(57)【要約】中心縦軸を有すると共に、該中心縦軸に垂直な上流面（２）を有する触媒床（１）と、ガス状の反応剤混合物を分配室（４）内に接線方向に導入するための入口（５）を有し、該混合物を触媒床（１）の上流面（２９）に向けるための分配室（４）とを備えた反応器であって、該分配室（４）は、触媒床（１）の上流面（２）、触媒床（１）の中心縦軸と同一の中心縦軸を有する側面（６）、及び触媒床（１）の上流面（２）とカバー面（７）との間の距離が中心縦軸に向かって単調に短くなるように形成された該カバー面（７）によって規定されている前記反応器。本発明は更に、該反応器と燃料電池とを備えた燃料電池システム及び該反応器を用いた炭化水素質燃料の接触酸化に関する。
2004505754.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心縦軸を有すると共に、該中心縦軸に垂直な上流面を有する触媒床と、ガス状の反応剤混合物を分配室中に接線方向に導入するための入口を有し、該混合物を触媒床の上流面に向けるための該分配室とを備えた反応器であって、前記分配室は、触媒床の上流面、触媒床の中心縦軸と同一の中心縦軸を有する側面、及び触媒床の上流面とカバー面間の距離が中心縦軸に向かって単調に短くなるように形成された該カバー面によって規定されている前記反応器。
【請求項２】
前記カバー面の少なくとも一部が円錐形である請求項１に記載の反応器。
【請求項３】
前記触媒床が環状触媒床である請求項１に記載の反応器。
【請求項４】
前記カバー面の少なくとも一部が円錐台形である請求項３に記載の反応器。
【請求項５】
前記カバー面において、円錐半角度が少なくとも４５°、好ましくは少なくとも６０°、更に好ましくは少なくとも７５°である請求項２又は４に記載の反応器。
【請求項６】
中心縦軸を有すると共に、該中心縦軸に垂直な上流面を有する環状触媒床と、ガス状の反応剤混合物を環状分配室中に接線方向に導入するための入口を有し、該混合物を触媒床の上流面に向けるための該環状分配室とを備えた反応器であって、前記分配室は、触媒床の上流面、触媒床の中心縦軸と同一の中心縦軸を有する側面、及び触媒床の上流面とカバー面間の距離が一定になるように形成された該カバー面によって規定されている前記反応器。
【請求項７】
前記触媒床の流出流除去用導管を更に備えると共に、前記環状触媒床は該導管の周囲に配置される請求項３〜６のいずれか１項に記載の反応器。
【請求項８】
前記上流面とカバー面間の最短距離が１ｍｍ未満、好ましくは０．５ｍｍ未満、更に好ましくは実質的にゼロである請求項１〜５及び７のいずれか１項に記載の反応器。
【請求項９】
反応剤を混合して前記ガス状反応剤混合物を得るための渦巻き混合用チャンネルを更に備え、該混合用チャンネルは反応剤用入口と、出口とを有し、該混合用チャンネルの出口は前記分配室の入口と流動可能に連絡している請求項１〜８のいずれか１項に記載の反応器。
【請求項１０】
前記上流面の直径と、前記上流面とカバー面間の距離との比が少なくとも５、好ましくは少なくとも１０、更に好ましくは少なくとも１５である請求項１〜９に記載の反応器。
【請求項１１】
前記反応剤混合物の一部を触媒床の上流面に供給するための入口チャンネルを更に備え、該入口チャンネルは前記カバー面中に開口した出口を有する請求項１〜１０に記載の反応器。
【請求項１２】
前記入口チャンネルが点火器を有する請求項１１に記載の反応器。
【請求項１３】
前記触媒床が炭化水素質燃料の部分酸化用触媒を含有する請求項１〜１２に記載の反応器。
【請求項１４】
触媒床の流出流を水性ガスシフト転化するための接触反応帯域と、任意に該水性ガスシフト転化用接触反応帯域の流出流中の一酸化炭素を選択的に酸化するための接触反応帯域とを更に有する請求項１３に記載の反応器。
【請求項１５】
請求項１３又は１４に記載の反応器と、燃料電池とを備えた燃料電池システム。
