(57)【要約】本発明は、鏡像異性体純度が高いラクタム置換プロパン酸誘導体並びにそれらの製造方法及び使用方法に関する。本発明は、ラクタム化合物を製造する多段合成を含む。一連反応の１工程において、ラクタム−エナミドの不斉水素化を実施して、最終的には一連の医薬化合物に転化可能な中間体を生成した。本発明はまた、ラクタム化合物の合成全体に経済的利点をもたらす、多段合成の中間体の現場合成に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式ＶＩＩ：
【化１】
2004509947.tif 000016
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；置換もしくはＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；又は少なくとも１個のヘテロ原子を有する置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリール基であり、ｎは０〜５であり、且つ炭素ａにおける立体化学は実質的にＲ又はＳである］
を有する化合物。
【請求項２】
炭素ａにおける立体化学が実質的にＳである請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
前記ヘテロアリール基のヘテロ原子が酸素、硫黄又は窒素であり、且つ置換アルキル、アリール又はヘテロアリール基上の置換基がアルキル、アリール、ヒドロキシ、アルコキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ、シアノ又はエステルを含む請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ２及びＲ３が独立してメチルまたエチルから選ばれる請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ１が水素であり、Ｒ２がメチルであり、Ｒ３がメチル又はエチルであり、且つｎが２である請求項２に記載の化合物。
【請求項６】
式ＶＩ：
【化２】
2004509947.tif 000017
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びｎは請求項１に記載した通りである］
を有するエナミドを、不斉配位子／金属錯体を含んで触媒の存在下で水素を用いて水素化することによって、前記エナミドの炭素−炭素二重結合を不斉水素化することを含んでなる請求項１に記載の化合物の製造方法。
【請求項７】
前記不斉配位子／金属錯体の不斉配位子がホスフィン又はビス−ホスフィン化合物を含み、且つ前記不斉配位子／金属錯体の金属がロジウム、ルテニウム又はイリジウムからなる請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記不斉配位子／金属錯体の不斉配位子がホスフィン又はビス−ホスフィン化合物を含み、且つ前記不斉配位子／金属錯体の金属がロジウムを含んで請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記不斉配位子／金属錯体の不斉配位子が、２つのホスフィン残基を結合する、鏡像異性体として実質的に純粋なキラル主鎖を含む鏡像異性体として実質的に純粋なビス−ホスフィン化合物であり、前記ホスフィン残基の一方が３個の燐−炭素結合を有し、他方のホスフィン残基が２個の燐−炭素結合と１個の燐−窒素結合を有し、前記窒素がキラル主鎖の一部である請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記不斉配位子／金属錯体の不斉配位子が式ＩＸ又はＸ：
【化３】
2004509947.tif 000018
【化４】
2004509947.tif 000019
［式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール及び置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリール（ヘテロ原子は硫黄、窒素又は酸素から選ばれる）であるが、ただし、Ｒ１２は水素ではなく；ａは０〜３であり；ｂは０〜５であり；且つＭは第ＩＶ族〜第ＶＩＩＩ族の金属である］
を有する化合物を含んでなる請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記Ｍが鉄、ルテニウム又はオスミウムである請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記ａ及びｂが０であり、Ｒ７及びＲ１２がメチルであり、Ｒ８及びＲ９がフェニルであり、且つＭが鉄である請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記不斉配位子／金属錯体の不斉配位子が２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン；２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル；１，２−ビス−２，５−ジアルキルホスホラノ（ベンゼン）；１，２−ビス−２，５−ジアルキルホスホラノ（エタン）；２，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ブタン；又は２−ジフェニルホスフィノメチル−４−ジフェニルホスフィノ−１−ｔ−ブトキシカルボニルピロリジンの実質的に純粋な鏡像異性体又はジアステレオマーカを含んでなる請求項６に記載の方法。
【請求項１４】
不斉配位子／金属錯体の金属が式ＶＩの化合物１．０当量当り０．０００５〜０．５当量である請求項６に記載の方法。
【請求項１５】
水素雰囲気下で０．５〜２００気圧において前記水素化工程を行う請求項６に記載の方法。
【請求項１６】
脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、環状エーテル、非環状エーテル、ハロゲン化炭化水素、ジアルキルケトン、極性非プロトン性溶媒又はそれらの組み合わせを含んでなる溶媒中で前記水素化工程を行う請求項６に記載の方法。
【請求項１７】
−２０〜１００℃において前記水素化工程を行う請求項６に記載の方法。
【請求項１８】
式ＸＩ：
【化５】
2004509947.tif 000020
［式中、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリール基であり、且つｎは０〜５である］
を有する化合物。
【請求項１９】
ｎが２である請求項１８に記載の化合物。
【請求項２０】
Ｒ１、Ｒ３及びＲ４が水素であり且つｎが２である請求項１８に記載の化合物。
【請求項２１】
Ｒ１が水素であり、Ｒ３及びＲ４がメチルであり、且つｎが２である請求項１８に記載の化合物。
【請求項２２】
式ＩＩ：
【化６】
2004509947.tif 000021
［式中、Ｒ１は水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、且つｎは０〜５である］
を有する化合物の製造方法であって、式Ｉ：
【化７】
2004509947.tif 000022
を有する化合物をグリオキシル酸と反応させることを含んでなる方法。
【請求項２３】
前記グリオキシル酸が式Ｉの化合物１．０当量当り０．８〜２当量の量で存在する請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
式ＩＩＩ：
【化８】
2004509947.tif 000023
［式中、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリール基であり、Ｒ１は水素であることもでき且つｎは０〜５である］
を有する化合物の製造方法であって、式ＩＩ：
【化９】
2004509947.tif 000024
を有する化合物を、アルキルアルコール（前記アルキルアルコールのアルキルは、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル又は置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルである）、アリールアルコール（前記アリールアルコールのアリールは置換又は非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリールである）又はヘテロアリールアルコール（前記ヘテロアリールアルコールのヘテロアリールは置換又は非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、ヘテロ原子は酸素、窒素又は硫黄である）を含むアルコールと反応させることを含んでなる方法。
【請求項２５】
前記アルコールがＣ１〜Ｃ５アルコールである請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記アルコールがメタノール又はエタノールである請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
前記アルコールが式ＩＩの化合物１．０当量当り２．０〜５．０当量の量で存在する請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】
脱水剤をさらに含んでなる請求項２４に記載の方法。
【請求項２９】
式Ｖ：
【化１０】
2004509947.tif 000025
