Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月19日(2019.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱硬化性化合物と、
熱硬化剤と、
窒化ホウ素ナノチューブと、
ナノチューブではない絶縁性フィラーとを含み、
前記絶縁性フィラーが、１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導率を有し、
熱硬化性材料１００体積％中、前記絶縁性フィラーの含有量が２５体積％以上である、熱硬化性材料。
【請求項２】
熱硬化性材料１００体積％中、前記窒化ホウ素ナノチューブの含有量が０．１体積％以上である、請求項１に記載の熱硬化性材料。
【請求項３】
熱硬化性材料１００体積％中、前記窒化ホウ素ナノチューブの含有量が０．１体積％以上、４０体積％以下である、請求項２に記載の熱硬化性材料。
【請求項４】
熱硬化性材料１００体積％中、前記絶縁性フィラーの含有量が２５体積％以上、９０体積％以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の熱硬化性材料。
【請求項５】
熱硬化性材料１００体積％中での前記窒化ホウ素ナノチューブの含有量の、熱硬化性材料１００体積％中での前記絶縁性フィラーの含有量に対する比が、０．００１以上、１．６以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の熱硬化性材料。
【請求項６】
前記窒化ホウ素ナノチューブの平均直径が２ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であり、
前記窒化ホウ素ナノチューブの平均長さが１μｍ以上、２００μｍ以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の熱硬化性材料。
【請求項７】
前記絶縁性フィラーの平均粒子径が１μｍ以上、１００μｍ以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の熱硬化性材料。
【請求項８】
前記窒化ホウ素ナノチューブの平均長さの、前記絶縁性フィラーの平均粒子径に対する比が、０．０１以上、２００以下である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の熱硬化性材料。
【請求項９】
前記絶縁性フィラーの材質が、アルミナ、合成マグネサイト、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化亜鉛又は酸化マグネシウムである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の熱硬化性材料。
【請求項１０】
熱硬化性シートである、請求項１〜９のいずれか１項に記載の熱硬化性材料。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の熱硬化性材料の硬化物。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月28日(2019.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
裁断した繊維束のフィラメント間に樹脂を含浸させたシート状の繊維強化樹脂成形材料を製造する繊維強化樹脂成形材料の製造装置であって、
連続する繊維束を幅方向に開繊する開繊部と、連続する繊維束を複数の繊維束に分繊する分繊部と、分繊された繊維束を裁断機で裁断する裁断部と、を含み、
前記分繊部は、前記の連続する繊維束に刃物を間欠的に突き刺すことによって、分繊された複数の繊維束の各間を部分的に未分繊の状態とする、繊維強化樹脂成形材料の製造装置。
【請求項２】
前記刃物が、前記連続する繊維束の幅方向に所定の間隔で並ぶ連なった複数の刃物である、請求項１に記載の繊維強化樹脂成形材料の製造装置。
【請求項３】
前記分繊部が、複数の刃物が周方向に並んで配置された回転刃を備え、前記回転刃を回転させながら、前記の連続する繊維束に前記の複数の刃物を間欠的に突き刺すものである、請求項１又は２に記載の繊維強化樹脂成形材料の製造装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月26日(2018.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
これらの方法では、ガス導管部のサイズを小さくするには限界があると共に、ガス導管部の形状、サイズ及び位置の精度が十分に得られない課題がある。また、焼成前のセラミック組成体の貫通孔の内壁は微細な凹凸面となっているため、多孔質体用ペーストを充填しにくく、充填ムラが生じやすい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
図３には、比較例のセラミック基板１１０の貫通孔ＴＨの内壁の様子が示されている。図３の比較例では、前述した予備的事項で説明したように、焼成前のセラミック組成体の貫通孔に多孔質体の前駆体となる多孔質体用ペーストを充填した後に、両者を同時に焼成して焼結体が作成される。これにより、セラミック基板１１０とその中に貫通して配置された多孔質体２００とが得られる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
この場合、図３に示すように、セラミック基板１１０の貫通孔ＴＨの内壁に酸化物粒子１１０ａの球状面が露出した状態となる。焼結後のセラミック基板１１０を加工して貫通孔ＴＨを形成するのではなく、焼結前のセラミック組成体に貫通孔を形成するため、焼結後に酸化物粒子１１０ａの個々の粒形状がそのまま残るからである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
従って、図３の比較例では、個々の酸化物粒子１１０ａの大きさのレベルでミクロにみると、セラミック基板１１０の貫通孔ＴＨの内壁は球状面がつながった微細な凹凸面ＳＸとなっている。このため、焼結前のセラミック組成体の貫通孔に多孔質体用ペーストを充填する際に、充填しにくく、充填ムラが生じやすい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
このようにして、図５（ａ）に示すように、酸化アルミニウム基板１１の複数の貫通孔ＴＨにペースト２０ａがそれぞれ充填される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
次いで、図５（ｂ）に示すように、酸化アルミニウム基板１１の焼成温度よりも１００℃程度低い１４００℃程度の温度で、ペースト２０ａを焼成することにより、酸化アルミニウム基板１１の貫通孔ＴＨに多孔質体２０を形成する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
そして、第１実施例の図４（ｃ）〜図５（ｂ）と同様に、酸化アルミニウム基板１１の貫通孔ＴＨにペースト２０ａを充填し、焼成することにより多孔質体２０を形成する。その後に、第１実施例の図５（ｃ）と同様に、平面研削によって酸化アルミニウム基板１１の上面と多孔質体２０の上面とを面一にして平坦化する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
そして、第１実施例の図４（ｃ）〜図５（ｂ）と同様に、酸化アルミニウム基板１１の貫通孔ＴＨにペースト２０ａを充填し、焼成することにより多孔質体２０を形成する。その後に、第１実施例の図５（ｃ）と同様に、平面研削によって酸化アルミニウム基板１１の上面と多孔質体２０の上面とを面一にして平坦化する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
