(57)【要約】本発明は、電極案内並びにワークを火花浸食加工する方法に関する。本発明の電極案内（１）は、予荷重装置（６）を備えた２つの部分（２，３）から成る角柱案内によって、電極（４）の遊びのない案内を可能にし、これによって孔の製作が１μｍ精度で可能になる。更にまた前記電極案内（１）を旋回するための旋回装置（１０）と、前記電極案内（１）を平行シフトするための方位修正装置（１４）が設けられており、これによって円錐形孔の製作が可能になる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極案内（１）が保持部分（２）と圧着部分（３）とから成り、しかも溝形の切欠き部（５）が前記の保持部分（２）又は圧着部分（３）に形成されており、前記圧着部分（３）が予荷重装置（６）によって前記保持部分（２）に対して予荷重をかけられており、かつ電極（４）が前記の圧着部分（３）と保持部分（２）との間に配置されて遊び無く案内されていることを特徴とする、火花浸食機の電極用の電極案内。
【請求項２】
溝形の切欠き部（５）が圧着部分及び保持部分に形成されている、請求項１記載の電極案内。
【請求項３】
溝形の切欠き部（５）がＶ形断面に形成されている、請求項１又は２記載の電極案内。
【請求項４】
保持部分（２）に対して圧着部分（３）を圧着するための予荷重装置（６）がばねエレメント（７）としてか又は重錘（８）として構成されている、請求項１から３までのいずれか１項記載の電極案内。
【請求項５】
圧着部分（３）の圧着力が調整可能である、請求項１から４までのいずれか１項記載の電極案内。
【請求項６】
電極案内（１）が回転式に配置されている、請求項１から５までのいずれか１項記載の電極案内。
【請求項７】
電極（４）が回転式に配置されている、請求項１から６までのいずれか１項記載の電極案内。
【請求項８】
電極案内（１）が更に、該電極案内を旋回するための旋回装置（１０）を有している、請求項１から７までのいずれか１項記載の電極案内。
【請求項９】
電極案内（１）を回転軸線（Ｘ−Ｘ）に対して平行にシフトするための方位修正装置（１４）が設けられている、請求項１から８までのいずれか１項記載の電極案内。
【請求項１０】
方位修正装置（１４）が回転ヘッド（１５）内に配置されている、請求項９記載の電極案内。
【請求項１１】
圧着部分（３）がその中央領域の電極（４）寄りに、別の切欠き部（２５）を有するように形成されている、請求項１から１０までのいずれか１項記載の電極案内。
【請求項１２】
電極案内が、ブリッジ（１７）内に支承された回転ヘッド（１５）内に配置されている、請求項１から１１までのいずれか１項記載の電極案内。
【請求項１３】
ブリッジ（１７）が、火花浸食機のスピンドル（１８）内の遊びのないボール案内（２０）を介して軸方向（Ｘ−Ｘ）にシフト可能に支承されている、請求項１２記載の電極案内。
【請求項１４】
ブリッジ（１７）の送りを制限するためにストッパ（２１）が設けられている、請求項１２又は１３記載の電極案内。
【請求項１５】
ストッパ（２１）が移動調整可能に配置されている、請求項１４記載の電極案内。
【請求項１６】
回転ヘッド（１５）が連動子（１９）を介してスピンドル（１８）によって駆動される、請求項１０から１５までのいずれか１項記載の電極案内。
【請求項１７】
電極案内（１）がＡｌ２Ｏ３セラミック又は硬質金属又は鋼から製作されている、請求項１から１６までのいずれか１項記載の電極案内。
【請求項１８】
電極案内が、軸方向でスピンドル（１８）と被加工ワーク（２６）との間に配置されている、請求項１から１７までのいずれか１項記載の電極案内。
【請求項１９】
ワーク（２６）に切欠き部（２７）、特にマイクロ孔を火花浸食加工する方法において、電極案内（１）を保持部分（２）と圧着部分（３）とから構成し、前記の保持部分（２）及び／又は圧着部分（３）に溝形の切欠き部（５）を設けておき、しかも電極（４）を前記の保持部分（２）と圧着部分（３）との間に配置して遊び無く案内し、前記電極（４）を回転式に配置し、かつ前記圧着部分（３）を予荷重装置（６）によって前記保持部分（２）に圧着し、しかも火花浸食加工のためには前記電極（４）だけを送り、かつ前記電極案内（１）を送り方向で前記ワーク（２６）に対して特定の距離を隔てて残留させることを特徴とする、ワークに切欠き部を火花浸食加工する方法。
【請求項２０】
