(57)【要約】本発明は、加圧された容器（１）の出口からの加圧された流体の排出を制御する装置を指向し、特に流体あるいはガスを容器に貯蔵し、そこからの流体あるいはガスの流量を制御するための、前記容器（１）内におけるマルチ流体分配逆止弁装置（７，１０）に指向される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
加圧された容器の出口からの加圧された流体の排出を制御する装置において、
ａ．加圧された容器の出口と連通し、流体排出通路を画成するポート本体と、
ｂ．前記ポート本体に、あるいはその上流側に固定され、前記流体排出通路を通る流体の流れを閉塞する密封位置と前記流体排出通路に沿った流体の流れを許容する開放位置との間で運動するようにされたボンベの弁と、
ｃ．上流側のダイフラム式分配装置であって、弁要素の上流側の圧力状態から遮断された内容積を画成し、前記弁要素と係合して、ダイアフラムの内容積と前記ポート本体の内部との間の差圧が前記弁要素を開放位置まで運動させるまで前記弁要素を密封位置に保持する仕方で前記弁要素の運動を制御する上流側のダイアフラム式分配装置と、
ｄ．下流側のダイフラム式分配装置であって、前記弁要素の上流側の圧力状態から遮断された内容積を画成し、前記弁要素と係合し、ダイフラムの内容積と前記ポート本体の内部との間の差圧が前記弁要素を開放位置まで運動させるまで前記弁要素を密封位置に保持する仕方で前記弁要素の運動を制御する下流側のダイアフラム式分配装置と、を含むことを特徴とする加圧された流体の排出を制御する装置。
【請求項２】
ハウジングが前記の上流側ダイフラムのベロー室を画成し、前記ベロー室は前記弁要素の下流側に位置している流体排出通路の一部と連通しており、ベローは前記排出通路との連通が前記ベロー室内で真空状態あるいは差圧を発生させると前記弁要素を開放位置まで運動させるに十分な内部圧力で密封されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記弁要素がポペット弁を含み、ベローが拡張することによってピンが前記ポペット弁を開放位置まで移動させるようにすることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
加圧された流体を入れ、ボンベからの加圧された流体の排出を制御するボンベと弁との組立体において、
開口を有するボンベと、
前記ボンベの開口と密封係合するようにされたポート本体と、
前記ポート本体によって画成され、前記ボンベの外側に位置している流体入口ポートと、
前記流体入口ポートと流体出口ポートとの間で弁体によって画成された流体排出通路と、
前記流体排出通路に沿って流体の流量を制御する手動の閉止弁であって、流体排出通路に沿って流体を閉塞する密封位置へ前記ボンベの弁を弾圧する手動の閉鎖弁と、
少なくとも１個が前記流体排出通路に沿って前記ボンベの弁の上流側に、少なくとも１個が下流側に位置している複数の密封されたベローであって、該ベローの内部と外部との間の相対圧力が前記ベローを拡張させると、前記流体排出通路に沿って流体が流れうるようにする開放位置まで前記弁要素を運動させるように該弁要素に少なくとも一部が作動結合されている密封されたベローと、を含むことを特徴とするボンベと弁との組立体。
【請求項５】
前記ベローが前記ベロー室の真空状態あるいは差圧に応答して前記弁要素を開放位置まで運動させるようにされていることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記弁要素がポペット弁を含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記ポート本体が前記流体排出通路の長さに亘って制限された通路を含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項８】
毛管チューブが流体入口ポートを画成し、流体入口通路をボンベの長さの概ね中間に位置させていることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
