(57)【要約】【課題】水性分散液中の制御されたラジカル重合方法を提供する。【解決手段】本発明のラジカル重合方法は、水とモノマーとの間のｌｏｇ ｐ （対数中、ｐはオクタノール中と水中とのニトロキシル基の分配係数である。）により測定されたところの水とモノマー間の定義された分配平衡を有する選択されたニトロキシル基の存在下、水性分散液中で制御されたラジカル重合を行う。本発明の方法にて、マルチ−ブロックコポリマーを製造することが可能である。本発明の方法により製造されたポリマーは、接着剤、洗剤、分散剤、乳化剤、界面活性剤、消泡剤、接着促進剤、腐食防止剤、粘度改良剤、潤滑剤、レオロジー改良剤、粘着付与剤等の種々の用途に用いることができる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーの水性分散液中でのフリーラジカル重合によるオリゴマー，コオリゴマー，ポリマー又はコポリマー（ブロック又はランダム）の製造方法であって、
分散相中にモノマーを有する水性分散液を形成し、そして
ａ）少なくとも１種の安定な遊離ニトロキシル基であって、−０．５ないし７．５のｌｏｇ ｐ （オクタノール／水）を有し、且つ次式（Ａ），（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ），（Ｅ），（Ｆ），（Ｇ），（Ｈ）又は（Ｉ）：
【化１】
2004509988.tif 000023
【化２】
2004509988.tif 000024
（式中、
Ｒは水素原子、中断されていない又は１個若しくはそれより多くの酸素原子により中断された炭素原子数１ないし１８のアルキル基、シアノエチル基、ベンゾイル基、グリシジル基、２個ないし１８個の炭素原子を有する脂肪族カルボン酸の一価基、７個ないし１５個の炭素原子を有する脂環式カルボン酸の一価基又は３個ないし５個の炭素原子を有するα，β−不飽和カルボン酸の一価基或いは７個ないし１５個の炭素原子を有する芳香族カルボン酸の一価基を表わし、
Ｒ１０１ は炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数７又は８のアルアルキル基、炭素原子数２ないし１８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基又はベンゾイル基を表わし、
Ｒ１０２ は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、非置換又はシアノ基，カルボニル基若しくはカルバミド基により置換された炭素原子数２ないし８のアルケニル基を表わすか、或いはグリシジル基、式−ＣＨ２ ＣＨ（ＯＨ）−Ｚ又は式−ＣＯ−Ｚ又は式−ＣＯＮＨ−Ｚ（これらの式中、Ｚは水素原子、メチル基又はフェニル基を表わす。）で表わされる基を表わし、
Ｇ６ は水素原子を表わし、そして
Ｇ５ は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、そして
Ｇ１ 及びＧ３ はメチル基を表わし、そして
Ｇ２ 及びＧ４ はエチル基又はプロピル基を表わすか、又は
Ｇ１ 及びＧ２ はメチル基を表わし、そして
Ｇ３ 及びＧ４ はエチル基又はプロピル基を表わし、
Ｒ１ ，Ｒ２ ，Ｒ３ 及びＲ４ は互いに独立して炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数３ないし１８のアルキニル基；ＯＨ基，ハロゲン原子又は基−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ５ により置換された炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数３ないし１８のアルキニル基；少なくとも１個の酸素原子及び／又はＮＲ５ 基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基又は炭素原子数６ないし１０のアリール基を表わし、或いはＲ１ とＲ２ 及び／又はＲ３ とＲ４ とは結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基を形成し、
Ｒ５ ，Ｒ６ 及びＲ７ は独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基又は炭素原子数６ないし１０のアリール基を表わし、
Ｒ８ は水素原子、ＯＨ基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数３ないし１８のアルキニル基；１個又はそれより多くのＯＨ基，ハロゲン原子又は基−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ５ により置換された炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数３ないし１８のアルキニル基；少なくとも１個の酸素原子及び／又はＮＲ５ 基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基又は炭素原子数６ないし１０のアリール基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数５ないし１０のヘテロアリール基、−Ｃ（Ｏ）−炭素原子数１ないし１８のアルキル基、−Ｏ−炭素原子数１ないし１８のアルキル基又は−ＣＯＯ−炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わし、そして
Ｒ９ ，Ｒ１０，Ｒ１１及びＲ１２は独立して水素原子、フェニル基又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わす。）で表わされる化合物からなる基から選択される少なくとも１個の安定した遊離ニトロキシル基、並びに
ｂ）フリーラジカル開始剤
の存在下で高められた温度でモノマー又はモノマー／オリゴマーを（共）重合することからなる方法。
【請求項２】
前記式（Ａ），（Ｂ）及び（Ｃ）中、
Ｒが水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、シアノエチル基、ベンゾイル基、グリシジル基、脂肪族カルボン酸の一価基を表わし、
Ｒ１０１ が炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数７又は８のアルアルキル基、炭素原子数２ないし１８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基又はベンゾイル基を表わし、
