(57)【要約】電気活性有機材料の熱転写を行う方法を開示する。本方法では、供与体成分により支持された電気有機材料層の不要部分を、熱転写により、特にレーザー誘起熱転写により、該層から除去するかまたは転写させて、供与体成分上に電気活性有機材料の所望のパターンを残存させる。電気活性有機材料として、エレクトロルミネセンス、電荷輸送、電荷注入、導電性、半導電性、および／またはエキシトンブロッキングを呈する有機材料を利用し得る。電気活性有機材料層は、異なるタイプの電気活性有機材料からなる２層以上の層を含んでいてもよい。曝露パターンは所望のパターンのネガ画像である。したがって、所望のパターンの電気活性有機材料は、分解を引き起こし得る熱には曝露されない。次に、電気活性有機材料に損傷を与えることなく、電気活性有機材料の所望のパターンを、たとえばラミネーションにより、供与体成分から所望の基材に徐々に転写させることが可能である。基材は、発光ディスプレイ、光検出器、および光起電力セルのような有機電子装置を形成するために使用されてもよい。本方法で使用するための供与体成分についても開示する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気活性有機材料のパターン層を提供する方法であって、
熱的に画像形成可能な電気活性有機材料の転写層を含む供与体成分を熱に選択的に曝露して前記電気活性有機材料の不要部分を前記転写層から除去することより、前記供与体成分上に電気活性有機材料の所望のパターン層を形成する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記パターン層を前記供与体成分から基材に転写する工程をさらに含み、好ましくは、この転写工程がラミネーションにより前記パターン層を前記基材に転写することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記電気活性有機材料層の除去された不要部分が受容体成分に転写されるように、前記曝露工程の前に前記供与体成分の転写層を受容体成分に隣接して配置することをさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記供与体成分が、基板成分と、前記基板成分と前記電気活性有機材料層との間に加熱層とをさらに含み、好ましくは、前記加熱層が金属であることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記供与体成分が、前記加熱層から前記基材への前記パターン層の転写を容易にする手段をさらに含み、好ましくは、前記手段が、前記電気活性有機材料層に隣接して前記金属の表面上に剥離材料を含み、前記剥離材料が、ポリジメチルシロキサン、イソ−ジクロロシランペルフルオロデカン、ヘキサメチルジ−シラザン、ジクロロシランペルフルオロデカン、およびトリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル−１−メチルジクロロシランからなる群より選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記転写工程が、前記パターン層と前記基材との間の第２の接着力よりも小さい、前記パターン層と前記供与体成分との間の第１の接着力を提供することを含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記電気活性有機成分が電気活性有機成分の第１および第２の層を含み、前記層のうちの一方が電荷注入／輸送物質の層であり、かつ熱への前記供与体成分の選択的曝露により電気活性有機材料の前記第１および第２の層の不要部分が除去され、その結果、前記供与体成分上に電気活性有機材料の２層の所望のパターン層が形成され、
好ましくは、前記基材が第１の電気接触層を含み、
好ましくは、前記電荷注入／輸送物質の層が、キシレンと２−ブトキシエタノールと導電性ポリアニリンとを含む導電性ポリアニリン溶液からコーティングを形成することにより提供されることを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項８】
レーザー放射、サーマルプリントヘッド、または導電性金属チップのアレイにより、前記供与体成分を熱に選択的に曝露する工程を含むことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項９】
基板成分と、
前記基板成分により支持された電気活性有機材料の所望のパターンを含有する転写性層と、を含む製造物品であって、前記転写性層は、選択的に加熱して電気活性有機材料の不要部分を前記転写性層から除去することにより前記所望のパターンに形成されたものであり、好ましくは、前記転写性層が電気活性有機材料の第１および第２のパターン層を含むことを特徴とする物品。
【請求項１０】
前記第１および第２のパターン層のうちの一方が電荷注入／輸送物質であり、好ましくは、前記電荷注入／輸送物質の層が、キシレンと２−ブトキシエタノールと導電性ポリアニリンとを含む導電性ポリアニリン溶液からコーティングを形成することにより提供されることを特徴とする請求項９に記載の物品。
【請求項１１】
前記基板成分と前記転写性層との間に加熱層をさらに含み、好ましくは、前記加熱層が金属を含むことを特徴とする請求項９に記載の物品。
【請求項１２】
前記転写性層の転写を容易にする手段をさらに含み、前記手段が前記転写性層と前記加熱層との間に存在することを特徴とする請求項９に記載の物品。
【請求項１３】
第１の電気接触層と、
第２の電気接触層と、
前記第１および第２の電気接触層間の電気活性有機材料の画素化パターンと、
を含む有機電子装置であって、
前記画素化パターンが１平方センチメートルあたり少なくとも約１０，０００画素を含むことを特徴とする装置。
【請求項１４】
第１の電気接触層と、
第２の電気接触層と、
前記第１および第２の電気接触層間の電気活性有機材料の画素化パターンと、
を含む有機電子装置であって、
それぞれの画素が１００ミクロン未満１０ミクロンまでの長さを有し、かつそれぞれの画素が１００ミクロン未満１０ミクロンまでの幅を有し、好ましくは、それぞれの画素が約５０ミクロン未満の長さおよび約５０ミクロン未満の幅を有し、好ましくは、それぞれの画素が約３０ミクロン未満の長さおよび約３０ミクロン未満の幅を有することを特徴とする装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気活性有機材料の熱転写画像形成特にレーザー誘起熱転写画像形成を行うための改良された方法および製品に関する。
【背景技術】
【０００２】
熱転写法は、カラープルーフィングのような用途で周知である。そのような熱転写法では、たとえば、染料昇華、染料転写、溶融転写、およびアブレーティブ物質転写が行われ、物質の熱転写を誘起するために典型的にはレーザーが使用される。これらの方法については、たとえば、英国特許公報（特許文献１）、米国特許公報（特許文献２）、米国特許公報（特許文献３）、米国特許公報（特許文献４）、米国特許公報（特許文献５）、米国特許公報（特許文献６）、および米国特許公報（特許文献７）に記載されている。
【０００３】
レーザー誘起熱転写法では、典型的には、転写される物質の層（「転写層」）を含む供与体成分と、転写された物質を受容するための表面を含む受容成分とが使用される。供与体成分と受容体成分は、互いに近接または接触した状態に置かれ、通常は赤外線レーザーによるレーザー放射線に選択的に曝露される。入射するレーザー放射線を吸収することにより供与体成分の曝露部分で熱が発生し、その結果、転写層のそれらの部分が受容成分の表面上に移動する。供与体成分または受容成分の基材は、いずれか一方（または両方）が透明である。転写層の物質が、入射するレーザー放射線を吸収しない場合、供与体成分は、転写層および支持基板成分に隣接して加熱層をさらに備えていなければならない。加熱層は、放射線を吸収して熱を発生することにより転写層の転写を引き起こす物質である。供与体成分はまた、加熱層と転写層との間の射出層のような追加の層を備えていてもよい。射出層は、加熱されるとガス状分子に分解する。ガス状分子は、転写層の曝露部分を受容成分に移動させる。
【０００４】
ディジタル法では、集成体の小さな選択領域だけが一回で曝露されるので、供与体成分から受容体成分への物質の移動を一度に１画素ずつ行うことができる。コンピューター制御を行えば、高分解能かつ高速度の転写が容易になる。他の選択肢として、アナログ法では、集成体全体に照射し、マスクを用いて熱的に画像形成可能な層の所望の部分を選択的に曝露することが可能である。たとえば、米国特許公報（特許文献８）および米国特許公報（特許文献９）を参照されたい。
【０００５】
発光装置、光検出装置、および光起電力セルのような有機電子装置は、２つの電気接触層間にはさまれた電気活性有機材料の薄層から形成することが可能である。電気活性有機材料は、エレクトロルミネセンス、感光性、電荷輸送および／または注入（正孔または電子）、導電性、ならびに／あるいはエキシトンブロッキングを呈する有機材料である。物質は半導電性であってもよい。光が電気接触層を透過して電気活性有機材料層に達するかまたは電気活性有機材料層から電気接触層を透過することができるように、電気接触層の少なくとも一方は光透過性である。類似の構造を有する他の装置としては、光導電セル、光抵抗セル、フォトダイオード、フォトスイッチ、およびトランジスターが挙げられる。
【０００６】
電気接触層を横切って電気を印加すると光を放出する有機エレクトロルミネセンス物質としては、アントラセン、ブタジエン、クマリン誘導体、アクリジン、およびスチルベン誘導体のような有機分子が挙げられる。たとえば、米国特許公報（特許文献１０）を参照されたい。半導電性共役ポリマーもまた、エレクトロルミネセンス物質として使用されてきた。たとえば、米国特許公報（特許文献１１）、米国特許公報（特許文献１２）、および、欧州特許出願公開（特許文献１３）を参照されたい。種々の波長で発光させるように、電気活性有機材料を調節することができる。
