(57)【要約】エレクトロルミネセント装置は、所望のパターンに従って基板上に配された少なくとも２つのエレクトロルミネセント素子を有し、各エレクトロルミネセント素子は、第１及び第２の電極層と、上記第１及び第２の電極層の間に配された、液層から得られるエレクトロルミネセント層とを有する。上記基板から突出した絶縁材料の仕切りリブを含む起伏仕切りパターンは、所望のパターンに従って液層を保持するための囲まれた領域を形成する。隣り合うエレクトロルミネセント素子の間での液体の混合を防止し、各素子を最大量の液体で満たすことを可能とする目的で、隣り合う素子の間の仕切り素子は、間に介在溝を伴なう少なくとも２つの仕切りリブから成る。本発明は、エレクトロルミネセント装置を製造する方法にも言及している。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所望のパターンに従って基板上に配された少なくとも２つのエレクトロルミネセント素子を有するエレクトロルミネセント装置であって、各エレクトロルミネセント素子は、第１及び第２の電極層と、前記第１及び第２の電極層の間に配されたエレクトロルミネセント層とを有し、前記エレクトロルミネセント装置は、前記基板から突出した絶縁材料の仕切りリブを含み且つ所望のパターンに従って前記エレクトロルミネセント層を得るための液層を保持するための囲まれた領域を形成する起伏仕切りパターンを有し、隣り合うエレクトロルミネセント素子を分離する起伏仕切り素子が、間に介在溝を伴なう少なくとも２つの仕切りリブを有するエレクトロルミネセント装置。
【請求項２】
一対のリブのうちの２つの仕切りリブの間の領域の前記介在溝に、多くても１つの電極層が備えられる請求項１に記載のエレクトロルミネセント装置。
【請求項３】
前記起伏仕切り素子が、張り出している部分を伴なうシャドーイングリブを有する請求項２に記載のエレクトロルミネセント装置。
【請求項４】
前記シャドーイングリブは、前記仕切りリブのうちの１つの仕切りリブ上に配される請求項３に記載のエレクトロルミネセント装置。
【請求項５】
前記起伏仕切り素子は３つの仕切りリブを有し、前記シャドーイングリブは中央の仕切りリブの上に配される請求項４に記載のエレクトロルミネセント装置。
【請求項６】
少なくとも２つのエレクトロルミネセント素子を有するエレクトロルミネセント装置を製造する方法であって、
所望のパターンに従って基板上に第１の電極層を備える工程と、
前記基板から突出する仕切りリブを有し、所望のパターンに従ってエレクトロルミネセント層を得るための液層を保持するための囲まれた領域を形成する起伏仕切りパターンを備える工程と、
前記起伏仕切りパターンの囲まれた領域に液層を被着する工程と、
前記液層をエレクトロルミネセント層に変換する工程と、
前記エレクトロルミネセント層に所望のパターンに従って第２の電極層を備える工程とを有し、
隣り合うエレクトロルミネセント素子の間の仕切り素子が、介在溝を伴なう少なくとも２つの仕切りリブで形成される方法。
【請求項７】
１対のリブのうちの２つの隣り合う仕切りリブの間の溝の領域に多くても１つの電極層が備えられる他の工程を有する請求項６に記載の方法。
【請求項８】
張り出している部分を有するシャドーイングリブを伴なう仕切り素子を形成する他の工程を有する請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記仕切りリブのうちの１つの上にシャドーイングリブを配する他の工程を有する請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも３つの仕切りリブを有する前記仕切り素子を形成し、中央の仕切りリブの上に前記シャドーイングリブを配する他の工程を有する請求項９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所望のパターンに従って基板上に配された少なくとも２つのエレクトロルミネセント素子を有するエレクトロルミネセント装置であって、各エレクトロルミネセント素子は、第１及び第２の電極層と、上記第１及び第２の電極層の間に配されたエレクトロルミネセント層とを有し、上記エレクトロルミネセント装置は、上記基板から突出した絶縁材料の仕切りリブを含み且つ所望のパターンに従って上記エレクトロルミネセント層を得るための液層を保持するための囲まれた領域を形成する起伏仕切りパターンを有するエレクトロルミネセント装置に関する。
