Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月19日(2019.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面側にバックグラインディングテープを貼り付けてなるウェーハを、ダイシングテープが貼られたリングフレーム上にマウントする半導体製造装置において、
エアの導入により徐々に膨らみ、その膨らみにより前記ダイシングテープを前記ウェーハに徐々に押し付け、該ダイシングテープと前記ウェーハを貼り合わせてマウントするバルーンと、
前記ウェーハの保持を解除することなく前記ウェーハの小片化及び前記小片化された各ウェーハを個別にマウントする保持手段と、
を備えることを特徴とする半導体製造装置。
【請求項２】
前記ダイシングテープを挟んで上側に前記ウェーハを配置し、下側に前記バルーンを配置してなる、ことを特徴とする請求項１に記載の半導体製造装置。
【請求項３】
前記ウェーハは、略円板状をした１個のウェーハから複数個に分割して小片化されている、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体製造装置。
【請求項４】
ダイシングテープが貼られたリングフレーム上にウェーハをマウントする半導体の製造方法において、
エアが導入されて徐々に膨らまされるバルーンを、前記ウェーハに対して前記ダイシングテープ越しに配置し、前記バルーンの膨らみに伴わせて前記ダイシングテープを前記ウェーハに向けて押し付け、前記ウェーハを保持する保持手段が前記ウェーハを小片化した後に前記ウェーハの保持を解除することなく前記小片化された各ウェーハを個別にマウントする、ことを特徴とする半導体の製造方法。
【請求項５】
前記ダイシングテープを挟んで上側に前記ウェーハを配置し、前記バルーンを前記ダイシングテープの下側から膨らませて前記ダイシングテープを前記ウェーハに押し付けるようにしてなる、ことを特徴とする請求項４に記載の半導体製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項１記載の発明は、表面側にバックグラインディングテープを貼り付けてなるウェーハを、ダイシングテープが貼られたリングフレーム上にマウントする半導体製造装置において、エアの導入により徐々に膨らみ、その膨らみにより前記ダイシングテープを前記ウェーハに徐々に押し付け、該ダイシングテープと前記ウェーハを貼り合わせてマウントするバルーンと、前記ウェーハの保持を解除することなく前記ウェーハの小片化及び前記小片化された各ウェーハを個別にマウントする保持手段と、を備える半導体製造装置を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項４記載の発明は、ダイシングテープが貼られたリングフレーム上にウェーハをマウントする半導体の製造方法において、エアが導入されて徐々に膨らまされるバルーンを、前記ウェーハに対して前記ダイシングテープ越しに配置し、前記バルーンの膨らみに伴わせて前記ダイシングテープを前記ウェーハに向けて押し付け、前記ウェーハを保持する保持手段が前記ウェーハを小片化した後に前記ウェーハの保持を解除することなく前記小片化された各ウェーハを個別にマウントする、半導体の製造方法を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本発明はウェーハをダイシングテープに貼り付ける際、ウェーハとダイシングテープとの間に入り込む気泡を無くし、リングフレームのダイシングテープ上に密着させて精度良くマウントすることができる半導体の製造方法を提供するという目的を達成するために、ダイシングテープが貼られたリングフレーム上にウェーハをマウントする半導体の製造方法において、膨らまされたバルーンを、前記ダイシングテープ越しに前記ウェーハに向けて押し付け、前記ウェーハを保持する保持手段が前記ウェーハを小片化した後に前記ウェーハの保持を解除することなく前記小片化された各ウェーハを個別にマウントする、ようにしたことにより実現した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、本発明はウェーハをダイシングテープに貼り付ける際に、ウェーハの形状やサイズ等の加工条件による影響を受けることなくウェーハとダイシングテープとの間に入り込む気泡を無くし、リングフレームのダイシングテープ上に密着させて精度良くマウントすることができる半導体製造装置を提供するという目的を達成するために、表面側にバックグラインディングテープを貼り付けてなるウェーハを、ダイシングテープが貼られたリングフレーム上にマウントする半導体製造装置において、エアの導入により徐々に膨らみ、その膨らみにより前記ダイシングテープを前記ウェーハに徐々に押し付け、該ダイシングテープと前記ウェーハを貼り合わせてマウントするバルーンと、前記ウェーハの保持を解除することなく前記ウェーハの小片化及び前記小片化された各ウェーハを個別にマウントする保持手段と、を備えるようにして実現した。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月24日(2019.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
局部発振光を出力する局部発振光源と、
入力する多重光信号を減衰させる可変光減衰器と、
前記減衰された多重光信号から、前記局部発振光と干渉する光信号を受信する光ハイブリッド回路と、
前記受信した光信号を電気信号に変換する光電変換器と、
前記電気信号を印加電圧に応じた利得で増幅する増幅器と、を備え、
前記可変光減衰器は、前記増幅器の利得に対応する前記印加電圧に応じて、前記入力する多重光信号の減衰量を制御する、光受信器。
【請求項２】
前記増幅器は、自動利得制御により前記印加電圧を制御する
請求項１に記載の光受信器。
【請求項３】
前記可変光減衰器は、前記自動利得制御による前記印加電圧の低下に応じて、減衰量を増大させる
請求項２に記載の光受信器。
【請求項４】
前記自動利得制御において、前記増幅された電気信号の電圧及び前記増幅された電気信号の目標電圧に基づき前記印加電圧を制御する
請求項２又は３に記載の光受信器。
【請求項５】
前記増幅器は、トランスインピーダンスアンプを含む
請求項１乃至４のいずれか一つに記載の光受信器。
【請求項６】
前記可変光減衰器を制御する制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記印加電圧をモニタし、モニタした前記印加電圧に応じて前記入力する多重光信号の減衰量を制御する
