(57)【要約】【課題】不均一系触媒および吸着剤の再生方法を提供する。【解決手段】固体触媒または固体吸着剤を再生させるための方法であって、前記触媒または吸着剤を再生ゾーンにおいて１つの床の形態で使用し、この床では触媒は移動状態にあり、前記方法は還元性雰囲気下での少なくとも１つの加熱工程を含む、方法である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体触媒または固体吸着剤を再生させるための方法であって、前記触媒または吸着剤を再生ゾーンにおいて１つの床の形態で使用し、この床では触媒は移動状態にあり、前記方法は還元性雰囲気下での少なくとも１つの加熱工程を含む、方法。
【請求項２】
前記加熱工程が非酸化性の雰囲気下で実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
２５０〜６５０℃の間で実施される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
３００〜５５０℃の間で実施される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記還元性雰囲気が水素含有雰囲気である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記還元性処理の後、続けて酸化性の処理が実施される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記の移動状態にある床が、モバイル床またはムービング床、循環床またはスラリー床、流動床、膨張床、沸騰床、および、ベルト床やロータリー床のような床からなる群より選択される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記触媒または前記吸着剤が非晶系またはゼオライト系担体を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記触媒または前記吸着剤が第ＶＩＩＩ族に属する少なくとも１種の金属を含む、請求項１〜７に記載の方法。
【請求項１０】
前記触媒または前記吸着剤がパラジウムを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記触媒または前記吸着剤がニッケルを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
水素化触媒を再生するための、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
ニッケル含有吸着剤を再生するための、請求項１０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、固体触媒または固体吸着剤を再生させるための方法であって、前記触媒または吸着剤を再生ゾーンにおいて１つの床の形態で使用し、この床では触媒は移動状態にあり、前記方法は還元性雰囲気下での少なくとも１つの加熱工程を含む、方法である。
【０００２】
【従来の技術】
不均一系の触媒および吸着剤は、石油精製、石油化学および化学品産業において、多くの用途で使用されている。これらは、運転の開始時にはその性能を完全に発揮するものの、用途や使用条件によっては、処理流体の中である程度の時間が経過すると、多かれ少なかれゆっくりと活性が低下するのが普通である。この活性低下の原因の１つは、炭素質の析出物が形成され、そのために、触媒の活性サイトへの接近や性質に制限が生じることにある。これへの対策としてよく知られているものには、調節しながら酸化させることによって、それらの析出物を除去する方法があり、これは通常再生とよばれている。この操作は反応器の内部ででも（ｉｎ ｓｉｔｕ法）、あるいは専用ユニットの外部ででも実施することができる。固定床ユニットの場合には、いくつかの理由から、この後者の方法が実施されることがますます多くなってきたが、それは、温度をうまく調節することで、大幅な活性回復がもたらされ、時間がかからず、環境面での抑制も効くからである。
【０００３】
触媒および吸着剤、特に遷移金属を含むもので、活性が低下するもう１つの原因は、運転中に仕込原料からもたらされる各種化合物によって金属相が被毒されることであり、そのような触媒毒として一般的なものの１つには硫黄を含有する分子がある。第ＶＩＩＩ族の金属である、白金もしくはパラジウムのような貴金属、またはニッケルのような非貴金属のいずれも、硫黄を吸着することによって活性が低下する。
【０００４】
