(57)【要約】【課題】潤滑油と特に非常に高品質の油とを製造する改善された柔軟な方法を提供する。【解決手段】２００重量ｐｐｍを超える窒素と５００重量ｐｐｍを超える硫黄とを含有する仕込原料から基油と非常に高品質の中間留分とを製造する方法において、該方法が少なくとも１つの水素化精製段階と、少なくとも１つのゼオライト上での接触脱蝋段階と、少なくとも１つの水素化仕上げ段階とから成る、改善された方法である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２００重量ｐｐｍを超える窒素と５００重量ｐｐｍを超える硫黄とを含み、その少なくとも２０容量％が３４０℃を超える温度で沸騰する仕込原料から油と中間留分とを製造する方法であって、仕込原料が、粗原料の直接蒸留または転換装置により製造される減圧蒸留残油と、水素化分解（クラッキング）残油と、常圧蒸留残油または減圧蒸留残油の脱硫または水素化転換により製造される減圧留出物と、脱アスファルト油と、これらの混合物とから成る群から選ばれる方法において、該方法が下記の段階：
（ａ）３３０〜４５０℃の温度、５〜２５ＭＰａの圧力、０．１〜１０ｈ−１の空間速度で、水素／炭化水素の体積比が１００〜２０００である水素の存在下、および担体と、少なくとも１つの第ＶＩＩＩ族の非貴金属と、少なくとも１つの第ＶＩＢ族の金属と、リン、ホウ素およびケイ素から成る群から選ばれる少なくとも１つのドーピング（ｄｏｐｉｎｇ）元素とを含む無定形触媒の存在下で行われる仕込原料の水素化精製であって、転化率が最大限６０重量％である精製、
（ｂ）段階（ａ）で得られる流出液からのガスおよび１５０℃より低い沸点を有する化合物の分離、次いで１５０℃より低い沸点を有する化合物の分離、
（ｃ）２００〜５００℃の温度、１〜２５ＭＰａの全圧、０．０５〜５０ｈ−１の毎時容積流量、仕込原料１リットル当たり５０〜２０００リットルの水素、および少なくとも１つの水素化−脱水素元素と少なくとも１つの分子篩とを含む触媒の存在下で行われる、段階（ｂ）からの、３４０℃を超える沸点を有する化合物を含有する流出液の少なくとも一部の接触脱蝋、
（ｄ）１８０〜４００℃の温度、１〜２５ＭＰａの圧力、０．０５〜１００ｈ−１の毎時容積流量、仕込原料１リットル当たり５０〜２０００リットルの水素の存在下で、および、少なくとも１つの水素化−脱水素金属と少なくとも１つのハロゲンとを含む無定形触媒の存在下で行われる、段階（ｃ）からの流出液の少なくとも一部の水素化仕上げ、
（ｅ）少なくとも１つの油留分を得るための、段階（ｄ）で得られる流出液の分離、
から成る方法。
【請求項２】
水素化精製触媒が、ＣｏおよびＮｉから選ばれる少なくとも１つの元素と、ＭｏおよびＷから選ばれる少なくとも１つの元素と、Ｐ、ＢおよびＳｉから選ばれる少なくとも１つのドーピング元素とを含有し、該元素が担体上に担持される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
水素化精製触媒が、ドーピング元素として、アルミナをベースとする担体上に担持されたリンとホウ素とを含有する、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
水素化精製触媒が、ドーピング元素として、アルミナをベースとする担体上に担持されたホウ素とケイ素とを含有する、請求項１または２記載の方法。
【請求項５】
触媒がリンも含有する、請求項４記載の方法。
【請求項６】
水素化精製触媒の担体が酸担体である、請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
水素化精製触媒が、第ＶＢ族の元素、第ＶＩＩＡ族の元素および第ＶＩＩＢ族の元素から成る群から選ばれる少なくとも１つの元素も含有する、請求項１〜６のいずれか１項記載の方法。
【請求項８】
水素化精製触媒が、ニオブ、フッ素、マンガンおよびレニウムから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する、請求項７記載の方法。
【請求項９】
段階（ｃ）の分子篩が、フェリエライト、ＮＵ−１０、ＥＵ−１３、ＥＵ−１、ＺＳＭ−４８および同様な構造型のゼオライトから成るゼオライトの群から選ばれる、請求項１〜８のいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
水素化仕上げ触媒が、第ＶＩＩＩ族の少なくとも１つの金属および／または第ＶＩＢ族の少なくとも１つの金属と、ゼオライトを含有しない担体と、第ＶＩＩＡ族の少なくとも１つの元素とを含有する、請求項１〜９のいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
触媒が白金と塩素とフッ素とを含有する、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
水素化精製段階において、３４０℃より低い沸点を有する生成物への転化率が、最大限５０重量％に等しい、請求項１〜１１のいずれか１項記載の方法。
【請求項１３】
段階（ｂ）および／または段階（ｅ）が、気−液分離、次いでストリッピング、続いて減圧蒸留により行われる、請求項１〜１２のいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
段階（ｂ）および／または段階（ｅ）が、気−液分離、次いで常圧蒸留、続いて減圧蒸留により行われる、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
仕込原料が、粗原料の直接蒸留または転換装置により製造される減圧蒸留残油と、水素化分解残油と、常圧蒸留残油または減圧蒸留残油の脱硫または水素化転換からの減圧留出物と、これらの混合物とから成る群から選ばれる、請求項１〜１４のいずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
下記のものを具備する油および中間留分の製造用装置：
−水素化精製触媒を含有し、かつ処理されるべき仕込原料を導入するための少なくとも１つの管（１）を有する水素化精製帯域（２）、