請求項１乃至５のいずれか一つに記載の光受信器。
【請求項７】
前記増幅された電気信号をデジタル信号に変換するアナログデジタル変換器と、
前記デジタル信号を処理するデジタル信号処理部と、をさらに備える
請求項１乃至６のいずれか一つに記載の光受信器。
【請求項８】
前記可変光減衰器は、前記印加電圧と前記印加電圧に関する参照値とに応じて、前記入力する多重光信号を減衰させる
請求項１乃至７のいずれか一つに記載の光受信器。
【請求項９】
前記局部発振光源は、前記印加電圧に応じた光パワーを有する前記局部発振光を出力する
請求項１乃至８のいずれか一つに記載の光受信器。
【請求項１０】
局部発振光を出力し、
入力する多重光信号を減衰させ、
前記減衰した多重光信号から、前記局部発振光と干渉する光信号を受信し、
前記受信した光信号を電気信号に変換し、
前記電気信号を印加電圧に応じた利得で増幅し、
前記利得に対応する前記印加電圧に応じて、前記入力する多重光信号の減衰量を制御する
光通信方法。
【請求項１１】
自動利得制御により前記印加電圧の変化を制御する
請求項１０に記載の光通信方法。
【請求項１２】
前記自動利得制御による前記印加電圧の低下に応じて、前記入力する多重光信号の減衰量を増大させる
請求項１１に記載の光通信方法。
【請求項１３】
前記自動利得制御において、前記増幅された電気信号の電圧及び前記増幅された電気信号の目標電圧に基づき前記印加電圧を制御する
請求項１１又は１２に記載の光通信方法。
【請求項１４】
前記印加電圧をモニタし、
モニタした前記印加電圧に応じて前記入力する多重光信号の減衰量を制御する
請求項１０乃至１３のいずれか一つに記載の光通信方法。
【請求項１５】
前記増幅された電気信号をデジタル信号に変換し、
前記デジタル信号を処理する
請求項１０乃至１４のいずれか一つに記載の光通信方法。
【請求項１６】
前記印加電圧と前記印加電圧に関する参照値とに応じて、前記入力する多重光信号を減衰させる
請求項１０乃至１５のいずれか一つに記載の光通信方法。
【請求項１７】
前記印加電圧に応じた光パワーを有する前記局部発振光を出力する
請求項１０乃至１６のいずれか一つに記載の光通信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月13日(2019.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
茹で済み麺類を、ＤＥ４〜８のデキストリンを２０〜３５重量％含有する調味液中で加熱殺菌することを特徴とする麺類の調理済みレトルト食品の製造方法。
【請求項２】
茹で済み麺類が、ほうとうである請求項１記載の調理済みレトルト食品の製造方法。
【請求項３】
茹で済み麺類が、うどんである請求項１記載の調理済みレトルト食品の製造方法。
【請求項４】
調味液が、味噌味を主体とする請求項２に記載するほうとうの調理済みレトルト食品の製造方法。
【請求項５】
里芋、かぼちゃ、ニンジン、椎茸、油揚げ、豚肉から選ばれる１以上をほうとう以外の具として調味液に添加して加熱殺菌する請求項２に記載するほうとうの調理済みレトルト食品の製造方法。
【請求項６】
ｐＨ調整剤を添加して、殺菌前の調味液のｐＨを４．６〜４．８に調整する請求項２〜請求項５のいずれかに記載するほうとう、又はうどんの調理済みレトルト食品の製造方法。
【請求項７】
Ｆ値４以上で加熱殺菌する請求項１〜請求項６のいずれかに記載する調理済みレトルト食品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本願発明は、下記の請求項１〜請求項７により構成されている。
＜請求項１＞  茹で済み麺類を、ＤＥ４〜８のデキストリンを２０〜３５重量％含有する調味液中で加熱殺菌することを特徴とする麺類の調理済みレトルト食品の製造方法。
＜請求項２＞  茹で済み麺類が、ほうとうである請求項１記載の調理済みレトルト食品の製造方法。
＜請求項３＞  茹で済み麺類が、うどんである請求項１記載の調理済みレトルト食品の製造方法。
＜請求項４＞  調味液が、味噌味を主体とする請求項２に記載するほうとうの調理済みレトルト食品の製造方法。
＜請求項５＞  里芋、かぼちゃ、ニンジン、椎茸、油揚げ、豚肉から選ばれる１以上をほうとう以外の具として調味液に添加して加熱殺菌する請求項２に記載するほうとうの調理済みレトルト食品の製造方法。
＜請求項６＞  ｐＨ調整剤を添加して、殺菌前の調味液のｐＨを４．６〜４．８に調整する請求項２〜請求項５のいずれかに記載するほうとう、又はうどんの調理済みレトルト食品の製造方法。
＜請求項７＞  Ｆ値４以上で加熱殺菌する請求項１〜請求項６のいずれかに記載する調理済みレトルト食品の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本願発明を以上のように構成する理由は、下記のとおりである。
（ａ）調味液に添加するデキストリンのＤＥを、請求項１に記載するように、ＤＥ４〜８の範囲に限定するのは、請求項1で限定した範囲内においてＤＥ４未満のものは高粘度である為、最終製品の食感が損なわれ、ＤＥ８を超えるものは甘味を感じやすくなり、本願発明の目的以外の弊害を起こしてしまうからである。
（ｂ）調味液に添加するデキストリンの濃度を、請求項１に記載するように、２０〜３５重量％に限定するのは、２０重量％より少ないと煮崩れ防止効果が十分に発揮されず、３５重量％を超えると、調味液の粘度が大きくなり過ぎ、食感が損なわれるからである。
（ｃ）請求項２おいて麺類をほうとうに、また請求項３において麺類をうどんに限定するのは、これらの麺類は質感があるので、調理後時間が経過してから食べる機会が多く、またレトルト食品（加圧殺菌）に適しているからである。
（ｄ）請求項４において、調味液をみそ味を主体とするのは、ほうとうは伝統的にみそ味にすることが多いからである。
（ｅ）請求項５において、里芋、かぼちゃ、ニンジン、椎茸、油揚げ、豚肉から選ばれる１以上をほうとう以外の具として限定するのは、ほうとう料理にはこれらの具を使用することが多いからである。
（ｆ）請求項６において、ｐＨ調整剤を併用するのは、ｐＨを４．６〜４．８に調節すると、麺の保水性が維持されて食感が向上し（調整剤を使用しないと、通常ｐＨは５以上になる）、その効果からＤＥ値が高いデキストリンを使用しても麺の強度を保ち、調味液の粘度の上昇を抑えることができるためである。また、ｐＨを下げることで加熱殺菌中、保管中のメイラード反応を抑制する効果があることが広く知られており、味噌の褐変抑制、風味維持、レトルト食品の長期保管における品質の保持にも役立つからである。