【請求項１６】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の反応器を用いて、炭化水素質燃料を接触酸化、好ましくは接触部分酸化する方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、触媒床と、ガス状の反応剤混合物を触媒床の上流面に向けるための分配室とを備えた反応器、このような反応器を備えた燃料電池システム、及びこのような反応器を用いて炭化水素質燃料を接触酸化する方法に関する。
【０００２】
多くの転化方法では複数の反応剤は、触媒床と接触させるガス状混合物を得るため混合される。最適の混合を得るには、長さと直径との比が比較的大きい混合帯域を用いるのが有利である。したがって、混合帯域の断面積（横断面積）は、一般にガス状混合物と接触させる触媒床の断面積よりも小さい。ガス状混合物を触媒床の上流面上に均等に分配するには、複数のミキサーを用いることができるし、或いはガス状混合物を触媒床の上流面上に広げる必要がある。
【０００３】
反応剤が、例えば炭化水素質燃料と分子状酸素含有ガスとの混合物を触媒と接触させる炭化水素質燃料の酸化方法の場合のように、点火又は爆発し易い混合物を形成する場合、触媒の上流帯域での混合物の滞留時間の変動は最小であることが重要である。原料混合物の流れが停滞する帯域は避けるべきである。ここで云う流れが停滞する帯域とは、上記混合物の滞留時間が該混合物の平均滞留時間に比べて比較的長い帯域のことである。
【０００４】
ＥＰ　３０３４３９には、ガス状反応混合物を接触部分酸化反応帯域に供給するためのガスミキサー兼分配器が開示されている。ここで開示されたガスミキサー兼分配器は、大きい接触反応帯域上に開いている複数の小さい管を備えたものである。
ＷＯ　９８／４９０９５には、大きい接触部分酸化帯域の上流に複数の混合用ノズルからなるマニホールドを備えた軽質炭化水素接触部分酸化用インゼクター／反応器装置が開示されている。
【０００５】
ＷＯ　９８／３０３２２には、炭化水素質原料と酸素含有ガスとを混合し、次いでこの混合物を触媒表面上に広げるためのミキサー−拡散器を備えた炭化水素質原料の部分酸化用接触反応器が開示されている。ここに開示されたミキサー−拡散器では、混合物の環状流路についての有効断面積を増大させずに流路の直径を大きくすることにより、まず混合物を環状室中で膨張させ、次いでこの膨張した混合物を環状入口経由で分配室に供給している。ＷＯ　９８／３０３２２のミキサー−拡散器の欠点は、混合物をミキサー−拡散器に軸方向に供給し、これにより比較的高い混合室を必要とすることである。
【０００６】
高さが触媒床の中心縦軸に向かって単調に低くなる分配室中にガス状の反応剤混合物が接線方向に導入される反応器を用いることにより、このガス状混合物を触媒床の上流面上に有利に広げられることが見い出された。
したがって本発明は、中心縦軸を有すると共に、該中心縦軸に垂直な上流面を有する触媒床と、ガス状の反応剤混合物を分配室内に接線方向に導入するための入口を有し、該混合物を触媒床の上流面に向けるための該分配室とを備えた反応器であって、前記分配室は、触媒床の上流面、触媒床の中心縦軸と同一の中心縦軸を有する側面、及び触媒床の上流面とカバー面間の距離が中心縦軸に向かって単調に短くなるように形成された該カバー面によって規定されている前記反応器に関する。
【０００７】
本発明反応器の利点は、通常操作中、ガス状の反応剤混合物が触媒の上流面に対し接線方向に渦巻き運動状態で流れ、その結果、延焼の危険が少なくなるような比較的高い歪速度又は乱流が生じることである。分配室の高さを単調に低くすると、渦巻き運動の中心部において触媒表面とは離れて混合物の再循環が発生するのが最小となる。本発明による反応器の他の利点は、渦巻き混合室を有するミキサーを構成するのが好適であり、したがって混合室に必要な長さは、高さのミキサーには必要とせずに達成できるので、コンパクトな反応器になることである。