有毒なヨウ化水素酸化合物あるいはハロゲン化合物を入れた加圧された容器の出口からの加圧された流体の排出を制御する装置において、
少なくとも部分的な気相において加圧された流体を保持する容器と、
前記容器から加圧されたガスを解放する出口ポートと、
前記容器から加圧されたガスを送給するために出口ポートによって少なくとも部分的に画成されているガス流路と、
少なくとも１個がボンベの弁の上流側に、少なくとも１個が下流側に位置されている複数の個別の分配逆止弁装置と、流量制限装置と、を含むことを特徴とする加圧された流体の排出を制御する装置。
【請求項１０】
前記容器内に位置した導管が流路の制限された部分を含むことを特徴とする請求項９に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体を貯蔵したり、分配するための弁組立体に関し、特に加圧されたガスを貯蔵したり、分配するためのマルチ送給弁組立体であって、容器からの加圧されたガスの非制御の排出を阻止する弁組立体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
準大気圧状態において有毒な、可燃性の、腐食性ガスを扱う安全で、かつ効果的な方法を提供することが当該産業分野における目標であった。特に、これらのガスはドーパントガスを含む。一般に、ドーパントガスは特定のガスの特性に応じて所定の圧力、すなわち特定の圧力における個々のガスの蒸気圧と等しい圧力で圧縮ガスボンベに貯蔵される。前記ガスは半導体素子を製造するためのドーパント材料源として供される。これらのドーパントガスはイオン注入器と称される器具において使用される。イオン注入器は、半導体製造工程において数百人あるいは更には数千人もの人さえも従事している半導体製造施設の製造領域内に位置されるものである。これらの器具は、典型的には数千キロボルトまでの極めて高い電圧において作動する。このような高電圧のために、ドーパント供給源ガスは前記器具自体に、あるいはその内部に位置させておく必要がある（殆どのその他の半導体用器具では供給ガスを人間あるいは主要製造領域の外に位置させている）。イオン注入器の明白な一つの特徴はそれらが準大気圧で作動することである。ボンベから中味（製品）を送給するために前記器具に存在している真空を利用するということは真空が適用されるまでは前記中味はボンベパッケージから取り出すことができないという点で安全な包装（パッケージ）を創り出している。このような真空による送給という考え方によって加圧されたガスに偶発的に曝されることがないようにする。
【０００３】
現在、ドーパントガスを準大気圧で送給することに関わる問題を解決するために四つの明白な方法があると考えられている。第一の方法は、圧縮ガスボンベに（例えば、ビーズ状の活性炭のような）物理的な吸着材料を充填し、ドーパントガスを前記材料に可逆吸着させることを含む。この概念は一般に、ＳＤＳTM 技法として知られている。脱着工程は吸着材料／ボンベに真空あるいは熱を付与することを含む。実際には、イオン注入器からの真空が固相吸着剤からのガスを脱着するために使用される。ＳＤＳTM 技法に対する問題にはある限度が付随しており、それらは、１）吸着剤の装填能力に限度があり、それによって所定サイズのボンベにおいて利用しうる中味（製品）の量に限度があること、２）脱着工程はボンベパッケージを熱に露出することにより開始することができるので、そのために、多くのボンベの格納箇所において一般的である２７．２℃（７０°Ｆ）以上の温度にボンベが露出されると、大気圧や超大気圧にボンベが到達し、大気圧や超大気圧においてガスを送給するようにさせること、３）吸着剤の上に他の材料／ガスを吸着／脱着させるためボンベから送給されるガスの純度について譲歩する可能性があること、４）吸着剤の摩損によってガス送給系において粒子による汚染をもたらしうることを含む。
【０００４】
ドーパントガスの準大気圧での送給に関わる問題を解決する第二の方法は、中味を準大気圧で送給するために機械的な逆止弁を使用することを含む。この装置は当該装置に準大気圧すなわち真空状態が付与されると開放するように構成されている。本装置は従来のオン／オフ式ボンベ弁座機構の上流側に位置される。この装置の上流側での正確な位置は弁体内、ボンベの首部の空洞部内、ボンベ自体の内部、あるいはそれら３箇所全ての組み合わせのところでよい。各々の場合において、本装置はボンベの内部から送給ポートまでのガスの流れに対してボンベ弁の弁座の上流側に位置される。
