(57)【要約】制御装置による機械のユニットの温度調節方法を提供する。それぞれの温度測定値が制御区間に相互に懸隔して配置された２つの測定位置で求められる。各測定値は制御装置内でカスケード接続された２つの制御回路へ供給される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御区間（０２）に相互に懸隔して配置された２つの測定位置（Ｍ１；Ｍ２；Ｍ３；Ｍ４；Ｍ５）でそれぞれの温度測定値（θ１；θ２；θ３；θ４；θ５）を求め、各測定値（θ１；θ２；θ３；θ４；θ５）を制御装置（２１）内でカスケード接続された２つの制御回路へ供給する
ことを特徴とする制御装置による機械のユニット（０１）の温度調節方法。
【請求項２】
温度調節を行う流体の供給位置（１６）での温度を制御装置（２１）により調整し、その流体を供給位置（１６）の後方の順流区間（１２）に沿ってユニット（０１）へ供給する、請求項１記載の方法。
【請求項３】
第１の測定値（θ１）を供給位置の近傍で、第２の測定値（θ２；θ３；θ４）をユニットの近傍で求める、請求項１記載の方法。
【請求項４】
流体の供給位置（１６）での温度を制御装置（２１）により調整し、さらにこれを供給位置（１６）の後方の順流区間（１２）に沿ってユニット（０１）へ供給する
流体による機械のユニットの温度調節方法において、
供給位置（１６）からユニット（０１）までの制御区間（０２）の経路上、少なくとも２つの測定位置（Ｍ１；Ｍ２；Ｍ３）でそれぞれの温度測定値（θ１；θ２；θ３）を測定し、これらを共通の制御装置（２１）へ供給し、
第１の測定値（θ１）を供給位置の近傍で、第２の測定値（θ２；θ３）をユニットの近傍で求める
ことを特徴とする流体による機械のユニットの温度調節方法。
【請求項５】
第１の測定値（θ１）を供給位置（１６）の後方から流体を圧送する駆動機構（１１）の前方までのあいだの流体温度として測定する、請求項３または４記載の方法。
【請求項６】
第２の測定値（θ２）を流体がユニット（０１）へ流れる順流区間での流体温度として測定し、第２の測定位置（Ｍ２）を流体の走行時間で見て供給位置（１６）から冷却を行うべき目的地（２２）までの区間の１／２よりも離れた点に配置する、請求項３または４記載の方法。
【請求項７】
測定値のうち１つを制御装置（２１）のうちカスケード接続された２つの制御回路へ供給する、請求項４記載の方法。
【請求項８】
少なくとも２つの制御回路のうち内側のものの調整命令（Δ）をアクチュエータ（０７）に作用させ、少なくとも２つの制御回路のうち外側のものの出力量（ｄθ１）を内側の制御回路に対する補正目標値（θ１，ｓｏｌｌ，ｋ）の形成に用いる、請求項１または７記載の方法。
【請求項９】
少なくとも内側の制御回路に対する補正目標値（θ１，ｓｏｌｌ，ｋ）を形成するために理論的目標値（θ’１，ｓｏｌｌ）を用い、該理論的目標値を制御区間（０２）で予測される加熱損失または冷却損失を考慮するための熱流のプリコントロール素子（ＶＷＦ）において形成する、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも外側の制御回路に対する補正目標値（θ１，ｓｏｌｌ，ｋ）を形成するために走行時間および／または時定数のプリコントロール（ＶＬＺ）を行う、請求項８記載の方法。
【請求項１１】
少なくとも２つの制御回路に対する補正目標値（θ１，ｓｏｌｌ，ｋ）を形成するために予測素子（ＶＶＨ）を用いて意図的に過度の大きさの予調整を行う、請求項８記載の方法。
【請求項１２】
少なくとも内側の制御回路に対する補正目標値（θ１，ｓｏｌｌ，ｋ）を形成するために機械回転数のプリコントロール（ＶＤＺ）を行う、請求項８記載の方法。
【請求項１３】
少なくとも内側の制御回路に対する補正目標値（θ１，ｓｏｌｌ，ｋ）を形成するために増大量制限器を用いてアクチュエータ特性のプリコントロール（ＶＡＢ）を行う、請求項８記載の方法。
【請求項１４】
第１〜第３の測定位置（Ｍ１；Ｍ２；Ｍ３；Ｍ４）での温度を求め、それぞれの値を制御装置（２１）内でカスケード接続された３つの制御回路へ供給する、請求項１または７記載の方法。
【請求項１５】
第２の測定値（θ２）をユニット（０１）への流入口での流体温度として求める、請求項３または４または１４記載の方法。
【請求項１６】
流体の順流区間（１２）での温度を流体を圧送する駆動機構（１１）の後方で測定する、請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
第３の測定値（θ３）をユニット温度として求める、請求項３または１４記載の方法。
【請求項１８】
第３の測定値（θ３）をユニット（０１）からの流出口の直接後方での流体温度として求める、請求項３または１４記載の方法。
【請求項１９】
流体を少なくとも部分的に第１の回路で循環させ、第２の回路からの流体をバルブとして構成されたアクチュエータ（０７）を介して調量することにより温度調節を行う、請求項８記載の方法。
【請求項２０】
流体を一方の回路で循環させ、出力調整部として構成されたアクチュエータ（０７）を介して加熱機構または冷却機構を作動させることにより温度調節を行う、請求項８記載の方法。
【請求項２１】
カスケード接続された少なくとも２つの制御回路を有しており、該制御回路へ、制御区間（０２）内に相互に懸隔して配置された２つの測定位置（Ｍ１；Ｍ２；Ｍ３；Ｍ４；Ｍ５）で得られたそれぞれの温度測定値（θ１；θ２；θ３；θ４；θ５）が供給される
ことを特徴とする機械のユニット（０１）の温度の制御装置。
【請求項２２】
少なくとも２つの制御回路のうち内側のものの出力信号が調整命令（Δ）としてアクチュエータ（０７）へ供給され、少なくとも２つの制御回路のうち外側のものの出力量（ｄθ１）が内側の制御回路の入力側へ供給される、請求項２１記載の制御装置。
【請求項２３】
少なくとも内側の制御回路に対して目標値形成の際に制御区間（０２）で予測される加熱損失または冷却損失を考慮した理論的目標値（θ’１，ｓｏｌｌ）を形成するプリコントロール素子（ＶＷＦ，ｉ）が設けられている、請求項２２記載の制御装置。
【請求項２４】
少なくとも外側の制御回路に対して目標値形成の際に予測される流体の走行時間および／または等価時定数（ＶＬＺ）を考慮するプリコントロール素子（ＶＬＺ）が設けられている、請求項２２記載の制御装置。
【請求項２５】
少なくとも２つの制御回路に対してそれぞれ、目標値形成の際に意図的に過度の大きさの調整を行う予測素子（ＶＶＨ，ｉ）が設けられている、請求項２２記載の制御装置。
【請求項２６】
少なくとも内側の制御回路に対して目標値形成の際に機械回転数を考慮するプリコントロール素子（ＶＤＺ）が設けられている、請求項２２記載の制御装置。
【請求項２７】
少なくとも内側の制御回路に対して目標値形成の際にアクチュエータ特性を考慮するプリコントロール素子（ＶＡＢ）が設けられている、請求項２２記載の制御装置。
