(57)【要約】本発明は、ビーム供給部分と、該ビーム供給部分に接続されており、それぞれの測定ビーム（ＭＳ１，ＭＳ２）を配属されている表面個所に送出しかつ表面から戻し反射されたビームを受け取るための複数のプローブ出口（１，…，６）を有しているプローブ装置（ＳＡ）と、表面から戻し反射されたビームに基づいてジオメトリーデータを特定するための後置接続されている評価装置（ＡＥ）とを用いて少なくとも１つの物体（ＢＴ）の表面のジオメトリーデータを捕捉検出するための光学的な測定システムに関する。サーフェスジオメトリー、例えば孔の直径および丸さの非常に正確でかつ機械的にロバストな特定は、プローブ出口（１，…，６）を有しているプローブ装置（ＳＡ）が、表面のジオメトリーデータの他に同時に、相互に固定の位置関係において位置決めされているプローブ出口（１，…，６）を有するプローブ装置（ＳＡ）の、単数または物体に対する相対位置も少なくとも、複数の重要な自由度に関して突き止めることができるように実現されていることによって可能になる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビーム供給部分と、該ビーム供給部分に接続されており、それぞれの測定ビーム（ＭＳ１，ＭＳ２）を配属されている表面個所に送出しかつ表面から戻し反射されたビームを受け取るための複数のプローブ出口（１，…，６）を有しているプローブ装置（ＳＡ）と、表面から戻し反射されたビームに基づいてジオメトリーデータを特定するための後置接続されている評価装置（ＡＥ）とを備えた、少なくとも１つの物体（ＢＴ）の表面のジオメトリーデータを捕捉検出するための光学的な測定システムにおいて、
複数のプローブ出口（１，…，６）を有しているプローブ装置（ＳＡ）は、表面のジオメトリーデータの他に同時に、相互に固定の位置関係において位置決めされているプローブ出口（１，…，６）を有するプローブ装置（ＳＡ）の、単数または複数の物体に対する相対位置も少なくとも、複数の関連の自由度に関して突き止めることができるように実現されている
ことを特徴とする測定システム。
【請求項２】
複数のプローブ出口（１，…，６）は１つだけの測定面（ＭＥ１．ＭＥ２）に配置されているか、または
複数のプローブ出口（１，…，６）はプローブ装置（ＳＡ）の軸線（ＡＳ）に関して相互に離間している少なくとも２つの法線の測定面（ＭＥ１．ＭＥ２）に位置決めされている
請求項２記載の測定システム。
【請求項３】
少なくとも３つのプローブ出口（１，２，３）は１つの測定面（例えばＭＥ１）に配置されておりかつ少なくとも１つのプローブ出口（例えば４，５，６）は別つの測定面（例えばＭＥ２）に配置されている
請求項２記載の測定システム。
【請求項４】
プローブ出口（１，…，６）は少なくとも１つの測定面（ＭＥ１．ＭＥ２）において非対称に分配されている
請求項２または３記載の測定システム。
【請求項５】
プローブ装置（ＳＡ）の軸線（ＡＳ）の方向（ｚ）に上下方向に位置しているプローブ出口（例えば１，４）は１つのプローブユニット（ａ，ｂ，ｃ）にまとめられており、該ユニットが光ファイバ（ＬＦ）および接続個所（ｉ，ii，iii）を介してビーム供給部分に接続されている
請求項２から４までのいずれか１項記載の測定システム。
【請求項６】
測定システムは干渉測定装置を有している
請求項１から５までのいずれか１項記載の測定システム。
【請求項７】
干渉測定装置は白色光干渉計および／またはヘテロダイン干渉計として実現されている
請求項６記載の測定システム。
【請求項８】
ビーム供給部分は広帯域の、短コヒーレントな光生成ユニット（LQ)および変調型干渉計（ＭＩ）を有しており、該変調型干渉計は複数の異なっている光路長(ｌ１，ｌ２）と音響光学的変調器（ＡＯＭ１，ＡＯＭ２，ＡＯＭ３）を含んでいる干渉計アーム(ｌＡ１，ｌＡ２）とを有しておりかつ
プローブ装置（ＳＡ）は測定干渉計に配属されており、該測定干渉計において変調型干渉計（ＭＩ）において変調により乗せられた、短コヒーレント光のコヒーレンス長より大きい光路長差が解消される
請求項７記載の測定システム。
【請求項９】