［式中、Ｒ１及びＲ３は独立して、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、Ｒ１は水素であることもでき、Ｒ６は置換もしくは非置換の分子鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル又は置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルであり、且つｎは０〜５である］
を有する化合物。
【請求項３０】
ｎが２であり、Ｒ１が水素である請求項２９に記載の化合物。
【請求項３１】
Ｒ３がメチル又はエチルである請求項３０に記載の化合物。
【請求項３２】
Ｒ６がメチル又はエチルである請求項３１に記載の化合物。
【請求項３３】
式ＩＶ：
【化１１】
2004509947.tif 000026
［式中、Ｒ１及びＲ３は独立して置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、Ｒ１は水素であることもでき、Ｘはフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり、且つｎは０〜５である］
を有する化合物を、式Ｐ（ＯＲ６）３［式中、Ｒ６は置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル又は置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルである］を有するホスファイトと反応させることを含んでなる請求項２９の化合物の製造方法。
【請求項３４】
Ｘが塩化物又は臭化物である請求項３３に記載の方法
【請求項３５】
Ｒ６がメチル又はエチルである請求項３３に記載の方法。
【請求項３６】
前記ホスファイトが式ＩＶの化合物１．０当量当り０．８〜１．２当量の量で存在する請求項３３に記載の方法。
【請求項３７】
式ＩＶ：
【化１２】
2004509947.tif 000027
［式中、Ｒ１及びＲ３は独立して、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、Ｒ１は水素であることもでき、Ｘはフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり、且つｎは０〜５である］
を有する化合物の製造方法であって、式ＩＩＩ：
【化１３】
2004509947.tif 000028
［式中、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリール基であり、Ｒ１は水素であることもでき且つｎは０〜５である］
を有する化合物を式ＰＸ３［式中、Ｘはフルオロ、クロロ、ブロモ又はヨードである］を有する化合物と反応させることを含んでなる方法。
【請求項３８】
式ＩＶ：
【化１４】
2004509947.tif 000029
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、且つｎは０〜５である］
を有する化合物。
【請求項３９】
ｎが２であり且つＲ１が水素である請求項３８に記載の化合物。
【請求項４０】
Ｒ２及びＲ３がメチルである請求項３９に記載の化合物。
【請求項４１】
Ｒ２がメチルであり且つＲ３がエチルである請求項３９に記載の化合物。
【請求項４２】
式Ｖ：
【化１５】
2004509947.tif 000030
［式中、Ｒ１及びＲ３は独立して、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、Ｒ１は水素であることができ、Ｒ６は置換もしくは非置換、分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル又は置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルであり、且つｎが０〜５である］
を有する化合物を塩基の存在下において式ＨＣ（Ｏ）Ｒ２［式中、Ｒ２は水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールである］を有するアルデヒドと反応させることを含んでなる請求項３８に記載の化合物の製造方法。
【請求項４３】
前記塩基がアミジン塩基又はグアニジン塩基を含む請求項４２に記載の方法。
【請求項４４】
前記塩基が１，５−ジアザビシクロ（４．３．０）ノンー５−エン；１，８−ジアザビシクロ（５．４．０）ウンデカ−７−エン又はテトラメチルグアニジンを含む請求項４２に記載の方法。
【請求項４５】
前記塩基が式Ｖの化合物１．０当量当り１．０〜２．０当量の量で存在する請求項４２に記載の方法。
【請求項４６】
前記アルデヒドが式Ｖの化合物１．０当量当り０．８〜１．５当量の量で存在する請求項４２に記載の方法。
【請求項４７】
前記アルデヒドがアセトアルデヒドである請求項４２に記載の方法。
【請求項４８】
（ａ）式ＩＩＩ：
【化１６】
2004509947.tif 000031
［式中、Ｒ３及びＲ４は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリール基であり、Ｒ１はまた水素であることができる］
を有する化合物をＰＸ３［式中、Ｘはフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物である］と反応させて、ハロゲン化ラクタムを生成し；
（ｂ）工程（ａ）において生成されたハロゲン化ラクタムを、式Ｐ（ＯＲ６）３［式中、Ｒ６は置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル又は置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルである］を有するホスファイトと反応させて、ホスホン化ラクタムを生成し；そして
（ｃ）工程（ｂ）において生成されたホスホン化ラクタムを、塩基の存在下で式ＨＣ（Ｏ）Ｒ２［式中、Ｒ２は水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールである］を有するアルデヒドと反応させる［工程（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は現場で実施する］
ことを含んでなる請求項３８の化合物の現場製造方法。
【請求項４９】
式ＶＩＩＩ：
【化１７】
2004509947.tif 000032
［式中、Ｒ１及びＲ２は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、ｎは０〜５であり、且つ炭素ａにおける立体化学は実質的にＲ又はＳである］
を有する化合物の製造方法であって、式ＶＩＩ：
【化１８】
2004509947.tif 000033
［式中、Ｒ３は置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールである］
を有する化合物をＮＨ４ＯＨと反応させることを含んでなる方法。
【請求項５０】
ＮＨ４ＯＨが式ＶＩＩの化合物１．０当量当り１〜１０当量の量で存在する請求項４９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
発明の背景
触媒の不斉はキラル製品の生成において何度も繰り返し増殖されるので、不斉触媒反応は、鏡像異性体純度の高い製品を生成するための最も効率の良い方法である。これらのキラル製品は、単一鏡像異性体からなる医薬品の構築用ブロックとして及びいくつかの農業用化学薬品において多く利用されている。使用される不斉触媒は、実際には酵素であるか、又は合成物質であることができる。後者の型の触媒は前者に比べて、適用可能な反応の型の許容範囲がはるかに広いので前者よりもはるかに有望である。合成不斉触媒は通常、有機配位子によって取り囲まれた金属反応中心から構成される。配位子は通常、高い鏡像異性体純度で生成され、不斉をもたらす作用因子である。この型の触媒を用いる原型的反応は、エナミドの不斉水素化によるアミノ酸誘導体の生成である（非特許文献１）。
【０００２】
Ｈｏｒｎｅｒ−Ｅｍｍｏｎｓ　Ｗｉｔｔｉｇ化学反応によるエナミドの調製は公知であるが、エナミド上に完全置換窒素を有するラクタム置換２−プロペン酸誘導体のような基質の調製及び使用については知られておらず、標準的調製順序をエナミドに関して実現できるか否かは不確かである。一般に、不斉水素化を受けたエナミドの大部分は、エナミドの窒素上に水素置換基を有する。従って、ラクタム置換２−プロペン酸誘導体の水素化用不斉触媒の有効性もまた不確かである。
【０００３】
特許文献１は、種々の健康状態のための医薬品として有用な単一の鏡像異性体ラクタム置換プロパン酸誘導体の合成を開示している。しかし、これらの化合物は、環化反応によって調製されたものであり、エナミドの不斉水素化によって調製されたのではなかった。
【０００４】
これらのことに鑑みて、医薬化合物として有用な単一鏡像異性体ラクタム置換プロパン酸誘導体を製造することができれば望ましいであろう。
【０００５】
【特許文献１】
米国特許第４，６９６，９４３号
【非特許文献１】
Ｏｈｋｕｍａ，Ｔ．；Ｋｉｔａｍｕｒａ，Ｍ．：Ｎｏｙｏｒｉ，Ｒ．
，Ｃａｔａｌｙｔｉｃ　Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ
，２ｎｄ　ｅｄ．；Ｏｊｉｍａ，Ｉ．，Ｅｄ．；Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ
：Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ，２０００；ｐｐ．１〜１７
【０００６】
発明の要旨
