(57)【要約】毛髪を治療するための方法及び装置を開示する。この方法は、１または複数の毛髪にエネルギーを供給して毛髪の少なくとも一部の形状及び／または化学構造を変更するべく電磁放射線（ＥＭＲ）を皮膚治療部位に照射するステップを含む。放射線の照射により、毛尖を加熱してその形状を修正する（例えば、尖りを鈍くする）ことができる。毛髪の修正では、熱によって毛尖、毛幹、及び／または毛母基の形状、組成、または機能を変更し、皮膚に再進入し難くすることを含み得る。本発明の方法及び装置は、治療部位における偽毛包（ＰＦＢ）を治療及び／または予防することができる。１２００ｎｍ〜１４００ｎｍの範囲の波長を用いて毛髪の成長を制御する方法も開示する。
2006518266.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの放射線源を含む、毛尖の少なくとも一部の形状を変更するための装置であって、
前記放射線源が、皮膚治療部位の少なくとも一部の毛尖の形状を変更するように約０．０１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量で前記治療部位を照射するべく、約２８０ｎｍ〜約１００，０００ｎｍの範囲の波長及び約１ナノ秒〜約５分の範囲のパルス幅を有する放射線パルスを生成することを特徴とする装置。
【請求項２】
更に、前記毛尖の皮膚表面から突き出た部分を除去する機構を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
１または複数の放射線源を含む、毛幹の縮れを軽減するための装置であって、
前記放射線源が、皮膚治療部位の少なくとも一部の毛幹の縮れを軽減するように約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量で前記治療部位を照射するべく、約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍの範囲の波長及び約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有する放射線パルスを生成することを特徴とする装置。
【請求項４】
更に、毛尖の皮膚表面から突き出た部分を除去する機構を含むことを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
少なくとも１つの放射線源を含み、毛髪の成長を制御するための装置であって、
前記放射線源が、皮膚治療部位の１または複数の毛包に照射して毛髪の成長を調節するように約１２００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長成分を有する電磁放射線を生成し、
前記放射線源を、ＬＥＤ、レーザーダイオード、フィルター付きアークランプ、及びフィルター付きハロゲンランプの何れかとすることができることを特徴とする装置。
【請求項６】
１または複数の放射線源を含む、毛幹の弾性を変更するための装置であって、
前記放射線源が、皮膚治療部位の少なくとも一部の毛幹の弾性を変更するように約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量で前記治療部位を照射するべく、約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長及び約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有する放射線パルスを生成することを特徴とする装置。
【請求項７】
皮膚用システムであって、
皮膚治療部位上をスキャンするように適合されたヘッド部分を備え、少なくとも１つの放射線を含むアプリケータと、
スキャンの際に前記ヘッド部分の位置を示す信号を生成するために前記ヘッド部分に結合されたトラッカーと、
前記トラッカー及び前記放射線源に結合され、前記トラッカーから受信した位置信号に基づいて前記放射線源を周期的に作動させる制御装置とを含むことを特徴とする皮膚用システム。
【請求項８】
前記制御装置が、前記位置信号に基づいた前記放射線源の前の作動から前記ヘッド部分が移動した距離を決定することを特徴とする請求項７に記載の皮膚用システム。
【請求項９】
前記制御装置が、前記移動距離が閾値を超えると前記放射線源を作動させることを特徴とする請求項８に記載の皮膚用システム。
【請求項１０】
毛髪の治療方法であって、
皮膚治療部位の１または複数の毛尖にエネルギーを加えて前記毛尖の少なくとも一部の形状を変更するべく電磁放射線（ＥＭＲ）を前記治療部位に照射するステップを含むことを特徴とする治療方法。
【請求項１１】
電磁放射線を照射する前記ステップが、複数のＥＭＲパルスを前記治療部位の少なくとも一部に照射するステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記放射線の照射により前記毛尖を加熱して前記毛尖の尖りが鈍くすることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記放射線の照射により前記毛尖の形状を実質的に丸い形状にすることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記放射線の照射により、前記毛尖が毛包外及び／または毛包内に刺入しないように前記毛尖の形状を変形させることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記放射線の照射により、前記治療部位における偽毛包炎（ＰＦＢ）を治療し、かつ／または予防することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記放射線の照射により、前記毛尖の温度を約５０℃〜約３００℃上昇させることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１７】
更に、前記毛尖の温度を約５０℃〜約３００℃上昇させる一方、前記治療部の上皮温度を約６５℃未満に維持するように前記照射する放射線を選択するステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１８】
前記パルスが約１ナノ秒〜約５分の範囲のパルス幅を有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
前記パルスが約１マイクロ秒〜約１００ミリ秒の範囲のパルス幅を有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
前記パルスが約０．１Ｈｚ〜約１ＭＨｚの範囲の繰返し数を有することを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記放射線により、約０．０１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量が前記治療部位に照射されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２２】
前記照射する放射線が約２８０ｎｍ〜約１０００００ｎｍの範囲の波長成分を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２３】
前記照射する放射線が約３８０ｎｍ〜約６００ｎｍの範囲の波長成分を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２４】
前記照射する放射線が、前記毛尖におけるメラニン、水分、及びケラチンの少なくとも１つに吸収される波長成分を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２５】
更に、前記電磁放射線を照射する前に前記治療部位の毛尖を乾燥させるステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２６】
更に、前記毛尖を乾燥させるために前記治療部位に気流を供給するステップを含むことを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
更に、前記治療部位の表皮を冷却するステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２８】
前記治療部位に前記放射線を照射する前、最中、または後に前記冷却ステップを行うことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
更に、前記皮膚治療部位に局所物質を適用するステップを含み、前記局所物質が、前記放射線によって化学的または熱的に光活性化して前記毛尖の変形を促進することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項３０】
前記局所物質が少なくとも１種類の発色団を含むことを特徴とする請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記局所物質が、前記治療部位における毛髪の毛包脂腺管に前記発色団を供給するための媒介物を含むことを特徴とする請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記毛尖が、皮膚表面の下側約０．２ｍｍから前記皮膚表面の上側約１ｍｍまで延びていることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項３３】
更に、前記放射線を照射する前に、前記毛尖の皮膚表面の上に突き出た部分を除去するステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項３４】
突き出た毛尖部分を除去する前記ステップを、前記電磁放射線を照射するステップと実質的に同時に行うことを特徴とする請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
突き出た毛尖部分を除去する前記ステップが、ヒゲ剃り、切り落とし、除毛クリームの適用、または別の電磁放射線の照射からなる群から選択されることを特徴とする請求項３３に記載の方法。
【請求項３６】
前記方法が更に、前記皮膚治療部位を引き伸ばすステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項３７】
前記方法が更に、前記皮膚治療部位の毛髪を持ち上げるステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項３８】
毛髪を治療する方法であって、
皮膚治療部位における１または複数の毛幹の弾性を変化させるべく、前記治療部位に電磁放射線を照射するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項３９】
前記放射線の照射により前記毛幹の弾性を増大させることを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記放射線の照射により、前記毛幹の引張り強さを、約１Ｍｐａ〜約２００Ｍｐａの破壊応力の範囲で変化させることを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４１】
前記放射線の照射により、前記毛幹が実質的にストレートにすることを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４２】
前記毛幹の前記弾性の変化により、前記治療部位における偽毛包炎（ＰＦＢ）の予防または治療が促進されることを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４３】
