(57)【要約】式ＭＬａＸｂＳｃ（ここで、Ｍはロジウム及びルテニウムから選ばれる遷移金属であり、Ｘは対イオンであり、かつＳはリガンドであり、ａは０．５〜３の範囲であり、かつｂ及びｃは夫々独立して０〜２の範囲である）により示される非対称（移動）水素化のための触媒において、Ｌが式（Ｉ）（ここで、Ｃｎは２個のＯ原子及びＰ原子と一緒になって２〜４個のＣ原子を持つ置換された又は置換されていない環を形成し、Ｒ１及びＲ２は夫々独立して、Ｈ、置換されていてもよいアルキル、アリール、アルカリール又はアラルキル基を示し、又はそれらが結合されるＮ原子と一緒になって（複素）環を形成することができる）を有するキラルリガンドである。及び式ＭＬａＸｂＳｃ（ここで、Ｍはロジウム、イリジウム及びルテニウムから選ばれる遷移金属であり、Ｘは対イオンであり、かつＳはリガンドであり、ａは０．５〜３の範囲であり、かつｂ及びｃは０〜２の範囲である）により示される触媒が使用されるところの、水素ドナー及び触媒の存在下にオレフィン性不飽和化合物、ケトン、イミン又はオキシム誘導体を非対称（移動）水素化するための方法において、Ｌが式（Ｉ）（ここで、Ｃｎは２個のＯ原子及びＰ原子と一緒になって２〜４個のＣ原子を持つ置換された又は置換されていない環を形成し、かつＲ１及びＲ２は上記で定義した通りである）を有するキラルリガンドである。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式ＭＬａＸｂＳｃ
（ここで、Ｍはロジウム及びルテニウムから選ばれる遷移金属であり、Ｘは対イオンでありかつＳはリガンドであり、ａは０．５〜３の範囲でありかつｂ及びｃは夫々独立して０〜２の範囲である）
により示される非対称（移動）水素化のための触媒において、Ｌが式（Ｉ）
【化１】
2004502543.tif 000021
（ここで、Ｃｎは２個のＯ原子及びＰ原子と一緒になって２〜４個のＣ原子を持つ置換された又は置換されていない環を形成し、Ｒ１及びＲ２は夫々独立して、Ｈ、置換されていてもよいアルキル、アリール、アルカリール又はアラルキル基を示し、又はそれらが結合されるＮ原子と一緒になって複素環を形成することができる）
を有するキラルリガンドであることを特徴とする触媒。
【請求項２】
Ｃｎが、一つの特定の立体配置を実質的に有するところのキラル置換されたＣ４鎖を示すところの請求項１記載の触媒。
【請求項３】
Ｃｎが２個のＯ原子及びＰ原子と一緒になって４個のＣ原子を持つ７員環を形成し、かつ該４個のＣ原子は２個づつでアリール基又はナフチル基の一部を形成するところの請求項２記載の触媒。
【請求項４】
Ｒ１及びＲ２が夫々独立してアルキル基を示すところの請求項１〜３のいずれか一つに記載の触媒。
【請求項５】
Ｒ１及びＲ２が両方共にメチル基を示すところの請求項４記載の触媒。
【請求項６】
式ＨＯ‐Ｃｎ‐ＯＨ（ここで、ｎは上記で定義した通りである）を有するジオールがＰ（Ｎ（Ｒ３）２）３（ここで、Ｒ３はメチル又はエチルである）と反応させられ、続いて、Ｒ１Ｒ２ＮＨ（ここで、Ｒ１及びＲ２は夫々独立して、置換されていてもよいアルキル、アリール、アルカリール又はアラルキル基を示し、又はそれらが結合されるＮ原子と一緒になって複素環を形成することができる）と反応されるところの式Ｉのリガンドを製造する方法。
【請求項７】
式ＨＯ‐Ｃｎ‐ＯＨ（ここで、ｎは上記で定義した通りである）を有するジオールがＰＣｌ３と反応させられ、続いて、Ｒ１Ｒ２ＮＨ（ここで、Ｒ１及びＲ２は夫々独立して、置換されていてもよいアルキル、アリール、アルカリール又はアラルキル基を示し、又はそれらが結合されるＮ原子と一緒になって複素環を形成することができる）と反応されるところの式Ｉのリガンドを製造する方法。
【請求項８】
水素ドナー及び触媒の存在下にオレフィン性不飽和化合物、ケトン、イミン又はオキシム誘導体を非対称（移動）水素化するための方法であって、式ＭＬａＸｂＳｃにより示される触媒が使用されるところの方法において（ここで、Ｍはロジウム、イリジウム及びルテニウムから選ばれる遷移金属であり、かつＸは対イオンでありかつＳはリガンドであり、ａは０．５〜３の範囲でありかつｂ及びｃは夫々独立して０〜２の範囲である）、Ｌが式（Ｉ）
【化２】
2004502543.tif 000022
（ここで、Ｃｎは２個のＯ原子及びＰ原子と一緒になって２〜４個のＣ原子を持つ置換された又は置換されていない環を形成し、かつＲ１及びＲ２は夫々独立して、Ｈ、置換されていてもよいアルキル、アリール、アルカリール又はアラルキル基を示し、又はそれらが結合されるＮ原子と一緒になって複素環を形成することができる）
のキラルリガンドであることを特徴とする方法。
【請求項９】
オレフィン性不飽和化合物、ケトン又はイミンが、非対称（移動）水素化に付されるところの請求項８記載の方法。
【請求項１０】
Ｃｎが、一つの特定の立体配置を実質的に有するところのキラルＣ４鎖を示すところの請求項９記載の方法。
【請求項１１】
Ｃｎが２個のＯ原子及びＰ原子と一緒になって４個のＣ原子を持つ環を形成し、かつ該４個のＣ原子は２個づつでアリール基又はナフチル基の一部を形成するところの請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
非対称（移動）水素化が非プロトン性溶媒の存在下に実行されるところの請求項８〜１１のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１３】
非対称（移動）水素化がイオン性液体の存在下に実行されるところの請求項８〜１１のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１４】
水素ドナーが、水素、イソプロパノール、並びにギ酸とトリエチルアミンとの混合物より成る群から選ばれるところの請求項８〜１３のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１５】
