(57)【要約】【課題】  物品の製造に有用な熱可塑性ポリマー成形用組成物。【解決手段】  この成形用組成物はポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー及び流動性向上剤からなり、この流動性向上剤は、ポリアルキレングリコール、低重量平均分子量ポリカーボネートポリマー又はこれらの混合物からなる群から選択される１種以上であり、さらに流動性向上剤は物品に成形されたとき表面欠陥を低減する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品の製造に有用な熱可塑性ポリマー成形用組成物であって、当該成形用組成物がポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーと流動性向上剤を含んでなり、流動性向上剤がポリアルキレングリコール化合物、低重量平均分子量ポリカーボネートポリマー又はこれらの混合物からなる群から選択され、流動性向上剤の添加量が成形用組成物を物品に成形したときの表面欠陥を低減するのに有効な量である、成形用組成物。
【請求項２】
当該成形用組成物がさらに１種以上のポリカーボネートポリマーを含む、請求項１記載の成形用組成物。
【請求項３】
当該成形用組成物１００部当たり約０．０５〜約２０部の流動性向上剤を含む、請求項１記載の成形用組成物。
【請求項４】
前記１種以上のポリカーボネートがポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーではない、請求項２記載の成形用組成物。
【請求項５】
前記ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーが、以下の式のポリオルガノシロキサンブロックと以下の式のポリカーボネートブロックを含む、請求項１記載の成形用組成物。
【化１】
2006512447.tif 000025
式中、Ｒ２及びＲ３は各々独立に水素、ヒドロカルビル又はハロゲン置換ヒドロカルビルであり、Ｒ４は水素、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ又はハロゲンであり、「ｂ」は約３０〜約７０の値を有する整数である。
【化２】
2006512447.tif 000026
式中、Ｇ１は芳香族基であり、Ｅはアルキレン、アルキリデン、脂環式基、含イオウ結合、含リン結合、エーテル結合、カルボニル基又は第三窒素基であり、Ｒ５は水素又は一価炭化水素基であり、Ｙ１は水素、一価炭化水素基、アルケニル、アリル、ハロゲン、臭素、塩素、ニトロからなる群から選択され、「ｍ」は０からＧ１上の置換可能な部位の数までの整数を表し、「ｎ」は０からＥ上の置換可能な部位の数までの整数を表し、「ｔ」は１以上の整数を表し、「ｓ」は０又は１であり、「ｕ」は０を含めた整数を表す。
【請求項６】
前記ポリカーボネートブロックが、４，４′−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、４，４′−ビス（３，５−ジメチル）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−メトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−クロロフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５，３′，５′−テトラクロロ−４，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、２，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ヒドロキノン、レゾルシノール、Ｃ１−３アルキル置換レゾルシノール、３−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３−トリメチルインダン−５−オール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン−５−オール、２，２，２′，２′−テトラヒドロ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロビ［１Ｈ−インデン］−６，６′−ジオール、１−メチル−１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−イソプロピルシクロヘキサン、１−メチル−２−（４−ヒドロキシフェニル）−３−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］シクロヘキサン及びこれらの組合せ、並びにこれらのビスフェノールを１種以上含む組合せからなる群から誘導されたものである、請求項５記載の成形用組成物。
【請求項７】
前記ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーが約２００００〜約８００００の重量平均分子量を有する、請求項１記載の成形用組成物。
【請求項８】
前記ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーが約３００００〜約６００００の重量平均分子量を有する、請求項１記載の成形用組成物。
【請求項９】
前記１種以上のポリカーボネートポリマーが約２００００〜約８００００の重量平均分子量を有する、請求項２記載の成形用組成物。
【請求項１０】
前記１種以上のポリカーボネートポリマーが次式の１種以上のビスフェノールから誘導された構造単位を含む、請求項２記載の成形用組成物。
【化３】
2006512447.tif 000027
式中、Ｇ１は芳香族基であり、Ｅはアルキレン、アルキリデン、脂環式基、含イオウ結合、含リン結合、エーテル結合、カルボニル基又は第三窒素基であり、Ｒ５は水素又は一価炭化水素基であり、Ｙ１は水素、一価炭化水素基、アルケニル、アリル、ハロゲン、臭素、塩素、ニトロからなる群から選択され、「ｍ」は０からＧ１上の置換可能な部位の数までの整数を表し、「ｎ」は０からＥ上の置換可能な部位の数までの整数を表し、「ｔ」は１以上の整数を表し、「ｓ」は０又は１であり、「ｕ」は０を含めた整数を表す。
【請求項１１】
前記ビスフェノールが、４，４′−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、４，４′−ビス（３，５−ジメチル）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−メトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−クロロフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５，３′，５′−テトラクロロ−４，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、２，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ヒドロキノン、レゾルシノール、Ｃ１−３アルキル置換レゾルシノール、３−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３−トリメチルインダン−５−オール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン−５−オール、２，２，２′，２′−テトラヒドロ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロビ［１Ｈ−インデン］−６，６′−ジオール、１−メチル−１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−イソプロピルシクロヘキサン、１−メチル−２−（４−ヒドロキシフェニル）−３−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］シクロヘキサン及びこれらの組合せ、並びにこれらのビスフェノールを１種以上含む組合せからなる群から選択される、請求項１０記載の成形用組成物。
