(57)【要約】  本発明の１級、２級または３級アミノメチル芳香環を有する化合物の製造方法は、下記式（Ｉ）：Ｒａ（Ｒｂ）Ｎ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍ      （Ｉ）  で表される、フルオロホウ素化合物もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物を芳香環のアミノメチル化剤として用い、このアミノメチル化剤をパラジウム化合物などの金属触媒存在下に前記アミノメチル化剤と反応可能な芳香族を有する化合物と反応させて、芳香環の直接アミノメチル化を行う。【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）で表されるフルオロホウ素化合物もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物。
Ｒａ（Ｒｂ）Ｎ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍ      （Ｉ）
[式中、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換のＣ１−６アルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のヘテロ環基、置換または非置換のヘテロアリール基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアラルキル基およびアミノ基の保護基からなる群から選択される基を意味するか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、アミノ基の保護基を形成しているか、または、Ｒａ及びＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、任意選択でさらに１以上のヘテロ原子を含んでいてもよい置換又は非置換のヘテロ環を形成しており；
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋、または［Ｐ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ7−15アラルキル基を意味する。）を意味する。（但し、ポタシウム  ｎ−ブチルアミノメチルトリフルオロボレート、ポタシウム  シクロヘキシルアミノメチルトリフルオロボレート、ポタシウム  Ｎ−ピロリジニルメチルトリフルオロボレートおよびポタシウム  Ｎ−ピペリジルメチルトリフルオロボレートを除く。）]
【請求項２】
Ｒａおよび／またはＲｂが、水素原子またはアミノ基の保護基である請求項１記載の化合物もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物。
【請求項３】
アミノ基の前記保護基が環状イミド系保護基、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項２記載の化合物もしくはその二量体、またはその溶媒和物。
【請求項４】
アミノ基の前記保護基がカルバメート系保護基である請求項２記載の化合物もしくはその二量体、またはその溶媒和物。
【請求項５】
アミノ基の前記保護基がフタロイル基、ホルミル基またはｔ−ブチルオキシカルボニル基である、請求項２記載の化合物もしくはその二量体またはそれらの溶媒和物。
【請求項６】
下記式（II）で表される化合物またはその溶媒和物。
【化１】
2008007670.tif 000026
[式中、Ｒａは、水素原子、置換または非置換のＣ１−６アルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のヘテロ環基、置換または非置換のヘテロアリール基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアラルキル基、またはアミノ基の保護基を意味し、
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋、または［Ｐ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ7−15アラルキル基を意味する。）を意味する。] 
【請求項７】
Ｒａがアミノ基の保護基である請求項６記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項８】
アミノ基の前記保護基が、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項７記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項９】
アミノ基の前記保護基が、カルバメート系保護基である請求項７記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項１０】
アミノ基の前記保護基がｔ−ブチルオキシカルボニル基である、請求項７記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項１１】
下記式（III）で表される化合物またはその溶媒和物。
【化２】
2008007670.tif 000027
[式中、Ｍはアルカリ金属カチオン、［Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋または［Ｐ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ7−15アラルキル基を意味し；
Ｘは水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはニトロ基を意味する。]
【請求項１２】
Ｘが水素原子である、請求項１１記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項１３】
Ｍがアルカリ金属カチオンである、請求項１乃至１２のいずれか一項記載の化合物もしくはその二量体またはその溶媒和物。
【請求項１４】
Ｍがカリウムイオンまたはナトリウムイオンである、請求項１乃至１２のいずれか一項記載の化合物もしくはその二量体またはその溶媒和物。
【請求項１５】
フルオロホウ素化合物もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物からなる、芳香環の１級、２級または３級アミノメチル化剤。
【請求項１６】
前記アミノメチル化が１級アミノメチル化である、請求項１５記載のアミノメチル化剤。
【請求項１７】
下記式（Ｉ）で表される、請求項１５に記載のアミノメチル化剤。
Ｒａ（Ｒｂ）Ｎ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍ      （Ｉ）
[式中、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換のＣ１−６アルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のヘテロ環基、置換または非置換のヘテロアリール基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアラルキル基およびアミノ基の保護基からなる群から選択される基を意味するか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、アミノ基の保護基を形成しているか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、任意選択でさらに１以上のヘテロ原子を含んでいてもよい置換又は非置換のヘテロ環を形成しており；
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋、または［Ｐ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ7−15アラルキル基を意味する。）を意味する。]
【請求項１８】
Ｒａおよび／またはＲｂが、水素原子またはアミノ基の保護基である請求項１７記載のアミノメチル化剤。
【請求項１９】
アミノ基の前記保護基が環状イミド系保護基、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項１８記載のアミノメチル化剤。
【請求項２０】
アミノ基の前記保護基がカルバメート系保護基である請求項１８記載のアミノメチル化剤
【請求項２１】
アミノ基の前記保護基がフタロイル基、ホルミル基またはｔ−ブチルオキシカルボニル基である、請求項１８記載のアミノメチル化剤。
【請求項２２】
下記式（II）で表される請求項１５に記載のアミノメチル化剤。
【化３】
2008007670.tif 000028
[式中、Ｒａは、水素原子、置換または非置換のＣ１−６アルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のヘテロ環基、置換または非置換のヘテロアリール基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアラルキル基、またはアミノ基の保護基を意味し、
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋、または［Ｐ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ7−15アラルキル基を意味する。）を意味する。] 
【請求項２３】
Ｒａがアミノ基の保護基である請求項２２記載のアミノメチル化剤。
【請求項２４】
アミノ基の前記保護基がアミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項２３記載のアミノメチル化剤。
【請求項２５】
アミノ基の前記保護基がカルバメート系保護基である請求項２３記載のアミノメチル化剤。
【請求項２６】
アミノ基の前記保護基がｔ−ブチルオキシカルボニル基である、請求項２３記載のアミノメチル化剤。
【請求項２７】
下記式（III）で表される請求項１５に記載のアミノメチル化剤。
【化４】
2008007670.tif 000029
[式中、Ｍはアルカリ金属カチオン、［Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋、または［Ｐ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ7−15アラルキル基を意味し；
Ｘは水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはニトロ基を意味する。]
【請求項２８】
Ｘが水素原子である、請求項２７記載のアミノメチル化剤。
【請求項２９】
Ｍがアルカリ金属カチオンである、請求項１７乃至２８のいずれか一項記載のアミノメチル化剤。
【請求項３０】
Ｍがカリウムイオンまたはナトリウムイオンである、請求項１７乃至２８のいずれか一項記載のアミノメチル化剤。
【請求項３１】
請求項１５記載のアミノメチル化剤と、前記アミノメチル化剤との間でカップリング反応を起こしうる芳香環を有する化合物とを、前記カップリング反応に有効な金属触媒存在下で反応させる、１級、２級または３級アミノメチル芳香環を有する化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、芳香環へ直接１級、２級または３級アミノメチル基を導入するためのアミノメチル化剤として有用なフルオロホウ素化合物、及びそれを用いた芳香環のアミノメチル化反応に関する。
本願は、２００６年７月１１日に日本国に出願された特願２００６−１９０８１３号及び２００６年７月１１日に米国に出願されたＵＳ６０／８１９６２８に基づく優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
アミノメチル基を有する芳香環（以下、アミノメチル芳香環とも記す。）構造は医薬用化合物において幅広く活用され、産業上の有用性が高い化学構造である。例えば新規な抗真菌剤に関する特許文献１には、アミノメチル芳香環をその化学構造の一部に含む化合物（以下、アミノメチル芳香族化合物とも記す。）が開示されている。アミノメチル芳香環を含む化合物の中で、特に１級アミノメチル芳香環を有する化合物は、２級あるいは３級アミノメチル芳香環を含む化合物の前駆体として用いられる場合が多いため、多くの種類の化合物が試薬として市販されている。【０００３】
従来、かかる化学構造を有する化合物を得る方法としては、還元反応を用いて合成する方法、またはハロメチル基をもつ芳香環を有する化合物を前駆体として用いて合成する方法等が報告されている。
アミノメチル芳香環の構築方法として、金属触媒を用いて、クロロベンゼンなどの芳香族ハライド基質にアミノメチル基を直接導入する反応はこれまでに報告されていない。【０００４】
金属触媒を用いたアミノメチル化反応としては、非特許文献１に開示されている、有機スズ化合物を用いた、エノールトリフラートへのスルホニルアミノメチル化反応が報告されている。【０００５】
また、非特許文献２にはアミノメチルフルオロホウ素化合物が記載されており、また非特許文献３にはアミノメチルフルオロホウ素化合物に構造が類似したアミノメチルホウ素化合物が記載されているが、これらの化合物を用いた芳香環のアミノメチル化反応はこれまでに知られていない。
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００５／０３３０７９号パンフレット
【非特許文献１】Org. Lett., 2000, 2, 1081
【非特許文献２】Org. Lett., 2006, 8, 2031
【非特許文献３】J. Org. Chem., 1968, 33, 3055
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記還元反応を用いたアミノメチル芳香環の合成においては、還元反応に適さない基質を用いる場合、目的化合物を収率良く得ることが困難であるという問題がある。また、ハロメチル基を有する芳香環を前駆体として用いる芳香環のアミノメチル化法については、前駆体自体の化学的安定性が低いために取り扱いに注意を要するなどの問題点があるため、その工業的使用は制限される。さらに、上記課題とは別に、または上記課題に加えて、アミノメチル芳香環を合成する場合の前駆体として、安価かつ市販試薬の種類が豊富な、クロロベンゼンなどの芳香族ハライドを用いることも望まれている。
上記非特許文献１に開示されている有機スズ化合物は、その化学構造が環状スルホンアミドに限定されているために汎用性に欠ける。またこの場合、有機スズ化合物の毒性の問題も生じるおそれがあり、工業的使用には適さない。【０００７】
非特許文献２には、いくつかのアミノメチルフルオロホウ素化合物が開示されているが、これらの化合物を芳香環のアミノメチル化反応へ応用することについては、何ら記載も示唆もされていない。さらに、これらの化合物には、保護された一級アミノメチルフルオロホウ素化合物は含まれていない。
同様に、上記の非特許文献３には、イミドで保護された一級アミノメチルボロン酸が開示されているが、この化合物を芳香環のアミノメチル化反応へ応用することについては、何ら記載も示唆もされていない。【０００８】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決することにある。
