(57)【要約】誘電体表面（３０）、特にプラスチックフィルム、紙テープ又はプラスチック糸の表面から少なくとも部分的に放電させる装置及び方法を提供する。この場合、まずプラズマ装置（１）でプラズマを微細構造放電により少なくとも１つのプラズマ領域（１２，４０）内で発生させる。さらに、誘電体表面（３０）を供給装置（２）でプラズマ領域（１２，４０）内に導入し、かつその際発生したプラズマに放電のために一時的にさらす。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体表面、特にプラスチックフィルム、紙テープ又はプラスチック糸の表面から少なくとも部分的に放電させる装置において、微細構造により少なくとも１つのプラズマ領域（１２，４０）において帯電粒子を有するプラズマを発生させるためのプラズマ装置（１）と、供給装置（２）とを有し、該供給装置で誘電体表面（３０）をプラズマ領域（１２，４０）内に又は少なくともその作用領域内に挿入可能でありかつそこでプラズマによって発生された帯電粒子に一時的にさらすことができることを特徴とする、誘電体表面の放電装置。
【請求項２】
プラズマ装置（１）が、誘電体プレート（２２）と、ガスに曝される第１電極（１１，２４，３２）と、それから間隔を置いた、ガスにさらされる第２電極（２１，２７，３３）と、プラズマ領域（１２，４０）内でプラズマを点弧及び保持するための手段とを有する、請求項１記載の装置。
【請求項３】
誘電体プレート（２２）が少なくとも領域的に平坦な、微細構造化された電極（１１，２１，２４，２７，３２，３３）を有する、請求項２記載の装置。
【請求項４】
微細構造化された電極（１１，２１，２４，２７，３２，３３）が少なくとも領域的に互いに間隔を置いたストリップ又はストリップ状導体（２４，２７）として及び／又は櫛状構造の互いに間隔を置いた櫛状部材（３２，３３）として形成されている、請求項３記載の装置。
【請求項５】
誘電体プレート（２２）が互いに向かい合った側に微細構造化された切欠き、特に穴、貫通孔（２６）又はスリットを有する平坦な電極（１１，２１）を備えている、請求項３記載の装置。
【請求項６】
プラズマ装置（１）がマイクロ波のための少なくとも１つの導波管又はストリップ状導体の装置を有する、請求項１記載の装置。
【請求項７】
誘電体プレート（２２）が、１０μｍ〜３００μｍの直径を有する少なくとも１つの貫通孔（２６）、特に多数の貫通孔（２６）を有し、その際貫通孔（２６）がまた電極（１１，２１）の微細構造化された切欠きを形成しかつ／又は微細構造化された電極（２４，２７，３２，３３）の周囲に配置されている、請求項１から６までのいずれか１項記載の装置。
【請求項８】
プラズマ領域（１２，４０）にガスを供給するためのガス供給装置（３１）が設けられている、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
誘電体表面（３０）が一時的にプラズマ領域（４０，１２）内のプラズマに又は少なくともプラズマによって発生された帯電粒子の作用領域にさらされるように、供給装置（２）がプラズマ装置（１）の表面のそばを誘電体表面（３０）を特に連続的に通過させるための手段（４１，４２）を有する、請求項１から８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】
特に請求項１から９までのいずれか１項記載の装置を用いて、誘電体表面から少なくとも部分的に放電させる方法において、プラズマ装置（１）で少なくとも１つのプラズマ領域（１２，４０）においてプラズマを発生させ、かつこのプラズマ領域（１２，４０）又は少なくともその作用領域内のプラズマに誘電体表面（３０）を一時的にさらすことを特徴とする、誘電体表面の放電方法。
【請求項１１】
多数の局所的に制限されたプラズマをそれぞれ配属されたプラズマ領域（１２）内でプラズマ装置（１）の表面の周囲において発生させるか、又は面状プラズマをプラズマ装置（１）の表面の周囲においてプラズマ領域（４０）内で発生させる、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
プラズマを１００ボルト〜２０００ボルト、特に２００ボルト〜７００ボルトの振幅を有する電圧をプラズマ装置（１）内に入力結合させることによりプラズマ領域（１２，４０）内で点弧させかつ保持する、請求項１０又は１１記載の方法。
【請求項１３】
