(57)【要約】  欠陥の画像を検査システムからデータベースに自動的に送信するシステム及び方法が開示される。その方法は、検査システムにロードされたリソグラフィコンポーネント上の欠陥を特定し、特定された欠陥の画像を捕捉する。オペレータは、特定された欠陥用の欠陥コードの選択を促され、捕捉された画像は、オペレータの欠陥コードの選択に応じて自動的にデータベースに送信される。
2006507539.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
欠陥画像を検査システムからデータベースに送信する方法であって、
検査システムにロードされたリソグラフィコンポーネント上の欠陥を特定し、
特定された欠陥の画像を捕捉し、
オペレータに特定された欠陥用の欠陥コードの選択を促し、
捕捉された画像をオペレータの欠陥コードの選択に応じて自動的にデータベースに送信する
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項２】
請求項１に記載の欠陥画像送信方法において、さらに、
リソグラフィコンポーネントに関する描写情報を抽出する
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項３】
請求項２に記載の欠陥画像送信方法において、さらに、
描写情報を捕捉された画像と関連付け、
描写情報と捕捉された画像とをデータベースに対して自動的に送信する
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項４】
請求項２に記載の欠陥画像送信方法において、さらに、
描写情報は、１または複数の顧客名、ジョブ番号、層名、デバイス名、サイト名、ツールシリアル番号、オペレータ識別子、欠陥コードから構成される
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項５】
請求項１に記載の欠陥画像送信方法において、さらに、
捕捉された画像がデータベース中に蓄積された場合にオペレータに通知する
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項６】
請求項１に記載の欠陥画像送信方法において、さらに、
捕捉された画像に関連するログファイルを生成し、
捕捉された画像の検査システムからデータベースへの送信が試みられたことを示すメッセージをログファイル中に記述する
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項７】
請求項６に記載の欠陥画像送信方法において、さらに、
そのメッセージは、捕捉された画像がデータベース中に蓄積された場合に、送信が成功したことを示す
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項８】
請求項６に記載の欠陥画像送信方法において、さらに、
そのメッセージは、送信中にエラーが発生した場合に、送信が不成功であることを示す
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項９】
請求項１に記載の欠陥画像送信方法において、
リソグラフィコンポーネントは、フォトマスクから構成される
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の欠陥画像送信方法において、
リソグラフィコンポーネントは、ウエハーから構成される
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の欠陥画像送信方法において、さらに、
欠陥コードは、１または複数の英数字の文字を含む
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項１２】
欠陥画像を検査システムからデータベースに送信する方法であって、
フォトマスクを検査システムにロードし、
そのフォトマスクに関する描写情報を抽出し、
フォトマスク上の欠陥を特定し、
特定された欠陥の画像を表示装置から捕捉し、
描写情報を捕捉された画像と関連付け、
検査システムのオペレータに、特定された欠陥用の欠陥コードの選択を促し、
捕捉された画像と描写情報とをオペレータの欠陥コードの選択に応じて自動的にデータベースに送信する
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の欠陥画像送信方法において、
描写情報は、１または複数の顧客名、ジョブ番号、層名、デバイス名、サイト名、ツールシリアル番号、オペレータ識別子、欠陥コードから構成される
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項１４】
請求項１２に記載の欠陥画像送信方法において、さらに、
捕捉された画像に関連するログファイルを生成し、
捕捉された画像がデータベース中に蓄積されたことを示すメッセージをログファイル中に記述する
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項１５】
請求項１２に記載の欠陥画像送信方法において、さらに、
捕捉された画像に関連するログファイルを生成し、
送信中にエラーが発生したことを示すメッセージをログファイル中に記述し、
