(57)【要約】重合触媒及び重合触媒系製造用の第１５族元素含有配位子の高温での効率的な合成方法。（ａ）１２０℃を超える温度で、遷移金属触媒及び塩基の存在下で行なわれる反応（Ｉ）による配位子の調製工程；【化１】2004523505.tif 000013（Ｌは第１５、１６族元素；Ｙ及びＺは第１５族元素；Ｒ1及びＲ2はＣ1〜Ｃ20炭化水素基、２０までの炭素原子を有するヘテロ原子含有基、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛又はリン；Ｒ3は水素、炭化水素基、ハロゲン、又はヘテロ原子含有基；Ｒ6及びＲ7は水素、アルキル基、ハロゲン、ヘテロ原子又はヒドロカルビル基；Ｘ1は脱離基）；並びに、（ｂ）工程（ａ）で調製された配位子と式ＭnＸnで表される化合物（Ｍは第３〜１４族元素金属、Ｘはアニオン性基）との混合工程；を有する第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物の製造方法。【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物の製造方法であり；
（ａ）１２０℃を超える温度で、遷移金属触媒及び塩基の存在下で行なわれる反応（Ｉ）による配位子の調製工程；
【化１】
2004523505.tif 000009
（但し、Ｌは第１５又は１６族元素であり；
Ｙは第１５族元素であり；
Ｚは第１５族元素であり；
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立してＣ1〜Ｃ20炭化水素基、２０までの炭素原子を有するヘテロ原子含有基、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛又はリンであり；
Ｒ3は、水素、炭化水素基、ハロゲン、又はヘテロ原子含有基であり；
Ｒ6及びＲ7は、それぞれ独立して水素、アルキル基、ハロゲン、ヘテロ原子又はヒドロカルビル基であり；
Ａｒは芳香族基であり；
Ｘ1はそれぞれ脱離基である。）；並びに
（ｂ）工程（ａ）で調製された配位子と式ＭnＸnで表される化合物（但し、Ｍは第３〜１４族元素金属であり、ｎはＭの酸化状態であり、Ｘはそれぞれアニオン性基である）との混合工程；を有する製造方法。
【請求項２】
工程（ａ）が、１３０℃を超える温度で行なわれる請求項１の製造方法。
【請求項３】
Ｌ、Ｙ及びＺは、第１５族元素である請求項１又は２の製造方法。
【請求項４】
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立して直鎖状、分岐状又は環状Ｃ2〜Ｃ20アルキル基である請求項１〜３いずれか１項の製造方法。
【請求項５】
Ｌ、Ｙ及びＺは、窒素、Ｒ1及びＲ2は炭化水素基であり、Ｒ3、Ｒ6及びＲ7は、水素である請求項１〜４いずれか１項の製造方法。
【請求項６】
芳香族化合物ＡｒＸ1のＡｒは、下式で表される請求項１〜５いずれか１項の製造方法。
【化２】
2004523505.tif 000010
（但しＲ8〜Ｒ12はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ40アルキル基、ハライド、ヘテロ原子、ヘテロ原子を含有する４０までの炭素原子を有する基、好ましくはＣ1〜Ｃ20直鎖状又は分岐状アルキル基、更に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基であり、いずれか２つのＲ基は環状基及び／又はヘテロ環状基を形成してもよい。）
【請求項７】
Ｒ9、Ｒ10及びＲ12は、それぞれ独立してメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基である請求項１〜６いずれか１項の製造方法。
【請求項８】
Ｒ9、Ｒ10及びＲ12は、メチル基であり、Ｒ8及びＲ11は、水素である請求項７の製造方法。
【請求項９】
Ｘは、それぞれ独立して水素、アルキル基、ヘテロ原子、ハロゲン及びそれらの組み合わせから選ばれたものである請求項１〜８いずれか１項の製造方法。
【請求項１０】
Ｍは、第４、５又は６族元素金属である請求項１〜９いずれか１項の製造方法。
【請求項１１】
第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物は、下記２つの式のいずれかで表される請求項１〜１０いずれか１項の製造方法。
【化３】
2004523505.tif 000011
【化４】
2004523505.tif 000012
（但しＭは第４、５又は６族元素金属であり；
Ｘはそれぞれ独立して脱離基であり；
ｎはＭの酸化状態であり；
ｍは、ＹＬＺ又はＹＬ’Ｚ配位子の形式電荷であり；
Ｌは第１５又は１６族元素であり；
Ｙは第１５族元素であり；
Ｚは第１５族元素であり；
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立してＣ1〜Ｃ20炭化水素基、２０までの炭素原子を有し、ヘテロ原子を含有する基、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛又はリンであり；
Ｒ3は、存在しないか、炭化水素基、水素、ハロゲン、ヘテロ原子含有基であり；
Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基、置換アリール基、環状アルキル基、置換環状アルキル基、環状アリールアルキル基、置換環状アリールアルキル基又は多環系であり；