【請求項１２】
前記低分子量ポリカーボネートポリマーが約１０００〜約１００００の重量平均分子量を有する、請求項１記載の成形用組成物。
【請求項１３】
前記低分子量ポリカーボネートポリマーが約３０００〜約８０００の重量平均分子量を有する、請求項１記載の成形用組成物。
【請求項１４】
前記低分子量ポリカーボネートポリマーが、４，４′−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、４，４′−ビス（３，５−ジメチル）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−メトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−クロロフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５，３′，５′−テトラクロロ−４，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、２，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ヒドロキノン、レゾルシノール、Ｃ１−３アルキル置換レゾルシノール、３−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３−トリメチルインダン−５−オール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン−５−オール、２，２，２′，２′−テトラヒドロ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロビ［１Ｈ−インデン］−６，６′−ジオール、１−メチル−１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−イソプロピルシクロヘキサン、１−メチル−２−（４−ヒドロキシフェニル）−３−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］シクロヘキサン及びこれらの組合せ、並びにこれらのビスフェノールを１種以上含む組合せからなる群から選択されるビスフェノールから誘導されたものである、請求項１記載の成形用組成物。
【請求項１５】
前記ポリアルキレングリコール化合物が、次式の繰返し単位及びＯＲ１０から選択される末端基を有する、請求項１記載の成形用組成物。
【化４】
2006512447.tif 000028
式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は各々独立に水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ１０は水素、Ｃ１〜Ｃ４ヒドロカルビルである。
【請求項１６】
前記ポリアルキレングリコールがポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１記載の成形用組成物。
【請求項１７】
前記ポリエチレングリコールが約１５０〜約２０００の数平均分子量を有する、請求項１６記載の成形用組成物。
【請求項１８】
前記物品の表面欠陥における明度が、流動性向上剤を含まない点以外は同じ成形用組成物に比して約１０パーセント以上増大している、請求項１記載の成形用組成物。
【請求項１９】
当該成形用組成物が約１５〜約４５のメルトボリュームレートを有する、請求項１記載の成形用組成物。
【請求項２０】
熱可塑性ポリマー成形用組成物を含んでなる物品であって、成形用組成物が、ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー、１種以上のポリカーボネートポリマー及び流動性向上剤を含んでなり、物品の表面欠陥における明度が、流動性向上剤を含まない点以外は同じ成形用組成物に比して約１０パーセント以上増大している、物品。
【請求項２１】
物品の製造に有用な熱可塑性ポリマー成形用組成物であって、当該成形用組成物各１００部当たり、
約２８０００〜約３２０００の重量平均分子量を有するポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー、
約３００００〜約６００００の重量平均分子量を有するビスフェノールＡホモポリカーボネート、及び
約０．２〜約５部の流動性向上剤
を含んでなり、ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーが、以下の式のポリオルガノシロキサンブロックと以下の式のポリカーボネートブロックを含む、成形用組成物。
【化５】
2006512447.tif 000029
式中、Ｒ１は水素、メトキシ又はアリルであり、「ａ」は約４０〜約５５の値を有する整数である。
【化６】
2006512447.tif 000030
【請求項２２】
流動性向上剤が、約３０００〜約８０００の重量平均分子量を有する低分子量ビスフェノールＡホモポリカーボネート、約２００〜約８００の数平均分子量を有するポリエチレングリコール又はこれらの混合物からなる群から選択される、請求項２１記載の成形用組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、表面美観の改良された物品を製造するための、ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー、ポリカーボネート及び流動性向上剤を含んでなる熱可塑性樹脂成形用組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
芳香族ポリカーボネートポリマーは固有の靱性及び透明性を有するエンジニアリング熱可塑性材料として広く使用されている。しかし、ポリカーボネートポリマーの低温衝撃強さ及び延性を改良する必要がある。低温では、脆性破壊が問題となることが多い。これらの短所を克服するためポリカーボネートポリマーの変種が多数検討されている。
【０００３】
かかる変種の一つがポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーである。かかるコポリマーは低温衝撃強さ、低温延性、向上した加工性及び難燃性のような向上した性質を有する。ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーの利点として、様々な割合の芳香族ポリカーボネートポリマーとブレンドして熱可塑性成形用組成物を製造でき、高温及び低温特性に対する幅広い要件を満たすことができる。こうしたブレンドは難燃性を達成し易いという別の利点も示す。ポリカーボネートポリマーの選択及びブレンド成分の割合を変更することによって、単一のポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーから出発して広範な性質を得ることができる。しかし、かかるブレンドを用いて成形品を製造すると、物品の呈する表面の美観が劣り、そのため、ブレンドの優れた性質を有利に利用できるはずの数多くの用途で有用性が制限される。そこで、低温延性や難燃性のような他の性質を保持したまま表面美観の向上した熱可塑性ポリマー成形用組成物を開発する必要性がある。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本明細書では、ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーと流動性向上剤を含んでなり、流動性向上剤をポリアルキレングリコール化合物、低重量平均分子量ポリカーボネートポリマー又はこれらの混合物からなる群から選択した熱可塑性ポリマー成形用組成物について開示する。流動性向上剤の添加量は、成形用組成物を物品に成形したときの表面欠陥を低減するのに有効な量とすべきである。表面欠陥は適量の流動性向上剤を添加することによって最小にすることができる。その適量は後記の実施例に例示する実験によって求めることができる。
