(57)【要約】低温粉砕によって古ゴムおよび古ゴム製品を処理するための設備であって、粉砕したい粉砕材料を冷却するための冷却トンネルと、異物分離器と、低温冷却された粉砕材料のための粉砕装置とが設けられている形式のものにおいて、粉砕器（１７，１８７ａ）を備えた多段式の前粉砕部が設けられており、前粉砕された粉砕材料が、複数の冷却ゾーンに分割された低温冷却設備を通って案内されるようになっており、該低温冷却設備内で粉砕材料に液状の低温冷却剤が吹付け可能であり、該低温冷却設備に補償システムが後置されており、低温冷却された粉砕材料が、続いて設けられた多段式の微粉砕器内で段階的に微粉砕されるようになっている。
2004511344.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数回の低温粉砕によって古ゴムおよび古ゴム製品を処理するための設備であって、粉砕したい材料を冷却するための低温冷却装置と、異物分離器と、分級装置とが設けられている形式のものにおいて、
−多段式の前粉砕部（１２，１３，１７，１７ａ）が設けられており、
−後置された多段式の低温冷却設備（３０）が設けられており、該低温冷却設備（３０）が；
ａ）予冷却トンネルシステム（３１，３１ａ）を有しており、該予冷却トンネルシステム（３１，３１ａ）内に低温の冷却剤排ガスが導入可能であり、
ｂ）主冷却トンネルシステム（３２，３２ａ）を有しており、該主冷却トンネルシステム（３２，３２ａ）内で、前粉砕された材料に液状の低温冷却剤が吹付け可能であり、
ｃ）さらに補償システム（３３，３３ａ）を有しており、
−前記低温冷却設備（３０）に後置された、低温冷却された粉砕材料のための多段式の粉砕器（４２，４４；４２ａ，４４ａ）が設けられており、
−粉砕材料を処理するための第１の分級・分離装置が設けられており、
−後続の別の低温冷却装置が設けられており、該低温冷却装置が；
ａ）予冷却トンネルシステム（９４，９４ａ）を有しており、該予冷却トンネルシステム（９４，９４ａ）内に低温の冷却剤排ガスが導入可能であり、
ｂ）主冷却トンネルシステム（９８，９８ａ，９８ｂ，９８ｃ）を有しており、該主冷却トンネルシステム（９８，９８ａ，９８ｂ，９８ｃ）内で、前粉砕された材料に液状の低温冷却剤が吹付け可能であり、
ｃ）さらに補償システム（９９，９９ａ，９９ｂ，９９ｃ）を有しており、
−低温冷却システムに後置された、低温冷却されたガスのための微粉砕器（１０２２，１０２ｂ，１０２ｃ）が設けられており、
−さらに、前記微粉砕器に続いた、粉状の粉砕材料を処理するための別の分級・分離装置が設けられている
ことを特徴とする、古ゴムを処理するための設備。
【請求項２】
低温粉砕によって古ゴムおよび古ゴム製品を処理するための設備であって、粉砕したい粉砕材料を冷却するための冷却トンネルと、異物分離器と、低温冷却された粉砕材料のための粉砕装置とが設けられている形式のものにおいて、多段式の前粉砕部が設けられており、該前粉砕部に前粉砕器（１７，１７ａ）が設けられており、複数の冷却ゾーンに分割された低温冷却設備（３０）が設けられており、該低温冷却設備（３０）を通って、前粉砕された粉砕材料が案内可能であり、該低温冷却設備（３０）内で粉砕材料に液状の低温冷却剤が吹付け可能であり、該低温冷却設備（３０）に補償システム（９９，９９ａ，９９ｂ，９９ｃ）が後置されており、低温冷却された粉砕材料が、続いて設けられた多段式の微粉砕器（１０２，１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃ）内で段階的に微粉砕可能であることを特徴とする、古ゴムを処理するための設備。
【請求項３】
予冷却トンネルシステム（３１，３１ａ）から低温の冷却剤ガスが導出可能であり、冷却剤排ガスが別の低温冷却プロセスに供給可能である、請求項１または２記載の設備。
【請求項４】
微粉砕器（１０２，１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃ）に金属分離器（４３，４３ａ）が後置されており、該金属分離器（４３，４３ａ）に、ゴム部分を剥離させる低温分離装置（４５，４５ａ）と別の粉砕器（４４，４４ａ）とが対応配置されている、請求項１または２記載の設備。
【請求項５】
前記粉砕器（４４，４４ａ）に加熱・乾燥装置（４９）が後置されており、該加熱・乾燥装置（４９）に前分級設備（６０）と、１つまたは複数の並列の後処理装置（６５，６５ａ，６５ｂ）とが後置されている、請求項１または２記載の設備。
【請求項６】
前記後処理装置（６５，６５ａ，６５ｂ）で形成された材料が、前記前分級設備（６０）で分離された顆粒と合流可能であり、かつ分離装置（６６，６６ａ，６６ｂ）に供給可能である、請求項５記載の設備。
【請求項７】
前記分離装置（６６，６６ａ，６６ｂ）に、分級の級数に適合可能な多段式の分級装置（７３，７３ａ，７３ｂ）が後置されている、請求項６記載の設備。
【請求項８】
前記分級装置（７３，７３ａ，７３ｂ）に、各粒度級のために重成分分離器（７６，７６ａ，７６ｂ）と軽成分分離器（８１，８１ａ，８１ｂ）とが後置されている、請求項７記載の設備。
【請求項９】
オプトエレクトロニック式のコントロール・後選別装置（８５，８５ａ，８５ｂ）が設けられている、請求項１から８までのいずれか１項記載の設備。
【請求項１０】
別の多段式の低温冷却部が設けられており、該低温冷却部が、予冷却装置（９４，９４ａ）と、主冷却トンネルシステム（９８，９８ａ）と、補償システム（９９，９９ａ，９９ｂ，９９ｃ）とから成っており、該低温冷却部で、低温冷却されて形成されかつ清浄にされた顆粒が、再び脆化温度へもたらされるようになっている、請求項１または２記載の設備。
【請求項１１】
低温の冷却剤ガスが、冷ガスベンチレータ（９５，９５ａ）と冷ガス管路（９５ｂ，９５ｃ）とによって、前粉砕された粉砕材料のための低温冷却設備（３０）から、顆粒のための予冷却装置（９４，９４ａ）内に導入可能である、請求項１０記載の設備。
【請求項１２】
前記予冷却トンネルシステム（３１，３１ａ）と、前記予冷却装置（９４，９４ａ）と、前記加熱・乾燥装置（４９，１０６）とに、冷却剤排ガスと乾燥排ガスとを合流させるためのガス混合器（９６）が対応配置されている、請求項１から１１までのいずれか１項記載の設備。
【請求項１３】
顆粒冷却部（９３）に、分離器（１０３，１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃ）を備えた微粉砕器（１０２，１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃ）と、搬送媒体として働く冷却剤ガスの循環案内部とが対応配置されている、請求項１から１２までのいずれか１項記載の設備。
【請求項１４】
前記顆粒冷却部（９３）と、低温の前記微粉砕器（１０２，１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃ）とに、冷ガスベンチレータ（１０１，１０１ｂ）と、冷却材排ガスを前記予冷却トンネルシステム（３１，３１ａ）に搬送するための冷ガス搬送手段（１０１ａ，１０１ｃ）とが対応配置されている、請求項１３記載の設備。
【請求項１５】
前記微粉砕器（１０２，１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃ）に、加熱・乾燥装置（１０６）と、混合器（１１４）と、分散剤供給のための調量装置（１１５）とが後置されている、請求項１４記載の設備。
