(57)【要約】受動イントラキャビティテーパ型導波路と結合されたレーザダイオードを有するレーザが開示される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
受動イントラキャビティテーパ型導波路に光学的に結合されたレーザダイオードチップを含むレーザ。
【請求項２】
前記レーザが単一横モードを形成するように構成される、請求項１に記載のレーザ。
【請求項３】
前記導波路が高い光学損傷閾値を有する材料を含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項４】
前記材料が大きなバンドギャップエネルギーを有する半導体である、請求項３に記載のレーザ。
【請求項５】
前記導波路が結晶材料を含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項６】
前記結晶材料が単結晶である、請求項５に記載のレーザ。
【請求項７】
前記結晶材料がＩＩ−ＶＩ族化合物半導体材料を含む、請求項５に記載のレーザ。
【請求項８】
前記ＩＩ−ＶＩ族化合物半導体材料がＢｅＺｎＴｅを含む、請求項７に記載のレーザ。
【請求項９】
前記導波路がガラスを含む、請求項１に記載のレーザ。
【請求項１０】
レーザダイオードチップおよび導波路の界面における反射が最小限に抑えられる、請求項１に記載のレーザ。
【請求項１１】
前記レーザダイオードチップが、レーザダイオードチップおよび導波路の界面にあるその面に反射防止コーティングを含む、請求項１０に記載のレーザ。
【請求項１２】
前記レーザダイオードチップおよび導波路のそれぞれが、レーザダイオードおよび導波路の界面にあるその面に反射防止コーティングを含む、請求項１０に記載のレーザ。
【請求項１３】
前記導波路の長さが０．５ｃｍ以上である、請求項１に記載のレーザ。
【請求項１４】
請求項１に記載のレーザを含む光増幅器。
【請求項１５】
前記増幅器は、希土類金属がドープされている、請求項１４に記載の光増幅器。
【請求項１６】
前記増幅器は、エルビウムがドープされている、請求項１５に記載の光増幅器。
【請求項１７】
前記増幅器は、ツリウムがさらにドープされている、請求項１６に記載の光増幅器。
【請求項１８】
前記増幅器がラマン増幅器である、請求項１４に記載の光増幅器。
【請求項１９】
前記レーザが約９８０ｎｍまたは約１４８０ｎｍの出力ビーム波長を有する、請求項１６に記載の光増幅器。
【請求項２０】
前記レーザが約１３６５ｎｍまたは約１５３０ｎｍの出力ビーム波長を有する、請求項１８に記載の光増幅器。
【請求項２１】
請求項１に記載のレーザを含むレーザ印刷システム。
【請求項２２】
請求項１に記載のレーザを含む第２高調波発生レーザシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザダイオードと共に用いるための導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
たとえば、光通信、印刷、第２高調波発生による光の生成、医療用途に高出力レーザダイオードを用いることができる。高出力レーザダイオードは、光ファイバと共に用いられることが多い。多くの用途では、レーザは、単一横光学モードで動作することが必要である。単一横モードレーザダイオードは、たとえば、広さ１μｍ×５μｍの出力開口部を有し、一般に約０．４Ｗまでの出力パワーを形成することができる。単一横光学モードを生成するために、狭い開口部が必要である。しかし、きわめて高い出力密度が開口部で存在する可能性があり、単一横モードレーザダイオードでは限定要因となる。あるいは、多モードレーザダイオードは、たとえば、広さ１μｍ×１００μｍの出力開口部を有し、一般に約４Ｗまでの出力パワーで動作することができる。しかし、多モードレーザは光の１つの「スポット」を生成するのではなく、代わりに一連のスポットを生成することから、光ファイバの端部などの小さい領域に集光させることが困難である。Ｈ・Ｃ・ケーシー・ジュニア（Ｈ．Ｃ．Ｃａｓｅｙ，Ｊｒ，）およびＭ・Ｂ・パニッシュ（Ｍ．Ｂ．Ｐａｎｉｓｈ）著「Ｈｅｔｅｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  Ｌａｓｅｒｓ，Ｐａｒｔ  Ｂ：Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ａｎｄ  Ｏｐｅｒａｔｉｎｇ  Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ（ヘテロ構造のレーザ  パートＢ：材料および動作特性）」、Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ、１９７８、ｐ．２５２〜２５４を主に参照されたい。
【０００３】
レーザダイオードが確実に形成することができる最大出力パワーは一般に、光共振器において高い光パワーによって生じる半導体材料の損傷によって制限される。この損傷は、最初に端面ミラーに生じ、カタストロフィック光学損傷（Ｃａｔａｓｔｒｏｐｈｉｃ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄａｍａｇｅ（ＣＯＤ））と呼ばれる。ＣＯＤがレーザダイオード端面で出力密度を制限する恐れがあることは公知である。Ｍｉｔｓｕｏ  Ｆｕｋｕｄａ著「Ｒｅｌｉａｂｉｌｉｔｙ  ａｎｄ  Ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｌａｓｅｒｓ  ａｎｄ  ＬＥＤＳ（半導体レーザおよびＬＥＤの信頼性および劣化）」、Ａｒｔｅｃｈ  Ｈｏｕｓｅ、１９９１、ｐ．１２８〜１３６を主に参照されたい。ＣＯＤは、端面における結晶の欠陥がレーザ動作中に光を吸収するために、端面に熱が生じることにより生じる。レーザダイオードを含む半導体が加熱されると、バンドギャップエネルギーが減少し、吸収がさらに進み、今度は端面がさらに加熱され、ＣＯＤの原因となるランナウェイ効果が生じる。これは通常、端面付近の材料を溶融および／または剥離を生じる。このランナウェイ効果を最小限に抑えるための既知の方法としては、端面をコーティングするための高度な技術（米国特許第５，１４４，６３４号参照）またはアルミニウムを含む材料（ＡｌＧａＡｓなど）以外の半導体、たとえば、ＧａＩｎＰなどを用い、アルミニウムを含まず、酸化が少なく、端面に生じる欠陥が少ない高度な技術（米国特許第５，３８９，３９６号参照）が挙げられる。しかし、高出力パワーでは信頼性が依然として妥協されており、出力パワーは幅１００μｍの多モードレーザの場合には約４Ｗまたは単一横モードレーザダイオードの場合には４００ｍＷに限定される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