捕捉された画像と描写情報がデータベース中に蓄積されるまで、エラーの検知に応じて、捕捉された画像と描写情報とを検査システムに付随するメモリ内に蓄積する
ことを特徴とする欠陥画像送信方法。
【請求項１６】
欠陥画像を検査システムからデータベースに送信するコンピュータシステムであって、
プロセッシングリソースと、
コンピュータ読み取り可能なメモリと、
そのコンピュータ読み取り可能なメモリ内に符号化された処理指示を備え、
その処理指示は、プロセッシングリソースによって実行される時に、
検査システムにロードされたリソグラフィコンポーネント上の欠陥を特定し、
特定された欠陥の画像を捕捉し、
オペレータに、特定された欠陥用の欠陥コードの選択を促し、
捕捉された画像をオペレータの欠陥コードの選択に応じて自動的にデータベースに送信する
というオペレーションを実行し得る
ことを特徴とする欠陥画像送信システム。
【請求項１７】
請求項１６に記載のシステムにおいて、さらに、
フォトマスクに関する描写情報を抽出することを含む指示を実行し得る処理指示を備える
ことを特徴とする欠陥画像送信システム。
【請求項１８】
請求項１７に記載のシステムにおいて、さらに、
描写情報を捕捉された画像に関連付け、
描写情報と捕捉された画像とをデータベースに自動的に送信する
ことを含む指示を実行し得る処理指示を備える
ことを特徴とする欠陥画像送信システム。
【請求項１９】
請求項１６に記載のシステムにおいて、さらに、
オペレータに、捕捉された画像がデータベース中に蓄積されたことを通知する
ことを含む指示を実行し得る処理指示を備える
ことを特徴とする欠陥画像送信システム。
【請求項２０】
請求項１６に記載のシステムにおいて、さらに、
捕捉された画像に関連するログファイルを生成し、
捕捉された画像がデータベース中に蓄積されたことを示すメッセージをログファイル中に記述することを含む指示を実行し得る処理指示を備える
ことを特徴とする欠陥画像送信システム。
【請求項２１】
請求項１６に記載のシステムにおいて、さらに、
捕捉された画像に関連するログファイルを生成し、
送信中にエラーが発生したことを示すメッセージをログファイル中に記述し、
捕捉された画像と描写情報がデータベース中に蓄積されるまで、エラーの検知に応じて、捕捉された画像と描写情報とを検査システムに付随するメモリ内に蓄積する
ことを含む指示を実行し得る処理指示を備える
ことを特徴とする欠陥画像送信システム。
【請求項２２】
欠陥画像を検査システムからデータベースに送信するソフトウェアであって、
そのソフトウェアは、コンピュータ読み取り可能な媒体内で具体化され、実行された時に、
検査システムにロードされたリソグラフィコンポーネント上の欠陥を特定し、
特定された欠陥の画像を捕捉し、
オペレータに特定された欠陥用の欠陥コードの選択を促し、
捕捉された画像をオペレータの欠陥コードの選択に応じて自動的にデータベースに送信する
ことを特徴とする欠陥画像送信ソフトウェア。
【請求項２３】
請求項２２に記載のソフトウェアにおいて、さらに、
フォトマスクに関する描写情報を抽出し得る
ことを特徴とする欠陥画像送信ソフトウェア。
【請求項２４】
請求項２３に記載のソフトウェアにおいて、
描写情報を捕捉された画像と関連付け、
描写情報と捕捉された画像とをデータベース中に自動的に蓄積し得る
ことを特徴とする欠陥画像送信ソフトウェア。
【請求項２５】
請求項２２に記載のソフトウェアにおいて、
捕捉された画像がデータベース中に蓄積されたことをオペレータに通知し得る
ことを特徴とする欠陥画像送信ソフトウェア。
【請求項２６】
請求項２２に記載のソフトウェアにおいて、
捕捉された画像に関連するログファイルを生成し、
捕捉された画像がデータベースに蓄積されたことを示すメッセージをログファイル中に記述し得る
ことを特徴とする欠陥画像送信ソフトウェア。
【請求項２７】
請求項２２に記載のソフトウェアにおいて、
捕捉された画像に関連するログファイルを生成し、
送信中にエラーが発生したことを示すメッセージをログファイル中に記述し、
捕捉された画像と描写情報がデータベース中に蓄積されるまで、エラーの検知に応じて、捕捉された画像と描写情報とを検査システムに付随するメモリ内に蓄積し得る
ことを特徴とする欠陥画像送信ソフトウェア。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィに関し、特に、欠陥画像（ｄｅｆｅｃｔ  ｉｍａｇｅ）を検査システムからデータベースに送信するシステム及び方法に関する。
（関連出願）
【０００２】
本出願は、ロイエリックスタベリーによって２００２年１１月２１日に出願された出願番号６０／４２８，１１０、発明の名称「フォトマスク上の欠陥画像を検査システムからデータベースに自動的に送信する方法」の米国仮出願の利益を主張する。
【背景技術】
【０００３】
半導体部品製造業者がより小型の部品を生産し続けるとともに、それらの部品の組み立てにおいて用いられるフォトマスクに対する要求は厳しくなってきている。レチクルまたはマスクとして知られているフォトマスクは、典型的には基板上に形成された不透過性または半透過性の層を備える基板を有する。その不透過性または半透過性の層は、リソグラフィシステムにおいて、半導体ウエハー上に投影される回路イメージを示すパターンを有する。半導体部品のフィーチャーサイズが小さくなるとともに、フォトマスク上の対応する回路イメージもまたより小さくそしてより複雑化する。その結果、マスクの質は強固で信頼性のある半導体製造プロセスにおいて最も重要な要素となった。
