(57)【要約】本発明は、粉末状又は顆粒状の固体物質を、回転軸（１）の周りを移動する物体（２）を用いて、ガス流（７，１６，２２，２３，２４）で熱処理する方法に関する。この方法では、下記の工程：まず、物体（２）の複数区分（３）に支持されたばら材料を、水蒸気（２２）に曝すことにより加熱する工程、その後加熱されたばら材料に、下位の１以上の工程で生成する空気（２３）及び／又は不活性ガス（２４）を供給する工程、最後に移動物体（２）から乾燥した又は不活性化されたばら材料を除去する工程を連続的に行われる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉末状又は顆粒状の固体物質を、回転軸（１）の周りを移動する物体（２）を用いて、ガス流（７，１６，２２，２３，２４）で熱処理する方法であって、下記の工程：
物体（２）の複数の区分（３）に支持されたばら材料を、水蒸気（２２）に曝すことにより加熱する工程、
加熱されたばら材料に、下位の１以上の工程で生成する空気（２３）及び／又は不活性ガス（２４）を供給する工程、
移動物体（２）から乾燥した又は不活性化したばら材料を除去する工程
を連続的に行うことを特徴とする方法。
【請求項２】
垂直配置（２８）で操作される回転移動物体（２）の複数の区分（３）を、該物体の外周を介して充填／空にする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ばら材料を、移動物体（２）の外環から複数区分（３）に給送し、該複数の区分（３）を、移動物体（２）の外環から除去して空にする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
不活性ガス（２４）及び／又は水蒸気（１６，２２）が、回転軸（１）の周りを移動する物体（２）の複数区分（３）に側面から入り込む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
水蒸気及び空気（７）の導入が、移動物体（２）の外周で行われる請求項２に記載の方法。
【請求項６】
水蒸気、空気及び不活性ガスが、複数区分（３）を流れて通過した後、移動物体（２）のハブ（８）から放射方向に出て行く請求項５に記載の方法。
【請求項７】
複数区分（３）を、内部から外側への放射方向のガスに曝す請求項２に記載の方法。
【請求項８】
ばら材料の供給（１０，１１，１２）を、物体（２）の複数区分（３）に供給するために物体（２）の外周から行う請求項２に記載の方法。
【請求項９】
水平配置（２９）で操作される移動物体（２）の複数区分（３）を、移動物体（２）の回転軸（１）と平行に、ガス流（４，１６，２２，２３及び２４）に曝す請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
移動物体（２）が、交互に連続して複数の区分（３）を覆う表面（２５）をカバー側（１９）に備えている請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
移動物体（２）が、処理されたばら材料の出口及び区分毎に配置されている被覆表面（２５）を有する複数の区分（３，１７）を、そしてまたガス流出させ得る区分の表面（２７）を、底面側（２０）に備えている請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
移動物体（２）の水平配置（２９）において、回転軸（１）に平行な方向での水分の排除を助ける請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
複数の区分（３）に支持されるばら材料が、ばら材料の許容される残留酸素を含む空気（７，２３）により乾燥される請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
酸素を含まないばら材料を、水蒸気（２２）の直接導入及び不活性ガスの供給により不活性化する請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
粉末状又は顆粒状の固体物質を、回転軸（１）の周りを移動し、且つ複数の個々の区分（３）を有するセルラー回転盤（２）を用いて、ガス流（７，１６，２２，２３，２４）で熱処理するための装置であって、
