(57)【要約】本発明は、球果植物の花粉形成を阻害する方法及び組成物であって、球果植物の木の伸長生育は実質的に阻害せずに球果植物の雄花形成の阻害に優れた作用を有するものを提供する。プロヘキサジオン化合物を活性成分として使用する。当該プロヘキサジオン化合物は、例えば式（Ｉ）の通りである。
2006513975.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
球果植物花粉の形成を阻害する方法であって、処理される球果植物に、活性成分としてプロヘキサジオン化合物を含有する組成物を花粉症を阻害するのに有効な量散布することを含む、方法。
【請求項２】
前記プロヘキサジオン化合物が、下記式(AI)
【化１】
2006513975.tif 000044
(式中、Aは、-OR2又は-NR3R4を表し、
Bは、ヒドロキシル基、及び-NHOR1基又はそれらの金属塩もしくはアンモニウム塩を表し、
Rは、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基又は3〜6個の炭素原子を有するシクロアルキル基を表し、
R1は、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基、1〜6個の炭素原子を有するハロアルキル基、3〜6個の炭素原子を有するアルケニル基、3〜6個の炭素原子を有するハロアルケニル基、又は3〜6個の炭素原子を有するアルキニル基を表し、且つ
R2、R3及びR4は、独立して、水素原子、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基、1〜6個の炭素原子を有するハロアルキル基、2〜10個の炭素原子を有するアルコキシアルキル基、2〜10個の炭素原子を有するアルキルチオアルキル基、3〜6個の炭素原子を有するアルケニル基、5もしくは6個の炭素原子を有するアルキニル基、又は1〜6個の炭素を有するフェニル基もしくはアラルキル基を表し、且つ
R3及びR4は、それらが結合した炭素原子と共に5-又は6-員のヘテロ環式環を形成してもよく、且つその環は更に炭素原子又は硫黄原子を含んでもよい。)のシクロヘキサンジオンカルボン酸誘導体又はそれらの塩である、請求項1記載の方法。
【請求項３】
式(AI)のAが、-0R2基を表す、請求項2記載の方法。
【請求項４】
式(AI)のAが、-NR3R4基を表す、請求項2記載の方法。
【請求項５】
式(AI)のRが、3〜6個の炭素原子を有するシクロアルキル基を表す、請求項2記載の方法。
【請求項６】
前記プロヘキサジオン化合物が、下記式AIa
【化２】
2006513975.tif 000045
により表される、請求項2記載の方法。
【請求項７】
前記プロヘキサジオン化合物が、下記式BI
【化３】
2006513975.tif 000046
(式中、Rは、水素原子又はアルキル基を表し、且つR1は、アルキル基を表す。)
により表される、請求項1記載の方法。
【請求項８】
前記プロヘキサジオン化合物が、下記式(CI) 
【化４】
2006513975.tif 000047
(式中、R1は、水素原子又は低級アルキル基を表し、R2は、低級アルキル基を表し、R3は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、モルホリノ基、アミノアルキル基、N-アルキルアミノアルキル基、N,N-ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、下記式の基：
-(CH2)lR4
(式中、R4は、低級アルキル基、低級アルキルチオ基、ベンジルチオ基、アニリノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基又はピペリジノ基を表し、及びlは、2又は3の整数を表す。)；
下記式の基：
【化５】
2006513975.tif 000048
(式中、Xは、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシル基、フェノキシ基又はアルコキシカルボニルアルキルオキシ基を表し、mは、0又は1の整数を表し、並びにnは、0〜2の整数を表す。)；
下記式の基：
-CH2R5
(式中、R5は、フリル基、テニル基又はピリジル基を表す。)、又は
下記式の基：
【化６】
2006513975.tif 000049
(式中、R5は先に定義されたものである。)を表す。)により表される、請求項1記載の方法。
【請求項９】
前記プロヘキサジオン化合物が、下記式(DI)
【化７】
2006513975.tif 000050
(式中、R1は、水素原子、低級アルキル基又はフェニル基を表し、Xは、酸素原子又は硫黄原子を表し、R2は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルチオアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基、ハロゲン原子で置換されたベンジル基、下記式の基：
【化８】
2006513975.tif 000051
(式中、Yは、カルボニル基、スルホニル基又はスルホン酸基を表し、Zは、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシル基、シアノ基又はトルフルオロメチル基を表し、mは、0又は1を表し、及びnは、1又は2の整数を表し、但しnが2を表す場合は、Zは異なる基もしくは原子の組合せであってよい。)、フリル基又はチエニル基を表す。)により表される、請求項1記載の方法。
【請求項１０】
前記球果植物は、クリプトメリア・ジャポニカである、請求項1記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明の技術分野
本発明は、活性成分としてプロヘキサジオン化合物を使用することを含む、球果植物門(Coniferophyta)の花粉形成を阻害する方法及び組成物に関する。特に、本発明は、例えばクリプトメリア・ジャポニカのような球果植物の伸長生育は実質的に阻害せず、且つそれらの雄花形成の阻害に優れた作用を有するプロヘキサジオン化合物を主成分として含有する組成物を使用する、球果植物花粉、例えばクリプトメリア・ジャポニカ(Cryptomeria japonica)(スギ)花粉の形成を阻害する方法及び組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
先行技術
近年日本において、スギ(クリプトメリア・ジャポニカ)花粉症は、早春、特に3月及び4月の典型的アレルギー疾患のひとつである。日本の人口の1/5が、スギ花粉症に罹患した患者であると言われている。これらの状況下で、スギ花粉症を予防及び阻害する方策が求められている。最近スギ花粉症の予防及び治療について、医学的観点から様々な研究がなされているが、その予防又は治療について効果的方法はまだ確立されていない。
【０００３】
他方で、スギ花粉症の予防及び阻害のために、植物学的方法も考慮されるべきだと考えられている。すなわち、クリプトメリア・ジャポニカ花粉それ自身の形成を防止又は阻害することができるならば、スギ花粉症の原因が取り除かれ、スギ花粉症は効果的に予防される。この場合、クリプトメリア・ジャポニカ花粉形成の原因であるクリプトメリア・ジャポニカの雄花の形成を阻害することが考えられる。
