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【手続補正書】
【提出日】平成31年2月15日(2019.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体を照明する光源の位置が互いに異なる複数の光源条件での撮像により生成された複数の入力画像を取得し、前記光源条件に応じた前記入力画像における輝度情報の変化に関する情報を用いて、前記被写体の表面の法線情報を生成する生成手段と、
前記撮像時における前記光源に関する情報である光源情報を用いて、前記法線情報または処理対象画像に対するノイズ低減処理の強度を設定するために用いる情報であるノイズ低減処理情報を取得する取得手段とを有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記光源情報は、前記光源からの前記被写体への光照射方向に関する情報であることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記光照射方向に関する情報は、前記撮像を行う撮像装置から前記被写体に向かう撮像方向と前記光照射方向とがなす角度または複数の前記光源からの前記光照射方向同士がなす角度の情報であることを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記光源情報は、前記光源条件の数に関する情報であることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記光源条件の数に関する情報として、前記入力画像の数の情報を用いることを特徴とする請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記取得手段は、前記ノイズ低減処理情報を前記被写体における部分領域ごとに取得することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記ノイズ低減処理情報を用いて前記法線情報または前記処理対象画像に対する前記ノイズ低減処理を行う処理手段を有することを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記処理対象画像は、前記入力画像であることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記処理対象画像は、仮想光源条件下での前記被写体の画像として前記法線情報を用いて生成されたリライティング画像であることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
被写体の光学像を光電変換する撮像素子と、
該撮像素子からの出力を用いて生成された撮影画像を前記入力画像として取得する請求項１から９のいずれか一項に記載の画像処理装置とを有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１１】
前記画像処理装置は、撮像光学系の瞳のうち互いに異なる領域を通過した複数の光束を前記撮像素子における互いに異なる画素にて光電変換して得られた信号を用いて前記被写体までの距離に関する情報を算出し、該距離に関する情報に基づいて前記光源情報を取得することを特徴とする請求項１０に記載の撮像装置。
【請求項１２】
コンピュータに画像処理を実行させるコンピュータプログラムとしての画像処理プログラムであって、
前記コンピュータに、
被写体を照明する光源の位置が互いに異なる複数の光源条件での撮像により生成された複数の入力画像を取得させ、
前記光源条件に応じた前記入力画像における輝度情報の変化に関する第２の情報とを用いて、前記被写体の表面の法線情報を生成させ、
前記撮像時における前記光源に関する情報である光源情報を用いて、前記法線情報または処理対象画像に対するノイズ低減処理の強度を設定するために用いる情報であるノイズ低減処理情報を取得させることを特徴とする画像処理プログラム。
【請求項１３】
前記コンピュータに、前記ノイズ低減処理情報を用いて前記法線情報または前記処理対象画像に対する前記ノイズ低減処理を行わせることを特徴とする請求項１２に記載の画像処理プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の一側面としての画像処理装置は、被写体を照明する光源の位置が互いに異なる複数の光源条件での撮像により生成された複数の入力画像を取得し、光源条件に応じた入力画像における輝度情報の変化に関する情報を用いて、被写体の表面の法線情報を生成する生成手段と、撮像時における光源に関する情報である光源情報を用いて、法線情報または処理対象画像に対するノイズ低減処理の強度を設定するために用いる情報であるノイズ低減処理情報を取得する取得手段とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月24日(2019.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
繊維製品の形態安定性能を評価する方法であって、
洗濯及び乾燥の前、後における繊維製品の外観をそれぞれ画像として表す第１の画像データ、第２の画像データを入力し、
上記第１の画像データ、上記第２の画像データが表す画像について、それぞれ、その画像内の各画素位置の明度を用いて、シワの特徴を表す第１の同時生起特徴量、第２の同時生起特徴量を求め、
上記第２の同時生起特徴量から対応する上記第１の同時生起特徴量を減算して差分を求め、
上記差分に基づいて、この差分をシワについての目視判定結果に対応させるように予め定められた換算式を用いて、上記繊維製品の形態安定性能を表す数値指標を算出することを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
上記第１の画像データ、上記第２の画像データを入力する際に、上記第１の画像データ、上記第２の画像データをそれぞれ５０ｄｐｉ超の解像度で入力し、
入力された上記第１の画像データ、上記第２の画像データの解像度を１０ｄｐｉ以上、５０ｄｐｉ以下の範囲内に低下させ、この解像度が低下された上記第１の画像データ、上記第２の画像データを、それぞれ上記第１の同時生起特徴量、上記第２の同時生起特徴量を求めるための基礎にすることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、
上記第１の同時生起特徴量、上記第２の同時生起特徴量をそれぞれ求める際に、
上記第１の画像データ、上記第２の画像データが表す画像について、それぞれ、その画像内の各画素位置の明度を用いて、或る画素が或る明度であり、かつ、その画素から一定の位置関係だけ離れた別の画素が或る明度である確率を要素とする第１の同時生起行列、第２の同時生起行列を作成し、
上記第１の同時生起行列、第２の同時生起行列から、上記第１の同時生起特徴量、上記第２の同時生起特徴量として、それぞれ、角二次モーメント、エントロピー、コントラスト、相関を表す４種類の特徴量を抽出することを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか一つに記載の方法において、