（ｇ）請求項７において、Ｆ値を４以上とするのは、通常のレトルト食品の製造において義務付けられているからである。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月14日(2019.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）野生型pIIIタンパク質をコードする第１の核酸配列、および
（ｉｉ）pIII産生と干渉する遺伝子産物をコードする第２の核酸配列
を含む単離された核酸を含む、二重選択ベクター。
【請求項２】
pIII産生と干渉する遺伝子産物が、pIIIのドミナントネガティブなバージョンである、請求項１に記載の二重選択ベクター。
【請求項３】
pIII産生と干渉する遺伝子産物が、pIIIの発現を阻害するアンチセンスＲＮＡである、請求項１に記載の二重選択ベクター。
【請求項４】
pIII産生と干渉する遺伝子産物が、pIII-negである、請求項１または２に記載の二重選択ベクター。
【請求項５】
第１の核酸配列が第１のプロモーターに作動的に連結されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の二重選択ベクター。
【請求項６】
第２の核酸配列が第２のプロモーターに作動的に連結されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の二重選択ベクター。
【請求項７】
第１のプロモーターおよび第２のプロモーターが異なる、請求項５または６に記載の二重選択ベクター。
【請求項８】
第１のプロモーターおよび／または第２のプロモーターが誘導性プロモーターである、請求項５〜７のいずれか一項に記載の二重選択ベクター。
【請求項９】
誘導性プロモーターが、アラビノース誘導型プロモーター、テトラサイクリン誘導型プロモーター、ドキシサイクリン誘導型プロモーター、またはタモキシフェン誘導型プロモーターである、請求項８に記載の二重選択ベクター。
【請求項１０】
第１のプロモーターまたは第２のプロモーターが、ラムダリプレッサー（cI）結合部位を含む、請求項５〜７のいずれか一項に記載の二重選択ベクター。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の二重選択ベクターを含む宿主細胞。
【請求項１２】
宿主細胞がE. coliである、請求項１１に記載の宿主細胞。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月9日(2019.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノードを含む分散型ストレージシステムであって、
前記ノードは、
データが格納されるボリュームを管理し、前記ボリュームに格納されたデータへのアクセスを管理する、プロセッサと、
前記ボリュームに格納されたデータを物理的に格納する記憶ドライブと、を含み、
前記ボリュームは、当該ボリュームと同じノード又は異なるノードの前記記憶ドライブに対応付けられており、
前記ボリュームに格納されたデータは、当該ボリュームに対応付けられた前記記憶ドライブに物理的に格納され、
前記プロセッサは、
前記ノードのＩ／Ｏ性能にかかるアクセス性能情報を設定し、
前記ノードの記憶ドライブに格納されたデータごとのＩ／Ｏ負荷を、前記同じノードのボリュームにかかる自系Ｉ／Ｏ負荷と、前記異なるノードのボリュームにかかる他系Ｉ／Ｏ負荷と、して算出し、
前記自系Ｉ／Ｏ負荷及び前記他系Ｉ／Ｏ負荷と、前記アクセス性能情報とに基づいて、前記ノードに格納するデータを特定し、
前記データの特定に基づいて、前記データの前記ボリュームへの割り当てを変更する
ことを特徴とする分散型ストレージシステム。
【請求項２】
請求項１に記載の分散型ストレージシステムであって、
さらに、前記ノード間のネットワーク性能にかかるネットワーク性能情報を設定し、
前記自系Ｉ／Ｏ負荷及び前記他系Ｉ／Ｏ負荷と、前記アクセス性能情報と、ネットワーク性能情報とに基づいて、前記ノードに格納するデータを特定し、
前記データの特定に基づいて、前記データの前記ボリュームへの割り当てを変更する
ことを特徴とする分散型ストレージシステム。
【請求項３】
請求項２に記載の分散型ストレージシステムであって、
前記データの前記自系Ｉ／Ｏ負荷及び前記他系Ｉ／Ｏ負荷と、前記アクセス性能情報とに基づいて、前記ノードに格納する第１のデータ量を算出し、
前記データの前記自系Ｉ／Ｏ負荷及び前記他系Ｉ／Ｏ負荷と、前記ネットワーク性能情報とに基づいて、前記ノードに格納する第２のデータ量を算出し、
前記第１のデータ量及び前記第２のデータ量に基づいて、前記ノードが格納するデータ量を算出する
ことを特徴とする分散型ストレージシステム。
【請求項４】
請求項３に記載の分散型ストレージシステムであって、
前記データについて自系Ｉ／Ｏ負荷の高い順に積算した前記自系Ｉ／Ｏ負荷と他系Ｉ／Ｏ負荷の総和と、前記アクセス性能情報とに基づいて、前記第１のデータ量を算出し、
前記データについて自系Ｉ／Ｏ負荷の高い順に積算した前記他系Ｉ／Ｏ負荷の総和と、前記ネットワーク性能情報とに基づいて、前記第２のデータ量を算出し、
前記第１のデータ量と前記第２のデータ量のうち小さい方のデータ量のデータを、自系Ｉ／Ｏ負荷の高い順に前記ノードに格納するデータ量として特定する
ことを特徴とする分散型ストレージシステム。
【請求項５】
請求項４に記載の分散型ストレージシステムであって、
前記ボリュームの容量情報に基づいて、第３のデータ量を算出し、
前記第１のデータ量、前記第２のデータ量及び第３のデータ量のうち、最も小さいデータ量を用いて、前記ノードに格納するデータを特定する
ことを特徴とする分散型ストレージシステム。
【請求項６】
請求項１に記載の分散型ストレージシステムであって、
前記ノードに格納すると特定されたデータのうち、前記異なるノードのボリュームに格納されているデータを、前記同じノードのボリュームに移動させる
ことを特徴とする分散型ストレージシステム。
【請求項７】
請求項１に記載の分散型ストレージシステムであって、
入出力性能が異なる複数の階層を設定可能であり、
前記各データにおける前記Ｉ／Ｏ負荷に基づいて、前記データの階層を設定し、
設定された前記階層ごとに、前記データを特定して移動要否を判定する
ことを特徴とする分散型ストレージシステム。
【請求項８】
請求項６に記載の分散型ストレージシステムであって、
入出力性能が異なる複数の階層を設定可能であり、
前記データを移動させた後のノード内のデータのＩ／Ｏ負荷分布に基づいて、前記データの階層を設定して階層移動させる
