(57)【要約】本発明は、バリウム、チタン及び少なくとも１つの希土類金属Ｒｅｋを有している少なくとも１つの酸化物セラミック並びにホウ素を有する少なくとも１つの酸化物、ケイ素を有する少なくとも１つの酸化物及び少なくとも１つの二価の金属Ｍｅ２＋を有する少なくとも１つの酸化物を有している少なくとも１つのガラス材料を含有しているガラスセラミック材料に関する。ガラスセラミック材料は、ガラス材料が、ビスマスを有する少なくとも１つの酸化物を含有していることにより特徴付けられる。ビスマスを有する酸化物は、特に三酸化ビスマスである。酸化物セラミックは、特に、形式的な組成ＢａＲｅｋ２Ｔｉ４Ｏ１２のマイクロ波セラミックであり、その際、Ｒｅｋはネオジム又はサマリウムである。酸化物セラミックの組成は、ガラスセラミック材料の焼結の間に本質的に一定のままである。それゆえ、ガラスセラミック材料の材料特性、例えば誘電率（２０−８０）、Ｑ値（８００−５０００）及びＴｋｆ（±２０ｐｐｍ／Ｋ）は、定義されて予め調節されうる。ガラスセラミック材料は、９１０℃未満のガラス化温度に傑出しており、かつ故にＬＴＣＣ（低温同時焼成セラミックス）技術においてセラミック多層構造体の体積での受動電気素子の集積のために使用されることができる。特に、その際、銀が電気伝導性材料として使用されることができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
・バリウム、チタン及び少なくとも１つの希土類金属Ｒｅｋを有している少なくとも１つの酸化物セラミック、並びに
・ホウ素を有する少なくとも１つの酸化物、ケイ素を有する少なくとも１つの酸化物及び少なくとも１つの二価の金属Ｍｅ２＋を有する少なくとも１つの酸化物を有している少なくとも１つのガラス材料
を含有しているガラスセラミック材料において、
・ガラス材料がビスマスを有する少なくとも１つの酸化物を有していることを特徴とする、ガラスセラミック材料。
【請求項２】
酸化物セラミックが、形式的な組成ＢａＲｅｋ２Ｔｉ４Ｏ１２を有している、請求項１記載のガラスセラミック材料。
【請求項３】
ガラス材料が、少なくとも１つの希土類金属Ｒｅｇを有する少なくとも１つの酸化物を有している、請求項１又は２記載のガラスセラミック材料。
【請求項４】
希土類金属Ｒｅｋ及び／又は希土類金属Ｒｅｇが、ランタン及び／又はネオジム及び／又はサマリウムの群から選択されている、請求項１から３までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項５】
酸化物セラミックが、二価の金属Ｍｅ２＋を有している、請求項１から４までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項６】
二価の金属Ｍｅ２＋が、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、銅及び／又は亜鉛の群から選択されている、請求項１から５までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項７】
ガラス材料が、四価の金属としてのケイ素の酸化物に加えて、少なくとも１つの別の四価の金属Ｍｅ４＋を有する少なくとも１つの酸化物を有している、請求項１から６までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項８】
別の四価の金属Ｍｅ４＋が、ゲルマニウム及び／又はスズ及び／又はチタン及び／又はジルコニウムの群から選択されている、請求項７記載のガラスセラミック材料。
【請求項９】
ガラスセラミック材料の１００体積％が、７０体積％ないし９５体積％（７０体積％及び９５体積％を含めて）の範囲から選択されている酸化物セラミックのセラミック含分及び３０体積％ないし５体積％（３０体積％及び５体積％を含めて）の範囲から選択されているガラス材料のガラス含分から構成されている、請求項１から８までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項１０】
