(57)【要約】対象物（６）を少なくとも一次元で非接触で測定する方法であって、対象物（６）を走査ビームフィールド（１）の空間的に制限された有効範囲内で走査し、走査ビーム（Ｌ）の１本又は複数本の遮断を検出して測定次元での対象物（６）の大きさを推定するようにした前記方法を提案する。走査ビームフィールド（１）は直接アドレス化可能な複数本の個々のビーム（Ｌ）から構成されている。走査ビームフィールド（１）の空間的に制限された有効範囲のビームによる走査は、予め設定可能なステップのパターンにしたがって非線形ソーティング方法を使用して行なう。好ましい方法は二等分探索方法の適用にある。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物（６；１６）を少なくとも一次元で非接触で測定する方法であって、対象物（６；１６）を走査ビームフィールド（１；１１）の空間的に制限された有効範囲内で走査し、走査ビームの１本又は複数本の遮断を検出して測定次元での対象物（６；１６）の大きさを推定するようにした前記方法において、走査ビームフィールドが直接アドレス化可能な複数本の個々のビーム（Ｌ；Ｐ）から構成され、予め設定可能なステップのパターンにしたがって走査を行い、走査のために非線形ソーティング方法を使用することを特徴とする方法。
【請求項２】
対象物（６；１６）の大きさの特定を、少なくとも一次元で、二等分探索原理にしたがって走査ビームフィールド（１；１１）を部分的に走査することにより行うことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
対象物（６；１６）のサイズを一次元以上で特定し、走査ビームフィールド（１；１１）の空間的に制限された有効範囲を線形検査原理と二等分探索原理とを組み合わせることにより走査することを特徴とする請求項２に記載の方法。
【請求項４】
個々の走査ビーム（Ｌ）によって張られたビームカーテン（１）の有効範囲又は平坦で立体的なビーム格子の有効範囲内に対象物（６）を設置することを特徴とする、先行する請求項のいずれか一つに記載の方法。
【請求項５】
電磁放射線（Ｌ）又は超音波放射線から成る走査ビームフィールド（１）内に対象物（６）を設置することを特徴とする先行する請求項のいずれか一つに記載の方法。
【請求項６】
可視スペクトル範囲或いは不可視スペクトル範囲の電磁放射線（Ｌ）又はレーダー放射線から成る走査ビームフィールド内に対象物（６）を設置することを特徴とする先行する請求項のいずれか一つに記載の方法。
【請求項７】
被測定対象物の像（１６）を走査することを特徴とする請求項１から４までのいずれか一つに記載の方法。
【請求項８】
対象物の像（１６）を、一次元又は二次元で走査可能な像領域（１１）であって、たとえば撮影カメラのような像形成システムの前記像領域（１１）、走査トンネル顕微鏡又は電子パワー型顕微鏡の像の前記像領域（１１）、又は像置換型容量性又は誘導性測定の前記像領域（１１）により確定することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
対象物の各被測定次元に対する走査ビームの数量が少なくとも８本であることを特徴とする先行する請求項のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１０】
少なくとも対象物の被測定次元の一つにおいて対象物の境界部（７；１７）が走査ビームフィールド（１；１１）の空間的に制限された有効範囲と一致するように、走査ビームフィールド（１；１１）の空間的に制限された有効範囲内に対象物（６；１６）を設置することを特徴とする、先行する請求項のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１１】
測定の間に被測定対象物と走査ビームフィールド（１；１１）との間で相対運動が行なわれることを特徴とする、先行する請求項のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１２】
被測定対象物をして、測定の間、好ましくは連続的に、走査ビームフィールド（１；１１）の有効範囲を通過させることを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
