(57)【要約】共有結合された吸光性化合物を有するポリマー網目を含有する少なくとも１層の情報層を含む光学データ記憶装置が開示されている。【特許請求の範囲】
【請求項１】
共有結合された吸光性化合物を有するポリマー網目を含有する、少なくとも１層の情報層を有する光学データ記憶装置。
【請求項２】
ポリマー網目として、
Ａ）多官能性モノマー及び、場合により
Ｂ）単官能性モノマー
を基礎とし、その際、使用されるモノマーの少なくとも５０質量％が吸光性化合物の基を有するポリマー網目を使用する、請求項１記載の光学データ記憶装置。
【請求項３】
ポリマー網目の基礎となる少なくとも１種のモノマーが、３４０〜４１０ｎｍの範囲の吸収極大λｍａｘ１又は４００〜６５０ｎｍの範囲の吸収極大λｍａｘ２又は６３０〜８２０ｎｍの範囲の吸収極大λｍａｘ３を有し、その際、波長の吸収極大λｍａｘ１、λｍａｘ２又はλｍａｘ３の長波長側における吸光度又は波長の吸収極大λｍａｘ２又はλｍａｘ３の短波長側における吸光度がλｍａｘ１、λｍａｘ２もしくはλｍａｘ３での吸光度値の半分である波長λ１／２と、波長の吸収極大λｍａｘ１、λｍａｘ２又はλｍａｘ３の長波長側における吸光度又は波長の吸収極大λｍａｘ２又はλｍａｘ３の短波長側における吸光度がλｍａｘ１、λｍａｘ２もしくはλｍａｘ３での吸光度値の１０分の１である波長λ１／１０とが、それぞれ有利には８０ｎｍより広く離れていない、請求項１記載の光学データ記憶装置。
【請求項４】
官能性モノマーが重合性Ｃ−Ｃ二重結合を有する、請求項２記載の光学データ記憶装置。
【請求項５】
情報層が、式ＩＩ
ＫｋＢｂＦｆ      （ＩＩ）
［式中、
Ｆは発色中心を表し、その際、全てのｆ個の発色中心は異なってよく、
Ｋは重合性基を表し、その際、全てのｋ個の重合性基は異なってよく、
Ｂは架橋を表し、その際、全てのｂ個の架橋は異なってよく、
ｋは２〜１０００の値の整数を表し、
ｂ、ｆは互いに無関係に１〜１０００の値をとりうる整数を表す］のモノマーを基礎とするポリマー網目を含有する、請求項１から４までのいずれか１項記載の光学データ記憶装置。
【請求項６】
ポリマー網目の基礎となる少なくとも１種のモノマーが、式（Ｍ１）
【化１】
2006521220.tif 000199
［式中、
ｐ１は１〜６の数、特に２又は３を表し、
ｐ２は０又は１を意味し、かつ
ｐ３は０又は１を意味し、特に（Ｍ１）は式
【化２】
2006521220.tif 000200
の基を表す］の少なくとも１個の官能基、又は式
【化３】
2006521220.tif 000201
［式中、ｐ１は前記の意味を有する］の少なくとも１個の官能基、又は式（Ｍ２）
【化４】
2006521220.tif 000202
［式中、
ｐ１は前記の意味を有し、かつ
Ｒ１５０は
【化５】
2006521220.tif 000203
、−ＯＨ又はＮＨ２を表す］の少なくとも２個の官能基Ｋ−Ｂを有する、請求項１記載の光学データ記憶装置。
【請求項７】
情報層の製造のために使用されるモノマーが、式ＩＩＩ〜ＶＩ：
（Ｋ−Ｂ１−）ｎＦ                              （ＩＩＩ）
（Ｋ−Ｂ１−）ｎＦ−Ｂ２−Ｆ（−Ｂ１−Ｋ）ｎ      （ＩＶ）
Ｂ３［−Ｆ（−Ｂ１−Ｋ）ｎ］ｍ                  （Ｖ）
［（Ｋ−）（ｍ−１）Ｂ３−］ｎＦ                      （ＶＩ）
［式中、
Ｂ１及びＢ２は二価の架橋を表し、
Ｂ３はｍ価の架橋を表し、
ｎは１〜８の整数を表し、
ｍは３又は４の整数を表す］に相当する、請求項１記載の光学データ記憶装置。
【請求項８】
請求項１記載の光学データ記憶装置の製造方法において、
ａ）ポリマー網目の基礎となるモノマー、特に
Ａ）多官能性モノマー及び、場合により
Ｂ）単官能性モノマー
（その際、モノマーの少なくとも５０質量％は吸光性化合物の基を有する）、
ｂ）場合により有利な有機溶剤、
ｃ）場合により重合開始剤、及び
ｄ）場合により更なる添加剤、例えば失活剤又は増感剤
を含有する溶液を基板上に適用し、重合を開始させ、そして前記の工程を場合により複数回繰り返すことを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１記載の光学データ記憶装置の製造方法において、ポリマー網目の基礎となるモノマー、特に
Ａ）多官能性モノマー及び場合により
Ｂ）単官能性モノマー
（その際、モノマーの少なくとも５０質量％は吸光性化合物の基を有する）
を基礎とする架橋されたポリマーを含有する少なくとも１層のポリマー層を基板上に情報層として適用することを特徴とする方法。
【請求項１０】
ポリマー網目の基礎となるモノマー、特に
ｉ）請求項６記載の、式（Ｍ１）の少なくとも１個の官能基又は式（Ｍ２）の少なくとも２個の官能基並びに吸光性基を有するモノマー、
ｉｉ）有機溶剤、並びに
ｉｉｉ）場合により更なる添加剤
を含有する組成物。
【請求項１１】
少なくとも１種の架橋された、
Ａ）多官能性モノマー及び、場合により
Ｂ）単官能性モノマー
を基礎とし、その際、使用されるモノマーの少なくとも５０質量％が吸光性化合物の基を有するポリマーから構成されるポリマー層。
【請求項１２】
請求項１１記載のポリマー層の製造方法において、ポリマー網目の基礎となるモノマー、特に本発明による溶液を適当な再剥離可能な好適なキャリア上に適用し、重合を開始させ、そして溶液の適用、重合及び溶剤の除去を場合により複数回繰り返し、その際、第二の層及び他の各層はその都度の最後の層上に適用し、そして引き続き再剥離可能なキャリアから再分離することを特徴とする方法。
【請求項１３】
式（Ｍ１）
【化６】
2006521220.tif 000204
［式中、
ｐ１は１〜６の数、特に２又は３を表し、
ｐ２は０又は１を意味し、かつ
ｐ３は０又は１を意味し、特に（Ｍ１）は式
【化７】
2006521220.tif 000205
の基を表す］の少なくとも１個の官能基、又は式
【化８】
2006521220.tif 000206
［式中、ｐ１は前記の意味を有する］の少なくとも１個の官能基、又は式（Ｍ２）
【化９】
2006521220.tif 000207
［式中、
ｐ１は前記の意味を有し、かつ
Ｒ１５０は
【化１０】
2006521220.tif 000208
、−ＯＨ又はＮＨ２を表す］の少なくとも２個の官能基Ｋ−Ｂ並びに少なくとも１つの吸光性基を有する化合物。
【請求項１４】
光学データ記憶装置の製造のための、請求項１１記載のポリマー層の使用。
【請求項１５】
青色光、赤色光又は赤外光、特にレーザ光で書込まれた請求項１記載の光学データ記憶装置。
【請求項１６】
共有結合された吸光性化合物を有するポリマー網目。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機色素を基礎とするポリマー網目を情報層中に有する光学データ記憶装置、その製造方法、その使用並びに層状ポリマー網目、その製造及び使用に関する。
【０００２】
ＤＥ−Ａ−１０１１５２２７号から、少なくとも２つの発色中心を有する吸光性化合物を情報層中に含有する１回書き込み可能な光学データ媒体は既に記載されている。かかる化合物としては、ホモポリマー、コポリマー又はグラフトポリマー並びにデンドリマーが該当する。
【０００３】
しかしながら、こうしたデータ媒体は尚も幾つかの欠点を有している。
【０００４】
ここで、ＤＥ−Ａ−１０１１５２２７号からのポリマー色素は高すぎる可塑性を有する。更に、これらのポリマー色素を用いても、別の色素を用いても、複層の情報層を複数回の連続したスピンコートサイクルによって作成することは不可能である。それというのも、第一に適用された層の色素は、例えばスピンコートに際して同じ溶剤を使用した場合に後続の層に再溶解するからである。このことは、不均一な層厚をもたらし、特に個々の層が異なる色素から構成されるべき場合に不所望にも、異なる層の色素の混和が引き起こされる。
【０００５】
有機色素もしくはポリマー色素からなる薄膜は、一般に、保護層なしでは屡々不十分な機械的な表面硬度及び耐引掻性を有する。従って、有機色素もしくはポリマー色素を基礎とする情報層は、“第一表面記憶／読取り”の原理を用いた光学データ記憶装置には全く適さないか又は適性に制限があるに過ぎない。この場合に、情報は、データ媒体の表面上又は表面下で直接、書き込まれ、読取られる。対物レンズ表面もしくは書込みヘッド／読取りヘッドの開口とデータ媒体表面との間の間隔はこの場合には、使用される光の真空中での波長より短い（近接場光）。それゆえ、運転に際して、書込みヘッド／読取りヘッドとデータ媒体表面との頻繁な機械的な接触が生ずる。機械的な表面硬度がより低く、耐引掻性が低い情報層はこの場合に損傷され、使用不能となる。
【０００６】
従って、本発明の課題は、先行技術に対して改善され、前記の欠点をもはや有さない光学データ媒体を提供することにあった。
【０００７】
従って、本発明は、共有結合された吸光性化合物を有するポリマー網目を含有する少なくとも１層の情報層を有する光学データ記憶装置に関する。
【０００８】
本発明によるデータ媒体は、有利には、高い機械的表面硬度及び高い耐引掻性を有する情報層を有し、従って“第一表面記憶／読取り”のために特に適している。
【０００９】
特に、そのポリマー網目は、層状に、情報層として又は情報層の一部としてデータ媒体上に存在する。
【００１０】
情報層は、有利には光で書込み可能かつ光で読取り可能な層と解される。青色光、赤色光又は赤外光、特にレーザ光が好ましい光と見なされる。
【００１１】
特に有利には、波長範囲は、青色光については３８０〜４５０ｎｍ、特に３９０〜４２０ｎｍ、赤色光については６３０〜６８０ｎｍ、特に６３５〜６６０ｎｍ、赤外光については７５０〜８３０ｎｍ、特に７７０〜８００ｎｍである。
【００１２】
１層又は複層の情報層を光学データ媒体上に適用することができる。しかしながら、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ及びＢＤ−Ｒのようなフォーマットに関しては、データ媒体上で片面あたり有利には１層の情報層が存在する。
【００１３】
また、複数のポリマー網目層をデータ媒体上に順次適用することも可能である。
【００１４】
ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ及びＢＤ−Ｒでの情報層の書込み及び読取りのために、有利には遠距離光が使用される。第一表面記録／読取りでの情報層の書込み及び読取りのために、例えば固体界浸レンズ又は使用される光の真空での波長より短い直径を有する開口によって実現される近接場光が使用される。
【００１５】
光学データ媒体上の各情報層の厚さは、書込み及び読取りのために遠距離光を使用する場合には、有利には１〜
【００１６】
【数１】
2006521220.tif 000002
、特に１０〜
【００１７】
【数２】
2006521220.tif 000003
である。
【００１８】
【数３】
2006521220.tif 000004
は、使用される遠距離光の焦点深度を説明している（J.-Ph. Perez, Optik, Spektrum akademischer Verlag）。λは真空中でのレーザ光波長であり、ＮＡは対物レンズの開口数であり、かつｎは、透過される基板材料もしくは対物レンズと情報層との間に存在するカバー層材料の屈折率である。
【００１９】
光学データ媒体上の各情報層の厚さは、書込み及び読取りのために近接場光を使用する場合には、有利には１〜λ・１／５ｎｍ、特に１０〜λ・１／１０ｎｍである。
【００２０】
λはｎｍで示される。そこから、光学データ媒体上の情報層の厚さを規定することができる。それというのも、情報層の媒体基板表面は溝状構造の形のプレグルーブを有するからである。硬化後に後の情報層を形成する色素をスピンコートにより適用した場合に、データ媒体表面の全ての領域は同じ情報層厚を有さない。
【００２１】
そのポリマー網目は、有利には３４０〜８２０ｎｍの範囲の吸収極大を有する。
【００２２】
該ポリマー網目は、少なくとも１つの吸光性基を有する少なくとも１種のモノマーを基礎とするものである。
【００２３】
有利には、３４０〜４１０ｎｍの範囲の吸収極大λｍａｘ１又は４００〜６５０ｎｍの範囲の吸収極大λｍａｘ２又は６３０〜８２０ｎｍの範囲の吸収極大λｍａｘ３を有し、その際、波長の吸収極大λｍａｘ１、λｍａｘ２又はλｍａｘ３の長波長側における吸光度又は波長の吸収極大λｍａｘ２又はλｍａｘ３の短波長側における吸光度がλｍａｘ１、λｍａｘ２もしくはλｍａｘ３での吸光度値の半分である波長λ１／２と、波長の吸収極大λｍａｘ１、λｍａｘ２又はλｍａｘ３の長波長側における吸光度又は波長の吸収極大λｍａｘ２又はλｍａｘ３の短波長側における吸光度がλｍａｘ１、λｍａｘ２もしくはλｍａｘ３での吸光度値の１０分の１である波長λ１／１０とが、それぞれ有利には８０ｎｍより広く離れていないモノマーが好ましい。
【００２４】
モノマーの吸光性基は、有利には熱変性であることが望ましい。有利には、熱変性は、温度＜６００℃、特に有利には温度＜４００℃、殊に有利には温度＜３００℃、特に温度＜２００℃で行われる。かかる変性は、例えばモノマーの発色中心の分解又は化学的変化であってよい。
【００２５】
本発明の有利な実施態様では、モノマーの吸収極大λｍａｘ１は３４０〜４１０ｎｍ、有利には３４５〜４００ｎｍ、特に３５０〜３８０ｎｍ、特に有利には３６０〜３７０ｎｍであり、その際、波長の吸収極大λｍａｘ１の長波長側における吸光度がλｍａｘ１での吸光度値の半分である波長λ１／２と、波長の吸収極大λｍａｘ１の長波長側における吸光度がλｍａｘ１での吸光度値の１０分の１である波長λ１／１０とが、それぞれ５０ｎｍより広く離れていてはならない。有利には、かかる吸光性化合物は、波長５００ｎｍまで、特に有利には波長５５０ｎｍまで、殊に有利には波長６００ｎｍまで、より長波長の極大値λｍａｘ２を有さない。
【００２６】
有利には、かかるモノマーにおいて、λ１／２とλ１／１０とは、前記に定義されているように、４０ｎｍより広く離れておらず、特に有利には３０ｎｍより広く離れておらず、殊に有利には１０ｎｍより広く離れていない。
【００２７】
本発明の更なる有利な実施態様では、モノマーの吸収極大λｍａｘ２は４２０〜５５０ｎｍ、有利には４１０〜５１０ｎｍ、特に４２０〜５１０ｎｍ、特に有利には４３０〜５００ｎｍであり、その際、波長の吸収極大λｍａｘ２の短波長側における吸光度がλｍａｘ２での吸光度値の半分である波長λ１／２と、波長の吸収極大λｍａｘ２の短波長側における吸光度がλｍａｘ２での吸光度値の１０分の１である波長λ１／１０とが、それぞれ５０ｎｍより広く離れていてはならない。有利には、かかる吸光性化合物は、波長３５０ｎｍまで、特に有利には波長３２０ｎｍまで、殊に有利には波長２９０ｎｍまで、より短波長の極大値λｍａｘ１を有さない。
【００２８】
有利には、これらのモノマーにおいて、λ１／２とλ１／１０とは、前記に定義されているように、４０ｎｍより広く離れておらず、特に有利には３０ｎｍより広く離れておらず、殊に有利には２０ｎｍより広く離れていない。
【００２９】
本発明の更なる有利な実施態様では、モノマーの吸収極大λｍａｘ２は５００〜６５０ｎｍ、有利には５３０〜６３０ｎｍ、特に５５０〜６２０ｎｍ、特に有利には５８０〜６１０ｎｍであり、その際、波長の吸収極大λｍａｘ２の長波長側における吸光度がλｍａｘ２での吸光度値の半分である波長λ１／２と、波長の吸収極大λｍａｘ２の長波長側における吸光度がλｍａｘ２での吸光度値の１０分の１である波長λ１／１０とが、それぞれ５０ｎｍより広く離れていてはならない。有利には、かかる化合物は、波長７５０ｎｍまで、特に有利には波長８００ｎｍまで、殊に有利には波長８５０ｎｍまで、より長波長の極大値λｍａｘ３を有さない。
【００３０】
有利には、これらのモノマーにおいて、λ１／２とλ１／１０とは、前記に定義されているように、４０ｎｍより広く離れておらず、特に有利には３０ｎｍより広く離れておらず、殊に有利には１０ｎｍより広く離れていない。
【００３１】
本発明の更なる有利な実施態様では、モノマーの吸収極大λｍａｘ３は６３０〜８００ｎｍ、有利には６５０〜７７０ｎｍ、特に６７０〜７５０ｎｍ、特に有利には６８０〜７２０ｎｍであり、その際、波長の吸収極大λｍａｘ３の短波長側における吸光度がλｍａｘ３での吸光度値の半分である波長λ１／２と、波長の吸収極大λｍａｘ３の短波長側における吸光度がλｍａｘ３での吸光度値の１０分の１である波長λ１／１０とが、それぞれ５０ｎｍより広く離れていてはならない。有利には、かかる化合物は、波長６００ｎｍまで、特に有利には波長５５０ｎｍまで、殊に有利には波長５００ｎｍまで、より短波長の極大値λｍａｘ２を有さない。
【００３２】
有利には、これらのモノマーにおいて、λ１／２とλ１／１０とは、前記に定義されているように、４０ｎｍより広く離れておらず、特に有利には３０ｎｍより広く離れておらず、殊に有利には２０ｎｍより広く離れていない。
【００３３】
本発明の更なる有利な実施態様では、モノマーの吸収極大λｍａｘ３は６５０〜８１０ｎｍ、有利には６６０〜７９０ｎｍ、特に６７０〜７６０ｎｍ、特に有利には６８０〜７４０ｎｍであり、その際、波長の吸収極大λｍａｘ３の長波長側における吸光度がλｍａｘ３での吸光度値の半分である波長λ１／２と、波長の吸収極大λｍａｘ３の長波長側における吸光度がλｍａｘ３での吸光度値の１０分の１である波長λ１／１０とが、それぞれ５０ｎｍより広く離れていない
有利には、これらのモノマーにおいて、λ１／２とλ１／１０とは、前記に定義されているように、４０ｎｍより広く離れておらず、特に有利には３０ｎｍより広く離れておらず、殊に有利には０ｎｍより広く離れていない。
【００３４】
これらのモノマーは、吸収極大λｍａｘ１、λｍａｘ２及び／又はλｍａｘ３において、好ましくはモル吸光係数ε＞１００００ｌ／モル ｃｍ、有利には＞１５０００ｌ／モル ｃｍ、特に有利には＞２００００ｌ／モル ｃｍ、殊に有利には＞２５０００ｌ／モル ｃｍ、特に＞３００００ｌ／モル ｃｍ、より有利には＞４０００ｌ／モル ｃｍを有する。
【００３５】
溶液に典型的なパラメータであるε値は別として、その他の点では同様の物理的特性がポリマー網目にも当てはまる。
【００３６】
ポリマー網目としては、重合反応、重縮合反応又は重付加反応によって製造されるポリマー網目が該当する。
【００３７】
ポリマー網目は、有利には、
Ａ）多官能性モノマー及び、場合により
Ｂ）単官能性モノマー
を基礎とし、使用されるモノマーの少なくとも５０質量％が吸光性化合物の基を有するポリマー網目である。
【００３８】
多官能性とは、本願では、相応の反応、従って重合、重縮合又は重付加のために反応性中心として提供される基を複数有することを意味する。相応して、単官能性モノマーではそのような基が１つだけ存在する。
【００３９】
ポリマー網目の製造のための重合のために、これらのモノマーは、有利には重合性Ｃ−Ｃ二重結合並びに特定の複素環式構造、例えばエーテル、チオエーテル、エステル及びアセタール、特にラジカル重合性並びにカチオン重合性のＣ−Ｃ二重結合又はオキシラン環を有する。
【００４０】
“基礎とする”とは、Ａ）とＢ）以外の別の成分をポリマー網目の製造のために使用できることを意味する。しかしながら、反応物の９０質量％より多く、有利には９５質量％より多く、特に９８質量％より多くが成分Ａ）及び場合によりＢ）のモノマーであることが好ましい。
【００４１】
重合のために、成分
Ａ）有利には二官能性又はそれ以上のモノマー
が使用される。
【００４２】
重付加もしくは重縮合のために、成分Ａ）として、有利には
Ａ１）少なくとも１種の二官能性モノマー、及び
Ａ２）少なくとも１種の三官能性又はそれ以上のモノマー
が使用される。
【００４３】
モノマーとは、もちろん、本願の範囲での重合のために使用できる官能性プレポリマーも意味する。
【００４４】
有利な成分Ａ）の多官能性モノマーは、式（ＩＩ）
ＫｋＢｂＦｆ      （ＩＩ）
［式中、
Ｆは発色中心を表し、その際、全てのｆ個の発色中心は異なってよく、
Ｋは重合性基を表し、その際、全てのｋ個の重合性基は異なってよく、
Ｂは二価の架橋を表し、その際、全てのｂ個の架橋は異なってよく、
ｋは２〜１０００の値の整数を表し、
ｂ、ｆは互いに無関係に１〜１０００の値をとりうる整数を表す］のモノマーである。
【００４５】
重合のために、成分Ａ）とＢ）からなる混合物であって、そのＡ）とＢ）からなる混合物の９０質量％までが成分Ｂ）に相当する混合物を使用することが好ましい。
【００４６】
特に、式ＩＩＩ〜ＶＩ：
（Ｋ−Ｂ１−）ｎＦ                              （ＩＩＩ）
（Ｋ−Ｂ１−）ｎＦ−Ｂ２−Ｆ（−Ｂ１−Ｋ）ｎ      （ＩＶ）
Ｂ３［−Ｆ（−Ｂ１−Ｋ）ｎ］ｍ                  （Ｖ）
［（Ｋ）（ｍ−１）Ｂ３−］ｎＦ                      （ＶＩ）
［式中、
Ｂ１及びＢ２は二価の架橋を表し、
Ｂ３はｍ価の架橋を表し、
ｎは１〜８の整数を表し、
ｍは３又は４の整数を表す］に相当するモノマーが好ましい。
【００４７】
特に、高分子モノマー、特に式ＶＩＩ〜ＶＩＩＩ：
【００４８】
【化１】
2006521220.tif 000005
［式中、
Ｐ−は高分子骨格の反復単位を表し、その際、その骨格が殊に基Ｋから重合によって生ずる反復単位が好ましく、
ｐ（０）は３〜１０００の値を取ることができる、ポリマーに慣例の平均重合度を表し、Ｋ１は重合性基Ｋが同じでなくてよい重合性基を表す］に相当する高分子モノマーが好ましい。
【００４９】
同様に、側鎖に重合性基を有する発色団含有コポリマー（式ＩＸ〜ＸＩ）：
【００５０】
【化２】
2006521220.tif 000006
［式中、
Ｐ１及びＰ２−は高分子骨格の同一又は異なる反復単位を表し、その際、その骨格が殊に同一又は異なる基Ｋから重合によって生ずる反復単位が好ましく、
Ｂ４及びＢ５はＢ１及びＢ２と同じ意味を有し、
ｐ（１）及びｐ（２）は、３〜１０００の値を取ることができるポリマーに慣例の平均重合度ｐ（０）に合計で相当する相応の重合度分を表す］が特に好ましい。
【００５１】
情報層の製造のために特に好ましいモノマーとしては、この場合に、式（ＩＩＩ）〜（ＸＩ）のモノマーを挙げることができ、その際、式中で
Ｂ１、Ｂ２、Ｂ４、Ｂ５は−Ｑ１−Ｔ１−Ｑ２−を表し、
Ｂ３は
【００５２】
【化３】
2006521220.tif 000007
を表し、
Ｑ１〜Ｑ４はそれぞれ互いに無関係に、直接結合を表すか、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１−、−Ｃ（Ｒ２Ｒ３）−、−（Ｃ＝Ｏ）−、−（ＣＯ−Ｏ）−、−（ＣＯ−ＮＲ１）−、−（ＳＯ２）−、−（ＳＯ２−Ｏ）−、−（ＳＯ２−ＮＲ１）−、−（Ｃ＝ＮＲ４）−、−（ＣＮＲ１−ＮＲ４）−、−（ＣＨ２）ｐ−、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−ＣＨ２ＣＨ２−、ｏ−フェニレン、ｍ−フェニレン又はｐ−フェニレンを表すか（その際、鎖−（ＣＨ２）ｐ−は−Ｏ−、−ＮＲ１−又は−ＯＳｉＲ５２Ｏ−によって中断されていてよい）、又は全ての考えられる異性体変体の１，２−シクロヘキサン環、１，３−シクロヘキサン環又は１，４−シクロヘキサン環を表し（その際、シクロヘキサン環は３個以下のメチル置換基を有してよい）、