【０００８】
以下に本発明の反応器を図１〜３についての例により更に説明する。
図１は、本発明反応器の第一実施態様における触媒床及び分配室の縦断面図である。
図２は、本発明反応器の第二実施態様における触媒床及び分配室の縦断面図である。
図３は、本発明反応器の第三実施態様における触媒床及び分配室の縦断面図である。
図１では触媒床１は、円錐台形のセラミック発泡体の形態で示され、中心縦軸Ｃを有すると共に、中心縦軸Ｃに対し垂直な上流面２を有する。上流面２は、円形の外側周囲３を有する。触媒床１の上流には反応器は、反応剤混合物を触媒床１に向けるための分配室４を有する。
分配室４は、反応剤混合物を分配室２中に接線方向に導入するための入口５を有する。分配室４は、触媒床１の上流面２、側面６、及びカバー面７により規定される。カバー面７は、分配室４の高さ、即ち触媒床１の上流面２とカバー面７間の距離が触媒床１の中心縦軸Ｃに向かって単調に短くなるような形状を有する。
【０００９】
カバー面７は、耐高温材料、好ましくは高合金鋼又は耐火性酸化物で作ることができる。カバー面７の一部は、円錐半角度８を有する円錐形である。
図１の反応器は、混合する反応剤用の入口１０及び反応剤混合物用の出口１１を有する螺旋状に巻いた渦巻き混合用チャンネル９を更に備える。入口１０は、入口導管１２、１３と流動可能に連絡している。或いはチャンネル９は、各入口が単一の入口導管と流動可能に連絡した別々の複数の入口を持つことができる。出口１１は、分配室４の入口５と流動可能に連絡している。チャンネル９は、混合を促進するため、障害物（図示せず）を備えることができる。
【００１０】
図２に示した反応器は、反応剤混合物の一部を触媒床１の上流面２に供給するための入口チャンネル１４を有し、この入口チャンネル１４は、カバー面７中に開口した出口１５を有する。反応混合物の一部は、入口１６経由で入口チャンネル１４に供給される。図２に示した実施態様では、入口１６は混合用チャンネル９と流動可能に連絡している。
入口チャンネル１４は、反応器の始動中、混合物を点火するための点火器１７を有することが好ましい。
【００１１】
図３に示した反応器の実施態様では、触媒床１は、外側周囲３及び内側周囲１８付き上流面２を有する環状触媒である。図３の反応器は、更に触媒床１の流出流（ｅｆｆｌｕｅｎｔ）除去用の導管１９を備える。環状触媒床１は、導管１９の周囲に配置される。この実施態様は、原料混合物を供給し、触媒床１の同じ側で触媒床１の流出流を除去するのが望ましい場合に有利である。
カバー面７の一部は、円錐半角度８を有する円錐台形である。
図３の反応器は、円形に巻いた渦巻き混合用チャンネル９を備える。
【００１２】
本発明の反応器中に接線方向に流れる原料混合物を作るには、この混合物を分配室４中に導入するための入口５は側面６に配置することが好ましい。
上流面２は、好ましくは円形又は楕円形の外側周囲３、好ましくは円形の外側周囲を有する。或いは、上流面２の外側周囲３は、５つ以上の角度を持った多角形である。
触媒床１が環状触媒床ならば、分配室４は環状室である。このような分配室では渦巻き運動の中心部の空間は、分配室に流れるガス状混合物には役立たないので、渦巻き運動の中心部での再循環を防止するため、高さを単調に高くする必要はない。したがって、環状触媒床の場合、分配室４の高さ、即ち上流面２とカバー面７間の距離は一定でよい。
【００１３】
カバー面７の少なくとも一部は、図１に示すような円錐形か、或いは環状触媒床１の場合は、図３に示すような円錐台形であることが好ましい。円錐半角度８は、好ましくは４５°よりも大きく、更に好ましくは６０°よりも大きく、なお更に好ましくは７５°よりも大きい。比較的大きい円錐半角度を有する円錐台形の中の円錐形のカバー面７は、分配室４でのデッドスペースの発生を最小にすると共に、上流面２の直径に比べて分配室４の高さを外側周囲３の所で制限する。
【００１４】
