(57)【要約】本発明は、式（Ｉ）（式中、Ｒはメトキシカルボニル、メチルアミノカルボニルまたは５，６−ジヒドロ−１，４，２−ジオキサジン−３−イルを表し、Ｒ１はアルキルを表し、Ｒ２は水素またはアルキルを表し、Ｈｅｔは場合により置換されているテトラゾリル、１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，３−オキサゾリル、１，３−チアゾリル、ピリジルまたはピリミジルを表す）を有する新規ヘテロシクリルフェニルベンジルエーテルに関する。本発明はまた前記エーテルの製造方法及び有害生物を駆除するためのその使用に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）：
【化１】
2004531551.tif 000037
（式中、
Ｒはメトキシカルボニル、メチルアミノカルボニルまたは５，６−ジヒドロ−１，４，２−ジオキサジン−３−イルを表し、
Ｒ１はアルキルを表し、
Ｒ２水素またはアルキルを表し、
Ｈｅｔは場合により置換されているテトラゾリル、１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，３−オキサゾリル、１，３−チアゾリル、ピリジルまたはピリミジルを表す）
を有する化合物。
【請求項２】
Ｒがメトキシカルボニル、メチルアミノカルボニルまたは５，６−ジヒドロ−１，４，２−ジオキサジン−３−イルを表し、
Ｒ１が１〜４個の炭素原子を有するアルキルを表し、
Ｒ２が水素または１〜４個の炭素原子を有するアルキルを表し、
Ｈｅｔが場合により１〜４個の炭素原子を有するアルキル、１〜４個の炭素原子及び１〜９個のハロゲン原子を有するハロアルキル、２〜４個の炭素原子を有するアルケニルまたは２〜４個の炭素原子を有するアルキニルで置換されているテトラゾリル；場合により１〜４個の炭素原子を有するアルキル、１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ、１〜４個の炭素原子及び１〜９個のハロゲン原子を有するハロアルキル、２〜４個の炭素原子を有するアルケニルまたは２〜４個の炭素原子を有するアルキニルで置換されている１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，３−オキサゾリルまたは１，３−チアゾリル；或いは場合によりハロゲン、１〜４個の炭素原子を有するアルキル、１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ、１〜４個の炭素原子及び１〜９個のハロゲン原子を有するハロアルキル、２〜４個の炭素原子を有するアルケニルまたは２〜４個の炭素原子を有するアルキニルで置換されているピリジルまたはピリミジルを表す、
一般式（Ｉ）を有する請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒがメトキシカルボニル、メチルアミノカルボニルまたは５，６−ジヒドロ−１，４，２−ジオキサジン−３−イルを表し、
Ｒ１がメチルを表し、
Ｒ２が水素またはメチルを表し、
Ｈｅｔが場合によりメチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−，ｉ−，ｓ−またはｔ−ブチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、アリルまたはプロパルギルで置換されているテトラゾリル；場合によりメチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−，ｉ−，ｓ−またはｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、アリルまたはプロパルギルで置換されている１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，３−オキサゾリルまたは１，３−チアゾリル；或いは場合によりフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−，ｉ−，ｓ−またはｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、アリルまたはプロパルギルハロゲンで置換されているピリジルまたはピリミジルを表す、
一般式（Ｉ）を有する請求の範囲第１項に記載の化合物。
【請求項４】
一般式（ＩＩＩ）：
【化２】
2004531551.tif 000038
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＨｅｔは請求の範囲第１項に定義している通りである）
を有する化合物。
【請求項５】
一般式（ＩＶ）：
【化３】
2004531551.tif 000039
（式中、Ｒ、Ｒ１及びＲ２は請求の範囲第１項に定義している通りである）
を有する化合物。
【請求項６】
一般式（Ｖ）：
【化４】
2004531551.tif 000040
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＨｅｔは請求の範囲第１項に定義している通りであり、Ｒ３はアルキルまたは場合により置換されているベンジルを表す）
を有する化合物。
【請求項７】
ａ）式（ＩＩ）：
【化５】
2004531551.tif 000041
（式中、Ｒは請求の範囲第１項に定義している通りであり、Ｘはハロゲンを表す）
を有する化合物を適当ならば希釈剤の存在下、適当ならば酸受容体の存在下で式（ＩＩＩ）：
【化６】
2004531551.tif 000042
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＨｅｔは上記と同義である）
を有する置換フェノールと反応させること；または
ｂ）式（Ｉ）（式中、Ｒはメトキシカルボニルである）を有する化合物を適当ならば希釈剤の存在下でメチルアミンと反応させること；または
ｃ）一般式（ＩＶ）：
【化７】
2004531551.tif 000043
（式中、Ｒ、Ｒ１及びＲ２は上記と同義である）
を有する化合物を適当ならば希釈剤の存在下でアルカリ金属アジドと反応させること；または
ｄ）式（Ｉ）（式中、Ｈｅｔはテトラゾリルである）を有するヘテロシクリルフェニルベンジルエーテルを適当ならば希釈剤の存在下、適当ならば酸受容体の存在下でアルキル化剤（例えば、ヨードメタン、硫酸ジメチルまたはブロモエタン）と反応させること；
を含む請求の範囲第１項に記載の一般式（Ｉ）を有する化合物の製造方法。
【請求項８】
請求の範囲第１項〜第３項のいずれかに記載の化合物の少なくとも１つを増量剤及び／または担体と共に、場合により界面活性剤と共に含む有害生物駆除用組成物。
【請求項９】
請求の範囲第１項〜第３項のいずれかに記載の化合物または請求の範囲第８項に記載の組成物を有害生物及び／またはその生育地に作用させる有害生物の駆除方法。
【請求項１０】
請求の範囲第１項〜第３項のいずれかに記載の化合物または請求の範囲第８項に記載の組成物の有害生物を駆除するための使用。
【請求項１１】
請求の範囲第１項〜第３項のいずれかに記載の化合物を増量剤及び／または担体及び／または界面活性剤と共に使用する請求の範囲第８項に記載の組成物の調製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なヘテロシクリルフェニルベンジルエーテル、その製造方法及び有害生物を駆除するためのその使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
類似の置換パターンを有する化合物及びその殺菌作用は既に公知である（例えば、国際特許出願公開第９５／０４７２８号パンフレット、同第９９／４６２４６号パンフレット、同第９７／１４６９３号パンフレット及び同第００／５３５８５号パンフレット参照）。しかしながら、これらの従来化合物の活性は、特に施用量及び濃度が低いときにはいずれの使用領域でも満足できるものではない。
【発明の開示】
【０００３】
本発明は、一般式（Ｉ）：
【０００４】
【化１】
2004531551.tif 000002
（式中、
Ｒはメトキシカルボニル、メチルアミノカルボニルまたは５，６−ジヒドロ−１，４，２−ジオキサジン−３−イルを表し、
Ｒ１はアルキルを表し、
Ｒ２は水素またはアルキルを表し、
Ｈｅｔは場合により置換されているテトラゾリル、１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，３−オキサゾリル、１，３−チアゾリル、ピリジルまたはピリミジルを表す）
を有する新規なヘテロシクリルフェニルベンジルエーテルを提供する。
【０００５】
式中の記号を定義するために、通常下記置換基を表す総称用語を使用する。
ハロゲン：フッ素、塩素、臭素及びヨウ素、特にフッ素または塩基；
アルキル：特記しない限り飽和の直鎖もしくは分枝鎖炭化水素鎖、好ましくは１〜６個の炭素原子を有する炭化水素鎖、例えばメチル、エチル、プロピル、１−メチルエチル、ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ヘキシル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピル及び１−エチル−２−メチルプロピル；
ハロアルキル：水素原子の一部または全部が上記したハロゲン原子で置換されている１〜４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝鎖アルキル基、例えばクロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロフルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、１−フルオロエチル、２−フルオロエチル、２，２−ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２−クロロ−２−フルオロエチル、２−クロロ−２，２−ジフルオロエチル、２，２−ジクロロ−２−フルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル及びペンタフルオロエチルのようなＣ１−２ハロアルキル；
アルコキシ：酸素原子（−Ｏ−）を介して骨格に結合している（上記した）１〜４または１０個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝鎖アルキル基；
アルケニル：２〜１０個の炭素原子及び任意の位置に二重結合を有する不飽和の直鎖もしくは分枝鎖炭化水素基、例えばエテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチルエテニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−１−ブテニル、２−メチル−１−ブテニル、３−メチル−１−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、３−メチル−３−ブテニル、１，１−ジメチル−２−プロペニル、１，２−ジメチル−１−プロペニル、１，２−ジメチル−２−プロペニル、１−エチル−１−プロペニル、１−エチル−２−プロペニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、１−メチル−１−ペンテニル、２−メチル−１−ペンテニル、３−メチル−１−ペンテニル、４−メチル−１−ペンテニル、１−メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−メチル−２−ペンテニル、４−メチル−２−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、３−メチル−３−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、３−メチル−４−ペンテニル、４−メチル−４−ペンテニル、１，１−ジメチル−２−ブテニル、１，１−ジメチル−３−ブテニル、１，２−ジメチル−１−ブテニル、１，２−ジメチル−２−ブテニル、１，２−ジメチル−３−ブテニル、１，３−ジメチル−１−ブテニル、１，３−ジメチル−２−ブテニル、１，３−ジメチル−３−ブテニル、２，２−ジメチル−３−ブテニル、２，３−ジメチル−１−ブテニル、２，３−ジメチル−３−ブテニル、３，３−ジメチル−１−ブテニル、３，３−ジメチル−２−ブテニル、１−エチル−１−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、２−エチル−１−ブテニル、２−エチル−２−ブテニル、２−エチル−３−ブテニル、１，１，２−トリメチル−２−プロペニル、１−エチル−１−メチル−２−プロペニル、１−エチル−２−メチル−１−プロペニル及び１−エチル−２−メチル−２−プロペニルのようなＣ２−６アルケニル；
アルキニル：２〜１０個の炭素原子及び任意の位置に三重結合を有する直鎖もしくは分枝鎖炭化水素基、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−メチル−２−プロピニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−メチル−２−ブチニル、１−メチル−３−ブチニル、２−メチル−３−ブチニル、３−メチル−１−ブチニル、１，１−ジメチル−２−プロピニル、１−エチル−２−プロピニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニル、１−メチル−２−ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニル、１−メチル−４−ペンチニル、２−メチル−３−ペンチニル、２−メチル−４−ペンチニル、３−メチル−１−ペンチニル、３−メチル−４−ペンチニル、４−メチル−１−ペンチニル、４−メチル−２−ペンチニル、１，１−ジメチル−２−ブチニル、１，１−ジメチル−３−ブチニル、１，２−ジメチル−３−ブチニル、２，２−ジメチル−３−ブチニル、３，３−ジメチル−１−ブチニル、１−エチル−２−ブチニル、１−エチル−３−ブチニル、２−エチル−３−ブチニル及び１−エチル−１−メチル−２−プロピニルのようなＣ２−６アルキニル。
