(57)【要約】接合用バンプ構造によって接続された第1の回路素子と第２の回路素子とを備える電子装置。接合用バンプ構造は小さな寸法の接合用バンプ（１）を備え、接合用バンプ（１）は、回路素子（１０）上に形成された金台座部（２）と、台座部（２）上に形成されたニッケル障壁層（３）と、障壁層（３）上に形成されたはんだ付け部（５）とを備える。はんだ付け部（５）は、第1（６）及び第２（８）の金層を備え、その間にサンドイッチ状に挟まれた中間スズ層（７）を持つ。第1、第２及び中間層（６〜８）における金とスズとの相対的質量は、共晶金−スズ組成に一致する組成をはんだ付け部（５）に与える。接合用バンプ（１）は、回路素子（１０）上にチタンシード層を堆積し、回路素子（１０）上でコンタクトパッド（Ｐ）が存在するチタン層部を取り除き、接合用バンプ（１）を構成する層及び部分（２〜８）を電気めっきで被覆し、さらにシード層の残りの部分を取り除くことによって製造できる。この接合ボンド技法は、電子装置において回路素子を接続するために用いる。かかる電子装置は、遠隔通信で、例えば移動式端末での用途に相応しい。
2006505935.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接合用バンプ構造によって接続された第1の回路素子と第２の回路素子とを備える電子装置であって、前記接合用バンプ構造が、
金を含み回路素子上に形成された台座部と、
前記台座部上に形成された障壁層と、
前記障壁層上に形成されたはんだ付け部とを備え、前記はんだ付け部が金を含む第1の層と、金を含む第２の層と、スズを含み前記第1の層と前記第２の層との間に位置する中間層とを備え、
前記はんだ付け部における金とスズとの相対的質量が、前記はんだ付け部の組成を共晶金−スズ組成に一致させるものとなる、電子装置。
【請求項２】
前記台座部の高さが３０μｍ程度となる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記はんだ付け部の前記第1の層の厚みが１．０から１．３μｍの範囲内であり、前記はんだ付け部の前記第２の層の厚みが０．７から０．８μｍの範囲内であり、さらに前記はんだ付け部の前記中間層の厚みが１．５から１．８μｍの範囲内となる、請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記はんだ付け部の前記第1の層の厚みが約１．１５μｍであり、前記はんだ付け部の前記第２の層の厚みが約０．７５μｍであり、さらに前記はんだ付け部の前記中間層の厚みが約１．６５μｍとなる、請求項１，２または３に記載の装置。
【請求項５】
前記接合用バンプの高さが３５μｍ程度であり、さらにその直径が６０μｍ程度となる、請求項１ないし４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記バンプ構造がモノリシックマイクロ波集積回路上で形成される、請求項１ないし５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
請求項１ないし５のいずれかに記載の装置のために接合用バンプ構造を形成する方法であって、前記方法が、
（ａ）前記回路素子上にチタンシード層を形成するステップと、
（ｂ）前記回路素子上の接点（Ｐ）に対応する位置にて前記シード層の部分を取り除くステップと、
（ｃ）前記回路素子上の前記接点に対応する位置にて前記台座部と、前記障壁層と、金を含む前記第1の層と、スズを含む前記中間層と、金を含む前記第２の層とを逐次被覆する制御電気めっき工程を実行するステップと、
（ｄ）前記チタンシード層の残りの部分を取り除くステップとを含む、接合用バンプ構造形成方法。
【請求項８】
前記ステップ（ｂ）が、前記チタンシード層上でマスク層を形成することと、少なくとも１つの開口部を定めるために前記マスク層をパターニングすること、および
前記少なくとも１つの開口部において露出する前記チタンシード層の部分を取り除くことを含む、請求項７に記載の接合用バンプ形成方法。
【請求項９】
第1の回路素子と第２の回路素子とを接続するバンプ接合方法であって、前記方法が、
前記第1の回路素子の表面上で請求項１ないし６のいずれかに記載の少なくとも１つの接合用バンプを形成するステップと、
