(57)【要約】【課題】結晶形態のフェノール系抗酸化剤の提供。【解決手段】本発明は、結晶形態のイルガノックスシリーズ、特にイルガノックス１０１０及び１０９８からのフェノール系抗酸化剤の固体粒子の製造方法、該方法によって得られ得る結晶粒子、該結晶粒子の更なる加工、フェノール系抗酸化剤を含む水性分散液、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の新規結晶変性物（μ−形態）及びＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の新規結晶変性物（β−形態）及び該新規結晶変性物を含む水性分散液に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
2006507337.tif 000005
［式中、
Ｒ1及びＲ2の一方は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、他方は炭素原子数３ないし４のアルキル基を表わし；
ｘは、０（直接結合）又は１ないし３の数を表わし；及び、
Yは、炭素原子数８ないし２２のアルコキシ基、又は部分式
【化２】
2006507337.tif 000006
（式中、
Ｒ1’及びＲ2’の一方は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、他方は炭素原子数３ないし４のアルキル基を表わし；
ｘは、０（直接結合）又は１ないし３の数を表わし；
ｙは、２ないし１０の数を表わし：及び、
ｚは、２ないし６の数を表わす。）
で表わされる基を表わす。］
で表わされる化合物を本質的に結晶形態で含む固体粒子の製造方法であって、該方法は、前記化合物（Ｉ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ1’、Ｒ2’、Ｙ、ｘ、ｙ及びｚは、上記で定義した通りである。）又はその混合物を含む均一な水性分散液を製造し、ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸部分エステル及び種結晶の添加によって結晶を形成させ、得られた結晶を分散液から分離することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記化合物（Ｉ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ1’、Ｒ2’、Ｙ、ｘ、ｙ及びｚは、請求項１で定義した通りである。）又はその混合物を含む均一な水性分散液を製造し、ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸部分エステル及び種結晶の添加によって結晶を形成させ、得ら
れた結晶を分散液から分離し、他の固体粒子形態へ更に加工することを特徴とする、化合物（Ｉ）を本質的に結晶形態で含む固体粒子の更なる加工方法。
【請求項３】
ポリオキシエチレンソルビタン、ポリオキシエチレン（２０又は４）−ソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレン−（２０）−ソルビタンモノパルミテート又はモノステアレート、ポリオキシエチレン−（４又は２０）−ソルビタンモノステアレート又はトリステアレート、ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエート及びポリオキシエチレン−（２０）−ソルビタントリオレエートからなる群から選択されたポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸部分エステルの添加によって結晶を形成させることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項４】
ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエートの添加によって前記結晶を形成させることを特徴とする、請求項３記載の方法。
【請求項５】
本質的に結晶形態で化合物（Ｉ）［式中、Ｒ1及びＲ2の一方が、互いに独立して、水素原子又は第三ブチル基を表わし、他方は第三ブチル基を表わし；
ｘは、２を表わし；及び、
Yは、炭素原子数８ないし２２のアルコキシ基、又は前記部分式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表わされる基（式中、Ｒ1’及びＲ2’の一方は、互いに独立して、水素原子又は第三ブチル基を表わし、他方は第三ブチル基を表わし；
ｘは２を表わし；ｙは６を表わし；及びｚは３を表わす。）を表わす。］又はその混合物を含む固体粒子を製造するための方法であって、ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエートの添加によって結晶を形成させることを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項６】
得られた結晶が、分散液から分離され、粒状物へ転換されることを特徴とする、請求項２記載の方法。
【請求項７】
請求項２記載の方法によって得られ得る本質的に結晶形態で化合物（Ｉ）又はその混合物を含む圧縮製品。
【請求項８】
ａ）本質的に結晶形態で化合物（Ｉ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ1’、Ｒ2’、Ｙ、ｘ、ｙ及びｚは請求項１で定義した通りである。）又はその混合物；
ｂ）ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸部分エステル；及び、
ｃ）水
を含む水性分散液。
【請求項９】
成分ａ）として、本質的に結晶形態でペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］を含む請求項１記載の水性分散液。
【請求項１０】
成分ａ）として、本質的に結晶形態でＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］を含む請求項１記載の水性分散液。
【請求項１１】
Ｘ線粉末回折パターンにおいて、以下の格子面間隔［ｄ−値］及び以下の主線の相対線強度
ｄ−間隔［Å］          相対強度
２２．７                  高強度
１９．７                  高強度
１４．９                  中強度
１３．１                  中強度
１１．３                  中強度
９．０                  低強度
８．６                  中強度
７．６                  低強度
７．１                  非常に高強度
６．６                  低強度
５．９４                低強度
５．６３                中強度
５．４５                低強度
５．２６                中強度
５．０６                中強度
４．８２                中強度
４．７４                高強度
４．５８                中強度
４．４３                非常に高強度
４．３０                低強度
４．０９                低強度
３．９３                低強度
３．７５                  低強度
を特徴とする、結晶形態のペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］。
【請求項１２】
Ｘ線粉末回折パターンにおいて、以下の格子面間隔［ｄ−値］及び相対線強度
ｄ−間隔［Å］          相対強度
２２．７                  高強度
１９．７                  高強度
１４．９                  中強度
１３．１                  中強度
１２．４                  非常に低強度
１１．３                  中強度
１０．９                  非常に低強度
９．９                  非常に低強度
９．０                  低強度
８．６                  中強度
７．６                  低強度
７．１                  非常に高強度
６．６                  低強度
６．３                  非常に低強度
５．９４                低強度
５．８１                非常に低強度
５．６３                中強度
５．４５                低強度
５．３５                非常に低強度
５．２６                中強度
５．０６                中強度
４．９３                低強度
４．８２                中強度
４．７４                高強度
４．５８                中強度
４．５２                低強度
４．４３                非常に高強度
４．３０                低強度
４．１３                非常に低強度
４．０９                低強度
３．９３                低強度
３．７５                低強度
３．５９                非常に低強度
３．４２                非常に低強度
３．３３                非常に低強度
３．２５                非常に低強度
３．１６                非常に低強度
３．０６                非常に低強度
を特徴とする、請求項１０記載の結晶形態であるペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の結晶変性物（μ−形態）。
【請求項１３】
請求項１２で定義されたペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の結晶変性物（μ−形態）を含む水性分散液。
【請求項１４】
Ｘ線粉末回折パターンにおいて、以下の格子面間隔［ｄ−値］及び主線の相対線強度
