(57)【要約】本発明は、管状体によって限定された空間における気体を含む溶融金属の見えない流れの制御の方法と装置に関する。その空間での金属流の少なくとも１つの所定層における測定から、記憶された値と比較されるその流れの形態の表示が得られる。比較の結果は、所望する流動形式が少なくとも前記層で得られるように、少なくとも１つの流れに影響を与えるパラメータを制御するために使用される。
2004512959.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
管状体によって限定された空間内、好ましくは注入ノズル内の、気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法において、
空間内の金属流の少なくとも１つの所定層について、前記所定層における少なくとも１つの流れ因子を表す少なくとも１つの量を測定する段階と、
測定された量から、記憶された値、好ましくは経験的に定まる値と比較することによって、前記所定層における流れの形態を示す値を得る段階と、
その比較結果に基づいて、所望する形態の流動形式が少なくとも前記所定層で生じるように、気体供給および／または金属供給のような少なくとも１つの、流れに影響を与えるパラメータを制御する段階とを包含する気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項２】
前記所望する流動形式が、以下の１つである請求項１に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法、
気体が金属流内に拡散している泡状流、
金属流の周りを気体が実質的に包囲する溶融金属からなる中心流、および
中心にある気体を金属流が実質的に包囲する溶融金属からなる環状非中心流。
【請求項３】
前記流れ因子が、前記所定層内の金属内容物を含む請求項１または請求項２に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項４】
前記流れ因子が前記所定層内の気体内容物を包含する請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項５】
前記量を測定する段階が、流れの横断方向における層内での測定を含み、もって、前記流れの層全体に亘る金属と気体の分布の表示を得る請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項６】
測定が数層で行われ、
該測定に基づいて、記憶された値と比較することよって各層における流れの形態の表示が得られ、
少なくとも１つの流れに影響を与えるパラメータが、異なる比較結果に基づいて所望する流動形式が各層にできるように制御され、
同じ流動形式または異なる流動形式を組み合わせた流れが、前記空間に生じる請求項５に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つのパラメータが、前記空間への気体の直接供給または間接供給を含み、好ましくは、量、圧力、方向または位置に関するものである請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項８】
前記気体が、前記管状体に隠されて見えない金属流の上流に供給される請求項７に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項９】
前記気体が、前記限定された空間とその中を流れる金属流に直接的に、好ましくは、主流の方向に対して実質的に直角に供給される請求項７または請求項８に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項１０】
前記気体が、前記限定された空間とその中を流れる金属流に間接的に、好ましくは、前記空間の始まる前方において、実質的に主流の方向に供給される請求項７または請求項８に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項１１】
前記量の測定の段階が、気体と金属の流れに対して接することなく、前記限定された空間の少なくとも１方の側からなされる請求項１から請求項１０までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項１２】
前記量の測定の段階が連続的になされ、必要に応じて、前記少なくとも１つの流れに影響を与えるパラメータの制御がなされる請求項１から請求項１１までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項１３】
前記量の測定が、注入ノズル内の金属流についてなされており、前記量の測定が注入ノズルの少なくとも１つの端部でなされる請求項１から請求項１２までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項１４】
前記量の測定の段階が、電磁的な測定によってなされ、好ましくは、前記量が誘導電圧のように、電磁場の強度に関係する請求項１から請求項１３までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項１５】
前記量の測定の段階が、
前記限定された空間と前記所定層に隣接して電磁場を発生させる段階と、
内容物を含む前記限定された空間が、発生した電磁場を少なくとも部分的に遮蔽する位置で、前記所定層内の金属と気体からなる内容物に影響を受けた前記電磁場を検出する段階を含み、
現実の流動形式を決める段階が、所定の流動形式を示す値を検出された電磁場に基づいて決める段階を包含する請求項１４に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項１６】