評価装置（ＡＥ）は、プローブ出口（１，…，６）および該プローブ出口に配属されている測定チャネル（ＭＫ１，ＭＫ２，ＭＫ３）を介して該評価装置が受信した、表面個所から戻し反射されたビームを並列に捕捉検出しかつ評価するように実現されている
請求項１から８までのいずれか１項記載の測定システム。
【請求項１０】
変調型干渉計（ＭＩ）において光路差および種々異なっているヘテロダイン周波数に対する周波数偏移の種々異なっている組み合わせを生成するために２つより多くの数の干渉計アーム（ｌＡ１，ｌＡ２，ＬＡ３）または干渉計アームに実現されている帰還結合ループが存在している
請求項８または９記載の測定システム。
【請求項１１】
プローブ装置（ＳＡ）に関して物体（ＢＴ）を相対的に移動調整するためのガイド装置が存在しており、該ガイド装置によってｚ方向におけるおよび／または回転による相対位置調整が実現可能である
請求項１から１０までのいずれか１項記載の測定システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビーム供給部分と、該ビーム供給部分に接続されており、それぞれの測定ビームを配属されている表面個所に送出しかつ表面から戻し反射されたビームを受け取るための複数のプローブ出口を有しているプローブ装置と、表面から戻し反射されたビームに基づいてジオメトリーデータを突き止めるための後置接続されている評価装置とを備えている、少なくとも１つの物体の表面のジオメトリーデータを捕捉検出するための光学的な測定システムに関する。
【０００２】
従来の技術
この形式の光学的な測定システムはＤＥ１９８０８２７３Ａ１に記載されている。重要な部分としてファイバオプチックな短コヒーレントな多重波長ヘテロダイン干渉計を有しているこの公知の測定システムでは、短コヒーレントな、広帯域の光源と該光源の光を受光する変調型干渉計とを有しているビーム供給部分に、物体表面に配向されるようになっている測定プローブと、表面を有する部品が支承されている測定台に配向されるようになっている参照プローブとが接続されている。測定プローブと参照プローブとから成るこのプローブ装置によって、物体表面と支承装置との間の位置関係および変化が捕捉検出可能であり、表面測定過程の期間にそれを考慮してこの種の位置偏差から生じる測定エラーが低減もしくは排除されるようにすることができる。しかし１つの部品または相互に固定の位置関係に置かれている複数の部品の表面の幾何学形状、つまりサーフェスジオメトリーの測定には、例えば測定過程の期間の種々様々な自由度におけるプローブガイドまたはプローブと部品との間の相対運動における不正確さのような更に別の、プローブ装置の出口と表面個所との間の相対的な場所的な変化が作用する可能性がある。測定過程に対するこの形式の影響量は、製造プロセス近傍の形状もしく間隔測定の場合に殊に排除するのが難しい。
【０００３】
例えばガイド孔のロバストな製造プロセス近傍の形状および間隔もしくは直径測定のために、今日主としてニューマチックな測定方法が使用される。しかしこの方法の精度は技術的に制限されておりかつ将来高められる許容偏差要求に十分に応えることができない。これに対して高精度の測定のために、ｎｍ領域における高分解能の測定方法が必要とされるが、現在のところ振動が生じないようになっている精密測定室においてしか使用することができない。
【０００４】
ガイド孔における高分解能の形状および直径特定に対して、主には点形状の間隔センサが使用され、その測定ヘッドが部品表面の、参照点に対する間隔を非常に正確に特定することができる。この種の点形状の間隔センサは部品形状の測定のために基本的には形状測定機と組み合わされなければならない。この機械はセンサを、部品のスキャンすべき表面上を規定の軌道に沿って機械的にガイドする。この種の測定方法の精度は実質的に、ガイドの正確さおよび形状測定機の機械的な安定性に基づいている。
【０００５】
点形状の間隔センサにおいて現在、無接触測定原理およびそこから生じる利点に基づいて光学的な、殊に干渉計型動作するセンサが触覚的な走査子よりもますます多く使用されている。干渉計型動作するセンサとは殊に短コヒーレントな光源を有する冒頭に述べた形式の多重波長ヘテロダイン干渉計であって、ラフな技術表面を測定することができる既に工業的に試されている、点形状でしかも迅速な測定方法が使用される。しかし光学的な測定システムにおいて例えば共焦点形測定方法も公知である。
