(57)【要約】無機または有機基材表面への紫外線吸収剤層の形成方法が記載されている。  その方法は、ａ）低温プラズマ、コロナ放電または高エネルギー放射を、無機または有機基材表面に作用させ、ｂ）処理された無機または有機基材に、少なくとも１種のフリーラジカル形成性開始剤と、１個以上のエチレン性不飽和基を含む少なくとも１種の紫外線吸収剤と、場合により、溶融物、溶液、懸濁液または乳濁液の形態で、少なくとも１種の相乗剤および／または少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物を適用し、ｃ）被覆された基材を加熱するか、および／またはそれに電磁波を照射する、ことを含む。  本発明はまた、その方法によって紫外線吸収剤層を付与された基材に関する。その方法は、実質的に、真空条件および過度な熱ストレスまたはエネルギーストレス、ならびにまた、紫外線吸収剤の分解を伴わない。良好に接着している、澄んだ、透明な紫外線吸収剤層が形成され、その特性、例えば光学濃度は、有利に調節可能である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）低温プラズマ、コロナ放電または高エネルギー放射を、無機または有機基材表面に作用させ、
ｂ）処理された無機または有機基材に、少なくとも１種のフリーラジカル形成性開始剤と、１個以上のエチレン性不飽和基を含む少なくとも１種の紫外線吸収剤と、場合により、溶融物、溶液、懸濁液または乳濁液の形態で、少なくとも１種の相乗剤および／または少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物を適用し、
ｃ）被覆された基材を加熱し、および／またはそれに電磁波を照射する、
ことを含む、無機または有機基材表面への紫外線吸収剤層の形成方法。
【請求項２】
被覆された基材が、粉末、繊維、フェルト、織布、フィルムまたは成形品の形態である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
基材が、合成ポリマー、天然ポリマー、金属酸化物、ガラス、半導体、石英もしくは金属であるか、またはそのような材料を含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
基材が、ホモポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマーおよび／またはコポリマーであるか、あるいはそれらを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
有機基材が、ポリカーボネート、ポリエステル、ハロゲン含有ポリマー、ポリアクリレート、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリスチレンおよび／またはポリエーテルであるか、あるいはそれらを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
開始剤として、過酸化物、ペルオキソジカーボネート、ペルサルフェート、ベンゾピナコール、ジベンジル、ジスルフィド、アゾ化合物、レドックス系、ベンゾイン、ベンジルケタール、アセトフェノン、ヒドロキシアルキルフェノン、アミノアルキルフェノン、アシルホスフィンオキシド、アシルホスフィンスルフィド、アシルオキシイミノケトン、ペルオキシ化合物、ハロゲン化アセトフェノン、フェニルグリオキシレート、ベンゾフェノン、オキシム、オキシムエステル、チオキサントン、フェロセン、チタノセン、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、オニウム塩、ボレート、トリアジン、ビスイミダゾール、ポリシランおよび／または染料を含み、さらに、所望により、共開始剤および／または増感剤が存在する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
紫外線吸収剤として、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニルベンゾフェノン、シュウ酸アミド、トリアジン、オキサルアニリド、シアノアクリレート、サリチル酸および／またはヒドロキシフェニルピリミジンを用いることを含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
相乗剤が、立体障害アミン、アミノエーテル（＞ＮＯＲ化合物）、ベンゾオキサジンおよび／またはチオエーテルである、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
エチレン性不飽和化合物を、モノマー、オリゴマーおよび／またはポリマーの形態で用いることを含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
エチレン性不飽和モノマー、オリゴマーおよび／またはポリマーが、一−、二−、三−、四−もしくは多官能性ビニルエーテル、アクリレートおよび／またはメタクリレートである、請求項９または１０に記載の方法。
【請求項１１】
プラズマガスとして、不活性ガスまたは不活性ガスと反応性ガスとの混合物を用いることを含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
プラズマガスとして、または不活性ガスと反応性ガスとの混合物として、空気、Ｈ2、Ｎ2、Ｈｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、Ｏ2および／またはＨ2Ｏを用いる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
工程ｂ）で使用される液が、約０．０１〜２０重量％、特に約０．１〜５重量％の量の開始剤を含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
工程ｂ）で使用される液が、約０．１〜９９重量％、特に約０．１〜５０重量％の量の紫外線吸収剤を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
工程ｂ）で使用される液が、約０．１〜５０重量％、特に約０．１〜３０重量％の量のエチレン性不飽和化合物を含む、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
工程ｂ）で使用される液が、コーティング工業で慣用の添加剤、特に、消泡剤、乳化剤、界面活性剤、防汚剤および／または湿潤剤を含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
乾燥状態で、単分子層から２mmの厚さで、特に、約１〜１，０００μｍの厚さで、紫外線吸収剤層を形成することを含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
工程ｃ）において、開始剤を活性化するために、オーブン中で、暖かいガスで、加熱ローラーで、赤外線放射で、および／またはマイクロ波で加熱を行い、場合により、予め乾燥工程を行う、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
工程ｃ）における照射を、波長２００〜２０，０００nmの電磁波を用いるか、または電子線を用いて行い、場合により、予め乾燥工程を行う、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
工程ｃ）を不活性ガス雰囲気中で、または空気中で行うことを含む、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の方法に従って得られる、紫外線吸収剤層を有する基材。
【請求項２２】
紫外線吸収剤層が、紫外線吸収剤の吸収極大において、約０．１〜６、特に約０．５〜４の光学濃度を有する、請求項２１に記載の基材。
【請求項２３】
光学濃度が約１〜３である、請求項２２に記載の基材。
【請求項２４】
紫外線吸収剤層中の紫外線吸収剤の割合が、少なくとも約１０重量％、特に、少なくとも約１５重量％である、請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の基材。
【請求項２５】
紫外線吸収剤の割合が、少なくとも約２０重量％である、請求項２４に記載の基材。
【請求項２６】
特に光学的用途のための、保護層および／またはフィルターとしての、請求項２１〜２５のいずれか一項に記載の基材の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機基材または無機基材表面におけるコヒーレントな紫外線吸収層の形成方法に関する。
【０００２】
ＵＳ−Ａ−５１５６８８２には、ＴｉＯ2または他の遷移金属酸化物からの紫外線吸収層の製造が記載されており、それらの層は、プラズマアシスト蒸着（plasma-assisted deposition）の手段によって得られる。無機酸化物の蒸着において生じる問題は、通常、基材との不適当な接着しか達成されず、そのため、追加的に、ＳｉＯ2のような中間層を構築する必要があることである。そのような紫外線吸収性無機層は、一般に、可視領域において完全には透明ではなく、このことは、多くの用途に対して不都合である。
【０００３】
この不都合を克服するために、プラズマ法を用いて、純粋に有機層の蒸着による紫外線吸収性コーティングを製造する試みがなされてきた。そこで、例えば、ＤＥ−Ａ−１９５２２８６５号には、式（Ａ）：
【０００４】
【化１】
2006503137.tif 000002
【０００５】