測定のために、対象物の像を撮影し、記憶し、評価し、次のステップで、検出した測定データを対象物の処理・加工装置を制御するために使用することを特徴とする請求項１１又は１２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の前文に記載の、対象物を非接触で測定する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
工業プロセスでは、対象物の広がりを高さ及び／又は幅及び／又は長さに関し第１次近似で測定して、次の搬送ステップ、保管ステップ及び／又は加工ステップの際に適宜考慮することができるようにする必要が多い。たとえば自動保管システムでは、保管される対象物の高さを測定する必要がある。多くの対象物は接触子等では測定できず、非接触方式を適用しなければならない。それ故、この種の自動測定過程のためにたとえば対象物を通過させる光格子或いは光カーテンが使用される。測定はビームの遮断を確認することで行なわれ、ビームの遮断からそれぞれの次元で大きさを推定することができる。高さ測定の場合は、対象物はパレット又は搬送ベルト上に載せられて光格子又は光カーテンを通過するので、対象物は通常下側から光格子のなかへ突出している。高さ測定は、最上位の遮断された光ビーム或いは最下位の遮断されない光ビームを検出する測定である。このため、光格子或いは光カーテンの場合、個々の光ビームをシーケンシャルに走査して遮断を確認する。光ビームの走査は、送信要素を作動させ、これと同時に、送出された光ビームの反対側の受信要素を評価する。走査又はスキャンの理論的な継続時間、すなわちスキャン時間は、１本の光ビームあたりの走査時間に光ビームの本数ｎを乗積し、評価時間を加算することで得られる。その方程式は、
ｔスキャン＝ｔビーム×ｎ＋ｔ評価
である。
【０００３】
１本の走査ビームがちょうど走査されたときに、自動的に測定されるべき対象物がこの走査ビームの検出範囲内に到達することがある。このエラーの原因を排除し、対象物を検知するには、光格子全体を２回走査しなければならない。したがって、実際には最大検知時間はスキャン時間の２倍になる。検知時間に対する方程式は、
ｔ検知＝ｔスキャン×２＝（ｔビーム×ｎ＋ｔ評価）×２
である。
【０００４】
実際には、光ビーム１本あたりの走査時間はほぼ１００μｓである。光格子のビームの本数ｎはたとえば３２である。評価時間は典型的にはほぼ５００μｓである。このような典型的な実際値により、最大検知時間ｔ検知に対し７．４ｍｓの値が得られる。ここで注意すべきことは、この値はただ１つの次元（高さ）での大きさを測定するための最大検知時間であるということである。対象物のサイズを二次元で、或いは三次元すべてにおいて特定することが必要な場合も多い。このことから、現今の対象物非接触測定方法は比較的時間を要することは明らかである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、従来の技術の上記欠点を解消することである。さらに、対象物を少なくとも一次元で非接触で測定する方法において、精度を維持しながら測定速度の向上を可能にし、全体として最大検知時間を短縮させるような方法を提供することをも課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題の解決手段は、請求項１の特徴部分に記載した構成を有する、対象物を非接触で測定する方法である。本発明の他の構成及び／又は有利な構成は従属項の対象である。
【０００７】
本発明は、対象物（６）を少なくとも一次元で非接触で測定する方法であって、対象物（６）を走査ビームフィールド（１）の空間的に制限された有効範囲内で走査し、走査ビーム（Ｌ）の１本又は複数本の遮断を検出して測定次元での対象物（６）の大きさを推定するようにした方法を提案する。走査ビームフィールド（１）は直接アドレス化可能な複数本の個々のビーム（Ｌ）から構成されている。走査ビームフィールド（１）の空間的に制限された有効範囲のビームによる走査は、予め設定可能なステップのパターンにしたがって、線形ソーティング方法とは異なるソーティング方法を使用して行なわれる。有利な方法は二等分探索方法を適用することにある。
【０００８】
対象物を測定するための検知時間は、主に走査ステップの時間と回数とによって決定される。したがって、対象物の大きさを測定する際に走査ステップの回数が少なくなれば、そのために必要な時間に直接影響する。走査放射線の有効範囲は直接にアドレス化可能な個々のビームから構成された走査ビームフィールドと見なすことができるので、ビームの遮断を特定するための走査方法は非線形ソーティング方法に依拠している。したがってこの走査ビームフィールドに非線形ソーティング方法の原理を適用することができる。