ｄ−間隔［Å］          相対強度
７．３                  中強度
５．１３                高強度
４．８８                中強度
３．９２                低強度
を特徴とする、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオンアミド）］の結晶形態。
【請求項１５】
Ｘ線粉末回折パターンにおいて、以下の格子面間隔［ｄ−値］及び主線及びより弱い線を含めた相対線強度
ｄ−間隔［Å］          相対強度
１１．１                  低強度
１０．３                  中強度
７．９                  中強度
７．３                  中強度
５．１３                高強度
５．０６                高強度
４．８８                中強度
３．９２                低強度
を特徴とする、請求項１３記載のＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオンアミド）］の結晶形態。
【請求項１６】
Ｘ線粉末回折パターンにおいて、以下の格子面間隔［ｄ−値］及び主線及びより弱い線を含めた相対線強度
ｄ−間隔［Å］          相対強度
１６．０                  非常に低強度
１３．６                  非常に低強度
１２．７                  非常に低強度
１１．１                  低強度
１０．５                  中強度
１０．３                  中強度
９．１                  非常に低強度
８．５                  低強度
８．０                  中強度
７．９                  中強度
７．５                  中強度
７．３                  中強度
７．１                  中強度
６．８                  低強度
６．４                  低強度
６．２                  中強度
６．１                  中強度
５．９４                低強度
５．８３                非常に低強度
５．５８                中強度
５．２４                中強度
５．１３                高強度
５．０６                高強度
４．９８                中強度
４．８８                中強度
４．７１                中強度
４．５９                高強度
４．５４                高強度
４．３８                高強度
４．２４                中強度
４．１３                中強度
３．９２                低強度
３．８５                低強度
３．７１                非常に低強度
３．５３                低強度
３．３８                非常に低強度
３．２９                非常に低強度
３．０５                非常に低強度
を特徴とする、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオンアミド）］の結晶変性物（β−形態）。
【請求項１７】
請求項１６で定義されたＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオンアミド）］の結晶変性物（β−形態）を含む水性分散液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、本質的に結晶形態でフェノール系抗酸化剤を含む固体粒子の製造方法、該方法によって得られ得る固体粒子、該固体粒子の更なる加工、該フェノール系抗酸化剤を含む水性分散液、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の新規結晶変性物（μ−形態）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の新規結晶変性物（β−形態）、該結晶変性物を含む水性分散液及び該結晶変性物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
イルガノックス（登録商標：Ｉｒｇａｎｏｘ）（チバ  スペシャルティ  ケミカルズの登録商標）シリーズのいくつかの市販の抗酸化剤、例えば、イルガノックス  １０１０：ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、ＣＡＳ番号６６８３−１９−８、又はイルガノックス  １０９８：Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］、ＣＡＳ番号２３１２８−７４−７等の固体フェノール添加剤は、非常に様々な技術用途、例えば、酸化、熱又は光誘発分解に対するポリマーの安定化において使用される。
【０００３】
これらの添加剤は、固体粒子、例えば、粉末、微粉砕粉末又は粒状物の形態で市販で流通されている。液体反応混合物からのこれらの粒子の製造は、液相からの分離工程を必要とする。
【０００４】
液体反応混合物から結晶形態で得られる固体粒子の分離は、いくつかの欠点を有する。液相中における結晶粒子の形成は、液相の組成、濃度及び温度に関して注意深く観察しなければならない時間がかかる方法である。
【０００５】
結晶化方法とは対照的な、溶融相からのイルガノックス  １０１０又は１０９８等の固体フェノール系抗酸化剤の製造は、いくつかの欠点を有する。これらの生成物の溶融相は、多量の非晶質粒子を含む。これらフェノール系抗酸化剤の非晶質粒子は、望ましくない変色プロセス、即ち、緑色化（ｇｒｅｅｎｉｎｇ）を受けることが発見されている。この影響の説明は、非晶質物質においては、酸素が移動可能であることにある。結晶物質の結晶格子は、酸素の移動を防止し得る。
【０００６】
それ故、イルガノックス  １０１０又は１０９８のような固体フェノール系抗酸化剤は、好ましくは、いかなる非晶質物質の形成も許さないよう、不要なメタノール溶媒から結晶形態で単離される。メタノールは、他の液体混合物からは結晶及び非晶質固体の混合物が得られ得るという事実を考慮して選択される。
【０００７】
非晶質固体の残余量（１％未満）が結晶固体に存在する場合でさえも、変色は問題となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
イルガノックス  １０１０又は１０９８のような固体フェノール系抗酸化剤の製造において、現在使用されている結晶形成方法の問題を避ける改善された代替方法が強く必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
驚くべきことに、非晶質粒子の形成の結果として生じる望ましくない変色影響は、フェノール系抗酸化剤の粒子が、選択された非イオン性界面活性剤及び種結晶が添加された液相から単離される場合に避けられることが発見された。
【００１０】
それ故、本発明は、式
【化１】
2006507337.tif 000002
［式中、
Ｒ1及びＲ2の一方は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、他方は炭素原子数３ないし４のアルキル基を表わし；
ｘは、０（直接結合）又は１ないし３の数を表わし；及び、
Yは、炭素原子数８ないし２２のアルコキシ基、又は部分式
【化２】
2006507337.tif 000003
（式中、
Ｒ1’及びＲ2’の一方は、互いに独立して、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、他方は炭素原子数３ないし４のアルキル基を表わし；
ｘは、０（直接結合）又は１ないし３の数を表わし；
ｙは、２ないし１０の数を表わし：及び、
ｚは、２ないし６の数を表わす。）
で表わされる基を表わす。］
で表わされる化合物を本質的に結晶形態で含む固体粒子の製造方法であって、該方法は、前記化合物（Ｉ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ1’、Ｒ2’、Ｙ、ｘ、ｙ及びｚは、上記で定義した通りである。）又はその混合物を含む均一な水性分散液を製造し、ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸部分エステル及び種結晶の添加によって結晶を形成させ、得られた結晶を分散液から分離することを特徴とする方法に関する。
【００１１】
本発明の好ましい態様は、本質的に結晶形態で化合物（Ｉ）［式中、Ｒ1及びＲ2の一方が、互いに独立して、水素原子又は第三ブチル基を表わし、他方は第三ブチル基を表わし；
ｘは、２を表わし；及び、
Yは、炭素原子数８ないし２２のアルコキシ基、又は前記部分式（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｃ）で表わされる基（式中、Ｒ1’及びＲ2’の一方は、互いに独立して、水素原子又は第三ブチル基を表わし、他方は第三ブチル基を表わし；
ｘは２を表わし；ｙは６を表わし；及びｚは３を表わす。）を表わす。］又はその混合物を含む固体粒子を製造するための方法であって、ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエートの添加によって結晶を形成させることを特徴とする方法に関する。
【００１２】
本発明の明細書中で使用される一般用語は、他に定義がない限りは、以下のように定義される：
用語‘‘固体粒子形態’’は、粉末、結晶、結晶等から製造された微粉砕結晶又は粒状物等の固体粒子物質のいかなる凝結体（ａｇｇｒｅｇａｔｅｓ)又は凝集物（ａｇｇｌｏｍｅｒａｔｅｓ)も定義する。
【００１３】
用語‘‘結晶形態’’は、非晶質形態と対照的な、分子が幾何学的に規則正しいパターンで配置されたいかなる固体物質も定義する。
【００１４】
用語‘‘本質的に結晶形態で’’は、結晶粒子のいかなる組成物又は凝集物からの非晶質粒子の相当量の排除を定義する。本発明の好ましい態様において、１％未満の非晶質粒子しか結晶単離物中に存在しない。本発明の特に好ましい態様においては、０．５％未満の非晶質粒子しか結晶単離物中に存在しない。