ばら材料又はガス流（２２，２３，２４）を導入するか又は残すようにする被覆（２１，２５，２７）が、移動セルラー回転盤のカバー（１９）及び底面（２０）に区分毎に設けられている装置。
【請求項１６】
移動物体（２）が、回転軸（１）の周りを移動可能なセルラー回転盤として設計され、そして水蒸気凝縮液及び空気用の排出ライン（８）と区分（３）を空にするのを助ける不活性ガス用供給ラインとがセルラー回転盤のハブに設けられている請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
固定されたガスへのアクセス及びばら材料へのアクセスを可能にするカバー（１９）が、回転軸（１）の周りを回転するセルラー回転盤（２）上に据え付けられ、ばら材料の除去（１７）及びガス通過を可能にする複数の区分（２７）を有する固定されたカバー（２０）が回転軸（１）の周りを回転するセルラー回転盤（２）の下に据え付けられている請求項１５に記載の装置。
【請求項１８】
移動物体（２）の複数の区分（３）が、垂直方向に流通するようにされている請求項１５に記載の装置。
【請求項１９】
移動物体（２）の複数の区分（３）が、水蒸気、空気、不活性又は乾燥ガスが、外側から内側へ又は内側から外側と流通するようにされている請求項１５に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、粉末状又は顆粒状の固体物質を、回転軸（１）の周りを移動し得る物体を用いてガス流により熱処理する方法及び装置に関する。
【０００２】
多くの工業的方法において、粉末状又は顆粒状物質を加熱することが必要とされる。このために、通常製造プラントで利用され、一般に特別の低コストのエネルギー源を代表するものである水蒸気の供給を使用することは、特にコスト低減効果があり、また特に電気的エネルギーに比較してそうである。粉末状又は顆粒状物質を加熱するために、大量流の熱交換が知られており、これは熱伝導により単に生成物を加熱している。大量流の熱交換は、熱伝導のための表面領域が比較的大きいことが必要で、全体サイズが大きいものとなり、従ってかなりの空間が必要となる。
【０００３】
粉末状又は顆粒状物質を加熱するための別の方法は、加熱した混合物を使用することであり、加熱ミキサーのハウジング表面と混合道具自体の両方を加熱することが必要である。急速に新しくなる接触表面を考慮すると、大量流の熱交換に比較して、かなり良好な熱移動がここでは達成される。このため装置の全てのサイズを全体的に小さくすることができる。加熱ミキサーの不利は、取るに足らなく無い労力が、ミキサードライブ、制御システム及び生成物をミキサーへの及びミキサーからの搬送の設計に注ぐ必要があり、このため、例えば現存の押出システム及び押出ラインの改装が一般に不可能であるか、或いは相当の労力によってのみ成し遂げられ得る。水蒸気を、粉末状又は顆粒状の固体物質を乾燥するか又はその状態を調節するために直接導入した場合、急速加熱が、凝縮の高熱のために達成される。さらに、水蒸気で加熱する際に、飽和水蒸気を用いた場合には、粉末又は顆粒が部分的過熱されて、その結果これらに損傷を与えるというようなことを安定して避けることができる。温度制御媒体として水蒸気を使用した場合の不利は、生成した凝縮物を比較的大きな労力で再び除去しなければならないことである。このため、粉末状又は顆粒状の固体物質（例、流れやすい固体ポリマー物質）の選択加熱に水蒸気を使用することは、これまで、加熱生成物の残留水分が、加熱工程に続く工程で重大な不利を伴わないような工業的方法においてのみ可能であった。残留水分を除去するための加熱生成物の次の処理は、相当の労力を含む次工程になるであろう。
【０００４】
粉末状又は顆粒状の物質を乾燥するために一般に使用される方法及び現存の方法に伴う不利を考慮すると、本発明の目的は、残存酸素が処理すべき生成物中にある固体物質及び酸素の残りが処理すべき生成物中に無い固体物質の両方を水蒸気の直接供給によりその状態を調節する、粉末状又は顆粒状の固体物質の状態を調節する方法を提供することにある。
【０００５】
本発明によれば、上記目的は、
粉末状又は顆粒状の固体物質を、回転軸の周りを移動する物体を用いて、ガス流で熱処理する方法であって、下記の工程：
物体の複数区分に支持されたばら材料（ｂｕｌｋ ｍａｔｅｒｉａｌ）を水蒸気（２２）に曝すことにより加熱する工程、
加熱されたばら材料に、下位の１以上の工程で生成する空気及び／又は不活性ガスを供給する工程、
