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【手続補正書】
【提出日】平成31年3月13日(2019.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薬剤包装用の分包紙を供給する分包紙供給部と、
前記分包紙供給部から供給される前記分包紙を当該分包紙の短手方向にシールするシール部と、
前記シール部よりも前記分包紙の搬送方向上流側において前記分包紙の内側に薬剤を導入する薬剤導入部と、
前記分包紙の内側であって、前記シール部よりも前記搬送方向上流側における薬剤の存在を検知する検知部とを備え、
前記分包紙がシールされた後、前記分包紙のうち前記薬剤を導入する部分に薬剤が存在するか否かを当該薬剤を導入する前に前記検知部により検知できることを特徴とする薬剤分包装置。
【請求項２】
薬剤包装用の分包紙を供給する分包紙供給部と、
前記分包紙供給部から供給される前記分包紙から分包袋を形成するシール部と、
前記シール部よりも前記分包紙の搬送方向上流側において半袋状の前記分包紙の内側に薬剤を導入する薬剤導入部と、
前記分包紙の内側であって、前記シール部よりも前記搬送方向上流側における薬剤の存在を検知する検知部と、
分包状態の判定を行う判定部とを備えており、
前記シール部が、分包袋を形成する分包紙の進行方向下流側の部分が分包紙の短手方向に閉塞する第一縦シールにより閉塞された半袋状の分包紙を形成すると共に、半袋状の分包紙の開放部分を長手方向に延びる横シール、及び分包紙の短手方向に閉塞する第二縦シールを形成して封止できるものであり、
前記検知部により、前記薬剤が導入された半袋状の前記分包紙を前記シール部によって前記第二縦シールを形成して封止するのを開始するタイミング以降、前記薬剤導入部を介して次の分包袋に分包されるべき薬剤が導入されるタイミングよりも前の期間内に薬剤の存在を検知する封止検知を行い、
前記封止検知において前記薬剤の存在が検知されないことが、前記薬剤が正常に分包されたとの判定を行うための判定条件とされることを特徴とする薬剤分包装置。
【請求項３】
前記封止検知が、前記薬剤が導入された分包袋の次に形成される分包袋の第一縦シールの形成を開始するタイミング以降に行われることを特徴とする請求項２に記載の薬剤分包装置。
【請求項４】
前記封止検知が、前記薬剤が導入された分包袋の次に形成される分包袋の横シールの形成を開始するタイミング以降に行われることを特徴とする請求項２に記載の薬剤分包装置。
【請求項５】
薬剤包装用の分包紙を供給する分包紙供給部と、
前記分包紙供給部から供給される前記分包紙を当該分包紙の短手方向にシールするシール部と、
前記シール部よりも前記分包紙の搬送方向上流側において前記分包紙の内側に薬剤を導入する薬剤導入部と、
前記分包紙の内側であって、前記シール部よりも前記搬送方向上流側における薬剤の存在を検知する検知部とを備え、
前記分包紙がシールされた後に前記分包紙のうち前記薬剤を導入する部分を当該部分に前記薬剤が導入される前に撮影し、撮影した画像に基づいて薬剤が存在しているか否かを前記検知部により検知できることを特徴とする薬剤分包装置。
【請求項６】
前記シール部が、分包袋を形成する分包紙の進行方向下流側の部分が分包紙の短手方向に閉塞する第一縦シールにより閉塞された半袋状の分包紙を形成すると共に、半袋状の分包紙の開放部分を長手方向に延びる横シール、及び分包紙の短手方向に閉塞する第二縦シールを形成して封止できるものであることを特徴とする請求項１又は５に記載の薬剤分包装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月4日(2019.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周面に複数種類の図柄が配列された複数のリールと、
複数種類の役の当否を決定する内部抽選を行う内部抽選手段と、
前記複数のリールを遊技毎に回転させ、停止操作を契機として、内部抽選の結果に応じた態様で回転中のリールを停止させる制御を行うリール制御手段と、
前記複数のリールが停止した状態で、役毎に予め定められた入賞形態を示す図柄組合せが有効ライン上に表示されていることに基づいて、役が入賞したと判定する入賞判定手段と、
特別役を抽選対象とした内部抽選が行われる第１遊技状態と、特別役の入賞によって移行する第２遊技状態とを含む複数種類の遊技状態の間で遊技状態を移行させる制御を行う遊技状態移行制御手段と、
演出状態が変動不可能な通常区間と演出状態が変動可能な有利区間とを設定可能であって、通常区間において有利区間へ移行させるか否かを決定し、有利区間において所定条件下で演出状態を特別演出状態に変動させ、有利区間が終了する場合に所定の初期化処理を実行して通常区間に復帰させる特典付与手段と、
前記特別演出状態において所定の役の入賞を補助する入賞補助演出を演出装置に実行させる制御を行う演出制御手段と、
を備え、前記有利区間である場合に限って演出状態を前記特別演出状態に設定可能とし、前記特別役が当選した状態を当該特別役が入賞するまで持ち越し可能となっている遊技機であって、
前記特典付与手段が、
前記有利区間において遊技媒体の投入数および払出数に基づいてクリアカウンタの値を更新し、クリアカウンタの値が所定値に達したことに基づいて当該有利区間を終了させ、前記特別役が当選した状態が持ち越されている遊技でもクリアカウンタの値を更新することを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月24日(2019.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】照明具、及び照明装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上記を鑑みてなされてものであり、その目的は、光源素子を備えた光源部、光源部に点灯電力を供給する電源部、及び光源部又は電源部のいずれかの動作熱を放散する放熱部を一枚の基板に配置することで、基板の製造、並びに光源部、電源部、及び放熱部の設置を簡単に行うことができる照明ユニットを用いた照明具、或いは照明装置を提供することである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一態様に係る照明具１は、光源部１２１、光源部１２１に供給する点灯電力を生成する電源部１２４、及び、光源部１２１又は電源部１２４のいずれかの動作熱を放散する放熱部１２８を有しており、一枚の曲げることができる基板１２０に光源部１２１、電源部１２４、及び、放熱部１２８が設けられている照明ユニット１２と、透光性を有するとともに一端部が開口した第１外郭部１０、及び、一端部の開口を塞ぐように第１外郭部１０に取り付けられる第２外郭部１１を有しており、照明ユニット１２を内部に収納している外郭部とを備えている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明によれば、一枚の曲げることができる基板に複数の光源素子を備えた光源部、光源部に点灯電力を供給する電源部、及び光源部又は電源部のいずれかの動作熱を放散する放熱部が設けられた照明ユニットを用いることができるので、基板製造、並びに光源部、電源部、及び放熱部の設置を簡端に行うことができる照明具、或いは照明装置を提供することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