Ｒ１０２ が炭素原子数１ないし１８のアルキル基、グリシジル基、式−ＣＨ２ ＣＨ（ＯＨ）−Ｚ又は式−ＣＯ−Ｚ（これらの式中、Ｚは水素原子、メチル基又はフェニル基を表わす。）で表わされる基を表わす請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記式（Ｄ），（Ｅ），（Ｆ），（Ｇ），（Ｈ）及び（Ｉ）中、Ｒ１ ，Ｒ２ ，Ｒ３ 及びＲ４ の少なくとも二つはエチル基、プロピル基又はブチル基を表わし、そして残りはメチル基を表わし、或いはＲ１ とＲ２ 又はＲ３ とＲ４ とが結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数５又は６のシクロアルキル基を形成し、そして残りの置換基はエチル基、プロピル基又はブチル基を表わす請求項１記載の方法。
【請求項４】
成分ｂ）の前記フリーラジカル開始剤がビス−アゾ化合物、過酸化物又は過酸化水素である請求項１記載の方法。
【請求項５】
成分ａ）の前記ニトロキシル基が、前記モノマー又はモノマー混合物に基づいて、０．００１モル％ないし２０モル％の量存在する請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記フリーラジカル開始剤が、前記モノマー又はモノマー混合物に基づいて、０．０１モル％ないし２０モル％の量存在する請求項１記載の方法。
【請求項７】
フリーラジカル開始剤に対する安定な遊離ニトロキシル基のモル比が２０：１ないし１：２である請求項１記載の方法。
【請求項８】
重合のための温度が６０℃ないし１８０℃である請求項１記載の方法。
【請求項９】
反応中の圧力が０．１ｂａｒ ないし２０ｂａｒ である請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記エチレン性不飽和モノマーがスチレン、置換スチレン、共役ジエン、アクロレイン、酢酸ビニル、ビニルピロリドン、ビニルイミダゾール、無水マレイン酸、（アルキル）アクリル酸無水物、（アルキル）アクリル酸エステル、（メタ）アクリロニトリル、（アルキル）アクリルアミドからなる群から選択される請求項１記載の方法。
【請求項１１】
前記エチレン性不飽和モノマーがスチレン、アクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸エステル、メタクリルアミド、メタクリロニトリルからなる群から選択される請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
形成されたポリマーがブロックコポリマー又はグラフトコポリマーである請求項１記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水とモノマーとの間のｌｏｇ ｐ （対数中、ｐはオクタノール中と水中とのニトロキシル基の分配係数である。）により測定されたところの水とモノマー間の定義された分配平衡を有する選択されたニトロキシル基の存在下での、水性分散液中の制御されたラジカル重合方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
最初はモノマーそして重合後はポリマーが分散される連続的な分散相として水を使用する重合方法は、ポリマーを製造（水性分散重合）するために広く使用される。主に、水及び水不溶性モノマー、乳化剤及び／又は保護コロイド及び適する開始剤系は、モノマー膨張ミセル系（ｍｏｎｏｍｅｒ ｓｗｏｌｌｅｎ ｍｉｃｅｌｌａｒ ｓｙｓｔｅｍ） 又は安定化されたモノマー液滴を作る周知の方法により混合される。
【０００３】
特に興味あることは、通常、水溶性開始剤系が使用される乳化重合である。
【０００４】
モノマーは水相に実質的に不溶性であり、そしてその中で微細に分布された液滴を形成する。例えば、ドデシル硫酸ナトリウムのような分散剤の添加は、このような安定な液滴及びミセルを得るため多くの場合に必要である。分散剤の例は、例えば、１９７５年にヴァインハイムの化学出版社から出版された“ウルマン工業化学大辞典”の第４版第１０巻第４４９頁に記載されている。
【０００５】
この分野の現況にて、幾つかの変形、例えば乳化剤なしの乳化重合，ミニ乳化重合及びミクロ乳化重合が知られている。これらの変形は、特に分子量，ポリマー粒径及びそれらの分布において異なるポリマー生成物を与える乳化剤及び開始剤の種類と量の変化を特徴とする。
【０００６】
ラジカル重合方法により製造されるポリマー又はコポリマーは本質的に、広い分子量分布又は、通常、ほぼ４よりも大きい多分散性を有している。これに対する一つの理由は、大部分のフリーラジカル開始剤は数分ないし多時間の範囲の比較的長い半減期を有し、従って、ポリマー鎖は同時に全て開始されず、そして開始剤は重合過程の間何時でも種々の長さの成長する鎖を提供するということである。他の理由は、フリーラジカル法における成長鎖は、共に不可逆性の鎖末端停止反応過程である結合及び不均化として知られる方法で互いに反応し得るということである。そうすることにより、異なる長さの鎖は反応過程の異なる時に末端停止され、非常に小さいものから非常に大きいものまで広範に変動するポリマー鎖からなり、従って広い多分散性を有する樹脂を生じさせる。フリーラジカル重合方法が狭い分子量分布を作るために使用される時、全てのポリマー鎖はほぼ同時に開始されなければならず、そして結合過程又は不均化過程による成長ポリマー鎖の末端停止は避けられなければならない。
【０００７】
多分散性を減少させ且つ慣用のラジカル重合の不利益を避けるための方法は、１９８６年４月８日に発行されたアメリカ合衆国特許第４５８１４２９号の明細書においてソロモン（Ｓｏｌｏｍｏｎ） らにより既に述べられており、ここでは、短鎖又はブロックコポリマー及びグラフトコポリマーを包含する、オリゴマー状ホモポリマー及びコポリマーを製造するためにポリマー鎖の成長を制御するフリーラジカル重合方法が開示されている。この方法は、式（一部分を示す）Ｒ’Ｒ”Ｎ−Ｏ−Ｘ（式中、Ｘは、不飽和モノマーを重合させることが可能なフリーラジカル種を表わす。）を有する開始剤を用いる。この反応は典型的には、低い転換率を有する。特に言及される、ラジカルＲ’Ｒ”Ｎ−Ｏ・群は、１，１，３，３−テトラエチルイソインドリン，１，１，３，３−テトラプロピルイソインドリン，２，２，６，６−テトラメチルピペリジン，２，２，５，５−テトラメチルピロリジン又はジ第三ブチルアミンから誘導される。
【０００８】
国際特許願第９９／００４２６号の明細書中で、ニトロキシル基の存在下におけるエチレン性不飽和モノマーの乳化重合が詳細に述べられており、モノマー液滴は５００ｎｍ以下の寸法を有すると指摘している。
【０００９】
最近、ヨーロッパ特許第９７０９７３号の明細書中で、安定なフリーラジカルの存在下における乳化重合が述べられており、安定なフリーラジカルの水への溶解度は２５℃で少なくとも０．１ｇ／Ｌであると指摘している。加えて、国際特許願第９９／１１６７４号の明細書中で、水性媒体へのニトロキシル基のモル溶解度の要求は、２５℃で１ｂａｒ において、少なくとも１０−６ｍｏｌ ／ｋｇ及び最も好ましくは少なくとも１０−１ｍｏｌ ／ｋｇであると述べられている。
【００１０】