【０００６】
本発明の課題は、冒頭に述べた形式の光学的な測定システムを殊に、製造プロセス近傍での、サーフェスジオメトリーデータの捕捉検出の際にも測定プローブ装置と表面個所との間の位置変化が原因で測定をひずませることになる影響ができるだけ大幅にかつできるだけ簡単な手段で排除されるように改良することである。
【０００７】
発明の利点
この課題は請求項１の特徴部分に記載の構成によって解決される。ここでは、複数のプローブ出口を有しているプローブ装置が、表面のジオメトリーデータの他に同時に、相互に固定の位置関係において位置決めされているプローブ出口を有するプローブ装置の、単数または複数の物体に対する相対位置も少なくとも、複数の関連の自由度に関して突き止めることができるように実現されているのである。
【０００８】
プローブ装置のこの構成によって、殊に製造プロセスの期間に発生する、プローブ出口と表面個所との間の位置変化も検出しかつジオメトリーデータを求める際に勘案することができる。プローブガイドに対する煩雑なガイドエレメントまたは煩雑な振動アイソレーション措置は必要ない。その際に部品の関連する形状特性量の高精度の、機械的にロバストな測定が生じる。
【０００９】
例えば複数のプローブ出口がプローブ装置の軸線に関して相互に離間している少なくとも２つの法線の測定面に位置決めされているようにすれば、孔または平行な壁面を有する中空室を信頼性を以て測定することができる。これにより、例えばプローブ装置のガイド軸線と中空室軸線との間の傾きを識別もしくは補償することができる。これに対して択一的に複数のプローブ出口が１つだけの測定面に配置されているようなものであっても構わない。
【００１０】
その際少なくとも３つのプローブ出口が１つの測定面に配置されておりかつ少なくとも１つのプローブ出口が別つの測定面に配置されているという有利な形態が生じる。
【００１１】
参照個所の測定および識別のために更に、プローブ出口が複数の測定面において非対称に分配されているという構成は有利である。
【００１２】
更に、ガイド孔の測定のために殊に２つの測定面を利用したこのような配置構成は理想的である。その理由は、測定ジオメトリーはこの場合に部品の機能に整合されているからである。
【００１３】
その際孔の測定のために有利な配置構成というのは、少なくとも３つのプローブ出口が１つの測定面に配置されておりかつ少なくとも２つのプローブ出口が１つの別の測定面に配置されているものである。
【００１４】
孔の形状の全体の測定のために更に、少なくとも３つのプローブ出口が１つの測定面において非対称の分配において配置されているという構成が有利である。
【００１５】
狭い中空空間における測定に対しても適している簡単な構成は、プローブ装置の軸線の方向に上下方向に位置しているプローブ出口が１つのプローブユニットにまとめられており、該ユニットが光ファイバおよび接続個所を介してビーム供給部分に接続されていることによって生じる。
【００１６】
サーフェスジオメトリーの精密測定に対する有利な形態は、測定システムが干渉測定装置を有していることにある。
【００１７】
その際取り扱いに有利な形態は、干渉測定装置が白色光干渉計および／またはヘテロダイン干渉計として実現されているという構成によって可能になる。
【００１８】
構築および操作のために有利な形態は、ビーム供給部分が広帯域の、短コヒーレントな光生成ユニットおよび変調型干渉計を有しており、該変調型干渉計が複数の異なっている光路長と音響光学的変調器を含んでいる干渉計アームを有しておりかつプローブ装置が測定干渉計に配属されており、該測定干渉計において変調型干渉計において変調により乗せられた、短コヒーレント光のコヒーレンス長より大きい光路長差が取り除かれるという特徴を持っている。
【００１９】
評価装置が、プローブ出口および該プローブ出口に配属されている測定チャネルを介して該評価装置が受信した、表面個所から戻し反射されたビームを並列に捕捉検出しかつ評価するように実現されているようになっていれば、現実的に実時間レベルでの遅延は生じない。
【００２０】
