(57)【要約】【課題】本発明はキャリアヘッドに直接真空方法を用いて小さい圧力でウエハーを付着し、ウエハーの研磨時ウエハー面に均一な圧力を加えてウエハー面が均一に練磨されるようにするキャリアヘッドを提供する。【解決手段】  半導体ウエハーを研磨して平坦化するための化学機械的研磨装置のキャリアヘッドに対するものであり、ウエハー支持組立体を構成するメンブレイン下部ホルダーとメンブレイン上部ホルダー間に形成される空間部に内部の圧力を調整することができる調整チャンバーを形成し、前記調整チャンバーに加わる圧力が研磨中にメンブレイン下部ホルダーの中央に形成した通孔を通じてメンブレインの裏面に加わるようにし、また、前記メンブレインの中央部は前記メンブレイン下部ホルダーの通孔を通じて前記調整チャンバーの内側部に引き入れられ真空パイプに連結されるようにしたキャリヤーヘッドであり、それにより直接真空方法を利用して小さい圧力でウエハーを付着し、ウエハーの研磨時ウエハー面に均一な圧力を加えてウエハー面が均一に研磨されるようになる。
2006507691.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリア駆動シャフトによって駆動されるキャリアハウジング１と、該キャリアハウジング１の下部中央に設置された環形状のホルダーハウジング３と、該ホルダーハウジング３の内壁に沿って上下に垂直移動可能なウエハー支持組立体６と、該ウエハー支持組立体６を該ホルダーハウジング３の中央に形成した内壁に沿って上下に摺動させることができるように構成される装着チャンバー１０を含む化学機械的研磨装置のキャリアヘッドにおいて、該ウエハー支持組立体６はその内部に加圧可能な調整チャンバー１３と中央に孔が形成されたメンブレイン１２を含み、研磨作業中に前記調整チャンバー１３の内部に流入された加圧流体は該メンブレイン１２が外側に膨脹するようにしてウエハーの裏面の一部分に力を与えるようにし、該メンブレイン１２の中央部に形成された角部は該調整チャンバー１３の内側部に引き入れられ、真空パイプ３５に連結されて該ウエハー支持組立体６の吸着手段を形成し、該ウエハー支持組立体６の外側には該ウエハー支持組立体６の下面を基準にしてその下面と垂直方向に移動が可能なように設置される支持環７を含むように構成されることを特徴とする化学機械的研磨装置のキャリアヘッド。
【請求項２】
前記ウエハー支持組立体６はホルダーハウジング３の中央に形成した孔に挿入されて垂直に移動可能なホルダーシャフト５と、前記ホルダーシャフト５の下部に装着されるメンブレイン上部ホルダー８と、該メンブレイン上部ホルダー８の下部に位置するメンブレイン下部ホルダー１１と、該メンブレイン上部ホルダー８と該メンブレイン下部ホルダー１１によって両端部が固定されてウエハー６０の装着面を提供するメンブレイン１２を含んでなることを特徴とする請求項1に記載の化学機械的研磨装置のキャリアヘッド。
【請求項３】
前記支持環７の外側には前記ウエハー支持組立体６の下面を基準にしてその下面と垂直方向に移動が可能なように設置されるコンディショナー３７をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の化学機械的研磨装置のキャリアヘッド。
【請求項４】
前記真空パイプ３５に洗浄液を供給する洗浄装置が追加で構成されることを特徴とする請求項1に記載の化学機械的研磨装置のキャリアヘッド。
【請求項５】
前記真空パイプ３５と連結されてその真空圧力を測定することができる測定手段がさらに含まれることを特徴とする請求項1に記載の化学機械的研磨装置のキャリアヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は半導体ウエハーを研磨して平坦化するための化学機械的研磨（Chemical  Mechanical  Polishing;  CMP）装置のキャリアヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
化学機械的研磨装置は半導体ウエハー製造過程中のマスキング、エッチング、配線工程などの反復によって発生するウエハー表面の不均一を減らすためにウエハーの表面を平坦化するための装置である。
【０００３】
