(57)【要約】電子ビーム（２８）を生成する電子銃（２６）を内部に有する排気されたエンベロープ（１１）を有するカラー陰極線管（ＣＲＴ）（１１）が開示される。エンベロープは更に、蛍光体ラインがある発光スクリーン（２２）を内面に有するフェースプレートパネル（１２）を含む。複数の間隔が開けられた第１の導電線（４０）を有するフォーカスマスク（２５）は、発光スクリーンの実効画像領域に隣接して設置される。第１の導電線間の間隔は、発光スクリーン上の蛍光体ラインに略平行である複数のスロットを画成する。各第１の導電線は、導電線のスクリーンに面する面に形成される連続的な絶縁材料層（６２）を有する。複数の第２の導電線（６０）が、複数の第１の導電線に対し略垂直に方向付けられ、複数の第２の導電線は、絶縁材料層により、複数の第１の導電線に接着される。キャップ層（６５）が、複数の第２の導電層及び絶縁材料の上方に形成される。キャップ層は、絶縁材料層が帯電することを阻止するために使用する半導体層である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビーム（２８）を生成する電子銃（２６）、蛍光体ラインがある発光スクリーン（２２）を内面に有するフェースプレートパネル（１２）、及び、フォーカスマスク（２５）を内部に有する排気されたエンベロープ（１１）を含み、
上記フォーカスマスクは、絶縁材料（６２）をその上に有する複数の間隔が開けられた第１の導電線（４０）と、上記複数の間隔が開けられた第１の導電線に対し略垂直となるよう方向付けられる複数の間隔が開けられた第２の導電線（６０）とを含み、
上記複数の間隔が開けられた第２の導電線は、上記絶縁材料に接着される陰極線管（１０）であって、
上記絶縁材料上に形成されるキャップ層（６５）を含む、陰極線管。
【請求項２】
上記キャップ層は、半導体である請求項１記載の陰極線管。
【請求項３】
上記半導体キャップ層は、炭化珪素層である請求項２記載の陰極線管。
【請求項４】
上記炭化珪素層は、リン、ヒ素、アルミニウム、及び、ホウ素からなるグループから選択される元素がドープされる請求項３記載の陰極線管。
【請求項５】
上記キャップ層は、約１０１１オーム／平方乃至約１０１４オーム／平方内のシート抵抗を有する請求項１記載の陰極線管。
【請求項６】
電子ビーム（２８）を生成する電子銃（２６）、蛍光体ラインがある発光スクリーン（２２）を内面に有するフェースプレートパネル（１２）、及び、フォーカスマスク（２５）を内部に有する排気されたエンベロープ（１１）を含み、
上記フォーカスマスクは、絶縁材料（６２）をその上に有する複数の間隔が開けられた第１の導電線（４０）と、上記複数の間隔が開けられた第１の導電線に対し略垂直となるよう方向付けられる複数の間隔が開けられた第２の導電線（６０）とを含み、
上記複数の間隔が開けられた第２の導電線は、上記絶縁材料に接着される陰極線管（１０）を製造する方法であって、
上記絶縁材料上に形成されるキャップ層（６５）を形成する段階を含む方法。
【請求項７】
上記キャップ層は、半導体である請求項６記載の方法。
【請求項８】
上記半導体キャップ層は、炭化珪素層である請求項７記載の方法。
【請求項９】
上記炭化珪素層は、リン、ヒ素、アルミニウム、及び、ホウ素からなるグループから選択される元素がドープされる請求項８記載の方法。
【請求項１０】
上記キャップ層は、約１０１１オーム／平方乃至約１０１４オーム／平方内のシート抵抗を有する請求項６記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
発明の背景
［発明の属する技術分野］
本発明は、カラー陰極線管（ＣＲＴ）に関り、より具体的には、フォーカスマスクを含むカラーＣＲＴに係る。
【０００２】
［背景技術の説明］
カラー陰極線管（ＣＲＴ）は、一般的に、電子銃、アパーチャマスク、及び、スクリーンを含む。アパーチャマスクは、電子銃とスクリーンの間に配置される。スクリーンは、ＣＲＴ管のフェースプレートの内面に配置される。スクリーンは、その上に３つの異なる色放射蛍光体（例えば、緑、青、赤）のアレイが形成される。アパーチャマスクは、電子銃内で生成された電子ビームを、ＣＲＴ管のスクリーン上の適切な色放射蛍光体に方向付ける。
