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【手続補正書】
【提出日】平成31年4月17日(2019.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像装置の動き量を算出する算出手段と、
前記動き量が第１の閾値以上の場合に撮影画角を広角側にする第１の制御を行い、前記第１の制御の後に、前記動き量が前記第１の閾値より小さい第２の閾値未満の場合に、撮影画角を望遠側にする第２の制御を行う制御手段とを備え、
前記制御手段は、被写体距離に応じて、前記第２の制御によって到達する撮影画角を変更する
ことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記制御手段は、
前記第２の制御開始時の被写体距離が、前記第１の制御開始時の被写体距離より近い場合は、前記第２の制御によって到達する撮影画角が前記第１の制御開始時より広角側になるように制御し、
前記第２の制御開始時の被写体距離が、前記第１の制御開始時の被写体距離より遠い場合は、前記第２の制御によって到達する撮影画角が前記第１の制御開始時より望遠側になるように制御する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記第１の制御開始時の撮影画角に、前記第１の制御開始時の被写体距離と前記第２の制御開始時の被写体距離の比率を乗じることによって、前記第２の制御によって到達する撮影画角を決定する
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記第１の制御が開始されてから前記第２の制御が終了するまでの間、前記第２の制御によって到達する撮影画角を示す枠を撮影画像に重畳して表示する
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記制御手段は、撮影画像のピントが合っていない状態である場合に、前記第２の制御を制限する
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記撮影画像のピント状態を示す評価値を生成する生成手段を備え、
前記制御手段は、前記評価値に基づいて、撮影画像のピントが合っていない状態であるかを判断する
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記制御手段は、撮影画像のピントが合っていない状態である場合に、前記第２の制御によって到達する撮影画角が前記第１の制御開始時と同じになるように制御する
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項８】
被写体光を光電変換して撮影画像を出力する撮像素子と、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像処理装置とを備えることを特徴とする撮像装置。
【請求項９】
撮像装置の動き量を算出する算出工程と、
前記動き量が第１の閾値以上の場合に撮影画角を広角側にする第１の制御を行い、前記第１の制御の後に、前記動き量が前記第１の閾値より小さい第２の閾値未満の場合に、撮影画角を望遠側にする第２の制御を行う制御工程とを有し、
前記制御工程では、被写体距離に応じて、前記第２の制御によって到達する撮影画角を変更する
ことを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
ＦＡズーム制御部１２２は、Ｓ１１２、Ｓ１１３で行われるズームイン目標位置の決定において、新たなズーム戻り位置Ｚ＿ｎｅｗをズームイン目標位置とすることで、ＦＡズーム動作終了時のズーム位置を補正する。すなわち、ＦＡズーム制御部１２２は、ズームアウト制御開始時の撮影画角に、ズームアウト制御開始時の被写体距離とズームイン制御開始時の被写体距離の比率を乗じることによって、ズームイン制御によって到達する撮影画角を決定する。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月9日(2019.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ化マグネシウム層を含む光学膜であって、前記フッ化マグネシウム層がナノサイズのトリフルオロ酢酸マグネシウム微粒子と、α置換βジケトンと、溶媒と、を含むゾル溶液により成膜されたことを特徴とする光学膜。
【請求項２】
更に空孔を有する層を含む請求項１に記載の光学膜。
【請求項３】
前記空孔を有する層が、前記フッ化マグネシウム層の上部に形成された請求項２に記載の光学膜。
【請求項４】
前記α置換βジケトンが、３−メチル−２，４−ペンタンジオンである請求項１〜３の何れか一項に記載の光学膜。
【請求項５】
前記トリフルオロ酢酸マグネシウム微粒子の平均粒子径が、５〜５０ｎｍの範囲である請求項１〜４の何れか一項に記載の光学膜。
【請求項６】
前記溶媒が、下記式で表されるハンセンパラメータ（δd，δp，δH）を有することを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の光学膜。
１５．０［ＭＰａ1/2］    ≦δd    ≦１６．５［ＭＰａ1/2］  （Ｉ）
４．０［ＭＰａ1/2］    ≦δp    ≦８．０［ＭＰａ1/2］      （ＩＩ）
９．０［ＭＰａ1/2］    ≦δH    ≦１４．０［ＭＰａ1/2］    （ＩＩＩ）
【請求項７】
前記溶媒が、２−エチル−１−ブタノール、ブチルカルビトール、または１−ブトキシ−２−プロパノールである請求項１〜６の何れか一項に記載の光学膜。
【請求項８】
前記トリフルオロ酢酸マグネシウム微粒子の含有量ａ［％］と、α置換βジケトンの含有量ｂ［％］  の関係が、下記式で表される請求項１〜７の何れか一項に記載の光学膜。
８．０≦ａ≦２７．０            （ＩＶ）
２．０≦ｂ≦６．０              （Ｖ）
ａ／ｂ≧２                      （ＶＩ）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明は、更に空孔を有する層を含む光学膜であり、この空孔を有する層は、フッ化マグネシウム層の上部に形成されることが好ましい。また、α置換βジケトンは、３−メチル−２，４−ペンタンジオンであることが好ましく、トリフルオロ酢酸マグネシウム微粒子の平均粒子径が、５〜５０ｎｍの範囲であることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに、本発明では、前記トリフルオロ酢酸マグネシウム微粒子の含有量ａ［％］と、α置換βジケトンの含有量ｂ［％］の関係が、下記式で表されることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月20日(2019.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の磁極を発生させる磁界発生手段を内包し、磁性キャリアとトナーとからなる二成分現像剤を表面上に担持して表面搬送する現像剤担持体と、該現像剤担持体に対向配置されて該現像剤担持体上に担持される現像剤量を規制する円柱形状の現像剤規制部材とを備え、像担持体上に形成された静電潜像を現像する現像装置において、前記現像剤規制部材は、該現像剤規制部材の周面のうち、前記現像剤担持体との対向部よりも前記現像剤担持体の現像剤搬送方向における上流側の少なくとも一部に磁性体、前記対向部よりも前記現像剤搬送方向における下流側の少なくとも一部に磁性体を含むことを特徴とする現像装置。
