【事件の表示】
　特願２０１６−２４２６２１「加飾フィルム、転写シート、加飾成形品及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成３０年　６月２１日出願公開、特開２０１８−　９４８２３、請求項の数（１３）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続等の経緯
　特願２０１６−２４２６２１号（以下「本件出願」という。）は、平成２８年１２月１４日の出願であって、その手続等の経緯の概要は、以下のとおりである。
令和　２年　７月２９日付け：拒絶理由通知書
令和　２年１０月　１日提出：意見書
令和　３年　２月１７日付け：拒絶査定（以下「原査定」という。）
令和　３年　５月１２日提出：審判請求書
第２　原査定の概要
　原査定の拒絶の理由は、概略、理由１：本件出願の請求項１に係る発明は、本件出願前に日本国内又は外国において電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法２９条１項３号に該当するので特許を受けることができない、理由２：本件出願の請求項１〜１３に係る発明は、本件出願前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて、本件出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない、というものである。
引用文献１：国際公開第２０１３／００２０４８号
引用文献２：特開２００２−３５７７０４号公報
引用文献３：特開２０１５−１９３２４８号公報
（当合議体注：引用文献１は主引例であり、引用文献２及び３は請求項６〜１０、１３についての副引例又は周知技術を示す文献である。）
第３　本件発明
　本件出願の請求項１〜１３に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」〜「本件発明１３」という。）は、本件出願の願書に最初に添付した特許請求の範囲の請求項１〜１３に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、本件発明１及び本件発明６は、以下のとおりのものである。
「【請求項１】
　フィルム面が、第１領域、前記第１領域に接する第２領域、及び前記２領域に接する第３領域を有し、
　前記第１領域が光透過性を有し、
　前記第１領域のＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に準じて測定されるフィルム表面の６０度鏡面光沢度Ｇｓ1（６０°）が、前記第３領域のＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に準じて測定されるフィルム表面の６０度鏡面光沢度Ｇｓ3（６０°）よりも小さく、
　前記第２領域のＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に準じて測定されるフィルム表面の６０度鏡面光沢度Ｇｓ2（６０°）が、前記第１領域側から前記第３領域側に向かってＧｓ1（６０°）からＧｓ3（６０°）まで漸増している、加飾フィルム。」
「【請求項６】
　離型シート上に、前記離型シートに接する転写層を少なくとも備えた転写シートであって、
　前記転写層の転写面が、第１領域、前記第１領域に接する第２領域、及び前記第２領域に接する第３領域を有し、
　前記第１領域が光透過性を有し、
　前記転写層を黒色平滑板に転写した際に、
　　前記第１領域のＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に準じて測定される転写層表面の６０度鏡面光沢測定される転写層表面の６０度鏡面光沢度Ｇｓ'3（６０°）よりも小さく、
　　前記第２領域のＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に準じて測定される転写層表面の６０度鏡面光沢度Ｇｓ'2（６０°）が、前記第１領域側から前記第３領域側に向かってＧｓ'1（６０°）からＧｓ'3（６０°）まで漸増している、転写シート。」
　また、本件発明２〜５は、本件発明１に対してさらに他の発明特定事項を付加したものであり、本件発明７〜１０は、本件発明６に対してさらに他の発明特定事項を付加したものであり、本件発明１１〜１２は、本件発明１の「加飾フィルム」を備えた「加飾成形品」の発明であり、本件発明１３は、本件発明６の「転写シート」を用いた「加飾成形品の製造方法」の発明である。
第４　引用文献の記載事項及び引用文献に記載された発明
１　引用文献１の記載事項
　原査定の拒絶理由に引用文献１として引用され、本件出願前に電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった国際公開第２０１３／００２０４８号（以下、同じく「引用文献１」という。）には、以下の記載事項がある。なお、当合議体が発明の認定等に用いた訳の箇所に下線を付した。