【００１５】
式（Ｉ）の化合物において、Ｒ1及びＲ2は、枝分かれしていない及び（可能な場合は）枝分かれした基であるメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基及び第三ブチル基を含む炭素原子数１ないし４のアルキル基として定義される。
【００１６】
Ｒ1及びＲ2は、枝分かれしていない及び好ましくは枝分かれした基、例えば、イソプロピル基、イソブチル基又は第三ブチル基を含む炭素原子数３ないし４のアルキル基として定義される。
【００１７】
本発明の好ましい態様において、Ｒ1及びＲ2の一方は、水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基、特にメチル基又は第三ブチル基を表わし、他方は炭素原子数３ないし４のアルキル基、特に第三ブチル基を表わす。
【００１８】
化合物（Ｉ）において、指数ｘは０（直接結合）又は１ないし３の数を表わす。
【００１９】
ｘが０を表わす場合、直接結合が定義される。
ｘが１を表わす場合、基−［ＣxＨ2x］−はメチレン基を表わす。
好ましい態様において、ｘが２を表わす場合、基−［ＣxＨ2x］−は１，１−又は好ましくは１，２−エチレン基を表わす。
ｘが３の数を表わす場合、基−［ＣxＨ2x］−は１，１−、１，２−又は好ましくは１，３−プロピレン基を表わす。
【００２０】
炭素原子数８ないし２２のアルコキシ基として定義されるＹは、例えば、ｎ−オクチル
オキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、１，１，３，３−テトラメチルブトキシ基、１−メチルヘプチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基又は１，１，３−トリメチルヘキシルオキシ基、又は炭素原子数１０ないし２２のアルコキシ基、特に直鎖状の炭素原子数１０ないし２２のアルコキシ基、例えば、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基又はｎ−オクタデシルオキシ基、又はそれらの高級同族体を表わす。
【００２１】
部分式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）で表わされる基において、炭素原子数１ないし４のアルキル基として定義されるＲ1’及びＲ2’は、上記で定義したＲ1及びＲ2と同様である。
【００２２】
部分式（Ａ）で表わされる基において、ｘは０（直接結合）又は１ないし３の数を表わし、ｙは２ないし１０の数を表わす。好ましい態様において、ｘは２を表わし、ｙは６を表わす。
【００２３】
部分式（Ｂ）で表わされる基において、ｘは０（直接結合）又は１ないし３の数を表わし、ｚは２ないし１０の数を表わす。好ましい態様において、ｘは２を表わし、ｚは３を表わす。
【００２４】
部分式（Ｃ）で表わされる基において、ｘは０（直接結合）又は１ないし３の数を表わし、ｚは２ないし１０の数を表わす。好ましい態様において、ｘは２を表わす。
【００２５】
Ｙが部分式（Ａ）で表わされる基を表わし、Ｒ1及びＲ2の一方並びに対応するＲ1’及びＲ2’の一方がメチル基を表わし、他方が第三ブチル基を表わし、ｘが２を表わし、ｙが６を表わす特に好ましい化合物（Ｉ）は、イルガノックス  １０９８：Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］である。
【００２６】
Ｙが部分式（Ｂ）で表わされる基を表わし、Ｒ1及びＲ2の一方並びに対応するＲ1’及びＲ2’の一方がメチル基を表わし、他方が第三ブチル基を表わし、ｘが２を表わし、ｚが３を表わす特に好ましい化合物（Ｉ）は、イルガノックス  ２４５：エチレン−ビス（オキシエチレン）−ビス［３−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）−プロピオネート］、ＣＡＳ番号３６４４３−６８−２である。
【００２７】
Ｙが部分式（Ｃ）で表わされる基を表わし、Ｒ1及びＲ2並びに対応するＲ1’及びＲ2’が第三ブチル基を表わす特に好ましい化合物は、イルガノックス  １０１０：ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］である。
【００２８】
用語‘‘水性分散液’’は、分散粒子が分散剤相（分散剤（ｄｉｓｐｅｒｇｅｎ））中に分布されるいかなる２相混合物も含み、該分散剤相は、本発明においては水である。
【００２９】
用語‘‘均一な水性分散液’’は、固体／気体分散液、例えばヒューム、又は気体／固体分散液、例えばフォームのような他の種類の分散液とは対照的な、いわゆる、液体／液体分散液、例えば乳濁液、又は固体／液体分散系、例えば懸濁液の範囲内と定義される。液体／液体分散液は、乳濁液として一般的に定義され、異なる極性の２分離液相からなる。本発明においては、化合物（Ｉ）の溶融から得られる非極性の相が、極性相、例えば水中に分散される。
【００３０】
二者択一の態様において、固体／液体分散液は懸濁液として一般的に定義される。本発明においては、固体粒子、例えば化合物（Ｉ）の種結晶又は非晶質粒子が、極性相、例え
ば水又はアルコール水溶液中に分散される。
【００３１】
言及した‘‘ポリオキシエチレンソルビタンの部分脂肪酸エステルは、好ましくは、実質的に純粋なソルビタンのエステル又は異なるソルビタンのエステルの混合物からなり、そして、脂肪酸基の構造及びポリオキシエチレン鎖の長さは多様である。ソルビタンは、好ましくは、３つのポリオキシエチレン鎖でエーテル化され、１つの脂肪酸基でエステル化される。しかしながら、二者択一的に、ソルビタンは１又は２つのポリオキシエチレン鎖のみでエーテル化され、それに応じて２又は３つの脂肪酸基でエステル化され得る。要するに、ソルビタンの基本構造は、最小で２つの、最大で４つの親水性基で置換される。用語‘‘親水性基’’は、ポリオキシエチレン鎖及び脂肪酸基に当る。
【００３２】
ポリオキシエチレン鎖は、直鎖状であり、好ましくは４ないし１０個、特に４ないし８個のエチレンオキシド単位を有する。ソルビタン基本構造上のエステル基は、８ないし２０個の炭素原子を有する、飽和又は不飽和の、直鎖状カルボン酸から誘導される。８ないし２０個の炭素原子を有する不飽和カルボン酸から誘導されたエステル基は、好ましくは直鎖状であり、１２、１４、１６又は１８個の炭素原子、例えばオレオイル基である。
【００３３】
適当なポリオキシエチレンソルビタンの部分脂肪酸エステルは、ＩＣＩの登録商標、トゥィーン（登録商標：Ｔｗｅｅｎ）下で市販で入手可能である。本発明の方法の好ましい態様に従って、結晶は、ポリオキシエチレン（２０又は４）−ソルビタンモノラウレート（トゥィーン２０及び２１）、ポリオキシエチレン−（２０）−ソルビタンモノパルミテート又はモノステアレート（トゥィーン２０及び６０）、ポリオキシエチレン−（４又は２０）−ソルビタンモノステアレート又はトリステアレート（トゥィーン６１及び６５）、ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエート（トゥィーン８０及び８１）、及びポリオキシエチレン−（２０）−ソルビタントリオレエート（トゥィーン８５）からなる群から選択されたポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸部分エステルの添加によって形成される。
【００３４】
本発明の方法の好ましい態様に従って、結晶は、ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエートの添加によって形成される。
【００３５】
上記で定義された固体粒子の製造方法は新規であり、進歩性がある。第１工程において、水性分散液が製造される。水性分散液は、
ａ）本質的に結晶形態で化合物（Ｉ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ1’、Ｒ2’、Ｙ、ｘ、ｙ及びｚは上記で定義した通りである。）又はその混合物；
ｂ）ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸部分エステル；及び、
ｃ）水
を含む。
【００３６】
本発明はまた、上記で定義した水性分散液及び該分散液の製造方法に関する。
【００３７】
本発明の特に好ましい態様は、成分ａ）として、本質的に結晶形態でペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］を含む水性分散液に関する。
【００３８】
本発明の他の特に好ましい態様は、成分ａ）として、本質的に結晶形態でＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］を含む水性分散液に関する。
【００３９】
本発明の方法の第１工程に従って、水相内に成分ａ）を含むｏ／ｗ型の乳濁液が製造さ
れる。この乳濁液は、長期貯蔵安定性を特徴とする。
【００４０】
二者択一の態様に従って、水相内に成分ａ）を含む懸濁液が製造される。この水性懸濁液は、長期貯蔵安定性を特徴とする。乳濁液は、化合物（Ｉ）、又は他の化合物（Ｉ）もしくは他の添加剤との混合物を、好ましくは８０℃ないし２００℃の温度まで加熱し、溶融液を得、その後、該溶融液を、ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸部分エステルを０．１ないし１０．０（質量）％、好ましくは０．１ないし５．０％、最も好ましくは０．５ないし１．０％及び種結晶を好ましくは０．１ないし１０．０％、好ましくは０．１ないし５．０％、最も好ましくは０．１ないし１．０％含む水性分散液中に分散させることによって製造される。
【００４１】
溶融液はまた、上記の化合物（Ｉ）の製造方法から直接得られ得る。イルガノックス  １０１０は、メチル３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートとペンタエリトリトールを触媒的エステル交換し、続いて、該溶融液を真空下で高温において蒸留することによって、溶媒の存在なしで得られる。
【００４２】
溶融液が添加される水性分散液中に存在する水の量は、広い制限範囲内で変化し得る。水中への溶融相の完全な溶解性を確実にするために、十分な量の水が存在すべきである。最大量は、与えられた温度において、十分な収率での結晶化を可能にする量であるべきである。好ましい態様において、水は、１：１の等質量ないし１０：１の過剰量の範囲内で存在する。
【００４３】
