(57)【要約】本発明は、１，３−ベンゾオキサゾールまたはベンゾジアゾールＵＶ−Ａサンスクリーンおよび前記のＵＶ−Ａサンスクリーンを含有する組成物、特に局所組成物に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式Ｉ：
【化１】
2006508900.tif 000025
（式中、
Ｒ1およびＲ2は、相互より独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；（Ｃ1〜Ｃ20）−アルキル；（Ｃ2〜Ｃ20）−アルケニル；または（Ｃ1〜Ｃ20）−アルコキシであり；
Ｘは、酸素または場合によりＲ1によって置換されたイミノ基であり；
Ｒ3およびＲ4は、相互より独立して、シアノ；−ＣＯＯＲ5；−ＣＯＲ6；−ＣＯＮＨ2；−ＣＯＮＨＲ7；または−ＣＯＮＲ8Ｒ9であり；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、およびＲ9は、相互より独立して、水素；１つ以上のメチレン基が場合により１つ以上の酸素によって置換された（Ｃ1〜Ｃ20）−アルキル；（Ｃ1〜Ｃ20）−ハロアルキル；場合によりトリ−（Ｃ1〜Ｃ5）−アルキルシリル、トリフェニルシリルまたは基−Ｓｉ［ＣＨ3］n［ＯＳｉ（ＣＨ3）3］3-n（式中、ｎは、０、１、２、または３である）によって置換された（Ｃ2〜Ｃ20）−アルケニルである）の化合物。
【請求項２】
Ｘが、Ｏである、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ1およびＲ2が、水素である、請求項１または２記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ3が、シアノであり、Ｒ4が、−ＣＯＯＲ5である、請求項１〜３のいずれか一項記載の化合物。
【請求項５】
２−シアノ−３−｛４−［５−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾオキサゾール−２−イル］−フェニル｝−アクリル酸２−エチルヘキシルエステルまたは２−シアノ−３−｛４−ベンゾオキサゾール−２−イル−フェニル｝−アクリル酸２−エチルヘキシルエステルである、請求項４記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ3およびＲ4が、相互より独立して−ＣＯＯＲ5である、請求項１〜３のいずれか一項記載の化合物。
【請求項７】
２−（４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル；
２−（４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンジリデン）−マロン酸ジブチルエステル；
３−（４−ベンゾオキサゾール−２−イル−フェニル）−２−プロピオニル−アクリル酸２−エチルヘキシルエステル；
２−（４−［６−ヒドロキシ−ベンゾオキサゾール−２−イル］−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル；
２−（４−［６−｛２−エチルヘキシル−オキシ｝−ベンゾオキサゾール−２−イル］−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル；または
２−（４−｛６−［２−（２−エトキシ−エトキシ）−エトキシ］−ベンゾオキサゾール−２−イル｝−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステルである、請求項６記載の化合物。
【請求項８】
一般式：
（Ｈ3Ｃ）3Ｓｉ−（Ｂ）ｑ−ＯＳｉ（ＣＨ3）3
〔式中、
Ｂは、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４およびＢ５：
【化２】
2006508900.tif 000026
からなる群より選択される残基であり、
Ｗは、Ｗ１、Ｗ２およびＷ３：
【化３】
2006508900.tif 000027
（式中、Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、前記請求項１で定義したとおりであり；Ｙは、酸素、（Ｃ1〜Ｃ20）−アルキレン、（Ｃ2〜Ｃ20）−アルケニレン、または−Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ20）−アルキレンであり；Ｙ′は、（Ｃ1〜Ｃ20）−アルキレンまたは（Ｃ2〜Ｃ20）−アルケニレンである）からなる群より選択される残基であり、
ｑは、１〜４００の整数であり、任意の配列における残基Ｂ１〜Ｂ５の和を表し、ここで少なくとも１つのＢが、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３またはＢ４であり、比
（Ｂ１＋Ｂ２＋Ｂ３＋Ｂ４）／（Ｂ１＋Ｂ２＋Ｂ３＋Ｂ４＋Ｂ５）
は、０．６を超えない〕のポリシロキサン。
【請求項９】
ｑが、２〜２００の整数である、請求項８記載のポリシロキサン。
【請求項１０】
比（Ｂ１＋Ｂ２＋Ｂ３＋Ｂ４）／（Ｂ１＋Ｂ２＋Ｂ３＋Ｂ４＋Ｂ５）が、０．０１〜０．４の間で変化する、請求項８または９記載のポリシロキサン。
【請求項１１】
【化４】
2006508900.tif 000028
である、請求項１０記載のポリシロキサン。
【請求項１２】
ＵＶ−Ａスクリーン剤としての請求項１〜１１のいずれか一項記載の化合物の使用。
【請求項１３】
ヒト皮膚またはヒト毛髪を保護するための、請求項１２記載の化合物の使用。
【請求項１４】
ＵＶ放射に対して感受性であるプラスチック材料および医薬製品を保護するための、請求項１２記載の化合物の使用。
【請求項１５】
請求項１〜１１のいずれか一項記載の１つ以上の化合物および少なくとも１つの薬学的および／または美容的に許容される賦形剤を含む組成物。
【請求項１６】
請求項１〜１１のいずれか一項記載の１つ以上の化合物が、組成物の総量の０．５〜２０重量％の量で存在する、請求項１５記載の化合物。
【請求項１７】
請求項１〜１１のいずれか一項記載の１つ以上の化合物が、組成物の総量の０．５〜１２重量％の量で存在する、請求項１６記載の組成物。
【請求項１８】
局所組成物である、請求項１５、１６または１７記載の組成物。
【請求項１９】
本明細書、特に実施例に実質的に記載された発明。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なＵＶ−Ａサンスクリーンおよび該ＵＶ−Ａサンスクリーンを含有する組成物、特に局所組成物に関するものである。
【０００２】
ＵＶ光線は、波長によって、ＵＶ−Ａ光線（３２０〜４００nm）およびＵＶ−Ｂ光線（２８０〜３２０nm）と呼ばれる。ヒト皮膚へのＵＶ光線の損傷作用は、波長低下および暴露期間の増加と共に上昇する。ＵＶ光線は、それゆえ皮膚損傷を引き起こし、ＵＶ−Ｂ放射が、非常に深刻な皮膚損傷に至るサンバーン（紅斑）を引き起こすことがありうる。皮膚への太陽光による非常に頻繁および無防備な照射は、皮膚弾性の損失およびしわ形成の増加、そして全体として、皮膚の早期老化にもつながる。極端なケースでは、皮膚癌に至る病理的な皮膚変化が発生する可能性がある。
【０００３】
ＵＶ−Ａ放射は、迅速で、弱い直接的な皮膚の色素沈着を引き起こす。ＵＶ−Ａ光線は、より深い皮膚層に達し、そしてそこで皮膚の老化プロセスを加速することができる。ＵＶ−Ａ放射は、更に、光緊張性または光アレルギー性皮膚反応を誘発する可能性がある。ＵＶ−Ａ暴露と皮膚癌増加のリスクとの間には、確認された関係が存在する。化粧用および皮膚用調製物のＵＶ吸収剤は、その吸収極大の位置により、ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ吸収剤に分けられる。多数の安全かつ有効なＵＶ−Ｂ吸収剤があるが、ヒト皮膚の保護に適したＵＶ−Ａ吸収剤はまれであり、その上、重大な欠点によって影響を受ける。
【０００４】
欧州特許出願公開第６６９３２３号、ドイツ特許３６４４６３３号、ドイツ特許第４１０７４３９号は、例えば、ＵＶ−Ａ範囲で吸収するベンゾ−ジアゾール、−チアゾールおよび／またはベンゾオキサゾールを開示している。これらの従来技術文献による化合物は、本発明による化合物とその化学構造が大きく異なり、低い脂溶性を示す。通常ＵＶサンスクリーンは、皮膚への最適吸収を確保するために、化粧用および／または皮膚用組成物の脂質相中に含まれなければならないため、このことは深刻な欠点である。
