(57)【要約】ＵＶ線に対してヒトの皮膚または毛髪を保護するためのＵＶ遮断剤としての使用のための、およびＵＶ遮断用組成物、特に化粧的または皮膚科学的使用用局所用組成物における、式（Ｉ）〔式中、Ｒ1は、水素、Ｃ1-20アルキルまたはＣ2-20アルケニルであり、Ｒ2およびＲ3は、独立して、基−Ｃ（Ｒ4，Ｒ5）Ｃ（Ｒ6）＝Ｃ（Ｒ7，Ｒ8）（ａ）または基−Ｃ（Ｒ4'，Ｒ5'）ＣＨ（Ｒ6'）ＣＨ（Ｒ7'，Ｒ8'）（ｂ）（ここで、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ4'、Ｒ6'、Ｒ7'およびＲ8'は、独立して、水素、Ｃ1-10アルキルもしくはＣ2-10アルケニル、または炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキルもしくはＣ3-10アルケニルであり；あるいはＲ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ4'、Ｒ5'およびＲ6'は、水素、Ｃ1-10アルキル、もしくは炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキル、またはシランもしくはオリゴシロキサン部分により置換されているアルキルであり、そしてＲ7とＲ8またはＲ7'とＲ8'の一方はシランまたはオリゴシロキサン部分でありかつＲ7とＲ8またはＲ7'とＲ8'の他方は水素である）であり、そしてＸは、フェニレンもしくはナフチレン、または置換されたフェニレンもしくはナフチレンである〕で示される新規ベンゾオキサゾリルベンゼン誘導体。
2004519470.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
2004519470.tif 000009
〔式中、
Ｒ1は、水素、Ｃ1-20アルキルまたはＣ2-20アルケニルであり、
Ｒ2およびＲ3は、独立して、基−Ｃ（Ｒ4，Ｒ5）Ｃ（Ｒ6）＝Ｃ（Ｒ7，Ｒ8）（ａ）または基−Ｃ（Ｒ4′，Ｒ5′）ＣＨ（Ｒ6′）ＣＨ（Ｒ7′，Ｒ8′）（ｂ）（ここで、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ4′、Ｒ5′、Ｒ6′、Ｒ7′およびＲ8′は、独立して、水素、Ｃ1-10アルキルもしくはＣ2-10アルケニル、または炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキルもしくはＣ3-10アルケニルであり；あるいはＲ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ4′、Ｒ5′およびＲ6′は、水素、Ｃ1-10アルキル、もしくは炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキル、またはシランもしくはオリゴシロキサン部分により置換されているアルキルであり、そしてＲ7とＲ8またはＲ7′とＲ8′の一方はシランまたはオリゴシロキサン部分でありかつＲ7とＲ8またはＲ7′とＲ8′の他方は水素である）であり、そして
Ｘは、フェニレンもしくはナフチレン、または置換されたフェニレンもしくはナフチレンである〕
で示される化合物。
【請求項２】
Ｘが、ｐ−フェニレンである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ1、Ｒ2またはＲ3が、親油性置換基または立体障害置換基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ2およびＲ3が、基（ａ）である、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ2およびＲ3が、基（ｂ）である、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−アリル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−｛３−（１，１，３，３，３−ペンタメチル−ジシロキサニル）−１−プロピル｝−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（７−｛３−（１，１，３，３，３−ペンタメチル−ジシロキサニル）−１−イソブチル｝−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−メタリル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−｛３−（１，３，３，３−テトラメチル−１−［（トリメチル−シリル）−オキシ］−ジシロキサニル）−１−イソブチル｝−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−メチル−７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−（１−ペンチル−アリル）（および／または−７−オクタ−３−エン−２−イル）−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（４−（または５−）tert−ペンチル−７−（１−ペンチル−アリル）（および／または−７−オクタ−３−エン−２−イル）−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、または
１，４−ビス−［２−（５−tert−ペンチル−７−オクタ−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン。
【請求項７】
ＵＶ遮断剤として請求項１に記載の式Ｉの化合物を含むＵＶ遮断用組成物。
【請求項８】
ＵＶ遮断剤、特にヒトの皮膚または毛髪を保護するためのＵＶ遮断剤としての、請求項１に記載の式Ｉの化合物の使用。
【請求項９】
式III：
【化２】
2004519470.tif 000010
〔式中、Ｒ1は、水素、Ｃ1-20アルキルまたはＣ2-20アルケニルであり、Ｒ21は、−Ｃ（Ｒ4，Ｒ5）Ｃ（Ｒ6）＝Ｃ（Ｒ7，Ｒ8）（ここで、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は、独立して、水素、Ｃ1-10アルキルもしくはＣ2-10アルケニル、または炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキルもしくはＣ3-10アルケニルである）であり、そしてＸは、フェニレンもしくはナフチレン、または置換されたフェニレンもしくはナフチレンである〕
で示される化合物。
【請求項１０】
特に実施例に関して記載されているような、実質的に上記の新規な組成物、化合物および使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なベンゾオキサゾリルベンゼン誘導体に関する。
【０００２】
特に、本発明は、一般式Ｉ：
【０００３】
【化３】
2004519470.tif 000003
【０００４】
〔式中、
Ｒ1は、水素、Ｃ1-20アルキルまたはＣ2-20アルケニルであり、
Ｒ2およびＲ3は、独立して、基−Ｃ（Ｒ4，Ｒ5）Ｃ（Ｒ6）＝Ｃ（Ｒ7，Ｒ8）（ａ）または基−Ｃ（Ｒ4'，Ｒ5'）ＣＨ（Ｒ6'）ＣＨ（Ｒ7'，Ｒ8'）（ｂ）（ここで、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ4'、Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'およびＲ8'は、独立して、水素、Ｃ1-10アルキルもしくはＣ2-10アルケニル、または炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキルもしくはＣ3-10アルケニルであり；あるいはＲ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ4'、Ｒ5'およびＲ6'は、水素、Ｃ1-10アルキル、もしくは炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキル、またはシランもしくはオリゴシロキサン部分により置換されているアルキルであり、そしてＲ7とＲ8またはＲ7'とＲ8'の一方はシランまたはオリゴシロキサン部分でありかつＲ7とＲ8またはＲ7'とＲ8'の他方は水素である）であり、そして