特に１ｋＨｚ〜１００ＭＨｚ、特に１３．４５ＭＨｚの周波数を有する直流電圧又は高周波交流電圧を入力結合させる、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
少なくとも部分的に放電すべき表面（３０）をプラズマ領域（１２，４０）内のプラズマに０．１秒〜１０秒、特に０．５秒〜２秒の時間にわたりさらす、請求項１０から１３までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】
プラズマ領域（１２，４０）にガス、特に空気、窒素、アルゴン又はヘリウムを供給する、請求項１０から１４までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１６】
誘電体表面（３０）を１００μｍ〜５ｍｍ、特に５００μｍ〜２ｍｍの間隔でプラズマ装置（１）の表面のそばを通過させ、かつその際プラズマ領域（１２，４０）内でプラズマを作用させる、請求項１０から１５までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１７】
減圧、特に１００ミリバール〜９００ミリバールで実施する、請求項１０から１６までのいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、従属しない請求項に記載の形式の誘電体表面から少なくとも部分的に放電させる装置及び方法に関する。
【０００２】
従来の技術
プラスチックフィルム、紙テープ又はプラスチック糸の表面のような非導電性物質は、別の物質と接触することにより或いはまた互いに急速に分離することにより表面が帯電することがあり、その際このような表面に発生する電圧は数メガボルトに達する。その際、“自然の”放電は、補助手段を用いなければ、空気湿度、材料及び帯電の度合いに依存して、数時間から数日間持続する。
【０００３】
さらに、表面の帯電により、その製造もしくは加工の際に使用される装置の故障並びにまたそれに従事する共同作業者の健康の障害を生じる恐れがある。さらに、その取り扱いは、しばしば包装工業において使用されるような、特にプラスチックフィルム、紙テープ又はプラスチック糸における、表面の帯電及びそれにより惹起される静電気力により著しく困難である。
【０００４】
表面帯電を最小にするために、従来の技術から、それぞれの表面にイオン化した空気を流す放電装置の使用が公知である。それによって惹起される空気の導電性の上昇により、その都度の周辺条件に基づき結果として生じる、典型的には数ｋＶの残留電圧を有する急速な放電が達成される。この場合、数ｋＶの限界は、その都度使用される方法において制限される。それというのも、空気もしくは選択的に使用されるプロセスガスのイオン化のためには、数ｋＶの電圧が必要であるからである。
【０００５】
未公開のドイツ国特許出願（ＤＥ）第１９９４３９５３．２号明細書には、ガスの供給下での貫通孔を備えた導波管へのマイクロ波の入力結合を介して微細構造放電が行われる、プラズマを発生させるため及び特の表面の処理又は活性化のための装置が提案されている。それにより、所属のプラズマ領域内の貫通孔の周囲内に局所的の制限されたもしくは平面状のガスプラズマが存在する。
【０００６】
発明の利点
本発明による装置及び方法は、従来の技術に対して、それで残留電圧もしくは表面に残留する電荷の量に関して、誘電体表面、特にプラスチックフィルム、紙テープ又はプラスチック糸の表面の最適化された放電、ひいてはこのような誘電体材料の明らかに改善された製造安定性及び簡単化された取り扱いが達成される。その限りにおいて、本発明による装置及び本発明による方法は、特に包装工業で使用するために好適である。
【０００７】
この関係において、本発明の範囲内で誘電体表面もしくは誘電体材料とは、非導電性であるか又は表面に帯電した電荷の導出に関して不良導電性である表面もしくは材料であると理解されるべきである。
【０００８】
誘電体表面を一時的にプラズマ装置の表面の直接的周囲内のプラズマに又は少なくともプラズマによって発生された電荷の発生に関してプラズマの作用領域にさらすことにより、少なくとも部分的に放電すべき誘電体表面上の残留電圧はｋＶ未満、特に５００ボルト未満に低下せしめられる。このことは、従来の技術において達成可能な、このような表面上の数キロボルトの残留電圧に対して著しい改善を意味する。
【０００９】