【請求項２】
請求項１に記載の現像装置において、前記現像剤規制部材を装置本体に対して固定することを特徴とする現像装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の現像装置において、前記現像剤規制部材の周囲に配置された装置本体のケーシングの一部が、前記現像剤規制部材の前記現像剤搬送方向の下流側の表面に近接した形状であることを特徴とする現像装置。
【請求項４】
請求項１乃至３いずれか一に記載の現像装置において、前記現像剤規制部材の前記現像剤搬送方向の下流側が、前記現像剤担持体の表面に沿った形状であることを特徴とする現像装置。
【請求項５】
潜像担持体上に形成される潜像を現像装置により現像して得られる画像を記録材上に転写して画像形成する画像形成装置において、前記現像装置として、請求項１乃至４のいずれか一に記載の現像装置を用いることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上述した課題を解決するために、本発明は、複数の磁極を発生させる磁界発生手段を内包し、磁性キャリアとトナーとからなる二成分現像剤を表面上に担持して表面搬送する現像剤担持体と、該現像剤担持体に対向配置されて該現像剤担持体上に担持される現像剤量を規制する円柱形状の現像剤規制部材とを備え、像担持体上に形成された静電潜像を現像する現像装置において、
前記現像剤規制部材は、該現像剤規制部材の周面のうち、前記現像剤担持体との対向部よりも前記現像剤担持体の現像剤搬送方向における上流側の少なくとも一部に磁性体、前記対向部よりも前記現像剤搬送方向における下流側の少なくとも一部に磁性体を含むことを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月18日(2019.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ＴＦＴ基板２００は、額縁領域１０２において、複数の外部配線１０７と、複数の端子電極１０８と、複数のＩＣ（Integrated Circuit）チップ１０９とを有している。なお、図２では、便宜上、一つの端子電極１０８のみを図示している。外部配線１０７は、表示領域１０１の信号線１０３（ソース配線）および走査線１０４（ゲート配線）の各々から額縁領域１０２まで延びている配線である。端子電極１０８は、外部配線１０７の端部と電気的に接続されており、端子電極１０７の幅よりも大きな幅を有している。端子電極１０８は、外部接続用の端子であり、ここではＩＣチップ１０９およびプリント基板１１０などの外部部材と重なるように配置されている。これにより、外部部材が外部配線１０７に電気的に接続されている。ＩＣチップ１０９の端子は、端子電極１０８と、バンプまたはＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）を介して電気的に接続されている。同じように、プリント基板１１０の端子は、端子電極１０８とバンプまたはＡＣＦを介して電気的に接続されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
（画素の構成および機能）
図３は、各画素ＰＸ１の構成を概略的に示す部分平面図である。図４は、図３と同様の視野での図であり、各画素ＰＸ１の構成を、一部の部材の図示を省略しつつ概略的に示す部分平面図である。図５は、線Ｖ−Ｖ（図３および図４）に沿う概略部分断面図である。なお、図を見やすくするために、図４において金属層１５にドット模様が付されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
ゲート電極１１は、典型的にはＡｌ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｎｄ、Ｍｏ、Ｎｂなどの金属材料からなるので、遮光性を有している。この遮光性により、液晶表示装置５００（図１）の動作時に、図１の下側からのバックライトの光がチャネル層３１へ入射することが抑制される。この効果を高めるためには、チャネル層３１が平面視においてゲート電極１１に包含されていることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
平坦化膜６として、有機樹脂膜、特に、感光性を有する有機樹脂から形成された有機樹脂膜、が用いられる場合は、平坦化膜６が可視光の短波長側およびＵＶ光を吸収しやすい。このような平坦化膜６は、チャネル層３１への光入射を、ある程度抑制する。しかしながら、より十分な抑制のためには遮光部１５ｆが必要である。平坦化膜６としてＳＯＧ膜が用いられる場合は、有機樹脂膜が用いられる場合と異なり、可視光の短波長側およびＵＶ光が平坦化膜６を透過しやすい。このため、遮光部１５ｆなしでは、酸化物半導体層を用いたＴＦＴ１０５の電気特性が大きく変化しやすい。よって、遮光部１５ｆによる大きな効果が得られる。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月21日(2019.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ケイ素重合体を含有する表層を有し、表面にシリコーンオイルを有するトナー粒子を有するトナーであって、
前記有機ケイ素重合体は、下記式（ＲaＴ３）で表される部分構造を有する重合体であり、
前記トナーを水洗法により洗浄して得られる粒子をトナーＡとしたとき、前記トナーＡを試料とする29Ｓｉ−ＮＭＲの測定において、
下記式（ＲaＴ３）で表される部分構造のピーク面積の割合［ＳＡＲaＴ３］と下記式（Ｍｅ２Ｄ２）で表される部分構造のピーク面積の割合［ＳＡＭｅ２Ｄ２］が、
０．００１≦（［ＳＡＭｅ２Ｄ２］／［ＳＡＲaＴ３］）×１００≦１０．０００
の関係を満たすことを特徴とするトナー。
【化１】
2017203888.tif 000001
（式中、Ｒaは炭素数が１以上６以下の炭化水素基又はアリール基を表す。）
【化２】
2017203888.tif 000002
【請求項２】
前記トナーＡをヘキサンにより洗浄して得られる粒子をトナーＡｈとしたとき、蛍光Ｘ線分析による測定において、トナーＡのＳｉＯ2量ＭＡ（質量％）とトナーＡｈのＳｉＯ2量ＭＡｈ（質量％）の関係が０．０００１０≦（ＭＡ−ＭＡｈ）／ＭＡ≦５．０００００である請求項１に記載のトナー。
