(57)【要約】投影フォトリソグラフィのための光学系を開示する。光学系は、広いスペクトル範囲にわたって大きなフィールドに結像することができる変形ダイソン系である。光学系は、平凸エレメントと２つの負のメニスカスエレメントを有する正のレンズグループを含む。レンズグループは、ミラー軸に沿って凹面ミラーと間隔を空けて隣接して配置されている。この光学系を採用した投影フォトリソグラフィ装置も開示する。
2006512618.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光軸に沿って、
凹球面ミラーと、
エアスペースを介して前記ミラーに隣接して配置された正の屈折力を有するレンズグループと、
を含む光学系であって、
前記レンズグループは、
前記ミラーに向かって順に、
ミラーに面する凸面と前記ミラーとは反対側に面する平面とを有する平凸レンズエレメントと、
前記平凸レンズに隣接して配置され、前記ミラーに面する凸面をそれぞれ有する第１及び第２の負のメニスカスレンズエレメントと、
を含み、
前記第２の平面は、前記光軸の両側で前記平凸レンズエレメントの平面に隣接して配置され、
前記第１の平面は、対物面及び像面にそれぞれ隣接して配置され、
前記レンズグループの各レンズエレメントは、前記レンズグループと前記第１及び第２のプリズムがｇ，ｈ，ｉ線の波長での色収差を補正するように異なる種類のガラスから形成されていることを特徴とする光学系。
【請求項２】
請求項１において、
少なくとも６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍのサイズを有する正方形のフィールド及び少なくとも５０ｍｍ×１００ｍｍのサイズを有する長方形のフィールドの少なくとも１つと、
０．１５以上の開口数と、
を有することを特徴とする光学系。
【請求項３】
請求項１において、
５０ｍｍ×１００ｍｍから５２．５ｍｍ×１００ｍｍのフィールドサイズを有することを特徴とする光学系。
【請求項４】
請求項１において、
０．１６〜０．２０の開口数を有することを特徴とする光学系。
【請求項５】
請求項１において、
前記レンズグループの前記レンズエレメントが球面であることを特徴とする光学系。
【請求項６】
請求項１において、
前記レンズグループの少なくとも１つのレンズエレメントが非球面を有することを特徴とする光学系。
【請求項７】
請求項１において、
前記レンズグループの前記レンズエレメントの隣接する表面が接触していることを特徴とする光学系。
【請求項８】
請求項１において、
前記レンズグループの前記レンズエレメントの少なくとも１つの表面が、エアスペースによって隣接するレンズエレメントと密接に間隔を空けて設けられていることを特徴とする光学系。
【請求項９】
請求項１において、
前記第１及び第２のプリズムが６０３６０６ガラスで形成されていることを特徴とする光学系。
【請求項１０】
請求項９において、
前記ガラスの種類がＯｈａｒａ  ＢＳＭ５１Ｙを含むことを特徴とする光学系。
【請求項１１】
請求項６において、
前記平凸レンズが融解石英及び石英ガラスの一方で形成されていることを特徴とする光学系。
【請求項１２】
請求項８において、
前記平凸レンズが４５８６７８ガラスで形成されていることを特徴とする光学系。
【請求項１３】
請求項８において、
前記第１及び第２のメニスカスレンズエレメントがそれぞれ５８１４０８ガラス及び５３２４９０ガラスで形成されていることを特徴とする光学系。
【請求項１４】
請求項１３において、
前記５８１４０８ガラスがＯｈａｒａ  ＰＢＬ２５Ｙであり、前記５３２４９０ガラスがＯｈａｒａ  ＰＢＬ６Ｙであることを特徴とする光学系。
【請求項１５】
請求項１において、
前記第１及び第２のプリズムが６０３６０６ガラスで形成され、前記平凸レンズが４５８６７８ガラスで形成され、前記第１及び第２のメニスカスレンズエレメントがそれぞれ５８１４０８ガラス及び５３２４９０ガラスで形成されていることを特徴とする光学系。
【請求項１６】
請求項１において、
前記第２のメニスカスレンズエレメントの前記凸面が非球面であることを特徴とする光学系。
【請求項１７】
請求項１において、
前記第１のメニスカスレンズエレメントの前記凸面が非球面であることを特徴とする光学系。
【請求項１８】
請求項１において、
前記第１のメニスカスレンズエレメントが非球面凹面を有することを特徴とする光学系。