（１）「技術分野
[0001]　本発明は、表面に微細凹凸構造が転写された被処理体を作製するための微細凹凸構造転写用鋳型に関する。
背景技術
[0002]　ナノ・マイクロメートルサイズ領域に制御対象を有する光学素子やバイオ材料を開発する上で、ナノ・マイクロメートルサイズ領域において精密に加工制御された部材を用いることは、制御機能に大きく影響を与える。とりわけ民生用の光学素子の場合、主に数百ｎｍスケールでの波長制御が求められるため、数ｎｍ〜数十ｎｍの加工精度が重要である。さらに、量産性の観点から、加工精度の再現性、均一性、スループット性も兼ね備えた精密加工技術であることが望まれる。
・・・省略・・・
発明の概要
発明が解決しようとする課題
・・・省略・・・
[0009]　本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、高離型性を具備しつつも、転写材の塗工性が良好な微細凹凸構造転写用鋳型を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0010]　本発明の被処理体に微細凹凸構造を転写するための微細凹凸構造転写用鋳型は、基材と、前記基材の一主面上の一部に被処理体に転写される微細凹凸構造が形成された転写領域と、前記基材の一主面内の前記転写領域以外の前記微細凹凸構造が形成されていない非転写領域と、前記転写領域と前記非転写領域との間に少なくともその一部が前記転写領域と隣接するように設けられたバリア領域と、を具備し、前記転写領域および前記バリア領域は複数の凹部を含み、且つ、前記転写領域の平均ラフネスファクタＲｆ１と、前記バリア領域の平均ラフネスファクタＲｆ２との間には、Ｒｆ１＞Ｒｆ２の関係が成立すると共に、前記転写領域の平均開口率Ａｒ１と前記バリア領域の平均開口率Ａｒ２との間には、Ａｒ１＞Ａｒ２の関係が成立することを特徴とする。
・・・省略・・・
発明の効果
[0014]　本発明によれば、高離型性を具備しつつも、転写材の塗工性が良好な微細凹凸構造転写用鋳型を提供できる。
・・・省略・・・
発明を実施するための形態
[0016]　本発明の実施の形態について、以下、具体的に説明する。
[0017]　図１および図２は、転写材を塗工して微細凹凸構造を転写する鋳型を示す模式図である。図１Ａに示すように、鋳型１１０は、微細パタン加工された転写領域、すなわちパタン部１１１を備えている。鋳型１１０におけるパタン部１１１以外の領域は、微細パタン加工されていない非転写領域、すなわち非パタン部１１２である。
[0018]　この鋳型１１０に転写材を含む塗工液１１３を塗工すると、パタン部１１１と非パタン部１１２とでは、塗工液１１３にかかる力Ｆ（θ）の方向が逆となる（図１Ｂ参照）、または力の方向は同じでも、その絶対値が大きく異なる。このような力Ｆ（θ）が、パタン部１１１と非パタン部１１２との界面部に集中する。このとき、（１）離型性の発現する表面自由エネルギーの範囲において、鋳型１１０の表面自由エネルギーを増加させ、塗工性を向上させる場合、塗工液１１３の液滴内部には大きな応力が加わるため、パタン部１１１と非パタン部１１２との界面において液膜の分裂が起こり、これにより塗工液１１３の塗工不良が誘発される（以下、この現象を「塗工不良（１）」とも記す）。
[0019]　一方、（２）離型性を強く発現させるために、鋳型１１０の表面自由エネルギーを大きく減少させた場合、非パタン部１１２と塗工液１１３の親和性が極端に低くなり、塗工された転写材は、非パタン部１１２上でミリメートル以上のスケールではじかれる。この場合、はじかれた非パタン部１１２上の塗工液１１３の液滴が、パタン部１１１内部へと部分的に侵入し、結果、パタン部１１１上の塗工液１１３の膜厚（特にパタン部１１１のエッジ部）に斑が生じる。このような、非パタン部１１２上ではじかれた塗工液１１３による、パタン部１１１上の塗工斑も、塗工不良に含まれる（以下、この現象を「塗工不良（２）」とも記す）。
[0020]　また、図２Ａに示すように、樹脂モールド１２１を、マスターモールド（原版）から得るとき、一般的に、特にロール・ツー・ロールプロセスを経る場合は、図２Ａに示すように、樹脂モールド１２１には、パタン部１２２と非パタン部１２３が形成される。このような樹脂モールド１２１を鋳型として使用しそのパタンを転写形成するとき、離型性を優先させ、樹脂モールド１２１の離型力を高め自由エネルギーを大きく減少させた場合、塗工液１２４と樹脂モールド１２１との親和性が大きく低下する。このため、樹脂モールド１２１上に転写材を塗工した際に、図２Ｂに示すように、非パタン部１２３上にてはじかれた塗工液１２４が、矢印で示すように、パタン部１２２へと侵入し、パタン部１２２上で塗工液１２４の膜厚分布にばらつきが生じるという塗工不良（２）が発生する。
