(57)【要約】【課題】  ４−ヒドロキシイソロイシン及びその誘導体のジアステレオ異性体及びエナンチオマーを高収率で得る。【解決手段】  直接的に式Ｉの誘導体、又はラセミ型又はエナンチオマー過剰の混合物である式IIIのラクトンのうちの少なくとも１つのラクトンを製造する条件下で、式IIのイソオキサゾール誘導体を還元し、次いで、プロトン性又は非プロトン性溶媒中、塩基性条件下、所望する１又は複数のラクトンを開環し、必要であれば、所望する型を分離する。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
直接的に式Ｉの誘導体、又はラセミ型又はエナンチオマー過剰の混合物である式IIIのラクトンのうちの少なくとも１つのラクトンを製造する条件下で、式IIのイソオキサゾール誘導体を還元し、次いで、プロトン性又は非プロトン性溶媒中、塩基性条件下、所望する１又は複数のラクトンを開環し、必要であれば、所望する型を分離することを特徴とする、式Ｉの４−ヒドロキシイソロイシン及びその誘導体のジアステレオ異性体及びエナンチオマーの製造方法。
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式中、R1及びR2は、水素原子又は、R1又はR2の１つは、水素原子であり、他方の置換基は、Ra基、アシル基−CORa、特にアセチル基、又は官能基−COORa、−SO2Ra、又は−N（Ra、Rb）であり、Ra及びRbは同一であっても異なっていてもよく、それらは、置換されていてもよい直鎖又は分枝した炭素数１〜12のアルキル基、置換されていてもよい炭素数５〜８の芳香族環を１又はそれ以上含むアリール基、又はアラルキル（そのアルキル置換基及びアリール基は上記したとおり）であり、又はR1及びR2の両方が上記した置換基を表す。R3は水素原子又はRaであり、R4は水素原子を除いたRaを示す。
【請求項２】
前記ラクトンをTHF中でLiOHにより開環することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
式IIの上記イソオキサゾール誘導体を還元して、４つのラクトンL−１、L−２、L−３及びL−４を含む混合物とすることにより、構造体IIIのラクトンを得ることを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
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【請求項４】
式IIの上記イソオキサゾール中のR3が水素原子を表す場合は、Ra基が、後に得られる中間体に導入されることを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】
所望する１又は複数のラクトンは、ラセミ的又はエナンチオマー的に純粋な形で分離され、複数のラクトンのうちの１つ及び／又はエナンチオマーのうちの１つの形成が、使用する触媒及び条件により、促進されることを特徴とする請求項１又は２記載の方法。
【請求項６】
R1及び／又はR2が水素原子であるラクトンが置換されていること、特に、アルキル化、カルバミル化、スルホニル化、又はアシル化、とりわけ、アセチル化されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
ORaがベンジル基のような水素化分解を受けやすい官能基を表す式IIの上記イソオキサゾールを還元し、この還元は、Raがベンジル基以外である場合には、塩基性溶媒中で行うことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項８】
式IIの上記イソオキサゾール誘導体を還元する工程で形成される中間体が単離されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項記載の方法。
【請求項９】
エタノール／水媒体中で操作を行い、該媒体には、エタノール中のラネーニッケルと式IIの上記イソオキサゾール誘導体の溶液が添加され、該混合物は水素でパージされ、該反応媒体は、続いて、約１atmの水素圧下、環境温度で撹拌されて誘導体IV及びVを形成するか、
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あるいは、式VIの化合物から直接、誘導体IV及びVを得ることを特徴とする請求項３記載の方法。
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【請求項１０】
水素源の存在下、化合物Vが溶媒中の還元触媒の作用を受けることを特徴とする請求項９記載の方法。
【請求項１１】
有機溶媒、トリエチルアミン及び水素源の存在下、化合物IV又はVがキラル又はアキラルなリガンドの均一還元触媒の作用を受けるか、あるいは、NaBH4及びCeCl3・７H2Oの存在下、化合物IV又はVがエタノール／水混合物中で還元されることを特徴とする請求項９記載の方法。
【請求項１２】
ヒドロキシルアミンと、式VIの４−ケト−２−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体を反応させて式IIのイソオキサゾール誘導体を得ることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項記載の方法。
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【請求項１３】
４−ケト−２−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体を、ケトンVII及びオキサレート誘導体VIIIを縮合させて得ることを特徴とする請求項１２記載の方法。
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これらの式において、R5は、エチル、メチルのようなアルキル、アルキルアリール、ビニル又は置換ビニル基を表し、R4及びRaは、上記したとおりである。Rcは、Raによって意義が付与され、Raと同一又は異なる。
【請求項１４】
使用されるケトンがブタノンであることを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
使用されるケトンがアセトンであり、R3が水素原子、R4がCH3を表す式VIの４−ケト−２−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体が得られることを特徴とする請求項１３記載の方法。
【請求項１６】