【請求項１９】
請求項１において、
前記ミラーが光軸に沿って形成された開口を含むことを特徴とする光学系。
【請求項２０】
凹球面ミラーと、
エアスペースを介して前記ミラーに隣接して配置された正の屈折力を有するレンズグループと、
を含む光学系であって、
前記レンズグループは、
前記ミラーに向かって順に、
前記ミラーに面する凸面と前記ミラーとは反対側に面する平面とを有する平凸レンズエレメントと、
前記平凸レンズに隣接して配置され、前記ミラーに面する凸面をそれぞれ有する第１及び第２の負のメニスカスレンズエレメントと、
を含み、
前記第２の平面は、前記光軸の両側で前記平凸レンズエレメントの平面に隣接して配置され、
前記第１の平面は、対物面及び像面にそれぞれ隣接して配置され、
前記レンズグループの各レンズエレメントは、前記レンズグループと前記第１及び第２のプリズムがｇ，ｈ，ｉ線の波長での色収差を補正するように異なる種類のガラスから形成された光学系と、
前記対物面でマスクを支持することができるマスクステージと、
前記ｇ線、ｈ線、ｉ線の波長の少なくとも１つでマスクを照明するように構成された照明系と、
前記像面でウェハを可動的に支持することができるウェハステージと、
を含むことを特徴とする投影リソグラフィー装置。
【請求項２１】
請求項２０において、
６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍ以上のサイズを有する正方形のフィールド及び５０ｍｍ×１００ｍｍ以上のサイズを有する長方形のフィールドの少なくとも１つと、
０．１５以上の開口数と、
を有することを特徴とする装置。
【請求項２２】
請求項２０において、
５０ｍｍ×１００ｍｍから５２．５ｍｍ×１００ｍｍのサイズのフィールドを有することを特徴とする装置。
【請求項２３】
請求項２０において、
０．１６〜０．２０の開口数を有することを特徴とする装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影光学系、特に大フィールド等倍投影光学系に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィは、解像度がサブミクロンの集積回路（ＩＣ）の製造だけではなく、比較的低い（数ミクロンの）解像度、大きな焦点深度、高いスループットを必要とする金バンプ形成やその他のウエハレベルＩＣパッケージ技術にも盛んに採用されてきている。したがって、スループットの高い投影フォトリソグラフィ装置において比較的低い解像度が求められてきている。
【０００３】
「発明の詳細な説明」の部分で後述する本発明は、１９８３年７月５日にロナルド  Ｓ．ハーシェル（ＲｏｎＡ１ｄ  Ｓ．  Ｈｅｒｓｈｅｌ）に付与され、ゼネラルシグナル社（ＧｅｎｅｒＡ１  ＳｉｇｎＡ１  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）に譲渡された米国特許第４，３９１，４９４号（以下、「４９４特許」という）に記載されている光学系に関連するものである。
【０００４】
図１は、４９４特許に係る光学系８の断面図である。４９４特許に記載され、図１に示す光学系は、等倍、カタディオプトリック、無色、アナスチグマチック投影光学系であり、反射・屈折エレメントを相補的に使用して大きなフィールドサイズと高い開口数を達成する。この光学系はミラーに位置する開口絞りに対して基本的に対称的であり、コマ、歪み、横収差などのオッドオーダー（ｏｄｄ−ｏｒｄｅｒ）収差がなくなる。全ての球面はほぼ同心であり、曲率中心が焦点面の近傍に位置する。したがって、得られる系はレンズ内の空気の屈折率に本質的に依存せず、圧力補償が不要となる。
【０００５】
光学系８は、凹球面ミラー１０と、ミラーに位置する開口絞りＡＳ１と、複合色消し平凸ダブレットレンズプリズムアセンブリ１２と、を含む。ミラー１０とアセンブリ１２は、光軸１４を中心として対称的に配置されている。光学系８は、ミラー１０に位置する開口絞りＡＳ１に対して本質的に対称的であり、系のコマ、歪み、横収差が最初に補正される。光学系８の全ての球面はほぼ同心である。
【０００６】