【請求項２８】
カスケード接続された３つの制御回路を有しており、該制御回路へ、制御区間（０２）内に相互に懸隔して配置された３つの測定位置（Ｍ１；Ｍ２；Ｍ３；Ｍ４；Ｍ５）のそれぞれの測定値（θ１；θ２；θ３；θ４；θ５）が供給される、請求項２１記載の制御装置。
【請求項２９】
制御回路はＰＩ制御器として構成された制御器（Ｒ１；Ｒ２；Ｒ３）を有する、請求項２１または２８記載の制御装置。
【請求項３０】
少なくとも１つの制御回路が走行時間ベースの制御器として構成された制御器（Ｒ１；Ｒ２；Ｒ３）を有する、請求項２１または２８記載の制御装置。
【請求項３１】
流体の供給位置（１６）での温度が可変であり、またその流体が供給位置（１６）の後方に配置された順流区間（１２）に沿ってユニット（０１）へ供給される
流体による機械のユニット（０１）の温度調節装置において、
供給位置（１６）からユニット（０１）までの制御区間（０２）の経路上に少なくとも２つの測定位置（Ｍ１；Ｍ２；Ｍ３）が配置されており、
第１の測定位置（Ｍ１）が供給位置の近傍に、第２の測定位置（Ｍ２）がユニットの近傍に配置されている
ことを特徴とする流体による機械のユニットの温度調節装置。
【請求項３２】
第１の測定位置（Ｍ１）は供給位置（１６）の後方から流体を圧送する駆動機構（１１）の前方までのあいだに配置されている、請求項３１記載の装置。
【請求項３３】
第２の測定位置（Ｍ２）は流体を圧送する駆動機構（１１）と冷却を行うべき目的地（２２）とのあいだに配置されている、請求項３１記載の装置。
【請求項３４】
第２の測定位置（Ｍ２）は順流区間（１２）でユニット（０１）への流体の流入口の前方に配置されている、請求項３３記載の装置。
【請求項３５】
２つの測定位置（Ｍ１；Ｍ２）の各測定値（θ１；θ２；θ３）は共通の制御装置（２１）へ供給される、請求項３１記載の装置。
【請求項３６】
制御装置（２１）は請求項１８から２５までのいずれか１項記載の制御装置である、請求項３５記載の装置。
【請求項３７】
第１の測定位置（Ｍ１）は供給位置（１６）から流体の走行時間で見て最大２秒までの点に配置されている、請求項３１記載の装置。
【請求項３８】
第２の測定位置（Ｍ２）は流体の走行時間で見て供給位置（１６）から目的地（２２）までの区間の１／２の点よりも離れた点に配置されている、請求項３１記載の装置。
【請求項３９】
第３の測定位置（Ｍ３）がユニット温度を求めるために設けられており、その測定値が請求項２５記載の制御装置（２１）へ供給される、請求項３１記載の装置。
【請求項４０】
第１の測定位置（Ｍ１）は供給位置（１６）とポンプ（１７）とのあいだに配置されている、請求項３１記載の装置。
【請求項４１】
供給位置（１６）と第１の測定位置（Ｍ１）とのあいだに渦流室（１７）が配置されている、請求項３１記載の装置。
【請求項４２】
ユニット（０１）は印刷機のローラまたは版胴として構成されていることを特徴とする請求項１または４記載の温度調節方法、請求項２１記載の制御装置、または請求項３１記載の温度調節装置。
【請求項４３】
ユニット（０１）は乾式オフセット印刷機のローラまたは版胴として構成されていることを特徴とする請求項１または４記載の温度調節方法、請求項２１記載の制御装置、または請求項３１記載の温度調節装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は請求項１，４の上位概念に記載の温度調節方法、請求項２１の上位概念に記載の制御装置および請求項３１の上位概念に記載の温度調節装置に関する。
【０００２】
独国公開第４４２９５２０号公報によれば、印刷機内のユニットを、少なくとも部分的にその周囲を流れる流体により温度調節する方法および装置が公知である。アクチュエータを介して異なる温度の２つの流体の供給位置での混合比が調整されるが、これは供給位置とユニットとのあいだに配置された温度測定位置での測定温度に基づいて制御される。
【０００３】
欧州特許第０８８６５７７号公報にはユニット温度をセンサにより監視し、測定値を制御ユニットへ供給してユニットの温度調節を行う方法および装置が開示されている。ユニットで測定された温度が目標値から偏差する場合には、制御ユニットが冷却ユニット内の冷却剤の温度を所定の値だけ増減し、所定の時間にわたって待機して再び測定を行う。測定および前述のステップは目標値が達成されるまで繰り返される。
【０００４】
欧州公開第０３８２２９５号公報によれば、流体区間の温度と温度調節すべきユニットの表面温度とが検出されて制御装置へ供給される、印刷機の温度調節装置が公知である。これらの温度や、場合により設定されている障害量（例えば使用される枚葉紙のパラメータ）、湿し剤成分または目標温度などに基づいて混合器のモータを制御する調整量が求められ、回路を循環している流体と新規に加えられる温度調節流体との比が調整される。
【０００５】
日本国公開第６０−１６１１５２号公報によれば、温度調節すべきローラの冷却装置が公知である。ここではローラの表面温度と流路での流体温度とが測定され、制御装置へ供給され、そこで目標値と比較されてバルブが制御される。
【０００６】
本発明の課題は温度調節方法、制御装置および温度調節装置を提供することである。
【０００７】
この課題は請求項１，４，２１，３１の特徴部分に記載の温度調節方法、制御装置および温度調節装置により解決される。
【０００８】
本発明によって達成される利点は、特に温度調節媒体の搬送区間が大きいときにも、閉ループ制御をきわめて迅速かつ安定に動作させることができるということである。応答時間が短いことにより、高度にダイナミックな成分を有するアプリケーションおよびプロセスにおいて本発明を利用することができる。本発明による温度調節は、温度目標値の迅速な変化に追従しなければならないケース、および／または摩擦によるエネルギ流入または外部温度などの外部条件が迅速に変化するケースにおいてもきわめて有利である。
【０００９】
流体の搬送路が長くても迅速に閉ループ制御が行えるというのは、１つにはユニット温度を監視する制御回路に対してさらに下位の（特に有利には２つの）制御回路が存在することによっている。簡単な構成としてユニット温度を直接に求めずに、ユニットへの流入口での温度を監視する制御回路を他の制御回路の下位に設けてもよい。温度調節媒体（混合／加熱／冷却媒体）の調製位置から目的地（ユニットそのもの、またはユニットへの流入口など）までの制御区間は複数の部分区間または部分走行時間の区間へ分割される。
【００１０】
ここで最も重要な利点は最も内側の制御回路が温度調節剤（混合／加熱／冷却剤）の温度を調製する際に各位置にきわめて近接に監視して制御を行うことである。エラーが発生したときには搬送区間の初期に、つまりユニットに達するまで待たずにこれを検出して措置を講じることができる。
