(57)【要約】本発明は遊離基気相反応を実行する反応器内へ電磁放射線を射出するための装置及びこの装置を具備する反応器に関する。本発明の装置は次の素子を有する：すなわち、ａ）反応室（６８）から隔離され、少なくとも１つの開口（７１）により反応器の反応室に接続されたコンパートメント（５６）、及び、ｃ）コンパートメント内へ払拭ガスを導入するための少なくとも１つの供給パイプ（７０）、及び、ｄ）少なくとも１つの電磁放射線源であって、ｅ）放射線がコンパートメント及びこれに隣接する反応室を通過するように配置された電磁放射線源を有する。本発明の装置又は反応器は遊離基連鎖反応の性能を増大させることができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊離基気相反応を実行する反応器内へ電磁放射線を射出するための装置において、
ａ）  反応器の反応空間から隔離され、ｂ）少なくとも１つの開口を介して上記反応器の上記反応空間に接続されたコンパートメントと；
ｃ）  上記コンパートメント内へフラッシングガスを導入するための少なくとも１つの供給ラインと；
ｄ）  電磁放射線の少なくとも１つの源と；を有し、
ｅ）  上記電磁放射線の少なくとも１つの源は、電磁放射線が上記コンパートメント及びこのコンパートメントに隣接する上記反応器の上記反応空間を通過するように配置されていることを特徴とする装置。
【請求項２】
上記コンパートメントへの光学窓及び又は別の光伝達ラインを有することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
上記光学窓及び又は上記別の光伝達ラインの透明な端部が水素化触媒として適する金属からなる光学的に半透過性の層で被覆されることを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
少なくとも１つのガス供給ラインを具備する中間の空間（６７）がバレル（５４）と（５７）との間に形成されて、上記反応空間（６８）及び外部（６９）から隔離したコンパートメントを形成するように配置された、２つの円錐状のバレル（５４、５７）を有し、上記反応器から最も遠くに配置された上記バレル（５７）が光学的に透過性の窓及び又は別の光伝達ラインを収容することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
全体の上記コンパートメント及び上記隣接する反応空間の照射を可能にする照射装置を設けたことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項６】
上記中間の空間（６７）が、上記光学窓及び又は上記別の光伝達ラインの表面の近くで上記コンパートメントに続き、かつ、当該光学窓及び又は当該別の光伝達ライン及びその環境を不活性ガス又は不活性ガス及び水素でフラッシングするのを可能にする別のガス入口（７２）を有することを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項７】
上記中間の空間（６７）が、上記開口（７１）の方向に続き、かつ、ガス状の促進剤物質の導入に役立つ別のガス入口（７２）を有することを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項８】
遊離基気相反応を実行するための反応器において、
i）  上記反応器内へ開いた供給ガスストリームのための供給ラインと；
ii）  コンパートメントを有し、上記反応器内へ電磁放射線を射出するために当該反応器内へ開いた、少なくとも１つの請求項１に記載の装置と；
iii）  上記装置の上記コンパートメント内へ開いた、フラッシングガスのための供給ラインと；
iv）  上記供給ラインに接続されたフラッシングガスの源と；
v）  適切な場合には、上記供給ライン内のフラッシングガスを加熱するための加熱装置と；
vi）  上記反応器内のガスストリームの温度を加熱及び又は維持するための加熱装置と；
vii）  上記反応器から通じる、遊離基気相反応の生成ガスストリームのための排出ラインと；を有することを特徴とする反応器。
【請求項９】
反応チューブを備え、ネジ部（５２）及び突起を有し請求項１に記載の装置をその中へ螺入したホルダ（５３）が上記反応チューブに溶接されることを特徴とする請求項８に記載の反応器。
【請求項１０】