水性懸濁液は、化合物（Ｉ）、又は他の化合物（Ｉ）及び他の添加剤との混合物を含む、粒子サイズ約１ないし５０μ、好ましくは５ないし５０μの非晶質又は結晶種粒子を、好ましくは８０℃ないし９０℃の温度まで加熱し、該種粒子を、ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸部分エステルを０．１ないし１０．０（質量）％、好ましくは０．１ないし５．０％、最も好ましくは０．５ないし１．０％及び種結晶を好ましくは１．０ないし５０．０％、好ましくは３０ないし５０．０％含む水中に分散させることによって製造される。
【００４４】
補助溶媒の存在は任意である。適当な補助溶媒は、エタノール、イソプロパノール及び２−ブタノールからなる群から選択された低級アルコールのような水溶性の極性プロトン性溶媒である。
【００４５】
いわゆる、塩析効果を適用することにより、得られる結晶の収率を改善し、かつ、結晶形成速度を速めるために、塩化ナトリウム又は酢酸リチウムのような水溶性添加剤を添加することは任意である。
【００４６】
本発明の好ましい態様において、溶融液、又は非晶質もしくは結晶種粒子が添加される水性分散液は、ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエートを含む。
【００４７】
本発明の更なる好ましい態様において、イルガノックス  １０１０及びイルガノックス
１０９８は、ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエートが添加される補助溶媒である、エタノール、イソプロパノール及び２−ブタノールからなる群から選択された低級アルコール含む水性分散液から得られる。９０℃以上の温度において、形成されるペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］の新規結晶変性物（μ−形態）及びＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の新規結晶変性物（β−形態）を、以下に詳細に記載する。
【００４８】
本発明はまた、新規結晶形態、特にペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］の新規結晶変性物（μ−形態）、及びこの新規結晶変性物と他の結晶変性物、例えば、米国特許第４，６８３，３２６号明細書に記載されたものとの混合物に関する。
【００４９】
本発明はまた、新規結晶形態、特にＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の新規結晶変性物（β−形態）、及びこの新規結晶変性物と既知の方法で得られ得る他の結晶変性物との混合物に関する。
【００５０】
二者択一の態様において、化合物（Ｉ）の溶融液又は非晶質もしくは結晶種粒子、又は他の化合物（Ｉ）もしくは他の添加剤との混合物を、ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸部分エステルが添加される水へ添加することにより、成分ａ）及びｂ）を同じ質量パーセントで含む乳濁液又は懸濁液が得られる。
【００５１】
分散液は、慣用の混合方法、例えば、乳濁液又は懸濁液を製造するための既知の方法によって均一にされる。混合は、分散機、例えば、ヴォルテックス  ミキサー（Ｖｏｒｔｅｘ  ｍｉｘｅｒ）を使用して、又はポリトロン（登録商標：ＰＯＬＹＴＲＯＮ）型の分散機（キネマティカ  アーゲー，スイス国，リタウ）もしくはＩＫＡ社（ドイツ国，スタウフェン）製の分散機、静止ミキサー（ｓｔａｔｉｃ  ｍｉｘｅｒ）及びプロペラ、アンカー又はパドルブレードを有する慣用の攪拌機を使用して、又は相ミキサー（ｐｈａｓｅ  ｍｉｘｅｒ）を使用して、
強く振盪することによって分散液中に完全にもたらされる。
【００５２】
特に均一な混合物を得るために、攪拌は、例えば、Ｙ−ビーム  攪拌機（Ｙ−ストラール（登録商標：Ｙ−Ｓｔｒａｈｌ）、ウルトラツラックス（登録商標：Ｕｌｔｒａｔｕｒｒａｘ））又はポリトロン社製攪拌機、例えば、ポリトロンＰＴ３０００又はＤＨ３０／３０）を使用して、又は高圧回転／固定子ミキサー、例えば、ＢＵＳＳ混合タービンを使用して高速で行われる。
【００５３】
その後、結晶化が、所望により、適当な結晶種を乳濁液に接種することによって行われる。本発明の方法の好ましい態様において、種結晶は、溶融液及びその後の乳濁液を形成する化合物（Ｉ）又はその混合物と同一である。
【００５４】
均一な分散液が懸濁液から製造される場合においては、種結晶は、懸濁液を形成する化合物（Ｉ）又はその混合物と同一である。
【００５５】
結晶を形成するために必要な時間期間は、広い制限範囲内で変化し、かつ、バッチで行うか又は連続方法で行うかに依存し得る。バッチ法においては、適当な時間期間は、１ないし６０分、好ましくは１０ないし６０分、最も好ましくは１０ないし３０分である。
【００５６】
該方法によって形成された結晶は、ほぼ１００％結晶であり、非晶質粒子は事実上存在しない。粒状物等の結晶単離物は、光安定性に関する厳しい品質要求を満たす。
【００５７】
その後、水性分散液中に存在する結晶は水性分散液から分離され、続いて乾燥させられ得り、そして、所望により、ボールミルを用いた湿式粉砕のような慣用の粉砕法によって、より小さな粒子サイズに加工され得る。これは、空気又は他の望ましくない粒子の含有を防止する。
【００５８】
水性分散液からの分離は、二成分の固体／液体混合物を分離するために既知のいかなる従来技術の方法、例えば、濾過、遠心分離又はデカンテーションの適用も含む。いかなる不純物も除去するために、結晶残渣は、水又は上記アルコールを含む水溶液を添加することによって精製され得、その後、既知の乾燥技術を利用することによって、特に１００℃までの高温において減圧又は真空を適用することによって乾燥させられ得る。
【００５９】
本発明の更なる態様は、前記化合物（Ｉ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ1’、Ｒ2’、Ｙ、ｘ、ｙ及びｚは、上記で定義した通りである。）又はその混合物を含む均一な水性分散液を製造し、ポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸部分エステル及び種結晶の添加によって結晶を形成させ、得られた結晶を分散液から分離し、他の固体粒子形態へ更に加工することを特徴とする、化合物（Ｉ）を本質的に結晶形態で含む固体粒子の更なる加工方法に関する。
【００６０】
本発明の方法の好ましい態様に従って、得られた結晶は、分散液から分離され、粒状物へ転換される。
【００６１】
用語‘‘固体粒子’’はまた、固体凝結体又は凝集物から粒子を形成する場合に圧力が適用された、更に加工された圧縮粒子形態を定義する。
【００６２】
上記で定義したような本発明の方法によって得られ得る本質的に結晶形態で化合物（Ｉ）又はその混合物を含む粒状物等の圧縮製品もまた、本発明の対象物質である。
【００６３】
圧縮粒子形態は、密閉式ミキサー、押出機、例えば一軸又は二軸スクリュー押出機又は遊星形ローラー押出機、又はニーダーのような慣用の機械装置を利用することによって得られる。密閉式ミキサー又は押出機が使用される場合、前記方法は、好ましくは連続法で行われるのに対し、ニーダーにおいては、前記方法は、好ましくは、バッチ法で行われる。その後、得られた乾燥圧縮物（ｃｏｍｐｒｉｍａｔｅ）、例えば、押出物は、慣用の粉砕又はミル技術によって、所望の粒子サイズまで縮小され得る。
【００６４】
用語‘‘圧縮粒子形態’’は、特に、湿式粉砕又は圧縮等の慣用の粉砕方法を適用することによって、粉末又はいかなる他の微細な粒子から形成された更なる加工粒状物に関する。
【００６５】
グラニュール及び関連した凝集物の製造において、多くの方法が知られている。グラニュールは、水等の適当な結合液体の存在下における、適当な攪拌によって、粉末及び他の微細な粒子から形成され得る。グラニュールはまた、圧力を適用することにより、加圧圧縮及び押出法によって粉末から形成され得る。粉末への熱の適用は、焼結及び適当なサイズの凝集物の形成をもたらし得る。表面の乾燥及び凝固はまた、粒状生成物を製造し得る。溶液、懸濁液又は溶融液は、加熱又は冷却された表面に適用され、固体がこすり落とされる。噴霧乾燥において、注入可能でかつ分散可能な供給液は、溶液、ゲル、ペースト、乳濁液、スラリー又は溶融液であり得り、該液は、チャンバ中へ噴霧され、そこで凝固が起こる。チャンバは、可溶化又は乳化液体を蒸発させるために加熱されるか、溶融液を凝固させるために冷却される。
【００６６】
固体粒子形態、又は、二者択一的に、該固体粒子形態が製造されるところの水性分散液、又は上記で定義された圧縮粒子形態は、任意に、更なる添加剤、ポリマー中に使用するために適当ないわゆるブレンド、好ましくは、これらの添加剤を含むポリマーの化学的性質及び物理的性質を改善するために慣用的に使用される添加剤を含む。助剤は、様々な割合で、例えば、組成物の総質量に基づいて、４０．０質量％までの、好ましくは０．０５質量％ないし４０．０質量％の、より好ましくは０．０５質量％ないし２５．０質量％の
、特に好ましくは０．０５質量％ないし１０．０質量％の量で存在し得る。更なる添加剤の適当な群を、例としてここに列挙する：アルキル化モノフェノール、アルキルチオメチルフェノール、ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、トコフェロール、ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、アルキリデンビスフェノール、Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、ヒドロキシベンジル化マロネート、芳香族ヒドロキシベンジル化合物、トリアジン化合物、ベンジルホスホネート、アシルアミノフェノール、β−（３,５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の、β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の、又はβ−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステル及びアミド、アスコルビン酸、アミン酸化防止剤からなる群から選択される抗酸化剤、光安定剤、ホスフィット、ホスフィン、ホスホナイト、ヒドロキシルアミン、ニトロン、チオ相乗剤、過酸化物捕捉剤、ポリアミド安定剤、塩基性補助安定剤、核剤、充填剤及び強化剤、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、均染助剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、静電防止剤、発泡剤、ベンゾフラノン及びインドリノン。