Baylis−Hillmann反応に従って、メチルビニルケトンと式IXのグリオキサレートを反応させ、次いで、遷移金属触媒の存在下、化合物VIに異性化する工程又は二重結合の還元、その後、OH官能基を酸化することにより、式VIの４−ケト−２−ヒドロキシ−２−ブテン酸を得ることを特徴とする請求項１３記載の方法。
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【請求項１７】
以下の工程を含むことを特徴とする（２S、３R、４S）−４−ヒドロキシイソロイシンの調製方法。
ａ）２−ブタノンとエチルオキサレートとの反応又はメチルビニルケトンとエチルグリオキサレートを縮合し、続いて、精製することなく、異性化又は順に還元／酸化することによる、式Ｘの２−ペンテン酸エステルの合成、
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ｂ）得られた２−ペンテン酸のエステルをヒドロキシルアミンと反応させることによる、式XIのイソオキサゾール誘導体の形成、
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ｃ）得られたイソオキサゾール誘導体を還元することによる、ラクトン１−１〜１−４の生成、
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ｄ）ラセミ型のラクトン１−１〜１−４の分離、次いで、
ｅ）ラクトンの開環により化合物Ａを生成するためのエナンチオマーの分離、及び
ｆ）該ラクトン環の開環。
【請求項１８】
R1及びR2のうちの１つはHを表し、他はH以外である式IV及びVの中間体化合物、
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R1及びR2を問わず、上記定義した置換基をもつ以下の式のC−１及びC−２に該当する中間体化合物、
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又は化合物IV及びVに関連して上で述べたのと同じ置換基をもつ以下の式のE−１及びE−２に該当する中間体化合物。
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【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、４−ヒドロキシイソロイシン及びその誘導体のジアステレオ異性体及びエナンチオマーの製造方法に関するものであり、この誘導体という用語には、本発明方法によって得られる類似体が含まれる。本発明は、特に（２S、３R、４S）−４−ヒドロキシイソロイシン（４−OH−iLeuと略す）の製造に関する。
【背景技術】
【０００２】
４−OH−iLeuは天然物であり、コロハの種子から単離され、式Ａに該当する。
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【０００３】
この産物は、特にII型糖尿病に対して活性があるものの、抽出によって得られる量は、II型糖尿病患者の需要を満たすには不十分である。したがって、この不足を解消することを可能にする全合成の利点が評価されている。
【０００４】
従来、いくつかの方法が提案されているが、それにもかかわらず、それらの方法を工業的規模で使用することができるということは証明されていない。
【０００５】
本発明者は、特異的な反応生成物及び特異的な実施条件を選択することによって、より少ない数の工程を有する方法を開発し、この問題を解決することに成功した。
【０００６】
この発明は、４−ヒドロキシイソロイシン及びその誘導体のジアステレオ異性体及びエナンチオマーを高収率で得ることを可能とする。特に、４−OH−iLeu は、40％を超える収率で得ることができる。好ましいことには、本発明方法は、４−ヒドロキシイソロイシンの誘導体の合成も可能である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって、本発明の目的は、直接的に式Ｉの誘導体、又はラセミ型又はエナンチオマー過剰の混合物である式IIIのラクトンのうちの少なくとも１つのラクトンを製造する条件下で、式IIのイソオキサゾール誘導体を還元し、次いで、プロトン性又は非プロトン性溶媒中、塩基性条件下、所望する１又は複数のラクトンを開環し、必要であれば、所望する型を分離することを特徴とする、式Ｉのα−アミノ酸を合成する経済的な方法を提供することである。
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式中、R1及びR2は、水素原子又は、R1又はR2の１つは、水素原子であり、他方の置換基は、Ra基、アシル基−CORa、特にアセチル基、又は官能基−COORa、−SO2Ra、又は−N（Ra、Rb）であり、Ra及びRbは同一であっても異なっていてもよく、それらは、置換されていてもよい直鎖又は分枝した炭素数１〜12のアルキル基、置換されていてもよい炭素数５〜８の芳香族環を１又はそれ以上含むアリール基、又はアラルキル（そのアルキル置換基及びアリール基は上記したとおり）であり、又はR1及びR2の両方が上記した置換基を表す。R3は水素原子又はRaであり、R4は水素原子を除いたRaを示す。
【０００８】
前記ラクトン環の開環方法に対する１つの選択として、THF中でのLiOHの使用が含まれる。
【０００９】
本発明の好ましい１つの態様は、式IIの上記イソオキサゾール誘導体を還元して、４つのラクトンL−１、L−２、L−３及びL−４を含む混合物とすることにより、構造体IIIの上記ラクトンを得るものである。
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【００１０】
式IIの上記イソオキサゾール中のR3が水素原子を表す場合は、Ra基が、後に得られる中間体に導入される。
【００１１】
他の態様においては、所望する１又は複数のラクトンは、ラセミ的又はエナンチオマー的に純粋な形で分離される。
【００１２】
使用する触媒及び条件により、複数のラクトンのうちの１つ及び／又はエナンチオマーのうちの１つの形成を促進することができる。実施例においていくつかの例を示している。
【００１３】
本発明によれば、R1及び／又はR2が水素原子である種々のラクトンは、置換することができる。特に、アルキル化、カルバミル化、スルホニル化、アシル化、特にアセチル化である。この目的のため、特に、適当なアルキル化剤、カルバミル化剤、スルホニル化剤、アシル化剤、好ましくはアセチル誘導体を合成するために酢酸無水物を使用する。
【００１４】