【請求項３】
前記トナーＡｈのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）不溶分を試料とする29Ｓｉ−ＮＭＲの測定において、
前記トナーＡｈのＴＨＦ不溶分の有機ケイ素重合体の全ピーク面積［ＳＡｈｔＸ］に対する、式（ＲaＴ３）で表される部分構造のピーク面積の割合［ＳＡｈｔＲaＴ３］が、［ＳＡｈｔＲaＴ３］≧０．２０の関係を満たす請求項２に記載のトナー。
【請求項４】
前記トナーＡｈのＴＨＦ不溶分を試料とする29Ｓｉ−ＮＭＲの測定において、ＴＨＦ不溶分の有機ケイ素重合体の全ピーク面積に対する、ケイ素に結合するＯ1/2の数が２．０である構造（以下、Ｘ２構造とも称する。）のピーク面積の割合［ＳＡｈｔＸ２］が、０．６０≧［ＳＡｈｔＸ２］≧０．００の関係を満たす請求項１乃至３のいずれか一項に記載のトナー。
【化３】
2017203888.tif 000003
（式（Ｘ２）中のＲg及びＲhは、それぞれ独立して有機基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基またはアルコキシ基である。）
【請求項５】
前記シリコーンオイルは２５℃における粘度が１ｍｍ2／ｓ以上１０，０００ｍｍ2／ｓ以下である請求項１乃至４のいずれか一項に記載のトナー。
【請求項６】
有機ケイ素重合体を含有するトナー粒子の表面層の平均厚みＤａｖ．が２．５ｎｍ以上１５０．０ｎｍ以下である請求項１乃至５のいずれか一項に記載のトナー。
【請求項７】
前記トナーのＳｉ強度ＧとトナーＡのＳｉ強度ＧＡの関係が８０．００≦（ＧＡ／Ｇ）×１００≦１００．００ある請求項１乃至６のいずれか一項に記載のトナー。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月20日(2019.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動する感光体と、該感光体の表面を帯電処理する帯電手段と、該帯電処理後の上記感光体表面に静電潜像を形成する露光手段と、該静電潜像に現像処理して得られるトナー像を被転写材に転写処理する転写手段と、を少なくとも有する画像形成装置において、上記帯電手段により帯電処理を行った感光体表面に対して上記転写手段による定電圧での転写処理中に上記感光体に流れる電流ＩＤ、並びに、上記帯電手段により帯電処理を行った感光体表面に対して、上記露光手段により露光処理を行い、上記転写手段による定電圧での転写処理中に上記感光体へと流れる電流ＩＬを計測する電流計測手段と、上記電流ＩＤと上記電流ＩＬとの比較値を算出する電流比較値算出手段と、該比較値に基づいて上記感光体の寿命が到来したか否かを判定する寿命判定手段と、を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
請求項１の画像形成装置において、上記寿命判定手段の判定結果を報知する判定結果報知手段を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の画像形成装置において、複数の感光体を備え、該複数の感光体上に形成された各トナー像を上記被転写材へ転写する構成を有し、上記電流計測手段を感光体ごとに設け、上記寿命判定手段は、感光体ごとに寿命が到来したか否かを判定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
回転駆動する感光体と、該感光体の表面を帯電処理する帯電手段と、該帯電処理後の上記感光体表面に静電潜像を形成する露光手段と、該静電潜像に現像処理して得られるトナー像を被転写材に転写処理する転写手段と、を少なくとも有する画像形成装置において、上記帯電手段により帯電処理を行った感光体表面に対して上記転写手段による定電圧での転写処理中に上記感光体に流れる電流ＩＤ、並びに、上記帯電手段により帯電処理を行った感光体表面に対して、上記露光手段により露光処理を行い、上記転写手段による定電圧での転写処理中に上記感光体へと流れる電流ＩＬを計測する電流計測手段と、上記電流ＩＤと上記電流ＩＬとの比較値を算出する電流比較値算出手段と、該比較値に基づいて上記感光体の寿命到来時期を予測する寿命予測手段とを有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項５】
請求項４に記載の画像形成装置において、上記感光体が寿命に至るまでの上記比較値の経時変化を示す経時変化情報を記憶する経時変化情報記憶手段を有し、上記寿命予測手段は、上記比較値と、上記経時変化情報とから上記感光体の寿命到来時期を予測することを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
請求項５に記載の画像形成装置において、上記寿命予測手段は、上記比較値の算出に用いた感光体に流れる電流を測定した時期に対応する基準比較値を上記経時変化情報から特定し、該比較値と特定した基準比較値との差が規定値よりも大きいときには、所定期間経過後に改めて上記ＩＤと上記ＩＬとの比較値を算出し、該比較値に基づいて感光体の寿命到来時期を予測することを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】
請求項４乃至６いずれか一に記載の画像形成装置において、上記寿命予測手段の予測結果を報知する予測結果報知手段を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項４乃至７のいずれか一に記載の画像形成装置において、複数の感光体を備え、該複数の感光体上に形成された各トナー像を上記被転写材へ転写する構成を有し、
上記電流計測手段を感光体ごとに設け、上記寿命予測手段は、感光体ごとに寿命到来時期を予測することを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
請求項８に記載の画像形成装置において、上記複数の感光体には、互いに入れ替え可能な２以上の感光体が含まれており、上記２以上の感光体のうち上記寿命予測手段により寿命到来時期が最も早いと予測された感光体の寿命到来時期に至る前の所定のタイミングで、該感光体と、該２以上の感光体のうち該寿命予測手段により寿命到来時期が最も遅いと予測された感光体との交換を促す報知を行う交換報知手段を有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月9日(2019.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均粒子径が５〜５０nmの範囲のトリフルオロ酢酸マグネシウム微粒子と、溶媒と、α置換βジケトンとを含むことを特徴とするトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液。
【請求項２】