Ｘは、フェニレンもしくはナフチレン、または置換されたフェニレンもしくはナフチレンである〕
で示されるベンゾオキサゾリルベンゼン誘導体に関する。
【０００５】
別の側面において、本発明は、新規なＵＶ遮断用組成物、特に化粧的または皮膚科学的使用のための局所用組成物；ならびに上記に定義された式Ｉの化合物の、ＵＶ遮断剤、特にＵＶ線に対してヒトの皮膚または毛髪を保護するためのＵＶ遮断剤としての使用に関する。
【０００６】
本明細書において用いられる場合、Ｃ1〜Ｃ20アルキルおよびＣ1〜Ｃ10アルキルは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、テキシル（１，１，２ジメチルプロピル）、ｎ−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、２−エチル−ヘキシル、オクチル、等のような、１〜２０個（または１〜１０個）の炭素原子を有する直鎖状または分岐状飽和炭化水素残基を指す。
【０００７】
Ｃ2〜Ｃ20アルケニルおよびＣ2〜Ｃ10アルケニルは、ビニル、アリル、２−ブテニル、メタリル、２−ペンテン−３−イル、３−ヘキセン−２−イル、３−ヘプテン−２−イル、３−オクテン−２−イル、１−オクテン−３−イルおよび２−オクテン−１−イルのような、２〜２０個（または２〜１０個）の炭素原子を有しかつ少なくとも１個のＣ−Ｃ二重結合を含有する直鎖状または分岐状炭化水素残基を指す。
【０００８】
用語「炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2〜Ｃ10アルキル」は、メトキシメチル、４−オキサ−ヘキシル、４，７−ジオキサ−ノニルおよび４，７，１０−トリオキサ−ドデシルのような、炭素原子を介して結合されかつ少なくとも１個の−ＣＨ2Ｏ−基を有するところの２〜１０個の炭素原子を有する直鎖状または分岐状飽和炭化水素残基を指す。同様に、用語「炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ3〜Ｃ10アルケニル」は、炭素原子を介して結合されかつ少なくとも１個の−ＣＨ2Ｏ−基および少なくとも１個のＣ−Ｃ二重結合を有するところの３〜１０個の炭素原子を有する直鎖状または分岐状オレフィン不飽和炭化水素残基を指す。
【０００９】
シラン部分は、例えば、基−ＳｉＲaＲbＲc〔ここで、Ｒa、ＲbおよびＲcは各々、独立して、Ｃ1〜Ｃ6アルキルまたはフェニルである〕である。好ましいシラン部分は、トリメチルシラン、トリエチルシラン、トリプロピルシラン、トリイソプロピルシラン、ジメチルtert−ブチルシラン、ジメチルテキシルシラン、トリフェニルシラン、ジメチルフェニルシラン、等である。
【００１０】
オリゴシロキサン部分は、例えば、一般式IVａ、IVｂまたはIVｃ：
【００１１】
【化４】
2004519470.tif 000004
【００１２】
〔式中、ｍ＝０、１または２であり、ｎ＝１、２または３でありかつｍ＋ｎ＝３であり、ＲaおよびＲbは、Ｃ1〜Ｃ6アルキルまたはフェニル、好ましくはＣ1〜Ｃ4アルキルで示される一層好ましくはメチルであり、そしてｒは、１〜９、好ましくは１〜３の整数である〕の基である。好ましいオリゴシロキサン部分は、−ＳｉＭｅ2（ＯＳｉＭｅ3）および−ＳｉＭｅ（ＯＳｉＭｅ3）2〔ここで、Ｍｅは、メチルである〕である。
【００１３】
Ｘが置換されたフェニレンまたはナフチレンである場合、置換基は、１または２個のヒドロキシまたはＣ1-20アルコキシ基であってよい。Ｘは、好ましくは非置換のｐ−フェニレンまたは１，４−ナフチレン、最も好ましくはｐ−フェニレンである。
【００１４】
式Ｉの化合物は、好ましくは、親油性または立体障害置換基Ｒ1、Ｒ2またはＲ3を含有する。親油性置換基の例は、シランまたはオリゴシロキサン部分、ならびに２−エチル−ヘキシル、デシル、ドデシル、３−オクテン−２−イル、１−オクテン−３−イルおよび２−オクテニルのような５個またはそれ以上の、好ましくは８個またはそれ以上の炭素原子を有するアルキルまたはアルケニル基である。立体障害置換基は、好適には、イソプロピルのような第３級炭素原子またはtert−ブチル、tert−アミル（２−メチル−２−ペンチル）および２，４−トリメチル−２−ペンチルのような第４級炭素原子を有するアルキル基である。
【００１５】
上記の式Ｉの好ましい化合物は、Ｒ2およびＲ3が上記に定義された基（ａ）であるものであって、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7が水素であり、そしてＲ4およびＲ8がＣ1〜Ｃ10アルキルである、特にＲ4がメチルであり、そしてＲ8がＣ3〜Ｃ5アルキルであるもの；あるいはＲ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8が水素であり、そしてＲ4がＣ1〜Ｃ10アルキル、特にＣ3〜Ｃ5アルキルであるものである。更に、Ｒ2およびＲ3が上記に定義された基（ｂ）である式Ｉの化合物であって、Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'が水素であり、そしてＲ4'およびＲ8'がＣ1〜Ｃ10アルキルである、特にＲ4'がメチルであり、そしてＲ8'がＣ3〜Ｃ5アルキルである化合物が好ましい。最後に、Ｒ2およびＲ3が上記に定義された基（ｂ）である式Ｉの化合物であって、Ｒ5'、Ｒ6'、Ｒ7'が水素であり、そしてＲ8'がオリゴシロキサン部分である、あるいはＲ4'、Ｒ5'およびＲ7'が水素であり、Ｒ6'がＣ1〜Ｃ10アルキルであり、そしてＲ8'がオリゴシロキサン部分である化合物、ならびにこのような化合物を含有する組成物が好ましい。
【００１６】
一般式Ｉの化合物は、一般式II：
【００１７】
【化５】
2004519470.tif 000005
【００１８】
〔式中、ＸおよびＲ2は、上記に定義されたとおりである〕で示される化合物を、一般式Ｙ−Ｒ21〔式中、Ｙは、脱離基であり、そしてＲ21は、−Ｃ（Ｒ4，Ｒ5）Ｃ（Ｒ6）＝Ｃ（Ｒ7，Ｒ8）（ここで、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は、独立して、水素、Ｃ1-10アルキルもしくはＣ2-10アルケニル、または炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキルもしくはＣ3-10アルケニルである）である〕で示される化合物でアルキル化して一般式III：
【００１９】
【化６】
2004519470.tif 000006
【００２０】
〔式中、Ｘ、Ｒ1およびＲ21は、上記に定義されたとおりである〕で示される化合物を得、一般式IIIの化合物を加熱して一般式Ｉ〔ここで、ＸおよびＲ1は、上記に定義されたとおりであり、そしてＲ2およびＲ3は、上記に定義されたＲ21である〕の化合物を得、そして所望の場合、そのようにして得られた一般式Ｉの化合物を、遊離ＳｉＨ基を有するシランまたはオリゴシロキサンと反応させて、一般式Ｉ〔ここで、Ｒ2およびＲ3は、基−Ｃ（Ｒ4，Ｒ5）ＣＨ（Ｒ6）Ｃ（Ｒ7，Ｒ8）（ここで、Ｒ7およびＲ8の一方は水素であり、かつＲ7およびＲ8の他方はシランまたはオリゴシロキサン部分であり、そしてＲ4、Ｒ5およびＲ6は、水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、もしくは炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2〜Ｃ10アルキル、またはシランもしくはオリゴシロキサン部分により置換されているＣ1〜Ｃ10アルキルである）である〕で示される化合物を得るか、あるいはそのようにして得られた一般式Ｉの化合物を水素化して一般式Ｉ〔ここで、Ｒ2およびＲ3は、−Ｃ（Ｒ4，Ｒ5）ＣＨ（Ｒ6）Ｃ（Ｒ7，Ｒ8）（ここで、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は、水素、またはＣ1〜Ｃ10アルキル、もしくは炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2〜Ｃ10アルキルである）である〕で示される化合物を得ることにより製造することができる。
