(57)【要約】液晶セル（２６）用のポスト・スペーサ（２５）は色フィルタ材料を使用して形成される。ポスト・スペーサ（２５）の少なくとも一部（１５ａ）および対応するピクセル色フィルタ（１５ｂ）は、フォトリソグラフィを使用して色フィルタ材料（１５）の層で画定される。この場合、透明領域、中間調領域および不透明領域のパターンを備えるフォトマスク（８）が、２つの異なる厚さｔ１、ｔ２を有する構造を同時に画定するために使用される。中間調フォトマスク（８）の使用によって、ポスト・スペーサ部分（１５ａ）の厚さ、したがってポスト・スペーサ（２５）の最終高さを色フィルタ（１５ｂ）の厚さと独立して画定することができるようになる。ポスト・スペーサ（２５）は、２つ以上の層の色フィルタ材料（１５、２３）を画定するように中間調フォトマスク（８）を使用して形成することができ、比ｔ１／ｔ２は依然として所定の制限内にあることができる。ポスト・スペーサ（２５）は、好ましくは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）（３１）から離れて行電極３２と列電極３３の交点に位置付けられる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶セル用のポスト・スペーサを形成する方法であって、
第１の感光性色フィルタ材料を基板上に堆積することと、
光源で生成される光に対して透明な１つまたは複数の領域、前記光に対して不透明な１つまたは複数の領域、および少なくとも１つの中間調領域を含む第１のフォトマスクを前記基板と前記光源の間で位置合わせし、その結果、前記ポスト・スペーサの所望の位置が不透明領域によって遮蔽されるようにすることと、
前記第１の感光性色フィルタ材料を前記光で露光することと、
露光された第１の感光性色フィルタ材料を前記基板から除去することと、を備える方法。
【請求項２】
前記第１のフォトマスクは、第１の色フィルタの所望の位置が中間調領域を透過した光で露光されるように前記基板と位置合わせされる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第２の感光性色フィルタ材料を前記基板に堆積することと、
光源で生成される光に対して透明な１つまたは複数の領域と前記光に対して不透明な１つまたは複数の領域とを含む第２のフォトマスクを前記基板と前記光源の間で位置合わせし、その結果、前記ポスト・スペーサの所望の位置が前記第２のフォトマスクの不透明領域によって前記光から遮蔽されるようになることと、
前記第２の感光性色フィルタ材料を光で露光することと、
露光された第２の感光性色材料を前記基板から除去することと、をさらに備える、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記第２のフォトマスクは、中間調領域を含み、第２の色フィルタの所望の位置が中間調領域を透過した光で露光されるように、前記基板と位置合わせされる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の方法を使用して形成されたポスト・スペーサ。
【請求項６】
請求項５に記載の１つまたは複数のポスト・スペーサを備える液晶セルを有するディスプレイ。
【請求項７】
行と列とに配列されたピクセルのアレイをさらに備え、前記ポスト・スペーサが行／列の交点に位置している、請求項６に記載の液晶セル。
【請求項８】
前記ポスト・スペーサが、薄膜トランジスタの上に位置している、請求項６に記載の液晶セル。
【請求項９】
色フィルタと、液晶セル用のポスト・スペーサの少なくとも一部とを形成するために、光源とともに使用するためのフォトマスクであって、
前記光源で生成される光に対して透明な１つまたは複数の領域、前記光に対して不透明な１つまたは複数の領域、および前記光の限られた割合だけを透過させる少なくとも１つの中間調領域を備えるフォトマスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置の構造および製造に関する。詳細には、本発明は、液晶ディスプレイ・デバイスのポスト・スペーサを形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１Ａは、従来の能動マトリックス液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）・デバイス１を示し、このデバイスは、２つのガラス基板３、４の間に置かれた液晶２を備えている。