前記放射線の照射による温度上昇が約５０℃〜約３００℃の範囲であることを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４４】
電磁放射線を照射する前記ステップが、前記治療部位に複数の電磁パルスを照射するステップを含むことを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４５】
前記放射線が約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍの範囲の波長成分を含むことを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】
前記放射線が約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長成分を含むことを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項４７】
前記パルスが約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有することを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項４８】
前記パルスが約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量を供給することを特徴とする請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
更に、前記治療部位の表皮を冷却するステップを含むことを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項５０】
更に、前記治療部位に局所物質を適用するステップを含み、前記局所物質が前記放射線によって光活性化されて前記毛幹を柔軟にすることを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項５１】
毛髪の成長を制御する方法であって、
毛髪の成長を調節するべく約１２００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長成分を有する電磁放射線を皮膚治療部位の１または複数の毛包に照射するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項５２】
前記放射線の照射により毛髪の成長を遅らせることを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５３】
前記放射線の照射により毛髪の成長を停止させることを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５４】
前記放射線の照射により毛髪の成長を刺激することを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５５】
前記毛髪の成長の前記調節により、前記治療部位における偽毛包炎（ＰＦＢ）を予防または治療することを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５６】
更に、前記照射する放射線を約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量に選択することを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５７】
放射線を照射する前記ステップが、約１ナノ秒〜約１０００秒の範囲のパルス幅を有する複数の放射線パルスを前記皮膚治療部位に照射するステップを含むことを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５８】
更に、前記治療部位の表皮を冷却するステップを含むことを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５９】
更に、前記毛包の少なくとも一部を加熱するように前記照射する放射線の時間及び流束量を選択するステップを含むことを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項６０】
毛髪を治療する方法であって、
毛髪の少なくとも一部の縮れを軽減するのに適した流束量及び波長の放射線で治療部位における複数の毛包を照射するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項６１】
前記毛包の照射部分が、毛球、角質形成帯、及び毛包の球状部分（bulbar）の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６２】
前記放射線の照射により、毛母基が細い毛髪を発毛するようにすることを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６３】
縮れが軽減された前記毛髪が、治療前の毛髪に対して約１Ｍｐａ〜約２００Ｍｐａの破壊応力の範囲で引張り強さが変化することを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６４】
縮れが軽減された前記毛髪が、処置前の毛髪に対して約１μｍ〜約６０μｍの範囲で直径が小さくなることを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６５】
更に、前記波長を約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍの範囲に選択することを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６６】
更に、前記波長を約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲に選択することを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６７】
更に、前記流束量を約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲に選択することを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６８】
前記照射するステップが、前記治療部位に複数の電磁パルスを照射するステップを含むことを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６９】
前記パルスが、約１ナノ秒〜約１０分の範囲のパルス幅を有することを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
優先権
本願は、２００３年２月１９日出願の米国仮特許出願第６０／４４８，７６２号の優先権を主張するものである。
【０００２】
発明の背景
本発明は、毛髪の治療に関し、詳細には、電磁放射線を用いて偽毛包炎（ＰＦＢ）を治療及び予防するための方法及び装置に関する。
【０００３】
偽毛包炎（ＰＦＢ）は、成長する毛髪が表皮に再進入するヒゲ部分の慢性丘疹膿疱性皮膚炎である。ＰＦＢは、縮毛の人（男性及び女性）で起こりやすい。また、皮膚の色が濃いタイプ（ＩＶ‐ＶＩ）人が特にこの症状を起こしやすい。疫学的研究（ＰＫペリー（PK Perry）ら著、「ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・アカデミー・オブ・ダーマトロジー（J. Am. Acad. Dermatol）」、４６：Ｓ１１３‐１１９、２００２年）により、黒人の４５％〜８３％で発症するという推定値が得られた。
【０００４】
ＰＦＢの病因は毛髪構造である。湾曲したパターンの毛髪の成長が、症状が始まる主な原因である。毛髪がこのようなパターンの人では、皮膚表面から出た毛髪が表皮の方向に曲がる。完全な円を形成するかのようにこの方向に毛髪が成長すると毛髪が皮膚に刺入する（すなわち、毛包外刺入）。異物型炎症反応の後に複数の丘疹及び連続的な膿疱が起こる。或いは、皮膚の上を弧を描いてから皮膚に再進入するのではなく新生毛髪が毛包壁に刺入する（すなわち、毛包内刺入）。
【０００５】
従来の治療法には、（１）ヒゲ成長法、（２）ＰＦＢ用ヒゲ剃り法、（３）除毛剤及び局所クリームの塗布（例えば米国特許第６，３５２，６９０号）、及び（４）皮膚に刺入する毛髪を処置する電気分解法（例えば米国特許第５，４１９，３４４号）が含まれる。
【０００６】
近年、当初は除毛のために開発されたレーザー治療法がＰＦＢの治療に用いられるようになってきた。しかしながら、従来の治療法には様々な欠点がある。具体的には、ヒゲ成長法は多くの職業に向かないし、ＰＦＢ用ヒゲ剃り法は面倒で時間がかかり効果が十分でない場合が多い。局所除毛剤は、使用が困難であり、重度の皮膚炎を起こして症状を悪化させることもある。電気分解法は、訓練を受けた専門家だけが実施でき、高価であって著しく時間がかかる。レーザー方式は、問題を解消する治療を行うことができるが、現在は利用できるのが医療施設のみであり、既存のシステムは肌の色が濃いタイプの患者には最適とは言えないであろう。
【０００７】
従って、安全かつ効率的、そして自己医療可能なＰＦＢの治療法が当分野で要望されている。
【０００８】
発明の要約
ある態様では、本発明は、電磁放射線（ＥＭＲ）を皮膚治療部位に照射してその治療部位の１または複数の毛尖にエネルギーを供給し、毛尖の少なくとも一部を変更するステップを含む毛髪の治療方法を提供する。放射線の照射により、例えば皮膚表面の下側約０．２ｍｍから皮膚表面の上側約１ｍｍまで延びた毛尖を加熱して、例えば毛尖の尖りを鈍くするなど、毛尖の形状を変更することができる。毛尖の変更では、毛尖が皮膚に再進入し難くする（すなわち、治療した毛尖を実質的に丸い端部にする）毛尖の形状の熱による変化を伴い得る。従って、放射線の照射により、治療部位の偽毛包炎（ＰＦＢ）を治療及び／または予防することができる。具体的には、毛尖の形状の変更により、毛尖による毛包外及び／または毛包内への刺入を防止することができる。ある実施形態では、放射線の照射により、毛尖の皮質及び／または毛小皮に不可逆的な熱損傷を与えることができる。
【０００９】
放射線の照射により、毛尖の温度を約５０℃〜３００℃まで上昇させることができる。放射線のパラメータは、毛尖の温度が約５０℃〜約３００℃まで上昇する一方で、治療部位における表皮の温度が約６５℃未満、好ましくは６０℃または５５℃に維持されるように選択することができる。約０．０１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量が治療部位にさらされるように複数の電磁パルスを治療部位に照射することができる。このようなパルスは、約１ナノ秒〜約５分または約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有することができる。パルスは、０．１Ｈｚ〜約１０ＭＨｚの範囲の繰返し数を有することができる。一般に、１ｃｍ2の治療部位に対して約１ナノ秒〜約１００秒かかる治療の間にパルスを照射する。照射する放射線は、毛尖のメラニンによって吸収される波長成分を含むのが好ましい。例えば、放射線は、約２８０ｎｍ〜約１００，０００ｎｍの範囲、より好ましくは約３６０ｎｍ〜約６００ｎｍの範囲の波長成分を含むのが好ましい。
【００１０】
関連する態様では、毛髪治療法は、例えば表皮に対する毛尖の選択的な加熱を促進するべく治療部位の表皮を冷却するステップを含むことができる。この冷却ステップは、治療部位への放射線の照射の前、最中、または後に行うことができ、これにより表皮の温度が危険すなわち不快なレベル（１００℃超）まで上昇しないようにすることができる。
【００１１】
