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【手続補正書】
【提出日】令和1年6月26日(2019.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示手段に表示される画像の輝度を測定するための測定手段から測定値を取得する第１取得手段と、
前記測定値に基づいて出力ダイナミックレンジを設定する設定手段と、
前記出力ダイナミックレンジに基づいて入力画像の階調値を変換して、出力画像を生成する画像処理手段と、
前記出力画像を前記表示手段に出力する出力手段と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記画像処理手段は、前記入力画像の階調値のうち、前記出力ダイナミックレンジに含まれない輝度に対応する階調値を、所定の階調値に変換し、前記出力ダイナミックレンジに含まれる輝度に対応する階調値を前記所定の階調値以下の階調値に変換することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記所定の階調値は、前記出力画像がとりうる最大の階調値であることを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記測定値は、少なくとも前記測定手段が前記輝度を測定する位置に全白画像が表示される画像を前記表示手段が表示している場合に、前記測定手段が取得した測定値であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記入力画像のとりうる輝度関連値の範囲である入力ダイナミックレンジを示す情報を取得する第２取得手段をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記設定手段は、前記表示手段における表示輝度と前記輝度関連値との関係を示す情報に基づいて、前記測定値に対応する輝度関連値を上限とする前記出力ダイナミックレンジを決定することを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記画像処理手段は、前記入力画像のうち前記出力ダイナミックレンジに含まれる輝度関連値に対応する領域の前記出力画像における階調特性が、前記入力画像のうち前記出力ダイナミックレンジに含まれない輝度関連値に対応する領域の前記出力画像における階調特性よりも、前記入力画像における階調特性に近くなるように、前記出力画像を生成することを特徴とする請求項５または請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記画像処理手段は、前記入力画像のうち前記出力ダイナミックレンジより狭い対象ダイナミックレンジに含まれる輝度関連値に対応する領域の前記出力画像における階調特性が、前記入力画像のうち前記対象ダイナミックレンジに含まれない輝度関連値に対応する領域の前記出力画像における階調特性を、前記対象ダイナミックレンジに含まれる輝度関連値に対応する領域よりも、前記入力画像における階調特性に近くなるように、前記出力画像を生成することを特徴とする請求項５乃至請求項７のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記輝度関連値は、光が物体で反射する際の反射率である
ことを特徴とする請求項５乃至請求項８のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記輝度関連値は、輝度を示す値である
ことを特徴とする請求項５乃至請求項８のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１１】
前記画像処理手段は、前記出力ダイナミックレンジの取り得る最大の輝度関連値および前記測定値のうち少なくとも一方を示すグラフィック画像を、前記出力画像に合成して出力することを特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか１項に記載の前記画像処理装置と、
前記表示手段と、
を備える表示装置。
【請求項１３】
前記測定手段をさらに備える請求項１２に記載の表示装置。
【請求項１４】
表示手段に表示される画像の輝度を測定するための測定手段から測定値を取得する取得工程と、
前記測定値に基づいて出力ダイナミックレンジを設定する設定工程と、
前記出力ダイナミックレンジに基づいて入力画像の階調値を変換して出力画像を生成する画像処理工程と、
前記出力画像を前記表示手段に出力する出力工程と、
を備えることを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１４のいずれか１項に記載の画像処理装置の動作を実現するために演算処理装置が実行するプログラム。
【請求項１６】
請求項１５に記載のプログラムを記憶し、演算処理装置が読取可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の画像処理装置は、表示手段に表示される画像の輝度を測定するための測定手段から測定値を取得する第１取得手段と、前記測定値に基づいて出力ダイナミックレンジを設定する設定手段と、前記出力ダイナミックレンジに基づいて入力画像の階調値を変換して、出力画像を生成する画像処理手段と、前記出力画像を前記表示手段に出力する出力手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月26日(2019.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板に設けられた反射防止膜と、を備える光学素子であって、
前記反射防止膜は、
空隙を含み厚さ方向に屈折率が均一である第１の領域と、
前記第１の領域に対して前記基板とは反対側に設けられた第２の領域と、を有し、
前記第２の領域の屈折率は前記基板から離れるにつれて大きくなることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
前記第１の領域の屈折率をｎ１、前記第２の領域において前記基板から最も離れた位置における屈折率をｎ２としたとき、ｎ２はｎ１よりも大きく、
１．１≦ｎ１≦１．３
１．２５≦ｎ２≦１．４
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
前記第１の領域の厚みをｄ１［ｎｍ］、前記第２の領域の厚みをｄ２［ｎｍ］としたとき、
５０≦ｄ１≦１３０
５≦ｄ２≦５０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１または２に記載の光学素子。
【請求項４】
前記第２の領域において前記基板に最も近い位置における屈折率は、前記第１の領域の屈折率と等しいことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項５】