本発明は、鏡像異性体純度の高いラクタム置換プロパン酸誘導体並びにそれらの製造方法及び使用方法に関する。本発明は、ラクタム化合物を製造する多段階合成を含む。一連反応の１工程において、ラクタム−エナミドの不斉水素化を行って、最終的には一連の医薬化合物に転化できる中間体を生成した。本発明はまた、ラクタム化合物の合成全体に経済的利点をもたらす、多段階合成の中間体の現場（ｉｎ　ｓｉｔｕ）合成に関する。
【０００７】
本発明のその他の利点は、一部分は以下の説明に示され、一部分は以下の説明から明白であり、あるいは本発明の実施によって確認することができる。本発明の利点は、請求の範囲において詳細に示した要素及び組み合わせによって実現及び達成されるであろう。前記の概要及び以下の詳細な説明は共に単に代表的及び説明的なものであり、請求の範囲に記載された本発明を制限するものではないことは言うまでもない。
【０００８】
発明の詳細な説明
本発明は、本発明の側面についての以下の詳細な説明及びこれに含まれる実施例を参照することによってより理解しやすくなる。
【０００９】
本発明の物質組成及び方法を開示及び説明する前に、本発明は具体的な合成方法又は特定の配合物には限定されないこと及び本発明自体は当然変化し得ることは言うまでもない。また、本明細書中で使用する用語は、個々の側面を説明する目的でのみ使用するのであって、限定することを目的としないことは言うまでもない。
【００１０】
単数形は、前後関係からそうでないことが明白でない限り、複数の対象を含む。
【００１１】
「任意の」又は「場合によっては」は、続いて記載された事象又は状況が起こっても起こらなくてもよいこと、並びに説明が該事象又は状況が起こる場合と起こらない場合を含むことを意味する。
【００１２】
用語「アルキル基」は、炭素数２０以下の直鎖又は分枝鎖、脂肪族炭化水素基を含むことができ、例えば、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、シアノ、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｃ２〜Ｃ６アルカノイルオキシ、ヒドロキシ、アリール及びハロゲンから選ばれた１〜３個の基で置換されることができる。用語「Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ」、「Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル」及び「Ｃ２〜Ｃ６アルカノイルオキシ」は、それぞれ構造−ＯＲ、−ＣＯ２Ｒ及び−ＯＣＯＲに相当する基を示すのに使用し、ＲはＣ１〜Ｃ６アルキル又は置換Ｃ１〜Ｃ６アルキルである。
【００１３】
用語「シクロアルキル」は、飽和炭素環式炭化水素を示すのに用いる。用語「置換シクロアルキル」は、前記基の１つ又はそれ以上の基で置換されたシクロアルキル基である。
【００１４】
用語「アリール基」は、フェニル、ナフチル又はアントラセニル基と、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、置換Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ６〜Ｃ１０アリール、置換Ｃ６〜Ｃ１０アリール、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、ハロゲン、カルボキシ、シアノ、Ｃ１〜Ｃ６アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｃ２〜Ｃ６アルカノイルアミノ並びに−ＯＲ’、ＳＲ’、−ＳＯ２Ｒ’、−ＮＨＳＯ２Ｒ’及び−ＮＨＣＯ２Ｒ’から選ばれた１〜３個の置換基で置換されたフェニル、ナフチル又はアントラセニル基を含むことができ、Ｒ’はフェニル、ナフチル、又はＣ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ６〜Ｃ１０アリール、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ及びハロゲンから選ばれた１〜３個の基で置換されたフェニルもしくはナフチルである。
【００１５】
用語「ヘテロアリール基」は、酸素、硫黄及び窒素から選ばれた１〜３個のヘテロ原子を含む５又は６員芳香環を含む。このようなヘテロアリール基の例は、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリルなどである。ヘテロアリール基は、例えばＣ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、置換Ｃ１〜Ｃ６アルキル、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、アリール、アリールチオ、アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル及びＣ２〜Ｃ６アルカノイルアミノのような３個以下の基で置換されることができる。ヘテロアリール基はまた３個以下の前記基で置換されても非置換でもよい縮合環系、例えばベンゾ又はナフト残基で置換されることができる。
【００１６】
本発明のこれらの側面に詳細に言及することとする。同一のまたな同様な部品を表すには、本発明中の種々の式全体にわたって、可能な限り同一の参照番号及び文字を使用する。
【００１７】
本発明は、鏡像異性体として純粋なラクタム置換プロパン酸誘導体の合成並びにそれらの製造方法及び使用方法に関する。本発明の化合物を製造する一般的な一連の反応工程を示す反応図式を図式１に示す。
【００１８】
【化１９】
2004509947.tif 000002
【００１９】
図式１に示した第１工程は、式Ｉ：
【００２０】
【化２０】
2004509947.tif 000003
【００２１】
［式中、Ｒ１は水素、置換もしくは非置換、分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、且つｎは０〜５である］
を有する化合物とグリオキシル酸との間の反応（すなわち、縮合）による、式ＩＩ：
【００２２】
【化２１】
2004509947.tif 000004
【００２３】
を有する化合物の生成を含む。ラクタムＩとグリオキシル酸との間の縮合反応は一般に溶媒中で行う。有用な溶媒の例としては、脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタンなど、芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン類など、環状もしくは非環状エーテル、例えばジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなど、又は極性非プロトン性溶媒、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられるがこれらに限定されない。化合物Ｉの量を基準とするグリオキシル酸の量は変化させることができる。一側面において、グリオキシル酸は、式Ｉを有する化合物１．０当量当り０．８〜２当量の量で存在する。縮合反応は一般に周囲温度と混合物の最も沸点の低い成分の沸点との間の温度で実施する。
【００２４】
図式１に示した第２工程は、化合物ＩＩを式ＩＩＩ：
【００２５】
【化２２】
2004509947.tif 000005
【００２６】
［式中、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は独立して、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリール基であり、Ｒ１は水素であることもでき、且つｎは０〜５である］
を有する化合物に転化することを含む。
【００２７】
この第２工程は一般に、式ＩＩを有する化合物と、アルキルアルコール、アリールアルコール又はヘテロアリールアルコールからなるアルコールとを反応させることを含み、前記アルキルアルコールのアルキルは置換もしくは非置換、分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル又は置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルであり；前記アリールアルコールのアリールは置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリールであり；且つ前記ヘテロアリールアルコールのヘテロアリールは、置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、ヘテロ原子は酸素、窒素又は硫黄である。Ｒ３及びＲ４は同一の基である必要はないが、同一アルコールから誘導されることができる。一側面において、アルコールはＣ１〜Ｃ５アルコール、好ましくはメタノール又はエタノールである。使用するアルコールの量は変化させることができる。一側面において、アルコールは式ＩＩを有する化合物１．０当量当り２．０〜５．０当量の量で存在する。
【００２８】
別の側面において、第２工程は一般に、酸触媒反応を用いた脱水条件下で行う。例えばトリアルキルオルトホルメートのような脱水剤の使用、又は共沸蒸留による反応混合物からの水の物理的除去が本発明において有用である。脱水剤を使用する場合には、化合物ＩＩの量を基準とした脱水剤使用量は一般に２〜５モル当量である。一般に、アルコールを化合物ＩＩＩの調製のための反応溶媒として使用でき、また一方、補助溶媒も使用できる。本発明において有用な補助溶媒の例としては、炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタンなど、芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン類などが挙げられるがこれらに限定されない。好ましい補助溶媒はトルエン又はキシレンである。第２工程は一般に、周囲温度と反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点との間の温度で実施する。一側面において、反応は２０〜１２０℃において実施する。
