(57)【要約】本発明は、構成部材の低圧−噴射洗浄および残留汚染物分析を行う方法に関しており、洗浄媒体で充填された前置容器（Ｂ１）を提供し、圧縮空気源によって圧縮空気を前置容器（Ｂ１）の入口側に加え、噴射ランス（Ｓ１）に向かって、圧力のかけられた洗浄媒体を案内し、噴射ランス（Ｓ１）から噴射される洗浄媒体を噴射して構成部材を噴射洗浄し、噴射洗浄後に粒子で汚染された洗浄媒体を捕集容器（Ｂ２）に捕集し、粒子で汚染された洗浄媒体が通流するように、捕集容器（Ｂ２）の出口側に配置された分析フィルタ（Ｆ２）を提供し、分析フィルタ（Ｆ２）を用いて、洗浄媒体からから粒子を濾過し、分析フィルタによって濾過された粒子に基づいて残留汚染物分析を行う。また本発明は、このような方法のために形成された低圧−噴射モジュールに関する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
構成部材を噴射洗浄するための低圧−噴射モジュールにおいて、
洗浄媒体を収容するための前置容器（Ｂ１）が設けられており、該前置容器（Ｂ１）が、入口側で圧縮空気源によって圧縮空気で負荷されるようになっていて、かつ出口側で構成部材に圧力負荷された洗浄媒体を噴射するための噴射ランス（Ｓ１）と接続されており、
捕集容器（Ｂ２）が設けられており、該捕集容器（Ｂ２）が、構成部材の噴射洗浄後に粒子で汚染された洗浄媒体を捕集するために配置されており、捕集容器（Ｂ２）の出口側に分析フィルタ（Ｆ２）が形成されており、該分析フィルタ（Ｆ２）が、真空ポンプによって吸い込まれた洗浄媒体から粒子を濾過して、粒子の後続の分析のために粒子を保持するようになっていることを特徴とする、構成部材を噴射洗浄するための低圧−噴射モジュール。
【請求項２】
噴射ランス（Ｓ１）が、交換可能に前置容器（Ｂ１）に取り付けられている、請求項１記載の低圧−噴射モジュール。
【請求項３】
圧縮空気源から前置容器（Ｂ１）に通じる圧縮空気供給路が、圧縮空気の圧力の必要に応じた調整および／または調節によって、第１の調整および／または調節弁（Ｖ１）を備えている、請求項１または２記載の低圧−噴射モジュール。
【請求項４】
前置容器（Ｂ１）と噴射ランス（Ｓ１）との間に、洗浄媒体のための予備フィルタ（Ｆ１）が形成されている、請求項１から３までのいずれか１項記載の低圧−噴射モジュール。
【請求項５】
予備フィルタ（Ｆ１）と前置容器（Ｂ１）との間に、洗浄ランス（Ｓ１）に向かう洗浄媒体の圧力もしくは量を必要に応じて調整および／または調節するための第２の調整および／または調節弁（Ｖ２）が形成されている、請求項４記載の低圧−噴射モジュール。
【請求項６】
噴射ランス（Ｓ１）が、調量弁と接続されている、請求項１記載の低圧−噴射モジュール。
【請求項７】
構成部材の低圧−噴射洗浄および残留汚染物分析を行う方法において、
以下の方法ステップ；
Ａ：洗浄媒体で充填された前置容器（Ｂ１）を提供し、
Ｂ：圧縮空気源によって圧縮空気を前置容器（Ｂ１）の入口側に負荷し、
Ｃ：前置容器（Ｂ１）から噴射ランス（Ｓ１）に向かって、圧力のかけられた洗浄媒体を案内し、
Ｄ：噴射ランス（Ｓ１）から噴射される洗浄媒体を噴射して構成部材を噴射洗浄し、
Ｅ：噴射洗浄後に粒子で汚染された洗浄媒体を捕集容器（Ｂ２）に捕集し、
Ｆ：粒子で汚染された洗浄媒体が通流するように、捕集容器（Ｂ２）の出口側に配置された分析フィルタ（Ｆ２）を提供し、
Ｇ：分析フィルタ（Ｆ２）を用いて、洗浄媒体からから粒子を濾過し、
Ｈ：分析フィルタ（Ｆ２）によって濾過された粒子に基づいて残留汚染物分析を行う、
方法ステップを有していることを特徴とする、構成部材の低圧−噴射洗浄および残留汚染物分析を行う方法。
【請求項８】
ステップＢにおいて、圧縮空気の圧力を、所望の値に調整または調節する、請求項７記載の方法。
【請求項９】
ステップＣにおいて、噴射ランス（Ｓ１）に向かって案内される洗浄媒体を、予備フィルタ（Ｆ１）を用いて予め濾過する、請求項７または８記載の方法。
【請求項１０】
ステップＤにおいて、構成部材幾何学形状に応じて形成される交換可能な噴射ランス（Ｓ１）を使用する、請求項７から９までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１１】