の構造要素を含む化合物を用いる、紫外線吸収層を製造するための、ＰＥＣＶＤ（プラズマ化学蒸着、plasma enhanced chemical vapor deposition）法が記載されている。
【０００６】
ＪＰ  ６−２５４４８号公報（１９９４年２月１日）には、ポリマー材料表面における公知の紫外線吸収剤、例えば、サリチル酸フェニル、２−ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールおよびシアノアクリレートのプラズマ重合法が記載されている。
【０００７】
ＷＯ９９／５５４７１号には、トリアジン紫外線吸収剤のプラズマアシスト真空蒸着が記載されており、その方法では、紫外線吸収剤を蒸発させ、基材表面へ蒸着させる間に、同時にプラズマに曝す。しかしながら、その方法は、真空中で行う必要があり、基材は（蒸発のために）高温にされ、また高レベルのエネルギー（紫外線およびプラズマからの高エネルギー種）に曝される。
【０００８】
有機化合物のプラズマアシスト蒸着は、しばしば、分子レベルでの予見できない構造の変形をもたらす。分解反応および他の変化が、特に、分子中に官能基が存在する場合に生じる。官能基は、プラズマ中で、容易に酸化し、あるいは開裂する。さらに、用いられた分子は、短波長放射、およびプラズマ中に存在するイオンやフリーラジカル等の高エネルギー種により、完全に破壊されることがある。蒸着フィルムは、したがって、当初用いられた化合物よりはるかに低いか、あるいは完全に異なる吸収特性を有することがあり、そのため、異なる保護特性をも有する。吸収に加えて、フィルム中の蒸着化合物の光化学的安定性は、当初の化合物とは異なることがあり、そのため、蒸着フィルムの長期保護作用は、従来のコーティングにおいて当初の化合物で期待されるものとは相当に異なることがある。
【０００９】
上記のプラズマ法も、同様に、真空中で行う必要があり、したがって、複雑な装置と手間のかかる手順を必要とする。さらに、適用すべき、あるいは重合すべき化合物を蒸発させて、基材表面で再凝縮させる必要があり、このことは、高度の熱ストレスをもたらし、多くの場合、分解に至らしめる。さらに、蒸発および蒸着速度は低く、適切な厚さの層および／または適度に高レベルの吸収を有する層の製造は、困難で、かつ根気を必要とするという結果となる。
【００１０】
驚くことに、ここに、上記の不都合のない、紫外線吸収層の製造を可能とする方法が見出された。
【００１１】
本発明は、ａ）低温プラズマ、コロナ放電および／または高エネルギー放射を、無機または有機基材表面に作用させ、ｂ）処理された無機または有機基材に、少なくとも１種のフリーラジカル形成性開始剤と、１個以上のエチレン性不飽和基を含む少なくとも１種の紫外線吸収剤と、場合により、溶融物、溶液、懸濁液または乳濁液の形態で、少なくとも１種の相乗剤および／または少なくとも１種のエチレン性不飽和化合物を適用し、そしてｃ）被覆された基材を加熱するか、および／またはそれに電磁波を照射する、ことを含む、無機または有機基材表面へのコヒーレントな紫外線吸収剤層の形成方法に関する。
【００１２】
その方法の利点は、一方では、そのような手順で、真空条件を回避することができることである。紫外線吸収剤への過度の熱ストレスやエネルギーストレス、あるいは紫外線吸収剤の破壊も、同様に完全に回避される。溶液中の紫外線吸収剤のスペクトルと比べて、生成された層の吸収スペクトルは全く変化がなく、分子構造が完全に保たれていることを示す。上記の方法を用いて、良好な接着性をも示す、澄んだ透明な層が基材表面に形成される。エチレン性一不飽和化合物または多不飽和化合物（モノマーまたはオリゴマー）を組み合わせて、製造される層の機械的性質を広い範囲で変化させることが可能である。厚い紫外線吸収剤層を迅速に、かつ簡単に得ることができ、また、光学濃度の調節も同様に簡単になる。保護作用は、光安定剤を組み合わせることにより、さらに向上させることができる。
【００１３】
有機物質、特にポリマーの場合、紫外線による損傷に対する保護および安定化は、従来、材料のバルクに紫外線吸収剤を添加することにより達成されている。しかしながら、光強度が最高であり、その結果、損傷も最も大きい、表面に近い領域において、紫外線吸収剤が高濃度であることが望ましい。表面に近い領域において適切な保護を達成するためには、５重量％までの、相対的に高濃度の紫外線吸収剤を使用することが必要であるが、紫外線吸収剤は、材料中で均一に分布しており、紫外光が侵入できないか、あるいはほんの少ししか侵入できない領域にも存在する。光は、限られた深さにしか侵入しないので、より深いところにある層には透過できず、そのような領域においては、紫外線吸収剤をより少ない濃度でしか必要としないか、あるいは紫外線吸収剤を必要としない。このことは、従来の方法では、多すぎる量の紫外線吸収剤を使用せざるを得なかったということを意味する。本明細書に記載の方法では、紫外線吸収剤は、必要とされるところのみ、すなわち、材料の表面のみに存在するため、その使用量を、かなり減少させることができる。
【００１４】
基材は、粉末、繊維、フェルト、織布、フィルムまたは成形品であるか、あるいは三次元の加工製品の形態でありうる。好ましい基材は、合成もしくは天然ポリマー、金属酸化物、ガラス、半導体、石英または金属であるか、あるいはそのような物質を含む材料である。特に好ましい基材は、ホモポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマーおよび／またはコポリマーを含むものである。半導体基材として、特に、ケイ素、例えば、「ウエハ」の形態にあるものがある。例示されうる金属は、特に、高品質の鏡、例えば望遠鏡用の鏡、または車両用ヘッドランプ反射板の製造に使用される、アルミニウム、クロム、鋼鉄、バナジウムである。アルミニウムが特に好ましい。
【００１５】
天然および合成のポリマーまたはプラスチックの例を、以下に列挙する。
【００１６】
ｉ）モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えば、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、および同様にシクロオレフィン、例えばシクロペンテンもしくはノルボルネンの重合物；ならびに、また、（場合により架橋された）ポリエチレン、例えば、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高分子量の高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、超高分子量の高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、および鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）と（ＵＬＤＰＥ）；
【００１７】
ii）区分ｉ）に記載のポリマーの混合物、例えば、ポリプロピレンとポリイソブチレンの混合物、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、および異なる種類のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）；
【００１８】
iii）モノオレフィンおよびジオレフィンの、それぞれ、または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えば、エチレン／プロピレンコポリマー、鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテン−１コポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテン−１コポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブテン／イソプレンコポリマー、エチレン／アクリル酸アルキルコポリマー、エチレン／メタクリル酸アルキルコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマーおよびそれらと一酸化炭素とのコポリマー、またはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩（アイオノマー）、ならびにエチレンとプロピレンおよびジエンとの、例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネンとのターポリマー；ならびにまた、そのようなコポリマー同士または区分ｉ）に記載のポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン−エチレン／プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ−エチレン／酢酸ビニルコポリマー、ＬＤＰＥ−エチレン／アクリル酸コポリマー、ＬＬＤＰＥ−エチレン／酢酸ビニルコポリマー、ＬＬＤＰＥ−エチレン／アクリル酸コポリマー、および交互またはランダム構造のポリアルキレン−一酸化炭素コポリマーおよびそれと他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物；
【００１９】
iv）その水素化変性を包含する炭化水素樹脂（例えば、Ｃ5〜Ｃ9）（例えば、粘着付与剤樹脂）およびポリアルキレンとデンプンの混合物；
【００２０】
ｖ）ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）；