【０００７】
光検出器や光起電力セルのような感光装置では、特定の共役ポリマーならびにエレクトロルミネセンス物質およびフォトルミネセンス物質を使用することにより放射エネルギーに応答して電気信号を発生させることが可能である。バックミンスターフラーレン（Ｃ60）およびその誘導体のような電荷捕獲物質と混合されたエレクトロルミネセンス物質は、そのような感光性を示す。たとえば、非特許文献１を参照されたい。
【０００８】
有機電子装置には、可撓性、低コスト、および製造の容易さという利点がある（非特許文献１）。それらの性能は、伝統的な感光装置の性能に近く、場合によりそれを凌駕することもある（非特許文献１）。
【０００９】
有機半導電性物質を用いて薄膜トランジスターを形成することも可能である。現在では、完全に有機材料からトランジスターを作製することが可能である。有機材料のトランジスターは伝統的なトランジスターほど高価ではなく、遅いスイッチング速度が許容できて伝統的なトランジスターを使用するには非経済的であるローエンド用途に使用することが可能である。たとえば、（非特許文献２）を参照されたい。このほか、有機トランジスターに可撓性をもたせることも可能であり、これは、モニターの曲面上で発光ダイオードを制御するような用途に有利であろう（非特許文献２）。有機半導電性物質としては、ペンタセン、ポリチエニレンビニレン、チオフェンオリゴマー、ベンゾチオフェン二量体、フタロシアニン、およびポリアセチレンが挙げられる。たとえば、米国特許公報（特許文献１４）、米国特許公報（特許文献１５）、米国特許公報（特許文献１６）、および米国特許公報（非特許文献３）を参照されたい。
【００１０】
電気活性有機材料は、スピンコーティング法、キャスティング法、またはインクジェットプリンティング法により、電気接触層の１つにまたはトランジスターの一部分上に適用可能である。それらはまた、物質の性質にもよるが、気相堆積法により直接適用することも可能である。電気活性ポリマー前駆体を適用して典型的には熱によりポリマーに変換することも可能である。そのような方法は、複雑で、遅くて、高価で、十分な解像度がなく、しかも標準的なリソグラフィー（湿式現像）法を用いてパターン化する際、有害な熱および化学過程に装置を曝露する。
【００１１】
インクジェットプリンティングは、約３５０〜約１００ミクロンの直径を有する電気活性有機材料の画素を適用すべく使用されてきた。たとえば、米国特許公報（特許文献１７）、欧州特許出願公開（特許文献１８）、国際特許出願明細書（特許文献１９）、および国際特許出願明細書（特許文献２０）を参照されたい。このほかに、インクジェットプリンティングを用いたレジストの適用については米国特許公報（特許文献２１）を参照されたい。ショートランカラー印刷や色再現確認用プルーフの作成のような従来の印刷用途で約３５ミクロンの直径を有する画素を適用することが特許請求されている。
【００１２】
光電子放出装置、光検出装置、および光起電力装置のような有機電子装置は、典型的には、電荷輸送（電子輸送もしくは正孔輸送）および／または電気活性有機材料と電気接触とのギャップ整合を容易にするためにエレクトロルミネセンス有機材料に隣接して電荷注入／輸送物質の層を備えている。電荷注入／輸送物質がパターン化されることはなかった。したがって、画素間のクロストークを防止するために、低導電率の電荷注入／輸送物質を使用しなければならない。
【００１３】
熱転写法を用いて物質をパターン化するほうが、アナログ法と湿式現像法を併用してパターン化するよりも、一般に高速でありかつ費用が安い。熱転写法特にレーザー誘起熱転写法を用いれば、より大きな解像度を提供することも可能である。電気活性有機材料を適用するには熱転写法、特にレーザー誘起熱転写法を利用することが有利であろう。
【００１４】
【特許文献１】
英国特許第２，０８３，７２６号明細書
【特許文献２】
米国特許第４，９４２，１４１号明細書
【特許文献３】
米国特許第５，０１９，５４９号明細書
【特許文献４】
米国特許第４，９４８，７７６号明細書
【特許文献５】
米国特許第５，１５６，９３８号明細書
【特許文献６】
米国特許第５，１７１，６５０号明細書
【特許文献７】
米国特許第４，６４３，９１７号明細書
【特許文献８】
米国特許第５，８５７，７０９号明細書
【特許文献９】
米国特許第５，９３７，２７２号明細書
【特許文献１０】
米国特許第４，３５６，４２９号明細書
【特許文献１１】
米国特許第５，２４７，１９０号明細書
【特許文献１２】
米国特許第５，４０８，１０９号明細書
【特許文献１３】
欧州特許出願公開第４４３８６１号明細書
【特許文献１４】
米国特許第５，９８１，９７０号明細書
【特許文献１５】
米国特許第５，６２５，１９９号明細書
【特許文献１６】
米国特許第５，３４７，１４４号明細書
【特許文献１７】
米国特許第６，０８７，１９６号明細書
【特許文献１８】
ＥＰ０８８０３０３Ａ１
【特許文献１９】
国際公開第９９／６６４８３号パンフレット
【特許文献２０】
国際公開第９９４３０３１号パンフレット
【特許文献２１】
米国特許第５，９８９，９４５号明細書
【特許文献２２】
米国特許第５，７６６，８１９号明細書
【特許文献２３】
ＰＣＴ／ＵＳ００／１１５３４
【特許文献２４】
米国特許第５，４２７，８５８号明細書
【特許文献２５】
米国特許第５，４８２，８９６号明細書
【特許文献２６】
米国特許第５，０７３，４４６号明細書
【特許文献２７】
米国特許第４，５３９，５０７号明細書
【特許文献２８】
米国特許第５，０４７，６８７号明細書
【特許文献２９】
米国特許第５，３１７，１６９号明細書
【特許文献３０】
米国特許第５，８７７，６９５号明細書
【特許文献３１】
米国特許第５，８６３，４６５号明細書
【非特許文献１】
ガン・ユー（Ｙｕ，Ｇａｎｇ）ら著「ｐｈｏｔｏｖｏｌｔａｉｃ  ｃｅｌｌｓ  ａｎｄ  ｐｈｏｔｏｄｅｔｅｃｔｏｒｓ  ｍａｄｅ  ｗｉｔｈ  ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  ｐｏｌｙｍｅｒｓ：Ｒｅｃｅｎｔ  Ｐｒｏｇｒｅｓｓ（半導体ポリマーで作製された光起電力セルおよび光検出器：最近の進歩）」会議３９３９、フォトニクス・ウェスト（Ｐｈｏｔｏｎｉｃｓ  Ｗｅｓｔ）、カリフォルニア州サンノゼ（Ｓａｎ  Ｊｏｓｅ，ＣＡ）、２０００年１月２２日〜２８日
【非特許文献２】
シー・ジェイ・ドルーリー（Ｄｒｕｒｙ，Ｃ．Ｊ．）ら著「Ｌｏｗ−ｃｏｓｔ  ａｌｌ−ｐｏｌｙｍｅｒ  ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔｓ（低コスト全ポリマー集積回路）」Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．出版、１９９８年７月６日、第７３巻、第１号、ｐｐ．１０８〜１１０
【非特許文献３】
ハーゲン・クローク（Ｋｌａｕｃｋ，Ｈａｇｅｎ）ら著「Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：Ｐｅｎｔａｃｅｎｅ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｔｈｉｎ−ｆｉｌｍ  ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒｓ  ａｎｄ  ＩＣｓ（堆積：ペンタセン有機薄膜トランジスターおよびＩＣ）」ソリッド・ステート・テクノロジー（Ｓｏｌｉｄ  Ｓｔａｔｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）出版、３月２日、第４３巻、第３号、ｐ．６３〜７５
【非特許文献４】
「Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ（化学・物理学ハンドブック）」シーアールシー（ＣＲＣ）（フロリダ州ボーカ・ラトーン（Ｂｏｃａ  Ｒａｔｏｎ，ＦＬ））出版、２０００〜２００１年、第８１版、
【非特許文献５】
シンナドゥライ著「ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  Ｐａｃｋａｇｉｎｇ  ａｎｄ  Ｉｎｔｅｒｃｏｎｎｅｃｔｉｏｎ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ（ミクロ電子工学の凝縮および相互接続テクノロジー）」エレクトロケミカル・パブリケーションズ・リミテッド（Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ  Ｌｔｄ．）出版、１９８５年
【非特許文献６】
ワイ・ワン（Ｙ．Ｗａｎｇ）「Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ化学工業大辞典）」１９９６年、第４版、第１８号、ｐ．８３７〜８６０、
【非特許文献７】
ジー・ユー、ケー・パクバズ、およびエイ・ジェイ・ヒーガー（Ｇ．Ｙｕ，Ｋ．Ｐａｋｂａｚ，ａｎｄ  Ａ．Ｊ．Ｈｅｅｇｅｒ）著「Ｏｐｔｏｃｏｕｐｌｅｒ  ｍａｄｅ  ｆｒｏｍ  ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇ  ｐｏｌｙｍｅｒｓ（半導電性ポリマーから作製されたオプトカプラー）」Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ（電子材料のジャーナル）、１９９４年、第２３巻、ｐ．９２５〜９２８
【非特許文献８】
ジェイ・ジェイ・エム・ホールズ（Ｊ．Ｊ．Ｍ．Ｈａｌｌｓ）ら（Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ  ｇｒｏｕｐ）著「Ｅｆｆｉｃｉｅｎｔ  Ｐｈｏｔｏｄｉｏｄｅｓ  ｆｒｏｍ  Ｉｎｔｅｒｐｅｎｅｔｒａｔｉｎｇ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｎｅｔｗｏｒｋｓ（相互侵入ポリマー網状構造体から得られた効率的なフォトダイオード）」ネーチャー（Ｎａｔｕｒｅ）出版、１９９５年、第３７６巻、ｐ．４９８〜５００