【０００５】
その上、通常、引用した従来技術のＵＶ−Ａサンスクリーンは、光安定性を示さない。それらは太陽光へ暴露されたときにその活性を失うため、このことは更なる欠点である。
【０００６】
本発明の根本における目的は、先に述べた欠点を克服するＵＶ−Ａサンスクリーン、すなわち良好な脂溶性および高い光安定性を備えたＵＶ−Ａサンスクリーンを提供することである。
【０００７】
この目的は、式Ｉ：
【０００８】
【化５】
2006508900.tif 000002
【０００９】
の化合物を提供することによって達成され、
式中、
Ｒ1およびＲ2は、相互より独立して、水素；ハロゲン；ヒドロキシ；（Ｃ1〜Ｃ20）−アルキル；（Ｃ2〜Ｃ20）−アルケニル；または（Ｃ1〜Ｃ20）−アルコキシであり；
Ｘは、酸素または場合によりＲ1によって置換されたイミノ基であり；
Ｒ3およびＲ4は、相互より独立して、シアノ；−ＣＯＯＲ5；−ＣＯＲ6；−ＣＯＮＨ2；−ＣＯＮＨＲ7；または−ＣＯＮＲ8Ｒ9であり；
Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は、相互より独立して、水素；１つ以上のメチレン基が場合により酸素によって置換された（Ｃ1〜Ｃ20）−アルキル；（Ｃ1〜Ｃ20）−ハロアルキル；場合によりトリ−（Ｃ1〜Ｃ5）−アルキルシリル、トリフェニルシリルまたは基−Ｓｉ［ＣＨ3］n［ＯＳｉ（ＣＨ3）3］3-n（式中、ｎは、０、１、２または３である）によって置換された（Ｃ2〜Ｃ20）−アルケニルである。
【００１０】
一般式Ｉの化合物は、ＵＶ−Ａ範囲にその吸収極大を有する貴重な光安定性生成物である。それらは更に親油性であり、したがってサンスクリーン調合物の脂質相に含まれるのに適している。
【００１１】
本明細書で使用されるように、Ｃ1〜Ｃ20−アルキルは、１〜２０個の炭素原子を有する直鎖または分岐アルキル残基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、テキシル（＝１，１，３，３−テトラメチル−ブチル）、１，１，２−トリメチルプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、２−エチル−ヘキシル、オクチルなどを意味する。Ｃ1〜Ｃ8−アルキル基が好ましい。
【００１２】
Ｃ2〜Ｃ20−アルケニルは、２〜２０個の炭素原子を有し、少なくとも１つのＣ−Ｃ二重結合を含有する直鎖または分岐鎖アルケニル残基、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、メタリル、２−ペンテン−３−イル、３−ヘキセン−２−イル、３−ヘプテン−２−イル、３−オクテン−２−イル、１−オクテン−３−イル、および２−オクテン−１−イルを意味する。Ｃ2〜Ｃ8−アルケニル基が好ましい。
【００１３】
「１つ以上のメチレン基が場合により酸素によって置換された（Ｃ1〜Ｃ20）−アルキル」の例は、メトキシメチル、４−オキサ−ヘキシル、４，７−ジオキサ−ノニル、および４，７，１０−トリオキサ−ドデシルである。
【００１４】
トリ−（Ｃ1〜Ｃ5）−アルキルシリル部分は、基−ＳｉＲａＲｂＲｃであり、ここでＲａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、Ｃ1〜Ｃ5−アルキルである。好ましいシリル部分は、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリイソプロピルシリル、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチル−シリル、ジメチル−テキシル−シリルなどである。このましい三置換シリル基は、トリメチルシリル、トリエチルシリル、およびトリフェニルシリルである。
【００１５】
一般式Ｉの化合物は、一般式ＩＩＩａ（Ｘが、Ｏである場合）またはＩＩＩｂ（Ｘが、ＮＨまたはＮＲ1である場合）：
【００１６】
【化６】
2006508900.tif 000003
【００１７】
の化合物と、一般式ＩＶ：
【００１８】
【化７】
2006508900.tif 000004
【００１９】
の化合物との縮合によって調製可能であり、式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、先で与えられた意味を有する。
【００２０】
複素環形成を伴う縮合は、酸性触媒の存在下で実施される。Ｈ2ＳＯ4、ＨＣｌ、Ｈ3ＰＯ4、Ｈ3ＢＯ3、またはｐ−トルエンスルホン酸などの、いずれの強力な無機または有機酸も、この目的に使用することができる。反応によって形成された水は、（例えばトルエンまたはＣＨ2Ｃｌ2を溶媒として使用する）共沸蒸留によって、またはＰ2Ｏ5などの吸湿剤によって除去することができる。反応温度は、０℃〜２００℃で変化し、酸の濃度および強度に依存する。
【００２１】
一般式ＩＶの出発原料は、Ｋｎｏｅｖｅｎａｇｅｌ縮合によって、すなわち、場合によりアルカノールによって構成されたエステルの形態の、一般式Ｖの化合物を、一般式ＶＩの化合物と反応させることによって得ることができる。
【００２２】
【化８】
2006508900.tif 000005
【００２３】
縮合は、例えば、水との共沸混合物を形成できる溶媒（例えばトルエンまたはクロロホルム）および水分離器の存在下での共沸蒸留下に起こる。酸および／または塩基：酢酸、安息香酸、トルエンスルホン酸、硫酸、ＢＦ3などの酸、またはピリジン、ピペリジン、またはモルホリンなどの塩基を、触媒として使用できる。Ｐ2Ｏ5などの無水物も反応を触媒することができる。
【００２４】
一般式Ｉの化合物は、上記の工程の順序を逆にすることによっても、すなわち一般式ＶＩＩの化合物に一般式ＶＩの化合物を反応させることによっても製造できる。
【００２５】
【化９】
2006508900.tif 000006
【００２６】
次に、一般式ＶＩＩの化合物は、一般式ＩＩＩａ（Ｘ＝Ｏ）またはＩＩＩｂ（Ｘ＝ＮＨまたはＮＲ1）の化合物に一般式Ｖの化合物を反応させることによって得られる。一般反応条件は、先に記載した閉環と同じである。
【００２７】
式Ｉの好ましい化合物は、ＸがＯである化合物である。その上、特に好ましい化合物は、Ｒ1およびＲ2が、水素である化合物、ならびにＲ3が、シアノおよびＲ4が、−ＣＯＯＲ5である化合物である。そのような化合物の例は、
２−シアノ−３−｛４−［５−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾオキサゾール−２−イル］−フェニル｝−アクリル酸２−エチルヘキシルエステルおよび
２−シアノ−３−｛４−ベンゾオキサゾール−２−イル−フェニル｝−アクリル酸２−エチルヘキシルエステルである。
【００２８】
Ｒ3およびＲ4が、相互に独立して−ＣＯＯＲ5である化合物も好ましい。そのような化合物の例は、
２−（４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル；
２−（４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンジリデン）−マロン酸ジブチルエステル；
３−｛４−ベンゾオキサゾール−２−イル−フェニル｝−２−プロピオニル−アクリル酸２−エチルヘキシルエステル；
２−（４−［６−ヒドロキシ−ベンゾオキサゾール−２−イル］−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル；
２−（４−［６−｛２−エチル−ヘキシルオキシ｝−ベンゾオキサゾール−２−イル］−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル；および
２−（４−｛６−［２−（２−エトキシ−エトキシ）−エトキシ］−ベンゾオキサゾール−２−イル｝−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステルである。
【００２９】
別の態様において、本発明は、一般式：
（Ｈ3Ｃ）3Ｓｉ−（Ｂ）ｑ−ＯＳｉ（ＣＨ3）3                                ＩＩ
