(57)【要約】化学線に対して実質的に透明な保護要素を通して、化学線で、光重合可能なフレキソ印刷要素の架橋が行われる方法による光重合可能なフレキソ印刷要素を出発材料として使用して、フレキソ印刷版が直接レーザ彫刻によって製造される。
2006511356.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、
・寸法的に安定な支持体、
・少なくとも０．３ｍｍの厚さを有し、少なくともエラストマー性バインダ、エチレン性不飽和モノマー及び光重合開始剤を含む、光重合可能なレリーフ形成層、
・化学線に対し、実質的に透明な保護要素、
を相互に積層した状態で含む光重合可能なフレキソ印刷要素を出発材料として使用するレーザ彫刻によるフレキソ印刷版を製造する方法であって、以下の工程
（ａ）保護要素を通しての化学線での露光により、レリーフ形成層の全体積を架橋させる工程、
（ｂ）保護要素を除去する工程、
（ｃ）レーザで彫刻されるレリーフ要素の深さが、少なくとも０．０３ｍｍである印刷レリーフを、波長３０００〜１２０００ｎｍを放射するレーザを使用して、架橋されたレリーフ形成層に彫刻する工程、
をこの順番で含み、及び保護要素がフィルムであり、該フィルムのレリーフ形成層に対向する面に非粘着処理が施され、又は被覆が施され、且つフィルムがレリーフ形成層に直接的に施され、保護要素とレリーフ形成層との間の粘着性が、工程（ａ）の後に、保護要素が、架橋されたレリーフ形成層から剥離できるように調整された、レーザ彫刻によるフレキソ印刷版を製造する方法。
【請求項２】
保護要素が、非粘着性被覆を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
非粘着性被覆の層が、実質的にポリアミドを含み、及びレリーフ形成層中のエラストマー性バインダが、スチレン／ブタジエン型の熱可塑性ブロックコポリマーである請求項２に記載の方法。
【請求項４】
後に、洗浄工程（ｄ）を付加的に含む請求項１〜３の何れかに記載の方法。
【請求項５】
工程（ｃ）で形成された分解生成物が吸引除去される請求項１〜４の何れかに記載の方法。
【請求項６】
保護フィルム（ｂ）の除去の後、架橋されたレリーフ形成層が後の工程（ｂ’）において、表面から所定の透過深さで、工程（ａ）において製造された架橋密度の範囲を超えて架橋される請求項１〜５の何れかに記載の方法。
【請求項７】
工程（ｂ’）で行われる付加的な架橋は、透過深さが５〜２００μｍである請求項６に記載の方法。
【請求項８】
表面架橋の工程（ｂ’）が２００〜３００ｎｍの波長を有するＵＶ光を使用して実施されることを特徴とする請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
少なくとも、
・寸法的に安定な支持体、
・少なくとも、エラストマー性バインダ、エチレン性不飽和モノマー及び光重合開始剤を含み、少なくとも０．３ｍｍの厚さを有する光重合可能なレリーフ形成層、及び
・化学線に対して実質的に透明な保護要素、
を、相互に積層された状態で含み、保護要素がフィルムであり、該フィルムのレリーフ形成層に対向する面に非粘着処理又は被覆処理が施され、且つフィルムがレリーフ形成層に直接的に施され、保護要素と、レリーフ形成層との間の粘着性が、保護要素を通して化学線に露光された後に、架橋されたレリーフ形成層から、保護要素が剥離されるように調節されている、光重合可能なフレキソ印刷要素。
【請求項１０】
保護要素が非粘着性被覆を含む請求項９に記載のフレキソ印刷要素。
【請求項１１】
非粘着性被覆の層が実質的にポリアミドを含む請求項１０に記載のフレキソ印刷要素。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光重合可能なフレキソ印刷要素を出発材料として使用し、光重合可能なフレキソ印刷要素の架橋が、化学線に対して実質的に透明な保護要素を通して化学線で行われるフレキソ印刷版を、直接レーザ彫刻によって製造するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フレキソ印刷版の製造のための直接レーザ彫刻において、印刷レリーフがレーザによりフレキソ印刷要素のレリーフ形成層に、直接的に彫刻される。フレキソ印刷版の製造のための通常の方法として、次の現像工程はもはや必要とされない。フレキソ印刷版のレリーフ層の一般的な厚さは、０．５〜７ｍｍであり、特に薄い層では、所定の環境下で、０．２ｍｍでもある。レリーフ内の印刷されない窪み(well)は、スクリーン領域において、少なくとも０．０３ｍｍであり、又は他のネガティブ要素の場合には、実質的にそれ以上、及び厚い版の場合には３ｍｍまでの数値が考えられる。このように、大量の材料をレーザによって除去しなければならない。従って、この点において、直接レーザ彫刻は、レーザがマスク上に書き込むためにのみ使用され、印刷版の実際の製造が、なお洗浄及び現像工程で行われる、印刷版の部門で公知である他の技術と実質的に非常に異なる。
【０００３】
特にレーザ彫刻によるフレキソ印刷版の製造のために適応される、レーザ彫刻のための種々の出発材料及び方法が、例えば、特許文献１（ＵＳ３５４９７３３）、特許文献２（ＥＰ−Ａ６４００４３）、特許文献３（ＥＰ−Ａ６４００４４）、特許文献４（ＥＰ−Ａ７１０５７３）、特許文献５（ＥＰ−Ａ１０８０８８３）又は特許文献６（ＥＰ−Ａ１１３６２５４）に提案されている。
【０００４】
特許文献７（ＵＳ５２５９３１１）は、レーザ彫刻によるフレキソ印刷版の製造のための出発材料として、市販の光重合可能なフレキソ印刷要素の使用を提案している。
【０００５】