【００２１】
第１反応工程において、式IIの化合物が、式Ｙ−Ｒ21の化合物と反応する。脱離基Ｙは、ハロゲン例えばクロロ、ブロモ、またはスルホニルオキシ基、例えばトシルオキシもしくはメシルオキシのような、いかなる慣用の脱離基でもよい。反応は、フェノール性ヒドロキシ基のアルキル化のために本質的に知られた方法で、すなわち、アルカリ炭酸塩、例えば炭酸ナトリウム、アルカリ水酸化物またはアルカリアルコラート、例えばナトリウムメチラート、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンもしくは１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）のようなアミンのような、塩基の存在下で、極性溶媒、例えばｎ−ブタノールのようなアルコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフランもしくはジオキサンのようなエーテル、またはジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピレン尿素もしくは１−メチルピロリドン中で、あるいはＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンのような、同時に塩基としても働く溶媒中で、室温から反応混合物の沸点までの温度で行うことができる。得られた式IIIのフェノールエーテルは、所望の場合溶媒中で、好適にはクライゼン転位において慣用的に用いられる溶媒中で、例えばジエチルアニリンまたはトリクロロベンゼン中で、好適には５０〜３００℃の温度に加熱することにより転位することができる。同じ反応工程において、オキサゾール環を形成する閉環が起こり、式Ｉ〔ここで、ＸおよびＲ1は、上記に定義されたとおりであり、そしてＲ2およびＲ3は、上記に定義された基（ａ）である〕の化合物を生じる。
【００２２】
クライゼン転位は、基Ｒ2およびＲ3の構造および結合部位に関して異性体の形成をもたらすこともある。これらの異性体はクロマトグラフィーのような慣用の方法により分離することができるが、そのような異性体の混合物がクライゼン転位で得られる場合、それらを本発明の組成物において用いることが好ましい。
【００２３】
所望の場合、Ｒ2およびＲ3が基（ａ）である式Ｉの化合物は、遊離ＳｉＨ基を有するシラン、オリゴシロキサンまたはポリシロキサンとの反応によりヒドロシリル化することができる。ヒドロシリル化反応は、好適には、遷移金属触媒、例えば、白金担持炭のような白金触媒、もしくは例えばジビニル−テトラメチルジシロキサン白金、ヘキサクロロ白金（IV）酸アンモニウム、ヘキサクロロ白金（IV）酸水和物のような白金錯体触媒、またはロジウム触媒、例えばＲｈ2Ｃｌ2（シクロオクタジエン）2、の存在下で、例えばトルエンのような適切な反応溶媒中で行われる。反応剤は通常ほぼ等しいモル量で存在し、そして反応は幾分高い温度で、例えば約６０℃〜１５０℃で、好ましくは約４０℃〜１００℃で、一層好ましくは約８０℃で行われる。
【００２４】
あるいは、Ｒ2およびＲ3が基（ａ）である式Ｉの化合物中のアルケニル基を水素化することができる。水素化は、オレフィン二重結合の水素化のために本質的に知られた方法により、例えば、Ｐｄのような貴金属触媒の存在下で元素水素により、またはラネー−Ｎｉにより、好ましくはトリアゾール環を攻撃しない適切な触媒、例えばリンドラー触媒のような部分不活性化貴金属触媒の存在下で元素水素により行うことができる。
【００２５】
本発明の方法により、一般式Ｉの化合物は、式IIIの化合物のクライゼン転位の条件に依存して、置換基Ｒ2およびＲ3の異性体の混合物として得ることができる。
【００２６】
式IIの出発化合物は、それらが知られていないかまたは以後に記載されていない限りにおいて、本質的に知られたまたは以後に記載された方法と同様にして製造することができる。したがって、テレフタル酸（またはナフタリン−１，４−ジカルボン酸）、または酸ハロゲン化物のようなその反応性誘導体は、ｏ−アミノフェノール（Ｒ1について定義された置換基により置換されていてもよい）と反応することができる。
【００２７】
一般式Ｉの化合物は光安定性であり、そして５８，０００までのε値を有するUV−A領域における強い吸収極大、ならびにより高い波長に向かって吸収曲線の急な下り勾配を有する。したがって、式Ｉの化合物は、ＵＶ遮断剤として、特に日常化粧品用の皮膚保護用製剤およびサンスクリーン製剤において用いることができ、これらの製剤は、式Ｉの化合物を、そのような製剤用の慣用の化粧品用基剤中に含んでいてよく、かつ他の慣用のUV−Aおよび／またはUV−Bフィルター剤を含有していてもよい。ＵＶフィルター剤の前記組合わせは、相乗効果を発揮することができる。このような光遮断用製剤の製造は、当業者に周知である。一般式Ｉの化合物および他の公知ＵＶフィルター剤の量は、決定的には重要でない。適切な量は、約０．５〜約１２％のサンスクリーン剤、すなわち単独または他のＵＶフィルター剤との組合わせのどちらかにおける式Ｉの化合物である。一般式Ｉの化合物は、良好な親油性を示し、油および脂肪を含有する局所用製剤中に良好に組み込むことができる。該製剤中に、式Ｉの化合物の混合物が存在してもよい。
【００２８】
式Ｉの化合物との組合わせ用の適切なUV−Bフィルター剤、すなわち、約２９０nmと３２０nmとの間に吸収極大を有する物質は、例えば、次のものである。
２−エチルヘキシル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート（オクトクリレン，PARSOL 340）、エチル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、等のようなアクリレート。
４−メチルベンジリデンショウノウ（PARSOL 5000）、３−ベンジリデンショウノウ、ショウノウベンザルコニウムメトサルフェート、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ、スルホベンジリデンショウノウ、スルホメチルベンジリデンショウノウ、テレフタリデンジショウノウスルホン酸、等のようなショウノウ誘導体。
オクチルメトキシシンナメート（PARSOL MCX）、エトキシエチルメトキシシンナメート、ジエタノールアミンメトキシシンナメート（PARSOL Hydro）、イソアミルメトキシシンナメート、等のようなシンナメート誘導体、ならびにシロキサンに結合しているケイ皮酸誘導体。
ＥＰ３５８５８４Ｂ１、ＥＰ５３８，４３１Ｂ１およびＥＰ７０９，０８０Ａ１に記載されているような、ベンズマロネート基を含有するオルガノシロキサン化合物。
微小粒状ＴｉＯ2、等のような顔料。用語「微小粒状」は、約５〜約２００nm、特に約１５nm〜約１００nmの粒子サイズを指す。ＴｉＯ2粒子はまた、例えばアルミニウムもしくはジルコニウムの酸化物のような金属酸化物で、または例えばポリオール、メチコン、ステアリン酸アルミニウム、アルキルシランのような有機被膜で被覆することができる。このような被膜は、当該技術において周知である。
例えば２−フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸およびその塩（PARSOL HS）のようなイミダゾール誘導体。２−フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸の塩は、例えば、ナトリウムもしくはカリウム塩のようなアルカリ塩、アンモニウム塩、モルホリン塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩のような第１、第２および第３級アミンの塩、等である。
イソプロピルベンジルサリチレート、ベンジルサリチレート、ブチルサリチレート、オクチルサリチレート（NEO HELIOPAN OS）、イソオクチルサリチレートまたはホモメンチルサリチレート（ホモサレート，HELIOPAN）、等のようなサリチレート誘導体。
オクチルトリアゾン（UVINUL T-150）、ジオクチルブタミドトリアゾン（UVASORB HEB）、等のようなトリアゾン誘導体。