以下、本発明に係る照明ユニット、照明具、照明装置の好適な実施の形態について図を参照して説明する。なお、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、図の形態によって本発明が限定されるものではない。そして、実施の形態の説明において、「上」、「下」、「左」、「右」、「前」、「後」、「表」、「裏」、「縦」、「横」といった文言は、説明の便宜上、そのように記載しているだけであり、装置、器具、部品などの配置や向きなどを限定するものではない。
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源部、前記光源部に供給する点灯電力を生成する電源部、及び、前記光源部又は前記電源部のいずれかの動作熱を放散する放熱部を有しており、一枚の曲げることができる基板に前記光源部、前記電源部、及び、前記放熱部が設けられている照明ユニットと、
透光性を有するとともに一端部が開口した第１外郭部、及び、前記一端部の開口を塞ぐように前記第１外郭部に取り付けられる第２外郭部を有しており、前記照明ユニットを内部に収納している外郭部と
を備えている照明具。
【請求項２】
前記光源部は複数の光源素子を有しており、
複数の前記光源素子は前記基板の１面側に配置されている請求項１に記載の照明具。
【請求項３】
前記電源部は複数の電源回路部品を有しており、
複数の前記電源回路部品は前記基板の前記１面側に配置されている請求項２に記載の照明具。
【請求項４】
前記光源部、前記電源部、及び、前記放熱部は、前記基板の異なる領域に設けられている請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の照明具。
【請求項５】
前記放熱部は、
前記光源部と繋がり前記光源部から発せられる動作熱が放熱される光源放熱部、及び、前記電源部と繋がり前記電源部から発せられる動作熱が放熱される電源放熱部を有している請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の照明具。
【請求項６】
前記光源部と前記電源部とは前記基板の異なる領域に離間して設けられており、
前記光源部及び前記電源部に接続された状態で、前記光源部と前記電源部との間に配置されている接続部を有している請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の照明具。
【請求項７】
前記基板は、
外部から前記電源部に電力の供給を受ける経路である配線部を有している請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の照明具。
【請求項８】
前記光源部は、
前記基板が組立てられた状態では、複数の前記光源素子が曲げられた前記基板の表面に配置されている請求項２から請求項７のいずれか一項に記載の照明具。
【請求項９】
前記光源部は、
前記基板が組立てられた状態では、複数の前記光源素子から出射される光の向きは異なる向きとなる請求項２から請求項８のいずれか一項に記載の照明具。
【請求項１０】
前記放熱部は、
前記基板が組立てられた状態では、
前記光源放熱部が前記光源部の内側に収納されており、前記電源放熱部が前記電源部の外側に配置されている請求項５に記載の照明具。
【請求項１１】
前記放熱部は、
前記光源部と繋がる第１熱誘導部と前記電源放熱部と繋がる第２熱誘導部とを有しており、
前記基板が組立てられた状態では、
前記第１熱誘導部と前記第２熱誘導部とが重なるように配置されている請求項１０に記載の照明具。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の照明具と、
前記照明具が取り付けられる照明器具と
を備えた照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月24日(2019.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子が基板に実装された発光部と、
前記発光部が取り付けられるフレーム取付部を有するフレームと、
前記フレーム取付部に第一の開口を設けるように、前記フレーム取付部の一部を突設させ形成された固定片と、を備え、
前記発光部は、前記基板が前記第一の開口を塞いだ状態で前記固定片により前記フレームに固定されることを特徴とした光源ユニット。
【請求項２】
前記固定片は、前記第一の開口を挟むように対に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光源ユニット。
【請求項３】
前記固定片は前記フレーム取付部との間に基板挿し込み部を設け、前記基板は前記基板挿し込み部に挿し込まれ、前記発光部は前記フレームに保持されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光源ユニット。
【請求項４】
前記基板は、前記基板挿し込み部に挿し込まれる基板凸部を有していることを特徴とする請求項３に記載の光源ユニット。
【請求項５】
前記フレームは、前記フレーム取付部に第二の開口を設けるように前記固定片と反対方向へ突設させた突起部を有し、前記第二の開口は前記基板に塞がれることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の光源ユニット、
【請求項６】
前記フレームは、機能部品が配設され、前記機能部品は前記突起部に取り付けられることを特徴とする請求項５に記載の光源ユニット。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の光源ユニットと、
前記光源ユニットの一部が収容されるように取り付けられる器具本体と、
を備えることを特徴とする照明器具。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月11日(2019.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動板と、
前記振動板との間でコンデンサを構成する固定極と、
前記振動板と前記固定極とを収納するハウジングと、
前記ハウジングの前方に突設される音導管と、
前記ハウジングの外部と前記ハウジングの内部とを連通させる連通孔と、
前記連通孔を開閉する開閉機構と、
を有してなり、
前記音導管の内部の空間の容積と、前記ハウジングの内部の空間のうち前記音導管の内部の空間と連通する前記振動板の前方の空間の容積と、の和は、前記ハウジングの内部の空間のうち前記振動板の後方の空間の容積よりも小さい、
ことを特徴とするイヤホン。
【請求項２】
前記連通孔は、前記振動板の後方に配置される、
請求項１記載のイヤホン。
【請求項３】
前記連通孔は、前記ハウジングに複数配置され、
前記開閉機構は、複数の前記連通孔の一部のみを閉鎖する、
請求項１記載のイヤホン。
【請求項４】
前記開閉機構は、前記ハウジングに着脱可能である、
請求項２記載のイヤホン。
【請求項５】
前記開閉機構は、前記ハウジングの後方を覆うカバー部材である、
請求項４記載のイヤホン。
【請求項６】
前記カバー部材は、弾性を有する樹脂製である、
請求項５記載のイヤホン。
【請求項７】
前記固定極は、第１固定極と第２固定極とを含み、
前記振動板は、前記第１固定極と前記第２固定極とで挟まれる、