光学系８において、メニスカスレンズ１３Ａと、平凸レンズ１３Ｂと、対称的なフォールドプリズム１５Ａ，１５Ｂとを含むダブレットプリズムアセンブリ１２は、ミラー１０とともに、軸色、非点収差、ペッツヴァル（ｐｅｔｚｖＡ１）収差、球面収差を含むその他の光学収差を補正する。しかし、（５０ｍｍ×１００ｍｍを超える）大きなフィールド及び広いスペクトルバンドの用途（水銀のｇ，ｉ，ｈスペクトル線（それぞれ４３６ｎｍ，４０５ｎｍ，３６５ｎｍ））及び適度に高い開口数（例えば、ＮＡ≧０．１５）の場合には、光学系８は十分に高品質な像を形成することができない。
【０００７】
対称的なフォールドプリズム１５Ａ，１５Ｂは、レチクル１６とウェハ１８の移動のための十分な作動空間を達成するために使用される。光学系８は対物面ＯＰ１と像面ＩＰ１とを含み、対物面ＯＰ１と像面ＩＰ１はフォールドプリズム１５Ａ，１５Ｂを介して分離されている。このように作動空間を確保することによって、利用できるフィールドサイズは潜在的なフィールド全体の約２５〜３５％に減少する。従来は、最新の回路に必要とされるフィールドサイズと解像度を得ることが可能であったため、フィールドサイズの減少は問題にはならなかった。
【０００８】
しかし、より大きなフィールドサイズが求められてきているため、広いスペクトルバンド幅にわたって解像度と補正を維持しながら、より大きなフィールドサイズと大きな焦点深度をサポートすることができる光学系のための設計が必要となっている。
【発明の開示】
【０００９】
本発明の第１の態様は、光軸に沿って凹球面ミラーとレンズグループとを有する光学系である。レンズグループは正の屈折力を有し、エアスペースを介してミラーに隣接して配置されている。レンズグループは、ミラーに向かって順に、ミラーに面する凸面を有する平凸レンズエレメントと、凸面をミラーに向けて平凸レンズに隣接して配置された第１及び第２の負メニスカスレンズエレメントと、を含む。光学系は、それぞれが第１及び第２の平面を有する第１及び第２のプリズムをさらに含む。第２の平面は、光軸の両側で平凸レンズエレメントの平面に隣接して配置されている。第１の平面は、物体面及び像面にそれぞれ隣接して配置されている。レンズグループの各レンズエレメントは、レンズグループと第１及び第２のプリズムが、６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍ以上のサイズを有する正方形のフィールドまたは５０ｍｍ×１００ｍｍ以上のサイズを有する長方形のフィールドにわたって、０．１５以上の開口数で、ｇ，ｈ，ｉ線の波長での色収差を補正するように、異なる種類のガラスで形成されている。
【００１０】
本発明の第２の態様は、本発明の投影光学系を含むフォトリソグラフィ投影装置である。
【００１１】
各図面に示す各要素は説明のみのためのものであり、縮尺に必ずしも制限されるものではない。ある要素の縮尺は誇張され、その他の要素は最小となっている場合もある。各図面は、当業者が理解し、適切に実施することができる本発明の様々な実施態様を例示することを意図するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明は、レチクルに形成されたパターンの像を基板（ウェハ）に実質的に等倍で投影する、大フィールド、広スペクトルバンド、色補正、アナスチグマチック投影光学系である。本発明の等倍投影光学系は、上述した図１に示す４９４特許の従来の光学系８の改良であって、異なる機能を果たすものである。
【００１３】
ここで、「大フィールド」という用語は、約５０ｍｍ×１００ｍｍ以上の長方形のフィールドまたは６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍ以上の正方形のフィールドを意味する。また、「広スペクトルバンド」という用語は、水銀のｇ，ｈ，ｉスペクトル線（それぞれ４３６ｎｍ，４０５ｎｍ，３６５ｎｍ）を含むスペクトルバンドを意味する。
【００１４】
以下に詳細に説明する本発明の投影光学系は、大きなフィールド及び広い波長スペクトルにわたって非常に優れた像質（０．９５を超える多色ストレール比）を有する。これによって、光学系１００は、高いレベルの解像度、例えば最新の集積回路の最小線幅を印刷するために必要とされる解像度を必要としないバンプリソグラフィなどのウエハレベルＩＣパッケージング用途に特に有用となる。
【００１５】
図２，３は、本発明の等倍投影光学系１００の実施形態を示す図である。投影光学系１００は、軸Ａ１に沿って、開口絞りＡＳ２を有する凹球面ミラーＭを含む。一実施形態では、ミラーＭは光軸上に開口ＡＰを含む。開口ＡＰは、例えば物体（マスクなど）と像を位置合わせしたり、物体を検査するなど、光学系１００による直接描画を除く機能を行うために光を光学系に導入するために使用することができる。
