(57)【要約】本発明は、物体（ＢＯ）の面（Ａ）の形状を測定するための干渉測定装置であって、短コヒーレント光を放射する光源（ＫＬ）と、物体光路（ＯＷ）を介して物体（ＯＢ）に導かれる物体光と参照光路（ＲＷ）を介して反射する参照面（ＳＰ１）に導かれる参照光とを形成するためのビームスプリッタ（ＳＴ）と、前記物体面（Ａ）と前記参照面（ＳＰ１）とから戻されかつ干渉されている光を捕捉検出するイメージ変換器（ＢＷ）と、該物体面（Ａ）に関連する測定結果を突き止めるための評価装置とを備えており、測定のために、参照光路（ＲＷ）の光路長に対して物体光路（ＯＷ）の光路長が相対的に変化されるという形式のものに関する。物体光路（ＯＷ）に、多焦点光学素子（ＬＢ）または種々異なった結像要素から成っている自由セグメント光学系（ＦＯ）を備えたスーパーポジション光学系が設けられており、該スーパーポジション光学系によって同時に、前記物体面（Ａ）からの他に少なくとも１つの別の面（Ｂ）から像を生成できるようになっており、該像は直接または物体光路における少なくとも１つの中間結像を介して前記イメージ変換器（ＢＷ）に結合されかつ前記物体面（Ａ）および少なくとも１つの別の面（Ｂ）の測定は参照光路の光路長に対する物体光路の光路長の相対変化に基づいて行われるようにしたことで、簡単な調整において空間的に相互に分離している表面の正確な測定が可能になる。
2004502953.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体（ＢＯ）の面（Ａ）の形状を測定するための干渉測定装置であって、
短コヒーレント光を放射する光源（ＫＬ）と、物体光路（ＯＷ）を介して物体（ＯＢ）に導かれる物体光と参照光路（ＲＷ）を介して反射する参照面（ＳＰ１）に導かれる参照光とを形成するためのビームスプリッタ（ＳＴ）と、前記物体面（Ａ）と前記参照面（ＳＰ１）とから戻されかつ干渉されている光を捕捉検出するイメージ変換器（ＢＷ）と、該物体面（Ａ）に関連する測定結果を突き止めるための評価装置とを備えており、
測定のために、参照光路（ＲＷ）の光路長に対して物体光路（ＯＷ）の光路長が相対的に変化される
という形式のものにおいて、
物体光路（ＯＷ）に、多焦点光学系（ＬＢ）または種々異なった結像要素から成っている自由セグメント光学系（ＦＯ）を備えたスーパーポジション光学系が設けられており、
該スーパーポジション光学系によって同時に、前記物体面（Ａ）からの他に少なくとも１つの別の面（Ｂ）から像を生成できるようになっており、該像は直接または物体光路における少なくとも１つの中間結像を介して前記イメージ変換器（ＢＷ）に結合されかつ
前記物体面（Ａ）および少なくとも１つの別の面（Ｂ）の測定は参照光路の光路長に対する物体光路の光路長の相対変化に基づいて行われる
ことを特徴とする測定装置。
【請求項２】
自由セグメント光学系（ＦＯ）は相互に斜めに配向されている面（Ａ，Ｂ）を収容するように実現されている
請求項１記載の測定装置。
【請求項３】
物体（ＢＯ）の面（Ａ）の形状を測定するための干渉測定装置であって、
短コヒーレント光を放射する光源（ＫＬ）と、物体光路（ＯＷ）を介して物体（ＢＯ）に導かれる物体光と参照光路（ＲＷ）を介して反射する参照面（ＳＰ１）に導かれる参照光とを形成するためのビームスプリッタ（ＳＴ）と、前記物体面（Ａ）と前記参照面（ＴＳ，ＳＰ１）とから戻されかつ干渉されている光を捕捉検出するイメージ変換器（ＢＷ）と、該物体面（Ａ）に関連する測定結果を突き止めるための評価装置とを備えており、
測定のために、参照光路（ＲＷ）の光路長に対して物体光路（ＯＷ）の光路長が相対的に変化される
という形式のものにおいて、
物体光路（ＯＷ）に、少なくとも前記両面の光路長差の被写界深度を有する結像光学系が設けられており、