前記化学機械的研磨装置は２種類のメカニズムの相互作用によって研磨することができるように構成されるが、その一つ目は、膜が覆われた研磨対象のウエハー表面を研磨パッド上に置いてスラリー（Slurry）という研磨液を研磨パッドの上面に塗布し、これによってウエハーの表面で化学反応を誘導して化学結合強度を緩和する化学的研磨メカニズムであり、その二つ目は、キャリアヘッドを用いてウエハーに加圧した後、研磨パッドあるいはキャリアヘッドを動かしてウエハー表面に発生する摩擦を利用して活性化した研磨対象膜質を除去する機械的研磨メカニズムである。
【０００４】
前記のようにウエハーを平坦化するためには、ウエハーの非研磨面がキャリアヘッドに装着され、ウエハーの研磨面は研磨パッドに対向して置かれた後、研磨パッドとウエハーの研磨面の間に研磨液を供給してウエハーの研磨を実施する。
【０００５】
キャリアヘッドは研磨工程のために研磨を開始する前に、研磨のためのウエハーが付着される付着面を提供し、また、キャリアヘッドと研磨パッドの相対運動によって研磨が起こる研磨過程中にウエハーを収容するために用いられ、研磨パッドとキャリアの相対運動を経て研磨が終わったウエハーを研磨した後、後続過程のために研磨パッドから脱去するために用いられる。
【０００６】
化学機械的研磨工程におけるキャリアヘッドにおいて、具現し難いメカニズム中の一つが前記研磨工程前後に亘ってウエハーをキャリアヘッドに付着したり研磨パッドやキャリアヘッドから脱去することである。
研磨工程前にウエハーを付着して研磨を準備するためには、別途のウエハーを付着することができる方法が必要である。最も一般的には、真空吸着などの方法が用いられる。
【０００７】
上記のようなキャリアヘッドの一実施例として、図１のようにウエハー支持組立体６を構成するメンブレイン下部ホルダー１１に複数の吸着孔２８を形成し、前記メンブレイン下部ホルダー１１の外側上部にメンブレイン１２を付着するが、前記メンブレイン下部ホルダー１１の縁部に位置する前記メンブレイン１２下部に突出した可撓性リブ部３２を一体に形成することによって、前記吸着孔２８を通じてメンブレイン１２にウエハーが真空吸着された時に前記メンブレインのリブ部３２がウエハーの周縁を完全に密閉するように構成するものである（例えば、特許文献１、２）。
【０００８】
つまり、上記のように構成される従来のキャリアヘッド１８０は、可撓性素材のメンブレイン１２とウエハーを完全に密着させた後、吸着孔２８を通じて調整チャンバー１３側にメンブレイン１２を吸着してウエハーを間接的に吸着されるようにし、その間接吸着方法を補強するためにメンブレイン１２の縁部に突出される可撓性リブ部３２を一体に形成して構成することを特徴とする。
【０００９】
しかし、上記の構造はウエハーに伝達される前記調整チャンバー１３の真空圧力がメンブレイン１２に伝達される圧力に比べて相対的に小さいので、ウエハーの吸着時に吸着エラーを起こすことがあり、それによりウエハーの移動過程またはウエハー脱着過程中に前記キャリアヘッド１８０からウエハーが落ちウエハーパターン上のスクラッチの発生あるいはウエハー破損に繋がるおそれがある。
【００１０】
また、研磨工程が完了した後、ウエハーを研磨パッドから取り出してキャリアヘッド１８０に付着させる場合、研磨パッド上に存在する研磨液の残余分あるいは脱イオン水によってウエハーに作用される表面張力を超える程の吸着力がさらに必要となり、したがって、前記従来の間接真空構造のキャリアヘッド１８０の特性上、所望の真空圧力を得るためには可撓性リブ部３２などに相対的により大きい物理的力を加えてウエハーとメンブレイン１２の間に完全な密閉空間を形成した後に真空を実施しなければならない。したがって、ウエハーに無理な力が加わってウエハーの損傷などを起こすおそれがある。
【００１１】
また、ウエハーがキャリアヘッド１８０に適正な圧力で付着されていているか否かが感知できるウエハー有無感知機能が追加で必要となり、このため間接真空を利用した感知機能を実現するためにキャリアヘッドの内部構造が複雑になり、このような感知方法は失敗の確率が比較的に高くなる。
【００１２】
また、前記リブ部３２が形成される前記メンブレイン１２はウエハーの吸着時における失敗の確率を減らすことができるが、リブ部３２は相対的に突出されており、前記リブ部３２の活用のためにウエハーが付着される面の下部に十分に延びるように空圧的な制御が必要となり、追加機能の設定により構造的に複雑な問題を有し、この場合にも別途のウエハー離脱を感知する内部センサーが必要となる。