【０００４】
フォトマスク製造プロセスにおいて、フォトマスクは一般に欠陥が存在しないかを判断するために検査システムに置かれる。欠陥がフォトマスク上に見つかると、その欠陥は企業または製造施設の別の人がアクセスし得るように集中データベース中にカタログ化される。欠陥画像を捕捉し、それを集中データベースに置くには、多大なオペレータタイムを要する。オペレータは、手動でその画像を捕捉し、ファイルに一意の名を付けることによってその画像を検査システム上にセーブしなければならない。オペレータは、品質検査の間に特定された欠陥毎に、その捕捉ステップとセーブステップとを繰り返す。そして、オペレータは、そのフォトマスクを検査システムから外して、捕捉された画像情報をデータベースに送信するために分離コンピュータに向かう。コンピュータにおいては、そのオペレータは手動でそのフォトマスクの識別情報を入力し、特定された欠陥毎の一意のファイル名を思い出す必要がある。
【０００５】
上述したような従来のプロセスでは、オペレータはそのステップの全てを行う必要がある。新たな欠陥が捕捉される毎に、オペレータはその画像を捕捉し、セーブし、変換し、送信するために３分から５分を要する。この検査プロセスは時間と金を消費し、フォトマスク製造施設の生産性を低下させる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の教えるところによると、検査システムからデータベースへ欠陥画像を送信する際の欠点や問題点が大きく減少し、または解消される。ある実施例においては、欠陥画像を検査システムからデータベースへ送信する方法は、捕捉された欠陥画像と関連する描写情報との自動送信を開始するために欠陥コードを選択する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一つの実施例によれば、欠陥画像を検査システムからデータベースへ送信する方法は、検査システム中にロードされたリソグラフィコンポーネント上の欠陥を特定し、特定された欠陥の画像を捕捉する。検査システムのオペレータは、特定された欠陥用の欠陥コードを選択するよう促され、そして、捕捉された画像は、オペレータによる欠陥コードの選択に応じて自動的に送信される。
【０００８】
本発明の別の実施例によれば、欠陥画像を検査システムからデータベースへ送信する方法は、フォトマスクを検査システム中にロードし、そのフォトマスクに関する描写情報を抽出する。そのフォトマスク上の欠陥が特定され、特定された欠陥の画像が表示装置から捕捉される。その描写情報は、捕捉された画像と関連付けられ、検査システムのオペレータはその特定された欠陥用の欠陥コードの選択を促される。その方法は、オペレータの欠陥コードの選択に応じて自動的にその捕捉された画像と描写情報をデータベースに送信することによって継続する。
【０００９】
本発明のさらなる実施例によれば、欠陥画像を検査システムからデータベースへ送信するシステムは、コンピュータ読み取り可能なメモリに接続されたプロセッサを備える。処理指示はそのコンピュータ読み取り可能なメモリ中に符号化されている。その指示はそのプロセッサによって実行され、検査システム中にロードされたリソグラフィコンポーネント上の欠陥が特定され、その特定された欠陥の画像が捕捉される。その指示は、オペレータにその特定された欠陥用の欠陥コードの選択を促し、オペレータの欠陥コードの選択に応じて自動的にその捕捉された画像をデータベースに送信する。
【００１０】
本発明のある実施例の重要な技術的利点は、検査システムからフォトマスクに関する情報を自動的に抽出する捕捉モジュールである。検査プロセスの間、そのフォトマスクは検査システム中にロードされ、そのフォトマスクに関する描写情報がメモリ内にセーブされる。欠陥が特定されると、その捕捉モジュールは、メモリからそれぞれのフォトマスクの描写情報を収集し、その描写情報を捕捉された欠陥画像と関連付ける。描写情報の自動抽出は、欠陥画像に関する情報を収集する時間を減らし、また、オペレータの潜在的なエラーを減らす。
【００１１】
本発明のある実施例の別の重要な技術的利点は、オペレータが欠陥コードと特定された欠陥とを関連付けることを可能とする捕捉モジュールである。捕捉された画像がデータベースに送信される前に、捕捉モジュールは検査システムのオペレータにその特定された欠陥用の欠陥コードの選択を促す。その捕捉モジュールは、自動的にその欠陥コードをフォトマスクの描写情報と関連付け、その描写情報、欠陥コード、そして捕捉された画像とをデータベースに送信する。その欠陥コードはその画像をデータベースに送信する前にその特定された欠陥をカタログ化する技術を提供する。
【００１２】
これら技術的利点の全て、いつくかは、本発明の様々な実施例において存在する。別の技術的利点は下記の図、記述そしてクレームから当業者にとってすぐに明らかになるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
同様の参照番号が同様のそして対応するパーツを示す図１から図４を参照することによって、本実施例とその利点がよく理解される。
【００１４】