熱効果も単一横モードレーザダイオードの出力パワーを制限する恐れがある。高い入力電流レベルで、レーザの活性ストライプ領域の加熱が隣接領域に比して屈折率を増大させる。これは通常、レーザ導波路に多くの用途では受け入れられないさらに高次の光学モードを作動させる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の少なくとも一つの態様は、レーザダイオードの高い出力密度に関連する問題に対処する。本発明の一態様は、受動イントラキャビティテーパ型導波路に結合された半導体レーザダイオードチップを含むレーザを提供する。「受動」なる語は、導波路が光学ゲインを形成していないことを意味する。「イントラキャビティ」なる語は、光共振器内部を意味する。導波路は、高出力パワーで信頼性の高い単一横モード動作を提供することができる。導波路は、高い光学損傷閾値を有する材料を含んでもよい。材料は、大きなバンドギャップエネルギーを有する半導体、ガラスであってもよく、たとえば単結晶などの結晶材料であってもよい。結晶材料は、（周期表の）ＩＩ−ＶＩ族またはＩＩＩ−Ｖ族の化合物半導体であってもよい。導波路の長さは０．５ｃｍ以上であってもよい。
【０００６】
レーザダイオードチップおよび導波路チップの界面における反射は、最小限に抑えることができる。これは、界面でレーザダイオードチップ上に反射防止コーティングを施すことによって（および任意にレーザダイオードチップと導波路チップとの間に屈折率整合流体を施すことによって）実現されることができる。あるいは、それらの界面でレーザダイオードチップおよび導波路チップの両方に反射防止コーティングを施してもよい。
【０００７】
本発明のレーザは、光増幅器に用いてもよい。光増幅器は、エルビウムおよび／またはツリウムなどの希土類金属をドープしてもよい。この場合には、本発明のレーザは、約９８０ｎｍまたは１４８０ｎｍの出力波長を有することができる。増幅器は、ラマン増幅器であってもよい。この場合には、本発明のレーザは、約１３６５ｎｍまたは１５３０ｎｍの出力波長を有することができる。
【０００８】
本発明のレーザはまた、レーザ印刷システムにも用いることができる。
【０００９】
本発明の少なくとも一つの実施形態の利点は、出力密度の根本的な制限を克服し、単一横モードで高出力パワーを実現することができることである。
【００１０】
別の利点は、高出力で広い開口部のレーザダイオードを製造するために用いられる公知の技術を用いることができることである。
【００１１】
本願明細書で用いられるとき、
「損傷閾値」なる語は、もはや目的どおりに機能しないように材料が損傷を受ける最小光学出力密度を指し、
「大きなバンドギャップ」なる語は、レーザの光子エネルギーより実質的に大きい、好ましくは光子エネルギーより２倍以上大きいバンドギャップエネルギーを有する半導体を表すために用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の一態様は、受動イントラキャビティテーパ型導波路に光学的に結合される半導体レーザダイオードチップを含むレーザを提供する。本発明の別の態様では、受動導波路の少なくとも一部が単一横光学モードのみに対応するように設計されている。本発明の少なくとも一つの態様は、広い開口部（たとえば、幅２０μｍ超を含む幅１０μｍ超）の半導体レーザダイオードチップの出力側を狭い単一モード導波路に結合するために、テーパ付きイントラキャビティプレーナ型導波路を用いて、導波路がない場合にはレーザダイオードチップが多モードで動作することになっている場合であっても、レーザダイオードチップを含む光共振器を単一横モードでのみ動作するようにさせる。これは、テーパ型導波路が狭端部で単一横モードのみに対応するために実現される。本発明のこの態様は図１によって示されており、レーザダイオードチップ１２で生成される光がテーパ型導波路１４ａの最も広い部分に入るように、導波路チップ１４に対してバットカップリングされるレーザダイオードチップ１２の平面図を示している。その結果、テーパ型導波路１４ａの先細り形状により、散乱セグメント１６が位置する導波路の対向する端部に達するまで、光学モードを狭い単一横モード導波路部分に閉じ込める。
【００１３】
本発明の一態様は、レーザダイオードチップおよび導波路チップの界面における反射を最小限に抑えることを必要とする。図２は、レーザダイオードチップ１２および導波路チップ１４の両方の当接端面にある反射防止コーティング１８，２０の存在によって、これを実現する一実施形態の側面図を示している。別の実施形態において、反射防止コーティングは、レーザダイオードチップ上にのみ塗布される。反射防止コーティングの役割は、レーザダイオードチップと受動導波路チップとの間の効率的な光学結合を形成することである。すなわち、その界面における反射を最小限に抑えることによって、所望の光共振器モードにおける光学的損失を最小限に抑え、レーザダイオードチップ自体のファブリー・ペローモードを排除することである。反射防止コーティングを塗布するための技術は、当業界では公知である。最も簡素なものは、反射防止コーティングが塗布対象のチップの光学モードの有効屈折率の平方根にほぼ近い屈折率の材料である。したがって、（塗布材料における）適切な厚さは、所定の光の波長の４分の１に等しい。