そして、第１実施例の図４（ｃ）〜図５（ｂ）と同様に、酸化アルミニウム基板１１の貫通孔ＴＨにペースト２０ａを充填し、焼成することにより多孔質体２０を形成する。その後に、第１実施例の図５（ｃ）と同様に、平面研削によって酸化アルミニウム基板１１の上面と多孔質体２０の上面とを面一にして平坦化する。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2017218352.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月10日(2019.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに独立してＮＣ制御移動又は角度制御回転を行う２基の研削ワークテーブルと、この２基の研削ワークテーブルに対応してＮＣ制御移動を行う１基の研削ヘッドとを具備しており、２基の研削ワークテーブルは、交互に研削ヘッドと協働して平面座標系移動を行い、一方の研削ワークテーブルがガラス板を保持して研削ヘッドによって研削加工中、他方の研削ワークテーブルは、ガラス板の搬出動作と次のガラス板の受け取り動作とを交互に繰り返して行い、研削ヘッドが次々に受け取ったガラス板に対して連続して研削加工を行うようにしたガラス板の加工装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月15日(2019.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水酸基又はアルキル基で置換されたｐ−ベンゾキノン、及び水酸基又はアルキル基で置換されたヒドロキノンからなる群より選択される少なくとも１種のキノン化合物を有効成分とする、バイオフィルム形成抑制剤。
【請求項２】
前記ヒドロキノンが式（I）で示される化合物であり、かつ前記ｐ−ベンゾキノンが式（II）で示される化合物である、請求項１記載のバイオフィルム形成抑制剤。
【化１】
2017218388.tif 000001
（式中、Ｒ1及びＲ5は、それぞれ独立に水酸基又は炭素数１〜４の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、それぞれ独立に水素又はメチル基を表す。）
【請求項３】
前記式（I）中、Ｒ1が水酸基又は炭素数１〜４の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基であり、かつＲ2、Ｒ3及びＲ4がともに水素であるか；Ｒ1がメチル基であり、Ｒ3が水素であり、かつＲ2及びＲ4は一方がメチル基で他方が水素、もしくはともにメチル基であるか；又は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4がともにメチル基である、請求項２記載のバイオフィルム形成抑制剤。
【請求項４】
前記式（II）中、Ｒ5が炭素数１〜４の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基であり、かつＲ6、Ｒ7及びＲ8がともに水素である、請求項２記載のバイオフィルム形成抑制剤。
【請求項５】
前記キノン化合物が、ｐ−トルキノン、２−メチルヒドロキノン、エチルキノール、２−ブチルヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，６−ジメチルヒドロキノン、２，３−ジメチルヒドロキノン、２，３，５−トリメチルヒドロキノン、テトラメチルヒドロキノン、ヒドロキシヒドロキノン、３，５−ジメチルベンゾキノン及びｔｅｒｔ−ブチルベンゾキノンからなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１記載のバイオフィルム形成抑制剤。
【請求項６】
対象水中での前記キノン化合物の濃度が２７０ｐｐｍ以下である、請求項１〜５のいずれか１項記載のバイオフィルム形成抑制剤。
【請求項７】
バイオフィルムの主要な原因微生物の生育阻害率が２０％以下となる濃度の前記キノン化合物を有効成分とする、請求項１〜６のいずれか１項記載のバイオフィルム形成抑制剤。
【請求項８】
水酸基又はアルキル基で置換されたｐ−ベンゾキノン、及び水酸基又はアルキル基で置換されたヒドロキノンからなる群より選択される少なくとも１種のキノン化合物を対象水中に添加することを含む、バイオフィルム形成抑制方法。
【請求項９】
前記ヒドロキノンが式（I）で示される化合物であり、かつ前記ｐ−ベンゾキノンが式（II）で示される化合物である、請求項８記載のバイオフィルム形成抑制方法。
【化２】
2017218388.tif 000002
（式中、Ｒ1及びＲ5は、それぞれ独立に水酸基又は炭素数１〜４の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基を表し、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、それぞれ独立に水素又はメチル基を表す。）
【請求項１０】
前記式（I）中、Ｒ1が水酸基又は炭素数１〜４の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基であり、かつＲ2、Ｒ3及びＲ4がともに水素であるか；Ｒ1がメチル基であり、Ｒ3が水素であり、かつＲ2及びＲ4は一方がメチル基で他方が水素、もしくはともにメチル基であるか；又は、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4がともにメチル基である、請求項９記載のバイオフィルム形成抑制方法。
【請求項１１】
前記式（II）中、Ｒ5が炭素数１〜４の直鎖もしくは分枝鎖アルキル基であり、かつＲ6、Ｒ7及びＲ8がともに水素である、請求項９記載のバイオフィルム形成抑制方法。
【請求項１２】
前記キノン化合物が、ｐ−トルキノン、２−メチルヒドロキノン、エチルキノール、２−ブチルヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，６−ジメチルヒドロキノン、２，３−ジメチルヒドロキノン、２，３，５−トリメチルヒドロキノン、テトラメチルヒドロキノン、ヒドロキシヒドロキノン、３，５−ジメチルベンゾキノン及びｔｅｒｔ−ブチルベンゾキノンからなる群より選択される少なくとも１種である、請求項８記載のバイオフィルム形成抑制方法。
【請求項１３】
前記キノン化合物が前記対象水中に２７０ｐｐｍ以下の濃度で添加される、請求項９〜１２のいずれか１項記載のバイオフィルム形成抑制方法。
【請求項１４】
前記キノン化合物が、前記対象水中に、バイオフィルムの主要な原因微生物の生育阻害率が２０％以下となる濃度で添加される、請求項８〜１３のいずれか１項記載のバイオフィルム形成抑制方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月12日(2019.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートの搬送経路に沿って設けられる搬送ガイド部材を製造する装置であって、
前記搬送ガイド部材の基材のシートが接触するガイド面に、液状の被膜層材料を塗布する塗布手段を備え、
前記ガイド面に塗布された前記被膜層材料が固化することにより前記基材よりも表面粗さが小さい被膜層が前記ガイド面に形成されることを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１の装置において、
前記被膜層は、前記シートの接触によってシート側に移行しないことを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１又は２の装置において、
