(57)【要約】複屈折が最小の光軸に沿って約１９４ｎｍより短波長の光を透過させるための、＜１９４ｎｍ波長用フッ化カルシウム結晶光リソグラフィ素子を、光入射面が｛１００｝結晶面の光学素子用光学フッ化カルシウム結晶を提供する工程及び光学フッ化カルシウム結晶の＜１００＞結晶方位に合せられた光軸を有する光リソグラフィ素子の光リソグラフィ素子表面を｛１００｝結晶面の光入射面から形成する工程により、作成する方法が提供される。好ましい実施形態において、１９４ｎｍより短波長の光が透過する光学素子は＜１００＞方位フッ化カルシウムレンズである。好ましい実施形態において、１９４ｎｍより短波長の光が透過する光学素子は＜１００＞方位フッ化カルシウムビームスプリッターである。【特許請求の範囲】
【請求項１】
複屈折が最小の光軸に沿って約１９４ｎｍより短波長の光を透過させるための＜１９４ｎｍフッ化カルシウム結晶光リソグラフィ素子の作成方法において、
光入射面が｛１００｝結晶面である光学素子用光学フッ化カルシウム結晶を提供する工程、および
｛１００｝結晶面の前記光入射面から、前記光学フッ化カルシウム結晶の＜１００＞結晶方位に合せた光軸を有する光リソグラフィ素子の光リソグラフィ素子表面を形成する工程、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記形成する工程が、前記光学フッ化カルシウム結晶から、曲面の光学素子表面をもつレンズ素子を形成する工程を含み、前記レンズ素子は、前記フッ化カルシウム結晶の＜１００＞結晶方位に合せられ、前記｛１００｝フッ化カルシウム結晶面に垂直なレンズ光軸を有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記形成する工程が、前記光学フッ化カルシウム結晶から、前記｛１００｝フッ化カルシウム結晶面に平行な正六面体ビームスプリッター表面及び前記フッ化カルシウム結晶の＜１００＞結晶方位に合せられたビームスプリッター光軸をもつ、正六面体ビームスプリッターを形成する工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
複屈折を最小限に抑えて１９４ｎｍより短波長の光を透過させるための＜１９４ｎｍフッ化カルシウム結晶光リソグラフィ素子において、｛１００｝結晶面及び＜１００＞結晶方位をもつ光学フッ化カルシウム結晶からなり、前記＜１００＞フッ化カルシウム結晶方位に合せられた光軸を有することを特徴とする＜１９４ｎｍフッ化カルシウム結晶光リソグラフィ素子。
【請求項５】
複屈折が最小の光軸に沿って約１９４ｎｍより短波長の光を透過させるためのフッ化物結晶光学素子の作成方法において、
光入射面が｛１００｝結晶面である光学素子用光学フッ化物結晶を提供する工程、および
｛１００｝結晶面の前記光入射面から、前記光学フッ化物結晶の＜１００＞結晶方位に合せた光軸を有する光学素子の光学素子表面を形成する工程、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項６】
前記形成する工程が、前記光学フッ化物結晶から、曲面の光学素子表面をもつレンズ素子を形成する工程を含み、前記レンズ素子は、前記結晶の＜１００＞結晶方位に合せられ、前記｛１００｝結晶面に垂直なレンズ光軸を有することを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記形成する工程が、前記光学フッ化物結晶から、前記｛１００｝結晶面に平行な正六面体ビームスプリッター表面及び前記結晶の＜１００＞結晶方位に合せられたビームスプリッター光軸をもつ、正六面体ビームスプリッターを形成する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記光学フッ化物結晶がカルシウムを含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項９】
前記光学フッ化物結晶がバリウムを含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１０】
前記光学フッ化物結晶がストロンチウムを含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項１１】
複屈折を最小限に抑えて約１９４ｎｍより短波長の光を透過させるための光学素子において、前記光学素子が｛１００｝結晶面及び＜１００＞結晶方位をもつ立方晶系光学フッ化物結晶からなり、前記光学素子は前記＜１００＞結晶方位に合せられた光軸を有することを特徴とする光学素子。
【請求項１２】
前記光学フッ化物結晶がカルシウムを含むことを特徴とする請求項１１に記載の光学素子。
【請求項１３】
前記光学フッ化物結晶がバリウムを含むことを特徴とする請求項１１に記載の光学素子。
【請求項１４】
前記光学フッ化物結晶がストロンチウムを含むことを特徴とする請求項１１に記載の光学素子。
【請求項１５】
前記光学素子が、曲面の光学素子表面及び前記＜１００＞結晶方位に合せられたレンズ光軸をもつレンズ素子であることを特徴とする請求項１１に記載の光学素子。
【請求項１６】
前記光学素子が、前記｛１００｝結晶面に平行な正六面体ビームスプリッター表面及び前記＜１００＞結晶方位に合せられたビームスプリッター光軸をもつ正六面体ビームスプリッターであることを特徴とする請求項１１に記載の光学素子。
【請求項１７】
１９４ｎｍより短波長の光が透過するレンズにおいて、前記レンズが｛１００｝結晶面及び＜１００＞結晶方位をもつ立方晶系光学フッ化物結晶からなり、前記レンズは曲面の光学表面及び光軸を有し、前記光軸は、前記＜１００＞結晶方位に合わせられ、前記｛１００｝結晶面に垂直であることを特徴とする１９４ｎｍより短波長の光が透過するレンズ。
【請求項１８】
前記立方晶系光学フッ化物結晶がカルシウムを含むことを特徴とする請求項１７に記載の１９４ｎｍより短波長の光が透過するレンズ。
【請求項１９】
前記立方晶系光学フッ化物結晶がバリウムを含むことを特徴とする請求項１７に記載の１９４ｎｍより短波長の光が透過するレンズ。
【請求項２０】
前記立方晶系光学フッ化物結晶がストロンチウムを含むことを特徴とする請求項１７に記載の１９４ｎｍより短波長の光が透過するレンズ。
【請求項２１】
