(57)【要約】本発明は、内燃機関の噴射弁を制御するための電磁弁であって、当該電磁弁が、電磁石（２９）と、プランジャプレート（２８）およびプランジャピン（２７）を備えた運動可能なプランジャと、該プランジャと共に運動させられかつ弁座（２４）と協働する、噴射弁（１）の制御圧室（１４）の燃料流出通路（１７）を開閉するための制御弁部材（２５）とを有しており、プランジャプレート（２８）が、その慣性質量の作用下で制御弁部材（２５）の閉鎖方向で、プランジャプレート（２８）に作用する戻しばね（３５）の緊張力に抗してプランジャピン（２７）に滑動可能に支承されていて、プランジャプレート（２８）の休止位置で戻しばね（３５）によって、プランジャピン（２７）に配置された当接部材（２６）に向かって押し付けられるようになっており、該当接部材（２６）が、プランジャプレート（２８）の、電磁石（２９）に面した側の端面（４１）に設けられた切欠き（６０）内に係合するようになっている形式のものに関する。当接部材（２６）が、円錐形の外周壁（５１）を有しており、該外周壁（５１）に、プランジャプレート（２８）の切欠き（６０）の、相補的に形成された円錐形の内壁区分（６１）が当て付けられるようになっていることが提案される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関の噴射弁を制御するための電磁弁であって、当該電磁弁が、電磁石（２９）と、プランジャプレート（２８）およびプランジャピン（２７）を備えた運動可能なプランジャと、該プランジャと共に運動させられかつ弁座（２４）と協働する、噴射弁（１）の制御圧室（１４）の燃料流出通路（１７）を開閉するための制御弁部材（２５）とを有しており、プランジャプレート（２８）が、その慣性質量の作用下で制御弁部材（２５）の閉鎖方向で、プランジャプレート（２８）に作用する戻しばね（３５）の緊張力に抗してプランジャピン（２７）に滑動可能に支承されていて、プランジャプレート（２８）の休止位置で戻しばね（３５）によって、プランジャピン（２７）に配置された当接部材（２６）に向かって押し付けられるようになっており、該当接部材（２６）が、プランジャプレート（２８）の、電磁石（２９）に面した側の端面（４１）に設けられた切欠き（６０）内に係合するようになっている形式のものにおいて、当接部材（２６）が、少なくとも部分周面に円錐形の外周壁（５１）を有しており、該外周壁（５１）に、プランジャプレート（２８）の切欠き（６０）の、相補的に形成された円錐形の内壁区分（６１）が当て付けられるようになっていることを特徴とする、内燃機関の噴射弁を制御するための電磁弁。
【請求項２】
円錐形の内壁区分（６１）が、当接部材（２６）の円錐形の外周壁（５１）に形状接続的に当て付けられるようになっている、請求項１記載の電磁弁。
【請求項３】
円錐形の内壁区分（６１）と、当接部材（２６）の円錐形の外周壁（５１）とが、液圧的な減衰装置を形成しており、該減衰装置によって、プランジャピン（２７）に対するプランジャプレート（２８）の後振動が減衰可能である、請求項１または２記載の電磁弁。
【請求項４】
当接部材（２６）が、プランジャピン（２７）の環状溝（４６）内に配置されている、請求項１から３までのいずれか１項記載の電磁弁。
【請求項５】
当接部材（２６）が、複数の部分、特に２つの部分から第１の部分（２６ａ）と少なくとも１つの別の部分（２６ｂ）とによって形成されており、両部分（２６ａ，２６ｂ）が、１つの平面でプランジャピン（２７）の運動方向に対して垂直に同心的にプランジャピン（２７）を取り囲むように環状溝（４６）内に配置されていて、それぞれ内壁区分（５４）で環状溝（４６）に当て付けられている、請求項４記載の電磁弁。
【請求項６】