【０００５】
米国特許第５，９３７，８９５号は加圧されたボンベあるいはタンクからの流体の危険な排出を阻止するために事実上故障のない安全な装置を提供するように真空作動の分配逆止弁および流量制限装置の形態の逆止弁を開示している。米国特許第６，０４５，１１５号は逆止弁による万一の故障の際に圧縮されたガスボンベからの有毒ガスの排出を最小にする毛細管サイズの開口を提供する流量制限装置を開示している。これらの開示の双方とも弁を通るガスの流れに対して弁座の上流側に位置する準大気圧送給装置を提供するものである。これらの開示は最大入口圧（すなわち、ボンベ貯蔵圧）に関して顕著な制限を有する装置を提供するものと考えられる。この圧力は約４２ｋｇ／ｃｍ2 （６００ｐｓｉｇ）か、あるいはそれ以下でなければならない。
【０００６】
ドーパントガスの準大気圧送給に関連する問題を解決する第三の方法は準大気圧状態で中味を送給するのに１個の調整器（あるいは複数の調整器）を使用することを含む。前記調整器は特定の準大気圧で中味を送給するようプリセットされている。前記調整器はボンベのオン／オフ弁の座の上流側に位置され、ボンベの首部の空洞部に、あるいはボンベ自体の内部に位置させることができる。米国特許第６，０８９，０２７号および同第６，１０１，８１６号の双方とも、所望圧力でガスを保持する容器を含む、流体貯蔵および分配装置に関わるものである。前記容器は圧力調整器、例えば該容器のポートに関連し、所定の圧力にセットされている単段あるいは多段調整器を有している。例えば、弁のような流量制御手段を含む分配組立体が前記調整器とガス／蒸気の流れとの連通関係で配置されており、それによって弁が開放すると容器からガス／蒸気を分配する。前記容器内の流体は、存在する温度状態、例えば環境温度（室温）において液化圧を超える圧力で容器に閉鎖された液体によって構成しうる。特に、前記米国特許第６，０８９，０２７号は弁制御手段の上流側における多段調整器を開示している。
【０００７】
前記の特許は、ボンベの内部から送給ポートまでのガスの流れに対して、弁座の上流側に調整装置を位置させることを開示している。しかしながら、調整装置は弁体内、ボンベの首部の空洞部内、ボンベ自体の内部、あるいはこれら三位置全ての組み合わせに位置させることができる。
【０００８】
ドーパントガスの準大気圧送給に関連する問題を解決するための第四の方法はボンベのオン／オフ弁の下流側に位置した単一の調整器を使用することを含み、前記調整器は弁体内に位置され、中味を準大気圧で制御／送給するように設計されている。米国特許第６，３１４，９８６号は、一次モジュールと、該一次モジュールに装着された二次モジュールとからなる、圧縮ガスボンベに使用するモジュール式ガス制御装置を開示している。この特許は、主ボンベ閉止弁の下流側に位置した単一の調整器の使用を開示している。前記調整器は弁体内に位置され、準大気圧から超大気圧までの所望の出口圧力を送給するように調整可能である。閉止弁はその内部機構と座機構とを前記調整器の上流側に位置させている。単一の調整器が開示されている。この方法に関連したある潜在的な問題がある。例えば、調整器の故障が発生した場合には高度の漏洩量と圧力上昇の可能性があることである。また、単一の調整器では大きな範囲の入口圧力範囲に亘って流量を制御するのが困難でありうる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、弁あるいは導管が故障した場合、有毒ガスの解放を制限あるいは阻止することである。
【００１０】
本発明の別の目的は、より高い圧力をガスボンベ内で貯めることができるようにすることである。より高い圧力はより大量の中味をボンベに入れるようにし、そのため顧客に対してより高い生産性とより低いコストとを提供する。
【００１１】
本発明の別の目的は、ボンベの弁座が空気汚染に露出されることに対してより大きな保護を提供することである。
【００１２】