【０００５】
本発明の別の態様は、ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー、１種以上のポリカーボネートポリマー及び流動性向上剤からなる成形用組成物を含んでなる物品であって、物品の表面欠陥における色指数のシフトが、流動性向上剤を含まない点以外は同じ成形用組成物に比して１０パーセント以上改良されている物品である。
【０００６】
本発明のさらに別の態様は、物品の製造に有用な熱可塑性ポリマー成形用組成物であって、成形用組成物各１００部当たり約０．２〜約５部の流動性向上剤を含んでおり、ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーが、以下の式のポリオルガノシロキサンブロックと、以下の式のポリカーボネートブロックとからなり、流動性向上剤が物品の表面欠陥を最小限にする、成形用組成物である。
【０００７】
【化１】
2006512447.tif 000002
【０００８】
式中、Ｒ１は水素、メトキシ又はアリルであり、「ａ」は約４０〜約５５の値を有する整数である。
【０００９】
【化２】
2006512447.tif 000003
【００１０】
以上の実施形態その他の特徴は以下の詳細な説明から明確に理解されよう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の好ましい実施形態に関する以下の詳細な説明及び実施例を参照することによって本発明の理解を深めることができよう。本明細書及び特許請求の範囲では多くの用語を用いるが、以下の意味をもつものと定義される。
【００１２】
単数形で記載したものであっても、前後関係から明らかでない限り、複数の場合も含めて意味する。
【００１３】
「適宜」という用語は、その用語に続いて記載された事象又は状況が起きても起きなくてもよいことを意味しており、かかる記載はその事象又は状況が起こる場合と起こらない場合を包含する。
【００１４】
本明細書中で用いる「ヒドロカルビル」という用語は、親炭化水素から水素原子を１個除去して得られる一価部分を意味する。ヒドロカルビルの代表例は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、ウンデシル、デシル、ドデシル、オクタデシル、ノナデシル、エイコシル、ヘンエイコシル、ドコシル、トリコシル、テトラコシル、ペンタコシル及びこれらの異性体のような炭素原子数１〜２５のアルキル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、ビフェニル、テトラフェニルなどの炭素原子数６〜２５のアリール、ベンジル、フェネチル、フェンプロピル、フェンブチル、フェンヘキシル、ナフトクチルなどの炭素原子数７〜２５のアラルキル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどの炭素原子数３〜８のシクロアルキルである。
【００１５】
「アルキレン」という用語は、親炭化水素の非隣接炭素原子から１個ずつ合計２個の水素原子を除去して得られる二価部分を意味し、１，３−プロピレン、１，４−ブチレン、１，５−ペンチレン、１，８−オクチレン、１，１０−デシレンなどの炭素原子数３〜１５のアルキレンがある。
【００１６】
本明細書中で用いる「ハロゲン置換ヒドロカルビル」という用語は、上記で定義したヒドロカルビル部分であって１個以上の水素原子がハロゲン（塩素、臭素、ヨウ素、フッ素）で置換されたものをいう。本明細書を通して、「℃」という用語は摂氏温度をいう。
【００１７】
本明細書の様々な実施形態で用いる「アルキル」という用語は、直鎖アルキル、枝分れアルキル、アラルキル、シクロアルキル及びビシクロアルキル基をいう。直鎖及び枝分れアルキル基は、特記しない限り、炭素原子数約１〜約４０のものであり、非限定的な具体例として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、第三−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル及びドデシルが挙げられる。様々な実施形態で、シクロアルキル基とは環炭素原子数約３〜約１２のものである。これらのシクロアルキル基の非限定的な具体例としては、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル及びシクロヘプチルがある。様々な実施形態で、アラルキル基は炭素原子数約７〜１４のものであり、特に限定されないが、ベンジル、フェニルブチル、フェニルプロピル及びフェニルエチルがある。他の様々な実施形態では、本明細書で用いる芳香族基とは環炭素原子数約６〜約１２の単環式又は多環式部分をいう。これらのアリール基は、環炭素上に置換された１以上のハロゲン原子又はアルキル基を有していてもよい。大半の実施形態では、存在するいかなる置換基も、フェノール性芳香族基のような適当な芳香族基がモノテルペンのような適当なオレフィン性基と反応するのを妨げるような環位置にはない。これらの芳香族基の非限定的な具体例としては、フェニル、ハロフェニル、ビフェニル及びナフチルがある。別の実施形態では、本明細書で用いる芳香族基とは炭素原子数約７〜１４のアラルキル基をいう。
【００１８】
ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーは、以下の式（Ｉ）のポリオルガノシロキサンブロックと、以下の式（II）のポリカーボネートブロックとを有する。
【００１９】
【化３】
2006512447.tif 000004
【００２０】
式中、Ｒ２及びＲ３は各々独立に水素、ヒドロカルビル又はハロゲン置換ヒドロカルビルであり、「ｂ」は約１０〜約１２０の整数であり、Ｒ４は水素、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ又はハロゲンである。
【００２１】
【化４】
2006512447.tif 000005
【００２２】
式中、Ｇ１は芳香族基であり、Ｅはアルキレン、アルキリデン、脂環式基、含イオウ結合、含リン結合、エーテル結合、カルボニル基又は第三窒素基であり、Ｒ５は水素又は一価炭化水素基であり、Ｙ１は水素、一価炭化水素基、アルケニル、アリル、ハロゲン、臭素、塩素、ニトロからなる群から選択され、「ｍ」は０からＧ１上の置換可能な部位の数までの整数を表し、「ｎ」は０からＥ上の置換可能な部位の数までの整数を表し、「ｔ」は１以上の整数を表し、「ｓ」は０又は１であり、「ｕ」は０を含めた整数を表す。
【００２３】
ブロックコポリマーのポリオルガノシロキサンブロックは成形用組成物１００部当たり約３〜約８部をなし、ブロックコポリマーのポリカーボネートブロックは成形用組成物１００部当たり約９２〜約９６部をなす。整数「ｂ」は一実施形態では約３０〜７０、別の実施形態では約４０〜５５の値を有する。一実施形態では、Ｒ２及びＲ３基は各々メチルであり、別の実施形態ではＲ２がメチルで、Ｒ３がフェニルである。ブロックコポリマーの重量平均分子量は、一実施形態では約２００００〜約８００００であり、別の実施形態では約３００００〜約６００００である。
【００２４】
本発明のブロックコポリマーは、ホスゲンのようなカーボネート形成性前駆体と、以下の式（III）の１種以上のビスフェノール及び以下の式（IV）のシロキサンジオールとの反応によって製造される。
【００２５】
【化５】
2006512447.tif 000006
【００２６】
式中、Ｇ１、Ｅ、Ｒ５、Ｙ１、「ｍ」、「ｎ」、「ｔ」、「ｓ」及び「ｕ」は上記定義の通りである。
【００２７】
【化６】
2006512447.tif 000007
【００２８】
