【手続補正書】
【提出日】平成31年2月8日(2019.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部を排気減圧される真空容器と、
前記真空容器内に設けられ、開口部を有し、内部にプロセスガスが導入されるチャンバーと、
前記開口部の外縁である開口端に隙間を介して対向する搬送部と、
前記搬送部によって搬送され、前記チャンバーの前記開口部に面する位置を通過する際に前記プロセスガスを用いた真空処理が行われるワークを保持する保持部と、
前記保持部が前記隙間を通過する際に生じる、前記隙間から前記チャンバーの外部へ排出される前記プロセスガスの排気速度の変化に応じて、前記チャンバーの外部へ排出される前記プロセスガスの排気速度を調整する排気速度調整部と、を備えることを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】
前記排気速度調整部は、
前記チャンバーに設けられた排気孔と、
前記搬送部に設けられ、前記保持部が前記隙間を通過するのに伴って、前記排気孔を覆う位置を通過する板状部材と、を備え、
前記板状部材は、前記保持部が前記隙間を通過する際に前記隙間の面積を変化させるのに応じて、前記排気孔の開口面積を変化させることを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
【請求項３】
前記板状部材は、前記保持部の搬送方向に沿って面積が変化する部材であり、前記保持部が前記隙間を通過する間に、前記隙間の面積の増加に応じて前記排気孔を覆う面積を増加させ、前記隙間の面積の減少に応じて前記排気孔を覆う面積を減少させることを特徴とする請求項２記載の真空処理装置。
【請求項４】
前記搬送部は、前記真空容器の内部に配置され、前記ワークを保持して回転駆動される回転テーブルであり、
前記チャンバーは、前記回転テーブルに面して配置され、
前記排気孔は、前記チャンバーにおける前記回転テーブルの外縁に面する位置に設けられ、
前記板状部材は、前記回転テーブルの外縁から垂直方向に立設する部材であることを特徴とする請求項２又は３記載の真空処理装置。
【請求項５】
前記搬送部は、前記真空容器の内部に配置され、前記ワークを保持して回転駆動される回転テーブルであり、
前記チャンバーは、前記回転テーブルに面して配置され、かつ前記回転テーブルの外縁から外方にはみ出した部分を有しており、
前記排気孔は、前記チャンバーにおける前記回転テーブルの外縁から外方にはみ出した部分の底面に設けられ、
前記板状部材は、前記回転テーブルの外縁から半径方向外方に突出して設けられる部材であることを特徴とする請求項２又は３記載の真空処理装置。
【請求項６】
前記板状部材は、複数の板又はロッドの集合体であり、各板又は各ロッドは長さが可変であることを特徴とする請求項２〜５のいずれか一項に記載の真空処理装置。
【請求項７】
前記排気速度調整部は、前記保持部の搬送方向に沿って前記保持部に連続して設けられ、前記保持部と相似形状であり同じ大きさを有する部材であることを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
【請求項８】
前記排気速度調整部は、前記搬送部の搬送面上において、前記搬送方向と直交する方向に前記保持部に隣接して設けられる凹部または凸部であり、
前記凹部また凸部は、前記保持部が前記隙間を通過する際に前記隙間の面積が増加、または減少する分だけ、前記隙間の面積を減少、または、増加させるような大きさを有することを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
【請求項９】
内部を排気減圧される真空容器と、
前記真空容器内に設けられ、プロセスガスが導入される複数の処理ユニットと、
前記複数の処理ユニットの間に設けられた隔壁と、
前記隔壁の端部に隙間を介して対向する搬送部と、
前記搬送部によって搬送され、前記処理ユニットが位置する空間を通過する際に前記プロセスガスを用いた真空処理が行われるワークを保持する保持部と、
前記保持部が前記隙間を通過する際に生じる、前記隙間から前記チャンバーの外部へ排出される前記プロセスガスの排気速度の変化に応じて、前記チャンバーの外部へ排出される前記プロセスガスの排気速度を調整する排気速度調整部と、を備えることを特徴とする真空処理装置。
【請求項１０】
真空容器の内部を排気減圧し、
前記真空容器の内部に設けられた、開口部を有するチャンバーの内部にプロセスガスを導入し、
前記チャンバーの開口部に隙間を介して対向する搬送部によって、ワークを保持する保持部を搬送して前記開口部に面する位置を通過させ、前記ワークに前記プロセスガスを用いた真空処理を行う真空処理方法であって、
前記保持部が前記隙間を通過する際に、前記隙間の面積が変化して当該隙間から前記チャンバーの外部へ排出されるプロセスガスの排気速度が変化するのに応じて、前記隙間から前記チャンバーの外部へ排出されるプロセスガスの排気速度を調整することを特徴とする真空処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
このような真空処理を連続して行えるように、真空処理装置として、一つの真空容器の内部に回転テーブルを配置し、回転テーブルの上方の周方向に、処理ユニットを複数配置した構成のものがある。（例えば、特許文献１及び２参照）。ワークを回転テーブル上に保持して搬送し、各処理ユニットの直下を通過させることで、真空処理を行うことができる。成膜と膜処理とでは使用するプロセスガスが異なるため、いずれかの処理を行うユニットには、全体の真空容器とは別個の排気可能なチャンバーを設け、そのチャンバーの内部にプロセスガスを導入して処理を行う。この場合はチャンバーの底面に開口部を設け、この開口部の直下にワークを通過させることで、真空処理を行うことができる。ワークは保持部に保持されて回転テーブルにより搬送される。保持部は、例えば、回転テーブルに設けた凹部であったり、回転テーブル上に設置したホルダであったりする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の目的を達成するために、本発明の真空処理装置は、内部を排気減圧される真空容器と、前記真空容器内に設けられ、開口部を有し、内部にプロセスガスが導入されるチャンバーと、前記開口部の外縁である開口端に隙間を介して対向する搬送部と、前記搬送部によって搬送され、前記チャンバーの前記開口部に面する位置を通過する際に前記プロセスガスを用いた真空処理が行われるワークを保持する保持部と、前記保持部が前記隙間を通過する際に生じる、前記隙間から前記チャンバーの外部へ排出される前記プロセスガスの排気速度の変化に応じて、前記チャンバーの外部へ排出される前記プロセスガスの排気速度を調整する排気速度調整部と、を備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明の真空処理方法は、真空容器の内部を排気減圧し、前記真空容器の内部に設けられた、開口部を有するチャンバーの内部にプロセスガスを導入し、前記チャンバーの開口部に隙間を介して対向する搬送部によって、ワークを保持する保持部を搬送して前記開口部に面する位置を通過させ、前記ワークに前記プロセスガスを用いた真空処理を行う真空処理方法であって、前記保持部が前記隙間を通過する際に、前記隙間の面積が変化して当該隙間から前記チャンバーの外部へ排出されるプロセスガスの排気速度が変化するのに応じて、前記隙間から前記チャンバーの外部へ排出されるプロセスガスの排気速度を調整する。