【００２９】
工程１及び２において生成される化合物は一般式ＸＩ：
【００３０】
【化２３】
2004509947.tif 000006
【００３１】
［式中、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリール基であり、且つｎは０〜５である］
で表すことができる。一側面において、ｎは２である。別の側面において、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は水素であり、且つｎは２である。さらに別の側面において、Ｒ１は水素であり、Ｒ３及びＲ４はメチルであり、且つｎは２である。
【００３２】
図式１の第３工程は、化合物ＩＩＩを式ＩＶ：
【００３３】
【化２４】
2004509947.tif 000007
【００３４】
［式中、Ｒ１及びＲ３は独立して、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、Ｒ１は水素であることもでき、Ｘはフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物であり、且つｎは０〜５である］
を有するハロゲン化ラクタム化合物に転化することを含む。
【００３５】
第３工程は一般に、化合物ＩＩＩを式ＰＸ３［式中、Ｘはフルオロ、クロロ、ブロモ又はヨードである］を有するハロゲン化燐と反応させることを含む。本発明の一側面において、ハロゲン化燐は三塩化燐又は三臭化燐である。三ハロゲン化燐の量は一般に、化合物ＩＩＩに基づき０．８〜２．０モル当量である。代表的には、反応は、脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタンなど、芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン類などならびにハロゲン化炭化水素、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどを含む（これらに限定されない）不活性溶媒中で行う。この第３工程は一般に、周囲温度と反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点との間の温度で、化合物ＩＩＩの大部分を消費するのに必要な時間実施する。一側面において、反応溶媒はトルエン又はキシレンであり、反応温度は４０〜８０℃である。
【００３６】
図式１の第４工程は、化合物ＩＶを式Ｖ：
【００３７】
【化２５】
2004509947.tif 000008
【００３８】
［式中、Ｒ１及びＲ３は独立して、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、Ｒ１は水素であることもでき、Ｒ６は置換もしくは非置換の分子鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル又は置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルであり、且つｎは０〜５である］
を有する化合物に転化することを含む。一側面において、ｎは２であり且つＲ１は水素である。本発明の別の側面において、Ｒ３はメチル又はエチルである。さらに別の側面において、Ｒ６はメチル又はエチルである。
【００３９】
第４工程は、式ＩＶを有する化合物と式Ｐ（ＯＲ６）３［式中、Ｒ６は置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル又は置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルである］を有するホスファイトとを反応させることを含んでなるＡｒｂｕｚｏｖ反応である。一側面において、このホスファイトは、トリメチルホスファイト又はトリエチルホスファイトである。本発明の別の側面において、化合物ＩＶはクロロ又はブロモ化合物（Ｘ＝Ｃｌ又はＢｒ）である。ホスファイトの量は一般に、化合物ＩＶに基づき０．８〜１．２モル当量である。反応は場合によっては、脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタンなど、芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン類など、環状もしくは非環状エーテル、例えばｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなど、ハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなど、又は極性非プロトン性溶媒、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドンなどを含む（これらに限定されない）溶媒の存在下で行う。この反応は一般に、周囲温度と混合物の最も沸点の低い成分の沸点との間の温度で、化合物ＩＶの大部分を消費するのに必要な時間実施する。一側面において、溶媒はトルエン又はキシレンであり、反応は４０〜１００℃において実施する。
【００４０】
図式１の第５工程は、化合物Ｖを式ＶＩ：
【００４１】
【化２６】
2004509947.tif 000009
【００４２】
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、且つｎは０〜５である］
を有する化合物に転化することを含む。一側面において、ｎは２であり且つＲ１は水素である。別の側面において、Ｒ２及びＲ３はメチルである。さらに別の側面において、Ｒ２はメチルであり、Ｒ３はエチルである。
【００４３】
この一連反応の第５工程は、ホスホネート化合物Ｖと式ＨＣ（Ｏ）Ｒ２を有するアルデヒドとの間のＨｏｒｎｅｒ−Ｅｍｍｏｎｓ　Ｗｉｔｔｉｇ反応によるエナミドＶＩの形成である。本発明の一側面において、アルデヒドはアセトアルデヒドである。この反応は一般に塩基の使用を含む。例えば塩基はｐＫａが１３又はそれ以上である中位の強さの非水酸化物塩基であることができる。非水酸化物塩基の例としては、アミジン塩基、例えば１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、又はグアニジン塩基、例えば、テトラメチルグアニジン（ＴＭＧ）が挙げられるがこれらに限定されない。塩基の量は通常、化合物Ｖに基づき１．０〜２．０モル当量であり、アルデヒドの量は化合物Ｖに基づき０．８〜１．５モル当量である。
【００４４】
化合物ＶＩを生成させる反応は一般に溶媒の存在下で行う。反応に使用できる溶媒としては、脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタンなど、芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン類など、環状又は非環状エーテル、例えばｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなど、ハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼンなど、又は極性非プロトン性溶媒、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられるがこれらに限定されない。この反応は、一般に、−８０℃と反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点との間の温度で、化合物Ｖの大部分を消費するのに必要な時間実施する。本発明の一側面において、反応はトルエン又はキシレン中で０〜５０℃の温度において実施する。
【００４５】
本発明はまた、化合物ＩＩＩから化合物ＶＩを現場製造することに関する。用語「現場（ｉｎ　ｓｉｔｕ）」とは、一連反応において製造される中間体を単離することなく２つ又はそれ以上の一連反応を実施することと定義する。本発明の一側面は、化合物ＶＩの現場製造方法であって、
（ａ）式ＩＩＩ：
【００４６】
【化２７】
2004509947.tif 000010
【００４７】
［式中、Ｒ３及びＲ４は、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリール基であり、Ｒ１はまた水素であることができる］
を有する化合物をＰＸ３［式中、Ｘはフッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物である］と反応させて、ハロゲン化ラクタムを生成し；
（ｂ）工程（ａ）において生成されたハロゲン化ラクタムを、式Ｐ（ＯＲ６）３［式中、Ｒ６は置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル又は置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルである］を有するホスファイトと反応させて、ホスホン化ラクタムを生成し；そして
（ｃ）工程（ｂ）において生成されたホスホン化ラクタムを、塩基の存在下で式ＨＣ（Ｏ）Ｒ２［式中、Ｒ２は水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールである］を有するアルデヒドと反応させる［工程（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は現場で実施する］