該結像光学系によって同時に、前記物体面（Ａ）からの他に少なくとも１つの、該面の前方または後方に位置している、平行な別の面（Ｂ）−または光学的な偏向素子を介して相互に斜めにまたは直角に配置されている面−から像を生成できるようになっており、該像は物体光路における少なくとも１つの中間結像を介して前記イメージ変換器（ＢＷ）に結合されかつ
前記物体面（Ａ）および少なくとも１つの別の面（Ｂ）の測定は参照光路の光路長に対する物体光路の光路長の相対変化に基づいて行われる
ことを特徴とする測定装置。
【請求項４】
前記物体光路（ＯＷ）は前記物体面（Ａ）の中間像および前記別の面（Ｂ）の中間像の共通の中間像（ＺＷ）を物体光路における共通の中間像面に生成するように構成されており、かつ
該共通の中間像（ＺＷ）は直接または少なくとも１つの中間結像を介して前記イメージ変換器（ＢＷ）に結像される
請求項１から３までのいずれか１項記載の測定装置。
【請求項５】
前記共通の中間像（ＺＷ）の走査が行われる
請求項４記載の測定装置。
【請求項６】
物体光路（ＯＷ）は内視鏡として実現されている
請求項１から５までのいずれか１項記載の測定装置。
【請求項７】
物体を平面波で照射するために、光導波体（ＬＬ）が設けられており、該光導波体の物体側の出口は物体光路（ＯＷ）のテレセントリックな結像装置に置かれているか、または
付加的なレンズ（ＬＺ１，ＬＺ２）および偏向エレメント（ＡＥ１，ＡＥ２）を備えた照射光路（ＬＷ）が形成されている
請求項１から６までのいずれか１項記載の測定装置。
【請求項８】
参照光路（ＲＷ）は物体光路（ＯＷ）に類似しているまたは同一の光学系を有している
請求項１から７までのいずれか１項記載の測定装置。
【請求項９】
前記物体光路（ＯＷ）に、該物体（ＢＯ）に関して不動の光学系が配置されており、かつ
該不動の光学系に光軸の方向に移動する光学系（ＢＯ）が続く
請求項１から８までのいずれか１項記載の測定装置。
【請求項１０】
前記不動の光学系はスーパーポジション光学系の部分である
請求項９記載の測定装置。
【請求項１１】
前記不動の光学系は無限遠を結像する
請求項９または１０記載の測定装置。
【請求項１２】
前記不動の光学系は物体（ＢＯ）に対して不動の少なくとも１つの中間像を生成するスーパーポジション光学系として実現されており、かつ
可動の光学系として、光路において不動の中間像の後に続く対物レンズ光学系が光軸の方向において移動するように実現されていて、該軸に対する法線方向に配向されている中間像が深度方向において走査されかつこの中間像が直接または１つまたは複数の中間結像を介してイメージ変換器（ＢＷ）に結像されるようにする
請求項９から１１までのいずれか１項記載の測定装置。
【請求項１３】
中間結像は中間像（ＺＷ）に結像されるすべての物体点に対して同じ結像縮尺度を有している
請求項４から１２までのいずれか１項記載の測定装置。
【請求項１４】
不動の光学系は４ｆ装置として実現されている
請求項９から１３までのいずれか１項記載の測定装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、物体の面の形状を測定するための干渉測定装置であって、短コヒーレント光を放射する光源と、物体光路を介して物体に導かれる物体光と参照光路を介して反射する参照面に導かれる参照光とを形成するためのビームスプリッタと、前記物体面と前記参照面とから戻されかつ干渉されている光を捕捉検出するイメージ変換器と、該物体面に関連する測定結果を突き止めるための評価装置とを備えており、ここで測定のために、参照光路の光路長に対する物体光路の相対的な光路長を変化するという形式のものに関する。
【０００２】
従来技術
