(57)【要約】【化１】2004518741.tif 000014本発明は、１群のピペラジン誘導体のメシラート、および高収率と高純度の経済的方法におけるこれらのメシラートの製造方法に関する。本発明の方法によれば、ピペラジン環の合成およびメシラート生成は、単一の反応段階において合体される。本発明は、Ｘが二環式複素環フェニル基であり、そしてＹが、メチル、エチル（場合によってはフッ素により置換されている）、シクロアルキル（３−７Ｃ）メチル、ベンジルもしくはｍ−フェニルベンジルである、式（１）の化合物のメシラートに関する。
2004518741.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
【化１】
2004518741.tif 000009
を有する化合物のメシラートが、
式（２）
Ｘ−ＮＨ２            （２）
のアミンを、
式（３）
【化２】
2004518741.tif 000010
の化合物および無水メタンスルホン酸と反応させることによって製造されることを特徴とする、ピペラジン誘導体の製造方法であって、
これらの式において、Ｘが、式（４）
【化３】
2004518741.tif 000011
［式中、
−Ｒ１は、水素もしくはフルオロであり、
−Ｒ２は、水素、アルキル（１−４Ｃ）、アルコキシ（１−４Ｃ）もしくはオキソ基であり、
−Ａは、群Ｏ，ＮおよびＳからのヘテロ原子１〜３個が存在する環原子５〜７個の複素環基を表す］
の基を表し、
−Ｙが、メチル、エチル、フッ素原子１個以上により置換されたエチル、フッ素原子１個以上により場合によっては置換されたシクロアルキル（３−７Ｃ）メチル、または式（５）
【化４】
2004518741.tif 000012
［式中、
Ｚは、水素、フェニル、ヒドロキシ、ハロゲン、アルキル（１−４Ｃ）、アルコキシ（１−４Ｃ）もしくはシアノの群からの置換基１〜３個により置換されたフェニルであり、そしてＲ３は、水素、またはハロゲン、ヒドロキシ、アルキル（１−４Ｃ）もしくはアルコキシ（１−４Ｃ）の群からの置換基１〜３個である］の基である、方法。
【請求項２】
Ｘが、式（６）
【化５】
2004518741.tif 000013
の基であり、
そしてＹが請求項１において与えられた意味を有する、式（１）を有する化合物のメシラートが製造されることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
Ｙが、ｍ−フェニルベンジル、ベンジルもしくはメチルを表す、式（１）の化合物のメシラートが製造されることを特徴とする、請求項２において請求される方法。
【請求項４】
Ｘが式（６）を有する基を表し、そしてＹが基ｍ−フェニルベンジルである、式（１）を有する化合物のメシラートが製造されることを特徴とする、請求項３において請求される方法。
【請求項５】
Ｘが式（６）を有する基を表し、そしてＹがベンジル基である、式（１）を有する化合物のメシラートが製造されることを特徴とする、請求項３において請求される方法。
【請求項６】
Ｘが式（６）を有する基を表し、そしてＹがメチルである、式（１）を有する化合物のメシラートが製造されることを特徴とする、請求項３において請求される方法。
【請求項７】
記号が請求項１において与えられた意味を有する、式（１）を有する化合物のメシラート。
【請求項８】
記号が請求項２において与えられた意味を有する、請求項７において請求されるメシラート。
【請求項９】
記号が請求項３において与えられた意味を有する、請求項８において請求されるメシラート。
【請求項１０】
Ｘが式（６）を有する基であり、そしてＹがｍ−フェニルベンジルである、式（１）を有する化合物の請求項９において請求されるメシラート。
【請求項１１】
Ｘが式（６）を有する基であり、そしてＹがベンジルである、式（１）を有する化合物の請求項９において請求されるメシラート。