【０００４】
クリプトメリア・ジャポニカの雄花の形成を阻害する物質に関する集中的な研究の後、プロヘキサジオン化合物は、そのような球果植物の伸長生育は実質的に阻害することなく、クリプトメリア・ジャポニカのような球果植物の雄花の形成を効果的に制御し、及びこれはそれらの雄花の形成を阻害する優れた作用を有することがわかった。
【発明の開示】
【０００５】
発明の概要
クリプトメリア・ジャポニカの伸長生育を実質的に阻害することなく、且つそれらの雄花の形成を阻害する優れた作用を有する、クリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害する物質を提供する目的で集中的研究が行われた後、プロヘキサジオン化合物はそのような作用を有することがわかった。本発明は、この知見を基に達成される。
【０００６】
態様の説明
本発明の詳細な説明は、下記のようである。
【０００７】
本発明のプロヘキサジオン化合物は、ジベレリンの生合成を阻害する。特に、本発明のプロヘキサジオン化合物は、生理的に活性のあるジベレリンの生合成において、3-β位のヒドロキシル化に関連する酵素である3-βヒドロキシナーゼの活性を阻害する。様々なプロヘキサジオン化合物が、そのような機能を有する限りは、使用可能である。
【０００８】
加えて、プロヘキサジオン化合物は、迅速に分解され、及びこれらはクリプトメリア・ジャポニカ以外の植物の生育にはほとんど影響を及ぼさない。従って、これらのプロヘキサジオン化合物は、環境保護及び植物の安全に適している。
【０００９】
本発明のプロヘキサジオン化合物の例を、以下に示すことができる：これらは、例えば、日本国特開昭59-231045の明細書に開示されている。しかし、この明細書は、これらの化合物は、コメ植物のような植物に対する選択的生育-阻害作用、並びに選択的除草作用も有することを開示しているが、これは、クリプトメリア・ジャポニカの伸長生育は阻害せず、及びそれらの雄花の形成を阻害する優れた作用を有する、クリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成の阻害のための物質としてのこれらの化合物の使用については、開示も示唆もしていない。
【００１０】
プロヘキサジオン化合物は、例えば、下記の化合物を含む：
(I)下記式(AI)のシクロヘキサンジオンカルボン酸誘導体：
【化１】
2006513975.tif 000003
(式中、Aは、-OR2又は-NR3R4を表し、
Bは、ヒドロキシル基、-NHOR1基又はそれらの塩を表し、
Rは、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基又は3〜6個の炭素原子を有するシクロアルキル基を表し、このアルキル又はシクロアルキル基は、未置換であるか、又はハロゲン原子、1〜6個の炭素原子を有するアルコキシル基、もしくは2〜4個の炭素原子を有するアルキルチオ基で置換され、
R1は、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基、1〜6個の炭素原子を有するハロアルキル基、3〜6個の炭素原子を有するアルケニル基、3〜6個の炭素原子を有するハロアルケニル基又は3〜6個の炭素原子を有するアルキニル基を表し、且つ
R2、R3及びR4は、独立して、水素原子、1〜6個の炭素原子を有するアルキル基、1〜6個の炭素原子を有するハロアルキル基、2〜10個の炭素原子を有するアルコキシアルキル基、2〜10個の炭素原子を有するアルキルチオアルキル基、3〜6個の炭素原子を有するアルケニル基であって、ハロゲン原子、1〜4個の炭素原子を有するアルコキシル基もしくは1〜4個の炭素原子を有するアルキルチオ基で置換されうる基、5もしくは6個の炭素原子を有するアルキニル基、又は1〜6個の炭素原子を有するフェニル基もしくはアラルキル基であって、フェニル核が、ハロゲン原子、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、1〜4個の炭素原子を有するアルコキシル基、1〜4個の炭素原子を有するハロアルキル基、ニトロ基もしくはシアノ基で置換されてもよいものを表し、且つ
R3及びR4は、それらが結合した炭素原子と共に5-又は6-員のヘテロ環式環を形成してもよく、且つ当該環が更に炭素原子又は硫黄原子を含んでもよい。)。
【００１１】
前述の定義において、アルキル基は、線状か又は分枝されるかのいずれかであってよく、且つこれらは、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、並びにそれらの高級同族体の立体異性体の全てを含む。アルケニル基及びアルキニル基は、線状か又は分枝されるかのいずれかであってよく、並びにこれらは、例えば、ビニル基、アリル基、メタリル基、ブテニル基、メチルブテニル基、ジメチルブテニル基、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、メチルブテニル基及びジメチルブチニル基を含む。
【００１２】
ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。
【００１３】
この環は更に、酸素原子又は硫黄原子を含んでもよい。5-又は6-員のヘテロ環式-NR3R4は、ピロール、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン又はチオモルホリン環などであってよい。このような環は、メチル基で置換されてもよい。
【００１４】
これらの化合物の塩(それらのアンモニウム塩を含む)は、それらの塩基との反応により得られる。好ましい塩基は、例えば、アルカリ金属の水酸化物；アルカリ土類金属の水酸化物；鉄、銅、ニッケル及び亜鉛の水酸化物；アンモニア；1〜4個の第4級炭素原子を有するアルキルアンモニウム；並びに、1〜4個の第4級炭素原子を有するヒドロキシアルキルアンモニウム塩基である。
【００１５】
一般式AIのシクロヘキサンジオンカルボン酸誘導体において、特に有効な化合物は、下記群のものである：
下記一般式AIaのシクロヘキサン誘導体及びそれらの塩、好ましくはそれらの金属塩もしくはアンモニウム塩；
【化２】
2006513975.tif 000004
(式中、A及びRは先に定義されたものである。)；
前記式AIaの誘導体(式中、Aは、-0R2を表し、且つR及びR2は先に定義されたものである。)、及びそれらの金属塩又はアンモニウム塩；
前記式AIaの誘導体(式中、Aは-NR3R4を表し、且つR、R3及びR4は先に定義されたものである。)、及びそれらの金属塩又はアンモニウム塩；並びに
前記式AIaの誘導体(式中、Aは先に定義されたものであり、並びにRは、3〜6個の炭素原子を有するシクロアルキル基を表す。)、及びそれらの金属塩又はアンモニウム塩。更に有効な化合物は、下記式AIbのシクロヘキサンジオン、及びそれらの金属塩又はアンモニウム塩：
【化３】
2006513975.tif 000005
(式中、A、R及びR1は、先に定義されたものである。)；
前記式AIbの誘導体(式中、Aは-OR2を表し、且つR、R1及びR2は、先に定義されたものである。)、及びそれらの金属塩又はアンモニウム塩；並びに