ステップＧにおいて、洗浄媒体の吸込による洗浄媒体からの粒子の濾過を、分析フィルタ（Ｆ２）の下流側で捕集容器の出口側に配置された真空ポンプを用いて助成する、請求項７記載の方法。
【請求項１２】
濾過された粒子の残留汚染物分析を、光学顕微鏡または走査電子顕微鏡を用いて行う、請求項７記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低圧噴射モジュールを用いて、構成部材の低圧噴射洗浄および残留汚染物分析を行う方法に関する。
【０００２】
背景技術
目下のところ公知の形式では、構成部材の残留物洗浄および残留汚染物特定は、浸漬法で、場合によっては超音波検査で行われる。このような方法によって、特に構成部材の外面の浄化を保証することができる。これに対して、構成部材の内側領域、たとえば貫通孔または袋穴の洗浄作用は、あらゆる場合に保証されるものではない。場合によっては浄化のために洗浄スタンドが使用され、洗浄スタンドでは、アダプタによって、高圧で、浄化媒体が閉じた回路で構成部材を通って圧送される。
【０００３】
記載した公知の構成部材の残留物浄化および残留汚染物特定を行う方法は欠点を有しており、その欠点によれば、貫通孔および袋穴は、多くの場合浄化できないか、または浄化が困難であり、使用される浄化モジュールは、多くの場合特定の構成部材幾何学形状にしか適合しておらず、多くの場合洗浄媒体の閉じた回路によってコストのかかるフィルタ技術が必要である。
【０００４】
課題および利点
したがって本発明の課題は、低圧噴射モジュールならびに構成部材の低圧噴射洗浄および残留汚染物分析を行う方法を改良して、従来技術の欠点を解消し、アプローチしにくい箇所、たとえば貫通孔および袋穴の所望の内側洗浄を、簡単なフィルタ技術を用いて、しかも種々異なる構成部材幾何学形状にとって無理なく行うことのできるようにすることである。
【０００５】
この課題を解決する低圧噴射モジュールの主要構成によれば、粒子で汚染されない圧力形成が、ポンプを使用せずに、洗浄媒体を含んだ、圧力のかけられた前置容器によって行われ、前置容器の出口側に、可変の直径、形状および長さを有する交換可能な噴射ランスが取り付けられており、噴射ランスは、調量ダイヤフラム弁と連結することができ、ノズルを使用する場合、構成部材の外側浄化も可能であり、さらに噴射浄化に際して生じる粒子で汚染された洗浄媒体は、捕集容器に捕集され、捕集容器に分析フィルタが組み付けられており、分析フィルタは、粒子を、洗浄媒体から濾過して、粒子の後続の分析のために保持する。
【０００６】
このような形式の低圧噴射モジュールで実施する、構成部材の低圧噴射洗浄および残留汚染物分析を行う方法は、以下の方法ステップ；
Ａ：洗浄媒体で充填された前置容器を提供し、
Ｂ：圧縮空気源によって圧縮空気を前置容器の入口側に加え、
Ｃ：前置容器から噴射ランスに向かって、圧力のかけられた洗浄媒体を案内し、
Ｄ：噴射ランスから噴射される洗浄媒体を噴射して構成部材を噴射洗浄し、
Ｅ：噴射洗浄後に粒子で汚染された洗浄媒体を捕集容器に捕集し、
Ｆ：粒子で汚染された洗浄媒体が通流するように、捕集容器の出口側に配置された分析フィルタを提供し、
Ｇ：分析フィルタを用いて、洗浄媒体からから粒子を濾過し、
Ｈ：分析フィルタによって濾過された粒子に基づいて残留汚染物分析を行う、
方法ステップを有している。
【０００７】
この場合有利には、洗浄媒体の吸込による粒子の濾過は、捕集容器の出口側で、分析フィルタの下流側に配置された真空ポンプによって助成される。濾過された粒子の残留汚染物分析は、光学顕微鏡または走査電子顕微鏡を用いて行うことができる。このような構成によって、本発明の方法および本発明の低圧噴射モジュールの次のような利点が得られる。
−適当な幾何学形状を有する交換可能な噴射ランスの使用による、アプローチの困難な構成部材箇所、たとえば貫通孔または袋穴の所望の内側洗浄；
−構成部材に応じて調節または調整可能な可変の圧力（たとえば２〜６ｂａｒ）；
−開いた洗浄回路によるコストのかからないフィルタ技術；
−光学顕微鏡または走査電子顕微鏡による清潔度分析のための直接的なフィルタ配置構造；
−多様な構成部材幾何学形状に関する利用性；
−隙間容積のない、粒子の僅かな設備技術。
【０００８】
実施例の説明
次に、本発明の方法経過に基づいて、本発明で主要な構成要素を図示した図１につき、本発明の実施例を詳しく説明する。