上記換算式を、上記目視判定結果を表す値を目的変数とし、上記差分を表す値を説明変数として、回帰分析によって予め定めることを特徴とする方法。
【請求項５】
繊維製品の形態安定性能を評価する装置であって、
洗濯及び乾燥の前、後における繊維製品の外観をそれぞれ画像として表す第１の画像データ、第２の画像データを入力するデータ入力部と、
上記第１の画像データ、上記第２の画像データが表す画像について、それぞれ、その画像内の各画素位置の明度を用いて、シワの特徴を表す第１の同時生起特徴量、第２の同時生起特徴量を求める特徴量演算部と、
上記第２の同時生起特徴量から対応する上記第１の同時生起特徴量を減算して差分を求める減算部と、
上記差分に基づいて、この差分をシワについての目視判定結果に対応させるように予め定められた換算式を用いて、上記繊維製品の形態安定性能を表す数値指標を算出する数値指標算出部とを備えたことを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項１から４までのいずれか一つに記載の方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項７】
請求項６に記載のプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】繊維製品の形態安定性能を評価する方法および装置、プログラム、並びに記録媒体
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
この発明は、繊維製品の形態安定性能を評価する方法および装置に関し、より詳しくは、洗濯及び乾燥に対する繊維製品の形態安定性能を評価する方法および装置に関する。また、この発明は、そのような方法をコンピュータに実行させるためのプログラムに関する。また、この発明は、そのようなプログラムを記録した記録媒体に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そこで、この発明の課題は、洗濯及び乾燥に対する繊維製品の形態安定性能を客観的に精度良く評価できる方法および装置を提供することにある。また、この発明の課題は、そのような方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを提供することにある。また、この発明の課題は、そのようなプログラムを記録した記録媒体を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ここで、上記減算部が求める差分は、洗濯及び乾燥の前、後におけるシワの変化分（増加分）に相当する。この差分を用いることにより、上記繊維製品が色柄を有する場合であっても、算出されるべき数値指標（上記繊維製品の形態安定性能を表す）に対して、その色柄の影響を除去することができる。したがって、算出された数値指標の精度を高めることができる。また、上記数値指標算出部が算出する数値指標は、洗濯及び乾燥に対する上記繊維製品の形態安定性能を客観的に表すものとなる。よって、この発明の装置によれば、洗濯及び乾燥に対する繊維製品の形態安定性能を客観的に精度良く評価できる。
さらに別の局面では、この発明のプログラムは、上記方法をコンピュータに実行させるためのプログラムである。
この発明のプログラムをコンピュータに実行させることにより、上記方法を実施することができる。
さらに別の局面では、この発明の記録媒体は、上記プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記録媒体である。
この発明の記録媒体に記憶されたプログラムをコンピュータに読み取らせ、実行させることにより、上記方法を実施することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
以上より明らかなように、この発明の方法および装置によれば、洗濯及び乾燥に対する繊維製品の形態安定性能を客観的に精度良く評価できる。また、この発明のプログラムをコンピュータに実行させることにより、上記方法を実施することができる。また、この発明の記録媒体に記憶されたプログラムをコンピュータに読み取らせ、実行させることにより、上記方法を実施することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月29日(2018.11.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
出力されている番組に対応し、かつ順序を有する２以上の位置情報を取得する位置情報取得部と、
前記位置情報取得部が取得した前記２以上の位置情報を用いて、探索された経路の経路情報を取得する経路探索部と、
前記経路情報を用いて、前記経路の案内に関する経路案内情報を出力する経路案内出力部とを具備するナビゲーション装置。
【請求項２】
ルート位置情報格納部と、選択受付部とをさらに具備し、
前記位置情報取得部は、前記番組での出演者の移動による番組ルートに関するルート識別情報と、前記番組ルートに対応し、かつ順序を有する前記２以上の位置情報と、の対をそれぞれ含むルート位置情報を取得し、
前記ルート位置情報格納部は、前記位置情報取得部が取得した前記ルート位置情報が格納され、
前記選択受付部は、前記ルート位置情報格納部に格納されている前記ルート位置情報から一つのルート位置情報の選択を受け付け、
前記経路探索部は、前記一つのルート位置情報に含まれる前記２以上の位置情報を用いて経路探索を行う請求項１記載のナビゲーション装置。
【請求項３】
前記位置情報取得部は、前記番組の進行に連れて前記ルート識別情報を順次取得する請求項２記載のナビゲーション装置。
【請求項４】
自身の現在位置に関する現在位置情報を繰り返し取得する現在位置取得部と、
前記位置情報取得部が取得した前記２以上の位置情報が格納される位置情報格納部と、
前記２以上の位置情報それぞれに関連する２以上の位置関連情報を外部の装置から取得する位置関連情報取得部と、
前記位置関連情報取得部が取得した前記２以上の位置関連情報が格納される位置関連情報格納部と、
前記位置情報格納部に格納されている前記２以上の位置情報のいずれかが、前記現在位置取得部が取得した前記現在位置情報との間で所定の条件を満たしたとき、当該所定の条件を満たした位置情報に対応する前記位置関連情報を出力する位置関連情報出力部とをさらに具備し、
前記経路探索部は、前記位置情報格納部が格納している前記２以上の位置情報と前記現在位置取得部が取得した前記現在位置情報とを用いて経路探索を行う請求項１から請求項３いずれか一項に記載のナビゲーション装置。
【請求項５】
前記位置関連情報取得部は、前記位置情報格納部に格納されている前記２以上の位置情報のいずれかが、前記現在位置取得部が取得した前記現在位置情報との間で前記所定の条件を満たしたとき、前記所定の条件を満たした位置情報に対応する前記位置関連情報を取得する請求項４記載のナビゲーション装置。
