(57)【要約】そのα−炭素原子上に２個の水素原子を有し、β−不斉炭素原子を有する光学活性ニトロ化合物は、そのα−炭素原子上に水素原子を有するα，β−不飽和ニトロオレフィンを、分子中に少なくとも１個のケイ素−水素結合を有する有機ケイ素化合物の少なくとも２種と、不斉銅錯体の存在下に反応させることにより、あるいは、分子中に少なくとも１個のケイ素−水素結合を有する有機ケイ素化合物と、不斉銅錯体及び水の存在下に反応させることにより製造することができる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
そのα−炭素原子上に水素原子を有するα，β−不飽和ニトロオレフィンを、分子中に少なくとも１個のケイ素−水素結合を有する有機ケイ素化合物の少なくとも２種と、不斉銅錯体の存在下に反応させることを含む、そのα−炭素原子上に２個の水素原子を有し、β−不斉炭素原子を有する光学活性ニトロ化合物の製造方法。
【請求項２】
有機ケイ素化合物が、ポリ（メチルヒドロシロキサン）と、フェニルシラン、ジフェニルシラン及びジメチルフェニルシランから選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
不斉銅錯体が、少なくとも１個の光学活性２座ホスフィン配位子を有する請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
ニトロ化合物が、式（１）
2006524189.tif 000007
（式中、Ｒ１及びＲ２は相異なり、Ｒ１及びＲ２はそれぞれに、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいＣ３〜Ｃ１０シクロアルキル基、置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１４アリール基または置換されていてもよいヘテロ環基を表し；該へテロ環基は、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、チエニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、キノリル基、キナゾリニル基、ジヒドロピリジル基、テトラヒドロフラニル基及びピペリジル基であり；アルキル基、シクロアルキル基、アリール基及びヘテロ環基の置換基は、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、イソシアノ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６〜１４アリール基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルカルボニル基、Ｃ６〜Ｃ１４ハロアリール基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルカルボニルオキシ基、ベンジルオキシ基、ハロベンジルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ６〜Ｃ１４アリールスルホニルオキシ基、Ｃ６〜Ｃ１４ハロアリールスルホニルオキシ基、テトラヒドロフラニルオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基、アミノ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルカルボニルアミノ基、トリフルオロアセトアミノ基、Ｃ６〜Ｃ１４アリールカルボニルアミノ基、ハロベンゾイルアミノ基、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ハロピリジル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルピリジル基及びＣ１〜Ｃ１０アルキルフリル基から選ばれる１種またはそれ以上であり；そして、＊は不斉炭素を示す。）
の化合物であり、そして、
α，β−不飽和ニトロオレフィンが、式（２）
2006524189.tif 000008
（Ｒ１及びＲ２は前記と同義を有する。）
の化合物である請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
そのα−炭素原子上に水素原子を有するα，β−不飽和ニトロオレフィンを、分子中に少なくとも１個のケイ素−水素結合を有する有機ケイ素化合物と、不斉銅錯体及び水の存在下に反応させることを含む、そのα−炭素原子上に２個の水素原子を有し、β−不斉炭素原子を有する光学活性ニトロ化合物の製造方法。
【請求項６】
不斉銅錯体が、少なくとも１個の光学活性２座ホスフィン配位子を有する請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ニトロ化合物が、式（１）
2006524189.tif 000009
（式中、Ｒ１及びＲ２は相異なり、Ｒ１及びＲ２はそれぞれに、置換されていてもよいＣ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいＣ３〜Ｃ１０シクロアルキル基、置換されていてもよいＣ６〜Ｃ１４アリール基または置換されていてもよいヘテロ環基を表し；該へテロ環基は、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、チエニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、キノリル基、キナゾリニル基、ジヒドロピリジル基、テトラヒドロフラニル基及びピペリジル基であり；アルキル基、シクロアルキル基、アリール基及びヘテロ環基の置換基は、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、イソシアノ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６〜１４アリール基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルカルボニル基、Ｃ６〜Ｃ１４ハロアリール基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルカルボニルオキシ基、ベンジルオキシ基、ハロベンジルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ６〜Ｃ１４アリールスルホニルオキシ基、Ｃ６〜Ｃ１４ハロアリールスルホニルオキシ基、テトラヒドロフラニルオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基、アミノ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルカルボニルアミノ基、トリフルオロアセトアミノ基、Ｃ６〜Ｃ１４アリールカルボニルアミノ基、ハロベンゾイルアミノ基、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ハロピリジル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルピリジル基及びＣ１〜Ｃ１０アルキルフリル基から選ばれる１種またはそれ以上であり；そして、＊は不斉炭素を示す。）
の化合物であり、そして、
α，β−不飽和ニトロオレフィンが、式（２）
2006524189.tif 000010
（Ｒ１及びＲ２は前記と同義を有する。）