図１は、自動的に欠陥画像が検査システムからデータベースに送信されることによって検査されるフォトマスクアセンブリ１０の断面図を示す。フォトマスクアセンブリ１０は、薄膜アセンブリ１４に結合したフォトマスク１２を備える。基板１６とパターン層１８は協働してフォトマスク１２の一部を形成している。フォトマスク１２は、マスクまたはレチクルとして表現され、様々なサイズと形を有し、丸、長方形、または正方形を含むが、それらに限定されない。フォトマスク１２は、１回限りの原板、５インチのレチクル、６インチのレチクル、９インチのレチクルまたは半導体ウエハー上に回路パターンの画像を投影するのに用いられる他の任意の適合するサイズのレチクルを含み、また、それらに限定されない任意のフォトマスクタイプである。フォトマスク１２は、さらに、バイナリマスク、位相シフトマスク（ＰＳＭ）、光学的近接効果補正マスク（ＯＰＣ）またはリソグラフィシステムにおいて用いるのに適した他の任意のタイプのマスクである。
【００１５】
フォトマスク１２は、基板１６上に形成され、リソグラフィシステムにおける電磁エネルギーにさらされると半導体ウエハー（図示せず）の表面上にパターンを作成するパターン層１８を有する。基板１６は水晶、人工水晶、融合シリカ、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）のような透明な素材、または約１０ナノメートル（ｎｍ）と４５０ナノメートル（ｎｍ）の間の波長の入射光の少なくとも７５％を透過するのに適した他の任意の素材である。別の実施例においては、サブトレート１６は、シリコンのような反射素材または約１０ｎｍと４５０ｎｍの間の波長の入射光の約５０％より多くを反射するのに適した他の任意の素材である。
【００１６】
パターン層１８は、クロム、窒化クロム、金属酸化カーボニトライド（Ｍ−Ｏ―Ｃ−Ｎ）のような金属素材であり、その金属は、クロム、コバルト、鉄、亜鉛、モリブデン、ニオブ、タンタル、チタン、タングステン、アルミニウム、マグネシウム、シリコン、そして、紫外線（ＵＶ）のレンジ、深紫外線（ＤＵＶ）のレンジ、真空紫外線（ＶＵＶ）のレンジそして／または超紫外線のレンジ（ＥＵＶ）の波長を持った電磁エネルギーを吸収するのに適した他の任意の素材から選択される。別の実施例では、パターン層１８は、ＵＶ、ＤＵＶ、ＶＵＶ、そして／またはＥＵＶレンジにおいて約１％から３０％の透過率を有するケイ化モリブデン（ＭｏＳｉ）のような半透明素材である。
【００１７】
フレーム２０と薄膜フィルム２２は、薄膜アセンブリ１４を形成する。フレーム２０は、ステンレススチール、プラスチック、そしてリソグラフィシステムにおける電磁エネルギーにさらされたときに減成または脱ガスしない他の適合素材によって形成され得るが、典型的には陽極酸化処理されたアルミニウムによって形成される。薄膜フィルム２２は、イー・アイ・デュポン・デ・ヌムール・アンド・カンパニー製のＴＥＦＬＯＮ（登録商標）ＡＦまたは旭硝子製のＣＹＴＯＰ（登録商標）のようなニトロセルロース、セルロースアセテート、アモルファスフルオロポリマーといった素材によって形成される薄膜フィルムまたはＵＶ、ＤＵＶ、ＥＵＶ、そして／またはＶＵＶのレンジの波長を実質的に透過するのに適した他のフィルムである。薄膜フィルム２２は、スピンキャスティングのような従来技術によって提供される。
【００１８】
薄膜フィルム２２は、フォトマスク１２を、汚染物質をフォトマスク１２から決められた距離だけ離しておくことによって、ほこり分子のような汚染物質から保護する。これは、リソグラフィシステムにおいて特に重要である。リソグラフィプロセスの間、フォトマスクアセンブリ１０は、リソグラフィシステム内のエネルギー源によって生成された電磁エネルギーにさらされている。その電磁エネルギーは、マーキュリーアークランプのＩラインとＧラインの間の波長のような様々な波長の光またはＤＵＶ、ＶＵＶまたはＥＵＶ光を含む。薄膜フィルム２２は、その電磁エネルギーの多くのパーセンテージが透過するように設計される。薄膜フィルム２２上に集められた汚染物質は、処理されているウエハーの表面で分散され、そのため、ウエハー上の感光イメージについては薄膜フィルム２２に関する欠陥がなくなる。薄膜フィルム２２とフォトマスク１２は、あらゆるタイプの電磁エネルギーとともに用いられ、それらは、この出願において記述されるような波長に限定されない。
【００１９】
フォトマスク１２は、標準的なリソグラフィプロセスを用いて、フォトマスクブランクから形成される。リソグラフィプロセスにおいては、パターン層１８用のデータを含むマスクパターンファイルがマスクレイアウトファイルから生成される。マスクレイアウトファイルは、集積回路用のトランジスタと電気回路を表すポリゴンを含む。マスクレイアウトファイル中のポリゴンは、さらに、半導体ウエハー上に組み立てられた時の集積回路の様々な層を表す。例えば、トランジスタは融解層とポリシリコン層によって半導体ウエハー上に形成される。マスクレイアウトファイルは、融解層上に描かれた１または複数のポリゴンとポリシリコン層上に描かれた１または複数のポリゴンを含む。各層に対するポリゴンは、集積回路の１つの層を示すマスクパターンファイルに変換される。各マスクパターンファイルは、特定の層用のフォトマスクを生成するのに用いられる。
【００２０】
