(57)【要約】物体の表面を流体アプリケータ幾何学的配置及びマランゴニ効果（表面張力勾配駆動流）を使用した液体処理溶液に接触させることで、前記物体表面を改質し、前記物質表面の濡れた区域の範囲を限定して輪郭制限するための装置及び方法である。具体的に言うと、この方法及び装置は、湿潤流体としてエッチング溶液を用いると共にリアルタイム測定法（たとえば、干渉法）を用いて、物体の表面上で局所的に濡れた区域の位置および滞留時間を制御するのに、物体の表面の範囲を定めたり面出しすることに関し、これにより、物体の表面から材料を制御しながら除去するものである。１つの実証的に具現化したものが、緩衝フッ化水素酸溶液およびマランゴニ効果を用いて、湿式化学エッチングによって薄いガラスを決定論的に光学面出しすることにある
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体の表面に取り付けた化学処理溶液の濡れた区域の寸法、形状を限定し、制御するようにダイの幾何学的配置およびマランゴニ（表面張力勾配）効果を使用して物体を処理する方法。
【請求項２】
請求項１の処理方法において、さらに、所望の表面輪郭を得るように制御したやり方で物体の表面上の濡れた区域を移動させるために、フィードバック制御アルゴリズムにおけるリアルタイム測定を包含することを特徴とする処理方法。
【請求項３】
請求項１の処理方法において、処理溶液が水溶液であることを特徴とする処理方法。
【請求項４】
請求項１の処理方法において、処理溶液が、濡れた物体をエッチングまたは溶解することを特徴とする処理方法。
【請求項５】
請求項１の処理方法において、処理溶液が、濡れた物体上に層を堆積または成長させることを特徴とする処理方法。
【請求項６】
請求項１の処理方法において、前記処理溶液溜めから処理溶液を再循環させることを特徴とする処理方法。
【請求項７】
請求項１の処理方法において、スリットまたは環状オリフィスを通して処理液をポンピング圧送することによって濡れた区域を確立し、液体が物体の表面と所望の幾何学的配置で接触し、次いで、自由表面流でスリットまたはオリフィスの外部から流れ落ちて収容溜めまで排出されるようにしたことを特徴とする処理方法。
【請求項８】
請求項７の処理方法において、処理溶液を通す環状オリフィスは、この溶液が濡れた物体の表面上で円形スポットの形状を採るようにさせることを特徴とする処理方法。
【請求項９】
請求項７の処理方法において、処理溶液を通すスリットは、この溶液が濡れた物体の表面上で細い矩形の区域の形状を採るようにさせることを特徴とする処理方法。
【請求項１０】
請求項１の処理方法において、濡れた区域の自由表面付近の有機蒸気の存在によってマランゴニ効果を確立し、有機蒸気を処理液薄膜に吸い込むことを特徴とする処理方法。
【請求項１１】
請求項１０の処理方法において、有機蒸気が、低分子量アルコールであることを特徴とする処理方法。
【請求項１２】
請求項１０の処理方法において、濡れた処理区域付近で液相のプールまたは溜めから蒸発させることによって、有機蒸気を導入することを特徴とする処理方法。
【請求項１３】
請求項１０の処理方法において、濡れた処理区域付近へ有機蒸気を含むガス流を対流させることによって、有機蒸気を導入することを特徴とする処理方法。
【請求項１４】
請求項１２の処理方法において、有機液体の溜めが、液体のプールであることを特徴とする処理方法。
【請求項１５】
請求項１２の処理方法において、有機液体の溜めが、液体で飽和させた多孔性媒体であることを特徴とする処理方法。
【請求項１６】
請求項１の処理方法において、濡れた区域の自由表面付近の熱勾配によってマランゴニ効果を確立することを特徴とする処理方法。
【請求項１７】
請求項２の処理方法において、
Ａ．レーザー光線を使用して、特定のレーザー波長に対して透明な物体の相対向する両側表面からの反射間に干渉パターンをセットアップし、
Ｂ．干渉パターンをＣＣＤカメラまたは他の像形成装置によって像形成し、
Ｃ．このパターンを数値処理して物体の局所厚を計算し、
Ｄ．導かれた局所厚値を使用して局所処理時間を決定する、
ことを特徴とする処理方法。
【請求項１８】
物体の表面上へ所望の輪郭をエッチングまたは堆積させる装置において、
Ａ．アプリケータへエッチング／堆積溶液を送出する手段と、
