(57)【要約】【解決手段】本発明は、例えば陽子治療に用いるサイクロトロン等の粒子加速器から抽出したビームの強度を調節するための装置（１０）に関し、前記粒子はイオン源から発生させられる。本発明は、少なくとも、前記加速器の出力において測定した前記ビーム強度を表すデジタル信号ＩRと前記ビーム強度の設定値ＩCとの間の差εを求める比較器（９０）と、前記差εに基づいて前記ビーム強度の訂正値ＩPを求めるスミス法予測器（８０）と、前記ビーム強度の訂正値ＩPに基づいて前記イオン源（２０）のアーク電流の供給のための設定値ＩAを供給する逆対応テーブル（４０）とを含むことを特徴とする。
2004529483.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
例えば陽子治療に用いるサイクロトロン等の粒子加速器から抽出したビームの強度を調節するための装置（１０）であって、前記粒子はイオン源から発生され、少なくとも、
前記加速器の出力において測定した前記ビーム強度を表すデジタル信号ＩRと前記ビーム強度の設定値ＩCとの間の差εを求める比較器（９０）と、
前記差εに基づいて前記ビーム強度の訂正値ＩPを求めるスミス法予測器（８０）と、
前記ビーム強度の訂正値ＩPに基づいて前記イオン源（２０）のアーク電流の供給のための設定値ＩAを供給する逆対応テーブル（４０）と、
を含むことを特徴とする装置。
【請求項２】
更に、前記加速器の出力において測定した前記ビーム強度を直接表すアナログ信号ＩMから変換したデジタル信号ＩRを供給するアナログ−デジタル変換器（５０）を具備することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
更に、前記加速器の出力において測定した前記ビーム強度を直接表す前記アナログ信号ＩMを濾波し、濾波アナログ信号ＩFを供給する低減フィルタ（６０）と、
前記濾波アナログ信号ＩFをサンプリングし、前記低減フィルタ（６０）によって生じた位相遅れを補償するとともに、デジタル信号ＩRを前記比較器（９０）に供給する位相進みコントローラ（７０）と、
を具備することを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記逆対応テーブル（４０）の内容を更新するための手段を含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
サンプリング周波数は１００ｋＨｚ〜２００ｋＨｚの範囲にあることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記低減フィルタ（６０）の遮断周波数は２〜６ｋＨｚの範囲にあることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
所与のサンプリング周波数で動作するデジタル調節装置（１０）によって、例えば陽子治療に用いるサイクロトロン等の粒子加速器から抽出したビームの強度を調節するための方法であって、前記粒子はイオン源（２０）から発生され、少なくとも、
前記粒子加速器の出力においてビーム強度（ＩM）を測定する手段と、
比較器（９０）によって、前記ビーム強度（ＩM）の測定値を表すデジタル信号（ＩR）を前記ビーム強度の設定値ＩCと比較する手段と、
スミス法予測器（８０）によってビーム強度の訂正値ＩPを求める手段と、
逆対応テーブル（４０）によって、前記ビーム強度の訂正値ＩPに基づいて、前記イオン源（２０）のアーク電流の供給のための設定値ＩAを求める手段と、
を具備することを特徴とする方法。
【請求項８】
前記粒子加速器の出力における前記ビーム強度の測定後、アナログ−デジタル変換器（５０）によって、デジタル信号ＩRを得るために、前記測定ビーム強度を直接表すアナログ信号ＩMを変換することを特徴とする、請求項７に記載の調節方法。
【請求項９】
前記粒子加速器の出力における前記ビーム強度の測定後、
低減フィルタ（６０）によって、前記測定ビーム強度を直接表すアナログ信号ＩMを濾波して、濾波アナログ信号ＩFを与え、
