(57)【要約】粒子の浮遊するガスを循環させるのに適切な環状導管（１１）と、静電チャックが嵌合する、導管に向いた開口を含む堆積チャンバ（１７）と、該チャック（９）嵌合の堆積表面を有し、且つ導管（１１）を通るガス及び粒子の循環を維持する推進デバイス（１２）を含み、該デバイス（１２）は、粒子の堆積有効量が前記堆積ステーションでの電気誘引作用の範囲内となる速度で、循環を維持するようになっている再循環粒子供給装置（１０）が提供される。【選択図】図１Ａ
2004502540.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）浮遊粒子を有する循環ガスに適した寸法の導管と、
（ｂ）前記導管に少なくとも１つの開口を含み、該開口には静電チャックが嵌合し、前記導管の内部に利用可能な該チャックの堆積表面を有する堆積ステーションと、
（ｃ）前記導管を通る流体及び粒子の循環を維持するための推進デバイスと、を含み、
前記推進デバイスは、粒子の堆積有効量が前記堆積ステーションでの電気誘引作用の範囲内となる速度で、流体及び粒子の循環を維持するようになっていることを特徴とする再循環粒子供給装置。
【請求項２】
粒子が前記堆積ステーションに向うように、配置され且つ適合されている１つ又はそれ以上の翼を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の再循環粒子供給装置。
【請求項３】
前記推進装置は、回路内のガス及び浮遊粒子を吸入し、外部ガスが注入されるベンチュリ管を含むことを特徴とする、請求項１に記載の再循環粒子供給装置。
【請求項４】
交換粒子が、前記外部ガスの注入と共に前記導管内に装入されることを特徴とする、請求項３に記載の再循環粒子供給装置。
【請求項５】
（ｄ）粒子が前記導管に装入されるエアロックを更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の再循環粒子供給装置。
【請求項６】
前記堆積ステーションは、２つ又はそれ以上の前記開口を含むことを特徴とする、請求項１に記載の再循環粒子供給装置。
【請求項７】
（１）堆積チャンバーと、
（２）前記堆積チャンバへの開口を含み、該開口に静電チャックが嵌合され、導管の内側に利用可能な該チャックの堆積表面を有し、前記チャンバの寸法は、中に浮遊粒子の堆積有効量を前記堆積ステーションでの電気誘引作用の範囲内で与えられるように適切にされている、ように構成された堆積ステーションと、
（３）ピストン及び前記堆積チャンバに連結された膨張チャンバを含み、前記堆積チャンバ内の粒子浮遊を維持するための少なくとも１つのピストンデバイスと、
を含むことを特徴とする往復型粒子供給装置。
【請求項８】
（４）２つ又はそれ以上のピストンデバイスを更に含み、該各ピストンデバイスは、内側方向へのストロークのそれぞれが、他のピストンデバイスのピストンとは、その往復ストロークでオフセットしていることを特徴とする、請求項７に記載の往復型粒子供給装置。
【請求項９】
（５）前記堆積チャンバに接続された閉鎖された容積が、前記ピストンデバイスの内方へのストロークが前記容積の圧縮に寄与している場合に、膨張されることができる１つ又はそれ以上の膨張デバイスを更に含むことを特徴とする、請求項７に記載の往復型粒子供給装置。
【請求項１０】
（ａ）中心軸線を有する円筒状堆積チャンバと、
（ｂ）前記堆積チャンバへの開口を含み、該開口に静電チャックが嵌合され、導管の内側に利用可能な該チャックの堆積表面を有し、前記チャンバの寸法は、中に浮遊粒子の堆積有効量を前記堆積ステーションでの電気誘引作用の範囲内で与えられるように適切にされている、ように構成された堆積ステーションと、
を含み、
前記中心軸線が前記開口に対して中央にあり、且つ垂直であることを特徴とする粒子供給装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
（関連出願の説明）
本出願は、２０００年７月１１日に提出された米国特許仮出願第６０／２１７，２６０号の利益を主張する。