基板３、４は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）電極５、６および液晶モジュール２の向きを画定するための位置合せ層７、８を保持している。赤、緑および青のフィルタ９Ｒ、９Ｇ、９Ｂは、基板の一方４に貼り合わせられ、ピクセルのアレイで色フィルタを実現するように配列されている。ピクセルは、関連した薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１０ａ〜１０ｃで駆動され、この薄膜トランジスタは行電極および列電極（図示しない）で切り換えられる。
【０００３】
理想的には、一様なコントラスト・レベルを実現するために、基板３、４は、その基板間のギャップｇがピクセル・アレイ全体にわたって一定であるように配列されるべきである。このギャップｇは、基板３、４の間にばらまかれたボール・スペーサ１１ａ、１１ｂまたはロッド・スペーサ（図示しない）のようなスペーサ要素を使用して維持されている。しかし、この型のスペーサでいくつかの問題が起こっている。液晶ディスプレイ・デバイス１中のスペーサの位置は基本的にランダムであるので、一様なギャップｇを保証することができず、スペーサは固まりになり、点欠陥を引き起こす可能性がある。ボール・スペーサ１１ａ、１１ｂの分布によって、また、セルが接触に敏感になる可能性がある。液晶モジュールの配列が、ボール・スペーサ１１ａの近くで歪んで、特に高解像度ディスプレイで光漏れの問題を引き起こす可能性がある。さらに、スペーサ１１ａ、１１ｂはピクセル領域を部分的に塞いで、輝度の損失をもたらす可能性があり、また、デバイス１が曲げ応力を受けると基板４にかき傷をつける可能性がある。
【０００４】
ボール・スペーサ１１ａ、１１ｂは、基板３、４が０．７ｍｍの厚さを持てる標準的な低解像度ＬＣＤディスプレイでは、許容可能とすることができる。しかし、ボール・スペーサの欠点は、ピクセルの大きなアレイを有するデバイス、面内切換え（ＩＰＳ）ディスプレイ、高コントラスト比パネル、およびより薄いガラスまたはプラスチックの基板を備えたディスプレイでは、ますます問題になる。また、ＬＣ‐ＴＶ用途の高速応答狭ギャップ・セルでは、正確な間隔をあけることが必要になる。
【０００５】
これらの問題は図１Ｂおよび１Ｃに示すように、ポスト・スペーサ１１、１２、１３を設けることで対処された。このポスト・スペーサは、フォトマスクまたはインクジェット印刷を使用して基板に貼り付けられる。これによって、ポスト・スペーサの位置付けおよびギャップｇの一様性をより大きく制御することが可能になる。例えば、ポスト・スペーサは、ピクセル領域が隠されないようにＴＦＴの上に位置付けすることができる。また、ポスト・スペーサの形は、同様な理由で先細りにすることができる。
【０００６】
ポスト・スペーサ１１は、フォトリソグラフィを使用して形成する。基板４は、フォトポリマー材料すなわちフォトレジストの４から５μｍの層で覆われる。ポジ型フォトリソグラフィ・プロセスでは、フォトレジストは、分解防止剤として作用するが１つまたは複数の特定波長の光、例えば紫外（ＵＶ）波長バンドの光を吸収する光活性添加剤を含む。特定の波長の光に対して透明な領域と不透明な領域とのパターンで形成されたフォトマスクが、基板とＵＶ光源との間に配置され、フォトレジストに光が当てられる。フォトマスク・パターンの透明領域と位置合わせされた基板のそのような部分では、ＵＶ光子はフォトレジストの上面で吸収され、光活性添加剤は光化学反応を受け、その結果、光活性添加剤はもはや分解防止剤として作用しなくなる。その上、ＵＶ光子は露光されたフォトレジストを漂白するので、光はそこを通過することができるようになり、フォトレジスト層のより深いところで反応を引き起こす。したがって、光化学反応は、「上から下へ」のやり方でフォトレジスト層を通して進む。フォトマスク・パターンの不透明領域は、フォトレジスト層の部分をＵＶ光から遮蔽するので、この光化学反応は起こらない。
【０００７】
光活性添加剤がもはや分解を阻止しないフォトレジスト層の露光された部分は、現像剤溶液を使用して除去され、基板が硬化される。このプロセスによって、フォトマスク・パターンの不透明領域に対応する基板の１つまたは複数の位置に、この場合にはポスト・スペーサ１１の所望の位置にフォトレジストの部分が残る。