本発明に係る構造体Ｉのα−アミノ酸の他の調製方法は、ORaが例えば、ベンジル基のような水素化分解を受けやすい官能基を表す式IIの上記イソオキサゾールを還元するものである。この還元は、Raがベンジル基以外である場合には、塩基性溶媒中で行う。
【００１５】
式IIの上記イソオキサゾール誘導体を還元する工程で形成される中間体は、必要であれば、単離することができる。ラクトンに関して上で述べたように、R1及び／又はR2が水素原子である生成物は置換することができ、特に、アルキル化、カルバミル化、スルホニル化、アシル化、特にアセチル化である。この目的のため、特に、適当なアルキル化剤、カルバミル化剤、スルホニル化剤、アシル化剤、好ましくは、アセチル誘導体を合成するための酢酸無水物を使用する。使用する触媒によって、ジアステレオ異性体及び／又はエナンチオマーの所定の型の生成物を増やすことが可能であるということは重要である。
【００１６】
以後、C−SH、C−SC、C−SE、又はC−SHの後に続く C−HC又はC−HEと表される、使用する実施条件により、得られる生成物は異なる（図１参照）。
【００１７】
例えば、C−SH条件では、エタノール／水等の媒体中で操作を行う。該媒体には、エタノール中のラネーニッケルと式IIの上記イソオキサゾール誘導体の溶液が添加され、混合物は水素でパージされる。
【００１８】
上記反応媒体は、続いて、約１atmの水素圧下、環境温度で撹拌して、誘導体IV及びVとする。これらは、例えば、シリカクロマトグラフィーによって、約80％の収率で単離することができる。
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【００１９】
本発明の１つの態様によれば、好ましくは酸性触媒及び脱水剤の存在下で、式NH（R1、R2）のアミンと反応させることにより、構造体VIの化合物から式IV及びVの化合物を直接得ることができる。
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【００２０】
４つのラクトン、L−１、L−２、L−３及びL−４の混合物は回収され、必要であれば、所望するラクトンが単離される。
【００２１】
本発明において１つの好ましい態様は、エタノール中のラネーニッケル／DABCO混合物中で還元を行うことにより、ラクトンL−１の生成を促進し、他方、エタノール中のPd／C／DABCO、又はエタノール中のPd／C／トリエチルアミンの如き系において、該反応を行い、C−１、C−２生成物を直接得るというものである。
【００２２】
他の態様は、C−SHの工程の結果得られたVをC−HC条件で、水素源の存在下、溶媒中、還元触媒の作用により化合物C−１及びC−２を得るものである。例えば、エタノール中のPd／C、水素の存在下である。これにより、約55％の収率で、70／30の割合でC−１／C−２混合物が得られる。
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【００２３】
その後、必要とされるラクトンの混合物は、C−CLルートによって生成することができる。
【００２４】
ラクトンL−２を主として得るためには、エタノール中のC−１を好ましくはNaBH4と反応させる。その結果、75％の収率で該ラクトン、残りはラクトンL−４を得ることができる。
【００２５】
エタノールと水の混合物に、触媒液、例えば、エタノール中のラネーニッケルとC−１を添加することにより、主としてラクトンL−４を生成することができる。望ましい処理条件は、反応混合物を０℃とし、水素でパージし、その後、水素圧下で撹拌処理することである。４つのラクトン、L−１、L−２、L−３、及びL−４の混合物を定量的に得ることができる。ラクトンL−４は、例えば、HPLCで収率約75％で単離することができ、残りは主としてラクトンL−２が形成される。
【００２６】
ラクトンL−３は、C−２を使用すること以外は、上記と同様に操作することにより、主として得ることができる。その後、ラクトンL−３は、例えば、HPLCにより、収率約75％で単離され、形成された残りは主としてラクトンL−２である。
【００２７】
他の態様は、C−HE条件により、化合物E−１及びE−２を得るものである。
【００２８】
例えば、E−２の合成は、IV又はVから開始し、収率は少なくとも90％である。この目的のため、好ましくは、均一還元触媒、例えば、［Ru（p−cym）2Cl2］、キラル又はアキラルなリガンド、特にはトシル化リガンド、例えば、TsDPEN（モノトシルジフェニルエチレンジアミン）、有機溶媒、トリエチルアミン及び水素源、例えば、イソプロパノール又は葉酸を含む反応媒体を使用する。
【００２９】
その結果、E−２の誘導体が約90％の収率で得られる。
【００３０】
E−１又はE−２を、それぞれV及びIVから開始し、NaBH4及びCeCl3・７H2Oの存在下、エタノール／水混合物中で還元することにより合成することもできる。必要とする生成物は、約95％の収率で得られる。
【００３１】
ラクトンL−１及びL−４は、それぞれE−２及びE−１を還元することにより主として得ることができる。好ましくは、雰囲気圧、水素下で、エタノール中のラネーニッケルにE−２を加える。L−１は、約75％の収率で得られ、残りは他のラクトンL−２、L−３、及びL−４からなる。L−４を主として得るには、E−１を出発物質とする以外は、前記したように、本方法を実施することにより、収率85％で得られる。
【００３２】
本発明の１つの好ましい態様は、式IIのイソオキサゾール誘導体を、ヒドロキシルアミンと、式VIの４−ケト−２−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体を反応させて得るものである。
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【００３３】
ヒドロキシルアミンは、さらに好ましくは塩の形で使用し、上記反応は環境温度で行う。
【００３４】
本発明の好ましい態様においては、４−ケト−２−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体を、ケトンVII及びオキサレート誘導体VIIIを縮合させて得る。
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【００３５】
これらの式において、R5は、エチル、メチルのようなアルキル、アルキルアリール、ビニル又は置換ビニル基を表し、R4及びRaは、上記したとおりである。Rcは、Raによって意義が付与され、Raと同一又は異なる。
【００３６】
