(57)【要約】この発明は、洗浄後の水性又は水性アルコール性媒質における織物品目の処理のための界面活性剤を含む水性又は水性アルコール性の防皺加工用配合物に関係する。該配合物は又、制御された構成を有し界面活性剤(ＣＳＡ)と配合物のｐＨ及び配合物を利用するｐＨで相溶性であって、少なくとも一つの非イオン性の疎水性有機ポリマーブロックＢ及び少なくとも一つのイオン性又はイオン化可能な有機ポリマーブロックＡを含む、可溶性又は分散性コポリマー(Ｃ)をも含み、該コポリマー(Ｃ)は、防皺特性及び／又はアイロンがけ容易性をこれらの品目に与える。【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一種のカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)を含む、織物繊維から作られた製品の水性又は水性アルコール性媒質中での洗浄後の処理のための、水性又は水性アルコール性防皺加工用配合物であって、該配合物は、水性又は水性アルコール性媒質に可溶性であるか分散性であり、該界面活性剤(ＣＳＡ)と該配合物のｐＨ及び該配合物を使用するｐＨにおいて相溶性であり且つ下記を含む制御された構造の少なくとも一種のコポリマー(Ｃ)をも含むことを特徴とする当該防皺加工用配合物
・少なくとも一つの疎水性有機ポリマーブロックＢ(本質的に、非イオン性である)及び
・少なくとも一つのイオン性又はイオン化可能な有機ポリマーブロックＡ
(ブロックＢのセット／ブロックＡのセットの重量比は、０．０１〜１に及び、好ましくは０．１〜１に及び、
制御された構造の該コポリマー(Ｃ)は、配合物中に、該製品に防皺特性及び／又はアイロンをかけ易い特性を与えることのできる量で存在する)。
【請求項２】
コポリマー(Ｃ)が、ブロックコポリマー、分枝コポリマー又は星状コポリマーである、請求項１に記載の配合物。
【請求項３】
コポリマー(Ｃ)が、２つ又は３つのブロックを含むブロックコポリマーである、請求項１又は２に記載の配合物。
【請求項４】
コポリマー(Ｃ)が、ジブロックコポリマーである、請求項３に記載の配合物。
【請求項５】
ブロックＡ及びＢが、エチレン性不飽和モノマーに由来する、請求項１〜４の何れか一つに記載の配合物。
【請求項６】
ブロックＢが、少なくとも一種の疎水性の非イオン性モノマーから誘導され、随意に、少なくとも一種の親水性の非イオン性モノマーから誘導され及び／又は、随意に、少なくとも一種のイオン性モノマーから誘導され、随意のモノマーの量は、好ましくは、全モノマーの１０モル％以下である、請求項１〜５の何れか一つに記載の配合物。
【請求項７】
ブロックＢが、５００〜１０００００好ましくは５００〜２５０００ｇ／モルの平均分子質量を有する、請求項１〜６の何れか一つに記載の配合物。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか一つに記載の配合物であって、ブロックＡを構成するポリマーを下記から選択する当該配合物
ａ）配合物の又は配合物を利用するｐＨで潜在的にカチオン性の少なくとも一種の親水性モノマー及び／又は少なくとも一種のカチオン性親水性モノマー、及び随意の少なくとも一種の非イオン性モノマーから導かれたポリマー；
ｂ）少なくとも一種の双極性イオン性親水性モノマー及び随意の少なくとも一種の非イオン性モノマーから導かれたポリマー。
【請求項９】
ブロックＡが、少なくとも一種のアニオン性又は潜在的にアニオン性のモノマーから導かれる少なくとも一つのアニオン性又は潜在的にアニオン性のユニットをも含む、請求項８に記載の配合物。
【請求項１０】
ブロックＡが、５００〜１０００００好ましくは５００〜２５０００ｇ／モルの平均分子質量を有する、請求項８又は９に記載の配合物。
【請求項１１】
疎水性ブロックＢが非イオン性であり、イオン性又はイオン化可能なブロックＡは、全電荷を有し、それは、配合物のｐＨ又は配合物を利用するｐＨでゼロであるか又はカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)のそれと反対でない、請求項１〜１０の何れか一つに記載の配合物。
【請求項１２】
コポリマー(Ｃ)が１０００〜２０００００好ましくは１０００〜５００００ｇ／モルの一層詳細には３０００〜３００００の数平均分子質量を有する、請求項１〜１１の何れか一つに記載の配合物。
【請求項１３】
コポリマー(Ｃ)が、下記のジブロックコポリマーである、請求項１〜１２の何れか一つに記載の配合物
・ポリブチルアクリレート − 適宜、四級化されたポリ(２−ジメチルアミノエチルアクリレート)
・ポリブチルアクリレート − ポリ(アクリル酸−ｓｔａｔ−四級化２−ジメチルアミノエチルアクリレート)。
【請求項１４】
前記のカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)が、カチオン性界面活性剤又はカチオン性界面活性剤の混合物であり、少なくとも一種のカチオン性界面活性剤及び少なくとも一種の非イオン性界面活性剤の混合物でもある、請求項１〜１３の何れか一つに記載の配合物。
【請求項１５】
カチオン性界面活性剤が、随意に、軟化性である、請求項１４に記載の配合物。
【請求項１６】
随意の非イオン性界面活性剤が、カチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)の重量の７０％以下に相当する、請求項１４又は１５に記載の配合物。
【請求項１７】
前記のカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)が、配合物の重量の１〜６０％に相当する、請求項１〜１６の何れか一つに記載の配合物。
【請求項１８】
制御された構造のコポリマー(Ｃ)の質量の、界面活性剤(ＣＳＡ)の質量に対する質量比が、０．０００１〜１０に及び、好ましくは０．００１〜２に及ぶ、請求項１〜１７の何れか一つに記載の配合物。
【請求項１９】
洗濯物特に木綿ベースの洗濯物、特に、少なくとも３５％の木綿を含む洗濯物の洗浄後処理を意図した、請求項１〜１８の何れか一つに記載の配合物。
【請求項２０】
２．５〜１１のｐＨを有する、請求項１〜１９の何れか一つに記載の配合物。
【請求項２１】
織物繊維から作られた製品の洗浄後のすすぎを意図した、請求項１〜２０の何れか一つに記載の配合物。
【請求項２２】
１０〜５０％の乾燥抽出物を有する、請求項２１に記載のすすぎ用配合物。
【請求項２３】
２．５〜１１のｐＨを有する、請求項２１又は２２に記載のすすぎ用配合物。
【請求項２４】
制御された構造のコポリマー(Ｃ)の質量の、界面活性剤(ＣＳＡ)の質量に対する質量比が、０．０００１〜１に及び、好ましくは０．０００１〜０．５に及び、最も好ましくは０．０００１〜０．１に及ぶ、請求項２１〜２３の何れか一つに記載のすすぎ用配合物。
【請求項２５】
織物繊維から作られた製品のアイロンがけ用を意図した、請求項１〜２０の何れか一つに記載の配合物。
【請求項２６】
０．５〜２％の乾燥抽出物を有する、請求項２５に記載のアイロンがけ用配合物。
【請求項２７】
５〜９のｐＨを有する、請求項２５又は２６に記載のアイロンがけ用配合物。
【請求項２８】
制御された構造のコポリマー(Ｃ)の質量の、界面活性剤(ＣＳＡ)の質量に対する質量比が、０．０００１〜２に及ぶ、請求項２５〜２７の何れか一つに記載のアイロンがけ用配合物。
【請求項２９】
カチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)と配合物のｐＨ及び該配合物を利用するｐＨで相溶性であり、水性若しくは水性アルコール性媒質に可溶性であり若しくは分散性の少なくとも一種の制御された構造のコポリマー(Ｃ)であって、下記を含む当該コポリマーの、織物繊維より作られた製品の洗浄後処理のための、少なくとも一種のカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)を含む水性若しくは水性アルコール性配合物における、該製品に防皺特性及び／又はアイロンをかけ易い特性を与えるための薬剤としての利用
・少なくとも一つの疎水性有機ポリマーブロックＢ(本質的に非イオン性)、及び
・少なくとも一つのイオン性又はイオン化可能な有機ポリマーブロックＡ
(ブロックＢのセット／ブロックＡのセットの重量比は、０．０１〜１に及び、好ましくは０．１〜１に及ぶ)。
【請求項３０】
前記のコポリマー(Ｃ)、前記の界面活性剤(ＣＳＡ)及び前記の処理用配合物が、請求項２〜１３、１４〜１８及び１９〜２８の何れか一つで規定されている、請求項２９に記載の利用。
【請求項３１】