前記量の測定の段階が、
前記限定された空間と前記流れの層に隣接して電磁場を発生させ、
内容物を含む前記限定された空間が、発生した電磁場を少なくとも部分的に遮蔽する位置で、前記流れの層内の金属と気体からなる内容物に影響を受けた前記電磁場を検出する段階と、
前記電磁場を前記限定された空間内の金属と気体からなる内容物から影響を実質的に受けずに検出する段階を含み、
現実の流動形式を決める段階が、
所定の流動形式を示す値の決定のために２つの検出された電磁場の大きさの違いを計算する段階を包含する請求項１４に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項１７】
前記遮蔽位置が、前記電磁場を発生した側の正反対の側にある請求項１５または請求項１６に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項１８】
前記遮蔽位置が、前記電磁場を発生した空間の側に対して正反対でない側にある請求項１５または請求項１６に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項１９】
前記少なくとも１つのパラメータが、前記限定された空間への金属の供給、好ましくは、量または方向に関するものを包含する請求項１から請求項１８までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項２０】
金属によって運ばれた介在物／スラグによる注入ノズルへの堆積物の蓄積／閉塞の検出がなされ、該堆積物の蓄積／閉塞に対応するための対策が取られる請求項１から請求項１９までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法。
【請求項２１】
管状体によって限定された空間内、好ましくは注入ノズル内の、気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置において、
前記空間内の少なくとも１つの所定層に対して、前記所定層内の少なくとも１つの流れ因子を表す少なくとも１つの量を測定するために、管状体に隣接して配置するようにした検出装置と、
前記検出装置に接続されており、前記測定された量から得られる値が入力され、記憶された、好ましくは、経験的に定められた値と比較することによって、前記所定層内の流れの形態の表示が出力される評価装置と、
前記評価装置に接続されており、前記比較結果から、気体供給または金属供給のような少なくとも１つの流れに影響を与えるパラメータを、所望する形態の流動形式が少なくとも前記流れの層に生じるように、制御するようにした制御装置とを包含する気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項２２】
前記所望する流動形式が、以下の１つである請求項２１に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置、
気体が金属流内に拡散している泡状流、
金属流の周りを気体が実質的に包囲する溶融金属からなる中心流、および
中心にある気体を金属流が実質的に包囲する溶融金属からなる環状非中心流。
【請求項２３】
前記流れ因子が前記所定層内の金属内容物を包含する請求項２１または請求項２２に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項２４】
前記流れ因子が、前記所定層内の気体内容物を包含する請求項２１から請求項２３までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項２５】
前記流れの層の全体に亘る金属と気体の分布の表示を得るため、前記検出装置が、前記流れに対して横断的に第１層で測定する第１組の手段を包含する請求項２１から請求項２４までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項２６】
前記検出装置が、第２層での測定を行う第２組の手段も含み、
前記評価装置が、実行された測定から、記憶された値と比較することによって、各層での流れの形態の表示を得るようになっており、
前記制御装置が、所望する流動形式が各層にできるように、少なくとも１つの流れに影響を与えるパラメータを異なった比較結果に基づいて制御を行い、
同じ流動形式または違う流動形式を組み合わせた流れが、前記空間にできるようにした請求項２５に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項２７】
前記空間への金属の供給、好ましくは、量または方向を制御する手段が、前記空間の上流に配置されて、前記制御装置によって制御される請求項２１から請求項２６までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項２８】
前記空間への気体の供給、好ましくは、量、圧力、方向または位置を制御する手段が、空間の上流に配置されて、制御装置によって制御される請求項２１から請求項２７までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項２９】
前記制御手段が、前記空間および前記空間を流れる金属流に直接接続して配置される請求項２８に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項３０】
前記制御手段が、前記空間および前記空間を流れる金属流に間接接続して配置される請求項２８に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項３１】
