(57)【要約】【解決手段】  光学アッセンブリは、光学デバイス（１０３）と、光学デバイス（１０３）を収容するためのエンクロージャ（１０１）であって、該エンクロージャ（１０１）は、光学デバイス（１０３）への光ビーム（１０４）又は該光学デバイス（１０３）からの光ビーム（１０４）の通過を可能にするため透明区分（１０７）を備えている、前記エンクロージャと、、透明区分（１０７）を通過したテスト光ビーム（２１２）の減衰率を測定するための手段と、を備える。好ましくは、光学アッセンブリは、測定された減衰率を補償するため光学デバイス（１０３）又は関連する光学デバイスの測定値又は特性を調整することにより減衰の測定量を補償するための手段を更に備える。
2006516725.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学アッセンブリであって、
光学デバイスと、
前記光学デバイスを収容するためのエンクロージャであって、該エンクロージャは、前記光学デバイスへの光ビーム又は該光学デバイスからの光ビームの通過を可能にするため透明区分を備えている、前記エンクロージャと、
前記透明区分を通過したテスト光ビームの減衰率を測定するための手段と、
を備える、光学アッセンブリ。
【請求項２】
前記測定された減衰率を補償するための手段を更に備える、請求項１に記載の光学アッセンブリ。
【請求項３】
前記測定された減衰率を補償するための手段は、該測定された減衰率を補償するため、前記光学デバイス又は関連する光学デバイスの測定値又は特性を調整するための手段を備えている、請求項２に記載の光学アッセンブリ。
【請求項４】
前記光学デバイスへの光経路又は該光学デバイスからの光経路と、テスト光経路とは、実質的に前記透明区分で交差するように、配列されている、上記請求項のうちいずれか１項に記載の光学アッセンブリ。
【請求項５】
前記透明区分は、前記エンクロージャ内の凹所に配置されている、上記請求項のうちいずれか１項に記載の光学アッセンブリ。
【請求項６】
前記透明区分は、覆われた通路内に配置され、前記透明区分を通過した前記光経路は、前記通路の長さに沿って延在する、請求項５に記載の光学アッセンブリ。
【請求項７】
前記テスト光ビームを発生するための光源と、該テスト光ビームを検出するための検出器と、を備え、該光源及び該検出器は、前記透明区分の各々反対側に配置されている、上記請求項のうちいずれか１項に記載の光学アッセンブリ。
【請求項８】
前記エンクロージャの外部に配置されている構成部品は、凹所に配置されている、請求項７に記載の光学アッセンブリ。
【請求項９】
前記外部の構成部品は、前記テストビームが通過するところの通路内に配置されている、請求項８に記載の光学アッセンブリ。
【請求項１０】
ガスの流れが、前記外部の構成部品から離れるように前記通路に沿って差し向けられ、前記透明区分に当てられる、請求項９に記載の光学アッセンブリ。
【請求項１１】
ガスの流れを前記透明区分の外側表面上に当てるように差し向けるための手段を備え、該外側表面上への汚染物質の蓄積を減少させる、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光学アッセンブリ。
【請求項１２】
前記ガスの流れは、圧縮ガスである、請求項１３又は１４の係る光学アッセンブリ。
【請求項１３】
前記光学デバイスは、光源であり、前記光学アッセンブリは、前記エンクロージャの内部に配置され、且つ、前記光源から、前記テストビームを検出するため配置されたテスト検出器へと前記ビームの一部分を差し向けるように構成されたビームスプリッターを備える、上記請求項のうちいずれか１項に記載の光学アッセンブリ。
【請求項１４】
前記光学デバイスは、検出器であり、前記検出器は、前記テストビーム及び１次ビームの両方を検出するように配列されている、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の光学アッセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学アッセンブリに係り、特に工業環境で使用するための光学アッセンブリに関する。光学アッセンブリは、光学デバイスを収容するためのエンクロージャを備え、該光学デバイスは、典型的には、光源又は検出器のいずれかであり、該エンクロージャは、光が、光学デバイスからエンクロージャに入ること、又は、エンクロージャから出て光学デバイスに至ることを可能にするための透明窓を備えている。
