(57)【要約】データ記憶システムのヘッドのエア・ベアリング・デザインをモデル化するためのシステムである。モデル化システムには、マスク表面２０８に対するユーザ画定可能表面輪郭２２６が含まれている。モデル化システムは、ユーザ画定マスク表面輪郭２２６に基づいて、マスク表面に対する積分表面関数２２４を生成している。モデル化システムには、マスク表面関数に対するユーザ画定可能深さ寸法２３０が含まれており、積分表面関数２２４およびマスク表面の寸法パラメータ２２８をコンパイルすることによって、モデル化されたエア・ベアリング構造をシミュレートし、その性能を分析し、評価している。積分マスク表面関数２２４を使用して、スライダを製造するための多重マスク層２００−１、２００−２が画定される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
エア・ベアリングの隆起ベアリング表面に対するユーザ画定可能マスク表面輪郭と、
ユーザ画定マスク表面輪郭の各々に対する積分マスク表面関数を計算するマスク積分アルゴリズムと、
計算された積分マスク表面関数に対するユーザ画定可能マスク深さ寸法と、
積分マスク表面関数および積分マスク表面関数に対するユーザ画定マスク深さ寸法に基づいてエア・ベアリング表面を生成するコンパイル・アルゴリズムとを備えたスライダ・モデル化システム。
【請求項２】
積分マスク表面関数および該積分マスク表面関数の各々に対するユーザ画定マスク深さ寸法からコンパイルされたエア・ベアリング構造をグラフ表示する表示アルゴリズムをさらに備えた、請求項１に記載のスライダ・モデル化システム。
【請求項３】
積分マスク表面関数および該積分マスク表面関数に対するユーザ画定マスク深さ寸法からコンパイルされたエア・ベアリング構造に基づいてベアリング性能パラメータを計算するように構成されたエア・ベアリング性能プログラムをさらに備えた、請求項１に記載のスライダ・モデル化システム。
【請求項４】
エア・ベアリング性能プログラムが、積分マスク表面関数に対する複数回のマスク深さ寸法繰返しに基づいてエア・ベアリング性能パラメータを計算するように構成された、請求項３に記載のスライダ・モデル化システム。
【請求項５】
マスク積分アルゴリズムが、
ユーザ画定マスク表面輪郭によって画定されるマスク表面をマップするための積分表面セグメントのメッシュを生成するようにプログラムされたメッシュ積分アルゴリズムを備える、請求項１に記載のスライダ・モデル化システム。
【請求項６】
メッシュ積分アルゴリズムが、三角表面セグメントの積分三角メッシュを生成する、請求項５に記載のスライダ・モデル化システム。
【請求項７】
マスク表面輪郭を画定するためのユーザ画定可能輪郭ポイントを備えた、請求項１に記載のスライダ・モデル化システム。
【請求項８】
ユーザ画定マスク輪郭およびユーザ画定可能深さ寸法が、スライダを製造するための多重マスク層を画定する、請求項１に記載のスライダ・モデル化システム。
【請求項９】
スライダの隆起ベアリング表面に対するユーザ定義可能マスク・パラメータと、
ユーザ定義可能マスク・パラメータに基づいてエア・ベアリング構造をモデル化するためのコンパイル手段とを備えた、スライダのためのモデル化システム。
【請求項１０】
ユーザ定義可能マスク・パラメータがユーザ画定可能マスク表面輪郭を含み、ユーザ画定マスク表面輪郭に基づいて積分マスク表面を計算するための積分手段を備えた、請求項９に記載のモデル化システム。
【請求項１１】
マスク表面を計算するための積分手段が、積分マスク表面を累積的に画定するマスク表面セグメントの積分メッシュを生成するようにプログラムされたメッシュ積分アルゴリズムを備える、請求項１０に記載のモデル化システム。
【請求項１２】
モデル化されたエア・ベアリング構造のマスク表面に対する輪郭プロファイルを画定するステップと、
画定されたマスク表面輪郭プロファイルの各々に対する積分マスク表面関数を生成するステップとを含む、エア・ベアリング・スライダをモデル化するための方法。
【請求項１３】
モデル化されたエア・ベアリング構造のマスク層を画定するために、積分マスク表面関数の各々に対する深さ寸法を画定するステップをさらに含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