前記式AIbの誘導体(式中、Aは-NR3R4を表し、且つR、R1、R3及びR4は、先に定義されたものである。)、及びそれらの金属塩又はアンモニウム塩である。
【００１６】
好ましい化合物の例は以下である：エチル4-ブチリル-3,5-シクロヘキサンジオンカルボン酸塩、イソブチル4-ブチリル-3,5-シクロヘキサンジオンカルボン酸塩、エチル4-(1-エトキシアミノブチリデン)-3,5-シクロヘキサンジオンカルボン酸塩、エチル4-(1-アリルオキシアミノブチリデン)-3,5-シクロヘキサンジオンカルボン酸塩、エチル4-(1-シクロプロピルヒドロキシメチリデン)-3,5-シクロヘキサンジオンカルボン酸塩、イソブチル4-(1-アリルオキシアミノブチリデン)-3,5-シクロヘキサンジオンカルボン酸塩、ジメチル4-(1-エトキシアミノブチリデン)-3,5-シクロヘキサジオンカルボキサシド、ジメチル4-(l-アリルオキシアミノブチリデン)-3,5-シクロヘキサンジオンカルボキサシド、ジエチル4-(1-アリルオキシアミノブチリデン)-3,5-シクロヘキサンジオンカルボキサシド、ベンジル4-(1-エトキシアミノブチリデン)-3,5-シクロヘキサンジオンカルボキサシド、並びにそれらのナトリウム、アンモニウム及びテトラメチルアンモニウム塩。
【００１７】
前記式AIのシクロヘキサンジオンカルボン酸誘導体は、例えば、以下に示したような、様々な互変異性体の形で得ることができる：
【化４】
2006513975.tif 000006
。
【００１８】
式AIのシクロヘキサンジオンカルボン酸塩は、下記式IIの3,5-シクロヘキサンジオンカルボン酸誘導体：
【化５】
2006513975.tif 000007
(式中、Aは、前述のエステル又はアミド基を表す。)と、
下記式IIIの酸ハロゲン化物：
Hal-COR  (III)
(式中、Rは先に定義されたものである。)とを、
不活性有機溶媒中の酸受容体としての塩基の存在下での反応させ、続いて、こうして得られた生成物の単離し、そして所望により、当該生成物を、下記式IVのヒドロキシルアミン：
HONHR1    (IV)
(式中、R1は先に定義されたものである。)と、不活性水-非混和性溶媒中で、沸点で、縮合条件下で反応させ、そして生じた生成物を単離すること、によって生成される。
【００１９】
溶媒で、特にこの反応に適しているのは、例えば、ベンゼン、トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素、更にはクロロホルム、ジクロロエタン及び四塩化炭素などのハロゲン化された炭化水素、である。
【００２０】
反応温度は、室温から反応混合物の沸点までの範囲である。これは、酸塩化物が添加されている間、反応容器を冷却することが必要であることがある。
【００２１】
適当な酸受容体は、有機及び無機の塩基であり、例えばピリジン、4-アミノピリジン、コリジン、トリエチルアミン、アンモニウム、更には炭酸ナトリウム、炭酸カリウム及び炭酸カルシウム、並びに対応する炭酸水素塩である。
【００２２】
適当な式IIIの酸ハロゲン化物は、主に塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化ブチリル、塩化バレリル、塩化3-メトキシプロピオニル、塩化2-クロロプロピオニル、塩化シクロプロパノイル及び塩化シクロヘキサノイル、更には対応する臭化物である。
【００２３】
式IVの適当なヒドロキシルアミンは、特にメチル-、エチル-、クロロエチル-、プロピル-、イソプロピル-、ブチル-、イソブチル-、アリル-、シクロアリル-、メタリル-及びプロピニル-ヒドロキシルアミンである。これらは、例えばそれらの塩酸塩のような塩の形で使用することができる。
【００２４】
出発材料として使用される式IIのシクロヘキサンジオンカルボン酸誘導体は、下記反応経路に従い、3,5-ジヒドロキシ安息香酸と水素とをラネーニッケルの存在下で水素化し、続いてそれらの酸性基をエステル化又はアミド化することにより得ることもできる：
【化６】
2006513975.tif 000008
【００２５】
前記式において、ケト基は、エノールエーテル又はエナミンの形態で、保護されなければならない[J. Am. Chem. Soc.、78:4405(1956)参照]。
【００２６】
加えて、3,5-ジヒドロキシ安息香酸誘導体は、下記反応式に従い、ラネーニッケルの存在下で水素により水素添加することができる：
【化７】
2006513975.tif 000009
[Arch. Pharm.、307:577 (1974)参照]。
【００２７】
(II)下記式BIのシクロヘキサン化合物及びそれらの塩：
【化８】
2006513975.tif 000010
(式中、Rは、水素原子又はアルキル基を表し、及びR1は、アルキル基を表す。)。
【００２８】
これらの化合物は、日本国特開平4-29659の明細書に開示されている。しかし、この明細書は、このような化合物を含有する植物生育調節剤についてのみ開示しており、クリプトメリア・ジャポニカの伸長生育を実質的に阻害せず、及びそれらの雄花の形成を阻害する優れた作用を有する、クリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害する物質としてのこの化合物の使用は開示も示唆もしていない。
【００２９】
これらの化合物の具体例は、以下の通りである：下記式BIaの化合物:
【化９】
2006513975.tif 000011
【化１０】
2006513975.tif 000012
【化１１】
2006513975.tif 000013
(式中、R及びR1は、先に定義されたものであり、及びMは、有機又は無機のカチオンを表す。)。
【００３０】
アルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基である。有機又は無機のカチオンは、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属、アルミニウム、銅、ニッケル、マンガン、コバルト、亜鉛、鉄及び銀のような金属のカチオン、並びに下記式のアンモニウムイオンである：
【化１２】
2006513975.tif 000014
(式中、R3、R4、R5及びR6は各々、水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルケニル基、ベンジル基、ハロゲン原子で置換されたベンジル基、ピリジル基もしくはアルキル基で置換されたピリジル基を表し、且つR3及びR4は、一緒に、ポリメチレン基又はそれらの間の酸素原子とポリメチレン基を形成してもよい。)。
【００３１】
これらの化合物は、下記プロセスで生成することができる：
【化１３】
2006513975.tif 000015
【化１４】
2006513975.tif 000016
(式中、R2は、アルキル基を表し、M1は、アルカリ金属原子を表し、並びにR及びR1は、先に定義されたものである。)。
【００３２】