【００２９】
式Ｉの化合物との組合わせ用の適切なUV−Aフィルター剤、すなわち、約３２０nmと４００nmとの間に吸収極大を有する物質は、例えば、次のものである。
４−tert−ブチル−４′−メトキシジベンゾイル−メタン（PARSOL 1789）、ジメトキシジベンゾイルメタン、イソプロピルジベンゾイルメタン、等のようなジベンゾイルメタン誘導体。
２，２′−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール（TINOSORB M）、等のようなベンゾトリアゾール誘導体。
微小粒状ＺｎＯ、等のような顔料。用語「微小粒状」は、約５〜約２００nm、特に約１５nm〜約１００nmの粒子サイズを指す。ＺｎＯ粒子はまた、例えばアルミニウムもしくはジルコニウムの酸化物のような金属酸化物で、または例えばポリオール、メチコン、ステアリン酸アルミニウム、アルキルシランのような有機被膜で被覆することができる。このような被膜は、当該技術において周知である。
【００３０】
ジベンゾイルメタン誘導体は光不安定性であるので、これらのUV−A遮断剤を光安定化させることが必要である。したがって、式Ｉの化合物との組合わせで用いられる場合、例えばPARSOL 1789のようなジベンゾイルメタン誘導体は、次の安定剤により安定化することができる。すなわち、
ＥＰ５１４，４９１Ｂ１およびＥＰ７８０，１１９Ａ１に記載されているような３，３−ジフェニルアクリレート誘導体、
ＵＳ５，６０５，６８０に記載されているようなベンジリデンショウノウ誘導体、
ＥＰ３５８，５８４Ｂ１、ＥＰ５３８，４３１Ｂ１およびＥＰ７０９，０８０Ａ１に記載されているようなベンズマロネート基を含有するオルガノシロキサン。
【００３１】
更に、ＥＰ８９５，７７６およびＥＰ７８０，３８２に開示されているもののような、UV−AとUV−Bに重なる領域において吸収するＵＶ遮断剤は、本発明の組成物において追加的成分として用いることができる。
【００３２】
本発明の範囲における光遮断用組成物のための慣用の化粧品用基剤として、化粧品基準に合致するいかなる慣用製剤（例えば、クリーム、ローション、乳濁液、軟膏、ゲル、溶液、スプレー、スティックおよび乳状液）も用いることができる。Lowe and Shaath（eds），Sunscreens, Development, Evaluation and Regulatory Aspects，Marcel Dekker, Inc.，New York and Basel（1990）も参照されたい。
【００３３】
本発明を、以下の実施例により更に説明する。
【００３４】
実施例１：  １，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−アリル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンの製造
（ａ）テレフタル酸クロライド：  トルエン２５０mlおよびピリジン３．３ml中のテレフタル酸４０．９ｇに、チオニルクロライド４１．１mlを、２２と３５℃の間の温度でゆっくり添加した。この反応混合物を、８０℃に４時間加熱した。冷却したこの反応混合物から青色沈殿物を濾別し、黄色溶液を減圧下で濃縮し、高真空で乾燥させ粗製液を得、そしてこの粗製液を（ｂ）において用いた。
【００３５】
（ｂ）Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−５−tert−ブチル−フェニル）−テレフタルアミド：  窒素雰囲気下の１−メチル−ピロリドン５０ml中の２−アミノ−４−tert−ブチルフェノール（Aldrich Co.）１２．４ｇに、（ａ）において得られたテレフタル酸クロライド７．２６ｇ、次いでピリジン６．１mlを添加した。この混合物を８０℃に１９時間加熱し、そして反応をＴＬＣ（メチレンクロライド：メタノール＝１２．１）により追跡した。次いで、反応混合物を２０℃に冷却し、メタノール／水＝１：１の混合物上に注ぎ、そして濾過した。残渣を水で３回洗浄し、そして８０℃で３日間そして高真空において１５０℃で５時間乾燥した。粗製結晶１６．１ｇ（９７％）が得られた（m.p.＞２５０℃）。
【００３６】
（ｃ）Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−アリルオキシ−５−tert−ブチル−フェニル）−テレフタルアミド：  １−メチル−ピロリドン１３８ml、無水炭酸ナトリウム１１．４ｇおよび微量のヨウ化カリウム中の上記のＮ，Ｎ′−ビス−テレフタルアミド１０ｇに、アリルブロマイド４．２mlを、窒素雰囲気下で注射器でゆっくり添加した。固体物質が、暗帯赤色溶液中に形成された。この混合物を７０℃に１８時間加熱し、そして反応をＴＬＣ（エチルアセテート：ヘキサン＝１：１）により追跡した。次いで、反応混合物を１０℃に冷却した。沈殿物が形成され、この沈殿物を濾別し、水で洗浄し、そして真空中で８０℃で４日間乾燥した。粗製結晶１０．５ｇ（８４％）が得られ（m.p.１７２〜１７３℃）、この粗製結晶を、ＵＶ：３１１nm（Ｅ＝３３２，ＣＨ2Ｃｌ2中）、ＮＭＲおよびＭＳ：５４０（Ｍ＋）、４９９、４４１、３３６（１００％）により同定した。
【００３７】
（ｄ）１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−アリル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン：  工程（ｃ）において得られたアリルエーテル１０ｇを、クーゲルロール装置で２００℃で１５時間加熱した。反応を、ＴＬＣ（エチルアセテート：ヘキサン＝１：１）により追跡した。褐色結晶（m.p.１６３〜１６５℃）９．３ｇ（１００％）が得られ、この褐色結晶を、ＮＭＲおよびＭＳ：５０４（Ｍ＋）、４８９（１００％）、４３３、２３７により同定した。
【００３８】
この生成物は、Cetiol LC（ココイルシプリレートカプレート）中に１．１％可溶であった。それは高希釈度にてＨｇランプ１５０Ｗ（Heraeus）で照射されて、光安定性であることが示された。
【００３９】
実施例２：  １，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−｛３−（１，１，３，３，３−ペンタメチル−ジシロキサニル）−１−プロピル｝−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンの製造
トルエン４５ml中の実施例１において得られたビス−（アリル−ベンゾオキサゾール）−ベンゼン１．６ｇに、ペンタメチルジシロキサン（Fluka）１．５ｇおよび微量のジビニルテトラメチルジシロキサン白金錯体を、完全な窒素雰囲気下で添加した。この反応混合物を８０℃に１８時間加熱し、次いで蒸発させて褐色油状物３ｇが得られた。ヘキサン／エーテルでのクロマトグラフィー後、わずかに黄色の結晶が形成された。m.p.８９〜９０℃。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３５０nm（Ｅ＝５５１）、ＭＳ：８００（Ｍ＋）、７７２、６１０、１４７（１００％）。
【００４０】
この生成物の溶解性は、Cetiol LC（ココイルシプリレートカプレート）について＝１８％と測定された。この生成物は高希釈度にてＨｇランプ１５０Ｗ（Heraeus）で照射されて、光安定性であることが示された。
【００４１】
実施例３：  １，４−ビス−［２−（７−｛３−（１，１，３，３，３−ペンタメチル−ジシロキサニル）−１−イソブチル｝−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンの製造
（ａ）Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−フェニル）−テレフタルアミド：  窒素雰囲気下の１−メチル−ピロリドン６０ml中の２−アミノ−フェノール（Fluka）７．９ｇに、テレフタル酸クロライド［実施例１（ａ）参照］７．２６ｇ、次いでピリジン６mlを添加した。この混合物を、８０℃に一晩加熱した。反応を、ＴＬＣ（メチレンクロライド：メタノール＝１２：１）により追跡した。次いで、反応混合物を２０℃に冷却し、メタノール／水＝１：１の混合物に注ぎ、そして濾過した。結晶質の黄色残渣を水で３回洗浄し、そして高真空で８０℃で乾燥した。粗製結晶（m.p.＞２５０℃）１０．７ｇ（８９％）が得られ、この粗製結晶をＮＭＲにより同定しそして工程（ｂ）において用いた。