本発明において、ニトロキシル基の最も重要な性質は水への良好な溶解度ではなく、ニトロキシル基のｌｏｇ ｐ 値に反映されるように、むしろ水とモノマーとの間の分配平衡であることが見出された。水への溶解度とモノマー液滴への溶解度との間の正しい釣り合いは、多分散性，重合速度及び収率の面での有効性に強く影響する。
【００１１】
分配係数ｌｏｇ ｐ （オクタノール／水）は、例えば、化学物質の環境に対する影響を計る際に広く使用されるパラメーターである。その計算は、ダブリュ．エム．メイラン（Ｗ．Ｍ．Ｍｅｙｌａｎ），ピー．エイチ．ハワード（Ｐ．Ｈ．Ｈｏｗａｒｄ）により、１９９５年のジャーナル・オブ・ファーマシューティカル・サイエンシズの第８４号第８３〜９２頁に述べられている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の一つの目的は、少なくとも１種のエチレン性不飽和モノマー又はオリゴマーの水性分散液中でのフリーラジカル重合によるオリゴマー，コオリゴマー，ポリマー又はコポリマー（ブロック又はランダム）の製造方法であって、
分散相中にモノマーを有する水性分散液を形成し、そして
ａ）少なくとも１種の安定な遊離ニトロキシル基であって、−０．５ないし７．５のｌｏｇ ｐ （オクタノール／水）を有し、且つ次式（Ａ），（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ），（Ｅ），（Ｆ），（Ｇ），（Ｈ）又は（Ｉ）：
【化３】
2004509988.tif 000002
【化４】
2004509988.tif 000003
（式中、
Ｒは水素原子、中断されていない又は１個若しくはそれより多くの酸素原子により中断された炭素原子数１ないし１８のアルキル基、シアノエチル基、ベンゾイル基、グリシジル基、２個ないし１８個の炭素原子を有する脂肪族カルボン酸の一価基、７個ないし１５個の炭素原子を有する脂環式カルボン酸の一価基又は３個ないし５個の炭素原子を有するα，β−不飽和カルボン酸の一価基或いは７個ないし１５個の炭素原子を有する芳香族カルボン酸の一価基を表わし、
Ｒ１０１ は炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、炭素原子数７又は８のアルアルキル基、炭素原子数２ないし１８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基又はベンゾイル基を表わし、
Ｒ１０２ は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、非置換又はシアノ基，カルボニル基若しくはカルバミド基により置換された炭素原子数２ないし８のアルケニル基を表わすか、或いはグリシジル基、式−ＣＨ２ ＣＨ（ＯＨ）−Ｚ又は式−ＣＯ−Ｚ又は式−ＣＯＮＨ−Ｚ（これらの式中、Ｚは水素原子、メチル基又はフェニル基を表わす。）で表わされる基を表わし、
Ｇ６ は水素原子を表わし、そして
Ｇ５ は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、そして
Ｇ１ 及びＧ３ はメチル基を表わし、そして
Ｇ２ 及びＧ４ はエチル基又はプロピル基を表わすか、又は
Ｇ１ 及びＧ２ はメチル基を表わし、そして
Ｇ３ 及びＧ４ はエチル基又はプロピル基を表わし、
Ｒ１ ，Ｒ２ ，Ｒ３ 及びＲ４ は互いに独立して炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数３ないし１８のアルキニル基；ＯＨ基，ハロゲン原子又は基−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ５ により置換された炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数３ないし１８のアルキニル基；少なくとも１個の酸素原子及び／又はＮＲ５ 基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基又は炭素原子数６ないし１０のアリール基を表わし、或いはＲ１ とＲ２ 及び／又はＲ３ とＲ４ とは結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基を形成し、
Ｒ５ ，Ｒ６ 及びＲ７ は独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基又は炭素原子数６ないし１０のアリール基を表わし、
Ｒ８ は水素原子、ＯＨ基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数３ないし１８のアルキニル基；１個又はそれより多くのＯＨ基，ハロゲン原子又は基−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ５ により置換された炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数３ないし１８のアルキニル基；少なくとも１個の酸素原子及び／又はＮＲ５ 基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基又は炭素原子数６ないし１０のアリール基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数５ないし１０のヘテロアリール基、−Ｃ（Ｏ）−炭素原子数１ないし１８のアルキル基、−Ｏ−炭素原子数１ないし１８のアルキル基又は−ＣＯＯ−炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わし、そして
Ｒ９ ，Ｒ１０，Ｒ１１及びＲ１２は独立して水素原子、フェニル基又は炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表わす。）で表わされる化合物からなる基から選択される少なくとも１個の安定した遊離ニトロキシル基、並びに
ｂ）フリーラジカル開始剤
の存在下で高められた温度でモノマー又はモノマー／オリゴマーを（共）重合することからなる方法である。
【００１３】
種々の置換基におけるアルキル基は直鎖状又は分岐鎖状であってよい。１個ないし１８個の炭素原子を含有するアルキル基の例はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、第三オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基及びオクタデシル基である。
【００１４】
３個ないし１８個の炭素原子を持つアルケニル基は、例えば、プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−２，４−ペンタジエニル基、３−メチル−２−ブテニル基、ｎ−２−オクテニル基、ｎ−２−ドデセニル基、イソドデセニル基、オレイル基、ｎ−２−オクタデセニル基又はｎ−４−オクタデセニル基のような直鎖状又は分岐鎖状の基である。好ましいのは３個ないし１２個の炭素原子、特に好ましいのは３個ないし６個の炭素原子を持つアルケニル基である。