炉と、その炉を通って蛇行した態様で延びる反応チューブとを有し、上記炉が放射区域（１６）と、対流区域（１７）と、上記反応チューブのループが上記放射又は対流区域（１６、１７）からその中へ延びるか又は当該反応チューブのループがそこから当該放射又は対流区域（１６、１７）内へ延びるような少なくとも１つの加熱されないコンパートメント（１８）とを有し、請求項１に記載の少なくとも１つの装置が、上記少なくとも１つのコンパートメント（１８）内に位置し、電磁放射線がこれらの地点において反応混合物のガスストリーム内へ射出できるように、該反応チューブ内に設置されることを特徴とする請求項９に記載の反応器。
【請求項１１】
断熱的な後反応器が上記反応器の下流側に設置されることを特徴とする請求項８に記載の反応器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に遊離基の光分解のために、電磁放射線を反応器内へ射出できる装置に関し、また、気相において遊離基連鎖反応を実行するための装置を備えた反応器に関する。
【背景技術】
【０００２】
遊離基連鎖反応を実行するに当っては、一定の反応体積及びさもなければ同一の条件の下での変換を増大させるために利用できる多量の起動遊離基を有することがしばしば望ましい。
【０００３】
長年にわたり、遊離基気相反応が産業的に実行されてきた。処理の経済性を改善する対策の１つは極めて高い反応変換を追及することであった。この目的のため、供給ガスに促進剤を添加していた。促進剤は、反応器内で優勢な条件の下で遊離基に分解し、所望の生成物を得る連鎖反応を起こす化合物である。このような化合物の使用は例えばＵＳ−Ａ−４，５９０，３１８号明細書及びＤＥ−Ａ−３，３２８６９１号明細書から知られている。
【０００４】
ハロゲン含有脂肪族炭化水素をレーザー光の助けで遊離基へと解離し、例えば塩化ビニルの準備のために遊離基連鎖反応に使用することが提案されてきた。これらの例は、国際光工学会（SPIE）、第４５８巻、「産業化学へのレーザーの応用」（１９８４年）、８２−８８頁、Ｕｍｓｃｈａｕ、番号１６、４８２頁、及びＤＥ−Ａ−２，９３８，３５３号明細書、ＤＥ−Ｃ−３，００８，８４８号明細書及びＥＰ−Ａ−２７，５５４号明細書に記載されている。しかし、この技術は現在まで産業生産に導入されていなかった。その理由は、今まで提案された反応器が長期間作動に適さないからだと思われる。
【０００５】
遊離基気相反応の実行においては、副産物の形成が予期される。これらの副産物は長期間の作動中に反応器を汚染し、例えば炭素沈殿物として反応器内に堆積する。
特に促進剤物質を使用する場合、炭素形成量が増大する。その理由は、反応装置において顕著な効果を有する量の促進剤を使用しなければならないからである。
【０００６】
これらの欠点は変換の増大により得られる経済的な利点を無効にし、現在産業的な実践において確立されていない促進剤物質の使用に通じる。
炭素形成の問題はＤＥ−Ａ−３００８８４８号明細書で述べられている。そこでは、金属蒸気ランプ及びまたレーザーを光源として使用しての、反応空間内への光の直接照射による遊離基連鎖反応の光化学的開始反応が提案されている。レーザーを使用したときに自由を保ったまま、金属蒸気ランプのような連続的に作動する光源を使用した場合に、窓が副産物により急激に覆われるという観察もそこに述べられている。
【０００７】
提案された救済策は、形成される副産物が窓の下流側でのみ顕著な量だけ形成されるように、光学窓の区域において高速流れを使用して作動させることである。
しかし、この手順は、窓の「自己清掃」が脈動レーザーの使用に多分制限されるという欠点を有する。その理由は、脈動レーザー場合、ガスの短時間の局部加熱により炭素粒子内及びそのまわりに圧力パルスが発生し、次いで、これが炭素粒子又は炭素層を窓から払い落とすからである。脈動レーザーの使用は上記ＤＥ−Ａ−３００８８４８号明細書には明確に述べられていないが、上記ＤＥ−Ａ−３００８８４８号明細書に参照として明確に組み込まれた上記ＤＥ−Ａ−２９３８３５３号明細書に述べられている。
【０００８】
上記ＤＥ−Ａ−３００８８４８号明細書及び上記ＤＥ−Ａ−２９３８３５３号明細書に基づく実験を融解石英反応器内で実行した。しかし、金属で作られた産業反応器の場合、反応器の内側区域従って設置された任意の光学窓の「上流側」においてさえ、炭素沈殿物が形成される。可能性のある原因は、第１に、炭素前駆物質が反応器の入口区域に形成されること、第２に、始動材料が蒸留により注意深く純化された場合でさえ、産業的な処理において、少量の炭素前駆物質が始動材料と一緒に反応器内へ導入されることである。それ故、産業的な実践において簡単な方法で履行でき、炭素沈殿物の形成を有効に回避できる更なる処理の要求がある。