【０００２】
本発明は、少なくとも２つのエレクトロルミネセント素子を有するエレクトロルミネセント装置を製造する方法であって、所望のパターンに従って基板上に第１の電極層を備える工程と、上記基板から突出する仕切りリブを有し、所望のパターンに従って囲まれた領域を形成する起伏仕切りパターンを備える工程と、上記起伏仕切りパターンの囲まれた領域に液層を被着する工程と、上記液層をエレクトロルミネセント層に変換する工程と、上記エレクトロルミネセント層に所望のパターンに従って第２の電極層を備える工程とを有する方法にも関する。
【０００３】
本発明によるエレクトロルミネセント装置は、好ましくはモノクロ若しくはマルチカラーの静止画像ディスプレイ又は可変静止画若しくは動画を表示するためのパッシブ若しくはアクティブ型のマトリックスディスプレイとして使用することができる。
【背景技術】
【０００４】
導入部のエレクトロルミネセント装置及び製造方法は、例えばヨーロッパ特許出願ＥＰ８８０３０３に開示されており、そこでは、基板上へのインクジェットプリンティングによってエレクトロルミネセント層が得られる。インクジェットプリントされた各画素の液層が各画素の範囲内に制限されるようにするため、隣接する画素の間に、仕切壁又はバンクが形成される。これは、隣接する画素間での各発光色用の液体の混合を防止するので、２つ以上の色を含むディスプレイにおいて特に有利であり、このようにして、表示された画像のコントラスト及び輝度を向上させることが可能である。
【０００５】
しかし、ヨーロッパ特許出願ＥＰ８８０３０３による装置及び方法を用いると、画素が多量のエレクトロルミネセント液で満たされた場合、１つの画素からのエレクトロルミネセント液がこぼれて隣接する画素のエレクトロルミネセント液と混合し、それは例えば異なる色を表示するために異なる種類のエレクトロルミネセント液であるかもしれず、明らかに危険である。
【０００６】
製造上の理由から、仕切りリブをできるだけ低くすることも有利であるが、同時に、液体中の有効な発光物質の濃度が低いので（しばしば有効物質は約１％以下）、十分な層厚を有する液層を作ることも有利である。それ故に、液層の例えば乾燥又はゲル化を通じた変換処理の間、残るエレクトロルミネセント層はかなり減少し、典型的には液層よりも１００倍のオーダーで薄い。従って、画素をできるだけ多量の液体で満たすことが望ましい。このことは、ヨーロッパ特許出願ＥＰ００／１１７０６において更に考察されている。
【０００７】
さらに、製造プロセスの間、シングルノズルヘッドの代わりにマルチノズルヘッドを有するインクジェットプリンティング装置等を使用することが好ましい。マルチノズルヘッドでは、各ノズルから同じ出力量の液体を正確に得ることは可能ではないが、インクジェットプリンティング装置の場合、約５−１０％のばらつきであれば通常予期されているだろう。最も低い出力量のノズルでさえも所望の層厚に到達するようにインクジェットヘッドが調整されると、最大出力量のノズルによって満たされるエレクトロルミネセント素子が仕切りリブにあふれ、隣接するエレクトロルミネセント素子の液体と混ざり、明らかに危険である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、隣接するエレクトロルミネセント素子の間で液層が混合する危険が少なく、その結果としてエレクトロルミネセント素子に、より厚く且つより均一なエレクトロルミネセント層を備えることができ、製造中のマルチノズルヘッドの使用の性能が向上するエレクトロルミネセント装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
少なくともそれらの目的は、隣り合うエレクトロルミネセント素子を分離する起伏仕切り素子が間に介在溝を伴なう少なくとも２つの仕切りリブを有するということで特徴付けられる、プリアンブルによるエレクトロルミネセント装置によって達成される。
【００１０】
本発明は、蒸気のエレクトロルミネセント装置と本質的に同じ目的を有するエレクトロルミネセント装置の製造方法にも関する。少なくともこれらの目的は請求項６による方法によって達成される。
