(57)【要約】  本発明は、鮮鋭性、粒状性及びコントラストが向上し、傷が防止され、かつ生産性が向上した放射線像変換パネル及びその製造方法を提供する。この手段として、支持体上に少なくとも輝尽性蛍光体層及び保護層を有する放射線像変換パネルにおいて、前記保護層が転写箔により前記輝尽性蛍光体層に接着されている放射線像変換パネルを特徴とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に少なくとも輝尽性蛍光体層及び保護層を有する放射線像変換パネルにおいて、前記保護層が転写箔により前記輝尽性蛍光体層に接着されていることを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項２】
前記保護層が、膜厚が２〜１５μｍの樹脂層からなることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項３】
前記保護層が、少なくとも低屈折率層及び高屈折率層からなり、それらの屈折率の差が０．１〜０．７であり、かつ、前記低屈折率層が輝尽性蛍光体層側にあることを特徴とする請求の範囲第１項または第２項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項４】
前記保護層が青色〜緑色に着色されていることを特徴とする請求の範囲第１項〜第３項のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項５】
前記保護層の膜厚の２／３以上が青色〜緑色に着色されていることを特徴とする請求の範囲第４項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項６】
前記保護層の最表面層が、熱または光により硬化された樹脂層であることを特徴とする請求の範囲第１項〜第５項のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項７】
前記保護層の最表面層の表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜１μｍであることを特徴とする請求の範囲第１項〜第６項のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。
【請求項８】
請求の範囲第１項〜第７項のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルの製造方法であって、該放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層の表面に、仮支持体上に樹脂層を有する転写箔を接着し、放射線像変換パネルとして使用する直前に仮支持体を剥離することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項９】
請求の範囲第１項〜第７項のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルの製造方法であって、該放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層の表面に、仮支持体上に樹脂層を有する転写箔を密着させ、該樹脂層の樹脂の軟化点以上の温度での加熱及び圧着の後、該転写箔の仮支持体を剥離することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線像変換パネル及びその製造方法に関し、詳しくは鮮鋭性、粒状性及びコントラストが向上し、傷の発生が防止された放射線像変換パネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線画像のような放射線画像は病気診断用等に多く用いられている。このＸ線画像を得るために被写体を通過したＸ線を蛍光体（蛍光スクリーン）に照射し、これにより可視光を生じさせてこの可視光を通常の写真を撮るときと同じように銀塩を使用したフィルムに照射して現像した、いわゆる放射線写真が従来、広範囲に利用されている。【０００３】
しかし、近年、従来の放射線写真法に代わる方法として、例えば、特許文献１、２に記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後、輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線等の電磁波（励起光）で時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光光）として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検体の放射線画像を可視像として再生するものである。読み取りを終えた該パネルは、残存する画像の消去が行なわれた後、次の撮影のために備えられる。すなわち、放射線像変換パネルは繰り返し使用される。【０００４】
この放射線像変換方法によれば、従来の放射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利点がある。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この放射線像変換方法では放射線像変換パネルをくり返し使用するので資源保護、経済効率の面からも有利である。【０００５】
このような輝尽性蛍光体は、放射線を照射した後、励起光を照射すると輝尽発光を示す輝尽性蛍光体であるが、実用上では、波長が４００〜９００ｎｍの範囲にある励起光によって３００〜５００ｎｍの波長範囲の輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が一般的に利用される。【０００６】
そして、輝尽性蛍光体層の表面（支持体に面していない側の表面）には通常、保護層が設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護している。保護層には、セルロース誘導体やポリメチルメタクリレート等のような透明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗布することで形成されたもの、あるいはポリエチレンテレフタレート等の有機高分子フィルムや透明なガラス板等の保護層形成用シートを別に形成して蛍光体層の表面に適当な接着剤を介して固着したもの、あるいは無機化合物を蒸着等によって蛍光体層上に成膜したもの等が知られている。【０００７】
さらに保護層を設けた蛍光体プレートの周辺部は吸湿や変質しやすいため、周辺部を樹脂層で封止したり、保護フィルムで蛍光体プレートを包み、減圧しながら、蛍光体プレートの周縁より外側にある領域で、上下の保護フィルムをインパルスシーラーで加熱、融着して封止すること等が行われている。【０００８】
放射線像変換方法の実施において、放射線像変換パネルは、放射線の照射（放射線像の記録）・励起光の照射（記録された放射線像の読出し）・消去光の照射（残存する放射線像の消去）というサイクルで繰り返し使用される。そして放射線像変換パネルの各ステップへの移行はベルト、ローラー等の搬送手段により行なわれ、一サイクル終了後パネルは通常積層して保存される。ところが、上記のような、塗布によって形成された保護層を有する放射線像変換パネルを、このように繰返し使用していると、例えば保護層表面に汚れや擦り傷が発生する等の理由により、当該放射線像変換パネルが形成する放射線画像の画質が徐々に低下する傾向がある。【０００９】
放射線像変換パネルも従来の放射線写真法と同様に、高感度であってかつ画質（鮮鋭度、粒状性等）の良好な画像を与えるものであることが望まれるから、上記のような汚れや擦り傷の発生を防止することは重要な課題である。【００１０】
特許文献３には、架橋性フッ素系樹脂を含む樹脂組成物層を設けた保護層を輝尽性蛍光体層の表面に積層（ラミネート）して、防汚性、防傷性及び耐久性に優れる放射線像変換パネルを得る方法が開示されている。この方法は防汚性、防傷性はあるものの、薄膜化が困難であり、保護層に用いられるＰＥＴの延伸ムラ防止に表面に散乱層が必要である、厚膜のため鮮鋭性、コントラストが低下するといった問題がある。【００１１】
特許文献４には、支持体上に輝尽性蛍光体層を有する蛍光体シートと、該蛍光体シートの上下に配置され、該蛍光体シートの全表面を被覆するように設けられた保護フィルム（いわゆる封止フィルム）を有する放射線像変換パネルが開示されている。この方法は防汚性、防傷性はあるものの、生産性が悪いという問題がある。【００１２】
