(57)【要約】本発明は、変調干渉計（２）と、この変調干渉計（２）と空間的に分離されており且つ変調干渉計（２）と光ファイバ装置（６）を介して結合されているまたは結合可能な測定センサ（３）と、供給されるビームを電気信号に変換し、該信号を位相差に基づき評価する受信装置および評価ユニットとを有する、測定対象（８）の表面の形状、粗さまたは距離を検出する干渉測定装置に関する。正確な表面測定が光学的なセンサ軸（３．５）に対する射出面（３．４）の傾斜角度（γ）が少なくとも４６°であることによって達成される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象（８）の表面の形状、粗さまたは距離を検出する干渉測定装置であって、
変調干渉計（２）を有し、該変調干渉計（２）にはビーム源（１）から短コヒーレントなビームが供給され、前記変調干渉計（２）は供給される前記ビームを第１のアームを介して案内される第１の部分ビーム（２．１）と第２のアームを介して案内される第２の部分ビーム（２．１′）に分割する第１のビームスプリッタ（３．１）を有し、２つの部分ビームのうち一方の部分ビームは他方の部分ビームに対して変調装置（２．２，２．２′）を用いて光位相または光周波数がシフトされ、且つ遅延区間（２．９′）を通過し、引き続き前記変調干渉計（２）の別のビームスプリッタ（２．１０）において統合され、
前記変調干渉計（２）と空間的に分離されており且つ該変調干渉計（２）と光ファイバ装置（６）を介して結合されているまたは結合可能な測定センサ（３）を有し、該測定センサ（３）においては統合された前記部分ビームが対象側の傾斜された射出面（３．４）を有するセンサ光ファイバユニット（３．１，３．２）を通過して表面に案内される測定ビームと参照ビームに分割され、前記表面において反射された測定ビーム（ｒ１（ｔ））および参照平面において反射された参照ビーム（ｒ２（ｔ））が重畳され、
供給されるビームを電気信号に変換し、該信号を位相差に基づき評価する受信装置および評価ユニットを有する、干渉測定装置において、
前記射出面（３．４）の傾斜角度（γ）は光学的なセンサ軸（３．５）の法線に対して少なくとも４６°であることを特徴とする、干渉測定装置。
【請求項２】
前記傾斜角度（γ）は少なくとも４８°である、請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記センサ光ファイバユニット（３．２）の対象側の端部部分の外側包囲部（クラッディング）には反射防止処理部（３．３２）が設けられている、請求項１または２記載の装置。
【請求項４】
前記射出面（３．４）には反射処理部が設けられている、請求項１から３までのいずれか１項記載の装置。
【請求項５】
前記測定センサ（３）のセンサファイバ（３．１）とファイバ部分（３．２）との間の部分透過領域（３．３）は、前記光学的なセンサ軸（３．５）に関して射出角度（α）で傾斜されている、前記センサファイバ（３．１）の射出面（３．３１）と、同様に光学的なセンサ軸（３．５）に関して入射角度（β）で傾斜されている、対象側に続く前記ファイバ部分（３．２）の入射面（３．３２）とを用いて形成されており、前記射出面（３．３１）と前記入射面（３．３２）との間には楔状の空隙が形成されており、前記射出面（３．３１）および前記入射面（３．３２）は前記センサ軸（３．５）に関して同一の方向に傾斜されている、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項６】
前記射出角度（α）および前記入射角度（β）は、フレネル反射が生じるように選定されている、請求項５記載の装置。
【請求項７】
前記射出角度（α）は５°と８°の間にあり、前記入射角度（β）はαと０°の間にある、請求項５または６記載の装置。
【請求項８】
前記センサファイバ（３．１）および前記ファイバ部分（３．２）は、前記測定センサ（３）の外側の管（３．９）によって包囲されている細管状の収容部（３．６；３．６′，３．６′′）において軸方向に配向されて収容されており、