【００４２】
（ｂ）Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−メタリルオキシ−フェニル）−テレフタルアミド：１−メチル−ピロリドン４０ml、無水炭酸ナトリウム６．３ｇおよび微量のヨウ化カリウム中の（ａ）において得られたＮ，Ｎ′−ビス−テレフタルアミド４ｇに、メタリルクロライド２．８mlを、窒素雰囲気下で注射器でゆっくり添加した。この混合物を８０℃に一晩加熱し、そして反応をＴＬＣ（エチルアセテート：ヘキサン＝１：１）により追跡した。次いで、反応混合物を１０℃に冷却し、そして水を添加した。沈殿物が形成され、この沈殿物を濾別し、水で洗浄し、そして乾燥した。淡黄色固体４．８ｇ（８０％）が得られ、この淡黄色固体を、ＨＰＬＣおよびＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．８７ppm（Ｓ／６Ｐｒ）、４．５６（Ｓ／４Ｐｒ）、５．０６（Ｓ／２Ｐｒ）、５．１２（Ｓ／２Ｐｒ）、６．９４（Ｄ×Ｄ／２Ｐｒ）、７．０４（Ｍ／４Ｐｒ）、８．００（Ｓ／４Ｐｒ）、８．５４（Ｄ×Ｄ／２Ｐｒ）、８．６９（Ｓ／２Ｐｒ，ＮＨ）により同定した。
【００４３】
（ｃ）１，４−ビス−［２−（７−メタリル−ベンゾイミダゾル）−イル］−ベンゼン：  １，２，４−トリクロロベンゼン５０ml中の（ｂ）において得られたアリルエーテル４ｇを、１００ml反応フラスコ中で１０時間加熱して還流した。反応を、ＴＬＣ（エチルアセテート：ヘキサン＝１：３）により追跡した。この反応混合物を濃縮し、そしてシリカゲルでのクロマトグラフィーに付して帯黄色結晶０．５ｇが得られ、この帯黄色結晶を、ＨＰＬＣおよびＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．８０ppm（Ｓ／６Ｐｒ）、３．７０（Ｓ／４Ｐｒ）、４．８７（Ｓ／２Ｐｒ）、４．９１（Ｓ／２Ｐｒ）、７．２０（Ｄ／２Ｐｒ）、７．３２（Ｔｒ／２Ｐｒ）、７．６７（Ｄ／４Ｐｒ）、８．４０（Ｓ／２Ｐｒ）、８．６９（Ｓ／２Ｐｒ，ＮＨ）により同定した。
【００４４】
（ｄ）１，４−ビス−［２−（７−｛３−（１，１，３，３，３−ペンタメチル−ジシロキサニル）−１−イソブチル｝−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン：トルエン１０ml中の（ｃ）において得られたビス−（メタリル−ベンゾオキサゾール）−ベンゼン０．４５ｇに、ペンタメチルジシロキサン（Fluka）０．５ml、およびトルエン中のジビニルテトラメチルジシロキサン白金錯体の２０％溶液０．０５mlを、完全な窒素雰囲気下で添加した。この反応混合物を８０℃に一晩加熱し、次いで蒸発させた。ヘキサン／エーテルでのクロマトグラフィー後、帯褐色油状物０．５９ｇ（７５％）が得られ、この帯褐色油状物は徐々に結晶化した。m.p.約３８℃。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３４４nm（Ｅ＝７３６）ＭＳ：７１６（Ｍ＋）、７０１、６７４、１４７（１００％）。
【００４５】
この生成物の溶解性は、Crodamol DA（ジイソプロピルアジペート）について＝５．０３％と測定された。この生成物は高希釈度にてＨｇランプ１５０Ｗ（Heraeus）で照射されて、光安定性であることが示された。
【００４６】
実施例４：  １，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−メタリル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンの製造
（ａ）Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−メタリルオキシ−５−tert−ブチル−フェニル）−テレフタルアミド：  １−メチル−ピロリドン３８ml、無水炭酸ナトリウム３．１５ｇおよび微量のヨウ化カリウム中に溶解したＮ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−５−tert−ブチル−フェニル）−テレフタルアミド［実施例１（ｂ）参照］２．７６ｇに、メタリルクロライド１．３５mlを、窒素雰囲気下で注射器でゆっくり添加した。この混合物を７０℃に１８時間加熱し、反応をＴＬＣ（メチレンクロライド：メタノール＝４：１）により追跡した。次いで、反応混合物を１０℃に冷却し、２００mlの水に注いだ。この混合物を、エチルアセテート１００mlで２回抽出した。有機相を水、２Ｎ−ＮａＯＨおよびブラインで洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、そして濃縮した。残渣をトルエンから再結晶してベージュ色結晶（m.p.１８４〜１８５℃）１．４５ｇ（４２％）が得られ、このベージュ色結晶を、ＵＶ：３１１nm（Ｅ＝２９１，ＣＨ2Ｃｌ2中）、ＮＭＲおよびＭＳ：５６８（Ｍ＋）、５１３、３５０（１００％）により同定した。
【００４７】
（ｂ）１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−メタリル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン：１，２，４−トリクロロベンゼン１０ml中の（ａ）において得られたアリルエーテル１．２９ｇおよび微量のホウ酸を、１００ml反応フラスコ中で４．５時間加熱して還流した。反応を、ＴＬＣ（エチルアセテート：ヘキサン＝１：３）により追跡した。この反応混合物を濃縮し、ヘキサンで沈殿させ、シリカゲルでのクロマトグラフィーに付して帯黄色結晶（m.p.１４６〜１４９℃）０．６２ｇ（５１％）が得られ、この帯黄色結晶を、ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）：３４９nm（Ｅ＝１０１５）、ＮＭＲおよびＭＳ：５３２（Ｍ＋，１００％）、５１７、２５１により同定した。
【００４８】
実施例５：  １，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−｛３−（１，３，３，３−テトラメチル−１−［（トリメチル−シリル）−オキシ］−ジシロキサニル）−１−イソブチル｝−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンの製造
窒素雰囲気下の電磁式撹拌機、還流凝縮器および油浴を備えた２５ml丸底フラスコに、テトラヒドロフラン１０ml中のビス−（メタリル−ベンゾオキサゾール）−ベンゼン［実施例４（ｂ）参照］０．４ｇを仕込んだ。１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン（Rhodia）０．４３ml、およびトルエン中のジビニルテトラメチルジシロキサン白金錯体の２０％溶液０．０５mlを、完全な窒素雰囲気下で添加した。この反応混合物を７０時間還流し、次いで蒸発させた。ヘキサン／エチルアセテートでのクロマトグラフィー後、帯褐色結晶０．８１ｇ（４２％）が得られた（m.p.７２〜７３℃）。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３５０nm（Ｅ＝６１５）、ＭＳ：９３４（Ｍ＋）、７１４、６９８、２２１（１００％）。
【００４９】
この生成物の溶解性は、Cetiol LC（ココイルシプリレートカプレート）について＝１２．３％と測定された。この生成物は高希釈度にてＨｇランプ１５０Ｗ（Heraeus）で照射されて、光安定性であることが示された。
【００５０】
実施例６：  １，４−ビス−［２−（５−メチル−７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンの製造
