(57)【要約】イオン性プラズマ堆積を用いて基盤の表面中へ、又は表面上へ、抗-微生物性材料を堆積させるための方法。当該方法は、部分的真空中に堆積される抗微生物の潜在能力を有している標的材料から成る陰極を提供し、成分粒子のプラズマへと標的材料をイオン化するために陰極を駆動させたプラズマ放電を該陰極で発生させるステップを含んで成る。該プラズマ粒子は、イオン化ガスと反応し、そして陰極に隣接する少なくとも第一の陽極、及び第一の陽極に隣接して位置する第二の陽極により作製された電磁界により、選定され、制御され、又は基盤へと導かれる。更なる陽極構造体及び帯電スクリーン(charged screens)はプラズマ成分の更なる制御を提供する。抗-微生物性材料を含むプラズマ成分は、基盤中へ、及び基盤上へ抗-微生物性表面を形成する分散した秩序のとれた構造体として基盤上へ堆積する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下のステップ：
ａ）部分的真空中に、抗-微生物の潜在能力を有する標的材料から成る陰極を設置し、そしてイオン化した粒子のプラズマへと該標的材料をイオン化するために該陰極を駆動させて、プラズマ放出を該陰極で発生させ、
ｂ）部分的真空中へイオン化ガスを、そのガスが前記イオン化したプラズマ粒子と反応するように導入し；そして
ｃ）少なくとも１つの第一の陽極及び少なくとも１つの第二の陽極により作製された電磁界により該基盤へ該粒子を導くことで、該基盤中へ又は該基盤上へ分散した秩序のとれた構造体として、反応させた粒子を堆積させて、抗-微生物性表面を形成する、を含んで成る、選定された基盤上に抗-微生物性表面を堆積させるための方法。
【請求項２】
前記抗-微生物の潜在能力を有する標的材料が金属である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記金属が、銀、亜鉛、ニオブ、タンタル、ハフニウム、ジルコニウム、チタン、クロム、ニッケル、銅、プラチナ及び金、並びにそれらの組合せから成る群から選定される請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記イオン化ガスが、酸素、窒素、炭素及びホウ素から成る群から選定される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記金属がイオン化した銀粒子のプラズマへとイオン化される銀であり、前記イオン化ガスが酸素であり、そしてこの酸素は銀酸化物を形成するようにイオン化した銀プラズマ粒子と反応する、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記銀酸化物が１価、２価、及び多価銀酸化物並びにそれらの組合せから成る群から選定される、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
以下のステップ：
ａ）部分的真空中に、抗-微生物の潜在能力を有する標的材料から成る陰極を設置し、そしてイオン化した粒子のプラズマへと該標的材料をイオン化するために該陰極を駆動させて、プラズマ放出を該陰極で発生させ、
ｂ）部分的真空中へイオン化ガスを、そのガスが前記イオン化したプラズマ粒子と反応するように導入し；そして
ｃ）少なくとも１つの第一の陽極及び少なくとも１つの第二の陽極により作製された電磁界により該基盤へ該粒子を導くことで、該基盤上へ分散した秩序のとれた構造体として、反応させた粒子を堆積させて、抗-微生物性表面を形成する、
により、基盤上へ堆積される分散した粒子を含んで成る抗-微生物性表面。
【請求項８】
前記抗-微生物の潜在能力を有する標的材料が金属である、請求項７に記載の抗-微生物性表面。
【請求項９】