前記検出装置が、１つ以上の電磁送信器と受信器を含み、前記量が、誘導電圧のように、好ましくは、電磁場の強度に関係している請求項２１から請求項３０までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項３２】
前記検出装置が、
前記限定された空間と前記流れの層に隣接して電磁場を発生するように配置された第１手段と、
前記流れの層内の金属と気体からなる内容物によって影響を受けた前記電磁場を検出するために、前記内容物を含む前記限定された空間が、発生した電磁場を少なくとも部分的に遮蔽する位置に、配置された第２手段とを含み、
前記評価装置が、検出された電磁場から、所定の流動形式を示す値を決定する手段を包含する請求項３１に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項３３】
検出装置が、
前記限定された空間と電磁場を発生する前記流れの層に隣接して配置された第１手段と、
前記流れの層内の金属と気体からなる内容物によって影響を受けた前記電磁場を検出するために、前記内容物を含む前記限定された空間が、発生した電磁場を少なくとも部分的に遮蔽する位置に、配置された第２手段と、
前記限定された空間内の金属と気体からなる内容物から、何ら影響を受けることなく前記電磁場を検出するように配置された第３手段を含み、
前記評価装置が、所定の流動形式を示す値を決定するために、２つの検出された電磁場の強度の差を計算する手段を包含する請求項３１に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項３４】
前記第２手段が、前記第１手段の配置されている側に対して正反対に配置されている請求項３２または請求項３３に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項３５】
前記第２手段が、前記第１手段の配置されている空間の側に対して正反対でないように配置されている請求項３２または請求項３３に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項３６】
前記電磁送信器と前記受信器が、前記管状体の周りにそれぞれ配置されており、前記電磁送信機と前記受信器が、好ましくは前記管状体に沿って異なる位置に配置されている請求項３１に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置。
【請求項３７】
金属によって運ばれた介在物／スラグによる注入ノズルへの堆積／閉塞を検出するための、また、堆積／閉塞に対する対策をとるための請求項２１から請求項３６までのいずれか１項に記載された気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する装置の使用。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（発明の背景）
本発明は、パイプや特に注入ノズルまたは浸漬入口ノズルのような管状体によって限定された空間内の溶融金属の見えない流れの制御の方法および装置に関する。
【０００２】
冶金業界では、液体金属を別々の方法で処理する異なったプロセスがある。一例は鋼のような金属の鋳造である。この鋳造プロセスの一部では、液体金属が取鍋から注入ノズルを通ってタンデイッシュへ供給される。金属はタンデイッシュから注入ノズルを通って鋳造型またはチル鋳型へ流れ、そこで金属は冷却されて固体となる。
【０００３】
注入ノズルを通る金属の供給と流れは、金属の凝固に関する、または鋳造粉末または鋳造潤滑剤のような添加剤の使用に関する最適な条件を付与するチル鋳型内での流れの形状を生じさせるために、とても重要である。
【０００４】
更に、アルミニウム酸化物のような固体物質が注入ノズルの内側や出口に蓄積しないようにすることが重要である。そのような固体物質は、一方では、注入ノズルや入口を閉塞させ、他方では、流れに影響を与え、従って鋳造プロセスや最終製品の品質に影響を与える。
【０００５】
今日の技術によって、注入ノズル内にある金属流が鋳造プロセスに適切であることを保証することが課題である。何故なら、注入ノズルを流れる時に金属が見えないからである。流れが注入ノズル内でどのようになるかを推定するための試み、例えば、水モデルや数学モデルがなされている。しかし、これらの方法は、大抵、変動のない条件を考慮している。実際には、流れには、例えば、ストッパやスライデイングゲートのような流れ制御装置の干渉、流れの非対称性、タンデイッシュのレベル変化、ノズル閉塞によって、著しい変化が生じる。
【０００６】
通常、閉塞を防止するために、アルゴンのようなある種の気体が注入ノズルに吹き込まれる。しかし、これは二次的な影響を生じて、その時に流れが変化することになる。
【０００７】
（発明の概要）
本発明の目的は、上記の問題を防止する、限定された空間を流れる金属流を制御するための方法と装置を提供することである。
【０００８】
上記の目的は、本発明によって、付属の特許請求の範囲に記載する特徴を有する方法と装置によって達成される。
【０００９】
本発明の１つの特徴によれば、管状体によって限定された空間内、好ましくは注入ノズル、浸漬された入口ノズルの内側の、気体を含む溶融金属の見えない流れを制御する方法が提供される。この方法は、
空間内の金属流の少なくとも１つの所定層について、前記所定層における少なくとも１つの流れ因子を表す少なくとも１つの量を測定する段階と、
測定された量から、記憶された値、好ましくは経験的に定められた値と比較することによって、前記所定層内の流れの形態の表示を与える値を得る段階と、