１９４ｎｍより短波長の光が透過する正六面体ビームスプリッターにおいて、前記正六面体ビームスプリッターが｛１００｝結晶面及び＜１００＞結晶方位をもつ立方晶系光学フッ化物結晶からなり、前記正六面体ビームスプリッターは、前記｛１００｝結晶面に平行な正六面体ビームスプリッター表面及び前記＜１００＞結晶方位に合わせられた光軸を有することを特徴とする１９４ｎｍより短波長の光が透過する正六面体ビームスプリッター。
【請求項２２】
前記立方晶系光学フッ化物結晶がカルシウムを含むことを特徴とする請求項２１に記載の１９４ｎｍより短波長の光が透過する正六面体ビームスプリッター。
【請求項２３】
前記立方晶系光学フッ化物結晶がバリウムを含むことを特徴とする請求項２１に記載の１９４ｎｍより短波長の光が透過する正六面体ビームスプリッター。
【請求項２４】
前記立方晶系光学フッ化物結晶がストロンチウムを含むことを特徴とする請求項２１に記載の１９４ｎｍより短波長の光が透過する正六面体ビームスプリッター。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の説明】
【０００１】
本出願はエヌ・エフ・ボレッリ(N. F. Borrelli)，ディー・シー・アラン(D. C. Allan)，シー・エム・スミス(C. M. Smith)及びビー・ディー・ストーン(B. D. Stone)により２００１年５月１６日に出願された、名称を「好ましい結晶方位をもつ立方晶材料光学素子」とする、米国仮特許出願第６０/２９１４２４号の恩典を特許請求し、上記出願の明細書を参照として含む。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、全般的には、短波長光学系及びこの光学系に使用するための素子、投影光リソグラフィ方法及び光リソグラフィに関し、特に、光リソグラフィシステムに使用するための光リソグラフィ用フッ化物結晶素子及び、１９３ｎｍ領域及び１５７ｎｍ領域の波長を利用する紫外(ＵＶ)光リソグラフィシステムのような、１９４ｎｍより短いＵＶ波長光を利用する短波長光学系に関する。
【背景技術】
【０００３】
１９４ｎｍより短い紫外波長の光を利用する投影光リソグラフィ方法／システムは、形状寸法を小さくするという点で恩恵を供する。１５７ｎｍ波長領域及び１９３ｎｍ波長領域の紫外波長を利用する、そのような方法／システムには、最小寸法がさらに縮小された集積回路の製造能力を向上させる可能性があるが、集積回路の大量生産における１９４ｎｍより短波長のＵＶ光の工業的使用及び採用は遅々としている。半導体工業による１９４ｎｍより短波長のＵＶ光への進展の遅れの一部は、そのような短波長において高い性能をもつ、経済的に製造できる立方晶系フッ化物結晶光学素子がなかったことによる。集積回路の製造に利用される予定の、フッ素エキシマーレーザの発光スペクトルウインドウのような１５７ｎｍ領域及びＡｒＦエキシマーレーザ発光スペクトルのような１９３ｎｍ領域における紫外光リソグラフィの恩恵のため、有用な光学特性を有し、１９４ｎｍより短波長のＵＶ光子用に設計および利用できるフッ化物結晶光学素子が必要とされている。フッ化アルゴンは〜１９３ｎｍで発光し、フッ素(Ｆ２)エキシマーは〜１５７ｎｍで発光する。様々な光学的用途において、そのような１９４ｎｍより短波長の光を使用できることが好ましい。フッ素(Ｆ２)レーザ及びフッ化アルゴンレーザを備える光システムに使用する場合に、光学素子に好ましい結晶材料は、立方晶系フッ化物結晶のフッ化カルシウムであった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
１９４ｎｍより短波長の光に対して有用な光学特性を有するフッ化物結晶光学素子を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は固有複屈折が最小の光軸に沿って約１９４ｎｍより短波長の光を透過させるための＜１９４ｎｍ波長光透過フッ化カルシウム結晶光リソグラフィ素子の作成方法を含む。本方法は、光入射面が｛１００｝結晶面の光学素子用フッ化カルシウム結晶を提供する工程及び｛１００｝結晶面の光入射面から光軸を有する光リソグラフィ素子の光リソグラフィ素子表面を形成する工程を含み、光軸はフッ化カルシウム結晶の＜１００＞結晶方位に合せられる。
【０００６】
本発明は、固有複屈折を最小限に抑えて、１９４ｎｍより短波長の光を透過させるための＜１９４ｎｍ波長光透過フッ化カルシウム結晶光リソグラフィ素子を含む。本光リソグラフィ素子は｛１００｝結晶面及び＜１００＞結晶方位をもつ光学フッ化カルシウム結晶からなり、光学素子は＜１００＞フッ化カルシウム結晶方位に合せられた光軸を有する。
【０００７】
本発明は固有複屈折が最小の光軸に沿って短波長(＜１９４ｎｍ)の光を透過させるためのフッ化物結晶光学素子の作成方法を含む。本方法は光入射面が｛１００｝結晶面の光学素子用光学フッ化物結晶を提供する工程及び｛１００｝結晶面の光入射面から光軸を有する光学素子の光学素子表面を形成する工程を含み、光軸は光学フッ化物結晶の＜１００＞結晶方位に合せられる。
【０００８】
本発明は、固有複屈折を最小限に抑えて、約１９４ｎｍより短い波長の光を透過させるための光学素子を含む。本光学素子は｛１００｝結晶面及び＜１００＞結晶方位をもつ立方晶系光学フッ化物結晶からなり、本光学素子は＜１００＞結晶方位に合せられた光軸を有する。
【０００９】
本発明は、｛１００｝結晶面及び＜１００＞結晶方位をもつ立方晶系光学フッ化物結晶からなる、最小の固有複屈折で１９４ｎｍより短波長の光が透過するレンズを含む。本レンズは、曲面の光学表面と、＜１００＞結晶方位に合せられ、｛１００｝結晶面に垂直な光軸とを有する。
【００１０】
本発明は最小の固有複屈折で１９４ｎｍより短波長の光が透過する正六面体のビームスプリッターを含む。本正六面体ビームスプリッターは、｛１００｝結晶面及び＜１００＞結晶方位をもつ立方晶系光学フッ化物結晶からなり、本正六面体ビームスプリッターの表面は｛１００｝結晶面に平行であり、光軸は＜１００＞結晶方位に合せられている。
【００１１】
本発明のさらなる特徴及び利点は以下の詳細な説明で述べられ、当業者には、ある程度はその説明から容易に明らかであろうし、あるいは本明細書の記述及び特許請求の範囲に説明され添付図面にも示されるように本発明を実施することにより認められるであろう。
【００１２】