望ましいパターンは、レーザの、電磁ビームの、またはＸ線のリソグラフィシステムを用いて、フォトマスクブランクのレジスト層に投影される。１つの実施例においては、レーザリソグラフィシステムは、約３６４ナノメートル（ｎｍ）の波長を持つ光を照射するアルゴンイオンレーザを用いる。別の実施例においては、レーザリソグラフィシステムは、約１５０ｎｍから約３００ｎｍの波長の光を放射するレーザを用いる。フォトマスク１２は、パターンを作るためにレジスト層の感光領域を現像し、レジストによって覆われていないパターン層１８の部分をエッチングし、未現像のレジストを取り除いて基板１６上にパターン層１８を生成することによって組み立てられる。
【００２１】
フォトマスクは、リソグラフィシステムにおける重要なコンポーネントである。なぜなら、それは、集積回路（ＩＣ）のような複雑なジオメトリーをウエハー上に描くテンプレートとして役立つからである。フォトマスク１２が顧客に対して提供される前に、検査システムはフォトマスク１２上の任意の欠陥を特定するのに用いられる。フォトマスク１２が検査システムにロードされると、フォトマスク１２から情報が抽出され、フォトマスク１２の描写情報として検査システム上のメモリ内に蓄積される。検査システムによって欠陥が特定されると、オペレータは特定された欠陥の画像を捕捉し、企業または製造施設の他の人が見れるように集中データベース中に蓄積するかを決定する。一つの実施例においては、集中データベースは、予め収集された欠陥画像と、対応する特定のフォトマスクに関する描写情報を有する。
【００２２】
オペレータがその画像をデータベースに送信することを選択すると、検査システムはその欠陥の画像を捕捉し、フォトマスク１２に関する描写情報を含むファイルを生成する。検査システムは、次に、オペレータに特定された欠陥用の欠陥コードを選択するよう促す。オペレータは、適当なコードを選択し、検査システムはその欠陥コードを捕捉された画像及びフォトマスク描写情報と関連付ける。次に、検査システムは、捕捉された画像と、関連付けられた描写ファイルとを集中データベースに対して送信する。捕捉及び送信プロセスは、検査システムのオペレータが、検査システムによって画像が捕捉された後に、その特定された欠陥用の欠陥コードを選択するだけにするために、十分に自動化されている。一旦その画像と、関連付けられた描写情報とがデータベース中に蓄積されると、そのデータベースにアクセスする他のオペレータ、技術者、エンジニアは、蓄積された画像と、関連付けられた描写情報とを見る。
【００２３】
図２は、３０において示され、欠陥の画像を検査システムからデータベースに送信するための通信システムのブロック図を示す。示された実施例においては、システム３０は、ネットワーク３８に接続された、検査システム３２、コンピュータシステム３４、データプレップステーション３５そしてデータベース３６を備える。一例においては、検査システム３２はフォトマスク上の欠陥を特定する。コンピュータシステム３４は、特定された欠陥の画像を捕捉し、検査システム３２におけるオペレータに、特定された欠陥用の欠陥コードの選択を促す。一旦欠陥コードが選択されると、検査システム３２、コンピュータシステム３４そして／またはデータプレップステーション３５は、その欠陥コードをフォトマスクの描写情報と関連付け、コンピュータシステム３４そして／またはデータプレップステーション３５は、その描写情報と捕捉された画像とをネットワーク３８を介してデータベース３６に送信する。全体のプロセスは完全に自動化され、従って、欠陥画像を捕捉しデータベース３６中に蓄積するのに要する時間が減少する。
【００２４】
特定の通信ネットワークが図１中に示されているが、「ネットワーク」という語は、総じて、電話通信信号、データそして／またはメッセージを送信し得る任意のネットワークとして定義される。ネットワーク３８は、パケット、セルまたは他の情報の部分（一般的にパケットと言われる）を送信し、配信するのに役立つ通信装置の適合する集合と配置を示している。例えば、ネットワーク３８は、公衆交換電話ネットワーク（ＰＳＴＮ）、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）、広域ネットワーク（ＷＡＮ）、インターネットのようなグローバルコンピュータネットワーク、または無線そして／または有線の通信を提供するのに適した他の任意の通信装置に関する１つのコンポーネントまたはコンポーネントの集合である。
【００２５】
検査システム３２は、バイナリマスク、ＰＳＭｓそしてＯＰＣマスクを含みそれに限定されない様々なタイプのフォトマスク上の、そして、シリコンウエハーそしてガリウム砒化物ウエハーを含みそれに限定されない様々なタイプの半導体ウエハー上における欠陥を検知する。一例においては、検査システム３２は、ＫＬＡ―Ｔｅｎｃｏｒにより製造され販売されたＳＴＡＲｌｉｇｈｔ（商標）検査システムである。データプレップステーション３５は、顧客から受信したマスクレイアウトファイルをフォトマスクの組み立てに用いるマスクパターンファイルに変換するのに使用される任意のシステムである。さらに、マスクパターンファイルは、検査システム３２によって用いられて、マスクパターンファイル中の特徴とフォトマスク１２のパターン層１８において形成された特徴とを比較することによって、フォトマスク１２といったリソグラフィコンポーネントに欠陥が存在するかが判断される。データプレップステーション３５はネットワーク３８と通信するように示されているが、データプレップステーション３５はまた検査システム３２と直接接続されてもよい。
