(57)【要約】【課題】電子部品パッケージの製造、組立、試験、または使用中に遭遇する高温時に生じる応力破損による不良の発生を減少または排除する。【解決手段】半導体回路素子（ダイ）は、ベース、側壁、および蓋の３つの個別部品でダイの周囲にエンクロージャを形成することにより、非透湿性の電子部品パッケージ内に組み込まれる。ダイは、まず、はんだ付けその他でベースに接合され、続いて側壁がベースに取り付けられ、最後に蓋が側壁に取り付けられる。熱伝導性のベースと高いはんだ付け温度に関わる手順として、ダイは高いはんだ付け温度でベースに固定することが可能であるが、これに続いて側壁はそれより著しく低い温度でベースに取り付けられ、側壁に対する高温損傷の危険を回避している。高いはんだ付け温度に晒されると、さもなくば劣化または歪みを生じるプラスチックの側壁でも、このようにして使用することができる。電子部品一般のパッケージとして、プラスチックの側壁を使用することで、さもなくば両立しない蓋やベースの材料の組合せ使用が可能となる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体回路素子を封入して封止されたエアキャビティパッケージを形成する方法であって、
（ａ）前記半導体回路素子を２５０℃を越える温度で熱伝導性のベースにはんだ付けするステップと、
（ｂ）ステップ（ａ）の終了後に、側壁と前記金属ベース間に２００℃未満の温度で封止を形成し、それによって前記半導体回路素子の周りに部分的なエンクロージャを形成することにより、前記金属ベース上にプラスチックフレームの側壁を取り付けるステップであって、その際、前記プラスチックフレームまたは前記熱伝導性ベースは、電気伝導性のリードが前記部分的なエンクロージャを貫通させて予め形成されているステップと、
（ｃ）前記半導体回路素子の回路を前記リードに電気的に接続するステップと、
（ｄ）前記部分的なエンクロージャに蓋を取り付け、それにより前記半導体回路素子を実質的にガス非浸透性のハウジングに封入するステップと
を含んでなる方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
ステップ（ａ）の前記温度が３００℃から４００℃の範囲内である
ことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法において、
ステップ（ｂ）の前記温度が１２５℃から１８５℃の範囲内である
ことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法において、
前記熱伝導性ベースが、銅、銅を主成分とする銅合金、鉄ニッケル合金、および鉄ニッケルコバルト合金からなるグループから選択された金属ベースであり、そして前記蓋がプラスチック材のものである
ことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、
前記熱伝導性ベースが、Ａｌ2Ｏ3、ＢｅＯ、ＡｌＮ、ＳｉＮ、並びにＢａＯ、ＳｉＯ2、およびＣｕＯ2 からなるグループから選択された一部材で変性されたＡｌ2Ｏ3から選択された部材であり、そして前記蓋がガラスである
ことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法において、
前記プラスチックフレームが芳香族ポリエステル、または液晶ポリマのいずれかで形成される
ことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法において、
前記プラスチックフレームと前記蓋がともに熱可塑性ポリマで形成される
ことを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法において、
ステップ（ｂ）が、エポキシ接着剤類、ポリアミド類、シリコーン類、フェノール樹脂類、ポリスルホン類、およびフェノキシ接着剤類からなるグループから選択された熱硬化性高分子接着剤で前記プラスチックフレームを前記ベースに封止することを含む