本発明の方法は更に、放射線によって光活性化して毛尖の形状の変更を促進する局所物質を皮膚治療部位に適用するステップを含むことができる。局所物質は、少なくとも１種類の外来発色団を含み、場合によっては、治療部位の毛髪または毛髪の毛包脂腺管へ外来発色団を供給するための媒介物を含むことができる。外来発色団は、毛尖の加熱を促進するように照射する放射線の波長に少なくとも部分的に一致する吸収スペクトルを有するように選択することができる。
【００１２】
更なる態様では、毛髪の治療方法は、治療部位を除毛するステップを含むことができる。除毛は、ヒゲ剃り、切り落とし、除毛クリームの適用、別の電磁放射線の照射、または他の任意の好適な方法によって行うことができる。例えば、皮膚の表面から突き出た毛尖部分を除去することができる除毛ステップは、電磁放射線の治療パルスを照射する前、後、または実質的に同時に複数の電磁パルスを治療部位に照射して行うことができる。
【００１３】
毛髪の治療方法は、治療の前または最中に皮膚治療部位を引き伸ばすステップを含むこともできる。この方法はまた、照射する放射線が毛尖に到達し易いように皮膚治療部位を持ち上げるステップを含むことができる。機械式、真空式、または静電気式の機構などの任意の好適な機構を用いて毛尖自体を持ち上げて、照射する放射線を毛尖に直接接触させることができる。
【００１４】
別の態様では、本発明はまた、毛幹を修正するのに十分な温度に上昇するまで皮膚治療部位の１または複数の毛幹を加熱するべく、皮膚治療部位に電磁放射線を照射して毛髪を治療する方法を提供する。毛幹の修正により、毛幹の縮れを軽減することができる（すなわち、毛幹を実質的にストレートにする）。この修正はまた、毛幹の柔軟性を高めるステップ、毛髪の直径または形状を変更するステップ、毛髪の引張り強さを増大させるステップ、及び／または毛髪の弾性を高めるステップを含むことができる。温度上昇は、例えば、約５０℃〜約３００℃の範囲にすることができる。放射線により、毛幹の引張り強さを変化させることができる。毛幹の引張り強さは、約１Ｍｐａ〜約２００Ｍｐａの破壊応力の範囲で変化させることができる。放射線により、治療部位の偽毛包炎を治療、予防、または軽減するのに十分な毛幹の変化（すなわち、毛幹の縮れの軽減）を起こすことができる。照射する電磁放射線は、約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍ、好ましくは約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍ、または約８００ｎｍ〜約１３５０ｎｍの範囲の波長成分を有する複数の電磁パルスによって皮膚治療部位に照射することができる。更に、治療部位の表皮を、治療の前、最中、及び／または後に冷却することができる。加えて、治療部位の毛髪は、電磁放射線を照射する前に実質的にストレートにすることができ、かつ／または放射線によって光活性化できる局所物質を治療部位に適用して毛幹の軟化及び／またはストレート化を促すことができる。
【００１５】
別の態様では、本発明は、約１２００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長成分を有する電磁放射線を皮膚治療部位の１または複数の毛包に照射して毛髪の成長を調節して制御する方法を提供する。放射線の照射により、毛髪の成長を減速及び／または停止させることができる。ある実施形態では、放射線の照射により毛髪の成長を刺激することができる。例えば、治療部位が約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量の放射線にさらされるように約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有する複数の電磁パルスを治療部位に照射することができる。照射する放射線の時間及び流束量は、毛髪の少なくとも一部を約４７℃よりも高い温度に加熱するように選択することができる。更に、治療部位の表皮を冷却することもできる。放射線によって光活性化し得る局所物質を治療部位に適用して毛髪の成長の調節を容易にすることができる。
【００１６】
更に別の態様では、本発明は、変更された毛髪を毛母基が生成できるようにするのに適した流束量及び波長の放射線で複数の毛包を照射するステップを含む毛髪の治療方法を提供する。放射線により、毛球、角質形成帯、及び毛包の球状部分を加熱して、縮れが少なく、細く、かつ／または柔軟な毛髪を毛母基が生成するようにできる。変更された毛髪の引張り強さは、治療前の毛髪に対して約１Ｍｐａ〜約２００Ｍｐａの破壊応力の範囲で変化させることができる。変更された細い毛髪は、治療前の毛髪に対して約１μｍ〜約６０μｍの範囲で直径を小さくすることができる。約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍ、好ましくは約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長成分、及び例えば約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有する複数の電磁パルスを用いて、約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2、好ましくは約５Ｊ／ｃｍ2〜約５０Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量に治療部位がさらされるように電磁放射線を皮膚治療部位に照射することができる。
【００１７】
別の態様では、本発明は、皮膚治療部位を治療するための装置を提供する。この装置は、１または複数の電磁放射線（ＥＭＲ）を皮膚治療部位に照射して１または複数の毛尖にエネルギーを加え、毛尖の少なくとも一部を変更（すなわち、形状、引張り強さ、滑らかさ、柔軟性、または真直度を変更）する放射線源と、皮膚治療部位の少なくとも一部を除毛する除毛機構を含む。この除毛機構は、ヒゲ剃り器具、除毛クリームを適用する器具、別の電磁放射線を放射する器具、または当分野で周知の任意の除毛機構を含むことができる。放射線源は、約３００ｎｍ〜約１９００ｎｍの範囲の波長成分を有する電磁パルスを生成することができる。この装置は、治療部位の表皮を、治療の前、最中、及び／または後に冷却するための冷却機構を含むこともできる。この装置はまた、皮膚表面から突き出た毛尖の除去を検出するセンサ及び／または切断機構による毛尖の保持を容易にするリフト機構を含むこともできる。このリフト機構は、機械式及び／または静電気式とすることができる。
【００１８】
別の態様では、本発明はまた、毛髪の成長を制御する装置を提供する。この装置は、毛髪の成長を調節するべく皮膚治療部位の１または複数の毛包に約１２００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長成分を有する電磁放射線を照射するための放射線源を含む。
【００１９】
別の実施形態では、本発明は、毛尖の少なくとも一部の形状を変更するための装置を提供する。この装置は、皮膚治療部位における少なくとも一部の毛尖の形状を変更するべく、約０．０１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量で皮膚治療部位を照射するために約２８０ｎｍ〜約１００，０００ｎｍの範囲の波長及び約１ナノ秒〜約５分の範囲のパルス幅を有する放射線パルスを生成する少なくとも１つの放射線源を含む。本発明はまた、毛幹の縮れを軽減するための装置を提供する。この装置は、皮膚治療部位における少なくとも一部の毛幹の縮れを軽減するべく、約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量で皮膚治療部位を照射するために約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍの範囲の波長及び約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有する放射線パルスを生成する１または複数の放射線源を含む。別の実施形態では、本発明は毛髪の成長を制御するための装置を提供する。この装置は、毛髪の成長を調節するべく皮膚治療部位における１または複数の毛包に照射するために約１２００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長成分を有する電磁放射線を生成する少なくとも１つの放射線源を含む。この放射線源は、ＬＥＤ、レーザーダイオード、フィルター付きアークランプ、またはフィルター付きハロゲンランプとすることができる。本発明の装置はまた、皮膚表面から突き出た毛尖部分を除去するための機構を含むこともできる。加えて、この装置は、治療のために毛髪を配置するための配置機構を含むことができる。配置機構は、放射された放射線が毛髪に最適に照射されるように毛髪の一部を移動させることができる機械式、静電気式、及び／または真空源式の機構とすることができる。
【００２０】
別の実施形態では、本発明は、毛幹の弾性を調節するための装置を提供する。この装置は、治療部位における少なくとも一部の毛幹の弾性を調節するべく、約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量で皮膚治療部位を照射するために約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長及び約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有する放射線パルスを生成する１または複数の放射線源を含む。
【００２１】
更に別の実施形態では、本発明は、皮膚用システムを提供する。この皮膚用システムは、皮膚治療部位上をスキャンするように適合されたヘッド部分を備え、少なくとも１つの放射線源を含むアプリケータと、スキャンの際にヘッド部分の位置を示す信号を生成するためにヘッド部分に結合されたトラッカーと、トラッカー及び放射線源に結合され、前記トラッカーから受信した位置信号に基づいて放射線源を周期的に作動させる制御装置とを含む。この制御装置は、位置信号に基づいた放射線源の前の作動からヘッド部分が移動した距離を決定する。この制御装置はまた、移動距離が閾値を超えると放射線源を作動させる。
【００２２】
発明の詳細な説明
本発明は、ＰＦＢの原因すなわち毛髪の引き抜きやヒゲ剃りによる毛髪端部の尖り及び毛髪の縮れに直接対処するべく毛幹を修正する方法を開示する。このような有望な毛幹修正法は、単純かつ安価にＰＦＢを治療できるという利点がある。本発明の開示により、毛幹修正法は、次に記載する少なくとも１つの方法で行うことができる。
（１）毛髪の縮れを軽減するべく毛幹の構造を熱で変形させて毛髪の引張り特性を変更する方法。
（２）熱で毛幹を収縮させて外毛根鞘（ＯＲＳ）と付随層（companion layer）との間の牽引力を減少させ、除毛を促進する方法。
（３）熱で付随層を変形させて付随層とＯＲＳとの間の牽引力を減少させ、除毛を促進する方法。
（４）毛髪の形状を熱で変形させて（すなわち尖りを鈍くする）毛包外刺入及び／または毛包内刺入の可能性を減少させる方法。
【００２３】
本発明の態様に従えば、ＰＦＢは、治療部位の複数の毛包またはその一部に電磁放射線（ＥＭＲ）を照射して治療または予防することができる。本発明に従ったＰＦＢの治療法では、皮膚のＰＦＢ部分を検査して識別し、このようなＰＦＢ部分にＥＭＲを選択的に照射するステップが含まれる。
【００２４】
ＰＦＢは、ヒゲ剃りでＰＦＢの発生因子となる遺伝的な毛髪または毛包の特徴を有する個々人に対する環境的な圧迫によって悪化する皮膚の症状である。更に、ＰＦＢは、病原微生物が病因に関係しないため真の毛包炎ではない。むしろ、病因の元は異物型炎症反応である。密着したヒゲ剃りの後、毛幹の鋭利な縁が、毛包の壁部を切開するまたは表皮に再進入する。本発明は、患者のＰＦＢを軽減、予防、及び／または治療できる方法及びそのような方法を行うための装置を開示する。