請求項１記載のイヤホン。
【請求項８】
前記開閉機構は、
前記連通孔を閉鎖する閉鎖部と、
前記閉鎖部を移動させる移動部と、
を備える、
請求項１記載のイヤホン。
【請求項９】
前記移動部の一部は、前記ハウジングの外部に露出する、
請求項８記載のイヤホン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、イヤホンであって、振動板と、振動板との間でコンデンサを構成する固定極と、振動板と固定極とを収納するハウジングと、ハウジングの前方に突設される音導管と、ハウジングの外部とハウジングの内部とを連通させる連通孔と、連通孔を開閉する開閉機構と、を有してなり、音導管の内部の空間の容積と、ハウジングの内部の空間のうち音導管の内部の空間と連通する振動板の前方の空間の容積と、の和は、ハウジングの内部の空間のうち振動板の後方の空間の容積よりも小さい、ことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【図１】本発明にかかるイヤホンの実施の形態を示す外観図である。
【図２】図１のイヤホンが備える左ユニットのＡ矢視図である。
【図３】図２の左ユニットの分解図である。
【図４】図３の左ユニットが備える左ユニット本体のＣ矢視図である。
【図５】図２の左ユニットのＢＢ線断面図である。
【図６】図２の左ユニットが備える電気音響変換器の分解斜視図である。
【図７】図６の電気音響変換器が備えるエレクトレットボードが保持する電荷を示した説明図である。
【図８】図４の左ユニット本体が備える後部ハウジング半体を取り外した状態の外観図である。
【図９】左ユニットが使用者の左耳に装着された状態の断面図である。
【図１０】図９の等価回路図である。
【図１１】左ユニットが備える左ユニットカバー部材が取り外された左ユニット本体が使用者の左耳に装着された状態の断面図である。
【図１２】図１１の等価回路図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
前部気室Ｒ３の容積は後部気室Ｒ４の容積よりも小さい。第１薄空気層Ｓ１の容積は第２薄空気層Ｓ２の容積と同じである。すなわち、ハウジング１の内部における振動板５０の前方の空間の容積と音導管内空間Ｓ５の容積との和は、ハウジング１の内部における振動板５０の後方の空間の容積よりも小さい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
図１０は、密閉型のイヤホンとして機能するイヤホンＥの等価回路図である。
図１０に示す符号は、以下のとおりである。符号Ｆｅは、振動板５０の音圧を示す。符号ｓ０は、振動板５０のスチフネスを示す。符号ｓ１は、第１薄空気層Ｓ１のスチフネスを示す。符号ｓ２は、前部気室Ｒ３のスチフネスを示す。符号ｓ３は、第２薄空気層Ｓ２のスチフネスを示す。符号ｓ４は、後部気室Ｒ４のスチフネスを示す。符号ｍ０は、振動板５０の質量を示す。符号ｍ１は、第１エレクトレットボード５３Ａの音孔５３Ａｈ内の空気の質量を示す。符号ｍ２は、第２エレクトレットボード５３Ｂの音孔５３Ｂｈ内の空気の質量を示す。符号ｒ０は、第１エレクトレットボード５３Ａの音孔５３Ａｈ内の空気の音響抵抗を示す。符号ｒ１は、第１防護材７０の音響抵抗を示す。符号ｒ２は、第２エレクトレットボード５３Ｂの音孔５３Ｂｈ内の空気の質量を示す。符号ＺＥは、外耳道Ｅｃ内の負荷インピーダンスを示す。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
図１２は、開放型のイヤホンとして機能するイヤホンＥの等価回路図である。
図１２に示す符号は、図１１に示す符号と同じである。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月25日(2019.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トンネル内を撮影するＣＣＴＶカメラから送信された画像に防災区画線を重畳させて表示する防災区画表示装置と、前記防災区画表示装置を制御するＣＣＴＶサーバとを有する監視システムにおいて、
前記ＣＣＴＶサーバは、
防災区画線の表示のないＣＣＴＶカメラ映像の静止画像を取得する手段と、
前記防災区画表示装置を制御し、前記防災区画線の表示のないＣＣＴＶカメラ映像の静止画像データに防災区画線を重畳させて表示させる手段と、
前記防災区画表示装置から防災区画線の表示のあるＣＣＴＶカメラ映像の静止画像を取得する手段と、
前記防災区画線の表示のない静止画像と前記防災区画線の表示のある静止画像との差分画像を作成し、防災区画線データとしてデータベースに登録する手段と、
を備え、
前記防災区画表示装置は、
前記ＣＣＴＶサーバから送信された前記防災区画線データを基にＣＣＴＶカメラ映像に防災区画線を重畳させて表示する手段を備えることを特徴とする監視システム。
【請求項２】
トンネル内を撮影するＣＣＴＶカメラと、
前記ＣＣＴＶカメラが取得した映像から、トンネル内の環境状態の情報を取得する画像処理装置と、
前記ＣＣＴＶカメラが取得した映像に、防災区画線を重畳して表示するＣＣＴＶサーバと、を有し、
前記ＣＣＴＶサーバは、
前記画像処理装置が取得したトンネル内の環境状態の情報を基に、前記防災区画線の表示形態を変更することを特徴とする監視システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、上記課題を解決するために、本発明の監視システムは、トンネル内を撮影するＣＣＴＶカメラと、ＣＣＴＶカメラが取得した映像から、トンネル内の環境状態の情報を取得する画像処理装置と、ＣＣＴＶカメラが取得した映像に、防災区画線を重畳して表示するＣＣＴＶサーバと、を有している。この監視システムは、ＣＣＴＶサーバがトンネル内の環境状態の情報を基に、防災区画線の表示形態を変更することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月19日(2018.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活物質層を有する電極を備え、 
前記活物質層は、活物質とバインダとを含み、 
前記バインダは、結晶化度が３８％以下のフッ素樹脂を含む、蓄電素子。
【請求項２】
前記フッ素樹脂は、ポリフッ化ビニリデンである、請求項１に記載の蓄電素子。
【請求項３】
前記電極は、電極基材と、該電極基材に重ねられ導電助剤を含む導電層と、該導電層に重ねられた前記活物質層とを有する、請求項１又は２に記載の蓄電素子。
【請求項４】
前記導電層の表面であって前記活物質層と重なった表面の表面粗さＲａは、０．２μｍ以上０．７μｍ以下である、請求項３に記載の蓄電素子。
【請求項５】
前記電極は、電極基材と、該電極基材に重ねられた前記活物質層とを有し、
前記電極基材の表面であって前記活物質層と重なった表面の表面粗さＲａは、０．２μｍ以上０．７μｍ以下である、請求項１又は２に記載の蓄電素子。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月29日(2019.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化シリコンを含む基板の、ダメージが発生している表面領域に紫外線を照射する工程と、