【請求項１２】
Ｘが式（６）を有する基であり、そしてＹがメチルである、式（１）を有する化合物の請求項９において請求されるメシラート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ピペラジン誘導体のメシラートの新規な製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ピペラジン誘導体が、第１級アミンと置換ジ（ヒドロキシエチル）アミンの反応性エステルとの反応によって得られることは、特許文献１において記述されている。この反応性エステル誘導体は、置換ジ（ヒドロキシエチル）アミン化合物を一般式Ｒ１ＳＯ２−Ｈａｌ［式中、Ｒ１はアルキルもしくはアリールを表し、そしてＨａｌはハロゲン原子である］のハロゲン化スルホニルと反応させることによって得られる。この方法を用いて、所望のピペラジン誘導体の塩酸もしくは臭化水素酸付加塩が得られる。対応するメシラート（ｍｅｓｙｌａｔｅ）を得るためには、得られた塩は遊離塩基に転化されねばならず、これから所望のメシラートがメタンスルホン酸の使用によって製造できる。
【発明の開示】
【０００３】
本発明は、式（１）
【０００４】
【化１】
2004518741.tif 000003
【０００５】
を有する化合物のメシラートの新規な製造方法であって、
式（２）
Ｘ−ＮＨ２            （２）
のアミンを、
式（３）
【０００６】
【化２】
2004518741.tif 000004
【０００７】
の化合物および無水メタンスルホン酸と、反応させることによって製造する方法に関するが、
これらの式において、Ｘは、式（４）
【０００８】
【化３】
2004518741.tif 000005
【０００９】
［式中、
−Ｒ１は、水素もしくはフルオロであり、
−Ｒ２は、水素、アルキル（１−４Ｃ）、アルコキシ（１−４Ｃ）もしくはオキソ基であり、
−Ａは、群Ｏ，ＮおよびＳからのヘテロ原子１〜３個が存在する環原子５〜７個の複素環基を表す］
の基を表し、
−Ｙは、メチル、エチル、フッ素原子１個以上により置換されたエチル、フッ素原子１個以上により場合によっては置換されたシクロアルキル（３−７Ｃ）メチル、または式（５）
【００１０】
【化４】
2004518741.tif 000006
【００１１】
［式中、
Ｚは、水素、フェニル、ヒドロキシ、ハロゲン、アルキル（１−４Ｃ）、アルコキシ（１−４Ｃ）もしくはシアノの群からの置換基１〜３個により置換されたフェニルであり、そしてＲ３は、水素、またはハロゲン、ヒドロキシ、アルキル（１−４Ｃ）もしくはアルコキシ（１−４Ｃ）の群からの置換基１〜３個である］の基である。
【００１２】
好ましくは、本発明は、Ｘが、式（６）
【００１３】
【化５】
2004518741.tif 000007
【００１４】
を有する基であり、
そしてＹが上記意味を有する、式（１）を有する化合物のメシラートの製造に関する。
【００１５】
特に、本発明は、Ｘが式（６）を有する基であり、そしてＹが、ｍ−フェニルベンジル、ベンジルもしくはメチルを表す、式（１）を有する化合物のメシラートの製造に関する。
【００１６】
本発明の方法によれば、ピペラジン環の合成およびメシラート生成は、大きな利点を有する単一の段階において合体される。
【００１７】
式（３）を有する化合物を無水メタンスルホン酸と反応させることによる、その反応性エステルの生成は、好ましくは、塩基、例えばトリエチルアミンの存在下で実施される。この反応は、温度０〜１５０℃、好ましくは還流温度において有機溶媒中で実施できる。
【００１８】
適当な溶媒は、例えばモノクロロベンゼンおよびメチルエチルケトンである。
式（２）および（３）を有する出発化合物は、いずれも既知の化合物であるか、または構造的に関連する既知の化合物と同様な方式で製造することができる。
【００１９】