【００２５】
本発明の一態様では、毛尖の形状を修正するべく複数の毛髪先端に電磁放射線（ＥＭＲ）を照射する。ここで用いる当分野で周知の語「毛尖」は通常、皮膚表面近傍の皮膚表面の下側から皮膚表面の上側に延びた毛髪部分を指す。例えば、毛尖は、皮膚表面の下側約０．２ｍｍから上側約１．０ｍｍまで延びた毛幹部分を指すことができる。毛尖に選択的に熱を加えて毛尖の毛皮質及び／または毛小皮に一時的または不可逆的な熱損傷を与え、毛尖の形状を修正する。毛尖の修正では、熱で毛尖の形状を修正して毛髪が再進入し難くする。より具体的には、この修正形状は、修正前の毛尖よりも尖っていない形状、例えば丸くするのが好ましい。一例として、図１Ａと図１Ｂに、本発明の開示に従って処置する前の毛尖と、詳細を後述するように本発明の開示に従って電磁放射線が照射されて丸くなった毛尖との比較が示されている。毛尖の形状の修正は、皮膚治療部位を除毛しながらまたは除毛と同時に行うことができる。
【００２６】
一実施形態では、毛尖が約５０℃〜約３００℃の範囲の温度に到達するように毛尖にＥＭＲを照射する。ある実施形態では、毛尖の温度が約１００℃を超えるのが望ましい。別の実施形態では、毛尖の温度が約２００℃を超えるのが望ましい。
【００２７】
本発明のこの態様に従った毛尖の修正は、約２８０ｎｍを超える波長を有するＥＭＲを用いて達成することができる。波長は、好ましくは約２８０ｎｍ〜約１００，０００ｎｍの範囲、より好ましくは約２８０ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲、最も好ましくは約３８０ｎｍ〜約６００ｎｍの範囲である。毛髪中のメラニン及び／または水分に吸収される波長を加熱のために利用することができる。
【００２８】
毛尖の加熱は、下側の皮膚が損傷を受けないように選択的に行うことができる。この選択性は、毛尖と皮膚の熱放散特性の差によって得られる。表皮もメラニン部分を含むが、メラニンは、その殆どが皮膚の深い位置にある基底膜にあり、表皮は高い温度で周囲組織と熱接触するため、ＥＭＲは基底膜に到達する前に表皮の上層で減衰し、毛尖に比べて熱放散が著しい。
【００２９】
更に、皮膚組織（表皮）の熱は、周囲組織の熱伝導性が高いため、毛尖の熱よりも効率的に除去することができる。熱放散により、表皮の温度は毛尖の温度よりも低くなる。ある実施形態では、処置前に皮膚表面の汚れを取って、毛尖及び／または周囲領域からあらゆる熱伝導物質を除去し、皮膚に対する毛尖の選択的な加熱を促進することができる。ある実施形態では、表皮からの熱放散を更に促すために皮膚表面を冷却することもできる。例えば、冷却空気または室温の空気を冷媒として用いることができる。別の実施態様では、気流で毛髪を乾燥させて毛尖からの熱束を減少させる。別の実施形態では、治療の前、最中、及び／または後に治療部位に室温の空気または加熱空気を供給することができる。
【００３０】
図５に、様々な波長での照射後の毛尖の温度と表皮の温度の変化を比較したグラフが示されている。毛尖の選択的な加熱に最も適した波長は、ＵＶ及び紫スペクトルの範囲である。この治療に適した一般的なパラメータは、皮膚の基底層への光の透過を制限するために波長範囲が約２８０ｎｍ〜約１００，０００ｎｍ、好ましくは３６０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲であり、流束量は約０．０１Ｊ／ｃｍ2〜１０００Ｊ／ｃｍ2、より好ましくは約０．５Ｊ／ｃｍ2〜約５０Ｊ／ｃｍ2の範囲である。ある実施形態では、好適な波長を有する複数の電磁パルスを治療部位に照射して、電磁エネルギーを治療部位に照射する。このパルス幅は、毛尖の熱緩和時間よりも短いのが好ましい。毛尖の熱緩和時間は、周囲媒体の直径及び乾燥度によって異なるが、例えば１ミリ秒〜１０秒とすることができる。一般に、患者の状態を満たし易いように短いパルス幅が望ましい。特定の用途に対して選択される特定のパルス幅、流束量、及び波長は、限定するものではないが皮膚のタイプや毛髪の色などを含む様々な特性によって異なる。ある実施形態では、ある患者に対して選択されるパルス幅、流束量、及び波長は通常、毛髪の成長抑制または除毛に必要なＥＭＲよりも少ないＥＭＲを照射する。一般に、約１ナノ秒〜約５分の範囲のパルス幅が用いられる。
【００３１】
様々なＥＭＲ源を用いて本発明を実施することができる。ＥＭＲ源の例として、限定するものではないが、量子カスケードレーザー、固体レーザー、ＬＥＤまたは他の固体照明、ＬＥＤのマトリックスまたはアレイ、アークランプ、ハロゲンランプ、ファイバーレーザー、メタルハライドランプ、白熱ランプ、ＲＦ発生器、及びマイクロ波発生器などを含め、ダイオードレーザーを挙げることができる。ＥＭＲ源は、パルス放射線または連続的な放射線を生成することができる。一般に、ＥＭＲの照射には、上記したパラメータに従ってＥＭＲを照射する任意の好適な装置を用いることができる。例えば、米国特許第６５１７，５３２号、同第６，５０８，８１３号、米国特許出願第１０／１５４，７５６号（２００２年５月２３日出願、名称「光線美容装置用の冷却システム（Cooling system for Photocosmetic Device）」）、同第１０／７０２，１０４号（２００３年１１月４日出願、名称「低出力光線治療を行うための方法及び装置（Methods and Apparatus for Delivering Low Powered Optical Treatments）」）、同第１０／０８０，６５２号（２００２年２月２２日出願、名称「光線美容及び光線皮膚治療に用いる装置及び方法（Apparatus and Method for Photocosmetic and Photodermatological Treatment）」）、同第１０／７０６，７２１号（２００３年１１月１２日出願、名称「光線皮膚治療を行うための方法及び装置（Method and Apparatus for Performing Optical Dermatology）」）、及び米国特許第６，５１４，２４２号（名称「レーザー除毛の方法及び装置（Method and Apparatus for Laser Removal of Hair）」）に開示されているような装置に類似した構造を有することができる。
【００３２】
ある実施形態では、ＥＭＲは、皮膚表面に対して直角または様々な角度で照射する。例えば、光を斜めまたはかすめ角で照射して、皮膚表面に対して斜角で延びている毛髪にＥＭＲが結合し易くするのが適当であろう。
【００３３】
好適な実施形態では、皮膚治療部位を除毛してからＥＭＲを照射する。ＥＭＲは、ヒゲ剃りの度に照射するまたは必要に応じて（例えば、ひげ剃りの後１回おきに）照射することができる。除毛は、皮膚から突き出た毛尖の少なくとも一部を除去する任意の好適な機構を用いて達成することができる。好適な除毛の機構には、限定するものではないが、ヒゲ剃り、切り落とし、除毛クリームの塗布、及び別の電磁放射線の照射が含まれる。好適な実施形態では、除毛は、任意の好適な装置（例えば、剃刀または電気剃刀）を用いたヒゲ剃りによって達成される。一般に、ＥＭＲの照射時に、毛尖の位置は、皮膚表面の下側０．２ｍｍの深さから皮膚表面の上側１．０ｍｍの範囲である。
【００３４】
ある実施形態では、皮膚は、照射するＥＭＲが毛尖に到達し易いように治療前に皮膚を引き伸ばす。別の実施形態では、機械式または電気式の毛尖を保持する手段を用いて、治療に最適な位置に移動させる。別法では、ＥＭＲが、切断器具として機能し、１回の通過で切り落としと毛尖治療を行うことができる。ＥＭＲ照射の前に、加熱された気流、冷却された気流、または室温の気流を皮膚治療部位に供給して毛尖を乾燥させることができる。
【００３５】
ある実施形態では、毛幹がＥＭＲによって加熱されて柔軟になった後に整直器具（straightening implement）を用いて毛幹をストレートにすると同時または直前にＥＭＲを照射することができる。このような器具は、例えば、機械的な作用、静電気作用、または化学作用（またはこれらの組合せ）を用いることができる。別法では、毛髪をストレートにできる局所物質を、ＥＭＲ治療の前、最中、または後に皮膚治療部位に適用することができる。様々な毛髪ストレート剤が当分野で知られている（例えば、米国特許第６，５３７，５６４号及び同第６，５１７，８２２号を参照）。最も一般的な毛髪ストレート剤は、活性成分として例えば水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、及び水酸化カリウムなどの水酸化物系、またはチオグリコール酸アンモニウム系である。
【００３６】
ある実施形態では、電磁放射線による治療を促進するために局所適用発色団を用いる。その発色団の吸収スペクトルに少なくとも部分的に一致するようにＥＭＲの波長を最適にすることができる。また、供給システムを用いて発色団を適用して毛包脂腺管及び／または毛幹内へ発色団を進入させて治療を促進することができる。発色団は、媒介物と組合せた有機または非有機染料とすることができる。ある実施形態では、局所適用除毛剤を適用して治療を促進することができる。このような除毛剤は、感光性または感熱性として、毛尖の深さでＥＭＲを集中（例えば集束）させて除毛剤を毛尖部分で選択的に作動させることができる。場合によっては、局所組成物が、ＥＭＲの発色剤と除毛剤の両方を含むことができる。このような発色剤は、染料、金属、イオン、着色粒子、感光染料、感光物質、カーボン粒子、導電スキンローション、電解質スプレー、導電電解ゲル、及び酸化物からなる群から選択することができる。局所物質の例は、例えば、言及することを以ってその開示内容の全てを本明細書の一部とする米国特許第６，６８５，９２７号及び米国特許出願第１０／６９３，６８２号（２００３年１０月２３日出願、名称「クーラント及び局所物質を使用する光線治療装置（Phototreatment Device for Use with Coolants and Topical Substances）」）に開示されている。
【００３７】
本発明の別の態様では、毛幹の縮れを緩和する。ここで用いる語「縮れた」または「縮れ」は、湾曲した線（ループ）を形成する性質と毛幹の弾性欠如を組み合わせたものを指す。毛髪の縮れが弱くなると、好ましくは漏斗部分における毛髪の柔軟性、毛髪の直径または形状の変化、毛髪の引張り強さの増大、及び／または毛髪の弾性の増大が起こり得る。従って、ＥＭＲの照射により毛尖を約５０℃〜３００℃、好ましくは１００℃超、より好ましくは２００℃超の温度まで加熱して毛幹の物理的性質及び化学的性質を変える。この治療の一般的なパラメータには、約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍ、好ましくは約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍ、より好ましくは約８００ｎｍ〜約１３５０ｎｍの範囲の波長が含まれる。加熱によって毛尖の成分が柔軟になると、その毛尖の構造が変化することができる。ここで用いる語「柔軟な」または「柔軟にする」は、毛小皮、皮質、または毛幹の細胞間質の構造を熱で変形させて毛尖の縁の硬度を下げることを指す。柔軟性は、例えば、毛幹の引張り強さを測定して求めることができる。本発明のある実施形態では、照射する放射線により、毛幹の引張り強さを、約１ＭＰａ〜約２００ＭＰａの破壊応力の範囲、好ましくは約５ＭＰａ〜約１００ＭＰａの破壊応力の範囲で変化させることができる。ある実施形態では、照射する放射線により、毛髪の質感が変化する毛幹の物理的性質及び化学的性質の変化だけでなく、上記したように毛尖の形状も変化させることができる。
【００３８】
