(57)【要約】  有機ＥＬ素子中のダークエリアの発生を抑制することができ、かつ有機ＥＬ発光素子の発光を高効率で利用することができる新規な構造を有する色変換方式の有機ＥＬ発光ディスプレイの提供する。本発明の有機ＥＬ発光ディスプレイは、透明基板と、１種または複数種のカラーフィルター層と、接着層と、色変換層と、バリア層と、透明電極と、有機ＥＬ層と、反射電極とをこの順に含み、カラーフィルター層はウェットプロセスで形成されており、色変換層およびバリア層はドライプロセスで形成されており、および接着層は、無機接着層、有機接着層または有機接着層と無機接着層との積層体であることを特徴とする。
2007055287.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、１種または複数種のカラーフィルター層と、接着層と、色変換層と、バリア層と、透明電極と、有機ＥＬ層と、反射電極とをこの順に含み、前記カラーフィルター層はウェットプロセスで形成されており、前記色変換層およびバリア層はドライプロセスで形成されており、および前記接着層は、無機接着層、有機接着層、および有機接着層と無機接着層との積層体からなる群から選択されることを特徴とする有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項２】
前記バリア層の屈折率は、前記色変換層の屈折率よりも大きく、かつ前記透明電極の屈折率よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項３】
前記バリア層の屈折率は、１．９よりも大きく、かつ２．２よりも小さいことを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項４】
前記色変換層が蒸着法で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項５】
前記色変換層が１種または複数種の色変換色素から成ることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項６】
ブラックマトリクスをさらに含み、前記ブラックマトリクスは、前記１種または複数種のカラーフィルター層の間隙に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項７】
前記有機接着層が１．５以下の屈折率を有することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項８】
前記有機接着層がシリコーン樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項９】
前記色変換層と、前記バリア層との間に、バッファ層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項１０】
前記バッファ層が、耐成膜性材料を含むことを特徴とする請求項９に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項１１】
前記バッファ層が抵抗加熱蒸着法または電子ビーム加熱蒸着法で形成されていることを特徴とする請求項９に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項１２】
前記色変換層が、前記１種または複数種のカラーフィルター層の少なくとも１種に対応する位置に選択的に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高精細かつ高視認性の多色表示可能な有機ＥＬ発光ディスプレイに関する。詳細には、色変換層と、該色変換層を挟持する接着層およびバリア層とがドライプロセスによって形成される有機ＥＬ発光ディスプレイに関する。本発明の有機ＥＬ発光ディスプレイは、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー・テレビ、ファクシミリ、オーディオ、ビデオ、カーナビゲーション、電気卓上計算機、電話機、携帯端末機、ならびに産業用の計器類等の表示用デバイスとして有用である。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ発光素子を用いたフルカラーディスプレイの作製方式としては、電界をかけることにより赤・青・緑にそれぞれ発光する素子を配列する「３色発光方式」、および、白色の発光をカラーフィルターでカットし、赤・青・緑を表現する「カラーフィルター方式」、さらに、近紫外光、青色光、青緑色光または白色光を吸収し、波長分布変換を行って可視光域の光を発光する蛍光色素をフィルターに用いる「色変換方式」が提案されている。【０００３】
中でも、色変換方式は高い色再現性・効率を実現できると考えられている。また、３色発光方式と異なり単色の有機ＥＬ発光素子を使用できることから、色変換方式のディスプレイの大画面化の難易度が低いと考えられている。これらの点から、色変換方式は、次世代ディスプレイの候補として有望視されている。色変換方式の有機ＥＬ発光ディスプレイの構造の一例を図４に示した。図４の構成では、透明基板３１の上に、３種のカラーフィルター層３２（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、３種の色変換層３３（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、平坦化層３４、バリア層３５が形成された色変換フィルターが形成されている。さらに、色変換フィルター上に、透明電極４１、有機ＥＬ層４２および反射電極４３からなる有機ＥＬ素子が形成されて、有機ＥＬ発光ディスプレイを構成している。【０００４】
色変換方式に用いられる色変換層３３は、一般に、１種または複数種の蛍光色素（染料、顔料、および染料を樹脂中に別途分散させた顔料化粒子を含む）を樹脂中に分散させた構造を有し、該蛍光色素および樹脂の分散液を塗布・乾燥させるウェットプロセスによって形成されてきている。しかしながら、このようなウェットプロセスで形成される色変換層３３は、一般的に５μｍ〜２０μｍの膜厚を有し、有機ＥＬ発光ディスプレイを構成する他の層に比較して極めて厚い。さらに、複数種の色変換層３３を用いる際には、それぞれの色変換層３３の厚さが異なって段差を形成する可能性がある。この段差を補償するために平坦化層３４を設けることが必要になる場合がある。【０００５】
さらに、ウェットプロセスによって形成される色変換層３３は完全に乾燥させることが困難である。色変換層３３中に残存する水分が、有機ＥＬ発光ディスプレイの製造工程中および／または駆動中に有機ＥＬ層４２へと移動し、ダークエリアともいわれる非発光欠陥を発生するおそれがある。【０００６】