【０００２】
（技術分野）
本発明は、粉体粒子を送出する、又は静電的に帯電させるためのデバイスに関し、詳細には、電気誘引堆積（付着）用デバイスで使用するデバイスに関する。
【０００３】
（背景技術）
発明者及びその関係者らは、一定量の粒子をサブストレート（基板、支持層）上に塗布するのに有用な多数の技術及びデバイスを述べてきた。このような堆積（付着）は、サブストレートの空間的に分割された領域に、例えば医薬品の、制御された量を堆積（付着）させることができる。これらの技術は通常、粒子又は粒体を誘引する電気力（例えば静電気）をもたらす、静電チャックと呼ぶことができる装置に取付けたサブストレート上に、帯電した粒子又は粒体を堆積させてきた。粒子又は粒体は、一般的に帯電するが、粒子又は粒体の誘電分極を通じて誘引が発生する可能性がある。静電チャックは、分極されて誘引力を生じる電極パッドを有している。異なる電位を持つ隣接した電極が、誘引場を形成し、或いは粒子又は粒体を望ましくない場所から避けるために使用することができる。その様な静電チャックの断面図が、図７に示されている。所定の場所に誘引されると、粒子又は粒体は、導体へのそれらの近接を通じて鏡像力を誘発することができ、その鏡像力は、粒子又は粒体を保持する力に強力に寄与することができる。他の保持力には、他の帯電及び帯電再分配で誘発された力、パッキング力（ｐａｃｋｉｎｇ　ｆｏｒｃｅ）及びファンデルワールス力が含まれる。
【０００４】
粒子をサブストレートに送出し、且つ粒子を帯電するのに使用される方法及びデバイスの更なる改善は、電気誘引堆積を改善し、又は適切な状況で使用する更に別の選択肢を提供するツールとして望ましいものである。本願の発明者は、これらの目的のための新しい方法及びデバイスを提供する。
【０００５】
（発明の開示）
本発明は、浮遊粒子を有する循環ガスに適した寸法の導管（好ましくは円形の）と、導管に向いた少なくとも１つの開口を含み、開口には静電チャックが嵌合し、導管の内部に利用可能なチャックの堆積（付着）表面を有する堆積（付着）ステーションと、導管を通る流体及び粒子の循環を維持するための推進デバイスと、を含み、推進デバイスは、粒子の堆積（付着）有効量が堆積ステーションでの電気誘引作用の範囲内となる速度で、流体及び粒子の循環を維持するようになっている再循環粒子供給装置を提供する。
【０００６】
更に、本発明は、堆積（付着）チャンバーと、堆積チャンバへの開口を含み、該開口に静電チャックが嵌合され、導管の内側に利用可能な該チャックの堆積（付着）表面を有し、チャンバの寸法は、中に浮遊粒子の堆積有効量を堆積ステーションでの電気誘引作用の範囲内で与えられるように適切にされている、ように構成された堆積ステーションと、ピストン及び堆積チャンバに連結された膨張チャンバを含み、堆積チャンバ内の粒子浮遊を維持するための少なくとも１つのピストンデバイスと、を含む往復型粒子供給装置を提供する。
更にまた、本発明は、中心軸線を有する円筒状堆積チャンバと、堆積チャンバへの開口を含み、該開口に静電チャックが嵌合され、導管の内側に利用可能な該チャックの堆積表面を有し、チャンバの寸法は、中に浮遊粒子の堆積有効量を堆積ステーションでの電気誘引作用の範囲内で与えられるように適切にされている、ように構成された堆積ステーションと、を含み、中心軸線が開口に対して中央にあり、且つ垂直である粒子供給装置を提供する。
【０００７】
（発明を実施するための最良の形態）
図１Ａは、導管１１、推進モータ１２、及び、推進羽根１３（このように具備されたファンは、言うまでもなく、タービン、又は、適切にバルブを備えたピストンデバイス等のような、他の推進デバイスによって代替することができる）を具備する例示的な再循環粒子供給装置１０を示している。粒子は、流動床１４、螺旋羽根及び螺旋羽根モータデバイス１５、及びエアロック１６を含む装填デバイスを通じて、導管１１内に装入される。エアロックは、例えば、回転ドアに類似する様態で動作する回転翼を含むことができる。粒子は、導管を通じて堆積開口１８が設けられた堆積チャンバ１７まで推進される。