(57)【要約】移動可能な蓋、この蓋に結合された２つのリニアな案内ローラ、１つまたはそれ以上のリニアな昇降アクチュエータ、及び蓋の軸に結合された回転アクチュエータを有する化学気相堆積（ＣＶＤ）チャンバ用の蓋アッセンブリーが提供される。この蓋アッセンブリーは開閉プロセスチャンバばかりでなく、化学気相堆積におけるウエットクリーニングプロセスチャンバのために用いることができる。
2004510339.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学気相堆積（ＣＶＤ）プロセスチャンバ用の蓋アッセンブリーであって、
移動可能な蓋と、
第１のリニアな案内ローラと第２のリニアな案内ローラを有し、前記第１のリニアな案内ローラは前記第２のリニアな案内ローラに平行であり、且つ前記第１と第２のリニアな案内ローラは前記蓋に結合され、一方のリニアな案内ローラは蓋の横側のそれぞれの端にあり、前記横側は蓋が回転する軸であり、
１つまたはそれ以上のリニアな昇降アクチュエータを有し、前記リニアな昇降アクチュエータは、前記第１と第２のリニアな案内ローラに沿って蓋を上下に移動し、且つ
回転アクチュエータを有し、前記回転アクチュエータは、前記蓋の横側に結合され、前記蓋を回転することを特徴とする蓋アッセンブリー。
【請求項２】
さらに、１つ又はそれ以上のガススプリングを有し、前記ガススプリングは、前記蓋の重量を支持することを特徴とする請求項１に記載の蓋アッセンブリー。
【請求項３】
前記蓋は、前記リニアな昇降アクチュエータによって６００ｍｍまで下げられることを特徴とする請求項１に記載の蓋アッセンブリー。
【請求項４】
前記蓋は、前記回転アクチュエータによって１８０度まで回転されることができることを特徴とする請求項１に記載の蓋アッセンブリー。
【請求項５】
化学気相堆積（ＣＶＤ）プロセスにおいてプロセスチャンバを開閉する方法であって、
化学気層堆積において請求項１の蓋アッセンブリを適用し、前記蓋がリニアな昇降アクチュエータによって上限まで移動されたとき、前記プロセスチャンバは開状態にあり、前記蓋がリニアな昇降アクチュエータによって下限まで移動されたとき、前記プロセスチャンバは閉状態にあることを特徴とする方法。
【請求項６】
化学気相堆積処理においてプロセスチャンバをウエットクリーニングする方法であって、
リニアな昇降アクチュエータによってプロセスチャンバの蓋を上昇するステップを有し、前記蓋はリニアな案内ローラに沿って移動され、且つ前記リニアな案内ローラは蓋の軸に結合されており、
回転アクチュエータによって前記蓋を前記軸に対して１８０度回転するステップと、
前記蓋を前記プロセスチャンバより下に下げ、それによりプロセスチャンバの真空シールを破るステップと、
化学的クリーナを用いて前記チャンバをきれいに拭き取り、それによりプロセスチャンバがクリーニングされるステップと、
を有することを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（発明の属する技術分野）
本発明は、半導体の製造分野に関し、特にプロセスチャンバの蓋を開ける装置に関する。
【０００２】
（従来の技術）
化学気相堆積（ＣＶＤ）処理の間、プロセスチャンバ内に放出された反応性ガスは、処理されている基板の表面に層、例えば二酸化シリコンまたは窒化シリコンを形成する。このプロセス中に、酸化物／窒化物の堆積は、ＣＶＤ装置のどこにでも起きる。もし、ＣＶＤ装置が周期的にクリーニングされないと、この酸化物／窒化物の残留物はＣＶＤプロセスに悪い影響を与える。これらの悪影響を避けるために、周期的なクリーニング処理が行われ、Ｎ枚のウエハ／基板ごとに酸化物／窒化物の残留物を除去する。ただし、Ｎは整数である。
【０００３】
しかし、クリーニング処理はＣＶＤシステムの周期的な停止時間をもたらし、それによりシステムのスループットを低下させる。ＣＶＤシステムの全停止時間を減少するために、２つの形式のクリーニング技術、即ちガスクリーニング技術とウエットクリーニング技術が用いられている。ガスクリーニング技術では、クリーニングガス、例えば酸素、ＮＦ３、ヘリウム及び／または窒素がプロセスチャンバに流され、そこに存在する酸化物の残留物を除去する。ガスクリーニング技術は、チャンバの真空シールを破ることなく行われ、そのシールは、プロセスチャンバに関連した蓋が閉じた位置にあるときに形成されている。この技術は、クリーニング処理を行なうのに必要な停止時間の長さを最小にする。しかし、ガスクリーニング技術は、ＣＶＤ装置に存在する酸化物の残留物の一部を除去することができず、周期的なウエットクリーニング技術を必要とする。ウエットクリーニング技術では、プロセスチャンバの真空シールは、チャンバの蓋を開放位置に移動することによって破られる。ユーザは、化学的なクリーナを使って、チャンバを物理的にきれいに拭き取る。従って、ウエットクリーニング技術は、ガスクリーニング技術より実質的に多くの時間を消費し、それによって、ＣＶＤ装置の停止時間は増加する。