〔式中、
Ｂは、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４およびＢ５：
【００３０】
【化１０】
2006508900.tif 000007
【００３１】
からなる群より選択される残基であり、
Ｗは、Ｗ１、Ｗ２およびＷ３：
【００３２】
【化１１】
2006508900.tif 000008
【００３３】
（式中、Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4は、先に定義したとおりであり；Ｙは、酸素、（Ｃ1〜Ｃ20）−アルキレン、（Ｃ2〜Ｃ20）−アルケニレン、または−Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ20）−アルキレンであり；Ｙ′は、（Ｃ1〜Ｃ20）−アルキレンまたは（Ｃ2〜Ｃ20）−アルケニレンである）からなる群より選択される残基であり、
ｑは、１〜４００の整数であり、任意の配列における残基Ｂ１〜Ｂ５の和を表し、ここで少なくとも１つのＢが、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３またはＢ４であり、比
（Ｂ１＋Ｂ２＋Ｂ３＋Ｂ４）／（Ｂ１＋Ｂ２＋Ｂ３＋Ｂ４＋Ｂ５）
は０．６を超えない〕の置換ポリシロキサンに関する。
【００３４】
式ＩＩの好ましいポリシロキサンは、ｑが、２〜１００の範囲にあるポリシロキサンである。特に好ましい式ＩＩのポリシロキサンは、比（Ｂ１＋Ｂ２＋Ｂ３＋Ｂ４）／（Ｂ１＋Ｂ２＋Ｂ３＋Ｂ４＋Ｂ５）が０．０１〜０．４であるポリシロキサンである。
【００３５】
好ましい式ＩＩのポリシロキサンは、
【００３６】
【化１２】
2006508900.tif 000009
【００３７】
である。
【００３８】
一般式ＩＩの化合物は、式ＶＩＩＩ：
【００３９】
【化１３】
2006508900.tif 000010
【００４０】
の化合物をポリ−（メチル−ヒドロシロキサン）：
【００４１】
【化１４】
2006508900.tif 000011
【００４２】
にグラフトすることによって調製可能であり、
式中、ｍ＋ｐ＝ｑ、
ｑは、先に定義したとおりであり、
異なる残基は任意の配列にある。
【００４３】
反応パートナーのモル比がハイブリッド含有量、すなわち化合物ＩＸの基−Ｓｉ［Ｈ］［ＣＨ3］−Ｏ−の含有量によって決定されることは明らかである。
【００４４】
通例、反応は、純粋なポリシロキサン中、または例えばトルエン、ＴＨＦもしくはイソプロパノールのポリシロキサン溶液中で起こる。反応は、均一系触媒（カールシュテット触媒）または不均一系白金触媒（塩化白金酸）の存在下で、４０〜１５０℃、好ましくは６０〜１００℃の温度にて、２〜４８時間で変化する期間にわたって行われる。
【００４５】
式ＶＩＩＩａａおよびＶＩＩＩａｂの化合物は、Ｎ−メチルピロリドンまたはブタノンなどの極性非プロトン性溶媒中、５０〜１５０℃にて、塩基（例えばＫＯＨもしくはＫ2ＣＯ3）を用いて、式ＶＩＩの化合物（式中、Ｒ2は、ＯＨである）を、ａ）プロパラギルブロミドもしくはｂ）アリルブロミドとそれぞれ処理することによって得られる。この新しい式ＶＩＩａａまたはＶＩＩａｂの化合物を、先に記載したように化合物ＶＩと処理することができる。式ＶＩＩＩｂａまたはＶＩＩＩｂｂの化合物は、化合物ＶＩＩ（式中、Ｘは、ＮＨまたはＮＲ1である）から開始して上記の条件下でしかるべく得ることができる。式ＶＩＩＩｃａおよびＶＩＩＩｃｂの化合物は、式ＶＩの化合物（式中、Ｒ3は、ＣＮであり、Ｒ4は、ＣＯＯＲ5である）（化合物ＶＩ′）を処理し、式ＶＩ″またはＶＩ″′の化合物をそれぞれ得、次いで化合物ＶＩＩと反応させることによって得られる。
【００４６】
【化１５】
2006508900.tif 000012
【００４７】
化合物ＶＩ″を得るためには、化合物ＶＩ′を室温にて無水ＨＣｌまたは濃Ｈ2ＳＯ4によって処理し、プロピノールまたはプロペノールそれぞれの添加、およびアンモニウム塩中間体の加水分解を続けた。化合物ＶＩ″′は、化合物ＶＩ′から過剰なプロピノールまたはプロペノールをそれぞれ使用して、エステル交換によって形成される。
【００４８】
本発明の更なる態様は、式Ｉおよび／またはＩＩの１つ以上の化合物のＵＶ−Ａスクリーン剤としての使用に関する。特に、一般式Ｉおよび／またはＩＩの化合物は、ヒト皮膚および／またはヒト毛髪をＵＶ−Ａ照射から保護するためにはもちろん、ＵＶ感受性プラスチック材料および医薬製品を保護するためにも適している。
【００４９】
本発明のなお別の態様は、式Ｉおよび／またはＩＩの１つ以上の化合物および少なくとも１つの薬学的および／または美容的に許容される賦形剤を含有する組成物、特に局所組成物を提供することである。
【００５０】
特に、式ＩまたはＩＩの１つ以上の化合物を含む組成物は、ヒト皮膚および／または毛髪への局所利用に適している。したがってそれらは、紫外線放射、特に太陽光放射に対して感受性である物質を保護するために適しており、式ＩまたはＩＩの少なくとも１つの光保護的有効量を含む。本発明の好ましい実施態様において、そのような組成物は、ＵＶ放射の悪影響からヒト皮膚および／またはヒト毛髪を保護するために適している。このケースでは、本発明による組成物は、担体として局所的に利用可能であり、美容上許容されるビヒクルまたは希釈剤を含む、化粧用および／または皮膚用組成物である。
【００５１】
適切な場合、追加のＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂスクリーン剤を本発明の化粧用および／または皮膚用組成物に添加してもよい。各種のＵＶフィルターの組合せも相乗効果を示すことがある。
【００５２】
ＵＶスクリーン剤、すなわち一般式Ｉおよび／またはＩＩの化合物ならびに追加のＵＶ−Ａ／Ｂスクリーン剤の総量は、重要ではない。適切な量は、組成物の総量の重量により、０．５〜２０％、好ましくは０．５〜１２％で変化する。
【００５３】
本発明のＵＶ−Ａスクリーン剤に添加できる適切なＵＶ−Ｂスクリーン剤は、以下の有機および無機化合物である。
・アクリレート、例えば２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート（オクトクリレン、ＰＡＲＳＯＬ（登録商標）３４０）、エチル２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレートなど
・カンファ誘導体、例えば４−メチルベンジリデンカンファ（ＰＡＲＳＯＬ（登録商標）５０００）、３−ベンジリデンカンファ、カンファベンザルコニウムメトスルフェート、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファ、スルホベンジリデンカンファ、スルホメチルベンジリデンカンファ、テレフタリデンジカンファスルホン酸など
・シンナメート誘導体、例えばメトキシケイ皮酸オクチル（ＰＡＲＳＯＬ（登録商標）ＭＣＸ）、メトキシケイ皮酸エトキシエチル、メトキシケイ皮酸ジエタノールアミン（ＰＡＲＳＯＬ（登録商標）Ｈｙｄｒｏ）、メトキシケイ皮酸イソアミルなどはもちろんのこと、シロキサンに結合したケイ皮酸誘導体
・ｐ−アミノ安息香酸誘導体、例えばｐ−アミノ安息香酸、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、Ｎ−オキシプロピレン化エチルｐ−アミノベンゾエート、ｐ−アミノ安息香酸グリセリル
・ベンゾフェノン、例えばベンゾフェノン−３、ベンゾフェノン−４，２，２′、４，４′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノンなど
・ベンザルマロン酸のエステル、例えばジ−（２−エチルヘキシル）−４−メトキシベンザルマロネート
・２−（４−エトキシ−アニリノメチレン）−プロパン二酸のエステル、例えば２−（４−エトキシ−アニリロメチレン）−プロパン二酸ジエチルエステル（欧州特許出願公開第０８９５７７６号）
・欧州特許第０３５８５８４号、欧州特許第０５３８４３１号、および欧州特許出願公開第０７０９０８０号に記載されているベンズマロネート基を含有するオルガノシロキサン化合物
・ドロメトリゾールトリシロキサン（Ｍｅｘｏｒｙｌ  ＸＬ）