非対称（移動）水素化が０．１〜１０ＭＰａの圧力において実行されるところの請求項８〜１４のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１６】
分子中の他の場所にキラル中心を含むオレフィン、ケトン又はイミンが使用されるところの請求項８〜１５のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１７】
触媒がインサイツに製造されるところの請求項８〜１６のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１８】
基質及び／又は生成物が溶媒を伴うスラリーを形成するところの請求項８〜１７のいずれか一つに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、遷移金属化合物及びキラルリガンドを含むところの非対称（移動）水素化［ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ　（ｔｒａｎｓｆｅｒ） ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎ］のための触媒に関する。
【０００２】
【従来の技術】
そのような触媒は、Ｇ．Ｆｒａｎｃｉｏ、Ｆ．Ｆａｒａｏｎｅ及びＷ．ＬｅｉｔｎｅｒのＡｎｇｅｗａｎｄｔｅ　Ｃｈｅｍｉｅ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２０００年、第３９巻、第１４２８〜１４３０頁から公知である。この刊行物は、最大９８．８％のエナンチオ選択性を持つ置換されたオレフィンの非対称水素化のための二座のホスフィンリンアミダイトリガンドの使用を開示している。
【０００３】
該公知の触媒の欠点は、使用されるリガンドが通常多くの反応段階を経て製造され、そして多くの反応段階はしばしば低収量を生ずることである。このことはこれらのリガンドを著しく高価にする。これらのホスフィン含有リガンドの他の欠点は、これらが酸素に比較的敏感であることであり、そしてそのことは実際にそれらを取り扱う再に問題を引起す。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は今、遷移金属触媒及びキラルリガンドから成る触媒を提供し、ここで該リガンドは市販の出発原料から１又は２段階で簡単に製造され得る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、これは、式ＭＬａＸｂＳｃにより示される触媒により達成され、ここで、Ｍはロジウム及びルテニウムから選ばれる遷移金属であり、Ｌは式（Ｉ）
【化３】
2004502543.tif 000002
を有する鏡像体に富んだキラル単座リガンドであり、ここで、Ｃｎは二つのＯ原子及びＰ原子と一緒になって２〜４個のＣ原子を持つ置換された又は置換されていない環を形成し、Ｒ１及びＲ２は夫々独立して、Ｈ、任意的に置換されていてもよいアルキル、アリール、アラルキル又はアルカリール基を示し、又はそれらが結合されるＮ原子と一緒になって（複素）環を形成することができ、Ｘは対イオンであり、かつＳはリガンドであり、ａは０．５〜３の範囲であり、ｂ及びｃは夫々独立して０〜２の範囲である。好ましくはＲ１及びＲ２は夫々独立して、アルキル基、例えば、１〜６個のＣ原子、とりわけ１〜３個のＣ原子を持つアルキル基を示し、最も好ましくはＣ１及びＣ２はメチル基を示す。アルキル、アリール、アラルキル及びアルカリール基は、好ましくは１〜２０個のＣ原子を有し、かつ例えば、一つ以上のヒドロキシ、アルコキシ、ニトリル又はカルボン酸エステル基又はハロゲンで任意的に置換され得る。Ｒ１及び／又はＲ２はポリマー骨格の一部であり得る。
【０００６】
驚くべきことに、高いエナンチオ選択性が、簡単な様式で製造され得るところの式（Ｉ）の単座リガンドを使用するとき、オレフィン、ケトン及びイミンの非対称水素化又は非対称伝津水素化において達成され得ることが分かった。二座リガンドが高いエナンチオ選択性を達成するために必要とされることが通常当然のこととされている故に、これは全くより驚くべきことである。本発明に従う触媒の他の利点は、エナンチオ選択性の減少なしに、反応速度が圧力増加を伴って増加することである。結果として、より少ない量の触媒が十分であろうし又はより迅速な反応が得られ得る。更に他の利点は、本発明に従うリガンドが酸素に対して実質的には敏感ではないことである。プロキラル（ｐｒｏｃｈｉｒａｌ）化合物の非対称（移動）水素化において本発明に従う触媒を使用して、鏡像体に富んだ化合物が、９０％を超える鏡像体過剰率（ｅｅ）、とりわけ９５％を超えるｅｅ、より特に９８％を超えるｅｅで得られ得る。
【０００７】
【発明の実施の形態】
式ＭＬａＸｂＳｃにより示される本発明に従う触媒は、中性、アニオン性又はカチオン性であり得る。本発明に従う触媒は、式ＭＬａＸｂＳｃを有する予め形成された錯体から成り得る。これらの錯体は、キラルリガンドを触媒前駆体と反応させることにより製造され得る。しかし、好ましくは該触媒は、水素化により容易に取除かれるリガンドを含み得るところの触媒前駆体の溶液にキラルリガンドを加えることによりインサイツに形成され得る。加えられるべき光学的に活性なリガンドの量は、金属に対して、例えば、０．５〜５当量、好ましくは１〜３．５当量の範囲であり得る。該触媒において、光学的に活性なリガンドの所望量に対して好ましくは少過剰の光学的に活性なリガンドが適用される。該触媒における光学的に活性なリガンド対金属の最適比は、光学的に活性なリガンド及び金属によって相違し得、かつ実験により容易に決定され得る。
【０００８】
触媒は、基質の添加に先立って水素化（予備水素化）により活性化され得る。本発明によれば、触媒のこの予備処理なしに同一又はより高くさえあるエナンチオ選択性が達成されることが見出された。
