(57)【要約】  本発明は、光透過型基材の上に形成された低屈折率層における防汚染性と滑り性とを兼ね備えた光学積層体を開示する。本発明は、光透過性基材の上に、ハードコート層と低屈折率層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、前記低屈折率層が、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤を含んでなり、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤が、前記ハードコート層から前記低屈折率層の表面までに濃度勾配もって添加されてなるものである。【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材の上に、ハードコート層と低屈折率層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、
前記低屈折率層の屈折率が１．５以下であり、
前記低屈折率層が、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤を含んでなり、
前記防汚染剤及び／又は滑り性付与剤の添加料が、前記ハードコート層の表面から前記低屈折率層の表面に向けて増加するように添加されてなる、光学積層体。
【請求項２】
前記防汚染剤及び／又は滑り性付与剤が、ケイ素系化合物、フッ素系化合物またはこれらの混合物である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記ケイ素系化合物が、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）：
【化１】
2007119566.tif 000006
（上記式中、
Ｒは、メチル基、フッ素原子、アクリル基、メタクリル基、水酸基、カルボキシル基、ポリエーテル基、又はエポキシ基であり、
Ｒ１はアルキル基であり、
Ｘは０〜１２００であり、
Ｙは０〜１２００である。）
で表されるものである、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記フッ素系化合物が、下記一般式：
（Ａ）ｗ−（Ｂ）ｘ−（Ｄ）ｙ−ＣＦ３
（上記式中、
Ａは、ＣＦ２、ＣＦＣＦ２、Ｃ（ＣＦ２）２からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
Ｂは、ＯＣＦ２ＣＦ２、ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ２）２、
ＯＣＦ（ＣＦ２）ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣＦ（ＣＦ２）Ｃ（ＣＦ２）２、
ＯＣ（ＣＦ２）２ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣ（ＣＦ２）２Ｃ（ＣＦ２）２からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
Ｄは、ＯＣＨ２ＣＨ２、ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ２）ｚからなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
ｗ、ｘ、ｙ、ｚは０超過５０以下の数を表す。）
で表されるものである、請求項２に記載の光学積層体。
【請求項５】
前記低屈折率層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率が１０％以上であり、及び／又は、フッ素原子の存在率が２０％以上である、請求項２に記載の光学積層体。
【請求項６】
前記低屈折率層及び／又は前記ハードコート層に、帯電防止剤または防眩剤が含まれてなる、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項７】
前記ハードコート層の下に、または低屈折率層とハードコート層との間に、帯電防止層をさらに備えてなる、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項８】
前記ハードコート層が、少なくとも１以上の官能基を有する９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するモノマー及び／又は少なくとも２以上の硫黄原子を含んでなるモノマーを含んでなる、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項９】
反射防止積層体として利用される、請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項１０】
偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光素子の表面に、請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学積層体を該光学積層体における低屈折率層が存在する面とは反対の面に備えてなる、偏光板。
【請求項１１】
透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、
前記画像表示体の表面に、請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学積層体、または請求項１０に記載の偏光板を備えてなる、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【関連出願】
【０００１】
本願は特願２００６−８８７４２（日本国）を基礎としたパリ条約の優先権主張を伴うものであり、本願はこの特許出願の内容を全て包含するものである。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、低屈折率層を少なくとも備えてなる光学積層体に関する。
【背景技術】
【０００３】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又は陰極線管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置における画像表示面は、外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが要求される。これに対して、光透過性基材に、反射防止層を形成させた光学積層体（例えば、反射防止積層体）を利用することにより、画像表示装置の画像表示面の反射を低減させ視認性を向上させることが一般になされている。【０００４】
また、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、有機又は無機のエレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）または液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の反射または像の写り込みによるコントラストの低下、視認性の低下を防止することが要求される。このため、光の散乱原理または光学干渉の原理を用いて像の写り込みまたは反射率を低減する目的で画像表示装置の最表面に、反射防止積層体が設けられることが一般的である。 【０００５】
従来、光学積層体の最表面は、様々な使用環境に晒され、傷が付きやすく、また汚れが付着し易いことが指摘されている。これに対して、特開平１０−１０４４０３号では、画像表示面の耐擦傷性と汚染防止とを向上させるために、ハードコート層に防汚染剤を添加した光学積層体が提案されている。【０００６】
しかしながら、本発明者らが確認したところ、光透過型基材の上に形成された低屈折率層における防汚染性と滑り性とを兼ね備えた光学積層体は未だ提案されていない。【０００７】
本発明者等は、本発明時において、低屈折率層に、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤を包含させてなり、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤が、前記ハードコート層から前記低屈折率層の表面までに濃度勾配もって添加されてなることにより、防汚染性と滑り性とを兼ね備えた低屈折率層を形成することができるとの知見を得た。よって、本発明は低屈折率層に対して防汚染性と滑り性とを付与した光学積層体の提供を目的とするものである。【０００８】
従って、本発明は、光透過性基材の上に、ハードコート層と低屈折率層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、
前記低屈折率層の屈折率が１．４５以下であり、
前記低屈折率層が、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤を含んでなり、
前記防汚染剤及び／又は滑り性付与剤が、前記ハードコート層の表面から前記低屈折率層の表面に向けて増加するように添加されてなるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
Ｉ．光学積層体
低屈折率層
濃度勾配
本発明による光学積層体は、低屈折率層が、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤を含んでなり、かつ、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤の添加量が、ハードコート層の表面から低屈折率層の表面に向けて増加するように添加されるものである。つまり、本発明にあっては、ハードコート層から前記低屈折率層の表面までに濃度勾配もって添加されてなるものである。【００１０】
本発明の好ましい態様によれば、濃度勾配は、低屈折率層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤中の構成原子（例えば、ケイ素原子及び／又はフッ素原子）の存在率が特定の数値とされてなることによって説明することが可能である。「ＸＰＳ解析」とは、Ｘ線光電子分光により試料表面の存在元素・組成を分析する方法である。ＸＰＳ解析は、例えば、Thermo Electron社製（VG  Theta Probe）のＸＰＳ（Ｘ線光電子分光測定）装置を使用し、Ｘ線源はMonochromated Al Kα、Ｘ線出力は１００Ｗ、測定領域は４００μｍφ、レンズはAngle Resolved、測定角度４段階（３１°、４６°、６１°、７６°）の条件にて行うことができる。【００１１】