【０００９】
特に有利な方法では、対象物の大きさを少なくとも一次元で特定するため、二等分探索原理にしたがって走査ビームフィールドを部分的に走査する。二等分探索方法は検査区間を半分にし、これと同時にソーティングを活用することに依拠している。この目的のため、放射線場の有効範囲を直接にアドレス化可能な複数の個々のビームに分解し、これら個々のビームにソーティングの目的で連続する昇順番号又は降順番号を割り当てる。個々のビームは現実の測定ビームであるが、対象物がたとえば像形成システムによって検知され、生成された像が電子的に「ビーム状に」「ビーム遮断」を目的として走査される場合には、仮想の測定ビームと見なすこともできる。二等分探索システムは必要とする時間の点で線形的検査システムよりも優れている。個々のビームの本数が多ければその時間差は急速に増す。線形的検査の場合、作動時間は走査ビームの本数に比例して増大するのに対し、二等分探索の場合には、走査ビームの本数の２を底とする対数に比例して増大するにすぎない。
【００１０】
多くの場合、対象物の大きさを一次元以上で測定することが必要である。このためには、走査ビームフィールドの空間的に制限された有効範囲を線形検査原理と二等分探索原理とを組み合わせることにより走査するのが有利である。線形検査と二等分探索とを組み合わせることにより、被測定対象物が通常どおり任意の配向で走査ビームフィールド内へ搬入されるという状況が考慮される。それ故、まずそれぞれの被測定次元において対象物の始端、すなわち最も外側のエッジを特定し、この始端を基点としてそれぞれの次元で対象物のサイズを特定することが必要である。この最初のステップは実質的に原点特定に相当し、シーケンシャルに線形的検査方法で行なわれる。原点が確定されると、それ以後の対象物の本来の測定は二等分探索方法を適用することにより簡潔化され、短縮化される。
【００１１】
本発明による方法を実施するため、被測定対象物をたとえば走査ビームによって張られたカーテンのなかに設置する。その際、たとえば搬送ベルトの長手方向に沿った一方の側に一定数量の放射源が互いに規則的な間隔で配置される。放射源に対向する、搬送ベルトの他の長手方向に沿った側には、放射源から放出される放射線のための同数の検出器が配置される。一次元で測定される対象物は、搬送ベルトを介して走査ビームの領域内へもたらされ、そこで本発明による方法にしたがって測定される。対象物を二次元又は三次元すべてで測定するため、平坦な或いは立体的な格子を張ってもよい。
【００１２】
カーテンの形態又は平坦な或いは立体的な格子の形態の走査ビームフィールドは、可視スペクトル範囲或いは不可視スペクトル範囲の光であるのが有利である。超音波放射線又はレーダー放射線を使用してもよい。放射源から放出された走査放射線に同調した検出器を常に使用してもよいことは自ずから明らかである。
【００１３】
対象物を直接測定するのではなく、対象物の像が走査されることもある。この場合、対象物の像は像形成システムの一次元又は二次元で走査可能な像領域によって決定される。像形成システムとはたとえば撮影カメラ、走査トンネル顕微鏡における対象物の像、或いは電子パワー型顕微鏡のそれである。他方、対象物の像はたとえば強磁性物質における誘導性測定、或いは、非導電性物質又は弱導電性物質のための容量性測定によって発生されていてもよい。基本的には、実際の外観又は測定対象範囲の広がりを再現している対象物の像であればいかなる像でも測定に関連づけることができる。
【００１４】
対象物の各被測定次元に対する走査ビームの数量が少なくとも８本あることが有利であることが明らかになった。二等分探索システムが測定必要時間に関し線形的検査システムよりも優るのは、ほぼ８本の走査ビームの数量からである。走査ビームの本数がこれよりも多いと、時間差が急速に増す。線形的検査では作動時間が走査ビームの本数に比例して増すのに対し、二等分探索では、走査ビームの本数の２を底とする対数に比例して増大するにすぎない。
【００１５】