縮合工程の他の態様は、使用するケトンを、２−ブタノンとするものである。その後、４−ヒドロキシ−イソロイシンとなる４−ケト−２−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体が、特に、２−ヘキセン酸誘導体を含む混合物中で得られ、それらの化合物は、後続の工程で分離される。
【００３７】
縮合工程の他の好ましい態様は、使用するケトンを、アセトン（R4＝R5＝CH3）とするものであり、これはR3が水素原子、R4がCH3を表す式VIの４−ケト−２−ヒドロキシ−２−ブテン酸誘導体となる。この化合物は、続いて塩基及びアルキル化剤の存在下で、特にアルキル反応によって、官能基化される。
【００３８】
さらに他の好ましい態様は、式VI（R3＝R4＝CH3）の４−ケト−２−ヒドロキシ−２−ブテン酸を、Baylis−Hillmann反応に従って、メチルビニルケトンとグリオキサレートIXを反応させ、次いで、異性化工程又は二重結合の還元を行い、その後、OH官能基を酸化することにより得るものである。
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【００３９】
形成した縮合生成物は、遷移金属触媒の存在下、化合物Xに異性化される。
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【００４０】
以下の中間体は新規生成物であり、したがって、本発明の範囲に含まれる。それらは、R1及びR2のうちの１つはHを表し、他はH以外である式IV及びVの化合物、R1及びR2を問わず、上記定義した置換基をもつC−１及びC−２に該当する化合物、又は化合物IV及びVに関連して上で述べたのと同じ置換基であり、Rは R1又はR2を表すE−１及びE−２の化合物、及びRは R1又はR2を表すが水素原子ではないE−１′及びE−２′の化合物である。
【００４１】
本発明は、とりわけ、式Ａの４−OH−iLeuの調製を目的としており、以下の工程を含む方法である。
以下の工程を含むことを特徴とする（２S、３R、４S）−４−ヒドロキシイソロイシンの調製方法。
ａ）２−ブタノンとエチルオキサレートとの反応又はメチルビニルケトンとエチルグリオキサレートを縮合し、続いて、精製することなく、異性化又は順に還元／酸化することによる、式Ｘの２−ペンテン酸エステルの合成、
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ｂ）得られた２−ペンテン酸のエステルをヒドロキシルアミンと反応させることによる、式XIのイソオキサゾール誘導体の形成、
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ｃ）得られたイソオキサゾール誘導体を還元することによる、ラクトン１−１〜１−４の生成、
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ｄ）ラセミ体のラクトン１−１〜１−４の分離、次いで、
ｅ）ラクトンの開環により化合物Ａを生成するためのエナンチオマーの分離、及び
ｆ）該ラクトン環の開環。
【００４２】
本発明の他の特徴及び長所は、図面１、２を参照しつつ、以下に述べる実施例にて示される。図面１、２は、式IIのイソオキサゾール誘導体から、それぞれ、ラクトンL−１〜L−４、ラクトンl−１〜l−４を得るための工程における各種生成物を図示した反応スキームを表す。
【００４３】
実施例１：式Ｘの２−ペンテン酸誘導体の合成
ブタノン由来のアニオンとジエチルオキサレートの縮合生成物の官能基化による合成
金属ナトリウムが完全になくなるまで、環境温度で、金属ナトリウム（6.05ｇ、260.00mmol、1.2当量）を無水エタノール（360mL）中で反応させて、ナトリウムエトキシド溶液を調製する。次いで、ブタノン（20.00mL、220.00mmol、1.0当量）を環境温度で滴下する。環境温度で１時間反応させた後、ジエチルオキサレート（60.00mL、440.00mmol、2.0当量）を環境温度ですばやく滴下する。５分間反応させた後、反応媒体を濃縮し、その後、真空下乾燥させる。粗反応生成物を飽和水性NaCl溶液（800mL）で希釈し、その後、水相を酢酸エチル（３×900mL）で抽出する。続いて水相を酢酸エチル（900mL）で希釈する。磁石を用いた撹拌を激しく行いながら、水相を１Ｎ  HCl溶液でpH６に酸性化する。水相を酢酸エチル（３×900mL）で抽出し、有機相を分離する。有機相を集め、MgSO4で乾燥し、その後、真空下濃縮する。粗反応生成物を真空下乾燥することにより、２−ヒドロキシ−３−メチル−４−オキソ−２−ペンテン酸エチルと２−ヒドロキシ−４−オキソ−２−ヘキセン酸エチルが90：10の混合物が収率30％で単離され、また、該生成物Ｘ（m＝11.4ｇ）と同じ反応性をもつ未確定構造の生成物も得られる。
・生成したヘキサン酸誘導体は、NaCl（飽和）で洗浄し、次いで、酢酸エチルで抽出を行うことにより、化合物Ｘから分離される。
生成物Ｘは、水相をpH６に酸性化し、続いて酢酸エチルで抽出することにより回収される。
・洗浄操作後の化合物Ｘの収率：30％
【００４４】
アセトン由来のアニオンとジエチルオキサレートの縮合生成物の官能基化
アセトンとジエチルオキサレートを塩基性溶媒中で縮合した。続いて、窒素含有基及びメチルを導入する。
Ra＝CH2CH3、R3＝H、R4＝CH3である式VIの化合物を、ヒドロキシルアミン塩酸で官能基化し、Ra＝CH2CH3、R1＝H、R2＝OH、R3＝H、R4＝CH3である化合物IVを得、次いで、これにメチル化反応を行うことにより、R3＝CH3以外は同じ化合物が得られる。
【００４５】
２−ヒドロキシ−４−オキソ−２−ペンテン酸エチル
滴下漏斗及びパドルスターラーを装備した２リットルの三つ首丸底フラスコ内において、金属ナトリウムが完全になくなるまで、金属ナトリウム（7.74ｇ、340.00mmol、1.2当量）を無水エタノール（800ml）中で反応させて、ナトリウムエトキシドの溶液を調製する。続いてアセトン（10.30mL、280.00mmol、1.0当量）中のジエチルオキサレート（37.20mL、280.00mmol、1.0当量）溶液を環境温度で滴下して添加する。該反応媒体を２時間激しく撹拌する。続いて該反応媒体を真空下濃縮する。粗反応生成物を水（200ml）で希釈する。氷（100ｇ）を添加し、次いで、清澄なオレンジ色の溶液が得られるまで、濃硫酸（20ml）を少量ずつ添加する。得られる水相を酢酸エチル（３×300mL）で抽出する。有機相を集め、MgSO4で乾燥し、その後、真空下濃縮する。粗反応生成物を真空下濃縮することにより、予定された生成物（ｍ＝44.71ｇ）が定量的に得られる。