典型的なオフサイト（ｏｆｆ−ｓｉｔｅ、現場から離れて）での再生技術としては、各種の移動床（ムービング床）システム中で、稀釈酸素を使用して調節しながら燃焼させるものがあり、たとえばロトルーブル（Ｒｏｔｏｌｏｕｖｒｅｓ）のような回転炉（特許文献１または特許文献２）や、ベルト炉および流動床システム（特許文献３）などが挙げられる。この方法においてキーになる要素の１つは、酸素の分圧を調節することで、それによって、炭素質析出物除去の動力学を支配し、その結果酸化反応で発生する熱量の放出を調節する。触媒の細孔に含まれている遊離の炭化水素を、まさに蒸発現象を促進することによって、除去するために、この再生操作の前に、空気中または不活性雰囲気（窒素またはリーンガス）下で、加熱工程を設けねばならないことも多い。
【０００５】
【特許文献１】
米国特許第４５５１４３７号明細書。
【０００６】
【特許文献２】
米国特許第４６０５３７１号明細書。
【０００７】
【特許文献３】
欧州特許Ａ第１００２５８１号明細書。
【０００８】
【発明の開示】
本発明は、固体触媒または固体吸着剤をオフサイトで再生させるための方法であって、前記触媒または吸着剤を再生ゾーンにおいて１つの床の形態で使用し、この床では触媒は移動状態にあり、前記方法は還元性雰囲気下での少なくとも１つの加熱工程を含む、方法である。
【０００９】
任意工程である酸化工程に先だって、水素含有雰囲気下での加熱工程を加えることにより、多くの場合において、前記の従来技術に大きな改良がもたらされることが今や判明した。場合によっては、この水素処理だけでも、触媒や吸着剤の活性を充分に回復させることも可能である。この方法は、非晶系、結晶形いずれの材料から製造したもの、たとえばゼオライトなど、どのようなタイプの不均一系触媒または吸着剤にも適用できる。
【００１０】
水素含有ガスを用いたこの熱処理は、他の処理工程と組み合わせることも可能で、そのような工程としては、酸素含有ガスによる処理、または不活性ガス処理、抽出可能な不純物を除去するための溶媒抽出、あるいはそれらの工程を組み合わせたものなどがある。
【００１１】
水素含有ガスの存在下で実施するこの工程は、ある種の金属含有触媒に対しては特に有用で、金属が第ＶＩＩＩ族に属する、たとえば白金、パラジウムまたはニッケルの場合には特に有用である。
【００１２】
この方法はさらに、ある種の吸着剤に対しても使用でき、たとえば、炭化水素仕込原料を精製するための硫黄トラップとして使用されるニッケル含有吸着剤にも用いられる。仕込原料の中である程度の時間が経過すると、それらは多かれ少なかれ活性が低下し、それらが硫黄を吸着する性能が著しく低下する。水素含有ガス下での処理を含む本発明による新規な方法では、従来の酸化性雰囲気下での再生の場合よりも、効率よく吸着性能を回復させることができる。
【００１３】
本発明の改良によるこの方法を実施するためには、この方法を実施している間は、触媒または吸着剤の粒子、すなわち触媒床または吸着剤床を移動状態におくということが重要であるが、前記の床はたとえば、移動床（モバイル床やムービング床）、循環（ｃｉｒｃｕｌａｔｉｎｇ）床、スラリー床、流動（ｆｌｕｉｄｉｚｅｄ）床、膨張（ｅｘｐａｎｄｅｄ）床、沸騰（ｅｂｕｌｌａｔｅｄ）床、またはベルト床やロータリー床などがある。
【００１４】
還元性雰囲気中におけるこの処理は、従来からの酸化性の１段処理よりも優れていることが判明した。さらにこの方法は、窒素含有雰囲気とこれに続く酸素含有雰囲気からなる２段処理よりも良好である。場合によっては、ある種の炭素質物質（コーク）を除去するには、空気よりも水素の方が、また窒素よりも水素の方が高効率であることが明らかとなった。炭素質物質を全部除去するには還元的な処理だけでは不十分という場合には、さらに続けて酸化的な処理（たとえば従来法）をすることが必要となるかもしれない。この場合には、酸化的な処理だけをした場合に比較すれば、炭素質析出物を除去するのに必要な処理時間をはるかに短くすることができる。
【００１５】
従来技術の場合、酸化的な処理は、温度３００〜７００℃の範囲、より好ましくは４００℃〜６００℃の範囲で実施される。空気または窒素を使用したストリッピング工程は、ストリップの対象となる炭化水素の沸点によって決まってくるが、さらに広い温度範囲、典型的には２０℃〜５００℃の範囲で実施される。本発明による、この水素処理工程もやはり、低い温度範囲、すなわち、２０〜２００℃で実施することが可能である。この場合、主として起きている現象は非酸化的な雰囲気でのストリッピングであって、窒素に変えて水素を使用することのメリットはあまり大きくない。他方、本発明の改良によると、より高い温度、たとえば２５０〜６５０℃、より好ましくは３００〜５５０℃の温度にすると、優れたメリットが得られることが判明した。