の化合物である請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の方法により得られるニトロ化合物を還元することを含む光学活性アミノ化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学活性ニトロ化合物および光学活性アミノ化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学活性ニトロ化合物や光学活性アミノ化合物は、精密化学品、医薬品、農薬等の合成中間体として有用である。
【０００３】
USP-6,456,664には、オレフィンを不斉銅錯体の存在下にケイ素化合物と還元することによる電子吸引基を有する光学活性化合物の合成方法が開示されている。そのような電子吸引基には通常ニトロ基が含まれるが、前記方法は、ニトロ化合物に適用した場合には不満足な収率しか与えない。さらに異性化の副反応を起こす。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、そのα−炭素原子上に水素原子を有するα，β−不飽和ニトロオレフィンを、分子中に少なくとも１個のケイ素−水素結合を有する少なくとも２種の有機ケイ素化合物と、不斉銅錯体の存在下に反応させることを含む、そのα炭素原子上に２個の水素原子を有し、β−不斉炭素を有する光学活性ニトロ化合物の製造方法を提供する。
更に本発明は、そのα−炭素原子上に水素原子を有するα，β−不飽和ニトロオレフィンを、分子中に少なくとも１個のケイ素−水素結合を有する有機ケイ素化合物と、不斉銅錯体及び水の存在下に反応させることを含む、そのα炭素原子上に２個の水素原子を有し、β−不斉炭素を有する光学活性ニトロ化合物の製造方法を提供する。
【０００５】
また更に本発明は、前記方法により得られるニトロ化合物を還元することを含む光学活性アミノ化合物の製造方法をも提供する。
【０００６】
そのα炭素原子上に２個の水素原子を有し、β−不斉炭素を有する光学活性ニトロ化合物は式
2006524189.tif 000002
（式中、ＲａおよびＲｂは相異なって、ニトロ化合物の還元に対し不活性な有機基を表し、＊は不斉炭素を意味する。）
によって示される。
【０００７】
式
2006524189.tif 000003
（Ｒａ及びＲｂは前記と同じ意味を有する。）
のα−炭素原子上に水素原子を有するα，β−不飽和ニトロオレフィンは本発明に利用される。
該光学活性ニトロ化合物の代表的化合物は、式（１）
2006524189.tif 000004
（式中、Ｒ１及びＲ２は相異なり、そしてＲ１及びＲ２はそれぞれに、置換されていても良いＣ１−Ｃ１０アルキル基、置換されていても良いＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基、置換されていても良いＣ６−Ｃ１４アリール基または置換されていても良いヘテロ環基を表し；該へテロ環基はピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、チエニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、キノリル基、キナゾリニル基、ジヒドロピリジル基、テトラヒドロフルフリル基及びピペリジル基であり；アルキル基、シクロアルキル基、アリール基およびヘテロ環基の置換基は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、イソシアノ基、Ｃ１−Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６−Ｃ１４アリール基、Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニル基、Ｃ６−Ｃ１４  ハロアリール基、Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニルオキシ基、ベンジルオキシ基、ハロベンジルオキシ基、Ｃ１−Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ６−Ｃ１４アリールスルホニルオキシ基、Ｃ６−Ｃ１４ハロアリールスルホニルオキシ基、テトラヒドロフラニルオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基、アミノ基、Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニルアミノ基、トリフルオロアセトアミノ基、Ｃ６−Ｃ１４アリールカルボニルアミノ基、ハロベンゾイルアミノ基、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ハロピリジル基、Ｃ１−Ｃ１０アルキルピリジル基及びＣ１−Ｃ１０アルキルフリル基から選ばれる１種またはそれ以上であり；そして、＊は不斉炭素を示す。）
で表され、
そのα−炭素原子上に水素原子を有するα，β−不飽和ニトロオレフィンの代表的化合物は式（２）
2006524189.tif 000005
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記と同じ意味を有する。）
で表される。
置換されていても良いＣ１−Ｃ１０アルキル基、Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニル基、Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニルアミノ基、Ｃ１−Ｃ１０アルキルピリジル基およびＣ１−Ｃ１０アルキルフリル基のためのＣ１−Ｃ１０アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル及びヘキシルが含まれる。
置換されていても良いＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基のためのＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基及び置換基としてのＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基およびシクロオクチル基が含まれる。
置換されていても良いＣ６−Ｃ１４アリール基，置換基としてのＣ６−Ｃ１４アリール基、Ｃ６−Ｃ１４アリールスルホニルオキシ基及びＣ６−Ｃ１４アリールカルボニルアミノ基のためのＣ６−Ｃ１４アリール基としては、フェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、１−ナフチル及び２−ナフチルが含まれる。
ヘテロ環基としては、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、２−フリル基、３−フリル基、２−チエニル基、３−チエニル基、１−ピラゾリル基、３−ピラゾリル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル基、２−オキサゾリル基、２−チアゾリル基、２−キノリル基、８−キノリル基、２−キナゾリニル基、１，４−ジヒドロ−２−ピリジル基、テトラヒドロフルフリル基及び２−ピペリジル基が含まれ、これらは置換されていても良い。
アルキル、シクロアルキル、アリール及びヘテロ環基の置換基を以下に詳細に説明する。