即ち、本発明の目的は、芳香環への１乃至３級アミノメチル基の直接の導入を可能にする汎用性の高い反応剤として用いることのできる化合物、その化合物からなる芳香環のアミノメチル化剤、並びにそのアミノメチル化剤を用いたアミノメチル芳香環を有する化合物の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、金属触媒存在下に、フルオロホウ素化合物もしくはその二量体またはそれらの溶媒和物を、芳香環を有する化合物と反応させることにより、芳香環へのアミノメチル化反応を行うことができることを発見し、本発明を完成させた。【００１０】
本発明に係るフルオロホウ素化合物の具体的態様としては、以下の式（Ｉ）で表される化合物もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物が挙げられる。
Ｒａ（Ｒｂ）Ｎ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍ      （Ｉ）
[式中、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換のＣ１−６アルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のヘテロ環基、置換または非置換のヘテロアリール基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアラルキル基およびアミノ基の保護基からなる群から選択される基を意味するか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、アミノ基の保護基を形成しているか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、任意選択でさらに１以上のヘテロ原子を含んでいてもよい置換又は非置換のヘテロ環を形成しており；
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋、または［Ｐ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ7−15アラルキル基を意味する。）を意味する。（但し、ポタシウム  ｎ−ブチルアミノメチルトリフルオロボレート、ポタシウム  シクロヘキシルアミノメチルトリフルオロボレート、ポタシウム  Ｎ−ピロリジニルメチルトリフルオロボレートおよびポタシウム  Ｎ−ピペリジルメチルトリフルオロボレートを除く。）]【００１１】
ただし、以下に説明する芳香環のアミノメチル化反応に用いるアミノメチル化剤としては、ポタシウム  ｎ−ブチルアミノメチルトリフルオロボレート、ポタシウム  シクロヘキシルアミノメチルトリフルオロボレート、ポタシウム  Ｎ−ピロリジニルメチルトリフルオロボレートおよびポタシウム  Ｎ−ピペリジルメチルトリフルオロボレートを用いることも本発明の範囲に包含される。【００１２】
上記式（Ｉ）の化合物において、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６アルキル基、およびアミノ基の保護基からなる群から選択される基を意味するか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、アミノ基の保護基を形成しているか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、任意選択でさらに１以上のヘテロ原子を含んでいてもよい置換又は非置換のヘテロ環を形成していることが好ましい。【００１３】
上記式（Ｉ）の化合物において、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立して、水素原子またはアミノ基の保護基であることが好ましい。【００１４】
さらに上記のアミノ基の保護基は、環状イミド系保護基、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基であることが好ましく、カルバメート系保護基であることがさらに好ましい。【００１５】
さらに上記保護基は、フタロイル基、ホルミル基またはｔ−ブチルオキシカルボニル基であることが好ましい。【００１６】
上記式（Ｉ）で表される化合物の二量体の好ましい態様は、下記式（II）で表される化合物またはその溶媒和物である。
【化１】
2008007670.tif 000002
[式中、Ｒａは、水素原子、置換または非置換のＣ１−６アルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のヘテロ環基、置換または非置換のヘテロアリール基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアラルキル基、またはアミノ基の保護基を意味し、
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋、または［Ｐ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ7−15アラルキル基を意味する。）を意味する。] 【００１７】
上記式（II）において、Ｒａがアミノ基の保護基であることが好ましい。【００１８】
さらに、アミノ基の保護基は、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基であることが好ましく、カルバメート系保護基であることがさらに好ましい。【００１９】
さらに、アミノ基の保護基はｔ−ブチルオキシカルボニル基であることが好ましい。【００２０】
上記式（Ｉ）で表される化合物としては、下記式（III）で表される化合物またはその溶媒和物が好ましい。
【化２】
2008007670.tif 000003
[式中、Ｍはアルカリ金属カチオン、［Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋または［Ｐ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ7−15アラルキル基を意味し；
Ｘは水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはニトロ基を意味する。]【００２１】
上記式（III）中、Ｘは水素原子であることが好ましい。【００２２】
さらに上記式（Ｉ）、（II）、（III）で表される化合物もしくはその二量体またはその溶媒和物において、Ｍはアルカリ金属カチオンであることが好ましい。【００２３】
上記Ｍはカリウムイオンまたはナトリウムイオンであることが好ましい。【００２４】
本発明は、さらに、上述したフルオロホウ素化合物もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物からなる群から選択される、芳香環の１級、２級または３級アミノメチル化剤に関する。【００２５】
上記アミノメチル化としては、特に１級アミノメチル化が挙げられる。【００２６】
本発明のアミノメチル化剤としては、上記式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。【００２７】
アミノメチル化剤として用いる上記式（Ｉ）で表される化合物において、Ｒａおよび／またはＲｂが水素原子またはアミノ基の保護基であることが好ましい。【００２８】
アミノメチル化剤の上記アミノ基の保護基は、環状イミド系保護基、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基であることが好ましく、カルバメート系保護基であることがさらに好ましい。【００２９】
アミノメチル化剤の上記アミノ基の保護基は、フタロイル基、ホルミル基またはｔ−ブチルオキシカルボニル基であることが好ましい。【００３０】
本発明のアミノメチル化剤としては、上記式（II）で表される化合物をさらに挙げることができる。【００３１】
上記式（II）で表されるアミノメチル化剤のＲａは、アミノ基の保護基であることが好ましい。【００３２】
さらに上記式（II）で表されるアミノメチル化剤のアミノ基保護基は、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基であることが好ましく、カルバメート系保護基であることがさらに好ましい。【００３３】
さらに上記式（II）で表されるアミノメチル化剤のアミノ基の保護基はｔ−ブチルオキシカルボニル基であることが好ましい。【００３４】
本発明のアミノメチル化剤としては、上記式（III）で表される化合物をさらに挙げることができる。【００３５】
上記式（III）で表されるアミノメチル化剤のＸは、水素原子であることが好ましい。【００３６】
上記式（III）で表されるアミノメチル化剤のＭは、アルカリ金属カチオンであることが好ましい。【００３７】
上記式（III）で表されるアミノメチル化剤のＭは、カリウムイオンまたはナトリウムイオンであることが好ましい。【００３８】
さらに本発明は１級、２級または３級アミノメチル芳香環を有する化合物の製造方法を提供し、この製造方法は、上記のアミノメチル化剤と、アミノメチル化剤との間でカップリング反応を起こしうる芳香環を有する化合物とを、カップリング反応に有効な金属触媒存在下で反応させることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００３９】
本発明により、上記課題を解決することができる。
即ち、本発明により、１級、２級または３級アミノメチル基を芳香環に直接導入することができる。本発明の芳香環のアミノメチル化法は、還元反応を用いないために、還元反応に不安定な基質を用いることもできる。また、化学的安定性の低いハロメチル基を有する芳香環を有する化合物を前駆体として用いる必要がない。
さらに上記効果に加えて、基質として安価かつ豊富に市販されているクロロベンゼンなどの芳香族ハライドを利用することもできる。
したがって、本発明にかかるフルオロホウ素化合物は、アミノメチル基とりわけ１級アミノメチル基を芳香環に導入可能な反応試薬として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、アミノメチル基を、芳香環に直接導入することができるフルオロホウ素化合物またはその溶媒和物である。【００４１】
次に、本明細書において使用される用語について説明する。
本発明において、「芳香環」とは、芳香族性を有する環状の基を意味し、単環でも縮合環でもよく、芳香族炭化水素環式基（アリール基）でも芳香族へテロ環式基（ヘテロアリール基）でもよく、またさらに置換基を有していてもよい。芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、フラザン環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、プリン環（purine ring）、プテリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、シンノリン環、キナゾリン環、フタラジン環、イミダゾピリジン環、イミダゾチアゾール環、イミダゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドール環、イソインドール環、インダゾール環、ピロロピリジン環、チエノピリジン環（thienopyridine ring）、フロピリジン環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ピリドピリミジン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾ[１，３]ジオキソール環、チエノフラン環（thienofuran ring）等が挙げられるが、これらに限定されない。【００４２】
本明細書中、「アミノメチル基」には、１級アミノメチル基、２級アミノメチル基、および３級アミノメチル基が含まれ、さらにアミノ基が保護基で保護されている１級アミノメチル基および２級アミノメチル基も含まれる。また、「１級、２級または３級アミノメチル基」とは、１級アミノ基、２級アミノ基または３級アミノ基で置換されたメチル基をそれぞれ意味し、１級アミノメチル基または２級アミノメチル基は後述する保護基で保護されていてもよい。【００４３】
本明細書において「アミノ基の保護基」とは、アミノ基の公知の保護基を挙げることができるが、例えば、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、ニコチノイル基、ピコリノイル基、トリクロロアセチル基もしくはトリフルオロアセチル基などのアミド系保護基；フタロイル基もしくは２，３−ジフェニルマレオイル基などの環状イミド系保護基；ｐ−トルエンスルホニル基などのスルホンアミド系保護基；またはｔ−ブチルオキシカルボニル基、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基もしくは９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基などのカルバメート系の保護基などが挙げられるがこれらに限定されない。好ましい保護基は、ホルミル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基またはフタロイル基である。【００４４】
本明細書において、芳香環の「アミノメチル化」とは、芳香環に１級アミノメチル基、２級アミノメチル基、３級アミノメチル基、１級アミノメチル基のアミノ基が保護基で保護された基、および２級アミノメチル基のアミノ基が保護基で保護された基からなる群から選択される基を芳香環に導入することをいう。【００４５】
本明細書において、「アミノメチル芳香環」とは、上記アミノメチル化された芳香環をいう。【００４６】
本明細書において「アルカリ金属」とは、周期表１族に属する金属原子をいい、例えば、リチウム、ナトリウムまたはカリウム等を挙げることができるが、好ましくはナトリウムまたはカリウムである。【００４７】
本明細書において「Ｃ１−６アルキル基」とは、炭素数１〜６個の脂肪族炭化水素から任意の水素原子を１個除いて誘導される一価の基である、炭素数１〜６個の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を意味する。Ｃ１−６アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、１−プロピル基、２−プロピル基、２−メチル−１−プロピル基、２−メチル−２−プロピル基、１−ブチル基、２−ブチル基、１−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、２−メチル−１−ブチル基、３−メチル−１−ブチル基、２−メチル−２−ブチル基、３−メチル−２−ブチル基、２，２−ジメチル−１−プロピル基、１−へキシル基、２−へキシル基、３−へキシル基、２−メチル−１−ペンチル基、３−メチル−１−ペンチル基、４−メチル−１−ペンチル基、２−メチル−２−ペンチル基、３−メチル−２−ペンチル基、４−メチル−２−ペンチル基、２−メチル−３−ペンチル基、３−メチル−３−ペンチル基、２，３−ジメチル−１−ブチル基、３，３−ジメチル−１−ブチル基、２，２−ジメチル−１−ブチル基、２−エチル−１−ブチル基、３，３−ジメチル−２−ブチル基、２，３−ジメチル−２−ブチル基等を挙げることができるが、好ましくはメチル基、エチル基、１−プロピル基、２−プロピル基、２−メチル−１−プロピル基、２−メチル−２−プロピル基、１−ブチル基または２−ブチル基であり、より好ましくはメチル基またはエチル基である。【００４８】
本明細書において「シクロアルキル基」とは、３以上の炭素原子からなる環状化学構造を有する飽和炭化水素基を意味する。シクロアルキル基を構成する炭素原子は、３以上であればよく特に限定されないが、好ましくは炭素数３〜１２、さらに好ましくは炭素数３〜６である。シクロアルキル基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、デカヒドロナフタレン基が挙げられる。【００４９】