Ｂ．物体の表面を前記溶液と所望の幾何学的配置で接触させ、物体上の濡れた区域の周縁まわりに溶液の自由表面流が存在するようにするアプリケータと、
Ｃ．溶液を処理されつつある物体に取り付ける三相接触ラインのメニスカス領域において表面張力勾配（マランゴニ効果）を生じさせる手段と、
Ｄ．処理されつつある物体の表面に対して濡れた区域の制御運動を行わせる線形または双方向運動ステージと、
Ｅ． 物体が前記アプリケータに対して動いているときに、リアルタイム処理されている物体のトポグラフィーを計算するための、エンコーダまたは干渉計と、像形成装置と、そして画像処理アルゴリズムと、
Ｆ．ステージの運動を制御するためにこのトポグラフィーから得た計算値を使用するコンピュータ制御システムと、
を包含することを特徴とする装置。
【請求項１９】
請求項１８の装置において、溶液を送出する前記手段が、オリフィスおよびスリットからなるグループから選択した開口を有する部材を包含することを特徴とする装置。
【請求項２０】
請求項１８の装置において、前記アプリケータが、複数の同心チューブを包含することを特徴とする装置。
【請求項２１】
請求項１８の装置において、前記アプリケータが、中央開口と、この中央開口の端に隣接したテーパ付きの外面とを有する部材を包含することを特徴とする装置。
【請求項２２】
請求項１８の装置において、表面張力勾配を生じさせる前記手段が、有機蒸気を発生することができる材料を収容する溜めを包含することを特徴とする装置。
【請求項２３】
請求項１８の装置において、さらに、前記溶液を再循環させる手段を包含することを特徴とする装置。
【請求項２４】
請求項１８の装置において、前記アプリケータが、有機蒸気を発生する材料を収容する溜めによって取り囲まれた中央開口を有するハウジングを包含することを特徴とする装置。
【請求項２５】
請求項２４の装置において、前記ハウジングおよび前記溜めが、複数の同心チューブを包含し、これら同心チューブの最内方部分が前記中央開口を構成していることを特徴とする装置。
【請求項２６】
請求項２の方法で処理された１ｍｍ未満の厚さを有する物体を包含する板ガラス。
【請求項２７】
請求項１８の装置において、物体が、１ｍｍ未満の最終厚さを有する平坦なガラス板を包含することを特徴とする装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
アメリカ合衆国政府は、ローレンス・リヴァーモア国立研究所の運営に対する合衆国エネルギ省及びユニバーシィティ・オブ・カリフォルニア間で取り交わされた契約Ｗ−７４０５−ＥＮＧ−４８に従って、本発明における権利を有する。
【０００２】
［発明の背景］
（技術分野）
本発明は、液体アプリケータ幾何学的配置およびマランゴニ効果（Ｍａｒａｎｇｏｎｉ Ｅｆｆｅｃｔ： 表面張力勾配）を使用して物体の表面を処理溶液と接触させ、物体表面上の濡れた区域の寸法を限定して範囲を定めることによって、物体表面を改質することに関する。更に具体的に説明すると、本発明は、湿潤流体としてエッチング溶液を用いると共にリアルタイム測定法（たとえば、干渉法）を用いて、物体の表面上で局所的に濡れた区域の位置および滞留時間を制御するのに、物体の表面の範囲を定めたり面出しすることに関し、これにより、物体の表面から材料を制御しながら除去するものである。本発明の１つの実証的に具現化したものは、緩衝フッ化水素酸溶液およびマランゴニ効果を用いて、湿式化学エッチングによって薄いガラスを決定論的に光学面出し（ｆｉｇｕｒｉｎｇ）することにある。
【０００３】
（関連技術の説明）
光学表面の小型ツール仕上げまたは面出しには、基本的に、小型研磨ツールを制御しながら移動させて、光学部品の表面を形作る、ということを伴う。それは、消費者市場に対するカメラレンズから、慣性核融合及び宇宙望遠鏡システム用の大口径光学部品に至るまでの広い範囲の用途に対する光学部品を製造するための重要な技術である。これらの技術によって面出しした光学部品の例としては、複雑な計算に基づく非球面レンズ、連続輪郭位相プレート、アルバレス・レンズ、普通のラップ研磨を経て処理した後に局所面出し訂正を必要とする光学部品などがある。小型ツール仕上げは、成熟した技術ではあるが、同時に、絶えず厳しくなっている面出し公差に対して適用した場合、プロセスの高コストの問題であるとか再現性の問題で余儀なくされて、絶えず開発が行われている。
【０００４】