【００１１】
本発明は、上記の目的が、（各エレクトロルミネセント素子又は画素が、その隣接する画素の間の領域に、隣接する画素に共有されていない個別の仕切りリブを備える）エレクトロルミネセント装置及び製造方法によって達成されるという洞察に基づいている。隣接する画素の間には少なくとも２つの仕切りバンク又はリブが存在し、隣接する画素の仕切りリブの間には溝を伴なう。
【００１２】
エレクトロルミネセント層が光を放出するために必要な１つのことは、エレクトロルミネセント層が２つの電極（１つのカソード及び１つのアノード）の間に配されることである。従って、好適実施例では、１つの画素から溝にこぼれたエレクトロルミネセント液が、エネルギーが付与されず、ディスプレイの画像を乱す作用を有する光を放出しないように、２つの隣接する画素の間の仕切り溝は、電極を多くても１つしか有していない。
【００１３】
本発明は、モノクロのディスプレイとカラーディスプレイとの両方に適している。両方の型式に対して、本発明は、均一のエレクトロルミネセント層の形成を容易にする。カラーディスプレイに対して、本発明は、異なる色の混色を防止することを助けるという他の利点を有する。更に他の利点は、本発明による方法を用いることによって、単一のプリンタを用いて、隣り合う一色以上の色を、その色が乾燥する前に１つのプロセスで同時にプリントすることが可能である。
【００１４】
電極及びエレクトロルミネセント層をディスプレイに配する種々の方法がある。例えば装置がシンプルな照明又は変化しない静止画像の表示用である場合、アノードとカソードは両方とも、装置全体に渡って共通したものである、即ち、１つの連続する電気的導電層の形でエレクトロルミネセント層の対応する側に備えられる。一方、装置が、変化する画像即ち動画を表示するためのものである場合、各画素は独立してアドレスできる必要がある。これは、基本的には異なる２つの方法で達成できる。
【００１５】
１つ目は、電極を行列状に配する（例えば、アノードを行状に電気的に接続し、一方、カソードをアノードに対して垂直に列状に電気的に接続する）ことである。これはパッシブマトリックスディスプレイと呼ばれ、画素のエネルギー付与は、電圧が供給されたアノード行と、同じく電圧が供給されたカソード列との交差部分で達成される。通常、映像化は、アノード行への連続的な電圧供給と、アノード行との交差部分において光を発することが望まれるカソードへの同時の電圧供給とを通じて実現される。従って、画素は散発的にエネルギーが付与される。
【００１６】
２つ目は、例えば各画素を薄膜トランジスタによって制御することにより、画素を個々に且つ独立にアドレス可能にすることである。これは、アクティブマトリックスディスプレイと呼ばれ、この方法では、望むときに、結果としてより明るい画像を伴なって、画素に連続してエネルギー付与することができる。
【００１７】
本発明の好適実施例では、エレクトロルミネセント装置は、例えば、透明な合成樹脂、石英、セラミック、又はガラスの適切な基板上に形成される。第１の電極（好ましくはアノード）は、基板上に所望のパターンによって薄層の形で備えられ、金属蒸気の真空蒸着によって備えられる酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）のような金属合金であることが好ましい。その後、起伏パターンが例えばフォトリソグラフィ法によって塗布される。続いて、エレクトロルミネセント層は、例えば、任意の有機及び無機のエレクトロルミネセント液のインクジェットプリンティング又は滴下による任意の適切な方法で、起伏パターンによって形成された囲まれた領域に、選択的に塗布される。最後に、液層は、例えば乾燥工程又はゲル化工程によってエレクトロルミネセント層に変換され、外側電極（好ましくはカソード）が例えば適切な金属蒸気の真空蒸着によって備えられる。エレクトロルミネセント装置には、上記に加えて、幾つかの他の層及び添加剤を取り入れることができることを理解すべきである。これらの例として、正孔注入層及び／又は正孔輸送層、電子注入層及び／又は電子輸送層、湿潤剤、レベリング剤、保護層等がある。
【００１８】