前記ガイド面に形成される前記被膜層の膜厚は５０μｍ以下であることを特徴とする装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかの装置において、
前記ガイド面に形成される前記被膜層は２０μｍよりも厚いことを特徴とする装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかの装置において、
前記ガイド面に形成される前記被膜層の表面粗さＲａは０．２μｍ以下であり、
前記基材の表面粗さＲａは０．２μｍ以上３μｍ以下であることを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかの装置において、
基材が樹脂で形成されていることを特徴とする装置。
【請求項７】
請求項６の装置において、
前記基材は、少なくとも樹脂とフィラーから構成されていることを特徴とする装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかの装置において、
前記シートが接触するガイド面は湾曲していることを特徴とする装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかの装置において、
前記シートの搬送方向と直交する幅方向において部分的に形成され前記シートの搬送方向に延在する一又は複数の凸部を有し、
前記シートが接触するガイド面は、前記凸部の頂面であることを特徴とする装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかの装置において、
前記搬送ガイド部材は、画像形成装置においてシートをガイドする搬送ガイド部材であることを特徴とする装置。
【請求項１１】
請求項１乃至９のいずれかの装置において、
前記搬送ガイド部材は、画像読取装置においてシートをガイドする搬送ガイド部材であることを特徴とする装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれかの装置における前記塗布手段として用いられる塗布装置であって、
前記液状の被膜層材料を収容する収容部と、
前記収容部から供給された前記被膜層材料を放射状に噴射して前記ガイド面に塗布する噴射部と、を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項１３】
請求項１２の塗布装置において、
前記ガイド面における塗布箇所を変化させるように前記搬送ガイド部材の基材及び前記噴射部の少なくとも一方を駆動する駆動部を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項１４】
請求項１３の塗布装置において、
前記駆動部は、前記ガイド面における塗布箇所を変化させるとき、前記ガイド面に対する前記噴射部の噴射方向の角度が一定になるように、前記搬送ガイド部材の基材及び前記噴射部の少なくとも一方を駆動することを特徴とする塗布装置。
【請求項１５】
請求項１２乃至１４のいずれかの塗布装置において、
前記搬送ガイド部材の基材の表面のうち、前記噴射部の噴霧方向における前記ガイド面以外の表面部分が、カバー部材で覆われていることを特徴とする塗布装置。
【請求項１６】
請求項１乃至１１のいずれかの装置における前記塗布手段として用いられる塗布装置であって、
前記液状の被膜層材料を収容する収容部と、
前記収容部に収容された前記被膜層材料を塗布するローラ状の塗布部材と、
前記ガイド面における塗布箇所を変化させるように前記搬送ガイド部材の基材及び前記塗布部材の少なくとも一方を駆動する駆動部と、を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項１７】
請求項１乃至１１のいずれかの装置における前記塗布手段として用いられる塗布装置であって、
前記液状の被膜層材料を収容する収容部と、
前記収容部から供給された前記被膜層材料を液滴吐出ヘッドの複数のノズルから液滴状に吐出させて前記ガイド面に塗布する塗布部と、を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項１８】
請求項１７の塗布装置において、
前記ガイド面における塗布箇所を変化させるように前記搬送ガイド部材の基材及び前記液滴吐出ヘッドの少なくとも一方を駆動する駆動部を備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項１９】
請求項１８の塗布装置において、
前記駆動部は、前記ガイド面における塗布箇所を変化させるとき、前記ガイド面に対する前記液滴吐出ヘッドの吐出方向の角度が一定になるように、前記搬送ガイド部材の基材及び前記液滴吐出ヘッドの少なくとも一方を駆動することを特徴とする塗布装置。
【請求項２０】
シートをガイドするように前記シートの搬送経路に沿って設けられる搬送ガイド部材を製造する方法であって、
前記搬送ガイド部材の基材のシートが接触するガイド面に、液状の被膜層材料を塗布し、
前記ガイド面に塗布された被膜層材料が固化することにより前記基材よりも表面粗さが小さい被膜層を前記ガイド面に形成することを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】搬送ガイド部材を製造する方法及び装置並びに塗布装置
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月22日(2019.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物半導体を有するトランジスタであって、
前記トランジスタは、前記酸化物半導体に接するゲート絶縁膜を有し、
前記酸化物半導体はチャネル形成領域を有し、
前記酸化物半導体は、第１の領域と、第２の領域と、を有し、
前記第１の領域は、元素Ｍ（元素Ｍは、Ａｌ、Ｓｉ、Ｙ、Ｂ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｇ、Ｖ、Ｂｅ、またはＣｕのいずれか一つ、または複数）を含み、
前記第２の領域は、インジウムを含み、
前記第１の領域、及び前記第２の領域は、モザイク状に配置される、トランジスタ。
【請求項２】
酸化物半導体を有するトランジスタであって、
前記トランジスタは、前記酸化物半導体に接するゲート絶縁膜を有し、
前記酸化物半導体はチャネル形成領域を有し、
前記酸化物半導体は、第１の領域と、第２の領域と、を有し、
前記第１の領域は、元素Ｍ（元素Ｍは、Ａｌ、Ｓｉ、Ｙ、Ｂ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｇ、Ｖ、Ｂｅ、またはＣｕのいずれか一つ、または複数）を含み、
前記第２の領域は、インジウムを含み、
前記第１の領域、及び前記第２の領域は、それぞれ０．５ｎｍ以上１０ｎｍ以下のサイズを有し互いに混合している、トランジスタ。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記元素Ｍは、アルミニウムであり、
前記酸化物半導体は、さらに第３の領域を有し、
前記第１の領域は、アルミニウム酸化物またはアルミニウム亜鉛酸化物を含み、
前記第２の領域は、インジウム酸化物またはインジウム亜鉛酸化物を含み、
前記第３の領域は、亜鉛酸化物を含む、トランジスタ。
【請求項４】
請求項１または請求項２において、
前記元素Ｍは、シリコンであり、
前記酸化物半導体は、さらに第３の領域を有し、
前記第１の領域は、シリコン酸化物またはシリコン亜鉛酸化物を含み、
前記第２の領域は、インジウム酸化物またはインジウム亜鉛酸化物を含み、
前記第３の領域は、亜鉛酸化物を含む、トランジスタ。
【請求項５】
請求項３または請求項４において、