【００１５】
３個ないし１８個の炭素原子を持つアルキニル基は、例えば、プロピニル基（−ＣＨ２ ≡ＣＨ）、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ｎ−２−オクチニル基又はｎ−２−オクタデシニル基のような直鎖状又は分岐鎖状の基である。好ましいものは３個ないし１２個、特に好ましくは３個ないし６個の炭素原子を持つアルキニル基である。
【００１６】
ヒドロキシ置換されたアルキル基の例は、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基又はヒドロキシヘキシル基である。
【００１７】
ハロゲン置換されたアルキル基の例は、ジクロロプロピル基、モノブロモブチル基又はトリクロロヘキシル基である。
【００１８】
少なくとも１個の酸素原子により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基は、例えば、−ＣＨ２ −ＣＨ２ −Ｏ−ＣＨ２ −ＣＨ３ 、−ＣＨ２ −ＣＨ２ −Ｏ−ＣＨ３ 又は−ＣＨ２ −ＣＨ２ −Ｏ−ＣＨ２ −ＣＨ２ −ＣＨ２ −Ｏ−ＣＨ２ −ＣＨ３ である。それは好ましくは、ポリエチレングリコールから誘導される。一般的な記載は−（（ＣＨ２ ）ａ −Ｏ）ｂ −Ｈ／ＣＨ３ （式中、ａは１ないし６の数を表わし、そしてｂは２ないし１０の数を表わす。）である。
【００１９】
少なくとも１個のＮＲ５ 基により中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基は、一般的に−（（ＣＨ２ ）ａ −ＮＲ５ ）ｂ −Ｈ／ＣＨ３ （式中、ａ，ｂ及びＲ５ は、上記において定義されたものと同じ意味を表わす。）のように記載され得る。
【００２０】
炭素原子数３ないし１２のシクロアルキル基は典型的には、シクロプロピル基、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基又はトリメチルシクロヘキシル基である。
【００２１】
炭素原子数６ないし１０のアリール基は、例えば、フェニル基又はナフチル基であるが、しかしまた、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基で置換されたフェニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子又はニトロ基で置換されたフェニル基も含まれる。アルキル基で置換されたフェニル基の例は、エチルベンゼン基、トルエン基、キシレン基及びその異性体基、メシチレン基又はイソプロピルベンゼン基である。ハロゲン原子で置換されたフェニル基の例は、例えば、ジクロロベンゼン基又はブロモベンゼン基である。
【００２２】
アルコキシ置換基は典型的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基又はブトキシ基及びそれらの対応する異性体基である。
【００２３】
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基はベンジル基、フェニルエチル基又はフェニルプロピル基である。
【００２４】
炭素原子数５ないし１０のヘテロアリール基は、例えば、ピロール基、ピラゾール基、イミダゾール基、２，４−ジメチルピロール基、１−メチルピロール基、チオフェン基、フラン基、フルフラール基、インドール基、クマロン基、オキサゾール基、チアゾール基、イソキサゾール基、イソチアゾール基、トリアゾール基、ピリジン基、α−ピコリン基、ピリダジン基、ピラジン基又はピリミジン基である。
【００２５】
Ｒがカルボン酸の一価基を表わす場合、それは、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレロイル基、カプロイル基、ステアロイル基、ラウロイル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ベンゾイル基、シンナモイル基又はβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル基である。
【００２６】
炭素原子数１ないし１８のアルカノイル基は、例えば、ホルミル基、プロピオニル基、ブチリル基、オクタノイル基、ドデカノイル基、しかし好ましくはアセチル基であり、そして炭素原子数３ないし５のアルケノイル基は特にアクリロイル基である。
【００２７】
上記化合物及びその製造方法は、英国特許第２３３５１９０号及び英国特許第２３４２６４９号の各明細書に記載されている。
【００２８】
好ましい方法は、前記式（Ａ），（Ｂ）及び（Ｃ）中、
Ｒが水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、シアノエチル基、ベンゾイル基、グリシジル基、脂肪族カルボン酸の一価基を表わし、
Ｒ１０１ が炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数７又は８のアルアルキル基、炭素原子数２ないし１８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし５のアルケノイル基又はベンゾイル基を表わし、
Ｒ１０２ が炭素原子数１ないし１８のアルキル基、グリシジル基、式−ＣＨ２ ＣＨ（ＯＨ）−Ｚ又は式−ＣＯ−Ｚ（これらの式中、Ｚは水素原子、メチル基又はフェニル基を表わす。）で表わされる基を表わす方法である。
【００２９】
別の好ましい方法は、前記式（Ｄ），（Ｅ），（Ｆ），（Ｇ），（Ｈ）及び（Ｉ）中、Ｒ１ ，Ｒ２ ，Ｒ３ 及びＲ４ の少なくとも二つはエチル基、プロピル基又はブチル基を表わし、そして残りはメチル基を表わすか、或いはＲ１ とＲ２ 又はＲ３ とＲ４ とが結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数５又は６のシクロアルキル基を形成し、そして残りの置換基はエチル基、プロピル基又はブチル基を表わす方法である。
【００３０】
とりわけ特に適する化合物を下記表に示す。
【表１】
2004509988.tif 000004
【表２】
2004509988.tif 000005
【表３】
2004509988.tif 000006
【表４】
2004509988.tif 000007
【表５】
2004509988.tif 000008
【００３１】
好ましくは、ｌｏｇ ｐ は０ないし５、そしてより好ましくは１ないし５である。
【００３２】
好ましくは、成分ｂ）のフリーラジカル開始剤はビス−アゾ化合物、過酸化物又は過酸化水素である。
【００３３】