【請求項１６】
前記混合器（１１４）に、粉分級部（１２０，１２０ａ）と、粉粒度に応じて分割された軽材料−後分離装置（１２２，１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃ）と、粉清浄化部（１２５，１２５ａ）とが後置されている、請求項１５記載の設備。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、複数回の低温粉砕によって古ゴム（廃ゴム）および古ゴム製品を処理するための設備であって、粉砕したい材料を冷却するための低温冷却装置と、異物分離器と、分級装置とが設けられている形式のものに関する。
【０００２】
工業ゴム製品からの古タイヤおよび廃棄製品は、豊富な原料ポテンシャルである。しかし、それと同時に、ますます増大しつつある発生量に基づき、かなりの環境負荷も生じている。循環型経済の原理の観点で、かつＣＯ２エミッションの世界的規模での削減を目指す努力に鑑み、工業ゴム製品からの古タイヤおよび廃棄製品のリサイクルは、ますます重要となりつつある。
【０００３】
そこで、たとえばドイツ連邦共和国特許第３９１５９８４号明細書に基づき、古ゴムを処理する、つまりリサイクルすることのできる設備が公知である。問題となるのは、十分に加硫された加硫ゴムであるゴムが、加熱によって可塑化されるのではなく、炭化されてしまうことである。前で挙げた設備は、直列に接続された２分割された冷却トンネルを用いて作動する。両冷却トンネルはそれぞれ、材料を投入端部から投出端部にまで運動させるコンベヤを備えており、この場合、第１のコンベヤの投出端部は第２のコンベヤの投入端部の上方に位置している。
【０００４】
ドイツ連邦共和国特許出願公告第１００４４６０号明細書には、別の粉砕設備が記載されている。しかし、この粉砕設備は、程度の差こそあれ偶然に行われる予冷却を用いて作動する。この粉砕設備を用いても、目的に適った意図的な冷却を行うことは不可能である。冷却剤使用の特に高い消費量および低い効率が不都合となる。
【０００５】
古ゴムもしくは廃ゴムは、自動車タイヤの、もはや更生不可能なカーカスの形でも大量に発生する。このような古タイヤはその高い金属含量または繊維含量に基づき、大きな廃棄問題となる。これまで汎用的に行われている燃焼処理では、このような古タイヤは大量の有害物質含有排ガスを発生させてしまう。そして、このような排ガスを処理するために、結局は手間のかかる濾過設備が必要となる。別の問題は、カーカス内に埋め込まれている繊維または金属の強化封入物である。
【０００６】
古ゴムもしくは廃ゴムは公知の低温法により、顆粒化によって再使用可能な二次原料へ変換されることが望ましい。これにより、古ゴムを再び生産プロセスに供給することができる。このためには、弾性的な古ゴムが冷却剤、有利には液体窒素を用いて、極めて低い温度にまで冷却される。温度は約−１４０℃であることが望ましく、これによって古ゴムを脆化し、次いで粉砕することができる。
【０００７】
公知の方法において問題となるのは、粉砕したい古タイヤのコアゾーンにまで到達する十分な冷却と脆化とを得ることである。このためには、古タイヤを冷却剤で十分に長い時間負荷することが必要となる。それと同時に、摩擦による再加熱を阻止するために、ゆっくりと冷却されるタイヤの申し分のない搬送が保証されていなければならない。
【０００８】
別の問題は、カーカス内に堆積されている繊維または金属の強化封入物である。これらの成分も、できるだけ純粋な状態で回収したい原料である。
【０００９】
国際公開第９９／０８８４９号パンフレットに記載の熱分解法（Ｐｙｒｏｌｙｓｅｖｅｒｆａｈｒｅｎ）のようなリサイクリング法は、このような要求に応えることができない。なぜならば、古ゴムの全ての有機成分が、石油化学的な成分に分解され、この場合、熱分解製品のかなりの部分が、所要のプロセスエネルギを発生させるために使用されなければならないからである。
【００１０】
ゴム顆粒およびゴム粉を取得する目的で、種々の設備が開発されている。これらの設備は、古タイヤが公知の技術によって前粉砕され、引き続き低温冷却され、かつ粉砕されることにより特徴付けられている。
【００１１】
さらに、ドイツ連邦共和国特許第４０３３５９９号明細書に基づき公知の設備では、冷却トンネルが２つの並列のプロセスラインに配置されている。冷却トンネルはポンプ循環装置を備えている。これらのポンプ循環装置を用いて、冷却剤を一方の部分から他方の部分へ温度補償のために循環させることができる。冷却トンネル内には、蒸発した冷却剤のための循環装置が配置されている。これにより、材料は十分に長い時間、冷却剤で著しく負荷される。
【００１２】
上で説明した設備は、古ゴム材料の単段式の冷却・粉砕を行って作動する。しかし、このような低温粉砕設備において製造可能となるゴム顆粒およびゴム粉は工業的な再処理および後処理のためには極めて不都合な性質を有していることが判った。このようなゴム顆粒およびゴム粉は、まだ高い含量の随伴物質、たとえば繊維および／またはスチール（鋼）を含有していて、種々異なるコンシステンシを有しており、かつ粗い粒子スペクトルを有している。このような古ゴム製品はタイヤ製造における大工業的な再使用のためには不適当であり、しかも著しい工業的な処理問題を招いてしまう。さらに、分離除去された強化材料、たとえばスチールまたは繊維は、互いにきれいに分離されず、高い含量の残留ゴムを有している。
【００１３】
本発明の課題は、古ゴムおよび古ゴム製品をできるだけ完全にリサイクリングし、かつ自体公知の低温法により、再び生産プロセスに供給され得る二次原料へ変換することのできる設備を提供することである。
【００１４】
この課題は、請求項１の特徴部に記載の特徴、特に多段式の前粉砕部が設けられており、該前粉砕部に後置された、つまり該前粉砕部の下流側に配置された多段式の低温冷却設備が設けられており、該低温冷却設備が予冷却トンネルシステムを有しており、該予冷却トンネルシステム内に付加的に低温の冷却剤排ガスが導入可能であり、前記低温冷却設備が主冷却トンネルシステムを有しており、該主冷却トンネルシステム内で、前粉砕された材料に液状の低温冷却剤が吹付け可能であり、前記低温冷却設備がさらに補償システムを有しており、前記低温冷却設備に続いた、低温冷却された粉砕材料のための多段式の粉砕装置が設けられており、粉砕材料を処理するための第１の分級・分離装置が設けられており、後置された別の低温冷却装置が設けられており、該低温冷却装置が予冷却トンネルシステムを有しており、該予冷却トンネルシステム内に低温の冷却剤排ガスが導入可能であり、前記低温冷却装置が主冷却トンネルシステムを有しており、該主冷却トンネルシステム内で、前粉砕された材料に液状の低温冷却剤が吹付け可能であり、前記低温冷却装置がさらに補償システムを有しており、低温冷却システムに後置された、低温冷却されたガスのための微粉砕器が設けられており、さらに、前記微粉砕器に続いた、粉状の粉砕材料のための別の分級・分離装置が設けられていることにより解決される。
【００１５】
このような手段により、極めて高い純度のゴム顆粒およびゴム粉を製造することができる。このようなゴム顆粒およびゴム粉は、新タイヤおよび別のゴム製品内に、その強度および負荷耐性またはその他の工業的特性に不都合な影響を与えることなしに、問題なく混入させることができる。これにより、新しい原料の使用量を減少させ、資源を節約し、古タイヤを処分する際の問題を有効に解決することができる。
