(57)【要約】パンティストッキングを低温処理装置において処理する方法であって、向上した耐摩耗性を有する、低温処理されたパンティストッキングを生産するための方法が記載される。この点に関して、このような方法のうち１つの方法は、概して次の工程によって要約することができる：パンティストッキングの温度を、約１〜６時間にわたって、約−８０℃〜約−２４０℃へ低下させる工程；パンティストッキングの温度を、６〜４８時間、約−８０℃〜約−２４０℃に保持する工程；及びパンティストッキングの温度を、３〜４８時間にわたって、約２５℃へ上昇させる工程である。パンティストッキングの低温処理の結果、向上した耐摩耗性が得られる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
パンティストッキングの耐摩耗性の向上方法であって、低温処理装置において該パンティストッキングを処理する工程を含む方法。
【請求項２】
処理工程がさらに、
パンティストッキングの温度を、約−１６０℃が得られるまで、１分あたり約１℃低下させる工程；
パンティストッキングの温度を、約−１６０℃から約−１９４℃へ低下させる工程；
パンティストッキングの温度を、約２４時間、約−１９４℃に保持する工程；及び
パンティストッキングの温度を、少なくとも約２０時間にわたって、約２５℃へ上昇させる工程
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
さらに、パンティストッキングを水溶液で予備処理する工程を含む、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
パンティストッキングの耐摩耗性の向上方法であって、
パンティストッキングの温度を、約−１６０℃が得られるまで、１分あたり約１℃低下させる工程；
パンティストッキングの温度を、約−１６０℃から約−１９４℃へ低下させる工程；
パンティストッキングの温度を、約２４時間、約−１９４℃に保持する工程；
パンティストッキングの温度を、少なくとも約２０時間にわたって、約２５℃へ上昇させる工程；
パンティストッキングの温度を、約６５℃へ上昇させる工程；
パンティストッキングの温度を、約５０分間、約６５℃に保持する工程；及び
パンティストッキングの温度を、約８０分間にわたって、約２５℃へ下降させる工程
を含む方法。
【請求項５】
さらに、パンティストッキングを水溶液で予備処理する工程を含む、
請求項４に記載の方法。
【請求項６】
さらに、パンティストッキングを、実質的に乾くまで乾燥する工程を含む、
請求項４に記載の方法。
【請求項７】
パンティストッキングの耐摩耗性の向上方法であって、
低温処理装置における温度を、２時間にわたって、約−１６０℃に低下させる工程；
低温処理装置の温度を、約−１６０℃から約−１９４℃へ低下させる工程；
低温処理装置の温度を、約２４時間、約−１９４℃に保持する工程；及び
パンティストッキングの温度を、少なくとも約２０時間にわたって、約２５℃へ上昇させる工程
を含む方法。
【請求項８】
さらに、
パンティストッキングをオーブンに入れる工程；
オーブンの温度を約６５℃へ上昇させる工程；
オーブンの温度を、約５０分間、約６５℃に保持する工程；及び
パンティストッキングの温度を、約８０分間にわたって、約２５℃へ下降させる工程
を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
さらに、パンティストッキングを水溶液で予備処理する工程を含む、
請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
さらに、パンティストッキングを、実質的に乾くまで乾燥する工程を含む、
請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
さらに、パンティストッキングを、実質的に乾くまで乾燥する工程を含む、
請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
パンティストッキングの耐摩耗性の向上方法であって、
パンティストッキングの温度を、約１〜６時間にわたって、約−８０℃〜約−２４０℃へ低下させる工程；
パンティストッキングの温度を、６〜４８時間、約−８０℃〜約−２４０℃に保持する工程；及び
パンティストッキングの温度を、３〜４８時間にわたって、約２５℃へ上昇させる工程
を含む方法。
【請求項１３】
さらに、
パンティストッキングの温度を、約３０〜１２０分間にわたって、約４０℃〜８０℃へ上昇させる工程；
パンティストッキングの温度を、約３０〜８０分間、約４０〜８０℃に保持する工程；及び
パンティストッキングの温度を、約５０〜１２０分間にわたって、約２５℃へ下降させる工程
を含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
さらに、パンティストッキングを水溶液で予備処理する工程を含む、
請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
さらに、パンティストッキングを、実質的に乾くまで乾燥する工程を含む、