ことを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１に記載の方法において、
ステップ（ｂ）および（ｄ）が、１２５℃から１８５℃の範囲内の温度で熱硬化性高分子接着剤で、それぞれ、前記プラスチックフレームを前記ベースに、および前記蓋を前記プラスチックフレームに封止することを含む
ことを特徴とする方法。
【請求項１０】
光半導体回路素子を封入して封止されたエアキャビティパッケージを形成する方法であって、
（ａ）前記光半導体回路素子を１２５℃から１７５℃の範囲内の温度で熱硬化性高分子接着剤を用いてベースに固定させるステップと、
（ｂ）ステップ（ａ）の終了後に、側壁と前記ベース間に２００℃未満の温度で封止を形成し、それによって前記光半導体回路素子の周りに部分的なエンクロージャを形成することにより、前記ベース上にプラスチックフレームの側壁を取り付けるステップであって、その際、前記プラスチックフレームまたは前記ベースは、電気伝導性のリードが前記部分的なエンクロージャを貫通させて予め形成されているステップと、
（ｃ）前記光半導体回路素子の回路を前記リードに電気的に接続するステップと、
（ｄ）前記部分的なエンクロージャに蓋を取り付け、それにより前記光半導体回路素子を実質的にガス非浸透性のハウジングに封入するステップで、その場合、前記蓋は前記ベースの熱膨張係数の０．５倍より小さい熱膨張係数を有するものであるステップと
を含んでなる方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体回路素子（以下  ダイと称する）を封入かつ保護し、さらにプリント回路基板の回路部品等の外部部品にダイの回路を電気的に接続する電子パッケージの分野でなされたものである。この発明は、特に、エアキャビティパッケージに関し、すなわち、空気が満たされたキャビティ内にダイが存在していて、空気の誘電率が低いためダイの性能に好都合であるエアキャビティパッケージに関するものである。とりわけ、この発明では、ダイおよび空気を満たしたキャビティの周囲のパッケージを、パッケージの製造中に遭遇する高温やパッケージの使用時に遭遇する状況下で、ガス非浸透性の気密が維持されるように、封止することの難しさに焦点が当てられている。
【背景技術】
【０００２】
電子素子パッケージは、保護エンクロージャの内部に密封されたダイで構成されており、その保護エンクロージャの壁を、プリント配線基板上の回路等の外部回路にダイの回路を電気的に接続するリードが貫通している。この発明の関心事であるパッケージは、ダイがエンクロージャの内部で内部空気の満たされたキャビティの中に存在し、その空気がその低い誘電率のため電気的絶縁体の役を果たすので、電子産業界では「エアキャビティパッケージ」として知られているものである。この絶縁性能は、その電子素子がマイクロ波パワーチップである場合に特に有用である。この空気を満たしたキャビティは、ダイがＣＣＤやＣＭＯＳ素子等、光伝送が要求されるものである場合にも、有用である。なぜなら、空気によってダイの表面へ全面的に光学的アクセスがなされるからである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
現在ダイで使用されている極めて細かい回路配線と高電流密度でもって、一貫して信頼性のある性能を達成するためには、パッケージは、水蒸気その他の大気中のガスが浸入しないように封止されていなければならない。同時に、パッケージは、使用中にダイが発する熱を放散できなければならない。熱の放散は、パッケージの床面を通して共通に達成され、この理由から、熱伝導性の材料、通常は金属板が床面として使用され、高温熱伝導性のはんだ、しばしば共融はんだで、ダイを床面に接合する。パッケージ類の形成は、一般に、まず、側壁を金属板に接合してパッケージのボディを形成するが、その側壁には電気的導線が貫通している。一旦、ボディが形成されると、ダイがボディ内に配置され、上記のはんだで床面に固定される。次いで、ダイの回路をリードに接続するためにワイヤボンディングが行われ、適切な接着剤でしっかりとボディーに蓋をして上部を閉鎖し、最終的に完成される。