伝統的な技術では、回転艶出しパッドを使用している。最近の開発（たとえば、米国特許第５，５９１，０９８号およびそこでの引用例）では、光学面上へ良質の研磨用スラリーを衝突させるための有向流分野を利用している。磁気流体学的仕上げ（たとえば、米国特許第５，４９９，３１３号、同第５，７９５，２１２号、同第５，８３９，９４４号、同第５，９５１，３６９号）は、磁場の適用により特別な配合の研磨用スラリーの粘性を制御するということで、この概念を拡張している。イオンビーム・ミリング技術（たとえば、米国特許第３，９８８，５６４号、同第５，９６９，３６８号）は、高精度光学面出しを行う別の基本的に異なった方法である。上述技術はすべて、基本的な制約を負っている。これらの技術は、除去率のプロセス知識に依存しているので、それ故、反復的なプロセスである。すなわち、仕様が満たされるまで、ワークピースを機械から取り外したり、測定したり、再加工したり、再測定しなければならないのである。イオンビーム・ミリング技術は、大きくて高価な真空処理チャンバが必要となると共に、すべての材料に適用できるというわけではない。研磨小型ツール艶出し技術は、非常に薄い光学部品を面出しするのには使用できない。それに伴う局所的な機械応力が、除去制御に影響を与える変形を生じさしめ、破損さえも引き起こしかねないからである。
【０００５】
光学面上の材料除去は、エッチングまたは溶解方法（たとえば、ケイ酸塩ガラスはフッ化水素酸溶液に可溶性である）によって達成され得るが、これまで、光学部品を面出しするのに湿式エッチングが使用されたことはなかった。その問題は、大部分が、どのようにしてエッチング液の濡れた区域を特定の安定した幾何学的配置に限定するか、ということであった。エッチングされつつある表面は、エッチング溶液に対して親水性である。エッチング液の塊がワークピースの表面に沿って移動されると、薄い液体被膜が後に残り、これが表面をエッチングし続けることになる。最近（米国特許第５，６６０，６４２号）、表面張力勾配駆動流（マランゴニ効果）は、まとまった液体を適切な方法で塗布されれば、この同伴した薄い被膜をワークピースの表面からこのまとまった液体へ流し落とすのに有効であることが示された。本発明は、濡れた区域をワークピースの表面上の安定した定まった幾何学的配置に限定するのにマランゴニ効果を利用する。濡れた区域は、ワークピース表面上を動き回わったときに、一定の寸法で一定の形状のままに留まる。これにより、流体がこの濡れた区域でのみワークピースの表面に作用するのを可能にし、ワークピースに対して、機械的な接触であるとかそれで生じる機械的応力などが、全く作用しないようになる。これにより、処理のリアルタイム局所的測定が可能になり、また、他の手段によっては処理できないような非常に薄い１ｍｍ厚のプレートの処理が可能になるものである。
【０００６】
（発明の概要）
本発明の目的は、物体の表面を、エッチング溶液または堆積溶液のような液状処理流体の区域と接触させ、表面張力勾配（マランゴニ効果）を用いてこの区域を限定することによって、物体の表面を改質する方法および装置を提供することにある。この濡れた区域の寸法および形状は、液体アプリケータの機械的設計およびマランゴニ効果によって定まる。さらに、この限定された濡れた区域は、所望に応じて、物体表面に対して制御しながら移動させて、表面上に或るパターンを発生させることができる。
【０００７】
本発明のさらなる目的は、面出しプロセスの制御に対し、物体の表面上において決定論的方法でこの濡れた区域を移動するように、リアルタイム測定及び制御アルゴリズムを使用するための方法と装置を提供することにある。
【０００８】
本発明のさらなる目的は、上記の方法および装置を用いることによって、光学公差まで平らに面出しした、大型（＞５ｃｍ主軸）で薄い（＜１ｍｍ厚）ガラス板を製造することにある。
【０００９】