酸化物セラミック及び／又はガラス材料が、０．１μｍと１．５μｍの間（０．１μｍ及び１．５μｍを含めて）の範囲から選択されている平均粒径を有する粉末を含有している、請求項１から９までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項１１】
ガラスセラミック材料及び／又は酸化物セラミック及び／又はガラス材料の酸化鉛含分及び／又は酸化カドミウム含分が、最大０．１％、特に最大１ｐｐｍである、請求項１から１０までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項１２】
最大９５０℃、特に最大８９０℃のガラス化温度を有している、請求項１から１１までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項１３】
・２０ないし８０（２０及び８０を含めて）の範囲から選択されている誘電率、
・８００ないし５０００（８００及び５０００を含めて）の範囲から選択されているＱ値、及び
・−２０ｐｐｍ／Ｋないし＋２０ｐｐｍ／Ｋ（−２０ｐｐｍ／Ｋ及び＋２０ｐｐｍ／Ｋを含めて）の範囲から選択されているＴｋｆ値
を有している、請求項１２記載のガラスセラミック材料。
【請求項１４】
請求項１から１３までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料を有しているセラミック構造体。
【請求項１５】
金及び／又は銀及び／又は銅の群から選択されている少なくとも１つの単体金属Ｍｅ０を含有している、請求項１４記載のセラミック構造体。
【請求項１６】
セラミック構造体がセラミック多層構造体である、請求項１３又は１４記載のセラミック構造体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、バリウム、チタン及び少なくとも１つの希土類金属Ｒｅｋを有している少なくとも１つの酸化物セラミック並びにホウ素を有する少なくとも１つの酸化物、ケイ素を有する少なくとも１つの酸化物及び少なくとも１つの二価の金属Ｍｅ２＋を有する少なくとも１つの酸化物を有している少なくとも１つのガラス材料を含有しているガラスセラミック材料（Ｇｌａｓｋｅｒａｍｉｋｍａｓｓｅ）に関する。ガラスセラミック材料に加えて、ガラスセラミック材料の使用も挙げられる。
【０００２】
前記の種類のガラスセラミック材料は、ＵＳ ５ ２６４ ４０３から公知である。公知のガラスセラミック材料の酸化物セラミックは、酸化バリウム（ＢａＯ）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、希土類金属の三酸化物（Ｒｅｋ２Ｏ３）及び場合により三酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）から製造される。希土類金属Ｒｅｋは例えばネオジムである。ガラスセラミック材料のガラス材料は、三酸化ホウ素（Ｂ２Ｏ３）、二酸化ケイ素及び酸化亜鉛（ＺｎＯ）からなる。ガラスセラミック材料の酸化物セラミックのセラミック含分は、例えば９０％であり、かつガラス材料のガラス含分は１０％である。
【０００３】
ガラスセラミック材料の緻密化（Ｖｅｒｄｉｃｈｔｅｎ）は、約９５０℃の焼結温度で行われる。それゆえ、ガラスセラミック材料は、ＬＴＣＣ（低温同時焼成セラミックス）技術における使用に適している。ＬＴＣＣ技術は、例えばＤ． Ｌ． Ｗｉｌｃｏｘ他， Ｐｒｏｃ． １９９７ ＩＳＡＭ， Ｐｈｉｌａｄｅｌｐｈｉａ， １７〜２３頁に記載されている。ＬＴＣＣ技術は、受動電気素子がセラミック多層構造体の体積で集積されることができる、セラミック多層法である。受動電気素子は、例えば電気導体路、コイル、誘導又はコンデンサーである。集積は、例えば、素子に相応する金属構造が、１つ又はそれ以上のセラミックグリーンシートに印刷され、印刷されたセラミックグリーンシートが上下に積み重ねられて複合体にされ、かつ複合体が焼結されることにより成功する。