毛尖を選択的に加熱して、毛尖の皮質及び／または毛小皮に一時的または不可逆的な熱損傷を起こし変形させることができる。この治療の結果、毛小皮及び／または皮質及び／または細胞間質が変化（すなわち損傷）し、毛髪の縮れが減少し、毛髪が柔軟になり、毛髪が細くなり、毛髪の引張り強さが増大し、かつ／または毛髪の弾性が増大する。本発明の態様に従った毛尖の皮質及び／または毛小皮の変化は、波長が３８０ｎｍを超えるＥＭＲを用いて達成することができる。この波長は、好ましくは約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍの範囲、より好ましくは約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲である。光の波長は、脂質、水分、メラニン、及び／またはケラチン（すなわち、毛幹の成分）を選択的に目標とするように選択することができる。表皮の事前冷却及びＥＭＲの照射と同時の表皮の冷却（「平行」冷却と呼ばれる）を行って、このような治療の深さ選択性を改善することができる。冷却は、高い含水率から毛幹よりも熱伝導性が著しく高い真皮や表皮などの熱伝導性が高い組織で冷却効率が高い。従って、皮膚表面の冷却は、毛幹よりも真皮で効率が高いため、選択的に毛幹を加熱することができる。熱伝導率の低い毛幹の選択的な加熱は、約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍの範囲の波長を用いて達成することができる。
【００３９】
この治療の一般的なパラメータには、約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍの範囲の波長、約１ナノ秒〜約１分のパルス幅、そして約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の流束量が含まれる。特定の患者に対して選択されるパルス幅、流束量、及び波長は通常、除毛または毛髪の減少に必要なＥＭＲよりも少ないＥＭＲを供給する。図２に、波長が８００ｎｍ、パルス幅が２０ミリ秒、そして流束量が７．５Ｊ／ｃｍ2である複数の放射線パルスを用いた皮膚タイプＶＩに対するこの方式の治療の例示的な結果が示されている。この治療の結果、約０ｍｍ〜０．８ｍｍの深さの毛幹が最大２００℃まで加熱されるが、表皮の温度は６５℃を超えない。ある実施形態では、ビーム幅は、毛幹の深さまで進入するのを制限するために比較的細くなるように選択することができる。ビームは、散乱を利用して進入を制限するように円形、直線、または任意の好適な形状にすることができる。ある実施形態では、ＥＭＲが所望の深さに集中するようにビームを集束させることができる。
【００４０】
本発明の別の態様では、加熱または冷却により新しい発毛に変化を起こして毛球、角質形成帯、及び／または毛包の球状部分（bulbar）を変形させる方法が提供される。このような加熱または冷却により毛母基の機能に影響を与えることができる。具体的には、発毛過程が変更され、毛髪が再生する性質が変化し得る。例えば、新規に生えた毛髪が柔軟になり、かつ／または毛髪の形状が変化し（断面積が小さくなる、すなわち細くなり、楕円率が増大して丸くなる）、これにより縮れにくくなる。また、新規に生えた毛髪の化学構造を変更して毛幹を実質的にストレートにすることができる。毛球及び毛包の球状部分の選択的な加熱のために、波長が約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍ、より好ましくは約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲、パルス幅が約１ナノ秒〜約１分、そして流束量が約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2、より好ましくは約１Ｊ／ｃｍ2〜約１００Ｊ／ｃｍ2の範囲のＥＭＲを照射することができる。
【００４１】
図３Ａ及び図３Ｂに、毛幹の化学的特性及び物理的特性を変更するための本発明の使用が例示されている。ＥＭＲでの処置した後の小型化された毛髪の例が、図３Ａ（治療前）及び図３Ｂ（治療後）の差で示されている。ＥＭＲ治療は、広帯域源（波長が５３０ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲、流束量が約１２Ｊ／ｃｍ2、そしてパルス幅が２０ミリ秒）を用いて行った。特定の患者に用いるパルス幅、流束量、及び波長は通常、その患者の除毛または毛髪の減少に必要なＥＭＲよりも少ないＥＭＲを供給する。周囲組織に対する毛包の球状部分の選択的な吸収性及び／または伝導性及び／または熱特性により毛包の球状部分の選択的な加熱が可能となる。
【００４２】
ある実施形態では、毛母基及び／または真皮乳頭及び／または血管ループがＥＭＲ治療で選択的に治療されるように皮下領域を毛球（hair bulbar）の深さで約５℃〜約３０℃まで冷却することができる。冷却は、冷却物質（例えば、冷却された空気または液体）のスプレー、相変化物質の使用、または標的部と冷却要素との接触などの当分野で周知の様々な方法で達成することができる。例えば、接触冷却（すなわち、冷却要素を皮膚表面に接触させる）を用いることができる。別法では、局所物質を治療部位の一部を選択的に冷却するべく皮膚表面に適用することができる（例えば、米国特許出願第１０／１５４，７５６号（２００２年５月２３日出願、名称「光線美容装置用の冷却システム（Cooling system for a Photocosmetic Device）」）及び同第１０／６９３，６８２号（２００３年１０月２３日出願、名称「クーラント及び局所物質を使用する光線治療装置（Phototreatment Device for Use with Coolants and Topical Substances）」を参照されたい）。
【００４３】
更に、本発明の上記した態様と同様に、例えばローションなどの局所剤を皮膚治療部位に適用して、毛球及び／または角質形成帯及び／または毛包の球状部分の加熱を促進することができる。このような局所剤は、毛包の少なくとも一部の中に進入可能な外来発色団に含めることができる。好ましくは、外来発色団は、毛幹の加熱を促進するように照射する放射線の波長に少なくとも部分的に一致する吸収スペクトルを有することができる。
【００４４】
別の態様では、本発明は、患者の毛髪の成長を変更するための方法を提供する。除毛のため（例えば、米国特許第５，５９５，５６８号を参照）及び毛髪の成長速度を低下させるため（例えば、国際特許出願第２００３／０７７７８３を参照）のＥＭＲの使用は当分野で周知であるが、本発明はこの目的のために新規の波長範囲の使用を開示する。従来の方法及び装置は、１２００ｎｍ未満の波長の光照射を使用する。しかしながら、色が濃い皮膚のタイプの場合、１２００ｎｍ未満の波長での治療により、表皮損傷などの不所望の副作用が起こることがある。このような欠点を解消するべく、本発明は、約１２００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長を用いて毛髪の成長を変更できることを見出した。パルス幅、流束量、及び／または出力を調節して、約１２００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長を用いて毛髪の成長を遅くする、毛髪の成長を止める、または毛髪の成長を刺激することができる。
【００４５】
図４は、メラニンが近赤外スペクトルの光を吸収することを示すメラニンの１０００ｎｍ〜１４００ｎｍの範囲の吸収スペクトルである。メラニン含有標的を加熱するために１２００ｎｍよりも長い波長を使用できることを例１に示す。波長が１２００ｎｍ〜１４００ｎｍの範囲の光放射線の毛包マトリックスへの透過が毛包構造における導波管効果によって促進される。導波管効果は、毛幹、内側毛根鞘、外側毛根鞘、及び周囲組織における屈折率の差によって起こる。具体的には、毛幹、内側毛根鞘、及び外側毛根鞘の屈折率は周囲組織の屈折率よりも有意に高い。従って、インフルビダム（infulbidum）を介して毛包に結合した約１２００ｎｍ〜１４００ｎｍの範囲の波長を有する光が、刺入深さを効率的に増大させる一連の全内部反射（ＴＩＲｓ）で毛包内に伝播され得る。この効果は、毛包密度が１００本／ｃｍ2と高くなることもある顔の組織などの毛包密度の高い部分で著しい。例えば皮膚の３０％を超える部分が毛包に占有されているような毛包密度の高い部分では、大きなビームを使用すると、導波管効果が得られ、光が多数の毛包導波管を透過して真皮内に分散される。コヒーレントレーザービームの場合、この構造が、一定の波長に対して導波管効果を増幅する光学結晶と類似の機能を果たす。
【００４６】
図６Ａ及び図６Ｂに、毛球に伝送される光エネルギーの量に対するこの導波管効果の影響が例示されている。図６Ａは、（１）導波管効果を考慮した場合と（２）導波管効果を考慮しない場合の２つのケースの波長の関数として皮膚表面から毛球（１つの毛包の）位置までのＥＭＲの透過率を示すグラフである。
【００４７】
図６Ｂは、波長の関数として導波管効果のない皮膚の透過率に対する導波管効果のある皮膚の透過率の比を示すグラフである。図６Ｂは、照射する放射線の波長が例えば１２００ｎｍよりも長くなると、導波管効果が最も得られ、特に有利であることを示している。従って、波長が１２００ｎｍ〜１４００ｎｍの範囲での毛髪の成長の実質的な遅延は、約１Ｊ／ｃｍ2〜５００Ｊ／ｃｍ2の流束量及び約１ナノ秒〜１０分のパルス幅で達成することができる。
【００４８】
本発明はまた、後述するように皮膚治療部位を除毛しＥＭＲを照射するための装置を提供する。ある実施形態では、除毛装置とＥＭＲ照射装置が１つの装置に設けられており、１回のストロークで除毛と同時またはその後にＥＭＲを照射することができる。除毛装置は、ヒゲ剃り機構（例えば、剃刀または電気剃刀）、毛抜き機構（すなわち、皮膚治療部位を通過する時に毛髪を抜く回転装置）、除毛クリームのアプリケータ、電気分解、または別の電磁放射線のアプリケータなどの当分野で周知の任意の好適な除毛装置を含むことができる。好適な実施形態では、ＥＭＲは、１回の通過で切り落としと先端処理を行う切断器具として機能することができる。本装置はまた、治療のために最適な位置に毛尖を移動させるべく毛尖を捕捉する機械的または静電気的な機構を含むこともできる。本発明の更に別の実施形態では、本装置は、ＥＭＲ照射の前に毛尖を乾燥させるために空気を送る送風機構及び／またはＥＭＲ治療の前に皮膚治療部位を引き伸ばすためのストレッチ機構を含むことができる。
【００４９】
上記したように本発明の方法を実施するための実施装置に様々なデザインを採用することができる。具体的には、本発明の方法を実施するための様々な実施形態では、様々な方法で皮膚治療部位に電磁放射線を照射することができる。例として、図７Ａ‐図７Ｃに、皮膚治療部位に電磁放射線を照射する３つの例示的な方法が模式的に示されている。図７Ａに示されているように、スタンピング方式で、１または複数の電磁放射線源を含むアプリケータ（ハンドピース）７１を皮膚７２の選択された部位に配置し、電磁放射線７３のパルスをその部位の組織に照射することができる。次いで、ハンドピースを別の治療部位に移動させてＥＭＲパルスをその部位に照射することができる。これを繰り返して、電磁パルスを治療部位の全てに照射することができる。
【００５０】
図７Ｂに、ここではスキャン方式と呼ぶ治療部位に電磁放射線を照射する別の方式が模式的に示されている。この方式では、１または複数の電磁放射線源を含むハンドピースが皮膚表面に沿って連続的に移動して、治療部位の組織に電磁エネルギーを照射する。多くの実施形態では、このスキャン方式に電磁エネルギーの連続波（ＣＷ）源を用いることができる。別の実施形態では、詳細を後述するように、スキャン方式に電磁エネルギーのパルス源を用いることができる。
【００５１】