前記第２の領域は有機フッ素化合物を含んでいることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項６】
前記第２の領域に対して前記第１の領域とは反対側に、厚さ方向に屈折率が均一である第３の領域を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項７】
前記第３の領域の厚みをｄ３［ｎｍ］としたとき、
０＜ｄ３≦１０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項６に記載の光学素子。
【請求項８】
前記第３の領域は有機フッ素化合物を含んでいることを特徴とする請求項６または７に記載の光学素子。
【請求項９】
前記第２の領域において前記基板から最も離れた位置における屈折率は、前記第３の領域の屈折率と等しいことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１０】
前記第１の領域と前記基板の間には、前記第１の領域の屈折率よりも大きな高屈折率層と、屈折率が前記第１の領域よりも大きく前記高屈折率層よりも小さな低屈折率層が設けられていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１１】
前記第２の領域は空隙を含んでいることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１２】
前記第２の領域は、鎖状形状の微粒子を含んでいることを特徴とする請求項１１に記載の光学素子。
【請求項１３】
前記第２の領域は、微粒子と、前記微粒子同士を結合するバインダを含んでいることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１４】
前記微粒子は無機酸化物の微粒子であることを特徴とする請求項１２または１３に記載の光学素子。
【請求項１５】
前記第１の領域は、鎖状形状の微粒子を含んでいることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１６】
前記第１の領域は、微粒子と、前記微粒子同士を結合するバインダを含んでいることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の光学素子。
【請求項１７】
前記微粒子は無機酸化物の微粒子であることを特徴とする請求項１５または１６に記載の光学素子。
【請求項１８】
複数の光学素子を備え、
前記光学素子のうちの少なくとも一つは請求項１乃至１７のいずれか一項に記載の光学素子であることを特徴とする光学系。
【請求項１９】
撮像素子と、請求項１８に記載の光学系を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項２０】
撮像装置本体に対して着脱可能であり、請求項１８に記載の光学系を有することを特徴とするレンズ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の光学素子は、基板と、前記基板に設けられた反射防止膜と、を備える光学素子であって、前記反射防止膜は、空隙を含み厚さ方向に屈折率が均一である第１の領域と、前記第１の領域に対して前記基板とは反対側に設けられた第２の領域と、を有し、前記第２の領域の屈折率は前記基板から離れるにつれて大きくなることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月23日(2019.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
音波を出力し且つ音波を受信する音波出力素子が実装された基板と、
前記基板が取り付けられる台座と、
前記台座が取り付けられるフレームと、を備え、
前記台座の材質の音響インピーダンスは、前記フレームの材質の音響インピーダンスとは異なる、ことを特徴とする電子機器。
【請求項２】
前記台座の材質の音響インピーダンスは、前記基板の材質の音響インピーダンスとは異なる、ことを特徴とする請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記台座の材質は、合成樹脂素材であり、前記フレームの材質は、金属素材である、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電子機器。
【請求項４】
前記台座の材質は、金属素材であり、前記フレームの材質は、合成樹脂素材である、ことを特徴とする請求項１乃至２の何れか１項に記載の電子機器。
【請求項５】
前記台座の材質は、非導電性素材であり、前記フレームの材質が導電性素材であり、
前記基板及び前記フレームに接触する導電性部材をさらに有する、ことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の電子機器。
【請求項６】
前記導電性部材は、導電性のテープである、ことを特徴とする請求項５に記載の電子機器。
【請求項７】
前記導電性部材は、導電性の板バネである、ことを特徴とする請求項５に記載の電子機器。
【請求項８】
前記電子機器は、第１電力状態と前記第１電力状態よりも電力消費の少ない第２電力状態とを有し、
前記音波出力素子が受信した音波の強度に基づいて、前記電子機器の電力状態を前記第２電力状態から前記第１電力状態に移行する制御手段をさらに有する、ことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の電子機器。
【請求項９】
用紙に画像を印刷する印刷手段をさらに備える、ことを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の電子機器。
【請求項１０】
原稿の画像を読み取る読取手段をさらに備える、ことを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の電子機器。
【請求項１１】
音波を出力し且つ音波を受信する音波出力素子を基板に実装する工程と、
前記基板を台座に取り付ける工程と、
前記台座をフレームに取り付ける工程と、を有し、
前記台座の材質の音響インピーダンスは、前記フレームの材質の音響インピーダンスとは異なる、ことを特徴とする電子機器の製造方法。
【請求項１２】
前記台座の材質の音響インピーダンスは、前記基板の材質の音響インピーダンスとは異なる、ことを特徴とする請求項１１に記載の電子機器の製造方法。
【請求項１３】
前記台座の材質は、合成樹脂素材であり、前記フレームの材質は、金属素材である、ことを特徴とする請求項１１又は１２に記載の電子機器の製造方法。
【請求項１４】
前記台座の材質は、金属素材であり、前記フレームの材質は、合成樹脂素材である、ことを特徴とする請求項１１乃至１２の何れか１項に記載の電子機器の製造方法。
【請求項１５】
前記台座の材質は、非導電性素材であり、前記フレームの材質が導電性素材であり、
前記基板及び前記フレームに接触する導電性部材を取り付ける工程をさらに有する、ことを特徴とする請求項１１乃至１３の何れか１項に記載の電子機器の製造方法。