少なくとも対象物の被測定次元の一つにおいて対象物の境界部が走査ビームフィールドの空間的に制限された有効範囲と一致するように対象物を走査ビームフィールドの空間的に制限された有効範囲に設置することにより、この次元に対してはゼロライン設定を行なう必要がない。この次元で対象物の大きさを測定するために二等分探索方法を使用できる。対象物が直方体形状又は立方体形状である理想的なケースでは、すべての次元特定に対しゼロライン設定を省くことができるように、対象物を空間的に制限された走査ビームフィールドの原点に位置決めすることができる。しかし通常は対象物の形状は多少不規則であり、搬送手段上で任意の配向と姿勢で走査ビームフィールド内に設置される。このような場合、たとえば搬送ベルトを介して対象物を搬送する際に、水平方向に延びている搬送ベルト上面（一般的には対象物の高さ測定のために用いられる）上方にある走査ビームフィールド成分が当該搬送ベルト上面によって規制されていれば、これだけですでに測定方法に対する大きな簡潔化を意味する。この場合、インデックス１の走査ビームは搬送ベルト上面のすぐ近くでこれに平行に搬送ベルトの長手方向に沿った一方の側から長手方向に沿った他方の側へ延びている。対象物の高さ測定のための他の走査ビームはその上方に垂直に配置され、昇順番号が付されている。
【００１６】
対象物の測定は静止している対象物で行なうことができる。しかしながら、スループットをより迅速にするという理由から、測定の間に被測定対象物と走査ビームフィールドとの間で相対運動が行なわれるのが有利であることが明らかになった。これは、たとえば、被測定対象物を測定の間連続的に走査ビームフィールドの有効範囲を通過させることによって達成できる。静止している対象物の上方で走査ビームフィールドの有効範囲を移動させてもよい。たとえば自動洗車装置の場合、車両が静止して、車両の鉛直方向と水平方向の輪郭を撮影する測定装置が車両上方を移動することが多い。その後の洗車過程で、記憶された像を用いて鉛直方向と水平方向のブラシが制御される。同様の適用例は自動塗装装置にも見られ、この場合には塗装対象物はまず静止状態で測定され、次に、記憶された像に基づいて塗装室で塗装される。その際の相対速度は対象物を測定するための最大検知時間に同調している。通常の搬送手段を用いるので、測定ビームフィールドにおける被測定対象物の滞留時間は本発明による方法を適用する場合の検知時間よりも著しく長い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の他の利点及び特徴は、本発明による方法の実施形態を例示した以下の説明から明らかである。図面は本発明による方法を図式化したものである。
【００１８】
図１は水平方向に延在するカーテン状の走査ビームフィールドを示すもので、走査ビームフィールドは全体を符号１で示してある。走査ビームフィールド１は個々の走査ビームＬが張られており、走査ビームＬはそれぞれ送信要素２から放出され、対向する受信器３によって検出される。走査ビームフィールドは電磁ビームフィールドであり、たとえば光又はレーダービームから成るカーテン、或いは、超音波ビームフィールドであってよい。個々の走査ビームは直接アドレス化可能である。この場合、個々の走査ビームＬは互いに等間隔で広がっている。図示した実施形態では、走査ビームフィールドは全部で３２本の個々の走査ビームＬを含んでいる。受信器３の代わりに反射要素を配置してもよく、反射要素は送出された走査ビームＬを反射させて送信器２へ戻す。この場合、各送信器は同時に受信器としても構成される。送信器２と受信器３とは被測定対象物６のための搬送装置５の上方に延びており、被測定対象物６はその下面７で搬送装置５の上面４に載せられている。搬送装置５はたとえば搬送ベルト又はパレットである。走査ビームＬは搬送装置５の表面４に対しほぼ平行に延びている。走査ビームフィールド１は実質的に搬送装置５の上方に垂直に広がっている。最下位の走査ビームＬは搬送装置５の上面４に直接隣接して延びている。このように構成したカーテン状の走査フィールド１により対象物６の高さを測定することができる。これは、たとえば適当な高さの区画を選定して対象物６を自動保管する際に必要である。
【００１９】
図示した配置構成により対象物の高さが測定されるのは、遮断される走査ビームＬの数量が確定されるからである。このため走査ビームＬには、搬送装置５の上面４から始まって番号が増えるように通し番号が付されている。搬送装置の上面４に直接隣接して延びている走査ビームＬはたとえばインデックスｎ＝１とする。これに続く走査ビームＬには２などが付される。走査ビームフィールド１の有効範囲を上側で境界付けている最上位の走査ビームＬはインデックスｎ＝３２である。通し番号付けを逆の順序で行なってもよい。