セラミックグリーンシートは、低温焼結性ガラスセラミック材料と共に使用されるので、低融点の電気高伝導性単体金属Ｍｅ０、例えば銀又は銅は、セラミックグリーンシートとの複合体で焼結されることができる。その際、ＬＴＣＣ技術を用いて集積された素子の機能的能力（Ｆｕｎｋｔｉｏｎｓｆａｅｈｉｇｋｅｉｔ）は、使用されるガラスセラミックの誘電材料特性に決定的に依存している。そのような材料特性は、例えば誘電率（εｒ）、Ｑ値（Ｇｕｅｔｅ；Ｑ）及び周波数の温度係数（Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｇａｎｇ ｄｅｒ Ｆｒｅｑｕｅｎｚ；Ｔｋｆ）である。
【０００４】
公知のガラスセラミック材料の場合に、ガラス含分は相対的に低いので、ガラスセラミック材料の緻密化は反応性液相焼結により行われる。焼結の間に、ガラス材料から、液状のガラス相（ガラス融成物）が形成される。より高い温度で、酸化物セラミックは、飽和濃度に達するまでガラス融成物中に溶け、かつ再分離の結果となる。酸化物セラミックの溶解及び再分離により、酸化物セラミックの組成、ひいてはガラス相の組成もしくはガラス材料の組成も変わりうる。冷却の際に、付加的に、ガラス融成物からの結晶化の結果となりうる。例えば、その際、酸化物セラミックの成分は、冷却後にガラス相中に残っている。緻密化により酸化物セラミックの組成及びガラス材料の組成が変わる場合には、緻密化されたガラスセラミック材料の材料特性を確定すること、ひいてはＬＴＣＣ技術を用いて集積された素子の機能的能力を保証することは難しい。
【０００５】
本発明の課題は、酸化物セラミックを含有するガラスセラミック材料を挙げることであり、その組成は焼結の間に本質的に同じままである。
【０００６】
課題の解決のためには、バリウム、チタン及び少なくとも１つの希土類金属Ｒｅｋを有している少なくとも１つの酸化物セラミック並びにホウ素を有する少なくとも１つの酸化物、ケイ素を有する少なくとも１つの酸化物及び少なくとも１つの二価の金属Ｍｅ２＋を有する少なくとも１つの酸化物を有している少なくとも１つのガラス材料を含有しているガラスセラミック材料が挙げられる。ガラスセラミック材料は、ガラス材料が、ビスマスを有する少なくとも１つの酸化物を含有することにより特徴付けられる。
【０００７】
ガラスセラミック材料は、ガラスセラミック組成物であり、かつその状態に依存しない。ガラスセラミック材料は、セラミック生素地として存在していてよい。生素地、例えばグリーンシートの場合に、酸化物セラミックの粉末及びガラス材料の粉末は、有機結合剤を用いて互いに結合されていてよい。ガラスセラミック材料が酸化物セラミック及びガラス材料の粉末混合物として存在することも可能である。さらにまた、ガラスセラミック材料は焼結されたセラミック構造体として存在していてよい。例えば、焼結過程において製造されたセラミック多層構造体は、ガラスセラミック材料からなる。このセラミック多層構造体は、別の焼結過程に供給されてよい。
【０００８】
酸化物セラミックは、唯一の相として存在していてよい。しかし、これは複数の相からなっていてもよい。例えば、酸化物セラミックが、その都度異なる組成を有する相からなることが可能である。酸化物セラミックは、それゆえ異なる酸化物セラミックの混合物である。焼結の間にはじめて実際の酸化物セラミックに変換される、酸化物セラミックの１つ又はそれ以上の出発化合物が存在することも可能である。
【０００９】
ガラス材料は、同様に唯一の相であってよい。例えば、前記相は三酸化ホウ素、二酸化ケイ素、酸化亜鉛及び三酸化ビスマスからなるガラス融成物である。ガラス材料がより多くの相からなることも可能である。例えば、ガラス材料は、前記の酸化物の粉末混合物からなる。酸化物から、焼結の間に、共通のガラス融成物が形成される。ガラス材料がガラス融成物の結晶化生成物であることも可能である。このことは、ガラス材料が、例えば、焼結後にガラス融成物としてではなく、結晶形でも存在していてよいことを意味する。