vi）スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えば、スチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／メタクリル酸アルキル、スチレン／ブタジエン／アクリル酸およびメタクリル酸アルキル、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／アクリル酸メチル；スチレンコポリマーと他のポリマー、例えば、ポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーからなる耐衝撃性の混合物；ならびにまた、スチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレン−ブタジエン／スチレンまたはスチレン／エチレン−プロピレン／スチレン；
【００２１】
vii）スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えば、ポリブタジエンへのスチレン、ポリブタジエン／スチレンもしくはポリブタジエン／アクリロニトリルコポリマーへのスチレン、ポリブタジエンへのスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタクリロニトリル）；ポリブタジエンへのスチレン、アクリロニトリルおよびメタクリル酸メチル；ポリブタジエンへのスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンへのスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸もしくはマレイン酸イミド；ポリブタジエンへのスチレンおよびマレイン酸イミド、ポリブタジエンへのスチレンおよびアクリル酸アルキルもしくはメタクリル酸アルキル、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマーへのスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアクリル酸アルキルもしくはポリメタクリル酸アルキルへのスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーへのスチレンおよびアクリロニトリル、ならびにそれらと、区分vi）に記載のコポリマー、例えば、いわゆるＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡもしくはＡＥＳポリマーとして知られているもの等との混合物；
【００２２】
viii）ハロゲン含有ポリマー、例えば、ポリクロロプレン、塩素化ゴム、塩素化および臭素化イソブチレン／イソプレンコポリマー（ハロブチルゴム）、塩素化またはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンのコポリマー、エピクロロヒドリンのホモポリマーおよびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン；ならびにそれらのコポリマー、例えば、塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニル；
【００２３】
ix）α，β−不飽和酸およびそれらの誘導体に由来するポリマー、例えば、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、またはアクリル酸ブチルで耐衝撃性が改質されたポリメタクリル酸メチル、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル；
【００２４】
ｘ）区分ix）に記載のモノマー同士あるいは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えば、アクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アクリル酸アルキルコポリマー、アクリロニトリル／アクリル酸アルコキシアルキルコポリマー、アクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニトリル／メタクリル酸アルキル／ブタジエンターポリマー；
【００２５】
xi）不飽和アルコールおよびアミンから誘導されるポリマー、またはそれらのアシル誘導体もしくはアセタール例えば、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステアリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニルまたはポリマレイン酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリフタル酸アリル、ポリアリルメラミン；ならびにそれらと区分ｉ）に記載のオレフィンとのコポリマー；
【００２６】
xii）環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えば、ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビスグリシジルエーテルとのコポリマー；
xiii）ポリアセタール、例えば、ポリオキシメチレン、およびコモノマー、例えばエチレンオキシドを含むそれらのポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタンで、アクリレートで、またはＭＢＳで改質されたポリアセタール；
xiv）ポリフェニレンオキシドおよびスルフィドならびにそれらとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物；
xv）一方に末端ヒドロキシル基、そして他方に脂肪族または芳香族ポリイソシアネートを有するポリエーテル、ポリエステルおよびポリブタジエンから誘導されるポリウレタン、ならびにそれらの初期生成物；
【００２７】
xvi）ジアミンとジカルボン酸から、そして／またはアミノカルボン酸もしくは対応するラクタムから誘導されるポリアミドおよびコポリアミド、例えば、ポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンとアジピン酸から誘導される芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンとイソ−および／またはテレフタル酸および場合により改質剤としてエラストマーから調製されるポリアミド、例えば、ポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド。上記のポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー、または化学的に結合した、もしくはグラフト化したエラストマーとのブロックコポリマー；あるいはポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー。同じく、ＥＰＤＭまたはＡＢＳで改質されたポリアミドまたはコポリアミド；ならびに加工中に縮合したポリアミド（「ＲＩＭポリアミド系」）；
【００２８】
xvii）ポリウレア、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンズイミダゾール；
xviii）ジカルボン酸とジアルコールから、および／またはヒドロキシカルボン酸もしくは対応するラクトンから誘導されるポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエート、ならびにまた、ヒドロキシル末端基を有するポリエステルから誘導されるブロックポリエーテルエステル；ならびにまた、ポリカーボネートまたはＭＢＳで改質されたポリエステル；
xix）ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネート；
xx）ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン；
【００２９】
xxi）一方をアルデヒドとし、他方をフェノール、尿素またはメラミンとして誘導される架橋ポリマー、例えばフェノール−ホルムアルデヒド、尿素−ホルムアルデヒドおよびメラミン−ホルムアルデヒド樹脂；
xxii）乾燥性および非乾燥性アルキド樹脂；
xxiii）飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとのコポリエステルと架橋剤としてのビニル化合物から誘導される不飽和ポリエステル樹脂、ならびにまた、ハロゲンを含有するそれらの難燃性改質物；
xxiv）置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリエステルアクリレートから誘導される架橋性アクリル樹脂；
xxv）メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂；
【００３０】
xxvi）脂肪族、脂環式、ヘテロ環式、または芳香族グリシジル化合物から誘導される架橋エポキシ樹脂、例えば、促進剤と共に、または促進剤なしで慣用の硬化剤、例えば無水物またはアミンを用いて架橋された、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦのジグリシジルエーテル生成物；
xxvii）天然ポリマー、例えば、セルロース、天然ゴム、ゼラチン、またはポリマーを均一に化学的に変性したそれらの誘導体、例えば、酢酸、プロピオン酸および酪酸セルロース、ならびにメチルセルロース等のセルロースエーテル；ならびにまた、コロホニウム樹脂および誘導体；