また、特許文献５には、輝尽性蛍光体層の上に、塗布主剤含有液と架橋剤含有液とを混合して調製した保護層塗布液を塗布、乾燥することにより得られる保護層を形成して放射線像変換パネルを製造する方法（塗布による保護層）が開示されている。この方法で作製した保護層は、一般に輝尽性蛍光体層との接着強度が強く、また比較的簡単な工程で製造できるという利点を持っているが、保護層を塗布によって形成する場合、塗布ムラや塗布欠陥を生じる場合があり、得られる放射線像変換パネルの画像上のムラの原因となり、微妙な診断を妨げる可能性があり、従来から低減させることが望まれていた。
【特許文献１】米国特許第３，８５９，５２７号明細書
【特許文献２】特開昭５５−１２１４４号公報
【特許文献３】特開２００１−１３２９８号公報
【特許文献４】特開２００２−１３１４９８号公報
【特許文献５】特開２００１−２１６９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、鮮鋭性、粒状性及びコントラストが向上し、傷の発生が防止され、かつ生産性が向上した放射線像変換パネル及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。【００１５】
１．支持体上に少なくとも輝尽性蛍光体層及び保護層を有する放射線像変換パネルにおいて、前記保護層が転写箔により前記輝尽性蛍光体層に接着されていることを特徴とする放射線像変換パネル。【００１６】
２．前記保護層が、膜厚が２〜１５μｍの樹脂層からなることを特徴とする前記１に記載の放射線像変換パネル。【００１７】
３．前記保護層が、少なくとも低屈折率層及び高屈折率層からなり、それらの屈折率の差が０．１〜０．７であり、かつ、前記低屈折率層が輝尽性蛍光体層側にあることを特徴とする前記１または２に記載の放射線像変換パネル。【００１８】
４．前記保護層が青色〜緑色に着色されていることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。【００１９】
５．前記保護層の膜厚の２／３以上が青色〜緑色に着色されていることを特徴とする前記４に記載の放射線像変換パネル。【００２０】
６．前記保護層の最表面層が、熱または光により硬化された樹脂層であることを特徴とする前記１〜５のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。【００２１】
７．前記保護層の最表面層の表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜１μｍであることを特徴とする前記１〜６のいずれか１項に記載の放射線像変換パネル。【００２２】
８．前記１〜７のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルの製造方法であって、該放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層の表面に、仮支持体上に樹脂層を有する転写箔を接着し、放射線像変換パネルとして使用する直前に仮支持体を剥離することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。【００２３】
９．前記１〜７のいずれか１項に記載の放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層の製造方法であって、該放射線像変換パネルの表面に、仮支持体上に樹脂層を有する転写箔を密着させ、該樹脂層の樹脂の軟化点以上の温度での加熱及び圧着の後、該転写箔の支持体を剥離することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、鮮鋭性、粒状性及びコントラストが向上し、傷の発生が防止され、かつ生産性が向上した放射線像変換パネル及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明者は鋭意検討の結果、支持体上に少なくとも輝尽性蛍光体層及び保護層を有する放射線像変換パネルにおいて、前記保護層が転写箔により前記輝尽性蛍光体層に接着されている放射線像変換パネルにより、鮮鋭性、粒状性及びコントラストが向上し、傷の発生が防止された放射線像変換パネルが得られることを見出した。【００２６】
以下、本発明について詳細に説明する。【００２７】
〔輝尽性蛍光体層〕
本発明に係る輝尽性蛍光体層について説明する。【００２８】
輝尽性蛍光体層は、輝尽性蛍光体粒子と必要に応じバインダ（結着樹脂ともいう）を含有している。輝尽性蛍光体とは、最初の光または高エネルギー放射線が照射された後に、光的、熱的、機械的、化学的または電気的等の刺激（輝尽励起）により、最初の光または高エネルギー放射線の照射量に対応した輝尽発光を示す蛍光体をいうが、実用的な面からは、光刺激（輝尽励起）により輝尽発光を示す蛍光体が好ましく、波長が５００ｎｍ〜１μｍの輝尽励起光によって輝尽発光を示す蛍光体が好ましい。【００２９】
（輝尽性蛍光体）
以下に本発明に用いられる輝尽性蛍光体の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。【００３０】
１．特開平２−５８５９３号に記載の一般式ａＢａＸ2・（１−ａ）ＢａＹ2：ｂＥｕ2+（式中、Ｘ、Ｙは、各々Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉの少なくとも１種を表し、Ｘ≠Ｙであり、ａ、ｂは、０＜ａ＜１、１０-5＜ｂ＜１０-1を満たす数を表す。）で表される輝尽性蛍光体。【００３１】
２．特開昭６１−７２０８７号に記載の一般式ＭIＸ・ａＭIIＸ′2・ｂＭIIIＸ″3：ｃＡ（但し、ＭIは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓの少なくとも１種のアルカリ金属を表し、ＭIIは、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｃｕ、Ｎｉの少なくとも１種の２価の金属を表し、ＭIIIは、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎの少なくとも１種の３価の金属を表し、Ｘ、Ｘ′、Ｘ″は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉの少なくとも１種のハロゲンを表し、Ａは、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒ、Ｇｄ、Ｌｕ、Ｓｍ、Ｙ、Ｔｌ、Ｎａ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｍｇの少なくとも１種の金属を表し、ａ、ｂ、ｃは、０≦ａ＜０．５、０≦ｂ＜０．５、０≦ｃ＜０．２を満たす数を表す。）で表されるアルカリハライド輝尽性蛍光体。【００３２】
３．特開昭５５−１２１４５号に記載の一般式（Ｂａ1-x（ＭI）x）ＦＸ：ｙＡ（但し、ＭIは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ、Ｃｄの少なくとも１種を表し、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉの少なくとも１種を表し、Ａは、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒの少なくとも１種を表し、ｘ、ｙは、０≦ｘ＜０．６、０≦ｙ＜０．２を満たす数を表す。）で表される輝尽性蛍光体。【００３３】
４．特開昭５５−１６００７８号に記載の一般式ＭIＦＸ・ｘＡ：ｙＬｎ（但し、ＭIは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｚｎ、Ｃｄの少なくとも１種を表し、ＡはＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ａｌ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＧｅＯ2、ＳｎＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＴｈＯ2の少なくとも１種を表し、Ｌｎは、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｙｂ、Ｅｒ、Ｓｍ、Ｇｄの少なくとも１種を表し、ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｉの少なくとも１種を表し、ｘ、ｙは、５×１０-5≦ｘ≦０．５、０＜ｙ≦０．２を満たす数を表す。）で表される輝尽性蛍光体。【００３４】
（バインダ）
本発明に用いられるバインダ（結合剤ともいう）について説明する。【００３５】