【００１４】
本発明の別の態様は、導波路チップ１４がテーパ型導波路１４ａ以外の低損失のスラブ型導波路に対応していないことを保証する。切断された導波路セグメント、たとえばスラブモードにおける任意の光を散乱する図１に示されているような散乱セグメント１６を設けることによって、これを実現してもよい。
【００１５】
一般に、図２に示されているように、導波路チップ１４は、基板２２と、下部クラッディング層２４と、コア層２６と、上部クラッディング層２８と、接合層３０と、を含むスラブ型導波路を具備している。これらの層は、レーザダイオードチップの対応する層、すなわち、基板３２、下部クラッディング層３４、コア層３６、上部クラッディング層３８、接合層４０に整列している。一部の実施形態において、レーザダイオードチップ１２および導波路チップ１４は、ハンダ層４２（たとえばインジウム）によって、サブマウント４４、たとえば薄いシリコンウェーハ上にマウントされる。このようなマウントにより、レーザチップの光学モードとテーパ型導波路の光学モードとの間を十分に結合することができる。製作されるデバイスの光学モードの垂直寸法（ＦＷＨＭ）は通常、約１μｍであることから、良好な垂直整列のためにハンダの均一性および平滑性が重要である。サブマウント４４は、動作中、レーザダイオードチップから過度の熱を除去するために、ヒートシンクまたは熱電気冷却器（図示せず）に取り付けられることが好ましい。
【００１６】
コア層、下部クラッディング層、上部クラッディング層および任意の追加層の適切な構成および厚さは、数値モデルによって設計されてもよい。公知の導波路の１つのモデル化技術は、「遷移行列」アプローチである（たとえば、テオドール・タミル（Ｔｈｅｏｄｏｒ  Ｔａｍｉｒ）編「Ｇｕｉｄｅｄ−Ｗａｖｅ  Ｏｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ（導波用オプトエレクトロニクス）」、第２版、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ参照）。あるいは、カナダのオンタリオ州オタワのオプティウェーブ・コーポレーション（ＯｐｔｉＷａｖｅ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｏｔｔａｗａ，ＯＮ，Ｃａｎａｄａ））から市販されている「オプティＢＰＭ（ＯｐｔｉＢＭＰ）」などの市販の導波路モデル化ツールを用いてもよい。
【００１７】
レーザダイオードチップとテーパ型導波路との間の効率的な結合を可能にするために、レーザダイオードチップの光学モードおよびテーパ型導波路の光学モードは、ほぼ同一の垂直方向のサイズおよび波形を有することが好ましい。モードのサイズが大きい（すなわちコアがたとえば０．５μｍ〜３μｍのように厚い）場合には、整列は容易であるが、厚いコアはレーザダイオードチップにより高い閾値の電流密度を生じる可能性がある。
【００１８】
本発明の導波路チップは、通常は従来のフォトリソグラフィを必要とする多数の技術のうちのいずれかによって、横方向のテーパを形成するために、パターン形成されてもよい。テーパ型導波路のパターン形成の１つの方法は、パターン形成されていないスラブ型導波路から始まり、テーパ型導波路の所望の形状を規定するために、上部クラッディング層上に蒸着されるフォトレジストを用いる。次に、リッジ型導波路を作製するために、ウェット化学エッチング、反応性イオンエッチング、スパッタリングまたはイオンビームエッチングをはじめとする（材料に応じた）任意の適切な技術を用いて、上部クラッディング層の露出部分にエッチング処理を施してもよい。任意に、エッチングされた領域に充填材を蒸着させることによって、導波路構造を平面化してもよい。本発明のこの態様は、図５のリッジ型導波路６２および充填材６０によって示されている。一般に、（横方向の光学的な閉じ込めを行うために、）充填材は、上部クラッディングより屈折率が低い。
【００１９】
本発明の少なくとも１つの態様は、単一横モードで動作する高出力レーザを作製するために、比較的廉価であり、入手しやすい広い開口部の多モード半導体レーザチップを用いることができる導波路設計を含む。適切な半導体材料としては、ＧａＩｎＰ−ＧａＩｎＡｓ（たとえば米国特許第５，３８９，３９６号参照）、ＡｌＧａＡｓ−ＩｎＧａＡｓ、ＧａＩｎＡｓＰ−ＩｎＰ（たとえば、Ｂ・Ｓ・ブンブラ（Ｂ．Ｓ．Ｂｕｍｂｒａ）ら著「Ｈｉｇｈ  ｐｏｗｅｒ  ｏｐｅｒａｔｉｏｎ  ｏｆ  ＧａＩｎＡｓＰ／ＧａＩｎＡｓ  ＭＱＷ  ｒｉｄｇｅ  ｌａｓｅｒｓ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ａｔ  １．４８μｍ（１．４８μｍで放射するＧａＩｎＡｓＰ／ＧａＩｎＡｓ多重量子井戸リッジ型レーザの高出力動作）」、Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ、２６巻、ｐ．１７５５〜１７５６（１９９０）参照）またはＡｌＧａＩｎＡｓ−ＩｎｐなどのＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体および合金が挙げられるが、それらに限定されるわけではない。
【００２０】
導波路を作製するために用いられる材料は、以下の特性を有することが好ましい。すなわち、レーザ波長において透明であること、光学損傷閾値が高いこと、パターン形成が可能であること、テーパ型導波路の場合に必要とされるものより長い部分を利用可能であること、端面を形成するために劈開または研磨が可能であること、その基板に類似の熱膨張性を有することである。さらに、コア層は、隣接する層より高い屈折率でなければならない。
【００２１】