エレクトロルミネセント層は、実質的に有機のエレクトロルミネセント材料から形成することができる。適切なこのような材料は、有機フォト又はエレクトロルミネセント、蛍光性、燐光性の低分子量又は高分子量の化合物を含む。ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリチオフェンビニレン、又はより好適にはポリ−ｐ−フェニレンビニレンのような、実質的に共役バックボーン（主鎖）を有するエレクトロルミネセントポリマーを含む材料が好ましい。（青色発光）ポリ（アルキル）フルオレン、及び赤、黄又は緑の光を発光するポリ−ｐ−フェニレンビニレン、並びに（特に、２−及び／又は２，５の位置に、Ｃ１−Ｃ２０好ましくはＣ４−Ｃ１０のアルキル基又はアルコキシ基のような溶解性を向上させるための側鎖の官能基を有する）２−又は２，５−置換ポリ−ｐ−フェニレンビニレンであることが特に好ましい。好適な側鎖の官能基は、メチル、メトキシ、３，７−ジメチルオクチルオキシ、及び２−メチルプロポキシである。２−フェニル−１，４−フェニレンビニレンの繰返し単位を含むポリマーが更に特に好適であり、フェニル基は上記の型式のアルキル基及び／又はアルコキシ基、特にメチル、メトキシ、３，７−ジメチルオクチルオキシ、又はよりよくは２−メチルプロポキシに任意に置換される。有機材料はこのような１つ以上の化合物を含んでいてもよい。
【００１９】
本発明では、有機という用語は高分子（polymeric）を含み、一方、ポリマー及びそれから得られる添加物の用語は、ホモポリマー、コポリマー、ターポリマー、及びより高次の同族体並びにオリゴマーを含む。
【００２０】
有機エレクトロルミネセント材料は、分子スケールで均一に配される又は粒子分布の形で存在する有機又は無機の他の物質を含む。特に、電子及び／又は正孔の電荷注入機能及び／又は電荷輸送機能を向上するための化合物、発せられる光の強度又は色を向上及び／又は修正するための化合物、安定剤等が存在していてもよい。
【００２１】
正孔注入電極は、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇのような大きい仕事関数を有する金属（合金）から適切に作られる。好ましくは、インジウム酸化スズ（ＩＴＯ）のようなより透明な正孔注入電極材料が使用される。ポリアニリン（ＰＡＮＩ）及びポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）のような導電ポリマーも透明な正孔注入電極材料に適している。好ましくは、ＰＡＮＩ層は５０ｎｍ乃至２００ｎｍの厚さを有し、ＰＥＤＯＴ層は１００ｎｍ乃至３００ｎｍの厚さを有する。ＩＴＯの正孔注入電極を使用する場合、第１の電極が正孔注入電極であることが好ましい。
【００２２】
起伏パターンと液晶との相互作用によって、エレクトロルミネセント層の厚さのプロファイルが決まる。この相互作用に適応するために使用される重要なパラメータは、起伏パターンの表面に対する液層のぬれ性（Wettability）である。このぬれ性は、起伏パターンの液層に対する疎水性又は親水性の程度によって決まる。液体のぬれ性は、液層の粘度、接触角又は粘性を変化させる手段のような通常の手段によって、又は液層のレオロジー的特性及び界面特性に影響する界面活性剤又は他の物質を加えることによって、適応させることができる。起伏パターンのぬれ性は、異なる起伏材料を選択することによって、又は起伏パターンにＵＶ／オゾン処理のような表面処理を施すことによって、変更することができる。起伏パターンに対する液体のぬれ性が、液層の表面が実質的に平坦なメニスカスを呈するように選択される場合、エレクトロルミネセント層は、先に規定した意味において実質的に均一な厚さである。
【００２３】
パッシブ又はアクティブマトリックスディスプレイのような画素が個々にアドレス可能であるエレクトロルミネセント装置の場合、電極層の少なくとも１つは、隣接するパターン領域の間を非導通にしてパターニングされなければならない。
【００２４】
アクティブマトリックスディスプレイでは、電極のうちの１つがパターニングされれば十分である。パターニングされた電極の各画素電極は、個々にパターニングされ、残りの画素電極から電気的に絶縁され、更に薄膜トランジスタのような制御手段によって制御されることができる。好適実施例では、基板に最も近い電極（好ましくはアノード）はパターニングされ、一方、外側の電極、（カソード）は基本的にディスプレイの全表面を覆う。
