(57)【要約】  本発明は、蛍光体プレートの製造方法であって、蛍光体原料を基板１に蒸着させて基板１上に蛍光体層を形成する工程において、前記蛍光体原料の蒸着を５×１０−４〜５×１０−１Ｐａのフッ素系溶剤ガス分圧雰囲気でおこなうことにより、発光輝度の更なる向上を図ることができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蛍光体原料を基板に蒸着させて前記基板上に蛍光体層を形成する蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料の蒸着を５×１０−４〜５×１０−１Ｐａのフッ素系溶剤ガス分圧雰囲気でおこなうことを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。
【請求項２】
請求の範囲第１項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記フッ素系溶剤ガス分圧が５×１０−３〜３×１０−１Ｐａであることを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。
【請求項３】
請求の範囲第１項又は２項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記フッ素系溶剤が下記一般式（１）で示す化合物であることを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。
一般式（１）    Ｒ１−Ｏ−Ｒ２
（式中、「Ｒ１」及び「Ｒ２」はアルキル基及びアリール基からなる群より選択される基であり、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一つは、フッ素原子を含み、かつＲ１およびＲ２の少なくとも一つは水素原子を含む。）
【請求項４】
請求の範囲第１〜３項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料が臭化セシウムと賦活剤とを含むことを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。
【請求項５】
請求の範囲第４項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記賦活剤がユーロピウムであることを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。
【請求項６】
請求の範囲第１〜３項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料がヨウ化セシウムと賦活剤とを含むことを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。
【請求項７】
請求の範囲第６項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記賦活剤がユーロピウム又はタリウムであることを特徴とする蛍光体プレートの製造方法。
【請求項８】
請求の範囲第１〜７項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法に従って製造されていることを特徴とする蛍光体プレート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蛍光体原料を基板に蒸着させて当該基板上に蛍光体層を形成する蛍光体プレートの製造方法及びその製造方法で製造される蛍光体プレートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、Ｘ線画像のような放射線画像は医療現場において病状の診断に広く用いられている。特に、増感紙−フィルム系による放射線画像は、長い歴史のなかで高感度化と高画質化が図られた結果、高い信頼性と優れたコストパフォーマンスを併せ持った撮像システムとして、いまなお、世界中の医療現場で用いられている。近年では、コンピューテッドラジオグラフィ（ＣＲ（Computed Radiography））やフラットパネル型放射線ディテクタ（ＦＰＤ（Flat Panel Detecter））等に代表されるデジタル方式の放射線画像検出器も登場しており、放射線画像をデジタル情報として取得して自由に画像処理をおこなったり、瞬時に画像情報を伝送したりすることが可能となっている。【０００３】
