(57)【要約】環境室（２６、１２６）の壁に実質的に繰返し可能に取り付けることができ、レーザ源（１２、１１２）を含むハウジング（１０、４０）と、環境室の中に位置する物体に取り付けられた反射器（２２、５０、１２２、１５０）と、環境室の壁を貫通して設けられた、レーザ源から反射器へのレーザビームの通過を可能にする光通路とを備えたレーザ干渉計が開示される。光通路を通過するレーザビームの通過方向を調整するために、少なくとも１つのビームステアラ（５６、５８、１５６、１５８）を提供することができる。カラムレーザ干渉計も開示される。
2006501463.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
環境室（２６、１２６）の壁に実質的に繰返し可能に取り付けることができ、レーザ源（１２、１１２）を含むハウジング（１０、４０）と、
前記環境室の中に位置する物体に取り付けられた反射器（２２、５０、１２２、１５０）と、
前記環境室の前記壁を貫通して設けられた、前記レーザ源から前記反射器へのレーザビームの通過を可能にする光通路と
を備えることを特徴とするレーザ干渉計。
【請求項２】
前記ハウジング（１０）は前記壁に対偶的に取り付ける（３０）ことができることを特徴とする請求項１に記載のレーザ干渉計。
【請求項３】
前記環境室は真空室であることを特徴とする任意の前記請求項に記載のレーザ干渉計。
【請求項４】
前記反射器は鏡（２２）であることを特徴とする任意の前記請求項に記載のレーザ干渉計。
【請求項５】
前記ハウジングは、前記光通路を通過するレーザビームの通過方向を調整する少なくとも１つのビームステアラ（５６、５８、１５６、１５８）を含むことを特徴とする任意の前記請求項に記載のレーザ干渉計。
【請求項６】
前記ハウジングは、２平面のレーザビームの通過方向を調整する２つのビームステアラ（５６、５８、１５６、１５８）を含むことを特徴とする請求項５に記載のレーザ干渉計。
【請求項７】
前記環境室の前記壁を通したレーザビームの通過のアラインメントをとるアラインメント装置（２６０）を備えることを特徴とする請求項５または６に記載のレーザ干渉計。
【請求項８】
任意の前記請求項に記載のレーザ干渉計を備え、それによって前記環境室（２６、１２６）の中に相対的に固定された第２の反射器（５０、１５０）が提供され、前記光通路は、前記レーザ源から前記第２の反射器への参照ビーム（４８、１４８）の通過を可能にすることを特徴とするカラムレーザ干渉計。
【請求項９】
前記ハウジングは、前記測定ビームと前記参照ビームの間の角度を調整するくさび形プリズム（２７０）を含むことを特徴とする請求項８に記載のレーザ干渉計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレーザ干渉計（ｌａｓｅｒ  ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ）に関する。
【背景技術】
【０００２】
環境制御室（ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌ  ｃｏｎｔｒｏｌ  ｃｈａｍｂｅｒ）はあらゆる機器にとって厳しい要件を強いられる場所であり、前記機器中の構成要素は、高圧または低圧および有機ガスに耐えられなければならず、室の汚染が問題となる場合には１５０℃以上の温度に耐えられなければならない。
【０００３】
【特許文献１】米国特許第６４７３２５０号明細書
【特許文献２】ＧＢ０２２２９７０．６
【特許文献３】国際公開第００／５７２２８号パンフレット
【非特許文献１】H Braddick, "Mechanical Design of Laboratory Apparatus", Chapman and Hall Limited, London 1960
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来のレーザ干渉計システムはこれらの要件を満たすことができない。環境制御が必要な１つの状況は、清浄な環境がなによりも重要な、例えばコンピュータチップおよびコンピュータチップマスクを製造するための半導体製造である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の態様によればレーザ干渉計が提供される。このレーザ干渉計は、
環境室の壁に実質的に繰返し可能に取り付けることができ、レーザ源を含むハウジングと、