【０００９】
適切な触媒前駆体に例は、（ＣＯＤ＝１，５シクロオクタジエン、ｎｂｄ＝ノルボルナジエン、Ｌ＝リガンドＩ、Ｓ＝下記に定義されるようなリガンド）［Ｒｈ（ＣＯＤ）２Ｃｌ］２、［Ｒｈ（ＣＯＤ）２］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＣｌＯ４、［Ｒｕ（ＣＯＤ）Ｃｌ２］ｎ、ＲｈＣｌ３・ｎＨ２Ｏ、Ｒｕ（ＯＡｃ）３、ＲｕＣｌ３・ｎＨ２Ｏである。予め形成された錯体の例は、ＲｈＬ２（ＣＨ３ＯＨ）２ＢＦ４、Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｌ２ＢＦ４、ＲｕＬ２（ＯＡｃ）２、ＲｕＬ２Ｂｒ２、Ｒｕ（メチルアリル）２Ｌ２、Ｒｕ（エタ‐６‐ベンゼン）Ｌ２Ｂｒ２、Ｒｕ（エタ‐５‐シクロペンタジエニル）Ｌ２Ｃｌ、ＲｕＬ２Ｃｌ２、ＲｕＬＳＣｌ２、Ｒｕ（１，２‐ジフェニル‐１，２‐ジアミノエタン）ＬＣｌ２である。
【００１０】
式（Ｉ）のキラルリガンドＬにおいて、Ｃｎ及び／又はＲ１及び／又はＲ２はキラルであるか、又はキラル構成要素の一部である。Ｃｎは好ましくは、例えば、９５％より大きい、とりわけ９９％より大きい、よりとりわけ９９．５％より大きい鏡像体過剰率を持つ、支配的に一つの立体配置のキラル置換されたＣ４鎖（４個の任意的に置換されていてもよいＣ原子を持つ鎖）を示す。好ましくはＣｎは二つのＯ原子及びＰ原子と一緒になって４個のＣ原子を持つ７員環を形成し、かつ該４個のＣ原子は２個づつでアリール基又はナフチル基の一部を形成する。本発明に従う適切なキラルリガンドの例は下記式の通りである。
【化４】
2004502543.tif 000003
2004502543.tif 000004
2004502543.tif 000005
2004502543.tif 000006
【００１１】
一のエナンチオマーが示されているところに他のエナンチオマーが同様に適用可能であることが理解されるであろう。
【００１２】
式（Ｉ）を持つそのようなリガンドは、例えば、Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ　Ｍｅｔｈｏｄｅｎ　ｄｅｒ　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ　Ｂａｎｄ　ＸＩＩ／２．　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅ　ｐｈｏｓｐｈｏｒｖｅｒｂｉｎｄｕｎｇｅｎ．　Ｇ．Ｔｈｉｅｍｅ　Ｖｅｒｌａｇ、Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ、１９６４年、第２部（第４版）、第９９〜１０５頁に開示されているようにして簡単に製造され得る。好ましい製造法は、ＨＯ‐Ｃｎ‐ＯＨ化合物をＰ（ＮＭｅ２）３又はＰ（ＮＥｔ２）３（Ｍｅ＝メチルであり、Ｅｔ＝エチルである）と反応させること、続いて、好ましくは、８０℃より高い沸点を有する溶媒、例えば、トルエン中でＲ１Ｒ２ＮＨと反応させることに基づく。後者の反応のための適切な触媒の例は、塩化アンモニウム、テトラゾール又はベンゾイミダゾリウムトリフレートである。ＨＯ‐Ｃｎ‐ＯＨの例は、キラルビスナフトール、例えば、（Ｒ）‐若しくは（Ｓ）‐１，１’‐ビ‐（２‐ナフトール）、キラルビスフェノール、例えば、（Ｒ）‐若しくは（Ｓ）‐６，６’‐ジメトキシ‐２，２’‐ビスフェノール、ジオール、例えば、（Ｒ，Ｒ）‐若しくは（Ｓ，Ｓ）‐２，２’‐ジメチル‐１，３‐ジオキソラン‐４，５‐ビス‐（１，１‐ジフェニル）メタノール（ＴＡＤＤＯＬ）、又は（Ｓ，Ｒ）‐若しくは（Ｒ，Ｓ）‐インダン‐１，２‐ジオール、糖に基いた１，２‐ジオール及び１，３‐ジオール、例えば、下記式
【化５】
2004502543.tif 000007
を有するジオールである。
【００１３】
Ｒ１Ｒ２ＮＨの例は、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、ジイソプロピルアミン、（Ｒ）‐又は（Ｓ）‐１‐メチル‐ベンジルアミン、ピペリジン、モルホリン、（Ｒ，Ｒ）‐又は（Ｓ，Ｓ）‐ビス‐（１‐メチルベンジル）アミンである。
【００１４】
第二の好ましい製造は、ＨＯ‐Ｃｎ‐ＯＨ化合物をＰＣｌ３と反応させ、続いて、好ましくは、塩基、例えば、Ｅｔ３Ｎの存在下に、かつ溶媒、例えば、トルエンの存在下にＲ１Ｒ２ＮＨと反応させることに基づく。ＨＯ‐Ｃｎ‐ＯＨの例は、第一の好ましい製造に関して上記で示したものと原則同じである。Ｒ１Ｒ２ＮＨの例は、アンモニア、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、ジイソプロピルアミン、（Ｒ）‐又は（Ｓ）‐１‐メチル‐ベンジルアミン、ピペリジン、モルホリン、（Ｒ，Ｒ）‐又は（Ｓ，Ｓ）‐ビス‐（１‐メチルベンジル）アミンである。
【００１５】
もし、式ＭＬａＸｂＳｃを持つ本発明の触媒がカチオン性であるなら、その時、対イオンＸはアニオンである。適切なアニオンの例は、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＯＡｃ、ＢＦ４、ＰＦ６、ＣｌＯ４、ｐ‐トルエンスルホネート、ベンゼンホスホネート、テトラ‐ペンタフルオロフェニルボーレートである。非配位性アニオンが好ましい。もし、触媒がアニオン性であるなら、Ｘはカチオンである。適切なカチオンの例は、アルカリ金属、例えば、Ｌｉ、Ｎａ若しくはＫ、アルカリ土類金属、例えば、Ｍｇ若しくはＣａ、又はアンモニウム、又はアルキル置換されたアンモニウムである。
【００１６】