例えば、ＸＰＳ解析において、測定角度が９０°の場合が、ＸＰＳ装置が光学積層体の最表面に対して直角であることを表し、測定角度が低いものほど、最表面近傍における存在元素の割合を測定することが可能となる。従って、測定角度Ｘ°における防汚染剤及び／又は滑り性付与剤中のケイ素原子及び／又はフッ素原子の存在率がＡ％であり、測定角度Ｙ°における防汚染剤及び／又は滑り性付与剤中のケイ素原子及び／又はフッ素原子の存在率がＢ％であると測定される。この測定結果から、測定角度Ｘ°＜測定角度Ｙ°、存在率Ａ％＞存在率Ｂ％であるとされた場合、Ｘ＜Ｙの場合、ハードコート層から低屈折率層の表面までに防汚染剤及び／又は滑り性付与剤の添加量に「濃度勾配」が存在することが理解される。【００１２】
本発明にあっては、低屈折率層の最表面をＸＰＳ解析した場合に、ケイ素原子の存在率が１０％以上、好ましくは２０％以上であり、フッ素原子の存在率が２０％以上、好ましくは３０％以上で存在してなるものである。【００１３】
防汚染剤及び／又は滑り性付与剤
防汚染剤及び／又は滑り性付与剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、さらに光学積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤及び／又は滑り性付与剤の具体例としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、またはこれらの混合化合物が挙げられる。また、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤はそれ自体が反応基を有するか否かは問わない。【００１４】
本発明にあっては、ケイ素系化合物は、その化合物の末端または側鎖が、変性されたものが好ましくは挙げられる。そのようなケイ素系化合物としては、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）：
【化１】
2007119566.tif 000002
（上記式中、
Ｒは、疎水基として、メチル基、フッ素原子、アクリル基、又はメタクリル基であり、親水基として、水酸基、カルボキシル基、ポリエーテル基、又はエポキシ基であり、或いはこれらの混合基であってよく、
Ｒ１はアルキル基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基であり、
Ｘは０〜１２００であり、
Ｙは０〜１２００である。）
で表されるものが挙げられる。【００１５】
フッ素系化合物の具体例としては、一般式：
（Ａ）ｗ−（Ｂ）ｘ−（Ｄ）ｙ−ＣＦ３
（上記式中、
Ａは、ＣＦ２、ＣＦＣＦ２、Ｃ（ＣＦ２）２からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
Ｂは、ＯＣＦ２ＣＦ２、ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ２）２、
ＯＣＦ（ＣＦ２）ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣＦ（ＣＦ２）Ｃ（ＣＦ２）２、
ＯＣ（ＣＦ２）２ＣＦ（ＣＦ２）、ＯＣ（ＣＦ２）２Ｃ（ＣＦ２）２からなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
Ｄは、ＯＣＨ２ＣＨ２、ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ＯＣ（Ｏ）（ＣＨ２）ｚからなる群から選択される一種または二種以上の基を表し、
ｗ、ｘ、ｙ、ｚは０超過５０以下の数を表す。）
で表されるものが挙げられる。【００１６】
防汚染剤及び／又は滑り性付与剤は市販品として入手可能であり、好ましくはそれが利用される。（電離放射線により）反応基を有しないもの具体例としては、大日本インキ社製のメガファックシリーズ、例えば、ＭＣＦ３５０−５、Ｆ４４５、Ｆ４５５、Ｆ１７８、Ｆ４７０、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４７７、ＴＦ１０２５、Ｆ４７８、Ｆ１７８Ｋ等が挙げられ；ＧＥ東芝シリコーン社製のＴＳＦシリーズ等が挙げられ；信越化学社製のＸ２２シリーズ、ＫＦシリーズ等が挙げられ；チッソ社製のサイラプレーンシリーズ等が挙げられる。【００１７】
例えば、信越化学社製のX22-3710、X22-162C、X22-3701E、X22160AS、X22170DX 、X224015、X22176DX、X22-176F 、KF8001、X22-2000等；チッソ社製のFM4421、FM0425、FMDA26、FS1265等；東レダウコーニング社製のBY16-750、BY16880、BY16848、SF8427、SF8421、SH3746、SH8400、SF3771、SH3749、SH3748、SH8410等；ＧＥ東芝シリコーン社製のTSF4460、TSF4440、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4453、TSF4452、TSF4730、TSF4770、FGF502等が挙げられる。【００１８】
（電離放射線により）反応基を有するものの具体例としては、ＳＵＡ１９００Ｌ１０（重量平均分子量４２００；新中村化学社製）、ＳＵＡ１９００Ｌ６（重量平均分子量２４７０；新中村化学社製）、Ebecryl１３６０（ダイセルユーシービー社製）、ＵＴ３９７１（日本合成社製）、デイフェンサＴＦ３００１（大日本インキ社製）、デイフェンサＴＦ３０００（大日本インキ社製）、デイフェンサＴＦ３０２８（大日本インキ社製）、ＫＲＭ７０３９（ダイセルユーシービー社製）、ライトプロコートＡＦＣ３０００（共栄社化学社製）、ＫＮＳ５３００（信越シリコーン社製）、ＵＶＨＣ１１０５（ＧＥ東芝シリコーン社製）、ＵＶＨＣ８５５０（ＧＥ東芝シリコーン社製）、Ebecryl３５０（ダイセルユーシービー社製）、ＡＣＳ-１１２２（日本ペイント社製）が挙げられる。【００１９】
例えば、信越化学社製のX22-163A、X22-173DX、X22-163C、KF101、X22164A、X24 -8201 、X22174DX、X22164C、X222426、X222445、X222457、X222459、X22245、X221602、X221603、X22164E、TM0701等；チッソ社製の、FM0725 、FM0721、FM7725、FM7721、FM7726、FM7727等；東レダウコーニング社製のSF8411、SF8413、BY16-152D、BY16-152、BY16-152C、8388A等、その他、ＵＴ４３１５（日本合成社製）等が挙げられる。【００２０】
防汚染剤及び／又は滑り性付与剤が、有機化合物の場合、その数平均分子量は限定されないが、５００以上１０万以下であり、好ましくは下限が７５０以上であり、より好ましくは１０００以上であり、好ましくは上限が７万以下であり、より好ましくは５万以下である。【００２１】
本発明の好ましい態様によれば、防汚染剤及び／又は滑り性付与剤は、ポリオルガノシロキサン基、ポリオルガノシロキサン含有グラフトポリマー、ポリオルガノシロキサン含有ブロックポリマー、フッ素化アルキル基などを含有する２官能以上の多官能アクリレートを含んでなるものが好ましい。多官能アクリレートとしては、例えば、２官能アクリレートとして、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１、３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１、９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１、１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸エトキシ変性ジ（メタ）アクリレート（イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート）、２官能ウレタンアクリレート、２官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。３官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化グリセリルトリ（メタ）アクリレート、３官能ポリエステルアクリレート等が挙げられる。４官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。５官能以上のアクリレートとしては、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。【００２２】
防汚染剤及び／又は滑り性付与剤の添加量は、低屈折率層を形成する組成物の全重量に対して０．０００１重量％以上１０重量％以下（好ましくは０．５重量％以下）であり、好ましくは下限が０．００１重量％以上であり、より好ましくは０．００５重量％以上であり、好ましくは上限が７重量％以下（好ましくは０．２５重量％以下）であり、より好ましくは５重量％以下（好ましくは０．１重量％以下）である。【００２３】
低屈折率剤
低屈折率剤は、その屈折率が１．５以下であり、好ましくは１．４５以下のものが好ましい。低屈折率剤は、無機系又は有機系のいずれのものであってもよい。【００２４】
本発明における好ましい低屈折率層にあっては、外部からの光（例えば蛍光塔、自然光等）が光学積層体の表面にて反射する際、その反射率を低くするという役割を果たす。低屈折率剤としては、好ましくは１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する材料、２）低屈折率樹脂であるフッ素系材料、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系材料、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれか構成される。フッ素系材料以外の材料については、ハードコート層を構成する材料と同様の材料を用いることができる。低屈折率層は低屈折率剤と樹脂とにより形成されてよい。これらの低屈折率層は、その屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下であることが好ましい。【００２５】
無機系低屈折率剤
低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムが挙げられ、好ましくは空隙を有する微粒子が挙げられる。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。【００２６】
空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。【００２７】
塗膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。【００２８】
「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。【００２９】
有機系低屈折率剤
