(57)【要約】本発明は、ａ）第一層（３）で覆われた第一基板（２）に、静電荷を帯びうるパターン化疎水性第二層（４）またはパターン化親水性第二層（４）を設け；ｂ）所望により、パターン化親水性第三層(５，６)を形成するために、疎水性または親水性第二層（４）で覆われていない第一層（３）の部分を処理し；ｃ）第一（３）、第二（４）および第三層(５，６)のうち少くとも一つに静電荷を帯びさせ；ｄ）反対荷電層へポリマー粒子（１）を静電結合させるために、静荷電パターン化第一基板（２）を官能化荷電ポリマー粒子（１）の分散液と接触させ；ｅ）所望により、官能化ポリマー粒子（１）が静電結合されていない部分から官能化ポリマー粒子（１）を除去し；およびｆ）次いで、基板の対を得るために、第一基板（２）を第二基板へ接合させることからなる、スペーサー（１）で互いに離された一対の基板を得る方法に関する。
2006500609.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スペーサーで互いに離された一対の基板を得る方法であって、
ａ）第一層で覆われた第一基板に、静電荷を帯びうるパターン化疎水性第二層またはパターン化親水性第二層を設け、
ｂ）所望により、第二層が親水層ならば、親水性第二層により帯びうる静電荷の符号とは反対の符号で静電荷を帯びうるパターン化親水性第三層を形成するために、疎水性または親水性第二層で覆われていない第一層の部分を処理し、
ｃ）第一、第二および第三層のうち少くとも一つに静電荷を帯びさせ、
ｄ）ポリマー粒子の静電荷の符号とは反対の符号を有する静電荷を帯びた層へポリマー粒子を静電結合させるために、ポリマー粒子がそれらの表面で第一、第二および第三層のうち少くとも一つの静電荷の符号とは反対の符号で静電荷を帯びるように官能化されたポリマー粒子（スペーサー）の分散液と、静荷電パターン化第一基板を接触させ、
ｅ）所望により、官能化ポリマー粒子が静電結合されていない部分から官能化ポリマー粒子を、および／またはポリマー粒子がそこへ静電結合されていないならば疎水性または親水性第二層を除去し、そして
ｆ）次いで、基板の対を得るために、第一基板を第二基板へ接合させる
ことからなる、方法。
【請求項２】
第一層が導電または半導電層である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
第一層がアライメント層である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
導電または半導電層がアライメント層で覆われている、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
球形官能化ポリマー粒子が用いられる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
約１〜約１０μｍの直径を有するポリマー粒子が用いられる、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ポリマー粒子が酸基または塩基性基で官能化されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
ポリマー粒子がカルボン酸もしくはスルホン酸基またはアミン基で官能化されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
少くとも第一基板が第一層で覆われ、疎水性または親水性第二層で、および所望により、第二層が親水層ならば親水性第二層の静電荷の符号とは反対の符号で静電荷を帯びる親水性第三層でパターン化され、第一、第二および第三層のうち少くとも一つが静電荷を帯びている、ポリマー粒子（スペーサー）で互いに離された２枚の基板を含んでなる装置であって、
ポリマー粒子が既定パターンで基板対間に置かれ、ポリマー粒子が静電結合される第一、第二または第三層のうち少くとも一つの静電荷の符号とは反対の符号でポリマー粒子がそれらの表面で静電荷を帯びるように官能化されていることで特徴づけられる装置。
【請求項１０】
ポリマー粒子が既定のパターンで基板対間に置かれ、ポリマー粒子がそれらの表面で静電荷を帯びうる基を有するように官能化されている、ポリマー粒子（スペーサー）で互いに離された一対の基板。
【請求項１１】