【請求項１６】
前記導電性部材は、導電性のテープである、ことを特徴とする請求項１５に記載の電子機器の製造方法。
【請求項１７】
前記導電性部材は、導電性の板バネである、ことを特徴とする請求項１５に記載の電子機器の製造方法。
【請求項１８】
前記電子機器は、第１電力状態と前記第１電力状態よりも電力消費の少ない第２電力状態とを有し、
前記音波出力素子が受信した音波の強度に基づいて、前記電子機器の電力状態を前記第２電力状態から前記第１電力状態に移行する制御手段を取り付ける工程をさらに有する、ことを特徴とする請求項１１乃至１７の何れか１項に記載の電子機器の製造方法。
【請求項１９】
用紙に画像を印刷する印刷手段を取り付ける工程をさらに有する、ことを特徴とする請求項１１乃至１８の何れか１項に記載の電子機器の製造方法。
【請求項２０】
原稿の画像を読み取る読取手段を取り付ける工程をさらに有する、ことを特徴とする請求項１１乃至１９の何れか１項に記載の電子機器の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の電子機器は、音波を出力し且つ音波を受信する音波出力素子が実装された基板と、前記基板が取り付けられる台座と、前記台座が取り付けられるフレームと、を備え、前記台座の材質の音響インピーダンスは、前記フレームの材質の音響インピーダンスとは異なる、ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子機器、及びその製造方法
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電子機器、及びその製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月26日(2019.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＮＣ制御された工作機械の送り軸において、前記送り軸の正常状態とした周波数特性の基準値と測定時の周波数特性とを比較照合し、前記送り軸の異常を判定することを特徴とする送り軸の異常判定方法。
【請求項２】
前記送り軸の正常状態とした周波数特性の基準値と測定時の周波数特性との比較照合に係り、前記送り軸の正常状態とした周波数特性の基準値と測定時の周波数特性のゲインの差を求めることにより、前記送り軸の異常を判定することを特徴とする請求項１に記載の送り軸の異常判定方法。
【請求項３】
特定の周波数に対する応答性と送り軸の軸位置とを関連付けて取得しており、前記軸位置に関連した応答性の正常状態とする基準値と測定時の応答性とのゲインの差を求めることにより、前記送り軸の異常の判定することを特徴とする請求項２に記載の送り軸の異常判定方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明のうち請求項１に記載の発明は、ＮＣ制御された工作機械の送り軸において、前記送り軸の正常状態とした周波数特性の基準値と測定時の周波数特性とを比較照合し、前記送り軸の異常を判定することを特徴とする。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記送り軸の正常状態とした周波数特性の基準値と測定時の周波数特性との比較照合に係り、前記送り軸の正常状態とした周波数特性の基準値と測定時の周波数特性のゲインの差を求めることにより、前記送り軸の異常を判定することを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、特定の周波数に対する応答性と送り軸の軸位置とを関連付けて取得しており、前記軸位置に関連した応答性の正常状態とする基準値と測定時の応答性とのゲインの差を求めることにより、前記送り軸の異常の判定することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
前記ブロック図の一例では応答を前記速度検出値と、入力を速度偏差とするオープンループ周波数特性と入力を速度指令値としたクローズドループ周波数特性が取得できる。本発明では前者オープンループ制御系の周波数特性を送り軸の異常判定方法に用いる一例として述べるが、これに限ることではない。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月24日(2019.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
音波を出力する音波出力部を備え、前記音波出力部が出力した音波の反射波に基づいて電力状態を変更する情報処理装置であって、
前記音波出力部から出力される音波の出力方向を制限する筒状のホーンを備え、
前記情報処理装置の筐体の前記筒状のホーンの開口部に対応する部分に、前記ホーンの開口部の水平方向の長さより長く且つ水平方向に沿って連続するスリットが形成されている、ことを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記情報処理装置の筐体の前記筒状のホーンの開口部に対応する部分には、前記スリットが複数形成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記複数のスリットは、３つのスリットである、ことを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記複数のスリットは、平行である、ことを特徴とする請求項２又は３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記複数のスリットは、垂直方向に沿って並んでいる、ことを特徴とする請求項２又は３に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記ホーンの開口部の周囲には、前記開口部を囲む緩衝部材が取り付けられている、ことを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記スリットは、前記緩衝部材の開口部の水平方向の長さより短い、ことを特徴とする請求項６に記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記音波出力部は、出力した音波の反射波を受信し、受信した前記反射波に基づく電気信号を出力する、ことを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記音波出力部は、受信した前記反射波の音圧に対応する電圧を出力する、ことを特徴とする請求項８に記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記電気信号に基づいて前記情報処理装置の電力状態を変更する変更手段をさらに備える、ことを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１１】