本発明に係る輝尽性蛍光体層に用いられるバインダの例としては、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等のポリサッカライド、またはアラビアゴムのような天然高分子物質；及び、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリアルキル（メタ）アクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステル等のような合成高分子物質等により代表されるバインダを挙げることができるが、バインダが熱可塑性エラストマーを主成分とする樹脂であることが好ましい。熱可塑性エラストマーとしては、例えば、ポリスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、ポリブタジェン系熱可塑性エラストマー、エチレン酢酸ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化ビニル系熱可塑性エラストマー、天然ゴム系熱可塑性エラストマー、フッ素ゴム系熱可塑性エラストマー、ポリイソプレン系熱可塑性エラストマー、塩素化ポリエチレン系熱可塑性エラストマー、スチレン−ブタジエンゴム及びシリコンゴム系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。これらのうち、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー及びポリエステル系熱可塑性エラストマーは、蛍光体との結合力が強いため分散性が良好であり、また延性にも富み、放射線増感スクリーンの対屈曲性が良好となるので好ましい。なお、これらのバインダは、架橋剤により架橋されたものでもよい。【００３６】
塗布液におけるバインダと輝尽性蛍光体との混合比は、目的とする放射線像変換パネルのヘイズ率の設定値によって異なるが、輝尽性蛍光体に対し１〜２０質量部が好ましく、さらには２〜１０質量部がより好ましい。【００３７】
輝尽性蛍光体層塗布液の調製に用いられる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等の低級アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等の低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル、ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル、トリオール、キシロール等の芳香族化合物、メチレンクロライド、エチレンクロライド等のハロゲン化炭化水素及びそれらの混合物等が挙げられる。【００３８】
なお、塗布液には、該塗布液中における蛍光体の分散性を向上させるための分散剤、また、形成後の輝尽性蛍光体層中におけるバインダと輝尽性蛍光体との間の結合力を向上させるための可塑剤等の種々の添加剤が混合されていてもよい。そのような目的に用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤等を挙げることができる。また、可塑剤の例としては、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニル等の燐酸エステル；フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチル等のフタル酸エステル；グリコール酸エチルフタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリルブチル等のグリコール酸エステル；脂肪酸；脂肪酸エステル；そして、トリエチレングリコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリコールとコハク酸とのポリエステル等のポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸とのポリエステル等を挙げることができる。また、輝尽性蛍光体層塗布液中に、輝尽性蛍光体粒子の分散性を向上させる目的で、ステアリン酸、フタル酸、カプロン酸、親油性界面活性剤等の分散剤を混合してもよい。【００３９】
輝尽性蛍光体層用塗布液の調製は、例えば、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、アトライター、三本ロールミル、高速インペラー分散機、Ｋａｄｙミル、あるいは超音波分散機等の分散装置を用いて行なわれる。【００４０】
上記のようにして調製された塗布液を、後述する支持体表面に均一に塗布することにより塗膜を形成する。用いることのできる塗布方法としては、通常の塗布手段、例えば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイフコーター、コンマコーター、リップコーター等を用いることができる。【００４１】
上記の手段により形成された塗膜を、その後加熱、乾燥して、支持体上への輝尽性蛍光体層の形成を完了する。輝尽性蛍光体層の膜厚は、目的とする放射線像変換パネルの特性、輝尽性蛍光体の種類、バインダと蛍光体との混合比等によって異なるが、１０〜１０００μｍが好ましく、さらに好ましくは、１０〜５００μｍである。【００４２】
〔支持体〕
本発明に係る放射線像変換パネルの支持体としては、例えば、ガラス、ウール、コットン、紙、金属等の種々の素材から作られたものが使用できるが、情報記録材料としての取り扱い上、可撓性のあるシートあるいはロールに加工できるものが好ましい。この点から、例えば、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスティックフィルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金箔等の金属シート、一般紙及び例えば写真用原紙、コート紙、もしくはアート紙のような印刷用原紙、バライタ紙、レジンコート紙、ベルギー特許第７８４，６１５号明細書に記載されているようなポリサッカライド等でサイジングされた紙、二酸化チタン等の顔料を含むピグメント紙、ポリビニールアルコールでサイジングした紙等の加工紙が特に好ましい。これら支持体の膜厚は、用いる支持体の材質等によって異なるが、一般的には８０〜１０００μｍであり、取り扱い上の観点から、さらに好ましくは８０〜５００μｍである。これらの支持体の表面は滑面でもよいし、下引き層との接着力を向上させる目的でマット面としてもよい。【００４３】
〔転写箔〕
本発明に係る転写箔は、仮支持体上に転写可能な樹脂層（保護層）を有している。【００４４】
本発明は、支持体上に少なくとも輝尽性蛍光体層及び保護層を有する放射線像変換パネルにおいて、前記保護層が転写箔により前記輝尽性蛍光体層に接着されていることが特徴である。【００４５】
（転写箔の層構成）
転写箔の層構成の例としては下記のような例が挙げられるが、本発明はこれに限定されない。【００４６】
（１）仮支持体−樹脂層                                                  １層型
（２）仮支持体−樹脂層−接着層                                          ２層型
（３）仮支持体−樹脂層（低屈折率層）−樹脂層（高屈折率層）−接着層      ３層型
（仮支持体）
転写箔の仮支持体（輝尽性蛍光体層の下に設けられた支持体とは別の支持体であり、放射線像変換パネルの使用時までに剥離、除去されるため仮支持体という）としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ナイロン、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド等の各樹脂フィルム、さらには上記樹脂を２層以上積層して成る樹脂フィルム等を挙げることができる。中でもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。仮支持体の厚みは通常５〜１００μｍ程度、好ましくは１０〜５０μｍである。【００４７】
（樹脂層ないし転写層）
〈樹脂〉
転写箔に用いる樹脂層（転写層）の樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体やスチレン−イソプイレン共重合体等のスチレン−ゴム共重合体樹脂；アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体等のエチレン系樹脂；ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の塩ビ系樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。これらの中でも、特にポリエステル系樹脂やフッ素樹脂が接着性や耐久性の点で好ましい。また、樹脂層は樹脂エマルジョンを塗工して形成してもよい。【００４８】