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、電気活性有機材料のパターン層を提供する方法に関する。この方法には、熱的に画像形成可能な電気活性有機材料の転写層を含む供与体成分を熱に選択的に曝露して電気活性有機材料の不要部分を転写層から除去することより、供与体成分上に電気活性有機材料の所望のパターン層を形成する工程が含まれる。
【００１６】
本発明の第２の実施形態には、１層が電荷注入／輸送物質の層である多層の電気活性有機材料の転写層を含む熱的に画像形成可能な成分をレーザー放射線に画像状に曝露することにより、転写層の曝露領域を除去して熱的に画像形成可能な成分上に電気活性有機材料と電荷注入／輸送物質とからなる所望のパターン層を形成する工程が含まれる。
【００１７】
本発明の第３の実施形態には、電荷注入／輸送物質の転写層を含む供与体成分を熱に選択的に曝露して電荷注入／輸送物質の不要部分を転写層から除去することにより、供与体成分上に電荷注入／輸送物質の所望のパターン層を形成する工程が含まれる。
【００１８】
本発明の第４の実施形態には、熱的に画像形成可能な電気活性有機材料の転写層を含む供与体成分を、所望のパターンのネガ画像を含む曝露パターンで熱に曝露して、電気活性有機材料の不要部分を転写層から除去する工程が含まれる。
【００１９】
本発明に係る第５の実施形態は、有機電子装置を形成する方法に関する。この方法には、電気活性有機材料のパターン層を含む供与体成分を提供する工程と、第１の電気接触層を含む基材を提供する工程と、パターン層の第１の表面が第１の電気接触層に隣接するようにパターン層を基材に転写する工程と、パターン層の第２の表面に隣接して第２の電気接触層を提供する工程とが含まれる。
【００２０】
第６の実施形態は、基板成分と、基板成分により支持された電気活性有機材料の所望のパターンを有する転写性層とを含む製造物品に関する。この転写性層は、選択的に加熱して電気活性有機材料の不要部分を転写性層から除去することにより所望のパターンに形成されたものである。
【００２１】
第７の実施形態は、第１の電気接触層と、第２の電気接触層と、第１および第２の電気接触層間の電気活性有機材料の画素化パターンとを含む有機電子装置に関する。この画素化パターンは、１平方センチメートルあたり少なくとも約１０，０００画素を含む。
【００２２】
第８の実施形態は、第１の電気接触層と、第２の電気接触層と、第１および第２の電気接触層間の電気活性有機材料の画素化パターンとを含む有機電子装置に関する。それぞれの画素は約１００ミクロン未満約１０ミクロンまでの長さを有し、かつそれぞれの画素は約１００ミクロン未満約１０ミクロンまでの幅を有する。
【００２３】
本発明者らは、現在の熱転写法を用いた場合、典型的には、転写される層の物質が吸収境界面で部分分解されることを見いだした。転写される物質の厚さが１０，０００オングストローム以上であるほとんどの熱転写法ではそのような分解は許容され得るが、より薄い物質では分解が問題になる可能性がある。たとえば、発光ディスプレイ、光検出器、光起電力セル、および半導体のような有機電子装置の電気活性有機材料層は、典型的には、約１００オングストロームから約５，０００オングストロームまでの厚さである。電気活性有機材料と加熱層との境界面で電気活性有機材料の分解が起こると、転写される物質のかなりの部分が蒸発する。熱転写法では、酸素の存在下における高温への曝露によりまたは直接的蒸発により、転写される電気活性有機材料の多くの部分または全部が破壊または分解される可能性がある。電気活性有機材料のそのような薄層に損傷を与えることのない熱転写法が有用であろう。
【００２４】
本明細書中で使用する場合、「有機電子装置」という用語は、電気活性成分のいずれかが有機材料である電子装置を意味する。
【００２５】
本明細書中で使用する場合、「に隣接して」という句は、必ずしも、１つの層が他の層のすぐ隣りにあることを意味するものではない。互いに隣接していると記された層間に、１層または複数層の中間層が設けられていてもよい。「光活性有機材料」という用語は、エレクトロルミネセンスおよび／または感光性を呈する任意の有機材料を意味する。
【００２６】
（発明の詳細な説明）
本発明によれば、供与体成分により支持された電気活性有機材料の転写層の不要部分を熱に曝露して電気活性有機材料の不要部分を転写層から転写させる。曝露パターンは所望のパターンのネガ画像である。転写層の曝露後、電気活性有機材料の所望のパターンが供与体成分上に残存する。電気活性有機材料の不要部分に曝露される熱は、局在化され急速に散逸する。したがって、所望のパターンの電気活性有機材料は、物質の分解を引き起こすのに十分な熱に曝露されることはない。次に、本方法の第２の工程で、過剰の熱を用いることなくラミネーションなどにより所望のパターンを基材に転写させることが可能である。こうすればパターン層の分解は起こらないであろう。電気活性有機材料の複数層のパターン層を本発明の方法に従って作製する場合、供与体成分の転写層および得られる供与体成分上の第１のパターン層は、電気活性有機材料の第２のパターン層を含んでいてもよい。光活性有機材料および電荷注入／輸送有機材料の両方を含有する有機電子装置では、光活性有機材料および電荷注入／輸送物質は典型的には同一のパターンを有する。
【００２７】
次に、本発明の方法の第１の工程で使用する供与体成分およびオプションとしての受容成分について説明する。
【００２８】
（供与体成分および受容成分）
図１は、本発明の方法で使用する代表的な供与体成分（１０）および受容体成分（２０）である。
【００２９】
図１および２に最も良好に示されるように、供与体成分（１０）は、少なくとも１層の電気活性有機材料層（１３）を含む熱的に画像形成可能な転写層（１２）と、基板成分（１４）と、基板成分（１４）と転写層（１２）との間に加熱層（１６）とを備えている。基板成分（１４）は、加熱層（１６）および転写層（１２）を支持する。転写層（１２）は、異なる電気活性有機材料の１層以上の追加の層を含んでいてもよい。たとえば、層（１３）はエレクトロルミネセンス物質であってもよく、オプションとしての層（１５）は電荷注入／輸送物質であってもよい。オプションとしての層（１５）は、加熱層（１６）の反対側の第１の電気活性有機材料（１３）の面上に示されている。他の選択肢として（図示せず）、基材または得られる装置の構成にもよるが、オプションとしての層（１５）は、電気活性有機材料層（１３）と加熱層（１６）との間に存在しいてもよい。
【００３０】
受容体成分（２０）は、受容体支持体（２２）とオプションとしての接着性コーティング（２４）とを含む。
【００３１】
本発明の方法の第１の工程で電気活性有機材料（１３）の不要な曝露部分を受容するために、好ましくは、供与体成分（１０）の転写層（１２）に隣接して受容体成分（２０）が配設される。
【００３２】
供与体成分（１０）の基板成分（１４）および受容体成分の受容体支持体（２２）は、寸法安定性シート材料である。以下でさらに説明されるように、好ましくは、供与体成分（１４）および受容体支持体（２２）は、後続の処理工程を容易にすべく可撓性である。以下でさらに説明されるように、基板成分（１４）および受容体支持体（２２）の少なくとも一方は、転写層（１２）の曝露を可能にすべくレーザー放射線（Ｒ）透過性である。
【００３３】
基板成分（１４）として使用するのに適した透明な可撓性フィルムの例としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート（「ポリエステル」）、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリ（ビニルアルコール−ｃｏ−アセタール）、ポリエチレン、または酢酸セルロースのようなセルロースエステル、およびポリ塩化ビニルが挙げられる。好ましくは、供与体成分（１０）の基板成分（１４）は、加熱層（１６）を受容するようにプラズマ処理されたポリエチレンテレフタレートである。同一の物質を受容体支持体（２２）に使用してもよい。二酸化チタンのような白色顔料が充填されたポリエチレンテレフタレート、アイボリー紙、または合成紙のような不透明物質、たとえば、「タイベック」（Ｔｙｖｅｋ（登録商標））スパンボンドポリオレフィン本出願人から入手可能）を受容体支持体（２２）に使用してもよい。
【００３４】
（加熱層）
図２に最も良好に示されるように、供与体成分（１０）の加熱層（１６）の機能は、転写層（１２）の電気活性有機材料に曝露するために使用されるレーザー放射線（Ｒ）を吸収して放射線を熱に変換することである。加熱層は典型的には金属である。
【００３５】
ニッケル、アルミニウム、クロム、バナジウム、およびそれらの合金は、加熱層（１６）用の好ましい金属である。以下でさらに論じられるように、酸素プラズマ処理によりニッケルからの電気活性有機材料の剥離が最も容易に行われ得ることが判明したので、電子ビーム堆積されたニッケルが最も好ましい。
【００３６】
他の好適な物質の例は、遷移金属元素ならびに第１３、１４、１５、および１６族の金属元素（族が周期表の左から右へ１〜１８に番号付けされる（非特許文献４）に記された新ＩＵＰＡＣ方式に準拠）、それら同士の合金、さらにはそれらと第１および２族の元素との合金である。ただし、レーザーの波長を吸収するものとする。図４に最も良好に示されるように、第１および２族の元素との合金は、一般的には、基材（３０）の受容表面に対する電気活性有機材料の接着性よりも、電気活性有機材料に対してより弱い接着性を有するか、またはより弱い接着性を有するように処理可能である。タングステン（Ｗ）は、好適な遷移金属の例である。
【００３７】
第１４族非金属元素の炭素を使用することもできる。
【００３８】