【００４６】
メチルビニルケトンとエチルグリオキサレートとのBaylis−Hillmann反応
上記縮合化合物に対して、二重結合の還元の工程、続いて、精製することなく、ヒドロキシル官能基の酸化を行う。
【００４７】
縮合
無水ジオキサン（30mL）中のメチルビニルケトン（５mL、50mmol、１当量）溶液を、トルエン（14.2mL、60mmol、1.2当量）中の濃度50％エチルグリオキサレート溶液、次いで、DABCO（600mg、0.09当量）と混合する。反応混合物を環境温度で24時間撹拌する。次いで、10％HCl溶液（20mL）を加えて中和し、酢酸エチル（２×30mL）で抽出する。有機相を集め、MgSO4で乾燥し、その後、真空下濃縮する。反応生成物を90％以上の収率で回収する。
【００４８】
還元
アルゴン雰囲気下に置いた250mlの１つ首フラスコ内において、α、β−不飽和ケトン（８ｇ、4.65・10-2mol）を200mlのエタノールに溶解し、その後、Pd／CaCO3（1.6ｇ、0.2当量）を該混合物に加える。その系を水素でパージし、環境温度で３時間30分間、水素圧下で、続けて撹拌する。反応媒体をセライト（登録商標）で濾過し、濾過物を真空下濃縮する。このようにして得られた反応媒体は、精製することなく、直接酸化工程で使用する。
【００４９】
酸化
火炎処理を施し、アルゴン雰囲気下に置いた250mlの１つ首フラスコ内において、CH2Cl2（120ml）中のDMSO（2.6ml、3.7・10-2mol）溶液を−60℃に冷却し、その後、トリフルオロ酢酸無水物（6.42ml、3.3・10-2mol）を添加する。−60℃で10分間撹拌した後、少量のCH2Cl2（12ml）に希釈したアルコール溶液（2.ｇ、1.15・10-2mol）を滴下して添加する。
該反応媒体を−60℃で２時間撹拌し、その後、トリエチルアミン（7.85ml、7.5・10-2mol）を滴下して添加する。
【００５０】
上記の系は、−60℃でさらに２時間撹拌し、その後、環境温度に戻す。
【００５１】
0.2M  KCl＋NaOH、pH＝12の緩衝溶液（25ml）を添加する。
緩衝溶液の調製：25ml  0.2M  KCl、（373mg＋25ml  H2O）＋６ml  0.2M  NaOH（２ml  １M  NaOH＋８ml  H2O）。水相はCH2Cl2で抽出し、その後、有機相をMgSO4で乾燥し、真空下で再濃縮し、シリカカラムクロマトグラフを行う（系：７／３  ヘキサン／酢酸エチル）。
生成物Ｘ（1.5ｇ）が収率75％で単離される。
【００５２】
分析
化合物Ｘ
２−ヒドロキシ−３−メチル−４−オキソ−２−ペンテン酸エチルC8H12O4
TLC：Rf＝0.4（20：80  AcOEt／ヘキサン）
1H NMR（CDCl3、200MHz）δ（ppm）：1.36（s、6H）、1.97（s、3H）、2.23（s、3H）、4.23（m、4H）
13C NMR（CDCl3、50MHz）δ（ppm）：11.2；13.7；25.4；61.7；106.8；162.9；168.4；200.5
IR（νcm-1）：3452（OH）、3054、2987、1731（C＝O）、1264、742、703
MS（CI）m／ｚ：［M＋H］+＝173
Tb＝98℃；0.5mbar
無色オイル
【００５３】
２−ヒドロキシ−４−オキソ−２−ヘキセン酸エチルC8H12O4
TLC：Rf＝0.4（20：80  AcOEt／ヘキサン）
1H NMR（CDCl3、200MHz）δ（ppm）：1.11（t、3J＝7.6Hz、３H）、1.31（t、3J＝7.1Hz、３H）、2.47（q、3J＝7.6Hz、３H）、4.28（q、3J＝7.1Hz、３H）、6.31（s、1H）
13C NMR（CDCl3、50MHz）δ（ppm）：13.7；27.2；62.2；101.8；161.7；166.7；199.8
IR（νcm-1）：3561（OH）、2987、1739（C＝O）、1643（C＝C）、1602、1465、1419、1370、1269、1212、1119、1018、910、776、732
MS（CI）m／z：［M＋NH4］+＝176
無色オイル
【００５４】
２−ヒドロキシ−４−オキソ−２−ペンテン酸エチルC7H10O4
TLC：Rf＝0.5（50：50  AcOEt／ヘキサン）
1H NMR（CDCl3、300MHz）δ（ppm）：1.35（t、3J＝7.2Hz、２H）、2.24（s、３H）；4.32（q、t、3J＝7.6Hz、２H）、6.36（s、１H）
13C NMR（CDCl3、50MHz）δ（ppm）：13.7；27.2；62.2；101.8；161.7；166.7；199.8
IR（νcm-1）：3561（OH）、2987、1739（C＝O）、1643（C＝C）、1602、1465、1419、1370、1269、1212、1119、1018、910、776、732
MS（CI）m／z：［M＋NH4］+＝176
無色オイル
【００５５】
実施例２：イソオキサゾール系XIの生成
方法
250mlの二つ首丸底フラスコ内において、無水エタノール／無水テトラヒドロフラン（全容量＝54mL）１／１混合物に化合物Ｘ20mmolを溶解した溶液を調製する。該混合物をアルゴン雰囲気下、激しく撹拌する。ヒドロキシルアミン塩酸1.6ｇを少量にわけて（10回）、３時間添加する。該混合物を27時間、環境温度で放置する。
粗反応生成物をジクロロメタン180mLと飽和塩化ナトリウム溶液110mLに希釈し、その後、水相をジクロロメタン（２×110mL）で抽出する。有機相を集め、硫酸マグネシウムで乾燥し、その後、真空下、濃縮すると、化合物XIが収率80％で単離される。
【００５６】
分析
化合物XI
1H NMR（CDCl3、200MHz）δ（ppm）：1.36（t、3H）、2.07（s、3H）、2.23（s、3H）、4.23（q、2H）
13C NMR（CDCl3、50MHz）δ（ppm）：7.3、10.6、14.1、61.6、111.2、154.7、160.9、167.4
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝170
GC／MS  tR＝8.17分
【００５７】
実施例３：イソオキサゾール系の中間体の合成及び還元（スキーム図２参照）
エタノール中のラネーニッケル（Ａ液）の調製
水に保存された市販ラネーニッケルを4200回転／分の速度で５分間遠心分離する。上澄み液を除去し、固形部分を精製水で洗浄し、その後、再び遠心分離する。
この洗浄サイクルを５回繰り返し、その後、水をエタノールに変えて、洗浄及び上澄み液の除去を５サイクル行った後、５mL（〜10ｇ）のラネーニッケルＡ液を得る。