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が含まれ、Ｃ１−Ｃ１０アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ及びブトキシが含まれ、Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニル基としては、アセチル及びプロピオニルが含まれる。Ｃ６−Ｃ１４ハロアリール基とは、１個以上のハロゲン原子で置換されたＣ６−Ｃ１４アリール基を意味し、代表的な例としては、４−クロロフェニル、３−フルオロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、２，６−ジクロロフェニル及び４−トリフルオロメチルフェニルが含まれる。Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニルオキシ基としては、アセトキシ及びプロピオニルオキシが含まれる。ハロベンジルオキシ基とは、１個以上のハロゲン原子で置換されたベンジルオキシ基を意味し、代表的な例としては、４−クロロベンジルオキシ及び３−フルオロベンジルオキシが含まれ、Ｃ１−Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基としては、メタンスルホニルオキシ及びエタンスルホニルオキシが含まれ、Ｃ６−Ｃ１４アリールスルホニルオキシ基としては、ベンゼンスルホニルオキシ、４−メチルベンゼンスルホニルオキシ及びナフタレンスルホニルオキシが含まれる。Ｃ６−Ｃ１４ハロアリールスルホニルオキシ基とは、１個以上のハロゲン原子で置換されたＣ６−Ｃ１４アリールスルホニルオキシ基を意味し、その代表例として、４−クロロベンゼンスルホニルオキシ及び４−ブロモベンゼンスルホニルオキシが含まれる。Ｃ１−Ｃ１０アルキルカルボニルアミノ基としては、アセトアミノ及びプロピオンアミノが含まれ、Ｃ６−Ｃ１４アリールカルボニルアミノ基としては、ベンゾイルアミノ、４−メチルベンゾイルアミノ及びナフトイルアミノが含まれる。ハロベンゾイルアミノ基とは、１個以上のハロゲン原子で置換されたベンゾイルアミノ基を意味し、代表的な例としては、４−クロロベンゾイルアミノ及び３−フルオロベンゾイルアミノが含まれる。ピリジル基としては、２−ピリジル、３−ピリジル及び４−ピリジルが含まれ、ピリミジニル基としては、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル及び５−ピリミジニルが含まれ、フリル基としては、２−フリル及び３−フリルが含まれ、チエニル基としては、２−チエニル、３−チエニルが含まれ、イミダゾリル基としては、１−イミダゾリル、２−イミダゾリル及び４−イミダゾリルが含まれる。ハロピリジル基とは１個以上のハロゲン原子で置換されたピリジル基を意味し、その代表的な例としては、５−クロロピリジン−２−イル、３，５−ジクロロピリジン−２−イル及び５−ブロモピリジン−３−イルが含まれる。Ｃ１−Ｃ１０アルキルピリジル基としては、５−メチルピリジン−２−イルおよび６−メチルピリジン−２−イルが含まれ、Ｃ１−Ｃ１０アルキルフリル基としては、５−メチル−２−フリル及び３−メチル−２−フリルが含まれる。
Ｒ１及びＲ２のための置換されていてもよいＣ１−Ｃ１０アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、クロロメチル、トリフルオロメチル、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル、シアノメチル、イソシアノメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、ベンジル、フェネチル、４−メチルベンジル、アセトニル、３，３−ジメチル−２−オキソ−ブチル、４−クロロベンジル、２，６−ジクロロベンジル、４−トリフルオロメチルベンジル、アセトキシメチル、ベンジルオキシメチル、４−クロロベンジルオキシメチル、２，４−ジクロロベンジルオキシメチル、メタンスルホニルオキシメチル、ベンゼンスルホニルオキシメチル、４−メチルベンゼンスルホニルオキシメチル、４−クロロベンゼンスルホニルオキシメチル、テトラヒドロフラニルオキシメチル、テトラヒドロピラニルオキシメチル、アミノメチル、アセトアミノメチル、トリフルオロアセトアミノメチル、ベンゾイルアミノメチル、４−クロロベンゾイルアミノメチル、ベンゾイルオキシカルボニルアミノメチル、ピリジン−２−イルメチル、ピリミジン−２−イルメチル、フルフリル、チオフェン−２−イルメチル、イミダゾール−１−イルメチル、５−クロロピリジン−２−イルメチル、６−メチルピリジン−２−イルメチル及び５−メチルフルフリルが含まれる。
Ｒ１及びＲ２のための置換されていても良いＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロオクチル、２，２−ジクロロシクロプロピル、４−クロロシクロヘキシル、２，２−ジシアノシクロプロピル、４−シアノシクロヘキシル及び４−イソシアノシクロヘキシルが含まれる。
Ｒ１及びＲ２のための置換されていても良いＣ６−Ｃ１４アリール基としては、フェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、４−クロロフェニル、３−フルオロフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、４−ヒドロキシフェニル、４−シアノフェニル、４−イソシアノフェニル、４−メトキシフェニル、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル、４−フェニルフェニル、４−アセチルフェニル、４−アミノフェニル及び４−アセトアミノフェニルが含まれる。
【０００８】
Ｒ１及びＲ２のための置換されていても良いヘテロ環基としては、 ２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、２−フリル、３−フリル、２−チエニル、３−チエニル、１−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−クロロピリジン−２−イル、３，５−ジクロロピリジン−２−イル、５−ブロモピリジン−３−イル、５−メチルピリジン−２−イル、６−メチルピリジン−２−イル、４−シアノピリジン−２−イル、２−キノリル、８−キノリル、２−キナゾリニル、５−メチル−２−フリル及び３−メチル−２−フリルが含まれる。
本発明の反応に用いられるα−炭素原子上に水素原子を有するα，β−不飽和ニトロオレフィンは、ニトロメタンとケトンとの反応（ニトロ−アルドール反応、ヘンリー反応）と、その後必要により得られるニトロアルコール化合物の脱水により、あるいは、オレフィンと四酸化二窒素との反応とその後の脱離反応により製造することができる。ニトロオレフィンの製造は良く知られており、Ｎ．Ｏｎｏ，「Ｔｈｅ  Ｎｉｔｒｏ  Ｇｒｏｕｐ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」，Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，２００１,ｐ．３０−４４、および、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１０１７−１０１８（１９８２）を含む多数の文献に引用されている。
（Ｅ）−及び（Ｚ）−ニトロオレフィンの両方が本発明に利用できる。
【０００９】
本発明に使用される不斉銅錯体は、銅塩と光学活性な配位子前駆体により調製できる。
【００１０】