【００１６】
本発明の利点が最も明確となるのはおそらく、コーク析出物が脂肪族性のものの時で、これは、たとえば、水素圧の下でかなり低めの温度で触媒が使用されたような場合である。そのような条件が使用される例の１つとしては、スチームクラッキング装置の下流工程でオレフィン留分を選択的水素化する方法がある。この用途に使用される触媒は、パラジウム単独またはこれを第２の金属（たとえば銀または金）と組み合わせたものを、担体、通常はアルミナ系担体上に細かく分散させたものである。Ｃ２またはＣ３留分を処理するための典型的な触媒では、パラジウム含量が低い（０．１重量％未満）。１つの副反応は、いわゆるグリーンオイルの生成であり、それらの長鎖オリゴマーは、これら活性低下した触媒の細孔の中に認められることが多い。再生操作は、これらの物質が固有の反応性を有しているために、中程度の温度で実施しなければならない。従来法による酸化的な条件下での再生では、窒素ストリッピングの有無に関わらず、これらの低温の条件下では、灰色から黒色ゾーンを有する生成物が得られ、したがって炭素質析出物がまだある程度の量残存している。他方、水素で前処理をすると、炭素質析出物の大部分が除去され、それに続く酸化的な工程をより容易に実施することができる。
【００１７】
本発明の新規な再生方法が適用できるまた別なケースとしては、芳香族化合物の水素化、たとえばベンゼンのシクロヘキサンへの転化や、重質芳香族化合物を含む他の各種仕込原料の水素化などに使用される触媒の場合である。これらの触媒では、ニッケルの含有量がかなり高いのが普通で、典型的には３０〜６０重量％である。
【００１８】
炭素質析出物がある程度脂肪族性を示すその他のケースとしては、各種の炭化水素を転化させるための形状選択性ゼオライトの場合がある。これらの結晶化アルミノシリケートでは内部細孔路および空洞部が非常に狭いので、立体的な障害のために、ポリ芳香族環の形成が充分に抑制される。１つの顕著なケースがゼオライトＺＳＭ５（または、シリカライトに近い構造）で、その細孔径は約５．５オングストロームである。したがって、この方法はアルミノシリケートの再生にも有利に使用することも可能である。
【００１９】
本発明のその他の用途としては、業界では硫黄トラップと呼ばれている、吸着剤を再活性化させるための使用がある。石油精製あるいは石油化学産業において、硫黄に対して極端に敏感なある種の触媒は、硫黄ガード床によって保護してやる必要がある。たとえば、ナフサの水素化処理装置と下流工程の改質または異性化のための装置との間では、これらのユニットに用いられている白金含有触媒を、「硫黄ガード床」を使用することによって保護する。その役割は、水素処理したナフサ原料の中に、メルカプタン、チオフェンあるいは溶解している硫化水素として存在する硫黄化合物を除去することである。これらの化合物は、通常の操作条件下では典型的にはその濃度が１ｐｐｍ未満であるが、ナフサ水素処理ユニットが不調だともっと高くなることもある。また、化学工業においてもある種の硫黄ガード床を設置して、貴金属（Ｐｔ、Ｐｄ）、ニッケルまたは亜クロム酸銅などを含む水素化触媒を保護している。ほとんどの場合、水素化ユニットでは数基の反応器を直列に配していて、そこでは通常第１番目の反応器が、仕込原料に含まれる硫黄化合物を吸着する役目を果たしている。ある種のニッケル水素化触媒では、それが完全に活性低下するまでに、１重量％の硫黄を吸着できる。市販されている最も一般的な硫黄トラップは、ニッケル系の材料で、そのニッケル含量は典型的には２０〜６０重量％である。これらは、Ｈ２Ｓおよびメルカプタンに対しては高い吸着能を示すが、チオフェンに対する親和性はかなり低い。
【００２０】
このニッケル含有トラップは、硫黄で一度汚染されてしまったら、廃棄しなければならない。我々が知る限りにおいては、使用済みの硫黄吸着材料の性質を取り戻すことを可能とするような技術は存在しない。窒素雰囲気下または酸素含有雰囲気下のいずれの場合でも、従来からの高温処理技術では、これらの使用済み材料の吸着性能を回復することは、たとえば部分的な硫黄除去が観察されることがあったとしても、不可能である。水素含有雰囲気で加熱する工程ならば、従来の技術よりははるかに効率よく、硫黄で汚染されたニッケルトラップの吸着能を回復させることが可能となることが、今や見出されたのである。
【００２１】
【発明の実施の形態】
実施例１（比較例）