【００２５】
パッシブマトリックスディスプレイでは、両方の電極がパターニングされなければならず、一方は画素電極のうちの行電極であり、他方は行電極に対して垂直である列電極である。外側電極（好ましくはカソード層）のパターニングは、屋根状構造を有する補助起伏パターンに、張出し部分を備えることによって、達成することができ、このため、電極材料がディスプレイに堆積するとき、起伏パターンの張り出している部分がディスプレイ上の領域を影で覆い、該当する電極領域の間の電気的接触を防止する。
【００２６】
本発明の好適実施例では、画素は正方形又は長方形に形成され、従って各画素の仕切りリブは直線且つ平行であり、各画素の間に直線状の溝を形成する。しかしながら、円形のような他の形の画素を有することも可能であり、この場合、画素間の仕切りリブ及び溝は直線状の必要はない。この例は以下の他の実施例に開示されている。
【００２７】
隣接する画素（仕切りリブ）の間の溝はできるだけ深く且つ狭く作られることが有利である。この方法では、相対的に多量の溢れた液体をできるだけ収容することができ、同時にディスプレイの非発光領域が小さいことを表す。
【００２８】
従来技術では、ＵＳ５７０１０５５号及び対応するＥＰ９３８２４８号も参照される。これらの文献では、画素の間にダブルバリア素子を伴なう表示素子が開示されている。しかしながら、これらの文献は、本発明のように液状で塗布されたのではなく、基板上に蒸着されたエレクトロルミネセント層を有する表示素子に関する。それ故に、解決される問題及び得られる利点は、本発明とは完全に異なる。
【００２９】
本発明のこれら及び他の態様は以下に記載される実施例から明らかであり、それら実施例を基準にして説明される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
最初に図１乃至図３を参照すると、本発明の第１実施例が１つの平面図と２つの断面図で概略的に示されている。この実施例は、アクティブマトリックスディスプレイに言及しており、基板１を有し、この基板１上には、アノード層２が個々に規定された矩形パターンに被着され、互いに電気的に絶縁され、分離した異なる画素の部分を形成している。個々の薄膜トランジスタ（図面には示されていない）は各アノードを制御し、各アノードに個別にエネルギーを与えることを可能にする。矩形のアノードは、互いの間にインターバル３を空けて行列状に配されている。アノードの列と列との間のインターバルには、隣り合う２つのアノードカラムの間の仕切りリブ４がその間に溝５を規定した状態で１対の仕切りリブを形成するように、仕切りリブ４の形式の仕切り素子が各アノード列の両側に配されている。
【００３１】
この起伏パターンを形成した後、アノード列の両側の仕切りリブの間に形成された囲まれた領域は、好ましくはインクジェットプリンティングによって、エレクトロルミネセント液６で満たされる。このプリンティングは、図１の矢印７の方向、即ち仕切りリブ４に平行な方向に、実行される。隣り合う囲まれた領域は、フルカラー画像を表示するための、青、赤及び緑のような異なる色の光を放出する機能を有するエレクトロルミネセント液で満たされている。
【００３２】
続いて、エレクトロルミネセント層を液相から固相又はゲル相に変換するために、エレクトロルミネセント装置は、例えば、乾燥工程又はゲル化工程が行われる。この変換工程の間、エレクトロルミネセント層は減少し、非常に薄くなる。このことについて、共通に使用されたエレクトロルミネセント液は通常は約１％の濃度の有効エレクトロルミネセント物質を有し、従って変換工程の後に結果として生じるエレクトロルミネセント層６はエレクトロルミネセント液層の約１％の厚さを有するので、便宜上正確な縮尺ではなく概略的に図３に示されている。図３には、好ましくは金属蒸気の真空蒸着によって、ディスプレイの全面に渡ってコーティングされたカソード層８も示されている。
【００３３】