帯電板１９は、電位のソースに接続することができ、誘導帯電によって粒子を帯電するツールを提供する。分流翼２２は、粒子を堆積開口１８に向けるように動作する。堆積開口１８は、ゲートを動かすソレノイド／アクチュエータ２３（図１Ｄ参照）を操作することによって閉鎖することができる。図１Ｃは、状況を明らかにするために示された静電チャックの堆積電極５１を具備する堆積開口１８の平面図を示している（静電チャックの第一義的機能は、帯電粒子をチャック、又は、チャック上に積層されたサブストレートへ誘引することであることに留意されたい。チャックは、サブストレートの電気的付着性を与える必要はない。）
【０００８】
図１Ｂは、導管３１、推進モータ３２、及び、推進羽根３３を具備する別の例示的な再循環粒子供給装置３０を示している。粒子は、ホッパ３４、螺旋羽根デバイス３５、及びエアロック３６を含む装填デバイスを通じて、導管３１内に装入される。粒子は、導管を通じて堆積開口３８が設けられた堆積チャンバ３７まで推進される。帯電板３９、又は帯電板４１は、電位のソースに接続することができ、誘導帯電によって粒子を帯電するツールを提供する。
【０００９】
図１に例示された粒子帯電要素は、他のデバイスによって代替可能であることが理解されるであろう。例えば、導管は更に、ミルのサイクロン部分を粒子流が通過するジェットミルを含むことができる。電位がミルに印加され、ミルを通過する粒子流が、ミルと粒子間に電荷移動効果に優れる接触をもたらすようになっている。粒子は、サイクロン要素の中央にある出口（例えば、サイクロン内部の円形流に対して直交する出口を具備する）を通ってミルから出ることができる。
【００１０】
流体及び粒子流が噴射ガスによって維持される場合には、ガス出口は、流体通路（例えば、導管１１）に取り付けなければならない。出口は、当技術分野で公知のように、ガスの排出、及び、多量の粒子の再循環粒子供給装置への戻りをもたらすようにすることができる。その様な粒子の戻りは、フィルタリング、静電沈殿、キャリヤガスの再圧縮、又は同様のもの等を介して行うことができる。安全を期して、粒子は、排出ガスから、例えば、静電沈殿、サイクロン分離器の使用、又は、フィルタリングによって除去される。噴射ガスによって流体及び粒子流を維持する１つの方法は、回路内のガス及び浮遊粒子を吸入し、外部ガスが注入されるベンチュリ管を使用する。粒子は、外部ガスの注入によって導管内に装入することができる。
【００１１】
再循環粒子供給が、ガス注入を伴わずに行われる場合、その様な方法は、粒子の直接リサイクル、及び粒子除去のための除去技術を除く単純化をもたらす。ガス注入を行った場合でも、再循環粒子供給は、多量の流動を除去システムに通すシステム全体にわたり多くのリサイクル利益をもたらす。
【００１２】
導管を通過するガス流速度は、堆積ステーションにおける堆積を可能にするのに十分な浮遊粒子を保持し、かつ、好ましくは導管内に沈着する粒子を最少にするように選択される。この流速は、粒子のサイズ及び密度によって変化する。
【００１３】
粒子は、導管を流れる粒子量、又は堆積工程で消費される粒子量に基づくフィードバックデータに応じて、導管に供給することができる。検知データは、一箇所、又は、例えば、堆積開口の前後等のような、二つ又はそれ以上の箇所で得ることができる。例示的なセンサは、光学センサである。導管内の１つ又は複数の光学窓（又は、ミラーを使用して光を光学窓に戻すミラー）は、ベンチュリ管の出口、又は乱流発生要素（下記参照）を組み込む領域等のような、高い乱流領域に配置することができる。この乱流は、窓又はミラーが、付着粒子から免れるのを維持するのに役立つ。同様にして、監視場所を狭めることは、ガス流速度を増大することによって、窓又はミラーを十分に清浄に保つのに役立てることができる。
【００１４】
粒子が浮遊するガスは、空気、又は、窒素又はアルゴン等の清浄されたガスとすることができる。湿度制御は、所望の帯電及び粒子サイズ分布を達成又は維持するのに役立つ。
【００１５】