基板のうち少くとも一方に、所望により、電極層およびアライメント層から選択される少くとも一つの層が設けられうる、請求項１０に記載された基板対を含んでなるＬＣＤディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【発明の分野】
【０００１】
本発明は、スペーサーで互いに離された一対の基板を得る方法、スペーサーで互いに離された上記一対の基板、およびスペーサーで互いに離された一対の基板を含んでなる装置およびＬＣＤディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶電気光学機器のような装置の液晶セルにおいて、セルにおける基板間の間隔は、通常、基板間のスペーサーとして直径約数マイクロメートルの酸化ケイ素球体を散在させることで、一定に維持されている。こうして、一定値で基板間の距離を維持するために、スペーサーが基板間に入れられている。距離はスペーサーの直径で決まる。スペーサーは基板間で最小間隔を確保している；即ち、それらは基板間の距離縮小が生じることを防いでいる。スペーサーは規則的幾何学パターンで置いた方が、特にプラスチック基板の場合には、セルギャップを均一にコントロールする上で有効である。
【０００３】
このようなスペーサーが基板間の間隔を一定に維持するために用いられる場合、液晶、特に強誘電液晶を用いた大画像ディスプレイ面積を有する液晶ディスプレイは、該ディスプレイが乱れを生じることから実現不能である。この問題は、強誘電液晶のみならず、あらゆる種類の液晶物質を用いた液晶ディスプレイで生じる。この問題を避けるために、スペーサーに加えて、有機樹脂をベースにした（液晶セルに分散された）接着物質が、基板間の間隔を固定するために用いられている。これらのタイプの有機樹脂接着剤は基板間の間隔よりも大きな球体として用意され、そのためそれらに圧力を加えると、それらは変形して、一方の基板を他方と強く接着させるようになる。
【０００４】
ＵＳ５，７３９，８８２では、このような液晶電気光学機器の製造方法が開示されている。この製造方法によると、未硬化樹脂を基板の所定位置に置き、樹脂物質を硬化させることにより、樹脂柱が設けられ、こうしてポリマースペーサーが形成されるのである。しかしながら、この方法はいくつかの欠点を有している。第一に、柱状スペーサーが所定位置で形成される前に、一対の基板は、恒久的硬化樹脂スペーサーが形成された後では剥離しえない、基板対間でランダムに分散された“仮”スペーサーを用いることにより、所定の既定距離で保たれねばならない。次いで、シーリング物質として２液エポキシ樹脂接着剤を用いて一緒に接着させることにより、２枚の基板が固定される。２液エポキシ樹脂接着剤はスクリーン印刷により一方の基板の外縁部に塗布され、２枚の基板が固着される。スクリーン印刷用のプレートは、経糸および横糸の各々が走査電極およびシグナル電極の各々に対応した位置へ置かれるように、基板と向けられる。第二に、従来の方法では、余計な製造ステップ、即ち、基板間に仮スペーサーを分散させ、樹脂の硬化ステップを行って柱状スペーサーを得るステップを少くとも必要とする。このように複雑な製造方法は装置をより高価にしてしまう。更に、この方法は装置の電気光学性能を損なう未重合の汚染物質を生じる。
【発明の概要】
【０００５】
したがって、仮スペーサーを利用する必要性なしに、簡単に一対の基板に間隔を設け、しかも製造方法を著しく簡素化する方法を得ることが、本発明の目的である。
【０００６】
この目的のために、一対の基板がスペーサーで互いに離される操作により、一対の基板が得られる方法が発見され、その方法は、
ａ）第一層で覆われた第一基板に、静電荷を帯びうるパターン化疎水性第二層またはパターン化親水性第二層を設け、
ｂ）所望により、第二層が親水層ならば、親水性第二層により帯びうる静電荷の符号とは反対の符号で静電荷を帯びうるパターン化親水性第三層を形成するために、疎水性または親水性第二層で覆われていない第一層の部分を処理し、
ｃ）第一、第二および第三層のうち少くとも一つに静電荷を帯びさせ、
ｄ）ポリマー粒子の静電荷の符号とは反対の符号を有する静電荷を帯びた層へポリマー粒子を静電結合させるために、ポリマー粒子がそれらの表面で第一、第二および第三層のうち少くとも一つの静電荷の符号とは反対の符号で静電荷を帯びうるように官能化されたポリマー粒子（スペーサー）の分散液と、静荷電パターン化第一基板を接触させ、