図７Ｃに、治療部位に電磁放射線を照射するマトリックス方式が模式的に例示されている。具体的には、本発明の実施形態に従った装置７６は、同時、順次、または選択されたパターンで作動させることができるＬＥＤなどの個々にアドレス指定可能なＥＭＲ源のアレイなどとして形成された複合ＥＭＲ源７７を含む。顔全体などの大きな治療部位などの治療部位を装置７６のパネル７５に近接または接触させて、アレイ状のＥＭＲ源からの放射線を照射する。更に、場合によってはビーム整形及び／または冷却器具７８を用いて、治療部位への電磁放射線の照射を最適にすることができる。
【００５２】
ある実施形態では、スキャン方式でＥＭＲのパルス源を用いるのが有利であろう。図８に模式的に示されているように、このような実施形態は、パルス源８４、トラッキング装置８５、及びコンピュータなどのトリガー装置８６を含むシステムを用いることができる。このシステムは更に、治療部位８２に電磁放射線を照射するハンドピース（アプリケータ）８１を含む。パルス源をハンドピースと一体にしても一体にしなくても良い。一体にしない場合、放射線が別のエネルギーガイド８７を介してハンドピースに供給される。アプリケータは、手動スキャンのためにハンドル８３を備えることができる。別法では、機械式スキャンを用いることもできる。治療は、アプリケータを皮膚表面に配置し、第１のパルス８８を発射して開始することができる。次いで、アプリケータを皮膚表面に沿って連続的に移動させて目的の治療部位をスキャンする。トラッキング装置８５が、アプリケータの位置を連続的に監視し、トリガー装置８６にデータを送信する。これらの装置は、ハンドピースと、または互いに一体にしても一体にしなくても良い。
【００５３】
図９に模式的に示されているように、トリガー装置は、所定のトリガー条件に基づいて次のパルスの発射を開始するべく、最後の発射位置９１とハンドピースの現在位置９２とを比較する。好適な一実施形態では、トリガー装置は、アプリケータのフレーム上に基準点（ＲＰ）を選択し、第１のパルスの前にその位置をマークし、次いで最後に発射した位置９３とＲＰの現在位置９４（スキャンによって常に移動する）との距離ｄrを監視する。例えば、トリガー装置は次に示す条件を監視することができる。
ｄr≧ｌh−ｌ0＝ｌh（１−α）                    （１）
この式において、α＝ｌ0／ｌhは所望の重複の程度であり、ｌ0は重複の長さ（ｍｍ）であり、ｌhはハンドピースの動作部分の長さ（ｍｍ）である。式（１）の条件が満たされると、トリガー装置がパルス源に次の発射命令を発することができる。治療部位全体を治療するまでこれを繰り返す。この発射命令は、アナログまたはデジタルパルス（または一連のパルス）の形態にすることができ、様々な機構（例えば、電気的、機械的、または光学的）を介してパルス源に送ることができる。当業者であれば、本発明の範囲から逸脱することなく、他のトリガーアルゴリズムを考案することもできるであろう。
【００５４】
トラッキング装置８５は、様々な技術を用いて実施することができる。例えば、一実施形態では、トラッキング装置は、一連のホイール、及びホイールの角度位置を読み取ることができる読取りモジュールを含むことができる。式（１）に一致する回転が成されると、発射命令が発せられる。ある好適な実施形態は、トラッキング装置が非接触光学装置であって、皮膚表面を照明し、制限部分の画像を十分な周波数（例えば、２ｋＨｚ）で撮ることができる。次いで、連続的な各画像を処理し、フレームの差を分析してフレームが撮られた瞬間のカメラ位置間の移動を決定する。このようにして、ＲＰの位置を確実に監視することができる。ある好適な実施形態では、トラッキング装置は、市販の光学マウス（場合によっては、用途の特定の構造に一致するように変更された光学マウス）とすることができる。トラッキング装置は、接触センサの機能を果たすこともできる。
【００５５】
トリガー装置８６は、機械式、電気機械式、電気式、電子式、光学式、または任意の他の好適なデザインとすることができる。トリガー装置８６はまた、アナログまたはデジタルとすることができる。ある好適な実施形態では、トリガー装置は電子デジタル装置である。
【００５６】
ある実施形態では、スタンピング式またはスキャン式で選択された皮膚治療部位に放射線を照射するための複合ＥＭＲ源を用いることができる。図１０に示されているように、一例では、複数のＥＭＲ源１０１をハンドピース１０２内に直線状のアレイに配置することができる。ハンドピース１０２が皮膚表面に沿ってスキャンする時に、タイミング装置１０３が、ＥＭＲ源の全てまたは選択された一部を作動させるべくプログラムされた順序に従ってＥＭＲ源１０１に発射パルスを送ることができる。この方式では、標的に対する所望の効果を、複合ＥＭＲ源からの複数のパルスの蓄積作用によって達成することができる。発射順序は、例えばトラッキング装置１０４によって監視されたスキャン速度または皮膚の状態（色素沈着または紅斑など）によって瞬時に変更することができる。ある実施形態では、装置は、治療のために毛髪を配置するための配置機構１０５を有することもできる。この配置機構は、放射された放射線が毛髪に最適に照射されるように毛髪の一部を移動させることができる機械式、静電気式、及び／または真空源式の機構とすることができる。
【００５７】
別法では、図１１に示されているように、ＥＭＲ源１１１を回転ドラム１１２内に配置することができる。タイミング装置１１３は、ＥＭＲ源が治療部位に面する底部位置１１４に来たと同時にＥＭＲを発射するような発射順序にすることができる。ビーム整形及び／または冷却器具１１５をハンドピースハウジングと一体にすることができる。当業者であれば、ＥＭＲ源を他の配置のアレイにできるであろう。
【００５８】
本発明の開示に従った装置のある実施形態は、治療の効果及び／または安全性を更に高めるように別の器具を含むことができる。例えば、図１２に示されているように、本装置は、局所組成物注出器具１２１、冷却器具１２２、フィードバック（皮膚の状態の監視）器具１２３、及び毛髪整直器具１２４を含むことができる。加えて、本装置は、治療部位を除毛するための剃刀などの器具を含むことができる。
【００５９】
ある実施形態では、本発明の開示に従った２つ以上の処置を実施するために１つの装置を用いることができる。
【００６０】
次に示す例により、本発明の開示に従った毛髪の治療方法の一部の態様を更に理解できるであろう。
【００６１】
例１．メラニン含有標的（毛髪）の加熱における１２０８ｎｍの波長に対する１０６０ｎｍの波長の効果の比較
図１３に模式的に示されている実験的な設備を用いて、メラニン含有率の低い毛髪（白髪）及びメラニン含有率の高い毛髪（黒髪）の加熱における１０６０ｎｍの放射線源を用いた場合に対する１２０８ｎｍの放射線源を用いた場合の効率を比較した。
【００６２】
ＣＷ Ｒａｍａｎファイバーレーザー１３１を用いて、１０６０ｎｍの波長及び１２０８ｎｍの波長の放射線を生成した。２ｍｍの開口１３６を用いて、放射ビーム１３４の最大強度（フラットトップ）を有する部分を選択した。脱水を避けるために測定直前に採取した黒髪１３２及び白髪１３３を、ビームの中心点に対してできるだけ対称にビーム経路に配置した。全放射電力を、２４０ｍＷで２つ波長に一致させた（すなわち、７．６Ｗ／ｃｍ2の照射量）。パルス発生器によって制御される電子シャッター１３５を用いて、両方の波長で最大２００ミリ秒のパルスを生成した（流束量は最大１．５Ｊ／ｃｍ2）。コンピュータ１３８によって制御される赤外線サーマルカメラ１３７のピントを毛髪のある平面に合わせて、両方の毛髪における最大の温度上昇点を選択した。これらの点における時間的温度プロファイルを記録した。
【００６３】
結果
図１４Ａ及び図１４Ｂのそれぞれに、それぞれの波長に対する２つの経時的な温度変化が示されている。更に、以下の表１に、２つの波長における両方の毛髪についての平均温度のデータが要約されている。
【表１】
2006518266.tif 000003
【００６４】
黒髪と白髪の温度上昇における比が２つの波長で有意差がないため、メラニンが１２０８ｎｍの波長でも主な吸収成分であることが分かる。そうではない場合は、比の変化は、図１５に示されている水に対するメラニンの吸収比における変化に近いであろう。
【００６５】
１２０８ｎｍでの温度上昇に対する１０６０ｎｍでの温度上昇の比は、赤外線でのメラニン吸収スペクトルに一致している（図４を参照）。データは更に、１２０８ｎｍにおけるメラニンの吸収は、効果的に加熱するのに十分であることを示している（現在の設定で最大８℃／（Ｊ／ｃｍ2））。
【００６６】
当業者であれば、上記した実施形態から本発明の更なる特徴及び利点を理解でき、通常の実験でこれを確認できるであろう。従って、本発明は、添付の特許請求の範囲を除いて、特定の記載及び図に限定されるものではない。ここで言及した全ての刊行物及び参照文献は、言及することを以ってその開示内容の全てを本明細書の一部とする。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１Ａ】ＥＭＲ治療前の毛尖を示す絵画図である。
【図１Ｂ】ＥＭＲ治療後の毛尖を示す絵画図である。
【図２】皮膚タイプＶＩのＥＭＲ治療の結果を例示するグラフである。
【図３Ａ】治療前の患者の足の部分の写真である。
【図３Ｂ】毛幹の変化を示す治療後３ヶ月の患者の足の部分の写真である。
【図４】１０００ｎｍ〜１４００ｎｍの範囲におけるメラニンの吸収スペクトルである。
【図５】様々な波長での照射の後の皮膚の基底層と毛尖の温度の変化を比較するグラフである。
【図６Ａ】（１）色が薄い毛髪における導波管効果のある皮膚、（２）色が濃い毛髪における導波管効果のある皮膚、及び（３）導波管効果のない皮膚に対する波長の関数として皮膚表面から毛球への皮膚の透過率を示すグラフである。
【図６Ｂ】（１）色が薄い毛髪及び（２）色が濃い毛髪に対する波長の関数として、導波管効果を考慮した表皮の基底層の温度上昇に対する毛母基の温度上昇の比（安全率）を示すグラフである。
【図７Ａ】スタンピング方式での皮膚治療部位への電磁放射線の照射を示す模式図である。
【図７Ｂ】スキャン方式での皮膚治療部位への電磁放射線の照射を示す模式図である。
【図７Ｃ】マトリックス方式での皮膚治療部位への電磁放射線の照射を示す模式図である。
【図８】スキャン方式でＥＭＲのパルス源を用いた本発明の実施形態の模式図である。
【図９】所定のトリガー条件に基づいて新しいＥＭＲパルスが発射される本発明の実施形態の模式図である。
【図１０】複数のＥＭＲ源がハンドピース内で直線状のアレイに整列された本発明の実施形態の模式図である。
【図１１】ＥＭＲ源が回転ドラムに配置された本発明の実施形態の模式図である。
【図１２】追加の器具が装置に配置された本発明の実施形態の模式図である。
【図１３】例１に用いられる実験設備の模式図である。
【図１４Ａ】１０６０ｎｍでのＥＭＲ治療の後の毛髪の温度プロファイルのグラフである。
【図１４Ｂ】１２０８ｎｍでのＥＭＲ治療の後の毛髪の温度プロファイルのグラフである。
【図１５】波長の関数としての水の吸収に対するメラニンの吸収の比を示すグラフである。
【図１Ａ】
2006518266.tif 000004
【図１Ｂ】
2006518266.tif 000005
【図２】
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【図３Ａ】
2006518266.tif 000007
【図３Ｂ】
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【図４】
2006518266.tif 000009
【図５】
2006518266.tif 000010
【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
2006518266.tif 000013
【図８】
2006518266.tif 000014
【図９】
2006518266.tif 000015