前記ホーンは、前記筐体側に向かって広がる開口部を有し、前記ホーンの開口部とは、前記筐体側の開口部である、ことを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１２】
用紙に画像を印刷する印刷部をさらに備える、ことを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の情報処理装置。
【請求項１３】
音波を出力する音波出力部が実装された基板を準備する工程と、
前記音波出力部から出力される音波の出力方向を制限する筒状のホーンを配置する工程と、
前記筒状のホーンの開口部に対応する部分に、前記ホーンの開口部の水平方向の長さより長く且つ水平方向に沿って連続するスリットを形成する工程と、を有することを特徴とする情報処理装置の製造方法。
【請求項１４】
前記スリットを形成する工程は、前記情報処理装置の筐体にスリットを形成する工程である、ことを特徴とする請求項１３に記載の情報処理装置の製造方法。
【請求項１５】
前記スリットを形成する工程は、複数のスリットを形成する工程である、ことを特徴とする請求項１３又は１４に記載の情報処理装置の製造方法。
【請求項１６】
前記ホーンの開口部の周囲に、前記開口部を囲む緩衝部材が取り付ける工程をさらに有する、ことを特徴とする請求項１３乃至１５の何れか１項に記載の情報処理装置の製造方法。
【請求項１７】
前記スリットは、前記緩衝部材の開口部の水平方向の長さより短い、ことを特徴とする請求項１６に記載の情報処理装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理装置及び情報処理装置の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、情報処理装置及び情報処理装置の製造方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の情報処理装置は、音波を出力する音波出力部を備え、音波出力部が出力した音波の反射波に基づいて電力状態を変更する情報処理装置であって、音波出力部から出力される音波の出力方向を制限する筒状のホーンを備え、情報処理装置の筐体の筒状のホーンの開口部に対応する部分に、ホーンの開口部の水平方向の長さより長く且つ水平方向に沿って連続するスリットが形成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月29日(2019.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この発明によれば、半導体素子を、通電加圧プローブと接触する第１の間材より板厚が薄い第２の間材と第３の間材との間で通電加圧することにより、半導体素子が直接加圧板および冷却板と接触することが無くなり、間材が緩衝材としての役割を果たすことで、半導体素子表面を傷つけることを抑制することができる上に、半導体素子と加圧板および冷却板との溶着を抑制することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
第３の間材１６、第２の間材１７、および第１の間材１８の材質としては、電気伝導度が高く、耐熱性を有し、耐摩耗性を有する物質であればよく、例えば、銅またはアルミニウム等が用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本件発明では、第１の間材１８、第２の間材１７、および第３の間材１６を用いることにより、半導体素子が直接加圧板および冷却板と接触することが無くなり、間材が緩衝材としての役割を果たすことで、通電加圧を行う際、半導体素子表面を傷つけることを抑制することができる上に、半導体素子と加圧板および冷却板との溶着を抑制することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
冷却板５は、位置決めガイド１９により位置決めされた半導体素子１５に生じる通電時の発熱を第３の間材１６を介して、冷却板５の中央部に設けられた凸部５ａから伝えて冷却を行う。冷却板５の材質としては、電気的な接続も必要であることから、電気伝導度および熱伝導度が高く、耐熱性を有し、耐摩耗性を有する物質であればよく、例えば、銅またはアルミニウム等が用いられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
位置決めガイド１９は、中央部に穴１９ａが設けられ、穴１９ａにより半導体素子１５および第３の間材１６の位置決めをする。位置決めガイド１９の材質としては、半導体素子１５への通電を分流させないようにするため、絶縁性、耐熱性、および耐摩耗性を有する物質であればよく、例えば、銅またはアルミニウム等が用いられる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
なお、位置決めガイド１９は、セラミック系の高分子材料に限るわけではなく、金属材料の表面を絶縁コーティングしたものを用いてもよい。例えば、金属材料に絶縁テープ、セラミックコーティング、またはガラスコーティング等をしたものが挙げられる。これにより、安価に、電流の分流等、通電検査のプロセスに悪影響を及ぼす可能性を低減することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
なお、加圧板７の材質としては、通電加圧プローブ６への電気的な接続と、発熱した通電加圧プローブ６を冷却するために、電気伝導度が高く、耐熱性を有し、耐摩耗性を有する物質であればよく、例えば、銅またはアルミニウム等が用いられる。また、通電加圧プローブ６の材質も同様に、電気伝導度が高く、耐熱性および耐摩耗性を有し、且つ加圧するために一定の耐荷重を有する物質であればよく、例えば、ジェラコン、真鍮、ＳＵＳ等が用いられる。通電加圧プローブ６は、一本あたりの荷重と電流密度に耐えることができれば、一本で通電加圧してもよく、また複数本で実施することも可能である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
通電加圧プローブ６を下降させて、図４（ｂ）に示すように、通電加圧対象群４の第１の間材１８の上面に接触させた後、所定の加圧力に到達したならば、通電を開始する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