積分マスク表面関数および積分マスク表面関数に対する深さ寸法に基づいて、モデル化されたエア・ベアリング構造の性能特性を計算するステップをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
修正モデル・エア・ベアリング構造を画定するために、積分マスク表面関数に対する深さ寸法を修正するステップと、
修正モデル・エア・ベアリング構造の性能特性を再計算するステップとをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
マスク表面のマスク表面輪郭プロファイルを修正するステップと、
修正マスク表面輪郭プロファイルに対する積分マスク表面関数を再生成するステップと、
修正マスク表面輪郭プロファイルに対する性能特性を再計算するステップとをさらに含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
ユーザ画定マスク表面輪郭プロファイルに対する積分マスク表面関数を生成するステップが、
ユーザ画定マスク表面プロファイル輪郭に対する表面セグメントのメッシュ積分を生成するステップを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１８】
請求項１４に記載のステップを使用して形成されたスライダ。
【請求項１９】
請求項１４に記載のステップを使用して形成されたスライダを有するディスク・ドライブ。
【請求項２０】
多重マスク層のためのユーザ画定可能マスク表面輪郭と、　ユーザ画定マスク表面輪郭の各々に対する積分マスク表面関数を計算するマスク表面積分アルゴリズムと、
多重マスク層のための積分マスク表面関数を計算するためのユーザ画定マスク深さと、
積分マスク表面関数およびそのユーザ画定積分深さ寸法に基づいて、多重マスク層のための表面構造を画定するコンパイル・アルゴリズムとを備えたモデル化システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（発明の分野）
本発明はデータ記憶システムに関し、詳細にはデータ記憶装置のためのエア・ベアリング・スライダを設計し、かつ、製造するためのシステムおよび方法に関する。
【０００２】
（発明の背景）
データ記憶装置は、デジタル情報をディスク上に記憶している。ヘッドは、ディスクからデータを読み出し、あるいはディスクにデータを書き込むべく、ディスク表面に対して支持されている。ヘッドは、エア・ベアリング・スライダ上に支持された変換器エレメントを備えている。エア・ベアリング・スライダは、リーディング・エッジ、トレーリング・エッジ、およびオフセットすなわち隆起ベアリング表面を備えている。データ記憶装置のディスクが回転することによって、エア・ベアリング・スライダの隆起ベアリング表面に沿って、エア・ベアリング・スライダのリーディング・エッジからトレーリング・エッジへ空気流が生成される。エア・ベアリング・スライダの隆起ベアリング表面に沿った空気流によって流体力学上の力が付与され、読出し／書込みオペレーションのために、ディスク表面の上にスライダが支持されている。
【０００３】
面積ディスク・ドライブ密度が増加し、動的動作パラメータあるいはエア・ベアリング・スライダの設計に対するより一層の制御が必要になっている。モデル化技法を使用して、様々なエア・ベアリング・デザインのための動的動作パラメータが解析されている。モデル化技法により、浮上高、ピッチ、ロール、高さ、感度、その他、個々のエア・ベアリング・デザインに必要なパラメータが解析されている。エア・ベアリング・デザインを最適化するためには、何回か設計を繰り返さなければならず、従来のモデル化技法は、エア・ベアリング・デザインを複数回繰り返す場合の動作パラメータの解析には、うまく適合していない。
【０００４】