前記酸化物半導体が有するインジウム、元素Ｍ、及び亜鉛の原子数比は、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝４：２：３またはその近傍である、トランジスタ。
【請求項６】
請求項３または請求項４において、
前記酸化物半導体が有するインジウム、インジウム、元素Ｍ、及び亜鉛の原子数比は、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝５：１：６またはその近傍である、トランジスタ。
【請求項７】
請求項３または請求項４において、
前記酸化物半導体が有するインジウム、インジウム、元素Ｍ、及び亜鉛の原子数比は、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝１：１：１またはその近傍である、トランジスタ。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項において、
前記第１の領域は、径が１ｎｍ以上２ｎｍ以下またはその近傍値の微結晶を有する、トランジスタ。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項において、
前記酸化物半導体の電子線回折パターン像において、リング状の領域に複数のスポットが観察される、トランジスタ。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項において
前記ゲート絶縁膜は、窒化シリコンを含む、トランジスタ。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のトランジスタを有する表示装置であって、
表示部を有し、
前記表示部の画素トランジスタとして前記トランジスタを有する、表示装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のトランジスタを有する表示装置であって、
表示部を有し、
前記表示部の駆動トランジスタとして前記トランジスタを有する、表示装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のトランジスタを有する表示装置であって、
表示部と、ゲートドライバを有し、
前記ゲートドライバが前記トランジスタを有する、表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月25日(2018.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヘルメット着用者の眼前にレンズ体を保持するように取り付けるためのレンズ体の取付機構であって、
一対のレンズを支持する枠部材と、その左右端部からレンズの後方へ延びる側枠部材とから成るレンズ体と、
前記側枠部材に連結して前記レンズ体の仰俯角を調整する角度調整部材と、
前記側枠部材と前記角度調整部材とが互いに回動するよう軸支する第１の部材と、
前記レンズ体の水平方向における位置を調整する位置調整部材と、
前記角度調整部材と前記位置調整部材とが互いに回動するよう軸支する第２の部材と、
前記位置調整部材のヘルメット側端部を水平方向に伸縮可能に保持する位置調整保持部材と、
前記側枠部材の前記水平方向に略平行な第１の面と前記第１の面と対向する面との間、及び／又は前記角度調整部材の前記水平方向に略平行な第２の面と前記第２の面と対向する面との間に挿入され、前記ヘルメット着用者の顔の左右方向の幅を調整するサイズ調整部材と、を含むことを特徴とするレンズ体の取付機構。
【請求項２】
前記第１の面と前記第１の面と対向する面との間、及び／又は前記第２の面と前記第２の面と対向する面との間に挿入され、前記左右方向から見た前記側枠部材と前記角度調整部材との間のなす角度、及び／又は前記左右方向から見た前記角度調整部材と前記位置調整部材との間のなす角度を保持する角度保持部材をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のレンズ体の取付機構。
【請求項３】
前記レンズ体は映像表示装置であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のレンズ体の取付機構。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月15日(2019.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
耐熱基材上に形成されたセラミックスからなる気孔を含む高気孔層と、
前記高気孔層上に形成されてセラミックスからなり気孔率が前記高気孔層以下の０．９体積％以下とされ、ビッカース硬さが８００Ｈｖ以上とされた緻密層と、
を備える、遮熱コーティング。
【請求項２】
前記緻密層は、層厚さが０．０５ｍｍ以下とされている、請求項１に記載の遮熱コーティング。
【請求項３】
前記高気孔層は、前記緻密層が設けられた表面に単位長さ当たり１本以上１０本以下で厚さ方向に縦割れを有する、請求項１または２に記載の遮熱コーティング。
【請求項４】
前記緻密層は、平均粒径２０μｍ以下の前記セラミックスの粒度分布を有する、請求項１から３のいずれか１つに記載の遮熱コーティング。
【請求項５】
前記高気孔層は、気孔率が１体積％以上３０体積％以下である、請求項１から４のいずれか１つに記載の遮熱コーティング。
【請求項６】
前記高気孔層および前記緻密層は、ビッカース硬さが同じく８００Ｈｖ以上である、請求項１から５のいずれか１つに記載の遮熱コーティング。
【請求項７】
前記耐熱基材と前記高気孔層との間に形成された金属結合層をさらに備える、請求項１から６のいずれか１つに記載の遮熱コーティング。
【請求項８】
前記緻密層上に前記緻密層が溶融された溶融層をさらに備える、請求項１から７のいずれか１つに記載の遮熱コーティング。
【請求項９】
前記溶融層下の前記緻密層の層厚さが０．０１ｍｍ以上である、請求項８に記載の遮熱コーティング。
【請求項１０】
前記溶融層下の前記緻密層の層厚さが０．０１ｍｍ以上であり、前記溶融層の層厚さが前記緻密層以上で０．０４ｍｍ以下である、請求項８に記載の遮熱コーティング。
【請求項１１】
前記高気孔層または前記緻密層のいずれか一方がイットリア安定化ジルコニア材料にて構成され、いずれか他方がイッテルビア安定化ジルコニア材料にて構成される、請求項１から１０のいずれか１つに記載の遮熱コーティング。
【請求項１２】
前記高気孔層および前記緻密層がイッテルビア安定化ジルコニア材料にて構成される、請求項１から１０のいずれか１つに記載の遮熱コーティング。
【請求項１３】
表面に請求項１から１２のいずれか１つに記載の遮熱コーティングを備える、タービン部材。
【請求項１４】
請求項１３に記載のタービン部材を備える、ガスタービン。
【請求項１５】
耐熱基材上に大気プラズマ溶射法によってセラミックスからなる気孔を含む高気孔層を形成し、前記高気孔層上に大気プラズマ溶射法、コールドスプレー法、またはエアロゾルデポジション法によってセラミックスからなり気孔率が前記高気孔層以下の０．９体積％以下とされ、ビッカース硬さが８００Ｈｖ以上とされた緻密層を形成する、遮熱コーティングの製造方法。
【請求項１６】
前記緻密層を大気プラズマ溶射法によって形成する場合、１００ｍｍ以下の近距離溶射により前記高気孔層の表面に施す、請求項１５に記載の遮熱コーティングの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月7日(2019.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
めっき下地を形成するための組成物であって、
（Ａ）金属、半導体、金属酸化物から選択される少なくとも１種又は２種以上の無機ナノ粒子と、
