(57)【要約】本発明は、第１の測定ビームを測定対象物に接触する第１の経路に沿って送って、測定対象物の位置に関係づけられる第１の干渉位相を決定すること、第２の測定ビームを測定対象物に接触する第２の経路に沿って送って、測定対象物の位置に関係づけられる第２の干渉位相を決定すること、第１の経路に沿っての屈折度の摂動による第１の干渉位相への影響を第２の干渉位相に基づいて決定すること、を含む方法を特徴とする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
方法であって、
第１の測定ビームを、測定対象物に接触する第１の経路に沿って送って、前記測定対象物の位置に関係づけられる第１の干渉位相を決定すること、
第２の測定ビームを、前記測定対象物に接触する第２の経路に沿って送って、前記測定対象物の位置に関係づけられる第２の干渉位相を決定すること、
前記第１の経路に沿っての屈折度の摂動による前記第１の干渉位相への影響を、前記第２の干渉位相に基づいて決定すること、
を備える方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、第１の時間における屈折度の摂動による前記第１の干渉位相への影響は、前記第１の時間とは異なる第２の時間における屈折度の摂動による前記第２の干渉位相への影響に関係づけられている、方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、前記第１の時間と前記第２の時間との間の差は前記第１の経路内のガスの速度に関係づけられている、方法。
【請求項４】
請求項２に記載の方法において、前記測定対象物の位置は前記第１の時間から前記第２の時間の間に変化する、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、前記第１の経路および前記第２の経路は前記第１の経路内のガス流の方向と非平行である、方法。
【請求項６】
請求項５に記載の方法において、前記第１の経路と前記第２の経路とは実質的に平行である、方法。
【請求項７】
請求項６に記載の方法において、前記第１の経路および前記第２の経路は前記第１の経路内のガス流の方向と実質的と直交する、方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法において、屈折度の摂動による前記第１の干渉位相への影響を決定することは、前記第１の干渉位相と前記第２の干渉位相との間の差を決定することを備える、方法。
【請求項９】
請求項８に記載の方法において、屈折度の摂動による前記第１の干渉位相への影響を決定することは、さらに、前記測定対象物の角度方向の変動に対して前記第１の干渉位相と前記第２の干渉位相との間の差を補正することを備える、方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の方法において、屈折度の摂動による前記第１の干渉位相への影響を決定することは、さらに、異なる時間に対して決定される前記第１の干渉位相と前記第２の干渉位相との差を合計することを備える、方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法において、前記異なる時間は前記第１の経路内のガスの速度に関係づけられる、方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の方法において、前記異なる時間は前記第１の経路と前記第２の経路との間の距離間隔に関係づけられる、方法。
【請求項１３】
請求項８に記載の方法において、屈折度の摂動による前記第１の干渉位相への影響と屈折度の摂動による前記第２の干渉位相への影響との間の差は、前記第１の干渉位相と前記第２の干渉位相との間の差に比例する、方法。
【請求項１４】
請求項８に記載の方法において、前記第１の干渉位相への影響を決定することは、さらに、屈折度の摂動による前記第１の干渉位相への影響と前記第２の干渉位相への影響との間の差に関係づけられるパラメータを前記第１の干渉位相と前記第２の干渉位相との間の差に基づいて決定することを備える、方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法において、  前記第１の干渉位相への影響は前記パラメータと前記影響との間の積分関係に基づいて決定される、方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法において、前記積分関係はフレッドホルムの積分関係に基づく、方法。
【請求項１７】
請求項８に記載の方法において、屈折度の摂動による前記第１の干渉位相への影響は前記測定対象物の角度方向の変動に基づいて決定される、方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法において、前記測定対象物の角度方向の変動は、前記第１の干渉位相および前記第２の干渉位相を決定することと同時に測定される、方法。
【請求項１９】
請求項１７に記載の方法において、前記測定対象物の角度方向の変動は１つまたは複数の干渉計を用いて測定される、方法。
【請求項２０】
請求項１９に記載の方法において、前記１つまたは複数の干渉計は、個々の測定ビームを、ガス流方向と実質的に非直交な測定経路に沿って送る、方法。
【請求項２１】
請求項２０に記載の方法において、前記測定経路は前記ガス流方向と実質的に平行である、方法。
【請求項２２】
請求項１８に記載の方法において、前記１つまたは複数の干渉計は多軸干渉計を含む、方法。
【請求項２３】
請求項１に記載の方法であって、さらに、屈折度の非摂動的変動による影響に対して前記第１の干渉位相を補正することを備える、方法。
【請求項２４】
請求項１に記載の方法において、屈折度の摂動による前記第１の干渉位相への影響は、前記第１の干渉位相を決定することと同時に決定される、方法。
【請求項２５】
請求項１に記載の方法において、屈折度の摂動による前記第１の干渉位相への影響は、前記第１の干渉位相を決定することと非同時に決定される、方法。
【請求項２６】
装置であって、
動作の間に、第１の測定ビームを、測定対象物に接触する第１の経路に沿って送り、かつ第２の測定ビームを、前記測定対象物に接触する第２の経路に沿って送る干渉計システムと、
動作の間に、前記測定対象物の位置に関係づけられる第１の干渉位相および第２の干渉位相を前記第１の測定ビームおよび前記第２の測定ビームにそれぞれ基づいて決定し、かつ前記第１の経路に沿っての屈折度の摂動による前記第１の干渉位相への影響を、前記第２の干渉位相に基づいて決定する電子制御器と、
を備える装置。
【請求項２７】
請求項２６に記載の装置において、前記干渉計システムは、動作の間に、前記第１の測定ビームおよび前記第２の測定ビームを前記第１の測定経路および前記第２の測定経路に沿って送る多軸干渉計を備える、装置。
【請求項２８】
請求項２６に記載の装置において、前記第１の経路は前記第２の経路に実質的に平行である、装置。
【請求項２９】
請求項２６に記載の装置であって、さらに、動作の間に、ガスを前記第１の測定経路および前記第２の測定経路を通して流すガス供給源を備える、装置。
【請求項３０】
請求項２９に記載の装置において、前記ガス流の方向は前記第１の測定経路および前記第２の測定経路と実質的に非平行である、装置。
【請求項３１】
請求項３０に記載の装置において、前記ガス流の方向は前記第１の測定経路および前記第２の測定経路と実質的に直交する、装置。
【請求項３２】
請求項２６に記載の装置において、動作の間に、前記干渉計システムは、第３の測定ビームを第３の経路に沿って送って第２の測定対象物に接触させ、前記電子制御器は、前記第２の測定対象物の位置に関係づけられる第３の位相を決定して、前記測定対象物の角度方向の変動を前記第３の干渉位相に基づいてモニタする、装置。
【請求項３３】
請求項３２に記載の装置において、前記第３の経路は前記第１の経路と実質的に非平行である、装置。
【請求項３４】
請求項３３に記載の装置において、前記第３の経路は前記第１の経路と実質的に直交する、装置。
【請求項３５】
請求項２６に記載の装置において、前記測定対象物は前記干渉計システムに対して可動式ステージ上にマウントされる、装置。
【請求項３６】
請求項２６に記載の装置において、前記測定対象物は平面鏡を備える、装置。
【請求項３７】
請求項２６に記載の装置において、前記測定対象物は再帰性反射体を備える、装置。
【請求項３８】
ウェハ上での集積回路の作製において用いるリソグラフィ・システムであって、
前記ウェハを支持するためのステージと、
空間的にパターニングされた放射線を前記ウェハ上に結像するための照射システムと、
前記結像された放射線に対して前記ステージの位置を調整するための位置決めシステムと、
前記結像された放射線に対する前記ウェハの位置をモニタするための請求項２６に記載の装置とを、
備えるリソグラフィ・システム。
【請求項３９】
ウェハ上での集積回路の作製において用いるリソグラフィ・システムであって、
前記ウェハを支持するためのステージと、
放射線源、マスク、位置決めシステム、レンズ・アセンブリ、および請求項２６に記載の装置を含む照射システムと、を備え、
動作の間に、前記源は、前記マスクを通して放射線を送って、空間的にパターニングされた放射線を生成し、前記位置決めシステムは、前記源からの放射線に対して前記マスクの位置を調整し、前記レンズ・アセンブリは、前記空間的にパターニングされた放射線を前記ウェハ上に結像し、前記装置は、前記源からの放射線に対する前記マスクの位置をモニタする、リソグラフィ・システム。
【請求項４０】
リソグラフィ・マスクの作製において用いるビーム書き込みシステムであって、
基板をパターニングするための書き込みビームを供給する供給源と、
前記基板を支持するステージと、
前記書き込みビームを前記基板に送出するためのビーム送出アセンブリと、
前記ステージと前記ビーム送出アセンブリとを互いに対して位置決めするための位置決めシステムと、
前記ビーム送出アセンブリに対する前記ステージの位置をモニタするための請求項２６に記載の装置と、
を備えるビーム書き込みシステム。
【請求項４１】
ウェハ上での集積回路の作製において用いるリソグラフィ方法であって、
前記ウェハを可動式ステージ上で支持すること、
空間的にパターニングされた放射線を前記ウェハ上に結像すること、
前記ステージの位置を調整すること、
請求項１に記載の方法を用いて前記ステージの位置をモニタすること、
を備えるリソグラフィ方法。
【請求項４２】
集積回路の作製において用いるリソグラフィ方法であって、
マスクを通して入力放射線を送って、空間的にパターニングされた放射線を生成すること、
前記マスクを前記入力放射線に対して位置決めすること、
請求項１に記載の方法を用いて、前記入力放射線に対する前記マスクの位置をモニタすること、
前記空間的にパターニングされた放射線をウェハ上に結像すること、
を備えるリソグラフィ方法。
【請求項４３】
ウェハ上での集積回路を作製するためのリソグラフィ方法であって、
リソグラフィ・システムの第１のコンポーネントを、リソグラフィ・システムの第２のコンポーネントに対して位置決めして、前記ウェハを、空間的にパターニングされた放射線に露出すること、
前記第２のコンポーネントに対する前記第１のコンポーネントの位置を、請求項１に記載の方法を用いてモニタすること、
を備えるリソグラフィ方法。
【請求項４４】
請求項４１に記載のリソグラフィ方法を備える集積回路の作製方法。
【請求項４５】
請求項４２に記載のリソグラフィ方法を備える集積回路の作製方法。
【請求項４６】
請求項４３に記載のリソグラフィ方法を備える集積回路の作製方法。
【請求項４７】
請求項３８に記載のリソグラフィ・システムを用いることを備える集積回路の作製方法。
【請求項４８】
請求項３９に記載のリソグラフィ・システムを用いることを備える集積回路の作製方法。
【請求項４９】
リソグラフィ・マスクの作製方法であって、
基板をパターニングするために、書き込みビームを前記基板に送ること、
前記書き込みビームに対して前記基板を位置決めすること、
前記書き込みビームに対する前記基板の位置を、請求項１に記載の干渉法を用いてモニタすること、
を備えるリソグラフィ・マスクの作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
変位測定干渉計は、光学的な干渉信号に基づいて基準物体に対する測定対象物（たとえば平面鏡または再帰性反射体）の位置の変化をモニタするものである。その干渉計は、測定対象物から反射される測定ビームを基準物体から反射される基準ビームとオーバーラップさせて干渉させることによって、光学的な干渉信号を生成する。
【背景技術】
【０００２】