【０００８】
しかし、このプロセスは、製造プロセスの余分なステップを必要とし、さらに、基板４に塗布されるポリマー材料の９９％までが除去されることがあるので、非常に不経済である。この型の構造に関連したコストは、ボール・スペーサまたはロッド・スペーサのコストより好ましくない。
【０００９】
そのような消耗を減らす１つの方法は、図１Ｃに示すように、ポスト・スペーサを形成するために着色感光性材料の１つまたは複数の層を使用することであり、この場合、フィルタ９Ｒ、９Ｇ、９Ｂを形成するためにも同じ材料が使用される。これによって、色フィルタ材料を画定するために使用されるフォトリソグラフィ・ステップ中にポスト・スペーサ部を形成することができるようになる。したがって、ポスト・スペーサを形成するために追加のフォトリソグラフィ・ステップが必要でなく、これによって、廃棄される材料の量が減少する。しかし、ポスト・スペーサ１２ａ、１２ｂ、１２ｃの層の高さは、フィルタ層９Ｒ、９Ｇ、９Ｂの厚さに依存している。フィルタの厚さは、輝度のようなセル１の所望光学特性で支配され、それで、ピクセル・アレイ全体にわたって一様でなければならず、ポスト・スペーサの可能性のある高さを制限することになる。フィルタ層は一般に厚さ約１．２μｍであり、この厚さは、２．４μｍ以下のポスト・スペーサ高さおよびセル・ギャップをもたらし、これはほとんどの用途にとって小さすぎる。
【００１０】
ポスト・スペーサ高さのフィルタ厚さ依存性は、米国特許第５，７５７，４５１号で証明されている。この従来の構成では、ポスト・スペーサ部分の高さと対応するフィルタの厚さとの差は、フォトリソグラフィ・プロセスの始めに基板の特定の位置に塗布されるフォトレジストの厚さだけから生ずる。次の例は米国特許第５，７５７，４５１号の記述に基づき、これはネガ型フォトリソグラフィ・プロセスに関係し、この場合、光化学反応はフォトレジスト層の露光部分の硬化をもたらし、未露光材料は現像中に廃棄される。未硬化のＲ、ＧおよびＢフォトレジストの密度が２０％であると想定すると、第１のステップで、Ｒフィルタが１０μｍのフォトレジスト層を塗布して堆積され、２μｍのＲフィルタおよび２μｍのＲポスト・スペーサ部が生じる。第２のステップで、１０μｍのフォトレジスト層を使用して、Ｇフィルタが形成される。Ｇフォトレジスト層が平坦化されると想定すると、ポスト・スペーサの位置でのフォトレジスト層の厚さは、Ｒポスト・スペーサ部分が存在するために、８μｍに過ぎず、結果として、２μｍのＧフィルタおよび１．６μｍのＧポスト・スペーサ部が生じる。第３のステップで、１０μｍのＢフォトレジスト層が塗布され、露光され、Ｂフォトレジスト層が平坦化されると想定すると、２μｍのＢフィルタおよび１．２８μｍのＢポスト・スペーサ部が生じる。この例では、ポスト・スペーサは、２．８８μｍのギャップを実現する可能性がある。
【００１１】
さらに、ポスト・スペーサおよびフィルタは同時に形成されるので、図１Ｃのようにポスト・スペーサがＴＦＴ１０ｂの上にあるとき、問題が起こる可能性がある。この構成は、ピクセル領域を隠すのが最小限になるという有利点があるが、ポスト・スペーサを覆うＩＴＯ電極層６が、ＴＦＴ１０ｂに非常に接近するようになる。このことは、ＴＦＴ１０ｂの短絡および／または劣化をもたらす可能性がある。
【００１２】
図１Ｂに示すように色フィルタ材料１３ａ、１３ｂ、１３ｃと別のポリマー１３ｄとの両方でポスト・スペーサ結合層を形成することで、ポスト・スペーサ高さのフィルタ厚さ依存性を克服することができる可能性がある。しかし、これには、光位置合せおよび現像の別個のステップが必要となり、色フィルタ材料の使用から生じる有利が無くなる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の目的は、色フィルタ材料でポスト・スペーサを形成する方法であって、フィルタ層の厚さおよびポスト・スペーサの高さを独立して制御することができる方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の第１の側面によれば、液晶セル用のポスト・スペーサを形成する方法は、  第１の感光性色フィルタ材料を基板上に堆積することと、光源で生成される光に対して透明な１つまたは複数の領域、前記光に対して不透明な１つまたは複数の領域、および少なくとも１つの中間調領域またはグレイ色領域を含む第１のフォトマスクを前記基板と前記光源の間で位置合わせし、その結果、前記ポスト・スペーサの所望の位置が不透明領域によって遮蔽されるようにすることと、