【請求項６】
記録媒体から前記番組を読み出す番組読出部と、
前記番組を出力する番組出力部とをさらに具備する請求項１から請求項５いずれか一項に記載のナビゲーション装置。
【請求項７】
前記番組を受信する番組受信部と、
前記番組を出力する番組出力部とをさらに具備する請求項１から請求項５いずれか一項に記載のナビゲーション装置。
【請求項８】
出力されている前記番組の番組画面の一部分には、前記２以上の位置情報に対応する地点に沿ったルート地図が表示され、
前記経路案内情報は、前記経路探索部が探索した前記経路を地図上に示した経路地図に関する経路地図情報を含み、
前記経路案内出力部は、前記番組画面の当該一部分とは異なる部分に前記経路地図が重ねて表示されるように前記経路地図情報を出力する請求項１から請求項７いずれか一項に記載のナビゲーション装置。
【請求項９】
出力されている番組に対応し、かつ順序を有する２以上の位置情報を取得する位置情報取得ステップと、
前記位置情報取得ステップで取得された２以上の位置情報を用いて探索された経路の経路情報を取得する経路探索ステップと、
前記経路情報を用いて、前記経路の案内に関する経路案内情報を出力する経路案内出力ステップとを含むナビゲーション方法。
【請求項１０】
コンピュータを、
出力されている番組に対応し、かつ順序を有する２以上の位置情報を取得する位置情報取得部と、
前記位置情報取得部が取得した２以上の位置情報を用いて探索された経路の経路情報を取得する経路探索部と、
前記経路情報を用いて、前記経路の案内に関する経路案内情報を出力する経路案内出力部として機能させるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月22日(2019.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮機と凝縮器と膨張機構と蒸発器とが環状に接続される冷凍サイクルを備え、前記冷凍サイクルを循環する冷媒が前記凝縮器で凝縮する凝縮温度が４６℃以上となる場合がある冷凍装置であって、
前記冷媒は、Ｒ３２を含み、
前記冷凍サイクルには、前記圧縮機の潤滑用の冷凍機油が入れられ、
前記冷凍機油と前記冷媒との混合物に含まれる前記冷凍機油の濃度である油濃度の最小値は、３５±１０ｗｔ％であり、
前記油濃度は、前記混合物の温度が４６℃以上で上昇することに伴い、上昇する傾向を示し、
前記混合物が前記冷凍機油と前記冷媒とに分離する温度のうち高温側の温度である分離温度は、前記凝縮温度よりも高い、
冷凍装置。
【請求項２】
前記冷媒は、Ｒ３２を５０重量％より多く含む、
請求項１に記載の冷凍装置。
【請求項３】
前記冷媒は、ＨＦＯ系冷媒をさらに含む、
請求項１または２に記載の冷凍装置。
【請求項４】
前記凝縮器は、室外に設置され、
前記蒸発器は、室内に設置される、
請求項１から３のいずれか１項に記載の冷凍装置。
【請求項５】
前記凝縮温度は、５２℃以上となる場合がある、
請求項１から４のいずれか１項に記載の冷凍装置。
【請求項６】
前記分離温度は、前記冷凍機油とＲ４１０ＡまたはＲ４０７Ｃとの混合物が分離する温度のうち高温側の温度よりも低い、
請求項１から５のいずれか１項に記載の冷凍装置。
【請求項７】
外気温が４６℃以上の環境において使用することができる、
請求項１から６のいずれか１項に記載の冷凍装置。
【請求項８】
外気温が５２℃以上の環境において使用することができる、
請求項１から７のいずれか１項に記載の冷凍装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月20日(2019.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高圧に蓄圧された水素ガスをタンクへ加圧充填する際に、膨張タービンを用いて水素ガスのエンタルピ降下を行う充填システムの制御方法において、膨張タービン部分に膨張タービン・コンプレッサを組み込むプロセス及び膨張タービン側入口部に冷却器を備え、該冷却器の水素ガスの出口温度を制御することを特徴とする高圧水素の膨張タービン・コンプレッサ式充填システムの制御方法。
【請求項２】
前記冷却器の水素ガスの出口温度を検知して、該出口温度を適正温度になるように、冷却器の寒冷エネルギ量を調節追従するようにしたことを特徴とする請求項１に記載の高圧水素の膨張タービン・コンプレッサ式充填システムの制御方法。
【請求項３】
前記出口温度の適正温度を、充填初期を充填が進んだ段階よりも低く設定するようにしたことを特徴とする請求項２に記載の高圧水素の膨張タービン・コンプレッサ式充填システムの制御方法。
【請求項４】
水素ガスをタンクへ加圧充填する際の充填時間配分により、それぞれの充填段階で最適なガス温度になるように、冷却器の寒冷エネルギ量を調節追従するようにしたことを特徴とする請求項１、２又は３に記載の高圧水素の膨張タービン・コンプレッサ式充填システムの制御方法。
【請求項５】
タンクの圧力及び温度上昇を検知して、それぞれの充填段階で最適なガス温度になるように、冷却器の寒冷エネルギ量を調節追従するようにしたことを特徴とする請求項１、２、３又は４に記載の高圧水素の膨張タービン・コンプレッサ式充填システムの制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2017150661.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2017150661.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2017150661.tif 000003
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2017150661.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月20日(2019.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高圧に蓄圧された水素ガスをタンクへ加圧充填する際に、膨張タービンを用いて水素ガスのエンタルピ降下を行う充填システムにおいて、膨張タービン部分に膨張タービン・コンプレッサを組み込むプロセスを備え、該膨張タービン・コンプレッサの膨張タービン側入口部に冷却器を設けたことを特徴とする高圧水素の膨張タービン・コンプレッサ式充填システム。
【請求項２】
膨張タービン・コンプレッサが、回転体のロータ軸の一方側に膨張作用を行うインペラを、他方側に、膨張により得られた回転エネルギを消費する圧縮作用を行うインペラを、それぞれ備えて構成されてなることを特徴とする請求項１に記載の高圧水素の膨張タービン・コンプレッサ式充填システム。
【請求項３】
膨張タービン・コンプレッサが、供給される水素ガスを用いた動圧式ガス軸受方式の軸受を備えて構成されてなることを特徴とする請求項１又は２に記載の高圧水素の膨張タービン・コンプレッサ式充填システム。
【請求項４】
