(57)【要約】本発明は、ガラス、ガラスセラミック材料、ランプリフレクタおよびその製造方法に関する。ガラス材料は、全組成の重量基準で、５６〜６７％のＳｉＯ2、１９〜２２％のＡｌ2Ｏ3、３．４〜３．８％のＬｉ2Ｏ、１．８〜２．６％のＺｎＯ、１．５〜２．５％のＭｇＯ、３．３〜５％のＴｉＯ2、０〜２．５％のＺｒＯ2、１．５〜３％のＢ2Ｏ3、０〜６％のＰ2Ｏ5、０〜０．６％のＦ、５００ｐｐｍ未満のＦｅ、および少なくとも一種類の清澄剤の効果的な量から生じる成分を有してなる組成を有する。本発明のガラスセラミック材料は、主結晶相としてβ石英固溶体を含有し、これはガラスセラミック材料の適切な熱処理によって得ることができる。このガラスセラミック材料は、７５ｎｍ未満の高い表面粗さＲａ、２０から３００℃の間で１０×１０-7Ｋ-1未満の低ＣＴＥ、および３ｍｍの厚さで８０％を超える約１０５０ｎｍでのＩＲ透過率を必要とする耐熱性ランプリフレクタに特に適している。
2006523600.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨せずに７５ｎｍ未満の表面粗さＲａを有し、主結晶相としてβ石英固溶体を含有するガラスセラミック製品を形成できるガラスセラミック材料であって、２５℃から３００℃の温度範囲で１０×１０-7Ｋ-1以下の線熱膨張係数、３ｍｍの厚さで８０％より大きい１０５０ｎｍでの光透過率、および全組成の重量基準で、５６〜６７％のＳｉＯ2、１９〜２２％のＡｌ2Ｏ3、３．４〜３．８％のＬｉ2Ｏ、１．８〜２．６％のＺｎＯ、１．５〜２．５％のＭｇＯ、３．３〜５％のＴｉＯ2、０〜２．５％のＺｒＯ2、１．５〜３％のＢ2Ｏ3、０〜６％のＰ2Ｏ5、０〜０．６％のＦ、５００ｐｐｍ未満のＦｅ2Ｏ3、および少なくとも一種類の清澄剤から生じる成分を有してなる組成を有することを特徴とするガラスセラミック材料。
【請求項２】
２〜４重量％のＰ2Ｏ5を有することを特徴とする請求項１記載のガラスセラミック材料。
【請求項３】
０．３〜０．５重量％のＦを有することを特徴とする請求項１記載のガラスセラミック材料。
【請求項４】
β石英固溶体が前記ガラスセラミック材料の少なくとも９５体積％を構成することを特徴とする請求項１記載のガラスセラミック材料。
【請求項５】
全組成の重量基準で、５６〜６７％のＳｉＯ2、１９〜２２％のＡｌ2Ｏ3、３．４〜３．８％のＬｉ2Ｏ、１．８〜２．６％のＺｎＯ、１．５〜２．５％のＭｇＯ、３．３〜５％のＴｉＯ2、０〜２．５％のＺｒＯ2、１．５〜３％のＢ2Ｏ3、０〜６％のＰ2Ｏ5、０〜０．６％のＦ、５００ｐｐｍ未満のＦｅ2Ｏ3、および効果的な量の少なくとも一種類の清澄剤から生じる成分を有してなる組成を有するガラス材料。
【請求項６】
２〜４重量％のＰ2Ｏ5を有することを特徴とする請求項５記載のガラス材料。
【請求項７】
０．３〜０．５重量％のＦを有することを特徴とする請求項５記載のガラス材料。
【請求項８】
請求項１記載のガラスセラミック材料を含有するガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体。
【請求項９】
表面に微小亀裂が実質的にないことを特徴とする請求項８記載のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体。
【請求項１０】
１００ｎｍ未満の厚さを有する表面ガラス層を有することを特徴とする請求項８記載のガラスセラミック性ランプリフレクタ用基体。
【請求項１１】
請求項５記載のガラス材料を含有するガラス製ランプリフレクタ用基体。
【請求項１２】
耐熱性のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体を製造する方法であって、
(i)  原料の溶融の際に、全ガラス組成の重量基準で、５６〜６７％のＳｉＯ2、１９〜２２％のＡｌ2Ｏ3、３．４〜３．８％のＬｉ2Ｏ、１．８〜２．６％のＺｎＯ、１．５〜２．５％のＭｇＯ、３．３〜５％のＴｉＯ2、０〜２．５％のＺｒＯ2、１．５〜３％のＢ2Ｏ3、０〜６％のＰ2Ｏ5、０〜０．６％のＦ、５００ｐｐｍ未満のＦｅ2Ｏ3、および清澄に効果的な量の清澄剤を有してなる組成のガラスが製造されるような量で原料を混合する、酸化鉄の汚染物が最小である工程、
(ii)  工程(i)の原料の混合物を、１５５０℃までの温度で溶融ガラスに溶融し、その後、該ガラスの清澄および均質化を行う工程、
(iii)  工程(ii)の前記溶融ガラスを、７５ｎｍ未満の平均表面粗さＲａを持つ反射表面を有するランプリフレクタ用基体のガラス成形品に形成する工程、
(iv)  前記ガラス成形品を焼鈍し、冷却する工程、
(v)  前記ガラス成形品の温度を、６００から７５０℃の核形成温度Ｔnまで上昇させ、該成形品を少なくとも１５分間に亘りこの温度範囲に維持する工程、
(vi)  前記ガラス成形品の温度を７００から８５０℃のセラミック化温度まで上昇させる工程、
(vii)  前記成形品の温度を３０分間を超える期間に亘り前記セラミック化温度に維持して、β石英固溶体への結晶化を完了させる工程、
(viii)  前記成形品を室温まで冷却する工程、
を有してなり、それによって、主結晶相としてのβ石英固溶体および７５ｎｍ未満の平均粗さＲａを持つ反射表面を有する耐熱性のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体を製造することを特徴とする方法。
【請求項１３】
工程(v)において、Ｔnが約６５０℃であり、前記ガラス成形品を、約３００℃毎時の速度で約２時間でこの温度にし、
工程(vi)において、Ｔcが約７５０℃であり、前記成形品を、約５０℃毎時の速度で約２時間でＴnからＴcにし、
工程(vii)において、前記成形品を約１から２時間に亘り約７５０℃であるＴcに維持して、前記結晶化を完了させ、
工程(viii)において、前記成形品を約１時間で室温まで冷却する、