前記基板を載置する雰囲気から離隔された雰囲気においてプラズマを用いてガスからラジカルを生成する工程と、
前記紫外線が照射された表面領域に前記ラジカルを供給して、前記紫外線が照射された表面領域を除去する工程と、
を備えたプラズマ処理方法。
【請求項２】
炭化シリコンを含む基板を載置する雰囲気から離隔された雰囲気においてプラズマを用いてガスからラジカルを生成する工程と、
前記基板のダメージが発生している表面領域に、前記ラジカルを生成した際に発生した紫外線を照射する工程と、
前記紫外線が照射された表面領域に前記ラジカルを供給して、前記紫外線が照射された表面領域を除去する工程と、
を備えたプラズマ処理方法。
【請求項３】
前記紫外線が照射された表面領域を除去する工程において、前記基板への前記紫外線の照射が抑制される請求項１または２に記載のプラズマ処理方法。
【請求項４】
前記ラジカルを生成した際に発生した紫外線を前記表面領域に照射する際には、前記プラズマと前記表面領域との間の距離が第１の距離に設定され、
前記紫外線の照射された表面領域を除去する際には、前記プラズマと前記表面領域との間の距離が前記第１の距離よりも長い第２の距離に設定される請求項３記載のプラズマ処理方法。
【請求項５】
前記ラジカルを生成した際に発生した紫外線を前記表面領域に照射する際には、前記プラズマの拡がりが第１の大きさに設定され、
前記紫外線の照射された表面領域を除去する際には、前記プラズマの拡がりが前記第１の大きさよりも小さい第２の大きさに設定される請求項３または４に記載のプラズマ処理方法。
【請求項６】
前記ダメージが発生している表面領域に紫外線を照射する工程に代えて、または前記ダメージが発生している表面領域に紫外線を照射する工程に加え、前記表面領域に水素ラジカルを供給する工程を備えた請求項１〜５のいずれか１つに記載のプラズマ処理方法。
【請求項７】
大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な処理容器と、
前記処理容器の内部を所定の圧力まで減圧する減圧部と、
前記処理容器の内部に設けられ、基板を載置する載置部と、
内部にプラズマを発生させる領域を有し、前記処理容器から離隔された位置に設けられた放電管と、
マイクロ波を発生させるマイクロ波発生部と、
前記マイクロ波を伝播させて、前記プラズマを発生させる領域に前記マイクロ波を導入する導入導波管と、
前記プラズマを発生させる領域にガスを供給するガス供給部と、
を備え、
前記基板は、炭化シリコンを含み、ダメージが発生している表面領域を有し、
前記プラズマを用いて前記ガスからラジカルを生成した際に発生した紫外線が前記表面領域に照射されるプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記放電管に対する前記導入導波管の位置を移動させる移動部をさらに備え、
前記移動部は、前記プラズマと前記表面領域との間の距離を第１の距離に設定することで、前記紫外線が前記表面領域に照射されるようにし、
前記プラズマと前記表面領域との間の距離を前記第１の距離よりも長い第２の距離に設定することで、前記紫外線が前記表面領域が除去された際に露出する下層に照射されるのを抑制する請求項７記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記減圧部は、前記処理容器の内部の圧力を第１の圧力に設定することで、前記紫外線が前記表面領域に照射されるようにし、
前記処理容器の内部の圧力を前記第１の圧力よりも高い第２の圧力に設定することで、前記表面領域が除去された際に露出する下層に前記紫外線が照射されるのを抑制する請求項７または８に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
マイクロ波発生部は、前記マイクロ波のパワーを第１のパワーに設定することで、前記紫外線が前記表面領域に照射されるようにし、
前記マイクロ波のパワーを前記第１のパワーよりも低い第２のパワーに設定することで、前記表面領域が除去された際に露出する下層に前記紫外線が照射されるのを抑制する請求項７〜９のいずれか１つに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１１】
前記ガス供給部は、前記ガスに、不活性ガスおよび窒素ガスの少なくともいずれかを添加することで、前記紫外線が前記表面領域に照射されるようにする請求項７〜１０のいずれか１つに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１２】
前記ガス供給部は、前記プラズマを発生させる領域に水素を含むガスを供給し、前記プラズマにより前記供給された水素を含むガスから水素ラジカルが生成され、前記生成された水素ラジカルが前記表面領域に供給される請求項７〜１１のいずれか１つに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１３】
前記表面領域に紫外線を照射する紫外線照射部をさらに備えた請求項７〜１２のいずれか１つに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１４】
炭化シリコンを含み、ダメージが発生している表面領域を有する基板から、前記ダメージが発生している前記表面領域を除去するプラズマ処理装置において、
大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な処理容器と、
前記処理容器の内部を所定の圧力まで減圧する減圧部と、
前記処理容器の内部に設けられ、基板を載置する載置部と、
前記載置部に載置される前記基板の表面領域に紫外線を照射する紫外線照射装置と、
前記載置部に載置される前記基板の表面領域にプラズマを用いてガスから発生させたラジカルを照射するラジカル照射部と、
を有するプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2017183607.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月19日(2019.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素領域及び周辺領域を含む固体撮像装置の製造方法であって、
前記画素領域に配された第１のゲート電極を覆うように、半導体層の上に第１の絶縁膜を成膜する工程と、
前記画素領域に前記第１の絶縁膜を残存させるとともに、前記周辺領域に形成された前記第１の絶縁膜を除去する工程と、
前記周辺領域に形成された前記第１の絶縁膜を除去する工程の後に、前記周辺領域に配された第２のゲート電極を覆うように、前記半導体層の上に第２の絶縁膜を形成する工程と、
前記第２の絶縁膜をエッチングすることによって、前記第２のゲート電極の側壁にサイドウォールを形成する工程と、
を含むことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
【請求項２】
前記第１の絶縁膜が、前記サイドウォールとは異なる絶縁体を含むことを特徴とする請求項１に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の絶縁膜の水素濃度が、前記サイドウォールの水素濃度よりも高いことを特徴とする請求項１又は２に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項４】