【背景技術】
【０００２】
工業環境は、ノイズ、振動、温度及び湿度によりしばしば特徴付けられ、工業環境で使用されるデバイスは、流体、溶媒、空中浮遊塵、及び、蒸気にさらされている。それは、例えば、プロセス監視の目的のため、そのような環境中に感度の高い設備を設置することがしばしば望ましい。測定のモードに依存して、工業環境因子の一部又は全ては、容易にふるいにかけられ、感度の高い設備と干渉することを無くすことができる。
【０００３】
特に、光学センサーは、一般にプロセス監視のために使用される。例えば、ＷＯ０１／６６３５２に開示された一出願では、光源は、テスト表面を照明するため使用され、表面との相互作用から生じる光の振る舞いの特性が測定され、光学検出器を用いて定量化される。光学検出のこの状況では、工業環境からの干渉を無くすことは特別の挑戦事項となる。エンクロージャ内部の光学デバイスの配置は、デバイス内の汚染物質の進入を防止するが、光学信号又はビームは、デバイスと相互作用するためエンクロージャの一部を通過しなければならない。従って、透明区分は、エンクロージャ内に備えられなければならない。しかし、汚染は、透明区分の外部でなおも生じ、エンクロージャ内の光の通過又はエンクロージャからの光の通過を妨げる可能性があり、測定に悪影響を及ぼす。特に、管理されていない状況では、汚染の存在及び／又は存在する汚染の範囲に関する不確定性が常にあり、これは、器具を使用する利点を完全に無効にし得る。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明によれば、光学アッセンブリは、光学デバイスと、該光学デバイスを収容するためのエンクロージャであって、該エンクロージャは、該光学デバイスへの光ビーム又は該光学デバイスからの光ビームの通過を可能にするため透明区分を備えている前記エンクロージャと、該透明区分を通過したテスト光ビームの減衰率を測定するための手段と、を備えている。
【０００５】
本発明の光学アッセンブリは、エンクロージャの透明区分上に蓄積した汚染物質により引き起こされる減衰率を測定し、これにより該減衰率を監視する能力を有する。
測定値は、減衰率が閾値に達したときオペレータを単に警告するためだけに使用されてもよい。このことは、汚染の蓄積が、光学デバイスの動作に悪影響を及ぼしうるレベルに到達したことを示している。しかし、光学アッセンブリは、測定された減衰率を補償するための手段を備えるのが好ましい。光学デバイス又は関連する光学デバイスの測定値若しくは特性は、測定された減衰率を補償するため調整されるのが好ましい。光学デバイスが検出器である場合、検出器の感度が調整されてもよく、又は、検出器からの信号が適切な因子により調整されてもよい。光学デバイスが光源である場合、光源の明るさを調整することができる。光学デバイスそれ自体の特性を調整するというよりも、関連するデバイスの特性若しくは測定値を調整してもよい。デバイスが光源と検出器との対の一部である場合、他のデバイスが調整されてもよい。例えば、光学デバイスが光源である場合、連係する検出器からの信号は、光源からの光ビームの減衰を補償するため調整することができる。
【０００６】
好ましくは、光学デバイスへの光経路又は光学デバイスからの光経路と、テスト光経路とは、実質的に透明区分で交差する。これは、光学デバイスからのビーム又は光学デバイスへのビームが透明区分を通過する位置と同じ位置で透明区分の汚染が測定されることを確実なものとする。
【０００７】
好ましくは、光学アッセンブリは、テスト光ビームを発生するための光源と、該テスト光ビームを検出するための検出器と、を備え、該光源及び該検出器は、透明区分の両側に配置されている。好ましくは、光源は、エンクロージャの外部に配置され、検出器は、エンクロージャの内部に配置される。
【０００８】
好ましくは、透明区分は、エンクロージャの内の凹所に配置されているのがよい。これは、空中浮遊ダスト及び他の汚染物質が、透明区分に到達して該透明区分に蓄積することを防止させる。好ましくは、透明区分は、覆われた通路内に配置され、透明区分を介した光経路は通路の長さに沿って延在する。
【０００９】