ことを含んでなる方法を含む。本発明のこの側面において、化合物ＩＶ及びＶは単離しない。化合物ＶＩの現場調製は、現場プロセスに使用するいくつかの試薬の不適合性のためにこれまでは期待されていなかったのであろう。さらに、生成される化合物をそれぞれ単離する必要なしに複数の反応工程を組み合わせることは経済的に有利である。
【００４８】
図式１の第６工程は、化合物ＶＩを式ＶＩＩ：
【００４９】
【化２８】
2004509947.tif 000011
【００５０】
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；置換もしくはＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリール基であり、ｎは０〜５であり、且つ炭素ａにおける立体化学は実質的にＲ又はＳである］
を有する化合物に転化することを含む。
【００５１】
用語「実質的にＲ又はＳ」は、この物質の鏡像異性体過剰によって測定される前記化合物の鏡像異性体純度を意味する。鏡像異性体過剰（ｅｅ）は、混合物の一方の鏡像異性体のパーセントから他方の鏡像異性体のパーセントを引いたものと定義する。「実質的にＲ」は、主要鏡像異性体としてのＲ鏡像異性体に関してｅｅが９０％又はそれ以上であることを示し、「実質的にＳ」は、主要鏡像異性体としてのＳ鏡像異性体に関してｅｅが９０％又はそれ以上であることを示す。本発明の一側面において、炭素ａにおける立体化学は実質的にＳである。本発明の別の側面において、炭素ａにおける立体化学は実質的にＲである。
【００５２】
本発明のその他の側面において、化合物ＶＩＩ中のヘテロアリール基のヘテロ原子は酸素、硫黄又は窒素であり、置換アルキル、アリール又はヘテロアリール基上の置換基は、アルキル、アリール、ヒドロキシ、アルコキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、ニトロ、シアノ又はエステルからなり；Ｒ２及びＲ３は独立してメチル又はエチルから選ばれ；Ｒ１は水素であり、Ｒ２はメチルであり、Ｒ３はメチル又はエチルであり；且つｎは２である。
【００５３】
化合物ＶＩの化合物ＶＩＩへの転化は、不斉配位子／金属錯体からなる触媒の存在下で水素を用いて化合物ＶＩを水素化することによって、化合物ＶＩの炭素−炭素二重結合を不斉水素化することを含んでなる。用語「水素化する」は一般に、炭素炭素二重結合又は三重結合を水素と反応させて、不飽和度を減少させることを意味する。例えば化合物ＶＩの炭素−炭素二重結合を水素化して、炭素−炭素単結合を形成する。ここで、不飽和度は１だけ減少している。図式２を参照すると、水素は、化合物ＶＩＩの炭素−炭素二重結合のｂ側（表側）又はｃ側（裏側）に付加されることができる。化合物ＶＩＩの炭素ａにおける立体化学は、炭素−炭素二重結合のどちら側に水素が接近したかによって決定されることになる。用語「不斉水素化」は、化合物ＶＩＩの炭素−炭素二重結合の特定の側又は面（ｂ又はｃ）に対して、他の側に優先して水素が付加されることを意味する。不斉水素化度は、不斉水素化生成物の鏡像異性体過剰によって記載する。
【００５４】
【化２９】
2004509947.tif 000012
【００５５】
化合物ＶＩの不斉水素化は、不斉配位子／金属錯体の使用を含む。不斉配位子／金属錯体は不斉配位子及び金属からなり、金属は不斉配位子に化学的に結合しているか、不斉配位子に配位している。化合物ＶＩの不斉水素化には、当業界で知られた任意の不斉配位子／金属錯体を使用できる。例えば、Ｏｈｋｕｍａら，Ｃａｔａｌｙｔｉｃ　Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ　Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，２ｎｄ　Ｅｄ，Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ，２０００，１〜１７ページ（参照することによってそっくりそのまま本明細書中に取り入れる）に開示された不斉配位子／金属錯体が本発明において有用である。
【００５６】
本発明の一側面において、不斉配位子／金属錯体の不斉配位子は、２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン；２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル；１，２−ビス−２，５−ジアルキルホスホラノ（ベンゼン）；１，２−ビス−２，５−ジアルキルホスホラノ（エタン）；２，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ブタン；又は２−ジフェニルホスフィノメチル−４−ジフェニルホスフィノ−１−ｔ−ブトキシカルボニルピロリジンの実質的に純粋な鏡像異性体又はジアステレオマーを含んでなる。
【００５７】
本発明の別の側面において、不斉配位子／金属錯体の不斉配位子は、３個の燐−炭素結合を含む１個のホスフィン残基及び２個の燐−炭素結合及び１個の燐−窒素結合を有するもう一方のホスフィン残基を含む、鏡像異性体として実質的に純粋なビス−ホスフィン化合物を含んでなる。本発明の一側面において、不斉配位子／金属錯体の不斉配位子は、ホスフィン又はビスホスフィン化合物からなり、不斉配位子／金属錯体の金属はロジウム、ルテニウム又はルテニウムをからなる。
【００５８】
鏡像異性体として実質的に純粋なビス−ホスフィン化合物、例えば９０％又はそれ以上の鏡像異性体過剰の例としては、一般式ＩＸ及びＸ（ＩＸの鏡像異性体）：
【００５９】
【化３０】
2004509947.tif 000013
【００６０】
【化３１】
2004509947.tif 000014
【００６１】
［式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル、置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル、置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール及び置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリール（ヘテロ原子は硫黄、窒素又は酸素から選ばれる）であるが、ただし、Ｒ１２は水素ではなく；ａは０〜３であり、ｂは０〜５であり；且つＭは第ＩＶ族〜第ＶＩＩＩ族の金属である］
を有するホスフィノメタロセニル−アミノホスフィンが挙げられる。式ＩＸ及びＸを有する不斉配位子の合成は、米国仮特許出願第６０／２３６，５６４号及び第６０／２６４，４１１号に開示されており、これらを参照することによってそのまま本明細書中に取り入れる。
【００６２】
式ＩＸ及びＸのＲ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２のそれぞれが表すことができるアルキル基は、炭素数２０以下の直鎖は又は分枝鎖、脂肪族炭化水素基であり、例えばＣ１〜Ｃ６アルコキシ、シアノ、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｃ２〜Ｃ６アルカノイルオキシ、ヒドロキシ、アリール及びハロゲンから選ばれた１〜３個の基で置換されることができる。用語「Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ」、「Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル」及びＣ２〜Ｃ６アルカノイルオキシ」は、それぞれ、構造−ＯＲ１３、−ＣＯ２Ｒ１３及び−ＯＣＯＲ１３（式中、Ｒ１３はＣ１〜Ｃ６アルキル又は置換Ｃ１〜Ｃ６アルキルである）に相当する基を示すのに用いる。用語「Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル」は、炭素数３〜８の飽和炭素環式炭化水素基を意味するのに用いる。
【００６３】
式ＩＸ及びＸのＲ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２のそれぞれに関するアリール基としては、フェニル、ナフチル又はアントラセニルと、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、置換Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ６〜Ｃ１０アリール、置換Ｃ６〜Ｃ１０アリール、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、ハロゲン、カルボキシ、シアノ、Ｃ１〜Ｃ６アルカノイルオキシ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル、Ｃ２〜Ｃ６アルカノイルアミノ並びに−Ｏ−Ｒ１４、Ｓ−Ｒ１４、−ＳＯ２−Ｒ１４、−ＮＨＳＯ２Ｒ１４及び−ＮＨＣＯ２Ｒ１４（Ｒ１４はフェニル、ナフチル、又はＣ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ６〜Ｃ１０アリール、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ及びハロゲンから選ばれた１〜３個の基で置換されたフェニルもしくはナフチルである）から選ばれた１〜３個の置換基で置換された、フェニル、ナフチル又はアントラセニル基が挙げられる。
【００６４】