本明細書において、「アラルキル基」とは、アルキル基にアリール基が結合した基を意味し、なかでも「Ｃ7−15アラルキル基」とは、前記「Ｃ１−６アルキル基」にＣ6−14アリール基（炭素数が６ないし１４個の芳香族の炭化水素環式基を意味し、具体例としては、例えばフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、インデニル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、インダセニル基、ビフェニレニル基、アセナフチレニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、アントラセニル基等が挙げられる。）が結合した官能基を意味する。Ｃ7−15アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、インデニルメチル基、１−フェネチル基、２−フェネチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチルエチル基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基、３−フェニルプロピル基、１−ナフチルプロピル基、２−ナフチルプロピル基、３−ナフチルプロピル基、１−フェニルブチル基、２−フェニルブチル基、３−フェニルブチル基、４−フェニルブチル基、１−ナフチルブチル基、２−ナフチルブチル基、３−ナフチルブチル基、４−ナフチルブチル基、１−フェニルペンチル基、２−フェニルペンチル基、３−フェニルペンチル基、４−フェニルペンチル基、５−フェニルペンチル基、１−ナフチルペンチル基、２−ナフチルペンチル基、３−ナフチルペンチル基、４−ナフチルペンチル基、５−ナフチルペンチル基、１−フェニルヘキシル基、２−フェニルヘキシル基、３−フェニルヘキシル基、４−フェニルヘキシル基、５−フェニルヘキシル基、６−フェニルヘキシル基、１−ナフチルヘキシル基、２−ナフチルヘキシル基、３−ナフチルヘキシル基、４−ナフチルヘキシル基、５−ナフチルヘキシルまたは６−ナフチルヘキシル基等が挙げられる。好ましいＣ7−15アラルキル基は、ベンジル基、１−フェネチル基または２−フェネチル基である。【００５０】
本明細書において、「ヘテロ環基」とは、１つ以上のヘテロ原子を含む非芳香族炭化水素系環式基を意味し、本明細書においてはヘテロアリール基と区別する。特に限定されないが、代表的なヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子および硫黄原子が挙げられる。ヘテロ環基は、１つの環に２種以上のヘテロ原子を含むものであってもよい。ヘテロ環は、環を構成するヘテロ原子と炭素原子を合わせて３から１０の原子からなることが好ましく、５〜７の原子からなることがさらに好ましい。ヘテロ環は単環または２以上の環からなることができる。ヘテロ環基の具体例としては、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペリジニル基、ピロリジニル基およびモルホリニル基などが挙げられる。【００５１】
本明細書において、「ヘテロアリール基」とは、１以上のヘテロ原子を含むヘテロ芳香族環基を意味し、ヘテロ原子の例としては、酸素、窒素および硫黄があげられる。ヘテロアリール基は、ヘテロ原子を含めて５〜１４個、さらに好ましくは５または６個の原子からなることが好ましい。ヘテロアリール基の具体例としては、フリル基、チエニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピロリジル基、イソキサゾリル基（isoxazolyl group）、ピラジニル基、ピリミジニル基、などが挙げられる。【００５２】
本明細書において、「アリール基」とは、上述の「芳香環」基と同義である。【００５３】
本明細書において、「置換または非置換」とは任意選択で置換基を有していてもよいことを意味し、置換基としては、ハロゲン原子、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子；アミノ基；モノ又はジアルキルアミノ基、たとえば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基およびジブチルアミノ基；ニトロ基；シアノ基；アルキル基、たとえば、上述したＣ１−６アルキル基；Ｃ１−６アルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、；Ｃ３−８シクロアルキル基などが挙げられるがこれらに限定されない。【００５４】
本明細書において、「溶媒和物」とは、本発明にかかるフルオロホウ素化合物と溶媒とから形成される溶媒和物をいう。溶媒和物を構成する溶媒の種類、溶媒和物における化合物に対する溶媒のモル比等は、特に限定されない。
好ましい溶媒和物は、水和物、アルコール和物（例えば、メタノール和物、エタノール和物、プロパノール和物、イソプロパノール和物等）、エステル和物（酢酸エチル和物等）、エーテル和物（メチルエーテル和物、エチルエーテル和物、テトラハイドロフラン等）、またはジメチルホルムアミド和物等であり、特に好ましくは水和物、またはアルコール和物（例えばメタノール和物、エタノール和物）等であり、また、薬理学的に許容される溶媒が好ましい。【００５５】
本願において、「金属触媒」とは、本発明にかかるアミノメチル化剤であるフルオロホウ素化合物による芳香環のアミノメチル化反応、すなわちカップリング反応、を促進するために有効である金属および金属含有化合物をいい、前記反応を促進できるものであれば任意のものを用いることができ、特に限定されない。【００５６】
以下に本発明のフルオロホウ素化合物、及びそれを用いた芳香環のアミノメチル化反応を具体的態様に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明は以下に説明する態様に限定されない。【００５７】
〔フルオロホウ素化合物の製造方法〕
式Ｉで表わされるフルオロホウ素化合物の製造方法について説明する。
式Ｉで表されるフルオロホウ素化合物は、例えば、以下の反応式１に示した方法を用いて製造することができる。但し、本発明の化合物の製造方法は、本方法に限定されるものではない。【００５８】
【化３】
2008007670.tif 000004
【００５９】
式中、Ｒａ、ＲｂおよびＭは、それぞれに対して上述した定義と同意義である。ＹおよびＺはそれぞれ独立して、ハロゲン原子を意味する。
上記式（２ａ）の一部であり下記式Ｘで表される環状ボロン酸エスエル基の例としては、下記式Ｘ−１〜Ｘ−６に示した環状ボロン酸エステル基が挙げられるが、これらに限定されない。【００６０】
【化４】
2008007670.tif 000005
【００６１】
【化５】
2008007670.tif 000006
【００６２】
上記反応式１に示す、式（Ｉ）の化合物を合成する方法は、以下に説明する工程Ａ−１と工程Ａ−２の２段階からなる。【００６３】
〔工程Ａ−１〕
本工程Ａ−１は、例えばｎ−ブチルリチウムなどから選択される有機金属試薬と化合物（１ａ）との反応により生成するアニオン化した化合物とボロン酸エステルとを反応させ、続いて酸を加えることにより反応混合物を中和し、さらにピナコール等のジオールと反応させて化合物（２ａ）を製造する工程である。本工程Ａ−１を実施する場合は、後述する製造例１および製造例２に記載した反応条件、反応後の操作、精製方法等を参考にして行うことができ、当業者であれば容易に最適な反応条件等を決定しうる。【００６４】
また、工程Ａ−１は、化合物（１ａ）とボロン酸エステルとを含む混合物に有機金属試薬を加えて、化合物（１ａ）からアニオンを生成させるとともにボロン酸エステルと反応させて実施することもできる。  【００６５】
工程Ａ−１は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。【００６６】
化合物（１ａ）としては、例えばクロロヨードメタン、ジブロモメタン、ブロモヨードメタン等を用いることができる。好ましい化合物（１ａ）は、クロロヨードメタンおよびジブロモメタンである。【００６７】
工程Ａ−１に用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解でき、かつ、工程Ａ−１で行う反応を阻害しないものであれば、特に制限はない。本溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、およびジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤；ベンゼンおよびトルエン等の芳香族炭化水素系溶剤；ヘプタンおよびヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤；またはこれらの混合溶剤等からなる群から選択される任意の溶剤を用いることができる。特に好ましい溶剤は、テトラヒドロフランである。【００６８】
上記ボロン酸エステルとしては、例えば、トリメチルボレート、トリイソプロピルボレート等が挙げられるが、これらに限定されない。特に好ましいボロン酸エステルは、トリイソプロピルボレートである。【００６９】
上記有機金属試薬としては、例えば、ｎ−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム等が挙げられるが、これらに限定されない。特に好ましい有機金属試薬は、ｎ−ブチルリチウムである。【００７０】
上記反応混合物を中和するために用いる酸としては、例えば、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸−酢酸エチル溶液、塩酸−メタノール溶液等が挙げられるがこれらに限定されない。特に好ましい酸は、メタンスルホン酸、および塩酸−酢酸エチル溶液である。【００７１】
反応式１の工程Ａ−１の反応時間は、通常、用いた出発原料の種類、溶剤の種類、有機金属試薬の種類、用いたボロン酸の種類、および反応温度によって異なり、当業者であれば好ましい反応時間を容易に選択することができる。例えば、化合物（１ａ）と有機金属試薬から−７８℃（反応容器の外温）にて調製したアニオン化した化合物と、ボロン酸エステルとの混合物を、以下に示す温度にて１〜３時間撹拌する。さらに、得られた混合物を以下に示す温度にて中和し、続いてジオールを加え、以下に示す反応温度にて１０〜６０分間撹拌する。【００７２】
[化合物（１ａ）をアニオン化して調製した化合物とボロン酸エステルとの反応の反応温度]
化合物（１ａ）をアニオン化して調製した化合物とボロン酸エステルとの反応の好ましい反応温度は、上述のとおり用いる出発原料の種類などに左右されるが、本反応は０℃〜室温（反応容器の外温）、より好適には、室温で撹拌しながら行うことが好ましい。【００７３】
[中和反応とジオールとの反応での反応温度]
化合物（１ａ）をアニオン化して調製した化合物とボロン酸エステルとの反応で得られた混合物を中和し、さらにジオールを添加するときの温度は、−２０℃〜室温（反応容器の外温）であり、より好適には、０℃（反応容器の外温）である。反応混合物にジオールを添加した後の反応温度は、０℃〜室温（反応容器の外温）であり、より好適には、室温である。【００７４】
［有機金属試薬およびボロン酸エステルの使用量］
化合物（１ａ）１モル当り、０．８〜１．２モルの上記有機金属試薬を用いることが好ましく、０．８〜１モルの有機金属試薬を用いることがさらに好ましい。
ボロン酸エステルは、化合物（１ａ）１モル当り、０．８〜１．２モルを用いることが好ましく、０．９〜１モルを用いることがさらに好ましい。【００７５】
〔工程Ａ−２〕
工程Ａ−２は、溶剤中、化合物（３ａ）と塩基との反応により生成するアニオン化された化合物と、化合物（２ａ）とを反応させ、続いてポタシウム  ハイドロゲンフルオリドおよびソジウム  ハイドロゲンフルオリド等から選択されるハイドロゲンフルオリド塩と反応させることにより化合物（Ｉ）を製造する工程である。本工程は、より具体的には、後述する実施例Ａ１〜Ａ６に記載した反応条件、反応後操作、精製方法等を参考にして行うことができ、さらに、当業者であれば用いる原料の種類などに応じて適宜適切な反応条件および精製方法などを選択することができる。【００７６】
工程Ａ−２の反応は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。【００７７】
化合物（３ａ）としては、市販されている化合物および公知の化合物、またはこれらの化合物から公知の方法を用いて製造することができる化合物から選択される任意の化合物を用いることができる。【００７８】
化合物（３ａ）と塩基との反応により調製された、アニオン化された化合物が市販されている場合は、それをそのまま反応に用いることができる。  【００７９】
化合物（３ａ）と反応させる上記塩基としては、例えば、水素化ナトリウム、ポタシウム  ビス（トリメチルシリル）アミド、水素化カリウムが挙げられ、水素化ナトリウムおよびポタシウム  ビス（トリメチルシリル）アミドが特に好ましい。【００８０】
工程Ａ−２において用いる溶剤としては、用いる出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限されない。用いることのできる溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、およびジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤；ベンゼンおよびトルエン等の芳香族炭化水素系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ−メチルピロリジノン等のアミド系溶剤；ジメチルスルホキシド；ならびにこれらの混合溶剤等から選択される溶剤を用いることができる。特に好ましい溶媒は、テトラヒドロフランおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。【００８１】
工程Ａ−２の反応時間は、用いる出発原料の種類、用いる溶剤の種類、および用いる試薬の種類、および用いる反応温度によって異なり、当業者であれば適宜好ましい反応時間を選択できる。例えば、化合物（３ａ）を塩基によりアニオン化した後、以下に示す温度にて３０〜６０分間撹拌し、得られた混合物に化合物（２ａ）を加えた後、以下に示す温度でさらに１〜１２時間撹拌する。【００８２】
[化合物（３ａ）を塩基によりアニオン化する反応の反応温度]
この反応の反応温度は、通常、用いる出発原料の種類、用いる溶剤の種類、反応に用いる塩基の種類に左右され、当業者は適宜好ましい反応温度を選択することができる。例えば、化合物（３ａ）を含む溶液に塩基を添加する時の温度は、−７８℃〜室温（反応容器の外温）であり、より好適には、０℃（反応容器の外温）である。
さらに、塩基添加後の反応温度は、−７８℃〜７０℃（反応容器の外温）であることが好ましく、０℃〜室温（反応容器の外温）であることがさらに好ましい。【００８３】
[化合物（３ａ）をアニオン化して得られた化合物と化合物(２ａ)との反応の反応温度]
この反応の反応温度は、通常、用いる出発原料の種類、用いる溶剤の種類、反応に用いる試薬の種類によって異なり、当業者は適宜好ましい反応温度を選択することができる。例えば、化合物（２ａ）を反応混合物に添加する時の温度は、０℃〜室温（反応容器の外温）であり、より好適には、０℃（反応容器の外温）である。
さらに、化合物（２ａ）を添加した後の反応温度は、０℃〜１００℃（反応容器の外温）であり、より好適には、０℃〜７０℃（反応容器の外温）である。【００８４】
[ハイドロゲンフルオリド塩を加える反応での反応温度]