ことを特徴とする分散型ストレージシステム。
【請求項９】
請求項６に記載の分散型ストレージシステムであって、
前記ボリュームの容量情報に基づいて、第３のデータ量を算出し、
前記データを移動させた後のノードのボリューム内のデータ量と、前記第３のデータ量とに基づいて、リバランス要否を判定し、
前記リバランスが必要の場合には、前記ボリューム内のデータを他ノードに移動させる
ことを特徴とする分散型ストレージシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の代表的な一例は、複数のノードを含む分散型ストレージシステムであって、前記ノードは、データが格納されるボリュームを管理し、前記ボリュームに格納されたデータへのアクセスを管理する、プロセッサと、前記ボリュームに格納されたデータを物理的に格納する記憶ドライブと、を含み、前記ボリュームは、当該ボリュームと同じノード又は異なるノードの前記記憶ドライブに対応付けられており、前記ボリュームに格納されたデータは、当該ボリュームに対応付けられた前記記憶ドライブに物理的に格納され、前記プロセッサは、前記ノードのＩ／Ｏ性能にかかるアクセス性能情報を設定し、前記ノードの記憶ドライブに格納されたデータごとのＩ／Ｏ負荷を、前記同じノードのボリュームにかかる自系Ｉ／Ｏ負荷と、前記異なるノードのボリュームにかかる他系Ｉ／Ｏ負荷と、して算出し、前記自系Ｉ／Ｏ負荷及び前記他系Ｉ／Ｏ負荷と、前記アクセス性能情報とに基づいて、前記ノードに格納するデータを特定し、前記データの特定に基づいて、前記データの前記ボリュームへの割り当てを変更する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３２１】
仮想ページを自系プールボリュームに割り当てる場合、ノード１０１は、当該仮想ページの他系アクセスを、ネットワークを介して受信する。したがって、プロセッサ１１９は、他系Ｉ／Ｏ負荷が自系ネットワーク性能内となるように、ネットワーク限界２４５を決定する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３４２】
未処理の仮想ページが残っている場合（Ｓ２４０：Ｎ）、プロセッサ１１９はステップＳ２３４に戻る。全仮想ページの処理が終了すると（Ｓ２４０：Ｙ）、プロセッサ１１９は、本処理を終了する。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月25日(2019.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域を形成する遊技盤と、
前記遊技盤が保持される第１保持枠と、前記遊技領域の正面側に位置する透過板が保持される第２保持枠とを少なくとも含む複数の枠体と、
前記枠体に取り付けられ、機種毎に固有に割り当てられた識別情報が対応付けられた構造体と、
前記構造体から取得する前記識別情報に基づいて、前記構造体が前記遊技盤に対応するものであるか否かの識別を行う制御部と、を備え、
前記構造体では、前記構造体における検出部の検出結果が、前記識別情報を構成するビットとして入力ポートに入力され、前記検出結果を前記識別情報として前記制御部に送信する入力部を備える遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の遊技機は、遊技領域を形成する遊技盤と、遊技盤が保持される第１保持枠と、遊技領域の正面側に位置する透過板が保持される第２保持枠とを少なくとも含む複数の枠体と、枠体に取り付けられ、機種毎に固有に割り当てられた識別情報が対応付けられた構造体と、構造体から取得する識別情報に基づいて、構造体が遊技盤に対応するものであるか否かの識別を行う制御部と、を備え、構造体では、構造体における検出部の検出結果が、識別情報を構成するビットとして入力ポートに入力され、検出結果を識別情報として制御部に送信する入力部を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２１】
１００  遊技機
１０４  中枠（遊技盤保持枠）
１０６  前枠（枠体）
１０８  遊技盤
２２２ｃ  入力部
３３０  副制御基板（制御部）
４００  意匠ユニット（構造体）
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月25日(2019.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域を形成する遊技盤と、
前記遊技盤が保持される遊技盤保持枠を少なくとも含む１または複数の枠体と、
前記枠体に取り付けられ、機種毎に固有に割り当てられた識別情報が対応付けられた構造体と、
前記構造体から取得する前記識別情報に基づいて、前記構造体が前記遊技盤に対応するものであるか否かの識別を行う制御部と、
を備え、
前記構造体には、所定のハーネスが接続され、
前記所定のハーネスには、ラッチ信号線、クロック信号線、シリアル信号線のうちの少なくとも１つが含まれている遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の遊技機は、遊技領域を形成する遊技盤と、遊技盤が保持される遊技盤保持枠を少なくとも含む１または複数の枠体と、枠体に取り付けられ、機種毎に固有に割り当てられた識別情報が対応付けられた構造体と、構造体から取得する識別情報に基づいて、構造体が遊技盤に対応するものであるか否かの識別を行う制御部と、を備え、構造体には、所定のハーネスが接続され、所定のハーネスには、ラッチ信号線、クロック信号線、シリアル信号線のうちの少なくとも１つが含まれている。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月25日(2019.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域を形成する遊技盤と、
前記遊技盤が保持される第１保持枠と、前記遊技領域の正面側に位置する透過板が保持される第２保持枠とを少なくとも含む複数の枠体と、
前記枠体に取り付けられる複数の構造体と、
前記複数の構造体のうちの少なくともいずれかの構造体が前記遊技盤に対応するものであるか否かの識別を電気的に行う制御部と、
を備える遊技機。
【請求項２】
前記複数の構造体の各々は、シリアル信号を生成する入力部を有し、
前記入力部は、前記複数の構造体に跨って直列的に接続され、