請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
さらに、パンティストッキングを、実質的に乾くまで乾燥する工程を含む、
請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
向上した耐摩耗性を有する、低温処理されたパンティストッキングを含む物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一般にパンティストッキングの品質に関しており、より詳しくは、パンティストッキングの耐久性の向上方法に関する。
【０００２】
関連出願への相互参照
この出願は、２００１年７月１６日に出願された、出願番号第６０／３０５，７８７号を有する、発明の名称が「パンティストッキングを処理するための低温方法」という同時係属の米国仮出願（その全体を援用して本明細書の一部とする）の優先権を主張する。
【背景技術】
【０００３】
機械生産された織物は、連続フィラメントから編まれた織物、例えば女性のストッキング類などを包含する。フィラメント織物は、紡績糸とは区別されるように、細長くて編むことができる構造、又は連続した構造からできている。これらの連続フィラメントは、均一な横断面及び平滑な表面を有することを特徴とする。細いゲージのフィラメントで編まれた材料に関する問題の１つは、これらの編み目が伝線しやすいということである。例えばパンティストッキングにおいて、ひざのところで壊れたループ編み目は、ストッキングの長さに沿って伝線を引起こすことがある。パンティストッキングが着用された時、これらは横方向の張力を受けやすい。このことはループ編み目を弱化して破壊し、連続した編み目を解いて外れさせる傾向がある。
【０００４】
重大なことに、パンティストッキング及び他の細い繊維の織物は、指の爪や、その他の表面のあらい（ａｂｒａｓｉｖｅ）物品、例えば箪笥やドレッサーの角、他の尖った物体と接触した時、特に、伝線したり、穴があいたり、破れたり、擦り切れたり、損傷したりしやすい。パンティストッキングを製造するために用いられるナイロン及び他の合成繊維はまた、熱、日光（紫外線）、雨、又は体の汗に長時間さらされることによって、弱化されたり損傷したりすることがある。繊維が切断又は損傷された時、織物全体の一体性は悪影響を受け、その結果生じた損傷は、周りの区域に広がり、このことが一般に、衣類にその魅力及び効果を失わせる。
【０００５】
過去において、パンティストッキングは、伝線に抗するために、ストッキング類に接着性材料をスプレーすることによって処理されていた。しかしながら接着性材料は、目に見えるパターンを形成し、ストッキング類の上で汚れとして見えることがあり、そして接着性材料は、パンティストッキングの弾性を大幅に低下させる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
したがって、上記欠点を克服しつつ、悪影響をともなわずに、織物の抵抗性を向上させ、かつ繊維破断の可能性を減少させる、パンティストッキングの改良された処理が、非常に有用であり、望ましいであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、パンティストッキングを低温処理装置において処理する方法であって、向上した耐摩耗性（ｗｅａｒｉｎｇ  ｑｕａｌｉｔｉｅｓ）を有する、低温処理されたパンティストッキングを生産するための方法を提供する。この点に関して、このような方法のうち、１つの実施形態は、概して次の工程によって要約することができる：すなわち、パンティストッキングの温度を、約１〜６時間にわたって、約−８０℃〜約−２４０℃へ低下させる工程；パンティストッキングの温度を、６〜４８時間、約−８０℃〜約−２４０℃に保持する工程；及びパンティストッキングの温度を、３〜４８時間にわたって、約２５℃へ上昇させる工程である。
【０００８】
もう１つの実施形態において、上記の方法は、次の工程を含む：すなわち、パンティストッキングの温度を、約３０〜１２０分間にわたって、約４０〜８０℃へ上昇させる工程；パンティストッキングの温度を、約１５〜６０分間、約４０〜８０℃に保持する工程；及びパンティストッキングの温度を、約５０〜１２０分間にわたって、約２５℃へ下降させる工程である。
【０００９】
本発明の他の装置、方法、特徴、及び利点は、次の図面及び詳細な説明を調べた時、当業者には明らかであろうし、明らかになるであろう。このような追加の装置、方法、特徴、及び利点は、この明細書の中に含まれ、本発明の範囲内にあり、添付の請求項によって保護されるものとする。
【００１０】
本発明の実施形態の複数の態様は、下記の図面を参照して、よりよく理解することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
発明の詳細な説明
本発明は、パンティストッキングを低温処理装置において処理する方法であって、上記欠点のいくつかを克服して向上した耐摩耗性を有する、低温処理されたパンティストッキングを生産するための方法を提供する。一般にこれらの処理方法は、特別な温度処理条件下に実施されるならば、パンティストッキングの物理的性質を向上させることができる。