上記の問題点に関して、カラーフィルター層および色変換層をドライプロセスで形成することが検討されてきている（特許文献１〜３参照）。【０００７】
【特許文献１】特開２００１−１９６１７５号公報
【特許文献２】特開２００２−１７５８７９号公報
【特許文献３】特開２００２−１８４５７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、有機ＥＬ素子中のダークエリアの発生を抑制することができ、かつ有機ＥＬ発光素子の発光を高効率で利用することができる新規な構造を有する色変換方式の有機ＥＬ発光ディスプレイを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の有機ＥＬ発光ディスプレイは、透明基板と、１種または複数種のカラーフィルター層と、接着層と、色変換層と、バリア層と、透明電極と、有機ＥＬ層と、反射電極とをこの順に含み、前記カラーフィルター層はウェットプロセスで形成されており、前記色変換層およびバリア層はドライプロセスで形成されており、および前記接着層は、無機接着層、有機接着層または有機接着層と無機接着層との積層体であることを特徴とする。また、バリア層の屈折率は、前記色変換層の屈折率よりも大きく、かつ前記透明電極の屈折率よりも小さいことが好ましく、特に好ましくは１．９よりも大きく、かつ２．２よりも小さい。また、本発明の有機ＥＬ発光ディスプレイは、１種または複数種のカラーフィルター層の間隙に配置されているブラックマトリクスをさらに含んでもよい。さらに、有機接着層は、望ましくは１．５以下の屈折率を有し、たとえばシリコーン樹脂を用いて形成することができる。また、色変換層は、前記１種または複数種のカラーフィルター層の少なくとも１種に対応する位置に選択的に形成されていてもよい。【００１０】
あるいはまた、本発明の有機ＥＬ発光ディスプレイは、色変換層とバリア層との間にバッファ層をさらに含んでもよい。このバッファ層は、耐成膜性材料を含んでもよい。バッファ層は、抵抗加熱蒸着法または電子ビーム加熱蒸着法で形成することが可能である。
【発明の効果】
【００１１】
以上の構成を採ることによって、ウェットプロセスで形成される厚い層に代えて、ドライプロセスで形成される薄い層を色変換層として使用することが可能となる。また、接着層によって色変換層の十分な密着性を得ることができる。また、バリア層によって、カラーフィルター層中に残存する可能性がある水分が有機ＥＬ層へと透過してダークエリアを発生させることを防止することができる。さらに、色変換層、バリア層、および透明電極の屈折率を整合させることによって、有機ＥＬ素子の発光をより高効率で利用することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は本発明の有機ＥＬ発光ディスプレイの構成例を示す断面図である。
【図２】図２は本発明の有機ＥＬ発光ディスプレイの別の構成例を示す断面図である。
【図３】図３は本発明の有機ＥＬ発光ディスプレイの別の構成例を示す断面図である。
【図４】図４は従来技術の有機ＥＬ発光ディスプレイの一例を示す断面図である。
【図５】図５は本発明の有機ＥＬ発光ディスプレイの別の構成例を示す断面図である。
【図６】図６は本発明の有機ＥＬ発光ディスプレイの別の構成例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００１３】
１１，３１  透明基板
１２，３２（Ｒ、Ｇ、Ｂ）  カラーフィルター層
１３  無機接着層
１４  色変換層
１５、３５  バリア層
１６  有機接着層
１７  バッファ層
２１、４１  透明電極
２２、４２  有機ＥＬ層
２３，４３  反射電極
３３（Ｒ、Ｇ、Ｂ）  （従来型）色変換層
３４  平坦化層
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の有機ＥＬ発光ディスプレイの１つの構成例を図１に示す。図１は、透明基板１１の上に、３種のカラーフィルター層１２（Ｒ，Ｇ，Ｂ）、接着層，色変換層１４、バリア層１５および有機ＥＬ素子が形成された色変換方式の有機ＥＬ発光ディスプレイを示す。ここで、有機ＥＬ素子は、透明電極２１、有機ＥＬ層２２および反射電極２３から構成されている。また、３種のカラーフィルター層１２（Ｒ，Ｇ，Ｂ）はウェットプロセスで形成され、一方、色変換層１４およびバリア層１５はドライプロセスで形成される。【００１５】
透明基板１１は可視光透過率に優れ、また、有機ＥＬ発光ディスプレイの形成プロセスにおいて、有機ＥＬ発光ディスプレイの性能低下を引き起こさない材料を用いて形成される。好ましい透明基板１１は、ガラス基板、および樹脂で形成された剛直性の樹脂基板を含む。樹脂としては、たとえばポリオレフィン、アクリル樹脂（ポリメチルメタクリレートを含む）、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートを含む）、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などを用いることができる。あるいはまた、ポリオレフィン、アクリル樹脂（ポリメチルメタクリレートを含む）、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートを含む）、ポリカーボネート樹脂、またはポリイミド樹脂などから形成される可撓性フィルムを、透明基板１１として用いてもよい。透明基板１１として用いるガラス基板を形成する材料としては、ホウケイ酸ガラスまたは青板ガラス等が特に好ましい。【００１６】
本発明におけるカラーフィルター層１２は、入射光を分光して、所望される波長域の光のみを透過させる層である。図１の構成では赤色カラーフィルター層１２Ｒ、緑色カラーフィルター層１２Ｇおよび青色カラーフィルター層１２Ｂの３種のカラーフィルター層を用いている。しかしながら、必要に応じて１種、２種、または４種以上のカラーフィルター層を用いてもよい。カラーフィルター層１２は、所望の吸収を有する染料または顔料を高分子のマトリクス樹脂中に分散させた材料を用いて形成することができる。用いることができる材料は、市販のフラットパネルディスプレイ用材料などの当該技術において知られている任意の材料、たとえば液晶用カラーフィルター材料（富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製カラーモザイクなど）を含む。本発明におけるカラーフィルター層１２は、所望される波長域の光を高い色純度で得るために、０．５〜５μｍ、より好ましくは１〜３μｍの膜厚を有する。【００１７】