【００１１】
本発明の実施形態では熱流損失、走行時間および／または機械回転数のプリコントロールを行うことができるので特に有利である。制御プロセスは過度の大きさの予調整および／または帰流区間温度の導入によってさらに促進される。
【００１２】
本発明の実施例を図示し、以下に詳細に説明する。
【００１３】
図１には第１の実施例の制御装置または制御プロセスを備えた温度調節区間が概略的に示されている。図２には第２の実施例の制御装置または制御プロセスが示されている。図３には第３の実施例の制御装置または制御プロセスが示されている。図４には第４の実施例の制御装置または制御プロセスが示されている。図５には図１〜図４の構成のうち内側の制御回路に相当する部分が示されている。図６には図１〜図４の構成のうち外側の制御回路に相当する部分が示されている。図７には走行時間ベースの制御器が概略的に示されている。図８には図１の温度調節区間の詳細図が示されている。図９には渦流室の第１の実施例が示されている。図１０には渦流室の第２の実施例が示されている。図１１には渦流室の第３の実施例が示されている。
【００１４】
本発明では機械、例えば印刷機のユニット０１の温度調節を行う。印刷機のユニット０１は例えば図示されていない印刷機システムの一部であり、特に印刷機の色着けローラである。このローラは色着け機構のローラ、例えばアニロックスローラとして構成されているか、または印刷機の版胴、例えば円筒版０１として構成されている。特に有利には以下に説明する温度調節方法および温度調節装置は水なしオフセット印刷機、つまり湿し剤を使用しない印刷機とともに用いられる。印刷機、特に水なしオフセット印刷機では、色着けまたは転写の品質が色インクの温度および／または色着け表面（例えばローラまたは版胴の外套面）の温度にきわめて強く依存している。さらに色着けの品質は版胴どうしの溝が合致する速度すなわち機械回転数に対しても敏感に反応する。
【００１５】
温度調節は温度媒体、特に水などの流体によって行われる。この流体がユニット０１を備えた温度調節区間０２全体に熱交換作用をもたらす。ユニット０１の周囲に流す場合には、この流体は空気などの気体または混合気体であってもよい。温度調節のためにユニット０１には第１の回路０３で流体が供給される。流体はユニット０１を貫流するかまたはその周囲を流れ、熱を奪ったり与えたりして相応にユニットを冷却または加熱する。第１の回路０３には、所望の流体温度を形成するために用いられる加熱機構または冷却機構が設けられている。
【００１６】
図１の有利な実施例では、２次回路としての第１の回路０３に１次回路としての第２の回路０４が接続されている。第２の回路内では流体は所定かつ一定の温度ＴＶ、例えばプリランニング温度ＴＶで流れる。プリランニング温度ＴＶを調整する温度調節装置、例えばサーモスタットや加熱機構および／または冷却機構などは詳細には図示されていない。第１の回路０３および第２の回路０４のあいだの接続路０５では、第２の回路０４の第１の接続位置０６からアクチュエータ０７、例えば調整弁により第２の回路０４の流体が取り出され、第１の回路０３へ調量される。第２の接続位置０８では新たな流体が第１の接続位置０６に供給されるたびに第３の接続位置１０から第１の回路０３の流体が接続路１５を介して第２の回路０４へ戻る。このとき例えば第１の接続位置０６付近の流体は第２の接続位置０８付近の流体よりも圧力レベルが高い。圧力レベルの差Δｐは例えば接続位置０６，０８間の相応のバルブ０９によって形成される。
【００１７】
流体の少なくとも大部分は駆動機構１１、例えばポンプ、タービンその他によって順流区間１２、ユニット０１、帰流区間１３、および順流区間と帰流区間とのあいだの第１の回路０３の部分区間１４を循環している。バルブ０７を介して流体が供給され、ユニット０１を通流したのちに、相応の量の流体が接続路１５を介して第２の回路０４へ戻され、残りの流体が部分区間１４を介して流れる。部分区間１４を介して戻った流体とバルブ０７を介して供給位置または噴射位置１６で新たに供給される流体とが混合され、所望の流体温度が得られるように調節が行われる。この混合を改善するために、有利な実施例では、供給位置１６の直接後方、特に供給位置１６とポンプ１１とのあいだに渦流区間１７、例えば渦流室が配置される。
【００１８】
第２の回路０４によってではなく加熱機構または冷却機構によって温度調節を行う前述の場合には、供給位置または噴射位置１６は加熱機構または冷却機構とのエネルギ交換の位置に相応し、アクチュエータ０７は例えば加熱機構または冷却機構に属する出力制御部に相応する。第１の回路０３の第３の接続位置１０は省略される。なぜなら流体が第１の回路０３全体を循環し、供給位置１６でエネルギのやり取り、つまり熱流または冷流の“供給”が行われるからである。加熱機構または冷却機構はここでは例えばアクチュエータ０７に相応する。
【００１９】
温度調節によりユニット０１の所定の温度θ３（特にローラの表面温度）が最終的には所定の目標値θ３，ｓｏｌｌとなって維持されるように制御しなければならない。これは一方で信頼性の高い温度測定を行い、他方で第２の回路０４からの流体を第１の回路０３へ供給する閉ループ制御で相応の混合温度を形成することによって行われる。
【００２０】
本発明の方法および装置において重要なのは、噴射位置１６と温度調節すべきユニット０１の流出口とのあいだに少なくとも２つの測定位置Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３がセンサＳ１，Ｓ２，Ｓ３とともに設けられることである。ここで第１の測定位置Ｍ１は噴射位置１６の近傍に配置され、第２の測定位置Ｍ２，Ｍ３の少なくとも一方は順流区間１２のうちユニット近傍の端部に配置されるか、および／またはユニット０１そのものの領域に配置される。バルブ０７，ポンプ１１，噴射位置１６および接続位置０６，０８は一般には空間的に相互に近く、例えば破線で示されている温度調節キャビネット１８内に配置されている。ユニット０１と詳細には図示されていない温度調節キャビネット１８の入力側および出力側とのあいだの順流区間１２および帰流区間１３は一般には残りの区間に比べて大きな長さを有する。このことは図１ではそれぞれ中略部分によって表されている。測定位置は少なくとも測定位置Ｍ１が温度調節キャビネット１８の領域内に、また測定位置Ｍ２，Ｍ３がユニットの近傍（すなわち長い順流区間の端部）に配置されるように選定される。
【００２１】
図１の実施例では、噴射位置１６とポンプ１１とのあいだ、特に渦流室１７とポンプ１１とのあいだの第１の温度θ１が第１のセンサＳ１により測定される。第２の温度θ２は第２のセンサＳ２によりユニット０１への流入口付近で測定される。第３の温度θ３は図１ではローラ０１の表面へ向けられた赤外線センサ（ＩＲセンサ）Ｓ３によって測定される。第３のセンサＳ３は外套面の領域に配置することもできるし、後述するように省略することもできる。