【００５８】
アセチル化処理
H−１、H−２からH−１′、H−２′の合成
１つ首丸底フラスコ内において、70℃、５時間、酢酸無水物にHを添加する（濃度0.45M）。酢酸無水物は、真空下、蒸発させ、粗反応生成物は、シリカカラムを用いて、８／２のヘキサン／酢酸エチル溶離液により濾過する。
得られた生成物H′は、冷却してエーテル／へキサン混合物から再結晶する。収率は90％である。
【００５９】
l−１、l−２からl−１′、l−２′及びc−１、c−２からc−１′、c−２′の合成
１つ首丸底フラスコ内において、環境温度で１時間、酢酸無水物にl又はcを添加する（濃度0.45M）。酢酸無水物は、真空下、蒸発させ、粗反応生成物は、シリカカラムを用いて、８／２のヘキサン／酢酸エチル溶離液により濾過する。精製された生成物
l′又はc′が98％で単離される。
【００６０】
【表１】
2006508168.tif 000021
【００６１】
XIの還元によるラクトンl−１からl−４、主としてl−２の合成
５mlの１つ首丸底フラスコ内に、等容量のエタノールと水の混合物（１mL）、エタノール中のラネーニッケルＡ液（100μL）及びXI（30mg、１当量、1.76・10-4mol）を入れる。該バッチを０℃に冷却し、その後、水素でパージする。
環境温度で12時間、水素圧（１atm）下、溶媒を撹拌する。
粗反応生成物をセライト濾過すると、４つのラクトンが定量的に得られる。
ラクトンl−２（４−ヒドロキシイソロイシンのラクトン）は、シリカカラムを用いたHPLCにより、収率40％で単離される。
【００６２】
XIの還元によるラクトンl−１からl−４、主としてl−１の合成
５mlの１つ首丸底フラスコに、エタノール（１mL）、DABCO（10mg）、エタノール（100μL）中のラネーニッケル液Ａ及びXI（30mg、１当量、1.76・10-4mol）を入れる。バッチを０℃に冷却し、その後、水素でパージする。
環境温度で12時間、水素圧（１atm）下、溶媒を撹拌する。
粗反応生成物をセライト濾過すると、４つのラクトンが定量的に得られる。
ラクトンl−２（４−ヒドロキシイソロイシンのラクトン）は、シリカカラムを用いたHPLCにより、収率60％で単離される。
【００６３】
XIの還元によるラクトンl−１からl−４、主としてl−４の合成
５mlの１つ首丸底フラスコに、エタノール（１mL）、DABCO（10mg）、エタノール中のラネーニッケルＡ液（100μL）及びXI（30mg、１当量、1.76・10-4mol）を入れる。該バッチを０℃に冷却し、その後、水素でパージする。
55℃で12時間、水素圧（１atm）下、溶媒を撹拌する。
粗反応生成物をセライト濾過すると、４つのラクトンが定量的に得られる。
ラクトンl−４は、シリカカラムを用いたHPLCにより、収率40％で単離される。
ラクトンl−１′、l−２′、l−３′及びl−４′は、上で得られた種々の粗生成物をアセチル化することにより合成される（アセチル化参照、19頁）。
【００６４】
反応条件C−SH
化合物XIの還元によるH−２の合成
５mlの１つ首丸底フラスコに、エタノール（１mL）、水（50μL）、エタノール中のラネーニッケルＡ液（100μL）及び化合物XI（30mg、１当量、1.76・10-4mol）を入れる。該バッチを０℃に冷却し、その後、水素でパージする。
環境温度で24時間、水素圧（１atm）下、溶媒を撹拌する。
粗反応生成物をシリカカラムクロマトグラフィーにより精製すると、H−２は、収率80％で単離される。
【００６５】
反応条件C−SC
化合物XIの還元によるC−１、C−２の合成
【００６６】
【表２】
2006508168.tif 000022
５mlの１つ首丸底フラスコに、エタノール（１mL）、トリエチルアミン（50μL）、カーボン担持パラジウム（６mg）及び化合物XI（30mg、１当量、1.76・10-4mol）を入れる。該バッチを０℃に冷却し、その後、水素でパージする。
環境温度で24時間、水素圧（１atm）下、溶媒を撹拌する。
粗反応生成物をセライト濾過すると、２つのジアステレオ異性体C−１、C−２は、収率70％で得られる。
２つのジアステレオ異性体C−１′、C−２′は、上で得られる種々の粗生成物をアセチル化することにより合成される（アセチル化参照、19頁）。
【００６７】
反応条件C−HL
化合物H−２′の還元によるl−１′、l−２′、l−３′及びl−４′の合成
５mlの単一首丸底フラスコに、エタノールと水の等容量混合物（300μL）、１mL）、エタノール中のラネーニッケルＡ液（50μL）及びH−２′（10mg、１当量、0.6・10-4mol）を入れる。バッチを０℃に冷却し、その後、水素でパージする。
環境温度で12時間、水素圧（１atm）下、溶媒を撹拌する。
粗反応生成物をセライト濾過すると、４つのラクトンは定量的に得られる。
ラクトンl−１′、l−２′、l−３′及びl−４′は、シリカカラムを用いたHPLCにより以下の割合で単離される。
【００６８】
【表３】
2006508168.tif 000023
【００６９】
反応条件C−He
H−１′又はH−２′からe−２′の合成
アルゴン雰囲気下、予め火炎処理した試験管内において、３mgの［Ru（p−cym）2Cl2］（５mol％）、トシル化リガンドTsDPEN（1.05当量／Ru）、溶媒iPrOH（136μL）及びトリエチルアミン（6.2μL）を含む反応媒体を80℃で２時間加熱する。その後、該媒体をアルゴン雰囲気下で蒸発させ、環境温度で放置する。
出発物質（40mg）をHCOOH／NEt3＝５／２（92μL）に溶解し、該バッチを環境温度で17時間00分、上記触媒を含んだ上記試験管に加える。粗反応生成物は真空下濃縮し、シリカにより酢酸エチルを用いて濾過する。生成物e−２′が収率90％で単離される。
【００７０】
H−１′からe−１′又はH−２′からe−２′の合成
５mlの２つ首丸底フラスコ内において、アルゴン雰囲気下、−15℃の１／1.5のエタノール／水混合物に出発物質を加える。1.5当量のNaBH4及び１当量のCeCl3・７H2Oを添加し、該媒体を15分間撹拌する。アセトンを数滴添加することにより、過剰のNaBH4が中和される。
粗反応生成物をエーテルと飽和塩化ナトリウム溶液で希釈し、その後、水相を３回エーテルで抽出する。有機相を集め、硫酸マグネシウムで乾燥し、その後、真空下、濃縮すると、収率95％で単離される。
【００７１】
反応条件C−Hc
H−２からc−１及びc−２の合成
水素雰囲気下、40barで、Pd／C（10％容量）及びエタノール（0.1M）の存在下で、H−２を環境温度で27時間反応させる。粗反応生成物をセライト濾過し、真空下、濃縮する。c−１／c−２の比が70／30、55％の収率で得られる。