前記サイドウォールが、酸化シリコンを含むことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１の絶縁膜が、窒化シリコン膜を含むことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項６】
前記第１の絶縁膜が、前記窒化シリコン膜と酸化シリコン膜とを含む積層構造を有することを特徴とする請求項５に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１の絶縁膜が、前記半導体層の側から前記酸化シリコン膜、前記窒化シリコン膜の順に積層され、
前記第１の絶縁膜をエッチングする工程が、前記窒化シリコン膜を等方性ドライエッチングする工程と、前記窒化シリコン膜をエッチングした後に前記酸化シリコン膜をウエットエッチングする工程と、を含むことを特徴とする請求項６に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項８】
前記窒化シリコン膜が、ジクロロシラン及びヘキサクロロジシランの少なくとも１つを含む材料を用いて形成されることを特徴とする請求項５乃至７の何れか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項９】
前記第２のゲート電極を形成する工程において、前記画素領域がマスクパターンによって覆われることを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１０】
前記製造方法は、
前記第２のゲート電極を形成する工程の後、前記半導体層のうち前記第２のゲート電極に近接した部分にソース・ドレイン領域を形成する工程と、
前記第２のゲート電極及び前記ソース・ドレイン領域に金属シリサイドを形成する工程と、
を更に含むことを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１１】
前記ソース・ドレイン領域を形成する工程は、
前記サイドウォールを形成する工程の前に、第１の半導体領域を形成する工程と、
前記サイドウォールを形成する工程の後に、第２の半導体領域を形成する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１０に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第２の絶縁膜が、前記画素領域に残存していた前記第１の絶縁膜を覆うように形成されることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１３】
前記製造方法は、
前記第１のゲート電極を形成する工程と、
前記第１のゲート電極を形成する工程の後に、前記第２のゲート電極を形成する工程と、
を更に含むことを特徴とする請求項１乃至１２の何れか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１４】
前記製造方法は、
前記半導体層の上にゲート電極膜を成膜する工程と、
前記ゲート電極膜をエッチングし、前記画素領域にパターニングされた前記第１のゲート電極を形成する工程と、
前記ゲート電極膜をエッチングし、前記周辺領域にパターニングされた第２のゲート電極を形成する工程と、
を更に含むことを特徴とする請求項１乃至１３の何れか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第１のゲート電極が形成された後に、前記第２のゲート電極が形成されることを特徴とする請求項１４に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１６】
前記ゲート電極膜をエッチングし前記第１のゲート電極を形成する工程において、前記周辺領域に前記ゲート電極膜を残存させ、
前記ゲート電極膜をエッチングし前記第２のゲート電極を形成する工程において、前記周辺領域に残存していた前記ゲート電極膜をエッチングすることを特徴とする請求項１４又は１５に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１７】
前記周辺領域に形成された前記第１の絶縁膜を除去する工程の後に、前記第２のゲート電極が形成されることを特徴とする請求項１６に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１８】
前記第２の絶縁膜が、酸化シリコン膜を含むことを特徴とする請求項１乃至１７の何れか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１９】
前記サイドウォールを形成する工程において、前記第１の絶縁膜の上の前記第２の絶縁膜が残存することを特徴とする請求項１乃至１８の何れか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項２０】
前記製造方法は、
前記サイドウォールを覆うように、前記周辺領域に窒化シリコン膜を形成する工程と、
前記第１の絶縁膜及び前記サイドウォールを覆うように前記周辺領域に形成された当該窒化シリコン膜を覆うように、層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜にコンタクトホールを形成する工程と、
前記コンタクトホールに電極を形成する工程と、
を更に含むことを特徴とする請求項１乃至１９の何れか１項に記載の固体撮像装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題に鑑みて、本発明の実施形態に係る固体撮像装置の製造方法は、画素領域及び周辺領域を含む固体撮像装置の製造方法であって、画素領域に配された第１のゲート電極を覆うように、半導体層の上に第１の絶縁膜を成膜する工程と、前記画素領域に前記第１の絶縁膜を残存させるとともに、周辺領域に形成された第１の絶縁膜を除去する工程と、周辺領域に形成された第１の絶縁膜を除去する工程の後に、周辺領域に配された第２のゲート電極を覆うように、半導体層の上に第２の絶縁膜を形成する工程と、第２の絶縁膜をエッチングすることによって、第２のゲート電極の側壁にサイドウォールを形成する工程と、を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月5日(2019.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ金属原子が封入されている原子セルと、
前記原子セル内の前記アルカリ金属原子を励起する光を出射する光源と、
前記光源と前記原子セルとの間に配置され、前記光源から出射された前記光の放射角を拡大する光学素子と、
前記原子セルを透過した光を検出する光検出部と、を有し、
前記原子セルに入射する光の径は前記原子セルの内部空間の幅よりも大きい、
量子干渉装置。
【請求項２】
前記光学素子と前記原子セルとの間に設けられ、前記光学素子によって前記放射角が拡大された前記光の一部を遮光する遮光部材を有する請求項１に記載の量子干渉装置。
【請求項３】
前記光源を支持する支持部を有し、
前記支持部と前記光学素子との間に前記光源が設けられている請求項１または２に記載の量子干渉装置。
【請求項４】
前記光源を支持する支持部を有し、
前記光源と前記光学素子との間に前記支持部が設けられている請求項１または２に記載の量子干渉装置。