（ａ）Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）−テレフタルアミド：  実施例１（ｂ）と同様にして、しかし２−アミノ−４−tert−ブチルフェノールの代わりに２−アミノ−４−メチルフェノール（Fluka）を用いて、黄色結晶のＮ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）−テレフタルアミドが得られ、この黄色結晶は、ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：２．２４ppm（Ｓ／６Ｐｒ）、６．８０〜６．８９（Ｍ／４Ｐｒ）、７．５（Ｄ／２Ｐｒ）、８．１０（Ｓ／４Ｐｒ）、９．５０（Ｓ，幅広い／２Ｐｒ）、９．６５（Ｓ／２Ｐｒ）により同定された。収率９６％。
【００５１】
（ｂ）Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−５−メチル−フェニル）−テレフタルアミド：１−メチル−ピロリドン４０ml、無水炭酸ナトリウム７ｇおよびヨウ化カリウム２ｍｇ中の上記のＮ，Ｎ′−ビス−テレフタルアミド５ｇに、１−ブロモ−２−オクテン（Miginiac and Mauze，Bull. Soc. Chim.，France, 2544, 2547(1968)の方法により、１−オクテン−３−オールから製造された）６．４ｇ（３３．３mmol）を、注射器によりゆっくり添加した。この反応混合物を、室温で２時間そして８０℃で１８時間撹拌した。反応を、ＴＬＣ（ヘキサン：エチルアセテート＝１：１）により追跡した。次いで、反応混合物を２０℃に冷却し、水中に注ぎ、そして沈殿物を濾過し、水で洗浄しそしてエーテル中に溶解した。残留固体塩を除去し、そして有機相を濃縮し、高真空で乾燥させ褐色固体６．４４ｇ（８１％）が得られ、この褐色固体を、ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．８７ppm（Ｔｒ／６Ｐｒ）、１．２０〜１．４４（Ｍ／１２Ｐｒ）、２．０９（Ｄ×Ｔｒ／４Ｐｒ）、２．３５（Ｓ／６Ｐｒ）、４．５７（Ｄ／４Ｐｒ）、５．６９〜５．７４（Ｍ／２Ｐｒ）、５．８２〜５．８８（Ｍ／２Ｐｒ）、６．８２〜６．８９（Ｍ／４Ｐｒ）、８．００（Ｓ／４Ｐｒ）、８．３８（Ｓ／２Ｐｒ）、８．６５（Ｓ／２Ｐｒ）により同定した。
【００５２】
（ｃ）１，４−ビス−［２−（５−メチル−７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン：Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン４０ml中の上記のＮ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−５−メチル−フェニル）−テレフタルアミド４．５ｇ（７．６mmol）を、加熱して還流した（２３０℃）。反応を、ＴＬＣ（ヘキサン：エチルアセテート＝３：１）により追跡した。６６時間後、反応を完了し、そしてこの冷反応混合物に２Ｎ−ＨＣｌ溶液を添加し、次いでエーテルで抽出した（３×）。一緒にした有機相を１０％ＫＯＨ溶液で洗浄し、後者を５Ｎ−ＨＣｌでpH３〜４に酸性化しそしてエーテルで抽出した。一緒にしたエーテル相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、そして濃縮して白色固体２．７４ｇ（６４％）が得られ、この白色固体は、標記生成物約９０％および１，４−ビス−［２−（５−メチル−７−ペンチル−アリル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン１０％を含有していた。後者の基は、Schmid et al.，Helv. Chim. Acta, 51:1603(1968)に従って異常クライゼン転位により形成された７−（オクタ−３−エン−２−イル）基とは対照的に、正常クライゼン転位により形成された。m.p.１１８〜２０℃。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）：３４９nm（Ｅ＝６９０）、ＭＳ：５６０（Ｍ＋）、４７７、１５９（１００％）、１４５。
【００５３】
この生成物混合物の溶解性は、Crodamol DA（ジイソプロピルアジペート）について＝１．３３％と測定された。この生成物は高希釈度にてＨｇランプ１５０Ｗ（Heraeus）で照射されて、光安定性であることが示された。
【００５４】
実施例７：  １，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−（１−ペンチル−アリル）−および／または−７−（オクタ−３−エン−２−イル）ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンの製造
（ａ）Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−５−tert−ブチル−フェニル）−テレフタルアミド：  実施例６（ｂ）と同様にして、しかしＮ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）−テレフタルアミドの代わりにＮ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−５−tert−ブチル−フェニル）−テレフタルアミド（実施例１ｂ）を用いて、クロマトグラフィー後、５３％のＮ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−５−tert−ブチル−フェニル）−テレフタルアミドが得られ、これは、ＭＳおよびＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．８７４ppm（Ｔｒ／６Ｐｒ）、１．２〜１．３６（Ｍ／３０Ｐｒ）、２．０８（Ｍ／４Ｐｒ）、４．５８（Ｄ／４Ｐｒ）、５．７（Ｔｒ×Ｄ／２Ｐｒ）、５．８８（Ｔｒ×Ｄ／２Ｐｒ）、６．８７（Ｄ／２Ｐｒ）、７．０８（Ｄ／２Ｐｒ）、８．０１（Ｓ／４Ｐｒ）および８．６５（Ｓ，幅広い／４Ｐｒ）により同定された。
【００５５】
（ｂ）１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−（１−ペンチル−アリル）−および／または−７−（−オクタ−３−エン−２−イル）ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン：１，２，４−トリクロロベンゼン１５ml中の上記のＮ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−５−tert−ブチル−フェニル）−テレフタルアミド１．６ｇ（２．３mmol）を、窒素雰囲気下で一晩加熱して還流した（２１０℃）。反応を、ＴＬＣ（ヘキサン：エチルアセテート＝３：１）により追跡した。溶媒を、クーゲルロール装置で蒸発させた。暗色液状物１．４ｇ（９２％）が得られ、そしてこの暗色液状物はクロマトグラフィー後ビス−［２−ベンゾオキサゾリル］−ベンゼン生成物０．８ｇ（５２％）を生じ、この生成物は、７−（ペンチル−アリル）基を有する異性体を約５８％の割合で、そして７−（オクタ−２−エン−１−イル）基を有する異性体を約４２％の割合で含んでいた（本明細書において仮に１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−（１−ペンチル−アリル）（および／または−７−オクタ−３−エン−２−イル）−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンと称する）。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３４９nm（Ｅ＝７１５）、ＭＳ：５４４（Ｍ＋，１００％）、６２９、５３４、５１７。
【００５６】
この生成物は、慣用の化粧品用溶媒と容易に混合可能であった。この生成物は高希釈度にてＨｇランプ１５０Ｗ（Heraeus）で照射されて、光安定性であることが示された。
【００５７】
実施例８：  １，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンの製造
