(57)【要約】少なくとも１つの基板（２４）において少なくとも１つの構成要素（２５）を位置決めする方法であって、構成要素（２５）は少なくとも位置決め装置（２）により取り上げられ、基板（２４）における所望の位置に位置決めされる、方法である。構成要素（２５）が基板（２４）において位置決めされた後に、基板（２４）において位置決めされた構成要素（２５）の画像がカメラ（５、２３）により形成され、基板（２４）における構成要素（２５）の実位置と基板（２４）における構成要素（２５）の所望の位置との間の差が画像に基づいて確定される。位置決めされる次の構成要素（２５）の位置決めは求められた差により適合されることを特徴とする方法。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの基板（２４）において少なくとも１つの構成要素（２５）を位置決めする方法であって、構成要素（２５）は少なくとも位置決め装置（２）により取り上げられ、前記基板（２４）における所望の位置に位置決めされる、方法であり、前記構成要素（２５）が前記基板（２４）において位置決めされた後に、前記基板（２４）において位置決めされた前記構成要素（２５）の画像がカメラ（５、２３）により形成され、前記基板（２４）における前記構成要素（２５）の実位置と前記基板（２４）における前記構成要素（２５）の所望の位置との間の差が前記画像に基づいて確定され、その後、位置決めされる次の構成要素（２５）の位置決めは求められた前記差により適合されることを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、先ず、同じ種類の構成要素（２５）が多くの基板（２５）において実質的に同じ位置に位置決めされる一方、関連基板（２４）に対する前記構成要素（２５）の前記所望の位置と実位置との間の差が決定され、次の基板（２４）において位置決めされる次の構成要素（２５）の位置決めは求められた前記差により適合される、ことを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の方法であって、先ず、少なくとも１つの基板（２４）において、多くの異なる構成要素（２５）が位置決めされ、それらの実位置は所望の位置と比較され、それに続いて、前記基板（２４）又は他の基板において位置決めされる次の構成要素の位置決めは統計的に決定される平均差に基づいて適合される、ことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れ一項に記載の方法であって、一旦、多くの構成要素（２５）が位置決めされると、前記実位置は前記所望の位置と比較される、ことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１乃至３の何れ一項に記載の方法であって、一旦、各々の構成要素（２５）が位置決めされると、前記実位置は前記所望の位置と比較される、ことを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れ一項に記載の方法であって、構成要素（２５）は隣り合って位置している多くの位置決め装置（２）により位置決めされ、各々の位置決め装置（２）は、前記基板（２４）において位置決めされた前記構成要素（２５）の前記所望の位置と前記実位置との間の差を決定するために前記基板（２４）の少なくとも一部の画像が形成されるカメラ（５、２３）を有する、ことを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法であって、前記基板（２４）のそれぞれの部分の位置決め装置（２）により形成された画像から、結合画像が基板（２４）について形成され、前記構成要素（２５）はその基板において位置決めされている、ことを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れ一項に記載の方法を実行するために適切なシステムであって、少なくとも位置決め装置（２）と該位置決め装置（２）と協働するカメラ（５、２５）を有するシステムであり、前記位置決め装置（２）により基板（２４）において位置決めされた構成要素の画像は前記カメラにより形成され、前記位置決め装置は処理器を更に有し、前記基板（２４）における前記構成要素（２５）の実位置と前記基板（２４）に対する前記構成要素（２５）の所望の位置との差は前記カメラ（５、２３）により形成された前記画像から決定されることができることを特徴とするシステム。
【請求項９】
請求項８に記載のシステムであって、位置決め装置（２）は求められた前記差により前記処理器により適合されることができる、ことを特徴とするシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１つの基板に少なくとも１つの構成要素を位置決めする方法であって、構成要素は少なくとも位置決め装置により持ち上げられ、基板における所望の位置に位置決めされる、方法に関する。
【０００２】
本発明は又、その方法を実行するために適切であるシステムに関する。
【背景技術】
【０００３】
