【手続補正書】
【提出日】平成31年2月18日(2019.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版のパターンを基板に転写するリソグラフィ装置であって、
前記基板および前記原版の一方の側面を取り囲むように配置された電極構造と、
前記電極構造に交流電圧を供給する電源と、を備え、
前記電極構造は、互いに電気的に絶縁された複数の電極群を含み、各電極群は、互いに電気的に接続された複数の電極を含み、
前記電源は、前記複数の電極群に対して互いに異なる位相を有する交流電圧を供給する、
ことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記基板および前記原版の前記一方の側面を取り囲むように配置された周辺部材を更に備え、
前記周辺部材は、絶縁部材を含み、前記電極構造は、前記絶縁部材に埋め込まれている、
ことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記周辺部材は、平坦な表面を有する、
ことを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記複数の電極群における電極の配列ピッチは、前記周辺部材の前記平坦な表面に対向しうる部材と前記表面との距離より小さい、
ことを特徴とする請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記電源が各電極群に供給する交流電圧の周波数は、１〜１０００Ｈｚの範囲内である、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記基板と前記原版との間の空間に前記基板に沿った気体の流れが形成されるように、前記空間に向けて気体を供給する気体供給部を更に備える、
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記原版を取り囲むように配置され、気体を吹き出す吹き出し部を更に備える、
ことを特徴とする請求項６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記基板を保持する基板チャックを更に備え、
前記基板および前記原版の一方は、前記基板であり、
前記電極構造は、前記基板および前記基板チャックを取り囲むように配置された第１電極構造を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記基板および前記原版の他方の側面を取り囲むように配置された第２電極構造を更に備え、
前記第２電極構造は、互いに電気的に絶縁された複数の第２電極群を含み、各第２電極群は、互いに電気的に接続された複数の第２電極を含み、
前記電源は、前記複数の第２電極群に対して互いに異なる位相を有する交流電圧を供給する、
ことを特徴とする請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
前記原版を保持する原版チャックを更に備え、
前記第２電極構造は、前記原版および前記原版チャックを取り囲むように配置された第２電極構造を含む、
ことを特徴とする請求項９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記複数の電極群を構成する電極は、同心円状に配置されている、
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記複数の電極群を構成する各電極は、放射状に延びている、
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記複数の電極群によって電界の定在波が形成される、
ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記複数の電極群によって電界の進行波が形成される、
ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記進行波は、前記基板および前記原版の前記一方から離れる方向に進行するように形成される、
ことを特徴とする請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いて基板の上にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【非特許文献１】Ｍａｓｕｄａ，Ｓ．  Ｆｕｊｉｂａｙａｓｈｉ，Ｋ．，  Ｉｓｈｉｄａ，Ｋ．，  ａｎｄ  Ｉｎａｂａ，Ｈ．，  Ｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  ｉｎ  Ｊａｐａｎ，  ９２，  ９（１９７２）．
【非特許文献２】Ｃ．Ｉ．Ｃａｌｌｅ，  Ｊ．Ｌ．ＭｃＦａｌｌ，  Ｃ．Ｒ．Ｂｕｈｌｅｒ，  ｅｔ  ａｌ．，  Ｐｒｏｃ．  ＥＳＡ  Ａｎｕｕａｌ  Ｍｅｅｔｉｎｇ  ｏｎＥｌｅｃｔｒｏｓｔａｔｉｃｓ  ２００８，  Ｐａｐｅｒ  Ｏ１.