Ｔ１は、直接結合を表すか、又は−（ＣＨ２）ｐ−又はｏ−フェニレン、ｍ−フェニレン又はｐ−フェニレンを表すか（その際、鎖−（ＣＨ２）ｐ−は−Ｏ−、−ＮＲ１−又は−ＯＳｉＲ５２Ｏ−によって中断されていてよい）、又は全ての考えられる異性体変体の１，２−シクロヘキサン環、１，３−シクロヘキサン環又は１，４−シクロヘキサン環を表し（その際、シクロヘキサン環は３個以下のメチル置換基を有してよい）、
Ｔ２は
【００５３】
【化４】
2006521220.tif 000008
を表し、その際、鎖−（ＣＨ２）ｑ−、−（ＣＨ２）ｒ−及び／又は−（ＣＨ２）ｓ−は−Ｏ−、−ＮＲ１−又は−ＯＳｉＲ５２Ｏ−によって中断されていてよく、
Ｔ３は
【００５４】
【化５】
2006521220.tif 000009
を表し、
Ｔ５はＣＲ６、Ｎ又は式
【００５５】
【化６】
2006521220.tif 000010
の三価の基を表し、
Ｔ６はＣ、Ｓｉ（Ｏ−）４、
【００５６】
【化７】
2006521220.tif 000011
又は式
【００５７】
【化８】
2006521220.tif 000012
の四価の基を表し、
ｐは１〜１２の整数を表し、
ｑ、ｒ、ｓ及びｔは互いに無関係に０〜１２の整数を表し、
ｕは２〜４の整数を表し、
Ｒ１は水素、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、Ｃ３〜Ｃ１０−シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ１２−アルケニル、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ３〜Ｃ１０−シクロアルキル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ２〜Ｃ１２−アルケニル−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール−（Ｃ＝Ｏ）−、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル−（ＳＯ２）−、Ｃ３〜Ｃ１０−シクロアルキル−（ＳＯ２）−、Ｃ２〜Ｃ１２−アルケニル−（ＳＯ２）−又はＣ６〜Ｃ１０−アリール−（ＳＯ２）−を表し、
Ｒ２〜Ｒ４及びＲ６は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル、Ｃ３〜Ｃ１０−シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ１２−アルケニル、Ｃ６〜Ｃ１０−アリールを表し、
Ｒ５はメチル又はエチルを表し、
その他の基は前記の意味を有する。
【００５８】
Ｋ及びＫ１は互いに無関係に重合性基を表す。アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、２−クロロアクリロイルオキシ基及び２−ブロモアクリロイルオキシ基、ｏ−スチリル基、ｍ−スチリル基及びｐ−スチリル基、アクリロイルアミド基及びメタクリロイルアミド基、Ｎ−アルキル−アクリロイルアミド基、及びＮ−アルキル−メタクリロイルアミド基、ビニルオキシ基及びビニルオキシカルボニル基、オキシラニル基、２−オキセタニル基及び３−オキセタニル基、２−テトラヒドロフラニル基及び３−テトラヒドロフラニル基、ビニルホスホニル基及びビニルスルホニル基、２−ビニルピリジニウム基、３−ビニルピリジニウム基、４−ビニルピリジニウム基及びＮ−ビニルイミダゾリウム基が好ましい。特に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基及びオキシラニル基が好ましい。
【００５９】
有利な式（ＶＩＩ）〜（ＸＩ）の官能化されたポリマー及びコポリマーは、ポリマー鎖が同一又は異なる構造要素Ｐ、Ｐ１及びＰ２を基礎として構成されているポリマー及びコポリマーであり、
Ｐ、Ｐ１及びＰ２は互いに無関係に、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリシロキサン、ポリ−α−オキシラン、ポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン又はポリマレイン酸誘導体を表す。ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリビニルエーテル及びポリエステル並びにポリ（−α−オキシラン）が好ましい。同様に、アクリレート単位又はメタクリレート単位及びアクリルアミド単位を有するコポリマーも好ましい。特にポリアクリレート及びポリメタクリレートが好ましい。これらの場合に、Ｐ、Ｐ１及びＰ２は互いに無関係に
【００６０】
【化９】
2006521220.tif 000013
［式中、
Ｒは水素又はメチルを表し、かつ
星印（*）はスペーサ基Ｂ１、Ｂ３、Ｂ４への結合を導く］を表す。
【００６１】
吸光性基を有するモノマーの発色中心は、例えば以下の構造型（例えばG. Ebner und D. Schulz, Textilfaerberei und Farbstoffe, Springer-Verlag, Berlin Heidelberg, 1989; H. Zollinger, Color Chemistry, VCH Verlagsgesellschaft mbH Weinheim, 1991を参照のこと）の基：
アゾ色素、アントラキノイド色素、インジゴイド色素、ポリメチン色素、アリールカルボニウム色素、ニトロ色素、ペリレン、クマリン、ホルマザン、場合により架橋された（ヘテロ）ケイ皮酸誘導体、（ヘテロ）スチルベン、メチン、シアニン、ヘミシアニン、ニューロメチン（メロシアニン）、ヌルメチン、アゾメチン、ヒドラゾン、アジン色素、トリフェンジオキサジン、ピロニン、アクリジン、ロダミン、インダミン、インドフェノール、ジフェニルメタン又はトリフェニルメタン、アリールアゾ色素及びヘタリールアゾ色素、キノイド色素、フタロシアニン、ナフトシアニン、サブフタロシアニン、ポルフィリン、テトラアザポルフィリン並びに金属錯体
であってよい。
【００６２】
ポリマー網目の製造のために使用されるモノマーの吸光性基及び、ポリマー網目自体の吸光性基は吸光性化合物から誘導される。
【００６３】
有利な３４０〜４１０ｎｍの吸収極大λｍａｘ１を有する吸光性化合物（これらの基を有するモノマーにも相当する）は、例えば以下の式の化合物である。該化合物を基礎とする吸光性基を有する相応のモノマーを基礎とする前記のポリマー網目を情報層中に有する相応の光学データ記憶装置は、青色光又は赤色光、特にレーザ光で読取り及び書込みが可能である：
【００６４】
【化１０】
2006521220.tif 000014
【００６５】
【化１１】
2006521220.tif 000015
【００６６】
【化１２】
2006521220.tif 000016
【００６７】
【化１３】
2006521220.tif 000017
［式中、
Ａｒ１０１及びＡｒ１０２は互いに無関係に、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール又は５員又は６員の芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、
Ｙ１０１及びＹ１０２は互いに無関係にＮ又はＣ−Ｒ１０１を表すか、又は
Ｙ１０１＝Ｙ１０２は直接結合を表してよく、
Ｒ１０１及びＲ１０４は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、シアノ、カルボン酸、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルカノイル又はＡｒ１０２を表すか、又はＲ１０１はＡｒ１０１への架橋を表し、
Ｒ１０２及びＲ１０３は互いに無関係に、シアノ、ニトロ、カルボン酸、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、アミノカルボニル又はＣ１〜Ｃ１６−アルカノイルを表すか、又はＲ１０２は水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル又は式
【００６８】
【化１４】
2006521220.tif 000018
の基を表すか、又は
Ｒ１０３はＡｒ１０２、ＣＨ２−ＣＯＯアルキル又はＰ（Ｏ）（Ｏ−Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル）２又はＣ１〜Ｃ１６−アルキルを表すか、又は
Ｒ１０２；Ｒ１０３は該基に結合するＣ原子と一緒になって、５員又は６員の炭素環又は芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、又は
Ｒ１０３はＡｒ１０１又は環Ａ１０１への架橋を形成し、該架橋はヘテロ原子を有してよく、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、
Ｒ１００は水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ７〜Ｃ１６−アラルキル又はＲ１０１を表すか、又は
ＮＲ１００Ｒ１００はピロリジノ、ピペリジノ又はモルホリノを表すか、又は
Ｒ１００及びＲ１０４は一緒になって、−ＣＨ２−ＣＨ２−又は−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−の架橋を表し、
Ｒ１０５はシアノ、カルボン酸、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルカノイル又はＡｒ１０１を表すか、又は
Ｒ１０４；Ｒ１０５は該基に結合するＣ原子と一緒になって、５員又は６員の炭素環又は芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、
Ｘ１０１、Ｘ１０２、Ｘ１０３、Ｘ１０４、Ｘ１０６、Ｘ１０９及びＸ１１０は互いに無関係に、Ｏ、Ｓ又はＮ−Ｒ１００を表すか、又は
Ｘ１０２、Ｘ１０４又はＸ１０６は付加的にＣＨ又はＣＲ１００Ｒ１００を表し、
Ａ１０１、Ｂ１０１、Ｃ１０１、Ｆ１０１、Ｇ１０１及びＨ１０１は互いに無関係に、５員又は６員の芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、
Ｘ１０５及びＸ１０８は互いに無関係にＮを表し、
Ｅ１０１は直接二重結合、＝ＣＨ−ＣＨ＝、＝Ｎ−ＣＨ＝又は＝Ｎ−Ｎ＝を表し、
Ｅ１０２は直接結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝ＣＨ−又は−Ｎ＝Ｎ−を表し、
Ａｒ１０３及びＡｒ１０４は互いに無関係に２−ヒドロキシフェニル基を表し、前記基はベンゼン縮合され、かつ／又はヒドロキシ、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシ又はＣ６〜Ｃ１０−アリールオキシによって置換されていてよく、
Ｒ１０６及びＲ１０７は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル又はＣ６〜Ｃ１０−アリールを表すか、又は一緒になって−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−又はｏ−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
Ｒ１０８はＣ１〜Ｃ１６−アルキル、ＣＨＯ、ＣＮ、ＣＯ−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、ＣＯ−Ｃ６〜Ｃ１０−アリール又はＣＨ＝Ｃ（ＣＯ−Ｃ１〜Ｃ８−アルキル）−ＣＨ２−ＣＯ−Ｃ１〜Ｃ８−アルキルを表し、
Ｒ１０９はヒドロキシ又はＣ１〜Ｃ１６−アルコキシを表し、
Ｒ１１０及びＲ１１１は水素を表すか、又は一緒になって−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
Ｒ１１２は水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル又はシアノを表し、
Ｒ１１３は水素、シアノ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシカルボニル、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール、チエン−２−イル、ピリジ−２−イル又はピリジ−４−イル、ピラゾール−１−イル又は１，２，４−トリアゾール−１−イル又は１，２，４−トリアゾール−４−イルを表し、これらはベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、
Ｒ１１４は水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシ、１，２，３−トリアゾール−２−イル（これは非イオン性基によって置換されていてよい）、Ｃ１〜Ｃ１６−アルカノイルアミノ、Ｃ１〜Ｃ８−アルカンスルホニルアミノ又はＣ６〜Ｃ１０−アリールスルホニルアミノを表し、
Ａｒ１０５及びＡｒ１０６は互いに無関係にＣ６〜Ｃ１０−アリール又は５員又は６員の芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基及び／又はスルホによって置換されていてよく、
ａ、ｂ及びｃは互いに無関係に０〜２の整数を表し、
Ｘ１０７はＮ又はＮ＋−Ｒ１００Ａｎ−を表し、
Ａｎ−はアニオンを表し、
Ｅ１０３はＮ、ＣＨ、Ｃ−ＣＨ３又はＣ−ＣＮを表し、
Ｒ１１５及びＲ１１６は互いに無関係に水素又はＣ１〜Ｃ１６−アルキルを表し、
Ｒ１１７及びＲ１１８は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、シアノ又はＣ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニルを表し、
Ｒ１１９は水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシを表すか、又はチオフェン環のそれぞれ２個の基Ｒ１１９は式−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−の二価の基を表し、
Ｙ１０３及びＹ１０４は互いに無関係にＯ又はＮ−ＣＮを表し、
Ｒ１２０〜Ｒ１２３は互いに無関係に水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシ、シアノ、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、ハロゲン、Ａｒ１０１、Ａｒ１０２を表すか、又は
Ｒ１２０はＲ１２１と一緒になって、かつ／又はＲ１２２はＲ１２３と一緒になって、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−又はｏ−Ｃ６Ｈ１０−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、前記架橋は非イオン性置換基によって置換されていてよく、
Ｒ１２４はＣ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシ、シアノ、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、カルボン酸、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキルアミノカルボニル又はＣ１〜Ｃ１６−ジアルキルアミノカルボニルを表し、
Ｒ１２５及びＲ１２６は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシ、シアノ、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、カルボン酸又はＣ６〜Ｃ１０−アリールオキシを表し、
ｅ、ｆ及びｇは互いに無関係に、１〜４の整数を表し、その際、ｅ、ｆ又はｇが＞１である場合に、これらの基は異なっていてよく、
Ｘ１１１はＮ又はＣ−Ａｒ１０２を表し、
Ｒ１２７は水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル又はＣ６〜Ｃ１０−アリールを表し、
Ｒ１２８及びＲ１２９は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール又はＣ７〜Ｃ１５−アラルキルを表すか、又は
ＮＲ１２８Ｒ１２９はモルホリノ、ピペリジノ又はピロリジノを表し、
Ｒ１３０はＣ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ７〜Ｃ１５−アラルキル又はＡｒ１を表し、
Ｒ１３１及びＲ１３２は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシ、シアノ、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、ハロゲン又はＣ６〜Ｃ１０−アリールを表すか、又は一緒になって式−ＣＯ−Ｎ（Ｒ１３０）−ＣＯ−の架橋を表し、かつ
式（ＣＣＣＩＸ）の基Ｍ３００、Ｒ３０６〜Ｒ３０９及びｗ〜ｚは更に以下に説明する、
その際、架橋Ｂへの結合及びＢ１〜Ｂ５の結合は、基Ｒ１００〜Ｒ１３２、Ｍ３００、Ｒ３０６〜Ｒ３０９を介するか、又は非イオン性基（該基によりＡｒ１０１〜Ａｒ１０６及び環Ａ１０１〜Ｈ１０１が置換されていてよい）を介して行われる。この場合には、前記の基は直接結合を表す］。
【００６９】
非イオン性基は、有利にはＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４−アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、モノ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルアミノ又はジ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルアミノである。
【００７０】
アルキル基、アルコキシ基、アリール基及び複素環式基は、場合により他の基、例えばアルキル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯ−ＮＨ２、アルコキシ、トリアルキルシリル、トリアルキルシロキシ又はフェニルを有し、アルキル基とアルコキシ基は直鎖状又は分枝鎖状であってよく、アルキル基は部分ハロゲン化又は過ハロゲン化されていてよく、アルキル基とアルコキシ基はエトキシ化又はプロポキシ化又はシリル化されていてよく、アリール基又は複素環式基上の隣接したアルキル基及び／又はアルコキシ基は一緒になって３員又は４員の架橋を形成してよく、かつ複素環式基はベンゼン縮合及び／又は第四級化されていてよい。
【００７１】
特に、式（ＣＩ）〜（ＣＸＸＩ）、（ＣＩＩＩａ）及び（ＣＣＣＩＸ）の吸光性化合物が好ましく、それらの式中で、
Ａｒ１０１及びＡｒ１０２は互いに無関係に、フェニル、ナフチル、ベンゾチアゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２−イル、チアゾール−２−イル、チアゾリン−２−イル、ピロリン−２−イル、イソチアゾール−３−イル、イミダゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、２−ピリジル又は４−ピリジル、２−キノリル又は４−キノリル、ピロール−２−イル又はピロール−３−イル、チオフェン−２−イル又はチオフェン−３−イル、フラン−２−イル又はフラン−３−イル、インドール−２−イル又はインドール−３−イル、ベンゾチオフェン−２−イル、ベンゾフラン−２−イル又は３，３−ジメチルインドレン−２−イルを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ジメチルアミノ、ジプロピルアミノ又はジブチルアミノによって置換されていてよく
Ｙ１０１及びＹ１０２は互いに無関係に、Ｎ又はＣ−Ｒ１０１を表すか、又は
Ｙ１０１＝Ｙ１０２は直接結合を表してよく、
Ｒ１０１及びＲ１０４は互いに無関係に、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、シアノ、カルボン酸、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、アセチル、プロピオニル又はＡｒ１０２を表すか、又はＡｒ１０１及びＲ１０１は一緒になって、式
【００７２】
【化１５】
2006521220.tif 000019
の環を表し、前記環は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシによって置換されていてよく、その際、星印（*）は二重結合が出ている環原子を示し、
Ｒ１０２、Ｒ１０３及びＲ１０５は互いに無関係に、シアノ、カルボン酸、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、メトキシエトキシカルボニル、アセチル、プロピオニル又はブタノイルを表すか、又はＲ１０２は水素又は式
【００７３】
【化１６】
2006521220.tif 000020
の基を表すか、又はＲ１０３はＡｒ１０２を表すか、又はＲ１０５はＡｒ１０１を表すか、又はＲ１０２；Ｒ１０３又はＲ１０４；Ｒ１０５は該基に結合するＣ原子と一緒になって、式
【００７４】
【化１７】
2006521220.tif 000021
の環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、かつ星印（*）は二重結合が出ている環原子を示すか、又はＲ１０３は−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−、−Ｎ（ＣＯＣＨ３）−、Ｎ（ＣＯＣ４Ｈ９）−又は−Ｎ（ＣＯＣ６Ｈ５）−架橋を表し、該架橋はＡｒ１０１又は環Ａ１０１の２位（置換部位に対して）に伸び、
Ｒ１００は水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル又はベンジルを表すか、又は
ＮＲ１００Ｒ１００はピロリジノ、モルホリノ又はピペリジノを表すか、又は
Ｒ１００及びＲ１０４は一緒になって、−ＣＨ２−ＣＨ２−架橋を表すか、又は
式（ＣＶＩＩ）又は（ＣＸＩＩＩ）中の２個の基Ｒ１００は−ＣＨ２−ＣＨ２−又は−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−架橋を表し、