【０００６】
更に、一般式（Ｉ）を有する新規なヘテロシクリルフェニルベンジルエーテルは、
ａ）式（ＩＩ）：
【０００７】
【化２】
2004531551.tif 000003
（式中、Ｒは上記と同義であり、Ｘはハロゲンを表す）
を有するハロゲン化ベンジルを適当ならば希釈剤の存在下、適当ならば酸受容体の存在下で式（ＩＩＩ）：
【０００８】
【化３】
2004531551.tif 000004
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＨｅｔは上記と同義である）
を有する置換フェノールと反応させることにより；または
ｂ）式（Ｉ）（式中、Ｒはメトキシカルボニルである）を有するヘテロシクリルフェニルベンジルエーテルを適当ならば希釈剤の存在下でメチルアミンと反応させることにより；または
ｃ）一般式（ＩＶ）：
【０００９】
【化４】
2004531551.tif 000005
（式中、Ｒ、Ｒ１及びＲ２は上記と同義である）
を有するベンジルオキシフェニルニトリルを適当ならば希釈剤の存在下でアルカリ金属アジドと反応させることにより；または
ｄ）式（Ｉ）（式中、Ｈｅｔはテトラゾリルである）を有するヘテロシクリルフェニルベンジルエーテルを適当ならば希釈剤の存在下、適当ならば酸受容体の存在下でアルキル化剤（例えば、ヨードメタン、硫酸ジメチルまたはブロモエタン）と反応させることにより；
得られることを知見した。
【００１０】
最後に、一般式（Ｉ）を有する新規なヘテロシクリルフェニルベンジルエーテルは有害生物に対して特に活性であり、特に顕著な殺菌作用を有することを知見した。有害生物とは特に微生物及び動物病害生物を指すと理解されたい。
【００１１】
適当ならば、本発明の化合物は各種異性体形態、特にＥ及びＺのような立体異性体の混合物として存在し得る。Ｅ及びＺ異性体もその異性体の混合物も本発明に包含される。
【００１２】
好ましくは、Ｒはメトキシカルボニル、メチルアミノカルボニルまたは５，６−ジヒドロ−１，４，２−ジオキサジン−３−イルを表す。
【００１３】
好ましくは、Ｒ１は１〜４個の炭素原子を有するアルキルを表す。
【００１４】
好ましくは、Ｒ２は水素または１〜４個の炭素原子を有するアルキルを表す。
【００１５】
好ましくは、Ｈｅｔは場合により１〜４個の炭素原子を有するアルキル、１〜４個の炭素原子及び１〜９個のハロゲン原子を有するハロアルキル、２〜４個の炭素原子を有するアルケニルまたは２〜４個の炭素原子を有するアルキニルで置換されているテトラゾリルを表す。
【００１６】
好ましくは、Ｈｅｔは場合により１〜４個の炭素原子を有するアルキル、１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ、１〜４個の炭素原子及び１〜９個のハロゲン原子を有するハロアルキル、２〜４個の炭素原子を有するアルケニルまたは２〜４個の炭素原子を有するアルキニルで置換されている１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，３−オキサゾリルまたは１，３−チアゾリルをも表す。
【００１７】
好ましくは、Ｈｅｔは場合によりハロゲン、１〜４個の炭素原子を有するアルキル、１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ、１〜４個の炭素原子及び１〜９個のハロゲン原子を有するハロアルキル、２〜４個の炭素原子を有するアルケニルまたは２〜４個の炭素原子を有するアルキニルで置換されているピリジルまたはピリミジルをも表す。
【００１８】
特に好ましくは、Ｒはメトキシカルボニル、メチルアミノカルボニルまたは５，６−ジヒドロ−１，４，２−ジオキサジン−３−イルを表す。
【００１９】
特に好ましくは、Ｒ１はメチルを表す。
【００２０】
特に好ましくは、Ｒ２は水素またはメチルを表す。
【００２１】
特に好ましくは、Ｈｅｔは場合によりメチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−またはｔ−ブチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、アリルまたはプロパルギルで置換されているテトラゾリルを表す。
【００２２】
特に好ましくは、Ｈｅｔは場合によりメチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−またはｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、アリルまたはプロパルギルで置換されている１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，３−オキサゾリルまたは１，３−チアゾリルをも表す。
【００２３】
特に好ましくは、Ｈｅｔは場合によりフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−またはｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、アリルまたはプロパルギルで置換されているピリジルまたはピリミジルをも表す。
【００２４】
基の上記した一般的定義または好ましい定義は式（Ｉ）を有する最終生成物にも、それぞれの製造に必要な出発物質または中間体にも適用される。
【００２５】
上記した基についてのそれぞれの組合せ及び好ましい組合せで記載されている定義はそれぞれ独立しており、基の他の好ましい範囲の定義で置換される。
【００２６】
式（ＩＩ）は、本発明の方法ａ）を実施するための出発物質として必要なベンジルハライドの一般定義である。この式（ＩＩ）中、好ましいまたは特に好ましいＲは本発明の式（Ｉ）を有する化合物の記載に関連して好ましいまたは特に好ましいＲとして上記した意味を有する。Ｘはハロゲン、好ましくは塩素または臭素である。
【００２７】
式（ＩＩ）を有する出発物質は公知であり、公知方法（例えば、国際特許出願公開第９９／４６２６３号パンフレット、同第９９／１９３１１号パンフレット、同第９８／１７６５３号パンフレット、同第９７／２１６８６号パンフレット、同第９６／０７６３５号パンフレット及び欧州特許出願公開第２５４４２６号明細書参照）により製造され得る。
【００２８】
式（ＩＩＩ）は、本発明の方法ａ）を実施するための別の出発物質として必要な置換フェノールの一般定義である。この式（ＩＩＩ）中、好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＨｅｔは本発明の式（Ｉ）を有する化合物の記載に関連して好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＨｅｔとして上記した意味を有する。
【００２９】
式（ＩＩＩ）を有する出発物質は新規であり、本発明の主題の一部をなす。
【００３０】
式（ＩＩＩ）を有する化合物は、
ｅ）一般式（Ｖ）：
【００３１】
【化５】
2004531551.tif 000006
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＨｅｔは上記と同義であり、Ｒ３はアルキルまたは場合により置換されているベンジルを表す）
を有するアルキルフェノールをルイス酸（例えば、三臭化ホウ素）の存在下、適当ならば希釈剤（例えば、ジクロロメタン）の存在下で反応させることにより得られる。
【００３２】
式（Ｖ）は、本発明の方法ｅ）を実施するための出発物質として必要なアルコキシフェノールの一般定義である。この式（Ｖ）中、好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＨｅｔは本発明の式（Ｉ）を有する化合物の記載に関連して好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＨｅｔとして上記した意味を有する。Ｒ３はアルキルまたは場合により置換されているベンジル、好ましくはメチル、エチル、ベンジルまたはクロロベンジルを表す。
【００３３】
式（Ｖ）を有する出発物質は新規であり、本発明の主題の一部をなす。
【００３４】
式（Ｖ）を有する化合物は、
ｆ）式（ＶＩ）：
【００３５】
【化６】
2004531551.tif 000007
（式中、Ｒ１、Ｒ２は上記と同義であり、Ｒ４は水素またはアルキルを表す）
を有するベンゾニトリルを適当ならば希釈剤（例えば、ジメチルホルムアミド）、適当ならば別の反応助剤の存在下でアルカリ金属アジド（例えば、ナトリウムアジド）と反応させることにより；または
ｇ）式（ＶＩＩ）：
【００３６】
【化７】
2004531551.tif 000008
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記と同義である）
を有するアミドキシムを適当ならば希釈剤の存在下で式（ＶＩＩＩ）：
Ｒ４−Ｃ（ＯＲ５）３          （ＶＩＩＩ）
（式中、Ｒ４はアルキルを表し、Ｒ５はアルキルを表す）
を有するオルトエステルと反応させることにより；
ｈ）式（ＩＸ）：
【００３７】
【化８】
2004531551.tif 000009
（式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は上記と同義である）
を有するボロン酸を適当ならば希釈剤（例えば、ジメトキシエタン）の存在下、適当ならば触媒、好ましくはパラジウム錯体（例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０））の存在下、適当ならば酸受容体（例えば、炭酸ナトリウム水溶液）の存在下で式（Ｘ）：
Ｈｅｔ−Ｙ          （Ｘ）
（式中、Ｈｅｔは上記と同義であり、Ｙはハロゲンを表す）
を有するハロヘテロ環と反応させることにより；
ｉ）一般式（Ｖ）（式中、Ｈｅｔはテトラゾリルである）を有するアルコキシフェノールを適当ならば希釈剤（例えば、アセトニトリル）の存在下、適当ならば酸受容体（例えば、炭酸カリウム）の存在下でアルキル化剤（例えば、ヨードメタン、硫酸ジメチルまたはブロモエタン）と反応させることにより；
得られる。
【００３８】
好ましくは、Ｒ４及びＲ５はＣ１−４アルキルを表す。
【００３９】
特に好ましくは、Ｒ４及びＲ５はメチルまたはエチルを表す。
【００４０】
式（ＶＩ）は、本発明の方法ｆ）を実施するための出発物質として必要なベンゾニトリルの一般定義である。この式（ＶＩ）中、好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＲ３は本発明の式（Ｖ）を有する化合物の記載に関連して好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＲ３として上記した意味を有する。
【００４１】
式（ＶＩ）を有する出発物質は公知であり、公知方法（例えば、米国特許第５，４６４，８４８号明細書参照）により製造され得る。
【００４２】
本発明の方法ｆ）を実施するための出発物質として必要なアルカリ金属アジドは合成のために市販されている化学物質である。
【００４３】
式（ＶＩＩ）は、本発明の方法ｇ）を実施するための出発物質として必要なアミドキシムの一般定義である。この式（ＶＩＩ）中、好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＲ３は本発明の式（Ｖ）を有する化合物の記載に関連して好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＲ３として上記した意味を有する。
【００４４】
式（ＶＩＩ）の化合物は、方法ｆ）に関連して上記した式（ＶＩ）を有するアルコキシベンゾニトリルを適当ならば希釈剤の存在下でヒドロキシルアミンまたはその酸付加複合体と反応させる（方法ｊ）ことにより得られる。
【００４５】
ヒドロキシルアミンまたはその塩は合成のために市販されている化学物質である。
【００４６】
式（ＶＩＩＩ）は、本発明の方法ｇ）を実施するための別の出発物質として必要なオルトエステルの一般定義である。この式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ４はアルキル、好ましくはメチルまたはエチルを表し、Ｒ５はアルキル、好ましくはメチルまたはエチルを表す。
【００４７】
式（ＶＩＩＩ）を有するオルトエステルは合成のために市販されている化学物質である。
【００４８】
式（ＩＸ）は、本発明の方法ｈ）を実施するための出発物質として必要なボロン酸の一般定義である。この式（ＩＸ）中、好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＲ３は本発明の式（Ｖ）を有する化合物の記載に関連して好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＲ３として上記した意味を有する。
【００４９】
式（ＩＸ）を有するボロン酸は公知であり、公知方法（例えば、国際特許出願公開第９６／１６９３４号パンフレットまたは国際特許出願公開第９９／５１５６８号パンフレット）により製造され得る。
【００５０】
本発明の方法ｈ）を実施するための別の出発物質として必要なハロヘテロ環の一般定義である。この式（Ｘ）中、Ｙはハロゲン、好ましくは塩素または臭素を表す。
【００５１】
式（Ｘ）を有するハロヘテロ環は公知であり、公知方法（例えば、ドイツ国特許出願公開第３２２８１４７号明細書参照）により製造され得る。
【００５２】
本発明の方法ｉ）を実施するための出発物質として必要な一般式（Ｖ）（式中、Ｈｅｔはテトラゾリルである）を有するアルコキシフェノールは方法ｆ）に従って製造され得る。
【００５３】
本発明の方法ｉ）を実施するための別の出発物質として必要なアルキル化剤（例えば、ヨードメタン、硫酸ジメチルまたはブロモエタン）は合成のために市販されている化学物質である。
【００５４】
本発明の方法ｂ）を実施するための出発物質として必要な一般式（Ｉ）（式中、Ｒはメトキシカルボニルである）を有するヘテロシクリルフェニルベンジルエーテルは本発明の化合物であり、方法ａ）、ｃ）またはｄ）に従って製造され得る。