【００１０】
本発明の根本的な思想は、酸化ビスマス、特に三酸化ビスマスを、ガラス材料中で使用することにある。一利点は、ガラス材料の軟化温度Ｔｓｏｆｔが下がりうることにある。ガラス転移温度が低ければ低いほど、焼結温度もしくは相応するガラスセラミック材料のガラス化温度（Ｄｉｃｈｔｂｒａｎｄｔｅｍｐｅｒａｔｕｒ）はますます低くなる。ガラス化温度で、ガラスセラミック材料のほぼ完全な緻密化が短時間で達成されることができる。
【００１１】
そのうえ、三酸化ビスマスは、焼結の間のガラス融成物中の酸化物セラミックの溶解及び再分離に、特に好都合な方法で（例えばより低いガラス化温度により）影響を及ぼす。酸化物セラミックの個々の成分の溶出はほとんど起こらない。酸化物セラミックの組成は、変わらないか又はごく僅かに変わるに過ぎず、ひいては極めて良好に予備調節されることができる。
【００１２】
酸化物セラミック中に存在しているビスマスを、高められた温度で単体銀と反応させることは公知である。電気伝導性材料としての銀の使用下でのＬＴＣＣ技術におけるビスマス含有酸化物セラミックの使用の際に、製造すべき素子の機能的能力を損なう望ましくない反応の結果となりうる。三酸化ビスマスがガラス材料中に含まれている場合には、ガラス化温度は下がる。焼結は、より低い温度で行われることができる。それゆえ、ビスマスもしくは三酸化ビスマスと、単体銀との間の反応は抑えられる。そのうえガラス含分が相対的に低い場合には、相対的にビスマスもほとんど存在しないので、ビスマスと銀との間に目につく反応は起こらない。
【００１３】
特別な一態様において、酸化物セラミックは、形式的な組成（ｆｏｒｍａｌｅ Ｚｕｓａｍｍｅｎｓｅｔｚｕｎｇ）ＢａＲｅｋ２Ｔｉ４Ｏ１２を有する。前記の組成の酸化物セラミックは、マイクロ波セラミックと呼ばれる、それというのも、その材料特性（誘電率、Ｑ値、Ｔｋｆ値）はマイクロ波技術における使用に極めて好適だからである。
【００１４】
特に、ガラス材料は、少なくとも１つの希土類金属Ｒｅｇを有する少なくとも１つの酸化物を含有する。希土類金属Ｒｅｇは、例えば、三酸化物Ｒｅｇ２Ｏ３として存在する。希土類金属Ｒｅｇの酸化物を用いて、全ガラスセラミック材料の誘電率に寄与するガラス材料の誘電率は、酸化物セラミックの誘電率に適合されることができる。それゆえ、２０〜８０又はさらにより高い誘電率を有するガラスセラミック材料が入手可能である。
【００１５】
特に、希土類金属Ｒｅｋ及び／又は希土類金属Ｒｅｇは、ランタン及び／又はネオジム及び／又はサマリウムの群から選択されている。他のランタニド又はアクチニドも可能である。希土類金属Ｒｅｋ及びＲｅｇは、同一であってよいが、しかし、異なる希土類金属であってもよい。
【００１６】
特別な一態様において、酸化物セラミックは、二価の金属Ｍｅ２＋を有する。特に、二価の金属Ｍｅ２＋は、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、銅及び／又は亜鉛の群から選択されている。二価の金属Ｍｅ２＋は、固有の酸化物相として存在していてよい。特に、二価の金属Ｍｅ２＋は、酸化物セラミックのドーピングである。酸化物セラミック中で、二価の金属Ｍｅ２＋は、酸化物セラミックの焼結温度の本質的な低下を引き起こす。そのうえ、酸化物セラミックの誘電材料特性は、制御されることができる。例えば、組成ＢａＲｅｋ２Ｔｉ４Ｏ１２の酸化物セラミックは、亜鉛でドープされている。二価の金属Ｍｅ２＋は、ビスマスの酸化物のように、焼結の間の酸化物セラミックの個々の成分の溶出を抑えることを引き起こしうる。特に好都合なのは、酸化物セラミックがガラス材料中にも存在する二価の金属Ｍｅ２＋でドープされている場合であることが示されている。特にここでは、亜鉛が二価の金属Ｍｅ２＋として挙げられうる。亜鉛は、反応性液相焼結及びその際生じる溶解過程及び再分離過程に特に好都合な影響を及ぼす。
【００１７】