電極案内（１）を回転式に配置しておく、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
電極案内（１）を軸方向でスピンドル（１８）とワーク（２６）との間に配置しておく、請求項１９又は２０記載の方法。
【請求項２２】
電極案内（１）を旋回装置（１０）によって旋回させて、前記電極案内を回転軸線（Ｘ−Ｘ）に対して傾斜させるようにする、請求項１９から２１までのいずれか１項記載の方法。
【請求項２３】
円錐形孔を製作するために電極案内（１）を、回転軸線（Ｘ−Ｘ）に対して平行な方向にシフト可能であり、ワーク（２６）への電極（４）の進入位置を、前記回転軸線（Ｘ−Ｘ）と前記ワーク（２６）との交点にか、又は製作すべき円錐形孔（２７）の大孔径部位に位置させる、請求項１９から２２までのいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
技術分野：
本発明は、火花浸食機用の電極案内並びにワークを火花浸食加工する方法に関する。
【０００２】
背景技術：
火花浸食機は従来技術では多種多様の構成で公知になっている。このような機械は例えば孔を生産するために使用される。この場合電極案内としては、例えばセラミック製小管が使用され、或いは、サイドクランプ機構を有する硬質金属製クランプジョーが使用される。当該公知の電極案内の場合、回転軸線に対する電極のクランプ位置のトレランスは５μｍであり、これによって当該電極案内は、マイクロ孔を生産するためには比較的不精確である。
【０００３】
マイクロ孔の製造のみならず、特に又、フロント広幅孔径もしくはバック広幅孔径を正確に特定された円錐形マイクロ孔の製造は特に問題を孕んでいる。この形式のマイクロ孔を大量生産において、これまで１μｍの許容トレランスをもって得ることは不可能である。特に円錐形マイクロ孔は、火花浸食加工パラメータの調整によってしか生産することができない。例えば円錐形孔は、孔深度の増大に伴って削除出力を高めることによって生産されるか或いは回転するワイヤ電極が、孔深度の増大に伴って、円錐套面状の軌道を描くために揺振させられる。しかし、この形式の製造法をもってしては、不精確な寸法及び５μｍ以上の比較的大きなトレランスを有する孔しか得ることができない。しかしながら例えば燃料噴射弁用のマイクロ孔を製造する場合には、１μｍのオーダー範囲のトレランスが望ましい。従って、このようなトレランスを１μｍにする電極案内もしくは火花浸食加工法を得ようとする要求が必然的に生じる。
【０００４】
発明の開示：
そこで本発明の課題は、単純な構造で、簡便かつ低廉な製作可能性をもって遊び無く案内されて、孔もしくは切欠き部を、可能な限り僅かなトレランスで製造できる電極案内並びに火花浸食法を提供することである。
【０００５】
本発明の前記課題は、請求項１の特徴部に記載した構成手段を有する電極案内、並びに請求項１９の特徴部に記載した構成手段を有する火花浸食法によって解決される。なお有利な構成手段はそれぞれ従属請求項に列挙した通りである。
【０００６】
従って本発明では、保持部分と圧着部分とから成る角柱案内を装備した、電極案内もしくは火花浸食機の電極用の案内装置が提供される。その場合、電極は前記の圧着部分と保持部分との間に配置されて案内されている。前記の保持部分又は圧着部分には溝形の切欠き部が形成されており、かつ圧着部分は予荷重装置によって保持部分に圧着される。従って本発明では、火花浸食プロセス全体にわたって電極の推進時にも電極の特定位置は、１μｍよりも小さいトレランス又は１μｍに等しいトレランスをもって確保することができる。それというのは電極は前記電極案内において遊び無く案内されているからである。しかも特に電極が回転する場合、±１μｍの回転真円度を維持することが可能である。従って例えばマイクロ孔を最高度の精度をもって製作することが可能である。溝形の切欠き部が保持部分又は圧着部分に形成されていることによって、本発明では、電極と電極案内との間に最小限の接触点を得ることが可能である。この場合３つの接触点を設けるのが特に有利である。
【０００７】
溝形の切欠き部は、圧着部分にも保持部分にも共に形成されているのが有利である。
【０００８】
電極と電極案内との間に正確に３つの接触点を有するようにするために、溝形の切欠き部は、Ｖ形断面に形成されており、かつ保持部分にだけか又は圧着部分にだけ形成されているのが有利である。