その他に、本発明による方法は、処理すべき誘電体表面の十分な放電を保証するために、従来の技術に対して明らかに短縮された、０．１秒〜１０秒、特に０．５秒〜２秒の典型的処理時間で十分であるという利点を有する。特に、本発明による装置を用いると誘電体材料からなる通過するフィルム又はテープの連続的処理も可能である。
【００１０】
その他に、本発明に基づき実施される誘電体表面の放電は同時にまた、特に表面エネルギー及び汚れ具合に関して、この表面の活性化が達成される。このことは、例えば改良された印刷性及び上昇せしめられた親水性において現れる。
【００１１】
最後に、本発明による装置は、簡単なかつモジュラー構造の利点を有するので、僅かな装置的費用で既存の製造装置に組み込むことができる。さらに、本発明による方法は、空気中で大気圧でも使用可能である。
【００１２】
本発明の有利な実施態様は、従属請求項に記載された手段から生ずる。
【００１３】
よって、１００ボルト〜２０００ボルト、特に２００ボルト〜７００ボルトの振幅を有する電圧の入力結合により惹起される微細構造放電、即ち微細構造により惹起されるプラズマ放電を使用すれば特に有利である。このような低い電圧は、一面ではそれを介して発生せしめられたプラズマの導電性により誘電体表面上の電荷もしくは電圧を特にプラズマ装置の電極の１つを介して吸引もしくは逃がすことができ、かつ他方ではプラズマによる高いもしくは重要な帯電が新たに惹起されないということをもたらす。
【００１４】
さらに、発生したプラズマの最適化される均一性及び誘電体表面の達成される放電の改良された効果に関しては、特に１００ミリバール〜９００ミリバールの低い減圧で作業するのが有利である。その他に、できるだけ均一なかつ安定なプラズマを発生させるためには、ガスとして空気の代わりに窒素を使用すれば有利であり、又はアルゴンもしくはヘリウムを使用すれば特に有利である。
【００１５】
プラズマ装置のプラズマ領域内でプラズマを発生させるためには、有利には１ｋＨｚ〜１００ＭＨｚ、特に１ＭＨｚ〜２０ＭＨｚ、例えば１３．４５ＭＨｚの周波数を有する直流電圧又は高周波交流電圧が特に該当する。さらに、プラズマを有利にはプラズマ装置へのマイクロ波の入力結合により発生させることもできる。さらに、交流電圧でプラズマを発生させる際には、有利に、電極に薄い誘電体保護層を設ける可能性も生じる。
【００１６】
図面
本発明を図面により及び以下の記載により詳細に説明する。
【００１７】
実施例
図１は、例えば二酸化ケイ素又は酸化アルミニウムのような損失の少ない、耐破壊性の誘電体からなる誘電体プレート２２を有するプラズマ装置１を示す。さらに、誘電体プレート２２は、その表面の１つに平面状の第１電極１１及び反対側の表面に平面状の第２電極２１を備えている。電極１１，２１は、例えば銅、特殊鋼、金又は銀のような金属からなり、かつ被覆の形で１０μｍ〜２００μｍの厚さで典型的には約０．０５ｍｍ〜２ｍｍの厚さの誘電体プレート２２の表面に施されている。
【００１８】
図１ではさらに、電極１１，２１及び誘電体プレート２２は多数の共通の貫通孔２６を備えている。これらの貫通孔２６は、有利には規則的に配置されておりかつ約４０μｍ〜１ｍｍの典型的な直径を有する。従って、全体として誘電体プレート２２は微細構造化された平坦な電極１１，２１を備えている。
【００１９】
プラズマを発生させるために、図１における電極１１，２１は、電極１１，２１に１ｋＨｚ〜１００ｋＨｚ、特に１３．４５ＭＨｚの周波数を有する直流電圧又は高周波交流電圧を印加する図示されていない電圧源と接続されている。直流電圧を使用するのが有利である。入力結合される電圧は、１００ボルト〜２０００ボルト、特に２００ボルト〜７００ボルトである。
【００２０】
入力結合された電圧により、貫通孔２６の領域でプラズマが点弧されかつ維持されるので、そこに局所的に制限されたプラズマ領域１２が形成される。これらのプラズマ領域１２は、貫通孔２６の領域並びにまた貫通孔２６の周囲に広がる。特に、これらは少なくとも一方側でプラズマ装置１の表面の上に立ち上がる。
【００２１】
さらに、貫通孔２６の適当な配置及び適当な間隔により、プラズマ領域１２がオーバラップにより、例えば一方側でプラズマ装置１の全表面上に広がり、かつ０．５ｍｍ〜３ｍｍの典型的厚さを有する１つの大きな平面状のプラズマ領域４０に合するようにすることも可能でありかつ有利である。
【００２２】
さらに場合により、図１によれば、貫通孔２６の内壁２３は、例えば酸化アルミニウム又は二酸化ケイ素からなる保護層として誘電体、特にセラミック被覆を有している。