前記金属が、銀、亜鉛、ニオブ、タンタル、ハフニウム、ジルコニウム、チタン、クロム、ニッケル、銅、プラチナ及び金、並びにそれらの組合せから成る群から選定される、請求項８に記載の抗-微生物性表面。
【請求項１０】
前記イオン化ガスが、酸素、窒素、炭素及びホウ素から成る群から選定される、請求項７に記載の抗-微生物性表面。
【請求項１１】
前記金属がイオン化した銀粒子のプラズマへとイオン化される銀であり、前記イオン化ガスが酸素であり、そしてこの酸素は銀酸化物を形成するようにイオン化した銀プラズマ粒子と反応する、請求項８に記載の抗-微生物性表面。
【請求項１２】
前記銀酸化物が１価、２価、及び多価銀酸化物並びにそれらの組合せから成る群から選定される、請求項１１に記載の抗-微生物性表面。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基盤上に抗−微生物性表面を形成するための方法に関し、その表面は細菌性、真菌性、ウィルス性及び/又は微生物性感染を、かかる微生物を抑制するために有効な材料の制御された放出を通して予防又は治療するために有用である。特に本発明は、基盤上への制御された分散において、銀(Ag)、及び他の抗-微生物性金属、材料、又はそれらの組合せ物を堆積させるための方法に関する。より詳細には、本発明は、銀、金属酸化物、及び他の材料を、基盤上へ堆積させるべき材料のプラズマを作製する陰極アーク放電を利用することにより、基盤上へ堆積させる方法に関する。基盤上へのプラズマ成分の制御された分散は、陰極を囲む又は陰極に隣接する陽極によって生み出される制御された電磁気力の使用、並びに更なる他の装置、例えば可変的帯電スクリーン(variably charged screens)の使用を通して得られる。
【背景技術】
【０００２】
金属の殺菌特性、例えば銀、亜鉛、ニオブ、タンタル、ハフニウム、ジルコニウム、チタン、クロム、ニッケル、銅、プラチナ、及び金の殺菌特性は周知である。それらの金属の中でイオン又は化合物の形態にある銀は、おそらく最も公知であり、且つ最も抗-微生物性金属に広範に用いられている。元素状態の銀、及び天然の銀酸化物は、何らかの抗-微生物の利益を有すことが公知であるが、一般的に大部分の抗−微生物の適用に対し、非常に非反応性である。例えば、銀酸化物のペイント、及びインクを付すことは、それらの反応性及び溶解性の減少を導くことが当業界において開示されている。
【０００３】
銀酸化物、及び銀と他の材料の組合せ（化学的性質に基づく溶液の許容された方法を用いる）を通して、銀の反応性を改良する試みがなされた。例えば米国特許4,828,832 は、酸化剤、例えば過酸化ベンゾイルとの組合せにおける金属性銀粒子の皮膚感染治療への利用を開示する。当該金属性銀粒子は銀溶液、例えば水中の硝酸銀から得られる。
【０００４】
米国特許No.5,824,267は、プラスチック製品へ抗微生物性特性を与えるため、銀金属粒子、及びセラミック又は塩基性金属粒子をプラスチック製品の表面にはめ込むことを開示する。非常に細かい銀金属粒子は、銀の塩を含む水性溶液からの化学的堆積によって得られる。
【０００５】
銀粒子を作製するそれらの液体の方法は、それらの意図された目的のため作用するが、得られた銀粒子の構造を有意義に多様化することは可能でなく、当該方法は当該適用において非常に制限される。更に、いくつかのイオンの状態、例えば水溶性硝酸銀塩は、大部分の適用に対し非常に反応しやすいため、注意して制御する必要がある。溶液を基礎とする化学の他の問題は、有害な副産物を産することなく、正しい安定性の組合せを作り出すことである。ペースト類、塗料類、ポリマー類、及びゲル類の溶液中で結合した銀イオンは、別個の貯蔵期間を有し、且つそれらの構成成分と連続反応してしまう。
【０００６】