別の態様において、ガラス材料は、ケイ素の酸化物に加えて、四価の金属として少なくとも１つの別の四価の金属Ｍｅ４＋の少なくとも１つの酸化物を含有する。二酸化ケイ素に加えて、ガラス材料は、四価の金属の少なくとも１つの別の二酸化物を有する。別の四価の金属Ｍｅ４＋は、特に、ゲルマニウム及び／又はスズ及び／又はチタン及び／又はジルコニウムの群から選択されている。二酸化ケイ素に加えて、前記の四価の金属の酸化物はガラス材料のガラス状態（Ｇｌａｓｉｇｋｅｉｔ）を助ける。このことは、さらに前記の二価の金属Ｍｅ２＋の酸化物も有するようなこの酸化物を用いて、ガラス材料の粘度−温度特性が制御されることを意味している。例えば、ガラス材料の軟化温度Ｔｓｏｆｔが調節されうる。同じように、ガラス材料の結晶化は影響を受ける。
【００１８】
特別な一態様において、ガラスセラミック材料の１００体積％は、７０体積％ないし９５体積％（７０体積％及び９５体積％を含めて）の範囲から選択されている酸化物セラミックのセラミック含分、及び３０体積％ないし５体積％（３０体積％及び５体積％を含めて）の範囲から選択されているガラス材料のガラス含分から構成される。ガラスセラミック材料が焼結される場合には、前記の反応性液相焼結が行われる。特に、二価の金属が酸化物セラミック中及びガラス材料中に存在する場合に存在するような、特に好都合な溶解挙動及び再分離挙動の場合に、ガラス含分を５体積％未満に維持することも可能である。
【００１９】
特に、酸化物セラミック及び／又はガラス材料は、０．１μｍと１．５μｍ（０．１μｍ及び１．５μｍを含めて）との間の範囲から選択されている平均粒径（Ｄ５０値）を有する粉末を含有する。平均粒径は、半値粒径（Ｈａｌｂｗｅｒｔｓｐａｒｔｉｋｅｌｇｒｏｅｓｓｅ）とも呼ばれる。溶解挙動及び再分離挙動に基づく制限なしに極めて僅かなガラス含分を維持するために、前記の粒径を有する粉末は、特に有利である。粉末は、反応性液相焼結にとって必要不可欠の大きな反応性表面を有する。
【００２０】
通常、焼結温度の低下のため及びガラスセラミック材料の誘電率の増大のために、ガラス材料に酸化鉛（ＰｂＯ）が添加される。本発明では、ガラスセラミック材料及び／又は酸化物セラミック及び／又はガラス材料の酸化鉛含分及び／又は酸化カドミウム含分は、最大０．１％、特に最大１ｐｐｍである。好ましくは、環境の観点から、酸化鉛及び酸化カドミウムの含分はほぼゼロである。本発明では、このことは、ガラスセラミック材料の材料特性の本質的な制限なしに成功する。
【００２１】
特別な一態様において、セラミック材料は、最大９５０℃及び特に最大９１０℃又は８９０℃のガラス化温度を有する。特に、その際、２０ないし８０（２０及び８０を含めて）の範囲から選択されている誘電率、８００ないし５０００（８００及び５０００を含めて）の範囲から選択されているＱ値、及び−２０ｐｐｍ／Ｋないし＋２０ｐｐｍ／Ｋ（−２０ｐｐｍ／Ｋ及び＋２０ｐｐｍ／Ｋを含めて）の範囲から選択されているＴｋｆ値を有しているガラスセラミック材料が入手可能である。ガラスセラミック材料は、これらの材料特性と共にマイクロ波技術における使用に卓越して適している。
【００２２】
本発明の第二の態様によれば、前記のガラスセラミック材料を有するセラミック構造体（Ｋｅｒａｍｉｋｋｏｅｒｐｅｒ）が挙げられる。特に、セラミック構造体は、金及び／又は銀及び／又は銅の群から選択されている少なくとも１つの単体金属Ｍｅ０を含有する。好ましくは、セラミック構造体はセラミック多層構造体である。セラミック構造体の製造のために、前記のガラスセラミック材料が使用される。ビスマス含有ガラス材料の使用により、ガラスセラミック材料の緻密焼結は、既に８９０℃未満で行われることができる。単体銀の存在での焼成過程の際に、妨害する相互拡散の結果とならない。特に、このようにしてセラミック構造体は、セラミック多層構造体の形で製造されることができる。ガラスセラミック材料は、特にＬＴＣＣ技術におけるセラミックグリーンシートに使用される。それゆえ、ＬＴＣＣ技術は、マイクロ波技術の素子の製造のための卓越した材料特性を有するガラスセラミック材料を提供している。
【００２３】
要約すると、本発明では次の利点が生じる：