【００２２】
温度調節は以下に詳述する制御装置または制御プロセス２１により行われる。図１の制御装置２１はマルチループ、ここでは３つのループのカスケードされた閉ループ制御を基礎としている。最も内側の制御回路は噴射位置１６の直接後方の第１のセンサＳ１と第１の制御器Ｒ１とアクチュエータすなわちバルブ０７とを有している。第１の制御器Ｒ１は入力量として測定値θ１とノードｋ１の補正目標値θ１，ｓｏｌｌ，ｋとの差Δθ１を受け取り、インプリメントされている制御特性および／または制御アルゴリズムに相応に調整命令Δをアクチュエータ０７へ送出する。つまり第１の制御器は測定値θ１とノードｋ１の補正目標値θ１，ｓｏｌｌ，ｋとの差にしたがってバルブ０７を開閉したり、またその位置を維持したりする。補正目標値θ１，ｓｏｌｌ，ｋは他の場合のように直接に調整または手動で設定されるのではなく、“外側”に存在する少なくとも１つの制御回路の出力量を用いて形成される。次の制御回路はユニット０１への流入口の直接前方の第２のセンサＳ２と第２の制御器Ｒ２とを有している。第２の制御器Ｒ２は入力量として測定値θ２とノードｋ２の補正目標値θ２，ｓｏｌｌ，ｋとの差Δθ２を受け取り、インプリメントされている制御特性および／または制御アルゴリズムに相応に差Δθ２に相関する出力量ｄθ１を形成する。この出力量は上述のように補正目標値θ１，ｓｏｌｌ，ｋを形成するために第１の制御器Ｒ１で利用される。つまり測定値θ２とノードｋ２の補正目標値θ２，ｓｏｌｌ，ｋとの差にしたがう出力量ｄθ１により、第１の制御器Ｒ１で形成される補正目標値θ１，ｓｏｌｌ，ｋに対する影響が考慮されるのである。
【００２３】
有利な実施例では、第１の制御器Ｒ１に対するノードｋ１’（例えば加算点または減算点）の補正目標値θ１，ｓｏｌｌ，ｋは出力量ｄθ１および理論目標値θ’１，ｓｏｌｌから形成される。理論目標値θ’１，ｓｏｌｌは熱流のプリコントロール素子Ｖ１，ＷＦで形成される。熱流のプリコントロール素子Ｖ１，ＷＦ（インデクス１は第１の制御器の目標値形成に用いられることを表す）は当該の区間での流体の熱交換損失などを考慮しており、経験値（専門家の識見またはキャリブレーション値）に基づいている。このようにプリコントロール素子Ｖ１，ＷＦは例えば測定位置Ｍ１，Ｍ２のあいだの部分区間での加熱損失または冷却損失を考慮している。ここから形成された理論目標値が相応に増減され、この値が出力量ｄθ１とともに処理されて、第１の制御器Ｒ１に対する補正目標値θ１，ｓｏｌｌ，ｋが形成される。プリコントロール素子Ｖ１，ＷＦでは入力量θ’２，ｓｏｌｌ（θ’２，ｓｏｌｌ，ｎ）と補正された出力量θ’１，ｓｏｌｌ（θ’１，ｓｏｌｌ，ｎ）との関係が固定に定められているが、これは有利にはパラメータまたは他の手段を介して必要に応じて変化させることもできる。
【００２４】
基本的に制御装置は簡単に構成することができる。本発明の制御装置では前述の２つの制御回路がカスケード閉ループ制御部を形成している。この場合プリコントロール素子Ｖ１，ＷＦには入力量として機械的調整または手動により所定の目標値θ’２，ｓｏｌｌが設定される。この目標値は第２の制御器Ｒ２での上述の差Δθ２の形成に用いられる。
【００２５】
図１に示されている実施例では、制御装置２１はカスケードされた３つの制御回路を有する。第２の制御器Ｒ２に対する補正目標値θ２，ｓｏｌｌ，ｋは他の場合のように直接に調整または手動で設定されるのではなく、“外側”に存在する少なくとも１つの制御回路の出力量を用いて形成される。最も外側の制御回路は外套面付近または外套面の温度を検出する第３のセンサＳ３と第３の制御器Ｒ３とを有している。第３の制御器Ｒ３は入力量として測定値θ３とノードｋ３の目標値θ３，ｓｏｌｌとの差Δθ３を受け取り、インプリメントされている制御特性および／または制御アルゴリズムに相応に差Δθ３に相関する出力量ｄθ２を形成する。この出力量は上述のように補正目標値θ２，ｓｏｌｌ，ｋを形成するために第２の制御器Ｒ２で用いられる。つまり測定値θ３と機械的調整または手動で設定された目標値θ３，ｓｏｌｌ（または補正目標値θ”３，ｓｏｌｌ）との差にしたがう出力量ｄθ２により、第２の制御器Ｒ２で形成される補正目標値θ２，ｓｏｌｌ，ｋに対する影響が考慮されるのである。
【００２６】
第２の制御器Ｒ２に対する補正目標値θ２，ｓｏｌｌ，ｋはノードｋ２’（例えば加算点または減算点）で出力量ｄθ２および理論目標値θ’２，ｓｏｌｌ（またはθ”２，ｓｏｌｌ）から形成される。理論目標値θ’２，ｓｏｌｌは熱流のプリコントロール素子Ｖ２，ＷＦで形成される。熱流のプリコントロール素子Ｖ２，ＷＦは例えば測定位置Ｍ２，Ｍ３間の部分区間での加熱損失または冷却損失を考慮する。ここから形成された理論目標値が相応に増減され、この値が出力量ｄθ２とともに処理されて、第２の制御器Ｒ２に対する補正目標値θ２，ｓｏｌｌ，ｋが形成される。
【００２７】
前述の方法は第１に噴射位置１６の直接後方での温度測定と温度調節すべきユニット０１の近傍での少なくとも１回の測定に基づいている。第２に、複数の制御回路をカスケード状に相互にかみ合わせ、内側の制御回路に対する目標値形成の際にユニット０１の近傍で得られた測定値θ２，θ３を考慮することにより、特に短い閉ループ制御の応答時間が達成される。第３に、温度調節区間０２で予測される損失の経験値を入力するプリコントロールによっても特に短い応答時間が達成される。アクチュエータ０７の近傍の制御回路において損失が予測され、経験値のぶんだけ相応に増減された目標値が設定される。
【００２８】
図２の有利な実施例では、制御装置２１が熱流のプリコントロール素子Ｖ１，ＷＦ；Ｖ２，ＷＦのほか、さらに別のプリコントロール素子を有する構成が示されている。
【００２９】
図１からわかるように流体は例えばバルブ０７からセンサＳ２までの区間について有限の走行時間ＴＬ２を要する。さらにアクチュエータ０７の位置調整によりそのつどの混合温度は所望の値へ向かって変化するが、これは瞬間的に生じるのではなく、例えばバルブの慣性、管壁およびポンプの加熱または冷却の度合に応じて所定の時定数Ｔｅ２がかかる。図１の実施例のようにこのことを考慮しない場合には、制御の際に強い変動が発生することがある。なぜなら例えばバルブ０７の開放が行われ、この開放の結果すなわち相応の熱流または冷流が生じると、測定位置Ｍ２にまだこの流れが到来していないのに、相応に制御回路ではこれに応じてバルブ開放せよとの誤った調整命令が送出されうるからである。同様にバルブ０７からセンサＳ３による温度検出までの区間には走行時間Ｔ’Ｌ３および時定数Ｔ’ｅ３が付属する。これは図では破線の参照記号で表されている。これはローラの外套面付近で流体温度が検出されるまでの時間でなくともよく、ローラ表面またはローラ外套面そのものの温度が検出されるまでの時間であってもよい。