ことを特徴とする請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記ガラスを溶融するときに、清澄剤として硝酸塩を使用することを特徴とする請求項１２記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ランプリフレクタ、それを製造するためのガラス材料とガラスセラミック材料および方法に関する。特に、本発明は、主結晶相としてβ石英固溶体を含有するガラスセラミック材料などの、主結晶相としてβ石英固溶体を含有する高圧放電ランプのための耐熱性ガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体、その前駆体ガラス材料およびガラス製ランプリフレクタ用基体、並びにそのようなランプリフレクタ用基体を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プロジェクション・ディスプレイ・システムでは、画像生成器と光学素子を通し、次いで投射光学素子を通し、スクリーン上に照射するための高強度ランプ光源が使用される。プロジェクション・ディスプレイ用の好ましいランプは、高強度光ビームを発生するための反射構造体内に配置された高強度アーク放電ランプからなる。特にデジタルデータ・プロジェクタおよびデジタル・プロジェクション大型スクリーン・テレビについて、これらのランプには、スクリーンにより釣り合いのとれた色出力および高輝度（ルーメン毎平方センチメートル）を達成するために開発された小さなサイズのアークおよびそれから発せられる光スペクトルのために高温安定性のリフレクタが必要とされる。ポータブル型データ・プロジェクタについて、同じ理由からより高い輝度を生じるより短いアークランプの要望が、商業的な傾向になってきた。
【０００３】
上述したランプの特徴の結果として、リフレクタの基体材料には多くの要件がある。ランプのサイズが小さいために、その材料は、低熱膨張のホウケイ酸ガラスの使用温度より高い約５５０℃までの温度で動作するであろう。また、ランプの始動や停止によって、リフレクタの基体に一時的に大きな温度勾配が生じ、破損に至ることもある高い熱応力を発生させる。非常に低い熱膨張係数（≦１０×１０-7Ｋ-1）の材料では、熱破損がずっと起こりにくいように、一時的温度勾配からの熱応力が減少するであろう。
【０００４】
リフレクタの基体材料の別の要件は、光路に沿ってわずかしか赤外線熱放射が送られないように、その材料による赤外線熱放射の除去または伝達である。高強度ランプリフレクタ上の反射表面には、可視光を反射しながら、赤外線を透過させるように設計された多層コーティングが使用される。これはコールドミラー・コーティングとして知られている。しかしながら、リフレクタの基体材料は、熱を除去するために、近赤外線（熱）波長に透過性である必要がある。これには、遷移金属酸化物、特に酸化鉄などの近赤外線吸収種が低レベルで必要とされる。
【０００５】
高効率の反射表面を有するために、基体材料は非常に滑らかな表面テキスチャーを有さなければならない。ガラスセラミック材料について、これには、非常に微細粒（小さな晶子サイズ）の材料が必要である。リフレクタの形成されたままの表面が滑らかであれば、コーティングを施す前に表面を研磨する必要性がなくなるかまたは最小になる。
【０００６】
適当な製造プロセスについて、基体材料は、光ビームがランプから放射された必要な幾何学形状を有するほど精密な輪郭が移され維持されるように、精密な輪郭のプランジャーを持つ成形型中で加圧成形することなどのガラス成形方法によって最も上手く形成される。また、良好な均一性および低い結晶種の数を維持しながら、任意の前駆体ガラスの溶融温度を低下させることも望ましい。必要とされる近ＩＲ透過率のために、鉄をあまり含まないバッチ材料を使用することが望ましい。
【０００７】
そのようなランプリフレクタを製造するために様々なガラスセラミック材料が提案されてきた。特許文献１および２には、主結晶相としてβスポジュメン（Ｌｉ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・４ＳｉＯ2）および／またはβユークリプタイト（Ｌｉ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・２ＳｉＯ2）の固溶体を有するガラスセラミック材料のランプリフレクタが開示されている。βスポジュメンおよびβユークリプタイトを含有するガラスセラミック材料は、低熱膨張を有する耐熱性材料であることが知られている。しかしながら、特許文献２には、結晶化製品は、滑らかな表面に仕上げられたガラス前駆体から出発した場合でさえも、通常は、βスポジュメンやβユークリプタイトの固溶体を形成するための結晶化プロセス中に粗くなることがあると述べられている。セラミック化後のリフレクタの粗さは、１００ｎｍに達し、ときには、５００ｎｍを超えることもある。このように大きい粗さは、表面をさらに研磨せずに反射コーティングを直接付着させるためには許容できない。
【０００８】
従来技術のガラスセラミック製ランプリフレクタの別の問題は、反射表面上の微小亀裂である。そのような亀裂は、セラミック化熱処理中、またはランプリフレクタの寿命サイクル中に生じるであろう。そのような亀裂は通常、反射コーティングに引き継がれ、ルーメン出力の一貫性が不十分な、それほど効率的ではない光反射となる。
【特許文献１】特開平４−３６７５３８号公報
【特許文献２】特開平４−３４８３０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、結晶化の際にさらに表面を研磨する必要なく製造できる、耐熱性かつ低熱膨張であり、表面の平滑性が高いランプリフレクタの基体が本当に必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本出願の発明者等は、主結晶相としてβ石英固溶体を含有するガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体が、前駆体ガラスの組成とセラミック化（結晶化）プロセスを調節することによって製造できることを発見した。このようにして製造されたランプリフレクタ用基体は、超高圧アーク放電ランプに要求される表面平滑性、耐熱性、熱膨張および近赤外線透過率を有する。
【００１１】
本発明は、この発見に基づくものである。
【００１２】
本発明のある態様によれば、研磨せずに７５ｎｍ未満の表面粗さＲａを有し、主結晶相としてβ石英固溶体を含有するガラスセラミック製品を形成できるガラスセラミック材料であって、２５℃から３００℃の温度範囲で１０×１０-7Ｋ-1以下の線熱膨張係数、３ｍｍの厚さで８０％より大きい１０５０ｎｍでの光透過率、および全組成の重量基準で、５６〜６７％のＳｉＯ2、１９〜２２％のＡｌ2Ｏ3、３．４〜３．８％のＬｉ2Ｏ、１．８〜２．６％のＺｎＯ、１．５〜２．５％のＭｇＯ、３．３〜５％のＴｉＯ2、０〜２．５％のＺｒＯ2、１．５〜３％のＢ2Ｏ3、０〜６％のＰ2Ｏ5、０〜０．６％のＦ、５００ｐｐｍ未満のＦｅ2Ｏ3、および少なくとも一種類の清澄剤から生じる成分を有してなる組成を有するガラスセラミック材料が提供される。