すなわち、化合物[BIe]は、γ-ピコリンの存在又は非存在下、更に溶媒中の塩基の存在又は非存在下で、温度範囲-20℃から溶媒の沸点まで、好ましくは室温を超えない温度で、10分間〜7時間、化合物[BId]又は[BIf]を、酸クロリドと反応させることにより生成することができる。これらの塩基は、通常脱ハロゲン化水素反応に使用されるものから選択することができる。これらの塩基は、有機塩基、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ピリジン及びN,N-ジメチルアミノピリジン、並びに無機塩基、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、及び炭酸水素ナトリウムである。これらの溶媒は、有機溶媒、例えば、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド及びメチルセロソルブ及び／又は水である。γ-ピコリンも、相-間移動触媒としての作用を有すると考えられる。
【００３３】
化合物[BI]は、化合物[BIe]を、溶媒中触媒の存在下で、室温から溶媒の沸点までの温度範囲で、1〜10時間反応することにより、生成することができる[式(3)]。これらの触媒は、ピリジン誘導体、例えば4-N,N-ジメチルアミノピリジン、4-N,N-ジエチルアミノピリジン及び4-ピロリジノアミノピリジン；並びに、N-アルキルイミダゾール誘導体、例えばN-メチルイミダゾール及びN-エチルイミダゾールを含む。
【００３４】
化合物[BI]は、中間体[BIe]を単離することなく生成することができる。
【００３５】
化合物[BI]は、溶媒中塩基の存在又は非存在下で、もしくはいかなる溶媒も含まずに、-20℃から溶媒もしくはハロゲン化剤の沸点までの温度範囲で、好ましくは-10℃〜100℃の範囲で、10分間〜7時間、化合物[BIg]をハロゲン化剤と反応させ、化合物[BIg]へとハロゲン化し、続いて、生じた生成物を、式：R2OHのアルコールと、塩基の存在又は非存在下で、-20℃〜100℃の温度範囲で、10分間〜48時間反応することにより、生成することもできる。ハロゲン化に使用される溶媒は、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ベンゼン、トルエン及びキシレンを含む。ハロゲン化又はエステル化に使用される塩基は、通常脱ハロゲン化水素反応に使用されるものから選択される。この塩基は、有機塩基、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、N,N-ジメチルアミノピリジン、及びN,N-ジメチルアニリン；並びに、無機塩基、例えば、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、及び炭酸水素ナトリウムを含む。ハロゲン化剤は、例えば、チオニルクロリド、三塩化リン、五塩化リン、及びオキシ塩化リンを含む。中間体のハロゲン化物は、単離しエステル化することもできる。
【００３６】
前述の化合物の塩は、下記のように生成することができる：有機又は無機の塩を、一般式[BI]の化合物の、1当量又は2当量もしくはそれよりも多い第1級アミン；第2級アミン；第3級アミン；アルコラート；又は、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、バリウム、アルミニウム、ニッケル、銅、マンガン、コバルト、亜鉛、鉄、もしくは銀のような金属の、塩化物、水素化物、水酸化物、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩もしくは炭酸塩と；有機溶媒中で反応させることにより生成することができる。これらが、互いに等量で反応する場合、得られた塩は、式[BI]のRが水素原子以外である場合は、式[BIa]の形であり、並びにRが水素原子である場合は、式[BIb]の形である。このような化合物が、2当量又はそれよりも多く使用される場合は、得られる化合物は、式[BIc]の形である。
【００３７】
これらの化合物は、下記互変異性体の構造式により表すことができる：
【化１５】
2006513975.tif 000017
(式中、Zは、R又はMを表し、且つR、M及びR1は、先に定義されたものである。)。
【００３８】
(III)下記式CIのシクロヘキサン化合物又はそれらの塩：
【化１６】
2006513975.tif 000018
(式中、R1は、水素原子又は低級アルキル基を表し、R2は、低級アルキル基を表し、及びR3は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、モルホリノ基、アミノアルキル基、N-アルキルアミノアルキル基、N,N-ジアルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、式:-(CH2)1R4の基(式中、R4は、低級アルコキシル基、低級アルキルチオ基、ベンジルチオ基、アニリノ基、モルホリノ基、低級アルキル基で置換されてもよいピペラジノ基又はピペリジノ基を表し、且つlは2又は3の整数を表す。)、
下記式の基：
【化１７】
2006513975.tif 000019
(式中、Xは、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシル基、フェノキシ基又はアルコキシカルボニルアルキルオキシ基を表し、mは、0又は1の整数を表し、並びにnは0〜2の整数を表す。)、
下記式の基：
-CH2R5(式中、R5は、フリル基、テニル基又はピリジル基を表す。)、
又は、下記式の基：
【化１８】
2006513975.tif 000020
(式中、R5は、先に定義されたものである。)を表す。)。
【００３９】
これらの化合物は、日本国特開平6-76356に開示されている。しかし、この明細書は、このような化合物を含有する植物生育調節剤についてのみ開示しており、これはクリプトメリア・ジャポニカの伸長生育を実質的に阻害せず、及びそれらの雄花の形成を阻害する優れた作用を有する、クリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害する物質としてのこの化合物の使用は開示も示唆もしていない。
【００４０】
本発明は、クリプトメリア・ジャポニカ花粉症(pollinosis)の形成を阻害するためのプロヘキサジオン化合物を使用する方法に関して説明することにより、主に例証されているが、当業者は、本発明の方法及び組成物は、球果植物門の他の植物、特に例えば下記を含むマツ綱の植物における、花粉症の阻害にも適していることを理解するであろう：ナンヨウスギ科、例えば、アガティス・サリスブ(Agathis Salisb.)種、アラウカリア・ジャス(Araucaria Juss.)種、及びウォレミアW. (W. nobilis)；イヌガヤ科、例えば、セファロタキサス・シーホルド(Cephalotaxus Siebold)及びZucc. 種；ヒノキ科、例えば、アクチノストロバス・ミク(Actinostrobus Miq.)種、アウストロセドラス・フォリン(Austrocedrus Florin)及びBoutelje種(A. chilensis)、カリトリス・ベント(Callitris Vent.)種、ショウナンボク(Calocedrus Kurz.)種、ヒノキ(Chamaecyparis Spach.)種、イトスギ(Cupressus L)種、Diselma Hook.f.種(D. archers')、フィツロヤ・フック(Fitzroya Hook.f. ex Lindl.)