【０００３】
アパーチャマスクは、フォーカスマスクであってもよい。一般的に、フォーカスマスクは、互いに直交となるよう配置される２組の導電線（又は、導電ワイヤ）を含み、それにより、開口のアレイが形成される。２組の導電線には異なる電圧が印加され、それにより、マスクの各開口に、マルチポールフォーカスレンズが形成される。マルチポールフォーカスレンズは、電子ビームを、ＣＲＴ管のスクリーン上の色放射蛍光体に方向付けるために用いられる。
【０００４】
フォーカスマスクの１つの種類は、テンションフォーカスマスクであり、２組の導電線のうちの少なくとも１組に、張力が加えられる。テンションフォーカスマスクでは、一般的に、垂直方向の導電線の１組に張力がかけられ、水平方向の導電線の１組が、そのような垂直方向に引っ張られた導電線の上に被せられる。
【０００５】
２組の導電線が重なる場所において、これらの導電線は、一般的に、それらの交差点（接合部）において、絶縁材により取付けられる。マスクの開口にマルチポールフォーカスレンズを形成するよう、２組の導電線のそれぞれに異なる電圧が印加されると、高電圧（ＨＶ）フラッシオーバが１つ以上の接合部において発生する場合がある。ＨＶフラッシオーバは、２組の導電線を分けている絶縁材の表面に沿う電荷の放電である。ＨＶフラッシオーバは、２組の導電線間の電気短絡をもたらし、フォーカスマスクが故障する原因ともなるので望ましくない。
【０００６】
電子銃からの電子ビームが、スクリーン上の色放射蛍光体に方向付けられる際に、電子ビームは、フォーカスマスク上の絶縁材を帯電させる場合がある。このような帯電は、電子ビームを、スクリーン上に形成される色放射蛍光体に正確に方向付けるフォーカスマスクの機能を妨げ、フォーカスマスクの導電線間でのＨＶフラッシオーバを引き起こす可能性があるので望ましくない。
【０００７】
従って、上述した欠点を解決する好適な絶縁材が必要である。
【０００８】
［発明の概要］
本発明は、電子ビームを生成する電子銃を内部に有する排気されたエンベロープを有するカラー陰極線管（ＣＲＴ）に係る。エンベロープは更に、蛍光体ラインがある発光スクリーンを内面に有するフェースプレートパネルを含む。複数の間隔が開けられた第１の導電線を有するフォーカスマスクは、発光スクリーンの実効画像領域に隣接して設置される。第１の導電線間の間隔は、発光スクリーン上の蛍光体ラインに略平行である複数のスロットを画成する。各第１の導電線は、第１の導電線の１つの面に形成される連続的な絶縁材料層を有する。複数の第２の導電線が、複数の第１の導電線に対し略垂直に方向付けられ、複数の第２の導電線は、絶縁材料層により、複数の第１の導電線に接着される。キャップ層が、複数の第２の導電層及び絶縁材料の上方に形成される。キャップ層は、絶縁材料層が帯電することを阻止するために使用する半導体層である。
【０００９】
［好適な実施例の詳細な説明］
本発明を、添付図面を参照しながら、詳細に説明する。
【００１０】
図１は、フェースプレートパネル１２と、ファンネル１５により接続される管状ネック１４を含むガラスエンベロープ１１を有するカラー陰極線管（ＣＲＴ）を示す。ファンネル１５は、第１の陽極ボタン１６に接触し、第１の陽極ボタン１６からネック部１４に延在する内部導電性コーティング（図示せず）を有する。第２の陽極ボタン１７は、第１の陽極ボタン１６の反対側に設置され、導電性コーティングは接触しない。
【００１１】
フェースプレートパネル１２は、ビューイングフェースプレート１８と、ガラスフリット２１によってファンネル１５にシールされる周辺フランジ又は側壁２０を含む。３色発光蛍光体スクリーン２２は、フェースプレート１８の内面に担持される。図５に詳細に示すが、スクリーン２２はラインスクリーンであり、トライアッドに配置される、それぞれ赤色蛍光体ラインＲ、緑色蛍光体ラインＧ、及び、青色蛍光体ラインＢからなる複数のスクリーン素子を含み、各トライアッドは、３色夫々の蛍光体ラインを含む。光吸収マトリクス２３が、蛍光体ラインを分けることが好適である。好適には、アルミニウムから形成される薄い導電層２４が、スクリーン２２の上に被せられ、スクリーンに均一な第１の陽極電位を与え、且つ、蛍光体素子から放射された反射光を、フェースプレート１８を通過させる手段を供給する。