【００１６】
このためには、弾性的な古ゴムが、冷却剤、有利には液体窒素によって極めて低い温度にまで冷却される。処理温度は約−７０℃〜−９０℃よりも下になければならない。これによって、古ゴムを脆化させ、そして顆粒に粉砕することができる。この場合、それと同時にゴム材料は強化材料であるスチールワイヤおよび繊維封入物から分離する。問題となるのは、粉砕したい古タイヤのコアゾーンにまで達する十分な冷却と脆化とを達成することである。このためには、古タイヤを冷却剤で十分に長い時間負荷することが必要となる。
【００１７】
全プロセスは２つの主プロセス、つまり低温顆粒形成と低温ゴム製粉とに分割されており、この場合、これらの主プロセスは、特別に調整された粉砕・分級・選別技術と相まって実施される。タイヤは複数の段階で前粉砕されて、複数の冷却ゾーンに分割された低温冷却トンネルを通って案内される。この低温冷却トンネル内では、液状の低温冷却剤が材料に吹き付けられる。冷却プロセスの後に、低温冷却された材料は、続いて設けられた多段式の、金属・繊維選別を備えたプロセスで粉砕されかつ異物除去される、つまり清浄にされる。こうして形成された、極めて純粋な顆粒は、再び冷却プロセスに供給され、特殊なミル内で微粉の形に処理され、そして引き続き異物除去される。
【００１８】
顆粒製造部全体は、保守・修理作業が迅速にかつ問題なく行われ得るように形成されている。この目的のためには、少数のハンドグリップ（取っ手）しか有しない個々の粉砕器および分離装置を、固定的に取り付けられた移動装置によって作業位置からサービス位置へ置き換えることができる。冷却トンネル上に取り付けられた吊り上げ装置（図示しない）により、サービス位置において場合によっては必要となる修理が容易となる。
【００１９】
本発明のさらに別の有利な構成は、請求項２以下に記載されている。以下に、本発明の実施例を図面につき詳しく説明する。
【００２０】
図１に示したタイヤ粉砕設備１０は、主としてタイヤ供給部１１を有している。このタイヤ供給部１１は調量部１１ａと、供給装置１２とから成っている。タイヤ供給部１１には、第１の粉砕器１３が後置されている。言い換えれば、タイヤ供給部１１の下流側には、第１の粉砕器１３が配置されている。この第１の粉砕器１３では、供給された古タイヤが規定のサイズにまで前粉砕される。第１の粉砕器１３には、分離器１４が後置されている。この分離器１４では、鉱物質成分と水とが分離される。
【００２１】
粗粉砕された材料はコンベヤ１５を用いて分配器１６を介して第２の粉砕器１７，１７ａに供給される。分配器１６はリバーシブルに、つまり可逆式に制御されるので、並列に配置された後続の第２の粉砕器１７，１７ａに材料が均一に供給される。
【００２２】
選択的に、コンベヤ１５には、古タイヤまたはプラスチック・金属・繊維複合材料から成る、前粉砕された材料を供給することもできる。
【００２３】
第２の粉砕器１７，１７ａには、それぞれ分級装置１８，１８ａが続いている。粗成分は粗粒子戻し案内部２０，２０ａを介してコンベヤ１５に戻され、そしてこれらの粗成分はもう一度、第２の粉砕器１７，１７ａへ搬入される。
【００２４】
タイヤ片は分級装置１８，１８ａから分離器１９，１９ａに流入する。分離器１９，１９ａは裸出されたスチール補強部分または繊維補強部分と微細材料とを分離除去する。分離除去されなかった材料は、コンベヤシステム２５を介して分配装置２６に供給される。裸出された補強部分および微細材料は、合流装置２１によって合流させられて、ルーズニング装置もしくは緩め装置２２を介してスチール分離器２３にまで搬送される。
【００２５】
スチール分離器２３からは、このときにまで生じた裸出した補強部分、特に金属部分が、微細材料から分離される。これらの金属部分、たとえばビードワイヤ片は、トラック用タイヤの場合には、たとえば５〜１０ｃｍの長さと、２〜６ｍｍ２の横断面積とを有している。スチール分離器２３には、製品化のための回収処理部（Ｋｏｎｆｅｋｔｉｏｎｉｅｒｕｎｇ）２４、たとえばコンテナ格納部が対応配置されている。このコンテナ格納部を用いて、分離除去されたスチール成分を別の使用に供給することができる。
【００２６】
スチール分離器２３で異物除去されて清浄にされたゴム部分は、分離器１９，１９ａから到来する主材料流と合流される。この主材料流はコンベヤシステム２５によって、均一に分配するために分配装置２６〜２９ａによって２つの並列なラインに沿って搬送される。
【００２７】
分配装置２６と、この分配装置２６に対応配置された調量装置２７，２７ａとによって、粉砕したいタイヤ片は並列に配置された装入コンベヤ２８，２８ａに均一に分配される。タイヤ片は装入コンベヤ２８，２８ａから供給システム２９，２９ａを介して、図２に詳細に図示したような低温冷却設備３０へ流入する。
【００２８】
この設備の高い利用可能性を達成するためには、図２に示した低温冷却設備３０が、並列に配置されたユニットおよび装置から形成されている。ゴム部分、たとえばタイヤ片は、その脆化温度よりも下の温度にまで冷却される。この脆化温度はゴムについては約−８０℃〜−１２０℃の範囲にある。
【００２９】
低温冷却設備３０により、エネルギが供給される後続の粉砕プロセスの間に製品流が前記温度を下回らないことが確保されなければならない。経験によれば、顆粒製造および製粉のためには１６３〜１２３ケルビン（Ｋｅｌｖｉｎ）に相当する約−１１０℃〜−１５０℃の製品温度が達成されることが望ましいことが判った。
【００３０】
低温冷却設備３０は、冷却剤を用いてタイヤ片を冷却するために働く。冷却剤を貯えるためには、低温冷却設備３０に冷却剤供給部３４が対応配置されている。この冷却剤供給部３４では、有利には液体窒素が冷却剤タンク３５内に貯えられている。冷却剤は冷却剤タンク３５から、特別な冷却剤供給管路３６を介して主冷却トンネルシステム３２，３２ａに供給される。
【００３１】
低温冷却設備３０自体は、ほぼ水平に位置するように配置された２つの冷却トンネルから成っている。両冷却トンネルは、それぞれ１つの予冷却トンネルシステム３１／３１ａと主冷却トンネルシステム３２，３２ａとに対応している。両システムの間には、温度を補償するための補償システム３３，３３ａが設けられている。
【００３２】
冷却したい材料は、供給システム２９，２９ａを通って、予冷却トンネルシステム３１，３１ａの特別なコンベヤ３７，３７ａへ引き渡され、そしてこのコンベヤ３７，３７ａによって個々の冷却範囲を通って搬送される。供給システム２９／２９ａは、冷却剤排ガスが、ひいては低温エネルギが、コントロールされずに周辺環境へ流出し得ないように構成されている。
【００３３】
コンベヤ３７／３７ａは回転数可変の駆動装置を備えており、これにより、冷却トンネルにおける材料の滞留時間は無段階に制御可能となって、最適に調節され得るようになる。コンベヤ３７／３７ａの、熱膨張に基づく長さ変化は、ばね支承装置によって補償される。
【００３４】
予冷却トンネルシステム３１／３１ａには、複数の、有利には２〜５つの冷ガス供給部３９，３９ａが組み込まれている。これらの冷ガス供給部３９，３９ａは、後置された顆粒冷却部９３（あとで説明する）から、低温の冷却剤排ガスを導入する。温度制御部（詳しくは説明しない）によって、低温の排ガス、有利には窒素ガスが、対応する予冷却ゾーンへ導入される。
【００３５】