この形式の干渉測定装置はＤＥ４１０８９４４Ａ１に記載されている（しかしここでは本明細書において択一的にこれから記述する中間画像サンプリングには触れられていない）。いわゆる白色光干渉または短いコヒーレント干渉の測定原理に基づいているこの公知の干渉測定装置では、光源が短コヒーレント光を放射し、それはビームスプリッターを介して被測定物を照射する物体ビームと参照ミラーの形で反射する参照面を照射する参照ビームとに分割される。物体表面を奥行きの方向において走査するために、参照ミラーはピエゾ式調整操作部材を用いて参照光路の光軸の方向に移動される。物体光路と参照光路とが一致するとき、可干渉距離の領域に、干渉コントラストの最大値が生じる。これは光電イメージ変換器および後置接続されている評価装置を用いて識別されかつ参照ミラーの既知の振れ位置に基づいて物体表面の輪郭を求めるために評価される。
【０００３】
白色光干渉に基づいた別のこの形式の干渉測定装置ないし干渉測定方法は、Ｐ． ｄｅ Ｇｒｏｏｔ， Ｌ． Ｄｅｃｋ， “Ｓｕｒｆａｃｅ ｐｒｏｆｉｌｉｎｇ ｂｙ ａｎａｌｙｓｉｓ ｏｆ ｗｈｉｔｅ−ｌｉｇｊｔ ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｇｒａｍｓ ｉｎ ｔｈｅ ｓｐａｔｉａｌ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ｄｏｍａｉｎ”（Ｊ． Ｍｏｄ． Ｏｐｔ．， Ｖｏｌ． ４２， Ｎｏ． ２， ３８９−４０１， １９９５ および Ｔｈ． Ｄｒｅｓｅｌ， Ｇ． Ｈａｅｕｓｌｅｒ， Ｈ． Ｖｅｎｚｋｅ；“Ｔｈｒｅｅ−ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ ｓｅｎｓｉｎｇ ｏｆ ｒｏｕｇｈ ｓｕｒｆａｃｅｓ ｂｙ ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ ｒａｄａｒ”， Ａｐｐｌ． Ｏｐｔ．， Ｖｏｌ． ３１， Ｎｏ． ７， ９１９−９２５， １９９２）に記載されている。
【０００４】
（まだ公開されていない）ドイツ連邦共和国特許出願１９９４８８１３号にも、白色光干渉法に基づいたこの形式の干渉測定装置が記載されており、その際殊に狭い中空空間における測定のために、物体光路に中間像を生成することによって、横方向の分解能が高められる。同じくまだ公開されていないドイツ連邦共和国特許出願１００１５８７８．１号に、同時に横方向の分解能を比較的大きくしておいてなおかつ被写界深度を増大するために中間像走査を実施することが提案されている。
【０００５】
公知の干渉測定装置ないし測定方法では、測定課題により例えば数ミリメートル離れているおよび／または相互に斜めに配向されている複数の相互に空間的に別個の面の走査が必要であるとき、難題が生じる。
【０００６】
本発明の課題は、冒頭で述べた形式の測定装置を改良して、少なくとも２つの相互に空間的に別個の面（平面および曲面）をできるだけ僅かなコストで正確な、申し分なく再現可能な測定結果を以て測定することができるようにすることである。
【０００７】
発明の利点
この課題は請求項１および択一選択的に請求項３の特徴部分に記載の構成によって解決される。これによれば、物体光路に、多焦点光学素子または種々異なった結像要素から成っている自由セグメント光学系を備えたスーパーポジション光学系が設けられており、該スーパーポジション光学系によって同時に、前記物体面からの他に少なくとも１つの別の面から像を生成できるようになっており、該像は直接または物体光路における少なくとも１つの中間結像を介して前記イメージ変換器に結合されかつ前記物体面および少なくとも１つの別の面の測定は参照光路の光路長に対する物体光路の光路長の相対変化（走査、スキャン）に基づいて行われるようになっている。択一選択的に、物体光路に、少なくとも前記両面の光路長差の被写界深度を有する結像光学系が設けられており、該結像光学系によって同時に、物体面からの他に少なくとも１つの、該面の前方または後方に位置している、平行な別の面−または光学的な偏向素子を介して相互に斜めにまたは直角に配置されている面−から像を生成できるようになっており、該像は物体光路における少なくとも１つの中間結像を介して前記イメージ変換器に結合されかつ前記物体面および少なくとも１つの別の面の測定は参照光路の光路長に対する物体光路の光路長の相対変化に基づいて行われるようになっている。