【特許文献１】米国特許公開ＵＳ２０００/７１７８８号
【特許文献２】日本特開平９-１６８９６９号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は上記のような従来の問題点を解決するためのものであって、次のような目的を有する。本発明の最初の主な目的はキャリアヘッドに直接真空方法を用いて小さい圧力でウエハーを付着し、ウエハーの研磨時ウエハー面に均一な圧力を加えてウエハー面が均一に練磨されるようにするキャリアヘッドの構造を提供することにある。
【００１４】
本発明の二番目の目的は複雑な構造の間接真空方法のウエハー感知装置を設置する必要なく直接に真空パイプの空圧変化を圧力調節装置から読み取ってウエハーの付着如何を判断することができるキャリアヘッドを提供することにある。
【００１５】
本発明の三番目の目的はウエハーの研磨過程中にキャリアヘッドに浸透されるスラリー残留物などの汚染物質を容易に除去することができるキャリアヘッドを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
前述した種々の目的を達成するために、本発明によるキャリアヘッドは、キャリア駆動シャフトによって駆動されるキャリアハウジングと、該キャリアハウジングの下部中央に設置された環形状のホルダーハウジングと、該ホルダーハウジングの内壁に沿って上下に垂直移動可能なウエハー支持組立体と、該ウエハー支持組立体を該ホルダーハウジングの中央に形成した内壁に沿って上下にスライドさせることができるように構成される装着チャンバーを含む化学機械的研磨装置のキャリアヘッドにおいて、該ウエハー支持組立体はその内部に加圧可能な調整チャンバーと中央に孔が形成されたメンブレインを含み、研磨作業中に該調整チャンバーの内部に流入された加圧流体は該メンブレインが外側に膨脹するようにしてウエハーの裏面の一部分に力を与えるようにし、該メンブレインの中央部に形成された角部は該調整チャンバーの内側に引き入れられて真空パイプに連結されて該ウエハー支持組立体の吸着手段をなし、該ウエハー支持組立体の外側には該ウエハー支持組立体の下面を基準にしてその下面と垂直方向に移動が可能なように設置される支持環を含むように構成されることを特徴とする。
【００１７】
また、前記ウエハー支持組立体はホルダーハウジングの中央に形成した孔に挿入されて垂直に移動可能なホルダーシャフトと、該ホルダーシャフトの下部に装着されるメンブレイン上部ホルダーと、前記メンブレイン上部ホルダーの下部に位置するメンブレイン下部ホルダーと、該メンブレイン上部ホルダーとメンブレイン下部ホルダーによって両端部が固定されてウエハーの装着面を提供するメンブレインを含んでなることを特徴とする。
【００１８】
また、前記ウエハー支持組立体の外側には、該ウエハー支持組立体の下面を基準にし、その下面と垂直上下移動が可能であると同時に、該ウエハー支持組立体の上下移動とは別途に各々その上下移動のコントロールが可能な支持環及びコンディショナーが設置されることを特徴とする。
【００１９】
また、前記真空パイプには圧力計の機能を備えた圧力調節装置が付着されてウエハーの真空度を測定してウエハーの吸着状態及び有無を感知することができるようにする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の化学機械的研磨装置のキャリアヘッドの構造は、直接真空を利用してウエハーを吸着し、ウエハー吸着不良あるいは吸着失敗の可能性が少なく、一つのウエハー収容面である可撓性メンブレインにウエハーが一定の真空圧力下で収容されているか否かを判別するのが容易であり、化学機械的研磨の機械的信頼性を高めてウエハー研磨に対する再演性を高めることができる。
【００２１】
また、真空パイプあるいはキャリアヘッドの隙間に流入され得る研磨液を洗浄する機能を備えており、汚染などから化学機械的研磨装置のキャリアを保護することができる。つまり、上記の装置によれば、ウエハーの脱・付着失敗による化学機械的研磨装置の作動の中断を減らすと同時に、汚染源に対する洗浄機能を持たせて工学的に信頼性の高い装置を提供することにより、半導体工程における生産収率を高める効果を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の構成及び作用に対して図２乃至図５を参照して説明する。