主冷却トンネルシステム３２／３２ａでは、前粉砕されたタイヤ片に冷却剤が吹き付けられ、吹き付けられた冷却剤はタイヤ片で蒸発する。これにより、液体窒素の低温利用における極めて高い効率が達成され、材料は段階的に冷却されてゆく。
【００３６】
タイヤ片の強力な冷却は、循環ベンチレータ（Ｚｉｒｋｕｌａｔｉｏｎｓｖｅｎｔｉｌａｔｏｒ）および搬送ベンチレータ（Ｔｒａｎｓｐｏｒｔｖｅｎｔｉｌａｔｏｒ）により助成される。Ｒｅ＞３０００の乱流を有するトンネル範囲内の高いガス流に基づき、熱伝達特性を決定的に改善することができる。
【００３７】
発生した低温の窒素ガスは、主冷却トンネルシステム３２／３２ａの製品流に対向して予冷却トンネルシステム３１／３１ａ内へ搬送される。昇温した窒素ガスは供給システム２９／２９ａに設けられたガス出口へ到達して、冷ガス管路９５ａ，９５ｃによって、製粉のために顆粒冷却部９３内へ搬送される。
【００３８】
冷却剤の的確な吹付けと、制御されたガス搬送とにより、予冷却トンネルシステム３１／３１ａおよび主冷却トンネルシステム３２／３２ａを斜めに設置することを不要にすることができる。
【００３９】
もはや窒素浴は存在せず、低温状態の低下はもはや必要とならない。これにより、冷却トンネルホールのために必要となる所要スペースを廉価に減少させることができる。
【００４０】
主冷却トンネルシステム３２／３２ａには、比較的短い、斜めに設置された温度補償システム３３／３３ａが続いている。この補償範囲は、タイヤ片の温度を補償するために働く。
【００４１】
低温冷却設備３０はモジュール構造で構成されていて、完全に耐食性の材料、有利には特殊鋼から成っている。この高価な絶縁部は、露点が下回られることが回避されるように形成されている。これらのモジュールは約３ｍ〜４ｍの長さを有していて、互いに組み合わせることにより任意の長さの冷却システムを形成することができる。予冷却トンネルシステム３１／３１ａのトンネルと、主冷却トンネルシステム３２／３２ａのトンネルとは、場合によっては必要となる保守・補修作業の際にこれらのトンネルが補修作業員にとって容易に接近可能となるように形成されている。このためには、これらのトンネルが定置の底部分（図示しない）を有している。これらの底部分のうち、上側のトンネル部分は、発生した検査・掃除目的のためにハイドロリック式のストロークシリンダを用いて鉛直方向に持ち上げられ得る。
【００４２】
側方では、特殊鋼ベースが底部分を通じて、側方のフレームステーにねじで取り付けられている。特殊鋼ベースは調節可能であり、したがって接地面の凹凸を補償することができる。ハイドロリック式のストロークシリンダ（図示しない）は、特殊なストロークベースに結合されており、これらのストロークベースは底部分内で側方のフレームステーにねじで取り付けられている。
【００４３】
電子制御装置（図示しない）により、冷却剤の吹付け、特殊コンベヤ３７／３７ａの速度および予冷却トンネルシステム３１／３１ａと主冷却トンネルシステム３２／３２ａと補償システム３３／３３ａとの内部でのガス流が、製品入口温度および周辺温度に相応して最適に開ループ制御および閉ループ制御により制御される。要求に応じて、予冷却トンネルシステム３１／３１ａと主冷却トンネルシステム３２／３２ａと補償システム３３／３３ａとにおいて種々異なる温度経過を実現することができる。
【００４４】
このためには、冷却トンネルが、全ての計器、装備品、測定器具、スイッチおよびコントロールランプを備えている。これらはオペレータにとって好都合となるようにエンクロージャ内に組み込まれている。
【００４５】
製品流が中断されると、制御部は主冷却トンネルシステム３２；３２ａにおける作動温度を維持しながら冷却剤の供給を減少させる。比較的長い休止時間の場合には、制御部が作動温度を規定のレベルに保持し、これにより新たなスタート時における温度差が補償される。
【００４６】
次いで再び生産が開始されると、既に、補償システム３３；３３ａから流出する最初の製品が所望の温度を有している。
【００４７】
低温冷却設備３０には、図３に示した顆粒製造部４０が続いている。低温の極めて脆い材料は供給装置４１，４１ａを介して顆粒製造部４０に均一に供給される。顆粒製造部４０での顆粒製造は２段階で行われる。第１段階では、特別なローラ粉砕器４２，４２ａによって粗粉砕が行われ、この場合、個々のタイヤ成分、たとえばゴム、繊維およびスチールは十分に互いに分離される。
【００４８】
後置された分離器４３；４３ａはスチールおよびゴム・スチール複合物を製品流から分離除去し、これらの異物をそれぞれ別の低温作動式の分離装置４５；４５ａに供給する。この分離装置４５；４５ａは残ったゴム・スチール複合物を分解して、ゴム成分を同時に粉砕する。形成されたゴム・繊維／スチール混合物はコンベヤシステム４７を介してルーズニング装置もしくは緩め装置２２に供給される。スチール分離器２３により、スチール部分は選別除去され、引き続き捕集個所もしくは貯蔵装置にまで搬送される。スチール不含となったゴム・繊維混合物はコンベヤシステム４６における主製品流に戻される。
【００４９】
ローラ粉砕器４２；４２ａを出た主製品流は、ゴム・繊維混合物として第２の粉砕器４４；４４ａに供給される。この第２の粉砕器４４；４４ａはその特別な設計によりゴムと繊維とを十分に互いに分離させる。繊維成分の構造はそのまま維持されるのに対して、ゴム成分は粉砕されて、１〜２０ｍｍ、有利には１〜８ｍｍの比較的均一な粒子構造を有する顆粒を形成する。
【００５０】
このゴム・繊維混合物には、スチール分離器２３でスチール成分から分離されたゴム・繊維混合物も供給され、このゴム・繊維混合物はコンベヤシステム４６によって加熱・乾燥装置４９へ搬送される。
【００５１】
ローラ粉砕器４２，４２ａ、第２の粉砕器４４；４４ａおよび低温の分離装置４５，４５ａは、その構造および製作時に使用された材料により極低温運転における特別な要求に合わせて設計されている特殊機械である。
【００５２】
ローラ粉砕器４２，４２ａ、第２の粉砕器４４；４４ａおよび低温の分離装置４５，４５ａは、回転数制御された駆動装置を有しており、これにより粉砕プロセスを、処理したい古タイヤの種類に微妙に適合させることが可能となる。
【００５３】
ローラ粉砕器４２，４２ａ、第２の粉砕器４４；４４ａおよび低温の分離装置４５，４５ａは、断熱・遮音されている。システム全体はカプセル封入されていて、ダストフリーの状態で作動する。
【００５４】
コンベヤシステム４６，４７は遮断装置３８，３８ａを備えている。これらの遮断装置３８，３８ａは、個々の機械がサービス位置へ移動させられた際に、閉じられた設備から冷ガスが逃出し得ることを阻止する。
【００５５】
コンベヤシステム４６，４７は完全に断熱されており、そして極めて少量の冷ガス量しか後続のプロセスに侵入しないように形成されている。
【００５６】
顆粒製造部４０で形成された低温の材料は、周辺空気と接触すると、直ちに大量の湿分を吸収する。なぜならば、顆粒の表面では露点が下回られて、この表面に、周辺空気に含まれている湿分が沈積するからである。このような湿分沈積を回避するか、または減少させるためには、顆粒が供給装置４８を介して、図４に示したような加熱・乾燥装置４９内へ搬送される。
【００５７】
加熱・乾燥装置４９としては、ドラム乾燥器が使用されると有利である。なぜならば、このような構成は高い処理量を有する連続的なプロセスを可能にするからである。取付け物により、ドラムの回転運動と相まって乾燥空気と材料との間での熱交換効率が高められる。