実施例６（ｃ）と同様にして、しかしＮ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−５−メチル−フェニル）−テレフタルアミドの代わりにＮ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−５−tert−ブチル−フェニル）−テレフタルアミド［実施例７（ａ）］を用いて、２３０℃に三晩加熱し、そしてクロマトグラフィー後、８５％の収率で液状生成物が得られ、この液状生成物は、主として、異常クライゼン転位により形成された標記の生成物であると同定された。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３５０nm（Ｅ＝８０４）、ＭＳ：６４４（Ｍ＋）、６２９、５８７、５６１、５５（１００％）。
【００５８】
この生成物は、慣用の化粧品用溶媒と容易に混合可能であった。この生成物は高希釈度にてＨｇランプ１５０Ｗ（Heraeus）で照射されて、光安定性であることが示された。
【００５９】
実施例９：  １，４−ビス−［２−（７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンの製造
（ａ）Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−フェニル）−テレフタルアミド：  実施例６（ｂ）と同様にして、しかしＮ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）−テレフタルアミドの代わりにＮ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−フェニル）−テレフタルアミド［実施例２（ｂ）］を用いて、クロマトグラフィー後、６９．５％の黄色結晶が得られ、この黄色結晶は、ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．８７ppm（Ｔｒ／６Ｐｒ）、１．２７〜１．４３（Ｍ／１２Ｐｒ）、２．１（Ｔｒ×Ｄ／４Ｐｒ）、４．６（Ｄ／４Ｐｒ）、５．７２（Ｔｒ×Ｄ／２Ｐｒ）、５．８７（Ｔｒ×Ｄ／２Ｐｒ）、６．９４（Ｄ／２Ｐｒ）、７．０〜７．１（Ｍ／４Ｐｒ）、８．０１（Ｓ／４Ｐｒ）、８．５４（Ｄ／２Ｐｒ）および８．６７（Ｓ，幅広い／２Ｐｒ）により同定された。
【００６０】
（ｂ）１，４−ビス−［２−（７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン：  実施例６（ｃ）と同様にして、しかしＮ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−５−メチル−フェニル）−テレフタルアミドの代わりにＮ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−フェニル）−テレフタルアミド［実施例９（ａ）］を用いて、エタノールからの再結晶後、５１％の収率で淡帯黄色粉末（m.p.８７〜８９℃）が得られ、この淡帯黄色粉末は、主として、異常クライゼン転位により形成された標記の生成物であると同定された。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３４４nm（Ｅ＝１０８５）、ＭＳ：５３２（Ｍ＋）、６２９、５１７、４７５、４４９、１４５（１００％）。
【００６１】
この生成物の溶解性は、Cetiol LC（ココイルシプリレートカプレート）について＝１．０２％と測定された。この生成物は高希釈度にてＨｇランプ１５０Ｗ（Heraeus）で照射されて、光安定性であることが示された。
【００６２】
実施例１０：  １，４−ビス−［２−（４−（または５−）tert−ペンチル−７−（１−ペンチル−アリル）（および／または−７−オクタ−３−エン−２−イル）−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンの製造
（ａ）４−および５−tert−ペンチル−２−アミノフェノール：メタンスルホン酸２０ml中に溶解した２−アミノ−フェノール（Fluka）１ｇと２−クロロ−２−メチルブタン１．４mlとの混合物を、７０℃に４時間加熱した。この反応混合物を希釈ＮａＯＨに氷と共に注ぎ、そしてエーテルで３回抽出した。乾燥および濃縮された有機相をクロマトグラフィーに付して、４−（２７％）および５−（７３％）tert−ペンチル−２−アミノフェノールの混合物０．８ｇ（４９％）を得た。ＭＳ：１７９（Ｍ＋）、１５０（１００％）。
【００６３】
（ｂ）Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−４−（２７％の割合）および５−（７３％の割合）tert−ペンチル−フェニル）−テレフタルアミド：  実施例１（ｂ）と同様にして、しかし２−アミノ−４−tert−ブチルフェノールの代わりに上記の４−（および５−）tert−ペンチル−２−アミノフェノールを用いて、９２％の収率で黄色結晶が得られ、この黄色結晶は、ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）：０．６６ppm（Ｔｒ／６Ｐｒ）、１．２２および１．２７（２×Ｓ／１２Ｐｒ）、１．５９（Ｑ／４Ｐｒ）、６．８７（Ｄ／２Ｐｒ）、７．０３および７．１０（２×Ｄ／２Ｐｒ）、７．６１および７．６６（２×Ｓ／２Ｐｒ）、８．１１（Ｓ／４Ｐｒ）、９．４４（Ｓ／２Ｐｒ）、９．７５（Ｓ／２Ｐｒ）により同定された。
【００６４】
（ｃ）Ｎ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−４−（および５−）tert−ペンチル−フェニル）−テレフタルアミド：  実施例６（ｂ）と同様にして、しかしＮ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル）−テレフタルアミドの代わりに上記のＮ，Ｎ′−ビス−（２−ヒドロキシ−４−（２７％の割合）および５−（７３％の割合）tert−ペンチル−フェニル）−テレフタルアミドを用いて、上記の生成物が得られ、この生成物は、ＭＳ：７０９（Ｍ＋）、５９８、４８８、３１０（１００％）により同定された。
【００６５】
（ｄ）１，４−ビス−［２−（４−または５−（それぞれ）tert−ペンチル−７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン：  実施例６（ｃ）と同様にして、しかしＮ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−５−メチル−フェニル）−テレフタルアミドの代わりに上記のＮ，Ｎ′−ビス−（２−オクタ−２−エニルオキシ−４−（および５−）tert−ペンチル−フェニル）−テレフタルアミドを用いて、クロマトグラフィー後、異性体生成物の液状混合物（本明細書において仮に１，４−ビス−［２−（４−（または５−）tert−ペンチル−７−（１−ペンチル−アリル）（および／または−７−オクタ−３−エン−２−イル）−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンと称する）が得られ、この液状混合物は、ＮＭＲ、ＵＶ（ＥｔＯＨ）：３５０nm（Ｅ＝７３６）、３６８nm（Ｅ＝４７４）、およびＭＳ：６７３（Ｍ＋）、６４３（１００％）、３０７により同定された。
【００６６】
この生成物は、慣用の化粧品用溶媒と容易に混合可能であった。この生成物は高希釈度にてＨｇランプ１５０Ｗ（Heraeus）で照射されて、光安定性であることが示された。
【００６７】
実施例１１：  １，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−オクタ−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼンの製造
撹拌効果のよい撹拌機および低圧水素導入口を備えた５０mlの三口反応フラスコに、１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン（実施例８参照）０．５ｇ、およびヘキサン２０ml中の微量のＰｄ５％担持カーボン触媒（Fluka）を仕込んだ。この混合物を、水素雰囲気下で４時間水素化した。次いで、反応混合物を濾過し、濃縮して定量的に液状物を得た。ＵＶ（ＥｔＯＨ）３５０nm（Ｅ＝８０４）、３６８nm（Ｅ＝５１８）。