本発明の重要な特徴は、処理すべき物体の表面に水様処理液のメニスカスを確立することと、それと同時に、メニスカス領域に表面張力勾配を確立して、この液体の表面張力が、それが固体に付着するところで最も弱くなるようにした、ということにある。これを達成する手段は、下向きの表面に近接して設置した垂直チューブから上向きに液体を放出し、この表面に円形の濡れた区域を確立し、液体がチューブの外面に沿って流れ下るようにすることによって実現した。固体表面への取付け区域付近のメニスカスにおける液体は、比較的静止しており、その一方で、自由表面落下被膜流へ移行するようになるメニスカス領域の液体は、供給オリフィス（チューブ）からポンピング圧送される液体で絶えず補給される。揮発性有機化合物（ｖｏｌａｔｉｌｅ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄ； ｖｏｃ）が、少なくともやや水溶性で且つ又ごくわずかな濃度で溶解したときに水の表面張力を大きく減らす、という性質を有する場合、揮発性有機化合物をこのメニスカス付近に導入することによって、このメニスカスに表面張力勾配が確立されるようになる。エタノールやイソプロパノールが、比較的危険性の少ない、このような揮発性有機化合物（ｖｏｃ）の例である。
【００１０】
この揮発性有機化合物は、自由表面流付近の絶えず補給される区域付近で吸収さるよりも、もっと高い濃度で固体表面に隣接したメニスカス区域に吸収される。したがって、液体メニスカスの表面張力は、流れている自由表面付近よりも固体表面付近の方で低くなっている。この表面張力勾配は、落下被膜に向かって固体表面から離れたメニスカス領域に流れを生じさせるに充分な強さである。この流れは、親水性表面への水様処理流体のウィッキングを防ぐと共に、濡れた区域が前記表面に付着しながらワークピース表面に対してゆっくり移動するにつれて、薄膜が堆積されないようにする。
【００１１】
揮発性有機化合物は、液相プールの蒸発によって、または、揮発性有機化合物の液相で飽和させられた多孔性媒体から、メニスカス付近に導入される。あるいは、この付近への少量の揮発性有機化合物を含有する搬送ガスの強制対流によって導入される。水様処理流体に吸収された揮発性有機化合物は、たとえば、活性炭濾材への吸収によって除去することもできるし、或いは、充分に大きい処理液溜めが使用されれば、長期間にわたって有効性を減じることなく準備しておくことができる。
【００１２】
表面張力勾配は、また、熱勾配によっても確立することができる。たとえば、ワークピースを加熱することで、自由表面流のところで流れるずっと冷たい流体の表面張力と比較して、ワークピース表面付近における付着メニスカスのところの液体の表面張力を低下させることができるのである。その結果生じた表面張力勾配は、上記説明に従って化学的に発生させたものに等しくなり、同等の流れを生じさせることになる。
【００１３】
上述の方法における処理流体（たとえば、エッチング溶液）の接触では、ワークピースとの機械的な接触を必要とせず、ワークピースにいかなる機械的応力も発生させない。光学用途に対し艶出しガラスやクリスタル表面のエッチングに適用した場合、背圧をワークピースの背面に加える必要がないので、開いたままにしておくことができる。これにより、干渉分光法のような手段によってワークピースの背面監視が可能となり、それによって、局所的ワークピース厚を測定でき、その結果得たデータを、所望の面出しを達成するために、濡れた区域のワークピースに対する移動をリアルタイム制御するのに使用できるようになる。また、このプロセスによって機械的応力を発生させないことで、従来技術では面出しすることが非常に難しく不可能であるような非常に薄い押出加工ガラス板の光学公差まで面出しを行うことが可能になる。
【００１４】
本発明の目的は、エッチングによる光学部品の面出しに限られず、溶液から基板上へのエピタキシャル層の成長といったような、堆積が水溶液から或る表面上に生じる場合のプロセスにも適用される。また、表面上の隣接領域を乾燥状態に保ちながら、水溶液で表面を局所的に処理するのにも使用し得るものである。当業者であれば、一般的な概念に対しまた別の用途も見いだせよう。
【００１５】
［好ましい実施態様の説明］
本発明では、物体表面上に濡れた区域の容積を限定するために、液体アプリケータ幾何学的配置および表面張力勾配（マランゴニ効果）を使用して、処理溶液と表面を接触させることによって物体の表面を改質する。さらに具体的に説明すると、本発明は、湿潤用流体としてエッチング溶液を使用し、且つリアルタイム計測法（たとえば、干渉分光法）を使用して、濡れた区域の位置および滞留時間を制御し、それによって、制御しながら表面から材料を除去する、物体の表面を輪郭付けまたは面出しする方法および装置に向けたものである。濡れた区域は、ワークピース表面周囲を動き回わったときに、一定寸法で一定形状のままに留まり、これにより、エッチング溶液は、この濡れた区域のみの表面に作用することになる。