戻しばね（３５）によって当接部材（２６）に向かって押し付けられるプランジャプレート（２８）が、半径方向の力を当接部材（２６）の第１の部分（２６ａ）と少なくとも１つの別の部分（２６ｂ）とに導入するようになっており、これによって、プランジャピン（２７）が、第１の部分（２６ａ）と少なくとも１つの別の部分（２６ｂ）との間に挟み込まれるようになっている、請求項５記載の電磁弁。
【請求項７】
当接部材（２６）の、電磁石（２９）に面した側の第１の面（５２）が、その外縁部に段部（５５）を有している、請求項１から６までのいずれか１項記載の電磁弁。
【請求項８】
段部（５５）と、プランジャプレート（２８）に設けられた貫通開口（６２）とによって燃料流出通路が形成されるようになっており、該燃料流出通路が、当該電磁弁のプランジャ室（１９）を、電磁石（２９）に形成された、当該電磁弁の燃料低圧接続部（１０）に接続された貫通開口（３７）に接続している、請求項７記載の電磁弁。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
背景技術
本発明は、請求項１の上位概念部に記載した形式の、内燃機関の噴射弁を制御するための電磁弁に関する。
【０００２】
たとえばドイツ連邦共和国特許出願公開第１９６５０８６５号明細書に基づき公知のこのような電磁弁は、噴射弁、たとえばコモンレール噴射装置のインジェクタに設けられた制御圧室内の燃料圧を制御するために使用される。この制御圧室内の燃料圧を介して、噴射弁の噴射開口を開閉する弁ピストンの運動が制御される。公知の電磁弁は、ハウジング部分内に配置された電磁石と、運動可能な可動鉄心もしくはプランジャと、このプランジャによって運動させられる、閉鎖ばねによって閉鎖位置に負荷された制御弁部材とを有している。この制御弁部材は電磁弁の弁座と協働し、したがって、制御圧室からの燃料流出を制御する。公知の電磁弁の欠点は、いわゆる「プランジャ衝突」にある。電磁石への電流の遮断時には、制御圧室から延びる燃料流出通路を閉鎖するために、プランジャと制御弁部材とが電磁弁の閉鎖ばねによって弁座に向かって加速させられる。弁座への制御弁部材の衝突は、弁座に対する制御弁部材の不都合な振動および／または衝突を結果的に生ぜしめる。これによって、噴射動作の制御が損なわれる。したがって、ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９６５０８６５号明細書に基づき公知の電磁弁では、プランジャが２つの部分から、プランジャピンと、このプランジャピンに滑動可能に支承されたプランジャプレートとにより形成されており、これによって、プランジャプレートが弁座への制御弁部材の衝突時に戻しばねの緊張力に抗してプランジャピンに沿って引き続き運動させられる。次いで、戻しばねがプランジャプレートを、プランジャピンの当接部材における出発位置に戻す。プランジャを２つの部分から形成することによって、効果的に制動される質量ひいては弁座に衝突するプランジャの、衝突を生ぜしめる運動エネルギが減少させられる。プランジャプレートのための当接部材は、Ｕ字形の切欠きを備えた閉じられていない環状板の形で形成されている。この環状板はプランジャピンの環状溝内に配置されている。プランジャプレートは、電磁石に面した側の端面にプランジャピンを同心的に取り囲む、方形の横断面を備えた切欠きを有している。この切欠きは環状板を側方で取り囲んでいる。この場合、環状板の外周壁は、切欠きの、全周にわたって延びる一体の内壁から間隔を置いて配置されているので、環状板は、僅かな遊びを備えてプランジャピンに位置固定されているものの、切欠きによってプランジャピンの滑落を防止している。戻しばねはプランジャプレートをその休止位置において切欠きの底部で当接部材に向かって押圧している。
【０００３】
発明の利点
