(57)【要約】周期表の第５〜８族の遷移金属の錯体を基礎とするシングルサイト触媒を用いてその触媒作用により１種以上のオレフィンから製造されたポリオレフィンワックス成分を含む印刷インキまたは塗料であって、遷移金属１個あたり１個以下のシクロペンタジエニル系を含むことを特徴とする印刷インキまたは塗料。【特許請求の範囲】
【請求項１】
周期表の第５〜８族の遷移金属の錯体を基礎とするシングルサイト触媒を用いてその触媒作用により１種以上のオレフィンから製造されたポリオレフィンワックス成分を含む印刷インキまたは塗料であって、
遷移金属１個あたり１個以下のシクロペンタジエニル系を含むことを特徴とする印刷インキまたは塗料。
【請求項２】
シングルサイト触媒が、周期表の第５〜８族の遷移金属のトリ−プニコゲン−シクロヘキサン錯体を触媒活性成分として含む請求項１に記載の印刷インキまたは塗料。
【請求項３】
シングルサイト触媒が、周期表の第５〜８族の遷移金属の１，３，５−トリアザシクロヘキサン錯体、１，３−ジアザ−５−ホスファシクロヘキサン錯体または１，３，５−トリホスファシクロヘキサン錯体を触媒活性成分として含む請求項１または２に記載の印刷インキまたは塗料。
【請求項４】
シングルサイト触媒が、Ｃｒ錯体を触媒活性成分として含む請求項１〜３のいずれかに記載の印刷インキまたは塗料。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のように調製されたポリオレフィンワックスの微粒子を印刷インキ及び塗料の製造に使用する方法。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載のように調製されたポリオレフィンワックス微粒子を使用することを特徴とする印刷インキ及び塗料の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれかに記載の印刷インキを使用することを特徴とする紙または厚紙の印刷方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、周期表の第５〜８族の遷移金属の錯体を基礎とするシングルサイト触媒を用いてその触媒作用により１種以上のオレフィンから製造されたポリオレフィンワックス成分を含む印刷インキまたは塗料であって、遷移金属１個あたり１個以下のシクロペンタジエニル系（環式基）を含むことを特徴とする印刷インキまたは塗料に関する。更に本発明は、本発明の印刷インキ及び塗料に使用する場合のポリオレフィンワックスの微粒子、本発明のポリオレフィンワックスの微粒子を使用する印刷インキ及び塗料の製造方法、ならびに本発明の印刷インキを使用する紙または厚紙の印刷方法に関する。
【０００２】
塗料及び印刷インキは、複数の組成分から構成されている。
【０００３】
印刷インキの４種類の主組成分は、
着色剤、通常、合成有機顔料または無機顔料、例えば
ＴｉＯ２、紺青顔料または酸化鉄顔料等の無機顔料、
青銅等の金属顔料、例えばアルミニウム粉末（銀ブロンズ）、黄銅粉末（金ブロンズ）または銅粉末（銅ブロンズ）、
妨害顔料（ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ ｐｉｇｍｅｎｔ）、例えば真珠層、真珠光沢剤（ｐｅａｒｌ ｌｕｓｔｒｅ）、
カーボンブラック顔料、
有機アゾ顔料、イソインドリン顔料、フタロシアニド顔料または発光用顔料；
フィラー、例えば炭酸カルシウム、酸化アルミニウムの水和物、硫酸バリウム、シリカ、ケイ酸アルミニウム（カオリン）またはケイ酸マグネシウム（タルク）；
バインダー（脂肪性で酸化乾燥または未乾燥の油、及びこれらから調製される、アルキド樹脂または樹脂溶液から選択される）；
溶剤、例えば水；
である。
【０００４】
更に、助剤を第２の組成分（副組成分）として導入し、例としては、ワックス、脂肪酸アミド、可塑剤、乾燥剤、及び乾燥抑制剤が挙げられる。
【０００５】
コピー用のトナーは、副組成分としてではなく、主組成分としてワックスを含む、特別な印刷インキとして定義される場合がある。
【０００６】
印刷インキ及び塗料におけるワックスの効果は、種々存在する：
これにより、耐摩耗性、耐引掻性及び耐擦り傷性が向上する、即ち、印刷処理製品の機械特性が向上し；
液体塗料において、これはレオロジー添加剤として作用し、即ち、顔料、特に有効な顔料のアライメントを支持し、そして顔料及びフィラーの硬化性を制御する場合があり；
これにより、表面を疎水化するので、汚れ忌避性を保証し；
これにより、印刷表面の潤滑性を向上するので、機械安定性が向上する、例えばこれにより金属記録トラックの形成が低減し、
これにより、耐熱力が向上し、
これを使用して、艶消し効果を達成し、これによって、例えば印刷製品の判読性を、不利な光条件下であっても改良可能である（ミラー効果）。
【０００７】
ワックスは、塗料及び印刷インキの最適なモルホロジーを有しているので、これを微粒子化するのが好ましく、即ち、粉砕し、噴霧し、または（非ポリエチレンワックスである場合）選択された重合技術によって、融球重合により正確なモルホロジーとする。従って、粒子化ワックス（ワックス粒子）は、最大粒径３０μｍのワックス粉末であると理解される。
【０００８】
使用するワックスが、所定の浮動力を有していることが重要である。なぜなら、この能力は、スリップ塗料、剥離塗料及び保護塗料の最適な形成に必須条件だからである。
【０００９】
使用されるワックスの機能により、調製処理中に大きな顔料凝集物の形成を防ぐ。更に、予め形成した凝集顔料を分離し、そしてこれを一次粒径として知られている粒子に分割（分解）するのが好ましい。最終的に、この一次粒径は、調製処理後に分離状態のままであり、そして冷却時に再凝集しない。
【００１０】
このために、ワックスに対して、多数の要件を課している。この要件の１つとして、溶融物の粘稠性がある。溶融粘性は可能な限り低くして、通常、ワックスの融点より高い温度で混合することにより行われる調製中に、溶融ワックスが顔料凝集物内の空洞を効果的に浸透可能となる。このようにして作用する剪断力により、凝集物の一次粒子への分解がより容易となる。
【００１１】
ワックスの湿潤性は、良好である必要もある。
【００１２】
原則として、天然ワックス及び合成ワックスを使用しても良い。最も好適なワックスはポリオレフィンワックスである。これらのワックスは、高圧法によるエチレンのフリーラジカル重合により（Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ Ｅｎｙｃｌｏｐａｄｉｅ ｄｅｒ ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ， 第４版， ｅｎｔｒｙ： Ｗａｘｅｓ， 第２４巻， ３６頁以下， Ｔｈｉｅｍｅ Ｖｅｒｌａｇ Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ， １９７７、参照）、又はエチレン若しくはプロピレンのチグラーナッタ重合により（ＤＥ−Ａ１５２０９１４、ＥＰ−Ａ０５８４５８６）得る場合がある。これらの方法により、広い分子量分布を有し及びコモノマーが不規則導入されたポリオレフィンワックスを得ることができる。これらの生成物に存在する低分子質量の画分（部分）は、ほとんどの場合、仕上げ処理塗料または印刷インキの硬度を低下させる。
【００１３】
ＥＰ−Ａ８９０６１９では、メタロセンの触媒作用により得られるワックス、好ましくはポリエチレンワックスの使用法について開示している。このワックスにより、このワックスを用いて製造される印刷インキ及び塗料の硬度を改良する。しかしながら、実際的には、更なる改良が望まれている。
【００１４】
しかるに、本発明の目的は、かかる改良を提供することにある。
【００１５】
本発明者等は、式Ｉａ〜Ｉｃで表される錯体を用いて調製されるワックスが印刷インキ及び塗料の添加剤として特に適当であるという点において上記目的が達成されることを見出した。
【００１６】
周期表第５〜８族の遷移金属によるシングルサイト触媒を用いることによって製造（調製）可能なワックスは、遷移金属１個当たりに１個以下のシクロペンタジエニル基を含むものであり、このワックスはそれ自体公知である。このために必要とされる遷移金属錯体は、式Ｉａ〜Ｉｃで表される化合物を含んでいる。
【００１７】
式Ｉａ：
【００１８】
【化１】
2004501261.tif 000002
において、