好ましくは、テスト光ビームがテスト光源により発生され、テスト検出器により検出されるとき、エンクロージャの外部に配置されている構成部品が凹所に配置される。これは、汚染が蓄積し、外部構成要素の性能に影響を及ぼすことを防止する。好ましくは、外部構成要素は、テストビームが通過する通路内に配置される。
【００１０】
本発明の好ましい態様では、光学アッセンブリは、表面上の汚染物質の蓄積を減少させるため、透明区分の外側表面上にガスの流れを差し向けるための手段を備える。洗浄流体が、ガスの流れ内に導入されてもよい。
【００１１】
本発明のこの好ましい態様では、透明区分の外側表面に差し向けられたガスの流れが、表面上の汚染物質の蓄積を事実上減少するように機能する。もしそうでなかったならば、放射されたビーム又は受け取るビームを減少させることとなる。更に、洗浄流体を流れに追加することにより、蓄積された残留物を一掃させる。
【００１２】
好ましくは、ガスの流れは圧縮ガスであり、より好ましくは、圧縮空気である。
好ましくは、ガスの流れは、テスト光源と検出器との対の外部構成要素が配置されている通路に沿って差し向けられ、当該流れは、外部構成要素から離れるように向けられ、透明区分に当てられる。更には、テスト光源又は検出器から離れる通路に沿ったガスの流れは、テスト光源又は検出器上の汚染物質の蓄積を防止する。
【００１３】
光学デバイスが光源である一実施例では、光学アッセンブリは、エンクロージャ内に配置され、且つ、テストビームを検出するように配置されたテスト検出器へとビームの一部分を差し向けるように構成されたビームスプリッターを備える。これは、テスト検出器が、光源の出力を測定すること、最終的な測定結果が光源の光出力のばらつきに関して調整されること、並びに、透明状態の汚染によるビームの減衰に耐えること、を可能にするように使用されることを可能にする。
【００１４】
光学デバイスが検出器である別の実施例では、検出器は、テストビーム及び１次ビームの両方を検出するように配列させることができる。１次ビームのための光源が作働停止され、テストビームのための光源が作働されたとき、検出器は、１次ビームからの所定強度の光を受け取り、逆もまた可能である。この構成の利点は、それがより簡単であり、数個の構成部品だけで済むということである。
【実施例】
【００１５】
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施例を説明する。
図１は、光学デバイス１０３を含む密封式エンクロージャ１０１を示す。エンクロージャ１０１は、漏れ無しに、水中に全体として浸漬させることができるという要求を始めとして、電気エンクロージャのための最も厳しい要求の一つ（例えば、ＩＰ６７）と合致させるように構成されている。
【００１６】
エンクロージャ１０１は、測定されるべき表面１０２に対して位置決めされている。光学デバイス１０３は、一実施例では、光源、例えば、ＬＥＤ又はレーザー等、又は、別の実施例では光学検出器を表している。光経路１０４は、源１０３から表面１０２への光の移動又はデバイス１０３が検出器である場合のその逆方向の移動を記述するように示されている。光ビームは、通路１０５に沿って移動する。該通路は、窓１０７をエンクロージャ１０１内の凹所に配置することを可能にする。例えばフィルター、偏光器、レンズ等の他の光学要素を、光学デバイス１０３とエンクロージャ窓１０７との間に配置してもよい。エンクロージャ１０１の密封は、例えば、Ｏリングシールを使って、汚染物質を排斥するような態様で、エンクロージャ１０１に取り付けられた窓１０７を使用して達成される。圧縮ガスは、通路１０８を通って窓１０７の外側表面へと差し向けられる。圧縮ガスは、通路１０８を通って窓１０７の外側表面へと差し向けられる。圧縮ガスは、制御された圧力１０９で外側供給部から供給される。窓表面に亘って流された、圧縮ガスは、通路１０５に沿って移動し、周囲１１０へと排出される。流体をクリーニングするバースト流れが、通路１０８を下って移動し、窓１０７に適用され、窓１０７に残っていたものを一掃するように、圧縮ガスの流れの上流に導入されてもよい。
【００１７】
図１は、窓の汚染物質の診断のための構成を示している。ガス管１０８がテスト光源２１１と嵌合しており、該テスト光源は、テストビームをガス管１０８に沿って窓１０７に投影し、該テストビームは窓１０７を透過する。透過した光は、経路２１２に従い続け、最終的にテスト検出器２１３に至り、該検出器で、電気信号へと変換される。光経路２１２は、実質的に窓１０７のところで光経路１０４と交差するように構成されている。