ヘテロダイン技術の高い測定レートに基づいて更に、非常に高い遮断周波数１／ΔＴまでの障害振動が抑圧される。測定チャネルの並行な捕捉検出および評価により、チャネルの数に無関係にこの高い遮断周波数の完全な利用が可能になる。
【００２１】
複数の測定チャネルと関連した白色光ヘテロダイン干渉計を有する種々異なっている有利な形態は、変調型干渉計において光路差および種々異なっているヘテロダイン周波数に対する周波数偏移の種々異なっている組み合わせを生成するために２つより多くの数の干渉計アームまたは干渉計アームに実現されている帰還結合ループが存在している点にある。
【００２２】
上述した構成は相応の形態において例えば、非常に短い測定時間を有する測定過程内の理想円筒形のすべての自由度の同時の特定を可能にするものである。このことはとりわけ、プローブ出口の配置構成を介して、部品において測定すべき表面それ自体がジオメトリーデータもしくは測定量の特定に対する参照として用いられるようにして実現される。
【００２３】
自由度の知識並びに位置決め機構のラテラル座標の大まかな知識から、部品の形状をプローブ装置もしくはプローブ出口の、部品に対する位置座標とは無関係に求めることができる。精度はこの測定原理において実質的に、それ自体安定してかつ正確に構築することができるプローブ装置それ自体の特性によって突き止められる。これにより一方においてそもそも、機械的な振動の識別および場合による補償が実現され、これにより高度に精密な光学的な精密測定技術の、機械的に不安定な周辺との統合が可能になる。他方において形状測定機のガイド軸線の高い精密さを必要としなくなるので、結果的に著しいコストの節約が計られる。
【００２４】
表面の正確な測定にとって大切なのは、プローブ装置に関して物体を相対的に移動調整するためのガイド装置が存在しており、該ガイド装置によってｚ方向におけるおよび／または回転による相対位置調整が実現可能であることである。ここで回転対称な中空空間表面の場合、回転の位置調整が特別重要である。その理由は、適当な数学的な評価により形状プロフィール、殊に直径や真円度も機械的にロバストおよび高精度に求めることができる。付加的なｚ方向移動により、円筒体全体の形状の評価が行われる。
【００２５】
図面
次に本発明を図面を参照して実施例に基づいて詳細に説明する。その際：
図１は部品に関するプローブ装置の実施例を側面斜視および断面にて示し、
図２はプローブ装置の部分をビーム路と一緒に側面から略示し、
図３は評価装置に結合されている、図１のプローブ装置によって実現される複数の測定チャネルを略示し、
図４は変調型干渉計を有する光学的な測定システムのビーム供給部分の略示している。
【００２６】
実施例
図１に図示の、光学的な測定システムのプローブ装置ＳＡの部分は部品ＢＴの円筒形状の中空室を取り囲んでいる表面Ｏの複数の個所を捕捉検出するために中空室に挿入されておりかつ円筒形状の中空室において図示されていないガイド装置のガイド軸線に沿ってｚ方向および／または回転方向に位置調整可能であり、その際プローブ軸線ＡＳは実質的にガイド軸線と、また中空室軸線とも一致しているまたは少なくともこれら軸線と平行に延在しているものである。
【００２７】
しかしこの理想状態は実際には殊に製造プロセスにおいて実現するのが難しい。
【００２８】
プローブ装置ＳＡは複数のプローブ出口１，２，３，４，５，６を有しており、これらのそれぞれ３つがｚ方向において間隔Ａだけ相互に離間している、プローブ軸線ＡＳに関して法線を成している２つの測定面ＭＥ１，ＭＥ２に、面ＭＥ２の断面としても示されているように配置されている。円筒形状の中空室は直径Ｄを有している。ｚ方向の上下に配置されている２つのプローブ出口１，４；２，５；３，６はそれぞれダブルプローブの形のプローブユニットａ；ｂ；ｃにまとめられている。
【００２９】