ところで、ＣＲやＦＰＤには被写体を透過した放射線を受けて蛍光を発する所謂「蛍光体プレート」が配されており、当該ＣＲやＦＰＤにおいては、その蛍光体プレートの発する光の発光輝度が鮮明な放射線画像を取得するのに重要な要素となっている。【０００４】
ＣＲは上記蛍光体プレートとして輝尽性蛍光体プレートを有している。「輝尽性蛍光体プレート」というのは、被写体を透過した放射線を蓄積して、励起光の照射等により、蓄積した放射線をその線量に応じた強度で蛍光を輝尽発光するものであり、基板上に輝尽性の蛍光体層が形成された構成を有している。当該輝尽性蛍光体プレートにおいては、放射線から光への変換効率の高い臭化セシウムを基板上に気相堆積させて蛍光体層を形成すると、基板上に柱状の結晶体が形成され、その発光輝度が向上することが知られている。特に特許文献１に記載の技術では、臭化セシウムを基板上に気相堆積させる以外に、蛍光体層を形成した基板を熱処理して蛍光体層の結晶中から水成分を除去し、当該蛍光体層の発光輝度を向上させようとしている。【０００５】
他方、ＦＰＤは上記蛍光体プレートとしてシンチレータプレートを有している。「シンチレータプレート」というのは、被写体を透過した放射線に対応した強度で蛍光を瞬時に発光するのものであって励起光の照射を受けなくても蛍光を発するものであり、上記輝尽性蛍光体プレートと同様に、基板上に蛍光体層が形成された構成を有している。当該シンチレータプレートにおいても、放射線から光への変換効率の高いヨウ化セシウムを基板上に気相堆積させて蛍光体層を形成すると、基板上に柱状の結晶体が形成され、その発光輝度が向上することが知られている。特に特許文献２では、ヨウ化セシウムを基板上に気相堆積させる以外に、これと同時にインジウム等の他の物質を賦活剤としてスパッタし、当該蛍光体層の発光輝度を向上させようとしている。
【特許文献１】特開２００３−２７９６９６号公報（段落番号００３４，００３５参照）
【特許文献２】特開２００１−５９８９９号公報（段落番号００４１参照）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、放射線から光への変換効率の高い臭化セシウムやヨウ化セシウム等の物質を基板上に気相堆積させて蛍光体層を形成したり、特許文献１，２に記載の技術のようにその技術に改良を加えて蛍光体層を形成したりした場合でも、当該蛍光体層は発光光率の面でまだ不十分なところがあり、当該蛍光体層には改良の余地が残っている。【０００７】
本発明の目的は、発光輝度の更なる向上を図ることができる蛍光体プレートの製造方法及びその製造方法で製造される蛍光体プレートを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、請求の範囲第１項に記載の発明は、蛍光体原料を基板に蒸着させて前記基板上に蛍光体層を形成する蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料の蒸着を５×１０−４〜５×１０−１Ｐａのフッ素系溶剤ガス分圧雰囲気でおこなうことを特徴としている。【０００９】
請求の範囲第２項に記載の発明は、請求の範囲第１項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記フッ素系溶剤ガス分圧が５×１０−３〜３×１０−１Ｐａであることを特徴としている。【００１０】
請求の範囲第３項に記載の発明は、請求の範囲第１項又は２項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記フッ素系溶剤が下記一般式（１）で示す化合物であることを特徴としている。
一般式（１）    Ｒ１−Ｏ−Ｒ２
（式中、「Ｒ１」及び「Ｒ２」はアルキル基及びアリール基からなる群より選択される基であり、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一つは、フッ素原子を含み、かつＲ１およびＲ２の少なくとも一つは水素原子を含む。）