多くの応用例において、測定ビームおよび基準ビームは、偏光が直交し、周波数が異なっている。異なる周波数の生成は、たとえばレーザー・ゼーマン・スプリッティングによって、音響光学的な変調によって、もしくはレーザー内部で複屈折素子を用いること等によって、行なうことが可能である。偏光が直交することによって、偏光ビーム・スプリッタは、測定ビームおよび基準ビームを測定対象物および基準物体にそれぞれ送ること、さらに反射測定ビームおよび反射基準ビームを組み合わせてオーバーラップする出射測定ビームおよび出射基準ビームを形成することが可能になる。オーバーラップする出射ビームによって、出力ビームが形成される。その出力ビームはその後、偏光子を通過する。
【０００３】
偏光子によって、出射測定ビームおよび出射基準ビームの偏光が混合されて、混合ビームが形成される。その混合ビームの出射測定ビームおよび出射基準ビームの成分が互いに干渉する結果、混合ビームの強度は出射測定ビームおよび出射基準ビームの相対位相に応じて変化する。検出器によって、混合ビームの時間に依存した強度が測定され、その強度に比例する電気的な干渉信号が生成される。測定ビームおよび基準ビームは周波数が異なるため、その電気的な干渉信号には、出射測定ビームおよび出射基準ビームの周波数の差に等しいビート周波数を有する「ヘテロダイン」信号が含まれる。測定経路および基準経路の長さが（たとえば、測定対象物を含むステージを並進させることによって）相対的に変化すると、測定されるビート周波数には、２νｎｐ／λに等しいドップラー・シフトが含まれる。ここで、νは測定対象物および基準物体の相対速度であり、λは測定ビームおよび基準ビームの波長であり、ｎは光ビームが伝播する媒体（たとえば、空気または真空）の屈折率であり、ｐは基準物体および測定対象物に至る経路の数である。測定対象物の相対的な位置の変化は、測定される干渉信号の位相の変化に対応する。２πの位相変化は実質的に、λ／（ｎｐ）の距離変化Ｌに等しい。ここでＬは、往復距離の変化（たとえば、測定対象物を含むステージへ行って戻ってくる距離の変化）である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
残念ながら、この等式は常に正確というわけではない。加えて、測定される干渉信号の振幅は変わり得る。振幅が変わり得ることによって、以後、測定される位相変化の精度が低下することがある。多くの干渉計には、いわゆる「周期誤差」などの非線形性が含まれる。周期誤差は、測定される干渉信号の位相および／または強度への影響であって、光路長ｐｎＬの変化に関して正弦曲線的に依存する影響として、表現することが可能である。特に、位相における第１の調波周期誤差は（２πｐｎＬ）／λに関して正弦曲線的に依存し、位相における第２の調波周期誤差は、２（２πｐｎＬ）に関して正弦曲線的に依存する。より高い調波周期誤差も存在する可能性がある。
【０００５】
他の誤差源は、環境効果たとえばガス乱流に関係づけられる。ガス中での干渉法による変位測定は環境の不確定性の影響を受ける。特に空気の圧力および温度の変化の影響、ガス組成の不確定性たとえば湿度変化に起因するものの影響、およびガス中の乱流の効果の影響である。このような要因によって、変位を測定するために用いられる光の波長が変わる。通常の状態では、たとえば空気の屈折率は、約１．０００３であり、その変動は１ｘ１０−５〜１ｘ１０−４のオーダーである。多くの応用例において、空気の屈折率は、０．１ｐｐｍ（パーツ・パー・ミリオン）未満〜０．００１ｐｐｍ未満の相対的正確性で、既知でなければならない。これら２つの相対的正確性は、１メートルの干渉法による変位測定の場合の変位測定の精度として１００ｎｍおよび１ｎｍ未満にそれぞれ対応する。環境の不確定性の説明については、たとえば以下の文献を参照されたい。文献名称「空気乱流および非線形性からのレーザー干渉法における残留誤差（Residual Errors In Laser Interferometry From Air Turbulence And Nonlinearity）」Ｎ．ボブロフ（N.Bobroff ）著、アプライド・オプティクス（Appl.Opt. ）２６（１３）、２６７６〜２６８２ページ（１９８７年）、および文献名称「変位測定干渉法における最近の進歩（Recent Advances In Displacement Measuring Interferometry）」Ｎ．ボブロフ著、メジャーメント・サイエンス・アンド・テクノロジー（Measurement Science & Tech. ）４（９）、９０７〜９２６ページ（１９９３年）。
【０００６】
屈折率の変動を検出する１つの方法は、圧力および温度の変化を測定経路に沿って測定して、測定経路の光路長に対する効果を計算することである。このような計算を行なうための数式の例が、文献名称「空気の屈折度（The Refractivity of Air ）」Ｆ．Ｅ．ジョーンズ（F.E.Jones ）著、ジャーナル・オブ・リサーチ・オブ・ＮＢＳ（J.Res.NBS ）８６（１）、２７〜３２ページ（１９８１年）に、開示されている。この手法を実施することについては、文献名称「空気中での高精度変位干渉法（High-Accuracy Displacement Interferometry In Air）」Ｗ．Ｔ．エストラ（W.T.Estler）著、アプライド・オプティクス２４（６）、８０８〜８１５ページ（１９８５年）に説明されている。
【０００７】
測定経路上での変動する屈折率の効果を検出するための、より直接的な他の方法は、多波長距離測定である。その基本原理は、以下のように理解することが可能である。干渉計およびレーザ・レーダによる基準と対象物との間の光路長の測定は、ほとんどの場合に開放空気中で行なわれる。光路長とは、屈折率および測定ビームが伝播する物理的経路を掛け合わせた積のことである。屈折率は波長によって変化するが、物理的経路は波長とは無関係である。そのため、光路長から物理的経路の長さを決定すること、詳細には、屈折率の変動の影響を決定することは、機器が少なくとも２つの波長を用いているならば、一般に可能である。波長に伴う屈折率の変動は、当該技術分野においては分散として知られており、この技術は分散技術と言われることが多い。
【０００８】
２つの波長の距離測定システムの一例が、以下の文献に説明されている。Ｙ．ズー（Y.Zhu ），Ｈ．マツモト（H.Matsumoto ），Ｔ．オオイシ（T.Oishi ）著、ＳＰＩＥ１３１９、オプティクス・イン・コンプレックス・システムズ（Optics in Complex Systems ）、５３８〜５３９ページ（１９９０年）、名称「空気屈折率の変化を測定するための長アーム２色干渉計（Long-Arm Two-Color Interferometer For Measuring The Change Of Air Refractive Index）」。ズーらのシステムでは、１０６４ｎｍ波長のＹＡＧレーザーおよび６３２ｎｍのＨｅＮｅレーザーを、直交位相検出（quadrature phase detection）とともに用いている。前述の文献におけるものと同様の機器が、ズーらによって日本語で説明されている。名称「長光路干渉計のための大気の位相及び強度ゆらぎの測定」第３回光波センシング技術研究会議事録、日本応用物理学会、３９（１９８９年）。
【０００９】
分散技術を利用する干渉計を、半導体ウェハ上の集積回路を生成するためのリソグラフィにおいて用いられるスキャナ・システムおよびステッパ・システムのコンポーネントとして、含めることが可能である。このようなリソグラフィ・システムは、通常、ウェハを支持および固定する並進可能なステージと、放射線ビームをウェハ上へ送るために用いられる集束光学素子と、ステージを露光ビームに対して並進させるためのスキャナまたはステッパ・システムと、１つ以上の干渉計とを含む。各干渉計から、ステージに取り付けられた平面鏡に測定ビームを送り、そこから反射される測定ビームを受け取る。各干渉計は、その反射された測定ビームを、対応する基準ビームと干渉させ、総合して干渉計が放射線ビームに対するステージの位置の変化を正確に測定する。干渉計によって、リソグラフィ・システムは、ウェハのどの領域を放射線ビームに露出させるかを、精密に制御することが可能である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
ガス塊の局所的な屈折度の摂動は、ガス組成および／または密度の局所的な変動、たとえばガス乱流によって生じる変動によって引き起こされる可能性がある。このような変動が干渉計測定ビームの経路内で起こると、その変動によって測定ビームの光路長に変動が生じ、したがって干渉計によって測定される位相は影響を受ける。すなわちガス組成および／または密度の局所的な変動は、干渉計を用いて行なう測定の誤差源である。
【００１１】
多軸干渉計を用いて行なう位相測定を利用して、位相測定への屈折度の摂動の影響を決定することが可能である。多軸干渉計が、実質的に平行な２つの測定軸を含み、その測定軸が平均のガス流方向に実質的に直交する場合、同様の屈折度の摂動を、第１および第２の測定軸に沿って送られる測定ビームが受ける。最初に上流の測定ビームが、所定の屈折度の摂動を受け、時間τ経過後において、下流の測定ビームが、屈折度の摂動を受ける。その時間τは、平均のガス速度と２つの測定経路の間の距離とに関係づけられる。
【００１２】
干渉計によってモニタされる各位相値φには、測定ビーム中のガスの屈折度の摂動による影響ζだけでなく、他の影響（たとえば、測定対象物の方向の変動によるもの、および／またはより長い時間周期に渡って変化するガスの屈折度の変動によるもの）が含まれる。ここで下線は、観察可能なパラメータであることを示す。屈折度の摂動のランダムな性質のために、すべての摂動の正味の効果は、最終的には合計するとゼロになる。したがって、多軸干渉計においては、時間ｔ０においてなされる位相測定φＡへの影響を、ｔ０および／または異なる時間における位相測定φＡおよびφＢの関数に基づいて決定することが可能である。ここでＡおよびＢは、異なる２つの測定軸に対応する。言い換えれば、以下のようになる。
【数１】
2006505778.tif 000003
この関係では、位相への他の影響は既知であるか、さもなくば補正されていると仮定している。一部の実施形態においては、以下のようになる。
【数２】
2006505778.tif 000004
たとえば、φＡ−φＢ∝ζＡ−ζＢの場合には、屈折度の摂動の影響は、以下の関係を利用するフィルタを用いて、決定することが可能である。
【数３】
2006505778.tif 000005
ここで、添え字Ｂは上流の干渉計軸を意味し、Ａは下流の干渉計軸を意味する。Ｎは整数である。さらに、以下のようである。
【数４】
2006505778.tif 000006
摂動は両方の測定ビームが受けるため、上流の測定の位相影響を、下流の測定の項により記述し直すことが可能である。
【数５】
2006505778.tif 000007
したがって、式（１）の右側を、以下のように書き直すことが可能である。
【数６】
2006505778.tif 000008
しかしながら、屈折度の摂動はランダムな効果によるため、それらの平均値は、ほぼゼロにならなければならない。すなわち、十分に大きなＮ（たとえば、Ｎ＞１０）に対しては、以下のようになる。
【数７】
2006505778.tif 000009
したがって、以下のようになる。
【数８】
2006505778.tif 000010
φＡ（ｔ）−φＢ（ｔ）への他の影響は無視できると仮定すると、以下のようである。
【数９】
2006505778.tif 000011
【００１３】
φＡ（ｔ）−φＢ（ｔ）へのさらなる影響が無視できない場合は、それらの影響を含むように式（９）を変更することは可能である。そのようなさらなる影響に対する供給源には、測定対象物の方向の角度の変動、および／またはガス屈折度の変化に対する他の影響が含まれる可能性がある。測定対象物の方向の変動は、多軸干渉計のさらなる測定軸を用いることによってか、あるいは多軸干渉計とは独立に、モニタすることが可能である。これらの影響を、ζＡ（ｔ０）を計算する前にφＡ（ｔ）−φＢ（ｔ）から差し引くことが可能である。
【００１４】
一部の実施形態においては、測定対象物の方向の変動を、干渉法的にモニタすることが可能である。これはたとえば、多軸干渉計のさらなる軸を用いるか、あるいは他の多軸干渉計を用いる場合である。測定対象物の方向を独立にモニタするために用いられる軸の位置は、ガス乱流による屈折度の摂動が低減される（たとえば、無視できる）ように、決めることが可能である。たとえば、第２の多軸干渉計の測定軸は、流れるガスからシールドすることが可能であり、かつ／もしくは平均的なガス流方向と実質的に平行にすることが可能である。
【００１５】