Ｒ1及びＲ2は、互いに結合していてもよく、又、Ｒ4及びＲ5は、互いに結合していてもよく；並びに
Ｒ6及びＲ7は、それぞれ独立して、存在しないか、水素、アルキル基、ハロゲン、ヘテロ原子又はヒドロカルビル基である。）
【請求項１２】
Ｌ、Ｙ及びＺは窒素であり、Ｒ1及びＲ2は炭化水素基であり、Ｒ3は水素であり、Ｒ6及びＲ7は存在しない請求項１〜１１いずれか１項の製造方法。
【請求項１３】
Ｌ及びＺは窒素であり、Ｒ6及びＲ7は存在しない請求項１〜１１いずれか１項の製造方法。
【請求項１４】
遷移金属触媒は、パラジウム錯体である請求項１〜１３いずれか１項の製造方法。
【請求項１５】
更に重合金属触媒化合物を活性化剤化合物と混合する工程を有する請求項１〜１４いずれか１項の製造方法。
【請求項１６】
更に重合金属触媒化合物を支持体材料と混合する工程を有する請求項１〜１５いずれか１項の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物の製造方法に関する。詳しくは、本発明は、第１５族元素を含有する配位子、特にアリールアミン配位子を、第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物の調製に使用する製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
メタロセンポリオレフィン触媒（シクロペンタジエニルベースの遷移金属触媒化合物であるメタロセン）の商業化は、特に経済的に有利な気相及びスラリー相プロセスへの使用のため、他の触媒及び触媒系の設計、製造において幅広い注目を集めている。
アニオン性、多座ヘテロ原子配位子は、ポリオレフィン触媒において注目されている。活性な重合触媒を形成する二座アニオン性配位子としてよく知られているのは、Ｎ−Ｎ-及びＮ−Ｏ-配位子集団である。これらの触媒種として、例えばアミドピリジンが挙げられる（Ｋｅｍｐｅ，Ｒ．”アミノピリジナート配位子−Ｎｅｗ  Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎｓ  ａｎｄ  Ｌｉｍｉｔａｔｉｏｎｓ”、第８０会カナダ化学会総会発表、ウィンザー、オンタリオ、カナダ、６月１〜４日、１９９７年；Ｋｅｍｐｅ，Ｒ．ら、”Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．”ｖｏｌ．３５、ｐｐ６７４２（１９９６））。同様に、Ｊｏｒｄａｎらによる最近の報告では、ヒドロキシキノリンベースのポリオレフィン触媒（Ｂｅｉ、Ｘ．；Ｓｗｅｎｓｏｎ、Ｄ．Ｃ．；Ｊｏｒｄａｎ、Ｒ．Ｆ．”Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ”１６、ｐｐ３２８２（１９９７））が開示されている。
米国特許番号第５５７６４６０号（Ｂｕｃｈｗａｌｄら）は、アリールアミン化合物の調製のための２つの合成ルートを開示する。第一のルートは、スズ、ボロン、亜鉛、マグネシウム、インジウム及びケイ素の群から選ばれた金属を含有する金属アミドと、活性化された置換基を含有する芳香族化合物とを、遷移金属触媒の存在下で反応させてアリールアミンを形成する。第二のルートは、金属アミドではなくアミンを使用する。特許‘４６０には、この反応は、約１２０℃未満の温度で行なわれ、アリールアミンを製薬分野及び農業分野用途の中間体として使用できることが記載されている。
【０００３】
西山らは、米国特許番号第５９２９２８１号で、パラジウム化合物及びｔ−ホスフィンを含有する触媒系存在下でヘテロ環状芳香族アミンを調製し、パラジウム化合物及びトリアルキルホスフィンを含有する触媒系の存在下でアリールアミンを調製することを示している。
Ｃｏｕｌｓｏｎは、米国特許番号第３９１４３１１号で、アミンと、置換可能な活性化された置換基を有する芳香族化合物とを、２５℃の低温でニッケル触媒及び塩基の存在下で反応させる、アリールアミンの低温調製法を開示している。
Ｂｏｇｅｒらは、“パラジウム（Ｏ）仲介β−カルボリン合成；ラベンダマイシンのＣＤＥ環の調製”２５、”Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ”Ｎｏ．３０、ｐｐ．３１７５〜７８（１９８４）において、アミンと、活性化された置換基を有する芳香族化合物とを８０℃又は１００℃で、パラジウム触媒及び塩基の存在下で反応させるアリールアミンの低温調製法を開示している。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
当分野において、重合触媒系で使用される、アニオン性、多座ヘテロ原子配位子の新しい製造方法の要求があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、第１５族元素含有金属重合触媒の合成法に関する。又、本発明は、重合触媒及び重合触媒系製造における第１５族元素含有配位子、特にアリールアミン配位子の高温での効率的な合成に関する。特に、アリールアミンは、アミンと好ましい脱離基を有する芳香族化合物とを、１２０℃を超える温度、好ましくは１３０℃を超える温度で反応させて調製される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明は、下記に記載される第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物の合成方法を提供する。本発明の方法は、第１５族元素含有配位子の新規で効率的な高温調製方法である。