【００３１】
xxviii）上記のポリマーの混合物（ポリブレンド），例えば、ＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００３２】
天然ポリマーの場合、特に好ましいものとして、炭素繊維、セルロース、デンプン、綿、ゴム、コロホニウム、木、亜麻、サイザル麻、ポリペプチド、ポリアミノ酸およびそれらの誘導体が挙げられる。
【００３３】
合成ポリマーは、好ましくは、ポリカーボネート、ポリエステル、ハロゲン含有ポリマー、ポリアクリレート、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリスチレンおよび／またはポリエーテルである。
【００３４】
合成材料は、フィルム、射出成形品、押出し加工品、繊維、フェルトまたは織布の形態であることができる。自動車産業用の部品のほかに、眼鏡またはコンタクトレンズ等の物品にも、薄い紫外線吸収層を提供しうる。
【００３５】
真空条件下にプラズマを得る可能な方法は、文献中に多く記載されている。電気エネルギーは、誘導的または容量性の手段により結合することができる。それは、直流または交流であってもよく、交流の周波数は、数kHzからMHzの範囲で変更できる。マイクロ波の範囲（GHz）での電力供給も可能である。プラズマの発生および維持の原理は、例えば、"Technology and Application of Plasma Chemistry"、J.R.HolahanおよびA.T.Bell編、Wiley, New York (1974)の中の、A.T.Bellによる"Fundamentals of Plasma Chemistry"、またはH.SuhrによるPlasma Chem. Plasma Process 3(1), 1, (1983)に記載されている。
【００３６】
使用されるプラズマガスは、不活性ガスまたは不活性ガスと反応性ガスとの混合物のいずれであってもよい。一次プラズマガスとして、例えば、Ｈｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、Ｎ2、Ｏ2、Ｈ2、水蒸気または空気を使用してもよい。本発明に係る方法は、電気エネルギーの結合に関して、本来的に鋭敏ではない。この方法は、例えば回転ドラム中で、回分操作で行うことができ、あるいは、フィルム、繊維または織布の場合には、連続操作で行うことができる。そのような手順は公知であり、先行技術に記載されている。
【００３７】
本方法はまた、コロナ放電条件下で行うこともできる。コロナ放電は、常圧条件下で発生し、最もよく使用されるイオン化ガスは、空気である。しかしながら、原理的に、例えばCOATING Vol. 2001, No. 12, 426, (2001)に記載されているように、他のガスおよび混合物も可能である。コロナ放電におけるイオン化ガスとしての空気の利点は、操作を外部に開かれた装置中で行うことができることと、例えば、フィルムを放電電極の間で連続的に引き送ることができることである。そのような方法のアレンジは、公知であり、例えば、J. Adhesion Sci. Technol. Vol. 7, No. 10, 1105 (1993)に記載されている。三次元加工品は、フリープラズマジェットを用いて処理することができ、その様子は、ロボットの支援を受けて追跡される。
【００３８】
本方法は、広い圧力範囲内で行うことができ、圧力が増大するにつれて、放電特性は、純粋な低温プラズマから、コロナ放電へとシフトし、ついには、約１，０００〜１，１００mbarの大気圧で、コロナ放電に変化する。
【００３９】
好ましくは、本方法は、１０-6mbarから大気圧（１，０１３mbar）のプロセス圧で、特にコロナ法の形態での大気圧で行われる。好ましくは、本方法は、プラズマガスとして、不活性ガスまたは不活性ガスと反応性ガスの混合物を用いることにより行われる。コロナ放電を用いる場合、使用されるガスは、好ましくは、空気、ＣＯ2および／または窒素である。好ましくは、Ｈ2、ＣＯ2、Ｈｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、Ｎ2、Ｏ2およびＨ2Ｏがプラズマガスとして、個々にあるいは混合物の形態のいずれかで使用される。無機または有機基材の処理ａ）を、１ms〜３００ｓ、特に、１０ms〜２００ｓの時間で行う場合に、特に有利な結果が得られる。
【００４０】
フリーラジカル形成性開始剤としては、加熱されたとき、および／または電磁波を照射されたときに、１種以上のフリーラジカルを発生するすべての化合物、または化合物の混合物が考慮される。そのような開始剤として、通常、熱的に活性化される化合物もしくは組合せ、例えば過酸化物およびヒドロペルオキシド（同じく促進剤、例えばアミンおよび／またはコバルト塩と組み合わせて）、ならびにアミノエーテル（ＮＯＲ化合物）に加えて、また、光化学的に活性化しうる化合物（例えば、ベンゾイン）もしくは発色団と共開始剤（例えば、ベンゾフェノンおよび第三級アミン）の組合せ、またはそれらの混合物が挙げられる。共開始剤と共に増感剤（例えば、第三級アミンと共にチオキサントン）または発色団と共に増感剤（例えば、アミノケトンと共にチオキサントン）を用いることも可能である。レドックス系、例えばＨ2Ｏ2と鉄（ＩＩ）塩との組合せも、同様に使用することができる。電子移動対、例えば、染料とボレートおよび／またはアミンを用いることも可能である。開始剤として、以下の種類：過酸化物、ペルオキソジカーボネート、ペルサルフェート、ベンゾピナコール、ジベンジル、ジスルフィド、アゾ化合物、レドックス系、ベンゾイン、ベンジルケタール、アセトフェノン、ヒドロキシアルキルフェノン、アミノアルキルフェノン、アシルホスフィンオキシド、アシルホスフィンスルフィド、アシルオキシイミノケトン、ペルオキシ化合物、ハロゲン化アセトフェノン、フェニルグリオキシレート、ベンゾフェノン、オキシムおよびオキシムエステル、チオキサントン、カンファーキノン、フェロセン、チタノセン、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、オニウム塩、アルキルボライド、ボレート、トリアジン、ビスイミダゾール、ポリシランおよび／または染料、ならびに共開始剤および／または増感剤、からの化合物または化合物の組合せを用いうる。
【００４１】
好ましい化合物は、過酸化ジベンゾイル、過酸化ベンゾイル、過酸化ジクミル、クミルヒドロペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシジカーボネート、メチルエチルケトンペルオキシド、ビス（４−tert−ブチルシクロヘキシル）ペルオキシジカーボネート、アンモニウムペルオキソモノサルフェート、アンモニウムペルオキソジサルフェート、過硫酸二カリウム、過硫酸二ナトリウム、Ｎ，Ｎ−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アソビス（２，４−ジメチルペンタンニトリル）、２，２′−アゾビス（２−メチルプロパンニトリル）、２，２′−アゾビス（２−メチルブタンニトリル）、１，１′−アゾビス（シアノシクロヘキサン）、tert−アミルペルオキソベンゾエート、２，２′−ビス（tert−ブチルペルオキシ）ブタン、１，１′−ビス（tert−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、２，５−ビス（tert−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン、２，５−ビス（tert−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチル−３−ヘキシン、１，１−ビス（tert−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、tert−ブチルヒドロペルオキシド、過酢酸tert−ブチル、過酸化tert−ブチル、tert−ブチルペルオキシベンゾエート、tert−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート、過酸化シクロヘキサノン、過酸化ラウロイル、過酸化２，４−ペンタンジオン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（tert−ブチルペルオキシ）ヘキサン、ジ（２−tert−ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン、オクタン酸コバルト、ジシクロペンタジエニルクロム、過酢酸、ベンズピナコールおよびジベンジル誘導体、例えば、ジメチル−２，３−ジフェニルブタン、３，４−ジメチル−３，４−ジフェニルヘキサン、ポリ−１，４−ジイソプロピルベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアンモニウムジブチルジチオカルバメート、Ｎ−tert−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、ベンゾチアジルジスルフィドおよびテトラベンジルチウラムジスルフィドである。
【００４２】