上述の一般的説明及び以下の詳細な説明は本発明の例示に過ぎず、特許請求される本発明の性質及び特徴を理解するための概観または枠組の提供が目的とされていることは当然である。
【００１３】
添付図面は本発明のさらなる理解を図るために含められ、本明細書に組み入れられて、本明細書の一部をなす。図面は本発明の１つまたはそれより多くの実施形態を示し、記述とともに本発明の原理及び動作の説明に役立つ。
【非特許文献１】
エイチ・エイ・ローレンツ（H. A. Lorentz），論文集III，ｐ.３１４
【非特許文献２】
ジェイ・エフ・ナイ（J. F. Nye）著，「結晶の物理的特性」
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明は、複屈折が最小の光軸に沿って、１９３ｎｍまたは１５７ｎｍのような、約１９４ｎｍより短波長の光を透過させるための、＜１９４ｎｍ波長光透過フッ化カルシウム結晶光リソグラフィ素子３０の作成方法を含む。本方法は、光入射面が｛１００｝結晶面３４の光学素子用光学フッ化カルシウム結晶３２を提供する工程を含む。本方法は、光入射面の｛１００｝結晶面３４から光軸３８を有する光リソグラフィ素子３０の光リソグラフィ素子表面３６を形成する工程を含み、光軸３８は光学フッ化カルシウム結晶３２の＜１００＞結晶方位４０に合せられる。一実施形態において、形成する工程は、フッ化カルシウム結晶３２から曲面の光学素子表面４４をもつレンズ素子４２を形成する工程を含む。形成されたレンズ素子４２は、フッ化カルシウム結晶の＜１００＞結晶方位４０に合せられた、｛１００｝フッ化カルシウム結晶面３４に垂直な、レンズ光軸３８を有する。一実施形態において、形成する工程は、光学フッ化カルシウム結晶３２から、フッ化カルシウム結晶３２の｛１００｝結晶面３４に平行な正六面体ビームスプリッター表面４８及び＜１００＞結晶方位４０に合せられたビームスプリッター光軸３８をもつ正六面体ビームスプリッター４６を形成する工程を含む。
【００１５】
本発明は、固有複屈折を最小限に抑えて、１９４ｎｍより短波長の光を透過させるための＜１９４ｎｍ波長フッ化カルシウム結晶光リソグラフィ素子３０を含む。光リソグラフィ素子３０は｛１００｝結晶面３４及び＜１００＞結晶方位４０をもつ光学フッ化カルシウム結晶３２からなる。光リソグラフィ素子３０は、フッ化カルシウム結晶３２の＜１００＞結晶方位４０に合せられた光軸３８を有する。光リソグラフィ素子３０の光学素子表面は光軸３８に垂直であることが好ましく、光学表面は結晶の｛１００｝結晶面に合わせて形成されていることが好ましい。一実施形態において、フッ化カルシウム結晶光学素子はレンズである。一実施形態において、フッ化カルシウム結晶光学素子はビームスプリッターである。
【００１６】
本発明は、複屈折が最小の光軸に沿って約１９４ｎｍより短波長の光を透過させるためのフッ化物結晶光学素子の作成方法を含む。本方法は、１９３ｎｍ波長または１５７ｎｍ波長のような、１９４ｎｍより短波長で動作するリソグラフィシステム用の立方晶系フッ化物結晶光リソグラフィ素子を作成する工程を含むことが好ましい。本方法は、光入射面が｛１００｝結晶面３４である光学素子用光学フッ化物結晶３２を提供する工程及び｛１００｝結晶面の光入射面から光学フッ化物結晶３２の＜１００＞結晶方位４０に合せられた光軸３８を有する光学素子３０の光学素子表面３６を形成する工程を含む。一実施形態において、形成する工程は、光学フッ化物結晶３２から曲面の光学素子表面４４をもつレンズ素子４２を形成する工程を含み、レンズ素子４２は、結晶３２の＜１００＞結晶方位４０に合せられた、結晶３２の｛１００｝結晶面３４に垂直な、レンズ光軸３８を有する。好ましい実施形態において、円錐角θが少なくとも３５.２６°の光線円錐を出射するためのレンズ素子４２が、結晶３２から形成される。別の実施形態において、正六面体ビームスプリッター表面４８が結晶３２の｛１００｝結晶面３４に平行で、ビームスプリッター光軸３８が結晶３２の＜１００＞結晶方位４０に合せられた、正六面体ビームスプリッター４６が、結晶３２から形成される。好ましい実施形態において、１９４ｎｍより短波長の偏光を配送するための曲面ミラーとともに使用するための正六面体ビームスプリッターが結晶３２から形成され、入り光線はある角度で正六面体に入射する。好ましい実施形態において、１９４ｎｍより短波長の光線に使用するための、結晶３２の＜１００＞([１００],[０１０],[００１])方位に合せられた光軸に沿って光線が進む、干渉法正六面体ビームスプリッターが結晶３２から形成される。好ましい実施形態において、固有複屈折が最小限に抑えられた光学素子３０が結晶３２から形成され、光学素子は、素子を透過する光が｛１００｝結晶面に垂直ではない場合の、１９４ｎｍより短波長の光学的用途に使用するための素子である。一実施形態において、光学フッ化物結晶３２はカルシウムを含み、フッ化カルシウムからなることが好ましく、基本的に１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＣａＦ２からなることが最も好ましい。一実施形態において、光学フッ化物結晶３２はバリウムを含み、フッ化バリウムからなることが好ましく、基本的に、１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＢａＦ２からなることが最も好ましい。一実施形態において、光学フッ化物結晶３２はストロンチウムを含み、フッ化ストロンチウムからなることが好ましく、基本的に、１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＳｒＦ２からなることが最も好ましい。
【００１７】