織物繊維より作られた製品の洗浄後処理のための少なくとも一種のカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)を含む水性又は水性アルコール性配合物の、防皺特性又はアイロンがけを容易にする性質を改善する方法であって、該配合物に、水性若しくは水性アルコール性媒質に可溶性であり若しくは分散性であり、カチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)と該配合物のｐＨ及び該配合物を利用するｐＨで相溶性である少なくとも一種の制御された構造のコポリマー(Ｃ)であって、下記を含む当該コポリマーを、該製品に防皺特性及び／又はアイロンをかけ易い特性を与えるための薬剤として加えることによる当該方法
・少なくとも一つの疎水性有機ポリマーブロックＢ(本質的に非イオン性)、及び
・少なくとも一つのイオン性又はイオン化可能な有機ポリマーブロックＡ
(ブロックＢのセット／ブロックＡのセットの重量比は、０．０１〜１に及び、好ましくは０．１〜１に及ぶ)。
【請求項３２】
前記のコポリマー(Ｃ)、前記の界面活性剤(ＣＳＡ)及び前記の処理用配合物が、請求項２〜１３、１４〜１８及び１９〜２８の何れか一つで規定される、請求項３０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、織物繊維から作られた製品(特に、洗濯物)の洗浄後処理(すすぎ又はアイロン用)のための水性又は水性アルコール性防皺加工用配合物であって、少なくとも一種のカチオン性界面活性剤並びに、少なくとも一つの疎水性有機ポリマーブロック及び少なくとも一つの親水性有機ポリマーブロックを含み全電荷がゼロであるか又はカチオン性界面活性剤の電荷と反対でない(該配合物及び処理媒質中で)制御された構造の有機コポリマーを含む当該配合物に関係し；織物繊維から作られた製品(特に、洗濯物)の、洗浄後処理(すすぎ又はアイロン)のための、少なくとも一種のカチオン性界面活性剤及び該コポリマーを、該製品に、防皺特性又はアイロンをかけ易い特性を与えるための薬剤として含む水性又は水性アルコール性配合物における利用にも関係する。
【背景技術】
【０００２】
少なくとも一種のカチオン性又は潜在的にカチオン性の、ブロック及び少なくとも一種の他のブロックを含むコポリマーは、既に、手作業による食器洗い若しくは洗濯、化粧用の皮膚若しくは毛髪洗浄用配合物、又は他の分野における配合物のための、配合物の発泡を改良するための薬剤として記載されている(ＷＯ００／７１５９１及びＷＯ００／７１６６０)。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
出願人は、今や、織物繊維から作られた製品(特に、洗濯物)の洗浄後処理(すすぎ又はアイロンがけ)のための少なくとも一種のカチオン性界面活性剤を含む水性又は水性アルコール性の配合物における、配合物及び処理用媒質中での全電荷がゼロか又はカチオン性界面活性剤のそれと反対でない少なくとも一つの疎水性有機ポリマーブロックＢ及び少なくとも一つの親水性有機ポリマーブロックを含む制御された構造の有機コポリマーの存在が、該製品に、防皺特性及び／又はアイロンをかけ易い特性を与えることを可能にすることを見出した。
【０００４】
この発明の第一の主題は、少なくとも一種のカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)を含む、織物繊維から作られた製品の水性又は水性アルコール性媒質中での洗浄後の処理のための、水性又は水性アルコール性の防皺加工用配合物よりなり、該配合物は、水性又は水性アルコール性媒質に可溶性であるか分散性であり、該界面活性剤(ＣＳＡ)と該配合物のｐＨ及び該配合物を使用するｐＨにおいて相溶性であり、且つ下記を含む制御された構造の少なくとも一種のコポリマー(Ｃ)をも含むことを特徴とする
・少なくとも一つの疎水性有機ポリマーブロックＢ(本質的に、非イオン性である)及び
・少なくとも一つのイオン性又はイオン化可能な有機ポリマーブロックＡ
(ブロックＢのセット／ブロックＡのセットの重量比は、０．０１〜１に及び、好ましくは０．１〜１に及ぶ)、
(制御された構造の該コポリマー(Ｃ)は、配合物中に、該製品に防皺特性及び／又はアイロンをかけ易い特性を与えることのできる量で存在する)。
【０００５】
前記の配合物は：
＊特に、事前に主要な洗浄操作にかけられたすすぐべき製品と接触させるべき、希釈することによりすすぎ浴を形成することのできる、濃縮水溶液又は分散の形態の、すすぎ用組成物；又は
＊例えば蒸発によって、アイロンがけすべき乾燥した製品に希釈せずに直接付着させるべき、水溶液又は分散の形態の、水性アイロン用組成物
であってよい。
【０００６】
この発明の第２の主題は、カチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)と配合物のｐＨ及び該配合物を利用するｐＨで相溶性であり、水性若しくは水性アルコール性媒質に可溶性であり若しくは分散性の少なくとも一種の制御された構造のコポリマー(Ｃ)であって、下記を含む当該コポリマーの、織物繊維より作られた製品の洗浄後処理のための、少なくとも一種のカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)を含む水性若しくは水性アルコール性配合物における、該製品に防皺特性及び／又はアイロンをかけ易い特性を与えるための薬剤としての利用よりなる
・少なくとも一つの疎水性有機ポリマーブロックＢ(本質的に非イオン性)、及び
・少なくとも一つのイオン性又はイオン化可能な有機ポリマーブロックＡ
(ブロックＢのセット／ブロックＡのセットの重量比は、０．０１〜１に及び、好ましくは０．１〜１に及ぶ)。
【０００７】
用語「制御された構造のコポリマー」は、ここでは、少なくとも２つの異なるポリマーブロックを含む任意のコポリマーを意味し、該コポリマーは、多分、次のようである：
・直鎖(「ブロック」コポリマー)
・分枝鎖(櫛状又はグラフトコポリマー)
・又は星形状。
【０００８】
この直鎖「ブロック」コポリマーは、一層詳細には、２つのブロック(ジブロック)又は３つのブロック(トリブロック)を含む構造を有する。
【０００９】
制御された構造及び分枝した構造(櫛状又はグラフト)のコポリマーは、好ましくは、ポリマーＡの懸垂セグメントを含むコポリマーＢの疎水性の骨格を有する。
【００１０】
制御された構造及び星状構造のコポリマーに関しては、幾つかの可能性が、構想されうる。
従って、
・この星の少なくとも一つのアームは、ブロックＢであり、他のアームはブロックＡから作られ、又は逆であり；或は
・この星の少なくとも一つのアームは、少なくとも一つのブロックＢ及び少なくとも一つのブロックＡから作られ、他のアームはブロックＢ若しくはブロックＡから作られ、又は逆であり；或は
・好ましくは、この星の各アームは、少なくとも一つのブロックＢ及び少なくとも一つのブロックＡから作られる。
制御された構造のコポリマー(Ｃ)の各ブロックは、ホモポリマーからなってよく、又はランダム若しくはブロックコポリマーからなってよく、或はこれらのモノマーの考えているブロックの鎖に沿った濃度勾配を有してよいということが指摘されている。
【００１１】
好ましくは、該制御された構造のコポリマー(Ｃ)は、「ブロック」コポリマーであり、特に、ジブロックコポリマーＡ−Ｂである。
【００１２】
前記の制御された構造のコポリマー(Ｃ)が、この発明に従って存在する配合物のｐＨは、２．５〜１１に及びうる。
【００１３】
前記の配合物の利用のｐＨは、所望の用途によって、５〜１０に及びうる。
−すすぎ用配合物の場合、そのすすぎ浴のｐＨは、一般に、約１０〜６であり、該浴のｐＨは、すすぎ操作の連続するすすぎ工程と共に徐々に減少し、又は、対照的に、酸性すすぎ用配合物の場合には、すすぎ操作の連続するすすぎ工程と共に徐々に増大し；
−アイロン用配合物の場合、前記の配合物のｐＨは、一般に、約５〜９である。
【００１４】
ブロックＡ及びＢの性質並びにブロックＡとＢの相対的量は、前記の制御された構造のコポリマー(Ｃ)が、水性又は水性アルコール性媒質に可溶性であり又は分散性であり、且つ該配合物のｐＨ又は該配合物を利用するｐＨにおいてカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)と相溶性であるようなものである。
【００１５】
表現「制御された構造の可溶性又は分散性のコポリマー(Ｃ)」は、該コポリマー(Ｃ)が、考えている媒質中で、使用条件下で、二相の巨視的溶液を形成しないことを意味する。