【０００４】
従来の技術は、ウエットクリーニングに必要な時間を減少するＣＶＤ装置が不足している。特に、従来技術は、プロセスチャンバの蓋を上げ／下げ（開けた状態／閉じた状態）及び蓋を１８０度回転することができるＣＶＤプロセスチャンバにおいて蓋を開ける装置の一体化が不充分である。本発明は、従来技術において長い間の必要性及び要望を満たすものである。
【０００５】
（本発明の概要）
本発明の１つの特徴として、移動可能な蓋、２つのリニアな案内ローラ、１つまたはそれ以上のリニアな昇降アクチュエータ、および回転アクチュエータを有する化学気相堆積（ＣＶＤ）プロセスチャンバ用の蓋アッセンブリーが提供される。任意に、この蓋アッセンブリーは、１つ以上のガススプリングを有し、蓋の重量を支持する。２つのリニアな案内ローラは、互いに平行であり、それらは蓋、即ち蓋の軸の各々の端の一方に結合される。リニアな昇降アクチュエータは、リニアな案内ローラに沿って蓋を上下させるように動き、一方、回転アクチュエータは蓋の軸に結合され、蓋が上限まで上げられると蓋を回転する。この蓋アッセンブリーは、化学気相堆積（ＣＶＤ）プロセスにおいてプロセスチャンバを開け、閉めするために用いることができる。
【０００６】
本発明の他の特徴として、化学気相堆積処理においてプロセスチャンバをウエットクリーニングする方法を提供する。この方法は、（１）リニアに上昇するアクチュエータによってプロセスチャンバの蓋を上昇するステップ；（２）回転アクチュエータによって軸に対して蓋を１８０度回転するステップ；（３）蓋をプロセスチャンバの下まで下げ、それによりプロセスチャンバの真空シールを破るステップ；及び（４）化学的クリーナを用いてチャンバをきれいに拭き取るステップを有する。ステップ（１）の間、蓋は、蓋の軸に結合されているリニアな案内ローラに沿って移動される。
【０００７】
本発明の他の、及び更なる特徴及び利点は、開示の目的のために与えられた本発明の実施の形態の説明から明らかになるであろう。
【０００８】
（発明の詳細な説明）
本発明の上述の特徴、利点及び目的ばかりでなく、明らかになるであろうその他のことが詳細に理解され、また上に簡単に要約された本発明の説明は、添付図面に示された実施の形態を参照することによって理解されるであろう。添付図面は、明細書の一部を形成する。しかし、添付図面は本発明の実施の形態を概略示したにすぎず、従って、本発明の範囲を限定すると考えるべきでないことに留意すべきである。
【０００９】
図１を参照すると、移動可能な蓋１０８、２つの昇降するリニアなアクチュエータ１０１（蓋の軸のそれぞれの端に１つ）、２つのリニアな案内ローラ１０２（蓋の軸のそれぞれの端に１つ）、２つのガススプリング１０３、平減速歯車１０４、歯車１０５、回転アクチュエータ１０６及びモータ制御装置１０７を有するプロセスチャンバの蓋の開閉装置が設けられている。プロセスチャンバの蓋の開き機構の寸法が図３に示されている。
【００１０】
蓋の開閉機構は、リニアな案内ローラ１０２とリニアな昇降アクチュエータ１０１によって構成されている。蓋は、リニアな案内ローラ１０２において支持され、リニアアクチュエータ１０１を上方（開）または下方（閉）限界まで昇降することによって上下に動作される。２つの昇降するリニアアクチュエータ１０１は、リニアなアクチュエータがプロセスチャンバの下にアクセスするのを妨げないように、蓋の軸の両端に取付けられる。プロセスチャンバは、中間の下方位置に制御装置と関連装置を有する。幾つかのインジケータとスイッチが制御用に設けられている。装置は制御パネルの表面をブロック／カバーすることはできない。蓋の重量は、回転アクチュエータ１０６の負荷を減少するためにガススプリング１０３によって支持されている。
【００１１】
蓋の回転機構は、歯車１０５と移動可能な蓋１０８に結合された回転アクチュエータ１０６によって構成されている。蓋の回転機構は、蓋が上限に達するまで動作しない。
【００１２】
化学気相堆積（ＣＶＤ）プロセスチャンバにおける蓋の開き機構のこのような一体化は、プロセスチャンバの蓋を上下（開／閉状態）に移動し、蓋を１８０度回転するすることができる。
【００１３】
従来の蓋の開／閉及び回転機構と比較すると、本発明のプロセスチャンバ蓋の開き機構は、ウエットクリーニングシャワー及び／又はプロセスチャンバのような蓋のメンテナンスにとって容易である。