市販の光重合可能なフレキソ印刷要素は、寸法的に安定な支持体、通常、ＰＥＴフィルムのもの、その上に施され、及びエラストマー性バインダ、エチレン性不飽和モノマー、及び光重合開始剤又は光重合開始組成物を含んでいるレリーフ形成層、支持体層及びＰＥＴカバーシートを含む。支持体層は、リリース層としても公知である。フレキソ印刷要素の通常の光化学的な製造のために、保護フィルムが剥離される。支持体層は、粘着（接着）する保護フィルムとよりも、光重合可能な層とより強く粘着（接着）するので、従って光重合可能な層上に残る。そして、感光性(photographic)マスクが、支持体層の上に配置され、化学線での露光がマスクを通して行われる。通常、露光は、真空フレーム又は真空フィルムを使用して行われる。減圧により、感光性マスクとフレキソ印刷要素との特に親密な接触が確実になり、そして、更に、酸素の光重合可能な層への拡散が防止され、又は少なくとも、より拡散しにくくする。支持体層の目的は、保護フィルムをフレキソ印刷要素から剥離することを確実にすることである。更に支持体層の目的は、光での露光のためにフレキソ印刷要素上に感光性マスクを配置することが可能であり、そして、光重合可能な層に粘着して接着しているマスクがなく、又はマスクを剥離する時に、レリーフ形成層の表面が損傷を受ける程、強く粘着（接着）することなく、再び除去できることである。露光の後、支持体層及び光重合可能な層の非露光部分が洗浄剤で除去される。
【０００６】
特許文献７（ＵＳ５２５９３１１）に提供されているレーザ彫刻法では、通常のフレキソ印刷要素のＰＥＴ保護フィルムが、最初に、光重合可能な層上に残っている支持体から剥離される。レリーフ形成層は、次に化学線で、支持体層を通って露光することによって全体積が光化学的に架橋される。最後に、支持体層は、有機性のフレキソ洗浄剤で除去され、そして版が乾燥される。更なる工程では、ＣＯ2レーザでレリーフ形成層に、印刷レリーフが彫刻される。開示された方法の最後には、フレキソ洗浄剤での別の洗浄工程が含まれている。版は再度乾燥しなければならない。
【０００７】
【特許文献１】ＵＳ３５４９７３３
【特許文献２】ＥＰ−Ａ６４００４３
【特許文献３】ＥＰ−Ａ６４００４４
【特許文献４】ＥＰ−Ａ７１０５７３
【特許文献５】ＥＰ−Ａ１０８０８８３
【特許文献６】ＥＰ−Ａ１１３６２５４
【特許文献７】ＵＳ５２５９３１１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
開示された方法は、不利な点をいくつか有している。支持体層の除去のために使用した有機溶媒は、架橋したレリーフ形成層を溶解せず、しかし、それにもかかわらず、層はその中で膨脹し、層の厚さが増加する。しかしながら、不利なことに、レリーフ形成層中の溶媒残余物はレーザ彫刻によって得られた印刷レリーフの品質を低下させる。従って、フレキソ印刷要素は、溶媒の残余物を非常に完全な状態で除去するためにも、非常に徹底して乾燥されなければならない。非常に良好な乾燥が第２の理由によっても必要とされ、すなわち、レーザ彫刻では、レーザの焦点はレリーフ層に位置することが好ましい。もし、乾燥が不十分な版が使用されたならば、この時間中、当然、レリーフ層は溶媒を蒸発によって放出し続ける。このことは、レリーフ層の厚さが減少することを意味する。もし、レーザの焦点が、フレキソ印刷要素の彫刻の最初の表面上にまだあったならば、彫刻の継続時間の経過に従い、焦点は、その上に位置することになる。これは、異なる彫刻結果をもたらし、そして従ってフレキソ印刷要素は、全領域にわたって均一には彫刻されず、不十分な印刷画像をもたらす。
【０００９】
二重の洗浄及び乾燥工程が従って非常に時間を費やすものになる。通常の方法と比較した場合の、直接レーザ彫刻の時間的な利益は再度失われ、不利な場合ではこの方法は、時間がより長くかかるものになる。
【００１０】
溶媒での処理と、これに関連する不利な点を回避するために、リリース層が除去されない場合、彫刻された層要素の周囲に溶融縁(melt edge)が形成される。このような溶融縁は、レリーフ形成層の残余物、及び支持体層の残余物でなっている。溶融縁は印刷画像に干渉する。彫刻するレリーフ層の要素が微細になり、除去する材料が多くなる程、当然この影響ははっきりしたものになる。従って、レーザ彫刻によって、高い解像度の版の提供を望むならば、この処理も不可能である。
【００１１】
レーザ彫刻によるフレキソ印刷版の製造のために、通常の光重合可能なフレキソ印刷要素を使用することは、従って問題がある。これは、レーザ彫刻の要求に特に適応した、特別なフレキソ印刷要素の使用を含む。しかしながら、通常の光重合可能なフレキソ印刷要素は、押し出しにより、特に優雅に、高精度で、及び経済的に製造できるので、通常の光重合可能なフレキソ印刷要素の使用は、原則として魅力的である。更に、インク転写性、可撓性及び機械的特性等、印刷工程に重要なこれらの特性が確実になる。
【００１２】
本発明は、レーザ彫刻によるフレキソ印刷版、及びこの目的に適当な出発材料の製造のための、従来技術の不利な点を有しない、改良された方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
発明者は、この目的は、少なくとも、
・寸法的に安定な支持体、
・少なくとも０．３ｍｍの厚さを有し、少なくともエラストマー性バインダ、エチレン性不飽和モノマー及び光重合開始剤を含む、光重合可能なレリーフ形成層、
・化学線に対し、実質的に透明な保護要素、
を相互に積層した状態で含む光重合可能なフレキソ印刷要素を出発材料として使用するレーザ彫刻によるフレキソ印刷版を製造する方法であって、以下の工程
（ａ）保護要素を通しての化学線での露光により、レリーフ形成層の全体積を架橋させる工程、
（ｂ）保護要素を除去する工程、
（ｃ）レーザで彫刻されるレリーフ要素の深さが、少なくとも０．０３ｍｍである印刷レリーフを、３０００〜１２０００ｎｍを放射するレーザを使用して、架橋されたレリーフ形成層に彫刻する工程、
をこの順番で含み、及び保護要素がフィルムであり、該フィルムのレリーフ形成層に対向する面に非粘着処理が施された、又は被覆が施され、且つフィルムがレリーフ形成層に直接的に施され、保護要素とレリーフ形成層との間の粘着性が、工程（ａ）の後に、保護要素が、架橋されたレリーフ形成層から剥離できるように調整された、レーザ彫刻によるフレキソ印刷版を製造する方法、によって達成されることを見出した。
【００１４】
発明者は更に、少なくとも、