個々に、あるいは混合物でのいずれかで用いることのできる、光活性化しうる系の典型例を以下に記載する。例えば、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン、アセトフェノン誘導体、例えば、α−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケトンまたは２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパノン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキシ−もしくはα−アミノアセトフェノン、例えば、（４−メチルチオベンゾイル）−１−メチル−１−モルホリノエタン、（４−モルホリノベンゾイル）−１−ベンジル−１−ジメチルアミノプロパン、４−アロイル−１，３−ジオキソラン、ベンゾインアルキルエーテルおよびベンジルケタール、例えば、ベンジルジメチルケタール、フェニルグリオキサレートおよびそれらの誘導体、二量体フェニルグリオキサレート、モノアシルホスフィンオキシド、例えば、（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、例えば、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−（２，４，４−トリメチルペンタ−１−イル）ホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドまたはビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−（２，４−ジペンチルオキシフェニル）ホスフィンオキシド、トリスアシルホスフィンオキシド、フェロセニウム化合物またはチタノセン、例えば、（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［１，２，３，４，５，６−η）−（１−メチルエチル）ベンゼン］鉄（＋）−ヘキサフルオロホスフェート（−１）またはジシクロペンタジエニルビス（２，６−ジフルオロ−３−ピロロフェニル）チタン；スルホニウムおよびヨードニウム塩、例えば、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、（４−イソブチルフェニル）−ｐ−トリル−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート。
【００４３】
共開始剤として、例えば、スペクトル感度をシフトまたは拡大し、したがって、光重合の促進をもたらす光増感剤が考慮される。そのような光増感剤は、特に芳香族カルボニル化合物、例えば、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、特にまた、イソプロピルチオキサントン、アントラキノン誘導体および３−アシルクマリン誘導体、トリアジン、クマリン、ターフェニル、スチリルケトン、およびまた、３−（アロイルメチレン）−チアゾリン、カンファーキノン、ならびにまた、エオシン、ローダミンおよびエリスロシン染料である。共開始剤として、第三級アミン、チオール、ボレート、フェニルグリシン、ホスフィンおよび他の電子供与体を使用することも可能である。
【００４４】
光増感剤のさらなる例は、
ｉ）チオキサントン類、例えば、
チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−ドデシルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、１−メトキシカルボニルチオキサントン、２−エトキシカルボニルチオキサントン、３−（２−メトキシエトキシカルボニル）チオキサントン、４−ブトキシカルボニルチオキサントン、３−ブトキシカルボニル−７−メチルチオキサントン、１−シアノ−３−クロロチオキサントン、１−エトキシカルボニル−３−クロロチオキサントン、１−エトキシカルボニル−３−エトキシチオキサントン、１−エトキシカルボニル−３−アミノチオキサントン、１−エトキシカルボニル−３−フェニルスルフリルチオキサントン、３，４−ジ［２−（２−メトキシエトキシ）エトキシカルボニル］チオキサントン、１−エトキシカルボニル−３−（１−メチル−１−モルホリノエチル）チオキサントン、２−メチル−６−ジメトキシメチルチオキサントン、２−メチル−６−（１，１−ジメトキシベンジル）チオキサントン、２−モルホリノメチルチオキサントン、２−メチル−６−モルホリノメチルチオキサントン、Ｎ−アリルチオキサントン−３，４−ジカルボキシイミド、Ｎ−オクチルチオキサントン−３，４−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）チオキサントン−３，４−ジカルボキシイミド、１−フェノキシチオキサントン、６−エトキシカルボニル−２−メトキシチオキサントン、６−エトキシカルボニル−２−メチルチオキサントン、チオキサントン−２−ポリエチレングリコールエステル、２−ヒドロキシ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈ−チオキサントン−２−イルオキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミニウムクロリド；
【００４５】
ii）ベンゾフェノン類、例えば、
ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、４，４′−ジメチルベンゾフェノン、４，４′−ジクロロベンゾフェノン、４，４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４′−ジエチルアミノベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−（４−メチルチオフェニル）ベンゾフェノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、２−ベンゾイル安息香酸メチル、４−（２−ヒドロキシエチルチオ）ベンゾフェノン、４−（４−トリルチオ）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルベンゼンメタンアミニウムクロリド、２−ヒドロキシ−３−（４−ベンゾイルフェノキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミニウムクロリド一水和物、４−（１３−アクリロイル−１，４，７，１０，１３−ペンタオキサトリデシル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニル）オキシ］エチルベンゼンメタンアミニウムクロリド；
【００４６】
iii）３−アシルクマリン類、例えば、
３−ベンゾイルクマリン、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジ（プロポキシ）クマリン、３−ベンゾイル−６，８−ジクロロクマリン、３−ベンゾイル−６−クロロクマリン、３，３′−カルボニル−ビス［５，７−ジ−（プロポキシ）クマリン］、３，３′−カルボニルビス（７−メトキシクマリン）、３，３′−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−イソブチロイルクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジメトキシクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジエトキシクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジブトキシクマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジ（メトキシエトキシ）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジ（アリルオキシ）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジメチルアミノクマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−イソブチロイル−７−ジメチルアミノクマリン、５，７−ジメトキシ−３−（１−ナフトイル）クマリン、５，７−ジメトキシ−３−（１−ナフトイル）クマリン、３−ベンゾイルベンゾ［ｆ］クマリン、７−ジエチルアミノ−３−チエノイルクマリン、３−（４−シアノベンゾイル）−５，７−ジメトキシクマリン；
【００４７】
iv）３−（アロイルメチレン）チアゾリン類、例えば、
３−メチル−２−ベンゾイルメチレン−β−ナフトチアゾリン、３−メチル−２−ベンゾイルメチレン−ベンゾチアゾリン、３−エチル−２−プロピオニルメチレン−β−ナフトチアゾリン；
【００４８】
ｖ）他のカルボニル化合物、例えば、
アセトフェノン、３−メトキシアセトフェノン、４−フェニルアセトフェノン、ベンジル、２−アセチルナフタレン、２−ナフトアルデヒド、９，１０−アントラキノン、９−フルオレノン、ジベンゾスベロン、キサントン、２，５−ビス（４−ジエチルアミノベンジリデン）シクロペンタノン、α−（ｐ−ジメチルアミノベンジリデン）ケトン、例えば、２−（４−ジメチルアミノベンジリデン）インダン−１−オンまたは３−（４−ジメチルアミノフェニル）−１−インダン−５−イル−プロペノン、３−フェニルチオフタルイミド、Ｎ−メチル−３，５−ジ（エチルチオ）フタルイミド、Ｎ−メチル−３，５−ジ（エチルチオ）フタルイミドである。
【００４９】
紫外線吸収剤として、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、ヒドロキシフェニルベンゾフェノン、シュウ酸アミド、トリアジン、オキサルアニリド、シアノアクリレート、サリチル酸、またはヒドロキシフェニルピリミジンの種類からの化合物が考慮される。