【００１４】
本発明の蓋は、床レベルからシャワーヘッド面において１．８ｍから１．２ｍまで低下することができる。さらに、本発明の蓋の開き機構は、蓋を真っ直ぐ上昇することができるので、無線周波数（ＲＦ）電力信号ケーブル、及び冷却水を切り離すことを容易にする。
【００１５】
ここに開示したプロセスチャンバの蓋の開き機構を動作するために、蓋は、先ず上限まで上昇され（図２Ａ）、その後１８０度回転され（図２Ｂ）、そして最後に６００ｍｍ下げられる（図２Ｃ）。
【００１６】
上述したように、移動可能な蓋、２つのリニア案内ローラ、１つ又はそれ以上のリニア昇降アクチュエータ及び回転アクチュエータを有する化学気相堆積（ＣＶＤ）プロセスチャンバ用の蓋アッセンブリーが提供される。この蓋アッセンブリーは、蓋の重量を支持するために１つ又はそれ以上のガススプリングを任意に有することができる。２つのリニアな案内ローラは、互いに平行であり、それらは、蓋、即ち蓋の軸の各々の端の一方に結合される。リニアな昇降アクチュエータは、リニアな案内ローラに沿って蓋を上下に移動し、一方、回転アクチュエータは蓋の軸に結合され、蓋が上限まで上昇されると蓋を回転する。特に、蓋は、リニアな昇降アクチュエータによって６００ｍｍ下げられ、且つ回転アクチュエータによって１８０度まで回転されることができる。
【００１７】
本発明の開示された蓋アッセンブリーは、化学気相堆積（ＣＶＤ）プロセスにおいてプロセスチャンバを開けたり／閉めたりするためにために用いることができる。特に、プロセスチャンバは、蓋がリニアな昇降アクチュエータによって上限まで移動されると、開状態になり、一方、プロセスチャンバは、蓋がリニアな昇降アクチュエータによって下限まで移動されると、閉状態になる。
【００１８】
本発明は、化学気相堆積処理においてプロセスチャンバをウエットクリーニングする方法を提供する。この方法は、（１）アクチュエータをリニアに上昇することによってプロセスチャンバの蓋を上昇するステップ；（２）回転アクチュエータによって軸に対して蓋を１８０度回転するステップ；（３）蓋をプロセスチャンバの下まで下げ、それによりプロセスチャンバの真空シールを破るステップ；及び（４）化学的クリーナを用いてチャンバをきれいに拭き取るステップを有する。ステップ（１）の間、蓋は、蓋の軸に結合されているリニアな案内ローラに沿って移動される。
【００１９】
この明細書において述べられた全ての特許及び刊行物は、本発明が関する当業者のレベルを示している。それぞれの刊行物がレファレンスによって取り込まれるように特に及びそれぞれ示されているならば、同程度に、これらの特許及び刊行物はレファレンスによってここに取り込まれる。
【００２０】
当業者は、本発明は、目的を達成するために、及び述べられた目的及び利点を得るように適合されていることを容易に理解するであろう。本発明を実施する場合、本発明の精神又は範囲から逸脱することなくいろいろな変形及び変更を行うことができることは当業者に明らかであろう。請求項の範囲によって定義された本発明の精神に含まれる変更及び他の用途は、当業者に思い浮かぶであろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】
昇降するリニアなアクチュエータ１０１、リニアな案内ローラ１０２、ガススプリング１０３、平歯車減速歯車１０４、カバーを有する歯車（取り除かれた状態にある）１０５、回転アクチュエータ１０６、モータ制御装置１０７、及び移動可能な蓋１０８を示すプロセスチャンバの蓋の開き機構の概要を示す。
【図２】
（Ａ）〜（Ｃ）は、プロセスチャンバの蓋の開き機構の動作ステップを示し、（Ａ）は蓋が先ず上昇された状態であり、（Ｂ）は蓋が１８０度回転され状態であり、及び（Ｃ）は６００ｍｍ下げられた状態である。
【図３】
プロセスチャンバの蓋の開き機構の寸法を示す蓋の動作領域の側面図である。
【国際公開パンフレット】
2004510339.tif 000003
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2004510339.tif 000014
2004510339.tif 000015
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004510339.tif 000016
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004510339.tif 000017
2004510339.tif 000018
【国際調査報告】
2004510339.tif 000019
2004510339.tif 000020