米国特許第５，８８０，８４９号明細書に記載されている、そのような方法及びシステムにおいて、基板の画像はカメラにより形成される。その画像から、それ故、基板において位置決めされる構成要素の基板に対する所望の位置が確定される。次いで、位置決め装置が駆動され、構成要素が基板において位置決めされる。それ自体、既知である方法及びシステムにより、構成要素が所望の位置に基板において真に位置決めされているかどうかを調べるためにチェックを実行することが可能である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
それ故、本発明の目的は、基板における構成要素の位置決めを簡単な方式で改善することができる方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この目的は、構成要素が基板において位置決めされた後、基板において位置決めされた構成要素の画像がカメラにより形成され、基板における構成要素の実位置と基板における所望の構成要素の位置との間の差が画像に基づいて確定され、その後、位置決めされる次の構成要素の位置決めが求められた差により適合される。
【０００６】
カメラにより形成された画像から、基板に対する構成要素の実位置を簡単な方式で決定することができる。差は、基板において位置決めされる構成要素の所望の位置と実位置との間で確定される。構成要素が、現時点で基板において位置決めされている場合、基板におけるその構成要素の所望の位置と実位置との間のいずれの差も存在しない。しかしながら、実際に差が存在する場合、本発明に従った方法においては、この差は、次の構成要素が基板において位置決めされるときに、位置決め装置の駆動に対して考慮される。カメラは、位置決め装置の一部を構成するか、又は、位置決め装置からある距離おいて又は隣接して設定される装置の一部を構成するかのどちらかである。求められた差に基づいて次の構成要素の位置決めを適合させる段階及び実位置と所望の位置との間の差を求める段階はオンライン及びオフラインの両方で行われることが可能である。
【０００７】
本発明に従った方法の実施形態は、先ず、同じ種類の構成要素が、実質的に同じ位置において多くの基板に位置決めされる一方、関連する基板に対する構成要素の所望の位置と実位置との間の差が決定され、次の基板において位置決めされる次の構成要素の位置決めが求められた差により適合されることを特徴とする。
【０００８】
この方式においては、付随する偏差であって、例えば、多くの基板に亘る、位置決め装置における摩擦、動的振動、測定誤差等の確率誤差と呼ばれている偏差のための、構成要素の所望の位置と実位置との間の偏差は、次の構成要素の位置決めが適合され、誤差自体がおおよそ全ての基板において繰り返される状態が保たれるとき、処理される。この誤差は、例えば、較正静止誤差、温度変化のための基板膨張、装置磨耗、例えば基板等におけるトラックパターンの実位置及び予測される位置に対する比較的多数の同じ基板における誤差である。それらのような誤差は測定誤差と呼ばれている。
【０００９】
偏差が処理されるとき、初期に既に製造された基板における偏差は、まさに基板に構成要素が備えられる直前に製造された基板における偏差より小さい値をとる。
【００１０】
本発明に従った方法の他の実施形態は、先ず、少なくとも１つの基板において、多くの異なる構成要素が位置付けられ、それらの構成要素の実位置が所望の位置と比較され、それに続いて、その基板又は他の基板に位置決めされるべき次の構成要素の位置決めは統計的に決定される平均差に基づいて適合されることを特徴とする。
【００１１】
このように、差は、例えば、特定の位置決め装置により位置決めされる構成要素全てについて決定される。
【００１２】
本発明に従った方法の他の実施形態は、一旦、多くの構成要素が位置決めされると、新の位置が所望の位置と比較されることを特徴とする。
【００１３】
このように、基板に対して構成要素の実位置を決定する段階を、基板における構成要素の位置決めに依存することなく実行することができる。この短所は、しかしながら、多くの構成要素が位置決めされないうちに、それらの構成要素が所望の位置に実際に位置決めされたかどうかが確定され、その後にのみ、フィードバックがもたらされることである。
【００１４】
本発明に従った方法の他の実施形態は、一旦、各々の構成要素が位置決めされると、実位置が所望の位置と比較されることを特徴とする。
【００１５】
このように、一旦、構成要素が位置決めされると、直接的な結合ができる。構成要素の実位置と所望の位置との間の差を決定するための時間が比較的短い場合、これは、構成要素を位置決めするために必要な時間に関する不利な影響を有しない。
【００１６】
本発明に従った方法の他の実施形態は、隣り合って置かれた多くの位置決め装置により少なくとも１つの基板において構成要素が位置決めされ、各々の位置決め装置は、基板において位置決めされる構成要素の実位置と所望の位置との間の差を決定するために、基板の少なくとも一部の画像が形成されるカメラを有することを特徴とする。
【００１７】
このようにして、各々のカメラにより基板の一部を調べることが可能であり、それにより精度を向上させることができ、それにより、各々の画像を分析するために必要な時間を比較的少しに保つことができる。