前記α置換βジケトンが、３−メチル−２，４−ペンタンジオンである請求項１に記載のトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液。
【請求項３】
前記溶媒が、下記式で表されるハンセンパラメ−タ(δd,δp,δH)を有することを特徴とする請求項１または２に記載のトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液。
１５．０[ＭＰａ1/2] ≦δd  ≦１６．５[ＭＰａ1/2]     （Ｉ）
４．０[ＭＰａ1/2]  ≦δp  ≦８．０[ＭＰａ1/2]        （II）
９．０[ＭＰａ1/2]  ≦δH  ≦１４．０[ＭＰａ1/2]      （III）
【請求項４】
前記溶媒が、２−エチル１−ブタノ−ル、ブチルカルビト−ル、または１−ブトキシ−２−プロパノ−ルである請求項１〜３の何れか一項に記載のトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液。 
【請求項５】
前記トリフルオロ酢酸マグネシウム微粒子の含有量a[％]と、α置換βジケトンの含有量b[％]の関係が、下記式で表されることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載のトリフルオロ酢酸マグネシウムゾル溶液。
８．０≦a≦２７．０            （IV）
２．０≦b≦６．０              （V）
a/b≧２                        （VI）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明では、トリフルオロ酢酸マグネシウム微粒子の含有量a[％]と、α置換βジケトンの含有量b[％]の関係が、下記式で表されることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月4日(2019.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
廃棄物を熱分解処理して炭化させる炭化炉であって、
前記廃棄物を熱分解処理する本体と、
前記廃棄物を熱分解処理したときに生じる排気ガスを排気する排気部を備え、
前記本体は、
下方に行くにしたがって末広がりのテーパ状に構成された熱分解炉と、
前記熱分解炉の上端部に設けられた投入口と、
前記熱分解炉の下部に配置された複数の熱伝導ヒータと、
前記熱分解炉内でかつ前記熱伝導ヒータの下方に層状に形成された赤外線層と、
前記熱分解炉内でかつ前記赤外線層の下方に配置された撹拌装置と、
前記本体の下部に設けられた灰の取出口とを備え、
前記排気部は、
上流流路としての上流側排気管と、
下流流路としての下流側排気管と、
有害な物質が排気されないように前記排気ガスを処理する排気処理部とを備え、
前記下流側排気管は、前記排気ガスが下方に流通する流路である下方流路と、前記排気ガスが上方に流通する流路である上方流路とを備え、
前記下方流路は、前記上方流路の上流側に配置され、前記下方流路の途中に前記排気処理部が配置されており、
前記排気処理部に、前記排気ガスを処理する複数の電気ヒータを備え、
前記下流側排気管の前記上方流路は、前記下方流路よりも長く、
前記下流側排気管の下端部は、前記熱分解炉の下端よりも下方に位置し、
前記下流側排気管の上端部は、前記熱分解炉の上端よりも上方に位置していることを特徴とする炭化炉。
【請求項２】
前記排気管内でかつ前記熱分解炉の上部と前記排気処理部との間に、排気ファンが配置されており、
前記排気ファンは、前記熱分解炉から前記排気部の前記上流側排気管に流入した前記排気ガスを、前記下流側排気管及び前記上方流路を経て外部に排気するように構成されていることを特徴とする請求項１記載の炭化炉。
【請求項３】
前記熱伝導ヒータは、操作部により制御され、前記熱伝導ヒータの表面が８００℃で発熱するように構成されており、
前記熱伝導ヒータは、前記廃棄物を加熱することにより前記熱分解炉上部から前記排気部に流入する前記排気ガスの温度が、１００℃〜２００℃になるように制御されることを特徴とする請求項１又は２に記載の炭化炉。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月28日(2018.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記軸部材を第１の軸部材とし、前記軸受部を第１の軸受部とした場合に、前記変速機ケースには前記第２のギヤから入力された動力を前記第１のギヤに伝達する第３のギヤを有する第２の軸部材と、前記第２の軸部材を回転自在に支持する第２の軸受部が設けられており、
前記第２の軸部材は、前記第１の軸部材に対して前記第１のギヤ側に設置されており、
前記リブを第１のリブとした場合に、前記第１のオイル誘導部は、前記第２の軸受部の上方において前記第２の軸受部の円周方向に沿って前記第１のギヤ側から前記第１の連通孔に向かって延びる第２のリブと、前記第１の軸受部および前記第２の軸受部の上方において前記第１のギヤ側から前記第２のギヤ側に向かって延びる第３のリブとを備え、
前記第１のリブの一方の側面、前記ボス部の一方の側面、前記第２のリブの上面および前記第３のリブの下面によって前記第１の連通孔に連通する第１のオイル溜まりが形成されており、
前記第２のオイル誘導部は、前記第１のリブと、前記ボス部と、前記第１のギヤから離れるように前記第１の軸受部から上方に延びる第４のリブを備え、
前記第４のリブの上面、前記第１のリブの他方の側面および前記ボス部の他方の側面によって前記第２の連通孔に連通する第２のオイル溜まりが形成されており、
前記第２のオイル溜まりには、前記第３のリブの上面と前記第３のリブの上方に位置する前記変速機ケースの天井面との間の空間を通して前記第１のギヤに掻き上げられたオイルが誘導されることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の変速機の潤滑構造。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月11日(2018.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部空間を有するシリンダと、
前記内部空間に収容され、前記シリンダと共に一対の圧力室を形成し、前記シリンダに対して相対移動するピストンと、
前記一対の圧力室の一方に接続され、且つ、第１流体シリンダ、第１電動モータ及び第１直動機構を有している第１アクチュエータと、
前記一対の圧力室の他方に接続され、且つ、第２流体シリンダ、第２電動モータ及び第２直動機構を有している第２アクチュエータと、
前記シリンダに対する前記ピストンの位置を検出する位置検出器と、
前記一対の圧力室のいずれか一方の圧力室における圧力を検出する圧力検出器と、
前記第１アクチュエータおよび前記第２アクチュエータを制御する制御器と、を備え、
前記制御器は、