低屈折率剤として、低屈折率樹脂を用いてもよく、例えば、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体が挙げられる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンと、ヘキサフルオロプロピレンとを含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が６０〜７０％であるフッ素含有共重合体１００部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０部とからなるものである。【００３０】
シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、モノマー組成物における各成分の割合が、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、好ましくは４０〜８０％、特に好ましくは４０〜７０％であり、又ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％、好ましくは１０〜５０％、特に好ましくは１５〜４５％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０％、好ましくは０〜３５％、特に好ましくは１０〜３０％含有するものであってもよい。【００３１】
シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、他の共重合体成分が、例えば、２０％以下、好ましくは１０％以下の範囲で含有されたものであってもよく、このような、ほかの共重合成分の具体例として、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモ−３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを例示することができる。【００３２】
以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体は、そのフッ素含有割合が６０〜７０％であることが必要であり、好ましいフッ素含有割合は６２〜７０％、特に好ましくは６４〜６８％である。フッ素含有割合が、このような特定の範囲であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有し、かつ、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、種々の基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に十分に優れた機械的強度を有する薄膜を形成するので、薄膜の形成された表面の耐傷性等の機械的特性を十分に高いものとすることができ、極めて好適である。【００３３】
このフッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５，０００〜２００，０００、特に１０，０００〜１００，０００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。フッ素含有共重合体は、それ自体の屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下、更に１．４０以下であるものが好ましい。【００３４】
その他の低屈折率剤
本発明において、低屈折率剤の好ましいものとしては、シリカ、フッ化マグネシウムなどの低屈折率無機超微粒子（多孔質、中空など全ての種類の微粒子）、及び低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂が挙げられる。フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物は、特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたないものである。【００３５】
電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ‐２，２‐ジメチル‐１，３‐ジオキソールなど）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとして、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物などもある。【００３６】
熱硬化性極性基として好ましいのは、例えば水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカなどの無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合成化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを挙げることができる。【００３７】
電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。【００３８】
また、含フッ素重合体の具体例としては、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体等が挙げられる。【００３９】
これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も使うことができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。【００４０】
さらには、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。【００４１】
さらにまた、上記したフッ素原子を持つ重合成化合物や重合体とともに、防眩層に記載したような各樹脂成分を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。【００４２】
樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。【００４３】
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。【００４４】
光重合開始剤 
本発明における電離放射線硬化性樹脂組成物に添加する光重合開始剤の好ましいものとしては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、αーアミロキシムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン類などが適用できる。また、必要に応じて、光増感剤、光重合促進剤を添加する。該光増感剤、光重合促進剤としては、公知の光増感剤でよく、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン系化合物；アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物；ベンジル；ジアセチル；アセトフェノン、ベンゾフェノン等のフェニルケトン化合物；ジフェニルジスルフィド、テトラメチルチウラムスルフィド等のスルフィド化合物；α−クロルメチルナフタリン；アントラセンおよびヘキサクロロブタジエン、ペンタクロロブタジエン等のハロゲン化炭化水素、チオキサントン、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーｎーブチルホスフィンなどがある。具体的には、アセトフェノン系光重合開始剤に対し、ベンゾフェノンまたはチオキサントン光増感剤を用いることが好ましい。【００４５】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
また、電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤を添加することができる。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。【００４６】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。【００４７】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラニン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。【００４８】
重合開始剤
低屈折率層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その化合物は市場入手可能であり、例えば商品名イルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、DAROCUR  TPO（チバスペシャリティーケミカルズ社製）が挙げられる。また、本発明にあっては、重合促進剤としては、例えばＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ（ＬＡＭＢＳＯＮ Ｆｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製）などが挙げられる。【００４９】
溶剤
低屈折率層を形成するには、上記成分に溶剤を混合した組成物を利用することができる。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール、ブタノール、プロパノール、ＰＧＭＥ等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、ＰＧＭＥＡ等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、アルコール類、ケトン類、エステル類が挙げられる。【００５０】
ハードコート層
本発明にあっては、光透過性基材と低屈折率層との間にハードコート層を形成してものが好ましい。「ハードコート層」とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９年）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。ハードコート層は樹脂と任意成分とにより形成されてなる。【００５１】
樹脂
樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。本発明にあっては、硬度を調節するために、１ｎｍ〜５００ｎｍくらいの無機超微粒子（表面有機処理したアルミナなどの金属酸化物粒子やコロイダルシリカなど）、有機超微粒子を添加してもよい。【００５２】
電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられる。【００５３】
本発明の別の態様によれば、電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、（メタ）アクリレート系の官能基を有するもの、またはウレタン（メタ）アクリレート系の官能基を有するもの、あるいは（メタ）アクリレート系の官能基を有するものとウレタン（メタ）アクリレート系の官能基を有するものとの混合物があげられる。【００５４】