[0021]　さらに、図１に示すパタン部１１１が有する微細パタンが微細凹凸構造であるほど、特に、ナノスケールになるほど、また、鋳型１１０の離型性が大きくなり、塗工液１１３と鋳型１１０との親和性が低下するほど、塗工液１１３にかかる力Ｆ（θ）は強くなり、塗工不良（１）、（２）の程度がより大きくなる。また、パタン部１１１と非パタン部１１２との間に存在する樹脂等の厚み斑の方向によっては、非パタン部１１２からパタン部１１１の方向に加わるＦ（θ）が見かけ上大きくなり、非パタン部１１２上にてはじかれた塗工液１１３の、パタン部１１１への侵入度合が増加し、塗工不良（２）の程度がより大きくなる。
[0022]　そこで、本発明者は、塗工液１１３の液膜内部に加わる応力を緩和し、液体の分裂に代表される塗工不良（１）を抑制するために、または塗工液１１３の液滴内部に加わる応力を最大限に大きくし、非パタン部１１２上ではじかれた塗工液１１３の液滴が、パタン部１１１内部へと侵入することを阻害し、塗工不良（２）を抑制するために、図３に示すように、パタン部１１１と非パタン部１１２との間にバリア領域１１４を設けることを見出した。
[0023]　図４Ａに示すように、パタン部１１１と非パタン部１１２との間にバリア領域１１４を設けることにより、塗工液１１３の接触角が連続的に変化し、塗工液１１３にかかる力Ｆ（θ）も連続的に変化する。そのため、塗工液１１３の液滴内部への応力集中に起因する塗工不良（１）は起こらずに、良好な塗工性を保つことができる。
[0024]　また、バリア領域１１４を設けることにより、バリア領域１１４上における塗工液１１３の液膜内部への応力を大きくすることができる。そのため、図４Ｂに示すように、非パタン部１１２上ではじかれた塗工液１１３の液滴は、矢印で示すように、バリア領域１１４を乗り越えることができず、パタン部１１１上の塗工性、特にパタン部１１１のエッジ部の塗工性が良好に保たれて塗工不良（２）が抑制される。
[0025]　本発明の微細凹凸構造転写用鋳型（以下、単に転写用鋳型とも言う）は、下記の４種類を包含する。第１の転写用鋳型（Ｉ）および、第２の転写用鋳型（ＩＩ）を使用することにより、塗工不良（２）を抑制し、パタン部１１１に対する塗工性を良質に保つことができる。一方で、第３の転写用鋳型（ＩＩＩ）および、第４の転写用鋳型（ＩＶ）を使用することにより、塗工不良（１）を抑制し、パタン部１１１に対する塗工性を良質に保つことができる。
[0026]　本発明の第１の転写用鋳型（Ｉ）においては、基材の一主面上に、少なくともいずれも複数の凹部を具備する転写領域およびバリア領域を具備する転写用鋳型であって、前記転写領域の平均ラフネスファクタＲｆ１と、前記バリア領域の平均ラフネスファクタＲｆ２との間には、Ｒｆ１＞Ｒｆ２の関係が成立すると共に、前記転写領域の平均開口率Ａｒ１と前記バリア領域の平均開口率Ａｒ２との間には、Ａｒ１＞Ａｒ２の関係が成立する。
[0027]　本発明の第２の転写用鋳型（ＩＩ）においては、基材の一主面上に、少なくともいずれも複数の凸部を具備する転写領域およびバリア領域を具備する転写用鋳型であって、前記転写領域の平均ラフネスファクタＲｆ１と、前記バリア領域の平均ラフネスファクタＲｆ２との間には、Ｒｆ１＜Ｒｆ２の関係が成立すると共に、前記転写領域の平均開口率Ａｒ１と前記バリア領域の平均開口率Ａｒ２との間には、Ａｒ１＞Ａｒ２の関係が成立する。
[0028]　本発明の第３の転写用鋳型（ＩＩＩ）においては、基材の一主面上に、少なくともいずれも複数の凹部を具備する転写領域およびバリア領域を具備する転写用鋳型であって、前記転写領域の平均ラフネスファクタＲｆ１と、前記バリア領域の平均ラフネスファクタＲｆ２との間には、Ｒｆ１＜Ｒｆ２の関係が成立すると共に、前記転写領域の平均開口率Ａｒ１と前記バリア領域の平均開口率Ａｒ２との間には、Ａｒ１＜Ａｒ２の関係が成立する。
[0029]　本発明の第４の転写用鋳型（ＩＶ）においては、基材の一主面上に、少なくともいずれも複数の凸部を具備する転写領域およびバリア領域を具備する転写用鋳型であって、前記転写領域の平均ラフネスファクタＲｆ１と、前記バリア領域の平均ラフネスファクタＲｆ２との間には、Ｒｆ１＞Ｒｆ２の関係が成立すると共に、前記転写領域の平均開口率Ａｒ１と前記バリア領域の平均開口率Ａｒ２との間には、Ａｒ１＜Ａｒ２の関係が成立する。
[0030]　第１の転写用鋳型（Ｉ）においては、バリア領１１４域およびパタン部１１１ともに複数の凹部から構成される微細凹凸構造を具備し、バリア領域１１４のラフネスファクタＲｆ２は、パタン部１１１のラフネスファクタＲｆ１よりも小さく、且つ、バリア領域１１４の平均開口率Ａｒ２は、パタン部１１１の平均開口率Ａｒ１よりも小さく設定される。