Ａ１０１、Ｂ１０１及びＧ１０１は、互いに無関係に、ベンゾチアゾール−２−イリデン、ベンゾオキサゾール−２−イリデン、ベンゾイミダゾール−２−イリデン、チアゾール−２−イリデン、チアゾリン−２−イリデン、ピロリン−２−イリデン、イソチアゾール−３−イリデン、イミダゾール−２−イリデン、１，３，４−チアジアゾール−２−イリデン、１，３，４−トリアゾール−２−イリデン、ピリジン−２−イリデン又はピリジン−４−イリデン、キノリン−２−イリデン又はキノリン−４−イリデン、ピロール−２−イリデン又はピロール−３−イリデン、チオフェン−２−イリデン又はチオフェン−３−イリデン、フラン−２−イリデン又はフラン−３−イリデン、インドール−２−イリデン又はインドール−３−イリデン、ベンゾチオフェン−２−イリデン、ベンゾフラン−２−イリデン又は３，３−ジメチルインドレン−２−イリデンを表し、かつＡとＢは付加的に１，３−ジチオール−２−イリデン又はベンゾ−１，３−ジチオール−２−イリデンを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ又はベンゾイルアミノによって置換されていてよく、
Ｃ１０１及びＦ１０１は互いに無関係に、ベンゾチアゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２−イル、チアゾール−２−イル、チアゾリン−２−イル、ピロリン−２−イル、イソチアゾール−３−イル、イミダゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、２−ピリジル又は４−ピリジル、２−キノリル又は４−キノリル、ピロール−２−イル又はピロール−３−イル、チオフェン−２−イル又はチオフェン−３−イル、フラン−２−イル又はフラン−３−イル、インドール−２−イル又はインドール−３−イル、ベンゾチオフェン−２−イル、ベンゾフラン−２−イル又は３，３−ジメチルインドレン−２−イルを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ又はベンゾイルアミノによって置換されていてよく、その際、
Ｘ１０１、Ｘ１０２、Ｘ１０３、Ｘ１０４、Ｘ１０６、Ｘ１０９及びＸ１１０は互いに無関係にＯ、Ｓ又はＮ−Ｒ１００を表し、かつ
Ｘ１０２、Ｘ１０４又はＸ１０６は付加的にＣＨ又はＣＲ１００Ｒ１００を表し、
Ｘ１０５及びＸ１０８は互いに無関係にＮを表し、
Ｘ１０７はＮ又はＮ＋−Ｒ１００Ａｎ−を表し、かつ
Ａｎ−はアニオンを表し、
Ｅ１０１は直接二重結合又は＝Ｎ−Ｎ＝を表し、
Ａｒ１０３及びＡｒ１０４は互いに無関係に２−ヒドロキシフェニル基を表し、前記基はヒドロキシ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ又はフェノキシによって置換されていてよく、
Ｒ１０６及びＲ１０７は互いに無関係に、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル又はフェニルを意味するか、又は一緒になって、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−又はｏ−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
Ｒ１０８はメチル、エチル、プロピル、ブチル、ＣＨＯ、ＣＮ、アセチル、プロピオニル又はベンゾイルを表し、
Ｒ１０９はヒドロキシ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ又はブトキシを表し、
Ｒ１１０及びＲ１１１は水素を表すか、又は一緒になって、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
Ｒ１１２は水素又はメチルを表し、
Ｒ１１３は水素、シアノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フェニル、チエン−２−イル、ピリジ−２−イル又はピリジ−４−イル、ピラゾール−１−イル又は１，２，４−トリアゾール−１−イル又は１，２，４−トリアゾール−４−を表し、これらはメチル、メトキシ又はクロロによって置換されていてよく、
Ｒ１１４は水素、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、１，２，３−トリアゾール−２−イル（これはメチル及び／又はフェニルによって置換されていてよい）、アセチルアミノ、メタンスルホニルアミノ又はベンゼンスルホニルアミノを表し、
Ａｒ１０５及びＡｒ１０６は互いに無関係に、フェニル、ベンゾチアゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２−イル、チアゾール−２−イル、チアゾリン−２−イル、ピロリン−２−イル、イソチアゾール−３−イル、イミダゾール−２−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、２−ピリジル又は４−ピリジル、２−キノリル又は４−キノリル、チオフェン−２−イル又はチオフェン−３−イル、フラン−２−イル又はフラン−３−イル、ベンゾチオフェン−２−イル又はベンゾフラン−２−イルを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル又はスルホによって置換されていてよく、
ａ、ｂ及びｃは互いに無関係に０〜１の整数を表し、
Ｅ１０２は直接結合、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｎ＝ＣＨ−を表し、
Ｅ１０３はＮ又はＣ−ＣＮを表し、
Ｒ１１５及びＲ１１６は互いに無関係に水素、メチル又はエチルを表し、
Ｒ１１７及びＲ１１８は互いに無関係に、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、シアノ、メトキシカルボニル又はエトキシカルボニルを表し、
Ｒ１１９は水素、メチル、メトキシ、エトキシを表すか、又はチオフェン環のそれぞれ２個の基Ｒ１１９は式−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−の二価の基を表し、
Ｙ１０３及びＹ１０４は互いに無関係にＯ又はＮ−ＣＮを表し、
Ｒ１２０〜Ｒ１２３は互いに無関係に、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、シアノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、クロロ、ブロモを表すか、又は
Ｒ１２０はＲ１２１と一緒になって、かつ／又はＲ１２２はＲ１２３と一緒になって、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
Ｒ１２４はメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、シアノ、メトキシカルボニル又はエトキシカルボニルを表し、
Ｒ１２５及びＲ１２６は互いに無関係に、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、シアノ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル又はヒドロキシを表し、その際、基Ｒ１２６の少なくとも１個は環中の１位又は３位にあり、そしてメトキシ、エトキシ、プロポキシ又はブトキシを意味し、
ｅ、ｆ及びｇは互いに無関係に、１〜２の整数を表し、その際、ｅ、ｆ又はｇが＞１の場合に、これらの基は異なっていてよく、
Ｘ１１１はＮ又はＣ−Ａｒ１０２を表し、
Ｒ１２７は水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル又はフェニルを表し、
Ｒ１２８及びＲ１２９は互いに無関係に、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、フェニル又はベンジルを表すか、又は
ＮＲ１２８Ｒ１２９はモルホリノ、ピペリジノ又はピロリジノを表し、
Ｒ１３０はメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシプロピル、ベンジル、フェネチル又はＡｒ１を表し、
Ｒ１３１及びＲ１３２は互いに無関係に水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、クロロ又はブロモを表すか、又は一緒になって式−ＣＯ−Ｎ（Ｒ１３０）−ＣＯ−の架橋を表し、
Ｍ３００は２個のＨ原子、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｚｎ、Ｍｇ又はＴｉＩＶを表し、その際、Ｍ３００はＡｌ、Ｓｉ、Ｇｅ又はＴｉＩＶの場合に、更に１個又は２個の他の置換基又は配位子Ｒ３１３及び／又はＲ３１４を有し、これらはフタロシアニン面に対してアキシャルに配置されており、
Ｒ３０６〜Ｒ３０９は互いに無関係に、メチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ又はクロロを表し、
ｗ〜ｚは互いに無関係に０〜４の整数を表し、
Ｒ３１３及びＲ３１４は互いに無関係に、メチル、エチル、フェニル、ヒドロキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、トリルオキシ、シアノ又は＝Ｏを表し、かつ
基Ｒ３０６〜Ｒ３０９、Ｍ３００及びｗ〜ｚは付加的に更に以下に定義された意味を有してよく、
その際、架橋Ｂへの結合及びＢ１〜Ｂ５の結合は、基Ｒ１００〜Ｒ１３２を介するか、基（該基によりＡｒ１０１〜Ａｒ１０６及び環Ａ１０１〜Ｇ１０１が置換されていてよい）を介するか、Ｒ３０６〜Ｒ３０９、Ｒ３１３又はＲ３１４を介して行われる。この場合には、前記の基は直接結合を表す。
【００７５】
説明のために以下の例を用いる：
【００７６】
【化１８】
2006521220.tif 000022
【００７７】
【化１９】
2006521220.tif 000023
【００７８】
【化２０】
2006521220.tif 000024
【００７９】
【化２１】
2006521220.tif 000025
【００８０】
【化２２】
2006521220.tif 000026
【００８１】
【化２３】
2006521220.tif 000027
【００８２】
【化２４】
2006521220.tif 000028
【００８３】
【化２５】
2006521220.tif 000029
【００８４】
【化２６】
2006521220.tif 000030
【００８５】
【化２７】
2006521220.tif 000031
【００８６】
【化２８】
2006521220.tif 000032
【００８７】
【化２９】
2006521220.tif 000033
【００８８】
ポリマー網目の製造のために使用されるモノマーの吸光性基及びポリマー網目自体の吸光性基は吸光性化合物から誘導される。
【００８９】
有利な４００〜６５０ｎｍの吸収極大λｍａｘ２を有する吸光性化合物（これらの基を有するモノマーにも相当する）は、例えば以下の式の化合物である。該化合物を基礎とする吸光性基を有する相応のモノマーを基礎とする前記のポリマー網目を情報層中に有する相応の光学データ記憶装置は、青色光又は赤色光、特に青色レーザ光又は赤色レーザ光で読取り及び書込みが可能である：
【００９０】
【化３０】
2006521220.tif 000034
【００９１】
【化３１】
2006521220.tif 000035
【００９２】
【化３２】
2006521220.tif 000036
【００９３】
【化３３】
2006521220.tif 000037
【００９４】
【化３４】
2006521220.tif 000038
［式中、
Ａｒ２０１、Ａｒ２０２、Ａｒ２０４、Ａｒ２０５及びＡｒ２０６は互いに無関係に、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール又は５員又は６員の芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基又はスルホによって置換されていてよく、
Ａｒ２０３はＣ６〜Ｃ１０−芳香族の二官能性基又は５員又は６員の芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環の二官能性基を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基又はスルホによって置換されていてよく、かかる２個の二官能性の基は二官能性の架橋を介して結合されていてよく、
Ｙ２０１はＮ又はＣ−Ｒ２０１を表し、
Ｒ２０１は水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、シアノ、カルボン酸、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルカノイル又はＡｒ２０２を表すか、又はＡｒ２０１又はＲ２００への架橋を表し、
Ｒ２０２及びＲ２０３は互いに無関係に、シアノ、カルボン酸、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、アミノカルボニル又はＣ１〜Ｃ１６−アルカノイルを表すか、又はＲ２０２は水素、ハロゲン又は式
【００９５】
【化３５】
2006521220.tif 000039
の基を表すか、又はＲ２０３はＡｒ２０２、ＣＨ２−ＣＯＯアルキル又はＰ（Ｏ）（Ｏ−Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル）２又はＣ１〜Ｃ１６−アルキルを表すか、又はＲ２０２；Ｒ２０３は該基に結合するＣ原子と一緒になって、５員又は６員の炭素環又は芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、
Ｅ２０１は直接結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）−又は−Ｃ（ＣＮ）＝Ｃ（ＣＮ）−を表し、
ｏは１又は２を表し、
Ｒ２０４は水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル又はＣ７〜Ｃ１６−アラルキルを表すか、又はＡ２０１又はＡ２０２又はＥ２０１もしくはＡｒ２０５又はＥ２０７への架橋を表すか、又は
ＮＲ２０４Ｒ２０４はピロリジノ、ピペリジノ又はモルホリノを表し、
Ｘ２０１、Ｘ２０２、Ｘ２０４及びＸ２０６は互いに無関係に、Ｏ、Ｓ又はＮ−Ｒ２００を表し、かつＸ２０２、Ｘ２０４及びＸ２０６は付加的にＣＨ又はＣＲ２００Ｒ２００を表し、
Ａ２０１、Ｂ２０１、Ｃ２０１及びＪ２０１は互いに無関係に、５員又は６員の芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、
Ｘ２０３及びＸ２０５は互いに無関係にＮを表し、
Ｒ２００は、水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル又はＣ７〜Ｃ１６−アラルキルを表すか、又はＥ２０２、Ｅ２０３、Ｅ２０５又はＥ２０６に環を形成し、
Ｅ２０２は直接二重結合、＝ＣＨ−ＣＨ＝、＝Ｎ−ＣＨ＝又は＝Ｎ−Ｎ＝を表し、
Ｅ２０３、Ｅ２０４、Ｅ２０５、Ｅ２０６及びＥ２０７は互いに無関係に、Ｎ又はＣ−Ｒ２０１を表し、−Ｅ２０３＝Ｅ２０４−又は−Ｅ２０６＝Ｅ２０７−は直接結合を表してよく、かつ２個の基Ｒ２０１は一緒になって、２員、３員又は４員の架橋を形成してよく、該架橋はヘテロ原子を有してよく、かつ／又は非イオン性基によって置換されており、かつ／又はベンゼン縮合されていてよく、
Ｒ２０５及びＲ２０５′は水素を表すか、又は一緒になって、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
Ｒ２０６は水素、シアノ又はＣ１〜Ｃ４−アルキル−ＳＯ２−を表し、
Ｒ２０７は水素、シアノ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシカルボニル又はＡｒ２０１を表し、
Ｒ２０８はＮＲ２２２Ｒ２２２、ピペリジノ、モルホリノ又はピロリジノを表し、
Ｒ２１３、Ｒ２１８、Ｒ２１９、Ｒ２２２及びＲ２２３は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ７〜Ｃ１６−アラルキル又はＣ６〜Ｃ１０−アリールを表し、
Ｘ２０７はＯ、Ｓ、Ｎ−Ｒ２２２又はＣ（ＣＨ３）２を表し、
Ｙ２０３及びＹ２０４は互いに無関係にＯＲ２２２、ＳＲ２２２又はＮＲ２２２Ｒ２２３を表し、
Ｙ２０３及びＹ２０５は互いに無関係にＯ、Ｓ又はＮ＋Ｒ２２２Ｒ２２３Ａｎ−を表し、
Ａｎ−はアニオンを表し、
Ｒ２０９及びＲ２１０は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、ハロゲン、Ｙ２０２又はＹ２０４を表すか、又はＲ２１６及び／又はＲ２１７と一緒になって架橋を形成するか、又は２個の隣接した基Ｒ２０９もしくはＲ２１０は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を形成し、
ｈ及びｉは互いに無関係に０〜３の整数を表し、
Ｒ２１１は水素、Ｃ１〜Ｃ４−アルキル又はＡｒ２０１を表し、
Ｙ２１０及びＹ２１１は互いに無関係にＯ、Ｓ又はＮ−ＣＮを表し、
Ｘ２０８及びＸ２０９は互いに無関係にＯ、Ｓ又はＮ−Ｒ２１３を表し、
Ｒ２１２は水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ７〜Ｃ１６−アラルキル又はＣ６〜Ｃ１０−アリールを表し、
Ｒ２１４及びＲ２１５は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ８−アルキル、Ｃ１〜Ｃ８−アルコキシ、ハロゲン、シアノ、ニトロ又はＮＲ２２２Ｒ２２３を表すか、又は２個の隣接した基Ｒ２１４もしくはＲ２１５は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を形成し、該架橋はＲ２１４もしくはＲ２１５によって置換されていてよく、その際、基Ｒ２１４もしくはＲ１２５の少なくとも１個はＮＲ２２２Ｒ２２３を表し、
ｊ及びｍは互いに無関係に１〜４の整数を表し、
Ｄ２０１、Ｅ２０１、Ｇ２０１及びＨ２０１は互いに無関係に、５員又は６員の芳香族炭素環又は準芳香族炭素環又は芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基又はスルホによって置換されていてよく、
Ｙ２０６及びＹ２０７は互いに無関係に、−Ｏ−、−ＮＲ２２４−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ２２４−、−ＳＯ２−Ｏ−又は−ＳＯ２−ＮＲ２２４−を表し、
Ｙ２０８、Ｙ２０９及びＹ２１０は互いに無関係にＮ又はＣＨを表し、
Ｙ２１１はＯ又は−ＮＲ２２４を表し、
Ｒ２２４は水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、シアノ、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルカノイル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキルスルホニル、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール、Ｃ６〜Ｃ１０−アリールカルボニル又はＣ６〜Ｃ１０−アリールスルホニルを表し、
Ｍ２００及びＭ２０１は互いに無関係に、少なくとも二価の金属イオンを表し、その金属イオンは更に他の置換基及び／又は配位子を有してよく、かつＭ２０１は付加的に２個の水素原子を表してよく、
Ｆ２０１は、５員又は６員の芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環は更なるヘテロ原子を有してよく、かつ／又はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基又はスルホによって置換されていてよく、
Ｒ２２０及びＲ２２１は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシ、シアノ、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、ハロゲン、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール、ＮＲ２２２Ｒ２２３を表すか、又は一緒になって式
【００９６】
【化３６】
2006521220.tif 000040
の二価の基を表し、
Ｘ２１０はＮ、ＣＨ、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ−Ａｒ２０１、Ｃ−Ｃｌ又はＣ−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ６−アルキル）２を表し、
Ｙ２１２はＮ−Ｒ２０４、Ｎ−Ａｒ２０１、Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−Ａｒ２０１、ＣＲ２０２Ｒ２０３又はＣＨ−Ｃ−Ｒ２０２Ｒ２０３Ａｎ−を表し、
Ｙ２１３はＮＨ−Ｒ２０４、ＮＨ−Ａｒ２０１、ＮＨ−Ｎ＝ＣＨ−Ａｒ２０１、Ｃ−Ｒ２０２Ｒ２０３Ａｎ−又はＣＨ＝ＣＲ２０２Ｒ２０３を表し、
その際、架橋Ｂへの結合及びＢ１〜Ｂ５の結合は、基Ｒ２００〜Ｒ２２４を介するか、又は非イオン性基（該基によりＡｒ２０１〜Ａｒ２０５及び環Ａ２０１〜Ｊ２０１が置換されていてよい）を介して行われる。この場合には、前記の基は直接結合を表す］。
【００９７】
非イオン性基は、有利にはＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４−アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、モノ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルアミノ又はジ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルアミノである。
【００９８】
アルキル基、アルコキシ基、アリール基及び複素環式基は、場合により他の基、例えばアルキル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯＯＨ、ＣＯ−ＮＨ２、アルコキシ、トリアルキルシリル、トリアルキルシロキシ、フェニル又はＳＯ３Ｈを有し、アルキル基とアルコキシ基は直鎖状又は分枝鎖状であってよく、アルキル基は部分ハロゲン化又は過ハロゲン化されていてよく、アルキル基とアルコキシ基はエトキシ化又はプロポキシ化又はシリル化されていてよく、アリール基又は複素環式基上の隣接したアルキル基及び／又はアルコキシ基は一緒になって３員又は４員の架橋を形成してよく、かつ複素環式基はベンゼン縮合及び／又は第四級化されていてよい。
【００９９】
特に、式（ＣＣＩ）〜（ＣＣＸＸＶＩ）及び（ＣＣＩＶａ）の吸光性化合物が好ましく、それらの式中で、
Ａｒ２０１、Ａｒ２０２、Ａｒ２０４、Ａｒ２０５及びＡｒ２０６は互いに無関係に、フェニル、ナフチル、ベンゾチアゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２−イル、チアゾール−２−イル又はチアゾール−５−イル、チアゾリン−２−イル、ピロリン−２−イル、イソチアゾール−３−イル、イミダゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、２−ピリジル又は４−ピリジル、２−キノリル又は４−キノリル、ピロール−２−イル又はピロール−３−イル、チオフェン−２−イル又はチオフェン−３−イル、フラン−２−イル又はフラン−３−イル、インドール−２−イル又はインドール−３−イル、ベンゾチオフェン−２−イル、ベンゾフラン−２−イル又は３，３−ジメチルインドレン−２−イルを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、ＣＯＯＨ又はＳＯ３Ｈによって置換されていてよく、