図２、特に図２Ａは、第１のピストン７１、第１のピストンロッド７３、第１のピストンアクチュエータ７５、堆積チャンバ７９に接続された第１の膨張チャンバ７７、第２のピストン７２、第２のピストンロッド７４、第２のピストンアクチュエータ７６、及び、同様に堆積チャンバ７９に接続された第２の膨張チャンバ７８を備える、往復型粒子供給装置７０を示している。膨張チャンバと堆積チャンバとの間を移動する粒子は、帯電板８２によって帯電されることができる。堆積チャンバ７９に接続されているのは、堆積開口８１である。粒子は、ホッパ８３、螺旋羽根デバイス８４、及びエアロック８５を含む装填デバイスを介して粒子供給装置７０に装入される。既に帯電された粒子を往復型粒子供給装置７０に送出するデバイスを含む、他の粉体送出デバイスが代替することができることは理解されるであろう。
【００１６】
図３Ａから図３Ｃは、更に別の例示的な往復型粒子供給装置１１０、１２０、１３０を示している。共通の特徴としては、堆積開口１１３、１２３、及び１３３と、粒子供給デバイス１１２、１２２、及び１３２と、ピストン１１１、１２１、及び１３１とを含む。往復型粒子供給装置１１０は、保持クリップ１１５を有する収縮皿形ダイアフラム１１４を使用している。往復型粒子供給装置１２０は、回転ダイアフラム１２４を使用している。往復型粒子供給装置１３０は、スプリングダイアフラム１３４を使用している。
【００１７】
図４は、出力ノズル１５２を有する粒子装填デバイス１５１、円筒壁１５３を備えた堆積チャンバ１５６、円形堆積開口１５４、及び粒子戻り部１５５、を具備する粒子供給装置１５０を示している。Ａ−Ｂ軸線は、シリンダ及び堆積開口の中心にある。図中の例示的寸法は、インチである。この粒子供給装置は、粒子流特性において、より優れた均一性をもたらし、層状流設計が可能である。ガス及び粒子流は、層状又は乱流とすることができ、或いは双方の特性を組み合わせて組み込むことができる。内部バッフル又はディヒューザを堆積チャンバに組み込んで、粒子流を、堆積サブストレート又は静電チャックが配置された堆積開口へ向けることができる。
【００１８】
更に２つの別の往復型粒子供給装置が、図６Ａ及び図６Ｂに示されている。往復型粒子供給装置１８０は、第１のピストン１８１Ａ、及び第２のピストン１８１Ｂによって駆動され、該ピストンは、相補的な、容積が等しくなるストロークパターンにで作動する。粒子供給デバイス１８２は、粒子を装置に注入し、そこでピストンのストロークが、粒子を駆動し、帯電板１８５（存在する場合）を越えて堆積開口１８３へと向かわせる。分流翼１８６は、粒子を堆積開口１８３へと導く。往復型粒子供給装置１９０は、第１のピストン１９１Ａ、及び第２のピストン１９１Ｂによって駆動され、該ピストンは、相補的な、容積が等しくなるストロークパターンで作動する。ピストンは、それぞれ第１のダイアフラム１９７Ａ、及び、第２のダイアフラム１９７Ｂに抗して動作する。ピストンは、モータ１９８によって駆動され、第１の歯車装置１９９Ａ、及び第２の歯車装置１９９Ｂを往復運動するように動作させる。粒子供給デバイス１９２は、粒子を装置に注入し、そこでピストンのストロークが粒子を駆動し、帯電板１９５（存在する場合）を越えて堆積開口１９３へと向かわせる。
【００１９】
図５は、粒子を摩擦帯電する（管内表面との衝突により）か、又は粒子を誘電帯電する（管内表面から電荷を収集する粒子により）のに使用される、粒子帯電管の一区分を示している。粒子帯電管内に装入されるのは、乱流生成要素（例えば、ボウタイ型又は、静電ミキサ型の要素）１７１である。乱流生成要素１７１は、渦を生成し、より多くの粒子を帯電表面と接触させ、又は接近させる。帯電表面は、乱流生成要素１７１の表面を含むことができる。本発明のこの態様で得られる利点は、粒子とより高い帯電レベルの電荷／質量比（ｑ／ｍ比）においてより高い均一性を有することである。摩擦電気帯電、及び誘電帯電を超える他の帯電法を、コロナ帯電、熱電子、又は電界放出帯電を含めて、使用することができる。「コロナ帯電」は、当業者には公知である。例えば、Ｊ．Ａ．