その比較結果に基づいて、所望する流動形式が少なくとも前記所定層内で生じるように、気体供給および／または金属供給のような少なくとも１つの流れに影響を与えるパラメータを制御する段階とを含む。
【００１０】
本発明の他の特徴によれば、管状体によって限定された空間内、好ましくは注入ノズル内の、気体を含むする溶融金属の見えない流れを制御する装置が提供される。この装置は、前記空間内の少なくとも１つの所定層に対して、前記所定層内の少なくとも１つの流れ因子を表す少なくとも１つの量を測定するために、管状体に配置するようにした検出装置を含む。評価装置が該検出装置に接続されており、該評価装置には測定された量から得られた値であって前記所定層内の流れの形態の表示を与える値が入力され、前記評価装置はこれらの入力された値を記憶された、好ましくは、経験的に定められた値と比較する。制御装置が前記評価装置に接続されており、比較結果から、気体供給または金属供給のような少なくとも１つの流れに影響を与えるパラメータを、所望する流動形式が少なくとも前記所定層に生じるように制御するようになっている。
【００１１】
本特許出願では、流れ因子は限定された空間内の活動成分で、金属内容物、気体内容物などを示しており、これらは互いには分離したり、結合したりして空間内で１つ以上の流れ状態を形成するものである。
【００１２】
本発明は、材料内容物の知識、即ち、空間の選択された部分での金属と気体の形態における材料の分布が、その中の現実の流動形式についての情報を与えてくれるという理解に基づいている。金属内容物のような流れ因子を表す量を測定することによって、空間内の金属と気体の分布の表示が得られる。金属と気体の分布、即ち、流れの形態の表示は、測定に基づくものであり、しかも記憶された、計算されたまたは経験的に定められた値と比較される指標値を計算するか求めることによって首尾よく得られる。
【００１３】
本特許出願では、流動形式とは、所定の確認された形態、即ち、流れの少なくともある部分での気体と金属の所定の分布を意味している。限定された空間の所定部分での気体内容物または気体成分を求めることによって、どの流動形式がその部分にあるかを求めることができる。従って、液体金属および／または、例えば、気体の限定された空間への供給が、その部分での流れの構成を修正するために制御される。従って、これは従来技術と比較したときに大きな相違点を意味する。なぜなら、従来技術では、流動形式を概略的に推定することが必要であり、また、変化が直接見つけられないため、ある条件の変化によって、流れの構成が相当変化することになるからである。
【００１４】
従って、本発明の１つの利点は、変化を連続的に考慮でき、従って、流れに影響を与えるパラメータを制御できることである。例えば、閉塞の始まりを初期の段階で発見でき、その障害が大きくなる前に早期に対策をとることができる。
【００１５】
本発明の更なる特徴によれば、上記の流れ制御装置が、金属によって運ばれた介在物／スラグが注入ノズルに堆積／閉塞するかどうかを検出し、そのような堆積物の蓄積／閉塞に対応する対策をとるために、使用される。
【００１６】
本発明のもう１つの利点は、モデル形式の間接的な手順が使用される従来技術とは違って、直接的な手順が実際の流れでの測定に使用されることである。
【００１７】
注入ノズルにおける液体金属に関して、液体金属がノズルを流れて気体のような非金属材料も存在する場合には、実質的に３つの流動形式とそれらの組合せが、確認されている。これらの３つの流動形式とは、１）泡状流、２）環状中心流、そして３）環状非中心流である。泡状流においては、供給された気体は、金属内に拡散または分布される。環状中心流は実質的には気体で包囲された連続的な金属噴流の形態で現れる。その逆が環状非中心流であり、実質的に金属流がノズルの壁面に沿って流れて気体がノズルの中心軸にある。ノズルの所定部分においては、流動形式に関して所定の望ましいものがある。中でも、注入ノズルの下部に泡状流があることが有利であることが、判明している、何故なら、これがチル鋳型への実質的に定常流であり、鋳造プロセスにとって好ましいからである。
【００１８】
流れの現実の形式を測定する有利な方法は、限定された空間の横断方向の多くの層または断面について測定することであるが、これはそれらの層で材料の分布がどのようになっているかを知るためである。従って、一種の断層撮影法の問題である。この各層に対して得られた測定情報によって、限定された空間の選択された断面での流れ図を提供することができ、従って、各層に対して現実の流動形式を決定することができる。層は管状体に対して横、即ち、水平層と縦、即ち、垂直層の両方がある事がわかる。更に、管状体を通る斜めの層もある。
【００１９】
本発明は、鋳造プロセスで極めて有用であるが、鋳造プロセスでは液体金属がタンデイシュからチル鋳型に注入するための注入ノズルに供給される。そのようなプロセスでは、注入ノズルによって、その内部の金属流は見えない。内部を見えないこと、満足に監視できないことは、注入ノズル内の流れの層における材料の分布についての情報を与える本発明によって補われる。
【００２０】
既に述べたように、望ましい流動形式は少なくとも１つの流れに影響を与えるパラメータを制御することによって作られる。本特許出願では、流れに影響を与えるパラメータは、流動形式に影響するようなパラメータに関するものであり、従って、単位時間当たりの量の意味での流れに限定すべきでなく、そのような流れの形態に関係すべきである。例えば、単位時間当たりに空間を流れる金属の量を変化させないで、流れの形態または流動形式を変化させるように、気体を所定の方法で供給することができる。気体供給の制御に加えて、金属供給を制御することが所定の流動形式を変化させ、または維持する別の方法である。
【００２１】