【０００９】
図１に示したように、本発明では低圧−噴射モジュールが使用され、低圧噴射モジュールの主要構成要素は、圧縮空気源（管路１）によって圧縮空気で負荷される前置の容器Ｂ１（洗浄媒体で（管路２を介して）充填される）と、前置容器Ｂ１の出口側で予備フィルタＦ１を介して、かつ管路３，４を介して洗浄媒体の供給が行われるように前置容器Ｂ１と接続された洗浄ランスとしての噴射ランス（尖端部を備えた噴射装置）Ｓ１と、後置の捕集容器Ｂ２と、イン−ライン−分析フィルタＦ２（管路５を介して捕集容器Ｂ２に接続されていて、かつ構成部材の洗浄後に捕集容器Ｂ２によって捕集される粒子で汚染された洗浄媒体から粒子を濾過し、粒子を後続の分析のために保持する）と、管路６を介して接続された真空ポンプ（図示していない）とから成っている。全ての設備装置部分は、有利には特殊鋼から成っていて、隙間容積に関して最適化されている。
【００１０】
先ず前置容器Ｂ１は、管路２を介して、濾過された洗浄媒体で充填される。前置容器Ｂ１は、圧縮空気源としての駆動側の圧縮空気網（管路１）に接続することによって、約６ｂａｒの最大圧力で運転することができる。前圧の調整または制御（調節）は、圧縮空気管路１に位置する弁Ｖ１によって行われる。ランスを備えた噴射ユニットＳ１を介して、洗浄媒体は、長い貫通孔に供給することもできる。洗浄ランスＳ１の必要な運動性を保証するために、洗浄ランスＳ１は、フレキシブルなチューブ４を介して予備フィルタＦ１に接続されている。予備フィルタＦ１と前置容器Ｂ１との間で、管路３に、予備フィルタＦ１もしくは洗浄ランスＳ１に向かう洗浄媒体の圧力および／または量を必要に応じて調整および／または調節するための第２の調整および／または調節弁Ｖ２が設けられている。構成部材に応じて直径および長さを変化できる、交換可能な噴射ランスＳ１に基づいて、またフレキシブルなチューブ４によって、複雑な構造を有する構成部材、つまり異なる様々な側から構成部材に形成された貫通孔および袋穴も洗浄でき、つまり洗浄媒体の噴出を行うことができる。
【００１１】
捕集容器Ｂ２に、粒子で汚染された洗浄媒体が、構成部材の洗浄後に集められる。このために捕集容器Ｂ２の上位の開口は、有利にはホッパ状に上向きに開放している。捕集容器Ｂ２によって集められた粒子で汚染された媒体は、インライン分析フィルタＦ２を介して真空ポンプ（図示せず）によって吸い込まれる。吸込の行われたフィルタは、そのあとで直ちに検査されて、残留汚染物特定のために評価することができる。
【００１２】
本発明の範疇でない選択的な実施例では、ポンプを介して洗浄媒体の圧力形成が行われ、これによって圧力媒体の高い純度を保証するために、洗浄媒体用のコストのかかるフィルタ技術が必要とされる。さらに保持する必要のあるポンプ出力の比較的高い圧力損失が生じる。これに対して開いた回路を用いる本発明による方法では、圧力は簡単に変化でき、しかもコストのかかるフィルタ技術は不要である。
【００１３】
低圧噴射洗浄および構成部材の残留汚染物分析のための提案された方法ならびにこのために使用される低圧噴射モジュールは、汚れ具合に関して問題のある内側領域を有する構成部材、たとえばディーゼル噴射系の高圧ポンプ、噴射ノズル、ＡＢＳシステムのハイドロリック装置および自動車−燃料噴射系のその他の構成要素で、今日に至るまで効果的なものとして実証されている。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明による低圧噴射洗浄および残留汚染物分析を行う方法ならびにこのために使用される低圧噴射モジュールを示す図である。
【符号の説明】
【００１５】
１，２，３，４，５，６  管路、  Ｂ１  前置容器、  Ｂ２  捕集容器、  Ｆ１  予備フィルタ、  Ｆ２  インライン分析フィルタ、  Ｓ１  噴射ランス、  Ｖ１  弁、  Ｖ２  調整および／または調節弁
【図１】
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【国際調査報告】
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2006522675.tif 000005
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