Ｃｒｏｓｓ著、「Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃｓ：　Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ，　Ｐｒｏｂｌｅｍｓ　ａｎｄ　Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ」、ＩＯＣ　Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ　Ｌｉｍｉｔｅｄ社（１９８７年発行）、４６ページから４９ページを参照されたい。また、例えば、コロナ帯電粒子用のグリッド電極が記載された、Ｂｒａｎｃｈ等の、米国特許第６，２４６，８５２号を参照されたい。
【００２０】
適切な摩擦帯電材料には、ポリエチレン、ポリカーボネート、ステンレス鋼、及び、終点材料であるテフロン（登録商標）及びナイロンによって通常定義される帯電列中の他の材料を含む。通常の帯電列表としては、Ｊ　Ａ　Ｃｒｏｓｓ著、１９８７年に、Ａｄａｍ　Ｈｉｌｇｅｒ　ａｎｄ　Ｂｒｉｓｔｏｌ社から出版された「Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃｓ：　Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ，　Ｐｒｏｂｌｅｍｓ　ａｎｄ　Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ」の３０ページを参照されたい。その様な材料は、帯電及び所望の極性への帯電における効率性、帯電が求められている特定の粒子に対して選択することができる。場合によっては、導電性粒子に関しては、本発明によって導出される付加的な接触により、粒子の最終的な帯電を低減することができる（これは、常にではないが、望ましくないことが多い）。この低減は、導電性粒子からの電荷放出によって生じる恐れがある。誘導帯電に関しては、帯電表面は、通常電位のソースに結合された導電体である。
【００２１】
静電ミキサは、ワイヤメッシュ等のような、管内に装入する任意の乱流生成挿入体で代替することができる。その様な挿入体は、多くの供給会社から入手可能なＳｗａｇｌｏｋブランドのパイプ嵌合部品等のような械的嵌合デバイスによって結合される継ぎ手のような、管内継ぎ手に取り付けることができる。
【００２２】
図７は、堆積電極４が、誘電体５（好ましくは空気）によってシールド電極３から絶縁されている共平面チャック９の断面を示しており、これらの各特徴部は、ベース材料２内に配置されている。堆積電極４は、好ましくは３００系のステンレス鋼で形成される。堆積電極４は、回路基板１に接続するためのピン・ソケット６を含む。ベース材料２は、Ｎｏｒｙｌ（登録商標）ポリマー（マサチュセッツ州ピッツフィールドのＧＥ　Ｐｌａｓｔｉｃｓ）等の誘電体から作られる。Ｎｏｒｙｌエンジニアリングプラスチックは、改質ポリフェニレンオキシド、又はポリフェニレンオキシド及びポリフェニレンエーテルいずれかの樹脂である。これらの樹脂の改質剤は、ポリスチレン又はポリスチレン／ポリブタジエン等のような第２ポリマーとのブレンドを含む。ブレンド比率及び他の添加物を変えることにより、種々のグレードが製造される。これらの非改質ポリマーは、主分子鎖において規則的に近接して配置されたリング構造（フェニル基）によって特徴づけられる。強い分子間引力を伴うこの性質は、極度の剛性及びモビリティの欠如を引き起こす。シールド電極３は、例えば、接着剤又はゴム系両面接着テープによってベース材料２に接着される導電性材料（３００系ステンレス鋼等のような）から作ることができる。誘電体５の好ましい実施形態である環状ギャップは、シールド電極３を形成することになる導電性層に一連の孔をあけることによって形成されることができる。堆積電極４は、ベース材料２に例えば圧入又は接着されることができる。組立体は、好ましくは、例えば０．０００２インチの誤差内の平坦な共平面を生成するように研磨される。誘電体５が、空気（静電チャックが中で作動する空気）である場合は、空気を含む電極の絶縁間隔部分は、誘電体５と並んだ静電チャックの上平面が使用されて、堆積物間で完全に放電するのに十分であることが好ましい。このような絶縁間隔の量は「堅固な」間隔である。