前記収容部（３．６；３．６′）における前記測定対象（８）とは反対側の端面には、前記センサファイバ（３．１）を包囲し、同様に前記管（３．９）に同心に収容されている位置決め部（３．７）が設けられており、
前記ファイバ部分（３．２）は前記収容部（３．６；３．６′′）における対象側の前側の部分に固定されており、前記センサファイバ（３．１）は前記収容部（３．６；３．６′′）における対象とは反対側の後側の部分内および／または前記管（３．９）内に固定されている、請求項５から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
前記収容部（３．６′′）の前記前側の部分は前記収容部（３．６′）の前記後側の部分から直径方向において対向する隙間（３．６１，３．６２）によって分離されており、一方の隙間（３．６１）が後側において前記センサファイバ（３．１）の傾斜された射出面（３．３１）の延長部分において区切られており、他方の隙間（３．６２）が前側において傾斜された前記入射面（３．３２）の延長部分において区切られており、
前記収容部の前記前側の部分（３．６′′）および前記後側の部分（３．６′）は共通のカプセル状の保持リング（３．１０）によって包囲されており、該保持リング（３．１０）は外面が前記管（３．９）によって包囲されており、
前記ファイバ部分（３．２）の前側の部分は該ファイバ部分（３．２）の後側の部分に比べて小さい直径を有する、請求項８記載の装置。
【請求項１０】
前記変調干渉計（２）は少なくとも部分的に、光ファイバまたは集積された光学系の形態の偏光を維持する光導体構造（２．１１，２．１１、２．１２，２．１２′）を有し、少なくとも１つのアームの前記光導体構造（２．１１，２．１１、２．１２，２．１２′）に分離されている、請求項１から９までのいずれか１項記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定対象の表面の形状、粗さまたは距離を検出する干渉測定装置であって、変調干渉計を有し、変調干渉計にはビーム源から短コヒーレントなビームが供給され、変調干渉計は供給されるビームを第１のアームを介して案内される第１の部分ビームと第２のアームを介して案内される第２の部分ビームに分割する第１のビームスプリッタを有し、２つの部分ビームのうち一方の部分ビームは他方の部分ビームに対して変調装置を用いて光位相または光周波数がシフトされ、且つ遅延区間を通過し、引き続き変調干渉計の別のビームスプリッタ（２．１０）において統合され、変調干渉計と空間的に分離されており且つ変調干渉計と光ファイバ装置を介して結合されているまたは結合可能な測定センサを有し、測定センサにおいては統合された部分ビームが対象側の傾斜された射出面を有するセンサ光ファイバユニットを通過して表面に案内される測定ビームと参照ビームに分割され、表面において反射された測定ビームおよび参照平面において反射された参照ビームが重畳され、供給されるビームを電気信号に変換し、信号を位相差に基づき評価する受信装置および評価ユニットを有する干渉測定装置に関する。
【０００２】
従来技術
この種の干渉測定装置はＤＥ  １００  ５７  ５３９  Ａ１に示されている。この公知の測定装置では干渉測定装置が一方では変調干渉計、他方では別の干渉計ユニットを備えた測定センサに分割されている。測定センサには対象側において例えば傾斜させることができる射出面を有するセンサ光ファイバユニットが設けられている。これに関する詳細な実施は行われていない。その他の点では、この種の干渉測定装置はＤＥ  １９８  １９  ７６２  Ａ１と関連させて以下詳細に説明するように動作する。
【０００３】