請求項１の特徴部に記載の特徴を備えた本発明による電磁弁は、当接部材が、少なくとも部分周面に円錐形の外周壁を有しており、該外周壁に、プランジャプレートの切欠きの、相補的に形成された円錐形の内壁区分が当て付けられるようになっている点で公知先行技術と異なっている。この手段によって、プランジャプレートの当接時に、伝達される力が軸方向で当接部材に作用するだけでなく、円錐角だけ傾けられた外周壁によってプランジャプレートの運動方向に対して半径方向にも導出されることが達成される。これによって、当接部材からのプランジャプレートの跳返りと、プランジャプレートの後振動とが有利に減少される。さらに、この手段によって、プランジャプレートが電磁石の励磁時に側方の遊びなしに当接部材に当て付けられ、プランジャプレートに作用する傾倒モーメントが減少させられることが達成される。相補的に形成された切欠き内への円錐形の当接部分の係合によってプランジャプレートが案内される。したがって、プランジャプレートの、プランジャピンに対して滑動するガイドスリーブを短縮することができ、プランジャプレートの質量を減少させることができる。さらに、このことは、プランジャプレートの後振動特性に有利に作用する。プランジャプレートの短い後振動時間が望まれている。なぜならば、プランジャプレートがもはや後振動しない場合に初めて電磁弁の制御が、規定された噴射量を再び獲得するからである。さらに、切欠きの円錐形の構成によって、製作時の切欠きにおける煩わしいばりを簡単に回避することができる。
【０００４】
本発明の改良形および有利な構成は、従属請求項に記載の特徴によって可能となる。
【０００５】
プランジャプレートの切欠きの円錐形の内壁区分が、当接部材の円錐形の外周壁に形状接続的に当て付けられるようになっていると有利である。公知先行技術に比べて増加させられた、当接部材に対するプランジャプレートの当付け面によって、電磁弁の長時間安定性が改善される。
【０００６】
円錐形の内壁区分と、当接部材の円錐形の外周壁とが、液圧的な減衰装置を形成しており、該減衰装置によって、プランジャピンに対するプランジャプレートの後振動が減衰可能であると有利である。
【０００７】
当接部材をプランジャピンに位置固定するためには、当接部材が、プランジャピンの環状溝内に配置されている。当接部材が、複数の部分、特に２つの部分から第１の部分と少なくとも１つの別の部分とによって形成されており、両部分が、１つの平面でプランジャピンの運動方向に対して垂直に同心的にプランジャピンを取り囲むように環状溝内に配置されていて、それぞれ内壁区分で環状溝に当て付けられていると特に有利である。この手段によって、当接部材を簡単にプランジャピンに遊びなしに位置固定することができることが達成される。プランジャピンへの当接部材の当付け面は、公知の電磁弁に比べて増加させられている。これによって、安定性が高められる。当接部材への、戻しばねによって負荷されたプランジャプレートの当接が、当接部材の、円錐角だけ傾けられた外周壁面によって半径方向の力を当接部材の第１の部分と少なくとも１つの別の部分とに導入するようになっていると有利である。当接部材を複数の部分から形成することによって、プランジャピンが、第１の部分と少なくとも１つの別の部分との間に挟み込まれるようになっていることを達成することができる。これによって、プランジャプレートとプランジャピンとの間の側方の遊びが有利に回避される。
【０００８】
さらに、当接部材の、電磁石に面した側の第１の面が、その外縁部に段部を有していると有利である。この段部と、プランジャプレートに設けられた貫通開口とによって有利には燃料流出通路が形成されるようになっており、該燃料流出通路が、電磁弁のプランジャ室を、電磁石に形成された、当該電磁弁の燃料低圧接続部に接続された貫通開口に接続している。