【００２３】
このような静電チャックは、説明された技術を用いて簡単に修正して、制御電子回路に別々に接続されることができる電気絶縁シールド電極を組み込み、前述の検知回路を提供することができる。寸法Ａは、例えば０．０１インチとすることができ、寸法Ｂは、例えば０．１５７インチとすることができ、寸法Ｃは、例えば０．２３６インチとすることができ、ピクセル間ピッチである寸法Ｄは、例えば０．３５４３インチ（９．０ｍｍ）とすることができる。静電チャックは、例えば堆積電極に印加される７００Ｖまで或いは１４００Ｖまでの電圧で動作することができる。
【００２４】
別の実施形態は、より大きなスループットのためのツールを提供する。図８Ａで示しているように、堆積開口２１８（例えば、図では、堆積開口は２１８Ａから２１８Ｌ）は、円形又は楕円形、又は多面体（図のように）堆積チャンバ２１７の周囲に配置することができる。堆積チャンバ２１７は、垂直方向を向いている（すなわち引力ベクトルに沿っている）ことが好ましい。粒子は、略矢印で指示されている１方向へ、大量の流れによって、又はノズル（図示しない）を通して、導流することができる。適切なノズルは、粒子を全ての堆積開口に向けるようになっているノズル、又は堆積開口の一部に向けるようになっている位置の間を回転するノズルを含んでいる。図のように、何列かの堆積開口の列でも、１列の堆積開口の列でも可能である。堆積チャンバ２１７が円形、又は楕円形の場合、堆積開口に嵌合する静電チャックは、調節取付具を使用して嵌め込むか、又は、堆積チャックを丸い開口、又は、その様な開口に合わせて丸くした取付具に合うように適切に丸くすることができる。図８Ｂは、断面図を示している。図示されていないが、堆積チャンバは、上底壁（例えば、図８Ａの上の矢印のあるところ）と嵌め合わせることができ、それは次に１つ又はそれ以上の堆積開口と嵌め合せることができる。
【００２５】
図９Ａ、及び９Ｂは、上記で説明した本発明の他の特徴部が、この実施形態に使用可能であることを示している。つまり、堆積開口３１８Ａ、及び３１８Ｂは、粉体ソース３１４、粉体フラックス３１３を供給するデバイス、及び分流翼３２２を備えた、再循環粒子供給装置３００内に配置することができる。分流翼３２２は、粉体を堆積開口への転向に適するように形成された固い、又は中空の要素とすることができ、且つ固定具３２４等のような固定具により、導管３１１内に配置することができる。図９Ｂは、再循環粒子供給装置４００を示しており、これは堆積開口４１８用の付加的な場所を有し、及び任意選択的に、図９Ａの番号に対応して、それより１００だけ進んだ番号を付けた特徴部を有している。上述の、又は此処で引用した他の特許又は特許出願における他のデバイスのような他の粉粒供給デバイスを使用することが可能である。
【００２６】
（用語）
本明細書でしばしば使用される用語を理解し易くするために、以下の定義が与えられる。
「チャックの堆積表面」は、その選択された表面、又は堆積表面に取り付けられたサブストレートの対応する表面上で、電気誘引堆積用に設計されている表面である。
「電気誘引堆積」は、帯電した粒子を、表面に誘引し或いは堆積させるために、電気力を使用する方法をいう。
ピストンデバイスの「膨張チャンバ」は、ピストンの外側及び内側へのストロークにより、膨張及び収縮する、通常は円筒のチャンバである。
「粒子」は、本出願の目的に対して、通常、平均直径が少なくとも約３ｎｍで、平均直径が少なくとも約５００ｎｍ又は８００ｎｍであり、好ましくは約１００ｎｍから約５ｍｍまで、例えば約１００ｎｍから５００μｍまでの、分子の集合体である。粒子は、例えば、微粉化された粉体の粒子、或いは「ビーズ」と呼ぶことができるポリマー構造体である。ビーズは、コーディングしたもの、吸着分子、捕捉分子または他の物質を支持したものを含む。
