(57)【要約】少なくとも１種の顔料と、周期表の第５族〜第８族の遷移金属を含むシングルサイト触媒で、錯体が遷移金属原子あたり１個以下のシクロペンタジエニル系を含有するシングルサイト触媒を用いた触媒作用によって１種以上のオレフィンから製造されたポリオレフィンワックスとを含み、そして所望する場合には熱可塑性プラスチック、および所望する場合には添加剤を含む顔料高濃度物。【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）少なくとも１種の顔料、
Ｂ）周期表の第５族〜第８族の遷移金属の錯体で、遷移金属原子あたり１個以下のシクロペンタジエニル系を含む錯体に基づくシングルサイト触媒を用いた触媒作用によって１種以上のオレフィンから製造されたポリオレフィンワックス、
Ｃ）所望する場合には熱可塑性プラスチック、および
Ｄ）所望する場合には添加剤
を含む顔料高濃度物。
【請求項２】
シングルサイト触媒が周期表の第５族〜第８族の遷移金属のトリアザシクロヘキサン錯体またはトリホスファシクロヘキサン錯体を触媒活性成分として含む、請求項１に記載の顔料高濃度物。
【請求項３】
シングルサイト触媒がＣｒ錯体を触媒活性成分として含む、請求項１または２に記載の顔料高濃度物。
【請求項４】
少なくとも１種の顔料、１種のポリオレフィンワックス、１種の熱可塑性プラスチック、そしてさらに添加剤を含む、請求項１から３のいずれかに記載の顔料高濃度物。
【請求項５】
少なくとも１種の顔料、１種のポリオレフィンワックス、そしてさらに添加剤を含む、請求項１から３のいずれかに記載の顔料高濃度物。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の顔料高濃度物を製造する方法であって、その成分をワックスの融点よりも高い温度で混合することを含む方法。
【請求項７】
請求項４に記載の顔料高濃度物を製造するための方法であって、その成分をワックスおよびキャリアポリマーの融点よりも高い温度で混合される方法。
【請求項８】
請求項１から６のいずれかに記載の顔料高濃度物を使用して着色されたプラスチック成形品またはプラスチックシート。
【請求項９】
請求項１から６のいずれかに記載の顔料高濃度物を使用してプラスチック成形品またはプラスチックシートを着色するための方法であって、プラスチックおよび顔料高濃度物を溶融均質化によって混合することを含む方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、
Ａ）少なくとも１種の顔料、
Ｂ）周期表の第５族〜第８族の遷移金属の錯体で、遷移金属原子あたり１個以下のシクロペンタジエニル系を含む錯体に基づくシングルサイト触媒を用いた触媒作用によって１種以上のオレフィンから製造されたポリオレフィンワックス、
Ｃ）所望する場合には熱可塑性プラスチック、および
Ｄ）所望する場合には添加剤
を含む顔料高濃度物に関する。
【０００２】
多数の顔料が顔料高濃度物として販売されている。これは、顔料高濃度物により、プラスチックが着色されているとき、加工がより容易になるからである。これらの配合物は、一般に、顔料の他に、ワックスなどの分散剤、そしてまた所望する場合には熱可塑性プラスチック（主にポリオレフィン）を含む。このような熱可塑性プラスチックはまたキャリアポリマーとも呼ばれている。ワックスの機能は、配合物において顔料を細かく分散させることであり、そして顔料のこの分散を安定化させることである。このタイプの顔料高濃度物の市販されている配合物（マスターバッチ）は、２５重量％の顔料、１０重量％のワックスおよび６５重量％のポリエチレンを含む。使用されるワックスは、多くの場合にはポリエチレンワックスであり、例えば、フリーラジカル重合またはチーグラー　ナッタ触媒作用によって得られるものである。ポリエチレンワックスは、例えば、極性にするために酸化によって変性することができる。個々の成分の比率はすべて、特定の範囲内で変化させることができる。
【０００３】
このタイプの顔料高濃度物が使用できるための決定的な必須条件は、ワックス成分を正しく選択することである。ワックスは、それ自体、色を有していないが、顔料高濃度物の輝度に影響を及ぼす。より厳密な詳細を、ＢＡＳＦ　ＡＧから得られるポリエチレンワックスに関する製品小冊子「Ｌｕｗａｘ（登録商標）−顔料高濃度物における適用」に見出すことができる。
【０００４】
ワックスは、顔料凝集塊の凝集を防止するために、顔料凝集塊の効果的な濡れをもたらさなければならない。考慮中の顔料は、比較的少数の比較的大きい顔料凝集塊ではなく、比較的多数の比較的小さい顔料凝集塊が存在する場合、より効果的な着色をもたらす。
【０００５】
従って、配合プロセスの１つの課題は、大きい顔料凝集塊の生成を防止することである。以前に生成した顔料凝集物を分離し、そしてこれらを一次粒子として知られているものに分解することもまた望ましい。最後に、このような一次粒子は、配合プロセスの後もばらばらのままでなければならず、そして冷却したときに再凝集してはならない。
【０００６】
このことはワックスに対して多数の条件を負わす。これらの条件の１つは、融解物の粘度に関する。粘度は、ワックスが融解する温度よりも高い温度で混合することを通常的に伴う配合プロセスのときに顔料凝集塊内の空洞に融解したワックスが十分に浸透し得るようにできる限り遅くしなければならない。得られる剪断力により、一次粒子への凝集塊の比較的容易な分解がもたらされる。
【０００７】
ワックスはまた、良好な湿潤化能を有しなければならない。
【０００８】
ワックスの湿潤化能は、極性基をワックス内に組み入れることによって改善することができる。原理的には、極性基をワックス内に導入する多数のプロセス工程が存在する。
【０００９】
１つの方法は、大気中の酸素または過酸化物化合物を使用してワックスをある程度分解することである。使用され得る過酸化物化合物の例には、過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）または過酸化ジアルキルが挙げられる。ある程度の分解を伴う方法によって高分子に導入される極性基には、ヒドロキシル基およびカルボキシル基が含まれる。これらの極性基は分子内に不均一に分布しており、ワックスの分子鎖の得られる湿潤化能は理想的ではない。
【００１０】
別の方法は、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルまたは酢酸ビニルなどの極性のコモノマーを使用することにあり、これらは、所望する場合には加水分解することができる。このプロセスの欠点は、極性のコモノマーがチーグラー　ナッタ触媒に対する触媒毒として作用し得るということであり、その場合、触媒はいくらかの活性を失う。別の欠点は、そのようなコモノマーのワックス内への取り込みが均一ではないということである。コモノマーは、通常、短鎖分子に優先的に取り込まれ、これにより、ワックスには望ましくない不均一な性質がもたらされる。
【００１１】
今回、多くの顔料高濃度物が、高仕様の用途に必要とされる輝度を有しないことが見出された。より多くの量の顔料を使用することは、この問題に対して完全な解決をもたらし得ない。顔料の費用は、顔料高濃度物の製造コストを決める要因であり、従って、顔料の割合が大きくなることは経済的に不利である。
【００１２】
対照的に、あまり高仕様でない用途の場合、高価な顔料の量がより少ない等価な顔料高濃度物を提供することもまた望ましいことであり得る。
【００１３】
最後に、顔料濃度が高い場合に、マスターバッチの輝度がさらに著しく増大しないことが見出された。この発見は、分散性が低下したためと考えられる。例えば、顕微鏡的方法により、分散が不良な凝集塊を検出することができる。
【００１４】
顔料高濃度物のために使用することができ、かつ特に良好な分散性および特に良好な湿潤化能を有するワックスを有することもまた望ましい。非常に均一な構造を有するワックスはこの目的に十分に適するはずである。
【００１５】
均一な構造を有するポリマーおよびコポリマーを、シングルサイト触媒を用いた触媒作用によってオレフィンから得ることができる。欧州特許ＥＰ−Ａ０６０２５０９は、助触媒の助けをかりてメタロセンを活性化し、そして水素の存在下でメタロセンをオレフィンと反応させることによってワックスを得ることができることを開示している。使用例は示されていない。
【００１６】
欧州特許ＥＰ−Ａ０８９０５８４には、アイソタクチック指数が７０％を越えるメタロセンポリプロピレンワックスのマスターバッチ用の使用が特に開示されている。しかし、メタロセンの使用に伴う欠点は、メタロセンの特定のラセミ異性体がアイソタクチックポリプロピレンの製造には必要であるということである。通常的な合成により生成するメソ異性体は最初に分離して除かれ、その後、廃棄されなければならないか、そうでなければ、さらなる工程において所望するラセミ体に変換しなければならない。
【００１７】