・寸法的に安定な支持体、
・少なくとも、エラストマー性バインダ、エチレン性不飽和モノマー及び光重合開始剤を含み、少なくとも０．３ｍｍの厚さを有する光重合可能なレリーフ形成層、及び
・化学線に対して実質的に透明な保護要素、
を、相互に積層された状態で含み、保護要素がフィルムであり、該フィルムのレリーフ形成層に対向する面に非粘着処理又は被覆処理が施され、且つフィルムがレリーフ形成層に直接的に施され、そして保護要素と、レリーフ形成層との間の粘着性が、保護要素を通して化学線に露光された後に、架橋されたレリーフ形成層から、保護要素が剥離されるように調節されている、光重合可能なフレキソ印刷要素、を見出した。
【００１５】
従来のフレキソ印刷要素のリリース層及びカバーシートを、新規な保護要素に代え、そして公知のレーザ彫刻法と比較して工程を変えることにより、実質的により良好な結果が達成されることが見出されたのは、驚くべきことであった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明に関し、以下のことが詳細に述べられる。
【００１７】
本発明に従って使用する、出発材料のための適当な寸法的に安定な支持体は、特に、例えば、ＰＥＴ又はＰＥＮを含むポリマーフィルム、又は、例えばアルミニウム又は鋼を含む金属シートである。
【００１８】
更に、光重合可能なフレキソ印刷要素は、少なくとも１種の光重合可能なレリーフ形成層を含み、この光重合可能なレリーフ形成層は、少なくともエラストマー性バインダ、エチレン性不飽和モノマー、光重合開始剤(photoinitiator)及び任意に別の添加剤を含むものである。レリーフ形成層は支持体に直接的に施されて良い。しかしながら、他の層、例えば、粘着（接着）促進層、及び／又は弾力性下部層も支持体とレリーフ形成層との間に存在して良い。
【００１９】
レリーフ形成層の成分は、従来のフレキソ印刷版の製造のために、通常的に使用する成分であって良い。当業者は、層の所望の特性に従って、それらから適当な選択を行う。
【００２０】
適当なエラストマー性バインダの例は、天然ゴム、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン／ブタジエンゴム、ニトリル／ブタジエンゴム、ブチルゴム、スチレン／イソプレンゴム、ポリノルボルネン(bornene)ゴム、又はエチレン／プロピレン／ジエンゴム（ＥＰＤＭ）を含む。更なる例は、スチレン／ブタジエン又はスチレン／イソプレン型の熱可塑性エラストマー性ブロックコポリマーを含む。
【００２１】
特に適当なエチレン性不飽和モノマーは、単又は多官能基のアルコール、アミン、アミノアルコール、又はヒドロキシエーテル、及びヒドロキシエステルを有する、（メタ）アクリル酸のエステル又はアミドである。例は、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、１、４−ブタンジオールジアクリレート及び１、６−ヘキサンジオールジアクリレートである。
【００２２】
光重合のための、適当な重合開始剤(initiator)は、ベンゾイン及びベンゾイン誘導体、ベンジル誘導体、アクリルホスフィンオキシド、及びアクリルホスフィンエステルが公知であるが、これらのリストに限られるものではない。
【００２３】
レリーフ形成層の特性が、これらにより逆効果を及ばされなければ、複数のバインダの混合物、複数のモノマーの混合物、又は複数の光重合開始剤の混合物も、当然使用することができる。
【００２４】
レリーフ形成層は、更に任意に原則として公知である添加剤及び助剤、例えば可塑剤、染料、分散剤又は静電防止剤を含んで良い。これらは、層の所望の特性に従って、当業者によって選択される。上記添加材および助剤を選択する場合、当業者は、「光重合可能」とするためには、化学線(actinic light)が、充分な強度で光重合可能な層を透過（浸透）することが必要であるため、従って、吸収添加剤、及び／又は散乱添加剤の添加には制限があることを認識している。
【００２５】
光重合可能な、レリーフ形成層は、複数の部分層で構成されても良い。これら架橋可能な部分層は、同一、およそ同一又は異なる組成ものもであって良い。
【００２６】
レリーフ形成層又は全てのレリーフ形成部分層の厚さは、少なくとも０．３ｍｍ及び通常７ｍｍ以下である。厚さは好ましくは０．５〜３．５ｍｍ、特に好ましくは０．７〜２．９ｍｍである。
【００２７】
本発明によれば、保護要素は、レリーフ形成層に直接的に施される。保護要素は、化学線に対して実質的に透明、すなわち、保護要素は品質を損なうことなく、レリーフ形成層の光重合が可能である程度に、化学線に対して透明であるべきである。透明という用語は、保護要素が化学線を、制限された範囲で、すなわち架橋に逆効果を与えることない程度に吸収又は散乱するという事実を除外しない。例えば、保護要素が曇っていても全く可能である。
【００２８】
保護要素は、レリーフ形成層の対向する面上が、非粘着処理又は被覆がされたフィルムである。それはレリーフ形成層に直接的に施される。
【００２９】
フィルムは、通常、例えばポリエチレン又はポリプロピレン、ＰＥＴ、ＰＥＮ又はポリアミドを含むポリマー性フィルムである。それは、複数の異なるポリマー性材料を含む、積層体にされたフィルムであっても良い。ＰＥＴフィルムが好ましい。フィルムは、非粘性処理が施され又は非粘性層で被覆される。
【００３０】
「剥離できる」とは、保護要素全体が、架橋されたレリーフ形成層から容易に除去でき、レリーフ形成層の表面がこれにより損害を受けず、そして保護要素の残留物がレリーフ形成層上に残っていないことと理解される。この一方で、粘着性（接着）は、露光の前及び後の両方で充分に強く、保護要素が、保護の目的を達成するために、レリーフ形成層と確実に結合するものであるべきである。
【００３１】