抗-微生物性金属イオンの徐放を生み出すことを可能にする抗-微生物性表面を得るための方法は、当業界において求められてきた。抗-微生物性イオンの徐放を生み出すための表面の能力は、特に外科用及び他のタイプの創傷被覆材と包帯、外科用縫合糸、カテーテル、並びに他の医療用装置、インプラント、補綴、歯科への適用、及び組織再生に有用であろう。抗-微生物性材料の徐放からの利益を享受する他の装置は、医療ツール及び表面、飲食店の表面(restaurant surfaces)、フェイスマスク、衣類、ドアノブ、及び他の設備、スイミングプール、浴槽(hot tubs)、飲料水フィルター、冷却システム、多孔性親水性材料、加湿器及び空気処理システムを含む。
【０００７】
金属イオンの徐放を生み出す一つの方法は、米国特許No. 4,886,505に開示されている。当該方法は、第一の金属、例えば銀で装置を覆い、そしてスイッチを通して第一の金属と連結した第二の金属、例えばプラチナを使用することを包含する。体液の存在下での銀及びプラチナ金属の存在は、銀イオンの放出又は遊離を意図する電流作用をもたらす。当該イオンの放出は、外部から当該装置を操作するスイッチによって制御される。
【０００８】
創傷被覆材又は医療用装置を覆った銀へ電流を適用させる技術は、米国特許4,219,125及び4,411,648にも開示されている。外部からのスイッチの制御、又は外部からの電流の使用は、金属イオン放出速度を増強させることができるが、かかる外部からの制御又は電流は、多様な応用には実用的でない。
【０００９】
米国特許No.6,365,220は、放出を維持するための外部からの電流を必要とせず、抗-微生物性イオンの徐放を提供する抗-微生物性表面を産するための方法を開示する。当該開示によれば、金属性薄フィルムの多層をスパッタリング又は蒸発方法を用いて、基盤上に堆積させる。異なる層のために異なる金属の組合せを用いることにより、及び層の表面を粗くする又はテキスチャーを与えるためのエッチング技術を用いることにより、マルチプルマイクロ層インターフェースを作製することができる。マルチプルインターフェースは、体液に曝される場合、電流作用及び非-電流作用によるイオン放出を提供する。
【００１０】
米国特許No. 5,837,275は、また抗-微生物性イオンの徐放を提供する抗-微生物性コーティングも開示する。当該開示は、“原子無秩序(atomic disorder)”を示す薄フィルム金属コーティングを得るためのスパッタ堆積の使用を教示する。当該開示によると、正常な秩序のとれた結晶状態と比べ、結晶格子における点欠陥、空格子点、線の欠陥、例えば、転位、格子間原子、アモルファス領域、グレン、及びサブグレン境界が高濃度の形態にある十分な原子無秩序は、金属性イオンの徐放のため必要とされる。かかる原子無秩序は、正常より高い処理ガス圧力、低い基盤温度、及び75°未満であるコーティング流の入射角で、特異的スパッタ堆積方法パラメーターを使用することにより達成される。
【００１１】
米国特許No.6,258,385は、四酸化四銀(Ag404)の単独の秩序のとれた結晶を開示する。四酸化四銀(Ag404)は、当該結晶中において２つの１価銀イオンから２つの３価銀イオンへ電子を移動させ、病原菌の細胞膜表面を横断することによって病原菌の死に貢献することにより病原菌に対し作用する。当該結晶構造は力学状態にある病原菌細胞膜表面を構成する、NH,NH2,S-S及びSH の如き不安定な基とより安定な錯体を形成しない限り、崩壊することはないであろう。当該四酸化四銀は、多様な皮膚疾患を治療するために典型的に担体、例えば鉱油中で適用される。しかしながら、かかる組成物は他の用途にとっては実用的でなく、そして再適用なしで、長期間（即ち、数日）に渡る抗-微生物性金属の徐放を提供する能力は、未だ実証されていない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、任意の表面に固着し制御された放出速度と寿命を有し、低い毒性を有し、及び所望される適用において微生物と接触させるまで活性化されない、抗-微生物性材料の継続しているニーズに応える。かかる材料は新規プラズマ堆積方法を用いて選定された表面上で堆積される。