用語「カチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)と相溶性」は、ここでは、前記のコポリマーが、該カチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)を含む考えている媒質中で非分散形態の凝集形成を生じることに責任がないことを意味する。
好ましくは、コポリマー(Ｃ)の全電荷は、この配合物のｐＨ又はこの配合物を利用するｐＨにおいて、ゼロであり又はカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)のそれと反対でない。
【００１６】
用語「疎水性」は、「水に対する親和性を有しない」ことを意味する普通の意味で用い；ブロックＢに関しては、これは、それを形成する有機ポリマーが、単独で、２５℃の蒸留水中で、二層の巨視的溶液を形成するであろうということを意味する。
【００１７】
用語「親水性」も、「水に対する親和性を有する」こと、即ち、２５℃の蒸留水中で、二層の巨視的溶液を形成する責任がないことを意味する普通の意味で用いる。
【００１８】
好ましくは、ブロックＡ及びＢは、エチレン性不飽和モノマーから誘導される。
【００１９】
ブロックＡ及びＢに関して、用語「ポリマー」は、ホモポリマーとコポリマーの両者を指すために用いる。
同様に、「ブロックＡ」又は「ブロックＢ」は、それぞれ、それが、直鎖状「ブロック」(ジブロック又はマルチブロック)、分枝又は星状コポリマー(Ｃ)であるかどうかによらずに、ブロックＡのすべて又はブロックＢのすべてを意味する。
【００２０】
ブロックＢは、疎水性ポリマーである。好ましくは、それは、本質的に、この配合物のｐＨ又は該組成物の利用のｐＨで、非イオン性であり又はイオン化できない。最も好ましくは、それは、非イオン性である。
【００２１】
ブロックＢを構成する前記の疎水性ポリマーは、少なくとも一種の疎水性の非イオン性モノマーから誘導される。
該ポリマーは又、少なくとも一種の親水性の非イオン性モノマーから誘導された親水性の非イオン性ユニットを、このブロックが疎水性を維持することを可能にするだけ十分低い量で含むこともでき；この量は、該ブロックＢが誘導されるモノマー全部の１０モル％以下であってよい。
同様に、該ポリマーは又、少なくとも一種のイオン性又は潜在的にイオン性(特に、カチオン性又は潜在的にカチオン性)のモノマーから誘導されるイオン性又は潜在的にイオン性(特に、カチオン性又は潜在的にカチオン性)のユニットを、該ポリマーがその疎水性及び本質的に非イオン性の性質を維持するように、少量で含むこともできる{この量は、該ブロックＢが誘導されるモノマー全部の１０モル％以下であってよい}。
【００２２】
ブロックＢが誘導されうる疎水性非イオン性モノマーの例としては、下記を挙げることができる：
・ビニル芳香族モノマー例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなど
・ビニル又はビニリデンハリド、例えば、塩化ビニル又は塩化ビニリデン
・α，β−モノエチレン性不飽和酸のＣ1−Ｃ12アルキルエステル例えばメチル、エチル又はブチルアクリレート及びメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレートなど
・飽和カルボン酸のビニル又はアリルエステル例えばビニル又はアリルアセテート、プロピオネート、バーサテート、ステアレートなど
・３〜１２炭素原子を含むα，β−モノエチレン性不飽和ニトリル例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリルなど
・α−オレフィン例えばエチレンなど
・共役ジエン例えばブタジエン、イソプレン、クロロプレンなど
【００２３】
可能な非イオン性親水性モノマーの例としては、下記を挙げることができる：
・α，β−エチレン性不飽和酸のヒドロキシアルキルエステル、例えばヒドロキシエチル又はヒドロキシプロピルアクリレート及びメタクリレート、グリセリルモノメタクリレートなど、
・α，β−エチレン性不飽和アミド、例えばアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミドなど、
・ポリエチレンオキシド型の水溶性ポリオキシアルキレンセグメントを有するα，β−エチレン性不飽和モノマー、例えばポリエチレンオキシドα−メタクリレート(Laporte社のBisomer S20W, S10Wなど)又はα，ω−ジメタクリレート、Rhodia社のSipomer BEM (ω−ベヘニルポリオキシエチレンメタクリレート)、Rhodia社のSipomer SEM-25 (ω−トリスチリルフェニルポリオキシエチレンメタクリレート)など、
・親水性ユニット又はセグメントの前駆物質であるα，β−エチレン性不飽和モノマー例えばビニルアセテート(これは、一度重合すれば、加水分解されて、ビニルアルコールユニット又はポリビニルアルコールセグメントを生成することができる)
・ビニルピロリドン
・ウレイド型のα，β−エチレン性不飽和モノマー、特に、２−イミダゾリジノンエチルメタクリルアミド(Rhodia社のSipomer WAM II)。
【００２４】
少量で利用することのできるイオン性又は潜在的にイオン性のモノマーの例は、後述する(ブロックＡに関して)。
【００２５】
疎水性ブロックＢの数平均分子量は、排除クロマトグラフィーにより測定して、５００〜１０００００(好ましくは、５００〜２５０００)ｇ／モルに及びうる。
【００２６】
ポリマーブロックＡは、イオン性又はイオン化可能である。
その全電荷は、配合物のｐＨ又は配合物を利用するｐＨにおいて、コポリマー(Ｃ)が界面活性剤(ＣＳＡ)と相溶性であるようなものである。
好ましくは、このポリマーブロックＡの全電荷はゼロであり、又はカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)のそれと反対でない(ブロックポリマーＢの全電荷がこの同じｐＨ範囲においてゼロである場合)。
ポリマーブロックＢが、この同じｐＨ範囲で、イオン性電荷を有するならば、この電荷は、ブロックＡの選択において、コポリマー(Ｃ)が界面活性剤(ＣＳＡ)と相溶性となり、好ましくはゼロ又はカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)の全電荷と反対でない全電荷を有するように考慮すべきである。
【００２７】
ブロックＡを構成するポリマーは、下記から選択することができる
ａ）配合物の又は配合物を利用するｐＨで潜在的にカチオン性の少なくとも一種の親水性モノマー及び／又は少なくとも一種のカチオン性親水性モノマー、及び随意の少なくとも一種の非イオン性モノマーから導かれたポリマー；
ｂ）少なくとも一種の双極性イオン性親水性モノマー及び随意の少なくとも一種の非イオン性モノマーから導かれたポリマー。
【００２８】
ブロックＡ中に存在する可能な非イオン性ユニットの性質及び量は、コポリマー(Ｃ)が水性又は水性アルコール性媒質中で可溶性又は分散性であるようなものである。
これらの非イオン性ユニットは、少なくとも一種の非イオン性モノマーから、ブロックＡを構成するポリマーが誘導されるモノマー組成物の８０モル％以下に相当しうる量で、誘導される。
【００２９】
ブロックＡを構成する上記のポリマーは、少なくとも一種のアニオン性又は潜在的にアニオン性のモノマーから導かれるアニオン性(又は潜在的にアニオン性の)ユニットをも含むことができる。可能なアニオン性又は潜在的にアニオン性のユニットの量は、コポリマー(Ｃ)が、界面活性剤(ＣＳＡ)と相溶性であり続けるようなものであり、好ましくは、コポリマー(Ｃ)の全電荷がゼロであるか又はカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)のそれと反対でないようなものであり、或は、ブロックＢの電荷がゼロである場合に上記のブロックＡの全電荷がゼロであるか又はカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)のそれと反対でないようなものである。
【００３０】
最も好ましくは、疎水性ブロックＢは非イオン性であり、イオン性又はイオン化可能なブロックＡは、全電荷を有し、それは、配合物のｐＨ又は配合物を利用するｐＨでゼロであるか又はカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)のそれと反対でない。
【００３１】
潜在的にカチオン性の親水性モノマーの例としては、下記を挙げることができる：