・顔料、例えば微粒子化ＴｉＯ2など、「微粒子化」という用語は、約５nm〜約２００nm、特に約１５nm〜約１００nmの粒径を指す。ＴｉＯ2粒子は、金属酸化物、例えば酸化アルミニウムまたは酸化ジルコニウムによって、あるいは有機コーティング、例えばポリオール、メチコン、ステアリン酸アルミニウム、アルキルシランなどによってコーティングされることもある。そのようなコーティングは、当分野で周知である。
・イミダゾール誘導体、例えば２−フェニルベンズイミダゾールスルホン酸およびその塩（ＰＡＲＳＯＬ（登録商標）ＨＳ）。２−フェニルベンズイミダゾールスルホン酸の塩は、例えばアルカリ塩、例えばナトリウムまたはカリウム塩、アンモニウム塩、モルホリン塩、第１級、第２級、および第３級アミンの塩、例えばモノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩などである。
・サリチレート誘導体、例えばイソプロピルベンジルサリチレート、サリチル酸ベンジル、サリチル酸ブチル、サリチル酸オクチル（ＮＥＯ  ＨＥＬＩＯＰＡＮ  ＯＳ）、サリチル酸イソオクチルまたはサリチル酸ホモメンチル（ホモサラート、ＨＥＬＩＯＰＡＮ）など
・トリアゾン誘導体、例えばオクチルトリアゾン（ＵＶＩＮＵＬ  Ｔ−１５０）、ジオクチルブタミドトリアゾン（ＵＶＡＳＯＲＢ  ＨＥＢ）など
【００５４】
本発明のＵＶ−Ａスクリーン剤に添加できる適切な従来のＵＶ−Ａスクリーン剤は、以下の有機および無機化合物である。
・ジベンゾイルメタン誘導体、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾイル−メタン（ＰＡＲＳＯＬ（登録商標）１７８９）、ジメトキシジベンゾイルメタン、イソプロピルジベンゾイルメタンなど
・ベンゾトリアゾール誘導体、例えば２，２′−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３，−テトラメチルブチル）−フェノール（ＴＩＮＯＳＯＲＢ  Ｍ）など
・フェニレン−１，４−ビス−ベンズイミダゾールスルホン酸または塩、例えば２，２−（１，４−フェニレン）−ビス−（１Ｈ−ベンズイミダゾール−４，６−ジスルホン酸）（Ｎｅｏｈｅｌｉｏｐａｎ  ＡＰ）
・アミノ置換ヒドロキシベンゾフェノン、例えば欧州特許第１０４６３９１号に記載されている２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシ−ベンゾイル）−安息香酸ヘキシルエステル
・顔料、例えば微粒子化ＺｎＯなど。「微粒子化」という用語は、約５nm〜約２００nm、特に約１５nm〜約１００nmの粒径を指す。ＺｎＯ粒子は、金属酸化物、例えば酸化アルミニウムまたは酸化ジルコニウムによって、あるいは有機コーティング、例えばポリオール、メチコン、ステアリン酸アルミニウム、アルキルシランなどによってコーティングされることもある。そのようなコーティングは、当分野で周知である。
【００５５】
ジベンゾイルメタン誘導体は、感光性ＵＶ−Ａスクリーン剤であるため、それらを光安定化することが望ましい。それゆえ「従来のＵＶ−Ａスクリーン剤」という用語は、例えば、
・欧州特許第０５１４４９１号および欧州特許出願公開第０７８０１１９号に記載されている３，３−ジフェニルアクリレート誘導体
・米国特許第５６０５６８０号に記載されているベンジリデンカンファ誘導体
・欧州特許第０３５８５８４号、欧州特許第０５３８４３号、および欧州特許出願公開第０７０９０８０号に記載されているベンズマロネート基を含有するオルガノシロキサン
によって安定化されたＰＡＲＳＯＬ（登録商標）１７８９などのジベンゾイルメタン誘導体も指す。
【００５６】
本発明の組成物は、通常の化粧用アジュバントおよび添加剤、例えば保存料／抗酸化剤、脂質物質／油、水、有機溶媒、シリコーン、増粘剤、柔軟剤、乳化剤、追加のサンスクリーン、消泡剤、保湿剤、香料、表面活性剤、充填剤、金属イオン封鎖剤、アニオン性、カチオン性、非イオン性もしくは両性ポリマー、またはその混合物、推進剤、酸性化もしくは塩基性化剤、染料、着色料、顔料、またはナノ顔料、特に紫外線放射を物理的に遮断することによって追加の光保護効果を提供するのに適したもの、あるいは特にサンスクリーン／抗日光組成物の製造のための化粧品に通常調合されるその他の成分も含有できる。化粧用および皮膚用アジュバントならびに添加剤の必要量は、熟練者によって容易に選択される所望の生成物に基づくことができる。
【００５７】
特に好ましい抗酸化剤は、アミノ酸（例えばグリシン、ヒスチジン、チロシン、トリプトファン）およびその誘導体、イミダゾール（例えばウロカニン酸）および誘導体、Ｄ，Ｌ−カルノシン、Ｄ−カルノシン、Ｌ−カルノシンなどのペプチドおよび誘導体（例えばアンセリン）、カロチノイド、カロテン（例えばβ−カロテン、γ−カロテン、リコピン）および誘導体、クロロゲン酸および誘導体、リポ酸および誘導体（例えばジヒドロリポ酸）、アウロチオグルコース、プロピルチオウラシルおよび他のチオール（例えばチオレドキシン、グルタチオン、システイン、シスチン、シスタミンおよびそのグリコシル−、Ｎ−アセチル−、メチル−、エチル−、プロピル−、アミル−、ブチル−およびラウリル−、パルミトイル−、オレイル−、γ−リノレイル−、コレステリル−およびグリセリルエステル）およびその塩、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロピオン酸ジステアリル、チオジプロピオン酸およびその誘導体（エステル、エーテル、ペプチド、脂質、ヌクレオチド、ヌクレオシドおよび塩）はもちろんのこと、非常に少ない適合用量（例えばpmol〜μmol／kg）のスルホキシミン化合物（例えばブチオニンスルホキシミン、ホモシステインスルホキシミン、ブチオニンスルホン、ペンタ−、ヘキサ−、ヘプタチオニンスルホキシミン）、追加の（金属）−キレート化剤（例えばα−ヒドロキシ脂肪酸、パルミチン酸、フィチン酸、ラクトフェリン）、α−ヒドロキシ酸（例えばクエン酸、酪酸、リンゴ酸）、フミン酸、没食子酸、没食子酸抽出物、ビリルビン、ビリベルジン、ＥＤＴＡ、ＥＧＴＡ、およびその誘導体、不飽和脂肪酸およびその誘導体（例えばγ−リノール酸、リノール酸、オレイン酸）、葉酸およびその誘導体、ユビキノンおよびユビキノールおよびその誘導体、ビタミンＣおよび誘導体（パルミチン酸アスコルビル、リン酸アスコルビルＭｇ、リン酸アスコルビルＮａ、酢酸アルスコルビルなど）、トコフェロールおよび誘導体（ビタミンＥアセテートなど）、ビタミンＡおよび誘導体（ビタミンＡパルミテート）はもちろんのこと、コニフェリルベンゾエート、ルチン酸および誘導体、α−グリコシルルチン、フェルラ酸、フルフリリデングルシトール、カルノシン、ブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、トリヒドロキシブチロフェノン、尿素およびその誘導体；マンノースおよび誘導体、亜鉛および誘導体（例えばＺｎＯ；ＺｎＳＯ4）、セレンおよび誘導体（例えばセレノメチオニン）、スチルベンおよび誘導体（例えばスチルベンオキシド、トランススチルベンオキシド）および挙げた活性成分の適切な誘導体（塩、エステル、エーテル、糖、ヌクレオチド、ヌクレオシド、ペプチドおよび脂質）からなる群より選択される抗酸化剤である。
【００５８】
保存料および／または抗酸化剤は、組成物の総重量の約０．０１〜約１０重量％で変化する量で存在していてもよい。好ましくは、保存料および／または抗酸化剤は、約０．１〜約１重量％で変化する量で存在する。
【００５９】
本発明の組成物は、乳化剤も含有していてもよい。乳化剤は、２つ以上の不混和性液体を均質に混合させて、同時に組成物の粘度を上昇させる。更に乳化剤は、組成物を安定させるように作用する。
【００６０】
Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏおよび／またはＯ／Ｗ／Ｏ調合物を形成するために、本発明に従って使用できる乳化剤は、オレイン酸ソルビタン、セスキオレイン酸ソルビタン、イソステアリン酸ソルビタン、トリオレイン酸ソルビタン、ジイソステアリン酸ポリグリセリル−３、オレイン酸／イソステアリン酸のポリグリセロールエステル、ポリグリセリル−６ヘキサリシノラート、オレイン酸ポリグリセリル−４、オレイン酸ポリグリセリル−４／ＰＥＧ−８プロピレングリコールココエート、オレアミドＤＥＡ、ミリスチン酸ＴＥＡ、ステアリン酸ＴＥＡ、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ナトリウム、ラウリン酸カリウム、リシノレイン酸カリウム、ヤシ脂肪酸ナトリウム、牛脂脂肪酸ナトリウム、ヒマシ脂肪酸カリウム、オレイン酸ナトリウム、およびその混合物を含む。更に適切な乳化剤は、リン酸エステルおよびその塩、例えばリン酸セチル、セチルリン酸ＤＥＡ、セチルリン酸カリウム、ナトリウムグリセリルオレエートホスフェート、水素添加植物グリセリドホスフェート、およびその混合物である。更に、１つ以上の合成ポリマーを乳化剤として使用できる。例えばＰＶＰエイコサンコポリマー、アクリレート／Ｃ10〜Ｃ30アルキルアクリレートクロスポリマー、アクリレート／ステアレスメタクリレートコポリマー、ＰＥＧ−２２／ドデシルグリコールコポリマー、ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー、およびその混合物。好ましい乳化剤は、ＰＶＰエイコサンコポリマー、アクリレート／Ｃ10〜Ｃ30アルキルアクリレートクロスポリマー、イソステアリン酸ＰＥＧ−２０ソルビタン、イソステアリン酸ソルビタン、およびその混合物である。
【００６１】
乳化剤は、組成物の総重量の約０．０１〜約１５重量％、好ましくは約０．１〜約３重量％で変化する総量で存在する。
【００６２】
脂質／油相は、
・鉱油および鉱ろう
・カプリン酸またはカプリル酸のトリグリセリドなどの油、好ましくはヒマシ油
・天然または合成油、好ましくはカルボン酸または脂肪酸とアルコール、例えばイソプロパノール、プロピレングリコールまたはグリセリンとのエステル
・アルキルベンゾエート、ならびに
・シリコーンオイル、例えばジメチルポリシロキサン、ジエチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサンおよびその混合物
から好都合に選択される。
【００６３】
本発明による組成物の油相に含まれることが可能な脂肪物質は、３〜３０個の炭素原子を有する、飽和および／または不飽和、直鎖または分岐鎖アルキルカルボン酸と、３〜３０個の炭素原子を有する、飽和および／または不飽和、直鎖および／または分岐鎖アルコールとのエステル、ならびに芳香族カルボン酸と、３〜３０個の炭素原子を有する、飽和および／または不飽和、直鎖または分岐鎖アルコールとのエステルから好都合に選択される。そのようなエステルは、パルミチン酸オクチル、ヤシ脂肪酸オクチル、ステアリン酸オクチル、ミリスチン酸オクチルドデシル、イソノナン酸セチル、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピル、ステアリン酸イソプロピル、オレイン酸イソプロピル、ステアリン酸ｎ−ブチル、ラウリン酸ｎ−ヘキシル、オレイン酸ｎ−デシル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸イソノニル、イソノナン酸イソノニル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、ラウリン酸２−エチルヘキシル、ステアリン酸２−ヘキシルデシル、パルミチン酸２−オクチルドデシル、ヘプタン酸ステアリル、オレイン酸オレイル、エルカ酸オレイル、オレイン酸エルシル、エルカ酸エルシル、ステアリン酸トリデシル、トリメリト酸トリデシル、ならびにホホバ油などのそのようなエステルの合成、半合成、および天然混合物から好都合に選択することができる。
【００６４】
本発明による組成物での使用に適した他の脂肪成分は、極性油、例えばレシチン、および脂肪酸トリグリセリド、すなわち８〜２４個の炭素原子、好ましくは１２〜１８個の炭素原子を有する、飽和および／または不飽和、直鎖または分岐鎖炭酸のトリグリセリンエステルを含むが、これに対して脂肪酸トリグリセリドは、好ましくは、合成、半合成、および天然油（例えばココグリセリド、オリーブ油、ヒマワリ油、ダイズ油、ピーナッツ油、ナタネ油、アーモンド油、パーム油、ココナッツ油、ヒマシ油、水素添加ヒマシ油、コムギ油、ブドウ油およびその他）；非極性油、例えば直鎖および／または分岐鎖炭化水素およびワックス、例えば鉱油、ワセリン（ペトロラタム）；パラフィン、スクアランおよびスクアレン、ポリオレフィン（ポリデセンが好ましい）、水素添加ポリイソブテンおよびイソヘキサデカン；ジアルキルエーテル、例えばジカプリリルエーテル；直鎖または環式シリコーン油、例えばシクロメチコン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、セチルジメチコン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリ−（メチルフェニルシロキサン）、およびその混合物から選択される。
【００６５】
本発明の組成物へ好都合に含まれることができる他の脂肪成分は、イソエイコサン；ジヘプタン酸ネオペンチルグリコール；ジ（カプリル酸／カプリン酸）プロピレングリコール；コハク酸（カプリル酸／カプリン酸）ジグリセリル；（カプリル酸／カプリン酸）ブチレングリコール；乳酸アルキル（Ｃ１２−１３）；酒石酸ジアルキル（Ｃ１２−１３）；トリイソステアリン；（ヘキサカプリル酸／ヘキサカプリン酸）ジペンタエリスリチル；モノイソステアリン酸プロピレングリコール；トリカプリリン；ジメチルイソソルビッドである。安息香酸アルキル（Ｃ１２−１５）およびイソステアリン酸２−エチルヘキシルの混合物、安息香酸アルキル（Ｃ１２−１５）およびイソノナン酸イソトリデシルの混合物、ならびに安息香酸アルキル（Ｃ１２−１５）、イソステアリン酸２−エチルヘキシルおよびイソノナン酸イソトリデシルの混合物の使用が特に好ましい。
【００６６】
本発明による組成物の油相は、天然植物または動物ワックス、例えばミツロウ、チャイナワックス、マルハナバチワックスおよび他の昆虫のワックス、ならびにシア脂も含有することができる。
【００６７】
本発明による組成物は、更に、１つ以上のエモリエントを含有することができる。エモリエントは、皮膚表面に軟化または鎮静効果を提供し、一般に局所使用に安全であると見なされる。エモリエントは、組成物の蒸発速度および粘着力を制御するのにも役立つ。好ましいエモリエントは、鉱油、ラノリン油、ココナツ油、ココアバター、オリーブオイル、アロエ抽出物、ホホバ油、ヒマシ油、脂肪酸、例えばオレイン酸およびステアリン酸、脂肪アルコール、例えばセチルアルコールおよびヘキサデシルアルコール、アジピン酸ジイソプロピル、Ｃ9〜Ｃ15アルコールの安息香酸およびヒドロキシ安息香酸エステル、イソノナン酸イソノニル、Ｃ15〜Ｃ50アルカン、鉱油、シリコーン、例えばジメチルポリシロキサン、エーテル、例えばポリオキシプロピレンブチルエーテルおよびポリオキシプロピレンセチルエーテル、および安息香酸アルキル（Ｃ2〜Ｃ15）およびその混合物を含む。最も好ましいエモリエントは、ヒドロキシ安息香酸エステル、アロエベラ、安息香酸アルキル（Ｃ12〜15）、およびその混合物である。
【００６８】
エモリエントは、組成物の総重量の約１〜約２０重量％、好ましくは約２〜約１５重量％、および最も好ましくは約４〜約１０重量％で変化する量で存在する。
【００６９】
本発明の調合物の水相は、通常の化粧用添加剤、例えばアルコール、特に低級アルコール、好ましくはエタノールおよび／またはイソプロパノール、低級アルキルジオールまたはポリオールおよびそのエーテル、好ましくはプロピレングリコール、グリセリン、エチレングリコール、エチレングリコールモノエチル−もしくは−モノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチル−、−モノエチル−もしくは−モノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル−もしくは−モノエチルエーテルおよび類似生成物、ポリマー、フォーム安定剤；電解質および、特に１種以上の増粘剤を含有することができる。
【００７０】
本発明の調合物で使用される増粘剤は、二酸化ケイ素、ケイ酸マグネシウムおよび／またはケイ酸アルミニウムの群、ポリサッカライド、およびその誘導体、例えばヒアルロン酸、キサンタンガム、ヒドロキシプロピルセルロース、アクリレートコポリマー、好ましくは、タイプ９８０、９８１、１３８２、２９８４、５９８４のカルボポールなどの、カルボポールの群のポリアクリレートを含む。