請求の範囲第４項に記載の発明は、請求の範囲第１〜３項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料が臭化セシウムと賦活剤とを含むことを特徴としている。【００１１】
請求の範囲第５項に記載の発明は、請求の範囲第４項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記賦活剤がユーロピウムであることを特徴としている。【００１２】
請求の範囲第６項に記載の発明は、請求の範囲第１〜３項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記蛍光体原料がヨウ化セシウムと賦活剤とを含むことを特徴としている。【００１３】
請求の範囲第７項に記載の発明は、請求の範囲第６項に記載の蛍光体プレートの製造方法において、前記賦活剤がユーロピウム又はタリウムであることを特徴としている。【００１４】
請求の範囲第８項に記載の発明は、請求の範囲第１〜７項のいずれか一項に記載の蛍光体プレートの製造方法に従って製造されていることを特徴とする蛍光体プレートである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、蛍光体原料の蒸着時に、フッ素系溶剤ガスに起因する物質が蛍光体層の表面に吸着し、発光輝度の更なる向上を図ることができる（下記実施例１，２参照）。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】輝尽性蛍光体プレート１０の概略構成を示す断面図である。
【図２】輝尽性蛍光体プレート１０の拡大断面図である。
【図３】蒸着装置６１の概略構成を示す図面である。
【符号の説明】
【００１７】
１  基板
２  蛍光体層
１０  輝尽性蛍光体プレート（蛍光体プレート）
６１  蒸着装置
６２  真空容器
６３  ボート
６４  ホルダ
６５  回転機構
６６  真空ポンプ
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲は以下の実施形態及び図示例に限定されるものではない。
［第１の実施形態］
第１の実施形態では、本発明に係る蛍光体プレートを「輝尽性蛍光体プレート」に適用した例を説明する。当該輝尽性蛍光体プレートは、放射線を受けてその線量に応じたエネルギーを蓄積し、励起光の照射を受けて蓄積したエネルギーに応じる光を発するものである。具体的には、図１に示す通り、輝尽性蛍光体プレート１０は、基板１上に蛍光体層２が蒸着で形成された構成を有している。【００１９】
基板１は樹脂やガラス基板、金属板等から構成されている。基板１の耐性の向上や軽量化といった観点からすれば、基板１としては、１ｍｍ以下のアルミ板や炭素繊維強化樹脂シートを始めとする樹脂を用いるのが好ましい。【００２０】
蛍光体層２は臭化セシウムを主成分（母材）とするもので、詳しくはフッ素系溶剤ガス分圧雰囲気下において臭化セシウムと賦活剤とを含む蛍光体原料を基板１に蒸着して形成されたものである。図２に示す通り、蛍光体層２は多数の柱状結晶体２ａが集合体として基板１上に形成された構成を有しており、各柱状結晶体２ａの表面に無数のフッ化セシウム結晶体２ｂが吸着・存在している。【００２１】
蛍光体層２の蛍光体原料における賦活剤としてはユーロピウムが適用されている。当該賦活剤は、蛍光体層２が臭化セシウムを主成分とするものであれば、公知のいかなる化合物であってもよく、蛍光体層２の発光波長や耐湿性等の要求特性に合わせて任意に選択することができる。その一例として、上記ユーロピウムに代えて、インジウム、タリウム、リチウム、カリウム、ルビジウム、ナトリウム、銅、セリウム、亜鉛、チタン、ガドリニウム、テルビウムを適用してもよい。【００２２】
フッ化セシウム結晶体２ｂは、フッ素系溶剤ガス雰囲気下での蒸着に起因して形成されるものである。本発明に係る、フッ素系溶剤とは、分子中にフッ素原子を有する溶剤である。そのガス雰囲気を形成するフッ素系溶剤としては、（１）蒸着に伴う加熱処理に供される点（引火性や爆発性等に関わる消防法的な観点から引火点を持たない等の特性が要求される点）の観点から、引火点を持たない不燃性溶剤を適用するのがよい。【００２３】
さらに上記（１）の観点を含めて、