ガス屈折度の変化に対する他の影響には、ガス組成および／または密度の変化による影響が含まれる。この変化は、同時の干渉計位相測定に同様に影響する（たとえば、時間周期＞τに渡って起こる変化、および／または合計がゼロにならないガス屈折度の変化である）。これらの影響は、前述した摂動とは別個に処理してもよい。それは、それらの時間スケールは、摂動の時間スケールとは異なるためである。このような変化は、周期的であってもよい。たとえば、繰り返しプロセスの間に干渉計を用いて測定対象物をモニタする実施形態においては、ガス組成および／または密度の変化が、システム・サイクルの繰り返しの段階の間で同じになる可能性がある。この一例は、リソグラフィ・ツールにおけるものである。ここでは、露光サイクルが、ツールによって処理される各ウェハに対して繰り返される。位相測定に対するこれらの影響は補正可能である。この補正は、測定ビーム経路からは遠隔位置でのガス屈折度を測定すること、かつ屈折度測定を行なった時間におけるシステム状態に基づいた非自明な関数（たとえば、１対１の対応関係よりも複雑）を用いて、測定された屈折度を測定ビーム経路内のガスの屈折度にマッピングすることによってなされる。このような手法の例は、以下の文献に記載されている。米国特許出願第１０／２９４，１５８号明細書、発明の名称「干渉計におけるガス屈折度の変動の効果に対する補正（COMPENSATING FOR EFFECTS OF VARIATION IN GAS REFRACTIVITY IN INTERFEROMETERS）」（２００２年１１月１１日出願）。なお、この文献の全体の内容は、本明細書において参照により組み入れられる。
【００１６】
一部の実施形態においては、τを、時間の関数として、かつ／もしくは測定ビーム経路に沿っての位置の関数として、変化させることが可能である。τは、測定ビーム経路の長さに沿ってのτの変動による誤差が低減する（たとえば最小限になる）ように選択することが可能である。
【００１７】
一部の実施形態においては、屈折度の摂動からの干渉位相測定への影響を、ζＡ（ｔ）に対する積分表現に基づいてφＡ−φＢから決定することが可能である。
【００１８】
同時または非同時モードの動作により、屈折度の摂動の効果に対して位相測定を補正することが可能である。同時モードの動作では、位相測定の補正は、測定を行なうときに補正される。同時モードの動作は、位相情報がシステムによって、たとえばフィードバック信号として、即座に利用される場合に、有用である。非同時モードの動作では、位相測定の補正は、測定を行なった後に行なわれる。位相測定の補正は、オフ・ライン解析により、すなわち測定を行なった時間とは無関係な特定の時間に行なってもよい。
【００１９】
屈折度の摂動からの干渉位相測定への影響を決定するために用いる方法を、測定ビーム経路間の他の関係に適合させることが可能である。たとえば、その方法を、測定ビーム経路の異なる部分を、異なる量だけ互いから移動させる多軸干渉計システム（たとえば、測定対象物として再帰性反射体を利用する多軸干渉計システム）に対して適合させてもよい。
【００２０】
この手法を用いて、リソグラフィ・ツール内のコンポーネントをモニタしてもよい。
【００２１】
一般的に、第１の態様においては、本発明の特徴は、第１の測定ビームを、測定対象物に接触する第１の経路に沿って送って、測定対象物の位置に関係づけられる第１の干渉位相を決定すること、第２の測定ビームを、測定対象物に接触する第２の経路に沿って送って、測定対象物の位置に関係づけられる第２の干渉位相を決定すること、第１の経路に沿っての屈折度の摂動による第１の干渉位相への影響を、第２の干渉位相に基づいて決定すること、を含む方法である。
【００２２】
この方法を実施する際には、以下の特徴のうちの１つもしくは複数、または他の態様の特徴を含めてもよい
【００２３】
第１の時間における屈折度の摂動による第１の干渉位相への影響を、第１の時間とは異なる第２の時間における屈折度の摂動による第２の干渉位相への影響に関係づけることが可能である。第１の時間と第２の時間との間の差を、第１の経路内のガスの速度に関係づけることが可能である。測定対象物の位置が、第１の時間から第２の時間の間に変化することが可能である。言い換えれば、第１および第２の位相を、測定対象物が移動している間に決定することが可能である。
【００２４】
第１の経路と第２の経路とを、第１の経路内のガス流の方向と非平行とすることが可能である。たとえば、第１の経路と第２の経路とを実質的に平行にすることが可能である。一部の実施形態においては、第１の経路と第２の経路とは第１の経路内のガス流の方向と実質的に直交する。
【００２５】
屈折度の摂動による第１の干渉位相への影響を決定することは、第１の干渉位相と第２の干渉位相との間の差を決定することを含むことが可能である。屈折度の摂動による第１の干渉位相への影響を決定することはさらに、測定対象物の角度方向の変動に対して第１の干渉位相と第２の干渉位相との間の差を補正することを含むことが可能である。一部の実施形態においては、屈折度の摂動による第１の干渉位相への影響を決定することはさらに、異なる時間に対して決定される第１および第２の干渉位相の差を合計することを含む。異なる時間を、第１の経路内のガスの速度に関係づけ、かつ／もしくは第１の経路と第２の経路との間の距離間隔に関係づけることが可能である。屈折度の摂動による第１の干渉位相への影響と屈折度の摂動による第２の干渉位相への影響との間の差を、第１の干渉位相と第２の干渉位相との間の差に比例させることが可能である。
【００２６】
第１の干渉位相への影響を決定することはさらに、屈折度の摂動による第１の干渉位相への影響と第２の干渉位相への影響との間の差に関係づけられるパラメータを、第１の干渉位相と第２の干渉位相との間の差に基づいて決定することを含むことが可能である。第１の干渉位相への影響を、そのパラメータとその影響との間の積分関係に基づいて決定することが可能である。その積分関係はたとえば、フレドホルム（Fredholm）積分関係に基づくことが可能である。
【００２７】
屈折度の摂動による第１の干渉位相への影響を、測定対象物の角度方向の変動に基づいて決定することが可能である。測定対象物の角度方向の変動を、第１および第２の干渉位相を決定することと同時に測定することが可能である。測定対象物の角度方向の変動を、１つまたは複数の干渉計を用いて測定することが可能である。その１つまたは複数の干渉計から、個々の測定ビームを、ガス流方向に実質的に非直交な測定経路に沿って送ることが可能である。たとえば、その測定経路を、ガス流方向と実質的に平行とすることが可能である。その１つまたは複数の干渉計は、多軸干渉計を含むことが可能である。
【００２８】
本方法はさらに、屈折度の非摂動的変動による影響に対して第１の干渉位相を補正することを含むことが可能である。屈折度の摂動による第１の干渉位相への影響を、第１の干渉位相を決定することと同時あるいは非同時に決定することが可能である。
【００２９】
一般的に、別の態様においては、本発明の特徴は、動作の間に、第１の測定ビームを、測定対象物に接触する第１の経路に沿って送り、かつ第２の測定ビームを、測定対象物に接触する第２の経路に沿って送る干渉計システムと、動作の間に、測定対象物の位置に関係づけられる第１および第２の干渉位相を第１および第２の測定ビームのそれぞれに基づいて決定し、かつ第１の経路に沿っての屈折度の摂動による第１の干渉位相への影響を、第２の干渉位相に基づいて決定する電子制御器と、を含む装置である。
【００３０】
その装置の実施形態は、以下の特徴のうちの１つまたは複数および／または他の態様の特徴を含むことが可能である。
【００３１】
干渉計システムは、動作の間に第１および第２の測定ビームを第１および第２の測定経路に沿って送る多軸干渉計を含むことが可能である。第１の経路を、第２の経路と実質的に平行とすることが可能である。
【００３２】
その装置はさらに、動作の間にガスを第１および第２の測定経路を通して流すガス供給源を含むことが可能である。ガス流の方向を、第１および第２の測定経路と実質的に非平行にすることが可能である。ガス流の方向を、第１および第２の測定経路と実質的に直交させることが可能である。
【００３３】
動作の間に、干渉計システムは、第３の測定ビームを第３の経路に沿って送って（たとえば、第１の測定対象物と直交するように配置された）第２の測定対象物に接触させることが可能であり、電子制御器は、第２の測定対象物の位置に関係づけられる第３の位相を決定して、測定対象物の角度方向の変動を第３の干渉位相に基づいてモニタすることが可能である。第３の経路を、第１の経路と実質的に非平行にすることが可能である。第３の経路を、第１の経路と実質的に直交させることが可能である。
【００３４】
測定対象物を、干渉計システムに対して可動式ステージ上にマウントすることが可能である。測定対象物は、平面鏡および／または再帰性反射体を含むことが可能である。
【００３５】
別の態様においては、本発明の特徴は、ウェハ上での集積回路の作製において用いるリソグラフィ・システムであって、ウェハを支持するためのステージと、空間的にパターニングされた放射線をウェハ上に結像するための照射システムと、結像された放射線に対するステージの位置を調整するための位置決めシステムと、結像された放射線に対するウェハの位置をモニタするための前述の装置と、を含むリソグラフィ・システムである。
【００３６】
さらなる態様においては、本発明の特徴は、ウェハ上での集積回路の作製において用いるリソグラフィ・システムであって、ウェハを支持するためのステージと、放射線源、マスク、位置決めシステム、レンズ・アセンブリ、および前述の装置を含む照射システムと、を含み、動作の間に、その源は、マスクを通して放射線を送って空間的にパターニングされた放射線を生成し、その位置決めシステムは、その源からの放射線に対してマスクの位置を調整し、そのレンズ・アセンブリは、空間的にパターニングされた放射線をウェハ上に結像し、その装置は、その源からの放射線に対するマスクの位置をモニタする、リソグラフィ・システムである。
【００３７】
さらなる態様においては、本発明の特徴は、リソグラフィ・マスクの作製において用いるビーム書き込みシステムであって、基板をパターニングするための書き込みビームを供給する供給源と、基板を支持するステージと、書き込みビームを基板に送出するためのビーム送出アセンブリと、ステージとビーム送出アセンブリとを互いに対して位置決めするための位置決めシステムと、ビーム送出アセンブリに対するステージの位置をモニタするための前述の装置と、を含むビーム書き込みシステムである。
【００３８】
別の態様においては、本発明の特徴は、ウェハ上での集積回路の作製において用いるリソグラフィ方法であって、ウェハを可動式ステージ上で支持すること、空間的にパターニングされた放射線をウェハ上に結像すること、ステージの位置を調整すること、前述の方法を用いてステージの位置をモニタすること、を含むリソグラフィ方法である。
【００３９】
さらなる態様においては、本発明の特徴は、集積回路の作製において用いるリソグラフィ方法であって、マスクを通して入力放射線を送って、空間的にパターニングされた放射線を生成すること、マスクを入力放射線に対して位置決めすること、前述の方法を用いて、入力放射線に対するマスクの位置をモニタすること、空間的にパターニングされた放射線をウェハ上に結像すること、を含むリソグラフィ方法である。
【００４０】
さらなる態様においては、本発明の特徴は、ウェハ上での集積回路を作製するためのリソグラフィ方法であって、リソグラフィ・システムの第１のコンポーネントを、リソグラフィ・システムの第２のコンポーネントに対して位置決めして、ウェハを、空間的にパターニングされた放射線に露出すること、第２のコンポーネントに対する第１のコンポーネントの位置を、前述の方法を用いてモニタすること、を含むリソグラフィ方法である。
【００４１】
別の態様においては、本発明の特徴は、前述のリソグラフィ方法のうちのいずれかを含み、かつ／もしくは前述のリソグラフィ・システムのうちのいずれかを用いる集積回路の作製方法である。
【００４２】
さらに別の態様においては、本発明の特徴は、基板をパターニングするために書き込みビームを基板に送ること、書き込みビームに対して基板を位置決めすること、書き込みビームに対する基板の位置を、前述の方法を用いてモニタすること、を含むリソグラフィ・マスクの作製方法である。
【００４３】
本発明の実施形態は、以下の利点のうちの１つまたは複数を含んでいてもよい。
【００４４】
本明細書において説明される方法、装置、およびシステムを用いて、干渉計ビームの経路内において発生し得る屈折度の変動に対する補正を施すことによって、測定対象物の極めて正確な変位および／または角度の測定を行い得る。このような測定は、リソグラフィ・ツール内のウェハ・ステージの位置のモニタリングに対して有用である。本方法では、変位または角度測定における特定の誤差に対して同時補正を施し得る。その結果、本方法を、たとえばウェハの露光の間に用いることが可能となる。本方法を、一般的に用いられている光学コンポーネントを利用する干渉計とともに、利用してもよい。そのような光学コンポーネントは経済的に製造されている。本方法は、システム内の他の誤差を補正するための方法と共用できる。
【００４５】
特に断りのない限り、本明細書で用いられるすべての技術的および科学的な用語の意味は、本発明が属する分野における当業者によって普通に理解されるものと同じである。本明細書で列挙する刊行物、特許出願、特許、および他の参考文献はすべて、参照により全体として組み入れられている。矛盾があった場合、本明細書に定義を含めることにより調整される。