上流面２の直径は、分配室４の最大高さ、即ち外側周囲３における上流面２とカバー面７間の距離の少なくとも５倍であることが好ましい。更に好ましくは、上流面２の直径は、分配室４の最大高さの少なくとも１０倍であり、なお更に好ましくは少なくとも１５倍である。分配室の高さを制限することにより、触媒表面に平行する充分高い流れ速度成分が維持できる。上流面が円形の外側周囲を持たない場合は、上記直径とは上流面の平均幅のことを云う。
【００１５】
上流面２とカバー面７間の最短距離は、１ｍｍ未満であることが好ましく、更に好ましくは０．５ｍｍ未満である。カバー面７は、上流面２とカバー面７間の最短距離がほぼゼロとなるように、上流面に近接又は接触していることが最も好ましい。
ここで触媒床とは、触媒粒子の固定床のような触媒の固定配列、触媒活性材料を備えた金属又はセラミックの一体式構造、又は触媒活性材料を備えた金属のワイヤーもしくはガーゼの配列のことを云う。
【００１６】
触媒床は、炭化水素質燃料の部分酸化用に好適であることが好ましい。接触部分酸化方法及び該方法用の好適な触媒は、例えばＵＳ　５，１４９，４６４、ＥＰ　５７６０９６、ＥＰ　６２９５７８、ＷＯ　９９／３７５８０及びＷＯ　９９／１９２４９から、当該技術分野で公知である。この種の触媒は、一般に触媒活性成分として、元素の周期率表第ＶＩＩＩ族から選ばれた金属を含有する。触媒活性成分として、ロジウム、イリジウム、パラジウム及び白金から選ばれた金属を含有する触媒が好ましい。ロジウム及び／又はイリジウム含有触媒が最も好ましい。
触媒活性金属は、例えば耐火性酸化物粒子、一体構造、又は金属ガーゼもしくは金属ワイヤーの配列のような金属配列の担体上に担持するのが最も好適である。好適な担体材料は当該技術分野で周知であり、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア及びそれらの混合物のような耐火性酸化物や、アルミニウム含有耐高温性合金のような金属が挙げられる。
【００１７】
通常、部分酸化触媒は活性金属を、担体材料の重量に対し０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０２〜１０重量％、更に好ましくは０．１〜７．５重量％の範囲の量で含有する。
本発明反応器の特定の実施態様では反応器は、前記定義したような部分酸化触媒床の他に、部分酸化触媒床の流出流の水性ガス（ｗａｔｅｒ−ｇａｓ）シフト転化用接触反応帯域を有する。反応器は任意に、水性ガスシフト転化用接触反応帯域の流出流中の残存一酸化炭素を接触的に選択酸化するための帯域を更に有する。
このように部分酸化触媒床、接触的水性ガスシフト反応帯域及び任意に一酸化炭素の接触的選択酸化用帯域を有する反応器は、炭化水素質燃料を、燃料電池で更に処理される水素に富むガスに転化するのに有利に利用できる。
【００１８】
本発明は更に、触媒床が部分酸化用触媒床である前記定義したような反応器及び炭化水素質燃料を有する燃料電池システムに関する。本発明燃料電池システムの反応器は、その他、接触的水性ガスシフト反応帯域及び任意に前述のような一酸化炭素の接触的選択酸化用帯域を有することができる。本発明の燃料電池システムは更に、燃料電池からの流出ガスを燃焼するための接触的アフターバーナーを有することができる。
分配室の形状は、原料混合物の再循環が最小になるような形状なので、本発明の反応器は、点火や爆発し易い混合物を形成する反応剤が、触媒床と接触させる前に混合しなければならないような方法に用いるのが特に好適である。これは、例えば炭化水素質燃料の接触酸化の場合である。
【００１９】
したがって、本発明はまた前記定義したような反応器を用いる炭化水素質燃料の酸化方法に関する。この方法は、炭化水素質燃料の接触部分酸化方法が好ましい。