【００７１】
湿潤剤などの保湿剤は、皮膚の角質層の経皮水損失（ＴＥＷＬ）を低下させるために、本発明による組成物に含ませることができる。適切な湿潤剤は、グリセリン、乳酸、ピロリドン、炭酸、尿素、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ソルビトール、ＰＥＧ−４、およびその混合物を含む。追加の適切な保湿剤は、水溶性および／または水ゲル化ポリサッカライド、例えばヒアルロン酸、キトサンおよび／またはＳＯＬＡＢＩＡ  ＳからＦｕｃｏｇｅｌ（登録商標）１０００（ＣＡＳ−Ｎｒ．１７８４６３−２３−５）として入手可能なフコースリッチポリサッカライドなどの群の高分子保湿剤である。保湿剤は、場合により、組成物の総重量の約０．５〜約８重量％、好ましくは約１〜約５重量％で変化する量で存在する。
【００７２】
乳化剤、発泡剤および安定剤などの適切な中和剤も本発明の組成物に含めることができる。適切な中和剤は、水酸化アルカリ、例えば水酸化ナトリウムまたはカリウム；有機塩基、例えばジエタノールアミン、トリエタノールアミン、アミノメチルプロパノール、エチレンジアミン四酢酸トリナトリウム；塩基性アミノ酸、例えばアルギニンおよびリジン；および上記のいずれかの組合せを含む。中和剤は、場合により、組成物の総重量の約０．０１〜約８重量％、好ましくは１〜約５重量％の量で存在する。
【００７３】
本発明の組成物への電解質の添加は、疎水性乳化剤の挙動を変化させるために好ましい。それゆえ本発明のマイクロエマルジョンは、好ましくは、これに限定されるわけではないが、塩化物、硫酸塩、炭酸塩、ホウ酸塩およびアルミン酸塩を含む、アニオンを有する１つまたは複数の塩の電解質を含有する。他の適切な電解質は、これに限定されるわけではないが乳酸塩、酢酸塩、安息香酸塩、プロピオン酸塩、酒石酸塩およびクエン酸塩などの有機アニオンをベースとすることができる。好ましいカチオンは、アンモニウム、アルキルアンモニウム、アルカリ金属、マグネシウム、鉄および亜鉛イオンである。特に好ましい塩は、塩化カリウムおよび塩化ナトリウム、硫酸マグネシウム、硫酸亜鉛およびその混合物である。電解質は、組成物の総重量の約０．０１〜約８重量％で変化する量で存在する。
【００７４】
本発明による組成物は、抗日光／サンスクリーン組成物またはメイクアップ製品として紫外線照射の損傷効果からヒト表皮または毛髪を光保護するために有用である。そのような組成物を、特に、ローション、濃縮ローション、ゲル、クリーム、ミルク、軟膏、粉末または固体チューブスティックの形態で提供することが可能であり、場合によりエアロゾルとして包装することが可能であり、ムース、フォーム、またはスプレーの形で提供することが可能である。それらは溶媒または脂肪物質中への懸濁物または分散物の形態で、あるいは好ましくはＯ／Ｗ型のエマルジョン、例えばクリームまたはミルク、ベシクル分散物の形態で、軟膏、ゲル、固体チューブスティックまたはエアロゾルムースの形態でありうる。エマルジョンは、アニオン性、非イオン性、カチオン性、または両性表面活性剤も含むことができる。
【００７５】
本発明により化粧用組成物が毛髪を保護するために使用される場合、それらは、ローション、ゲル、あるいはシャンプーまたはシャンプーの前後、ヘアダイまたはブリーチの前後、パーマまたはストレートパーマ作業の前、最中または後に利用されるコンディショナーなどの洗い流し組成物、スタイリングもしくはトリートメントローションまたはゲル、ブロードライもしくは毛髪セットローションまたはゲル、毛髪ラッカー、または毛髪のパーマ、ストレートパーマ、ダイもしくはブリーチ用の組成物の形態でありうる。
【００７６】
本発明は、以下の実施例によって更に説明される。
【実施例１】
【００７７】
２−（４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル
【００７８】
【化１６】
2006508900.tif 000013
【００７９】
ａ）ジエチル−ｐ−カルボキシ−ベンザルマロネート
水分離器と連結された還流冷却器および磁気スターラーを備えた油浴を装備した５００mlの三口反応フラスコに、トルエン３００ml中の４−カルボキシ−ベンズアルデヒド（Ｆｌｕｋａ）２４．８ｇ（１７０mmol）、ジエチルマロネート２６．３ｇ（１７０mmol）、モルホリン１．３ｇおよびｐ−トルエン−スルホン酸１．４ｇを加えた。還流下で２時間後、水３mlを分離した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、ＮＨ4ＣｌおよびＮａＣｌ水溶液で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させ、濃縮して褐色蜜を得た。トルエンによる再結晶は、褐色結晶１８ｇを与えた。融点１００〜１０２℃。ＵＶ（エタノール）２８６nm（Ｅ＝２４８００）
【００８０】
ｂ）２−（４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル
五酸化リン１０ｇ、ヘキサメチルジシロキサン２５mlおよび１，２−ジクロロベンゼン５０mlを２５０ml丸底フラスコ中で混合し、混合物が透明になるまで数分間還流した。
【００８１】
先で得たジエチル−ｐ−カルボキシ−ベンザルマロネート１．５ｇおよび２−アミノフェノール０．６６ｇを透明な五酸化リン混合物１５mlに溶解させ、４時間還流した。次に冷反応混合物を酢酸エチル１５０mlで希釈し、１ｎ  ＮａＯＨおよびＮａＣｌ水溶液で抽出した。有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥させ、濃縮し、褐色結晶１ｇを得て、これをヘキサン：酢酸エチル＝３：１（ｖ／ｖ）中でのシリカゲルによるクロマトグラフィーにかけた。黄色結晶の形態の生成物０．７７ｇを得た。融点９９〜１０２℃。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３３１nm（Ｅ＝１０１０）；ＭＳ：３６５（Ｍ＋），３２０，２９１，２７５，２４７，２１９（１００％）。
【００８２】
溶解度測定
過剰のＵＶサンスクリーンを、Ｃｅｔｉｏｌ  ＬＣ（ココイルカプリレートカプレート）およびＣｒｏｄａｍｏｌ  ＤＡ（アジピン酸ジイソプロピル）をそれぞれ含有するフラスコに入れた。懸濁物を混合し、超音波浴で１０分間処理した。室温で１８時間放置した後、残りの結晶を覆う溶液を、ミリポアマイクロフィルタ（孔径０．４５μm）で濾過した。この飽和溶液の濃度を、ＵＶ分光法によって検量線と比較して決定した。
【００８３】
この生成物の溶解度は、Ｃｅｔｉｏｌ  ＬＣ中では４．５％、Ｃｒｏｄａｍｏｌ  ＤＡ中では１１％であることが見出された。
【００８４】
光安定性：
光安定性は、パイレックスフィルタ（２．３mm）を有するＨｅｒａｅｕｓの１５０Ｗ  Ｈｇ−ランプ、および内径０．３mmかつ全長１０ｍのテフロン毛細管を用い、オンラインシステムＨｇ−ｌａｍｐ／ＨＰＬＣで測定した。サンプル３．６mgをＭｅＯＨ  １０ml中に溶解させ、この溶液１０μｌを注入した。分解生成物は、分離しなかった。照射された溶液の波長３５８nmでのＵＶ吸収は、１４分まで定期的に測定し、結果をブチルメトキシジベンゾイルメタンの対応する光安定性と比較した。生成物は、＞９０％で検出され、光安定性を示したが、一方、照射１４分後に、ブチルメトキシジベンゾイルメタンのわずか１６％のみが検出された。
【００８５】
あるいは測定は、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｏｓｍｅｔｉｃ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  １８，１６７−１７７（１９９６）に記載されたプロトコルに従って実施した。
【実施例２】
【００８６】
２−シアノ−３−｛４−［５−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾオキサゾール−２−イル］−フェニル｝−アクリル酸２−エチルヘキシルエステル
【００８７】
【化１７】
2006508900.tif 000014
【００８８】