【００２３】
図２は、プラズマ装置１の選択的実施例を示し、この場合には二酸化ケイ素又は酸化アルミニウムからなる誘電体プレート２２上に今や第１のストリップ状導体２４及び第２のストリップ状導体２７の形の相互に間隔を置いたストリップが延びている。従って、これらのストリップ状導体２４，２７は、図１に類似して、微細構造化された平坦な電極を形成する。
【００２４】
図２は、さらに、ストリップ状導体２４，２７の間に多数の貫通孔２６が設けられており、それによって該貫通孔を経て例えば圧搾空気、窒素、アルゴン又はヘリウムのようなガスがストリップ状導体２４，２７の間に導入可能であることを示す。しかしながら、流動は、図４に説明されていると同様に、プラズマ装置１の表面に対して平行に行われる。
【００２５】
図１に類似して電圧を印加することにより、今やストリップ状導体２４，２７の間にプラズマが点弧されるので、ストリップ状導体２４，２７の間に少なくとも貫通孔２６の周囲に、特にストリップ状導体２４，２７の間にプラズマ領域が形成される。貫通孔２６の適当な配置及びストリップ状導体２４，２７の相応する適合された間隔により、この場合も図１に類似して、プラズマ領域が１つの平面状に広がるプラズマ領域４０に合するのが可能でありかつ有利である。
【００２６】
図２によるストリップ状導体２４，２７は、例えば、場合により例えばニッケルからなる鍍金補強材に施された、銅又は金からなる帯状体からなる。
【００２７】
プラズマ装置１のもう１つの図示されていない実施例においては、平面状電極を領域的にそれらの間に存在する絶縁層により相互に間隔を置いて配置しかつ電圧を印加し、それによって、ガスが充填されているかもしくは既に説明したようにガスが流動せしめられる、電極の間に残る中間スペース内でプラズマを点弧させかつ維持し、該プラズマを次いで誘電体表面の放電のために利用するように構成されている。特に、この実施例の範囲内で、多数の同じ形式の、例えば中心孔を備えかつ直径５ｍｍ〜３０ｍｍ及び厚さ０．１ｍｍ〜２ｍｍを有する金属円板を共通の軸上に相互に並べて配置し、かつこれらの円板を、それぞれ同じ形式の、特に同様に中心孔で軸上に並べられ、かつ小さい直径及び厚さ例えば０．１ｍｍ〜３ｍｍを有する、例えば酸化アルミニウムからなる誘電体円板を介して相互に間隔を持たせ、それにより、それぞれ交互の極性を有する金属円板に電圧を印加することによりこれらの間にそれぞれ誘電体円板によっては占有されない中間スペース内でプラズマを燃焼させることもできる。この方式では、放電棒がプラズマ装置１として構成され、該装置を放電すべき表面上に導くかもしくは該装置のそばをそのような表面を通過させることができる。前記の軸は、例えば、交互に金属円板と誘電体円板を支持する、中心孔に相当する直径を有するセラミック棒である。
【００２８】
最後に、プラズマ装置１は、有利には内部に二酸化ケイ素からなる誘電体プレートが充填された、マイクロ波のための導波管の形で形成されていてもよい。この場合には、同様に、導波管もしくは誘電体プレート内に形成された、図１もしくは２に類似した貫通孔が設けられている。マイクロ波のための導波管を有するこのようなプラズマ装置の詳細に関しては、ドイツ国特許出願（ＤＥ）第１９９４３９５３．２号明細書を参照されたい。
【００２９】
電界不均一性に基づき有利には貫通孔の縁部で常に放電が発生するので、導波管に誘電体プレートを充填することを止めることもできる。
【００３０】
最後に、マイクロ波を、例えば図２に示されているような、ストリップ状導体を介して入力結合させ、それにより所望の放電のためにプラズマを発生させる可能性も存在する。
【００３１】
説明した全てのプラズマ装置１において、ガスを供給することによりかつ入力結合された直流又は交流電圧を介して放電、特に微細構造放電を引き起こしかつ維持し、それにより相互に隔離された又は繋がったプラズマ領域１２もしくは４０をプラズマ装置１の表面の周囲に形成させることは共通である。特に、貫通孔２６及び微細構造化された電極１１，２１，２４，２７の配置を適当に選択すれば、局所的プラズマ領域１２内に発生したプラズマのオーバラップが生じ、その結果平面状プラズマ領域４０内に横方向で均一なプラズマが形成される。
【００３２】
その他の点で強調すれば、誘電体表面の放電のためにはしばしば不均一及び／又は不安定なプラズマでも十分である。それというのも、プラズマにより発生された帯電粒子の拡散及び／又は時間的平均化を介してプラズマとの十分な接触、ひいては誘電体表面のための放電プロセスが保証されるからである。