【００２３】
図２は本発明によるキャリアヘッドの断面図であり、図３は本発明によるキャリアヘッドでウエハーを真空で吸着した状態のキャリアヘッドを示したものであり、図４は本発明によるキャリアヘッドでウエハーを加圧した状態のキャリアヘッドを示したものであり、図５は本発明によるキャリアヘッドを利用してウエハーを研磨した時にそのウエハーの研磨状態に対するグラフを示したものである。
【００２４】
キャリア駆動シャフト（図示しない）に固定される本発明のキャリアヘッド１８０はキャリアハウジング１、ホルダーハウジング３、ウエハー支持組立体６、支持環ハウジング２、支持環ホルダー４、支持環７、コンディショナー環ハウジング４３、コンディショナー３７を含む。
【００２５】
前記キャリアハウジング１はキャリア駆動シャフト（図示しない）に固定され、研磨パッドの表面に実質的に垂直な回転軸線を中心に回転する。
【００２６】
前記ホルダーハウジング３はキャリアハウジング１の下部中心に設置された環状ボディーであって、その内壁に沿って後述するウエハー支持組立体６が空圧の作用によって垂直な昇下降が可能であって、ウエハー支持組立体６が自重によって下に落ちるようになる時、ウエハー支持組立体６の最低位置を決定するようにその内壁の一地点に係止部が形成されている。
【００２７】
前記ウエハー支持組立体６はウエハー６０の収容を円滑にするための道具であって、圧力パイプ５３と連通する装着チャンバー１０の作用によって垂直に上下移動して高さの調整が可能であって、ウエハー６０をウエハー支持組立体６に吸着させるローディング時にホルダーハウジング３の通路を通じて空圧が加わってウエハー支持組立体６が下降し、研磨工程後にウエハー６０の脱去のためのアンローディング時には上昇する。
【００２８】
前記ウエハー支持組立体６はホルダーハウジング３の中央に形成した孔に挿入されて垂直に移動可能なホルダーシャフト５と、前記ホルダーシャフト５の下部に装着されてメンブレイン１２の両端部を支持するためのメンブレイン上部ホルダー８と、前記メンブレイン上部ホルダー８の下部に位置するメンブレイン下部ホルダー１１と、前記メンブレイン上部ホルダー８とメンブレイン下部ホルダー１１の間に固定されてウエハー６０の装着面を提供するメンブレイン１２を含んでなる。
【００２９】
前記メンブレイン下部ホルダー１１とメンブレイン上部ホルダー８はその間に形成される空間部に内部の圧力を調整することができる調整チャンバー１３が形成され、また、その両端部でメンブレイン１２の端部が固定される。
【００３０】
前記メンブレイン下部ホルダー１１はその中央に通孔３４が形成されており、ウエハー６０を研磨する間に前記調整チャンバー１３に圧力が加えられると、その圧力は前記通孔３４を通じてメンブレイン１２の裏面に均一な圧力が加わって、ウエハー６０の裏面が滑るのを防止し、ウエハー６０面に均一な圧力を伝達してウエハー６０面が均一に研磨される。
【００３１】
前記可撓性メンブレイン１２はその下部面にウエハー６０の収容面を提供し、ウエハー６０の直径より多少大きく形成されるのが好ましい。前記可撓性メンブレイン１２は伸縮性を有するゴム及びシリコンなどの材質で構成され、特に、その中央部に形成された角部は直接真空にするためにメンブレイン下部ホルダー１１に形成される通孔３４に引き入れられ、真空パイプ３５に連結されてウエハー吸着部４１を構成する。
【００３２】
前記ウエハー吸着部４１はキャリアハウジング１を通じる真空パイプ３５に連通するように構成され、前記ウエハー吸着部４１を通じて空圧を調節して真空と大気圧状態を維持し、真空パイプ３５を通じて脱イオン水の供給を容易にすることにより真空パイプ３５及びキャリアヘッド１８０の洗浄が容易になるようにする。
【００３３】
前記支持環ハウジング２はキャリアハウジング１の下端部に付着され、支持環ホルダー４とコンディショナー環ハウジング４３を装着することができるようにその下部に環状の溝が形成されている。
【００３４】
前記支持環ホルダー４は支持環ハウジング２の内側に形成した環状溝に挿入されてスライド可能に形成され、前記支持環ホルダー４と支持環ハウジング２の間には圧力パイプ５１と連通する支持環チャンバー３９が形成される。