エア・ベアリング・スライダの隆起ベアリング表面は、知られているマスキング・プロセスおよびエッチング・プロセスによって製造されている。多層ベアリング表面は、多重オフセットまたは多重隆起ベアリング表面を形成するために、複数のマスキング・ステップによって製造されている。各マスク層のマスク表面を画定するために、複数のマスク・プロファイルが、モデル化されたベアリング表面設計の各マスク層に対して計算され、あるいは導出されている。モデル化されたエア・ベアリング・デザインのための各マスク層のマスク・プロファイルおよびマスク表面の計算あるいは導出には、多大な時間および労働力を必要としている。本発明は、これらおよびその他の問題に対処し、かつ、従来技術では認知されず、また、認識されていない解決法を提供するものである。
【０００５】
（発明の概要）
本発明は、データ記憶システムのヘッドのエア・ベアリング・デザインをモデル化するためのシステムに関する発明である。モデル化システムには、マスク表面に対するユーザ画定可能表面輪郭が含まれている。モデル化システムによって、ユーザ画定マスク表面輪郭に基づいたマスク表面の積分表面関数が生成される。モデル化システムは、マスク表面関数および積分表面関数に対するユーザ画定可能高さ変数すなわち深さ変数を備えており、モデル化されたエア・ベアリング構造をシミュレートして性能を評価し、解析するために、積分表面関数およびマスク表面の高さすなわち深さパラメータがコンパイルされる。モデル化されたマスク表面関数およびユーザ定義高さすなわち深さパラメータは、モデル化されたベアリング構造のスライダを製造するためのマスク層を画定している。本発明を特徴づけるこれらおよびその他の特徴および利点については、以下の詳細な説明を読み、かつ、関連する図面を精査することにより明らかになるであろう。
【０００６】
（図示実施形態の詳細な説明）
図１は、軸１０４の周りに軸と共に回転するように支持された複数のディスク１０２を備えたデータ記憶装置１００の一実施形態を示したものである。ヘッド１０６は、ディスク１０２からデータを読み出し、あるいはディスク１０２にデータを書き込むために、サスペンション・アセンブリ１０８によってディスク１０２の表面に対して柔軟に支持されている。複数のサスペンション・アセンブリ１０８が、ボイス・コイル・モータ１１２によって動かされるアクチュエータ・アセンブリ１１０に結合され、ディスク表面の特定のデータ・トラックに対するヘッド１０６の位置を定めている。ディスク１０２は、読出し−書込みオペレーションのために、図１に略図で示すスピンドル・アセンブリ１１４によって回転させられている。
【０００７】
図２に示すように、ヘッド１０６は、エア・ベアリング表面１２０を有するエア・ベアリング・スライダ１１８上に支持された変換器エレメント１１６（図式的に示されている）を少なくとも１つ備えている。少なくとも１つの変換器エレメント１１６は、誘導タイプの変換器であっても、磁気抵抗タイプの変換器であっても、あるいは磁気光学タイプの変換器であってもよい。動作に関しては、ディスク１０２が回転することにより、エア・ベアリング表面１２０に沿って、スライダ１１８のリーディング・エッジ１２６からトレーリング・エッジ１２８へ、矢印１２２で示す空気流が形成される。エア・ベアリング表面１２０に沿った空気流は、流体力学上の浮力をもたらし、それにより読出し−書込みオペレーションの間、スライダがディスク表面の上を浮上高ｈで浮上する。エア・ベアリング表面１２０の流体力学上の浮力は、サスペンション・アセンブリ１０８によって供給される予荷重力Ｆと対抗している。動作時は、スライダ１１８は、ディスク表面のトポロジーに従って、ジンバル・ポイントの周りでピッチおよびロールするべく、柔軟に支持されている。
【０００８】
図３および図４は、エア・ベアリング・スライダ１１８−１のエア・ベアリング表面の一実施形態を示したもので、図１および図２における同様の部品を識別するために、同様の番号が使用されている。図に示す実施形態では、エア・ベアリング表面は、凹部表面１３０の上に隆起表面層を備えている。隆起表面層は、隆起ベアリング表面１３２および隆起ベアリング表面１３２からオフセットしたステップ状ベアリング表面１３４を備えている。図に示す実施形態では、隆起ベアリング表面１３２は、対向するサイド・レール１３２−１、１３２−２、およびセンタ・パッド１３２−３を備えている。ステップ状ベアリング表面は、隆起ベアリング表面１３２−１、１３２−２からオフセットしたリーディング・エッジ・ステップ１３４−１、および隆起ベアリング表面１３２−３からオフセットしたトレーリング・エッジ・ステップ状ベアリング表面１３４−２を備えている。ステップ状ベアリング表面１３４は、隆起サイド・レール１３２−１、１３２−２、およびセンタ・パッド１３２−３に中間圧力ステップを提供し、所望の流体力学上の性能を実現している。