【００２０】
したがって、対象物１の高さを測定するには、遮断されたｎ＝１の最初の走査ビームＬから出発して最上位の遮断された走査ビームＬ又は受信器６に対し自由に貫通する最初の走査ビームＬを検出する必要がある。従来の技術から知られているシーケンシャルな検査方法では、個々の走査ビームＬをシーケンシャルに走査して遮断を確定する。走査は、送信要素２を作動させ、同時に、放出された走査ビームＬのための反対側の受信要素３を評価するようにして行なわれる。１回の走査の理論的な継続時間又は１回のスキャンのスキャン時間は、１本の走査ビームあたりの走査時間に走査ビームの本数ｎを乗積し、評価時間を加算して得られる。その方程式は、
ｔスキャン＝ｔビーム×ｎ＋ｔ評価
である。
【００２１】
１本の走査ビームＬがちょうど走査されたときに、自動的に測定されるべき対象物がこの走査ビームＬの検出範囲内に到達することがある。このエラーの原因を排除し、対象物を検知するには、走査ビームフィールド１全体を２回走査しなければならない。したがって、実際には最大検知時間はスキャン時間の２倍になる。
【００２２】
検知時間に対する方程式は、
ｔ検知＝ｔスキャン×２＝（ｔビーム×ｎ＋ｔ評価）×２
である。
【００２３】
実際には、光ビーム１本あたりの走査時間はほぼ１００μｓである。光格子のビームの本数ｎはたとえば３２である。評価時間は典型的にはほぼ５００μｓである。このような典型的な実際値により、ｔ検知に対し７．４ｍｓの値が得られる。
【００２４】
本発明は、従来の技術の線形的検査方法とは異なり、非線形的検査方法、特に二等分ソーティング方法を提案するものである。この方法は実質的に、検査区間を半分にし、これと同時に走査ビームのソーティングを活用することに依拠している。まず、全部で３２本の走査ビームＬの区間を半分にし、インデックスｎ＝１６を持った走査ビームを作動させてこれを調べる。もしこの走査ビームＬがその受信要素３へ自由に到達することができるならば、対象物６はインデックス１ないし１６の走査ビームを含んでいる走査ビームフィールド１の下半分にのみ延びていることが推定される。図１に図示したソーティング表では、自由に通過する走査ビームを１６Ｆと記載している。第２ステップでは、走査ビームフィールドの下半分、すなわち下部区間を新たに半分にし、インデックス８の走査ビームＬを作動させてこれを調べる。このとき、インデックス８の走査ビームが遮断されていることが確認される。これをソーティング表では８Ｕで記載した。この結果から、対象物６の広がりの範囲の上端はインデックスｎ＝９ないしｎ＝１６の走査ビームの区間に存在しなければならないことが推定される。この区間を半分にし、インデックスｎ＝１２の走査ビームを調べる。このとき、この走査ビームが自由に通過できることが確認される。これをソーティング表では１２Ｆで記載した。それ故、ステップ４で、インデックス１２の走査ビームとインデックス８の走査ビームとの間の区間を半分にし、インデックス１０の走査ビームを調べる。このとき、この走査ビームが遮断されていることが確認される。これをソーティング表では１０Ｕで記載した。したがってステップ５では、遮断されたインデックスｎ＝１０の走査ビームと次のインデックスｎ＝１２の走査ビームとの間の区間を調べることが残っているにすぎない。これは最終的に、インデックスｎ＝１１の走査ビームに至る。この場合、この走査ビームも同様に遮断されていることが確認され、これをソーティング表では１１Ｕで記載した。したがって、本発明による検査方法により、高さに関し測定される対象物６の上部の存在範囲の端部がインデックスｎ＝１１の走査ビームとインダックスｎ＝１２の走査ビームとの間にあることがわずか５つのステップで確認することができた。よって、対象物の高さは２本の隣接する走査ビームＬの間隔のオーダーの精度で特定される。
【００２５】
検知時間は方程式、
ｔ検知＝ｔスキャン×２＝（ｔビーム×ｎ＋ｔ評価）×２
により決定されている。個々のスキャンの本数に対する値ｎ＝５により、上記実施形態に対しては検知時間ｔ検知＝２ｍｓが得られる。これは線形的検査方法に比べて５．５ｍｓの時間節約又は７３％の時間節約に相当する。
【００２６】