【０００９】
実施例の説明
以下に、本発明の実施例を図面につき詳しく説明する。
【００１０】
図１には、公知先行技術に基づき公知の燃料噴射弁１の上側の部分が示してある。この公知の燃料噴射弁１は燃料噴射装置に使用するために規定されている。この燃料噴射装置は燃料高圧アキュムレータを装備している。この燃料高圧アキュムレータには高圧フィードポンプによって連続的に高圧燃料が供給される。図示の燃料噴射弁１は弁ハウジング４を有している。この弁ハウジング４は長手方向孔５を備えている。この長手方向孔５内には弁ピストン６が配置されている。この弁ピストン６はその一方の端部で、ノズルボディ（図示せず）内に配置された弁ニードルに作用している。この弁ニードルは圧力室内に配置されている。この圧力室には圧力孔８を介して、高圧下にある燃料が供給されている。弁ピストン６の開放行程運動時には、弁ニードルが、この弁ニードルの受圧肩部に常に作用している圧力室内の燃料高圧によってばねの閉鎖力に抗して持ち上げられる。この場合に圧力室に接続された噴射開口によって、内燃機関の燃焼室内への燃料の噴射が行われる。弁ピストン６の降下によって、弁ニードルが閉鎖方向で噴射弁１の弁座に押圧され、噴射動作が終了する。
【００１１】
図１に見ることができるように、弁ピストン６は、弁ニードルとは反対の側の端部で円筒状孔１１内に案内される。この円筒状孔１１は弁片１２に加工成形されている。この弁片１２は弁ハウジング４内に挿入されている。円筒状孔１１内では、弁ピストン６の端面１３が制御圧室１４を閉鎖している。この制御圧室１４は流入通路を介して燃料高圧接続部に接続されている。流入通路は主として３つの部分から形成されている。弁片１２の壁を貫いて半径方向に延びる孔の内壁はその長さの一部に流入絞り１５を形成している。また、弁片１２の壁を貫いて半径方向に延びる孔は、弁片１２を周面側で取り囲む環状室１６に常に接続されている。さらに、この環状室１６は、流入通路内に押し込まれた燃料フィルタを介して、弁ハウジング４内に螺入可能な接続管片９の燃料高圧接続部に常に接続されている。環状室１６はシールリング３９を介して長手方向孔５に対してシールされている。流入絞り１５を介して制御圧室１４は、燃料高圧アキュムレータ内に形成された高い燃料圧にさらされている。弁ピストン６に対して同軸的に制御圧室１４から、弁片１２内で延びる孔が分岐している。この孔は、流出絞り１８を備えた燃料流出通路１７を形成している。この燃料流出通路１７は放圧室１９に開口している。この放圧室１９は燃料低圧接続部１０に接続されている。さらに、この燃料低圧接続部１０は、図示しない形式で噴射弁１の燃料戻し通路に接続されている。弁片１２に設けられた燃料流出通路１７からの燃料の流出は、弁片１２の外側に位置する端面の、円錐形にもみ下げられた部分２１の領域で行われる。弁片１２はフランジ領域２２で螺合部材２３を介して弁ハウジング４に固く緊締されている。
【００１２】
円錐形の部分２１には弁座２４が形成されている。この弁座２４は、噴射弁１を制御する電磁弁３０の制御弁部材２５と協働する。この制御弁部材２５は、プランジャピン２７およびプランジャプレート２８の形の、２つの部分から成る可動鉄心もしくはプランジャに連結されている。このプランジャは電磁弁３０の電磁石２９と協働する。電磁弁３０は、電磁石２９を収容するハウジング部分７０を有している。このハウジング部分７０は、螺合可能な結合手段７を介して弁ハウジング４に固く結合されている。公知の電磁弁３０では、プランジャプレート２８がその慣性質量の作用下で戻しばね３５の予荷重力もしくはプレロード力に抗して動力学的に移動可能にプランジャピン２７に支承されていて、戻しばね３５によって休止状態において、プランジャピン２７に位置固定された当接部材２６に向かって押圧される。