【００３３】
特に強調すべきことは、誘電体表面を必ずしも所望の放電プロセスの際に発生されたプラズマと直接接触させるかもしくはプラズマ領域１２，４０内に導入する必要がないことである。しばしば既に、放電すべき表面をもっぱらプラズマの作用領域内又はプラズマ内でイオン化されたガスもしくは帯電した粒子の拡散領域内に導入すれば十分である。この作用領域内では、本来のプラズマ領域からプラズマ装置１の近くに配置された誘電体表面へのイオンが富化されたガスの拡散を生じ、それにより同様に直接的プラズマ領域１２，４０に比較すれば尤も低い有効放電が達成される。個々の場合、ディメンジョンにおいて典型的には数ｍｍの元来のプラズマ領域の空間的広がりにおいてガス拡散もしくは粒子拡散による１０ｃｍまでの作用領域の広がりが観察される。
【００３４】
図３は、誘電体表面からの少なくとも部分的な放電のための本発明による装置の第１実施例をプラスチックフィルム３０の放電の例で説明するものである。この場合には、プラスチックフィルム３０が図示されていない搬送装置を介して滑り台４２の上を引っ張られ、その際プラスチックフィルム３０の誘電体表面がその滑り台４２の反対側で図１又は図２に基づくプラズマ装置１によりプラズマの作用を受けるように構成されている。そのために、プラズマ装置１からそのそばを通過せしめられるプラスチックフィルム３０の表面までの間隔は典型的には０．１ｍｍ〜５ｍｍ、特に０．５ｍｍ〜２ｍｍである。
【００３５】
図３に基づくプラズマ装置１でプラスチックフィルム３０の表面を放電させる際には、プラズマ装置１の、プラスチックフィルム３０に面した側の電極をアースし、かつ、直流電圧励起の場合には、前記電極の反対側の電極に正の電圧を印加し、そうしてプラズマ領域４０内で特に激しい放電を起こさせるのが有利である。さらにその際にはそこに、アース電位の近くにある電位が生じる。それによって、プラスチックフィルム３０の表面の特に有効な放電が達成される。
【００３６】
さらに、図３においては、プラズマ装置１のそのプラスチックフィルム３０とは反対側からガス供給装置３１を介してガス、例えば圧搾空気、窒素、アルゴン又はヘリウムが供給され、該ガスが貫通孔２６を貫流するように構成されている。この方式では、特にプラズマ装置１の、プラスチックフィルム３０の面した側に横方向で均一なプラズマが形成され、該プラズマはプラズマ装置１の表面の周囲を越えてプラズマ領域４０内に広がる。さらに、プラズマ装置１の配置、及び図示の実施例では供給装置２として働く滑り台４２によりプラスチックフィルム３０の誘電体表面はプラズマ領域４０内のこのプラズマにさらされるので、誘電体表面の少なくとも部分的な放電が達成される。
【００３７】
有利には、図３によればプラスチックフィルム３０は連続的にテープの形で滑り台４２上を引っ張られるので、その表面は一時的に、発生されたプラズマの作用を受ける。
【００３８】
プラスチックフィルムの誘電体表面の少なくとも部分的な放電のための典型的な時間は、０．１〜１０秒、特に０．５秒〜２秒の時間であることが判明した。この時間は、簡単に、プラスチックフィルム滑り台４２上を引っ張る搬送速度を介して調節可能である。しかしながら、同様に、固定の搬送速度で十分な放電を保証するために、プラズマ装置１の複数のモジュールを相前後して接続することもできる。
【００３９】
その他に、図３に基づくもしくはまたさらなる図４及び５に基づくプラズマ装置１は、図示されているように平坦であっても、また湾曲していてもよく、又は供給装置２の必要に応じて、該装置の場合により複雑な形状に合わせられて構成されていてもよい。
【００４０】
図４は、図３に対して選択的な実施例を示し、この場合には滑り台４２の代わりに、プラスチックフィルム３０をプラズマ装置１によって発生されたプラズマのプラズマ領域に供給するための供給装置２として働く搬送ローラ４１が設けられている。さらに、図４によれば、ガス供給装置３１がガスをプラズマ装置１とプラスチックフィルム３０の間の中間スペースに吹き込むように構成されている。こうして、同様に通過するプラスチックフィルム３０の連続した処理が保証される。
【００４１】