【００６７】
本発明に従って水性分散液中に任意に存在する適当な添加剤は、以下の全てを網羅しない特定の添加剤のリストから選択され得る；
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、線状又は側鎖において分岐したノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００６８】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００６９】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
例えば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００７０】
１．４．トコフェロール、
例えば、α−、β−、γ−又はδ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００７１】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−
チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００７２】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
例えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００７３】
１．７．Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、
例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００７４】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、
例えば、ジオクタデシル２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデシル２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００７５】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００７６】
１．１０．トリアジン化合物、
例えば、２，４−ビスオクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３,５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００７７】
１．１１．ベンジルホスホネート、
例えば、ジメチル２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００７８】
１．１２．アシルアミノフェノール、
例えば、４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００７９】
１．１３．β−（３,５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８０】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８１】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）−オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８２】
１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸のエステルであって、一価又は多価アルコール、例えば、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００８３】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサルアミド（ユニロイヤル社製ナウガードＸＬ−１；登録商標：Ｎａｕｇａｒｄ）。
【００８４】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００８５】
１．１９．アミン酸化防止剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルア
ミノフェノール、ジ−（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ジ［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジフェニルアミノプロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ジ−［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジニ−４−イル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジニ−４−イル）セバケート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン及び２，２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オール。
【００８６】
１．２０．ポリフェノール系抗酸化剤、例えば、ｐ−クレゾール及びジシクロペンタジエンの誘導体、例えば、ウィングステイ  Ｌ（登録商標：ＷＩＮＧＳＴＡＹ  Ｌ）（グッドイヤー）、ＣＡＳ番号６８６１０−５１−５。
【００８７】
２．紫外線吸収剤及び光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’,５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾレ−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシ−フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；Ｒ
が３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を表す［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ2−］2−、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
【００８８】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００８９】
２．３．置換された及び非置換の安息香酸のエステル、
例えば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００９０】
２．４．アクリレート、
例えば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、又はイソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、又はブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（α−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【００９１】
２．５．ニッケル化合物、
例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うか又は伴わない１：１又は１：２錯体のような２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル又はエチルエステル、ケトキシム、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル−ウンデシルケトキシムのニッケル錯体、他の配位子を伴うか又は伴わない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００９２】
２．６．立体障害性アミン、
例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンの線状又は環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラオエート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、
４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状又は環状縮合物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及びまた４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物（ＣＡＳ番号１３６５０４−９６−６）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エーテル、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル���４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
【００９３】
２．７．オキサミド、
例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブチルオキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エチルオキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブチルオキサニリドとの混合物、及び、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００９４】
２．８．  ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−
ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００９５】
３．金属奪活剤、