銅塩としては、銅Ｃ１−Ｃ６アルコキシド（例：銅ｔｅｒｔ−ブトキシド）等の銅アルコキシド、Ｃ２−Ｃ６カルボン酸銅（例：酢酸銅）及びトリフルオロ酢酸銅等のカルボン酸銅、スルホン酸銅（例：トリフルオロメタンスルホン酸銅）塩化銅、臭化銅等のハロゲン化銅、硫酸銅、テトラフルオロホウ酸銅、トリフルオロメタンスルホンアミド銅及びリン酸銅が含まれる。第一銅  （Ｃｕ（Ｉ））塩及び第二銅（Ｃｕ（ＩＩ））塩のいずれも銅塩として利用できるが、第一銅塩が好ましい。更に、第一銅アルコキシド、特に第一銅ｔｅｒｔ−ブトキシドが好ましい。第一銅アルコキシドはハロゲン化第一銅のナトリウムアルコキシドとの反応により調製され、反応に供される。
【００１１】
光学活性な配位子前駆体としては、光学活性２，２'−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１'−ビナフチル（光学活性ＢＩＮＡＰ）、光学活性６，６'−ジメチル−２，２'−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１'−ビフェニル（光学活性ＢＩＰＨＥＭＳ）、光学活性２，２'−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１'−ビナフチル（光学活性ｐ−ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ）、光学活性Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−４−（ジフェニルホスフィノ）−２−［（ジフェニルホスフィノ）メチル］ピロリジン（光学活性ＢＰＰＭ）、光学活性２，３−ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン（光学活性ＤＩＯＰ）、光学活性２，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン（光学活性ＣＨＩＲＡＰＨＯＳ）、光学活性２，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン（光学活性ＢＤＰＰ）、光学活性５，６−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２−ノルボルネン（光学活性ＮＯＲＰＨＯＳ）、光学活性１−［１'，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアルコール（光学活性ＢＰＰＦＯＨ）、光学活性１，２−ビス（２，５−ジエチルホスフォラノ）エタン（光学活性Ｅｔ−ＢＰＥ）、光学活性１，２−ビス（２，５−ジメチルホスフォラノ）ベンゼン（光学活性Ｍｅ−ＤＵＰＨＯＳ）、光学活性１−［２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジシクロヘキシルホスフィン（光学活性ＪＯＳＩＰＨＯＳ）、光学活性６，６'−ジメトキシビフェニル−２，２'−ジイルビス［ジ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィン］（光学活性３，５−ｔＢｕ−ＭｅＯ−ＢＩＰＨＥＰ）、光学活性６，６'−ジメトキシビフェニル−２，２'−ジイルビス［ジ（２−フリル）ホスフィン］（光学活性２−Ｆｕｒｙｌ−ＭｅＯ−ＢＩＰＨＥＰ）及び光学活性１−［２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）フェロセニル］エチルジシクロヘキシルホスフィン等の光学活性リン−リン配位子（二座ホスフィン配位子）；光学活性メチルα−グルコピラノシド−２，６−ジベンゾエート−３，４−ジ［ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィナイト］、光学活性１，２−シクロヘキシルジアミノ−Ｎ，Ｎ'−ビス（２−ジフェニルホスファニルベンズアミド）及び光学活性２−（２−ジフェニルホスファニルフェロセニル）−４−イソプロピル４，５−ジヒドロオキサゾール等の光学活性リン−窒素配位子（二座ホスフィナイト配位子）；ジフェニル−２−（２'−フェニルスルフェニル−［１，１'］−ビナフタレン−２−イル）ホスファン及び光学活性２−（１−メチルスルフェニルエチル）−１−（ジフェニルホスファニル）フェロセン等の光学活性リン−イオウ配位子；光学活性２，２'−イソプロピリデン−ビス（４−ベンジル−２−オキサゾリン）、光学活性ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−４，５−ジヒドロオキサゾール−２−イル）フェニルアミン，  光学活性４，４'−ジベンジル−４，５，４'，５'−テトラヒドロ−［２，２'］−ビオキサゾリル、光学活性（４−フェニル−４，５−ジヒドロオキサゾール−２−イル）−［４−フェニルオキサゾリジン−（２Ｅ）−イリデン］アセトニトリル及び光学活性２，６−ビス（４−イソプロピル−２−オキサゾリン−２−イル）ピリジン等の光学活性窒素−窒素配位子； 及び光学活性２−［（３Ｎ−メチルイミダゾール−1−イル）メチル］−1−トリメチルシリルフェロセン等の光学活性カルベン配位子が含まれる。中でも光学活性二座ホスフィン配位子が好ましく用いられる。更に、光学活性ｐ−ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ、光学活性ＪＯＳＩＰＨＯＳ及び光学活性３，５−ｔＢｕ−ＭｅＯ−ＢＩＰＨＥＰが更に好ましい。
光学活性配位子前駆体は光学異性体を有し、例えば光学活性ｐ−ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰは、（Ｓ）−ｐ−ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰと（Ｒ）−ｐ−ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰの二つの光学異性体を有する。それぞれの光学活性配位子前駆体は、目的とするα−炭素上に２個の水素原子を有し、β−不斉炭素原子を有する光学活性ニトロ化合物のために使用できる。
これらの光学活性配位子前駆体は、市場で入手可能であり、また、Ｒ．Ｎｏｙｏｒｉ，Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ（１９９４），Ｃｈａｐｔｅｒ２、Ｉ．Ｏｊｉｍａ，Ｃａｔａｌｙｔｉｃ  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，ＶＣＨ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ（１９９３），Ｃｈａｐｔｅｒ１、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１６，４０６２−４０６６（１９９４）等に記載の公知の方法より製造される。
不斉銅錯体は通常、銅塩を光学活性配位子前駆体と、芳香族炭化水素（例えばトルエン、キシレン）等の不活性溶媒中で混合することにより調製される。調製において、光学活性配位子前駆体の量は、銅塩に対して、通常等モル倍以上である。配位子前駆体が多すぎるのは、経済的な理由により有利でない。従って、配位子前駆体の量は１モル部の銅塩に対し、通常、１〜２モル部、好ましくは１〜１．５モル部である。
【００１２】
溶媒中での光学活性配位子前駆体及び銅塩の混合物はそのまま使用することができ、または該混合物は濃縮し、次いで本発明の反応に供される。さらに、不斉銅錯体は、光学活性配位子前駆体と銅塩とを別々に添加することにより、そのα−炭素原子上に水素原子を有するα，β−不飽和ニトロオレフィンの反応容器中に形成しても良い。
【００１３】
不斉銅錯体の量は、銅塩の量に基いて、ニトロオレフィンの１モル部に対し、通常、０．０００１〜０．５モル部、好ましくは０．０００５〜０．３モル部である。