とりわけ好ましいラジカル源は２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（イソブチルアミド）ジハイドレート、２−フェニルアゾ−２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、２−（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロパン）、２，２’−アゾビス（Ｎ，Ｎ−ジメチレンイソブチラミジン）、遊離塩基又は塩化水素、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）エチル］プロピオンアミド｝又は２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、アセチルシクロヘキサンスルホニルペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシジカルボネート、第三アミルペルネオデカノエート、第三ブチルペルネオデカノエート、第三ブチルペルピバレート、第三アミルペルピバレート、ビス（２，４’−ジクロロベンゾイル）ペルオキシド、ジイソノナノイルペルオキシド、ジデカノイルペルオキシド、ジオクタノイルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、ビス（２−メチルベンゾイル）ペルオキシド、二コハク酸ペルオキシド、ジアセチルペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、第三ブチル−ペル２−エチルヘキサノエート、ビス（４−クロロベンゾイル）ペルオキシド、第三ブチルペルイソブチレート、第三ブチルペルマレイネート、１，１−ビス（第三ブチルペルオキシ）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（第三ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、第三ブチルペルオキシイソプロピルカルボネート、第三ブチルペルイソノナオエート、２，５−ジメチルヘキサン２，５−ジベンゾエート、第三ブチルペルアセテート、第三アミルペルベンゾエート、第三ブチルペルベンゾエート、２，２−ビス（第三ブチルペルオキシ）ブタン、２，２−ビス（第三ブチルペルオキシ）プロパン、ジクミルペルオキシド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジ第三ブチルペルオキシド、３−第三ブチルペルオキシ３−フェニルフタリド、ジ第三アミルペルオキシド、α，α’−ビス（第三ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン、３，５−ビス（第三ブチルペルオキシ）−３，５−ジメチル−１，２−ジオキソラン、ジ第三ブチルペルオキシド、２，５−ジメチルヘキシン−２，５−ジ第三ブチルペルオキシド、３，３，６，６，９，９−ヘキサメチル−１，２，４，５−テトラオキサシクロノナン、ｐ−メンタンヒドロペルオキシド、ピナンヒドロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンモノ−α−ヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド又は第三ブチルヒドロペルオキシドである。
【００３４】
前記フリーラジカル開始剤は、好ましくは、２０℃で少なくとも１ｇ／Ｌの水への溶解度を有する。
【００３５】
最も好ましいものは下記の化合物であり、これらは全て市販されている。
【表６】
2004509988.tif 000009
【００３６】
Ｆｅ化合物又はＣｏ化合物をペルオキソ塩又はビスルフィット塩若しくはヒドロスルフィット塩と組み合わせて使用することも可能である。これらの組み合わせはレドックス系として知られている。
【００３７】
好ましくは、エチレン性不飽和モノマーは、スチレン、置換スチレン、共役ジエン、アクロレイン、酢酸ビニル、ビニルピロリドン、ビニルイミダゾール、無水マレイン酸、（アルキル）アクリル酸無水物、（アルキル）アクリル酸エステル、（メタ）アクリロニトリル、（アルキル）アクリルアミドからなる群から選択される。
【００３８】
より好ましくは、前記エチレン性不飽和モノマーはスチレン、アクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリル酸エステル、メタクリルアミド、メタクリロニトリルからなる群から選択される。
【００３９】
好ましいエチレン性不飽和モノマーは、式ＣＨ２ ＝Ｃ（Ｒａ ）−（Ｃ＝Ｚ）−Ｒｂ （式中、Ｒａ は水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、Ｒｂ はＮＨ２ 基、グリシジル基、非置換の炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、少なくとも１個の窒素原子及び／又は酸素原子により中断された炭素原子数２ないし１００のアルコキシ基、或いはヒドロキシ置換された炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、非置換の炭素原子数１ないし１８のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし１８のアルキル）アミノ基、ヒドロキシ置換された炭素原子数１ないし１８のアルキルアミノ基又はヒドロキシ置換されたジ（炭素原子数１ないし１８のアルキル）アミノ基又は−Ｏ−ＣＨ２ −ＣＨ２ −Ｎ（ＣＨ３ ）２ 基を表わし、Ｚは酸素原子又は硫黄原子を表わす。）に一致する。
【００４０】
少なくとも１個の酸素原子により中断された炭素原子数２ないし１００のアルコキシ基としてのＲｂ の例は、次式：
【化５】
2004509988.tif 000010
（式中、Ｒｃ は炭素原子数１ないし２５のアルキル基、フェニル基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基により置換されたフェニル基を表わし、Ｒｄ は水素原子又はメチル基を表わし、そしてｖは１ないし５０の数である。）で表わされる基である。これらのモノマーは例えば、対応するアルコキシル化されたアルコール又はフェノールのアクリル化により非イオン性界面活性剤から誘導される。繰り返し単位はエチレンオキシド、プロピレンオキシド又は両方の混合物から誘導されてよい。
【００４１】
適するアクリレートモノマー又はメタクリレートモノマーの別の例を以下に示す。
【００４２】
別のアクリレートモノマーは次式：
【化６】
2004509988.tif 000011
【化７】
2004509988.tif 000012
で表わされるモノマーである。
【００４３】
アクリレート以外の適するモノマーの例は次式：
【化８】
2004509988.tif 000013
で表わされるモノマーである。