本発明は、固有複屈折を最小限に抑えて、約１９４ｎｍより短波長の光を透過させるための光学素子を含む。光学素子は｛１００｝結晶面及び＜１００＞結晶方位をもつ立方晶系光学フッ化物結晶からなり、光学素子は＜１００＞結晶方位に合せられた光軸を有する。好ましい実施形態において、光学素子は、光リソグラフィシステムにおける１９３ｎｍ波長または１５７ｎｍ波長のような、１９４ｎｍより短波長のリソグラフィ光を透過させるための、１９４ｎｍより短波長の光に用いるリソグラフィ素子である。光学素子３０は１９４ｎｍより短波長の光を光軸３８に沿って透過させる。光学素子３０は、｛１００｝結晶面３４及び＜１００＞結晶方位４０をもつ立方晶系光学フッ化物結晶３２からなり、光軸３８は＜１００＞結晶方位４０に合せられ、｛１００｝結晶面３４に垂直である。光学素子３０は、｛１００｝結晶面３４に合せられ、光学素子の＜１００＞結晶方位の光軸に垂直な光学素子表面３６を有する。一実施形態において、光学素子３０の光学フッ化物結晶３２はカルシウムを含み、フッ化カルシウムからなることが好ましく、結晶は基本的に、１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＣａＦ２からなることが最も好ましい。一実施形態において、光学素子３０の光学フッ化物結晶３２は、バリウムを含み、フッ化バリウムからなることが好ましく、結晶は基本的に、１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＢａＦ２からなることが最も好ましい。一実施形態において、光学素子３０の光学フッ化物結晶３２は、ストロンチウムを含み、フッ化ストロンチウムからなることが好ましく、結晶は基本的に、１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＳｒＦ２からなることが最も好ましい。一実施形態において、光学素子３０は曲面の光学表面及び＜１００＞結晶方位に合せられたレンズ光軸３８をもつレンズ素子である。レンズ素子は円錐角が少なくとも３５.２６°の光線円錐に対応する円錐角θを有することが好ましく、光線は｛１００｝結晶面に垂直ではない。一実施形態において、光学素子３０は正六面体ビームスプリッターであり、正六面体ビームスプリッター表面４８は｛１００｝結晶面に平行であって、ビームスプリッター光軸は＜１００＞結晶方位に合せられている。好ましい実施形態において、正六面体ビームスプリッターは、＜１９４ｎｍ波長の偏光を配送するための曲面ミラーとともに使用するためのリソグラフィ素子であり、入り光線は正六面体にある角度で入射することが好ましい。好ましい実施形態において、正六面体ビームスプリッターは１９４ｎｍより短波長の光線で使用するための干渉法正六面体ビームスプリッターであり、光線は＜１００＞結晶方位に一致する光軸に沿って進む。光学素子３０は、１９４ｎｍより短波長において固有複屈折を最小限に抑えるようになっている。
【００１８】
本発明は、｛１００｝結晶面及び＜１００＞結晶方位をもつ立方晶系光学フッ化物結晶からなる、１９４ｎｍより短波長の光が透過するレンズ４２を含み、レンズ４２は曲面の光学表面４４及び光軸３８を有する。レンズ光軸３８は＜１００＞結晶方位に合せられ、｛１００｝結晶面に垂直である。好ましい実施形態において、１９４ｎｍより短波長の光が透過するレンズ用の光学フッ化物結晶は、カルシウムを含み、フッ化カルシウムからなることが好ましく、基本的に、１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＣａＦ２からなることが最も好ましい。一実施形態において、１９４ｎｍより短波長の光が透過するレンズ用の光学フッ化物結晶は、バリウムを含み、フッ化バリウムからなることが好ましく、基本的に、１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＢａＦ２からなることが最も好ましい。一実施形態において、１９４ｎｍより短波長の光が透過するレンズ用の光学フッ化物結晶は、ストロンチウムを含み、フッ化ストロンチウムからなることが好ましく、１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＳｒＦ２だけからなることが最も好ましい。レンズ素子は円錐角が少なくとも３５.２６°の光線円錐に対応する円錐角θを有することが好ましい。光学結晶レンズ素子は、｛１００｝結晶面３４に垂直ではない１９４ｎｍより短波長の光線において固有複屈折を最小限に抑えるようになっていることが好ましい。
【００１９】
本発明は、｛１００｝結晶面及び＜１００＞結晶方位をもつ立方晶系光学フッ化物結晶からなる、１９４ｎｍより短波長の光が透過する正六面体ビームスプリッター４８を含み、正六面体ビームスプリッター４６は、｛１００｝結晶面に平行な正六面体ビームスプリッター表面４８を有し、＜１００＞結晶方位に合せられたビームスプリッター光軸を有する。好ましい実施形態において、１９４ｎｍより短波長の光が透過する正六面体ビームスプリッター用の立方晶系光学フッ化物結晶は、カルシウムを含み、フッ化カルシウムからなることが好ましく、立方晶系結晶は、１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＣａＦ２だけからなることが最も好ましい。一実施形態において、１９４ｎｍより短波長の光が透過する正六面体ビームスプリッター用の立方晶系光学フッ化物結晶は、バリウムを含み、フッ化バリウムからなることが好ましく、基本的に、１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＢａＦ２からなることが最も好ましい。一実施形態において、１９４ｎｍより短波長の光が透過する正六面体ビームスプリッター用立方晶系光学フッ化物結晶は、ストロンチウムを含み、フッ化ストロンチウムからなることが好ましく、１９４ｎｍより短波長の光の内部透過率が少なくとも９９％/ｃｍのＳｒＦ２だけからなることが最も好ましい。好ましい実施形態において、正六面体ビームスプリッター４６は、１９３ｎｍまたは１５７ｎｍのような、リソグラフィ波長で使用するためのリソグラフィ素子である。リソグラフィ素子ビームスプリッターは、＜１９４ｎｍ波長の偏光を配送するための曲面ミラーとともに使用するためのビームスプリッターであり、入り光線は正六面体表面４８にある角度で入射することが好ましい。好ましい実施形態において、正六面体ビームスプリッター４６は、１９４ｎｍより短波長の光線で使用するための干渉法光学素子であり、光線は結晶の＜１００＞結晶方位に合せられた軸に沿って進む。正六面体ビームスプリッター光学素子４６には、立方晶系フッ化物結晶３２の＜１００＞結晶方位を利用することによる、１９４ｎｍより短波長における固有屈折率を最小限に抑えるようになっている。
【００２０】
これまでは、複屈折に関する立方晶系結晶の問題は、結晶成長過程の結果としての、応力複屈折にともなう問題に関するものであった。関心は、光入射面が、応力複屈折の効果が最小限に抑えられる面である｛１１１｝面の結晶を使用するための選択方位に向けられていた。