広い分子量分布を有するポリエチレンワックスもまた知られている。これらは、Ｃｐ２Ｃｒ（クロモセン）を用いた触媒作用によって製造することができる（ドイツ国特許ＤＥ−Ａ１０００９１１４．８）。それらはマスターバッチにおける用途には好適であるが、高度に指定された用途のためには特に、輝度が必ずしも十分ではない。最後に、Ｙ．Ｌｉａｎｇら（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ、１９９６、１５、５２８４）により、下記の式Ａの錯体が、エチレンを重合させるための触媒活性成分として開示される。
【００１８】
【化１】
2004501260.tif 000002
【００１９】
（式中、Ｒは、Ｃｌ、ＣＨ３、Ｃ６Ｈ５およびＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）３から選択され、Ｂはルイス塩基（例えば、テトラヒドロフラン）であり、ｘは０または１である）。しかし、その活性は非常に低く、産業界では注目されていない。さらに、得られるポリマーの分子量は小さすぎて、このポリマーを、マスターバッチを製造するためのワックスとして使用することができない。
【００２０】
従って、本発明の目的は、
顔料の割合を増大させる必要がなく、先行技術よりもその輝度が改善されるプラスチック成形品またはプラスチックシートを着色することができる顔料高濃度物を提供すること、
このような高濃度物を製造するための方法を提供すること、
本発明の顔料高濃度物で着色されたプラスチック成形品またはプラスチックシートを製造すること、および
本発明の高濃度物を使用して熱可塑性プラスチックまたは成形品を着色するための方法を見出すこと
である。
【００２１】
本発明者らは、この目的が、顔料高濃度物における分散剤として使用される従来のポリオレフィンワックスよりも著しく良好な能力を有するワックスを含む最初に定義された顔料高濃度物によって達成されることを見出した。
【００２２】
この場合、顔料高濃度物（マスターバッチ）は下記の成分を含む。
【００２３】
Ａ）無機顔料および有機顔料の中から選択される少なくとも１つの顔料。
【００２４】
無機顔料の例には下記が挙げられる。
【００２５】
亜鉛華、硫化亜鉛、リトポン、鉛白、硫酸鉛、チョーク、二酸化チタン；
酸化鉄イエロー、カドミウムイエロー、ニッケルチタンイエロー、クロムチタンイエロー、クロムイエロー、クロム酸鉛、バナジン酸ビスマス、ナポリ黄および亜鉛黄；
群青、コバルトブルー、マンガンブルー、紺青；
ウルトラマリングリーン、コバルトグリーン、酸化クロム（酸化クロムグリーン）；
ウルトラマリンバイオレット、コバルトバイオレット、マンガンバイオレット；
ウルトラマリンレッド、モリブデン酸レッド、クロムレッド、カドミウムレッド；
酸化鉄ブラウン、クロム鉄ブラウン、亜鉛鉄ブラウン、マンガンチタンブラウン；
酸化鉄黒、鉄マンガン黒、スピネルブラック、カーボンブラック；
オレンジ色の様々なスピネルおよびアルミナ、カドミウムオレンジ、クロムオレンジ、モリブデン酸鉛；
アルミニウムまたはＣｕ／Ｚｎ合金。
【００２６】
有機顔料の例には下記が挙げられる：
金属フタロシアニン（フタロシアニンブルーおよびフタロシアニングリーンなど）、そしてまたペリレンレッド、ジアリールイエロー、イソインドリンイエロー、キノフタロン顔料、キナクリドン顔料、ベンゾイミダゾロン顔料、マラカイトグリーン、チオインジゴ、モノアゾ顔料、ジアゾ顔料、レークドアゾ顔料、ナフトールＡＳ顔料、ベンゾイミダゾロン顔料、ジケトピロロピロール、インダントロン、アゾ縮合顔料、ジアゾ縮合顔料、アントラキノン顔料、ピラゾロン類、ペリノン類、アミノケトン顔料、インジゴおよびトリフェニルメタン顔料。
【００２７】
一般に使用されている無機顔料または有機顔料の総覧の例が、Ｋ．ＬｅｉｓｓｌｅｒおよびＧ．Ｒｏｅｓｃｈ、Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅ、１９９６、８６、９６５に見出され、そしてまたＵｌｌｍａｎｎ’ｓ　Ｅｎｃｙｃｌｏｐａｅｄｉｅ　ｄｅｒ　ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ（第４版）、表題：顔料：序論（第１８巻、５４７頁以降）、有機顔料（第１８巻、６６１頁以降）；Ｔｈｉｅｍｅ　Ｖｅｒｌａｇ　Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ、１９９７に見出される。１つの顔料を有する高濃度物を製造することができ、同様に、２つ、３つまたはそれ以上の異なる顔料を有する混合物を製造することができる。
【００２８】
Ｂ）ポリオレフィンワックス。このポリオレフィンワックスは、少なくとも１種のポリオレフィンから製造されるワックス状の成形用組成物である。使用されるポリオレフィンには、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ−１−ブテン、そしてまた０ｍｏｌ％〜２０ｍｏｌ％のプロペン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセンまたは１−ウンデセンとのエチレンのコポリマーがある。０ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％のプロペン、１−ブテン、１−ペンテンまたは１−ヘキセンを有するポリエチレンワックスが好ましい。これらのポリオレフィンワックスの平均分子量Ｍｗは５００ｇ〜２００００ｇであり、好ましくは２０００ｇ〜１００００ｇであり、特に好ましくは３０００ｇ〜８０００ｇである。Ｑ値は１．５〜５の範囲内であり、好ましくは１．８〜３．５の範囲内であり、特に好ましくは２〜３の範囲内である。これらのワックスの融点は８０℃〜１６５℃であり、好ましくは１００℃〜１４０℃であり、特に好ましくは１０５℃〜１２０℃である。
【００２９】
Ｃ）所望する場合にはキャリアポリマーとしての熱可塑性プラスチック。このようなプラスチックの例には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリオキシメチレン、ポリスチレンコポリマー（スチレン−ブタジエンコポリマーまたはアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンターポリマーなど）、またはポリ塩化ビニル、そうでなければ、０．１ｍｏｌ％〜２０ｍｏｌ％の１−ブテン、１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセンまたは１−ウンデセンとのエチレンのコポリマーが挙げられる。
【００３０】
Ｄ）所望する場合には、顔料高濃度物の総重量に基づいて０重量％〜１０重量％の添加剤、例えば、酸化防止剤；立体的に嵩高いフェノール類または立体的に嵩高いアミン類「ＨＡＬＳ」などの抗酸化剤が好ましい；ＣｉｂａのＩｒｇａｎｏｘ（登録商標）製品の立体的に嵩高いフェノール類が非常に特に好ましい。
【００３１】
これらの様々な成分の量的割合は広い範囲内で変化させることができる。この場合、量的割合は全体で１００重量％になるようにされる。
【００３２】
顔料（１種以上）の最少使用量は１重量％であり、好ましくは５重量％であり、特に好ましくは１０重量％である。量が少なくなると、一般には色の濃さが不十分になる。顔料は顔料高濃度物の最も費用のかかる成分であるので、６０重量％が、添加されるべき上限であり、４５重量％が好ましい。
【００３３】
キャリアポリマーを含む顔料高濃度物において、少なくとも１重量％のワックスが使用され、少なくとも２重量％が好ましい。顔料およびキャリアポリマーの濡れは、重量比割合がそれよりも小さいときには信頼できるほど十分ではないからである。キャリアポリマーを含む顔料高濃度物において使用されるワックスの最大重量％は、好ましくは３０であり、特に好ましくは２０である。最終生成物における過度な量のワックスは、着色されるシートまたはプラスチック成形品の機械的特性を損ない得るからである。９０重量％の上限が、キャリアポリマーを使用することなく製造され得るこのタイプの顔料高濃度物では有用である。キャリアポリマーを含まない顔料高濃度物におけるワックスの最小割合は４０重量％として示されるはずである。そうでない場合には、そのような高濃度物は高価になりすぎるからである。
【００３４】
キャリアポリマーの添加は必要な場合に行われる。キャリアポリマーが使用される場合、その割合は少なくとも３０重量％である。これにより、プラスチック成形品またはプラスチックシートを製造しているときに顔料高濃度物のその後の取り込みがより容易になるからである。８０重量％を好ましい上限として示すことができる。
【００３５】
添加剤は必要に応じて使用されるにすぎない。添加剤が使用される場合、その量は少量である。Ｉｒｇａｎｏｘなどの酸化防止剤に対する有用な下限は０．１重量％である。それよりも少ない量では、酸化からの保護がもはや顕著でないからである。０．５重量％が好ましく、１重量％が特に好ましい。５重量％を上限として示すことができる。上限を超えた場合、低分子量成分による顔料加工性の悪化が顕著になり得るからである；２重量％が好ましく、１．５重量％が特に好ましい。別のクラスの添加剤は鉛塩のクラスであり、例えば、塩基性硫酸鉛またはステアリン酸鉛またはそれらの混合物などであり、これらはそれぞれ０．５重量％〜２重量％の割合で添加され、好ましくは１．０重量％〜１．５重量％の割合で添加される。