【０００４】
ダイをパッケージの床面に固定するのに必要なはんだ付け温度は高温なので、パッケージのボディーは、パッケージの全体にわたって密封性を弱める虞のあるひび割れや、溶融、流出、分解、その他の変形なく、その高温に耐え得る材料で構成される必要がある。高ワット数用のパッケージは、使用中に発生する高温のために、パッケージの壁面と蓋に一層の歪みがかかる。これらの理由から、従来技術によるパッケージの側壁と蓋は、セラミック系の材料で作られてきた。しかしながら、セラミックは、コストが高く、パッケージを量産する場合には、セラミックがパッケージ製造コストの主要な要素となってしまう。ここで、もし、セラミックがプラスチック材で代替えされるならば、コストは極めて大幅に低減が可能であるが、プラスチックは、上記の高いはんだ付け温度には容易には耐えることができず、ダイをベースにはんだ付けする際に、溶融するか分解してしまう。結果として、プラスチックの側壁を有する電子素子パッケージの製造は、不良率が高い。
【０００５】
同様な問題が、２ピースエンクロージャとして製造されるパッケージの場合に生じる。その場合、金属の熱拡散体を床としてモールドその他でインサートした形で、ベースと側壁がセラミックまたはプラスチックの単一成形片として最初に成型され、第二の成形片は蓋である。セラミックがベースおよび側壁の単一構造体の材料として使用された場合は、コスト高となり、プラスチックが使用された場合は、プラスチックの劣化や歪みのため、またユニットのかなりの部分で漏洩が生じるので、多量生産における製造の歩留まりが悪くなる。
【０００６】
また、別の問題が光学的パッケージによって引き起こされる。すなわち、その蓋に光の透過が必要となるＣＣＤやＣＭＯＳチップを内包したパッケージである。これらのパッケージは、使用時に熱を発生しないので、熱分散の速い金属ベースは必要とせず、金属、プラスチック、またはセラミックのベースが使用可能である。さらに、急速な熱放散の必要がないことから、高温の金属はんだ付けが許容する高い熱導電性の必要がなくなる。それに代わり、エポキシ等のはんだ付材料を使用して低温はんだ付けを行うことができる。とは言っても、高温に対する反応は、パッケージが使用できるようになるまでには、そのパッケージ自体の組立に続くさらなる処理を受けるので、一つの関心事である。この後続の処理には、パッケージ外側のリードを外部回路にはんだ付けすることと、品質確認テストが含まれ、これらのすべてに高温が使用される可能性がある。これらの高温に露出している間に、パッケージ部品類の熱膨張係数（ＣＴＥ）に差があるために、パッケージが破壊されやすくなってしまう。特に、光を透過させる典型的な光学的パッケージに使用されるガラス製の蓋は、そのベースが金属製、プラスチック製、あるいはセラミック製のいずれであっても、そのベースより著しく低い熱膨張係数を有している。この差が温度サイクル中に蓋とベースに程度の異なる膨張を生じさせる原因となる。膨張差は、パッケージを湾曲させ、側壁に応力が加わった状態にし、側壁をベース、または蓋、またはその両方に接合している封止部に損傷を与える危険性が生じる。亀裂が生じると、パッケージは、使用に対する適不適を決定する総合リークテストおよび感湿テストに不合格となり、有用な製品（長寿命のパッケージとして機能する）の歩留まりが低下する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