【０００９】
直径の異なった電極に対してその都度最適の圧着力を付与するために、圧着部分の圧着力は調整可能である。例えば圧着力を重錘によって生ぜしめる場合には該重錘は梃子腕を介してシフト可能に配置されており、かつ該重錘の位置に関連して異なった力を圧着部分に及ぼすことができる。微調整を可能にするために該重錘はねじ山を介して移動調整できるようにするのが有利である。また例えば、ばねプレートをばねエレメントとして設けて、該ばねエレメントのばね力を、移動調整可能なストッパを介して調整可能にすることも可能である。圧着力はその都度、火花浸食加工プロセスをトラブルなく経過させるように選ばれる。
【００１０】
電極案内は回転式に配置されているのが有利である。
【００１１】
電極が回転式に配置されているのが特に有利である。電極案内も回転式に配置されている場合には、電極は、電極案内と等速度で回転するのが有利である。
【００１２】
更にまた電極案内を旋回させるために旋回装置が設けられている。電極案内はその場合、電極ワイヤの配置されている送り方向の軸線を中心として±２゜の旋回角度だけ旋回されるのが有利である。電極が回転する場合、送り方向の軸線と回転軸線とは合致する。電極案内は、旋回装置によって回転軸線に対して角度調整可能である。これによって特に、円錐套面を有する孔を製作することが可能になり、その場合、電極導入側を起点として奧へ向かって円錐形に縮径する孔（フロント広幅孔径を有する円錐形孔）も、電極導入側を起点として奧へ向かって円錐形に拡径する孔（バック広幅孔径を有する円錐形孔）も共に生産することが可能である。その場合、平滑な円錐母線を有する円錐形孔を製作することが可能である。従って本発明では特に燃料噴射弁用の噴射ノズルの孔を、最高度の精度をもって製作することが可能である。
【００１３】
電極案内を、送り方向の軸線に対して平行に、或いは回転軸線に対して平行にシフトできるようにするために、方位修正装置が設けられているのが更に有利である。
【００１４】
方位修正装置は回転ヘッド内に配置されているのが特に有利である。方位修正装置はその場合、例えば、回転ヘッド内に配置された４本のねじを有し、各ねじが電極案内の他方の側から当接し、かつ電極案内をねじ間でセンタリングするように構成することができる。これによって電極案内の位置を、任意の半径方向で電極の回転軸線に対して平行にシフトすることが可能になる。
【００１５】
圧着部分はその中央領域の電極寄りに、別の切欠き部を有するように形成されているのが有利である。これによって電極は、圧着部分のただ２つの領域のみを介して保持部分に圧着されて案内される。換言すれば電極は、圧着部分の両端でだけ保持部分に圧着されるにすぎない。
【００１６】
電極案内は、ブリッジ内に支承された回転ヘッド内に配置されているのが特に有利である。この場合、回転ヘッドを支承するためには精密軸受が使用される。
【００１７】
ブリッジは、火花浸食機のスピンドル内の遊びのないボール案内を介して軸方向 にシフト可能に支承されているのが有利である。
【００１８】
電極案内は、軸方向でスピンドルと被加工ワークとの間に位置しているのが有利である。
【００１９】
ブリッジの送りを制限するためにストッパが設けられているのが有利である。
【００２０】
ストッパは移動調整可能に配置されているのが特に有利である。
【００２１】
回転ヘッドの単純な構成を可能にするために、回転ヘッドは連動子を介してスピンドルによって駆動されるのが有利である。
【００２２】
電極案内はＡｌ２Ｏ３セラミック又は硬質金属又は鋼から製作されるのが有利である。
【００２３】
ワークに切欠き部、特にマイクロ孔を火花浸食加工する本発明の方法では、電極案内は保持部分と圧着部分とから成り、しかも前記の保持部分及び／又は圧着部分には溝形の切欠き部が設けられている。電極は前記の保持部分と圧着部分との間に配置されている。前記圧着部分は予荷重装置によって前記保持部分に圧着される。火花浸食加工のためには前記電極だけが送られ、かつ前記電極案内は送り方向で前記ワークに対して特定の距離を隔てて残留する。従って本発明では±１μｍのトレランスを有する孔を製作することが可能である。
【００２４】
本発明の方法では電極案内は回転式に配置されているのが有利である。
【００２５】