上述のように、化合物（３ａ）を塩基でアニオン化し、さらに化合物（２ａ）を加えて反応させたのち、反応混合物にハイドロゲンフルオリド塩をさらに添加して反応させ、ボロン酸エステル残基をトリフルオロボレート基に転換する。
この反応の反応温度は、通常、用いる出発原料の種類、用いる溶剤の種類、反応に用いる試薬の種類に左右され、当業者は適宜好ましい反応温度を選択することができる。例えば、ハイドロゲンフルオリド塩を反応混合物に添加する時の温度は、０℃〜室温（反応容器の外温）であり、より好適には、０℃（反応容器の外温）である。
ハイドロゲンフルオリド塩を反応混合物に添加した後の反応温度は、０℃〜室温（反応容器の外温）であり、より好適には、室温（反応容器の外温）である。【００８５】
［塩基の使用量］
化合物（３ａ）をアニオン化するために用いる上記塩基は、化合物（３ａ）１モル当り、１〜２モル当量を用いることが好ましく、１〜１．８モル当量を用いることがさらに好ましい。【００８６】
［化合物（２ａ）と（３ａ）の使用量］
また、この反応においては、化合物（２ａ）１モル当り１〜１０モル当量の化合物（３ａ）を用いることが好ましく、１〜１．８モル当量の化合物（３ａ）を用いることがさらに好ましい。【００８７】
［ハイドロゲンフルオリド塩の使用量］
上記ハイドロゲンフルオリド塩は、化合物（２ａ）１モル当り、２〜８モル当量を用いることが好ましく、２〜６モル当量を用いることがさらに好ましい。【００８８】
［二量体の形成］
式（Ｉ）におけるＲｂが水素原子である場合、式（Ｉ）で表される化合物２分子が一つとなって、一般式（II）で表される二量体を形成することもできる。【００８９】
【化６】
2008007670.tif 000007
[式中、ＲａおよびＭは先にした定義と同義である。]【００９０】
［テトラアルキルアンモニウム塩およびテトラアルキルホスホニウム塩の調製］
化合物（Ｉ）におけるＭがアルカリ金属イオンである場合は、この化合物（Ｉ）にさらに、テトラアルキルアンモニウム  ヒドロキシドおよびテトラアルキルホスホニウム  ヒドロキシド等から選択される反応剤を反応させることにより、Ｍが［Ｎ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋、または［Ｐ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ7−15アラルキル基を意味する。）である化合物（Ｉ）に変換することができる。本工程は、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  Ｖｏｌ．４２，  ｐｐ．  ９０９９−９１０３に記載された方法を参照して行うことができる。テトラアルキルアンモニウム  ヒドロキシドの例としては、テトラブチルアンモニウム  ヒドロキシドが挙げられる。また、テトラアルキルホスホニウム  ヒドロキシドの例としては、テトラブチルホスホニウム  ヒドロキシドが挙げられる。【００９１】
Ｍをアルカリ金属イオンからテトラアルキルアンモニウム塩またはテトラアルキルアンモニウム塩などに変換する反応に用いる溶剤としては、ジクロロメタンまたはクロロホルムと水との混合溶剤を用いることができる。
この塩交換反応の反応時間は、通常、室温（反応容器の外温）で１分から３０分であり、好ましくは１から５分である。
また、塩交換反応の反応温度は、通常、１０〜５０℃であり、好ましくは室温（いずれも反応容器の外温）である。【００９２】
〔本発明のフルオロホウ素化合物を用いたアミノメチル化反応〕
上述したとおり、本発明の化合物（Ｉ）は芳香環のアミノメチル化剤として用いることができる。この反応により、芳香環にアミノメチル基を一段階で導入することができる。以下にこの反応について説明する。【００９３】
以下の反応式２に本発明の化合物（Ｉ）をアミノメチル化剤として用いる芳香環のアミノメチル化反応のスキームを示した。
【化７】
2008007670.tif 000008
【００９４】
反応式中に示した、Ｒａ、Ｒｂ、ＭおよびＸは、先に式（Ｉ）の化合物に対して定義した意味と同意義である。Ｕはハロゲン基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基などの脱離基を意味する。
化合物（１ｂ）は、本発明のアミノメチル化剤とカップリング反応を起こしうる芳香環を有する化合物を表す。本明細書においては、上記定義のとおり、芳香環には炭化水素系芳香環、たとえば、ベンゼン環およびナフタレン環などとともに、ヘテロアリール環、たとえば、ピロール、ピリジン、及びキノリンなどが含まれる。【００９５】
[工程Ｂ−１]
反応式２の工程Ｂ−１は、適切な溶剤中、芳香環を有する化合物（１ｂ）とフルオロホウ素化合物（Ｉ）とをカップリング反応させることにより化合物（２ｂ）を製造する工程である。以下の説明の都合上、反応式２には化合物（Ｉ）のみを示しているが、化合物（Ｉ）に代えて、化合物（II）または化合物（III）を芳香環のアミノメチル化反応に用いることもできる。【００９６】
芳香環を有する化合物（１ｂ）としては、市販されている化合物および公知の化合物、またはこれらの化合物から公知の方法を用いて製造することができる化合物から選択される任意の化合物を用いることができる。【００９７】
本カップリング反応は、この反応の触媒として有効な金属触媒の存在下で行う。金属触媒としては、例えばパラジウム金属、白金金属、ニッケル金属、ロジウム金属およびイリジウム金属等の金属、ならびにこれらから選択される金属を含む化合物が挙げられる。金属触媒としては、パラジウム触媒が好ましい。パラジウム触媒の具体例としては、酢酸パラジウム（II）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、パラジウム  カーボン、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）クロリド、ビス（トリ-t-ブチルホスフィン）パラジウム（０）、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（０）、１，１’―ビス（ジフェニルホスフィノフェロセン）ジクロロパラジウム（II）等が挙げられ、酢酸パラジウム（II）が特に好ましい。
上記金属触媒は、芳香環を有する化合物（１ｂ）１モル当り、０．００１〜０．５モル当量を用いることが好ましく、０．０５〜０．２モル当量を用いることがさらに好ましい。【００９８】
本カップリング反応は、上記金属触媒とともに、塩基およびホスフィン化合物の存在下で行うことが特に好ましい。【００９９】
上記塩基としては、例えば、ポタシウムホスフェートトリベーシック、炭酸セシウム、およびセシウムフルオリド等が挙げられるが、なかでも炭酸セシウムおよびポタシウムホスフェートトリベーシックが好ましい塩基である。
塩基は、本発明のフルオロホウ素化合物（Ｉ）、（II）または（III）の１モル当り、１〜４モル当量を用いることが好ましく、２〜３モル当量を用いることがさらに好ましい。【０１００】
上記ホスフィン化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ−ｏ−トリルホスフィン、トリ−ｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジフェニルホスフィノフェロセン、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル、２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル、２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、等が挙げられるが、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニルが特に好ましい。
ホスフィン化合物は、フルオロホウ素化合物（Ｉ）、（II）または（III）１モル当り、０．００１〜３モル当量を用いることが好ましく、０．０５〜０．８モル当量を用いることがさらに好ましい。【０１０１】
工程Ｂ−１においては、化合物（１ｂ）１モル当り、化合物（Ｉ）を１〜３モル当量を用いることが好ましく、１〜２モル当量を用いることがさらに好ましい。なお、化合物（Ｉ）に代えて化合物（II）または（III）を用いた場合も同様である。【０１０２】
工程Ｂ−１を行う場合には溶剤を用いてもよく、用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解可能であり、かつ、反応を阻害しないものであれば、特に制限はない。工程Ｂ−１に用いることができる溶媒の例としては、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテルおよびジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤；ベンゼンおよびトルエン等の芳香族炭化水素系溶剤；ヘプタンおよびヘキサン等の脂肪炭化水素系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ−メチルピロリジノン等のアミド系溶剤；ジメチルスルホキシド；ならびにこれらの混合溶剤等を挙げることができ、特に好ましい溶剤は１，４−ジオキサンまたはトルエンである。【０１０３】
工程Ｂ−１の具体的な反応条件、反応の後処理、および精製方法は、後述する実施例Ｂ１〜Ｂ９に記載した条件を参考にすることにより当業者によって容易に決定することができる。また、実施例に示した以外の出発物質およびアミノメチル化剤を用いる場合でも、当業者であれば容易にその反応実施のために最適な条件を決定することができる。【０１０４】
工程Ｂ−１の反応温度および反応時間は、用いる出発原料の種類、用いる溶剤の種類、反応に用いる試薬の種類に左右されるが、当業者は容易に最適な反応温度および反応時間を決定できる。反応温度は、一般に、５０〜１４０（反応容器の外温）であることが好ましく、９５〜１０５（反応容器の外温）であることがさらに好ましい。一般には、全ての原料を混合した後、撹拌下で１〜７２時間反応を行うことが好ましく、４〜２０時間反応を行うことがさらに好ましい。【０１０５】
本反応は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。【０１０６】
工程Ｂ−１の反応によって、化合物（１ｂ）の芳香環にアミノメチル基が導入された化合物（２ｂ）が得られる。【０１０７】
[工程Ｂ−２]
工程Ｂ−２は、芳香環がアミノメチル化された化合物（２ｂ）において、Ｒａがアミノ基の保護基であり且つＲｂが水素原子である場合、またはＲａおよびＲｂがともにアミノ基の保護基である場合に、Ｒａまたは、ＲａおよびＲｂを脱保護し、一級アミノメチル基を有する化合物（３ｂ）を得る工程である。本工程は任意選択で行うことができる。また、ＲａまたはＲｂのいずれか一方がアミンの保護基であり、他方が例えばＣ１−６アルキル基である場合も、工程Ｂ−２と同様の方法によって保護基を除去し、二級アミノ基を有する化合物を得ることができる。【０１０８】
工程Ｂ−２は、アミノ基の保護基の公知の除去方法を用いて行うことができる。例えば、Ｒａがｔ−ブトキシカルボニル基である場合には、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ， ｐｐ. ６６−６８， １９９９などに記載された方法を用いてアミノ基の脱保護を行うことができる。また、Ｒａがホルミル基を意味する場合には、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ， Ｖｏｌ．３３， ｐｐ．８１２５−８１２６ などに記載された方法を用いてアミノ基の脱保護を行うことができる。また、ＲａおよびＲｂが、それらが結合する窒素原子と一緒になってフタルイミド基を形成している場合には、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ， Ｖｏｌ．６０， ｐｐ．４７７３−４７８０ などに記載の方法を用いてアミノ基の脱保護を行うことができる。【０１０９】
[工程Ｂ−３]
工程Ｂ−３は溶剤中、芳香環を有する化合物（１ｂ）とフルオロホウ素化合物（Ｉ）とを反応させることにより、化合物（３ｂ）をワンポットで製造する工程である。
工程Ｂ−３においては、上記工程Ｂ−１と同様の条件により化合物（１ｂ）と化合物（Ｉ）のカップリング反応を行い、次いで、生成物を単離せずに反応系内でアミン保護基の脱保護を行うことにより、化合物（３ｂ）を直接得ることができる。アミン保護基の脱保護の最適条件は、保護基の種類によって変わるが、上記工程Ｂ−２で示した参考文献に記載された条件などを参考にしてアミン基の脱保護を行うことができる。アミン基の好ましい脱保護条件としては、化合物（１ｂ）と（Ｉ）とのカップリング反応終了後に、反応系内にヒドラジン  ハイドレートなどのヒドラジン化合物を加える方法、反応系内の塩基性を上げる方法、あるいは反応系を酸性にする方法、などを挙げることができる。【０１１０】
ヒドラジン化合物を用いるアミンの脱保護は、後述する実施例Ｂ１からＢ３に記載した反応条件、反応の後処理および精製方法を参考にして行うことができる。この場合、反応混合物にメタノールなどのアルコール系溶剤を添加してアミン保護基の脱保護を行うこともできる。【０１１１】
ヒドラジン化合物によるアミンの脱保護に必要な反応時間は、保護基の種類、用いる溶剤の種類、脱保護に用いるヒドラジン化合物の種類、および反応温度によって変動しうるが、適切な反応時間は当業者が容易に定めることができる。この反応時間は、通常は、５０〜１００℃（反応容器の外温）において、撹拌下、３０分間〜２時間である。【０１１２】
ヒドラジン化合物による脱保護の場合の反応温度は、通常、出発原料、溶剤、その他反応に用いる試薬によって異なり、適宜選択されるが、好適には、５０℃〜１００℃（外温）である。【０１１３】
上記各方法または各工程において、反応終了後に反応混合物から目的化合物を常法に従って単離することができる。
例えば、加熱条件下で反応が終了した後に反応混合物全体が液体の場合は、反応混合物を所望により室温に戻すか、冷却（氷冷〜−７８℃）下で、適宜、反応混合物に酸またはアルカリを加えて中和し、および／または酸化剤もしくは還元剤を加える。次いで、水と酢酸エチルのように互いに混和せずかつ目的化合物と反応しない有機溶剤をさらに加え、目的化合物を含む層を分離する。次に、目的化合物を含む層と相溶性がなく且つ目的化合物と反応しない溶剤を加え、目的化合物を含む層を洗浄し分離する。この層が有機層であれば、無水硫酸マグネシウムまたは無水硫酸ナトリウム等の乾燥剤を用いて乾燥し、乾燥剤を除去後、溶剤を留去することにより、目的化合物を得ることができる。また、目的化合物を含む層が水層であれば、電気的に脱塩した後、凍結乾燥することにより、目的化合物を得ることができる。【０１１４】
また、反応混合物全体が液体である場合は、常圧または減圧下、目的化合物以外の物質（例えば、溶剤および試薬等）を留去することのみにより、目的化合物を得ることが可能な場合もある。
また、反応混合物全体が液体である場合は、反応混合物を種々のクロマトグラフィー（薄層クロマトグラフィーまたはカラムクロマトグラフィー等）を用いることにより精製し、目的化合物を得ることができる。【０１１５】
目的化合物のみが固体として反応時に反応混合物中に析出した場合、または、反応混合物の処理途中で目的化合物のみが固体として析出した場合は、まず、ろ過法により目的化合物をろ取し、ろ取した目的化合物を適当な有機溶剤または水などの無機溶剤で洗浄し、さらに乾燥する。続いて所望により、濾過操作で得られた母液を上記反応混合物全体が液体の場合と同様に処理することにより、目的化合物をさらに回収することができる。【０１１６】