以上のように、本発明の実施の形態１にかかる通電検査装置５００によれば、半導体素子１５を位置決めする穴１９ａを中央部に有する位置決めガイド１９と、位置決めされた半導体素子１５の表面に対応する位置で、通電加圧プローブ６と表面で接触する第１の間材１８と、第１の間材１８の裏面と表面で接触し、位置決めガイド１９の中央部の穴１９ａの周縁部および位置決めされた半導体素子１５の表面と裏面で接触する、第１の間材１８より板厚が薄い第２の間材１７と、位置決めガイド１９の中央部の穴１９ａで位置決めされ、位置決めされた半導体素子１５の裏面と表面で接触する第３の間材１６と、位置決めガイド１９の裏面側から位置決めガイド１９の穴１９ａに嵌合する凸部５ａを有し、位置決めガイド１９の裏面に接触し、凸部５ａが第３の間材１６の裏面に接触する冷却板５とを備えるようにしたので、半導体素子が直接加圧板および冷却板と接触することが無くなり、間材が緩衝材としての役割を果たすことで、通電加圧を行う際、半導体素子表面を傷つけることを抑制することができる上に、半導体素子と加圧板および冷却板との溶着を抑制することができる。また、半導体素子と間材との溶着が発生した時は、間材を半導体素子から剥がすのみで対応可能なため、加圧板と冷却板の交換をする必要がなくなり、段取り替え時間の抑制につながる。さらに、ランニングコスト的にも、加圧板と冷却板を毎回交換するのに比べれば、コスト低減にもつながる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
５  冷却板、５ａ  凸部、６  通電加圧プローブ、１５  半導体素子、１６  第３の間材、１７  第２の間材、１８  第１の間材、１９  位置決めガイド、１９ａ  穴、２４  第２の供給ボビン、２５、２６  第１の供給ボビン、２７  第２の回収ボビン、２８  第１の回収ボビン、２９、３０  第１の中間ボビン、３１、３２  第２の中間ボビン、１６０  第３の間材、１７０  第２の間材、１８０  第１の間材、５００、５１０  通電検査装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月9日(2019.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物を含む撮像領域が第１撮像部により撮像された第１撮像画像と、前記撮像領域が第２撮像部により撮像された第２撮像画像とに基づいて前記対象物の三次元形状を計測する三次元計測装置であって、
前記第１撮像画像と前記第２撮像画像に基づいて、前記第１撮像画像内において所定処理を行う対象となる第１対象領域のうち所定条件を満たす第１領域の大きさと、前記第２撮像画像内において前記所定処理を行う対象となる第２対象領域のうち前記所定条件を満たす第２領域の大きさとの少なくとも一方に基づいて、前記第１撮像部及び前記第２撮像部が前記対象物を撮像する際の撮像条件を変化させ三次元計測する、
三次元計測装置。
【請求項２】
前記第１対象領域を前記第１領域の大きさに応じて変化させ、前記第２対象領域を前記第２領域の大きさに応じて変化させる、
請求項１に記載の三次元計測装置。
【請求項３】
前記第１領域の大きさは、前記第１領域に含まれる画素数によって表され、
前記第２領域の大きさは、前記第２領域に含まれる画素数によって表される、
請求項１又は２に記載の三次元計測装置。
【請求項４】
前記撮像条件は、前記第１撮像部と前記第２撮像部との少なくとも一方の撮像に関するパラメーターである撮像パラメーターによって表され、
前記第１領域の大きさと前記第２領域の大きさとの少なくとも一方に基づいて、前記撮像パラメーターを変化させる、
請求項１から３のうちいずれか一項に記載の三次元計測装置。
【請求項５】
前記第１対象領域に対する前記第１領域の大きさの割合と、前記第２対象領域に対する前記第２領域の大きさの割合との少なくとも一方に基づいて前記撮像パラメーターを変化させる、
請求項４に記載の三次元計測装置。
【請求項６】
前記撮像領域には、投射部から投射画像が投射され、
前記撮像条件は、前記投射部の投射に関するパラメーターである投射パラメーターによって表され、
前記第１領域の大きさと前記第２領域の大きさとの少なくとも一方に基づいて、前記投射パラメーターを変化させる、
請求項１から５のうちいずれか一項に記載の三次元計測装置。
【請求項７】
前記第１対象領域に対する前記第１領域の大きさの割合と、前記第２対象領域に対する前記第２領域の大きさの割合との少なくとも一方に基づいて前記投射パラメーターを変化させる、
請求項６に記載の三次元計測装置。
【請求項８】
前記所定条件は、第１所定閾値以上の輝度値の画素のみを含む領域であって所定大きさ以上の大きさの当該領域であることと、第２所定閾値以下の輝度値の画素のみを含む領域であって所定大きさ以上の大きさの当該領域であることとのうち少なくとも一方である、
請求項１から７のうちいずれか一項に記載の三次元計測装置。
【請求項９】
前記第１領域及び前記第２領域は、白飛びが生じている領域である、
請求項１から８のうちいずれか一項に記載の三次元計測装置。
【請求項１０】
前記撮像条件を変化させた後に前記第１撮像部によって撮像された前記第１撮像画像と、前記撮像条件を変化させた後に前記第２撮像部によって撮像された前記第２撮像画像とに基づいて前記対象物の三次元形状を表す三次元点群を生成し、生成した三次元点群に基づいて前記対象物の位置及び姿勢を算出する、
請求項１から９のうちいずれか一項に記載の三次元計測装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】三次元計測装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
この発明は、三次元計測装置に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月26日(2019.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は上記実情に鑑みて提案されたもので、レール補修において、損傷が生じた部位だけを除去して溶接補修を行う場合に、冷却に伴う溶接補修部の落ち込みを防止するように、レール緊張を必要としないレールの矯正を行うレール補修部矯正方法及びレール補修部矯正装置を提供することを目的としている。
更には、レール頭頂面に凹みが生じた場合に、レール緊張器を必要としないでレール頭部を矯正するレール矯正方法を提供することを目的としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項８のレール補修部矯正装置は、
レール上方に載置してレールの矯正を行うレール矯正装置において、
前記レールの長手方向に長く形成された本体部と、
前記本体部の長手方向両側に設けた一対の油圧シリンダー部と、
前記各油圧シリンダー部から伸長し、レール頭部に当接可能に動作するシリンダー軸と、
前記本体部の側面に上部が固定され下方に延長される一対のアーム部と、
前記各アーム部の下端にレール側に折曲し、レール顎部を下方から支持するレール顎支持部と、
を備えたことを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月30日(2019.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々が複数の発光素子からなる少なくとも一つの光源列を備え、前記複数の発光素子の各々から射出される複数の光ビームからなる光線束を射出する光源ユニットと、
前記光源ユニットの後段に設けられ、複数の小レンズを備えた第１のフライアイレンズと、を備え、