第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物
本発明の方法で製造できる第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物は、通常１以上の脱離基に結合しかつ２以上の第１５族元素に結合している第３〜１４族元素金属原子、好ましくは第３〜７族、更に好ましくは第４〜６族、特に好ましくは第４族元素金属原子を含有する。それら２以上の第１５族元素の１以上は、他の基を介して第１５又は１６族元素に結合している。触媒化合物の第１５族元素は、Ｃ1〜Ｃ20炭化水素基、ヘテロ原子含有基、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛又はリンであってもよい他の基を介して、同様に第１５又は１６族元素にも結合している。但し第１５又は１６族元素は、なにとも結合していなくてもよく、水素、第１４族元素含有基、ハロゲン又はヘテロ原子含有基と結合していてもよい。但し２つの第１５族元素のそれぞれは、同じ１つの環状基に結合し、任意で水素、ハロゲン、ヘテロ原子若しくはヒドロカルビル基、又はヘテロ原子含有基と結合していてもよい。
本発明の方法で製造された第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物は、例えば式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される。
【０００７】
【化１】
2004523505.tif 000002
【０００８】
【化２】
2004523505.tif 000003
【０００９】
但し、Ｍは、第３〜１２族遷移元素金属又は第１３又は１４族典型元素金属、好ましくは第４、５又は６族元素金属、更に好ましくは第４族元素金属、特に好ましくはジルコニウム、チタン又はハフニウムであり；
Ｘは、それぞれ独立して脱離基、好ましくは、アニオン性脱離基、更に好ましくは水素、ヒドロカルビル基、ヘテロ原子又はハロゲン、特に好ましくはアルキルであり；
ｙは０又は１であり（ｙが０の場合、Ｌ’基は存在しない）；
ｎはＭの酸化状態であり、好ましくは＋３、＋４又は＋５、更に好ましくは＋４であり；
ｍはＹＬＺ配位子又はＹＬ’Ｚ配位子の形式電荷、好ましくは０、−１、−２又は−３、更に好ましくは−２であり；
Ｌは第１５又は１６族元素、好ましくは窒素であり；
Ｌ’は第１５又は１６族元素又は第１４族元素含有基、好ましくは炭素、ケイ素又はゲルマニウムであり；
Ｙは第１５族元素であり、好ましくは窒素又はリン、更に好ましくは窒素であり；
Ｚは第１５族元素であり、好ましくは窒素又はリン、更に好ましくは窒素であり；
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立してＣ1〜Ｃ20炭化水素基、２０までの炭素原子を有し、ヘテロ原子を含有する基、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛又はリン、好ましくはＣ2〜Ｃ20アルキル、アリール又はアラルキル基、更に好ましくは直鎖状、分岐状又は環状Ｃ2〜Ｃ20アルキル基、特に好ましくはＣ2〜Ｃ6炭化水素基であり；
【００１０】
Ｒ3は存在しないか炭化水素基、水素、ハロゲン、ヘテロ原子含有基、好ましくは直鎖状、分岐状又は環状の１〜２０の炭素原子を有するアルキル基、更に好ましくはＲ3が存在しないか、水素又はアルキル基であり、特に好ましくは水素であり；
Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立して、アルキル基、アリール基、置換アリール基、環状アルキル基、置換環状アルキル基、環状アラルキル基、置換環状アラルキル基又は多環系基であり、好ましくは２０までの炭素原子、更に好ましくは３〜１０炭素原子、更に好ましくはＣ1〜Ｃ20炭化水素基を有するものであるが、Ｃ1〜Ｃ20アリール基又はＣ1〜Ｃ20アラルキル基、又はＲはアルキル基である場合のＰＲ3等のヘテロ原子含有基であってもよく、
Ｒ1及びＲ2は、互いに結合していてもよく、及び／又はＲ4及びＲ5は互いに結合していてもよく；
Ｒ6及びＲ7は、それぞれ独立して、存在しないか、水素、アルキル基、ハロゲン、ヘテロ原子又はヒドロカルビル基、好ましくは直鎖状、分岐状又は環状１〜２０の炭素原子を有するアルキル基、更に好ましくは不存在であり；
Ｒ*は、存在しないか水素、第１４族元素含有基、ハロゲン、ヘテロ原子含有基である。
「ＹＬＺ配位子又はＹＬ’Ｚ配位子の形式電荷」とは、金属及び脱離基Ｘの存在しない全体の配位子の電荷を示す。
【００１１】
「Ｒ1及びＲ2は互いに結合していてもよい。」とは、Ｒ1及びＲ2が互いに直接結合しているか互いに他の基を介して結合していてもよいことを示す。「Ｒ4及びＲ5は互いに結合していてもよい。」とは、Ｒ4及びＲ5が互いに直接結合しているか互いに他の基を介して結合していてもよいことを示す。
アルキル基として、直鎖状若しくは分岐状アルキル基、又はアルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基、アシル基、アロイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボモイル基、アルキル−若しくはジアルキルカルバモイル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アロイルアミノ基、直鎖状、分岐状若しくは環状、アルキレン基、又はそれらの組み合わせが挙げられる。アラルキル基は、置換アリール基である。