レリーフ形成層及び保護要素との間の粘着性（接着）は、工程（ａ）で化学線に露光された後、架橋されたばかりのレリーフ形成層から、保護要素が完全に剥離されるように調節される。露光前の架橋されていないレリーフ形成層から剥離できるが、しかし、露光の後に剥離できない、又は少なくとも、もはや完全には剥離できない保護要素は、本発明を実施するのには適当でない。この一方で、露光の前には剥離できず、しかし、露光の後にのみ剥離できる保護要素は、本発明を実施するのに適当である。
【００３２】
レリーフ形成層の表面の特性と保護要素のレリーフ形成層に対向する面の特性との両方が、粘着性（接着）を得るのに重要である。本発明によれば、２層の表面特性は、工程（ａ）における露光の後、所望の剥離性が得られるように互いに調整されるべきである。この関係において、保護要素とレリーフ形成層の全ての組み合わせが、所望の結果をもたらすわけではないことは、当業者にとって自明である。所定の組成のレリーフ形成層から剥離可能な保護要素は、必ずしも他の組成のレリーフ形成層から剥離できる必要はない。
【００３３】
保護要素のフィルムの表面は非粘着処理が施され、又は、レリーフ形成層に対向する面が、非粘着層（非粘着性被覆の層）で被覆されている。
【００３４】
非粘着処理は、例えば、フィルムの珪素処理(siliconization)又はテフロン（登録商標）処理(Teflonization)である。
【００３５】
非粘着性被覆の層(nontacky layer)の製造のために、重合性材料が特に適当である。上記層は、例えば、ポリマーを溶解し、フィルムの上に流延(cast)し、次に溶媒を蒸発させることによって製造できる。例えば、それはポリアミドであって良い。
【００３６】
非粘着性被覆の層を使用することにより、一方では、非粘着性被覆の層とフィルムとの間の接着に、他方では、非粘着性被覆の層とレリーフ形成層との間との接着に、有意な差異を有するようになる。このため、非粘着性被覆の層は、レリーフ形成層よりも、フィルムにより強く粘着（接着）し、そして剥離の結果として、フレキソ印刷版要素の表面品質が損傷を受けることなく、保護フィルムを高い信頼性で剥離することが確実になる。非粘着性被覆の層とフィルムとの間の粘着性（接着）を高める粘着（接着）促進層が、従って、任意に非粘着性被覆の層と保護フィルムとの間に存在できる。更なる実施の形態では、より強い粘着性（接着）を達成するために、例えば、非有機性粒子を表面に導入することにより、フィルム表面を改質(modify)することができる。第３の実施の形態では、非粘着性被覆の層に施す前に、フィルムをコロナ処理に付すことができ、この処理手段により非粘着性被覆の層のフィルムへの粘着性（接着）が改良される。コロナ処理の詳細は、例えば、ＤＥ−Ａ１９７１１６９６に開示されている。
【００３７】
レリーフ形成層の表面特性は、レリーフ形成層の成分とその量の選択に影響され得る。
【００３８】
露光の後に所望の層間剥離を得るために、エラストマー性バインダとしてスチレン／ブタジエン型の熱可塑性エラストマーブロックコポリマーを、レリーフ形成層に使用することが有用であることがわかった。
【００３９】
ブロックコポリマーは、各場合において、複数の、スチレン及びブタジエンブロックが交互に連続して続く、２ブロックコポリマー、３ブロックコポリマー又は多数のブロックコポリマーで良い。これらは、線状、分岐状、又は星状(star)ブロックコポリマーであって良い。本発明に従って使用するブロックコポリマーは、スチレン／ブタジエン／スチレン３ブロックコポリマーが特に好ましい。使用するスチレン／ブタジエンブロックコポリマーのスチレン含有量は、バインダに基づいて、通常、２０〜４０、好ましくは２５〜３５質量％である。このようなＳＢＳブロックコポリマーは、例えば、Ｋｒａｔｏｎ（登録商標）の名称で市販されている。市販の３ブロックコポリマーは、通常、２ブロックコポリマーを所定量含むことを考慮する必要がある。当然、異なるＳＢＳブロックコポリマーの混合物も使用して良い。
【００４０】
本発明を行うために特に有利な組み合わせは、レリーフ形成層にスチレン／ブタジエンブロックコポリマーを使用すること、及び、ポリアミドを含む非粘着性被覆の層を有する保護要素を使用することが挙げられる。
【００４１】
フレキソ印刷要素は、例えば、全成分を適当な溶媒に溶解又は分散させ、そして寸法的に安定な支持体上に流延することにより製造できる。複数層要素の場合、複数の層が、原則として公知の方法で、積層した状態で流延され得る。キャスティング（流延）の後、保護要素が施される。逆に、保護要素の上に流延し、最終的に支持体を、これと積層することも可能である。
【００４２】
熱可塑性エラストマー性バインダを使用する場合、レリーフ層の製造は、例えば、ＥＰ−Ａ０８４８５１に開示されているように、寸法的に安定な支持体フィルムと保護要素との間に溶融押し出し、そして得られた積層体をカレンダに掛けることにより、原則として公知の方法で特に有利に行うことができる。複数層要素は、二軸押し出し成形によって製造できる。金属支持体を有するフレキソ印刷要素は、仮の(temporary)支持体上に流延され、又は押し出され、そして次に、この層を金属支持体で積層体にすることにより得られることが好ましい。保護要素上に流延し、次に金属支持体をそれとを積層体にすることも可能である。
【００４３】
記載された光化学的に架橋可能なフレキソ印刷要素は、新規の方法のための出発材料として使用される。
【００４４】
新規な方法の工程（ａ）において、レリーフ形成層は、化学線での露光により層の全体積において光化学的に架橋される。ここで、露光は、化学線に対して実質的に透明である保護要素を通して、フレキソ印刷要素の上部から行われる。
【００４５】
保護要素を通しての露光に加え、任意に裏面からの予備露光を行うことも可能である。後者は、当然、化学線に対して透明な、寸法的に安定な支持体であることが必要とされる。裏面からの予備露光は、従って、例えば、金属支持体の場合には不可能である。裏面からの露光を行う場合、裏面からの露光は、前面からの露光の前、後又はこれと同時に行うことができる。裏面からの露光は、前もって行われることが好ましい。
【００４６】