−帯域（２）からの流出液を運ぶ管（３）を有する、ガスの分離の少なくとも１つの手段（４）を具備する分離列（ｔｒａｉｎ）、該手段はガスの除去のための少なくとも１つの管（５）と、１５０℃より低い沸点を有する化合物の分離の少なくとも１つの手段（７）とを有し、該手段（７）は１５０℃より低い温度で沸騰する化合物を含有する留分の除去のための少なくとも１つの管（８）と、低くても１５０℃で沸騰する化合物を含有する流出液の除去のための少なくとも１つの管（９）とを有し、該分離列は該流出液の処理のための少なくとも１つの減圧蒸留塔（１０）を具備し、該塔（１０）は少なくとも１つの油留分の除去のための少なくとも１つの管（１１）を有する、
−脱蝋された流出液の除去のための少なくとも１つの管（１６）を有する、少なくとも１つの油留分の処理のための接触脱蝋帯域（１５）、
−管（１６）からの脱蝋された流出液の処理のための水素化仕上げ帯域（１７）であって、水素化仕上げされた流出液の除去のための少なくとも１つの管（１８）を有するもの、
−水素化仕上げされた流出液を運ぶ少なくとも１つの管（１８）を有する、ガスの分離の少なくとも１つの手段（１９）を具備する最終分離列、該手段（１９）はガスの除去のための少なくとも１つの管（２０）を有する手段と、１５０℃より低い沸点を有する化合物の分離の少なくとも１つの手段（２２）とを有し、該手段（２２）は１５０℃より低い温度で沸騰する化合物を含有する留分の除去のための少なくとも１つの管（２４）と、低くても１５０℃で沸騰する化合物を含有する流出液の除去のための少なくとも１つの管（２５）とを有し、該分離列は該流出液の処理のための少なくとも１つの減圧蒸留塔（２６）を具備し、該塔（２６）は少なくとも１つの油留分の除去のための少なくとも１つの管（２８）を有する。
【請求項１７】
ガスの分離手段（４）（１９）が気−液分離器である、請求項１６記載の装置。
【請求項１８】
１５０℃より低い沸点を有する化合物の分離手段（７）がストリッパーであり、管（９）により除去された、ストリップされた流出液が減圧蒸留塔（１０）に通され、減圧蒸留塔が、少なくとも１つの油留分の除去のための少なくとも１つの管（１１）と、少なくとも１つの中間留分の除去のための少なくとも１つの管（１２）とを有する、請求項１６または１７記載の装置。
【請求項１９】
１５０℃より低い沸点を有する化合物の分離手段（２２）が常圧蒸留区画であり、該区画が、少なくとも１つの中間留分の除去のための少なくとも１つの管（２３）と、少なくとも１つのガソリン留分の除去のための少なくとも１つの管（２４）と、残油の除去のための少なくとも１つの管（２５）とを有し、該残油が、少なくとも１つの管（２８）により除去される少なくとも１つの油留分を分離する減圧蒸留塔（２６）に通される、請求項１６または１７記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明では、３４０℃より高い初留点を有する油留分からの、非常に高品質の、すなわち高い粘度指数（ＶＩ）と、低い芳香族含有量と、優れたＵＶ安定性と、低い流動点とを有する基油を製造する改善された方法について述べるが、この方法は、おそらく、同時に非常に高品質の、すなわち低い芳香族含有量と低い流動点とを有する中間留分（特に軽油および灯油）の製造を伴う。
【０００２】
より正確には、本発明は、ヘテロ原子（例えばＮ、Ｓ、Ｏ等、好ましくは金属を含まない）を含む、すなわち２００重量ｐｐｍを超える窒素と５００重量ｐｐｍを超える硫黄を含む仕込原料から基油と中間留分とを製造する柔軟性のある方法に関する。この方法は、少なくとも１つの水素化精製段階と、少なくとも１つのゼオライト上での接触脱蝋段階と、少なくとも１つの水素化仕上げ段階とから成る。
【０００３】
【従来の技術】
特許文献１には、これらの三段階から成る油の製造法が記載されている。
【０００４】
第一段階は、第ＶＩＩＩ族および／または第ＶＩＢ族およびアルミナまたはシリカ−アルミナ担体の、非貴金属をベースする触媒の存在下での仕込原料の脱窒素と脱硫とを含み、好ましい触媒は、予備成形された担体の含浸により調製される。
【０００５】
ガスのストリッピングの後に得られる流出液は、接触脱蝋段階で、ゼオライトＺＳＭ−５またはＺＳＭ−３５をベースとする触媒またはＳＡＰＯ−型分子篩上で処理され、該触媒は少なくとも１つの水素化触媒金属も含有する。この方法は、芳香族の飽和を達成するために、アルミナ上にＰｔおよびＰｄの酸化物を含む触媒を用いて、またはゼオライトＹをベースとする好ましい触媒を用いて水素化仕上げ段階で終わる。
【０００６】
非特許文献１には油および中間留分の製造方法が記載されている。
【０００７】
これは、高ＶＩ（粘度指数）化合物を生じる脱窒素と、低ＶＩ成分の分解（クラッキング）と、転位（芳香族の飽和、ナフテン環の開環）とを達成する第一水素化分解段階を含む。
【０００８】
この段階は、水素化元素の均一な強い分散と、単一の細孔径分布とを有する共ゲル（ｃｏｇｅｌ）型の触媒の存在下で行われる。このような触媒は、担体の含浸により得られる触媒よりも評判によれば明らかに優れている。触媒ＩＣＲ１０６が一例である。得られる流出液は蒸留され、ナフサ、ジェット燃料およびディーゼル留分はガスとして分離され、残った留分（ニュートラル油およびブライトストック）は接触脱蝋により処理される。
【０００９】
この段階の間、ｎ−パラフィン類の異性化がＩＣＲ４０４触媒上で行われる。このプロセスも水素化仕上げ段階で終わる。
【００１０】
脱蝋および水素化仕上げ段階の使用に関しては、何の情報も提供されない。最終油のＶＩが、仕込原料の蝋分および水素化分解プロセスの過酷度に従って増大することが示される。
【００１１】
【特許文献１】
米国特許第５９７６３５４号。
【００１２】
【非特許文献１】
１９９３年１２月６〜８日、ボンベイにおける第７回精製技術会議でのＤ．Ｖ． Ｌａｗの論文。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本出願人は、その研究の努力を、潤滑油と特に非常に高品質の油とを製造する改善された方法を提供することに集中してきた。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このように、３４０℃を超える初留点を有する油留分から、非常に高品質の基油と中間留分（特に軽油）とを共に製造する一連の方法に関する。得られる油は、高い粘度指数ＶＩと、低い芳香族含有量と、低い揮発性と、優れたＵＶ安定性と、低い流動点とを有する。
【００１５】