（メタ）アクリレート系の官能基を有するものとしては、例えば、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１、３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１、９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１、１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、イソシアヌル酸エトキシ変性ジ（メタ）アクリレート（イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化グリセリルトリ（メタ）アクリレート、３官能ポリエステルアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。【００５５】
ウレタン（メタ）アクリレート系の官能基を有するものとしては、市販品でよく、例えば、日本合成社製の紫光シリーズ、例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ等が挙げられ；根上工業社製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＵＮ９０００Ｈ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵ 、Ｎ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３等が挙げられ；新中村化学社製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ４ＨＡ、Ｕ６Ｈ、Ｕ６ＨＡ、Ｕ１５ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩ等が挙げられ；ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、例えば、１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、 ４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０等が挙げられ；荒川化学社製のビームセットシリーズ、例えば、３７１、５７７等が挙げられ；三菱レーヨン社製のＲＱシリーズ。大日本インキ社製のユニディックシリーズ等が挙げられ；ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、ＣＮ９００６（サーマー社製）、ＣＮ９６８等が挙げられる。この中でも、好ましくは、ＵＶ１７００Ｂ（日本合成社製）、ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、アートレジンＨＤＰ（根上工業社製）、ビームセット３７１（荒川化学社製）、ビームセット５７７（荒川化学社製）Ｕ１５ＨＡ（新中村化学社製）等が挙げられる。【００５６】
電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。開始剤としては、低屈折率層で記載したものと同様のものが使用できる。【００５７】
電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、ハードコート層の割れ、カール防止のための適度な柔軟性を付与し、又は、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、透明基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。【００５８】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。【００５９】
好ましい樹脂
本発明にあっては、ハードコート層は、少なくとも１以上の官能基を有する９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するモノマー及び／又は少なくとも２以上の硫黄原子を含んでなるモノマーを含んでなるか、これらにより形成されてなるものが好ましい。【００６０】
本発明の好ましい態様にあっては、ハードコート層は、屈折率の高い樹脂を含んでもよい。屈折率の高い樹脂としては、少なくとも１以上の官能基を有する９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有する、少なくとも２以上の硫黄原子を含んでなるモノマー、他にも、カルバゾール骨格を含むモノマーまたはオリゴマーまたはポリマー、少なくとも１以上の臭素原子を含んでなるモノマー、少なくとも１以上のフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基を含んでなるモノマーが好ましい。また、ハードコート層を高屈折率化するために、高屈折率超微粒子を含んでいても良い。高屈折率超微粒子の例としては、ＴｉＯ２、ＺｒＯ、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ２、ＩＴＯなどが挙げられる。これらの微粒子には、何らかの有機表面処理が施されていてもよい。【００６１】
フルオレン骨格を有するモノマー
少なくとも１以上の官能基を有する９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するモノマーは、下記一般式（Ｖ）において基本骨格として表される９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するものである。少なくとも１以上の官能基を有する９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するモノマーの具体例としては、下記化学式（Ｖ）：
【化２】
2007119566.tif 000003
で表されるものが挙げられる。【００６２】
少なくとも１以上の官能基を有する９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するモノマーは市販品を使用することができ、具体的には、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ、ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ―４Ｅ（新中村化学社製）、オンコートＥＸシリーズ（ＥＸ１０１０、ＥＸ１０１１，ＥＸ１０１２、ＥＸ１０２０、ＥＸ１０３０、ＥＸ１０４０、ＥＸ１０５０、ＥＸ１０５１、ＥＸ１０２０Ｍ８０、ＥＸ１０４０Ｍ７０）、オンコートＡＣ２０２０、ビスクレゾールフルオレンＢＣＦ、ＢＰＥＦＡ、ＢＰＥＦジアクリレート、ＢＰＥＦジメタクリレート、ＢＰＥＦジグリシジルエーエル、ＢＰＥＦエポキシアクリレート、ＢＰＰＦ、ＢＰＥＦビニルエーテル、ＢＣＦ、ＢＣＦジグリシジルエーエル、ＢＣＦエポキシアクリレート（長瀬産業社製、大阪ガスケミカル社製、ＪＦＥケミカル社製）、ビスアニリン、ビスフェノール骨格（ＪＦＥケミカル社製）等が挙げられる。【００６３】
少なくとも２以上の硫黄原子を含んでなるモノマー
少なくとも２以上の硫黄原子を含んでなるモノマーは、いずれのものを使用することができるが、好ましくは、下記一般式：
【化３】
2007119566.tif 000004
2007119566.tif 000005
で表されるものが挙げられる。【００６４】
本発明にあっては、少なくとも２以上の硫黄原子を含んでなるモノマーは市販品を使用することができ、具体的には、Ｓ２ＥＧ、ＭＰＳＭＡ、ＭＰＳ、ＭＰＴ、ＢＤＳ、ＭＰＶ、ＭＰＧ、ＰＴＤ（住友精化社製）等が挙げられ；ＩＵＬ２０００、ＩＵＬ３０００、ＩＵＭＳ１０１０（三菱ガス化学社製）等が挙げられ；ＥＧＭＰ-４，ＴＭＭＰ，ＴＥＭＰＩＣ，ＰＥＭＰ，ＤＰＭＰ（境化学社製）等が挙げられ；特にこの中でも、Ｓ２ＥＧ、ＭＰＶ、ＭＰＳＭＡが好ましくは使用することができる。【００６５】
本発明にあっては、ハードコート層は、ウレタンアクリレート樹脂及び／又はアクリレート樹脂を含んでなるか、これらのもので形成されてなるものが好ましい。
ウレタンアクリレート樹脂
ウレタンアクリレートは、いずれのものであっても良いが、３官能以上のウレタンアクリレート樹脂が好ましい。３官能以上のウレタンアクリレート樹脂は、いずれのものを使用することができるが、具体的には、ポリオール化合物とポリイソシアネート化合物とからなるものであってよい。
ポリオール化合物の具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリシクロデカンジメチロール、シクロヘキサンジメチロール、トリメチロールプロパン、グリセリン、１、３−プロパンジオール、１、４−ブタンジオール、１、３−ブタンジオール、２、３−ブタンジオール、１、５−ペンタンジオール、２、４−ペンタンジオール、１、２−ヘキサンジオール、１、６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリプロピレングリコール、１、９−ノナンジオール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノールＡポリエトキシグリコール、ポリカーボネートポリオール、ペンタエリスルトール、ソルビトール、スクロース、クオドロールなポリブタジエンポリオール、水添ポリブタジエンポリオール、水添ダイマージオールペンタエリトリトール等；トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスルトール、ソルビトール、スクロース、クオドロール等の３価以上の水酸基を含有する化合物を、エチレンオキシド（ＥＯ）、プロピレンオキシド（ＰＯ）、ブチレンオキシド、テトラヒドロフランなどの環状エーテル化合物で変性することにより得られるポリエーテルポリオール；カプロラクトンで変性することにより得られるポリカプロラクトンポリオール；２塩基酸とジオールからなるポリエステルで変性することにより得られるポリエステルポリオール；及びこれらの二種以上の混合物を挙げることができる。【００６６】
より具体的には、ＥＯ変性トリメチロールプロパン、ＰＯ変性トリメチロールプロパン、テトラヒドロフラン変性トリメチロールプロパン、カプロラクトン変性トリメチロールプロパン、ＥＯ変性グリセリン、ＰＯ変性グリセリン、テトラヒドロフラン変性グリセリン、カプロラクトン変性グリセリン、ＥＯ変性ペンタエリスリトール、ＰＯ変性ペンタエリスリトール、テトラヒドロフラン変性ペンタエリスリトール、カプロラクトン変性ペンタエリスリトール、ＥＯ変性ソルビトール、ＰＯ変性ソルビトール、カプロラクトン変性ソルビトール、ＥＯ変性スクロース、ＰＯ変性スクロース、ＥＯ変性スクロース、ＥＯ変性クオドール等及びこれらの二種以上の混合物を挙げることができる。【００６７】