前記第１の感光性色フィルタ材料を前記光で露光することと、露光された第１の感光性色フィルタ材料を前記基板から除去することと、を備える。
【００１５】
このようにして、感光性色フィルタ材料の同じ層から形成された、異なる厚さの構造が、基板上に画定される。従来のフォトマスクの代わりに中間調マスク露光を使用して、ポスト・スペーサ位置およびフィルタ位置に堆積された色フィルタ材料の層の厚さは、独立して正確に制御することができる。これによって、ポスト・スペーサの部分とフィルタとを、それらの相対寸法を制限することなく、浪費を低減しながら、同時に形成することができるようになる。
【００１６】
好ましくは、第１のフォトマスクは、第１の色フィルタの所望の位置が第１のフォトマスクの中間調領域を透過した光で露光されるように、基板と位置合わせされる。
【００１７】
本方法は、さらに、第２のフォトマスクを使用して、ポスト・スペーサの所望の位置に感光性色フィルタ材料の第２の層を画定することを備えることができる。第２のフォトマスクは中間調領域を備えることもできる。
【００１８】
本発明は、さらに、上述の方法を使用して形成されたポスト・スペーサ、およびそのようなポスト・スペーサを備える液晶セルを有するディスプレイを提供する。好ましくは、ポスト・スペーサは、液晶セル中で、ＴＦＴから離れた位置に位置付けされる。特に、ポスト・スペーサは、ピクセル・アレイ中で行と列との交点に設けることができる。しかし、そのように要求される場合には、ＴＦＴの上にポスト・スペーサを位置付けることができる。
【００１９】
本発明の第２の側面によれば、色フィルタと液晶セル用のポスト・スペーサの少なくとも一部とを形成するために光源とともに使用するためのフォトマスクは、光源で生成された光に対して透明な１つまたは複数の領域、前記光に対して不透明な１つまたは複数の領域、および前記光の限られた割合だけを透過させる少なくとも１つの中間調領域を備える。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
ここで、添付の図面を参照して本発明の実施形態を説明する。  
図２Ａは、アルミノケイ酸塩ガラスのような絶縁性透明基板１４の小部分を示す。以下のプロセスで、ポスト・スペーサは基板１４に形成される。基板１４は第１のフォトポリマー１５で覆われ、このフォトポリマー１５は赤顔料の分散を有する。この実施例では、ポスト・スペーサは、赤、緑および青のフォトポリマーの層を塗布して形成される。ただし、様々な色が基板１４に塗布される順序は重要ではない。図において、着色部は、赤、緑および青のフォトポリマー材料を示すために、それぞれ斜線、陰影付けおよび正方形を使用して示す。
【００２１】
基板１４はフォトマスク１６と位置合わせされる。このフォトマスク１６は、ガラスのようなＵＶ光に対して透明な材料の板１７と、クロム（Ｃｒ）の不透明層１９と、ＵＶ光は透過するが減衰する珪素に富んだ窒化珪素（ＳｉＮ）の中間調またはグレイ色の層１８と、を備える。ＳｉＮおよびＣｒ層１８、１９は、透明な領域、中間調の領域および不透明な領域のパターンを実現するように形成される。
【００２２】
基板１４は、図２Ｂに示すようにＵＶ光で露光される。図２Ｂでは、ＵＶ光の強度は矢印の大きさで示す。ＵＶ源からの光は、透明領域を通過し、また中間調領域で減衰し、赤フォトポリマー１５と相互作用して、上述の光化学反応を起こす。しかし、フォトマスク１６の中間調領域と位置合わせされた赤フォトポリマー層１５の領域は、減少されたＵＶ光強度で露光されるので、光化学反応は「上から下へ」のやり方で進み、赤フォトポリマー層１５の上の部分だけが光照射の影響を受ける。不透明領域は、下にある赤フォトポリマー層１５の領域をＵＶ光から遮蔽する。次いで、赤フォトポリマー１５は現像され、硬化されて、赤フォトポリマー層１５の露光された領域が除去される。
【００２３】
フォトマスク１６の不透明領域と位置合わせされた赤フォトポリマー層１５の第１の赤部分１５ａは、基板１４の上に残り、厚さｔ１を有する。フォトマスク１６の中間調領域と位置合わせされた赤フォトポリマー層１５の領域では、赤フォトポリマー層１５の最上部だけが除去され、減少した厚さｔ２の第２の赤部分１５ｂが残っている。