軽質炭化水素仕込原料のための硫黄吸着剤として使用した後のニッケル系材料を用いて、各種の再生法を評価した。その吸着剤のニッケル含量は約５２重量％で、残りはケイ素およびアルミニウムの酸化物であった。ＬＥＣＯ分析器で測定した硫黄含量は１７．２重量％であり、炭化水素含量は、セタラム（Ｓｅｔａｒａｍ）熱天秤で窒素雰囲気下で５００℃まで昇温させた時の重量損失を測定して、５．７重量％である。上記の使用済み触媒のストリッピングは、実験室型回転炉装置中、窒素雰囲気下で、５００℃で行なう。触媒の供給速度を５０ｇ／時間、炉の加熱ゾーンでの滞留時間を２時間とし、窒素の流速は５００リットル／時間とする。この処理の後では、炭化水素の分析値は０．５重量％未満、硫黄含量は１７．６重量％である。この処理では、硫黄は減少しないが、軽質炭化水素化合物は除去できる。
【００２２】
こうして得られた生成物を、次いでブチルメルカプタンを用いた吸着試験にかける。この硫黄分子を選択した理由は、典型的な軽質ナフサ仕込原料にはメルカプタンとチオフェンが含まれているからである。手順は以下のとおりである。５ｇの触媒を１８０℃まで加熱し、その温度で４時間保ちながら、ブチルメルカプタンを１０モル％含んだ窒素ガスを１０リットル／時間で流す。この試験が終了した後、このシステムに１８０℃で１時間、窒素（流速、２リットル／時間）を流してシステムをパージし、触媒中の硫黄含量を分析する。この窒素でストリップした生成物が、メルカプタン吸着試験によって取り込んだ硫黄は、６．１重量％である。これは、フレッシュな原料が同一の条件で吸着する量の約１／３であって、このことは、このものが再使用をするほどの魅力は有していないことを示している。
【００２３】
実施例２（比較例）
実施例１の物質をさらに、空気中で４５０℃で処理する。実施例１の場合と同一の実験室型回転炉装置を用いる。触媒の供給速度は５０ｇ／時間、滞留時間は２時間、空気の流速は５００リットル／時間である。硫黄含量は５．６重量％まで下がる。先に述べたメルカプタン吸着試験での、空気で再生したこの生成物による硫黄の取り込みは、０．２重量％で、このことから、この物質は実質的に活性がないと判断できる。
【００２４】
実施例３
実施例２で得られた空気再生による生成物を、次いで、水素存在下で４５０℃で活性化させる。実施例１の場合と同一の実験室型回転炉装置を用いる。触媒の供給速度は約５０ｇ／時間、滞留時間は２時間、水素の流速は５００リットル／時間であった。硫黄含量は事実上変化せず、５．３重量％である。メルカプタン吸着試験での、この活性化物質による硫黄の取り込みは、１３．８重量％で、このことから、この物質は工業的ユニットで再使用することが可能な品質に達していると考えられる。
【００２５】
実施例４
実施例２で得られた空気再生による生成物を、次いで、水素の存在下６００℃で活性化する。その条件は、温度以外については実施例３に記載したのと同じである。硫黄含量は３．３重量％まで低下する。メルカプタン吸着試験での硫黄の取り込みは、１５．６重量％である。生成物は実施例３の場合よりもさらに良好で、高温処理により改良されている。
【００２６】
実施例５
実施例１に述べた物質を、６００℃で直接水素により処理する。実施例１の場合と同一の実験室型回転炉装置を用いる。触媒の供給速度は約５０ｇ／時間、滞留時間は２時間、水素の流速は２リットル／時間であった。硫黄含量は２．９重量％まで低下する。メルカプタン吸着試験での、この物質の硫黄の取り込みは、１６．３重量％であり、このことから、この物質は工業的ユニットで再使用することが可能な品質に達していると考えられる。
【００２７】
実施例６（比較例）
水蒸気分解からのエチレン留分を選択的水素化するために用いた使用済み触媒約１ｋｇを使用する。この触媒はアルミナ上に、０．１重量％未満の低濃度でパラジウムを担持させたものである。ＬＥＣＯ分析器から求めた炭素含量は４．７重量％である。このものを２段方法で処理する。上記の使用済み触媒のストリッピングは、実験室型回転炉装置中、窒素雰囲気下、４５０℃で行なう。触媒の供給速度を５０ｇ／時間、炉の加熱ゾーンでの滞留時間を２時間とし、窒素の流速は５００リットル／時間とする。この時点での炭素含量は１．２重量％である。次いで酸化性の再生工程を、窒素を乾燥空気に置き換えて同じ条件で、温度４５０℃で実施する。この処理が終了したところでは、炭素含量は０．１重量％であるが、まだ少し黒色〜灰色を帯びている。
【００２８】
実施例７
実施例６で使用した物質を、実験室型回転炉装置中で４５０℃で水素処理をする。触媒の供給速度は５０ｇ／時間、滞留時間は２時間、水素の流速は５００リットル／時間である。炭素含量は０．５重量％となる。次いで酸化性の再生工程を、水素を乾燥空気に置き換えて同じ条件で、温度４５０℃で実施する。この処理が終了したところでは炭素含量は０．１重量％で、生成物の色は全体に薄い灰色である。