ポリイソシアネート化合物の具体例としては、２、４−トリレンジイソシアネート、２、  ６−トリレンジイソシアネート、４、４−ジフェニルメタンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ビフェニレンジイソシアネート、１、５−ナフチレンジイソシアネート、ｏ−トリジンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、４、４’−メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１、３−（イソシアナートメチル）シクロヘキサン、およびこれらのビュレット化物、ヌレート化物等の重縮合物、及びこれらの二種以上の混合物を挙げることができる。特に好ましくは、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートおよびヘキサメチレンジイソシアネートのヌレート化物、イソホロンジイソシアネートのヌレート化物等が挙げられ、より好ましくは、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートが挙げられる。【００６８】
ウレタンアクリレート樹脂は市販品を使用することができ、具体的には、日本合成社製の紫光シリーズ、例えば、ＵＶ１７００Ｂ、ＵＶ６３００Ｂ、ＵＶ７６５Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ、ＵＶ７６００Ｂ等が挙げられ；根上工業社製のアートレジンシリーズ、例えば、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＵＮ９０００Ｈ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ９０１Ｍ、アートレジンＵＮ９０２ＭＳ、アートレジンＵＮ９０３等が挙げられ；新中村化学社製のＵＡ１００Ｈ、Ｕ４Ｈ、Ｕ６Ｈ、Ｕ１５ＨＡ、ＵＡ３２Ｐ、Ｕ６ＬＰＡ、Ｕ３２４Ａ、Ｕ９ＨＡＭＩ等が挙げられ；ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、例えば、１２９０、５１２９、２５４、２６４、２６５、１２５９、１２６４、４８６６、９２６０、８２１０、２０４、２０５、６６０２、２２０、４４５０等が挙げられ；荒川化学社製のビームセットシリーズ、例えば、３７１、３７１Ｓ、５７７、５７７ＢＶ、５７７ＡＫ等が挙げられ；三菱レーヨン社製のＲＱシリーズが挙げられ；大日本インキ社製のユニディックシリーズ等が挙げられ；ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、ＣＮ９００６（サーマー社製）、ＣＮ９６８等が挙げられる。この中でも、好ましくは、ＵＶ１７００Ｂ（日本合成社製）、ＤＰＨＡ４０Ｈ（日本化薬社製）、アートレジンＨＤＰ（根上工業社製）、ビームセット３７１（荒川化学社製）、Ｕ１５ＨＡ（新中村化学社製）等が挙げられる。【００６９】
アクリレート樹脂
アクリレート樹脂は先に述べたものを使用することができるが、３官能以上のアクリレート樹脂が好ましくは利用できる。３官能以上のアクリレート樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、イソシアヌル酸変性トリアクリレート等が挙げられる。また、これらアクリレートは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。【００７０】
３官能以上のアクリレート樹脂は市販品を使用することができ、具体的には、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤ、ＫＡＹＡＭＥＲシリーズ、例えば、ＤＰＨＡ、ＰＥＴ３０、ＧＰＯ３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ３３０、ＴＰＡ３３０、Ｄ３１０、Ｄ３３０、ＰＭ２、ＰＭ２１、ＤＰＣＡ２０、ＤＰＣＡ３０、ＤＰＣＡ６０、ＤＰＣＡ１２０等が挙げられ；東亞合成社製のアロニックスシリーズ、例えば、Ｍ３０５、Ｍ３０９、Ｍ３１０、Ｍ３１５、Ｍ３２０、Ｍ３２７、Ｍ３５０、Ｍ３６０、Ｍ４０２、Ｍ４０８、Ｍ４５０、Ｍ７１００、Ｍ７３００Ｋ、Ｍ８０３０、Ｍ８０６０、Ｍ８１００、Ｍ８５３０、Ｍ８５６０、Ｍ９０５０等が挙げられ；新中村化学社製のＮＫエステルシリーズ、例えば、ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＰＴ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ３Ｌ、Ａ−ＴＭＭＴ、Ａ−ＴＭＰＴ−６ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＣＬ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−６Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−１１Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−１８Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−９３００、ＡＤ−ＴＭＰ−４ＣＬ、ＡＤ−ＴＭＰ等が挙げられ；新中村化学社製のＮＫエコノマーシリーズ、例えば、ＡＤＰ５１、ＡＤＰ３３、ＡＤＰ４２、ＡＤＰ２６、ＡＤＰ１５等が挙げられ；第一工業製薬社製のニューフロンティアシリース、例えば、ＴＭＰＴ、ＴＭＰ３、ＴＭＰ１５、ＴＭＰ２Ｐ、ＴＭＰ３Ｐ、ＰＥＴ３、ＴＥＩＣＡ等が挙げられ；ダイセルユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌシリーズ、例えばＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＡＮ、１６０、ＴＭＰＥＯＴＡ、ＯＴＡ４８０、５３、ＰＥＴＩＡ、２０４７、４０、１４０、１１４０、ＰＥＴＡＫ、ＤＰＨＡ等が挙げられ；サーマー社製のＣＤ５０１、ＣＤ９０２１、ＣＤ９０５２、ＳＲ３５１、ＳＲ３５１ＨＰ、ＳＲ３５１ＬＶ、ＳＲ３６８、ＳＲ３６８Ｄ、ＳＲ４１５、ＳＲ４４４、ＳＲ４５４、ＳＲ４５４ＨＰ、ＳＲ４９２、ＳＲ４９９、ＳＲ５０２、ＳＲ９００８、ＳＲ９０１２、ＳＲ９０２０、ＳＲ９０２０ＨＰ、ＳＲ９０３５、ＣＤ９０５１、ＳＲ３５０、ＳＲ９００９、ＳＥ９０１１、ＳＲ２９５、ＳＲ３５５、ＳＲ３９９、ＳＲ３９９ＬＶ、ＳＲ４９４、ＳＲ９０４１等が挙げられる。【００７１】
溶剤
低屈折率層を形成するには、上記成分に溶剤を混合した組成物を利用することができる。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。
浸透性溶剤
本発明にあっては、浸透性溶剤をも使用することができる。浸透性溶剤とは、光透過性基材に対して浸透性のある溶剤を利用する。本発明にあっては、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対して浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。浸透性溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；クロロホルム、塩化メチレン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、エステル類、ケトン類が挙げられる。【００７２】
浸透性溶剤のより具体的な例としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ニトロメタン、１、４−ジオキサン、ジオキソラン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブが挙げられ、好ましくは酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられる。【００７３】
浸透性溶剤の添加量は、適宜定めることができるが、例えば、ハードコート層用組成物全量に対して、０．０１重量部以上５０重量部以下であり、好ましくは下限が０．１重量部（より好ましくは１重量部）以上であり、上限が２５重量部（より好ましくは１５重量部）以下である。【００７４】
任意成分
本発明によるハードコート層は上記した成分によって形成されてなるが、ハードコート層の光学特性機能を高めるために、任意成分を添加してもよい。
開始剤
本発明にあっては、重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は２種以上を併用してもよい。【００７５】
任意のものを使用できるが、好ましくは、３６５ｎｍ以上の長波長での吸光係数１００（ｍｌ/ｇｃｍ）以下の重合開始剤と、３６５ｎｍ以上の長波長での吸光係数１００（ｍｌ/ｇ ｃｍ）より大きい重合開始剤との両方からなるものを使用するのが好ましい。３６５ｎｍ以上の長波長での吸光係数１００（ｍｌ/ｇ・ｃｍ）以下の重合開始剤の具体例としては、市販品として、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２５０、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ７５４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１７３、ＤａｒｏｃｕｒｅＥＤＢ、ＤａｒｏｃｕｒｅＥＨＡ（チバケミカル社製）、ＬＡＭＢＥＲＴＩ社製のＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ、ＥＳＡＣＵＲＥ ＫＩＰ１５０、ＥＳＡＣＵＲＥ１００１Ｍ等が挙げられる。３６５ｎｍ以上の長波長での吸光係数１００（ｍｌ/ｇ ｃｍ）より大きい重合開始剤の具体例としては、市販品として、ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１３００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８００、Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１７３、ＤａｒｏｃｕｒｅＴＰＯ、Ｄａｒｏｃｕｒｅ４２６５、ＣＧＩ２４２（チバケミカル社製）等が挙げられる。
光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物の樹脂固形分１００質量部に対して、０．１重量部以上１０質量部以下であることが好ましい。また、低屈折率層と同様な重合促進剤を０．１重量部以上５重量部以下程度、併用することもできる。【００７６】
安定剤