Ｒ4及びＲ5は好ましくはそれぞれ独立して下式（ＩＩＩ）で表される基である。
【００１２】
【化３】
2004523505.tif 000004
【００１３】
但し、Ｒ8〜Ｒ12はそれぞれ独立して水素、Ｃ1〜Ｃ40アルキル基、ハライド、ヘテロ原子、４０までの炭素原子を有し、ヘテロ原子を含有する基、好ましくはＣ1〜Ｃ20直鎖状又は分岐状アルキル基、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基であり、２つのＲ基は、環状基及び／又はヘテロ環状基を形成してもよい。環状基は芳香族であってもよい。Ｒ9、Ｒ10及びＲ12は好ましくはそれぞれ独立してメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基（全ての異性体を含む）である。最も好ましい例では、Ｒ9、Ｒ10及びＲ12はメチル基であり、Ｒ8及びＲ11は水素である。
Ｒ4及びＲ5は両方とも下式（ＩＶ）で表される基が特に好ましい。
【００１４】
【化４】
2004523505.tif 000005
【００１５】
この場合、式（I)、（II)において、Ｍは第４族元素金属、好ましくはジルコニウム、チタン又はハフニウム、更に好ましくはジルコニウムであり；Ｌ、Ｙ及びＺのそれぞれは窒素であり；Ｒ1及びＲ2のそれぞれは−ＣＨ2−ＣＨ2−であり；Ｒ3は水素であり；Ｒ6及びＲ7は存在しない。
第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物は、特に好ましくは下記化合物（Ｉ）で表される。但し、Ｐｈはフェニル基である。
【００１６】
【化５】
2004523505.tif 000006
【００１７】
ＹＬＺ配位子又はＹＬ’Ｚ配位子の調製
本発明の方法は、上記式（Ｉ）及び（ＩＩ）のＹＬＺ配位子及びＹＬ’Ｚ配位子の調製を目的とする。上記式（Ｉ）のＹＬＺ配位子は、反応（Ｉ）に従って調製されることができ、式（ＩＩ）のＹＬ’Ｚ配位子は、反応（ＩＩ）に従って調製されることができる。
【００１８】
【化６】
2004523505.tif 000007
【００１９】
【化７】
2004523505.tif 000008
【００２０】
反応（Ｉ）及び（ＩＩ）において、ＡｒＸ1は、１以上の脱離基Ｘ1を有する芳香族化合物である。芳香族化合物ＡｒＸ1として、ピリジン、キノリン、フラン、ピロール、及びチオフェン等の単純な芳香族環又はヘテロ芳香族環由来のもの、ナフタレン、アントラセン、テトラヒドロナフタレン（商標ｔｅｔｒａｌｉｎ）、イミダゾール及びインドール等の縮合環系由来のものが挙げられる。芳香族化合物は、置換されていなくても芳香族環へ結合している１以上の置換基を有していてもよい。置換基として、アルキル、アリール、アシル、ヘテロアリール、アミノ、カルボキシルエステル、カルボン酸、水素基、エーテル、チオエーテル、アミド、カルボキシルアミド、窒素、ホスホン酸、スルホン酸、ハライド、ハロゲノイド基及びそれらの置換誘導体が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００２１】
本発明の方法で使用される化合物ＡｒＸ1のＡｒは、好ましくはそれぞれ独立して上記Ｒ4及びＲ5として記載されたもので表される。本発明の方法で使用される化合物ＡｒＸ1のＡｒは、それぞれ独立して上記（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）式で表されるものが好ましい。
Ｘ1は、それぞれ独立して、適当な脱離基、好ましくはアニオン性脱離基である。Ｘ1は、好ましくはそれぞれ独立して水素、ヒドロカルビル基、ヘテロ原子、ハロゲン又はアルキルであり、好ましくはハロゲンである。好ましい脱離基Ｘ1として塩素基、臭素基、沃素基、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基、メタンスルホン酸ｐ−トルエンスルホン酸ジアゾニウム（ｍｅｓｙｌａｔｅ  ｔｏｓｙｌａｔｅ  ｄｉａｚｏｎｉｕｍ）、及びＳＲ（但し、Ｒはアリール又はアルキル基）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。更に好ましくはＸ1はそれぞれハロゲンである。本発明の方法で使用される化合物ＡｒＸ1のＸ1は、最も好ましくは臭素基である。
【００２２】
反応（Ｉ）及び（ＩＩ）において；Ｌは、第１５又は１６族元素、好ましくは第１５族元素、更に好ましくは窒素であり；
Ｌ’は第１５又は１６族元素又は第１４族元素含有基、好ましくは炭素、ケイ素又はゲルマニウムであり；
ｙは０又は１であり（ｙが０の場合、Ｌ’、Ｒ*及びＲ3基は存在しない。）；Ｙは第１５族元素、好ましくは窒素又はリン、更に好ましくは窒素であり；
Ｚは第１５族元素、好ましくは窒素又はリン、更に好ましくは窒素であり；
Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立してＣ1〜Ｃ20炭化水素基、２０までの炭素原子を有するヘテロ原子含有基、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛又はリン、好ましくはＣ2〜Ｃ20アルキル、アリール又はアラルキル基、更に好ましくは直鎖状、分岐状又は環状Ｃ2〜Ｃ20アルキル基、特に好ましくはＣ2〜Ｃ6炭化水素基である。