ａ）２−シアノ−｛ｐ−カルボキシ−フェニル｝−アクリル酸２−エチルヘキシルエステル
水分離器と連結された還流冷却器および磁気スターラーを備えた油浴を装備した２５０mlの三口反応フラスコに、トルエン８０mlおよびジメチルホルムアミド２０ml中の４−カルボキシ−ベンズアルデヒド（Ｆｌｕｋａ）３．８ｇ（２５mmol）、シアン酢酸−２−エチル−ヘキシルエステル６．８ｇ（３３mmol）、ビス−（２−ヒドロキシプロピル）−アミン０．３ｇおよびｐ−トルエン−スルホン酸０．２５ｇを加えた。還流下で２２時間後、反応混合物をトルエンで希釈し、ＮＨ4ＣｌおよびＮａＣｌ水溶液で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させ、濃縮して白色結晶６．２ｇ（７４％）を得た。融点１５９〜１６２℃。ＵＶ（ＣＨ2Ｃ2）３０５nm（Ｅ＝８１１）。
【００８９】
ｂ）２−シアノ−３−｛４−［５−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾオキサゾール−２−イル］−フェニル｝−アクリル酸２−エチルヘキシルエステル
先で得た２−シアノ−｛ｐ−カルボキシ−フェニル｝−アクリル酸２−エチルヘキシルエステル３．６ｇおよび２−アミノ−４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェノール２．５ｇを透明な五酸化リン混合物１６ml（実施例１ｂに記載した）に溶解させ、４時間還流させた。次に冷反応混合物をクロロホルム１００mlで希釈し、１ｎ  ＮａＯＨで３回およびＮａＣｌ水溶液で１回抽出した。有機相をＮａ2ＳＯ4で乾燥させ、濃縮し、褐色蜜を得て、これをペンタンで洗浄し、高真空下で乾燥させた。生成物の褐色結晶１．０２ｇを得た。融点８０〜８１℃。
ＵＶ（ＣＨ2Ｃ2）３６３nm（Ｅ＝８１６）；ＭＳ：４５８（Ｍ＋），４４３（１００％），４０９，３４６，３３１。
【００９０】
この生成物の溶解度は、Ｃｅｔｉｏｌ  ＬＣ中では３．８％およびＣｒｏｄａｍｏｌ  ＤＡ中では７．４％と決定された。生成物は、ＨｅｒａｅｕｓのＨｇ−ｌａｍｐ  １５０Ｗによって高い希釈度で照射され、光安定性であることが示された。
【実施例３】
【００９１】
２−（４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンジリデン）−マロン酸ジブチルエステル
【００９２】
【化１８】
2006508900.tif 000015
【００９３】
ａ）２−ｐ−トルイル−ベンゾオキサゾール
３５０mlの三口反応フラスコに窒素雰囲気下にて、ジエチレングリコール−ジエチルエーテル１２０mlおよびジエチレングリコール−ジブチルエーテル３０ml中のｐ−トルイル酸４０．８ｇ、ｏ−アミノフェノール３３ｇおよびＨ3ＢＯ3１．５ｇを加えた。最初にこの混合物を、ゆっくりとした蒸留が開始するまで、１８０℃に加熱した。次に、実際に出発原料がｔｌｃ上に見えなくなるまで、更に２２０℃で１０時間加熱した。この段階で、溶媒９０mlを蒸留で除去した。冷えた結晶性残留物を酢酸エチルに溶解させ、次に１ｎ  ＮａＯＨ、１ｎ  ＨＣｌおよびＮａＣｌ飽和水溶液によって洗浄した。有機相を乾燥および濃縮した。結晶性物質をヘキサンで洗浄し、高真空下で乾燥させ、褐色結晶２９．５ｇを得た。融点１０４〜１０５℃。ＵＶ：（ＣＨ2Ｃ１2）３０３nm（Ｅ＝１３２３）。
【００９４】
ｂ）４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンズアルデヒド
磁気スターラー、還流冷却器、および氷冷浴を装備した７５０ml丸底フラスコに、窒素雰囲気下にて、無水酢酸２００mlに溶解させた２−ｐ−トルイル−ベンゾオキサゾール２２ｇを加えた。この混合物を−５℃に冷却し、温度を０℃以下に維持しながら、濃硫酸４４．５mlを滴下漏斗によってゆっくり滴下した。次に無水酢酸２００mlに溶解させたＣｒＯ3１５．３ｇの溶液を同じ温度でゆっくり添加した。緑色混合物を攪拌しながら一晩放置し、次に氷に注いだ。沈殿を濾過し、水で洗浄して、高真空下で乾燥させ、微量の出発原料を含有する、結晶形のアルデヒド１８．６ｇを得た。融点１６２−１６３℃。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３２４nm（Ｅ＝１２３３）。
ＣｒＯ3溶液の添加後に反応混合物を、直ちに後処理した場合に、主に（約７３％の含有量）４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンズアルデヒド−ジアセチルアシラールを得た。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３０２nm（Ｅ＝９６４）。
【００９５】
ｃ）２−（４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンジリデン）−マロン酸ジブチルエステル
水分離器と連結された還流冷却器および磁気スターラーを備えた油浴を装備した５０mlの三口反応フラスコに、キシレン３０ml中の４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンズアルデヒド２．３ｇ（１０mmol）、ジ−ｎ−ブチルマロネート２．６ｇ（１．１mmol）、モルホリン０．２５mlおよびｐ−トルエン−スルホン酸０．１７ｇを加えた。還流下で５日後、主に所望の生成物をＨＰＬＣによって検知した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水およびＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4によって乾燥させ、濃縮して褐色蜜４．９ｇを得た。ヘキサン／酢酸エチル（９：１〜１：１，ｖ／ｖ）でのクロマトグラフィーは、黄色液体１．５ｇを与えた。ＵＶ（エタノール）３２９nm（Ｅ＝７５８）、ＭＳ：４２１（Ｍ＋，１００％）。
【００９６】
この生成物は、Ｃｅｔｉｏｌ  ＬＣと混和性である。生成物は、ＨｅｒａｅｕｓのＨｇ−ｌａｍｐ  １５０Ｗによって高い希釈度で照射され、光安定性であることが示された。
【実施例４】
【００９７】
２−シアノ−３−（４−ベンゾオキサゾール−２−イル−フェニル）−アクリル酸２−エチルヘキシルエステル
【００９８】
【化１９】
2006508900.tif 000016
【００９９】
還流冷却器および磁気スターラーを備えた油浴を装備した５０mlの三口反応フラスコに、トルエン１５ml中の４−ベンゾオキサゾール−２−イル−ベンズアルデヒド−ジアセチルアシラール２ｇ（７３％生成物含有率、実施例３ｂに述べた）、シアノ酢酸−２−エチル−ヘキシルエステル１．０mlおよび無水ＺｎＣｌ2０．３１ｇを加えた。この混合物を２０時間５０℃に加熱した。次に、ｐＨ９を達成するために、水およびＮａＯＨを添加した。有機相を酢酸エチルによって希釈し、水およびＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4によって乾燥させ、濃縮した。残留物をヘキサン／酢酸エチル（９：１〜１：１、ｖ／ｖ）でクロマトグラフィーにかけ、次にヘキサンおよびトルエンで再結晶させて、２−シアノ−３−｛４−［ベンゾオキサゾール−２−イル］−フェニル｝−アクリル酸２−エチルヘキシルエステルの黄色がかった結晶０．７ｇを得た。融点８４〜８５℃；ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３５５nm（Ｅ＝９６４）；ＭＳ：４０２（Ｍ＋），２９０（１００％），２７３，２４６。
【０１００】
この生成物の溶解度は、Ｃｅｔｉｏｌ  ＬＣ中＝１．６％およびＣｒｏｄａｍｏｌ  ＤＡ中＝２．８％と決定された。生成物は、ＨｅｒａｅｕｓのＨｇ−ｌａｍｐ  １５０Ｗによって高い希釈度で照射され、Ｅ／Ｚ異性化後に光安定性であることが示された。
【実施例５】
【０１０１】
３−｛４−ベンゾオキサゾール−２−イル−フェニル｝−２−プロピオニル−アクリル酸２−エチルヘキシルエステル
【０１０２】
【化２０】
2006508900.tif 000017
【０１０３】