【０００９】
本発明はこれらの欠点を巧みに回避し、炭化水素の熱解離の状態の下で作動する反応器内へ光を射出できる装置又は反応器を提供する。この目的のため、フラッシングガスが実際の反応空間とは別のコンパートメントへ供給され、放射線源からの放射線がコンパートメントを通過し、次いで、このフラッシングガスは反応空間内へ導入される。
【非特許文献１】「産業化学へのレーザーの応用」、国際光工学会、１９８４年、第４５８巻、ｐ．８２−８８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は長期間の作動において使用できる反応器内へ電磁放射線を射出する装置を提供することであり、この場合、炭素の形成、又は、光学窓又は光伝導体上への炭素の付着の傾向は既知の装置に比べて大幅に減少する。
【００１１】
本発明の別の目的は、高温の状態の下でさえ、電磁放射線を射出する装置に気密な態様で簡単に接続できる反応器を提供することである。
本発明の他の目的は遊離基連鎖反応を実行する装置及び反応器を提供することであり、この場合、従来の反応器に比べて一層高い反応が同じ作動温度で達成でき、または、従来の反応器に比べて、作動温度の減少が同じ変換において可能になる。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、遊離基気相反応を実行する反応器内へ電磁放射線を射出するための装置に関し、この装置は
ａ）  反応器の反応空間から隔離され、ｂ）少なくとも１つの開口を介して反応器の反応空間に接続されたコンパートメントと；
ｃ）  コンパートメント内へフラッシングガスを導入するための少なくとも１つの供給ラインと；
ｄ）  電磁放射線の少なくとも１つの源と；を有し、
ｅ）  上記電磁放射線の少なくとも１つの源は、電磁放射線が上記コンパートメント及びこのコンパートメントに隣接する上記反応器の上記反応空間を通過するように配置されている。
【００１３】
本発明の装置はコンパートメント内へ開いた、フラッシングガスのためのパイプに接続される。
フラッシングガスは本発明の装置を介して反応器内へ導入される。
【００１４】
このフラッシングガスは不活性ガス及び（又は）解離促進剤からなるガス及び（又は）反応装置の成分となるガス及び（又は）ガス状の還元剤とすることができる。
解離促進剤の場合、解離促進剤は、反応器内への導入の直前にコンパートメント内で又は反応器へのコンパートメントの開口の下流側の放射区域内で、光分解的に解離される。
【００１５】
不活性ガスの例は、例えば、窒素、例えばアルゴンの如き希ガス又は一酸化炭素のような、反応器内で優勢な反応状態の下で不活性なガスである。
反応装置の成分となるガスの例は、供給ガスストリームの成分を構成するガスである。
【００１６】
ガス状の還元剤の例は水素である。
本発明の装置内での光分解に使用するための及び反応器内へ導入するための促進剤はそれ自体既知である。これらの促進剤は、放射線の作用の下で遊離基のような活性種へと壊変し、反応器の反応空間内で遊離基連鎖反応を促進する化合物である。
【００１７】
電磁放射線を射出する装置の位置におけるガスストリームの典型的な温度は気相反応の形式に依存し、例えば２５０ないし１３００℃のような幅広い範囲を包含する。
本発明の装置を介して供給されるガスによりもたらされる効果は、選択した温度のみならず発生した遊離基及びその量にも依存する。普通は、全マスフローに基づき、フラッシングガスの１０重量％を越えない、好ましくは５重量％を越えない、特に０．０００５ないし５重量％の総量が反応気内へ導入される。
【００１８】
フラッシングガスの導入は光学経路内に位置する部品上への炭素の付着を阻止するものと思われる。
その上、遊離基は促進剤を使用した場合に光分解的に発生し、反応混合物内での遊離基連鎖反応を促進する。その理由は、遊離基の増大した濃度を最終的に利用できるからである。
【００１９】
供給ガスストリームが反応器内へ入る地点に位置する本発明の少なくとも１つの装置を優先する。その結果、供給ガスが反応器内へ入る地点で高濃度の遊離基が形成され、これらの遊離基は有効な連鎖反応に貢献する。
【００２０】
本発明の反応器の好ましい変形例においては、反応混合物は反応器を通過する間に本発明に係る複数の装置に接触する。
２／３及び（又は）３／３におけるよりも大きな、反応器の１／３における本発明の装置の数を特に優先する。
【００２１】
本発明はまた、上述の装置の少なくとも１つがそこへ通じる、遊離基気相反応を実行する反応器を提供する。