【請求項５】
前記光学素子は、凹レンズ、フレネルレンズ、および光拡散版のいずれかである請求項１ないし４のいずれか１項に記載の量子干渉装置。
【請求項６】
前記光源の発光面と前記原子セルとの間の距離は、０．３ｍｍ以上２．０ｍｍ以下である請求項１ないし５のいずれか１項に記載の量子干渉装置。
【請求項７】
前記光学素子によって前記放射角が拡大された前記光の前記放射角は、４０°以上であり、
前記光学素子によって前記放射角が拡大された前記光のスペクトル線幅は、１００ＭＨｚ以下である請求項１ないし６のいずれか１項に記載の量子干渉装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の量子干渉装置を備えることを特徴とする原子発振器。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載の量子干渉装置を備えることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】量子干渉装置、原子発振器、および電子機器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６６】
また、光源２２１は、シート部材８１２に電気的に接続され、光検出部２４は、シート部材８１３に電気的に接続されている。また、シート部材８１２、８１３は、基体３１に図示しない配線を介して電気的に接続されている。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月21日(2018.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
配線基板と、
前記配線基板に実装された半導体素子と、
前記半導体素子の上面に接着剤を介して設けられた放熱板と、
前記放熱板と前記配線基板との間に充填された封止樹脂と、を有し、
前記放熱板は、
前記半導体素子と平面視で重なるように形成され、前記半導体素子の平面形状よりも平面形状が大きく形成された本体部と、
前記本体部と一体に形成され、前記本体部の端部から外側に突出するように形成され、前記本体部よりも低い位置に設けられた突出部と、を有し、
前記封止樹脂は、前記突出部の上下両面及び側面を被覆するように形成され、
前記本体部の上面は、前記封止樹脂から露出され、
前記突出部の先端面を除く前記放熱板の側面は、前記本体部の上面よりも表面粗度の大きい粗化面であることを特徴とする半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
Ｎ×Ｍ個（Ｎは２以上の整数、Ｍは１以上の整数）の個別領域を有する配線基板を準備し、前記各個別領域における前記配線基板の上面に半導体素子を実装する工程と、
本体部と、前記本体部と一体に形成され、前記本体部の端部から外側に突出して前記本体部と段差状に形成された突出部とを有する放熱板がＮ×Ｍ個連結された大判の放熱板を準備する工程と、
前記放熱板の側面に、前記本体部の上面よりも表面粗度の大きい粗化面を形成する工程と、
前記大判の放熱板を前記突出部の所定部分で切断し、Ｎ×Ｍ個の前記放熱板を各々個別に分割する工程と、
前記分割後のＮ×Ｍ個の前記放熱板を一括して吸着し、前記各放熱板を前記各半導体素子上に搬送する工程と、
前記本体部が前記半導体素子と平面視で重なるように、前記半導体素子の背面上に接着剤を介して前記各放熱板を接着する工程と、
前記各放熱板と前記配線基板との間の空間を充填し、前記突出部の上下両面及び側面を被覆し、前記本体部の上面を露出する封止樹脂を形成する工程と、
切断領域上に配置された前記封止樹脂と前記配線基板とを切断して個片化する工程と、を有し、
前記切断領域は、前記各個別領域において前記突出部よりも外側に設定されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一観点によれば、配線基板と、前記配線基板に実装された半導体素子と、前記半導体素子の上面に接着剤を介して設けられた放熱板と、前記放熱板と前記配線基板との間に充填された封止樹脂と、を有し、前記放熱板は、前記半導体素子と平面視で重なるように形成され、前記半導体素子の平面形状よりも平面形状が大きく形成された本体部と、前記本体部と一体に形成され、前記本体部の端部から外側に突出するように形成され、前記本体部よりも低い位置に設けられた突出部と、を有し、前記封止樹脂は、前記突出部の上下両面及び側面を被覆するように形成され、前記本体部の上面は、前記封止樹脂から露出され、前記突出部の先端面を除く前記放熱板の側面は、前記本体部の上面よりも表面粗度の大きい粗化面である。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月27日(2019.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコンを含み、開口部を有する基板と、
前記基板の上に設けられ、酸化シリコンおよび窒化シリコンの少なくともいずれかを含み、前記開口部の上方に設けられた孔を有するハードマスクと、
前記ハードマスクの上に設けられ、前記開口部の上方に設けられたパターンを有するレジストマスクと、
を備えた処理物の処理方法であって、
前記処理物に処理液を供給して、前記孔の近傍において、前記ハードマスクの厚みを前記孔の中心側に向かうに従い漸減させる工程と、
前記処理物に、プラズマを用いて生成したラジカルを供給して、前記開口部の開口の周縁に丸みを形成する工程と、
を備えた処理物の処理方法。
【請求項２】
前記処理液は、フッ化水素の濃度が０．５ｗｔ％以下のフッ酸である請求項１記載の処理物の処理方法。
【請求項３】
前記処理液は、バッファードフッ酸である請求項１記載の処理物の処理方法。
【請求項４】
前記バッファードフッ酸におけるフッ化水素の濃度が１ｗｔ％以下である請求項３記載の処理物の処理方法。
【請求項５】
前記開口部の開口の周縁に丸みを形成する工程において、前記基板に対する前記ハードマスクの選択比が、０．５以上、２以下とされる請求項１〜４のいずれか１つに記載の処理物の処理方法。
【請求項６】
前記ラジカルは、フッ素ラジカルである請求項１〜５のいずれか１つに記載の処理物の処理方法。
【請求項７】
シリコンを含み、開口部を有する基板と、
前記基板の上に設けられ、酸化シリコンおよび窒化シリコンの少なくともいずれかを含み、前記開口部の上方に設けられた孔を有するハードマスクと、
前記ハードマスクの上に設けられ、前記開口部の上方に設けられたパターンを有するレジストマスクと、
を備えた処理物の処理装置であって、
前記処理物に処理液を供給して、前記孔の近傍において、前記ハードマスクの厚みを前記孔の中心側に向かうに従い漸減させるウェット処理部と、
前記処理物に、プラズマを用いて生成したラジカルを供給して、前記開口部の開口の周縁に丸みを形成するドライ処理部と、
を備えた処理物の処理装置。
【請求項８】
前記処理液は、フッ化水素の濃度が０．５ｗｔ％以下のフッ酸である請求項７記載の処理物の処理装置。
【請求項９】
前記処理液は、バッファードフッ酸である請求項７記載の処理物の処理装置。
【請求項１０】
前記バッファードフッ酸におけるフッ化水素の濃度が１ｗｔ％以下である請求項９記載の処理物の処理装置。
【請求項１１】