【０００８】
この構成によって、物体光路を新たな調整せずとも、異なっている面の正確な測定が可能になる。参照最大値を捕捉検出するために、参照光路および物体光路の光路長を異なっている面の配置状態（位置、姿勢）に相応して順次に調整設定しさえすればよい。その際自由セグメント光学系は例えば、相互に斜めに置かれているまたは相対向している面にも容易に整合される。多焦点光学系および、少なくとも両面の光路長差の被写界深度を有している結像光学系によっても、相互に異なった距離だけ離れかつ相互に異なって配向されている面および例えばその平行度または平坦度、厚みおよび直径が測定される。
【０００９】
更に種々の有利な形態によれば、物体光路は物体面の中間像および別の面の中間像の共通の中間像を物体光路における共通の中間像面に生成するように構成されておりかつ該共通の中間像は直接または少なくとも１つの中間結像を介してイメージ変換器に結像されるようになっている。少なくとも１つの中間結像によって、一方において中間像走査が可能でありかつ他方において高められた横方向の分解能が可能である。
【００１０】
物体光路が内視鏡として実現されているようにすれば、狭い中空空間においても比較的大きな横方向の分解能を有する測定が簡単に実施される。
【００１１】
更に正確な測定のために、物体を平面波で照射する光導波体が設けられており、該光導波体の物体側の出口は物体光路のテレセントリックな結像装置に置かれているか、または付加的なレンズおよび偏向エレメントを備えた照射光路が形成されているという構成が有利である。
【００１２】
参照光路が、干渉の発生を可能にするまたは干渉コントラストを最適化するまたは物体光路における構成要素の光学的な影響を補償する、物体光路に類似しているまたは同一の光学系を有しているようにすることによって測定が可能になるまたは一層効果的になる。
【００１３】
物体光路に、該物体に関して不動の光学系が配置されておりかつ該不動の光学系に光軸の方向に移動する光学系が続くようにすれば種々異なった表面をアクセスしにくい個所でも簡単な手法で測定する種々多様な可能性が得られる。
【００１４】
不動の光学系をスーパーポジション光学系の部分として構成することで、構造および取り扱いの点で有利な形態が可能である。
【００１５】
物体の横方向の相対運動に対してロバストな測定を実現するために、有利には、不動の光学系が無限遠を結像するようにされる。
【００１６】
更に本発明の有利な形態によれば、不動の光学系は物体に対して不動の少なくとも１つの中間像を生成するスーパーポジション光学系として実現されており、かつ可動の光学系として、光路において不動の中間像の後に続く対物レンズ光学系が光軸の方向において移動するように実現されていて、該軸に対する法線方向に配向されている中間像が深度方向において走査されかつこの中間像が直接または１つまたは複数の中間結像を介してイメージ変換器に結像されるようにしている。例えば物体光路にある、物体表面の中間像を物体光路にあるスーパーポジション光学系を用いて生成することによって、狭い通路または孔においても測定すべき物体表面が比較的大きな横方向の分解能で捕捉検出可能でありかつイメージ変換器または後置接続されている評価装置によって深度構造に関して評価可能である。不動の中間像の走査は比較的簡単な手段で可能である。というのは、深度走査のために、物体光路のほんの僅かな数の光学的構成要素を動かしさえすればよい。この場合不動の中間像のその都度走査される深度は、深度走査（深度スキャン）によって、移動する対物光学素子の物体面も不動の中間像を通って移動するから常に可動の対物光学素子の被写界深度領域にとどまりかつこのようにして例えば干渉最大値が最大の鮮鋭度領域において評価される。