また、目的化合物以外の試薬および触媒の少なくとも一方または両者が固体として存在するか、または、反応終了時に反応混合物全体が液体の場合であって、後処理の過程で試薬および触媒の少なくとも一方または両者が固体として析出した場合であって、かつ、目的化合物が溶液に溶解している場合は、まず、ろ過法により試薬および／または触媒をろ過により分離し、分離した試薬または触媒を適当な有機または無機溶剤で洗浄し、得られる洗浄液を母液と合わせて得られる混合液を、上記反応混合物全体が液体の場合と同様に処理することにより、目的化合物を得ることができる。
反応混合物に含まれる目的化合物以外のものが次工程の反応を阻害しない場合は、目的化合物を単離することなく、そのまま次の工程に使用することもできる。【０１１７】
上記反応式１または２にしたがって製造した目的化合物は、適宜、任意選択で、再結晶法、各種クロマトグラフィー法、蒸留法を使用し、その純度を高めることができる。【０１１８】
目的化合物が固体の場合、通常、再結晶法により目的化合物の純度を向上させることができる。再結晶法に用いる溶剤としては、目的化合物と反応しない単一溶剤または複数の溶剤の混合物を用いることができる。具体的には、まず目的化合物と反応しない溶剤中に、室温または加熱下に目的化合物を溶解する。得られる溶液を氷水等で冷却するかまたは室温にて放置することにより、その溶液から目的化合物を晶出させることができる。【０１１９】
得られた目的化合物が液体の場合は、各種クロマトグラフィー法を用いて、目的化合物の純度を向上させることができる。クロマトグラフィーには、例えば、メルク社製シリカゲル６０（７０−２３０ｍｅｓｈまたは３４０−４００ｍｅｓｈ）または関東化学株式会社製シリカゲル６０（０．０４０−０．０５０ｍｍ）などの弱酸性のシリカゲル類を用いることができる。目的化合物が酸性下で不安定な場合は、関東化学株式会社製中性シリカゲル６０Ｎ（０．１０−０．２１ｍｍ）等を用いることもできる。目的化合物が塩基性を有する場合等は、富士シリシア化学株式会社製のプロピルアミンコーティングシリカゲル（ＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー）（２００−３５０ｍｅｓｈ）等を用いることもできる。また、目的化合物が双性イオンの構造を有する場合またはメタノール等の高極性溶剤での溶出が必要な場合等は、ナム研究所製ＮＡＭ−２００ＨまたはＮＡＭ−３００Ｈを用いることもできる。これらのシリカゲルを用いたクロマトグラフィーを用いて、目的化合物と反応しない単一溶剤または複数の溶剤の混合液で目的化合物を溶出させ、目的化合物を含むフラクションから溶剤を留去することにより、純度が向上した目的化合物を得ることができる。【０１２０】
得られた目的化合物が液体の場合は、蒸留法によって目的化合物の純度を向上させることもできる。蒸留法においては、目的化合物を室温または加熱下に減圧することにより、目的化合物を留出させて精製することができる。【０１２１】
上述のとおり、本発明の化合物（Ｉ）及び（III）を製造方法として、反応式１に例示した方法が代表的なものである。さらに、化合物（Ｉ）のＲａおよびＲｂの少なくとも１つが水素原子である化合物からは二量体が形成されうる。二量体の形成例は、後述する実施例Ａ−４に示す。【０１２２】
本発明の化合物を製造するために用いる原料化合物および各種試薬は、塩や水和物あるいは溶媒和物を形成していてもよく、その形態は出発原料および使用する溶媒等により異なってよく、また目的とする反応を阻害しない限り特にその形態は限定されない。
用いる適切な溶媒の種類も、出発原料、試薬等の種類によって左右されるが、目的とする反応を阻害せず且つ出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定されないことは言うまでもない。適切な溶媒を選択することは当業者にとってきわめて容易である。【０１２３】
本発明に係る化合物（Ｉ）がフリー体として得られる場合は、所望により、化合物（Ｉ）をその塩またはそれらの溶媒和物に常法に従って変換してもよい。
また、化合物（Ｉ）が溶媒和物として得られる場合は、いったんフリーアミンにしてから改めて塩や溶媒和物にすることができる。【０１２４】
また、本発明に係る化合物（Ｉ）について得られる種々の異性体（例えば幾何異性体、光学異性体、回転異性体、立体異性体、および互変異性体、等）は、通常の分離手段、例えば、再結晶、ジアステレオマー塩法、酵素分割法、種々のクロマトグラフィー（例えば薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー等）を用いることにより精製し、単離することができる。
【実施例】
【０１２５】
〔実施例〕  
以下、実施例に基づいて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、製造例１および２は、上記反応式１の工程Ａ−１の実施例である。また、実施例Ａ１〜Ａ６は、上記反応式１の工程Ａ−２の実施例である。さらに、実施例Ｂ１〜Ｂ９は、上記反応式２に従う実施例である。
また、以下の記載中、反応温度を表す（外温）とは、反応容器の外部温度をいう。また（内温）とは、反応容器の内部温度をいう。【０１２６】
（製造例１）  ２−（クロロメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランの合成
【化８】
2008007670.tif 000009
【０１２７】
トリイソプロピルボレート（１５ｍｌ、６５ｍｍｏｌ）、クロロヨードメタン（１３ｇ、７２ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（７８ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(１．６Ｍ  ｎ−ヘキサン溶液、４１ｍｌ、 ６５ｍｍｏｌ)を２０分間かけて滴下して加え、次いで得られた混合物を、室温で２．５時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却して、同温度で４Ｎ塩酸−酢酸エチル溶液を反応混合物が中性になるまで滴下した。同温度で反応混合物にピナコール（７．７ｇ、６５ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で４０分間攪拌した。減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣を減圧蒸留（６３−７０℃、１１ｍｍＨｇ）することにより標記化合物(９．２ｇ、 ５２ｍｍｏｌ、８１％)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.30(12H, s), 2.97(2H, s)。【０１２８】
（製造例２）  ２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランの合成
【化９】
2008007670.tif 000010
【０１２９】
トリイソプロピルボレート（２０ｇ、１１０ｍｍｏｌ）、ジブロモメタン（８．６ｍｌ、１２０ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（１５０ｍｌ）の混合物に、−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(２．６Ｍ  ｎ−ヘキサン溶液、３９ｍｌ、 １００ｍｍｏｌ)を１．５時間かけて滴下して加え、次いで、反応混合物を同温度で１．５時間攪拌した。次いで得られた混合物を、室温で２時間攪拌したのち、０℃（外温）に冷却して反応混合物にメタンスルホン酸（６．５ｍｌ、１００ｍｍｏｌ）を加え、次いで反応混合物を室温で1時間攪拌した。得られた混合物を０℃（外温）に冷却し、反応混合物にピナコール（１２ｇ、１００ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で１時間攪拌した。減圧下で溶媒を反応混合物から溜去した後、得られた残渣を減圧蒸留（７４−７６℃、８ｍｍＨｇ）することにより標記化合物(１６ｇ、 ７２ｍｍｏｌ、６８％)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.29(12H, s), 2.59(2H, s)。【０１３０】
（実施例Ａ１）  ソジウム  １，３−ジオキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−イルメチル  トリフルオロボレートの合成
【化１０】
2008007670.tif 000011
【０１３１】
ソジウム  ハイドライド（６６％、８４ｍｇ、２．３ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン(２．５ｍｌ)、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド(０．５ｍｌ)の混合物に０℃（外温）でフタルイミド（３４０ｍｇ、２．３ｍｍｏｌ）、２−（クロロメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（４１０ｍｇ、２．３ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン(２．５ｍｌ)、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド(０．５ｍｌ)の混合物を滴下して加えた。得られた混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物に０℃（外温）でテトラヒドロフラン（５ｍｌ）とソジウム  ハイドロゲンフルオリド（７２０ｍｇ、１２ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（１０ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温でさらに１時間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）を加え、還流温度まで加熱した。反応混合物を４０℃程度（内温）まで放冷後、ろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、残渣を酢酸エチルとテトラヒドロフランの混合溶媒（２：１）で洗浄し、標記化合物(２４０ｍｇ、４２％)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 2.56(2H, q, J=5.1Hz), 7.74(4H, s)。【０１３２】
（実施例Ａ２）  ポタシウム  １，３−ジオキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−イルメチル  トリフルオロボレートの合成
【化１１】
2008007670.tif 000012
【０１３３】
フタルイミド  ポタシウム  ソルト（２．８ｇ、１５ｍｍｏｌ）とジメチルスルホキシド (２０ｍｌ)の混合物に室温で２−（クロロメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（５５％、３．３ｇ、１０ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。得られた混合物を７０℃で１時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却し、同温度でポタシウム  ハイドロゲンフルオリド（３．９ｇ、５１ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（２０ｍｌ）を滴下して加えた。生成した固体をろ過により除去し、ジメチルスルホキシド以外の溶媒を減圧下で溜去した。得られた残渣を、ジエチルエーテルとテトラヒドロフランの混合溶媒（１：１）で洗浄し、さらに残渣にアセトン（２００ｍｌ）を加え、還流温度まで加熱した。反応混合物をろ過し、ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、残渣を酢酸エチルで洗浄し、標記化合物(６８ｍｇ、３％)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 2.51-2.54(2H, m), 7.74(4H, s)。【０１３４】
（実施例Ａ３）  ソジウム  （ジホルミルアミノ）メチル  トリフルオロボレートの合成
【化１２】
2008007670.tif 000013
【０１３５】
ジホルミルイミド  ソジウム  ソルト（２４０ｍｇ、２．５ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン (１０ｍｌ)の混合物に室温で２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（９２％、３００ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。得られた混合物を６０℃（外温）で２０分間攪拌した。反応混合物に６０℃（外温）でアセトニトリル(１０ｍｌ)を加え、同温度で終夜攪拌した。次に反応混合物を０℃（外温）に冷却し、同温度でソジウム  ハイドロゲンフルオリド（３１０ｍｇ、５．０ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（１５ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物から減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン−メタノール（２０：１）の混合溶媒（３０ｍｌ）を加えてろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をアセトンで洗浄し、標記化合物(１９７ｍｇ)をクルード体として得た。本化合物はこれ以上の精製をせずに次の反応にそのまま用いた。
MS m/e (ESI) 154(M--Na)。【０１３６】
（実施例Ａ４）  ジソジウム  １，４−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）−２，２，５，５−テトラフルオロ−１，４，２，５−ジアザジボリナン−２，５−ジウイドの合成
【化１３】
2008007670.tif 000014
【０１３７】
ソジウム  ハイドライド（６６％、９１ｍｇ、２．５ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン(１０ｍｌ)の混合物に０（外温）でジ−ｔ−ブチル  イミノジカルボキシレート（５４０ｍｇ、２．５ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１５分間攪拌した。反応混合物に同温度で２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（３００ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ）を加え、得られた混合物を６０（外温）で終夜攪拌した。反応混合物に０（外温）でソジウム  ハイドロゲンフルオリド（３１０ｍｇ、５ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（１０ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で１０分間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン−メタノール（２０：１）の混合溶媒（３０ｍｌ）を加えてろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣を酢酸エチルで洗浄し、標記化合物(１８０ｍｇ、７２％)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm):1.42(18H, s), 2.28(4H, t, J=8.1Hz)。【０１３８】
