(57)【要約】  レザーアセンブリは、少なくとも一つのブレードを有するレザーヘッドと、レザーヘッドに結合された髭剃り補助剤放出システムとを含む。髭剃り補助剤放出システムは、少なくとも一つの髭剃り補助流体の供給部を伴う構造と、この構造の表面に沿って供給部から複数の出口ポートに髭剃り補助流体を通す微小流体回路と、この微小流体回路を通して供給部から髭剃り補助流体を伝動する移送系とを含む。
2006507037.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）少なくとも一つのブレードを有するレザーヘッドと、
ｂ）前記レザーヘッドに結合された髭剃り補助剤放出システムであって、
前記髭剃り補助剤放出システムが少なくとも一つの髭剃り補助流体の供給部を伴う構造、前記構造の表面に沿って前記供給部から複数の出口ポートに前記髭剃り補助流体を通す微小流体回路、及び前記微小流体回路を介して前記供給部から前記髭剃り補助流体を伝動する移送系を含む髭剃り補助剤放出システムと、
を含むレザーアセンブリ。
【請求項２】
前記構造は、共に積層された少なくとも２つの基板を含む請求項１記載のレザーアセンブリ。
【請求項３】
前記構造は、積層アレイにおいて共に結合された第１基板、第２基板及び第３基板を含む請求項１記載のレザーアセンブリ。
【請求項４】
前記第１基板と前記第２基板との間に微小チャネル回路を含む請求項３記載のレザーアセンブリ。
【請求項５】
少なくとも一つの髭剃り補助剤の前記供給部は、前記第３基板において少なくとも２つのリザーバを含み、それぞれのリザーバは、別個の髭剃り補助剤を収容し、前記第２基板は、前記第３基板から前記微小チャネル回路に前記髭剃り補助剤を通すために通路を含む請求項４記載のレザーアセンブリ。
【請求項６】
前記移送系は、前記第３基板において少なくとも一つの浸透圧ポンプを含む請求項１記載のレザーアセンブリ。
【請求項７】
前記浸透圧ポンプは、前記髭剃り補助流体を収容するリザーバを含む請求項６記載のレザーアセンブリ。
【請求項８】
前記浸透圧ポンプは、移動可能で実質的に非浸透性であるバリアにより前記リザーバから分離された浸透圧伝動材料を含む請求項７記載のレザーアセンブリ。
【請求項９】
前記浸透圧伝動材料は、塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、塩化カルシウム、塩化リチウム、炭酸ナトリウム、デキストロース、ラクトース及びフルクトースからなる群より選ばれたものである請求項８記載のレザーアセンブリ。
【請求項１０】
前記バリアは、スライド可能に移動可能であるピストンである請求項９記載のレザーアセンブリ。
【請求項１１】
前記バリアは、前記浸透圧伝動材料が収容される弾性で膨張可能なポーチである請求項８記載のレザーアセンブリ。
【請求項１２】
前記浸透圧ポンプは、前記浸透圧ポンプにおける前記浸透圧伝動材料と入口開口との間に配置された半浸透性膜を含む請求項８記載のレザーアセンブリ。
【請求項１３】
前記半浸透性材料は、酢酸セルロース、ポリアミド、酢酸セルロースブチレート、エチルセルロース、硝酸セルロース及びそれらの混合物からなる群より選ばれたものである請求項１２記載のレザーアセンブリ。
【請求項１４】
前記入口開口は、除去可能又は破壊可能なシールにより覆われている請求項１２記載のレザーアセンブリ。
【請求項１５】
前記レザーヘッドが取り付けられたハンドルをさらに含む請求項１記載のレザーアセンブリ。
【請求項１６】
前記髭剃り補助剤は、シリコーンオイル、ポリエチレンオキサイド、非イオン性ポリアクリルアミド、ガーゴム、脱毛剤、シリコーン−ポリエチレンオキサイドブロックコポリマー、ラウリル硫酸ナトリウム、防腐剤、スキンコンディショナー、血液凝固剤、ビタミンＥ、ピルビン酸ナトリウム、サンフラワーオイル、ジメチコン、Ｃ12−Ｃ15アルコールベンゾエート、グリセリン、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ジョジョバオイル、アラントイン、アロエベラ及びセサミオイルからなる群より選ばれたものである請求項１記載のレザーアセンブリ。
【請求項１７】