【００７２】
H−２′からc−１′及びc−２′の合成
水素雰囲気下、大気圧で24時間00分、10％のPd／Cを含むエタノール（0.1M）中でH−２′を反応させる。粗反応生成物をセライト濾過し、その後、真空下、濃縮する。c−１′及びc−２′の１／１混合物が収率98％で得られる。c−１′及びc−２′は上記した方法に従い、HPLCにより分離する。
【００７３】
反応条件C−eL
e−２′からl−１′の合成
水素雰囲気下、大気圧で、e−２′を市販のラネーニッケルを含むエタノール（0.1M）中で反応させる。粗反応生成物をセライト濾過し、真空下、濃縮する。l−１′が収率75％で得られる。残りの25％は、l−２′、l−３′、l−４′の混合物である。
【００７４】
e−１′からl−４′の合成
水素雰囲気下、大気圧で、市販のラネーニッケルを含むエタノール（0.1M）中で、e−１′を15時間00分反応させる。粗反応生成物をセライト濾過し、真空下、濃縮する。l−４′が収率85％で単離される。残りの15％は、アセチル化ラクトンl−２′である。
【００７５】
反応条件C−cL
c−１′からl−２′の合成
NaBH4（２当量）を含むエタノール（0.1M）中で、c−１′を０℃で１時間反応させる。粗反応生成物を酢酸エチル及び水で希釈する。水相を３回酢酸エチルで抽出する。有機相を集め、硫酸マグネシウムで乾燥し、その後、真空下、濃縮すると、アセチル化ラクトンl−２′が収率75％で得られる。残りの25％は、ラクトンl−４′である。
【００７６】
c−１′からl−４′の合成
５mlの１つ首丸底フラスコに、等容量のエタノール及び水（300μL）、エタノール中のラネーニッケルＡ液（50μL）及びc−１′（10mg、１当量、0.6・10-4mol）を入れる。該バッチを０℃に冷却し、その後、水素でパージする。
該媒体を、環境温度で12時間、水素圧（１atm）下で撹拌する。粗反応生成物をセライト濾過すると、４つのラクトンの混合物が定量的に得られる。ラクトンl−４′をHPLCで単離する。収率は75％であり、残りの25％はラクトンl−２′である。
【００７７】
c−２′からl−３′の合成
５mlの１つ首丸底フラスコに、等容量のエタノール及び水（300μL）、エタノール中のラネーニッケルＡ液（50μL）及びc−２′（10mg、１当量、0.6・10-4mol）を入れる。該バッチを０℃に冷却し、その後、水素でパージする。
該媒体を、環境温度で12時間、水素圧（１atm）下で撹拌する。粗反応生成物をセライト濾過すると、４つのラクトンの混合物が定量的に得られる。ラクトンl−３′をHPLCで単離する。収率は75％であり、残りの25％はラクトンl−１′である。
【００７８】
反応条件I−HH
H−２′からH−１′の合成
アルゴン雰囲気下、予め火炎処理した試験管内において、３mgの［Ru（p−cym）2Cl2］（５mol％）、トシル化リガンドTsDPEN（1.05当量／Ru）、溶媒iPrOH（136μL）及びトリエチルアミン（6.2μL）を含む反応媒体を80℃で２時間加熱する。その後、該媒体をアルゴン雰囲気下で濃縮し、そして、環境温度にする。形成した該触媒にエタノール（1.1M）を加え、これにH−２′を入れ、該媒体を27時間00分、環境温度で反応させる。粗反応生成物は真空下、濃縮し、シリカにより酢酸エチルを用いて濾過する。生成物H−１′が収率60％で単離される。
【００７９】
反応条件I−cc
c−２′からc−１′の合成
15当量のトリエチルアミンを含むエタノール（0.1M）にc−２′を入れ、80℃で24時間00分加熱する。粗生成物を真空下濃縮すると、c−１′が収率55％で単離される。
【００８０】
HPLC条件
４つのラクトンl−１′、l−２′、l−３′、及びl−４′の分離
４つのラクトンl−１′、l−２′、l−３′、及びl−４′は、HPLCで分離される。
HPLC（Gynkotek  Gina  50）、ZORBAX  SIL  4.6MM  ID×25cmカラム、溶離液として、95／5のヘキサン／メタノール混合物、流速８mL／分。
【００８１】
ラクトンl−２′の２つのエナンチオマーの分離
上記２つのエナンチオマーは、キラルHPLCで分離される。HPLC（島津）、CHIRALPAK  ASカラム、溶離液として、95／5のヘキサン／メタノール混合物。
【００８２】
分析
GC／MS分析は全て同じタイプの装置で行う。
GC／MS（島津  GCMS−QP5050A）
カラム：SGE  CAPILIARY  Silica25m×0.2mm  PBXS５  0.25
キャリアーガス：ヘリウム、流速29ml／分；圧力：118kPa
プログラム
インターフェイス部：260℃
カラム：80℃
検出器：320℃
80℃で２分間、その後、10℃／分で温度上昇
【００８３】
HPLC分析は全て同じタイプの装置で行う。
HPLC（Gynkotek  Gina  50）、ZORBAX  SIL  4.6MM  ID×25cmカラム溶離液：95／05ヘキサン／メタノール混合物。流速８mL／分
【００８４】
H−１′
1H NMR（CDCl3、200MHz），δ（ppm）：1.25（t、3H）、1.88（s、3H）、2.09（s、3H）、2.32（s、3H）、4.18（q、2H）、7.52（s、1H）
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝214
GC／MS  tR＝12.15分
【００８５】
H−２′
1H NMR（CDCl3、200MHz），δ（ppm）：1.33（t、3H）、1.91（s、3H）、2.10（s、3H）、2.26（s、3H）、4.37（q、2H）、11.85（s、1H）
1C NMR（CDCl3、75MHz），δ（ppm）：13.8、14.7、23.5、29.7、62、110.1、139.1、164.2、168.2、203.8
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝214
GC／MS  tR＝12.15分
【００８６】
H−２
1H NMR（CDCl3、200MHz），δ（ppm）：1.36（t、3H）、2.07（s、2H）、4.84（m、1H）、6.47（d、1H）
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝216
GC／MS  tR＝11.02分
【００８７】
c−２′
1H NMR（CDCl3、300MHz），δ（ppm）：1.16（d、3H）、1.26（t、3H）、1.99（s、3H）、2.23（s、3H）、3.07（m、1H）、4.19（q、2H）、4.84（m、1H）、6.31（d、1H）