本出願は、先行技術の方法に代わる方法を提案し、この方法は、触媒および条件の特別な選択により、温和な条件下、長いサイクル継続時間で優れた品質の油と中間留分とを製造できるようにする。
【００１６】
特に、および、通常の一連の方法または技術の前の状態からの方法とは異なって、この方法は、取得できる油製品の品質が制限されず、特に操作条件の賢明な選択により、薬用ホワイトオイル（すなわち優れた品質の油）が取得できるようになる。
【００１７】
より正確には、本発明は、２００重量ｐｐｍを超える窒素と５００重量ｐｐｍを超える硫黄とを含み、その少なくとも２０％が３４０℃を超える温度で沸騰する仕込原料から油と中間留分とを製造する方法において、該方法が下記の段階：
（ａ）３３０〜４５０℃の温度、５〜２５ＭＰａの圧力、０．１〜１０ｈ−１の空間速度で、水素／炭化水素の体積比が１００〜２０００である水素の存在下、および担体と、少なくとも１つの第ＶＩＩＩ族の非貴金属と、少なくとも１つの第ＶＩＢ族の金属と、リン、ホウ素およびケイ素から成る群から選ばれる少なくとも１つのドーピング（ｄｏｐｉｎｇ）元素とを含む無定形触媒の存在下で行われる仕込原料の水素化精製、
（ｂ）段階（ａ）で得られる流出液からの、少なくともガスおよび１５０℃より低い沸点を有する化合物の分離、
（ｃ）２００〜５００℃の温度、１〜２５ＭＰａの全圧、０．０５〜５０ｈ−１の毎時容積流量、仕込原料１リットル当たり５０〜２０００リットルの水素、および少なくとも１つの水素化−脱水素元素と少なくとも１つの分子篩とを含む触媒の存在下で行われる、段階（ｂ）で生じ、３４０℃を超える沸点を有する化合物を含有する流出液の少なくとも一部の接触脱蝋、
（ｄ）１８０〜４００℃の温度、１〜２５ＭＰａの圧力、０．０５〜１００ｈ−１の毎時容積流量、仕込原料１リットル当たり５０〜２０００リットルの水素、および少なくとも１つの水素化−脱水素金属と少なくとも１つのハロゲンとを含む、芳香族の水素化用無定形触媒の存在下で行われる、段階（ｃ）で生じる流出液の少なくとも一部の水素化仕上げ、
（ｅ）少なくとも１つの油留分を得るための、段階（ｄ）で得られる流出液の分離、
から成る方法に関する。
【００１８】
３４０℃を超える初留点を有し、好ましくは−１０℃より低い流動点、２重量％未満の芳香族化合物含有量、９５を超えるＶＩおよび少なくとも３ｃＳｔ（すなわち３ｍｍ２／ｓ）の１００℃での粘度を有する少なくとも１つの油留分を分離するために、かつ−１０℃以下、好ましくは−２０℃の流動点、少なくとも２重量％の芳香族含有量および最大限１重量％の多芳香族含有量を有する少なくとも１つの好ましい中間留分をおそらく分離するために、一般に、水素化仕上げ処理により生じる流出液は、常圧蒸留と減圧蒸留とを含む蒸留段階を受ける。
【００１９】
本発明による方法は下記の段階から成る。
【００２０】
段階（ａ）：水素化精製
高品質の油とおそらく中間留分とが得られる炭化水素仕込原料は、少なくとも２０容量％の３４０℃を超える温度で沸騰する。
【００２１】
従って、幅広く変化する仕込原料をこの方法で処理することができる。
【００２２】
例えば、仕込原料は、粗原料の直接蒸留により、またはＦＣＣ、コーカー（ｃｏｋｅｒ）もしくは粘度降下（ｖｉｓｃｏ−ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ）のような転換装置より生じる減圧留出物；またはＡＴＲｓ（常圧蒸留残油）および／またはＶＲｓ（減圧蒸留残油）の脱硫または水素化転換から生じる減圧留出物：または水素化分解残油であってもよく、あるいは仕込原料は、脱アスファルト油：または上記仕込原料のあらゆる混合物であってもよい。上記リストは網羅的ではない。一般に、目的とする油に適する仕込原料は、３４０℃を超える、さらに好ましくは３７０℃を超える初留点を有する。
【００２３】
仕込原料の窒素含有量は、一般に２００重量ｐｐｍより高く、好ましくは４００重量ｐｐｍより高く、さらに好ましくは５００重量ｐｐｍより高い。仕込原料の硫黄含有量は、一般に５００ｐｐｍより高く、最も多くは１重量％より高い。
【００２４】
仕込原料は、上記仕込原料の混合物を含んでもよく、最初に水素化精製プロセスを受け、その間、仕込原料は、水素の存在下で、無定形の担体と、例えば少なくとも１つの第ＶＩＢ族元素および少なくとも１つの第ＶＩＩＩ族元素により提供される水素化−脱水素機能を有する少なくとも１つの金属とを含む少なくとも１つの触媒に、３３０〜４５０℃、好ましくは３６０〜４２０℃の温度、５〜２５ＭＰａ、好ましくは２０ＭＰａ未満の圧力で接触させられ、その空間速度は０．１〜１０ｈ−１、有利には０．１〜６ｈ−１、好ましくは０．３〜３ｈ−１であり、導入される水素の量は、水素／炭化水素体積比が１００〜２０００となるようなものである。
【００２５】
第一段階の間、適切な熱力学的および速度論的条件下で使用される、分解に関連して水素化を促進する触媒の使用は、縮合多環式芳香族炭化水素の含有量を相当減少させる。これらの条件下、仕込原料の、窒素を含むおよび硫黄を含む物質のより大きい部分も変換される。このように、この操作により、２つのタイプの化合物：仕込原料中に最初に存在する、芳香族化合物および窒素を含む有機化合物を大部分除去できるようになる。
【００２６】
仕込原料中に存在する有機硫黄および有機窒素の存在を考慮すると、段階（ａ）の触媒は、仕込原料中に存在する窒素を含む有機化合物および硫黄を含む有機化合物の水素化脱窒素および水素化脱硫からそれぞれ生じるかなりの量のＮＨ３およびＨ２Ｓの存在下で機能する。
【００２７】
処理されるべき仕込原料の水素化脱窒素と、水素化脱硫と、芳香族の水素化と、分解とを含むこの第一段階において、仕込原料は精製され、一方同時に、この第一段階を出る基油の性質は、この方法から得られるべき基油の品質に関して調節される。有利には、基油の分解、従って基油の粘度指数を高めるために、第一段階で使用される触媒の種類および品質、および／またはこの第一段階の温度を利用することによりこの調節を行ってもよい。３４０℃を超える（さらには３７０℃）初留点を有する留分を考慮するならば、この段階の最後に、約−２０℃で溶媒（メチルイソブチルケトン）を用いる脱蝋の後に得られるその粘度指数は、好ましくは８０〜１５０、より良くは９０〜１４０、さらには９０〜１３５である。このような指数を得るために、一般に、仕込原料の分解生成物への転化率は、３４０℃より低い（さらには３７０℃）沸点で、最大限約６０重量％、さらには最大限５０重量％に等しい。