【００６８】
この生成物は、慣用の化粧品用溶媒と容易に混合可能であった。この生成物は高希釈度にてＨｇランプ１５０Ｗ（Heraeus）で照射されて、光安定性であることが示された。
【００６９】
実施例１２：  前記の諸実施例に従って得ることができる式Ｉの更なる化合物は、
１，４−ビス−［２−（５−メチル−７−オクタ−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（４−tert−ブチル−７−オクタ−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−オクタ−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（４−または５−（それぞれ）tert−ペンチル−７−オクタ−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−ヘキサ−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、および
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−ペンタ−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン
である。
【００７０】
実施例１３：  UV−BおよびUV−A用Ｏ／Ｗサンスクリーンローションの製造
式Ｉの化合物１．５％を含有する広領域サンスクリーンローション。
【００７１】
【表１】
2004519470.tif 000007
【００７２】
Ａ部を、反応器中で８５℃に加熱する。
Ｂ部を１０分以内でゆっくり添加し、次いでＫＯＨを添加し、この乳濁液を冷却しそして脱ガスする。
【００７３】
実施例１４：  UV−BおよびUV−A用Ｏ／Ｗアニオン性サンスクリーンローションの製造
式Ｉの化合物３％を含有する広領域サンスクリーンローション。
【００７４】
【表２】
2004519470.tif 000008
【００７５】
Ａ部を、反応器中で８５℃に加熱する。均質になったらすぐＢ部を添加し、次いで予熱されたＫＯＨ（７５℃）を添加し、この乳濁液を冷却しそして脱ガスする。
【国際公開パンフレット】
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【手続補正書】
【提出日】平成15年8月1日(2003.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
2004519470.tif 000031
〔式中、
Ｒ1は、水素、Ｃ1-20アルキルまたはＣ2-20アルケニルであり、
Ｒ2およびＲ3は、独立して、基−Ｃ（Ｒ4，Ｒ5）Ｃ（Ｒ6）＝Ｃ（Ｒ7，Ｒ8）（ａ）（ここで、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は、独立して、水素、Ｃ1-10アルキルもしくはＣ2-10アルケニル、または炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキルもしくはＣ3-10アルケニルであり；あるいはＲ4、Ｒ5およびＲ6は、水素、Ｃ1-10アルキル、もしくは炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキル、またはシランもしくはオリゴシロキサン部分により置換されているアルキルであり、そしてＲ7およびＲ8の一方はシランまたはオリゴシロキサン部分でありかつＲ7およびＲ8の他方は水素である）または基−Ｃ（Ｒ4'，Ｒ5'）ＣＨ（Ｒ6'）ＣＨ（Ｒ7'，Ｒ8'）（ｂ）（ここで、Ｒ4'、Ｒ5'およびＲ6'は、水素、Ｃ1-10アルキル、もしくは炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキル、またはシランもしくはオリゴシロキサン部分により置換されているアルキルであり、そしてＲ7'およびＲ8'の一方はシランまたはオリゴシロキサン部分でありかつＲ7'およびＲ8'の他方は水素である）であり、そして
Ｘは、フェニレンもしくはナフチレン、または置換されたフェニレンもしくはナフチレンである〕
の化合物。
【請求項２】
Ｘが、ｐ−フェニレンである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ1、Ｒ2またはＲ3が、親油性置換基または立体障害置換基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ2およびＲ3が、基（ａ）である、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ2およびＲ3が、基（ｂ）である、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−アリル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−｛３−（１，１，３，３，３−ペンタメチル−ジシロキサニル）−１−プロピル｝−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（７−｛３−（１，１，３，３，３−ペンタメチル−ジシロキサニル）−１−イソブチル｝−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−メタリル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−｛３−（１，３，３，３−テトラメチル−１−［（トリメチル−シリル）−オキシ］−ジシロキサニル）−１−イソブチル｝−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−メチル−７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−（１−ペンチル−アリル）（および／または−７−オクタ−３−エン−２−イル）−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（５−tert−ブチル−７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（７−オクタ−３−エン−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、
１，４−ビス−［２−（４−（または５−）tert−ペンチル−７−（１−ペンチル−アリル）（および／または−７−オクタ−３−エン−２−イル）−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン、または
１，４−ビス−［２−（５−tert−ペンチル−７−オクタ−２−イル−ベンゾオキサゾル）−イル］−ベンゼン。
【請求項７】
ＵＶ遮断剤として請求項１に記載の式Ｉの化合物を含むＵＶ遮断用組成物。
【請求項８】
ＵＶ遮断剤、特にヒトの皮膚または毛髪を保護するためのＵＶ遮断剤としての、請求項１に記載の式Ｉの化合物の使用。
【請求項９】
式III：
【化２】
2004519470.tif 000032
〔式中、Ｒ1は、水素、Ｃ1-20アルキルまたはＣ2-20アルケニルであり、Ｒ21は、−Ｃ（Ｒ4，Ｒ5）Ｃ（Ｒ6）＝Ｃ（Ｒ7，Ｒ8）（ここで、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7およびＲ8は、独立して、水素、Ｃ1-10アルキルもしくはＣ2-10アルケニル、または炭化水素鎖を中断する少なくとも１個の酸素原子を含有するＣ2-10アルキルもしくはＣ3-10アルケニルである）であり、そしてＸは、フェニレンもしくはナフチレン、または置換されたフェニレンもしくはナフチレンである〕
で示される化合物。
【請求項１０】
特に実施例に関して記載されているような、実質的に上記の新規な組成物、化合物および使用。請求項１を補正した。
【国際調査報告】
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2004519470.tif 000034
2004519470.tif 000035