Ｍは、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅから選ばれる酸化状態＋３の単体、好ましくはＶ、Ｃｒ又はＭｏの酸化状態＋３の単体、特にＣｒの酸化状態＋３の単体であり；
Ｘ１〜Ｘ３は下記から選択される：
即ち、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素等のハロゲン（塩素及び臭素が特に好ましい）、
トリフルオロアセテート、
ＢＦ４−、ＰＦ６−又はＳｂＦ６−、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル及びｎ−ドデシル等のＣ１〜Ｃ１８アルキル、好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル等のＣ１〜Ｃ６アルキル、特に好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル及びｎ−ブチル等のＣ１〜Ｃ４アルキル、
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル及びシクロドデシル等のＣ３〜Ｃ１２シクロアルキル、好ましくはシクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチル、
ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル及び４−フェニルブチル等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、特に好ましくはベンジル、
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリル及び９−フェナントリル等のＣ６〜Ｃ１４アリール、好ましくはフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチル、特に好ましくはフェニル、
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシ及びｉｓｏ−ヘキソキシ等のＣ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、特に好ましくはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ及びｎ−ブトキシ、または
ＮＲ８Ｒ９（但し、Ｒ８及びＲ９が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択され、これらは飽和又は不飽和の５〜１０員環を形成可能であり、好ましくはジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、メチルフェニルアミノ及びジフェニルアミノを表す。上記飽和環を含むアミノ基の例としては、Ｎ−ピペリジル基及びＮ−ピロリジニル基であり、上記不飽和環を含むアミノ基の例としては、Ｎ−ピリル基、Ｎ−インドリル基及びＮ−カルバゾイル基である。
【００１９】
Ｘ１及びＸ２は同一であることが好ましく、Ｘ１及びＸ２は塩素であることが特に好ましい。
【００２０】
Ｒ１〜Ｒ６は相互に独立して、
水素、
フッ素、塩素、臭素又はヨウ素等のハロゲン（塩素及び臭素が特に好ましい）、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル及びｎ−ドデシル等のＣ１〜Ｃ１８アルキル、好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル等のＣ１〜Ｃ６アルキル、特に好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル及びｔｅｒｔ−ブチル等のＣ１〜Ｃ４アルキル、
１個以上のドナー原子で置換されたＣ１〜Ｃ１２アルキル、例えば、非環式又は環式エーテル、アルコール、ケタール、チオエーテル又はアミン、特にメトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエチル、β−ヒドロキシエチル、ω−エトキシプロピル、（２−エチルへキシルオキシ）プロピリデン、メトキシエトキシプロピリデン又はω−ジメチルアミノプロピル、
フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ペンタフルオロエチル、ペルフルオロプロピル及びペルフルオロブチル等のモノハロゲン化又はポリハロゲン化Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、特に好ましくはフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル及びペルフルオロブチル、
【００２１】
ビニル、アリル、ブタ−３−エン−１−イル、ω−ペンテニル、ω−ヘキセニル、ω−ヘプテニル及びω−オクテニル等のＣ２〜Ｃ１２アルケニル、好ましくはＣ２〜ω−Ｃ８アルケニル、
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル及びシクロドデシル等のＣ３〜Ｃ１２シクロアルキル、好ましくはシクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチル、
ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル及び４−フェニルブチル等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、特に好ましくはベンジル、
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリル及び９−フェナントリル等のＣ６〜Ｃ１４アリール、好ましくはフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチル、特に好ましくはフェニル、
シリルのＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（但し、Ｒ１０〜Ｒ１２が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）、好ましくはトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、ジメチルへキシルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリル及びトリ−ｐ−キシリルシリル基、特に好ましくはトリメチルシリル及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、
シリルオキシ（シロキシ）のＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（但し、Ｒ１０〜Ｒ１２が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）、好ましくはトリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ、トリイソプロピルシリルオキシ、ジエチルイソプロピルシリルオキシ、ジメチルへキシルシリルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ、トリベンジルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシ及びトリ−ｐ−キシリルシリルオキシ基、特に好ましくはトリメチルシリルオキシ及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、
【００２２】
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシ及びｉｓｏ−ヘキソキシ等のＣ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、特に好ましくはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ及びｎ−ブトキシ、
１個以上の、上述したＣ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１４アリール、シリルＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、シロキシＳｉＯＲ１０Ｒ１１Ｒ１２又はＣ１〜Ｃ１２アルコキシで置換されたＣ６〜Ｃ１４アリール、