【００４４】
好ましくは、Ｒａ 水素原子又はメチル基を表わし、Ｒｂ はＮＨ２ 基、グリシジル基、非置換の又はヒドロキシ置換された炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、非置換の炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、ヒドロキシ置換された炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基又はヒドロキシ置換されたジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基を表わし、そしてＺは酸素原子を表わす。
【００４５】
好ましくは水相は、全混合物に基づいて、２５ないし９５質量％、より好ましくは４０ないし８０質量％、そして最も好ましくは４５ないし７５質量％である。
【００４６】
前記全混合物は水、少なくとも１種のモノマー、上述の調整剤及び開始剤並びに多くの場合、少なくとも１種の界面活性剤及び／又は有機溶剤を含有する。
【００４７】
所望により、他の水混和性溶剤は通常、水分含有率に基づいて、１０質量％未満であってよい。例えば、本発明において有用な補助溶剤は、脂肪族アルコール、グリコール、エーテル、グリコールエーテル、ピロリジン、Ｎ−アルキルピロリジノン、Ｎ−アルキルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、アミド、カルボン酸及びその塩、エステル、有機スルフィド、スルホキシド、スルホン、アルコール誘導体、ブチルカルビトール又はセロソルブのようなヒドロキシエチル誘導体、アミノアルコール、ケトン等、並びにそれらの誘導体及びそれらの混合物からなる群から選択されてよい。特別な例は、メタノール、エタノール、プロパノール、ジオキサン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセロール、ジプロピレングリコール、テトラヒドロフラン、及び他の水溶性又は水混和性物質、並びにそれらの混合物を包含する。
【００４８】
好ましいものは、水、水アルコール混合物、水エチレングリコール混合物又は水プロピレングリコール混合物、水アセトン、水テトラヒドロフラン、或いは水ジメチルホルムアミド混合物である。
【００４９】
好ましくは、得られるポリマー分散液の固体含有率は１５〜６０質量％である。
【００５０】
好ましくは、成分ａ）の前記ニトロキシル基は、前記モノマー又はモノマー混合物に基づいて、０．００１モル％ないし２０モル％の量存在する。
【００５１】
モノマー混合物の場合、平均分子量が計算される。
【００５２】
好ましくは、前記フリーラジカル開始剤は、前記モノマー又はモノマー混合物に基づいて、０．００１モル％ないし２０モル％、より好ましくは０．１モル％ないし１０モル％、そして最も好ましくは０．２モル％ないし５モル％の量存在する。
【００５３】
好ましくは、フリーラジカル開始剤に対する安定な遊離ニトロキシル基のモル比は２０：１ないし１：２、より好ましくは１０：１ないし１：２である。
【００５４】
重合のための温度は好ましくは、６０℃ないし１８０℃、より好ましくは８０℃ないし１４０℃、そして最も好ましくは８０℃ないし１１０℃である。
【００５５】
反応中の圧力は適用される温度に依存し、そして好ましくは０．１ｂａｒ ないし２０ｂａｒ 、より好ましくは１ｂａｒ ないし１０ｂａｒ である。
【００５６】
反応混合物はまた、ｐＨ値を好ましくは４．５ないし９に調節し且つ維持するための緩衝剤を含有してよい。ホスフェート緩衝剤又はクエン酸緩衝剤が好ましい。
【００５７】
前記方法は、ブロックコポリマーを製造するために特に有用である。
【００５８】
ブロックコポリマーは、例えば、ポリスチレンとポリアクリレート（例えば、スチレン−コ−アクリレート）又はポリ（スチレン−コ−アクリレート−コ−スチレン）とのブロックコポリマーである。それらは接着剤として又はポリマーブレンド用の相溶剤として又はポリマー強化剤として有用である。ポリ（メチルメタクリレート−コ−アクリレート）ジブロックコポリマー又はポリ（メチルアクリレート−コ−アクリレート−コ−メタクリレート）トリブロックコポリマーは、被覆系用分散剤として、被覆添加剤（例えば、レオロジー剤、相溶剤、反応希釈剤）として又は被覆の際の樹脂成分（例えば、ハイソリッドペイント）として有用である。スチレン、（メタ）アクリレート及び／又はアクリロニトリルは、プラスチック、エラストマー及び接着剤のために有用である。
【００５９】
更に、ブロックが極性モノマー及び非極性モノマーが交互にある本発明のブロックコポリマーは、高度に均質なポリマーブレンドを製造するための両親媒性界面活性剤又は分散剤として多くの用途で有用である。
【００６０】
特に乳化重合は、特別な形態を持つポリマー粒子を造るためにとりわけ適している。例えば、コア／シェル構造は、重合中に連続的にモノマーを変化させることにより得ることができる。これらの特別な粒子は、プラスチックの耐衝撃性を改良するために有用である。しばしば、これらのコア／シェル構造物は、乳化重合中にポリマー粒子内に形成される少なくとも２種のポリマーのポリマーブレンドである。連続的なモノマー供給中に制御されたフリーラジカル重合を適用することにより、ポリマー粒子内の異種ポリマーの相溶効果を改良するブロックポリマーが形成される。更に、コア／シェル構造物は、不飽和性を含むポリマー粒子、例えばブタジエン（コ）ポリマー上に乳化重合中に異種モノマーをグラフトすることにより、合成することができる。このグラフト過程中に制御されたフリーラジカル重合を適用することにより、均質なグラフトアーム長を持つグラフトポリマー及び新規グラフトポリマーさえも入手可能である。
【００６１】
従って、ブロックポリマー及びグラフトポリマーの形成は本発明の目的である。
【００６２】
本発明の（コ）ポリマーは、１０００ないし４０００００ｇ／ｍｏｌ 、好ましくは２０００ないし２５００００ｇ／ｍｏｌ 、より好ましくは２０００ないし２０００００ｇ／ｍｏｌ の数平均分子量を有してよい。前記数平均分子量は、サイズ・イクスクルージョン・クロマトグラフィー（ｓｉｚｅ ｅｘｃｌｕｓｉｏｎ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ；ＳＥＣ）、マトリックス・アシステッド・レーザー・デソープション／イオナイゼーション質量分析（ｍａｔｒｉｘ ａｓｓｉｓｔｅｄ ｌａｓｅｒ ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ／ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ ｍａｓｓ ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ；ＭＡＬＤＩ−ＭＳ）、或いは、開始剤がモノマー（類）と容易に区別することができる基を持つ場合、ＮＭＲ分光法又は他の慣用の方法により決定され得る。
