(57)【要約】前記ディスプレイ装置用バックライトは、溝状にプリズムパターンが形成されたパターン形成部を下面に有する透明な導光板と、この導光板の少なくとも一側に設置される光源と、導光板の下部に配置される反射板と、を備えるものであって、前記プリズムパターンの溝の深さ及び／または溝の密度は、光源の長手方向に沿って光源の電極に近づくほど高まることを特徴とする。本発明のディスプレイ装置用バックライトによれば、バックライトの輝度不均一現象を改善できる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溝状にプリズムパターンが形成されたパターン形成部を下面に有する透明な導光板と、前記導光板の少なくとも一側に設置される光源と、前記導光板の下部に配置される反射板と、を備えるディスプレイ装置用バックライトにおいて、
前記プリズムパターンの溝の深さは、前記光源の長手方向に沿って前記光源の電極に近づくほど連続的に深まることを特徴とするディスプレイ装置用バックライト。
【請求項２】
前記プリズムパターンの溝の深さは、前記光源から光源の長手方向に直交する方向に遠ざかるほど連続的に深まることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置用バックライト。
【請求項３】
溝状にプリズムパターンが形成されたパターン形成部を下面に有する透明な導光板と、前記導光板の一側に設置される光源と、前記導光板の下部に配置される反射板と、を備えるディスプレイ装置用バックライトにおいて、
前記プリズムパターンの溝の密度は、前記光源の長手方向に沿って前記光源の電極に近づくほど連続的に高まることを特徴とするディスプレイ装置用バックライト。
【請求項４】
前記プリズムパターンの溝の密度は、前記光源から光源の長手方向に直交する方向に遠ざかるほど連続的に高まることを特徴とする請求項３に記載のディスプレイ装置用バックライト。
【請求項５】
溝状にプリズムパターンが形成されたパターン形成部を下面に有する透明な導光板と、前記導光板の一側に設置される光源と、前記導光板の下部に配置される反射板と、を備えるディスプレイ装置用バックライトにおいて、
前記プリズムパターンの溝の深さ及び密度は、前記光源の長手方向に沿って前記光源の電極に近づくほど連続的に高まることを特徴とするディスプレイ装置用バックライト。
【請求項６】
前記プリズムパターンの溝の深さ及び密度は、前記光源から光源の長手方向に直交する方向に遠ざかるほど連続的に高まることを特徴とする請求項５に記載のディスプレイ装置用バックライト。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はディスプレイ装置用バックライトに係り、さらに詳細にはバックライトの輝度不均一現象を解消するために導光板のプリズムパターンを改善したディスプレイ装置用バックライトに関する。
［背景技術］
【０００２】
通常的に、平板表示装置は、発光型と受光型とに分類されるが、発光型としては陰極線管（ＣＲＴ）、電界発光（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ：ＥＬ）素子、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ：ＰＤＰ）があり、受光型としては液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）がある。
【０００３】
受光型表示装置の一例として、前記液晶表示装置は、それ自体が発光して画像を形成できずに外部から光を受けて画像を形成する受光型素子であるので、別途の光源、例えば、バックライトを設置しなければ、表示装置としての役割を行えない。
【０００４】
前記液晶表示装置用バックライトは、光源の設置位置によって直下方式とエッジ方式とに区分されるが、そのうちエッジ方式は、軽量化及び薄型化が必要なディスプレイ装置に適した方式である。しかし、エッジ方式を採用したバックライトでは、光源がバックライトの側部に配置されるので、光源から発生した光を液晶の下部に均一に誘導するための導光板を必要とする。
【０００５】
前記のようなエッジ方式のバックライトにおいて、側部に配置された光源から照射された光のうち一定角度以下の光は、全反射効果によって導光板の表面から内側に反射され、このような過程を通じて導光板に沿って誘導される。一方、導光板の下面にプリズムパターンを形成した場合、光源から照射された光がプリズムパターンの形成部位に到達すれば、光の角度が屈折され、このように屈折された光は外側に散乱されて放射されることもある。したがって、プリズムパターンを適切に配列すれば、一部の光は導光板の端部まで進み、一部の光はプリズムパターン部で屈折されて光の角度が変わりつつ、全反射角度以上の光は、導光板の外部に放射される。