他の選択肢として、有機バインダーと赤外線吸収剤とを含む有機層を加熱層に利用することができる。好適なバインダーの例は、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリ塩化ビニル、およびニトロセルロースのように、加熱時にかなり低い温度で分解するものである。近赤外線吸収剤の例は、カーボンブラックおよび赤外染料である。
【００３９】
加熱層の厚さは、使用する金属の光吸収に依存する。クロム、ニッケルバナジウム、またはニッケルでは、８０〜１００オングストロームの層が好ましい。厚さ約４０〜５０オングストロームのアルミニウム加熱層は、高い光吸収を示す。炭素を使用する場合、加熱層は約５００〜約１，０００オングストロームであろう。
【００４０】
単一の加熱層を有することが好ましいが、２層以上の加熱層を有することも可能であり、異なる層は同一のまたは異なる組成を有することができる。
【００４１】
加熱層（１６）は、物理気相堆積法により基板成分（１４）に適用可能である。「物理気相堆積」という用語は、真空中で行われる種々の堆積法を意味する。したがって、たとえば、物理気相堆積には、イオンビームスパッタリングをはじめとするすべての形態のスパッタリングのほかに、電子ビームエバポレーションや化学気相堆積のようなすべての形態の気相堆積も包含される。本発明に有用な特定の形態の物理気相堆積は、ｒｆマグネトロンスパッタリングである。ニッケルは、基板成分（１４）上に電子ビーム堆積させることが可能である。アルミニウムは、抵抗加熱により適用可能である。クロム、ニッケル、およびニッケルバナジウムの層は、スパッタリングまたは電子ビーム堆積のいずれかにより適用可能である。
【００４２】
図３〜５に最も良好に示されるように、以下に記載の方法の第２の工程で所望の基材への電気活性有機材料のパターン層（１２’）の転写を容易にするために、電気活性有機材料に対する加熱層（１６）の接着性は、基材に対する電気活性有機材料（１３）またはオプションとしての層（１５）（存在する場合）の接着性よりも弱いことが重要である。したがって、好ましくは、加熱層（１６）と電気活性有機材料層（１２）との間に剥離手段（１７）を配設する。剥離手段（１７）は、加熱層（１６）を酸素プラズマ処理することにより配設可能である。少なくとも約４５秒間、好ましくは約９０秒間の酸素プラズマ処理を行うと電気活性有機材料に損傷を与えることなく電気活性有機材料の所望のパターンがラミネーションにより基材に容易に転写されることを見いだした。電気活性有機材料層に隣接して加熱層（１６）の表面上に酸化物層を形成してもよい。酸化物層は、数層の単分子層の厚さを有し得る。あるいは、単分子層の厚さの剥離層をバーコーティング法などにより加熱層表面上に直接被覆することも可能である。好適な剥離層材料としては、ペンシルバニア州ワーリントンのポリサイエンス・インコーポレーテッド（Ｐｏｌｙｓｃｉｅｎｃｅｓ  Ｉｎｃ．，（Ｗａｒｒｉｎｇｔｏｎ，ＰＡ））から入手可能なポリジメチルシロキサン、ペンシルバニア州タリータウンのゲレスト・インコーポレーテッド（Ｇｅｌｅｓｔ  Ｉｎｃ．（Ｔｕｌｌｙｔｏｗｎ，ＰＡ））から入手可能なイソ−ジクロロシランペルフルオロデカン、コネチカット州ノーウォークのアーク・ケミカル・インコーポレーテッド（Ａｒｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．（Ｎｏｒｗａｌｋ，ＣＴ））から入手可能なヘキサメチルジ−シラザン（ＨＭＤＳ）、同様にゲレスト・インコーポレーテッド（Ｇｅｌｅｓｔ  Ｉｎｃ．）から入手可能なジクロロシランペルフルオロデカン、およびペンシルバニア州ブリストルのユナイテッド・ケミカル・テクノロジーズ・インコーポレーテッド（Ｕｎｉｔｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．（Ｂｒｉｓｔｏｌ  ＰＡ））から入手可能なトリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル−１−メチルジクロロシランが挙げられる。剥離手段は、熱活性化剥離材料であってもよい。
【００４３】
（電気活性有機材料）
図１および２に最も良好に示されるように、少なくとも１層の電気活性有機材料の転写層（１２）は、次の特性：エレクトロルミネセンス、感光性、電荷輸送および／または電荷注入（正孔もしくは電子）、導電性、ならびにエキシトンブロッキングのうちの１つ以上を有する任意の有機材料を含む。電気活性有機材料には、有機分子またはポリマーが包含され得る。半導電性有機材料も包含される。電気活性有機材料層は、一般的には、１００〜５０００オングストロームの範囲の厚さを有する。好ましくは、電気活性有機材料は、約５００〜約２，０００オングストロームの厚さを有する。本発明の方法に使用し得る特定の電気活性有機材料について以下でさらに論述する。
【００４４】
上述したように、電気活性有機材料層（１２）の転写層は、１つ以上のタイプの電気活性有機材料を含んでいてもよい。たとえば、転写層（１２）は、エレクトロルミネセンス物質の層（１３）と電荷注入／輸送物質の層（１５）とを含んでいてもよい。
【００４５】
電荷注入／輸送物質を用いると、電荷輸送（電子輸送もしくは正孔輸送）および／または有機電子装置中の電気活性有機材料と電気接触とのギャップ整合が容易になる。ギャップ整合とは、最高被占価電子帯レベルと最低空伝導帯とのギャップの整合である。ポリアニリンおよびポリ（ジオキシチオフェン）は、電荷注入／輸送物質の例である。電荷注入／輸送物質の他の例について以下でさらに論述する。
【００４６】
（射出層）
当技術分野で公知のごとく、加熱層（１６）と電気活性有機材料層（１２）との間に射出層（図示せず）をオプションとして配設することが可能である。射出層は、加熱時にガス状分子に分解し、曝露領域において受容体成分（２０）への電気活性有機材料層（１２）の不要部分の転写を引き起こす追加の力を提供する。比較的低い分解温度（約３５０℃未満、好ましくは約３２５℃未満、より好ましくは約２８０℃未満）を有するポリマーを使用することが可能である。２つ以上の分解温度を有するポリマーの場合、第１の分解温度は３５０℃未満でなければならない。好適な射出層は、本発明の譲受人に譲渡された米国特許公報（特許文献２２）に開示されている。当技術分野で公知のごとく、加熱層（１６）で発生した熱の効果を増幅するために熱性添加剤を射出層に加えることも可能であり、これについては米国特許公報（特許文献２２）にも記載されている。ガス状生成物を発生するための追加の分解経路を提供することにより、追加の推進力を発生させて転写プロセスを支援することができる。
【００４７】
射出層を設けた場合、先に述べた剥離手段（１７）を用いれば、加熱層（１６）の曝露部分に隣接する射出層の物質は、加熱層（１６）から容易に転写されるであろう。
【００４８】
（接着性コーティング）
図１〜３に最も良好に示されるように、受容体成分（２０）の接着性コーティング（２４）により、受容体成分（２０）への転写層（１２）の曝露部分の接着が容易になる。接着性コーティング（２４）の接着力は、当技術分野で公知のごとく、転写層（１２）の非曝露部分が接着性コーティング（２４）により転写層（１２）から除去されるほど強力であってはならない。接着性コーティング（２４）は、好適なポリカーボネート、ポリウレタン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、スチレン／アクリロニトリルコポリマー、ポリ（カプロラクトン）、酢酸ビニルとエチレンおよび／または塩化ビニルとのコポリマー、（メタ）アクリレートのホモポリマー（たとえばブチルメタクリレート）、コポリマー、ならびにそれらの混合物であってもよい。
【００４９】
（本発明の方法）
本発明の方法の好ましい実施形態の第１の工程では、図２に最も良好に示されるように、供与体成分（１０）中の１層以上の電気活性有機材料層（１３）、（１５）からなる転写層（１２）の非被覆表面を受容成分（２０）の接着性層（２２）に接触させて集成体（２５）を形成する。真空および／または圧力を用いて供与体成分（１０）および受容体成分（２０）を一緒に保持することにより集成体（２５）を形成することができる。他の選択肢として、供与体成分（１０）および受容体成分（２０）を一緒にテープ留めして、テープ留めにより画像形成装置にすることができる。ピン留め方式を使用することもできる。あるいは、供与体成分（１０）を受容体成分（２０）に積層することができる。他の選択肢として、被覆時にマットポリエチレンカバーシートを積層することにより供与体成分の表面を粗面化して受容体成分（２０）との接触を改良するとともに供与体成分（１０）と受容体成分（２０）との間からの空気の除去を容易にすることも可能である。
【００５０】
次に、電気活性有機材料の熱的に画像形成可能な転写層（１２）の不要部分を熱または光の形態の放射線（Ｒ）により供与体成分（１０）を介して曝露する。受容体支持体（２２）が透明であれば、受容体支持体を介して供与体成分を放射線（Ｒ）に曝露することも可能である（図示せず）。先に述べたように、曝露パターンは所望のパターンのネガ画像である。加熱層（１６）は放射線（Ｒ）を吸収して転写層（１２）の不要部分の蒸発を引き起こす熱を発生することにより、供与体成分（１０）の転写層（１２）から受容体成分（２０）に不要部分の物質を転写する。
【００５１】
曝露後、供与体成分（１０）を受容体成分（２０）から分離させる。これは単に２つの成分を剥離することにより行うことが可能である。典型的には、ごくわずかの剥離力が必要とされ、供与体支持体（１０）を受容体成分（２０）から簡単に分離させることが可能である。任意の従来方式の手動または自動分離法を使用することが可能である。
【００５２】
図３に最も良好に示されるように、供与体成分（１０）と受容体成分（２０）の分離後、第１の電気活性有機材料（１３）およびオプションとしての第２の電気活性有機材料（１５）の所望のパターン（１２’）は供与体成分（１０）上に残存し、転写層（１２）の曝露された不要部分（１２”）は受容体成分（２０）上に存在する。
【００５３】