・α，β−モノエチレン性不飽和カルボン酸のＮ，Ｎ−(ジアルキルアミノ−ω−アルキル)アミド、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル−アクリルアミド又は−メタクリルアミド、２−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)エチル−アクリルアミド又は−メタクリルアミド、３−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)プロピル−アクリルアミド又は−メタクリルアミド及び４−(Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ)ブチル−アクリルアミド又は−メタクリルアミド
・α，β−モノエチレン性不飽和アミノエステル、例えば、２−(ジメチルアミノ)エチルアクリレート(ＤＭＡＥＡ)、２−(ジメチルアミノ)エチルメタクリレート(ＤＭＡＥＭＡ)、３−(ジメチルアミノ)プロピルメタクリレート、２−(ｔ−ブチルアミノ)エチルメタクリレート、２−(ジペンチルアミノ)エチルメタクリレート又は２−(ジエチルアミノ)エチルメタクリレート
・ビニルピリジン
・ビニルアミン
・ビニルイミダゾリン
・アミノ官能基の前駆物質であるモノマー例えばＮ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセタミドなど(これらは、単純な酸又は塩基性加水分解によって一次アミン官能基を生じさせる)。
【００３２】
カチオン性親水性モノマーの例としては、下記を挙げることができる：
・アンモニウムアクリロイル又はアクリロイルオキシモノマー、例えば、トリメチルアンモニウムプロピルメタクリレートクロリド、トリメチルアンモニウムエチルアクリルアミド又はメタクリルアミドクロリド又はブロミド、トリメチルアンモニウムブチルアクリルアミド又はメタクリルアミドメチルサルフェート、トリメチルアンモニウムプロピルメタクリルアミドメチルサルフェート(ＭＥＳ)、(３−メタクリルアミドプロピル)トリメチルアンモニウムクロリド(ＭＡＰＴＡＣ)、(３−アクリルアミドプロピル)トリメチルアンモニウムクロリド(ＡＰＴＡＣ)、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリド又はメチルサルフェート、及びアクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリド；
・１−エチル−２−ビニルピリジニウム又は１−エチル４−ビニルピリジニウムブロミド、クロリド又はメチルサルフェート；
・Ｎ，Ｎ−ジアルキルジアルキルアミンモノマー、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルジアルキルアンモニウムクロリド(ＤＡＤＭＡＣ)；
・ポリ第四モノマー、例えば、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミドクロリド、Ｎ−(３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル)トリメチルアンモニウムクロリド(ＤＩＱＵＡＴ)など
【００３３】
双極イオン性モノマーの例としては、下記を挙げることができる：
・スルホベタインモノマー、例えば、スルホプロピルジメチルアンモニウムエチルメタクリレート(RaschigのＳＰＥ)、スルホプロピルジメチルアンモニウムプロピルメタクリルアミド(RaschigのＳＰＰ)及びスルホプロピル２−ビニルピリジニウム(RaschigのＳＰＶ)
・ホスホベタインモノマー、例えば、ホスファトエチルトリメチルアンモニウムエチルメタクリレート
・カルボキシベタインモノマー。
【００３４】
親水性又は疎水性の非イオン性モノマーの例は、既に、上で言及してある(ブロックＢに関して)。
【００３５】
アニオン性又は潜在的にアニオン性のモノマーの例としては、下記を挙げることができる：
・少なくとも一つのカルボキシル官能基を含むモノマー例えばα，β−エチレン性不飽和カルボン酸又は対応する無水物例えばアクリル酸、メタクリル酸若しくはマレイン酸又は無水物、フマル酸、イタコン酸、Ｎ−メタクリロイル酸アラニン及びＮ−アクリロイルグリシン及びそれらの水溶性塩
・カルボキシレート官能基の前駆体であるモノマー例えばｔ−ブチルアクリレート(重合後、加水分解によってカルボキシル官能基を生成する)
・少なくとも一つのサルフェート又はスルホネート官能基を含むモノマー例えば２−スルホオキシエチレンメタクリレート、ビニルベンゼンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、スルホエチルアクリレート又はメタクリレート、及びスルホプロピルアクリレート又はメタクリレート、及びこれらの水溶性の塩
・少なくとも一つのホスホネート又はホスフェート官能基を含むモノマー例えばビニルホスホン酸など、エチレン性不飽和ホスフェートエステル例えばヒドロキシエチルメタクリレートから誘導されたホスフェート(Rhodia社のEmpicryl 6835)及びポリオキシアルキレンメタクリレートから誘導されたもの、並びにこれらの水溶性塩。
【００３６】
親水性ブロック(Ａ)の数平均分子量は、排除クロマトグラフィーで測定して、５００〜１０００００(好ましくは、５００〜２５０００)ｇ／モルの範囲であってよい。
【００３７】
特に、制御された構造のコポリマー(Ｃ)の数平均分子量は、ＭＡＬＬＳ法(Multi Angle Laser Light Scattering)と結合させたＧＰＣにより測定して、１０００〜２０００００ｇ／モル、好ましくは１０００〜５００００(一層好ましくは、３０００〜３００００)ｇ／モルである。
【００３８】
ジブロックコポリマー(Ｃ)の例としては、特に、下記のコポリマーを挙げることができる：
・ポリブチルアクリレート − ポリ(２−ジメチルアミノエチルアクリレート) (適宜、四級化)
・ポリブチルアクリレート − ポリ(アクリル酸−ｓｔａｔ−四級化２−ジメチルアミノエチルアクリレート)。
【００３９】
上記のように、制御された構造のコポリマー(Ｃ)は、直鎖(マルチブロック)形態であっても、分枝鎖(櫛状又はグラフト)形態であっても、又は星形態であってもよく；好ましくは、直鎖状コポリマーであり、好ましくは、２つのブロック(ジブロック)又は３つのブロック(トリブロック)を含む構造であり、最も好ましくは、ジブロックである。このコポリマーの各ブロックは、ホモポリマー又はランダム若しくはブロックコポリマーから形成することができる。該直鎖形態のブロックコポリマーは、制御された若しくは制御されてない遊離基重合によるか、開環重合(特に、アニオン性又はカチオン性)によるか、アニオン性若しくはカチオン性重合によるか、又はポリマーの化学的改変によるかの何れかの任意の公知の方法によって得ることができる。
好ましくは、リビング又は制御された遊離基重合法を利用する。
【００４０】
リビング又は制御された重合工程の例としては、特に、下記を挙げることができる：
- 特許出願ＷＯ９８／５８９７４、ＷＯ００／７５２０７及びＷＯ０１／４２３１２の工程(キサンテート型の制御剤により制御された遊離基重合を利用する)、
- 特許出願ＷＯ９８／０１４７８の、ジチオエステル型の制御剤により制御された遊離基重合の工程、
- 特許出願ＷＯ９９／３１１４４の、ジチオカーバメート型の制御剤により制御された遊離基重合の工程、
- 特許出願ＷＯ０２／２６８３６の、ジチオカーバゼート型の制御剤により制御された遊離基重合の工程、
- 特許出願ＷＯ０２／１０２２３の、ジチオホスホルエステル型の制御剤により制御された遊離基重合の工程、
(適宜、制御された遊離基重合により上記のように得られたブロックコポリマーは、それらの硫黄鎖末端の精製のための反応を、例えば加水分解、酸化、還元、熱分解又は置換型の工程によって受けうる)、
- ニトロキシド前駆体の存在下での重合を利用する、特許出願ＷＯ９９／０３８９４の工程、
- 原子移動遊離基重合(ＡＴＲＰ)を利用する、特許出願ＷＯ９６／３０４２１の工程、
- Otu等、Makromol.Chem.Rapid.Commun., 3, 127(1982)の教示によるイニファーター型の制御剤により制御された遊離基重合の工程、
- Tatemoto等、Jap. 50, 127, 991(1975)、Daikin Kogyo Co Ltd (日本国)及びMatyjaszewski等、Macromolecules, 28, 2093(1995)の教示によるヨウ素の退行性トランスファーにより制御された遊離基重合の工程、