ｅ）所望により、官能化ポリマー粒子が静電結合されていない部分から官能化ポリマー粒子を、および／またはポリマー粒子がそこへ静電結合されていないならば疎水性または親水性第二層を除去し、そして
ｆ）次いで、基板の対を得るために、第一基板を第二基板へ接合させる
ことからなる。
【発明の具体的説明】
【０００７】
ステップａ）では、第一層がパターン化され、絶縁面は露出させておく。第一層はいかなる物質でもよいが、通常それはポリイミドのようなアライメント層、またはＩＴＯ層のような導電もしくは半導電層であり、これらは化学的にパターン化しうる。第一層がアライメント層で覆われた導電または半導電層であることも可能である。第一層は、フレキシブルポリマーベース基板、またはガラス基板のような非フレキシブル基板の一部でもよい。第一層は基板の一体部分、例えば金属基板の最上層でもよい。第二層は疎水性または親水性化合物から作製され、例えば、オクタデシルトリクロロシラン（ＯＴＳ）などのような保護疎水性分子のパターン化自己組織化単層（ＳＡＭ）であり、これは当業者に知られているような常法で、例えばシリコンゴムスタンプでマイクロコンタクト印刷により適用される。親水層は、当業者に知られているように、３‐（２‐アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３‐アミノプロピル‐３‐メトキシシランなどから作製しうる。第一層が導電または半導電層であるとき、この層は化学処理により、例えばＩＴＯ層を塩化水素で処理するか、または電圧を加えることにより、静電荷を帯びうる。親水性第二および第三層は適切なｐＨを適用することで荷電され、その後で酸性または塩基性基が各々アニオンまたはカチオン基に変換される。
【０００８】
ポリマースペーサーは静荷電されうる基、例えばカルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸などのような酸基で末端官能化され、これらは適切なｐＨで負荷電カルボキシレート、スルホネートおよびホスホネート基へ各々変換される。末端基はアミン、好ましくは一級および三級アミンのような塩基性基でもよく、その基は適切なｐＨで正の静電荷を帯びうる。スペーサーは、柱状、楕円、円柱および球のように、いかなる形をとってもよい。球および球状粒子が好ましく、更に好ましくは約１〜約１０μｍの直径を有するものであり、それはそれらが容易に入手できて、既定部位へ都合よく付着させられるからである。これらの末端官能化粒子を利用した基板は新規であり、本発明の態様でもある。適切な方法で、パターン化後に、基板はこのような粒子の水懸濁または分散液に浸される。適切な態様では、ポリマースペーサーは第一層表面の非保護（非被覆）部分へ選択的に吸着し、過剰のスペーサーは容易にすすぎ落とせる。溶液のｐＨは、その各特徴、特に速度および相互作用強度のうち１以上について、プロセスを最適化させられるように調整してよい。このプロセスの代替法は、未被覆面をスペーサーと接触させる前に、中間ＳＡＭまたは直線状もしくはデンドリマー多価電解質層を未被覆面へ付着させることである。強調すべきは、その代替法には異なるソフトリソグラフィーおよび付着ステップの組合せも含むことである。これらのプロセス後、液晶分子を一方向に向ける（整列させる）配向手段が、一対の基板のうち少くとも一方の内側に設けられ、こうして所望により整列前に層を摩擦した後で、液晶が配向される。
【０００９】
スペーサーが装置の光学性能を妨げないように、即ち好ましくはピクセルの表面ではなく、その端または角のみに、スペーサーのクラスターを置くことが好ましい。
【００１０】
関連面において、本発明はポリマー粒子（スペーサー）で互いに離された一対の基板に関し、その場合にポリマー粒子は既定のパターンで基板対間に置かれ、ポリマー粒子がそれらの表面で静電荷を帯びうる基を有するように官能化されている。特に、粒子は、それが接触する第一、第二および第三層のうち少くとも一つで帯びうる静電荷の符号とは反対の符号で、電荷を帯びうる。
【００１１】