【００１３】
本発明のガラスセラミック材料が２〜４重量％のＰ2Ｏ5を含有することが好ましい。本発明のある実施の形態によれば、本発明のガラスセラミックは０．３〜０．５重量％のＦを含有する。
【００１４】
主結晶相としてのβ石英固溶体が本発明のガラスセラミック材料の少なくとも９５体積％を構成することが好ましい。本発明のガラスセラミック材料の残りの結晶相としては、もしあれば、ルチルおよび亜鉛尖晶石が挙げられる。
【００１５】
前記清澄剤は、ガラス溶融において、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、塩化物、硝酸塩および硫酸塩化合物などの、清澄効果のある量で用いられる、当業者に公知のどのような清澄剤であっても差し支えない。ある実施の形態において、清澄剤としてＡｓ2Ｏ3が使用される。少なくとも一種類の清澄剤として硝酸塩を使用することが好ましい。
【００１６】
本発明の別の態様によれば、本発明のガラスセラミック材料の化学組成を有するガラス材料が提供される。本発明のガラスセラミック材料は、このガラス材料の適切な熱処理によって得られる。
【００１７】
本発明のさらに別の実施の形態において、本発明のガラスセラミックまたはガラス材料を含有するランプリフレクタが提供される。
【００１８】
本発明のランプリフレクタは、例えば、メタルハライドランプを含む様々なランプに用いてよい。本発明のガラスセラミック材料を含有するランプリフレクタは、特に、一般に高温で動作する高圧ランプ、とりわけ、超高圧（ＵＨＰ）水銀放電ランプに特に都合よい。
【００１９】
本発明の別の態様によれば、耐熱性のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体を製造する方法において、
(i)  原料の溶融の際に、全ガラス組成の重量基準で、５６〜６７％のＳｉＯ2、１９〜２２％のＡｌ2Ｏ3、３．４〜３．８％のＬｉ2Ｏ、１．８〜２．６％のＺｎＯ、１．５〜２．５％のＭｇＯ、３．３〜５％のＴｉＯ2、０〜２．５％のＺｒＯ2、１．５〜３％のＢ2Ｏ3、０〜６％のＰ2Ｏ5、０〜０．６％のＦ、５００ｐｐｍ未満のＦｅ2Ｏ3、および効果的な量の、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、塩化物、硝酸塩および硫酸塩化合物などの少なくとも一種類の清澄剤を有してなる組成のガラスが製造されるような量で原料を混合する工程であって、酸化鉄の汚染物が最小である工程、
(ii)  工程(i)の原料の混合物を、１５５０℃までの温度で溶融ガラスに溶融し、その後、そのガラスの清澄および均質化を行う工程、
(iii)  工程(ii)の溶融ガラスを、７５ｎｍ未満の平均表面粗さＲａを持つ反射表面を有するランプリフレクタ用基体のガラス成形品に形成する工程、
(iv)  このガラス成形品を焼鈍し、冷却する工程、
(v)  ガラス成形品の温度を、６００から７５０℃の核形成温度Ｔnまで上昇させ、この成形品を少なくとも１５分間に亘りこの温度範囲に維持する工程、
(vi)  ガラス成形品の温度を７００から８５０℃のセラミック化温度まで上昇させる工程、
(vii)  この成形品の温度を３０分間を超える期間に亘りこのセラミック化温度に維持して、β石英固溶体への結晶化を完了させる工程、
(viii)  成形品を室温まで冷却する工程、
を有してなり、それによって、主結晶相としてのβ石英固溶体および７５ｎｍ未満の平均粗さＲａを持つ反射表面を有する耐熱性のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体が製造される。
【００２０】
溶融ガラスが２〜４重量％のＰ2Ｏ5を含有するように、工程(i)において原料を調整することが好ましい。本発明のある実施の形態によれば、工程(i)の原料は、溶融ガラスが０．３〜０．５重量％のＦを含有するように調整される。
【００２１】
好ましい実施の形態によれば、工程(v)において、Ｔnは約６５０℃であり、ガラス成形品は、約３００℃毎時で約２時間でこの温度にされ、工程(vi)において、Ｔcは約７５０℃であり、成形品は約５０℃毎時で約２時間でＴnからＴcにされ、工程(vii)におてい、成形品は、結晶化を完了するために約１から２時間に亘りＴc（７５０℃）に保持される。
【００２２】
本発明の追加の特徴と利点は、以下の詳細に述べられており、一部は、その説明から当業者には容易に明らかであり、またはその説明と特許請求の範囲、並びに添付の図面に記載されたように本発明を実施することにより認識されるであろう。
【００２３】
先の一般的な説明と以下の詳細の説明は、本発明の単なる例示であり、特許請求の範囲に記載された本発明の性質と特徴を理解する上での概要または構成を提供することが意図されている。
【００２４】
添付の図面は、本発明をさらに理解するために含まれており、この明細書に包含され、その一部を構成する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
プロジェクションシステムは急速に改善されている。プロジェクションシステムはより小型化されているのが一般の傾向である。高い光収集効率を維持するために、より小さな画像生成システムには、より小さなランプアークが必要である。別の傾向はスクリーンのより高いルーメン（輝度）である。スクリーンのより高いルーメンを達成するために、高輝度のプロジェクション・ランプが必要とされる。高輝度には、放電プラズマが高温であることが必要である。超高圧（ＵＨＰ）ショートアーク水銀放電ランプが、２００バールまでの圧力および１１００℃までのランプ用外囲器温度で動作する高輝度プロジェクタのために開発されてきた。高輝度に加えて、ＵＨＰ水銀放電ランプの別の利点は、より釣り合いのとれた放射光が得られることである。５９５ｎｍでの赤色光の放射は、ランプの圧力に強く依存する。例えば、２００バールのランプは、１６０バールで動作するランプよりも、２０％多く赤色光を発するであろう。
【００２６】