【図１０】
2006518266.tif 000016
【図１１】
2006518266.tif 000017
【図１２】
2006518266.tif 000018
【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１５】
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【手続補正書】
【提出日】平成17年3月14日(2005.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの放射線源を含む、毛尖の少なくとも一部の形状を変更するための装置であって、
前記放射線源が、皮膚治療部位の少なくとも一部の毛尖の形状を変更するように約０．０１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量で前記治療部位を照射するべく、約２８０ｎｍ〜約１００，０００ｎｍの範囲の波長及び約１ナノ秒〜約５分の範囲のパルス幅を有する放射線パルスを生成することを特徴とする装置。
【請求項２】
更に、前記毛尖の皮膚表面から突き出た部分を除去する機構を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
更に、前記皮膚治療部位上をスキャンするように適合されたヘッド部分を備え、少なくとも１つの放射線を含むアプリケータと、
スキャンの際に前記ヘッド部分の位置を示す信号を生成するために前記ヘッド部分に結合されたトラッカーと、
前記トラッカー及び前記放射線源に結合され、前記トラッカーから受信した位置信号に基づいて前記放射線源を周期的に作動させる制御装置とを含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記制御装置が、前記放射線源の前の作動が前記位置信号に基づいていることから前記ヘッド部分が移動した距離を決定することを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記制御装置が、前記移動距離が閾値を超えると前記放射線源を作動させることを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記放射線源が、前記皮膚治療部位を照射するべく約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍの範囲の波長及び約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有する放射線パルスを生成することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
更に、毛尖の皮膚表面から突き出た部分を除去する機構を含むことを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
放射線パルスを生成する前記少なくとも１つの放射線源が、
皮膚治療部位の１または複数の毛包に照射して毛髪の成長を調節するように約１２００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長成分を有する電磁放射線を生成する少なくとも１つの放射線源を含み、
前記放射線源を、ＬＥＤ、レーザーダイオード、フィルター付きアークランプ、及びフィルター付きハロゲンランプの何れかとすることができることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの放射線源が、
約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長及び約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有する放射線パルスを生成する少なくとも１つの放射線源を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
毛髪の治療方法であって、
皮膚治療部位の１または複数の毛尖にエネルギーを加えて前記毛尖の少なくとも一部の形状を変更するべく電磁放射線（ＥＭＲ）を前記治療部位に照射するステップを含むことを特徴とする治療方法。
【請求項１１】
電磁放射線を照射する前記ステップが、複数のＥＭＲパルスを前記治療部位の少なくとも一部に照射するステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記放射線の照射により前記毛尖を加熱して前記毛尖の尖りが鈍くすることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記放射線の照射により前記毛尖の形状を実質的に丸い形状にすることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記放射線の照射により、前記毛尖が毛包外及び／または毛包内に刺入しないように前記毛尖の形状を変形させることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記放射線の照射により、前記治療部位における偽毛包炎（ＰＦＢ）を治療し、かつ／または予防することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記放射線の照射により、前記毛尖の温度を約５０℃〜約３００℃上昇させることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１７】
更に、前記毛尖の温度を約５０℃〜約３００℃上昇させる一方、前記治療部の上皮温度を約６５℃未満に維持するように前記照射する放射線を選択するステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１８】
前記パルスが約１ナノ秒〜約５分の範囲のパルス幅を有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項１９】
前記パルスが約１マイクロ秒〜約１００ミリ秒の範囲のパルス幅を有することを特徴とする請求項１１に記載の方法。
【請求項２０】
前記パルスが約０．１Ｈｚ〜約１ＭＨｚの範囲の繰返し数を有することを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記放射線により、約０．０１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量が前記治療部位に照射されることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２２】
前記照射する放射線が約２８０ｎｍ〜約１０００００ｎｍの範囲の波長成分を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２３】
前記照射する放射線が約３８０ｎｍ〜約６００ｎｍの範囲の波長成分を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２４】
前記照射する放射線が、前記毛尖におけるメラニン、水分、及びケラチンの少なくとも１つに吸収される波長成分を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２５】
更に、前記電磁放射線を照射する前に前記治療部位の毛尖を乾燥させるステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２６】
更に、前記毛尖を乾燥させるために前記治療部位に気流を供給するステップを含むことを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
更に、前記治療部位の表皮を冷却するステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項２８】
前記治療部位に前記放射線を照射する前、最中、または後に前記冷却ステップを行うことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
更に、前記皮膚治療部位に局所物質を適用するステップを含み、前記局所物質が、前記放射線によって化学的または熱的に光活性化して前記毛尖の変形を促進することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項３０】
前記局所物質が少なくとも１種類の発色団を含むことを特徴とする請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記局所物質が、前記治療部位における毛髪の毛包脂腺管に前記発色団を供給するための媒介物を含むことを特徴とする請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記毛尖が、皮膚表面の下側約０．２ｍｍから前記皮膚表面の上側約１ｍｍまで延びていることを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項３３】
更に、前記放射線を照射する前に、前記毛尖の皮膚表面の上に突き出た部分を除去するステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項３４】
突き出た毛尖部分を除去する前記ステップを、前記電磁放射線を照射するステップと実質的に同時に行うことを特徴とする請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
突き出た毛尖部分を除去する前記ステップが、ヒゲ剃り、切り落とし、除毛クリームの適用、または別の電磁放射線の照射からなる群から選択されることを特徴とする請求項３３に記載の方法。
【請求項３６】
前記方法が更に、前記皮膚治療部位を引き伸ばすステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項３７】
前記方法が更に、前記皮膚治療部位の毛髪を持ち上げるステップを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項３８】
毛髪を治療する方法であって、
皮膚治療部位における１または複数の毛幹の弾性を変化させるべく、前記治療部位に電磁放射線を照射するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項３９】
前記放射線の照射により前記毛幹の弾性を増大させることを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記放射線の照射により、前記毛幹の引張り強さを、約１Ｍｐａ〜約２００Ｍｐａの破壊応力の範囲で変化させることを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４１】
前記放射線の照射により、前記毛幹が実質的にストレートにすることを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４２】
前記毛幹の前記弾性の変化により、前記治療部位における偽毛包炎（ＰＦＢ）の予防または治療が促進されることを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４３】
前記放射線の照射による温度上昇が約５０℃〜約３００℃の範囲であることを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４４】
電磁放射線を照射する前記ステップが、前記治療部位に複数の電磁パルスを照射するステップを含むことを特徴とする請求項３８に記載の方法。
【請求項４５】