【００２６】
コンピュータシステム３４は、プロセッサ４０、メモリ４２そして表示装置４４を備える。プロセッサ４０はマイクロプロセッサ、マイクロコントローラ、デジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ）またはメモリ４２内に蓄積された処理指示を実行するために構成された他の任意のデジタルまたはアナログの回路構成である。メモリ４２はランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、電気的消去可能プログラマブルリードオンリーメモリ（ＥＥＰＲＯＭ）、ＰＣＭＣＩＡカード、フラッシュメモリ、または揮発性の、またはコンピュータシステム３４の電源が消された後もデータを保持する不揮発性のメモリの適合する選択そして／または配列である。ディスプレイ装置４４は、液体水晶装置、カソードレイチューブ、またはユーザに認識され得るグラフィカル画像と英数字の文字を生成するのに適した他の表示装置である。コンピュータシステム３４がネットワーク３８を通じて検査システム３２と通信するように示されているが、コンピュータシステム３４は、また、検査システム３２と統合し、または直接接続されるようにしてもよい。
【００２７】
運用においては、処理指示はメモリ４２内に蓄積される。プロセッサ４０はメモリ４２にアクセスし、その処理指示を検索し、その処理指示中に含まれる様々な機能を実行する。一例においては、その処理指示は、捕捉モジュールとサブミットモジュールを備える。捕捉モジュールは、検査システム３２からリソグラフィコンポーネント（例えば、フォトマスクまたは半導体ウエハー）上の欠陥の画像を検索する。捕捉モジュールは、最初に、その画像を検査システム３２そして／またはコンピュータシステム３４内のメモリ４２に蓄積する。一例においては、その画像は検査システム３２そして／または表示装置３４上に表示される。別の例においては、その画像は、メモリ４２にアクセスすることによってデータプレップステーション３５上に表示される。捕捉モジュールは、また、検査システム３２からリソグラフィコンポーネントの描写情報を検索する。一例においては、その画像描写情報は、リソグラフィコンポーネントが検査システム３２にロードされた時に検査システム３２そして／またはコンピュータシステム３４にロードされる。別の例においては、その画像描写情報は、また、検査プロセスの間、または検査プロセスの終わりに、データプレップステーション３５内にロードされる。
【００２８】
一旦捕捉モジュールが検査システム３２からその画像とその画像描写情報とを検索すると、捕捉モジュールは、検査システム３２そして／またはデータプレップステーション３５におけるオペレータに、特定された欠陥用の欠陥コードの選択を促す。一例においては、オペレータは、検査プロセスの間、検査システム３２に置かれる。この例においては、リソグラフィコンポーネントは、検査プロセスの間検査システム３２にロードされる。別の例においては、オペレータは検査プロセスの完了後、データプレップステーション３５に置かれる。この例においては、オペレータはリソグラフィコンポーネントが検査システム３２から外された後に、リソグラフィコンポーネントに関する特定された欠陥に欠陥コードを割り当てる。
【００２９】
一例においては、オペレータに対して表示されるプロンプトは、検査システム３２上、表示装置４４上、そしてデータプレップステーション３５上に表示されるグラフィカルユーザインタフェース（ＧＵＩ）である。一旦オペレータが欠陥コードを選択すると、サブミットモジュールはその選択された欠陥コードを画像描写情報と関連付け、その画像と描写情報とをデータベース３６に対して送信する。別の例においては、画像描写情報と、関連する画像は、処理のため、また、データベース３６におけるカタログ化そして検分のために画像データベースサーバ（図示せず）に送信される。データベース３６は画像データベースサーバと統合してもよく、ネットワーク３８を介して画像データベースサーバと結合してもよく、または画像データベースサーバと直接接続してもよい。一旦その画像及び描写ファイルがデータベース３６において受信されると、そのファイルが処理され、その画像ファイルと画像描写ファイルから取得された注釈データがデータベース中に投入される。送信が成功した後、捕捉された画像および描写ファイルは、検査システム３２そして／またはコンピュータシステム３４から外される。
【００３０】
一例においては、ログファイルが、サブミットモジュールが捕捉された画像をデータベース３６に送信しようとした各時間の記録を持っている。送信が成功しなかった場合、ログファイルは、捕捉された画像と、関連する描写ファイルがデータベース３６に送信されなかったことを示す。予め決められた時間間隔において、サブミットモジュールはログファイルにアクセスして、送信待ちのファイルがないかを判断する。一例においては、その予め決められた時間間隔は、約５分または約２０分の間である。ログファイルが少なくとも一つの送信が中断されたというメッセージを含む場合は、サブミットモジュールは、その画像を送信しようと試み、一旦捕捉された画像及び描写ファイルの送信が成功したら、送信が成功した旨のメッセージをログファイルに設定する。一例においては、送信が成功したことを示す、ログファイル中のメッセージは、ログファイルのサイズが減少するように取り除かれる。