式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及び「ｂ」は上記と同じである。特定の実施形態では、シロキサンジオールは、上記の式におけるＲ２及びＲ３が各々メチルで、Ｒ４がフェノール性ヒドロキシルに対してオルト位のメトキシ又はアリルであり、「ｂ」が約３０〜約７０であるものである。別の実施形態では、シロキサンジオールは、上記の式におけるＲ２及びＲ３が各々メチルで、Ｒ４がフェノール性ヒドロキシルに対してオルト位の水素、メトキシ又はアリルであり、「ｂ」が約４０〜約５５であるものである。
【００２９】
式（III）のビスフェノールにおいて、Ｇ１は芳香族基を表し、例えばフェニレン、ビフェニレン、ナフチレン及び同様の芳香族基などである。Ｅはメチレン、エチレン、エチリデン、プロピレン、プロピリデン、イソプロピリデン、ブチレン、ブチリデン、イソブチリデン、アミレン、アミリデン、イソアミリデンのようなアルキレン基又はアルキリデン基であってもよい。或いは、Ｅは、２以上のアルキレン基又はアルキリデン基が、芳香族結合、第三アミノ結合、エーテル結合、カルボニル結合、又はスルフィドやスルホキシドやスルホンのような含イオウ結合、又はホスフィニルやホスホニルのような含リン結合などのアルキレン又はアルキリデンとは異なる部分で結合したものでもよい。さらに、Ｅは脂環式基であってもよい。Ｒ５は水素又はアルキル、アリール、アラルキル、アルカリール、シクロアルキルなどの一価炭化水素基を表す。Ｙ１はハロゲン（例えば、フッ素、臭素、塩素、ヨウ素、など）、ニトロ基、アルケニル基、アリル基、上記のＲ５と同じ基、ＯＲのようなオキシ基などからなる。好ましい実施形態では、Ｙ１はポリマーの製造に用いられる反応体及び反応条件に対して不活性であり、それらの影響を受けない。文字「ｍ」は０からＧ１上の置換可能な部位の数までの整数を表し、「ｐ」は０からＥ上の置換可能な部位の数までの整数を表し、「ｔ」は１以上の整数を表し、「ｓ」は０又は１であり、「ｕ」は０を含めた整数を表す。
【００３０】
コポリマーのポリカーボネートブロックの製造に用いられるビスフェノールの例としては、特に限定されないが、４，４′−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール，４，４′−ビス（３，５−ジメチル）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−メトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−クロロフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５，３′，５′−テトラクロロ−４，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、２，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ヒドロキノン、レゾルシノール、Ｃ１−３アルキル置換レゾルシノール、３−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３−トリメチルインダン−５−オール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン−５−オール、２，２，２′，２′−テトラヒドロ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロビ［１Ｈ−インデン］−６，６′−ジオール、１−メチル−１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−イソプロピルシクロヘキサン、１−メチル−２−（４−ヒドロキシフェニル）−３−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］シクロヘキサン及びこれらの組合せ、並びにこれらの芳香族ジヒドロキシ化合物を１種以上含む組合せからなる群から選択されるものがある。
【００３１】
Ｅの適切な例としては、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン、メチルシクロヘキシリデン、２−［２．２．１］−ビシクロヘプチリデン、ネオペンチリデン、シクロペンタデシリデン、シクロドデシリデン、アダマンチリデン、など、スルフィド、スルホキシド又はスルホンのような含イオウ結合、ホスフィニル、ホスホニルのような含リン結合、エーテル結合、カルボニル基及び第三窒素基がある。
【００３２】
式（III）に示すビスフェノールにおいて、２以上のＹ１置換基が存在する場合、それらは同一でも異なるものでもよい。Ｒ５置換基についても同じである。式（III）で「ｓ」が０で「ｕ」が０以外のときは、芳香環はアルキリデンその他の橋かけ基を介さずに直接結合する。芳香核残基Ｇ１の２以上の環炭素原子がＹ１基及びヒドロキシル基で置換されている場合には、芳香核残基Ｇ１でのヒドロキシル基及びＹ１の位置はオルト位、メタ位又はパラ位で種々異なっていてもよく、各基はビシナルな関係でも、非対称な関係でも対称な関係のいずれにあってもよい。ある実施形態では、パラメーター「ｔ」、「ｓ」及び「ｕ」は各々１であり、２つのＧ１基は非置換フェニレン基であり、Ｅはイソプロピリデンのようなアルキリデン基である。特定の実施形態では、２つのＧ１基がｐ−フェニレンであるが、両方共オルト−若しくはメタ−フェニレンであってもよいし、一方がオルト−若しくはメタ−フェニレンで他方がパラ−フェニレンであってもよい。
【００３３】
ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーは、シロキサンジオール（IV）とビスフェノール（III）から、二価フェノールをカーボネート前駆体、有利にはホスゲンと反応させる米国特許第４１２３４３６号に記載の方法のような公知のポリカーボネート製造法、又は米国特許第３１５４００８号に開示されているもののようなエステル交換法その他当業者に公知の方法で製造できる。
【００３４】
一実施形態では、熱可塑性ポリマー成形用組成物はさらに１種以上のポリカーボネートポリマーを含む。このポリカーボネートポリマーはホモポリマーでも、コポリマーでも、これらの混合物でもよい。具体的には、ポリカーボネートポリマーは式（Ｉ）で表されるタイプのポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーではない。ポリカーボネートポリマーは一般に重量平均分子量約２００００〜約８００００である。幾つかの実施形態では、ポリカーボネートポリマーは重量平均分子量約３００００〜約４５０００、約４００００〜４２０００、約５５０００〜約６５０００及び約５８０００〜約６００００である。
【００３５】
ポリカーボネートポリマーは、上記の式（III）の１種以上のビスフェノールから誘導された構造単位を含む。ポリカーボネートポリマーを製造するための構造ブロックとして使用できるビスフェノールの例としては、特に限定されないが、４，４′−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、４，４′−ビス（３，５−ジメチル）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−メトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−クロロフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５，３′，５′−テトラクロロ−４，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、２，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ヒドロキノン、レゾルシノール、Ｃ１−３アルキル置換レゾルシノール、３−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３−トリメチルインダン−５−オール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン−５−オール、２，２，２′，２′−テトラヒドロ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロビ［１Ｈ−インデン］−６，６′−ジオール、１−メチル−１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−イソプロピルシクロヘキサン、１−メチル−２−（４−ヒドロキシフェニル）−３−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］シクロヘキサン及びこれらの組合せ、並びにこれらの芳香族ジヒドロキシ化合物を１種以上含む組合せからなる群から選択されるものがある。