【００５５】
本発明の方法ｂ）を実施するための出発物質として必要なメチルアミンは合成のために市販されている化学物質である。
【００５６】
式（ＩＶ）は、本発明の方法ｃ）を実施するための出発物質として必要なベンジルオキシフェニルニトリルの一般定義である。この式（ＩＶ）中、好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＲ３は本発明の式（Ｉ）を有する化合物の記載に関連して好ましいまたは特に好ましいＲ１、Ｒ２及びＲ３として上記した意味を有する。
【００５７】
一般式（ＩＶ）を有するベンジルオキシフェニルニトリルは今まで開示されておらず、新規物質として本発明の主題の一部をなす。
【００５８】
このベンジルオキシフェニルニトリルは、式（ＸＩ）：
【００５９】
【化９】
2004531551.tif 000010
（式中、Ｒ１及びＲ２は上記と同義である）
を有するヒドロキシベンゾニトリルを適当ならば希釈剤（例えば、アセトニトリル）の存在下、適当ならば酸受容体（例えば、炭酸カリウム）の存在下で方法ａ）に関連して上記した式（ＩＩＩ）を有するハロゲン化ベンジルと反応させる（方法ｋ）ことにより得ることができる。
【００６０】
式（ＸＩ）は、本発明の方法ｋ）を実施するための出発物質として必要なヒドロキシベンゾニトリルの一般定義である。この式（ＸＩ）中、好ましいまたは特に好ましいＲ１及びＲ２は本発明の式（Ｉ）を有する化合物の記載に関連して好ましいまたは特に好ましいＲ１及びＲ２として上記した意味を有する。
【００６１】
式（ＩＸ）を有する出発物質は公知であり、公知方法（例えば、米国特許第５，４６４，８４８号明細書参照）により製造され得る。
【００６２】
本発明の方法ｄ）を実施するための出発物質として必要な式（Ｉ）（式中、Ｈｅｔはテトラゾリルである）を有するヘテロシクリルフェニルベンジルエーテルは本発明の化合物であり、方法ａ）またはｃ）により得ることができる。
【００６３】
本発明の方法ｄ）を実施するための別の出発物質として必要なアルキル化剤（例えば、ヨードメタン、硫酸ジメチルまたはブロモエーテル）は合成のために市販されている化学物質である。
【００６４】
本発明の方法ａ）及びｄ）を実施するために適当な希釈剤はいずれも不活性有機溶媒である。好ましくは、この溶媒には脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素類、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン；ハロゲン化炭化水素類、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンまたはトリクロロエタン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、メチルｔ−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタンまたはアニソール；ケトン類、例えばアセトン、ブタノン、メチルイソブチルケトンまたはシクロヘキサノン；ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ｎ−またはｉ−ブチロニトリルまたはベンゾニトリル；アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドンまたはヘキサメチルリン酸トリアミド；エステル類、例えば酢酸メチルまたは酢酸エチル；スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；スルホン類、例えばスルホラン；アルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−またはｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔｅｒｔ−ブタノール、エタンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル；その水との混合物；または純水が含まれる。
【００６５】
適当ならば、方法ａ）及びｄ）は好適な酸受容体の存在下で実施する。好適な酸受容体はすべて慣用されている無機または有機の塩基である。好ましくは、この酸受容体にはアルカリ土類金属またはアルカリ金属の水素化物、水酸化物、アミド、アルコキシド、炭酸塩または重炭酸塩、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、ナトリアムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウムまたは重炭酸ナトリウム；及び第３級アミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）またはジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）が含まれる。
【００６６】
本発明の方法ａ）及びｄ）を実施するとき、反応温度は比較的広範囲で変更可能である。通常、前記方法は０〜１５０℃、好ましくは２０〜８０℃の温度で実施する。
【００６７】
式（Ｉ）を有する化合物を製造するために本発明の方法ａ）を実施するとき、式（ＩＩ）を有するベンジルハライド１モルあたり通常０．２〜５モル、好ましくは０．５〜２モルの式（ＩＩＩ）を有する置換フェノールを使用する。
【００６８】
式（Ｉ）を有する化合物を製造するために本発明の方法ｄ）を実施するとき、式（Ｉ）（式中、Ｈｅｔはテトラゾリルである）を有するヘテロシクリルフェニルベンジルエーテル１モルあたり通常０．２〜５モル、好ましくは０．５〜２モルのアルキル化剤を使用する。
【００６９】
本発明の方法ｂ）を実施するために好適な希釈剤はすべて不活性有機溶媒である。好ましくは、この溶媒には脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素類、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン；ハロゲン化炭化水素類、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンまたはトリクロロエタン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、メチルｔ−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタンまたはアニソール；ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ｎ−またはｉ−ブチロニトリルまたはベンゾニトリル；アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドンまたはヘキサメチルリン酸トリアミド；エステル類、例えば酢酸メチルまたは酢酸エチル；スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；スルホン類、例えばスルホラン；アルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−またはｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔｅｒｔ−ブタノール、エタンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル；その水との混合物；または純水が含まれる。
【００７０】
本発明の方法ｂ）を実施するとき、反応温度は比較的広範囲で変更可能である。通常、前記方法は−２０〜１２０℃、好ましくは０〜８０℃の温度で実施する。
【００７１】
式（Ｉ）を有する化合物を製造するために本発明の方法ｂ）を実施するとき、式（Ｉ）を有するヘテロシクリルフェニルベンジルエーテル１モルあたり通常１〜１．５モル、好ましくは１．１〜１．３モルのメチルアミンを使用する。
【００７２】
本発明の方法ｃ）を実施するために好適な希釈剤はすべて不活性極性有機溶媒である。好ましくは、この溶媒にはニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ｎ−またはｉ−ブチロニトリルまたはベンゾニトリル；アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドンまたはヘキサメチルリン酸トリアミド；スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；またはスルホン類、例えばスルホランが含まれる。
【００７３】
本発明の方法ｃ）を実施するとき、反応温度は比較的広範囲で変更可能である。通常、前記方法は２０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃の温度で実施する。
【００７４】
式（Ｉ）を有する化合物を製造するために本発明の方法ｃ）を実施するとき、式（ＩＶ）を有する化合物１モルあたり通常１〜１０モル、好ましくは１〜５モルのアジドを使用する。
【００７５】
本発明の方法ｅ）を実施するために好適な希釈剤はハロゲン化炭化水素類、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンまたはトリクロロエタンである。
【００７６】
本発明の方法ｅ）を実施するとき、反応温度は比較的広範囲で変更可能である。通常、前記方法は−５０〜５０℃、好ましくは−２０〜２５℃の温度で実施する。
【００７７】
式（ＩＩＩ）を有する化合物を製造するために本発明の方法ｅ）を実施するとき、式（Ｖ）を有する化合物１モルあたり通常０．４〜２モル、好ましくは０．５〜１．５モルのルイス酸を使用する。
【００７８】
本発明の方法ｅ）を実施するために特に好ましいルイス酸は三臭化ホウ素である。
【００７９】
本発明の方法ｆ）を実施するために好適な希釈剤はすべて不活性有機溶媒である。好ましくは、この溶媒には脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素類、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン；ハロゲン化炭化水素類、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンまたはトリクロロエタン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、メチルｔ−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタンまたはアニソール；ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ｎ−またはｉ−ブチロニトリルまたはベンゾニトリル；アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドンまたはヘキサメチルリン酸トリアミド；エステル類、例えば酢酸メチルまたは酢酸エチル；スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；スルホン類、例えばスルホラン；アルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−またはｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔｅｒｔ−ブタノール、エタンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル；その水との混合物；または純水が含まれる。
【００８０】
本発明の方法ｆ）を実施するとき、反応温度は比較的広範囲で変更可能である。通常、前記方法は５０〜１５０℃、好ましくは８０〜１２０℃の温度で実施する。
【００８１】
式（Ｖ）を有する化合物を製造するために本発明の方法ｆ）を実施するとき、式（ＶＩ）を有する化合物１モルあたり通常１〜３モル、好ましくは１．５〜２モルのアルカリ金属アジドを使用する。
【００８２】
式（Ｖ）を有する化合物を製造するために本発明の方法ｆ）を実施するとき、式（ＶＩ）を有する化合物１モルあたり通常１〜３モル、好ましくは１．５〜２モルの反応助剤を使用する。
【００８３】
本発明の方法ｆ）を実施するために好適な反応助剤は特にアンモニウム塩、好ましくはトリアルキルアンモニウム塩、特に好ましくは塩化トリエチルアンモニウムまたは塩化アンモニウムである。
【００８４】
本発明の方法ｇ）を実施するために好ましい希釈剤は式（ＶＩＩＩ）を有するオルトエステルである。
【００８５】
本発明の方法ｇ）を実施するとき、反応温度は比較的広範囲で変更可能である。通常、前記方法は８０〜１６０℃、好ましくは９０〜１５０℃の温度で実施する。
【００８６】
本発明の方法ｈ）を実施するために好適な希釈剤はすべて不活性有機溶媒である。好ましくは、この溶媒には脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素類、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン；ハロゲン化炭化水素類、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンまたはトリクロロエタン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、メチルｔ−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタンまたはアニソール；ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ｎ−またはｉ−ブチロニトリルまたはベンゾニトリル；アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドンまたはヘキサメチルリン酸トリアミド；エステル類、例えば酢酸メチルまたは酢酸エチル；スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；スルホン類、例えばスルホラン；アルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−またはｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔｅｒｔ−ブタノール、エタンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル；その水との混合物；または純水が含まれる。