種(F. cupressoides)、Fokienia A.Henry及びH.H. Thomas.種(F. hodginii)、ビャクシン(Juniperus L)種、オニヒバ(Libocedrus Endl.)種、ウスリーヒバ(Microbiota Kom.)種(M.decussata)、Neocallitropsis Florin.種(N. pancheri)、Pilgerodendron Florin.種(P. uviferum)、テトラクリニス・マスト(Tetraclinis Mast.)種(T. articulata)、ニオイヒバ(Thuja L)種、アスナロ(Thujopsis Siebold)及びZucc. ex Endl.種(T dolabrata)、ウィドリングトニア・エンドル(Widdringtonia Endl.)種；マツ科、例えば、モミ(Abies Mill. Ca.)種、Cathaya Chun及びKuang.種(C. argyrophylla Chun及びKuang)、ヒマラヤスギ(Cedrus Trew.)種、シマモミ(Keteleeria Carriere.)種、ヨウシュカラマツ(Larix Mill.)種、Nothotsuga Hu ex C.N.Page.種(N. longibracteata)、トウヒ(Picea A.Dietr.)種、クロマツ(Pinus L.)種、イヌカラマツ(Pseudolarix Gordon.)種(P. amabilis)、トガサワラ(Pseudotsuga Carriere.)種、ツガ(Tsuga Carriere.)種；イヌマキ科、例えば、Acmopyle Pilg.種、Dacrycarpus (Endl.) de Laub.種、ミジンヒバリガイ(Dacrydium Lamb.)種、Falcatifolium de Laub.種；イチイ科、例えば、Amentotaxus Pilg.種、イチイ(Taxus L.)種、カヤ(Torreya Am.)種；スギ科、例えば、アスロタキス(Athrotaxis D.Don.)種、クリプトメリア・D・ドン(Cryptomeria D.Don.)種(特にクリプトメリア・ジャポニカ)、コウヨウザン(Cunninghamia R.Br.)種；スイショウ(Glyptostrobus Endl.)種(G. pensilis)；コウヤマキ(Sciadopitys Siebold)及びZucc.種(S. verticillata)、セコイア(Sequoia Endl.)種(S.sempervirens)、Sequoiadendron Buchholz.種(S. giganteum)、タイワンスギ(Taiwania Hayata.)種、ヌマスギ(Taxodium Rich.)種；フィロクラドウス科、例えば、Phyllocladus Rich. ex Mirb.種である。
【００４１】
式[CI]の化合物は、下記互変異性体の構造を有することができる：
【化１９】
2006513975.tif 000021
【００４２】
更に、式CIの化合物は、それらの塩を形成することができ、これも本発明の範囲に含まれる。
【００４３】
前記化合物の具体例を以下に示す。
【００４４】
表１
【化２０】
2006513975.tif 000022
【化２１】
2006513975.tif 000023
【化２２】
2006513975.tif 000024
【化２３】
2006513975.tif 000025
【化２４】
2006513975.tif 000026
【化２５】
2006513975.tif 000027
【００４５】
前記式CIの化合物は、例えば、下記の方法で生成することができる：
【化２６】
2006513975.tif 000028
(式中、R1、R2及びR3は、先に定義されたものである。)。しかしながら、式[II]においてR1が水素原子である場合、式[I]のR1は、R3NH3を表す。更に式[II]のR1が水素原子であり且つ[I]及び[III]のR3が下記式の基を表す場合：
【化２７】
2006513975.tif 000029
(式中、X及びmは、先に定義されたものである。)、
式[I]のR1は、水素原子を表す。
【００４６】
すなわち、目的の化合物は、式[II]の化合物と、式[III]のアミンとを、溶媒中で、又はいかなる溶媒も伴わずに、室温から溶媒沸点までの温度範囲で、0.1〜10時間反応することにより生成することができる。これらの溶媒は、アルコール性溶媒、例えばメタノール及びエタノール、非極性溶媒、例えばベンゼン、トルエン及びキシレン；酢酸エステル溶媒、例えば酢酸メチル及び酢酸エチル、並びにハロゲン化された炭化水素溶媒、例えばジクロロメタン及びクロロホルムである。
【００４７】
(IV)下記式DIのシクロヘキサンカルボン酸誘導体及びそれらの塩：
【化２８】
2006513975.tif 000030
(式中、R1は、水素原子、低級アルキル基又はフェニル基を表し、Xは、酸素原子又は硫黄原子を表し、R2は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキルチオアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基、ハロゲン原子で置換されたベンジル基、下記式の基：
【化２９】
2006513975.tif 000031
(式中、Yは、カルボニル基、スルホニル基又はスルホン酸基を表し、Zは、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシル基、シアノ基又はトリフルオロメチル基を表し、mは、0又は1を表し、及びnは1又は2の整数を表し、但しnが2を表す場合は、Zは異なる基又は原子の組合せである。)、
フリル基又はチエニル基を表す。)。
【００４８】
これらの化合物は、日本国特許第2,696,252号に開示されている。しかしながらこれらの明細書は、このような化合物を含有する植物生育調節剤についてのみ開示しており、クリプトメリア・ジャポニカの伸長生育を実質的に阻害せず、及びそれらの雄花の形成を阻害する優れた作用を有する、クリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害する物質としてのこの化合物の使用は開示も示唆もしていない。
【００４９】
前記式DIの化合物の例を、表2に示した。
【００５０】
表２
【化３０】
2006513975.tif 000032
【化３１】
2006513975.tif 000033
【００５１】
これらの化合物は、例えば、下記の方法により生成することができる：
【化３２】
2006513975.tif 000034
(式中、R1、R2及びXは、先に定義されたものである。)。
【００５２】
すなわち、一般式[IV]の化合物は、塩基の存在下溶媒中又はいかなる溶媒も存在しない状況で、式[II]の化合物の式[III]のイソシアン酸エステル又はイソチオシアン酸エステルとの反応により得、その後この生成物を酸で析出することができる。式[V]の化合物は、式[IV]の化合物から、これの水性アルカリ溶液による処理により、容易に得ることができる。この式[VI]の化合物は、式[II]の化合物の尿素、イソシアン酸クロロスルホニルなどとの反応により、容易に得ることができる。これらの反応は、例えば、0〜130℃、好ましくは20〜80℃の温度で行われる。しかし、式[II]の化合物の尿素との反応は、100〜130℃で溶媒を伴わずに行われることが望ましい。