【０００９】
スライダは、ウェハ製造プロセスによって製造されている。図５−１から図５−４に協同して示すように、図に示す実施形態の多重ベアリング表面層は、多重ステップ・マスキング・プロセスによって形成されている。多重ステップ・マスキング・プロセスには、複数のマスク層が含まれている。図に示す実施形態では、図５−１および図５−２に示す第１のマスク層１４０−１が、高さｚ１の位置に隆起ベアリング表面１３２を形成している上部基板表面から距離ｄ１だけオフセットしたステップ状ベアリング表面１３４を形成している。オフセットしたベアリング表面１３４は、図５−２に協同して示すように、凹み高さｚ２の位置にある。図５−３および図５−４に示す第２のマスク層１４０−２は、高さｚ３の位置に凹部ベアリング表面１３０を形成している。凹部ベアリング表面１３０は、図５−４に示すように、隆起ベアリング表面１３２すなわち高さｚ１の位置にある上部基板表面から距離ｄ２だけ凹んでいる。複数のマスク層１４０−１、１４０−２が協同して、図３および図４に示す多層ベアリング構造を形成している。
【００１０】
浮上高パラメータ、ピッチ・パラメータおよびロール・パラメータは、エア・ベアリングの寸法すなわち設計によって決まる。既に考察したように、面積ディスク・ドライブ密度が増加し、より厳格な浮上高および動作の制御が必要になっている。エア・ベアリング・スライダの性能は、数学的モデル化技法を使用して、浮上高特性、ピッチ特性およびロール特性に対して評価される。図６に示すように、個々のエア・ベアリング・デザインの性能は、スライダの隆起ベアリング表面またはオフセット・ベアリング表面の数学的マトリックス定義に基づいて評価されている。図６に示すように、個々のエア・ベアリング・デザイン１５０に対して、ブロック１５４で示すｘ−ｙマトリックス格子１５２が生成される。ｘ−ｙマトリックス格子１５２の分解能は、隆起ベアリング表面またはオフセット・ベアリング表面の複雑さ、すなわち輪郭によって決まる。
【００１１】
ブロック１５６に示すように、ｘ−ｙマトリックス格子１５２を使用して三次元マトリックス１５８が生成され、エア・ベアリング・デザイン１５０すなわちエア・ベアリング表面（ＡＢＳ）がモデル化される。三次元マトリックス１５８には、マトリックス格子１５２上の各ｘ−ｙ交点に対する三次元ｘ、ｙ、ｚ基準が含まれている。ｚは、各ｘ−ｙ交点におけるベアリング表面の高さ寸法である。ブロック１６０で示すように、三次元マトリックスＭ（ｘ，ｙ，ｚ）１５８を使用して、エア・ベアリング・デザインの動作性能が計算され、あるいはシミュレートされる。
【００１２】
ブロック１６２に示すように、性能および設計を最適化するためには、複数回に渡る設計の繰返しが必要である。例えばブロック１６４で示すように、２回目の設計反復で、隆起ベアリング表面のｚ寸法すなわち高さを変更することができ、あるいは別法として、ブロック１６６で示すように、隆起ベアリング表面のプロファイルすなわち輪郭を修正することができる。設計反復毎に三次元マトリックス１５８を再生成し、修正したベアリング・デザインに対する三次元マトリックスＭ（ｘ，ｙ，ｚ）の各ｘ、ｙ、ｚ基準を再定義しなければならない。詳細には、線１７０で示すように、隆起ベアリング表面１３２、１３４のｚ寸法を変更すなわち調整するためには、高さ調整済みの高さに対して、ベアリング表面上のｘ−ｙポイント各々に対するｚ高さを変更しなければならない。
【００１３】