【００３５】
前記支持環７はキャリアヘッド１８０内部に汚染物質が浸透されないようにするプレクサー１４によってウエハー支持組立体６の端部に連結される支持環ホルダー４に固定されることで、圧力パイプ５１と連通した支持環チャンバー３９の圧力を調節してウエハー支持組立体６の垂直移動とは別途に上下移動が可能であり、硬質のプラスチックあるいはセラミック材料で製造され、平らな底面４０を有する環状の形状に構成される。
【００３６】
前記支持環７は支持環チャンバー３９の空圧によって上昇と下降をし、研磨のためには支持環７が下降し、またテーブルのプラテン（図示せず）も上昇し、上記のような状態では前記支持環７は研磨パッド１２０と接触されてウエハー６０の収容面のメンブレイン１２面からウエハーが離脱しないようにウエハー６０の収容空間を形成する。
【００３７】
前記コンディショナー環ハウジング４３は支持環ハウジング２の外側に固定付着され、その下部に形成した環状溝にはコンディショナー環チューブクランプ４９とコンディショナー環チューブ４２が固定され、その空間部には圧力パイプ５０と連通するコンディショナーチャンバー３８が形成される。
【００３８】
前記コンディショナー３７は圧力パイプ５０と連通しているコンディショナーチャンバー３８の空圧作用によってウエハー支持組立体６の垂直移動とは別途に上下高さを調整可能に構成され、研磨パッド１２０上に直接接触されて研磨パッド１２０の粗度調整に利用することができる。
【００３９】
前記研磨パッド１２０のコンディショニングは研磨中に行われるが、研磨パッド１２０の種類、表面性質によって適した接触力を加えるために適切な圧力制御によって加圧する。したがって、上下運動が可能なコンディショナー３７によってウエハー６０の研磨中あるいは研磨後にも研磨パッド１２０のコンディショニングが可能である。
【００４０】
図３を参照してウエハー６０が吸着される過程を説明する。
【００４１】
ウエハー６０がローディングカップ（図示せず）によって前記キャリアヘッド１８０に押し上げられ、キャリアヘッド１８０は停止状態で中央の真空パイプ３５を通じて真空圧力をかけておく。前記ウエハー吸着部４１ではウエハー６０とメンブレイン１２の密封によって真空が形成され、真空吸着後に研磨過程を始めるために支持環チャンバー３９に圧力を加え、支持環７を下方に押すようになり、これによって支持環７は下降して化学機械的研磨工程における研磨作業遂行の待機状態に置かれる。
【００４２】
研磨後の研磨パッド１２０上に置かれたウエハー６０を前記キャリアヘッド１８０によって真空吸着をしなければならない。上記のローディングカップ（図示せず）を利用する時に必要な吸着力以外にウエハー６０の研磨面と研磨パッド１２０の間の残余研磨液あるいは脱イオン水によって発生した表面張力よりさらに大きい吸着力を必要とするようになる。ウエハー６０がキャリアヘッドのメンブレイン１２に接触して真空吸着を実施できるようにするために、支持環チャンバー３９に真空圧をかけて支持環７を上昇させ、真空パイプ３５に真空圧力をかけてウエハー６０を吸着する。
【００４３】
図４はウエハー６０の化学機械的研磨のための各チャンバーの加圧状態を示す。前記支持環７は下降しており、研磨パッド１２０が設置されたプラテン（図示せず）は上昇している。研磨過程中の前記キャリアヘッド１８０に供給された流体の圧力は圧力パイプ５２を通じて前記調整チャンバー１３に供給され、メンブレイン１２素材の弾性的特徴によって通孔３４部分が開いてメンブレイン１２は膨脹する。圧力が全ての位置で均一な一般物理的な性質によってウエハー６０に均等の圧力で伝えられ、ウエハー６０吸着時ウエハー吸着部４１を構成するホール部分もメンブレイン１２の膨脹によって一時的になくなり、ウエハー６０中央部にもまた均等に圧力が加わるようになる。
【００４４】
また、研磨パッド１２０のコンディショニングのために前記コンディショナーチャンバー３８に加圧すれば、弾性素材である前記コンディショナーチューブ４２の膨脹が行なわれると同時に、コンディショナー３７は下降して研磨中あるいは研磨後にコンディショニングを実施することができる。
【００４５】