【００８７】
本発明の方法ｈ）を実施するとき、反応温度は比較的広範囲で変更可能である。通常、前記方法は０〜１２０℃、好ましくは２０〜１００℃の温度で実施する。
【００８８】
式（Ｖ）を有する化合物を製造するために本発明の方法ｈ）を実施するとき、式（ＩＸ）を有する化合物１モルあたり通常０．９〜１．２モル、好ましくは１．０〜１．１モルの式（Ｘ）を有する化合物を使用する。
【００８９】
本発明の方法ｈ）において触媒として使用するのに好適なパラジウム化合物は、例えばビス（ジベンザルアセトン）パラジウム、酢酸パラジウム、二塩化パラジウム、二臭化パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、パラジウムジホスフィンハライド錯体及びパラジウムジホスフィンアセテート錯体（例えば、パラジウム（トリフェニルホスフィン）アセテート）である。テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムが好ましい。
【００９０】
適当ならば、本発明の方法ｈ）は好適な酸受容体の存在下で実施する。好適な酸受容体はすべて慣用されている無機または有機の塩基である。好ましくは、この酸受容体にはアルカリ土類金属またはアルカリ金属の水素化物、水酸化物、アミド、アルコキシド、酢酸塩、炭酸塩または重炭酸塩、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、重炭酸ナトリウムまたは炭酸アンモニウム；及び第３級アミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）またはジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）が含まれる。本発明の方法ｈ）を実施するために好ましい酸受容体は炭酸ナトリウムである。
【００９１】
本発明の方法ｉ）を実施するために好適な希釈剤はすべて不活性有機溶媒である。好ましくは、この溶媒には脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素類、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン；ハロゲン化炭化水素類、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンまたはトリクロロエタン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、メチルｔ−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタンまたはアニソール；ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ｎ−またはｉ−ブチロニトリルまたはベンゾニトリル；アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドンまたはヘキサメチルリン酸トリアミド；エステル類、例えば酢酸メチルまたは酢酸エチル；スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；スルホン類、例えばスルホラン；アルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−またはｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔｅｒｔ−ブタノール、エタンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル；その水との混合物；または純水が含まれる。
【００９２】
本発明の方法ｉ）を実施するとき、反応温度は比較的広範囲で変更可能である。通常、前記方法は０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度で実施する。
【００９３】
式（Ｖ）を有する化合物を製造するために本発明の方法ｉ）を実施するとき、式（Ｖ）（式中、Ｈｅｔはテトラゾリルである）を有する化合物１モルあたり通常０．９〜１．５モル、好ましくは１〜１．１モルのアルキル化剤を使用する。
【００９４】
適当ならば、本発明の方法ｉ）は好適な酸受容体の存在下で実施する。好適な酸受容体はすべて慣用されている無機または有機の塩基である。好ましくは、この酸受容体にはアルカリ土類金属またはアルカリ金属の水素化物、水酸化物、アミド、アルコキシド、炭酸塩または重炭酸塩、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウムまたは重炭酸ナトリウム；及び第３級アミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）またはジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）が含まれる。
【００９５】
本発明の方法ｊ）を実施するために好適な希釈剤はアルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−またはｉ−イソプロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔｅｒｔ−ブタノール、エタンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、その水との混合物または純水である。エタノールが好ましい。
【００９６】
本発明の方法ｊ）を実施するとき、反応温度は比較的広範囲で変更可能である。通常、前記方法は０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度で実施する。
【００９７】
式（ＶＩＩ）を有する化合物を製造するために本発明の方法ｊ）を実施するとき、式（ＶＩ）を有する化合物１モルあたり通常１〜２モル、好ましくは１〜１．１モルのヒドロキシルアミンまたはその酸付加複合体を使用する。
【００９８】
本発明の方法ｋ）を実施するために好適な希釈剤はすべて不活性有機溶媒である。好ましくは、この溶媒には脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素類、例えば石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン；ハロゲン化炭化水素類、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンまたはトリクロロエタン；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、メチルｔ−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタンまたはアニソール；ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ｎ−またはｉ−ブチロニトリルまたはベンゾニトリル；アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドンまたはヘキサメチルリン酸トリアミド；エステル、例えば酢酸メチルまたは酢酸エチル；スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシド；スルホン類、例えばスルホラン；アルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−またはｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔｅｒｔ−ブタノール、エタンジオール、プロパン−１，２−ジオール、エトキシエタノール、メトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル；その水との混合物；または純水が含まれる。
【００９９】
本発明の方法ｋ）を実施するとき、反応温度は比較的広範囲で変更可能である。通常、前記方法は０〜１００℃、好ましくは２０〜８０℃の温度で実施する。
【０１００】
式（ＩＶ）を有する化合物を製造するために本発明の方法ｋ）を実施するとき、式（ＸＩ）を有する化合物１モルあたり通常１．１〜１．３モル、好ましくは１．０〜１．１モルの式（ＩＩ）を有する化合物を使用する。
【０１０１】
本発明の方法は通常大気圧下で実施する。しかしながら、高圧または減圧下、通常０．１〜１０バールの圧力で実施することも可能である。
【０１０２】
反応の実施、後処理及び反応生成物の単離は通常の方法（製造例も参照）により実施される。
【０１０３】
下記実施例は本発明を例示するもので、これらの実施例により本発明は限定されない。
【０１０４】
本発明の化合物は高い殺微生物活性を有し、作物及び材料を保護する際に望ましくない微生物（例えば、真菌及び細菌）を防除するために使用され得る。
【０１０５】
殺真菌剤は、作物を保護する際にネコブカビ類、卵菌類、ツボカビ類、接合菌類、子嚢菌類、担子菌類及び不完全菌類を防除するために使用され得る。
【０１０６】
殺菌剤は、作物を保護する際にシュードモナス科、リゾビウム科、腸内細菌科、コリネバクテリウム科及びストレプトマイセス科を防除するために使用され得る。
【０１０７】
上記した属名に入る真菌及び細菌病を引き起こす幾つかの病原菌を例として挙げ得るが、これらに限定されない：
ザントモナス種、例えばＸａｎｔｈｏｍｏｎａｓ  ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ  ｐｖ．ｏｒｙｚａｅ；
シユードモナス種、例えばＰｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ  ｓｙｒｉｎｇａｅ  ｐｖ．ｌａｃｈｒｙｍａｎｓ；
エルビニア種、例えばＥｒｗｉｎｉａ  ａｍｙｌｏｖｏｒａ；
ピチウム種、例えばＰｙｔｈｉｕｍ  ｕｌｔｉｍｕｍ；
フィトフトラ種、例えばＰｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ  ｉｎｆｅｓｔａｎｓ；
シュードペロノスポラ種、例えばＰｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ  ｈｕｍｕｌｉまたはＰｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ  ｃｕｂｅｎｓｉｓ；
プラスモパラ種、例えばＰｌａｓｍｏｐａｒａ  ｖｉｔｉｃｏｌａ；
ブレミア種、例えばＢｒｅｍｉａ  ｌａｃｔｕｃａｅ；
ペロノスポラ種、例えばＰｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ  ｐｉｓｉまたはＰ．ｂｒａｓｓｉｃａｅ；
エリシフィ種、例えばＥｒｙｓｉｐｈｅ  ｇｒａｍｉｎｉｓ；
スフェロテカ種、例えばＳｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ  ｆｕｌｉｇｉｎｅａ；
ポドスフェラ種、例えばＰｏｄｏｓｐｈａｅｒａ  ｌｅｕｃｏｔｒｉｃｈａ；
ベンチュリア種、例えばＶｅｎｔｕｒｉａ  ｉｎａｅｑｕａｌｉｓ；
ピレノフォーラ種、例えばＰｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ  ｔｅｒｅｓまたはＰ．ｇｒａｍｉｎｅａ（分生子形態：ドレクスレラ，同義語：ヘルミンスポリウム）；
コクリオボラス種、例えばＣｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ  ｓａｔｉｖｕｓ（分生子形態：ドレクスレラ，同義語：ヘルミンスポリウム）；
ウロミセス種、例えばＵｒｏｍｙｃｅｓ  ａｐｐｅｎｄｉｃｕｌａｔｕｓ；
プシニア種、例えばＰｕｃｃｉｎｉａ  ｒｅｃｏｎｄｉｔａ；
スクレロチニア種、例えばＳｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ  ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ；
チレチア種、例えばＴｉｌｌｅｔｉａ  ｃａｒｉｅｓ；
ウスチラゴ種、例えばＵｓｔｉｌａｇｏ  ｎｕｄａまたはＵｓｔｉｌａｇｏ  ａｖｅｎａｅ；
ペリキュラリア種、例えばＰｅｌｌｉｃｕｌａｒｉａ  ｓａｓａｋｉｉ；
ピリキュラリア種、例えばＰｙｒｉｃｕｌａｒｉａ  ｏｒｙｚａｅ；
フザリウム種、例えばＦｕｓａｒｉｕｍ  ｃｕｌｍｏｒｕｍ；
ボトリチス種、例えばＢｏｔｒｙｔｉｓ  ｃｉｎｅｒｅａ；
セプトリア種、例えばＳｅｐｔｏｒｉａ  ｎｏｄｏｒｕｍ；
レプトスフェリア種、例えばＬｅｐｔｏｓｐｈａｅｒｉａ  ｎｏｄｏｒｕｍ；
セルコスポラ種、例えばＣｅｒｃｏｓｐｏｒａ  ｃａｎｅｓｃｅｎｓ；
アルターナリア種、例えばＡｌｔｅｒｎａｒｉａ  ｂｒａｓｓｉｃａｅ；及び
シュードセルコスポレラ種、例えばＰｓｅｕｄｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ  ｈｅｒｐｏｔｒｉｃｈｏｉｄｅｓ。
【０１０８】
本発明の活性化合物は植物において非常に高い強化作用をも有する。従って、本発明の活性化合物は望ましくない微生物による攻撃に対する植物自身の防御を高めるために使用され得る。
【０１０９】
本明細書中、植物強化(plant-fortifying)（耐性誘発）物質とは、処理した植物にその後望ましくない微生物を接種したときに植物がこれらの微生物に対して実質的な耐性を示すように植物の防御系を刺激し得る物質を意味すると理解されたい。
【０１１０】