これにより、他の装置や方法では処理することのできない、非常に薄い（＜１ｍｍ厚）プレートも処理することができし、大きな（＜５ｃｍ主軸）プレートも製造することができる。これは、メニスカスの一方の端部では液体が表面に対し線状付着であって、他方の端部は流体の落下被膜の自由表面となるようにするようにして、処理最中の物体の表面上に水様液処理流体（エッチング溶液）のメニスカスを確立することによって達成され得る。表面張力勾配（マランゴニ効果）というのは、揮発性有機化合物が少なくとも僅かに水溶性で、ごく僅かな濃度で溶解したときに水の表面張力を大きく低下させる性質を有する場合に、メニスカスの近接位置に揮発性有機化合物を導入することによって、メニスカスにおいて確立されるものである。揮発性有機化合物は、たとえば、エタノールあるいはイソプロパノールであってもよい。表面張力勾配は、また、ワークピースの加熱といった熱勾配によっても確立され得る。濡れた区域は、スリットや環状オリフィスを通して処理流体をポンピング送することによって確立されて、濡れた区域は、薄い矩形区域の形状か、または円形スポットの形状を採る。
【００１６】
以下、図面を参照して説明する。図１は、全体的に１０でアプリケータ組立体を示している。このアプリケータは、入口流体溜め１１と、スロット・ダイ又はオリフィス１２とを包含する。処理液１３は、流体溜め１１からオリフィス１２を通過して流れ出し、オリフィスを形成しているダイ１４の外側部を流れ落ちて、そして、外側流体溜め１５内に集まる。ポンプ１６は、処理流体を外側溜め１５から管路１７を通してくみ出してから、さらに管路１８を通して流体溜め１１へ圧送して戻し、これを連続的に再循環させる。インライン濾過装置１９を管路１８内に取り付けることもできる。オリフィス１２は、円形でも、スロット状でも、その他種々の形状であってよい。符号２０のところでオリフィスから排出する処理流体１３は、ワークピースまたは部材２２の下面に毛管作用で付着し、前記ワークピース上に濡れた区域２３を発生させ、表面張力によるメニスカス２４によってすべての側部で境界線が作られる。オリフィス１２を通過してポンピング圧送されている液体１３は、落下被膜流となってダイ１４の外面を流れ落ちる。外側溜め１５を取り囲んでいる部材２５は、ダイ１４の外面を取り囲んでいる別の溝部または溜め２６を含む。この溜めには、適切な揮発性有機化合物材料２７、たとえば、数ミリリットルのイソプロパノールが入っている。この揮発性有機化合物２７は、濡れた区域２３のメニスカス２４を取り囲んでいる、符号２８に示す空気空間内へと蒸発してゆく。揮発性有機化合物２７はこの液体被膜内に吸収され、ポイント３０と比較してポイント２９でその表面張力を低下させる。こうして生じた表面張力勾配が、ポイント２９から液体を引き離し、ワークピース表面２１上の薄い液体被膜の拡散あるいはアントレインメント（水流による堆積物の移動）を防ぐ。したがって、濡れた区域２３は安定して境界内に制限され、ワークピース２２の下面２１に対して移動されるようになる。
【００１７】
処理液またはエッチング溶液１３は非常にゆっくりと溶解溶媒を蓄積するが、大量液体内のほうの溶媒濃度が非常にゆっくり増大するために、非常に多くの処理工程に対して実行可能の状態に留まることができる一方、溶媒蒸気源の直上の非常に薄い水被膜の濃度は、常にかなり高い。あるいはまた、この溶媒は、例えば活性炭濾材に吸収させることによって、流れから取り出すこともできる。
【００１８】
表面張力勾配は、また、メニスカス領域への揮発性有機化合物含有搬送ガスの対流により、あるいは、その近辺における加熱ガスの対流によって、あるいは、ワークピースの背面を加熱することによっても実現することができる。
【００１９】
図２は、同心チューブを利用する本発明の実施例を示しており、この実施例では、濡れた区域は、３本の同心チューブ３２，３３，３４からなる中央チューブを包含する円形チューブ３２の内部からの処理液１３の放出によって限定される円形領域３１を形成する。ワークピース２２の表面２１からの処理液の排出は、３５に示すようにチューブ３２の外面を流れ落ちる。チューブ３２，３３間の環状スペース３６は、処理液１３に対する溜めを形成し、チューブ３３，３４間の環状スペース３７は、揮発性有機化合物材料２７に対する溜めを形成する。図示しないが、処理液は、チューブ３２にポンプで圧送され、図１に示すようなポンプ・フィルタ配置を経て溜め３７へ戻される。ワークピース表面２１上の濡れた区域３１は、チューブ３２の幾何学的配置により円形である。この濡れた区域は、環状スペース３７からにじみ出る揮発性有機化合物蒸気２７の処理液１３に吸収されることによって境界線を限定される。