本発明のカラーフィルター層１２は、必要とされる高精細度を実現するために、望ましくは、液体状材料（溶液または分散液）の塗布、光パターニング、現像液による不要部分の除去を含むウェットプロセスを用いて形成される。ウェットプロセスによるカラーフィルター層１２形成終了後に、透明基板１１およびカラーフィルター層１２を高温加熱して、カラーフィルター層１２中に残存する水分を十分に除去することが、有機ＥＬ発光ディスプレイ完成品の安定性を向上させるために望ましい。【００１８】
図１には例示していないが、各カラーフィルター層１２の間隙に、光を透過させないブラックマトリクスを形成してもよい。ブラックマトリクスは、カラーフィルター層１２と同様に、市販のフラットパネルディスプレイ用材料などの当該技術において知られている任意の材料を用い、ウェットプロセスにて作製することができる。ブラックマトリクスは、有機ＥＬ発光ディスプレイのコントラスト比を向上させることに有効である。ブラックマトリクスを設ける場合には、ブラックマトリクスを先に形成してもよいし、カラーフィルター層１２を先に形成してもよい。ここで、ブラックマトリクスの一部とカラーフィルター層１２の一部とを重畳（オーバーラップ）させて、有機ＥＬ素子からの光が必ずカラーフィルター層１２を通過して出射することを確実にしてもよい。ブラックマトリクスを形成する場合には、前述の水分除去のための高温加熱工程は、全てのカラーフィルター層１２およびブラックマトリクスの形成後に行うことが望ましい。【００１９】
次いで、カラーフィルター層１２（および、存在する場合にはブラックマトリクス）を覆うように、接着層が形成される。本発明の接着層は、その上にドライプロセスで形成される色変換層１４の密着性を向上させるための層である。本発明の接着層は、図１および図３に示すような無機接着層１３であってもよいし、図６に示す有機接着層１６であってもよいし、図２および図５に示されるように、有機接着層１６と無機接着層１３との積層体であってもよい。なお、有機接着層１６と無機接着層１３との積層体を用いる場合には、有機接着層１６の上に無機接着層１３を形成することが望ましい。【００２０】
無機接着層１３は、色変換層１４の密着性を向上させる機能に加えて、その下に形成されるカラーフィルター層１２から有機ＥＬ素子への水分、酸素および低分子成分などの透過を防止し、それらによる有機ＥＬ層２２の機能低下を防止する機能をも有する。さらに、無機接着層１３は、色変換層１４からの光を透明基板１１側に透過させるために、透明であることが好ましい。これらの要請を満たすために、無機接着層１３は、可視域における透明性が高く（４００〜８００ｎｍの範囲で透過率５０％以上）、水分、酸素および低分子成分に対するバリア性を有する材料で形成される。無機接着層１３を形成するための材料としては、ＳｉＯ２、ＳｉＮなどのケイ素化合物、あるいはＡｌ２Ｏ３のようなアルミニウム化合物を用いることができる。無機接着層１３は、１００ｎｍ〜２μｍ、より好ましくは２００ｎｍ〜１μｍの範囲内の膜厚を有する。無機接着層１３は、ドライプロセスであるスパッタ法（高周波スパッタ法、マグネトロンスパッタ法などを含む）を用いて形成することができる。【００２１】
有機接着層１６は、色変換層１４の密着性を向上させる機能に加えて、カラーフィルター層１２によってもたらされる段差を補償する機能をも有する。また、有機ＥＬ素子からの光が有機接着層１６を通って外部へと放射される点を考慮して、有機接着層１６の材料は、優れた光透過性を有すること（波長４００〜８００ｎｍの光に対して好ましくは５０％以上、より好ましくは８５％以上の透過率を有すること）が望ましい。また、図２および図５に示すように有機接着層１６の上面に無機接着層１３を形成する場合には、有機接着層１６はスパッタ耐性を有することも要求される。有機接着層１６は、一般的には塗布法（スピンコート、ロールコート、ナイフコートなど）で形成される。有機接着層１６を形成するための材料は、熱可塑性樹脂（アクリル樹脂（メタクリル樹脂を含む）、ポリエステル樹脂（ポリエチレンテレフタレートなど）、メタクリル酸樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエーテルサルホン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体（ポリビニルブチラールなど）、ポリフェニレンエーテル、ノルボルネン系樹脂、イソブチレン無水マレイン酸共重合樹脂、環状オレフィン系樹脂）、非感光性の熱硬化型樹脂（アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂）、または光硬化型樹脂を含む。これらの材料は、１．５〜１．６の屈折率を有する。【００２２】
特に、色変換層１４を接着層の一部の領域の上に選択的に形成する場合、有機接着層１６を、無機接着層１３の屈折率よりも低い屈折率を有する材料を用いて形成することが望ましい。この場合には、有機接着層１６が１．５以下の屈折率を有することが望ましい。低屈折率材料を用いることによって、有機ＥＬ層２２から発せられる光のうち色変換層１４の無い部分を透過する光の取り出し効率を向上させることが可能となる。このような低屈折率材料は、たとえば、１．４〜１．５の屈折率を有するシリコーン樹脂、および、フッ素化ビニルエーテル類および／またはパーフルオロオレフィン類（ヘキサフルオロプロピレンなど）の（共）重合によって得られる、１．４程度のさらに低い屈折率を有するフッ素化ポリマー類を含む。【００２３】
有機接着層１６を使用する場合、有機接着層１６を形成した後に、透明基板１１、カラーフィルター層１２および有機接着層１６の積層体（存在する場合にはブラックマトリクスを含む）を高温加熱して、カラーフィルター層１２および有機接着層１６中に残存する水分を十分に除去することが望ましい。あるいはまた、有機接着層１６を形成する前にカラーフィルター層１２（存在する場合にはブラックマトリクスを含む）を高温加熱してカラーフィルター層１２中の水分の除去を行い、さらに有機接着層１６の形成後に再び高温加熱して有機接着層１６中に残存する水分の除去を行ってもよい。これらの層に残存する水分を除去することによって、有機ＥＬ発光ディスプレイ完成品の安定性を向上させることができる。【００２４】
有機接着層１６は、カラーフィルター層１２とオーバーラップしていない領域において０．５〜３μｍ、より好ましくは１〜２μｍの膜厚を有する。このような範囲内の膜厚を有することによって、複数種のカラーフィルター層１２によってもたらされる段差を補償し、平坦な上平面を提供することができる。【００２５】