【００５８】
空気加熱は、調節作動式の加熱器５３によって間接的に行なわれ、これによりプロセス中での防火・防爆手段を考慮して材料の穏やかでかつ安全な加熱が実現される。
【００５９】
バーナ排ガスは、排ガス案内部５２を介して周辺空気へ放出される。加熱プロセスからの排空気は、安全装置５５を備えた管路システムを介してダスト分離器５０内へ導入されて清浄にされる。
【００６０】
ダスト分離器５０には、ブロワ５１が後置されていてよく、これにより最適な空気流が保証される。ダスト分離器５０は必要となる全ての安全装置を有していて、防火・防爆の要求に応えるように構成されている。
【００６１】
分離されたダストは搬出装置５４を介して回収処理部２４へ搬出されるか、または主製品流へ戻される。加熱・乾燥装置４９には、有利にはオイルまたはガスを供給するための燃料供給設備５６が対応配置されている。
【００６２】
加熱・乾燥装置４９からの流出後に、顆粒は図５に示したように、搬送装置５７と供給装置５８とを介して種々の前清浄化システムに供給される。
【００６３】
最後のスチール残分は、相前後して配置された複数の分離器５９によって完全に分離除去される。清浄にされた顆粒は次いで前分級設備６０に供給される。
【００６４】
第１の前分級設備６０では、材料が種々の材料流に選別されて、別の処理に供給される。第２の前分級装置６１では、オーバサイズ、繊維成分およびゴム・繊維複合物が分離除去されて、コンベヤ６２を介して中間貯蔵部６３に供給される。
【００６５】
中間貯蔵された材料は、調量装置６４，６４ａ，６４ｂを介して均一に後処理装置６５，６５ａ，６５ｂへ搬入される。並列に配置されたこれらの後処理装置６５，６５ａ，６５ｂでは、顆粒オーバサイズが粉砕され、繊維成分が、分離除去可能な状態にもたらされる。こうして処理された材料は、後続の分離プロセスに供給される。
【００６６】
前分級時に生じた顆粒はコンベヤ６２を介して中間貯蔵部６７へ搬入されて、供給システム６８，６８ａ，６８ｂを介して、後処理された材料と一緒に、並列に配置された分離装置６６，６６ａ，６６ｂに供給される。
【００６７】
材料に含まれている繊維成分は分離装置６６，６６ａ，６６ｂによって引き続き処理され、分離され、清浄にされる。繊維材料は次いで繊維搬送装置６９を介して、有利にはベーラ（Ｂａｌｌｅｎｐｒｅｓｓｅ）を備えた後続の繊維回収処理部７０に供給される。
【００６８】
上で説明した分離装置６６，６６ａ，６６ｂでは、それと同時にアンダサイズ粒子の分離も行われる。このアンダサイズ粒子は捕集・搬送装置７１を用いて、あとで詳しく説明する粉処理システムにおける後異物除去もしくは後清浄化に供給される。
【００６９】
分離装置６６，６６ａ，６６ｂはダスト密にカプセル封入されていて、吸込み管片を介して中央のダスト吸込み装置７４またはダスト吸引部に接続されている。この機械に設けられた特殊な吸込み装置と、組み込まれた顆粒の前篩分け部とにより、高いダスト不含性が保証されている。
【００７０】
こうして前清浄化された顆粒は、コンベヤ６２を介して後続の分級・清浄化システム７２（図６に示す）に供給される。顆粒の分級は、有利には３つの並列に配置された分級装置７３，７３ａ，７３ｂで行われる。
【００７１】
分級装置７３，７３ａ，７３ｂでは、形成された顆粒が、有利には３種類の粒子画分（Ｋｏｒｎｆｒａｋｔｉｏｎ）に、つまり互いに異なる３種類の直径を有する顆粒粒子に分級される。これらの、有利には篩機として形成された分級装置は、上下に位置する複数の篩デッキ（Ｓｉｅｂｄｅｃｋｓ）を備えており、これらの篩デッキはそれぞれ篩清浄化装置を備えている。これらの機械はダスト密にカプセル封入されていて、中央のダスト吸込み装置７４に接続されている。
【００７２】
分級装置の前後では、個々の製品流のための搬送装置に覗きガラス、充填管片および処理量測定装置が設備されている。これにより、製品流をコントロールし、試料を採取し、かつ作業品質を監視することがいつでも問題なく可能となる。個々の顆粒粒子画分は分級・清浄化システム７２に供給される。
【００７３】
この場合、複数の清浄化段を介して、重材料として鉱物質でかつ金属質の非磁性の不純物が分離除去される。別の清浄化段では、軽材料として最後の繊維残分が分離除去される。
【００７４】
顆粒粒子画分は、調量可能な供給装置７５，７５ａ，７５ｂを用いて、特別にゴム顆粒の清浄化のために構成されかつ設計された重成分分離器（Ｓｃｈｗｅｒｔｅｉｌａｂｓｃｈｅｉｄｅｒ）７６，７６ａ，７６ｂ、有利には風力分級設備にまで案内される。
【００７５】
顆粒は、正確に調節された空気流を有する重成分分離器７６，７６ａ，７６ｂ内で上方へ向かって浮遊し、それに対して、より重い鉱物質成分および金属成分は清浄化装置の下側の部分に溜まり、搬出され、そしてコンベヤを介して捕集部または回収処理部２４にまで搬送される。顆粒は空気流と共に分離器７７，７７ａ，７７ｂ内へ搬送されて、搬出装置７８，７８ａ，７８ｂを介して搬出され、そして次の清浄化段の後続の供給装置８０，８０ａ，８０ｂへ引き渡される。
【００７６】
空気流はブロワ７９，７９ａ，７９ｂにより形成されて、循環式に案内されるので、フィルタを備えた付加的な除塵ステーションは必要とならない。
【００７７】
次の清浄化段の供給装置８０，８０ａ，８０ｂは顆粒を、特別に構成された軽成分分離器（Ｌｅｉｃｈｔｔｅｉｌａｂｓｃｈｅｉｄｅｒ）８１，８１ａ，８１ｂ内へ引き渡す。繊維屑のような軽い成分は、正確に調節された空気流によって分離除去されて、分離器８２，８２ａ，８２ｂへ搬送され、そして搬出装置８３，８３ａ，８３ｂを介して搬出される。分離除去された繊維成分は繊維搬送装置６９を介して回収処理部２４に供給される。最後の繊維不純物を分離除去するためには、オプトエレクトロニック式、つまり光電子式のコントロール・後選別装置８５，８５ａ，８５ｂが設けられている。
【００７８】
軽成分分離器８１，８１ａ，８１ｂの空気流はブロワ８４，８４ａ，８４ｂにより形成されて、循環式に案内されるので、フィルタを備えた付加的な除塵ステーションは必要とならない。
【００７９】
図７に示したような顆粒分級・清浄化システムには、まだ含有されている繊維付着ゴム粒子を分離除去するためのコントロール・後分離装置が後置されている。軽成分分離器８１，８１ａ，８１ｂにより搬出された顆粒粒子画分は別個にコントロール・後選別装置８５，８５ａ，８５ｂに供給される。分離除去された粒子および誤分離された粒子は処理プロセスに戻される。
【００８０】
こうして形成された顆粒画分は、次いで選択的に製粉部９３に供給され得るか、または最終製品として包装部もしくはトラック積込み部に供給され得る。
【００８１】
このためには、顆粒画分がコントロール・後選別装置８５，８５ａ，８５ｂから中間貯蔵部８６，８６ａ，８６ｂ内へ搬送され、そしてこれらの中間貯蔵部８６，８６ａ，８６ｂから、可逆式の搬送装置８７，８７ａ，８７ｂによって別の搬送装置、有利にはニューマチック式の搬送装置８９，８９ａ，８９ｂに供給される。これらの搬送装置８９，８９ａ，８９ｂは顆粒を製粉部９３に搬送するか、またはサイロ９０，９０ａ，９０ｂ内へ搬送する。
【００８２】
これらのサイロ９０，９０ａ，９０ｂは建物の外部に配置されていると有利である。サイロ９０，９０ａ，９０ｂから顆粒は搬送装置９１，９１ａ，９１ｂと積込み装置９２，９２ａ，９２ｂとを介してトラック、有利にはサイロ車両へ装入される。