【００１３】
真空中の陰極アークによる基盤上の金属材料の堆積は、当業界において公知である。しかしながら、公知の陰極堆積方法は、いくつかの不都合をこうむる。例えば、これらの方法はコートされることが意図された基盤だけでなく、全システム表面をコートしがちである。更に、アーク限定スキームは、度々のクリーニングを必要とし、そしてアークスポットを陰極と隣接する非-陰極性材料に接触させた時、コンタミネーションの問題が起こり得る。また、高価な材料の浪費は、標的材料の非効率的な使用、及び粒子制御の欠乏のために起こり得る。堆積する材料の制御の欠乏は、多様な大きさの粒子の形成をもたらすことができ、それは不均一なコーティングの堆積を導くことができる。典型的にこれらの方法は、基盤表面を非常に高温へ加熱することを要し、それは基盤材料を損傷させ、且つ基盤の選定を制限させる。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
発明の概要
本発明の目的は、イオン性プラズマ堆積方法、及び抗-微生物性粒子の独立した層を形成するための装置を使用することにより基盤上へ抗-微生物性材料を堆積させる方法を提供することである。
【００１５】
本発明の更なる目的は、任意の最終製品上での抗-微生物性表面を産するための方法を提供する。従って、錯化学、ペースト化、プリンティング、及び結合技術を使用する必要性を排除する。
【００１６】
本発明の他の目的は、治療に有効なレベルで抗-微生物性材料の徐放を提供する抗-微生物性表面を提供することである。
【００１７】
本発明の他の目的は、金属イオンの徐放のための基盤中へ分散させた１以上の成分の金属酸化物を浸み込ませ、又は堆積させることにより抗-微生物性表面を提供することである。
【００１８】
従って、本発明は、ナノ、ピコ、及びマイクロのサイズの結晶性金属及び金属酸化化合物の固体状態構造中へ結合した銀又は他の金属イオンの堆積、浸透又は層形成を提供し、それは分離して表面中又は表面上へ分散させた、モノ-、ジ-、及び多価酸化物の組合せとして、デザインすることができる。当該銀イオンは、その後、それらの固有の酵素活性、或いは水の付加又は体液との接触による放出のため、病原菌との接触により、放出されるだろう。金属酸化物の層は、表面のイオン活性を作動させる銀金属の層上又は層中へ堆積させることができ、又は層化することもでき、或いは銀イオンの放出を増強させる他の装置に動力を与えるために使用することもできる。それらの装置の例は、マイクロポンプ、インプラント、流電表面、及び他の動力を必要とする装置に動力を与える酸化銀バッテリーが含まれる。
【００１９】
当該方法は、制御された組成物を要する多種多様な装置の製造のために有用であるが、特に小さな製造物から非常に大きな領域での役割、即ち殺菌性、殺バクテリア性、生物破壊性、もしくは抗-微生物性表面に必要である、例えば包帯、或いは個々の部品（例えば、カテーテル、ステント又はインプラント）に有用である。当該方法は、1価、２価、及び多価の酸化物及びオキシ-窒化物、-ホウ化物、-炭化物、-ケイ化物の組合せ物の広範囲におけるイオン化酸素もしくは他のガスに組合されたイオン化材料の量、粒子サイズ及びエネルギーの制御をもたらす。
【００２０】
当該方法は抗-微生物性産物を作成するため、又は存在している産物及び原料を表面処理するために使用することができる。当該方法は抗-微生物性活性を増強させるため、又はマイクロポンプ、インプラント、流電性表面、及び他の動力が必要な装置の駆動のための銀酸化物バッテリーの如き、その他のナノ技術装置を駆動させるため、小スケールエネルギー装置を同時に作製するために使用することができる。