ＺｎＳｅ（および他のＩＩ−ＶＩ族化合物半導体および合金）、ＩＩＩ−Ｖ族半導体および合金およびシリカガラスまたは非シリカガラスなどの１種類以上の透明材料から受動導波路チップを作製してもよい。これらの材料は、動作中の光学吸収があまりないように、レーザ光子エネルギーよりはるかに大きいバンドギャップエネルギーを有することができる。非線形の吸収を最小限に抑えるために、バンドギャップは、レーザ光子エネルギーの２倍より大きいものであることが好ましい。一般に、構成を変更することによって、これらの材料の屈折率を調整することができる。
【００２２】
一般に、ＩＩ−ＶＩ族化合物は導波路にとって好ましい特性を提供する。ＩＩ−ＶＩ族化合物半導体および合金は、結晶材料である。ＧａＡｓなどの単結晶基板上で成長するとき、単結晶の形をとることが好ましく、劈開によって高品質の端面を作製することができるというさらなる利点があり、製造をさらに容易にする。適切なＩＩ−ＶＩ族半導体受動導波路の例としては、ＢｅＺｎＳｅクラッディング層を有するＢｅＺｎＴｅコアが挙げられる。これらの合金は、ＧａＡｓ基板上に分子線エピタキシ（ＭＢＥ）によって成長させ、（たとえば）イオンビームエッチングによってパターン形成されてもよい。適切なＩＩ−ＶＩ族合金の別の例としては、ＧａＡｓ基板またはＺｎＳｅ基板上で成長させたＭｇＺｎＳＳｅまたはＢｅＭｇＺｎＳｅまたはＩｎＰ基板上で成長させたＭｇＺｎＣｄＳｅが挙げられる。
【００２３】
一部の実施形態では、受動テーパ型導波路は、ＩＩＩ−Ｖ族半導体または合金を含んでもよい。受動テーパ型導波路チップに適したＩＩＩ−Ｖ族半導体としては、たとえば、ＧａＡｓ基板上で成長させたＡｌＧａＡｓまたはＡｌＧａＩｎＰ、またはサファイア基板上で成長させたＡｌＧａＩｎＮが挙げられる。これらの材料は公知であり、高品質であるという利点がある。このような受動導波路の場合にはこれらの半導体をドープせずに成長させることができるため、光学吸収が少なくて済む。高出力動作の場合には、受動テーパ型導波路に用いられる半導体のバンドギャップは、レーザ光子エネルギーの２倍超であることが好ましい。このようなＩＩＩ−Ｖ族合金は分子線エピタキシ（ＭＢＥ）または有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ）によって成長させることもでき、（たとえば）ウェットエッチングまたは反応性イオンビームエッチングによってパターン形成されてもよい。
【００２４】
シリカ、ドープシリカ（たとえば、Ａｌ、Ｇｅ、Ｐ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｈｆ，Ｚｒ、ＢまたはＦをドープしたシリカを含む）および他のガラスによって作製された光導波路が、公知である。重要な一例は、酸窒化ケイ素（ＳｉＯxＮy）であり、酸窒化ケイ素の屈折率は窒素の含有量によって制御される。このような導波路は、シリコンウェーハをはじめとするさまざまな異なる基板上に蒸着させることができる。一実施形態では、基板がシリコンウェーハであり、下部クラッディングがシリカであり、コアが酸窒化ケイ素であり、上部クラッディングがシリカである。導波路のパターン形成は、上部クラッディングを蒸着する前に、コアの反応性イオンエッチングによって実現されてもよい。（たとえば、Ｒ・ジャーマン（Ｒ．Ｇｅｒｍａｎｎ）ら著「Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｏｘｙｎｉｔｒｉｄｅ  Ｌａｙｅｒｓ  ｆｏｒ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｗａｖｅｇｕｉｄｅ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ（光導波路用途のための酸窒化ケイ素層）」、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ、１４７（６）、ｐ．２２３７〜２２４１（２００）参照。）
【００２５】
図６に示されているような他のガラス導波路実施形態をパターン形成するための技術は、所望のテーパ型導波路領域８２の外側に、コア層７８に隣接して光閉じ込め材料７６を蒸着してパターン形成することを必要とする。光閉じ込め材料７６が隣接するクラッディング層７４より低い屈折率を有する場合には、横方向の光の閉じ込めが実現される。
【００２６】
本発明の別の態様は、レーザの放射波長を安定させるために光学的フィードバックを提供するためのブラッグ格子を利用する。ブラッグ格子は、テーパ型導波路の部分に形成されることができる。たとえば、導波路層を成長させる前に基板に浅い溝をエッチングすることによって、導波路層自体に浅い溝をエッチングすることによって、または光閉じ込め材料（たとえば、ＭｇＦ2）にブラッグ格子をパターン形成することによって、格子を形成してもよい。あるいは、（テーパ型導波路に関して）レーザの出力側を、ファイバブラッグ格子を含むファイバピグテイルに結合してもよい。
【００２７】
受動イントラキャビティテーパ型導波路を有するレーザダイオードの高出力動作は、光増幅器の設計および性能を著しく改良することができる。適切な光増幅器としては、エルビウムをドープしたもの、ツリウムなどの他の材料を任意にドープしたものなどのなどの希土類ドープファイバ増幅器が挙げられる。（たとえば、Ｊ・−Ｍ・デラボー（Ｊ．−Ｍ．Ｐ．Ｄｅｌａｖａｕｘ），Ｊ・Ａ・ネーゲル（Ｊ．Ａ．Ｎａｇｅｌ）著「Ｍｕｌｔｉ−ｓｔａｇｅ  ｅｒｂｉｕｍ−ｄｏｐｅｄ  ｆｉｂｅｒ  ａｍｐｌｉｆｉｅｒ  ｄｅｓｉｇｎｓ（多ステージエルビウムドープファイバ増幅器設計）」、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｌｉｇｈｔｗａｖｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、１３巻、５号（１９９５）、ｐ．７０３〜７２０参照。）このようなタイプの増幅器の場合には、レーザダイオードは、９８０ｎｍおよび／または１４８０ｎｍのポンプレーザとして用いられる。
【００２８】