【００４６】
以下の添付の図面および説明において、本発明の１つまたは複数の実施形態の詳細が記載されている。本発明の他の特徴、目的、および利点は、その説明および図面から、ならびに特許請求の範囲から明らかとなる。
【００４７】
種々の図面における同一の参照符号は、同一の構成要素を示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４８】
図１Ａを参照すると、干渉計システム１５を用いるシステム１００は、干渉計１８を利用してハウジング１９内のステージ１６の位置をモニタしている。ガス供給源２６が、ハウジングに結合されていて、システム１００が用いられるプロセス（たとえば、リソグラフィ露光サイクル）の要求に従って、ハウジング内にガスを導入する。一部の実施形態においては、システム１００は送風機を含む。送風機は、ガス供給源２６に加えてまたはこれの代わりに、ガス流に強制的にハウジング１９を通過させる。ガス供給源２６によって導入されるガスは、所定の方法で、ハウジング１９の中を通過して流れる。コンピュータ１７が、干渉計１８およびステージ１６に結合されている。コンピュータ１７は、干渉計１８からの信号に応答して、ステージ１６の位置を調整する。
【００４９】
また図１Ｂも参照すると、同図は、干渉計システム１５の実施形態の斜視図である。ここでは、システム１５は、一対の直交して配置された干渉計１０および２０または干渉計サブシステムを用いている。これらによって、ステージ１６の位置および方位についての情報が得られる。干渉計システム１５の動作は、位置および方位についての情報がその後サーボ制御システムによって用いられてステージ１６の位置および方位が制御されるように、行なわれる。通常動作では、ステージ１６は、ｘの設定値に対してｙ方向に走査される。
【００５０】
ステージ１６には、ｙ方向に細長いｙ−ｚ反射面５１を有する薄い高アスペクト比の平面鏡測定対象物５０が、取り付けられている。またステージ１６には、ｘ方向に細長いｘ−ｚ反射面６１を有する別の薄い高アスペクト比の平面鏡測定対象物６０が、固定してマウントされている。鏡５０および６０のステージ１６上へのマウントは、それらの反射面５１および６１がそれぞれ名目上は互いに直交するように、行なわれている。ステージ１６は、それらとは異なり、名目上はｘまたはｙ方向に並進するように既知の方法でマウントされるが、ベアリングおよび駆動メカニズム許容誤差に起因してｘ、ｙ、およびｚ軸の周りの僅かな角度の回転を伴う場合がある。
【００５１】
干渉計１０は、ステージ１６がｙ方向に並進するときに、ｘ方向の位置と、ｙおよび／またはｚ軸の周りのステージ１６の角度回転とを測定する。干渉計１０の構成および配置は、干渉ビームが鏡５０との間を１２として指定される光路に概ね沿って伝播するようになされる。
【００５２】
干渉計２０は、干渉計１０と同種のものであり、ステージから離間して固定マウントされており、ステージ１６がｙ方向に並進するときに、ｙ方向の位置と、ｘおよび／またはｚ軸の周りのステージ１６の角度回転とを測定する。これを行なうために、干渉計２０は干渉ビームを、鏡の表面６１との間で、２２として概略的に指定される光路に沿って送受する。制御、データ処理、およびハウスキーピング機能は、たとえば１７で指定されるような汎用コンピュータをプログラムすることで、データ処理を行ない、信号およびデータをその汎用コンピュータとシステム１５との間で交換することによって実現される。このような交換は、双方向の太字矢印によって図示されるインターフェースを介して行なわれる。
【００５３】
一部の実施形態においては、測定軸がｘまたはｙ方向のいずれかと平行である一方の干渉計から得られる情報を用いて、干渉計システムの測定軸から移動した測定軸上の位置を決定してもよい。たとえば、移動した測定軸はアラインメント・スコープに対応してもよい。
【００５４】
干渉計１０および２０は、多軸干渉計である。図２を参照すると、一部の実施形態においては、干渉計１０および２０は平面鏡型干渉計であり、その一例を干渉計１１０として示す。干渉計１１０には、２つの高安定性平面鏡干渉計（ＨＳＰＭＩ）が含まれている。これは図２において、一体型の光学アセンブリとして概略的に示されている。干渉計１１０にはさらに、非偏光ビーム・スプリッタ１４０、偏光ビーム・スプリッタ・インターフェース１４２、基準鏡１７４、４分の１波長位相遅延プレート１４１および１４３、鏡１４５、ならびに再帰性反射体１４４および１４６も含まれている。検出器１７０および１７２は、干渉計１１０から出射するビームの強度をモニタし、一方でプロセッサ１８０および１８２は、検出器からの信号を処理して、鏡５０の位置に関する情報を提供する。
【００５５】
供給源１３０から供給されるビーム１３２は、非偏光ビーム・スプリッタ１４０および鏡１４５によってスプリットされて、２本の平行な入力ビームへと送られる。ヘテロダイン検出方式を利用する実施形態においては、入力ビームには、周波数が異なる２つの直交偏光の成分が含まれる。供給源１３０は、種々の周波数変調装置および／またはレーザーのうちの任意のものとすることが可能である。ビーム１３２の２つの周波数成分の生成は、供給源１３０内で、たとえばレーザー・ゼーマン・スプリッティングもしくは音響光学的な変調によって行なうか、あるいはレーザー内部で復屈折素子を用いること等で行なうことが可能である。
【００５６】
干渉計１１０が干渉計１０としての動作する場合の説明を行なうが、干渉計２０としても同様に動作する。ビーム１３４には、反射表面５１に接触する２つのＨＳＰＭＩの測定ビームが含まれる。ビーム１３４の経路は、図１Ｂの数字１２によって示される経路に対応する。図２の変位ｓ１およびｓ２は、干渉計１０の場合の変位ｘ１およびｘ２に、それぞれ対応する。干渉計１０の２つのＨＳＰＭＩが、対応する平行な測定軸に沿っての反射表面５１の変位ｘ１およびｘ２の変化を、測定する。測定軸は、距離ｄ１だけ離れている。これらの測定値を用いて、ｘ方向での反射表面５１（および、したがってステージ１６）の位置を決定する。たとえば、ｘ方向でのステージの位置を、ｘ１およびｘ２の平均値から求めることが可能である。同様に、干渉計２０によって、２つの変位測定値、ｙ１およびｙ２が、それぞれ得られる。これらは、対応する平行な測定軸に沿っての反射表面６１（およびステージ１６）の変位に対応する。変位ｙ１およびｙ２の測定値を用いて、ｙ軸に平行な測定軸に沿っての反射表面６１の変位が決定され、反射表面６１の方向の平均の変化が、決定される。これは、反射表面５１上の距離ｄ２だけ離れた２つの位置に付随している。
【００５７】
特定の干渉計の構成を示しているが、他の形態の干渉計の構成を利用してもよい。他の干渉計の構成の例は、ヘンリー  Ａ．ヒル（Henry A.Hill）による共通所有の米国特許出願第１０／３６４，３００号である米国特許出願公開第２００３−０１８６１３６−Ａ１号明細書、発明の名称「分離ビーム複数自由度干渉計（SEPARATED BEAM MULTIPLE DEGREE OF FREEDOM INTERFEROMETERS ）」に記載されている。また文献「距離および角度測定のための微分干渉計配置：原理、利点および応用例（Differential interferometer arrangements for distance and angle measurements: Principles, advantages and applications ）」Ｃ．ザノイ（C.Zanoni）著、ドイツ工業協会報告第７４９号（VDI Berichte Nr.749 ）、９３〜１０６（１９８９）にも記載されている。これは、第１の実施形態に、本発明の範囲および技術思想から逸脱することなく組み入れられてもよい。上記米国特許出願第１０／３６４，３００号明細書およびザノイによる文献の内容は、本明細書において参照により全体として組み入れられる。
【００５８】
干渉計である干渉計１０によって、干渉計の測定ビームと基準ビームとの間の位相シフトφ１およびφ１０が、測定経路ｘ１およびｘ２にそれぞれ対応して、導入される。位相シフトφ１およびφ１０の大きさを、測定経路ｘ１およびｘ２の物理的な長さにそれぞれ関係づける。これは次式に従う。
【数１０】
2006505778.tif 000012
ここでｘｉは、干渉計の測定経路ｉの物理的な長さであり、干渉計１０に対してはｉ＝１および１０である。波数ｋ＝２π／λ、λは測定ビームの波長であり、Ｚｉは測定経路内のガスの屈折度の非摂動変化による位相への影響であり、ζｉは個々の測定経路内での屈折度の摂動による位相への影響である。
【００５９】
同様に、干渉計である干渉計２０によって、干渉計の測定ビームと基準ビームとの間の位相シフトφ２およびφ２０が、測定経路ｙ２およびｙ２０にそれぞれ対応して、導入される。位相シフトφ２およびφ２０の大きさを、測定経路ｙ２およびｙ２０の物理的な長さにそれぞれ関係づける。これは次式に従う。
【数１１】
2006505778.tif 000013
ここでｙｉは、干渉計の測定経路ｉの物理的な長さであり、干渉計２０に対してはｉ＝２および２０である。Ｚｉは測定経路内のガスの屈折度の非摂動変化による位相への影響であり、ζｉは個々の測定経路内での屈折度の摂動による位相への影響である。
【００６０】
干渉計１１０を出射するビームの検出に応答して、検出器１７０および１７２は、電気的な干渉信号１１４および１２４を生成する。位相シフトφ１，φ１０，φ２，φ２０は、信号１１４および１２４の対応する信号からそれぞれ、プロセッサ１８０によって、さらに位相情報に対するヘテロダイン信号の処理において使用される既知の技術によって、求められる。その処理は、デジタル信号処理あるいはアナログ信号処理のいずれかによって、好ましくはデジタル処理によって行なわれ、その際、時間ベースの位相検出たとえばデジタル・ヒルベルト変換位相検出器（たとえば、「フェーズロックド・ループ：理論、設計、および応用例（Phase-locked loops: theory, design, and applications）」Ｒ．Ｅ．ベスト（R.E.Best）著、第２版、マグロウヒル（ニューヨーク）１９９３年の４．１．１節を参照のこと）、またはスライディング・ウィンドウ有限フーリエ変換（ＦＦＴ）技術を用いる。
【００６１】
鏡５０の外見上の角度θ１は、プロセッサ１８２によって、次式に従って決定される。
【数１２】
2006505778.tif 000014
鏡６０の外見上の角度θ２は、プロセッサ１８２によって、次式に従って決定される。
【数１３】
2006505778.tif 000015
θ１およびθ２の測定値に対する屈折度の変動（摂動および非摂動の両方）の効果は、式（１１）および（１２）を組み合わせこと、ならびに式（１１）および（１３）を組み合わせることから明白であり、以下の結果となる。
【数１４】
2006505778.tif 000016
および
【数１５】
2006505778.tif 000017
ここで、ｔａｎ−１ρの展開式における１次の項のみを残した。
【００６２】
摂動の影響ζ２０およびζ２は実質的に、第１の実施形態において、ガス送出システムの設計および干渉計２０のハウジングによって低減されるか、あるいは取り除かれるため、ガス流の方向は名目上、図１Ｂの矢印２５によって概ね示される正のｙ方向にあり、測定経路２２内のガス流は層流となる。言い換えれば、システム１００は、ζ２≒ζ２０≒０となるように設計される。
【００６３】
乱流効果ζｉは、測定経路上でのガスの屈折度の乱流成分の積分に等しい。すなわち、以下の通りである。
【数１６】
2006505778.tif 000018
【数１７】
2006505778.tif 000019
ここで、Ｐ１およびＰ１０は、干渉計１０の第１および第２の干渉計に対する測定経路を、それぞれ示す。ｔは時間である。［ｎ（ｘｉ，ｙｉ，ｔ）−１］は、位置（ｘｉ，ｙｉ，ｔ）におけるガスの屈折度である。［ｎ（ｘｉ，ｙｉ，ｔ）−１］Ｔは、［ｎ（ｘｉ，Ｙｉ，ｔ）−１］の摂動成分である。
【００６４】
ガスの名目上の流れがｘ−ｙ平面内であり、かつ正のｙ方向であるため、屈折度［ｎ（ｘ１０，ｙ１０，ｔ）−１］Ｔおよび［ｎ（ｘ１，ｙ１，ｔ）−１］Ｔは、以下のように良好に近似される。
【数１８】
2006505778.tif 000020
ここで、点（ｘ１０，ｙ１０）および（ｘ１，ｙ１）は、ｘ−ｙ平面内のガス流速度に平行な直線上の点であり、
【数１９】
2006505778.tif 000021
であり、ｕ（ｘ１，ｙ１，ｔ）は、ｙ方向のガス流速度の成分である。
【００６５】
ζ１０（ｔ）についての情報は、φ１０（ｔ）およびφ１（ｔ）から、次式のフィルタを用いることによって求め得る。
【数２０】
2006505778.tif 000022
ここで、Ｎは整数、たとえば１６であり、
【数２１】
2006505778.tif 000023
であり、τｐは、以下のように定義される。
【数２２】
2006505778.tif 000024
【００６６】