- D.Braun等、Macromol.Symp. 111, 63(1996)により開示された、テトラフェニルエタン誘導体により制御された遊離基重合の工程、
或は
Wayland等、J.Am.Chem.Soc. 116, 7973(1994)により記載された、有機コバルト錯体により制御された遊離基重合の工程
- ジフェニルエーテルにより制御された遊離基重合の工程(ＷＯ００／３９１６９又はＷＯ００／３７５０７)。
【００４１】
それらが、制御された構造のグラフト又は櫛状コポリマーである場合は、それらを、直接グラフト及び共重合として公知の方法により得ることができる。直接グラフトは、選択したモノマーの、最終生成物の骨格を形成する選択したポリマーの存在下での遊離基重合にある。もしモノマー／骨格カップル及び運転条件を注意深く選択すれば、移動反応は、成長中の巨大遊離基と骨格との間で生じうる。この反応は、骨格上に遊離基を生成し、グラフトが成長するのは、この遊離基からである。開始剤から誘導された一次遊離基は、移動反応にも寄与しうる。
【００４２】
共重合に関して、それは、第一の状態において、遊離基重合可能官能基の未来の懸垂セグメントの末端へのグラフトを含む。このグラフトは、有機化学の通常の方法により実施することができる。次に、第二段階において、こうして得られたマクロモノマーを、選択したモノマーと重合させて骨格を形成して、「櫛状」ポリマーが得られる。
このグラフトは、有利には、上記の参考文献中で引用されたような重合制御剤の存在下で行なうことができる。
【００４３】
星形態のポリマーを製造する工程は、本質的に２つのグループに分類されうる。第一のものは、コアを構成する多官能性化合物を利用するこれらのポリマーのアームの形成に対応し(「コア−第一」技術)(Kennedy, J.P.等、Macromolecules, 29, 8631 (1996)、Deffieux, A.等、前出、25, 6744, (1992)、Gnanou, Y.等、前出、31, 6748 (1998))、第二のものは、アームを構成するポリマー分子を先ず合成してからコア上に一緒に結合して、星形態のポリマーを形成する方法(「アーム−第一」技術)に対応する。
この型のポリマーの合成の例として、特許ＷＯ００／０２９３９を参照することができる。
【００４４】
この発明により、この配合物は、カチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)を含む。
用語「カチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)」は、ここでは、カチオン性界面活性剤又はカチオン性界面活性剤の混合物を(少なくとも一種のカチオン性界面活性剤及び少なくとも一種の非イオン性界面活性剤の混合物をも)意味し；随意の量の非イオン性界面活性剤は、界面活性剤(ＣＳＡ)の組合せの７０重量％以下であってよい。
最も好ましくは、この発明の配合物は、如何なるアニオン性界面活性剤も含まない。
【００４５】
特に挙げることのできるカチオン性界面活性剤の内には、下記式の第四アンモニウム塩がある
Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4Ｎ+Ｘ-
{式中、
．Ｒ1Ｒ2及びＲ3は、同一であっても異なってもよいが、Ｈ又は、４炭素原子未満好ましくは１若しくは２炭素原子を含み適宜少なくとも１つのヒドロキシル官能基で置換されたアルキル基を表し、或は窒素原子Ｎ+と共に少なくとも１つの芳香族又はヘテロ環を形成することができ
．Ｒ4は、Ｃ8〜Ｃ22の、好ましくはＣ12〜Ｃ22のアルキル若しくはアルケニル基、又はアリール若しくはベンジル基を表し、且つ
．Ｘ-は、可溶化アニオン例えばハリド(例えば、クロリド、ブロミド又はヨージド)、サルフェート又はアルキルサルフェート(メチルサルフェート)、カルボキシレート(アセテート、プロピオネート又はベンゾエート)、又はアルキル−若しくはアリールスルホネートである}。
特に、ドデシルトリメチルアンモニウム、テトラデシルトリメチルアンモニウム又はセチルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルピリジニウムクロリド、Rhodaquat (登録商標)ＴＦＲ及びローダミン(登録商標)Ｃ１５(Rhodia社より販売)、セチルトリメチルアンモニウムクロリド(Cognis社の Dehyquart ACA 及び／又は AOR)、及びココビス(２−ヒドロキシエチル)エチルアンモニウムクロリド(Akzo Nobel社の Ethoquad C12)を挙げることができる。
【００４６】
軟化特性を有する他のカチオン性界面活性剤(例えば、下記)を挙げることもできる：
・下記式の第四アンモニウム塩
Ｒ1'Ｒ2'Ｒ3'Ｒ4'Ｎ+Ｘ-
{式中、
．Ｒ1'及びＲ2'は、同一でも異なってもよいが、Ｈ又は、４炭素原子未満、好ましくは１若しくは２炭素原子を含み、適宜、少なくとも１つのヒドロキシル官能基で置換されたアルキル基を表し、又は、窒素原子Ｎ+と一緒にヘテロ環を形成することができ
．Ｒ3'及びＲ4'は、Ｃ8〜Ｃ22、好ましくはＣ10〜Ｃ22のアルキル若しくはアルケニル基又はアリール若しくはベンジル基を表し、そして
．Ｘ-は、アニオン例えばハリド(例えば、クロリド、ブロミド又はヨージド)、サルフェート又はアルキルサルフェート(メチルサルフェート)、カルボキシレート(アセテート、プロピオネート又はベンゾエート)、又はアルキル−若しくはアリールスルホンである}。
特に、ジアルキルジメチルアンモニウムクロリド例えばジタロージメチルアンモニウムクロリド又はメチルサルフェートなど及びアルキルベンジルジメチルアンモニウムクロリド、
・Ｃ10〜Ｃ25アルキルイミダゾリウム塩例えばＣ10〜Ｃ25アルキルイミダゾリニウムメチルサルフェート
・置換されたポリアミン塩例えばＮ−タロー−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリエタノール−１，３−プロピレンジアミンジクロリド又はジメチルサルフェート、及びＮ−タロー−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ’−ペンタメチル−１，３−プロピレンジアミンジクロリド
を挙げることができる。
【００４７】
この発明の配合物中に存在しうる非イオン性界面活性剤の内で、特に、下記を挙げることができる：
．ポリオキシアルキレン化(ポリオキシエチレン化、ポリオキシプロピレン化又はポリオキシブチレン化)アルキルフェノール(そのアルキル置換基は、Ｃ6〜Ｃ12のものであり、５〜２５オキシアルキレンユニットを含む)；(言及しうる例には、Rohm & Haas Co.より販売されているトリトンＸ−４５、Ｘ−１１４、Ｘ−１００又はＸ−１０２が含まれる)；
．グルコサミン、グルカミド又はグリセロールアミド；
．１〜２５オキシアルキレン(オキシエチレン又はオキシプロピレン)ユニットを含むポリオキシアルキレン化Ｃ8〜Ｃ22脂肪族アルコール(言及しうる例には、Union Carbide Corp.が販売しているタージトール１５−Ｓ−９及びタージトール２４−Ｌ−６ＮＭＷ、Shell Chemical Co.が販売しているネオドール４５−９、ネオドール２３−６５、ネオドール４５−７及びネオドール４５−４、及びThe Procter & Gamble Co.が販売している Kyro EOBが含まれる)；
．エチレンオキシドの縮合から生成する生成物、プロピレンオキシドとプロピレングリコールの縮合から生成する化合物(例えば、BASFが販売しているプルロニック生成物)；
．エチレンオキシドの縮合から生成する生成物、プロピレンオキシドとエチレンジアミンとの縮合から生成する化合物(例えば、BASFが販売しているテトロニック生成物)；
．アミンオキシド例えばＣ10〜Ｃ18アルキルジエチルアミンオキシド及びＣ8〜Ｃ22アルコキシエチルジヒドロキシエチルアミンオキシド；
．ＵＳ−Ａ−４  ５６５  ６４７に記載されたアルキルポリグリコシド；
．Ｃ8〜Ｃ20の脂肪酸アミド；
．エトキシル化脂肪酸；
．エトキシル化脂肪アミド；
．エトキシル化アミン；
．アミンオキシド。
【００４８】
この発明の配合物は、水性又は水性アルコール性配合物である。
存在しうるアルコールのうちで、エタノール、イソプロパノール、プロピレングリコール、ブトキシエタノールなどを挙げることができる。
これらのアルコールは、最大で液相の７０容積％まで占めることができる。
好ましくは、この液相は、水である。
【００４９】