本発明の更に別の目的は、特殊な毛管の流量制限能力により加圧されたガスが大気に露出されないように更に大きな保護を加圧されたガスボンベに対して提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、加圧された容器の出口からの加圧された流体の排出を制御する装置であって、ａ）加圧された容器の出口と連通し、流体の排出通路を画成するポート本体と、ｂ）前記ポート本体に、あるいはその上流側に固定され、流体排出通路を通しての流体の流れを閉塞する密封位置と流体排出通路に沿って流体が流れうるようにする開放位置との間で運動するようにされたボンベの弁と、ｃ）上流側のダイアフラム式分配装置であって、弁要素の上流側の圧力状態から遮断された内容積を画成し、ダイアフラムの内容積と前記ポート本体の内部との間の差圧が弁要素を開放位置へ運動させるまで前記弁要素を密封位置に保持するような仕方で弁要素の運動を制御するように弁要素と係合している上流側のダイアフラム式分配装置と、ｄ）下流側のダイアフラム式分配装置であって、前記弁要素の上流側の圧力状態から遮断された内容積を画成し、ダイアフラムの内容積と前記ポート本体の内部との間の差圧が前記弁要素を開放位置へ運動させるまで前記弁要素を密封位置に保持するような仕方で前記弁要素の運動を制御するように前記弁要素と係合している下流側のダイアフラム式分配装置とを含む装置を指向する。
【００１４】
別の実施例において、本発明は加圧された流体を入れ、ボンベからの加圧された流体の排出を制御するボンベと弁との組立体であって、ａ）開口を有するボンベと、ｂ）前記ボンベの開口と密封係合するようにされたポート本体と、ｃ）前記ポート本体によって画成され、ボンベの外側に位置した流体入口ポートと、ｄ）流体入口ポートと流体出口ポートとの間の流体排出通路と、ｅ）流体排出通路に沿って流体の流れを制御する手動閉止弁であって、流体排出通路に沿った流体の流れを閉塞する密封位置にボンベの弁を弾圧する閉止弁と、流体排出通路に沿ってボンベの弁の上流側に位置した少なくとも１個と、ボンベの弁の下流側に位置した少なくとも１個との、複数の密封されたベローであって、該ベローの内部と外部との間の相対圧力が前記ベローを拡張させると、流体が流体排出通路に沿って流れうるようにする開放位置まで弁要素を運動させるよう該弁要素に一部分が作動結合されている密封ベローとを含むボンベと弁との組立体を指向する。  
【００１５】
更に別の実施例において、本発明は、有害なヨウ化水素酸あるいはハロゲン化合物を入れた加圧されたタンクの出口からの加圧された流体の排出を制御する装置であって、ａ）少なくとも部分的に気相である加圧されたガスを保持する容器と、ｂ）前記容器から加圧されたガスを解放する出口ポートと、ｃ）前記容器からガスを送給するために前記出口ポートによって少なくとも部分的に画成されたガス流路と、ｄ）少なくとも１個がボンベの弁の上流側において、少なくとも１個が下流側において配置されている複数の個別の分配逆止弁装置と、ｅ）前記がス流路における流量制限装置の形態の毛管装置とを含む装置を指向する。
【００１６】
本発明において、容器あるいはポート本体は、ボンベの弁を作動させるために手動で、電気的に（例えばソレノイドにより）、空気的に、あるいは磁気的に作動する閉止弁を保有している。制限された流路を備えた導管の区画（パッキング）が流体排出通路の一部を画成する。この導管は内径が０．２ミリメートル或いはそれ以下である毛管を含む。
【００１７】
本発明のその他の目的、実施例、利点および詳細は好適実施例についての以下の詳細説明において説明されている。
【実施例】
【００１８】
本発明は送給系内のマルチ逆止弁分配装置に関するものである。前記系は、第一の分配装置が流量制御要素（例えば、ボンベの弁）の上流側に位置している真空送給系であることが好ましい。前記第一の分配装置は、一旦起動すると、ボンベの内部からガスを送給できるようにする。
【００１９】