例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサルアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイル−ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００９６】
４．ホスフィット、ホスフィン及びホスホナイト、
例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、トリメチルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビスイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェ
ニル）エチルホスフィット、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）−ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット。
特に好ましいものは、以下のホスフィットを使用することで与えられる：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス（登録商標：Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８、チバ  スペシャルティ  ケミカルズ）、
トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、及び下記した構造式（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）及び（ｇ）
【化３】
2006507337.tif 000004
を含む群から選択されたホスフィット。
【００９７】
５．ヒドロキシルアミン、
例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンからのＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００９８】
６．ニトロン、
例えば、Ｎ−ベンジルα−フェニルニトロン、Ｎ−エチルα−メチルニトロン、Ｎ−オクチルα−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリルα−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシルα−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシルα−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシルα−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシルα−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシルα−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシルα−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシルα−ヘキサデシルニトロン、及び水素化牛脂アミンから製造されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００９９】
７．チオ相乗剤、
例えば、ジラウリル又はジステアリルチオジプロピオネート。
【０１００】
８．過酸化物捕捉剤、
例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１０１】
９．ポリアミド安定剤
例えば、ヨウ化物及び／又はリン化合物と組み合わせた銅塩及び二価マンガンの塩。
【０１０２】
１０．塩基性補助安定剤
例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレエート、カリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテコレート。
【０１０３】
１１．核剤、
例えば、タルクのような無機物質、二酸化チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、ホスフェート、好ましくは、アルカリ土類金属の炭酸塩又は硫酸塩；モノ−又はポリカルボン酸のような有機化合物及びそれらの塩、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；及びポリマー化合物、例えばイオンコポリマー（アイオノマー）。
【０１０４】
１２．ベンゾフラノン及びインドリノン、
例えば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書又は欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書に記載されるもの、又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４
−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン。
【０１０５】
１３．他の添加剤
例えば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、均染助剤、蛍光増白剤、防炎加工剤、静電防止剤又は発泡剤。
【０１０６】
本発明の特定の態様は、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の新規結晶形態に関する。該新規結晶形態は、１２３℃の融点及び特徴的なＸ線回折パターンを有し、該結晶形態は、米国特許第４，６８３，３２６号明細書に定義されたようなλ−変性物等の他の結晶形態とは明らかに異なり得る。１２３℃の融点は、新規結晶形態と、既知のβ−変性物（融点１１６℃）又はδ−変性物（融点１１８℃）等の他の結晶変性物を区別する。
【０１０７】
ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の新規結晶形態は、Ｘ線粉末回折パターンにおいて、以下の格子面間隔［ｄ−値］及び以下の主線（ＣｕＫ放射線：３５ｋＶ、６０ｍＡ、自動発散スリット、回折ビームモノクロメーター受光スリット：０．２ｍｍ、散乱スリット：１°）の相対線強度
ｄ−間隔［Å］          相対強度
２２．７                  高強度
１９．７                  高強度
１４．９                  中強度
１３．１                  中強度
１１．３                  中強度
９．０                  低強度
８．６                  中強度
７．６                  低強度
７．１                  非常に高強度
６．６                  低強度
５．９４                低強度
５．６３                中強度
５．４５                低強度
５．２６                中強度
５．０６                中強度
４．８２                中強度
４．７４                高強度
４．５８                中強度
４．４３                非常に高強度
４．３０                低強度
４．０９                低強度
３．９３                低強度
３．７５                低強度
を特徴とする。
【０１０８】
ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の新規結晶変性物（μ−形態）は、より正確には、Ｘ線粉末回折パターンにおいて、以下の格子面間隔［ｄ−値］及び、主線及びより弱い線を含めた相対線強度
ｄ−間隔［Å］          相対強度
２２．７                  高強度
１９．７                  高強度
１４．９                  中強度
１３．１                  中強度
１２．４                  非常に低強度
１１．３                  中強度
１０．９                  非常に低強度
９．９                  非常に低強度
９．０                  低強度
８．６                  中強度
７．６                  低強度
７．１                  非常に高強度
６．６                  低強度
６．３                  非常に低強度
５．９４                低強度
５．８１                非常に低強度
５．６３                中強度
５．４５                低強度
５．３５                非常に低強度
５．２６                中強度
５．０６                中強度
４．９３                低強度
４．８２                中強度
４．７４                高強度
４．５８                中強度
４．５２                低強度
４．４３                非常に高強度
４．３０                低強度
４．１３                非常に低強度
４．０９                低強度
３．９３                低強度
３．７５                低強度
３．５９                非常に低強度
３．４２                非常に低強度
３．３３                非常に低強度
３．２５                非常に低強度
３．１６                非常に低強度
３．０６                非常に低強度
を特徴とする。
【０１０９】
新規結晶形態、特に、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の新規結晶変性物（μ−形態）は、他の結晶形態と比較して有利であるこの化合物の好まれる結晶形態である。例えば、上記で定義した固体粒子の製造方法における、ポリオキシエチレンソルビタンの部分エステル、
特にポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエートと組合せた、種結晶としてのペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の結晶変性物（μ−形態）の使用は、速くて完全な結晶化プロセスを保証するため、特に有利である。
【０１１０】
本発明はまた、新規結晶形態、特にペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の結晶変性物（μ−形態）を含む水性分散液に関する。
【０１１１】
本発明の更なる態様は、他の結晶形態との混合物で、新規結晶形態、特にペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の結晶変性物（μ−形態）を含む水性分散液に関する。
【０１１２】
本発明はまた、該結晶形態、特に上記で定義したようなペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の変性物（μ−形態）の製造方法であって、該方法は、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］及びエタノール、イソプロパノール及び２−ブタノールからなる群から選択された低級アルコールを含む均一なアルコール系水性分散液を製造し、ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエート及び種結晶を、９０℃以上の温度において添加することによって結晶を形成させることを特徴とする方法に関する。
【０１１３】
該方法は、エタノール、イソプロパノール及び２−ブタノールからなる群から選択された低級アルコールを含む水性アルコール系分散液中ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］の溶融液又は懸濁液を、９０℃ないし該分散液の沸点の範囲の温度まで加熱する加工工程を含む。該分散液は、強い攪拌によって徹底的に混合される。結晶形態の形成は、先のバッチから得られたμ−変性物の結晶を水性エタノール系溶液に接種することによって速められる。米国特許第４，６８３，３２６号明細書に記載されたようなλ−変性物等の異なる変性物の結晶はまた、μ−変性物の結晶との混合物中にも添加され得る。
【０１１４】
新規結晶形態は、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］結晶を含むバッチを製造するための方法において特に適当である。本発明の方法に従って、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］を含む水性の均一な分散液が製造され、ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエートが添加され、そして該分散液は、他の結晶形態との任意の混合物において、結晶変性物（μ−形態）の結晶を播種される。
【０１１５】
本発明の他の特定の態様は、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の新規結晶形態に関する。該新規結晶形態は特徴的なＸ線回折パターンを有し、該結晶形態は、既知の加工法によりトルエン溶媒から得られ得るα−変性物等の他の結晶形態とは明らかに異なり得る。
【０１１６】
Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］のα−変性物の結晶を得るためのこのような既知の加工方法は、以下のように記載される：
トルエン１５８０ｍＬを、冷却器、アンカー型攪拌機及び移動チューブを備えた５Ｌ二重ジャケット付き反応器へ添加し、１１０℃まで加熱した（攪拌速度  １５０ｒｐｍ）。
トルエン１２００ｍＬ中に溶解したＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］８９０ｇを９０℃で添加した。移動チューブを、トルエン２５０ｍＬで洗浄した。該溶液を８０℃まで加熱した後、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］結晶０．１ｇを種物質として添加した。該溶液を７７℃まで冷却し、６０分間、この温度に保ち続けた。その後、該溶液を２０℃まで冷却し、更に６０分間、この温度に保ち続けた。その結晶懸濁液を濾過し、トルエン３１２０ｍＬで３回洗浄した。白色結晶を、４０ミリバールにおいて、真空中で２４時間乾燥させた。
【０１１７】
Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の結晶変性物（α−形態）は、より正確には、Ｘ線粉末回折パターンにおいて、以下の格子面間隔［ｄ−値］及び、主線及びより弱い線を含めた相対線強度
ｄ−間隔［Å］          相対強度
１６．０                  中強度
１３．８                  非常に低強度
１２．７                  低強度
１０．５                  非常に高強度
８．５                  中強度
８．０                  中強度
７．５                  中強度
６．９                  中強度
６．０                  中強度
６．３                  低強度
６．１                  中強度
５．８３                低強度
５．６０                中強度
５．２５                高強度
４．９９                高強度
４．７１                高強度
４．６０                高強度
４．３７                高強度
４．２３                中強度
４．０３                低強度
３．８５                低強度
３．７５                非常に低強度
３．６３                非常に低強度
３．５４                低強度
３．４９                中強度
３．３８                非常に低強度
３．２９                低強度
３．２５                低強度
３．１８                非常に低強度
３．１３                非常に低強度
３．０４                低強度
を特徴とする。
【０１１８】
Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の新規結晶形態は、Ｘ線粉末回折パターンにおい
て、格子面間隔［ｄ−値］及び、以下の主線（ＣｕＫ放射線：３５ｋＶ、６０ｍＡ、自動発散スリット、回折ビームモノクロメーター受光スリット：０．２ｍｍ、散乱スリット：１°）の相対線強度
ｄ−間隔［Å］          相対強度
７．３                  中強度
５．１３                高強度
４．８８                中強度
３．９２                低強度
を特徴とする。
【０１１９】
Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の新規結晶形態は、より正確には、Ｘ線粉末回折パターンにおいて、以下の格子面間隔［ｄ−値］及び、主線及びより弱い線を含めた相対線強度
ｄ−間隔［Å］          相対強度
１１．１                  低強度
１０．３                  中強度
７．９                  中強度
７．３                  中強度
５．１３                高強度
５．０６                高強度
４．８８                中強度
３．９２                低強度
を特徴とする。
【０１２０】
Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の新規結晶変性物（β−形態）は、より正確には、Ｘ線粉末回折パターンにおいて、以下の格子面間隔［ｄ−値］及び、主線及びより弱い線を含めた相対線強度
ｄ−間隔［Å］          相対強度
１６．０                  非常に低強度
１３．６                  非常に低強度
１２．７                  非常に低強度
１１．１                  低強度
１０．５                  中強度
１０．３                  中強度
９．１                  非常に低強度
８．５                  低強度
８．０                  中強度
７．９                  中強度
７．５                  中強度
７．３                  中強度
７．１                  中強度
６．８                  低強度
６．４                  低強度
６．２                  中強度
６．１                  中強度
５．９４                低強度
５．８３                非常に低強度
５．５８                中強度
５．２４                中強度
５．１３                高強度
５．０６                高強度
４．９８                中強度
４．８８                中強度
４．７１                中強度
４．５９                高強度
４．５４                高強度
４．３８                高強度
４．２４                中強度
４．１３                中強度
３．９２                低強度
３．８５                低強度
３．７０                非常に低強度
３．５３                低強度