本発明においては、上記の樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が２０〜７０℃であり、かつ、その含有量が転写層全固形分の５０質量％以上あることが好ましい。これにより、装置内での放射線像変換パネルの搬送時における滑りが低減され、さらに輝尽性蛍光体層との接着性（密着性）が高くなる。【００４９】
〈溶媒〉
上記樹脂エマルジョンは、分散溶媒中に樹脂を微粒子分散物の状態で存在させるものであり、この様な状態とさせるためには、樹脂溶解性の乏しい分散溶媒を単独または２種以上を混合して用いることが好ましい。【００５０】
好ましく用いられる樹脂エマルジョンの分散溶媒としては、水またはメタノール、エタノール、直鎖もしくは分岐のプロパノール、ブタノール等のアルコール類が好ましい。これら以外にも、分散性を損ねない範囲で他の有機溶媒を混合して用いてもよい。【００５１】
本発明に用いられる転写箔の転写層の厚みは２〜１５μｍが好ましい。これより薄い場合は十分な耐久性が確保できず、これよりも厚い場合は転写箔を密着させて加熱及び圧着後、支持体を剥離する際に、十分な接着性が得られない場合がある。【００５２】
転写箔の転写層の転写後の耐久性を向上させる目的で、シリコーン化合物やワックス類、固形のモリブデン化合物、テフロン（登録商標）パウダー等の滑剤を添加してもよい。これら滑剤の添加量は通常、転写層の全固形分に対し０．１〜５０質量％、好ましくは１〜１０質量％である。【００５３】
〈着色剤〉
本発明に係る転写層（保護層）は、青色〜緑色に着色されていることが好ましく、さらに膜厚の２／３〜３／３が青色〜緑色に着色されていることが好ましい。すなわち、本発明の効果を好ましく得る観点から、本発明においては転写層に励起光吸収能を付与することが好ましく、従って、下記する様に転写層が吸収波長域５００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲において吸収する様に着色されていることが好ましい。そのためには、例えば、励起光を選択的に吸収する着色剤を含有する層を塗設すること等により励起光吸収機能を付与することができる。本発明においては励起光吸収機能を付与する手段としては、転写層自体を着色剤等により着色することが好ましい。吸収の程度は、後述する様に励起光波長における光透過率が５０〜９７％であることが好ましい。【００５４】
本発明に係る転写層に励起光吸収機能を付与するために用いられる着色剤としては、放射線像変換パネルに用いる輝尽性蛍光体の種類によって決まるが、放射線像変換パネル用の輝尽性蛍光体としては、通常、波長が４００〜９００ｎｍの範囲にある励起光によって３００〜５００ｎｍの波長範囲の輝尽発光を示す蛍光体が用いられるため、着色剤としては通常、青色〜緑色の有機系もしくは無機系の着色剤が好ましく用いられる。【００５５】
上記有機系着色剤としては、ザボンファーストブルー３Ｇ（ヘキスト社製）、エストロールブリルブルーＮ−３ＲＬ（住友化学（株）製）、スミアクリルブルーＦ−ＧＳＬ（住友化学（株）製）、Ｄ＆ＣブルーＮｏ１（ナショナル・アニリン社製）、スピリットブルー（保土谷化学（株）製）、オイルブルーＮｏ６０３（オリエント（株）製）、キトンブルーＡ（チバ・ガイギー社製）、アイゼンカチロンブルーＧＬＨ（保土谷化学（株）製）、レイクブルーＡ、Ｆ、Ｈ（協和産業（株）製）、ローダリンブルー６ＧＸ（協和産業（株）製）、ブリモシアニン６ＧＸ（稲畑産業（株）製）、ブリルアシッドグリーン６ＢＨ（保土谷化学（株）製）、シアニンブルーＢＮＲＳ（東洋インキ（株）製）、ライオノルブルーＳＬ（東洋インキ（株）製）が挙げられる。青色〜緑色の無機系着色剤の例としては、群青、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、ＴｉＯ2−ＺｎＯ−ＣｏＯ−ＮｉＯ系顔料、銅フタロシアニン系顔料が挙げられる。本発明においては着色剤としては染料より顔料が好ましい。【００５６】
〈低屈折率層及び高屈折率層〉
本発明においては、転写層は、少なくとも低屈折率層及び高屈折率層からなり、その屈折率の差が０．１〜０．７であり、かつ、放射線像変換パネルとなった時、前記低屈折率層が輝尽性蛍光体層側にあることが好ましい。【００５７】
〈低屈折率層〉
本発明に係る低屈折率層は、上記樹脂に加えて、シリカ系微粒子と下記シランカップリング剤を含んでもよい。【００５８】
具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−（β−グリシジルオキシエトキシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポシシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。【００５９】
また、珪素に対して２置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。【００６０】
これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して２置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。【００６１】
シランカップリング剤の具体例としては、信越化学工業株式会社製ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＥ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３等が挙げられる。【００６２】
２種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル（例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケイ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケイ酸ｓｅｃ−ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）及びその加水分解物が挙げられる。【００６３】
カップリング剤による表面処理の具体的方法は、下記に示す。【００６４】
これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、シリカ系微粒子及び有機基を有するシリカ系微粒子の表面が反応しやすく、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えてもよい。【００６５】
低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー（例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加してもよい。【００６６】
また、本発明に係る低屈折率層が、熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂（以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう）の低屈折率層あるいはその架橋された層であってもよい。【００６７】
上記架橋前の含フッ素樹脂としては、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることができる。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えば、ビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内に予め架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー（例えば、（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等）が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう１つ以上の反応性基を持つ化合物を加えることにより、架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号、同１０−１４７７３９号に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、若しくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤若しくはエポキシ基と熱酸発生剤等の相み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤若しくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光（好ましくは紫外線、電子ビーム等）の照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。【００６８】