【００３６】
ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー及び適宜ポリカーボネートポリマーを含むが流動性向上剤は含まない成形用組成物を、成形機を用いて成形すると、得られる成形品は表面欠陥を示す。表面欠陥は１以上のニットライン及びゲートブラッシからなる。ゲートブラッシは射出成形品のゲート領域に変色として見える表面欠陥である。金型ゲートとインサートを有する金型を使用して、ゲートブラッシとニットラインを可視化することができる。溶融ポリマーが金型に入り金型ゲートを通過する際に、金型ゲートの周りに一連の曲線としてゲートブラッシが形成される。溶融ポリマーのフロントが金型インサートを過ぎて前進すると、インサートの両側に分かれたメルトフロントが合流してニットラインを形成する。最後に、溶融ポリマーフロントがさらに前進し金型全体を充填すると、金型インサートから出て金型の長さに沿って走るラインとしてニットラインを見ることができる。作用理論に束縛されるものではないが、ニットラインやゲートブラッシのような表面欠陥は、成形用組成物中に存在するシロキサンに富むドメインとシロキサン欠乏ドメインとの粘度の不一致によって引き起こされると考えられる。この表面富化現象は、例えば、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ＵＳＳＲ、Ｇｏｒｏｌｅｖａら、第３４巻、第１４５〜１５０頁（１９９１年）の論文「二元ポリマー系の表面挙動」で論じられている。一般に、この表面欠陥は色の暗い成形品の方が目立って見える。
【００３７】
ポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー、適宜ポリカーボネートポリマー及び流動性向上剤を含む成形用組成物を、成形機を用いて成形すると、成形品は上記のタイプの表面欠陥が最小になる。また、流動性向上剤を添加しても、成形用組成物の低温衝撃及び延性、並びに難燃性のような他の性質には実質的に影響しない。本発明はいかなる作用理論にも限定されないが、流動性向上剤が成形用組成物中のシロキサンに富むドメインとシロキサン欠乏ドメインとの粘度の不一致を低減させることによって、上記２つのドメイン間の相分離を最小にするものと考えられる。
【００３８】
国際公開第００／６７００４号（援用により本明細書の内容の一部をなす）に記載のＢＯＲＧ分光光度技術を用いて上記表面欠陥を測定することができる。この技術では、空間分解分光光度計を用いて、様々な金型インサートを有する成形ツールを用いて製造した成形プラスチック部品の表面欠陥を測定する。金型インサートはサンプルプラスチック部品に所望の位相表面特徴を形成する。その後、１以上のこれらサンプルプラスチック部品で得られた測定値をコンピューター化装置に送り、データを適切にフィルタ処理し、全体的データ形状、平均ピーク及び谷シフト並びにデータ勾配を示す品質数を計算する。この方法では、サンプル成形部品をサンプルホルダに装着し、適宜サンプルホルダをモータ駆動並進ステージに装着してサンプル表面の対象とする特徴を走査する。コンピュータ化装置で運動系及びデータ収集を自動化し、生データを色座標値に変換する。データは、予め得られた機器校正データを考慮に入れて処理され、ユーザはキーパラメータを調節することで信号対雑音（ＳＮ）を最適化することができる。機器は次いでストリーク領域における最も明るい点と最も暗い点との間の色指数の差を計算する。
【００３９】
表面欠陥は通例、物理的な欠陥（例えばゲートブラッシ及び／又はニットライン）に対応する色指数（以下、「Ｌ」ともいう。）の減少の測定によって検出される。各種成形用組成物から成形プラークを調製し、通例、ＢＯＲＧ分光計検出器がバルク領域で分離されたプラーク内の通例２又は３つの異なるニットライン領域に遭遇するように、プラークをほぼ直線方向に走査することによって色指数を測定する。色指数は通例ニットライン領域の方が低い。色指数がニットライン領域でバルク領域に比して充分に低いと物理的な欠陥が裸眼で視認できる。ある試料材料において、
【００４０】
【数１】
2006512447.tif 000008
【００４１】
がある表面欠陥における色指数を表し、
【００４２】
【数２】
2006512447.tif 000009
【００４３】
が表面欠陥とは異なる部分の色指数を表すとすると、色指数のシフト（ΔＬＳ）は次の式  （１）で与えられる。
【００４４】
【数３】
2006512447.tif 000010
【００４５】
同様に、ある対照試料で、
【００４６】
【数４】
2006512447.tif 000011
【００４７】
がある表面欠陥における色指数を表し、
【００４８】
【数５】
2006512447.tif 000012
【００４９】
が欠陥とは異なる部分の色指数を表すとすると、色指数のシフト（ΔＬｃ）は次の式（２）で与えられる。
【００５０】
【数６】
2006512447.tif 000013
【００５１】
すると、ある試料について、その対照に対する色指数のシフト（ΔＬ）の改良パーセントは次の式（３）で与えられる。
【００５２】
【数７】
2006512447.tif 000014
【００５３】
ある実施形態では、最小化された表面欠陥は、表面欠陥において測定された色指数の減少を含む。ＢＯＲＧ分光光度技術で測定される色指数のシフトの減少は、流動性向上剤を含まない点以外は同じ成形用組成物に比して約２０パーセント以上である。一般に、成形部品の色が暗いほど、ゲートブラッシやニットラインに起因する表面欠陥の視認は容易になる。概して、黒色、褐色などの濃い染料や顔料を配合物に添加した場合、約１０パーセントを超えるΔＬＣを有する組成物は視認し得る表面欠陥を有する。上述の通り、本ブレンドは、ポリカーボネートしか含まない点を除いては同様な組成物と比較して、難燃特性を保持しつつ向上した低温特性を有するので極めて望ましい。
【００５４】
熱可塑性ポリマー組成物の加工性は、例えば、メルトボリュームレート（以下、「ＭＶＲ」ともいう。）値で表すことができる。本明細書中で、ＭＶＲとは、約６〜７グラムの試料を約３００℃で滞留時間を約４分として６．７キログラムの一定の荷重下においたときにピストンでオリフィスを通過する試料の体積と定義される。一般に、値が大きいほどポリマー組成物が加工し易いことを意味する。例えば、重量平均分子量約３９０００のビスフェノールＡホモポリカーボネート約３９部、重量平均分子量約５７０００のビスフェノールＡホモポリカーボネート約３９部及び重量平均分子量約５７０００の次の式（VI）のポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー約２２部からなる熱可塑性ポリマー組成物は、流動性向上剤の非存在下で約９．２立方センチメートル／１０分のＭＶＲを有する。
【００５５】
【化７】
2006512447.tif 000015
【００５６】
式（VI）で表されるブロックコポリマーの例で、「ｃ」、「ｄ」及び「ｅ」の値は、コポリマーの重量平均分子量が約５７０００となるものである。しかし、このポリマー組成物を、数平均分子量約２００のポリエチレングリコールから選択される流動性向上剤約０．５部と組み合わせると、約２８のＭＶＲを示す。本明細書に開示する熱可塑性ポリマー成形用組成物のＭＶＲは、一実施形態では約１５〜約６０であり、別の実施形態では約１５〜約４５である。