膨張タービン・コンプレッサを１台で構成したことを特徴とする請求項１、２又は３に記載の高圧水素の膨張タービン・コンプレッサ式充填システム。
【請求項５】
膨張タービン・コンプレッサを複数台、直列に配置して構成したことを特徴とする請求項１、２又は３に記載の高圧水素の膨張タービン・コンプレッサ式充填システム。
【請求項６】
膨張タービン・コンプレッサのコンプレッサ側入口部に冷却器を設けたことを特徴とする請求項１、２、３、４又は５に記載の高圧水素の膨張タービン・コンプレッサ式充填システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2017150660.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2017150660.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月18日(2019.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、図１〜図２Ｂに示されるように、弁座部材２４の基端面２４ａには複数の環状溝５０が形成され、前記環状溝５０は前記基端面２４ａに対して所定深さだけ窪み、且つ、連通孔４８を中心としてそれぞれ直径の異なる同心円からなる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2017150635.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2017150635.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2017150635.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月5日(2019.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【図１】本発明の実施の形態１に係る水力発電装置の正面模式図である。
【図２】図１に示した水力発電装置の上面模式図である。
【図３】図１に示した水力発電装置の側面模式図である。
【図４】図１に示した水力発電装置を水路に設置した状態を説明するための正面模式図である。
【図５】図４に示した水力発電装置の上面模式図である。
【図６】図４に示した水力発電装置の側面模式図である。
【図７】図４に示した水力発電装置を水路の水面から引き上げた状態を説明するための正面模式図である。
【図８】図７に示した水力発電装置の側面模式図である。
【図９】本発明の実施の形態２に係る水力発電装置を説明するための正面模式図である。
【図１０】図９に示した水力発電装置の側面模式図である。
【図１１】本発明の実施の形態３に係る水力発電装置を説明するための正面模式図である。
【図１２】図１１に示した水力発電装置の上面模式図である。
【図１３】図１１に示した水力発電装置の側面模式図である。
【図１４】図１１に示した領域ＸＩＶの拡大模式図である。
【図１５】本発明の実施の形態４に係る水力発電装置を説明するための正面模式図である。
【図１６】図１５に示した水力発電装置の上面模式図である。
【図１７】図１５に示した水力発電装置の側面模式図である。
【図１８】図１５に示した領域ＸＶＩＩＩの拡大模式図である。
【図１９】本発明の実施の形態５に係る水力発電装置を説明するための模式図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
軸２１は、梁４ａの延在方向に沿うように、梁４ａの両端部に接続されている。軸受部２０は軸２１を支持する。２つの軸受部２０は、梁４ａを挟むように配置されている。軸受部２０は水路の壁部８の上部表面上に固定されている。軸受部２０は、図１８に示すように、内輪２０ａ、転動体２０ｂ、外輪２０ｃ、および筐体２０ｄを含む。内輪２０ａは、環状の形状を有する。内輪２０ａの内周面は軸２１の外周面に接して固定されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
内輪２０ａ、外輪２０ｃ、および転動体２０ｂにより軸受が構成される。筐体２０ｄは軸受を保持する。具体的には、筐体２０ｄは外輪２０ｃの外周を囲むように配置される。筐体２０ｄは水路の壁部８の上部表面に固定されている。軸２１は軸受部２０により回転自在に支持されている。この結果、水力発電装置を水路から引き上げるときに、軸２１および梁４ａを中心として、後述するように水力発電装置を回転させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
１，３０  回転翼、２  ギヤボックス、３  発電機、４，４ａ，４ｂ  梁、４ｃ  架台、４ｄ  支柱、４ｅ  ベース板、５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ  棒状体、６ａ  固定部、６ｂ  延在部、８  水路の壁部、９  固定装置、１０  矢印、１１  蝶番、１２  アンカボルト、１５  ボルト、２０  軸受部、２０ａ  内輪、２０ｃ  外輪、２０ｂ  転動体、２０ｄ  筐体、２１  軸、４０  水面。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月4日(2019.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記切削装置は、第１の方向に向かって、異常焼結部が生じた焼結層上の前記第１の方向に対して直交する第２の往復移動することを繰り返しながら、
少なくとも異常焼結部が生じた焼結層の全水平投影領域に渡って切削を実行し、
前記ガス噴出領域は、前記切削装置を基点として、前記第１の方向における切削開始側に配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載の積層造形装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
第３の発明の積層造形装置は、前記第１または２の発明において、前記切削装置は、第１の方向に向かって、異常焼結部が生じた焼結層上の前記第１の方向に対して直交する第２の往復移動することを繰り返しながら、少なくとも異常焼結部が生じた焼結層の全水平投影領域に渡って切削を実行し、前記ガス噴出領域は、前記切削装置を基点として、前記第１の方向における切削開始側に配置されていることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図２に示すように、ガイド機構３Ｃは、一対の軸受４１と、各軸受４１Ｒ，４１Ｌがそれぞれ受ける一対の軸材４２であるガイドレール４２Ｒ，４２Ｌとからなる。ガイドレール４２Ｒには、ヒュームを吸引する吸引パイプ（不図示）が設けられている。ガイドレール４２Ｌには、不活性ガスを供給する供給パイプ（不図示）が設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