工程（ａ）は、大気酸素の存在下、又は非存在下に行うことができる。従来のフレキソ印刷要素の場合のように圧力を減圧させることは必要とされない。保護要素はレリーフ形成層を酸素から効果的に保護し、これにより酸素がレリーフ形成層に拡散することを実質的に抑制し、そして適当な品質の印刷要素を得るために、レリーフ形成層の最上部の部分も充分な範囲に重合される。３２０〜４００ｎｍの波長を有するＵＶ−Ａ放射及び／又は３２０〜７００ｎｍの波長を有するＵＶ−Ａ／ＶＩＳ放射が、化学線として特に適当である。
【００４７】
工程（ａ）の後、工程（ｂ）において、保護要素はその全てが除去又は剥離される。
【００４８】
好ましい実施の形態では、工程（ｂ）に続く工程（ｂ’）で、層が、工程（ａ）で製造された架橋密度の範囲を超えて、表面から所定の透過深さにおいて、任意に架橋される。
【００４９】
工程（ｂ’）が施される場合、工程（ａ）において、架橋の過程で、層中のエチレン性不飽和基の全てがポリマー性ネットワークと反応するわけではなく、転化されない基が残るように架橋が行われる。例えば、露光時間を制限することにより、不完全な転化を行うことが可能である。
【００５０】
レリーフ形成層は部分的にのみ、架橋工程（ｂ’）で影響を及ぼされ、架橋工程（ｂ’）は表面的な効果のみを有する。層の全体積において、更なる架橋は起こらないが、層の体積が部分的に架橋される。工程（ｂ’）の影響は、レリーフ形成層の表面から所定の透過深さでのみ起こり、このため、専ら工程（ａ）を適用する場合よりも、層の最上部がより強く架橋される。工程（ａ）で転化されなかった、架橋可能な基のいくらか又は全部がここで転化される。
【００５１】
工程（ｂ’）で架橋密度が増加した領域の広さ、又は架橋のための処理の有効透過深さは、通常、記録する層の表面から見て、少なくとも５μｍ、及び２００μｍ以下であるが、この広さに限られるものではない。透過深さは、好ましくは５〜１５０μｍ、特に好ましくは、５〜１００μｍである。架橋密度が、工程（ｂ’）の過程で、工程（ａ）のレベルを超えて増加した領域から、工程（ｂ’）によって影響されなかった領域への移行は、突然移行するもの、比較的険しく移行するもの、緩やかに移行するものであって良い。透過深さを決定するために、透過深さとの相関関係を示す指標として、架橋密度をプロットした場合の変曲点が使用される。
【００５２】
架橋されたフレキソ印刷要素が２００〜３００ｎｍの波長を有するＵＶ光、すなわち、ＵＶ−Ｃ光で露光される実施の形態が、工程（ｂ’）を実施するために特に有用であることがわかった。層中の短波長光の強い散乱のために、ＵＶ−Ｃ放射の強度は、透過深さの増加に伴って実質的に減少し、このため、実際には、フレキソ印刷要素の最上部の領域のみが架橋される。
【００５３】
工程（ｂ’）の更なる詳細は、ここに参考として引用されている刊行物ＷＯ０２／４９８４２に開示されている。
【００５４】
工程（ｃ）において、波長３０００〜１２０００ｎｍを放射するレーザによって、印刷要素が架橋されたレリーフ形成層に彫刻される。この波長領域において、エラストマー性バインダは、通常充分な吸収を有し、従ってレーザ放射のための、付加的な吸収剤は使用する必要がない。ＣＯ2レーザ（波長１０．６μｍ）が特に適当である。同様な波長の他のレーザの種類を彫刻に使用することも可能である。レーザは連続的又はパルス方式の何れでも操作して良い。
【００５５】
レリーフ形成層は、充分な強度のレーザビームで露光された、これらの範囲内で除去され又は少なくとも薄片に裂かれる。層は溶融する前に蒸発し、又は熱的に又は酸化されて分解することが好ましく、これによりその分解生成物がガス、蒸気、煙霧、又は小粒子の状態で層から除去される。
【００５６】
レーザで彫刻される画像情報は、一式のコンピュータ装置からレーザ装置に直接的に伝えられる。
【００５７】
要素の側壁が最初垂直で、そして低い領域のみで広がるレリーフ要素が彫刻されることが好ましい。これにより、レリーフドットの良好な肩形状、得られた印刷版での印刷の間、しかし階調値(tonal value)の増加が少ない肩形状が、これにより達成される。しかしながら、他の形状の側壁も彫刻され得る。
【００５８】
要素の彫刻深さは、レリーフの合計深さ、及び彫刻される要素の種類に依存し、そして、印刷版の所望の特性に従って当業者によって決定される。レリーフ要素の彫刻深さは、少なくとも０．０３ｍｍ、好ましくは０．０５ｍｍであり、ここで述べられたのは、個々のドット間の最小深さである。ネガティブ要素が印刷インクでいっぱいになるので、レリーフの高さが非常に低い印刷版は、フレキソ印刷技術を使用した印刷には適当でない。
【００５９】
個々のネガティブドットは、通常、より深い深さを有しており、直径０．２ｍｍのものでは、少なくとも０．０７〜０．０８ｍｍの深さが望ましい。彫刻、除去された領域の場合、０．１５ｍｍ以上の深さ、好ましくは０．４ｍｍ以上の深さが望ましい。後者は、当然、比較的厚いレリーフの場合にのみ可能である。
【００６０】
レーザ彫刻の過程において、形成した分解生成物を、フレキソ印刷要素又はレリーフ層の表面から排除し続けること、及び、分解生成物を可能な限り不可逆的に除去することが通常有利である。この処理は、レリーフ表面上の分解生成物が、再度レリーフ表面に結合し得ることを完全に又は少なくともほとんど防止する。例えば、結果として生じる分解生成物、特に煙霧質を版表面から吸引する、適当な抜き取り器が使用できる。更なる実施の形態では、ガス又はガス混合物を、版表面上に吹き付けることができ、ガス流は、ガス流と共に分解生成物を運び去るものである。空気流又は窒素流が好ましい。
【００６１】
得られたレリーフ印刷版は、任意にその後、工程（ｄ）で洗浄できる。後の洗浄工程は、例えば、得られた印刷版の単純なブラシがけ又は磨きによって、機械的に行うことができる。しかしながら、印刷版の表面に、例えば、圧縮空気のガスジェットを吹き付けることもできる。ガスジェットの圧力又は速度が高い程、当然、洗浄効果が良好である。しかしながら、圧力が過度に高い場合、印刷版の表面は損傷を受ける。従って、当業者は、最も可能性のある洗浄と信頼性のある方法との間で妥協点を選択する。
【００６２】