本発明の好ましい態様によれば、ハードコート用組成物に安定剤を添加することが好ましい。安定剤は、ハードコート層を構成する成分が、天候又は経時変化により生じる変性を抑制することが可能となる。特に、安定剤を添加することにより、ハードコート層が、光又は熱による変色、特に、黄色化を抑制することができるものと思われる。安定剤が主として変色防止に用いられる場合には、安定剤は変色防止剤とされてよい。【００７７】
安定剤の具体例としては、ヒンダードアミン系（HALS)、ベンゾトリアゾール系、ヒンダードフェノール系、トリアジン系、リン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤等が挙げられ、好ましくは、ヒンダードアミン系（HALS)、ベンゾトリアゾール系が挙げられる。【００７８】
安定剤は、それ自体が反応基を有するか否かを問わず、また、安定剤が高分子物質である場合、その分子量は限定されるものではない。安定剤はそれ自体が反応基を有しない場合には、その安定剤は分子量が１０００以上のものが好ましくは利用される。分子量が１０００以上の安定剤は、ハードコート層内において安定剤としての特性を十分に発揮することが可能となる。【００７９】
安定剤の添加量は、使用目的に応じて適宜定めてよいが、好ましくは、ハードコート層用組成物全量に対して、２０重量部以下、好ましくは５重量部以下である。添加量がこの範囲にされてなることにより、安定剤による安定化効果が十分に発揮することができ、かつ、ハードコート層中の樹脂の硬化が十分に行うことができ、ハードコート層のハードコート性能を達成することが可能となる。【００８０】
安定剤は市販品を使用することができ、その具体例としては、ＲＵＶＡ９３（大塚化学社製）；Vanaresin  ＵＶＡ-１０２５Ｓ 、VanaresinＵＶＡ-１０５０Ｇ、 Vanaresin ＨＡＬ-１１０２５Ｓ（新中村化学社製）；ＦＡ７１１ＭＮ、ＦＡ７１２ＨＭ（日立化成社製）；ＲＳＡ０１１３Ｍ（山南合成社製）；旭電化社製のアデカスタブシリーズ、例えば、ＡＯ２２、ＡＯ３０、ＡＯ４０、ＡＯ５０、ＡＯ６０、ＡＯ７０、ＡＯ８０、ＡＯ３３０、Ａ６１１、Ａ６１２、Ａ６１３、ＡＯ５１、ＡＯ１５、ＡＯ１８、３２８、ＡＯ３７、ＰＥＰ４Ｃ、ＰＥＰ８、ＰＥＰ８Ｗ、ＰＥＰ２４Ｇ、ＰＥＰ３６、ＰＥＰ３６Ｚ、ＨＰ１０、２１１２、２６０、５２２、１１７８、１５００、１３５Ａ、３０１０、ＴＰＰ、ＡＯ２３、ＡＯ４１２Ｓ、ＡＯ５０３、ＬＡ３２、ＬＡ３６、１４１３、ＬＡ５１、ＬＡ５２、ＬＡ５７、ＬＡ６２、ＬＡ６３、ＬＡ６７、ＬＡ７７、ＬＡ８２、ＬＡ８７、ＬＡ５０１、ＬＡ５０２、ＬＡ５０３、ＬＡ６０１、ＬＡ６０２等が挙げられ；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のＴＩＮＵＶＩＮシリーズ、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ―ＰＳ、ＴＩＮＵＶＩＮ９９−２、ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、ＴＩＮＵＶＩＮ３２８、ＴＩＮＵＶＩＮ３８４−２、ＴＩＮＵＶＩＮ４００、ＴＩＮＵＶＩＮ４１１Ｌ、ＴＩＮＵＶＩＮ９００、ＴＩＮＵＶＩＮ９２８、ＴＩＮＵＶＩＮ１１３０、ＴＩＮＵＶＩＮ１１１ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ１２３、ＴＩＮＵＶＩＮ１４４、ＴＩＮＵＶＩＮ２９２、ＴＩＮＵＶＩＮ４０５等が挙げられ；ＩＲＧＡＮＯＸシリーズ（長瀬産業）、例えば、ＩＲＧＡＮＯＸ２４５、ＩＲＧＡＮＯＸ２５９、ＩＲＧＡＮＯＸ５６５、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６、ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８、ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２、ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０、ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５、ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４、ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７、ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０、ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５、ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５等が挙げられ；住友化学社のスミライザーシリーズ、例えば、ＧＡ８０、ＧＳ等が挙げられ；及びこれらの二種以上の混合物が挙げられる。これらの中でも、特に好ましいものとして、ＲＵＶＡ９３（大塚化学社製）、ＶａｎａｒｅｓｉｎＵＶＡ−１０２５Ｓ、ＶａｎａｒｅｓｉｎＵＶＡ−１０５０Ｇ（以上新中村化学社製）、ＦＡ７１１ＭＮ、ＦＡ７１２ＨＭ（以上日立化成社製）、ＴＩＮＵＶＩＮ２９２、ＴＩＮＵＶＩＮ１２３（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）等及びこれらの二種以上の混合物が挙げられる。【００８１】
その他の剤
ハードコート層は、所望の光学特性を発揮させる目的で、その他の剤、例えば、帯電防止剤、防汚染剤または防眩剤を添加してもよい。この場合、ハードコート層用組成物に、その他の剤を添加してハードコート層を形成することができる。【００８２】
導電剤（帯電防止剤） 
導電剤（帯電防止剤）の添加により、光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。導電剤（帯電防止剤）の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。【００８３】
また、帯電防止剤として、導電性微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。【００８４】
また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。【００８５】
帯電防止剤の添加量は、適宜定めることができるが、例えば、ハードコート層用組成物全量に対して、０．０１重量部以上５０重量部以下であり、好ましくは下限が０．１重量部以上であり、上限が２５重量部以下である。【００８６】
その他の帯電防止剤（導電剤） 
本発明の防眩層は、上記以外に、他の帯電防止剤（導電剤）を含んでいてもよい。導電剤（帯電防止剤）の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。【００８７】
また、導電性微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。【００８８】
さらに、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられる。その材料としては特に限定されず、例えば、脂肪族共役系のポリアセチレン、ポリアセン、ポリアズレン、芳香族共役系のポリフェニレン、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、ポリチエニレンビニレン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、これらの導電性ポリマーの誘導体、及び、これらの共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体からなる群より選択される少なくとも一種を挙げることができる。なかでも、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール等の有機系帯電防止剤を使用することがより好ましい。上記有機系帯電防止剤を使用することによって、優れた帯電防止性能を発揮すると同時に、光学積層体の全光線透過率を高めるとともにヘイズ値を下げることも可能になる。また、導電性向上や、帯電防止性能向上を目的として、有機スルホン酸や塩化鉄等の陰イオンを、ドーパント（電子供与剤）として添加することもできる。ドーパント添加効果も踏まえ、特にポリチオフェンは透明性、帯電防止性が高く、好ましい。上記ポリチオフェンとしては、オリゴチオフェンも好適に使用することができる。上記誘導体としては特に限定されず、例えば、ポリフェニルアセチレン、ポリジアセチレンのアルキル基置換体等を挙げることができる。【００８９】
防眩剤
防眩剤としては微粒子が挙げられ、その形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられる。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、無機系であればシリカビーズ、有機系であればプラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。【００９０】
防眩剤を添加する際に、沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、樹脂ビーズの沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、粒径が０．５μｍ以下、好ましくは０．１〜０．２５μｍ程度のシリカビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。【００９１】
その他のプラスチックビーズ防眩剤
その他のプラスチックポリマービーズの具体例としては、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９〜１．５３５）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４〜１．５８）、ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド縮合物ビーズ（屈折率１．６６）、ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物ビーズ（屈折率１．５２〜１．６６）、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物ビーズ（屈折率１．６６）ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、スチレンビーズを挙げることができる。無機系微粒子としては、球状シリカ、不定形シリカ等を挙げることができる。その他、有機・無機複合のシリカ・アクリル複合化合物ビーズ（屈折率１．５２）なども用いられる。【００９２】
防眩剤の添加量は、適宜定めることができるが、例えば、ハードコート層用組成物全量に対して、０．００１重量部以上７５重量部以下であり、好ましくは下限が０．０１重量部以上であり、上限が５０重量部以下である。【００９３】