本発明の反応に使用される、その分子中に少なくとも１個のケイ素−水素結合を有する有機ケイ素化合物としては、ポリ（メチルヒドロシロキサン）、末端水素化ポリ（ジメチルシロキサン）、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、トリス（ジメチルシリルオキシ）メチルシラン、トリス（トリメチルシリルオキシ）シラン、テトラキス（ジメチルシリルオキシ）シラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、フェニルシラン、メチルフェニルシラン、ジフェニルシラン、ジフェニルメチルシラン、トリフェニルシラン、ジメチルフェニルシラン、１，２−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン及び１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼンが含まれる。
【００１４】
本発明の第一の方法によれば、そのα−炭素原子上に２個の水素原子を有し、β−不斉炭素原子を有する光学活性ニトロ化合物は、そのα−炭素原子上に水素原子を有するα，β−不飽和ニトロオレフィンを、分子中に少なくとも１個のケイ素−水素結合を有する有機ケイ素化合物の少なくとも２種と、不斉銅錯体の存在下に反応させることにより製造することができる。
【００１５】
光学活性ニトロ化合物、ニトロオレフィン、有機ケイ素化合物及び不斉銅錯体は前記している。
【００１６】
この方法において、２種以上の有機ケイ素化合物が利用される。代表的な組み合わせは、ポリ（メチルヒドロシロキサン）及び、フェニルシラン、ジフェニルシラン及びジメチルフェニルシランからなる群から選ばれる少なくとも１種である。その場合、ポリ（メチルヒドロシロキサン）対フェニルシラン、ジフェニルシラン及びジメチルフェニルシランの混合モル比率は、通常、１対０．１〜５０であり、好ましくは１対０．３〜２５である。
【００１７】
反応は通常、−７８〜１００℃で行われ、好ましくは０〜５０℃で行われる。反応時間は、通常、０．５〜５０時間である。反応に使用される有機ケイ素化合物の合計量はニトロオレフィン１モル部に対し、通常、１〜１０モル部である。
【００１８】
反応は通常、不活性溶媒中で行われる。反応のための溶媒としては、トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル及びテトラヒドロフラン等のエーテル；ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素；ジクロロメタン、クロロホルム及びクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；酢酸エチル等のエステル；アセトニトリル等のニトリル；アセトン等のケトン；水ならびにそれらの混合物が含まれる。溶媒は、窒素及びアルゴンなどの不活性気体により酸素や空気の脱気を行っても良い。
【００１９】
反応後、通常の後処理により目的とする光学活性ニトロ化合物が得られる。反応混合物は、一般的にはテトラブチルアンモニウムフルオリド水溶液と混合し、必要に応じて親油性有機溶媒を加え、有機溶媒で抽出し、有機層を濃縮処理して、ニトロ化合物を取り出すことができる。有機溶媒としては、トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素；ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素；ジクロロメタン、クロロホルム及びクロロベンゼン及びジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；及びジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルテトラヒドロフラン等のエーテルが含まれる。分離したニトロ化合物は、例えば蒸留、再結晶等の通常の手段により精製してもよい。目的とする化合物が、ニトロ化合物に対応する光学活性アミノ化合物である場合、反応混合物は分離することなく、次の還元処理に付すこともできる。
本発明の第二の方法によれば、そのα−炭素原子上に２個の水素原子を有し、β−不斉炭素原子を有する光学活性ニトロ化合物は、そのα−炭素原子上に水素原子を有するα，β−不飽和ニトロオレフィンを、分子中に少なくとも１個のケイ素−水素結合を有する有機ケイ素化合物と、不斉銅錯体及び水の存在下に反応させることにより製造することができる。
【００２０】
光学活性ニトロ化合物、ニトロオレフィン、有機ケイ素化合物及び不斉銅錯体は前記している。
【００２１】
この方法において、有機ケイ素化合物の２種またはそれ以上を使用してもよいが、１種の有機ケイ素化合物で反応には充分である。反応に使用される有機ケイ素化合物の量は、１モル部のニトロオレフィンに対し、通常、１〜１０モル部である。
【００２２】
反応に使用される水の量は、１モル部のニトロオレフィンに対し、通常、１モル部以上である。水は反応溶媒として、大過剰量で使用してもよい。
【００２３】
この方法は通常、溶媒中で実施され、この反応のための溶媒は第一の方法における反応のための溶媒と同じである。
【００２４】
この方法は通常、光学活性ニトロ化合物、有機ケイ素化合物、不斉銅錯体及び水を溶媒中で混合することにより行うことができ、混合順序は制限されない。反応温度及び反応時間は第一の方法と同じである。更に、反応後の後処理も第一の方法と同じである。
【００２５】
第一または第二の方法により製造される光学活性ニトロ化合物としては、１−ニトロ−２−フェニルプロパン、２−（４−メチルフェニル）−１−ニトロプロパン、２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロプロパン、２−（４−メトキシフェニル）−１−ニトロプロパン、２−（４−アセチルフェニル）−１−ニトロプロパン、１−ニトロ−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）プロパン、３−メチル−１−ニトロ−２−フェニルブタン、３−ヒドロキシ−１−ニトロ−２−フェニルプロパン、１−ニトロ−２，３，３−トリメチルブタン、３−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−１−ニトロブタン、２，４，４−トリメチル−１−ニトロペンタン、１−ニトロ−２−フェニルペンタン、２−（２−ナフチル）−１−ニトロプロパン、３−（ベンゾイルアミノ）−１−ニトロ−２−フェニルプロパン、３−アセチルアミノ−１−ニトロ−２−フェニルプロパン、３−（トリフルオロアセトアミノ）−１−ニトロ−２−フェニルプロパン、１−ニトロ−２−（ピリジン−２−イル）プロパン、２−（５−クロロピリジン−２−イル）−１−ニトロプロパン、１−ニトロ−２−［（ピリジン−２−イル）メチル］プロパン、２−（フラン−２−イル）−１−ニトロプロパン、２−フルフリル−１−ニトロプロパン、１−ニトロ−２−（チオフェン−２−イル）プロパン、１−ニトロ−２−［（テトラヒドロピラニルオキシ）メチル］プロパン及び１−ニトロ−２−［（テトラヒドロフルフリルオキシ）メチル］プロパンの光学活性化合物が含まれる。
【００２６】
第一または第二の方法により製造した光学活性ニトロ化合物は、そのα−炭素原子上に２個の水素原子を有し、β−不斉炭素原子を有する光学活性アミノ化合物を与える還元工程に供することができる。ニトロ化合物は単離することなく還元工程に供することができ、即ち第一または第二の方法の反応後、反応混合物そのまま供することができる。
【００２７】
典型的な光学活性アミノ化合物として、式（３）