Ａ２０３はフェニレン、ナフチレン、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−トリアゾール−２，５−ジイル又は以下の式
【０１００】
【化３７】
2006521220.tif 000041
の二官能性の基を表し、前記基はクロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ＣＯＯＨ又はＳＯ３Ｈによって置換されていてよく、
Ｙ２１０はＣｌ、ＯＨ、ＮＨＲ２００又はＮＲ２０２２を表し、
Ｙ２０１はＮ又はＣ−Ｒ２０１を表し、
Ｒ２０１は水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、シアノ、カルボン酸、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、アセチル、プロピオニル又はＡｒ２０２を表し、
Ｒ２０２及びＲ２０３は互いに無関係に、シアノ、カルボン酸、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、メトキシエトキシカルボニル、アセチル、プロピオニル又はブタノイルを表すか、又はＲ２０２は水素又は式
【０１０１】
【化３８】
2006521220.tif 000042
の基を表すか、又はＲ２０３はＡｒ２０２を表すか、又はＲ２０２；Ｒ２０３は該基に結合するＣ原子と一緒になって、式
【０１０２】
【化３９】
2006521220.tif 000043
の環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基又はイオン性基によって置換されていてよく、かつ星印（*）は二重結合が出ている環原子を示し、
Ｅ２０１は直接結合又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、
Ｒ２０４は水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ベンジルを表すか、又は
Ａｒ２０１−Ｎ−Ｒ２０４又はＡｒ２０５−Ｎ−Ｒ２０４は、Ｎを介して結合されたピロール環、インドール環又はカルバゾール環を表し、前記環はメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ又はメトキシカルボニルによって置換されていてよく、又は
ＮＲ２０４Ｒ２０４はピロリジノ、ピペリジノ又はモルホリノを表し、
Ａ２０１はベンゾチアゾール−２−イリデン、ベンゾオキサゾール−２−イリデン、ベンゾイミダゾール−２−イリデン、チアゾール−２−イリデン、チアゾリン−２−イリデン、ピロリン−２−イリデン、イソチアゾール−３−イリデン、イミダゾール−２−イリデン、１，３，４−チアジアゾール−２−イリデン、１，３，４−トリアゾール−２−イリデン、ピリジン−２−イリデン又はピリジン−４−イリデン、キノリン−２−イリデン又はキノリン−４−イリデン、ピロール−２−イリデン又はピロール−３−イリデン、チオフェン−２−イリデン又はチオフェン−３−イリデン、フラン−２−イリデン又はフラン−３−イリデン、インドール−２−イリデン又はインドール−３−イリデン、ベンゾチオフェン−２−イリデン、ベンゾフラン−２−イリデン、１，３−ジチオール−２−イリデン、ベンゾ−１，３−ジチオール−２−イリデン又は３，３−ジメチルインドレン−２−イリデンを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、メチルベンジルアミノ、メチルフェニルアミノ、ピロリジノ又はモルホリノによって置換されていてよく、
Ｂ２０１はベンゾチアゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２−イル、チアゾール−２−イル、チアゾリン−２−イル、ピロリン−２−イル、イソチアゾール−３−イル、イミダゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、２−ピリジル又は４−ピリジル、２−キノリル又は４−キノリル、インドール−３−イル又は３，３−ジメチルインドレン−２−イルを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、メチルベンジルアミノ、メチルフェニルアミノ、ピロリジノ又はモルホリノによって置換されていてよく、
Ｃ２０１はベンゾチアゾール−２−イリデン、ベンゾオキサゾール−２−イリデン、ベンゾイミダゾール−２−イリデン、チアゾール−２−イリデン、チアゾール−５−イリデン、チアゾリン−２−イリデン、ピロリン−２−イリデン、イソチアゾール−３−イリデン、イミダゾール−２−イリデン、１，３，４−チアジアゾール−２−イリデン、１，３，４−トリアゾール−２−イリデン、ピリジン−２−イリデン又はピリジン−４−イリデン、キノリン−２−イリデン又はキノリン−４−イリデン、インドール−３−イル又は３，３−ジメチルインドレン−２−イリデンを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、メチルベンジルアミノ、メチルフェニルアミノ、ピロリジノ、ピペリジノ又はモルホリノによって置換されていてよく、その際、
Ｘ２０１、Ｘ２０２、Ｘ２０４及びＸ２０６は互いに無関係にＯ、Ｓ又はＮ−Ｒ２００及びＸ２０２を表し、Ｘ２０４及びＸ２０４は付加的にＣＲ２００Ｒ２００を表し、
Ｘ２０３及びＸ２０５は互いに無関係にＮを表し、かつ
Ａｎ−はアニオンを表し、
Ｒ２００は水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル又はベンジルを表し、
Ｒ２００′はメチル、エチル、プロピル、ブチル又はベンジルを表し、
Ｅ２０２は＝ＣＨ−ＣＨ＝、＝Ｎ−ＣＨ＝又は＝Ｎ−Ｎ＝を表し、
−Ｅ２０３＝Ｅ２０４−Ｅ２０５＝は、−ＣＲ２０１′＝ＣＲ２０１′−ＣＲ２０１′＝、−Ｎ＝Ｎ−Ｎ＝、−Ｎ＝ＣＲ２０１′−ＣＲ２０１′＝、−ＣＲ２０１′＝Ｎ−ＣＲ２０１′＝、−ＣＲ２０１′＝ＣＲ２０１′−Ｎ＝、−Ｎ＝Ｎ−ＣＲ２０１′＝又は−ＣＲ２０１′＝Ｎ−Ｎ＝を表し、
Ｅ２０６＝Ｅ２０７は、ＣＲ２０１′＝ＣＲ２０１′、Ｎ＝Ｎ、Ｎ＝ＣＲ２０１′、ＣＲ２０１′＝Ｎ又は直接結合を表し、
Ｒ２０１′は、水素、メチル又はシアノを表すか、又は２個の基Ｒ２０１′は、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
Ｒ２０５及びＲ２０５′は水素を表すか、又は一緒になって−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
Ｒ２０６はシアノ又はメチル−ＳＯ２−を表し、
Ｒ２０７は水素、シアノ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシカルボニル又はＡｒ２０１を表し、
Ｒ２０８はＮＲ２２２Ｒ２２３、ピペリジノ、モルホリノ又はピロリジノを表し、
Ｒ２１３、Ｒ２１８、Ｒ２１９、Ｒ２２２及びＲ２２３は互いに無関係に、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル又はフェニルを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ＣＯＯＨ又はＳＯ３Ｈによって置換されていてよく、
Ｘ２０７はＯ、Ｓ又はＮ−Ｒ２２２を表し、
Ｙ２０２及びＹ２０４は互いに無関係にＮＲ２２２Ｒ２２３を表し、
Ｙ２０３及びＹ２０５は互いに無関係にＯ又はＮ＋Ｒ２２２Ｒ２２３Ａｎ−を表し、
Ｒ２０９及びＲ２１０は互いに無関係に、水素、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、クロロ又はブロモを表すか、又はＲ２０９；Ｒ２２２、Ｒ２０９；Ｒ２２３、Ｒ２１０；Ｒ２２２及び／又はＲ２１０；Ｒ２２３は−ＣＨ２−ＣＨ２−又は−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−架橋を形成するか、又は２個の隣接した基Ｒ２０９もしくはＲ２１０は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を形成し、ａ及びｂは互いに無関係に０〜３の整数を表し、
Ｒ２１１は水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル又はフェニルを表し、これらは１〜３個のヒドロキシ、メチル、メトキシ、クロロ、ブロモ、ＣＯＯＨ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル又はＳＯ３Ｈの基によって置換されていてよく、
Ｙ２１０及びＹ２１１は互いに無関係にＯ又はＮ−ＣＮを表し、
Ｘ２０８及びＸ２０９は互いに無関係にＯ又はＮ−Ｒ２１３を表し、
Ｒ２１２は水素又はクロロを表し、
Ｒ２１４及びＲ２１５は互いに無関係に、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、シアノ、ニトロ又はＮＲ２２２Ｒ２２３を表すか、又は２個の隣接した基Ｒ２１４及びＲ２１５は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を形成してよく、その際、少なくとも１個、有利には２個の基Ｒ２１４もしくはＲ２１５はＮＲ２２２Ｒ２２３を表し、
ｄ及びｅは互いに無関係に１〜３の整数を表し、
Ｄ２０１及びＥ２０１は互いに無関係に、フェニル、ナフチル、ピロール、インドール、ピリジン、キノリン、ピラゾール又はピリミジンを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、ＮＲ２２２Ｒ２２３、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ又はベンゾイルアミノによって置換されていてよく、
Ｙ２０６及びＹ２０７は互いに無関係に−Ｏ−、−ＮＲ２２４−、−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＯ−ＮＲ２２４−を表し、
Ｙ２０８＝Ｙ２０９は、Ｎ＝Ｎ又はＣＨ＝Ｎを表し、
Ｙ２１０はＮ又はＣＨを表し、
Ｒ２２４は水素、メチル、ホルミル、アセチル、プロピオニル、メチルスルホニル又はエチルスルホニルを表し、
Ｍ２００はＣｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ又はＺｎを表し、
Ｍ２０１は２個のＨ原子、ＣｕＩＩ、ＣｏＩＩ、ＣｏＩＩＩ、ＮｉＩＩ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｃａ、Ｂａ、Ｉｎ、Ｂｅ、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｒｕ、Ｂｅ、ＰｄＩＩ、ＰｔＩＩ、Ａｌ、ＦｅＩＩ、ＦｅＩＩＩ、ＭｎＩＩ、ＶＩＶ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ又はＳｉを表し、その際、Ｍ２０１はＣｏＩＩＩ、ＦｅＩＩ、ＦｅＩＩＩ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、ＶＩＶ及びＳｉの場合には、更に１個又は２個の他の置換基又は配位子Ｒ２２５及び／又はＲ２２６を有し、これらはポルフィリン環面に対してアキシャルに配置されており、
Ｒ２２５及びＲ２２６は互いに無関係に、メチル、エチル、フェニル、ヒドロキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、メトキシ、エトキシ、フェノキシ、トリルオキシ、シアノ又は＝Ｏを表し、
Ｆ２０１はピロール−２−イル、イミダゾール−２−イル又はイミダゾール−４−イル、ピラゾール−３−イル又はピラゾール−５−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、チアゾール−２−イル又はチアゾール−４−イル、チアゾリン−２−イル、ピロリン−２−イル、オキサゾール−２−イル又はオキサゾール−４−イル、イソチアゾール−３−イル、イソオキサゾール−３−イル、インドール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２−イル、ベンゾチアゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾイソチアゾール−３−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，４−チアジアゾール−３−イル又は１，２，４−チアジアゾール−５−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、ピリジ−２−イル、キノール−２−イルを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジエチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノ、ジエタノールアミノ、Ｎ−メチルエタノールアミノ、ピロリジノ、モルホリノ又はピペリジノによって置換されていてよく、
Ｇ２０１は式
【０１０３】
【化４０】
2006521220.tif 000044
の環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、かつ星印（*）はＹ２１０への単結合が出ている環原子を示し、蛇行線（〜）はＭへの単結合が出ている酸素原子（＝Ｙ２０６）を示し、かつ
Ｙ２０６は−Ｏ−を表し、
Ｈ２０１は式
【０１０４】
【化４１】
2006521220.tif 000045
の環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、かつ星印（*）はＹ２１０への二重結合が出ている環原子を示し、かつ
Ｙ２１１は＝Ｏを表し、
Ｅ２０１は直接結合を表し、
Ｒ２０４は水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ベンジルを表すか、又は
Ａｒ２０１−Ｎ−Ｒ２０４又はＡｒ２０５−Ｎ−Ｒ２０４は、Ｎを介して結合されたピロール環、インドール環又はカルバゾール環を表し、前記環はメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ又はメトキシカルボニルによって置換されていてよく、
Ｒ２２０及びＲ２２１は互いに無関係に、水素、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、シアノ、メトキシカルボニル、クロロ、ブロモ、フェニル、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、アニリノを表すか、又は一緒になって式
【０１０５】
【化４２】
2006521220.tif 000046
の二価の基を表し、
Ｘ２１０はＮ又はＣＨを表し、
Ｙ２１２はＮ−Ｒ２０４、Ｎ−Ａｒ２０１又はＣＲ２０２Ｒ２０３を表し、
Ｙ２１３はＮＨ−Ｒ２０４、ＮＨ−Ａｒ２０１又はＣ−Ｒ２０２Ｒ２０３Ａｎ−を表し、
その際、架橋Ｂへの結合及びＢ１〜Ｂ５の結合は、基Ｒ２００〜Ｒ２２４を介するか、又は非イオン性基（該基によりＡｒ２０１〜Ａｒ２０５及び環Ａ２０１〜Ｈ２０１が置換されていてよい）を介して行われる。この場合には、前記の基は直接結合を表す。
【０１０６】
説明のために以下の例を用いる：
【０１０７】
【化４３】
2006521220.tif 000047
【０１０８】
【化４４】
2006521220.tif 000048
【０１０９】
【化４５】
2006521220.tif 000049
【０１１０】
【化４６】
2006521220.tif 000050
【０１１１】
【化４７】
2006521220.tif 000051
【０１１２】
【化４８】
2006521220.tif 000052
【０１１３】
【化４９】
2006521220.tif 000053
【０１１４】
【化５０】
2006521220.tif 000054
【０１１５】
【化５１】
2006521220.tif 000055
【０１１６】
【化５２】
2006521220.tif 000056
【０１１７】
【化５３】
2006521220.tif 000057
【０１１８】
【化５４】
2006521220.tif 000058
【０１１９】
【化５５】
2006521220.tif 000059
【０１２０】
【化５６】
2006521220.tif 000060
【０１２１】
【化５７】
2006521220.tif 000061
【０１２２】
【化５８】
2006521220.tif 000062
【０１２３】
【化５９】
2006521220.tif 000063
【０１２４】
【化６０】
2006521220.tif 000064
【０１２５】
【化６１】
2006521220.tif 000065
【０１２６】
【化６２】
2006521220.tif 000066
【０１２７】
【化６３】
2006521220.tif 000067
【０１２８】
ポリマー網目の製造のために使用されるモノマーの吸光性基及びポリマー網目自体の吸光性基は吸光性化合物から誘導される。
【０１２９】
有利な６３０〜８２０ｎｍの吸収極大λｍａｘ３を有する吸光性化合物（これらの基を有するモノマーにも相当する）は、例えば以下の式の化合物である。
【０１３０】
これらの化合物から誘導される吸光性基を有する相応のモノマーを基礎とするポリマー網目を情報層中に有する相応の光学データ記憶装置は、赤色光又は赤外光、特に赤色レーザ光又は赤外レーザ光で読取り及び書込みが可能である：
【０１３１】
【化６４】
2006521220.tif 000068
【０１３２】
【化６５】
2006521220.tif 000069
［式中、
Ａｒ３０１及びＡｒ３０２は互いに無関係にＣ６〜Ｃ１０−アリール又は５員又は６員の芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基又はスルホによって置換されていてよく、
Ａｒ３０３はＣ６〜Ｃ１０−芳香族の二官能性基又は５員又は６員の芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環の二官能性基を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基又はスルホによって置換されていてよく、かかる２個の二官能性の基は二官能性の架橋を介して結合されていてよく、
Ｅ３０１はＮ、Ｃ−Ａｒ３０２又はＮ＋−Ａｒ３０２Ａｎ−を表し、
Ａｎ−はアニオンを表し、
Ｒ３０２及びＲ３０２は互いに無関係に、シアノ、カルボン酸、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、アミノカルボニル又はＣ１〜Ｃ１６−アルカノイルを表すか、又はＲ３０３はＡｒ３０２を表すか、又はＲ３０２；Ｒ３０３は該基に結合するＣ原子と一緒になって、５員又は６員の炭素環又は芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、
Ｅ３０３〜Ｅ３０９は互いに無関係にＣ−Ｒ３１０又はＮを表し、その際、２個の要素Ｅ３０３〜Ｅ３０９の基Ｒ３１０は一緒になって、２員〜４員の架橋を形成してよく、該架橋はヘテロ原子を有し、かつ／又は非イオン性基によって置換され、かつ／又はベンゼン縮合されていてよく、Ｅ３０５−Ｅ３０６及び／又はＥ３０７−Ｅ３０８は直接結合を表してよく、
Ｒ３１０は水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、シアノ、カルボン酸、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルカノイル、Ａｒ３０２、−ＣＨ＝ＣＨ−Ａｒ３０２、−（ＣＨ＝ＣＨ）２−Ａｒ３０２又は式
【０１３３】
【化６６】
2006521220.tif 000070
の基を表し、
Ｘ３０１、Ｘ３０２、Ｘ３０４及びＸ３０６は互いに無関係にＯ、Ｓ又はＮ−Ｒ３００を表し、かつＸ３０２、Ｘ３０４及びＸ３０６は付加的にＣＲ３００Ｒ３００を表し、
Ａ３０１、Ｂ３０１及びＣ３０１は互いに無関係に、５員又は６員の芳香環、準芳香環又は部分水素化された複素環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、
Ｘ３０３及びＸ３０５は互いに無関係にＮを表すか、又は（Ｘ３０３）＋−Ｒ３００はＯ＋又はＳ＋を表し、かつ／又はＸ３０５−Ｒ３００はＯ又はＳを表し、
Ｒ３００は水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル又はＣ７〜Ｃ１６−アラルキルを表すか、又はＥ３０２、Ｅ３０３又はＥ３０７への環を形成し、
Ｅ３０２は＝ＣＨ−ＣＨ＝、＝Ｎ−ＣＨ＝、＝Ｎ−Ｎ＝又は式
【０１３４】
【化６７】
2006521220.tif 000071
の二価の基を表し、その際、６員環は非イオン性基によって置換され、かつ／又はベンゼン縮合されていてよく、
Ｙ３０１はＮ又はＣ−Ｒ３０１を表し、
Ｒ３０１は水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、シアノ、カルボン酸、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルカノイル又はＡｒ３０２を表すか、又はＲ３０２又はＡｒ３０３への架橋を表し、
ｖは１又は２を表し、
Ｘ３０７はＯ、Ｓ又はＮ−Ｒ３１１を表し、
Ｒ３１１及びＲ３１２は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ７〜Ｃ１６−アラルキル又はＣ６〜Ｃ１０−アリールを表し、
Ｙ３０２はＮＲ３１１Ｒ３１２を表し、
Ｙ３０３はＣＲ３０２Ｒ３０３を表し、
Ｒ３０４及びＲ３０５は互いに無関係に、水素、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシ、Ｃ６〜Ｃ１０−アリールオキシを表すか、又は２個の隣接した基Ｒ３０４もしくはＲ３０５は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
ｈ及びｉは互いに無関係に０〜３の整数を表し、
Ｍ３００は２個のＨ原子又は少なくとも二価の金属又は非金属を表し、その際、Ｍは他の有利には２個の置換基又は配位子Ｒ３１３及び／又はＲ３１４を有してよく、