流動形式は限定された空間への金属供給の変化によって影響を受ける。従って、液体金属を供給する方向または供給する角度を変化させることができる。或いは、単位時間当たりの金属の供給量を適当な流動形式制御装置または流れに影響を与える装置を使用して増減できる。鋳造において、鉛直方向に調節可能なストッパは流れ制御装置となる。ストッパを下げると、管状体、即ち注入ノズルの入口を締め、それによって金属が取鍋またはタンデイシュのような容器から注入ノズルへ流れるのを防ぐ。しかし、ストッパを上げると、金属は注入ノズルへ流れるようになり、その量はストッパの鉛直方向の位置によって変わる。もう１つの可能な流れ制御装置は、スライデイングゲートであって穴の開いた複数の板を含み、これらの板を互いに重ねて配置して、相対的に位置をずらすか回転させるものである。従って、上板の穴が下板の穴に少なくとも部分的に重なると、これらの穴を通って注入ノズルまで流れる金属流れができる。（穴の重なりが大きいほど、金属流は大きくなる。）当業者なら分かるように、その他の相当する流れ制御装置も可能であり、これらの装置は量と流入の方向を制御できる。金属流は、例えば、タンデイシュ内の液体金属の量や制御されるタンデイシュへの新しい金属の供給速度によっても影響を受ける。
【００２２】
更に、流動形式は、限定された空間への気体の供給が変化することによって影響を受ける。供給する気体の量は変えることができ、また、供給圧力も変えることができる。位置と方向も重要な因子である、即ち、どこから気体を供給するか、そして、例えば、主流に対して、または、限定された空間を囲む壁面に対してどんな角度で供給するかも重要な因子である。都合のいいことに、気体は、ノズルとしても機能する、上記のストッパを通って伸びるガス管で供給される。気体は、注入ノズルをタンデイシュに連結するために使用する連結手段から吹き込むこともできる。或いは、タンデイシュまたは注入ノズルそれ自身に異なった角度の気体の入口を付けることもできる。使用される気体の例としては、アルゴン等のような不活性ガスである。
【００２３】
本発明の１つの特徴は、流れの実際の形式を測定し、求めることが気体と金属の流れに接触することなくなされることである。測定は限定された空間の少なくとも一方の側、例えば、空間を限定する管の一方の側からなされる。しかし、多くの構成が可能であり、その幾つかを以下に説明する。
【００２４】
空間内の金属と気体の内容物を表す量を測定するために、例えば、電磁的な測定方法を使用できる。この方法では、誘導電圧のような量が磁場の強度に関係していて好ましい。他にも、音響測定があり、超音波を使用する。更には、振動測定がある。更には、Ｘ線測定やガンマ線測定のような種々の形の放射測定がある。その他にも、温度測定または圧力測定がある。更に、金属気体の流れの速度測定がある。当業者なら分かるように、上記の測定方法の組合せも代替測定法である。
【００２５】
流れの直近の構成または流動形式に関する情報を与えるようにした本発明で使用される検出装置は、１つまたはそれ以上のセンサーを含む。測定に関連して使用するセンサーは、金属流を完全にまたは部分的に包囲するように配置される。これらのセンサーは、液体金属の流れの主方向に対して横断する平面に配置される。更に、センサーは、金属の流れの主方向に沿って、即ち、数個の平面に配置できる。これは、限定された空間の異なる部分で異なる流動形式を検出し制御することが望ましい場合に、有利である。連続的になされる測定によって、そのような制御のためのデータが得られる。例えば、鋳造の場合には、中心流と泡状流の間の遷移領域が注入ノズルのどこにあるのか知ることが重要であるので、金属がチル鋳型に流入する前に流れが適当な泡状流になる十分な時間を確保できる。
【００２６】
特に有利であると分かった測定方法は、コイルを有するセンサー配列を使用することであり、これらのコイルは電磁場を発生するコイルであって、金属がその中を流れる限定された空間の周りに配置されている。この配列は、送信コイルと受信コイルとを１つ以上組み合わせるのがよい。各コイルは管状体に隣接して配置するか管状体を包囲するのがよい。１つまたはそれ以上の送信器は１つ以上の受信機とともに働く。各コイルは１つまたはそれ以上の周波数で働く。従って、少なくとも１つの第１送信コイルが、少なくとも１つの第１受信コイルが同調する、第１周波数の電磁場を発生でき、一方、少なくとも１つの第２送信コイルが、少なくとも１つの第２受信コイルが同調する、第２周波数の電磁場を発生する。これによって、別々に配置された組になったコイルを分離することが容易になる。コイルは、逆結合されたいくつかのコイルにより、周囲からの干渉を最小限にするように配置するのが望ましく、従って、干渉を含む可能性のある基本信号は除外される。従って、実質的に、測定すべき物理現象の影響を受けた信号のみが測定される。
【００２７】
１つの基本的な配置は、１つの送信コイルと２つの受信コイルからなり、受信コイルのうちの１つがテスト対象物の状態に実質的に影響を受けないように配置し、もう１つの受信コイルはテスト対象物に起こる状態の影響を少なくとも一部受けるように配置する。受信コイルが逆結合されるか、またはテスト対象物からの影響がない状態で平衡させるので、ゼロ信号または最小信号が得られるが、これが基礎となり、テスト対象物で起こる変化の測定が低いノイズレベルで検出される。テスト対象物で変化が起こる時に、受信コイル間で相変化がおこる危険を避けるために、逆結合は、平衡点の一方の側で小さい信号を得るように適切に行う。
【００２８】