Ａ１はＯ−Ｒ１３、Ｓ−Ｒ１３、Ｎ（Ｒ１３）２またはＰ（Ｒ１３）２を表わし、このＲ１３がハロゲン、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６〜Ｃ１４アリールまたはＣ１〜Ｃ１２アルコキシを表わし、これらの基は、Ｒ１〜Ｒ６と同義である。
【００２３】
本発明の一特定実施形態において、２個の隣接する基は、親芳香族を取り込み合体して５〜１０員環を形成しても良い；例えば、式Ｉａにおいて、Ｒ３とＲ４が合体して、−（ＣＨ２）３−（トリメチレン）、−（ＣＨ２）４−（テトラメチレン）、−（ＣＨ２）５−（ペンタメチレン）、−（ＣＨ２）６−（ヘキサメチレン）、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ−（Ｃ６Ｈ５）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−、−ＮＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、−ＮＣＨ３−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、または−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−を形成しても良い。
【００２４】
本発明の他の実施形態において、式Ｉｂで表される化合物は、触媒活性成分として使用される。
【００２５】
式Ｉｂ：
【００２６】
【化２】
2004501261.tif 000003
において、
Ｚ１〜Ｚ４は、相互に独立して、
水素、
フッ素、塩素、臭素又はヨウ素等のハロゲン（塩素及び臭素が特に好ましい）、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル及びｎ−ドデシル等のＣ１〜Ｃ１８アルキル、好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル等のＣ１〜Ｃ６アルキル、特に好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル及びｔｅｒｔ−ブチル等のＣ１〜Ｃ４アルキル、
【００２７】
１個以上のドナー原子で置換されたＣ１〜Ｃ１２アルキル、例えば、非環式又は環式エーテル、アルコール、ケタール、チオエーテル又はアミン、特にメトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエチル、β−ヒドロキシエチル、ω−エトキシプロピル、（２−エチルへキシルオキシ）プロピリデン、メトキシエトキシプロピリデン又はω−ジメチルアミノプロピル、
フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ペンタフルオロエチル、ペルフルオロプロピル及びペルフルオロブチル等のモノハロゲン化又はポリハロゲン化Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、特に好ましくはフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル及びペルフルオロブチル、
ビニル、アリル、ブタ−３−エン−１−イル、ω−ペンテニル、ω−ヘキセニル、ω−ヘプテニル及びω−オクテニル等のＣ２〜Ｃ１２アルケニル、好ましくはＣ２〜ω−Ｃ８アルケニル、
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル及びシクロドデシル等のＣ３〜Ｃ１２シクロアルキル、好ましくはシクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチル、
ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル及び４−フェニルブチル等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、特に好ましくはベンジル、
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリル及び９−フェナントリル等のＣ６〜Ｃ１４アリール、好ましくはフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチル、特に好ましくはフェニル、
【００２８】
シリルＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（但し、Ｒ１０〜Ｒ１２が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）、好ましくはトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、ジメチルへキシルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリル及びトリ−ｐ−キシリルシリル基、特に好ましくはトリメチルシリル及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、
シロキシＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（但し、Ｒ１０〜Ｒ１２が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）、好ましくはトリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ、トリイソプロピルシリルオキシ、ジエチルイソプロピルシリルオキシ、ジメチルへキシルシリルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ、トリベンジルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシ及びトリ−ｐ−キシリルシリルオキシ基、特に好ましくはトリメチルシリルオキシ及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシ及びｉｓｏ−ヘキソキシ等のＣ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、特に好ましくはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ及びｎ−ブトキシ、
１個以上の、上述したＣ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１４アリール、シリルＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、シロキシＳｉＯＲ１０Ｒ１１Ｒ１２又はＣ１〜Ｃ１２アルコキシで置換されたＣ６〜Ｃ１４アリール、
Ａ２は酸素、硫黄、Ｎ−Ｒ１３またはＰ−Ｒ１３を表わし、好ましくはＮ−Ｒ１３またはＰ−Ｒ１３を表わし、このＲ１３が上記と同義である。
【００２９】
本発明の一特定実施形態において、２個の隣接する基は、相互に且つ親芳香族を含んで合体して５〜１０員環を形成しても良い；例えば、式Ｉｂにおいて、Ｒ３とＲ４またはＺ１とＺ２が合体して、−（ＣＨ２）３−（トリメチレン）、−（ＣＨ２）４−（テトラメチレン）、−（ＣＨ２）５−（ペンタメチレン）、−（ＣＨ２）６−（ヘキサメチレン）、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ−（Ｃ６Ｈ５）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−、−ＮＣＨ３−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、−ＮＣＨ３−ＣＨ２−ＮＣＨ３−、または−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−を形成しても良い。
【００３０】
他の特定の実施形態において、Ｚ４とＡは、相互に且つ式Ｉｂで表されるフェニル環を含んで合体して５〜１０員環を形成しても良い。好ましい実施形態において、Ｚ４とＡは、フェニル環を含んで、インドール基を形成する。
【００３１】
他の記号Ｒ１〜Ｒ４、Ｍ、Ｘ１及びＸ２は、式Ｉａと同義である。
【００３２】
式Ｉｃ：