Ｒ３０６〜Ｒ３０９は互いに無関係にＣ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１６−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキルチオ、Ｃ６〜Ｃ１０−アリールオキシ、ハロゲン、ＣＯＯＨ、−ＣＯ−ＯＲ３１１、−ＣＯ−ＮＲ３１１Ｒ３１２、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２−ＮＲ３１１Ｒ３１２を表すか、又は２個の隣接した基Ｒ３０６、Ｒ３０７、Ｒ３０８もしくはＲ３０９は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
ｗ〜ｚは互いに無関係に０〜４の整数を表し、その際、ｗ、ｘ、ｙもしくはｚが＞１であれば、Ｒ３０６、Ｒ３０７、Ｒ３０８もしくはＲ３０９は異なる意味を有してよく、
Ｒ３１３及びＲ３１４は互いに無関係にＣ１〜Ｃ１６−アルコキシ、Ｃ６〜Ｃ１０−アリールオキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、シアノ、チオシアナト、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキルイソニトリロ、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール、Ｃ１〜Ｃ１６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル−ＣＯ−Ｏ−、Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル−ＳＯ２−Ｏ−、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール−ＣＯ−Ｏ−、Ｃ６〜Ｃ１０−アリール−ＳＯ２−Ｏ、トリ−Ｃ１〜Ｃ１２−アルキルシロキシ又はＮＲ３１１Ｒ３１２を表し、
その際、架橋Ｂへの結合及びＢ１〜Ｂ５の結合は、基Ｒ３００〜Ｒ３１４を介するか、又は非イオン性基（該基によりＡｒ３０１〜Ａｒ３０３及び環Ａ３０１〜Ｃ３０１が置換されていてよい）を介して行われる。この場合には、前記の基は直接結合を表す］。
【０１３５】
式（ＣＣＣＩＸ）のフタロシアニンの場合には、相応のモノアザ誘導体乃至テトラアザ誘導体並びにそれらの第四級塩が考えられている。
【０１３６】
非イオン性基は、例えばＣ１〜Ｃ４−アルキル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ４−アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ４−アルカノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、モノ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルアミノ又はジ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルアミノである。
【０１３７】
アルキル基、アルコキシ基、アリール基及び複素環式基は、場合により他の基、例えばアルキル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、ＣＯＯＨ、ＣＯ−ＮＨ２、アルコキシ、トリアルキルシリル、トリアルキルシロキシ、フェニル又はＳＯ３Ｈを有してよく、アルキル基及びアルコキシ基は直鎖状又は分枝鎖状であってよく、アルキル基は部分ハロゲン化又は過ハロゲン化されていてよく、アルキル基及びアルコキシ基はエトキシ化又はプロポキシ化又はシリル化されていてよく、アリール基又は複素環式基上の隣接したアルキル基及びアルコキシ基は一緒になって３員又は４員の架橋を形成してよく、かつ複素環式基はベンゼン縮合及び／又は第四級化されていてよい。
【０１３８】
特に、式（ＣＣＣＩ）〜（ＣＣＣＩＸ）の吸光性化合物が好ましく、その式中で、
Ａｒ３０１及びＡｒ３０２は互いに無関係に、フェニル、ナフチル、ベンゾチアゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２−イル、チアゾール−２−イル、イソチアゾール−３−イル、イミダゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、２−ピリジル又は４−ピリジル、２−キノリル又は４−キノリル、ピロール−２−イル又はピロール−３−イル、チオフェン−２−イル又はチオフェン−３−イル、フラン−２−イル又はフラン−３−イル、インドール−２−イル又はインドール−３−イル、ベンゾチオフェン−２−、ベンゾフラン−２−イル、１，２−ジチオール−３−イル又は３，３−ジメチルインドレン−２−イルを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリン、ＣＯＯＨ又はＳＯ３Ｈによって置換されていてよく、かつＡｒ３０１は付加的に式
【０１３９】
【化６８】
2006521220.tif 000072
の環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、かつ星印（*）は単結合が出ている環原子を示し、
Ａｒ３０３はフェニレン、ナフチレン、チアゾール−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル又はフラン−２，５−ジイルを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ヒドロキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ又はベンゾイルアミノによって置換されていてよく、
Ｅ３０１はＮ、Ｃ−Ａｒ３０２又はＮ＋−Ａｒ３０２Ａｎ−を表し、
Ａｎ−はアニオンを表し、
Ｒ３０２及びＲ３０３は互いに無関係に、シアノ、カルボン酸、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、メトキシエトキシカルボニル、アセチル、プロピオニル又はブタノイルを表すか、又はＲ３０３はＡｒ３０２を表すか、又はＲ３０２；Ｒ３０３は該基と結合するＣ原子と一緒になって式
【０１４０】
【化６９】
2006521220.tif 000073
【０１４１】
【化７０】
2006521220.tif 000074
の環を表し、前記環はベンゼン縮合又はナフタレン縮合され、かつ／又は非イオン性基によって置換されていてよく、かつ星印（*）は二重結合が出ている環原子を示し、
Ｒ303〜Ｅ309は互いに無関係に、Ｃ−Ｒ310又はＮを表し、その際、２個の隣接した構成要素Ｅ303〜Ｅ309は式
【０１４２】
【化７１】
2006521220.tif 000075
の二価の基を表すか、又は３個の隣接した構成要素Ｅ303〜Ｅ309は式
【０１４３】
【化７２】
2006521220.tif 000076
の二価の基を表すか、又は５個の隣接した構成要素Ｅ303〜Ｅ309は式
【０１４４】
【化７３】
2006521220.tif 000077
の二価の基を表してよく、
その際、それぞれ星印（*）が付けられた結合は隣接するＥ、Ａｒ３０１、ＣＲ３０２Ｒ３０３又は環Ｂ３０１又はＣ３０１への単結合もしくは二重結合を表し、かつ該環はメチル、メトキシ、クロロ、シアノ又はフェニルによって置換されていてよく、かつＥ３０５＝Ｅ３０６及び／又はＥ３０７＝Ｅ３０８は直接結合を表してよく、
Ｒ３１０は水素、メチル、エチル、シアノ、クロロ、フェニル又は式
【０１４５】
【化７４】
2006521220.tif 000078
の基を表し、
Ａ３０１はベンゾチアゾール−２−イリデン、ベンゾオキサゾール−２−イリデン、ベンゾイミダゾール−２−イリデン、チアゾール−２−イリデン、イソチアゾール−３−イリデン、イミダゾール−２−イリデン、１，３，４−チアジアゾール−２−イリデン、１，３，４−トリアゾール−２−イリデン、ピリジン−２−イリデン又はピリジン−４−イリデン、キノリン−２−イリデン又はキノリン−４−イリデン、ピロール−２−イリデン又はピロール−３−イリデン、チオフェン−２−イリデン又はチオフェン−３−イリデン、フラン−２−イリデン又はフラン−３−イリデン、インドール−２−イリデン又はインドール−３−イリデン、ベンゾチオフェン−２−イリデン、ベンゾフラン−２−イリデン、１，３−ジチオール−２−イリデン、ベンゾ−１，３−ジチオール−２−イリデン、１，２−ジチオール−３−イリデン又は３，３−ジメチルインドレン−２−イリデンを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ又はベンゾイルアミノによって置換されていてよく、
Ｂ３０１はベンゾチアゾール−２−イル、ベンゾオキサゾール−２−イル、ベンゾイミダゾール−２−イル、チアゾール−２−イル、イソチアゾール−３−イル、イミダゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、２−ピリジル又は４−ピリジル、２−キノリル又は４−キノリル、ピリリウム−２−イル又はピリリウム−４−イル、チオピリリウム−２−イル又はチオピリリウム−４−イル、インドール−３−イル、ベンゾ［ｃ，ｄ］インドール−２−イル又は３，３−ジメチルインドレン−２−イルを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ又はベンゾイルアミノによって置換されていてよく、
Ｃ３０１はベンゾチアゾール−２−イリデン、ベンゾオキサゾール−２−イリデン、ベンゾイミダゾール−２−イリデン、チアゾール−２−イリデン、イソチアゾール−３−イリデン、イミダゾール−２−イリデン、１，３，４−チアジアゾール−２−イリデン、１，３，４−トリアゾール−２−イリデン、ピリジン−２−イリデン又はピリジン−４−イリデン、キノリン−２−イリデン又はキノリン−４−イリデン、デヒドロピラン−２−イリデン又はデヒドロピラン−４−イリデン、チオピラン−２−イリデン又はチオピラン−４−イリデン、インドール−３−イル、ベンゾ［ｃ，ｄ］インドール−２−イリデン又は３，３−ジメチルインドレン−２−イリデンを表し、これらはメチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、クロロ、ブロモ、ヨード、シアノ、ニトロ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチルチオ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ又はベンゾイルアミノによって置換されていてよく、
Ｘ３０１、Ｘ３０２、Ｘ３０４及びＸ３０６は互いに無関係にＯ、Ｓ又はＮ−Ｒ３００を表し、かつＸ３０２、Ｘ３０４及びＸ３０６は付加的にＣＲ３００Ｒ３００を表し、
Ｘ３０３及びＸ３０５は互いに無関係にＮを表すか、又は（Ｘ３０３）＋−Ｒ３００はＯ＋又はＳ＋を表し、かつ／又はＸ３０５−Ｒ３００はＯ又はＳを表し、かつ
Ａｎ−はアニオンを表し、
Ｒ３００は水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル又はベンジルを表し、
Ｒ３００′はメチル、エチル、プロピル、ブチル又はベンジルを表し、
Ｅ３０２は式
【０１４６】
【化７５】
2006521220.tif 000079
の二価の基を表し、その際、６員環はメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、アセトアミノ、プロピオニルアミノ又はメチルスルホニルアミノによって置換され、かつ／又はベンゼン縮合されていてよく、
Ｙ３０１はＮ又はＣ−Ｒ３０１を表し、
Ｒ３０１は水素、メチル、エチル、シアノ、カルボン酸、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、アセチル又はプロピオニルを表し、
ｖは１又は２を表し、
Ｘ３０７はＯ、Ｓ又はＮ−Ｒ３１１を表し、
Ｒ３１１及びＲ３１２は互いに無関係に、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ベンジル、フェニルを表し、これらは１個又は複数のメトキシ、エトキシ、プロポキシ、クロロ、ブロモ、ジメチルアミノ又はジエチルアミノによって置換されていてよく、
Ｙ３０２はＮＲ３１１Ｒ３１２を表し、
Ｙ３０３はＣＲ３０２Ｒ３０３を表し、
Ｒ３０４及びＲ３０５は互いに無関係に、水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、メトキシ、エトキシ又はフェノキシを表すか、又は２個の隣接した基Ｒ３０４もしくはＲ３０５は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
Ｍ３００は２個のＨ原子、ＣｕＩＩ、ＣｏＩＩ、ＣｏＩＩＩ、ＮｉＩＩ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｃａ、Ｂａ、Ｉｎ、Ｂｅ、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｒｕ、Ｂｅ、Ａｌ、ＰｄＩＩ、ＰｔＩＩ、Ａｌ、ＦｅＩＩ、ＦｅＩＩＩ、ＭｎＩＩ、ＶＩＶ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ又はＳｉを表し、その際、ＭはＣｏＩＩＩ、ＦｅＩＩ、ＦｅＩＩＩ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、ＶＩＶ及びＳｉの場合には、更に１個又は２個の他の置換基又は配位子Ｒ３１３及び／又はＲ３１４を有し、これらはフタロシアニン環面に対してアキシャルに配置されており、
Ｒ３０６〜Ｒ３０９は互いに無関係に、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、フェノキシ、クロロ、ブロモ、−ＳＯ３Ｈ又はＳＯ２ＮＲ３１１Ｒ３１２を表すか、又は２個の隣接した基Ｒ３０６、Ｒ３０７、Ｒ３０８もしくはＲ３０９は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−架橋を表し、
ｗ〜ｚは互いに無関係に０〜４の整数を表し、その際、ｗ、ｘ、ｙもしくはｚが＞１である場合に、Ｒ３０６、Ｒ３０７、Ｒ３０８もしくはＲ３０９は異なる意味を有してよく、
Ｒ３１３及びＲ３１４は互いに無関係に、ヒドロキシ、フルオロ、クロロ、ブロモ、シアノ、＝Ｏ、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、フェノキシ、ピラゾロ、イミダゾロ又はＮＲ３１１Ｒ３１２を表し、これらは１個又は複数のメトキシ、エトキシ、プロポキシ、クロロ、ブロモ、ジメチルアミノ又はジエチルアミノの基によって置換されていてよく、
その際、架橋Ｂへの結合及びＢ１〜Ｂ５の結合は、基Ｒ３００〜Ｒ３１４を介するか、又は非イオン性基（該基によりＡｒ３０１〜Ａｒ３０３及び環Ａ３０１〜Ｃ３０１が置換されていてよい）を介して行われる。この場合には、前記の基は直接結合を表す。
【０１４７】
説明のために以下の例を用いる：
【０１４８】
【化７６】
2006521220.tif 000080
【０１４９】
【化７７】
2006521220.tif 000081
【０１５０】
【化７８】
2006521220.tif 000082
【０１５１】
【化７９】
2006521220.tif 000083
【０１５２】
【化８０】
2006521220.tif 000084
【０１５３】
【化８１】
2006521220.tif 000085
【０１５４】
【化８２】
2006521220.tif 000086
【０１５５】
【化８３】
2006521220.tif 000087
【０１５６】
【化８４】
2006521220.tif 000088
【０１５７】
【化８５】
2006521220.tif 000089
【０１５８】
有利な実施態様では、本発明によるポリマー網目の製造に使用されるモノマー、例えば成分Ａ）又はＢ）のモノマーは、式（Ｍ１）
【０１５９】
【化８６】
2006521220.tif 000090
［式中、
ｐ１は１〜６の数、特に２又は３を表し、
ｐ２は０又は１を意味し、かつ
ｐ３は０又は１を意味し、特に（Ｍ１）は式
【０１６０】
【化８７】
2006521220.tif 000091
の基を表す］の少なくとも１個の官能基、又は式
【０１６１】
【化８８】
2006521220.tif 000092
［式中、ｐ１は前記の意味を有する］の少なくとも１個の官能基、又は式（Ｍ２）
【０１６２】
【化８９】
2006521220.tif 000093
［式中、
ｐ１は前記の意味を有し、かつ
Ｒ１５０は
【０１６３】
【化９０】
2006521220.tif 000094
、−ＯＨ又はＮＨ２を表す］の少なくとも２個の官能基Ｋ−Ｂ並びに少なくとも１個の吸光性基を有する。
【０１６４】
吸光性基としては、特に１個もしくは複数個の官能基と一緒になって、例えば冒頭に記載したような吸収極大のような物理特性を有するモノマーを形成する基が該当する。
【０１６５】
特に有利には、吸光性基は、メロシアニン色素及びアゾ色素のクラスの化合物から誘導される。
【０１６６】
少なくとも１個の式（Ｍ１）の官能基を有する相応のモノマーは同様に本発明の対象である。
【０１６７】
これらのモノマーは当業者に公知の方法に従って製造できる。
【０１６８】
Ｐ（Ｍ２）型のモノマーのようなモノマーは重付加のために適している。有利な付加相手としては、ポリイソシアネートが挙げられる。特に芳香族又は脂肪族のポリイソシアネートが好ましい。
【０１６９】
好適なポリイソシアネートは自体公知である。該ポリイソシアネートは、脂肪族、芳香族及び複素環式のポリイソシアネート、例えばW. Sirfken In Justus Liebigs Annalen der CHemie, 562, Seiten 75 bis 136に記載されるようなポリイソシアネート、例えばエチレンジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，１２−ドデカメチレンジイソシアネート、シクロブタン−１，３−ジイソシアネート、シクロヘキサン−１，３−ジイソシアネート及びシクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート並びにこれらの異性体の任意の混合物；１−イソシアナト−３，３，５−トリメチル−５−イソシアナトメチル−シクロヘキサン（ＤＥ−Ａ１２０２７８５号；ＵＳ−Ａ３４０１１９０号）、２，４−ヘキサヒドロトルイレンジイソシアネート及び２，６−ヘキサヒドロトルイレンジイソシアネート、ヘキサヒドロ−１，３−フェニレンジイソシアネート及び／又はヘキサヒドロ−１，４−フェニレンジイソシアネート、ペルヒドロ−２，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート及び／又はペルヒドロ−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート及び１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−トルイレンジイソシアネート及び２，６−トルイレンジイソシアネート並びにこれらの異性体の任意の混合物、位置異性体のジフェニルメタンジイソシアネート、テトラメチル−キシリレンジイソシアネートである。前記のイソシアネートの任意の混合物を使用することも可能である。
【０１７０】
有利には、１−イソシアナト−３，５，５−トリメチル−５−イソシアナトメチル−シクロヘキサン、ペルヒドロ−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート及び／又はペルヒドロ−２，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、異性体のトルイレンジイソシアネート及びジフェニルメタンジイソシアネート及びヘキサメチレンジイソシアネートが使用される。
【０１７１】
更に、ポリイソシアネートとして、脂肪族及び芳香族の系列のジイソシアネートからビウレット化、アロファネート化、三量体化、二量体化によって、またＯＨ官能価＞２を有する短鎖ポリオールとのウレタン化によって得られるポリイソシアネートを使用してよい。相応して、かかるポリイソシアネートは、ＮＣＯ基の他に、ビウレット、アロファネート、トリアジントリオン、ウレットジオン及びウレタンの構造要素を有してもよい。また非対称の三量体化物を用いてもよい。
【０１７２】
そのようなポリイソシアネートの例は、１モルのトリメチロールプロパンと２モルのトルイレンジイソシアネートからのトリス−ウレタン；１，３，５−トリス−（６−イソシアナトヘキシル）−トリアジントリオン；１，３−ビス−（６−イソシアナトヘキシル）−ジアザシクロブタンジオン；２モルのトルイレンジイソシアネート及び１モルのヘキサメチレンジイソシアネートからの混合三量体化物；ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット；イソホロンジイソシアネートの三量体化物；３モルのヘキサメチレンジイソシアネートと１モルのｎ−ブタノールとの反応によって得られるアロファネート；１，３−ビス−（６−イソシアナトヘキシル）−４−（６−イソシアナトヘキシル）−イミノ−１，３−ジアザ−５−オキサシクロヘキサンジオン（２，６）である。
【０１７３】
これらのポリイソシアネートは混合物として使用してもよい。
【０１７４】
有利には脂肪族の系列の相応の生成物を使用してよく、特にアロファネート、ビウレット、三量体化物及び三量体化物とヘキサメチレンジイソシアネートを基礎とするウレットジオンとの混合物が好ましい。
【０１７５】
特に有利なモノマーとしては、以下の式（試料１〜４２）のモノマーが該当する。
【０１７６】
【化９１】
2006521220.tif 000095
【０１７７】
【化９２】
2006521220.tif 000096
【０１７８】
【化９３】
2006521220.tif 000097
【０１７９】
【化９４】
2006521220.tif 000098
【０１８０】
【化９５】
2006521220.tif 000099
【０１８１】
【化９６】
2006521220.tif 000100
【０１８２】
【化９７】
2006521220.tif 000101
【０１８３】
【化９８】
2006521220.tif 000102
【０１８４】
【化９９】
2006521220.tif 000103
【０１８５】
【化１００】
2006521220.tif 000104
【０１８６】
【化１０１】
2006521220.tif 000105
【０１８７】
【化１０２】
2006521220.tif 000106
【０１８８】
【化１０３】
2006521220.tif 000107
【０１８９】
【化１０４】
2006521220.tif 000108
【０１９０】
【化１０５】
2006521220.tif 000109
【０１９１】
吸光スペクトルは、有利には溶液中で測定される。
【０１９２】
更に本発明は光学データ媒体の製造方法であって、
ａ）ポリマー網目の基礎となるモノマー、特に
Ａ）多官能性モノマー及び、場合により
Ｂ）単官能性モノマー
（その際、モノマーの少なくとも５０質量％は吸光性化合物の基を有する）、