隆起ベアリング表面のベアリング・プロファイルすなわち輪郭を調整するためには、線１７２で示すように、ベアリング表面を再格子化しなければならず、また、修正されたベアリング・デザインに対して、再格子化したｘ−ｙ交点の各々に対するｘ、ｙ、ｚ基準を再定義しなければならない。三次元マトリックスＭ（ｘ，ｙ，ｚ）に対するｘ、ｙ、ｚ基準ポイントの再入力すなわち再定義には、多大な時間および労働力が必要である。モデル化および設計プロセスが完了すると、線１７４で示すように、三次元マトリックス設計に基づいて、ウェハを製造するためのマスク層すなわち表面を個別に導出しなければならない。そのためには、マスク輪郭すなわち表面を作成するための追加データ操作すなわち追加マトリックス操作が必要である。
【００１４】
本発明は、個別プロファイル・マッピングおよび高さ欄定義を含むエア・ベアリング・デザインのための柔軟設計およびモデル化プロセスに関している。図７の流れ図に示すように、本発明によるモデル化システムの例示実施形態には、ブロック１８０で示すように、エア・ベアリングの隆起すなわちオフセット表面に対するユーザ画定マスク輪郭すなわちプロファイルが含まれている。ブロック１８２で示すように、ユーザ画定プロファイルすなわち輪郭を使用して、マスク表面を画定するためのマスク輪郭に対する積分マスク表面関数が計算される。ブロック１８４で示すように、ｚ高さすなわちマスク深さが、各積分マスク表面に対して画定される。したがって、ブロック１８６で示すように、マスク表面に対する計算積分表面関数およびｚ高さすなわちマスク深さ寸法を使用して、モデル・エア・ベアリング構造が同化すなわちコンパイルされ、モデル・エア・ベアリング構造に対する性能パラメータが計算される。
【００１５】
線１８８で示すように、修正ｚ寸法すなわち深さ変数を画定して、異なるベアリング表面高さに対する複数回設計繰返しを実行することができる。各マスク層すなわちベアリング表面の深さは、積分マスク表面すなわちマスク層の単一深さ変数すなわち寸法変数を変更することによって修正することができる。また、線１９０で示すように、マスク輪郭を修正することによってベアリング表面の輪郭を修正し、多数のマトリックス・パラメータを再入力する必要なく、システムに修正マスク輪郭に対する修正積分表面関数を再計算させることもできる。設計プロセスが完了すると、積分マスク表面すなわち輪郭によって、ウェハを製造するためのマスク層が画定される。
【００１６】
図８は、エア・ベアリング・モデルの多重マスク層２００−１、２００−２を示したものである。マスク層２００−１、２００−２には、ユーザ画定可能マスク・プロファイルすなわち輪郭２０４−１、２０４−２、２０４−４が含まれている。マスク層２００−１は、プロファイルすなわち輪郭２０４−１によって画定され、マスク層２００−２は、多重マスク・プロファイルすなわち輪郭２０４−２、２０４−３によって画定されている。図に示す実施形態では、マスク層２００−１、２００−２のマスク表面２０８−１、２０８−２、２０８−３、２０８−４、２０８−５は、ユーザ画定マスク輪郭２０４−１、２０４−２、２０４−３に基づいて生成され、図９に示すオフセットすなわち層化ベアリング表面を備えたモデル・ベアリング構造を形成している。図に示すモデルでは、マスク層２００の輪郭２０４は、図に示すように、複数の輪郭ポイント２１０によって画定されている。既に説明したように、システムは、ユーザ画定輪郭２０４に対する積分マスク表面２０８を、次のように計算している。
2004503889.tif 000002
【００１７】
図９−１、図９−２に示すように、マスク層２００−１は、隆起ベアリング表面２１２−２、２１２−３、２１２−４からオフセットしたステップ状ベアリング表面２１２−１を形成し、また、マスク層２００−１は、凹部ベアリング表面２１４から上方に隆起した隆起ベアリング表面２１２−１、２１２−２、２１２−３、２１２−４を画定している。詳細には、図に示す実施形態では、表面２０８−２が、ユーザ画定深さまでエッチングすなわち粉砕され、図９−１、図９−２に示すように、マスク表面２０８−１からオフセットしたステップ状ベアリング表面２１２−１を形成し、また、表面２０８−５が、ユーザ画定深さまで粉砕すなわちエッチングされ、図９−１、図９−２に示すように、マスク表面２０８−５からオフセットした隆起ベアリング表面２１２−１、２１２−２、２１２−３、２１２−４を形成する。既に説明したように、積分表面２０８すなわちマスク層に対するマスク深さすなわち高さ寸法が画定されているため、複数回設計繰返しのための広範囲に渡るデータの再入力を必要とすることなく、モデル化されたエア・ベアリング構造の高さ寸法を容易に修正することができる。また、隆起ベアリング表面の輪郭すなわちプロファイルを（例えば、マスク表面の輪郭に基づいて）修正し、モデル化システムに、複数回ベアリング構造繰返しのための積分表面を再計算させることができる。設計プロセスが完了すると、モデル化された構造に対するマスク表面によって、製造のためのマスク層が画定される。