[0031]　また、第２の転写用鋳型（ＩＩ）においては、バリア領域１１４およびパタン部１１１ともに複数の凸部から構成される微細凹凸構造を具備し、バリア領域１１４のラフネスファクタＲｆ２は、パタン部１１１のラフネスファクタＲｆ１よりも大きく、且つ、バリア領域１１４の平均開口率Ａｒ２は、パタン部１１１の平均開口率Ａｒ１よりも小さく設定される。このような、バリア領域１１４を設けることにより、バリア領域１１４上における塗工液１１３の液滴内部に加わる応力を最大限に大きくすることで、非パタン部１１２上にてはじかれた塗工液１１３の液滴が、パタン部１１１内部へと侵入することを阻害でき、塗工不良（２）を抑制できる。
[0032]　第３の転写用鋳型（ＩＩＩ）においては、バリア領域１１４およびパタン部１１１ともに複数の凹部から構成される微細凹凸構造を具備し、バリア領域１１４のラフネスファクタＲｆ２は、転写領域、すなわちパタン部１１１のラフネスファクタＲｆ１よりも大きく、且つ、バリア領域１１４の平均開口率Ａｒ２は、パタン部１１１の平均開口率Ａｒ１よりも大きく設定される。
[0033]　また、第４の転写用鋳型（ＩＶ）においては、バリア領域１１４およびパタン部１１１ともに複数の凸部から構成される微細凹凸構造を具備し、バリア領域１１４のラフネスファクタＲｆ２は、パタン部１１１のラフネスファクタＲｆ１よりも小さく、且つ、バリア領域１１４の平均開口率Ａｒ２は、パタン部１１１の平均開口率Ａｒ１よりも大きく設定される。このような、バリア領域１１４を設けることにより、バリア領域１１４上にて、塗工液１１３の液膜内部に加わる応力を緩和し、パタン部１１１と非パタン部１１２界面における液膜の分裂を抑制でき、塗工不良（１）を抑制することができる。
[0034]　下記表１に、上述の第１〜第４の転写用鋳型（Ｉ）〜（ＩＶ）についてまとめた。
[0035][表１]
                                                
[0036]　表１においてタイプとは、微細凹凸構造が、複数の凹部で構成されている場合を凹型、複数の凸部で構成されている場合を凸型と呼ぶ。
[0037]　以下、本発明の転写用鋳型の説明において、第１〜第４の転写用鋳型（Ｉ）〜（ＩＶ）のすべてに共通する説明の際は、単に転写用鋳型と記載し、第１〜第４の転写用鋳型（Ｉ）〜（ＩＶ）のいずれかの特徴を記載する場合は、第１の転写用鋳型（Ｉ）、第２の転写用鋳型（ＩＩ）、第３の転写用鋳型（ＩＩＩ）、または第４の転写用鋳型（ＩＶ）と記載する。また、転写用鋳型（Ｉ）、（ＩＩ）といったような記載は、転写用鋳型（Ｉ）および転写用鋳型（ＩＩ）に共通の特徴を記載することを意味する。
[0038]　このような転写用鋳型としては、例えば、円筒状または円柱状のマスターモールド（原版）と、このマスターモールドからの転写で得られるリール状樹脂モールド、また、円盤に代表される平板形状を有する平板マスターモールドと、このマスターモールドからの転写で得られるフィルム状樹脂モールドが挙げられる。
[0039]　転写用鋳型（Ｉ）、（ＩＩＩ）が具備する微細凹凸構造は、特に限定されないが、円錐形状、角錐形状、楕円錘形状、円柱形状、角柱形状、または楕円柱形状である複数の凹部（ホール形状）で構成されてもよい。また、微細凹凸構造は、特定方向にそれぞれ延在する線状の凸部および凹部（ラインアンドスペース構造）で構成されてもよい。ホール形状は、各ホールが滑らかな凸部を通じ隣接していてもよい。
[0040]　一方、転写用鋳型（ＩＩ）、（ＩＶ）の具備する微細凹凸構造は、特に限定されないが、円錐形状、角錐形状、楕円錘形状、円柱形状、角柱形状、または楕円柱形状である複数の凸部（ドット形状）で構成されてもよい。また、微細凹凸構造は、特定方向にそれぞれ延在する線状の凸部および凹部（ラインアンドスペース構造）で構成されてもよい。ドット形状は、各ドットが滑らかな凹部を通じ隣接していてもよい。
[0041]　ここで、ドット形状とは、図５Ａに示すように、基材１３１の表面に「柱状（錐状）体（凸部）１３１ａが複数配置された形状」を意味する。また、ホール形状とは、図５Ｂに示すように、基材１３２の表面に「柱状（錐状）の穴（凹部）１３２ｂが複数形成された形状」を意味する。微細凹凸構造において、凸部または凹部同士の距離が５０ｎｍ以上５０００ｎｍ以下であり、凸部の高さまたは凹部の深さが１０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることが好ましい。特に、凸部の高さまたは凹部の深さが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であると、パタン部１１１に対する塗工性と、バリア領域１１４の機能をいっそう向上することが可能となり、パタン部１１１への塗工性が向上すため好ましい。用途にもよるが、凸部または凹部同士の隣接距離（凸部の頂点同士の間隔または凹部の開口部中心点間の間隔）が小さく、凸部の高さまたは凹部の深さ、すなわち凹部の底から凸部の頂点までの高さが大きいことが好ましい。ここで、凸部とは、微細凹凸構造の平均高さより高い部位をいい、凹部とは、微細凹凸構造の平均高さより低い部位をいうものとする。また、微細凹凸構造のアスペクト比（凸部高さ／凸部底部径、または凹部深さ／凹部開口径）は、塗工精度、バリア領域の機能、および、転写精度の観点から０．１〜５．０であると好ましく、０．３〜３．０であるとより好ましく、０．５〜１．５であると最も好ましい。