別の干渉測定装置はＤＥ  １９８  １９  ７６２  Ａ１に示されている。この測定装置では、いわゆる変調干渉計である部分が本来の測定センサから空間的に分離されており、またこの測定センサと光学的に光ファイバ装置を介して接続されているので、この測定センサをそれ自体比較的簡単に構成されている容易に処理可能なユニットとして実施することができる。変調干渉計には広帯域、短コヒーレントなビームが供給され、このビームは変調干渉計の入力側においてビームスプリッタを用いて２つの部分ビームに分割され、この２つの部分ビームのうちの一方のビームは他方のビームに対して変調装置、例えば音響光学変調器を用いて光位相または光周波数がシフトされる。２つの部分ビームのうちの一方は変調干渉計において遅延素子を通過し、この遅延素子は２つの部分ビームにおいて短コヒーレントなビームのコヒーレント長よりも長い光学的な経路差を生じさせる。さらには、遅延素子によって惹起された経路差が補償され、したがって参照分岐の参照平面から到来する参照ビームと測定分岐において対象平面から戻ってくるビームとの干渉が発生するようにして測定センサにおいて測定経路内に参照分岐に関して光学的な別の経路差が生じ、この干渉は位相評価によって所望の表面特性（形状、粗さ、距離）を算出するために評価される。実施例においては測定センサにおいて測定分岐と参照分岐が共通の光路（共通パス）に配置されており、この場合測定分岐と参照分岐を形成するために部分透過性の光学素子が設けられている。
【０００４】
この種の変調干渉計とこの変調干渉計と光ファイバ装置を介して接続されている測定センサとを備えた類似の測定装置がまたＤＥ  １９８  ０８  ２７３  Ａ１に開示されており、この刊行物においてはビーム分解およびビーム受信ユニットにおける受信装置を用いて干渉が生じたビームを種々の波長のビーム成分に分割することが行われ、この分割により合成的な波長が形成され、測定領域（一義的な領域）が拡大される。
【０００５】
ヘテロダイン干渉法の原理を基礎とするが広帯域で短コヒーレントなビームの特性を利用する前述の干渉測定装置では、マッハ・ツェンダー干渉計として構成されている変調干渉計が古典的な光学的モジュール、例えば入力側ビームスプリッタの上流側に設けられているコリメータ光学系、入力側および出力側のビームスプリッタおよび偏光ミラーなどを有する。部分ビームは光学的な光ファイバ装置に入力結合される前にビームスプリッタ面およびミラーにおいて多重反射される。光学的な構成要素におけるあらゆる角度エラーは反射時に倍に作用するので、光学的な構成要素は高い精度で位置決めする必要がある。この際継続的な調整を保証することは困難である。光学的な非対称性を補償調整するためのガラス板の挿入との関係においても調整時には付加的な困難が生じる可能性がある。この困難によって煩雑な構造が生じ、さらには測定センサの特性に正確に適合させることが必要となる。
【０００６】
本発明の課題は簡単な構造でもって可能な限り高い精度を達成することができる、冒頭で述べたような干渉測定装置を提供することである。
【０００７】
発明の利点
この課題は請求項１の特徴によって解決される。この特徴によれば光学的なセンサ軸の法線に対する射出面の傾斜角度は少なくとも４６°である。
【０００８】
射出面のこの構成によって、測定対象の表面に配向されてこの表面から戻ってくる測定ビームのこの移行領域において、ビームが直角に偏光される場合には最適な結合特性が達成され、これによって殊に容易に到達できない狭い隙間における測定の精度は実質的に有利なものとなる。
【０００９】
殊に該当する光ファイバの開口数が０．１２である場合の別の改善形態は、傾斜角度が少なくとも４８°であることによって達成される。
【００１０】
さらには、センサ光ファイバユニットの対象側の端部部分の外側包囲部に反射防止処理部が設けられることによって障害が抑制される。
【００１１】
ビームの結合を改善する別の可能性は、射出面に反射処理部を設けることである。
【００１２】
構造および機能に関しては、測定センサのセンサファイバとファイバ部分との間の部分透過性領域が、光学的なセンサ軸に関して射出角度で傾斜されている、センサファイバの射出面と、同様に光学的なセンサ軸に関して入射角度で傾斜されている、対象側に続くファイバ部分の入射面とを用いて形成されている構成が有利であり、この際射出面と入射面との間には楔状の空隙が形成されており、また射出面と入射面はセンサ軸に関して同一の方向に傾斜されている。