【００２１】
しかし、立方晶系結晶には、これまで問題にされていなかった固有複屈折がある。この複屈折は応力には全く関わらない。固有複屈折は、さらに波長が短くなると、応力複屈折と同程度になる。直感的には、ＣａＦ２またはＢａＦ２のような立方晶系結晶材料は光学的に等方性であると思われる。言い換えれば、任意のいかなる方向での光伝搬に対しても、屈折率または誘電テンソルは同じである。そうであれば、立方晶系結晶は等方的光学特性をもつガラスに類似する。立方晶系結晶については、光の波長が原子間距離に比較して非常に長い範囲内でしか上記の描像が成立しないことがわかる。さらに短い波長で立方晶系結晶材料が用いられると、光応答への追加の寄与がもはや無視できない。そのような追加の寄与により、屈折率の方向依存性、すなわち固有複屈折が生じる。この複屈折は応力関連複屈折ではないことに注意することが重要である。この複屈折は、全ての立方晶系結晶の固有特性であり、アニールで取り除くことはできない。
【００２２】
上記の固有複屈折は対称な＜１１１＞または＜１００＞方位に伝搬する光に対しては消滅するが、＜１１０＞方位に進む光に対して最大値に達することが示される。
【００２３】
{１１１}結晶面を用いて光学素子の光入射面を形成することによりＣａＦ２光学素子を作成することが、これまでの常であった。光が{１１１}面に垂直な方位(または等価的に対称性の高い方位)以外の方位に透過伝搬するであろう光学素子の作成では、本明細書に説明される固有複屈折が問題となり得る場合が現れる。
【００２４】
３つの例が添付図面に示される。初めの２つの例は短波長における結像用途に関する。第１の例は、光学素子自体が曲率を有する場合である(図１)。円錐角θが少なくとも：
【数１】
2004531764.tif 000002
【００２５】
にある光線円錐を含む事例を考察する。この円錐には＜１１０＞方位が含まれ、複屈折のピークがいくつかの位置で観察されるはずである。１２の等価な＜１１０＞方位の内３つだけが、[１１１]に対して９０°より小さい範囲内にある。その３つは、[１１０]，[１０１]，[０１１]である。光円錐はこれらの３つの方位を含むから、等価な３つの複屈折のピークが、互いに１２０°離れて、透過強度に観測されるはずである。次に、光入射面として｛１００｝面を用いること以外は同じ場合を考察すれば、同じ複屈折に対して光円錐がより大きな角度を掃引することを示すことができる。言い換えれば、｛１００｝面を用いた場合は、同じ円錐角でより小さな複屈折が得られる。
【００２６】
第２の例は、偏光を配送するために平面正六面体ビームスプリッターとともに曲面ミラーが用いられる場合である(図２)。この構成では１/４波長板も備えられる。本例では、曲面ミラーからの反射により、入り光線が正六面体にある角度で入射する。これは、図１に示される状況と関連する状況であり、この場合にも固有複屈折を最小限に抑える上で｛１００｝面が利点を提供するはずである。
【００２７】
最後に、フッ化カルシウムを利用する干渉計応用も｛１００｝面の有用性を認識することにより恩恵を受けることになろう。この状況が図３に簡略に示される。＜１１１＞方位に光線１が進めば、光線１は複屈折を受けない。しかし、この場合、＜１１０＞方位は＜１１１＞方位に対して直角方向にあるから、光線３は＜１１０＞方位の１つに進まなければならず、最大の複屈折を受ける。
【００２８】
あるいは、結晶の＜１００＞方位に光線１が進めば、光線３は<０１０>方位に進むことができる。これらの方位のいずれにおいても複屈折はゼロである。この手法により干渉計構成において波長板が無用になるであろう。
【００２９】
遭遇する固有複屈折の大きさを最小限に抑える方位の使用が関わるのは、波面の完全性が死命を制する用途である。これには、短波長リソグラフィ及び干渉計機能が含まれる。
【００３０】
固有複屈折は、立方晶系結晶の｛１１１｝面及び｛１００｝面ではゼロであり、｛１１０｝面で最大になる。特に、光学素子を透過する光が結晶面に垂直ではない場合に、複屈折の効果を最小限に抑えるには｛１００｝面が好ましいことが提案される。
【００３１】
図３において、正六面体ビームスプリッターで、光は光路１に沿って入射し、材料内の路長が等しい光路２及び３に分割される、固有複屈折は、＜１１０＞方位でゼロではなく、＜１１１＞方位及び＜１００＞方位でゼロである。自然発生複屈折の効果を避けるため、発明者等は、結晶の｛１００｝面(または等価な面)が光学素子の光入射面であるような正六面体光学素子を作成した。この場合、図３に示される光線３は{０１０}面か、または｛１００｝面に等価な面から出て来るであろう。したがって、図３の、入射光線、透過光線及び反射光線は固有複屈折を受けないであろう。
【００３２】
ここで、ＣａＦ２及びその他の立方晶系結晶の固有複屈折の簡単な物理的描像を説明し、短波長でしか観察されることのない、立方晶系結晶の固有複屈折率の数学的解析も説明する。
【００３３】
通常、ＣａＦ２のような立方晶系結晶は、その立方対称性により固有複屈折は無視可能であると見なされている(発明者等は残留応力により誘起される複屈折は考慮していない)。しかし、光の波長が短くなると、光波は異なる伝搬方向に対して若干異なる環境にさらされる。この効果は、波長の二乗の逆数に比例する固有複屈折を生じさせる、追加の対称性破綻項として定量的に表現される。この複屈折のレベルは、１５７ｎｍ及び１９３ｎｍにおける光学性能に有害となる可能性がある。
【００３４】
論じられる、１/λ２に比例する対称性破綻項は、基本原理により立方晶系で生じると考えられる。同じく基本原理から、この項はガラスのような完全に等方性の材料には存在しない。固有複屈折は、＜１１１＞及び＜１００＞のような、対称性の高い一定の伝搬方位に対しては消滅し、中間の＜１１０＞方位で最大値に達する。したがって、例えば、＜１１１＞方位にある一般的光軸を進行している光は固有複屈折を受けない。
【００３５】
非特許文献１による固有複屈折値の大きさの概略の推定（式（０.１））：
【数２】
2004531764.tif 000003
【００３６】
があり、ここでΔｎは複屈折、ｎは屈折率、ａは代表的結合距離としてとることができる特性長、λは光の波長である。λ＝１４７ｎｍに対する推定値を得るため、ＣａＦ２に対する文献値、ｎ＝１.５８９及び結合距離０.２３６５ｎｍをとると、Δｎ＝１３×１０−６ｍ/ｍすなわち１３０ｎｍ/ｃｍが得られる。ローレンツの推定は、約５倍大きいと考えられる。この推定は、正しい１/λ２依存性をもつ極めて大まかな近似と見なされる。