【００８３】
可逆式の搬送装置８７，８７ａ，８７ｂの搬送方向を変えることにより、顆粒画分を包装装置８８，８８ａ，８８ｂ、有利にはビックバックステーション（Ｂｉｇ−Ｂａｇ−Ｓｔａｔｉｏｎ）に供給することができる。この場所で顆粒画分は均一な粒度の高純粋な顆粒として装入される。包装したい粒子画分の粒度および数は、分級装置７３，７３ａ，７３ｂにおける分離点を変えることによって選択可能であり、ひいては市場要求に適合させることができる。
【００８４】
製粉のためには、図８に示したように、顆粒画分が搬送装置８９，８９ａ，８９ｂを介して予冷却装置９４，９４ａ内へ搬送される。要求に応じて、１つまたは複数の並列に配置された予冷却装置が設備内に設けられていてよい。
【００８５】
これらの予冷却装置９４，９４ａ内では、予冷却トンネルシステム３１，３１ａからの冷たい排ガスが、顆粒の冷却のために使用される。冷ガスベンチレータ９５，９５ａはこの場合、低温冷却設備もしくは予冷却トンネルシステム３１；３１ａからの冷たい冷却剤ガスを供給するために働く。予冷却装置９４，９４ａに組み込まれた運動エレメントは、生じ得るゴム粒子凝集を阻止する。予冷却装置９４，９４ａを貫流した後に、消費された冷却剤ガスは、加熱・乾燥装置４９，１０６の排ガスと一緒にガス混合器９６によって環境大気中へ放出される。
【００８６】
予冷却された顆粒は、調量装置９７，９７ａ，９７ｂ，９７ｃを介して、有利には冷却スクリュ（Ｋｕｅｈｌｓｃｈｎｅｃｋｅｎ）またはドラム冷却器を有する顆粒冷却部９３に供給される。この顆粒冷却部９３は図８に示したように、それぞれ１つの主冷却システム９８，９８ａ，９８ｂ，９８ｃと補償システム９９，９９ａ，９９ｂ，９９ｃとから成っていて、冷却剤供給部３４に接続されている。顆粒冷却部９３は温度要件に応じて制御され得る。冷却剤供給部３４は特殊な冷却剤供給管路３６と窒素供給部１００；１００ａとを介して主冷却システム９８，９８ａ，９８ｂ，９８ｃと補償システム９９，９９ａ，９９ｂ，９９ｃとに接続されている。
【００８７】
主冷却システム９８，９８ａ，９８ｂ，９８ｃおよび補償システム９９，９９ａ，９９ｂ，９９ｃでは、運動する顆粒に液状の冷却剤、有利には窒素が吹き付けられるので、蒸発する冷却剤の強力な冷却作用が達成される。これにより、顆粒は約−１４０℃またはそれよりも低い所要の低い温度にまで冷却される。
【００８８】
主冷却システム９８，９８ａ，９８ｂ，９８ｃおよび補償システム９９，９９ａ，９９ｂ，９９ｃは、温度、搬送速度および窒素供給部１００；１００ａの独立した制御部を有している。冷却剤とのできるだけ大きな熱交換を達成するためには、冷却剤排ガスが主冷却システム９８，９８ａ，９８ｂ，９８ｃおよび補償システム９９，９９ａ，９９ｂ，９９ｃを通じて向流で顆粒を擦過するように案内される。
【００８９】
主冷却システム９８，９８ａ，９８ｂ，９８ｃの冷却剤排ガスは、冷ガスベンチレータ１０１，１０１ｂと冷ガス管路１０１ａ，１０１ｃとから成る冷ガス戻し案内部を介して、エネルギポテンシャルを引き続き利用するために予冷却トンネルシステム３１，３１ａの冷ガス供給部３９；３９ａにまで案内される。要求に応じて、１つまたは複数の並列に配置された顆粒冷却器が当該設備内に存在していてよい。
【００９０】
補償システム９９，９９ａ，９９ｂ，９９ｃからは、低温冷却され脆化されたゴム顆粒が微粉砕器１０２，１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃ内へ流入する。これらの微粉砕器１０２，１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃでは、ゴム顆粒が機械的に粉砕される。
【００９１】
有利には高い回転数で作業する微粉砕器１０２，１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃは、粉砕プロセス中に、エネルギ消費に対して不都合な作用を及ぼす著しいガス流を発生させる。それゆえに、当該設備は各微粉砕器のために１つの冷ガス循環システムを有している。大きな量で流出する冷ガスは、形成された粉体を適当な分離器１０３，１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃ内へ搬送する。
【００９２】
清浄にされた冷ガスは、その後に新たに微粉砕器１０２，１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃに供給される。過剰冷ガスは既存の予冷却装置９４，９４ａへ引き渡される。冷ガス戻し案内部は計器類を備えた特殊な管路と、冷ガスベンチレータ１０１，１０１ｂとから成っている。
【００９３】
著しい空気流が発生しないような低い回転数での微粉砕の場合には、冷ガス循環システムを不要にすることができる。
【００９４】
微粉砕器の構造、タイプ、運転パラメータおよび材料特性は、処理材料特性および古タイヤリサイクルのプロセス特性量に合わせて開発されていて、極めて正確に調整されている。最も重要な特性量は粉製品の微細度および粒度分布である。使用される微粉砕器１０２，１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃは、できるだけ高い量の微細製品（＜１００μｍ）の製造に合わせて設計されている。
【００９５】
個別粒子の構造はやはり低温微粉砕にとって特徴的である。後続の方法ステップである分級および清浄化、あるいは特にゴム粉を引き続き処理するためにたいてい実施される手段のためには、比較的平滑な破断面を有する、つまり小さな表面を有する著しく立方形の粒子形状が好都合であるとみなすことができる。要求に応じて、１つまたは複数の並列に配置された微粉砕器１０２が当該設備内に存在していてよい。
【００９６】
複数の並列のユニットの形の構成は、場合によっては生じる微粉砕器の故障時に設備全体の有用性もしくは有効性を高める。
【００９７】
形成された冷たい粉体は分離器１０３，１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃから搬出装置１０４，１０４ａ，１０４ｂ，１０４ｃによって搬出されて、捕集・搬送装置７１を介して供給装置１０５に供給され、そして引き続き、図９に示したような加熱・乾燥装置１０６に供給される。
【００９８】
形成されたゴム粉は極めて低温の温度に基づき、周辺空気と接触すると直ちに湿分を吸収してしまい、このような湿分は後続の分級・分離プロセスを困難にする。それゆえに、当該設備には、図９に示したようなゴム粉のための加熱・乾燥装置１０６が組み込まれている。このためには、やはりドラム乾燥器が使用されると有利である。なぜならば、このような構造の乾燥器は高い処理量での連続的なプロセスを可能にするからである。ゴム粉のための特別な取付け部材類により、ドラムの回転運動と相まって乾燥空気と材料との間の熱交換の効率が高められる。
【００９９】
空気加熱は、調節作動式の加熱器１１０を用いて間接的に行われる。これにより、プロセス内での防火・防爆の手段を考慮しながら、材料の穏やかでかつ確実な加熱が実現される。バーナ排ガスは排ガス案内部１０９を介して周辺空気へ放出される。
【０１００】
加熱プロセスからの排空気は管路システムと適当な安全装置１１２とを介してダスト分離器１０７内へ導入されかつ清浄にされる。
【０１０１】