小型のプロジェクタにＵＨＰランプを使用すると、ランプリフレクタに関して特別な要件が課せられる。第１に、使用されるリフレクタはサイズが小さくなる。第２に、放電アークとランプ用外囲器が高温であるために、リフレクタは、５５０℃までの高温で動作しなければならないであろう。さらに、ランプのスイッチのオンやオフで、リフレクタ用基体に熱衝撃が加わるであろう。パイレックス（登録商標）タイプのホウケイ酸ガラス、およびさらにはアルカリ土類アルミノケイ酸塩ガラスは、この要件を満たすほど十分に高い動作温度や十分に低い熱膨張を有していない。これらのガラスをそのような厳しい環境下で使用すると、熱破損が生じるかもしれない。１０×１０-7Ｋ-1未満の動作温度範囲（室温から約５５０℃）における非常に低い熱膨張を有する材料が、リフレクタに非常に望ましいであろう。ランプリフレクタの第３の要件は、効果的な光収集と反射のための、放物面または楕円面などの精密な表面輪郭である。第４は、効果的な光反射の目的のために、反射表面の表面平滑性が高い必要がある。リフレクタ用基体上に被覆された反射層は通常非常に薄いので、反射表面は、リフレクタ用基体の表面傷や凸凹を持つ。したがって、リフレクタ用基体は、反射層の被覆前に、非常に滑らかな内面を有する必要がある。反射表面上の微視的に粗い結晶粒子、微小割れ目および汚染物は、裸眼には見えないけれども、照明システムの効率を減少させ、機能を不十分にすることさえある。ランプリフレクタの第５の要件は、赤外線および近赤外線の波長での透明性である。ＵＨＰアーク放電ランプにより消費される電力の大半は、赤外光および近赤外光として放射される。これらの「熱い」光線は、ランプリフレクタによって可視光と一緒になって光路中に反射されず、反射層と反射壁を透過して、放散することが望ましい。
【００２７】
そのようなガラスセラミック製ランプリフレクタを製造する方法は一般に、ガラスを溶融する工程、溶融したガラスをリフレクタ用基体の成形品に形成する工程、結晶核が成長する核形成温度まで、冷却したガラス成形品を加熱する工程、成形品を結晶化温度（セラミック化）までさらに加熱して、ガラス成形品を、低熱膨張のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体に転化させる工程、電極リード線のための孔を開ける工程、ＵＨＰ水銀アーク放電ランプが取り付けられる、最終的なランプリフレクタのための反射表面上に反射層を被覆する工程を有してなる。
【００２８】
そのようなガラスセラミック製リフレクタおよびその製造方法を開示した文献としては、前出の特許文献１および２が挙げられる。これら２つの文献に開示された主結晶相は、βスポジュメンおよび／またはβユークリプタイトの固溶体であった。日本国のオカモトから入手できる製品のＸＲＤ分析は、実際に、リフレクタ用基体における主結晶相はβスポジュメン固溶体であり、少量のβユークリプタイト固溶体があることを示している。図２はこの製品のＸＲＤグラフである。この製品は乳白色である。そのようなガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体は、ＵＨＰランプのために製造し使用できるが、リフレクタ内に形成される結晶が過剰に粗く、反射表面の粗さが、さらに研磨せずに反射層を直接被覆するためには許容できなくなるであろうことも知られている。しかしながら、形成されたガラスセラミック製リフレクタ用基体をさらに研磨することは、費用がかかり、困難であり、製品の最終コストが嵩んでしまう。
【００２９】
本出願の発明者等は、主結晶相としてβ石英固溶体を有するガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体は、非常に良好な性質を持って製造できることを発見した。形成されたままのランプリフレクタは、上述した所望の特徴、特に、さらなる表面研磨の必要なく、７５ｎｍ未満の良好な表面平滑性を有する。このランプリフレクタは、高温で動作するＵＨＰの必要性に特に適している。このリフレクタは、プロジェクタの照明システムの小型化傾向に適応する小型に製造できる。
【００３０】
本発明のランプリフレクタのガラスセラミック材料は、重量パーセントで表して、５６〜６７％のＳｉＯ2、１９〜２２％のＡｌ2Ｏ3、３．４〜３．８％のＬｉ2Ｏ、１．８〜２．６％のＺｎＯ、１．５〜２．５％のＭｇＯ、３．３〜５％のＴｉＯ2、０〜２．５％のＺｒＯ2、１．５〜３％のＢ2Ｏ3、０〜６％のＰ2Ｏ5、０〜０．６％のＦ、５００ｐｐｍ未満のＦｅ2Ｏ3、並びに清澄に効果的な量の、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＣｅＯ2、塩化物、硝酸塩および硫酸塩化合物などの少なくとも一種類の清澄剤から生じる成分を有してなる。本発明のランプリフレクタのガラスセラミック材料は２〜４％のＰ2Ｏ5を含有することが好ましい。本発明のある実施の形態によれば、本発明のガラスセラミック材料は０．３〜０．５％のＦを含有する。本発明のランプリフレクタのガラスは一般に１５５０℃未満の温度で溶融することができ、比較的小さな工業用ガラスタンク内で溶融することが可能となる。Ｂ2Ｏ3およびＰ2Ｏ5の添加は、低い溶融温度を助長する。Ｐ2Ｏ5の添加にはいくつかの利点がある。第１に、Ｐ2Ｏ5はガラスの溶融温度を減少させるのに役立つ。第２に、Ｐ2Ｏ5は、ガラスの良好な液相線特性を与え、これは、ランプリフレクタ用基体の形成プロセスに有益である。さらに、Ｐ2Ｏ5は、セラミック化サイクル中の核形成に寄与する。それゆえ、Ｐ2Ｏ5を組成の２〜４重量％の量で加えると、非常に滑らかな表面を有するガラスセラミック基体を製造するのに役立てられる。ガラスの組成と結晶化プロセスの両方が、完成したガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の表面の平滑性に影響を与えることも分かった。この組成範囲外のガラスについて、許容できる平滑性の反射表面を持つガラス成形品を形成できるかもしれないが、その反射表面は、結晶粒子が表面上またはその近くで過剰に大きく成長するので、または微小割れ目（すなわち、微小亀裂）が形成されるので、粗くなり過ぎることが多い。本出願の発明者等は、予期せずに、バッチ材料にＦを加え、その含有量を最終ガラス組成の０．３〜０．５％に調節することによって、結晶化プロセス中に微小割れ目を著しく減少できることを発見した。ガラスバッチ中でＬｉ2Ｏの含有量を３．４〜３．８％に調節することは、β石英固溶体結晶相の形成を助長する。本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体のＩＲと近ＩＲの透過率を調節するためには、バッチ材料が、ＦｅＯ、ＣｕＯなどのＩＲ吸収成分を実質的に含まないことが重要である。したがって、鉄をわずかしか含まない砂がＳｉＯ2供給源としてバッチにおいて好ましい。ガラス溶融プロセス中の鉄による汚染をできるだけ避けることも望ましい。一般に、本発明のガラスセラミック材料中のＦｅ2Ｏ3の重量ｐｐｍで表される鉄含有量は５００ｐｐｍ未満に調節すべきである。実際には、ガラスセラミック材料中に存在する鉄は、＋２価であっても＋３価であってもよい。できるだけ多くの鉄が＋３価であることが好ましい。ガラス中の核形成剤としてのＴｉＯ2とＺｒＯ2の量は、結晶化速度および結晶粒子サイズに大いに影響を与え得る。それゆえ、それらの範囲を上述した範囲に調節することが重要である。