イントラキャビティテーパ型導波路を有するレーザダイオードはまた、ラマンファイバ増幅器システムと共に用いられてもよい。このようなタイプの増幅器の場合には、レーザダイオードは、１３６５ｎｍおよび／または１５３０ｎｍのポンプレーザとして用いられる。（たとえば、並木周および江森芳博著「Ｕｌｔｒａｂｒｏａｄ−ｂａｎｄ  Ｒａｍａｎ  ａｍｐｌｉｆｉｅｒｓ  ｐｕｍｐｅｄ  ａｎｄ  ｇａｉｎ−ｅｑｕｉｌｉｚｅｄ  ｂｙ  ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ−ｄｉｖｉｓｉｏｎ−ｍｕｌｔｉｐｌｅｘｅｄ  ｈｉｇｈ−ｐｏｗｅｒ  ｌａｓｅｒ  ｄｉｏｄｅｓ（波長分割多重高出力レーザダイオードによってポンピングおよび利得等化される超広帯域ラマン増幅器）」、ＩＥＥＥ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｎ  Ｓｅｌｅｃｔｅｄ  Ｔｏｐｉｃｓ  ｉｎ  Ｑｕａｎｔｕｍ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ、７巻、ｐ．３（２００１）参照。）
【００２９】
受動イントラキャビティテーパ型導波路を有するレーザダイオードはまた、印刷システムにおける利用にも適している。たとえば、画像を作成するためにアブレーションまたは熱を誘発する酸化を用いる印刷システムでは、レーザ走査システムの光学設計を最適化することができることから、高出力密度を有する単一モードレーザ光源が好都合である。高出力の小さな開口部を有するレーザ光源から端を発することによって、ビーム径の倍率を利用することができ、必要な出力密度を依然として実現すると同時に、より長い焦点深度を生じる。長い焦点深度は、印刷システムにおける動的な走査の必要性を排除することができる。
【００３０】
受動イントラキャビティテーパ型導波路を有するレーザダイオードのための他の適切な用途としては、第２の高調波発生（ＳＨＧ）レーザシステムにおける一次ビームが挙げられ、一次ビームの２分の１波長の光を生成するために用いられる。（たとえば、Ｄ・Ｊ・Ｌ・バーキン（Ｄ．Ｊ．Ｌ．Ｂｉｒｋｉｎ）ら著「３．６ｍＷ  ｂｌｕｅ  ｌｉｇｈｔ  ｂｙ  ｄｉｒｅｃｔ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  ｄｏｕｂｌｉｎｇ  ｏｆ  ａ  ｄｉｏｄｅ  ｌａｓｅｒ  ｕｓｉｎｇ  ａｎ  ａｐｅｒｉｏｄｉｃａｌｌｙ  ｐｏｌｅｄ  ｌｉｔｈｉｕｍ  ｎｉｏｂａｔｅ  ｃｒｙｓｔａｌ（非周期分極ニオブ酸リチウム結晶を用いるダイオードレーザの直接周波数逓倍による３．６ｍＷの青色光）」、Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ、７８巻、ｐ．３１７２（２００１）参照。）これらの非線形装置では、返還効率は単一モード入力パワーと共に増大する。したがって、本発明は、ダイオードレーザの直接周波数逓倍を用いるＳＨＧシステムの性能において、実質的な利点を提供する。
【実施例】
【００３１】
以下の実施例が、本発明を説明する。
【００３２】
シミュレーション結果
カナダのオンタリオ州オタワのオプティウェーブ・コーポレーション（ＯｐｔｉＷａｖｅ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｏｔｔａｗａ，ＯＮ，Ｃａｎａｄａ））から市販されている市販の導波路モデル化ツール「オプティＢＰＭ（ＯｐｔｉＢＭＰ）」を用いて実行されたモデル化は、導波路のテーパの外形」がレイズド正弦（ｒａｉｓｅｄ  ｓｉｎｅ）の形であることが好ましいことを示している。
【数１】
2004531904.tif 000003
式中、ｗ（ｚ）はｚ（光の伝播方向における距離）の関数としてのテーパ型導波路の幅であり、Ｌはテーパ型導波路の長さであり、ｗ１およびｗ２は両端における導波路の幅である。図３および図４は、テーパ型導波路のモデル化のシミュレーション結果である。シミュレーションのために、テーパ型導波路に関する幅１００μｍの単一モード入力を生成するために、導波路の鏡像が用いられた。これは、レーザ共振器内の往復を効果的に示した。図３は、屈折率値（導波路の屈折率＝２．５、クラッディングの屈折率＝２．４９５）に関する導波路構造を示しており、図４は、導波路に沿った伝播方向ｚの関数としての光フィールドの増幅を示している。入力フィールドと出力フィールドのパワーの重なり積分は、パワーの９７％が残っていることを示している。言い換えれば、０．１３ｄＢの往復伝播損失であった。
【００３３】
さらなるモデル化から、レイズド正弦のテーパを用いる場合には、（他の変数のすべてが一定に維持される）テーパの必要な長さは、広い方の端部における導波路の幅の２乗によることが示された。たとえば、１００μｍの「広い」端面に関して所与のテーパ型導波路設計は２ｃｍ必要である場合には、５０μｍの「広い」端面では０．５ｃｍテーパが必要となる。たとえば、線形テーパなどの他のテーパの外形を用いてもよいが、これらはより長いテーパ領域を必要とする可能性がある。
【００３４】
実施例１：９８０ｎｍレーザ
この実施例は、ＡｌＧａＡｓ−ＧａＩｎＡｓレーザダイオードチップ、ＢｅＺｎＳｅ−ＢｅＺｎＴｅテーパ型導波路およびシリコンサブマウントを具備する９８０ｎｍレーザについて述べている。
【００３５】
ＡｌＧａＡｓ−ＧａＩｎＡｓレーザダイオードチップ
この実施例では、レーザダイオードチップは、（１００）ＧａＡｓ：Ｓｉ半導体ウェーハ上に分子線エピタキシ（ＭＢＥ）によって成長される。下部クラッディングは、厚さ１μｍのＡｌxＧａ1-xＡｓ：Ｓｉ（ｘ＝０．２、ｎ＝１０17ｃｍ-3）である。活性領域（レーザ導波路コア）は、３つのＧａyＩｎ1-yＡｓ量子井戸（ｙ＝０．８）を有する厚さ１μｍのドープされていないＧａＡｓである。井戸は、２０ｎｍのＧａＡｓによって互いから離隔されている。量子井戸の厚さ（成長時）は、所望のレーザ波長（９８０ｎｍ）を形成するように調整され、約７ｎｍである。上部クラッディングは、厚さ１μｍのＡｌxＧａ1-xＡｓ：Ｂｅ（ｘ＝０．２、ｐ＝１０17ｃｍ-3）である。接触層は、ＧａＡｓ：Ｂｅ（ｐ＝１０19ｃｍ-3、厚さ５０ｎｍ）である。