本発明は、注入ノズルによる金属流制御に使用するのに向いている。基本的な構成では、電磁場を発生する送信コイルを注入ノズルの一方の側に配置する。第１受信コイルを注入ノズル内の内容物で遮蔽されるように注入ノズルの反対側に配置する。注入ノズル自体は、電磁場に実質的に影響しない。何故なら、普通、注入ノズルはセラミック材料で作られるからである。第２の受信コイルを注入ノズルの内容物で全く遮蔽されないように配置する。２つの受信コイルで検出された電磁場の強度の差を実際の流動形式を示す値を求めるために計算する。明瞭な信号が上記の基本的な構成によって既に得られることが分かるので、流れの形態の満足できる指標が得られる。しかし、もっと多くのコイルをこの構成に追加してもよい。従って、コイルは注入ノズルの周りの別々の位置に、１つ以上の送信コイルと１つ以上の受信コイルの組合せで配置でき、これによって注入ノズル内の流れの構成についてより広い情報が得られる。
【００２９】
固定配置されたコイルに代わって、可動コイルを使用することも可能である。例えば、管状体の一方の側に配置した固定送信コイルを使用し、金属流で遮蔽されて円形経路に沿って走査・掃引される受信コイルを使用する。当業者は分かるように、この逆もまた可能である。即ち、走査送信コイルと固定受信コイルである。更に、送信コイル、受信コイルの両方を走査するようにすることも可能である。受信コイルは、上記の技術のように、遮蔽されない受信コイルに反転接続する。
【００３０】
測定装置を較正するために、限定された空間でのゼロ較正と最大流量較正、即ち、気体のみによる較正と金属のみによる較正を実施する。更に、３つの代表的な形式の混合流について較正を行う。この較正は、空間に挿入した、環状中心流を表す金属棒を使用して冷間状態で行うことができる。同じように、環状非中心流を表すためには、空間に金属管を挿入する。泡状流の場合は、気体状態のような予想される非金属状態に対応する非金属介在物を有する金属を使用できる。これは、金属または金属合金、例えば、ウッド合金とその中に鋳込んだ非金属の球、例えば、ガラス球とによって実現できる。
【００３１】
管状体中の金属流を測定するとき、流れの形態の表示、即ち、気体と金属の分散または合成を示すものを、記憶された値であって上記のように経験的にうまく定めた値と比較して得ることができる。経験値の代わりに、計算で求めた種々の流動形式の値を、比較に使用することができる。
【００３２】
評価装置が、検出装置に接続される。該評価装置は、例えば、検出装置に含まれるセンサーからの信号を受信するようになっており、現実の流動形式は受信した信号に基づいて求められる。評価装置は適当な通常の電子機器、ハードウェアとソフトウェアを含むのが望ましい。
【００３３】
評価装置は、現実の流動形式についての情報を接続した制御装置へ送る。使用者は、所望する流動形式を制御装置に入れる。これによって、現実の流動形式と所望する流動形式を連続して比較することができる。もしも流動形式が違っていると、制御装置は少なくとも１つの流れに影響する、即ち、流れ形式に影響するパラメータを制御できる。制御装置は、例えば、バルブなどに信号を送ることができる。制御装置は、適当な通常の電子機器、ハードウェアとソフトウェアを含むのが望ましい。
【００３４】
本発明は、気体を含む見えない金属流の制御のための方法と装置に関するので、これは気体供給が自然に生じる場合に、本発明が使用されるのを妨げるものではない。オペレータ自身が金属流への気体吹き込みを選択するときの気体の積極的な供給と違って、金属流に空気や他の気体が周辺から自然に漏れこむことは、特に、注入ノズルでは普通に起こることである。所望しない流れ、例えば、上記の洩れが生じたら、本発明によれば、流れに影響を与えるパラメータによって、例えば、気体と金属を積極的に供給することによって、所望する流動形式が得られるように、この流れを制御する。
【００３５】
（好適実施例の説明）
図１は、本発明が使用される鋳造装置１０の部品を概略的に示す。液体鋼のような液体金属を含む鋳造装置１０のタンデイッシュ１２が示されている。垂直な注入ノズル１４がタンデイッシュ１２の底部に配置され、この注入ノズル１４を通って液体金属がチル鋳型１６へ流下することができる。注入ノズル１４は、チル鋳型１６内に下げられ、または、浸漬されており、注入ノズル１４の下端は液体金属の表面よりも低い位置にある。更に、注入ノズル１４の下端には、側面穴の形状の出口があるが、注入ノズル１４の底面１８は閉じている。この側面穴は矢印２０で図に示すようにチル鋳型内で対称的な流れを生じるようになっている。
【００３６】
本発明による装置に含まれる検出器２２は、注入ノズル１４の上部の周りに配置されている。検出器２２は評価装置と制御装置を含む受入周辺機器２４に接続されている。検出器２２から入力した情報に基づいて、周辺機器２４は実際の流動形式が受入れられるものであるか、流れに影響を与える対策を取らねばならないかを判断する。例えば、注入ノズル１４の初期の閉塞（この場合には流動形式が変化する。）を検出できれば望ましい。そのような変化が生じれば、流れに影響を与える装置に信号を送る周辺機器２４によって流れに影響を与える対策がとられる。この流れに影響を与える装置は、周知の機能を有するストッパ２６として図に示されている。
【００３７】
ストッパ２６は、下降位置では、注入ノズル１４の入口３０を塞ぐようにでき、これによって金属流が注入ノズル１４に流入するのを防ぐことができる。ストッパ２６は、上昇位置を変えて、金属の供給量をいろいろと変更できる。気体出口を有する気体導管（図示せず）が金属流に気体を供給できるようにストッパに適切に配置されているが、この導管はストッパ２６の垂直位置から独立して配置されるのが望ましい。
【００３８】