2006524189.tif 000006
（式中、Ｒ１及びＲ２は前記と同義を有し、＊は不斉炭素を示す。）
を挙げることができ、該化合物は式（１）で示される光学活性ニトロ化合物の還元により製造される。
【００２８】
還元工程は、ニトロ基をアミノ基に還元するための公知の方法に従って行うことができる。
【００２９】
代表的な方法は、金属触媒存在下における水素、ギ酸及びギ酸アンモニウムなどの水素供与体による還元である。
【００３０】
金属触媒としては、パラジウム、ルテニウム、白金等の貴金属及びラネーニッケルが含まれる。貴金属触媒として、不均一系触媒及び均一系触媒の両方とも利用されるが、触媒の回収が容易なので、不均一系触媒が好ましい。貴金属不均一系触媒において、貴金属は活性炭、シリカ及びゼオライト等の適切な担体上に保持される。担体上の貴金属の量は、１００重量部の担体に対し、通常、０．１〜２０重量部、好ましくは０．２〜１０重量部である。より高い活性を有するので、より大きな表面積を有する担体が好ましく使用される。活性炭に担持された貴金属が好ましく使用される。
【００３１】
還元に使用される貴金属の量は光学活性ニトロ化合物１００重量部に対し、通常、０．０２〜２重量部である。ラネーニッケルが使用される場合には、ラネーニッケルの量は、１００重量部の光学活性ニトロ化合物に対し、通常、１〜５０重量部である。
【００３２】
水素供与体の量は、１モル部の光学活性ニトロ化合物に対し、通常３モル部、実用的には１０モル部以上である。
【００３３】
反応は加圧下、あるいは常圧で行われる。反応温度は、通常、−２０〜１００℃の範囲内であり、反応時間は、通常０．５〜２４時間の範囲内である。
【００３４】
反応は通常アルコール溶媒（例えば、メタノール、エタノール）などの不活性溶媒中で行われる。第一または第二の方法の反応混合物がそのまま使用される場合、アルコール溶媒の添加は好ましい。
【００３５】
反応後、通常の後処理により目的とする光学活性アミノ化合物が得られる。反応混合物は、典型的には触媒を除くためのろ過とその後の濃縮などに供される。分離されたアミノ化合物は蒸留、再結晶などにより精製することができる。また、塩の形成（例えば、塩酸塩）、再結晶、その後のフリー化により精製することもできる。
別の代表的な方法は、ニトロ基からアミノ基にする還元剤と実施することができる。還元剤としては、水素化リチウムアルミニウム及び塩化コバルトで活性化されたホウ素化水素ナトリウムが含まれる。還元剤の量は理論量以上である。
還元反応は、通常、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル）及びアルコール溶媒（例えば、メタノール、エタノール）等の不活性溶媒中で行われる。第一または第二の方法の反応混合物がそのまま使用される場合、アルコール溶媒の添加が好ましい。反応温度は、通常、−２０〜１００℃の範囲内であり、反応時間は０．５〜２４時間の範囲内である。
反応後、通常の後処理により目的とする光学活性アミノ化合物が得られる。反応混合物は典型的には、残った還元剤を分解するために水またはアルカリ水溶液と混合し、アルカリ性または中性条件下で有機溶媒により抽出し、それから濃縮等がなされる。分離されたアミノ化合物は蒸留、再結晶等により精製できる。また、塩(例えばHCｌ塩)を形成し、再結晶し、フリー化することにより精製することもできる。
還元工程において、その立体配置は保持され、光学活性ニトロ化合物の立体配置に対応する光学活性アミノ化合物が得られる。
第一または第二の方法により製造される光学活性アミノ化合物としては、１−アミノ−２−フェニルプロパン、１−アミノ−２−（４−メチルフェニル）プロパン、１−アミノ−２−（４−クロロフェニル）プロパン、１−アミノ−２−（４−メトキシフェニル）プロパン、２−（４−アセチルフェニル）−１−アミノプロパン、１−アミノ−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）プロパン、１−アミノ−３−メチル−２−フェニルブタン、１−アミノ−３−ヒドロキシ−２−フェニルプロパン、１−アミノ−２，３，３−トリメチルブタン、１−アミノ−３−ヒドロキシ−２，３−ジメチルブタン、１−アミノ−２，４，４−トリメチルペンタン、１−アミノ−２−フェニルペンタン、１−アミノ−２−（２−ナフチル）プロパン、１−アミノ−３−（ベンゾイルアミノ）−２−フェニルプロパン、３−アセトアミノ−１−アミノ−２−フェニルプロパン、１−アミノ−３−（トリフルオロアセトアミノ）−２−フェニルプロパン、１−アミノ−２−（ピリジン−２−イル）プロパン、１−アミノ−２−（５−クロロピリジン−２−イル）プロパン、１−アミノ−２−［（ピリジン−２−イル）メチル］プロパン、１−アミノ−２−（フラン−２−イル）プロパン、１−アミノ−２−フルフリルプロパン、１−アミノ−２−（チオフェン−２−イル）プロパン、１−アミノ−２−［（テトラヒドロピラニルオキシ）メチル］プロパン及び１−アミノ−２−［（テトラヒドロフルフリルオキシ）メチル］プロパンの各光学活性体が含まれる。
【発明の効果】
【００３６】
工業的適用性
本発明は、精密化学品、医薬品、農薬等の合成中間体に有用な光学活性ニトロ化合物及び光学活性アミノ化合物の製造方法を提供する。
【実施例】
【００３７】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。以下の実施例において、（Ｒ）／（Ｓ）の比率は、光学活性カラムを備えた液体クロマトグラフィにより計測した。
実施例１
１０ｍＬシュレンクフラスコに、銅（Ｉ）ｔｅｒｔ−ブトキシド６．８ｍｇ、及び（Ｓ）−ｐ−ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ３７．３ｍｇをトルエン５ｍＬ中に溶解した。室温で３０分攪拌し、不斉銅錯体溶液を得た。前記溶液１００μＬ（銅錯体１μｍｏｌ含有）とトルエン４．９ｍＬを混合し、ポリ（メチルヒドロシロキサン）９０μＬ（１．５ｍｍｏｌ、１５−４０ｍＰａｓ（２０℃）、ｄ＝１．００４ｇ／ｍＬ、ｎＤ２０＝１．３９８、Ｆｌｕｋａ社製））およびジフェニルシラン２２１ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）を混合した。５分攪拌後、（Ｅ）−１−ニトロ−２−フェニル−１−プロペン１ｍｍｏｌを加え、室温で、２４時間攪拌した。反応混合物に、テトラブチルアンモニウムフルオリド／テトラヒドロフラン溶液（１ｍｏｌ／Ｌ）４ｍＬを加え、攪拌を３時間継続した。その後水を加え、ジエチルエーテル（３０ｍＬ×２）抽出処理した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去させた。残渣を、フラッシュクロマトグラフィ（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、光学活性１−ニトロ−２−フェニルプロパンを得た。収率：６７％      （Ｒ）／（Ｓ）＝８６／１４
１Ｈ−ＮＭＲ(δ, 300ＭＨｚ, ＣＤＣｌ３, 25℃) 7.34 (ｍ, 2H), 7.25 (ｍ, 3H), 4.58 (ｄｄ, J=12.1, 7.5Hz, １H), 4.49 (ｄｄ, J=12.1, 8.1Hz, 1H), 3.64 (ｍ, 1H), 1.39 (ｄ, J=6.8Hz, 3H)
実施例２