【００５７】
成形品の表面欠陥を最小化する流動性向上剤は、ポリアルキレングリコール化合物、低分子量ポリカーボネートポリマー又はこれらの混合物からなる群から選択される。これらの流動性向上剤は低価格と入手容易性のために有利である。
【００５８】
流動性向上剤をなす低分子量ポリカーボネートの重量平均分子量は一実施形態では約１０００〜約１００００、別の実施形態では約３０００〜約８０００である。他の実施形態では、低分子量ポリカーボネートは、４，４′−（３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデン）ジフェノール、４，４′−ビス（３，５−ジメチル）ジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）シクロヘキサン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、２，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−メトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−クロロフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５，３′，５′−テトラクロロ−４，４′−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、２，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ヒドロキノン、レゾルシノール、Ｃ１−３アルキル置換レゾルシノール、３−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３−トリメチルインダン−５−オール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン−５−オール、２，２，２′，２′−テトラヒドロ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１，１′−スピロビ［１Ｈ−インデン］−６，６′−ジオール、１−メチル−１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−イソプロピルシクロヘキサン、１−メチル−２−（４−ヒドロキシフェニル）−３−［１−（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］シクロヘキサン及びこれらの組合せ、並びにこれらのビスフェノールを１種以上含む組合せからなる群から選択されるビスフェノールから誘導されたものである。特定の実施形態では、流動性向上剤は、約１０００〜約１００００、特に約３０００〜約８０００の重量平均分子量を有する低分子量ビスフェノールＡホモポリカーボネートである。
【００５９】
流動性向上剤のポリアルキレングリコール化合物として機能するポリアルキレングリコールは、次の式（VII）の繰返し単位とＯＲ１０から選択される末端基を有する。
【００６０】
【化８】
2006512447.tif 000016
【００６１】
式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は各々独立に水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ１０は水素、Ｃ１〜Ｃ４ヒドロカルビルである。ポリアルキレングリコールとその末端ヒドロキシ基の官能化で得られる対応誘導体（以下、「ポリアルキレングリコール化合物」と総称する。）は一般にある範囲の分子量を有する材料として入手可能である。例えば、ポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコールのようなポリアルキレングリコールは一般に、それぞれ、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイドの水による開環重合によって工業的に製造される。得られるポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコールはある鎖長分布、従ってある分子量分布を有する。これらの材料の分子量は一般に数平均分子量（以下、「Ｍｎ」ともいう。）で表される。従って、ポリアルキレングリコール化合物は次の一般式（VIII）で表すことができる。
【００６２】
【化９】
2006512447.tif 000017
【００６３】
式中、「ｎ」は平均鎖長である。「ｎ」の値はあらゆるポリアルキレングリコールの数平均分子量を満たすようなものである。
【００６４】
一実施形態では、流動性向上剤はポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はこれらの混合物からなる群から選択されるポリアルキレングリコールである。一実施形態では、流動性向上剤は数平均分子量約２００〜約２０００のポリエチレングリコールである。具体的には、流動性向上剤は数平均分子量約２００〜約８００のポリエチレングリコールである。
【００６５】
本発明の熱可塑性ポリマー成形用組成物は、成形用組成物１００部当たり、一実施形態では約０．０５〜約２０部の流動性向上剤、別の実施形態では０．５〜約１０部の流動性向上剤を含む。具体的には、本発明の熱可塑性ポリマー成形用組成物は成形用組成物１００部当たり約０．０５〜約５部の流動性向上剤を含む。
【００６６】
上記アプローチは、重量平均分子量約３００００〜約６００００のビスフェノールＡホモポリカーボネート、流動性向上剤、並びに以下の式（IX）のポリオルガノシロキサンブロックと以下の式（Ｘ）のポリカーボネートブロックを有するポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマー（VIII）を含んでなる熱可塑性ポリマー成形用組成物の製造に有利に利用することができ、流動性向上剤は物品の表面欠陥を最小化する。
【００６７】
【化１０】
2006512447.tif 000018
【００６８】
式中、Ｒ１は水素、メトキシ又はアリルであり、「ａ」は約４０〜約５５の値を有する整数である。
【００６９】
【化１１】
2006512447.tif 000019
【００７０】
式（VII）のブロックコポリマーを含む成形品の表面欠陥を最小にするのに有用な流動性向上剤は、重量平均分子量約３０００〜約８０００の低分子量ビスフェノールＡホモポリカーボネート、数平均分子量約２００〜約３０００のポリエチレングリコール又はこれらの混合物からなる群から選択される。低分子量ビスフェノールＡポリカーボネートは、ホスゲンを用いる界面重合法、ビスフェノールＡビスクロロホルメートを用いるビスクロロホルメート重合法、並びにビスフェノールＡ及びジフェニルカーボネートのようなジアリールカーボネートを用いる溶融重合法のような当技術分野で公知の方法によって製造することができる。なお、上記方法によって製造されるポリカーボネートはヒドロキシ、アリールオキシ又はクロロホルメート末端基を有していてもよい。一実施形態では、低分子量ビスフェノールＡポリカーボネートは約３０００〜約８０００の重量平均分子量を有し、かつフェノキシ、ヒドロキシ、若しくはこれらの組合せから選択される末端基を有している。約８０００の重量平均分子量を有する低分子量ビスフェノールＡホモポリカーボネートは、例えば実施例１に示すように溶融重縮合法でビスフェノールＡをジフェニルカーボネートと反応させることによって製造できる。
【００７１】
ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールのような典型的なポリアルキレングリコールは、エチレンオキサイド及び／又はプロピレンオキサイドを、開環重合を開始する役目を果たす様々な官能性分子（一般に多価アルコール）に添加することによって形成される。開始剤と重合性モノマーの構造及び相対比を変えることによって、数平均分子量、融点、親水性及び相溶性といった重要な性質を調節しつつ各種ポリエーテルポリオールを製造することができる。