前記複数の構造体それぞれに含まれる入力部のうち、隣接する入力部同士のシリアル信号は、ビット列が連続する請求項１に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の遊技機は、遊技領域を形成する遊技盤と、遊技盤が保持される第１保持枠と、遊技領域の正面側に位置する透過板が保持される第２保持枠とを少なくとも含む複数の枠体と、枠体に取り付けられる複数の構造体と、複数の構造体のうちの少なくともいずれかの構造体が遊技盤に対応するものであるか否かの識別を電気的に行う制御部と、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月25日(2019.4.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域を形成する遊技盤と、
前記遊技盤が保持される第１保持枠と、前記遊技領域の正面側に位置する透過板が保持される第２保持枠とを少なくとも含む複数の枠体と、
前記枠体に取り付けられる構造体と、
前記構造体が前記遊技盤に対応するものであるか否かの識別を行う識別手段と、
前記構造体を前記枠体に取り付けるための機構であって、機種が異なる複数の前記構造体について共通化された取り付け機構と、
を備える遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の遊技機は、遊技領域を形成する遊技盤と、遊技盤が保持される第１保持枠と、遊技領域の正面側に位置する透過板が保持される第２保持枠とを少なくとも含む複数の枠体と、枠体に取り付けられる構造体と、構造体が遊技盤に対応するものであるか否かの識別を行う識別手段と、構造体を枠体に取り付けるための機構であって、機種が異なる複数の構造体について共通化された取り付け機構と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月18日(2019.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
骨の表面の骨欠損（１０；１８）を補填することを意図されたセラミックブロック（１１）を製造する方法において、
−補填する対象の骨欠損（１０；１８）を有する、患者の骨の３次元画像を取得するステップと、
−コンピュータ支援設計を用いて、前記骨欠損（１０；１８）に対応する形状を有し、互いに連通する前記血管再生チャネルの３次元ネットワークを有し、且つ、前記セラミックブロックを製造する際のセラミックの収縮を考慮して前記骨欠損（１０；１８）より僅かに大きいサイズを有するセラミックブロックであって、前記３次元ネットワークが前記セラミックブロック（１１）内に少なくとも一部品に形成され、前記骨欠損（１０；１８）に前記セラミックブロック（１１）が配置されると細胞増殖のための血管再生を可能にする流体及び細胞が通ることができ、前記骨欠損（１０；１８）に前記部品（１１）が配置されると、前記部品（１１）に接触する前記骨欠損（１０；１８）の各表面上に前記血管再生チャネルが開口する、セラミックブロックの計算モデルを設計するステップと、
−前記骨欠損（１０；１８）内に前記セラミックブロックの安定性を確実にするために、前記セラミックブロックの前記計算モデルを、コンピュータ支援設計によって変更するステップと、
ステレオリソグラフィ、又は３Ｄプリント、又は付加製造方法の技術によって、所望の前記セラミックブロックを製造するステップとを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記セラミック材料が、少なくとも部分的に吸収性のセラミック材料、又は、非吸収性セラミック材料であることを特徴とする請求項１に記載された方法。
【請求項３】
前記セラミック材料が、β−リン酸三カルシウム（β−ＴＣＰ）、ヒドロキシアパタイト、及びそれらの任意の割合の混合物から選択されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載された方法。
【請求項４】
前記セラミック材料が、１００重量％に対して、４０〜１００重量％のヒドロキシアパタイト、及び０〜６０重量％のβ−ＴＣＰから構成されていることを特徴とする請求項３に記載された方法。
【請求項５】
前記部品（１１）は、その外側に、前記部品（１１）と一体で、前記骨欠損（１０；１８）の外側の、修復する対象の骨の表面に当接するようになっている、少なくとも１つの安定化アイレット（１３）を有し、
前記安定化アイレット（１３）には、血管再生チャネルが設けられておらず、少なくとも１本の安定化ネジを通すために、少なくとも１つの穴（１４）が貫通し、及び／又は、
少なくとも１つの安定化ネジ（２６）を通すために、少なくとも１つの貫通穴（２５）が、前記部品（１１）を、前記骨欠損（１０；１８）の範囲を定める骨に接触するようになっている表面から、前記骨欠損（１０；１８）の内部に配置された前記部品（１１）の位置を考慮した場合に開放側になる表面へと貫通し、
前記部品（１１）には、少なくとも前記開放側になる表面の周辺部において、前記貫通穴（２５）を囲む領域に血管再生チャネルが設けられていないことを特徴とする、請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載された方法。
【請求項６】
前記部品（１１）には、前記骨欠損（１０；１８）内に配置された前記部品（１１）の位置を考慮した場合に開放側になる表面の領域に血管再生チャネルが設けられていないことを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載された方法。
【請求項７】
血管再生チャネルが、変化する断面を有し、前記骨欠損（１０；１８）に接触するようになっている前記部品（１１）の表面の反対側が開口しているか又は開口していないことを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載された方法。
【請求項８】
血管再生系を形成する前記血管再生チャネルが、１辺が２５０〜６００μｍで許容差が２００μｍの正方形断面を有することを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載された方法。
【請求項９】
血管再生系を形成する前記血管再生チャネルが、前記骨欠損（１０；１８）を定める骨に接触するようになっている前記部品（１１）の領域では、前記部品（１１）の芯部領域より大きな断面を有するか、又は前記血管再生チャネルの密度が、前記骨欠損に接触するようになっている前記部品の領域において、より大きいことを特徴とする請求項１から請求項８までのいずれか一項に記載された方法。
【請求項１０】