本発明において、望ましくない微生物とは植物病原性真菌、細菌及びウイルスを意味すると解される。従って、本発明の物質は処理後所定期間植物を上記した病原体による攻撃から防御するために使用され得る。保護期間は植物を活性化合物で処理後通常１〜１０日間、好ましくは１〜７日である。
【０１１１】
植物は植物病を防除するのに必要な濃度の活性化合物を十分許容するという事実により、植物の地上部分、繁殖株及び種、並びに土壌を処理することができる。
【０１１２】
本発明の活性化合物は、穀物病（例えば、エリシフィ種）並びにブドウ栽培や果実及び野菜の耕作における病気（例えば、スフェロテカ種）の防除に関して特に良好な結果で使用することができる。
【０１１３】
本発明の活性化合物は作物の収率を高めるためにも好適である。更に、本発明の活性化合物は低毒性を示し、植物は十分許容できる。
【０１１４】
ある濃度及び施用量では、本発明の活性化合物は除草剤として、植物生長に影響を及ぼすために及び動物病害生物を防除するためにも使用され得る。本発明の活性化合物は別の活性化合物を合成するための中間体及び前駆体としても使用され得る。
【０１１５】
本発明によれば、すべての植物及び植物の一部を処理することができる。植物とは、所望するもののみならず所望しない野生植物または作物（天然に存在する作物をも含む）のようなすべての植物及び植物集団と理解される。作物は、慣用の育種及び最適化方法により、またはバイオテクノロジー及び遺伝子工学方法により、またはこれらの方法の組合せにより得ることができる植物であり得、この中にはトランスジェニック植物及び品種所有権により保護され得るまたは得ない植物品種が含まれる。植物の一部とは、苗、葉、花及び根のような植物の地上及び地下部分及び器官すべてを意味し、その例として葉、針葉、茎、幹、花、子実体、果実や種子、並びに根、塊茎及び根茎が挙げられ得る。植物の一部には収穫した植物及び発育物、生殖繁殖物、例えば苗、塊茎、根茎、挿木及び種子も含まれる。
【０１１６】
植物及び植物の一部の本発明の活性化合物による処理は直接実施しても、またはその周囲、生息地または貯蔵スペースに対して慣用の処理方法に従って、例えば浸漬、液剤散布、蒸発、噴霧、全面施用、展着、及び繁殖材料の場合、特に種子の場合には単層または多層コーティングにより作用させることにより実施する。
【０１１７】
材料を保護する際には、工業材料を望ましくない微生物の感染及び望ましくない微生物による破壊から保護するために本発明の化合物が使用され得る。
【０１１８】
本明細書中、工業材料とは工業界で使用するために製造された生きていない材料を意味すると理解されたい。本発明の活性化合物により微生物変化または破壊から保護しようとする工業材料の例は接着剤、サイズ剤、紙及び板紙、織物、革、木材、ペイント及びプラスチック製品、冷却潤滑剤、及び微生物に感染したり微生物により破壊される恐れがある他の材料であり得る。微生物の増殖によりダメージを受ける恐れがある製造プラントの一部、例えば冷却水回路も保護すべき材料の範囲内に含まれ得る。本発明の範囲内で挙げ得る工業材料は好ましくは接着剤、サイズ剤、紙及び板紙、革、木材、ペイント、冷却潤滑剤、熱交換液であり、特に好ましくは木材である。
【０１１９】
工業材料を劣化または変化させ得る微生物の例としては細菌、真菌、酵母、藻類及び粘菌が挙げられ得る。好ましくは、本発明の活性化合物は真菌、特にかび、木材変色・木材腐朽菌（担子菌類）に対して、または粘菌及び藻類に対して作用する。
【０１２０】
下記属の微生物を例示し得る：
アルターナリア属、例えばＡｌｔｅｒｎａｒｉａ  ｔｅｎｕｉｓ；
アスペルギルス属、例えばアスペルギルスニガー（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ  ｎｉｇｅｒ）；
カエトミウム属、例えばＣｈａｅｔｏｍｉｕｍ  ｇｌｏｂｏｓｕｍ；
コニオフォラ属、例えばＣｏｎｉｏｐｈｏｒａ  ｐｕｅｔａｎａ；
レンチナス属、例えばＬｅｎｔｉｎｕｓ  ｔｉｇｒｉｎｕｓ；
ペニシリウム属、例えばペニシリウム・グローカム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ  ｇｌａｕｃｕｍ）；
ポリポルス属、例えばＰｏｌｙｐｏｒｕｓ  ｖｅｒｓｉｃｏｌｏｒ；
アウレオバシジウム属、例えばアウレオバシジウム・プルランス（Ａｕｒｅｏｂａｓｉｄｉｕｍ  ｐｕｌｌｕｌａｎｓ）；
スクレロフォーマ属、例えばＳｃｌｅｒｏｐｈｏｍａ  ｐｉｔｙｏｐｈｉｌａ；
トリコデルマ属、例えばＴｒｉｃｈｏｄｅｒｍａ  ｖｉｒｉｄｅ；
エシェリキア属、例えば大腸菌（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ  ｃｏｌｉ）；
シュードモナス属、例えば緑膿菌（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ  ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）；及び
スタフィロコッカス属、例えば黄色ブドウ球菌（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ  ａｕｒｅｕｓ）。
【０１２１】
活性化合物の特殊な物理的及び／または化学的性質に応じて、活性化合物を一般的な製剤、例えば溶液、乳濁液、懸濁液、粉剤、フォーム、ペースト剤、粒剤、エアゾール、及びポリマー物質及び種子用コーティング組成物中にマイクロカプセル化、ＵＬＶ冷及び温煙霧剤に変換させてもよい。
【０１２２】
製剤は公知の方法により、例えば活性化合物と加圧下で液体溶媒、液化ガスである増量剤及び／または固体担体とを場合により乳化剤及び／または分散剤である界面活性剤及び／または発泡剤を用いて混合することにより調製される。使用する増量剤が水のとき、例えば補助溶媒として有機溶媒を使用してもよい。本質的に、好適な液体溶媒は芳香族類（例えば、キシレン、トルエンまたはアルキルナフタレン）、塩素化芳香族類または塩素化脂肪族炭化水素類（例えば、クロロベンゼン、クロロエチレンまたはジクロロメタン）、脂肪族炭化水素類（例えば、シクロヘキサンまたは石油分画のようなパラフィン）、アルコール類（例えば、ブタノールまたはグリコール）並びにそのエーテル類及びエステル類、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンまたはシクロヘキサノン）、強極性溶媒（例えば、ジメチルホルムアミドまたはジメチルスルホキシド）、または水である。液化ガス増量剤または担体とは、標準温度及び大気圧下でガスである液体、例えばハロゲン化炭化水素のようなエアゾール噴射剤、ブタン、プロパン、窒素及び二酸化炭素を意味すると理解されたい。好適な固体担体の例は、粉砕天然鉱物（例えば、カオリン、クレー、タルク、チョーク、石英、アタパルジャイト、モンモリロナイトまたは珪藻土）及び粉砕合成材料（例えば、微粉砕シリカ、アルミナ及びシリケート）である。粒剤用の好適な固体担体の例は、粉砕・分画化天然岩（例えば、方解石、大理石、軽石、海泡石及び苦灰石）、無機及び有機ミールの合成顆粒、有機材料の顆粒（例えば、おが屑、ヤシ殻、トウモロコシ穂軸及びタバコの茎）である。好適な乳化剤及び／または発泡剤の例は、ノニオン性及びアニオン性乳化剤（例えば、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、アルキルアリールポリグリコールエーテルのようなポリオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル、アルキルスルホネート、アルキルスルフェート、アリールスルホネート）、またはタンパク質水解物である。好適な分散剤の例は、リグノサルフィト廃液及びメチルセルロースである。
【０１２３】
カルボキシメチルエルロースや粉末、顆粒またはラテックスの形態の天然及び合成ポリマーのような増粘剤、例えばアラビアガム、ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビニル；天然リン脂質、例えばセファリン及びレシチン；及び合成リン脂質を製剤中に使用することができる。他の可能な添加剤は鉱油及び植物油である。
【０１２４】
無機顔料（例えば、酸化鉄、酸化チタン及びプルシアンブルー）及び有機顔料（例えば、アリザリン染料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料）のような着色剤及び微量栄養素（例えば、鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリブデン及び亜鉛の塩）を使用することができる。
【０１２５】
製剤は通常０．１〜９５重量％、好ましくは０．５〜９０重量％の活性化合物を含む。
【０１２６】
本発明の活性化合物はそのままで、製剤として、または例えば活性スペクトルを拡大したり耐性の発生を防止するために公知の殺真菌剤、殺菌剤、殺ダニ剤、殺線虫剤または殺虫剤と混合して使用され得る。多くの場合、相乗効果、すなわち混合物の活性が個々の成分の活性よりも高いという効果が得られる。
【０１２７】
好適な混合成分を以下に例示する。
【０１２８】
殺真菌剤：
アルジモルフ、アンプロピルホス、アンプロピルホスカリウム、アンドプリム、アニラジン、アザコナゾール、アゾキシストロビン、ベナラキシル、ベノダニル、ベノミル、ベンザマクリル、ベンザマクリル−イソブチル、ビアラホス、ビナパクリル、ビフェニル、ビテルタノール、ブラスチサイジン−Ｓ、ブロムコナゾール、ブピリメート、ブチオベート、カルシウムポリスルフィド、カプシマイシン、キャプタホル、キャプタン、カルベンダジム、カルボキシン、カルボン、キノメチオネート、クロベンチアゾン、クロルフェナゾール、クロロネブ、クロロピクリン、クロロタロニル、クロゾリネート、クロジラコン、クフラネブ、シモキサニル、シプロコナゾール、シプロジニル、シプルフラム、カルプロパミド、デダカルブ、ジクロロフェン、ジクロブトラゾール、ジクロフルアニド、ジクロメジン、ジクロラン、ジエトフェンカルブ、ジフェノコナゾール、ジメチリモール、ジメソモルフ、ジニコナゾール、ジニコナゾール−Ｍ、ジノキャップ、ジフェニルアミン、ジピリチオン、ジタリムホス、ジチアノン、ドデモルフ、ドジン、ドラゾキソロン、
エジフェンホス、エポキシコナゾール、エタコナゾール、エチリモール、エトリジアゾール、ファモキサドン、フェナパニル、フェナリモル、フエンブコナゾール、フェンフラム、フェニトロパン、フェンピクロニル、フェンプロピジン、フェンプロピモルフ、フェンチンアセテート、フェンチンヒドロキシド、フェルバム、フェリンゾン、フルアジナム、フルメトバー、フルオロミド、フルキンコナゾール、フルプリミドール、フルシラゾール、フルスルファミド、フルトラニル、フルトリアホル、ホルペット、ホセチル−アルミニウム、ホセチル−ナトリウム、フタリド、フベリダゾール、フララキシル、フラメトピル、フルカルボニル、フルコナゾール、フルコナゾール−シス、フルメシクロックス、フェンヘキサミド、グアザチン、ヘキサクロロベンゼン、ヘキサコナゾール、ヒメキサゾール、イマザリル、イミベンコナゾール、イミノクタジン、イミノクタジンアルベシレート、イミノクタジントリアセテート、ヨードカルブ、イプコナゾール、イプロベンホス（ＩＢＰ）、イプロジオン、イルママイシン、イソプロチオラン、イソバレジオン、シプロバリカルブ、カスガマイシン、クレソキシム−メチル、銅製剤（例えば、水酸化銅、ナフタレン酸銅、オキシ塩化銅、硫酸銅、酸化銅、オキシン−銅及びボルドー混合物）、マンコッパー、マンゼブ、マンネブ、メフェリムゾン、メパニピリム、メプロニル、メタラキシル、メトコナゾール、メタスルホカルブ、メトフロキサム、メチラム、メトメクラム、メトスルホボックス、ミリジオマイシン、ミクロブタニル、マイクロゾリン、ニッケルジメチルジチオカルバメート、ニトロサル−イソプロピル、ヌアリモル、オフレース、オキサジキシル、オキサモカルブ、オキソリニック酸、オキシカルボキシム、オキシフェンチイン、パクロブトラゾール、ペフラゾエート、ペンコナゾール、ペンシクロン、ホスジフェン、ピマリシン、ピペラリン、ポリオキシン、ポリオキソリム、プロベナゾール、プロクロラズ、プロシミドン、プロパモカルブ、プロパノシンナトリウム、プロピコナゾール、プロピネブ、ピラゾホス、ピリフェノックス、ピリメタニル、ピロキロン、ピロキシファー、キンコナゾール、キントゼン（ＰＣＮＢ）、キノキシフェン、硫黄及び硫黄製剤、スピロキサミン、テブコナゾール、テクロフタラム、テクナゼン、テトシクラシス、テトラコナゾール、チアベンダゾール、チシオフェン、チフルザミド、チオフェネートメチル、チラム、チオキシミド、トルクロヘスメチル、トリルフルアニド、トリアジメフォン、トリアジメノール、トリアズブチル、トリアゾキシド、トリクロラミド、トリシクラゾール、トリデモルフ、トリフルミゾール、トリホリン、トリチコナゾール、トリフロキシストロビン、ユニコナゾール、バリダマイシンＡ、ビンクロゾリン、ビニコナゾール、ザリラミド、ジネブ、ジラム、並びに
Ｄａｇｇｅｒ  Ｇ、
ＯＫ−８７０５、ＯＫ−８８０１、
α−（１，１−ジメチルエチル）−β−（２−フェノキシエチル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾ−ル−１−エタノール、
α−（２，４−ジクロロフェニル）−β−フロロ−ｂ−プロピル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾ−ル−１−エタノール、
α−（２，４−ジクロロフェニル）−β−メトキシ−ａ−メチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾ−ル−１−エタノール、
α−（５−メチル−１，３−ジオキサン−５−イル）−β−［［４−（トリフルオロメチル）フェニル］メチレン］−１Ｈ−１，２，４−トリアゾ−ル−１−エタノール、
（５ＲＳ，６ＲＳ）−６−ヒドロキシ−２，２，７，７−テトラメチル−５−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）−３−オクタノン、
（Ｅ）−ａ−（メトキシイミノ）−Ｎ−メチル−２−フェノキシフェニルアセトアミド、