【００３３】
【化３】
2004501261.tif 000004
において、
Ｘ３、Ｘ４及びＸ５は、相互に独立して、
フッ素、塩素、臭素又はヨウ素等のハロゲン（塩素及び臭素が特に好ましい）、
トリフルオロアセテート、
ＢＦ４−、ＰＦ６−又はＳｂＦ６−、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル及びｎ−ドデシル等のＣ１〜Ｃ１８アルキル、好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル等のＣ１〜Ｃ６アルキル、特に好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル及びｎ−ブチル等のＣ１〜Ｃ４アルキル、
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル及びシクロドデシル等のＣ３〜Ｃ１２シクロアルキル、好ましくはシクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチル、
ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル及び４−フェニルブチル等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、特に好ましくはベンジル、
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリル及び９−フェナントリル等のＣ６〜Ｃ１４アリール、好ましくはフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチル、特に好ましくはフェニル、
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシ及びｉｓｏ−ヘキソキシ等のＣ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、特に好ましくはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ及びｎ−ブトキシ、または
ＮＲ８Ｒ９（但し、Ｒ８及びＲ９が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択され、これらは飽和又は不飽和の５〜１０員環を形成可能であり、好ましくはジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、メチルフェニルアミノ及びジフェニルアミノを表す。上記飽和環を含むアミノ基の例としては、Ｎ−ピペリジル基及びＮ−ピロリジニル基であり、上記不飽和環を含むアミノ基の例としては、Ｎ−ピリル基、Ｎ−インドリル基及びＮ−カルバゾイル基である。
【００３４】
Ｘ３〜Ｘ５は同一であるのが好ましく、Ｘ３〜Ｘ５は塩素を表すのが特に好ましい。
【００３５】
Ｎｕ１〜Ｎｕ３は、相互に独立してＮ又はＰから選択され；Ｎｕ１及びＮｕ２がそれぞれＮであることが好ましく、特に、Ｎｕ１〜Ｎｕ３がそれぞれＮであることが特に好ましい。
【００３６】
Ｒ１４〜Ｒ１６は、相互に独立して、
水素、
フッ素、塩素、臭素又はヨウ素等のハロゲン（塩素及び臭素が特に好ましい）、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル及びｎ−ドデシル等のＣ１〜Ｃ１８アルキル、好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル等のＣ１〜Ｃ６アルキル、特に好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル及びｔｅｒｔ−ブチル等のＣ１〜Ｃ４アルキル、
【００３７】
１個以上のドナー原子で置換されたＣ１〜Ｃ１２アルキル、例えば、非環式又は環式エーテル、アルコール、ケタール、チオエーテル又はアミン、特にメトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエチル、β−ヒドロキシエチル、ω−エトキシプロピル、（２−エチルへキシルオキシ）プロピリデン、メトキシエトキシプロピリデン又はω−ジメチルアミノプロピル、
フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ペンタフルオロエチル、ペルフルオロプロピル及びペルフルオロブチル等のモノハロゲン化又はポリハロゲン化Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、特に好ましくはフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル及びペルフルオロブチル、
ビニル、アリル、ブタ−３−エン−１−イル、ω−ペンテニル、ω−ヘキセニル、ω−ヘプテニル及びω−オクテニル等のＣ２〜Ｃ１２アルケニル、好ましくはＣ２〜ω−Ｃ８アルケニル、
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル及びシクロドデシル等のＣ３〜Ｃ１２シクロアルキル、好ましくはシクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチル、
ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル及び４−フェニルブチル等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、特に好ましくはベンジル、
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリル及び９−フェナントリル等のＣ６〜Ｃ１４アリール、好ましくはフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチル、特に好ましくはフェニル、
【００３８】
シリルＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（但し、Ｒ１０〜Ｒ１２が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）、好ましくはトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、ジメチルへキシルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリル及びトリ−ｐ−キシリルシリル基、特に好ましくはトリメチルシリル及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、
シロキシＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（但し、Ｒ１０〜Ｒ１２が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）、好ましくはトリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ、トリイソプロピルシリルオキシ、ジエチルイソプロピルシリルオキシ、ジメチルへキシルシリルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ、トリベンジルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシ及びトリ−ｐ−キシリルシリルオキシ基、特に好ましくはトリメチルシリルオキシ及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシ及びｉｓｏ−ヘキソキシ等のＣ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、特に好ましくはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ及びｎ−ブトキシ、
１個以上の、上述したＣ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１４アリール、シリルＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、シロキシＳｉＯＲ１０Ｒ１１Ｒ１２又はＣ１〜Ｃ１２アルコキシで置換されたＣ６〜Ｃ１４アリール、
を表す。
【００３９】