・・・省略・・・
[0120]（第１の実施形態）
　図２３は、第１の実施形態に係る転写用鋳型を示す模式図である。図２３に示すように、この
転写用鋳型
は、円筒状または円柱状で構成され
外周表面に微細凹凸構造を有するパタン部
およびバリア領域
を具備
パタン部
がバリア領域
に挟まれ
[0121]　図２３に示すように、パタン部３０１は、バリア領域３０２に挟まれた状態で配置されている。パタン部３０１とバリア領域３０２の配置は次のように定義される。鋳型３００の長手方向の中心位置を点Ｏとする。この点Ｏから長手方向へ軸をとり、この軸上で鋳型３００における各位置を説明する。点Ａおよび点Ｆは、鋳型３００のエッジ部である。パタン部３０１は、点Ｃと点Ｄとの間に存在する。点Ｃと点Ｄの間に点Ｏが存在する。フィルムへの転写性の観点から、点Ｃと点Ｄとの中点が、点Ｏであることが好ましい（距離ＣＯ＝距離ＤＯ）。バリア領域３０２は、点Ｂと点Ｃとの間、および、点Ｄと点Ｅとの間に存在する。点Ｃと点Ｏとの距離は、点Ｂと点Ｏとの距離よりも小さい（距離ＣＯ＜距離ＢＯ）。点Ｄと点Ｏとの距離は、点Ｅと点Ｏとの距離よりも小さい（距離ＤＯ＜距離ＥＯ）。点Ｂと点Ｅとの中点が、点Ｏであってもよい（距離ＢＯ＝距離ＥＯ）。
[0122]　鋳型３００のエッジ部を示す点Ａ，Ｆと、バリア領域３０２の外側の端部を示す点Ｂ，Ｅとは、点Ａ＝点Ｂ、点Ｅ＝点Ｆの両方、またはいずれか一方の関係を満たしていてもよい。点Ａ＝点Ｂ、かつ、点Ｅ＝点Ｆの場合には、鋳型３００の外周全面が微細凹凸構造を具備することとなる。しかしながら、鋳型３００からフィルム（図示せず）へと微細凹凸構造を転写する際に、エッジ部に近い部分の微細凹凸構造を転写することは困難である。したがって、スループット性の観点から、点Ａ≠点Ｂ、かつ、点Ｅ≠点Ｆであることが好ましい。
[0123]　バリア領域３０２の大きさ（距離ＢＣ，距離ＤＥ）は、必要な面積のパタン部３０１を得られるのであれば、
鋳型
から転写形成されたフィルム
[0124]　図２３に示す鋳型３００が、鋳型（Ｉ）、（ＩＶ）に相当する場合、
バリア領域
の平均ラフネスファクタＲｆ２は、パタン部
の平均ラフネスファクタＲｆ１より小さ
バリア領域
の平均ラフネスファクタＲｆ２は、バリア領域
の内側、すなわちパタン部３０１側から外側にかけて連続的に減少
[0125]　図２３に示す鋳型３００においては、
微細凹凸構造を有するパタン部
と、微細凹凸構造を有さない非パタン部
との間に、
バリア領域
を配置し
[0126]　（第２の実施形態）
　図２４は、第２の実施形態に係る転写用鋳型を示す模式図である。図２４に示すように、この転写用鋳型（以下、単に鋳型という）３１０は、第１の実施形態に係る鋳型３００から転写形成されるフィルム鋳型、すなわち、リール状樹脂モールドである。つまり、第１の実施形態に係る鋳型３００を、本実施の形態に係る鋳型３１０へ微細凹凸構造の転写のための原版（マスターモールド）として使用している。図２４に示すように、この鋳型３１０は、表面に微細凹凸構造を有するパタン部３１１およびバリア領域３１２を具備する。なお、図２４においては、上記説明した非パタンバリア領域や、非パタンバリア領域の途切れ、バリア領域の途切れは記載していないが、これらを含むものとする。また、以下において、パタン部３１１がバリア領域３１２に挟まれる、という表現を使用するが、これも上記説明した、挟まれの定義を適用するものとする。
[0127]　図２４に示すように、パタン部３１１は、バリア領域３１２に挟まれた状態で配置されている。パタン部３１１とバリア領域３１２の配置は、次のように定義される。フィルムの幅方向に軸を取り、フィルムの一端部と他端部との中心を点Ｏとする。この軸上で鋳型３１０における各位置を説明する。なお、パタン部３１１およびバリア領域３１２が有する微細凹凸構造は、フィルムの幅方向の軸と垂直な方向にも形成されている。
[0128]　点Ａおよび点Ｆは、鋳型３１０を構成するフィルムのエッジ部である。パタン部３１１は、点Ｃと点Ｄとの間に存在する。点Ｃと点Ｄの間に点Ｏが存在する。フィルムへの転写性および、鋳型３１０への転写材の直接塗工性の観点から、点Ｃと点Ｄとの中点が、点Ｏであることが好ましい（距離ＣＯ＝距離ＤＯ）。バリア領域３１２は、点Ｂと点Ｃとの間、および、点Ｄと点Ｅとの間に存在する。点Ｃと点Ｏとの距離は、点Ｂと点Ｏとの距離よりも小さい（距離ＣＯ＜距離ＢＯ）。点Ｄと点Ｏとの距離は、点Ｅと点Ｏとの距離よりも小さい（距離ＤＯ＜距離ＥＯ）。点Ｂと点Ｅとの中点が、点Ｏであってもよい（距離ＢＯ＝距離ＥＯ）。