図１によると、球形官能化スペーサー１を利用した、光透過性基板２を含んでなる、液晶電気光学機器の一部が示されている。第一基板上に置かれて、スペーサーで第一基板から特定距離に離された第二基板と、任意の電極、配向膜、液晶物質およびシーリング物質は、図１〜４で示されていない。スペーサーは例えば負の静電荷を有し、第一層３へ結合されるが、この具体的ケースでは、第一層は、塩化水素で化学的に修飾されて正の静電荷を帯びるＩＴＯ層である。スペーサーは、第一層３上でパターン化された疎水性第二層４（例えば、ＯＴＳ層）と相互作用を起こさず、したがってこれらの部分は自由な形状のポリマー粒子１である。
【００１２】
図２では、第二層４が（ＯＴＳ）のような疎水層ではなく、負荷電親水層である態様が示されている。親水性第二層４で覆われていない第一層３の部分には、親水性第二層の電荷とは反対の正の静電荷を帯びた親水性第三層５が設けられている。負荷電スペーサーは、負荷電第二層４ではなく、正荷電第三層５と接着する。スペーサー１の結合後、第二層４が所望により除去され、その後で図４で示された構造が得られるが、該図において数値６は親水性第三層５に相当する。
【００１３】
図３では、第三層５が高分子多価電解質またはデンドリマーであり、そこへスペーサーが結合した、図２の特別な態様が示されている。
【００１４】
図４は、疎水性または親水性第二層４が（図２または３で示されたような態様から）除去され、数値６が（高分子多価電解質でもまたはデンドリマータイプでもよい）第三層５に相当し、それが官能化ポリマー粒子へ静電結合されている、という態様を示している。
【００１５】
図４は、静荷電ポリマー粒子１の符号と反対の符号で静荷電される基を有する第二層４が、静荷電ポリマー粒子１の場合と同じ符号で静荷電されないまたはされる第一層上でパターン化され、その後で官能化ポリマー粒子１が第二層４へ結合される、という態様も表わしている。例えば、この態様は、層３が基板上に直接設けられたアライメント層であるときに得られる。この態様において、（図４で数値６により示された）第二層４は高分子多価電解質でもまたはデンドリマータイプでもよい。
【００１６】
上記の方法は、本発明の目的でもある装置を提供する。そのため、本発明は、少くとも第一基板２が第一層３で覆われ、疎水性または親水性第二層４で、および所望により、第二層が親水層ならば親水性第二層の静電荷の符号とは反対の符号で静電荷を帯びる親水性第三層５でパターン化され；第一、第二および第三層のうち少くとも一つが静電荷を帯びている、ポリマー粒子（スペーサー）で互いに離された２枚の基板を含んでなる装置にも関し、ポリマー粒子が既定パターンで基板対間に置かれ、ポリマー粒子が静電結合される第一、第二または第三層のうち少くとも一つの静電荷の符号とは反対の符号でポリマー粒子がそれらの表面で静電荷を帯びるように官能化されていることで特徴づけられる。
【００１７】
好ましくは、スペーサーは既に説明されたように球または球状の形を有する。
【００１８】
本発明はＬＣＤディスプレイ向けにも特に有用である。ＬＣＤディスプレイは当業者に周知である：例えば”Liquid Crystal Devices:Physics and Applications(Artech House Optoelectronics Library)”Vladimir G.Chigrinov,pp.215-2,Artech House;ISBN:0890068984(April 1999)参照。
【００１９】
このようなＬＣＤディスプレイは、本発明による一対の基板、好ましくはポリマー粒子（スペーサー）で互いに離された一対の基板を組み込んでおり、その場合にポリマー粒子は既定パターンで基板対間に置かれ、それが接触する第一、第二または第三層のうち少くとも一つにより帯びうる静電荷の符号とは反対の符号でポリマー粒子がそれらの表面で静電荷を帯びうる基を有するように官能化されている。
【００２０】
ポリマー粒子は、それらの官能基を介して荷電層へ静電結合される。官能化粒子は、官能基がイオン化されうる媒体中に分散されると、電圧を加えることで荷電された層へ静電結合させることも可能である。例えば、金属層は電圧を加えることで正に荷電され、その後でカルボキシレート官能基ポリマー粒子の分散物が該層へ静電結合しうる。こうして粒子をパターン化させた後で電圧が除かれるが、その後で該層はもはや荷電されず、官能化粒子の荷電カルボキシレート基はそれらの未荷電カルボン酸形に戻る。このような装置において、粒子は既定パターンで置かれるが、最終製品ではもはや静電結合していなくてもよい。