図２にはセンサ軸線ＡＳに対して相対的でありかつｚ方向に間隔Ａだけ相互に離間されている表面個所にガイドされている測定ビームＭＳ１，ＭＳ２を有するこの形式のダブルプローブａ，ｂ，ｃが示されている。その際第１の測定ビームＭＳ１は部分透過性ミラーＨＳＰを用いて当該のプローブ出口１を介して相応の表面個所にガイドされ、一方第２の測定ビームＭＳ２は部分透過性ミラーＨＳＰおよびいわゆるＧＲＩＮ（屈折率分布）レンズＧＬを介してミラーＳＰに経過しかつそこから相応の別のプローブ出口４を介して相応の表面個所にガイドされるので、その結果例えば円筒形状の中空空間の公称半径ｒもしくは円筒形状の中空空間の一様性を突き止めることができる。その際ダブルプローブａ，ｂ，ｃは、リファレンスレフレックスＲＲが形成される、リファレンスもしくは参照面ＲＥを有する測定干渉計の部分である。ダブルプローブにおいてガイドされかつそこから再び戻しガイドされる、リファレンスレフレックスＲＲを有する光および表面個所から戻し反射されるビームはダブルプローブａ，ｂ，ｃに属しているそれぞれの単一モード光ファイバＬＦを介してガイドされる。参照面ＲＥおよび当該の表面個所の間の第１の測定ビームＭＳ１の光路長はｌ１であり、一方参照面ＲＥおよび当該の表面個所の間の第２の測定ビームＭＳ２の光路長はｌ２である。これら光路長ｌ１，ｌ２は、図４に図示の変調型干渉計ＭＩにおいて光学的な測定システムのビーム供給部分において当該光ビームに変調により乗せられたそれぞれの光路長に相応する。
【００３０】
図３に示されているように、ダブルプローブａ，ｂ，ｃを介して戻しガイドされた光は所属の測定チャネルＭＫ１，ＭＫ２，ＭＫ３およびファイバ結合器ＦＫを介して並びにそれぞれのスペクトルフィルタＳＦ１，ＳＦ２，ＳＦ３を有する受光器ユニットを介して個々の波長λ１，λ２を取り出すためにそれぞれの受光器ＰＨに達しかつそこで電気信号に変換され、電気信号は評価装置ＡＥに入力されかつ評価されて、そこから表面のジオメトリーデータが計算される。更に別の評価措置に対して別の参照チャネルＲＫが接続されているようにしてもよい。測定チャネルＭＫ１，ＭＫ２，ＭＫ３並びに参照チャネルＲＫはファイバ結合器ＦＫのそれぞれの接続個所ｉ，ii，iii，ivおよび相応の光ファイバＬＦを介して変調型干渉計ＭＩもしくは混合器の出口に接続されている。Ｘユニットとして実現されているファイバ結合器ＦＫの自由な分岐ｘがあるものの利用されていない。その理由はＹ装置だけが必要であるからだ。
【００３１】
図４に示されているように、変調型干渉計ＭＩは入力側が、短コヒーレントな、広帯域の光を生成する光生成ユニットもしくは光源ＬＱから給光され、該給光されたスペクトルから所定の帯域幅を有する２つの波長λ１およびλ２が選択的に取り出される。変調型干渉計ＭＩにおいて３つの干渉計アームＩＡ１，ＩＡ２，ＩＡ３が形成されており、これらにおいて種々異なっている光路長ｌ１，ｌ２並びにヘテロダイン法のヘテロダイン周波数に対する相応の周波数偏移Ω１，Ω２，Ω３を生成するためのそれぞれの音響光学的な変調器ＡＯＭ１，ＡＯＭ２，ＡＯＭ３が配置されている。音響光学的な変調器ＡＯＭ１，ＡＯＭ２，ＡＯＭ３は例えばブラッグセルとして実現されておりかつ光を当該の出力結合角βにおいて向けられた光ファイバ部分に対向している光ファイバ部分に指向する。異なっている光路長ｌ１，ｌ２により異なっている光路差が生成され、これはスペクトルフィルタＳＦ１ないしＳＦ４によって規定されるコヒーレンス長より大きいので、変調型干渉計ＭＩから出射される光もしくは出射されるビームは干渉しない。しかしプローブ装置ＳＡを有する上述の測定干渉計におけるこの光路差の解消によって、当該の表面個所から戻し反射されたビームはリファレンスレフレックスＲＲと干渉するので、相応の位相情報が評価装置においてそれ自体公知の手法でサーフェスジオメトリーを突き止めるために用いられるようにすることができる。変調型干渉計ＭＩおよびプローブ装置ＳＡもしくは測定干渉計への分離により、冒頭に述べた刊行物ＤＥ１９８０８２７３Ａ１において別の証明を用いて説明されているように、簡単に取り扱い可能なプローブ装置ＳＡを有する有利な構成が生じる。
【００３２】
説明してきた実施例では例えば円筒形状のガイド孔の形状が、孔内に導入されるプローブ装置ＳＡによって捕捉検出される。部品ＢＴ（またはプローブ装置ＳＡ）は（図示されていない）簡単な機械的なガイド装置を用いて一方において回転軸線を中心に回転されかつ他方において孔軸線に沿ってｚ方向において直線的に移動させられる。その際機械的な移動のガイド軸線は相互にも部品ＢＴの孔軸線とも正確に一致している必要はない。
【００３３】