[0129]　フィルムのエッジ部を示す点Ａ，Ｆと、バリア領域３１２の外側の端部を示す点Ｂ，Ｅとは、点Ａ＝点Ｂ、点Ｅ＝点Ｆの両方、またはいずれか一方の関係を満たしていてもよい。点Ａ＝点Ｂ、かつ、点Ｅ＝点Ｆの場合には、フィルムの表面全面が微細凹凸構造を具備することとなる。しかしながら、第１の実施形態の鋳型３００から第２の実施形態の鋳型３１０を構成するフィルムへと微細凹凸構造を転写する際、および、第２の実施形態の鋳型３１０の微細凹凸構造面上に転写材を塗工し、被処理体上へと転写する際に、エッジ部に近い部分の微細凹凸構造を転写することは困難である。したがって、スループット性の観点から、点Ａ≠点Ｂ、かつ、点Ｅ≠点Ｆであることが好ましい。
[0130]　バリア領域３１２の大きさ（距離ＢＣ，距離ＤＥ）は、必要な面積のパタン部３１１を得られるのであれば、フィルムへの直接塗工性の観点から大きいほど好ましい。使用する溶液の粘度や、パタン部３１１における微細凹凸構造の形状によっても変わるが、概ね１０μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がより好ましい。特に、鋳型３１０を使用する際に発生するウェブの振動や撓みに対してもバリア領域３１２の効果を発揮する観点から、１００μｍ以上が好ましく、１ｍｍ以上であることが好ましく、３ｍｍ以上がより好ましく、５ｍｍ以上であることがなお好ましい。バリア領域３１２上にて強い応力により分裂した転写材塗工液がパタン部３１１側へと移動するのを抑制するために、バリア領域３１２の幅は、３０ｍｍ以下が好ましく、１５ｍｍ以下が好ましく、８ｍｍ以下が最も好ましい。
[0131]　本実施の形態に係る鋳型３１０において、鋳型（Ｉ）、（ＩＶ）においては、バリア領域３１２の平均ラフネスファクタＲｆ２は、パタン部３１１の平均ラフネスファクタＲｆ１より小さくすることが好ましい。特に、塗工性をより改善するために、バリア領域３１２の平均ラフネスファクタＲｆ２は、バリア領域３１２の内側、すなわちパタン部３１１側から外側にかけて連続的に減少する、すなわち勾配を有することが好ましい。一方、転写用鋳型（ＩＩ）、（ＩＩＩ）においては、バリア領域１２の平均ラフネスファクタＲｆ２は、パタン部３１１の平均ラフネスファクタＲｆ１より大きくすることが好ましい。特に、塗工性をより改善するために、バリア領域３１２の平均ラフネスファクタＲｆ２は、バリア領域３１２の内側、すなわちパタン部３１１側から外側にかけて連続的に増加することが好ましい。すなわち、バリア領域３１２の平均ラフネスファクタＲｆ２は、勾配を有することが好ましい。
[0132]　本実施の形態に係る鋳型３１０においては、微細凹凸構造を有するパタン部３１１と、微細凹凸構造を有さない非パタン部３１３（図２４における点Ａ−Ｂ間、点Ｅ−Ｆ間）との間に、パタン部３１１の平均ラフネスファクタＲｆ１に対し、上記説明した平均ラフネスファクタＲｆ２の関係性を満たすバリア領域３１２を配置することにより、非パタン部３１３とパタン部３１１との間のラフネスファクタＲｆがなだらかに変化する構造となる。塗工液と非パタン部３１３との親和性が離型性を発現する範囲で高い場合は、塗工液の接触角が連続的に変化し、塗工液にかかる力Ｆ（θ）も連続的に変化する。そのため、転写用鋳型（ＩＩＩ）、（ＩＶ）を使用することで塗工液の液滴（液膜）内部の応力集中は緩和され、塗工不良（１）を抑制して良好な塗工性を保つことができる。また、塗工液と非パタン部３１３との親和性が低い場合は、バリア領域３１２における塗工液に加わる応力を急激な接触角の変化により大きくできる。そのため、鋳型（Ｉ）、（ＩＩ）を使用することにより、非パタン部３１３上ではじかれ液滴化した塗工液は、バリア領域３１２を乗り越えることができず、塗工不良（２）を抑制してパタン部３１１上の塗工性を良好に保つことができる。したがって、転写材の塗工性が良好な鋳型３１０を提供することが可能となる。
・・・省略・・・
[0237]　以下、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。
[0238]　実施例においては、以下の材料および測定方法を用いた。
・ＤＡＣＨＰ…フッ素含有ウレタン（メタ）アクリレート（ＯＰＴＯＯＬ　ＤＡＣ　ＨＰ（ダイキン工業社製））
・Ｍ３５０…トリメチロールプロパントリアクリレート（東亞合成社製　Ｍ３５０）
・Ｉ．１８４…１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（ＢＡＳＦ社製　Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）　１８４）
・Ｉ．３６９…２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（ＢＡＳＦ社製　Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）　３６９）
・ＴＴＢ…チタニウム（ＩＶ）テトラブトキシドモノマー（Ｗａｋｏ社製）
・ＤＥＤＦＳ…ヂエトキシヂフェニルシラン（信越シリコーン社製　ＬＳ−５９９０）
・Ｘ２１−５８４１…末端ＯＨ変性シリコーン（信越シリコーン社製）