（実施例Ａ５）  ポタシウム  モルホリン−４−イルメチル  トリフルオロボレートの合成
【化１４】
2008007670.tif 000015
【０１３９】
２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（１．０ｇ、４．５ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン(１０ｍｌ)の混合物に０℃（外温）でトリエチルアミン（０．７０ｍｌ、５．０ｍｍｏｌ）を滴下して加え、次いでこの反応混合物にさらにモルホリン（０．４０ｍｌ、４．５ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。得られた混合物を同温度で２０分間攪拌した。次に、同温度で反応混合物に５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（０．９１ｍｌ、４．５ｍｍｏｌ）を加え、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にメタノール（１５ｍｌ）を加え、室温でポタシウム  ハイドロゲンフルオリド（１．１ｇ、１４ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（１．５ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で２０分間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）とメタノール（４ｍｌ）を加え、還流温度まで加熱した。この混合物を室温まで放冷後、ろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣を酢酸エチルで洗浄し、標記化合物(１４４ｍｇ)をクルード体として得た。本化合物はこれ以上の精製をせずに次の反応にそのまま用いた。【０１４０】
（実施例Ａ６）  ポタシウム  ピロリジン−１−イルメチル  トリフルオロボレートの合成
【化１５】
2008007670.tif 000016
【０１４１】
２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（５４０ｍｇ、２．３ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン(１０ｍｌ)の混合物に０（外温）でトリエチルアミン（０．６３ｍｌ、４．５ｍｍｏｌ）を滴下して加え、次いで反応混合物にピロリジン（０．３８ｍｌ、４．５ｍｍｏｌ）を滴下して加えた。得られた混合物を室温で２時間攪拌した。同温度で反応混合物に５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（０．４５ｍｌ、２．３ｍｍｏｌ）を加え、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣に０（外温）でメタノール（１５ｍｌ）を加え、室温でポタシウム  ハイドロゲンフルオリド（０．７１ｇ、９．０ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（３ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で１０分間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン（１００ｍｌ）とメタノール（５ｍｌ）を加え、ろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣を酢酸エチルで洗浄し、標記化合物(１８８ｍｇ)をクルード体として得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm):1.82-1.95(6H, m), 1.97(2H, q, J=5.0Hz), 3.09(4H, br s)。【０１４２】
（実施例Ｂ１）  Ｃ−ビフェニル−４−イル−メチルアミン（C-Biphenyl-4-yl-methylamine）の合成
【化１６】
2008007670.tif 000017
【０１４３】
４−クロロビフェニル(１５ｍｇ、 ０．０７９ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１ｍｌ）、炭酸セシウム(０．１６ｇ、 ０．４８ｍｍｏｌ)、ソジウム  １，３−ジオキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−イルメチル  トリフルオロボレート(４０ｍｇ、 ０．１６ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（II）(１．８ｍｇ、 ０．００７９ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(６．５ｍｇ、 ０．０１６ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を１００℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、これにヒドラジン  ハイドレート(４０ｍｇ、 ０．７９ｍｍｏｌ)とメタノール（２ｍｌ）を加え、３０分間加熱還流した。反応混合物を室温に冷却後、これに水と酢酸エチルを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）にて精製し、標記化合物（７．７ｍｇ、５３％）を２’−（ジシクロヘキシル−ホスフィノイル）−２，６−ジメトキシ−ビフェニル（３．８ｍｇ）との混合物として得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 3.76(2H, s), 7.34(1H, t, J=7.3Hz), 7.41-7.47(4H, m), 7.59-7.66(4H, m)。【０１４４】
（実施例Ｂ２）  ２−メトキシ−ベンジルアミン（2-Methoxy-benzylamine）の合成
【化１７】
2008007670.tif 000018
【０１４５】
２−ブロモアニソール(０．０２０ｍｌ、 ０．１６ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（２ｍｌ）の混合物に、水（０．２ｍｌ）、炭酸セシウム(０．３２ｇ、 ０．９７ｍｍｏｌ)、ソジウム  １，３−ジオキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−イルメチル  トリフルオロボレート(８１ｍｇ、 ０．３２ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（II）(３．６ｍｇ、 ０．０１６ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(１３ｍｇ、 ０．０３２ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を９５（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、ヒドラジン  ハイドレート(０．０３９ｍｌ、 ０．８１ｍｍｏｌ)とメタノール（２ｍｌ）を加え、反応混合物を１時間加熱還流した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１：４）にて精製し、標記化合物（４．１ｍｇ、１９％）を２’−（ジシクロヘキシル−ホスフィノイル）−２，６−ジメトキシ−ビフェニル（６．２ｍｇ）との混合物として得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm):3.81(2H, s), 3.85(3H, s), 6.87(1H, d, J=8.1Hz), 6.91(1H, dt, J=1.1, 7.3Hz), 7.20-7.25(2H, m)。【０１４６】
（実施例Ｂ３）  Ｃ−ビフェニル−３−イル−メチルアミン（C-Biphenyl-3-yl-methylamine）の合成
【化１８】
2008007670.tif 000019
【０１４７】
３−ブロモビフェニル(０．０２０ｍｌ、 ０．１２ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、水（０．１５ｍｌ）、ポタシウム  ホスフェート  トリベーシック  ｎ−ハイドレート(１７０ｍｇ、 ０．７２ｍｍｏｌ)、ソジウム  １，３−ジオキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−イルメチル  トリフルオロボレート(６０ｍｇ、 ０．２４ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（II）(２．７ｍｇ、 ０．０１２ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(９．９ｍｇ、 ０．０２４ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を９４℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、ヒドラジン  ハイドレート(４８ｍｇ、 ０．９６ｍｍｏｌ)とメタノール（２ｍｌ）を加え、反応混合物を４０分間加熱還流した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に酢酸エチルと水を加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）にて精製し、標記化合物（１１ｍｇ、５１％）を２’−（ジシクロヘキシル−ホスフィノイル）−２，６−ジメトキシ−ビフェニル（７．８ｍｇ）との混合物として得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 3.95(2H, s), 7.30-7.37(2H, m), 7.40-7.50(4H, m), 7.54-7.55(1H, m), 7.59-7.61(2H, m)。【０１４８】
（実施例Ｂ４）  ２−ビフェニル−４−イルメチル−イソインドール−１，３−ジオン（2-Biphenyl-4-ylmethyl-isoindole-1,3-dione）の合成
【化１９】
2008007670.tif 000020
【０１４９】
４−クロロビフェニル(１５ｍｇ、 ０．０７９ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１ｍｌ）、炭酸セシウム(０．１６ｇ、 ０．４８ｍｍｏｌ)、ソジウム  １，３−ジオキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−イルメチル  トリフルオロボレート(４０ｍｇ、 ０．１６ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（II）(１．８ｍｇ、 ０．００７９ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(６．５ｍｇ、 ０．０１６ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を１００℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４０：１）にて精製し、標記化合物（１４ｍｇ、５６％）を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6) δ(ppm): 4.82(2H, s), 7.33-7.37(1H, m), 7.39-7.47(4H, m), 7.61-7.64(4H, m), 7.86-7.93(4H, m)。【０１５０】
（実施例Ｂ５）  Ｎ−ビフェニル−４−イルメチル−ホルムアミド（N-Biphenyl-4-ylmethyl-formamide）の合成
【化２０】
2008007670.tif 000021
【０１５１】
４−クロロビフェニル(３０ｍｇ、 ０．１６ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１５ｍｌ）、炭酸セシウム(０．３１ｇ、 ０．９５ｍｍｏｌ)、ソジウム  （ジホルミルアミノ）メチル  トリフルオロボレート(クルード体、９４ｍｇ)、酢酸パラジウム（II）(３．６ｍｇ、 ０．０１６ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(１３ｍｇ、 ０．０３２ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を１００℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１：４）にて精製し、標記化合物（２．０ｍｇ、６％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 4.55(2H, d, J=5.9Hz), 7.33-7.39(3H, m), 7.43-7.46(2H, m), 7.57-7.59(4H, m), 8.31(1H, s)。
MS m/e (ESI) 234(M++Na), 266(M++Na+methanol)。【０１５２】
（実施例Ｂ６）  ビフェニル−４−イルメチル−カルバミック  アシッド  ｔ−ブチル  エステル（Biphenyl-4-ylmethyl-carbamic acid t-butyl ester）の合成
【化２１】
2008007670.tif 000022
【０１５３】
４−クロロビフェニル(３０ｍｇ、 ０．１６ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１５ｍｌ）、炭酸セシウム(０．３１ｇ、 ０．９５ｍｍｏｌ)、ジソジウム  １，４−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）−２，２，５，５−テトラフルオロ−１，４，２，５−ジアザジボリナン−２，５−ジウイド(６４ｍｇ、 ０．１６ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（II）(３．６ｍｇ、 ０．０１６ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(１３ｍｇ、 ０．０３２ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を１００℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝５：１）にて精製し、標記化合物（３０ｍｇ、６７％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.48(9H, s), 4.36(2H, d, J=5.3Hz), 4.87(1H, br s), 7.32-7.37(3H, m), 7.42-7.46(2H, m), 7.55-7.59(4H, m)。【０１５４】
（実施例Ｂ７）  ４−ビフェニル−４−イルメチル−モルホリン（4-Biphenyl-4-ylmethyl-morpholine）の合成
【化２２】
2008007670.tif 000023
【０１５５】