前記濾波アナログ信号ＩFをサンプリングし、デジタル信号ＩRを得るために、位相進みコントローラ（７０）によって、前記濾波によって生じた位相遅れを補償することを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記調節の前に、前記イオン源（２０）のアーク電流の供給のための値ＩAと前記加速器の出力において測定したビーム強度の値ＩMとの間の対応関係を求めることを特徴とする、請求項７〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
前記加速器の出力において測定したビーム強度の値ＩMと前記イオン源のアーク電流の供給のための値ＩAとの間の対応関係において、ある限度よりも大きいＩMの値に対応するＩAの値を、この限度に対応するＩAの値によって置換することを特徴とする、請求項７〜９のいずれかに記載の方法。
【請求項１２】
装置は、陽子治療の、特に、「ペンシルビーム走査」および「二重散乱」の技術に使用される、請求項１〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項１３】
方法は、陽子治療の、特に、「ペンシルビーム走査」および「二重散乱」の技術に使用される、請求項７〜１１のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粒子加速器から抽出したビームの強度を調節する技術分野に関する。
【０００２】
本発明は、粒子加速器から抽出したビームの強度を迅速かつ正確に調節することを意図した装置に関し、更に具体的には、サイクロトロンに関する。
【０００３】
また、本発明は、粒子加速器から抽出したビームの強度を調節するための方法に関する。
【０００４】
最後に、本発明は、陽子治療、特に「ペンシルビーム走査」の技術におけるこの装置またはこの方法の使用に関する。
【背景技術】
【０００５】
サイクロトロンは、円形の粒子加速器であり、数メガ電子ボルト以上のエネルギまで正または負のイオンを加速するために用いられる。このタイプの機器は、工業または医療等、更に正確には、放射性同位元素の生成のために放射線療法において、または悪性腫瘍を治療するための陽子治療において等、様々な分野で用いられる。
【０００６】
サイクロトロンは、一般に５つの主な構成要素から成る。すなわち、イオン化粒子を発生させるイオン源、イオン化粒子の真空閉じ込めのための装置、イオン化粒子を誘導する磁界を生成する電磁石、イオン化粒子を加速させることを意図した高周波数加速システム、および、イオン化粒子を加速経路から逸脱させ、次いで高運動エネルギを有するビームの形態でサイクロトロンからそれらを除去することを可能とする抽出デバイスである。次いで、このビームを、目標部位（target volume）へと向かわせる。
【０００７】
サイクロトロンのイオン源において、イオンを得るには、閉じた区画内で、この区画内に導入される高周波磁界の作用のもとに、サイクロトロン電子共鳴によって電子を著しく加速させることで、１つ以上の気体から成る気体媒体をイオン化する。
【０００８】
かかるサイクロトロンは、陽子治療に用いることができる。陽子治療は、治療対象の明確に定義された目標部位（target volume）に高用量を送達することを意図し、一方で、対象の部位（volume）を取り囲む健康な組織を傷つけない。従来の放射線療法（Ｘ線）に比べると、陽子は、エネルギに依存する正確な深さに（ブラッグピーク）投与量を送達させるという利点がある。目標部位（target volume）に投与量を供給するためのいくつかの技術が既知である。
【０００９】
Ｐｅｄｒｏｎｉによって開発され、「Ｔｈｅ  ２００−ＭｅＶ  ｐｒｏｔｏｎ  ｔｈｅｒａｐｙ  ｐｒｏｊｅｃｔ  ａｔ  ｔｈｅ  Ｐａｕｌ  Ｓｃｈｅｒｒｅｒ  Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ：  ｃｏｎｃｅｐｔｕａｌ  ｄｅｓｉｇｎ  ａｎｄ  ｐｒａｃｔｉｃａｌ  ｒｅａｌｉｚａｔｉｏｎ」ＭＥＤＩＣＡＬ  ＰＨＹＳＩＣＳ、１９９５年１月、ＵＳＡ、Ｖｏｌ．２２、Ｎｏ．１、３７〜５３ページ、ＸＰ０００５０５１４５  ＩＳＳＮ：００９４−２４０５に記載された技術は、目標部位（target volume）を、「ボクセル」として知られる基本容積に分割する。ビームは第１のボクセルに向けられ、処方された投与量に達すると、ファストキック磁石によってビームを突然に逸脱させることによって、照射を停止させる。次いで、ビームを次のボクセルに向かうように走査磁石を制御し、この次のボクセルを照射するようにビームを再び導入する。このプロセスを、目標部位（target volume）が全て照射されるまで繰り返す。この方法の欠点の１つは、２つのボクセル間でビームが連続的に停止および再開するために治療時間が長く、通例の用途では数分にも及ぶ恐れがあることである。