【００３６】
遷移金属原子あたり１種以下のシクロペンタジエニル系が存在する、周期表の第５族〜第８族の遷移金属を含むこれらのシングルサイト触媒の助けをかりて製造され得るワックスはそれ自体知られている。本発明において必要とされるクロム錯体の場合、化合物は下記の式Ｉａ〜式Ｉｃを有する。
【００３７】
式Ｉａ：
【００３８】
【化２】
2004501260.tif 000003
における変数は下記のように定義される。
【００３９】
Ｍは、＋３の酸化状態にあるＶ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅからなる群に由来する元素であり、好ましくはＶ、ＣｒまたはＭｏであり、Ｃｒが特に好ましい；
Ｘ１およびＸ２は下記から選択される：
フッ素、塩素、臭素またはヨウ素などのハロゲン（塩素および臭素が特に好ましい）；
トリフルオロアセタート；
ＢＦ４−、ＰＦ６−またはＳｂＦ６−；
Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルおよびｎ−ドデシルなど；好ましくはＣ１〜Ｃ６アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシルなど；特に好ましくはＣ１〜Ｃ４アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピルおよびｎ−ブチルなど；
Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシルおよびシクロドデシルなど（シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルが好ましい）；
Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、例えば、ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチルおよび４−フェニルブチルなど（特に好ましくはベンジル）；
Ｃ６〜Ｃ１４アリール、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリルおよび９−フェナントリルなど（好ましくは、フェニル、１−ナフチルおよび２−ナフチル；特に好ましくはフェニル）；
Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシおよびｉｓｏ−ヘキソキシなど（特に好ましくは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシおよびｎ−ブトキシ）；または
ＮＲ８Ｒ９（式中、Ｒ８およびＲ９は互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニルおよびＣ６〜Ｃ１４アリールから選択され、飽和もしくは不飽和の５員環〜１０員環を形成することができる）；好ましくは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、メチルフェニルアミノ基およびジフェニルアミノ基。飽和環を含むアミノ基の例にはＮ−ピペリジル基およびＮ−ピロリジニル基があり、不飽和環を含むアミノ基の例にはＮ−ピリル基、Ｎ−インドリル基およびＮ−カルバゾリル基がある。
【００４０】
好ましくは、Ｘ１およびＸ２は同一であり、非常に特に好ましくは、Ｘ１およびＸ２は塩素である。
【００４１】
Ｒ１〜Ｒ６は互いに独立して、下記である。
【００４２】
水素；
フッ素、塩素、臭素またはヨウ素などのハロゲン（好ましくは塩素および臭素）；
Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルおよびｎ−ドデシルなど；好ましくはＣ１〜Ｃ６アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシルなど；特に好ましくはＣ１〜Ｃ４アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルなど；
ドナー原子で１回または複数回置換されたＣ１〜Ｃ１２アルキル、例には、非環状または環状のエーテル、アルコール、ケタール、チオエステルまたはアミンが挙げられる。具体的な例には、メトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエチル、β−ヒドロキシエチル、ω−エトキシプロピル、（２−エチルヘキシルオキシ）プロピリデン、メトキシエトキシプロピリデンまたはω−ジメチルアミノプロピルがある；
モノハロゲン化またはポリハロゲン化されたＣ１〜Ｃ１２アルキル基、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ペンタフルオロエチル、ペルフルオロプロピルおよびペルフルオロブチルなど（フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルおよびペルフルオロブチルが特に好ましい）；
【００４３】
Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、好ましくはＣ２〜ω−Ｃ８アルケニル、例えば、ビニル、アリル、ブタ−３−エン−１−イル、ω−ペンテニル、ω−ヘキセニル、ω−ヘプテニルおよびω−オクテニルなど；
Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシルおよびシクロドデシルなど（シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルが好ましい）；
Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、例えば、ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチルおよび４−フェニルブチルなど（特に好ましくはベンジル）；
Ｃ６〜Ｃ１４アリール、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリルおよび９−フェナントリルなど（好ましくは、フェニル、１−ナフチルおよび２−ナフチル；特に好ましくはフェニル）；
シリルＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（式中、Ｒ１０〜Ｒ１２は互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）；好ましくは、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ジエチルイソプロピルシリル基、ジメチルヘキシルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリベンジルシリル基、トリフェニルシリル基およびトリ−ｐａｒａ−キシリルシリル基；特に好ましくはトリメチルシリル基およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基；
シロキシＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（式中、Ｒ１０〜Ｒ１２は互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）；好ましくは、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、ジエチルイソプロピルシリルオキシ基、ジメチルヘキシルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基およびトリ−ｐａｒａ−キシリルシリルオキシ基；特に好ましくはトリメチルシリルオキシ基およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基；
【００４４】
Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシおよびｉｓｏ−ヘキソキシなど（特に好ましくは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシおよびｎ−ブトキシ）；
置換Ｃ６〜Ｃ１４アリールで、上記のように定義される１個以上のＣ１〜Ｃ１２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１４アリール基、シリル基ＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、シロキシ基ＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、またはＣ１〜Ｃ１２アルコキシ基で同様に置換されたＣ６〜Ｃ１４アリール；
Ａ１が、Ｏ−Ｒ１３、Ｓ−Ｒ１３、イオウ、Ｎ（Ｒ１３）２またはＰ（Ｒ１３）２である場合、Ｒ１３は、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル基、置換または非置換のＣ６〜Ｃ１４アリール基、およびＣ１〜Ｃ１２アルコキシ基から選択され、そしてこれらの基はＲ１〜Ｒ６のもとでのように定義される。