４−クロロビフェニル(２３ｍｇ、 ０．１２ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（２．５ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．２５ｍｌ）、ポタシウム  ホスフェート  トリベーシック  ｎ−ハイドレート(０．２８ｇ、 １．２ｍｍｏｌ)、ポタシウム  モルホリン−４−イルメチル  トリフルオロボレート(７８ｍｇ)、酢酸パラジウム（II）(２．７ｍｇ、 ０．０１２ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(１０ｍｇ、 ０．０２４ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を１０時間加熱還流した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、ろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝５：１）にて精製し、標記化合物（２０ｍｇ、６４％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.47-2.49(4H, m), 3.54(2H, s), 3.72-3.74(4H, m), 7.31-7.36(1H, m), 7.39-7.45(4H, m), 7.54-7.60(4H, m)。【０１５６】
（実施例Ｂ８）  ４−ビフェニル−３−イルメチル−モルホリン（4-Biphenyl-3-ylmethyl-morpholine）の合成
【化２３】
2008007670.tif 000024
【０１５７】
３−ブロモビフェニル(２８ｍｇ、 ０．１２ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（２．５ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．２５ｍｌ）、ポタシウム  ホスフェート  トリベーシック  ｎ−ハイドレート(０．２８ｇ、 １．２ｍｍｏｌ)、ポタシウム  モルホリン−４−イルメチル  トリフルオロボレート(７８ｍｇ)、酢酸パラジウム（II）(２．７ｍｇ、 ０．０１２ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(１０ｍｇ、 ０．０２４ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を１０時間加熱還流した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、ろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝５：１）にて精製し、標記化合物（２３ｍｇ、７５％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 2.47-2.50(4H, m), 3.57(2H, s), 3.71-3.74(4H, m), 7.31-7.47(5H, m), 7.50(1H, dd, J=0.6, 7.7Hz), 7.56(1H, s), 7.58-7.62(2H, m).【０１５８】
（実施例Ｂ９）  １−ビフェニル−４−イルメチル−ピロリジン（1-Biphenyl-4-ylmethyl-pyrrolidine）の合成
【化２４】
2008007670.tif 000025
【０１５９】
４−ブロモビフェニル(２０ｍｇ、 ０．０８６ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１５ｍｌ）、ポタシウム  ホスフェート  トリベーシック  ｎ−ハイドレート(０．１８ｇ、 ０．７３ｍｍｏｌ)、ポタシウム  ピロリジン−１−イルメチル  トリフルオロボレート(４０ｍｇ、 ０．２１ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（II）(３．９ｍｇ、 ０．０１７ｍｍｏｌ)および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル(１０ｍｇ、 ０．０３４ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を１００℃で１１時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝６：１）にて精製し、標記化合物（１９ｍｇ、８９％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCl3) δ(ppm): 1.76-1.82(4H, m), 2.52-2.56(4H, m), 3.65(2H, s), 7.31-7.35(1H, m), 7.39-7.45(4H, m), 7.53-7.60(4H, m)。
【産業上の利用可能性】
【０１６０】
本発明によれば、１級、２級または３級アミノメチル基を芳香環に直接導入することができるため、基質として、還元反応に不安定なものや、安価かつ豊富に市販されているクロロベンゼンなどの芳香族ハライドを利用することができる。よって、本発明は産業上有用である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年3月13日(2009.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式(I)で表されるフルオロホウ素化合物もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物。
Ｒａ（Ｒｂ）Ｎ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍ      (I)
[式中、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換のＣ１−６アルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のヘテロ環基、置換または非置換のヘテロアリール基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアラルキル基およびアミノ基の保護基からなる群から選択される基を意味するか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、アミノ基の保護基を形成しているか、または、Ｒａ及びＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、任意選択でさらに１以上のヘテロ原子を含んでいてもよい置換又は非置換の非芳香族ヘテロ環を形成しており；
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋、または［Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）を意味する。（但し、ポタシウム  ｎ−ブチルアミノメチルトリフルオロボレート、ポタシウム  シクロヘキシルアミノメチルトリフルオロボレート、ポタシウム  Ｎ−ピロリジニルメチルトリフルオロボレートおよびポタシウム  Ｎ−ピペリジルメチルトリフルオロボレートを除く。）]
【請求項２】
Ｒａおよび／またはＲｂが、水素原子またはアミノ基の保護基である請求項１記載の化合物もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物。
【請求項３】
アミノ基の前記保護基が環状イミド系保護基、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項２記載の化合物もしくはその二量体、またはその溶媒和物。
【請求項４】
アミノ基の前記保護基がカルバメート系保護基である請求項２記載の化合物もしくはその二量体、またはその溶媒和物。
【請求項５】
アミノ基の前記保護基がフタロイル基、ホルミル基またはt−ブチルオキシカルボニル基である、請求項２記載の化合物もしくはその二量体またはそれらの溶媒和物。
【請求項６】
下記式(II)で表される化合物またはその溶媒和物。
【化１】
2008007670.tif 000030
[式中、Ｒａは、水素原子、置換または非置換のＣ１−６アルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のヘテロ環基、置換または非置換のヘテロアリール基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアラルキル基、またはアミノ基の保護基を意味し、
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋、または［Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）を意味する。] 
【請求項７】
Ｒａがアミノ基の保護基である請求項６記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項８】
アミノ基の前記保護基が、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項７記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項９】
アミノ基の前記保護基が、カルバメート系保護基である請求項７記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項１０】
アミノ基の前記保護基がｔ-ブチルオキシカルボニル基である、請求項７記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項１１】
下記式(III)で表される化合物またはその溶媒和物。
【化２】
2008007670.tif 000031
[式中、Ｍはアルカリ金属カチオン、[Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)]＋または[Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)]＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味し；
Ｘは水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはニトロ基を意味する。]
【請求項１２】
Ｘが水素原子である、請求項１１記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項１３】
Ｍがアルカリ金属カチオンである、請求項１乃至１２のいずれか一項記載の化合物もしくはその二量体またはその溶媒和物。
【請求項１４】
Ｍがカリウムイオンまたはナトリウムイオンである、請求項１乃至１２のいずれか一項記載の化合物もしくはその二量体またはその溶媒和物。
【請求項１５】
下記式(I)で表されるフルオロホウ素化合物もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物からなる、芳香環の１級、２級または３級アミノメチル化剤。
Ｒａ（Ｒｂ）Ｎ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍ      (I)
[式中、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、置換または非置換のＣ１−６アルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のヘテロ環基、置換または非置換のヘテロアリール基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアラルキル基およびアミノ基の保護基からなる群から選択される基を意味するか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、アミノ基の保護基を形成しているか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、任意選択でさらに１以上のヘテロ原子を含んでいてもよい置換又は非置換のヘテロ環を形成しており；
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋、または［Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）を意味する。]
【請求項１６】
前記アミノメチル化が１級アミノメチル化である、請求項１５記載のアミノメチル化剤。
【請求項１７】
Ｒａおよび／またはＲｂが、水素原子またはアミノ基の保護基である請求項１５記載のアミノメチル化剤。
【請求項１８】
アミノ基の前記保護基が環状イミド系保護基、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項１７記載のアミノメチル化剤。
【請求項１９】
アミノ基の前記保護基がカルバメート系保護基である請求項１７記載のアミノメチル化剤。
【請求項２０】
アミノ基の前記保護基がフタロイル基、ホルミル基またはｔ-ブチルオキシカルボニル基である、請求項１７記載のアミノメチル化剤。
【請求項２１】
下記式(II)で表される請求項１５に記載のアミノメチル化剤。
【化３】
2008007670.tif 000032
[式中、Ｒａは、水素原子、置換または非置換のＣ１−６アルキル基、置換または非置換のシクロアルキル基、置換または非置換のヘテロ環基、置換または非置換のヘテロアリール基、置換または非置換のアリール基、置換または非置換のアラルキル基、またはアミノ基の保護基を意味し、
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋、または［Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）を意味する。] 
【請求項２２】
Ｒａがアミノ基の保護基である請求項２１記載のアミノメチル化剤。
【請求項２３】
アミノ基の前記保護基がアミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項２２記載のアミノメチル化剤。
【請求項２４】
アミノ基の前記保護基がカルバメート系保護基である請求項２２記載のアミノメチル化剤。
【請求項２５】
アミノ基の前記保護基がｔ-ブチルオキシカルボニル基である、請求項２２記載のアミノメチル化剤。
【請求項２６】
下記式(III)で表される請求項１５に記載のアミノメチル化剤。
【化４】
2008007670.tif 000033
[式中、Ｍはアルカリ金属カチオン、[Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)]＋または[Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)]＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味し；
Ｘは水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはニトロ基を意味する。]
【請求項２７】
Ｘが水素原子である、請求項２６記載のアミノメチル化剤。
【請求項２８】
Ｍがアルカリ金属カチオンである、請求項１５乃至２７のいずれか一項記載のアミノメチル化剤。
【請求項２９】
Ｍがカリウムイオンまたはナトリウムイオンである、請求項１５乃至２７のいずれか一項記載のアミノメチル化剤。
【請求項３０】
請求項１５記載のアミノメチル化剤と、前記アミノメチル化剤との間でカップリング反応を起こしうる芳香環を有する化合物とを、前記カップリング反応に有効な金属触媒存在下で反応させる、１級、２級または３級アミノメチル芳香環を有する化合物の製造方法。