【００５０】
エチレン性不飽和基として、特に、ラジカル重合しうるものが考慮され、ビニルおよびビニリデン基のほかに、特に、アクリル、メタクリル、アリル、スチリルおよびビニルエーテル基が挙げられる。不飽和基を有するトリアジンの例は、ＷＯ９９／５５４７１に記載されている。ＥＰ０７２２９３８Ｂ１号には、例えば、不飽和二重結合を有するベンゾトリアゾールの製造が記載されている。エチレン性不飽和基を有するベンゾトリアゾールおよびベンゾフェノンは、同様に、ＵＳ−Ａ−４８８０８５９号に、ケイ皮酸誘導体としても記載されている。さらに、対応するベンゾトリアゾールは、ＥＰ０４８８１４５Ｂ１号、ＥＰ０７４７７５５Ｂ１号、ＵＳ−Ａ−５３３４２３５号およびReserch Disclosure May 1991 Pos. 32592に記載されている。
【００５１】
以下の化合物が好ましい：
【００５２】
【化２】
2006503137.tif 000003
【００５３】
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、各々互いに独立に、Ｈ、直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、置換もしくは非置換アリール基、または直接もしくはスペーサー基を介して結合したエチレン性不飽和基である）および
【００５４】
【化３】
2006503137.tif 000004
【００５５】
（式中、Ｒ1およびＲ2は、各々互いに独立に、Ｈ、直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、または置換もしくは非置換アリール基である）。
【００５６】
以下の化合物が、特に好ましい：
【００５７】
【化４】
2006503137.tif 000005
【００５８】
（式中、
Ｒ＝  −ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ2      −ＣＨ2ＣＯＯＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ−フェニル
−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2ＯＣＯＣ（ＣＨ3）＝ＣＨ2      −ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2
−ＣＨ2ＣＯＯ（ＣＨ2）7ＣＨ＝ＣＨＣ8Ｈ17      −ＯＣＨ＝ＣＨ2
−ＣＨ−ＯＣＨ＝ＣＨ2）、
【００５９】
【化５】
2006503137.tif 000006
【００６０】
（式中、Ｒ1＝  Ｈ、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール
Ｒ2＝  Ｈ、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ12アルキル、Ｃ6〜Ｃ10アリール）、
【００６１】
【化６】
2006503137.tif 000007
【００６２】
以下の化合物も好ましい：
α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステルおよびイソオクチルエステル、α−カルボメトキシケイ皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステルおよびブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、Ｎ−（フタルイミドメチル）アクリルアミド、酢酸ビニルフェニル、９−ビニルアントラセン、メタクリル酸フェニル、アクリル酸２−フェニルエチル、メタクリル酸２−フェニルエチル、４−（２−アクリロキシエトキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノン、３−アリル−４−ヒドロキシアセトフェノン。
【００６３】
エチレン性不飽和化合物は、１個以上のオレフィン性二重結合を含みうる。それらは、低分子量（モノマー性）またはより高い分子量（オリゴマー性、ポリマー性）でありうる。二重結合を有するモノマーの例は、アクリル酸およびメタクリル酸アルキルおよびヒドロキシアルキル、例えばアクリル酸メチル、エチル、ブチル、２−エチルヘキシルおよび２−ヒドロキシエチル、アクリル酸イソボルニルならびにメタクリル酸メチルおよびエチルである。シリコーンアクリレートも同様に興味深い。さらなる例は、アクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−置換（メタ）アクリルアミド、ビニルエステル、例えば酢酸ビニル、ビニルエーテル、例えばイソブチルビニルエーテル、スチレン、アルキル−およびハロ−スチレン、Ｎ−ビニルピロリドン、塩化ビニルならびに塩化ビニリデンである。エチレン性不飽和モノマー、オリゴマーおよび／またはポリマーは、特に、一−、二−、三−、四−もしくは多官能性ビニルエーテル、アクリレートおよび／またはメタクリレートである。
【００６４】
複数の二重結合を有するモノマーの例は、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレートおよびビスフェノールＡジアクリレート、４，４′−ビス（２−アクリロイルオキシエトキシ）ジフェニルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレートおよびペンタエリトリトールテトラアクリレート、アクリル酸ビニル、ジビニルベンゼン、コハク酸ジビニル、フタル酸ジアリル、リン酸トリアリル、イソシアヌル酸トリアリル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレートならびにトリス（２−アクリロイルエチル）イソシアヌレートである。
【００６５】
より高い分子量（オリゴマー性）の多不飽和化合物の例は、アクリル化エポキシ樹脂、アクリル化またはビニルエーテル基もしくはエポキシ基を含有するポリエステル、ポリウレタンおよびポリエーテルである。不飽和オリゴマーのさらなる例は、マレイン酸、フタル酸と１種以上のジオールから通常製造され、約５００〜３，０００の分子量を有する不飽和ポリエステル樹脂である。さらに、ビニルエーテルモノマーおよびオリゴマー、ならびにまた、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリビニルエーテルおよびエポキシド主鎖を有するマレエート末端オリゴマーを使用することも可能である。特に、ビニルエーテル基を有するオリゴマーおよびポリマーの組合せ、例えばＷＯ９０／０１５１２号に記載のものが非常に適切であるが、マレイン酸とビニルエーテルで官能化されたモノマーのコポリマーがまた、考慮される。そのような不飽和オリゴマーは、プレポリマーと呼ぶこともできる。
【００６６】
例えば、エチレン性不飽和カルボン酸とポリオールまたはポリエポキシドのエステル、およびエチレン性不飽和基を主鎖または側鎖中に有するポリマー、例えば、不飽和ポリエステル、ポリアミドおよびポリウレタンならびにそれらのコポリマー、アルキド樹脂、ポリブタジエンおよびブタジエンコポリマー、ポリイソプレンおよびイソプレンコポリマー、側鎖に（メタ）アクリル基を有するポリマーおよびコポリマー、ならびにまた、１種以上のそのようなポリマーの混合物が特に適切である。
【００６７】
不飽和カルボン酸の例は、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイ皮酸および不飽和脂肪酸、例えばリノレン酸およびオレイン酸である。アクリル酸およびメタクリル酸が好ましい。
【００６８】
適切なポリオールは、芳香族、ならびに、特に、脂肪族および脂環式ポリオールである。芳香族ポリオールの例は、ヒドロキノン、４，４′−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ジ（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ならびにノボラックおよびレゾールである。ポリエポキシドの例は、そのポリオール、特に芳香族ポリオールおよびエピクロロヒドリンに基づくものである。ポリオールとして同じく適切なものは、ポリマー鎖または側鎖にヒドロキシル基を含むポリマーおよびコポリマー、例えばポリビニルアルコールおよびそのコポリマーまたはポリメタクリル酸ヒドロキシアルキルエステルもしくはそのコポリマーである。さらなる適切なポリオールは、ヒドロキシ末端基を有するオリゴエステルである。
【００６９】
脂肪族および脂環式ポリオールの例として、好ましくは２〜１２個の炭素原子を有するアルキレンジオール、例えばエチレングリコール、１，２−または１，３−プロパンジオール、１，２−、１，３−または１，４−ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、好ましくは２００〜１，５００の分子量を有するポリエチレングリコール、１，３−シクロペンタンジオール、１，２−、１，３−または１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセリン、トリス（β−ヒドロキシエチル）アミン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ジペンタエリトリトールおよびソルビトールが挙げられる。
【００７０】