【００２８】
担体は一般に、アルミナまたは無定形シリカ−アルミナをベースとし（または好ましくは本質的にこれらから成り）、担体は、酸化ホウ素、マグネシア、ジルコニア、酸化チタンまたはこれらの酸化物の組み合わせも含有してもよい。担体は好ましくは酸である。水素化−脱水素機能は、好ましくは、第ＶＩＩＩ族および第ＶＩ族の、好ましくはモリブデン、タングステン、ニッケルおよびコバルトから選ばれる少なくとも１つの金属または金属化合物により達成される。
【００２９】
この触媒は、有利には、リン、ホウ素およびケイ素元素から成る群に含まれる少なくとも１つの元素を含有してもよい。
【００３０】
好ましい触媒は、触媒ＮｉＭｏおよび／またはＮｉＷ、またリン、ホウ素およびケイ素から成る原子の群に含まれる少なくとも１つの元素でドープされたアルミナ上の触媒ＮｉＭｏおよび／またはＮｉＷ、あるいはリン、ホウ素およびケイ素から成る原子の群に含まれる少なくとも１つの元素でドープされたシリカ−アルミナまたはシリカ−アルミナ−酸化チタン上の触媒ＮｉＭｏおよび／またはＮｉＷである。
【００３１】
さらに好ましい触媒は、リンを含有する触媒、リンとホウ素とを含有する触媒、リンとホウ素とケイ素とを含有する触媒、およびホウ素とケイ素とを含有する触媒である。本発明による方法の使用に適する触媒は、有利には、第ＶＢ族の少なくとも１つの元素（例えばニオブ）および／または第ＶＩＩＡ族の少なくとも１つの元素（例えばフッ素）および／または第ＶＩＩＢ族の少なくとも１つの元素（例えばレニウム、マンガン）も含有してもよい。
【００３２】
リン、ホウ素およびケイ素は、好ましくは促進剤元素として導入される。
【００３３】
促進剤元素、特に本発明に従って担体上に導入されたケイ素は、主に担体マトリックス上に位置し、おそらくカスタン（キャステン）（Ｃａｓｔａｉｎｇ）マイクロプローブ（種々の元素の分布）、触媒の成分のＸ線分析に加えて、透過による電子鏡検法のような技術により、あるいは電子マイクロプローブによって、触媒中に存在する元素の分布地図製作（ｃａｒｔｏｇｒａｐｈｙ）を確立することにより特徴づけられる。これらの局所分析は、種々の元素の配置、特に促進剤元素の配置、特に担体マトリックス上へのケイ素の導入による無定形ケイ素の配置を提供する。担体に含まれるゼオライトの構造中のケイ素の配置も示される。さらに、ケイ素および他の元素の局部含有量の定量的評価が行われてもよい。
【００３４】
一方、マジック角に対する回転に対する２９Ｓｉ固体のＮＭＲは、触媒に導入された無定形のケイ素の存在を検出できるようにする技術である。
【００３５】
第ＶＩＢ族（Ｗ、Ｍｏが好ましい）および第ＶＩＩＩ族（Ｃｏ、Ｎｉが好ましい）の金属の酸化物の全含有量は、１〜４０％、さらには５〜４０重量％、好ましくは７〜３０％であり、第ＶＩＩＩ族の１つまたは複数の金属に対する第ＶＩＢ族の１つまたは複数の金属の金属酸化物で表される重量比は、好ましくは２０〜１．２５、さらに好ましくは１０〜２である。触媒のドーピング元素の含有量は、少なくとも０．１重量％で、６０％未満である。触媒のリン（酸化物）の含有量は、一般に最大限２０重量％、好ましくは０．１〜１５％、ホウ素（酸化物）の含有量は、一般に最大限２０重量％、好ましくは０．１〜１５％、ケイ素の含有量（酸化物およびマトリックス外）は、一般に最大限２０重量％、好ましくは０．１〜１５％である。
【００３６】
触媒の第ＶＩＩＡ族元素の含有量は、多くても２０重量％、好ましくは０．１〜１５％であり、一方第ＶＩＩＢ族元素の含有量は、多くても５０重量％、好ましくは０．０１〜３０％、第ＶＢ族元素の含有量は、多くても６０重量％、好ましくは０．１〜４０％である。
【００３７】
このように、本発明による有利な触媒は、ＣｏおよびＮｉから選ばれる少なくとも１つの元素と、ＭｏおよびＷから選ばれる少なくとも１つの元素と、Ｐ、ＢおよびＳｉから選ばれる少なくとも１つのドーピング元素とを含有し、該元素は担体上に担持される。
【００３８】
他の好ましい触媒は、アルミナをベースとする担体上に担持されたリンとホウ素とをドーピング元素として含有する。
【００３９】
他の好ましい触媒は、アルミナをベースとする担体上に担持されたホウ素とケイ素とをドーピング元素として含有する。
【００４０】
他の好ましい触媒は、ホウ素および／またはケイ素に加えてリンも含有する。
【００４１】
これらの触媒はすべて、好ましくは、ＣｏおよびＮｉから選ばれる第ＶＩＩＩ族の少なくとも１つの元素と、ＷおよびＭｏから選ばれる第ＶＩＢ族の少なくとも１つの元素とを含有する。
【００４２】
段階（Ｂ）：生じた生成物の分離段階
この第一段階から生じる流出物は、ガスを分離する手段（例えば気−液分離器）を含む分離列（ｔｒａｉｎ）に運ばれ（段階ｂ）、この手段は、炭素原子を４個まで有する気体炭化水素と共に、生じた水素、硫化水素（Ｈ２Ｓ）およびアンモニア（ＮＨ３）のようなガスを分離できるようにする。次いで、３４０℃より高い沸点を有する物質を含有する少なくとも１つの流出物が回収される。
【００４３】
気−液分離に続いて、流出物は、一般にストリッピングおよび／または常圧蒸留により達成される、１５０℃より低い沸点を有する化合物（ガソリン）の分離を受ける。
【００４４】
分離段階（ｂ）は、好ましくは減圧蒸留で終わる。
【００４５】
分離列は、このように異なる方法で達成され得る。
【００４６】
この分離列は、例えば、段階（ａ）の間に生じるガソリンを分離するために、ストリッパーを含んでいてもよく、生じる流出物は、少なくとも１つの油留分と中間留分とを回収するために、減圧蒸留塔に運ばれる。
【００４７】
もう１つの変形では、分離列は、減圧蒸留の前に、分離器またはストリッパーにより生じる流出物の常圧蒸留を含んでもよい。
【００４８】
常圧蒸留の間、少なくとも１つの中間留分が回収される。少なくとも１つのガソリン留分が、ストリッパー内で、または常圧蒸留の間に得られる。常圧蒸留残油は、次いで減圧蒸留区画に通される。
【００４９】
減圧蒸留により、作業者の要求によって異なる等級の油の１つまたは複数の留分が得られるようになる。
【００５０】
このように、３４０℃を超える、より良くは３７０℃を超える、または３８０℃、または４００℃の初留点を有する油の少なくとも１つの留分が得られる。
【００５１】
この留分は、約−２０℃での溶媒（メチルイソブチルケトン）での脱蝋の後、少なくとも８０の、一般に８０〜１５０の、より良くは９０〜１４０の、さらには９０〜１３５のＶＩを有する。