前記少なくとも一つの光源列のうちの第１の光源列から射出された複数の第１の光ビームの各々の主光線は、前記複数の小レンズのうち互いに異なる小レンズにそれぞれ入射し、
前記複数の第１の光ビームのうち一つの光ビームの主光線と、前記複数の小レンズのうち当該主光線が入射する小レンズの光軸の位置関係は、前記第１の光源列にわたって非周期的である照明装置。
【請求項２】
前記複数の小レンズは、第１の方向と第２の方向とに沿って格子状に配列されており、
前記光線束が前記第１のフライアイレンズに入射するとき、前記複数の第１の光ビームは前記第１の方向に並んでおり、
前記複数の第１の光ビームの前記第１の方向における配列ピッチは、前記複数の小レンズの前記第１の方向における配列ピッチの非整数倍である、請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
前記光線束が前記第１のフライアイレンズへ入射する際、前記複数の小レンズが配列されている面と平行な断面における前記光線束の形状は、前記複数の小レンズが配列されている領域の形状と相似であり、
前記断面は、前記複数の小レンズが配列されている前記領域よりも小さい、請求項１または請求項２に記載の照明装置。
【請求項４】
前記光源ユニットは、前記少なくとも一つの光源列を支持する基材と、前記少なくとも一つの光源列のそれぞれに対応して設けられた少なくとも一つの反射素子と、をさらに備え、
前記第１の光源列が前記複数の第１の光ビームを射出する方向は、前記少なくとも一つの光源列が配列されている面と略平行であり、
前記少なくとも一つの反射素子の各々は、一つの反射面を有し、
前記少なくとも一つの反射素子のうち第１の反射素子は、前記第１の光源列から射出された前記複数の第１の光ビームが、前記第１の反射素子の前記反射面で反射されて前記第１のフライアイレンズに入射するように配置されている、請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の照明装置。
【請求項５】
前記第１のフライアイレンズの後段に設けられる第２のフライアイレンズと、
前記第２のフライアイレンズの後段に設けられた集光レンズと、をさらに備える、請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の照明装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の照明装置と、
前記照明装置から射出された光を画像情報に応じて変調する光変調装置と、
前記光変調装置により変調された光を投射する投射光学系と、を備えた、プロジェクター。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月1日(2019.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス板と、
シリカを主成分とするバインダー、前記バインダーによって固定されたシリカ微粒子、及び前記バインダーによって固定されたチタニア微粒子を含み、前記ガラス板の一方の主面の少なくとも一部に形成された低反射コーティングと、を備え、
前記低反射コーティングにおける、前記シリカ微粒子の含有率、前記チタニア微粒子の含有率、及び前記バインダーにおけるシリカの含有率を、それぞれ、ＣSP質量％、ＣTP質量％、及びＣBinder質量％と定義したとき、前記低反射コーティングは以下の関係を満たし、
３０質量％＜ＣSP＜６８質量％、
１２質量％≦ＣTP＜５０質量％、
２０質量％＜ＣBinder＜４３．７５質量％、
ＣTP／ＣBinder≧０．６、
ＣSP≧５５質量％であるときにＣBinder＜２５質量％、及び
ＣSP＜５５質量％であるときにＣTP＞２０質量％
当該低反射コーティング付ガラス板における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率から前記低反射コーティングが形成されていない前記ガラス板における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率を差し引いた透過率ゲインが２．０％以上である、
低反射コーティング付ガラス板。
【請求項２】
前記低反射コーティングは、ＣTP／ＣBinder＞０．８の関係をさらに満たす、請求項１に記載の低反射コーティング付ガラス板。
【請求項３】
前記低反射コーティングは、以下の関係をさらに満たす、請求項１又は２に記載の低反射コーティング付ガラス板。
３０質量％＜ＣSP≦６５質量％、
１５質量％≦ＣTP≦４０質量％、及び
２０質量％＜ＣBinder≦３０質量％
【請求項４】
前記低反射コーティングは、以下の関係をさらに満たす、請求項１〜３のいずれか１項に記載の低反射コーティング付ガラス板。
３５質量％≦ＣSP≦６０質量％、
１５質量％≦ＣTP≦４０質量％、及び
２０質量％＜ＣBinder＜２５質量％
【請求項５】
前記低反射コーティングの、日本工業規格（JIS）R 1703-1:2007に定められた水に対する限界接触角が５°以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の低反射コーティング付ガラス板。
【請求項６】
JIS R 1703-1:2007に準拠して、前記低反射コーティングにオレイン酸を塗布した後に１.０ｍＷ／ｃｍ2の強度の紫外線を照射したときに、前記紫外線の照射開始から前記低反射コーティングにおける水の接触角が５°になるまでの時間が４０時間以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の低反射コーティング付ガラス板。
【請求項７】
低反射コーティング付基材を製造する方法であって、
前記低反射コーティング付基材は、
基材と、
シリカを主成分とするバインダー、前記バインダーによって固定されたシリカ微粒子、及び前記バインダーによって固定されたチタニア微粒子を含み、前記基材の一方の主面の少なくとも一部に形成された低反射コーティングと、を備え、
前記低反射コーティングにおける、前記シリカ微粒子の含有率、前記チタニア微粒子の含有率、及び前記バインダーにおけるシリカの含有率を、それぞれ、ＣSP質量％、ＣTP質量％、及びＣBinder質量％と定義したとき、前記低反射コーティングは以下の関係を満たし、
３０質量％＜ＣSP＜６８質量％、
１２質量％≦ＣTP＜５０質量％、
２０質量％＜ＣBinder＜４３．７５質量％、
ＣTP／ＣBinder≧０．６、
ＣSP≧５５質量％であるときにＣBinder＜２５質量％、及び
ＣSP＜５５質量％であるときにＣTP＞２０質量％
当該低反射コーティング付基材における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率から前記低反射コーティングが形成されていない前記基材における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率を差し引いた透過率ゲインが２．０％以上であり、