【００４５】
本発明の１つの特定の実施形態において、２つの隣接する基は、元の芳香族系を伴って互いに結合して、５員環〜１０員環を形成する。例えば、式ＩにおけるＲ３およびＲ４は一緒になって、−（ＣＨ２）３−（トリメチレン）、−（ＣＨ２）４−（テトラメチレン）、−（ＣＨ２）５−（ペンタメチレン）、−（ＣＨ２）６−（ヘキサメチレン）、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ−（Ｃ６Ｈ５）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−、−ＮＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、−ＮＣＨ３−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、または−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−になり得る。
【００４６】
本発明の別の実施形態において、使用される触媒活性成分は下記の式Ｉｂの化合物を含む。
【００４７】
【化３】
2004501260.tif 000004
【００４８】
式中、Ｚ１〜Ｚ４は互いに独立して、下記である：
水素；
フッ素、塩素、臭素またはヨウ素などのハロゲン（好ましくは塩素および臭素）；
Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルおよびｎ−ドデシルなど；好ましくはＣ１〜Ｃ６アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシルなど；特に好ましくはＣ１〜Ｃ４アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルなど；
【００４９】
ドナー原子で１回または複数回置換されたＣ１〜Ｃ１２アルキル、例には、非環状または環状のエーテル、アルコール、ケタール、チオエステルまたはアミンが挙げられる。具体的な例には、メトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエチル、β−ヒドロキシエチル、ω−エトキシプロピル、（２−エチルヘキシルオキシ）プロピリデン、メトキシエトキシプロピリデンまたはω−ジメチルアミノプロピルがある；
モノハロゲン化またはポリハロゲン化されたＣ１〜Ｃ１２アルキル基、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ペンタフルオロエチル、ペルフルオロプロピルおよびペルフルオロブチルなど（フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルおよびペルフルオロブチルが特に好ましい）；
Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、好ましくはＣ２〜ω−Ｃ８アルケニル、例えば、ビニル、アリル、ブタ−３−エン−１−イル、ω−ペンテニル、ω−ヘキセニル、ω−ヘプテニルおよびω−オクテニルなど；
Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシルおよびシクロドデシルなど（シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルが好ましい）；
Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、例えば、ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチルおよび４−フェニルブチルなど（特に好ましくはベンジル）；
【００５０】
Ｃ６〜Ｃ１４アリール、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリルおよび９−フェナントリルなど（好ましくは、フェニル、１−ナフチルおよび２−ナフチル；特に好ましくはフェニル）；
シリルＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（式中、Ｒ１０〜Ｒ１２は互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）；好ましくは、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ジエチルイソプロピルシリル基、ジメチルヘキシルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリベンジルシリル基、トリフェニルシリル基およびトリ−ｐａｒａ−キシリルシリル基；特に好ましくはトリメチルシリル基およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基；
シロキシＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（式中、Ｒ１０〜Ｒ１２は互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）；好ましくは、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、ジエチルイソプロピルシリルオキシ基、ジメチルヘキシルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基およびトリ−ｐａｒａ−キシリルシリルオキシ基；特に好ましくはトリメチルシリルオキシ基およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基；
Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシおよびｉｓｏ−ヘキソキシなど（特に好ましくは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシおよびｎ−ブトキシ）；
【００５１】
置換Ｃ６〜Ｃ１４アリールで、上記のように定義される１個以上のＣ１〜Ｃ１２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１４アリール基、シリル基ＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、シロキシ基ＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、またはＣ１〜Ｃ１２アルコキシ基で同様に置換されたＣ６〜Ｃ１４アリール；
Ａ２は、酸素、イオウ、Ｎ−Ｒ１３およびＰ−Ｒ１３から選択され、好ましくはＮ−Ｒ１３およびＰ−Ｒ１３である（Ｒ１３は上記に規定される通りである）。
【００５２】
本発明の１つの特定の実施形態において、２つの隣接する基は、元の芳香族系を伴って互いに結合して、５員環〜１０員環を形成する。例えば、式ＩにおけるＲ３およびＲ４、またはＺ１およびＺ２は一緒になって、−（ＣＨ２）３−（トリメチレン）、−（ＣＨ２）４−（テトラメチレン）、−（ＣＨ２）５−（ペンタメチレン）、−（ＣＨ２）６−（ヘキサメチレン）、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ−（Ｃ６Ｈ５）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−、−ＮＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、−ＮＣＨ３−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、または−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−になり得る。
【００５３】
別の特定の実施形態において、Ｚ４およびＡ２は、元の芳香族系を伴って互いに結合して、５員環〜１０員環を形成することができる。
【００５４】
別の好ましい実施形態において、Ｚ４およびＡ２は、元の芳香族系を伴ってインドール系を形成する。
【００５５】
残る変数は、式Ｉａにおいて定義される通りである。
【００５６】
【化４】
2004501260.tif 000005
【００５７】
式Ｉｃにおいて、Ｘ３、Ｘ４およびＸ５は互いに独立して、下記である：
フッ素、塩素、臭素またはヨウ素などのハロゲン（特に好ましくは塩素または臭素）；
トリフルオロアセタート；
ＢＦ４−、ＰＦ６−またはＳｂＦ６−；
Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルおよびｎ−ドデシルなど；好ましくはＣ１〜Ｃ６アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシルなど；特に好ましくはＣ１〜Ｃ４アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピルおよびｎ−ブチルなど；
Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシルおよびシクロドデシルなど（シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルが好ましい）；
【００５８】
Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、例えば、ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチルおよび４−フェニルブチルなど（特に好ましくはベンジル）；
Ｃ６〜Ｃ１４アリール、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリルおよび９−フェナントリルなど（好ましくは、フェニル、１−ナフチルおよび２−ナフチル；特に好ましくはフェニル）；
Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシおよびｉｓｏ−ヘキソキシなど（特に好ましくは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシおよびｎ−ブトキシ）；または
ＮＲ８Ｒ９（式中、Ｒ８およびＲ９は互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニルおよびＣ６〜Ｃ１４アリールから選択され、飽和もしくは不飽和の５員環〜１０員環を形成することができる）；好ましくは、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、メチルフェニルアミノ基およびジフェニルアミノ基。飽和環を含むアミノ基の例にはＮ−ピペリジル基およびＮ−ピロリジニル基があり、不飽和環を含むアミノ基の例にはＮ−ピリル基、Ｎ−インドリル基およびＮ−カルバゾリル基がある。
【００５９】
Ｘ３〜Ｘ５は好ましくは同一であり、Ｘ３〜Ｘ５は非常に特に好ましくは塩素である。
【００６０】
Ｎｕ１〜Ｎｕ３は互いに独立してＮまたはＰであり、Ｎｕ１およびＮｕ２のそれぞれがＮであることが好ましく、特に好ましくはＮｕ１〜Ｎｕ３のそれぞれがＮである。
【００６１】
Ｒ１４〜Ｒ１６は互いに独立して、下記である：
水素；
フッ素、塩素、臭素またはヨウ素などのハロゲン（好ましくは塩素および臭素）；
Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルおよびｎ−ドデシルなど；好ましくはＣ１〜Ｃ６アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシルなど；特に好ましくはＣ１〜Ｃ４アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルなど；
ドナー原子で１回または複数回置換されたＣ１〜Ｃ１２アルキル、例には、非環状または環状のエーテル、アルコール、ケタール、チオエステルまたはアミンが挙げられる。具体的な例には、メトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエチル、β−ヒドロキシエチル、ω−エトキシプロピル、（２−エチルヘキシルオキシ）プロピリデン、メトキシエトキシプロピリデンまたはω−ジメチルアミノプロピルがある；
モノハロゲン化またはポリハロゲン化されたＣ１〜Ｃ１２アルキル基、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ペンタフルオロエチル、ペルフルオロプロピルおよびペルフルオロブチルなど（フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルおよびペルフルオロブチルが特に好ましい）；
【００６２】
Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、好ましくは、Ｃ２〜ω−Ｃ８アルケニル、例えば、ビニル、アリル、ブタ−３−エン−１−イル、ω−ペンテニル、ω−ヘキセニル、ω−ヘプテニルおよびω−オクテニルなど；
Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシルおよびシクロドデシルなど（シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルが好ましい）；
Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、例えば、ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチルおよび４−フェニルブチルなど（特に好ましくはベンジル）；
Ｃ６〜Ｃ１４アリール、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリルおよび９−フェナントリルなど（好ましくは、フェニル、１−ナフチルおよび２−ナフチル；特に好ましくはフェニル）；
シリルＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（式中、Ｒ１０〜Ｒ１２は互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）；好ましくは、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ジエチルイソプロピルシリル基、ジメチルヘキシルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリベンジルシリル基、トリフェニルシリル基およびトリ−ｐａｒａ−キシリルシリル基；特に好ましくはトリメチルシリル基およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基；
【００６３】
シロキシＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（式中、Ｒ１０〜Ｒ１２は互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）；好ましくは、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、ジエチルイソプロピルシリルオキシ基、ジメチルヘキシルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基およびトリ−ｐａｒａ−キシリルシリルオキシ基；特に好ましくはトリメチルシリルオキシ基およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基；
Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシおよびｉｓｏ−ヘキソキシなど（特に好ましくは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシおよびｎ−ブトキシ）；
置換Ｃ６〜Ｃ１４アリールで、上記のように定義される１個以上のＣ１〜Ｃ１２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１４アリール基、シリル基ＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、シロキシ基ＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、またはＣ１〜Ｃ１２アルコキシ基で同様に置換されたＣ６〜Ｃ１４アリール。
【００６４】
Ｒ１４〜Ｒ１６は好ましくは同一である。
【００６５】
Ｒ１７〜Ｒ２２は互いに独立して、下記である：
水素；
フッ素、塩素、臭素またはヨウ素などのハロゲン（好ましくは塩素および臭素）；
Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルおよびｎ−ドデシルなど；好ましくはＣ１〜Ｃ６アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシルなど；特に好ましくはＣ１〜Ｃ４アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチルおよびｔｅｒｔ−ブチルなど；
【００６６】
モノハロゲン化またはポリハロゲン化されたＣ１〜Ｃ１２アルキル基、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ペンタフルオロエチル、ペルフルオロプロピルおよびペルフルオロブチルなど（フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチルおよびペルフルオロブチルが特に好ましい）；
ドナー原子で１回または複数回置換されたＣ１〜Ｃ１２アルキル、例には、非環状または環状のエーテル、アルコール、ケタール、チオエステルまたはアミンが挙げられる。具体的な例には、メトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエチル、β−ヒドロキシエチル、ω−エトキシプロピル、（２−エチルヘキシルオキシ）プロピリデン、メトキシエトキシプロピリデンまたはω−ジメチルアミノプロピルがある；
Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、好ましくはＣ２〜ω−Ｃ８アルケニル、例えば、ビニル、アリル、ブタ−３−エン−１−イル、ω−ペンテニル、ω−ヘキセニル、ω−ヘプテニルおよびω−オクテニルなど；
Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシルおよびシクロドデシルなど（シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルが好ましい）；
【００６７】
Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、例えば、ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチルおよび４−フェニルブチルなど（特に好ましくはベンジル）；
Ｃ６〜Ｃ１４アリール、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリルおよび９−フェナントリルなど（好ましくは、フェニル、１−ナフチルおよび２−ナフチル；特に好ましくはフェニル）；
シリルＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（式中、Ｒ１０〜Ｒ１２は互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）；好ましくは、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ジエチルイソプロピルシリル基、ジメチルヘキシルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基、トリベンジルシリル基、トリフェニルシリル基およびトリ−ｐａｒａ−キシリルシリル基；特に好ましくはトリメチルシリル基およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基；
シロキシＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（式中、Ｒ１０〜Ｒ１２は互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキルおよびＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）；好ましくは、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、ジエチルイソプロピルシリルオキシ基、ジメチルヘキシルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基およびトリ−ｐａｒａ−キシリルシリルオキシ基；特に好ましくはトリメチルシリルオキシ基およびｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基；
【００６８】
Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシおよびｉｓｏ−ヘキソキシなど（特に好ましくは、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシおよびｎ−ブトキシ）；
置換Ｃ６〜Ｃ１４アリールで、上記のように定義される１個以上のＣ１〜Ｃ１２アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１２アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１４アリール基、シリル基ＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、シロキシ基ＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、またはＣ１〜Ｃ１２アルコキシ基で同様に置換されたＣ６〜Ｃ１４アリール。
【００６９】
Ｒ１７、Ｒ１９およびＲ２１はすべて同一であることが好ましく、そしてＲ１８、Ｒ２０およびＲ２２はそれぞれが好ましくは水素である。Ｒ１７〜Ｒ２２が水素であることが非常に特に好ましい。これらの非常に特に好ましい化合物を合成するために必要とされるトリアザシクロヘキサン配位子は合成が特に容易である。
【００７０】
式Ｉｃの１つの特定の実施形態において、２つの隣接する基は一緒になって、飽和または不飽和の４員環〜９員環を形成することができる。例えば、２つの基は一緒になって、Ｃ３〜Ｃ９アルキリデン、例えば、−（ＣＨ２）３−（トリメチレン）、−（ＣＨ２）４−（テトラメチレン）、−（ＣＨ２）５−（ペンタメチレン）、−（ＣＨ２）６−（ヘキサメチレン）、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−になり、そしてまた、環状のアルドール、ケタールまたはアミン、例えば、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ−（Ｃ６Ｈ５）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、または−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−などになり得る。
【００７１】
それ以外の変数は、式Ｉａに定義される通りである。
【００７２】
式Ｉａ〜式Ｉｃの遷移金属錯体の製造はそれ自体知られている。式Ｉａまたは式Ｉｂの錯体に対する好適な合成は、ドイツ国特許ＤＥ−Ａ１９７１０６１５；Ａ．Ｄｏｅｈｒｉｎｇら、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ、２０００、１９、３８８；およびＪ．Ｃ．Ｗｅｂｅｒ、学位論文（ＭＰＩ　Ｍｕｅｌｈｅｉｍ／Ｒｕｈｒ（ドイツ）、１９９９）に見出される。
【００７３】
式Ｉｃの錯対に対する特に好ましいトリアザシクロアルカン配位子の製造はそれ自体知られている。Ｒ１７〜Ｒ２２がそれぞれ水素であり、そして基Ｒ１４〜基Ｒ１６がそれぞれ同一である式Ｉｃの非常に特に好ましい化合物を合成するための配位子は、ホルムアルデヒドを、例えば、ホルマリン溶液の形態で、関連するアミンＲ１４−ＮＨ２と混合することによって非常に効果的に合成することができる。これらの錯体配位子に対する様々な合成経路が、例えば、Ｆ．Ｗｅｉｔｌら、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９７９、１０１、２７２８；Ｍ．Ｔａｋａｈａｓｈｉ、Ｓ．Ｔａｋａｍｏｔｏ、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ、１９７７、５０、３４１３；Ｔ．Ａｒｉｓｈｉｍａら、日本化学会誌、１９７３、１１１９；Ｌ．Ｃｈｒｉｓｔｉａｎｓｅｎら、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９８６、２５、２８１３；Ｌ．Ｒ．Ｇａｈａｎら、Ａｕｓｔ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．１９８２、３５、１１１９；Ｂ．Ａ．Ｓａｙｅｒら、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．Ａｃｔａ、１９８３、７７、Ｌ６３；Ｋ．Ｗｉｅｇｈａｒｄｔら、Ｚ．Ｎａｔｕｒｆｏｒｓｃｈ．、１９８３、３８ｂ、８１；Ｉ．Ａ．Ｆａｌｌｉｓら、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９８、６６５に記載されている。
【００７４】
金属錯体、特にクロム錯体は、例えば、Ｐ．Ｃｈａｕｄｈｕｒｉ、Ｋ．Ｗｉｅｇｈａｒｄｔ、Ｐｒｏｇ．Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９８７、３５、３２９；またはＧ．Ｐ．Ｓｔａｈｌｅｙら、Ａｃｔａ　Ｃｒｙｓｔａｌｌ．１９９５、Ｃ５１、１８におけるように、例えば、金属塩化物などの対応する金属塩または金属カルボニルを配位子と反応することによる簡便な方法で得ることができる。
【００７５】
式Ｉａ〜式Ｉｃの上記錯体が触媒活性であるために、錯体はカチオン生成化合物で活性化される。好適なカチオン生成化合物は、電子吸引基を有するアルミニウム化合物またはホウ素化合物から選択される（例えば、トリスペンタフルオロフェニルボラン、トリスペンタフルオロフェニルアルミニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウム　テトラキスペンタフルオロフェニルボラート、トリ−ｎ−ブチルアンモニウム　テトラキスペンタフルオロフェニルボラート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウム　テトラキス（３，５−ビスペルフルオロメチル）フェニルボラート、トリ−ｎ−ブチルアンモニウム　テトラキス（３，５−ビスペルフルオロメチル）−フェニルボラートおよびトリチリウム　テトラキスペンタフルオロフェニルボラート）。式Ｉａ〜式Ｉｃの錯体に対するこれらの活性化剤は、ドイツ国特許ＤＥ−Ａ１９９３５４０７；ＰＣＴ／ＥＰ０００２７１６；およびＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．、１９９４、第３３巻、１８７７頁に記載される。ジメチルアニリニウム　テトラキスペンタフルオロフェニルボラート、トリチリウム　テトラキスペンタフルオロフェニルボラート、およびトリスペンタフルオロフェニルボランが好ましい。