【００１７】
中間像に結像されるすべての物体点に対する中間結像が同じ結像縮尺を有しているようにすれば、評価の結像品質および精度が改善される。その際例えば、不動の光学系が４ｆ装置として実現されているように構成することができる。
【００１８】
不動の光学系および可動の光学系を実現するための詳細に関して補足するのに、本出願人のドイツ連邦共和国特許出願１０１１５５２４号が参考になる。
【００１９】
図面
本発明を次に図面を参照して実施例に基づき詳細に説明する。その際：
図１は、自由セグメント光学系を有している白色干渉（コヒーレンス干渉）の原理に従った干渉測定装置の略図であり、ここで自由セグメント光学系は相互に９０°回転された２つの位置で図示されており、
図２は、干渉測定装置の別の実施例の略図であり、その際物体光路には複数の別個のレンズ素子を有するスーパーポジション光学系が形成されており、
図３は、干渉測定装置の別の実施例の略図であり、その際物体光路には２焦点光学系が配置されており、
図４は、参照光路および物体光路に光導波体により光がガイドされるようになっている干渉測定装置の別の実施例の略図であり、
図５は、ビームが物体光路においてレンズおよび偏向素子を有する照射光路を介してガイドされるようになっている干渉測定装置の別の実施例の略図である。
【００２０】
実施例
図１に示されているように、白色光干渉（短コヒーレンス干渉）の原理に従った干渉測定装置は、それ自体公知でありかつ冒頭に述べた刊行物並びにそこに挙げられている文献に詳細に記載されているような、物体光路ＯＷと、参照光路ＲＷと、評価装置が後置接続されているイメージ変換器ＢＷとを有している。その際干渉はコヒーレンス長の領域においてしか生じないということが利用され、これにより参照光路ＲＷおよび物体光路ＯＷの光路長の簡単な調整並びに例えば干渉最大値の補足検出が可能になる。その際短コヒーレント光源ＫＬから放射される光線は例えば１０μｍのオーダのコヒーレンス長を有している。短コヒーレント光源ＫＬの光線はビームスプリッターＳＴを用いて参照光路ＲＷを介して導かれる参照ビームと物体光路ＯＷを介して導かれる物体ビームとに分割される。イメージ変換器ＢＷに対する光路に、結像のため用に第４および第５のレンズＬ４，Ｌ５が配設されている。
【００２１】
参照光路が、干渉の発生を可能にするまたは干渉コントラストを最適化するまたは物体光路における構成要素の光学的な影響を補償する、物体光路に類似しているまたは同一の光学系を有しているようにすることによって測定が可能になるまたは一層効果的になる。
【００２２】
物体光路ＯＷには別の特別な点として、自由セグメント光学系ＦＯの形のスーパーポジション光学系が配置されている。この素子は右隣で示されている断面図（上側の図）において０°図（真ん中の図）および９０°図（下の図）に弁孔ＢＯに弁座ＶＳの近傍まで導かれている状態において示されている。自由セグメント光学系ＦＯによって同時に、孔ＢＯないし弁座ＶＳの複数のお互いに別個の面Ａ，Ｂを捕捉検出しかつ物体光路ＯＷの光学的な主軸に対して垂直である、物体光路における中間像面において共通の中間像ＺＷに結像することができる。自由セグメント光学系ＦＯは光を偏向する複数の面および光を結像する複数のレンズエレメントを有しておりかつそれぞれの測定要求に整合されている。殊に、共通の中間像ＺＷから異なった距離で離れていて、相互に斜めに配向されているまたは相対向している面Ａ，Ｂを捕捉検出しかつ共通の中間像ＺＷに結像することができる。