【００１８】
汚染診断法は、テスト光源２１１が作働されるとき及び窓１０７が汚染の無い状態にあるときの、テスト検出器２１３からの信号の初期較正工程を含んでいる。これは、製造時に及び製造後短期間のうちに実施されるのが好ましいが、汚染環境では設置前に実施されるのが好ましい。汚染が無い状態におけるテスト検出器２１３からの信号が、光学デバイス１０３と連係された電子システムにより、測定され、記録される。この値は、ＩＤ０と称される。汚染環境の可能性のある光学デバイス１０３の設置に引き続いて、テスト検出器２１３からの信号を測定する類似の動作が、ＩＤｔと称される値を与えるため実施される。テスト光源２１１は、それがオフとなる時間の残りに関して、テスト検出器２１３が測定されている時に作働されるだけである。汚染物質が、１次光経路１０４を妨げるように、窓１０７の外側表面に付くことができた場合、それは、テスト光経路２１２も妨げ、それにより、テスト検出器２１３上に照射される光強度が少なくなる結果をもたらし、電気信号ＩＤｔを少なく生じさせる。ＩＤｔと格納値ＩＤ０との比較により、ＩＤｔが窓１０７上の汚染物質の結果として減少したか否かが決定される。
【００１９】
テスト光源２１４に適合するため、ガスの流れが、Ｔ字接合部２１４を介して管１０８内に導入される。この構成の利点は、テスト光源２１１は、曲がりくねった経路により汚染環境から分離され、並びに汚染物質の進入に対抗するガス流れにより保護される位置に配置されているということである。この位置に光源２１１を配置することは、汚染の可能性をかなり減少させる。
【００２０】
本発明の更なる改良態様では、センサーシステムを、窓１０７上の中間レベルの汚染に事実上許容できるように作ることができる。光経路２１２及び１０４の特性が実質的に類似な範囲で汚染によって減衰されると仮定すると、テスト光経路２１２における汚染物質で誘起された減衰率を、窓１０７上の汚染により引き起こされる１次光経路１０４上の減衰率のための推定値として使用することができる。テスト光経路２１２における減衰率は、次式のように記述することができる。
【００２１】
【数１】
2006516725.tif 000003
【００２２】
この値を、１次光経路１０４のための推定値として使用すると、検出器１０３からの測定信号を修正することができる。かくして、次式が成立する。
【００２３】
【数２】
2006516725.tif 000004
【００２４】
ここで、ＩＳｔは、測定ＩＤｔのとき又は測定後における検出器１０３からの測定信号であり、ＩＳＣｔは、汚染の推定効果に基づく、検出器１０３に関する修正値である。
光学デバイス１０３が光源である場合、連係する検出器からの測定信号を調整することができ、又は、光源の輝度を調整することができる。
【００２５】
好ましい方法では、ＩＤｔは、毎日、毎時、又は、汚染の確率、測定効果上のその影響又は下流側での使用に応じて、更により頻繁に、測定される。
図１に示された実施例は、測定光経路１０４が測定表面１０２の法線と約６０度の角度をなす構成を表している。記載された原理は、この構成に限定されず、任意の角度に適合することができることが当業者により認められよう。また、多数の角度及び構成は、単一の器具又はエンクロージャ内で組み合わされてもよいことも認められよう。
【００２６】
図２に示されているように、図１に既に示された構成にビームスプリッター３１５を追加することにより、１次光源１０３の出力を測定することが可能となる。これは、測定精度の要求が、光源出力の安定性仕様を超えている用途において重要となり得る。図２は、図１と同じ構成に挿入されたビームスプリッター３１５を示している。共通した参照番号のほとんどは、明瞭にするため省略されている。１０３が光源である例では、出力された光経路１０４は、光源１０３から測定表面１０２に向かって移動する。それがビームスプリッター３１５を通過するとき、光学強度の小さい比率部分は、経路３１６に沿って反射され、テスト検出器２１３上に照射され、電気信号に変換される。該電気信号は、周期的測定値を格納された初期値と比較することにより診断測定値として使用されることができ、それにより光出力における漸次的な変化又は突然の変化が同定されて、誤差信号又は警告信号がトリガーされるようにしている。代替例として（又は追加的に）、電気信号は、光源１０３が供給する光の強度に関する任意の引き続く光学測定の結果、例えば連係する検出器の測定値を正規化するため使用されてもよい。光源１０３の光出力における小さな変動は、このようにして修正することができ、それらの効果を、最終的な測定結果から無くすことができる。