色変換層１４は、入射光（有機ＥＬ素子から発せられる光）の一部を吸収して波長分布変換を行い、入射光の非吸収分と変換光とを含む異なる波長分布を有する光を放出するための層である。色変換層１４は、少なくとも１種または複数種の色変換色素からなる層である。好ましくは、色変換層１４は、有機ＥＬ素子から発せられる青色〜青緑色光を、白色光に変換する。本発明における白色光とは、可視領域（４００〜７００ｎｍ）の波長成分を均一に含む光のみならず、該波長成分を均一には含んでいないが肉眼で白色に見える光をも含む。色変換色素は、入射光を吸収して、異なる波長域の光を放射する色素であり、好ましくは光源が発する青色〜青緑色の光を吸収して、所望の波長域の光（たとえば、緑色または赤色）を放射する色素である。色変換色素としては、ＤＣＭ−１（Ｉ）、ＤＣＭ−２（II）、ＤＣＪＴＢ（III）、４，４−ジフルオロ−１，３，５，７−テトラフェニル−４−ボラ−３ａ，４ａ−ジアザ−ｓ−インダセン（IV）、ナイルレッド（Ｖ）などの赤色発光材料用の色素；赤色光を放射するローダミン系色素、シアニン系色素、ピリジン系色素、オキサジン系色素など：緑色光を放射するクマリン系色素、ナフタルイミド系色素など、当該技術で知られている任意のものを用いることができる。【００２６】
【化１】
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【００２７】
本発明において使用する色変換色素の少なくとも１種は、ＥＬ素子の発光を吸収して、波長５８０ｎｍ以上の赤色光を発することができる色素であることが望ましい。あるいはまた、色変換層１４は、色変換色素の結着性などの色変換層１４の特性を向上させるための追加材料を含んでもよい。使用できる追加材料は、たとえば、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）またはトリス（４−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｍｑ３）のようなアルミニウム錯体、４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、２，５−ビス−（５−tert−ブチル−２−ベンゾオキサゾリル）チオフェンなどを含む。【００２８】
色変換層１４は、ドライプロセスで形成される。色変換層１４は、接着層上の全面にわたって形成されてもよいし、接着層の一部の領域に選択的に形成されてもよい。たとえば、１種または複数種のカラーフィルター層１２の少なくとも１種に対応する位置に、色変換層１４を選択的に形成してもよい。たとえば、図５に示すように、赤色カラーフィルター層１２Ｒに対応する位置のみに、色変換層１４を形成することができる。【００２９】
接着層上の全面にわたって色変換層１４を形成する場合には、蒸着法を用いて色変換層１４を形成することができる。ここで、特性向上の追加材料をさらに含む色変換層１４を形成する場合には、色変換色素および追加材料を共蒸着させることによって色変換層１４を形成することができる。【００３０】
接着層の一部の領域の上に選択的に色変換層１４を形成する場合には、以下の方法のいずれかを使用することができる：
（１）  形成する領域に開口部を有するメタルマスクを用いる蒸着（共蒸着）法；
（２）  蒸着（共蒸着）法を用いて接着層上の全面にわたって色変換層を形成し、続いて必要な領域以外の色変換層をレーザー照射または常圧プラズマ照射を用いて除去する方法；または
（３）  別の支持体上に蒸着（共蒸着）法などによって形成される色変換材料層を有する転写媒体を作製し、続いて必要な領域において熱またはエネルギービーム（光など）を作用させて色変換材料層を転写する方法。【００３１】
色変換層１４は、１００ｎｍ〜１μｍ、より好ましくは１５０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲内の膜厚を有する。したがって、本発明の色変換層１４は、色変換色素／マトリクス樹脂の組成物の塗布・乾燥によって形成される従来型の色変換層とは異なり、透明電極２１および反射電極２３の断線または短絡などの故障を引き起こすような段差を形成することはない。したがって、色変換層１４の上に平坦化のための層を設ける必要性が排除される。【００３２】
また、色変換色素／マトリクス樹脂の組成物の塗布・乾燥によって形成される従来型の色変換層は、その層中に有機ＥＬ素子の劣化を引き起こす水分を包含する恐れがある。しかしながら、ドライプロセスを用いて形成されるため、本発明の色変換層は、そのような水分を包含せず、それによって有機ＥＬ素子の劣化を起こすことはない。【００３３】
バリア層１５は、カラーフィルター層１２から有機ＥＬ層側への水分の透過を阻止する機能、およびその上に形成される有機ＥＬ素子の透明電極２１の形成プロセスから色変換層１４を保護する機能を有する層である。したがって、バリア層１５は、水分、酸素および低分子成分に対するバリア性を有する材料で形成される。さらに、バリア層１５は、有機ＥＬ層２２の発光を色変換層１４側に効率よく透過させるために、その発光波長域において透明であり、かつ（色変換層１４の屈折率）＜（バリア層１５の屈折率）＜（透明電極２１の屈折率）の関係を満たすことが望ましい。透明性に関して、バリア層１５は４００〜８００ｎｍの範囲で５０％以上の高い透過率を有することが望ましい。また、色変換層１４および透明電極２１の代表的材料を考慮すると、バリア層１５の材料は、１．９＜（バリア層１５の屈折率）＜２．２の関係を満たすことがより望ましい。バリア層１５として好適な材料は、ＳｉＮ、ＳｉＮＨ、ＡｌＮなどを含む。【００３４】
バリア層１５は、１００ｎｍ〜２μｍ、より好ましくは２００ｎｍ〜１μｍの範囲内の膜厚を有して、その下にある色変換層１４以下の層を覆うように形成される。【００３５】
バリア層１５は、ドライプロセスであるスパッタ法またはＣＶＤ法を用いて形成することができる。スパッタ法は、高周波スパッタ法であっても、マグネトロンスパッタ法であってもよい。また、ＣＶＤ法は、プラズマＣＶＤ法であることが望ましい。本工程におけるプラズマの発生手段としては、高周波電力（容量結合型または誘導結合型のいずれであってもよい）、ＥＣＲ、ヘリコン波などの当該技術で知られている任意の手段を用いてもよい。また、高周波電力として、工業用周波数（１３．５６ＭＨｚ）の電力に加えて、ＵＨＦまたはＶＨＦ領域の周波数の電力を用いることも可能である。【００３６】
バリア層１５の形成にＣＶＤ法を用いる場合、本発明において使用できるＳｉ源は、ＳｉＨ４、ＳｉＨ２Ｃｌ２、ＳｉＣｌ４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４などを含む。本発明において使用できるＡｌ源は、ＡｌＣｌ３、Ａｌ（Ｏ−ｉ−Ｃ３Ｈ７）３、有機アルミニウム化合物（トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリブチルアルミニウムなど）などを含む。また、本発明においては、Ｎ源としてＮＨ３を使用することが便利である。これらの原料ガスに加えて、ＣＶＤ装置中にＨ２、Ｎ２あるいは不活性ガス（Ｈｅ、Ａｒなど）を希釈ガスとして導入してもよい。【００３７】