【００１８】
本発明の目的は又、構成要素が基板において更に正確に位置決めされることができるシステムを提供することである。
【００１９】
この目的は、少なくとも１つの位置決め装置とその位置決め装置と協働するカメラとを備えているシステムにより達成され、位置決め装置により基板において位置決めされた構成要素の画像はカメラにより形成可能であり、位置決め装置は更に制御スキームを備えていて、その制御スキームにより、基板に対する実位置及び基板に対する構成要素の所望の位置との差がカメラにより形成される画像から決定される。
【００２０】
この方式において、基板における構成要素の実位置と所望の位置との間の差を比較的簡単な方式で決定することができる。位置決め装置がカメラを既に有する場合、例えば、カメラを用いて基板における所望の位置を決定するために、構成要素の位置決めの前及び後の両方において同じカメラにより画像を形成することができ、別個のカメラを位置決め装置に付加する必要はない。
【００２１】
本発明について、添付図を参照しながら更に説明する。
【００２２】
一連の図における同様の構成要素については同じ参照番号で示している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図１は、基板において構成要素を位置決めするためのシステム１であって、隣り合って位置付けられた３つの位置決め装置２´、２´´、２´´´を有するシステムを示している。構成要素を備えるべき基板は、搬送システム３により矢印Ｐ１で示されている方向にシステム１を通って搬送される。そのようなシステム自体については、上記の米国特許第５，８８０，８４９号明細書に記載されていて、それ故、ここでは、更に説明はしないこととする。
【００２４】
システム１の下方には、構成要素を備えている基板の画像が形成されるカメラを有する装置４が位置付けられている。カメラ５により形成される画像は制御ダイヤグラム６（図９）に供給される。基板に対する基板において位置決めされる構成要素の位置は制御ダイヤグラム６により決定される。制御ダイヤグラム６は、所望の位置８を更に有する。要素８３において、所望の位置８と実位置７との間の差が制御ダイヤグラム６により決定される。続いて、その差Ｅ＝）Ｙは制御ダイヤグラム６に含まれる制御器９に供給され、その制御器９において、ローパスフィルタ１０によりフィルタリングされた後、フィードバック１２が演算され、そのフィードバックは、個別の位置決め装置２´、２´´、２´´´の制御を調節する役割を果たす。その差は、Ｘ、Ｙ及びＺ方向全ての偏差を有することが可能である。このフィードバック１２は装置毎に調節されることが可能である。このように、次の構成要素が次の基板において位置決めされる精度を向上させることが可能である。図１に示す実施形態においては、システム１及び４は個別のシステムを構成している。
【００２５】
図２に示す実施形態においては、装置４はシステム１と統合され、位置決め装置２´、２´´に隣り合っている。図２に示すシステムの機能は図１に示す機能に対応している。
【００２６】
図３は、各々のカメラに属する制御ダイヤグラム及び関連するカメラ２３´、２３´´、２３´´´を各々備える３つの隣接する位置決め装置２２´、２２´´、２２´´´を有する、本発明に従ったシステム２１の他の実施形態を示している。図３に示すシステム２１により、構成要素の実位置と所望の位置との間の偏差が、基板における構成要素の位置決め後すぐ、装置２２´、２２´´、２２´´´にあるカメラ２３´、２３´´、２３´´´により決定される。
【００２７】
図４は、図１に示すシステムと、その近くに備えられている位置決め装置３２と、後者のそばに備えられているシステム４を有する、本発明に従ったシステム３１の実施形態を示している。図４に示すシステムの動作は図１に示すシステムに対応している。そのようなシステムの有利点は、各々の個別の位置決め装置がカメラを有する必要がないことである。しかしながら、不利点は、比較的多数の他の基板が位置決め装置２´により構成要素を与えられるまで、構成要素が位置決め装置２´により位置決めされた基板から、構成要素の実位置は装置４により決定されることはない。このように、フィードバックは比較的遅い。
【００２８】
図５は、位置決め装置２´、２´´、２´´´を有するシステム１とシステム４との間にシステム４２が設置される、本発明に従ったシステム４１の他の実施形態であって、そのシステム４２の支援により、基板において位置決めされた構成要素が基板に取り付けられる、実施形態を示している。そのようなシステム４２は、例えば、噴流式はんだ付け装置は、それ自体、既知であり、それ故、ここでは、それについての説明を省略する。構成要素は基板において位置決めされる一方、位置決めの不正確によりもたらされない基板に対する構成要素の好ましくない変位が起こり得る。
【００２９】