【００２１】
従って、本発明の１つの観点は、基盤上の抗-微生物性表面を堆積するための方法を提供し、当該方法は、部分的真空中に潜在的な抗-微生物性金属材料から成る陰極を設置し、そして陰極を駆動させてイオン化した粒子のプラズマへ陰極をイオン化する陰極でアークを発生させ；部分的真空中へ反応性ガスを、そのガスがイオン化したプラズマ粒子と反応するように導入し、そして最重要事項として、少なくとも１つの第一の陽極、及び少なくとも１つの第二の陽極により作製された電磁界により基盤へプラズマ粒子を導くことで基盤上に当該粒子の分散を形成するステップを含んで成る。
【００２２】
本発明の第二の観点は、分散した秩序のとれた金属性酸化粒子の分散を含んで成る抗-微生物性表面を基盤へ提供することであり、ここで当該金属は、銀、ニッケル、亜鉛、銅、金、プラチナ、ニオブ、タンタル、ハフニウム、ジルコニウム、チタン、クロム、及びそれらの組合せから成る群から選定される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
発明の詳細な説明
本発明は選定された基盤材料上へ又は基盤材料中へ抗-微生物性材料を堆積させるための方法に関する。当該基盤は、任意の材料、例えば金属、セラミック、プラスチック、ガラス、フレキシブルシート、多孔性紙、セラミックス又はそれらの組合せであってよい。 当該基盤材料は多種多様な装置であってよいが、当該基盤材料は好適には医療用装置である。かかる医療用装置は、カテーテル、インプラント、ステント、気管チューブ、整形外科のピン、シャント、ドレーン、補綴装置、歯科用インプラント、包帯及び創傷閉鎖(wound closures)を含んで成る。しかしながら、本発明はかかる装置を制限するものではないと理解されるべきであり、そして医療分野における、例えばフェイスマスク、衣類、外科用ツール及び表面に有用である他の装置へ拡張してよい。本明細書において使用される用語“医療用装置”とは、全てのかかる装置へ幅広く拡張されることを意図する。
【００２４】
同様に、当該抗-微生物性材料は、抗-微生物性特性を有する任意の固体材料又は材料の組合せであってよい。好適な材料は、潜在的に抗-微生物性特性を有している金属であり、且つ生体適合性である(即ち、意図された環境で損傷しない)。かかる金属は、銀、亜鉛、ニオブ、タンタル、ハフニウム、ジルコニウム、チタン、クロム、ニッケル、銅、プラチナ及び金(また本明細書において“抗-微生物性金属”として言及されるもの)を含んで成る。用語“潜在的な抗-微生物性特性”とは、それらの金属が、それらの元素状態において、抗-微生物性効果を与えるため、典型的に非常に非反応性であるという事実を認識することを意味する。しかしながらそれらは金属がイオン化した時に抗-微生物性効果を有す潜在能力を有す。従って、当該抗-微生物性金属は、金属のイオン化が実現されるという潜在的抗-微生物性特性を有す。イオン化した時、当該抗-微生物性金属は、窒化物、炭化物、酸化物、ホウ化物、及びそれらの組合せを作製するため、例えば窒素、炭素、酸素、又はホウ素を含む多種の反応性ガスと組合すこともできる。
【００２５】
本発明によれば、抗-微生物性金属は、部分的真空中、粒子（particulate）成分のプラズマへと標的金属の陽極をイオン化することにより、基盤の表面上又は表面中に堆積される。本発明による抗-微生物性材料の制御された堆積を実施するために適するイオン性プラズマ堆積装置は、国際特許出願(PCT)No.WO 03-044240 Alで開示され、その出願はその全体が参考文献により本明細書に組み入れられた。イオン性プラズマ堆積方法を実施するための一つの適した装置を図１に図解する。図１に示す通り、標的材料の陽極54 は真空チャンバー52中に堆積する。当該陽極54は、陰極への動力源により供給される動力から陰極でアークを作製することによりイオン化される。当該プラズマ成分は、陰極付近の少なくとも第一の陽極56、及び第一陽極に隣接して位置する第二の陽極62により構築された電磁界により選定され、制御され、又は基盤へと導かれる。追加の陽極構造体70及び 可変的帯電スクリーン90をプラズマ成分の更なる制御を提供するために使用することもできる。