前記髭剃り補助剤の供給部は少なくとも２つのリザーバを含み、それぞれのリザーバは、同じ又は異なるタイプの個別の髭剃り補助流体を収容し、前記髭剃り補助剤放出システムは、前記出口ポートに放出するための一つ又はそれ以上の前記髭剃り補助流体を選択する手段を含む請求項１記載のレザーアセンブリ。
【請求項１８】
前記移送系は、それぞれの個別の髭剃り補助流体を放出する個別の浸透圧ポンプを含み、それぞれの浸透圧ポンプは、前記浸透圧ポンプを駆動するためにその中に水を通す入口を含み、一つ又はそれ以上の前記髭剃り補助流体を選択する手段は、それぞれの入口に配置された除去可能又は破壊可能なシールを有する請求項１７記載のレザーアセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、髭剃りプロセス中にレザーが肌全体に容易に引かれることを改良すると共にスキンケアトピカルを与える潤滑髭剃り補助剤を有する髭剃りシステムに関する。さらに、本開示は、髭剃り補助剤の放出を調節する微小流体システムを有する髭剃りシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
髭剃りプロセス中において、多くの要因が全体的な不快さに寄与していることが知られている。それらの要因には、肌全体へのレザーの過度の摩擦抵抗と、乾癬、湿疹、にきび、吹き出物などの様々な既知の表皮状態によって引き起こされる肌の炎症を含む。これらのいくつかの要因への取り組みとして、エモリエント剤、髭軟化剤、泡立て剤、薬効軟膏や鎮静軟膏、薬用アロエ、シェービングクリーム、石鹸などを含むプレシェーブローション及び／又はアフターシェーブローションが使用されている。髭剃りの快適さは、エモリエント剤や他のシェービング補助剤の使用によって幾分増大するかもしれないが、それらを髭剃り前又は後に与えるという要求事項は、髭剃りの全体的な効率を低下させ、単に髭剃りプロセスの複雑さを増加させる。
【０００３】
シェービングシステムはまた、髭剃り中の摩擦抵抗を減少させるために、潤滑剤を使用する。例えば、レザーカートリッジと一体化され又は取り付けられた静的潤滑システムは、既知であり、レザーが肌全体に引かれるときに、レザーの摩擦抵抗を減少させるのを助ける。
【０００４】
そのようなシステムは、レザーキャップ部近傍のレザーヘッドに添わせた潤滑ストリップを含む。潤滑ストリップは通常、髭剃り中にストリップから浸出して摩擦抵抗を減少させる、不溶性ポリマー（ポリスチレンなど）と、ポリエチレンオキサイドのような水溶性髭剃り補助剤とを含む。しかしながら、そのようなシステムの問題は、髭剃り補助剤が時間とともに幾分偏って浸出することである。最初は、十分すぎる程の髭剃り補助剤が浸出する。しかし、レザーを繰り返し使用した後では、髭剃り補助剤の浸出が少なくなってくる。これは、潤滑ストリップに組み入れることができる限られた量の髭剃り補助剤を非効率に使用することになる。さらに、繰り返し使用した後に、ストリップの表面が不規則形状で粗くなり、それによりストリップの摩擦係数が増加する。これは、敏感肌をさらに刺激する一因になり得る。
【０００５】
その結果として、髭剃りプロセス中に髭剃り補助剤を放出する新しいシステムを開発する様々な試みがなされてきた。しかしながら、それらの試みは、ほとんどの場合、レザーの長期間使用や繰り返し使用で、一貫して及び均等に肌に髭剃り補助剤を放出する性能において部分的に成功しているだけである。
【０００６】
したがって、レザーブレードの通常かつ期待された実用寿命にわたって、ユーザにより所望量の髭剃り補助剤を自動的又は選択的に効果的に放出するシステムを組み入れた、簡単ではあるが効果的な髭剃りシステムに対する要求が依然として存在する。
【発明の開示】
【０００７】
レザーアセンブリがここで提供される。そのレザーアセンブリは、少なくとも一つのブレードを有するレザーヘッドと、レザーヘッドに結合された髭剃り補助剤放出システムとを含む。その髭剃り補助剤放出システムは、少なくとも一つの髭剃り補助流体の供給部を備えた構造と、供給部から構造の表面に沿った複数の出口ポートに髭剃り補助流体を伝達する微小流体回路と、微小流体回路を通して供給部から髭剃り補助流体を伝動する移送系とを含む。
【０００８】
レザーアセンブリは、有利に、髭剃り表面に髭剃り補助剤を放出する便利な方法を提供し、髭剃り補助剤放出システムに収容される二つ又はそれ以上の髭剃り補助剤の中からの髭剃り補助剤の選択を可能とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