【００１０】
本出願人による特許出願ＷＯ００／４００６４は、「ペンシルビーム走査」と呼ばれる改良技術について記載している。この場合、ビームは、個々のボクセルの各々の照射間で停止する必要はない。この文書に記載された方法は、層ごとに標的容積を「塗る」ようにビームを連続的に動かす。
【特許文献１】
特許出願ＷＯ００／４００６４
【非特許文献１】
、「Ｔｈｅ  ２００−ＭｅＶ  ｐｒｏｔｏｎ  ｔｈｅｒａｐｙ  ｐｒｏｊｅｃｔ  ａｔ  ｔｈｅ  Ｐａｕｌ  Ｓｃｈｅｒｒｅｒ  Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ：  ｃｏｎｃｅｐｔｕａｌ  ｄｅｓｉｇｎ  ａｎｄ  ｐｒａｃｔｉｃａｌ  ｒｅａｌｉｚａｔｉｏｎ」ＭＥＤＩＣＡＬ  ＰＨＹＳＩＣＳ、１９９５年１月、ＵＳＡ、Ｖｏｌ．２２、Ｎｏ．１、３７〜５３ページ、ＸＰ０００５０５１４５  ＩＳＳＮ：００９４−２４０５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ビームを動かし、同時にこのビームの強度を変えることによって、標的容積に送達する投与量を正確に設定することができる。陽子ビームの強度は、イオン源の供給電流を変えることによって間接的に調節される。このために、調節器を用いて、陽子ビームの強度を調節可能とする。しかしながら、この調節は最適ではない。
【００１２】
陽子治療において用いられる別の技術は、「二重散乱」と呼ばれる技術である。この技術では、照射深さ（すなわちエネルギ）を、変調ホイールと呼ばれる、約６００ｒｐｍの速度で回転するホイールを用いて変調する。この変調器の吸収部は、グラファイトまたはレキサン等の吸収物質から形成される。これらの変調ホイールを製造する場合、得られる深さ変調は予測にかなり近い。しかしながら、均一性は所望の仕様外である。均一性に関して仕様を達成するためには、変調ホイールを再び加工するよりも、エネルギ変調器の回転速度に同期したビーム強度調節を用いる方がコストが低い。従って、変調機能を、各エネルギ変調器ごとに設定し、経路として用いて、これをビーム強度調節器に対する設定値として供給する。従って、かかる変調ホイールを用いる二重散乱技術においても、粒子加速器から抽出したビームの強度の迅速かつ正確な調節が必要である。
【００１３】
本発明の目的は、従来技術の方法および装置の欠点を有しない、粒子加速器から抽出したビームの強度を調節することを意図した装置および方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、例えば陽子治療に用いられるサイクロトロン等の粒子加速器から抽出したビームの強度を調節するための装置に関し、前記粒子はイオン源から発生され、少なくとも、加速器の出力において測定した前記ビーム強度を表すデジタル信号とビーム強度の設定値との間の差を求める比較器と、前記差に基づいてビーム強度の訂正値を求めるスミス法予測器と、ビーム強度の訂正値に基づいてイオン源のアーク電流の供給のための設定値を供給する逆対応テーブルと、を含むことを特徴とする。
【００１５】
本発明による装置は、更に、加速器の出力において測定したビーム強度を直接表すアナログ信号から変換したデジタル信号を供給するアナログ−デジタル変換器を具備する場合がある。
【００１６】
本発明による装置は、好ましくは、更に、加速器の出力において測定したビーム強度を直接表す前記アナログ信号を濾波し、濾波アナログ信号を供給する低減フィルタと、前記濾波アナログ信号をサンプリングし、低減フィルタによって生じた位相遅れを補償するとともに、デジタル信号を比較器に供給する位相進みコントローラと、を具備する。