従って、本発明は、２つの仕切りリブの間に囲まれた領域を最大量のエレクトロルミネセント液で満たすことを可能とする。意図しない液体が仕切りリブの１つからあふれても、その液体は、その隣りの囲まれた領域内の液体と混合しないのでディスプレイの機能又は性能を乱すことなく囲まれた領域と領域との間の溝５にたまる。溝領域は電極層を１つ、即ち外側のカソード層８のみを有するので、溝にこぼれた液体にエネルギーが付与されて光を放射することによりディスプレイの表示を乱すこともない。
【００３４】
図１乃至図３による実施例では、エレクトロルミネセント装置に、図面に示されるリブに垂直な方向にも仕切りリブを備えることも可能である。この結合された仕切りリブは、矩形状に囲まれた領域を規定する。
【００３５】
本発明の第２の実施例が図４乃至図６に示されている。この実施例は、パッシブ型のマトリックスディスプレイである。先の実施例とは異なり、アノード２は、間に電気絶縁ギャップ３を伴なって連続する行（row）の形状を有しており、全体が９によって表されている仕切り素子に対して直角に交差している。これらの仕切り素子は、図５及び図６から明らかなように、第１の実施例と比較して実質的に異なる断面形状を有する。２つの仕切りリブの代わりに、相対的に広く且つ低い形状を有する３つの仕切りリブ４が存在する。これら仕切りリブのうちの真中のリブの上部には、補助仕切りリブ即ちシャドーイングリブ１０が配されており、その断面は、両側に張り出している部分１１を有する楔型（マッシュルーム型）である。
【００３６】
好ましくはインクジェットプリンティングによるエレクトロルミネセント層６の被着は、起伏仕切り素子９の間に規定される囲まれた領域において、矢印７の方向、即ち起伏仕切り素子９に対して平行な方向に実行される。最後に、エレクトロルミネセント層を液状から固状に変換した後、図６に示すように、ディスプレイの全面が、好ましくは金属蒸気の真空蒸着によってカソード層８で覆われる。シャドーイングリブ１０の張り出している部分１１は、この張り出している部分の下の表面が影になるのでその表面上にカソード材料が堆積しないという効果を有する。従って、起伏仕切り素子９の両側のカソード層の間に電気的接続が存在せず、その結果、カソード層は、アノード行２に垂直な電気的に絶縁されたカソード列に分割されるようになる。図５及び図６から明らかなように、各仕切りリブ９の間の領域に配された補助レジストリブ１２がある。その機能は、カソードとアノードとの間の直接接触を防ぐ、これによって短絡を防ぐことである。これは、エレクトロルミネセント液６が外側の仕切りリブ４にあふれない場合に生じ、アノード行の層が仕切り素子９の下で連続的に広がるので可能である。
【００３７】
好ましくは、仕切りリブ４、シャドーイングリブ１０、及びレジストリブ１２を有する仕切り素子９は、当業界で一般に既知の適切なフォトリソグラフィック法によって製造される。リブの材料は、無機材料でも有機材料でもよい。
【００３８】
図７には、図１乃至図３による実施例の仕切りリブと同様の仕切りリブ４のペアによって電気的に分離され複数行に配されるアノードと、図４乃至図６による実施例の仕切り素子と同様の仕切り素子９によって電気的に分離された複数列に配されるカソードとを有するパッシブマトリックスディスプレイの別の実施例が示されている。
【００３９】
アノード行は、一対の仕切りリブ４に平行且つ矢印７によって示されるエレクトロルミネセント液６の印刷方向にも平行である。従って、例えばエレクトロルミネセント液がリブ４に溢れたとき、エレクトロルミネセント層６は、隣り合う２つの仕切りリブ４の間の溝５の中を除き、仕切りリブのペアとペアとの間に規定された囲まれた領域にのみ印刷される。
【００４０】
カソード列は、図４乃至図６による実施例と同じ方法で仕切り素子９により制限され、即ち仕切り素子は相対的に広く且つ低い形状の３つの仕切りリブ４を有する。仕切りリブのうちの中央の仕切りリブの上には、補助仕切りリブ即ちシャドーイングリブ１０が配され、その断面は両側に張り出している部分１１を有する楔型即ちマッシュルーム型である。しかしながら、エレクトロルミネセント液のプリンティングは、第１及び第２の実施例のような連続的な方法も可能ではあるが、この実施例ではその連続的な方法ではなく“ドロップオンデマンド”と呼ばれる方法で実行される。即ち、矢印７の方向にプリンティングするとき、このプリンティングは１つの仕切り素子９を通過した後に開始され、次の仕切り素子に到達したとき停止する。