【００２３】
両方の面Ａ，Ｂに相応する干渉最大値の検出は走査方向ｒに相応する参照光路ＲＷの変化によって行われる。移動するユニットは鎖線で示されている。
【００２４】
物体光路ＯＷに配置されているスーパーポジション光学系は並列接続された２つのレンズ、すなわち異なった焦点距離を有する第１のレンズＬ１と第２のレンズＬ２とを有している。これらレンズにはプリズム形状のエレメントを前置することができる。物体光路は更に、テレセントリックな結像を実現するように構成されている。２つのレンズＬ１およびＬ２によって、異なった距離の、例えば数μｍないし１ｃｍ相互に離れている、相互に平行であって、物体光路ＯＷの光学的な主軸ＯＷに対して垂直に位置している面Ａ，Ｂが共通の中間像ＺＷに結像される。この像は、面Ａの中間像ＺＡと面Ｂの中間像ＺＢとから成っておりに物体光路における中間像面において結像される。第１および第２のレンズＬ１，Ｌ２の焦点距離はＦＡおよびＦＢで示されている。物体光路ＯＷの光路にはさらに、結像のための第３のレンズＬ３が配置されている。干渉最大値を検出するために、ミラーＳＰが走査方向ｒにおいて移動する。
【００２５】
図３には、図２と比べて、２つのレンズＬ１，Ｌ２に代わって、該２つのレンズＬ１，Ｌ２の特性にほぼ相応している２焦点レンズＬＢが配置されている。
【００２６】
図４に示されている実施例では、２焦点レンズＬＢの物体光路の光路に、物体側に置かれている別のレンズＬ６，Ｌ７が挿入されている。物体光路ＯＷには更に光導波体ＬＬが設けられている。これを介して光源ＫＬからコヒーレンス光が導かれて、面Ａ，Ｂに別のレンズＬ７を介して平面波が照射される。実質的に相応するレンズが補償のために参照光路ＲＷにも配置されており、かつ参照光路にも光導波体を介してビームが供給される。
【００２７】
図５では、図４に比べて、物体光路ＯＷにおいて光導波体ＬＬがディスクレートな付加的なレンズＬＺ１，ＬＺ２および偏向エレメントＡＥ１，ＡＥ２を備えている、面Ａ，Ｂに平面波で照射するための照射光路ＬＷに置き換えられている。その際別のレンズＬ６，Ｌ７は設けられていない。
【００２８】
これまで説明してきた干渉測定装置によって、上に述べたスーパーポジション光学系の形の特別な光学系を使用して同時に、空間的に互いに離れている面Ａ，Ｂが測定可能である。その際空間的に互いに離れている面Ａ，Ｂの距離ないし厚さ、平行度および直径を測定することができる。空間的に離れているこれらの面は直接または物体光路ＯＷにおける共通の中間像ＺＷを介してイメージ変換器ＢＷに結像することができる。
【００２９】
共通の中間像ＺＷは直接または物体光路における１つまたは複数の中間像を介してイメージ変換器ＢＷ、例えばＣＣＤカメラに結像することができる。
【００３０】
干渉測定装置の構成は例えばマイケルソン干渉計として実現されている。短コヒーレント光源ＫＬは例えばスーパールミネセンスダイオードまたは発光ダイオードである。スーパーポジション光学系による照射によって、物体の空間的に離されている面Ａ，Ｂが照射され、その際別個の面Ａ，Ｂを近似的な平面波によって照射すると好都合である。
【００３１】
自由セグメント光学系ＦＯの形のスーパーポジション光学系は例えば、異なっている光軸に沿ってかつ異なっている光路長を以て異なった面を共通の中間像面に結像する種々の個別レンズ系から成っていることができる。自由セグメント光学系ＦＯは、相互に組み合わせることができる、例えば球面レンズ、非球面レンズ、ロッドレンズまたはグリン（ＧＲＩＮ）レンズまたは回折光学素子またはプリズムまたはミラーのような光学素子によって実現することができる。
【００３２】
スーパーポジション光学系を２焦点レンズＬＢとして実現する代わりに、多数の面を測定すべきときには多焦点光学系を使用することができる。多焦点光学系は例えば別のレンズと組み合わせてテレセントリック装置にすることができる。