この反応器は少なくとも次の素子を有する：
i）  反応器内へ開いた供給ガスストリームのための供給ライン；
ii）  コンパートメントを有し、反応器内へ電磁放射線を射出するために反応器内へ開いた、少なくとも１つの上述の装置；
iii）  装置のコンパートメント内へ開いた、フラッシングガスのための供給ライン；
iv）  供給ラインに接続されたフラッシングガスの源；
v）  適切な場合には、供給ライン内のフラッシングガスを加熱するための加熱装置；
vi）  反応器内のガスストリームの温度を加熱及び（又は）維持するための加熱装置；及び
vii）  反応器から通じる、遊離基気相反応の生成ガスストリームのための排出ライン。
【００２２】
反応器としては、このような反応のために当業者に知られているすべての形式を使用することができる。チューブ反応器を優先する。
本発明の反応器に、好ましくは上記ii）、iii）及びiv）の素子を有する断熱的な後反応器(adiabatic after-reactor)が続くことができる。断熱後反応器においては、必要な反応の熱は導入された生成ガスストリームの熱により供給され、その結果、ガスストリームは冷却される。
【００２３】
本発明の反応器と上記ii）、iii）及びiv）の素子を有する断熱後反応器との組み合わせの代わりに、上記ii）、iii）及びiv）の素子を有しないそれ自体既知の反応器とこのような断熱後反応器とを組み合わせることも可能である。
【００２４】
本発明の装置は本発明の装置内に通じ、反応器を通過する際にフラッシングガスを供給ガスストリーム内へ供給し、反応器の内部への電磁放射線の射出を許容する。
フラッシングガス（混合物）は実際の反応空間に先立ってコンパートメントを通って流れ、次いで、ノズルとして形状づけることのできる開口を通過し、実際の反応空間内に至る。
【００２５】
光分解を実行するため、上述の目的に適する放射線源からの電磁放射線は、好ましくは溶融シリカ窓である光学的に透過性の窓を通して又は光導体を介して、実際の反応空間とは別のコンパートメント内へ射出され、コンパートメント自体又は隣接する反応空間の部分をも通過する。
【００２６】
コンパートメント内においては、フラッシングガスは反応空間から例えば光学窓のような光学素子を化学的に遥かに隔離するガスクッションを形成する。この対策が正しいことは例の助けにより以下に示す。
【００２７】
遊離気相反応を実行する際の望ましくない二次的な反応は反応器上への炭素の付着である。炭素の付着の過程は、金属材料上よりも溶融シリカのような非金属上において一層ゆっくり進行する。この事実は、チューブの内壁に非金属コーティングを施すことにより反応チューブ内での炭素の形成を遅らせるためにここで利用する。この事実にも拘わらず、光学素子が反応混合物に直接曝される即ち反応器の壁に直接設置される場合は、炭素は光学素子上にも付着する。
【実施例】
【００２８】
図１、２、３及び４を参照して、本発明の装置の特に好ましい実施の形態及び反応器内でのその好ましい配置を以下に説明する。
図１は好ましくは電磁放射線を射出するために使用する装置及び本発明の反応器内でのその設置を示す。
【００２９】
ネジ部（５２）及び円周方向のシール縁部（５３）をその内部に有するホルダは反応チューブのベンドにおいて溶接される。円錐状のバレル（５４）はノズルとして形状づけることのできる前端を有し、例えば螺入を一層容易にするために六角形の内部（５５）を有し、このホルダ内に螺入することができる。円錐状のバレル（５４）をホルダ（５６）内へ螺入したとき、バレルは、ホルダのシール縁部（５３）と共働して、反応の条件下で信頼できるシールを形成する。この証明されたシール原理はＤＥ−Ａ−４４２０３６８号明細書に記載されている。同様に、上記ＤＥ−Ａ−４４２０３６８号明細書に記載されているように、停止箱パッキン（図１には示さない）により付加的なシールを生じさせることができる。
【００３０】
別のバレル（５７）は同じシール原理を使用してホルダ（５６）内に螺入することができ、このバレルは光学的に半透過性の金属層（５９）で被覆できる例えば溶融シリカ窓のような光学的に透過性の窓（５８）を収容し、金属は好ましくは炭化水素触媒であり、特に好ましくはプラチナ金属である。
【００３１】
光学窓はホルダ（６０、６１）間でクランプされ、これらのホルダは、窓に対面する側に、好ましくは金属シール、特に好ましくは金シールであるシール（６３、６４）を収容する円周方向のくぼみ（６２）を有する。
【００３２】