前記の配合物は、洗濯物特に木綿ベースの洗濯物(特に、少なくとも３５％の木綿を含むもの)の洗浄後処理(すすぎ又はアイロンがけ)に特に適している。
【００５０】
前記の界面活性剤(ＣＳＡ)は、この発明の配合物の１〜６０重量％に相当することができる(前期の配合物の濃度の関数として)。
すすぎ用配合物の乾燥抽出物は、例えば、約１０〜５０重量％であり；アイロンがけ用配合物のそれは、約０．５〜２重量％であってよい。
【００５１】
発明の良好な履行のためには、制御された構造のコポリマー(Ｃ)の質量の、界面活性剤(ＣＳＡ)の質量に対する比は、０．０００１〜１０に及び、好ましくは０．００１〜２に及びうる。すすぎ用配合物においては、この比は、０．０００１〜１に及び、好ましくは０．０００１〜０．５に及び、最も好ましくは０．０００１〜０．１に及びうる。
アイロンがけ用配合物においては、この比は、好ましくは、０．０００１〜２に及びうる。
【００５２】
他の一般的成分は、界面活性剤(ＣＳＡ)及び制御された構成のコポリマー(Ｃ)と共に、この発明の配合物中に存在してよい。
これらの成分の性質は、前記の配合物の所望の用途に依存する。
【００５３】
これらの織物繊維から製造された製品(特に、洗濯物)の液体すすぎ用組成物は、特に、少なくとも一種のカチオン性及び／又は非イオン性軟化剤例えばアクリル酸第四アンモニウム化合物、アルコキシル化ポリアミド、第四ジアミドアンモニウム塩、第四アンモニウムエステル、第四イミダゾリウム塩、第一、第二又は第三アミン、アルコキシル化アミン、環状アミン、非イオン性糖誘導体など(特に、ＷＯ００／６８３５２で言及されたもの)を含むことができる。これらのカチオン性軟化剤の幾つかの例は、既に、界面活性剤(ＣＳＡ)として上記した。
【００５４】
これらの軟化剤は、０．５〜９０％の割合で好ましくは０．５〜４０％の割合で存在してよい(前記の配合物の濃度の関数として)。
下記は、すすぎ用配合物中にも存在してよい：
- 蛍光増白剤(０．１〜０．２％)；
- 色転移防止剤(ポリビニルピロリドン、ポリビニルオキサゾリドン、ポリメタクリルアミドなど、０．０３〜２５％、好ましくは０．１〜１５％)、
- ｐＨを調節するための酸(塩酸、クエン酸、リン酸、安息香酸など)(必要なら)
- シリコーン油、
- 鉱油、植物油、動物油又は炭化水素ベースの油又はワックス、
- 染料、
- 芳香剤、
- 発泡制限剤
- 酵素
- 漂白剤。
【００５５】
この発明の配合物は、織物繊維で作られた製品の手洗浄及び機械洗浄の操作後に、すすぎ操作を実施するために利用することができる。該製品は、天然及び／又は人工的及び／又は合成繊維から作ることができる。該配合物は、最も特に、木綿又は木綿ベースの製品のすすぎに有利である。
それは、すすぎ浴において室温で、０．００１〜５ｇ／ｌの好ましくは０．００５〜２ｇ／ｌの割合で利用することができる(配合物の割合は、固形物として表してある)。このすすぎ操作は、室温で行なうことができる。
【００５６】
このすすぎ操作は、前記の製品に、カチオン性及び／又は非イオン性軟化剤により与えられる標準的な柔らかさの利益に加えて、防皺(抗皺)特性及び／又はアイロンがけの容易さを与えることを可能にする。
【００５７】
アイロン用配合物の場合、それは、界面活性剤(ＣＳＡ)及び前記のコポリマー(Ｃ)に加えて、下記を含むことができる：
- 随意のシリコーンベースのポリマー(０．２〜５％)
- 随意の芳香剤(０．１〜３％)
- 随意のセルロースベースの誘導体(０．１〜３％)(例えば、澱粉)。
前記の配合物は、アイロンがけ前に、直接乾燥洗濯物にスプレーすることができる。
前記の配合物の洗濯物へのスプレーは、アイロンがけを容易にして、その洗濯物を着た際に皺になるのを制限する。
【００５８】
好ましくは、この発明の配合物は、織物繊維で作られた製品の洗浄後すすぎ用配合物である。
【００５９】
この発明の第三の主題は、織物繊維で作られた製品の洗浄後処理(すすぎ又はアイロンがけ)のための、少なくとも一種のカチオン性界面活性剤(ＣＳＡ)を含む水性又は水性アルコール性配合物の、該配合物への、該処理された製品に防皺特性及び／又はアイロンがけ容易性を与える薬剤としての少なくとも一種の上記のような制御された構造のコポリマー(Ｃ)の添加による、防皺特性又はアイロンがけの容易さの特性を改良する方法よりなる。
使用する界面活性剤(ＣＳＡ)とコポリマー(Ｃ)の量には、既に、言及してある。
【実施例】
【００６０】
以下の実施例を、説明として与える。
与えた略語は、次の意味を有している：
2006505709.tif 000002
【００６１】
実施例１
ポリブチルアクリレート２０００−ポリ−２−ジメチルアミノエチルアクリレート２０００ジブロックコポリマーの合成。
７５．２ｇのエタノール、５．２ｇのＯ−エチル−Ｓ−(１−メトキシカルボニル)エチレニルザンテート(ＣＨ3ＣＨＣＯ2ＣＨ3)Ｓ(Ｃ＝Ｓ)ＯＥｔ及び５０ｇのブチルアクリレートを、冷却器及びマグネチックスターラーを装備した５００ｍｌのガラス製２口丸底フラスコに導入して、アルゴン下に維持する。この溶液を、７０℃の温度にもたらし、４．９２ｇのアセトン及び２．４６ｇのエタノール中の１．６４ｇのアゾビスイソブチロニトリル(ＡＩＢＮ)の溶液を加える。この添加の２時間後に、２．４６ｇのアセトン及び１．２３ｇのエタノール中の０．８２ｇのＡＩＢＮの溶液を加える。この反応を、第二のＡＩＢＮの導入後１時間にわたって続ける。
この段階において、試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計に結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)により測定する。
Ｍｎ＝２１５０ｇ／モル。
【００６２】
２．４６ｇのアセトン及び１．２３ｇのエタノール中の０．８２ｇのＡＩＢＮの溶液を、反応器中に７０℃に維持した生成物に加える。次いで、６１．４５ｇのエタノール中の５０ｇの２−ジメチルアミノエチルアクリレートの溶液を、３時間にわたって加える。２．４６ｇのアセトン及び１．２３ｇのエタノール中の０．８２ｇのＡＩＢＮの溶液を、モノマーの導入の終了後、２、４及び６時間で加える。この反応を、モノマーの導入の終了後８時間で停止させる。
【００６３】
試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させた、ジメチルホルムアミド中での排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)により測定する。
Ｍｎ＝３８００ｇ／モル。
【００６４】
実施例２
ポリブチルアクリレート４０００−ポリ(２−ジメチルアミノエチルアクリレート４０００)ジブロックコポリマーの合成。
７５．２ｇのエタノール、２．６ｇのＯ−エチル−Ｓ−(１−メトキシカルボニル)エチレニルザンテート(ＣＨ3ＣＨＣＯ2ＣＨ3)Ｓ(Ｃ＝Ｓ)ＯＥｔ及び５０ｇのブチルアクリレートを、冷却器とマグネチックスターラーを備えた５００ｍｌのガラス製２口丸底フラスコに導入してアルゴン下に維持する。この溶液を７０℃の温度にして、２．４６ｇのアセトンと１．２３ｇのエタノール中の０．８２ｇのアゾビスイソブチロニトリル(ＡＩＢＮ)の溶液を加える。この添加の２時間後に、１．２３ｇのアセトンと０．６２ｇのエタノール中の０．４１ｇのＡＩＢＮの溶液を加える。この反応を、ＡＩＢＮの第二の導入後１時間にわたって続ける。この段階で、試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)によって測定する。
Ｍｎ＝３８００ｇ／モル。
【００６５】
１．２３ｇのアセトン及び０．６２ｇのエタノール中の０．４１ｇのＡＩＢＮの溶液を、７０℃の反応器中に維持した生成物に加える。次いで、６８．２５ｇのエタノール中の５０ｇの２−ジメチルアミノエチルアクリレートの溶液を、３時間にわたって加える。１．８５ｇのアセトン及び０．９２ｇのエタノール中の０．６１ｇのＡＩＢＮの溶液を、モノマーの導入の終了後、２、４及び６時間で加える。この反応を、モノマーの導入の終了後８時間で停止させる。
【００６６】
試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)により測定する。
Ｍｎ＝７５００ｇ／モル。
【００６７】
実施例３
ポリブチルアクリレート４０００−ポリ(２−ジメチルアミノエチルアクリレート８０００)ジブロックコポリマー。