移動（可能）物体から乾燥した又は不活性化されたばら材料を除去する工程
を連続的に行うことを特徴とする方法により達成される。
【０００６】
本発明の方法の利点は、特に、生成物処理量を、回転軸の周りで移動する物体（区分毎に設計されたセルを含んでいる）を用いて、回転軸の周りで移動する物体の速度を自動的に制御することにより明確に設定することができる点に見られる。移動物体は、相互に分離して配列された、放射方向に開いたチャンバーを含む単一のセルラー回転盤であることが好ましい。移動物体の得られる全体サイズが極めて小さいこと、及び現存の計量装置の代用ができることから、本発明が提案する方法は、改装（変更）手段として、問題なく既にある処理順序における押出ライン又は押出機に組み込むことができる。この場合、回転軸の周りを動く物体を水平方向に駆動させるか、回転軸の周りを動く物体を垂直方向に駆動させるかは、重要ではない。
【０００７】
本発明の方法の有利な展開の仕方は、回転軸の周りを動く物体の配置が垂直方向の場合、回転物体の個々の区分が、外周を介して充填されそして空にされる。水蒸気、特に飽和蒸気のみならず、空気や不活性ガス（例、窒素）も、移動物体の外周を介して個々の区分又はチャンバーに導入することができる。水蒸気で充填するために、穴が空けられた区分を、例えばセルラー回転盤として設計された、回転軸の周りを移動する物体の外環に設けることができる。
【０００８】
本発明の方法の１つの実行可能な変形法によれば、粉末状又は顆粒状のばら材料を、セルラー回転盤の複数区分のそれぞれに、移動物体の外環から給送し、そしてほぼ１回転後、回転軸の周囲を移動する物体の複数区分のそれぞれから外環を介して除去され得る。移動物体の操作中、ばら材料を外周から送り込むことと、外側から入る空気を移動物体の外側から送り入れることの両方が可能である。有利な方法においては、外側表面を介して入る水蒸気とガス流は、セルラー回転盤のハブに形成されたラインを介して個々の区分から除去することができる。セルラー回転盤の外周表面から導入された水蒸気流は、セルを介してセルラー回転盤のハブで凝縮、流出した後、その内容物と共に集めることができ、そしてそこから回転軸に関して同軸に走行する排出ラインを介して羽根型セルラー回転盤から除去することができる。
【０００９】
垂直配置で回転軸の周りを回転するセルラー回転盤の個々の区分を空にする工程を促進する方法においては、ガス流、例えば窒素流を、垂直配置における回転軸の周りを回転するセルラー回転盤のハブから導入することができる。セルラー回転盤の回転軸に関して同軸に走行する不活性ガス供給ラインでは、窒素は、回転軸の周りを回転するセルラー回転盤のハブから個々の区分に流出し、そこに存在するばら材料を流れて通過し、そして内側から外への流れの方向選択の結果として、セルラー回転盤の個々の区分チャンバーの生成物排出地点からの生成物の排出を助ける。セルラー回転盤上の個々の区分セルを完全に空にした後、この回転盤は、例えば時計回り方向、生成物給送方向に回転し、これにより、それぞれが生成物供給（管）を通過するセルは、処理すべき生成物で再び充填することができる。
【００１０】
粉末状又は顆粒状の固体物質を、水平方向に向いた回転軸の周囲を移動するセルラー回転盤の個々の区分に供給することを確実にするために、ばら材料給送をこのようなセルラー回転盤の外周で行う。本発明の方法の１つの実行可能な変形法によれば、移動物体も水平配置で操作し、これにより、それぞれ区分で保持されたばら材料を、物体の回転軸の周囲を回る物体の回転軸に平行なガス流に曝すことが可能である。このように設計され、水平に操作されるセルラー回転フィーダの場合、ガスは上から嵩高い充填物に入り、そして下方に流れる。これが起こると、水分を、重力の法則により分離することが、有利な方法として可能である。水平配置で操作された移動物体の場合において、個々の区分をばら材料で充填した際、固定配置されたラインを、ばら材料のみならず、水蒸気、あるいは特にガス又は不活性ガスのためにも設け、そして固定の除去ラインを設ける。セルラー回転盤（例えば羽根型セルラー回転盤として）として設計された移動回転物体上に形成された個々の区分は、交互に連続して被覆表面（ｃｏｖｅｒｉｎｇ ｓｕｒｆａｃｅ）を備えていても良い。被覆表面は、任意に設けることができる。被覆表面の交互連続は、例えば、ばら材料の入口又は出口として、交互配置で区分毎に配置されたガス流路のない被覆表面及びガスの流通を可能にする区分表面（例、穴あき区分表面）として、水平形態で操作されるセルラー回転盤の底面上及びカバー上で異なって選択される。羽根型セルラー回転盤を移動物体として使用する場合、壁を分けることにより相互に分離された数片のパイの形状に設計された区分が形成される。