ここでのレザーアセンブリは、微小流体デバイスを含む髭剃り補助剤放出システムを使用する。微小流体デバイスは、エレクトロニクス業界で共通して使用される微小製造方法により製造される。そのような方法は通常、第１の固体基板材料の上側の平面上に、例えば溝、ウェル、凹部のような微小構造を製造することを伴う。その後、溝及びウェルをカバーしシールしてチャネル及びチャンバを形成するように、下側の平面を有する第２の基板層をこの表面上に結合する。これらの製造技術のため、微小流体デバイスは、本来備わっている深部を除いて、流体の活動領域が二次元領域において通常存在する平面構造を良く使用する。
【００１０】
ここで使用される語句「微小スケール」や「微小製造」は、通常約０．１μｍから約５００μｍの範囲の少なくとも一つの製造寸法を有するデバイスの構造領域又は形態をいう。したがって、微小製造された又は微小スケールのデバイスは、そのような寸法を有する少なくとも一つの構造領域又は形態を含む。通路、チャンバ、導管のような流体領域の説明のために使用する場合、語句「微小スケール」、「微小製造」又は「微小流体」は通常、例えば深さ、幅、長さ、径などの少なくとも一つの内部断面寸法、すなわち５００μｍ以下、概して約０．１μｍから約５００μｍの間の寸法を有する一つ又はそれ以上の流体通路、チャンバ又は導管をいう。
【００１１】
本発明で使用される微小流体デバイス又はシステムは、単一体構造内に配置された、少なくとも一つの微小スケールチャネル、通常少なくとも二つの交差する微小スケールチャネル、しばしば三つ又はそれ以上の交差するチャネルを含む。チャネル交差は、多くの構造で存在し、交差、「Ｔ」交差や任意数の他の構造を含み、それにより２つのチャネルが流体通路内に存在する。
【００１２】
ここで説明される微小流体デバイスの本体構造は、適宜共に係合し又は結合するときに、本発明の微小流体デバイスを形成する、例えばここで説明するマルチチャネルネットワークを含む、二つ又はそれ以上の分離した基板層の集合を含む。好ましくは、ここで説明する微小流体デバイスは、底基板層、中間基板層及び上基板層を含む３つの基板層を含む。
【００１３】
ここで使用する語句「基板」又は「基板層」は、第１及び第２の対向し、又は実質的に平行で平らな表面を有する固体平面基板を意味するように互換可能に使用される。種々の基板材料が、デバイスの種々の層として使用され得る。通常、デバイスは微小製造されるので、基板材料は、既知の微小製造技術、例えばフォトリソグラフィー、湿式ケミカルエッチング、レーザアブレーション、エアー研磨技術、射出成形、エンボス加工、微小レプリケーション、微小成形、及び他の技術との適合性に基づいて選択される。基板材料はまた、極端なｐＨ、温度、塩濃度、及び電圧印加を含む、微小流体デバイスが晒され得るフルレンジの条件との適合性で通常選択される。基板はまた、例えば表面電位のような界面動電特性、例えば透明性などの熱的及び光学的特性で通常選択され得る。したがって、好ましい態様において、基板材料は、そのような微小製造技術が通常使用されるような半導体業界に関連する材料を含み、例えばガラス、石英、シリコン又はポリシリコンのようなシリカベース基板だけでなく、ガリウム砒素などの他の基板材料を含む。半導体材料の場合において、基板材料上に例えばシリコン酸化物のような絶縁性被膜あるいは層を与えることが望ましい。特に、デバイスやその成分に電界が印加される用途において望ましい。
【００１４】
さらに好ましい態様において、基板材料は、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）、ポリスルフォンなどのようなプラスチックなどのポリマー材料を含み得る。そのようなポリマー基板は、上述したような使用可能な微小製造技術を用いて、又は射出成形、エンボス加工、スタンプ加工あるいは金型内でポリマー前駆材料をポリマー化することによる（米国特許第５，５１２，１３１号参照）既知の成形技術を使用して微小製造マスターから容易に製造される。
【００１５】