図２に最も良好に示されるように、放射線（Ｒ）は、好ましくはレーザーにより提供される。レーザー放射線は、約１Ｊ／ｃｍ2まで、好ましくは７５〜４４０ｍＪ／ｃｍ2のレーザーフルエンスで提供可能である。電気活性有機材料層の転写を引き起こすのに十分な熱を発生させる他の方法を使用してもよい。たとえば、サーマルプリントヘッドまたは原子間力顕微鏡法で使用されるような約５０ナノメートルから約５ミクロンまでの範囲の直径を有する金属チップの微視的アレイを使用してもよい。熱を発生させるために金属チップに電流を印加する。より小さい金属チップを用いれば、レーザーを用いるよりも高い解像度を得ることが可能である。
【００５４】
種々のタイプのレーザーを用いて電気活性有機材料の熱的に画像形成可能な転写層（１２）を曝露することが可能である。レーザーは、好ましくは、赤外領域、近赤外領域、または可視領域で発光する。特に有利なのは、小さいサイズ、低いコスト、安定性、信頼性、丈夫さ、および変調の容易さの点で実質的な利点がある７５０〜８７０ｎｍの領域で発光するダイオードレーザーである。７８０〜８５０ｎｍの範囲で発光するダイオードレーザーは最も好ましい。そのようなレーザーは、たとえば、カリフォルニア州サンノゼのスペクトラ・ダイオード・ラボラトリーズ（Ｓｐｅｃｔｒａ  Ｄｉｏｄｅ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ，Ｓａｎ  Ｊｏｓｅ，ＣＡ）から入手可能である。当技術分野で公知のごとく、加熱層（１６）の吸収がレーザーの発光波長に一致するのであれば、他のタイプのレーザーを使用してもよい。
【００５５】
供与体成分（１０）および受容体成分（２０）の両方が可撓性である場合、レーザー画像形成を容易にするために、集成体（２５）をドラム上に都合よく装着することができる。
【００５６】
図３に最も良好に示されるように、供与体成分（１０）上に第１の電気活性有機材料（１３）およびオプションとしての第２の電気活性有機材料（１５）のパターン層（１２’）を形成して受容体成分（２０）（使用する場合）から供与体成分（１０）を分離した後、図４に最も良好に示されるように、パターン層（１２’）を含む供与体成分（１０）を所望の基材（３０）に接触させる。基材（３０）は、基板成分（３２）と、基材へのパターン層（１２’）の接着性を増大させるための接着性コーティング（３４）とを含んでいてもよい。接着性コーティング（３４）は、受容体成分（２０）の接着性コーティング（２２）に対して先に述べた物質のうちの１つであってもよい。先に述べたように、基材（３０）の受容表面は、剥離手段（１７）を有する加熱層（１６）に対するパターン（１２’）の接着性よりも、所望のパターン（１２’）の電気活性有機材料に対してより大きな接着性を有することが重要である。以下でさらに説明されるように、基材（３０）は、たとえば、発光ディスプレイ、光検出装置、または光起電力セルのアノードもしくはカソードのように電子有機装置の一部分であってもよい。基材は、トランジスターの一部分であってもよい。
【００５７】
好ましくは、ラミネーションにより所望のパターン（１２’）を基材（３０）に転写させる。当技術分野で公知のごとく、ロールツーロールラミネーションまたはプレスラミネーションを使用することが可能である。好ましくは、本出願人により製造されている「ロールツーロール・ウォータープルーフ（登録商標）ラミネーター」（ＷａｔｅｒＰｒｏｏｆ（登録商標）Ｌａｍｉｎａｔｏｒ）を用いてラミネーションを行う。ロールツーロールラミネーションを用いる場合、供与体成分（１０）および基材（３０）はいずれも、可撓性でなければならない。プレスラミネーションでは、どちらも可撓性である必要はない。平方インチあたり約５，０００〜１０，０００ポンド（１平方センチメートルあたり約５００〜１，０００キログラム）の圧力をプレスラミネーションに使用することが可能である。
【００５８】
基材（３０）から供与体成分（１０）を分離した後、図５に最も良好に示されるように、第１の電気活性有機材料（１３）およびオプションとしての第２の電気活性物質（１５）の所望のパターン（１２’）を基材に転写させる。
【００５９】
異なる供与体成分を用いてこの方法を繰返すことにより、基材（３０）の同一表面上に異なる電気活性有機材料のパターンを互いに隣接して適用することが可能である。
【００６０】
本発明の方法は、約１００オングストローム程度の薄い層から約５０００オングストロームまでの層の電気活性有機材料を転写させるのに特に有用である。転写層の有意な分解を起こすことなく従来の熱転写法によりこれらの層を転写させることはできない。好ましくは、電気活性有機材料層は、約５００〜約２，０００オングストロームの厚さである。これよりも厚い電気活性有機材料層を本発明の方法により適用することも可能である。
【００６１】
（有機電子装置）
先に述べたように、本発明の方法で受容成分（２０）として使用される所望の基材は、たとえば、光電子放出有機電子装置、光検出有機電子装置、または光起電力有機電子装置のアノードであってもよい。図６〜８は、そのような装置の作製について示している。
【００６２】
図６に最も良好に示されるように、そのような有機電子装置のアノード基材（１００）は、典型的には、支持体成分（１０２）および透明な第１の電気接触層（１０４）を備えている。本発明に従って有機電子装置の有機層を作製するのに有用な供与体成分（１０）は、第１の電気接触層（１０４）に転写させるための第１の電気活性有機材料層（１３）および第２の電気活性有機材料層（１５）を含む所望のパターン層（１２’）を備えている。好ましくは、第１の電気活性層は光活性有機材料層であり、第２の電気活性層は電荷注入／輸送物質層である。第１の電気活性有機材料（１３）および第２の電気活性有機材料（１５）の所望のパターン層（１２’）は、図１〜３に対して先に説明した方法により供与体成分（１０）上に形成される。第１の電気活性有機材料（１３）および第２の電気活性有機材料層（１５）の所望のパターン層（１２’）は、好ましくは、図４〜５に対して先に説明したようにラミネーションにより第１の電気接触層（１０４）を適用する。
【００６３】
図７および８に最も良好に示されるように、第１の電気活性有機材料（１３）および第２の電気活性有機材料（１５）の所望のパターン層（１２’）を第１の電気接触層（１０４）に転写させた後、有機電子装置のカソード部（１２５）を適用する。カソード部（１２５）は、第２の電気接触層（１１４）を含み、パターン層（１２’）の電気活性有機材料（１３）上に適用される。次に、図８に最も良好に示されるように、第２の支持成分（１２０）を第２の電気接触層（１１４）上に適用して有機電子装置（２００）を形成する。
【００６４】
あるいは、１つの供与体成分により第１の電気活性有機材料をパターン状に適用し、次に、第２の供与体成分により第２の電気活性有機材料（１５）をパターン状に適用することも可能である。その場合、それぞれの供与体成分は、単一のタイプの電気活性有機材料の転写層（１２）を備えているであろう。
【００６５】
あまり好ましいことではないが、コーティング法のような従来法により電荷注入／輸送物質（１５）をアノード基材（１００）に適用することも可能である。先に述べたように、本発明の好ましい実施形態では、画素間のクロストークが減少するので、より高い導電率を有する電荷注入／輸送物質を使用することが可能である。
【００６６】
次に、有機電子装置（２００）の構成要素について、より詳細に説明する。
【００６７】
（アノードおよびカソードの支持体成分）
コンピュータースクリーンなどの曲面上に配置される光電子放出装置のように有機電子装置に可撓性をもたせる場合、本発明の譲受人に譲渡された２０００年４月１７日出願の国際特許出願明細書（特許文献２３）に記載されているように、アノード部（１００）の第１の支持体成分（１０２）および第２の支持体成分（２０）は、好ましくは、少なくとも１層の可撓性高分子フィルム層と少なくとも１層の可撓性バリヤー物質層とを含む複合構造である。その出願に記載されているように、可撓性バリヤー物質は、電気接触層（１０４）（１１４）ならびに第１の電気活性有機材料（１３）および第２の電気活性有機材料（１５）のパターン層（１２’）が、後続の処理工程において、酸素、水蒸気、および熱に曝露されないように保護する。図６および図８に最も良好に示されるように、可撓性バリヤー物質の層（１０２ｂ）（１２０ｂ）の両側の２層の可撓性高分子物質層（１０２ａ）（１２０ａ）が好ましい。
【００６８】
好適な可撓性高分子フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、およびそれらの組合せ、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、過フッ素化および部分フッ素化ポリマー、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、ポリアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ならびにノボラック樹脂が挙げられる。典型的な支持体厚さは、約１〜１０ミル（約２５〜２５０ミクロン）の範囲である。
【００６９】
光電子放出装置、光検出装置、または光起電力装置では、支持体成分の少なくとも１つは、光の通過を可能にすべく光透過性であることが要求される。光透過性バリヤー物質としては、窒化物、フッ化物、炭化物、ガラス、および無機酸化物が挙げられる。窒化ケイ素、酸化アルミニウム、および酸化ケイ素が好ましい。国際特許出願明細書（特許文献２３）の出願には、好適な物質がより詳細に記載されている。図８の実施形態では、アノード部（１００）の支持成分（１０２）（これを介して光の放出または受容が行われる）は、光透過性バリヤー物質を含んでいる。たとえば、約２００〜５００ナノメートルの厚さを有する窒化ケイ素を使用することが可能である。１層または複数層の高分子フィルム層（１０２ａ）を接着剤によりバリヤー物質の層（１０２ｂ）にシールしてもよい。
【００７０】