【００１１】
本発明の方法の有利な改良では、固体物質は、セルラー回転盤として、区分壁による個々のセルに再分割された移動（可能）物体内で処理され、これにより酸素の残りを、更なる処理に分配することなく固体物質内に留まらせることが問題なく可能となる。この変形法では、乾燥は、空気を呼び出すことにより優先的に促進することができ、このため（水平配置における）回転軸の周りを動くセルラー回転盤上の１回の空気アクセスで充分である。
【００１２】
一方、例えばポリエチレンの配合において、ポリマーを処理する際（この場合残留酸素の含有量が屡々問題となり、更なる処理で莫大な量が破壊される）、セルラー回転盤として設計された移動物体の区分に含まれるばら材料の条件調節は、それを加熱するための水蒸気により行われ、次いでこの材料を不活性ガスで不活性化する。ばら材料を区分に留めながら、ガスの流通を容易にするために、出口表面及び可能であればアクセス表面を、穴あき格子配置として形成する。
【００１３】
結果として、本発明の方法は、残留酸素含有量がない及びある固体物質の場合の両方で使用することができ、また残留酸素含有量が、残留酸素の固体物質中に残っている含有量が臨界的である粉末状又は顆粒状の固体物質においても同様に実施することができる。このために、移動物体の実施態様として設けられても良い、セルラー回転盤上の空気又は不活性ガスの入口又は出口の数を見込んでいる。
【００１４】
本発明によれば、その目的は、粉末状又は顆粒状の固体物質を、回転軸の周りを移動し、且つ複数の個々の区分を有する物体を用いて、ガス流で熱処理するための装置であって、
ばら材料又はガス流を導入するか又は残すようにする被覆（ｃｏｖｅｒｉｎｇ）が、移動（可能）物体のカバー及び底面に区分毎に設けられている装置、によっても達成される。
【００１５】
外部駆動装置を備えた回転装置により、生成物の処理量の個々の設定及び作動が、装置の要件に従い、例えば原材料を押出機に供給するために、可能となる。移動装置は、垂直配置又は水平配置のいずれかで、回転軸の周りを回転するように設計されており、そして装置はセルラー回転盤として設計されていても良く、そしてセルラー回転盤のハブは、水蒸気凝縮液及びガスのための排出ライン及びガスの供給ラインを有し、移動物体として働くセルラー回転盤の周囲の個々の区分を空にすることを助けることができる。
【００１６】
本発明を、図を参照ながら以下に説明する。
【００１７】
図１は、生成物供給路及び生成物排出路、及び外周表面を介してのガス給送路を有する垂直配列で操作される移動物体の側面図を示す。
【００１８】
図１ａは、羽根型セルラー回転盤を示す。
【００１９】
図２は、分配充填シュートを有する、セルラー回転盤の配置の斜視図を示す。
【００２０】
図３は、概略図の、ばら材料の入口及び出口、及び水蒸気又は不活性ガスの供給路ラインを、固定配置で備えた、回転軸の周りを回転する水平配列で操作されるセルラー回転盤を示す。
【００２１】
図４は、空気で優先的に乾燥し、次いで不活性化するためのセルラー回転盤のカバーの形態を示す。
【００２２】
図５は、ガスの流通を可能にし且つ区分を被覆する穴あき表面を備えた、図４の空気で乾燥する移動物体の底面の形態を示す。
【００２３】
図６は、生成物を加熱し、任意に不活性化するための移動物体として働くセルラー回転盤のカバーの形態を示す。
【００２４】
図７は、図６の底面の形態のセルラー回転盤の底面部分の形態を示す。
【００２５】
図１に示された表示は、垂直方向配置で操作されるセルラー回転盤の側面図をより細かく描写している。
【００２６】
図１には、回転軸１の周りを回転する、例えば回転軸１の周りを時計回り方向２６に回転するセルラー回転盤２が示されている。
【００２７】