（Ｂ）極性の置換基を備えるものであって、フタロシアニン及び／又はナフタロシアニンを含む有機π共役系配位子と、及び
（Ｃ）水、又は水と混和可能な有機溶媒及び水の混合物からなる、水溶性の溶媒及び／又は分散媒と、を含み、
当該組成物からの前記水溶性の溶媒及び／又は分散媒の実質的な消失により、当該組成物の残渣が導電性を呈するものであることを特徴とする、めっき下地形成のための組成物。
【請求項２】
前記有機π共役系配位子は、ＴＣＡＰ，ＴＣＡＮ，ＯＣＡＰ，ＯＣＡＮから選択される何れか１つ又は２つ以上を含むことを特徴とする請求項１に記載のめっき下地形成のための組成物。
【請求項３】
更に、（Ｄ）バインダー樹脂を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のめっき下地形成のための組成物。
【請求項４】
前記無機ナノ粒子が、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｂ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｅ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ，Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ，Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｐｏ、Ａｔから選択される少なくとも１つの元素の単体若しくは合金又はそれらの化合物を含むことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のめっき下地形成のための組成物。
【請求項５】
前記無機ナノ粒子の平均粒径が１ｎｍから５００ｎｍであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のめっき下地形成のための組成物。
【請求項６】
前記バインダー樹脂が、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリウレタンポリエチレン樹脂、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリアミド、ポリエポキシ、ポリビニルアルコール、多糖類、タンパク質から選択される１種又は２種以上を含むことを特徴とする請求項３に記載のめっき下地形成のための組成物。
【請求項７】
（Ａ）金属、半導体、金属酸化物から選択される少なくとも１種又は２種以上の無機ナノ粒子と、及び
（Ｂ）極性の置換基を備えるものであって、フタロシアニン及び／又はナフタロシアニンのような有機π共役系配位子と、を含み、
前記無機ナノ粒子及び前記有機π共役系配位子が実質的に均一に混合された状態にあるものであって、
所定の基板に付着されたものであることを特徴とするめっき下地用の薄膜。
【請求項８】
更に、当該薄膜が固形物と認識される程度に（Ｃ）水、又は水と混和可能な有機溶媒及び水の混合物からなる、水溶性の溶媒及び／又は分散媒を含み、導電性を呈するものであることを特徴とする請求項７に記載のめっき下地用の薄膜。
【請求項９】
更に、当該薄膜がその表面に直径０．１μｍから５．０μｍのホールを有していることを特徴とする請求項７又は８に記載のめっき下地用の薄膜。
【請求項１０】
更に、当該薄膜が（Ｄ）バインダー樹脂を含むことを特徴とする請求項７から９のいずれかに記載のめっき下地用の薄膜。
【請求項１１】
前記無機ナノ粒子が、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｂ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｅ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ，Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ，Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｐｏ、Ａｔから選択される少なくとも１つの元素の単体若しくは合金又はそれらの化合物を含むことを特徴とする請求項７から１０のいずれかに記載のめっき下地用の薄膜。
【請求項１２】
前記バインダー樹脂が、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリウレタンポリエチレン樹脂、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリアミド、ポリエポキシ、ポリビニルアルコール、多糖類、タンパク質から選択される１種又は２種以上を含むことを特徴とする請求項１０に記載のめっき下地用の薄膜。
【請求項１３】
前記無機ナノ粒子の表面の少なくとも一部が、当該薄膜の最表面から露出しているものであることを特徴とする請求項７から１２のいずれかに記載のめっき下地用の薄膜。
【請求項１４】
請求項８から１３のいずれかに記載の薄膜上に、金属被膜を形成する方法であって、
前記薄膜上に電解めっき若しくは無電解めっき処理を行う工程を含み、
前記金属皮膜が、銅、ニッケル、スズ、クロム、亜鉛、金、銀、白金、ロジウム、パラジウムから選択される１種からなる単体又は２種以上からなる合金若しくは化合物を含むことを特徴とする金属被膜を形成する方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月3日(2019.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
次に、本発明の実施態様に係る野縁受け固定金具について、図２、図３を参照して詳細に説明する。図２の（Ａ）は野縁受け固定金具の正面図、（Ｂ）は同じく右側面図、（Ｃ）は平面図、（Ｄ）は底面図であり、図３は野縁受け固定金具の斜視図である。
これら図に示すように、野縁受け固定金具６は、板厚が約２ｍｍ程度の厚板材でプレス成型され、野縁受け３の側面に面当てされる側面片６ａを介して、その一側に、野縁受け３を外嵌可能に折曲せしめた上面片６１１と下面片６１２を有して、側面視コ字状に形成せしめた野縁受け嵌装固定部６１と、その他側に、吊りボルト２の下端部側を吊りボルト挿通孔６２ａに挿通せしめて上下ナット２１、２１にて挟み込み固定されるよう、野縁受け嵌装固定部６１に背反してＬ字状に折曲形成せしめた吊りボルト固定片６２１を有する吊りボルト固定部６２とを備えて一体に並設せしめて形成される。また、吊りボルト挿通孔６２ａは、野縁受け嵌装固定部６１側に片寄らせ、かつ、従来の縦設タイプのものに比し、上下側ナット２１、２１の周面が野縁受け３の側面に対して近接配置されるように側面片６ａ側に片寄らせて穿設され、地震等による揺れを受けた際に、吊りボルト固定片６２１の変形剛性を高めると共に、上ナット２１が直接的に野縁受け３の側面に、下ナット２１が側面片６ａを介して間接的に当接して、吊りボルト固定片６２１の傾動規制が行われ易く配設することが可能となり、拡開変形に対する防止効果を高めることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
野縁受け嵌装固定部６１は、上面片６１１と下面片６１２とを、それぞれ野縁受け３の横幅よりも広幅に延出せしめ、上面片６１１の先端部にナット孔６１ａがタップ孔加工され、下面片６１２の先端部にボルト挿通孔６１ｂが穿設されており、外嵌した野縁受け３を固定ボルト６１３によって締め付けすることにより、野縁受け３の上面と下面に圧着させて挟み込むことで、コ字状の開口側から抜け止め可能に挟持固定するように構成されている。また、側面片６ａの野縁受け嵌装固定部６１と吊りボルト固定部６２の連設部付近にネジ孔６ａ１が穿設され、野縁受け３に対して、必要において任意個所にドリルタッピングビス等のネジ９を用いて、ネジ固定可能となっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