【００１３】
フレネル反射が生じるように射出角度および入射角度が選定されていることは有利な措置である。
【００１４】
信頼に足る測定結果のためのビーム伝送は、射出角度αが５°〜８°であり、入射角度がα〜０°であることによって有利なものとなる。
【００１５】
別の有利な構造においては、センサファイバおよびファイバ部分が測定センサの外側の管によって包囲されている細管状の収容部において軸方向に配向されて収容されており、収容部における測定対象とは反対側の端面にはセンサファイバを包囲し、且つ同様に管に同心に収容されている位置決め部が設けられており、またファイバ部分が収容部における対象側の前側の部分内に固定されており、またセンサファイバが収容部における対象とは反対側の後側の部分内および／または管内に固定されている。
【００１６】
さらに好適な構造は、収容部の前側の部分が収容部の後側の部分から直径方向において対向する隙間によって分離されており、一方の隙間が後側においてセンサファイバの傾斜された射出面の延長部分において区切られており、他方の隙間が前側において傾斜された入射面の延長部分において区切られており、収容部の前側の部分および後側の部分は共通のカプセル状の保持リングによって包囲されており、この保持リングは外面が管によって包囲されており、ファイバ部分の前側の部分がこのファイバ部分の後側の部分に比べて小さい直径を有することによって達成される。
【００１７】
変調干渉計が少なくとも部分的に、光ファイバまたは集積された光学系の形態の偏光を維持する光導体構造を有する措置が有利な構造および信頼できる機能に寄与し、この際少なくとも１つのアームの光導体構造に分離されている。
【００１８】
図面
本発明を以下では図面を参照する実施例に基づき詳細に説明する。ここで
図１は変調干渉計および測定センサを備えた干渉測定装置の全体構造の概略図であり、
図２は図１に示した変調干渉計の詳細な構成を示し、
図３はビームのずれが表された測定センサおよび測定対象の断面図であり、
図４は測定センサのファイバ部分の概略的な断面図であり、
図５は測定センサの前側の部分の概略的な断面図であり、
図６は測定センサの前側の部分の別の実施例の概略的な断面図である。
【００１９】
実施例
図１に示されているように、ヘテロダイン干渉法の原理に基づく干渉測定装置は広帯域で短コヒーレントな光源１を有し、この光源１のビームはいわゆる変調干渉計２に供給される。図２に詳細に示されている変調干渉計２ではビームｓ（ｔ）が第１のビームスプリッタ２．３において第１のアームを介して供給される部分ビームｓ１（ｔ）を有する第１の部分ビーム２．１と、第２のアームを介して供給される部分ビームｓ２（ｔ）を有する第２の部分ビーム２．１′とに分割され、出力側では別のビームスプリッタ２．１０において再び統合されて、このビームスプリッタ２．１０から光ファイバ装置６を介して離れた位置にある測定センサ３へと導かれる。例えばフィゾー干渉計またはミロー干渉計として、冒頭で述べた刊行物に詳細に述べられているように構成されている測定センサ３からはビームが引き続き別の光ファイバ装置７を介して、ビーム分解ユニット４．１とこのビーム分解ユニット４．１に接続されている光電式受信器４．２とを備えた受信装置４に達し、この受信装置４において電気信号への変換が行われる。この受信装置４に接続されている位相検出器５．１および計算ユニット５．２を備えた評価ユニット５においては測定センサ３を用いて検出された測定表面の特性（例えば粗さ、形状、距離）が算出される。
【００２０】