・酸化物セラミックの組成は、ガラスセラミック材料の焼結の間に本質的に一定のままである。それゆえ、ガラスセラミック材料の材料特性は、定義されて予め調節されうる。
【００２４】
・ガラスセラミック材料のほぼ完全な緻密化（緻密焼結）は、９１０℃未満の温度で及び８９０℃未満でさえも可能である。
【００２５】
・酸化物セラミック及びガラス材料に適した（酸化物）添加により、ガラスセラミック材料の焼結挙動及びガラスセラミック材料の材料特性は、意図的かつほぼ任意に調節されうる。こうして、例えば誘電率、Ｑ値及びＴｋｆ値は、その都度幅広い範囲で低いガラス化温度の維持下に調節されることができる。
【００２６】
・緻密化は酸化鉛及び／又は酸化カドミウムを使用せずに成功する。
【００２７】
実施例及びそれに属する図に基づいて、本発明は以下に記載される。図は、多層構造様式の、ガラスセラミック材料を有するセラミック構造体の略示的で縮尺の忠実でない断面図を示す。
【００２８】
実施例によれば、ガラスセラミック材料１１は、酸化物セラミックとガラス材料の粉末とからなる粉末である。酸化物セラミックは、形式的な組成ＢａＲｅｋ２Ｔｉ４Ｏ１２を有する。希土類金属Ｒｅｋはネオジムである。酸化物セラミックは、ドーピングとして二価の金属Ｍｅ２＋を亜鉛の形で含有する。酸化物セラミックの製造には、相応する量の酸化バリウム、二酸化チタン及び三酸化ネオジムを約１質量％の酸化亜鉛と混合し、か焼されるかもしくは焼結され、かつ引き続いて相応する粉末に粉砕される。
【００２９】
ガラス材料は、ホウ素、ビスマス、ケイ素及び亜鉛を有する。ガラス材料は、次の組成に傑出している：三酸化ホウ素２７．５ｍｏｌ％、酸化ビスマス３４．８ｍｏｌ％、酸化亜鉛３２．５ｍｏｌ％及び二酸化ケイ素６ｍｏｌ％。
【００３０】
ガラスセラミック材料の１００体積％は、セラミック材料の９０体積％及びガラス材料の１０体積％から構成される。セラミック材料及びガラス材料は、０．８μｍのＤ５０値を有する。ガラスセラミック材料のガラス化温度は９００℃である。ガラスセラミック材料の誘電率は６４であり、Ｑ値は８２０であり、かつＴｋｆ値は４ｐｐｍ／Ｋである。
【００３１】
表されたガラスセラミック材料１１は、ＬＴＣＣ技術を用いて、セラミック多層構造体１の体積で受動電気素子６及び７を集積するために使用される。このようにして製造されたセラミック多層構造体１は、ガラスセラミック材料１１と共にセラミックグリーンシートから製造されるセラミック層３及び４を有する。セラミック層２及び５は、ガラスセラミック材料１１とは異なる別のガラスセラミック材料１２を有する。電気素子の電気伝導性材料は、銀の形の単体金属Ｍｅ０である。
【図面の簡単な説明】
【図１】
多層構造様式の、ガラスセラミック材料を有するセラミック構造体の略示的で縮尺の忠実でない断面図。
【符号の説明】
１　セラミック多層構造体、　２〜５　セラミック層、　６，７　受動電気素子、　１１，１２　ガラスセラミック材料
【国際公開パンフレット】
2004511419.tif 000003
2004511419.tif 000004
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【手続補正書】
【提出日】平成14年12月10日(2002.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
・バリウム、チタン及び少なくとも１つの希土類金属Ｒｅｋを有している少なくとも１つの酸化物セラミック、並びに
・ホウ素を有する少なくとも１つの酸化物、ケイ素を有する少なくとも１つの酸化物、少なくとも１つの二価の金属Ｍｅ２＋を有する少なくとも１つの酸化物及び
・ビスマスを有する少なくとも１つの酸化物
を有している少なくとも１つのガラス材料
を含有しているガラスセラミック材料において、
・ガラスセラミック材料及び／又は酸化物セラミック及び／又はガラス材料の酸化鉛含分及び／又は酸化カドミウム含分が最大０．１％であることを特徴とする、ガラスセラミック材料。
【請求項２】