図７のＡ−Ａの断面図を見ると、この断面図は、画素をエレクトロルミネセント液で満たした後の図５の断面図と、変換処理をしディスプレイをカソード層で覆った後の図６の断面図に似ている。ディスプレイの表面をカソード層の材料で覆うとき、シャドーイングリブ１０の張り出している部分１１は、この張り出している部分の下の表面が影になっており従ってカソード材料がその表面に堆積されないという効果を有する。従って、起伏仕切り素子９の両側のカソード層の間に電気的接続が無く、この結果、カソード層は、アノード行２に垂直な電気的に絶縁されたカソード列に分割されるようになる。補助レジストリブ１２が隣接する仕切りリブ４の間に備えられ、これによって、アノード及びカソード層が接触し短絡を引き起こすという危険が無くなる。
【００４１】
図８乃至図１０には、画素が円形である本発明の第４実施例が平面図で示されている。円形のアノード層２は、基板１上の各画素に対して配されている。アノード層は、第１の内側仕切りリブ４で囲まれ、この第１の仕切りリブからギャップ又は溝５を伴なって、第２の外側仕切りリブ４’が配されている。その後、各画素は、好ましくは“ドロップオンデマンド”法によって、図９のようにエレクトロルミネセント液層６で満たされ、先に記載したような変換処理の後、ディスプレイは図１０のようにカソード層８によって覆われる。このようにして配されるエレクトロルミネセント素子は、各画素を制御する薄膜トランジスタを伴なうアクティブマトリックス型であることが好ましい。
【００４２】
本発明による仕切り素子は特許請求の範囲内で多くの異なる方法で構成され、形づくることができることが理解されるだろう。例えば、仕切りリブの数及び形状を変えることができる。仕切り素子から溢れた場合にエレクトロルミネセント液の混合を防止する技術的効果及び利点を達成するため、隣り合う画素の間に、間に溝を伴なって少なくとも２つの仕切りリブが存在することが重要である。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】図１は、本発明の第１実施例によるアクティブマトリックスディスプレイの一部の、部分的に切り取られた平面図である。
【図２】図２は、各画素がエレクトロルミネセント液層で満たされているがその液層がエレクトロルミネセント層に変換される前の図１のＡ−Ａ線に沿うディスプレイの断面図である。
【図３】図３は、図２と同様であるが液層がエレクトロルミネセント層に変換され、電極層がエレクトロルミネセント装置の外面に設けられた後の断面図である。
【図４】図４は、本発明の第２実施例によるパッシブマトリックスディスプレイの一部の、部分的に切り取られた平面図である。
【図５】図５は、各画素がエレクトロルミネセント液層で満たされているがその液層がエレクトロルミネセント層に変換される前の図４のＡ−Ａ線に沿うディスプレイの断面図である。
【図６】図６は、図５と同様であるが液層がエレクトロルミネセント層に変換され、電極層がエレクトロルミネセント装置の外面に設けられた後の断面図である。
【図７】図７は、本発明の第３実施例によるパッシブマトリックスディスプレイの一部の、部分的に取り除かれた平面図である。
【図８】図８は、本発明の第４実施例によるアクティブマトリックスディスプレイの一部の、部分的に取り除かれた平面図である。
【図９】図９は、各画素がエレクトロルミネセント液層で満たされているがその液層がエレクトロルミネセント層に変換される前の図８のＡ−Ａ線に沿うディスプレイの断面図である。
【図１０】図１０は、図９と同様であるが液層がエレクトロルミネセント層に変換され、電極層がエレクトロルミネセント装置の外面に設けられた後の断面図である。
【国際公開パンフレット】
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2004527088.tif 000004
2004527088.tif 000005
2004527088.tif 000006
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【国際調査報告】
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