１０ｍＬシュレンクフラスコに、銅（Ｉ）ｔｅｒｔ−ブトキシド６．８ｍｇ、（Ｓ）−ｐ−ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ３２．７ｍｇ（５５μｍｏｌ）をトルエン５ｍＬに溶解した。室温で、３０分攪拌し、不斉銅錯体溶液を得た。１μｍｏｌの不斉銅錯体を含有する量に対応するこの溶液をトルエン４．９ｍＬと混合し、ポリ（メチルヒドロシロキサン）６μＬ（０．１ｍｍｏｌ、１５−４０ｍＰａｓ（２０℃）、ｄ＝１．００４ｇ／ｍＬ、ｎＤ２０＝１．３９８、Ｆｌｕｋａ社製）をそこに加えた。更にフェニルシラン１８５μＬ（１．５ｍｍｏｌ）及び水２７μＬ（１．５ｍｍｏｌ）を加えた。５分攪拌後、（Ｅ）−１−ニトロ−２−フェニル−１−プロペン１ｍｍｏｌを加え、混合物は更に室温で２４時間撹拌した。（１ｍｏｌ／Ｌ）テトラブチルアンモニウムフルオリド／テトラヒドロフラン溶液４ｍｌを反応混合物に加え、３時間攪拌を継続した。水を混合物中に添加し、ジエチルエーテル（３０ｍＬ×２）で抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィ（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、光学活性１−ニトロ−２−フェニルプロパンを得た。
収率：６０％      （Ｒ）／（Ｓ）＝８９／１１
実施例３
（Ｓ）−ｐ−ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰの不斉銅錯体溶液１μｍｏｌに代えて（Ｓ）−（Ｒ）−ＪＯＳＩＰＨＯＳの不斉銅錯体溶液１μｍｏｌを使用した以外は実施例２と同じ操作を行い光学活性１−ニトロ−２−フェニルプロパンを得た。
収率：７７％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９４／６
実施例４
（Ｅ）−１−ニトロ−２−フェニル−１−プロペンに代えて（Ｅ）−２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロ−１−プロペンを使用した以外は実施例３と同じ操作を行い光学活性２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロプロパンを得た。
収率：８８％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９５／５
実施例５
（Ｓ）−（Ｒ）−ＪＯＳＩＰＨＯＳの不斉銅錯体溶液１μｍｏｌに代えて（Ｓ）−（Ｒ）−ＪＯＳＩＰＨＯＳの不斉銅錯体溶液１０μｍｏｌを使用した以外は実施例４と同じ操作を行い光学活性２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロプロパンを得た。
収率：８９％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９５／５
実施例６
（Ｅ）−２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロ−１−プロペンに代えて（Ｅ）−２−（４−メトキシフェニル）−１−ニトロ−１−プロペンを使用した以外は実施例５と同じ操作を行い光学活性２−（４−メトキシフェニル）−１−ニトロプロパンを得た。
収率：９４％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９５／５
１H-NMR (δ, 300MHｚ,ＣＤＣｌ３, 25℃) 7.15 (ｍ, 2H), 6.87 (ｍ, 2H), 4.51 (ｄｄ, J=11.8, 8.1Hz, 1H), 4.45 (ｄｄ, J=11.8, 8.1Hz, 1H), 3.79 (ｓ, 3H), 3.59 (ｍ, 1H), 1.36 (ｄ, J=7.2Hz, 3H)
実施例７
（Ｅ）−２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロ−１−プロペンに代えて（Ｅ）−３−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−１−ニトロ−１−ブテンを使用した以外は実施例５と同じ操作を行い光学活性３−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−１−ニトロブタンを得た。
収率：６６％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９５／５
実施例８
（Ｓ）−（Ｒ）−ＪＯＳＩＰＨＯＳの不斉銅錯体溶液１０μｍｏｌに代えて（Ｓ）−（Ｒ）−ＪＯＳＩＰＨＯＳの不斉銅錯体溶液３μｍｏｌを使用した以外は実施例７と同じ操作を行い光学活性３−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−１−ニトロブタンを得た。
収率：５５％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９７／３
実施例９
（Ｓ）−（Ｒ）−ＪＯＳＩＰＨＯＳに代えて（Ｓ）−ｐ−ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰを使用した以外は実施例７と同じ操作を行い光学活性３−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−１−ニトロブタンを得た。
収率：６０％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９３／７
実施例１０
（Ｅ）−３−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−１−ニトロ−１−ブテンに代えて（Ｚ）−２−メチル−１−ニトロ−３−テトラヒドロピラニルオキシ−１−プロペンを使用した以外は実施例９と同じ操作を行い光学活性２−メチル−１−ニトロ−３−テトラヒドロピラニルオキシプロパンを得た。
収率：７６％      （Ｒ）／（Ｓ）＝８３／１７
実施例１１
（Ｓ）−ｐ−ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰに代えて（Ｓ）−（Ｒ）−ＪＯＳＩＰＨＯＳを使用した以外は実施例１０と同じ操作を行い光学活性２−メチル−１−ニトロ−３−テトラヒドロピラニルオキシプロパンを得た。
収率：６２％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９３／７
実施例１２
（Ｓ）−（Ｒ）−ＪＯＳＩＰＨＯＳの不斉銅錯体溶液１０μｍｏｌに代えて（Ｓ）−（Ｒ）−ＪＯＳＩＰＨＯＳの不斉銅錯体溶液１μｍｏｌを使用した以外は実施例１１と同じ操作を行い光学活性２−メチル−１−ニトロ−３−テトラヒドロピラニルオキシプロパンを得た。
収率：８１％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９３／７
実施例１３
（Ｚ）−２−メチル−１−ニトロ−３−テトラヒドロピラニルオキシ−１−プロペンに代えて（Ｅ）−２−メチル−１−ニトロ−３−テトラヒドロピラニルオキシ−１−プロペンを使用した以外は実施例１１と同じ操作を行い光学活性２−メチル−１−ニトロ−３−テトラヒドロピラニルオキシプロパンを得た。
収率：８２％      （Ｒ）／（Ｓ）＝８４／１６
実施例１４
（Ｚ）−２−メチル−１−ニトロ−３−テトラヒドロピラニルオキシ−１−プロペンに代えて（Ｅ）−２−メチル−１−ニトロ−３−テトラヒドロピラニルオキシ−１−プロペンを使用した以外は実施例１２と同じ操作を行い光学活性２−メチル−１−ニトロ−３−テトラヒドロピラニルオキシプロパンを得た。
収率：７７％      （Ｒ）／（Ｓ）＝８３／１７
実施例１５
（Ｅ）−２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロ−１−プロペンに代えて（Ｚ）−３−メチル−１−ニトロ−２−フェニル−１−ブテンを使用した以外は実施例５と同じ操作を行い光学活性３−メチル−１−ニトロ−２−フェニルブタンを得た。