【００２３】
Ｒ3は、水素、炭化水素基、ハロゲン、ヘテロ原子含有基、好ましくは１〜２０の炭素原子を有する、直鎖状、分岐状又は環状アルキル基、更に好ましくは水素又はアルキル基、特に好ましくは水素であり；
Ｒ1及びＲ2は上記のとおり互いに結合していてもよく；
Ｒ6及びＲ7はそれぞれ独立して水素、アルキル基、ハロゲン、ヘテロ原子又はヒドロカルビル基、好ましくは１〜２０の炭素原子を有する、水素、直鎖状、分岐状又は環状アルキル基、更に好ましくは水素であり；
Ｒ*は存在しないか水素、第１４族元素含有基、ハロゲン、ヘテロ原子含有基である。
【００２４】
反応（Ｉ）及び（ＩＩ）は、好ましくは適当な遷移金属触媒及び塩基の存在下で行なわれる。遷移金属触媒として、好ましくは白金、パラジウム、鉄、ニッケル、ルテニウム及びロジウムの錯体が挙げられるが、これらに限定されるものではない。触媒錯体として、例えば、ホスフィン、ビスホスフィン、イミン、アルシン、及びこれらの複合体、例えばホスフィンとアミンの複合体等の、アルキル及びアリール誘導体であるキレート配位子が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
更に、これら元素の不均一触媒含有体も又、本発明の遷移金属触媒反応用に好ましい触媒である。中でもパラジウム及びニッケル含有触媒が好ましい。本発明の方法に使用される更に好ましい触媒は、トリス（ジベンジルインデンアセトン）ジパラジウム及びラセミ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ラセミＢＩＮＡＰ）である。
本発明の方法には、適当な有機塩基、無機塩基又は塩基混合物が、使用されてもよい。好ましい塩基としてＮａ2ＣＯ3Ｋ2ＣＯ3、Ｔｌ2ＣＯ3、ＣｓＣＯ3、Ｋ（ｔ−ＢｕＯ）、Ｎａ（ｔ−ＢｕＯ）、Ｋ（ＯＰｈ）、Ｎａ（ＯＰｈ）又はこれらの組み合わせ（但し、ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチルを表し、Ｐｈはフェニルを表す。）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。本発明の方法に使用される最も好ましい塩基は、Ｎａ（ｔ−ＢｕＯ）である、
反応（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）において、Ｌ、Ｙ及びＺは、それぞれ独立して第１５族元素であってもよい。一例として、Ｌ、Ｙ及びＺは窒素．Ｒ3、Ｒ6及びＲ7は水素であり、遷移金属触媒は、トリス（ジベンジルインデンアセトン）ジパラジウム及びラセミ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ラセミＢＩＮＡＰ）である例が挙げられる。
【００２５】
反応（Ｉ）及び（ＩＩ）は、適当な圧力及び不活性雰囲気下で行われる。反応は、好ましくは大気圧下、窒素雰囲気中で行なわれる。
反応（Ｉ）及び（ＩＩ）は、適当な温度で行われるが、効率的なのは、１２０℃を超え、好ましくは１２５℃を超え、更に好ましくは１３０℃を超えて、特に好ましくは１４０℃を超える温度で行われる場合である。例えば、反応（Ｉ）及び（ＩＩ）は、約１２０〜２００℃、好ましくは約１２５〜１８０℃の温度で行われる。反応温度が高いと、より嵩高いアリールアミン化合物の合成に特に好ましいことが明らかになった。嵩高アリールアミン化合物としては、反応（Ｉ）及び（ＩＩ）中のＡｒＸのＡｒが、比較的大きな置換基か縮合環系である場合に得られるものが挙げられる。更に、反応温度が高いほどより高い収率がより早い反応速度で得られる。
反応（Ｉ）及び（ＩＩ）は、通常好ましい溶媒中で行われる。好ましくは、溶媒は、反応に悪影響を及ぼさず、反応温度を超える沸点を有する。本発明の方法に使用される好ましい溶媒は、ｐ−キシレン（ｂ．ｐ．１３７〜１３８℃）、ｍ−キシレン（ｂ．ｐ．１３９℃）及びｏ−キシレン（ｂ．ｐ．１４４℃）等の芳香族炭化水素溶媒である。例えば、反応（Ｉ）又は（ＩＩ）は、ｍ−キシレン中、１２０℃を超え、好ましくは１３０℃を超える温度で行われる。例えば、反応（Ｉ）又は（ＩＩ）は、ｏ−キシレン中、１２０℃を超え、好ましくは１３５℃を超える温度で行われる。
【００２６】
第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物の調製
第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物は、上記のように調製された中性配位子であるＹＬＺ又はＹＬ’Ｚを、式ＭnＸnで表される化合物と公知の手法で反応させることにより調製される。但し、Ｍは第３〜１４族元素金属であり、ｎはＭの酸化状態であり、Ｘはそれぞれハライド等のアニオン性基である。反応は、エーテル、トルエン、キシレン、ベンゼン、塩化メチレン、及び／又はヘキサン又は約２０〜１５０℃、好ましくは２０〜１００℃の沸点を有する他の溶媒等の非配位の又は弱く配位する溶媒中で、好ましくは２４時間以上行なわれ、次に混合物を過剰の（４倍等量以上等）強塩基、例えば、リチウムジメチルアミド（ＬｉＮ（ＣＨ3）2）、又はアルキル化剤、例えばエーテル中のメチルマグネシウムブロマイドと共に処理される。マグネシウム塩は存在した場合、濾別され、通常の手法により金属錯体が単離される。溶媒は、好ましくは６０℃を超える沸点を有するトルエン、キシレン、ベンゼン及び／又はヘキサンである。溶媒には、例えばエーテル及び／又は塩化メチレンが含まれていてもよく、これらのいずれかが好ましい。