本発明の重要な局面は、ボンベの弁の下流側に位置し、弁本体の内部に配置された第二の分配逆止弁装置を使用していることである。この第二の分配装置は準大気圧状態で開放（すなわち、ガスを送給）するように設計されている（すなわち、分配装置に対する入口は分配装置の出口での圧力よりも大きな圧力にあり、好ましくは入口での圧力は大気圧か、あるいはそれを上回り、一方分配装置の出口は準大気圧にある）。当然ながら、分配装置は真空送給に限定されるものでない。２個の分配装置は、ボンベ内からのガスを、準大気圧、大気圧、およびボンベの最大貯蔵圧力に至るまでの超大気圧を含むいずれかの下流側圧力範囲において送給するように構成することができる。
【００２０】
前記第二の分配装置は、ボンベの弁が開放しているときのみボンベの圧力を受けるような位置に置かれており、それによりボンベ内からのガスに対する分配装置の露出を制限する。別の利点は従来のボンベの開口内に装嵌するに十分小さいものであることである。分配装置は任意に、ボンベの外側（例えば、顧客の使用ポート）に位置させ、本分配装置を調整可能（すなわち、作動範囲を調整可能）とすることが可能である。分配装置の位置は、該装置の一方がボンベの弁の上流側に位置され、一方第二の装置がボンベの弁の下流側に位置されるようなものであって、その結果本発明の有利な実施例が提供される。詳しくは、ボンベの弁の下流側における第二の分配装置の位置は、該分配装置が永続的に装着されているか、あるいはボンベの弁自体の実際に一部であるという点においてボンベの弁と一体である。
【００２１】
本明細書で説明しているマルチ分配系は毛管作用による流量制限組立体と関連して提供されることが好ましい。前記制限組立体は、いずれかの機械的装置の故障の場合にボンベからのガスの流量を制限するように設計されている。この組立体は１）第一の分配装置とボンベの弁との間、あるいは２）第一の分配装置の上流側に位置することが好ましい。当該技術分野の専門家には、制限組立体の正確な位置は特定の用途に応じて決まることが認識される。
【００２２】
図１は準大気圧送給という目的を達成する、本発明の実施例を示す。少なくとも１個の分配装置７が閉止弁３（あるいはボンベの弁１１）の上流側に配置され、１個の分配装置１０が前記弁３の下流側に配置されている。この配置によって、ボンベの弁が空気に露出されないようにし、より大きなパッケージング（ｐａｃｋａｇｉｎｇ）能力を可能とし、かつ毛管作用を利用して流体の流量を低いプリセット流量に制限するシステムを提供する。
【００２３】
図１に示すように、従来のものより大きなポート本体４、あるいは通常のものより僅かに大きな弁体を備えたマルチ分配真空送給弁組立体２が提供される。ボンベの弁１１は弁体の内部で、かつ第一の分配装置７の下流側に位置されている。毛管組立体９が分配装置７とボンベの弁１１との間に配置されている。
【００２４】
マルチ真空送給弁組立体２を備えた圧縮ガスボンベ１の流体貯蔵および分配システムが示されている。圧縮ガスボンベは所定の圧力あるいは所定の中味の重量まで所望する流体１３（すなわち、特にドーパントガス）で充填される。
【００２５】
一般に、本発明による真空送給弁組立体が多数のガス状製品に対して適用可能である。以下の表１は、限定的でないが、本発明において考えられる流体を含んでいる。その他の流体、特にその他の不活性ガス、可燃性ガス、有毒ガス、あるいは半導体のプロセスガスを含む流体も本発明の範囲内である。
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【００２６】
ボンベのガス充填、調質および中味の検査は（図示していないが、図１を参照すれば、弁体の背後に位置している）二次充填ポートを介して行われる。充填ポートは弁機構５および別個の充填ポート６を介して開閉される。顧客の使用ポート４は手動の閉止弁３を介して開閉される。
【００２７】
好適実施例において、出口ポート４に真空を加えることによってガスが流れるようにされる。前記出口ポートは二次分配逆止弁１０と連通し、更に流体排出通路において上流側で第一の分配逆止弁７と連通している。本発明による分配逆止弁はベローを含むダイアフラムタイプのものとしうる。特に、ダイアフラムハウジングはベローを収容しているベロー室を画成しており、ベローは弁要素の上流側に位置した流体排出通路の一部と連通しており、ベローは、ベロー室において排出通路内の連通によって十分な圧力状態を発生させると、弁要素を開放位置まで運動させるに十分な内部圧で密封されている。
【００２８】