【００３０】
無駄時間（走行時間）ＴＬ２，Ｔ’Ｌ３および時定数Ｔｅ２，Ｔ’ｅ３のために最も内側の制御回路の制御器Ｒ１の動作に対する区間応答は外側の制御回路の制御器Ｒ２，Ｒ３の平面では最初は不可視である。これに起因する制御器の２重応答から差し戻し不能なエラーが生じるのを回避および阻止するために、１つまたは複数の制御回路で目標値を形成する際に走行時間および／または時定数のプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉを区間モデリング素子として設け、これにより予測される自然な“遅延量”をアクチュエータ０７の変化量の結果において考慮する。走行時間および／または時定数のプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉにより経験値または有利には測定値の特徴評価または計算での推定に基づいて求められた実際の流体の走行時間が閉ループ制御においてシミュレートされる。外側の制御回路の制御器Ｒ２，Ｒ３は、モデリングされた区間特性を考慮しても予測できないために真に補正の必要な差に応答している。物理的に回避不能ではあるが最も内側の制御回路の制御器Ｒ１ですでに“ローカルに”対処されうる予測制御差とは異なり、外側の制御回路の制御器Ｒ２，Ｒ３は対称化により“ブラインド”となっている。プリコントロール素子ＶＬＺ，ｉは走行時間および／または時定数のプリコントロール素子の形態で動作する。プリコントロール素子ＶＬＺ，ｉでは前述のダイナミック特性（走行時間および遅延量）がシミュレートされ固定に維持されているが、これは有利にはパラメータまたはその他により必要に応じて変更可能である。このために例えば現実の走行時間ＴＬ２，Ｔ’Ｌ３および／または等価の時定数Ｔｅ２，Ｔ’ｅ３をシミュレートして表す相応のパラメータＴ＊Ｌ２，Ｔ＊ｅ２；Ｔ＊Ｌ３，Ｔ＊ｅ３がプリコントロール素子ＶＬＺ，２；ＶＬＺ，３で調整される。この調整は計算により形成された目標値の仮想のダイナミック特性（例えば目標値θ”２，ｓｏｌｌ，θ”３，ｓｏｌｌ）と対応のセンサＳ２，Ｓ３で得られた測定値θ２，θ３の相応の特性とがほぼ時間同期されてノードｋ２，ｋ３で比較されるように行われる。
【００３１】
外側の制御回路に対して変更された仮想の目標値θ”３，ｓｏｌｌは測定値と比較される目標値θ３，ｓｏｌｌ，ｋに相応する。なぜならこの値は他の制御回路では補正されないからである。そのほかにこの実施例では、最も内側の制御回路に対してきわめて短い経路または走行時間を考慮するプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉが設けられている。わかりやすくするため、ここでは特段の変更がないかぎり目標値θ’３，ｓｏｌｌは目標値θ”３，ｓｏｌｌを表すものとする。
【００３２】
区間モデルを表すプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉは、ユニット近傍の第２のセンサＳ２および第３のセンサＳ３に対応して、１つまたは複数の制御回路の目標値形成のために設けられている。例えば外側の２つの制御回路は目標値形成のためにこの種のプリコントロール素子ＶＬＺ，２，ＶＬＺ，３を有する。バルブ０７からセンサＳ１までの区間がきわめて大きく障害を生じうる場合、相応のプリコントロール素子ＶＬＺ，１を設けて内側の制御回路での目標値形成に利用してもよい。
【００３３】
図３の制御装置の別の実施例により、目標値特性の意図的な変換が最も内側の制御回路の平面で時定数交換器の形態の予測素子ＶＶＨ，ｉにより例えば１次（リードラグフィルタ）で迅速となり、またスリップ間隔が小さくなるとき、制御ダイナミクスがさらに向上される。予測素子ＶＶＨ，ｉによる予測から、まず応答に過度な大きさ（過補償）が形成され、初期フェーズでの制御プロセスが促進され、その後ニュートラルな状態へ戻る。
【００３４】
安定性の問題点を排除するために、実際に影響されない目標値成分、すなわちノードｋ１’，ｋ２’（符号ごとの加算点または減算点）前方の目標値においてのみ前述の措置を適用する。外側の制御回路の制御器Ｒ２，Ｒ３での対称性を保持するためには、ダイナミクスの措置を相応の予測素子ＶＶＨ，２，ＶＶＨ，３によって補償し、前述の熱流のプリコントロール素子Ｖｉ，ＷＦおよび走行時間および／または時定数のプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉに加えて続く制御回路での目標値形成に利用しなければならない。
【００３５】
予測素子ＶＶＨ，ｉでは前述の入力信号に対する過補償の特性がシミュレートされ、固定に維持されるが、そのレベルおよび特性をパラメータその他によって必要に応じて変更可能である。物理的なシーケンスに相応に信号路の予測素子ＶＶＨ，ｉはプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉの前方およびプリコントロール素子Ｖｉ，ＷＦの後方に（それらが存在する場合には）配置される。予測素子ＶＶＨ，ｉは図１〜図４の実施例ではプリコントロール素子ＶＬＺ，ＶＤＺ，ＶＡＢなどの有無に関係なく付加的に使用可能である。
【００３６】
図１〜図３の制御装置の別の実施例により、前述の熱流のプリコントロール素子ＶＷＦ、走行時間および／または時定数のプリコントロール素子ＶＬＺ、および／または予測素子ＶＶＨなどに加えて、機械回転数のプリコントロールを行う（ＶＤＺ）とさらに制御ダイナミクスが向上する（図４を参照）。機械回転数ｎに依存して印刷機では多かれ少なかれ摩擦熱が生じている。流体の測定流量が一定に保持されている場合、摩擦熱の上昇は流体温度の低下によって生じる（逆のケースも同様である）。上述の制御装置は、第３のセンサＳ３の温度が望ましくない温度を示さないかぎり、時間が経っても流体温度の上昇または低下により摩擦熱の変化量には応答しない。
【００３７】