吊りボルト固定部６２は、吊りボルト固定片６２１を野縁受け嵌装固定部６１の略中央部位に折曲形成させ、さらに、側面片６ａの下部側を、野縁受け嵌装固定部６１の下面片６１２と共にＬ字状に折曲して、野縁受け３の下面先端に係合するよう折り返し形成せしめた野縁受け係合片６２２を備える。つまり、吊りボルト２の下部側が吊りボルト固定片６２１にその上下面を挟んで上側ナット２１と下側ナット２１を螺入固定した際に、両ナット２１、２１が、野縁受け３の高さ幅となる側面領域内に配設される構成となっており、野縁受け係合片６２２は、野縁受け３を野縁受け嵌装固定部６１に固定ボルト６１３による固定前のセット状態で仮固定される構成となっている。また、野縁受け係合片６２２の下面片６１２には野縁受け３の横ズレ等を防止するためのビス孔６２ｂが穿設され、このビス孔６２ｂは、必要において任意個所にドリルタッピングビス等のネジ９を用いて野縁受け３の下面にネジ固定するために使用される。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月11日(2018.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リング状に形成され、摺動面を有するシール部材であって、
１００重量部のフッ素系ゴムと、１重量部以上２０重量部以下の粒子状樹脂と、を含有し、
前記粒子状樹脂は、前記フッ素系ゴムに対して相溶性を有する相溶部と、前記フッ素系ゴムに対して滑性を有する滑性部と、を含み、
前記摺動面に前記粒子状樹脂が存在し、
前記フッ素系ゴムに前記粒子状樹脂が分散し、
前記摺動面を加圧面として測定されるショアＡ硬度が８０以上である
シール部材。
【請求項２】
請求項１に記載のシール部材であって、
前記粒子状樹脂は、４０重量％以上のシリコーンを含有する
シール部材。
【請求項３】
請求項２に記載のシール部材であって、
前記粒子状樹脂は、シリコーン−アクリル共重合体で形成されている
シール部材。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載のシール部材であって、
前記フッ素系ゴムに分散されたカーボンを更に含有する
シール部材。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載のシール部材であって、
前記摺動面が摺動する相手材の表面粗さＲｚが、ＪＩＳ  Ｂ  ６００１−１９８２で、０．５ｚ以上１８．０ｚ以下である
シール部材。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載のシール部材であって、
前記摺動面の表面粗さＲｚが、ＪＩＳ  Ｂ  ６００１−１９８２で、０．５ｚ以上１０．０ｚ以下である
シール部材。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載のシール部材であって、
前記摺動面にパーティングラインが存在しない
シール部材。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月23日(2018.11.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の式ＫＣ−（Ｉａ）：
【化１】
2018172387.tif 000001
で表される化合物であって、
上記式中：
Ｒａは水素またはヒドロキシルであり；
Ｒ５は、（１−６Ｃ）アルキル、−（ＣＨ２）x−ＣＯＯＣＨ３、及び−（ＣＨ２）ｘ−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ３から選択され、ここでｘは１〜１０の整数であり；
各Ｒ１は、水素、及び（１−６Ｃ）アルキルから独立して選択され；
各Ｒ２は、水素、（１−６Ｃ）アルキル、及び−Ｃ（Ｏ）ＮＲ２１Ｒ２２から選択され、ここで、Ｎ２１及びＮ２２は、水素、及び（１−６Ｃ）アルキルから選択され；
ｎは２〜４の整数であり；
Ｒ３は水素であり；
Ｒ４は、
【化２】
2018172387.tif 000002
であり、
各Ｒ６は、水素、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ（Ｃ＝ＮＨ）ＮＨ２、及びＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨ３から独立して選択され；
Ｗは−ＮＲ８−であり；
Ｒ８は水素であり、
ｐは１〜１０の整数であり；かつ
Ｒ７は、アシル、及び置換アシルから選択される、化合物またはその塩。
【請求項２】
ｎが３であり、かつ各Ｒ１が、水素、及び（１−６Ｃ）アルキルから独立して選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
各Ｒ２が、水素、及び（１−６Ｃ）アルキルから独立に選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ６が、リジン、アルギニン、ホモリジン、ホモアルギニン、およびオルニチンの側鎖から選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ６がリジンの側鎖である、請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ６がアルギニンの側鎖である、請求項１に記載の化合物。
【請求項７】
請求項１に記載の化合物を調製する方法であって、
式：
【化３】
2018172387.tif 000003
の化合物を式：
【化４】
2018172387.tif 000004
の化合物と接触させる工程（式中、ＰＧ１及びＰＧ２はアミノ保護基である）；
前記ＰＧ１及びＰＧ２を脱離して式：
【化５】
2018172387.tif 000005
の化合物を生成する工程；
前記式：
【化６】
2018172387.tif 000006
の化合物を式：
【化７】
2018172387.tif 000007
の化合物と接触させる工程（式中、ＰＧ３はアミノ保護基である）；及び
前記ＰＧ３を脱離する工程を含む方法。
【請求項８】
請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物；および薬学的に許容できるキャリアを含有する、薬学的組成物。
【請求項９】
ケトン含有オピオイドの酵素制御放出を提供する化合物と、トリプシンインヒビターとを含有し、前記化合物が請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物である、疼痛の治療又は予防のための薬学的組成物。
【請求項１０】
トリプシン切断可能部分を含んでなるプロモイエティに共有結合したケトン含有オピオイドを含んでなる化合物であって、トリプシンによる前記トリプシン切断可能部分の切断が前記ケトン含有オピオイドの放出を仲介する化合物；及び
組成物の摂取後に前記化合物からの前記ケトン含有オピオイドの酵素制御放出を仲介する前記トリプシンと相互作用するトリプシンインヒビターを含んでなり、
前記化合物が請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物である、疼痛の治療又は予防のための薬学的組成物。
【請求項１１】
用量単位に製剤化された請求項１１に記載の組成物であって、
前記ケトン修飾オピオイドプロドラッグおよび前記トリプシンインヒビターが、摂取後に予め選択された薬物動態（ＰＫ）プロファイルをもたらすのに有効な量で存在する、組成物。
【請求項１２】