前記放射線が約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍの範囲の波長成分を含むことを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】
前記放射線が約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長成分を含むことを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項４７】
前記パルスが約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有することを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項４８】
前記パルスが約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量を供給することを特徴とする請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
更に、前記治療部位の表皮を冷却するステップを含むことを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項５０】
更に、前記治療部位に局所物質を適用するステップを含み、前記局所物質が前記放射線によって光活性化されて前記毛幹を柔軟にすることを特徴とする請求項４４に記載の方法。
【請求項５１】
毛髪の成長を制御する方法であって、
毛髪の成長を調節するべく約１２００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長成分を有する電磁放射線を皮膚治療部位の１または複数の毛包に照射するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項５２】
前記放射線の照射により毛髪の成長を遅らせることを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５３】
前記放射線の照射により毛髪の成長を停止させることを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５４】
前記放射線の照射により毛髪の成長を刺激することを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５５】
前記毛髪の成長の前記調節により、前記治療部位における偽毛包炎（ＰＦＢ）を予防または治療することを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５６】
更に、前記照射する放射線を約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量に選択することを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５７】
放射線を照射する前記ステップが、約１ナノ秒〜約１０００秒の範囲のパルス幅を有する複数の放射線パルスを前記皮膚治療部位に照射するステップを含むことを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５８】
更に、前記治療部位の表皮を冷却するステップを含むことを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項５９】
更に、前記毛包の少なくとも一部を加熱するように前記照射する放射線の時間及び流束量を選択するステップを含むことを特徴とする請求項５１に記載の方法。
【請求項６０】
毛髪を治療する方法であって、
毛髪の少なくとも一部の縮れを軽減するのに適した流束量及び波長の放射線で治療部位における複数の毛包を照射するステップを含むことを特徴とする方法。
【請求項６１】
前記毛包の照射部分が、毛球、角質形成帯、及び毛包の球状部分（bulbar）の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６２】
前記放射線の照射により、毛母基が細い毛髪を発毛するようにすることを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６３】
縮れが軽減された前記毛髪が、治療前の毛髪に対して約１Ｍｐａ〜約２００Ｍｐａの破壊応力の範囲で引張り強さが変化することを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６４】
縮れが軽減された前記毛髪が、処置前の毛髪に対して約１μｍ〜約６０μｍの範囲で直径が小さくなることを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６５】
更に、前記波長を約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍの範囲に選択することを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６６】
更に、前記波長を約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲に選択することを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６７】
更に、前記流束量を約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲に選択することを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６８】
前記照射するステップが、前記治療部位に複数の電磁パルスを照射するステップを含むことを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６９】
前記パルスが、約１ナノ秒〜約１０分の範囲のパルス幅を有することを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項７０】
皮膚用システムであって、
皮膚治療部位上をスキャンするように適合されたヘッド部分を備え、少なくとも１つの放射線を含むアプリケータと、
スキャンの際に前記ヘッド部分の位置を示す信号を生成するために前記ヘッド部分に結合されたトラッカーと、
前記トラッカー及び前記放射線源に結合され、前記トラッカーから受信した位置信号に基づいて前記放射線源を周期的に作動させる制御装置とを含むことを特徴とする皮膚用システム。
【請求項７１】
前記制御装置が、前記位置信号に基づいた前記放射線源の前の作動から前記ヘッド部分が移動した距離を決定することを特徴とする請求項７０に記載の皮膚用システム。
【請求項７２】
前記制御装置が、前記移動距離が閾値を超えると前記放射線源を作動させることを特徴とする請求項７１に記載の皮膚用システム。
【請求項７３】
１または複数の放射線源を含む、毛幹の縮れを軽減するための装置であって、
前記放射線源が、皮膚治療部位の少なくとも一部の毛幹の縮れを軽減するように約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量で前記治療部位を照射するべく、約３８０ｎｍ〜約２７００ｎｍの範囲の波長及び約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有する放射線パルスを生成することを特徴とする装置。
【請求項７４】
更に、毛尖の皮膚表面から突き出た部分を除去する機構を含むことを特徴とする請求項７３に記載の装置。
【請求項７５】
少なくとも１つの放射線源を含み、毛髪の成長を制御するための装置であって、
前記放射線源が、皮膚治療部位の１または複数の毛包に照射して毛髪の成長を調節するように約１２００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長成分を有する電磁放射線を生成し、
前記放射線源を、ＬＥＤ、レーザーダイオード、フィルター付きアークランプ、及びフィルター付きハロゲンランプの何れかとすることができることを特徴とする装置。
【請求項７６】
１または複数の放射線源を含む、毛幹の弾性を変更するための装置であって、
前記放射線源が、皮膚治療部位の少なくとも一部の毛幹の弾性を変更するように約０．１Ｊ／ｃｍ2〜約１０００Ｊ／ｃｍ2の範囲の流束量で前記治療部位を照射するべく、約６００ｎｍ〜約１４００ｎｍの範囲の波長及び約１ナノ秒〜約１分の範囲のパルス幅を有する放射線パルスを生成することを特徴とする装置。
【請求項７７】
前記制御装置が、前記アプリケータ上に基準点（ＲＰ）を選択し、前記放射線源の作動前及び作動後にＲＰの位置をマークし、現在位置のＲＰと前の位置のＲＰとの間の距離（ｄr）を監視することを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項７８】
前記制御装置が、ｄr≧ｌh−ｌ0＝ｌh（１−α）の場合に前記放射線源を作動させ、
この式において、ｄrが距離であり、α＝ｌ0／ｌhが所望の重複の程度であり、ｌ0が重複の長さであり、ｌhが動作部分の長さであることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項７９】
前記トラッカーが、一連のホイール、及び前記ホイールの角度位置を読み取ることができる読取りモジュールを含むことを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項８０】
前記トラッカーが、非接触光学装置、光学センサ、及び接触センサからなる群から選択されることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項８１】
前記制御装置が、アナログまたはデジタルパルスの少なくとも一方で前記放射線源を作動させることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項８２】
前記制御装置が、スタンピング方式、スキャン方式、及びマトリックス方式からなる群から選択される方式で前記放射線源を作動させることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項８３】
前記制御装置が、プログラムされた順序に従って前記放射線源を作動させることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項８４】
前記トラッカーが皮膚の状態を監視することを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項８５】
前記制御装置が、監視した皮膚の状態に基づいて前記少なくとも１つの放射線源を作動させることを特徴とする請求項８４に記載の装置。
【請求項８６】
前記装置が更に、個々にアドレス指定可能な放射線源のアレイを含むことを特徴とする請求項３に記載の装置。
【請求項８７】
前記制御装置が、前記個々にアドレス指定可能な放射線源を同時に作動させることを特徴とする請求項８６に記載の装置。
【請求項８８】
前記制御装置が、前記個々にアドレス指定可能な放射線源を順次作動させることを特徴とする請求項８６に記載の装置。
【請求項８９】
前記制御装置が、前記個々にアドレス指定可能な放射線源を選択したパターンで作動させることを特徴とする請求項８６に記載の装置。
【請求項９０】
前記装置が更に、前記毛尖を配置できる配置機構を含み、
前記配置機構が前記ヘッド部分に結合されていることを特徴とする請求項３に記載の装置。
【国際調査報告】
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2006518266.tif 000026
2006518266.tif 000027
2006518266.tif 000028