【００２７】
図３は、以前に説明した特徴の全てが組み合わされた単一の光学管の実施例を示している。可能となる特徴の全範囲を作働させるため、光源１０３及び２１１を個別的に制御することができる。窓の汚染を測定するために、テスト光源２１１を作働させ、１次光源１０３を作働停止しなければならない。１次光源１０３の光出力を測定するため、１次光源１０３を作働させ、テスト光源２１１を作働停止しなければならない。
【００２８】
物理的な構成が可能となる場合、汚染診断装置の簡単な実施例を図４に表されるように用いることができる。センサー検出器４１７は、光経路１０４に沿って測定信号を受信するため使用されるが、光経路１０４の光源が作働停止され、テスト光源２１１が作働されるとき、検出器４１７は、テスト光経路２１２の方向から光強度信号を受け取る。両方の光経路は、器具のエンクロージャ１０１を密封する光学要素１０７を通過する。従って、テスト光経路２１２の使用は、圧力と、光学要素１０７上の汚染の度合いと、を測定するため使用することができる。光学要素１０７上の汚染を修正するのと同じ方法を、前述されたように使用することができる。テスト光源２１１及びテスト光経路２１２は、管１０８に沿って移動し（前述されたように）、管１０５に至るおそれのある汚染物質の進入から保護されている。
【００２９】
上記構成の利点は、それが、前述した実施例よりもかなり簡単であるということである。しかし、それは、検出器４１７が光強度を測定することができ、且つ、その幾何学的形状が光経路２１２及び１０４の両方を単一の検出器４１７に入射することを可能にする状況で使用することができるだけである。図４は、これらの基準を満たす多数の幾何学的形状のうち一つだけを表している。
【００３０】
図５は、表面で光ビームを差し向けるための光源アッセンブリと、表面から散乱され反射された光を検出するため各々異なる配位で配列された２つの検出器アッセンブリと、を有する実際の実施例を示している。
【００３１】
光源アッセンブリは、概略図２で示された構成を有し、光源１０３により放射されたビームの通過を可能にするため透明窓１０７を有するエンクロージャ（図示せず）内に配置された光源１０３を備えている。光源１０３から放射されたビームは、通路１０５に沿って通過し、表面上に入射される。エンクロージャ（図示せず）の内部では、窓１０７と光源１０３との間に、検出器２１３上に放射ビームの一部分を差し向けるビームスプリッター３１５が存在する。テスト光源２１１は、テストビームを窓１０７を通して検出器２１３上に入射されるように該テストビームを差し向けるため、凹所の通路（図示せず）の端部に配置されている。光源１０３がオンに切り替えられたとき、検出器２１３は、ビームスプリッター３１５からの放射ビームの一部分を受け取り、光源１０３がオフに切り替えられたとき、テスト光源２１１がオンに切り替えられ、検出器２１３がテストビームを検出する。空気Ａの流れは、テスト光源２１１がＴ字接合部に配置されているところの通路に連結した通路２１４に沿って移動する。このようにして、空気の流れは、テスト光源２１１から離れるように差し向けられ、窓１０７に当てられる。
【００３２】
検出器アッセンブリの両方は、図４に概略示された構成を有し、それと同じ検出器４１７、５１７は、表面からの入射光を検出するため使用され、テストビームはテスト光源３１１、４１１により発生される。検出器４１７、５１７の各々は、検出器４１７、５１７の検出表面が窓２０７、３０７に隣接するように、覆われたチャンバー２０１、３０１内に配置される。窓２０７、３０７は、入射光が通路２０５、３０５に沿って移動して該窓２０７、３０７に入射するように凹所に配置されている。テスト光源３１１、４１１は、通路２０８、３０８に沿って窓２０７、３０７でテストビームを差し向ける。テストビームは、窓２０７、３０７を通過し、検出器４１７、５１７により検出される。空気Ｂ，Ｃの流れは、空気流れが、テスト光源３１１、４１１から離れて通路２０８、３０８に沿って差し向けられるように側通路３１４から通路２０８、３０８へと向けられ、窓２０７、３０７に当てられる。
【００３３】