式（２２）において、ｙ１，ｙ１０，およびｔに関するζ１（ｔ）およびζ１０（ｔ）の依存性は省略した。さらに、式（２０）および（２２）では、式（１９）によって定義されるτ（ｘ１，ｙ１，ｔ）はｘ１に依存しないことが仮定されている。ｘ１およびｘ１０の依存性を落とすことの影響については、以後の説明において検討する。
【００６７】
［ζ１０（ｔ）］Ｍとして示される式（２０）における測定された摂動の影響、すなわち、
【数２３】
2006505778.tif 000025
は、式（２２）によって与えられる性質を用いることで、より簡単な形に変形される。したがって、以下のように変形される。
【数２４】
2006505778.tif 000026
【数２５】
2006505778.tif 000027
【数２６】
2006505778.tif 000028
【数２７】
2006505778.tif 000029
【数２８】
2006505778.tif 000030
【００６８】
なお、［ζ１０（ｔ）］Ｍは、フィード・フォワード信号として計算可能である。すなわち、加算を、同時モードの動作に対して、式（２３）におけるζ１０（ｔ−１）およびζ１（ｔ−１）から開始する。
【００６９】
位相に影響する摂動効果は、実質的にランダムであるため、式（２８）の右辺の第２項
【数２９】
2006505778.tif 000031
の平均値はゼロである。なお、平均がゼロとはならない屈折度の変動による位相への影響は、非摂動効果として分類され、Ｚ１０（ｔ）に含まれる。
【００７０】
式（２９）における項の標準偏差は、次式となる。
【数３０】
2006505778.tif 000032
ここで、σ１０は、ζ１０（ｔ）の標準偏差である。したがって、式（２９）の標準偏差は、ゼロの近傍では、Ｎの増加とともにＮ−１／２として減少する。
【００７１】
したがって、屈折度の置換による位相測定φ１０（ｔ）への影響は、次式から求められる。
【数３１】
2006505778.tif 000033
【００７２】
屈折度の非摂動的変動は通常、時間スケール≫τ上で起こるため、［Ｚ１０（ｔ−ｐ）−Ｚ１（ｔ−ｐ）］の項は、事実上ゼロである。その代わりに、もしくは追加として、［Ｚ１０（ｔ−ｐ）−Ｚ１（ｔ−ｐ）］の項は、屈折度の非摂動的変動を決定するために開示された方法を用いて決定することが可能である。これは、たとえば、前述の文献、米国特許出願第１０／２９４，１５８号明細書、発明の名称「干渉計内のガス屈折度の変動の効果に対する補正（COMPENSATING FOR EFFECTS VARIATIONS IN GAS REFRACTIVITY IN INTERFEROMETERS）」（２００２年１１月１１日出願）に開示されている。この特許出願で開示されている方法は、周期的なプロセスでの異なる時間において、システム内の異なる位置におけるガス特性に関係する非自明な関数を導くことによって、屈折度の非摂動的変動を決定する方法である。一般的に、非自明な関数を、１つまたは複数のパラメータに基づいて１つの値を別の値にマッピングすることに適していれば、いかなるフォーマットとすることも可能である。たとえば、非自明な関数を、解析関数、解析関数の組、アルゴリズム、またはルック・アップ・テーブルとすることが可能である。一例としては、解析関数の組であって、それぞれの関数が、異なるシステム・パラメータ（たとえば、露光サイクルの段階）に対応するものがある。
【００７３】
非自明な関数の決定は、経験的に、コンピュータによって、または経験的な手法およびコンピュータによる手法の組み合わせを用いて、行なうことが可能である。
【００７４】
その関数を経験的に決定する方法の一例は、システム内の屈折度センサを用いて１つまたは複数のサイクルを実行し、サイクルの間にセンサ位置において１つまたは複数のパラメータをモニタすることである。これの簡単な例は、１つまたは複数の屈折計を測定ビーム経路内に配置して、その位置での屈折度および遠隔位置での屈折度を、テスト露光の間にモニタすることである。屈折計は、以後のシステム動作の間にシステム内の残存物をモニタする。この時間の間にプロセッサは、非自明な関数を用いて、測定ビーム経路内でのガス屈折度を、テスト露光の間に測定される値に基づいて、遠隔位置において測定される値から決定する。
【００７５】
非自明な関数を決定するための別の方法は、コンピュータによる方法、たとえば計算流体力学のプログラムを用いることである。このようなプログラムの一例は、ＣＤアダプコ（adapco）グループ（メルビル（Melville）、ニューヨーク）から市販されているスター（Star）ＣＤである。一般的に、計算流体力学では、複雑なシステム内での流体力学の問題を、システム内の離散的な位置および時間の組における流体のパラメータ（たとえば、密度、温度）を関係づける１つまたは複数の組の微分方程式を解くことによって、解決する。たとえば非圧縮性流体の場合、このような流体の流れを記述する基本的な偏微分方程式であるナビエ・ストークス方程式を用いればよい。離散的な位置の組（多くの場合にメッシュと言われる）は通常、システムの物理的な構造に基づいて定義される。微分方程式を解く前に、通常、たとえば初期システム条件を記述するユーザ定義の境界値の組の入力が必要がある。これらは、任意のパラメータの境界条件、たとえば初期温度プロファイル、またはサイクルの間の特定の時間におけるメッシュの特定部分の温度を含むことが可能である。
【００７６】
したがって、適切なメッシュを決定すること、かつ露光サイクルに対する条件を入力することによって、サイクルの間のシステムの異なる位置におけるガス屈折度および／または他のパラメータの値を、コンピュータによって決定することが可能である。これらの値によって、遠隔位置で測定されるガス屈折度を、干渉計測定ビームの経路内の屈折度に関係づける非自明な関数が求められる。
【００７７】
式（３１）を用いて[ ζ１０（ｔ）] Ｍを決定する際に、［ｘ１０（ｔ−ｐ）−ｘ１（ｔ−ｐ）］の項を、φ２０（ｔ）およびφ２（ｔ）から決定することが可能である。［ｘ１０（ｔ−ｐ）−ｘ１（ｔ−ｐ）］の項は、ステージ１６の角度方向の変動の余分な測定を与えるものであり、また実質的に屈折度の摂動の効果は存在しない。
【００７８】
式（２８）のフィルタリング量［ζ１０（ｔ）］Ｍにおいて所定の精度を実現するためになされる鏡５０の方向の補正の精度を決定するために、式（２０）における鏡５０の方向の変化に対する補正における誤差の影響を、次に評価する。鏡５０の方向の変化に対する補正における誤差の影響は、次の形の項によって導入される。
【数３２】
2006505778.tif 000034
これは、式（２０）の右辺のｘ１０およびｘ１における対応する項と同じ形である。式（３２）によって与えられるフィルタリング量の効果は、周波数に依存する伝達関数を用いる周波数ドメイン解析によって、かつｙ２０（ｔ−ｐ）およびｙ２（ｔ−ｐ）の測定値における統計誤差は相関しないこと仮定した統計解析によって、評価することが可能である。
【００７９】
周波数ドメイン解析の場合、伝達関数を、振幅α、位相φ０、角周波数ωである［ｙ２０（ｔ）−ｙ２（ｔ）］の周波数成分ｃｏｓ（ωｔ＋φ０）において、τｓは一定の値、すなわちτｓ＝τであることを仮定して、求めることが可能である。その方向の項のフィルタリングされる周波数成分は、以下の通りである。
【数３３】
2006505778.tif 000035
式（３３）の右辺の周波数に依存する成分は、以下のように、閉じた形で表現することが可能である。
【数３４】
2006505778.tif 000036
式（３４）によって表わされる伝達関数を用いて、鏡５０の方向の変化に対する補正における誤差の影響を評価することが可能である。
【００８０】
ｙ２０（ｔ−ｐ）およびｙ２（ｔ−ｐ）の測定値における統計誤差は相関しないこと仮定すると、式（３２）によって表現される項の標準偏差σθｙは、次式となる。
【数３５】
2006505778.tif 000037
ここで、σｙは、ｙ２０（ｔ−ｐ）およびｙ２（ｔ−ｐ）のいずれかの測定値に対する標準偏差である。
【００８１】
なお、統計誤差σθｙは、Ｎ１／２に比例する。しかしながら、より大きな値のＮに付随する統計誤差の増加は、屈折度の摂動のバンド幅がｃ※１００Ｈｚであるという事実を用いることによって、かつ／もしくは統計誤差σｙのサイズを小さくすることによって、相殺することが可能である。ガス乱流効果の比較的小さなバンド幅を用いて、ｙ２０（ｔ−ｐ）およびｙ２（ｔ−ｐ）の測定値を、パス・バンド幅が空気乱流効果のバンド幅よりも小さいロー・パス・フィルタによってフィルタリングすることが可能である。たとえばｙ２０（ｔ−ｐ）およびｙ２（ｔ−ｐ）の測定値における統計誤差のバンド幅を、１００ＭＨｚのオーダーとすることが可能である。この場合、σｙによるσθｙにおける統計誤差を、数のオーダーの大きさ（たとえば、２〜３のオーダーの大きさ）だけ低減することが可能である。
【００８２】
ζ１（ｔ）についての情報は、［ζ１０（ｔ）］Ｍから求め得る。その代わりに、もしくはそれに加えて、ζ１（ｔ）についての情報をφ１０（ｔ）およびφ１（ｔ）から、次式のフィルタを用いることによって求めることも可能である。
【数３６】
2006505778.tif 000038
ここで、ｔ０＝ｔである（式（１２１）を参照）。式（３６）における屈折度の摂動による位相への測定される影響は、［ζ１（ｔ）］Ｍとして、以下のように示される。
【数３７】
2006505778.tif 000039
さらに、この影響は、式（２２）によって与えられる性質を用いて、より単純な形に変形される。したがって、以下のようになる。
【数３８】
2006505778.tif 000040
【数３９】
2006505778.tif 000041
【数４０】
2006505778.tif 000042
【数４１】
2006505778.tif 000043
【数４２】
2006505778.tif 000044
なお、［ζ１（ｔ）］Ｍは、同時モードの動作において用いるために計算可能である。［ζ１（ｔ）］Ｍの計算は、非フィード・フォワード・モードである。すなわち、式（２８）によって与えられる［ζ１０（ｔ）］Ｍの計とは異なり、加算は、式（３７）のζ１０（ｔ０）およびζ１（ｔ０）から始まる。
【００８３】
ガス屈折度における摂動に対する補正手法の有効性を、同時にテストすることが可能である。その同時テストには、測定対象物の角度変位に関する屈折度の摂動の効果を、２つの異なる手法を用いて決定することが含まれる。第１の手法は、以前に説明した補正手法に基づく。第２の手法は、屈折度の摂動の対応する効果を直接に測定することに基づく。
【００８４】
第１の手法に対しては、平面鏡測定対象物５０の方向の測定に関する屈折度の摂動の効果が、次式のフィルタを用いて求められる。
【数４３】
2006505778.tif 000045
【００８５】
以下のステップを行なうことにより、より簡単な表現になる。
【数４４】
2006505778.tif 000046
【数４５】
2006505778.tif 000047
【数４６】
2006505778.tif 000048
式（４６）の右辺は、以下のように、線形の変位と、非摂動的な屈折度変動および摂動的な屈折度変動との項により記述することが可能である。
【数４７】
2006505778.tif 000049
式（４７）における屈折度の摂動的変動を特徴づける差の項を、式（２８）および（４２）を用いて、以下のように求めることが可能である。
【数４８】
2006505778.tif 000050
【００８６】
屈折度の摂動に依存する項［ζ１０（ｔ）］Ｍ−［ζ１（ｔ）］Ｍは、式（２２）によって与えられる性質を用いて、以下のようなより簡単な形に変形し得る。
【数４９】
2006505778.tif 000051
【００８７】
また［ζ１０（ｔ）］Ｍ−［ζ１（ｔ）］Ｍを、同時モードの動作において用いるために計算してもよい。
【００８８】
式（４９）の右辺の第２項、
【数５０】
2006505778.tif 000052
の平均値はゼロである。式（５０）における項の標準偏差は、以下の通りである。
【数５１】
2006505778.tif 000053
ここで、σζは、ζ１０（ｔ）およびζ１（ｔ）の標準偏差である。これらは同じであると仮定される。
【００８９】
式（４７）のフィルタリング量［ζ１０（ｔ）］Ｍ−［ζ１（ｔ）］Ｍにおいて所定の精度を実現するためになされる鏡５０の方向の補正の精度を、フィルタリング量［ζ１０（ｔ）］Ｍにおいて所定の精度を実現するためになされる鏡５０の方向の補正の精度の場合と同様に、決定することが可能である。特に、式（４７）での鏡５０の方向の変化に対する補正における誤差の影響が、以下の形の項によって導入される。
【数５２】
2006505778.tif 000054
式（５２）によって与えられるフィルタリング量の効果は、周波数に依存する伝達関数を用いる周波数ドメイン解析によって、かつｙ２０（ｔ−ｐ）およびｙ２（ｔ−ｐ）の測定値の統計誤差は相関しないこと仮定した統計解析によって、評価することが可能である。
【００９０】