コーティング液を前記基材に塗布してコーティング膜を形成し、前記コーティング膜を乾燥及び硬化させて前記低反射コーティングを形成し、
前記コーティング膜を乾燥及び硬化させるときの前記基材の表面の最高温度が１２０℃以上３５０℃以下である、
方法。
【請求項８】
前記コーティング膜を乾燥及び硬化させるときの前記基材の表面の温度が２００℃以上である時間が５分以下である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記コーティング膜を乾燥及び硬化させるときの前記基材の表面の温度が１２０℃以上である時間が３分以下である、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記コーティング液は、シリカ微粒子、チタニア微粒子、前記バインダーの原料、及び溶媒を含み、
前記バインダーの原料は、シリコンアルコキシドを含み、
前記溶媒は、水と混和し、かつ、１５０℃以下の沸点を有する有機溶媒を主成分として含む、請求項７〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
低反射コーティング付基材の低反射コーティングを形成するためのコーティング液であって、
前記低反射コーティングは、シリカを主成分とするバインダー、前記バインダーによって固定されたシリカ微粒子、及び前記バインダーによって固定されたチタニア微粒子を含み、前記基材の一方の主面の少なくとも一部に形成されており、
前記低反射コーティングにおける、前記シリカ微粒子の含有率、前記チタニア微粒子の含有率、及び前記バインダーにおけるシリカの含有率を、それぞれ、ＣSP質量％、ＣTP質量％、及びＣBinder質量％と定義したとき、前記低反射コーティングは以下の関係を満たし、
３０質量％＜ＣSP＜６８質量％、
１２質量％≦ＣTP＜５０質量％、
２０質量％＜ＣBinder＜４３．７５質量％、
ＣTP／ＣBinder≧０．６、
ＣSP≧５５質量％であるときにＣBinder＜２５質量％、及び
ＣSP＜５５質量％であるときにＣTP＞２０質量％
当該低反射コーティング付ガラス板における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率から前記低反射コーティングが形成されていない前記ガラス板における３８０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲の波長の光の平均透過率を差し引いた透過率ゲインが２．０％以上であり、
当該コーティング液は、シリカ微粒子、チタニア微粒子、前記バインダーの原料、及び溶媒を含み、
前記バインダーの原料は、シリコンアルコキシドを含み、
前記溶媒は、水と混和し、かつ、１５０℃以下の沸点を有する有機溶媒を主成分として含む、
コーティング液。
【請求項１２】
前記シリコンアルコキシドの加水分解触媒として酸解離定数ｐＫａが２．５以下である酸をさらに含む、請求項１１に記載のコーティング液。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月3日(2019.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の光走査装置は、直線偏光である光を出力する光源部と、偏光透過軸を有する直線偏光子を有し、前記光の光路に配置される回転可能なフィルタと、前記フィルタを回転駆動させ、前記光の入射位置を前記直線偏光子内で移動させる駆動部と、調光情報を入力する調光情報入力部と、前記調光情報に応じて予め決められた前記フィルタの回転角度となるように前記駆動部を制御して前記フィルタを移動させて前記直線偏光子の偏光透過軸を傾ける制御部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
加えて、光源部１１は、レーザ光に対する減光を実現する減光手段１２０を、合成素子１１５による合成後の光路に配置している。減光手段１２０は、駆動部である回転モータ１２１と、回転可能であって当該回転モータ１２１により回転駆動される円形状のフィルタ１２２とを備えている。図２に示すように、減光手段１２０のフィルタ１２２は、レーザ光の射出方向Ｘに対してほぼ垂直となるように配置されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直線偏光である光を出力する光源部と、
偏光透過軸を有する直線偏光子を有し、前記光の光路に配置される回転可能なフィルタと、
前記フィルタを回転駆動させ、前記光の入射位置を前記直線偏光子内で移動させる駆動部と、
調光情報を入力する調光情報入力部と、
前記調光情報に応じて予め決められた前記フィルタの回転角度となるように前記駆動部を制御して前記フィルタを移動させて前記直線偏光子の偏光透過軸を傾ける制御部と、
を備えることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記フィルタは、前記直線偏光子と同一の回転中心を持ち当該直線偏光子に隣接配置され、当該直線偏光子よりも前記光の透過率が高い高透過率領域を更に有し、
前記駆動部は、前記光の入射位置を前記高透過率領域と前記直線偏光子との間で移動させる、
ことを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記調光情報として複数段階の調光段階が設定されていることを条件として、１段階前後の前記光の光量比が略一定となるように、前記フィルタを移動させる、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記直線偏光子の偏光透過軸の傾きにより決まる前記光の透過率が低くなるほど、１段階毎の前記フィルタの回転角度の角度変化を小さくする、
ことを特徴とする請求項３に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記直線偏光子は、前記偏光透過軸に相当した前記光を透過させ、前記偏光透過軸に直交する前記光を反射させる反射型である、
ことを特徴とする請求項１ないし４の何れか一項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記フィルタは、所定の入射角を有して前記光を入射させるように当該光の射出方向に対して傾けて配置されている、
ことを特徴とする請求項５に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記フィルタにおける前記直線偏光子での反射光の光路に設けられ、当該反射光の光強度を検出する光検出器を更に備え、
前記制御部は、前記光検出器により得られる前記反射光の光強度の検出量に基づいて前記光の減光率を検出する、
ことを特徴とする請求項６に記載の光走査装置。
【請求項８】
光偏向器と、
レーザを所望の発散角で発散させるスクリーンと、
前記光偏向器に対して光を射出する請求項１ないし７の何れか一項に記載の光走査装置と、
前記光偏向器により偏向された光束を折り返し、前記スクリーンに２次元像を描画する走査ミラーと、