【００３３】
２つの干渉計アーム、すなわち参照光路ＲＷおよび物体光路ＯＷにおける光路長および分散を調整するために、使用の光導波体のファイバ長および幾何学模様はできるだけ同一に選択されていた方がよい。
【００３４】
スーパーポジション光学系は近似的に、大きな被写界深度または拡大されている被写界深度を有する光学素子、例えばアキシコン（Ａｘｉｃｏｎ）によって実現することもできる。
【００３５】
スーパーポジション光学系として多焦点光学系ないし２焦点光学系を使用する場合、参照光路ＲＷにおける補償のために、図３に示されているように、１つの焦点面しか有していない光学系を使用することができる。
【００３６】
イメージ変換器ＢＷに、参照波と重畳される、考察すべき面Ａ，Ｂの像が生成される。データ評価のために、例えば、物体および参照光路における光路長間の光路差に変化が生じるようにされる（深度のスキャン）。この変化は走査運動ｒによって引き起こされる。光路差を変化するために従来技術に従った種々の手法を用いることができる。例えば、参照ミラーを動かす、物体を深度方向に動かす、物体に対して相対的にセンサ全体を動かすまたはドイツ連邦共和国特許出願第１００１５８７８号に記載されているように中間像を走査するまたは音響光学変調器により光路長を変化する。
【００３７】
物体のイメージには、２つの干渉計アームにおける光路差がコヒーレンス長より小さいとき、高い干渉コントラストが生じる。３Ｄ高さプロファイルを得るために、種々の方法が使用されている。これらは、それぞれの画素（ピクセル）に対する深度を走査していくと、最高の干渉コントラストが生じる光路差が検出されることに基づいている。
【図面の簡単な説明】
【図１】
白色干渉（コヒーレンス干渉）の原理に従った干渉測定装置の略図である。
【図２】
干渉測定装置の別の実施例の略図である。
【図３】
干渉測定装置の別の実施例の略図である。
【図４】
参照光路および物体光路に光導波体により光がガイドされるようになっている干渉測定装置の別の実施例の略図である。
【図５】
ビームが物体光路においてレンズおよび偏向素子を有する照射光路を介してガイドされるようになっている干渉測定装置の別の実施例の略図である
【国際公開パンフレット】
2004502953.tif 000003
2004502953.tif 000004
2004502953.tif 000005
2004502953.tif 000006
2004502953.tif 000007
2004502953.tif 000008
2004502953.tif 000009
2004502953.tif 000010
2004502953.tif 000011
2004502953.tif 000012
2004502953.tif 000013
2004502953.tif 000014
2004502953.tif 000015
2004502953.tif 000016
2004502953.tif 000017
2004502953.tif 000018
2004502953.tif 000019
2004502953.tif 000020
2004502953.tif 000021
2004502953.tif 000022
2004502953.tif 000023
2004502953.tif 000024
2004502953.tif 000025
2004502953.tif 000026
2004502953.tif 000027
2004502953.tif 000028
【国際調査報告】
2004502953.tif 000029
2004502953.tif 000030
2004502953.tif 000031
2004502953.tif 000032