【０００６】
しかし、前述したように、下面にプリズムパターンが形成された導光板を備える従来のバックライトは、次のような問題点を有する。
【０００７】
第一に、光源の端部には電極が配置されるが、このような電極は光を照射しないため、電極に隣接する部位では他の部位に比べてバックライトの輝度が相対的に劣り、光源の長手方向に輝度の不均一現象が発生する。
【０００８】
第二に、バックライトの一般的な輝度特性によれば、光源に近いほどバックライトの輝度が上昇し、光源から遠ざかるほどバックライトの輝度が低下する。このため、光の誘導方向に輝線のような輝度の不均一現象が発生する。
［発明の開示］
【０００９】
本発明は、前記問題点を解決するために創出されたものであって、輝度の不均一現象を解消するために導光板の下面に形成されたプリズムパターンを改善したディスプレイ装置用バックライトを提供するところにその目的がある。
【００１０】
本発明の一側面によるディスプレイ装置用バックライトは、溝状にプリズムパターンが形成されたパターン形成部を下面に有する透明な導光板と、前記導光板の一側に設置される光源と、前記導光板の下部に配置される反射板と、を備えるものであって、前記プリズムパターンの溝の密度は、前記光源の長手方向に沿って前記光源の電極に近づくほど連続的に高まることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の他の側面によれば、溝状にプリズムパターンが形成されたパターン形成部を下面に有する透明な導光板と、前記導光板の一側に設置される光源と、前記導光板の下部に配置される反射板と、を備えるものであって、前記プリズムパターンの溝の密度は、前記光源の長手方向に沿って前記光源の電極に近づくほど連続的に高まることを特徴とするディスプレイ装置用バックライトが提供される。
【００１２】
さらに、本発明のさらに他の側面によれば、溝状にプリズムパターンが形成されたパターン形成部を下面に有する透明な導光板と、前記導光板の一側に設置される光源と、前記導光板の下部に配置される反射板と、を備えるものであって、前記プリズムパターンの溝の深さ及び密度は、前記光源の長手方向に沿って前記光源の電極に近づくほど連続的に高まることを特徴とするディスプレイ装置用バックライトが提供される。
【００１３】
ここで、前記プリズムパターンの溝の深さ及び／または溝の密度は、前記光源から光源の長手方向に直交する方向に遠ざかるほど連続的に高まることが望ましい。
［発明を実施するための最良の形態］
【００１４】
以下、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施例を詳細に説明する。
図１は、本発明の実施例によるバックライトを示す分解斜視図であり、図２は、図１のＩ−Ｉ線による断面図である。
【００１５】
図面を参照すれば、本発明の一実施例によるバックライトは、溝１１１の状態にプリズムパターンが形成されたパターン形成部１１０を下面に有する透明な導光板１００と、この導光板１００の少なくとも一側に設置される光源２００と、前記導光板１００の下部に配置される反射板３００と、を備える。但し、図１では、前記光源２００が導光板１００の両側に設置されたと示したが、前記光源２００は、導光板１００の一側にのみ設置されることもある。ここで、２２０は、光源２００を囲い包むランプハウジングを表す。
【００１６】
一方、図３Ａには、光源の長手方向に沿って一般的なバックライトの輝度特性を概略的に示すグラフが示されている。すなわち、図３Ａは、導光板の下面に形成されたプリズムパターンの溝の深さ及び密度が均一な一般的なバックライトに対する輝度特性を示すグラフである。
【００１７】
図１、図２及び図３Ａを参照すれば、光源２００の電極２１１，２１２では光が照射されないため、前記電極２１１，２１２に隣接する部位Ｓ１，Ｓ２では他の部位に比べて相対的に輝度が劣る。すなわち、前記光源２００の電極２１１，２１２に近づくほどバックライトの輝度が低下し、前記光源２００の長手方向（ｙ方向）に沿って輝度が不均一になる。
【００１８】
前記光源２００の長手方向（ｙ方向）に沿って輝度が不均一な現象を解決するために、本発明の一特徴によれば、前記プリズムパターンの溝１１１の深さは、前記光源２００の長手方向（ｙ方向）に沿って前記光源２００の電極２１１，２１２に近づくほど連続的に深くなる。
【００１９】
したがって、前記光源２００の電極２１１，２１２に隣接する部位Ｓ１，Ｓ２では、他の部位に比べて相対的にパターン形成部１１０によって屈折される光量が多くなる。これにより、全反射角度以上に屈折されて導光板１００の外部に放射される光量も増加する。すなわち、光源２００の長手方向（ｙ方向）に沿って輝度が不均一になる現象を解消しうる。