前記位置検出器により検出された位置が目標位置に近づくように前記第１アクチュエータを制御し、前記圧力検出器により検出された圧力が目標圧力に近づくように前記第２アクチュエータを制御するよう構成され、
前記第１アクチュエータの制御において、前記目標位置、及び、前記位置検出器により検出された前記ピストンの位置に基づいて、前記第１電動モータの目標回転速度を算出し、
前記目標回転速度、及び、回転速度センサにより検出された前記第１電動モータの回転速度に基づいて、又は、前記目標回転速度、及び、前記位置検出器により検出された前記ピストンの位置に応じた移動速度に基づいて、前記第１電動モータの回転を制御している、アクチュエータ装置。
【請求項２】
前記シリンダは、前記第１アクチュエータおよび前記第２アクチュエータにより前記一対の圧力室のそれぞれの液体の圧力が調整される液圧シリンダ、または、前記第１アクチュエータおよび前記第２アクチュエータにより前記一対の圧力室のそれぞれの気体の圧力が調整される気圧シリンダである、請求項１に記載のアクチュエータ装置。
【請求項３】
前記第１アクチュエータおよび前記第２アクチュエータが液圧シリンダまたは気圧シリンダである、請求項１または２に記載のアクチュエータ装置。
【請求項４】
先端が医療用器具の施術部分に接続され、かつ、基端が前記ピストンに結合されるロッドをさらに備える、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のアクチュエータ装置。
【請求項５】
内部空間を有するシリンダと、
前記内部空間に収容され、前記シリンダと共に一対の圧力室を形成し、前記シリンダに対して相対移動するピストンと、
前記一対の圧力室の一方に接続され、且つ、第１流体シリンダ、第１電動モータ及び第１直動機構を有している第１アクチュエータと、
前記一対の圧力室の他方に接続され、且つ、第２流体シリンダ、第２電動モータ及び第２直動機構を有している第２アクチュエータと、
前記シリンダに対する前記ピストンの位置を検出する位置検出器と、
前記一対の圧力室のいずれか一方の圧力室における圧力を検出する圧力検出器と、を備えた、アクチュエータ装置の制御方法であって、
前記位置検出器により検出された位置が目標位置に近づくように前記第１アクチュエータを制御し、前記圧力検出器により検出された圧力が目標圧力に近づくように前記第２アクチュエータを制御し、
前記第１アクチュエータの制御において、前記目標位置、及び、前記位置検出器により検出された前記ピストンの位置に基づいて、前記第１電動モータの目標回転速度を算出し、
前記目標回転速度、及び、回転速度センサにより検出された前記第１電動モータの回転速度に基づいて、又は、前記目標回転速度、及び、前記位置検出器により検出された前記ピストンの位置に応じた移動速度に基づいて、前記第１電動モータの回転を制御する、アクチュエータ装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月24日(2019.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
伸縮性を有する基材と、
前記基材に積層され、前記基材の伸縮方向に沿って配設される帯状の１又は複数の歪みセンサと、
前記１又は複数の歪みセンサの長手方向両端近傍に歪みセンサの長手方向に交差する方向に延びるよう配設され、前記歪みセンサよりも曲げ弾性率が大きい１対の変形抑制部と
を備え、
前記１対の変形抑制部が前記１又は複数の歪みセンサから離間して配設される歪みセンサユニット。
【請求項２】
前記１対の変形抑制部と前記１又は複数の歪みセンサの長手方向先端との距離が、前記１又は複数の歪みセンサの平均長さの１／５以下である請求項１に記載の歪みセンサユニット。
【請求項３】
複数の前記歪みセンサが平行に配設され、
前記基材が前記複数の歪みセンサの間に歪みセンサと平行なスリットを有する請求項１又は請求項２に記載の歪みセンサユニット。
【請求項４】
前記変形抑制部が歪みセンサの長手方向に交差する方向の中心軸を有する密巻きコイルバネを含む請求項１、請求項２又は請求項３に記載の歪みセンサユニット。
【請求項５】
前記基材の裏面の平面視で歪みセンサの長手方向両側に配設される１対の滑り止めをさらに備える請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の歪みセンサユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月22日(2019.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸の径方向内側に向かうにしたがって該回転軸の回転方向前方側に延出するとともに前記回転軸の周方向一部領域に複数積層された薄板シール片を有するシール体と、
該シール体を前記回転軸の軸方向高圧側から覆うように周方向に延びる高圧側側板と、を備え、
前記高圧側側板は、
径方向外側の縁部であって周方向に円弧状に延びる外径側縁部と、
径方向内側の縁部であって周方向に円弧状に延びる内径側縁部と、
前記回転方向前方側の縁部であって、前記外径側縁部側から径方向内側に向かうに従って前記回転方向前方側に延びて前記内径側縁部に接続される前側縁部と、を有し、
前記高圧側側板の前記回転方向前方側の領域のみに補強部をさらに備えるシールセグメント。
【請求項２】
前記外径側縁部の前記回転方向前方側の端部から径方向に沿って前記内径側縁部に向かう線分を境界線と定義した際に、
前記補強部は、前記前側縁部側から回転方向後方側に延びて前記境界線を跨ぐように設けられた請求項１に記載のシールセグメント。
【請求項３】
前記補強部は、前記高圧側側板の前記回転方向前方側の領域のみに、前記前側縁部側から回転方向後方側に延びて前記境界線を跨ぐように設けられた厚板部を備える
請求項２に記載のシールセグメント。
【請求項４】
前記補強部は、前記高圧側側板の前記回転方向前方側の領域のみに、前記前側縁部側から回転方向後方側に延びて前記境界線を跨ぐように設けられたリブ構造を備える
請求項２又は３に記載のシールセグメント。
【請求項５】
回転軸の径方向内側に向かうにしたがって該回転軸の回転方向前方側に延出するとともに前記回転軸の周方向一部領域に複数積層された薄板シール片を有するシール体と、
該シール体を前記回転軸の軸方向高圧側から覆うように周方向に延びる高圧側側板と、を備え、
前記高圧側側板は、
径方向外側の縁部であって周方向に円弧状に延びる外径側縁部と、
径方向内側の縁部であって周方向に円弧状に延びる内径側縁部と、
前記回転方向前方側の縁部であって、前記外径側縁部から径方向内側に向かうに従って前記回転方向前方側に延びて前記内径側縁部に接続される前側縁部と、を有し、
前記高圧側側板の前記回転方向前方側の領域のみに曲がり板部をさらに備えるシールセグメント。
【請求項６】
前記外径側縁部の前記回転方向前方側の端部から径方向に沿って前記内径側縁部に向かう線分を境界線と定義した際に、
前記曲がり板部は、前記前側縁部から前記境界線に至って互いに重ねられるように曲がっている請求項５に記載のシールセグメント。