前記用量単位が、少なくとも２用量単位を摂取した後に、予め選択されたＰＫプロファイルをもたらす、請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
請求項１１に記載の組成物の製造方法であって、
前記化合物とトリプシンインヒビターとを混合する工程を含み、
前記化合物が請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物であり、
前記化合物及び前記トリプシンインヒビターを、前記化合物からのケトン含有オピオイドの放出を減弱させるのに有効な量で存在せしめ、患者が複数の用量単位を摂取したときはそれに比例したケトン含有オピオイド放出をもたらさない、方法。
【請求項１４】
用量単位に製剤化するのに好適な化合物及びトリプシンインヒビターを同定する方法であって、
前記化合物が請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物であり、
前記化合物とトリプシンインヒビターとトリプシンとを反応混合物中に混合する工程、または
前記化合物及びトリプシンインヒビターを非ヒト動物又は非ヒト動物組織に投与する工程であって、
前記化合物が、トリプシン切断可能部分を含んでなるプロモイエティに共有結合したケトン含有オピオイドを含み、トリプシンによる前記トリプシン切断可能部分の切断が前記ケトン含有オピオイドの放出を仲介する、工程；及び
前記化合物の変換を検出する工程を含み、
前記トリプシンインヒビターの非存在下での前記化合物の変換と比較したときの前記トリプシンインヒビターの存在下での前記化合物の変換の減少が、前記化合物及びトリプシンインヒビターが用量単位に製剤化するのに好適であることを示す、方法。
【請求項１５】
必要とする患者の疼痛を治療するための医薬の製造のための、請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物又は請求項８から１２のいずれか一項に記載の組成物の使用。
【請求項１６】
ケトン修飾オピオイドプロドラッグを含有する組成物において、薬物乱用の可能性を低減した医薬を製造する方法であって、請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物をトリプシンインヒビターと混合する工程を含み、前記トリプシンインヒビターが、トリプシンを添加することによって、使用者における前記化合物からのケトン含有オピオイドの放出をする能力を低減する、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月5日(2019.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】１５−ＨＥＰＥを含む組成物および同組成物を使用する方法
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月19日(2019.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ．インスリンと、
ｂ．約５から約２５ｍＭの濃度の、クエン酸塩と、
ｃ．約０．０４から約２０μｇ／ｍＬの濃度の、トレプロスチニルと、
ｄ．防腐剤と、
ｅ．インスリンの６分子当り少なくとも２個の亜鉛イオンを提供するのに十分な濃度の、亜鉛と、
を含み、室温で約７．０から約７．８のｐＨを有し、初期１／２Ｔｍａｘによって測定される場合に、同一のインスリンを含有するがクエン酸塩またはトレプロスチニルを含有しない組成物よりも少なくとも２０％急速である血液中へのインスリンの取り込みを提供する、医薬組成物。
【請求項２】
前記亜鉛濃度が、約０．２から約２ｍＭである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
前記亜鉛濃度が、約０．６から約０．８ｍＭである、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項４】
塩化マグネシウムをさらに含む、請求項３に記載の医薬組成物。
【請求項５】
前記塩化マグネシウムの濃度が約５ｍＭである、請求項４に記載の医薬組成物。
【請求項６】
前記インスリンが、インスリンリスプロである、請求項５に記載の医薬組成物。
【請求項７】
前記インスリンリスプロが約１００から約２００Ｕ／ｍＬの濃度で存在する、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
グリセロールをさらに含む、請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項９】
前記グリセロールの濃度が約１２ｍｇ／ｍＬである、請求項８に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
前記防腐剤が、ｍ−クレゾールである、請求項９に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記ｍ−クレゾールの濃度が、約３．１５ｍｇ／ｍＬである、請求項１０に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
２〜８℃での少なくとも２４か月の貯蔵が可能なように安定である、請求項１１に記載の医薬組成物。
【請求項１３】
バイアルまたは再使用可能なペン型注射器のカートリッジでの３０℃までの温度での使用時における最大２８日間の貯蔵が可能なように安定である、請求項１１に記載の医薬組成物。
【請求項１４】
持続皮下インスリン注入療法のためのポンプ装置における最大７日間の使用が可能なように安定である、請求項１１に記載の医薬組成物。
【請求項１５】
ＥＤＴＡを含まない、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１６】
任意の追加の血管拡張剤を含まない、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
任意のオリゴ糖を含まない、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
ａ．インスリンがインスリンリスプロであり、約１００から約２００Ｕ／ｍＬの濃度で存在し、
ｂ．クエン酸塩が約１５ｍＭの濃度であり、
ｃ．トレプロスチニルが約１μｇ／ｍＬの濃度であり、
ｄ．防腐剤がｍ−クレゾールであり、約３．１５ｍｇ／ｍＬの濃度で存在し、かつ
ｅ．亜鉛が約０．６から約０．８ｍＭの濃度であり、
医薬組成物が
ｆ．約１２ｍＭの濃度のグリセロール、および
ｇ．約５ｍＭの濃度の塩化マグネシウム
をさらに含み、
医薬組成物がＥＤＴＡ、任意の追加の血管拡張剤または任意のオリゴ糖を含まず、かつ
医薬組成物が、（ｉ）２〜８℃での少なくとも２４か月の貯蔵、（ｉｉ）バイアルまたは再使用可能なペン型注射器のカートリッジでの３０℃までの温度での使用時における最大２８日間の貯蔵、および（ｉｉｉ）持続皮下インスリン注入療法のためのポンプ装置における最大７日間の使用が可能なように安定である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１９】
糖尿病の治療において使用するための、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の医薬組成物。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の医薬組成物を含む製造物。
【請求項２１】
多目的バイアルである、請求項２０に記載の製造物。
【請求項２２】
多目的カートリッジである、請求項２０に記載の製造物。
【請求項２３】
再使用可能なペン型注射器である、請求項２０に記載の製造物。
【請求項２４】
使い捨てペン型装置である、請求項２０に記載の製造物。
【請求項２５】