ヘテロアリール基は酸素、硫黄及び窒素から選ばれた１〜３個のヘテロ原子を含む５又は６員芳香環を含む。このようなヘテロアリール基の例はチエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリルなどである。ヘテロアリール基は、例えばＣ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ、置換Ｃ１〜Ｃ６アルキル、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ、アリール、アリールチオ、アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ６アルコキシカルボニル及びＣ２〜Ｃ６アルカノイルアミノのような３個以下の基で置換されることができる。ヘテロアリール基はまた、例えば前記文中に示した３個以下の基で置換されても非置換でもよい縮合環系、例えばベンゾ又はナフト残基で置換されることができる。用語「ハロゲン」はフッ素、塩素、臭素及びヨウ素を包含するのに用いる。
【００６５】
本発明の一側面において、不斉配位子が式ＩＸ又はＸを有する化合物である場合には、Ｒ１２はＣ１〜Ｃ６アルキル（例えばメチル）であり；Ｒ７は水素又はＣ１〜Ｃ６アルキル（例えばメチル）であり；Ｒ８はアリール（例えばフェニル）、エチル、イソプロピル又はシクロヘキシルであり；Ｒ９はアリール（例えばフェニル）であり；Ｒ１０及びＲ１１は水素であり；且つＭは鉄、ルテニウム又はオスミウムである。
【００６６】
不斉配位子／金属錯体は調製して単離することもできるし、あるいは別の方法では現場調製することができる。不斉配位子／金属錯体の調製は一般に当業界で知られている。不斉配位子対金属のモル比は０．５：１〜５：１、好ましくは１：１〜１．５：１であることができる。不斉配位子／金属錯体の量は、化合物ＶＩに基づき、０．０００５〜０．５当量で変化することができ、触媒量が多いほど反応は速くなる。
【００６７】
水素化反応は、水素雰囲気下で行われるが、反応条件下に対して不活性な他の材料も存在することができる。反応は大気圧又は０．５〜２００気圧の高圧において行うことができる。反応温度を変化させて、通常は周囲温度と反応混合物の最も沸点の低い成分の沸点（又は高圧においては見かけ沸点）との間において転化速度を変えることができる。本発明の一側面において、水素化工程は−２０〜１００℃において行う。反応は通常、溶媒の存在下で行う。有用な溶媒の例としては、脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタンなど、芳香族炭化水素、例えばトルエン、キシレン類など、環状又は非環状エーテル、例えばｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランなど、ジアルキルケトン、例えばアセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトンなど、又は極性非プロトン性溶媒、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられるがこれらに限定されない。
【００６８】
式ＶＩＩを有する化合物はＮＨ４ＯＨと反応させることによってアミド化合物ＶＩＩＩ：
【００６９】
【化３２】
2004509947.tif 000015
【００７０】
［式中、Ｒ１及びＲ２は独立して水素、置換もしくは非置換の分枝鎖もしくは直鎖Ｃ１〜Ｃ２０アルキル；置換もしくは非置換Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル；置換もしくは非置換Ｃ６〜Ｃ２０アリール；又は置換もしくは非置換Ｃ４〜Ｃ２０ヘテロアリールであり、ｎは０〜５であり、且つ炭素ａにおける立体化学は実質的にＲ又はＳである］
に転化できる。
【００７１】
ＮＨ４ＯＨの量は変化させることができ、式ＶＩＩを有する化合物１．０当量当り１〜１０当量のＮＨ４ＯＨを使用できる。この反応は一般に水中において、場合によってはメタノールもしくはエタノールのような低級アルコール、ＴＨＦ、ＤＭＦ又はＤＭＳＯを含む（これらに限定されない）水混和性有機溶媒の存在下で実施する。この反応は好ましくは単独溶媒としての水中で行う。反応温度も変化させることができるが、反応は代表的には０〜５０℃において行う。式ＶＩＩＩを有する化合物は、多数の種々の病気の治療に使用でき、そのいくつかは米国特許第４，６９６，９４３号に開示されており、この特許を参照することによってそのまま本明細書中に取り入れる。
【００７２】
要約すれば、本発明は鏡像異性体として純粋なラクタム置換プロパン酸誘導体の有用な前駆体であるラクタム置換プロパン酸誘導体を提供する。本発明は、ラクタム置換プロパン誘導体及び最終的には医薬化合物の製造に使用されるであろう鏡像異性体濃縮化合物の効率の良い製造方法を提供する。
【００７３】
本願全体にわたって、刊行物を参照する場合には、本発明が関連する最新技術をより詳細に説明するために、その刊行物の開示を参照することによってそのまま本明細書に取り入れる。
【００７４】
実施例
以下の実施例は、当業界における通常の技術を有する者に対して、請求の範囲に記載した組成物の製造の仕方及び方法の実施の仕方並びに組成物と方法の評価の仕方を完全に開示及び説明するために示すものであって、本発明者らが自身の発明と考えるものの範囲を制限することを目的としない。数字（例えば、量、温度など）に関する精度を保証するために努力を行ったが、若干の誤差及び偏差のあることを明らかにしなければならない。特に断らない限り、部は重量部であり、温度は℃で表すか、室温であり、圧力は大気圧又はほぼ大気圧である。
【００７５】
例１：メチル２−（２−ピロリジノ）プロパノエートの調製
工程１：ヒドロキシ−酸２ａ（式ＩＩ，ｎ＝２，Ｒ１＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｈ）の調製：
グリコキシル酸一水和物（２０．２ｇ；２２０ミリモル；１．１当量）をジエチルエーテル２００ｍＬ中でスラリーにした。ピロリジノン（１５．２ｍＬ；２００ミリモル）を添加し、得られた混合物を周囲温度において２日間撹拌して、白色沈殿を得た。この沈殿を濾過によって単離し、エーテルで洗浄し、自然乾燥して、ヒドロキシ−酸２ａを３６．０６ｇ（９９％）を得た。
１Ｈ　ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ５．５５（ｓ，１Ｈ）；３．５〜３．３（ｍ，２Ｈ）；３．３６（ｓ，３Ｈ）；２．４６（ｍ，２Ｈ）；２．０７（ｍ，２Ｈ）。
【００７６】
工程２：エーテル−エステル３ａ（式ＩＩＩ，ｎ＝２，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ３＝Ｒ４＝Ｍｅ）の調製：
ヒドロキシ−酸２ａ（２５．３ｇ；１６０ミリモル）をメタノール（３７０ｍＬ）中に溶解させ、氷水中で冷却し、濃硫酸（５．０ｍＬ；０．０９３ミリモル；０．５７モル当量）で処理した。反応混合物を室温まで昇温させ、５日間撹拌させておいた。固体炭酸水素ナトリウム（１７．１ｇ；２０３ミリモル；１．２７当量）を添加し、反応混合物を３０分間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液を濃縮した。得られた材料を水（２５ｍＬ）で希釈し、酢酸エチル（２×５０ｍＬ）で抽出した。合した抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を蒸発させて、３ａを２２．８４ｇ（７６％）を生成した。
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ５．６４（ｓ，１Ｈ）；３．７８（ｓ，３Ｈ）；３．４０（ｍ，１Ｈ）；３．１６（ｍ，１Ｈ）；２．２４（ｍ，２Ｈ）；１．９０（ｍ，２Ｈ）。
【００７７】
工程３及び４：ホスホン酸エステル５ａ（式Ｖ，ｎ＝２，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ３＝Ｒ６＝Ｍｅ）の調製：
エーテル−エステル３ａ（９．３６ｇ；５０ミリモル）をトルエン５０ｍＬに溶解させた。反応混合物を７０℃に加熱し、三塩化燐（４．３６ｍＬ；５０ミリモル；１．０当量）を添加した。反応混合物を７０℃において１８時間加熱して、塩化物４ａ（式ＩＶ，Ｘ＝Ｃｌ，Ｒ３＝Ｍｅ）を得た。次いで、トリメチルホスフィット（５．９ｍＬ；５０ミリモル；１．０当量）を添加した。得られた混合物を３６時間加熱し、次に周囲温度まで冷却した。揮発分を減圧下でストリップし、残りの材料を酢酸エチル１００ｍＬ中に溶解させた。混合物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で洗浄し（２×２５ｍＬ）、得られた水溶液を酢酸エチルで３回逆抽出した。合した酢酸エチル溶液を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮して、ホスホン酸エステル５ａを４．３５ｇ（３３％）得た。
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ５．４６（ｄ，１Ｈ，ＪＰ−Ｈ＝２４．７２Ｈｚ）；３．８４（ｄ，３Ｈ，ＪＰ−Ｈ＝１０．９９Ｈｚ）；３．８０（ｓ，３Ｈ）；３．７８（ｄ，３Ｈ，ＪＰ−Ｈ＝１１．２６Ｈｚ）；３．８（ｍ，１Ｈ）；３．６６（ｍ，１Ｈ）；２．４２（ｍ，２Ｈ）；２．０８（ｍ，２Ｈ）。
【００７８】
工程５：エナミド６ａ（式ＶＩ，ｎ＝２，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ２＝Ｒ３＝Ｍｅ）の調製：