ｂ）場合により有利な有機溶剤、
ｃ）場合により重合開始剤、及び
ｄ）場合により更なる添加剤、例えば失活剤又は増感剤
を含有する溶液を基板上に適用し、重合を開始させ、そして有利に使用される溶剤を重合の間又は重合の後に除去し、そして前記の工程を場合により複数回繰り返すことを特徴とする方法に関する。
【０１９３】
更に本発明は、光学データ媒体の製造のために有利に使用される、ポリマー網目の基礎となるモノマー、場合により重合開始剤、場合により更なる添加剤並びに少なくとも１種の溶剤の溶液（以下に組成物とも呼ぶ）に関する。
【０１９４】
一緒に使用する限りは、有利な溶剤としては、例えばモノマー又はそのモノマーと添加剤及び／又はバインダーとの混合物の被覆のために、一方で十分な溶解能を有し、かつ他方では基板に対する影響が最小限となる溶剤もしくは溶剤混合物が該当する。基板（有利にはポリカーボネート）への影響が少ない好適な溶剤は、例えばアルコール、エーテル、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、セロソルブ、ケトンである。かかる溶剤のための例は、メタノール、エタノール、プロパノール、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコール、テトラクロロエタン、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１−メチル−２−プロパノール、メチルエチルケトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、ヘキサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレンである。有利な溶剤は、炭化水素及びアルコールである。それというのもこれらは基板への影響が少ないからである。
【０１９５】
重合開始剤としては、例えば加熱により働くラジカル生成開始剤、例えばアゾジイソブチロニトリル又はベンゾイルペルオキシドが該当する。これらの開始剤の活性化のために有利な温度は、３０〜１３０℃、有利には４０〜７０℃である。
【０１９６】
露光により働くラジカル生成開始剤としては、有利には、λ＝２５０〜６５０ｎｍ、有利には３５０〜５５０ｎｍの波長で光化学的に活性化できる開始剤である。この活性化は、有利には１０〜１３０℃、有利には２０〜６０℃の温度で行われる。有利には、水と空気を排除して作業される。有利な光化学的開始剤は、例えば２，２′−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン；２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン−１；１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン；２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン又はチタノセン二塩化物である。
【０１９７】
また、λ＝２５０〜６５０ｎｍ、有利にはλ３００〜４００ｎｍでの露光によって活性化されるカチオン系重合開始剤と、例えばアニオン、例えばＣＦ３ＳＯ３、ＢＦ４、ＰＦ６、ＡｓＦ６又はＣｌＯ４とのジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、ジアルキルフェナシルスルホニウム塩及びジアルキル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム塩が好ましい。
【０１９８】
更に本発明は本発明による光学データ媒体の製造方法であって、ポリマー網目の基礎となるモノマー、特に
Ａ）多官能性モノマー及び場合により
Ｂ）単官能性モノマー
（その際、モノマーの少なくとも５０質量％は吸光性化合物の基を有する）
を基礎とする架橋されたポリマーを含有する少なくとも１層のポリマー層を基板上に情報層として適用することを特徴とする方法に関する。
【０１９９】
更に本発明はポリマー層であって、
Ａ）多官能性モノマー及び場合により
Ｂ）単官能性モノマー
を基礎とする少なくとも１種の架橋されたポリマーから構成され、その際、少なくとも５０質量％のモノマーが吸光性化合物の基を有するポリマー層に関する。
【０２００】
本発明によるポリマー層のために使用される架橋されたポリマーは前記に定義された有利なポリマー網目に相当する。
【０２０１】
有利には該ポリマー層は厚さ１０〜１０００ｎｍを有する。
【０２０２】
更に本発明は本発明によるポリマー層の製造方法であって、ポリマー網目の基礎となるモノマー、特に本発明による溶液を適当な再剥離可能な好適なキャリア上に適用し、重合を開始させ、そして有利に使用される溶剤を重合の間に又は重合の後に除去し、そして溶液の適用、重合及び場合により溶剤の除去を場合により複数回繰り返し、その際、第二の層及び他の各層はその都度の最後の層上に適用し、そして引き続き再剥離可能なキャリアから再分離することを特徴とする方法に関する。
【０２０３】
かかるポリマー層は次いで光学データ媒体の製造のために使用できる。
【０２０４】
吸光性基を有する前記のポリマー網目もしくはその基礎となるモノマーは、光波長が有利には３６０〜４６０ｎｍ、６００〜６８０ｎｍ又は７５０〜８２０ｎｍの範囲にある場合に、焦点調節された光で点露光することで情報層の熱分解が生ずるために十分に高い吸収を保証する。データ媒体上の書込み部位と非書込み部位の間のコントラストは、熱分解によって変更された情報層の光学特性による、入射光の振幅の反射率変化によっても、その位相の反射率変化によっても実現される。
【０２０５】
更に本発明は、一回書込み可能な光学データ媒体であって、表面上に少なくとも１層の光書込み可能な情報層、場合により反射層及び／又は場合により保護層が適用されている有利には透明な基板を有し、青色光、赤色光又は赤外光、有利にはレーザ光で書込み及び読取りが可能であり、情報層が共有結合された発色中心を有するポリマー網目を含有する光学データ媒体に関する。
【０２０６】
選択的には、光学データ媒体の構造は以下の通りであってよい：
・  有利には透明な基板を有し、その表面上に少なくとも１層の光書込み可能な情報層、場合により反射層及び場合により接着層及び有利には透明な他の基板が適用されている
・  有利には透明な基板を有し、その表面上に場合により反射層、少なくとも１層の光書込み可能な情報層、場合により接着層及び透明なカバー層が適用されている。
【０２０７】
該光学データ記憶装置は、情報層の他に更なる層、例えば金属層、誘電性層並びに保護層を有してよい。金属層及び誘電性層は、とりわけ反射率及び熱平衡の調整のために用いられる。金属は、レーザ波長に応じて、金、銀、アルミニウムなどであってよい。誘電性層は、例えば二酸化ケイ素及び窒化ケイ素である。金属層及び誘電性層は、有利にはスパッタリング又は蒸着によって適用され、かつ１ｎｍから１５０ｎｍ、有利には１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲の厚さを有する点で優れている。保護層は、例えば誘電性層、光硬化性塗料（感圧性）接着層及び保護被膜である。
【０２０８】
感圧性の接着層は、主にアクリル接着剤からなる。ＪＰ−Ａ１１−２７３１４７号で公開された日東電工社製のＤＡ−８３２０又はＤＡ−８３１０は、例えば前記の目的のために使用できる。
【０２０９】
該光学データ媒体は、例えば以下の層構造：透明な基板（１）、場合により保護層（２）、情報層（３）、場合により保護層（４）、場合により接着層（５）、カバー層（６）を有する（図１を参照）。
【０２１０】
有利には光学データ媒体の構造は：
−  有利には透明な基板（１）を有し、その表面上に光、有利にはレーザ光で書込みできる少なくとも１層の光書込み可能な情報層（３）、場合により保護層（４）、場合により接着層（５）及び透明なカバー層（６）が適用されている
−  有利には透明な基板（１）を有し、その表面上に保護層（２）、光、有利にはレーザ光で書込み可能な少なくとも１層の情報層（３）、場合により接着層（５）及び透明なカバー層（６）て適用されている
−  有利には透明な基板（１）を有し、その表面上に場合により保護層（２）、光、有利にはレーザ光で書込み可能な少なくとも１層の情報層（３）、場合により保護層（４）、場合により接着層（５）及び透明なカバー層（６）が適用されている
−  有利には透明な基板（１）を有し、その表面上に光り、有利にはレーザ光で書込み可能な少なくとも１層の情報層（３）、場合により接着層（５）及び透明なカバー層（６）が適用されている。
【０２１１】
選択的に、光学データ媒体は、例えば以下の層構造：有利には透明な基板（１１）、情報層（１２）、場合により反射層（１３）、場合により接着層（１４）、有利には透明な更なる基板（１５）を有する（図２を参照）。
【０２１２】
選択的に、光学データ媒体は、例えば以下の層構造：有利には透明な基板（２１）、情報層（２２）、場合により反射層（２３）及び保護層（２４）を有する（図３を参照）。
【０２１３】
選択的に、光学データ媒体は、例えば以下の層構造：有利には透明な基板（３１）、場合により反射層（３２）、情報層（３３）、保護層（３４）を有する（図４を参照）。
【０２１４】
更に本発明は、青色光、赤色光又は赤外光、特にレーザ光で書込み可能な本発明による光学データ媒体に関する。
【０２１５】
更に本発明は、青色光、赤色光又は赤外光、特にレーザ光で書込みされた本発明による光学データ記憶装置に関する。
【０２１６】
更に本発明は、一回書込み可能な光学データ媒体の情報層における、ポリマー網目中に組み込まれており、かつ３４０〜８２０ｎｍの範囲に少なくとも１つの吸収極大を有する吸光性化合物の使用に関する。吸光性化合物の有利な範囲は、該化合物から製造される情報層に関しても、光学データ媒体についても、本発明による使用についても当てはまる。
【０２１７】
情報層は、共有結合された吸光性化合物を有するポリマー網目の他に、更に開始剤、安定剤、希釈剤及び増感剤並びに他の成分を含有してよく、そしてまた非共有結合された吸光性化合物又は架橋反応に関与しなかったモノマーの基を有してもよい。
【０２１８】
光学データ媒体の製造のための基板は、光学的に透明なプラスチックから製造でき、該プラスチックは必要であれば表面処理がされている。ポリカーボネート又はポリアクリレート並びにポリシクロオレフィン又はポリオレフィンのようなプラスチックが好ましい。吸光性化合物はポリマー基板の保護のために及びその光安定化のために低濃度で使用してよい。
【０２１９】
反射層は、通常書込み可能な光学データ媒体のために用いられる金属もしくは金属合金から製造できる。適当な金属もしくは金属合金は蒸着及びスパッタリングでき、そして例えば金、銀、銅、アルミニウム及びそれらの互いの合金又は別の金属との合金を含有する。
【０２２０】
反射層のための保護塗料はＵＶ硬化性樹脂からなってよい。
【０２２１】
反射層を酸化から保護する中間層が同様に存在してよい。
【０２２２】
前記の硬化可能な吸光性基を有するモノマーの混合物を同様に使用してよい。
【０２２３】
更に本発明は本発明による光学データ媒体の製造方法であって、場合により事前に反射層が施された有利には透明な基板を、吸光性基を有するモノマーで、場合により適当な開始剤（有利には光開始剤）及び添加剤及び場合により適当な溶剤と組み合わせて被覆し、硬化させ（有利にはλ＝２５０〜６５０ｎｍでの露光により１０〜１３０℃の温度間隔で）、場合により反射層、更なる中間層及び場合により保護層又は更なる基板又はカバー層を設けることを特徴とする方法に関する。モノマーの架橋は、その適用直後に行うほか、光学データ媒体の構築の間の別の後続工程の後に行なってよい。
【０２２４】
重付加の経過で得られるかかるポリマー網目のために、モノマーの硬化は、有利には、付加されるべきモノマーを場合により適当な触媒及び／又は添加剤と混合し、基板上に、有利にはスピンコートによって適用することによって行い、かつその重付加は温度１０〜１３０℃で行われる。
【０２２５】
基板を重合されるべきモノマーで、場合により開始剤、添加剤及び／又は溶剤と組み合わせて被覆することは、スピンコートによって行われる。
【０２２６】
その被覆のために、モノマーを、有利には開始剤及び添加剤と一緒に又はそれらを使用せずに、適当な溶剤又は溶剤混合物中に、モノマーが溶剤１００質量部に対して１００質量部未満、例えば１０〜２質量部になるように溶解させる。
【０２２７】
ポリマー網目の硬化可能なモノマーの被覆のための溶剤もしくは溶剤混合物又は開始剤、添加剤及び／又は助剤とのその混合物は、一方で、吸光性化合物及び別の添加剤についての溶解能に応じて、かつ他方では基板への影響が最小限であることに応じて選択される。基板への影響が少ない好適な溶剤は、例えばアルコール、エーテル、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、セロソルブ、ケトンである。かかる溶剤の例は、メタノール、エタノール、プロパノール、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコール、テトラクロロエタン、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１−メチル−２−プロパノール、メチルエチルケトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、ヘキサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレンである。有利な溶剤は、炭化水素及びアルコールである。それというのもこれらは基板に対する影響が最も低いからである。
【０２２８】
書込み可能な情報層に好適な添加剤は安定剤、希釈剤及び増感剤である。
【０２２９】
有利にはスピンコートによって製造される被覆を引き続き硬化させる。
【０２３０】
情報層の硬化のために有利な方法は、重合開始剤の作用下での、有利には加熱により働くラジカル生成開始剤、例えばアゾジイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチル−２，２′−アゾビス−イソブチレート、２，２′−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）又はベンゾイルペルオキシドの作用下での、高められた温度で、一般に３０〜１３０℃、有利には４０〜７０℃での、硬化されたモノマーの連鎖重合（殊に有利にはラジカル重合である）である。
【０２３１】
他の有利な硬化法は、λ＝２５０〜６５０ｎｍ、有利にはλ＝３００〜５５０ｎｍでの露光によって働くラジカル生成重合開始剤、例えばベンゾフェノン；２，２′−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン；２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン−１；１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン；２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシド；１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェノキシホスフィンオキシド；アゾジイソブチロニトリル又はチタノセン二塩化物の作用下での、１０〜１３０℃、有利には２０〜８０℃の温度又は高められた温度での光重合である。
【０２３２】
両者の方法は、有利には水と空気の排除下に実施される。窒素雰囲気が好ましい。開始剤の濃度は有利には０．１〜２０質量％、有利には１〜１０質量％の範囲である。
【０２３３】
重合は、２種又は複数の熱開始剤及び光開始剤の混合物でも惹起させることができる。
【０２３４】
硬化後に、情報層は前記の溶剤によって剥離しない。
【０２３５】
硬化させてポリマー網目にすることは、必要に応じて完全である必要はない。また、例えば、より短い硬化時間によって、３０％又はそれより高い硬化度を実現することもできる。少なくとも３０％の硬化度が好ましく、これは架橋されていない官能基の含有率が多くて７０％であることに相当する。３５％より高い、特に４０％より高い硬化度が好ましい。
【０２３６】
完全に硬化されていないポリマー網目の場合に、完全に架橋されていないモノマーの十分に実質的な量が情報層中に残留していてよい。これは溶剤で洗い落とせるが、そうする必要はない。
【０２３７】
従って、情報層中にポリマー網目の他に、なおも相応のモノマーを含有する光学データ記憶装置も好ましい。
【０２３８】
書込み可能な情報層は、その後に、有利には減圧下にスパッタリング又は蒸着によって金属被覆（反射層）され、そして場合により引き続き保護塗料（保護層）又は更なる基板又はカバー層が設けられる。部分的に透明な反射層を有する複層の配置も可能である。
【０２３９】
以下の実施例は本発明の対象を明確に示すものである：
実施例
実施例１
１．１
７９ｇの３−ブロモ−１−プロパノールを室温（ＲＴ）で１９０ｍｌのジオキサン中に溶解させる。この溶液に６９ｇのトリエチルアミン及び１ｇのヒドロキノンを添加し、そして７７ｇのメタクリル酸塩化物を１９０ｍｌのジオキサン中に溶かした溶液を緩慢に滴加する。反応混合物を更に引き続き２時間撹拌する。沈殿物を濾過分離し、そしてジオキサンですすぐ。濾液を回転蒸発器で濃縮させる（浴温４０℃）。精製は酸化アルミニウム上でトルエン中でクロマトグラフィーによって行う。溶液を蒸発させて０．１ｇのヒドロキノンを添加する。生成物：
【０２４０】
【化１０６】
2006521220.tif 000110
の収量は７７．９ｇである。
【０２４１】
１．１．１
２００ｇの２−ブロモエタノール及び１６８ｇの３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを室温で８００ｍｌのｎ−ヘプタン中に溶解させる。この溶液に０．５ｇのオキシ塩化リンを添加する。該反応混合物を４０℃で１時間、そして室温で１２時間引き続き撹拌し、分液漏斗中でＮａＨＣＯ３溶液及び水で念入りに洗浄し、ＭｇＳＯ４上で乾燥させ、そして８ｃｍ厚の酸化アルミニウム層を介して濾過する。回収された濾液を回転蒸発器で濃縮する。生成物：
【０２４２】
【化１０７】
2006521220.tif 000111
の収量は２７８ｇである。
【０２４３】
１．２
４６ｇの２，３，３−トリメチルインドレニン及び７５ｇの実施例１．１の生成物を１００℃で２０時間撹拌する。反応混合物を冷却する。トルエンを添加することによって、生成物が沈殿し、トルエン中で撹拌しながら軽く煮沸し、冷却し、濾過分離し、フィルタ上で冷トルエンで二回洗浄し、そして真空乾燥させる。生成物：
【０２４４】
【化１０８】
2006521220.tif 000112
の収量は４３ｇである。
【０２４５】
１．２．１
実施例１．１．１の物質と２，３，３−トリメチルインドレニンから同様に、生成物
【０２４６】
【化１０９】
2006521220.tif 000113
を製造する。
【０２４７】
１．３
９８ｇの２−メチル−ベンゾチアゾール及び１７０ｇの実施例１．１の生成物を１３０℃で７２時間撹拌する。作業は実施例１．２と同様に行う。生成物：
【０２４８】
【化１１０】
2006521220.tif 000114
の収量は１２８ｇである。
【０２４９】
１．４
４５ｇのＮ，Ｎ′−ジフェニルホルムアミジンを５００ｍｌのジクロロメタン中に溶解する。この溶液に、１７．８ｇ（０．０５モル）の実施例１．３の物質を３００ｍｌのジクロロメタン中に懸濁させた懸濁液を添加する。該反応混合物を室温で３時間撹拌し、折り畳みフィルタによって濾過し、そして回転蒸発器上で２００ｍｌまで濃縮する。この溶液に、１０００ｍｌのジエチルエーテルを撹拌しながら添加する。沈殿物を濾過分離し、フィルタ上でジエチルエーテルにより十分に洗浄し、そして乾燥させる。生成物：
【０２５０】
【化１１１】
2006521220.tif 000115
の収量は２４．６ｇである。
【０２５１】
１．５
６４．８ｇのプロパルギルアルコール及び１００．８ｇのモルホリンを８４０ｍｌの四塩化炭素中に室温で溶解させる。５７４ｇの活性酸化マンガン（ＩＶ）を撹拌しながら少しずつ添加する。該反応混合物を室温で１２時間撹拌する。沈殿物を濾過分離し、そしてフィルタ上で塩化メチレンにより十分に洗浄する。濾液を回転蒸発器上で濃縮する。物質
【０２５２】
【化１１２】
2006521220.tif 000116
が晶出し、そして更なる精製をせずに他の合成のために用いることができる。収量は１３９ｇである。
【０２５３】
融点６２〜６４℃
元素分析：Ｃ７Ｈ１１ＮＯ２（１４１．１７）
計算値：Ｃ５９．５６；Ｈ７．８５；Ｎ９．９２
実測値：Ｃ５８．５０；Ｈ７．９０；Ｎ９．９０
実施例２
２．１
２２．８ｇのブチルアミンを５０ｍｌのジエチルエーテル中に溶解させ、そして４８．４ｇのメタクリル酸（２−イソシアナトエチルエステル）を１６０ｍｌのジエチルエーテル中に溶かした溶液に氷浴冷却しながら緩慢に添加する。無色の結晶が沈殿する。引き続き１０分間撹拌し、結晶を濾過分離し、これをジエチルエーテルでフィルタ上で洗浄する。生成物：
【０２５４】
【化１１３】
2006521220.tif 000117
の収量は６５ｇである。
【０２５５】
融点６３℃
元素分析：Ｃ１１Ｈ２０Ｎ２Ｏ３（２８４．３１）
計算値：Ｃ５７．８７；Ｈ８．８３；Ｎ１２．２７
実測値：Ｃ５８．００；Ｈ８．９０；Ｎ１２．３０
２．１．１
同様に、１３ｇの１，３−ジアミノプロパン及び２５ｇのイソシアン酸エチルから３４ｇの生成物：
【０２５６】
【化１１４】
2006521220.tif 000118
を製造する。
【０２５７】
融点２０５℃
元素分析：Ｃ９Ｈ２０Ｎ４Ｏ２（２１６．２９）
計算値：Ｃ４９．９８；Ｈ９．３２；Ｎ２５．９０
実測値：Ｃ５０．００；Ｈ８．９０；Ｎ２５．９０
２．１．２
同様に、１３ｇの１，３−ジアミノプロパン及び５４．６ｇのメタクリル酸（２−イソシアナトエチルエステル）から６２ｇの生成物：
【０２５８】
【化１１５】
2006521220.tif 000119
を製造する。
【０２５９】
融点１２７℃
２．１．３
６．２ｇのメチルアミンを１００ｍｌの２ＭのＴＨＦ中に溶かした溶液を−３０℃まで冷却し、そして３１．０ｇのメタクリル酸（２−イソシアナトエチルエステル）を１５０ｍｌのＴＨＦ中に溶かした溶液に、温度が−２０℃を超過しないように少しずつ添加する。次いで、該反応混合物を２０〜３０分で室温まで加熱し、そして回転蒸発器上で完全に濃縮する。残留溶融物からその物質が晶出し、トルエンを用いてフィルタ上に載せ、そしてフィルタ上でトルエンで洗浄する。無色の結晶を真空中４０℃で乾燥させる。生成物：
【０２６０】
【化１１６】
2006521220.tif 000120
の収量は３０．９ｇである。
【０２６１】
融点６９℃
元素分析：Ｃ８Ｈ１４Ｎ２Ｏ３（１８６．２１）
計算値：Ｃ５１．６０；Ｈ７．５８；Ｎ１５．０４
実測値：Ｃ５１．９０；Ｈ７．５０；Ｎ１５．００
２．１．４
同様に、１７．２ｇのトリス（２−アミノエチル）アミン及び５４．６ｇのメタクリル酸（２−イソシアナトエチルエステル）から６１．７ｇの生成物：
【０２６２】
【化１１７】