窓（５８）はホルダ（６０）によりホルダ（６１）に押し付けられる。これは、例えば閉じた端部を有する穴（６６）を具備する軸受リング又は軸受ブロック（６５）上にホルダ（６０）を螺合することにより、達成できる。
【００３３】
ホルダ（６０）及び（６１）、くぼみ（６２）及び一層厚いシールは、組立体が一緒に螺合されたときに、シールの決められた圧力が確立され、光学窓が損傷しないように、寸法きめされる。
【００３４】
バレル（５４）及び（５７）間の中間の空間（６７）は１又はそれ以上のガス供給ラインを具備し、反応空間（６８）及び外部（６９）から隔離されたコンパートメントを形成する。
【００３５】
遊離基気相反応は反応空間（６８）内で生じる。チューブ反応器の場合、全体の組立体は好ましくは、炉の実際の放射区域から突出し、放射区域から熱的に絶縁された反応チューブのベンドにおいて設置される。
【００３６】
例えば窒素又は希ガス、又は促進剤物質と不活性ガスとの混合物、又はガス状の促進剤物質であるフラッシングガスはガス入口（７０）を通ってコンパートメント（６７）へ流入する。ガスはコンパートメントを去り、開口（７１）を通って反応空間へ流入する。
【００３７】
コンパートメントの恒久的なフラッシングの結果として、光学窓はガスクッションにより反応空間（６８）から隔離される。それ故、アセチレン、ベンゼン又はクロロプレンのような炭素前駆物質は窓に到達せず、そこで炭素沈殿物を形成する。
【００３８】
好ましい実施の形態においては、光学窓は光学的に半透過性の金属層で被覆され、その金属は例えばプラチナのような炭化水素触媒である。
少量の水素が促進剤ガスと混合された場合、フラッシング以外の目的で光学窓に到達する炭素前駆物質は窓の表面で減少する。その結果、窓の表面上では、炭素沈殿物が形成できない。
【００３９】
放射線源からの放射線は光学窓を通過し、エネルギを反応空間（６８）内の反応混合物の分子及びコンパートメント（６７）内に存在する任意の促進剤物質に伝達する。これが遊離基を発生させ（光分解）、次いで、実際の反応空間（６８）内で生じている反応を促進する。
【００４０】
遊離基が優勢な圧力状態（典型的には９−２５バール）の下で急激に再結合するため、遊離基の発生及びその後の遊離基の反応空間内への移送は通常困難である。
しかし、本発明に係る構成の場合、放射線は全体のコンパートメント及び反応空間をも通過する。この結果、所望の遊離基がまた開口（７１）及びこの開口に隣接する反応空間の区域において形成され、従って、信頼を持って反応に参加することができる。それ故、フラッシングガスは高流速を持つ必要がない。
【００４１】
別の実施の形態においては、装置の外壁、特に反応空間内へ突出する装置の部分は、例えば金属酸化物、セラミック、窒化ボロン又は窒化ケイ素のような不活性材料で被覆することができる。
【００４２】
図２に示すような別の好ましい実施の形態においては、コンパートメント（６７）は光学窓（５８）の表面近くまで続く別のガス入口（７２）を有する。これは、窓及びこれに隣接する環境をガスでフラッシングするのを可能にし、一方、フラッシングガスの別の部分はガス入口（７０）を通して導入される。このような構成は炭素沈殿物から光学窓を一層良好に保護することを可能にする。
【００４３】
図３に示す別の好ましい実施の形態は図２に示す変形例に似ている。しかし、この場合は、別のガス入口（７２）は開口（７１）の方向に続き、ガス状の促進剤物質を導入する役目を果たす。ガス入口（７０）は好ましくは不活性ガスであるフラッシングガスを供給する役目のみを果たす。このようにして、促進剤物質からの遊離基の発生は反応空間（６８）の近傍においてしかも窓（５８）から離れて生じる。これは可能な炭素沈殿物に対して光学窓（５８）の更なる保護を行う。
【００４４】
放射線源として、反応混合物の成分の光分解に適する放射線を発生する任意の装置を使用することができる。この源はＵＶランプ（例えば金属蒸気ランプ）又はレーザーとすることができる。レーザーを使用したとき、ここで提案された構成の場合は、脈動レーザー又は連続レーザーが使用されるかは重要ではない。エキシマランプも光源として使用できる。
【００４５】
使用される放射線は種々の方法で射出することができる。従って、例えば、光は光導体の束を通して射出することができる。光源はまた（例えば、金属蒸気ランプ又はエキシマランプを使用する場合）光学窓の背後でバレル（５７）内に直接設置することができる。この場合、好ましくは、適当な冷却を行う。光はまた別の窓を通してバレル（５７）内に射出することができ、鏡により窓（５８）上へ偏向することができる。
【００４６】