【請求項３１】
下記式：
【化５】
2008007670.tif 000034
で表されるソジウム  １，３−ジオキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−イルメチル  トリフルオロボレート。
【請求項３２】
下記式：
【化６】
2008007670.tif 000035
で表されるポタシウム  １，３−ジオキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−イルメチル  トリフルオロボレート。
【請求項３３】
下記式：
【化７】
2008007670.tif 000036
で表されるソジウム  (ジホルミルアミノ)メチル  トリフルオロボレート。
【請求項３４】
下記式：
【化８】
2008007670.tif 000037
で表されるジソジウム  １，４−ビス(t−ブトキシカルボニル)−２，２，５，５−テトラフルオロ−１，４，２，５−ジアザジボリナン−ジウイド。
【請求項３５】
下記式：
【化９】
2008007670.tif 000038
で表されるポタシウム  モルホリン−４−イルメチル  トリフルオロボレート。
【請求項３６】
下記式：
【化１０】
2008007670.tif 000039
で表されるポタシウム  ピロリジン−１−イルメチル  トリフルオロボレート。
【手続補正書】
【提出日】平成21年5月13日(2009.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式(I)で表されるフルオロホウ素化合物もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物。
Ｒａ（Ｒｂ）Ｎ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍ      (I)
[式中、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するＣ１−６アルキル基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するシクロアルキル基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するヘテロ環基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するヘテロアリール基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するアリール基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するアラルキル基およびアミノ基の保護基からなる群から選択される基を意味するか、または、ＲａおよびＲｂが、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、アミノ基の保護基を形成しているか、または、Ｒａ及びＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、任意選択でさらに１以上のヘテロ原子を含んでいてもよい、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有し且つ環を構成するヘテロ原子と炭素原子を合わせて３から１０の原子からなる非芳香族ヘテロ環を形成しており；
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋、または［Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）を意味する。（但し、ポタシウム  ｎ−ブチルアミノメチルトリフルオロボレート、ポタシウム  シクロヘキシルアミノメチルトリフルオロボレート、ポタシウム  Ｎ−ピロリジニルメチルトリフルオロボレートおよびポタシウム  Ｎ−ピペリジルメチルトリフルオロボレートを除く。）]
【請求項２】
Ｒａおよび／またはＲｂが、水素原子またはアミノ基の保護基である請求項１記載の化合物もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物。
【請求項３】
アミノ基の前記保護基が環状イミド系保護基、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項２記載の化合物もしくはその二量体、またはその溶媒和物。
【請求項４】
アミノ基の前記保護基がカルバメート系保護基である請求項２記載の化合物もしくはその二量体、またはその溶媒和物。
【請求項５】
アミノ基の前記保護基がフタロイル基、ホルミル基またはt−ブチルオキシカルボニル基である、請求項２記載の化合物もしくはその二量体またはそれらの溶媒和物。
【請求項６】
下記式(II)で表される化合物またはその溶媒和物。
【化１】
2008007670.tif 000040
[式中、Ｒａは、水素原子、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するＣ１−６アルキル基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するシクロアルキル基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するヘテロ環基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するヘテロアリール基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するアリール基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するアラルキル基、またはアミノ基の保護基を意味し、
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋、または［Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）を意味する。] 
【請求項７】
Ｒａがアミノ基の保護基である請求項６記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項８】
アミノ基の前記保護基が、イミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項７記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項９】
アミノ基の前記保護基が、カルバメート系保護基である請求項７記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項１０】
アミノ基の前記保護基がｔ-ブチルオキシカルボニル基である、請求項７記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項１１】
下記式(III)で表される化合物またはその溶媒和物。
【化２】
2008007670.tif 000041
[式中、Ｍはアルカリ金属カチオン、[Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)]＋または[Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)]＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味し；
Ｘは水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはニトロ基を意味する。]
【請求項１２】
Ｘが水素原子である、請求項１１記載の化合物またはその溶媒和物。
【請求項１３】
Ｍがアルカリ金属カチオンである、請求項１乃至１２のいずれか一項記載の化合物もしくはその二量体またはその溶媒和物。
【請求項１４】
Ｍがカリウムイオンまたはナトリウムイオンである、請求項１乃至１２のいずれか一項記載の化合物もしくはその二量体またはその溶媒和物。
【請求項１５】
下記式(I)で表されるフルオロホウ素化合物、もしくはその二量体、またはそれらの溶媒和物からなる、芳香環の１級、２級または３級アミノメチル化剤。
Ｒａ（Ｒｂ）Ｎ−ＣＨ２−ＢＦ３Ｍ      (I)
[式中、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立して、水素原子、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するＣ１−６アルキル基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するシクロアルキル基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するヘテロ環基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するヘテロアリール基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するアリール基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するアラルキル基およびアミノ基の保護基からなる群から選択される基を意味するか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、アミノ基の保護基を形成しているか、または、ＲａおよびＲｂが結合している窒素原子と一緒になって、任意選択でさらに１以上のヘテロ原子を含んでいてもよい、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有し且つ環を構成するヘテロ原子と炭素原子を合わせて３から１０の原子からなるヘテロ環を形成しており；
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋、または［Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）を意味する。]
【請求項１６】
前記アミノメチル化が１級アミノメチル化である、請求項１５記載のアミノメチル化剤。
【請求項１７】
Ｒａおよび／またはＲｂが、水素原子またはアミノ基の保護基である請求項１５記載のアミノメチル化剤。
【請求項１８】
アミノ基の前記保護基が環状イミド系保護基、アミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項１７記載のアミノメチル化剤。
【請求項１９】
アミノ基の前記保護基がカルバメート系保護基である請求項１７記載のアミノメチル化剤。
【請求項２０】
アミノ基の前記保護基がフタロイル基、ホルミル基またはｔ-ブチルオキシカルボニル基である、請求項１７記載のアミノメチル化剤。
【請求項２１】
下記式(II)で表される請求項１５に記載のアミノメチル化剤。
【化３】
2008007670.tif 000042
[式中、Ｒａは、水素原子、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するＣ１−６アルキル基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するシクロアルキル基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するヘテロ環基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するヘテロアリール基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するアリール基、非置換であるか又はハロゲン原子、アミノ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルコキシ基、およびＣ３−８シクロアルキル基から選択される置換基を有するアラルキル基、またはアミノ基の保護基を意味し、
Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋、または［Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)］＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味する。）を意味する。] 
【請求項２２】
Ｒａがアミノ基の保護基である請求項２１記載のアミノメチル化剤。
【請求項２３】
アミノ基の前記保護基がアミド系保護基、またはカルバメート系保護基である請求項２２記載のアミノメチル化剤。
【請求項２４】
アミノ基の前記保護基がカルバメート系保護基である請求項２２記載のアミノメチル化剤。
【請求項２５】
アミノ基の前記保護基がｔ-ブチルオキシカルボニル基である、請求項２２記載のアミノメチル化剤。
【請求項２６】
下記式(III)で表される請求項１５に記載のアミノメチル化剤。
【化４】
2008007670.tif 000043
[式中、Ｍはアルカリ金属カチオン、[Ｎ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)]＋または[Ｐ(Ｒ１)(Ｒ２)(Ｒ３)(Ｒ４)]＋（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１−６アルキル基またはＣ７−１５アラルキル基を意味し；
Ｘは水素原子、Ｃ１−６アルキル基またはニトロ基を意味する。]
【請求項２７】
Ｘが水素原子である、請求項２６記載のアミノメチル化剤。
【請求項２８】
Ｍがアルカリ金属カチオンである、請求項１５乃至２７のいずれか一項記載のアミノメチル化剤。
【請求項２９】
Ｍがカリウムイオンまたはナトリウムイオンである、請求項１５乃至２７のいずれか一項記載のアミノメチル化剤。
【請求項３０】
請求項１５記載のアミノメチル化剤と、前記アミノメチル化剤との間でカップリング反応を起こしうる芳香環を有する化合物とを、前記カップリング反応に有効な金属触媒存在下で反応させる、１級、２級または３級アミノメチル芳香環を有する化合物の製造方法。
【請求項３１】
下記式：
【化５】
2008007670.tif 000044
で表されるソジウム  １，３−ジオキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−イルメチル  トリフルオロボレート。
【請求項３２】
下記式：
【化６】
2008007670.tif 000045
で表されるポタシウム  １，３−ジオキソ−１，３−ジヒドロ−イソインドール−２−イルメチル  トリフルオロボレート。
【請求項３３】
下記式：
【化７】
2008007670.tif 000046
で表されるソジウム  (ジホルミルアミノ)メチル  トリフルオロボレート。
【請求項３４】
下記式：
【化８】
2008007670.tif 000047
で表されるジソジウム  １，４−ビス(t−ブトキシカルボニル)−２，２，５，５−テトラフルオロ−１，４，２，５−ジアザジボリナン−ジウイド。
【請求項３５】
下記式：
【化９】
2008007670.tif 000048
で表されるポタシウム  モルホリン−４−イルメチル  トリフルオロボレート。
【請求項３６】
下記式：
【化１０】
2008007670.tif 000049
で表されるポタシウム  ピロリジン−１−イルメチル  トリフルオロボレート。
【国際調査報告】
2008007670.tif 000050
2008007670.tif 000051
2008007670.tif 000052