図４、図５に示すように、粉末層３７の形成中、左方向に走行するブレード３Ａが焼結層３６に生じた異常焼結部３６Ａに衝突すると、ブレード３Ａを駆動させるブレードサーボモータ（不図示）への電流の供給が停止される。これにより、ブレード３Ａが停止状態となり異常焼結部３６Ａに対して弾性的に反発し、これまでの進行方向とは反対方向である右方向に空走する。そして、所定時間経過後、ブレードサーボモータ（不図示）への電流の供給を再開させ、図１１、図１２に示すように、粉末層形成開始位置までブレード３Ａを退避させる。なお、上述したように、ブレード３Ａは、新たな粉末層を形成する度に、左右方向どちらかに移動しながら粉末層を平坦化する。より具体的には、粉末層３７を平坦化する際は、造形領域の右側から左側へと移動し、その上に形成される粉末層を平坦化する際は、造形領域の左側から右側へと移動する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
さらに、切削中、ガス噴射装置１０から焼結層３６の上面に向けてガスを継続的に噴射させる（図８、図９の一点鎖線で示すガス噴射領域Ｒ２）。これにより、切削工具９によって、その移動経路上に生じた異常焼結部３６Ａを切削しつつ、その右側では、それよりも前に切削されて焼結層３６の上面に散乱する切削粉３６Ａ１に対してガスを吹き付ける。すなわち、ガス噴射装置１０は、切削工具９によって切削された直後の切削粉３６Ａ１ではなく、既に焼結層３６の上面に静止した状態の切削粉３６Ａ１に対してガスを吹き付けていく。これにより、切削工具９の移動開始側である右端から順に、焼結層３６の上面に散乱する切削粉３６Ａ１、および、粉末層３７の形成時に焼結層３６の上面に途中まで敷かれた材料粉末をブレード３Ａの移動経路の外側に加工ヘッド７Ｃの進行方向に沿って掃き出していくようにして吹き飛ばしていく。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
本実施形態では、ガス噴射装置１０から焼結層３６の上面へ向けて吹き出されるガスによって形成されるガス噴出領域Ｒ２と、切削粉３６Ａ１が勢いよく飛散する切削粉飛散領域Ｒ１とは、可能な限り重複しない。従って、ガス噴射装置１０から噴射されるガスは、切削の勢いによって弾き飛ばされる切削粉３６Ａ１に対して吹きつけられるのではなく、主に焼結層３６の上面に静止した状態の切削粉３６Ａ１に対して吹きつけられる。これにより、焼結層３５の上面に散乱する切削粉３６Ａ１をブレード３Ａの移動経路上から吹き飛ばすことができる。また、ガス噴射装置１０は、焼結層３６上に散乱した切削粉３６Ａ１に対して、後追いでガスを吹き付ける。従って、ガス噴射装置１０から噴射されるガスは、既に切削が行われた場所に散乱する切削粉３６Ａ１に対して吹き付けられる。これにより、焼結層３６の右端から左端に向かって、切削工具９の移動経路に沿ってブレード３Ａの移動経路上から切削粉３６Ａ１を除去していくことができる。以上により、改めて粉末層３７を形成する際、焼結層３６の上側を移動するブレード３Ａに切削粉３６Ａ１が咬み込むことを防止し、ブレード３Ａの損傷を防止できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
また、切削工具９により異常焼結部３６Ａの切削を行うとともに、ガス噴射装置１０により焼結層３６の上面に向けてガスを吹き付ける。従って、切削工具９による異常焼結部３６Ａの切削とガス噴射装置１０による切削粉３６Ａ１の除去とを同時に行うことにより、異常焼結部３６Ａの切削を行った後に切削粉３６Ａ１の除去作業を行う場合と比較して、積層造形物の造形に要する時間を短縮することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
１  積層造形装置
３Ａ  ブレード
７  切削装置
９  切削工具
１０  ガス噴射装置
１０Ｂ  ノズル
１０Ｂ１  ノズル穴
１２  不活性ガス供給装置
１３  電磁弁
１４  レギュレータ
１５  スピードコントローラ
３６  焼結層
３６Ａ  異常焼結部
３６Ａ１  切削粉
Ｒ１  切削粉飛散領域
Ｒ２  ガス噴出領域
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2017150048.tif 000001
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2017150048.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月24日(2019.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また本発明の防護衣料は、本発明の耐切創性紡績糸１００％で構成することが、該紡績糸が有する高い切創力、引張強力と言った優れた特性が遺憾なく発揮される点で好ましいが、交織交編のように他の繊維や糸との併用でもよい。好ましくは、耐切創性紡績糸が織物や編物等製品全体の重量のうち、７０〜１００％の範囲とするのがよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
さらに、本発明の防護衣料は、全てを、本発明の耐切創性紡績糸で構成してもよく、またはそれらを部分的に使用することでもよい。例えば、作業用手袋では、作業内容により指先部分や手の平部分だけのように、特定の部分に本発明の耐切創性紡績糸や織編物等を使うことができる。織編物や防護材、防護衣料には、必要に応じ、樹脂コーティングを施すこともできる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
［切創力および耐切創性（切れ難さ：Cut resistance）］
ＪＩＳ  Ｔ  ８０５２：２００５「防護服−機械的特性−鋭利物に対する切創抵抗性試験方法」に準拠し、手袋の手の平部の切創力（Ｎ）を測定した。切創力（Ｎ）を織編物の目付（ｇ／ｍ２）で除して１００倍して、耐切創性を求めた。耐切創性の値が大きいほど切れ難いと判定した。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月18日(2019.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜材料を蒸着又はスパッタリングによって堆積させることによる成膜プロセスでパターニングに使用されるシャドーマスクであって、
成膜対象物に対向するように配置される第１面と、
前記成膜材料に晒されるように配置される第２面と、
を有し、
前記第１面及び前記第２面は、それぞれ、凹凸を有し、
前記第２面は、前記第１面よりも、粗面化されていることを特徴とするシャドーマスク。
【請求項２】
請求項１に記載されたシャドーマスクにおいて、
前記第１面の前記凹凸は、不均一であり、
前記第２面の前記凹凸は、均一にパターニングされていることを特徴とするシャドーマスク。
【請求項３】
請求項１又は２に記載されたシャドーマスクにおいて、
前記第２面は、前記第１面よりも、前記凹凸の、基準面からの高さ及び深さの平均値が大きいことを特徴とするシャドーマスク。