【００２０】
図３は、図１と同様の、本発明の実施例の平面図であり、この実施例では、濡れた区域３８は、スリット３９からの処理液の排出によって限定される、長くて薄い線形区域である。この液体は、スロット３９を形成している部材またはダイ４０の外面を流れ落ちる。
【００２１】
図４は、レーザーまたは平行光源４７と、ミラーとレンズとからなる画像処理システム４８と、画像処理に役立つ干渉縞パターン４９を発生することのできる別の光学部品と、から成る干渉計を示している。
【００２２】
図５は、処理流体アプリケータ６０と；流体溜め、ポンプ、フィルタからなる流体送出システム６１と；揮発性有機化合物源６２と；ワークピース６３と：ワークピース６４のための取り付け構造と；干渉計６５のような計測装置と；コンピュータ・コントローラ６６と；前記コントローラによって制御されるＸＹ並進ステージ６７とからなる装置を示している。
【００２３】
ワークピースとしては、限定するつもりはないが、大型シリコン・ウェーハ、フラットパネルディスプレイ基板、大型ガラス板または光学基板、クリスタル面、金属シートなどがある。メニスカスの極近接において処理流体による均一で一定の注水をもたらすことは、マランゴニ効果の作用を成功させるのに不可欠である。
【００２４】
必要な表面張力勾配を確立するのための揮発性有機化合物蒸気源は、液体のプールであってもよいし、処理流体のメニスカス付近に設置したスポンジのような飽和多孔性材料であってもよい。また、この蒸気源は、メニスカス付近に送出される搬送ガス流に同伴していてもよい。揮発性有機化合物は、室温で適切な蒸気圧を有し、水溶性であり、水に少量だけ溶解して水表面張力を著しく低下させる効果を有する、という化合物であればよい。比較的危険の少ない適当な揮発性有機化合物の例としては、イソプロパノールおよびエタノールがある。必要な表面張力勾配を確立する熱手段は、ワークピースを反対側から加熱することによっても、または濡れた区域の周縁を構成するメニスカスを取り囲んでいる電気加熱ワイヤまたは加熱ガス流を導入することによっても実現され得る。ワークピース表面上の濡れ処理区域の移動を行うためには、固定した処理流体アプリケータに対してワークピースを移動させてもよいし、固定したワークピースに対してアプリケータを移動させてもよいし、これら両方を相対的に移動させてもよい。
【００２５】
詳細に説明した実施例の変更や修正は、本発明の範囲から逸脱することなく実施でき、ここに添付した特許請求の範囲によって限定されるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の一実施例において利用される流れ幾何学的配置のメニスカス領域の詳細図を示している。
【図２】
円形の小型ツール処理幾何学的配置が示され、この配置において、処理流体がチューブの内部から流出し、このチューブの外側を流れ落ちるのを示している。
【図３】
図１の線形小型ツール処理幾何学的配置の横断面であって、処理流体がスロットから流出し、このスロットを形成しているダイの両側面を流れ落ちるのを示している。
【図４】
レーザーおよび関連光学部品を使用した光学セットアップ機構を示しており、レーザー波長に対して透明なワークピースのニ面間で干渉パターンを発生する。この干渉パターンは、レーザーで照射した領域におけるワークピースの厚さを計算するのに用いられる。
【図５】
処理流体アプリケータ、処理流体再循環システム、揮発性有機化合物送出システム、ｘ−ｙ並進ステージ、基板ホルダ、干渉計およびコンピュータ制御システムから構成される、ガラスプレートあるいはそれに類似した材料をエッチングするための装置を示している。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際公開パンフレット】
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【国際調査報告】
2004511420.tif 000030
2004511420.tif 000031