最適な空気流を保証するためには、ダスト分離器１０７にブロワ１０８が対応配置されていてよい。ダスト分離器１０７は、必要となる全ての安全装置を有していて、しかも防火・防爆に対する高められた要求に応えられるように構成されている。
【０１０２】
分離除去されたダストは搬出装置１１１と、捕集・搬送装置７１と、コンベヤ６２とを介して適当な回収処理部２４へ搬出されるか、または主製品流へ戻される。
【０１０３】
別の原理により作動する加熱・乾燥装置、たとえば乾燥させたい材料と、加熱された表面との間での直接的な接触による加熱を行う加熱・乾燥装置を使用することも考えられる。加熱・乾燥装置４９には、有利にはオイルまたはガスを有する燃料供給設備５６が対応配置されている。
【０１０４】
加熱・乾燥装置４９から流出した後に、ゴム粉はコンベヤ６２を介して、図１０に示したようなゴム粉分級・清浄化設備１１３に供給される。
【０１０５】
形成されたゴム粉は極めて微細であって、凝集傾向を有しており、これにより微成分の分級が困難にされる。このような凝集プロセスは分散剤の調量された混加によって阻止することができる。それゆえに、主製品流は分級の前に混合器１１４内へ搬送される。調量装置１１５により、分散剤を適宜な量でゴム粉に調量し、混合器１１４内で混合することができる。
【０１０６】
混合器１１４から流出した材料は、コンベヤシステム１１６を介して分離器１１７へ搬送される。この分離器１１７では、高い深部作用（Ｔｉｅｆｅｎｗｉｒｋｕｎｇ）を有する高出力磁石が、製粉時になお裸出されたスチール残分と、極微細なスチール摩耗片とをゴム粉から除去する。こうして処理されたゴム粉はコンベヤ６２を介して、後置された中間貯蔵部１１８に供給される。
【０１０７】
ゴム粉は搬送・調量システム１１９によって粉分級装置１２０，１２０ａ、有利には多段デッキ型篩機（Ｍｅｈｒｄｅｃｋ−Ｓｉｅｂｍａｓｃｈｉｎｅ）に供給される。要求に応じて、１つまたは複数の並列に配置された粉分級装置１２０が当該設備に存在していてよい。
【０１０８】
粉分級装置１２０，１２０ａ、有利には多段デッキ型篩機は、機械内部で可能となる多数の分離点、微粒子範囲および極微粒子範囲での高い分離精度、コンパクトな構造および保守に適した構造によりすぐれている。
【０１０９】
篩クリーニングシステムにより、張設されている篩網は、目詰まりのない開放状態に信頼性良く保持される。篩機は構造的に、最小限の動的力しか設置個所に伝達されないように構成されている。ゴム粉の粒子画分の大きさおよび数は、粉分級装置１２０，１２０ａにおける分離点を変えることによって自由に選択可能であり、したがって市場要求に適合させることができる。
【０１１０】
個々の粒子画分は捕集・搬送装置７１を介して別個に清浄化プロセスに供給される。清浄化プロセスは、ゴム粉が微細であることに基づき、各粒子画分の粒度に正確に調和されなければらならない。比較的粗い粒子画分は捕集・搬送装置７１から別の繊維分離装置１２１ａ，１２１ｂに流入する。この繊維分離装置１２１ａ，１２１ｂには、軽成分分離器１２２ａ，１２２ｂが後置されている。
【０１１１】
分離除去された繊維屑はニューマチック式にダスト分離器１２３，１２３ａ，１２３ｂ内へ搬送されて、回収処理部２４に供給される。必要となる空気流は、ブロワ１２４，１２４ａ，１２４ｂにより形成される。軽成分分離器１２２ａ，１２２ｂからは、比較的粗いゴム粉が粒子画分に応じてに中間貯蔵部１２６，１２６ａ，１２６ｂ内へ搬送される。これらの中間貯蔵部１２６，１２６ａ，１２６ｂからは、粉画分が、可逆式の搬送装置１２７，１２７ａ，１２７ｂを介して別のニューマチック式の搬送装置１２９，１２９ａ，１２９ｂに供給される。これらの搬送装置１２９，１２９ａ，１２９ｂはゴム粉をサイロ１３０ａ，１３０ｂ内へ搬送するか、または引き続きゴム粉を処理するための処理設備１３３へ搬送する。
【０１１２】
コンベヤスクリュとして形成された可逆式の搬送装置１２７ａ，１２７ｂの搬送方向を変えることにより、粉画分を包装装置１２８ａ，１２８ｂ、有利にはビッグバッグステーションに供給することができる。この場所で、粉画分は均一の粒度を有する高純度のゴム粉として装入される。
【０１１３】
極微粉は捕集・搬送装置７１から粉清浄化部１２５，１２５ａ内に流入する。この粉清浄化部１２５，１２５ａでは、まだ場合によっては存在している繊維成分が分離されて、ダスト吸込み装置７４によって導出される。
【０１１４】
粉清浄化部１２５，１２５ａから、微細なゴム粉はやはり粒子画分に応じて中間貯蔵部１２６ｃ，１２６ｄ内へ搬送される。これらの中間貯蔵部１２６ｃ，１２６ｄから、粉画分は可逆式の搬送装置１２７ｃ，１２７ｄを介して別の搬送装置、有利にはニューマチック式の搬送装置１２９，１２９ａに供給される。これらの搬送装置１２９，１２９ａはゴム粉をサイロ１３０ｃ，１３０ｄ内へ搬送するか、またはゴム粉を引き続き処理するための処理設備１３３へ搬送する。
【０１１５】
これらのサイロは建物の外部に配置されていると有利である。サイロ１３０ａ，１３０ｂ，１３０ｃ，１３０ｄから粉材料は搬送装置１３１，１３１ａ，１３１ｂ，１３１ｃ，１３１ｄを介して積込み装置１３２，１３２ａ，１３３ｂ，１３２ｃ，１３２ｄへ案内され、これらの積込み装置１３２，１３２ａ，１３３ｂ，１３２ｃ，１３２ｄによって、粉材料をたとえばタンクローリに装入することができる。
【０１１６】
可逆式のスクリュコンベヤである搬送装置１２７ｃ，１２７ｄの搬送方向を変えることにより、粉画分を同じく包装装置１２８ｃ，１２８ｄ、たとえばビックバッグステーションに供給することができる。主製品流に対して付加的に、粉分級・清浄化の範囲においては、前分級設備６０で分離された微細材料が副流で清浄にされる。この微細材料は分離装置６６，６６ａ，６６ｂから捕集・搬送装置を介して別の繊維分離装置１２１へ到達する。この繊維分離装置１２１には、軽成分分離器１２２が後置されている。
【０１１７】
分離除去された繊維屑はニューマチック式にダスト分離器１２３内へ搬送されて、回収処理部２４に供給される。必要となる空気流はブロワ１２４により形成される。軽成分分離器１２２からは、微細材料がスチール分離のための分離器１１７へ引き渡される。こうして処理された微細材料は中間貯蔵部１２６を介して可逆式の搬送装置１２７と、選択的に製粉部９３とに供給される。微細材料は、また最終製品として包装装置１２８、有利にはビッグバッグステーションに供給されるか、またはニューマチック式の搬送装置１２９または搬送装置１３１によってサイロ１３０または積込み装置１３２にも供給され得る。
【０１１８】
こうして分級されかつ清浄にされたゴム粉は、引き続き最終製品へ処理するために適していて、種々様々なゴム原料のための代用品となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
多段式のタイヤ前粉砕部と、後置された分離器と、粗成分戻し案内部と、金属／繊維分離部と、調量装置とを備えたタイヤ粉砕設備を概略的に示す図である。
【図２】
２つの並列に延びる冷却トンネルと、種々の温度ゾーンと、冷却剤吹付け部と、後置された補償トンネルとを備えた低温冷却設備を概略的に示す図である。
【図３】
分離器と分離装置とを備えた、冷却トンネルに後置された多段式の粉砕装置を概略的に示す図である。
【図４】
顆粒加熱部を概略的に示す図である。
【図５】
分級装置と、粉砕のための設備とを概略的に示す図である。
【図６】
多段式の顆粒分級部を概略的に示す図である。
【図７】