リガンドＳはキラル又は非キラルであり得る。適切なリガンドＳは、オレフィン、例えば、マレイン酸無水物若しくはエチレン、ジエン、例えば、１，５‐シクロオクタジエン、１，３‐ブタジエン及び２，５‐ノルボルナジエン、芳香族、例えば、ベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、シメン及びクメン、エタ‐５配位したシクロペンタジエニルリガンド、例えば、シクロペンタジエニル及びペンタメチルシクロペンタジエニル、ジアミン、例えば、１，２‐ジアミノエタンである。リガンドＳの例は、（Ｒ，Ｒ）‐１，２‐シクロヘキサンジアミン、（Ｓ，Ｓ）‐１，２‐ジフェニル‐１，２‐ジアミノエタン、（Ｓ，Ｓ）‐１，２‐ジシクロヘキシル‐１，２‐ジアミノエタン又は（Ｓ）‐１，１’‐ビス（ｐ‐メトキシフェニル）‐１，２‐プロパンジアミンである。
【００１７】
本発明はまた式Ｉのキラルリガンドの製造に関する。加えて、本発明は、例えば、オレフィン、ケトン、イミン及びオキシム誘導体のための非対称水素化又は非対称移動水素化における式ＭＬａＸｂＳｃにより示される触媒の使用に関し、ここで、Ｍは、ロジウム、イリジウム及びルテニウムから選ばれる遷移金属であり、かつＸは対イオンであり、かつＳはリガンドであり、ａは０．５〜３の範囲であり、かつｂ及びｃは夫々独立して０〜２の範囲であり、ここで、Ｌは式（Ｉ）
【化６】
2004502543.tif 000008
のキラルリガンドであり、ここで、Ｃｎは二つのＯ原子及びＰ原子と一緒になって２〜４個のＣ原子を持つ置換された又は置換されていない環を形成し、かつＲ１及びＲ２は上記で定義したものである。Ｃｎ及び／又はＲ１及び／又はＲ２はキラルであり又はキラル構成要素の一部である。キラルリガンドと一緒になって触媒を形成するところの適切な触媒前駆体の例は、（ＣＯＤ＝１，５シクロオクタジエン、ｎｂｄ＝ノルボルナジエン、Ｌ＝本発明のリガンドＩ、Ｓ＝上記で定義したようなリガンド）［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］２、［Ｒｈ（ＣＯＤ）２］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）２］ＣｌＯ４、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］２、［Ｉｒ（ＣＯＤ）２］Ｘ（Ｘ＝ＢＦ４、ＰＦ６、ＣｌＯ４、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４）、［Ｒｕ（ＣＯＤ）Ｃｌ２］ｎである。予め形成された錯体の例は、ＲｈＬ２（ＣＨ３ＯＨ）ＢＦ４、Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｌ２ＢＦ４、ＲｕＬ２（ＯＡｃ）２、ＲｕＬ２Ｂｒ２、Ｒｕ（メチルアリル）２Ｌ２、Ｒｕ（エタ‐６‐ベンゼン）Ｌ２Ｂｒ２、Ｒｕ（エタ‐５‐シクロペンタジエニル）Ｌ２Ｃｌ、ＲｕＬＳＣｌ２、Ｒｕ（１，２‐ジフェニル‐１，２‐ジアミノエタン）ＬＣｌ２、ＩｒＬ２（ＣＨ３ＯＨ）ＰＦ６、Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｌ２ＢＦ４である。
【００１８】
触媒の製造において金属対光学的に活性なリガンドのモル比は、好ましくは２：１〜１：１０、より好ましくは１：１〜１：６が選ばれる。好ましくは触媒はインサイツに製造され、これは、触媒の中間での分離なしに非対称（移動）水素化が達成されるように同一の容器で製造されることを意味する。
【００１９】
非対称（移動）水素化のための適切な基質は、例えば、プロキラルのオレフィン性不飽和化合物であり、本発明の文脈においてまた短縮のためオレフィンと言われる。とりわけ、アルキリデングリシン誘導体、例えば、２‐アセチルアミノ‐ケイ皮酸、２‐ベンゾイルアミノケイ皮酸、２‐アセチルアミノアクリル酸、Ｎ‐アセチル‐２‐イソプロピリデングルシン、Ｎ‐アセチル‐２‐シクロヘキシリデングリシン、Ｎ‐アセチル‐３’‐メトキシ‐４‐アセトキシ‐ベンジリデングリシン、２‐置換されたマレイン酸、例えば、２‐フェニルマレイン酸、２‐メチルマレイン酸、アルキリデン‐コハク酸誘導体、例えば、イタコン酸、２‐ベンジリデンコハク酸、２‐イソブチリデン‐コハク酸、１‐置換されたアクリル酸誘導体、例えば、１‐（６’‐メトキシ‐ナフチル）‐アクリル酸、１‐（４’‐イソブチルフェニル）アクリル酸、１‐置換されたケイ皮酸、例えば、１‐メチル‐ケイ皮酸、１‐（ヒドロキシメチル）‐ケイ皮酸及び１‐（クロロメチル）‐ケイ皮酸、及び上記化合物の塩、例えば、ナトリウム、リチウム、テトラアルキルアンモニウム又はトリオクチルアンモニウム塩並びにエステル、例えば、ジカルボン酸のメチル、エチル及びｔ‐ブチルエステル、その上モノエステルが使用され得る。
【００２０】
他の適切な基質は、エナミド、例えば、１‐アセトアミドスチレン、（Ｚ）‐２‐アセチル‐１‐（ｐ‐メトキシベンジリデン）‐Ｎ‐アセチル‐１‐（３’，４’‐ジメトキシ‐ベンジリデン）−６，７−ジメトキシ−１，２，３，４テトラヒドロ−イソキノリン、１‐ベンジルオキシカルボニル‐４−ｔ−ブトキシカルボニル‐２，３−デヒドロ−ピペラジン−２−Ｎ−ｔ−ブチルアミド、エノールエーテル、例えば、１‐メトキシ‐スチレン、エノールエステル、例えば、５−メチリデン‐ブチロラクトン、アリル型アルコール、例えば、３，７−ジメチル−２，７−オクタジエン‐１−オール（ゲラニオール）、ネロール、４−ヒドロキシ−２‐シクロペンテノンである。非対称オレフィン水素化の範囲の最近の調査は、例えば、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ　Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ　ＣａｔａｌｙｓｉｓにおけるＪ．Ｍ．Ｂｒｏｗｎ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ，　Ｂｅｒｌｉｎ，１９９９年、第ＩＩ巻、第１２１〜１８２頁におけるＥ．Ｎ．Ｊａｃｏｂｓｅｎ，　Ａ．Ｐｆａｌｔｚ及びＨ．Ｙａｍａｍｏｔｏ編により与えられている。