【００１６】
光学系１００は、軸Ａ１に沿ってミラーＭに間隔を置いて隣接して配置された、正の屈折力を有するフィールド補正レンズグループＧをさらに含む。一実施形態では、レンズグループＧは、表面Ｓ３，Ｓ４を有する正のレンズエレメントＬ１を含む。一実施形態では、正のレンズＬ１は、表面Ｓ４が凹面で表面Ｓ３が平面の平凹レンズである。
【００１７】
一実施形態では、レンズグループＧは、レンズエレメントＬ１に隣接するとともにミラーＭに向かって、少なくとも２つの負のレンズエレメントＬ２，Ｌ３を含む。レンズＬ２は表面Ｓ５，Ｓ６を有し、レンズＬ３は表面Ｓ７，Ｓ８を有する。一実施形態では、負のレンズＬ２，Ｌ３はメニスカス型であり、表面Ｓ５，Ｓ７が凸面である。一実施形態では、レンズグループＧはレンズエレメントＬ１，Ｌ２，Ｌ３のみからなる。
【００１８】
レンズグループＧに隣接して、表面Ｓ１Ａ，Ｓ２Ａを有する第１のプリズムＰＡと、表面Ｓ１Ｂ，Ｓ２Ｂを有する第２のプリズムＰＢが設けられている。表面Ｓ１Ａは対物面ＯＰ２に面しており、表面Ｓ１Ｂは像面ＩＰ２に面している。対物面ＯＰ２と像面ＩＰ２は、作動距離を示すギャップＷＤＡ，ＷＤＢによって平面Ｓ１Ａ，Ｓ１Ｂから隔てられている。開口絞りＡＳ２に対して完全な対称性を有する実施形態では、ＷＤＡ＝ＷＤＢである。ギャップＷＤＡ，ＷＤＢが互いに等しいため、表１〜５ではこれらの距離をＷＤとしている。
【００１９】
プリズムＰＡ，ＰＢはフィールド補正レンズグループＧには含まれていないが、これらのプリズムは色収差補正を含む収差補正でその役割を果たす。
【００２０】
（別の実施形態）
表１〜５に投影光学系１００の別の実施形態を示す。光学系１００は対称性を有するため、表１〜５に示す仕様は、対物面ＯＰ２から凹面ミラーＭまでの値のみを含む。表１〜５において、正の半径は表面の右の曲率中心を示し、負の半径は左の曲率中心を示す。エレメントの厚みあるいはエレメント間の距離は隣接する表面への軸上の距離であり、全ての寸法はミリメートルで示している。また、「Ｓ＃」は表面番号を表し、「ＴまたはＳ」は「厚みまたは距離」を表し、「ＳＴＯＰ」は開口絞りＡＳ２を表している。
【００２１】
「表面形状（ｓｕｒｆａｃｅ  ｓｈａｐｅ）」の項目では、非球面を「ＡＳＰ」と示し、平面を「ＦＬＴ」と示し、球面を「ＳＰＨ」と示している。
【００２２】
非球面を表す非球面式は以下のように与えられる。
【００２３】
【数１】
2006512618.tif 000003
【００２４】
式中、「ＣＵＲＶ」は表面の球面曲率（ｓｐｈｅｒｉｃａｌ  ｃｕｒｖａｔｕｒｅ）であり、Ｋは円錐定数であり、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄは非球面係数である。表１〜５では、「Ｅ」は指数表記（１０の冪乗）を示す。
【００２５】
４９４特許の従来の光学系に対する光学系１００の主要な設計改良は、メニスカスレンズエレメントＬ３の追加と、レンズグループＧにおける少なくとも１つの非球面の使用と、フィールド補正レンズ（レンズＬ１，Ｌ２，Ｌ３）とプリズムの光学ガラスの種類を適切に選択して、大きなフィールドサイズ及び広いスペクトル領域にわたってフィールド収差（特に非点収差）、球面収差、ペッツヴァル（ｐｅｔｚｖａｌ）収差、これらの収差の軸色及び色ばらつきを補正することである。
【００２６】
一実施形態では、図３に示すようにメニスカスレンズエレメントＬ２，Ｌ３の間に小さなエアスペースを設けることによって、広いフィールド及び広いスペクトルバンドにわたって高品質な結像性能を維持しながら、残留収差、特に色ばらつきをさらに減少させ、光学系１００の全長を減少させる。
【００２７】
上述した実施形態の全ては、本質的に開口絞りＡＳ２に対する系の対称性を維持しており、コマ、歪み、横収差などのオッドオーダー（ｏｄｄ−ｏｒｄｅｒ）収差が本質的になくなる。光学系１００は、レンズグループＧに同心のレンズエレメントを含まないか、凹球面ミラーＭと同心のレンズ面を含まない。
【００２８】
一実施形態では、レンズエレメントＬ１，Ｌ２，Ｌ３はそれぞれが異なる種類のガラスで形成され、第１及び第２のプリズムとともに、ｇ，ｈ，ｉ線を含む広いスペクトルバンドにわたって色収差を補正する。
【００２９】