弁要素はポペット弁を含み、ベローが拡張するとピンがポペット弁を開放位置まで移動させるようにする。１個の密封されたベローがボンベの弁１１の上流側に、１個のベローが下流側に位置しており、各ベローはベロー室内の圧力状態に応答して弁要素を開放位置まで運動させるようにされている。制限されたガス通路は、流体入口ポートを画成し、該流体入口ポートをボンベの長さの概ね中間において、かつボンベの内部の半径方向中心に位置させるパッキングを包含する毛管を含みうる。
【００２９】
従って、図１を参照すれば、出口ポート４に真空を加えると第二の分配逆止弁装置１０におけるベローを拡張させ、それによってポペットをその座から動かし、ガスが第一の分配逆止弁７を介して、毛管９を通して、そして開放したボンベの弁１１の周りでボンベの内部から流出できるようにする。ボンベの弁１１の上流側に配置されている第一の分配装置７はボンベ容積内の圧力よりも低いか、あるいは等しい圧力で開放するように設計されている。第二の分配逆止弁１０は半導体製造器具で使用するために出口ポートまでガスを真空で送給する。更に、粉体を除去するためにフリット（ｆｒｉｔ）フィルタ装置８Ａおよび８Ｂを設ければよい。
【００３０】
図２は、毛管組立体およびボンベの弁に対する分配装置の配置の概略線図を示す。一実施例においては、毛管式流量制限装置９は分配逆止弁７の上流側に位置している。流体はボンベの弁１１まで下流方向へ流れ、次いで下流側の分配装置１０まで流れる。別の実施例においては、上流側の分配逆止弁が毛管式流量制限装置９の上流側に位置し、次に、流体は下流側の分配装置１０の前にボンベの弁１１まで流れる。
【００３１】
本明細書において詳しく説明していなくて、それに限定的ではない分配逆止弁装置および毛管式流量制限装置の作動を含む各種の要素およびそれらの作動については、米国特許第５，９３７，８９５号、同第６，０４５，１１５号および同第６，００７，６０９号において見出すことができ、参考のために本明細書に組み込まれる。
【００３２】
前述したように、本発明の重要な局面は少なくとも２個の分配逆止弁と、それらの位置（すなわち、第一の装置はボンベの弁の上流側に、第二の装置は下流側に配置されている）を利用することである。逆止弁のタイプは使用されるガス、作動圧力、流量などに応じて変更可能である。第二の真空作動の分配逆止弁は気密シールを提供する要領で弁に装着する必要があり、弁に永続的に装着することが好ましい。最も好ましいのは、分配弁を弁体の鋳造部自体の内部に配置させることである。この位置に逆止弁を位置させることによって逆止弁が勝手にいじられることから保護する。しかしながら、取り外し可能な第二の分配装置を気密シールを提供するその他のいずれかの機械的な方法でねじ込んだり、あるいは固定することができるその他の形態も考えられる。
【００３３】
分配装置は、流量減少オリフィスが出口ポートに設置されるのと同様の仕方で出口ポートの本体内部に挿入することができる。第二の分配逆止弁がボンベの外側に位置されるので、この分配装置を調整可能としうる配備を行うことができる。調整によってこの分配装置の作動圧力範囲を顧客の要求に対応するように変更する。例えば、分配装置は顧客の要求／用途に応じて、下流側の圧力範囲を準大気圧から大気圧あるいは超大気圧範囲まで変更するような仕方で調整することができる。前述のように、このような適用に対しては、２個の分配逆止弁装置の設置箇所が本発明の重要な特徴である。
【００３４】
本発明によるマルチ個別分配逆止弁装置によってより高圧のガスを容器に貯蔵し易くする。より高い圧力は同等の容積内により多くの中味（流体あるいはガス）を貯蔵できるより大きな機会を提供し、そのために顧客に対してより低いコストでの所有ができるようにする。マルチな個別分配装置はボンベの弁に対する保護性を増し、並びに一方の分配弁が万一故障した場合も、より安全な設計を提供する。
【００３５】
別の実施例において、単一の分配装置を含み、それによって該分配装置が弁に位置され、分配逆止弁およびボンベの弁の双方として供されるようにも修正しうる。本発明の別の適応はボンベの弁の下流側に位置した単一の分配逆止弁装置を使用することを含む。この分配装置はボンベの弁の一部とするか、あるいは前述のように、出口ポート中へ挿入するように適応させることができる。この分配装置の位置によって広範囲の下流側送給圧力範囲に亘ってガス状の中味を送給するように本装置を調整できるようにする。