前記大きな断面を有する血管再生チャネルが、２００μｍの許容差を有して一辺が４００μｍ〜６００μｍの正方形断面を有する、請求項９に記載された方法。
【請求項１１】
前記部品（１１）を構成する前記セラミック材料が、体積比５〜３０％の粒間微小多孔質を有し、微小孔の大きさが０．１〜１０μｍであることを特徴とする請求項１から請求項１０までのいずれか一項に記載された方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月15日(2019.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
取得条件の成立に基づいて、第１情報を取得する取得手段と、
その取得手段により取得された前記第１情報が記憶される判定情報記憶手段と、
その判定情報記憶手段に記憶された前記第１情報を判定する判定手段と、
その判定手段に判定されるよりも前に、前記判定情報記憶手段に記憶された前記第１情報に基づく事前判定を実行することが可能な事前判定手段と、
その事前判定手段による事前判定結果を示す事前情報を前記取得条件の成立毎に記憶する事前情報記憶手段と、
前記判定手段による判定結果を示すための識別情報が表示される表示手段と、
その表示手段に前記識別情報を動的表示させる表示制御手段と、
前記識別情報を前記表示手段に動的表示させる判定遊技の動的表示態様として複数の動的表示態様が記憶された動的表示態様記憶手段と、
その動的表示態様記憶手段から、前記判定結果に基づいて、一の動的表示態様を決定する動的表示態様決定手段と、を有した遊技機において、
前記事前情報記憶手段に記憶された前記事前情報に基づいて、特定表示態様を前記表示手段に表示させる回数を決定することが可能な特定表示回数決定手段と、
前記特定表示態様を表示するか否かの判別を前記事前情報に基づいて実行する特定判別手段と、を有し、
前記特定表示回数決定手段は、前記特定判別手段により前記特定表示態様を表示すると判別された場合に、前記事前情報記憶手段に記憶された前記事前情報に対応した前記取得条件の成立回数未満で前記特定表示態様を前記表示手段に表示させる回数を決定するものであり、
前記特定表示態様は、
連続して表示された回数が識別可能な態様で構成されており、
前記特定表示回数決定手段により前記回数が決定された場合に、前記判定情報記憶手段に記憶されたそれぞれの前記第１情報に対応して表示される連続する２つの前記動的表示態様に跨って１回ずつそれぞれ表示されるものであることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記表示手段は、遊技者が視認可能な位置に配置されているものであることを特徴とする請求項１記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この目的を達成するために本発明の遊技機は、取得条件の成立に基づいて、第１情報を取得する取得手段と、その取得手段により取得された前記第１情報が記憶される判定情報記憶手段と、その判定情報記憶手段に記憶された前記第１情報を判定する判定手段と、その判定手段に判定されるよりも前に、前記判定情報記憶手段に記憶された前記第１情報に基づく事前判定を実行することが可能な事前判定手段と、その事前判定手段による事前判定結果を示す事前情報を前記取得条件の成立毎に記憶する事前情報記憶手段と、前記判定手段による判定結果を示すための識別情報が表示される表示手段と、その表示手段に前記識別情報を動的表示させる表示制御手段と、前記識別情報を前記表示手段に動的表示させる判定遊技の動的表示態様として複数の動的表示態様が記憶された動的表示態様記憶手段と、その動的表示態様記憶手段から、前記判定結果に基づいて、一の動的表示態様を決定する動的表示態様決定手段と、を有し、前記事前情報記憶手段に記憶された前記事前情報に基づいて、特定表示態様を前記表示手段に表示させる回数を決定することが可能な特定表示回数決定手段と、前記特定表示態様を表示するか否かの判別を前記事前情報に基づいて実行する特定判別手段と、を有し、前記特定表示回数決定手段は、前記特定判別手段により前記特定表示態様を表示すると判別された場合に、前記事前情報記憶手段に記憶された前記事前情報に対応した前記取得条件の成立回数未満で前記特定表示態様を前記表示手段に表示させる回数を決定するものであり、前記特定表示態様は、連続して表示された回数が識別可能な態様で構成されており、前記特定表示回数決定手段により前記回数が決定された場合に、前記判定情報記憶手段に記憶されたそれぞれの前記第１情報に対応して表示される連続する２つの前記動的表示態様に跨って１回ずつそれぞれ表示されるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の遊技機によれば、取得条件の成立に基づいて、第１情報を取得する取得手段と、その取得手段により取得された前記第１情報が記憶される判定情報記憶手段と、その判定情報記憶手段に記憶された前記第１情報を判定する判定手段と、その判定手段に判定されるよりも前に、前記判定情報記憶手段に記憶された前記第１情報に基づく事前判定を実行することが可能な事前判定手段と、その事前判定手段による事前判定結果を示す事前情報を前記取得条件の成立毎に記憶する事前情報記憶手段と、前記判定手段による判定結果を示すための識別情報が表示される表示手段と、その表示手段に前記識別情報を動的表示させる表示制御手段と、前記識別情報を前記表示手段に動的表示させる判定遊技の動的表示態様として複数の動的表示態様が記憶された動的表示態様記憶手段と、その動的表示態様記憶手段から、前記判定結果に基づいて、一の動的表示態様を決定する動的表示態様決定手段と、を有し、前記事前情報記憶手段に記憶された前記事前情報に基づいて、特定表示態様を前記表示手段に表示させる回数を決定することが可能な特定表示回数決定手段と、前記特定表示態様を表示するか否かの判別を前記事前情報に基づいて実行する特定判別手段と、を有し、前記特定表示回数決定手段は、前記特定判別手段により前記特定表示態様を表示すると判別された場合に、前記事前情報記憶手段に記憶された前記事前情報に対応した前記取得条件の成立回数未満で前記特定表示態様を前記表示手段に表示させる回数を決定するものであり、前記特定表示態様は、連続して表示された回数が識別可能な態様で構成されており、前記特定表示回数決定手段により前記回数が決定された場合に、前記判定情報記憶手段に記憶されたそれぞれの前記第１情報に対応して表示される連続する２つの前記動的表示態様に跨って１回ずつそれぞれ表示されるものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