１−（２，４−ジクロロフェニル）−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）エタノンＯ−（フェニルメチル）オキシム、
１−（２−メチル−１−ナフタレニル）−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、
１−（３，５−ジクロロフェニル）−３−（２−プロペニル）−２，５−ピロリジンジオン、
１−［（ジヨードメチル）スルホニル］−４−メチルベンゼン、
１−［［２−（２，４−ジクロロフェニル）−１，３−ジオキソラン−２−イル］メチル］−１Ｈ−イミダゾール、
１−［［２−（４−クロロフェニル）−３−フェニルオキシラニル］メチル］−１Ｈ−１，２，４−トリアゾ−ル、
１−［１−［２−［（２，４−ジクロロフェニル）メトキシ］フェニル］エテニル］−１Ｈ−イミダゾール、
１−メチル−５−ノニル−２−（フェニルメチル）−３−ピロリジノール、
２’，６’−ジブロモ−２−メチル−４’−トリフルオロメトキシ−４’−トリフルオロメチル−１，３−チアゾール−５−カルボキサニリド、
２，６−ジクロロ−５−（メチルチオ）−４−ピリミジニルチオシアネート、
２，６−ジクロロ−Ｎ−（４−トリフルオロメチルベンジル）ベンザミド、
２，６−ジクロロ−Ｎ−［［４−（トリフルオロメチル）フェニル］メチル］ベンザミド、
２−（２，３，３−トリヨード−２−プロペニル）−２Ｈ−テトラゾール、
２−［（１−メチルエチル）スルホニル］−５−（トリクロロメチル）−１，３，４−チアジアゾール、
２−［［６−デオキシ−４−Ｏ−（４−Ｏ−メチル−β−Ｄ−グリコピラノシル）−ａ−Ｄ−グルコピラノシル］アミノ］−４−メトキシ−１Ｈ−ピロール［２，３−ｄ］ピリミジン−５−カルボニトリル、
２−アミノブタン、
２−ブロモ−２−（ブロモメチル）ペンタンジニトリル、
２−クロロ−Ｎ−（２，３−ジヒドロ−１，１，３−トリメチル−１Ｈ−インデン−４−イル）−３−ピリジンカルボキサミド、
２−クロロ−Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）−Ｎ−（イソチオシアナトメチル）アセトアミド、
２−フェニルフェノール（ＯＰＰ）、
３，４−ジクロロ−１−［４−（ジフルオロメトキシ）フェニル］−１Ｈ−ピロール−２，５−ジオン、
３，５−ジクロロ−Ｎ−［シアノ［（１−メチル−２−プロピニル）オキシ］メチル］ベンザミド、
３−（１，１−ジメチルプロピル）−１−オキソ−１Ｈ−インデン−２−カルボニトリル、
３−［２−（４−クロロフェニル）−５−エトキシ−３−イソオキサゾリジニル］ピリジン、
４−クロロ−２−シアノ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−５−（４−メチルフェニル）−１Ｈ−イミダゾール−１−スルホンアミド、
４−メチルテトラゾロ［１，５−ａ］キナゾリン−５（４Ｈ）オン、
８−ヒドロキシキノリンスルフェート、
９Ｈ−キサンテン−２−［（フェニルアミノ）カルボニル］−９−カルボン酸ヒドラジド、
ビス（１−メチルエチル）−３−メチル−４−［（３−メチルベンゾイル）オキシ］−２，５−チオフェンジカルボキシレート、
シス−１−（４−クロロフェニル）−２−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾル−１−イル）シクロヘプタノール、
シス−４−［３−［４−（１，１−ジメチルプロピル）フェニル−２−メチルプロピル］２，６−ジメチルモルホリン塩酸塩、
エチル［（４−クロロフェニル）アゾ］シアノアセテート、
炭酸水素カリウム、
メタンテトラチオールナトリウム塩、
メチル１−（２，３−ジヒドロ−２，２−ジメチル−１Ｈ−インデン−１−イル）−１Ｈ−イミダゾール−５−カルボキシレート、
メチルＮ−（２，６−ジメチルフェニル）−Ｎ−（５−イソオキサゾリルカルボニル）−ＤＬ−アラニネート、
メチルＮ−（クロロアセチル）−Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）−ＤＬ−アラニレート、
Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）−２−メトキシ−Ｎ−（テトラヒドロ−２−オキソ−３−フラニル）アセトアミド、
Ｎ−（２，６−ジメチルフェニル）−２−メトキシ−Ｎ−（テトラヒドロ−２−オキソ−３−チエニル）アセトアミド、
Ｎ−（２−クロロ−４−ニトロフェニル）−４−メチル−３−ニトロベンゼンスルホンアミド、
Ｎ−（４−シクロヘキシルフェニル）−１，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピリミジンアミン、
Ｎ−（４−ヘキシルフェニル）−１，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピリミジンアミン、
Ｎ−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２−メトキシ−Ｎ−（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）アセトアミド、
Ｎ−（６−メトキシ−３−ピリジニル）シクロプロパンカルボキサミド、
Ｎ−［２，２，２−トリクロロ−１−［（クロロアセチル）アミノ］エチル］ベンザミド、
Ｎ−［３−クロロ−４，５−ビス（２−プロピニルオキシ）フェニル］−Ｎ’−メトキシメタンイミダミド、
Ｎ−ホルミル−Ｎ−ヒドロキシ−ＤＬ−アラニンナトリウム塩
Ｏ，Ｏ−ジエチル［２−（ジプロピルアミノ）−２−オキソエチル］エチルホスホラミドチオエート、
Ｏ−メチルＳ−フェニルフェニルプロピルホスホラミドチオエート、
Ｓ−メチル１，２，３−ベンゾチアジアゾール−７−カルボチオエート、
スピロ［２Ｈ］−１−ベンゾピラン−２，１’（３’Ｈ）−イソチアゾフラン］−３’−オン。
【０１２９】
殺菌剤：
ブロノポール、ジクロロフェン、ニトラピリン、ニッケルジメチルジチオカルバメート、カスガマイシン、オクチリノン、フランカルボン酸、オキシテトラサイクリン、プロベナゾール、ストレプトマイシン、テクロフタラム、硫酸銅及び他の銅製剤。
【０１３０】
殺虫剤／殺ダニ剤／殺線虫剤：
アバメクチン、アセフェート、アセタミプリド、アクリナトリン、アラニカルブ、アルジカルブ、アルドキシカルブ、α−シペルメトリン、α−メトリン、アミトラズ、アベルメクチン、ＡＺ  ６０５４１、アザジラクチン、アザメチホス、アジンホスＡ、アジンホスＭ、アゾシクロチン、バシラン・ポピリアエ（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐｏｐｉｌｌｉａｅ）、バシラス・スファエリクス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓｐｈａｅｒｉｃｕｓ）、枯草菌（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｓｕｂｔｉｌｉｓ）、バシラス・チュリンジエンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ）、白きょう病菌（Ｂｅａｕｖｅｒｉａ  ｂａｓｓｉａｎａ）、ボーベリア・テネラ（Ｂｅａｕｖｅｒｉａ  ｔｅｎｅｌｌａ）、ベンジオカルブ、ベンフラカルブ、ベンスルタップ、ベンゾキシメート、ベタシフルスリン、ビフェナゼート、ビフェントリン、ビオエタノメトリン、ビオペルメトリン、ＢＰＭＣ、ブロモホスＡ、ブフェンカルブ、ブプロフェジン、ブタチオホス、ブトカルボキシム、ブチルピリダベン、カジュサホス、カルバリル、カルボフラン、カルボフェノチオン、カルボスルファン、カルタップ、クロエトカルブ、クロルエトキシホス、クロルフェナピル、クロルフェンビンホス、クロルフルアズロン、クロルメホス、クロルピリホス、クロルピリホスＭ、クロバポルスリン、シスレスメトリン、シスペルメトリン、クロシストリン、クロエトカルブ、クロフェンテジン、シアノホス、シクロプレン、シクロプロトリン、シフルトリン、シハロトリン、シヘキサチン、シペルメトリン、シロマジン、デルタメトリン、デメトンＭ、デメトンＳ、デメトンＳ−メチル、ジアフェンチウロン、ジアジノン、ジクロロボス、ジフルベンズロン、ジメソアト、ジメチルビンホス、ジオフェノラン、ジスルホトン、ドクサトナトリウム、ドフェナピン、エフルシラネート、エマメクチン、エンペンスリン、エンドスルファン、ハエカビ種（Ｅｎｔｏｍｏｐｆｔｈｏｒａ  ｓｐｐ．）、エスフェンバレレート、エチオフェンカルブ、エチオン、エトプロホス、エトフェンプロックス、エトキサゾール、エトリンホス、フェナミホス、フェナザクイン、フェンブタチンオキシド、フェニトロチオン、フェノチオカルブ、フェノキシクリム、フェノキシカルブ、フェンプロパソリン、フェンピラド、フェンピリスリン、フェンピロキシメート、フェンバレレート、フィプロニル、フルアズロン、フルブロシチリネート、フルシクロキスロン、フルシスリネート、フルフェノクスロン、フルテンジン、フルバリネート、ホノホス、ホスメチラン、ホスチアゼート、フブフェンプロックス、フラチオカルブ、グラニュローシスウイルス、ハロフェノジド、ＨＣＨ、ヘプテノホス、ヘキサフルムロン、ヘキシキアゾックス、ヒドロプレン、イミダクロプリド、イサゾホス、イソフェンホス、イソキサチオン、イベルメクチン、核多核体病ウイルス、λ−シハロトリン、ルフェヌロン、マラソン、メカルバム、メタアルデヒド、メタミドホス、黒きょう病菌（Ｍｅｔｈａｒｈｉｚｉｕｍ  ａｎｉｓｏｐｌｉａｅ，Ｍｅｔｈａｒｈｉｚｉｕｍ  ｆｌａｖｏｖｉｒｉｄｅ）、メチダチオン、メチオカルブ、メソミル、メトキシフェノジド、メトルカルブ、メトキサジアゾン、メビンホス���ミルベメクチン、モノクロトホス、ナレド、ニテンピラム、ニチアジン、ノバルロン、オメソエート、オキサミル、オキシデメトンＭ、ペシロマイセス（Ｐａｅｃｉｌｏｍｙｃｅｓ  ｆｕｍｏｓｏｒｏｓｅｕｓ）、パラチオンＡ、パラチオンＭ、ペルメトリン、フェンソエート、ホラット、ホサロン、ホスメット、ホスファミドン、ホキシム、ピリミカルブ、ピリミホスＡ、ピリミホスＭ、プロフェノホス、プロメカルブ、プロポクスル、プロチオホス、プロソート、ピメトロジン、ピラクロホス、ピレスメトリン、ピレスラム、ピリダベン、ピリダチオン、ピリミジフェン、ピリプロキシフェン、
キナルホス、リバビリン、サリチオン、セブホス、シラフルオフェン、スピノサド、スルホテプ、スルプロホス、τ−フルバリネート、テブフェノジド、テブフェンピラド、テブピリミホス、テフルベンズロン、テフルトリン、テメホス、テミビンホス、テルブホス、テトラクロロビンホス、セタシペルメトリン、チアメトキサム、チアプロニル、チアトリホス、チオシクラムハイドロジェンオキサレート、チオジカルブ、チオファノックス、スリンギエンシン、トラロシスリン、トラロメスリン、トリアラテン、トリアザメート、トリアゾホス、トリアズロン、トリクロロフェニジン、トリクロロホン、トリフルムロン、トリメタカルブ、バミドチオン、バニリプロール、バーティシリウム（Ｖｅｒｔｉｃｉｌｌｉｕｍ  ｌｅｃａｎｉｉ）、ＹＩ  ５３０２、ゼーターシペルメスリン、ゾラプロホス、
（１Ｒ−シス）−［５−（フェニルメチル）−３−フラニル］メチル−３−［（ジヒドロ−２−オキソ−３（２Ｈ）−フラニリデン）メチル］−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート、
（３−フェノキシフェニル）メチル２，２，３，３−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレート、
１−［（２−クロロ−５−チアジアゾリル）メチル］テトラヒドロ−３，５−ジメチル−Ｎ−ニトロ−１，３，５−トリアジン−２（１Ｈ）イミン、
２−（２−クロロ−６−フルオロフェニル）−４−［４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル］−４，５−ジヒドロオキサゾール、
２−（アセチルオキシ）−３−ドデシル−１，４−ナフタレンジオン、
２−クロロ−Ｎ−［［［４−（１−フェニルエトキシ）フェニル］アミノ］カルボニル］ベンザミド、
２−クロロ−Ｎ−［［［４−（２，２−ジクロロ−１，１−ジフルオロエトキシ）フェニル］アミノ］カルボニル］ベンザミド、
３−メチルフェニルプロピルカルバメート、
４−［４−（４−エトキシフェニル）−４−メチルフェニル］−１−フルオロ−２−フェノキシベンゼン、
４−クロロ−２−（１，１−ジメチルエチル）−５−［［２−（２，６−ジメチル−４−フェノキシフェノキシ）エチル］チオ］−３（２Ｈ）−ピリダジノン、
４−クロロ−２−（２−クロロ−２−メチルプロピル）−５−［（６−ヨード−３−ピリジニル）メトキシ］−３（２Ｈ）−ピリダジノン、
４−クロロ−５−［（６−クロロ−３−ピリジニル）メトキシ］−２−（３，４−ジクロロフェニル）−３（２Ｈ）−ピリダジノン、
バシラス・チュリンジエンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ）菌株ＥＧ−２３４８、
［２−ベンゾイル−１−（１，１−ジメチルエチル）ヒドラジノ安息香酸、
２，２−ジメチル−３−（２，４−ジクロロフェニル）−２−オキソ−１−オキサスピロ［４．５］デカ−３−エン−４−イルブタノエート、
［３−［（６−クロロ−３−ピリジニル）メチル］−２−チアゾリジニリデン］シアナミド、
ジヒドロ−２−（２−ニトロメチレン）−２Ｈ−１，３−チアジン−３（４Ｈ）カルボキサルデヒド、
エチル［２−［［１，６−ジヒドロ−６−オキソ−１−（フェニルメチル）−４−ピリダジニル］オキシ］エチル］カルバメート、
Ｎ−（３，４，４−トリフルオロ−１−オキソ−１−ブテニル）グリシン、
Ｎ−（４−クロロフェニル）−３−［４−（ジフルオロメトキシ）フェニル］−４，５−ジヒドロ−４−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−１−カルボキサミド、
Ｎ−［（２−クロロ−５−チアゾリル）メチル］−Ｎ’−メチル−Ｎ”−ニトログアニジン、
Ｎ−メチル−Ｎ’−（１−メチル−２−プロペニル）−１，２−ヒドラジンジカルボチオアミド、