【００２７】
活性化剤及び触媒化合物の活性化法
上記で調製された第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物は、通常、活性化剤化合物と組み合わされ、オレフィンに配位されて、オレフィンを挿入、重合できる空の配位座を有する化合物が形成される。本発明の目的の範囲内において、「活性化剤」とは、上記記載の触媒化合物のいずれかを中性触媒化合物から触媒活性のある触媒化合物カチオンへ変換させることにより活性化できる化合物を表す。活性化剤として、中性又はイオン性であり、通常の種類の共触媒であるアルモキサン、アルキルアルミニウム、イオン化活性化剤が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００２８】
アルミノキサン及びアルミニウムアルキル活性化剤
例えば、アルモキサン活性化剤は、本発明の触媒組成物中で活性化剤として使用できる。アルモキサンは、一般的に、−Ａｌ（Ｒ）−Ｏ−（Ｒはアルキル基）サブユニットを含有するオリゴマー化合物である。例えば、アルモキサンとして、メチルアルモキサン（ＭＡＯ）、改質メチルアルモキサン（ＭＭＡＯ）、エチルアルモキサン及びイソブチルアルモキサンが挙げられる。アルモキサンは、それぞれのトリアルキルアルミニウム化合物の加水分解により製造できる。ＭＭＡＯは、トリメチルアルミニウム及びトリイソブチルアルミニウム等の高級トリアルキルアルミニウムの加水分解により製造できる。ＭＭＡＯは、一般的に、脂肪族溶媒により溶解しやすく、貯蔵中でもより安定である。多くのアルモキサン及び改質アルモキサンの製造方法があり、米国特許番号第４６６５２０８，４９５２５４０，５０９１３５２，５２０６１９９，５２０４４１９，４８７４７３４，４９２４０１８，４９０８４６３，４９６８８２７，５３０８８１５，５３２９０３２，５２４８８０１，５２３５０８１，５１５７１３７，５１０３０３１，５３９１７９３，５３９１５２９，５６９３８３８，５７３１２５３，５７３１４５１，５７４４６５６，５８４７１７７，５８５４１６６，５８５６２５６及び５９３９３４６号、欧州特許番号第ＥＰ−Ａ−０５６１４７６，ＥＰ−Ｂ１−０２７９５８６，ＥＰ−Ａ−０５９４−２１８及びＥＰ−Ｂ１−０５８６６６５号、並びにＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９４／１０１８０及びＷＯ９９／１５５３４号に記載されており、ここではその全体を資料として使用するが、これらに限定されるものではない。他のアルモキサンとしては、改質メチルアルモキサン（ＭＭＡＯ）共触媒タイプ３Ａ（アクゾ社（ＡｋｚｏＣｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．）から、米国特許番号第５０４１５８４号の実施品が商標「改質メチルアルモキサンタイプ３Ａ」として市販されている。）が挙げられる。
活性化剤として使用できるアルミニウムアルキル又は有機アルミニウム化合物として、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム、トリ−ｎ−オクチルアルミニウム等が挙げられる。
【００２９】
イオン化活性化剤
イオン化活性化剤又は化学量論的に作用する理論量活性化剤であり、中性又はイオン性のもの、例えば、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリスパーフルオロフェニルボロンメタロイド前駆体又はトリスパーフルオロナフチルボロンメタロイド前駆体、ポリハロゲン化ヘテロボランアニオン（ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９８／４３９８３号）、ホウ酸（米国特許番号第５９４２４５９号）又はこれらの組み合わせ等、を使用することは、本発明の範囲内である。同様に中性又はイオン性活性化剤単体又はアルモキサン又は改質アルモキサン活性化剤と組み合わせて使用することも、本発明の範囲内である。
中性の理論量活性化剤として、例えば三置換されたボロン、テルル、アルミニウム、ガリウム及びインジウム又はこれらの組み合わせが挙げられる。３つの置換基は、それぞれ独立してアルキル基、アルケニル基、ハロゲン、置換されたアルキル基、アリール基、アリールハライド、アルコキシ基及びハライド基の群から選ばれる。好ましくは、３つの基は、それぞれ独立してハロゲン、単環状又は複環状（ハロ置換されたものを含む）アリール基、アルキル基、及びアルケニル基並びにこれらの組み合わせ、好ましくは１〜２０の炭素原子を有するアルケニル基、１〜２０の炭素原子を有するアルキル基、１〜２０の炭素原子を有するアルコキシ基及び３〜２０の炭素原子を有するアリール基（置換されたアリールを含む）である。更に好ましくは、３つの基は、１〜４の炭素原子を有するアルキル、フェニル、ナフチル又はこれらの組み合わせであり、特に好ましくは、ハロゲン化、好ましくはフッ素化されたアリール基である。中性理論量活性化剤は、最も好ましくはトリスパーフルオロフェニルボロン又はトリスパーフルオロナフチルボロンである。
【００３０】