ここで、前述のようにスパッタ法またはＣＶＤ法を用いてバリア層１５を形成する前に、バッファ層１７を、色変換層１４の上に形成してもよい（図３参照）。バッファ層１７は、バリア層１５の成膜工程（スパッタ法あるいはＣＶＤ法）において発生する、プラズマ、高エネルギー粒子（中性原子またはイオン化原子）、高速電子、または紫外線から色変換層１４中の色変換色素を保護するのに有効である。色変換層１４とバリア層１５との間にバッファ層１７を設けることによって、前述のような種々の要因による色変換色素の分解およびそれに伴う色変換能の喪失を防止することができる。【００３８】
バッファ層１７は、耐成膜性材料（すなわち、耐スパッタ性、耐プラズマ性またはその両方を有する材料）を用いて形成することができる。そのような材料は、たとえば、金属錯体、特に金属キレート錯体を含む。用いることができる金属キレート錯体は、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）などの金属フタロシアニン類、またはトリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム（Ａｌｑ３）またはトリス（４−メチル−８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム（Ａｌｍｑ３）のようなアルミニウムキレート錯体を含む。あるいはまた、無機フッ化物類、特にアルカリ土類金属フッ化物（ＭｇＦ２、ＣａＦ２、ＳｒＦ２、ＢａＦ２など）を用いて、バッファ層１７を形成することができる。【００３９】
抵抗加熱蒸着法または電子ビーム加熱蒸着法のような低エネルギーの成膜粒子による方法を用いて、前述のような耐成膜性材料を堆積させて、バッファ層１７を形成することができる。バッファ層１７は５０〜１００ｎｍの膜厚を有することが望ましい。そのような膜厚を有することによって、一様な膜となるバッファ層１７が色変換層１４を有効に保護することができる。【００４０】
本発明に使用することができる有機ＥＬ発光素子は、透明電極２１、有機ＥＬ層２２、および反射電極２３がこの順に積層した構造を有する。有機ＥＬ層２２は、少なくとも有機発光層を含み、必要に応じて正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層および／または電子注入層を介在させた構造を有している。あるいはまた、正孔の注入および輸送の両方の機能を有する正孔注入輸送層、電子の注入および輸送の両方の機能を有する電子注入輸送層を用いてもよい。具体的には、有機ＥＬ素子は下記のような層構造からなるものが採用される。【００４１】
（１）陽極／有機発光層／陰極
（２）陽極／正孔注入層／有機発光層／陰極
（３）陽極／有機発光層／電子注入層／陰極
（４）陽極／正孔注入層／有機発光層／電子注入層／陰極
（５）陽極／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極
（６）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極
（７）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極【００４２】
上記の層構成において、陽極および陰極は、それぞれ透明電極２１または反射電極２３のいずれかである。当該技術において、陽極を透明にすることが容易であることが知られているため、本発明においても透明電極２１を陽極として、および反射電極２３を陰極として用いることが望ましい。透明電極２１は、有機ＥＬ層２２の発する光の波長域において透明であることが望ましい。【００４３】
有機ＥＬ層２２を構成する各層は、当該技術において公知の材料を使用して形成することができる。たとえば、有機発光層として青色から青緑色の発光を得るためには、例えばベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化オキソニウム化合物、スチリルベンゼン系化合物、芳香族ジメチリディン系化合物などが好ましく使用される。望ましくは、有機ＥＬ層２２を構成する各層は、蒸着法によって形成される。【００４４】
透明電極２１は、波長４００〜８００ｎｍの光に対して好ましくは５０％以上、より好ましくは８５％以上の透過率を有することが好ましい。透明電極２１は、ＩＴＯ（Ｉｎ−Ｓｎ酸化物）、Ｓｎ酸化物、Ｉｎ酸化物、ＩＺＯ（Ｉｎ−Ｚｎ酸化物）、Ｚｎ酸化物、Ｚｎ−Ａｌ酸化物、Ｚｎ−Ｇａ酸化物、またはこれらの酸化物に対してＦ、Ｓｂなどのドーパントを添加した導電性透明金属酸化物を用いて形成することができる。透明電極２１は、蒸着法、スパッタ法または化学気相堆積（ＣＶＤ）法を用いて形成され、好ましくはスパッタ法を用いて形成される。また、後述するように複数の部分電極からなる透明電極２１が必要になる場合には、導電性透明金属酸化物を全面にわたって均一に形成し、その後に所望のパターンを与えるようにエッチングを行って、複数の部分電極からなる反射電極２１を形成してもよい。あるいはまた、所望の形状を与えるマスクを用いて複数の部分電極からなる反射電極２１を形成してもよい。【００４５】
透明電極２１を陰極として用いる場合、有機ＥＬ層２２との界面に陰極バッファ層を設けて、電子注入効率を向上させることが望ましい。陰極バッファ層を形成するための材料は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、またはＣｓなどのアルカリ金属、Ｂａ、Ｓｒなどのアルカリ土類金属またはそれらを含む合金、希土類金属、あるいはそれら金属のフッ化物などを含むが、それらに限定されるものではない。陰極バッファ層の膜厚は、駆動電圧および透明性等を考慮して適宜選択することができる。通常の場合、陰極バッファ層は１０ｎｍ以下の膜厚を有することが好ましい。【００４６】