2006521220.tif 000121
を製造する。
【０２６３】
融点１２２℃
元素分析：Ｃ２７Ｈ４５Ｎ７Ｏ９（６１１．７０）
計算値：Ｃ５３．６０；Ｈ７．４０；Ｎ１５．７０
実測値：Ｃ５３．０２；Ｈ７．４２；Ｎ１６．０３
２．２
２４ｇの炭酸ナトリウムを３６ｇのメタクリル酸（２−イソシアナトエチルエステル９中に湿分を排除して撹拌導入する。この懸濁液に３７．５ｇの２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩を添加する。それを９０℃で１時間撹拌する。引き続き２００ｍｌのジオキサンを添加する。該溶液を濾過によって沈殿物を分離し、次いで回転蒸発器上で濃縮する。残留物をシリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝１：２中で精製する。生成物：
【０２６４】
【化１１８】
2006521220.tif 000122
の収量は１８．５ｇである。
【０２６５】
融点６５℃
元素分析：Ｃ１３Ｈ２０Ｎ２Ｏ５（２８４．３１）
計算値：Ｃ５４．９２；Ｈ７．０９；Ｎ９．８５
実測値：Ｃ５４．３０；Ｈ７．１０；Ｎ９．６０
２．３
３０ｇの実施例２．１の物質を６０ｍｌのジオキサン中に溶解させる。撹拌下に冷却しながら、４０ｍｌのジオキサン中の１８．５ｇのマロン酸二塩化物を添加する。該反応混合物を９０℃で１時間引き続き撹拌する。ジオキサンを回転蒸発器上で取り除く。４５ｇの油状生成物：
【０２６６】
【化１１９】
2006521220.tif 000123
は更なる精製をせずに更に用いられる。
【０２６７】
２．３．１
同様に、１５ｇの実施例２．１．１の生成物及び１９ｇのマロン酸二塩化物から３２ｇの油状粗生成物：
【０２６８】
【化１２０】
2006521220.tif 000124
を製造し、これは更なる精製をせずに更に用いられる。
【０２６９】
２．３．２
同様に、３０ｇの実施例２．１．３の生成物及び２２．７ｇのマロン酸二塩化物から４１ｇの油状粗生成物：
【０２７０】
【化１２１】
2006521220.tif 000125
を製造し、これは更なる精製をせずに更に用いられる。
【０２７１】
２．４
９．６ｇの実施例２．２の物質を２０ｍｌのジオキサン中に溶解させる。撹拌下に冷却しながら、１５ｍｌのジオキサン中の４．７６ｇのマロン酸二塩化物を添加する。該反応混合物を９０℃で１時間引き続き撹拌する。ジオキサンを回転蒸発器上で取り除く。１６ｇの油状生成物：
【０２７２】
【化１２２】
2006521220.tif 000126
は更なる精製をせずに更に用いられる。
【０２７３】
２．４．１
同様に、３０ｇの実施例２．１．２の生成物及び２２ｇのマロン酸二塩化物から５０ｇの油状粗生成物：
【０２７４】
【化１２３】
2006521220.tif 000127
を製造し、これは更なる精製をせずに更に用いられる。
【０２７５】
２．４．２
同様に、２０ｇの実施例２．１．４の生成物及び１３．８ｇのマロン酸二塩化物から２７ｇの油状粗生成物：
【０２７６】
【化１２４】
2006521220.tif 000128
を製造し、これは更なる精製をせずに更に用いられる。
【０２７７】
２．５
１１３．２ｇのシアノ酢酸エチルエステル、１８６．２ｇのエチレングリコール及び１０ｇのトルエン−４−スルホン酸一水和物を回転蒸発器上で大気圧下に９０℃で３０分間回転させる。１００ミリバール（そして後に９０ミリバール）で、引き続き４５ｇのエタノールを緩慢に留去する。該反応混合物を真空蒸留のための装置に移す。１１８ｇの過剰のエチレングリコールを６５℃（０．２ミリバール）で留去する。主分画を１４５〜１４７℃（０．２７〜０．３０ミリバール）で留出する。生成物：
【０２７８】
【化１２５】
2006521220.tif 000129
の収量は４３．２ｇである。
【０２７９】
元素分析：Ｃ５Ｈ７ＮＯ３（１２９．１２）
計算値：Ｃ４６．５１；Ｈ５．４６；Ｎ１０．８５
実測値：Ｃ４７．００；Ｈ５．６０；Ｎ１０．７０
２．５．１
実施例２．５．１の生成物
【０２８０】
【化１２６】
2006521220.tif 000130
をＤＥ−Ａ−１０１１５２２７号の方法と同様に製造する。精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝２：１の溶剤混合物で行う。
【０２８１】
２．５．２
実施例２．５．２の生成物
【０２８２】
【化１２７】
2006521220.tif 000131
をＤＥ−Ａ−１０１１５２２７号の方法と同様に製造する。精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝１：１の溶剤混合物で実施する。
【０２８３】
２．５．３
実施例２．５．３の生成物
【０２８４】
【化１２８】
2006521220.tif 000132
をＤＥ−Ａ−１０１１５２２７号の方法と同様に製造する。精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝１：１の溶剤混合物で実施する。
【０２８５】
２．６
４１．３ｇの実施例２．５の生成物を室温で１３０ｍｌのジオキサン中に溶解する。この溶液に３５ｇのトリエチルアミン及び１ｇのヒドロキノンを添加し、そして３０．３ｇのメタクリル酸塩化物を９０ｍｌのジオキサン中に溶かした溶液を緩慢に滴加する。引き続き該反応混合物を更に２時間撹拌する。沈殿物を濾過分離し、そしてジオキサンですすぐ。濾液を回転蒸発器上で濃縮する（浴温４０℃）。精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝２：１中で実施する。溶液を蒸発させて０．１ｇのヒドロキノンを添加する。生成物：
【０２８６】
【化１２９】
2006521220.tif 000133
の収量は１６ｇである。
【０２８７】
元素分析：Ｃ９Ｈ１１ＮＯ４（１９７．１９）
計算値：Ｃ５４．８２；Ｈ５．６２
実測値：Ｃ５５．００；Ｈ５．６０
２．７
同様に、１２３ｇのメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルエーテル及び６０ｇのマロン酸二塩化物から１０５ｇの液状の生成物
【０２８８】
【化１３０】
2006521220.tif 000134
を製造する。
【０２８９】
２．８
生成物
【０２９０】
【化１３１】
2006521220.tif 000135
を公知法（Chich Chien Chen, Ing Jing Wang, Dyes and Pigments, v.15, pp.69-82, 1991）と同様に製造する。
【０２９１】
２．９
１１９ｇのアニリンを８３０ｍｌの２Ｎの塩酸中に溶かした溶液に、４０〜５０℃で激しく撹拌しながら緩慢に１４１ｇの１，１，３，３−テトラエトキシプロパンを添加する。該反応混合物を還流下に５時間撹拌し、次いで冷却する。沈殿物を濾過分離し、そして６００ｍｌのメタノール／水混合物（１：１）中に溶解させる。該溶液を１５％のＮａＯＨでアルカリ性に調整する。沈殿物を濾過分離し、フィルタ上で水で洗浄し、そして真空乾燥させる。生成物：
【０２９２】
【化１３２】
2006521220.tif 000136
の収量は１００ｇである。
【０２９３】
実施例３
３．１
３８０ｇの実施例２．３の生成物及び１４．１ｇのＤＭＦを６６ｍｌの無水酢酸中に装入し、そして９０℃で１時間撹拌する。相応の溶液を５０℃まで冷却する。この溶液を４７．０ｇの実施例１．２の生成物を、その直後に１６．２ｇ（０．１６０モル）のトリエチルアミンを添加する。反応混合物を９０℃で１時間撹拌する。反応混合物を室温まで冷却する。沈殿物を濾過分離し、フィルタ上で少しずつの無水酢酸で十分に洗浄し、そして排出する。濾液を回転蒸発器上で濃縮する。最終的な精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝１：２の溶剤混合物で実施する。溶剤を回転蒸発した後に、メタノールを添加することによって該物質が結晶化する。結晶を濾過分離し、フィルタ上でメタノールで十分に洗浄し、そして真空中で乾燥させる。生成物：
【０２９４】
【化１３３】
2006521220.tif 000137
の収量は２６ｇである。
【０２９５】
融点１０３℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４６８ｎｍ；ε＝８９０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ３３Ｈ４１Ｎ３Ｏ７（５９１．７１）
計算値：Ｃ６６．９９；Ｈ６．９８；Ｎ７．１０
実測値：Ｃ６６．８０；Ｈ７．１０；Ｎ７．１０
３．２
同様に、実施例２．３の物質と実施例１．３の物質から生成物
【０２９６】
【化１３４】
2006521220.tif 000138
を製造する。
【０２９７】
融点１５２℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４８１ｎｍ；ε＝１０６０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ３０Ｈ３５Ｎ３Ｏ７Ｓ（５８１．６９）
計算値：Ｃ６１．９５；Ｈ６．０６；Ｎ７．２２
実測値：Ｃ６１．４０；Ｈ６．１０；Ｎ７．３０
３．３
同様に、実施例２．４の物質及び実施例１．２の物質から生成物
【０２９８】
【化１３５】
2006521220.tif 000139
を製造する。
【０２９９】
融点１２１℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４６８ｎｍ；ε＝８９５００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ３５Ｈ４１Ｎ３Ｏ９（６４７．７３）
計算値：Ｃ６４．９０；Ｈ６．３８；Ｎ６．４９
実測値：Ｃ６４．３０；Ｈ６．４０；Ｎ６．４０
３．４
同様に、実施例２．３．１の物質と実施例１．２の物質から生成物
【０３００】
【化１３６】
2006521220.tif 000140
を製造する。
【０３０１】
融点１３４℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４７１ｎｍ；ε＝１５８０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ５３Ｈ６２Ｎ６Ｏ１０（９４３．１２）
計算値：Ｃ６７．５０；Ｈ６．６３；Ｎ８．９１
実測値：Ｃ６７．００；Ｈ６．９０；Ｎ８．９０
３．５
同様に、実施例２．４．１の物質と実施例１．２の物質から生成物
【０３０２】
【化１３７】
2006521220.tif 000141
を製造する。
【０３０３】
融点１１７℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４７２ｎｍ；ε＝１５１０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ６１Ｈ７０Ｎ６Ｏ１４（１１１１．２７）
計算値：Ｃ６５．９３；Ｈ６．３５；Ｎ７．５６
実測値：Ｃ６５．００；Ｈ６．３０；Ｎ７．４０
３．６
同様に、実施例１．２の物質及びＮ，Ｎ−ジメチル−バルビツール酸から生成物
【０３０４】
【化１３８】
2006521220.tif 000142
を製造する。
【０３０５】
融点２３８℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４６７ｎｍ；ε＝８７０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ２５Ｈ２９Ｎ３Ｏ５（４５１．５３）
計算値：Ｃ６６．５０；Ｈ６．４７；Ｎ９．３１
実測値：Ｃ６６．５０；Ｈ６．７０；Ｎ９．４０
３．７
同様に、実施例２．３の物質と実施例１．２．１の物質から油状生成物
【０３０６】
【化１３９】
2006521220.tif 000143
を製造する。
【０３０７】
３．７．１
同様に、実施例２．３．２の物質と実施例１．２．１の物質から生成物
【０３０８】
【化１４０】
2006521220.tif 000144
を製造する。
【０３０９】
融点１８９℃
３．８
８．２ｇの実施例３．７の生成物及び６．６ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を、５０ｍｌのメタノール中に還流下に１時間撹拌導入する。冷却した溶液をクロロホルムでかなり希釈し、分液漏斗中でＮａＨＣＯ３溶液で２回、そして水で２回振出させ、ＭｇＳＯ４上で乾燥させ、そして回転蒸発器上で濃縮する。最終的な濃縮は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝１：２の溶剤混合物で実施する。生成物：
【０３１０】
【化１４１】
2006521220.tif 000145
の収量は２．５ｇである。
【０３１１】
融点９４℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４７０ｎｍ；ε＝８４０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ；ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ）δ＝５．０７ｔ，１Ｈ（ＯＨ）
元素分析：Ｃ２８Ｈ３５Ｎ３Ｏ６（５０９．６１）
計算値：Ｃ６５．９９；Ｈ６．９２；Ｎ８．２５
実測値：Ｃ６５．８０；Ｈ７．２０；Ｎ７．９０
３．８．１
同様に、実施例３．７．１の物質から生成物
【０３１２】
【化１４２】
2006521220.tif 000146
を製造する。
【０３１３】
融点１８４℃
元素分析：Ｃ２５Ｈ２９Ｎ３Ｏ６（４６７．５３）
計算値：Ｃ６４．２３；Ｈ６．２５；Ｎ８．９９
実測値：Ｃ６４．６０；Ｈ６．３０；Ｎ８．５０
３．９
１８．０ｇの実施例２．４の生成物及び１０．３ｇの（１，３，３−トリメチル−インドリン−２−イリデン）アセトアルデヒドを３０ｍｌの無水酢酸中に装入し、そして９０℃で１時間撹拌する。相応の溶液を冷却し、そして回転蒸発器上で濃縮する。最終的な精製はシリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝１：２の溶剤混合物で実施する。溶剤を回転蒸発した後に、メタノールを添加することによって該物質が結晶化する。結晶を濾過分離し、フィルタ上でメタノールで十分に洗浄し、そして真空乾燥させる。生成物：
【０３１４】
【化１４３】
2006521220.tif 000147
の収量は９．５ｇである。
【０３１５】
融点１４９℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４６７ｎｍ；ε＝８９０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ２９Ｈ３３Ｎ３Ｏ７（５３５．６０）
計算値：Ｃ６５．０３；Ｈ６．２１；Ｎ７．８５
実測値：Ｃ６４．５０；Ｈ６．００；Ｎ７．７０
３．１０
同様に、実施例２．４．１の物質及び（１，３，３−トリメチル−インドリン−２−イリデン）アセトアルデヒドから生成物
【０３１６】
【化１４４】
2006521220.tif 000148
を製造する。
【０３１７】
融点１７８℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４７１ｎｍ；ε＝１６１０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ４９Ｈ５４Ｎ６Ｏ１０（８８７．０１）
計算値：Ｃ６６．３５；Ｈ６．１４；Ｎ９．４７
実測値：Ｃ６５．８０；Ｈ６．１０；Ｎ９．３０
３．１０．１
同様に、実施例２．４．２の物質及び（１，３，３−トリメチル−インドリン−２−イリデン）アセトアルデヒドから生成物
【０３１８】
【化１４５】
2006521220.tif 000149
を製造する。
【０３１９】
融点１３７℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４６９ｎｍ；ε＝２０７０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
３．１１
同様に、実施例２．３．２の物質及び（１，３，３−トリメチル−インドリン−２−イリデン）アセトアルデヒドから生成物
【０３２０】
【化１４６】
2006521220.tif 000150
を製造する。
【０３２１】
融点１８９℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４６７ｎｍ；ε＝８９０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ２４Ｈ２７Ｎ３Ｏ５（４３７．５０）
計算値：Ｃ６５．８９；Ｈ６．２２；Ｎ９．６０
実測値：Ｃ６５．８０；Ｈ６．２０；Ｎ９．５０
３．１２
２４．８ｇの実施例１．４の生成物を２７０ｍｌのアセトニトリル中に溶かした溶液に１６ｇの実施例２．６の生成物及び７９ｇのトリエチルアミンを添加する。該反応混合物を還流下に１時間撹拌し、次いで冷却し、そして回転蒸発器上で濃縮する。最終的な精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝２：１の溶剤混合物で実施する。溶剤を回転蒸発した後に、メタノールを添加することによって該物質が結晶化する。結晶を濾過分離し、フィルタ上でメタノールで十分に洗浄し、そして真空乾燥させる。生成物：
【０３２２】
【化１４７】
2006521220.tif 000151
の収量は９ｇである。
【０３２３】
融点９０℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４５５ｎｍ；ε＝６２０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ２５Ｈ２６Ｎ２Ｏ６Ｓ（４８２．５６）
計算値：Ｃ６２．２３；Ｈ５．４３；Ｎ５．８１
実測値：Ｃ６２．７０；Ｈ５．５０；Ｎ６．３０
３．１２．１
同様に、実施例１．４の物質と実施例２．５の物質から生成物
【０３２４】
【化１４８】
2006521220.tif 000152
を製造する。精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝１：２の溶剤混合物で実施する。
【０３２５】
融点１２９℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４５４ｎｍ；ε＝８１０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ２１Ｈ２２Ｎ２Ｏ５Ｓ（４１４．４８）
計算値：Ｃ６０．８５；Ｈ５．３５；Ｎ６．７６
実測値：Ｃ６０．８０；Ｈ５．３０；Ｎ６．７０
３．１３
１１．７ｍｌのピペリジン及び６．８ｍｌの酢酸を２８５ｍｌのトルエン中に溶解させる。１０分後に、該混合物に６２ｇの実施例２．７の生成物及び３３．３ｇの実施例１．５の生成物を添加する。該反応混合物を９０℃で２時間撹拌する。
【０３２６】
次いで、溶剤を回転蒸発器上で取り除く。最終的な精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝１：２の溶剤混合物で実施する。生成物：
【０３２７】
【化１４９】
2006521220.tif 000153
の収量は１４ｇである。
【０３２８】
融点５６ｇ
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝３７４ｎｍ；ε＝４２２００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ２２Ｈ２９ＮＯ９（４５１．４８）
計算値：Ｃ５８．５３；Ｈ６．４７；Ｎ３．１０
実測値：Ｃ５９．４０；Ｈ６．６０；Ｎ２．９０
３．１４
１．９４ｇの実施例２．８の生成物を２０ｍｌのエタノール中に溶解する。１．４８ｇのオルトギ酸トリエチルエステル及び３．６６ｇの実施例１．２の生成物を添加する。１．５ｇのトリエチルアミンを添加し、そして該反応混合物を還流下に１．５時間撹拌する。溶剤を回転蒸発器上で取り除き、そして残留物をシリカゲル上でのクロマトグラフィーによって酢酸エチル中で精製する。生成物：
【０３２９】
【化１５０】
2006521220.tif 000154
の収量は１．９５ｇである。
【０３３０】
融点１９０℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝５２４ｎｍ；ε＝１１４０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
３．１５
１５．０ｇの実施例２．９の生成物及び１３．３ｇの実施例２．６の生成物を４５ｍｌの無水酢酸中に装入し、そして１１０℃で１時間撹拌する。生じた溶液を冷却し、そして回転蒸発器上で濃縮する。最終的な精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝１：２の溶剤混合物で実施する。溶剤を回転蒸発した後に、メタノールを添加することによって該物質が結晶化する。結晶を濾過分離し、フィルタ上で冷メタノールで洗浄し、そして真空乾燥させる。生成物：
【０３３１】
【化１５１】
2006521220.tif 000155
の収量は１２ｇである。
【０３３２】
融点１７１℃
３．１５．１
２２．１ｇの実施例２．９の生成物を６０ｍｌの無水酢酸中に装入する。９．５ｇの実施例２．５．１の生成物を撹拌しながら添加する。該反応混合物を５０℃で１分間加熱し、直ちに冷却し、そして室温で１時間置く。生成物
【０３３３】
【化１５２】
2006521220.tif 000156
を濾過分離し、フィルタ上で少量の無水酢酸で洗浄し、そして真空乾燥させる。収量は２０ｇである。
【０３３４】
３．１５．２
同様に、実施例２．５．２の物質から生成物
【０３３５】
【化１５３】
2006521220.tif 000157
を製造する。
【０３３６】
３．１５．３
同様に、実施例２．５．３の物質から生成物
【０３３７】
【化１５４】
2006521220.tif 000158
を製造する。
【０３３８】
３．１６
１０ｇの実施例３．１５の生成物を１２．５ｍｌのアセトニトリル中に溶かした溶液に２．０４ｇの２−メチルアミノエタノールを添加する。該反応混合物を還流下に１時間撹拌し、冷却し、そして回転蒸発器上で濃縮する。最終的な精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝１：２の溶剤混合物で実施する。生成物：
【０３３９】
【化１５５】
2006521220.tif 000159
の収量は４．８ｇである。
【０３４０】
融点１１４℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝３８２ｎｍ；ε＝６４０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
元素分析：Ｃ１５Ｈ２０Ｎ２Ｏ５（３０８．３４）
計算値：Ｃ５８．４３；Ｈ６．５４；Ｎ９．０９
実測値：Ｃ５８．４０；Ｈ６．５０；Ｎ８．８０
３．１６．１
