している。装置は、さらに、スラリーの塗布特性が、走行間のセットアップタイムが最小である高速製造環境で、積層製品を含む異なる製品を製造するべく、かなりの程度のフレキシビリティを提供するように、容易にかつ迅速に変更されることが可能である。これらのすてべの点に関して、本発明は、従来技術をこえる実用的で、そして商業的に顕著な改善を表わしている。
【００５１】
本発明は、特定の例示を参照しつつ記述してきたが、当業者には、本発明は、多数の他の形状で実施されることができるということは明らかである。とくに、本発明の方法および装置は、複合製品、脱水可能なスラリーのための添加剤、そして、様々な優先権書類に記述されるような建築製品のためのコーティングと関連して使用されるように構成されることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の装置の斜視図である。
【図２】図１に示される装置の側面立面図である。
【図３】図１に示される装置の概略側面立面図である。
【図４】本発明の他の実施の形態を示す概略側面立面図である。
【国際公開パンフレット】
2004523351.tif 000004
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【手続補正書】
【提出日】平成15年9月1日(2003.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
スラリーを基板に塗布するための装置であって、
スラリーの層を支持するために配置される分配表面と、
該分配表面に近接して配置され、分配表面から基板にスラリーをスパッタリングするように移動可能に構成されたスパッタリング手段と、
前記分配表面上流のスラリーの連続的な流れを可能にする再循環手段と、
前記分配表面上流の流れを中断することなく、分配表面から基板へのスラリーの流れを選択的に変更するか、または中断する調節手段と
を含んでいる装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
したがって、本発明によれば、スラリーを基板に塗布する装置が提供され、該装置は、
スラリーの層を支持するために配置される分配表面と、
該分配表面に近接して配置され、分配表面から基板にスラリーをスパッタリングするように移動可能に構成されたスパッタリング手段と、
前記分配表面上流のスラリーの連続的な流れを可能にする再循環手段と、
前記分配表面上流の流れを中断することなく、分配表面から基板へのスラリーの流れを選択的に変更するか、または中断する調節手段とを含んでいる。




【国際調査報告】
2004523351.tif 000025
2004523351.tif 000026