(57)【要約】【課題】 常圧プラズマ噴射装置を提供する。【解決手段】 平行に離隔された状態で配置される複数枚の誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄと、誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄが固定され、それら誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ間に気体を供給するガス供給部１４と、誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ間のガス供給部１４側に線形的に設置される電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃと、それぞれの誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄの端部に形成された接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄと、電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃ及び接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄに高周波電源を印加する高周波電源供給部１７とを備えることを特徴とする常圧プラズマ噴射装置。
2006526253.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平行に離隔された状態で配置される複数枚の誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄと、
前記誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄが固定され、それら誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ間に気体を供給するガス供給部１４と、
前記誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ間の前記ガス供給部１４側に線形的に設置される電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃと、
それぞれの前記誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄの端部に形成された接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄと、
前記電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃ及び接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄに高周波電源を印加する高周波電源供給部１７とを備えることを特徴とする常圧プラズマ噴射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、常圧でプラズマを噴射する装置に係り、詳細には、誘電体パネル間に高周波電源を印加し、その誘電体パネル間を流れる任意のガスをプラズマ状態に作って噴射する常圧プラズマ噴射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１は、従来常圧プラズマ噴射装置の正面図であり、図２は、図１の常圧プラズマ噴射装置をＡ方向から見た図面である。
【０００３】
図示されたように、一般的な常圧プラズマ噴射装置は、ガス供給部４に一対の誘電体パネル３、３’を設置し、その誘電体パネル３、３’の表面に向かうように平板型電極２、２’を形成することによって具現された。このようなプラズマ噴射装置において、高周波電源供給部１が両電極２、２’に高周波電源を印加し、その状態で誘電体パネル３、３’間にガスを流せば、そのガスはプラズマになって誘電体パネル３、３’の端部から噴射される。このようなプラズマは、ＬＣＤやＰＤＰ、ウェハなどのような被処理物に噴射されることによって、被処理物を洗浄するようになる。
【０００４】
ところが、前記一プラズマ噴射装置において、荷電粒子で構成されるプラズマは、両電極２、２’間の電界によって両誘電体パネル３、３’間に拘束される傾向が強い。したがって、プラズマが電界によって拘束されるので、ガス供給部４からガスが供給され続けても、結果的に両誘電体パネル３、３’からプラズマがよく噴射されないという問題点があった。
【０００５】
それを克服するために、高い電圧及び高い周波数を利用してプラズマの量を増やそうとする努力をしているが、これも高い電圧により外部とのアーク発生、電力消耗増加などの問題点を引き起こした。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、前記のような問題点に鑑みてなされたものであり、さらに少ない電力でプラズマを発生させ、そのプラズマを外部に効果的に噴射させうる常圧プラズマ噴射装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記のような目的を達成するために、本発明による常圧プラズマ噴射装置は、平行に離隔された状態で配置される複数枚の誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄと、前記誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄが固定され、それら誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ間に気体を供給するガス供給部１４と、前記誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ間の前記ガス供給部１４側に線形的に設置される電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃと、それぞれの前記誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄの端部に形成された接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄと、前記電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃ及び接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄに高周波電源を印加する高周波電源供給部１７とを備えることを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、添付された図面を参照して本発明による常圧プラズマ噴射装置を詳細に説明する。
【０００９】
図３は、本発明による常圧プラズマ噴射装置の正面図であり、図４は、図３の常圧プラズマ噴射装置をＢ方向から見た図面である。
【００１０】