ホスホン酸エステル５ａ（２．６５ｇ；１０ミリモル）をテトラヒドロフラン１０ｍＬ中に溶解させた。混合物を−７８℃に冷却し、テトラメチルグアニジン（２．８８ｍＬ；１５ミリモル；１．５当量）を添加した。反応混合物を１５分間撹拌し、アセトアルデヒド（０．８４ｍＬ；１５ミリモル；１．５当量）を添加した。得られた混合物を−７８℃で１時間撹拌し、次に室温まで加温し、一晩撹拌した。揮発分を減圧下で蒸発させ、水（１０ｍＬ）を添加した。混合物を酢酸エチルで３回抽出し、合した抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。粗製生成物をフラッシュシリカゲルのパッドを通して濾過し、酢酸エチルで溶離して、６ａをＥ異性体とＺ異性体との混合物として１．３７ｇ（７５％）得た。
Ｅ−６ａ：１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ７．０５（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）；３．７４（ｓ，３Ｈ）；３．５５（ｔ，２Ｈ、Ｊ＝６．８６Ｈｚ）；２．４６（ｍ，２Ｈ）；２．１５（ｍ，２Ｈ）；１．７７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．１９Ｈｚ）。
Ｚ−６ａ：１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ５．９９（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ）；３．７８（ｓ，３Ｈ）；２．０２（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ）。
【００７９】
工程６：配位子９ａ（式ＩＸ，Ｒ１２＝Ｒ７＝Ｍｅ，Ｒ８＝Ｒ９＝Ｐｈ，ａ＝ｂ＝０，Ｍ＝Ｆｅ）を用いたエナミド６ａの水素化による、エステル７ａ（式ＶＩＩ，ｎ＝２，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ２＝Ｒ３＝Ｍｅ）の形成
Ｆｉｓｃｈｅｒ−Ｐｏｒｔｅｒ管に、アルゴン雰囲気下において配位子９ａ（２２ｍｇ，０．０３６ミリモル；０．０６４当量）及び無水ＴＨＦ（４．０ｍＬ）を装填した。溶液に２０分間アルゴンを通気してから、ビス（１，５−シクロオクタジエニル）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（１２ｍｇ；０．０２６ミリモル；０．０４７当量）を添加した。溶液を、２５℃において５分間、又はビス（１，５−シクロオクタジエニル）ロジウムトリフルオロメタンスルホネートが全て溶解するまで撹拌した。エナミド５ａ（１００ｍｇ，０．５５ミリモル）をシリンジによって添加した。容器に蓋をし、Ｈ２　４０ｐｓｉまで加圧した。１８時間後、混合物をヘキサン（４．０ｍＬ）で希釈し、シリカゲルを通して濾過して、触媒を除去した。生成物７ａを油として単離した（収率９９％，キラルＧＣによって測定されたｅｅ　９６．２％）。
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ４．７１〜４．６５（ｍ，１Ｈ），３．７１（ｓ，３Ｈ），３．５５〜３．４７（ｍ，１Ｈ），３．３８〜３．３０（ｍ，１Ｈ），２．４５〜２．４０（ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），２．１２〜１．９７（ｍ，３Ｈ），１．７４〜１．６４（ｍ，１Ｈ），０．９４〜０．８９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ）。キラルＧＣ分析［Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ（Ｊ＆Ｗ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ），４０℃４分間，７０℃／分で１７５℃まで，１７５℃に１２分間保持：ｔＲ＝２３．１９（主要鏡像異性体），ｔＲ＝２３．２４（微少鏡像異性体）］。
【００８０】
例２：
化合物ＶＩ（ｎ＝２，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ２＝Ｒ３＝Ｍｅ）の現場調製：
エーテル−エステル３ａ（９．３６ｇ；５０ミリモル）をトルエン２５ｍＬ中に溶解させた。反応混合物を５０℃に加熱し、三塩化燐（４．４ｍＬ；５０ミリモル；１．０当量）を添加し、混合物を５０℃に１６時間保持した。反応混合物を周囲温度まで冷却し、炭酸水素ナトリウム（１０．５ｇ；１２５ミリモル；２．５当量）を添加した。混合物を１５分間撹拌し、濾過し、揮発分をストリップした。トルエン（２５ｍＬ）の添加によって溶液を再構成し、７０℃に加熱した。トリメチルホスフィット（６．５ｍＬ；５５ミリモル；１．１当量）を添加し、反応混合物を７０℃において２４時間加熱して、４ａを完全に消費させた。次いで、混合物を２℃に冷却し、アセトアルデヒド（４．２ｍＬ；７５ミリモル；１．５当量）を添加した。次に、８．５℃までの発熱を伴いながら、テトラメチルグアニジン（９．４１ｍＬ；７５ミリモル；１．５当量）をゆっくりと滴加した。反応混合物を周囲温度まで昇温させ、一晩撹拌して、ホスホネート５ａを消費させた。水（１５ｍＬ）を添加し、層を分離させた。水層を酢酸エチル（２×１５ｍＬ）で抽出し、有機溶液を乾燥させ、濃縮して、粗製６ａを合計で９．２３ｇ得た。この物質をフラッシュシリカゲルのパッドを通して濾過し、酢酸エチルで溶離して、６ａを７．１３ｇ（３ａから全体で７８％）得た。
【００８１】
例３：エチル２−（２−ピロリジノ）プロパノエートの調製
工程２：エーテル−エステル３ｂ（式ＩＩＩ，ｎ＝２，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ３＝Ｒ４＝Ｅｔ）の調製
ヒドロキシ−酸２ａ（７．９６ｇ；５０ミリモル）をエタノール（２５ｍＬ）中に溶解させ、トリエチルオルトホルメート（１８．３ｍＬ；１１０ミリモル；２．２当量）を添加した。ｐ−トルエンスルホン酸（０．４８ｇ；２．５ミリモル；０．０５当量）を添加し、反応混合物を６０℃に２４時間加熱した。固体炭酸水素ナトリウム（０．５０ｇ、６ミリモル；０．１２当量）を添加し、反応混合物を１５分間撹拌した。揮発分を減圧下で蒸発させ、残りの物質をトルエン：酢酸エチル１：１（２５ｍＬ）に溶解させ、濾過し、濃縮して、３ｂを１０．２５ｇ（９５％）得た。
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ５．７２（ｓ，１Ｈ）；４．２４（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）；３．５７（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ）；３．５〜３．３（ｍ，２Ｈ）；２．４７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ）；２．０６（ｍ（５）２Ｈ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ）；１．２９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）；１．２５（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．８７Ｈｚ）。
【００８２】
工程３及び４：ホスホン酸エステル５ｂ（式Ｖ，ｎ＝２，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ３＝Ｅｔ，Ｒ６＝Ｍｅ）の調製：
エーテル−エステル３ｂ（５．３８ｇ；２５ミリモル）をトルエン１２．５ｍＬ中に溶解させた。反応混合物を５０℃に加熱し、三塩化燐（２．２ｍＬ；２５ミリモル；１．０当量）を添加した。反応混合物を５０℃において１２時間加熱し、次いで７０℃において２４時間加熱して、３ｂを完全に消費させ、塩化物４ｂ（式ＩＶ，Ｘ＝Ｃｌ，Ｒ３＝Ｅｔ）を得た。固体炭酸水素ナトリウム（５．２５ｇ；６２．５ミリモル；２．５当量）を添加し、混合物を１５分間撹拌した。次いで、反応混合物を濾過し、減圧下で濃縮した。トルエン（１２．５ｍＬ）を添加し、反応混合物を７０℃に加熱し、トリメチルホスファイト（３．２４ｍＬ；２５ミリモル；１．０当量）を添加した。得られた混合物を７０℃において２４時間加熱し、次いで周囲温度まで冷却した。揮発分を減圧下で蒸発させて、ホスホン酸エステル５ｂを７．００ｇ（９９％）得た。これはさらに精製せずに用いた。
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ５．４３（ｄ，１Ｈ，ＪＰ−Ｈ＝２４．７２Ｈｚ）；４．２５（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）；３．８４（ｄ，３Ｈ，ＪＰ−Ｈ＝１０．９９Ｈｚ）；３．７７（ｄ，３Ｈ，ＪＰ−Ｈ＝１０．９９Ｈｚ）；３．８（ｍ，１Ｈ）；３．６６（ｍ，１Ｈ）；２．４０（ｍ，２Ｈ）；２．０６（ｍ，２Ｈ）；１．２９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）。
【００８３】
工程５：エナミド６ｂ（式ＶＩ，ｎ＝２，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ３＝Ｅｔ，Ｒ２＝Ｍｅ）の調製：