【００３１】
一例においては、欠陥の画像を検査システムからデータベースに送信する処理指示は、コンピュータ使用可能なメディア中に符号化される。そのようなコンピュータ使用可能なメディアは、フロッピーディスク、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ、リードオンリーメモリ、ランダムアクセスメモリのようなストレージメディアや、ワイヤー、光ファイバ、マイクロ波、無線波、そして他の電磁的または光キャリアを含み、それらに限定されない。
【００３２】
図３は、検査システム３２、表示装置４４そして／またはデータプレップステーション３５上に表示される、特定された欠陥に関する欠陥コードの選択用のユーザインタフェースを示す。示される例においては、ディフェクトインタフェース５０は、フォトマスク１２のようなリソグラフィコンポーネント上に発見された欠陥用の様々な欠陥コードを示すボタン５２を備える。欠陥コードは英数字の文字の任意の組み合わせ、任意のグラフィカルシンボル、または一つの欠陥のタイプを示す他の任意の適合するコードである。例示する検査システムにおいては、コード１Ａは絶縁素材（例えば、クロムまたはケイ化モリブデン）を示し、コード４Ｄはオペレータによって特定された誤った欠陥を示す。他の欠陥は、基板１６そして／またはパターン層１８上の汚染物質、悪い手入れによってゆがめられたフィーチャージオメトリ、フィーチャーエッジ上の失われた素材（例えば、クロムまたはケイ化モリブデン）、パターン層１８におけるピンホール、パターン層におけるコーナー欠損と失われたフィーチャー、そして基板１６上のスクラッチ、穴、バブルであるが、それらに限定されない。別の例においては、１６未満または１６以上の欠陥タイプが検査システム３２によって特定される。
【００３３】
ディフェクトインタフェース５０は、検査システム３２によって特定され得る欠陥タイプの番号を示す、適当な数のボタン５２を備える。オペレータは、マウスを用いてクリックまたはダブルクリックして、ボタン５０の一つを選択するか、他の適当な方法を用いて、特定された欠陥用の適当な欠陥コードを選択する。別の実施例においては、欠陥コードは手動でキーボード入力され、プルダウンメニューから選択され、または他の適合する技術を用いて選択される。
【００３４】
図４は、欠陥の画像を検査システムからデータベースに送信する方法のフローチャートを示す。一般に、検査システムはフォトマスクや半導体ウエハーといったリソグラフィコンポーネント上の欠陥を特定する。検査システムにおけるオペレータは、捕捉およびサブミットプロセスを開始して、その欠陥の画像を捕捉する。捕捉モジュールはその画像を検査システム上にセーブし、検査されるリソグラフィコンポーネントの描写情報を含む描写ファイルを生成する。そして、捕捉モジュールは、オペレータに、特定された欠陥用の欠陥コードの入力を促す。一旦欠陥コードが選択されると、サブミットモジュールがその欠陥コードと画像描写ファイルとを関連付け、捕捉された画像と、関連づけられた描写ファイルとをデータベースに対して送信する。捕捉された画像と描写ファイルは、次に、ネットワークにアクセスした任意のシステムを通じてアクセスされるように、データベース中に蓄積される。
【００３５】
ステップ６０において、フォトマスク１２のようなリソグラフィコンポーネントは、基板１６とパターン層１８の欠陥を検知するために検査システム３２に置かれる。一例においては、フォトマスク１２に関連する描写情報が抽出され、画像描写ファイル内に置かれる。描写情報は、ジョブ番号、層名、顧客名、デバイス名、オペレータＩＤ、ツール名、日付、時間およびサイト名を含むが、これらに限定されない。ジョブ番号は、例えば、フォトマスク１２上で実行される検査プロセスを示す英数字の文字を含む、一意の識別子である。層名は、フォトマスク１２が半導体ウエハー上に描画するために用いられるマイクロエレクトロニクデバイスの層（例えば融解層、ポリシリコン層、金属層）を示す。顧客名は、フォトマスクの製造を注文した特定の顧客を示す。デバイス名は、その顧客の製造プロセスにおけるフォトマスクの用途を示す、特定の顧客によって提供される一意の識別子である。オペレータＩＤは、検査システムを使用しているオペレータのイニシャルまたはそれぞれのオペレータを一意に示す、他の任意の適合するタイプの識別子である。ツール名は、検査システムのタイプそして／またはそのシステムに対する製造モデル名を示す英数字の文字である。サイト名は、製造ロケーションの一意の識別子である。
【００３６】
ステップ６２において、検査システム３２は、欠陥を見つけるためにフォトマスク１２をスキャンする。検査システム３２がなんら欠陥を検知しない場合は、フォトマスク１２は顧客に提供され、ステップ６４において、半導体製造プロセスにおいて用いられる。欠陥が特定されると、ステップ６６において、その欠陥の画像が検査システム３２、表示装置４４そして／またはデータプレップステーション３５上に表示される。ステップ６８において、オペレータは、捕捉モジュールを呼び出すことによって、画像をセーブし、その画像をデータベース３６に送信することを選択する。一例においては、オペレータは、アイコンまたは検査システム３２またはコンピュータシステム３４上の他のグラフィカル表示をクリックする。他の例においては、オペレータは、手動でキーボード上でコマンドを入力するか、プルダウンメニューから処理を選択する。その画像は、そのオペレータが画像をセーブし、フォトマスク１２上の別の欠陥を検知しようとするか、検査システム３２システム３２からフォトマスク１２を外すまで、検査システム３２、表示装置４４そして／またはデータプレップステーション３５に表示される。