【００１２】
円筒状の、多数のアパーチャを有する色選択電極、即ち、テンションフォーカスマスク２５は、従来の手段によって、フェースプレートパネル１２内において、スクリーン２２に対し所定の間隔を有して着脱可能に取付けられる。図１に破線により概略的に示す電子銃２６は、ネック１４内に中心に取付けられ、３つのインライン電子ビーム２８、即ち、中心ビームと、２つの側部又は外部ビームを生成し、且つ、それらの電子ビームを、テンションフォーカスマスク２５を通る収束路に沿ってスクリーン２２に方向付ける。中心ビーム２８のインライン方向は、紙面に対し略垂直である。
【００１３】
図１のＣＲＴは、ファンネルとネックの接合部の付近に示すヨーク３０といった外部磁気偏向ヨークと共に使用するよう設計される。ヨーク３０は、活性化されると、３つの電子ビームを磁場の影響を与え、それにより、電子ビームは、スクリーン２２全体を、水平及び垂直の矩形ラスタで走査する。
【００１４】
テンションフォーカスマスク２５は、約０．０５ミリメートル（２ミル）の厚さを有する低カーボンスチール（約０．００５重量パーセントの炭素）の薄い矩形板から形成されることが好適である。テンションフォーカスマスク２５に好適な材料としては、約１２０−１６０×１０−７／度の範囲の熱膨張係数（ＣＯＥ）を有する低カーボンスチール、約４０−６０×１０−７／度の範囲の熱膨張係数を有するイオン−コバルト−ニッケル（例えば、コーバ（ＫＯＶＡＲ）（商標））といった中間膨張合金、及び、約９−３０×１０−７／度の範囲の熱膨張係数を有する鉄−ニッケル（例えば、インバー（ＩＮＶＡＲ）（商標））といった低膨張合金が挙げられる。
【００１５】
図２に示すように、テンションフォーカスマスク２５は、２つの長い側部３２、３４と、２つの短い側部３６、３８を含む。テンションフォーカスマスク２５の２つの長い側部３２、３４は、ＣＲＴの中心主軸Ｘと平行であり、一方、２つの短い側部３６、３８は、ＣＲＴの中心副軸Ｙと平行である。
【００１６】
テンションフォーカスマスク２５（図２では、破線により概略的に示す）は、スクリーン２２の実効画像領域に隣接し、且つ、実効画像領域に重なるアパーチャ部を含む。図４を参照するに、テンションフォーカスマスク２５は、複数の第１の金属ストランド（導電線）４０を含み、各ストランドは、約０．３ミリメートル乃至約０．５ミリメートル（１２−２０ミル）の横断寸法、即ち、幅を有し、略等間隔に置かれるスロット４２により分けられる。各スロット４２は、約０．２７ミリメートル乃至約０．４３ミリメートル（１１−１６ミル）の幅を有し、ＣＲＴの副軸、即ち、Ｙ軸、及び、スクリーン２２の蛍光体ラインと平行である。６８センチメートルの対角線寸法を有するカラーＣＲＴに対し、第１の金属ストランドは、約０．３ミリメートル乃至約０．３８ミリメートル（１２−１４．５ミル）の幅を有し、スロット４２の幅は、約０．２７ミリメートル乃至約０．３３ミリメートル（１１−１３．３ミル）である。６８センチメートル（２７ボルト（Ｖ））の対角線寸法を有するカラーＣＲＴでは、約７６０個の第１の金属ストランド４０がある。各スロット４２は、テンションフォーカスマスクの１つの長い側部３２から、もう１つの長い側部３４（図４には示さず）に延在する。
【００１７】
図１乃至図３には、テンションフォーカスマスク２５のフレーム４４を示す。このフレーム４４は、４つの主な部材を含む。即ち、２つのトーションチューブ又は湾曲部材４６、４８、及び、２つのテンションアーム又は直線部材５０、５２を含む。２つの湾曲部材４６、４８は、主軸、即ち、Ｘ軸に対し、且つ、互いに対し平行である。
【００１８】