【００３１】
上述した組成を有するランプリフレクタ用基体のガラス成形品は、適切な結晶化の際に、結晶化してガラスセラミック製リフレクタ用基体を形成する。本発明のセラミック化されたランプリフレクタ用基体は、半透明灰色または透明黄褐色を有する。一般に、主結晶相としてβスポジュメン固溶体を含有するガラスセラミック材料は乳白色である。本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の主結晶相はβ石英固溶体であることがＸＲＤによって証明された。このβ石英固溶体は、非常に低い熱膨張係数の準安定な六方晶系結晶相である。その一般組成は、（Ｌｉ2，Ｒ）Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・ｎＳｉＯ2であり、ここで、ｎは２〜１０まで変動し、Ｒは二価陽イオン、通常は、Ｍｇ2+またはＺｎ2+である。
【００３２】
本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体は、(i)適切な比率でバッチ材料を混合し、(ii)ガラスタンク内でバッチ混合物を溶融し、溶融したガラスを均質化し、清澄させ、(iii)溶融したガラスを、７５ｎｍ未満の粗さＲａを持つ反射表面を有するガラス成形品に形成し、(iv)ガラス成形品を焼鈍し、(v)冷却されたガラス成形品を、結晶核が形成される核形成温度まで加熱し、(vi)ガラス成形品を、セラミック化される結晶化温度までさらに加熱し、(vii)成形されたガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体を冷却し、焼鈍することによって製造される。ガラス組成に加えて、工程(v)および(vi)、すなわち、核形成および結晶化工程における温度−時間的プロファイルが、最終のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の結晶相、その集合体および粒径、それゆえ、最終的な品質を決定する。
【００３３】
上述したように、最終的なランプリフレクタ用基体の良好なＩＲ透過率、特に近ＩＲ透過率を達成するために、バッチ材料が、ＩＲおよび近ＩＲ吸収成分を実質的に含まないことが必要である。それゆえ、鉄含有量が低い砂がＳｉＯ2供給源として好ましい。その砂や他のバッチ材料の鉄レベルを減少させるためには、酸による前処理が必要かもしれない。バッチ材料の処理が本質的に酸化鉄を導入しないことを確実にするのが重要である。無水ホウ酸をＢ2Ｏ3の供給源として用いてもよい。スポジュメン、微細なアルミナ、およびメタリン酸アルミニウムを出発材料として用いてもよい。本発明のある実施の形態において、ガラスはＡｓ2Ｏ3により清澄される。ガラスが酸化されることが好ましい。ある実施の形態において、ＮＨ4ＮＯ3などの硝酸塩が少なくとも一種類の清澄剤として使用される。硝酸塩は、ガラス中の微量のＦｅ2+をＦｅ3+に酸化するであろう。酸化鉄のＩＲ吸収はＦｅ3+によってではなくＦｅ2+によって生じるので、硝酸塩を使用すると、本発明のガラスおよびガラスセラミック材料のＩＲ透過率特性を改善できる。当業者は、ガラスセラミック材料の計画した最終組成にしたがって、使用するバッチ材料の量を計算できる。次いで、混合されたバッチ材料をガラスタンク中に装填し、従来のガラス溶融プロセスにしたがって溶融する。ガラス溶融タンクの動作容積および温度に適応するために、ガラス溶融の当業者は、ガラスの溶融を容易にする微細な調節を行うように、上述した組成範囲内にバッチの組成を調節することができる。溶融したガラスは、従来の方法を用いて均質化し、清澄できる。１６００℃を超える溶融温度を有するいくつかのガラスを結晶化して、β石英固溶体を含むガラスセラミック材料を形成できるが、そのような高温溶融は通常、大型で高価な溶融タンクで行わなければならない。さらに、そのような高い溶融温度のガラスの液相線挙動には通常、より高い温度での加圧と成形が必要である。したがって、ガラス材料はそれ自体、本発明の１つの態様を構成する。
【００３４】
均質化され、清澄され、熱的に均一になった溶融ガラスは、次いで、高温成形型に送られ、ガラス製ランプリフレクタ用基体の成形品に形成される。７５ｎｍ未満の表面粗さＲａおよび精密な表面輪郭を達成するために、成形型内に充填されるガラス塊を加圧するのに精密プランジャーが必要とされる。このプランジャーは、リフレクタ用基体の表面にＩＲ吸収酸化物や他の欠陥を導入しないことも必要である。次いで、成形品は、成形型から取り出され、ガラス・アニーラーに移動されて、さらなる加工のために成形品内の応力を十分に除去する。その後、冷却されたガラス成形品を、品質管理目的のために、化学的性質と物理的性質について検査し、分析する。表面粗さおよび輪郭が検査される。一般に、基体の反射表面は、滑らかかつ精密な放物面または楕円面の輪郭を有するべきである。これらのガラス成形品は、「パイレックス」タイプのホウケイ酸ガラス材料で十分である特定の用途においては、さらにセラミック化せずにランプリフレクタ用基体として使用でき、反射コーティングの被覆などのさらなる仕上げ工程を行うことができる。高い表面粗さと精密な輪郭のために、これらのガラス製ランプリフレクタは、高く一貫したルーメン出力を提供する。これらのガラス製ランプリフレクタ用基体は、本発明の別の態様を構成する。
【００３５】