Ｒ１４〜Ｒ１６が同一であるのが好ましい。
【００４０】
Ｒ１７〜Ｒ２２は、相互に独立して、
水素、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル及びｎ−ドデシル等のＣ１〜Ｃ１８アルキル、好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル等のＣ１〜Ｃ６アルキル、特に好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル及びｔｅｒｔ−ブチル等のＣ１〜Ｃ４アルキル、
フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ペンタフルオロエチル、ペルフルオロプロピル及びペルフルオロブチル等のモノハロゲン化又はポリハロゲン化Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、特に好ましくはフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル及びペルフルオロブチル、
１個以上のドナー原子で置換されたＣ１〜Ｃ１２アルキル、例えば、非環式又は環式エーテル、アルコール、ケタール、チオエーテル又はアミン、特にメトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエチル、β−ヒドロキシエチル、ω−エトキシプロピル、（２−エチルへキシルオキシ）プロピリデン、メトキシエトキシプロピリデン又はω−ジメチルアミノプロピル、
ビニル、アリル、ブタ−３−エン−１−イル、ω−ペンテニル、ω−ヘキセニル、ω−ヘプテニル及びω−オクテニル等のＣ２〜Ｃ１２アルケニル、好ましくはＣ２〜ω−Ｃ８アルケニル、
【００４１】
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル及びシクロドデシル等のＣ３〜Ｃ１２シクロアルキル、好ましくはシクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチル、
ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル及び４−フェニルブチル等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、特に好ましくはベンジル、
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリル及び９−フェナントリル等のＣ６〜Ｃ１４アリール、好ましくはフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチル、特に好ましくはフェニル、
シリルＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（但し、Ｒ１０〜Ｒ１２が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）、好ましくはトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、ジメチルへキシルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリル及びトリ−ｐ−キシリルシリル基、特に好ましくはトリメチルシリル及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、
シロキシＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（但し、Ｒ１０〜Ｒ１２が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）、好ましくはトリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ、トリイソプロピルシリルオキシ、ジエチルイソプロピルシリルオキシ、ジメチルへキシルシリルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ、トリベンジルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシ及びトリ−ｐ−キシリルシリルオキシ基、特に好ましくはトリメチルシリルオキシ及びｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、
メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉｓｏ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉｓｏ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｉｓｏ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシ及びｉｓｏ−ヘキソキシ等のＣ１〜Ｃ１２アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ６アルコキシ、特に好ましくはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ及びｎ−ブトキシ、
１個以上の、上述したＣ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１４アリール、シリルＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、シロキシＳｉＯＲ１０Ｒ１１Ｒ１２又はＣ１〜Ｃ１２アルコキシで置換されたＣ６〜Ｃ１４アリール、
を表す。
【００４２】
Ｒ１７、Ｒ１９及びＲ２１がそれぞれ同一であるのが好ましく、そしてＲ１８、Ｒ２０及びＲ２２がそれぞれ水素を表すのが好ましい。Ｒ１７〜Ｒ２２が水素を表すのが特に好ましい。これらの極めて好ましい化合物の合成に必要はトリアザシクロヘキサン配位子は、特に容易に合成される場合がある。
【００４３】
式Ｉｃで表される特定の一形態において、２個の隣接する基は、合体して４〜９員の飽和環又は不飽和環を形成する場合がある；例えば、２個の隣接する基は合体して：Ｃ３〜Ｃ９アルキリデン、例えば−（ＣＨ２）３−（トリメチレン）、−（ＣＨ２）４−（テトラメチレン）、−（ＣＨ２）５−（ペンタメチレン）、−（ＣＨ２）６−（ヘキサメチレン）、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−；及び環式アルドール、ケタール又はアミン、例えば−Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ（Ｃ６Ｈ５）−Ｏ−、Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｎ（ＣＨ３）−又は−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−を形成する。
【００４４】
他の記号については、式Ｉａと同義である。
【００４５】
式Ｉａ〜Ｉｃで表される遷移金属錯体の製造方法は、それ自体公知である。式ＩａとＩｂで表される錯体に好適な合成法は、ＤＥ−Ａ１９７１０６１５、Ａ． Ｄｏｅｈｒｉｎｇ ｅｔ ａｌ．， Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２０００， １９， ３８８及びＪ． Ｃ． Ｗｅｂｅｒ， Ｄｉｓｓｅｒｔａｔｉｏｎ， ＭＰＩ Ｍｕｌｈｏｕｓｅ／Ｒｕｈｒ， １９９９において見出され得る。
【００４６】