ポリオールは、部分的にまたは完全に、１種の、あるいは異なる不飽和カルボン酸でエステル化されていてもよく、部分エステルにおける遊離のヒドロキシル基は、変性、例えばエーテル化または他のカルボン酸でエステル化されることが可能である。
【００７１】
エステルの例は：
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリトリトールジアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールジアクリレート、ジペンタエリトリトールトリアクリレート、ジペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリトリトールオクタアクリレート、ペンタエリトリトールジメタクリレート、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、ジペンタエリトリトールジメタクリレート、ジペンタエリトリトールテトラメタクリレート、トリペンタエリトリトールオクタメタクリレート、ペンタエリトリトールジイタコネート、ジペンタエリトリトールトリスイタコネート、ジペンタエリトリトールペンタイタコネート、ジペンタエリトリトールヘキサイタコネート、エチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトール変性トリアクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、オリゴエステルアクリレートおよびメタクリレート、グリセリンジ−およびトリ−アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、２００〜１，５００の分子量を有するポリエチレングリコールのビスアクリレートおよびビスメタクリレート、ならびにそれらの混合物である。
【００７２】
成分として同じく適切なものは、同一または異なる不飽和カルボン酸のアミド、ならびに好ましくは２〜６個、特には２〜４個のアミノ基を有する芳香族、脂環式および脂肪族ポリアミンである。そのようなポリアミンの例は、エチレンジアミン、１，２−または１，３−プロピレンジアミン、１，２−、１，３−または１，４−ブチレンジアミン、１，５−ペンチレンジアミン、１，６−ヘキシレンジアミン、オクチレンジアミン、ドデシレンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジアミン、ビスフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチルエーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミンならびにジ（β−アミノエトキシ）−およびジ（β−アミノプロポキシ）−エタンである。さらなる適切なポリアミンは、側鎖に付加的なアミノ基を有しうるポリマーおよびコポリマーならびにアミノ末端基を有するオリゴアミドである。そのような不飽和アミドの例は：メチレンビスアクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビス（メタクリルアミドプロポキシ）エタン、β−メタクリルアミドエチルメタクリレートおよびＮ−［（β−ヒドロキシエトキシ）エチル］アクリルアミドである。
【００７３】
適切な不飽和ポリエステルおよびポリアミドは、例えば、マレイン酸とジオールまたはジアミンから誘導される。マレイン酸は、部分的に、他のジカルボン酸と置き換えられてもよい。それらは、エチレン性不飽和コモノマー、例えばスチレンと一緒に使用しうる。ポリエステルおよびポリアミドは、ジカルボン酸とエチレン性不飽和ジオールまたはジアミンから、特に、長鎖、例えば６〜２０個の炭素原子を有するものから誘導されてもよい。ポリウレタンの例は、飽和ジイソシアネートと不飽和ジオールからなるか、または不飽和ジイソシアネートと飽和ジオールからなるものである。
【００７４】
ポリブタジエンおよびポリイソプレン、ならびにそれらのコポリマーは公知である。好適なコモノマーとして、例えば、エチレン、プロペン、ブテンおよびヘキセン等のオレフィン、（メタ）アクリレート、アクリロニトリル、スチレンならびに塩化ビニルが挙げられる。側鎖に（メタ）アクリレート基を有するポリマーは、同様に公知である。例は、（メタ）アクリル酸とのノボラック系エポキシ樹脂との反応性生物；（メタ）アクリル酸でエステル化された、ビニルアルコールまたはそのヒドロキシアルキル誘導体のホモポリマーまたはコポリマー；ならびに（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルでエステル化された、（メタ）アクリレートのホモポリマーまたはコポリマーである。
【００７５】
モノ−または多−不飽和オレフィン性化合物として、ビニルエーテル、アクリレートまたはメタクリレート化合物が、特に好ましく使用される。上ですでに列挙されたような、多不飽和アクリレート化合物が、さらに特に好ましい。
【００７６】
多数の刊行物から、他の物質（相乗剤）と組み合わせた紫外線吸収剤が、特に有効な保護を達成できることが公知である。そのような相乗剤は、本発明の範囲内で、同様に使用することができる。相乗剤は、例えば、光安定剤、フリーラジカル受容体、過酸化物分解剤等である。相乗剤は、例えば、立体障害アミン、アミノエーテル（＞ＮＯＲ化合物）、ベンゾオキサジンおよび／またはチオエーテルのクラスからの化合物である。多くの化合物が例として挙げられる。セバシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、コハク酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）、ｎ−ブチル−３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）エステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−tert−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンとの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラオエート、１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert−ブチルベンジル）マロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、セバシン酸ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、コハク酸ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、
【００７７】
【化７】
2006503137.tif 000008
【００７８】
ならびにＮ，Ｎ′−エタン−１，２−ジイルビス（１，３−プロパンジアミン）、シクロヘキサン、過酸化４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジンおよび２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンの反応生成物。
【００７９】
基本的には、紫外線吸収剤を含有する溶液、懸濁液または乳濁液は、できる限り迅速に適用されることが有利であるが、各種用途に応じて、工程ｂ）を時間的に遅れて行うことも許容しうる。しかしながら、好ましくは、工程ｂ）は、工程ａ）の直後に、あるいはその後２４時間以内に行われる。
【００８０】
紫外線吸収剤を含有する溶融物、溶液、懸濁液または乳濁液の適用は、種々の方法で行うことができる。それは、浸漬、吹き付け、コーティング、ブラシ塗布、ナイフ塗布、ローリング、ローラー塗布、印刷、スピンコーティングおよび流し込み（pouring）により達成することができる。
【００８１】
好ましくは、適用される液中の開始剤の濃度は、０．０１〜２０％、特に０．１〜５％であり、紫外線吸収剤の濃度は、０．１〜９９％、特に０．１〜５０％である。好ましくは、それらの液中のエチレン性不飽和化合物の濃度は、０．１〜５０％、好ましくは０．１〜３０％である。
【００８２】
紫外線吸収剤同士、紫外線吸収剤と光安定剤および／またはエチレン性不飽和化合物との混合物中では、すべての可能な混合比を使用することが可能である。光学的、機械的および／または他の要求される特性を最適化するために、その後の使用目的の性質に従って、その比は互いに調和される。
【００８３】
紫外線吸収剤を含有する液は、さらに、他の物質、例えば、消泡剤、乳化剤、界面活性剤、防汚剤、湿潤剤ならびにコーティングおよび塗料工業で慣用の他の添加剤を含んでいてもよい。
【００８４】
適用された層の乾燥状態での厚さは、同様に、後の使用目的での必要条件に合わせられ、単分子層から２mm、好ましくは１〜１，０００μｍの範囲である。
【００８５】
基本的には、層はその工程により固定され安定化されるので、紫外線吸収剤を含有する溶液、懸濁液または乳濁液は、できる限り迅速に加熱、乾燥または照射されることが有利であるが、各種用途に応じて、工程ｃ）は時間的に遅れて行うことも許容しうる。しかしながら、好ましくは、工程ｃ）は、工程ｂ）の直後に、あるいはその後２４時間以内に行われる。
【００８６】