持続皮下インスリン注入療法のためのポンプ装置である、請求項２０に記載の製造物。
【請求項２６】
持続皮下インスリン注入療法のためのポンプ装置において使用するための容器施栓系である、請求項２０に記載の製造物。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月6日(2019.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
肝硬変による腹水と診断された患者の腹水の治療のための医薬組成物であって、テルリプレッシンまたはその塩を、約１日間〜約１２ヶ月間１日当たり約１．０ｍｇ〜約１２．０ｍｇの連続注入の用量として含み、
前記患者が１型肝腎症候群（ＨＲＳ）に進行していない、医薬組成物。
【請求項２】
連続テルリプレッシンが約１日間〜約６ヶ月間投与される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
連続テルリプレッシンが携帯型輸液ポンプで投与される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項４】
テルリプレッシンの投与が通院で提供される、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項５】
テルリプレッシンの投与される用量が、約１日間〜約１２ヶ月間で段階的に増加する、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項６】
外来の腹水患者における腹腔中の腹水の貯留を減少させるための医薬組成物であって、テルリプレッシンまたはその塩を、携帯型輸液ポンプによる約１日間〜約１２ヶ月間１日当たり約１．０ｍｇ〜約１２．０ｍｇの連続注入の用量として含み、
前記外来の腹水患者が１型肝腎症候群（ＨＲＳ）に進行していない、医薬組成物。
【請求項７】
テルリプレッシンが約１日間〜約６ヶ月間投与される、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
投与が通院で提供される、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項９】
テルリプレッシンの投与される用量が、約１日間〜約１２ヶ月間で段階的に増加する、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
患者が２型ＨＲＳに進行していない、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記患者が入院していない、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項１２】
前記患者が２型ＨＲＳに進行していない、請求項６に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月5日(2019.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子中に、下記式（１−１）で表される基及び下記式（１−２）で表される基からなる群より選択される１以上の基を有し、且つ、下記式（２−１）で表される基、下記式（２−２）で表される基及び下記式（２−３）で表される基からなる群より選択される１以上の基を有する、変性樹脂と、
熱硬化剤及び／又は重合開始剤と
を含有することを特徴とする、液晶用シール剤。
【化１０】
2018172484.tif 000001
〔式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基であり、
Ｒ２１は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基であり、
Ｒ２２及びＲ２３は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基であるか、Ｒ２２及びＲ２３は、一緒になって、環構造を形成し、
Ｘ１は、酸素原子又は硫黄原子であり、
Ｒ２４は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基であるが、
但し、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、ビニル基又は１−メチルビニル基ではない。〕
【請求項２】
変性樹脂が、下記式（３）で表される、請求項１に記載の液晶用シール剤。
Ａｒ１（−Ｏ−Ａ１）ｎ１      （３）
〔式中、
Ａｒ１は、炭素原子数、及びヘテロ原子数の合計が５以上であり、且つ１つ以上の芳香環、又はヘテロ芳香環を含むｎ１価の基であり、
ｎ１は、１以上であり、
Ａ１は、独立に、水素原子、下記式（１−１）で表される基、下記式（１−２）で表される基、下記式（２−１）で表される基、下記式（２−２）で表される基、下記式（２−３）で表される基、下記式（４−１）で表される基、又は、下記式（４−２）で表される基であるが、
但し、分子中に、式（１−１）で表される基又は式（１−２）で表される基を有する式（４−１）で表される基；式（１−１）で表される基及び／又は式（１−２）で表される基を有する式（４−２）で表される基；式（１−１）で表される基；並びに式（１−２）で表される基からなる群より選択される１以上の基を有し、且つ、
式（２−１）で表される基、式（２−２）で表される基又は式（２−３）で表される基を有する式（４−１）で表される基；式（２−１）で表される基、式（２−２）で表される基及び／又は式（２−３）で表される基を有する式（４−２）で表される基；式（２−１）で表される基；式（２−２）で表される基；並びに式（２−３）で表される基からなる群より選択される１以上の基を有する。〕
【化１１】
2018172484.tif 000002
〔式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基であり、
Ｒ２１は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基であり、
Ｒ２２及びＲ２３は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基であるか、Ｒ２２及びＲ２３は、一緒になって、環構造を形成し、
Ｘ１は、酸素原子又は硫黄原子であり、
Ｒ２４は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基であるが、
但し、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、ビニル基又は１−メチルビニル基ではなく、
Ｂ１は、独立して、アルキレン基であり、ｍ１は、１以上であり、
Ｄ１は、アリーレン基、アルキレン−アリーレン−アルキレン基、アルキレン−アリーレン基、アリーレン−アルキレン−アリーレン基又は基：−Ｂ２−（Ｏ−Ｂ２）ｍ２−であり、Ｂ２は、独立に、アルキレン基であり、ｍ２は、０又は１以上であり、
Ｃ１、Ｃ２及びＣ３は、それぞれ独立に、水素原子、式（１−１）で表される基、式（１−２）で表される基、式（２−１）で表される基、式（２−２）で表される基又は式（２−３）で表される基である。〕
【請求項３】
更に、エポキシ樹脂（但し、（メタ）アクリロイル基を有するエポキシ樹脂を除く）、エポキシ樹脂のエポキシ基の一部又は全部が（メタ）アクリル酸無水物で変性された変性エポキシ樹脂、エポキシ樹脂のエポキシ基の全部が変性化合物で変性された変性エポキシ樹脂からなる群より選択される１以上の樹脂を含み、
ここで前記変性化合物は、カルボン酸（但し、（メタ）アクリル酸を除く）、カルボン酸無水物（但し、（メタ）アクリル酸無水物を除く）、アルコール及びチオールからなる群より選択される１以上の化合物である、請求項１又は２に記載の液晶用シール剤。