実施例４と同じ反応を実施したが、シアノ酢酸−２−エチル−ヘキシルエステルの代わりに、エチル−３−オキソ−バレレートを使用した。クロマトグラフィーの後、Ｅ−およびＺ−生成物を得た。Ｚ生成物のデータ：融点８２〜８３℃；ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３３４nm（Ｅ＝１０８３）；ＭＳ：３４９（Ｍ＋），３３４，３２０（１００％），２９２，２５２。
【０１０４】
生成物は、ＨｅｒａｅｕｓのＨｇ−ｌａｍｐ  １５０Ｗによって高い希釈度で照射され、Ｅ／Ｚ異性化後に光安定性であることが示された。
【実施例６】
【０１０５】
２−（４−［６−ヒドロキシ−ベンゾオキサゾール−２−イル］−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル
【０１０６】
【化２１】
2006508900.tif 000018
【０１０７】
実施例１ｂと同じ反応を実施したが、２−アミノフェノールの代わりに、４−アミノ−レゾルシノールを利用した。粗物質は、クロマトグラフィーの代わりに、アセトニトリル、ヘキサンおよびＣＨ2Ｃｌ2から３回再結晶し、１２％の黄色結晶を得た。融点１５３〜５５℃。ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３４６nm（Ｅ＝８５１）；ＭＳ：３８１（Ｍ＋，１００％），３３６，３０７，２９１，２６３，２３５。
【０１０８】
この生成物の溶解度は、Ｃｒｏｄａｍｏｌ  ＤＡ中＝１．６％と決定された。生成物は、ＨｅｒａｅｕｓのＨｇ−ｌａｍｐ  １５０Ｗによって高い希釈度で照射され、光安定性であることが示された。
【実施例７】
【０１０９】
２−（４−［６−｛２−エチル−ヘキシルオキシ−ベンゾオキサゾール−２−イル］−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル
【０１１０】
【化２２】
2006508900.tif 000019
【０１１１】
還流冷却器および磁気スターラーを備えた油浴を装備した５０mlの三口反応フラスコに、１−メチル−２−ピロリドン１０ml中の２−（４−［６−ヒドロキシ−ベンゾオキサゾール−２−イル］−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル（実施例６に記載した）０．７ｇ、２−エチル−ヘキシル−１−ブロミド０．３４mlおよび無水Ｎａ2ＣＯ3０．５ｇを加えた。ＫＪおよび硫酸テトラブチルアンモニウムをそれぞれ微量添加した。１００℃で２０時間後、出発原料はｔｌｃ上に見えなかった。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、１ｎ  ＮａＯＨ、水、およびＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させて濃縮した。次にヘキサン／酢酸エチル（９：１〜１：１，ｖ／ｖ）でクロマトグラフにかけ、淡黄色結晶３００mgを得た。融点５０〜５２℃；ＵＶ（エタノール）３５２nm（Ｅ＝６９５）；ＭＳ：４９３（Ｍ＋），３８１（１００％），３０７，２３５。
【０１１２】
この生成物の溶解度は、Ｃｅｔｉｏｌ  ＬＣ（ココイルカプリレートカプレート）中＝１０．２％と決定された。生成物は、ＨｅｒａｅｕｓのＨｇ−ｌａｍｐ  １５０Ｗによって高い希釈度で照射され、光安定性であることが示された。
【実施例８】
【０１１３】
２−（４−｛６−［２−（２−エトキシ−エトキシ）−エトキシ］−ベンゾオキサゾール−２−イル｝−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル
【０１１４】
【化２３】
2006508900.tif 000020
【０１１５】
実施例７と同じ反応を実施したが、２−エチル−ヘキシル−１−ブロミドの代わりに、２−（２−エトキシ−エトキシ）−エトキシ−メチルスルホネートを利用した。後処理後、生成物をヘキサン／ジエチルエーテル（９：１〜１：１、ｖ／ｖ）によってクロマトグラフにかけ、黄色がかった油状物を得て、これは２ヶ月後にのみ結晶化した。融点４３〜４５℃；ＵＶ（ＣＨ2Ｃ１2）３４１nm（Ｅ＝５５１）；ＭＳ：４９７（Ｍ＋，１００％），４５２，３８１。
【０１１６】
この生成物の溶解度は、Ｃｅｔｉｏｌ  ＬＣ中＝４．６％と決定された。生成物は、ＨｅｒａｅｕｓのＨｇ−ｌａｍｐ  １５０Ｗによって高い希釈度で照射され、光安定性であることが示された。
【実施例９】
【０１１７】
２−（４−｛６−［２−（メチル−ビス−（トリメチル−シリルオキシ）−シリル）−プロパ−２−エニルオキシ］−ベンゾオキサゾール−２−イル｝−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル
【０１１８】
【化２４】
2006508900.tif 000021
【０１１９】
ａ）２−（４−［６−｛２−プロパルギルオキシ｝−ベンゾオキサゾール−２−イル］−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル
実施例７と同じ反応を実施したが、２−エチル−ヘキシル−１−ブロミドの代わりに、プロパルギルブロミドを利用した。後処理後、生成物をヘキサン／酢酸エチル（９：  １〜１：１，ｖ／ｖ）によってクロマトグラフにかけ、黄色結晶を得た。融点１０５〜１０７℃；ＵＶ（ＣＨ2Ｃｌ2）３４５nm（Ｅ＝８７５）；ＭＳ：４１９（Ｍ＋），３８０（１００％），３７４，３０６，２３４。
【０１２０】
ｂ）２−（４−｛６−［２−（メチル−ビス−（トリメチル−シリルオキシ）−シリル）−プロパ−２−エニルオキシ］−ベンゾオキサゾール−２−イル｝−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル（ヒドロシリル化反応）
トルエン５ml中の２−（４−［６−｛２−プロパルギルオキシ｝−ベンゾオキサゾール−２−イル］−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル（実施例９ａ、上記）２００mg、１，１，１，３，５，５，５−へプタメチルトリシロキサン１２５mgおよびジビニル−テトラメチルジシロキサン白金錯体の触媒量を不活性雰囲気下で三口反応フラスコに入れ、８０℃にて２０時間攪拌し、次に還流下で２日間攪拌した。生成物溶液を水／メタノール混合物、１：１０、ｖ／ｖで洗浄し、濃縮した。この生成物をヘキサン／酢酸エチル９：１、ｖ／ｖでクロマトグラフにかけ、蜜状液体を得た。ＵＶ３４８nm（Ｅ＝５３５）。ＮＭＲは、ビシナルおよびジェミナルヒドロシリル化生成物の混合物＝１．３を示した。生成物は、上記で試験した化粧用溶媒中での無制限の溶解度および高希釈度での優れた光安定性品質を有する。
【実施例１０】
【０１２１】
以下の式：
【０１２２】
【化２５】
2006508900.tif 000022
【０１２３】
に統計的に一致するポリシロキサン
キシレン１０ml中の２−（４−［６−｛２−プロパルギルオキシ｝−ベンゾオキサゾール−２−イル］−ベンジリデン）−マロン酸ジエチルエステル（実施例９ａ、上記）２００mg、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍｉｅ  ＧｍｂＨのポリシロキサンＡｅ−１５１  ５３０mgおよび炭素担持白金５％の触媒量を、不活性雰囲気下で三口反応フラスコに入れ、５日間１２０℃に加熱した。生成物溶液をセライトで濾過し、水／メタノール混合物、１：１０、ｖ／ｖで洗浄し、濃縮して、褐色がかった油を得た。ＵＶ３４８nm（Ｅ＝２０７）、Ｃｅｔｉｏｌ  ＬＣ、およびＣｒｏｄａｍｏｌ  ＤＡ中での限定されない溶解度および高希釈度での優れた光安定性品質を有する。
【実施例１１】
【０１２４】
Ｏ／ＷサンスクリーンローションＵＶ−ＢおよびＵＶ−Ａの調製：
実施例１の化合物を２％含有する広域スペクトルのサンスクリーンローション。
【０１２５】
【表１】
2006508900.tif 000023
【０１２６】
Ａ部を８５℃まで反応器中で加熱する。
Ｂ部を１０分以内にゆっくり添加し、続けてＫＯＨを添加して、冷却し、エマルジョンを脱気する。
【実施例１２】
【０１２７】
高度保護サンミルクの調製
【表２】
2006508900.tif 000024
【国際調査報告】
2006508900.tif 000029
2006508900.tif 000030
2006508900.tif 000031