前記少なくとも１つの接合用バンプを前記第２の回路素子の前記表面に接触させながら前記第1の回路素子と前記第２の回路素子とを対面関係に置くステップと、
前記金−スズ共晶温度に一致する温度で熱を加えるステップとを含む、バンプ接合方法。
【請求項１０】
前記第1の回路素子が集積回路によって構成され、さらに前記第２の回路素子が第２の集積回路によって又は基板によって構成され、それらが請求項９に記載の接合用バンプによって接続される、請求項１ないし６のいずれかに記載の電子装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の電子装置を備える移動式端末。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バンプ接合の分野に関し、より詳細には、新しい接合用バンプ構造と、新しい接合用バンプ構造を形成する方法と、新しい接合用バンプ構造を使用して２つの回路素子を接続する方法と、前記接合用バンプ構造によって接続された回路素子を備える装置とに関する。本発明は、遠隔通信分野における移動式端末の製造に格段の用途を見い出す。
【背景技術】
【０００２】
本明細書においては、「回路素子」という表現を広義に用いること、また特に実装基板やそれに類するもの、ならびに能動部品を担う素子等が含まれるものと理解されたい。本発明は、マイクロ波回路素子を接合する分野に応用された場合に、格別の利点を提供する。接合用バンプ構造を用いて回路を接続することは、すでに欧州特許EP1024531により知られている。上記特許の発明は、マイクロ波周波数で作動する回路に関する。そうした回路は、消費者製品で益々普及しつつある。ＭＭＩＣと表記されるモノリシックマイクロ波集積回路が数多くのマイクロ波回路において主要な構成部品となっている。この集積回路は、その能動回路の全てを「活性面」と呼ばれる１つの面上に具備する。ＭＭＩＣを他の素子に接続する場合、例えばＭＭＩＣを基板上に実装する場合は、寄生容量とインダクタンスを低く抑えるよう配慮しなければならない。そのため、バンプ接合技法の使用が支持される。
【０００３】
バンプ接合技法では、導電材料からなるバンプを第1の回路素子上、例えばＭＭＩＣ上のコンタクトパッドの上で形成し、次にこの第1の回路素子を、典型的には回路基板等の実装基板である第２の回路素子と、第２の回路素子上にある各導電性トレースまたはパッドにバンプを揃えるように対面関係で配置する。第1の回路素子と第２の回路素子を引き合わせ、圧力をかけることにより、あるいはより一般的にはバンプ材料が溶けるまで加熱することにより（加熱に当っては、通常３２０℃の温度を１０から２０秒間適用する）、接合を引き起こす。
【０００４】
従来、接合のために用いるバンプは、球形か半球形である。ただし、半球形のバンプもしくは多層バンプをカラムの上部に設けることも、これまでに提案されてきた。カラムは、接合される回路素子間にある程度の最小限の間隔を設けるために用いる。
【０００５】
回路集積の度合いが一層高くなると、それに応じてＭＭＩＣ等の回路素子上の導電性トレース／パッドの実装密度も高くなる。そこで、２つの隣接する導体／コンタクトパッドが偶発的に相互に接続されることを防ぐため、接合用バンプの寸法を十分に小さくすることが重要となる。周知のバンプ接合技法では、必ずしも寸法が十分に小さなバンプを形成できるとは限らない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかも、接合用バンプを形成するための技法によって、バンプが形成される回路素子の特性に深刻な劣化を招くことがある。その技法によって前記回路素子の基板、例えば半導体基板で不具合が生じ、その不具合はさらに基板上の回路層にまで波及するおそれがある。また、装置の中で欠陥接合用バンプが１つあるだけで、装置の作動が完全に妨げられることがある。したがって、接合工程は非常に繊細な作業である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の目的は、上記の欠点を考慮した上で、小さな寸法で、基礎となる回路素子の特性を留保できる製造方法を備えた、より良い接合用バンプ構造を提供することである。
【０００８】
