(57)【要約】本発明は反応を遂行するための装置に関し、該装置は反応を遂行するウエル（well）（４）を備える基板（２）とカバー手段（３）を具備する。本発明に従うとカバー手段（３）には、開口（５）が設けられ、それは初めの位置ではウエル（４）と重ならず、一方次の位置では少なくとも部分的にウエルと重なる。当該装置は単純な方法により充填されそしてウエル（４）からの液の蒸発は大部分防止される。本発明はまた本発明に従う装置において反応を遂行する方法にも関する。
2004527366.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応を遂行する装置であって、該装置は、
―ウエルを備えた基板；および
―基板、特にウエルを覆うカバー手段
を設けてなり、
基板は、上面を有しそしてカバー手段は下面を有し、カバー手段と基板は基板の上面の面内で互いに関連しつつ滑動可能であり、そして基板は開口を備え、それは第１の位置ではウエルとは重ならず、そして第２の位置では少なくとも部分的に重なることを特徴とする。
【請求項２】
該装置がいくつかのウエルを具備することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
ウエルが規則的なパターンで配列することを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項４】
カバー手段にいくつかの開口が設けられていることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項５】
ウエルと開口が同数ありそして開口は孔と実質的に同じパターンで配列していることを特徴とする請求項４記載の装置。
【請求項６】
開口の径は少なくともカバー手段の下面で二つの隣接するウエルの間の距離よりも小さいことを特徴とする先行する請求項の一つに記載の装置。
【請求項７】
カバー手段の下面と基板の上面から選択された表面の少なくとも一つが親水性であることを特徴とする先行する請求項の一つに記載の装置。
【請求項８】
カバー手段には液供給のための供給開口が設けられ、該供給開口は基板上面にあることを特徴とする先行する請求項の一つに記載の装置。
【請求項９】
ウエルには試薬が備えられることを特徴とする先行する請求項の一つに記載の装置。
【請求項１０】
少なくとも基板またはカバー手段のいずれかが光学的に透明であることを特徴とする先行する請求項の一つに記載の装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０の一つに記載の装置により反応を遂行する方法であって、この方法は、
液が供給されそして毛細管現象により基板とカバー手段の間の空間が液で満たされ、液でウエルを充填するために、基板とカバー手段は２番目の位置に位置して空気は開口を介して排出され、そしてウエルが充填された後カバー手段と基板は互いに関連しつつカバー手段と基板を第１の位置へ移動させるように滑動することを特徴とする。
【請求項１２】
初めの位置では、貫通孔はウエルとは重ならないが、液は装置へ供給され、毛細管現象により基板とカバー手段の間の空間は液で充填されず、カバー手段と基板は互いに関連しつつウエルを液で充填するために第２の位置へ滑動し、ウエルが充填された後基板とカバー手段は互いに関連しつつカバー手段と基板を第１の位置へ戻すために移動することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
液が貫通孔を介して装置に供給される請求項１１または１２記載の方法。
【請求項１４】
一度初めの位置に戻ると、カバー手段は１―２ｋｇ／ｃｍ２の力で基板に押し付けられる請求項１１〜１３の一つに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は反応を遂行する装置に関し、該装置は―ウエル（well）を備えた基板；および―基板、特にウエルを覆うカバー手段を具備する。
【０００２】
このような装置は一般的にはＥＬＩＳＡ板という態様で良く知られている。ＥＬＩＳＡ板は硬いプラスチックキャップまたは接着性フィルムでカバーされていることができる。ウエルの中の液が蒸発するという問題は非常に微小な反応容積中で反応が遂行されるという装置では特に大きく、カバー手段を適用するのはより困難となる。これは非常に微小なウエル、例えば１０nlより小さい容積のウエルを有する基板にあてはまる。
【０００３】
本発明の目的は基板とカバー手段を有する装置を提供し、該装置によりウエルは充填とそれに続くカバーをすばやく、十分に行うことができる。