【００２４】
フォトマスク１６の透明領域、中間調領域および不透明領域のパターンは、赤フォトポリマー部分１５ａ、１５ｂのアレイが基板上に残るように形成される。厚さｔ１の赤ポスト・スペーサ部分１５ａは、その所望の位置に実現される。赤フィルタは、ピクセル・アレイの赤ピクセルに対応する位置に堆積された厚さｔ２の赤部分１５ｂで実現される。このようにして、赤フィルタ１５ｂおよびポスト・スペーサの部分１５ａが同時に形成され、赤ポスト・スペーサ部分１５ａの高さは、赤フィルタ１５ｂの厚さに依存しない。
【００２５】
次いで、フォトポリマーの第２の層が塗布され、第２のフォトマスク２０を通して露光される。図２Ｃは、基板１４への緑フォトポリマーの層の積層を示す。この実施例では、第２のフォトマスク２０は中間調領域を含まず、Ｃｒ層２１で画定された不透明部分が前のように透明板２２に配列されている。現像および硬化中に、破線で示されるフォトポリマーの露光された領域は除去される。厚さｔ３の緑フォトポリマー部分が残って、緑フィルタのポスト・スペーサ部分２３ａおよび緑フィルタ２３ｂを画定している。このプロセスは、図３に示す青フィルタのアレイおよびポスト・スペーサ部分２４を形成するために繰り返され、フィルタ１５ｂ、２３ｂ（青フィルタは示さない）のアレイおよびポスト・スペーサ２５が完成される。
【００２６】
図３は、完成されたポスト・スペーサ２５を備える液晶セル２６の断面を示し、一方で、図４は、液晶セル２６の平面図であり、ピクセル・アレイの一部を示す。青ポスト・スペーサ部分２４の形成に続いて、連続した電極を形成する酸化インジウム錫（ＩＴＯ）層２７およびポリイミド整列層２８が基板１４に塗布される。このポリイミド整列層は、液晶分子２９の所望の向きを決定するためにこすられる。
【００２７】
基板１４は、第２の基板３０と向かい合って位置付けられており、この第２の基板３０は、バック・チャネル・エッチＴＦＴ３１ａ、３１ｂのアレイおよび複数のコンデンサ（図示しない）を保持し、そこで、ＴＦＴとコンデンサとは各ピクセル領域Ａ〜Ｆに関連している。行電極３２と列電極３３とのマトリックスは、ＴＦＴ３１ａが行電極３２ａで活性化されて関連したコンデンサを列電極３３ａの電圧に従って充電させるように実現されている。また、基板３０は、ＳｉＮ絶縁体、パシベーション層３４、３５、ＩＴＯ電極層３６およびこすられたポリイミド整列層３７を保持している。
【００２８】
ポスト・スペーサ２５、２５’は、行電極３２と列電極３３の交点に位置付けされている。これによって、ピクセルＡ〜Ｆのアパーチャに影響を及ぼすことなく、図３に示すようにＩＴＯ電極層３６の一部がポスト・スペーサ領域から取り除かれた構造を使用することができるようになる。したがって、この構成によって、ＴＦＴ３１ａ、３１ｂおよび向かい合うＩＴＯ電極層２７が互いに非常に近接して位置付けされたいくつかの以前の液晶セルに関連した短絡および劣化の問題が起こらなくなる。
【００２９】
しかし、他の実施形態では、ポスト・スペーサは、図５Ａ〜５Ｃに示すように、ＴＦＴ３１の上に配置することができる。この構成では、ポスト・スペーサ３８、３９、４０は、図示のように柱状であり、またはピクセル・アパーチャを隠すのを避けるために、先細りになっている。図５Ａでは、赤フォトポリマーの層は、図２Ａに示すものに似た形をした２つの異なる厚さの領域をつくるために使用された。前のように、ポスト・スペーサ３８の一部は厚さｔ１の赤ポスト・スペーサ部分１５ａで形成され、赤フィルタは、減少した厚さｔ２の赤部分１５ｂで形成される。各々一様な厚さ有する緑および青のフォトポリマーの層は、緑フィルタおよび青フィルタおよびポスト・スペーサの他の部分３８を形成するように、基板１４の上に積層されている。
【００３０】
図２Ａ、３および５Ａにおいて、基板１４に塗布されたフォトポリマー層のうちの最初のもの、この場合には赤フォトポリマー層１５は、異なる厚さを有する部分のアレイを形成するために使用される。しかし、第２のフォトポリマー層２３および第３のフォトポリマー層は、第１のフォトポリマー層１５の代わりに、または第１のフォトポリマー層１５に加えて、異なる厚さの部分を残すように構成することができるので、一番目のフォトポリマー層１５をこのように使用する必要はない。
【００３１】