反射電極２３は、好ましくは、高反射率の金属、アモルファス合金、微結晶性合金を用いて形成される。高反射率の金属は、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｒなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＰおよびＣｒＢなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、ＮｉＡｌなどを含む。反射電極２３を、陰極として用いてもよいし、陽極として用いてもよい。反射電極２３を陰極として用いる場合には、反射電極２３と有機ＥＬ層２２との界面に前述の陰極バッファ層を設けて、有機ＥＬ層２２に対する電子注入の効率を向上させてもよい。あるいはまた、反射電極２３を陰極として用いる場合、前述の高反射率金属、アモルファス合金または微結晶性合金に対して、仕事関数が小さい材料であるリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属を添加して合金化し、電子注入効率を向上させることができる。反射電極２３を陽極として用いる場合には、反射電極２３と有機ＥＬ層２２との界面に、前述の導電性透明金属酸化物の層を設けて有機ＥＬ層２２に対する正孔注入の効率を向上させてもよい。【００４７】
反射電極２３は、用いる材料に依存して、蒸着（抵抗加熱または電子ビーム加熱）、スパッタ、イオンプレーティング、レーザーアブレーションなどの当該技術において知られている任意の手段を用いて形成することができる。後述するように複数の部分電極からなる反射電極２３が必要になる場合には、所望の形状を与えるマスクを用いて複数の部分電極からなる反射電極２３を形成してもよい。あるいはまた、有機ＥＬ層２２の積層前に逆テーパー状の断面形状を有する分離隔壁（不図示）を形成し、それを用いて複数の部分電極からなる反射電極２３を形成してもよい。【００４８】
図１において、有機ＥＬ素子中に複数の独立した発光部を形成するために、透明電極２１および反射電極２３のそれぞれは平行なストライプ状の複数の部分から形成され、透明電極２１を形成するストライプと反射電極２３を形成するストライプとが互いに交差（好ましくは直交）するように形成されている。したがって、有機ＥＬ発光素子はマトリクス駆動を行うことができる。すなわち、透明電極２１の特定のストライプと、反射電極２３の特定のストライプに電圧が印加された時に、それらのストライプが交差する部分において有機ＥＬ層２２が発光する。あるいはまた、一方の電極（たとえば、透明電極２１）をストライプパターンを持たない一様な平面電極とし、および他方の電極（たとえば、反射電極２３）を各発光部に対応するような複数の部分電極にパターニングしてもよい。その場合には、各発光部に対応する複数のスイッチング素子を設け、該スイッチング素子を各発光部に対応する前記の部分電極に１対１で接続して、いわゆるアクティブマトリクス駆動を行うことが可能になる。
【実施例】
【００４９】
［実施例１］
厚さ０．７ｍｍのガラス基板１１を、純水中で超音波洗浄し、乾燥させ、ＵＶオゾン洗浄した。洗浄済ガラス基板に対して、スピンコート法を用いてカラーモザイクＣＫ−７８００（富士フィルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を塗布した。引き続いて、フォトリソグラフ法を用いてパターニングを行い、幅０．０９ｍｍ×長さ０．３ｍｍを有する複数の開口部が、幅方向ピッチ０．１１ｍｍおよび長さ方向ピッチ０．３３ｍｍで配列されている膜厚１μｍのブラックマトリクスを形成した。【００５０】
引き続いて、赤色、緑色および青色の各カラーフィルター層を、それぞれ、カラーモザイクＣＲ−７００１、ＣＧ−７００１、およびＣＢ−７００１を用いて形成した。それぞれのカラーフィルター層材料を塗布した後に、フォトリソグラフ法を用いて、複数のストライプ状部分へとパターニングした。赤色カラーフィルター層１２Ｒ、緑色カラーフィルター層１２Ｇ、および青色カラーフィルター層１２Ｂのそれぞれのストライプ状部分は、幅０．１０ｍｍ、膜厚１μｍ（ガラス基板１１上）を有し、幅方向ピッチ０．３３ｍｍで配列された。この構造において、ブラックマトリクスの複数のストライプ状部分のそれぞれは、その側辺から０．００５ｍｍの領域において、カラーフィルター層１２のいずれかにオーバーラップされた。【００５１】
次に、ＮＮ８１０Ｌ（ＪＳＲ製）をスピンコート法によって塗布し、引き続いて露光して、カラーフィルター層１２およびブラックマトリクスを覆う有機接着層１６を形成した。ブラックマトリクスと接触する領域における有機接着層１６の膜厚は１．５μｍであった。【００５２】
以上のように得られた有機接着層１６以下の層を有する基板を、乾燥窒素雰囲気（水分濃度１ｐｐｍ以下）下、２０分間にわたって２００℃に加熱して、残存する可能性のある水分を除去した。【００５３】
次に、ＡＣスパッタ法を用いて膜厚３００ｎｍのＳｉＯ２膜を積層して、無機接着層１３を得た。ターゲットとして、ホウ素ドープ型のＳｉターゲットを用いた。スパッタガスとして圧力１ＰａのＡｒ／Ｏ２混合ガスを用い、Ａｒ流量を２００ＳＣＣＭ、Ｏ２流量を８０ＳＣＣＭに設定した。ターゲット−対向電極間に３．５ｋＷの電力を印加した。【００５４】
次いで、無機接着層１３を形成した基板を真空蒸着装置に装着し、１×１０−４Ｐａの圧力において、０．３Å／ｓの蒸着速度にてＤＣＭ−１を蒸着し、膜厚５００ｎｍの色変換層１４を形成した。別途、ガラス基板上に同条件で形成されたＤＣＭ−１膜の屈折率の測定により、本実施例の色変換層１４が１．９の屈折率を有することが明らかとなった。【００５５】
そして、プラズマＣＶＤ法を用いて膜厚３００ｎｍのＳｉＮＨ膜を積層して、バリア層１５を得た。原料ガスとして１００ＳＣＣＭのＳｉＨ４、５００ＳＣＣＭのＮＨ３、および２０００ＳＣＣＭのＮ２を用い、ガス圧を８０Ｐａとした。また、プラズマ発生用電力として、２７ＭＨｚのＲＦ電力を０．５ｋＷ印加した。別途、ガラス基板上に同条件で形成されたＳｉＮＨ膜の屈折率の測定により、本実施例のバリア層１５が１．９５の屈折率を有することが明らかとなった。【００５６】
以上のように形成したバリア層１５の上に、有機ＥＬ素子を形成する。最初に、ＤＣスパッタ法を用いて膜厚２００ｎｍのＩＺＯ膜を成膜した。ターゲットとしてＩｎ−Ｚｎ酸化物を用い、スパッタガスとしてＯ２およびＡｒを用いた。次いで、シュウ酸水溶液をエッチング液として用いるフォトリソグラフ法によってパターニングを行い、透明電極２１を得た。透明電極２１は、カラーフィルター層１２の上方に位置し、カラーフィルター層１２のストライプと同一方向に伸びる複数のストライプ状部分（幅０．１ｍｍ、ピッチ０．１１ｍｍ）から形成された。別途、ガラス基板上に同条件で形成されたＩＺＯ膜の屈折率の測定により、本実施例の透明電極２１が２．２の屈折率を有することが明らかとなった。【００５７】