変調干渉計２はマッハ・ツェンダー干渉計として構成されており、第１のビームスプリッタ２．３に接続されている２つのアームは第１ないし第２の入力側光ファイバ２．１１，２．１１′および第１ないし第２の出力側光ファイバ２．１２，２．１２′を有し、この出力側光ファイバ２．１２，２．１２′は別のビームスプリッタ２．１０に案内される。第１のビームスプリッタ２．３は光ファイバ内に構成されており、この光ファイバによって光源１から到来するビームが案内される。そのように形成された結合器の出力側においては部分ビームがレンズ状の結合素子２．４，２．４′を用いて視準され、この視準された２つの部分ビームは、例えば音響光学変調器、ファイバ光学的なピエゾ変調器または熱的な位相変調器である第１ないし第２の変調ユニット２．２，２．２′を通過する。変調ユニット２．２，２．２′は有利には集積された光学的な構成素子として構成することができる。
【００２１】
色分散を修正するために部分ビーム２．１，２．１′のうちの少なくとも１つはガラス板２．７′を通過し、このガラス板２．７′は第１ないし第２の光区間２．５，２．５′内に配置されている。ガラス板２．７′の配置について選択および／またはこのガラス板２．７′の厚さの選択は計算により決定される。さらなる経過において、第１の部分ビーム２．１および第２の部分ビーム２．１′は第１ないし第２のレンズ状光導体素子２．６，２．６′に導かれ、第１ないし第２の出力側光ファイバ２．１２，２．１２′に入力結合される。第１の出力側光ファイバ２．１２または第２の出力側光ファイバ２．１２′は、２つのアームの光学的な経路差ΔＬ＝Ｌ２−Ｌ１がフィルタ４．３および４．３′の通過後の短コヒーレントなビームｓ（ｔ）のコヒーレンス長よりも大きい程度に他方の光ファイバよりも長い光路長を有する。
【００２２】
レンズ状の結合素子２．４，２．４′または光導体素子２．６，２．６’のうちの１つ、例えば光導体素子２．６′を調整装置に取り付けることができ、この調整装置を用いて光学的な経路差ΔＬを手でもってまたはモータを用いて例えばマイクロメータ的なものを使用して、２つのアームの経路差ΔＬが測定センサ３の経路差に調節され、測定センサ３でもって干渉が生じるように変位させることができる。使用される光導体位相２．１１，２．１１′，２．１２，２．１２′は単一モードである。さらにはこれらの光導体位相は殊に、光源１が偏光されている場合、および／または、変調ユニット２．２，２．２′が複屈折の結晶からなる場合、および／または、結合個所における取り付けが２つの干渉計アームにおける偏光方向に関して満足な安定性をもたらさない場合には偏光が維持される。光学的な経路差を達成するために例えば第２の出力側光ファイバ２．１２′内に光学的な迂回路２．９′が設けられている。
【００２３】
例えばフィゾー干渉計またはミロー干渉計として構成されている、光学表面を検出するために使用されるセンサ３は参照平面を有する参照分岐と、対象表面に案内される測定分岐とを有し、これらの分岐の光学的な経路差は、変調干渉計２内で形成された光学的な経路差が補償さることにより、対象表面から到来する測定ビームと参照平面から到来する参照ビームは重畳した際に干渉するよう選択される。干渉ビームは異なる波長の成分へとスペクトル的に分割するためにビーム分解ユニット４．１に供給され、続けて所属の光電式受信器４．２に供給される。干渉ビームおよびこの干渉ビームから得られる電気信号からは、位相差の評価により所望の表面特性が位相検出器５．１およびこの位相検出器５．１に接続されている計算ユニット５．２を用いて算出される。評価された位相差は第１の変調ユニット２．２および／または第２の変調ユニット２．２′でもって形成された周波数差によって生じたものであり、この周波数差はヘテロダイン方法に応じて基本周波数に関して比較的僅かなものである。計算は次式に従い行われる：
Δφ＝２Π・（２ｅ／Λ）＋φ０
ここで、
φ０は定数であり、
Λ＝λ１・λ２／（λ２−λ１）で測定装置の合成波長であり、
λ１は第１の光電式受信器における波長であり、
λ２は第２の光電式受信器における波長であり、
ｅは測定距離である。
これにより評価ユニット５を用いて、測定個所における表面のその都度検知される距離が次式により検出される：
ｅ＝Δφ／（２π）・（Λ／２）。
【００２４】