接触部分酸化方法は通常、炭化水素質燃料及び酸素含有ガスを含む原料混合物を好適な触媒と、好ましくは酸素／炭素比が０．３〜０．８、更に好ましくは０．４５〜０．７５、なお更に好ましくは０．４５〜０．６５の範囲となる量で接触させることにより行われる。ここで酸素／炭素比とは、分子状の酸素Ｏ２ と燃料中に存在する炭素との比のことを云う。
原料混合物は、スチーム及び／又は二酸化炭素を含有してよい。原料混合物中にスチームが存在する場合、スチーム／炭素比、即ちスチームの分子（Ｈ２ Ｏ）と燃料中の炭素との比は、好ましくは０．０を越え３．０以下、更に好ましくは０．０を越え２．０以下の範囲である。
【００２０】
炭化水素質燃料は、炭化水素及び／又は酸素化物（ｏｘｙｇｅｎａｔｅ）を含有してよい。酸素化物は、接触部分酸化方法における通常の操作中、触媒床で使用される温度及び圧力においてガス状である。特に好適な燃料は、標準状態の温度及び圧力（ＳＴＰ、即ち０℃、１気圧）下でガス状又は液体である、天然ガス、ナフサ、ケロシン又はガス油のような炭化水素からなる。ここで酸素化物とは、炭素及び水素の原子とは別に、１つ又は２つの炭素原子か或いは１つの炭素原子及び１つの水素原子に結合した少なくとも１つの酸素原子を含有する分子、例えばアルコール、エーテル、酸及びエステルのことを云う。
ここで酸素含有ガスとは、分子状酸素を含有するガス、例えば空気、ほぼ純粋な酸素、又は酸素を豊富にした空気のことを云う。
【００２１】
接触部分酸化方法で使用される温度は通常、７５０〜１５００℃、好ましくは８００〜１３５０℃、更に好ましくは８５０〜１３００℃の範囲である。ここで温度とは、触媒床の上流層における温度のことを云う。
この接触部分酸化方法は通常、１〜１００バール（絶対）の範囲、好ましくは１〜５０バール（絶対）の範囲、更に好ましくは１〜１０バール（絶対）の範囲の圧力で操作される。
原料混合物は、好ましくはガスの時間当たり空間速度１０，０００〜１０，０００，０００Ｎｌ／ｋｇ／ｈの範囲、更に好ましくは２０，０００〜５，０００，０００Ｎｌ／ｋｇ／ｈの範囲、なお更に好ましくは５０，０００〜３，０００，０００Ｎｌ／ｋｇ／ｈの範囲で触媒床と接触させる。ここで通常リットル（Ｎｌ）とは、ＳＴＰでのリットルのことを云う。
【００２２】
【実施例】
更に本発明を以下の例によって説明する。
例
天然ガス流（２４０ｇ／時間）を図３に示すような反応器中で空気流（９３０ｇ／時間）と混合した。触媒床１の上流面の直径は８０ｍｍ、分配室３の外側周囲１８での高さは５ｍｍである。上記両流は、入口１０の温度で３５０〜４００℃にするため予備加熱した。混合物を触媒床１と接触させて、一酸化炭素及び水素を含む混合物に転化した。操作圧力は１バール（絶対）であった。混合用チャンネル８の壁の温度を、Ｔで示した位置で熱電対により測定した。測定温度は６００℃であった。点火も爆発も生じなかった。
触媒床１は、イットリア（Ｙ−ＰＳＺ）で部分安定化したジルコニアの６５ｐｓｉ（１インチ当たりの細孔数）発泡体を三塩化ロジウム、四塩化イリジウム及び硝酸ジルコニルを含む水溶液で含浸し、次いで乾燥、焼成することにより、上記発泡体に触媒の全重量に対しＲｈを２．５重量％、Ｉｒを２．５重量％及びＺｒを７重量％付与したものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明反応器の第一実施態様における触媒床及び分配室の縦断面図である。
【図２】本発明反応器の第二実施態様における触媒床及び分配室の縦断面図である。
【図３】本発明反応器の第三実施態様における触媒床及び分配室の縦断面図である。
【符号の説明】
１‥‥触媒床
２‥‥触媒床の上流面
３‥‥外側周囲
４‥‥分配室
５‥‥分配室の入口
６‥‥分配室の側面
７‥‥分配室のカバー面
８‥‥円錐半角度
９‥‥渦巻き混合用チャンネル
１０‥‥反応剤入口
１１‥‥反応剤混合物出口
１２、１３‥‥入口導管
１４‥‥入口チャンネル
１６‥‥入口
１７‥‥点火器
１８‥‥内側周囲
１９‥‥導管
Ｃ‥‥中心縦軸
【図１】