次いで、フォトニース（東レ株式会社製）を用いてポリイミド膜を形成し、フォトリソグラフ法を用いて、幅０．０９ｍｍ×長さ０．３ｍｍを有する複数の開口部（有機ＥＬ素子の発光部となる部分）が、幅方向ピッチ０．１１ｍｍおよび長さ方向ピッチ０．３３ｍｍで配列されている絶縁膜を形成した。この際に、絶縁膜の開口部がブラックマトリクスの開口部に対応して位置するようにした。引き続いて、反射電極分離隔壁の形成を行った。ネガ型フォトレジスト（ＺＰＮ１１６８（日本ゼオン製））をスピンコート法によって塗布し、プリベークを実施し、フォトマスクを用いて透明電極２１のストライプと直交する方向に伸びるストライプ形状のパターンを焼き付け、１１０℃のホットプレート上で６０秒間にわたってポストエクスポージャベークを行い、現像を行い、最後に１８０℃のホットプレート上で１５分間にわたって加熱を行い、反射電極分離隔壁を形成した。得られた反射電極分離隔壁は、逆テーパー形状の断面を有し、透明電極２１のストライプと直交する方向に伸びる複数のストライプ形状部から構成された。【００５８】
以上のように反射電極分離隔壁を形成した基板を抵抗加熱蒸着装置内に装着し、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、および電子注入層を、真空を破らずに順次成膜した。成膜に際して真空槽内圧は１×１０−４Ｐａまで減圧した。正孔注入層として膜厚１００ｎｍの銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、正孔輸送層として膜厚２０ｎｍの４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（α−ＮＰＤ）、発光層として膜厚３０ｎｍのＤＰＶＢｉ、および電子注入層として膜厚２０ｎｍのＡｌｑ３を積層して、有機ＥＬ層２２を得た。【００５９】
この後、真空を破ることなしに、厚さ２００ｎｍのＭｇ／Ａｇ（１０：１の質量比）膜を堆積させ、幅０．３０ｍｍ、ピッチ０．３３ｍｍの複数のストライプ形状の部分電極からなる反射電極２３を得た。【００６０】
こうして得られたデバイスを、グローブボックス内乾燥窒素雰囲気（水分濃度１ｐｐｍ以下）下において、封止ガラスとＵＶ硬化接着剤を用いて封止して、有機ＥＬ発光ディスプレイを得た。得られたディスプレイは、初期において、電流密度６２ｍＡ／ｍ２の電流を流した際に、１０００ｃｄ／ｍ２の輝度の白色光を発した。得られたディスプレイを、輝度１０００ｃｄ／ｍ２で白色（初期色度（ＣＩＥ）、ｘ＝０．３１、ｙ＝０．３３）発光する条件にて８５℃において１０００時間にわたって連続駆動したが、ダークエリアの発生は観測されなかった。【００６１】
［実施例２］
有機接着層１６を形成しなかったことを除いて、実施例１と同様の手順を繰り返して有機ＥＬ発光ディスプレイを得た。得られたディスプレイを、輝度１０００ｃｄ／ｍ２で白色（初期色度（ＣＩＥ）、ｘ＝０．３１、ｙ＝０．３３）発光する条件にて８５℃において１０００時間にわたって連続駆動したが、ダークエリアの発生は観測されなかった。【００６２】
［実施例３］
バリア層１５として膜厚３００ｎｍのＳｉＯ２膜を用いたことを除いて、実施例１と同様の手順を繰り返して有機ＥＬ発光ディスプレイを得た。別途、ガラス基板上に同条件で堆積させたＳｉＯ２膜の屈折率の測定により、本実施例のバリア層１５が１．５の屈折率を有することが明らかとなった。得られたディスプレイは、初期において、電流密度８０ｍＡ／ｃｍ２の電流を流した際に、１０００ｃｄ／ｍ２の輝度の白色光を発した。バリア層１５の屈折率が透明電極２１および色変換層１４と整合していないために、実施例１のディスプレイに比較して若干効率が低下していることが分かる。一方、得られたディスプレイを、輝度１０００ｃｄ／ｍ２で白色（初期色度（ＣＩＥ）、ｘ＝０．３１、ｙ＝０．３３）発光する条件にて８５℃において１０００時間にわたって連続駆動したが、ダークエリアの発生は観測されず、所期の目的を果たしていることが分かった。【００６３】
［実施例４］
実施例１と同様の手順を繰り返して、ガラス基板１１上に、ブラックマトリクスから色変換層１４までの層を形成した。次に、真空蒸着装置中、１×１０−４Ｐａの圧力においてＡｌｑ３を蒸着し、膜厚８０ｎｍのバッファ層１７を形成した。【００６４】
次いで、プラズマＣＶＤ法を用いて膜厚３００ｎｍのＳｉＮＨ膜を積層して、バリア層１５を得た。原料ガスとして１００ＳＣＣＭのＳｉＨ４、５００ＳＣＣＭのＮＨ３、および２０００ＳＣＣＭのＮ２を用い、ガス圧を８０Ｐａとした。また、プラズマ発生用電力として、２７ＭＨｚのＲＦ電力を１．０ｋＷ印加した。別途、ガラス基板上に同条件で形成したＳｉＮＨ膜の屈折率の測定により、本実施例のバリア層１５が２．０の屈折率を有し、実施例１のものよりも高い屈折率を有することが明らかとなった。【００６５】
その後に、実施例１と同様の手順を用いて有機ＥＬ素子を形成して、有機ＥＬディスプレイを得た。得られたディスプレイは、白色（初期色度（ＣＩＥ）、ｘ＝０．３１、ｙ＝０．３３）発光した。さらに得られたディスプレイを、輝度１０００ｃｄ／ｍ２で白色発光する条件にて８５℃において１０００時間にわたって連続駆動したが、ダークエリアの発生は観測されなかった。このことから、バリア層１５の形成時に印加するＲＦ電力を大きくして成膜速度を増大させても、バッファ層１７を設けることによって色変換層１４中の色変換色素に対するダメージを防止できたことが分かる。【００６６】
［実施例５］
色変換層１４の形成を以下のように実施したことを除いて、実施例１と同様の手順を繰り返して、有機ＥＬ発光ディスプレイを得た。幅０．０９ｍｍ×長さ０．３ｍｍを有する複数の開口部が、幅方向ピッチ０．３３ｍｍおよび長さ方向ピッチ０．３３ｍｍで配列されているメタルマスクを準備した。メタルマスクを、その開口部が赤色カラーフィルター層１２Ｒに対応する位置に配置されるようにアライニングした。そして、１×１０−４Ｐａの圧力においてＤＣＭ−１を蒸着し、膜厚５００ｎｍの色変換層１４を形成した。得られた色変換層１４は、図５に示すように赤色発光部のみに配置され、青色発光部および緑色発光部には配置されなかった。【００６７】
実施例１と同様の条件で連続駆動を行ったが、ダークエリアの発生は観測されなかった。また、青色発光部のみを発光させた場合、ならびに緑色発光部のみを発光させた場合、本実施例の有機ＥＬ発光ディスプレイは、実施例１のディスプレイと比較して３０〜４０％高い輝度を示した。この輝度の増大は、青色発光部および緑色発光部に色変換層１４を配置しなかったためである。【００６８】
［実施例６］
無機接着層１３を形成せず、および有機接着層１６の形成を以下のように実施したことを除いて、実施例５と同様の手順を繰り返して、図６に示す構成の有機ＥＬ発光ディスプレイを得た。【００６９】