すなわち距離範囲ｅは２つの電気信号の間の位相を測定することにより検出されるので測定はフォトダイオードによって受信される光学強度に依存しない。
【００２５】
図３は単一モード光ファイバを備えたミロー干渉計として実施されている測定センサのファイバ部分と、到来するビームｓ２（ｔ）とｓ１（ｔ）の経路のずれならびに、センサファイバ３．１における対象側の射出面３．３１とファイバ部分３．２における対象とは反対側の入射面３．３２との間の部分透過性領域３．３および測定対象８の表面から戻ってくるビーム成分ｒ１′（ｔ）、ｒ１（ｔ）、ｒ２（ｔ）およびｒ２′（ｔ）が示されている。ビーム成分ｒ１′（ｔ）およびｒ１（ｔ）は変調干渉計２の迂回路のない分岐を通過したビームｓ１（ｔ）から生じるものであり、ビーム成分ｒ１′（ｔ）は部分透過性の領域３．３によって反射され、またビーム成分ｒ１（ｔ）は測定対象８の表面によって反射される。これに対して戻ってくるビーム成分ｒ２（ｔ）およびｒ２′（ｔ）は光学的な迂回路を通過した測定干渉計２のビームｓ２（ｔ）から生じるものであり、戻ってくるビーム成分ｒ２（ｔ）は部分透過性の領域３．３において反射されており、また戻ってくるビーム成分ｒ２′（ｔ）は測定対象８の表面において反射されている。変調干渉計２において形成される経路差ΔＬの測定センサ３による補償に応じて、戻ってくるビーム成分ｒ１（ｔ）およびｒ２（ｔ）のみがコヒーレンス長内にあり、相互に干渉する。
【００２６】
ファイバ部分３．２の対象側の射出面３．４は図３による実施例では、有利には光学的なセンサ軸３．５に関して４５°の角度にある。射出面３．４には反射性で金属性または誘電性のコーティングが被着されている。ビームはこのようにして実質的に直角に偏光され、対象を包囲している表面に向けられ、この表面から反射されたビームは射出面３．４を介して再び光ファイバに入射する。
【００２７】
図４から図６に示されているように、センサファイバ３．１の射出面３．３１とファイバ部分３．２の入射面３．３２との間の部分透過性領域３．３は、射出面３．３１をセンサ軸３．５の法線に関して角度αだけ傾斜させ、且つファイバ部分３．２の入射面３．３２をセンサ軸３．５の法線に関してβだけ傾斜させることにより形成される。この際角度αは角度βより大きく、また射出面３．３１と入射面３．３２との間には楔状の空隙が生じる。法線に関する傾斜の配向は縦断面における射出面３．３１および入射面３．３２では同じように対象に向かって方向付けられている。射出面３．３１の角度αは、射出面３．３１におけるフレネル反射のビーム流がセンサファイバ３．１を通過しないように選定されている。０．１２の開口数を有する単一モードの光ファイバに関しては、角度αは有利には約６°である。角度βはファイバ部分３．２の入射面３．３２におけるフレネル反射のビーム流がセンサファイバ３．１を通過するように選定されており、この際センサファイバ３．１に入力結合されるべきビーム流の程度が考慮される。
【００２８】
角度βが０°である場合には結合率は約３．６％である。角度βが角度αに近づくと結合率は０に近づく。角度βが角度αに近づくとこの経過に関する透過率および反射ビームはおよそ８６％になる。これに対して角度βが０である場合には、透過は約６０％である。０．１２の開口数は例えば波長が１５５０ｎｍ、直径が１０．４μｍである場合に生じる。角度αは約５°よりも小さくならないように選定されるべきである。
【００２９】
射出面７における全反射を達成するために射出角度γが拡大される場合には、ファイバ部分３．２の射出面３．４の反射処理を軽減または省略することができる。このことは例えば０．１２の開口数を有する単一モード光ファイバにおいて、射出角度γが４８°以上の場合である。
【００３０】
ファイバ部分３．２の対象側の端部領域では、フレネル反射に対する感度を低減するために外側処理部（クラッディング）に反射防止処理部３．２２を設けることができるか、射出角度γをこの反射のビーム流がもはやファイバ部分３．２に入力結合されない程度に拡大できる。
【００３１】