別の実施形態では、表１の設計に示すように、レンズエレメントＬ１，Ｌ２，Ｌ３は球面を有する。
【００３０】
さらに別の実施形態では、表２〜５の設計に示すように、レンズエレメントＬ２，Ｌ３の一方は非球面を有する。
【００３１】
別の実施形態では、図２に示すように、レンズエレメントＬ１，Ｌ２，Ｌ３の隣接する表面は、接触しているか、接合剤またはゲルによって光学的に接続されている。
【００３２】
さらに別の実施形態では、図３に示すように、レンズエレメントＬ１，Ｌ２，Ｌ３の少なくとも１つの表面は、隣接するレンズエレメントの表面とエアスペースによって密接に間隔が空けられ、エアスペースはレンズエレメントＬ２，Ｌ３の間に設けられている。
【００３３】
別の実施形態では、第１，第２のプリズムＰＡ，ＰＢは、Ｏｈａｒａ  ＢＳＭ５１Ｙなどの６０３６０６ガラスで形成されている。この実施形態では、平凸レンズＬ１は融解石英または石英ガラスなどの４５８６７８ガラスで形成され、メニスカスレンズエレメントＬ２，Ｌ３はＯｈａｒａ  ＰＢＬ２５Ｙなどの５８１４０８ガラス及びＯｈａｒａ  ＰＢＬ６Ｙなどの５３２４９０ガラスでそれぞれ形成されている。
【００３４】
別の実施形態では、表２の設計に示すように、レンズＬ３は凸面Ｓ８に非球面を有する。関連する実施形態では、表４に示すように、レンズＬ３は凹面Ｓ７に非球面を有する。
【００３５】
別の実施形態では、表３の設計に示すように、レンズＬ２は表面Ｓ６に非球面を有する。さらに別の関連する実施形態では、レンズエレメントＬ１は非球面を有する。
【００３６】
別の実施形態では、光学系１００は５０ｍｍ×１００ｍｍから５２．５ｍｍ×１００ｍｍのフィールドサイズを有する。
【００３７】
さらに別の実施形態では、光学系１００は０．１６〜０．２０の開口数を有する。
【００３８】
（フォトリソグラフィ装置）
図４は、本発明の等倍投影光学系１００を採用したフォトリソグラフィ装置２００の概略図である。装置２００は光軸Ａ２を有し、対物面ＯＰ２でマスク２２０を支持するように構成されたマスクステージ２１０を含む。マスク２２０は、マスク表面２２６に形成されたパターン２２４を有する。照明系２３０は光学系１００の反対側でマスクステージ２１０に隣接して配置され、マスク２２０を照明するように構成されている。
【００３９】
また、装置２００は、像面ＩＰ２でウェハ２４６を可動的に支持するように構成されたウェハステージ２４０を含む。一実施形態では、ウェハ２４６は、照明系からの放射線の１以上の波長によって活性化される感光層２５０で被覆されている。そのような放射線は当業界では「化学線（ａｃｔｉｎｉｃ  ｒａｄｉａｔｉｏｎ）」と呼ばれる。一実施形態では、放射線の１以上の波長は水銀のｇ，ｈ，ｉ線を含む。
【００４０】
動作時には、照明系２３０はマスク２２０を照明し、光学系１００によってウェハ２４６にパターン２２４が描画され、フォトレジスト層２５０にパターンが形成される。これによって、ウェハの一部に露光フィールドＥＦが形成される。次に、ウェハステージ２４０は所与の増分（例えば露光フィールドＥＦのサイズ）で所与の方向（例えばｘ−方向）にウェハ２４６を移動（「ステップ」）させ、露光プロセスが繰り返される。このステップ−露光プロセスは、所望の数の露光フィールドＥＦがウェハ２４６上に形成されるまで繰り返される（したがって「ステップアンドリピート」と呼ばれる）。
【００４１】
次に、ウェハは（例えばウェハハンドリング装置（図示せず）を使用して）装置２００から取り出され、  処理（例えば現像、ベーク、エッチング）され、各露光フィールドＥＦにおいてフォトレジストに形成されたパターンをウェハに転写する。異なるマスクを使用してこのフォトリソグラフィプロセスを繰り返すことによって、三次元構造がウェハに形成され、ＩＣなどの動作可能なデバイスが形成される。
【００４２】
（本発明の追加実施形態）
Ａ．本発明の第１の追加実施形態は、光軸に沿って、凹球面ミラーと、エアスペースを介してミラーに隣接して配置された正の屈折力を有するレンズグループと、を含む光学系であり、レンズグループはミラーに向かって順に、ミラーに面する凸面とミラーとは反対側に面する平面とを有する平凸レンズエレメントと、平凸レンズに隣接して配置され、ミラーに面する凸面をそれぞれ有する第１及び第２の負のメニスカスレンズエレメントと、を含む。この光学系は、第１及び第２の平面をそれぞれ有する第１及び第２のプリズムを含み、第２の平面は、光軸の両側で平凸レンズエレメントの平面に隣接して配置され、第１の平面は、対物面及び像面にそれぞれ隣接して配置され、レンズグループの各レンズエレメントは、レンズグループと第１及び第２のプリズムがｇ，ｈ，ｉ線の波長での色収差を補正するように異なる種類のガラスで形成されている。