戻しばね３５はその他方の端部で、プランジャピン２７を案内する滑り片３４のフランジ３２にハウジングに対して不動に支持されている。滑り片３４はフランジ３２によって、弁片１２に載置されたスペーサディスク３８と、螺合部材２３との間で弁ハウジング４内に固く緊締されている。プランジャピン２７と、プランジャディスク２８と、プランジャピン２７に連結された制御弁部材２５とは、ハウジングに対して不動に支持された閉鎖ばね３１によって常に閉鎖方向で負荷されているので、通常、制御弁部材２５は閉鎖位置で弁座２４に接触している。電磁石２９の励磁時には、プランジャプレート２８および当接部材２６を介してプランジャピン２７も電磁石２９に向かって運動させられる。これによって、流出通路１７が放圧室１９に向かって開放される。制御弁部材２５とプランジャプレート２８との間には、プランジャピン２７に設けられた環状肩部３３が位置している。この環状肩部３３は電磁石２９の励磁時にフランジ３２に当接し、したがって、制御弁部材２５の開放行程を制限している。この開放行程を調整するためには、フランジ３２と弁片１２との間に配置されたスペーサディスク３８が働く。
【００１３】
噴射弁１の開閉は、以下に説明するように電磁弁３０によって制御される。プランジャピン２７は常に閉鎖ばね３１によって閉鎖方向で負荷されているので、制御弁部材２５は、電磁石２９が励磁されていない場合には閉鎖位置で弁座２４に接触していて、制御圧室１４は放圧側１９に対して閉鎖されており、これによって、制御圧室１４には、流入通路を介して極めて迅速に高い圧力が形成される。この圧力は燃料高圧アキュムレータ内にも存在している。端面１３を介して制御圧室１４内の圧力が、他方で加えられた高圧に基づき開放方向で作用する力よりも大きな閉鎖力を、弁ピストン６と、この弁ピストン６に結合された弁ニードルとに形成している。制御圧室１４が電磁弁３０の開放によって放圧側１９に向かって開放されると、制御圧室１４の僅かな容積内の圧力が極めて迅速に減少する。なぜならば、制御圧室１４が流入絞り１５を介して高圧側から分離されているからである。したがって、弁ニードルに加えられた燃料圧に基づく、弁ニードルに開放方向で作用する力が上回るので、弁ニードルが上方に運動させられ、この場合、少なくとも１つの噴射開口が噴射のために開放される。しかし、電磁弁３０が燃料流出通路１７を閉鎖すると、制御圧室１４内の圧力が、流入通路を介して引き続き流入する燃料によって再び増加し得るので、本来の閉鎖力が形成され、燃料噴射弁１の弁ニードルは閉鎖する。
【００１４】
電磁弁３０の閉鎖時には、閉鎖ばね３１がプランジャピン２７を制御弁部材２５と共に急激に弁座２４に向かって押圧する。制御弁部材２５の好ましくない跳返りまたは後振動は、弁座２４へのプランジャピン２７の衝突が、弁座２４の、エネルギアキュムレータとして作用する弾性変形を生ぜしめることによって発生する。さらに、この場合、エネルギの一部は制御弁部材２５にも伝達される。この場合、この制御弁部材２５がプランジャピン２７と共に弁座２４から跳ね返る。したがって、図１に示した公知の電磁弁３０は、プランジャピン２７から分離されたプランジャプレート２８を備えた、２つの部分から成るプランジャを使用している。プランジャプレート２８は弁座２４への制御弁部材２５の衝突時に戻しばね３５の緊張力に抗して引き続き運動する。次いで、戻しばね３５はプランジャプレート２８をその出発位置にかつプランジャピン２７の当接部材２６に対する休止位置に戻す。こうして、全て弁座２４に衝突する質量を減少させることができる。しかし、プランジャプレート２８は不都合にも後振動し得る。図１に示した公知の電磁弁３０では、当接部材２６が、Ｕ字形の切欠きを備えた環状板の形で一体に形成されている。この環状板は、プランジャピン２７に設けられた環状溝内に配置されている。このためには、プランジャプレート２８が電磁弁３０の製作時に戻しばね３５の緊張力に抗して下方に運動させられ、当接部材２６がプランジャピン２７の軸線に対して半径方向でプランジャピン２７に押し被せられる。プランジャプレート２８のばね弾性的な戻り時には、当接部材２６が、プランジャプレート２８の、電磁石２９に面した側の面に設けられた切欠き６０内に進入する。したがって、当接部材２６はプランジャピン２７の滑落を防止している。