【００１２】
この点に関して、本発明の実施形態は、パンティストッキングを低温処理することによって、パンティストッキングの耐摩耗性（例えば耐久性；寿命；伝線、穴あきなどへの抵抗性；熱、日光、汗などへの暴露による損傷）を向上させる方法を提供する。さらに、本発明の実施形態は、パンティストッキングを低温処理する工程、及びその後にパンティストッキングを加熱焼戻しする工程を包含する方法を提供する。低温処理は、処理装置（すなわち、低温又は深（ｄｅｅｐ）低温処理装置）、（以後「低温処理装置」）において実施することができ、一方で、加熱焼戻しは、オーブン又は他の加熱装置において実施することができる。
【００１３】
一般に、材料の低温処理は、特定の材料を絶対零度（０Ｋ又は−２７３℃）の比較的近くまで冷却し、かつこの材料が寒冷浸透（ｃｏｌｄ−ｓｏａｋ）してしまうまで、この温度を維持するプロセスを包含する。ついでこの温度を、周囲温度平衡に達するまで上昇させる（例えばオーブンで加熱するか、周囲条件下で温める)。このような材料を低温処理することの利点は、１つ又はそれ以上の物理的性質（例えば耐久性、強度など）が向上するということである。
【００１４】
単に材料を低温プロセスに付すだけでは、この材料の１つ又はそれ以上の特性が向上することを保証しない。低温処理プロセスの複雑さは、該材料の処理にとって適切な操作条件（例えば、材料の予備処理、温度の下降及び上昇速度、寒冷浸透及び加温サイクルの持続時間などであるが、これらに限定されない）の決定及び達成を包含する。
【００１５】
一般に、低温処理装置は、極度に低温の貯蔵環境を確立するために低温液体（例えば液体窒素又は液体ヘリウム）で一部充填された、二重壁の断熱容器である。低温液体は低い沸点を有し、したがって低い蒸発熱を有するので、周囲雰囲気からの熱流入が、蒸発によって、低温液体のかなりの損失を引起こすことがある。したがっていくつかの低温処理装置は、容器壁間に、熱及び放射バリヤー、例えば断熱（ｉｎｓｕｌａｔｉｏｎ）及び／又は高真空を含んでいる。同様に真空空間を、熱伝達を減少させるために、多重断熱層で満たすこともできる。
【００１６】
図１は、本発明の代表的な低温プロセス１０を説明するフローチャートである。パンティストッキングを、低温処理装置の中に直接入れることもでき、また、もとの包装又は他の適切な包装の中に入れて低温処理装置内に置くこともできる。ブロック１２に示されているように、パンティストッキングの温度を、約１〜６時間にわたって、約−８０℃〜−２４０℃に低下させる。あるいはパンティストッキングを、約−１００℃〜−２２０℃、約−１２０℃〜−２１０℃、約−１４０℃〜−２００℃、又は約−１６０℃〜−１９０℃に低下させてもよい。さらに、パンティストッキングの温度を低下させる時間は、約２〜５時間、約３〜４時間であってもよい。
【００１７】
次に、ブロック１４に示されているように、パンティストッキングの温度を、約６〜４８時間、約−８０℃〜−２４０℃に保持する。あるいはパンティストッキングを、約−１００℃〜−２２０℃、約−１２０℃〜−２１０℃、約−１４０℃〜−２００℃、又は約−１６０℃〜−１９０℃の温度に保持してもよい。さらに、パンティストッキングの温度を保持する時間は、約１０〜３６時間、約１５〜３０時間、又は約２０〜２４時間であってもよい。
【００１８】
その後、ブロック１６に示されているように、パンティストッキングの温度を、約３〜４８時間にわたって、約２５℃へ上昇させる。あるいは、パンティストッキングの温度を上昇させる時間は、約３〜２４時間、又は約１２〜２４時間であってもよい。
【００１９】
図２は、いくつかの実施形態において用いることができる、代表的な加熱焼戻しプロセス２０を説明するフローチャートである。ブロック２２に示されているように、パンティストッキングの温度を、約３〜１２０分間にわたって約４０℃〜８０℃に上昇させる。あるいは、パンティストッキングの温度を約５５℃〜６５℃に上昇させることができ、この時間は約４０〜６０分であってもよい。次に、ブロック２４に示されているように、パンティストッキングの温度を、約３０〜８０分間、約４０℃〜８０℃に保持する。あるいは、パンティストッキングの温度を保持する時間は、約４５〜約６５分であってもよい。その後、ブロック２６に示されているように、パンティストッキングの温度を、約５０〜１２０分間にわたって、約２５℃へ冷ます。あるいは、パンティストッキングを冷ます時間は、約７０〜９０分であってもよい。
【００２０】
図３は、本発明のもう１つの代表的な低温プロセス３０を説明するフローチャートである。パンティストッキングを、低温処理装置の中に直接入れることもできるが、又はパンティストッキングを、もとの包装又は他の適切な包装の中に入れて低温処理装置内に置くこともできる。ブロック３２に示されているように、パンティストッキングの温度を、約２〜３時間にわたって、約−１６０℃〜−２００℃に低下させる。次に、ブロック３４に示されているように、パンティストッキングの温度を、２０〜２４時間、約−１６０℃〜−２００℃に保持する。その後、ブロック３６に示されているように、パンティストッキングの温度を、約１２〜２４時間にわたって、約２５℃の温度に上昇させる。