【００４３】
Ｂ．本発明の第２の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、少なくとも６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍのサイズを有する正方形のフィールド及び少なくとも５０ｍｍ×１００ｍｍのサイズを有する長方形のフィールドの少なくとも１つと、０．１５以上の開口数を有する光学系である。
【００４４】
Ｃ．本発明の第３の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、５０ｍｍ×１００ｍｍから５２．５ｍｍ×１００ｍｍのフィールドサイズを有する光学系である。
【００４５】
Ｄ．本発明の第４の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、０．１６〜０．２０の開口数を有する光学系である。
【００４６】
Ｅ．本発明の第５の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、レンズグループのレンズエレメントが球面である光学系である。
【００４７】
Ｆ．本発明の第６の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、レンズグループの少なくとも１つのレンズエレメントが非球面を有する光学系である。
【００４８】
Ｇ．本発明の第７の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、レンズグループのレンズエレメントの隣接する表面が接触している光学系である。
【００４９】
Ｈ．本発明の第８の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、レンズグループのレンズエレメントの少なくとも１つの表面が隣接するレンズエレメントとエアスペースによって密接に間隔を空けて設けられた光学系である。
【００５０】
Ｉ．本発明の第９の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、第１及び第２のプリズムが６０３６０６ガラスで形成されている光学系である。
【００５１】
Ｊ．本発明の第１０の追加実施形態は、Ｉに記載の光学系であって、ガラスの種類がＯｈａｒａ  ＢＳＭ５１Ｙを含む光学系である。
【００５２】
Ｋ．本発明の第１１の追加実施形態は、Ｆに記載の光学系であって、平凸レンズが融解石英及び石英ガラスの一方で形成されている光学系である。
【００５３】
Ｌ．本発明の第１２の追加実施形態は、Ｈに記載の光学系であって、平凸レンズが４５８６７８ガラスで形成されている光学系である。
【００５４】
Ｍ．本発明の第１３の追加実施形態は、Ｈに記載の光学系であって、第１及び第２のメニスカスレンズエレメントがそれぞれ５８１４０８ガラス及び５３２４９０ガラスで形成されている光学系である。
【００５５】
Ｎ．本発明の第１４の追加実施形態は、Ｈに記載の光学系であって、第１及び第２のメニスカスレンズエレメントがそれぞれＯｈａｒａ  ＰＢＬ２５Ｙ及びＯｈａｒａ  ＰＢＬ６Ｙで形成されている光学系である。
【００５６】
Ｏ．本発明の第１５の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、第１及び第２のプリズムが６０３６０６ガラスで形成され、平凸レンズが４５８６７８ガラスで形成され、第１及び第２のメニスカスレンズエレメントがそれぞれ５８１４０８ガラス及び５３２４９０ガラスで形成されている光学系である。
【００５７】
Ｐ．本発明の第１６の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、第２のメニスカスレンズエレメントの凸面が非球面である光学系である。
【００５８】
Ｑ．本発明の第１７の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、第１のメニスカスレンズエレメントの凸面が非球面である光学系である。
【００５９】