【００５２】
本発明によると、この留分（残油）は、次いで接触脱蝋段階で、単独で、または１つ以上の他の留分との混合物で処理される。
【００５３】
段階（ａ）はこのように、有利には分離段階（ｂ）の間に回収され得る、より低い沸点を有する化合物の製造をもたらす。これらの化合物は、少なくとも１つのガソリン留分と、一般に−２０℃より低い流動点と４８を超えるセタン価とを有する少なくとも１つの中間留分（例えば１５０〜３８０℃）とを含む。
【００５４】
非常に低い流動点を有する中間留分の製造により適合したもう１つの変形では、カットポイントは下げられ、例えば３４０℃でのカットの代わりに、軽油およびおそらく灯油が、例えば３４０℃より高い温度で沸騰する化合物を含有する留分に含まれ得る。例えば、低くても１５０℃の初留点を有する留分が得られる。この留分は、次いで脱蝋区画に通される。
【００５５】
一般に、本明細書で「中間留分」という用語は、低くても１５０℃の初留点と、油（残油）の終留点の直前までの、すなわち一般に３４０℃までの、好ましくは約３８０℃の終留点とを有する、１つまたは複数の留分を言う。
【００５６】
段階（ｃ）：接触水素化脱蝋（ＣＨＤＷ）
上で定義したように、段階（ｂ）から生じる、３４０℃より高い温度で沸騰する化合物を含有する少なくとも１つの留分は、次いで、単独で、または本発明による方法の段階（ａ）および（ｂ）の連続から生じる他の留分との混合物で、水素、および酸機能と水素化−脱水素金属機能と少なくとも１つのマトリックスとを含む水素化脱蝋触媒の存在下で、接触脱蝋段階を受ける。
【００５７】
注目すべきことは、段階（ｂ）で選ばれる分離方法が何であっても、３４０℃より高い温度で沸騰する化合物は、好ましくは常に接触脱蝋を受けることである。
【００５８】
酸機能は、微孔質系がチャネルの少なくとも１つの主要な型を有し、該チャネルの開口が１０または９個のＴ原子を含む環から形成される少なくとも１つの分子篩により提供される。Ｔ原子は分子篩を形成する四面体原子であり、次の原子（Ｓｉ、Ａｌ、Ｐ、Ｂ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｇａ）の群に含まれる元素の少なくとも１つであってもよい。チャネルの開口を形成する環において、上で定義したＴ原子は、等しい数の酸素原子と交代する。このように、開口が１０または９個の酸素原子を含む環から形成されると言うことは、開口が１０または９個のＴ原子を含む環から形成されると言うことに等しい。
【００５９】
水素化脱蝋触媒を形成するために使用される分子篩は、開口が１０個未満のＴ原子または酸素原子を含む環から形成される、他の型のチャネルも含んでもよい。
【００６０】
触媒を形成するために使用される分子篩は、ブリッジ幅、すなわち上で定義されたように、２つの細孔の開口の間の距離も有し、この幅は０．７５ｎｍ（１ｎｍ＝１０−９ｍ）以下、好ましくは０．５０〜０．７５ｎｍ、さらに好ましくは０．５２〜０．７３ｎｍである。
【００６１】
ブリッジ幅は、ハイパーケム（Ｈｙｐｅｒｃｈｅｍ）またはバイオシム（Ｂｉｏｓｙｍ）のようなグラフィックおよび分子モデル手段を用いて測定され、この手段は、当該分子篩の表面を構成できるようにし、篩の構造中に存在する元素のイオン光線を考慮して、ブリッジ幅を測定できるようにするものである。
【００６２】
この方法に適合する触媒は、標準純粋ｎ−デカン変換試験として知られる触媒試験により特徴づけられ、この試験は、４５０ｋＰａの水素分圧および１．２ｋＰａのｎ−Ｃ１０分圧下で、すなわち固定床内で４５１．２ｋＰａの全圧下、９．５ｍｌ／時の一定のｎ−Ｃ１０の流速で、３．６リットル／時の全流速および０．２ｇの触媒質量で行われる。反応は下降流で行われる。転化率は、反応が起こる温度により制御される。該試験を受ける触媒は、純粋なペレット化されたゼオライトと０．５重量％の白金とから成る。
【００６３】
ｎ−デカンは、分子篩および水素化−脱水素機能の存在下で、炭素原子を１０個有する異性化生成物を生じる水素化異性化反応、および１０個未満の炭素原子を含む生成物の生成をもたらす水素化分解反応を受ける。
【００６４】
これらの条件下、本発明による水素化脱蝋段階で使用される分子篩は、上記物理化学的性質を有し、約５重量％（転化率は温度により制御される）のｎ−Ｃ１０異性化生成物の収率について、５より高い、好ましくは７より高い２−メチルノナン／５−メチルノナンの比を生じなければならない。
【００６５】
上記条件下で、多くの既存の分子篩からこのように選択された分子篩を使用することにより、本発明による方法の構成内で、特に、低い流動点と高い粘度指数とを有する生成物を優れた収率で製造できるようになる。
【００６６】
接触水素化脱蝋触媒を作るのに使用できる分子篩は、例えば次のゼオライトである：フェリエライト、ＮＵ−１０、ＥＵ−１３、ＥＵ−１、ＺＳＭ−４８および同様な構造型のゼオライト。
【００６７】
水素化脱蝋触媒を作るのに使用される分子篩は、好ましくはフェリエライトおよびゼオライトＥＵ−１から成る群に含まれる。
【００６８】
水素化脱蝋触媒中の分子篩の重量含有量は、１〜９０％、好ましくは５〜９０％、さらに好ましくは１０〜８５％である。
【００６９】
触媒の生成に使用されるマトリックスは、完全でない下記のリスト中の例を含む：アルミナゲル、アルミナ、マグネシア、無定形シリカ−アルミナおよびこれらの混合物。形成操作を行うために、押出、ペレット化またはボウル粒状化のような技術を使用できる。
【００７０】
触媒は、例えば第ＶＩＩ族の少なくとも１つの元素、好ましくは白金およびパラジウムから成る群に含まれる少なくとも１つの元素により提供される水素化−脱水素機能も含む。
【００７１】
最終触媒に対する第ＶＩＩＩ族の非貴金属の重量含有量は、１〜４０％、好ましくは１０〜３０％である。この場合、非貴金属は、第ＶＩＢ族の少なくとも１つの金属（ＭｏおよびＷが好ましい）と併用されることが多い。第ＶＩＩＩ族の少なくとも１つの貴金属があるならば、最終触媒に対するその重量含有量は、５％未満、好ましくは３％未満、さらに好ましくは１．５％未満である。
【００７２】
第ＶＩＩＩ族の貴金属を使用する場合、白金および／またはパラジウムは、好ましくは上で定義されたように、マトリックス上に位置する。
【００７３】