【００２１】
図４は、いくつかの実施形態において用いることができる、もう１つの代表的な加熱焼戻しプロセス４０を説明するフローチャートである。ブロック４２に示されているように、パンティストッキングの温度を、約４０〜６０分間にわたって、約５５〜６５℃に上昇させる。次に、ブロック４４に示されているように、パンティストッキングの温度を、約４５〜６５分間にわたって約５５〜６５℃に保持する。その後、ブロック４６に示されているように、パンティストッキングの温度を、約７０〜９０分間にわたって、約２５℃に冷ます。
【００２２】
図５は、もう１つの低温プロセス５０を説明するフローチャートであり、このプロセスは、低温処理装置の温度を、ブロック５２に示されているように、適切な低温液体（例えば液体窒素）を用いて、周囲温度から約−１６０℃まで、１分あたり約１℃の率で下降させる工程を含む。ブロック５４に示されているように、低温処理装置の温度を、約−１９４℃へ低下させる。次に、ブロック５６に示されているように、ついで低温処理装置の温度を、約２４時間、約−１９４℃に保持する。その後、低温処理装置を通気（ｖｅｎｔ）し、これによって低温液体は、低温処理装置が配置されている室の温度、典型的には周囲室温、及び低温通気孔（ｃｒｙｏｇｅｎｉｃ  ｖｅｎｔ）が開けられている程度によって決定される率で蒸発することが可能になる。その後、ブロック５８に示されているように、パンティストッキングを、加温プロセスが約２０時間よりも長くかかるような率で加温する。
【００２３】
低温処理装置が配置されている室の温度、典型的には周囲室温、及び低温通気孔が開けられている程度は、パンティストッキングが加温される率を決定する。パンティストッキングが周囲温度に加温された後、パンティストッキングを低温処理装置から取り出し、実質的に乾くまで、乾燥ラックに載せる。低温処理されたパンティストッキングは、向上した耐摩耗性を示す。
【００２４】
低温処理装置においてパンティストッキングを加温する代わりに、パンティストッキングを、低温液体が蒸発した後で低温処理装置から取り出し、乾燥ラックに載せ、加温プロセスが、約２０時間よりも長くかかるような率で加温することもできる。ここで、パンティストッキングの加温率は、パンティストッキングがそこへ取り出される室の温度、典型的には周囲室温によって決定される。パンティストッキングが周囲温度に加温された後、パンティストッキングを、実質的に乾くまで、乾燥ラックに載せる。
【００２５】
図６は、もう１つの加熱焼戻しプロセス６０を説明するフローチャートである。パンティストッキングが周囲温度に加温された後、パンティストッキングを低温処理装置から取り出し、該当する場合、パンティストッキングが入れられていた包装から取り出す。ブロック６２に示されているように、パンティストッキングをオーブンに入れて加温する。オーブンを、約５０分間にわたって、周囲温度から約６５℃に加温する。次に、ブロック６４に示されているように、オーブンを約５０分間、約６５℃に保持する。その後、オーブンを、ブロック６６に示されているように、約８０分間にわたって、周囲温度に冷ます。パンティストッキングが周囲温度に冷まされた後、パンティストッキングを、適切な包装に再び入れる。
【００２６】
もう１つの実施形態において、パンティストッキングを水溶液で予備処理することができる。パンティストッキングを水溶液で予備処理した後、過剰溶液をパンティストッキングからしぼり出し、ついで適切な低温包装、例えばフリーザーバッグに入れる。パンティストッキングを、低温処理装置に直接入れることもでき、あるいはパンティストッキングを、もとの包装又は他の適切な包装の中に入れて低温処理装置内に置くこともできる。パンティストッキングを低温処理装置の中に入れた後、パンティストッキングを低温プロセス１０及び３０、及び加熱焼戻しプロセス２０及び４０と一致した方法で処理することができる。
【００２７】
多くの変形例及び修正例を、本発明の精神及び原理から実質的に逸脱することなく、本発明の上記実施形態に対して行なうことができる。このような修正例及び変形例はすべて、この開示及び本発明の範囲内に包含され、特許請求の範囲によって保護されるものとする。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】低温プロセスの代表的な実施形態を説明するフローチャートである。
【図２】加熱焼戻しプロセスの代表的な実施形態を説明するフローチャートである。
【図３】低温プロセスのもう１つの代表的な実施形態を説明するフローチャートである。
【図４】加熱焼戻しプロセスのもう１つの代表的な実施形態を説明するフローチャートである。
【図５】低温プロセスのさらにもう１つの代表的な実施形態を説明するフローチャートである。
【図６】加熱焼戻しプロセスのさらにもう１つの代表的な実施形態を説明するフローチャートである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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