【００３７】
効果が＜１１０＞方位で最大になり、＜１００＞及び＜１１１＞方位で消滅する理由を理解するためには、正六面体の対称性を考えればよい。正六面体のｘ，ｙまたはｚ軸(すなわち＜１００＞方位)を眺めると、９０°回転する毎に正六面体体の配向が回転前の配向に一致することがわかる(４回回転対称性)。同様に、正六面体の対角線(すなわち＜１１１＞方位)を眺めると、３回回転対称性があることがわかる。これらの回転対称性はいずれも、回転軸に垂直な平面にあるいかなる２次元ベクトルの成分も混合するに十分であり、それぞれの軸を直進する光波のいかなる複屈折も消滅させる。正六面体を＜１１０＞方位で眺めると(例えば、正六面体の面の対角線方向に眺めると)、明らかに、２回回転対称性しかもたない矩形対称性が見える。２回回転対称性はベクトル成分を混合せず、よって複屈折がおこり得る。これが、複屈折が最大の方位であることがわかる。
【００３８】
いきなり数学に入る前に、光円錐複屈折に対するもう１つの描像を考察する。平均方位が＜１１１＞である光円錐では、角度が少なくとも：
【数３】
2004531764.tif 000004
【００３９】
(ＣａＦ２での設計では４２°に達し得る)にある光線を光円錐が含んでいれば、＜１１０＞方位が含まれ、いくつかの位置で複屈折のピークが観察されるはずである。等価な１２の＜１１０＞方位の内の３つだけが＜１１１＞方位に対して９０°より小さい角度範囲内にある。それらは、[１１０]，[１０１]，[０１１]である。これらの３つの方位が光円錐に含まれるから、３つの等価な複屈折のピークが互いに１２０°離れて透過強度に観測されるはずである。
【００４０】
数学的詳細に関する本節は、第一原理から導かれる誘電テンソルについての基本式で始められ、いくつかの重要な式及び結果を導く。本節は、＜１００＞及び＜１１１＞方位に沿う固有複屈折の消滅を証明するため、等方性材料における固有複屈折の消滅を示すため（代数に関するチェックの一種）、及び＜１１０＞方位に対する非ゼロの結果を示すために、重要である。＜１１０＞方位にある光に対しては、詳細な解析により主光軸の方向も与えられる。
【００４１】
非ゼロの光子波動ベクトル：
【数４】
2004531764.tif 000005
【００４２】
を含む、誘電テンソルについての一般式(０.２)は：
【数５】
2004531764.tif 000006
【００４３】
であり、ここでＲμvijはεへの非ゼロ波動ベクトルの影響を表わす、新しい４階テンソルである。この式は光応答に対する基礎量子力学から導かれる。従来の誘導のほとんどでは、通常は非常によい近似であることから：
【数６】
2004531764.tif 000007
【００４４】
の極限がとられる。歪と屈折率変化を関係付ける４階の歪光学すなわち光弾性テンソルｐijklとの密接な類推を維持するため、ｑ依存屈折率変化を式(０.３)：
【数７】
2004531764.tif 000008
【００４５】
と定義する。ここでΔＢμvは相対反誘電テンソルＢijのｑ＝０のときの値からの変化である(Ｂij及び関連するテンソルは、非特許文献２のｐ.２４３で定義され、論じられている。Ｂijは誘電テンソルの逆テンソルである)。ここで定義されるテンソルＰijklは、同様に定義することができるかもしれないし、できなきかもしれないから、実値に適用する場合は慎重な比較が必要である。立方晶系においては、４階テンソルは一意的な非ゼロ成分を３つしかもたない。縮約表現を用いれば（非特許文献２を参照されたい）、これらの成分は、式(０.４)：
【数８】
2004531764.tif 000009
【００４６】
すなわちＰ１１，Ｐ１２及びＰ４４である。同じ３つのテンソル成分が立方晶系結晶材料の光弾性応答(もちろん異なるテンソルであるが、同じ変換特性をもつ)の特性を完全に表現することに注意されたい。
【数９】
2004531764.tif 000010
【００４７】
でつくられるダイヤードは、縮約された屈折率表現と同形になるように変形されなければならない。
【数１０】
2004531764.tif 000011
【００４８】
を表わす３×３テンソル（ダイヤード）は６成分をもつ列ベクトル（０.５）：
【数１１】
2004531764.tif 000012
【００４９】
で置き換えられる。
【００５０】
倍数２は、より嵩高の原４階テンソルの屈折率和を縮約された屈折率積で再現するために必要である。これらの定義を用いれば、式（０.３）を式（０.６）：
【数１２】
2004531764.tif 000013
【００５１】
に書き換えることができる。
【００５２】
３つの定数Ｐ１１，Ｐ１２及びＰ４４に対する測定値または理論計算値が与えられれば、式（０.６）は立方晶系において反誘電テンソル成分が短波長でどのように変形されるかを正確に示す。さらなる解析には、成分ｑ１，ｑ２及びｑ３がわかるように、光子波動ベクトル：
【数１３】
2004531764.tif 000014
【００５３】
に対して与えられるいずれかの方位を指定する必要がある（異なるＰテンソルを定義することも可能であることに注意されたい。定義は結果を比較する前に慎重にチェックされるべきである）。反誘電テンソルは、式（０.７）：
【数１４】
2004531764.tif 000015
【００５４】
により屈折率楕円体を定義するために用いられる。
【００５５】
したがって、Ｂijの小さな変化により、(複屈折を含む)屈折率の変化及び主屈折率軸(Ｂの固有ベクトル)の変化が生じる。立方晶系結晶については:
【数１５】
2004531764.tif 000016
【００５６】
の極限において、反誘電テンソルは対角テンソルであって、屈折率ｎに対しては１/ｎ２の、３つの同じ固有値を有する。すなわち、ここでの立方晶系に対し、Ｂ１１(０)，Ｂ２２(０)及びＢ３３(０)はそれぞれ１/ｎ２である。
【００５７】
[１００]に沿う複屈折は上述の論拠により消滅すると考えられるが、チェックとして：
【数１６】
2004531764.tif 000017
【００５８】
に対して式(０.６)を適用する。すると、反誘電テンソルの成分は式(０.８)：
【数１７】
2004531764.tif 000018
【００５９】