加熱／乾燥コーティングの多くの可能な方法は公知であり、それらはすべて、クレームされている方法において使用することができる。このように、例えば、高温ガス、赤外線放射源、オーブン、加熱ローラーおよび／またはマイクロ波を使用することができる。その目的に対して使用される温度は、使用される材料の熱的安定性により決定され、一般に、０〜３００℃の範囲であり、好ましくは、それらは０〜２００℃である。所望により、乾燥工程が、予め行われる。
【００８７】
特に温度に敏感な材料の場合には、電磁波の照射が有利である。紫外線吸収剤が全く、またはほんの少ししか吸収を示さない波長領域においても、使用した開始剤は吸収することに注意を払う必要がある。所望により、乾燥工程が、予め行われる。コーティングの照射は、使用した光開始剤により吸収されることができる波長の電磁波を発生する、任意の線源を用いて行うことができる。そのような線源は、通常、２００〜２０，０００nmの範囲の波長の電磁放射を発生するものである。慣用の放射体およびランプに加えて、レーザーやＬＥＤ（発光ダイオード）を使用することも可能である。それらの全領域または一部が照射される。特定の領域のみを接着性にするときには、部分照射が有利である。照射は、電子線を用いて行うこともできる。それらの全領域および／または一部は、例えば、マスクを通して照射することにより、またはレーザー線を用いて照射することができる。その手段により、特定の領域のみにおいて固定および安定化を達成することが可能である。非照射領域では、層は再び洗い流すことができ、そのようにして、構造化が達成された。
【００８８】
加熱／乾燥および／または照射は、空気中または不活性ガス下で行うことができる。不活性ガスとして、窒素ガスが考慮されるが、他の不活性ガス、例えばＣＯ2もしくはアルゴン、ヘリウム等、またはそれらの混合物をも用いることができる。適切なシステムおよび装置は、当業者に公知であり、市販されている。しかしながら、加熱／乾燥は、不活性ガスなしで、すなわち空気中で行うこともできる。
【００８９】
同じくクレームされているのは、紫外線吸収剤層を有する基材およびまた、上記の方法の一つに従って製造される、コーティングである。そのようなコーティングは、紫外線吸収剤の吸収極大における、０．１〜６、好ましくは０．５〜４、特に１〜３の光学濃度により区別される。それらのコーティングにおいては、紫外線吸収剤の割合は、少なくとも１０％、好ましくは少なくとも１５％、および特には少なくとも２０％である。
【００９０】
紫外線吸収剤が付与された基材は、多くのやり方で使用することができる。紫外線保護が達成されるべき用途が、当然のことながら優位を占める。保護は、酸化、変色、漂白、または他の損傷を減少させるか、もしくは防止することを可能とし、さらなる基材に適用されるフィルムの形態でか、またはさらなる基材をカプセル化することで、永久的にもしくは一時的にもたらすことができる。基材は、したがって、食品、化学品、医薬品、繊維製品、動物飼料、化粧品、ガラス、プラスチック製品、コーティングおよび塗料（液体または既乾燥物／硬化物）、印刷版面、農薬、肥料、動物用医薬品ならびに動物用衛生用品を保護および／または包装する材料として使用するのに適切である。そのようなフィルムは、さらに、印刷物、例えば、紙、写真、ポスター、図面、ステッカー、ラベル、広告パネル、照明広告看板、スポーツ用品、スクリーン等を、主としてそれらのカラー品質を維持し、かつそれらの耐用年数を延ばすために、保護するのに使用することができる。上記のフィルムはまた、温室フィルムならびに太陽および紫外線保護の他の用途の形態で、それらの保護機能を果たす。
【００９１】
紫外線吸収剤が付与された基材は、容器、例えばビン、缶、バケツ等の形態で使用することができ、食品、化学品、医薬品、繊維製品、動物飼料、化粧品、ガラス、プラスチック製品、コーティングおよび塗料（液体または既乾燥物／硬化物）、農薬、除草剤、殺菌剤、肥料、動物用医薬品ならびに動物用衛生用品の保護に役立つことができる。
【００９２】
三次元構成要素の形態での可能な用途は、例えば、ランプおよび／またはヘッドランプ用のレンズ、プラスチック窓、自動車用部品、スポーツ機材、容器等である。
【００９３】
紫外線吸収剤が付与された基材のさらなる用途は、フィルターとしての使用である。特定の透過値は、有機もしくは無機ガラス上の層の厚さおよび／または紫外線吸収剤層の光学濃度を変えることにより設定することができる。その種類のフィルターは、特に、光学用途、例えば、写真、顕微鏡検査において、またはレンズ、眼鏡、コンタクトレンズ、拡大鏡、望遠鏡、スクリーン、双眼鏡および鏡の形態で使用することができる。そのようなフィルターの他の可能な用途は、引き伸ばし機、複写、投影機、ランプ、サンルーム、ならびに照明および露光装置においてである。
【００９４】
同じくクレームされているのは、先行の請求項のいずれかに記載のコーティングが付与された製品である。
【００９５】
以下の実施例は、本発明を説明する。
【００９６】
実施例１：
透明なポリ塩化ビニルフィルム（２５０μｍ）を、約１〜２mmの距離で、６００Ｗの出力および１０cm/sの処理速度で、セラミック電極（手動コロナステーションＣＥＥ４２−０−１ＭＤ型、３３０mm幅、ＳＯＦＴＡＬ）を用いて、空気中で４回コロナ処理した。以下の構造式：
【００９７】
【化８】
2006503137.tif 000009
【００９８】
を有する紫外線吸収剤０．７％および１，１−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）０．３５％を含むエタノール溶液を、フィルムの処理された側に、４μｍナイフ（Erichsen）を用いて塗布した。試料をしばらくの間、アルコールが蒸発するまで貯蔵し、試料を乾燥させた。次いで、それらを、乾燥キャビネット中で、８０℃で１５分間貯蔵した。透明なコーティングが得られ、透過モードで記録された紫外／可視スペクトルは、溶液スペクトルと同一であり、かつ３４５nmに紫外線吸収剤に特徴的な吸収ピークを示した。
【００９９】
実施例２：
透明なポリ塩化ビニルフィルム（２５０μｍ）を、約１〜２mmの距離で、６００Ｗの出力および１０cm/sの処理速度で、セラミック電極（手動コロナステーションＣＥＥ４２−０−１ＭＤ型、３３０mm幅、ＳＯＦＴＡＬ）を用いて、空気中で４回コロナ処理した。以下の構造式：
【０１００】
【化９】
2006503137.tif 000010
【０１０１】
を有する紫外線吸収剤０．７％および１，１−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）０．３５％を含むエタノール溶液を、フィルムの処理された側に、４μｍナイフ（Erichsen）を用いて塗布した。試料をしばらくの間、アルコールが蒸発するまで貯蔵し、試料を乾燥させた。マイクロ波励起水銀灯および１２０W/cmの出力を有する紫外線プロセッサー（Fusion System）を用いて、それらを、次いで、５m/minのベルト速度で照射した。透明なコーティングが得られ、透過モードで記録された紫外／可視スペクトルは、溶液スペクトルと同一であり、かつ３４５nmに紫外線吸収剤に特徴的な吸収ピークを示した。
【０１０２】
実施例３：
透明なポリエチレンフィルム（１５０μｍ）を、約１〜２mmの距離で、２５０Ｗの出力および１０cm/sの処理速度で、セラミック電極（手動コロナステーションＣＥＥ４２−０−１ＭＤ型、３３０mm幅、ＳＯＦＴＡＬ）を用いて、空気中で４回コロナ処理した。以下の構造式：
【０１０３】
【化１０】
2006503137.tif 000011
【０１０４】
を有する紫外線吸収剤５％、１，１−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）１％およびトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート２．５％を含むアセトン溶液を、フィルムの処理された側に、５０μｍナイフ（Erichsen）を用いて塗布した。試料をアセトンが蒸発するまで貯蔵し、試料を乾燥させた。次いで、それらを、乾燥キャビネット中で、８０℃で１時間硬化させた。２回目の上記の溶液の塗布をし、記載の方法で硬化させた。透明で安定なコーティングが得られ、２９０〜３６０nmの範囲において透過モードで記録された紫外／可視スペクトルは、１．５〜２．５の光学濃度を与えた。
【０１０５】
実施例４：
透明なポリエチレンフィルム（１５０μｍ）を、約１〜２mmの距離で、２５０Ｗの出力および１０cm/sの処理速度で、セラミック電極（手動コロナステーションＣＥＥ４２−０−１ＭＤ型、３３０mm幅、ＳＯＦＴＡＬ）を用いて、空気中で４回コロナ処理した。以下の構造式：
【０１０６】
【化１１】
2006503137.tif 000012
【０１０７】
を有する紫外線吸収剤５％、アクリル酸２−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）フェノキシ］エチルエステル１％およびトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート１％を含むアセトン溶液を、フィルムの処理された側に、５０μｍナイフ（Erichsen）を用いて塗布した。試料をアセトンが蒸発するまで貯蔵し、試料を乾燥させた。マイクロ波励起水銀灯および１２０W/cmの出力を有する紫外線プロセッサー（Fusion System）を用いて、それらを、次いで、５m/minのベルト速度で４回照射した。２回目の上記の溶液の塗布をし、記載の方法で硬化させた。透明で安定なコーティングが得られ、２８５〜３６０nmの範囲において透過モードで記録された紫外／可視スペクトルは、１．５〜２．４の光学濃度を与えた。
【国際調査報告】
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