【００５３】
好ましい塩基は、無機塩基、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、金属ナトリウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム及び炭酸水素ナトリウム；並びに、第4級有機アミン、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、N,N-ジメチルアニリン、ピリジン、置換されたピリジン及びジアザビシクロウンデセン(DBU)を含む。この溶媒は、この反応に参加しないものから選択されることが適しており、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチレンホスホロアミド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルエーテル、ジクロロメタン、ジクロロエタン及びクロロホルムである。式[II]で表される化合物は周知であり、それらを生成するプロセスは、例えば日本国特開昭58-164543及び昭59-231045の明細書に開示されている。
【００５４】
本発明のプロヘキサジオン化合物は、そのまま使用されるか、又は好ましくは調製技術において使用される通常の佐剤との組成物の形で使用される。これらの化合物は、例えば、未希釈の乳剤、フィルム形成パスタ剤、直接噴霧又は希釈することができる液剤、希釈した乳剤、湿潤性散剤、水溶性散剤、粉剤、顆粒剤及びポリマーでカプセル封入することで調製されたカプセル剤などを形成するために使用される。この組成物の特性及び噴霧、散布、スプリンクラー散布又は注入のようなそれらの適用法も、クリプトメリア・ジャポニカ及び環境条件に応じて選択される。
【００５５】
クリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害する本発明の物質が、植林した領域のような少なくとも数エーカーの広大な領域でクリプトメリア・ジャポニカ樹木に散布される場合、例えば、ヘリコプターによるカーテン散布法が適している。
【００５６】
必要ならば、適当な固形又は液体の佐剤を、プロヘキサジオン化合物と共に使用することができる。このような調製物又は組成物は、例えば、周知の方法による、活性成分としてのプロヘキサジオン化合物の、溶媒、固形担体及び必要ならば表面-活性化化合物(界面活性剤)のような充填剤との、均一混合及び／又は研磨により作成される。
【００５７】
適当な溶媒は以下である：
好ましくは8〜12個の炭素原子を有する芳香族炭化水素、例えば、キシレン混合物及び置換されたナフタレン；フタル酸塩、例えばフタル酸ジブチル及びフタル酸ジオクチル；脂肪族炭化水素、例えばシクロヘキサン及びパラフィン；アルコール及びグリコール並びにそれらのエーテル及びエステル、例えばエタノール、エチレングリコールモノメチル又はモノエチルエーテル；ケトン、例えば、シクロヘキサノン；強力な極性溶媒、例えばN-メチル-2-ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミド；エポキシ化植物油、例えばエポキシ化ココナッツ油及びエポキシ化大豆油；並びに、水。
【００５８】
粉剤及び分散性散剤のために有用な固形担体は、通常好ましくは天然の無機充填剤、例えばカルサイト、タルク、カオリン、モントモリロナイト及びアタパルジャイトである。調製物の物理特性を改善するために、例えば、高度に分散性のケイ酸又は高度に分散性で吸収可能なポリマーをそれらに添加することができる。適当な顆粒化された吸収性の担体は、軽石、粉砕したレンガ、海泡石及びベントナイトのような多孔質のものである。適当な非吸収性の担体は、例えば、カルサイト及び砂である。更に様々な先に顆粒化された無機及び有機の物質、特にドロマイト及び微粉化した植物残渣が好ましい。
【００５９】
適した表面-活性化化合物は、本発明のプロヘキサジオン化合物の特性に応じて変動するが、これは、優れた乳化特性、分散特性及び湿潤特性を有する非イオン性、カチオン性及びアニオン性界面活性剤である。
【００６０】
用語「界面活性剤」は、界面活性剤混合物も含む。
適したアニオン性界面活性剤は、例えば、水溶性セッケン、水溶性合成表面-活性化化合物及びそれらの混合物である。
【００６１】
適当なセッケンは、例えば、高級脂肪酸(C10〜C12)のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩及び未置換又は置換のアンモニウム塩；例えば、オレイン酸、ステアリン酸並びにココナッツ油及び獣脂から得られた天然脂肪酸混合物のナトリウム塩及びカリウム塩である。脂肪酸のメチルタウリン塩も有用である。
【００６２】
いわゆる合成界面活性剤、例えば脂肪族スルホン酸塩、脂肪族硫酸塩、スルホン化されたベンズイミダゾール誘導体及びアルキルアリールスルホン酸塩も使用されることが多い。
【００６３】
脂肪族スルホン酸塩及び硫酸塩は、通常、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩及びそれらの未置換又は置換のアンモニウム塩の形である。これらは、それらのアシル基のアルキル部分を含む、8〜22個の炭素原子を有するアルキル基を含む。それらの例は、リグノスルホン酸、ドデシル硫酸塩、及び天然脂肪酸から得られた脂肪族アルコール硫酸のナトリウム塩及びカルシウム塩である。これらの化合物は、脂肪族アルコール／エチレンオキシド付加物の硫酸エステルの塩及びスルホン酸塩を含む。スルホン化されたベンズイミダゾール誘導体は、好ましくは2個のスルホン酸基及び8〜22個の炭素原子を有する脂肪酸基を含む。スルホン酸アルキルアリールの例は、ドデシルベンゼンスルホン酸又はナフタレンスルホン酸／ホルムアルデヒド縮合物のナトリウム、カルシウム、及びトリエタノールアミン塩である。対応するリン酸塩は、例えば4〜14molのエチレンオキシドを含むp-ノニルフェノール付加物のリン酸エステルの塩であり、及びリン脂質も適している。
【００６４】
無機界面活性剤は、好ましくは脂肪族又は脂環式アルコール、又は飽和もしくは不飽和の脂肪酸アルキルフェノールのポリグリコールエーテル誘導体である。これらの誘導体は、3〜30個グリコールエーテル基、(脂肪族)炭化水素部分の8〜20個の炭素原子及びアルキルフェノールのアルキル部分の6〜18個の炭素原子を含む。
【００６５】
他の適当な非イオン性界面活性剤は、例えば、アルキル鎖に1〜10個の炭素原子を有する、ポリエチレンオキシド及びポリプロピレングリコール、エチレンジアミンポリプロピレングリコール又はアルキルポリプロピレングリコールの水溶性付加物である。これらの付加物は、例えば、20〜250個のエチレングリコールエーテル基及び10〜100個のプロピレングリコールエーテル基を含む。これらの化合物は通常、1個のプロピレングリコール単位当り、1〜5個のエチレングリコール単位を含む。
【００６６】