本発明による化学機械的研磨装置によれば、直接真空を用いてウエハー６０を付着するので、ウエハー６０がキャリアヘッド１８０の収容圧力下で適切に収容されていているか否かを追加の器具的装置なしで判別することができる。もし、ウエハー６０がキャリアヘッド１８０から落ちたり適切に付着されていない場合には、別途の器具なくキャリアヘッド１８０を貫通して設置された真空配管内の直接的な真空圧力の変化を利用する。ウエハー６０の離脱時の圧力の変化は真空パイプ３５と連結されてキャリアヘッド１８０の外部に設置された圧力調節装置（図示せず）に送出され、その送出値を測定してウエハー６０の離脱信号を受けて工程を中断させる。
【００４６】
また、本発明による研磨装置のキャリアヘッドの構造において、前記キャリアヘッド１８０と研磨パッド１２０の運動による研磨工程中に支持環７を越えて発生する可能性があるウエハー６０の離脱を感知するため、研磨パッド１２０に追加で感知装置を構成することができる。
【００４７】
また、化学機械的研磨装置の問題点の一つが研磨後に研磨パッド１２０上に残る残余研磨液である。この研磨液は研磨後にウエハー６０をキャリアヘッド１８０で取り上げる過程中に残っている研磨液が直接真空ラインに流入されることもあり、キャリアヘッド１８０の隙間に挟まることもある。流入された研磨液を長期間放置すると固まって、配管の一部分で流体の流れを妨害したり、キャリアヘッド１８０の隙間に挟まれて密着し、研磨のための運動過程中にウエハー６０のスクラッチを招いたり、加圧によるキャリアヘッド内部の構造装置を移動させる時に、摩擦を増加させて円滑な動きを制限する結果を招くことがある。上記の問題点を補完するため、本発明はキャリアヘッド１８０にウエハー６０が付着されていない状態で、つまり、研磨前あるいは研磨後に前記真空パイプ３５を利用して脱イオン水を流して間歇的に配管を洗浄することができるように構成される。
【００４８】
本発明による化学機械的研磨装置のキャリアヘッドを構成した後、前記キャリアヘッド１８０を利用してウエハー６０を研磨し、その研磨状態を測定した結果、図５のグラフのようにウエハー６０面の位置に関係なく均一な厚さで研磨が行われたことが確認された。
【００４９】
本発明は前述した実施例に限定されず、本発明の技術的思想の範疇内で当分野において通常の知識を有する者によって多様な変形が可能であることは明らかである。
【産業上の利用分野】
【００５０】
本発明のキャリヤーヘッドは、半導体ウエハーを研磨して平坦化するための化学機械的研磨装置に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】従来のキャリアヘッドを示す断面図である。
【図２】本発明によるキャリアヘッドを示す断面図である。
【図３】本発明によるキャリアヘッドでウエハーを真空で吸着した状態のキャリアヘッドを示す断面図である。
【図４】本発明によるキャリアヘッドでウエハーを加圧した状態のキャリアヘッドを示す断面図である。
【図５】本発明によるキャリアヘッドを利用してウエハーを研磨した時にそのウエハーの研磨状態に対するグラフを示したものである。
【符号の説明】
【００５２】
１  キャリアハウジング
２  支持環ハウジング
３  ホルダーハウジング
４  支持環ホルダー
５  ホルダーシャフト
６  ウエハー支持組立体
７  支持環
８  メンブレイン上部ホルダー
１０  装着チャンバー
１１  メンブレイン下部ホルダー
１２  メンブレイン
１３  調整チャンバー
１４  プレクサー
３２  可撓性リブ部
３４  通孔
３５  真空パイプ
３７  コンディショナー
３８  コンディショナーチャンバー
３９  支持環チャンバー
４０  底面
４１  ウエハー吸着部
４２  コンディショナーチューブ
４３  コンディショナー環ハウジング
４９  コンディショナー環チューブクランプ
５０  圧力パイプ
５１  圧力パイプ
５２  圧力パイプ
６０  ウエハー
１２０  研磨パッド
１８０  キャリアヘッド
【図１】
2006507691.tif 000003
【図２】
2006507691.tif 000004
【図３】
2006507691.tif 000005
【図４】
2006507691.tif 000006
【図５】
2006507691.tif 000007
【国際調査報告】
2006507691.tif 000008