また上記モノマーに加えて、含フッ素ビニルモノマー及び架橋性基付与のためのモノマー以外のモノマーを併用して形成された含フッ素共重合体を架橋前の含フッ素樹脂として用いてもよい。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。また、含フッ素共重合体中に、滑り性、防汚性付与のため、ポリオルガノシロキサン骨格や、パーフルオロポリエーテル骨格を導入することも好ましい。これは、例えば末端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと上記のモノマーとの重合、末端にラジカル発生基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルによる上記モノマーの重合、官能基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと、含フッ素共重合体との反応等によって得られる。【００６９】
架橋前の含フッ素樹脂を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合は、含フッ素ビニルモノマーが好ましくは２０〜７０モル％、より好ましくは４０〜７０モル％、架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは１〜２０モル％、より好ましくは５〜２０モル％、併用されるその他のモノマーが好ましくは１０〜７０モル％、より好ましくは１０〜５０モル％の割合である。【００７０】
架橋前の含フッ素樹脂は、これらモノマーをラジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合法等の手段により重合することにより得ることができる。【００７１】
架橋前の含フッ素樹脂は、市販されており使用することができる。市販されている架橋前の含フッ素樹脂の例としては、サイトップ（旭硝子製）、テフロン（登録商標）ＡＦ（デュポン製）、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン（旭硝子製）、オプスター（ＪＳＲ製）等が挙げられる。【００７２】
〈高屈折率層〉
本発明においては、反射率の低減のために、前記低屈折率層の上に、高屈折率層を設けることが好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．５０〜２．３０であることが好ましい。【００７３】
高屈折率層には、比較的屈折率が高いポリマーを用いることが好ましい。屈折率が高いポリマーの例としては、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及び環状（脂環式または芳香族）イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタンが挙げられる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高く用いることができる。【００７４】
本発明に係る高屈折率層は、上記樹脂に加えて、下記一般式（１）で表される有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物を含有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させた屈折率１．５５〜２．５の層を用いることもできる。【００７５】
一般式（１）  Ｔｉ（ＯＲ1）4
式中、Ｒ1としては炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基がよいが、好ましくは炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基である。また、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、アルコキシド基が加水分解を受けて−Ｔｉ−Ｏ−Ｔｉ−のように反応して架橋構造を作り、硬化した層を形成する。【００７６】
本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーとしては、Ｔｉ（ＯＣＨ3）4、Ｔｉ（ＯＣ2Ｈ5）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7）4の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4の２〜１０量体等が好ましい例として挙げられる。これらは単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。中でもＴｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｉ−Ｃ3Ｈ7）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ3Ｈ7）4の２〜１０量体、Ｔｉ（Ｏ−ｎ−Ｃ4Ｈ9）4の２〜１０量体が特に好ましい。【００７７】
本発明に用いられる高屈折率層は、金属酸化物粒子を含んでもよい。【００７８】
加水分解／重合した有機チタン化合物（上記有機チタン化合物の重合物またはその加水分解物）と金属酸化物粒子を組み合わせると、金属酸化物粒子と加水分解／重合した有機チタン化合物とが強固に接着し、粒子のもつ硬さと均一膜の柔軟性を兼ね備えた強い塗膜を得ることができる。【００７９】
高屈折率層に用いる金属酸化物粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０であることが好ましく、１．９０〜２．８０であることがさらに好ましい。金属酸化物粒子の１次粒子の重量平均径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１〜８０ｎｍであることが最も好ましい。層中での金属酸化物粒子の重量平均径は、１〜２００ｎｍであることが好ましく、５〜１５０ｎｍであることがより好ましく、１０〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。金属酸化物粒子の平均粒径は、２０〜３０ｎｍ以上であれば光散乱法により、２０〜３０ｎｍ以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。金属酸化物粒子の比表面積は、ＢＥＴ法で測定された値として、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ2／ｇであることが最も好ましい。【００８０】
金属酸化物粒子の例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物であり、具体的には二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化ジルコニウムが挙げられる。中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。金属酸化物粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳ等が挙げられる。【００８１】
金属酸化物粒子は表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することができる。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、前記シランカップリング剤が最も好ましい。【００８２】
２種類以上のカップリング剤を併用してもよく、前記シランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル（例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケイ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケイ酸ｓｅｃ−ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）及びその加水分解物が挙げられる。【００８３】
カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から６０℃までの温度で、数時間から１０日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸（例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸）、有機酸（例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸）、またはこれらの塩（例えば、金属塩、アンモニウム塩）を、分散物に添加してもよい。【００８４】
これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、前述の有機チタン化合物及び金属酸化物粒子の表面が反応しやすく、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えることも好ましい。この加水分解に用いた水も有機チタン化合物の加水分解／重合に用いることができる。【００８５】
本発明では２種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。金属酸化物粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状であることが好ましい。２種類以上の金属酸化物粒子を高屈折率層及び中屈折率層に併用してもよい。【００８６】
高屈折率層の金属酸化物粒子の割合は、該層において５〜６５体積％であることが好ましく、より好ましくは１０〜６０体積％であり、さらに好ましくは２０〜５５体積％である。【００８７】
上記金属酸化物粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。【００８８】
また金属酸化物粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。【００８９】
本発明に係る高屈折率層及び低屈折率層の塗設後、金属アルコキシドを含む組成物の加水分解または硬化を促進するため、活性エネルギー線を照射することが好ましい。より好ましくは、各層を塗設するごとに活性エネルギー線を照射することである。【００９０】
本発明に使用する活性エネルギー線は、紫外線、電子線、γ線等で、化合物を活性させるエネルギー源であれば制限なく使用できるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。紫外線反応性化合物を光重合させる紫外線の光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れも使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプまたはシンクロトロン放射光等も用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、さらに好ましくは、１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2であり、特に好ましくは、４００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2である。【００９１】
紫外線を用いる場合、多層の反射防止層を１層ずつ照射してもよいし、積層後照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。【００９２】
また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。【００９３】
また、本発明においては、上記した低屈折率層と高屈折率層の間に、中屈折率層を設けても良く、その成分、塗設方法等は、上記高屈折率層に準じて同様に設けることができる。【００９４】
〈熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂〉
本発明に係る放射線像変換パネルにおいて、保護層の最表面層が、熱または光により硬化された樹脂層であることも好ましい形態の一つである。【００９５】
好ましく用いることのできる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂系、メラミン樹脂系、エポキシ樹脂系、アクリル樹脂系、エポキシアクリレート樹脂系、不飽和ポリエステル樹脂系、ポリエステルアクリレート樹脂系、ウレタンアクリレート樹脂系、スピラン樹脂系、ジアリルフタレート樹脂系等が挙げられる。また無機系樹脂の例として、コロイダルシリカ、シリコーンモノマーを加水分解してから重合させるもの等が挙げられる。これらの中から選ばれた１種類以上の成分を混合して使用するが、必要に応じて各種硬化剤、カップリング剤等を適量添加して用いると効果的である。【００９６】
好ましく用いることのできる光硬化性樹脂としては、付加重合性または開環重合性を有する素材からなるものであり、付加重合成化合物とは、ラジカル重合性化合物、例えば特開平７−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号及び等の各号公報に記載されている光重合成（熱重合性も含む）組成物を用いた光硬化型材料であってもよい。付加重合成化合物とは、カチオン重合系の光硬化型材料が知られており、最近では可視光以上の長波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化材料も例えば、特開平６−４３６３３号公報等に公開されている。本発明の目的においてはどちらを用いても構わない。【００９７】
ラジカル重合開始剤としては、特公昭５９−１２８１号、特公昭６１−９６２１号、及び特開昭６０−６０１０４号等の各公報記載のトリジアン誘導体、特開昭５９−１５０４号及び特開昭６１−２４３８０７号等の各公報に記載の有機過酸化物、特公昭４３−２３６８４号、特公昭４４−６４１３号、特公昭４４−６４１３号及び特公昭４７−１６０４号等の各公報並びに米国特許第３，５６７，４５３号明細書に記載のジアゾニウム化合物、米国特許第２，８４８，３２８号、同第２，８５２，３７９号及び同２，９４０，８５３号明細書に記載の有機アジド化合物、特公昭３６−２２０６２号、特公昭３７−１３１０９号、特公昭３８−１８０１５号、特公昭４５−９６１０号等の各公報に記載のオルト−キノンジアジド類、特公昭５５−３９１６２号、特開昭５９−１４０２３号等の各公報及びマクロモレキュルス（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）、第１０巻、第１３０７頁（１９７７年）に記載の各種オニウム化合物、特開昭５９−１４２２０５号公報に記載のアゾ化合物、特開平１−５４４４０号公報、ヨーロッパ特許第１０９、８５１号、ヨーロッパ特許第１２６、７１２号等の各明細書、ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）、第３０巻、第１７４頁（１９８６年）に記載の金属アレン錯体、特開平５−２１３８６１号公報及び特開平５−２５５３４７号公報に記載の（オキソ）スルホニウム有機ホウ素錯体、特開昭６１−１５１１９７号公報に記載のチタノセン類、コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｒｅｖｉｅｗ）、第８４巻、第８５〜第２７７頁（１９８８年）及び特開平２−１８２７０１号公報に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平３−２０９４７７号公報に記載の２，４，５−トリアリールイミダゾール二重体、四臭化炭素や特開昭５９−１０７３４４号公報記載の有機ハロゲン化合物等が挙げられる。本発明において重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン不飽和結合を有する化合物１００質量部に対して０．５〜５質量部の範囲で含有されるのが好ましい。さらに好ましくは、１〜５質量％の範囲が好ましい。【００９８】
ラジカル重合性化合物を含有する感光性組成物には、ラジカル重合性モノマーの熱重合開始剤として、一般にラジカル重合による高分子合成反応に用いられる公知のラジカル重合開始剤を特に制限なく含有させることができる。ここで、熱重合開始剤とは、熱エネルギーを与えることにより重合性のラジカルを発生することが可能な化合物である。【００９９】