エアキャビティ電子素子パッケージの製造において遭遇する上記その他の困難性は、この発明に従って、当所別体である少なくとも三つの部品、ベース、側壁フレーム、および蓋、を使用してエンクロージャを形成することにより論じられている。使用中に高温を発生し、ダイをベースに取り付けるのに高温はんだを使用して製造されるパッケージに対しては、パッケージエンクロージャの３要素構造によって、エンクロージャの他の部品を組み立てる前に、すなわち、側壁をベースに接合するか、または蓋を側壁に接合する前に、ダイをベースにはんだ付けすることが可能になる。プラスチックの側壁は、ダイをベースにはんだ付けするのに必要な高温に対してプラスチックを晒す危険なく、その後にベースに接合することができる。また、セラミックのコスト高は、セラミックの使用を全面的に避けるか、またはセラミックをベースのみに使用することによって、解消または低減することができる。透明な蓋を有するビジョンパッケージを作るのに、パッケージエンクロージャのこの三部品構造は、非プラスチックのベースおよび蓋とともにプラスチックの側壁を使用することを可能とする。この場合、ベースと蓋は、熱膨張係数の値の近い材料で形成し、他方、側壁は、ベースおよび蓋の熱膨張係数とは実質的に異なる熱膨張係数を有する材料で形成することができる。側壁として比較的高い熱膨張係数を有するプラスチックを使用することで、たとえ組立工程やテストにおいて遭遇する高温で側壁が厚くなっても（すなわち、内外両方向に膨脹しても）、ベースと蓋が実質的に等しく膨脹し、それによりパッケージが反らないようにすることができるので、パッケージの封止部に必要以上の無理なストレスが加わらないことになる。
【発明の効果】
【０００８】
このように、この発明は、パッケージの形式と使用する材料に応じて種々の利点を提案している。一般に、この発明により、組立中や使用中に遭遇する高温から生じる亀裂によりパッケージが不良となる虞を回避または低減しながら、材料の選択に広い許容度が得られる。この発明のこれらおよび他の利点、特徴、および実施例については、以下の説明でさらに明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
上記のように、この発明による製造工程の第一のステップは、パッケージの床面としての役割を担うベース板にダイをしっかりと固定することである。パッケージの形式に応じて、ベース板は、ダイから熱を急速に放散させるものであってもよいし、または熱放散がさほど問題ではないもの（光学的パッケージ用など）であってもよい。高い熱伝導率が必要な場合には、基板は、金属材料、セラミック材、金属被膜のセラミック材とすることができるし、または金属挿入のセラミック材とすることができる。高い熱伝導率が必要でない場合には、基板は、これらの材料のいずれとすることもできるし、もちろんプラスチックとすることもできる。
【００１０】
金属製、または金属挿入もしくは金属コーティングのベース板として適当な金属の例を、Electronic Materials Handbook, Vol 1, Minges, M.L., et al., eds., ASM International, Materials Park, Ohio, 1989 による記号とともに下記に列挙する。
【００１１】
銅
銅−タングステン合金
銅−鉄合金：Ｃ１９４００、Ｃ１９５００、Ｃ１９７００、Ｃ１９２１０
銅−クロム合金：ＣＣＺ、ＢＦＴＥＣ６４７
銅−ニッケル−シリコン合金：Ｃ７０２５、ＫＬＦ１２５、Ｃ１９０１０
銅−錫合金：Ｃ５０７１５、Ｃ５０７１０
銅−ジルコニウム合金：Ｃ１５１００
銅−マグネシウム合金：Ｃ１５５００
鉄−ニッケル合金：ＡＳＴＭ Ｆ３０（Alloy 42）
鉄−ニッケル−コバルト合金：ＡＳＴＭ Ｆ１５（Kovar）
軟鋼
アルミニウム
これらの中で好ましいものは、銅、銅が少なくとも９５重量％を占める銅合金、鉄が約５０重量％から約７５重量％を占める鉄−ニッケル合金、および鉄が約５０重量％から約７５重量％を占める鉄−ニッケル−コバルト合金である。鉄−ニッケル合金の Alloy 42（鉄５８％、ニッケル４２％）、および鉄−ニッケル−コバルト合金の Kovar（鉄５４％、ニッケル２９％、コバルト１７％）は、種々の銅合金と同様に、特に興味深い。金属積層体も使用可能で、銅−モリブデン−銅は、とくに熱伝導率が高い点で、注目される。これらの金属や合金は、パッケージの側壁を貫通するリードとしても使用可能である。