ポリマー残存物を完全に除去可能とするためにも、後の洗浄用に、実質的にレリーフ層を膨脹させない液体の洗浄剤を使用することが好ましい。例えば、揮発性成分に特に厳しい条件が適用される食品包装が、フレキソ印刷版を使用して印刷される場合、このことは特に望ましい。
【００６３】
適当な洗浄剤の選択は、レリーフ層の組成に依存する。レリーフ層が有機溶媒に可溶性の成分，例えばＳＢＳ又はＳＩＳブロックコポリマー及びこれと両立し得るモノマーを有するという、「最も頻繁な」場合のために、水又は有利なことには、水性洗浄剤が使用される。水性洗浄剤は、実質的に水及び任意に少量のアルコールを含み、及び助剤、例えば界面活性剤、乳化剤、分散剤又は塩基を、洗浄工程を促進させるために含んで良い。水の乳濁液、有機溶媒及び適当な助剤をも、後の工程のために使用することが有利である。ＷＯ９９／６２７２３に開示され、そして水、飽和又は不飽和脂肪酸のアルキルエステル、及び界面活性剤を含むマイクロエマルジョン洗浄剤が、特に有利であることがわかった。従来の、水で現像可能なフレキソ印刷版を現像するために通常使用される混合物を使用しても良い。後の洗浄は、例えば、レリーフ印刷版の単純な浸漬又はスプレー掛けによって行うことができ、又は、機械的手段、例えば、ブラシ又はブラシパッドによって付加的にサポートされて良い。フレキソ印刷版のための、従来の洗浄器も使用して良い。非膨脹性洗浄剤を使用することは、後の洗浄の、次の時間のかかる印刷版の乾燥を必要としない。
【００６４】
当然、この方法のための出発材料として使用された、光重合可能なフレキソ印刷要素は、通常、印刷版製造所によって、工業規模で製造され、この一方で、レーザ彫刻（ｃ）及び後の何れの洗浄工程は、通常、彫刻所又は印刷所によって行われる。
【００６５】
工程（ａ）、（ｂ）、及び所望により（ｂ’）に関し、いくつかの可能性がある。これらは、彫刻所又は印刷所で実施できる。光化学的な架橋は、例えば、市販のフレキソ露光単位(unit)で実施できる。ＵＶＣ露光単位は通常、彫刻所又は印刷所にもある。
【００６６】
しかしながら、工程（ａ）、（ｂ）、及び所望により（ｂ’）は、当然、印刷版製造所自身によっても実施でき、このため取引先は、レーザ彫刻の準備のできた材料を受け取る。
【００６７】
図２に示された連続工程は、この目的のための、好ましい実施の形態であり、熱可塑性エラストマー性バインダが使用されている。レリーフ形成層の成分は、押し出し成形機（１）内で、公知の方法で溶融され、そして互いに徹底的に混合される。熱い光重合可能な材料がスロットダイ（２）を通ってカレンダ（３）のニップに排出される。支持体フィルム（５）は、カレンダロール（４）上を通され、そして、保護要素（７）が第２のカレンダロール（６）を通され、そして熱い光重合性材料が、２枚のフィルムの間にカレンダに掛けられる。カレンダを通した後、光重合可能なフレキソ印刷要素が冷却され、そして次に、露光ステーション（８）によって、前面から、化学線（ＵＶ−Ａ）で露光され、及び任意に別の露光ステーション（９）によって、裏面からも露光され、そして従って光化学的に架橋される。架橋ステーションの後、保護要素が剥離される。これは、例えば、図１に示すように、ローラ（１０）への巻き取りによって行われる。任意に、ＵＶ−Ｃ（１１）での露光を行うことができる。ＵＶ−Ｃ露光が意図されない場合、保護要素は当然フレキソ印刷要素上に残すことができる。
【００６８】
フィルムの位置も入れ替えることができ、すなわち、支持体フィルムを、上部カレンダロール（６）用いて供給でき、そして保護要素を下部カレンダロール（４）を用いて供給できる。露光ステーション及びいずれかの剥離装置（１０）の位置が、従って変更する。
【００６９】
新規の方法は、ＵＳ５２５９３１１に記載された方法によって得られるフレキソ印刷版よりも実質的に高品質のフレキソ印刷版を与える。ＵＳ５２５９３１１に記載された方法においては、特に微細なスクリーン領域で問題が発生する。レーザ彫刻の過程で、融解した大量の材料が形成され、及び表面と再度結合し、そして有機溶媒を用いても洗浄除去できない。二重の乾燥工程を避けることにより、非常に多くの時間が節約される。カバーシートを通しての露光は、特に滑らかな層表面、及び印刷の間の良好なインク転写をもたらす。ＵＶ−Ｃ露光の結果として、特に鮮明な(crisp)縁が得られる。
【００７０】
以下の例で、本発明を説明する。
【００７１】
試験
ＢＤＥ４１３１型の３ビームＣＯ2レーザ装置（ＳＴＫより）が彫刻試験に使用された。３レーザビームは、版表面上で、７７１６６及び１５１Ｗを有していた。装置は回転ドラムを有している。彫刻のために、フレキソ印刷要素がドラムに取り付けられ、そして後者が回転される。全ての試験において、ドラムの表面の速度は７ｍ／ｓであり、そして、回転方向を横切る方向のレーザビームの前進は、１回転当たり２０μｍであった。
【００７２】
ライン、ポジティブドット、ネガティブドット、文字（大文字の「Ａ」）、数字（「３％」）及び種々のスクリーンを含む、異なる要素の試験パターンが彫刻された。
【００７３】
印刷レリーフの品質は、以下のパラメータに基づいて評価された。
【００７４】
３％スクリーン領域（理想的に丸いドット）の視覚的な外観。
【００７５】
全般的な外観
溶融縁の発生
完全に除去された領域と、版表面との高さの相違としての、彫刻(gravure)深さ（大文字「Ａ」に基づいて測定）
２００μｍポジティブドットの直径
２００μｍネガティブドットの直径
２００μｍネガティブドットの中間深さ
レーザの方向に対して平行な２０μｍネガティブラインの幅
レーザの方向を横切る方向の２０μｍネガティブラインの幅
【００７６】
使用した材料
従来のリリース層及びＰＥＴカバーシートを有する、市販の光重合可能なフレキソ印刷要素が、比較試験３、４及び５のために使用された（ｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）ＡＲＴ、ＢＡＳＥ  Ｄｒｕｃｋｓｙｓｔｅｍｅ  ＧｍｂＨ）。この要素において、リリース層と光重合可能な層との間の粘着性（接着）は、カバーシートとリリース層との間の粘着性（接着）よりも強い。これは、支持体フィルムとカバーシートの間での、熱い光重合可能な材料の押し出しと、カレンダがけによる、通常の方法で製造される。