式Ｉｃで表される錯体の特に好ましいトリアザシクロアルカン配位子の製造方法は、それ自体公知である。式Ｉｃ（Ｒ１７〜Ｒ２２はそれぞれ水素であり、Ｒ１４〜Ｒ１６はそれぞれ同一である）の特に好ましい合成用のものは、例えば、ホルマリン溶液状のホルムアルデヒドを関連アミンＲ１４−ＮＨ２と混合することにより極めて効率的に合成することができる。これらの錯体配位子に関する種々の合成経路は、例えば、Ｆ． Ｗｅｉｔｌ ｅｔ ａｌ．， Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． １９７９， １０１ ２７２８； Ｍ． Ｔａｋａｈａｓｈｉ， Ｓ． Ｔａｋａｍｏｔｏ， Ｂｕｌｌ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． Ｊａｐａｎ １９７７， ５０， ３４１３； Ｔ． Ａｒｉｓｈｉｍａ ｅｔ ａｌ．， Ｎｉｐｐｏｎ Ｋａｇａｋｕ Ｋａｉｓｈｉ １９７３， １１１９； Ｌ． Ｃｈｒｉｓｔｉａｎｓｅｎ ｅｔ ａｌ． Ｉｎｏｒｇ． Ｃｈｅｍ． １９８６， ２５， ２８１３； Ｌ．Ｒ． Ｇａｈａｎ ｅｔ ａｌ．， Ａｕｓｔ． Ｊ． Ｃｈｅｍ． １９８２， ３５， １１１９； Ｂ．Ａ． Ｓａｙｅｒ ｅｔ ａｌ．， Ｉｎｏｒｇ． Ｃｈｉｍ． Ａｃｔａ， １９８３， ７７， Ｌ６３； Ｋ Ｗｉｅｇｈａｒｄｔ ｅｔ ａｌ．， Ｚ． Ｎａｔｕｒｆｏｒｓｃｈ．， １９８３， ３８ｂ， ８１及びＩ．Ａ． Ｆａｉｌｌｉｓ ｅｔ ａｌ．， Ｊ． Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．， Ｃｈｅｍ． Ｃｏｍｍｕｎ． １９９８， ６６５に記載されている。
【００４７】
金属錯体、特にクロム錯体は、これに対応する金属塩、例えば金属塩化物又は金属カルボニルを、例えばリガンド（例えば、Ｐ． Ｃｈａｕｄｈｕｒｉ， Ｋ． Ｗｉｅｇｈａｒｄｔ， Ｐｒｏｇ． Ｉｎｏｒｇ． Ｃｈｅｍ． １９８７， ３５， ３２９又はＧ． Ｐ． Ｓｔａｈｌｅｙ ｅｔ ａｌ．， Ａｃｔａ Ｃｒｙｓｔａｌｌ． １９９５， Ｃ５１， １８に記載されているようなもの）と反応させる簡単な方法で得ることができる。
【００４８】
式Ｉａ〜Ｉｃの上記錯体が触媒的に活性であるように、これらは、カチオン−形成化合物で活性化される。好適なカチオン−形成化合物は、電子引き抜き基を有する選択されたアルミニウム又はホウ素化合物（例、トリスペンタフルオロフェニルボラン、トリスペンタフルオロフェニルアルミニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリ−ｎ−ブチルアンモニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビスペルフルオロメチル）フェニルボレート、トリ−ｎ−ブチルアンモニウムテトラキス（３，５−ビスペルフルオロメチル）フェニルボレート、及びトリチリウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート）である。式Ｉａ〜Ｉｃの錯体用のこれらの活性化剤は、ＤＥ−Ａ１９９３５４０７、ＰＣＴ／ＥＰ／０００２７１６及びＡｎｇｅｗ． Ｃｈｅｍ． Ｉｎｔ． Ｅｄ．， １９９４， 第３３巻， ｐ．１８７７、に記載されている。ジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート、トリチリウムテトラキスペンタフルオロフェニルボレート及びトリスペンタフルオロフェニルボランが好ましい。
【００４９】
ホウ素又はアルミニウム化合物を式Ｉａ〜Ｉｃの錯体の活性化剤として使用する場合、これらは、一般に、Ｍに対して１：１０〜１０：１のモル比、好ましくは１：２〜５：１、特に好ましくは１：１．５〜１．５：１で使用される。
【００５０】
カチオン−形成化合物の他の好適な種類としては、式ＩＩａ及びＩＩｂで表されるアルミノキサンを挙げることができる。
【００５１】
アルミノキサンの構造は、正確には公知ではない。これらはアルキルアルミニウムの注意深い部分加水分解により得ることができる生成物である（ＤＥ−Ａ３００７７２５参照）。これらの生成物は純粋な形では存在せず、その代わり、式ＩＩａ及びＩＩｂ型のの鎖状構造と環式構造の混合物である。これらの混合物は、相互に動的平衡状態にあると推測される。
【００５２】
式ＩＩａ及びＩＩｂ：
【００５３】
【化４】
2004501261.tif 000005
において、基Ｒ２３は相互に独立して、
メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル、ｎ−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル及びｎ−ドデシル等のＣ１〜Ｃ１２アルキル、好ましくはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１，２−ジメチルプロピル、ｉｓｏ−アミル、ｎ−へキシル、ｉｓｏ−へキシル、ｓｅｃ−へキシル等のＣ１〜Ｃ６アルキル、特に好ましくはメチル、
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル及びシクロドデシル等のＣ３〜Ｃ１２シクロアルキル、好ましくはシクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチル、
ベンジル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、１−フェニルブチル、２−フェニルブチル、３−フェニルブチル及び４−フェニルブチル等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル、好ましくはＣ７〜Ｃ１２フェニルアルキル、特に好ましくはベンジル、または
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリル及び９−フェナントリル等のＣ６〜Ｃ１４アリール、好ましくはフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチル、特に好ましくはフェニル、を表し、
そしてｎは、０〜４０の整数、好ましくは１〜２５、特に好ましくは２〜２２を表す。
【００５４】
文献では、かご様構造についてもアルミノキサンに対して議論されている（Ｙ． Ｋｏｉｄｅ， Ｓ．Ｇ． Ｂｏｔｔ， Ａ．Ｒ． Ｂａｒｒｏｎ Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ １９９６， １５， ２２１３−２６；Ａ．Ｒ． Ｂａｒｒｏｎ Ｍａｃｒｏｍｏｌ． Ｓｙｍｐ． １９９５， ９７， １５−２５）。
【００５５】
アルミノキサンの実際の構造と関係なく、これらは式Ｉａ〜Ｉｃで表される遷移金属錯体用の好適な活性化剤である。
【００５６】
重合をパラフィン（例、ｎ−ヘプタン又はイソデカン）の溶液で行う場合に、異なるアルミノキサンの混合物が特に好ましい活性化剤である。特に好ましい混合物の１つとして、ヴィトコ社製（Ｗｉｔｃｏ ＧｍｂＨ）のＣｏＭＡＯで、［（ＣＨ３）０．９（ｉｓｏ−Ｃ４Ｈ９）０．１ＡｌＯ］ｎの式を有する。
【００５７】
式Ｉａ〜Ｉｃの錯体をアルミノキサンで活性化するためには、Ｍに対して過剰のアルミノキサンを使用する必要がある。合理的なＭ：Ａｌモル比は、１：１０〜１：１００００、好ましくは１：５０〜１：１０００、特に好ましくは１：１００〜１：５００である。
【００５８】
式Ｉａ〜Ｉｃの選択された錯体及びカチオン−形成化合物は、一緒になって触媒組成物（触媒系）を形成する。式Ａｌ（Ｒ２３）３で表される１種以上の別のアルキルアルミニウム化合物を加えることにより、この触媒組成物の活性を更に増加させることが可能である。
【００５９】
式Ａｌ（Ｒ２３）３で表されるアルキルアルミニウム又はアルミノキサンを更に添加することにより、触媒組成物の活性を増大させることが可能となる；この式Ａｌ（Ｒ２３）３のアルキルアルミニウム又はアルミノキサンは、分子質量調節剤（分子量調節剤）としても働く。他の有効な分子質量調節剤は水素である。分子質量は、反応温度及び滞留時間により特に効果的に調節することができる。
【００６０】
ポリオレフィンワックスの現代の大規模な工業的製造方法は、溶液法、懸濁法、液体又は超臨界モノマーの中でのバルク重合法及び気相法であり、後者は撹拌気相法若しくは気相流動床法である。
【００６１】
式Ｉａ〜Ｉｃの錯体を懸濁法、バルク重合法又は気相法で使用するために、これらの錯体を固体担体上に固定することが有利である。そうでないと、ポリマーのモルホロジーの問題（団粒、壁付着、パイプ又は熱交換機における閉塞（目詰まり））が発生し、これによりプラントを強制的に停止させる。
【００６２】
式Ｉａ〜Ｉｃの錯体及び活性化剤を含む触媒組成物は、固体担体に効率よく付着する。好適な担体材料の例としては、第２〜１４族の金属の多孔性金属酸化物又はこれらの混合物、またシート状珪酸塩、さらに第１、２及び１３族から選ばれる金属の固体ハロゲン化物、そしてポリエチレン又はポリプロピレン等のポリマーを挙げることができる。第２〜１４族の金属酸化物の例としては、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ及びＺｎＯが好ましい。シート状珪酸塩としてはモンモリロナイト又はベントナイトが好ましく；ハライドとしてはＭｇＣｌ２又はアモルファスＡｌＦ３が好ましい。