【００３６】
本発明はまた、貯蔵し、分配すべきある種のガスまたは流体に対して特殊形状のボンベを特に使用することを計画している。特に、本発明は三フッ化ホウ素を貯蔵し、分配する場合顕著に胴長が短くて、径の大きいボンベを提供する。例えば、そのようなボンベは（首部を除いて）長さが３０４．８ミリメートル（１２インチ）以下で、外径が１１４．３ミリメートル（４．５インチ）以下でよい。このタイプのボンベに関わる利点は圧力逃がし弁が必要でないことである。このように、本装置における漏洩点が更に排除され、ガスの望ましくない解放の可能性を更に低減する。
【００３７】
本発明によるマルチ分配逆止弁送給システムを下記の例を参照して更に説明する。しかしながら、この例は本発明を限定するものとして解釈すべきでない。
【００３８】
例
ガスボンベ１には約１２６ｋｇ／ｃｍ2 （１８００ｐｓｉｇ）の圧力まで、三フッ化ホウ素（ＰＦ3 ）ガスが充填された。操作者が手動でハンドル３を回転させ、それによってボンベの弁１１を開放位置に動かした。常閉ダイアフラム分配逆止弁１０および７が、それぞれ４００トル以下（すなわち、準大気圧）および１４ｋｇ／ｃｍ2 （２００ｐｓｉｇ）以下の圧力において開放するように設計された。
【００３９】
第二の分配逆止弁１０と連通し、ボンベの弁１１の下流側に配置されている出口ポート４を介してガスボンベ１に真空が加えられた。逆止弁１０のベローが拡張し、弁１０のポペットを離座させた。分配逆止弁１０が開放するにつれて、第二の分配逆止弁１０および第一の分配逆止弁７との間の流体排出通路に沿って圧力は１４ｋｇ／ｃｍ2 （２００ｐｓｉｇ）以下から７ｋｇ／ｃｍ2 （１００ｐｓｉｇ）まで低下し続けた。
【００４０】
第一の分配逆止弁７の下流側の圧力が１４ｋｇ／ｃｍ2 （２００ｐｓｉｇ）以下まで低下するにつれて、逆止弁７のベローが拡張し、弁７のポペットを離座させた。
【００４１】
通路（すなわち、第一と第二の分配逆止弁間の通路）の圧力が１４ｋｇ／ｃｍ2 （２００ｐｓｉｇ）に達するまでＰＦ3 ガスが流体排出通路を通して取り出された。一旦、圧力が所定の圧力（すなわち、１４ｋｇ／ｃｍ2 （２００ｐｓｉｇ））に達すると、第一の分配逆止弁７のベローが収縮し、ポペットが閉鎖され、流体通路における残りのＰＦ3 ガスが第二の分配逆止弁１０に加えられた真空によって取り出された。
【００４２】
当該技術分野の専門家には、特許請求の範囲に更に特定的に定義されている本発明の範囲あるいは精神から逸脱することなく、本明細書で詳しく説明した方法に対して多数の変更が可能であることが認識される。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明による複式逆止送給弁組立体を組み込んでいる、ボンベとボンベ頭部の弁との組立体の断面を示す概略図である。
【図２】本発明における上流側逆止弁と毛管流量制限装置との代替位置を示す概略図である。
【符号の説明】
【００４４】
１  ボンベ
２  マルチ真空送給弁組立体
３  閉止弁
４  出口ポート本体
５  弁機構
６  充填ポート
７  第一の分配装置
８ａ，８ｂ  フリットフィルタ
９  毛管組立体
１０  第二の分配逆止弁装置
１１  ボンベの弁
１３  流体
【図１】
2006515920.tif 000004
【図２】
2006515920.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成17年9月16日(2005.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｃ．第一の弁要素と第一のダイアフラムとを含む上流側の分配装置であって、前記第一の弁要素の下流側での圧力状態から遮断された内容積と、前記第一の弁要素の下流側での圧力状態と連通した外容積とを画成し、前記第一のダイアフラムの内容積と前記第一のダイアフラムの外容積との間の差圧が前記第一の弁要素を開放位置まで運動させるに十分となるまで前記第一の弁要素を密封位置に保持するような仕方で前記第一の弁要素の運動を制御する上流側の分配要素と、