図３に示すように、各直線部材５０、５２は、２つの重なり合う部分部材、又は、パーツ５４、５６を含み、各パーツは、Ｌ字型の断面を有する。重なり合うパーツ５４、５６は、重ね合わさる場所において互いに溶接される。各重なり合うパーツ５４、５６の端部は、湾曲部材４６、４８のうちの１つの湾曲部材の端に取付けられる。湾曲部材４６、４８の曲率は、テンションフォーカスマスク２５の円筒曲率に適合する。テンションフォーカスマスク２５の長い側部３２、３４は、２つの湾曲部材４６、４８の間で溶接され、それにより、マスクに必要な張力が供給される。テンションフォーカスマスク２５の長い側部３２、３４をフレーム４４に溶接する前に、マスク材料は、窒素及び酸素の被制御雰囲気において、約５００度の温度で、約１２０分間の間、マスクを加熱しながら、マスク材料を引っ張ることにより、マスク材料には予め応力がかけられ、ダークン（ｄａｒｋｅｎ）される。フレーム４４及びマスク材料は、互いに溶接されると、テンションマスク組立体を含む。
【００１９】
図４及び図５を参照するに、複数の第２の金属ストランド（導電線）６０は、夫々、約０．０２５ミリメートル（１ミル）の直径を有し、第１の金属ストランド４０に対し略垂直に配置され、第１の金属ストランド４０から、絶縁体６２によって間隔が開けられる。絶縁体６２は、各第１の金属ストランド４０のスクリーンに面する側に形成される。第２の金属ストランド６０は、第２の陽極、即ち、フォーカス電位を、テンションフォーカスマスク２５に印加することを容易にする交差部材を形成する。第２の金属ストランドの好適な材料には、例えば、インバー（ＩＮＶＡＲ）（商標）といった鉄−ニッケル合金、及び／又は、ＨｙＭｕ８０ワイヤ（カーペンタ・テクノロジ社（リーディング、ペンシルヴァニア州）から市販される）といったカーボンスチールが挙げられる。
【００２０】
隣接する第２の金属ストランド６０間の垂直間隔、又は、ピッチは、６８センチメートル（２７ボルト（Ｖ））の対角線寸法を有するカラーＣＲＴの場合は、約０．３３ミリメートル（１３ミル）である。（第１の金属ストランド４０と比較して）比較的細い第２の金属ストランド６０は、電子ビームのテンションフォーカスマスク２５の通過に悪影響を与えることなく、テンションフォーカスマスク２５の本質的なフォーカス機能を与える。本願で説明するテンションフォーカスマスク２５は、スクリーン２２の中心において、約４０−４５パーセントのマスク透過を与え、第２の金属ストランド６０に印加される第２の陽極、即ち、フォーカス電圧ΔＶは、第１の金属ストランド４０に印加される第１の陽極電圧が約３０キロボルト（ｋＶ）である場合、第１の陽極電圧から、約１キロボルト以下で異なることが必要である。
【００２１】
図４に示す絶縁体６２は、各第１の金属ストランド４０のスクリーンに面する面に略連続的に配置される。第２の金属ストランド６０は、第２の金属ストランド６０を第１の金属ストランド４０から電気的に隔離するよう絶縁体６２に接着される。
【００２２】
絶縁体６２は、テンションフォーカスマスク２５の材料に合う熱膨張係数を有する好適な材料から形成される。絶縁体の材料は、約４５０度乃至約５００度の温度において、第１の金属ストランド４０及び第２の金属ストランド６０の両方に流れて、硬化して、接着するよう比較的低い溶融温度を有することが好適である。絶縁体の材料は、約１０１１オーム−センチメートルのバルク電気抵抗、及び、１０１２オーム／平方（ｏｈｍ／ｓｑｕａｒｅ）の表面電気抵抗で、約４０，０００ボルト／ミリメートル（１，０００ボルト／ミル）の絶縁破壊の強さを有することが好適である。更に、絶縁体の材料は、ＣＲＴフェースプレートパネル１２をファンネル１５にシールするために用いる温度（約４５０度乃至約５００度の温度）において安定しているべきである。更に、適切な機械的強度及び弾性率を有し、且つ、電子ビーム照射時の長い時間における処理及び動作の際の気体放出が少ないべきである。
【００２３】
好適な絶縁体の材料には、鉛−亜鉛ホウケイ酸ガラス、遷移金属酸化物によりドープされた鉛−亜鉛ホウケイ酸ガラス、及び、有機珪素化合物が含まれる。
【００２４】
キャップ層６５が、複数の第２の金属ストランド６０と絶縁体６２の上に形成される。キャップ層６５は、絶縁材料層が帯電することを阻止するために使用する半導体層である。半導体キャップ層６５は、約１０１１オーム／平方乃至約１０１４オーム／平方のシート抵抗を有することが好適である。キャップ層６５は、約１００オングストローム乃至約５００オングストロームの厚さを有することが好適である。