【請求項７】
前記曲がり板部は、前記前側縁部で折れ曲がっている
請求項５又は６に記載のシールセグメント。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載のシールセグメントを備える回転機械。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月22日(2019.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸の外周側で該回転軸の周方向に延びるリテーナと、
該リテーナから径方向内側に延出して、周方向に複数積層された薄板シール片を有するシール体と、
前記シール体と前記リテーナとに挟まれるように支持されて、前記シール体の軸方向の高圧側を周方向にわたって覆う高圧側側板と、
前記シール体と前記リテーナとに挟まれるように支持されて、前記シール体の軸方向の低圧側を周方向にわたって覆う低圧側側板と、
前記リテーナの周方向端部からさらに周方向に延びるリテーナ模擬部、及び、該リテーナ模擬部から径方向内側に向かって延び、前記周方向について、前記薄板シール片の３枚以上の厚さを有するブロックであるシール体模擬部を有するブロック体と、
を備え、
前記高圧側側板及び前記低圧側側板が、前記ブロック体における前記シール体模擬部の少なくとも一部を覆っているシールセグメント。
【請求項２】
前記シール体模擬部は、前記径方向内側に向かって延びる接触シールを備える
請求項１に記載のシールセグメント。
【請求項３】
前記接触シールは、ブラシシールを備える
請求項２に記載のシールセグメント。
【請求項４】
前記シール体模擬部は、前記径方向内側に向かって延びるスリットによって、主シール体模擬部と副シール体模擬部とに分割されている請求項１から３のいずれか一項に記載のシールセグメント。
【請求項５】
前記シール体模擬部は、前記主シール体模擬部と前記副シール体模擬部との間に弾性部材を備える請求項４に記載のシールセグメント。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載のシールセグメントを備える回転機械。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月11日(2019.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一回転機械が設置される第一設置領域と、第二回転機械が設置される第二設置領域と、前記第一設置領域と前記第二設置領域との水平方向の間に設けられる搬出入領域とを有する建屋本体と、
前記建屋本体内に配置されて、前記第一設置領域の上方及び前記搬出入領域の上方を走行可能な第一天井クレーンと、
前記建屋本体内に、前記第一天井クレーンに対して異なる高さ位置に配置されて、前記第二設置領域の上方及び前記搬出入領域の上方を走行可能な第二天井クレーンと、を備えるプラント建屋。
【請求項２】
前記第一天井クレーンは、前記第二設置領域を除いた領域の上方のみを走行可能とされている請求項１に記載のプラント建屋。
【請求項３】
前記第二天井クレーンは、前記第一設置領域を除いた領域の上方のみを走行可能とされている請求項１又は請求項２に記載のプラント建屋。
【請求項４】
前記第一回転機械は、第一軸線回りに回転可能な第一回転軸を有し、
前記第二回転機械は、前記第一軸線に対して平行かつ水平方向に離間して配置された第二軸線回りに回転可能な第二回転軸を有し、
前記第一天井クレーンは、前記第一回転軸に対して直交する水平方向に走行可能とされ、
前記第二天井クレーンは、前記第二回転軸に対して直交する水平方向に走行可能とされている請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のプラント建屋。
【請求項５】
前記第一天井クレーンは、前記第一回転軸に対して直交する水平方向に延びる一対の第一走行レールを有し、
前記第二天井クレーンは、前記第二回転軸に対して直交する水平方向に延びる一対の第二走行レールを有し、
前記第一走行レールと前記第二走行レールとは、前記搬出入領域の上方において、鉛直方向にオーバーラップしている、請求項４に記載のプラント建屋。
【請求項６】
前記第二天井クレーンは、前記第一天井クレーンより低い位置に配置され、
前記建屋本体は、
前記第一天井クレーンの上方に設けられた第一天井部と、
前記第二天井クレーンの上方で、前記第一天井部より低い位置に設けられた第二天井部とを有する請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のプラント建屋。
【請求項７】
前記第一回転機械は、メンテナンスに必要な前記建屋本体の床面からの鉛直方向の寸法である第一高さ寸法を有し、
前記第二回転機械は、メンテナンスに必要な前記建屋本体の床面からの鉛直方向の寸法である第二高さ寸法を有し、
前記第二高さ寸法は、前記第一高さ寸法よりも小さい請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のプラント建屋。
【請求項８】
前記第一設置領域に設置された前記第一回転機械と、
前記第二設置領域に設置された前記第二回転機械と、
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載のプラント建屋とを含むプラント。
【請求項９】
請求項１から請求項７のいずれか一項に記載のプラント建屋と、
前記第一設置領域に設置された前記第一回転機械であるガスタービンと、
前記第二設置領域に設置された前記第二回転機械である蒸気タービンと、
発電機とを含む別軸型のコンバインドサイクルプラント。
【請求項１０】
第一軸線回りに回転可能な第一回転軸を有する第一回転機械が設置される第一設置領域と、前記第一軸線に対して平行かつ水平方向に離間して配置された第二軸線回りに回転可能な第二回転軸を有する第二回転機械が設置される第二設置領域と、を有する建屋本体と、
前記建屋本体内に配置されて、前記第一設置領域の上方を前記第一回転軸に対して直交する水平方向に走行可能な第一天井クレーンと、
前記建屋本体内における前記第一天井クレーンより低い位置に配置されて、前記第二設置領域の上方を前記第二回転軸に対して直交する水平方向に走行可能な第二天井クレーンと、
前記第一天井クレーンの上方に設けられた第一天井部と、
前記第二天井クレーンの上方で前記第一天井部より低い位置に設けられた第二天井部とを備え、
前記第一天井クレーンは、互いに平行な状態で前記第一回転軸に対して直交する水平方向に延びている一対の第一走行レールを有し、
前記第二天井クレーンは、互いに平行な状態で前記第二回転軸に対して直交する水平方向に延びている一対の第二走行レールを有するプラント建屋。
【請求項１１】
鉛直方向の上方から見た際に、前記第一走行レールと前記第二走行レールとは、前記第一走行レールが延びる方向において重なるように配置されている請求項１０に記載のプラント建屋。
【請求項１２】