【００１７】
本発明の装置は、逆変換テーブルの内容を更新するための手段を含むと有利である。
【００１８】
サンプリング周波数は、好ましくは１００ｋＨｚ〜２００ｋＨｚの範囲にあり、低減フィルタの遮断周波数は２〜６ｋＨｚの範囲にあると好ましい。
【００１９】
また、本発明は、所与のサンプリング周波数で動作するデジタル調節装置によって、例えば陽子治療に用いるサイクロトロン等の粒子加速器から抽出したビームの強度を調節するための方法であって、前記粒子はイオン源から発生され、少なくとも、粒子加速器の出力においてビーム強度を測定する手段と、ビーム強度の測定値を表すデジタル信号をビーム強度の設定値と比較する手段と、スミス法予測器によってビーム強度の訂正値を求める手段と、逆対応テーブルによって、ビーム強度の前記訂正値に基づいて、イオン源のアーク電流の供給のための設定値を求める手段と、を具備することを特徴とする。
【００２０】
本発明による方法では、粒子加速器の出力におけるビーム強度の測定後、アナログ−デジタル変換器によって、デジタル信号を得るために、測定ビーム強度を直接表すアナログ信号を変換すると好ましい。
【００２１】
本発明による方法の１実施形態によれば、低減フィルタによって、測定ビーム強度を直接表すアナログ信号を濾波して、濾波アナログ信号を与え、濾波アナログ信号をサンプリングし、デジタル信号を得るために、位相進みコントローラによって、濾波によって生じた位相遅れを補償する。
【００２２】
調節の前に、イオン源のアーク電流の供給のための値と加速器の出力において測定したビーム強度の値との間の対応関係を求めると有利である。
【００２３】
加速器の出力において測定したビーム強度の値とイオン源のアーク電流の供給のための値との間の対応関係において、ある限度よりも大きいビーム強度値に対応するアーク電流供給の値を、この限度に対応するアーク電流供給値によって置換すると有利である。
【００２４】
最後に本発明の装置および方法は、陽子治療、特に「ペンシルビーム走査」および「二重散乱」の技術に使用される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明に基づく問題
以下に述べる問題は、本出願人による公報ＷＯ００／４００６４に記載されたように、従来の調節、例えばＰＩＤを用いて、「ペンシルビーム走査」と呼ばれる技術を実行する場合に経験される。
【００２６】
図１によって示すように、ビーム強度の設定値ＩCが、従来のＰＩＤ調節器１０に供給され、これがイオン源２０のアーク電流の値ＩAを決定する。ビーム強度は、イオン化チャンバ３０によって測定され、エラー信号εを供給するため、比較器９０によって、対応する信号ＩMが設定値ＩCと比較される。連続ビーム走査の技術によれば、ビーム強度が移動と同時に変動して、送達される投与量との合致を得ることが不可欠である。
【００２７】
かかるシステムには、以下の問題がある。
−著しい純粋むだ時間は、イオン源２０による粒子放出と機械からの粒子流出との間の粒子の長い移動時間のためである。
−粒子加速器から抽出したビームの強度ＩMをイオン源ＩAのアーク電流の強度に関連付けるシステムの特徴は、図２によって示すように極めて非線形である。
−この特徴は、更に、図２に点線の曲線によって示すように、時間と共に変動する。この変動は、イオン源を動作させた場合にイオン源のフィラメントの加熱または冷却のため、急速に起こり得る。また、これは、フィラメントの老化のためである場合がある。これらの２つの現象が、極めて異なる時間定数での特徴の変動につながる。
−このシステムは極めて雑音が多い。イオン源によって発生するビームの強度は、特に測定のために用いられるサンプリング周波数において、著しい雑音を有する。
比例、積分、および微分動作（ＰＩＤ）およびカスケードループによるフィードフォワード、フィードバックの技術等、従来の調節方法を用いることによって、かかるシステムの調節を評価した。著しい純粋むだ時間のため、これらの全ての方法により与えられる応答は、遅すぎるかまたは不安定のいずれかである。また、従来の方法は、所与の期間にわたり特徴の平均値を用いることによっては、時間の関数として変動するシステムの特徴の問題に対処することができない。なぜなら、ある応答から別の応答への利得変動は極めて大きな比であるからである。