【請求項４】
請求項３に記載されたシャドーマスクにおいて、
前記第２面は、前記第１面よりも、前記凹凸の間隔の平均値が大きいことを特徴とするシャドーマスク。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載されたシャドーマスクにおいて、
前記第２面の前記凹凸は、凹部の周囲を凸部が切れ目なく囲む形状になっていることを特徴とするシャドーマスク。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載されたシャドーマスクにおいて、
前記凹凸の形状は、平面視において、格子状に形成されていることを特徴とするシャドーマスク。
【請求項７】
請求項１から５のいずれか１項に記載されたシャドーマスクにおいて、
前記凹凸の形状は、平面視において、ストライプ状に形成されていることを特徴とするシャドーマスク。
【請求項８】
請求項１から５のいずれか１項に記載されたシャドーマスクにおいて、
前記凹凸の形状は、平面視において、円形に形成されていることを特徴とするシャドーマスク。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか１項に記載されたシャドーマスクにおいて、
前記マスクの周縁部を保持するようにフレームが設けられ、
前記フレームは、前記成膜対象物の側に配置される第１フレーム面と、前記成膜材料に晒されるように配置される第２フレーム面と、を有し、
前記第１フレーム面及び前記第２フレーム面は、それぞれ、凹凸を有し、
前記第２フレーム面は、前記第１フレーム面よりも、粗面化されていることを特徴とするシャドーマスク。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載されたシャドーマスクにおいて、
前記第２面における前記凹凸の、基準面からの凸部の高さと凹部の深さとの合計値は、１０μｍ乃至１００μｍであることを特徴とするシャドーマスク。
【請求項１１】
発光素子層を含む表示装置の製造方法であって、
第１面及び第２面を有するシャドーマスクを用意する工程と、
前記シャドーマスクを、前記第１面を基板に向け、前記第２面を成膜材料に晒すように配置して、蒸着によって前記発光素子層をパターニングしながら形成する工程と、
を含み、
前記第１面及び前記第２面は、それぞれ、凹凸を有し、
前記第２面は、前記第１面よりも、粗面化されていることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載された表示装置の製造方法において、
前記第２面における前記凹凸の、基準面からの凸部の高さと凹部の深さとの合計値は、１０μｍ乃至１００μｍであることを特徴とする表示装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月25日(2019.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記取得手段の状態が、前記取得手段の姿勢であることを特徴とする請求項７または請求項８に記載の画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
Ｓ５０８で制御部１１０は、変数ＦｒａｍｅＮｕｍとＴｏｔａｌＦｒａｍｅの値を比較し、ＦｒａｍｅＮｕｍの値がＴｏｔａｌＦｒａｍｅの値よりも小さければ処理をＳ５０３に戻して次のフレームに対する処理を行う。一方、ＦｒａｍｅＮｕｍの値がＴｏｔａｌＦｒａｍｅの値と等しい場合、制御部１１０は指定された移動時間Ｓ分のフレームに対する処理が完了したと判断し、動画記録処理を終了する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
また、やはり理解および説明を容易にするため、１対の視差画像の撮影視点の一方から他方（すなわち、輻輳角の全体に渡って）に視点を移動させる場合について説明した。しかし、必ずしも輻輳角の全体に渡って視点を移動させる形態に限定されず、輻輳角の任意の範囲内で視点を移動させる形態であってもよい。輻輳角の一部について視点を移動させる場合、どのように範囲の始点および終点を定めるかに制限は無く、任意の手法を用いれば良い。範囲の始点と終点に応じた合成比率の初期値と最終値の間で合成比率を変化させれば良い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
そして、画像合成部１０５は、
・第１区分７２０については開始位置７０３の画素値Ｓと位置７０５の画素値、
・第２区分７３０については位置７０５の画素値と位置７０６の画素値、
・第３区分７４０については位置７０６の画素値と終了位置７０４の画素値Ｅ、
をそれぞれ式（４）における開始位置の画素値Ｓと終了位置の画素値Ｅとして用いて合成処理を実行する。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月20日(2018.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置、および酸化物の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランジスタを有する半導体装置であって、
前記トランジスタは酸化物を有し、
前記酸化物はインジウム、亜鉛、及び元素Ｍ（元素Ｍはアルミニウム、ガリウム、イットリウム又はスズ）を含み、
前記酸化物はｃ軸方向に配向している結晶構造を有し、
前記酸化物のキャリア密度は８×１０１１／ｃｍ３未満であり、
前記酸化物の膜密度は、前記酸化物が単結晶構造を有するときの値の９０％以上の値であり、
前記トランジスタは耐電圧性及び耐電流性を有する半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記酸化物のキャリア密度は１×１０１１／ｃｍ３未満であり、かつ１×１０−９／ｃｍ３以上である半半導体装置。
【請求項３】
請求項１、又は請求項２において、
前記酸化物の、電子スピン共鳴によって観測される、ｇ値が１．９０以上かつ１．９５以下である信号のスピン密度が、１×１０１７ｓｐｉｎｓ／ｃｍ３以下である半導体装置。
【請求項４】
成膜室と、前記成膜室内に配置されたターゲットと、基板と、を用いるスパッタリング法による酸化物の成膜方法であり、かつ、ｃ軸方向に配向している結晶構造を有し、キャリア密度が８×１０１１／ｃｍ３未満であり、膜密度は前記酸化物が単結晶構造を有するときの値の９０％以上である酸化物の成膜方法であって、
前記成膜室に酸素又は／及び希ガスを有するスパッタガスを供給した後、前記ターゲットと前記基板との間に電位差を与えることで、前記ターゲットの近傍に前記スパッタガスのイオンを有するプラズマを生成し、
前記スパッタガスのイオンが前記電位差によって、前記ターゲットに向けて加速され、
加速された前記スパッタガスのイオンが前記ターゲットを衝撃することで、前記ターゲットから平板状の複数の元素を有する化合物よりなる複数の粒子、前記ターゲットを構成する原子、及び前記ターゲットを構成する原子の集合体を剥離させ、