支持体成分（１０２）（１２０）は、それぞれ、隣接する電気接触（１０４）（１１４）の境界を越えて延在させてもよく、支持体成分（１０２）（１２０）の周囲は、たとえば接着剤によりシールして一体化させ、電気接触（１０４）（１１４）および電気活性有機材料のパターンを完全に取り囲んでもよい。励振回路または信号受信回路への接続に必要な電気接触（１０４）（１１４）の部分は、支持体成分（１０２）（１２０）を貫通して延在させてもよい。
【００７１】
有機電子装置が可撓性である必要がない場合、当技術分野で公知のごとく、支持体成分（１０２）はたとえばガラスであってもよい。これに関しては、ナハムラ（Ｎａｈａｍｕｒａ）らによる米国特許公報（特許文献２４）、トニーらによる米国特許公報（特許文献２５）、およびソッザらによる米国特許公報（特許文献２６）に記載されている
【００７２】
（第１の電気接触層）
この例では、基材（１００）は、有機電子装置２００のアノード部であり、これを介して光の放出または受容が行われる。したがって、第１の電気接触層（１０４）は透明な物質である。インジウムスズ酸化物のような第２、３、および４族の導電性混合金属酸化物またはポリアニリンもしくはポリ（ジオキシチオフェン）のような導電性ポリマーを使用し得る。インジウムスズ酸化物（「ＩＴＯ」）が好ましい。
【００７３】
インジウムスズ酸化物のような混合金属酸化物は、先に述べた気相堆積法により基板成分（１０２）の一表面上に適用可能である。ポリアニリンおよび他の導電性ポリマーは、スピンコーティング法、バーコーティング法、およびウェブコーティング法により適用可能である。
【００７４】
第１の電気接触層は要求どおりにパターン化され得る。たとえば、第１の電気接触層（１０４）は、第１の電気活性有機材料（１３）のパターン（１２’）の個別画素をディスプレイ上でアドレス指定すべく電極ラインを形成する一連の平行ストリップであってもよい。以下でさらに論述される第２の電気接触層（１１４）もまた、第１の電気接触層（１０４）の電極ラインに垂直な電極ラインを形成する一連の平行ストリップであってもよく、これにより当技術分野で公知のごとくマトリックスが形成される。そのような有機電子装置（２００）では、第１の電気活性有機材料（１３）のパターン（１２’）は、同様に当技術分野で公知のごとく、マトリックス中の第１および第２の電気接触層（１０４）（１１４）のオーバーラップ部分に対応させて第１の電気接触層（１０４）に対して位置づけされよう。
【００７５】
第１の電気接触層（１０４）の物質を適用する前に支持体成分（１０２）上にパターン化マスクまたはフォトレジストを配置することにより、第１の電気接触層（１０４）を所望のパターンで支持体成分（１０２）に適用することができる。あるいは、第１の電気接触層を全面層として適用し、続いて、たとえばフォトレジストや湿式化学エッチングを用いてパターン化することができる。
【００７６】
第１の電気接触層は、典型的には約５００オングストロームから約５，０００オングストロームまでの厚さ範囲を有する。
【００７７】
第１の電気接触層（１１４）は、外部回路に装置を接続するための延在部分（図示せず）を含んでいてもよい。バイアのような回路接続の他の手段も提供することも可能である。バイア開口は、装置を組立てる際に層ごとに形成するかまたは装置を組立てた後ですべての層を貫通穿孔することにより形成することができる。次に、たとえば（非特許文献５）に記載されている周知の方法により開口をめっきする。バイアを使用する場合、外部環境に曝露されないように活性層を保護すべく、接続ワイヤーのまわりの開口を完全にシールしなければならない。
【００７８】
（電荷注入／輸送層）
好ましい実施形態では、第１の電気活性層は光活性有機材料層であり、第２の電気活性層は電荷注入／輸送物質層である。電荷注入／輸送層（１５）を用いると、電荷輸送（電子輸送もしくは正孔輸送）および／または光活性有機材料層（１３）と第１の電気接触層（１０４）とのギャップ整合が容易になる。好ましい実施形態の場合のように、光活性有機材料（１３）および電荷注入／輸送物質（１５）の両方を供与体成分（１０）の加熱層（１６）上に被覆する場合、光活性有機材料（１３）に対する電荷注入／輸送物質（１５）の濡れは連続皮膜を形成するのに十分なものでなければならない。電荷注入／輸送物質（１５）を従来法によりアノード部（１００）上に提供し、光活性有機材料（１３）のパターン層（１２’）を電荷注入／輸送物質層（１５）に転写させる場合、光活性有機材料（１３）に対する電荷注入／輸送物質（１５）の接着性は供与体成分（１０）の加熱層（１６）（および関連剥離手段（１７））の金属に対する光活性有機材料（１３）の接着性よりも強力でなければならない。
【００７９】
層を形成する正孔輸送物質の例は、たとえば、（非特許文献６）にまとめられている。正孔輸送性の分子およびポリマーの両方を使用することができる。
【００８０】
一般に使用される正孔輸送性分子は次のとおりである：Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）、１，１−ビス［（ジ−４−トリルアミノ）フェニル］シクロヘキサン（ＴＡＰＣ）、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（４−エチルフェニル）−［１，１’−（３，３’−ジメチル）ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ＥＴＰＤ）、テトラキス−（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−２，５−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）、ａ−フェニル−４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチレン（ＴＰＳ）、ｐ−（ジエチルアミノ）ベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン（ＤＥＨ）、トリフェニルアミン（ＴＰＡ）、ビス［４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−２−メチルフェニル］（４−メチルフェニル）メタン（ＭＰＭＰ）、１−フェニル−３−［ｐ−（ジエチルアミノ）スチリル］−５−［ｐ−（ジエチルアミノ）フェニル］ピラゾリン（ＰＰＲまたはＤＥＡＳＰ）、１，２−トランス−ビス（９Ｈ−カルバゾール−９−イル）シクロブタン（ＤＣＺＢ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（ＴＴＢ）、および銅フタロシアニンのようなポルフィリン系化合物。
【００８１】
一般に使用される正孔輸送性ポリマーは、ポリビニルカルバゾール、（フェニルメチル）ポリシラン、ポリアニリン、ポリ（ジオキシチオフェン）（好ましくはポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）「ＰＥＤＯＴ」）、およびそれらのドープ体である。また、ポリスチレンやポリカーボネートのようなポリマーに、先に記載したような正孔輸送性分子をドープすることにより、正孔輸送性ポリマーを得ることも可能である。
【００８２】
電荷注入層（１０６）用の電子輸送物質の例としては、Ａｌｑ3のような金属キレート化オキシノイド化合物、２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（ＤＤＰＡ）または４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（ＤＰＡ）のようなフェナントロリン系化合物、ならびに２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）および３−（４−ビフェニリル）−４−フェニル−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）のようなアゾール化合物が挙げられる。電荷注入層（１０６）は、電子輸送を容易にするように機能し得るだけでなく、層境界面でエキシトンのクエンチングを防止する緩衝層または閉込層としても役立つことができる。好ましくは、この層は電子移動度を増大させ、エキシトンクエンチングを減少させる。
【００８３】
ポリアニリンおよびＰＥＤＯＴは、第１の電気接触層（１０４）上にスピンコーティングすることが可能である。
【００８４】
電荷注入層の厚さは、約１００〜約５，０００オングストローム、好ましくは１，０００〜２，０００オングストロームに設定し得る。
【００８５】
（光活性有機材料）
第１の電気活性層が光活性有機材料層であり、第２の電気活性層が電荷注入／輸送物質層である好ましい実施形態では、パターン（１２’）の特定の光活性有機材料は、電子有機装置（２００）のタイプに依存する。発光ディスプレイのような光電子放出装置では、光活性有機材料は十分な印加電圧により活性化される発光物質である。光導電セルまたは光起電力セルのような感光装置では、電気活性有機材料は、放射エネルギーに応答し印加バイアス電圧を用いてまたは用いずに信号を発生する物質の層である。
【００８６】
図８の有機電子装置（２００）が光電子放出装置である場合、発光物質として任意の有機エレクトロルミネセンス物質または他の有機発光物質が利用可能である。たとえばタン（Ｔａｎｇ）らによる米国特許公報（特許文献１０）およびヴァン・スライク（Ｖａｎ  Ｓｌｙｋｅ）らによる米国特許公報（特許文献２７）に記載されているように、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、チセン（ｃｈｙｓｅｎｅ）、ペリレン、１，４−ジフェニルブタジエンおよびテトラフェニルブタジエンのようなブタジエン類、クマリン誘導体、アクリジン、ならびにトランススチルベン（ｔｒａｎｓｔｉｌｂｅｎｅ）のようなスチルベン類を使用することが可能である。たとえばヴァン・スライクらによる米国特許公報（特許文献２８）に記載されているように、ＡｌＱ３のような金属キレート化オキシノイド化合物を使用することができる。