本発明による水素化脱蝋触媒は、さらに（酸化物で表して）０〜２０％、好ましくは０〜１０重量％のリンを含有してもよい。第ＶＩＢ族の１つまたは複数の金属および／または第ＶＩＩＩ族の１つまたは複数の金属とリンとの組み合わせが特に有利である。
【００７４】
本発明による方法の段階（ａ）および（ｂ）の最後に得ることができ、この水素化脱蝋段階（ｃ）で処理されるべき、３４０℃を超える沸点を有する流出液の留分を考慮するならば、この留分は下記の特徴を有する：３４０℃を超える、好ましくは３７０℃を超える初留点、低くても１５℃の流動点、１０重量ｐｐｍ未満の窒素含有量、５０重量ｐｐｍ未満、好ましくは２０重量ｐｐｍ未満、さらに良くは１０重量ｐｐｍ未満の硫黄含有量、少なくとも８０に等しい、好ましくは８０〜１５０、より良くは９０〜１４０、さらには９０〜１３５の、約−２０℃での溶媒（メチルイソブチルケトン）での脱蝋後に得られる粘度指数、１５％未満、好ましくは１０重量％未満の芳香族化合物含有量、３ｃＳｔ（ｍｍ２／ｓ）以上の１００℃での粘度。
【００７５】
本発明による方法の水素化脱蝋段階が起こる操作条件は下記の通りである：
−反応温度は２００〜５００℃、好ましくは２５０〜４７０℃、有利には２７０〜４３０℃である；
−圧力は０．１（または０．２）〜２５ＭＰａ（１０６Ｐａ）、好ましくは０．５（１．０）〜２０ＭＰａである；
−毎時容積流量（触媒の体積単位当たり、および時間当たりの注入された仕込原料の体積で表されるｈｖｒ）は約０．０５〜約５０ｈ−１、好ましくは約０．１〜約２０ｈ−１、さらに好ましくは０．２〜１０ｈ−１である。
【００７６】
これらは所望の流動点を得るように選択される。
【００７７】
脱蝋区画に入る仕込原料と触媒との接触は、水素の存在下で起こる。使用される水素の、仕込原料の１リットル当たりの水素のリットルで表される割合は、仕込原料の１リットル当たりの５０〜約２０００リットルの水素、好ましくは仕込原料の１リットル当たりの１００〜１５００リットルの水素である。
【００７８】
段階（ｄ）：水素化仕上げ
油および留出物の安定性にとって不利益な芳香族化合物の促進された水素化を達成するために、接触水素化脱蝋段階からの流出液は、好ましくはそのまま、中間蒸留をすることなく、水素の存在下に水素化仕上げ触媒に通される。しかしながら、触媒の酸性度は、３４０℃より低い沸点を有する分解生成物の多すぎる生成をもたらさないように、特に油の最終収率を減少させないように、十分低くなければならない。
【００７９】
この段階で使用される触媒は、周期表の第ＶＩＩＩ族の少なくとも１つの金属および／または第ＶＩＢ族の少なくとも１つの元素を含む。芳香族の促進された水素化を達成するために、強い金属機能：白金および／またはパラジウム、またはニッケル−タングステン、またはニッケル−モリブデンの組み合わせが有利には使用される。
【００８０】
これらの金属は、例えばアルミナ、シリカ、シリカ−アルミナのような結晶性または無定形の酸化物型の担体上に担持かつ分散される。この担体はゼオライトを含有しない。
【００８１】
水素化仕上げ（ＨＤＦ）触媒は、元素周期表の第ＶＩＩＡ族の少なくとも１つの元素も含有してもよい。これらの触媒は、好ましくはフッ素および／または塩素を含有する。
【００８２】
金属の重量含有量は、非貴金属の場合には１０〜３０％、貴金属の場合には２％未満、好ましくは０．１〜１．５％、さらに好ましくは０．１〜１．０％である。
【００８３】
ハロゲンの全量は０．０２〜３０重量％、有利には０．０１〜１５％の範囲内、または０．０１〜１０％、好ましくは０．０１〜５％である。
【００８４】
優れた性能を生じ、特に薬用油を得るための、このＨＤＦ段階で使用できる触媒のうち、第ＶＩＩＩ族の少なくとも１つの貴金属（例えば白金）と少なくとも１つのハロゲン（塩素および／またはフッ素）とを含有する触媒について述べると、塩素とフッ素との組み合わせが好ましい。好ましい触媒は貴金属と塩素とフッ素とアルミナとから成る。
【００８５】
本発明による方法の水素化仕上げ段階が起こる操作条件は下記の通りである：
−反応温度は１８０〜４００℃、好ましくは２１０〜３５０℃、有利には２２０〜３２０℃である；
−圧力は０．１〜２５ＭＰａ（１０６Ｐａ）、好ましくは１．０〜２０ＭＰａである；
−毎時容積流量（触媒の体積単位当たり、および時間当たりの注入された仕込原料の体積で表されるｈｖｒ）は約０．０５〜約１００ｈ−１、好ましくは約０．１〜約３０ｈ−１である。
【００８６】
仕込原料と触媒との接触は、水素の存在下で起こる。使用される水素の、仕込原料の１リットル当たりの水素のリットルで表される割合は、仕込原料の１リットル当たり５０〜約２０００リットルの水素、好ましくは仕込原料の１リットル当たり１００〜１５００リットルの水素である。
【００８７】
一般に、ＨＤＦ段階の温度は、接触水素化脱蝋（ＣＨＤＷ）段階の温度よりも低い。ＴＣＨＤＷとＴＨＤＦとの差は、一般に２０〜２００℃、好ましくは３０〜１００℃である。
【００８８】
段階（ｅ）：分離
ＨＤＦ段階からの流出液は、分離または蒸留列に通され、この列はガスの分離（例えば気−液分離器によって）を含み、この分離によって、液体生成物から、水素および炭素原子を１〜４個含む気体炭化水素のようなガスを分離できるようになる。この分離列は、前の段階の間に生成した、１５０℃より低い沸点を有する化合物（ガソリン）の分離（例えばストリッピングおよび／または常圧蒸留）も含んでもよい。分離段階（ａ）は、少なくとも１つの油留分を回収するために減圧蒸留プロセスで終わる。前の段階の間に生成した中間留分も、段階（ｅ）における分離の間に回収される。
【００８９】
分離列は異なる方法で達成され得る。
【００９０】
分離列は、例えば、段階（ａ）の間に生成したガソリンを分離するためにストリッパーを含んでもよく、生じた流出液は、少なくとも１つの油留分と中間留分とを回収するために、減圧蒸留塔に通される。
【００９１】
もう１つの変形では、分離列は、減圧蒸留区画の前に、分離器またはストリッパーからの流出液の常圧蒸留用の区画を含んでもよい。
【００９２】
常圧蒸留区画では、少なくとも１つの中間留分が回収される（これらは、前の段階の間に生成した留出物である）。ストリッパーまたは常圧蒸留区画で、少なくとも１つのガソリン留分が得られる。常圧蒸留残油は減圧蒸留区画に通される。
【００９３】
減圧蒸留によって、油留分または作業者の要求によって異なる等級の留分が得られるようになる。
【００９４】