「堆積ステーションにおける電気誘引の影響を及ぼす範囲」は、堆積ステーションに位置を占めた静電チャックが、補助的な電気エネルギーを与えられて焦点を合わせたスクリーン又は電極と堆積ステーションで任意選択的に協働して、粒子を、選択された堆積場所（通常静電チャック上に装填されたサブストレート上にある）へ向うよう作用を及ぼす範囲である。
【００２７】
此処で記述された本発明は、出願人らにより説明された多くの装置及び方法と関連して使用されることができる。例えば、Ｓｕｎらの出願の、１９９９年１０月１４日に提出した、米国特許出願第０９／４１７，７３６、「Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ　Ｓｅｎｓｉｎｇ　Ｃｈｕｃｋ　Ｕｓｉｎｇ　Ａｒｅａ　Ｍａｔｃｈｅｄ　Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅｓ」、及びＳｕｎらの出願の、１９９９年１０月１４日に提出した、米国特許出願第０９／４１７，８２０、「Ｄｅｖｉｃｅ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　Ｄｉｓｐｅｒｓａｌ　ａｎｄ　Ｃｈａｒｇｉｎｇ　ｏｆ　Ｆｌｕｉｄｉｚｅｄ　Ｐｏｗｄｅｒ」が本発明に関連して使用されることができる。本発明の種々の態様に使用できる他の装置及び方法には、例えば、移送チャック、音響式ビーズ分配装置及び他の粉体取扱装置の使用方法が含まれ、それらは、Ｓｕｎ、１９９８年８月４日に付与された、米国特許第５，７８８，８１４号、「Ｃｈｕｃｋｓ　ａｎｄ　Ｍｅｔｈｏｄｓ　ｆｏｒ　Ｐｏｓｉｔｉｏｎｉｎｇ　Ｍｕｌｔｉｐｌｅ　Ｏｂｊｅｃｔｓ　ｏｎ Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ」；Ｓｕｎら、１９９９年１月１２日に付与された、米国特許第５，８５８，０９９号、「Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ　Ｃｈｕｃｋｓ　ａｎｄ　ａ　Ｐａｒｔｉｃｌｅ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ　Ａｐｐａｒａｔｕｓ　Ｔｈｅｒｅｆｏｒｅ」；Ｐｌｅｔｃｈｅｒら、１９９８年２月３日に付与された、米国特許第５，７１４，００７号、「Ａｐｐａｒａｔｕｓ　ｆｏｒ　Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｏｎａｌｌｙ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｎｇ　ａ　Ｍｅｄｉｃａｍｅｎｔ　Ｐｏｗｄｅｒ　Ｕｐｏｎ　Ｐｒｅｄｅｆｉｎｅｄ　Ｒｅｇｉｏｎｓ　ｏｆ　ａ　Ｓｕｂｓｔｒａｔｅ」（１９９９年１２月２８日に付与された、米国特許第６，００７，６３０号も参照のこと）；Ｓｕｎら、１９９８年１２月８日に付与された、米国特許第５，８４６，５９５号、「Ｍｅｔｈｏｄ　ｏｆ　Ｍａｋｉｎｇ　Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ　Ｕｓｉｎｇ　Ｅｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃ　Ｃｈｕｃｋ」；Ｓｕｎら、１９９８年５月１９日に付与された、米国特許第５，７５３，３０２号、「Ａｃｏｕｓｔｉｃ　Ｄｉｓｐｅｎｓｅｒ」；Ｓｕｎら、２０００年８月１日に付与された、米国特許第６，０９８，３６８号、「Ｂｅａｄ　Ｔｒａｎｓｐｏｒｔｅｒ　Ｃｈｕｃｋｓ　Ｕｓｉｎｇ　Ｒｅｐｕｌｓｉｖｅ　Ｆｉｅｌｄ　Ｇｕｉｄａｎｃｅ」；Ｓｕｎ、１９９９年１１月２３日に付与された、米国特許第５，９８８，４３２号、「Ｂｅａｄ　Ｍａｎｉｐｕｌａｔｉｎｇ　Ｃｈｕｃｋｓ　ｗｉｔｈ　Ｂｅａｄ　Ｓｉｚｅ　Ｓｅｌｅｃｔｏｒ」；Ｓｕｎ、２００１年１月２日に付与された、米国特許第６，１６８，６６６号、「Ｆｏｃｕｓｅｄ　Ａｃｏｕｓｔｉｃ　Ｂｅａｄ　Ｃｈａｒｇｅｒ／Ｄｉｓｐｅｎｓｅｒ　ｆｏｒ　Ｂｅａｄ　Ｍａｎｉｐｕｌａｔｉｎｇ　Ｃｈｕｃｋｓ」；Ｓｕｎら、２０００年１１月２１日に付与された、米国特許第６，１４９，７７４号、「ＡＣ　Ｗａｖｅｆｏｒｍｓ　