さらに具体的には、本発明は、金を含み回路素子上に形成される台座部と、台座部上に形成される障壁層と、障壁層上に形成されるはんだ付け部とを備える接合用バンプ構造を提供するものであり、はんだ付け部は金を含む第1の層と、金を含む第２の層と、スズを含み第1の層と第２の層との間に位置する中間層とを備え、はんだ付け部における金とスズとの相対的質量は、はんだ付け部の組成を共晶金−スズ組成に一致させるものである。
【０００９】
本発明による接合用バンプ構造を使用することにより、回路素子の全ての接点を一度に接合できる。しかも、本発明の接合用バンプ構造をマイクロ波回路素子の接合に用いれば、寄生インダクタンスは低くなり、さらに回路素子の熱抵抗を改善し得る。
【００１０】
接合用バンプの台座部の高さは、典型的には３０μｍ程度である。障壁層には０．２μｍ程度の厚みを持たせると有利である。障壁層の形成には、電気めっきによって堆積できる種々の金属を用いることができるが、この目的に適した金属はＮｉである。
【００１１】
はんだ付け部の組成を確実に共晶金−スズ組成に一致させるため、第1の層は１．０から１．３μｍの厚みを持つ金層とし、第２の層は０．７から０．８μｍの厚みを持つ金層とし、さらに中間層は１．５から１．８μｍ範囲の厚みを持つスズの層とすると有利である。また、金からなる第1の層の厚みを約１．１５μｍとし、金からなる第２の層の厚みを約０．７５μｍとし、さらに中間スズ層の厚みを１．６５μｍとするのが好ましい。
【００１２】
上記の接合用バンプ構造を用いることにより、高さ３５μｍ程度、直径６０μｍ程度と注目に値する極小寸法の接合用バンプの形成が可能である。
【００１３】
上記の構造を持つ接合用バンプは、ＭＭＩＣを他の回路素子にバンプ接合する用途に特に適している。
【００１４】
本発明はさらに、上記の接合用バンプを形成する方法と、かかる接合用バンプを用いて第1の回路素子と第２の回路素子とを接続する方法とを提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
上記及び他の本発明の特徴と機能と利点は、添付の図面によって例示的に示される、本発明の好適な実施形態の以下の詳細な説明より、さらに明確になるであろう。
【００１６】
本発明による接合用バンプ構造の好適な実施形態を、図１を参照しつつ説明する。
【００１７】
この好適な実施形態によると、本発明による接合用バンプ１は、金（Ａｕ）からなるカラムまたは台座２と、ニッケル（Ｎｉ）からなる障壁層３と、多層構造を持つはんだ付け部５とを備える。Ａｕカラム２には、関連するリソグラフィ工程を促進するため、そして特にカラム２の電気めっきの時にフォトレジストを保全するため、好ましくは２５から３５μｍ（例えば３０μｍ）の高さを持たせ、さらに５５から６５μｍ（例えば５０μｍ）の直径を持たせる。Ｎｉ障壁層３は、好ましくは０．２μｍ程度と極めて薄い。ただし、このＮｉ層３があることで、Ａｕカラム２ははんだ付け部５から分離され、Ａｕカラム２は接合用バンプを用いたはんだ付け工程に巻き込まれずにすむため、Ｎｉ層３の存在が重要である。
【００１８】
はんだ付け部５は、下位Ａｕ層６と、中間スズ（Ｓｎ）層７と、上位Ａｕ層８とでサンドイッチ構成をなしており、有利である。適度の信頼性を保証するため、それらの金属層はいずれも純粋（≧９９．９％の純度）であることが好ましい。はんだ付け部５を構成する層６，７及び８の寸法は、はんだ付け部５におけるＡｕとＳｎとの相対的質量を、全体で見て、共晶Ａｕ−Ｓｎ組成、すなわち確実に再現できる低い融点（２８０℃）を持つ組成に一致させるべく選択する。この共晶Ａｕ−Ｓｎ組成に一致するサンドイッチ構造を持つはんだ付け部５をバンプ１の上部に設けることにより、比較的低い温度でバンプ接合を行うことが可能となるため、接続される回路素子への損傷は回避される。
【００１９】
層６、７、及び８の好適な寸法は次のとおりである：
第1のＡｕ層（６）  １．０から１．３μｍ、
中間Ｓｎ層  （７）：  １．５から１．８μｍ、
第２のＡｕ層（８）：  ０．７から０．８μｍ。
【００２０】
ただし、多層はんだ部５を共晶組成に一致させることができれば、上記とは別の寸法を適用してもよいことを理解されたい。
【００２１】