酸化物セラミックが、形式的な組成ＢａＲｅｋ２Ｔｉ４Ｏ１２ を有している、請求項１記載のガラスセラミック材料。
【請求項３】
ガラス材料が、少なくとも１つの希土類金属Ｒｅｇを有する少なくとも１つの酸化物を有している、請求項１又は２記載のガラスセラミック材料。
【請求項４】
希土類金属Ｒｅｋ及び／又は希土類金属Ｒｅｇが、ランタン及び／又はネオジム及び／又はサマリウムの群から選択されている、請求項１から３までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項５】
酸化物セラミックが、二価の金属Ｍｅ２＋を有している、請求項１から４までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項６】
二価の金属Ｍｅ２＋が、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、銅及び／又は亜鉛の群から選択されている、請求項１から５までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項７】
ガラス材料が、四価の金属としてのケイ素の酸化物に加えて、少なくとも１つの別の四価の金属Ｍｅ４＋を有する少なくとも１つの酸化物を有している、請求項１から６までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項８】
別の四価の金属Ｍｅ４＋が、ゲルマニウム及び／又はスズ及び／又はチタン及び／又はジルコニウムの群から選択されている、請求項７記載のガラスセラミック材料。
【請求項９】
ガラスセラミック材料の１００体積％が、７０体積％ないし９５体積％（７０体積％及び９５体積％を含めて）の範囲から選択されている酸化物セラミックのセラミック含分及び３０体積％ないし５体積％（３０体積％及び５体積％を含めて）の範囲から選択されているガラス材料のガラス含分から構成されている、請求項１から８までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項１０】
酸化物セラミック及び／又はガラス材料が、０．１μｍと１．５μｍの間（０．１μｍ及び１．５μｍを含めて）の範囲から選択されている平均粒径を有する粉末を含有している、請求項１から９までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項１１】
酸化鉛含分及び／又は酸化カドミウム含分が最大１ｐｐｍである、請求項１から１０までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項１２】
最大９５０℃、特に最大８９０℃のガラス化温度を有している、請求項１から１１までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料。
【請求項１３】
・２０ないし８０（２０及び８０を含めて）の範囲から選択されている誘電率、
・８００ないし５０００（８００及び５０００を含めて）の範囲から選択されているＱ値、及び
・−２０ｐｐｍ／Ｋないし＋２０ｐｐｍ／Ｋ（−２０ｐｐｍ／Ｋ及び＋２０ｐｐｍ／Ｋを含めて）の範囲から選択されているＴｋｆ値
を有している、請求項１２記載のガラスセラミック材料。
【請求項１４】
請求項１から１３までのいずれか１項記載のガラスセラミック材料を有しているセラミック構造体。
【請求項１５】
金及び／又は銀及び／又は銅の群から選択されている少なくとも１つの単体金属Ｍｅ０を含有している、請求項１４記載のセラミック構造体。
【請求項１６】
セラミック構造体がセラミック多層構造体である、請求項１３又は１４記載のセラミック構造体。
【国際調査報告】
2004511419.tif 000019
2004511419.tif 000020
2004511419.tif 000021
2004511419.tif 000022
2004511419.tif 000023
2004511419.tif 000024