【００２０】
一方、図３Ｂには、光が誘導される方向によって一般的なバックライトの輝度特性を概略的に示すグラフが示されている。すなわち、図３Ｂは、導光板の下面に形成されたプリズムパターンの溝の深さ及び密度が均一な一般的なバックライトについての輝度特性を示すグラフである。
【００２１】
図１、図２及び図３Ｂを参照すれば、前記光源２００から遠ざかるほどバックライトの輝度は低下する。
【００２２】
光の誘導方向（ｘ方向）に沿って輝度が不均一な現象を解決するために、本発明の他の特徴によれば、前記プリズムパターンの溝１１１の深さは、光源２００から光源の長手方向に直交する方向に遠ざかるほど深くなる。これにより、光の誘導方向（ｘ方向）への輝度の不均一を解消しうる。
【００２３】
以下、本発明の他の実施例を説明する。ここで、前述した本発明の一実施例と同じ内容の反復的な説明は省略する。
【００２４】
本発明の他の実施例によれば、前記プリズムパターンの溝１１１の密度は、前記光源２００の長手方向（ｙ方向）に沿って前記光源２００の電極２１１，２１２に近づくほど連続的に上昇する。
【００２５】
このように、光源２００の電極２１１，２１２に近づくほどプリズムパターンの溝１１１の密度が高まれば、すなわち、プリズムパターンの溝１１１間のピッチが狭まれば、前記光源２００の電極２１１，２１２に隣接する部位Ｓ１，Ｓ２では、他の部位に比べて相対的にパターン形成部１１０によって屈折される光量が多くなる。これにより、全反射角度以上に屈折されて導光板１００の外部に放射される光量も増加して、光源２００の長手方向（ｙ方向）に沿って輝度が不均一になる現象を解消しうる。
【００２６】
また、前記パターン形成部１１０でプリズムパターンの溝１１１の密度は、光源２００から光源の長手方向に直交する方向に遠ざかるほど連続的に高め、光の誘導方向（ｘ方向）への輝度の不均一を解消しうる。
【００２７】
以下、本発明のさらに他の実施例を説明する。ここでも、前述した本発明の実施例と同じ内容の反復的な説明は省略する。
【００２８】
本発明のさらに他の実施例によれば、前記プリズムパターンの溝１１１の深さ及び溝の密度は、前記光源２００の長手方向（ｙ方向）に沿って前記光源２００の電極２１１，２１２に近づくほど連続的に高める。
【００２９】
このように、光源２００の電極２１１，２１２に近づくほどプリズムパターンの溝１１１の深さｄ及び溝の密度が連続的に高まれば、前記光源２００の電極２１１，２１２に隣接する部位Ｓ１，Ｓ２では、他の部位に比べて相対的にパターン形成部１１０によって屈折される光量がさらに多くなる。これにより、全反射角度以上に屈折されて導光板１００の外部に照射される光量もさらに増加して、光源２００の長手方向（ｙ方向）に沿って輝度が不均一になる現象を解消しうる。
【００３０】
また、前記パターン形成部１１０でプリズムパターンの溝１１１の深さｄ及び溝の密度は、光源２００から光源の長手方向に直交する方向に遠ざかるほど連続的に高めて、光の誘導方向（ｘ方向）への輝度不均一を解消しうる。
【００３１】
本発明は、図面に示された実施例を参考して説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施例が可能であることが分かるであろう。したがって、本発明の真の保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されなければならない。
［産業上の利用分野］
【００３２】
本発明のディスプレイ装置用バックライトによれば、次のような効果が得られる。
第一に、光源の長手方向に沿って光源の電極に近づくほどプリズムパターンの溝の深さ及び／または溝の密度を高めることによって、光源の長手方向への輝度不均一現象を解消しうる。
【００３３】
第二に、光源から光源の長手方向に直交する方向に遠ざかるほどプリズムパターンの溝の深さ及び／または溝の密度を高めることによって、光が誘導される方向への輝度不均一現象も解消しうる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】図１は、本発明の実施例によるバックライトを示す分解斜視図である。
【図２】図２は、図１のＩ−Ｉ線による断面図である。
【図３Ａ】図３Ａは、光源の長手方向に沿って一般的なバックライトの輝度特性を概略的に示すグラフである。
【図３Ｂ】図３Ｂは、導光板で光が誘導される方向に沿って一般的なバックライトの輝度特性を概略的に示すグラフである。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【国際調査報告】
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