環境室の中に位置する物体に取り付けられた反射器と、
環境室の壁を貫通して設けられた、レーザ源から反射器へのレーザビームの通過を可能にする光通路と
を備える。
【０００６】
ハウジングの中に検出器が配置されることが好ましい。
【０００７】
レーザ源は、レーザまたはレーザに接続された光ファイバの端部とすることができる。
【０００８】
第２の態様によれば本発明はレーザ干渉計を提供する。このレーザ干渉計は、
第１のレーザビームを提供するレーザ源と、
第２のレーザビームを提供する手段と、
第１のレーザビームと第２のレーザビームを重ね合わせることによって干渉ビームを提供する干渉手段と、
干渉ビームを検出する検出器と、
レーザ源に対して可動の物体に取り付けられた、物体からの少なくとも１つのレーザビームを干渉手段へ反射させる反射器と
を備え、
少なくとも前記反射手段が環境室の中に配置され、少なくとも前記レーザ源が、環境室の壁に実質的に繰返し可能に取り付けることができるハウジングによって、真空室の外部に配置され、少なくとも１つのレーザビームの真空室壁の通過を可能にする光通路が、真空室壁を貫通して提供される。
【０００９】
環境室の壁は、室の加圧、減圧またはベーキングの間に歪みうる。これは、干渉計の繊細な構成要素に損傷を与える。さらに、この歪みはレーザビームのミスアラインメントを引き起こす可能性があり、そのため、環境室が使用条件下にあるときに適正かつ正確な繰返し可能配置が提供されるように位置決め継手を設計することが有利である。
【００１０】
ハウジングは、少なくとも最小信号強度が検出されるように、十分な繰返し性で室壁に取り付けられる（実質的に繰返し可能に取り付けられる）。このことは、信号強度計を使用して最適な信号強度を達成するレーザビームの再アラインメントを可能にし、したがって絶対的な繰返し性は必須ではない。
【００１１】
環境室は、部分真空または完全真空に耐える能力を有するシールを使用してガスの出入りを防ぐ、一般に真空室と呼ばれる任意の室を含む。このような室は例えば、完全真空、部分真空、無空気条件、例えば酸素、有機ガスなどの処理ガスが使用される条件、または１気圧を超える圧力で使用することができる。
【００１２】
ビームアラインメントの偏向を達成できるようにするためには、少なくとも１つのビームステアラ（ｂｅａｍ  ｓｔｅｅｒｅｒ）が提供されることが好ましい。それぞれのビームステアラがビーム方向に垂直な１つの平面に対応する、少なくとも２つのビームステアラが提供されることが好ましい。ビームステアラは、光通路を通過するレーザビームの通過方向を調整する。ビームステアラは、くさび形プリズムおよび／または機械式アジャスタを含むことができる。少なくとも２つのくさび形プリズムが提供される場合、それらはアンマッチドペアであることが好ましい。
【００１３】
次に、添付図面を参照して本発明を例を挙げて説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図１は、一体型レーザ源／検出システム（combined laser source and detection system）１２と、レーザ源１２からのビームを参照ビーム１６と測定ビーム２０に分割する偏光ビームスプリッタ（ｐｏｌａｒｉｓｉｎｇ  ｂｅａｍｓｐｌｉｔｔｅｒ）１４とを備えた、取外し可能物（ｄｅｔａｃｈａｂｌｅ  ｏｂｊｅｃｔ）１０を示している。参照ビーム１６は再帰反射器１８に向かって導かれ、次いで再び偏光ビームスプリッタ１４および検出器１２へと導かれる。測定ビーム２０は、可動台２４に取り付けられた真空コンパチブル平面鏡（ｖａｃｕｕｍ  ｃｏｍｐａｔｉｂｌｅ  ｐｌａｎｅ  ｍｉｒｒｏｒ）２２に入射する。可動台２４は真空室２６の中に収容されており、レーザ源に近づく方向／レーザ源から遠ざかる方向（ｘ方向）に移動することができる。測定ビーム２０は光学窓３８を通して真空室２６に入り、真空室２６を出る。取外し可能物１０は、対偶マウント（ｋｉｎｅｍａｔｉｃ  ｍｏｕｎｔ）２８によって真空室２６の壁に保持される。
【００１５】