よって、遊技の興趣を向上できるという効果がある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】１０３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【１０３８】
１０                  パチンコ機（遊技機）
８１                  第３図柄表示装置（表示手段）
１１４ 表示制御装置（表示制御手段の一部）
２０２ ＲＯＭ（動的表示態様記憶手段）
２０３ａ 特別図柄保留球格納エリア（判定情報記憶手段）
２２３ａ 事前情報記憶手段
Ｓ３０６ 判定手段
Ｓ３０８、Ｓ３１０ 動的表示態様決定手段
Ｓ４０６ 取得手段
Ｓ１６０７ 特定判別手段
Ｓ１６１１ 特定表示回数決定手段
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月2日(2019.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データを取得する画像データ取得装置と、
観察対象者との距離に関するデータを測定するレーダー装置と、
地図に関するマッピングデータを取得するマッピングデータ取得装置と、
前記画像データ取得装置、前記レーダー装置、及び、前記マッピングデータ取得装置に接続され、前記画像データ取得装置により取得される画像データ、前記レーダー装置により取得される観察対象者との距離に関するデータ、及び、前記マッピングデータ取得装置により取得される地図に関するマッピングデータを処理する情報処理装置と、
前記画像データ取得装置、前記レーダー装置、及び、前記マッピングデータ取得装置を支持する支持部材と、
前記支持部材、前記画像データ取得装置、前記レーダー装置、及び、前記マッピングデータ取得装置を移動させるための移動装置と、を備える自律移動ロボットであって、
前記情報処理装置は、前記レーダー装置により取得される観察対象者との距離に関するデータに基づいて観察対象者の呼吸又は脈拍に関するデータを取得し、
前記マッピングデータにより取得された地図に関するマッピングデータに基づき、前記移動装置が前記観察対象者から所定の距離を保って移動する前記移動装置の移動量を算出し、
前記情報処理装置が算出した移動量に応じて前記移動装置が移動する、自律移動ロボット。
【請求項２】
前記画像データ取得装置が取得した画像データから観測対象者の複数の体の部位の領域を抽出し、当該抽出した観察対象者の複数の部位の位置関係に基づき観察対象状態データを作成することを特徴とする請求項１に記載の自律移動ロボット。
【請求項３】
前記マッピングデータ取得装置がレーザーセンサーを有することを特徴とする請求項１に記載の自律移動ロボット。
【請求項４】
前記地図に関するマッピングデータが自己の位置データ及び観察対象者の位置データを含むことを特徴とする請求項１に記載の自律移動ロボット。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月19日(2019.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の区画を有するボードと、
前記複数の区画のうちのいずれかに配置可能な第１駒、および、前記複数の区画のうちのいずれかに配置可能な第２駒を含む複数の駒と、
ランダムに数を示すことが可能な数指示具と
を具備する
ボードゲーム用具。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月1日(2019.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
なお、一例として、各描画ラインＳＬ１〜ＳＬ６の実効的な長さ（描画長）を３０ｍｍとし、実効的なサイズφが３μｍのスポット光ＳＰの１／２ずつ、つまり、１．５（＝３×１／２）μｍずつ、オーバーラップさせながらスポット光ＳＰを描画ラインＳＬｎ（ＳＬ１〜ＳＬ６）に沿って基板Ｐの被照射面上に照射する場合、パルス状のスポット光ＳＰは、１．５μｍの間隔で照射される。したがって、１回の走査で照射されるスポット光ＳＰの数は、２００００（＝３０〔ｍｍ〕／１．５〔μｍ〕）となる。また、基板Ｐの副走査方向の送り速度（搬送速度）Ｖｔを２．４２ｍｍ／ｓｅｃとし、副走査方向についてもスポット光ＳＰの走査が１．５μｍの間隔で行われるものとすると、描画ラインＳＬｎに沿った１回の走査開始（描画開始）時点と次の走査開始時点との時間差（周期）Ｔｐｘは、約６２０μｓｅｃ（＝１．５〔μｍ〕／２．４２〔ｍｍ／ｓｅｃ〕）となる。この時間差Ｔｐｘは、８反射面ＲＰのポリゴンミラーＰＭが１面分（４５度＝３６０度／８）だけ回転する時間である。この場合、ポリゴンミラーＰＭの１回転の時間が、約４．９６ｍｓｅｃ（＝８×６２０〔μｓｅｃ〕）となるように設定される必要があるので、ポリゴンミラーＰＭの回転速度Ｖｐは、毎秒約２０１．６１３回転（＝１／４．９６〔ｍｓｅｃ〕）、すなわち、約１２０９６．８ｒｐｍに設定される。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月24日(2019.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体の流れに対向するように配置された多孔板を具備し、
前記多孔板の端部より外側では前記流体が下流側に流れ、前記多孔板の端部は前記流体の流れの上流側に曲がった曲がり領域を有する
騒音低減装置。
【請求項２】
請求項１に記載の騒音低減装置であって、
前記曲がり領域は、前記流体の流れの上流側に凹の形状を有する
騒音低減装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の騒音低減装置であって、
前記多孔板は、航空機の脚車間部の前方を覆うように配置されている
騒音低減装置。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の騒音低減装置であって、
前記多孔板は、航空機の脚の構造部材の前方を覆うように配置されている
騒音低減装置。
【請求項５】
請求項１又は２に記載の騒音低減装置であって、
前記多孔板は、航空機の脚収納室の前縁に沿って配置され、前記曲がり領域は、先端側に設けられている
騒音低減装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のうちいずれか一項に記載の騒音低減装置の前記多孔板を、