【００２１】
更に適切な基質は、例えば、一般式（ＩＩ）
【化７】
2004502543.tif 000009
を有するプロキラルケトンである。ここで、Ｒ及びＲ’は互いに等しくなく、かつ相互に夫々独立して、１〜２０個のＣ原子を持つアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を示し、又はこれらが結合されるＣ原子と一緒になって環を形成する。ここで、Ｒ及びＲ’は、一つ以上のヘテロ原子又は官能性基、例えば、アセトフェノン、１−アセトナフトン、２−アセトナフトン、３−キナクリジノン、２−メトキシシクロヘキサノン、１−フェニル‐２−ブタノン、ベンジル‐イソプロピルケトン、ベンジルアセトン、シクロヘキシルメチルケトン、ｔ−ブチルメチルケトン、ｔ−ブチルフェニルケトン、イソプロピルフェニルケトン、エチル‐（２−メチルエチル）−ケトン、ｏ−、ｍ−又はｐ−メトキシアセトフェノン、ｏ−、ｍ−又はｐ−（フルオロ、クロロ）アセトフェノン、ｏ−、ｍ−又はｐ−シアノアセトフェノン、ｏ−、ｍ−及び／又はｐ−トリフルオロメチル‐アセトフェノン、ｏ−、ｍ−又はｐ−ニトロアセトフェノン、２−アセチルフルオレン、アセチルフェロセン、２−アセチルチオフェン、３−アセチルチオフェン、２−アセチルピロール、３−アセチルピロール、２−アセチルフラン、３−アセチルフラン、１−インダノン、２−ヒドロキシ−１−インダノン、１−テトラロン、ｐ−メトキシフェニル‐ｐ’‐シアノフェニルベンゾフェノン、シクロプロピル‐（４−メトキシフェニル）−ケトン、２−アセチルピリジン、３−アセチルピリジン、４−アセチルピリジン、アセチルピラジン、アルファ‐ハロケトン、例えば、アルファ‐クロロアセトフェノン、アルファケト酸、例えば、ピルビン酸、フェニルグリオキシル酸、４−フェニル−２−オキソ‐ブチル酸、３−オキソ、４，４−ジメチル−ブチロラクトン及びエステル及びそれらの塩、ベータケト酸、例えば、アセチル酢酸、４−フェニルアセチル酢酸、及びエステル及びそれらの塩、ジケトン、例えば、ビアセチル、ベンジル、アセチルアセトン、ヒドロキシケトン、例えば、ヒドロキシアセトン、ベンゾイン及び１−フェニル−１ヒドロキシアセトンをまた含むことができる。
【００２２】
非対称（移動）水素化反応に使用され得るところの他のプロキラル化合物は、一般式（ＩＩＩ）
【化８】
2004502543.tif 000010
を有するプロキラルイミンである。ここで、Ｒ、Ｒ’及びＲ”は例えば、相互から夫々独立して、１〜２０個のＣ原子を持つアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を示し、又はこれらが結合される原子と一緒になって環を形成し、ここで、Ｒ、Ｒ’及びＲ”はまた、一つ以上のヘテロ原子及び官能性基を含むことができ、かつＲ”は更に、分割され得る基、例えば、ホスフィニル、スルホニル又はベンジル基であり得る。イミンの例は、上記のケトン及びアルキルアミン又はアリールアミン又はアミノ酸誘導体、例えば、アミノ酸アミド、アミノ酸エステル、ペプチド又はポリペプチドから製造されたものである。適切なアルキルアミン又はアリールアミンの例は、ベンジルアミン、例えば、ベンジルアミン、又はｏ−、ｍ−又はｐ−置換されたベンジルアミン、α‐アルキルベンジルアミン、ナフチルアミン、例えば、ナフチルアミン、１，２，３，４，５，６，７又は８‐置換されたナフチルアミン、１−（１−ナフチル）アルキルアミン又は１−（２−ナフチル）アルキルアミン又はベンズヒドリルアミンである。適切なイミンの例は、Ｎ−（２−エチル−６−メチルフェニル）−１−メトキシ‐アセトンイミン、５，６−ジフルオロ‐２−メチル−１，４−ベンズオキサジン、２−シアノ−１−ピロリン、２−エチオキシカルボニル‐１−ピロリン、２−フェニル−１−ピロリン、２−フェニル−３，４，５，６−テトラヒドロピリジン、３，４−ジヒドロ‐６，７‐ジメトキシ‐１−メチル‐イソキノリン、１−（ｐ−メトキシベンジル）−３，４，５，６，７，８‐ヘキサヒドロイソキノリン、Ｎ−ジフェニルホスフィニル２−ナフトフェノンイミン又はＮ−トシル‐テトラロンイミンである。
【００２３】
非対称（移動）水素化反応に使用され得るところの他のプロキラル化合物は、一般式（ＩＶ）
【化９】
2004502543.tif 000011
を有するプロキラルオキシム及びその誘導体である。ここで、Ｒ及びＲ’は上記で定義した通りであり、Ｒは例えば、ＯＨ基、エーテル基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基を示す。適切なオキシム誘導体の例は、アセトフェノンオキシム、Ｎ−アセトキシ−ｐ−メトキシアセトフェノン‐イミン及びｏ−メチル−ｐ−クロロアセトフェノンオキシムである。
【００２４】
本発明に従う触媒はまた、分子中の他の場所にキラル中心を含むところのオレフィン、ケトン、イミン又はオキシム誘導体（のエナンチオマーのラセミ混合物）から出発する、光学的に活性な化合物の製造において適切に使用され得、かつここで、好ましくは二つエナンチオマーの一つが水素化されている。
【００２５】
本発明に従う触媒の使用は一つ以上の水素ドナーの存在下に行われ、本発明の文脈において、水素ドナーは基質に水素を何らかの方法で運び得るところの化合物であると理解される。使用され得るところの適切な水素ドナーは、好ましくはＨ２であるが、また、１〜１０個のＣ原子を持つ脂肪族又は芳香族アルコールで有り得、とりわけ、１〜１０個のＣ原子を持つ第二級アルコール、例えば、イソプロパノール若しくはシクロヘキサノール、又は５〜１０個のＣ原子を持つ不飽和炭化水素、例えば、１，４ジヒドロベンゼン若しくはヒドロキノン、還元糖、例えば、グルコース又はギ酸の誘導体、例えば、ギ酸アンモニウム若しくはギ酸及びトリエチルアミンの共沸混合物であり得る。