そのようなポリマー基板材料は、製造が容易で、低コストで使い捨て可能であると共に、最も極端な反応条件に対して通常不活性であるので好ましい。さらに、これらのポリマー材料は、例えば微小流体システムでその実用性を増大させる、例えば米国特許第５，８８５，４７０号に記載された、高められた流体方向を与えるように、誘導体化された又は被覆された表面のような処理表面を含んでも良い。この内容は参照によりすべてここに包含される。
【００１６】
上述したように、微小流体デバイスの種々の基板層は、デバイスの微小流体領域を形成するように組み合わされ又は結合される。基板層の結合は、通常当該技術において既知である多くの方法や条件のうちのいずれかの下で行われる。基板が共に結合され得る条件は、通常広く理解されており、そのような基板の結合は通常、使用する基板材料の性質により変え得る多くの方法のうちのいずれかにより行われる。例えば、基板の熱的結合は、例えばガラス又はシリカベース基板だけでなくポリマーベース基板を含む多くの基板材料に適用され得る。そのような熱的結合は、典型的には、高められた温度の条件下で、場合により外圧を印加して、結合される基板を組み合わせることを含む。正確な温度及び圧力は通常、使用される基板材料の性質により変化する。
【００１７】
例えば、シリカベース基板材料、すなわちガラス（ホウケイ酸ガラス、パイレックス（登録商標）、ソーダライムガラスなど）、石英などについては、基板の熱的結合は、典型的に、約５００℃から約１４００℃、好ましくは約５００℃から約１２００℃の範囲の温度で基板同士を加圧することにより行われる。例えば、ソーダライムガラスは、典型的に、５５０℃付近の温度で結合され、それに対してホウケイ酸ガラスは、典型的に、８００℃又は８００℃付近で熱的に結合される。一方、石英基板は、典型的に、１２００℃又は１２００℃付近で熱的に結合される。これらの結合温度は、典型的に、高温熱処理炉中に、結合される基板を置くことにより達成される。
【００１８】
一方、熱的に結合されるポリマー基板については、典型的に、基板の過度の溶融及び／又はデバイスの内側部分、すなわちチャネルやチャンバの変形、例えば平坦化を防止するために、シリカベース基板よりも低い温度及び／又は圧力を使用する。一般に、ポリマー基板を結合するそのような高い温度は、使用するポリマー材料により約８０℃から約２００℃、好ましくは約９０℃から約１５０℃で変化する。典型的に、結合される基板間に接着層を付与し、接着剤が硬化するまでそれらを加圧することを含む既知の方法にしたがって基板同士を結合するために接着剤も使用され得る。これらの方法にしたがって、例えば、市販されているＵＶ硬化型接着剤を含む種々の接着剤が使用され得る。
本発明にしたがって基板同士を結合するために、例えば音響又は超音波溶接、高周波溶接及び／又はポリマー部分の溶剤溶接を含むその他の方法も使用され得る。
【００１９】
ここで使用される語句「微小チャネル回路」は、２つの基板間に配置された一つ又はそれ以上の微小スケールチャネルを意味する。好ましい態様において、そのようなチャネル回路又はネットワークは、少なくとも二つの微小スケールチャネル、好ましくは少なくとも二つの交差微小スケールチャネルを含む。チャネルの交差は、例えば「４方向」交差で交差するチャネルだけでなく、一つのチャネルがもう一つのチャネルで交差し末端とする、例えば「Ｔ」又は３方向交差を含み得る。
【００２０】
図１から図４を参照すると、微小流体髭剃り補助剤放出システムの実施の形態は、髭剃りプロセス前及び／又は髭剃りプロセス中の使用について示され、参照番号１００により概して特定される。微小流体髭剃り補助剤放出システム１００は、レザー（又はそれらの使用可能な部分、例えばレザーヘッドカートリッジ）が所定数の髭剃り後に廃棄され交換される種々の既知のタイプの使い捨て可能なレザーに組み込まれ得る。
【００２１】
図１及び図２に図示された本開示の実施の態様は、一対の鋭利なブレード２０ａ，２０ｂ及びキャップ部材３０を支持ベース１４に移動可能に結合する弾性支持部５０，５５を有する支持ベース１４を含むレザーヘッドカートリッジ１２の形の髭剃りシステム１０を示す。図１及び図２は、使い捨て及び交換可能なカートリッジ１２を有する髭剃りシステム１０を示すが、本開示の利点は、他のレザーデザイン及び髭剃りシステムに同様に適用可能であることである。ここに使用される語句「レザーヘッド」は、