【００１２】
セラミックのベースを用いるパッケージ用としては、適切なセラミックの例は、Ａｌ2Ｏ3（アルミナ）、ＢｅＯ（ベリリア）、ＡｌＮ（窒化アルミニウム）、ＳｉＮ（窒化シリコン）、およびこれらの材料の混合物があり、さらにＢａＯ（酸化バリウム）、ＳｉＯ（シリカ）またはＣｕＯ（酸化第二銅）を加えて変性したＡｌ2Ｏ3等がある。好ましいセラミックは、変性随意であるがアルミナと、そしてベリリアである。
【００１３】
プラスチックのベースを用いるパッケージ用としては、適切なプラスチックには、熱硬化性および熱可塑性の両材料が含まれる。熱硬化性材料の例としては、エポキシ樹脂と変性エポキシ樹脂、ポリイミド、変性ポリイミド、ポリエステル、およびシリコーン等がある。熱可塑性材料の例としては、ポリウレタン、ポリフェニレンサルファイド、ポリスルホン、ポリエーテルケトン、およびガラス、セラミックまたはミネラル等の充填材を約２０〜４０％含む液晶ポリマー等の芳香族ポリエステルがある。
【００１４】
ダイとベースとの間に高い熱伝導性の結合が必要な場合には、多くの種類のはんだ材がそのような結合を形成するものとして存在する。はんだ合金は、錫、鉛、アンチモン、ビスマス、カドミウム、銀、銅、または金、および比較的少量の他の種々の元素から形成される。融解と凝固の際にこれらの要素の割合を維持する能力があることから、一般に、共融合金が好ましい。例としては、銅−鉄合金、銅−クロム合金、銅−錫合金、鉄−ニッケル合金、鉄−ニッケル−コバルト合金、錫−銀合金、および金−錫合金等である。８０：２０金−錫共融はんだが、その高い熱伝導率のために、特に好ましい。
【００１５】
ダイがベースにはんだ付け、または接合される温度は、使用されるはんだや接合剤によって変わる。高い熱透過率に必要な高温はんだ付けには、通常２５０℃より高いはんだ付け温度が使用されている。殆どの場合、はんだ付け温度は、２５０℃から５００℃の範囲に入るが、好ましくは、特に金−錫共融はんだの場合、３００℃から４００℃の範囲内に入る。低温のはんだ付けまたは接合の場合には、温度は、通常１２５℃から１７５℃の範囲に入る。例えば、エポキシが用いられる場合、典型的な接合温度は約１５０℃である。
【００１６】
ダイがベースにはんだ付けまたは接合されて、冷却された後に、側壁がベースの上にフレームとして付けられる。上記に例として列挙した熱硬化性または熱可塑性の材料を、側壁に使用することができる。熱硬化性材料は、典型的には、トランスファ成形で成形され、他方、熱可塑性材料は、典型的には、射出成形で成形されるが、各々異なる成型方法を用いることができる。側壁は、予めリードを埋め込んで形成することができ、そのリードは側壁に囲まれたスペース内へ延び出す面部または端部を有し、もってダイへのワイヤボンディングのためにアクセス可能となっている。非金属のベースの場合は、リードは、ベースに埋め込ませることもできる。いずれの場合でも、リードは、金属ベース用に使用したものと同じタイプの材料で形成することができ、例は、上記に列挙されている。リードがベースの一部分である場合は、側壁は全体的にプラスチックでできていてもよく、製造工程のこの段階における防湿シーリングの必要性は、側壁とベースとの間の境界部においてのみ存在する。
【００１７】