【００７２】
本発明の熱可塑性ポリマー成形用組成物はさらに、１種以上の酸化防止剤、熱安定剤、紫外線（以下、「ＵＶ」とする）安定剤、難燃剤及び着色剤組成物を含んでいてもよい。本組成物に有用なフェノール系酸化防止剤は広範囲の種類の化合物を包含し、その例を以下に示す。すなわち、本発明の成形用組成物に使用することができる酸化防止剤の非限定的な例としては、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、３，９−ジ（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジオキサスピロ［５．５］ウンデカン、３，９−ジ（２，４−ジクミルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジオキサスピロ［５．５］ウンデカン、トリス（ｐ−ノニルフェニル）ホスファイト、２，２′，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス［３，３′，５，５′−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１′−ビフェニル−２′−ジイル］ホスファイト］、３，９−ジステアリルオキシ−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジオキサスピロ［５．５］ウンデカン、ジラウリルホスファイト、３，９−ジ［２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル−フェノキシ］−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジオキサスピロ［５．５］ウンデカン及びテトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４′−ビス（ジフェニレン）ホスホナイト、ジステアリルペンタエリトリトールジホスファイト、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスファイト、２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールホスファイト、トリ−イソデシルホスファイト、並びにこれらのものを１種以上含有するホスファイトの混合物がある。トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、並びにこれらのホスファイトを１種以上含有するホスファイトの混合物、などが殊に好ましい。
【００７３】
使用することができる加工助剤の非限定的な例としては、Ｄｏｖｅｒｌｕｂｅ（登録商標）ＦＬ−５９９（Ｄｏｖｅｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から入手可能）、Ｐｏｌｙｏｘｙｔｅｒ（登録商標）（Ｐｏｌｙｃｈｅｍ  Ａｌｌｏｙ社から入手可能）、Ｇｌｙｃｏｌｕｂｅ  Ｐ（Ｌｏｎｚａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から入手可能）、ペンタエリトリトールテトラステアレート、Ｍｅｔａｂｌｅｎ  Ａ−３０００（三菱レイヨン（株）から入手可能）、ネオペンチルグリコールジベンゾエート、などがある。
【００７４】
使用することができるＵＶ安定剤の非限定的な例としては以下のものがある。すなわち、２−（２′−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリアゾール類、例えば、５′−メチル−、３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−、５′−ｔｅｒｔ−ブチル−、５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−、５−クロロ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−、５−クロロ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチル−、３′−ｓｅｃ−ブチル−５′−ｔｅｒｔ−ブチル−、３′−α−メチルベンジル−５′−メチル、３′−α−メチルベンジル−５′−メチル−５−クロロ−、４′−ヒドロキシ−、４′−メトキシ−、４′−オクトキシ−、３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−、３′−メチル−５′−カルボメトキシエチル−、５−クロロ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−誘導体及びＴｉｎｕｖｉｎ（登録商標）２３４（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから入手可能）。２，４−ビス−（２′−ヒドロキシフェニル）−６−アルキル−ｓ−トリアジン類、例えば、６−エチル−、６−ヘプタデシル−又は６−ウンデシル−誘導体。２−ヒドロキシベンゾフェノン類、例えば、４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ−、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシ−又は２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−誘導体。１，３−ビス−（２′−ヒドロキシベンゾイル）−ベンゼン類、例えば、１，３−ビス−（２′−ヒドロキシ−４′−ヘキシルオキシ−ベンゾイル）−ベンゼン、１，３−ビス−（２′−ヒドロキシ−４′−オクチルオキシ−ベンゾイル）−ベンゼン又は１，３−ビス−（２′−ヒドロキシ−４′−ドデシルオキシベンゾイル）−ベンゼン。適宜置換されていてもよい安息香酸のエステル類、例えば、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシン、ビス−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）−レゾルシン、ベンゾイルレゾルシン、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸−２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルエステル又は−オクタデシルエステル又は−２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルエステル。アクリレート類、例えば、α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸−エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチルエステル又は−ブチルエステル又はＮ−（β−カルボメトキシビニル）−２−メチル−インドリン。シュウ酸ジアミド類、例えば、４，４′−ジ−オクチルオキシ−オキサニリド、２，２′−ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−オキサニリド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−オキサニリド、２−エトキシ−２′−エチル−オキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス−（３−ジメチル−アミノプロピル）−オキサルアミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−エチルオキサニリド及びこれらと２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−オキサニリドとの混合物、又はオルト−及びパラ−メトキシ−並びにｏ−��びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。好ましくは、本組成物に使用する紫外光吸収剤は、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ジ−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、ニッケルビス（Ｏ−エチル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート）、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール及び、２，２′−チオビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド又は２−エトキシ−２′−エチル−５，５′−ジｔｅｒｔ−ブチルオキサニリドのニッケルブチルアミン錯体である。