（２）環境適性
（３）生体への有害性
等の観点から、昨今話題にのぼるフロン代替素材が有用であると考えられている。その中でも上記（２）、（３）に優れた最新のフロン代替素材である「ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）」を当該フッ素系溶剤として好適に用いることができる。【００２４】
ＨＦＥは、炭素、フッ素、水素、１つ以上のエーテル酸素原子からなり、さらに炭素主鎖中に組み込まれた１つ以上のさらなるヘテロ原子、例えば、硫黄又は三価窒素原子を含んでいてもよい。ＨＦＥは直鎖状を呈していてもよいし、枝分かれ状を呈していてもよいし、環状を呈していてもよいし、又はそれらの組み合わせで構成された構造を有していてもよく、例えば、アルキル脂環式であってもよい。ただし、ＨＦＥは不飽和結合を含まないことが好ましい。【００２５】
即ち、本発明においては、フッ素系溶剤が、炭素原子、フッ素原子、水素原子、酸素原子からなりエーテル結合を少なくとも１つ有するハイドロフルオロエーテルである態様が特に好ましい態様である。【００２６】
ＨＦＥとしては、上記一般式（１）で示される化合物が好ましく用いられる。【００２７】
式中、「Ｒ１」及び「Ｒ２」はアルキル基及びアリール基からなる群より選択される基であり、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一つは、フッ素原子を含み、かつＲ１およびＲ２の少なくとも一つは水素原子を含む。
Ｒ１、Ｒ２としては、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、Ｃ３Ｈ７、Ｃ３Ｆ７、Ｃ４Ｆ９、Ｃ２Ｆ４Ｈ、ＣＨ２ＣＦ３、４−フルオロフェニル基、などが挙げられる。【００２８】
ＨＦＥとしては、例えば住友スリーエム株式会社製のノベック（登録商標）ＨＦＥ−７１００（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）、７１００ＤＬ（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）、７２００（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）やダイキン工業株式会社製のＨＦＥ−Ｓ７（商品名）（ＣＦ３ＣＨ２ＯＣ２Ｆ４Ｈ）等があり、これら市販のＨＦＥを蒸着工程に使用可能なフッ素系溶剤として好適に用いることができる。【００２９】
次に、図３を参照しながら、上記輝尽性蛍光体プレート１０を製造する際に用いる蒸着装置６１について説明する。【００３０】
図３に示す通り、蒸着装置６１は箱状の真空容器６２を有しており、真空容器６２の内部には真空蒸着用のボート６３が配されている。ボート６３は蒸着源の被充填部材であり、当該ボート６３には電極が接続されている。当該電極を通じてボート６３に電流が流れると、ボート６３がジュール熱で発熱するようになっている。輝尽性蛍光体プレート１０の製造時においては、臭化セシウムと賦活剤とを含む混合物（蛍光体原料）がボート６３に充填され、そのボート６３に電流が流れることで上記混合物を加熱・蒸発させることができるようになっている。【００３１】
なお、被充填部材として、ヒータを巻回したアルミナ製のるつぼを適用してもよいし、高融点金属製のヒータを適用してもよい。【００３２】
真空容器６２の内部であってボート６３の直上には基板１を保持するホルダ６４が配されている。ホルダ６４にはヒータ（図示略）が配されており、当該ヒータを作動させることでホルダ６４に装着した基板１を加熱することができるようになっている。基板１を加熱した場合には、基板１の表面の吸着物を離脱・除去したり、基板１とその表面に形成される蛍光体層２との間に不純物層が形成されるのを防止したり、基板１とその表面に形成される蛍光体層２との密着性を強化したり、基板１の表面に形成される蛍光体層２の膜質の調整をおこなったりすることができるようになっている。【００３３】
ホルダ６４には当該ホルダ６４を回転させる回転機構６５が配されている。回転機構６５は、ホルダ６４に接続された回転軸６５ａとその駆動源となるモータ（図示略）から構成されたもので、当該モータを駆動させると、回転軸６５ａが回転してホルダ６４をボート６３に対向させた状態で回転させることができるようになっている。【００３４】