リードが側壁に埋め込まれるパッケージにおいては、側壁フレームはリードの上から成型することができる。リードの上から側壁を成型する手順はよく知られており、一般に、連結ウェブにより接続されかつ個別のグループに配置された一連の金属リードを含むリードフレームアセンブリの上からプラスチックを成形する方法であり、その場合、隣接したグループは、さらなる連結ウェブにより連結されていて、成型が完了したときにそれらウェブは最終的には取り除かれる。リードに沿って所定の箇所にダムが設けられていて成形コンパウンドを閉じ込める役目をしており、そのダムが同様に取り除かれてから、成形された側壁本体が分離される。使用する材料に応じて、射出成形、トランスファ成形、インサート成形、およびリアクション射出成形等の従来の成形技術を、採用することができる。成形工程に先立ち、リードがプラスチックと接する箇所でリードフレームにに接着剤が塗布される。この接着剤は、プラスチックの成型温度で硬化し、リードの周りに封止部を形成して、湿気その他の大気中のガスが浸入するのを防ぐ。リードの数は、ダイとその適用目的によって大きく変わる可能性がある。したがって、リードは僅かに２本しかなかったり、１００本以上あったりするし、また、リードは、フレームの一つの側だけにあってもよいし、全四つの側にあってもよい。
【００１８】
側壁フレームをベースに付けるには、接着剤、特に、熱硬化性高分子接着剤、を使用することにより同様に達成される。両方の箇所に使用する接着剤には、エポキシ接着剤、ポリアミド、シリコーン、フェノール樹脂、ポリスルホン、またはフェノキシ接着剤等の熱硬化性および熱可塑性の材料がある。熱硬化性の接着剤の例としては、
Ｄ．Ｅ．Ｒ．３３２：ビスフェノールＡによるエポキシ樹脂（ダウケミカル社、米国ミシガン州、ミッドランド市）
アラルダイト（登録商標）ＢＣＮ  １２３７：エポキシ  クレゾール  ノボラック（チバガイギー社、米国ニューヨーク州、アーズレイ市）
アラルダイト（登録商標）ＭＹ  ７２１：多機能性液状エポキシ樹脂（チバガイギー社）
クォーテックス（登録商標）１４１０：ビスフェノールＡによるエポキシ樹脂（ダウケミカル社）
ＥＰＯＮ（登録商標）８２８、１００１Ｆ、５８００５：変形ビスフェノールＡエポキシ樹脂（シェル・ケミカル社、米国テキサス州ヒューストン市）
がある。熱可塑性の接着剤の例としては、
フェノキシ  ＰＫＨＪ：フェノキシ樹脂（フェノキシ・アソシエイツ）ポリスルホン
がある。
【００１９】
接着剤の組成は、随意に１または複数の成分を含ませて、その組成に種々の望ましい特性のいずれかを持たせる。それらの成分としては、硬化剤、消泡剤、湿気吸取り剤（乾燥剤）、および嵩を増やすための充填剤がある。硬化剤の例としては、ポリアミン、ポリアミド、ポリフェノール、高分子チオール、ポリカルボン酸、無水物、ジシアンジアミド、シアノグアニジン、イミダゾール、および三フッ化ホウ素とアミンまたはエーテルの錯体等のルイス酸が挙げられる。消泡剤の例としては、シリコーン樹脂、シラン等の疎水性シリカ、ポリテトラフルオロエチレン等のフルオロカーボン、エチレン−ジアミン−ステアラミド、スルホンアミド、炭化水素ワックス、および固体脂肪酸等の脂肪酸アミド、およびエステル類がある。湿気吸取り剤の例としては、活性アルミナと活性炭素がある。湿気吸取り剤として機能する具体的な製品としては、製造者（米国、ニュージャージー州、ジャージーシティのアルファメタル社）によって２０００−２，ＳＤ１０００，およびＳＤ８００として特定されるものがある。充填剤の例では、アルミナ、酸化チタン、カーボンブラック、炭酸カルシウム、カオリン・クレイ、マイカ、シリカ、タルク、および木粉等がある。
【００２０】
ベース、蓋、または両方の好ましい接合方法では、まず接着剤を接合すべき表面に塗布し、次いで適当な温度まで加熱して、その接着剤が室温では不粘着で半固体となるＢ段階の状態にする。一方または両方がこのようにしてＢ−段階の該接着剤を塗布された、接合されるべき部品は、次いで接合され、さらに加熱されて、Ｂ段階の接着剤が液化して両表面を濡らし、全面的に硬化してガス非浸透性の封止を形成する。
【００２１】
側壁フレームをベースに接合する接着剤を硬化するのに使用される温度は、使用する個々の接着剤によって異なるが、一般には２００℃より下である。殆どの場合、温度範囲は、１００℃から２００℃までで、好ましくは１２５℃から１８５℃までである。