【００３６】
レーザダイオードチップの作製は、接触層上に２０ｎｍのＰｄ、１００ｎｍのＡｕおよび２ｎｍのＴｉからなるｐ−オーム性接触金属の蒸着から始まる。Ｔｉは、次のステップにおけるフォトレジストの接着を促進する。幅７５μｍのフォトレジストストライプは、＜１１０＞軸に注意深く整列されるｐ−オーム性接触金属上にパターン形成される。続いて、ウェーハがイオンビームエッチング（５００ｅＶのＸｅ陽イオン）によってパターン成形され、ｐ−オーム性接触金属を通してエッチングされ、０．２５μｍの半導体となる。次に、エッチングされるウェーハは真空蒸着装置によってすぐに移動され、０．３７μｍのＡｌ2Ｏ3が電子ビーム蒸着によって蒸着される。次いで、フォトレジストストライプがアセトンによって剥がされ、エッチングされていないストライプの上にＡｌ2Ｏ3をリフトオフして、平面を残す。次に、フォトレジストが再び最上面に塗布されて、パターン形成された後、幅７５μｍの活性領域の上方の中心に幅１０００μｍのストライプをリフトオフすることによって、接合金属（１００ｎｍのＴｉおよび３００ｎｍのＡｕ）が蒸着およびパターン形成される。この時点で、最上面の処理は完了する。ウェーハは、研磨手段上のワックスによってマウントされ、背面が鏡面となるまで研磨される。研磨手段から除去した後、ウェーハの背面は洗浄され、わずかにエッチングされる。フォトレジストが再び塗布され、パターン形成され、背面のｎ−オーム性接触金属（１０ｎｍのＰｄ、２５ｎｍのＧｅおよび３００ｎｍのＡｕ）が真空蒸着によって蒸着され、リフトオフによって１０００μｍのストライプにパターン形成される。これらのストライプは、赤外線顕微鏡を用いてＧａＡｓ基板を通して活性ストライプを見ることができるような「窓」を実現するために、ウェーハの前から活性ストライプに対して整列される。
【００３７】
続いて、ウェーハが長さ１０００μｍのバーに劈開され、反射防止コーティング（１２．７ｎｍのＡｌ2Ｏ3）が前端面に塗布され、高い屈折性のコーティング（Ａｌ2Ｏ3およびＭｇＦ2）が後端面に施される。続いて、バーがチップ（幅１５００μｍ）に刻まれ、組立の準備が整う。これらのチップのそれぞれにおいて、光学モードの中心は、接合金属の上面から２．０μｍである。
【００３８】
ＢｅＺｎＴｅテーパ型導波路
ＩＩ−ＶＩ族導波路材料の成長は、分子線エピタキシシステム内部で行われる。このようなシステムは一般に、ＩＩＩ−Ｖ族基板の上にＩＩＩ−Ｖ族緩衝層を成長させるためのチェンバ、ＩＩＩ−Ｖ族緩衝層の上にＩＩ−ＶＩ族導波路を成長させるためのチェンバ、２つの成長チェンバを接続しているトランスファチェンバを具備しており、いずれのチェンバも超高真空条件下にある。
【００３９】
図５は、ＢｅＺｎＴｅコアを有する導波路５０を示している。
【００４０】
ＩＩＩ−Ｖ（ＧａＡｓを含む）族緩衝層の成長およびＩＩＩ−Ｖ族緩衝層におけるＩＩ−ＶＩ族材料の成長開始については、米国特許第５，８７９，９６２号の「ＩＩＩ−Ｖ／ＩＩ−ＶＩ  ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  ｉｎｔｅｒｆａｃｅ  ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ  ｍｅｔｈｏｄ（ＩＩＩ−Ｖ／ＩＩ−ＶＩ族半導体界面の作製方法）」に記載されている。このような技術を用いて、ＧａＡｓ緩衝層５２が、第１のチェンバにおいて成長させられ、超高真空条件下でＺｎＳｅの緩衝層（図示せず）が成長させられる第２のチェンバに移行される。ＺｎＳｅ層は、２７５℃の基板温度で厚さ３０ｎｍまで成長する。
【００４１】
ＺｎＳｅ緩衝層を成長させた後、サンプルは、同チェンバにおいて導波路構造の成長のために準備がなされる。導波路構造の第１の層はＢｅxＺｎ(1-x)Ｓｅ下部クラッディング５４である。ＧａＡｓに対する格子整合の場合には、ｘ＝０．０２９である。この層は、２７５℃の成長温度において約１μｍ／時で成長させられる。ＶＩ／ＩＩ族流速比は、ＲＨＥＥＤ（反射高速電子線回折）パターンが（２×１）であるように十分にＶＩ族リッチである。この層の所望の厚さは、導波路の損失要件によって決定され、通常は３μｍ以上である。一実施形態において、次の層の基板温度に上昇する前に、Ｓｅの過度の外方拡散を防止するために、ＢｅＴｅの薄層（１ｎｍ）がＢｅＺｎＳｅ上に成長させられる。
【００４２】
次の層の成長前に、基板温度は約６００℃まで上昇させる。基板温度が安定すると、ＢｅyＺｎ(1-y)Ｔｅコア層５６の成長が開始される。ＧａＡｓに対する格子整合の場合には、ｙ＝０．９３５である。ＶＩ／ＩＩ族流速比は、ＲＨＥＥＤパターンが（２×１）であるように十分にＶＩ族リッチであった。この成長速度は約１μｍ／時であり、レーザダイオードチップの光学モードと整合するために、総厚は１．０μｍである。
【００４３】
ＢｅＺｎＴｅ層の成長後、ＢｅＺｎＳｅ上部クラッディングの成長のために、基板温度は約２７５℃に下げされる。下部クラッディング層５８の成長と同一の成長条件が用いられる。レーザダイオードチップの光学モードの位置と整合するために、この層の厚さは１．０μｍである。サンプルがチェンバから除去されるときに、Ｂｅを含む層が酸化しないようにするために、ＺｎＳｅ（図示せず）の最終的な薄層（５０ｎｍ）が成長させられる。
【００４４】