特定の実施の形態においては、ＤＥ−Ａ−１９８４５５１２号明細書及びＤＥ−Ｇｂｍ−２０００３７１２号明細書に記載された装置に類似する装置が光の射出のために使用される。先に知られている装置は作動する内燃エンジンの燃焼室内での処理を観察するために使用され、例えばスパークプラグアダプタの形として使用される。その実際に意図する目的即ち燃焼過程の観察とは別に、このような装置は、その圧力抵抗及び熱抵抗のため、作動する内燃エンジン内と同様の圧力及び温度の化学反応器内へ光を射出するためにも同様に適する。
【００４７】
このような装置を使用する場合、図１、２及び３に示す光学窓は、説明したシール装置と共に、無しで済ませることができる。次いで、光伝達ラインが、１又はそれ以上のスパークプラグアダプタに類似のアダプタの形として、バレル（５７）内に位置する分離壁内に螺入される。
【００４８】
図１に示す装置は遊離基気相反応を実行するための普通のチューブ反応器内に設置することができる。
反応チューブ上での本発明の装置の可能な配列を図４に示す。ネジ部及び円周方向のシール縁部を形成する突起（５３）を有するホルダは反応チューブ上に溶接される。
【００４９】
図１で説明した装置が上述のようにホルダ内に螺入された場合、信頼あるシールが形成される。
チューブ反応器は炉及び反応チューブを有する。
【００５０】
一般に、主要なエネルギキャリヤ例えばオイル又はガスにより発火されるこのような炉は放射区域（１６）と対流区域（１７）とに分割される。
放射区域（１６）においては、光分解に必要な熱は、主として、バーナーにより加熱された炉壁からの放射線により、反応チューブへ伝達される。
【００５１】
対流区域（１７）においては、放射区域を去る高温煙道ガスのエネルギ含量が対流熱移送により実現される。遊離基気相反応のための始動材料はこのような方法で予熱、蒸発又は過熱することができる。スチームの発生及び（又は）燃焼空気の予熱も同様に可能である。
【００５２】
例えばＥＰ−Ａ−２６４，０６５号明細書に記載されたような典型的な構成では、遊離基気相反応のための液体始動材料は反応器の対流区域内でまず予熱され、次いで、反応器の外部の専用の蒸発器内で蒸発される。次いで、遊離基気相反応のためのガス状の始動材料は対流区域内へ戻され、そこで過熱され、光分解反応をこの時点で開始させることができる。
【００５３】
過熱された後、遊離基気相反応のための始動材料は放射区域へ入り、そこで、生成物（混合物）を形成するための熱解離が行われる。
放射区域内で及び対流区域への入口において優勢な高温のため、図１に示す装置をこれらの区域内に直接配置しないことが有利である。その理由は、さもなければ、例えば、遊離基を含み、解離反応を促進するために導入されるガス又はガス混合物の温度の設定が不可能になるか又は可能でも極めて困難だからである。
【００５４】
それ故、図４に略示するような構成が優先される。
ここでは、反応器は熱絶縁された少なくとも２つの付加的な加熱されないコンパートメント（１８）により延長される。次いで、反応チューブのループは実際の放射又は対流区域（１６、１７）からこれらのコンパートメント（１８）を通って延びる。次いで、図１に示すような電磁放射線を射出する装置（１９）が好ましくはループのベンドにおいてこれらのループ内に設置され、これらのループの直線部分内へ開き、即ち反応チューブ内に組立てられ、そのため、反応混合物のガスストリームはこれらの地点で電磁放射線により処理することができる。
【００５５】
放射又は対流区域（１６、１７）から加熱されないコンパートメント（１８）へ延びる反応チューブのループは好ましくは熱絶縁を具備する。この場合、コンパートメントの外壁は熱絶縁機能を有する必要がない。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】電磁放射線により解離促進剤から遊離基を発生させるための及び遊離基気相反応器内へフラッシングガスを導入するための好ましい装置を示す長手方向断面図である。
【図２】図１の装置の改良形を示す長手方向断面図である。
【図３】図１の装置の別の改良形を示す長手方向断面図である。
【図４】図１の装置と共にチューブ反応器を示す長手方向断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
2006524561.tif 000007
2006524561.tif 000008
2006524561.tif 000009
2006524561.tif 000010
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