【００２９】
実施例８
実施例６で使用した物質を、まず溶媒で抽出して、軽質炭化水素をある程度除去する。この使用済み触媒の約３００ｇをビーカーにとり、６００ｍｌのホワイトスピリットに浸した状態で８０℃で１時間静置してから、濾過する。濡れたままの触媒を次いで、実験室型回転炉装置の中で、水素を用いて４５０℃で処理する（乾燥物として５０ｇ／時間の供給、滞留時間２時間、水素は５００リットル／時間）。抽出および水素処理工程の後での炭素含量は、０．３重量％である。次いで酸化性の再生工程を、水素を乾燥空気に置き換えて同じ条件で、温度４５０℃で実施する。この処理が終了したところでは炭素含量は０．１重量％で、生成物の色は全体に薄い灰色である。
【００３０】
実施例９
実施例６および７で得られたものそれぞれの性能を確認するために、混合エチレン留分中のアセチレンの選択的除去についての活性試験を行う。仕込原料の組成は以下のとおりである（容積％で表示）：水素２６．６、エチレン４２．３、メタン３０．８％、アセチレン０．２６、一酸化炭素０．０３２。この試験は３８℃で開始し、２．５℃／分で昇温していく。いわゆるクリーンアップ（ｃｌｅａｎｕｐ）温度Ｔｃｕは、アセチレン組成が２０ｐｐｍに低下したところと定義する。さらに温度を上げていくと、エチレンの水素化が加速されていって、暴走（ｒｕｎａｗａｙ）に達する。Ｔｒａはエチレンの転化が３容積％のところで認められる。次いで温度を再び低下させて３８℃まで戻し、続けて同じ手順をくり返す。Ｔ’ｃｕとＴ’ｒａの温度の新しい組合せを求める。Ｔ’ｒａ−Ｔ’ｃｕの差を、操作ウィンドウ（ｏｐｅｒａｔｉｎｇ ｗｉｎｄｏｗ）と定義する。最善の触媒は、クリーンアップ温度が最も低く、操作ウィンドウが最も大きいものである。従来技術の方法を用いて再生した実施例６の生成物では、クリーンアップ温度が５０．０℃、操作ウィンドウが２２．２℃である。本発明にしたがって再生した実施例７の生成物では、クリーンアップ温度が４８．５℃、操作ウィンドウが２４．９℃である。
【００３１】
実施例１０（比較例）
さらに、芳香族の水素化に用いた、ニッケルを大量に含む使用済み触媒を用いて、従来法による再生と新しい方法によるものとの比較を行う。この触媒には約５２重量％のニッケルを含み、残りはアルミノシリケート担体である。このものには、０．９重量％の硫黄と、６．７重量％の炭素が付着している。上記の使用済み触媒の再生は、実験室型回転炉装置中、空気雰囲気下で、３００℃で行なう。触媒の供給速度は５０ｇ／時間とし、炉の加熱部分での滞留時間は２時間、空気の流速は５００リットル／時間である。こうして得られたものを、もう一度同一の条件で、同じ回転炉装置に供給して、空気雰囲気下４５０℃で処理する。再生後の生成物に残存している硫黄の含量は０．６重量％であり、一方炭素含量は０．６重量％にまで低下する。この生成物の代表的な試料を集めて、粉砕し、ＡＳＴＭ篩１６〜２５の間のものを篩別する。
【００３２】
０．５ｇの試料をベンゼンの水素化試験にかける。試料を同一の粒度の不活性アルミナと混合し、オートクレーブスエンジニア（Ａｕｔｏｃｌａｖｅｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒ）のオートクレーブのバスケットに入れる。反応器を閉め、窒素を用いてこれを０．５時間パージする。水素を１リットル／時間の流量で送入し、反応器を４００℃で４時間加熱して、還元状態が得られるようにする。ついで反応器を窒素を流しながら放冷し、室温に戻す。ここで、シクロヘキサン／ベンゼン（８０／２０）混合物を５０ｍｌ、定量ポンプを用いて注入し、触媒温度が１００℃になるよう調節する。反応器の圧力は１ＭＰａを保つように調節する。水素圧３ＭＰａで作動するガス供給システムを反応器に接続し、このガスビュレットの圧力を圧力変換器で読みとって、経過時間とともに記録する。活性の結果については、水素消費動力学の反応速度定数によって表す。
【００３３】
この再生触媒について得られた結果は、１２．１×１０−３ｓ−１である。
【００３４】
実施例１１（比較例）
実施例１０において使用した使用済み触媒を、実験室型回転炉を使用し２段の工程で空気雰囲気下で再生するが、その条件は実施例１０と同じである。ただし、温度は、第１工程では３００℃まで、次いで第２工程で５５０℃とする。再生後の生成物における残存硫黄および炭素含量は、それぞれ、０．４および０．１重量％である。生成物の代表的な試料を集めて、実施例１０に記載したのと同じ方法により、ベンゼンの水素化をさせる。４００℃、インサイチューでの還元も含めて、同一の手段を用いる。測定された活性は１０．９×１０−３ｓ−１である。ＣとＳの量は低下したものの、温度を上げたことによる改善は何ら認められない。