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝216
GC／MS  tR＝11.50分
【００８８】
e−１′
1H NMR（CDCl3、300MHz），δ（ppm）：1.47（d、3H）、2.10（s、3H）、2.15（s、3H）、4.92（q、1H）、7.31（s、1H）
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝170
【００８９】
e−２′
1H NMR（CDCl3、300MHz），δ（ppm）：1.23（d、3H）、1.29（t、3H）、2.03（s、3H）、2.08（s、3H）、3.64（s、1H）、4.22（q、2H）、4.58（m、1H）、7.61（s、1H）
13C NMR（CDCl3、75MHz），δ（ppm）：13.6、14.1、19.5、23、61.2、67.5、121.6、146.1、165.2、170.2
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝216
【００９０】
e−１
1H NMR（CDCl3、200MHz），δ（ppm）：1.4（d、3H）、1.84（s、3H）、3.39（s、3H）、4.79（q、1H）
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝128
GC／MS  tR＝7.59分
【００９１】
l−１′
1H NMR（CDCl3、200MHz），δ（ppm）：1.22（d、3H）、1.44（d、3H）、2.02（m、1H）、2.08（s、3H）、4.16（m、1H）、4.53（m、1H）
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝172
HPLC：tR＝27分
【００９２】
l−２′
1H NMR（CDCl3、200MHz），δ（ppm）：0.96（d、3H）、1.46（d、3H）、2.08（s、3H）、2.67（m、1H）、4.41（m、1H）、4.76（m、1H）
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝172
HPLC：tR＝23.5分
【００９３】
l−３′
1H NMR（CDCl3、200MHz），δ（ppm）：1.16（d、3H）、1.32（d、3H）、2.07（s、3H）、2.55（m、1H）、3.07（m、1H）、4.19（q、2H）、4.84（m、1H）、6.31（d、1H）
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝172
【００９４】
l−４′
1H NMR（CDCl3、200MHz），δ（ppm）：0.80（d、3H）、1.38（d、3H）、2.09（s、3H）、2.94（m、1H）、4.56（m、1H）、4.70（m、2H）
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝172
HPLC：tR＝19分
【００９５】
l−１
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝130
GC／MS：tR＝5.7分
【００９６】
l−２
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝130
GC／MS：tR＝6.22分
【００９７】
l−３
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝130
GC／MS：tR＝6.40分
【００９８】
l−４
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝130
GC／MS  tR＝6.69分
【００９９】
化合物Ｘから出発する化合物IV（R1＝H、R2＝ベンジル、R3＝メチル及びR4＝メチル）の異なる調製
二つ首丸底フラスコに、活性分子篩を含む無水エタノールと共に化合物Ｘを入れる。ベンジルアミン塩酸を３時間の間、10回に分けて添加する。該混合物を環境温度で24時間撹拌する。粗反応生成物セライト濾過し、その後、ジクロロメタンで希釈する。有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、その後、水で洗浄する。有機相は硫酸マグネシウムで乾燥し、その後、真空下で濃縮を行う。粗生成物をシリカクロマトフラフィーで精製すると、収率50％で得られる。
【０１００】
分析
1H NMR（CDCl3、300MHz），δ（ppm）：1.27（t、3H）、1.82（s、3H）、2.17（s、3H）、4.27（q、2H）、4.32（d、2H）、7.31（m、5H）
13C NMR（CDCl3、50MHz），δ（ppm）：13.9、14.9、28.6、48.9、61.7、97.3、127.2、127.5、128.6、137.9、153.0、164.2、199.7
MS（CI）m／z：［M＋H］+＝261
【０１０１】
化合物H−２′から化合物C−１′及びC−２′への不斉還元の実施例
・触媒の調製
予めパージ（真空、アルゴン）したシュレンク・チューブに、アルゴン雰囲気下、メタノールと該触媒をそのリガンドと共に入れる。清澄な媒体が得られるまで、約20分間撹拌する。
・還元
アルゴン雰囲気下で磁石を有するオートクレーブに基質を入れ、そして、上で調製した溶液を入れる。該反応媒体を50barで水素下、17時間撹拌し続ける。メタノールを蒸発させ、ジクロロメタンを加える。活性炭素を加え、該混合物を約15分間撹拌する。該媒体をセライト濾過し、濃縮する。得られた粗生成物をシリカカラムクロマトグラフィーにより精製する。
【０１０２】
【表４】
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【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】図１は、ラクトンL−１〜L−４、ラクトンl−１〜l−４を得るための反応スキームを表す説明図である。
【図２】図２は、ラクトンL−１〜L−４、ラクトンl−１〜l−４を得るための反応スキームを表す説明図である。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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