対偶マウント２８は、取外し可能物１０の突出部３２の中に間隔を置いて取り付けられた３つのボール（ｂａｌｌ）対３０を備える（この対偶ロケータ（ｋｉｎｅｍａｔｉｃ  ｌｏｃａｔｏｒ）がより分かりやすく示された図２を参照されたい）。真空室２６には、１本のロッドが１つのボール対３０の中心と一致するように間隔を置いて配置された３本のロッド（ｒｏｄ）３４が取り付けられている。真空室２６の壁からは、取外し可能物１０の突出部３０を収容するスリーブ（ｓｌｅｅｖｅ）３６が延びている。スリーブ３６およびロッド３４は、加熱中または減圧時の真空室壁の歪みを収容するために十分に自由に、しかし取外し可能物１０の繰返し可能な配置を可能にして両者間の光学経路を維持し、測定プロセス中に可動台に対して安定した取付位置を提供するため、真空室壁および平面鏡２２に対して取外し可能物１０が固定され続けるように十分にがっちりと、真空室の壁に固定されている。いくつかの異なる真空強度が使用される場合には、壁の撓みの変動を考慮するため、この取付けは調整を要する可能性がある。
【００１６】
次に図２を参照する。この対偶継手（ｋｉｎｅｍａｔｉｃ  ｊｏｉｎｔ）の中心には、真空室の光学窓３８および平面鏡２２と一直線に並んだ開口３９があり、この開口は、測定ビームが平面鏡２２に入射し、そこで反射されることを可能にする。
【００１７】
例えば半導体ウェハをその上に配置することができる試料台２４を移動させると、レーザ検出器１２によって測定される測定ビーム２０と参照ビーム１６の間の干渉が変化し、それによって可動試料ホルダ２４と取外し可能物１０の相対位置を知ることができる。
【００１８】
対偶継手２８は、取外し可能物１０の突出部３０のボール対間に間隔を置いて配置された３つの磁石３７によって所定の位置に保持される。このことは、真空室の壁が磁性材料でできていなければならないか、またはスリーブ３６およびロッド３４の取付けに金属製の薄いベース（ｂａｓｅ）を要することを意味する。
【００１９】
レーザ源、検出器および関連光学部品を収容する取外し可能物を使用する利点の１つは、真空室の排気およびベーキング（ｂａｋｉｎｇ）の間、取外し可能物を室から取り外すことができることである。これによって、レーザ干渉計の壊れやすい構成要素が、真空室の中の不利な条件によって損傷を受け、歪み、または他の影響を受けることを防ぐことができる。
【００２０】
上で述べたタイプの対偶継手が好ましいが、磁石の代わりに、他の対偶着座構成およびバイアス（ｂｉａｓｉｎｇ）方法を使用することもできる。代替の対偶構成は非特許文献１に記載されている。代替のバイアス法の一例はばねを使用する方法であり、このばねは、継手を構築する方法に応じて、引張りばねまたは圧縮ばねとすることができる。
【００２１】
この繰返し可能な配置は、対偶的に（ｋｉｎｅｍａｔｉｃａｌｌｙ）拘束される必要はない。反射鏡に対するレーザ源の相対位置が繰返し可能であれば十分である。１つの代替方法は、真空室の外部のレーザ干渉計の構成要素が取り付けられたスライド板を使用する方法である。次いでこれを、真空室の壁に設けられた対応する「ｕ」字形のマウントの中に配置する。マウント内のスライド板配置の繰返し性を保証するために、正確に配置されたねじを使用することができる。
【００２２】
参照ビームの経路と測定ビームの経路の条件をできるだけ同じにするため、参照ビーム経路は、光学窓３８と同じ厚さ同じ組成のガラス片を、再帰反射器１８とビームスプリッタ１４の間に備えることができる。これによって、システムの温度が変化したときのガラスの膨張／収縮による経路長の変化を考慮する。
【００２３】
図３は、一体型レーザ源／検出システム１２と、レーザ源１２からのレーザビームを測定ビーム４４と参照ビーム４８に分割するビームスプリッタ４２とを含む取外し可能物４０を有する、カラムレーザ干渉計システム（ｃｏｌｕｍｎ  ｌａｓｅｒ  ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ  ｓｙｓｔｅｍ）を示している。この場合、ビームスプリッタ４２は、複光路式干渉計システムを生み出す偏光ビームスプリッタである。測定ビーム４４は再帰反射器４６に入射し、再帰反射器４６はこのビームを、真空室２６の中の可動試料ホルダ２４に取り付けられた平面鏡２２に向かって導く。参照ビーム４８は４５°鏡５４に入射し、４５°鏡５４はこのビームを、可動試料ホルダ２４に比べて相対的に固定された参照カラム（ｃｏｌｕｍｎ  ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ）５２に取り付けられた平面鏡５０に向かって導く。この干渉計システムが対偶的に配置されているとき、参照カラム５２の位置は、干渉計システムの他の部分に対して固定されている。試料台２４の移動は、検出器１２によって検出される測定ビーム４４と参照ビーム４８の間の経路長の変化をもたらす。したがって、試料台２４の位置を正確に計算することができる。真空室２６の壁に位置する真空窓１３８は、測定ビーム４４の通過に加えて、参照ビーム４８の第２の反射器５０への通過を可能にする十分なサイズを有する。