図１の接合用バンプ構造を形成する好適な方法を、図２を参照しつつ以下で説明する。この説明では、ＭＭＩＣ１０の活性面９の上で、単一の接合用バンプ１を形成すると仮定する。活性面９は、接合用バンプ１を介してＭＭＩＣ１０を別の回路素子に接続するためのコンタクトパッドＰを有する。（勿論、実際にはＭＭＩＣには多数のコンタクトパッドが存在しており、接合用バンプ１はそれらのパッドＰの全てに対して同時に形成できる。）
【００２２】
図２Ａを参照し、任意の適宜な技法（スパッタリング、物理蒸着法、その他）によってＭＭＩＣ１０の活性面９の上にチタン（Ｔｉ）層１２を堆積させる。このＴｉ層１２には、好ましくは０．５μｍの厚みを持たせる。ただし、Ｔｉ層１２の厚みは、０．３μｍから１．０μｍに及んでもよい。この層の厚みが０．３μｍを下回ると、電気めっきは均一ではなくなり得る。一方、この層の厚みが１．０μｍを上回ると、Ｔｉ層で極度のオーバーエッチングが起こり得る。Ｔｉ層１２は、その後の電気めっき工程で導電（シード）層の働きをする。ただ１つの金属からなるシード層を使用すれば、バンプ形成工程の終了時に、かかる層を取り除くことが容易となるため（一回のエッチング工程で十分である）、有利である。チタンは、かかるシード層にとって好適な材料である。なぜなら、チタンであればＭＭＩＣの活性面９から容易にエッチング除去でき、活性面上の金トレースは実質上損傷を被らないためである。しかも、Ｔｉであれば、ＭＭＩＣの活性面に良好に接着する。
【００２３】
次に、図２Ｂに示すとおり、スピニング技法等の公知の技法を用いてＴｉシード層１２の上に厚いフォトレジスト層１３を設け、さらに公知の光蝕刻法とエッチング技法とによってフォトレジスト１３にて開口部を定める（図２Ｂでは単一の開口部１５を示す）。この開口部１５によって、形成すべき接合用バンプの直径が決まる。典型的には、フォトレジスト層１３に４０μｍ±３μｍの厚みを持たせることで、フォトレジストとＴｉシード層１２とを合わせた厚みを４０μｍ近くにする。図２Ｂから分かるように、パターニング工程によって、それぞれの開口部１５の底でＴｉシード層１２が部分的に露出する。このＴｉシード層１２の露出部は、希フッ酸（ＨＦ）やＥＤＴＡ−Ｈ２Ｏ２（エチレンジアミン四酢酸−過酸化水素）の混合物を用いたエッチング等、任意の適当な技法によって取り除く。ＨＦは、その速いエッチング速度とその優れた選択性のため、好適である（エッチング中にフォトレジストが完全な状態を保つことができる）。
【００２４】
開口部１５の中で露出していたＴｉシード層部を取り除いた後には、図２Ｃに示すとおり、今度はＭＭＩＣ１０のコンタクトパッドＰが露出する。そして、周知の電気めっき方法を用いて、開口部１５におけるコンタクトパッドＰ上への複数金属層の被覆を制御することができる。まずは、比較的厚みのあるＡｕ層２をコンタクトパッドＰ上に被覆し、次いで非常に薄いＮｉ障壁層３、下位Ａｕ層６、中間Ｓｎ層７、そして上位Ａｕ層８を被覆する。あるいは別の技法を用いて、例えば上位Ａｕ層８を、堆積できる（上位Ａｕ層８の堆積には物理蒸着法を用いると便利である）。このようにして完成した構造を、図２Ｄに示す。すでに述べたとおり、下位Ａｕ層６と中間Ｓｎ層７と上位Ａｕ層８との寸法は、サンドイッチ構造５全体を考えた場合に、そこに含まれるＡｕとＳｎとの相対的質量を共晶Ａｕ−Ｓｎ組成に一致させるべく制御する。
【００２５】
電気めっきが完了した後、例えばリフトオフ工程によってフォトレジスト層１３を取り除くことで、図２Ｅに示す構造となる。最後に、Ｔｉシード層の残りの部分を、再び希ＨＦやＥＤＴＡ−Ｈ２Ｏ２等を用いたエッチングによって取り除く。ＭＭＩＣの活性面上の金トレースはエッチング液の影響を実質的には被らないため、シード層１２にチタンを使用することは、特に有利である。しかも、シード層１２は完全に取り除かれるため、接合用バンプが形成された後のＭＭＩＣの特性はその設計値に一致し、接合用バンプ形成工程に起因する実質的劣化は発生しない。この工程の結果として、完成した接合用バンプ構造を図２Ｆに示す。
【００２６】
本発明の好適な実施形態による接合用バンプ１を用いてＭＭＩＣ１０を基板２０に接続する好適な方法を、図３を参照しつつ説明する。
【００２７】
工程の第1ステップとして、図１に示す構造を持つ接合用バンプ１をＭＭＩＣ１０に設ける。これは、好ましくは、図２を参照して上述した接合用バンプ製造工程によって達成する。