電極案内は旋回装置によって旋回され、こうして電極案内が、ひいては該電極案内から進出する電極も、回転軸線に対して傾斜されているようにするのが有利である。これによって、回転式電極案内の場合特に、フロント広幅孔径を有する円錐形孔の製作も、バック広幅孔径を有する円錐形孔の製作も可能になる。バック広幅孔径を有する円錐形孔を製作するために電極案内は、電極の回転軸線に対して平行にシフトされ、しかも旋回装置によって傾斜された電極の、ワークに対する進入点が、電極案内の回転軸線上に正確に位置するようにされる。ところで電極がフィードされると、回転する電極は円錐套面運動を描くことになるので、バック広幅孔径を有する円錐形孔が製作され、その場合、製作された円錐形孔の中心軸線は、電極案内の回転軸線上に位置している。フロント広幅孔径を有する円錐形孔を製作しようとする場合には、電極案内は回転軸線に対して平行な方向にシフトされて、ワークへの電極の進入位置を、製作しようとする円錐形孔（２７）の大孔径部位に位置させる。従って本発明によれば、例えば０から１００μｍに至るバック広幅孔径を有する円錐形孔を１ｍｍの孔深度に、直線的な母線をもって製作することが可能になる。なお念のために付記しておくが、電極案内の平行シフトもしくは旋回は、自動制御によって行うこともでき、かつ加工プロセス中に変化することもできる。
【００２６】
発明を実施するための最良の形態：
次に図１〜図３に基づいて本発明の第１実施例による本発明の電極案内を詳説する。
【００２７】
図１に図示したように、本発明の電極案内１は、保持部分２と圧着部分３とから成っている。該圧着部分３は予荷重装置６を介して前記保持部分２に圧着される。保持部分と圧着部分との間には、ワイヤの形の回転式の電極４が案内される。該電極４は電極スピンドル１８を介して駆動される。
【００２８】
圧着部分３内には切欠き部２５が設けられており（図３参照）、従って電極はその両端でだけ圧着部分３に当接するにすぎない。図２から判るように保持部分２は溝形の切欠き部５を有し、該切欠き部はＶ形断面に形成されており、かつ電極４を部分的に受容する。従って電極案内１と電極４との間には正確に３つの接触点が設けられている。
【００２９】
特に図３から判るように、予荷重装置６はばねエレメント７から成っており、該ばねエレメントのばね力は、固定装置９を介して圧着部分３に作用する。これによって電極４は、電極案内１における電極４の遊びを可能にすることなしに、前記電極案内１において確実に案内される。ばね力の強さは調節ねじ２８を介して調整することができる。ねじ２９はばねエレメント７を位置決めするためのものである。
【００３０】
図３に示したように更に旋回装置１０が設けられている。該旋回装置１０は第１ねじ１２と第２ねじ１３とから成っている。前記の両ねじを介して調整することによって電極案内１は旋回支点１１を中心として旋回することができる。これによって電極案内１は、電極４の回転軸線Ｘ−Ｘに対して特定の角度に傾斜することができる。
【００３１】
更に又、４本の調節ねじ２４を介して調整可能な方位修正装置１４が設けられている。図面を略示したことに基づいて図１では１本の調節ねじ２４しか図示されていない。方位修正装置１４を介して電極案内１は回転軸線Ｘ−Ｘに対して平行にシフトすることができる。
【００３２】
電極案内１は方位修正装置１４を介して回転ヘッド１５内に配置されている。該回転ヘッド１５は精密軸受１６によってブリッジ１７内に支承されている。該ブリッジ１７は２本の案内棒と共に、火花浸食機のスピンドル内の遊びのないボール案内２０を介して軸方向にシフト可能に支承されている。浸食用電極スピンドル１８はその場合、回転ヘッド１５を連動子１９を介して駆動する。従って電極案内１も電極４と等速の回転数で回転する。電極４は電極クランプによってクランプすることができ、これによって、ワーク２６内の孔を火花浸食加工するために電極案内１からステップ・バイ・ステップ式（断続式）又は連続式に押出すことができる。
【００３３】