【００２４】
この例では、一体型レーザ源／検出器が平面鏡２２、５０に対して実質的に垂直である。これによって取外し可能物４０のｘ方向の長さが短くなり、このことは、対偶継手の歪みが低減し、したがって対偶継手に必要な強度が低下し、取外し可能物４０が偶発的に外れる可能性が低くなることを意味する。
【００２５】
測定ビーム４４および参照ビーム４８の経路上には３つのプリズム５６、５８、６０がある。このうちの２つのプリズム５６、５８を回転させると、測定ビームまたは参照ビームの平面鏡２２、５０へのビーム方向が偏向する。これによって、光学構成要素のアラインメントの製造誤差を補償することができる。回転可能な２つのプリズムを使用することもできるが、それらはマッチドペア（ｍａｔｃｈｅｄ  ｐａｉｒ）のプリズムでなければならず、コストが増大する。４５°鏡５４の代替物はペンタプリズム（ｐｅｎｔａｐｒｉｓｍ）である。３つのプリズムを使用して２平面のビーム偏向を達成することが特許文献１に詳細に記載されている。
【００２６】
図４に、図３に示したカラム干渉計システムの代替システムを示す。この例では、一体型レーザ源／検出器１１２、ビームスプリッタ１４２および再帰反射器１４６がすべて、（室に取り付けられたときに）平面鏡１２２、１５０に対して垂直に近い角度、ただし垂直ではない角度で配置される。参照ビーム１４８を平面鏡１５０に向かって反射する鏡１５４の角度は、入射参照ビーム１４８に対して４５°ではない。鏡１５４は、参照ビーム１４８に対して２平面で傾いている。このような軸ずれ（ｏｆｆ−ａｘｉｓ）レーザシステムの使用は、垂直にアラインメントがとられたレーザの場合のように２つのマッチドプリズムまたは３つのプリズムを使用する代わりに、回転可能な２つのマッチドまたはアンマッチドプリズム１５６、１５８をビームアラインメントに使用できることを意味している。
【００２７】
２つのプリズム１５６、１５８はそれぞれ、ビーム経路に対して制限された回転運動を有する。例えば、これらのプリズムの回転は、ビーム経路を軸とした９０°の回転に制限されており、したがってそれぞれのプリズムの回転はそれぞれ、異なる平面でのレーザビームの偏向を引き起こす。このような２つのプリズムの使用は、レーザ源が平面鏡に対してほぼ垂直に配置された記載の状況に限定されず、レーザ源を平面鏡に対して斜めに配置することができる。この軸ずれ実施形態は、同時係属出願である特許文献２により詳細に記載されている。
【００２８】
２次元ビーム偏向を得るための回転可能な２つのプリズムの使用には他の使用法もある。試料の位置決めが重要なプロセスでは、その試料の角偏向は望ましくない。そこで、２つの回転プリズム（またはその等価物）を利用する本発明の実施形態は、試料の位置決めの測定を可能にする他に、直線運動中の試料台の角運動の追跡も可能にする。干渉ビームは測定プロセスの間つねに検出されなければならないので、信号損失に至る前のある角ミスアラインメントは許容される。信号の損失は角運動があることを示す１つの方法である。しかし、この試料台の角偏向を相殺するためにプリズムを回転させる場合には、回転の程度およびおそらく回転率を監視することによって、角偏向の量を計算することができる。プリズムをモータで動かす場合には、この角偏向を自動追跡することができる。ある角偏向が許容される場合、この追跡技法を測定中に使用して、試料台が許容範囲を越えようとしていることをことを指示することもできる。
【００２９】
２つのくさび形プリズムを使用する必要は必ずしもない。例えば、必要なビーム方向に対する鏡のオフセットを１平面だけにすることができ、その場合には、単一のビームステアラを使用することができる。くさび形プリズムの代わりに、特許文献３に記載されている調整可能クランプなどの代替光学要素または機械的アジャスタを使用することもできる。
【００３０】
次に、図４に示した繰返し可能取付けを図４、５および６を参照して説明する。取外し可能物４０の突出部２３２には、３つのロケータ（ｌｏｃａｔｏｒ）２３０が間隔を置いて配置されている。室壁１２６は、取付板２４２を収容する凹んだ領域２４０を有する。取付板２４２は、取外し可能物の突出部２３２のサイズおよび形状に一致した凹み２３６を含む。取付板の凹み２３６はさらに、３つのロケータ２３０のサイズおよび相対位置に一致した、その中にロケータを収容する３つのロケータ凹み２３４を含む。