周波数ドメイン解析の場合、伝達関数を、振幅α、位相φ０である角周波数ωにおける［ｙ２０（ｔ）−ｙ２（ｔ）］の周波数成分ｃｏｓ（ωｔ＋φ０）において、τｓは一定な値、すなわちτｓ＝τであることを仮定して、求めることが可能である。その方向の項のフィルタリングされる周波数成分は、以下のように、閉じた形で表現することが可能である。
【数５３】
2006505778.tif 000055
式（５３）によって表わされる伝達関数を用いて、鏡５０の方向の変化に対する補正における誤差の影響を評価することが可能である。
【００９１】
ｙ２０（ｔ−ｐ）およびｙ２（ｔ−ｐ）の測定値における統計誤差は相関しないこと仮定した統計解析の場合、式（５２）によって表現される項の標準偏差σθｙは、以下のようになる。
【数５４】
2006505778.tif 000056
【００９２】
この統計誤差におけるルート（√）２倍の増加は、ガス乱流効果のバンド幅がデータ捕捉レートと対して比較的に低い周波数（たとえばｃ※１００Ｈｚ）であるという事実を用いることによって、かつ／もしくは統計誤差σｙのサイズを小さくすることによって、相殺することが可能である。ガス乱流効果の比較的小さなバンド幅を用いて、ｙ２０（ｔ−ｐ）およびｙ２（ｔ−ｐ）の測定値を、パス・バンド幅≫空気乱流効果のバンド幅であるロー・パス・フィルタによって、フィルタリングすることが可能である。たとえばｙ２０（ｔ−ｐ）およびｙ２（ｔ−ｐ）の測定値における統計誤差のバンド幅を、１００ＭＨｚのオーダーとすることが可能である。この場合、σｙによるσθｙにおける統計誤差を、数オーダーの大きさだけ低減することが可能である。
【００９３】
第２の手法に対しては、平面鏡測定対象物５０の方向の測定に関する屈折度の摂動の効果は、以下の差から直接に求められる。
【数５５】
2006505778.tif 000057
式（５５）によって与えられる量は、式（４７）によって与えられるフィルタを用いたときに得られる値とは独立な［ζ１０（ｔ）］Ｍ−［ζ１（ｔ）］Ｍの測定に対応する。式（５５）による［ζ１０（ｔ）］Ｍ−［ζ１（ｔ）］Ｍに対して求められる測定値は、屈折度の摂動の効果を直接に測定した値である。したがってこの値を用いて、前述の補正手法を導く際に用いられた仮定の精度を評価することが可能である。式（５５）により［ζ１０（ｔ）］Ｍ−［ζ１（ｔ）］Ｍに対して求められる測定値を用いて、τｐに対する不適切な値がいつ用いられたかを決定することが可能である。
【００９４】
前述の説明では、τｐ（したがってｕ）は、既知のパラメータであると仮定されている（たとえば、測定によって、あるいは数学的なモデルおよびコンピュータ・シミュレーションを用いることによって経験的に決定される）。また前述の説明では、τｐ（したがってｕ）が一定であると仮定されている。しかしながら、現実には、τｐは、時間および／または測定ビーム経路に沿っての位置の関数であり、変化する可能性がある。さらに、τｐの不正確な値は、測定される位相への屈折度の摂動的影響を決定するための前述の手法の精度に、悪影響を与える可能性がある。
【００９５】
τｐに対する不正確な値τ’ｐの影響を、［ζ１０（ｔ）］Ｍに対して評価することが可能である。ここで、
【数５６】
2006505778.tif 000058
であり、
【数５７】
2006505778.tif 000059
なお、ｔ’０＝ｔである。以下のステップを行なうことにより、［ζ１０（ｔ）］†Ｍはより簡単な表現になる。
【数５８】
2006505778.tif 000060
式（２８）によって与えられる結果を取り入れると、
【数５９】
2006505778.tif 000061
式（２２）を用いると、
【数６０】
2006505778.tif 000062
【数６１】
2006505778.tif 000063
【数６２】
2006505778.tif 000064
【数６３】
2006505778.tif 000065
【数６４】
2006505778.tif 000066
【数６５】
2006505778.tif 000067
【数６６】
2006505778.tif 000068
【数６７】
2006505778.tif 000069
τｐに対する適切な値を選択することにより、τ（ｘ１０，ｙ１０，ｔ）のｘ１０変動を考慮する際に、式（６７）における最後の項を１次ではゼロに等しくすることが可能である。τｐに対する適切な値を選択する１つの方法は、式（２２）によって表現されるようなτｐの局所的な定義（local definition）の代わりに、τｐの大域的な定義（global definition ）を選択することである。積分形式で述べると、τｐに対する適切な大域的な定義は、以下を満たすようなτｐの値である。
【数６８】
2006505778.tif 000070
ここで、＜ｄ［ζ１０（ｔｐ）］／ｄｔ＞は、ｄ［ζ１０（ｔｐ）］／ｄｔの２乗平均平方根を表す。式（６８）の大域的な定義を用いると、式（６７）の右辺の最後の項は２次の項、すなわち（τｐ−τ’ｐ）における１次の項と｛ｄ［ζ１０（ｔｐ）］／ｄｔ−＜ｄ［ζ１０（ｔｐ）］／ｄｔ＞｝における１次の項との積、となる。したがって、ζ１０（ｔ）を得るためのフィルタ、すなわち式（２０）は、ｕ（ｘ１，ｙ１，ｔ）が、任意の値の（ｙ１，ｔ）においてｘ１とは独立な量ではなくなることに対して、堅固となることが可能である。
【００９６】
［ζ１（ｔ）］Ｍに関するτｐの場合の不正確な値τ’ｐの影響において、同様の結果が、［ζ１（ｔ）］Ｍに関するτｐの場合の不正確な値τ’ｐの影響を得るために用いられる解析と同種の解析により得られる。
【００９７】
前述の説明では、一連のより早い（場合によっては同時の）位相測定を用いて、測定される位相に対する屈折度の摂動的影響を決定している。一部の実施形態においては、ζ１０（ｙ１０，ｔ）を決定するために積分方程式を利用する解析を用いてもよい。このアプローチでは、屈折度の摂動による影響を、以下のように屈折度の項で記述することが可能である。
【数６９】
2006505778.tif 000071
【数７０】
2006505778.tif 000072
【数７１】
2006505778.tif 000073
ここで、ｘ１における積分はｘ１の測定経路Ｐ１に沿って行われ、またδは屈折度（ｎ−１）である。あるいは、以下のように記述してもよい。
【数７２】
2006505778.tif 000074
【数７３】
2006505778.tif 000075
量τ（ｘ１０，ｙ１０，ｔ）は、たとえば計算流体力学のコード（ＣＤＦ）の結果を用いれば既知であり、［ζ１０（ｙ１０，ｔ）−ζ１（ｙ１，ｔ）］Ｍ２は、次式のように決定される。
【数７４】
2006505778.tif 000076
式（７３）は積分方程式であり、後に反転させて∫Ｐ１０δ（ｘ１０，ｙ１０，ｔ）ｄｘ１０、したがってζ１０（ｙ１０，ｔ）を求める。
【００９８】
１つの反転手法（inversion technique ）においては、式（７３）の右辺は、最低次におけるζ１０（ｙ１０，ｔ）の１次の時間導関数であることに注意されたい。このことは、以下のステップから示される。
【数７５】
2006505778.tif 000077
【数７６】
2006505778.tif 000078
【数７７】
2006505778.tif 000079
式（７２）および（７７）を組み合わせると、次式を得る。
【数７８】
2006505778.tif 000080
式（７８）を用いて、たとえば以下の文献に記載の繰り返しの手続き（iterative procedure ）によって、式（７３）を反転させてもよい。共通所有の米国特許第６，１３７，５７４号明細書、発明の名称「距離測定および分散干渉法における周期誤差の特徴付けおよび補正ためのシステムおよび方法（SYSTEM AND METHOD FOR CHARACTERIZING AND CORRECTING CYCLIC ERRORS IN DISTANCE MEASURING AND DISPERSION INTERFEROMETRY ）」、米国特許第６，２５２，６６８Ｂ１号明細書、発明の名称「干渉計システムにおける非線形性を定量化するためのシステムおよび方法（SYSTEM AND METHOD FOR QUNTIFYING NON-LINEARITIES IN INTERFEROMETRY SYSTEM ）」、および米国特許第６，２４６，４８１号明細書、発明の名称「干渉計システムにおける非線形性を定量化するためのシステムおよび方法（SYSTEM AND METHOD FOR QUNTIFYING NON-LINEARITIES IN INTERFEROMETRY SYSTEM ）」。これら３つはすべて、ヘンリー  Ａ．ヒルによる。なお、上記３つの特許の内容は、本明細書において参照により全体として組み入れられる。式（７３）の反転の結果得られる積分定数は、積分定数の所定の時間間隔に渡った平均がゼロになるように、選択することが可能である。すなわちζ１０（ｙ１０，ｔ）は、選択されるｔ１の値に依存しない。
【００９９】
代替として、あるいは追加として、当該技術分野において既知の他の微分方程式の解法を用いることにより、式（７８）を解くことが可能である。
【０１００】
一部の実施形態においては、屈折度の摂動効果を、積分変換に基づいて決定することが可能である。たとえばζ１０（ｔ）の積分変換を、以下のように定義する。
【数７９】
2006505778.tif 000081
ここでｊは（−１）の平方根（√）である。積分変換Ｉ（ζ１０，ｔ）を、積分変換Ｉ（ζ１，ｔ）の項により記述することが可能である。これは、以下の一連の式において示される。
【数８０】
2006505778.tif 000082
次のステップを続けると、
【数８１】
2006505778.tif 000083
【数８２】
2006505778.tif 000084
τがｘ１に依存しない場合には、以下のようになる。
【数８３】
2006505778.tif 000085
前述の解析（式（６８）に関する説明を参照）の場合と同様に、τがｘ１に依存しないという仮定によって導入される誤差は、２次の項になる。τ（ｘ，ｙ，ｔ）が定数τ０に等しい場合には、式（８３）は以下のように変形される。
【数８４】
2006505778.tif 000086
非同時的な応用例では、データ収集が、対象とする時間の後に行なわれることがあるため、式（８３）における積分の上限ｔを∞まで拡げることが可能である。式（８３）においてｔ⇒∞とすると、積分変換Ｉ（ζ１，ｔ）はフレドホルム積分方程式に帰着する。したがって、以下のようになる。
【数８５】
2006505778.tif 000087
【数８６】
2006505778.tif 000088
【数８７】
2006505778.tif 000089
【数８８】
2006505778.tif 000090
【数８９】
2006505778.tif 000091
【数９０】
2006505778.tif 000092
ここでカーネルＫ（ｔ”，ｔ）は以下の通りである。
【数９１】
2006505778.tif 000093
式（９０）は、第１種のフレッドホルム積分方程式である（たとえば、「基礎物理数学（Mathematical Methods for Physics）」第５版、Ｇ．アルフケン（G.Arfken）およびＨ−Ｊ．ウェバー（H-J.Weber ）著、ハーコート／アカデミック・プレス（Harcourt/Academic Press ）を参照）である。この方程式を用いて、ζ１（ｔ）を、測定量［ζ１０（ｔ）−ζ１（ｔ）］Ｍおよび既知の量τ（ｔ）から計算することが可能である。量τ（ｔ）は、たとえば、計算流体力学のコード（ＣＤＦ）の結果を用いて既知となる。［ζ１０（ｔ）−ζ１（ｔ）］Ｍは、測定される量である。
【０１０１】
次に、ζ１０（ｔ）を決定するフレドホルム積分方程式を構成する。ζ１（ｔ）の積分変換が、式（２２）および（８５）を用いて、以下のように求められる。
【数９２】
2006505778.tif 000094
式（９２）を式（８５）から差し引くと、以下のようになる。
【数９３】
2006505778.tif 000095
【数９４】
2006505778.tif 000096
【数９５】
2006505778.tif 000097
【数９６】
2006505778.tif 000098
【数９７】
2006505778.tif 000099
ここで、
【数９８】
2006505778.tif 000100
式（９７）は第１種のフレドホルム積分方程式である（たとえば「基礎物理数学」、Ｇ．アルフケンおよびＨ−Ｊ．ウェバー著を参照）。この方程式を用いて、ζ１０（ｔ）を、測定量［ζ１０（ｔ）−ζ１（ｔ）］および既知の量τ（ｔ）から計算することが可能である。τ（ｔ）の値は、たとえば、前述したように計算流体力学のコード（ＣＤＦ）の結果を用いて、既知となる。
【０１０２】
ζ１（ｔ）およびζ１０（ｔ）の値は、式（９０）および（９７）の反転からそれぞれ求められるが、これらの値を用いて、非同時モードの応用例におけるガス乱流の効果を補正することが可能である。非同時モードの応用例は、たとえばアラインメント・マーク位置を決定する際に生じ得るものである。
【０１０３】