になる。
【００６０】
この場合の反誘電テンソルは未だに対角テンソルであるが、対角上のそれぞれの要素はもはや同じ値ではないことに注意されたい。しかし、光は横波であるから、Ｂ２２及びＢ３３成分だけがここの[１００]方位に進む光の場合に関係する。このような簡単な場合には、[１００]に垂直ないかなる偏光にも対応する２つの等しい固有値がある。固有複屈折はこれらの２つの等しい値の差、すなわちゼロである。複屈折は消滅しても、実屈折率はこの項により若干変化する。変化した屈折率は式(０.９)：
【数１８】
2004531764.tif 000019
【００６１】
で与えられる。
【００６２】
複屈折の有無にかかわらず、立方晶系結晶において異なる方位に伝搬する光に対して、屈折率は１ｐｐｍ程度変化し得ることがわかるであろう（再度、非特許文献２のｐ.２５２を参照されたい)。そのような屈折率の固有変化は、レンズ設計モデル作成において、固有複屈折に加えて、考慮されるべきである。
【００６３】
＜１１１＞の場合
＜１００＞と同様に、＜１１１＞軸に沿って伝搬する光に関する複屈折の消滅に対する対称性の論拠が既に与えられている。それにもかかわらず、代数演繹を遂行してこれを示すことには意義がある。波動ベクトル：
【数１９】
2004531764.tif 000020
【００６４】
を考える。正規化係数は、絶対値が：
【数２０】
2004531764.tif 000021
【００６５】
ではなく、ｑであるように選ばれる。反誘電テンソルの成分は式(０.１０)：
【数２１】
2004531764.tif 000022
【００６６】
になる。
【００６７】
この場合、反誘電テンソルは対角テンソルではなく、よって、異なる偏光及び関係する複屈折に対して屈折率がいくらであるかは明白ではない。(何らかの処理後に)主軸及び主屈折率を与える、反誘電テンソルの固有ベクトル及び固有値が必要である。反誘電テンソルの形は、式(０.１１)：
【数２２】
2004531764.tif 000023
【００６８】
の３×３行列である。
【００６９】
この行列は、固有ベクトル：
【数２３】
2004531764.tif 000024
【００７０】
にともなう１つの固有値(ａ＋２ｂ)を有し、固有ベクトル：
【数２４】
2004531764.tif 000025
【００７１】
及び
【数２５】
2004531764.tif 000026
【００７２】
にともなう２つの縮重固有値(ａ−ｂ)を有する(２つの固有値が同じであるから、これらの固有ベクトルのいかなる線形結合も固有ベクトルである)。第１の主軸は伝搬方向に沿い、したがって無関係である。第２の２つは偏光がとり得る主軸であるが、固有値(及び屈折率)が同じであるから、やはり複屈折は生じない。｛１００｝の場合と同様に、実屈折率は若干変化し、この場合は式(０.１２)：
【数２６】
2004531764.tif 000027
【００７３】
の値になる。
【００７４】
但し、固有複屈折はゼロである。
【００７５】
＜１１０＞の場合
発明者等は、＜１１０＞方位に対しては複屈折が消滅しないであろうことを対称性から論じた。
【００７６】
以下の代数的証明も固有複屈折に対する定量式を与える。光子波動ベクトル：
【数２７】
2004531764.tif 000028
【００７７】
を考える。反誘電テンソルは、式(０.１３)：
【数２８】
2004531764.tif 000029
【００７８】
になる。反誘電テンソルの形は、式(０.１４)：
【数２９】
2004531764.tif 000030
【００７９】
の３×３行列であり、式(０.１５)：
【数３０】
2004531764.tif 000031
【００８０】
の固有値及び固有ベクトルがともなう。
【００８１】
光は第１の固有ベクトルと同じ方向に進み、よって第２及び第３の固有ベクトルは屈折率に対する主軸を表わす。ここで、ついに、式(０.１６)：
【数３１】
2004531764.tif 000032
【００８２】
で表わされる、{−１,１,０}及び{０,０,１}に沿う偏光に対してｑ２程度異なる屈折率値に遭遇する。{１１０}方位に進む光に対する複屈折は式(０.１７)：
【数３２】
2004531764.tif 000033
【００８３】
の最大ＢＲ値を有する。
【００８４】
上式は非常に重要な式である。この式はテンソル成分と最大固有複屈折の間の関係を与える。
【００８５】
ガラスは、または全ての方向で(平均して)全く同じであると見なされ得るいかなる材料も、立方晶系結晶よりさらに高い対称性を有する。等方性材料においては、４階テンソルには、Ｐ１１及びＰ１２としてとられ得る、２つの独立成分しかない。等方性材料は、関係式(０.１８)：
【数３３】
2004531764.tif 000034
【００８６】
にしたがう。
【００８７】
全ての方向が等価であるから、＜１１０＞方位における光伝搬を考え、非ゼロの複屈折を求めることができる。そこで式(０.１７)を、ただし式(０.１８)とともに、適用すれば、ＢＲ＝０となることがわかる。＜１００＞または＜１１１＞方位でＢＲ＝０であることを容易に考察し得た以上、そうでなければならない。全ての方向が等価であるから、固有複屈折は全ての方向で消滅しなければならない。これはガラスの重要な利点である。
【００８８】
屈折率対方位
屈折率楕円体または反誘電テンソルＢijが与えられれば、様々な偏光及び光伝搬方向に対して屈折率を定めることが可能である。これは、レンズ設計または収差モデル化を行うために必要な種類の情報である。しかし、上で示したように、伝搬方向が異なればテンソルＢij自体が変わるため、固有複屈折に対しては問題がさらに複雑になる。式(０.６)は全ての情報を与えるが、ｑ１，ｑ２及びｑ３で与えられる方向の選択毎に処理が必要である。何らかの単純化が可能であるべきである。例えば、ｘｙ平面に等価ないかなる平面でのベクトルの回転にともなう方位に対しても、方位は：
【数３４】
2004531764.tif 000035
【００８９】
の順に経て、再び[１００]に戻る。これらの回転から考えられるように、複屈折は、式(０.１９)：
【数３５】
2004531764.tif 000036
【００９０】
にしたがい、０から式(０.１７)で与えられるピーク値になり、次いで０に戻るサイクルを４回とる。ここでθはｘ軸からの角度である。光線方向が立方晶系結晶面に平行な面にない場合にはさらに複雑になる。