Ｎ−メチル−Ｎ’−２−プロペニル−１，２−ヒドラジンジカルボチオアミド、
Ｏ，Ｏ−ジエチル［２−（ジプロピルアミノ）−２−オキソエチル］エチルホスホラミドチオエート。
【０１３１】
他の公知の活性化合物（例えば、除草剤）または肥料や生長調節物質との混合物も可能である。
【０１３２】
更に、本発明の式（Ｉ）を有する化合物は非常に高い抗かび活性をも有する。これらの化合物は、特に皮膚糸状菌及び酵母、かび及び二形菌（例えば、カンジダ・アルビカンス（Ｃａｎｄｉｄａ  ａｌｂｉｃａｎｓ）やカンジダ・グラブラタ（Ｃａｎｄｉｄａ  ｇｌａｂｒａｔａ）のようなカンジダ種）、有毛表皮糸状菌（Ｅｐｉｄｅｒｍｏｐｈｙｔｏｎ  ｆｌｏｃｃｏｓｕｍ）、アスペルギルス種（例えば、アスペルギルス・ニガー（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ  ｎｉｇｅｒ）及びアスペルギルス・フミガーツス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ  ｆｕｍｉｇａｔｕｓ））、白癬菌種（例えば、毛槍白癬菌（Ｔｒｉｃｈｏｐｈｙｔｏｎ  ｍｅｎｔａｇｒｏｐｈｙｔｅｓ）、小胞子菌種（例えば、イヌ小胞子菌（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｏｎ  ｃａｎｉｓ）及びオードュイニ小胞子菌（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｏｎ  ａｕｄｏｕｉｎｉｉ））に対して非常に高い抗かび活性を有する。上記した真菌リストは例示にすぎず、かびスペクトルを網羅していない。
【０１３３】
活性化合物はそのまま、製剤の形態で、またはそこから調製した使用形態（例えば、用時使用される溶液、懸濁液、水和剤、ペースト剤、可溶性粉末、紛剤及び粒剤）で使用し得る。施用は慣用の方法で、例えば浸漬、液剤散布、噴霧、全面施用、散粉、気泡、展着等により実施される。更に、活性化合物を微量方法により施用したり、または活性化合物調製物または活性化合物そのものを土壌に注入することも可能である。植物の種子を処理することも可能である。
【０１３４】
本発明の活性化合物を殺真菌剤として使用するとき、施用量は施用のタイプに応じて比較的広範囲で変更可能である。植物の一部を処理するときの活性化合物の施用量は通常１ヘクタールあたり０．１〜１０，０００ｇ、好ましくは１０〜１，０００ｇである。種子粉衣するときの活性化合物の施用量は通常種子１ｋｇあたり０．００１〜５０ｇ、好ましくは０．０１〜１０ｇである。土壌処理するときの活性化合物の施用量は通常１ヘクタールあたり０．１〜１０，０００ｇ、好ましくは１〜５，０００ｇである。
【０１３５】
殺虫剤及び殺菌剤：
上記したように、すべての植物及びその一部を本発明の活性化合物で処理することができる。好ましい実施態様では、野生植物種または植物栽培品種、または交配またはプロトプラスト融合のような一般的な生物学的育種により得られる品種が処理される。更に好ましい実施態様では、遺伝子工学に場合により慣用の方法を組み合わせて得られるトランスジェニック植物または植物栽培品種（遺伝子修飾生物）またはその一部を処理する。「一部」、「植物の一部」または「植物部分」は前に説明したとおりである。
【０１３６】
特に好ましくは、市販されているかまたは使用されている植物栽培品種の植物を本発明により処理する。植物栽培品種とは、従来の育種法、突然変異誘発または組換えＤＮＡ技術を用いて育種した新しい性質（形質）を有する植物を意味すると理解されたい。これらは栽培品種、品種、生物型及び遺伝子型であり得る。
【０１３７】
植物種または植物栽培品種、その場所及び生長条件（土壌、気候、生育期、飼料）に応じて、本発明の処理により相加（相乗）効果をも得ることができる。例えば、施用量の低下及び／または活性スペクトルの拡大及び／または本発明に従って使用され得る物質及び組成物の活性の上昇、良好な植物成長、高温または低温に対する高い耐性、干ばつ、または水または土壌塩濃度に対する高い耐性、より高い開花性能、より容易な収穫、早い成熟、より高い収穫物収率、収穫物のより良好な品質及び／またはより高い栄養価、収穫物のより良好な貯蔵安定性及び／または加工性を実際予想される効果以上に発揮することができる。
【０１３８】
本発明により好ましく処理されるトランスジェニック植物または植物栽培品種（すなわち、遺伝子工学により得られる品種）には、遺伝子修飾で植物に対して特に有用な性質（形質）を付与する遺伝子材料を含む植物すべてが含まれる。そのような性質の例はより良好な植物成長；高温または低温に対するより高い耐性；干ばつ、または水または土壌塩濃度に対するより高い耐性；より高い開花性能；より容易な収穫；早い成熟；より高い収穫物収率；収穫物のより良好な品質及び／またはより高い栄養価；収穫物のより良好な貯蔵安定性及び／または加工性である。更に特に強調すべき性質は動物や微生物害虫、例えば昆虫、ダニ、植物病原性真菌、細菌及び／またはウイルスに対する植物のより高い防御効果、並びにある除草活性化合物に対する植物のより高い耐性である。トランスジェニック植物の例として重要な作物、例えば穀物（小麦、米）、トウモロコシ、大豆、ジャガイモ、綿、菜種；及び果実植物（リンゴ、ナシ、柑橘、ブドウの果実を付けた植物）が挙げられ得、特に綿、大豆、ジャガイモ、綿及び菜種が強調される。強調される形質は、特に植物中で形成される毒素、特にバシラス・チュリンジエンシス由来の遺伝子材料（例えば、ＣｒｙＩＡ（ａ）、ＣｒｙＩＡ（ｂ）、ＣｒｙＩＡ（ｃ）、ＣｒｙＩＩＡ、ＣｒｙＩＩＩＡ、ＣｒｙＩＩＩＢ２、Ｃｒｙ９ｃ、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ｂｂ及びＣｒｙＩＦ、及びその組合せ）により植物（以下、“Ｂｔ植物”という）中に形成されるものによる昆虫に対する高い防御である。同様に特に強調される形質は、浸透獲得耐性（ＳＡＲ）、システミン、フィトアレキシン、エリシター及び耐性遺伝子、並びに対応発現タンパク質及び毒素による真菌、細菌及びウイルスに対する植物の高い耐性である。更に特に強調される形質は、ある除草活性化合物、例えばイミダゾリノン、スルホニル尿素、グリホサートまたはホスフィノトリシン（例えば、“ＰＡＴ”遺伝子）に対する植物の高い耐性である。所望の形質を与える遺伝子はトランスジェニック植物において他との組合せでも存在し得る。“Ｂｔ植物”の例としてはトウモロコシ品種、綿品種、大豆品種及びジャガイモ品種が挙げられ得、これらはＹＩＥＬＤ  ＧＡＲＤ（登録商標）（例えば、トウモロコシ、綿、大豆）、ＫｎｏｃｋＯｕｔ（登録商標）（例えば、トウモロコシ）、ＳｔａｒＬｉｎｋ（登録商標）（例えば、トウモロコシ）、Ｂｏｌｌｇａｒｄ（登録商標）（綿）、Ｎｕｃｏｔｏｎ（登録商標）（綿）、ＮｅｗＬｅａｆ（登録商標）（ジャガイモ）の商品名で販売されている。除草剤耐性植物の例としてはトウモロコシ品種、綿品種及び大豆品種が挙げられ得、これらはＲｏｕｎｄｕｐ  Ｒｅａｄｙ（登録商標）（グリホサートに対する耐性、例えばトウモロコシ、綿、大豆）、Ｌｉｂｅｒｔｙ  Ｌｉｎｋ（登録商標）（ホスフィノトリシンに対する耐性、例えば菜種）、ＩＭＩ（登録商標）（イミダゾリノンに対する耐性）及びＳＴＳ（登録商標）（スルホニル尿素に対する耐性、例えばトウモロコシ）の商品名で販売されている。例示し得る除草剤耐性植物（除草剤耐性のために慣用の方法で育成した植物）には、Ｃｌｅａｒｆｉｅｌｄ（登録商標）（例えば、綿）の商品名で販売されている品種が含まれる。勿論、これらの記述は上記遺伝子形質またはなお開発中の遺伝子形質を有する植物品種に対しても適用される。これらの植物品種は将来開発され及び／または市販されるであろう。
【０１３９】
上記した植物は本発明に従って式（Ｉ）を有する化合物または本発明の活性化合物混合物を用いて特に有利な方法で処理され得る。活性化合物及び混合物について上記した好ましい範囲はこれらの植物の処理にも適用される。植物が本明細書に特記した化合物または混合物で処理されることに強調される。
【実施例】
【０１４０】
製造例
（実施例１）
【０１４１】
【化１０】
2004531551.tif 000011
【０１４２】
方法ａ）
５−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラゾール（２ｇ，０．０１０５モル）、炭酸カリウム（１．７ｇ，０．０１２６モル）、メチル２−ブロモメチルフェニルグリオキシレートＯ−メチルオキシム（その製造については、例えば欧州特許出願公開第４２００９１号明細書参照）（４．１ｇ，０．０１４モル）及びアセトニトリル（８０ｍｌ）の混合物を１８時間還流加熱する。次いで、反応混合物をセライトを介して吸引濾過し、濾過ケーキをアセトニトリルで洗浄する。濾液を減圧下で濃縮し、残渣をジイソプロピルエーテルと粉砕し、吸引濾過する。こうして、４．１ｇ（理論量の９９％）のメチル２−［４−（２−メチルテトラゾル−５−イル）−２−メチルフェノキシ］メチルフェニルグリオキシレートＯ−メチルオキシムがｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝３．０８（ＨＰＬＣに従う含量：９８％）の無色粉末の形態で得られる。
【０１４３】
（実施例２）
【０１４４】
【化１１】
2004531551.tif 000012
【０１４５】
方法ｂ）
（２Ｅ）−２−（メトキシイミノ）−２−（２−｛［２−メチル−４−（２−メチル−２Ｈ−テトラゾル−５−イル）フェノキシ］メチル｝フェニル）酢酸メチル（３．２ｇ，０．００８１モル）をメタノール（６０ｍｌ）中に溶解し、メチルアミンの４０％水溶液（７ｍｌ）を添加する。混合物を室温で一晩放置した後、溶媒を減圧下で留去する。こうして、３．１ｇ（理論量の９７％）のＮ−メチル−２−［４−（２−メチルテトラゾル−５−イル）−２−メチルフェノキシ］メチルフェニルグリオキシルアミドＯ−メチルオキシムがｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝２．５８（ＨＰＬＣに従う含量：９５％）の無色粉末として得られる。
【０１４６】
（実施例３）
【０１４７】
【化１２】
2004531551.tif 000013
【０１４８】
方法ａ）
５−エチル−３−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール（０．８ｇ，３．９ミリモル）、炭酸カリウム（０．６５ｇ，４．７ミリモル）、メチル２−ブロモメチルフェニルグリオキシレートＯ−メチルオキシム（その製造については、例えば欧州特許出願公開第４２００９１号明細書参照）（１．４ｇ，３．９ミリモル）及びアセトニトリル（３０ｍｌ）の混合物を１８時間還流加熱する。次いで、反応混合物をセライトを介して吸引濾過し、濾過ケーキをアセトニトリルで洗浄する。濾液を減圧下で濃縮し、残渣をジイソプロピルエーテルと粉砕し、吸引濾過する。こうして、１．１ｇ（理論量の６８％）のメチル２−［４−（５−エチル−１，２，４−オキサジアゾル−３−イル）−２−メチルフェノキシ］メチルフェニルグリオキシレートＯ−メチルオキシムがｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝３．８０（ＨＰＬＣに従う含量：９６．５％）の無色粉末の形態で得られる。
【０１４９】
（実施例４）
【０１５０】
【化１３】
2004531551.tif 000014
【０１５１】
方法ｂ）
メチル２−［４−（５−エチル−１，２，４−オキサジアゾル−３−イル）−２−メチルフェノキシ］メチルフェニルグリオキシレートＯ−メチルオキシム（０．６ｇ，１．４７ミリモル）をメタノール（５０ｍｌ）中に溶解し、メチルアミンの４０％水溶液（５ｍｌ）を添加する。混合物を室温で一晩放置した後、溶媒を減圧下で留去する。残渣を石油エーテルとジイソプロピルエーテルの混合物と粉砕し、生成物を吸引濾過する。こうして、０．５５ｇ（理論量の９２％）のＮ−メチル−２−［４−（５−エチル−１，２，４−オキサジアゾル−３−イル）−２−メチルフェノキシ］メチルフェニルグリオキシルアミドＯ−メチルオキシムがｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝３．２４（ＨＰＬＣに従う含量：９６％）の無色粉末として得られる。
【０１５２】
（実施例５）
【０１５３】
【化１４】
2004531551.tif 000015
【０１５４】
方法ａ）
３−トリフルオロメチル−５−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−１，２，４−チアジアゾール（０．６ｇ，２．３ミリモル）、炭酸カリウム（０．５ｇ，３．５ミリモル）、メチル２−ブロモメチルフェニルグリオキシレートＯ−メチルオキシム（その製造については、例えば欧州特許出願公開第４２００９１号明細書参照）（０．８ｇ，２．３ミリモル）及びアセトニトリル（５０ｍｌ）の混合物を５０℃で１８時間加熱する。次いで、反応混合物をセライトを介して吸引濾過し、濾過ケーキをアセトニトリルで洗浄する。濾液を減圧下で濃縮し、残渣を石油エーテルとジイソプロピルエーテルの混合物と粉砕し、吸引濾過する。こうして、０．８ｇ（理論量の７４％）のメチル２−［４−（３−トリフルオロメチル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル）−２−メチルフェノキシ］メチルフェニルグリオキシレートＯ−メチルオキシムがｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝４．６２（ＨＰＬＣに従う含量：９６．５％）の無色粉末の形態で得られる。
【０１５５】
（実施例６）
【０１５６】
【化１５】
2004531551.tif 000016
【０１５７】
方法ｂ）