非イオン性界面活性剤の典型例は、ノニルフェノール／ポリエトキシエタノール、ポリグリコールエーテルひまし油、ポリプロピレン／ポリエチレンオキシド付加物、トリブチルフェノキシポリエトキシエタノール、ポリエチレングリコール及びオクチルフェノキシエトキシエタノールを含む。更にポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸エステル及びトリオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタンも、適当な非イオン性界面活性剤である。
【００６７】
カチオン性界面活性剤は、好ましくはN-置換基として8〜22個の炭素原子を有する少なくとも1個のアルキル基を、及び他の置換基として同じく未置換又はハロゲン化された低級アルキル基、ベンジル基又は低級ヒドロキシアルキル基を有する第4級アンモニウム塩である。これらの塩は、好ましくはハロゲン化物、硫酸メチル又は硫酸エチルである。これらは、例えば、ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド及びベンジルジ-(2-クロロエチル)エチルアンモニウムブロミドである。
【００６８】
これらの界面活性剤は通常、医薬の分野において使用され、例えば、下記刊行物に記載されている：Me Cutcheon's Detergents and Emulsifiers Annual、Mac Publishing社、リングウッド、NJ、1981年；H. Stache、Tensid-Tashen-buch、第2版、C. Hanser Verlag社、ミュンヘン及びウイーン、1981年；M. 及びJ. Ash、Encyclopedia of Surfactants、第I〜II巻、Chemical Publishing社、ニューヨーク、1980-1981年。
【００６９】
本発明の物質は、クリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害するために、通常プロヘキサジオン化合物を0.1〜95％、好ましくは0.1〜80％、固形又は液体佐剤を1〜99.9％、並びに界面活性剤を0〜25％、好ましくは0.1〜25％含有する。
【００７０】
好ましい調製物は、下記構成要素を含有するものである(％は質量％として示す)：
未希釈乳剤
活性成分:10〜20％、好ましくは5〜10％
界面活性剤：5〜30％、好ましくは10〜20％
液体担体：50〜94％、好ましくは70〜85％。
粉剤
活性成分：0.1〜10％、好ましくは0.1〜1％
固形担体：99.9〜90％、好ましくは99.9〜99％
未希釈懸濁剤
活性成分：5〜75％、好ましくは10〜60％
水：94〜25％、好ましくは90〜30％
界面活性剤：1〜40％、好ましくは2〜30％
湿潤性散剤
活性成分：0.5〜90％、好ましくは1〜60％
界面活性剤：0.5〜20％、好ましくは1〜15％
固形担体：5〜90％、好ましくは15〜90％
顆粒剤
活性成分：0.5〜30％、好ましくは3〜15％
固形担体：99.5〜70％、好ましくは97〜85％
【００７１】
プロヘキサジオン化合物は、濃縮された調製物の形で製剤することができる。この場合、使用者は通常、濃縮された調製物を使用前に希釈する。
【００７２】
この調製物は、0.001％と低い濃度に希釈することができる。散布率は、通常、0.01〜10kg活性成分(a.i.)/ba、好ましくは0.025〜5kg a.i./baである。
【００７３】
必要であるならば、これらの調製物又は組成物は、安定剤、消泡剤、粘度修飾剤、結合剤、増粘剤、肥料及び他の特別な作用を有するその他の活性成分のような、他の構成要素を含有することができる。
【００７４】
下記実施例及び比較例は、更に本発明を例証するものである。
【実施例】
【００７５】
実施例１
8年-齢クリプトメリア・ジャポニカ若木に対する下記化学構造のプロヘキサジオン化合物の作用：
【化３３】
2006513975.tif 000035
(材料及び方法)
鳥取大学農学部の実験農場苗木であり、且つ毎年雄花を形成する、2本の8年-齢クリプトメリア・ジャポニカ若木(高さ：8m、胸の高さの直径：6cm)を使用した。3本の枝を、各木から雄花-形成位置で選択した。雄花を形成するであろうと思われるこれらの枝を、2001年6月5日(クリプトメリア・ジャポニカ花芽が分化すると思われ、且つクリプトメリア・ジャポニカ花芽が形成されると思われた7月初旬の約1ヶ月前)に、プロヘキサジオン化合物で処理した(未希釈の散剤による処理)。この試験において、プロヘキサジオン化合物は、表3に示した濃度に、60％(v/v)のアセトン水溶液で希釈し下記を得た。
【００７６】
この処理方法は、以下のようであった：前述のように得た希釈溶液100mlを、枝の葉に、手回し噴霧機により噴霧した(枝の先端から長さ50cmの領域)。対照群においては、葉を、60％(v/v)アセトン水溶液でのみ処理した。
【００７７】
葉面噴霧処理に使用したプロヘキサジオン化合物の濃度は、以下であった：
濃度(ppm)
0.5
5
50
500
【００７８】
結果
(1)雄クリプトメリア・ジャポニカ花の分化及び形成に対する作用
下記表4は、未希釈のプロヘキサジオン化合物処理の、8年-齢のクリプトメリア・ジャポニカ若木の雄花形成に対する作用を示す。表4から、雄花芽の分化及び形成は、対照群において顕著であったことは明らかであろう。他方で、クリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害するために本発明の物質を使用した場合は、雄花芽の分化及び形成は阻害された。特にこの処理に使用されたプロヘキサジオン化合物の濃度が50ppm又は500ppmである場合は、雄のクリプトメリア・ジャポニカ花の分化及び形成を阻害する作用が顕著であった。
【００７９】
(2)クリプトメリア・ジャポニカ枝の伸長生育に対する作用：
下記表5は、プロヘキサジオン化合物による処理の、8年-齢のクリプトメリア・ジャポニカ若木の枝の伸長生育に対する作用を示している。表5から、本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害するための物質が使用された場合であっても、クリプトメリア・ジャポニカ枝の伸長生育は、ほとんど対照群のそれのように、実質的に変化されなかったことは明らかであろう。
【００８０】
前述の事実から、本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害する物質は、雄花芽の分化及び形成を特異的及び顕著に阻害するが、この物質は、クリプトメリア・ジャポニカ枝の伸長生育には実質的に影響を及ぼさないことが明らかであろう。
【００８１】
【表１】
2006513975.tif 000036
【００８２】
【表２】
2006513975.tif 000037
【００８３】
実施例2
本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質の、43年-齢クリプトメリア・ジャポニカ木に対する作用
ヘリコプター散布した本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質の作用を、それらの実践使用を実現する目的について試験した。
【００８４】
(材料及び方法)
2001年6月25日に、鳥取大学農学部の蒜山演習林において、43年-齢のクリプトメリア・ジャポニカ木を有するクリプトメリア・ジャポニカ(高さ：16m、胸の高さの直径：35cm)の林を処理した。