制御装置２１のダイナミクス、特に駆動条件（始動フェーズ、回転数など）が変化する場合のダイナミクスをいっそう高めるために、回転数のプリコントロール素子ＶＤＺが設けられる。このプリコントロール素子ＶＤＺは基本的には目標値θ”１，ｓｏｌｌ、θ”２，ｓｏｌｌ、θ”３，ｓｏｌｌの形成に用いられる全ての目標値条件の下位にある。ただし外側の制御回路の条件にこれを含めることはセンサＳ３の測定値が技術的に最終的に妥当な実際値（例えば有効面すなわち外套面自体の温度）を表しているかぎり無意味である。したがってこの実施例ではプリコントロール素子ＶＤＺは単に目標値θ”１，ｓｏｌｌ、θ”２，ｓｏｌｌの形成についてのみの条件となり、補正値ｄθｎは第２の制御回路の制御器に収容されたプリコントロール素子Ｖ２，ＷＦによって形成される理論目標値θ’２，ｓｏｌｌにおいて考慮される。ここから生じた目標値θ’２，ｓｏｌｌ，ｎは直接に、または相応のプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉおよび／または予測素子ＶＶＨ，ｉを介して、第２の制御回路の制御器Ｒ２の目標値形成に用いられ、同時にプリコントロール素子Ｖｉ，ＷＦおよび場合により予測素子ＶＶＨ，ｉを介して第１の制御器Ｒ１の目標値形成に用いられる。プリコントロール素子ＶＤＺには機械回転数ｎと適切な補正量との関係が固定に維持されているが、これは有利にはパラメータなどにより必要に応じて変更可能である。プリコントロール素子ＶＤＺは図１〜図４の実施例ではプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉまたは予測素子ＶＶＨ，ｉまたはプリコントロール素子ＶＡＢ，ｉの有無に関係なく付加的に使用することができる。
【００３８】
センサＳ３が外套面ではなくユニット内部の温度を測定しており、測定値が技術的に最終的に妥当な温度でない場合には、プリコントロール素子ＶＬＺ，ｉは外側の制御回路にも作用する。同様のことが、測定値をユニット０１から直接に取得せず、センサＳ２の測定値と関連してユニット０１の後方に配置されたセンサＳ４；Ｓ５（図１〜図５を参照）から取得する場合の外側の制御器にも当てはまる。
【００３９】
図４にはノードｋ１の直接前方で補正目標値θ１，ｓｏｌｌ，ｋを形成する実施例において、ダイナミクスモデリング素子としての別のプリコントロール素子ＶＡＢ，ｉ、例えば非線形の増大量制限器が設けられる様子が示されている。この素子は有限かつ０でない調整時間およびアクチュエータ０７の現実の制限量に感応し、最大の調整幅を形成する。すなわちきわめて大きな変化が要求されたとしてもバルブ０７の開放は制限され、第２の回路０４からの温度調節流体の量が制限される。プリコントロール素子ＶＡＢ，ｉにはこうした制限量（バルブ特性値）が固定に維持されているが、これは有利にはパラメータなどにより必要に応じて変更可能である。プリコントロール素子ＶＡＢ，ｉも図１〜図３の実施例においてはプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉ；ＶＤＺまたは予測素子ＶＶＨ，ｉの有無に関係なく付加的に使用することができる。
【００４０】
図５には図１〜図４の実施例から独立した最も内側の制御回路の従来の構成が示されている。センサＳ５の測定値θ５は部分区間１４付近またはその領域内、つまり噴射位置１６から僅かに離れた点で検出され、この最も内側の制御回路の制御に用いられる。その際に測定値θ５は入力値としてダイナミックなゼロ点抑圧のための別のプリコントロール素子ＶＮＵへ供給される。測定値θ５は戻ってくる流体がどの程度の温度で供給される冷却媒体または加熱媒体へ混合されるかという情報を表している。測定値が急激かつ大幅に変化し、例えば温度が大きく低下すると、プリコントロール素子ＶＮＵは相応の対抗信号δを形成してこれを第１の制御器Ｒ１へ供給し、例えばバルブ０７の開度をきわめて大きくする。こうしてプリコントロール素子ＶＮＵはセンサＳ１で予測される変化が発生する前にこれに対抗する調整を行う。この障害量制御により、こうした変化は理想的には全く入力されない。
【００４１】
帰流温度調整のプリコントロール素子ＶＮＵの特性および増幅度は固定に維持されるが、これを有利にはパラメータなどにより必要に応じて変更することもできる。
【００４２】
図６には図１〜図４の実施例から独立した外側の制御回路の構成が示されている。ただし従来の構成とは異なり、ここでは外側の制御回路の制御器Ｒ３に対して、ユニット表面（外套面）で検出された測定値θ３ではなく、順流区間１２および帰流区間１３のユニット近傍のセンサＳ２；Ｓ４の測定値θ２；θ４が使用される。
【００４３】
【数１】
2006510131.tif 000002
【００４４】
図１〜図４の実施例の制御器Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は簡単な実施例ではＰＩ制御器として構成されている。
【００４５】
有利な実施例では少なくとも制御器Ｒ２，Ｒ３はいわゆる“走行時間ベースの制御器”または“Ｓｍｉｔｈ制御器”として構成されている。走行時間制御器Ｒ２，Ｒ３、特に走行時間ベースのＰＩ制御器Ｒ２，Ｒ３は図７の等価回路図にパラメータとともに示されている。制御器Ｒ２，Ｒ３は入力量として差Δθ２，Δθ３を有する。ＰＩ制御器としてパラメータ化された増幅係数ＶＲが構成されており、その出力信号は等価の時定数素子ＧＺＫおよび走行時間素子ＧＬＺを介して（素子として示されているプリコントロール素子ＶＬＺと同様に）フィードバック結合される。
【００４６】
走行時間ベースのＰＩ制御器Ｒ２，Ｒ３には制御区間の走行時間（無駄時間）とその時定数とがシミュレーションされて固定に維持されているが、これは有利にはパラメータなどにより必要に応じて変更可能である。ここで相応のパラメータＴ＊＊Ｌ２，Ｔ＊＊ｅ２，Ｔ＊＊Ｌ３，Ｔ＊＊ｅ３は例えば現実の走行時間ＴＬ２およびＴ’Ｌ３および／または時定数Ｔｅ２，Ｔ’ｅ３を表し、走行時間ベースのＰＩ制御器Ｒ２，Ｒ３で調整可能である。これらのパラメータの値Ｔ＊＊Ｌ２，Ｔ＊＊ｅ２，Ｔ＊＊Ｌ３，Ｔ＊＊ｅ３と、前述の走行時間および時定数のプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉからのパラメータの値Ｔ＊Ｌ２，Ｔ＊ｅ２，Ｔ＊Ｌ３，Ｔ＊ｅ３とは、制御区間での補正および再生の際にほぼ一致する。なぜなら制御器Ｒ２，Ｒ３においてもプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉにおいてもこれによって相応の制御区間が記述されるからである。したがって制御装置内では走行時間ベースのＰＩ制御器Ｒ２，Ｒ３およびプリコントロール素子ＶＬＺ，ｉの双方が使用され、等しく求められたパラメータセットが２つの回路で用いられる。
【００４７】
図１に概略的に示されている温度調節すべき区間の一部が有利な実施例として図８に示されている。噴射位置１６から目的地２２、つまり周囲または表面を冷却すべきユニットまでの順流区間１２は図８では３つの部分区間１２．１，１２．２，１２．３に分割されている。
【００４８】
第１の部分区間１２．１は噴射位置１６から第１のセンサＳ１を有する第１の測定位置Ｍ１まで延在しており、第１の距離Ｘ１および第１の平均走行時間ＴＬ１を有する。第２の部分区間１２．２は第１の測定位置Ｍ１から第２のセンサＳ２を有するユニット近傍の第２の測定位置Ｍ２まで延在しており、第２の距離Ｘ２および第２の平均走行時間ＴＬ２を有する。第３の部分区間１２．３は第２の測定位置Ｍ２から目的地２２、つまり流体と拡張された外套面が最初に接触する領域まで延在しており、第３の距離Ｘ３および第３の平均走行時間ＴＬ３を有する。したがって噴射位置１６から目的地２２までの流体の全走行時間ＴはＴＬ１＋ＴＬ２＋ＴＬ３である。