【００２８】
特徴の変動は、極めて大きく切り離された２つの現象に依存する。すなわち、第１は、短い時間定数を有し、イオン源のコンディショニングすなわちその温度に対応する。通常動作は、連続的であれ長いデューティサイクルを有する間欠的なものであれ、イオン源を急速に加熱する。この急速な温度確立時間によって、コンディショニング時間の間に従来の技術を用いることによって、開ループ動作を可能とする、すなわちシステムの実際の特徴を考慮に入れない。しかしながら、この妥協は、中間デューティサイクルの間欠動作での従来の方法の使用を大きく制限する。これは多くの場合、用いる動作モードに対応する。
【００２９】
第２の現象は、もっと長い時間定数を有し、フィラメントおよびイオン源自体の老化による。従って、この特徴のゆっくりした変化は、システムの平均的な特徴の使用を引き起こす可能性がある。しかしながら、平均的な特性の使用は、遅すぎるか不安定な調節を招く。
【００３０】
従って、従来の調節方法は、かかるシステムの調節における問題、すなわちシステムの主時定数よりもはるかに長い（約４倍）純粋むだ時間および適応調節方法を必要とする可変非線形特徴を良好に解決できないことは明らかであろう。
【００３１】
従って、粒子加速器から抽出したビームの強度を迅速かつ正確に調節することは、多くの問題に直面している。しかしながら、かかる迅速かつ正確な調節は、「ペンシルビーム走査」技術を用いるために重要である。
【００３２】
本発明の好適な実施形態の説明
従って、本発明は、より具体的には、好適な実施形態に従って、図３に表す調節装置１０を用いてイオン源２０のアーク電流を供給することによってこの問題を解決することを提案する。イオン源はイオンビームを生成し、このビームは、加速器を通る移動の間に加速され、そこから抽出され、装置３０を通過して、加速器の出力においてビーム強度が測定される。この測定装置３０は、例えばイオン化チャンバとすることができる。
【００３３】
本発明による調節器は、以下の例示的かつ非限定の特徴を有するサイクロトロンのために用いた。
−固定エネルギ：２３５ＭｅＶ
−純粋むだ時間：６０μ秒。この純粋むだ時間は、加速器を通るイオンの移動時間に対応する。従って、これは、機械から抽出したイオンビームの強度に対するイオン源のアーク電流の設定値の修正の効果を測定するために必要な時間に直接対応する。
−主時間定数：１５μ秒。これによって、開ループにおける設定値の修正に対するシステムの応答を確立するために必要な時間の指示が与えられる。
−システムの極めて非線形な特徴。これは、ハイブリッド動的応答（全か無か）を有するシステムのものに実質的に対応する開ループ特徴をもたらす。
−時間による特徴の変動。
−極めて雑音の多い測定信号。これは、イオン源が不安定なためであり、これは、抽出後のビームの強度に対する極めて高い雑音レベルを招く。観察される雑音／信号比は約１５０％である。従って、調節器のデジタルの実施形態では、採用されるサンプリング周波数は、極めて低い信号／雑音比を生じる。
【００３４】
図３に表す本発明の調節装置では、以下の手段が実行される。
−ビーム強度ＩCの設定値を、０〜１０Ｖのアナログ信号の形態で供給する（１０Ｖは３００ｎＡのビーム強度に対応する）。
−ビーム強度をイオン化チャンバ３０によって測定し、測定値ＩMを、０〜１５μＡのアナログ信号によって調節装置１０に供給する（１５μＡは３００ｎＡのビーム強度に対応する）。
−このアナログ信号ＩMを、変換器５０によってデジタル信号ＩRに変換する。
−誤差信号εを供給するため、この信号ＩRを比較器によって設定値ＩCと比較する。
−この誤差信号εを、「スミス法予測器」タイプの調節器８０に供給する。
−次いで、スミス法予測器８０の出力ＩPを逆対応テーブル４０の入力に供給する。対応テーブル４０は、イオン源のアーク電流ＩAと加速器から抽出されたイオンビームＩMの強度との間の非線形の関係を数値的に与える。従って、システムの非線形の特徴を識別することができる。逆対応テーブルの出力を、４〜２０ｍＡタイプのアナログ信号ＩAに変換し、これを、イオン源のアーク電流の供給のための設定値として調節装置１０によって供給する。