蒸着装置６１では、上記構成の他に、真空容器６２に真空ポンプ６６が配されている。真空ポンプ６６は、真空容器６２の内部の排気と真空容器６２の内部へのガスの導入とをおこなうもので、当該真空ポンプ６６を作動させることにより、真空容器６２の内部を一定圧力のガス雰囲気下に維持することができるようになっている。【００３５】
次に、輝尽性蛍光体プレート１０の製造方法について説明する。【００３６】
当該輝尽性蛍光体プレート１０の製造方法においては、上記で説明した蒸発装置６１を好適に用いることができる。下記では、蒸発装置６１を用いて輝尽性蛍光体プレート１０を製造する方法について説明する。【００３７】
始めに、ホルダ６４に基板１を取り付けるとともに、ボート６３に臭化セシウムとユーロピウムとを含む粉末状の混合物（蛍光体原料）を充填する（準備工程）。この場合、ボート６３と基板１との間隔を１００〜１５００ｍｍに設定し、その設定値の範囲内のままで後述の蒸着工程の処理をおこなうのが好ましい。【００３８】
準備工程の処理を終えたら、真空ポンプ６６を作動させて、真空容器６２の内部を一旦排気し、その後フッ素系溶剤ガスとアルゴン等の不活性ガスとを真空容器６２の内部に導入しながら、当該真空容器６２の内部をフッ素系溶剤ガスの分圧が５×１０−４〜５×１０−１Ｐａ（好ましくは５×１０−３〜３×１０−１Ｐａ）である真空雰囲気を形成する（雰囲気形成工程）。【００３９】
雰囲気形成工程では、真空雰囲気の形成と同時に、ホルダ６４のヒータと回転機構６５のモータとを駆動させ、ホルダ６４に取付け済みの基板１をボート６３に対向させた状態で加熱しながら回転させる（第２の準備工程）。【００４０】
この状態において、電極からボート６３に電流を流し、臭化セシウムとユーロピウムとを含む蛍光体原料を所定温度で加熱してその蛍光体原料を蒸発させる（蒸着工程）。その結果、基板１の表面に無数の柱状結晶体２ａが順次成長するとともに、各柱状結晶体２ａの表面には真空容器６２の内部のフッ素系溶剤ガスに起因したフッ化セシウム結晶体２ｂが形成され、基板１上に所望の蛍光体層２が形成される。これにより、輝尽性蛍光体プレート１０を製造することができる。【００４１】
以上の本第１の実施形態によれば、所定のフッ素系溶剤ガス分圧雰囲気で蒸着工程の処理を実行するため、各柱状結晶体２ａの表面に無数のフッ化セシウム結晶体２ｂが吸着・存在し、発光輝度の更なる向上を図ることができる（下記実施例１参照）。【００４２】
なお、製造後の輝尽性蛍光体プレート１０においては、フッ化セシウム結晶体２ｂのフッ化セシウム量は、柱状結晶体２ａの臭化セシウムに対し１０ｐｐｍ以上であるのが好ましく、２０ｐｐｍ以上であるのがより好ましい。また、フッ化セシウム結晶体２ｂの量は、蒸着工程中におけるフッ素系溶剤ガス分圧により任意に調整可能であって、フッ素系溶剤ガス分圧を５×１０−４〜５×１０−１Ｐａの範囲内に収めると蛍光体層２の発光輝度が著しく向上するが、フッ素系溶剤ガス分圧を５×１０−３〜３×１０−１Ｐａの範囲外では柱状結晶体２ａの構造の形成が困難になるため、蒸着工程中においてフッ素系溶剤ガス分圧を５×１０−３〜３×１０−１Ｐａの範囲内に収めるのが最も好ましい。
［第２の実施形態］
第２の実施形態では、本発明に係る蛍光体プレートを「シンチレータプレート」に適用した例を説明する。当該シンチレータプレートは、放射線を受けてその線量に応じた光を瞬時に発するもので、上記輝尽性蛍光体プレート１０との関係においては励起線の照射を受けなくても蛍光を発するという作用面でやや異なっている。【００４３】
当該シンチレータプレートはその構成や製造方法等が上記輝尽性蛍光体プレート１０と略同様となっており、下記の点で上記輝尽性蛍光体プレート１０と異なっている。すなわち、上記輝尽性蛍光体プレート１０では、蛍光体層２の母材として臭化セシウムが、賦活剤としてユーロピウムが適用されているのに対し、当該シンチレータプレートでは、母材としてヨウ化セシウムが適用され、賦活剤としてユーロピウムに加えてタリウムも好適に適用される。【００４４】
以上の第２の実施形態でも、上記第１の実施形態と同様に、発光輝度の更なる向上を図ることができる（下記実施例２参照）。