イオン性理論量活性化剤化合物は、活性プロトン又はイオン化化合物の残存イオンに対し、影響されるが配位しない、若しくは緩やかに配位するだけの他のカチオンを含有してもよい。これらの化合物は、欧州特許番号第ＥＰ−Ａ−０５７０９８２、ＥＰ−Ａ−０５２０７３２、ＥＰ−Ａ−０４９５３７５、ＥＰ−Ｂ１−０５００９４４、ＥＰ−Ａ−０２７７００３及びＥＰ−Ａ−０２７７００４号、米国特許番号第５１５３１５７、５１９８４０１、５０６６７４１、５２０６１９７、５２４１０２５、５３８４２９９及び５５０２１２４号、並びに１９９４年８月３日に出願された米国特許出願番号第０８／２８５３８０号に記載されており、ここではその全体を資料として使用する。
【００３１】
好ましい理論量活性化剤は、カチオン及びアニオン成分を含み、下式で表されるものでもよい。
（Ｌ−Ｈ）d+（Ａd-）      ・・・（Ｖ）
但しＬは中性ルイス塩基であり；Ｈは水素であり；（Ｌ−Ｈ）+はブレンステッド酸であり；Ａd-は電荷ｄ−を有する非配位のアニオンであり；ｄは１〜３の整数である。
カチオン成分、（Ｌ−Ｈ）d+として、プロトン若しくはプロトン化されたルイス塩基等のブレンステッド酸又は還元可能なルイス酸であり、プロトン化が可能であるか、嵩高配位子メタロセン又は第１５族元素含有遷移金属触媒前駆体からアルキル又はアリール等の成分を引き抜くことができ、カチオン性遷移金属種を生成することのできるものが挙げられる。
【００３２】
相手を活性化するカチオン成分（Ｌ−Ｈ）d+は、遷移金属触媒前駆体へプロトンを与えて、遷移金属カチオンを生成することのできるブレンステッド酸であってもよい。上記カチオン成分（Ｌ−Ｈ）d+としては、アンモニウム、オキソニウム、ホスホニウム、シリリウム（ｓｉｌｙｌｉｕｍ）及びこれらの組み合わせ、好ましくはメチルアミン、アニリン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルアニリン、ジフェニルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、メチルジフェニルアミン、ピリジン、ｐ−ブロモＮ、Ｎ−ジメチルアニリン、ｐ−ニトロ−Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等のアンモニウム；トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン及びジフェニルホスフィン等のホスホニウム；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル由来のオキソニウム；ジエチルチオエーテル及びテトラヒドロチオフェン等のチオエーテル由来のスルホニウム；並びにこれらの組み合わせが挙げられる。相手を活性化するカチオン（Ｌ−Ｈ）d+は、同様に銀、カルボニウム、シクロヘプタトリエニウム（トロピリウム）、カルベニウム及びフェロセニウム（ｆｅｒｒｏｃｅｎｉｕｍ）並びにその組み合わせ等の引き抜き成分であってもよく、好ましくはカルボニウム及びフェロセニウムである。最も好ましい（Ｌ−Ｈ）d+は、トリフェニルカルボニウムである。
【００３３】
アニオン成分Ａd-として、式［Ｍk+Ｑn］d-で表されるものが挙げられる。但しｋは１〜３の整数であり；ｎは２〜６の整数であり；（ｎ−ｋ）＝ｄであり；Ｍは、元素の周期律表の第１３族元素、好ましくはボロン又はアルミニウムから選ばれた元素であり；Ｑはそれぞれ独立して水素化物、架橋又は非架橋のジアルキルアミド、ハライド、アルコキシド、アリールオキシド、ヒドロカルビル、置換されたヒドロカルビル、ハロカルビル、置換されたハロカルビル、及びハロ置換されたヒドロカルビル基であり；上記２０までの炭素原子を有するＱの１つはハライドである。Ｑは、好ましくはそれぞれ１〜２０の炭素原子を有するフッ素化ヒドロカルビル基、更に好ましくはそれぞれフッ素化アリール基、特に好ましくはそれぞれペンタフルオロアリール基である。又、Ａd-は、米国特許番号第５４４７８９５号に記載されているジボロン化合物であってもよく、ここではその全体を資料として使用する。
【００３４】
支持体、キャリア及び一般的担持技術
本発明で調製される第１５族元素を含有する重合金属触媒化合物は、支持体材料又はキャリアに担持されてもよく、支持体に担持された活性化剤と組み合わされてもよい。例えば、触媒化合物は、支持体又はキャリア上に、担持され、接触し、気化され、結合され、一体化され、吸着され又は吸収される。
支持体材料は、通常の支持体材料でよく、好ましくは多孔質の支持体材料、例えば、タルク、無機オキシド及び無機塩化物が挙げられる。他の支持体材料として、ポリスチレン等の樹脂系支持体材料、ポリスチレンジビニルベンゼンポリオレフィン若しくは高分子系化合物等の機能性若しくは架橋された有機支持体、ゼオライト、クレー、他の有機若しくは無機支持体材料等又はこれらの組み合わせが挙げられる。
好ましい支持体材料は、無機オキシドであり、第２，３，４，５，１３又は１４族元素金属オキシドが挙げられる。好ましい支持体として、シリカ、ヒュームドシリカ、アルミナ（ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９９／６００３３号）、シリカ−アルミナ及びこれらの組み合わせが挙げられる。他の使用できる支持体として、マグネシア、チタニア、ジルコニア、塩化マグネシウム（米国特許番号第５９６５４７７号）、モンモリロナイト（欧州特許番号第ＥＰ−Ｂ１０５１１６６５号）、フィロケイ酸塩、ゼオライト、タルク、クレー（米国特許番号第６０３４１８７号）等が挙げられる。同様に、これら支持体材料の組み合わせも使用でき、例えばシリカ−クロム、シリカ−アルミナ、シリカ−チタニア等が挙げられる。又、支持体材料として、多孔質のアクリル系ポリマーがＥＰ０７６７１８４Ｂ１号に記載されており、ここではその全体を資料として使用する。他の支持体材料として、ＰＣＴ国際公開番号ＷＯ９９／４７５９８号に記載されているナノ複合物、ＷＯ９９／４８６０５号に記載されているエアロゲル、米国特許番号第５９７２５１０号に記載されている球晶並びにＷＯ９９／５０３１１号に記載されているポリマービーズが挙げられ、ここではその全体を資料として使用する。好ましい支持体は、ヒュームドシリカであり、商標カボシル（Ｃａｂｏｓｉｌ）ＴＳ−６１０としてキャボット社（Ｃａｂｏｔ  Ｃｏｒｐ．）から市販されている。ヒュームドシリカは、通常、７〜３０ｎｍの粒径を有する粒子状シリカであり、ジメチルシリルジクロライド処理をして、その表面の水酸基の大部分をキャップしたものである。