収率：８３％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９７／３
実施例１６
（Ｅ）−２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロ−１−プロペンに代えて（Ｅ）−１−ニトロ−２−フェニル−１−ペンテンを使用した以外は実施例５と同じ操作を行い光学活性１−ニトロ−２−フェニル−１−ペンタンを得た。
収率：８６％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９６／４
実施例１７
１０ｍＬシュレンクフラスコに、銅（Ｉ）ｔｅｒｔ−ブトキシド６．８ｍｇ、（Ｓ）−（Ｒ）−ＪＯＳＩＰＨＯＳ５５μｍｏｌをトルエン５ｍＬに溶解した。室温で、３０分攪拌し、不斉銅錯体溶液を得た。１０μｍｏｌの不斉銅錯体を含有する量に対応するこの溶液をトルエン４．９ｍＬと混合し、ポリ（メチルヒドロシロキサン）６μＬ（０．１ｍｍｏｌ、１５−４０ｍＰａｓ（２０℃）、ｄ＝１．００４ｇ／ｍＬ、ｎＤ２０＝１．３９８、Ｆｌｕｋａ社製）をそこに加えた。更にフェニルシラン１８５μＬ（１．５ｍｍｏｌ）及び水２７μＬ（１．５ｍｍｏｌ）を加えた。５分攪拌後、（Ｅ）−１−ニトロ−２−（ピリジン−２−イル）−１−プロペン１ｍｍｏｌを加え、混合物は更に室温で２４時間撹拌した。水を反応混合物中に添加し、生成物はジエチルエーテル（３０ｍＬ×２）で抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィ（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、光学活性１−ニトロ−２−（ピリジン−２−イル）プロパンを得た。
収率：５５％      （Ｒ）／（Ｓ）＝８６／１４
実施例１８
（Ｅ）−２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロ−１−プロペンに代えて（Ｅ）−１−ニトロ−２−（フリル−２−イル）−１−プロペンを使用した以外は実施例５と同じ操作を行い光学活性１−ニトロ−２−（フラン−２−イル）プロパンを得た。
収率：７２％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９５／５
実施例１９
（Ｅ）−２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロ−１−プロペンに代えて（Ｅ）−１−ニトロ−２−（チオフェン−２−イル）−１−プロペンを使用した以外は実施例５と同じ操作を行い光学活性１−ニトロ−２−（チオフェン−２−イル）プロパンを得た。
収率：７３％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９２／８
実施例２０
（Ｅ）−１−ニトロ−２−（ピリジン−２−イル）−１−プロペンに代えて（Ｅ）−３−ヒドロキシ−１−ニトロ−２−フェニル−１−プロペンを使用した以外は実施例１７と同じ操作を行い光学活性３−ヒドロキシ−１−ニトロ−２−フェニルプロパンを得た。
収率：５５％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９６／４
実施例２１
（Ｅ）−１−ニトロ−２−（ピリジン−２−イル）−１−プロペンに代えて（Ｚ）−３−ヒドロキシ−１−ニトロ−２−フェニル−１−プロペンを使用した以外は実施例１７と同じ操作を行い光学活性３−ヒドロキシ−１−ニトロ−２−フェニルプロパンを得た。
収率：７０％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９４／６
実施例２２
（Ｅ）−２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロ−１−プロペンに代えて（Ｅ）−１−ニトロ−２−フェニル−３−トリフルオロアセトアミノ−１−プロペンを使用した以外は実施例５と同じ操作を行い光学活性１−ニトロ−２−フェニル−３−（トリフルオロアセトアミノ）プロパンを得た。
収率：７３％      （Ｒ）／（Ｓ）＝８９／１１
実施例２３
（Ｅ）−２−（４−クロロフェニル）−１−ニトロ−１−プロペンに代えて（Ｚ）−３−ベンゾイルアミノ−１−ニトロ−２−フェニル−１−プロペンを使用した以外は実施例５と同じ操作を行い光学活性３−（ベンゾイルアミノ）−１−ニトロ−２−フェニルプロパンを得た。
収率：７０％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９５／５
実施例２４
１０ｍＬシュレンクフラスコに、銅（Ｉ）ｔｅｒｔ−ブトキシド６．８ｍｇ、（Ｓ）−（Ｒ）−ＪＯＳＩＰＨＯＳ５５μｍｏｌをトルエン５ｍＬに溶解した。室温で、３０分攪拌し、不斉銅錯体溶液を得た。１０μｍｏｌの不斉銅錯体を含有する量に対応するこの溶液をトルエン４．９ｍｌと混合した。更にフェニルシラン１８５μＬ（１．５ｍｍｏｌ）及び水２７μＬ（１．５ｍｍｏｌ）をそこに加えた。５分攪拌後、（Ｅ）−２−（４−アセチルフェニル）−１−ニトロ−１−プロペン１ｍｍｏｌを加え、混合物は更に室温で２４時間撹拌した。（１ｍｏｌ／Ｌ）テトラブチルアンモニウムフルオリド／テトラヒドロフラン溶液４ｍｌを反応混合物に加え、３時間攪拌を継続した。水を添加し、混合物はジエチルエーテル（３０ｍＬ×２）で抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィ（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、光学活性２−（４−アセチルフェニル）−１−ニトロプロパンを得た。
収率：８６％      （Ｒ）／（Ｓ）＝９５／５
実施例２５
１０ｍＬシュレンクフラスコに、塩化銅（Ｉ）８ｍｇ、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド８ｍｇ及び（Ｓ）−ｐ−ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ１１０ｍｇをトルエン６ｍＬに溶解した。室温で、１５分攪拌し、不斉銅錯体溶液を得た。この溶液中に、ポリ（メチルヒドロシロキサン）３６０μＬ（６．０ｍｍｏｌ、１５−４０ｍＰａｓ（２０℃）、ｄ＝１．００４ｇ／ｍＬ、ｎＤ２０＝１．３９８、Ｆｌｕｋａ社製）及び水３２ｍｇを加えた。５分攪拌後、（Ｅ）−１−ニトロ−２−フェニル−１−プロペン１.５ｍｍｏｌを加え、混合物を更に室温で２２時間撹拌した。１Ｈ−ＮＭＲ分析により、目的とする光学活性１−ニトロ−２−フェニルプロパンが５０％の収率で得られていることが示された。副生物である、１−ニトロ−２−フェニル−２−プロペンは４％の収率で得られた。
前記した製法により得られる、光学活性アミノ化合物製造のためのニトロ化合物の還元は下記の実施例により示される。
実施例２６
アルゴン雰囲気下、１２１ｍｇの光学活性１−ニトロ−２−フェニルプロパン（７３２μｍｏｌ）を５ｍｏｌの乾燥メタノールに溶かし、５０ｍｇのパラジウム−炭（１０％）をそこに添加した。得られた懸濁液を水素雰囲気下で２４時間強撹拌した。混合物をろ過し、固形物をメタノールで洗浄した。溶媒を留去し、残渣を２ｍｌのベンゼンに溶解した。溶媒を留去し、９５ｍｇの光学活性１−アミノ−２−フェニルプロパンを無色オイルとして得た（７０３μｍｏｌ）。収率：９６％
【国際調査報告】
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