【００９１】
様々な波長における複屈折への固有の寄与を見積もるため、最大複屈折方位だけを考え、１５７ｎｍにおいて６.５ｎｍ/ｃｍの値をとることにする。考察する式は式(０.１７)、すなわち式(０.２０)：
【数３６】
2004531764.tif 000037
【００９２】
である。
【００９３】
ＣａＦ２の屈折率変化に対して、セルマイヤーの式はｎ(１５７ｎｍ)＝１.５５８６を与える。ｑ＝２π/λを用いてＢＲ＝６.５ｎｍ/ｃｍに合せ込むためには、[(Ｐ１１−Ｐ１２)/２−Ｐ４４]＝０.０００２１４ｎｍ２であると推定される。これらのテンソル成分は、分散対波長が小さいと考えられるが、これは波長が長くなれば小さくなると思われる。この結果、予測される固有複屈折は実際に観測されるはずの固有複屈折よりやや大きくなるであろう。したがって、１５７ｎｍからの値にテンソル要素を合せ込み、ただし屈折率及びｑの分散を考慮すれば、下表：
【表１】
2004531764.tif 000038
【００９４】
を構成することができる。
【００９５】
１４７ｎｍにおける複屈折は６３３ｎｍにおける複屈折より２６倍大きく、その内の１８倍分は１/λ２により、残りはｑ＝０における屈折率変化による。これらの推定値が正しければ、＜１１０＞方位で見られる固有複屈折は、６３３ｎｍにおいてはかなり小さいが、１９３ｎｍでは容易に観測可能なはずである。測定値は２５３.６５ｎｍにおいて１.２ｎｍ/ｃｍを与え、これを推定値の２.１と比較すれば、Ｐ定数の分散により、６３３ｎｍでの結果はさらに小さくなる。
【００９６】
＜１００＞，＜１１１＞及び＜１１０＞からの方位ずれにより生じる複雑性を示すため、ｘｙ平面にあるがある角度で(例えば｛１００｝と{１１０}の間を)進む光線方向を考れば、波動ベクトルは式(０.２１)：
【数３７】
2004531764.tif 000039
【００９７】
である。
【００９８】
この場合に対する固有ベクトルは：
【数３８】
2004531764.tif 000040
【００９９】
に単に沿いもせず：
【数３９】
2004531764.tif 000041
【０１００】
に垂直でもない。この場合の光線方向は固有ベクトルではないことに注意することが重要である。先に考察した対称性が高い場合の全てにおいて、光線方向は固有ベクトル(主方向)の１つであったが、これは、式(０.２１)のようなより一般的な波動ベクトルに対しては明らかに当てはまらない。Ｐ４４＝(Ｐ１１−Ｐ１２)/２とされる特殊な場合には、光線方向は必ず、固有値１/ｎ２＋Ｐ１１ｑ２をもつ固有ベクトルであり、もう１つの固有ベクトルは、縮重固有値１/ｎ２＋Ｐ１２ｑ２をもち、先の固有ベクトルに垂直な平面にある。このことは、ガラスにおけるように、等方性であることの帰結を表わしているに過ぎない。
【０１０１】
波動ベクトル：
【数４０】
2004531764.tif 000042
【０１０２】
に対する固有値は、式(０.２２)：
【数４１】
2004531764.tif 000043
【０１０３】
で与えられる。
【０１０４】
これは光線方向にともなう屈折率の明示的な変化を示すが、面内固有ベクトルが計算されない限り、使用し難い(もう１つの固有ベクトルは{００１}である)。
【０１０５】
本発明は、結晶を透過する光の波長の短さに関係する固有複屈折を最小限に抑えるに好ましい＜１００＞結晶方位を有する光学素子をもつ、１９４ｎｍより短波長の光を用いる短波長光学系に用いるための、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウムのような立方晶系フッ化物結晶、好ましくはＣａＦ２から形成された光学素子を提供する。
【０１０６】
本発明の精神または範囲を逸脱することなく本発明に様々な改変及び変更がなされ得ることが、当業者には明らかであろう。したがって、本発明の改変及び変更が添付される特許請求項及びそれらの等価物の範囲内に入れば、本発明はそれらの改変及び変更を包含するとされる。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】本発明の実施形態を結晶方位が＜１００＞のフッ化物結晶レンズ素子で示す
【図１ａ】本発明の実施形態を結晶方位が＜１００＞のフッ化物結晶レンズ素子で示す
【図１ｂ】本発明の実施形態を結晶方位が＜１００＞のフッ化物結晶レンズ素子で示す
【図２】本発明の実施形態を結晶方位が＜１００＞のフッ化物結晶ビームスプリッタ素子で示す
【図２ａ】本発明の実施形態を結晶方位が＜１００＞のフッ化物結晶ビームスプリッタ素子で示す
【図３】本発明の実施形態を結晶方位が＜１００＞のフッ化物結晶ビームスプリッタ素子で示す
【図３ａ】本発明の実施形態を結晶方位が＜１００＞のフッ化物結晶ビームスプリッタ素子で示す
【符号の説明】
【０１０８】
３０    光リソグラフィ素子
３２    光学フッ化カルシウム結晶
３４    ｛１００｝結晶面
３８    光軸
４０    ＜１００＞結晶方位
４２    レンズ素子
４６    ビームスプリッター
【国際公開パンフレット】
2004531764.tif 000044
2004531764.tif 000045
2004531764.tif 000046
2004531764.tif 000047
2004531764.tif 000048
2004531764.tif 000049
2004531764.tif 000050
2004531764.tif 000051
2004531764.tif 000052
2004531764.tif 000053
2004531764.tif 000054
2004531764.tif 000055
2004531764.tif 000056
2004531764.tif 000057
2004531764.tif 000058
2004531764.tif 000059
2004531764.tif 000060
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2004531764.tif 000064
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【国際調査報告】
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