【００３５】
支持体材料は、好ましくは無機系酸化物であり、好ましくは１０〜７００ｍ2／ｇの表面積、０．１〜４．０ｃｃ／ｇの孔隙量及び５〜５００μｍの平均粒径を有する。更に好ましくは、支持体材料の表面積は５０〜５００ｍ2／ｇ、孔隙量は０．５〜３．５ｃｃ／ｇ、平均粒径は１０〜２００μｍである。特に好ましくは支持体材料の表面積は１００〜４００ｍ2／ｇ、孔隙量は０．８〜３．０ｃｃ／ｇ、平均粒径は５〜１００μｍである。本発明のキャリアの平均孔径は、通常１０〜１０００オングストローム、好ましくは５０〜５００オングストローム、特に好ましくは７５〜３５０オングストロームの範囲である。
本発明及びその代表的な効果を更に詳細に理解するために、下記に実施例を示す。
【実施例１】
【００３６】
［（２，４，６−Ｍｅ3Ｃ6Ｈ2）ＮＨＣＨ2ＣＨ2］2ＮＨの１３５℃での調製
容積５００ｍＬのシュレンク型２口フラスコに、電磁攪拌子と共に、ジエチレントリアミン（１．２９０ｇ、１２．５０ｍｍｏｌ）、２−ブロモメシチレン（５．００８ｇ、２５．１５ｍｏｌ）、トリス（ジベンジルインデンアセトン）ジパラジウム（０．０６０ｇ、０．０６６ｍｍｏｌ）、ラセミ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ラセミＢＩＮＡＰ）（０．１２１ｇ、０．１９４ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブトキシナトリウム（３．７２２ｇ、３８．７２ｍｍｏｌ）、及びｍ−キシレン（４００ｍＬ）を、酸素フリーの乾燥窒素下で投入した。反応混合物は、１３５℃まで加熱攪拌された。６時間後に、プロトンＮＭＲ分析により判断して反応を終了した。それ以降の全ての操作は大気中で行なわれた。全ての溶媒は、真空加熱下で除去され、残留物はジエチルエーテル（５００ｍＬ）に溶解された。エーテルは、水で洗浄（３×１００ｍＬ）され、次に飽和ＮａＣｌ水溶液（水２５０ｍＬ中９０ｇ）で洗浄され、硫酸マグネシウム（１５ｇ）で乾燥された。エーテルを真空蒸留して、赤色オイルが得られ、７０℃で、１２時間真空乾燥された。1ＨＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）δ６．８３（ｓ，４）、３．３９（ｂｒｓ，２）、２．８６（ｔ，４）、２．４９（ｔ，４）、２．２７（ｓ，１２）、２．２１（ｓ，６）、０．６８（ｂｒｓ，１）
【実施例２】
【００３７】
［（２，４，６−Ｍｅ3Ｃ6Ｈ2）ＮＨＣＨ2ＣＨ2］2ＮＨの１４０℃での調製
容積５００ｍＬのシュレンク型２口フラスコに、電磁攪拌子と共に、ジエチレントリアミン（１．２９０ｇ、１２．５０ｍｍｏｌ）、２−ブロモメシチレン（５．０１２ｇ、２５．１７ｍｏｌ）、トリス（ジベンジルインデンアセトン）ジパラジウム（０．０６２ｇ、０．０６８ｍｍｏｌ）、ラセミ−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ラセミＢＩＮＡＰ）（０．１２３ｇ、０．１９７ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブトキシナトリウム（３．７３２ｇ、３８．８２ｍｍｏｌ）、及びｏ−キシレン（４００ｍＬ）を酸素フリーの乾燥窒素下で投入した。反応混合物は、１４０℃まで加熱攪拌された。６時間後に、プロトンＮＭＲ分析により判断して反応を終了した。それ以降の全ての操作は大気中で行なわれた。全ての溶媒は、真空加熱下で除去され、残留物はジエチルエーテル（５００ｍＬ）に溶解された。エーテルは、水で洗浄（３×１００ｍＬ）され、次に飽和ＮａＣｌ水溶液（水２５０ｍＬ中９０ｇ）で洗浄され、硫酸マグネシウム（１５ｇ）で乾燥された。エーテルを真空蒸留して、赤色オイルが得られ、７０℃で、１２時間真空乾燥された。1ＨＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）δ６．８３（ｓ，４）、３．３９（ｂｒｓ，２）、２．８６（ｔ，４）、２．４９（ｔ，４）、２．２７（ｓ，１２）、２．２１（ｓ，６）、０．６８（ｂｒｓ，１）
【国際公開パンフレット】
2004523505.tif 000014
2004523505.tif 000015
2004523505.tif 000016
2004523505.tif 000017
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2004523505.tif 000032
2004523505.tif 000033
2004523505.tif 000034
【国際調査報告】
2004523505.tif 000035
2004523505.tif 000036
2004523505.tif 000037