【実施例】
【００４５】
（実施例１）
（１）試料１〜６（輝尽性蛍光体プレート）の作製
蛍光体原料として臭化セシウムとユーロピウムとの混合物（ＣｓＢｒ：０．０００５Ｅｕ）を、基板として厚さ１ｍｍの炭素繊維強化樹脂シートを、蒸着装置として図３の蒸着装置６１と同様のものを適用し、基板上に蛍光体層を形成した。【００４６】
詳しくは、始めに、粉末状とした上記混合物を蒸着材料としてボートに充填するとともに基板をホルダに設置し、当該ボートと当該ホルダとの間隔を４００ｍｍに調節した（準備工程）。続いて、真空ポンプを作動させて、真空容器の内部を一旦排気し、フッ素系溶剤（３Ｍ社製HFE7100（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３））のガス分圧が下記表１記載となるように、当該フッ素系溶剤ガスとアルゴンガスとを真空容器の内部に導入し、当該真空容器の内部の真空度を０．５Ｐａに調整した（雰囲気形成工程）。【００４７】
続いて、回転機構のモータとホルダのヒータとを作動させ、基板を１０ｒｐｍの速度で回転させながら当該基板を１５０℃に加熱した（第２の準備工程）。この状態で、電極からボートに電流を流し、ボートに充填されたままの上記混合物を加熱して蒸発させ、基板上に蛍光体層を形成した（蒸着工程）。蛍光体層の層厚が５００μｍとなったところで基板への蒸着を終了させ、上記雰囲気形成工程でのフッ素系溶剤ガス分圧の値に応じてそれら生成物を「試料１〜７」とした。ただし、試料１の作製においては、雰囲気形成工程で真空容器の内部にフッ素系溶剤ガスを導入しなかった。
（２）試料１〜７の発光輝度の測定
管電圧８０ｋＶｐのＸ線を各試料１〜７の裏面（蛍光体層が形成されていない面）から照射した。その後、半導体レーザを各試料１〜７の表面（蛍光体層が形成された面）上で走査して蛍光体層を励起させ、当該蛍光体層から放射される輝尽発光の光量（光強度）を受光器（分光感度Ｓ−５の光電子像倍管）で測定してその測定値を「発光輝度」とした。測定結果を下記表１に示す。ただし、表１中、各試料２〜７の発光輝度は、試料１の発光輝度を１．０とした相対値である。【００４８】
【表１】
2007060827.tif 000003
【００４９】
（３）まとめ
表１に示す通り、試料１、７と試料２〜６との比較から、試料２〜６は発光輝度が試料１のそれより高く、蒸着工程の処理中においてフッ素系溶剤ガス分圧を５×１０−４〜５×１０−１Ｐａとするのが有用であることがわかる。なかでも、試料３〜５は発光輝度が極めて高く、蒸着工程の処理中においてフッ素系溶剤ガス分圧を５×１０−３〜３×１０−１Ｐａとするのが特に有用であることがわかる。
（実施例２）
（１）試料１１〜１６（シンチレータプレート）の作製
蛍光体原料としてヨウ化セシウムとタリウムとの混合物（ＣｓＩ：０．００３Ｔｌ）を適用し、第２の準備工程において基板の加熱温度を２００℃として、それ以外は上記試料１〜７と同様の方法で「試料１１〜１７」を作製した。
（２）試料の輝度の測定
管電圧８０ｋＶｐのＸ線を各試料１１〜１７の裏面（蛍光体層が形成されていない面）から照射し、その結果瞬時に発光した光を光ファイバーで取り出し、その発光量を浜松ホトニクス社製のフォトダイオード（Ｓ２２８１）で測定し、その測定値を「発光輝度（感度）」とした。各試料１１〜１７の測定結果を下記表２に示す。ただし、表２中、各試料１１〜１７の発光輝度を示す値は、試料１１の発光輝度を１．０としたときの相対値である。【００５０】
【表２】
2007060827.tif 000004
【００５１】
（３）まとめ
表２に示す通り、試料１１、１７と試料１２〜１６との比較から、試料１２〜１６は発光輝度が試料１１のそれより高く、蒸着工程の処理中においてフッ素系溶剤ガス分圧を５×１０−４〜５×１０−１Ｐａとするのが有用であることがわかる。なかでも、試料１３〜１５は発光輝度が極めて高く、蒸着工程の処理中においてフッ素系溶剤ガス分圧を５×１０−３〜３×１０−１Ｐａとするのが特に有用であることがわかる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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