セルラー回転盤２は、さらにセルラー回転盤の個々の複数の区分３に分割され、この個々の複数の区分３は、セルラー回転盤２のハブから伸びる区分壁６により形成されている。区分の区分円弧は、例えば、符号３．１によって表されている。この形態において、個々の複数区分３の充填及び除去（空にすること）は、外周を介して行われ、その外周には、ばら材料の供給路４及びばら材料の排出路５の両方が、水蒸気入口１６に沿って概略的に示されている。セルラー回転盤２の個々の複数区分３の充填は、上述の給送及び排出位置を介して行われ、それ故水蒸気凝縮液の発生又は空気−排出ラインを、セルラー回転盤の領域で回転軸１に関して同軸に設けることが可能である。
【００２８】
ばら材料は、例えばセルラー回転盤２の個々の複数区分３に、ばら材料供給路４を介して給送されるが、内側から放射状に外側に発生する不活性ガス流は、セルラー回転盤２の領域で回転軸１に関して同軸に同様に走行する不活性ガスのための給送ラインを介してセルラー回転盤２の各区分３で生成することができる。有利な方法では、不活性ガス流の放射方向における外側の方向は、処理されたばら材料を含む区分３の区分円弧３．１が、生成物排出路５と反対にある時点の直前又はその間に設定することができる。この時点で、処理されたばら材料の各区分３を空にする操作が、不活性ガス流を内側から外側に発生させることにより促進され、これによりこの区分を完全に空にすることが保証され得る。回転軸１の周りにセルラー回転盤２を時計回り方向にさらに回転させながら、未処理のばら材料を、このように空にされたセルラー回転盤２の区分セルに、ばら材料供給路４を介して新たに給送し、区分円弧３．１を介して空のセル３に入れる。
【００２９】
ばら材料をばら材料供給路４を介して給送すると、空気又は不活性ガス２３，２４による充填が、ばら材料を含む各区分３において外環を介して行われ、開口部が区分円弧３．１の部分まで伸びた水蒸気入口１６を通過させることにより処理され得る。流れ１６又は凝縮発生は、回転軸１に関して同軸で走行する上述の出口（流出）ラインを通って導かれる。任意に設けても良い空気供給２３は、セルラー回転盤２の各区分３の外側表面（区分円弧３．１）を介してセルラー回転盤２の外側で行われる。個々の複数区分３に含まれるばら材料を乾燥させる外側から内側への空気の流れは、セルラー回転盤のハブ領域に設けられた排出ラインを介して個々の区分３から同様に導くことができる。
【００３０】
これと対照的に、ばら材料を含む個々のセル３を通る方向の不活性ガス流９は処理される、即ち加熱、乾燥されたばら材料を、上述したように置き、これによりばら材料の排出路５と反対側のセルラー回転盤２の個々の区分３を完全に空にすることが、区分３を介して内側から外側に走行する不活性ガス流９によって達成され得る。
【００３１】
図１ａは、羽根型セルラー回転盤の概略図を示す。
【００３２】
回転軸１の周りを回転可能で移動物体として好ましく使用される羽根型セルラー回転盤２は、境界表面（図示せず）に関して回転する。垂直配置２８で据え付けられた場合、それは、両側に配置され据え付け固定された２つの境界表面に関して回転する；水平配置２９の場合は、底面及びカバー表面に関して回転する。図１ａで示される水平配置における羽根型セルラー回転盤を、上側被覆（カバー）が備えているが、これは絶対に必要というものではない。区分円弧３．１の領域で開口する個々の複数の区分３は、複数の区分壁６によって相互に分離されている。図１及び１ａで示される形態では、移動物体として使用される羽根型セルラー回転盤２の回転方向は時計回り方向に対応しているが；適当なアクセス及び出口表面の採用により、回転方向を逆にすることもできる。
【００３３】
斜視図として再現された図２は、回転軸の周りを回転可能で、斜視図で再現されたばら材料の供給装置１０により外周を介してばら材料を充填するセルラー回転盤２をより細かく描いたものである。ここでは示されていないが、ばら材料のシュートの上に、ばら材料の供給装置１０でばら材料を連続的に供給するためのばら材料の貯蔵物がある。ばら材料のシュートの開口部は、回転体３として働くセルラー回転盤の外周表面の湾曲に、有利な方法で適合させることができ、そして満たされるべき又は充填されるべきセルラー回転盤２の区分３の区分円弧３．１の丁度上を開口部１３と一緒に通過することができる。一方、この開口部は、隣接する２個の区分壁６の間の区分円弧３．１の全体の上を通っていても良い。
【００３４】
ばら材料の除去地点（ここでは詳細に示されていない）は、符号５により表示されている（参照、図１における表示）。
【００３５】