図５に示されているように、センサファイバ３．１およびファイバ部分３．２を同一の細管状の収容部３．６内に収容でき、また接触させることができる。収容部３．６は単一モードの光ファイバのコネクタに使用されるようなものである。収容部３．６はこの収容部３．６を包囲する測定センサ３の管３．９内に挿入されている。さらに管３．９の内部では収容部３．６における対象とは反対側の端面に接続されている、センサファイバ３．１のガイドおよび事前調整のための位置決め部３．７が設けられている。ファイバ部分３．２は収容部の内部において接着剤３．８′を用いて固定されており、他方センサファイバ３．１は収容部３．６および／または位置決め部３．７に接着剤３．８を用いて固定されている。
【００３２】
センサ３内のセンサファイバ３．１およびファイバ部分３．２の配向および設定に関する別の方式が図６に示されている。センサファイバ３．１は細管状の収容部３．６の後側の部分３．６′に挿入され、収容部部分３．６′の前側の端面とセンサファイバ３．１の射出面３．３１の前側の端面は所望の角度で研磨される。センサファイバ３．１の最も前側のエッジの領域における前側の端面はセンサファイバ３．１の光学軸３．５に対して垂直に配向されている。相応にして、収容部３．６の前側の部分３．６′′の後側の端面はファイバ部分３．２の所望の入射面３．３２に応じて研磨され、ファイバ部分３．２の後側の端部に接する、収容部３．６の前側の部分３．６′′の後側の端面の領域はセンサファイバ３．１の光学軸３．５に対して垂直に配向されている。このような場合収容部３．６の後側の部分３．６′と前側の部分３．６′′との間には縦断面において図６に示した配置構成が生じる。収容部３．６の２つの部分３．６′および３．６′′は例えばスリットが形成された保持リング３．１０が被着されることによって相互に軸方向に配向されており、また管３．９内に挿入される。さらに管３．９内ではここでもまた収容部３．６の後側の端面に接して、図５の実施例と同様に、センサファイバ３．１の調整および事前固定のための同心の位置決め部３．７が挿入されている。接着剤３．８，３．８′を用いるセンサファイバ３．１およびファイバ部分３．２の固定も図５の実施例に相応にして行われ、この際ファイバ部分３．６は収容部３．６の前側の部分３．６′′内に固定される。
【００３３】
収容部３．６の部分３．６′および３．６′′を、これらの部分がＶ字型のプロフィールで取り付けられるように配向することも可能である。収容部３．６の２つの部分３．６′、３．６′′を別個に取り付けることによって、測定センサ３の最も外側の端部を固定的且つ測定対象の特性に応じて変更することができ、このセンサファイバ３．１は保持される。
【００３４】
さらに図４から図６が示しているように、ファイバ部分３．２の外側の部分は直径が縮小されており、その結果この外側の部分を測定対象８において１３０μｍより小さい直径を有する狭い孔にも挿入することができる。通常の場合、外側処理部（クラッディング）を有する単一モードの光ファイバの直径は１２５μｍである。相応の酸を用いる化学的な処理または加熱処理によって直径を縮小することができ所望の事前調整部３．２１が得られる。この場合反射防止処理部３．２２はより小さい直径の部分内に設けられている。この措置も、測定対象８の狭い窪みにおいても確実な測定を実施できることに寄与する。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】変調干渉計および測定センサを備えた干渉測定装置の全体構造の概略図。
【図２】図１に示した変調干渉計の詳細な構成。
【図３】ビームのずれも表されている測定センサおよび測定対象を断面図。
【図４】測定センサのファイバ部分の概略的な断面図。
【図５】測定センサの前部区間の概略的な断面図。
【図６】測定センサの前部区間の概略的な断面図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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