【００６３】
特に好ましい担体材料は、球状シリカゲル、及び式ＳｉＯ２・ａＡｌ２Ｏ３（但し、ａは一般に０〜２の数、好ましくは０〜０．５の数である）で表されるアルモ珪酸塩ゲルである。この種のシリカゲルは、例えば、シリカゲル３３２（Ｓｉｌｉｃａ Ｇｅｌ ３３２）、シロポール（登録商標）９４８（ＳｙｌｏｐｏｌＲ ９４８）若しくはシロポール９５２ＳｙｌｏｐｏｌＲ ９５２またはＳ ２００１（以上Ｗ．Ｒ． Ｇｒａｃｅ 社製）、またはＥＳ ７０Ｘ（Ｃｒｏｓｆｉｅｌｄ社製）として市販され、入手できる。
【００６４】
担体材料に好適な粒径は、一般に１〜３００μｍ、好ましくは２０〜８０μｍの平均粒径であり、その際、この粒径は、篩法等の公知の方法で測定される。これらの担体の細孔容積は、一般に１．０〜３．０ｍｌ／ｇ、好ましくは１．６〜２．２ｍｌ／ｇ、特に好ましくは１．７〜１．９ｍｌ／ｇである。ＢＥＴ比表面積は、一般に２００〜７５０ｍ２／ｇ、好ましくは２５０〜４００ｍ２／ｇである。
【００６５】
不純物、特に担体に付着する水分を除去するために、担体材料をドーピング前に加熱しても良く、その際の好適な温度は４５〜１０００℃である。１００〜７５０℃の温度は、シリカゲル及び他の金属酸化物に特に好適である：ＭｇＣｌ２の担体には５０〜１００℃が好ましい。この加熱は０．５〜２４時間で行われるべきであり、１〜１２時間が好ましい。圧力条件はそれ自体臨界的でなく、一般に加熱は大気圧下に行われる。しかしながら、０．１〜５００ミリバール（１０〜５．０×１０５Ｐａ）の減圧の使用が好ましく、特に１〜１００ミリバール（１０２〜１０５Ｐａ）が有利であり、２〜２０ミリバール（２．０×１０２〜２．０×１０４Ｐａ）が極めて有利である。担体材料の化学的予備処理は別の可能性がある。
【００６６】
触媒をドープする一般的手順（操作）は、担体材料を懸濁媒体でスラリーとし、この懸濁液を式Ｉａ〜Ｉｃの錯体及び活性化剤の溶液と混合する。懸濁媒体の容量は、触媒担体の細孔容積の１〜２０倍である。次いで、触媒を、適当な方法（例、ろ過、遠心分離又は蒸発）で懸濁媒体から分離しても良い。
【００６７】
モルホロジーを良好に制御するために、触媒を、重合そのものの前に少量のモノマーと予備重合させても良い。この予備重合は、可逆性の触媒毒を添加することにより、又はモノマー供給を終了することにより停止させることができ、次いで予備重合された触媒を重合単位に添加することができる。
【００６８】
適当なモノマーの例としては、下記のオレフィン：エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン又は１−ウンデセンを挙げることができ、エチレンが特に好ましい。
【００６９】
好適なコモノマーとしては、α−オレフィン、例えば０．１〜２０モル％の１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチルー１−ペンテン、１−オクテン、１−デセン又は１−ウンデセンを挙げることができる。しかしながら、イソブテンも好適なコモノマーである。
【００７０】
重合において時折観察される重合単位又は生成物の静電気帯電を防止するために、この反応混合物に静電防止剤を添加することができる。適当な静電防止剤は、脂肪族アルコール（例、イソプロパノール）の希薄パラフィン（例、ｎ−ヘプタン）溶液である。さらに、適当な静電防止剤は、デュポン社製のスタディス（登録商標（ＳｔａｄｉｓＲ）の市販品である。
【００７１】
本発明の塗料及び印刷インキを製造するために、大規模工業プラントにおいて、通常、粗粒子の状態で得られるワックスを、次の工程で微粒子化する。微粒子化は、粉砕器を用いて行われ、例えばエアジェット粉砕器を使用する。微粒子化により、ワックスは、最大粒径が３０μｍを超えず、２５μｍを超えない微粉末して得られる。
【００７２】
調製により規定される量で含む、本発明の塗料または印刷インキの従来からの主組成分を、まず第１に、ディソルバーとして知られている高速撹拌器中で微粒子化ワックスと混合する。次いで、これらを、例えば、直径０．０５〜５ｍｍ、好ましくは０．５〜２．５ｍｍ、特に２ｍｍの粉砕ビーズが充填された、摩擦ギャップを具備する撹拌ボールミル中で更に混合する。その後、本発明の塗料またはインキを必要により３本ロールミルに通過させて、撹拌により取り込まれた酸素を除去する。あるいは、印刷インキを、真空によって脱気することも可能である。
【００７３】
本発明の印刷インキ及び塗料中におけるワックスの質量分は、０．０５〜６５質量％であり、０．１〜１０質量％が好ましく、０．５〜３質量％が特に好ましい。本発明のコピー用トナー中におけるワックスの質量分は、例えば４５〜６５質量％である。
【００７４】
本発明の印刷インキを構成する他の成分は、５〜３０質量％の有機顔料または無機顔料であり、有機顔料であるのが好ましく；また、６５〜９０質量％のバインダーであり、これは樹脂及び必要により例えばエタノール、メタノール、イソプロパノール、水、トルエンまたは低分子量の炭化水素等の１種以上の溶剤、更に必要により油及び酸化防止剤である。
【００７５】
本発明の印刷インキは、特定の機械安定性、特に耐剥離性が顕著であり、そして特定の光沢が顕著である。
【００７６】
【実施例】
錯体（ｎ−Ｃ１２Ｈ２５ＮＣＨ２）３ＣｒＣｌ３の製造及びエチレンの重合は、ＤＥ−Ａ１９９３５４０７、ＰＣＴ／ＥＰ／０００２７１６及びＡｎｇｅｗ． Ｃｈｅｍ． Ｉｎｔ． Ｅｄ．， 第３３巻， １９９４， １８７７頁に基本的には記載されている。オフセット印刷インキの製造は、例えば、基本的に１９９２年を起算とする、“ルワックス（登録商標）（ＬＵＷＡＸＲ）ポリゲン（登録商標）（ＰｏｌｉｇｅｎＲ）ワックス及び分散液−印刷インキでの使用”に関する製品小冊子に記載されている。
【００７７】
耐擦り傷性は、Ｐｒｕｅｆｂａｕ−Ｑｕａｒｔａｎｔ擦り傷試験機において測定され、光沢性の測定に関しては、Ｂｙｋ−Ｃｈｅｍｉｅ社の多角度（ｍｕｌｔｉａｎｇｌｅ）反射率計（Ｍｕｌｔｉｇｌｏｓｓ）を使用した。
【００７８】
１０Ｌ（リットル）のスティール製のオートクレーブ（Ｂｕｅｃｈｉ社製）に、トルエンに溶解した５０ｍｇ（６７μモル）の（ｎ−Ｃ１２Ｈ２５ＮＣＨ２）３ＣｒＣｌ３を１４ｍｌの３０％ＭＡＯ（ヴィトコ社製）で活性化させた。この際Ａｌ：Ｃｒ比を１０００：１とした。４Ｌのイソブタン及び８０Ｌ（３．８ｍｏｌ）の水素を注入し、その後オートクレーブを９０℃に加熱した。次いで、４０バール（４×１０６Ｐａ）のエチレンを注入し、重合を３０分間行い、その際に更にエチレンを加えることにより圧力を４０バールに維持した。
【００７９】
重合はオートクレーブを開放することにより停止させた。
【００８０】
収率：４６０ｇ、１４０００ｋｇのＰＥの活性度（ｍｏｌＣｒ・ｈ）に対応する。
【００８１】
これにより得られたワックスは、以下の特性を有した：融点１２８．５℃；Ｍｗ５２００ｇ；Ｍｎ２１００ｇ；Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５。
【００８２】
１０００個の炭素原子に対するビニル及びビニリデンの二重結合の数は、０．５〜２．３であった。
【００８３】
ワックスの直径が９μｍ（メジアン）となるまで、対向ジェットミル中でワックスを微粒子化し、その際、粒径を、クールター計数器を使用するレーザー回折により測定した。
【００８４】
実施例１：１．０質量％のワックスを炭化水素（トルエン）に分散させ、その後、１８質量％の有機顔料、３１質量％のロジン、３４質量％の接着剤樹脂及び１６質量％の鉱油を含むＫ＋Ｅ Ｄｒｕｃｋｆａｒｂｅｎ社製のオフセット印刷インキのノバボードシアン４Ｃ８６（Ｎｏｖａｂｏａｒｄ ｃｙａｎ ４ Ｃ８６）に取り込んだ。
【００８５】
比較実施例用に、以下のワックスをオフセット印刷インキ同様に取り込み、そして試験した。
【００８６】
Ｖ１：高圧重合により製造されたルワックス（登録商標）ＡＦ３０、ＢＡＳＦ  ＡＧ製、
Ｖ２：チーグラ−ナッタ触媒の触媒作用により製造されたクラリアント  ワッヒ  ＰＥ５２０（登録商標）（Ｃｌａｒｉａｎｔ Ｗａｃｈｓ ＰＥ５２０Ｒ）、
Ｖ３：ＥＰ−Ａ０８９０６１９の実施例３を準拠する、メタロセン触媒の触媒作用により製造されたポリエチレンワックス。
【００８７】