光透過性基材
光透過性基材は、光を透過するものであれば、透明、半透明、無色または有色を問わないが、好ましくは無色透明のものがよい。光透過性基材の具体例としては、ガラス板；トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、アクリル系樹脂；ポリウレタン系樹脂；ポリエステル；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテル；トリメチルペンテン；ポリエーテルケトン；（メタ）アクリロニトリル、ノルボルネン樹脂等により形成した薄膜等が挙げられる。本発明の好ましい態様によれば、トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）が好ましくは挙げられる。光透過性基材の厚さは、３０μｍ〜２００μｍ程度であり、好ましくは４０μｍ〜２００μｍである。【００９４】
好ましい光透過性基材
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート）、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、又は、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。【００９５】
光透過性基材は、熱可塑性樹脂を柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板を使用することも可能であり、又は、ガラス板の板状体のものを使用してもよい。【００９６】
その他、光透過性基材としては、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）フィルムを挙げることができる。これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体等が用いられる基材で、例えば、日本ゼオン（株）製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト（株）製のスミライトＦＳ−１７００、ＪＳＲ（株）製のアートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学（株）製のアペル（環状オレフィン共重合体）、Ｔｉｃｏｎａ社製のＴｏｐａｓ（環状オレフィン共重合体）、日立化成（株）製のオプトレッツＯＺ−１０００シリーズ（脂環式アクリル樹脂）等が挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ（株）製のＦＶシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。【００９７】
光透過性基材が板状体の場合には、これらの厚さを超える厚さ３００μｍ以上５０００μｍ以下であってもよい。基材は、その上にハードコート層、帯電防止層等を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。【００９８】
その他の層
本発明による光学積層体は、所望の光学特性を発揮させる目的で、光学積層体を構成する層の間または光学積層体の最表面に、帯電防止層、防眩層、または防汚染層をさらに備えてなるものが好ましい。本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層とハードコート層の間に帯電防止層を備えてなるものが好ましい。
帯電防止層
帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂とにより形成されてよい。帯電防止剤は、先のハードコート層で説明したのと同様であってよく、樹脂は、先の低屈折率層で説明したのと同様であってよい。帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂と溶剤とを含んでなるものである。帯電防止層の厚さは、３０ｎｍ〜１μｍ程度であることが好ましい。帯電防止層の形成にあっては、帯電防止層の表面抵抗値が、５×１０７Ω／□以下となるよう行うことが好ましい。【００９９】
防眩層
防眩層は、防眩剤と樹脂とにより形成されてよい。防眩剤は、先のハードコート層で説明したのと同様であってよく、樹脂及び溶剤も先の低屈折率層で説明したのと同様であってよい。【０１００】
II．光学積層体の製造方法
各層用組成物の調整
各層用組成物は、一般的な調製法に従って、先に説明した成分を混合し分散処理することにより調整されてよい。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等で適切に分散処理することが可能となる。分散処理した各層用組成物はその後、濾過してもよい。【０１０１】
層形成法
各層を形成する方法の具体例としては、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、電子線または紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。【０１０２】
III.光学積層体の利用
本発明による製造方法によって製造される光学積層体は反射防止積層体として利用されるが、さらに、下記の用途を有する。
偏光板
本発明の別の態様によれば、偏光素子と、本発明による光学積層体とを備えてなる偏光板を提供することができる。具体的には、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体における低屈折率層が存在する面と反対の面に備えてなる、偏光板を提供することができる。【０１０３】
偏光素子は、例えば、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。ラミネート処理にあたって、接着性の増加のため、または電防止のために、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。【０１０４】
画像表示装置
本発明のさらに別の態様によれば、画像表示装置を提供することができ、この画像表示装置は、透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなり、この透過性表示体の表面に、本発明による光学積層体または本発明による偏光板が形成されてなるものである。本発明による画像表示装置は、基本的には光源装置（バックライト）と表示素子と本発明による光学積層体とにより構成されてよい。画像表示装置は、透過型表示装置に利用され、特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用される。とりわけ、ＣＲＴ、液晶パネル等の高精細画像用ディスプレイの表面に用いられる。【０１０５】
本発明による画像表示装置が液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明による光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
【実施の態様】
【０１０６】
本発明の内容を下記の実施例により詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら実施例に限定して解釈されるものではない。
【０１０７】
低屈折率層用組成物の調整
下記組成表の成分を混合機において十分混合した後、濾過して低屈折率層用組成物を調製した。
低屈折率組成１
処理した空隙シリカゾル微粒子＊）                                １４．３重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）               １．９５重量部
イルガキュア３６９（チバスペシャリティケミカルズ社製）         ０．０７重量部
変性シリコーンオイル  Ｘ２２−１７６Ｆ（信越化学工業社製）     ０．１５重量部
メチルイソブチルケトン                                             ７３重量部
Ｎ−ブタノール                                                     ２１重量部
＊）空隙シリカゾルを２０％メチルイソブチルケトン溶液使用して処理した（以下、同様である）。
【０１０８】
低屈折率組成２
処理した空隙シリカゾル微粒子＊）                                １４．３重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）               １．９５重量部
イルガキュア３６９（チバスペシャリティケミカルズ社製）         ０．０７重量部
変性シリコーンオイル  Ｘ２２−１７６Ｆ（信越化学工業社製）     ０．２０重量部
メチルイソブチルケトン                                             ７３重量部
Ｎ−ブタノール                                                     ２１重量部
【０１０９】
低屈折率組成３
処理した空隙シリカゾル微粒子＊）                                １４．３重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）               １．９５重量部
イルガキュア３６９（チバスペシャリティケミカルズ社製）         ０．０７重量部
変性シリコーンオイル  Ｘ２２−１６４Ｅ（信越化学工業社製）     ０．２０重量部
メチルイソブチルケトン                                             ７３重量部
Ｎ−ブタノール                                                     ２１重量部
【０１１０】
低屈折率組成４
処理した空隙シリカゾル微粒子＊）                                １４．３重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）               １．９５重量部
イルガキュア３６９（チバスペシャリティケミカルズ社製）         ０．０７重量部
変性シリコーンオイル  サイラプレーンＦＭ７２５（チッソ社製）   ０．２０重量部
メチルイソブチルケトン                                             ７３重量部
Ｎ−ブタノール                                                     ２１重量部
【０１１１】
低屈折率組成５
処理した空隙シリカゾル微粒子＊）                                １４．３重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）               １．９５重量部