分離レザーハンドル８０への取り付け用に設計され製造された交換可能なカートリッジ１２含むだけでなく、肌係合部（すなわちガードバー、ブレード、キャップ及び潤滑髭剃りストリップ）がレザーハンドル部と一体に形成された使い捨てレザーアセンブリも含むことを意味する。さらに、ここで開示された髭剃りシステムは、通常顔用髭剃りシステムに関するが、本開示の髭剃り補助剤放出システムは、他の体の肌領域、例えば脚、腕、手術のために準備される領域などと係合する他の既知の髭剃りシステムを含み得ることを意図している。
【００２２】
レザーヘッド１２は、前表面１７、後表面１９、固定側壁１５ａ，１５ｂにより規定された支持ベース１４を含む。肌係合ガード部材４０は、ベース１４の前表面１７に沿って及び近くで支持ベース１４に添えられており、髭剃り補助剤放出システム１００の表面１０１はベース１４の後表面１９に沿って配置される。シートブレード２０ａ及びキャップブレード２０ｂは、複数の弾性支持部材５０，５５により支持されている。それぞれのブレード２０ａ，２０ｂの先端は、それぞれのブレード２０ａ，２０ｂの最端部から約１ｍｍ内の領域であるカッティングエッジ２１ａ，２１ｂをそれぞれ含む。
【００２３】
好ましくは、レザーブレードカッティングエッジ２１ａ，２１ｂは、下地金属、例えばクロム、クロム／プラチナ合金をさらなる耐久性やさらなる耐食性を与えるように金属薄層で被覆される。他の材料、例えば米国特許第５，６３０，２７５号で特定される種々の被覆材料もレザーブレード２０ａ，２０ｂ上に被覆され得る。この内容は参照によりすべてここに包含される。
【００２４】
支持部材５０，５５は、ベース１４に沿って取り付けられ、それぞれのブレード２０ａ，２０ｂを支持する。髭剃り補助剤放出システムのガード部材４０、ブレード２０ａ，２０ｂ、キャップ部材３０、潤滑表面１０１、及び側壁１５ａ，１５ｂの外側に面する表面は、共にレザーヘッド１２の面１６を規定する。これらの要素は、共通して「肌係合領域」と呼ばれる。弾性支持部材５０，５５は、ブレード２０ａ，２０ｂの安定性を増加するため及びより大きな柔軟性を与えるためにレザーヘッド１２の面１６に沿う種々の位置に配置される。支持部材５０，５５が、髭剃り中に遭遇する通常の力に対してブレード２０ａ，２０ｂ及びキャップ部材３０を側壁１５ａ，１５ｂを基準として下方に、すなわちベース１４に向けて、動かすために十分な特有の弾性を有するように設計されることが考えられている。好ましくは、弾性支持部材５０，５５は、同じ弾性材料で製造されるが、支持部材５０，５５が異なる弾性を有する異なる弾性材料で製造され得ることも考えられる。弾性支持部材５０，５５の長さや位置はまた、髭剃り中に遭遇する力に応じて髭剃り形状の全体的な集合度を増加又は減少するように変えられ得る。例えば、一つの弾性支持部材、例えば５５の長さがもう一つの弾性支持部材、例えば５０よりも短い場合、髭剃りの集合度に直接関連する全体の髭剃り角度は通常の髭剃り力に応じて変わるであろう。
ガード部材４０は、ベース１４にガード部材４０を沿わす後表面４２と、最外ガード表面４１とを含む。最外ガード表面４１は、好ましくは多くの使い捨て可能なレザーヘッドカートリッジ１２を有して一般に使用される剛性プラスチックタイプのものより湿った肌との間の高い摩擦係数を有する、弾性で肌係合材料により作られることである。ガード表面４１は、好ましくはレザーが肌に押し込まれ、カットや切断から肌を保護する程度に制限するように設計される。
【００２５】
ガード部材４０は、共有で所有された米国特許第５，６８９，８８３号及び第５，４７５，９２３号に示すように、単一のユニット又は分離セグメントのいずれにもなり得る。両者の内容は参照によりすべてここに包含される。好ましくは、弾性ガード表面４１は、J-Von, Leominster, Massから市販されているDurometer  30  to  90Aスケールであるポリプロピレン、Hercuprene  1000,3000シリーズ、；Shell  Chemical Co., Lisle, II1.で市販されているDurometer  30  to  90AスケールであるKraton  G シリーズ；Monsanto Co.で市販されているDurometer  30  to  90AスケールであるSantoprene 2271シリーズから選ばれた一つ又はそれ以上の材料で形成される。
【００２６】