図示されたように、本発明による常圧プラズマ噴射装置は、平行に離隔された状態で配置される複数枚の誘電体パネル、本実施形態では、４枚の誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄと、それぞれの誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄが固定され、それら誘電体パネル間にガスを供給するガス供給部１４と、それぞれの誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ間にガス供給部１４側に線形的に設置される電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃと、それぞれの誘電体パネルの端部に形成された接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄと、電源電極及び接地電極に高周波電源を印加する高周波電源供給部１７を備える。
【００１１】
誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄそれぞれは、垂直方向に一定の間隔をなして配置されて板状であることが望ましい。この時、誘電体パネルは、絶縁性の良い必要がある。
【００１２】
ガス供給部１４は、誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ間にガスを噴射するものである。この時に噴射するガスとしては、アルゴンのような不活性ガス、酸素、水素、化合物ガスなど多様な種類のガスを使用できる。
【００１３】
電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃは、誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ間に線形的に、すなわち、電線形態に形成されたものである。
【００１４】
接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄは、それぞれの誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄの端部に形成されている。このような接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄは、誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄの端部にコーティングするか、または挿入することで具現できる。
【００１５】
高周波電源供給部１７は、電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃ及び接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄに周波数が数ｋＨｚ〜数百ｋＨｚの高周波電源を印加し、本実施形態では、３２ｋＨｚの周波数の電源を印加する。
【００１６】
前記の構造によれば、高周波電源供給部１７が、電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃ及び接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄに高周波電源を印加し、ガス供給部１４が誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄ間にガスを流せば、そのガスはプラズマ状態になり、誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄの端部から外部に噴射される。
【００１７】
この時、電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃと接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄとの間に発生した伝導性プラズマによって、電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃにかかった高周波の高電圧がプラズマをよって移動する。すなわち、電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃに形成された電圧が接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄ側に移動する効果が現れる。この時、接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄが位置した誘電体パネル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ、１３ｄの表面上にプラズマ外装がとても短く形成され、この外装の外のプラズマは高電圧を維持するため、そのプラズマと接する一般中性粒子は、高電圧によってプラズマ状態になりつつ結果的にガスの噴射方向に長いプラズマが形成される。このように形成されたプラズマガスは、電源電極１５ａ、１５ｂ、１５ｃと接地電極１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄとの電界によってよく拘束されなくなり、したがって、従来のプラズマ噴射装置に比べてプラズマガスが遠く噴射できる。
【００１８】
また、複数枚の誘電体パネルを平行に配置し、それら誘電体パネルの上部及び端部に電源電極及び接地電極を形成することによって、より多量のガスをプラズマ状態に作ることができる。
【００１９】
そのように、さらに多量のプラズマガスを作ってさらに遠く噴射させることができるので、ＬＣＤ、ＰＤＰ、半導体製造工程、ＰＣＢ洗浄、ポリマー表面改質などの工程における被処理物をさらに大量にかつ効果的に洗浄できる。
【産業上の利用可能性】
【００２０】
前述したように、本発明による常圧プラズマ噴射装置によれば、誘電体パネルの上部及び端部に電源電極及び接地電極を形成し、その電極間に高周波電源を印加することによって、誘電体パネル間に噴射されるガスを常圧下でプラズマ状態に作ることができる。この時、電源電極及び接地電極によって形成される電界の方向とガスの噴射方向とが同一であるので、プラズマ状態になったガスは従来に比べてさらに遠くまで噴出させることができる。
【００２１】
さらに、複数枚の誘電体パネルを平行に配置し、それら誘電体パネルの上部及び端部に電源電極及び接地電極を形成することによって、より多量のガスをプラズマ状態に作ることができる。したがって、より多量のプラズマガスを作ってより遠く噴射させることができるので、ＬＣＤ、ＰＤＰ、半導体製造工程、ＰＣＢ洗浄、ポリマー表面改質などの工程における被処理物をさらに大量にかつ効果的に洗浄できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】従来の常圧プラズマ噴射装置の正面図である。
【図２】図１の常圧プラズマ噴射装置をＡ方向から見た図面である。
【図３】本発明による常圧プラズマ噴射装置の正面図である。
【図４】図３の常圧プラズマ噴射装置をＢ方向から見た図面である。
【符号の説明】
【００２３】
１４  ガス供給部
１５ａ、１５ｂ、１５ｃ  電源電極
１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄ  接地電極
１７  高周波電源供給部
【図１】
2006526253.tif 000003
【図２】
2006526253.tif 000004
【図３】
2006526253.tif 000005
【図４】
2006526253.tif 000006
【国際調査報告】
2006526253.tif 000007