プローブ出口１，２，３，４，５，６は２つの測定面ＭＥ１，ＭＥ２に、理想円筒体の測定に関連する全部で５つの自由度を特定することができるように配置されている。これらは詳細には、プローブ軸線ＡＳに関連した円筒対軸線の位置を一義的に定める４つの座標（２つのラテラルな保管座標および２つの傾斜角度）並びに理想円筒体の直径に対するもう一つの自由度である。
【００３４】
２つの測定面において同一の分配を有する配置は、２つの測定面が交換可能であるという別の利点を有している。このことは、ガイド孔を測定するために殊に重要である。
【００３５】
３つのプローブ出口１，２，３ないし４，５，６の、図１の２つの測定面ＭＥ１，ＭＥ２への分割は有利には非対称形である。それぞれ２つの上下に位置している出口を３つのダブルプローブａ，ｂ，ｃにまとめることは、小さな直径の孔に対するプローブ装置ＳＡの場合には殊にスペースの節約面で有利である。
【００３６】
プローブ出口１，２，３，４，５，６に配属されている全部で６つの測定チャネルの間隔の捕捉検出は有利には並行して、すなわち高い測定レートにおいて同時に行われる。このために２λ白色光ヘテロダイン干渉計を有する図示の光学的な測定システムは有利には、図３に示されているように、波長λ１およびλ２に対するそれぞれ２つの受光器ＰＨを有する３つの並列なダブル受光器プラス任意選択的な参照チャネルＲＫに対する１つの受光器において構成されている。それぞれのダブル受光器はそれぞれのダブルプローブａ，ｂ，ｃの２つの出口からの、それぞれのビームの重畳されている信号を受光する。ダブルプローブの間隔情報の分離は２つのヘテロダイン周波数Ω１，Ω２の使用によって行われ、これらは信号解析の際にスペクトル分離される。図４に示されているように、この構想に対する変調型干渉計ＭＩは、第３の音響光学的変調器ＡＯＭ３が配置されている第３の干渉計アームＩＡ３によって補充される。干渉計アームＩＡ１，ＩＡ２，ＩＡ３における上述の光路差はダブルプローブにおける路差に整合されている。類似に、必要な光路差およびヘテロダイン周波数は例えば２つの干渉計アームだけを介して形成されるようにすることもでき、この場合これら干渉計アームに帰還結合ループが配置されているので、光学的な路長および相応の音響光学的変調器が繰り返し循環的に使用される。
【００３７】
少なくとも５つの測定チャネルの配置により、測定システムによって与えられる時間間隔ΔＴ内に全部で５つの自由度を独立して突き止めることができることになる。このように構成されたマルチプローブは簡単な位置決め機構により、測定すべき面上を連続的に走行することができるように部品表面に沿ってガイドされる。こうして全体のデータセットが生じ、そこから表面の全体の形状が機械的にロバストに、すなわち外部の機械的な影響に無関係に突き止められる。その際機械的なロバストさに対してもっぱら、５つの自由度が捕捉検出される測定時間ΔＴが重要である。これにより、１／ΔＴの遮断周波数までの振動および位置変化を抑圧することができる。
【００３８】
位置決め機構によるこの形式の機械的なガイドは例えば、回転軸線を中心とした部品の回転およびｚ軸線に沿ったプローブの同時の移動によって行うことができる。その際これら機械的な運動は広い範囲において不正確に行うことができる。更にガイド軸線は相互にも部品軸線に対しても正確に一致している必要はない。
【００３９】
５より少ない数の測定チャネルの使用は状況によっては、所定の自由度が例えば位置決め機構により十分に安定保持することができる場合には有意味である。例えば、プローブ軸線の、部品軸線に対する傾倒角が他の仕方で安定化されるときには第２の測定面における２つのチャネルを省略することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】部品に関するプローブ装置の実施例の側面斜視図および断面図
【図２】プローブ装置とビーム路との側面略図
【図３】評価装置に結合されている、図１のプローブ装置によって実現される複数の測定チャネルの略図
【図４】変調型干渉計を有する光学的な測定システムのビーム供給部分の略図
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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