一つ又はそれ以上の上述した弾性材料はまた、側壁１５ａ，１５ｂの上部の肌係合部に配置され得る。評価されるべきは、弾性材料の高い摩擦係数により、肌がブレード２０ａ，２０ｂ上を通るときに、ガード部材４０（及び側壁１５ａ，１５ｂ）が肌を捉えて、より大きな肌の調整を可能にすることである。さらに、弾性材料は、肌を通る鋭利なブレードの好ましくない感覚的な認識を隠し易すような方法で肌に対するより検出可能な感覚を与える。
【００２７】
キャップ部材３０は、上ブレード２０ｂを取り付ける。キャップ部材３０は、レザーヘッド１２の面１６を横切るように延在する単一部品として形成され得る、あるいはキャップ部材３０は、特定の目的により複数の別個の部分に分けられていても良い。キャップ部材３０が髭剃りストローク中の肌に対するブレード２０ａ，２０ｂ及びキャップ部材３０の全体的な動きを統合するために、一つ又はそれ以上の弾性支持部材５０，５５と共に又は添わせて一体的に形成され得ることが考えられる。キャップ部材３０の形成に関する他の利点は、共有で所有された米国特許第５，８２２，８６２号、第５，６６６，７２９号及び第５，４５６，００９号に記載されている。これらの内容はすべて参照によりここに包含される。
【００２８】
図３、図４及び図５に良く図示されているように、髭剃りシステム１０は本開示に係る髭剃り補助剤放出システム１００を含み、それは髭剃りプロセス前及び／又は髭剃りプロセス中いずれかに選択的に髭剃り補助剤を放出するためにレザーヘッド１２内に配置される。一つの実施の形態において、髭剃り補助剤放出システム１００は、レザーヘッド１２に固定的に組み込まれても良く、多くの用途又は剃毛のために使用され得る。あるいは、髭剃り補助剤放出システムは、レザーヘッド１２から分離されても良く、例えば単独の用途後に廃棄され、新しい髭剃り補助剤放出システムと交換されても良い。
【００２９】
特に、髭剃り補助剤放出システム１００は、髭剃りストローク中に肌に係合する潤滑表面１０１に沿って分散させるための所定量の髭剃り補助剤を蓄えるリザーバを含む。
【００３０】
ここで使用する語句「髭剃り補助剤」は、以下の物質の一つ又はそれ以上の組み合わせを含む多くの既知の髭剃り補助剤をいう。
−例えばシリコーンオイルなどのレザーと肌との間の摩擦力を低減する潤滑剤；
−レザー部と剃られる表面との間の抵抗を低減する助剤、例えば１００，０００から６，０００，０００の間の分子量範囲のポリエチレンオキサイド；非イオン性ポリアクリルアミド；及び／又は「ガーゴム」のような植物材料から誘導された天然多糖類；
−レザーブレードを髭に容易に通過させるように毛の化学的構造を変形する助剤、例えば脱毛剤；
−髭及び肌細片を髭剃り中にレザー部からより容易に洗浄することができる洗浄剤、例えばシリコーン−ポリエチレンオキサイドブロックコポリマー及びラウリル硫酸ナトリウムのような洗浄剤；
−バクテリアや他の微生物を殺す消毒剤のような薬剤又は肌のダメージ及び擦過を手入れする助剤；
−肌を軟化、スムージング、コンディショニング又は改善する化粧剤；
−切断やカットによる出血の抑制のための血液凝固剤；
−エッセンシャルオイル；
−ポリトラップビードキャリア（polytrap bead carrier）に含まれる、例えばビタミンＥアセテートの形態のビタミンＥ、ピルビン酸ナトリウム及びサンフラワーオイル；
−例えばジメチコン、Ｃ12−Ｃ15アルコールベンゾエート、グリセリン、セチルアルコール、及びステアリルアルコールなどの合成保湿剤、潤滑剤、エモリエント剤；
−例えばジョジョバオイル、アラントイン、アロエベラ、及びセサミオイルなどの天然保湿剤、潤滑剤、エモリエント剤。
【００３１】
図３及び図４を参照して、微小流体髭剃り補助剤放出システム１００は、積層アレイに共に固定された第１基板１１０、第２基板１２０及び第３基板１３０を含む。第１、第２及び第３基板１１０，１２０，１３０のそれぞれは、上述したような基板材料で別個に製造され、上述したようないずれかの好適な方法により所望の形状に形成され得る。
【００３２】
第１基板１１０は、カバーとして機能する平坦なプレートである。
【００３３】
第２基板１２０は、第３基板１３０（以下に説明するように）から微小チャネル回路１２１に髭剃り補助流体を通すことができるように第２基板１２０を介して延在する流体通路１２２ａ，１２２ｂを含む微小チャネル回路１２１を含む。微小流体髭剃り補助剤放出システム１００は、髭剃り表面に放出するために個々に選択され得るマルチ髭剃り補助剤を含み得る。それぞれの通路１２２ａ，１２２ｂは、個々の髭剃り補助剤を移送する。ここで説明するシステムは、説明のために２つの髭剃り補助剤を使用するが、髭剃り補助剤放出システム１００において任意数の髭剃り補助剤を含み得ることに留意すべきである。