【００７６】
ホウ素化合物またはアルミニウム化合物が式Ｉａ〜式Ｉｃの錯体に対する活性化剤として使用される場合、それらが使用されるモル比は、一般には、Ｍに基づいて１：１０〜１０：１であり、好ましくは１：２〜５：１であり、特に好ましくは１：１．５〜１．５：１である。
【００７７】
カチオン生成化合物の別の好適なクラスには、式ＩＩａおよび式ＩＩｂのアルミノキサンが含まれる。
【００７８】
アルミノキサンの構造は正確には知られていない。アルミノキサンは、アルミニウムアルキルを注意深く部分的に加水分解することによって得られる生成物である（ドイツ国特許ＤＥ−Ａ３００７７２５を参照のこと）。これらの生成物は、純粋な形態では存在しないが、その代わり、タイプＩＩａおよびタイプＩＩｂの開鎖構造と環状構造との混合物である。これらの混合物は相互の動的平衡状態で存在することが推定されている。
【００７９】
【化５】
2004501260.tif 000006
【００８０】
式ＩＩａおよび式ＩＩｂにおいて、基Ｒ２３は互いに独立して、下記である：
Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシルおよびｎ−ドデシルなど；好ましくはＣ１〜Ｃ６アルキル、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−ヘキシル、ｉｓｏ−ヘキシル、ｓｅｃ−ヘキシルなど；特に好ましくはメチル；
Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシルおよびシクロドデシルなど（シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチルが好ましい）；
Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、例えば、ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチルおよび４−フェニルブチルなど（特に好ましくはベンジル）；または
Ｃ６〜Ｃ１４アリール、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリルおよび９−フェナントリルなど（好ましくは、フェニル、１−ナフチルおよび２−ナフチル；特に好ましくはフェニル）；そして
ｎは０〜４０の整数であり、好ましくは１〜２５の整数であり、特に好ましくは２〜２２の整数である。
【００８１】
文献には、かご様構造もまたアルミノキサンについて議論されている（Ｙ．Ｋｏｉｄｅ、Ｓ．Ｇ．Ｂｏｔｔ、Ａ．Ｒ．Ｂａｒｒｏｎ、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ、１９９６、１５、２２１３〜２６；Ａ．Ｒ．Ｂａｒｒｏｎ、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．１９９５、９７、１５〜２５）。アルミノキサンの実際の構造に関わりなく、アルミノキサンは、式Ｉａ〜式Ｉｃの遷移金属錯体に対する好適な活性化剤である。
【００８２】
種々のアルミノキサンの混合物は、重合が、例えば、パラフィン（ｎ−ヘプタンまたはイソドデカン）の溶液中で行われるそのような場合には特に好ましい活性化剤である。１つの特に好ましい混合物が、Ｗｉｔｃｏ　ＧｍｂＨから市販されている、式［（ＣＨ３）０．９（ｉｓｏ−Ｃ４Ｈ９）０．１ＡｌＯ］ｎを有するＣｏＭＡＯである。
【００８３】
Ｍに基づいて、過剰のアルミノキサンのアルミノキサンを有する式Ｉａ〜式Ｉｃの活性錯体を一般に必要とする。Ｍ：Ａｌの有用なモル比は１：１０〜１：１００００であり、好ましくは１：５０〜１：１０００であり、特に好ましくは１：１００〜１：５００である。
【００８４】
式Ｉａ〜式Ｉｃの選択された錯体およびカチオン生成化合物は一緒になって、触媒系を形成する。この触媒系の活性は、式Ａｌ（Ｒ２３）３の１つまたは複数のさらなるアルミニウムアルキル化合物を添加することによってさらに高めることができる。
【００８５】
触媒系の活性は、式Ａｌ（Ｒ２３）３の別のアルミニウムアルキル化合物を添加することによって、またはアルミノキサンを添加することによって増大させることができる。式Ａｌ（Ｒ２３）３のアルミニウムアルキル化合物またはアルミノキサンはまた、分子量調節剤として作用し得る。別の効果的な分子量調節剤は水素である。分子量は、反応温度および滞留時間によって特に効果的に調節することができる。
【００８６】
ポリオレフィンワックスの工業的規模での現代の製造プロセスには、溶液プロセス、懸濁プロセス、液状または超臨界状態のモノマーにおける塊状重合プロセス、そしてまた気相プロセスがある。この後者のプロセスは、撹拌を伴う気相、または流動床プロセスにおける気相を含むことがある。
【００８７】
式Ｉａ〜式Ｉｃの錯体が懸濁プロセスまたは塊状重合プロセスまたは気相プロセスにおいて使用されるためには、錯体を固体の担体に固定化することが好都合である。そうでない場合には、ポリマー形態学上の様々な問題（凝集塊の形成、壁への堆積、配管または熱交換器の閉塞）が生じて、装置の停止がもたらされ得る。
【００８８】
式Ｉａ〜式Ｉｃの錯体および活性化剤から製造される触媒系は固体担体に容易に担持させることができる。使用され得る担体物質の例には、第２族〜第１４族の金属の多孔性金属酸化物またはそれらの混合物、そしてまたフィロケイ酸塩、そしてまた第１族、第２族および第１３族の金属の固体のハロゲン化物、そしてポリエチレンまたはポリプロピレンなどのポリマーが挙げられる。第２族〜第１４族の金属酸化物の好ましい例には、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＺｎＯがある。好ましいフィロケイ酸塩には、モンモリロナイトまたはベントナイトがある。好ましいハロゲン化物には、ＭｇＣｌ２または非晶質ＡｌＦ３がある。
【００８９】
特に好ましい担体物質は、式ＳｉＯ２　ａＡｌ２Ｏ３（式中、ａは一般には０〜２の範囲内の数であり、好ましくは０〜０．５の範囲内の数である）の球状のシリカゲルおよびアルミノケイ酸塩ゲルである。このタイプのシリカゲルは市販されており、例えば、シリカゲル３３２、Ｗ．Ｒ．Ｇｒａｃｅから得られるＳｙｌｏｐｏｌ（登録商標）９４８またはＳｙｌｏｐｏｌ９５２またはＳ２１０１、あるいはＣｒｏｓｆｉｅｌｄから得られるＥＳ７０Ｘである。
【００９０】
担体物質に対して好成績であることが証明されている粒子サイズは、平均粒子直径が１μｍ〜３００μｍであり、好ましくは２０μｍ〜８０μｍである。この粒子直径は、ふるい分け法などの知られている方法によって測定することができる。これらの担体の細孔容量は１．０ｍｌ／ｇ〜３．０ｍｌ／ｇであり、好ましくは１．６ｍｌ／ｇ〜２．２ｍｌ／ｇであり、特に好ましくは１．７ｍｌ／ｇ〜１．９ｍｌ／ｇである。ＢＥＴ表面積は２００ｍ２／ｇから７５０ｍ２／ｇであり、好ましくは２５０ｍ２／ｇから４００ｍ２／ｇである。
【００９１】
担体物質に付着している何らかの混入物（特に水分）を除くために、担体物質はドープ処理前に焼くことができ、このために好適な温度は４５℃〜１０００℃である。１００℃〜７５０℃の温度が、シリカゲルおよび他の金属酸化物の場合には特に好適である。５０℃〜１００℃の範囲がＭｇＣｌ２担体には好ましい。この焼き処理は０．５時間〜２４時間にわたって行うことができ、好ましい焼き処理時間は１時間〜１２時間である。圧力条件はそれ自体重要ではない。焼き処理は大気圧で行うことができる。しかし、０．１ｍｂａｒ〜５００ｍｂａｒの減圧が好都合であり、１ｍｂａｒ〜１００ｍｂａｒの範囲が特に好都合であり、２ｍｂａｒ〜２０ｍｂａｒの範囲が非常に特に好都合である。担体物質はまた化学的前処理を受けることができる。
【００９２】
触媒をドープ処理するために、手順は、一般には、担体物質を懸濁媒体中でスラリーにし、この懸濁物をトリアザシクロヘキサン錯体の溶液および活性化剤の溶液と一緒にすることである。この場合の懸濁媒体の容量は触媒担体の細孔容量の１倍〜２０倍である。その後、触媒は、ろ過、遠心分離または蒸発などの好適な方法によって懸濁媒体から単離することができる。
【００９３】
形態学の制御を改善するために、触媒は、実際の重合に先立って少量のモノマーとの前重合に供することができる。前重合は、可逆的な触媒毒を計量して加えることによって、またはモノマーの供給を止めることによって停止させることができ、そして前重合に供された触媒は、その後、重合系に供給することができる。
【００９４】