イルガキュア３６９（チバスペシャリティケミカルズ社製）         ０．０７重量部
変性シリコーンオイル  ＴＳＦ４４２１（ＧＥ東芝シリコーン社製） ０．２０重量部
メチルイソブチルケトン                                             ７３重量部
Ｎ−ブタノール                                                     ２１重量部
【０１１２】
低屈折率組成６
処理した空隙シリカゾル微粒子＊）                                １４．３重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）               １．９５重量部
イルガキュア３６９（チバスペシャリティケミカルズ社製）         ０．０７重量部
メチルイソブチルケトン                                             ７３重量部
Ｎ−ブタノール                                                     ２１重量部
【０１１３】
低屈折率組成７ 
処理した空隙シリカゾル微粒子＊）                               １４．３重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）               １．９５重量部
イルガキュア１２７（チバスペシャルティケミカルズ社製）         ０．０７重量部
変性シリコーンオイル Ｘ２２−１６４Ｅ（信越化学工業社製）      ０．２０重量部
メチルイソブチルケトン                                             ７３重量部
ＰＧＭＥ                                                           ２１重量部
【０１１４】
低屈折率組成８ 
処理した空隙シリカゾル微粒子＊）                                 １４．３重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）                 ０．４５重量部
ＬＩＮＣ３Ａ（共栄社化学）                                         １．５重量部
イルガキュア１２７（チバスペシャルティケミカルズ社製）           ０．０６重量部
ＬｕｎａＯＭＢ（Lambson Group LTD社製）                           ０．０１重量部
変性シリコーンオイル ＦＭ７７２６（チッソ社製）                  ０．２０重量部
メチルイソブチルケトン                                               ７３重量部
ＰＧＭＥＡ                                                           ２１重量部
【０１１５】
ハードコート層用組成物の調整
下記組成表の成分を混合機において十分混合した後、濾過してハードコート層用組成物を調製した。
ハードコート組成１
ウレタンアクリレート樹脂（日本合成製、ＵＶ１７００Ｂ）                ５重量部
ポリエステルアクリレート樹脂（東亞合成製、Ｍ９０５０）                ５重量部
重合開始剤（IRGACURE１８４）                                      ０．４重量部
メチルエチルケトン（以下、「MEK」という）                           １０重量部
【０１１６】
ハードコート組成２
ビス［（２―メタクリロイルチオ）エチル］スルフィド                   ５重量部
（住友精化社製；Ｓ２ＥＧ）                          
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬、ＤＰＨＡ）       ３重量部
ポリエステルアクリレート（東亞合成、Ｍ９０５０）                     ２重量部
重合開始剤（IRGACURE１８４）                                      ０．３重量部
重合開始剤（DAROCUR  TPO）                                        ０．３重量部
ＭＥＫ                                                             １０重量部
【０１１７】
ハードコート組成３ 
ウレタンアクリレート樹脂（日本合成製、ＵＶ１７００Ｂ）                 ２重量部
ポリエステルアクリレート樹脂（東亞合成製、Ｍ９０５０）                 ２重量部
ウレタンアクリレート樹脂（荒川化学製、ＢＳ３７１）                     ４重量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）                   ２重量部
重合開始剤（IRGACURE１８４）                                       ０．４重量部
ＭＥＫ                                                               １０重量部
【０１１８】
ハードコート組成４ 
ウレタンアクリレート樹脂（日本合成製、ＵＶ１７００Ｂ）                 ３重量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本ＤＰＨＡ）               ２重量部
ウレタンアクリレート樹脂（荒川化学製、ＢＳ３７１）                     ２重量部
表面処理したコロイダルシリカ（平均粒径 約９０ナノメートル）            ３重量部
重合開始剤（IRGACURE１８４）                                       ０．４重量部
ＭＥＫ                                                               １０重量部
【０１１９】
光学積層体の調製
実施例１
ハードコート層の形成
セルローストリアセテートフィルム（厚み８０μｍ）の片面に、ハードコート層用組成物１を湿潤重量２０g／ｍ２(乾燥重量１０g／ｍ２)で塗布した。５０℃にて３０秒乾燥し、紫外線５０ｍＪ／ｃｍ２を照射してハードコート層を形成した。
低屈折率層の形成
前記ハードコート層の表面に、低屈折層用組成物（低屈折率組成１）を紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株）、光源Ｈバルブ）を用いて、照射線量１９２ｍＪ／ｍ２で紫外線照射を行って硬化させて、乾燥後（４０℃×１分）の膜厚が０．１μとなり、膜厚は反射率の極小値が波長５５０ｎｍ付近になるように形成し、低屈折率層を形成し、光学積層体を得た。
実施例２
低屈折層用組成物を低屈折率組成２としたこと以外は、実施例１と同様の手法にて光学積層体を得た。
実施例３
ハードコート層用組成物をハードコート組成２としたこと以外は、実施例１と同様の手法にて光学積層体を得た。
実施例４
低屈折層用組成物を低屈折率組成３としたこと以外は、実施例１と同様の手法にて光学積層体を得た。
実施例５
低屈折層用組成物を低屈折率組成４としたこと以外は、実施例１と同様の手法にて光学積層体を得た。
実施例６
低屈折層用組成物を低屈折率組成７とし、ハードコート層用組成物をハードコート組成３とした以外は、実施例１と同様の手法にて光学積層体を得た。
実施例７
低屈折層用組成物を低屈折率組成８とし、ハードコート層用組成物をハードコート組成４とした以外は、実施例１と同様の手法にて光学積層体を得た。
比較例１
低屈折層用組成物を低屈折率組成５としたこと以外は、実施例１と同様の手法にて光学積層体を得た。
比較例２
低屈折層用組成物を低屈折率組成６としたこと以外は、実施例１と同様の手法にて光学積層体を得た。
【０１２０】
評価試験
実施例及び比較例の光学積層体について、下記評価基準に基づいて評価し、その結果を下記表１に記載した。
【０１２１】
評価１：防汚性の評価
光学積層体のハードコート層の面に対して、水を滴下したときの接触角を測定した。
評価◎：水の接触角度が９０°以上であった。
評価×：水の接触角度が９０°未満であった。
【０１２２】
評価２：ＸＰＳによる有機ケイ素原子の存在率測定
Thermo Electron社製（VG  Theta Probe）のＸＰＳ（Ｘ線光電子分光測定）装置を使用し、Ｘ線源はMonochromated Al Kα、Ｘ線出力は１００Ｗ、測定領域は４００μｍφ、レンズはAngle Resolved、測定角度３段階（３１°、４６°、６１°）の条件にて、有機ケイ素原子の存在率（％）を測定した。無機ケイ素原子（O-Si-O）の存在率は除外した。
測定角度３段階（３１°、４６°、６１°）の条件にて、有機ケイ素原子の存在率を測定した。無機ケイ素原子（O-Si-O）の存在率は除外した。測定角度が３１°の場合、再表面から５０Åの範囲であった。測定角度が４６°の場合、再表面から７０Åの範囲であった。測定角度３１°の場合、再表面から８７Åの範囲であった。
【０１２３】
例／評価            評価１                評価２            
３１°  ４６°  ６１°
実施例１              ◎           １８    １４    １１
実施例２              ◎           １８    １６    １３
実施例３              ◎           ２５    ２０    １８
実施例４              ◎           １６    １４    １２
実施例５              ◎           １６    １４    １２
実施例６              ◎           ２０    １５    １１ 
実施例７              ◎           １７    １３    １０ 
比較例１              ×             ８      ６      ５
比較例２              ◎             ０      ０      ０     
【国際調査報告】
2007119566.tif 000007
2007119566.tif 000008
2007119566.tif 000009
2007119566.tif 000010