式（１）を有する化合物のメシラートは新規化合物である。そのような化合物の多数の遊離塩基、塩酸付加塩およびフマレートは既に知られている。
また、本発明は、式（１）を有する化合物の新規メシラートに関する。
【００２０】
本発明は、特に、Ｘが、式（６）
【００２１】
【化６】
2004518741.tif 000008
【００２２】
の基であり、
そしてＹが上記意味を有する、式（１）を有する化合物のメシラートに関する。
【００２３】
より特に、本発明は、Ｘが式（６）を有する基であり、そしてＹが、ｍ−フェニルベンジル、ベンジルもしくはメチルを表す、式（１）を有する化合物のメシラートに関する。
【００２４】
本発明は、特別には、Ｘが式（６）を有する基であり、そしてＹが、基ｍ−フェニルベンジルを表す、式（１）を有する化合物のメシラートに関する。
【００２５】
式（１）を有する化合物の塩酸付加塩は、その興味ある薬物学的性質とともに、ＷＯ９７／３６８９３より既知である。この既知のＨＣｌ塩の欠点は、水におけるそれの乏しい溶解度である。２５℃において、２，４，８および２４時間後の溶解度は、それぞれ０．１８〜０．２０ｍｇ／ｍｌである。
【００２６】
この化合物のメシラートは、水において約８−１０倍の、より良好な溶解性、すなわち２５℃で１．７ｍｇ／ｍｌであることが、ここに見い出された。このより高い溶解度は、それが活性化合物の一層良好な生物学的利用能をもたらすので、大きな重要性を有する。本発明は、次の実施例において具体的に説明される。
【実施例】
【００２７】
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）１５０ｍｌ中ジ（ヒドロキシエチル）ｍ−フェニルベンジルアミン２７．１４ｇ（１００ｍｍｏｌ）の溶液を、窒素下で、温度計、還流凝縮器および機械撹拌機を備えた１０００ｍｌ容丸底フラスコ中に負荷する。無水メタンスルホン酸４２．５０ｇ（２４０ｍｍｏｌ）量を室温で撹拌しつつ溶解する。反応混合液を０〜５℃に冷却し、そしてＭＥＫ５０ｍｌ中トリエチルアミン４４．７７ｇ（４４０ｍｍｏｌ）を、温度を１０℃以下に維持しながら３０−４０分間に滴下する。さらなるＭＥＫ４０ｍｌを０〜５℃で１５分間撹拌しながら添加する。１０〜２５分間に、ＭＥＫ３０ｍｌ中メタンスルホン酸２３．０８ｇ（２４０ｍｍｏｌ）を、温度を１０℃以下に維持しながら滴下する。１５分間撹拌しながらＭＥＫ３０ｍｌにより洗浄後、冷却を停止し、そしてＸが式（６）の基である式（２）を有する化合物１５．０１ｇ（１００ｍｍｏｌ）を添加する。混合液をＭＥＫ１３０ｍｌで洗浄し、そして２０〜２５℃で１時間暖める。澄明溶液を他のフラスコ中に濾過し、そしてＭＥＫ６０ｍｌで洗浄する。混合液を還流し、そしてＭＥＫ約６０ｍｌを溜去する。還流を８〜２４時間継続し、そしてＭＥＫ１４０ｍｌを添加する。次いで、水／ＭＥＫ１５０ｍｌを溜去し、そして混合液を０〜５℃に冷却し、そしてこの温度でさらに２時間撹拌する。生成物、すなわち所望のメシラートを濾過し、冷ＭＥＫ（０〜５℃）７５ｍｌで２回洗浄し、そして窒素下５０℃（１００ｍｂａｒ）で乾燥する。収量３３．３ｇ；融解範囲２６３〜２７５℃。
同様の方式で、
１）Ｘが式（６）の基であり、そしてＹがベンジルである、
２）Ｘが式（６）の基であり、そしてＹがメチルである、
式１を有する化合物のメシラートを製造した。
【国際公開パンフレット】
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【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
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【国際調査報告】
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