移動物体として働くセルラー回転盤２の垂直配置２８において、ばら材料排出口５を下側に設け、不活性ガス流９が個々の複数区分３を介して内側から外側に放射方向に走行することと共に、重力の法則によりセルラー回転盤２の個々の生成物含有セル３を空にすることを保証することが好ましい。
【００３６】
図３に示される代表例は、水平配向で操作されるセルラー回転盤２を斜視図配置でより細かく描かれている。セルラー回転盤２として設計され、回転軸１の周りを時計回り方向２６に回転する物体は、ハブを介して星形に伸びる区分壁６により相互に分離されている個々の複数区分３を含んでいる。セルラー回転盤２の個々の複数区分３の高さは、符号１８により指示されている。セルラー回転盤２のカバーシステム（このカバーシステムはここでは詳細に示されないで、後に充分に説明される）は図３の上部にあり、そして水平配置２９に置いて、任意に設けることができる。特に、ガスのアクセスを行う穴あき区分はこの場合任意に設けられる。下側で、セルラー回転盤２の底面領域があり、この領域は図３では詳細に示されていないが、図５及び７でより正確に描かれる。図３の代表例に従い回転軸１に平行に走行するばら材料の供給路は、符号４によって指示されている。この位置で、処理されるべき粉末状又は顆粒状の材料がセルラー回転盤２の個々の複数区分３に導入される。図３の代表例に従い、セルラー回転盤２が設けられ、そこから符号１７で指示された生成物の排出が起こり、さらに別の処理ユニット（ここでは表示しない；例えば押出機）に送られる。処理されるべき粉末状又は顆粒状の材料が丁度満たされたセルラー回転盤２の区分３は、垂直方向に配向した回転軸１の周りを時計回り方向に図３の代表例に従い回転する。区分セル３にそれぞれ含まれるばら材料は水蒸気供給により加熱され、符号１６及び２２により固定した形で設けられた対応する区分３に送られる。
【００３７】
対応する区分６で支持されたばら材料の貯蔵物を加熱するために水蒸気を供給した後、乾燥が行われる。水蒸気供給（路）、不活性ガス供給（路）及び任意に設けても良い空気入口は、セルラー回転盤２の上側に固定して設けることができる。パイ片のように形成された区分表面で水蒸気を導入することが特に好ましい。セルラー回転盤の形状で水平配置２９において操作される移動物体の形態では、ガス流出はセルラー回転盤２の下側で行われる。このため、図３に示されるセルラー回転盤２の底面領域は、ガスを流通させる表面を備えている（ここでは詳細は示されない）。
【００３８】
図４に示される代表例には、セルラー回転盤として設計され且つ実質的に粉末状又は顆粒状の物質を空気で乾燥させる移動（可能）物体２のカバー領域がより詳しく描かれている。
【００３９】
符号１９により支持される任意のセルラー回転盤カバーは、図３の代表例に従い、区分壁６により個々の複数区分３にさらに分割される。区分３へ行われるべき生成物の供給が符号４により指示され、一方時計回り方向２６に見られる隣接する区分３は固定被覆２１により閉じられている。図４で白い領域として見られる区分３は、垂直配置に据え付けられ、回転軸１の周りを時計回り方向２６に移動するセルラー回転盤２の区分３を表す。
【００４０】
従って、固体物質は、４で露出した区分３の開口部を通ってその区分３に入ることができる。時計回り方向に沿った区分３では、ばら材料はどのような処理も受けない；時計回り方向２６で見られる近接区分３において、水蒸気供給２２が行われる。区分３の外側円弧は、符号３．１によって表される。一旦、水蒸気供給が起こると、即ち区分３でそれぞれ支持されるばら材料の貯蔵物を加熱すると、ばら材料は空気供給路２３に給送され、乾燥が起こる。
【００４１】
図４において、セルラー回転盤２のカバー領域１９を製造し、不活性ガス供給路（複数）は固定配置された窒素ライン（複数）２４として設計され、符号２４で表される。
【００４２】
セルラー回転盤２のカバー形態１９のここで示された例では、２個の隣接区分３は、不活性ガス（例、ＣＯ２）が通過できるように開口している。白い領域は、対応する開口部又はガスを通す板を意味する。
【００４３】
粉末状又は顆粒状のばら材料の性質、加熱の要求度、水分の程度及び粒径によるが、水蒸気の供給は、大多数の区分３で行うことができ、乾燥を助ける空気の供給が個々の複数区分３で行うことができる。
【００４４】
不活性ガス給送２４を行い、ここでは図４に示される代表例である区分表面は、ここでは２のみが示されている下側領域で隣接して置かれており、その区分表面はセルラー回転盤２の２個以上の区分３まで伸びていても良い。