本明細書の目的のために、「備えている」という用語は、該用語に先立つ構成要素を含んでいるが、これだけに限定されないことを意味し、「備える」という用語は、これに対応する意味を有する。
【００３４】
当業者に明らかであろう変更及び変形は、本発明の範囲内にあるとみなされる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】図１は、本発明の第１の実施例の概略図である。
【図２】図２は、光学デバイスが光源である本発明の第２の実施例の概略図である。
【図３】図３は、本発明の第３の実施例の概略図である。
【図４】図４は、光学デバイスが検出器である第４の実施例の概略図である。
【図５】図５は、本発明の実施例の立面図である。
【図１】
2006516725.tif 000005
【図２】
2006516725.tif 000006
【図３】
2006516725.tif 000007
【図４】
2006516725.tif 000008
【図５】
2006516725.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成16年6月15日(2004.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学アッセンブリであって、
光学デバイスと、
前記光学デバイスを収容するためのエンクロージャであって、該エンクロージャは、前記光学デバイスへの光ビーム又は該光学デバイスからの光ビームの通過を可能にするため透明区分を備えている、前記エンクロージャと、
前記透明区分を通過したテスト光ビームの減衰率を測定するための手段と、
前記測定された減衰率を補償するための手段と、
を備える、光学アッセンブリ。
【請求項２】
前記測定された減衰率を補償するための手段は、該測定された減衰率を補償するため、前記光学デバイス又は関連する光学デバイスの測定値又は特性を調整するための手段を備えている、請求項１に記載の光学アッセンブリ。
【請求項３】
前記光学デバイスへの光経路又は該光学デバイスからの光経路と、テスト光経路とは、実質的に前記透明区分で交差するように、配列されている、請求項１又は２に記載の光学アッセンブリ。
【請求項４】
前記透明区分は、前記エンクロージャ内の凹所に配置されている、上記請求項のうちいずれか１項に記載の光学アッセンブリ。
【請求項５】
前記透明区分は、覆われた通路内に配置され、前記透明区分を通過した前記光経路は、前記通路の長さに沿って延在する、請求項４に記載の光学アッセンブリ。
【請求項６】
前記テスト光ビームを発生するための光源と、該テスト光ビームを検出するための検出器と、を備え、該光源及び該検出器は、前記透明区分の両側に配置されている、上記請求項のうちいずれか１項に記載の光学アッセンブリ。
【請求項７】
前記エンクロージャの外部に配置されている前記光源又は前記検出器は、凹所に配置されている、請求項６に記載の光学アッセンブリ。
【請求項８】
前記外部の構成部品は、前記テストビームが通過するところの通路内に配置されている、請求項７に記載の光学アッセンブリ。
【請求項９】
ガスの流れが、前記外部の構成部品から離れるように前記通路に沿って差し向けられ、前記透明区分に当てられる、請求項８に記載の光学アッセンブリ。
【請求項１０】
ガスの流れを前記透明区分の外側表面上に当てるように差し向けるための手段を備え、該外側表面上への汚染物質の蓄積を減少させる、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学アッセンブリ。
【請求項１１】
前記ガスの流れは、圧縮ガスである、請求項９又は１０に記載の光学アッセンブリ。
【請求項１２】
前記光学デバイスは、光源であり、前記光学アッセンブリは、前記エンクロージャの内部に配置され、且つ、前記光源から、前記テストビームを検出するため配置されたテスト検出器へと前記ビームの一部分を差し向けるように構成されたビームスプリッターを備える、上記請求項のうちいずれか１項に記載の光学アッセンブリ。
【請求項１３】
前記光学デバイスは、検出器であり、前記検出器は、前記テストビーム及び１次ビームの両方を検出するように配置されている、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の光学アッセンブリ。
【国際調査報告】
2006516725.tif 000010
2006516725.tif 000011