【００３７】
オペレータがその画像を送信することを選択する場合、ステップ７０において、捕捉モジュールは、その画像表示を画像ファイルにセーブし、フォトマスクが検査システム３２にロードされた時に提供される描写情報を抽出し、その描写情報を画像描写ファイルにセーブする。一例においては、その描写ファイルは、ＡＳＣＩＩテキストファイルであり、各フィールド（例えば、ジョブ番号、層名など）はコンマによって分けられる。ステップ７２において、捕捉モジュールは、オペレータに、検査システム３２、表示装置４４そして／またはデータプレップステーション３５上にグラフィカルユーザインタフェース（ＧＵＩ）を表示することによって、欠陥コードの選択を促す。一例においては、そのＧＵＩは、特定の欠陥タイプ用の異なる欠陥コードを示すボタンを備える。ステップ７４において、オペレータは、特定された欠陥に関連する欠陥コード用のボタンをクリック、ダブルクリック、または選択することによって、欠陥コードを選択する。
【００３８】
一旦そのオペレータが適当な欠陥コードを選択すると、ステップ７６において、サブミットモジュールは、その画像ファイルと画像描写ファイルとをデータベース３６に送信しようと試みる。欠陥コードの選択の後、オペレータは、フォトマスク１２上の別の欠陥を見つけようとし、または、フォトマスク１２を検査システム３２から外す。ファイルの送信が成功すると、ステップ７８において、データベース３６は、捕捉された画像と、関連付けられた描写ファイルとを適当なデータベースロケーションに蓄積する。一例においては、オペレータは、さらに、画像ファイルと、関連する描写ファイルとを特定の製造施設に位置するデータベース上にセーブする選択を行う。その情報がデータベース３６に蓄積されると、オペレータは、その送信が成功したことを通知される。欠陥画像とその関連情報は、ネットワーク３８に接続する任意のシステムによってアクセスされる。そして、ステップ８０において、サブミットモジュールは、画像と、関連する描写情報のデータベース３６への蓄積が成功した旨のメッセージでログファイルを更新する。一例においては、サブミットモジュールは、また、蓄積された画像ファイルと画像描写ファイルを、検査システム３２そして／またはコンピュータシステム３４から取り除く。
【００３９】
例えば、検査システム３２そして／またはコンピュータシステム３４が電力を失ったり、ネットワーク３８の故障などによって、その送信が成功しなかった場合は、ステップ８２において、サブミットモジュールは、その送信の試みが成功しなかった旨のメッセージでログファイルを更新する。一例においては、サブミットモジュールは、また、ログファイルのサイズを監視し、そのログファイルのサイズを減少させるために、送信が成功した旨の任意のメッセージを取り除く。ステップ８４において、サブミットモジュールは、カウンタを起動する。そのカウンタは、ログファイル中のデータのデータベース３６への送信を試みてからの時間を示す。一例においては、そのカウンタは、約５分から約２０分の継続時間を有する。ステップ８４において、サブミットモジュールは、カウンタが満了したかを判断するために、カウンタを監視する。そのカウンタが満了した場合、サブミットモジュールは、ログファイル中のメッセージを用いて、画像ファイルと画像描写ファイルとを捜し出し、ステップ７８において、そのファイルをデータベース３６に送信する。サブミットモジュールは、そのファイルのデータベース３６中への蓄積が成功している間、その画像ファイルと、関連する描写ファイルとを送信し続ける。
【００４０】
本発明を特定の好適な実施例に関して記述したが、様々な変形、改変が当業者に示され、本発明は、添付されたクレームの範囲内において、そのような変形や改変を包含することが意図される。
同様の参照番号が同様の特徴を示す添付図面に関する下記の説明を参照することによって、本実施例とその利点はより完全に理解される。
【００４１】
同様の参照番号が同様の特徴を示す添付図面に関する下記の説明を参照することによって、本実施例とその利点はより完全に理解される。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の教えるところによって検査されるフォトマスクの断面図である。
【図２】本発明の教えるところによって欠陥画像を検査システムからデータベースへ送信するコンピュータシステムのブロック図を示す。
【図３】本発明の教えるところによって欠陥コードを選択するための検査システムのユーザインタフェースの一例を示す。
【図４】本発明の教えるところによってフォトマスク上の欠陥の画像を検査システムからデータベースに送信する方法のフローチャートを示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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