図２は、鋳造装置４０の部品を示し、これには本発明の他の実施例が使用されている。鋳造装置４０に含まれる部品には、図１における部品と同じ参照番号がついている。注入ノズルの上部の周りにのみ配置された図１の検出器２２とは違って、図２に示す実施例の検出器は、注入ノズルに沿って数箇所に配置された検出手段から構成されている。第１の検出手段４２は、注入ノズル１４の上部の周りに配置され、第２の検出手段４４は、注入ノズル１４の下部の周りに配置されている。複雑にならないように、これらの検出手段は２つだけ図示されている。しかし、当業者なら分かるように、注入ノズルに沿ってもっと多くの検出手段を配置することができる。図１に示す検出手段２２のように、検出手段４２、４４は流れに影響を与える装置２６に繋がった受入れ周辺機器２４に接続されている。流動形式についての情報は、図２に示す実施例によれば注入ノズル１４に沿って２箇所で得られる。例えば、これは、注入ノズル１４に沿って流動形式が変化することを確保したいときに、有利である。注入ノズルの上部で環状の中心流を得ることが望ましいことがある。壁面に沿って流れる気体が、とりわけ、注入ノズルの閉塞を防ぐためである。一方、チル鋳型１６内での均一流を得るために、注入ノズル１４の下部で泡状流を得ることが望ましいこともある。図示された２つの検出手段は、必要なら、流動形式が注入ノズル１４に沿って同一であることを確保するためにも使用できる。
【００３９】
図３ａ〜３ｆは、注入ノズルのような長い空間で金属流を制御する場合に有利であることが分かっている電磁検出についての種々の代替構成を示す。図３ａ〜３ｆでは、送信コイルを斜線の入った四角で示し、受信コイルを白抜きの四角で示す。図の点線は、各送信コイルが離れた所にある１つあるいは複数の受信コイルと通信することを単に示しているだけであり、実際、現実の電磁場の伝播を示すものではない。これを図示すれば、図を不明瞭にするだろう。
【００４０】
基本的な配置を図３ａに示すが、注入ノズル５０を上から見て円形に示してある。注入ノズル５０の一方の側に、送信コイル５２を配置して電磁場を発生する。送信コイル５２の隣に、第１の受信コイル５４を送信コイル５２が発生した電磁場を感知するように配置する。注入ノズル５０の反対側には、第２の受信コイル５６を配置し、これも前記電磁場を感知するように配置する。しかし、その配置のために、液体金属のような内容物がある注入ノズル５０は、送信コイル５２を部分的に遮蔽することになる。従って、第２の受信コイル５６は、第１の受信コイル５４よりも弱い電磁場を検出することになる。受信コイル５４、５６からの信号の逆結合すること、即ち、その差を取ることによって、干渉を含む可能性のある基本信号は削除される。従って、実質的には、注入ノズル５０内の流動形式によって影響を受ける信号のみが測定される。
【００４１】
他の構成を示す図３ｂでは、送信コイル５２を電磁場を発生するように配置し、４つの受信コイル５４、５６、５８、６０を電磁場を受けるように配置する。２つの受信コイル５４、５８は、送信コイル５２に隣接して配置され、注入ノズル５０の内容物によって遮蔽されない。他の２つの受信コイル５６、６０を注入ノズル５０の反対側に配置し、その内の１つの受信コイル５６を送信コイル５２の対角線上に配置し、他方、第２の受信コイルを図の右側にずらして配置する。注入ノズル５０の片側で測定することに特に関心があるならば、この配置が有利である。送信コイル５２は、例えば、数個の周波数を与えられるか、または数個の周波数帯を走査することによって、種々の周波数の電磁場を発生する事ができ、受信コイルは、受信コイルで検出される電磁場が容易に識別できるように、（それぞれ、５４と５６、５８と６０のように）対で各周波数に調整される。
【００４２】
図３ｃでは、送信コイル５２に隣接して配置した更にもう１つの受信コイル６２と遮蔽された受信コイル６４が付加されている。この追加された遮蔽受信コイルはその他の遮蔽受信コイル５６、６０に対して、図の左側にずらしてあり、この配置は図３ｂの遮蔽受信コイルに対応している。図３ｃの配置によって、注入ノズル５０を通る流れ断面のより完全な図が得られる。あるいは、３つの遮蔽受信コイル５６、６０、６４を、注入ノズル５０の周りの実質的に部分的な円形の経路で走査し、あるいは移動する１つの受信コイルと入れ替える事ができる。
【００４３】
さらに完全な流れの図を得るために、もっと多くの受信コイルを配置することができる。例えば、図３ｄは、送信コイル５２に隣接して配置された５つの受信コイル５４、５８、６２、６６、７０と注入ノズル５０の内容物で遮蔽される５つの受信コイル５６、６０、６４、６８、７２を示している。
【００４４】
１つだけの送信コイルを使用する代わりに、図３ｅに示すように数個の送信コイルを使用することができる。図には、３個の送信コイル８０、８２、８４を示している。各送信コイルは電磁場を発生するが、好ましくは、各々の周波数は他の２個の送信機が発生する電磁場の周波数と違える。６個の受信コイルがこの配置にはあるが、そのうちの３個の受信コイル８６、８８、９０は注入コイル５０の内容物によって遮蔽され、３個の受信コイル９２、９４、９６は遮蔽されない。従って、各送信コイル８０、８２、８４はそれぞれに隣接して配置された各受信コイル９２、９４、９６と注入ノズル５０の正反対側に配置された受信コイル８６、８８、９０を有し、これらの２種類の受信コイルは特定の送信コイルが使用する周波数帯に正確に調整されている。
【００４５】
図３ｆは更に別の構成を示す。この構成では、１個の送信コイル１００、２個の遮蔽されない受信コイル１０２、１０４、および遮蔽される受信コイル１０６が使用されている。この２個の遮蔽されない受信コイル１０２、１０４は遮蔽される受信コイル１０６とは逆結合されている。
【００４６】
図３ａ〜図３ｆに示した配置は全て逆結合された受信コイルを含むが、当業者なら分かるように、受信可能な信号が逆結合でなくても得られるのであれば、遮蔽されない受信コイルは無くすことができる。