・ＳＨ７１０…フェニル変性シリコーン（東レ・ダウコーニング社製）
・３ＡＰＴＭＳ…３アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３（信越シリコーン社製））
・Ｍ２１１Ｂ…ビスフェノールＡ　ＥＯ変性ジアクリレート（アロニックスＭ２１１Ｂ（東亞合成社製））
・Ｍ１０１Ａ…フェノールＥＯ変性アクリレート（アロニックスＭ１０１Ａ（東亞合成社製））
・ＯＸＴ２２１…３−エチルー３｛［（３−エチルオキセタンー３−イル）メトキシ］メチル｝オキセタン（アロンオキセタンＯＸＴ−２２１（東亞合成社製））
・ＣＥＬ２０２１Ｐ…３、４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３、’４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート
・ＤＴＳ１０２…ジフェニル［４−（フェニルチオ）フェニル］スルフォニウムヘキサフルオロフォスフェート（光酸発生剤（みどり化学社製））
・ＤＢＡ…９、１０−ジブトキシアントラセン（Ａｎｔｈｒａｃｕｒｅ（登録商標）　ＵＶＳ−１３３１（Ａｎｔｈｒａｃｕｒｅ（登録商標）ＵＶＳ−１３３１（川崎化成社製））
・ＰＧＭＥ…プロピレングリコールモノメチルエーテル
・ＭＥＫ…メチルエチルケトン
・ＭＩＢＫ…メチルイソブチルケトン
・Ｅｓ／Ｅｂ…微細凹凸構造を表面に具備する樹脂モールドの、ＸＰＳ法により測定される表面（表層）フッ素元素濃度（Ｅｓ）と、平均フッ素元素濃度（Ｅｂ）の比率。
[0239]　樹脂モールドの表面（表層）フッ素元素濃度はＸ線光電子分光法（Ｘ−ｒａｙ　Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＸＰＳ）にて測定した。ＸＰＳにおける、Ｘ線のサンプル表面への侵入長は数ｎｍと非常に浅いため、ＸＰＳの測定値を本発明における樹脂モールド表面（表層）のフッ素元素濃度（Ｅｓ）として採用した。樹脂モールドを約２ｍｍ四方の小片として切り出し、１ｍｍ×２ｍｍのスロット型のマスクを被せて下記条件でＸＰＳ測定に供した。
ＸＰＳ測定条件
使用機器　；サーモフィッシャーＥＳＣＡＬＡＢ２５０
励起源　　；ｍｏｎｏ．ＡｌＫα　１５ｋＶ×１０ｍＡ
分析サイズ；約１ｍｍ（形状は楕円）
取込領域
Ｓｕｒｖｅｙ　ｓｃａｎ；０〜１，　１００ｅＶ
Ｎａｒｒｏｗ　ｓｃａｎ；Ｆ　１ｓ，Ｃ　１ｓ，Ｏ　１ｓ，Ｎ　１ｓ
Ｐａｓｓ　ｅｎｅｒｇｙ
Ｓｕｒｖｅｙ　ｓｃａｎ；　１００ｅＶ
Ｎａｒｒｏｗ　ｓｃａｎ；　２０ｅＶ
一方、樹脂モールドを構成する樹脂中の平均フッ素元素濃度（Ｅｂ）は、物理的に剥離した切片を、フラスコ燃焼法にて分解し、続いてイオンクロマトグラフ分析にかけることで測定した。
[0240]　＜転写用鋳型（ＩＶ）＞
　ドット形状の構造を具備する樹脂モールドへの塗工性試験を、次のように行った。
[0241]　（ａ）円筒形状鋳型作製
　円筒形状鋳型の基材には石英ガラスを用い、半導体レーザーを用いた直接描画リソグラフィー法により、微細凹凸構造を石英ガラス表面に形成した。円筒形状鋳型としては、パタン部３０１（以下、図２３参照）のみを持つ円筒形状鋳型Ａと、パタン部３０１およびバリア領域３０２を持つ円筒形状鋳型Ｂを作製した。パタン部３０１が有する凹凸構造は、円筒形状鋳型Ａ，Ｂともに、ピッチ４６０ｎｍ、高さ４６０ｎｍ、凸部頂部径５０ｎｍとした。円筒形状鋳型Ｂにおけるバリア領域３０２は、パタン部３０１の外側に５ｍｍ幅で形成した。
[0242]　円筒形状鋳型Ａ，Ｂに対し、デュラサーフＨＤ−１１０１Ｚ（ダイキン化学工業社製）を塗布し、６０℃で１時間加熱後、室温で２４時間静置、固定化した。その後、デュラサーフＨＤ−ＺＶ（ダイキン化学工業社製）で３回洗浄し、離型処理を実施した。
[0243]　（ｂ）リール状転写用鋳型（ＩＶ）作製
　ＤＡＣＨＰ，Ｍ３５０，Ｉ．１８４およびＩ．３６９を混合し、硬化性樹脂組成物を調液した。ＤＡＣＨＰは、Ｍ３５０、１００質量部に対し、１０〜２０質量部添加した。円筒形状鋳型Ａ，Ｂそれぞれから、以下の工程に則り、樹脂モールドＣを作製した。なお、後述する樹脂モールドＣから樹脂モールドＤを作る工程では、樹脂モールドＣを作製する際に使用した樹脂と同様の樹脂を使用して、樹脂モールドＤを作製した。さらに、樹脂モールド表面（表層）フッ素元素濃度（Ｅｓ）と、バルクフッ素元素濃度（Ｅｂ）との比率は、パタン部３１１の構造部分で、測定算出した。