【００２６】
基質対水素ドナーのモル比は好ましくは１：１〜１：１００の間にある。水素圧力は広い範囲内で変化し得、かつ好ましくは、迅速な反応又は触媒の最低の可能量が所望されるとき、可能な限り高くあることが選ばれる。水素圧力は例えば、０．０５〜２０ＭＰａ、好ましくは０．１〜１０ＭＰａ、とりわけ０．１５〜８ＭＰａの間にある。
【００２７】
非対称水素化において、好ましくは１：１０〜１：１，０００，０００、とりわけ、１：５０〜１：１００，０００の遷移金属化合物中に存在する金属対基質のモル比が使用される。
【００２８】
触媒は任意的に二量体形状で加えられることができ、ここで、該二量体形状は続いて、単量体形状にインサイツに全体的に又は部分的に変化される。
【００２９】
非対称（移動）水素化が実行され得るところの温度は、通常、反応速度とエナンチオ選択性との中間であり、かつ好ましくは−２０〜１２０℃の間にあり、とりわけ０〜６０℃の間にある。非対称（移動）水素化は好ましくは、酸素を排除した条件下で実行される。好ましくは、基質及び溶媒は、酸素、パーオキシド又は他の酸化基質のいずれも含まない。
【００３０】
溶媒として、アルコール、エステル、アミド、エーテル、ケトン、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素が使用され得る。好ましくは、酢酸エチル、２−プルパノール、アセトン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジクロロメタン、トルエン又はジブロモエタンが使用される。Ｔ．Ｗｅｌｔｏｎ，　Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，　第９９号、第２０７１〜２０８３頁（１９９９年）において開示されているようなイオン性液体における非対称（移動）水素化を実行することがまた可能である。必要なら、該イオン性液体中のリガンドの溶解度は、極性基、例えば、カルボン酸塩を持つリガンドを提供することにより増加され得る。もし、基質が液体なら、水素化はまた溶媒なしで非常に安定して実行され得る。もし、基質及び／又は生成物が溶媒に殆ど溶解しないなら、非対称（移動）水素化はまたスラリーとして実行され得る。もし、生成物がスラリーを形成するなら、その分離は非常に単純化される。
【００３１】
好ましくは非対称（移動）水素化反応は、先立つ予備水素化なしに実行される。しかし、水素で水素化することにより又は還元剤、例えば、ＮａＢＨ４で処理することにより、基質の添加に先立って非対称（移動）水素化のための触媒を活性化することがまた可能である。非対称（移動）水素化は時々また、水素化に先立って又は水素化の間に塩基、酸、ハライド、又はＮ−ヒドロキシイミドを加えることにより促進されうる。適切な塩基は、窒素塩基、例えば、トリエチルアミン、ＤＢＵ、及び置換された又は置換されていないピリジン及び金属塩基、例えば、ＫＯｔＢｕ又はＣｓ２ＣＯ３である。適切な酸は例えば、ＨＢｒ、トリフルオロ酢酸である。適切なハライドは、例えば、アルキルハライド又はテトラアルキルアンモニウムハライド、例えば、ＬｉＩ、ＬｉＢｒ、ＬｉＣｌ、ＮａＩ、テトラブチルアンモニウムヨウ化物である。適切なＮ−ヒドロキシイミドは例えばＮ−ヒドロキシフタルイミドである。
【００３２】
本発明は下記の実施例に関して説明されるが、該実施例により限定されることはない。
【００３３】
【実施例】
【実施例Ｉ】
リガンド１の合成
ゆっくりとした窒素ガス流の下に、７ミリリットル（３８ミリモル）のヘキサメチルホスホラストリアミドが、４０℃において５０グラムの無水トルエン中の１０．０グラムのＳ‐（−）‐１，１’ビ‐２‐ナフトール（３４．９ミリモル）の縣濁物に加えられた。１分間後、生成物は結晶化が始まった。５時間後、固体がろ過により取除かれ、トルエン及びペンタンにより洗浄され、そして乾燥された。収量：１１．０グラム（３０．６ミリモル、８８％）、ＴＬＣによる純粋な生成物（シリカゲル、ＥｔＯＡｃ：ヘキサン＝１：１、３１Ｐ‐ＮＭＲ及び１Ｈ‐ＮＭＲ）。
【００３４】
【実施例ＩＩ】
リガンド２の合成
４ミリリットルの無水トルエン中の０．３６グラムのリガンド１（１．０ミリモル）、０．０７グラムのテトラゾール（０．９ミリモル）及び０．３９４ミリリットルのジベンジルアミン（２．０ミリモル）の縣濁物が、ゆっくりとした窒素ガス流の下に還流下に５時間沸騰された。その後、該溶液は冷却され、そしてシリカゲルの薄層においてろ過された。ヘキサン中の１０％のｔ‐ＢｕＯＭｅによりシリカゲルの洗浄をした後に、炉液は完全に蒸発された。収量：０．４４グラム（０．８７ミリモル、８７％）、３１Ｐ‐ＮＭＲ及び１Ｈ‐ＮＭＲ及びＴＬＣによる純粋な生成物。
【００３５】
【実施例ＩＩＩ】
リガンド３の合成
ＰＣｌ３（３．０ミリモル）、Ｅｔ３Ｎ（６．０ミリモル）及びトルエン（５ミリリットル）の冷却された溶液（−６０℃）に、（Ｓ）‐２，２‐ビナフトール（３．０ミリモル）及びトルエン（２５ミリリットル）の暖かい溶液（６０℃）が５分間で加えられた。２時間の攪拌の後に、反応混合物は室温に暖められ、そしてアルゴン雰囲気下でろ過された。ろ液が、Ｅｔ３Ｎ（２．９ミリモル）及び２．９ミリモルの（Ｒ，Ｒ）‐ビス‐（１‐メチルベンジル）‐アミンにより−４０℃において処理された。環境温度における１６時間後、反応混合物がろ過され、濃縮されそしてクロマトグラフィーにより精製された。収率：４１％、３１Ｐ‐ＮＭＲ及び１Ｈ‐ＮＭＲ及びＴＬＣによる純粋な生成物。
【００３６】
【実施例ＩＶ】
オレフィンの水素化
方法Ａ．予備水素化を伴う０．１ＭＰａにおける水素化