【００２１】
本態様で用いられる液晶物質は、Low Molecular Weight Liquid Crystals I,Volume 2A,Handbook of Liquid Crystals by George W.Gray(Editor),John W.Goodby(Editor),Hans W.Speiss(Editor),Edited by Dietrich Demus,John Wiley & Sons;ISBN:3527292713;1st edition(March 10,1998)で開示されているように、いかなる適切な液晶物質でもよい。具体的な非制限例は、Ｅ７ＴＭ（ex Merck）およびチッソ製の強誘電液晶ＣＳ１０１４である。
【００２２】
インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）は特に第一層として使用向けの電極物質であり、５０〜２００ｎｍ、特に１００ｎｍの厚さまでスパッタリングまたは蒸着によりガラス基板（面積１０×１０ｃｍ）上に付着され、電極を得るために通常のフォトリソグラフィーによりパターン化される。ポリイミドも得られた基板の表面へスピンコーティングにより塗布してよく、２８０℃で焼成される。配向膜として使用に適したポリイミドには、ＲＮ‐３０５（日産化学工業の製品）およびＬＰ‐６４（東レの製品）がある。ＬＰ‐６４は、ポリイミド膜(厚さ１５ｎｍ）を形成するために、特にその態様で用いられる。一般的に、ポリイミド膜は１０〜８０ｎｍの厚さで設けられる。次いで、得られた基板が摩擦プロセスによる一軸配向処理に付されてから、疎水または親水層が形成される。適切な層は、ポリスチレンスルホネート、ポリアクリル酸ナトリウム塩、オクタデシルトリクロロシラン、３‐アミノプロピルトリメトキシシランおよび３‐アミノエチル‐２‐アミノプロピルトリメトキシシランで得られる。アミンまたはカルボキシレート基で官能化されたラテックス粒子の微小球ポリマー、例えばPolybeadＴＭ微小球（ex Polyscience Inc.,ＵＳＡ）、Microparticles GmbHの官能化球（ヒドロキシル、カルボキシル、サルフェート、スルホネート、アミノ基）、Seradynのカルボキシ修飾微小球、またはKisker-Biotechのアミノおよびカルボキシ修飾微小球が用いうる。
【００２３】
こうして、上述のように、本発明はプロセスが簡素化されかつプロセス時間が短縮された液晶電気光学機器の製造方法を実現している。
【実施例】
【００２４】
本発明は下記非制限例で更に説明されている。
物質および化学製品
下記サンプルはすべて、第一層として、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）導電層で覆った。
サンプル
用いられた基板は：
ａ）ガラス
ｂ）帝人の合成樹脂ホイル（コードＤＴ１２０Ｂ６０）
ｃ）合成樹脂ホイルＯＩＫＥ‐ＰＥＴ（コードＬＲ‐ＴＳ）である。
パターンとして顕微鏡スライドを用いて合成樹脂ホイルをカッターで切り取った。
【００２５】
微小球（ポリマー粒子、スペーサー）
下記２つの異なる官能基を有するPolybeadＴＭ微小球（単分散ポリスチレンラテックス粒子）を用いた。
アミン‐官能化
カルボキシレート‐官能化
球体を脱イオン水で希釈し、一滴ずつ測定した。
【００２６】
修飾剤
ＩＴＯ表面を修飾するために、静電荷を帯びうる親水性第二層として下記ポリマー：
ＰＳＳ（ポリスチレンスルホネート）
ＰＭ（ポリアクリル酸、ナトリウム塩）
および疎水性第二層を作製するために下記分子：
ＯＴＳ（オクタデシルトリクロロシラン）
Ａ１１００（３‐アミノプロピルトリメトキシシラン）
Ａ１１２０（３‐（２‐アミノエチルアミノプロピル）トリメトキシシラン）
を用いた。
【００２７】
微小球溶液
溶液の調製
微小球を一滴ずつ測定し（一滴重量約３５ｍｇ）、脱イオン水で希釈し、所望によりＨＣｌのような強酸（アミノ球の場合）またはＮａＯＨのような塩基（カルボキシ球の場合）を用いて荷電（ｐＨ荷電）させた。主に未荷電溶液を用いた。
【００２８】
溶液の使用
実験クッカーおよび磁気スターラーを用いて浸漬実験用の微小球溶液を攪拌した。スピンコーティング技術の場合、振盪溶液をPasteurピペットで滴下した。