【００４９】
第１の測定位置Ｍ１は供給位置の近傍に設けられる。すなわちここでは噴射位置１６に対して僅かに離れた点に置かれる。したがって供給位置の近傍の測定位置Ｍ１またはアクチュエータの近傍の位置に置かれるセンサＳ１はここでは順流区間１２のうち、流体ＴＬの走行時間で見て供給位置１６から目的地２２、つまり流体が最初に接触する拡張された外套面の領域までの区間の１／１０、特に有利には１／２０より手前の場所を意味し、ＴＬ１＜０．１Ｔ、特に有利にはＴＬ１＜０．０５Ｔが成り立つ。高度な制御ダイナミクスを達成するために、測定位置Ｍ１は流体ＴＬ１の走行時間で見て最大で２秒、特に有利には最大で１秒、噴射位置１６から離れたところに配置されている。図１に即して前述したように、噴射位置１６、センサＳ１およびこれに続くポンプ１１は温度調節キャビネット１８内に配置されており、これは内部に各機構を含む構造ユニットを形成している。測定位置Ｍ１は有利にはポンプ１１の前方に配置される。順流区間１２および帰流区間１３内の解離可能な接合部２３；２４を介して温度調節キャビネット１８はユニット０１に接続可能である。
【００５０】
一般にユニット０１および温度調節キャビネット１８は印刷機内で直接相互に隣接してはいないので、管路２６、例えば配管またはチューブが温度調節キャビネット１８からユニット０１への流入口を介して、相応の大きさおよび長さを有する導入口（回転導入口）２７へ通じている。ローラまたは版胴０１への導入口は図８では概略的にしか示されていない。ローラ０１または版胴０１が通常のように端面に栓を有する場合、導入口はこの栓を通して形成される。流体の外套面への経路およびユニット０１内への外套面に沿った経路は概略的に示されているのみであるが、周知のように、例えば軸線方向の管路、螺旋状の管路、拡張された中空室または円環断面などの適切な形態で外套面の下部に延在している。第２の測定位置Ｍ２はユニット近傍、すなわちユニット０１または目的地２２（ここでは外套面）に対して僅かに離れた点に配置されている。したがってユニット近傍の測定位置Ｍ２またはこの位置に置かれるセンサＳ２はここでは順流区間１２のうち、流体の走行時間で見て噴射位置１６から目的地２２、つまり流体が最初に接触する拡張された外套面の領域までの区間の１／２よりも離れた場所を意味し、ＴＬ２＞０．５Ｔが成り立つ。高度な制御ダイナミクスと回転するユニット０１での小さな構造コストとを同時に達成するために、第２の測定位置Ｍ２は管路２６の領域で、回転するユニット０１の外側に位置固定して配置される。ただしその位置は流体の走行時間で見てユニット０１への流入口に対して最大３秒までの直接近傍である。
【００５１】
第３の測定位置Ｍ３を設ける場合にも、同様に少なくともユニットの近傍、特に有利には目的地の近傍に配置する。すなわち第３の測定位置は流体の目的地２２の直接周囲に配置されるか、温度調節すべき表面（ここではローラの外套面）で直接に検出が行われるように配置される。有利な実施例では、第３の測定位置Ｍ３は例えば測定位置Ｍ１，Ｍ２などにおけるように流体温度を検出するのではなく、温度調節すべきユニット０１そのものの温度を検出する。目的地２２の直接の周囲とは、ここでは、センサＳ３がユニット０１内で循環している流体と外套面とのあいだに配置されるか、または無接触で外套面の温度θ３を検出することであると解されたい。
【００５２】
温度調節装置の別の実施例では、測定位置Ｍ３を省略することができる。このとき温度θ３の推定は測定位置Ｍ２での測定値および経験値を用いて行われ、例えば格納されている関係式、オフセット量、関数などに即して得られる。所望の温度θ３に対して例えば機械パラメータまたは製品パラメータ（機械回転数、外部温度および／または流体流量、摩擦係数、熱流抵抗など）を考慮して目標値としての意図される温度θ２が得られるまで制御が行われる。
【００５３】
温度調節装置の別の実施例では、測定位置Ｍ３を省略し、温度θ３の推定を経験値や測定位置Ｍ２および測定位置Ｍ４での測定値から、例えば格納されている関係式、オフセット量、関数および／または２つの測定値の平均値などに即して得ることもできる。所望の温度θ３に対して例えば機械パラメータまたは製品パラメータ（機械回転数、外部温度および／または流体流量など）を考慮して目標値としての意図される温度θ２が得られるまで、または２つの測定値によって間接的に温度θ３が得られるまで制御が行われる。図８では、流体の順流はローラまたは版胴として構成されたユニット０１の１つの端面へ入り、帰流は同じ端面から出てくる。相応にここでの導入口は２つの端部を有しているか、または図示のようにローラに対して同軸に配置された２つの導入口として構成されている。測定位置Ｍ４も前述の場合と同様にできるかぎり導入口に近接して配置される。
【００５４】
温度調節装置の有利な実施例では、供給位置１６と第１の測定位置Ｍ１とのあいだの部分区間１２．１に渦流区間１７、特に有利には専用に構成された渦流室が設けられる。上述のように測定位置Ｍ１は供給位置の近傍に配置されているので、この手段により迅速な応答時間が測定位置Ｍ１およびアクチュエータ０７を有する当該の制御回路によって実現される。そうでないと供給位置の後方では一般に供給される流体（加熱された流体または冷却された流体）と帰還する流体とが均一に混合されず、測定誤差が制御を困難にし、ユニット０１で最終的に所望される温度θ３の形成をひどく遅延させてしまう。
【００５５】
図９，図１０に示されているように渦流区間１７、特に専用に構成された渦流室を使用することにより、簡単かつ確実に最も短い距離で流体の混合が保証され、短い走行時間Ｔ１での前述の条件が満足される。
【００５６】
最小の構造空間を実現するために、まず断面が調整される。第１の断面積Ａ１を少なくとも係数ｆ１＝２だけ拡大したものが第２の断面積Ａ２である。直接の接合のために７０°〜１１０°、特に有利には約９０°の方向変更部が設けられ、これに応じて第２の断面積Ａ２を係数ｆ２＜１で縮小したものが第３の断面積Ａ３である。係数ｆ２とこれに相補的な係数ｆ１について有利にはｆ２≦０．５が選定されており、渦流室１７の前方および後方の２つの断面積Ａ１，Ａ３がほぼ等しい大きさとなる。
【００５７】
図９には管状の流入領域２９および流出領域３１を有する渦流室１７の実施例が示されている。ここで図示されていない断面積Ａ１の管路は流入口および流出口として中央に配置された開口部３２，３３へ通じている。管状の流入領域２９および流出領域３１の突き合わせ線は一定の湾曲部を有さず、少なくとも流入領域および流出領域の流れ方向により形成される平面において稜をなすように屈曲されている（屈曲部３６，３７を参照）。開口部３２，３３は別の実施例では面積Ａ２，Ａ３の中央に配置されていなくてもよい。