【００２６】
所望される抗-微生物性金属が銀である場合、例えば、銀から形成された陰極は、銀をその上に堆積させることが所望された基盤と一緒に、イオン性プラズマ堆積装置の真空チャンバー中に置かれる。陰極として使用する銀は、低純度の銀金属も使用することができるが、任意の潜在的毒性材料を除くため、医療用グレード(即ち、純度99.99%) の銀金属が好適である。当該真空チャンバーは、典型的に0.1 mTから30 mTの範囲にある適した処理圧力へポンプされる。徐放速度を有する効果的な抗-微生物性表面を産するためのイオン性プラズマ堆積方法の能力は、処理圧に依存せず、そしてO.lmTから30mTの典型的な範囲にある任意の圧力を使用してよい。同様に、当該イオン性プラズマ堆積方法は、操作温度に依存しない。典型的な操作温度は、25から75℃の範囲にあり、そして典型的範囲内にある任意の温度は、適する抗-微生物性表面を産するために使用することができる。
【００２７】
当該基盤は、例えば回転台80の上で回転させることができ、又は過堆積エリアを堆積材料の導入軌道に対し任意の方位に巻取り通過させることができる。陰極で電気的アークを産するために陰極へ動力を提供する。この動力は数アンペアから数百アンペアの電流の範囲であってよく、そして源材料に固有な電圧をかけることができる。有用な電圧は、典型的に12ボルトから60ボルトの範囲にあり、そして源材料の大きさへ適宜スケール化し、それは数インチの長さから何フィートの長さにできる。当該電気的アークは、銀イオンのプラズマ、中性的に添加される粒子、及び電子へと銀金属陰極をイオン化する。当該イオン、電子及び中性粒子は、酸素のようなイオン化ガスと結合する前に、それらを分離し、且つそれらの軌道及びエネルギーを制御する陽極構造体56,62,70及び90へ分散される。酸素を当該プラズマ中へ典型的な10から1000 sccmの比率で導入し、そして銀イオンと組合せて銀酸化物粒子を形成する。当該銀酸化物粒子は、所望されるイオン放出速度、及び基盤の最終的な用途に依存して、1ナノメートル未満から約50マイクロの範囲の粒子サイズを有することができる。
【００２８】
当該陽極構造体は、それが反応性ガスと組合さった時、イオンの加速度を制御することにより基盤でのそれらの粒子の粒子サイズ及び分散を制御し、それによって電子ボルト中で測定されたその潜在的エネルギーを制御している。多様に帯電したイオンの電位エネルギーは、その多価酸化物、例えばAg20, Ag202, Ag203, Ag404 等への酸素及び他のガスの結合能を決定するであろう。多様な環境におけるそれらの酸化物の反応性は、全体の粒子サイズにより決定することができる。基盤中へ又は基盤上へ分散されるより小さい粒子は、等価構造の大きな粒子よりも高率で反応する。
【００２９】
長時間に渡り有効な放出速度を得るために、抗-微生物性表面の金属イオン放出速度を制御することも可能である。かかる制御された金属放出は、基盤上に１価、２価、及び多価の酸化物を含む多様な構造の酸化物の組合せを堆積させることにより得られる。本明細書において使用される“多価”とは、１以上の価の状態をいい、そしてイオン上の電荷又はその電子状態に基づき所定のイオンへと割り当てされることができる電荷を言うと理解されるべきである。酸化物の組合せは、抗-微生物性活性を増強させるためのイオン濃度の制御、及び金属イオンの徐放に貢献する異なるイオン放出速度を示す。酸化物のかかる組合せは、陽極構造体の電磁気エネルギーをプラスにし、陽極構造体の電流及び形態を変化させることにより作製される。多価酸化物は、中性金属粒子上で作製することもでき、なぜならそれらはプラズマ中で酸化されるからである。これは更に、多種のサイズ及び多種の価数状態の酸化物の組合せを作製することにより、堆積した材料の徐放を増強させる。 かかる組合せの利益は、長期間かけたイオン放出の増加である。