【００２２】
一旦、側壁フレームがベースに接合されると、ダイがリードにワイヤボンディングされ、蓋が側壁フレームに取り付けられて、ダイが封入される。側壁フレームに対する蓋の固定は、側壁フレームをベースに対して固定したのと同じ要領で、接着剤によって達成可能である。
【００２３】
ベースおよび蓋として用いられる材料、側壁フレームに用いられるプラスチック、リードに用いられる金属、並びにリードを側壁フレームに、側壁フレームをベースに、および蓋を側壁フレームに接合する接着剤、のパラメータは、熱膨張係数（「ＣＴＥ」）である。各材料は、独自のＣＴＥを有するが、ＣＴＥは、摂氏１度当たりの百万分の一（重量で）の単位で表され、それらＣＴＥは、使用する材料の選択に影響する。隣接するいかなる二つの構成部品のＣＴＥと、合わさるいかなる接着剤と部品のＣＴＥとは、著しく異なるかも知れない。多くの場合、その差は、接着剤組成物中に熱可塑性要素を、単独の接着剤成分として、または熱硬化性接着剤成分との混合物として含めることによって補うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００２４】
この発明の方法によれば、電子素子パッケージの製造において使用される材料に高度の多様性を与えることができる。例えば、各側面に８個のリードを有し、大きさが０．４インチ四角のパッケージの中間ボディ（すなわち、側壁フレーム）を、ベースが金属で、蓋がセラミックであるパワーパッケージに使用することができる。同じ中間ボディを、ベースがセラミックで、蓋が透明ガラスであるＣＣＤまたはＣＭＯＳのビジョンパッケージに使用することができる。同じ中間ボディは、ダイを無線周波数や電磁放射線からシールドするために、金属ベースおよび金属蓋とともに使用することもできる。この発明は、またパッケージの構成要素として元来両立しない材料を適応させることを可能にする。例えば、典型的なビジョンパッケージに蓋として使用されるガラスは、約７ｐｐｍ／℃のＣＴＥを持ち、一方ベースは、特にそのパッケージがプリント回路板に適用される場合には、１５から２５ｐｐｍ／℃の範囲内のＣＴＥを持つ。この差は、ベースと蓋のＣＴＥの平均値±３０％程度の中間的なＣＴＥの値を持つプラスチックで出来た中間ボディを使用することによって、緩和することができる。このようにして、パッケージの製造中に、または製造後の組立やテスト手順中に遭遇する温度サイクル中に、パッケージがＣＴＥの低いガラス側の方へ反る傾向、または極端な場合には、蓋にひび割れを生じさせたり、接合線のところで漏洩を生じさせたりする傾向を低減する。
【００２５】
パッケージの全製造ステップは、複数のユニットが二次元アレイで同時に処理されるアレイ形式で行うことができる。正しく位置決めされたロケーションホールにより、二次元アレイの隣接構成要素が、同時組立のために正確に整列される。その代わりに、いずれの構成要素も個々に製造され接合されることができる。
【００２６】
上記の説明は、この発明の特定の実施形態と例について強調したものである。しかしながら、当業者は認識できるであろうが、この発明は、これらパッケージの構成および組立手順における材料、処理条件、処理手順、およびその他のパラメータの点で、この発明は上記の変形および変更にまで拡張される。
【国際公開パンフレット】
2004535675.tif 000002
2004535675.tif 000003
2004535675.tif 000004
2004535675.tif 000005
2004535675.tif 000006
2004535675.tif 000007
2004535675.tif 000008
2004535675.tif 000009
2004535675.tif 000010
2004535675.tif 000011
2004535675.tif 000012
2004535675.tif 000013
【国際調査報告】
2004535675.tif 000014