【００４７】
図４は、電磁場検出に関する更に別の構成を示す。この図は、注入ノズル部１１０の縦断面図を示す。送信コイル１１２が注入ノズル１１０の周りに配置され、これと対応して、送信コイルの下に設けられた受信コイル１１４は注入コイル１１０の周りに配置されている。送信コイル１１２が発生した電磁場Ｂは注入コイル１１０の内部を伝播し、内容物により減衰させられて、受信コイル１１４で検出される。図３ａ〜図３ｆに示すように、より明瞭な出力信号を得るために、注入ノズルの内容物の影響を受けないで電磁場を検出する受信コイルを含むことができる。図４の配置によれば、測定は図３ａ〜図３ｆに示す配置とは違って垂直層でなされるが、図３ａ〜図３ｆの配置では測定は水平層で注入ノズルを通してなされる。
【００４８】
図５は、注入ノズル１２０内の流れの、気体と金属からなる内容物の測定と制御を例示するブロック図を示す。このブロック図では、センサー１２２を示すが、これは電磁センサー、超音波センサーのような音響センサー、振動センサー、Ｘ線またはガンマー線のような放射線量計、温度計、圧力計または速度計、またはこれらの組合せが望ましい。センサー１２２は、流れに関する測定信号を評価装置１２４に出力し、評価装置はこの測定信号を解釈可能な実際値に変換する。この実際値は制御装置１２６に送られ、制御装置１２６はこの実際値を、ユーザまたはユーザ装置１２８で、指示され経験的に得られたまたは計算で得られた要望値と比較する。従って、制御装置１２６は、流れに影響を与えるパラメータを、この比較結果に基づいて、望ましい流動形式が、測定がなされる流れの層に生じるように制御する。このブロック図に、１個の金属流に影響を与える装置１３０と、２個の気体流に影響を与える装置１３２、１３４を示す。２個の気体流に影響を与える装置は、例えば、注入ノズルの壁面に気体を吹き付けるようにした気体出口と、注入ノズルの上から中心に気体を吹き付けるようにした気体出口を含む。
【００４９】
信号処理は、本来、本発明の一部を構成するものではなく、当業者が適切な手段を採用することができる。このため、信号処理については詳細に記載せず、上記の例に概略的に示すのみとする。
【００５０】
図６ａ〜図６ｃおよび図６ａ’〜図６ｃ’は、管状体１４０の断面で気体を含む金属流の異なった流動形式を非常に模式的に示す。図６ａ〜図６ｃは管状体の縦断面図を示し、図６ａ’〜図６ｃ’はそれに対応する流動形式の管状体の横断面図を示す。金属は黒い部分で、気体は白い部分で示される。
【００５１】
図６ａ、図６ａ’は、いわゆる泡状流、即ち、気体１４２が液体金属１４４の中に実質的に泡状になって拡散しているものを示す。図６ｂ、図６ｂ’は環状中心流、即ち、気体１４２で環状に包囲された実質的に連続的な金属噴流を示す。図６ｃ、図６ｃ’は環状の非中心流、即ち、実質的に、金属流１４４が管状体１４０の壁面を流れ、管状体１４０の中心を流れる気体噴流１４２を包囲するものを示す。
【００５２】
図７は、図６に示す流動形式の電磁場に対する影響が、発生させた電磁場の周波数と共にどのように変化するかを示す図である。この図には、３個のグラフ、即ち、泡状流を示すグラフＡ、環状中心流を示すグラフＢ、環状非中心流を示すグラフＣを示す。この図は、周波数によって、管状体内の金属と気体の流れが、受信装置が検出する電磁場にどのように影響するかを示し、その情報を出力信号の形で与える。この図では、出力信号は、１００Ｈｚの基本信号に対するパーセント表示の信号変化として示されている。この場合、基本信号は管状体が空である、即ち、金属が中にないことを示している。
【００５３】
図から明らかなように、グラフＢ（環状中心流）は他の２つのものと容易に区別できる。これは、そのような中心流の金属噴流は磁場が通る小さな断面を与えるだけであり、従って、基本信号と比較して小さな信号変化しか与えないという事実のためである。グラフＡ、Ｃはお互いに似ている。この両者の場合には、管状体は大きな金属断面を含み、結果的に磁場をかなり遮蔽し、これが大きな信号変化となるのである。これらの２つのグラフはお互いに似ているが、相当な違いを示している。例えば、両者は５５０Ｈｚ付近で交差し、それ以上の周波数ではグラフＣがグラフＡの上にある。この理由は、泡状流（グラフＡ）の泡が気体を含まない均一な材料よりも高い周波数では磁場をよく通すからである。
【００５４】
以上、いくつかの実施例を説明してきたが、本発明はそれらに限定されるものではない。逆に、多くの修正や変更が、付属の特許請求の範囲に記載された本発明の範囲から逸脱することなく実行可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】
鋳造装置の部品を概略的に示し、本発明の一実施例が使用されている。
【図２】
図１と同様に、鋳造装置の部品を概略的に示し、本発明の他の実施例が使用されている。
【図３】
ａ〜ｆは電磁検出の種々の構成を示す。
【図４】
電磁検出の更にもう一つの構成を示す。
【図５】
注入ノズル内の流れにおける気体と金属の内容物の測定と制御を例示するブロック図を示す。
【図６】
ａ〜ｃ，ａ’〜ｃ’は管状体内の気体を含む金属に対する種々の流動形式を示す。
【図７】
図６に示す流動形式の電磁場への影響が、発生した磁場の周波数とともにどのように変化するかを示す。
【図７】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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2004512959.tif 000038
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