を備えることを特徴とする画像照射ユニット。
【請求項９】
光偏向器と、
光を所望の発散角で発散させるスクリーンと、
前記光偏向器に対して光を射出する請求項１ないし７の何れか一項に記載の光走査装置と、
前記光偏向器により偏向された光束を折り返し、前記スクリーンに２次元像を描画する走査ミラーと、
前記スクリーンから射出された光束を投影面に投射する凹面ミラーと、
を備えることを特徴とする画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月25日(2019.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１の撮像光学系、第２の撮像光学系、および第３の撮像光学系が光軸に沿って配置されたレンズ鏡筒を有する撮像装置であって、
前記レンズ鏡筒の沈胴動作を行う際、前記第１の撮像光学系および前記第２の撮像光学系を前記光軸に沿って起動位置から収納位置に駆動する第１の制御手段と、
前記第１の撮像光学系の移動に連動して前記第３の撮像光学系を前記光軸に交差する第１の方向に退避させる第２の制御手段と、
前記第３の撮像光学系を移動するタイミングよりも前に前記第２の撮像光学系を前記第１の方向と逆の向きの第２の方向に駆動して回避させる第３の制御手段と、を有し、
前記第３の制御手段は、前記第１の撮像光学系の移動が阻害されると、前記第２の撮像光学系を駆動するための通電を切ることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記第１の撮像光学系は、撮像の際の倍率を変化させるズームレンズであり、
前記第２の撮像光学系は、前記撮像装置の揺れに起因するブレを補正する防振レンズであり、
前記第３の撮像光学系は、ピントを調整するためのフォーカスレンズであり、
被写体の側から前記ズームレンズ、前記防振レンズ、および前記フォーカスレンズの順に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第３の制御手段は、前記第２の撮像光学系を前記第２の方向に回避した後、前記第１の撮像光学系の移動が阻害された場合、前記第１の撮像光学系の現在位置が前記第２の撮像光学系に規定された前記第２の方向の回避限界の近傍にあると、前記第２の撮像光学系を駆動するための通電を切ることを特徴とする請求項１又は２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記第１の撮像光学系の現在位置が前記回避限界の近傍にない場合には、前記第３の制御手段は、前記第２の撮像光学系を所定の中央位置に移動することを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記第３の制御手段によって前記第２の撮像光学系を駆動するための通電が切られた後、前記第１の撮像光学系の移動を阻害する要因を解除するための動作が行われると、前記第１の制御手段は前記第１の撮像光学系を前記起動位置の方向に所定の量だけ移動させて前記第１の撮像光学系の駆動を停止することを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記第３の制御手段によって前記第２の撮像光学系が前記中央位置に移動された後、前記第１の撮像光学系の移動を阻害する要因を解除するための動作が行われると、前記第１の制御手段は前記第１の撮像光学系の駆動を停止することを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記第１の制御手段による前記第１の撮像光学系の駆動が再開可能であると、前記第３の制御手段は、前記第２の撮像光学系を初期状態にリセットすることを特徴とする請求項５又は６に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記第１の制御手段による前記第１の撮像光学系の駆動が再開不可であると、前記第３の制御手段は、エラーを報知することを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
少なくとも第１の撮像光学系、第２の撮像光学系、および第３の撮像光学系が光軸に沿って配置されたレンズ鏡筒を有する撮像装置の制御方法であって、
前記レンズ鏡筒の沈胴動作を行う際、前記第１の撮像光学系および前記第２の撮像光学系を前記光軸に沿って起動位置から収納位置に駆動する第１の制御ステップと、
前記第１の撮像光学系の移動に連動して前記第３の撮像光学系を前記光軸に交差する第１の方向に退避させる第２の制御ステップと、
前記第３の撮像光学系を移動するタイミングよりも前に前記第２の撮像光学系を前記第１の方向と逆の向きの第２の方向に駆動して回避させる第３の制御ステップと、を有し、
前記第３の制御ステップでは、前記第１の撮像光学系の移動が阻害されると、前記第２の撮像光学系を駆動するための通電を切ることを特徴とする制御方法。
【請求項１０】
少なくとも第１の撮像光学系、第２の撮像光学系、および第３の撮像光学系が光軸に沿って配置されたレンズ鏡筒を有する撮像装置で用いられる制御プログラムであって、
前記撮像装置が備えるコンピュータに、
前記レンズ鏡筒の沈胴動作を行う際、前記第１の撮像光学系および前記第２の撮像光学系を前記光軸に沿って起動位置から収納位置に駆動する第１の制御ステップと、
前記第１の撮像光学系の移動に連動して前記第３の撮像光学系を前記光軸に交差する第１の方向に退避させる第２の制御ステップと、
前記第３の撮像光学系を移動するタイミングよりも前に前記第２の撮像光学系を前記第１の方向と逆の向きの第２の方向に駆動して回避させる第３の制御ステップと、を実行させ、
前記第３の制御ステップでは、前記第１の撮像光学系の移動が阻害されると、前記第２の撮像光学系を駆動するための通電を切ることを特徴とする制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の目的を達成するため、本発明による撮像装置は、少なくとも第１の撮像光学系、第２の撮像光学系、および第３の撮像光学系が光軸に沿って配置されたレンズ鏡筒を有する撮像装置であって、前記レンズ鏡筒の沈胴動作を行う際、前記第１の撮像光学系および前記第２の撮像光学系を前記光軸に沿って起動位置から収納位置に駆動する第１の制御手段と、前記第１の撮像光学系の移動に連動して前記第３の撮像光学系を前記光軸に交差する第１の方向に退避させる第２の制御手段と、前記第３の撮像光学系を移動するタイミングよりも前に前記第２の撮像光学系を前記第１の方向と逆の向きの第２の方向に駆動して回避させる第３の制御手段と、を有し、前記第３の制御手段は、前記第１の撮像光学系の移動が阻害されると、前記第２の撮像光学系を駆動するための通電を切ることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、沈胴動作の際にフォーカスレンズを退避させる場合に、沈胴動作が阻害されても電力消費の増大を防止することができる。