６０．１ｇのエタノール、２．０８ｇのＯ−エチル−Ｓ−(１−メトキシカルボニル)エチレニルザンテート(ＣＨ3ＣＨＣＯ2ＣＨ3)Ｓ(Ｃ＝Ｓ)ＯＥｔ及び４０ｇのブチルアクリレートを、冷却器とマグネチックスターラーを備えた５００ｍｌのガラス製２口丸底フラスコに導入してアルゴン下に維持する。この溶液を７０℃の温度にして、１．９７ｇのアセトン及び０．９８ｇのエタノール中の０．６６ｇのアゾビスイソブチロニトリル(ＡＩＢＮ)の溶液を加える。この添加の２時間後に、０．９８ｇのアセトン及び０．４９ｇのエタノール中の０．３２ｇのＡＩＢＮの溶液を加える。この反応を、ＡＩＢＮの第二の導入後１時間にわたって続ける。この段階で、試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)によって測定する。
Ｍｎ＝４１００ｇ／モル。
【００６８】
０．９８ｇのアセトン及び０．４９ｇのエタノール中の０．３２ｇのＡＩＢＮの溶液を、７０℃の反応器中に維持した生成物に加える。次いで、１１４．５ｇのエタノール中の８０ｇの２−ジメチルアミノエチルアクリレートの溶液を、３時間にわたって加える。１．４７ｇのアセトン及び０．７３ｇのエタノール中の０．４９ｇのＡＩＢＮの溶液を、モノマーの導入の終了後、２、４及び６時間で加える。この反応を、モノマーの導入の終了後８時間で停止させる。
【００６９】
試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)により測定する。
Ｍｎ＝１０５００ｇ／モル。
【００７０】
実施例４
ポリブチルアクリレート４０００−ポリ(２−ジメチルアミノエチルアクリレート２００００)ジブロックコポリマーの合成。
３０ｇのエタノール、１．０４ｇのＯ−エチル−Ｓ−(１−メトキシカルボニル)エチレニルザンテート(ＣＨ3ＣＨＣＯ2ＣＨ3)Ｓ(Ｃ＝Ｓ)ＯＥｔ及び２０ｇのブチルアクリレートを、冷却器とマグネチックスターラーを備えた５００ｍｌのガラス製２口丸底フラスコに導入してアルゴン下に維持する。この溶液を７０℃の温度にして、０．９８ｇのアセトン及び０．４９ｇのエタノール中の０．３２ｇのアゾビスイソブチロニトリル(ＡＩＢＮ)の溶液を加える。この添加の２時間後に、０．４９ｇのアセトン及び０．２４ｇのエタノール中の０．１６ｇのＡＩＢＮの溶液を加える。この反応を、ＡＩＢＮの第二の導入後１時間にわたって続ける。この段階で、試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)によって測定する。
Ｍｎ＝４１００ｇ／モル。
【００７１】
０．４９ｇのアセトン及び０．２４ｇのエタノール中の０．１６ｇのＡＩＢＮの溶液を、７０℃の反応器中に維持した生成物に加える。次いで、１４７ｇのエタノール中の１００ｇの２−ジメチルアミノエチルアクリレートの溶液を、３時間にわたって加える。０．７３ｇのアセトン及び０．３６ｇのエタノール中の０．２４ｇのＡＩＢＮの溶液を、モノマーの導入の終了後、２、４及び６時間で加える。この反応を、モノマーの導入の終了後８時間で停止させる。
【００７２】
試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)によって測定する。
Ｍｎ＝１８０００ｇ／モル。
【００７３】
実施例５
ポリブチルアクリレート１０００−ポリ(２−ジメチルアミノエチルアクリレート１０００)ジブロックコポリマーの合成。
７５．２ｇのエタノール、１０．４ｇのＯ−エチル−Ｓ−(１−メトキシカルボニル)エチレニルザンテート(ＣＨ3ＣＨＣＯ2ＣＨ3)Ｓ(Ｃ＝Ｓ)ＯＥｔ及び５０ｇのブチルアクリレートを、冷却器とマグネチックスターラーを備えた５００ｍｌのガラス製２口丸底フラスコに導入してアルゴン下に維持する。この溶液を７０℃の温度にして、９．８５ｇのアセトン及び４．９２ｇのエタノール中の３．２８ｇのアゾビスイソブチロニトリル(ＡＩＢＮ)の溶液を加える。この添加の２時間後に、４．９２ｇのアセトン及び２．４６ｇのエタノール中の１．６４ｇのＡＩＢＮの溶液を加える。この反応を、ＡＩＢＮの第二の導入後１時間にわたって続ける。この段階で、試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)によって測定する。
Ｍｎ＝１１５０ｇ／モル。
【００７４】
４．９２ｇのアセトン及び２．４６ｇのエタノール中の１．６４ｇのＡＩＢＮの溶液を、７０℃の反応器中に維持した生成物に加える。次いで、４７．９ｇのエタノール中の５０ｇの２−ジメチルアミノエチルアクリレートの溶液を、３時間にわたって加える。７．３９ｇのアセトン及び３．６９ｇのエタノール中の２．４６ｇのＡＩＢＮの溶液を、モノマーの導入の終了後、２、４及び６時間で加える。この反応を、モノマーの導入の終了後８時間で停止させる。
【００７５】
試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)によって測定する。
Ｍｎ＝２４００ｇ／モル。
【００７６】
実施例６
ポリブチルアクリレート１０００−ポリ(２−ジメチルアミノエチルアクリレート５０００)ジブロックコポリマーの合成。
３０．３ｇのエタノール、４．１６ｇのＯ−エチル−Ｓ−(１−メトキシカルボニル)エチレニルザンテート(ＣＨ3ＣＨＣＯ2ＣＨ3)Ｓ(Ｃ＝Ｓ)ＯＥｔ及び２０ｇのブチルアクリレートを、冷却器とマグネチックスターラーを備えた５００ｍｌのガラス製２口丸底フラスコに導入してアルゴン下に維持する。この溶液を７０℃の温度にして、３．９５ｇのアセトン及び１．９７ｇのエタノール中の１．３１ｇのアゾビスイソブチロニトリル(ＡＩＢＮ)の溶液を加える。この添加の２時間後に、１．９７ｇのアセトン及び０．９８ｇのエタノール中の０．６５ｇのＡＩＢＮの溶液を加える。この反応を、ＡＩＢＮの第二の導入後１時間にわたって続ける。この段階で、試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)によって測定する。
Ｍｎ＝１２００ｇ／モル。
【００７７】
１．９７ｇのアセトン及び０．９８ｇのエタノール中の０．６５ｇのＡＩＢＮの溶液を、７０℃の反応器中に維持した生成物に加える。次いで、１３９ｇのエタノール中の１００ｇの２−ジメチルアミノエチルアクリレートの溶液を、３時間にわたって加える。２．９５ｇのアセトン及び１．４７ｇのエタノール中の０．９８ｇのＡＩＢＮの溶液を、モノマーの導入の終了後、２、４及び６時間で加える。この反応を、モノマーの導入の終了後８時間で停止させる。
【００７８】
試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)によって測定する。
Ｍｎ＝６４００ｇ／モル。
【００７９】
実施例７
ポリブチルアクリレート２０００−ポリ(２−ジメチルアミノエチルアクリレート１００００)ジブロックコポリマーの合成。
３０．１ｇのエタノール、２．０８ｇのＯ−エチル−Ｓ−(１−メトキシカルボニル)エチレニルザンテート(ＣＨ3ＣＨＣＯ2ＣＨ3)Ｓ(Ｃ＝Ｓ)ＯＥｔ及び２０ｇのブチルアクリレートを、冷却器とマグネチックスターラーを備えた５００ｍｌのガラス製２口丸底フラスコに導入してアルゴン下に維持する。この溶液を７０℃の温度にして、１．９７ｇのアセトン及び０．９８ｇのエタノール中の０．６５ｇのアゾビスイソブチロニトリル(ＡＩＢＮ)の溶液を加える。この添加の２時間後に、０．９８ｇのアセトン及び０．４９ｇのエタノール中の０．３３ｇのＡＩＢＮの溶液を加える。この反応を、ＡＩＢＮの第二の導入後１時間にわたって続ける。この段階で、試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)によって測定する。
Ｍｎ＝２２００ｇ／モル。
【００８０】
０．９８ｇのアセトン及び０．４９ｇのエタノール中の０．３３ｇのＡＩＢＮの溶液を、７０℃の反応器中に維持した生成物に加える。次いで、１４４ｇのエタノール中の１００ｇの２−ジメチルアミノエチルアクリレートの溶液を、３時間にわたって加える。１．４７ｇのアセトン及び０．７３ｇのエタノール中の０．４９ｇのＡＩＢＮの溶液を、モノマーの導入の終了後、２、４及び６時間で加える。この反応を、モノマーの導入の終了後８時間で停止させる。
【００８１】
試料を採取する。数平均分子量(Ｍｎ)を、多角度光散乱光度計と結合させたジメチルホルムアミド中の排除クロマトグラフィー(ＧＰＣ−ＭＡＬＬＳ)によって測定する。
Ｍｎ＝１０９００ｇ／モル。
【００８２】
実施例８
ポリ(四級化２−ジメチルアミノエチルアクリレート３７００)−ポリブチルアクリレート１０００ジブロックコポリマーの合成。