こうして使用した、クリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質は、下記表6に示した組成を有した。こうして噴霧したクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質の濃度は、50又は500ppmであった。
【００８５】
【表３】
2006513975.tif 000038
【００８６】
前述の2種類の組成物各々1.8Lを、ヘリコプターによるカーテン散布法で、10アール(a)(1000m2)の面積を有する演習林に散布した。空中散布を2回行い、各回で組成物0.9Lを使用した。対照群においては、活性成分を含有しない水のみを空中散布に使用した。
【００８７】
結果
(1)クリプトメリア・ジャポニカ雄花の分化及び形成に対する作用
下記表7は、クリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質の、43年-齢クリプトメリア・ジャポニカ木のクリプトメリア・ジャポニカ雄花の分化及び形成に対する作用を示している。
【００８８】
表7から、クリプトメリア・ジャポニカ雄花の分化及び形成を阻害する優れた作用が、本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質による処理後確認された一方で、対照群においては、雄花の深刻な(serious)分化及び形成が認められたことは明らかであろう。特に物質の濃度が50ppm又は500ppmである場合、雄花の分化及び形成の阻害の顕著な作用が得られた。これらの結果から、クリプトメリア・ジャポニカ雄花の分化及び形成は、本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質のヘリコプターによる空中散布により顕著に阻害することができることは、明らかである。
【００８９】
(2)クリプトメリア・ジャポニカの頂芽の伸長生育に対する作用
下記の表8は、クリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質の、43年-齢クリプトメリア・ジャポニカ木の伸長生育の阻害に対する作用を示している。
【００９０】
本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質が噴霧された場合であっても、古木段階(old stage)のクリプトメリア・ジャポニカ木の伸長生育は、実質的に対照群のそれと同じであることを示している。従って、この物質は伸長生育には実質的に影響を及ぼさないことは明らかである。
【００９１】
従って、本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質がヘリコプターによる空中散布に従い使用される場合、クリプトメリア・ジャポニカ木の伸長生育に対する作用は実質的に発揮せずに、クリプトメリア・ジャポニカ雄花の芽の分化及び形成を、顕著に阻害することができる。
【００９２】
表7
本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質の、圃場における43年-齢のクリプトメリア・ジャポニカ木雄花の分化及び形成に対する作用
【表４】
2006513975.tif 000039
【００９３】
表8
本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質の、圃場における43年-齢のクリプトメリア・ジャポニカ木の新梢伸長に対する作用
【表５】
2006513975.tif 000040
【００９４】
実施例3
下記化学構造を有するプロヘキサジオン化合物の7年-齢クリプトメリア・ジャポニカ若木に対する作用
【化３４】
2006513975.tif 000041
(材料及び方法)
鳥取大学農学部の実験農場苗木であり、且つ毎年雄花を形成する、2本の7年-齢のクリプトメリア・ジャポニカ若木(高さ：7.5m、胸の高さの直径：5.4cm)を使用した。3本の枝を、各木から雄花-形成位置で選択した。雄花を形成するであろうと思われるこれらの枝(枝の先端から長さ50cmの領域)を、2000年6月3日(クリプトメリア・ジャポニカ花が形成されると思われる7月初旬の約1ヶ月前)に、プロヘキサジオン化合物で処理した。この試験において、表9に示した未希釈の本発明のプロヘキサジオン化合物は、指定された濃度に、60％(v/v)アセトン水溶液で希釈した。プロヘキサジオン化合物の希釈した溶液100mlは、手回し噴霧機で、枝の葉に噴霧した。対照群において、葉は、60％(v/v)アセトン水溶液でのみ処理した。
【００９５】
葉面噴霧処理に使用した未希釈の生成物の濃度：
濃度(ppm)
5
50
500
【００９６】
結果
表10は、本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質の、7年-齢のクリプトメリア・ジャポニカ若木の雄花の分化及び形成に対する作用を示している。表10から、雄のクリプトメリア・ジャポニカ花の分化及び形成を阻害する作用が、本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害する物質による処理後に確認された一方で、対照群においては、雄花の深刻な分化及び形成が認めらたことは明らかである。特に物質の濃度が50ppm又は500ppmである場合、雄のクリプトメリア・ジャポニカ花の分化及び形成の阻害の顕著な作用が得られた。
【００９７】
表11は、本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質による処理により得られた7年-齢クリプトメリア・ジャポニカ若木の枝の伸長生育に対する作用を示している。表11から、本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成阻害物質を、この処理に使用した場合であっても、対照群においてはクリプトメリア・ジャポニカ枝の伸長生育に対し作用が認められなかったことは明らかである。
【００９８】
従って、本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害する物質は、雄花形成の阻害において優れており、及びこれはクリプトメリア・ジャポニカ木の伸長生育に対する実質的影響を及ぼさないことが明らかである。
【００９９】
表10
本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害する物質の、7年-齢クリプトメリア・ジャポニカ若木雄花の分化及び形成に対する作用
【表６】
2006513975.tif 000042
【０１００】
表8
本発明のクリプトメリア・ジャポニカ花粉形成を阻害する物質の、7年-齢のクリプトメリア・ジャポニカ若木の枝の新梢伸長生育に対する作用
【表７】
2006513975.tif 000043
【０１０１】
本発明に従い、クリプトメリア・ジャポニカ花粉の形成を阻害する物質は、クリプトメリア・ジャポニカ木の伸長生育の実質的阻害を伴わずに、雄花の形成を阻害する作用を得ることができる。
【国際調査報告】
2006513975.tif 000052
2006513975.tif 000053