【００６３】
本発明のポリマー又はコポリマーは好ましくは、１．１ないし２、より好ましくは１．２ないし１．８の多分散性を有している。
【００６４】
分散されたポリマー粒子の平均粒径は好ましくは、２５ｎｍないし１０００ｎｍ、より好ましくは２００ｎｍないし７００ｎｍである。粒径は例えば、高速遠心により又はホトン・コレーション（ｐｈｏｔｏｎ ｃｏｒｒｅｌａｔｉｏｎ）分光法により測定され得る。
【００６５】
粒径分布は単様又は二様であってよい。
【００６６】
乳化重合方法自体は既知であり、そして例えば、国際特許願第９９／００４２６号の明細書中又は国際特許願第００／５０４８０号の明細書中に記載されている。それは、バッチ法又は連続若しくは半連続法として行い得る。
【００６７】
開始剤及び／又は調整剤は例えば、反応の初期に添加し得るが、しかしながら、反応初期及び反応中に一部分ずつ又は連続して添加することも可能である。
【００６８】
添加し得る適する界面活性剤又は表面活性化合物は、この分野で既知である。典型的に使用される量は、モノマー又はモノマー類に基づいて、０．０１質量％ないし１０質量％の範囲である。
【００６９】
適する界面活性剤は、ポリビニルアルコール、澱粉、セルロース誘導体又はビニルピロリドンを含有するコポリマーのような保護コロイドである。別の例は、１９６１年にシュツットガルトのゲー．ティーム出版から出版された、ホウベン−ヴェイル（Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ） 著“有機化学の方法（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）”第ＸＩＶ／１ 版の第４１１〜４２０頁に記載されている。
【００７０】
本発明において有用な典型的な界面活性剤は、非イオン性，カチオン性又はアニオン性タイプのものである。
【００７１】
アニオン性界面活性剤の例は、炭素原子数１２ないし１８のアルキルスルホン酸，コハク酸のジアルキルエステル又はエトキシ化されたアルカノールの硫酸ハーフエステルのアルカリ塩又はアンモニウム塩である。これらの化合物は、例えばアメリカ合衆国特許第４２６９７４９号明細書から既知であり、そしてダウケミカル社製の商標名ダウファックス（Ｄｏｗｆａｘ）２４１におけるような多くの商品がある。
【００７２】
非イオン性界面活性剤は、例えば、３ないし５０のエトキシ化度及び炭素原子数４ないし９の範囲内のアルキル基を持つエトキシ化されたフェノール（モノ，ジ，トリ）、エトキシ化された長鎖アルコール又はポリエチレンオキシド／ポリプロピレンオキシドブロックコポリマーのような脂肪族又は芳香脂肪族化合物である。
【００７３】
乳化重合は、シード・フリー方法又はシードラテックスもまた同一場所で製造され得るシード−ラテックス方法として行い得る。このような方法は既知であり、そして例えば、ヨーロッパ特許公開第６１４９２２号公報の明細書中に、又はヨーロッパ特許公開第５６７８１２号公報の明細書中に記載されている。
【００７４】
本発明はまた、新規なブロック，マルチ−ブロック，スター，グラジエント，ランダム，超分岐された及び樹枝状コポリマー、並びにグラフトコポリマーも包含する。
【００７５】
本発明により製造されたポリマーは、下記の用途のために有用である。
【００７６】
接着剤、洗剤、分散剤、乳化剤、界面活性剤、消泡剤、接着促進剤、腐食防止剤、粘度改良剤、潤滑剤、レオロジー改良剤、粘着付与剤、架橋剤、紙処理、水処理、電子材料、ペイント、コーティング、写真、インク材料、画像化材料、超吸収剤、化粧品、育毛製品、防腐剤、殺菌剤又はアスファルト，皮革，織布，セラミック及び材木のための変性剤。
【００７７】
本発明の重合は“リビング”重合であるので、随時開始しそして一部停止することができる。更に、ポリマー生成物は、リビング物質として重合の継続を可能とする官能性アルコキシアミン基を保持している。従って、本発明の一態様において、一旦第一モノマーが開始重合段階において消費されると、次いで、第二重合段階において成長ポリマー鎖上に第二ブロックを形成するために、第二モノマーを添加することができる。それ故、マルチ−ブロックコポリマーを製造するために、同一又は異なるモノマー（類）と更なる重合を行うことが可能である。更に、これはラジカル重合なので、ブロックは本質的に如何なる順序にても製造することができる。ブロックコポリマーを製造するために制約を受けることはなく、その後の重合段階は、イオン重合の場合のように、最も不安定なポリマー中間体から最も安定なポリマー中間体へと進まなくてもよい。従って、ポリアクリロニトリル又はポリ（メタ）アクリレートブロックが第一に製造され、その後、スチレン又はブタジエンがそれに結合するなどのマルチ−ブロックコポリマーを製造することが可能である。
【００７８】
下記の実施例により本発明を説明する。
【００７９】
一般
ポリマーはゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）（ヒューレット・パッカードＨＰ１０９０ＬＣ，カラムＰＳＳ１，長さ６０ｃｍ，テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いる溶出，速度１ｍＬ／分，濃度ＴＨＦ１ｍＬ中１０ｍｇポリマー，スチレンを用いるキャリブレーションを伴う。）により特徴付けられる。
【００８０】
ｌｏｇ ｐ は下記のプログラムを使用して計算される。
ニューヨーク１３２１２，ノース・シラキュースのシラキュース・リサーチ・コーポレーション（Ｓｙｒａｃｕｓｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ） 製のログコウント（ＬＯＧＫＯＷＮＴ）プログラム（ウィンドウズ（Ｒ）ＮＴコンソール・アプリケーション）
【００８１】
ニトロキシル
ニトロキシルは英国特許第２３３５１９０号明細書及び英国特許第２３４２６４９号明細書の記載に基づいて製造される。
【００８２】
開始剤
使用される開始剤はアルドリッチ（Ａｌｄｒｉｃｈ） 社及び和光化学社の商品である。
【００８３】
乳化重合
実施例１〜１０は、スチレン４０ｇ，水３２０ｇ及びドデシル硫酸ナトリウム１．８ｇを使用して行われる。この混合物はアルゴンを用いて脱気される。
【００８４】
実施例１〜１０において、開始剤は和光ＶＡ０８６（市販のアゾ−開始剤）０．３３２２ｇ又はカリウムペルオキソジスルフェート（ＫＰＳ）０．３１１５ｇであり、共に付加的な水２０ｇに溶解され、そしてアルゴンを用いて脱気される。
【００８５】
付加的な水２０ｇに溶解され又は付加的なスチレン２０ｇに溶解され、アルゴンを用いて脱気された、下記表１に示すニトロキシル基を添加する。
【００８６】
１００℃における重合
１００℃における重合は、還流コンデンサー，滴下ロートを備え、窒素バルーン及び撹拌機を備えた三つ口フラスコ中で行われる。