【００１５】
図２ａおよび図２ｂには、本発明による電磁弁の当接部材２６の第１実施例が示してある。図示の実施例では、当接部材２６が２つの部分から形成されている。しかし、当接部材を３つまたはそれ以上の部分から形成することも可能である。当接部材を円環状の横断面を備えて一体に形成しかつ適切な形式でプランジャピンに位置固定することも可能である。しかし、図２ａおよび図２ｂに示した、当接部材２６が２つの部分から成っている構成が特に有利である。当接部材２６は、主として、円錐形の外周壁と軸方向の貫通開口とを備えた円錐台形の形を有している。この円錐台形は、ギャップ幅ｄを備えた半径方向の分離継ぎ目５９によって、平面図で見てＣ字形の２つの部分片２６ａ，２６ｂに分割される。各部分２６ａ，２６ｂは、上面５２と、下面５３と、円錐形の部分外周壁５１と、プランジャピン２７に当て付けるための円筒状の内壁区分５４とを有している。有利な実施例では、当接部材２６の円錐角αが１０゜〜４０゜の大きさに寸法設定されていて、特に２５゜の大きさに寸法設定されている。図２ｂに見ることができるように、ここに図示した実施例では、両部分２６ａ，２６ｂの上面５２が外縁部にそれぞれ環状の段部５５を有してる。両部分２６ａ，２６ｂがプランジャピン２７に配置されている位置では、両段縁部の直径方向の間隔ｌがプランジャピン２７の直径に相当している。
【００１６】
図３には、本発明による電磁弁の、所属のプランジャプレート２８が示してある。同じ部材は同じ符号を備えている。プランジャプレート２８は、組み込まれた状態で電磁石２９に面している端面４１と、この端面とは反対の側の面４２とを有している。この面４２からは案内管片６５が張り出している。この案内管片６５は、プランジャピン２７を収容するための軸方向の貫通開口４９によって貫通される。この貫通開口４９は、プランジャプレート２８の端面４１に設けられた切欠き６０に開口している。この切欠き６０は円錐形の内壁６１を有している。この内壁６１は当接部材２６の外周壁５１に対して相補的に形成されていて、すなわち、同じ円錐角αを有している。切欠き６０と開口４９とは漏斗状の幾何学的形状を形成している。プランジャプレート２８のセグメントは切欠き６１を有している。この切欠き６１の内縁部は孔６２を介して切欠き６０に接続されている。孔６２は円錐形の周壁６１に開口している。
【００１７】
図４には、プランジャプレート２８と、当接部材２６と、プランジャピン２７を案内する滑り片３４とを備えたプランジャピン２７が組み立てられた状態で示してある。戻しばね３５は図示されていない。図４に示した実施例には、図２ａおよび図２ｂに示した実施例とは異なり段部５５が示されていない。図４に示した装置は、図１に示した部分の代わりに電磁弁内に組み込むことができる。図４に示した装置の組付け時には、まずプランジャプレート２８が戻しばね３５（図示せず）の緊張力に抗して下方に押圧される。次いで、Ｃ字形の両部分２６ａ，２６ｂが側方からプランジャピン２７の環状溝４６内に押し込まれ得る。この環状溝４６の両側壁４７，４８の間隔は両部分２６ａ，２６ｂの厚さよりもやや大きく寸法設定されているので、両部分２６ａ，２６ｂは問題なく押し込むことができる。