Ｒｈ（ＣＯＤ）２ＢＦ４（０．０１０ミリモル）及びキラルリガンド（０．０２２ミリモル）が、１０ミリリットルのＳｃｈｌｅｎｋ容器中に秤量され、マグネチック攪拌棒が加えられ、そして該容器はゴム隔膜で閉じられた。３回の真空／窒素サイクルが行われ、その後、２回の真空／水素サイクルが行われた。１．５ミリリットルの溶媒が加えられ、そして０．１ＭＰａの水素雰囲気下で攪拌が１時間行われた。続いて、３．５ミリリットルの溶媒中の基質（０．２ミリモル）の溶液が加えられ、そして該反応混合物は水素雰囲気下に攪拌された。試料は、ＥｔＯＡｃ：ヘキサンの４：１によりシリカゲルにおいてろ過され、そして蒸発された。ｅ．ｅ（鏡像体過剰率）はキラルＧＣ又はＨＰＬＣにより測定され、転化率は１Ｈ‐ＮＭＲにより測定された。反応が終了したとき、試料として同一の方法により、反応混合物は処理されそして蒸発された。結果は表に記載されている。
【００３７】
方法Ｂ．（予備水素化なしの）０．１ＭＰａにおける水素化実験
Ｒｈ（ＣＯＤ）２ＢＦ４（０．０１０ミリモル）、キラルリガンド（０．０２２ミリモル）及び基質（０．２ミリモル）が、ゴム隔膜キャップ及び攪拌棒を備えたＳｃｈｌｅｎｋチューブに秤量された。３回の真空／窒素サイクルの後に、５ミリリットルの新しく蒸留された溶媒が隔膜キャップを通して加えられ、そして反応混合物が０．１ＭＰａの水素雰囲気下で攪拌された。試料及び反応混合物は、方法Ａにおいて述べられたように処理された。結果は表に示されている。
【００３８】
方法Ｃ．０．５ＭＰａにおける水素化
Ｒｈ（ＣＯＤ）２ＢＦ４、キラルリガンド（Ｒｈに対して２．２モル当量）、及びＣＨ２Ｃｌ２（１０ミリリットル）がＳｃｈｌｅｎｋ容器中に加えられ、そして窒素雰囲気下で攪拌された。触媒溶液が、注射器を使用することにより５０ミリリットルのＢｕｃｈｉミニクレーブに移された。ＣＨ２Ｃｌ２以外の溶媒が水素化に適用されたとき、Ｒｈ（ＣＯＤ）２ＢＦ４及びキラルリガンドはまず、１０分間、窒素雰囲気下で室温において攪拌することによりＣＨ２Ｃｌ２に溶解され、ＣＨ２Ｃｌ２が真空下で蒸発され、所望の溶媒（１０ミリリットル）が加えられ、そして続いて、この触媒溶液はＢｕｃｈｉミニクレーブに移された。
【００３９】
多くの場合に、この溶液は、０．１ＭＰａの水素雰囲気下で１時間予備水素化された。１０ミリリットルの溶媒中に溶解された基質（０．８ミリモル）がＢｕｃｈｉミニクレーブに加えられ、そして０．５ＭＰａの水素圧力が加えられた。試料及び反応混合物は方法Ａにおいて述べられたように処理された。結果は表に示されている。
【００４０】
方法Ｄ．６ＭＰａにおける水素化
Ｒｈ（ｎｂｄ）２ＢＦ４（４．０ミリグラム、０．００９９ミリモル）及び８．６グラムのキラルリガンド１（０．０２２ミリモル）が、マグネチック攪拌機及び隔膜キャップを備えたＳｃｈｌｅｎｋチューブ中の（２．５ミリリットル、脱ガスされた）ＣＨ２Ｃｌ２に窒素雰囲気下で溶解された。橙色の溶液が室温で５分間攪拌され、そして該溶媒が蒸発により除去された。触媒は（２０ミリリットル、脱ガスされた）ＥｔＯＡｃに溶解された。α‐アセトアミドケイ皮酸エステル（２４０ミリグラム、１．０９ミリモル）が１２５ミリリットルのＰａｒｒオートクレーブに加えられた。３回の窒素加圧（０．２９ＭＰａ）−圧力放出サイクルの後にＥｔＯＡｃ（３０ミリリットル）が加えられた。橙色の触媒溶液（２０ミリリットル）が、注射器を使用することによりオートクレーブに加えられ、そして６．０ＭＰａの水素圧力が与えられた。反応混合物は、プロペラ攪拌羽根を持つ上部攪拌機を使用して６８０ｒｐｍで攪拌された。試料は、４、１０及び２０間後に採取された。反応は４分間後に完結されていることが証明された。Ｎ‐アセチル‐フェニルアラニンメチルエステルへの転化率は、９７％の鏡像体過剰率を伴って９９％を超えていた。表２をまた参照せよ。
【００４１】
方法Ｅ．種々の水素圧力における種々のオレフィン及びエナミドの水素化
Ｒｈ（ＣＯＤ）２ＢＦ４、キラルリガンド（Ｒｈに対して２．２モル当量）、基質及び溶媒がオートクレーブ中に秤取られた。オートクレーブは閉じられ、そして３回の窒素加圧（０．２９ＭＰａ）−圧力放出サイクルにより不活性化された。所望の水素圧力が与えられ、そして反応混合物が、プロペラ攪拌羽根を持つ上部攪拌機を使用して５００ｒｐｍで攪拌された。反応は水素採取により監視された。結果は表６に示されている。
【００４２】
【表１】
表１
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【００４３】
【表２】
表２　高められた圧力における２‐アセトアミド‐ケイ皮酸メチルエステルとキラルリガンド１との水素化（実施例ＩＶ参照）
2004502543.tif 000013
【００４４】
【表４】
表４　本発明の触媒を使用する種々のオレフィンの水素化（実施例ＩＶ参照、方法Ｂ、転化率＞９９％）
2004502543.tif 000014
【００４５】
【表５】
表５　本発明の触媒を使用するイタコン酸及び誘導体の水素化（室温における実施例ＩＶ参照）
2004502543.tif 000015
【００４６】
【表６】
表６　本発明の触媒を使用するエナミドの水素化（実施例ＩＶ参照、ＣＨ２Ｃｌ２中、室温における、転化率＞９９％）
2004502543.tif 000016
【００４７】
【比較例】
（本発明の部分を形成しない）キラル二座リガンドによる水素化
１．１モル当量のキラルリガンドを用いたこと以外は、方法Ａ（実施例ＩＶ参照）に従って、２‐アセトアミドケイ皮酸メチルエステルを水素化した。結果は表３に与えられている。該結果は、二座のホスホルアミドリガンドが低いエナンチオ選択性を伴う緩慢な反応を通常もたらすことを示している。
【００４８】
【表３】
表３
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【００４９】
本発明の部分を形成しない二座のリガンド
【化１０】
2004502543.tif 000018
【００５０】
【実施例Ｖ】
アセトフェノンの水素化
触媒錯体Ｒｕ（リガンド）（ジアミン）Ｃｌ２の合成