【００２５】
好適な半導体材料層は、炭化珪素である。炭化珪素は、ドープされた炭化珪素層であってもよい。ドーパントは、半導体材料内の自由キャリアの数を増加する。それにより、半導体材料の伝導率を制御する。好適なドーパントは、例えば、リン（Ｐ）、ホウ素（Ｂ）、アルミニウム（Ａｌ）、及び、ヒ素（Ａｓ）といった第３族及び第５族の元素を含む。
【００２６】
炭化珪素層は、例えば、プラズマ強化化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ）システム内において、珪素源と炭素源を含む気体混合に、電界（例えば、無線周波数（ＲＦ）電源、又は、ＤＣ電源）をかけることにより形成されうる。好適な珪素源、及び／又は、炭素源は、特に、メタン（ＣＨ４）、シラン（ＳｉＨ４）、エタン（Ｃ２Ｈ６）、ジシラン（Ｓｉ２Ｈ６）、フルオロメタン（ＣＨ３Ｆ）、ジフルオロメタン（ＣＨ２Ｆ２）、トリフルオロメタン（ＣＨＦ３）、及び、四フッ化炭素（ＣＦ４）から選択される１つ以上の化合物を含み得る。或いは、有機珪素化合物を、珪素源及び炭素源の両方に使用し得る。好適な有機珪素化合物は、例えば、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラメチルシラン、トリシラメタン（ＣＨ（ＳｉＨ３）３）、ジシラメタン（ＣＨ２（ＳｉＨ３）２）、及び、シラメタン（ＣＨ３（ＳｉＨ３））を含む。
【００２７】
好適なドーパント気体は、特に、ホスファン（ＰＨ３）、ジボラン（Ｂ２Ｈ６）、及び、トリメチルボラン（Ｂ（ＣＨ３））を含む。
【００２８】
一般的に、以下の蒸着処理パラメータを用いて、ＰＥＣＶＤシステムを使用して炭化珪素層を形成する。処理パラメータは、約１５０度乃至約３００度の温度、約０．１トル乃至約５トルの圧力、約１パーセント乃至約３０パーセントの炭素源／珪素源のガスフロー比、約０．２パーセント乃至約５パーセントのドーパント／珪素源ガスフロー比、約１０ミリワット／平方センチメートル乃至約２００ミリワット／平方センチメートルのプラズマ力といったレンジに及ぶ。上述した処理パラメータは、約１オングストローム／秒乃至約４オングストローム／秒の炭化珪素層に対する蒸着率を与える。列挙したパラメータは、特定の材料源、及び／又は、炭化珪素層を形成するために用いられる蒸着システムに応じて異なり得る。
【００２９】
テンションフォーカスマスク２５を形成する好適な方法によると、且つ、図６を参照するに、第１の金属ストランド４０のスクリーンに面する面上に、例えば、噴霧することによって、第１の絶縁コーティング６４が設けられる。この実施例では、第１の金属ストランド４０は、９−３０×１０−７／度の範囲内の熱膨張係数を有する、インバー（商標）といった低膨張合金から形成される。第１の絶縁コーティング６４は、例えば、ＳＣＣ−１１といった鉛−亜鉛ホウケイ酸ガラスであってよい。第１の絶縁コーティング６４は、一般的に、約０．０５ミリメートル乃至約０．０９ミリメートル（２−３ミル）の厚さを有する。
【００３０】
コーティングされた第１の金属ストランド４０を含むフレーム４４は、室温で乾燥させられる。乾燥した後、第１の絶縁コーティング６４は、フレーム４４及び第１の金属ストランド４０を、オーブン内で加熱することにより硬化される。フレーム４４は、約３００度の温度までに約３０分間加熱され、３００度の温度で、約２０分間維持される。次の約２０分間の間に、オーブンの温度は、約４６０度まで上げられ、その温度に、１時間維持され、第１の金属ストランド４０上の第１の絶縁コーティング６４を溶解し結晶化させる。第１の絶縁コーティング６４は、一般的に、一度硬化すると、再溶解しない。第１の絶縁コーティング６４は、一般的に、ドーム状であり、各第１の金属ストランド４０に亘って約０．０５ミリメートル乃至約０．０９ミリメートル（２−３ミル）の厚さを有する。
【００３１】
第１の絶縁コーティング６４が硬化した後、第１の絶縁コーティング６４上に第２の絶縁コーティング６６が塗布される。第２の絶縁コーティング６６は、第１の絶縁コーティングと同じ組成を有する。第２の絶縁コーティングは、約０．０１２５ミリメートル乃至約０．０５ミリメートル（０．５−２ミル）の厚さを有する。