【００８７】
あるいは、米国特許公報（特許文献１１）、米国特許公報（特許文献１２）、および米国特許公報（特許文献２９）に記載されているような半導電性共役ポリマー物質を使用してもよい。そのようなポリマーの例としては、ＰＰＶと呼ばれるポリ（ｐ−フェニレンビニレン）およびポリ（２，７−（９，９−ジアルキルフルオレン））が挙げられる。ＰＰＶの寿命はポリフルオレンの寿命よりも長いので、ＰＰＶが好ましい。発光ポリマーの混合物のように電気活性物質の混合物を使用してもよい。
【００８８】
図８の電子有機装置（２００）が光検出装置または光起電力セルである場合、電気活性有機材料として、放射エネルギーに応答しバイアス電圧を用いてまたは用いずに信号を発生する有機材料が利用可能である。放射エネルギーに応答しバイアス電圧を用いずに信号を発生することのできる物質としては（特定の光導電セルまたは光起電力セルの場合など）、光に化学的に反応することにより信号を発生する物質が挙げられる。そのような感光性化学反応性物質はとしては、たとえば、多くの共役ポリマーならびにエレクトロルミネセンス物質およびフォトルミネセンス物質が挙げられる。具体例としては、ＭＥＨ−ＰＰＶ（非特許文献７）およびＭＥＨ−ＰＰＶとＣＮ−ＰＰＶとの複合体（非特許文献８）が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８９】
放射エネルギーに応答しバイアス電圧を用いて信号を発生することのできる有機材料としては（光導電セル、フォトレジスター、フォトスイッチ、フォトトランジスター、光電管の場合など）、たとえば、フラーレン（Ｃ60）のような電荷捕獲物質と混合された多くの共役ポリマーおよびエレクトロルミネセンス物質が挙げられる。（非特許文献１）。
【００９０】
光活性有機材料（１３）の所望のパターン（１２’）は、一連の画素であってもよい。「画素」とは、ディスプレイの成分の最小アドレス指定可能部分を意味する。本発明の方法によれば、１平方センチメートルあたり少なくとも約１０，０００画素をアノード基材（１００）に転写させることが可能である。それぞれの画素を正方形にし約１００ミクロン未満の長さおよび幅にすることが可能である。直径５ミクロンの画像形成ビームを有するレーザーを用いれば、長さおよび幅が５ミクロンおよびその任意の倍数である画素の画像を形成することが可能である。本発明により約５０ミクロンの長さおよび幅で画素を容易に形成することができる。以下の実施例Ｉに示されるように、我々は、３０ミクロン程度の小さいラインおよび間隙をパターン化し転写することに成功した。このことから、３０ミクロン×３０ミクロンの画素をパターン化し得ることが実証される。本発明の方法によれば１０ミクロン×１０ミクロン程度の小さい画素をパターン化し転写させることが可能であると考えられる。
【００９１】
光活性有機材料層は、一般的には１００〜５０００オングストロームの範囲の厚さを有する。好ましくは、光活性有機材料層の厚さは、約５００〜約２，０００オングストロームである。
【００９２】
（第２の電気接触層）
カソード部（１２５）の第２の電気接触層（１１４）は、パターン（１２’）が第１の電気接触層（１０４）と第２の電気接触層（１１４）との間にくるように、第１の電気活性有機材料（１３）のパターン（１２’）に隣接して適用される。
【００９３】
カソード部（１２５）の第２の電気接触層（１１４）として、装置（２００）のアノード部の第１の電気接触層（１０４）よりも小さい仕事関数を有する任意の金属または非金属が利用可能である。第２の電気接触層用の物質は、第１族のアルカリ（ａｌｋａｌｉｌ）金属（たとえば、Ｌｉ、Ｃｓ）、第２族（アルカリ土類）金属、ランタニド類、およびアクチニド類から選択することができる。アルミニウム、インジウム、カルシウム、バリウム、マグネシウム、およびイッテルビウムのような物質ならびにそれらの組合せを使用することができる。イッテルビウムおよびアルミニウムが好ましい。
【００９４】
第２の電気接触層（１１４）は、第１の電気接触層（１０４）に対して先に記載したように、物理気相堆積方法により電気活性有機材料のパターン（１２’）に適用し、従来法によりパターン化することが可能である。第２の電気接触層（１１４）は、第１の電気接触（１０４）の平行ストリップに垂直な一連の平行ストリップとしてパターン化することが可能である。
【００９５】
第２の電気接触層（１０４）は、典型的には５００〜５，０００オングストロームの範囲の厚さを有する。カソードがバリウムまたはカルシウムである場合、厚さは約５０オングストロームである。そのような電気接触層は、カソードの全厚が５００〜５０００オングストロームの範囲になるように、典型的にはアルミニウムによりキャッピングされる。カソードがイッテルビウムまたはアルミニウムである場合、キャッピング層は必要でなく、単層自体の厚さが５００〜５０００オングストロームの範囲である。
【００９６】
支持体成分（１２０）は、接着剤により第２の電気接触層（１１４）に取付けることが可能である。
【００９７】
第１の電気接触層（１０４）に対して先に述べたように、第２の接触層（１１４）もまた、外部回路に接続するための延在部分またはバイア（図示せず）を含んでいてもよい。
【００９８】
（多段階転写法）
先に述べたように、異なる供与体成分を用いて本発明の方法を複数回繰返すことにより、基材の同一層上に互いに隣接して異なる電気活性有機材料または電気活性物質のパターンを適用することが可能である。当技術分野で公知のごとく、異なる電気活性有機材料のパターンを位置合せして同一層に適用することが可能である。発光ディスプレイでは、異なる波長帯域つまり異なる色で光を放出する異なる有機エレクトロルミネセンス物質を第１および第２の電気接触層（１０４）（１１４）のさまざまなオーバーラップ部分に対応する位置で適用することにより、多色ディスプレイを形成することが可能である。米国特許公報（特許文献３０）に記載されているように、緑色、黄色、青色、赤色、および橙色を呈するエレクトロルミネセンス物質が開発されている。共役ポリマーであるポリ−ｐ−フェニレンビニレン（「ＰＰＶ」）はエネルギーを与えると黄緑色の光を放出するが、ＰＰＶの変性体は赤色および青色の光を放出することが実証されている。ヒドロキシキノリン−アルミニウム化合物もまた、さまざまな色の光を放出する。異なる色の光を放出するポリマーは、独国フランクフルトのコフィオン・オーガニック・セミコンダクターズ・ゲーエムベーハー（Ｃｏｖｉｏｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ  ＧｍｂＨ（Ｆｒａｎｋｆｕｒｔ，Ｇｅｒｍａｎｙ））から入手可能である。
【００９９】
そのため本発明の方法に従って、高い画素密度、小さい画素サイズ、および高い発光効率が有する多色ディスプレイを作製することができる。
【実施例】
【０１００】
特許請求し本明細書に記載した方法および製品について、これらの実施例により具体的に説明するが、これらに限定されるものではない。
【０１０１】
（実施例Ｉ）
８インチ×４インチ（２０．３２ｃｍ×１０．１６ｃｍ）、厚さ４ミル（０．００６３５ｍｍ）のポリエステルの基板成分を含む供与体成分の表面を、ケンタッキー州ルイスビルのバキューム・デポジット・インコーポレーテッド（Ｖａｃｕｕｍ  Ｄｅｐｏｓｉｔ  Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ，Ｌｏｕｉｓｖｉｌｌｅ，ＫＹ）で、透過率が４０％になるようにニッケルバナジウムの８０オングストローム加熱層で被覆した。
【０１０２】
アセトンの入ったトレーに被覆基板成分を３０秒間〜１分間浸漬してからアセトンスプレーボトルで基板成分をすすぐことにより、被覆基板成分を洗浄した。次に、水の入ったトレーに被覆基板成分を配置し、払拭し、そして乾式洗浄用のクリーン領域実験室に移すべく再び水の入ったトレーに配置した。
【０１０３】
金属被覆基板成分を窒素でブロー乾燥し、次に、プラズマチャンバーの中心に配置した。チャンバーを減圧し、次に、０．５トルまで酸素をチャンバーに供給した。８０ワットで動作する高周波源を用いて、酸素プラズマを発生させた。金属コーティングと電気活性有機材料との間の接着性を低下させるために、金属被覆基板成分を酸素プラズマに９０秒間曝露した。
【０１０４】
次に、０．５％ポリ（９，９−ジアルキルフルオレン−２，７−ジイル）を含む０．５％トルエンの溶液１．５ミリリットルをサイズ０のマイヤー（Ｍｅｙｅｒ）ロッドで手塗りすることにより電気活性有機材料層を金属被覆供与体成分の表面に適用し、５分間空気乾燥させて供与体成分を完成させた。ポリ（９，９−ジアルキルフルオレン−２，７−ジイル）は、発光ポリマーである。発光ポリマーの層は、約７，０００オングストロームの厚さであった。複数の供与体成分を作製した。
【０１０５】
乾燥後、発光ポリマーで被覆された供与体成分の表面を、４インチ×７インチ（１０．１６ｃｍ×１７．７８ｃｍ）ポリカプロラクトン受容体に接触させた状態で配置した。カナダ国バンクーバーのクレオ・サイテック・インコーポレーテッド（Ｃｒｅｏ−Ｓｃｉｔｅｘ，Ｉｎｃ．，Ｖａｎｃｏｕｖｅｒ，Ｃａｎａｄａ）から入手可能なクレオ３２４４スペクトラム・トレンドセッター（ＣＲＥＯ  ３２４４  Ｓｐｅｃｔｒｕｍ  Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ）露光装置に自動的に装填される３０×４０インチ（７６．２ｃｍ×１０１．６ｃｍ）の標準的オフセットプレート用のアルミニウムプレート上に供与体成分／受容体集成体をテープ留めした。この装置は、長さ８１．２ｃｍ、周長９１ｃｍのドラムを備えている。放射線を２４０個のオーバーラップする５×２ミクロンスポットのアレイに分割するライトバルブを介して４０ワット赤外ダイオードレーザーから８３０ナノメートの放射線をパルス幅１マイクロ秒で放出させた。
【０１０６】