メチル２−［４−（３−トリフルオロメチル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル）−２−メチルフェノキシ］メチルフェニルグリオキシレートＯ−メチルオキシム（０．５ｇ，１．０７ミリモル）をメタノール（５０ｍｌ）中に溶解し、メチルアミンの４０％水溶液（１ｍｌ）を添加する。混合物を室温で一晩放置した後、溶媒を減圧下で留去する。残渣に水（約５０ｍｌ）を添加し、混合物を酢酸エチル（各３０ｍｌ）で２回抽出する。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮する。こうして、０．５ｇ（理論量の９９％）のＮ−メチル−２−［４−（３−トリフルオロメチル−１，２，４−チアジアゾル−５−イル）−２−メチルフェノキシ］メチルフェニルグリオキシルアミドＯ−メチルオキシムがｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝４．０８（ＨＰＬＣに従う含量：９５％）の無色粉末として得られる。
【０１５８】
下表１にリストした式（Ｉ）を有する化合物は、方法の一般的説明の記述に従って実施例１〜６と同様にして得られる。
【０１５９】
【表１】
2004531551.tif 000017
2004531551.tif 000018
【０１６０】
式（Ｖ）を有する中間体の製造
（実施例Ｖ−１）
【０１６１】
【化１６】
2004531551.tif 000019
【０１６２】
方法ｆ）
３−メチル−４−メトキシベンゾニトリル（製造については、例えば米国特許第５，４６４，８４８号明細書参照）（２６．６ｇ，０．１８モル）、塩化トリエチルアンモニウム（４９．６ｇ，０．３６モル）、ナトリウムアジド（２３．４ｇ，０．３６モル）及びジメチルホルムアミド（８０ｍｌ）の混合物を１８時間還流加熱する。次いで、溶媒を減圧下で留去し、残渣に水酸化ナトリウムの５％水溶液（１５０ｍｌ）を添加し、混合物を石油エーテルで抽出する。水性相を活性炭を介して濾過した後、濃塩酸水溶液を用いてｐＨ３に調節する。沈殿した生成物を吸引濾過し、水で洗浄する。こうして、３３．８ｇ（理論量の９９％）の純度９８％（ＨＰＬＣ）及びｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝１．５１の５−（３−メチル−４−メトキシフェニル）テトラゾールが得られる。
【０１６３】
（実施例Ｖ−２）
【０１６４】
【化１７】
2004531551.tif 000020
【０１６５】
方法ｉ）
５−（３−メチル−４−メトキシフェニル）テトラゾール（１１ｇ，０．０５７８モル）、炭酸カリウム（１１．３ｇ，０．０８２モル）、ヨードメタン（１１．６ｇ，０．０８２モル）及びアセトニトリル（１２０ｍｌ）の混合物を６０℃で１８時間撹拌し、水（２５０ｍｌ）を添加し、混合物を酢酸エチルで３回抽出する。有機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で濃縮する。こうして、１０．９ｇの生成物が得られる。この生成物をＨＰＬＣ分析したところ、この生成物は約６７％の所望の２−メチル−５−（３−メチル−４−メトキシフェニル）テトラゾール（ｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝２．３８）及び約３２％の異性体１−メチル−５−（３−メチル−４−メトキシフェニル）テトラゾールから構成されている。
【０１６６】
下記化合物も方法ｉ）に従って得られる。
【０１６７】
（実施例Ｖ−３）
【０１６８】
【化１８】
2004531551.tif 000021
【０１６９】
（実施例Ｖ−４）
【０１７０】
【化１９】
2004531551.tif 000022
【０１７１】
（実施例Ｖ−５）
【０１７２】
【化２０】
2004531551.tif 000023
【０１７３】
（実施例Ｖ−６）
【０１７４】
【化２１】
2004531551.tif 000024
【０１７５】
（実施例Ｖ−７）
【０１７６】
【化２２】
2004531551.tif 000025
【０１７７】
（実施例Ｖ−８）
【０１７８】
【化２３】
2004531551.tif 000026
【０１７９】
方法ｇ）
３−メチル−４−メトキシベンザミドオキシム（３ｇ，０．０１７モル）及びｏ−プロピオン酸トリエチル（１５ｍｌ）の混合物を１８時間還流加熱する。次いで、揮発性成分を減圧下で留去し、残渣を酢酸エチルに溶解し、溶液を水酸化ナトリウムの５％水溶液及び水と共に振盪する。有機相を乾燥し、減圧下で濃縮する。こうして、１．６ｇの黄色油状物が得られる。この生成物をＨＰＬＣ分析したところ、この生成物は約７３％の所望生成物（ｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝３．１９）から構成されている。
【０１８０】
（実施例Ｖ−９）
【０１８１】
【化２４】
2004531551.tif 000027
【０１８２】
方法ｈ）
室温において１，２−ジメトキシエタン（２０ｍｌ）中に３−トリフルオロメチル−５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール（製造については、ドイツ国特許出願公開第３，２２８，１４７号明細書参照）（０．５７ｇ，３ミリモル）を含む溶液に３−メチル−４−（４−クロロベンジルオキシ）フェニルボロン酸（１．２４ｇ，４．５ミリモル）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（５０ｍｇ）を添加する。次いで、２Ｍ  炭酸ナトリウム水溶液（４．８ｍｌ）を添加し、混合物を８０℃で４時間加熱した後室温で一晩撹拌する。水（約１００ｍｌ）を添加した後反応混合物を酢酸エチル（各５０ｍｌ）で２回抽出する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で乾燥する。残部は生成物１．５ｇである。この生成物をＨＰＬＣ分析したところ、この生成物は約６７％の３−トリフルオロメチル−５−［３−メチル−４−（４−クロロベンジルオキシ）フェニル］−１，２，４−チアジアゾール（ｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝５．７８）から構成されている。
【０１８３】
式（ＩＩＩ）を有する中間体の製造
（実施例ＩＩＩ−１）
【０１８４】
【化２５】
2004531551.tif 000028
【０１８５】
方法ｅ）
室温において無水ジクロロメタン（１５０ｍｌ）中にｂ）で得た１−及び２−メチル−５−（３−メチル−４−メトキシフェニル）テトラゾールの混合物（１０．７ｇ，０．０５２４ミリモル）を含む溶液に三臭化ホウ素（１５．８ｇ，０．０６２９モル）を滴下する。発熱反応終了後、混合物を室温で３時間撹拌し、更に三臭化ホウ素（７．９ｇ，０．０３１５モル）を添加する。混合物を室温で１８時間撹拌した後溶媒を減圧下で留去し、残渣に炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（３００ｍｌ）を添加する。水（１０ｍｌ）を添加後、沈殿した固体を吸引濾過し、水で洗浄する。所望生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ジクロロメタン／酢酸エチル  ５：１）により分離する。こうして、５．３ｇ（５３％）の２−メチル−５−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラゾールがｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝１．４５（ＨＰＬＣに従う含量：９９％）の無色粉末の形態で得られる。
【０１８６】
２．５ｇ（２５％）の異性体１−メチル−５−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラゾールがｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝１．０４（ＨＰＬＣに従う含量：９７％）の無色粉末の形態で得られる。
【０１８７】
（実施例ＩＩＩ−２）
【０１８８】
【化２６】
2004531551.tif 000029
【０１８９】
方法ｅ）
室温において無水ジクロロメタン（４０ｍｌ）中に５−エチル−３−（３−メチル−４−メトキシフェニル）−１，２，４−オキサジアゾリン（０．９ｇ，４．１ミリモル）を含む溶液に三臭化ホウ素（０．６ｍｌ，６．１ミリモル）を滴下する。混合物を室温で３時間撹拌した後更に三臭化ホウ素（０．７ｍｌ，７．１ミリモル）を添加する。混合物を室温で１８時間撹拌した後溶媒を減圧下で留去し、残渣に炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（３０ｍｌ）を添加する。水（１０ｍｌ）を添加後、沈殿した固体を吸引濾過し、水で洗浄する。こうして、０．８５ｇの５−エチル−３−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−１，２，４−オキサジアゾールがｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝２．０８（ＨＰＬＣに従う含量：９６％）の無色粉末として得られる。
【０１９０】
（実施例ＩＩＩ−３）
【０１９１】
【化２７】
2004531551.tif 000030
【０１９２】
方法ｅ）
室温において無水ジクロロメタン（５０ｍｌ）中にａ）で得た粗生成物（１．４ｇ，３．６ミリモル）を含む溶液に三臭化ホウ素（０．５５ｍｌ，５．５ミリモル）を滴下する。混合物を室温で１８時間撹拌した後溶媒を減圧下で留去し、残渣に炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液（３０ｍｌ）を添加する。水（１０ｍｌ）を添加後、沈殿した固体を吸引濾過し、水で洗浄する。生成物を石油エーテルと粉砕し、吸引濾過する。こうして、０．６ｇの３−トリフルオロメチル−５−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−１，２，４−チアジアゾールがｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝３．１０（ＨＰＬＣに従う含量：７８％）の無色粉末として得られる。
【０１９３】
下記化合物も方法ｅ）に従って得られる。
【０１９４】
（実施例ＩＩＩ−４）
【０１９５】
【化２８】
2004531551.tif 000031
【０１９６】
（実施例ＩＩＩ−５）
【０１９７】
【化２９】
2004531551.tif 000032
【０１９８】
（実施例ＩＩＩ−６）
【０１９９】
【化３０】
2004531551.tif 000033
【０２００】
（実施例ＩＩＩ−７）
【０２０１】
【化３１】
2004531551.tif 000034
【０２０２】
（実施例ＩＩＩ−８）
【０２０３】
【化３２】
2004531551.tif 000035
【０２０４】
式（ＶＩＩ）を有する中間体の製造
（実施例ＶＩＩ−１）
【０２０５】
【化３３】
2004531551.tif 000036
【０２０６】
方法ｊ）
３−メチル−４−メトキシベンゾニトリル（その製造については、例えば米国特許第５，４６４，８４８号明細書参照）（９．５ｇ，０．０６５モル）、ヒドロキシルアミン塩酸塩（９ｇ，０．１３モル）、炭酸カリウム（１７．９ｇ，０．１３モル）及びエタノール（８０ｍｌ）の混合物を１８時間還流加熱する。次いで、溶媒を減圧下で留去し、残渣を水（５０ｍｌ）と粉砕し、吸引濾過し、水で洗浄する。生成物を酢酸エチルと粉砕し、吸引濾過し、酢酸エチルで洗浄する。こうして、６．４ｇ（５５％）の３−メチル−４−メトキシベンザミドオキシムがｌｏｇＰ（ｐＨ２）＝０．３６（ＨＰＬＣに従う含量：９５％）のほぼ無色の粉末として得られる。
【０２０７】
使用例
（実施例Ａ）
ウドンコカビ試験（小麦）／防除：
活性化合物の適当な調製物を作成するために、１重量部の活性化合物を溶媒としての２５重量部のＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及び乳化剤としての０．６重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテルを混合し、濃厚物を所望濃度まで水で希釈する。
【０２０８】
防除活性を試験するために、幼植物に活性化合物の調製物を指定施用量でスプレーする。スプレー皮膜が乾燥したら、植物にウドンコカビ（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ  ｇｒａｍｉｎｉｓ  ｆ．ｓｐ．ｔｒｉｔｉｃｉ）の胞子を散布する。植物を約２０℃の温度及び約８０％の相対湿度の温室に置き、うどんこ病の病斑の発生を促進させる。
【０２０９】
接種から７日後に評価を実施する。０％はコントロールの効力に相当する効力を意味し、１００％は感染が観察されない効力を意味する。
【０２１０】
この試験では、実施例（１１，２）にリストされている本発明化合物は２５０ｇ／ｈａの施用量で９８％以上の効力を示す。
【０２１１】
（実施例Ｂ）
スフェロテカ試験（キュウリ）／防除：
活性化合物の適当な調製物を作成するために、１重量部の活性化合物を溶媒としての２４．５重量部のアセトン及び２４．５重量物のジメチルアセトアミド、乳化剤としての１重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテルと混合し、濃厚物を所望濃度まで水で希釈する。
【０２１２】
防除活性を試験するために、幼植物に活性化合物の調製物を指定噴霧量でスプレーする。スプレー皮膜が乾燥したら、植物にスフェロテカ（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ  ｆｕｌｉｇｉｎｅａ）の水性胞子懸濁液を接種する。次いで、植物を約２３℃の温度及び約７０％の相対湿度の温室に置く。
【０２１３】
接種から７日後に評価を実施する。０％はコントロールの効力に相当する効力を意味し、１００％は感染が観察されない効力を意味する。
【０２１４】
この試験では、実施例（８，９，１０）にリストされている本発明化合物は１００ｇ／ｈａの施用量で９７％以上の効力を示す。
【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
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