図６Ａ、６Ｃは、図３に示すシステムであって、各々の位置決め装置２２´、２２´´、２２´´´が関連カメラ２３´、２３´´、２３´´´を有する、システムを示している。このシステム２１は、米国特許第５，８８０，８４９号明細書に記載されているシステムに略対応している。その特許明細書において示されているシステムにおいては、基板における構成要素の位置決めに続いて、基板における構成要素の実位置のためにではなく、カメラ２３´、２３´´、２３´´´は、基板における構成要素の所望の位置を決定するためのみに、用いられている。
【００３０】
図６Ａに示す状態では、３つの基板２４´、２４´´、２４´´´がシステム２１に位置付けられている。簡略化のために、それらの基板は、既に位置決めされた構成要素２５及び尚も位置決めされるべき構成要素２５の両方を表している。一旦、基板２４´、２４´´、２４´´´が位置決め装置２２´、２２´´、２２´´´において位置付けられると、カメラ２３´に隣接して備えられているピックアップ２６は、ピックアップ２６の移動により供給装置（それ自体、既知）から構成要素を取り上げ、カメラは、矢印Ｘ、Ｙにより示される方向にそのピックアップと共に移動する。次いで、基板２４´´´乃至２４´の一部の画像がカメラ２３´乃至２３´´´により形成さえる。これは、構成要素がそれぞれの位置決め装置により位置決めされた部分であることが可能であるが、代替として、ピックアップと関連カメラ２３´乃至２３´´´との移動中、構成要素が初期に既に収められた位置の幾つかの基板の画像を形成することが可能である。図６Ａにおいて示した状態において、基板２４´´における構成要素２７の画像がカメラ２３´により形成され、基板２４´´における構成要素２８の画像がカメラ２３´´により形成され、基板２４´における構成要素２９の画像がカメラ２３´´´により形成される。
【００３１】
次いで、基板２４´乃至２４´´´は矢印Ｐ１により示される方向に移動し、その後、基板２４´´は装置２２´´´においておおよそ位置付けられ、基板２４´´´は装置２２´においておおよそ位置付けられ、新しい基板２４´´´´が位置決め装置２２´において部分的に位置付けられる。続いて、構成要素はピックアップ２６により基板２４´´乃至２４´´´´において位置決めされ、その後、カメラ２３´は基板２４´´´´における構成要素５１の画像を形成し、カメラ２３´´は基板２４´´´における構成要素５２の画像を形成し、カメラ２３´´´は基板２４´´における構成要素５３の画像を形成する。
【００３２】
基板２４´´において測定される構成要素の位置は、構成要素が基板´´´において位置決めされるときに補正されることができる。これは、比較的速いフィードバックを与える。
【００３３】
基板が矢印Ｐ１で示される方向に再び移動した後、図６Ｃに示す状態が得られる。上記のような方法においては、カメラ２３´は基板２４´´´´´における構成要素５４の画像を形成し、カメラ２３´´は基板２４´´´´における構成要素５５の画像を形成し、カメラ２３´´´は基板２４´´´における構成要素５６の画像を形成する。
【００３４】
このようにして形成された画像から、ここで、例えば、基板２４´´´から、基板に対する構成要素５２及び構成要素５６両方の位置が確定される。図６Ａ乃至６Ｃに示す状態においては、各々のカメラは単一の基板について１つの画像の身を形成する。カメラカメラ２３´´及び２３´´´はＸＹ平面における基板に亘って移動する間に、種々の画像が形成されることが明らかである。制御ダイヤグラムにより、それらの画像は、次いで、単一の基板についての完全な画像に結合され、それ故、基板における多くの構成要素の位置決め精度についての情報を得ることができる。
【００３５】
図７は、本発明に従ったシステム６１の斜視図であって、位置決め装置６２と隣り合って取り付けられている、個別の、カメラを備えている装置６３を有する、図１に示すシステムにおおよそ対応している。この図７は、基板２４´の画像を形成すること及びそれらから有効な補正を決定することが、図７に示している状態における左に全体的に位置している基板において効果を有することを明確に示しているが、それらの間に位置している基板２４における効果を有していない。その結果、フィードバックが、比較的遅いが、起こる。
【００３６】
図８Ａ乃至８Ｄは、しかしながら、所望の情報が、所望の位置決め精度、所望の速度等に依存して得られる類似する画像を示している。
【００３７】
図８Ａに示す画像７１においては、矢印７２は、基板２４に存在する構成要素の各々から基板２４に対する構成要素２５の実位置が決定されることを示している。次いで、制御ダイヤグラムにおいて、各々の構成要素２５の実位置は所望の位置と比較される。そのような処理は制御ダイヤグラム６において比較的多くの演算時間を必要とすることは明らかである。
【００３８】
それ故、代替として、図８Ｂに示すように、幾つかの構成要素２５のみの基板２４に対する実位置を決定することが可能である。制御ダイヤグラム６に供給される情報量は、矢印７３によりその情報が示されているが、図８Ａに示す状態におけるより著しく少ない。好適には、次いで、位置決め精度が基板２４の適切な機能を保証するために相対的に大きい必要がある構成要素２５が選択される。
【００３９】
図８Ｃに示す状態において、位置決め装置２２´、２２´´、２２´´´により位置決めされる多くの構成要素２５の実位置が決定されることを、矢印７４、７５、７６が表している。このようにして、統計（位置決め装置当りの平均）により各々の位置決め装置２２´、２２´´、２２´´´の精度を個別に最適化することが可能である。