【００２８】
図３を参照しつつ、前記接合用バンプにより接続された２つの回路素子を備えるデバイスを、接合用バンプを用いて製造する工程について述べる。図３Ａは、活性面９上に２つの接合用バンプ１を担うＭＭＩＣ１０によって構成された第1の回路素子と、ＭＭＩＣ１０の接続先にあたる基板２０を概略的に図示したものである。図３では明確さを高めるため、接合用バンプの高さをかなり誇張して示してある。点線２２は、ＭＭＩＣ１０を対面させ接続する基板２０のエリアを示す。基板２０上には、接点２５で終結する導電トレース２３がある。図３は、理解を容易にするために簡略化されているが、コンタクトパッドＰと接合用バンプ１と接点２５との数は、実際には図３のそれよりも多くなるであろう。基板も、集積回路になり得る。
【００２９】
図３Ｂに示すとおり、好適なバンプ接合工程の開始時には、ＭＭＩＣ１０の活性面９を反転させて基板２０の表面に向ける。ＭＭＩＣ１０は、基板２０を基準としつつ、バンプ１が基板上の接点２５に揃い、接触するように配置する。従来のアラインメント工程を、使用してもよい。
【００３０】
熱を加えることで、バンプのはんだ付け部５の層６，７及び８を溶かして混合し、図３Ｃに示すとおり、共晶Ａｕ−Ｓｎ組成を持つはんだ５’を形成する。このはんだ５’が、接点２５と接合用バンプ１の軸（層２及び３）とを接合させる。はんだ部５を構成する層６〜８の性質と厚みのため、２８０℃と３２０℃との間の温度を適用すれば、バンプ軸２、３と接点２５とを適切に接合させるに十分である。利用者は、典型的には、この温度を１０〜２０秒間適用する。したがって、ＭＭＩＣや基板を傷める原因となる、より高い温度を適用せずに済む。
【００３１】
以上、本発明をその好適な実施形態の観点から説明してきたが、添付の請求項で定義する本発明から逸脱することなく、好適な実施形態において種々の変形や発展が可能であることを理解されたい。
【００３２】
例えば本発明は、ＭＭＩＣ上での接合用バンプ形成が関わる技法に限定されず、他の回路素子上でも接合用バンプは形成し得る。さらに、本発明は、接合用バンプ１を担うことになる回路素子上でＴｉシード層１２を形成するために用いる工程に関し、あるいはフォトレジスト層１３を形成し、パターニングし、取り除くために用いる方法に関するが、本発明は特にそれらには限定されない。さらに周知のとおり、種々の金属層２，３，６，７及び８の電気めっきの際には、様々な作業条件が適用できる。
【００３３】
上記の装置は、従来の技術の技法を用いて製造された装置に比べて、より良い性能を持つ。特に上記の装置は、その性能が向上し、かつより均一であるため、より優れた信頼性を有する。上記の装置においては、寄生容量の低下と低抵抗の改善が見られる。そのため、携帯電話やＷＡＰ端末等の移動式端末や、その他の洗練された新しい移動式端末の製造に特に適している。端末の一層の発達に伴い、電子装置、延いては接合用バンプは、一層効率的で信頼できるものでなければならない。またＭＭＩＣは、遠隔通信での用途に特に適した集積回路である。そのため、本発明の接合用バンプを用いて基板や別の集積回路に接続されたＭＭＩＣを含む電子装置を備える移動式端末は、優れた性能と信頼性の両方を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の好適な実施形態による接合用バンプの構造を概略的に示す図。
【図２】好適な方法による、図１の接合用バンプ構造の製造に関わる各種のステップを例示する図。
【図３】本発明の好適な実施形態の接合用バンプ構造を使用して２つの回路素子を接続する好適なバンプ接合方法に関わる各種のステップを例示する図。
【符号の説明】
【００３５】
１  接合用バンプ
２  台座部
３  障壁層
６  第1の層
７  中間層
８  第２の層
９  活性面
１０  回路素子
Ｐ  コンタクトパッド
【図１】
2006505935.tif 000003
2006505935.tif 000004
2006505935.tif 000005
2006505935.tif 000006
【国際調査報告】
2006505935.tif 000007
2006505935.tif 000008
2006505935.tif 000009