［ＲｕＣｌ２（ｐ‐シメン）］２（９ミリグラム）及び２当量のリガンド１（２１．９ミリグラム）が、Ｎ２雰囲気下にＳｃｈｌｅｎｋフラスコ内に入れられた。ＤＭＦ（１．０ミリリットル）が加えられ、そして混合物が３回の真空／Ｎ２サイクルにより脱ガスされた。次いで、それが１６〜２４時間６５℃（又は３時間９０℃）で攪拌された。ＲｕＣｌ２（リガンド）２（ｄｍｆ）ｎ錯体が形成された。次いで、それは室温に冷却され、そして１当量の（Ｓ，Ｓ）‐１，２‐ジフェニル‐１，２‐ジアミノエタン（ＤＰＥＮ）（６．３ミリグラム）が加えられた。更に１６〜２４時間混合物を攪拌した後、それは水素化のために使用された。
【００５１】
分光データ：ＲｕＣｌ２（リガンド）２（ｄｍｆ）ｎＰ‐ＮＭＲ：１４８．８ｐｐｍ；Ｒｕ（リガンド）（ＤＰＥＮ）Ｃｌ２Ｐ‐ＮＭＲ：１４７．７（フリーリガンド）及び１７２．２（錯体）ｐｐｍ
【００５２】
式Ｒｕ（Ｌ）Ｃｌ２［（Ｓ，Ｓ）‐１，２‐ジフェニルエチレンジアミン］（０．１ミリモル）、及び基質（１０ミリモル）の予め形成された錯体がオートクレーブ中に秤取られた。ゆっくりとした窒素流の下に、脱ガスされたＭｅＯＨ（５０ミリリットル）及びＫ２ＣＯ３（２．０ミリモル）が加えられ、そしてオートクレーブが閉じられ、そして３回の窒素加圧（０．２９ＭＰａ）−圧力放出サイクルにより不活性化された。所望の水素圧力（５．０ＭＰａ）及び温度（５０℃）が与えられ、そして反応混合物が、プロペラ攪拌羽根を持つ上部攪拌機を使用して５００ｒｐｍで攪拌された。
【００５３】
結果：
Ｌ＝リガンド１：４５分後、５８％鏡像体過剰率を伴って９３％転化率
Ｌ＝リガンド１、ここで、Ｎ−メチル基はｉ−プロピル基により置き換えられる。１５０分後、６７％鏡像体過剰率を伴って９８％転換率
【００５４】
【実施例ＶＩ】
リガンド１のルテニウム（ＩＩ）及びイリジウム（Ｉ）錯体を使用する非対称移動水素化
【化１１】
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【００５５】
インジウム（Ｉ）触媒を使用するアセトフェノンの非対称還元
乾燥、脱ガスされたイソプロパノール（５ミリリットル）中の［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］２（０．０１ミリモル、０．２５モル％、６．７ミリグラム）及びリガンドとしての（Ｓ）−１（０．０４ミリモル、１モル％、１４．４ミリグラム）の混合物が、窒素雰囲気下に１時間８０℃で加熱された。室温に冷却した後、触媒溶液が、乾燥、脱ガスされたイソプロパノール（３５ミリリットル）中のカリウムターシャリー−ブトキシド（０．１２５ミリモル、３．１２５モル％、１４．０ミリグラム）及びアセトフェノン（４ミリモル、４７１マイクロリットル）の溶液に加えられた。反応は、示された時間の間、窒素雰囲気下で室温において攪拌され、そしてＧＣ分析により監視された。結果は表７に与えられている。
【００５６】
ルテニウム（ＩＩ）触媒を使用するアセトフェノンの非対称還元
乾燥、脱ガスされたイソプロパノール（５ミリリットル）中の［ＲｕＣｌ２（ｐ‐シメン）］２（０．０１２５ミリモル、０．２５モル％、７．７ミリグラム）及びリガンドとしての（Ｓ）−モノホス（Ｍｏｎｏｐｈｏｓ）（０．０５ミリモル、１モル％、１８．０ミリグラム）の混合物が、窒素雰囲気下に１時間８０℃で加熱された。室温に冷却した後、触媒溶液が、乾燥、脱ガスされたイソプロパノール（４０ミリリットル）中のカリウムターシャリー−ブトキシド（０．１５ミリモル、３モル％、１６．８ミリグラム）及びアセトフェノン（５ミリモル、５８８マイクロリットル）の溶液に加えられた。反応は、示された時間の間、窒素雰囲気下で室温において攪拌され、そしてＧＣ分析により監視された。結果は表７に与えられている。
【００５７】
【表７】
表７　ルテニウム及びイリジウム錯体により触媒作用されたアセトフェノンとイソプロパノールとの非対称移動水素化
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【国際公開パンフレット】
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2004502543.tif 000024
2004502543.tif 000025
2004502543.tif 000026
2004502543.tif 000027
2004502543.tif 000028
2004502543.tif 000029
2004502543.tif 000030
2004502543.tif 000031
2004502543.tif 000032
2004502543.tif 000033
2004502543.tif 000034
2004502543.tif 000035
2004502543.tif 000036
2004502543.tif 000037
2004502543.tif 000038
2004502543.tif 000039
2004502543.tif 000040
2004502543.tif 000041
2004502543.tif 000042
2004502543.tif 000043
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2004502543.tif 000047
2004502543.tif 000048
2004502543.tif 000049
【国際公開パンフレット（コレクトバージョン）】
2004502543.tif 000050
【国際調査報告】
2004502543.tif 000051
2004502543.tif 000052
2004502543.tif 000053
2004502543.tif 000054
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