テーパ型導波路を作製するために、フォトレジスト（ニュージャージー州フランクリンのフューチャーレックス・インコーポレイティッド（Ｆｕｔｕｒｒｅｘ，Ｉｎｃ，（Ｆｒａｎｋｌｉｎ，ＮＪ）から市販されているＮＲ７−１０００ＰＹが好ましい）は、＜１１０＞軸に注意深く整列されたＩＩ−ＶＩ族半導体に適切にパターン形成される。パターンは広端部で幅７５μｍであり、狭端部で幅７．５μｍであるテーパ型導波路のほか、散乱セグメントを具備している。テーパの形はレイズド正弦であり、長さは１ｃｍである。ウェーハはイオンビームエッチング（５００ｅＶのＸｅ陽イオン）によってパターン成形され、０．７５μｍの上部クラッディング層をエッチングする。次に、エッチングされたウェーハは真空蒸着装置によってすぐに移動され、「横クラッディング」充填材６０を形成するために、０．７５μｍのＭｇＦ2が電子ビーム蒸着によって蒸着される。次いで、フォトレジストストライプがアセトンによって剥がされ、エッチングされていないストライプの上にＭｇＦ2をリフトオフして、平面を残す。続いて、ウェーハ全体の上に接合金属（１００ｎｍのＴｉおよび３００ｎｍのＡｕ）が真空蒸着され、ウェーハがバー（長さ１ｃｍ）まで劈開される。反射防止コーティング（１６．８ｎｍのＳｉＯ2）が導波路の広端部に真空蒸着される。導波路の狭（出力側）端部はコーティングされない。続いて、バーが個別の導波路チップ（幅１５００μｍ）に劈開される。このような導波路において、光学モードの中心は、接合金属の上面から２．０μｍである。
【００４５】
サブマウント
便宜上、サブマウントには、薄い（１２５μｍ）シリコンウェーハが用いられる。より高い熱伝導率の別の材料（たとえば、ダイヤモンド）を用いることも可能である。サブマウントの上面は高い真空蒸着によって５０ｎｍのＰｔおよび３μｍのＩｎを用いてコーティングされる。Ｐｔ層は、溶融時にＩｎがサブマウント面で数珠繋ぎにならないようにする。下面は、高い真空蒸着によって１００ｎｍのＴｉおよび３００ｎｍのＡｕを用いてコーティングされる。サブマウントは幅３ｍｍ、長さ１．５ｃｍである。
【００４６】
組立工程
完全なレーザを組み立てるために、レーザダイオードチップが最初にサブマウントのＩｎコーティングされた側面と接触する接合金属層によってサブマウントの一方の端部の付近に配置される。レーザダイオードチップが、棒状にするために最小の十分な力でＩｎを軽く圧入される。次に、テーパ型導波路チップ上の反射防止コーティングが、レーザダイオードチップ上の反射防止コーティングに接触するように配置される。続いて、レーザダイオードチップの活性ストライプにテーパ型導波路を整列させるために、テーパ型導波路チップが移動される。これは、赤外線ビデオシステムを有する顕微鏡を用い、レーザダイオードチップおよびテーパ型導波路チップの両方の基板を撮像して実現される。チップが整列されると、導波路チップがＩｎを軽く圧入し、剥離される。続いて、Ｉｎが溶融して、接合金属との接合部を形成するまで、サブマウント、レーザダイオードチップおよびテーパ型導波路チップが気体を形成する際に短期間加熱される。最後に、サブマウントが熱電気冷却に取り付けられるヒートシンクにハンダ付けられる。レーザは、ｎ−オーム性接触金属およびＩｎに接合されるワイヤを通じて電流を通すことによって作動される。
【００４７】
実施例２：１４８０ｎｍレーザ
この実施例は、ＡｌＧａＩｎＡｓ−ＩｎＰレーザダイオードチップ、酸窒化ケイ素テーパ型導波路およびシリコンサブマウントを具備する１４８０ｎｍレーザについて述べている。
【００４８】
ＡｌＧａＩｎＡｓ−ＩｎＰレーザダイオードチップ
この実施例では、レーザダイオードチップは、（１００）ＩｎＰ：Ｓウェーハ上に有機金属気相成長法（ＭＯＣＶＤ）によって成長される。すべての層は、名目上ＩｎＰに格子整合される。下部クラッディングは、厚さ０．８μｍのＩｎＰ：Ｓ（ｎ＝１０18ｃｍ-3）および０．１μｍのＡｌＧａＩｎＡｓ：Ｓ（Ｅg＝１．４４ｅＶ、ｎ＝１０18ｃｍ-3）である。活性領域（レーザ導波路コア）は、その中心に５つのＧａＩｎＡｓ量子井戸を有する厚さ０．２８μｍのドープされていないＡｌＧａＩｎＡｓ（Ｅg＝１．１ｅＶ）である。井戸は、１０ｎｍのＡｌＧａＩｎＡｓ（Ｅg＝１．１ｅＶ）によって互いから離隔されている。量子井戸のそれぞれの厚さ（成長時）は、所望のレーザ波長（１４８０ｎｍ）を形成するように調整される。上部クラッディングは、厚さ０．１μｍのＡｌＧａＩｎＡｓ：Ｚｎ（Ｅg＝１．４４ｅＶ、ｐ＝１０18ｃｍ-3）および１．３μｍのＩｎＰ：Ｚｎ（ｐ＝１０18ｃｍ-3）を含む。ｐ−オーム性接触層は０．０５μｍのＧａＩｎＡｓＰ（Ｅg＝０．９５ｅＶ、ｐ＝２×１０18ｃｍ-3）および０．２μｍのＧａＩｎＡｓ：Ｚｎ（ｐ＝１０19ｃｍ-3）である。
【００４９】
レーザダイオードチップの作製は、接触層上に２０ｎｍのＰｄ、１００ｎｍのＡｕおよび２ｎｍ  Ｔｉからなるｐ−オーム性接触金属の蒸着から始まる。Ｔｉは、次のステップにおけるフォトレジストの接着を促進する。幅１００μｍのフォトレジストストライプは、＜１１０＞軸に注意深く整列されるｐ−オーム性接触金属上にパターン形成される。続いて、ウェーハがイオンビームエッチング（５００ｅＶのＸｅ陽イオン）によってパターン成形され、ｐ−オーム性接触金属を通してエッチングされ、０．２５μｍの半導体となる。次に、エッチングされたウェーハは真空蒸着装置によってすぐに移動され、０．３７μｍのＡｌ2Ｏ3が電子ビーム蒸着によって蒸着される。次いで、フォトレジストストライプがアセトンによって剥がされ、エッチングされていないストライプの上にＡｌ2Ｏ3をリフトオフして、平面を残す。次に、フォトレジストが再び塗布されて、パターン形成された後、幅１００μｍの活性領域の上方の中心に幅１０００μｍのストライプをリフトオフすることによって、接合金属（１００ｎｍのＴｉおよび３００ｎｍのＡｕ）が蒸着およびパターン形成される。この時点で、最上面の処理は完了する。ウェーハは、研磨手段上のワックスによってマウントされ、背面が鏡面となるまで研磨される。研磨手段から除去した後、ウェーハの背面は洗浄され、わずかにエッチングされる。フォトレジストが再び塗布され、パターン形成され、背面のｎ−オーム性接触金属（１０ｎｍのＰｄ、２５ｎｍのＧｅおよび３００ｎｍのＡｕ）が真空蒸着によって蒸着され、リフトオフによって１０００μｍのストライプにパターン形成される。これらのストライプは、赤外線顕微鏡を用いてＩｎＰ基板を通して活性ストライプを見ることができるような「窓」を実現するために、ウェーハの前から活性ストライプに対して整列される。
【００５０】
続いて、ウェーハが長さ１０００μｍのバーに劈開され、反射防止コーティング（２０．９ｎｍのＡｌ2Ｏ3）が前端面に塗布され、高い屈折性のコーティング（ＭｇＦ2およびＳｉ）が後端面に施される。続いて、バーがチップ（幅１５００μｍ）に刻まれ、組立の準備が整う。これらのチップのそれぞれにおいて、光学モードの中心は、接合金属の上面から２．１４μｍである。