【００３４】
微小チャネル回路１２１はまた、髭剃り補助剤を混合し、出口マニホルド１２５に連通する混合チャネル１２４に髭剃り補助流体を運ぶ水平方向のチャネル１２３を含む。髭剃り補助流体は、その中で第２基板１２０のエッジに沿う多数の出口ポート１２６に放出され、それにより髭剃り補助流体が潤滑表面１０１に射出され、放出される。
【００３５】
微小チャネル（すなわち１２３，１２４，１２５）は、好ましくは直径約５０μｍから２００μｍ、好ましくは直径約１００μｍから１５０μｍである。
【００３６】
微小流体髭剃り補助剤放出システム１００は、流体髭剃り補助剤を収容する少なくとも一つのリザーバと、微小チャネル回路１２１を介してリザーバから髭剃り補助剤を伝動する移送系とをさらに含む。好ましくは、微小流体髭剃り補助剤放出システム１００は、デバイスに蓄えられた２つ又はそれ以上の髭剃り補助剤の中から一つ又はそれ以上の所望の髭剃り補助剤をユーザに選択させる。
【００３７】
ここで図４を参照して、第３基板１３０は、移送系として、特定の髭剃り補助剤９０を収容するリザーバと対応づけられた少なくとも一つ、好ましくは少なくとも二つの浸透圧ポンプ１３１を含む。
【００３８】
特に、浸透圧ポンプ１３１は、第３部材１３０の本体における内壁により規定されたチャネル１３２を含む。ピストン１３４は、リザーバ部１３２’とポンプチャンバ１３２’’とにチャネルを分割する。
【００３９】
髭剃り補助流体９０は、リザーバ部１３２’に蓄えられる。
【００４０】
ポンプチャンバ１３２’’は、以下で説明するように、膨張により圧力を発生する浸透圧伝動材料１３３を収容する。ピストン１３４は、伝達材料１３３の膨張に対応してチャネル１３２で自由に、スライド可能に移動可能である流体非浸透性バリア部材である。ピストン１３４は、金属、プラスチック、他の好適な材料で製造され得る。好ましい材料としては、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ＰＴＦＥ、ＰＶＣなどを含む。伝達材料１３３が膨張するとき、ピストン１３４は髭剃り補助流体９０に圧力を加え、チャネル１３７を通って出口１３８に髭剃り補助流体９０を移動させ、そこで髭剃り補助流体９０が通路の一つ（例えば１２２ａ又は１２２ｂ）を通って微小チャネル回路１２１に入り、潤滑表面１０１に放出される。
【００４１】
浸透圧伝動材料１３３は、伝動材料１３３とチャネル１３２の開口１３６との間のチャネル１３２に配置された半浸透性膜１３５により保持される。
【００４２】
浸透圧伝動材料１３３は、塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム、塩化カルシウム又は塩化リチウムのような無機水溶性塩；酢酸ナトリウムのような有機塩；又はデキストリン、ラクトース、フルクトースのような水溶性有機物質を含み得る。浸透圧伝動材料１３３は、液体又は固体の形態で存在し得る。
【００４３】
半浸透性膜は、水の通路を可能にするが、伝動材料に対して非浸透性である。浸透現象は、半浸透性膜を通して水を伝動材料に移動させ易くする。これは、上述したようにリザーバ１３２’から髭剃り補助流体９０を移動させる伝動材料の膨張による。
【００４４】
半浸透性膜を作るために好適な材料は当該技術において既知である。
【００４５】
セルロースアセテートは、その水の浸透性が高く、ポリマーのアセチル化の程度を変えることにより容易に調整され得るので、この適用のための特に好ましい膜材料である。セルロースアセテート膜の浸透性は、水拡散係数を増加させるためにポリマーに可塑剤を加えることにより、あるいは膜の水吸収を増加させる親水性フラックス賦活剤を加えることにより、さらに増加し得る。いくつかの親水性可塑剤は両方の目的を果たす。セルロースアセテート膜の浸透圧的水浸透性についての親水性可塑剤であるポリエチレングリコールの効果は重要であり、水浸透性はポリエチレングリコールを加えることにより４倍以上に増加する。セルロースアセテート膜への親水性ポリマーであるヒドロキシブチルメチルセルロースの付与は同様の効果を有する。したがって、ある膜材料は、それらの浸透特性が当面の特定の適用に好適であるように、すなわち生成されたデバイスにおいて、ポンプされた流体が所望の流量で放出されるように、調整され得る。