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
基板駆動機構ＳＤＭおよび原版駆動機構ＭＤＭは、基板１０１と原版１００との相対的な位置決めを行う駆動部を構成する。駆動部は、Ｘ軸、Ｙ軸、θＸ軸、θＹ軸およびθＺ軸に関して基板１０１と原版１００との相対位置を調整するほか、Ｚ軸に関しても基板１０１と原版１００との相対位置を調整する。Ｚ軸に関する基板１０１と原版１００との相対位置の調整は、基板１０１の上のインプリント材と原版１００との接触および分離の動作を含む。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
インプリント装置ＩＭＰは、基板１０１の上のインプリント材にＵＶ光などの光を照射することによって該インプリント材を硬化させる硬化部１０４を備えうる。インプリント装置ＩＭＰはまた、インプリントの様子を観察するためのカメラ１０３を備えうる。硬化部１０４から射出された光は、ミラー１０５で反射され、原版１００を透過してインプリント材に照射されうる。カメラ１０３は、原版１００およびミラー１０５を介してインプリントの様子、例えば、インプリント材と原版１００との接触状態などを観察するように構成されうる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
図５には、電極構造１４０の複数の電極群（ａ群、ｂ群）と電源ＰＳとの接続例が示されている。図６には、電極構造１４０の複数の電極群（ａ群、ｂ群）に対して電源ＰＳから供給される交流電圧が例示されている。図５に示される例では、電極構造１４０は、２つの電極群（ａ群、ｂ群）で構成されている。電源ＰＳは、第１電源３１と第２電源３２とを含む。第１電源３１は、ａ群を構成するように互いに電気的に接続された複数の電極１０ａ、１１ａ、１２ａに第１交流電圧Ｖ１を供給する。第２電源３２は、ｂ群を構成するように互いに電気的に接続された複数の電極１０ｂ、１１ｂ、１２ｂに第２交流電圧Ｖ２を供給する。一例において、第１交流電圧Ｖ１および第２交流電圧Ｖ２は、周波数が１００Ｈｚ、振幅が±５００Ｖであり、位相の位相差はπである。ａ群の電極およびｂ群の電極に対して互いの位相差がπの交流電圧を供給することによって湾曲した不平等な電界を有する定在波が形成される。この電界によってパーティクルが境界層の外に弾き飛ばされる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図７、図８を参照しながら本発明の第２実施形態を説明する。第２実施形態として言及しない事項は、第１実施形態に従いうる。第２実施形態では、電極構造１４０は、複数の電極群として、３つの電極群を有する。換言すると、第２実施形態の電極構造１４０は、３相構成を有する。具体的には、第２実施形態の電極構造１４０は、ａ群、ｂ群、ｃ群の電極群を含む。ａ群は、互いに電気的に接続された電極２０ａ、２１ａ…で構成される電極群である。ｂ群は、互いに電気的に接続された電極２０ｂ、２１ｂ…で構成される電極群である。ｃ群は、互いに電気的に接続された電極２０ｃ、２１ｃ…で構成される電極群である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
電源ＰＳは、第１電源３３と、第２電源３４と、第３電源３５とを含む。第１電源３３は、ａ群を構成するように互いに電気的に接続された複数の電極２０ａ、２１ａ…に第１交流電圧Ｖ３を供給する。第２電源３４は、ｂ群を構成するように互いに電気的に接続された複数の電極２０ｂ、２１ｂ…に第２交流電圧Ｖ４を供給する。第３電源３５は、ｃ群を構成するように互いに電気的に接続された複数の電極２０ｂ、２１ｃ…に第３交流電圧Ｖ５を供給する。一例において、第１交流電圧Ｖ３、第２交流電圧Ｖ４および第３交流電圧Ｖ５は、周波数が１００Ｈｚ、振幅が±５００Ｖであり、互いの位相差は２π／３である。第２交流電圧Ｖ４は、第１交流電圧Ｖ３に対して位相差が２π/３進んでいる。第３交流電圧Ｖ５は、第２交流電圧Ｖ４に対して位相差が２π/３進んでいる。基板１０１の側からａ群、ｂ群、ｃ群、ａ群、ｂ群、ｃ群…のように配置されている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
第２実施形態においても、第１実施形態と同様に、電極構造１７０の複数の電極群における電極の配列ピッチＰは、境界層厚Ｄより小さいことが好ましい。また、配列ピッチＰは、周辺部材１６０の平坦な表面に対向しうる部材（例えば、基板１０１、周辺部材１１３）と該表面との距離よりも小さくされることが好ましい。