【００５８】
図１０には渦流室１７が２つの箱状の管を付き合わせたジオメトリで構成される実施例が示されている。ここでは２つの面Ａ２はそれぞれ開口部３２，３３を有する。この場合にも既存の流入領域および流出領域または方向変更部の仮定の突き合わせ線が鋭角の稜をなすように構成される。開口部３２，３３は前述の場合と同様に面Ａ２において非対称に配置されていてもよい。
【００５９】
図１１には渦流室１７が六面体のジオメトリを有する実施例、特に図１０の構成と同じ即辺の長さで六面体にしたジオメトリが示されている。この場合には２つの隣接する面Ａ２は開口部３２，３３を有する。ここでも流入領域および流出領域または方向変更部の仮定の突き合わせ線が鋭角の稜をなすように構成される（屈曲部３６，３７を参照）。この場合にも開口部３２，３３は面Ａ２において非対称に配置されていてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】第１の実施例の制御装置または制御プロセスを備えた温度調節区間の概略図である。
【００６１】
【図２】第２の実施例の制御装置または制御プロセスを示す図である。
【００６２】
【図３】第３の実施例の制御装置または制御プロセスを示す図である。
【００６３】
【図４】第４の実施例の制御装置または制御プロセスを示す図である。
【００６４】
【図５】図１〜図４の構成のうち内側の制御回路に相当する部分を示す図である。
【００６５】
【図６】図１〜図４の構成のうち外側の制御回路に相当する部分を示す図である。
【００６６】
【図７】走行時間ベースの制御器の概略図である。
【００６７】
【図８】図１の温度調節区間の詳細図である。
【００６８】
【図９】渦流室の第１の実施例を示す図である。
【００６９】
【図１０】渦流室の第２の実施例を示す図である。
【００７０】
【図１１】渦流室の第３の実施例を示す図である。
【符号の説明】
【００７１】
０１  ユニット（ローラ、アニロックスローラ、版胴、円筒版）、  ０２  制御区間（温度調節区間）、  ０３  第１の回路（２次回路）、  ０４  第２の回路（１次回路）、  ０５  接続路、  ０６  第１の接続位置、  ０７  アクチュエータ（バルブ）、  ０８  第２の接続位置、  ０９  バルブ（差圧弁）、  １０  第３の接続位置、  １１  駆動機構（ポンプ、タービン）、  １２  順流区間、  １２．１  第１の部分区間、  １２．２  第２の部分区間、  第３の部分区間、  １３  帰流区間、  １４  部分区間、  １５  接続路、  １６  供給位置（噴射位置）、  １７  渦流区間（渦流室）、  １８  温度調節キャビネット、  １９  −  ２０  −  ２１  制御装置（制御プロセス部）、  ２２  目的地、  ２３  解離可能な接合部、  ２４  解離可能な接合部、  ２５  −  ２６  管（チューブ）、  ２７  流入口（導入口、回転導入口）、  ２８  −  ２９  流入領域、  ３０  −  ３１  流出領域、  ３２  流入開口、  ４１  流出開口、  ３４  突き合わせ線、  ３５  −  ３６  屈曲部、  ３７  屈曲部
Ａ１〜Ａ３  断面積、  ｋ１〜ｋ３  ノード、  ｋ１’〜ｋ２’  ノード、  Ｍ１〜Ｍ５  測定位置、  Ｒ１〜Ｒ３  制御器、  Ｓ１〜Ｓ５  センサ、  Ｔｅｉ  時定数［インデクスｉは制御回路を表す］、  Ｔ＊ｅｉ  等価時定数のパラメータ［インデクスｉは制御回路を表す］、  Ｔ＊＊ｅｉ  等価時定数のパラメータ［インデクスｉは制御回路を表す］、  ＴＬｉ  流体の走行時間［インデクスｉは制御回路を表す］、  Ｔ’Ｌ３  センサＳ３での温度応答を考慮した流体の走行時間、  Ｔ＊Ｌｉ  走行時間のパラメータ［インデクスｉは制御回路を表す］、  Ｔ＊＊Ｌｉ  走行時間のパラメータ［インデクスｉは制御回路を表す］、  ＴＶ  プリランニング温度、  ＶＡＢ，ｉ  プリコントロール素子    ＶＮＵ  プリコントロール素子、  ＶＤＺ  プリコントロール素子、  ＶＶＨ，ｉ  予測素子、  Ｖｉ，ＷＦ  プリコントロール素子、  ＶＬＺ，ｉ  プリコントロール素子、  ｎ  機械回転数、  ｄθｉ  出力量、  Δθｉ  差、  θｉ  温度測定値［インデクスｉは制御回路を表す］
【００７２】
【数２】
2006510131.tif 000003
θｉ，ｓｏｌｌ，ｋ  補正目標値［インデクスｉは制御器を表す］、  θ’ｉ，ｓｏｌｌ  理論的目標値［インデクスｉは制御器を表す］、  θ’ｉ，ｓｏｌｌ，ｎ  目標値［インデクスｉは制御器を表す］、  Δ  調整命令、  Δｐ  圧力レベルの差
【図１】
2006510131.tif 000004
【図２】
2006510131.tif 000005
【図３】
2006510131.tif 000006
【図４】
2006510131.tif 000007
【図５】
2006510131.tif 000008
【図６】
2006510131.tif 000009
【図７】
2006510131.tif 000010
【図８】
2006510131.tif 000011
【図９】
2006510131.tif 000012
【図１０】
2006510131.tif 000013
【図１１】
2006510131.tif 000014
【手続補正書】
【提出日】平成16年10月13日(2004.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2006510131.tif 000015
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2006510131.tif 000016
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2006510131.tif 000017
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2006510131.tif 000018
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2006510131.tif 000019
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2006510131.tif 000020
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2006510131.tif 000021
【国際調査報告】
2006510131.tif 000022
2006510131.tif 000023
2006510131.tif 000024
2006510131.tif 000025