Ｂｉａｓｉｎｇ　Ｆｏｒ　Ｂｅａｄ　Ｍａｎｉｐｕｌａｔｉｎｇ　Ｃｈｕｃｋｓ」；Ｓｕｎら、１９９８年６月１０日に提出した、米国特許出願第０９／０９５、３２１、「Ａｐｐａｒａｔｕｓ　ｆｏｒ　Ｃｌａｍｐｉｎｇ　ａ　Ｐｌａｎａｒ　��ｕｂｓｔｒａｔｅ」；Ｐｏｌｉｎｉａｋら、２０００年５月１６日に付与された、米国特許第６，０６３，１９４号、「Ｄｒｙ　Ｐｏｗｄｅｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ　Ａｐｐａｒａｔｕｓ」；及び１９９８年６月１０日提出した、米国特許出願第０９／０９５、６１６、「Ｐａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ　Ｐｒｏｄｕｃｔ　ａｎｄ　Ｍｅｔｈｏｄ　ｏｆ　Ｍａｋｉｎｇ」に記載されている。円錐形クラウドチャンバを含む付加的な粉体取扱装置は、Ｏ’Ｍａｒａら、１９９９年１１月１２日に提出した、米国特許出願第０９／４３８、８０１、「Ａｒｔｉｃｌｅ　Ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ　ａ　Ｄｉｆｆｕｓｅｒ　ｗｉｔｈ　Ｆｌｏｗ」に記載されている。
【００２８】
本明細書に引用された特許及び特許出願に限定されずにそれらを含む全ての公報及び引用文献は、全体として本明細書に引用により組込まれ、各公報及び引用文献は、具体的且つ個別に、引用により本明細書に完全に記載されたものとして組込まれて示される。本出願が優先権を主張する任意の特許出願もまた、公報及び引用文献に関して上述と同様、引用により全体として本明細書に組込まれる。
【００２９】
本発明は、好ましい実施形態に重点をおいて説明されたが、この好ましい装置及び方法における変形形態が使用することができ、且つ本明細書に具体的に記載されたものとは別の方法で実施できることが意図されることは、当業者には明白であろう。従って、特許請求の範囲で定義された本発明の技術的思想及び範囲内に包含される全ての変更形態は、本発明に含まれる。
【図面の簡単な説明】
【図１Ａ】
例示的な再循環粒子供給装置を示す図である。
【図１Ｂ】
例示的な再循環粒子供給装置を示す図である。
【図１Ｃ】
図１Ａの装置の異なる方向から見た図である。
【図１Ｄ】
図１Ａの装置の異なる方向から見た図である。
【図２Ａ】
例示的な往復型粒子供給装置を示す図。
【図２Ｂ】
図２Ａとは異なる方向から見た往復型粒子供給装置の図。
【図３Ａ】
別の往復型粒子供給装置を示す図。
【図３Ｂ】
別の往復型粒子供給装置を示す図。
【図３Ｃ】
別の往復型粒子供給装置を示す図。
【図４】
円筒状粒子供給装置を示す図。
【図５】
例示的な粒子帯電デバイスを示す図。
【図６Ａ】
別の往復型粒子供給装置を示す図。
【図６Ｂ】
別の往復型粒子供給装置を示す図。
【図７】
例示的な静電チャックを示す図。
【図８Ａ】
複数の堆積開口を有する堆積チャンバの斜視図。
【図８Ｂ】
複数の堆積開口を有する堆積チャンバの断面図。
【図９Ａ】
複数の堆積開口を組み込んだ再循環粒子供給装置を示す図。
【図９Ｂ】
複数の堆積開口を組み込んだ再循環粒子供給装置を示す図。
【国際公開パンフレット】
2004502540.tif 000003
2004502540.tif 000004
2004502540.tif 000005
2004502540.tif 000006
2004502540.tif 000007
2004502540.tif 000008
2004502540.tif 000009
2004502540.tif 000010
2004502540.tif 000011
2004502540.tif 000012
2004502540.tif 000013
2004502540.tif 000014
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2004502540.tif 000028
2004502540.tif 000029
【国際調査報告】
2004502540.tif 000030