すべての組み合わせが可能で、カットポイントは、作業者の要求（例えば製品の規格）に基づいて、作業者によって調節される。
【００９５】
この分離は、軽油と油留分との間のカットポイントを選択することにより、例えばＮＯＡＣＫおよび粘度のような油留分の性質を改善することも可能にする。
【００９６】
この方法に従って得られる基油は、最も多くは、−１０℃より低い流動点、２重量％未満の芳香族化合物含有量、９５を超える、好ましくは１０５を超える、さらに好ましくは１２０を超えるＩＶ、１００℃で少なくとも３．０ｃＳＴの粘度、１未満、好ましくは０．５未満のＡＳＴＭ　Ｄ１５００色、およびＡＳＴＭ　Ｄ１５００色の増加が０〜４、好ましくは０．５〜２．５になるようなＵＶ安定性を有する。
【００９７】
ＡＳＴＭ　Ｄ９２５−５５およびＤ１１４８−５５法に適合するＵＶ安定性試験は、紫外線の光源に晒された潤滑油の安定性を比較する迅速な方法を提供する。試験室は、油試料が置かれた標尺台を有する金属製囲いから成る。太陽光線の紫外線と同じ紫外線を生じ、試験室の最上部に置かれた電球は、試料の方に下に向けられる。試料は、既知のＵＶ特性を有する標準油を含む。試料のＡＳＴＭ　Ｄ１５００色は、ｔ＝０で、次いで５５℃で４５時間晒した後に決定される。標準試料および試験試料について、結果を下記のように表す：
ａ）最初のＡＳＴＭ　Ｄ１５００色、
ｂ）最終ＡＳＴＭ　Ｄ１５００色、
ｃ）色の増加、
ｄ）曇り、
ｅ）沈殿。
【００９８】
本発明による方法のもう１つの利点は、この方法によって薬用ホワイトオイルも得られるようになることである。薬用ホワイトオイルは、油の促進精製により得られる鉱油であり、それらの品質は、薬学的応用のために無害を保証することを目的とする種々の規制を受け、これらは無毒であり、密度および粘度により特徴づけられる。薬用ホワイトオイルは、本質的に飽和炭化水素から成り、化学的に不活性であり、芳香族炭化水素含有量が低い。芳香族化合物、特に毒性で、ホワイトオイル中に芳香族化合物の１重量ｐｐｂの濃度で存在する六多環式芳香族炭化水素（Ｐ．Ａ．Ｈ．）が特に注目される。全芳香族含有量の制御をＡＳＴＭ　Ｄ２００８法により行うことができる：２７５、２９２および３００ナノメーターにおけるこのＵＶ吸収試験により、吸光度をそれぞれ０．８未満、０．４未満および０．３未満に調節できるようになる。これらの測定は、１ｃｍの容器内で、１リットル当たり油の１ｇの濃度で行われる。市販のホワイトオイルは、粘度によって、しかしパラフィン系またはナフテン系であってもよい元の粗原料によっても区別される；これらの２つのパラメータは、考慮中のホワイトオイルの物理化学的性質と化学的組成の両方の違いを生じる。
【００９９】
現在油留分は、原油の直接蒸留、次いで溶媒による芳香族化合物の抽出に由来しても、接触水素化精製または水素化分解プロセスから生じても、まだかなりの量の芳香族化合物を含有する。ほとんどの工業化した国々の現在の法律制定の下で、「薬用」ホワイトオイルは、芳香族含有量が、各国の法律により課せられた基準点より低くなければならない。油留分からこれらの芳香族化合物がないことは、明らかに少なくとも３０（＋３０）でなければならないセイボルト色度規格、１ｃｍ容器内の純粋な生成物で２７５ｎｍに対して１．６０未満でなければならない最大限のＵＶ吸収規格、および米国市場に対して０．１未満でなければならない、ＤＭＳＯ抽出生成物の吸収についての最大限の規格（食品および薬品の管理規格番号１２１１１４５）により示される。この最後の試験は、極性溶媒、多くはＤＭＳＯを用いて多環式芳香族炭化水素を特異的に抽出し、ＵＶ吸収測定により、２６０〜３５０ｎｍの範囲で抽出液中のこれらの含有量を調べることから成る。
【０１００】
さらに、薬用ホワイトオイルは、炭化され得る物質の試験（ＡＳＴＭ　Ｄ５６５）も満足しなければならない。この試験は、ホワイトオイルと濃硫酸との混合物を加熱および撹拌することから成る。相が沈降した後、酸層は、呈色が、色のついた参照溶液の呈色、または黄色と赤色の色のついた２枚のガラスの組み合わせから生じる呈色より弱くなるものでなければならない。
【０１０１】
本発明による方法の一連の段階から生じる中間留分は、−１０℃以下、一般に−２０℃の流動点、低い芳香族含有量（最大限２重量％）、１重量％未満の多芳香族含有量（二以上）、および軽油の場合には、５０を超える、さらには５２を超えるセタン価を有する。
【０１０２】
本発明による方法のもう１つの利点は、直列に作動し、従って費用を節約できるようにする、段階（ｃ）および（ｄ）のすべての反応器内で全圧が同じであってもよいことである。
【０１０３】
本発明は、上記方法を行うために使用できる装置にも関する。
【０１０４】
この装置は下記のものから成る：
−水素化精製触媒を含有し、かつ処理されるべき仕込原料を導入するための少なくとも１つの管（１）を有する水素化精製帯域（２）、
−帯域（２）で製造される流出液を運ぶ管（３）を有する、ガスの分離の少なくとも１つの手段（４）を具備する分離列、該手段はガスの除去のための少なくとも１つの管（５）と、１５０℃より低い沸点を有する化合物の分離のための少なくとも１つの手段（７）とを有し、該手段（７）は１５０℃より低い温度で沸騰する化合物を含有する留分の除去のための少なくとも１つの管（８）と、低くても１５０℃で沸騰する化合物を含有する流出液の除去のための少なくとも１つの管（９）とを有し、該分離列は該流出液の処理のための少なくとも１つの減圧蒸留塔（１０）を具備し、該塔（１０）は少なくとも１つの油留分の除去のための少なくとも１つの管（１１）を有する、
−脱蝋された流出液の除去のための少なくとも１つの管（１６）を有する、少なくとも１つの油留分の処理のための接触脱蝋帯域（１５）、
−管（１６）からの脱蝋された流出液の処理のための水素化仕上げ帯域（１７）であって、水素化仕上げされた流出液の除去のための少なくとも１つの管（１８）を有するもの、
−水素化仕上げされた流出液を運ぶ少なくとも１つの管（１８）を有する、ガスの分離の少なくとも１つの手段（１９）を具備する最終分離列、該手段（１９）はガスの除去のための少なくとも１つの管（２０）を有する手段と、１５０℃より低い沸点を有する化合物の分離の少なくとも１つの手段（２２）とを有し、該手段（２２）は１５０℃より低い温度で沸騰する化合物を含有する留分の除去のための少なくとも１つの管（２４）と低くても１５０℃で沸騰する化合物を含有する流出液の除去のための少なくとも１つの管（２５）とを有し、該分離列は該流出液の処理のための少なくとも１つの減圧蒸留塔（２６）を具備し、該塔（２６）は少なくとも１つの油留分の除去のための少なくとも１つの管（２８）を有する。