調整剤溶液及びスチレン・水混合物は、３２０回転／分の撹拌下、窒素雰囲気下で、前記三つ口フラスコに注入される。この混合物を４５分１００℃に加熱し、そして開始剤溶液を２分以内に滴下して添加する。反応混合物を２３時間１００℃に保持し、そして３２０回転／分で撹拌する。この反応混合物を冷却後、残渣を真空下で乾燥し、秤量して収量を決定する。ポリマーのキャラクタリゼーションは、テトラヒドロフラン中のポリマーの溶液から行われる。
【００８７】
１２０℃における重合
１２０℃における重合は、還流コンデンサー，加圧及び真空ユニット並びに撹拌機を備えた二重壁三つ口フラスコ中で行われる。
重合は、下記の相違点以外は上述の方法と同様の方法にて行われる。
撹拌速度：６００回転／分；窒素圧：５ｂａｒ ；温度：１２０℃；及び反応時間９時間。
重合試験を下記表１に示す。
【表７】
2004509988.tif 000014
【表８】
2004509988.tif 000015
【表９】
2004509988.tif 000016
【００８８】
結果を下記表２に示す。
【表１０】
2004509988.tif 000017
【表１１】
2004509988.tif 000018
【００８９】
実施例Ｂ１１及びＢ１２：開始剤の変更
乳化重合は、開始剤の種類及び量を変更すること以外は一般的な方法の中で記載された方法と同様の方法で行われる。更に、ニトロキシル化合物番号１０２の量を変更する。実施例を下記表３に要約する。
【表１２】
2004509988.tif 000019
【００９０】
全ての重合は１００℃にて２３時間行われる。結果を下記表４に示す。
【表１３】
2004509988.tif 000020
【００９１】
比較重合試験を下記表５及び表６に示す。
【表１４】
2004509988.tif 000021
比較例の結果を下記表６に示す。
【表１５】
2004509988.tif 000022
比較例から、ＰＤは充分に２を越え、基本的に重合の抑制は存在しないことは明らかである。
【００９２】
実施例Ｂ１３：ｎ−ブチルアクリレートの乳化重合
下記の製剤は、一般的な方法の中で記載された方法と同様の方法で、１００℃にて２３時間乳化重合される。
ｎ−ブチルアクリレート６０ｇ
水３４４ｇ
ドデシル硫酸ナトリウム１．８ｇ
カリウムペルオキソジスルフェート（ＫＰＳ）０．２５３７ｇ
化合物番号１０２：０．５０９９ｇ
収率：６％
ＧＰＣ−結果：　　Ｍｎ：８２０ｇ／ｍｏｌ
Ｍｗ：９３０ｇ／ｍｏｌ
ＰＤ：１．１
【００９３】
実施例Ｂ１４：ｎ−ブチルアクリレートと商標名ゾニル（Ｚｏｎｙｌ） ＴＡ−Ｍとの乳化共重合
下記の製剤は、一般的な方法の中で記載された方法と同様の方法で、１２０℃にて９時間乳化重合される。
ｎ−ブチルアクリレート４０ｇ
ゾニーＴＡ−Ｍ（市販のフルオロアクリレート組成物；ＣＡＳ ＲＮ １３２３２４−９３−７）２０ｇ
水３４０ｇ
ドデシル硫酸ナトリウム１．８ｇ
ＶＡ０８６：０．１０８０ｇ
化合物番号１０３：０．１５８７ｇ
収率：３４％
ＧＰＣ−結果：　　Ｍｎ：１５，２００ｇ／ｍｏｌ
Ｍｗ：１７，５００ｇ／ｍｏｌ
ＰＤ：１．２
【００９４】
実施例Ｂ１５：スチレンとアクリロニトリルとの乳化共重合
下記の製剤は、一般的な方法の中で記載された方法と同様の方法で、１００℃にて２３時間乳化重合される。
スチレン６０ｇ
アクリロニトリル２０ｇ
水３２０ｇ
ドデシル硫酸ナトリウム１．８ｇ
カリウムペルオキソジスルフェート（ＫＰＳ）０．５１６９ｇ
化合物番号１０２，０．６４１３ｇ
【００９５】
アクリロニトリルは、開始剤の添加３０分後に添加される。
収率：５２％
ＧＰＣ−結果：　　Ｍｎ：１７，３００ｇ／ｍｏｌ
Ｍｗ：２４，５００ｇ／ｍｏｌ
ＰＤ：１．４
【００９６】
実施例Ｂ１６：ＰＳ−マクロ開始剤とスチレンとの再開始
実施例Ｂ５の生成物２．５ｇをスチレン２５ｍＬに溶解する。この溶液をアルゴンを用いてパージし、そして１３０℃にて２４時間加熱する。生成物をメタノール中で沈殿させ、そして乾燥させる。
収率：９０％
ＧＰＣ−結果：　　Ｍｎ：４７，０００ｇ／ｍｏｌ
Ｍｗ：６０，０００ｇ／ｍｏｌ
ＰＤ：１．３
【００９７】
実施例Ｂ１７：ポリスチレン−ブロック−ｎ−ブチルアクリレートの合成
実施例Ｂ５の生成物５ｇをｎ−ブチルアクリレート２５ｇに溶解する。この溶液をアルゴンを用いてパージし、そして１４５℃にて２４時間加熱する。生成物をメタノール中で沈殿させ、そして乾燥させる。
収率：１４％
ＧＰＣ−結果：　　Ｍｎ：１３，０００ｇ／ｍｏｌ
Ｍｗ：１６，５００ｇ／ｍｏｌ
ＰＤ：１．３
【００９８】
実施例Ｂ１８：ＰＳ−マクロ開始剤とスチレンとの再開始
実施例Ｂ９の生成物５ｇをスチレン５０ｍＬに溶解する。この溶液をアルゴンを用いてパージし、そして１３０℃にて２４時間加熱する。生成物をメタノール中で沈殿させ、そして乾燥させる。
収率：７７％
ＧＰＣ−結果：　　Ｍｎ：６９，０００ｇ／ｍｏｌ
Ｍｗ：９９，４００ｇ／ｍｏｌ
ＰＤ：１．４
【００９９】
実施例Ｂ１９：ポリスチレン−ブロック−ｎ−ブチルアクリレートの合成
実施例Ｂ９の生成物５ｇをｎ−ブチルアクリレート２５ｇに溶解する。この溶液をアルゴンを用いてパージし、そして１４５℃にて２４時間加熱する。生成物をメタノール中で沈殿させ、そして乾燥させる。
収率：３８％
ＧＰＣ−結果：　　Ｍｎ：２４，５００ｇ／ｍｏｌ
Ｍｗ：３４，６００ｇ／ｍｏｌ
ＰＤ：１．４
【０１００】
実施例Ｂ２０：エマルジョン中でのポリスチレン−ブロック−ｎ−ブチルアクリレートの合成（１ポット）
下記の製剤は、一般的な方法の中で記載された方法と同様の方法で、１００℃にて３６時間乳化重合される。
スチレン６０ｇ
水３４０ｇ
ドデシル硫酸ナトリウム１．８ｇ
カリウムペルオキソジスルフェート（ＫＰＳ）０．３１２２ｇ
化合物番号１０２：０．６２１１ｇ
【０１０１】
３６時間後、試料を採取し、そしてその分子量分布を測定する。
ＧＰＣ−結果：　　Ｍｎ：１７，９００ｇ／ｍｏｌ
Ｍｗ：２３，６００ｇ／ｍｏｌ
ＰＤ：１．３
【０１０２】
１５分以内にｎ−ブチルアクリレート６０ｇを滴下して添加した後、１００℃にて更に６０時間、乳化重合を持続する。前述の一般的な方法に基づいて生成物を取り出す。
【０１０３】
全体転換率：６３％
ＧＰＣ−結果：　　Ｍｎ：２５，０００ｇ／ｍｏｌ
Ｍｗ：３２，４００ｇ／ｍｏｌ
ＰＤ：１．３
このブロックポリマーは １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ 溶液）により分析され、下記のコモノマー組成を示した。
第一ブロック：　　スチレン１００ｍｏｌ ％
第二ブロック：　　ｎ−ブチルアクリレート６９ｍｏｌ ％，スチレン３１ｍｏｌ ％
【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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