【００７５】
使用することができる難燃剤の非限定的な例としては、カリウムノナフルオロブチルスルホネート、カリウムジフェニルスルホンスルホネート及びレゾルシノールやビスフェノールＡのような多価フェノールのホスファイトエステルがある。
【００７６】
典型的な実施形態について本発明を説明してきたが、当業者には、本発明の範囲から逸脱することなく、様々な変更をなすことができ、その要素を等価物で置き換えられることが理解されよう。また、特定の状況又は材料を本発明の教示に適合させるために本発明の本質的な範囲から逸脱することなく多くの修正を施すことができる。従って、本発明は、本発明を実施する上で最良の形態と考えられる特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に入るすべての実施形態を包含するものである。以下の非限定実施例により本発明をさらに例証する。
【実施例】
【００７７】
重量平均分子量（Ｍｗ）はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって測定した。示した値はポリスチレン標準で測定したものに対するものである。延性はＩＳＯ  １８０に従ってＩＺＯＤ衝撃測定技術を用いて測定した。ＦＲ等級はＵＬ９４  Ｖ０試験及び１．６ミリメートルの試料厚を用いて測定した。
【００７８】
予言例１
本例では、約８０００の重量平均分子量を有する低分子量ヒドロキシ末端封鎖ビスフェノールＡホモポリカーボネートの調製について説明する。この手順は、米国特許第６１４３８５９号（援用により本明細書の内容の一部をなす）の第６欄第２７〜４２行目の実施例２の一部としても記載されている。
【００７９】
１リットルのガラス製溶融重合反応器を、酸で洗浄し、脱イオン水で濯ぎ、約７０℃で一晩乾燥することによって不動態化する。次に、この反応器に、１３０．４グラム（６０８．６ミリモル）のジフェニルカーボネートと１２０グラム（５２５．６ミリモル）のビスフェノールＡを仕込む。中実ニッケル製攪拌機を混合物中に吊し、この反応器を窒素でパージし、約１８０℃に加熱すると、反応混合物が融解する。完全に融解したら、撹拌しながら５〜１０分平衡化させる。その後撹拌しながら、６００マイクロリットルの０．２２１モル濃度のマレイン酸テトラメチルアンモニウム水溶液と５００マイクロリットルの０．０１モル濃度の水酸化ナトリウム水溶液を添加する。得られた混合物を約１８０℃に加熱し、撹拌を約５分間続けた後、温度を約２１０℃に上げ、圧力を水銀柱約１８０ミリメートルに下げると、フェノールが蒸留し始める。約１０分後、目的とする低分子量ビスフェノールＡホモポリカーボネートが生成する。
【００８０】
実施例２
押出及び成形操作に使用した典型的な組成物を表１に示す。数字は、表示した成分をすべて一緒にして形成される混合物全体の１００部当たりの各成分の重量部を表す。表示した量の成分を慎重に秤量し、Ｂａｎｂｕｒｙタイプのミキサーを用いて均一に混合した。ＰＣ−ＳＴは、既に示した式（VI）で表される重量平均分子量約６００００のポリオルガノシロキサン−ポリカーボネートブロックコポリマーを示す。以下のすべての実施例で、式（VI）で表されるブロックコポリマーの「ｃ」、「ｄ」及び「ｅ」はコポリマーが約６００００の重量平均分子量を有するような値を有する。
【００８１】
次に、得られた混合物を押出してペレットを形成し、これを例えば国際公開第００／６７００４号（援用により本明細書の内容の一部をなす）に記載されているＢＯＲＧ金型によって成形した。
【００８２】
【表１】
2006512447.tif 000020
【００８３】
コンパウンディングはポリカーボネートポリマー用の標準スクリュー設計を有するＷ＆Ｐ  ＺＳＫ  ２５実験室用二軸式押出機を用いて実施した。コンパウンディング条件を表２に示す。射出成形はＬ＆Ｔ  Ｄｅｍａｇ  Ｄｅ−Ｔｅｃｈ  ６０  ＬＮＣ４−Ｅ成形機を用いて行った。成形条件を表３に示す。略号「ＲＰＭ」は毎分の回転数を示す。略号「ｐｓｉ」はポンド／平方インチを示す。表４は様々なタイプの流動性向上剤を含む成形用熱可塑性ポリマー組成物から得られた結果を示す。流動性向上剤の量は成形用組成物１００部当たりの部として示す。流動性向上剤は次の通りである。Ａ：シリコーン油（概略分子量１０００）、Ｂ：低密度ポリエチレン（「ＬＤＰＥ」、メルト密度約０．９２グラム／立方センチメートル、メルトボリュームレート約２．２立方センチメートル／１０分）、Ｃ：数平均分子量約２００のポリエチレングリコール、Ｄ：重量平均分子量約８０００のビスフェノールＡホモポリカーボネート、Ｅ：フタル酸ジオクチル、Ｆ：ポリテトラフルオロエチレン（２０％エマルション）。表面欠陥等級は流動性向上剤の場合と比較して示す。
【００８４】
充填量の数字は成形用組成物１００部当たり流動性向上剤の重量部を表す。表面欠陥は流動性向上剤を含有しない成形用組成物と比較して目視検査により評価した。表５は、上記流動性向上剤ＣとＤの様々な組合せを用いて得られた熱可塑性ポリマー成形物で得られた結果を示す。流動性向上剤の量は成形用組成物１００部当たりの部で示す。メルトボリュームレート（ＭＶＲ）は立方センチメートル／１０分（ｃｃ／１０ｍｉｎ）として表す。難燃性のデータは「ＦＲ」と題した欄に示す。「ＮＡ」はデータがないことを示している。用語ΔＬは、流動性向上剤を添加しなかった対照実施例１６に対する、流動性向上剤を添加した際の成形プラークの色指数のシフトをパーセントで示す。
【００８５】
【表２】
2006512447.tif 000021
【００８６】
【表３】
2006512447.tif 000022
【００８７】
【表４】
2006512447.tif 000023
【００８８】
【表５】
2006512447.tif 000024
【００８９】
得られた結果は、ポリエチレングリコール、低分子量ビスフェノールＡホモポリカーボネート又はこれらの組合せを流動性向上剤として含む成形用組成物が表面上の欠陥が低減した成形品を生成することを示している。さらに、これらの効果的な添加剤を添加しても、ポリマー成形用組成物及びそれから得られる成形品の物理的性質に大きな影響はない。
【００９０】
本発明を典型的な実施形態について例示し説明して来たが、本発明の思想からいかなる意味でも逸脱することなく様々な修正と置換をなすことが可能であるので、ここに示した詳細に限定されない。すなわち、ここに開示した本発明のさらなる修正や均等物が日常以上の実験を要することなく当業者には自明であり、かかる修正及び等価物はすべて特許請求の範囲に記載の本発明の思想と範囲内に入るものと考えられる。本明細書で引用した特許は全て援用により本明細書の内容の一部をなす。
【国際調査報告】
2006512447.tif 000031
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