３．３８                非常に低強度
３．２９                非常に低強度
３．０５                非常に低強度
を特徴とする。
【０１２１】
新規結晶形態、特に、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の新規結晶変性物（β−形態）は、他の結晶形態と比較して有利であるこの化合物の好まれる結晶形態である。例えば、上記で定義した固体粒子の製造方法における、ポリオキシエチレンソルビタンの部分エステル、特にポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエートと組合せた、種結晶としてのＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の結晶変性物（β−形態）の使用は、速くて完全な結晶化プロセスを保証するため、特に有利である。
【０１２２】
本発明はまた、新規結晶形態、特にＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の結晶変性物（β−形態）を含む水性分散液に関する。
【０１２３】
本発明の更なる態様は、他の結晶形態との混合物で、新規結晶形態、特にＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の結晶変性物（β−形態）を含む水性分散液に関する。
【０１２４】
本発明はまた、該結晶形態、特に上記で定義したようなＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］の結晶変性物（β−形態）の製造方法であって、該方法は、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］及び所望によりエタノール、イソプロパノール及び２−ブタノールからなる群から選択された低級アルコールを含む均一な水性又はアルコール系水性分散液を製造し、ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエート及び種結晶を７５℃以上の温度において添加することによって結晶を形成させることを特徴とする方法に関する。
【０１２５】
該方法は、水、又はエタノール、イソプロパノール及び２−ブタノールからなる群から選択された低級アルコールを含む水性アルコール系溶液中Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミ
ド）］（β−形態）の溶融液又は懸濁液を、７５℃ないし該分散液の沸点の範囲の、好ましくは７５℃ないし９０℃の範囲の温度まで加熱する加工工程を含む。該分散液は、強い攪拌によって徹底的に混合される。結晶形態の形成は、先のバッチから得られたβ−変性物の結晶を水性エタノール系溶液に接種することによって速められる。
【０１２６】
新規結晶形態は、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］結晶を含むバッチを製造するための方法において特に適当である。本発明の方法に従って、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］（β−形態）を含む水性の均一な分散液が製造され、ポリオキシエチレン−（２０又は５）−ソルビタンモノオレエートが添加され、そして該分散液は、他の結晶形態との任意の混合物において、結晶変性物（β−形態）の結晶を播種される。
【０１２７】
本発明の更なる態様は、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］（μ−形態）及び／又はＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］（β−形態）の結晶変性物を含む上記で定義した水性分散液の更なる加工に関する。該分散液は、有機材料、とりわけポリマー、特にスチレン（コ）ポリマー、例えば、ポリスチレン、ＡＢＳ（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン）、ＩＰＳ（耐衝撃性ポリスチレン、ポリブタジエン上へのスチレンのグラフトコポリマー）、ＭＢＳ（メタクリロニトリル−ブタジエン−スチレン）及びＳＢＳ（スチレン−ブタジエン−スチレン）を安定化するために特に適当である。本発明の他の態様は、
ａ’）ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］（μ−形態）及び／又はＮ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイル−ビス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］（β−形態）の結晶変性物を含む上記で定義した水性分散液及び、任意の更なる添加剤；
ｂ’）酸化、熱又は光誘発分解に対して安定化されるポリマー材料
を含むポリマー組成物に関する。
【０１２８】
ポリマー材料への配合は、例えば、組成物及び、所望による、既知の方法に従った更なる添加剤中に混合することによって行われ得る。ポリマー状材料中への配合は、成形操作の前又は間に、もしくは組成物をポリマーへ適用し、その後、必要に応じて、溶媒を蒸発させることによって行われ得る。エラストマーの場合、これらはラテックスとしても安定化され得る。従って、本発明は、特に、上記で定義された分散液が、エラストマー／ポリマー中へ配合された、及び／又は、エラストマー／ポリマーと化学的に結合した組成物に関する。
【０１２９】
水性分散液はまた、安定化されるポリマー材料に対し、例えば、２．５ないし２５．０質量％の濃度で、上記で定義した個々の成分を含むマスターバッチの形態でも添加され得る。
【０１３０】
上記で定義した分散液は、以下の方法によってポリマー中へ配合され得る：
・エマルジョン又は分散液として（例えば、ラテックス又はエマルジョンポリマーに対して）；
・更なる成分又はポリマー混合物の混合中にドライブレンドとして；
・加工装置への直接添加によって（例えば、押出機、密閉式ミキサー等）；
・溶液又は溶融液として。
【０１３１】
従って、本発明はまた、酸化、熱又は光誘発分解に対して安定化されるポリマー材料中
に、上記で定義した水性分散液を配合することからなる、ポリマー組成物の製造方法にも関する。
【０１３２】
ポリマー組成物は、様々な形態で使用され、様々な製品を製造するために、例えば、フィルム、繊維、テープ、成形コンパウンド又は異形材として、又はコーティング材料のための結合剤、接着剤又はパテとして加工され得る。以下の実施例で本発明を説明する。
【０１３３】
実施例
実施例１
１．１  標準方法
固体粒子の製造方法は、エカト  インターミグ  攪拌機（Ｅｋａｔｏ  Ｉｎｔｅｒｍｉｇ  ｓｔｉｒｒｅｒ）、溶融液のための注入口及び温度計を備えた３Ｌ二重ジャケット付き反応器中で行った。溶融液は、アンカー型攪拌機を備え、かつガラス管を通して他の反応器と連結した１Ｌ二重ジャケット付き反応器中で製造した。溶融液の製造及び固体粒子の製造の両工程は、窒素雰囲気下で行った。
水（溶融液に基づき２００質量％）、界面活性剤トウィーン８０及び１バッチの種結晶を３Ｌ反応器中で混合し、固体粒子を形成する温度まで加熱した。溶融液を３００ないし３６０ｇ／時間の速度で添加し、温度を指示した温度で維持した。その後、形成された懸濁液を更に３０分間攪拌した。５０℃まで冷却した後、グラニュールを濾去し、水で洗浄した。続いて、粒子を真空中で乾燥させた。
【０１３４】
１．２  標準方法を適用し、イルガノックス１０９８  ９００ｇの溶融液を、トウィーン８０  ４．５ｇ（０．５％）及びイルガノックス１０９８種結晶７０ｇ（７．８％）を含む水１８００ｇへ９５℃で添加することによって固体粒子を得た。溶融液の温度は１８０℃であった。
【０１３５】
１．３  標準方法を適用し、イルガノックス１０１０  ２９７ｇ及びイルガフォス１６８  ６０３ｇ（＝イルガノックスＢ２１５  ９００ｇ）の溶融液を、イルガノックスＢ２１５種結晶７０ｇ（７．８％）及びトウィーン８０  ４．５ｇ（０．５％）を含む水相へ添加することによって、固体粒子のイルガノックス１０１０とイルガフォス１６８の混合物を得た。
【０１３６】
１．４  標準方法を適用し、溶融液９００ｇを、イルガノックス１０１０種結晶７０ｇ（７．８％）及びトウィーン８０  ２．０ｇを含む水相へ添加することによって、固体粒子のイルガノックス１０１０を得た。
【０１３７】
１．５  標準方法を適用し、イルガノックス１０１０  ３００ｇの溶融液を、トウィーン８０  １．５ｇ（０．５％）及びμ−結晶形態のイルガノックス１０１０種結晶１５ｇ（５．０％）を含む水５４０ｇ及びエタノール６０ｇの混合物へ９０℃で添加することによって、μ−結晶形態の固体粒子を得た。該溶融液の温度は１４０℃であった。
【０１３８】
１．６  標準方法を適用し、イルガノックス１０１０  ３００ｇの溶融液を、トウィーン８０  １．５ｇ（０．５％）及びμ−結晶形態のイルガノックス１０１０種結晶１５ｇ（５．０％）を含む水６００ｇ及び２−プロパノール６０ｇの混合物へ９０℃で添加することによって、μ−結晶形態の固体粒子を得た。該溶融液の温度は１４０℃であった。
【０１３９】
１．７  標準方法を適用し、イルガノックス１０１０  ３００ｇの溶融液を、トウィーン８０  ０．５ｇ（０．１６％）及びμ−結晶形態のイルガノックス１０１０種結晶３．８ｇ（１．３％）を含む水６００ｇ及び２−ブタノール６０ｇの混合物へ９０℃で添加することによって、μ−結晶形態の固体粒子を得た。該溶融液の温度は１４０℃であった。
【０１４０】
１．７  標準方法を適用し、イルガノックス１０９８  ９００ｇの溶融液を、トウィーン８０  ０．９ｇ（０．１％）及びイルガノックス１０９８種結晶７０ｇ（７．８％）を含む水１８００ｇへ９５℃で添加することによって、β−形態の固体粒子を得た。該溶融液の温度は１８０℃であった。
【０１４１】
実施例２
水９１７ｇ、トウィーン８０  ３ｇ及び１バッチのイルガノックス１０１０の種結晶（５０μ）８０ｇを３Ｌ反応器中で混合し、９０℃まで加熱した。好ましくは球形状の、非晶質のイルガノックス１０１０  ２００ｇを添加した。その後、形成された懸濁液を、９０℃及び１９０ｒｐｍで１時間攪拌した。室温まで冷却した後、結晶を濾去し、水で洗浄した。続いて、結晶を真空中で乾燥させた。
【国際調査報告】
2006507337.tif 000007
2006507337.tif 000008
2006507337.tif 000009
2006507337.tif 000010