プランジャプレート２８のばね弾性的な戻り時には、円錐形の外周壁区分５１が切欠き６０の円錐形の内壁区分６１に形状接続的（ｆｏｒｍｓｃｈｌｕｅｓｓｉｇ）に当て付けられるまで、両部分２６ａ，２６ｂがプランジャプレート２８の切欠き６０内に進入する。円錐角αだけ傾けられた外周壁区分５１によって、戻しばね３５が半径方向の力を両部分２６ａ，２６ｂに導入する。これによって、プランジャピン２７が環状溝４６の領域で、締付けジョーとして作用する両部分２６ａ，２６ｂの間に挟み込まれる。さらに、当接部材２６へのプランジャプレート２８の当接によって、両部分２６ａ，２６ｂが環状溝４６の上側の側壁４７に当て付けられる。さらに、当接部材２６へのプランジャプレート２８の接近時に円錐形の内壁６１と円錐形の外周壁５１との間に液圧的な減衰室が形成されると有利である。当接部材２６と切欠き６０との間の微小なギャップから押し退けられた燃料は反発力をプランジャプレート２８に加える。この反発力は戻しばね３５に抗して作用するので、当接部材２６へのプランジャプレート２８の当接が減衰される。
【００１８】
図４には、当接部材２６の、電磁石２９に面した側の上面５２に設けられた環状の段部５５が示されていない。しかし、図４に相俟って図２ｂに見ることができるように、段部５５は、プランジャプレート２８に設けられた孔６２と共に燃料流出通路を形成している。この燃料流出通路は電磁弁の放圧室１９を、電磁石２９に設けられた開口３７を介して燃料低圧接続部１０に接続している。
【図面の簡単な説明】
【図１】
電磁弁を備えた、公知先行技術に基づき公知の燃料噴射弁の上側の部分の横断面図である。
【図２ａ】
本発明による電磁弁の当接部材の実施例の平面図である。
【図２ｂ】
図２ａの横断面図である。
【図３】
本発明による電磁弁のプランジャプレートを示す図である。
【図４】
本発明による電磁弁の第２実施例のプランジャプレート、プランジャピン、当接部材および滑り片を、組み立てられた状態で戻しばねなしで示す図である。
【符号の説明】
１  燃料噴射弁、  ４  弁ハウジング、  ５  長手方向孔、  ６  弁ピストン、  ７  結合手段、  ８  圧力孔、  ９  接続管片、  １０  燃料低圧接続部、  １１  円筒状孔、  １２  弁片、  １３  端面、  １４  制御圧室、  １５  流入絞り、  １６  環状室、  １７  燃料流出通路、  １８  流出絞り、  １９  放圧室、  ２１  部分、  ２２  フランジ領域、  ２３  螺合部材、  ２４  弁座、  ２５  制御弁部材、  ２６  当接部材、  ２６ａ  部分、  ２６ｂ  部分、  ２７  プランジャピン、  ２８  プランジャプレート、  ２９  電磁石、  ３０  電磁弁、  ３１  閉鎖ばね、  ３２  フランジ、  ３３  環状肩部、  ３４  滑り片、  ３５  戻しばね、  ３７  開口、  ３８  スペーサディスク、  ３９  シールリング、  ４１  端面、  ４２  面、  ４６  環状溝、  ４７  側壁、  ４８  側壁、  ４９  貫通開口、  ５１  外周壁、  ５２  上面、  ５３  下面、  ５４  内壁区分、  ５５  段部、  ５９  分離継ぎ目、  ６０  切欠き、  ６１  内壁区分または切欠き、  ６２  孔、  ６５  案内管片、  ７０  ハウジング部分、  ｄ  ギャップ幅、  ｌ  間隔、  α  円錐角
【国際公開パンフレット】
2004516418.tif 000003
2004516418.tif 000004
2004516418.tif 000005
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【国際調査報告】
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