前記複数の平板状の粒子は、前記プラズマの中を飛翔する際、前記スパッタガスのイオンから負の電荷を受け取ることで、前記複数の平板状の粒子の表面が負に帯電し、
前記負に帯電した平板状の粒子の一つは、前記基板上に前記表面を向けて堆積し、
前記負に帯電した平板状の粒子の別の一つは、前記基板上で、前記負に帯電した平板状の粒子の一つと互いに反発し合いながら、前記基板上の前記負に帯電した平板状の粒子の一つと離れた領域に堆積し、
前記負に帯電した平板状の粒子の一つと、前記負に帯電した平板状の粒子の別の一つとの隙間に、前記原子、及び前記原子の集合体が入り込み、
前記原子、及び前記原子の集合体が、前記平板状の粒子の隙間を横方向に成長することで、前記負に帯電した平板状の粒子の一つと、前記負に帯電した平板状の粒子の別の一つとの隙間を埋める酸化物の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月18日(2018.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のユーザが共同利用し、従量制の料金を採用するサービスにおいて、各ユーザの利用料金を事前に算出する共同利用料金算出システムであって、
前記サービスに対するユーザの利用要求を受け付ける要求受付部と、
前記利用要求に応じて、前記従量制に基づいた前記ユーザの利用料金を、前記共同利用の可能性を踏まえて、該ユーザによる利用の開始前に算出する事前料金算出部とを備え、
前記事前料金算出部は、前記サービスの利用実績に対して各人が支払うべき料金を事後的に算出した教師データを利用した機械学習回帰により前記算出を行う際に、
予め用意されたユーザの利用中に他のユーザとの共同利用が生じ得る発生確率を記録した確率データに基づいて、前記利用要求に応じた発生確率を求め、該発生確率を反映させて前記料金の算出を行う共同利用料金算出システム。
【請求項２】
請求項1記載の共同利用料金算出システムであって、
前記料金は、所定のパラメータに従った従量制の料金となっており、
前記事前料金算出部は、前記パラメータを用いた算出式によって前記料金を算出するよう構成され、該算出式に用いられる係数を前記機械学習によって求める共同利用料金算出システム。
【請求項３】
請求項１または２記載の共同利用料金算出システムであって、さらに、
前記利用要求に応じて利用されたサービスの実績を記録するとともに、前記事前料金算出部によって得られた料金に関わらず、該実績に基づいて該サービスを利用した各人が支払うべき料金を算出する事後料金算出部と、
前記事後料金算出部による結果を前記教師データに追加して、前記機械学習回帰の訓練を行う機械学習部とを備える共同利用料金算出システム。
【請求項４】
請求項１〜３いずれか記載の共同利用料金算出システムであって、
前記利用要求は、前記サービスの利用時期を含む属性を表す属性データを含んでおり、
前記事前料金算出部は、前記属性データに対応した教師データを用いた機械学習回帰により料金の算出を行う共同利用料金算出システム。
【請求項５】
複数のユーザが共同利用し、従量制の料金を採用するサービスにおいて、各ユーザの利用料金をコンピュータにより算出する共同利用料金算出方法であって、
前記コンピュータが実行するステップとして、
前記サービスに対するユーザの利用要求を受け付ける要求受付ステップと、
前記利用要求に応じて、前記従量制に基づいた前記ユーザの利用料金を、前記共同利用の可能性を踏まえて、該ユーザによる利用の開始前に算出する事前料金算出ステップとを備え、
前記事前料金算出ステップは、前記サービスの利用実績に対して各人が支払うべき料金を事後的に算出した教師データを利用した機械学習回帰により前記算出を行う際に、予め用意されたユーザの利用中に他のユーザとの共同利用が生じ得る発生確率を記録した確率データに基づいて、前記利用要求に応じた発生確率を求め、該発生確率を反映させて前記料金の算出を行う共同利用料金算出方法。
【請求項６】
複数のユーザが共同利用し、従量制の料金を採用するサービスにおいて、各ユーザの利用料金をコンピュータにより算出するためのコンピュータプログラムであって、
前記サービスに対するユーザの利用要求を受け付ける要求受付機能と、
前記利用要求に応じて、前記従量制に基づいた前記ユーザの利用料金を、前記共同利用の可能性を踏まえて、該ユーザによる利用の開始前に算出する事前料金算出機能とをコンピュータに実現させ、
前記事前料金算出機能は、前記サービスの利用実績に対して各人が支払うべき料金を事後的に算出した教師データを利用した機械学習回帰により前記算出を行う際に、予め用意されたユーザの利用中に他のユーザとの共同利用が生じ得る発生確率を記録した確率データに基づいて、前記利用要求に応じた発生確率を求め、該発生確率を反映させて前記料金の算出を行う機能であるコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月11日(2019.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１乃至第４のトランジスタを有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第１のゲート信号線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第１のクロック信号線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第１のゲート信号線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの他方は、電源線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記第３のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのゲートは、第２のクロック信号線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記第４のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第４のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記電源線と電気的に接続され、
前記第４のトランジスタのゲートは、前記第１のゲート信号線と電気的に接続される半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