【００３５】
シミュレーションによって、かかる装置が良好な調節を可能とすることが示される。しかしながら、これは、低周波の摂動に対し敏感である。この問題を解決するため、本発明による装置の好適な変形を開発した。これを図４に示す。この装置１０では、フィードバックに、低減フィルタ６０および位相進みコントローラ７０を導入する。フィルタ６０は、例えば一次低減フィルタである。遮断周波数は４．５ｋＨｚである。フィルタによって生じる位相遅れを補償するために、この位相を補償する位相進みコントローラ７０（フィルタをかけた微分器）を用いる。
【００３６】
図３の装置および図４のものは、双方とも逆対応テーブル４０を有する。このテーブル４０の内容は、装置の各使用の前に、以下のように決定する。
−調節器は開ループ内にあるので、イオン源２０のアーク電流の設定値を、１００ｍｓ増加の形態で０〜２０ｍＡまで漸進的に増加させる。
−４０００サンプル点の各々ごとにビーム強度を測定する。
−得られるテーブルを逆転させて、ビーム強度ＩMの関数としてイオン源のアーク電流ＩAに対応する値を供給する。
−この逆転テーブルを調節装置１０にロードする。
【００３７】
実際、この動作は２回ほど連続して実行する。これによって、パラメータは、確実に、フィラメントの定常状態温度に対応する平坦域に達することができる。雑音を排除するために、最後の４つのテーブルの平均値を計算する。これらの動作は、自動的に行われ、長くても１．５秒間続く。本発明の変形では、所与の限度よりも大きいＩMの値に対応するＩAの値は、この限度に対応するＩAの値によって置換される。従って、図２の曲線は切り取られる。これは、加速器によって生成されるビームの強度がこの限度よりも決して大きくならないことを保証することができる安全要素である。
【００３８】
本発明による装置は、ＤＳＰタイプ（デジタル信号処理）のデジタル技術を採用する電子基板によって生成される。
【００３９】
スミス法予測器の合成は、ラプラス領域において行った。打ち切りは、ポールゼロ対応の方法を用いたＺ変換によって供給される。打ち切りに関連する問題を回避するためにはオーバーサンプリングが適切であったかもしれないが、現在のＤＳＰ技術では我々は１００ｋＨｚを超えることはできない。
【００４０】
本発明による調節方法には、いくつかの利点がある。第１に、これは、制御された適応を可能とする。すなわち、これは、最近の適応制御方法に比べて必要な計算時間がごく短く、極めて直接的な構造変化を可能とする。なぜなら、主調節器によって見られるシステムの特徴を線形化するために、識別を行うには、対応テーブルを設定し、次いで数値的に逆転すれば十分であるからである。
【００４１】
更に、これは、著しい柔軟性を提供する。なぜなら、これは、サイクロトロンが搭載するあらゆるイオン源の、正確で再現可能、かつ強固で高性能の調節のために使用可能であり、特に、適応型の調節の利点によって、システムの特徴が時間と共に変動する場合、その再識別を可能とするからである。従って、これは、この調節が最初に開発されたＣ２３５サイクロトロン以外の加速器の識別および調節を可能とする。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】従来技術による粒子加速器から抽出したビームの強度を調節するための装置を表す。
【図２】システムの特徴を表す、すなわち、イオン源のアーク電流の供給のための値ＩAと加速器の出力で測定したビーム強度の値ＩMとの対応を表す。
【図３】本発明による粒子加速器から抽出したビームの強度を調節するための装置の１実施形態を表す。
【図４】本発明による粒子加速器から抽出したビームの強度を調節するための装置の第２の実施形態を表す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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2004529483.tif 000032
2004529483.tif 000033
2004529483.tif 000034
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