【００３１】
次に図６を参照すると、取付板２４２は、レーザ源１１２から反射器１２２、１５０への光の通過を可能にする窓２３８を含む。取付板２４２は、室壁１２６の溝２４６の中に位置するＯリング２４４によって、室壁１２６に対してシールされている。Ｏリング２４４は窓２３８を都合よくシールする。
【００３２】
ロケータ２３０は、ボルト（図示せず）を通す中心穴２４８と、適当なロケータ凹み２３４と協力して室壁１２６に対する取外し可能物４０のおおよその配置を提供する外部リップ（ｅｘｔｅｒｎａｌ  ｌｉｐ）２５０とを含む。ロケータを介して取外し可能物を所定の位置にボルトで固定したら、回転可能なプリズム１５６および１５８（図４）を回転させてアラインメントをとり、レーザビーム１４４、１４８を鏡１２２、１５０ヘ導き、検出器１１２へ戻す。
【００３３】
代替実施形態では、取外し可能物を取付板に固定するのではなしに、室壁に直接に固定する。室壁から突き出し、取外し可能物の対応するサイズの穴と協力する、間隔を置いて配置された３本の位置決めピンが提供される。位置決めの繰返し性を良好にするため、この３本の位置決めピンは、取外し可能物の穴と接触する６つの点を提供する。例えば、第１のピンは３箇所で穴の表面と接触し、第２のピンは２箇所で楕円形の穴と接触し、第３のピンは１箇所で特大の穴と接触する。
【００３４】
いくつかの状況、例えば室が密封されているときには、レーザビームの視覚的なアラインメントを実施することができない。このような状況ではアラインメント装置２６０が提供される。このアラインメント装置は、環境室の壁を通したレーザビームの通過のアラインメントをとるのを助ける。
【００３５】
アラインメント装置２６０は、取外し可能物４０と取付板２４２の間にぴったりとはまる（図６）。アラインメント装置２６０は、レーザビーム経路に対して約４５°の角度に配置されたターゲット（ｔａｒｇｅｔ）２６２を収容する。ターゲットは、２対の開口２６４ａ、２６４ｂ、２６６ａ、２６６ｂを有する。ビームのアラインメントがとれているとき、１対の開口２６４ａ、２６４ｂは測定ビーム２６４ａ、２６４ｂと一致し、１対の開口２６６ａ、２６６ｂは参照ビーム２６６ａ、２６６ｂと一致する（複光路式干渉計システムであるため開口対がそれぞれ１つのビームに関連づけられる）。ターゲット２６２は、図面の平面に対して４５°に配置されており、そのため、個々の部品２３２、２６０、２４２をボルトで互いに固定すると、ターゲット２６２に入射した光はアラインメント装置２６０の側面を通して反射され、目で見ることができる。ビームのアラインメントがとれている場合、システムを最初に通過するときにビームは第１の開口２６４ａ、２６６ａを通過し、２回目に通過するときには第２の開口２６４ｂ、２６６ｂを通過する。ビームのアラインメントがとれていない場合、ビームはターゲット２６２と遭遇し、アラインメント装置の側面を通して反射される。１つのプリズムの回転は、プリズムを通過するレーザビームを１平面で偏向させ、それによってビームが開口２６４ａ、２６４ｂ、２６６ａ、２６６ｂを通過するようにすることができる。くさび形プリズム１５６、１５８（図４）の回転は、レーザビームを、それぞれ偏揺れ方向（Ｚ方向）および縦揺れ方向（Ｙ方向）に偏向させる。
【００３６】
レーザビームのアラインメントがとれたら、アラインメント装置を除去して、取外し可能物と取付板を直接に接触させる。清浄環境で処理するため、室はプロセスサイクルごとにベークされ、これが室壁の歪みを引き起こす。この歪みは必ずしも繰返し可能というわけではなく、このことを考慮するため、レーザビームのアラインメントは、再び取り付けるときにアラインメントを再び最適化するための調整を要する可能性がある。室壁に取り付ける取外し可能物の表面とビームの平面との間の許容差は、再アラインメントのための最小信号強度を保持するため、７６ｍｍにつき±０．０２ｍｍである。
【００３７】
図３から６では、ビームの第１の経路と第２の経路、および測定ビームと参照ビームがともに、互いに縦に変位しているように示されている。実際には、測定ビームと参照ビームは縦に変位させるが、それぞれのビームの複光路はこれに垂直な平面内で、すなわち図面の平面の中へ変位させる。