第５のトランジスタを有し、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記第５のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第５のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第１のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第５のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記電源線と電気的に接続される半導体装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記第１のトランジスタのＷ（Ｗはチャネル幅）／Ｌ（Ｌはチャネル長）比は、前記第５のトランジスタのＷ／Ｌ比よりも大きい半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
第６のトランジスタを有し、
前記第１のトランジスタのゲートは、前記第６のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第６のトランジスタのゲートは、第２のゲート信号線と電気的に接続される半導体装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記第１のトランジスタのＷ（Ｗはチャネル幅）／Ｌ（Ｌはチャネル長）比は、前記第６のトランジスタのＷ／Ｌ比よりも大きい半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記第１のトランジスタのＷ（Ｗはチャネル幅）／Ｌ（Ｌはチャネル長）比は、前記第２のトランジスタのＷ／Ｌ比よりも大きい半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記第２のクロック信号線に入力される信号は、前記第１のクロック信号線に入力される信号の反転信号、又は前記第１のクロック信号線に入力される信号とは位相がずれた信号である半導体装置。
【請求項８】
第１乃至第１２のトランジスタを有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第１のゲート信号線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第１のクロック信号線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第１のゲート信号線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのソース又はドレインの他方は、電源線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記第３のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのゲートは、第２のクロック信号線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記第４のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第４のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記電源線と電気的に接続され、
前記第４のトランジスタのゲートは、前記第１のゲート信号線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタのゲートは、前記第５のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第５のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記電源線と電気的に接続され、
前記第５のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第６のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第６のトランジスタのゲートは、第２のゲート信号線と電気的に接続され
前記第７のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第２のゲート信号線と電気的に接続され、
前記第７のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第２のクロック信号線と電気的に接続され、
前記第８のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第２のゲート信号線と電気的に接続され、
前記第８のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記電源線と電気的に接続され、
前記第８のトランジスタのゲートは、前記第９のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第９のトランジスタのゲートは、前記第１のクロック信号線と電気的に接続され、
前記第８のトランジスタのゲートは、前記第１０のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第１０のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記電源線と電気的に接続され、
前記第１０のトランジスタのゲートは、前記第２のゲート信号線と電気的に接続され、
前記第８のトランジスタのゲートは、前記第１１のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第１１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記電源線と電気的に接続され、
前記第１１のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第１２のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
前記第１２のトランジスタのゲートは、第３のゲート信号線と電気的に接続される半導体装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記第１のトランジスタのＷ（Ｗはチャネル幅）／Ｌ（Ｌはチャネル長）比は、前記第２のトランジスタのＷ／Ｌ比よりも大きく、
前記第１のトランジスタのＷ／Ｌ比は、前記第５のトランジスタのＷ／Ｌ比よりも大きく、
前記第１のトランジスタのＷ／Ｌ比は、前記第６のトランジスタのＷ／Ｌ比よりも大きく、
前記第７のトランジスタのＷ／Ｌ比は、前記第８のトランジスタのＷ／Ｌ比よりも大きく、
前記第７のトランジスタのＷ／Ｌ比は、前記第１１のトランジスタのＷ／Ｌ比よりも大きく、
前記第７のトランジスタのＷ／Ｌ比は、前記第１２のトランジスタのＷ／Ｌ比よりも大きい半導体装置。
【請求項１０】
請求項８または請求項９において、
前記第２のクロック信号線に入力される信号は、前記第１のクロック信号線に入力される信号の反転信号、又は前記第１のクロック信号線に入力される信号とは位相がずれた信号である半導体装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一に記載の半導体装置を有する電子機器。