【００７７】
光重合可能な層が、ｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）ＡＲＴに相当する、フレキソ印刷要素が、試験１と２及び比較試験１と２のために使用された。通常のリリース層及び通常のカバーシートの代わりに、フレキソ印刷は新規な保護要素のみを有した。保護要素は、ポリアミド  Ｍａｃｒｏｍｅｌｔ（登録商標）６９００（Ｈｅｎｋｅｌより）で被覆された、ＰＥＴフィルム（Ｌｕｍｉｒｒｏｒ  Ｘ  ４３）からなる。フィルムと非粘着性被覆との間の粘着性（接着）は、付加的な被覆とＰＥＴフィルムとの間の粘着性（接着）よりも強く、このため、露光の後、保護要素は、全体的、すなわち、被覆を含んだ状態で、レリーフ形成層から剥離できる。
【００７８】
実施例１
上述した、新規なフレキソ印刷要素が使用された。
【００７９】
フレキソ印刷要素は、ＵＶ−Ａ放射（ＦＩＩＩ露光単位）を使用して１５分間、保護要素を通して架橋された。架橋は完了せず、そして、転化されていないエチレン性不飽和モノマーが層中にまだ残っていた。
【００８０】
ＵＶ−Ａでの露光の後、保護要素が剥離された。光重合可能な層上には、保護要素の残余物は全く残っていなかった。保護要素の非粘着性層はフィルムに粘着（接着）して完全に残っていた。
【００８１】
次に、レリーフ形成層は、ＵＶ−Ｃ光で１５分間露光された。これは、層の最上部中の架橋を増加させ、そしてこれによりレリーフ形成層が表面的に硬化された。
【００８２】
上述したテストパターンが、上述したレーザ装置を使用して架橋した層に彫刻された。
【００８３】
彫刻したレリーフが評価された。結果を表１にまとめた。レリーフの写真を図１に示す。
【００８４】
実施例２
付加的なＵＶ−Ｃでの露光工程を省いたこと以外は、手順は、実施例１と同様であった。
【００８５】
彫刻したレリーフが評価された。結果を表１にまとめた。レリーフの写真を図１に示す。
【００８６】
比較例１
新規なフレキソ印刷要素が使用され、そして、保護要素が、ＵＶ−Ａ放射で露光する前に除去されたこと以外は、手順は、実施例１と同様であった。結果を表１にまとめた。レリーフの写真を図１に示す。
【００８７】
比較例２
新規なフレキソ印刷要素が使用され、そして、保護要素が、ＵＶ−Ａ放射で露光する前に除去され、ＵＶ−Ｃの後の露光(postexposure)が行われなかったこと以外は、手順は、実施例１と同様であった。結果を表１にまとめた。レリーフの写真を図１に示す。
【００８８】
比較例３
市販のフレキソ印刷要素ｎｙｌｏｆｌｅｘ（登録商標）ＡＲＴが使用された。
【００８９】
リリース層が光重合可能な層上に残った状態で、カバーシートが、フレキソ印刷要素から剥離された。フレキソ印刷要素が、ＵＶ−Ａ放射を使用して、１５分間、リリース層を通して架橋された。
【００９０】
次に、上述したレーザ装置を使用して、上述したテストパターンが架橋された層に彫刻された。
【００９１】
彫刻したレリーフが評価された。結果を表１にまとめた。レリーフの写真を図１に示す。
【００９２】
比較例４
ＵＳ５２５９３１１に従った手順。
【００９３】
ＵＶ−Ａ放射での架橋の後に、フレキソ印刷版現像液ｎｙｌｏｓｏｌｖ（登録商標）ＩＩ（ＢＡＳＦ  Ｄｒｕｃｋｓｙｓｔｅｍｅ  ＧｍｂＨ）により、リリース層が除去されたこと以外は、手順は、比較例３と同様であった。架橋されたフレキソ印刷が６５℃で１５分間乾燥され、そして次にレーザ装置を使用して彫刻された。
【００９４】
彫刻したレリーフが評価された。結果を表１にまとめた。レリーフの写真を図１に示す。
【００９５】
比較例５
ＵＳ５２５９３１１中の手順。
【００９６】
乾燥が、６５℃で１２０分間行われたこと以外は、手順は、比較例３と同様であった。
【００９７】
彫刻したレリーフが評価された。結果を表１にまとめた。レリーフの写真を図１に示す。
【００９８】
【表１】
2006511356.tif 000003
【００９９】
試験は、新規な方法を使用することにより、高い品質のフレキソ印刷版が得られることを示している。
【０１００】
縁が鮮明である明快な印刷を与え、及び溶融縁を全く有しないフレキソ印刷版が、試験１及び２において得られた（図１、参照）。
【０１０１】
この一方で、新規な印刷要素の場合において、保護要素が剥離され、そして、他の全ての点では同様の手順が使用された場合、得られたフレキソ印刷版は実質的に溶融縁を有する（図１の比較例１及び２）。較例２において、３％スクリーンが新規な実施例と同程度の３％スクリーンが形成されないことが明らかである。ドットの形状は、正確な円形ではなく、楕円形である。
【０１０２】
通常のフレキソ印刷要素の彫刻、すなわち、レリーフ層上に残っているリリース層を通しての彫刻（比較試験３、図１）では、溶融縁を有しているフレキソ印刷版が得られた。ＵＳ５２５９３１１に記載されているように、レーザ彫刻の前にフレキソ現像液を使用してリリース層を除去する場合、溶融縁の発生は避けられる（比較例４及び５、図１）。洗浄の結果、感度はわずかに増加する。しかしながら、不利なことに、画像対象物の縁は、溶媒での処理の結果、実質的に鮮明でなくなる。このことは、溶媒での処理の後、不鮮明になったスクリプト「３％」から、非常に明確である。この影響は、乾燥を長くしても避けることができない。フレキソ印刷要素は、従って、レーザ彫刻前の溶媒処理によって、取り消すことのできない、不利な変化を受けることになる。
【０１０３】
新規な方法と、新規なフレキソ印刷要素は、このように、特許文献７（ＵＳ５２５９３１１）に開示された方法と比較して、有意な改良をもたらす。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１．１】実施例及び比較例における印刷レリーフの部分の拡大写真である。
【図１．２】実施例及び比較例における印刷レリーフの部分の拡大写真である。