【００３８】
図３および４に示したカラム干渉計は、測定ビームと参照ビームの間の距離が実質的に固定されている（この距離はくさび形プリズムの回転による偏向に依存する）。いくつかの状況では、新しいシステムを設計する必要なしにこの距離を変化させることが望ましい。そのために、取外し可能物４０の突出部３２、２３２の中に別のくさび形プリズム２７０が提供される。このプリズム２７０は、ビームをＹ方向に（図面の平面内で）偏向させ、測定ビームと参照ビームの間の距離を低減または増大させる。簡単にするため、この追加のくさび形プリズム２７０は、自体が作用するビームに対して固定され、そのためビーム間の角度の変化は固定される。
【００３９】
くさび形プリズム２７０はあるいは取付板２４２の中に配置される。
【００４０】
図３および４に示した干渉計システムでは、反射鏡２２、５０、１２２、１５０、および測定ビーム４４、１４４と参照ビーム４８、１４８が互いに実質的に平行である。状況によってはそうすることができず、またはそうすることが望ましくないことがある。このような状況では、相対的に固定されたカラム上の鏡５０、１５０を、カラム５２、１５２に対して傾けて取り付けることができる。図３および４に示したタイプのカラム干渉計では、相対的に固定されたカラムが相対的に可動の試料台に関して移動することができるが、カラムの動程は、試料台のそれの１／４０程度である。鏡５０、１５０がカラムに対して傾けて取り付けられる場合、カラムの動程上の余弦誤差は角度１０°に対して２％となる。鏡５０、１５０の作る角度が増大するにつれてこの誤差も増大する。試料台上の鏡２２、１２２を傾ける場合には、その誤差は、試料台の動程上でずっと大きくなり、おそらくあまりに不正確な結果に終わるであろう。
【００４１】
本発明に基づくレーザ干渉計は物体までの距離の測定を可能にする。これは、レーザ源１２、１１２からの第１のレーザビーム２０、４４、１４４を物体に取り付けられた反射器２２、１２２まで導き、第１のレーザビームから得た第２のレーザビームを、参照経路１６、４８、１４８に沿って導き、反射した第１のレーザビームと参照経路に沿って伝わった後の第２のレーザビームを重ね合せて、干渉ビームを生み出し、干渉ビームを検出し、物体と検出器の位置の相対変化を計算することによって達成される。
【００４２】
本発明に基づくカラムレーザ干渉計はさらに、試料ホルダまたは物体の方向の追跡を可能にする。これは、レーザ源１２、１１２からの第１のレーザビーム４４、１４４を試料ホルダに取り付けられた反射器２２、１２２まで導き、第１のレーザビームから得た第２のレーザビームを、参照経路４８、１４８に沿って導き、反射した第１のレーザビームと参照経路に沿って伝わった後の第２のレーザビームを重ね合せて、干渉ビームを生み出し、干渉ビームを検出することによって達成され、第１のレーザビームの経路上に、少なくとも１つの回転可能なくさび５６、５８、６０、１５６、１５８が配置され、それによってこの少なくとも１つの回転可能なくさびの回転が、１平面において第１のレーザビームを偏向させ、この少なくとも１つの回転可能なくさびの回転によって、その平面の試料ホルダの方向の変化が追跡される。
【００４３】
一体型レーザ源／検出器を使用した発明を説明したが、これは必須ではない。実際、真空室の内壁に取り付けられた、例えば真空室の外部へのファイバ接続を有する別個の検出器を使用したほうが望ましいこともある。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明に基づく干渉計システムの平面図である。
【図２】図１に示したマウントを示す図である。
【図３】本発明に基づく代替レーザ干渉計システムを示す図である。
【図４】本発明に基づく他のレーザ干渉計システムを示す図である。
【図５】図４に示したマウントの端面図である。
【図６】図４に示したレーザ干渉計の断面図である。
【図１】
2006501463.tif 000003
【図２】
2006501463.tif 000004
【図３】
2006501463.tif 000005
【図４】
2006501463.tif 000006
【図５】
2006501463.tif 000007
【図６】
2006501463.tif 000008
【国際調査報告】
2006501463.tif 000009
2006501463.tif 000010
2006501463.tif 000011