このような化合物としては、例えば、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビスプロピオニトリル等のアゾビスニトリル系化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化ラワロイル、過酸化アセチル、過安息酸ｔ−ブチル、α−クミルヒドロパ−オキサイド、ジ−ｔ−ブチルパ−オキサイド、ジイソプロピルパ−オキシジカーボネート、ｔ−ブチルパ−オキシイソプロピルカーボネート、過酸類、アルキルパーオキシカルバメート類、ニトロソアリールアシルアミン類等の有機過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩素酸カリウム等の無機過酸化物、ジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム、アゾビス置換アルカン類、ジアゾチオエーテル類、アリールアゾスルフォン類等のアゾまたはジアゾ系化合物、ニトロソフェニル尿素、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジアリキルキサントゲン酸ジスルフィド類、アリールスルフィン酸類、アリールアルキルスルフォン類、１−アルカンスルフィン酸類等を挙げることができる。これらの中で特に好ましいものは、常温での安定性に優れ、加熱時の分解速度が速く、かつ分解時に無色となる化合物であり、このようなものとしては、過酸化ベンゾイル、２，２′−アゾビスイソプチロニトリル等を挙げることができる。また、本発明では、これらの熱重合開始剤を１種または２種以上混合して用いることができる。さらに、熱重合開始剤は、熱重合性の組成物中通常０．５〜１０質量％が好ましく、１〜５質量％の範囲がより好ましい。【０１００】
カチオン重合により高分子化の起こるタイプ（主にエポキシタイプ）のエポキシタイプの紫外線硬化性プレポリマー、モノマーは、１分子内にエポキシ基を２個以上含有するプレポリマーを挙げることができる。このようなプレポリマーとしては、例えば、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物類及びエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらのプレポリマーは、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。前記紫外線硬化保護層形成用コーティング剤中の、エポキシ基を１分子内に２個以上有するプレポリマーの含有量は７０質量％以上であることが好ましい。カチオン重合性組成物中に含有されるカチオン重合性化合物としては、他に例えば下記の（１）スチレン誘導体、（２）ビニルナフタレン誘導体、（３）ビニルエーテル類及び（４）Ｎ−ビニル化合物類を挙げることができる。【０１０１】
本発明においてはラジカル重合系が好ましい。【０１０２】
〈転写層の光透過率〉
本発明に係る転写層（保護層）は、本発明に記載の効果、特に放射線像変換パネルの輝度を良好に保つ観点から、励起光波長における光透過率が５０〜９７％であることが好ましく、さらに好ましくは８０〜９０％である。ここで光透過率とは励起光吸収層を有する保護フィルムが励起光吸収層を持たない保護フィルムの光透過率を１００％に設定したとき、その光透過率の５０〜９７％となるように調整することを意味する。【０１０３】
〈転写層の表面粗さ〉
本発明に係る放射線像変換パネルにおいて、転写層（保護層）の最表面層の表面粗さは０．１〜１μｍであることが好ましい。本発明で表面粗さとはＪＩＳ−Ｂ−０６０１（２００１）により定義される表面粗さＲａ（平均表面粗さ）をいう。測定装置としては、例えば、触針法やレーザ干渉測長法といった周知の表面粗さ測定法で測定することができる。【０１０４】
この表面粗さを得るためには転写層に微粒子を含有させることが好ましい。このような微粒子としては、有機化合物ではメラミン、ＰＭＭＡ等の樹脂微粒子、無機化合物としては酸化チタン、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、カオリン、クレー、シリカ、タルク、雲母等が挙げられる。分散性の点からシリカが好ましく、特に吸油量（比表面積、嵩比重）が大きいものほど好ましい。転写箔の支持体の平滑性が高い場合は、これらの微粒子の添加量を調節して良好な面を得ることができる。添加量は微粒子の平均粒径が０．１μｍ〜１０μｍの場合、通常、転写層の全固形分に対し０．１〜４０質量％、好ましくは１〜３０質量％である。【０１０５】
また、この表面粗さを得るための別法としては、凹凸のある支持体を用いることである。凹凸のある支持体は市販されている。【０１０６】
（接着層）
本発明で転写層に熱接着性（ヒートシール性）のない樹脂を用いる場合には、熱接着性樹脂からなる接着層を用いることが好ましい。【０１０７】
前記熱接着性樹脂としては、例えば塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、尿素系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂、及びそれらの変性物等を挙げることができる。【０１０８】
上述した樹脂の中でも本発明の目的に好ましいのは、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ＳＥＢＳ樹脂、ＳＥＰＳ樹脂である。これらの樹脂は一種を単独に用いることもできるし、二種以上を組み合わせて用いることもできる。【０１０９】
（保護層の形成）
転写層は、支持体上に存在する輝尽性蛍光体層の面に対面接触させ、加熱及び圧着後、転写層を保持していた仮支持体を剥離することにより輝尽性蛍光体層の表面を保護するように転写される。加熱及び圧着の条件は、転写層の樹脂の軟化点以上の温度で加熱及び圧着することが好ましい。加熱する温度の上限は、軟化点＋１００℃が好ましい。【０１１０】
軟化点はＴＭＡ（熱機械分析）の針入測定やＤＳＣ（示差走査熱量測定）を用いての測定により得ることができる。具体的には、「プラスチック加工技術ハンドブック」（高分子学会編）、日刊工業新聞社発行、第1版、第１４３７頁に記載するＴＭＡを用いる方法により求めることができる。【０１１１】
転写層のみを輝尽性蛍光体層上に転写することにより保護層を形成することが普通であるが、本発明においては、放射線像変換パネルの使用時までの製造や輸送工程の搬送等による傷を防止するため、転写箔の仮支持体を剥離することなく保持し、使用直前に剥離することも好ましい形態の一つである。【０１１２】
保護層を形成するための加熱及び圧着手段には、密着性に優れ、気泡等が混入せずに加熱及び圧着処理できるものであれば特に制限なく用いることができ、加圧する場合でも保護層を形成することができるが、加熱及び圧着が好ましい。加圧するには、圧力ロールやスタンパー等を、加熱及び圧着処理する場合には、サーマルヘッド、ヒートロール、ホットスタンプ等を用いることができる。【０１１３】
圧力ロールを用いる場合の圧力は通常１〜２００Ｎ／ｃｍ2、好ましくは５〜１００Ｎ／ｃｍ2であり、また、搬送速度は通常０．１〜２００ｍｍ／秒、好ましくは０．５〜１００ｍｍ／秒であり、スタンパーを用いる場合の圧力としては通常０．５〜１００Ｎ／ｃｍ2、好ましくは５〜５０Ｎ／ｃｍ2、また、加圧時間は通常０．１〜５０秒、好ましくは０．５〜２０秒である。ヒートロールを用いる場合の加熱温度は通常６０〜２００℃、好ましくは１５０〜１９０℃の範囲であり、圧力は通常１〜２００Ｎ／ｃｍ2、好ましくは５〜１００Ｎ／ｃｍ2であり、また、搬送速度は通常０．１〜２００ｍｍ／秒、好ましくは０．５〜１００ｍｍ／秒である。【０１１４】
加圧または加熱及び圧着後に転写箔の支持体を引き剥がす方法としては、剥離板、剥離ロールによる剥離角度固定方法、手で転写箔と支持体上に存在する輝尽性蛍光体層を固定せずに引き剥がす手剥離方法等、輝尽性蛍光体層に影響を与えない限り、種々の剥離方法を用いることができる。
【実施例】
【０１１５】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、特に断りない限り、実施例中の「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を表す。【０１１６】
実施例
〔転写箔１の作製〕
膜厚２６μｍの表面が粗面化されたＰＥＴフィルム（ダイアホイルヘキスト社製：Ｅ−１８０）支持体上に、下記組成の転写層塗工液１をワイヤーバーで、乾燥後の厚みが２．０μｍになるように塗布、乾燥し、転写箔１を作製した。【０１１７】
〈転写層塗工液１〉
ポリエステル樹脂エマルジョン（高松油脂社製：ペスレジンＡ−５１５ＧＥ、固形分３０％、Ｔｇ６２℃）                                                    ２９３部
ポリエチレン樹脂エマルジョン（東邦化学社製：ハイテックＥ−１０００、固形分３５％）                                                                  ３０部
〔転写箔２〜６の作製〕
転写箔１の作製において、乾燥後の膜厚を表１に示すように代えた以外は同様にして転写箔２〜６を作製した。【０１１８】
〔転写箔７の作製〕
転写層を下記転写層１（放射線像変換パネルとしたとき最表面になる層）及び転写層２（低屈折率層）の２層構成とした。【０１１９】
（転写層１塗工液）
ポリエステル樹脂エマルジョン（高松油脂社製：ペスレジンＡ−５１５ＧＥ、固形分３０％、Ｔｇ６２℃）                                                    ２９３部