【図２】本目的のための、好ましい実施の形態の連続工程を説明した図である。
【符号の説明】
【０１０５】
（１）押し出し成形機
（２）スロットダイ
（３）ニップ
（４）カレンダロール
（５）支持体フィルム
（６）カレンダロール
（７）保護要素
（８）露光ステーション
（９）露光ステーション
（１０）ローラ
（１１）ＵＶ−Ｃ
【図２】
2006511356.tif 000004
【図１．１】
2006511356.tif 000005
【図１．２】
2006511356.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成16年9月4日(2004.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、
・寸法的に安定な支持体、
・少なくとも０．３ｍｍの厚さを有し、少なくともエラストマー性バインダ、エチレン性不飽和モノマー及び光重合開始剤を含む、光重合可能なレリーフ形成層、
・化学線に対し、実質的に透明な保護要素、
を相互に積層した状態で含む光重合可能なフレキソ印刷要素を出発材料として使用するレーザ彫刻によるフレキソ印刷版を製造する方法であって、以下の工程
（ａ）保護要素を通しての化学線での露光により、レリーフ形成層の全体積を架橋させる工程、
（ｂ）保護要素を除去する工程、及び、
（ｃ）レーザで彫刻されるレリーフ要素の深さが、少なくとも０．０３ｍｍである印刷レリーフを、波長３０００〜１２０００ｎｍを放射するレーザを使用して、架橋されたレリーフ形成層に彫刻する工程、
をこの順番で含み、及び保護要素がフィルムであり、該フィルムのレリーフ形成層に対向する面に非粘着処理が施され、又は被覆が施され、＊且つフィルムがレリーフ形成層に直接的に施され、保護要素とレリーフ形成層との間の粘着性が、工程（ａ）の後に、保護要素が、架橋されたレリーフ形成層から剥離できるように調整され、及び化学線が、約３２０〜４００ｎｍの波長を有するＵＶ−Ａ放射、及び／又は約３２０〜約７００ｎｍの波長を有するＵＶ−Ａ／ＶＩＳ放射であるレーザ彫刻によるフレキソ印刷版を製造する方法。
【請求項２】
保護要素が、非粘着性被覆を含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
非粘着性被覆の層が、実質的にポリアミドを含み、及びレリーフ形成層中のエラストマー性バインダが、スチレン／ブタジエン型の熱可塑性ブロックコポリマーである請求項２に記載の方法。
【請求項４】
後に、洗浄工程（ｄ）を付加的に含む請求項１〜３の何れかに記載の方法。
【請求項５】
工程（ｃ）で形成された分解生成物が吸引除去される請求項１〜４の何れかに記載の方法。
【請求項６】
保護フィルム（ｂ）の除去の後、架橋されたレリーフ形成層が後の工程（ｂ’）において、表面から所定の透過深さで、工程（ａ）において製造された架橋密度の範囲を超えて架橋される請求項１〜５の何れかに記載の方法。
【請求項７】
工程（ｂ’）で行われる付加的な架橋は、透過深さが５〜２００μｍである請求項６に記載の方法。
【請求項８】
表面架橋の工程（ｂ’）が２００〜３００ｎｍの波長を有するＵＶ光を使用して実施されることを特徴とする請求項６又は７に記載の方法。
【請求項９】
少なくとも、
・寸法的に安定な支持体、
・少なくとも、エラストマー性バインダ、エチレン性不飽和モノマー及び光重合開始剤を含み、少なくとも０．３ｍｍの厚さを有する光重合可能なレリーフ形成層、及び
・化学線に対して実質的に透明な保護要素、
を、相互に積層された状態で含み、保護要素がフィルムであり、該フィルムのレリーフ形成層に対向する面に非粘着処理又は被覆処理が施され、且つフィルムがレリーフ形成層に直接的に施され、保護要素と、レリーフ形成層との間の粘着性が、保護要素を通して化学線に露光された後に、架橋されたレリーフ形成層から、保護要素が剥離されるように調節されており、及び化学線が、約３２０〜４００ｎｍの波長を有するＵＶ−Ａ放射、及び／又は約３２０〜約７００ｎｍの波長を有するＵＶ−Ａ／ＶＩＳ放射である光重合可能なフレキソ印刷要素。
【請求項１０】
保護要素が非粘着性被覆を含む請求項９に記載のフレキソ印刷要素。
【請求項１１】
非粘着性被覆の層が実質的にポリアミドを含む請求項１０に記載のフレキソ印刷要素。
【手続補正書】
【提出日】平成17年8月9日(2005.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
少なくとも、
・寸法的に安定な支持体、
・少なくとも０．３ｍｍの厚さを有し、少なくともエラストマー性バインダ、エチレン性不飽和モノマー及び光重合開始剤を含む、光重合可能なレリーフ形成層、
・化学線に対し、実質的に透明な保護要素、
を相互に積層した状態で含む光重合可能なフレキソ印刷要素を出発材料として使用するレーザ彫刻によるフレキソ印刷版を製造する方法であって、以下の工程
（ａ）保護要素を通しての化学線での露光により、レリーフ形成層の全体積を架橋させる工程、
（ｂ）保護要素を除去する工程、及び、
（ｃ）レーザで彫刻されるレリーフ要素の深さが、少なくとも０．０３ｍｍである印刷レリーフを、波長３０００〜１２０００ｎｍを放射するレーザを使用して、架橋されたレリーフ形成層に彫刻する工程、
をこの順番で含み、及び保護要素がフィルムであり、該フィルムのレリーフ形成層に対向する面に非粘着処理が施され、又は被覆が施され、且つフィルムがレリーフ形成層に直接的に施され、保護要素とレリーフ形成層との間の粘着性が、工程（ａ）の後に、保護要素が、架橋されたレリーフ形成層から剥離できるように調整され、及び化学線が、約３２０〜４００ｎｍの波長を有するＵＶ−Ａ放射、及び／又は約３２０〜約７００ｎｍの波長を有するＵＶ−Ａ／ＶＩＳ放射であるレーザ彫刻によるフレキソ印刷版を製造する方法。
【国際調査報告】
2006511356.tif 000007
2006511356.tif 000008
2006511356.tif 000009
2006511356.tif 000010