本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタを製造するために、このように調製したガラス成形品をセラミック化窯内に配置して、結晶化プロセスを施す。この窯の温度−時間的プロファイルは、プログラム制御され、そのガラス成形品が、主結晶相としてβ石英固溶体を有し、約７５ｎｍ未満の反射表面の粗さを持つガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体に形成されることを確実にするように最適化される。上述したように、ガラス組成およびセラミック化プロセス中の熱履歴によって、最終的な結晶相、その集合体および最終製品における晶子サイズが決まる。一般的に、ガラス成形品は、最初に、結晶核が形成し始める核形成温度Ｔnまで加熱する。その後、それらを、核上に結晶が成長するさらに高い最高セラミック化温度Ｔcまで加熱する。結晶核は、ＴnからＴcへの加熱のプロセス中に形成し続ける。表面の微小亀裂を避けるために結晶化が所望な程度に到達するように、所定の期間に亘りＴcに成形品を維持することが望ましいことが多い。本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体を得るために、核形成温度Ｔnは６００〜７５０℃の間であり、最高セラミック化温度Ｔcは７００〜８５０℃の間である。Ｔcがより高いと、ガラスセラミック材料におけるβ石英固溶体のβスポジュメンへの不可逆変態を生じてしまうかもしれない。そのような変態は通常、晶子サイズの増加（通常は、５倍から１０倍）を伴う。大きな晶子サイズによって、反射表面が粗くなる虞がある。したがって、主結晶相としてβ石英固溶体を得るために、Ｔcは一般に８５０℃未満に制御すべきである。β石英固溶体に加えて、ルチルおよび亜鉛尖晶石などの他の結晶相が微量で、本発明のガラスセラミック材料中に同様に生成されるかもしれない。セラミック化後、成形品は、セラミック化窯から出され、室温まで冷まされる。当業者は、異なるガラス組成を上述した範囲に収めるように、Ｔn、Ｔcおよびセラミック化サイクルの温度−時間的プロファイルを調節することができる。本発明のガラスセラミック材料中の平均晶子サイズは３５ｎｍ未満であってよい。冷却されたガラスセラミック製リフレクタ用基体は、半透明灰色または透明黄褐色である。次いで、ランプリフレクタ用基体に、放電ランプの電極用の孔が開けられる。
【００３６】
アーク放電ランプを取り付けられるランプリフレクタを調製するために、最後に、反射表面に反射層を被覆する。そのようなコーティングは、都合よく、多重ＰＩＣＶＤ（プラズマ・インパルス化学的気相成長法）反射コーティングであって差し支えない。このコーティング・プロセスは、ランプリフレクタ用基体などの三次元基体に特に適している。ＰＩＣＶＤコーティングの例は、共に耐熱性である、１００層を超えるＳｉＯ2およびＴｉＯ2を含む。反射コーティングは、電子ビーム蒸着またはスパッタ・コーティングを用いて形成しても差し支えない。このように形成された反射コーティングは、可視光に対して反射性であるが、ＩＲおよび近ＩＲ波長に対しては透過性に製造できる。そのようなコーティングは、コールドミラー・コーティングと呼ばれる。次いで、ＩＲ光は、ガラスセラミック製ランプリフレクタの壁を通って透過し、さらに熱として放散される。
【００３７】
本発明のガラスおよびガラスセラミック材料が、ランプリフレクタと関連して説明されている。「パイレックス」タイプのホウケイ酸ガラスの通常の動作温度内などの、動作温度が比較的低い用途において、本発明のガラス材料から製造されたランプリフレクタを用いてもよい。従来のプロジェクション・ディスプレイに加えて、ＵＨＰランプを用いた用途において、本発明のガラスセラミック材料から製造されたランプリフレクタを用いてもよい。しかしながら、本発明のガラスおよびガラスセラミック材料には、他のデバイスにも同様に用途が見出されるであろうことを理解すべきである。例えば、ガラスセラミック材料は、その特徴が求められる場合、レンジ台の上面、調理台、および建築材料として用いてもよい。
【００３８】
以下の非限定的実施例により本発明をさらに説明する。しかしながら、それらは説明のみを目的としたものであることを理解すべきである。したがって、特許請求の範囲に記載された本発明は、これらの実施例に制限されるものと考えるべきではない。
【実施例】
【００３９】
実施例１
従来のガラス溶融方法を用いて、表Ｉに記載した組成を有するガラスを調製した。ガラスＣ１は、Ｂ2Ｏ3もＰ2Ｏ5も含有せず、ＳｉＯ2の含有量が、本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタのためのガラスよりも高いという点で、比較例である。実施例１〜７および９〜１０のガラスは、本発明のガラスおよびガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体のためのものである。ガラスＣ２は、要求される量のＺｎＯを含有せず、これも比較例である。
【００４０】
蓋をしたＰｔ坩堝内で６時間に亘り１５５０℃で酸化物、炭酸塩、および／またはフッ化物の原料から均質なガラスを溶融した。このガラスを、水中に注ぎ入れることによって、粗い粉末に調製した。このガラス粉末を、Ｐｔ撹拌器で撹拌する前に、５時間に亘り１６００℃でＰｔ坩堝内で再度溶融した。このガラスを鋼製平板テーブル上に注ぐ前に、撹拌によって生じた任意の気泡を除去するために、ガラスを１時間に亘り再度炉内に配置した。このガラスを６５０℃で焼鈍して応力を除去した。小さな試料を、完成したガラスから鋸で切り出し、プログラム可能な炉内で様々なセラミック化熱サイクルに施した。セラミック化条件およびそれにより得られたガラスセラミック材料を表IIに報告した。ガラスセラミック材料の結晶相情報は、ＸＲＤにより得た。
【００４１】
これらの実施例についての検査は研究所規模で行ったが、当業者により、大型の工業用ガラスタンクおよびセラミック化窯内で行えることが理解されよう。
【表１】
2006523600.tif 000003
【表２】
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【００４２】