前記ドライ処理部は、前記開口部の開口の周縁に丸みを形成する際に、前記基板に対する前記ハードマスクの選択比が、０．５以上、２以下となるようにする請求項７〜１０のいずれか１つに記載の処理物の処理装置。
【請求項１２】
前記ラジカルは、フッ素ラジカルである請求項７〜１１のいずれか１つに記載の処理物の処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
また、バッファードフッ酸は、粘性が高い溶液のためハードマスク１０１とレジストマスク１０２の間に浸入しにくく、バッファードフッ酸の濃度が３ｗｔ％程度でも、フッ酸に比べて浸食は起こり難い。そのため、レジストの剥離レートを遅くすることができ、ハードマスク１０１の除去レートの制御をすることが容易になる。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月26日(2019.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）パーム系油脂である原料油脂を融解する工程、
（ｂ）前記油脂を、前記油脂の融解温度をＡ（℃）として（Ａ−１２）≦ｔ≦Ａとなる温度ｔ（℃）に冷却する工程、
（ｃ）前記温度にある油脂中に、油脂を局所的にα型結晶が生成する温度以下に冷却することにより、又は、α型結晶のプレシードを油脂に添加することにより、α型結晶のプレシードを存在させる工程、及び
（ｄ）前記プレシードからβ型結晶のシードを形成させる工程
を含む、分別された油脂の製造方法。
【請求項２】
前記（ｃ）の工程における局所的な冷却が、前記油脂がα型結晶を生成する温度以下にある冷却体を油脂の一部に接触させることにより行われる、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
局所的な冷却の温度が、それ以外の部分の油脂の温度より１０℃以上低い、請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記（ｄ）の工程が、前記油脂の結晶化開始温度以上で行われる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
（ａ）パーム系油脂である原料油脂を融解する工程、
（ｂ）前記油脂を、前記油脂の融解温度をＡ（℃）として（Ａ−１２）≦ｔ≦Ａとなる温度ｔ（℃）に冷却する工程、
（ｃ）前記温度にある油脂中に、油脂を局所的にα型結晶が生成する温度以下に冷却することにより、又は、α型結晶のプレシードを油脂に添加することにより、α型結晶のプレシードを存在させる工程、及び
（ｄ）前記プレシードからβ型結晶のシードを形成させる工程
を含む、油脂結晶シードの調製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月4日(2019.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イミダフェナシン、１または２以上の薬学的に許容される賦形剤、並びにヒドロキシプロピルセルロースおよびポリビニルアルコールからなる群から選ばれる結合剤を含有する、イミダフェナシンを含有する造粒物。
【請求項２】
賦形剤がセルロース類、デンプン類および糖アルコール類からなる群から選ばれ、結合剤がヒドロキシプロピルセルロースである、請求項１に記載の造粒物。
【請求項３】
請求項１または２に記載のイミダフェナシンを含有する造粒物、および１または２以上の薬学的に許容される添加剤を含有する、イミダフェナシンを０．１ｍｇ含有する錠剤。
【請求項４】
薬学的に許容される添加剤が薬学的に許容される賦形剤および／または滑沢剤である、請求項３に記載の錠剤。
【請求項５】
薬学的に許容される賦形剤が結晶セルロースであり、薬学的に許容される滑沢剤がステアリン酸マグネシウムである、請求項４に記載の錠剤。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月1日(2019.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性エネルギー線重合性モノマーを含有する活性エネルギー線硬化型インク組成物であって、
前記活性エネルギー線重合性モノマーとして、炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートを含有し、
前記炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートの硫黄元素の含有量が、２．０ｐｐｍ以下である、活性エネルギー線硬化型インク組成物。
【請求項２】
インクジェット用インクとして用いられる、請求項１に記載の活性エネルギー線硬化型インク組成物。
【請求項３】
前記活性エネルギー線重合性モノマーの全量における、
前記炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートの含有量が５質量％以上８０質量％以下である、請求項１又は２に記載の活性エネルギー線硬化型インク組成物。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化型インク組成物を６０℃２８日放置し、保管試験前の前記活性エネルギー線硬化型インク組成物の粘度Ｖａ（単位はｍＰａ・ｓ）と保管試験後の前記活性エネルギー線硬化型インク組成物の粘度Ｖｂ（単位はｍＰａ・ｓ）の比である（Ｖｂ−Ｖａ）／Ｖａ×１００（単位は％）が−１５％超１５％未満である、活性エネルギー線硬化型インク組成物。
【請求項５】
炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートの硫黄元素の含有量が２．０ｐｐｍ以下となるように精製を行う、インクジェット方式により吐出される活性エネルギー線硬化型インク組成物用の炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートの製造方法。
【請求項６】
基材上に、請求項１から４のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化型インク組成物の硬化膜であるインク硬化膜層が形成された積層体。
【請求項７】
請求項１から４のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化型インク組成物を使用して基材上に画像及び／又は凹凸像を形成する像形成方法。
【請求項８】
請求項１から４のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化型インク組成物を使用して基材上に画像及び／又は凹凸像を形成する印刷物の製造方法。
【請求項９】
活性エネルギー線重合性モノマーを含有する分散液であって、
前記活性エネルギー線重合性モノマーとして、炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートを含有し、
前記炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートの硫黄元素の含有量が、２．０ｐｐｍ以下である、分散液。
【請求項１０】
前記活性エネルギー線重合性モノマーの全量における、