【００４５】
図５で示される代表例により、主として空気の給送による固体物質の乾燥を担うセルラー回転盤２の底面領域がより詳しく描かれており、固体物質になお存在する残存酸素が、固体物質の更なる処理へ悪影響を与えることなく乾燥することが可能である。区分３で支持されているばら材料が、回転軸１の時計回り方向にセルラー回転盤２の回転中に完全な処理サイクルを受け且つこの位置で区分３を離れる、区分３は、符号１７によって表される。各区分３からの生成物の排出は、符号１７によりあらわさえる。
【００４６】
通路開口部のカバー形態の設計及びばら材料を支持する個々の区分３の被覆（ｃｏｖｅｒｉｎｇ）に依存して、移動物体として機能するセルラー回転盤２の底面は、ガス流通路及び固体板２５の両方を備えており、これにより区分３当たりでばら材料の通過を防止し、一方図５で表される代表例により、個々の区分３が穴あき底面又は格子形状に配列された底面を備えている。この底面は、セルラー回転盤２の指示された区分壁６により相互に分割されている個々の区分３のばら材料を押し止めるけれども、容易に水蒸気、不活性ガス及び乾燥ガスを通過させることができる。このようにして、例えば、湿った空気はセルラー回転盤２を回転軸１に平行に下側に流出され、そして水蒸気凝縮液は、個々の区分３から、個々の区分３に存在するばら材料から追い出され得る。パイ片状に形成された板部分の形状の固体底面２５により閉じられた区分３では、ガスがセルラー回転盤２の回転軸１に平行な下側に流出することは不可能である。条件調節されるべきばら材料の停止時間は、回転軸１の周りの羽根型セルラー回転盤２の速度の関数である。セルラー回転盤２を与えられた大きさにする場合、通過するガスの容量により加熱又は乾燥する効果は変化し得る。
【００４７】
図６及び７に示される代表例において、顆粒状又は粉末状の固体物質の処理をさせる移動（可能）物体の形態が示されている。これらの固体物質は、処理後、更なる工程に悪影響を与える妨害酸素残留物を含んでいてはならない。これは、例えば、ポリエチレンの配合中に、特に生成物を空気で気体搬送して、結果として高い酸素含有量となった時に、問題となるであろう。
【００４８】
図４及び５の形態の変形に従うカバー及び底面形態から明らかなように、図６及び７で示される形態変形では、セルラー回転盤２上の複数区分３のより大きな割合が、窒素の不活性ガス挿入２４．１，２４．２，２４．３及び２４．４を受け、一方図６のカバー形態１９の個々の複数区分において全く空気供給が起こらない。
【００４９】
従って、セルラー回転盤２の周囲の４個の区分３で供給された不活性ガス（例、窒素）のみが、乾燥することを担っている。なぜなら図４のカバー形態の空気の分離供給は、顆粒状又は粉末状の固体物質の本質的に望まれない酸素含有量をさらに増加させるであろうからである。
【００５０】
従って、このように使用されるセルラー回転盤２の図４の代表例に従う底面側はまた、図５に示される底面領域の代表例とは異なるように設計されている。図７に表される底面領域の場合、個々の複数区分３の底面は、ばら材料がそれらの中にあるが、それらに含まれるばら材料を不活性化することができる状態にあるように特別に設計されている。格子状又はワイヤメッシュ状に設計された底面或いは穴あきの底面は、一方では、ばら材料のセルラー回転盤２の区分３での保持を可能にし；他方で、底面に設けられた開口部がガスの流通を達成させている。図７の代表例は、個々の底面区分２７．１、２７．２、２７．３、２７．４、２７．５、２７．６及び２７．７が、回転方向２６（即ち、時計回り方向）に相互に隣接して位置していることを示している。１７において、生成物の排出、即ちセルラー回転盤２の回転軸１に平行に行われ且つ生成物がセルラー回転盤２の区分３を離れる操作が、可能である。水平配置でこのように操作されるセルラー回転盤２において、酸素は、水蒸気をセルラー回転盤２のカバー側１９で直接導入し、次いで一方が他方の後ろにあるような複数位置において不活性ガスの供給を行うことにより、顆粒状又は粉末状の固体物質を極めて効率よく排除することができる。
【００５１】
酸素の排除は、例えば最大限の劣化を防止するために必要である。供給流内及び溶融ポリマー内の低い酸素含有量は、例えば黄変度指数に関してより高い品質等級を与え得る、より高いグレードの生成物をもたらす。