2004505754.tif 000003
【図２】
2004505754.tif 000004
【図３】
2004505754.tif 000005
【国際公開パンフレット】
2004505754.tif 000006
2004505754.tif 000007
2004505754.tif 000008
2004505754.tif 000009
2004505754.tif 000010
2004505754.tif 000011
2004505754.tif 000012
2004505754.tif 000013
2004505754.tif 000014
2004505754.tif 000015
2004505754.tif 000016
2004505754.tif 000017
2004505754.tif 000018
2004505754.tif 000019
2004505754.tif 000020
2004505754.tif 000021
2004505754.tif 000022
【手続補正書】
【提出日】平成14年8月6日(2002.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
高さが触媒床の中心縦軸に向かって単調に低くなる分配室中にガス状の反応剤混合物が接線方向に導入される反応器を用いることにより、このガス状混合物を触媒床の上流面上に有利に広げられることが見い出された。
したがって本発明は、中心縦軸を有すると共に、該中心縦軸に垂直な上流面を有する触媒床と、ガス状の反応剤混合物を分配室内に接線方向に導入するための入口を有し、該混合物を触媒床の上流面に向けるための該分配室とを備えた反応器であって、前記分配室は、触媒床の上流面、触媒床の中心縦軸と同一の中心縦軸を有する側面、及び触媒床の上流面とカバー面間の距離が中心縦軸に向かって単調に短くなるように形成された該カバー面によって規定されている前記反応器に関する。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明反応器の利点は、通常操作中、ガス状の反応剤混合物が触媒の上流面に対し接線方向に渦巻き運動状態で流れ、その結果、延焼の危険が少なくなるような比較的高い歪速度又は乱流が生じることである。分配室の高さを単調に低くすると、渦巻き運動の中心部において触媒表面とは離れて混合物の再循環が発生するのが最小となる。本発明による反応器の他の利点は、渦巻き混合室を有するミキサーを構成するのが好適であり、したがって混合室に必要な長さは、高いミキサーには必要とせずに達成できるので、コンパクトな反応器になることである。


【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
以下に本発明の反応器を図１〜３についての例により更に説明する。
図１は、本発明反応器の第一実施態様における触媒床及び分配室の縦断面図である。
図２は、本発明反応器の第二実施態様における触媒床及び分配室の縦断面図である。
図３は、本発明反応器の第三実施態様における触媒床及び分配室の縦断面図である。
図１では触媒床１は、円錐台形のセラミック発泡体の形態で示され、中心縦軸Ｃを有すると共に、中心縦軸Ｃに対し垂直な上流面２を有する。上流面２は、円形の外側周囲３を有する。触媒床１の上流には反応器は、反応剤混合物を触媒床１に向けるための分配室４を有する。
分配室４は、反応剤混合物を分配室２中に接線方向に導入するための入口５を有する。分配室４は、触媒床１の上流面２、側面６、及びカバー面７により規定される。カバー面７は、分配室４の高さ、即ち触媒床１の上流面２とカバー面７間の距離が触媒床１の中心縦軸Ｃに向かって単調に短くなるような形状を有する。




【国際調査報告】
2004505754.tif 000023
2004505754.tif 000024
2004505754.tif 000025