【００１８】
図１０は、ブロック２２６で示す、ユーザ画定マスク輪郭に対する積分マスク表面関数を計算するための、ブロック２２４で示す、コンピュータ実行積分アルゴリズムを備えた、本発明による一モデル化システム実施形態のアーキテクチャの概略を示したものである。ブロック２２８で示すように、コンピュータ実行コンパイル・アルゴリズムによってベアリング・モデルがコンパイルされる。コンパイル・アルゴリズムは、モデル化されたベアリング・デザインに対して、図９−１、図９−２に示す隆起ベアリング表面２１２−２、２１２−３、２１２−４およびオフセット・ベアリング表面２１２−１設計をシミュレートするために、計算積分マスク表面関数およびブロック２３０で示すマスク表面に対するユーザ画定マスク深さによって画定される、図８に示すような多重マスク層をコンパイルしている。
【００１９】
ベアリング・モデル２２８の性能特性は、エア・ベアリング寸法すなわち性能を最適化するための、ブロック２３２で示す性能アルゴリズムによって計算される。モデル化されたベアリング２２８は、ブロック２３４で示すように、表示アルゴリズムによってグラフ表示される。表示アルゴリズムは、計算された積分マスク表面および計算された積分マスク表面に対するユーザ画定深さに基づいて、モデル化されたエア・ベアリング構造のグラフ表示を生成している。したがって上で説明したように、本発明によるモデル化システムでは、モデル化されたベアリング・デザインに対するベアリング表面が、マスク表面すなわちマスク層に基づいて画定されるため、モデル・エア・ベアリング構造に対するマスク・プロファイルを決定するための分離プロセスすなわち製造ステップが除去されている。　【００２０】
図１１および図１２は、ユーザ画定輪郭プロファイルに基づくエア・ベアリング・スライダの隆起ベアリングすなわちマスク表面に対するメッシュ積分システム２４０の一実施形態を示したものである。図に示すメッシュ積分２４０には、三角表面セグメント２４２（図１２に、より明確に示す）の輪郭メッシュが使用されており、ユーザ画定表面輪郭プロファイル２０４と境界をなす積分表面２０８を、
2004503889.tif 000003
に基づいて累積的にマップすなわち画定している。
【００２１】
図には特定のメッシュ積分システムが示されているが、このシステムのアプリケーションは、図１１および図１２に示す特定の積分、三角セグメント、あるいはメッシュ生成に限定されない。スライダ製造用として示すメッシュ積分２４６を使用して、マスク層間の方形界面プロファイル２４４（図１２の、隆起表面２１２−３とステップ状表面２１２−１の間に示す）をモデル化することもできる。
【００２２】
データ記憶システムのヘッドのためのエア・ベアリング・デザインをモデル化するためのシステムであって、該モデル化システムには、ユーザ画定可能マスク輪郭が含まれている。このモデル化システムは、ユーザ画定表面輪郭に基づいて、マスク表面に対する積分表面関数を生成している。モデル化システムには、積分表面関数の各々に対するユーザ画定可能深さすなわちオフセット寸法が含まれており、積分表面関数およびマスク表面の深さすなわち寸法パラメータをコンパイルすることによって、モデル化されたエア・ベアリング構造をシミュレートし、その性能を評価し、分析している。モデル化されたエア・ベアリング構造に対するマスク表面は、スライダを製造するためのマスク層を画定している。したがって上で説明したように、従来技術の場合のように、輪郭表面を画定しているすべてのポイントにおいてではなく、各輪郭に対する高さすなわち表面高さが画定される。
【００２３】