火花浸食加工のためにブリッジ１７は、機械テーブル２２に配置された調整可能なストッパ２１に当接する。これによってワーク２６に対する電極４の距離は、浸食プロセスの要件に応じて無段調整することができる。ところで火花浸食加工のために回転式電極４は電極クランプ２３によってフィードされる。その場合やはり回転する電極案内１は、ワーク２６に対して特定距離Ａをとって停留している（図１参照）。電極のフィード時に電極クランプ２３は、回転軸線Ｘ−Ｘに対する電極の位置に影響を及ぼすことはないので、電極４の回転真円度を電極案内１によって正確に≦１μｍに維持することが可能である。同じく又、連行子１９を介しての駆動に基づく火花浸食加工プロセス中の電極位置が、浸食用電極スピンドル１８の連結解除によって影響を受けることもない。従って特に最高度の精度を有するマイクロ孔を製作することが可能である。例えば電極４に微々たる形状誤差があったとしてもこの電極４の形状誤差が、回転する電極４によって孔形状に伝達されることはない。それというのは電極が回転し、それに伴って孔の円形形状を改善するからである。念のために付記しておくが、本発明の電極案内１は静止式電極のためにも適しており、従って別形状の穴もしくは切欠き部を例えば成形電極によって製作することも可能である。
【００３４】
更に本発明の電極案内１と本発明の方法とによって、円錐形孔、特にバック広幅孔径を有する円錐形孔を製作することが可能である。バック広幅孔径を有する円錐形孔の場合、該孔は、孔深さの増大に伴って孔径が拡径するように形成されている。このようなバック広幅孔径を有する円錐形孔２７は、例えば図４に図示されている。
【００３５】
図４に示したバック広幅孔径を有する円錐形孔を製作するためには、先ず電極案内１が、旋回装置１０の両ねじ１２，１３によって旋回支点１１を中心として旋回させられる。旋回運動の範囲はその場合、所望の円錐角の形式に関連している。電極案内１は通常、０゜〜約２゜の角度αだけ旋回される。これによって電極ワイヤは軽度に屈曲される。次いで電極案内１は方位修正装置１４によって回転軸線Ｘ−Ｘに対して平行にシフトされる。電極案内１はその場合、ワーク２６への電極４の進入点が本来の回転軸線Ｘ−Ｘ上に位置するまで該回転軸線Ｘ−Ｘに対して平行にシフトされる（図４参照）。従って電極案内１は回転軸線Ｘ−Ｘを中心として回転し、しかも電極案内の尖端は前記回転軸線の近傍に位置している。いま回転式電極４がフィードされると、該電極は１つの円錐面運動を描き、これによってバック広幅孔径を有する円錐形孔２７が製作される。
【００３６】
図５には、フロント広幅孔径を有する円錐形孔の製作が図示されている。バック広幅孔径を有する円錐形孔の製作の場合と同様に、電極案内１は角度αだけ旋回され、次いで回転軸線Ｘ−Ｘに対して平行にシフトされる。この場合は勿論、電極案内１の平行シフトは、ワーク２６への電極４の進入点が円錐形孔２７の外径に沿って位置するように行われる。これによって電極案内１は回転軸線Ｘ−Ｘを中心として或る所定の距離をおいて回転し、かつ１つの倒立円錐面に沿った運動を描く（図５参照）。円錐形孔２７の製作が終わると、火花浸食加工中にフィードされた電極４はその場合、回転軸線Ｘ−Ｘ上に正確に位置している。
【００３７】
電極４は、円錐形孔の製作時にも本発明の電極案内１によって常時案内されるので、この円錐形孔は迅速かつ簡便に１μｍの精度で製作することができる。しかしこのような高精度の製作は、孔深度の増大に伴って材料削出度を増加又は減少させたり、或いは電極を孔深度の増大に伴って揺振させたりする、従来公知の方法によっては到底不可能なことであった。従って本発明は、火花浸食加工法によって孔、特にマイクロ孔を合理的に製作するための格別顕著な進歩性を具備するものである。
【００３８】
図６には、第２実施例による電極案内１が図示されている。同一構成要素もしくは機能的に同等の構成要素は、第１実施例の場合と同一の符号を付して図示されている。
【００３９】
第１実施例とは異なり、第２実施例では予荷重装置６は重錘８によって構成されている。該重錘８は、圧着部分３を保持部分２に圧着するために、梃子腕と固定装置９とを介して圧着部分３に作用する（図６参照）。重錘８はこの場合、内部貫通孔を有する円筒形体として構成されている。前記貫通孔にはねじ山がねじ切りされており、該ねじ山を介して重錘は移動調整可能であるので、梃子腕の有効長が可変であり、かつ圧着部分３の圧着力が調整可能である。電極案内１の旋回運動を妨げないために予荷重装置６は枢着式に構成されている（図６参照）。第２実施例の電極案内１は、その他の点では第１実施例の電極案内に等しいので、更なる説明はここでは省く。
【００４０】
図７では、第３実施例による電極案内１が図示されている。同一構成要素もしくは機能的に同等の構成要素はこの場合、第１実施例もしくは第２実施例の場合と同一の符号を付して図示されている。