【０１０５】
【発明の実施の形態】
この記述は、図１を参照することによりより良く理解され得る。
【０１０６】
仕込原料は、管（１）により水素化精製帯域（２）に導入され、この帯域は、１つ以上の反応器内に配列された水素化精製触媒の１つ以上の触媒床を含む。
【０１０７】
管（３）により水素化精製帯域を出る流出液は、分離列に通される。図１によると、この列は、管（５）により除去される軽質ガス（Ｈ２Ｓ、Ｈ２、ＮＨ３等、Ｃ１〜Ｃ４）を分離する分離手段（４）を含む。
【０１０８】
「脱気」された流出液は、管（６）により、１５０℃より低い沸点を有する化合物（１５０−）の分離手段に運ばれ、この手段は例えば、１５０−留分の除去のための管（８）と、ストリップされた流出液を減圧蒸留塔（１０）に運ぶための管（９）とを有するストリッパー（７）である。
【０１０９】
該塔によって、例えば管（１１）により除去される少なくとも１つの油留分を分離でき、少なくとも１つの管（１２）により、少なくとも１つの中間留分が除去できる。作業者の要求によって、軽油留分は、おそらく異なる等級に分離されてもよく、図１において管（１３）（１４）により除去される。
【０１１０】
管（１１）で得られる油留分は、接触脱蝋帯域（１５）に通され、この帯域は、１つ以上の反応器内に配列された接触脱蝋触媒の１つ以上の触媒床を含む。管（１３）（１４）内の油留分も、単独で、または互いに混合されて、または管（１１）からのより重質な油と混合されて、帯域（１５）に通されてもよい。
【０１１１】
このように得られる、脱蝋された流出液は、すべて管（１６）により帯域（１５）から除去される。
【０１１２】
この流出液は、次いで水素化仕上げ帯域（１７）で処理され、この帯域は、１つ以上の反応器内に配列された水素化仕上げ触媒の１つ以上の触媒床を含む。
【０１１３】
このように得られる、水素化仕上げされた流出液は、管（１８）により最終分離列に除去される。
【０１１４】
図１において、この列は、管（２０）により除去される軽質ガスの分離のための分離手段（１９）を含む。
【０１１５】
「脱気」された流出液は、管（２１）により蒸留塔に運ばれる。図１において、これは、例えば管（２３）により除去される１つ以上の中間留分と、おそらく管（２４）により除去されるガソリン留分とを分離するための常圧蒸留塔（２２）である。
【０１１６】
図１において、管（２５）により除去された常圧蒸留残油は、減圧蒸留塔（２６）に運ばれ、減圧蒸留塔は（作業者の要求に従って）少なくとも１つの管、例えば管（２７）により除去された１つ以上の軽油留分を分離し、管（２８）により基油留分を回収することを可能にする。
【０１１７】
図２にもう１つの分離方法を示す。
【０１１８】
参照記号により示される要素をすべて説明するわけではないが、分離だけを説明する。
【０１１９】
図２において、帯域（２）で製造され脱気された流出液は、管（６）により蒸留塔（３０）に運ばれ、この蒸留塔はここでは常圧蒸留塔である。
【０１２０】
この塔において、１つ以上のガソリンおよび／または中間留分は分離され、図２における管（３１）（３２）により除去され、重質生成物（沸点が一般に３４０℃を超える、さらには３７０℃以上）を含有する残油は、管（３３）により除去される。
【０１２１】
この残油は、図２によると、減圧蒸留塔（１０）に運ばれ、ここから油留分は管（１１）により分離され、等級の異なる１つ以上の軽油は、作業者がこれらの軽油を得たいならば、例えば１つ以上の管（３４）（３５）によりおそらく除去されてもよい。
【０１２２】
図２において、最終分離列はガスの分離手段（１９）を含み、水素化仕上げされた流出液は、管（１８）により分離手段に導入され、「脱気」されて、管（２１）により分離手段を出る。
【０１２３】
この脱気された流出液は、ストリッパー（３６）に運ばれ、このストリッパーは、１５０−留分を除去するための管（３７）と、ストリップされた流出液を除去する管（３８）とを有する。該流出液は、減圧蒸留塔（２６）に通され、この蒸留塔は、管（２８）により１つの基油留分と、少なくとも１つのより軽質な留分とを分離することを可能にする。ここでこれらのより軽質な留分は、例えば管（３９）（４０）により除去される軽油、および管（４１）により除去される単一の留分であり、ガソリンと中間留分とを含有する。
【０１２４】
仮に、分離列が、軽質ガスを除去する手段と、１５０−留分を分離する手段（ストリッパー、常圧蒸留）と、３４０℃を超える沸点を有する生成物を含有する留分（油または基油留分）を分離するための減圧蒸留区画とを含むとすると、分離列のあらゆる組み合わせが可能であることが理解されるであろう。一般に、ストリッパーの直後に使用される減圧塔は、３４０℃より低い、または３７０℃以上（例えば３８０℃）の沸点を有する留分を頂点で分離するために調節される。実際、作業者は、得るべき生成物に従って、例えば軽油を製造したいならば、カットポイントを制御する。
【０１２５】
従来の分離器、常圧蒸留塔および減圧蒸留塔に加えて、この系列が最終分離列に最もよく使用される。
【０１２６】
非常に有利な費用（１つの塔を省くこと）の点で、分離の（従って得られる生成物の）質に関して、図１の組み合わせは特に興味深い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明方法の実施態様を示すフローシートである。
【図２】本発明方法の別の実施態様を示すフローシートである。
【符号の説明】
（２）…水素化精製帯域
（４）（１９）…分離手段
（７）（３６）…ストリッパー
（１０）（２６）…減圧蒸留塔
（１５）…接触脱蝋帯域
（１７）…水素化仕上げ帯域
（２２）（３０）…常圧蒸留塔
【図１】
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【図２】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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2004504479.tif 000039
2004504479.tif 000040
2004504479.tif 000041