耐剥離性を試験する場合、サンプルの印刷物は、Ｄｒ． Ｄｕｅｒｎｅｒによる多目的試験台の印刷機を使用し、１１５ｇ／ｍ２のＰｈｏｅｎｏｍａｔｔ型の紙（Ｓｃｈｅｕｆｅｌｅｎ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ製）で作製された。擦り傷性は、４８ｇ／ｃｍ２の擦り傷負荷及び１５ｃｍ／秒の擦り傷速度を設定する、Ｓｃｈｅｕｅｒｐｒｕｅｆｅｒ Ｐｒｕｅｆｂａｕ Ｑｕａｒｔｅｔｔの擦り傷試験機で調査した。ドイツ工業規格６１７４を準拠する色差の測定、即ち有効な特性を示す比較的低い色差値を測定することにより、試験シートに移る色彩度により評価した。
【００８８】
【表１】
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【国際公開パンフレット】
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【手続補正書】
【提出日】平成14年4月19日(2002.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉａ〜Ｉｃ：
【化１】
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［但し、ＭがＶ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅから選択される酸化状態＋３の単体を表し；
Ｘ１〜Ｘ５がハロゲン、トリフルオロアセテート、ＢＦ４−、ＰＦ６−若しくはＳｂＦ６−、Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル、Ｃ６〜Ｃ１４アリール、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、ＮＲ８Ｒ９（但し、Ｒ８及びＲ９が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択され、これらは飽和又は不飽和の５〜１０員環を形成可能である）を表わし；
Ｒ１〜Ｒ６、Ｚ１〜Ｚ４、Ｒ１４〜Ｒ１６が相互に独立して、
水素、
ハロゲン、
Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、
１個以上のドナー原子で置換されたＣ１〜Ｃ１２アルキル、
モノハロゲン化又はポリハロゲン化Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、
Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、
Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、
Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル、
Ｃ６〜Ｃ１４アリール、
シリル、即ちＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（但し、Ｒ１０〜Ｒ１２が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）、
シロキシ、即ちＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、
Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、
１個以上のＣ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１４アリール、シリル、即ちＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、シロキシ、即ちＳｉＯＲ１０Ｒ１１Ｒ１２又はＣ１〜Ｃ１２アルコキシで置換されたＣ６〜Ｃ１４アリール、
から選択され、且つ２個の隣接基が、相互に合体し及び式ＩａまたはＩｂ中の親芳香族を含んで、５〜１０員環を形成しても良く；
Ｒ１７〜Ｒ２２が相互に独立して、
水素、
Ｃ１〜Ｃ１８アルキル、
１個以上のドナー原子で置換されたＣ１〜Ｃ１２アルキル、
モノハロゲン化又はポリハロゲン化Ｃ１〜Ｃ１２アルキル基、
Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、
Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、
Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル、
Ｃ６〜Ｃ１４アリール、
シリル、即ちＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２（但し、Ｒ１０〜Ｒ１２が相互に独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル及びＣ６〜Ｃ１４アリールから選択される）、
シロキシ、即ちＯＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、
Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、
１個以上の、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ２〜Ｃ１２アルケニル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１４アリール、シリル、即ちＳｉＲ１０Ｒ１１Ｒ１２、シロキシ、即ちＳｉＯＲ１０Ｒ１１Ｒ１２又はＣ１〜Ｃ１２アルコキシで置換されたＣ６〜Ｃ１４アリール、
から選択され、且つ式Ｉｃ中の２個の隣接基Ｒ１４〜Ｒ２２が合体して、４〜９員の飽和環または不飽和環を形成しても良く；
Ａ１がＯ−Ｒ１３、Ｓ−Ｒ１３、Ｎ（Ｒ１３）２またはＰ（Ｒ１３）２を表わし、このＲ１３がハロゲン、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６〜Ｃ１４アリールまたはＣ１〜Ｃ１２アルコキシから選択され、これらの基は、Ｒ１〜Ｒ６と同義であり；
Ａ２が酸素、硫黄、Ｎ−Ｒ１３またはＰ−Ｒ１３を表わし、このＲ１３がハロゲン、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ３〜Ｃ１２シクロアルキル、置換若しくは非置換Ｃ６〜Ｃ１４アリールまたはＣ１〜Ｃ１２アルコキシから選択され、これらの基は、Ｒ１〜Ｒ６と同義であり、且つ式Ｉｂ中のＺ４とＡ２が、相互に合体し及び式Ｉｂ中のフェニル環を含んで、５〜１０員環を形成しても良く；
Ｎｕ１〜Ｎｕ３がそれぞれＮ又はＰを表す］
で表される錯体を基礎とするシングルサイト触媒を用いてその触媒作用により１種以上のオレフィンから製造されたポリオレフィンワックス成分を含む印刷インキまたは塗料。
【請求項２】
ポリオレフィンワックスが、式Ｉｃで表されるトリ−プニコゲン−シクロヘキサン錯体を基礎とするシングルサイト触媒を用いてその触媒作用により製造される請求項１に記載の印刷インキまたは塗料。
【請求項３】
ポリオレフィンワックスが、式Ｉｃで表される１，３，５−トリアザシクロヘキサン錯体、１，３−ジアザ−５−ホスファシクロヘキサン錯体または１，３，５−トリホスファシクロヘキサン錯体を基礎とするシングルサイト触媒を用いてその触媒作用により製造される請求項１または２に記載の印刷インキまたは塗料。
【請求項４】
ポリオレフィンワックスが、式Ｉｃで表されるＣｒ錯体を基礎とするシングルサイト触媒を用いてその触媒作用により製造される請求項１〜３のいずれかに記載の印刷インキまたは塗料。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のように調製されたポリオレフィンワックスの微粒子を印刷インキ及び塗料の製造に使用する方法。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載のように調製されたポリオレフィンワックスを基礎とする微粒子化ポリオレフィンワックス粒子を使用する工程を含む印刷インキ及び塗料の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれかに記載の印刷インキを使用する工程を含む紙または厚紙の印刷方法。
【国際調査報告】
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