前記建屋本体は、内部に搬出入領域を有している請求項１０又は請求項１１に記載のプラント建屋。
【請求項１３】
前記搬出入領域は、前記第一設置領域と前記第二設置領域との水平方向の間に設けられた領域である請求項１２に記載のプラント建屋。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明の第十の態様におけるプラント建屋は、第一軸線回りに回転可能な第一回転軸を有する第一回転機械が設置される第一設置領域と、前記第一軸線に対して平行かつ水平方向に離間して配置された第二軸線回りに回転可能な第二回転軸を有する第二回転機械が設置される第二設置領域と、を有する建屋本体と、前記建屋本体内に配置されて、前記第一設置領域の上方を前記第一回転軸に対して直交する水平方向に走行可能な第一天井クレーンと、前記建屋本体内における前記第一天井クレーンより低い位置に配置されて、前記第二設置領域の上方を前記第二回転軸に対して直交する水平方向に走行可能な第二天井クレーンと、前記第一天井クレーンの上方に設けられた第一天井部と、前記第二天井クレーンの上方で前記第一天井部より低い位置に設けられた第二天井部とを備え、前記第一天井クレーンは、互いに平行な状態で前記第一回転軸に対して直交する水平方向に延びている一対の第一走行レールを有し、前記第二天井クレーンは、互いに平行な状態で前記第二回転軸に対して直交する水平方向に延びている一対の第二走行レールを有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
このような構成によれば、第一回転機械側と第二回転機械側とで建屋本体の高さを変えることができる。これにより、建屋本体の鉛直方向の大きさが片方の回転機械の大きさに合わせて大きくなりすぎてしまうことを抑えることができる。
また、本発明の第十一の態様におけるプラント建屋では、鉛直方向の上方から見た際に、前記第一走行レールと前記第二走行レールとは、前記第一走行レールが延びる方向において重なるように配置されていてもよい。
また、本発明の第十二の態様におけるプラント建屋では、前記建屋本体は、内部に搬出入領域を有していてもよい。
また、本発明の第十三の態様におけるプラント建屋では、前記搬出入領域は、前記第一設置領域と前記第二設置領域との水平方向の間に設けられた領域であってもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月18日(2019.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷媒が流入する入口ポートと冷媒が流出する出口ポートとを連通する弁孔を備えた弁本体と、
前記弁孔を流れる冷媒の量を調節する弁体と、
前記弁本体に取り付けられて弁棒を介して前記弁体を駆動するパワーエレメントと、
前記弁体を支持する支持部材と、
前記支持部材を介して前記弁体を閉弁方向に押圧するコイルバネと、
前記弁本体に螺合され、前記コイルバネの押圧力を調整する調整ねじと、
前記調整ねじに係止される防振部材と、を備え、
前記支持部材は、前記防振部材に対して前記弁体の開閉方向に摺動自在に接触する摺動部を有し、
前記防振部材及び前記摺動部は、前記コイルバネ内部に配置されている、膨張弁。
【請求項２】
前記防振部材は板バネ部を有し、前記板バネ部の弾性力により前記摺動部を押圧する、
請求項１に記載の膨張弁。
【請求項３】
前記摺動部は円柱部を有し、前記防振部材は前記板バネ部の弾性力により前記円柱部の外周面を押圧する、
請求項２に記載の膨張弁。
【請求項４】
前記摺動部は円筒部を有し、前記防振部材は前記板バネ部の弾性力により前記円筒部の内周面を押圧する、
請求項１に記載の膨張弁。
【請求項５】
前記防振部材は円筒の弾性部材であり、前記円筒の復元力により内部に配置された前記摺動部を押圧する、
請求項１に記載の膨張弁。
【請求項６】
前記防振部材は上下方向に延びるスリットが形成される、
請求項５に記載の膨張弁。
【請求項７】
前記支持部材の前記摺動部は脚部を有し、前記脚部の弾性力により前記防振部材を押圧する、
請求項１に記載の膨張弁。
【請求項８】
前記防振部材は円柱部を有し、前記脚部の弾性力により前記円柱部の外周面を押圧する、
請求項７に記載の膨張弁。
【請求項９】
前記防振部材は円筒部を有し、前記脚部の弾性力により前記円筒部の内周面を押圧する、
請求項７に記載の膨張弁。
【請求項１０】
前記摺動部は円筒部を有し、前記調整ねじは上部に延びる突起を有し、前記防振部材は前記突起に設置される楕円状の円筒部材であり、前記円筒部材の復元力により前記摺動部における前記円筒部の内周面を押圧する、
請求項１に記載の膨張弁。
【請求項１１】
前記防振部材は横方向に延びる板状の係止部を有し、前記係止部を前記調整ねじと前記コイルバネに挟んで、前記防振部材を前記調整ねじに係止する、
請求項１〜９のいずれかに記載の膨張弁。
【請求項１２】
前記調整ねじは中央に位置する突起を有し、前記防振部材を前記突起に挿入して、前記防振部材を前記調整ねじに係止する、
請求項１〜９のいずれかに記載の膨張弁。
【請求項１３】
前記防振部材は前記コイルバネの外側を覆い、前記摺動部は前記コイルバネの上部を下面で受けるフランジ部の側面に形成される、
請求項１に記載の膨張弁。
【請求項１４】
前記支持部材又は前記防振部材内に形成される内部空間と連通する均圧通路を前記支持部材又は前記防振部材に有する、
請求項１〜１３のいずれかに記載の膨張弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、代表的な本発明による膨張弁の一つは、冷媒が流入する入口ポートと冷媒が流出する出口ポートとを連通する弁孔を備えた弁本体と、前記弁孔を流れる冷媒の量を調節する弁体と、前記弁本体に取り付けられて弁棒を介して前記弁体を駆動するパワーエレメントと、前記弁体を支持する支持部材と、前記支持部材を介して前記弁体を閉弁方向に押圧するコイルバネと、前記弁本体に螺合され、前記コイルバネの押圧力を調整する調整ねじと、前記調整ねじに係止される防振部材と、を備え、前記支持部材は、前記防振部材に対して前記弁体の開閉方向に摺動自在に接触する摺動部を有し、前記防振部材及び前記摺動部は、前記コイルバネ内部に配置されている膨張弁。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月17日(2019.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
六角ドライブ、ネジ付きボルト、及び、調整可能ネジのうちの一つである駆動機構と、
前記駆動機構に結合された第１ピストンを備える第１シリンダであって、前記第１シリンダは第１流体リザーバ及び第２流体リザーバを含み、前記第１ピストンは前記第１流体リザーバと前記第２流体リザーバとの間に配置される、第１シリンダと、
第２ピストンを備える第２シリンダであって、前記第２シリンダは第３流体リザーバ及び第４流体リザーバを備え、前記第２ピストンは前記第３流体リザーバと第４流体リザーバとの間に配置される、第２シリンダと、