【０００４】
このために本発明の前提に従う装置では基板は上面を有しカバー手段は下面を有し、カバー手段と基板は基板上面の面内で互いに関係しつつ滑動可能であり、そして基板は開口を備え、はじめの位置ではウエルを覆うことはなく、次の位置では少なくとも部分的にウエルを覆うことが特徴である。
【０００５】
当該装置は、いつでも望みのときに表面張力によりウエルを満たすことができる。
【０００６】
実際上は、装置はいくつかのウエルを有し、そのウエルは好ましくは規則的なパターンで配列している。さらに、一般的には少なくともカバーの下面または基板の上面のいずれも平坦である。
【０００７】
カバー手段には好ましくはいくつかの開口が設けられ、そして好ましくはウエルと開口は同数でありそして開口は実質的に孔と同じ配列である。
【０００８】
これは一つのウエルから他へいかなる液も移ることなく複数のウエルが同時に満たされることを可能とし、そうでないならばそれは誤りの陽性（positive）反応となり得る。
【０００９】
開口の径は好ましくは少なくともカバーの下面で二つの隣り合うウエルの間の距離よりも小さい。
【００１０】
これによりカバー手段は短い距離で初めの位置に移動できる。
【００１１】
好ましくはカバー手段の下面と基板の上面から選ばれる少なくとも一つの面が親水性である。
【００１２】
親水性であることによりカバー手段と基板間の液の移動速度が増大する。それはまた、ウエルがうまく充填される可能性を増大させる。
【００１３】
好ましい実施態様によればカバー手段は液を供給するための供給開口を備え、その供給開口は基板上面の上にある。
【００１４】
当該供給開口は、基板とカバー手段の間の間隙を介する代わりにカバー手段の上面を介して液が供給されることを可能とする。これにより液供給をより単純とするのみでなく実際上液がウエルにより接近して供給されることを意味し、そしてこれは充填がより迅速に行われることを意味する。供給開口は充填されるべきウエルの上方には位置しない。
【００１５】
ウエルには好ましくは試薬を備える。
【００１６】
試薬は受容体（receptor）または配位子（ligand）であり、該物質は特にそして好ましくは高い親和性を有し、検知されるべき物質に結合する（または同様に結合される）物質を意味すると理解される。試薬はまた（酵素）反応の基質でもあり得る。
【００１７】
有利にはすくなくとも基板またはカバー手段のいずれかが光学的に透明であり、そしてより有利には両方とも光学的に透明である。
【００１８】
このようにして基板上で非常に簡単に迅速に測定を行うことができ、これによりウエル配列の場合には同時並行測定が可能となる。
【００１９】
本発明はまた本発明に従う装置を用いて反応を行う方法にも関する。
【００２０】
これにより本発明に従う方法は、液が装置に供給され毛細管現象により基板とカバー手段の間の空間が液で満たされ、液でウエルを満たすために基板とカバー手段は第２の位置にあり空気が開口を介して排出され、そしてウエルが充填された後カバー手段と基板が第１の位置に移動するためにカバー手段と基板は互いに関連しつつ滑動する。
【００２１】
カバー手段と基板との距離を特定の距離に固定することにより、そしてこの距離は試験で簡単に決められるのだが、第１にウエルは充填されず一方毛細管現象により基板の上面とカバー手段の間の架空間は充填されることになることを確実にするのが可能である。ウエルと開口を部分的に重なることを可能にすることにより初めはウエルが満たされることを妨げる助けをした空気が排出されると、ウエルが充填されることが可能となる。
【００２２】
液はウエルの直ぐ近くから供給されるのでこの方法は特に好ましい。傾向としては数個のウエルの場合に異なるウエルの間で汚染が実際上起こらないというものである。必要な距離は基板とカバー手段の表面の親水性、同じく液の親水性に依存する。もしもウエルが装置への液の供給の間に既に充填されるならば基板とカバー手段の間の距離は広すぎることになる。もしも液がウエルを充填するに不充分ならば基板とカバー手段の間の距離は狭すぎる。
【００２３】
好ましくは液は供給開口を介して装置に供給される。これはウエルの単純な充填を可能とする。
【００２４】
一旦初めの位置に戻ると、開口を介する蒸発を更に防止するためにカバー手段は基板に好ましくは１−２ｋｇ／ｃｍ２の圧力で押し付けられる。
【００２５】
本発明は次の例示態様の助けをかりてまた以下の図面を参照して明確となる。
【００２６】
図１ａと図１ｂは、それぞれ本発明に従う装置の基板の平面図、および同様に基板のためのカバー手段の底面図を示し；