表Ｉのデータから、ガラス１〜７および９〜１０が、比較ガラスＣ１よりも、１５５０℃の粘度が低いことが分かる。Ｃ１は、主結晶相としてβ石英固溶体を有するガラスセラミック材料にセラミック化できたが、溶融温度と液相線温度が高いために、本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体のための前駆体ガラスとしては望ましくなかった。実際に、ガラス１〜７および９〜１０に関する高温対粘度の関係全体が、１０００〜１５５０℃の範囲に亘りガラスＣ１よりも低い粘度を示す。組成の情報により、この範囲に亘る低い粘度が、主に、比較ガラスＣ１にＢ2Ｏ3とＰ2Ｏ5を加えることによって達成されたことが示されている。この組成にさらにフッ素を添加することによって、粘度がさらに減少するであろうことも示されている。表Ｉから、液相線温度の比較によって、ガラス１〜７および９〜１０が、比較ガラスＣ１とＣ２よりも、液相線で実質的に低い温度を有し、それらの内のいくつかが、液相線温度でいくぶん高い粘度を有することが示されている。これらの結果の両方が、リフレクタ形状を形成するための加圧成形におけるガラス１〜７および９〜１０の利点のいくつかを示している。
【００４３】
表IIから、最終的な結晶相とその集合体は、ガラス組成だけでなく、セラミック化サイクルの温度−時間的プロファイルにも依存することが示されている。１２０分で最高セラミック化温度７５０℃を有するサイクルに関して、Ｂ2Ｏ3のみが加えられたガラス１は、主にガラス質のままであることが分かった。同じ熱サイクルによって、ガラス５および６はβ石英固溶体の結晶相のみを生成し、それらは、透明性が良好に維持され、空気に接する滑らかな表面は高い反射性を維持していた。こらのガラスは、ガラス１のＢ2Ｏ3に加えて、Ｐ2Ｏ5も有していた。Ｐ2Ｏ5は明らかに、これらのガラスにおいて、β石英固溶体相の核形成および成長に役立つ。ガラス７および１０は、β石英固溶体が、７５０℃の最高温度保持サイクルについて優勢であることも示している。熱サイクルが８００℃の最高温度を有する場合、Ｘ線回折パターンに余計な相が表れる。一般に、最高セラミック化温度が高いと、βスポジュメンが、β石英固溶体と共に、別のＬｉ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3・ＳｉＯ2相として表れる。β石英固溶体が主結晶相のときに、いくつかの少量の亜鉛尖晶石（ＺｎＡｌ2Ｏ4−尖晶石）およびルチル（ＴｉＯ2）が存在する。主結晶相としてβ石英固溶体を有するガラスセラミック材料は、主結晶相としてβスポジュメン固溶体を有するものよりも低い熱膨張を有する傾向にあった。これは、とりわけ、主結晶相としてβ石英固溶体を含有するガラスセラミックの利点に寄与する。
【００４４】
実施例２
楕円面形反射表面および約３ｍｍの壁厚を有するガラス製ランプリフレクタ用基体を実施例１のガラス７から形成した。このガラスは、工業用ガラスタンク内で溶融した。次いで、これを、６５０℃のＴn、７５０℃のＴc、およびＴcでの６０分間の維持期間によりセラミック化した。このように得られたガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の光透過率特性を測定し、その透過率曲線を図３に示した。このグラフは、ガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体が、約３ｍｍの厚さで８０％を超える１０５０ｎｍでのＩＲ透過率を有したことを示している。ＸＲＤ分析は、その基体が、主結晶相としてβ石英固溶体を有したことを示した。測定した平均表面粗さは７０ｎｍ未満であった。表面に微小亀裂は観察されなかった。輪郭は精密であると測定された。次いで、このランプリフレクタ用基体を多数のコールドミラー・コーティングで被覆した。検査は、これが６００℃での長期の使用に適合し、高ルーメン出力に一貫性があり、検査中に反射表面に微小亀裂が見られなかったことを示した。
【００４５】
実施例３
この実施例において、試行加圧作業中にガラス溶融タンクから塊として４つのガラスパテを収集した。これらのパテは、この開発炉の加圧とセラミック化作業中に製造された加圧ガラス製リフレクタとして、ガラスの重量の約二倍であった。これらのパテは、加圧のために用いた焼鈍炉内で焼鈍した。次いで、これらのパテを半分に切断した。各パテの半分を、リフレクタ片のために選択された熱処理スケジュールで加圧片と共に炉内でセラミック化した。パテガラスおよび対応するガラスセラミック（本発明の材料を表す）のこれらの試料を、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）を使用することによって特徴付けて、主題のリフレクタに用いたガラスのセラミック化の際に表面粗さが変化したか否かを判定した。試料のパテからのセラミック化ガラスおよびガラスについて、表面粗さは、各パテの元の空気に接する側であったものについて判定した。
【００４６】
リフレクタ用基体材料のこれらのパテから製造した試料を、それぞれ、２つの２×２μｍの区域および２つの２０×２０μｍの区域についてＡＦＭを用いて平均表面粗さ（Ｒａ）に関して測定した。次いで、ガラスセラミック基体の表面粗さを、それぞれ、２つの２×２μｍの区域および２つの２０×２０μｍの区域についてＡＦＭを用いて測定した。表面粗さのデータは、ランプリフレクタ材料の表面粗さは、セラミック化後に認め得るほどには変化しなかったことを示した。
【００４７】
実施例４
この実施例において、本発明の２つのガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）を用いることによって特徴付けた。試料は、本発明の２つのランプリフレクタ（わずかに異なるセラミック化スケジュールにしたがって調製した）を切断して、リフレクタ用基体の断面を現すことによって調製した。次いで、これらの断面を、マイクロトームおよびその後のアルゴンイオン・ミリングによって薄い断片に製造した。次いで、試料のＴＥＭ画像を得た。
【００４８】
図４および５は、本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタの試料の断面ＴＥＭ画像顕微鏡写真である。図４の矢印は、試料の表面位置を指し示している。多くのセラミック結晶粒子が図４に観察できる。表面と最も近い粒子との間の距離は１００ｎｍ未満である。表面と粒子との間の層は、ガラス質相から実質的になるガラス層であると考えられる。図５は、検体内のセラミック結晶粒子の画像である。この画像は、結晶粒子のサイズが２０ｎｍから６０ｎｍの範囲にあることを示している。
【００４９】
図６は、本発明の別のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の断面ＴＥＭ画像である。図４と同様に、検体表面近くにセラミック結晶粒子が観察された。しかしながら、この試料の表面は画像には示されていない。