【００４０】
図８Ｄに示す状態においては、画像７１は、別個のカメラ２３´、２３´´、２３´´´により形成される結合された画像から得られる。このようにして、画像７１を形成するためには、付加カメラは必要とされないが、位置決め装置に既に存在するカメラを使用することができる。結合画像７１及び個別の画像から得られる情報７７は比較的広範囲に亘るものである。この方法は、測定時間及び処理時間が基板における構成要素の位置決めのために必要な時間より長い場合に、特に適切である。
【００４１】
代替として、単一のカメラにより異なる基板の異なる領域の多くの異なる画像を形成することが可能であり、それにより、続いて、結合画像を結合することが可能である。基板における構成要素の所望の位置に関する情報８１が制御ダイヤグラム６に供給される。それらの名目上の位置はユニット８に記憶される。所望の位置はフィードバック１２により補正され、その後、そのようにして得られたその値Ｕは、それ故、位置決め装置２´、２´´、２´´´に供給される。それらの位置決め装置２´、２´´、２´´´は、制御ダイヤグラム６におけるブロック８２により示されている。構成要素は、この情報に基づいて基板において位置付けられる。例えば、摩擦、測定誤差、摩耗及び振動による偏差ｎ１が、それ故、発生する。決定論的誤差配置きめ処理の一部であり、例えば、位置決め処理は隣接誤差を示す。続いて、画像が装置４により形成される。これは、図９におけるブロック７として示されている。画像の形成中、カメラが基板に亘って位置決めされるとき、測定ノイズ及び較正誤差の結果であり得る偏差ｎ２が生じる。要素８３の追加において、画像から演算される基板に対する実構成要素位置は、ユニット８から認識される基板に対する所望の構成要素の位置と比較される。結果として得られる差Ｅ＝）Ｙはローパスフィルタ１０に供給され、次いで、ユニット１１において処理され、その後、フィードバック信号１２が得られる。要素８４の付加において、このフィードバック信号１２が、上記のように、基板における構成要素の所望の位置に関する情報８１と結合される。
【００４２】
基板において構成要素を位置決めするために必要な期間内には不可能である、比較的多い情報量が処理される必要がある場合、オンラインでは基板における構成要素の実位置と所望の位置との間の偏差を検出するための画像を形成することは適切ではないが、オフラインでは適切である。これに必要な制御ダイヤグラム９１及び方法について、図１０に示している。制御ダイヤグラムは、図１に示すように、装置４がシステム１の近くに設けられていないことを除いて、図９において示しているような制御ダイヤグラム６とおおよそ対応しているが、その装置はそのシステムと完全に分離されている。基板における構成要素の実位置と所望の位置との間の差がオフライン検出される場合、基板において構成要素を位置決めする瞬間と次の基板における構成要素の位置決めのための位置決め装置の駆動の適合化との間で、比較的大きい遅延が得られることは明らかである。
【００４３】
代替として、オンラインで限定された数の構成要素の位置を確認することとオフラインで全ての構成要素の位置を確認することの両方が可能である。
【００４４】
特定の構成要素の実位置及び所望の位置についての情報をアルゴリズム１１において処理することが、それが多くの基板において位置付けられるとき、可能である。このことは、例えば、いわば、ディジタルフィルタを用いて、実位置及び所望の位置の時間に対する平均を与える。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明に従ったシステムの平面図である。
【図２】本発明に従ったシステムの平面図である。
【図３】本発明に従ったシステムの平面図である。
【図４】本発明に従ったシステムの平面図である。
【図５】本発明に従ったシステムの平面図である。
【図６Ａ】異なる位置における基板を示す、本発明に従ったシステムの平面図である。
【図６Ｂ】異なる位置における基板を示す、本発明に従ったシステムの平面図である。
【図６Ｃ】異なる位置における基板を示す、本発明に従ったシステムの平面図である。
【図７】本発明に従ったシステムの斜視図である。
【図８Ａ】画像を分析するための異なる方法を示す図である。
【図８Ｂ】画像を分析するための異なる方法を示す図である。
【図８Ｃ】画像を分析するための異なる方法を示す図である。
【図８Ｄ】画像を分析するための異なる方法を示す図である。
【図９】フィードバックがインラインで起こる本発明の制御ダイヤグラムを示す図である。
【図１０】フィードバックがオフラインで起こる本発明の制御ダイヤグラムを示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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2006521695.tif 000017
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