【００２７】
図２は図１に示される装置のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図を示し；
【００２８】
図３ａはカバー手段と基板が互いに位置に関し第１の位置にある本発明に従う装置の平面図を示し；そして
【００２９】
図３ｂはカバー手段と基板が互いに位置に関し第２の位置にある本発明に従う装置の同じ平面図を示す。
【００３０】
図１は本発明に従う装置１を示し、そしてこの装置は基板２とカバー手段３を具備する。
【００３１】
基板２は公知の技術により窒化珪素被膜を備えたシリコン基板である。基板２は再生のためウエル４（その一つが示されている）のマトリックス、特に再製可能な速度でウエル４の充填を備える。基板２は、その上面に突出し８を備える。カバー手段はその下面が完全に平らなため一旦カバー手段が基板２上に置かれると基板表面に等距離で滑るのが可能である。
【００３２】
図２では、ポリメチルメタクリレートのカバースリップ（厚み  ０．５ｍｍ）で形成されたカバー手段は基板２上に置かれているが、開口５が見られ、それはウエル４に重なっていない。初めの位置では、ここに示されるように、液は供給開口６を介して装置に供給されることができ、それで基板２の表面とカバー手段３の下面との間の間隙７は液で満たされる。図３ａにはこの最初の位置が基板２の平面図（点線で図示される）として示され、それは多数のウエル４を具備する。カバー手段３（実線で示される）は開口５を具備し、それは初めの位置ではウエル４に重ならない。凝集と接着の相互作用により（相互作用は液と基板２とカバー手段３の表面の親水性に依存する）間隙７は液で充填されるが、しかしウエル４は充填されない。これらは空気で満たされ、そのまま維持される。カバー手段３と基板２を開口５がウエル４に少なくとも部分的に重なる次の位置へ互いに関連しつつ移動させると、空気はウエル４から抜けて液がウエル４へ流入することができる。もしも開口５とウエル４の中心が一致するならば、液は半径方向から放射状に供給され、ウエル４の中のいかなる試薬も他のウエル４の中へ流入しないことが保障される。
【００３３】
カバー手段３に凹部が設けられ、それにより開口５とウエル４との重なりの前ですら突出し８によりカバー手段３の凹部が構成され（図示されない）、その結果基板２とカバー手段３は間隙７に存在する液により離隔され、このように基板２の表面上の突出し８とカバー手段３は相互に作用する。第２の位置は開口とウエル４の重なりが生じる位置であり、そこに到達すると、間隙７の幅が狭まくなって、ウエル４に液を供給することが可能となる。
【００３４】
ウエル４が充填された後、カバー手段は、もはやウエル４と開口５の間に重なりがないように位置し、カバー手段３は基板２に十分な圧力で押し付けられるので実際上確実にウエル４からの液の損失を無視できる。
【００３５】
カバー手段は、たとえばPerspex（ＰＭＭＡ）またはガラスで作ることができる。これは光学測定を可能とする光学的に透明なカバー手段となる。任意に基板２もこのような材料で作ることができまた光学的に透明とすることができる。ウエル４の周囲の基板２に、シールのためのゴムを設けることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１ａ−ｂ】それぞれ本発明に従う装置の基板の平面図、および同様に基板のためのカバー手段の底面図。
【図２】図１に示される装置のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図。
【図３ａ】カバー手段と基板が互いに位置に関し第１の位置にある本発明に従う装置の平面図。
【図３ｂ】カバー手段と基板が互いに位置に関し第２の位置にある本発明に従う装置の同じ平面図。
【国際公開パンフレット】
2004527366.tif 000003
2004527366.tif 000004
2004527366.tif 000005
2004527366.tif 000006
2004527366.tif 000007
2004527366.tif 000008
2004527366.tif 000009
2004527366.tif 000010
2004527366.tif 000011
2004527366.tif 000012
2004527366.tif 000013
【国際調査報告】
2004527366.tif 000014
2004527366.tif 000015
2004527366.tif 000016