【００５０】
実施例５（比較例）
この実施例において、市販されているガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体を、ＴＥＭを用いて特徴付けた。試料を、実施例４に記載したのと実質的に同じ様式で調製した。
【００５１】
図７および８はこの市販の試料の画像である。図７は、多層のコールドミラー・反射コーティングおよびコーティング層の下にある検体の区域を示している。コーティング層から約５００ｎｍの深さには、セラミック結晶粒子は観察されなかった。しかしながら、画像においてコーティングから５００ｎｍより深い区域は、厚すぎてセラミック結晶粒子は確認できなかった。それゆえ、この検体の表面の下の非晶質層の厚さは、少なくとも５００ｎｍであった。よって、この市販の試料のガラスセラミック基体において、表面ガラス相は、少なくとも５００ｎｍの厚さである。図８は、検体内部の粒子を示す画像である。
【００５２】
実施例６（比較例）
この実施例において、別の市販のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体を、ＴＥＭを用いて特徴付けた。試料を、実施例４に記載したのと実質的に同じ様式で調製した。
【００５３】
図９、１０、１１および１２はこの市販の試料のＴＥＭ画像である。図９および１０は、表面下の非晶質層の厚さが約１μｍであることを示している。図１１は、合計で約３０層である、多層のコーティングを示している。図１２は、試料内部の結晶粒子を示している。したがって、ガラスセラミック基体（表面の多層反射コーティングを含まない）において、約１μｍの表面ガラス層がある。
【００５４】
実施例４を実施例５および６と比較すると、本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体が、市販の試料と比較してより薄いガラス表面層を有することが分かる。ガラス表面層は、基体のガラスセラミック体のＣＴＥとは異なるＣＴＥを有すると考えられる。ＣＴＥの不整合の結果として、セラミック化プロセス中に微小亀裂が生じ、それゆえ、製品の歩留まりが低下するか、またはランプが高温で動作しているランプの寿命サイクル中に、ランプの性能が低下するであろう。したがって、市販の製品と比較すると、本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体は、表面に微小亀裂が生じる傾向が少ないはずである。
【００５５】
ガラス製品のセラミック化によって、晶子が表面にまたは表面近くに形成すると、表面粗さの低下を引き起こし得ると一般に考えられている。したがって、セラミック化の際に比較的厚い残存したガラス質表面層が、ランプリフレクタ用基体の表面品質を助長するはずである。これは、実施例５および６の市販の試料が比較的厚い表面ガラス層（それぞれ、約５００ｎｍおよび１μｍ）を有する理由であると考えられる。しかしながら、実施例３に、ガラス質層がずっと薄い、本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体がそれでもまだ、ガラス成形品の低い表面粗さを有することが示されている。これは、本発明の材料に関する予期せぬ成果であった。
【００５６】
本発明の範囲および精神から逸脱せずに、本発明に様々な改変および変更を行えることが当業者には明らかであろう。それゆえ、本発明は、本発明の改変および変更を、それらが添付の特許請求の範囲およびその同等物に含まれるという条件で包含されることが意図されている。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】図１は、本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体のＸ線回折パターンを示すグラフである。ピークは、ランプリフレクタ用基体の主結晶相がβ石英固溶体であることを示す。
【図２】図２は、従来技術のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体のＸ線回折パターンを示すグラフである。ピークは、ランプリフレクタ用基体の主結晶相がβスポジュメン固溶体であることを示す。
【図３】図３は、約３ｍｍの壁厚を有し、コールドミラー・コーティングに被覆されていない、本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の光透過率曲線である。
【図４】図４は、本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の試料の断面ＴＥＭ顕微鏡写真である。
【図５】図５は、本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の試料の断面ＴＥＭ顕微鏡写真である。
【図６】図６は、本発明のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の試料の断面ＴＥＭ顕微鏡写真である。
【図７】図７は、市販のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の試料の断面ＴＥＭ顕微鏡写真である。
【図８】図８は、市販のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の試料の断面ＴＥＭ顕微鏡写真である。
【図９】図９は、市販のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の別の試料の断面ＴＥＭ顕微鏡写真である。
【図１０】図１０は、市販のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の別の試料の断面ＴＥＭ顕微鏡写真である。
【図１１】図１１は、市販のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の別の試料の断面ＴＥＭ顕微鏡写真である。
【図１２】図１２は、市販のガラスセラミック製ランプリフレクタ用基体の別の試料の断面ＴＥＭ顕微鏡写真である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
2006523600.tif 000017
2006523600.tif 000018
2006523600.tif 000019