所望のパターンのネガ像である一連の平行な３０ミクロンの垂直ラインおよび間隙を含むパターンで、一定のレーザーパワーで、１００〜２００ＲＰＭの範囲の一連のドラム速度（１００〜３００ｍＪ／ｃｍ2の感度）で、ポリエステル基板成分を介して集成体を曝露した。
【０１０７】
供与体成分上で、３０ミクロンの間隙により分離された発光ポリマーの一連の平行な３０ミクロンの垂直ラインの所望のパターンが拡大倍率５０倍の顕微鏡下で観察された。
【０１０８】
（実施例ＩＩ）
この実施例では、パターン化電気活性（ｅｌｅｃｔｙｒｏａｃｔｉｖｅ）物質を発光ディスプレイのアノード部に適用した。
【０１０９】
２ミル（０．００３２５ｍｍ）のポリエステル基板成分と電子ビーム堆積させたニッケルの加熱層とを含む供与体成分の作製は、バキューム・デポジット・インコーポレーテッド（Ｖａｃｕｕｍ  Ｄｅｐｏｓｉｔ  Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ）で行った。透過率が３５％になるようにニッケルを堆積させた。逐次的にアセトン、メタノール、および水ですすいで被覆基板成分を洗浄し、イオン化窒素で乾燥させ、実施例Ｉに記載したように９０秒間酸素プラズマ処理した。次に、実施例Ｉの発光ポリマーを実施例Ｉに記載したように適用して供与体成分を完成させた。供与体成分をポリカプロラクトン受容体に接触させた状態で配置し、次に、実施例Ｉに記載したようにクレオ３２４４トレンセッター（ＣＲＥＯ  ３２４４  Ｔｒｅｎｓｅｔｔｅｒ）により集成体を曝露して、供与体成分上に発光ポリマーのパターン層を形成した。
【０１１０】
基材は、厚さ７ミル（０．０３６２８５ｍｍ）の２インチ×２インチ（５．０８ｃｍ×５．０８ｃｍ）ポリエステル基板成分と、スパッタリングにより基板成分に適用されたインジウムスズ酸化物の電気接触層とを備えていた。被覆基材は、「アルテアー」（Ａｌｔａｉｒ（登録商標））０−６０−ＨＳという商品名でカリフォルニア州パロ・アルトのサウスウォール・テクノロジーズ・インコーポレーテッド（Ｓｏｕｔｈｗａｌｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．，Ｐａｌｏ  Ａｌｔｏ，ＣＡ）から入手した。インジウムスズ酸化物の層は、７ミル（０．０３６２８５ｍｍ）の厚さであった。インジウムスズ酸化物の抵抗率は、６０オーム／ｃｍ2であった。
【０１１１】
電荷注入層の材料は、水中にポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（「ＰＥＤＯＴ」）とポリスチレン溶液（「ＰＳＳ」）とを１．３重量％の全固体含有率で有する溶液である独国レバークーゼンのバイエル（Ｂａｙｅｒ（Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ））から入手可能な「バイトロン」（Ｂａｙｔｒｏｎ（登録商標））Ｐを含んでいた。バイトロン（登録商標）Ｐは、正孔注入物質である。バイトロン（登録商標）Ｐをポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｒｅｎｅ）スルホン酸（「ＰＳＳＡ」）の希釈溶液と混合して固形分２％の溶液を生成させた。６０グラムのバイトロン（登録商標）Ｐ、３．２グラムのＰＳＳＡ（３０％水）および２３．８０グラムの水を混合することにより、８７．００グラムの溶液を調製した。
【０１１２】
該溶液２ミリリットルをシリンジに充填し０．４５ミクロンのフィルターに通してスピンコーターに溶液を移送することにより、インジウムスズ酸化物の電気接触層上に電荷注入／輸送物質を適用した。スピンコーターにより２０００ＲＰＭで溶液を９０秒間回転させた。スピンコーターから基材を取出し、１００℃のホットプレート上で６０秒間乾燥させた。得られた電荷注入層皮膜は、１０００オングストロームの厚さであった。
【０１１３】
供与体成分上の発光ポリマーのパターン層をラミネーションにより電荷注入層に転写させた。このラミネーションは、本出願人により製造されたロールツーロール・ウォータープルーフ（登録商標）ラミネーターを用いて行った。ラミネーターのローラーはいずれも、１２５℃および１００ｍｍ／分の回転速度に設定した。
【０１１４】
３０ミクロンの幅および１，０００オングストロームの厚さの発光ポリマーの３０ミクロン間隔の平行ストリップが電荷注入層に転写されて発光ディスプレイ用のアノードが形成されたことが、５０倍の拡大倍率の顕微鏡下で観察された。
【０１１５】
次の実施例に記載されるように、アノード基材上にカソードを堆積させることにより発光ディスプレイを完成させることが可能である。
【０１１６】
（実施例ＩＩＩ）
この実施例では、パターン化発光ディスプレイを形成した。
【０１１７】
供与体成分は、１ミル（０．０２５４ｍｍ）のポリエステル基板成分を含んでいだ。バキューム・デポジット・インコーポレーテッド（Ｖａｃｕｕｍ  Ｄｅｐｏｓｉｔ  Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ）でニッケルの加熱層を３５％の透過率になるように基板成分上に電子ビーム堆積させて加熱層を形成した。先に実施例Ｉで述べたように、基板成分および加熱層を洗浄し、乾燥させ、そして酸素プラズマ処理した。実施例Ｉの発光ポリマーをニッケル層に適用した。この成分をポリカプロラクトン受容体に接触させた状態で配置し、実施例に記載したようにクレオ３２４４トレンドセッター（ＣＲＥＯ  ３２４４  Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ）で曝露した。曝露の結果、より大きい矩形セクションから延在する３０ミクロン間隙の一連の厚さ３０ミクロンの平行な矩形ストリップを含む所望のパターンが供与体成分上に残存した。
【０１１８】
実施例ＩＩに記載のインジウムスズ酸化物をポリエステル基材上にスパッタリングして第１の電気接触層を形成することにより、ディスプレイのアノード部を形成した。モンサント・カンパニー（Ｍｏｎｓａｎｔｏ  Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手した実験用の有機系導電性ポリアニリン溶液ＸＩＣＰ−ＯＳＯ１を用いて電荷注入層を作製した。これについては、米国特許公報（特許文献３１）に記載されている。ＸＩＣＰ−ＯＳＯ１は、約４８．１６重量％のキシレン、１２．６２重量％の「ブチルセロソルブ」（ｂｕｔｙｌ  Ｃｅｌｌｏｓｏｌｖｅ（登録商標））（２−ブトキシエタノールである）、および４１．４重量％の導電性ポリアニリン（ＰＡＮＩ）を含有する。この導電性ポリアニリンは、ポリアニリン塩基をジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）と組合せることにより誘導されたものである。ブチルセロソルブ（登録商標）は、ウィスコンシン州ミルウォーキーのシグマ・アルドリッチ・コーポレーション（Ｓｉｇｍａ  Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，ＷＩ））から入手可能である。キシレンもまた、アルドリッチ（Ａｌｄｒｉｃｈ）から９９の純度％で得られる。
【０１１９】
この実施例では、０．９６２４グラムのＸＩＣＰ−ＯＳＯ１を１４．３５９４ｇのキシレン（イーエム・サイエンス（ＥＭ  Ｓｃｉｅｎｃｅ）、純度：９８．５％）と混合することにより、ＰＡＮＩ／ＤＮＮＳＡの２．６０重量％の溶液を調製した。２．６０重量％のＰＡＮＩ／ＤＳＳＡ溶液をシリンジに充填し、０．４５ミクロンのフィルターに通してスピンコーターに移送した。スピンコーターにより１５００ＲＰＭで溶液を９０秒間回転させ、スピンコーターから取出し、１００℃のホットプレート上で６０秒間乾燥させた。得られたポリアニリン層は、１，０００オングストロームの厚さを有していた。
【０１２０】
両方のローラーを１２５℃および４００ｍｍ／分の回転速度に設定したウォータープルーフ（登録商標）ラミネーターを用いて、以上にように形成した発光ポリマーのパターン層を電荷注入層上に積層した。供与体成分を除去した後、電荷注入層の表面上に所望のパターンが５０倍の拡大倍率の顕微鏡下で観察された。
【０１２１】
次に、２０個の２×２ｍｍ開口を有するアルミニウムマスクを介してアルミニウムの２ｍｍ×２ｍｍ電気接触層を１５００オングストロームの厚さになるように発光ポリマーの転写パターン上に抵抗加熱堆積し、第２の電気接触層を形成した。
【０１２２】
装置を試験するために、最初に、所定領域の有機材料を溶媒で洗浄除去することによりコンタクトパッドを形成した。次に、ＤＣ電源から電力を印加し、輝度計で光出力を測定した。６つの異なる領域で印加電圧の関数としてルミネセンスおよび電流密度を測定した。期待どおり、印加電圧の増加に伴ってルミネセンスが増加することがわかった。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】本発明の方法で使用するための代表的な供与体成分およびオプションとしての受容体成分である。
【図２】本発明に係る図１の供与体成分と受容体成分との集成体の曝露を示している。
【図３】曝露および分離の後の図２の受容体成分の供与体成分を示している。ここで、供与体成分は、本発明に従って転写されるパターン層を含む。
【図４】図３の供与体成分およびパターン層を受容するための基材を示している。
【図５】パターン層の転写後の図４の供与体成分および基材を示している。
【図６】本発明に係るパターン化転写層を含む供与体成分および有機電子装置のアノード基材を示している。
【図７】パターン層の転写後の図６のアノード基材を示している。
【図８】カソードの適用後の図７のアノード基材を示している。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004527075.tif 000043
【国際調査報告】
2004527075.tif 000044
2004527075.tif 000045
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