【００３２】
その後に、第２の金属ストランド６０が、第１の金属ストランド４０に略垂直となるよう、第２の絶縁コーティングの上で、フレーム４４に当てられる。第２の金属ストランド６０は、ワインディング固定具（図示せず）を用いて付けられる。この固定具は、約６８センチメートル（２７ボルト（Ｖ））の対角線寸法を有するカラーＣＲＴに対し、隣接する金属ストランド間に、例えば、約０．３３ミリメートル（１３ミル）の所望の間隔を正確に維持する。
【００３３】
或いは、ワインディング動作の後に、第２の絶縁コーティング６６が、第１の絶縁コーティング６４及び第２の金属ストランド６０の上に付けられてもよい。
【００３４】
ワインディング固定具を含むフレーム４４は、約４６０度の温度まで３０分間加熱して、第２の金属ストランド６０を、第２の絶縁コーティング６８に接続させる。
【００３５】
硬化した後、半導体キャップ層６５が、複数の第２の金属ストランド６０及び第２の絶縁コーティング６６の上に形成される。半導体キャップ層６５は、例えば、リンがドープされたｎ型の炭化珪素層である。
【００３６】
半導体キャップ層６５は、約１００オングストローム乃至約５００オングストロームの厚さを有する。炭化珪素半導体キャップ層６５は、例えば、以下の条件において、電界下で、メタン（ＨＣ４）、シラン（ＳｉＨ４）、及び、フォスフェン（ＰＨ３）を含むガス混合を反応させることにより形成されうる。条件とは、約２５０度の温度、約０．５トルの圧力、約２５ミリワット／平方センチメートルの電力、約１５パーセントのＣＨ４／ＳｉＨ４フロー比、及び、約１パーセントのＰＨ３／ＳｉＨ４フロー比である。
【００３７】
炭化珪素半導体キャップ層６５が形成された後、第１の金属ストランド４０と第２の金属ストランド６０に電気接続が形成され、テンションフォーカスマスク２５が、陰極線管のエンベロープ内に挿入される。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明を具現化するテンションフォーカスマスク−フレーム組立体を含むカラー陰極線管（ＣＲＴ）を示す部分的に横断面にされる平面図である。
【図２】
図１のテンションフォーカスマスク−フレーム組立体を示す平面図である。
【図３】
図２の線３−３についてのテンションフォーカスマスク−フレーム組立体を示す正面図である。
【図４】
図２に示す円形４内のテンションフォーカスマスクを示す拡大図である。
【図５】
図４の線５−５についてのテンションフォーカスマスク及び発光スクリーンを示す図である。
【図６】
図５に示す円形６内のテンションフォーカスマスクの一部を示す拡大図である。
【国際公開パンフレット】
2004516611.tif 000003
2004516611.tif 000004
2004516611.tif 000005
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2004516611.tif 000019
2004516611.tif 000020
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004516611.tif 000021
【手続補正書】
【提出日】平成15年4月15日(2003.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
フォーカスマスクの１つの種類は、テンションフォーカスマスクであり、２組の導電線のうちの少なくとも１組に、張力が加えられる。テンションフォーカスマスクでは、一般的に、垂直方向の導電線の１組に張力がかけられ、水平方向の導電線の１組が、そのような垂直方向に引っ張られた導電線の上に被せられる。このようなテンションフォーカスマスクの一例は、１９９７年７月８日に、ノスカー（Ｎｏｓｋｅｒ）外に発行された米国特許第５，６４６，４７８号に開示される。
【国際調査報告】
2004516611.tif 000022
2004516611.tif 000023