重合系または生成物の何らかの静電気帯電を避けるために、重合時に見出され得るように、帯電防止剤を反応混合物に添加することができる。好適な帯電防止剤は、パラフィン（ｎ−ヘプタンなど）におけるイソプロパノールなどの脂肪族アルコールの薄い溶液である。他の好適な帯電防止剤が、Ｓｔａｄｉｓ（登録商標）規格品としてＤｕｐｏｎｔから市販されている。
【００９５】
式Ｉａ〜式Ｉｃの錯体の助けをかりて、述べられた重合プロセスのいずれかによって得られるポリオレフィンワックスは、マスターバッチを得るために、様々な方法によってさらに処理することができる。これらの方法の共通した特徴は、顔料ではなく、ワックスおよびキャリアポリマーが、結果を左右する工程において融解され、そして所望する場合には添加剤が取り込まれるように、顔料（１種以上）が取り込まれるということである。
【００９６】
実際の混合に先立って、成分は、所望する場合には予備混合することができる。この場合、ドラムミキサーまたはタンブルミキサーがこの目的のためには特に好適である。微粉化プロセスもまた、所望する場合には行うことができる。
【００９７】
実際の混合において、回分プロセスと連続プロセスとは区別される。回分プロセスの場合には単純な混錬機を使用することができる。連続プロセスが行われ得る装置の例には、高速ミキサー、単軸スクリュー押出し機、二軸スクリュー押出し機、Ｂｕｓｓ混錬機、遊星型多軸スクリュー押出し機、開放分割型溝混錬機、および高速撹拌システムがある。
【００９８】
その後、顔料高濃度物は通常の方法でペレット化される。この目的のために、混合物が、押出し物の形態において、水で冷却され、その後、水浴内または水浴から出た後のいずれかにおいて切断されて、ペレットにされるストランドペレタイザーを使用することができる。ペレット用ダイは別の好適な切断手段である（ダイフェース切断プロセス）。
【００９９】
成形品またはシート材を製造するために、手順は、
０．０１重量％〜１０重量％（好ましくは０．５重量％〜５重量％、特に好ましくは０．５重量％〜２．５重量％）の顔料高濃度物を、
９０重量％〜９９．９９重量％（好ましくは９５重量％〜９９．５重量％、特に好ましくは９７．５重量％〜９８．５重量％）の着色されるポリマーと、そしてまた所望する場合には、
０重量％〜５重量％の添加剤（好ましい添加剤は酸化防止剤または殺生物剤である）
と混合することによって開始される。
【０１００】
着色される好適なポリマーには、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリオキシメチレン、ポリエチレンテレフタラート、ポリブチレンテレフタラート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエーテルケトン、ポリスチレンコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンターポリマー、ポリアミド（ナイロン−６またはナイロン−６，６など）、ポリ塩化ビニル、そしてまた０．１ｍｏｌ％〜２０ｍｏｌ％の１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、１−オクテン、１−デセンまたは１−ウンデセンとのエチレンのコポリマーが挙げられる。着色されるポリマーおよびマスターバッチのキャリアポリマーはこの場合には同一であってもよいが、同一である必要はない。
【０１０１】
顔料高濃度物を、ポリマーと、そしてまた所望する場合には添加剤と混合するために、原理的には、マスターバッチそのものを製造するために使用されたプロセスを使用することができる。回分プロセスの場合には、再度ではあるが、単純な混錬機を使用することができる。連続プロセスを行うために使用され得る装置の例には、高速ミキサー、単軸スクリュー押出し機、二軸スクリュー押出し機、Ｂｕｓｓ混錬機、遊星型多軸スクリュー押出し機、開放分割型溝混錬機、および高速撹拌システムがある。この場合には連続プロセスが好ましい。
【０１０２】
成形品またはシート材は、ポリマーの融点よりも高い温度で、射出成形、フィルム押出し成形または注型によって製造することができる。本発明の成形品およびシート材の加工性は、本発明の顔料高濃度物の使用によって悪影響を受けない。
【０１０３】
本発明の方法により得られる成形品またはシート材は、市販の成形品またはシート材よりも著しく高い色輝度を有する。材料の機械的性質は、本発明の顔料高濃度物の使用によって悪影響を受けない。
【０１０４】
実施例
錯体（ｎ−Ｃ１２Ｈ２５ＮＣＨ２）３ＣｒＣｌ３の製造およびエチレンの重合の基本的事項は、ドイツ国特許ＤＥ−Ａ１９９３５４０７に、ＰＣＴ／ＥＰ０００２７１６に、そして個々にはＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄｉｔｉｏｎ、１９９４、第３３巻、１８７７頁に記載される。
【０１０５】
５ｍｇ（６．７μｍｏｌ）の（ｎ−Ｃ１２Ｈ２５ＮＣＨ２）３ＣｒＣｌ３をトルエンに溶解して、１リットルのスチール製オートクレーブ（Ｂｕｅｃｈｉ）で、Ｗｉｔｃｏから得られる３０％濃度のＭＡＯ（メチルアルミノキサン）の１．４ｍｌを使用して活性化した。このとき、Ａｌ：Ｃｒ比は１０００：１で設定された。４００ｍｌのイソブタンおよび８ｌ（０．３８ｍｏｌ）の水素を加圧下で導入し、その後、オートクレーブを９０℃に加熱した。その後、４０ｂａｒのエチレンを加圧下で導入した。重合を、エチレンをさらに供給することによって圧力を４０ｂａｒで保ちながら３０分間行った。
【０１０６】
重合を、オートクレーブ内の圧力を低下させることによって停止させた。
【０１０７】
収量：４６ｇ、これは１４０００ｋｇのＰＥ／（モルＣｒ　ｈ）の活性に対応する。
【０１０８】
得られたワックスは下記の性質を有していた。固化点、１２８．５℃；Ｍｗ：５２００ｇ、Ｍｎ：２１００ｇ、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５。
【０１０９】
実施例１における本発明の顔料高濃度物のために使用された成分は、
３０重量％のＨｅｌｉｏｇｅｎ（登録商標）ブルー（ＢＡＳＦ　ＡＧから市販されている）、
１５重量％のポリエチレンワックス、
５５重量％のポリエチレン（Ｌｕｐｏｌｅｎ（登録商標）１８００Ｓ）（ペレット形態物）（Ｅｌｅｎａｃ　ＧｍｂＨから市販されている）
であった。
【０１１０】
下記の成分を実施例２において使用し、同じように処理した。
【０１１１】
３０重量％のＨｅｌｉｏｇｅｎ（登録商標）グリーン（ＢＡＳＦ　ＡＧから市販されている）、
１５重量％のポリエチレンワックス、
５５重量％のポリエチレン（Ｌｕｐｏｌｅｎ（登録商標）１８００Ｓ）（ペレット形態物）（Ｅｌｅｎａｃ　ＧｍｂＨから市販されている）。
【０１１２】
これらの成分を高速撹拌システムで予備混合して、ワックスの融点にした。このプロセスの途中で、ワックスは、顔料を濡らし、顔料からほこりが立たないようにし、そしてワックス相に顔料を分散させることに寄与した。その後、この混合物を二軸スクリュー押出し機に通した。温度をさらに１０℃上げた。この操作の途中で、ＰＥペレットは薄いワックス層でコーティングされた。押出し後、顔料高濃度物を、固化した顔料／ワックス層が分離しないように慎重に冷却した。
【０１１３】
比較用の製造物を同じような方法で製造した。市販のワックスサンプルを使用した。
【０１１４】
色強度を試験するために、示された実施例から得られた１ｇの各顔料高濃度物を９１．５ｇのＬｕｐｏｌｅｎ５０Ｄおよび蛍光増白剤としての７．５ｇのＴｉＯ２と予備混合し、そして１３０℃〜１５０℃でブロー成形装置において混合し、ブロー成形して、キャニスター物を得た。
【０１１５】
色強度を評価するために、５×５ｃｍ片をキャニスター物から切断して、ＤＩＮ６１７６に対して４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域で分光分析法により調べた（Ｄａｔａｃｏｌｏｒから得られるＳｐｅｃｔｒａｆｌａｓｈ６００装置）。
【０１１６】
結果を表１に示す。
【０１１７】
【表１】
2004501260.tif 000007
１Ｌｕｗａｘ（登録商標）はＢＡＳＦ　ＡＧから購入することができる。
２Ｃｌａｒｉａｎｔ−Ｗａｃｈｓ　ＰＥ５２０はＣｌａｒｉａｎｔ　ＡＧから購入することができる。
【国際公開パンフレット】
2004501260.tif 000008
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2004501260.tif 000010
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2004501260.tif 000039
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004501260.tif 000040
【国際調査報告】
2004501260.tif 000041
2004501260.tif 000042
2004501260.tif 000043
2004501260.tif 000044
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