ウェハ・ステージの実際の位置および／もしくは角度方向、ならびに／または測定される位置および／もしくは角度方向における屈折度の摂動の効果が、前述したように、ウェハ・ステージ上に配置されるウェハ上のオーバーレイの精度に影響する場合がある。オーバーレイを作製する際に用いられるアラインメント・マークの決定の精度も、屈折度の摂動の効果を受ける。アラインメント・マークの位置は、リソグラフィ・ツール内においてアラインメント・スコープによって決定される。アラインメント・スコープが軸外に配置される場合、すなわちアラインメント・スコープとともに用いられる干渉計システムの測定軸からずれている場合には、ウェハ・ステージの測定されるおよび実際の角度方向での屈折度の摂動によって、アラインメント・マークの位置での屈折度の摂動が生じる。これは、軸外アラインメント・スコープおよび干渉計システムによって決定される。
【０１０４】
決定されたアラインメント・マークの位置における屈折度の摂動の効果は一般に、アラインメント・スコープが、干渉計システムの軸からずれているときには、ステージの角度方向での変化を決定するために用いられる個々の線形変位干渉測定における屈折度の摂動の効果よりも大きい。前述の方法を用いて、アラインメント・マーク位置を決定する際の屈折度の摂動の効果を減らすことが可能である。
【０１０５】
前述した多軸干渉計は、非オーバーラップ経路を伴う測定ビームを生成するが、本明細書において開示される方法を、（たとえば、オーバーラップする測定ビーム経路を有するような）他の測定ビーム経路配置を生成する多軸干渉計に拡張することは可能である。たとえば、図３を参照すると、多軸干渉計３００は、オーバーラップする経路を有する２つの測定ビーム３０１および３０２を生成する。多軸干渉計３００によって、同延の測定軸に沿っての再帰性反射体の測定対象物３１０の線形変位が測定される。
【０１０６】
多軸干渉計には、偏光ビーム・スプリッティング・インターフェース３２０、基準再帰性反射体３３０、２つの検出器３５０および３６０が含まれる。非偏光ビーム・スプリッタ３１８および鏡３１９によって、初期ビーム３０５から２つの入力ビームが得られる。分析器３５１および３６１はそれぞれ、出射ビーム３１１および３１２の偏光状態を、それらの検出前にサンプリングする。
【０１０７】
矢印３９９によって示されるガス流方向は、個々の測定ビーム経路の方向に概ね直交する。そのため、（たとえば、乱流ガス・セルによる）屈折度の摂動が、第１の測定ビーム経路の第１のコンポーネントを通過した後に、第２の干渉計の２つの測定ビーム・コンポーネントを通過し、さらに、第１の干渉計の測定ビームの第２のコンポーネントを通過する。単一波長の２つの干渉計の測定された光路長の差に関する屈折度の摂動の効果を処理して、屈折度の摂動の効果に対する補正を、測定された光路長に対して行なう。
【０１０８】
測定された屈折度の摂動の効果の処理には、前述した手法を適合させることを含めることが可能である。たとえば、（７３）を本実施形態に適合させると、以下の形をとる。
【数９９】
2006505778.tif 000101
ここで、τ１およびτ２は、ガス・セルが、（ｘ３１，ｙ３１，ｔ）におけるビームから（ｘ４１，ｙ４１，ｔ）におけるビームへ、および（ｘ２１，ｙ２１，ｔ）におけるビームから（ｘ３１，ｙ３１，ｔ）におけるビームへ、それぞれ移動するときの走行時間である。ビーム経路の対称性によって、ガス・セルが（ｘ３１，ｙ３１，ｔ）におけるビームから（ｘ４１，ｙ４１，ｔ）におけるビームへ移動する際の時間間隔は、ガス・セルが（ｘ１１，ｙ１１，ｔ）におけるビームから（ｘ２１，ｙ２１，ｔ）におけるビームへ移動する際の時間と同じである。（ｙ４１，ｔ），（ｙ３１，ｔ），（ｙ２１，ｔ），（ｙ１１，ｔ）におけるビームに対するガス乱流効果は、それぞれ、ζ４１（ｘ４１，ｙ４１，ｔ），ζ３１（ｙ３１，ｔ），ζ２１（ｙ２１，ｔ），ζ１１（ｙ１１，ｔ）である。
【０１０９】
量τ１およびτ２は、たとえば、計算流体力学のコード（ＣＤＦ）の結果を用いて、決定され、［ζ４１（ｙ４１，ｔ）−ζ３１（ｙ３１，ｔ）−ζ２１（ｙ２１，ｔ）＋ζ１１（ｙ１１，ｔ）］Ｍ２は測定される量である。式（９９）は積分方程式であり、後に反転させてζ４１（ｙ４１，ｔ）を求めることが可能である。
【０１１０】
式（７８）と同様に、式（９９）の右辺は、最低次において、ζ４１（ｙ４１，ｔ）の２次の時間導関数である。他の変換を構成することにより、前述の変換と同様に屈折度の摂動の効果を決定し得る。
【０１１１】
本明細書で記載した干渉法の手法の実施形態には、他の誤差源の影響に対する補正を含み得る。たとえば、周期的な非線形誤差の影響を、本発明の実施形態において、たとえば以下の文献に記載されるような手法によって低減することが可能である。共通所有の米国特許出願第１０／０９７，３６５号明細書、発明の名称「平均的な干渉計測値での周期誤差の低減（CYCLIC ERROR REDUCTION IN AVERAGE INTERFEROMETRIC MEASUREMENTS）」、および米国特許出願第１０／６１６，５０４号明細書、発明の名称「干渉計システムにおける周期誤差の補正（CYCLIC ERROR COMPENSATION IN INTERFEROMETRY SYSTEMS ）」。両文献ともヘンリー  Ａ．ヒルによる。なお、これらの文献の内容は、本明細書において参照により全体として組み入れられる。
【０１１２】
説明したシステムに含め得る他の周期誤差の補正手法の一例が、以下の文献に記載されている。ヘンリー  Ａ．ヒルによる共通所有の米国特許出願第１０／２８７，８９８号である米国特許出願公開第２００３−００９５２６５−Ａ１号明細書、発明の名称「干渉法の周期誤差の補正（INTERFEROMETRIC CYCLIC ERROR COMPENSATION ）」。なお、この文献の内容は、本明細書において参照により全体として組み入れられる。
【０１１３】
周期誤差の補正手法のさらなる例が、以下の文献に記載されている。ヘンリー  Ａ．ヒルおよびピータ・デ・グルート（Peter de Groot）による共通所有の米国特許出願第１０／１７４，１４９号である米国特許出願公開第２００３０００７１５６号明細書、発明の名称「直交偏光入力ビーム成分間の伝播における角度差を用いる干渉計システムおよび方法（INTERFEROMETRY SYSTEM AND METHOD EMPLOYING AN ANGULAR DIFFERENCE IN PROPAGATION BETWEEN ORTHOGONALLY POLARIZED INPUT BEAM COMPONENTS）」（２００３年１月９日出願）。なお、この文献の内容は、本明細書において参照により全体として組み入れられる。
【０１１４】
説明したシステムに含め得る周期誤差の補正手法の別の例が、以下の文献に記載されている。ヘンリー  Ａ．ヒルによる共通所有の米国特許出願第１０／２１８，９６５号である米国特許出願公開第２００３００３８９４７号明細書、発明の名称「傾斜干渉計（TILTED INTERFEROMETER ）」（２００３年２月２７日出願）。なお、この文献の内容は、本明細書において参照により全体として組み入れられる。
【０１１５】
周期誤差の補正の手法のさらなる例には、以下の文献で記載されているものが含まれる。前述の米国特許第６，１３７，５７４号明細書、米国特許第６，２５２，６６８Ｂ１号、および米国特許第６，２４６，４８１号明細書。なお、これらの文献の内容は、本明細書において参照により全体として組み入れられる。
【０１１６】
本明細書において説明される干渉計システムおよび方法によって、高精度の測定が提供される。このようなシステムおよび方法は、コンピュータ・チップ等のような大規模集積回路を作製する際に用いられるリソグラフィの用途において特に有用である。リソグラフィは、半導体製造業界における重要な技術要素である。オーバーレイの改善は、１００ｎｍまで下がったおよびそれ未満のライン幅（設計ルール）における最も困難な５つの課題のうちの１つである。たとえば、半導体業界ロードマップ（Semiconductor Industry Roadmap）、ｐ．８２（１９９７）を参照されたい。
【０１１７】
オーバーレイは、ウェハおよびレチクル（またはマスク）ステージを位置決めする際に用いられる距離測定干渉計の性能、すなわち精度および正確性に、直接に依存する。リソグラフィ・ツールによって年間５千万から１億ドルの製品が生成され得るため、距離測定干渉計の性能が改善されることからの経済的価値は計り知れない。リソグラフィ・ツールの歩留まりが１％増加する度に、集積回路製造業者には、年間約１００万ドルの経済的な利益がもたらされ、実質的な競争力のある優位性がリソグラフィ・ツール業者にもたらされる。
【０１１８】
リソグラフィ・ツールの機能は、空間的にパターニングされた放射線を、フォトレジスト・コーティングされたウェハ上に送ることである。プロセスに含まれるのは、ウェハのどの位置が放射線を浴びるのかを決定すること（アラインメント）と、放射をフォトレジストのその位置に加えること（露光）である。
【０１１９】
ウェハを適切に位置決めするために、ウェハ上には、専用のセンサによって可能なアラインメント・マークが含まれている。そのアラインメント・マークの測定位置によって、ツール内でのウェハの位置が決定される。この情報は、ウェハ表面の所望するパターニングの仕様とともに、空間的にパターニングされた放射線に対するウェハのアラインメントを誘導する。このような情報に基づいて、フォトレジストで被覆されたウェハを支持する並進可能なステージは、放射線がウェハの正確な位置を露光するように、ウェハを移動させる。
【０１２０】
露光の間、放射線源によって、パターニングされたレチクルが照射される結果、放射線は散乱されて、空間的にパターニングされた放射線が生成される。レチクルはマスクとも言われる。以下、これらの用語を同義語として用いる。縮小リソグラフィの場合は、縮小レンズによって、散乱された放射線は集められて、レチクル・パターンの縮小画像が形成される。あるいは、近接転写の場合には、散乱放射線は短距離（通常はミクロンのオーダー）を伝播するのみであるため、レチクル・パターンの１：１画像を形成される。放射線によって、光化学プロセスがレジスト内で開始され、その結果、放射線のパターンが変換されてレジスト中の潜像になる。
【０１２１】
干渉計システムは、ウェハおよびレチクルの位置を制御してウェハ上のレチクル画像を位置合わせする位置決めメカニズムの、重要なコンポーネントである。このような干渉計システムに前述の特徴が含まれる場合には、距離測定への周期誤差の影響は最小限に抑えられ、システムが測定する距離の精度が向上する。
【０１２２】
一般的に、露光システムとも呼ばれるリソグラフィ・システムには通常、照射システムおよびウェハ位置決めシステムが含まれる。照射システムに含まれるのは、紫外線、可視光線、ｘ線、電子、またはイオン放射線などの放射線を供給するための放射線源、ならびにその放射線にパターンを与えるためのレチクルまたはマスクであり、その結果、空間的にパターニングされた放射線が発生する。加えて、縮小リソグラフィの場合には、照射システムには、空間的にパターニングされた放射線をウェハ上に結像するためのレンズ・アセンブリを含み得る。結像された放射線によって、ウェハ上に被覆されたレジストが露光される。また照射システムには、マスクを支持するためのマスク・ステージと、マスクを通して送られる放射線に対してマスク・ステージの位置を調整する位置決めシステムとが、含まれる。ウェハ位置決めシステムには、ウェハを支持するためのウェハ・ステージと、結像された放射線に対してウェハ・ステージの位置を調整するための位置決めシステムとが、含まれる。集積回路の作製には、多重露光ステップを含まれ得る。リソグラフィについての一般的な参考文献としては、たとえば、以下の文献を参照されたい。Ｊ．Ｒ．シーツ（J.R.Sheats）およびＢ．Ｗ．スミス（B.W.Smith ）「マイクロリソグラフィ：科学および技術（Microlithography: Science and Technology）」（マーセル・デッカー（Marcel Dekker ）社、ニューヨーク、１９９８年）。なお、この文献の内容は本明細書において参照により組み入れられる。
【０１２３】
前述の干渉計システムを用いて、ウェハ・ステージおよびマスク・ステージのそれぞれの位置を、露光システムの他のコンポーネント、たとえばレンズ・アセンブリ、放射線源、または支持構造に対して、正確に測定することが可能である。このような場合、干渉計システムを、固定構造に取り付けて、測定対象物を可動構成要素、たとえばマスクおよびウェハ・ステージの一方に取り付ければよい。あるいは状況を逆にして、干渉計システムを可動対象物に取り付け、測定対象物を、固定対象物に取り付けてもよい。
【０１２４】
より一般的には、このような干渉計システムを用いて、露光システムの任意の１つのコンポーネントの位置を、露光システムの任意の他のコンポーネントに対して、測定することが可能である。この場合、干渉計システムが、コンポーネントの１つに取り付けられるかまたはこれによって支持され、および測定対象物が他のコンポーネントに取り付けられるかまたはこれによって支持される。