ｄ．第二の弁要素と第二のダイアフラムとを含む下流側の分配装置であって、前記第二の弁要素の下流側での圧力状態から遮断された内容積と前記弁要素の下流側の圧力状態と連通した外容積とを画成し、前記ダイアフラムの内容積と前記第二のダイアフラムの外容積との間の差圧が前記第二の弁要素を開放位置まで運動させるに十分となるまで前記第二の弁要素を密封位置に保持するような仕方で前記第二の弁要素の運動を制御する下流側の分配装置と、を含むことを特徴とする加圧された流体の排出を制御する装置。
【請求項２】
ハウジングが前記の上流側ダイフラムのベロー室を画成し、前記ベロー室は前記弁要素の下流側に位置している流体排出通路の一部と連通しており、ベローは前記排出通路との連通が前記ベロー室内で真空状態あるいは差圧を発生させると前記弁要素を開放位置まで運動させるに十分な内部圧力で密封されていることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記弁要素がポペット弁を含み、ベローが拡張することによってピンが前記ポペット弁を開放位置まで移動させるようにすることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
加圧された流体を入れ、ボンベからの加圧された流体の排出を制御するボンベと弁との組立体であって、
開口を有するボンベと、
前記ボンベの開口と密封係合するようにされたポート本体と、
前記ポート本体によって画成され、前記ボンベの外側に位置した流体出口ポートと、
前記流体入口ポートと流体出口ポートとの間で前記弁体によって画成された流体排出通路と、
前記流体排出通路に沿った流体の流量を制御する手動のハンドル、とを含み、
前記手動ハンドルが前記流体排出通路に沿った流体の流れを閉塞する密封位置へボンベの弁を弾圧し、少なくとも１個が前記流体排出通路に沿って前記ボンベの弁の上流側に、かつ少なくとも１個が下流側に位置した複数の密封ベローが、前記ベローの内部と外部との間の相対圧力によりベローを拡張させると、流体が前記流体排出通路に沿って流れうるようにする開放位置まで前記弁要素を運動させるよう各ベローの一部が弁要素に作動結合されている、ことを特徴とするボンベと弁との組立体。
【請求項５】
前記ベローが前記ベロー室の真空状態あるいは差圧に応答して前記弁要素を開放位置まで運動させるようにされていることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記弁要素がポペット弁を含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記ポート本体が前記流体排出通路の長さに亘って制限された通路を含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項８】
毛管チューブが流体入口ポートを画成し、流体入口通路をボンベの長さの概ね中間に位置させていることを特徴とする請求項７に記載の装置。
【請求項９】
有毒なヨウ化水素酸化合物あるいはハロゲン化合物を入れた加圧された容器の出口からの加圧された流体の排出を制御する装置において、
少なくとも部分的な気相において加圧された流体を保持する容器と、
前記容器から加圧されたガスを解放する出口ポートと、
前記容器から加圧されたガスを送給するために出口ポートによって少なくとも部分的に画成されているガス流路と、
少なくとも１個がボンベの弁の上流側に、少なくとも１個が下流側に位置されている複数の個別の分配逆止弁装置と、流量制限装置と、を含むことを特徴とする加圧された流体の排出を制御する装置。
【請求項１０】
前記容器内に位置した導管が流路の制限された部分を含むことを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記上流側および下流側の分配装置が逆止弁であることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【国際調査報告】
2006515920.tif 000006
2006515920.tif 000007
2006515920.tif 000008