【００５２】
供給された材料のみ酸素と接触させる（例えば空気供給の場合）押出の場合、例えば生成物の品質の重要な改良に加えて、本発明の方法はさらに別の利点を有する：
１．
熱処理すべき生成物に導入される大量のエネルギーを、押出機において、押出機に供給すべき電気エネルギーについて節約することができる。水蒸気は製造現場で容易に入手できるので、押出機へのエネルギーの供給をかなり低減することができる。
【００５３】
２．
押出機における同じ生成物処理量において、顆粒ポリマーを予備加熱するために少ない電気エネルギーしか要求されず；押出機の機械的負荷が低減する。このことは、押出機の耐用年数に関し有利であり、保守サイクルについても有利である。
【００５４】
３．
押出機に利用できる機械的駆動力が、計画する処理量の増大を拘束している場合には、材料処理量を大きく増加させることができる。
【００５５】
実施例に基づき、得られる方法パラメータ及び本発明に従い設計されたセルラー回転盤の寸法を詳細に説明する：
ポリエチレン顆粒の１時間当たり６ｔの材料（ｍａｓｓ）流及び１分当たり１回転のセルラー回転盤の想定回転速度で、１分当たりのセルラー回転盤による処理量で１００ｋｇのポリエチレンを製造する。１０個の区分又はチャンバー３を、セルラー回転盤３当たり想定した、即ち各区分は、約１０ｋｇのポリエチレンを保持した（即ち２０Ｌに相当する容量）。このため、セルラー回転盤２の合計容量は、２００Ｌの材料用能力として設計されなければならない。
【００５６】
直径１．５ｍ（１．７６ｍ２の表面積に当たる）のセルラー回転盤２を想定した場合、セルラー回転盤２の全高さ１８が約１１．３ｃｍとなる。
【００５７】
ポリエチレン顆粒、又は顆粒又は粉末状ばら材料を２０〜１００℃に加熱するために、１時間当たり０．５ｔの水蒸気が必要であり、これは１時間当たり約８００ｍ３に相当する。このことから、セルラー回転盤２により１分当たり１３ｍ３の処理量を得ることができることが分かる。これは、１秒当たり２００Ｌの水蒸気の容量流に相当する。約４．５ｋｍ／ｈの水蒸気の想定流速で、蒸気流中の粉末状又は顆粒状材料の平均停止時間は約６秒であった。
【図面の簡単な説明】
【図１】
図１は、生成物供給路及び生成物排出路、及び外周表面を介してのガス給送を有する垂直配列で操作される移動物体の側面図を示す。
【図１ａ】
図１ａは、羽根型セルラー回転盤を示す。
【図２】
図２は、分配充填シュートを有する、セルラー回転盤の配置の斜視図を示す。
【図３】
図３は、概略図の、ばら材料の入口及び出口、及び水蒸気又は不活性ガスの供給路ラインを、固定配置で備えた、回転軸の周りを回転する水平配列で操作されるセルラー回転盤を示す。
【図４】
図４は、空気で優先的に乾燥し、次いで不活性化するためのセルラー回転盤のカバーの形態を示す。
【図５】
図５は、ガスの流通を可能にし、区分を被覆する穴あき表面を備えた、図４の空気で乾燥する移動物体の底面の形態を示す。
【図６】
図６は、生成物を加熱し、任意に不活性化するための移動物体として働くセルラー回転盤のカバーの形態を示す。
【図７】
図７は、図６の底面の形態に属するセルラー回転盤の底面部分の形態を示す。
【符号の説明】
１  回転軸
２  セルラー回転盤
３  セルラー回転盤区分
３．１  区分円弧
４  ばら材料供給路
５  ばら材料排出路
６  区分壁
７  空気入口
８  出口
９  不活性ガス流の方向
１０  ばら材料供給シュート
１１  ばら材料貯蔵物
１２  ばら材料出口
１３  開口領域
１４  セルラー回転盤幅
１５  出口開口部の範囲
１６  水蒸気入口
１７  ばら材料除去部
１８  セルラー回転盤高さ
１９  セルラー回転盤カバー
２０  セルラー回転盤底面
２１  閉じた区分
２２  水蒸気供給
２３  空気供給路
２４  不活性ガス供給
２４．１、２４．２、２４．３、２４．４  不活性ガス区分
２５  板
２６  回転方向
２７  穴あき区分底面
２７．１、２７．２、２７．３、２７．４、２７．５、２７．６、２７．７  ガス出口区分
２８  垂直配置
２９  水平配置
【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【国際調査報告】
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