図５は、図２に基づく実施例とはもっぱら貫通孔２６の配置及び平坦な、微細構造化された電極の構造により異なっているプラズマ装置１の第３の実施形を示す。詳細には、図５によれば、誘電体プレート２２の表面に第１の櫛状部材３２及び第２の櫛状部材３３が配置されており、これらの櫛状部材は内外に噛み合う櫛構造を形成し、その際櫛状部材３２，３３の個々の長く延びた歯の間に貫通孔２６が配置されているように構成されている。図５に基づく櫛状部材３２もしくは３３の歯の間隔は、有利には２０μｍ〜２００μｍ、例えば１００μｍである。その他は、櫛状部材３２，３３はストリップ状導体２４，２７に類似して構成されている。
【００４２】
図５に基づく櫛状構造により、プラズマ装置１の表面上に、プラズマ装置１の表面から約０．５ｍｍ〜３ｍｍの距離にまで広がる特に均一なプラズマ領域４０が形成される。
【００４３】
図６は、もっぱら図５に基づくプラズマ装置１を有するプラスチックフィルム３０を放電させる装置の第３実施例を示す。この場合には、櫛状部材３２，３３を有する櫛状構造がプラズマ装置１の、プラスチックフィルム３０に面する側に存在するように構成されている。さらにこの場合には、搬送ローラ４１上のプラスチックフィルム３０がプラズマ装置１の表面のそばを約１ｍｍの間隔で通過せしめられ、それによりプラスチックフィルム３０の表面が連続的にプラズマ領域４０内に導かれかつそこに存在するプラズマにさられるように構成されている。さらに図６は、プラズマ装置１の、プラスチックフィルム３０とは反対側から該プラズマ装置１にガス供給装置３１を介してガス、例えばヘリウムが供給されることを示す。
【００４４】
この場合、例えば適当に構成されたガスシャワーの形のガス供給装置３１は、図５に基づく貫通孔２６にこのガスの供給を行う。最後に、図６においてはさらに、ガス供給装置３１で供給されるガスはガス吸引装置３４を介して再び排出されるように構成されている。このガス吸引装置３４は、供給されるガスが空気である際に特に重要である。それというのも、この場合には記載の装置内でオゾンが発生するからである。
【００４５】
図６は、特にプラズマ装置１の表面のそばを紙テープ又はプラスチックフィルムをエンドレスで通過させるために好適である。この場合には、平面状に発生されたプラズマを介してプラスチックフィルム３０の、プラズマ装置１に面した側での表面放電からの吸引が達成される。
【００４６】
引き続きなお言及すれば、本発明による装置は大気圧でもまた減圧でも運転することができ、この際発生されるプラズマの均一性及びプラズマ発生の効率を改良するためには例えば１００ミリバール〜９００ミリバールの減圧で実施する。その他の場合には、減圧下での作業は、そのために一般にポンプ装置を備えた適当な処理室を必要とするために、高められた設備費用を意味する。
【００４７】
さらに強調すれば、説明した実施例に基づく貫通孔２６は図示の円形の孔の他にスロット、細長い切欠き、半円形の切欠き等として構成されていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】
第１のプラズマ装置の原理図を示す。
【図２】
プラズマ装置の選択的実施形を示す。
【図３】
第１実施例としての放電装置の原理図を示す。
【図４】
放電装置の第２実施例を示す。
【図５】
プラズマ装置の、図１又は２に対して選択的な別の実施形を示す。
【図６】
図５に基づくプラズマ装置を有する放電装置の第３実施例を示す。
【符号の説明】
１  プラズマ装置、  ２  供給装置、  １１，２１，２４，２７，３２，３３  微細構造化された電極（２４，２７  ストリップ状導体、  ３２，３３  櫛状部材）、  １２，４０  プラズマ領域、  ２２  誘電体プレート、  ２６  貫通孔、  ３０  誘電体表面（プラスチックフィルム）、  ３１  ガス供給装置、  ４１，４２  搬送装置（４１  搬送ローラ、４２  滑り台）
【国際公開パンフレット】
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2004518802.tif 000024
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004518802.tif 000025
2004518802.tif 000026
【国際調査報告】
2004518802.tif 000027
2004518802.tif 000028
2004518802.tif 000029
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