【００５１】
酸窒化ケイ素テーパ型導波路
図６は、この実施例のテーパ型導波路７０を示しており、両面を研磨した（１００）シリコンウェーハ７２からはじめることによって作製される。ウェーハの上面に少なくとも３μｍの厚さまで酸化物が成長させられて下部クラッディング７４を形成する。標準的な技術を用いて、フォトレジストが下部クラッディングにおいてパターン形成されて、小さな（１０μｍの正方形）の位置決めマークを規定し、それらのマークを基板の＜１１０＞軸に正確に整列させる。ウェーハが真空蒸着システムに配置され、Ｇｅの薄層（１００ｎｍ）が電子ビーム蒸着によって蒸着される。蒸着システムから除去した後、アセトン（他の適切な溶剤を用いることも可能）の中でフォトレジストが除去され、「リフトオフ」によってＧｅに小さな位置決めマークがパターン形成される。
【００５２】
標準的な技術を用いて、フォトレジスト（ニュージャージー州フランクリンのフューチャーレックス・インコーポレイティッド（Ｆｕｔｕｒｒｅｘ，Ｉｎｃ，（Ｆｒａｎｋｌｉｎ，ＮＪ）から市販されているＮＲ７−１０００ＰＹが好ましい）が、下部クラッディングに再びパターン形成され、所望の導波路パターン（散乱セグメントも含む）を規定し、各テーパ型導波路の広端部付近に位置しているＧｅの位置決めマークと正確に整列させる。この実施例では、導波路は、２．０ｃｍの長さにわたって幅１００μｍから幅７．５μｍまで先細りになっている。テーパの形はレイズド正弦である。ウェーハは、真空蒸着システムに配置され、ＭｇＦ2薄層（光閉じ込め材料７６）が電子ビーム蒸着（あるいは熱蒸着またはスパッタリングをはじめとする他の蒸着技術を用いることもできる）によって蒸着される。蒸着システムから除去した後、アセトン（他の適切な溶剤を用いることも可能）の中でフォトレジストが除去され、「リフトオフ」によってＭｇＦ2にパターンを形成する。この実施例では、ＭｇＦ2は厚さ３７．５ｎｍである。次に、ウェーハは、プラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）システムに配置される。シリカ上部クラッディングに続いて、酸窒化ケイ素コア７８が蒸着される。この実施例では、コアは厚さ０．４μｍであり、ＰＥＣＶＤ気体流は、設計波長１４８０ｎｍにおいて屈折率１．６６８に適したコアの窒素成分を形成するために調整される。上部クラッディング８０は厚さ１．６４μｍである。これらの層の厚さは、レーザダイオードチップにおける光学モードのサイズおよび位置にほぼ整合するように選択される。結果として生じる導波路構造は、（サブマウントに接合するのに適した）略平面であり、設計波長１４８０ｎｍにおいて単一横モードに対応する。最終的な高温（たとえば１１４０℃）の焼きなましによって、ＰＥＣＶＤ層の水素を削減して、導波路吸収損失を最小限に抑えることができる。
【００５３】
次いで、接合金属（図示せず）（１００ｎｍのＴｉおよび３００ｎｍのＡｕ）がウェーハ全体にわたって真空蒸着され、ウェーハがバー（長さ２ｃｍ）に劈開される。反射防止コーティング（２６．８ｎｍのＭｇＦ2）が、導波路の広端部に真空蒸着される。この実施例では、導波路の狭（出力側）端部はコーティングされない。続いて、バーが個別の導波路チップ（幅１５００μｍ）に劈開される。このような導波路において、光学モードの中心は、接合金属の上面から２．１４μｍである。
【００５４】
サブマウントおよび組立工程
サブマウントおよび組立工程は、１つの例外を除き、実施例１と同一である。この実施例では、ＭｇＦ2薄層によって規定されるテーパ型導波路は、赤外線ビデオシステムを有する顕微鏡を用いてＳｉ基板を通して見ることがきわめて困難である。しかし、Ｇｅの位置決めマークが見やすく、導波路の位置は位置決めマークに対して既知であることから、レーザダイオードチップをテーパ型導波路と正確に整列することができる。
【００５５】
本発明は、レーザダイオードチップおよび導波路チップのための材料系の他の組合せも等しく十分に作用するであろう。たとえば、コア層の十分な整列を確実に行うために、総厚に対して最小の調整がなされれば、実施例１のＡｌＧａＡｓ−ＩｎＧａＡｓレーザダイオードチップは、実施例２の酸窒化ケイ素導波路チップと効率的に結合することが可能である。同様に、実施例２のＡｌＧａＩｎＡｓ−ＩｎＰレーザダイオードチップは、適切な厚さの調整を施せば、実施例１のＢｅＺｎＴｅ導波路チップと効率的に結合することが可能である。
【００５６】
本発明のさまざまな修正および変更は、本発明の範囲および精神を逸脱することなく、当業者には明白となるであろう。本発明は本願明細書に記載した例示の実施形態に過度に限定されるべきではないことを理解すべきである。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明によるレーザダイオードチップへのプレーナ型導波路チップのバットカップリングを示している。
【図２】図１の結合された導波路チップおよびレーザダイオードチップの側面図である。
【図３】本発明のテーパ型導波路の屈折率値のモデルを示している。
【図４】本発明のテーパ型導波路内部の算出された光強度のモデルを示している。
【図５】ＩＩ−ＶＩ族化合物半導体導波路の断面を示している。
【図６】酸窒化ケイ素導波路の断面を示している。
【図３】
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【図４】
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【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004531904.tif 000029
【国際調査報告】
2004531904.tif 000030
2004531904.tif 000031
2004531904.tif 000032