【００４６】
膜材料の他の選択は、ポリアミド；ナイロン（登録商標）６；ナイロン（登録商標）６−６；芳香族ポリアミド、例えばノーメックス（登録商標）（デュポン）として市販されている芳香族ポリアミド；セルロースアセテートブチレート；エチルセルロース；硝酸セルロース；種々の程度のアセチル化のセルロースアセテートの混合物；又は種々のタイプのセルロース系エステル及びエーテルを含む。
【００４７】
チャネル１３２の端部１３６は、例えば水が入ることを防止するために開口端部１３６を覆う非浸透バリア１３９によりシールされる。ポンプ動作を開始するために、シール１３９は、穴を開けられるか除去される。レザーヘッドを、水中で保持するか水に浸漬する。その後水がチャネル１３２の開口１３６に入り、半浸透性膜１３５を通して浸透圧伝動媒体１３３に拡散する。伝動媒体１３３が膨張してピストン１３４を押圧し、髭剃り補助剤９０をチャネル１３７を通して微小チャネル回路１２１に移送し、出口ポート１２６を通して外に出す。ポンプ動作を停止するためには、水を振り落とし、その後レザーを乾燥させる。
【００４８】
ユーザは、所望の髭剃り補助剤を収容する浸透圧ポンプ１３１に対応するシール１３９のみに穴を開けるか除去することにより２つ又はそれ以上の異なるタイプの髭剃り補助剤の中から選択することができる。
【００４９】
図５を参照すると、浸透圧ポンプの別の実施の形態が示されている。第３基板１３０ａは、少なくとも一つ、好ましくは２つ又はそれ以上の浸透圧ポンプ１３１ａを含む。
【００５０】
それぞれの浸透圧ポンプ１３１ａはチャネル１３２を有し、髭剃り補助剤９０がそのチャネルのリザーバ部１３２ａに蓄えられる。浸透圧伝動材料１３３は、膨張可能なポーチ１３４ａに適切に収容され、半浸透性膜１３５により保持される。チャネル１３２の端部は、プラグ１３９ａにより閉じられる。プラグ１３９ａを除去することにより、水がチャネル１３２に流れ、半浸透性膜１３５を通して浸透圧伝動媒体１３３に拡散する。浸透圧伝動媒体１３３の膨張により、ポーチ１３４ａが膨張し、チャネル１３７を介して髭剃り補助流体９０を出口１３８に伝動する。
【００５１】
ポーチ１３４ａは、任意の膨張可能な材料で作製され得る。ポーチ１３４ａを作製するために好ましい材料は、ラテックス、ブタジエン−スチレンゴムなどの天然又は合成ゴムフィルムのような伸縮性材料を含む。
上記説明は多くの特定的なものを含む一方で、これらの特定的なものは、本発明の好ましい実施の形態の実証としてであり、本発明の範囲を制限するものとして構成されない。例えば、ここで図示された実施の形態は３つの基板を含むが、別の態様として、髭剃り補助剤放出システムは、一つの基板が微小流体回路及び流体リザーバの両方を含み、他方の基板がカバーやキャップの役割をする２つの基板を含んでも良い。また、リザーバ１３２’がそれぞれ異なるタイプの髭剃り補助剤を含む一方で、個別のリザーバがそれぞれ同じタイプの髭剃り補助剤を含むこともまた本発明の範囲である。当業者は、ここに添付された請求の範囲により規定された本発明の範囲及び精神の中で多くの別の実行可能な態様を考えるであろう。
【００５２】
本出願は、2002年8月21日に出願された米国仮出願第６０／４０５，２５５号に開示された必須の主題への利益が与えられ、当該主題を参照により包含される。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】微小流体髭剃り補助剤放出システムを含むレザーアセンブリを示す概略図である。
【図２】レザーアセンブリのレザーヘッド部の透視図である。
【図３】微小流体髭剃り補助剤放出システムの分解透視図である。
【図４】髭剃り補助剤を放出するための浸透圧ポンプ移送系を含む微小流体髭剃り補助剤放出システムの基板断面図である。
【図５】浸透圧ポンプ移送系の別の実施の形態を示す断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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