【００３０】
銀酸化物粒子は、その後、分散した秩序のとれた銀酸化物粒子の分散形態で、基盤表面上へ堆積する。当該分散は、それらが陽極構造体から出ていく際に、当該粒子の制御された軌道により形成される。当該基盤の回転速度又は線形速度は、変えることで基盤材料上へ金属酸化物を分散させ、任意の所望される配置の秩序のとれた構造を作り出すこともできる。本明細書において使用される用語“秩序のとれた”又は“秩序のとれた構造体”とは、意図的に作製された元素化合物の構造体をいう。基盤表面上への秩序のとれた銀酸化物の分散は、金属酸化物の連続的な結晶、アモルファス、又は無秩序な薄フィルムの抗-微生物性表面と比較して、微生物が存在している場合、改良した反応速度を有する抗-微生物性表面をもたらす。
【００３１】
抗-微生物性応答を運搬する抗-微生物性表面の有効性は、抗-微生物性表面を形成するための操作処理時間にも依存する。５秒から分単位のより長い操作処理時間は、異なる抗-微生物性応答を有する抗-微生物性表面をもたらす。
【００３２】
制御された金属放出は、基盤上に異なる金属酸化物の組合せを堆積させることによっても得られる。これらの組合せは、銀及びチタン、銀及び金、銀及び銅、銀、銅及び金を含む。他の材料は、多様な組合せの中で、共-堆積化金属、合金物、又は交互となった層(alternating layers)として組合せることができる。プラズマ環境の制御及び適応性は、より大きな範囲の組合せを許容する。
【００３３】
本発明は更に以下の制限的でない実施例で説明される。
【実施例】
【００３４】
図１で説明するイオン性プラズマ堆積装置は、典型的にはヘルニア回復のために使用されるポリプロピレン(propropylene)メッシュ上へ、抗-微生物性表面を堆積させるために使用する。真空チャンバー、及びポリプロピレンメッシュ基盤に設置した医療グレード(純度99.99%)の銀の陰極は、回転台の上に置く。真空チャンバーは、20mTの圧力へポンプする。プラズマ粒子中への銀をイオン化する電気アークを生み出すために陰極へ供給される電流は、100 ampsである。第一の陽極へ供給される電流は、54と75ボルトとの間で変動する電圧で50 ampsであり、そして第二の陽極への電流は、26ボルトで25 ampsである。酸素は50 sccmの率でプラズマ中に導入する。当該堆積方法は、周囲温度で行う。40秒の堆積時間後、銀酸化物の粒子の分散体を、ポリプロピレンメッシュ基盤の表面上へ堆積させる。銀酸化物粒子は、処理されたポリプロピレンメッシュの周囲及び下の完全な阻害帯により実証される通り、効果的な抗-微生物性表面を形成する。
【００３５】
更に、本発明は、それらの特異的態様に関して発表された。それは、多様な改変及び修飾をしてもよく、且つ本発明の精神及び範囲から離れずに同等物に置換してよいことを当業者により理解されるであろう。特に、それぞれのデザインの化学的及び医薬的な詳細事項は、本発明の範囲を離れずに通常の当業者により軽度に異なるものにしてもよく又は軽度に改変をしてもよいことを理解されるであろう。全てのかかる改変は、添付の請求項の範囲の中にあるものと意図される。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】図１は、本発明の方法の実施に適したイオン性プラズマ堆積器具の図式概要である。
【図１】
2006515387.tif 000002
【国際調査報告】
2006515387.tif 000003