ポリエチレン樹脂エマルジョン（東邦化学社製：ハイテックＥ−１０００、固形分３５％）                                                                  ３０部
東邦化学社製：ハイテックＥ−１０００、固形分３５％                    ３０部
（転写層２塗工液）
フッ素樹脂（サイトップＣＴＸ１０７Ｍ）                    膜厚２μｍになる量
〔転写箔８、９の作製〕
転写箔７の作製において、転写層１の膜厚、転写層２の塗工液及び膜厚を表１に示すように代えた以外は同様にして転写箔８、９を作製した。ただし、転写層２の塗工液には青色顔料（ザボンファーストブルー３Ｇ、ヘキスト社製）を励起光透過率が９０％になるよう添加した。【０１２０】
〔転写箔１０の作製〕
転写箔１の作製において、転写層塗工液１に青色顔料（ザボンファーストブルー３Ｇ、ヘキスト社製）を励起光透過率が９０％になるよう添加し、膜厚を表１に示すように代えた以外は同様にして転写箔１０を作製した。【０１２１】
〔転写箔１１の作製〕
転写箔１の作製において、転写層塗工液１に硬化剤（ＣＡＴ−Ａ２、高松油脂社製）をペスレジンＡ−５１５ＧＥの５％添加し、膜厚を表１に示すように代えた以外は同様にして転写箔１１を作製した。【０１２２】
〔転写箔１２〜１５の作製〕
転写箔１の作製において、表１記載の表面粗さＲａを持つ仮支持体に代え、膜厚を表１に示すように代えた以外は同様にして転写箔１２〜１５を作製した。【０１２３】
〔転写箔１６の作製〕
転写箔７の作製において、転写層１の塗工液に青色顔料（ザボンファーストブルー３Ｇ、ヘキスト社製）を励起光透過率が９０％になるよう添加し、さらに硬化剤（ＣＡＴ−Ａ２、高松油脂社製）をペスレジンＡ−５１５ＧＥの５％添加し、転写層２の塗工液に青色顔料（ザボンファーストブルー３Ｇ、ヘキスト社製）を励起光透過率が９０％になるよう添加した以外は同様にして転写箔１６を作製した。【０１２４】
〔蛍光体シートの作製〕
ユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウムの輝尽性蛍光体前駆体を合成するために、ＢａＩ２水溶液（３．６ｍｏｌ／Ｌ）２７８０ｍｌとＥｕＩ3水溶液（０．２ｍｏｌ／Ｌ）２７ｍｌを反応器に入れた。この反応器中の反応母液を撹拌しながら８３℃で保温した。弗化アンモニウム水溶液（８ｍｏｌ／Ｌ）３２２ｍｌを反応母液中にローラーポンプを用いて注入し、沈澱物を生成させた。注入終了後も保温と撹拌を２時間続けて沈澱物の熟成を行なった。次に沈澱物をろ別後、エタノールにより洗浄した後真空乾燥させてユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウムの結晶を得た。焼成時の焼結により粒子形状の変化、粒子間融着による粒子サイズ分布の変化を防止するために、アルミナの超微粒子粉体を０．２質量％添加し、ミキサーで充分撹拌して、結晶表面にアルミナの超微粒子粉体を均一に付着させた。これを石英ボートに充填して、チューブ炉を用いて水素ガス雰囲気中、８５０℃で２時間焼成してユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウム蛍光体粒子を得た。次に上記蛍光体粒子を分級することにより平均粒径７μｍの粒子を得た。【０１２５】
蛍光体層形成材料として、上記で得たユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウム蛍光体４２７ｇ、ポリウレタン樹脂（住友バイエルウレタン社製、デスモラック４１２５）１５．８ｇ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂２．０ｇをメチルエチルケトン−トルエン（１：１）混合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散し、粘度２５〜３０Ｐａ・ｓの塗布液を調製した。この塗布液をドクターブレードを用いて厚さ１００μｍの黒色ＰＥＴ支持体上に塗布したのち、１００℃で１５分間乾燥させて、２７０μｍの厚さの蛍光体層を有する蛍光体シートを作製した。【０１２６】
〔転写箔の転写〕
上記作製した蛍光体シートの輝尽性蛍光体層と上記作製した転写箔の転写層を対面させ、周囲に厚み１ｍｍ、ゴム硬度６０の耐熱シリコンゴムを巻いた直径１４０ｍｍの金属性のヒートロールと、その対面に直径１４０ｍｍの金属ロールを備えた転写装置を用いて線圧６０Ｎ／ｃｍ、ヒートロール温度１７０℃、搬送速度２．５ｃｍ／秒で加熱、圧着処理を行った後、転写箔支持体を剥離することにより、転写箔１〜１６からそれぞれ放射線像変換パネル１〜１６を得た。【０１２７】
〔放射線像変換パネル１７の作製〕
転写箔を用いずに、９μｍのＰＥＴフィルムに２μｍの接着層を塗布し、上記作製した蛍光体シートをラミネートし、放射線像変換パネル１７を作製した。【０１２８】
【表１】
2007034661.tif 000002
【０１２９】
〔放射線像変換パネルの評価〕
得られた放射線像変換パネルについて、転写層の屈折率の測定、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１（２００１）に準じた表面粗さＲａの測定及び下記のような評価を行った。【０１３０】
（鮮鋭性の評価）
鮮鋭性については、Ｘ線源から１ｍの位置に胸部ファントームを装着し、Ｘ線源から１．７ｍの位置にＭＴＦチャートの投影像が入るように蛍光体プレート装着した状態で管電圧８０ｋＶｐのＸ線を照射した後、蛍光体プレートを６６０ｎｍの半導体レーザ光を走査して励起し、蛍光体層から放射される輝尽発光を、受光器（分光感度Ｓ−５の光電子像倍管）で受光して電気信号に変換し、これを画像再生装置によって画像として再生し、出力装置より１／１．７に縮小してプリントアウトし、得られたプリント画像を、目視にて以下に示す基準に則り鮮鋭性の評価を行った。【０１３１】
５：各部位の輪郭がはっきり確認できる
４：よく観察すると場所によってはやや輪郭がボケて見えるが、ほとんど気にならない程度である
３：輪郭がややぼけて見えるが、実用上許容できるレベル
２：輪郭がぼけて見え、実用上問題が発生するレベル
１：全体的に輪郭がボケていて、実用上問題が発生するレベル
（粒状性の評価）
上記プリント画像を、目視にて以下に示す基準に則り画像のザラツキ感の評価を行った。【０１３２】
５：粒状がほとんど認められず、極めて良好な粒状性である
４：若干の粒状が認められるものの、良好が画質である
３：やや粒状が認められる
２：粒状感があり、実用上問題となる品質である
１：明らかに粒状が目立ち、実用に耐えない
（コントラストの評価）
コントラストの評価は、作製した放射線像変換パネルに厚さ２ｍｍの鉛ディスクを写し込むように、管電圧８０ｋＶｐのＸ線を均一に照射した後、パネルを半導体レーザー光（６９０ｎｍ）で走査して励起し、蛍光体層から放射される輝尽発光を受光器（分光感度Ｓ−５の光電子像倍管）で受光してその画像を読みとることで行い、さらにその画像をレーザー書き込み式のフィルムプリンタを用いて出力し、その画像の鉛ディスク部とその周辺部に現れる白黒のコントラスト度を目視で下記にような５段階評価することで行なった。目視による５段階評価は下記を判断基準とし、評価３以下は実用上診断に適さないものとした。【０１３３】
５：鉛ディスク周縁部及び白黒の明度差が明瞭に確認される
４：鉛ディスク周縁部がわずかにぼやけるものの、白黒の明度差はほぼ明瞭に確認される
３：鉛ディスク周縁部がぼやけて見え、白黒の明度差がやや明瞭でない
２：鉛ディスク周縁部及び白黒の明度差が明瞭でなく、鉛ディスクサイズを再現していない
１：鉛ディスク形状及び白黒の明度差が不明瞭であり、中心部の白色度も低い
（耐傷性の評価）
試料を水平な机上に固定し、サンドペーパー（＃１５００番）を対面させ、その上に２０ｇ／ｃｍ2の荷重をかけ、サンドペーパーを１０ｃｍ／秒の速度で水平に移動した後の試料表面の傷を観察し、４段階評価した。【０１３４】
５：透過に達する傷は見られず
４：ピンホール状（点状）の透過傷のみ
３：２〜３本の線状の透過傷あり
３：４〜７本の線状の透過傷あり
１：傷が多数あり
以上の測定及び評価の結果を表２に示す。【０１３５】
【表２】
2007034661.tif 000003
【０１３６】
表２から本発明の放射線像変換パネルは比較例に比べ、鮮鋭性、粒状性及びコントラストが向上し、傷が防止された放射線像変換パネルであることが分かる。
【国際調査報告】
2007034661.tif 000004
2007034661.tif 000005
2007034661.tif 000006
2007034661.tif 000007
2007034661.tif 000008
2007034661.tif 000009