【００３５】
実施例１２
実施例１１で使用したのと同じ使用済み触媒を、実験室型回転炉中で、温度４５０℃で、水素雰囲気下１段法で再生する。触媒の供給速度は５０ｇ／時間とし、滞留時間は２時間、水素の流速は５００リットル／時間である。再生後の生成物に残存している硫黄の含量は０．７重量％まで低下し、一方炭素含量は１．８重量％にまで低下する。生成物の代表的な試料を集めて、実施例１０に記載したのと同じ方法により、ベンゼンの水素化試験を行う。４００℃、インサイチューでの還元も含めて、同一の手段を用いる。測定された活性は１４．７×１０−３ｓ−１である。
【００３６】
実施例１３
実施例１１で使用したのと同じ使用済み触媒を、実験室型回転炉中で、温度５５０℃で、水素雰囲気下１段法で再生する。その他の条件はすべて、実施例１２と同じである。再生後の生成物に残存している硫黄の含量は０．３重量％まで低下し、一方炭素含量は１．２重量％にまで低下する。生成物の代表的な試料を集めて、実施例１０に記載したのと同じ方法により、ベンゼンの水素化試験を行う。４００℃、インサイチューでの還元も含めて、同一の手段を用いる。測定された活性は１６．３×１０−３ｓ−１である。
【国際公開パンフレット】
2004516927.tif 000002
2004516927.tif 000003
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2004516927.tif 000013
【手続補正書】
【提出日】平成14年11月20日(2002.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体触媒または固体吸着剤をオフサイトで再生させるための方法であって、前記触媒または吸着剤を再生ゾーンにおいて１つの床の形態で使用し、この床では触媒は移動状態にあり、前記方法は還元性雰囲気下での少なくとも１つの加熱工程を含む、方法。
【請求項２】
前記加熱工程が非酸化性の雰囲気下で実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
２５０〜６５０℃の間で実施される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
３００〜５５０℃の間で実施される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記還元性雰囲気が水素含有雰囲気である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記還元性処理の後、続けて酸化性の処理が実施される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記の移動状態にある床が、モバイル床またはムービング床、循環床またはスラリー床、流動床、膨張床、沸騰床、および、ベルト床やロータリー床のような床からなる群より選択される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記触媒または前記吸着剤が非晶系またはゼオライト系担体を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記触媒または前記吸着剤が第ＶＩＩＩ族に属する少なくとも１種の金属を含む、請求項１〜７に記載の方法。
【請求項１０】
前記触媒または前記吸着剤がパラジウムを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記触媒または前記吸着剤がニッケルを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
水素化触媒を再生するための、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
ニッケル含有吸着剤を再生するための、請求項１０に記載の方法。
再生させるための方法であって、前記触媒または吸着剤を再生ゾーンにおいて１つの床の形態で使用し、この床では触媒は移動状態にあり、前記方法は還元性雰囲気下での少なくとも１つの加熱工程を含む、方法。
【国際調査報告】
2004516927.tif 000014
2004516927.tif 000015
2004516927.tif 000016