【００２９】
サンプル調製
実験を開始する前に、サンプル基板を異なるクリーニング技術で洗った。
エタノールで洗浄し、空気中ＲＴで乾燥させた。
エタノールで洗浄し、Kimberly-Clarkクロスでふき取り、オーブン（３３３Ｋ）で乾燥させ、表面を下記操作のうち一つで活性化させた：
ＵＶ‐オゾン
プラズマ‐酸素
【００３０】
第一、第二または第三層のうち少くとも一つへのポリマー粒子の静電結合
表面修飾なしで微小球の結合
サンプルを微小球溶液入りプラスチックビーカー中に垂直に置いた。浸漬後、
‐脱イオン水および／またはエタノールに浸す
‐脱イオン水および／またはエタノールでスプレーする、および
‐加圧空気で吹き付ける
のようなクリーニング操作を数回行った。
サンプルの乾燥は、空気中室温（２２℃）で、またはオーブン中６０〜９０℃で行った。
【００３１】
表面修飾（浸漬）および微小球の結合（浸漬）
ＩＴＯの結合能を増すために修飾剤を用いた。通常の浸漬実験、次いですすぎおよび／またはクリーニングステップ（水‐エタノール）、およびオーブン中６０℃で乾燥。結合部は前記と同様であった。
【００３２】
表面修飾（スタンピング）および微小球の結合（浸漬）
実験では、ＰＤＭＳスタンプを用いた（リファレンス：Xia,Y.N.and G.M.Whitesides(1998).”Soft lithography”.Annual Review of Materials Science 28:153-184）。インキ（修飾剤）をPasteurピペットでスタンプ上に塗布し、溶液をスピンコーティングにより拡散させた。スタンプを完全に乾燥させて、汚れたパターンを避けるために、それを加圧空気で数秒間吹きつけた。次いで、スタンプを裏返し、指でサンプルに押し付け、５秒後にピンセットを用いて除去した。結合は上記されている。
【００３３】
表面修飾（スタンピング）および微小球の結合（スピンコーティング）
スタンピング部は前記と同様であった。結合のため、スタンプされたサンプルの部分をスピンコーターのチャック上に載せ、微小球溶液をPasteurピペットで滴下した。表面に結合する可能性を球体に付与するために、待ち時間（沈降時間）をとった。次いで、低速（１０００ｒｐｍ）のスピンコーティングを溶液除去のために用いた。サンプルをオーブンに６０℃で１０〜１５分間入れることにより、それを完全に乾燥させた。
【００３４】
結果
ＰＳＳ、ＰＡＡ、Ａ１０００およびＡ１１２０を用い、次いで０．０１〜５ｗｔ％の濃度および５〜１０のｐＨを有する微小球の溶液にサンプルを浸すことにより、表面修飾を得た。ＮａＯＨを加えることによりカルボキシル化球体を荷電させ、ＨＣｌを加えることによりＩＴＯ層を荷電させた。ガラス‐ＩＴＯ基板および濃度（０．０１〜５ｗｔ％）でカルボキシレート官能化微小球を用いた場合、良い被覆を示すためには５分間の浸漬時間で十分であった。
【００３５】
非接着修飾剤分子は、結合実験に際して微小球溶液の汚染を防ぐために除去した。脱イオン水で数秒間の浸漬を数回繰返すことが、良い処理のようである。流水でのすすぎまたは浸漬のような他の技術も実施しうる。非結合微小球は、浸漬、すすぎおよびスプレーにより、または加圧空気で吹き付けることにより除去しうる。表面修飾後、サンプルを６０℃で乾燥させた。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
本方法の原理は、図１〜４で示されている。
【図１】疎水性第二層でパターン化された荷電第一層、および官能化スペーサーを有する、基板について示す図である。
【図２】親水性第二および第三層を有した、図１の代替物を示す図である。
【図３】親水性第三層が多価電解質またはデンドリマーである、図２の代替物を示す図である。
【図４】第一層と親水性第二または第三層とそれに結合されたスペーサーとを有する基板について示す図である。
【図１】
2006500609.tif 000003
【図２】
2006500609.tif 000004
【図３】
2006500609.tif 000005
【図４】
2006500609.tif 000006
【国際調査報告】
2006500609.tif 000007
2006500609.tif 000008
2006500609.tif 000009