２０ｇの実施例３．１５．１の生成物を２０ｍｌのアセトニトリル中に懸濁させた懸濁液に１１．４４ｇの２−（メチルアミノ）エタノールを撹拌しながら添加する。該反応混合物を８０℃で軽く加熱し（実施例３．１５．１まで反応が完了され、溶解されている）、そして引き続き室温で２時間撹拌する。生成物
【０３４１】
【化１５６】
2006521220.tif 000160
が沈殿し、濾過分離し、フィルタ上で少量のアセトニトリルで洗浄し、そして乾燥させる。収量は１０．２ｇである。
【０３４２】
融点２１６℃
３．１６．２
同様に、実施例３．１５．２の物質から生成物
【０３４３】
【化１５７】
2006521220.tif 000161
を製造する。
【０３４４】
３．１６．３
同様に、実施例３．１５．３の物質から生成物
【０３４５】
【化１５８】
2006521220.tif 000162
を製造する。
【０３４６】
融点２００℃
３．１７
８．４１ｇのジエタノールアミン及び３ｇの酢酸を、６５ｍｌのトルエン及び３０ｍｌのメタノールからなる混合物中に溶解させる。１０分後に該混合物に８．７５ｇの５−ブロモ−２−フルアルデヒド及び３．３ｇのマロン酸ジニトリルを添加する。該反応混合物を９０℃で３０分間撹拌し、冷却し、そして回転蒸発器上で濃縮する。精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝２：１の溶剤混合物で実施する。生成物
【０３４７】
【化１５９】
2006521220.tif 000163
の結晶を１００ｍｌのトルエン／酢酸エチル＝１：１の混合物中で煮沸し、濾過分離し、そして真空乾燥させる。該生成物の収量は３．３ｇである。
【０３４８】
融点１３７℃
３．１８
０．５５ｇの実施例３．１７の生成物及び０．５５ｇのトリエチルアミンを１０ｍｌのジオキサン中に溶解させる。この溶液に０．６６ｇのアクリル酸塩化物を２ｍｌのジオキサン中に溶かした溶液を添加する。該反応混合物を７０℃で３０分間撹拌する。沈殿物を濾過分離し、ジオキサンですすぎ、そして排出させる。濾液を回転蒸発器上で濃縮させる。精製は、シリカゲル上でトルエン／酢酸エチル＝１：２中で実施する。生成物：
【０３４９】
【化１６０】
2006521220.tif 000164
の収量は０．１３ｇである。
【０３５０】
融点７０℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４６２ｎｍ；ε＝５８８００ｌ*ｃｍ−１モル−１
３．１９
実施例３．１８と同様に、５ｇの実施例３．１７の生成物から２．２ｇの生成物
【０３５１】
【化１６１】
2006521220.tif 000165
を製造する。
【０３５２】
融点９５℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４６２ｎｍ；ε＝７８０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
３．２０
３．１ｇの（２−アミノエチル）ビニルエーテル及び２３．４ｇの（２−クロロエチル）ビニルエーテルを還流下（１２０℃の浴温）に３時間撹拌する。過剰の（２−クロロエチル）ビニルエーテルを回転蒸発器上で取り除く。残留物は更なる精製をせずに更に用いられる。１２．６ｇの前記の粘性液体から、実施例３．１７と同様に、１．７３ｇの生成物
【０３５３】
【化１６２】
2006521220.tif 000166
を製造する。
【０３５４】
融点１１１℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４６４ｎｍ；ε＝６９０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
３．２１
１９．９ｇの実施例３．１０の生成物を４０ｍｌのジオキサン、２０ｍｌのメタノール及び４ｍｌの水からなる溶剤混合物中に溶解させる。ナトリウムエチレートをメタノール中に溶かした３０％溶液４．５３ｇを添加する。反応混合物を室温で１．５時間撹拌し、次いで１０％塩化ナトリウム溶液７００ｍｌ中に添加する。沈殿物をフィルタ上で回収し、そして乾燥させる。最終的な精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／メタノール＝４：１の溶剤混合物で実施する。生成物
【０３５５】
【化１６３】
2006521220.tif 000167
の収量は１０．８ｇである。
【０３５６】
融点２１０℃
３．２２
同様に、実施例３．５の物質から生成物
【０３５７】
【化１６４】
2006521220.tif 000168
を製造する。
融点２２５℃
３．２３
４．０ｇの実施例３．２２の生成物及び２．６ｇのアクリル酸塩化物を１０ｍｌのＮ−メチル−２−ピロリドン中に溶解させる。この溶液に２．９ｇのトリエチルアミンを撹拌しながら、かつ外部冷却しつつ滴加する。該反応混合物を室温で４時間撹拌し、次いで水に導入する。相応の沈殿物を濾過分離し、そして真空乾燥させる。精製は、シリカゲル上でのクロマトグラフィーによってトルエン／酢酸エチル＝１：２の溶剤混合物で実施する。生成物
【０３５８】
【化１６５】
2006521220.tif 000169
の収量は２．８ｇである。
【０３５９】
融点８５℃
３．２４
同様に、実施例３．２１の物質から生成物
【０３６０】
【化１６６】
2006521220.tif 000170
を製造する。
【０３６１】
融点１４２℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝４７１ｎｍ；ε＝２０１０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
３．２５
同様に、実施例３．２１の物質から生成物
【０３６２】
【化１６７】
2006521220.tif 000171
を製造する。
【０３６３】
融点１５２℃
３．２６
同様に、実施例３．２１の物質及びメタクリル酸塩化物から生成物
【０３６４】
【化１６８】
2006521220.tif 000172
を製造する。
【０３６５】
融点１９０℃
３．２７
同様に、実施例３．１６．１の物質から生成物
【０３６６】
【化１６９】
2006521220.tif 000173
を製造する。
【０３６７】
融点１７７℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝３８２ｎｍ；ε＝１０４０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
３．２８
同様に、実施例３．１６．２の物質から生成物
【０３６８】
【化１７０】
2006521220.tif 000174
を製造する。
【０３６９】
ガラス温度４６℃
ＵＶ−ＶＩＳスペクトル（ＤＭＦ）：λｍａｘ＝３８４ｎｍ；ε＝１７７０００ｌ*ｃｍ−１モル−１
３．２９
同様に、実施例３．１６．３の物質から生成物
【０３７０】
【化１７１】
2006521220.tif 000175
を製造する。
【０３７１】
ガラス温度２４℃
実施例４
４．１
４．５１ｇの実施例３．６のモノマー及び０．３２５ｇのメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルエステルを４５ｍｌのＤＭＦ中に溶解させる。該溶液を３０分間アルゴンですすぐ。０．２４２ｇの２，２′−アゾイソ酪酸ジニトリルをこの溶液に添加する。該反応混合物を７０℃で２４時間アルゴン雰囲気で撹拌し、次いで室温まで冷却し、そして濾過する。濾液を回転蒸発器上で濃縮する。ポリマーを、メタノール中で３回煮沸させることによって精製し、そして高真空中で乾燥させる。生成物：
【０３７２】
【化１７２】
2006521220.tif 000176
の収量は３．８６ｇである。
【０３７３】
４．２
同様に、実施例３．８及び実施例３．６のモノマーからコポリマー
【０３７４】
【化１７３】
2006521220.tif 000177
を製造する。
【０３７５】
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ；ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ）δ＝５．０２ｂｒ．（ＯＨ）
モル質量Ｍｗ＝１．１５×１０４；Ｄ＝Ｍｗ／Ｍｎ＝２．２７（ＧＰＣ、ＤＭＡＡ；６０℃、ＰＭＭＡ較正）
４．２．１
同様に、実施例３．８．１及び実施例３．１１のモノマーからコポリマー
【０３７６】
【化１７４】
2006521220.tif 000178
を製造する。
【０３７７】
モル質量Ｍｎ＝９．５７×１０３；Ｄ＝Ｍｗ／Ｍｎ＝４．７４（ＧＰＣ、ＤＭＡＡ；６０℃、ＰＭＭＡ較正）
４．２．２
同様に、ＷＯ９８５１７２１号により製造された相応のモノマーのメタクリレートからコポリマー
【０３７８】
【化１７５】
2006521220.tif 000179
を合成する。
【０３７９】
モル質量Ｍｗ＝１３．４×１０４；Ｄ＝Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７６（ＧＰＣ、ＤＭＡＡ；６０℃、ＰＭＭＡ較正）
４．３
同様に、実施例３．８のモノマーからホモポリマー
【０３８０】
【化１７６】
2006521220.tif 000180
を製造する。
【０３８１】
モル質量Ｍｗ＝１．１６×１０４；Ｄ＝Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９４（ＧＰＣ、ＤＭＡＡ；６０℃、ＰＭＭＡ較正）
４．３．１
同様に、実施例３．８．１のモノマーからホモポリマー
【０３８２】
【化１７７】
2006521220.tif 000181
を製造する。
【０３８３】
モル質量Ｍｗ＝８．４２×１０３；Ｄ＝Ｍｗ／Ｍｎ＝８．９６（ＧＰＣ、ＤＭＡＡ；６０℃、ＰＭＭＡ較正）
４．３．２
同様に、実施例３．１２．１のモノマーからホモポリマー
【０３８４】
【化１７８】
2006521220.tif 000182
を製造する。
【０３８５】
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ；ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ）δ＝４．７２ｂｒ．（ＯＨ）
モル質量Ｍｗ＝３．９×１０４；Ｄ＝Ｍｗ／Ｍｎ＝３．４１（ＧＰＣ、ＤＭＡＡ；６０℃、ＰＭＭＡ較正）
４．３．３
同様に、実施例３．１２．１のモノマーからホモポリマー
【０３８６】
【化１７９】
2006521220.tif 000183
を製造する。
【０３８７】
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ；ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ）δ＝４．６２ｂｒ．（ＯＨ）
４．３．４
同様に、実施例３．１６のモノマーからホモポリマー
【０３８８】
【化１８０】
2006521220.tif 000184
を製造する。
【０３８９】
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ；ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ）δ＝４．８５（ＯＨ）
モル質量Ｍｗ＝２．７×１０４；Ｄ＝Ｍｗ／Ｍｎ＝２．８８（ＧＰＣ、ＤＭＡＡ；６０℃、ＰＳ較正）
４．３．５
同様に、実施例３．２５のモノマーからホモポリマー
【０３９０】
【化１８１】
2006521220.tif 000185
を製造する。
【０３９１】
モル質量Ｍｗ＝４．３×１０３；Ｄ＝Ｍｗ／Ｍｎ＝１．５４（ＧＰＣ、ＤＭＡＡ；６０℃、ＰＭＭＡ較正）
ガラス温度１７７℃
４．４
２．０ｇの実施例４．２の生成物を１０ｍｌの無水ＴＨＦ中に溶解する。２．１ｇのトリエチルアミンを添加する。この溶液に、２．２ｇのメタクリル酸塩化物を５ｍｌのＴＨＦ中に溶かした溶液を緩慢に滴加する。該反応混合物を室温で２時間引き続き撹拌し、そして回転蒸発器上で濃縮する。残留物をまず水で、そして次いでメタノールで室温で複数回撹拌し、濾過し、そして高真空中で室温において乾燥させる。生成物
【０３９２】
【化１８２】
2006521220.tif 000186
の収量は０．８８ｇである。
【０３９３】
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ；ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ）δ＝５．４３ｂｒ．、５．７８ｂｒ．（＝ＣＨ２）
４．４．１
同様に、実施例４．２．１のコポリマーからコポリマー
【０３９４】
【化１８３】
2006521220.tif 000187
を製造する。
【０３９５】
４．４．２
同様に、実施例４．２．２のコポリマーからコポリマー
【０３９６】
【化１８４】
2006521220.tif 000188
を製造する。
【０３９７】
４．５
同様に、実施例４．３のポリマーからポリマー
【０３９８】
【化１８５】
2006521220.tif 000189
を製造する。
【０３９９】
４．５．１
同様に、実施例４．３．１のポリマーからポリマー
【０４００】
【化１８６】
2006521220.tif 000190
を製造する。
【０４０１】
４．６
同様に、実施例４．３．２のポリマーからホモポリマー
【０４０２】
【化１８７】
2006521220.tif 000191
を製造する。
【０４０３】
４．７
同様に、実施例４．３．３のホモポリマーからホモポリマー
【０４０４】
【化１８８】
2006521220.tif 000192
を製造する。
【０４０５】
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ；ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ）δ＝５．４８ｂｒ．、５．８７ｂｒ．（＝ＣＨ２）
４．８
２．４ｇの実施例４．３．４のポリマーを１００ｍｌの無水ＤＭＦ中に溶解させる。７．８６ｇのトリエチルアミンを添加する。この溶液に、８．１４ｇのメタクリル酸塩化物を３０ｍｌのＴＨＦ中中に溶かした溶液を緩慢に滴加する。該反応混合物を室温で２時間引き続き撹拌し、そして回転蒸発器上で濃縮する。残留物をまず水で、そして次いでジオキサンで室温で複数回撹拌し、濾過し、そして高真空中で室温において乾燥させる。生成物
【０４０６】
【化１８９】
2006521220.tif 000193
の収量は１．７７ｇである。
【０４０７】
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ；ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ）δ＝５．６５ｂｒ．、６．０１ｂｒ．（＝ＣＨ２）
実施例５
実施例３からの実施例３．５の物質をテトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）中に、該物質１部とＴＦＰ９９部の質量比で溶解させる。０．１部の２，２′−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンをこの溶液に導入し、そして溶解させる。得られた溶液を０．５μｍのテフロンフィルタを通して濾過し、そしてスピンコートにより石英ガラスキャリア上に適用する。透明な被膜が得られる。
【０４０８】
その層系を窒素雰囲気（Ｏ２＜０．１ｐｐｍ；Ｈ２Ｏ＜０．１ｐｐｍ）を有するグローブボックス中に入れ、そしてＵＶ光（λ＝３６０ｎｍ；フィリップス社のＨＰＷ−１２５Ｗランプ）で２０分間露光する。層厚４５ｎｍを有する不溶性の被覆（実施例５．１）を得る。
【０４０９】
同様に、実施例３．５の生成物２部、ＴＦＰ９８部及び２，２′−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン０．２部から層厚９２ｎｍを有する不溶性の被覆（実施例５．１）を得る。
【０４１０】
被膜／石英ガラスの層系の透過率及び反射スペクトルを、２００ｎｍ〜１７００ｎｍの波長範囲の平行光線を垂直入射して測定した。石英ガラス基板は〜１ｍｍの厚さを有していた。反射光は入射方向に対して１７２゜の角度未満で検出された。その都度、３０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲の異なる層厚の２種の試料を調査した。公知のフレネルの式を透過率と反射スペクトルの評価基準とし、そして該層系では多重反射による干渉を考慮した。２種の異なる厚さの層系の測定された透過スペクトル及び反射スペクトルが計算された透過スペクトル及び反射スペクトルに、同時の最小二乗法により適合することを用いて、この各波長に関する有機物質の層厚および複素屈折率を測定できる。石英ガラスキャリアの屈折率はこのために知られていなければならない。このスペクトル領域での石英ガラス基板の屈折率推移を、未被覆の基板に依存せずに測定した。
【０４１１】
両方の試料の透過率と反射スペクトルの評価は、被覆（実施例５．１）についてλ＝４０５ｎｍで屈折率ｎ＝１．１３及び吸収係数ｋ＝０．１５であった。
【０４１２】
同様に別の硬化性物質を石英ガラス上に適用し、硬化させ、測定する。それらの結果を表で表す：
【０４１３】
【表１】
2006521220.tif 000194
【０４１４】
【表２】
2006521220.tif 000195
【０４１５】
実施例６（ＵＶ硬化物の動力学）
実施例３．５のモノマー９部と２，２′−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン１部から実施例５と同様にガラスキャリア上に１１個の層を作成し、そして８０℃でＵＶ光強度１０ｍＷ／ｃｍ２で種々の時間で硬化させる（表）。硬化させた後に、これらの試料で、４７７ｎｍでの光学密度（ＯＤ２）及び層厚（ｄ２）を測定する。
【０４１６】
次いで、これらの試料をテトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）中に５分間浸漬し、取り出して乾燥させる。得られた層から、もう一度４７７ｎｍでの光学密度（ＯＤ３）及び層厚（ｄ３）を測定する。
【０４１７】
これらの値から、硬化の変化度（Umsetzungsgrad des Aushaertens）を算出する（表）。
【０４１８】
２０秒後に、このパラメータは３７％であり、５分後に８０％であり、そして４０分後に１００％である。この場合に全てのモノマー分子はポリマー網目に組み込まれている。
【０４１９】
【表３】
2006521220.tif 000196
【０４２０】
同様に、実施例３．２８のモノマーと２，２′−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンから複数の被覆を作成し、そして４０℃でＵＶ光（＝３１２ｎｍ）で種々の期間で硬化させる（表）。硬化の変化度の測定のために必要な被覆物の更なる処理は同様に実施する。
【０４２１】
【表４】
2006521220.tif 000197
【０４２２】
１分後に、硬化の変化度は３０％に達し、そして２０分後には１００％にまで達する。この場合に全てのモノマー分子はポリマー網目に組み込まれている。
【０４２３】
同様に、実施例３．２８のモノマー８部、２，２′−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン１部及びＫＡＹＡＳＯＲＢ ＩＲＧ０２２（失活剤、日本化薬社）１部から複数の被覆を作成し、そして４０℃でＵＶ光（＝３１２ｎｍ）で種々の期間で硬化させる（表）。
【０４２４】
【表５】
2006521220.tif 000198
【０４２５】
失活剤の添加によって確実な反応開始の遅延がもたらされるが、完全な架橋を妨げはしない。
【０４２６】
実施例７（ＰＵＲ硬化物）
実施例４からの実施例４．３の物質をテトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）中に、該物質１部とＴＦＰ９３部の質量比で溶解させる。この溶液に、イソシアヌレート基を有し、ＮＣＯ含量２１．８％を有し、２３℃で粘度１９３５００ｍＰａｓの当量を有するヘキサメチレンジイソシアネート（Ｄｅｓｍｏｄｕｒ（Ｒ）Ｎ３３００）０．３８部を導入して溶解させる。相応の溶液を０．２μｍのテフロンフィルタを通して濾過する。この溶液に、ジブチルエーテル６部及びジブチルスズジラウレート（ＤＢＴＬ；Ｄｅｓｍｏｒａｐｉｄ（Ｒ）７）からなり同様に濾過された別の溶液を添加する。得られた溶液をスピンコートによって石英ガラスキャリア上に適用する。透明な被膜が得られる。
【０４２７】
その層系を窒素雰囲気（Ｏ２＜０．１ｐｐｍ；Ｈ２Ｏ＜０．１ｐｐｍ）を有するグローブボックス中に入れ、そして１３０℃で２時間露光した。層厚１４２ｎｍを有する不溶性の被覆（実施例６．１）を得る。
【０４２８】
同様に、２部の実施例４．３の物質、９２部のＴＦＰ、６部のジブチルエーテル、０．７６部のＤｅｓｍｏｄｕｒ（Ｒ）Ｎ３００及び０．０２８部のＤＢＴＬからなる溶液から層厚２３４ｎｍを有する不溶性の被覆（実施例６．１）を得る。
【０４２９】
実施例５と同様の試験により、屈折率１．３８及び吸収係数０．１５（λ＝４０５ｎｍ）が得られた。
【０４３０】
実施例８（被覆の硬度試験）
２０秒と４０分とで硬化されている２種の被覆（実施例３．５のモノマー９部と２，２′−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン１部からなる）（実施例６）をナノインデンター（Nanoindenter）による動的引掻試験を実施した。この場合にニードル（圧子）を３０秒間、被覆上で１０μｍの長さ牽引し、この場合に、鉛直方向の力は一定して７５μＮであった。これにより生ずる引掻傷を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で撮影し、測定する。材料の硬度の尺度として用いることができる引掻傷の深さは２０秒間硬化させた被覆では３７．４±７．８ｎｍであり、そして４０分間硬化させた被覆では８．３±２．２ｎｍである。この試験により、１００％硬化された試料は３７％だけ硬化された試料よりも実質的に耐引掻性となることが示される。
【図面の簡単な説明】
【０４３１】
【図１】図１は、本願発明の光学データ媒体の層構造の一実施態様を示す図である
【図２】図２は、本願発明の光学データ媒体の層構造の一実施態様を示す図である
【図３】図３は、本願発明の光学データ媒体の層構造の一実施態様を示す図である
【図４】図４は、本願発明の光学データ媒体の層構造の一実施態様を示す図である
【図１】
2006521220.tif 000209
【図２】
2006521220.tif 000210
【図３】
2006521220.tif 000211
【図４】
2006521220.tif 000212
【国際調査報告】
2006521220.tif 000213
2006521220.tif 000214
2006521220.tif 000215
2006521220.tif 000216
2006521220.tif 000217
2006521220.tif 000218