前記炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートの含有量が３０質量％以上１００質量％以下である、請求項９に記載の分散液。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載の分散液を６０℃ＲＨ７日放置し、保管試験前の前記分散液の粘度Ｖａ（単位はｍＰａ・ｓ）と保管試験後の前記分散液の粘度Ｖｂ（単位はｍＰａ・ｓ）の比である（Ｖｂ−Ｖａ）／Ｖａ×１００（単位は％）が−１５％超１５％未満である、分散液。
【請求項１２】
活性エネルギー線硬化型インク組成物として用いられる炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートの検査方法であって、
前記炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートの硫黄元素の含有量が、２．０ｐｐｍ以下の場合に、前記炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートを良と判定する、炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートの検査方法。
【請求項１３】
前記炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートは、アルキル基が結合されていてもよいシクロアルキル基を有する（メタ）アクリレートである、請求項１から４のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化型インク組成物。
【請求項１４】
前記炭素数４以上８以下の脂環構造を有する（メタ）アクリレートの合成の際に生じる不純物に由来する硫黄元素を含む、請求項１から４及び１３のいずれかに記載の活性エネルギー線硬化型インク組成物。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年8月26日(2019.8.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
クマリン、プロパルギルアルコール、ジエチルプロパルギルジオール、スルホン酸ナフタレン、アリルスルホン酸ナトリウムのようなニッケル電気めっき浴中で典型的に使用される従来の光沢材は、本発明のニッケル電気めっき組成物から排除される。サッカリン酸ナトリウム、スルホン酸ニッケル、スルファミン酸ニッケル、スルファミン酸、及び特定の硫黄含有界面活性剤を除いて、本発明のニッケル電気めっき組成物は、好ましくは硫黄含有化合物を実質的に含まない。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
使用できる界面活性剤の例は、ジ（１，３−ジメチルブチル）スルホコハク酸ナトリウム、２−エチルヘキシル硫酸ナトリウム、スルホコハク酸ジアミルナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ジ−アルキルスルホコハク酸ナトリウム及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、及びカチオン性界面活性剤、例えば過フッ素化第四級アミンのような第四級アンモニウム塩が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月31日(2019.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変速機構が配置された第１室と、
変速機コントローラが配置される第２室と、
前記第２室の少なくとも一部を構成する蓋部と、を有し、
前記変速機コントローラは前記蓋部に搭載されており、
前記変速機構は前記変速機コントローラの指令に基づき駆動されることを特徴とする自動変速機。
【請求項２】
変速機コントローラが搭載された蓋部と、
前記前記変速機コントローラの指令に基づき駆動される変速機構が配置された第１室と、
前記蓋部で封止される第２室と、を有することを特徴とする自動変速機。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記変速機コントローラと接続されるコネクタを有し、
前記コネクタは前記蓋部に搭載されていることを特徴とする自動変速機。
【請求項４】
変速機構が配置された第１室と、
変速機コントローラ及び電動オイルポンプが配置される第２室と、
前記第２室の一部を構成する蓋部と、を有し、
前記変速機構は前記変速機コントローラの指令に基づき駆動される自動変速機の製造方法であって、
前記電動オイルポンプを前記第２室内に配置した後、前記変速機コントローラが搭載された前記蓋部を取り付けることを特徴とする自動変速機の製造方法。
【請求項５】
変速機コントローラが搭載された蓋部と、
前記前記変速機コントローラの指令に基づき駆動される変速機構が配置された第１室と、
前記蓋部で封止され、電動オイルポンプが配置された第２室と、を有する自動変速機の製造方法であって、
前記電動オイルポンプを前記第２室内に配置した後、前記変速機コントローラが搭載された前記蓋部を取り付けることを特徴とする自動変速機の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、
変速機構が配置された第１室と、
変速機コントローラが配置される第２室と、
前記第２室の少なくとも一部を構成する蓋部と、を有し、
前記変速機コントローラは前記蓋部に搭載されており、
前記変速機構は前記変速機コントローラの指令に基づき駆動される構成の自動変速機とした。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月31日(2019.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変速機構が配置された第１室と、
電動オイルポンプが配置された第２室と、
前記第２室内に配置された変速機コントローラと、を有し、
前記変速機構は前記変速機コントローラの指令に基づき駆動されることを特徴とする自動変速機。
【請求項２】
変速機コントローラが搭載された蓋部と、
前記前記変速機コントローラの指令に基づき駆動される変速機構が配置された第１室と、
前記蓋部で封止され、電動オイルポンプが配置された第２室と、を有することを特徴とする自動変速機。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記第２室内に前記変速機コントローラと接続するワイヤハーネスを有することを特徴とする自動変速機。
【請求項４】
請求項１又は２において、
前記第２室内に前記変速機コントローラと接続するワイヤハーネスと、
前記ワイヤハーネスを介して前記変速機コントローラと接続されるコントロールバルブユニットと、を有することを特徴とする自動変速機。
【請求項５】
請求項１又は２において、
コントロールバルブユニットが配置された第３室を有し、
前記第２室と前記第３室とを連通させる孔を有し、
前記変速機コントローラと前記コントロールバルブユニットとは、前記孔に挿入されたワイヤハーネスを介して接続されていることを特徴とする自動変速機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、
変速機構が配置された第１室と、
電動オイルポンプが配置された第２室と、
前記第２室内に配置された変速機コントローラと、を有し、
変速機構は変速機コントローラの指令に基づき駆動される構成の自動変速機とした。