本発明による方法は、被測定次元において対象物の境界が電磁放射場の検知境界と一致したときにもっとも迅速に実施可能である。一次元の高さ測定の場合には通常この判断基準は満たされる。しかしながら広がりを他の次元で、或いは二次元で、或いは三次元すべてにおいて測定する必要がある場合には、対象物はほとんどの場合どこかで電磁場の検知範囲内にある。この状況を図２に例示した。図２も対象物の高さの測定に関わる。このケースでは、まず公知の線形的検査方法を適用して対象物の最初の下半分又は上半分を測定する。広がりの１つの境界が特定されれば、この位置に割り当てられた走査ビームをゼロラインと定義する。その後の次元測定は前述の本発明による方法にしたがって行なうことができる。当初、走査ビームフィールド内部の対象物のみを検査してもよい。この場合には、本発明による方法にしたがって対象物の上部境界部と下部境界部とを上と下で特定することができる。図２に例示したケースでは、純粋な線形的方法に比べて、可能な最大限の時間節約を達成しない。しかし、線形的検査と二等分探索とを組み合わせるのに必要な時間は、線形的検査方法のみを適用する場合に比べて短い。
【００２７】
図３は対象物の像１６、たとえば走査カメラの像を示している。走査トンネル顕微鏡或いは電子パワー型顕微鏡で生成されるような対象物の像であってもよい。対象物の他の像としては、たとえば強磁性物質に対する誘導性測定に由来する像、或いは、非導電性物質又は弱導電性物質に対する容量性測定に由来する像がある。ここでは、走査ビームカーテンとは異なり、対象物の像１６を二次元で走査又は問い合わせすることができる。
【００２８】
値ｎyと値ｎxとは像の行番号又は列番号である。行と列とは個々の像要素（ピクセル）により構成され、直接アドレス化可能である。対象物の底部１７は走査ビームフィールド１１の行による検知境界と一致している。したがって本発明による検査方法は、行方向（ｙ方向）においては、図１を用いて説明した検査方法に対応して実施することができる。走査列ｎxに関しては、図２を用いて説明した状況に類似している。それ故、列方向（ｘ方向）において対象物の広がりを特定するためには、まず対象物の像１６を検出する必要がある。これもたとえば線形的検査方法を介して行なわれる。対象物の像１６が二次元の走査ビームフィールド１１で検出されたならば、本発明による方法にしたがって対象物の境界の特定を行なうことができる。
【００２９】
本発明による方法は、たとえば光カーテンのような一次元の走査ビームフィールドの場合にも、また二次元或いは三次元の走査フィールドの場合にも適用できる。二次元の走査フィールドはたとえば光格子によって張られていてよく、或いは、たとえば撮影カメラ、走査トンネル顕微鏡、電子パワー型顕微鏡のような像形成システムによって形成されていてよい。また、誘導性又は容量性測定及び同様の測定分析に由来する像を考慮してもよい。走査ビームは電磁ビーム、たとえば可視スペクトルや不可視スペクトルの光、レーダー、或いは超音波ビームであってよい。本発明による方法は、直線状の平らな或いは立体的な走査フィールドを張っていればいかなる種類のセンサにも使用することができる。対象物は測定の間静止していてよい。本発明による方法は高速であるため、対象物を走査フィールドを移動させてもよい。
【００３０】
図４は、本発明による方法を適用した場合の時間節約を線形的検査方法に比較して示したグラフである。データは、対象物の１つの境界部が走査ビームフィールドの１つの検知境界部と一致するような一次元の測定に関わる。横軸は走査ビームの本数を表わし、縦軸は時間節約を％で表わしている。関連付けたのは、走査ビームが同じ本数である純粋に線形的な検出方法である。すぐに見て取れるように、本発明による方法は速度に関し優れた利点をもたらすので、比較的高速で走査ビームフィールドを移動する小さな対象物をも検知、測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】水平方向に配置される電磁走査放射線のカーテンを、その内部に配置された対象物とともに示し、検査表をも併せて示した図である。
【図２】走査ビームフィールドのなかに任意に配置された対象物を示す図である。
【図３】対象物を測定するための像形成システムを示す図である。
【図４】本発明による方法を適用した際の時間節約を説明するグラフである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
2006518840.tif 000007
2006518840.tif 000008
2006518840.tif 000009
2006518840.tif 000010