７５．９ｇのイソプロパノール、１２２ｇの水、２．９９ｇの４，４’−アゾビス(４−シアノール吉草酸)(ＡＣＰ)、４．４４ｇのＯ−エチル−Ｓ−(１−メトキシカルボニル)エチレニルザンテート(ＣＨ3ＣＨＣＯ2ＣＨ3)Ｓ(Ｃ＝Ｓ)ＯＥｔ及び１００ｇの四級化２−ジメチルアミノエチルアクリレートの８０％水溶液を、冷却器とマグネチックスターラーを備えた５００ｍｌのガラス製２口丸底フラスコに導入してアルゴン下に維持する。この溶液を７０℃の温度にして、反応を１２時間にわたって維持する。次いで、溶媒を、ロータリーエバポレーター上で蒸発させて除去する。
１Ｈ ＮＭＲ分析は、アクリレートモノマーが全体的に重合されたことを確実にする。
【００８３】
第一の工程から得られたポリマー(８７．４ｇ)を、９７ｇの水に溶解させて、１６０ｇのエタノール、２１．３３ｇのブチルアクリレート及び１．７５ｇのＡＩＢＮを加える。こうして得られた混合物を、１２時間にわたって、７０℃で加熱する。反応の終了時に、ジブロックコポリマーが得られる。
【００８４】
実施例９
ポリ(四級化２−ジメチルアミノエチルアクリレート７５００)−ポリブチルアクリレート１０００ジブロックコポリマーの合成。
７１ｇのイソプロパノール、２６３ｇの水、３．４１ｇの４，４’−アゾビス(４−シアノール吉草酸)(ＡＣＰ)、４．２３ｇのＯ−エチル−Ｓ−(１−メトキシカルボニル)エチレニルザンテート(ＣＨ3ＣＨＣＯ2ＣＨ3)Ｓ(Ｃ＝Ｓ)ＯＥｔ及び１９０．４ｇの四級化２−ジメチルアミノエチルアクリレートの８０％水溶液を、冷却器とマグネチックスターラーを備えた５００ｍｌのガラス製２口丸底フラスコに導入してアルゴン下に維持する。この溶液を７０℃の温度にして、反応を１２時間にわたって維持する。次いで、溶媒を、ロータリーエバポレーター上で蒸発させて除去する。
１Ｈ ＮＭＲ分析は、アクリレートモノマーが全体的に重合されたことを確実にする。
【００８５】
第一の工程から得られたポリマー(１６０ｇ)を、３６０ｇの水に溶解させて、１４０ｇのエタノール、２０．３１ｇのブチルアクリレート及び１．６７ｇのＡＩＢＮを加える。こうして得られた混合物を、１２時間にわたって、７０℃で加熱する。反応の終了時に、ジブロックコポリマーが得られる。
【００８６】
実施例１０
ポリブチルアクリレート１０００−ポリ(アクリル酸−ｓｔａｔ−四級化２−ジメチルアミノエチルアクリレート)８０００ジブロックコポリマーの合成
１２４．２ｇのエタノール、１３．５４ｇのＯ−エチル−Ｓ−(１−メトキシカルボニル)エチレニルザンテート(ＣＨ3ＣＨＣＯ2ＣＨ3)Ｓ(Ｃ＝Ｓ)ＯＥｔ及び６５ｇのブチルアクリレートを、冷却器とマグネチックスターラーを備えた５００ｍｌのガラス製２口丸底フラスコに導入してアルゴン下に維持する。この溶液を７０℃の温度にして、４．２７ｇのアゾビスイソブチロニトリル(ＡＩＢＮ)を、この反応混合物に加える。この反応をこの温度で２時間維持する。１Ｈ ＮＭＲ分析は、アクリレートモノマーが全体的に重合されたことを確実にする。このポリマーの分子質量を、排除クロマトグラフィーにより測定する。
Ｍｎ＝１８００ｇ／モル。
【００８７】
２．１３ｇのアゾビスイソブチロニトリルを、７０℃に維持した第一の工程から得られたポリマーに加える。次に、１７３．３ｇのアクリル酸、４０４．７ｇの四級化２−ジメチルアミノエチルアクリレート、３３５ｇの水及び３３５ｇのエタノールを含む混合物を、４時間にわたって加える。導入の２時間の終了時に、３．２ｇのＡＩＢＮを導入する。モノマー溶液の４時間の導入の終了時に、更なる３．２ｇのＡＩＢＮを反応器に導入する。次いで、この反応を、この温度で２時間維持する。
１Ｈ ＮＭＲ分析は、最終的コポリマーの組成が、予想された組成に相当することを確実にする。
【００８８】
実施例１１：防皺評価試験
防皺評価試験を実施するために用いた一方の洗浄用配合物(Ｗ)及び他方のすすぎ用配合物(Ｒ)は、下記の通りである：
【００８９】
【表１】
2006505709.tif 000003
【００９０】
【表２】
2006505709.tif 000004
【００９１】
評価方法
１．織物の製造
２．織物の処理：ターゴトメーターで、洗浄用配合物(Ｗ)を利用する洗浄と、その後の、試験ポリマーを含むすすぎ用配合物(Ｒ)を利用するすすぎによる
３．織物の皺生成
４．皺生成の光学的方法による評価
【００９２】
１．１０×１０ｃｍの未仕上げ木綿(Phoenix Colio Ltdより照会番号2436Wで供給される)の試料を切る。
これらの木綿試料を、先ず、それらすべてが洗浄前に同じレベルの皺を有するようにアイロンがけをする。
【００９３】
２．洗浄操作を、洗剤組成配合物の専門家には周知の研究室用ターゴトメーターにて行なう。この機械は、アメリカンパルセーター型洗濯機の機械的及び温度の効果をシミュレートする。試料を、上記の洗浄用配合物を利用して洗浄し、水で２回すすいでから、すすぎ用配合物(Ｒ)を利用して１回すすぐ(下記の条件下で)：
- ターゴトメータードラム当たりの試料数：１０
- 水の容積：１リットル
- Contrexeville(登録商標)のミネラルウォーターの適当な希釈により得られたフランス硬度３０°ＴＨの水
- 洗浄用配合物(Ｗ)の濃度：５ｇ／ｌ
- 洗浄温度：４０℃
- 洗浄時間：２０分
- ターゴトメーター回転速度：１００ｒｐｍ
- 冷水での２回洗浄(約３０°ＴＨ)
- 第３回目のすすぎ：硬度３０°ＴＨの冷水中での７ｇ／ｌの濃度の配合物(Ｒ)でのすすぎ
- 各すすぎの継続時間：５分。
【００９４】
３．これらの濡れた試料を、円筒状プレス(直径５．５ｃｍ×長さ７ｃｍ)を利用して皺にする(用いる圧力は、２０ｇ×ｃｍ-2を９０秒間)。
次いで、それらを水平に横たえて乾燥させる。
この皺生成法は、すべての試験において再現可能な皺を得ることを可能にする。
【００９５】
４．２４時間の乾燥の後に、これらの乾燥した試料の領域について、デジタルカラー写真撮影を行ない、その後、灰色の２５６のレベルに変換する(０〜２５５の灰色スケール)。
灰色の各レベルに対応する画素数を計数する。
得られた各ヒストグラムについて、灰色のレベルの分布の標準偏差σを測定する。
もし皺が相当なものであれば、灰色のレベルの分布は、大きい。
σ１は、上記の工程１〜４を受けた試料につき得られる標準偏差に対応するが、この処理工程２におけるすすぎ操作は、冷水での３回のすすぎからなっている(２回の冷水でのすすぎと、その後のすすぎ用配合物(Ｒ)での１回のすすぎではなく)。
σ２は、試験ポリマーを含むすすぎ用配合物(Ｒ)を用いて得られた標準偏差に相当する。
σ３は、織物処理及び皺生成工程２及び３を受けてないアイロンがけした出発試料(織物製造のステップ１)で得られた標準偏差に相当する。
【００９６】
性能値ＷＲ(「皺回復」)は、下記の方程式によって与えられる
【数１】
2006505709.tif 000005
ｆは、規格化因子である(１／[(σ１−σ３)／σ１]に等しい)。
値：
- ０％は、利益ゼロに相当し
- １００％は、皺の形成されていない面(アイロンがけ後に得られる平らな面)に相当する。
【００９７】
得られた結果は、下記の通りである：
【表３】
2006505709.tif 000006
【００９８】
比較例１２
上記の試験の工程１〜４を反復し、第三のすすぎを実施するために利用するすすぎ用配合物は、(Ｒ)に似ているが試験ポリマーを含まない配合物(Ｒ’)である。
性能値ＷＲは、３０％である。
ブロックコポリマーのすすぎ用配合物中の存在が、すすぎ用配合物の防皺特性をかなり改善するということが分かる。
【００９９】
実施例１３
「消費者」試験を、３０人の集団について行なった。
これは、視覚試験であった。
織物を１〜４等級に等級付けした(１が、最少の皺を生じた織物に相当し、４が、最も皺を生じたものに相当する)。
【０１００】
織物Ｆ１
木綿織物(Phoenix Colio Ltdから、照会番号2436Wで供給されている未仕上げ木綿試料、１０×１０ｃｍ)を、商標Miele WT904で市販されている洗濯機に導入して、市販の洗浄用配合物を利用する４０℃での洗浄サイクルにかける(使用するすすぎ用液体は、２％の実施例９のカチオン性ジブロックコポリマーＰ(ＢｕＡ)１Ｋ−Ｐ(ＱｕａｔＤＭＡＥＡ)７．５Ｋを含むすすぎ用配合物(Ｒ)に相当する)。
これらの織物を放置して風乾する。
【０１０１】
織物Ｆ２
同じ洗浄／すすぎ／乾燥操作を、同じ織物について、前記のものと似ているがカチオン性ジブロックコポリマーを含まないすすぎ用配合物(Ｒ’)を用いて反復する。
織物Ｆ１に対する選択的応答を有する個人のパーセンテージは、８８．９％である。
これは、実施例１１の結果を確認する。
【国際調査報告】
2006505709.tif 000007
2006505709.tif 000008
2006505709.tif 000009
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