【０１２５】
図４に、干渉計システム１１２６を用いるリソグラフィ・スキャナ１１００の一例を示す。干渉計システムを用いて、露光システム内のウェハ（図示せず）の位置が正確に測定される。ここでは、ステージ１１２２を用いて、ウェハを、露光ステーションに対して位置決めして支持する。スキャナ１１００には、他の支持構造とこれらの構造上に保持される種々のコンポーネントとを保持するフレーム１１０２が、含まれる。露光ベース１１０４の上部には、レンズ・ハウジング１１０６がマウントされている。レンズ・ハウジング１１０６の上部には、レチクルまたはマスク・ステージ１１１６がマウントされている。レチクルまたはマスク・ステージ１１１６は、レチクルまたはマスクを支持するために用いられる。露光ステーションに対してマスクを位置決めする位置決めシステムを、概略的に構成要素１１１７によって示す。位置決めシステム１１１７には、たとえば圧電変換器の構成要素および対応する制御エレクトロニクスを含めてもよい。この説明した実施形態には含まれていないが、前述した干渉計システムの１つまたは複数個用いて、マスク・ステージだけでなく、リソグラフィ構造を作製するプロセスにおいて位置を正確にモニタしなければならない他の可動構成要素の位置も、正確に測定することが可能である（前述のシーツおよびスミス、「マイクロリソグラフィ：科学および技術」を参照）。
【０１２６】
露光ベース１１０４下方には、ウェハ・ステージ１１２２を保持する支持ベース１１１３が吊り下げされている。ステージ１１２２には、干渉計システム１１２６によってステージに送られる測定ビーム１１５４を反射する平面鏡１１２８が含まれる。ステージ１１２２を、干渉計システム１１２６に対して位置決めするための位置決めシステムを、概略的に構成要素１１１９によって示す。位置決めシステム１１１９には、たとえば圧電変換器の構成要素および対応する制御エレクトロニクスを含めてもよい。測定ビームは反射して、露光ベース１１０４上にマウントされる干渉計システムに戻る。干渉計システムは、前述した実施形態のいずれであっても構わない。
【０１２７】
動作の間に、放射線ビーム１１１０、たとえばＵＶレーザ（図示せず）からの紫外線（ＵＶ）ビームは、ビーム成形光学アセンブリ１１１２を通過し、鏡１１１４から反射した後に、下方に移動する。その後、放射線ビームは、マスク・ステージ１１１６に保持されるマスク（図示せず）を通過する。マスク（図示せず）は、ウェハ・ステージ１１２２上のウェハ（図示せず）上に、レンズ・ハウジング１１０６内に保持されるレンズ・アセンブリ１１０８を介して、結像される。ベース１１０４およびこれが支持する種々のコンポーネントは、環境の振動から、バネ１１２０によって表される制動システムを介して隔離される。
【０１２８】
リソグラフィ・スキャナの他の実施形態においては、前述した干渉計システムの１つまたは複数を用いて、たとえば（しかしこれらに限定されないが）ウェハおよびレチクル（またはマスク）ステージに付随する、複数の軸および角度に沿っての距離を測定する。またＵＶレーザ・ビーム以外の、他のビームを用いてウェハを露光することも可能である。たとえば、Ｘ線ビーム、電子ビーム、イオン・ビーム、および可視光線ビームである。
【０１２９】
一部の実施形態においては、リソグラフィ・スキャナに、当該技術分野においてコラム基準（column reference）として知られるものを含めることが可能である。このような実施形態においては、干渉計システム１１２６から基準ビーム（図示せず）が、放射線ビームを送る何らかの構造たとえばレンズ・ハウジング１１０６上にマウントされる基準鏡（図示せず）と接触する外部基準経路に沿って、送られる。基準鏡は、基準ビームを反射して、干渉計システムに戻す。干渉信号が干渉計システム１１２６によって生成されるのは、ステージ１１２２から反射される測定ビーム１１５４と、レンズ・ハウジング１１０６上にマウントされる基準鏡から反射される基準ビームとを組み合わせた時であり、それによって、放射線ビームに対するステージ位置の変化が示される。さらに他の実施形態においては、干渉計システム１１２６を、レチクル（またはマスク）ステージ１１１６、またはスキャナ・システムの他の可動コンポーネントの位置の変化を測定するように、位置決めすることが可能である。最後に、干渉計システムを、スキャナに加えて、もしくはスキャナよりもむしろステッパを含むリソグラフィ・システムにおいても同様の方法で用いることが可能である。
【０１３０】
当該技術分野において良く知られているように、リソグラフィは、半導体デバイスを作る製造方法の重要な部分である。たとえば米国特許第５，４８３，３４３号明細書に、このような製造方法に対するステップの概要が述べられている。以下、図５Ａおよび５Ｃを参照して、これらのステップについて説明する。図５Ａは、半導体チップ（たとえば、ＩＣまたはＬＳＩ）、液晶パネル、またはＣＣＤのような半導体デバイスを製造する手順を示すフロー・チャートである。ステップ１１５１は、半導体デバイスの回路を設計するための設計プロセスである。ステップ１１５２は、回路パターン設計に基づいてマスクを製造するためのプロセスである。ステップ１１５３は、シリコンのような材料を用いることによってウェハを製造するためのプロセスである。
【０１３１】
ステップ１１５４は、前処理と呼ばれるウェハ・プロセスである。ここでは、前述のように用意されたマスクおよびウェハを用いて、回路をウェハ上にリソグラフィを通して形成する。ウェハ上に、マスク上のパターンが有する十分な空間分解能に対応する回路を形成するためには、ウェハに対するリソグラフィ・ツールの干渉法による位置決めが必要である。本明細書において説明される干渉法およびシステムは、ウェハ・プロセスで用いられるリソグラフィの有効性を向上させることに対して、特に有用であり得る。
【０１３２】
ステップ１１５５は、後処理と呼ばれる組み立てステップである。ここでは、ステップ１１５４によって処理されたウェハが、半導体チップ内に形成される。このステップには、組み立て（ダイシングおよびボンディング）およびパッケージング（チップの封入）が含まれる。ステップ１１５６は検査ステップである。ここでは、ステップ１１５５によって形成された半導体デバイスの操作性チェック、耐久性チェックなどが行なわれる。これらのプロセスによって、半導体デバイスが完成し、そして出荷される（ステップ１１５７）。
【０１３３】
図５Ｂは、ウェハ・プロセスの詳細を示すフロー・チャートである。ステップ１１６１は、ウェハの表面を酸化させるための酸化プロセスである。ステップ１１６２は、ウェハ表面上に絶縁膜を形成するためのＣＶＤプロセスである。ステップ１１６３は、蒸着によってウェハ上に電極を形成するための電極形成プロセスである。ステップ１１６４は、ウェハにイオンを注入するためのイオン注入プロセスである。ステップ１１６５は、ウェハにレジスト（感光材料）を塗布するためのレジスト・プロセスである。ステップ１１６６は、前述したように、露光（すなわち、リソグラフィ）によって、マスクの回路パターンをウェハ上に、露光装置を通して印刷するための露光プロセスである。今度の場合も、前述したように、本明細書において説明される干渉計システムおよび方法を用いることによって、このようなリソグラフィ・ステップの精度および分解能は向上する。
【０１３４】
ステップ１１６７は、露光されたウェハを現像するための現像プロセスである。ステップ１１６８は、現像されたレジスト画像以外の部分を除去するためのエッチング・プロセスである。ステップ１１６９は、エッチング・プロセスを受けた後にウェハ上に残っているレジスト材料を分離するためのレジスト分離プロセスである。これらのプロセスを繰り返すことによって、ウェハ上に回路パターンが形成されて重ね合わせられる。
【０１３５】
また前述した干渉計システムを、対象物の相対的な位置を正確に測定する必要がある他の応用例において用いることも可能である。たとえば、書き込みビームたとえばレーザー、Ｘ線、イオン、または電子ビームによって、基板上にパターンが、基板またはビームが移動する際にマーキングされる応用例では、干渉計システムを用いて、基板と書き込みビームとの間の相対移動を測定することが可能である。
【０１３６】
一例として、図６に、ビーム書き込みシステム１２００の概略図を示す。供給源１２１０によって、書き込みビーム１２１２が生成され、ビーム集束アセンブリ１２１４によって、放射線ビームが、可動式ステージ１２１８によって支持される基板１２１６に送られる。ステージの相対的な位置を決定するために、干渉計システム１２２０から、基準ビーム１２２２が、ビーム集束アセンブリ１２１４上にマウントされる鏡１２２４に送られ、また測定ビーム１２２６が、ステージ１２１８上にマウントされる鏡１２２８に送られる。基準ビームは、ビーム集束アセンブリ上にマウントされる鏡に接触するため、このビーム書き込みシステムは、コラム基準を用いるシステムの一例である。前述した干渉計システムのうちのいずれか干渉計システム１２２０になり得る。干渉計システムによって測定される位置の変化は、基板１２１６上の書き込みビーム１２１２の相対的な位置の変化に対応する。干渉計システム１２２０から、測定信号１２３２が制御器１２３０に送られる。測定信号１２３２は、基板１２１６上での書き込みビーム１２１２の相対的な位置を示す。制御器１２３０から出力信号１２３４が、ステージ１２１８を支持し位置決めするベース１２３６に送られる。加えて、制御器１２３０から、信号１２３８が供給源１２１０に送られて、書き込みビーム１２１２の強度が変えられるかまたはブロックされる。その結果、書き込みビームが基板に、基板の選択位置においてのみ光物理的または光化学的変化を起こすのに十分な強度で接触する。
【０１３７】
さらに一部の実施形態においては、制御器１２３０がビーム集束アセンブリ１２１４に作用して、書き込みビームを基板の領域上で走査させることが、たとえば信号１２４４を用いて可能である。その結果、制御器１２３０からシステムの他のコンポーネントに命令が出て、基板はパターニングされる。パターニングは通常、制御器内に記憶される電子設計パターンに基づく。一部の応用例では、書き込みビームによって、基板上に被覆されたレジストがパターニングされる。また他の応用例では、書き込みビームによって直接に、たとえばエッチングのように、基板はパターニングされる。
【０１３８】
このようなシステムの重要な応用例は、前述したように、リソグラフィ方法において用いられるマスクおよびレチクルの作製である。たとえば、リソグラフィ・マスクを作製するために、電子ビームを用いて、クロムが被覆されたガラス基板をパターニングすることが可能である。このような、書き込みビームが電子ビームである場合には、ビーム書き込みシステムの電子ビーム経路は真空中に密閉される。また書き込みビームが、たとえば電子ビームまたはイオン・ビームである場合には、ビーム集束アセンブリには、真空下で荷電粒子を集束して基板上に送るための電界発生器たとえば四重極レンズが、含まれる。他の場合として、書き込みビームが放射線ビーム、たとえばＸ線、ＵＶ、または可視放射線である場合には、ビーム集束アセンブリには、放射線を集束して基板に送るための対応する光学素子が含まれる。
【０１３９】
本発明の多くの実施形態について、説明した。それにもかかわらず、本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく種々の変更を施してもよいことが理解される。たとえば、説明した実施形態においては、共通の光学部品を用いる多軸干渉計が含まれているが、他の実施形態においては、多軸干渉計に、適切に構成された複数の単軸干渉計が含まれ、それぞれ別個の光学部品を有するようにすることも可能である。したがって他の実施形態も、添付の特許請求の範囲内である。
【０１４０】
尚、国際出願の英文明細書中にＪＩＳコードで表記できない箇所があったため、この翻訳文では代替表記を使用した、具体的には、下線をつけた文字φ，τは、国際出願の明細書ではφ，τの上に「チルダ」を付けて表現されていたが、便宜上、翻訳文では下線を付けて表現した。また、ｃ※は、国際出願の明細書における、
【数１００】
2006505778.tif 000102
を代替表記したものである。
【図面の簡単な説明】
【０１４１】
【図１Ａ】ステージをモニタするための干渉計システムを含むシステムを示す概略図。
【図１Ｂ】干渉計システムおよびステージを示す斜視図。
【図２】多軸干渉計の実施形態の概略図。
【図３】多軸干渉計の別の実施形態の概略図。
【図４】干渉計を含むリソグラフィ・ツールの実施形態の概略図。
【図５Ａ】集積回路を製造するためのステップを記述するフロー・チャート。
【図５Ｂ】集積回路を製造するためのステップを記述するフロー・チャート。
【図６】干渉計システムを含むビーム書き込みシステムの概略図。
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【国際調査報告】
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