Ｒ．本発明の第１８の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、第１のメニスカスレンズエレメントが非球面凹面を有する光学系である。
【００６０】
Ｓ．本発明の第１９の追加実施形態は、Ａに記載の光学系であって、ミラーが光軸に沿って形成された開口を含む光学系である。
【００６１】
Ｔ．本発明の第２０の追加実施形態は、光学系と、対物面でマスクを支持することができるマスクステージと、ｇ線、ｈ線、ｉ線の波長の少なくとも１つでマスクを照明するように構成された照明系と、像面でウェハを可動的に支持することができるウェハステージと、を含む投影リソグラフィー装置である。本実施形態の光学系は、凹球面ミラーと、エアスペースを介してミラーに隣接して配置された正の屈折力を有するレンズグループと、を含み、レンズグループは、ミラーに向かって順に、ミラーに面する凸面とミラーとは反対側に面する平面とを有する平凸レンズエレメントと、平凸レンズに隣接して配置され、ミラーに面する凸面をそれぞれ有する第１及び第２の負のメニスカスレンズエレメントを含む。光学系は、第１及び第２の平面をそれぞれ有する第１及び第２のプリズムをさらに含み、第２の平面は、光軸の両側で平凸レンズエレメントの平面に隣接して配置され、第１の平面は、対物面及び像面にそれぞれ隣接して配置されている。また、レンズグループの各レンズエレメントは、レンズグループと第１及び第２のプリズムがｇ，ｈ，ｉ線の波長での色収差を補正するように異なる種類のガラスで形成されている。
【００６２】
Ｕ．本発明の第２１の追加実施形態は、Ｔに記載の投影リソグラフィー装置であって、少なくとも６１．５ｍｍ×６１．５ｍｍのサイズを有する正方形のフィールド及び少なくとも５０ｍｍ×１００ｍｍのサイズを有する長方形のフィールドの少なくとも１つと、０．１５以上の開口数を有する投影リソグラフィー装置である。
【００６３】
Ｖ．本発明の第２２の追加実施形態は、Ｔに記載の投影リソグラフィー装置であって、５０ｍｍ×１００ｍｍから５２．５ｍｍ×１００ｍｍのフィールドサイズを有する投影リソグラフィー装置である。
【００６４】
Ｗ．本発明の第２３の追加実施形態は、Ｔに記載の投影リソグラフィー装置であって、０．１６〜０．２０の開口数を有する投影リソグラフィー装置である。
【００６５】
以上の詳細な説明では、様々な特徴を各種実施形態に分類した。これらの実施形態は、本発明の請求する実施形態が各請求項で明白に引用された特徴よりも多くの特徴を必要とすることを意図するものとして解釈されてはならない。むしろ、以下の請求項は、発明の主題が開示された実施形態の全ての特徴よりも少ないことを示すものである。
【００６６】
本発明の多くの特徴及び利点は詳細な明細書から明らかであり、添付した請求項によって本発明の精神と範囲に従う上述した装置の特徴と利点を全て網羅することを意図するものである。また、当業者は数多くの変形や変更に容易に想到するものと考えられるため、本発明をここで説明した構造や動作のみに限定することは望ましいものではない。したがって、その他の実施形態も添付した請求項の範囲に含まれるものと解釈されるべきである。
【００６７】
【表１】
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【００６８】
【表２】
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【００６９】
【表３】
2006512618.tif 000006
【００７０】
【表４】
2006512618.tif 000007
【００７１】
【表５】
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【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】４９４特許に係る従来の等倍投影光学系の断面図である。
【図２】本発明の等倍投影光学系の第１の実施形態の断面図である。
【図３】本発明の等倍投影光学系の第２の実施形態の断面図である。
【図４】本発明の等倍投影光学系を採用したフォトリソグラフィ装置の概略図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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