脚車間部の前方を覆うように、脚の構造部材の前方を覆うように、又は、脚収納室の前縁に沿って配置した航空機。
【請求項７】
流体の流れの中に配置され、前記流体の流れによって発生する騒音を誘起する物体の上流側に、前記流体の流れに対向するように多孔板を配置し、
前記多孔板の端部より外側では前記流体が下流側に流れ、前記多孔板に起因して前記流体の流れの方向が偏向した前記多孔板の端部を、前記流体の流れの上流側に曲がらせる
騒音低減方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月3日(2019.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と前記第１面に対向する第２面とを有する基板であって、前記基板の厚さ方向の２か所において互いに異なる内径を有する貫通孔が設けられた基板と、
前記貫通孔に配置され、前記基板の厚さ方向に前記第１面における径および前記第２面における径より小さい径を有する貫通電極と、
前記第１面側に配置され、前記貫通電極の一部を露出する第１開口部が設けられた第１絶縁層と、
前記第１開口部を介して前記貫通電極と接続し、前記第１絶縁層の上に配置された第１電極と、
前記貫通電極と接続し、前記第２面側に配置されたパターン電極と、
前記第１絶縁層の上に配置され、前記第１電極と離隔して配置された第２電極と、を備える検出素子。
【請求項２】
前記貫通孔は、前記基板の厚さ方向に、前記第１面における第１貫通端部の内径および前記第２面における第２貫通端部の内径より小さい内径を有する請求項１に記載の検出素子。
【請求項３】
前記基板は、無アルカリガラスである請求項１または２に記載の検出素子。
【請求項４】
第１面と前記第１面に対向する第２面とを有する基板であって、前記第１面における第１貫通端部の内径と、前記第２面における第２貫通端部の内径とが互いに異なる貫通孔が設けられた無アルカリガラスである基板と、
前記貫通孔に配置され、前記第１面における径が、前記第２面における径より小さい貫通電極と、
前記第１面側に配置され、前記貫通電極の一部を露出する第１開口部が設けられた第１絶縁層と、
前記第１開口部を介して前記貫通電極と接続し、前記第１絶縁層の上に配置された第１電極と、
前記貫通電極と接続し、前記第２面側に配置されたパターン電極と、
前記第１絶縁層の上に配置され、前記第１電極と離隔して配置された第２電極と、を備える検出素子。
【請求項５】
前記貫通孔は、前記第１面における第１貫通端部の内径が、前記第２面における第２貫通端部の内径より小さい請求項４に記載の検出素子。
【請求項６】
前記第２面側に配置され、前記貫通電極の一部を露出する第２開口部が設けられた第２絶縁層をさらに備え、
前記パターン電極は、前記第２開口部を介して前記貫通電極と接続し、前記第２絶縁層の上に配置される請求項１乃至５の何れか１項に記載の検出素子。
【請求項７】
前記第１開口部の内径は、前記第１面における第１貫通端部の内径より小さい請求項１乃至６の何れか１項に記載の検出素子。
【請求項８】
前記第１電極の前記第１面と対向する面の径は、前記第１面における第１貫通端部の内径より小さい請求項１乃至７の何れか１項に記載の検出素子。
【請求項９】
前記第２開口部の内径は、前記前記第２面における第２貫通端部の内径より小さい請求項６に記載の検出素子。
【請求項１０】
前記貫通孔のアスペクト比は、４以上８以下の範囲である請求項１乃至９の何れか１項に記載の検出素子。
【請求項１１】
前記第２電極は、前記第１電極を囲むように開口されている請求項１乃至１０の何れか１項に記載の検出素子。
【請求項１２】
前記第１電極と前記貫通電極は複数設けられ、
前記パターン電極は前記複数の貫通電極と接続され、前記複数の貫通電極は前記複数の第１電極とそれぞれ接続され、
前記第２電極と前記パターン電極は複数設けられ、
前記複数の第２電極が延在する方向は、前記複数のパターン電極が延在する方向と異なる請求項１乃至１１の何れか１項に記載の検出素子。
【請求項１３】
請求項１乃至１２の何れか１項に記載された検出素子を備え、
分解能が１５０μｍ以下であって、ガス増幅率１２０００以上であることを特徴とする検出装置。
【請求項１４】
第１面と前記第１面に対向する第２面とを有する基板に、前記基板の厚さ方向の２か所において互いに異なる内径を有する貫通孔を形成し、
前記貫通孔に、前記基板の厚さ方向に前記第１面における径および前記第２面における径より小さい径を有する貫通電極を形成し、
前記第１面側に、前記貫通電極の一部を露出する第１開口部を有する第１絶縁層を形成し、
前記第１絶縁層の上に、前記第１開口部を介して前記貫通電極に接続される第１電極と、前記第１電極と離隔する第２電極と、を形成し、
前記第２面側に、前記貫通電極に接続されるパターン電極を形成することを含む検出素子の製造方法。
【請求項１５】
第１面と前記第１面に対向する第２面とを有する無アルカリガラスである基板に、前記第１面における第１貫通端部の内径と、前記第２面における第２貫通端部の内径とが互いに異なる貫通孔を形成し、
前記貫通孔に、前記第１面における径が、前記第２面における径より小さい貫通電極を形成し、
前記第１面側に、前記貫通電極の一部を露出する第１開口部を有する第１絶縁層を形成し、
前記第１絶縁層の上に、前記第１開口部を介して前記貫通電極に接続される第１電極と、前記第１電極と離隔する第２電極と、を形成し、
前記第２面側に、前記貫通電極に接続されるパターン電極を形成することを含む検出素子の製造方法。
【請求項１６】
前記パターン電極を形成することは、
前記第２面側に、前記貫通電極の一部を露出する第２開口部を有する第２絶縁層を形成し、
前記第２絶縁層の上に、前記第２開口部を介して前記貫通電極に接続されるパターン電極を形成することを含む請求項１４または１５に記載の検出素子の製造方法。
【請求項１７】
前記貫通孔を形成することは、
前記基板の第２面側から、前記第２面に対して９１°以上９５°以下の角度をなすテーパ形状を有する貫通孔を形成することを含む請求項１４乃至１６の何れか１項に記載の検出素子の製造方法。
【請求項１８】
前記貫通孔を形成することは、レーザーを用いることを含む請求項１４乃至１７の何れか１項に記載の検出素子の製造方法。
【請求項１９】
前記第１電極を形成することは、
前記第１電極の前記第１面と対向する面の径を、前記貫通孔の前記第１面における第１貫通端部の径より小さく形成することを含む請求項１５乃至１８の何れか１項に記載の検出素子の製造方法。
【請求項２０】
前記貫通孔を形成することは、アスペクト比を４以上８以下の範囲で形成することを含む請求項１４乃至１９の何れか１項に記載の検出素子の製造方法。