前記第１流体リザーバを前記第４流体リザーバに結合する第１流体ラインと、
前記第２流体リザーバを前記第３流体リザーバに結合する第２流体ラインと、
前記流体ラインから空気を除去するように構成されたリリースバルブ、液圧流体を前記流体ラインに付加するように構成された充填ポート、及び前記充填ポートから前記流体ラインに流体が流入するのを選択的に可能にする回路制御バルブのうちの１又は２以上と、を備える装置であって、
前記第１ピストンは、前記第１シリンダのネジ付き開口部に配置されたネジ山部を備え、前記ネジ山部は２５．４ｍｍ当たりほぼ２８のネジ山を備え、
前記第１リザーバ、前記第１流体ライン、及び前記第４リザーバの容積の合計は、前記第２リザーバ、前記第２流体ライン、及び前記第３リザーバの容積の合計とほぼ等しく、  前記第１シリンダの直径は、前記第２シリンダの直径よりも小さく、
前記第１ピストンは、前記駆動機構によって手動で回転可能である、装置。
【請求項２】
六角ドライブ、ネジ付きボルト、及び、調整可能ネジのうちの一つである駆動機構と、
前記駆動機構に結合された第１ピストンを備える第１シリンダであって、前記第１シリンダは第１流体リザーバ及び第２流体リザーバを含み、前記第１ピストンは前記第１流体リザーバと前記第２流体リザーバの間に配置される、第１シリンダと、
第２ピストンを備える第２シリンダであって、前記第２シリンダは第３流体リザーバ及び第４流体リザーバを備え、前記第２ピストンは前記第３流体リザーバと第４流体リザーバの間に配置される、第２シリンダと、
前記第１流体リザーバを前記第４流体リザーバに結合させる第１流体ラインと、
前記第２流体リザーバを前記第３流体リザーバに結合させる第２流体ラインと、
を備える装置と、
前記第２ピストンに結合されたシャフトと、
前記シャフトに結合された機械的アタッチメントと、
を備えるシステムであって、前記第１ピストンは前記第１シリンダのネジ付き開口部に配置されたネジ山部を備え、
前記第１ピストンは、前記駆動機構によって手動で回転可能である、システム。
【請求項３】
前記第１リザーバ、前記第１流体ライン、及び前記第４リザーバの容積の合計は、前記第２リザーバ、前記第２流体ライン、及び前記第３リザーバの容積の合計とほぼ等しい、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記第１シリンダの直径は、前記第２シリンダの直径より小さい、請求項２に記載のシステム。
【請求項５】
前記第１ピストンの前記ネジ山部は、２５．４ｍｍ当たりおよそ２８のネジ山を備える、請求項２に記載のシステム。
【請求項６】
前記第１シリンダ及び前記第２シリンダは１つの筐体内に配置される、請求項２に記載のシステム。
【請求項７】
前記第１シリンダ及び前記第２シリンダは別々の筐体内に配置される、請求項２に記載のシステム。
【請求項８】
前記流体ラインから空気を除去するように構成されたリリースバルブ、液圧流体を前記流体ラインに付加するように構成された充填ポート、及び前記充填ポートから前記流体ラインに流体が流入することを選択的に可能にするように構成された回路制御バルブのうちの１又は２以上をさらに備える、請求項２に記載のシステム。
【請求項９】
前記第２シリンダは、内部ボアをさらに備える、請求項２に記載のシステム。
【請求項１０】
前記第２ピストンに結合された前記シャフトは、前記内部ボアの中に配置される、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記内部ボアに結合された１又は２以上のセンサと、
前記１又は２以上のセンサに結合されたコンピュータシステムと、
をさらに備え、前記コンピュータシステムはメモリ及びプロセッサを備え、前記メモリは命令を備え、前記プロセッサは、前記命令の実行時に前記１又は２以上のセンサからの１又は２以上の測定値を記録するように構成される、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
六角ドライブ、ネジ付きボルト、及び、調整可能ネジのうちの一つである駆動機構と、
前記駆動機構に結合された第１ピストンを備える第１シリンダであって、前記第１シリンダは第１流体リザーバ及び第２流体リザーバを含み、前記第１ピストンは前記第１流体リザーバと前記第２流体リザーバの間に配置される第１シリンダと、
第２ピストンを備える第２シリンダであって、前記第２シリンダは第３流体リザーバ及び第４流体リザーバを備え、前記第２ピストンは前記第３流体リザーバと第４流体リザーバの間に配置される第２シリンダと、
前記第１流体リザーバを前記第４流体リザーバに結合する第１流体ラインと、
前記第２流体リザーバを前記第３流体リザーバに結合する第２流体ラインと、
を含む装置であって、
前記第１ピストンは前記第１シリンダのネジ付き開口部に配置されたネジ山部を備え、
前記第１ピストンは、前記駆動機構によって手動で回転可能である、装置。
【請求項１３】
前記第１リザーバ、前記第１流体ライン、及び前記第３リザーバの容積の合計は、前記第２リザーバ、前記第２流体ライン、及び前記第４リザーバの容積の合計とほぼ等しい、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第１シリンダの直径は、前記第２シリンダの直径よりも小さい、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
前記第１ピストンの前記ネジ山部は、２５．４ｍｍ当たりおよそ２８のネジ山を備える、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１６】
前記第２シリンダは、内部ボアをさらに備える、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１７】
前記第１シリンダ及び前記第２シリンダは１つの筐体内に配置される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１８】
前記第１シリンダ及び前記第２シリンダは別々の筐体内に配置される、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１９】
前記流体ラインから空気を除去するように構成されたリリースバルブ、液圧流体を前記流体ラインに付加するように構成された充填ポート、及び前記充填ポートから前記流体ラインに流体が流入することを選択的に可能にするように構成された回路制御バルブのうちの１又は２以上をさらに備える、請求項１２に記載のシステム。
【請求項２０】
前記内部ボアに結合された１又は２以上のセンサと、
前記１又は２以上のセンサに結合されたコンピュータシステムと、
をさらに備え、前記コンピュータシステムはメモリ及びプロセッサを備え、前記メモリは命令を備え、前記プロセッサは、前記命令の実行時に前記１又は２以上のセンサからの１又は２以上の測定値を記録するように構成される、請求項１２に記載のシステム。