ホスホン酸エステル５ｂ（７．００ｇ；２５ミリモル）をトルエン１２．５ｍＬ中に溶解させた。混合物を２℃に冷却し、アセトアルデヒド（２．１ｍＬ；３７．５ミリモル；１．５当量）を添加した。テトラメチルグアニジン（３．５ｍＬ；２７．５ミリモル；１．１当量）を、穏やかな発熱を伴いながら、滴加した。反応混合物を室温まで昇温させ、一晩撹拌し、次いで、５０℃に１２時間加熱して、５ｂを完全に消費させた。反応混合物を３Ｎ　ＨＣｌ（１０ｍＬ）で希釈し、層を分離させた。水層を酢酸エチルで２回抽出し、合した有機溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、濃縮した。粗製生成物をフラッシュシリカゲルのパッドを通して濾過し、酢酸エチルで溶離して、６ｂをＥ異性体とＺ異性体との混合物として２．８５ｇ（５８％）得た。
Ｅ−６ｂ：１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ７．０５（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）；４．２０（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）；３．５５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）；２．４８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．６９Ｈｚ）；２．１５（ｍ（５），２Ｈ，Ｊ＝７．６９Ｈｚ）；１．７７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）；１．２８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．１４Ｈｚ）。
Ｚ−６ｂ：１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ６．０（ｑ，１Ｈ）；３．７８（ｓ，３Ｈ）；４．１２（ｑ，２Ｈ）；１．９５（ｄ，３Ｈ）。
【００８４】
工程６：配位子１０ａ（式Ｘ，Ｒ１２＝Ｒ７＝Ｍｅ，Ｒ８＝Ｒ９＝Ｐｈ，ａ＝ｂ＝０，Ｍ＝Ｆｅ）を用いたエナミド６ｂの水素化によるエステル７ｂ（式ＶＩＩ，ｎ＝１，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ３＝Ｅｔ，Ｒ２＝Ｍｅ）の形成：
ビス（１，５−シクロオクタジエニル）ロジウムトリフルオロメタンスルホネート（５μモル，２．３ｍｇ）を反応器中に入れ、アルゴンで２０分間パージした。１０ａ（６μモル，３．７ｍｇ）の無水ＴＨＦ（２．０ｍＬ）中溶液をＡｒで２０分間脱ガスし、次いでカニューレによってビス（１，５−シクロオクタジエニル）ロジウムトリフルオロメタンスルホネートに添加した。この溶液を２５℃においてＡｒ下で２０分間撹拌した。エナミド６ｂ（０．５ミリモル）の無水ＴＨＦ（２．０ｍＬ）中溶液をＡｒで２０分間脱ガスし、次いでカニューレによって触媒溶液に添加した。次いで、この溶液をＨ２でフラッシし、Ｈ２　２０ｐｓｉｇまで加圧した。１時間後にサンプルを採取し、標準的キラルガスクロマトグラフィーを用いて鏡像異性体過剰に関して分析した。７ｂは転化率＞９９％で、ｅｅ９５．０％で形成された。キラルＧＣ分析［Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ（Ｊ＆Ｗ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ），内径３０ｍ×０．２５ｍｍ、フィルム厚０．２５μｍ、６０〜１４０℃（４０℃／分），１４０℃　３０分間，Ｈｅ　２０ｐｓｉｇ：ｔＲ（微少鏡像異性体）２６．２６分，ｔＲ（主要鏡像異性体）２６．８２分。
【００８５】
例４；アミドの調製
工程１：エステル７ａ（式ＶＩＩ，ｎ＝１，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ２＝Ｒ３＝Ｍｅ）の、アミド８（式ＶＩＩＩ，ｎ＝１，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ２＝Ｍｅ）への転化
エステル７ａ（ｅｅ　９３．６％；０．９３ｇ；５．０ミリモル）を、水酸化アンモニウム（２８％　ＮＨ３；１．０ｍＬ；１５ミリモル；３当量）と合し、周囲温度で一晩撹拌した。その時点でｔｌｃ分析は７ａを示さなかった。混合物を水（５ｍＬ）で希釈し、ジクロロメタン５ｍＬずつで３回抽出した。合した抽出物を、硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮して、アミド８を０．６２ｇ（７３％）得、これはキラルＧＣ分析によってｅｅが９２．６％であった。このことは、鏡像異性体純度をわずかしか減少させなかったことを示す。粗製生成物を熱アセトン（３．１ｍＬ；５ｍＬ／ｇ）から０℃に冷却することによって再結晶させた。得られた結晶を濾過によって採取し、アセトン：ヘプタン１：１で洗浄し、自然乾燥して、アミド８を０．３７ｇ（４３％）得た。これは、キラルＧＣによっｅｅが９９．６％であった。
１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ６．４３（ｂｒ　ｓ，１Ｈ）；５．７２（ｂｒ　ｓ，１Ｈ）；４．４５５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．０７，６．８７Ｈｚ）；３．３８（ｍ，２Ｈ）；２．４０（ｍ，２Ｈ）；２．１〜１．９（ｍ，３Ｈ）；１．６７（ｍ，１Ｈ）；０．８８６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．４２Ｈｚ）。キラルＧＣ分析［Ｃｙｃｌｏｓｉｌ−Ｂ（Ｊ＆Ｗ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ），１７５℃で２５分間，Ｈｅ　１５ｐｓｉ］：ｔＲ＝２１．３１（Ｓ鏡像異性体）、ｔＲ＝２２．０６（Ｒ鏡像異性体）］。［α］Ｄ２２−８６．７°（ｃ　０．９８，アセトン）。
【００８６】
比較例：エステル７ａ（式ＶＩＩ，ｎ＝１，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ２＝Ｒ３＝Ｍｅ）のアミド８（式ＶＩＩＩ，ｎ＝１，Ｒ１＝Ｈ，Ｒ２＝Ｍｅ）への転化
エステル７ａ（ｅｅ　９３．６％；０．９３ｇ；５．０ミリモル）をメタノール２ｍＬ中に溶解させ、水酸化アンモニウム（２８％アンモニア；１．０ｍＬ；１５ミリモル；３当量）で処理した。混合物を周囲温度において一晩撹拌した。その時点ではｔｌｃ分析は若干の残留７ａを示した。追加の水酸化アンモニウム（１．０ｍＬ；１５ミリモル：３当量）を添加し、反応混合物を２日間撹拌して、７ａを完全に消費させた。反応混合物を減圧下で蒸発させ、減圧下でトルエンを用いて数回共沸させて、アミド８を茶色の油として０．９５ｇ得た。これは、キラルＧＣ分析によってｅｅが８９．４％であった。このことは、鏡像異性体純度がかなり低下したことを示している。
【国際公開パンフレット】
2004509947.tif 000034
2004509947.tif 000035
2004509947.tif 000036
2004509947.tif 000037
2004509947.tif 000038
2004509947.tif 000039
2004509947.tif 000040
2004509947.tif 000041
2004509947.tif 000042
2004509947.tif 000043
2004509947.tif 000044
2004509947.tif 000045
2004509947.tif 000046
2004509947.tif 000047
2004509947.tif 000048
2004509947.tif 000049
2004509947.tif 000050
2004509947.tif 000051
2004509947.tif 000052
2004509947.tif 000053
2004509947.tif 000054
2004509947.tif 000055
2004509947.tif 000056
2004509947.tif 000057
2004509947.tif 000058
2004509947.tif 000059
2004509947.tif 000060
2004509947.tif 000061
2004509947.tif 000062
2004509947.tif 000063
2004509947.tif 000064
2004509947.tif 000065
2004509947.tif 000066
2004509947.tif 000067
2004509947.tif 000068
2004509947.tif 000069
2004509947.tif 000070
2004509947.tif 000071
2004509947.tif 000072
2004509947.tif 000073
2004509947.tif 000074
2004509947.tif 000075
2004509947.tif 000076
2004509947.tif 000077
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004509947.tif 000078
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004509947.tif 000079
【国際調査報告】
2004509947.tif 000080
2004509947.tif 000081
2004509947.tif 000082
2004509947.tif 000083
2004509947.tif 000084
2004509947.tif 000085
2004509947.tif 000086
2004509947.tif 000087