以上、本発明の様々な実施形態の構造および機能の詳細と共に、本発明の様々な実施形態の多数の特徴および利点について説明したが、本開示が単なる具体的な説明に過ぎず、とりわけ、特許請求の範囲の各請求項を表現している用語の一般的な広義の意味によって最大限示される本発明の原理の範囲内における部品の構造および配列に関して、詳細な変更を加えることが可能であることを理解されたい。例えば、個々のアプリケーションに応じて、本発明の範囲および精神を逸脱することなく、実質的に同じ機能を維持しつつ特定のエレメントを変更することができる。また、本明細書において説明した好ましい実施形態は、磁気ディスク・ドライブ・システムを対象にしているが、本発明の範囲および精神を逸脱することなく、本発明の教示を他のシステムに適用することができることは、当分野の技術者には理解されよう。
【図面の簡単な説明】
【図１】
データ記憶装置の一実施形態を示す斜視図である。
【図２】
サスペンション・アセンブリによってディスク表面に対して支持されたデータ記憶装置のヘッドを示す略図である。
【図３】
多層ベアリング構造の一実施形態を示す斜視図である。
【図４】
図３に示す多層ベアリング構造実施形態の側面図である。
【図５−１】
図３に示すスライダ実施形態の第１のマスク層の平面図である。
【図５−２】
図５−１の線５−２−５−２に沿って取った横断面図である。
【図５−３】
図３に示すスライダ実施形態の第２のマスク層の平面図である。
【図５−４】
図５−３の線５−４−５−４に沿って取った横断面図である。
【図６】
エア・ベアリング・スライダの従来のモデル化システムを示すフローチャートである。
【図７】
本発明によるモデル化システムの一実施形態を示すフローチャートである。
【図８】
モデル化されたエア・ベアリング構造の多重マスク層のマスク層プロファイルを示す図である。
【図９−１】
図８に示す多重マスク層プロファイルからコンパイルされたモデル化エア・ベアリング構造を示す略図である。
【図９−２】
図９−１の線９−２−９−２に沿って取った横断面図である。
【図１０】
本発明によるモデル化システムの一実施形態を示す図である。
【図１１】
モデル化されたエア・ベアリング構造に対して、ユーザ画定表面輪郭に対する積分表面を計算するためのメッシュ生成を示す図である。
【図１２】
図１１の積分メッシュの一部の詳細図である。
【図１】
2004503889.tif 000004
【図６】
2004503889.tif 000005
【図７】
2004503889.tif 000006
【図１０】
2004503889.tif 000007
【国際公開パンフレット】
2004503889.tif 000008
2004503889.tif 000009
2004503889.tif 000010
2004503889.tif 000011
2004503889.tif 000012
2004503889.tif 000013
2004503889.tif 000014
2004503889.tif 000015
2004503889.tif 000016
2004503889.tif 000017
2004503889.tif 000018
2004503889.tif 000019
2004503889.tif 000020
2004503889.tif 000021
2004503889.tif 000022
2004503889.tif 000023
2004503889.tif 000024
2004503889.tif 000025
2004503889.tif 000026
2004503889.tif 000027
2004503889.tif 000028
2004503889.tif 000029
2004503889.tif 000030
2004503889.tif 000031
2004503889.tif 000032
2004503889.tif 000033
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004503889.tif 000034
【国際調査報告】
2004503889.tif 000035
2004503889.tif 000036