【００４１】
前述の実施例とは異なり、第３実施例の場合には２つの半割シェル部分２，３から成る電極案内１に対する予荷重は、１本の調節ねじ３０によって生ぜしめられる。電極案内１は、順次に続く複数の円筒体から成り、これらの円筒体は夫々、先行の円筒体よりも小さな直径を有している。電極案内は、円筒形に減寸された（段付けされた）２つの半割シェル部分から形成されているのが有利である。この電極案内は、特に円筒形のマイクロ孔を製作するために使用される。第３実施例の電極案内１はその他の点では第２実施例の電極案内に等しいので、更なる説明はここでは省く。
【００４２】
図８には、第４実施例による電極案内１が図示されている。同一構成要素もしくは機能的に同等の構成要素はこの場合、先行実施例の場合と同一の符号を付して図示されている。
【００４３】
電極案内１が円筒形外形を有する（図７参照）先行実施例とは異なり、本実施例の電極案内１は長方形の外形を有している。なお念のために付記しておくが、生産すべき切欠き部に関連して、例えば三角形のような別の外形も当然考えられる。
【００４４】
以上を要約すれば本発明は、電極案内１もしくはワークを火花浸食加工する方法に関する。電極案内１は、予荷重装置６を備えた、２つの部分２，３から成る角柱形案内によって、電極４の遊びのない案内を可能にし、これによって１μｍ精度の孔が製作可能である。更に前記電極案内１を旋回するための旋回装置１０及び、電極案内１を平行シフトするための方位修正装置１４が設けられており、これによって円錐形孔が製作可能である。
【００４５】
本発明による実施例の以上の説明は、例証的な目的のためにのみ役立てられるものであり、発明の減縮目的のために役立てられるものではない。本発明は、発明の根本思想並びにその等価思想を逸脱することなしに、種々異なった変化態様で実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の第１実施例による本発明の電極案内を備えた火花浸食機の概略断面図である。
【図２】
図１に示した本発明の電極案内の拡大断面図である。
【図３】
本発明の第１実施例による電極案内の拡大側面図である。
【図４】
バック広幅孔径を有する孔を製作する場合の本発明による電極案内の概略図である。
【図５】
フロント広幅孔径を有する孔を製作する場合の本発明による電極案内の概略図である。
【図６】
本発明の第２実施例による電極案内の拡大側面図である。
【図７】
本発明の第３実施例による電極案内の拡大側面図である。
【図８】
本発明の第４実施例による本発明の電極案内の平面図である。
【符号の説明】
１    電極案内、  ２    保持部分、  ３    圧着部分、  ４    電極、  ５    溝形の切欠き部、  ６    予荷重装置、  ７    ばねエレメント、  ８    重錘、  ９    固定装置、  １０    旋回装置、  １１    旋回支点、  １２    第１ねじ、  １３    第２ねじ、  １４    方位修正装置、  １５    回転ヘッド、  １６    精密軸受、  １７    ブリッジ、  １８    火花浸食機のスピンドル、  １９    連動子、  ２０    ボール案内、  ２１    ストッパ、  ２２    機械テーブル、  ２３    電極クランプ、  ２４    調節ねじ、  ２５    別の切欠き部、  ２６    ワーク、  ２７    円錐形孔、  ２８    調節ねじ、  ２９    ねじ、  ３０    調節ねじ、  Ｘ−Ｘ    回転軸線
【国際公開パンフレット】
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2004516951.tif 000004
2004516951.tif 000005
2004516951.tif 000006
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2004516951.tif 000024
2004516951.tif 000025
【国際調査報告】
2004516951.tif 000026
2004516951.tif 000027
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