顆粒後清浄化部と、顆粒包装部と、顆粒積込み部とを概略的に示す図である。
【図８】
冷ガス戻し案内部を備えた顆粒予冷却部と、低温冷却部と、ゴム粉製造部とを概略的に示す図である。
【図９】
ゴム粉加熱部を概略的に示す図である。
【図１０】
粉分級のための設備を概略的に示す図である。
【符号の説明】
１０　タイヤ粉砕設備、　１１　タイヤ供給部、　１１ａ　調量部、　１２　供給装置、　１３　第１の粉砕器、　１４　分離器、　１５　コンベヤ、　１６　分配器、　１７，１７ａ　第２の粉砕器、　１８，１８ａ　分級装置、　１９，１９ａ　分離器、　２０，２０ａ　粗粒子戻し案内部、　２１　合流装置、　２２　緩め装置、　２３　スチール分離器、　２４　回収処理部、　２５　コンベヤシステム、　２６　分配装置、　２７，２７ａ　調量装置、　２８，２８ａ　装入コンベヤ、　２９，２９ａ　供給システム、　３０　低温冷却設備、　３１，３１ａ　予冷却トンネルシステム、　３２，３２ａ　主冷却トンネルシステム、　３３，３３ａ　補償システム、　３４　冷却剤供給部、　３５　冷却剤タンク、　３６　冷却剤供給管路、　３７，３７ａ　コンベヤ、　３８，３８ａ　遮断装置、　３９，３９ａ　冷ガス供給部、　４０　顆粒製造部、　４１，４１ａ　供給装置、　４２，４２ａ　ローラ粉砕器、　４３，４３ａ　分離器、　４４，４４ａ　第２の粉砕器、　４５，４５ａ　分離装置、　４６　コンベヤシステム、　４７　コンベヤシステム、　４８　供給装置、　４９　加熱・乾燥装置、　５０　ダスト分離器、　５１　ブロワ、　５２　排ガス案内部、　５３　加熱器、　５４　搬出装置、　５５　安全装置、　５６　燃料供給設備、　５７　搬送装置、　５８　供給装置、　５９　分離器、　６０　前分級設備、　６１　前分級装置、　６２　コンベヤ、　６３　中間貯蔵部、　６４，６４ａ，６４ｂ　調量装置、　６５，６５ａ，６５ｂ　後処理装置、　６６，６６ａ，６６ｂ　分離装置、　６７　中間貯蔵部、　６８，６８ａ，６８ｂ　供給システム、　６９　繊維搬送装置、　７０　繊維回収処理部、　７１　捕集・搬送装置、　７２　分級・清浄化システム、　７３，７３ａ，７３ｂ　分級装置、　７４　ダスト吸込み装置、　７５，７５ａ，７５ｂ　供給装置、　７６，７６ａ，７６ｂ　重成分分離器、　７７，７７ａ，７７ｂ　分離器、　７８，７８ａ，７８ｂ　分離器、　７９，７９ａ，７９ｂ　ブロワ、　８０，８０ａ，８０ｂ　供給装置、　８１，８１ａ，８１ｂ　軽成分分離器、　８２，８２ａ，８２ｂ　分離器、　８３，８３ａ，８３ｂ　搬出装置、　８４，８４ａ，８４ｂ　ブロワ、　８５，８５ａ，８５ｂ　コントロール・後選別装置、　８６，８６ａ，８６ｂ　中間貯蔵部、　８７，８７ａ，８７ｂ　搬送装置、　８８，８８ａ，８８ｂ　包装装置、　８９，８９ａ，８９ｂ　搬送装置、　９０，９０ａ，９０ｂ　サイロ、　９１，９１ａ，９１ｂ　搬送装置、　９２，９２ａ，９２ｂ　積込み装置、　９３　顆粒冷却部、　９４，９４ａ　予冷却装置、　９５，９５ｂ　冷ガスベンチレータ、　９５ａ，９５ｃ　冷ガス管路、　９６　ガス混合器、　９７，９７ａ，９７ｂ，９７ｃ　調量装置、　９８，９８ａ，９８ｂ，９８ｃ　主冷却システム、　９９，９９ａ，９９ｂ，９９ｃ　補償システム、　１００，１００ａ　窒素供給部、　１０１，１０１ｂ　冷ガスベンチレータ、　１０１ａ，１０１ｃ　冷ガス管路、　１０２，１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃ　微粉砕器、　１０３，１０３ａ，１０３ｂ，１０３ｃ　分離器、　１０４，１０４ａ，１０４ｂ，１０４ｃ　搬出装置、　１０５　供給装置、　１０６　加熱・乾燥装置、　１０７　ダスト分離器、　１０８　ブロワ、　１０９　排ガス案内部、　１１０　加熱器、　１１１　搬出装置、　１１２　安全装置、　１１３　ゴム粉分級・清浄化設備、　１１４　混合器、　１１５　調量装置、　１１６　コンベヤシステム、　１１７　分離器、　１１８　中間貯蔵部、　１１９　搬送・調量システム、　１２０，１２０ａ　粉分級装置、　１２１，１２１ａ，１２１ｂ　繊維分離装置、　１２２，１２２ａ，１２２ｂ　軽成分分離器、　１２３，１２３ａ，１２３ｂ　ダスト分離器、　１２４，１２４ａ，１２４ｂ　ブロワ、　１２５，１２５ａ　粉清浄化部、　１２６，１２６ａ，１２６ｂ，１２６ｃ，１２６ｄ　中間貯蔵部、　１２７，１２７ａ，１２７ｂ，１２７ｃ，１２７ｄ　搬送装置、　１２８，１２８ａ，１２８ｂ，１２８ｃ，１２８ｄ　包装装置、　１２９，１２９ａ，１２９ｂ，１２９ｃ，１２９ｄ　搬送装置、　１３０，１３０ａ，１３０ｂ，１３０ｃ，１３０ｄ　サイロ、　１３１，１３１ａ，１３１ｂ，１３１ｃ，１３１ｄ　搬送装置、　１３２，１３２ａ，１３２ｂ，１３２ｃ，１３２ｄ　積込み装置、　１３３　処理設備
【国際公開パンフレット】
2004511344.tif 000003
2004511344.tif 000004
2004511344.tif 000005
2004511344.tif 000006
2004511344.tif 000007
2004511344.tif 000008
2004511344.tif 000009
2004511344.tif 000010
2004511344.tif 000011
2004511344.tif 000012
2004511344.tif 000013
2004511344.tif 000014
2004511344.tif 000015
2004511344.tif 000016
2004511344.tif 000017
2004511344.tif 000018
2004511344.tif 000019
2004511344.tif 000020
2004511344.tif 000021
2004511344.tif 000022
2004511344.tif 000023
2004511344.tif 000024
2004511344.tif 000025
2004511344.tif 000026
2004511344.tif 000027
2004511344.tif 000028
2004511344.tif 000029
2004511344.tif 000030
2004511344.tif 000031
2004511344.tif 000032
2004511344.tif 000033
2004511344.tif 000034
2004511344.tif 000035
2004511344.tif 000036
2004511344.tif 000037
2004511344.tif 000038
2004511344.tif 000039
2004511344.tif 000040
2004511344.tif 000041
2004511344.tif 000042
2004511344.tif 000043
2004511344.tif 000044
2004511344.tif 000045
2004511344.tif 000046
2004511344.tif 000047
2004511344.tif 000048
2004511344.tif 000049
【国際調査報告】
2004511344.tif 000050
2004511344.tif 000051
2004511344.tif 000052
2004511344.tif 000053
2004511344.tif 000054
2004511344.tif 000055