図５Ｂは、赤および緑フォトポリマー層１５、２３を塗布してポスト・スペーサ部分１５ａ、２３ａおよびフィルタ１５ｂ、２３ｂを形成することによって形成されたポスト・スペーサ３９を示し、ここで赤フォトポリマー層１５についてｔ１＝ｔ２であり、さらに緑フォトポリマー領域２３ａ、２３ｂは同じ厚さｔ３を有する。青フォトポリマー層は、等しくない厚さを有する青フィルタ（図示しない）とポスト・スペーサ部分２６とを実現するように形成された。フォトポリマー層１５、２３、他の各々が塗布されたとき、基板１４および任意の上にある層ができるだけ平らであるように、異なる厚さを有する構造を画定するために、基板１４に塗布される最終フォトポリマー層を使用するのが好ましい可能性がある。これによって、下にある特徴によるフォトポリマー層の厚さのばらつきおよび結果として最終ポスト厚さに及ぼす影響が最小になる。
【００３２】
図２Ａ〜Ｃの方法は、中間調領域のあるフォトマスク１６を使用して、ただ１つのフォトポリマー層１５に異なる厚さの部分を画定した。この方法によって、必要な中間調フォトマスクの数は最小になるが、特定の用途では大きなポスト・スペーサ高さが必要になる可能性があり、ただ１つの中間調マスクだけが使用される場合、このことは結局ｔ１とｔ２との大きな差となる。比ｔ１／ｔ２が特定の値より小さく保たれる場合、より優れた結果が生じる可能性がある。このことは、中間調フォトマスク１６を使用してフォトポリマー層のうちの任意の２つまたは３つ全てを画定することによって、達成することができる。例えば、図５Ｃに示すポスト・スペーサ４０は、対応するフィルタ例えば１５ｂの厚さを超える厚さで形成された赤部分１５ａおよび緑部分２３ａを備える。第３の部分２６は、一様な青フォトポリマー層で形成されるが、必要であれば、他の中間調フォトマスクを使用して、青フィルタ（図示しない）および異なる厚さを有するポスト・スペーサ部分２６を形成することができる。
【００３３】
「位置合わせされた」という用語は、基板１４の部分が、フォトマスク１６の特定の領域を通過した、またはフォトマスク１６の特定の領域で遮蔽された光を受け取ることを、また基板に画定されたパターンとフォトマスク・パターンとの縮尺は同一である必要がないことを示すように使用された点に留意されたい。
【００３４】
この開示を読むことで、当業者には他の変形物および修正物が明らかになるであろう。例えば、フォトマスク・パターンは、中間調および不透明領域を形成するために異なる材料を使用して画定することができる。例えば、モリブデン・シリサイド（ＭｏＳｉ）は、ＳｉＮの代わりに中間調層を形成するために使用することができる。同様に、不透明層はモリブデン（Ｍｏ）で形成することができる。また、比ｔ１／ｔ２に対する任意の制限を条件として、色フィルタ材料１５ｂの単一部分でポスト・スペーサを形成することもできるだろう。そのような変形物および修正物は、液晶セルおよび構成部分を備える電子デバイスの設計、製造および使用において既に知られており、かつ本明細書で既に説明した特徴の代わりに、または加えて、使用することができる均等の特徴および他の特徴を含む可能性がある。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１Ａ】従来のスペーサを備える従来の液晶セルを示す図である。
【図１Ｂ】従来のスペーサを備える従来の液晶セルを示す図である。
【図１Ｃ】従来のスペーサを備える従来の液晶セルを示す図である。
【図２Ａ】本発明によるポスト・スペーサの製造の段階を示す図である。
【図２Ｂ】本発明によるポスト・スペーサの製造の段階を示す図である。
【図２Ｃ】本発明によるポスト・スペーサの製造の段階を示す図である。
【図３】本発明によるポスト・スペーサを備える液晶セルの実施例を示す図である。
【図４】液晶ディスプレイ・デバイスのピクセル・アレイを示す平面図である。
【図５Ａ】本発明によるポスト・スペーサの他の実施例を示す図である。
【図５Ｂ】本発明によるポスト・スペーサの他の実施例を示す図である。
【図５Ｃ】本発明によるポスト・スペーサの他の実施例を示す図である。
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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2006510052.tif 000009
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