カラーフィルター層１２およびブラックマトリクスを形成したガラス基板１１に対して、ＮＮ８１０Ｌ（ＪＳＲ製）をスピンコート法によって塗布した。引き続いて、得られた膜を露光して、カラーフィルター層１２およびブラックマトリクスを覆う有機接着層１６を形成した。ブラックマトリクスと接触する領域における有機接着層１６の膜厚は１．５μｍであった。次に、得られた有機接着層１６以下の層を有する基板を、乾燥窒素雰囲気（水分濃度１ｐｐｍ以下）下、２０分間にわたって２３０℃に加熱して、残存する可能性のある水分を除去した。別途、ガラス基板上に同条件で形成された有機接着層の屈折率の測定により、本実施例の有機接着層１６が１．５４の屈折率を有することが明らかとなった。また、有機接着層１６上への色変換層１４の蒸着時に、色変換層１４の剥離は観測されなかった。【００７０】
実施例１と同様の条件で連続駆動を行ったが、本実施例の有機ＥＬ発光ディスプレイにおいてダークエリアの発生は観測されなかった。また、青色発光部のみを発光させた場合、ならびに緑色発光部のみを発光させた場合、本実施例の有機ＥＬ発光ディスプレイは、実施例１のディスプレイと比較して３０〜４０％高い輝度を示した。この輝度の増大は、青色発光部および緑色発光部に色変換層１４を配置しなかったためである。【００７１】
［実施例７］
ＮＮ８１０Ｌ（ＪＳＲ製）に代えてシリコーン樹脂（ＫＰ−８５：信越化学工業製）を用いて有機接着層１６を形成したことを除いて、実施例６と同様の手順を繰り返して、有機ＥＬ発光ディスプレイを得た。別途、ガラス基板上に同条件で形成された有機接着層の屈折率の測定により、本実施例の有機接着層１６が１．４３の屈折率を有することが明らかとなった。また、有機接着層１６上への色変換層１４の蒸着時に、色変換層１４の剥離は観測されなかった。【００７２】
実施例１と同様の条件で連続駆動を行ったが、ダークエリアの発生は観測されなかった。また、本実施例の有機ＥＬ発光ディスプレイは、全ての発光色（赤色、緑色および青色）に関して、実施例６のディスプレイと比較して３０％高い輝度を示した。この輝度の増大は、より低屈折率の有機接着層１６を使用したためである。【００７３】
［比較例１］
接着層（有機接着層１６および無機接着層１３）を形成しなかったことを除いて実施例１と同様の手順を繰り返して、カラーフィルター層１２およびブラックマトリクスの上に色変換層１４を積層した。しかしながら、色変換層１４とカラーフィルター層１２との密着性が不良で、色変換層１４が部分的に剥離した。【００７４】
［比較例２］
色変換層１４を以下のウェットプロセスによる手順を用いて形成したことを除いて、実施例１と同様の手順を繰り返して有機ＥＬ発光ディスプレイを得た。ＤＣＭ−１（０．７重量部）を溶剤のプロピレングリコールモノエチルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１２０重量部へ溶解させた。光重合性樹脂組成物の「ＶＰＡ１００」（商品名、新日鐵化学株式会社）１００重量部を加えて溶解させ、塗布液を得た。この塗布溶液を、無機接着層１３上にスピンコート法を用いて塗布し、膜厚１０μｍの色変換層を形成した。【００７５】
得られたディスプレイを、輝度１０００ｃｄ／ｍ２で白色（初期色度（ＣＩＥ）、ｘ＝０．３１、ｙ＝０．３３）発光する条件にて８５℃において１０００時間にわたって連続駆動したところ、１ｃｍ２あたり数個のダークエリアが発生した。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【手続補正書】
【提出日】平成20年4月24日(2008.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、１種または複数種のカラーフィルター層と、接着層と、色変換層と、バリア層と、透明電極と、有機ＥＬ層と、反射電極とをこの順に含み、前記カラーフィルター層はウェットプロセスで形成されており、前記色変換層およびバリア層はドライプロセスで形成されており、および前記接着層は、無機接着層、有機接着層、および有機接着層と無機接着層との積層体からなる群から選択されることを特徴とする有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項２】
前記接着層が有機接着層と無機接着層との積層体であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項３】
前記接着層が無機接着層であり、無機接着層はＳｉＯ２、ＳｉＮまたはＡｌ２Ｏ３を用いて形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項４】
前記バリア層の屈折率は、前記色変換層の屈折率よりも大きく、かつ前記透明電極の屈折率よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項５】
前記バリア層の屈折率は、１．９よりも大きく、かつ２．２よりも小さいことを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項６】
前記色変換層が蒸着法で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項７】
前記色変換層が１種または複数種の色変換色素から成ることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項８】
ブラックマトリクスをさらに含み、前記ブラックマトリクスは、前記１種または複数種のカラーフィルター層の間隙に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項９】
前記有機接着層が１．５以下の屈折率を有することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項１０】
前記有機接着層がシリコーン樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項１１】
前記色変換層と、前記バリア層との間に、バッファ層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項１２】
前記バッファ層が、耐成膜性材料を含むことを特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項１３】
前記バッファ層が抵抗加熱蒸着法または電子ビーム加熱蒸着法で形成されていることを特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【請求項１４】
前記色変換層が、前記１種または複数種のカラーフィルター層の少なくとも１種に対応する位置に選択的に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ発光ディスプレイ。
【国際調査報告】
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