[0244]　ＰＥＴフィルム：Ａ４１００（東洋紡社製：幅３００ｍｍ、厚さ１００μｍ）の易接着面にマイクログラビアコーティング（廉井精機社製）により、塗布膜厚６μｍになるように硬化性樹脂組成物を塗布した。次いで、円筒形状鋳型Ａ，Ｂそれぞれに対し、硬化性樹脂組成物が塗布されたＰＥＴフィルムをニップロール（０．１ＭＰａ）で押し付け、大気下、温度２５℃、湿度６０％で、ランプ中心下での積算露光量が６００ｍＪ／ｃｍ２となるように、フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン株式会社製ＵＶ露光装置（Ｈバルブ）を用いて紫外線を照射し、連続的に光硬化を実施し、表面に微細凹凸構造が転写されたリール状の樹脂モールドＣ（長さ２００ｍ、幅３００ｍｍ）を得た。リール状樹脂モールドＣのパタン部３１１における表面微細凹凸構造の形状は、走査型電子顕微鏡観察で確認した結果、ホール形状の構造は、ピッチ４６０ｎｍ、深さ４６０ｎｍ、開口幅２３０ｎｍであった。
[0245]　ＰＥＴフィルム：Ａ４１００（東洋紡社製：幅３００ｍｍ、厚さ１００μｍ）の易接着面にマイクログラビアコーティング（廉井精機社製）により、樹脂モールドＣを作製した際に使用した樹脂と同様の硬化性樹脂組成物を塗布膜厚６μｍになるように塗布した。次いで、円筒形状鋳型ＡまたはＢから直接転写し得られた樹脂モールドＣの微細凹凸構造面に対し、硬化性樹脂組成物が塗布されたＰＥＴフィルムをニップロール（０．１ＭＰａ）で押し付け、大気下、温度２５℃、湿度６０％で、ランプ中心下での積算露光量が６００ｍＪ／ｃｍ２となるように、フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン株式会社製ＵＶ露光装置（Ｈバルブ）を用いて紫外線を照射し、連続的に光硬化を実施し、表面に微細凹凸構造が転写された、円筒形状鋳型ＡまたはＢと同様の微細凹凸構造を具備するリール状の樹脂モールドＤ（長さ２００ｍ、幅３００ｍｍ）を複数得た。リール状樹脂モールドＤの表面微細凹凸構造の形状は、走査型電子顕微鏡観察で確認した結果、ドット形状の構造は、ピッチ４６０ｎｍ、高さ４６０ｎｍ、凸部頂部径５０ｎｍであった。得られたドット形状を具備する樹脂モールドＤの、表面（表層）フッ素元素濃度（Ｅｓ）と、平均フッ素元素濃度（Ｅｂ）の比率（Ｅｓ／Ｅｂ）は、ＤＡＣＨＰの仕込み量により４０〜８０の値をとり、樹脂モールドＤの転写領域３１１およびバリア領域３１２の水に対する接触角は、いずれも９０度より大きいことが確認された。
[0246]　以下の樹脂モールドＤを使用した検討においては、Ｅｓ／Ｅｂ＝７４．１，５５．４，４９．０である撥水性の強い樹脂モールドを選定し、それら全てに対して、塗工性の検討を行った。
[0247]　（ｃ）樹脂モールドＤ（リール状転写用鋳型（ＩＶ））への直接塗工
　樹脂モールドＤの表面に形成された微細凹凸構造面に対し、以下材料Ｅ，Ｆ，Ｇを、それぞれ直接塗工し、塗工性を判断した。塗工性は、鋳型Ａ由来の樹脂モールドＤを使用した場合は、パタン部３１１部分と、非パタン部３１３の界面部分で判断した。鋳型Ｂ由来の樹脂モールドＤを使用した場合は、パタン部３１１とバリア領域３１２の界面およびバリア領域３１２と非パタン部３１３の界面で判断した。それぞれの界面部分で、塗膜にむらや弾きが生じた場合には塗工不良と判断し、むらや弾き無く塗工されていた場合には塗工良好と判断した。
[0248]　材料Ｅ…ＴＴＢ；ＤＥＤＦＳ；ＴＥＯＳ；Ｘ２１−５８４１；ＳＨ７１０＝６５．２５：２１．７５：４．３５：４．３５：４．３５［ｇ］で十分に混合した。続いて、３．２５％の水を含むエタノール２．３ｍｌを、攪拌下で、徐々に滴下した。その後、８０度の環境で４時間熟成し、真空引きを行い、材料Ｅを得た。
[0249]　材料Ｆ…ＴＴＢ；ＤＥＤＲＳ；Ｘ２１−５８４１；ＳＨ７１０；３ＡＰＴＭＳ；Ｍ２１１Ｂ；Ｍ１０１Ａ；Ｍ３５０；Ｉ．１８４；Ｉ．３６９＝３３．０：１１．０：４．４：４．４：１７．６：８．８：８．８：８．８：２．４：０．９［ｇ］で十分に混合し、材料Ｆを得た。
[0250]　材料Ｇ…ＴＴＢ；ＤＥＤＲＳ；Ｘ２１−５８４１；ＳＨ７１０；３ＡＰＴＭＳ＝４６．９：１５．６：６．３：６．３：２５．０［ｇ］で十分に混合し、続いて、３．２５％の水を含むエタノール２．３ｍｌを、攪拌下で徐々に滴下した。その後、８０度の環境で２．５時間熟成し、真空引きを行った。この溶液に、Ｍ２１１Ｂ；Ｍ１０１Ａ；Ｍ３５０；Ｉ．１８４；Ｉ．３６９＝２９．６：２９．６：２９．６：８．１：３．０［ｇ］を混合した溶液４２．２ｇを加え、十分に攪拌し、材料Ｇを得た。
[0251]　材料Ｅ，Ｆ，Ｇを、ＰＧＭＥまたはＭＩＢＫで希釈した。希釈倍率は、１％〜５％の範囲で行い、樹脂モールドＤの微細凹凸構造内部のみが埋まる状態から、微細凹凸構造を完全に埋め、かつ、微細凹凸構造上に塗膜が形成される状態まで試みた。
[0252]　樹脂モールドＤの微細凹凸構造面に対する材料Ｅ，Ｆ，Ｇの塗工は、上記（ｂ）リール状転写用鋳型（ＩＶ）作製と同様の装置を使用した。マイクログラビアコーティングにて、樹脂モールドＤの微細凹凸構造面に、希釈した材料を塗工し、８０度の乾燥雰囲気を通過させた状態を確認した。
[0253]　（ｄ）バリア領域の構造
　バリア領域における微細凹凸構造は、パタン部の平均ラフネスファクタＲｆ１と、バリア領域の平均ラフネスファクタＲｆ２とが連続化し、且つ、バリア領域の平均ラフネスファクタＲｆ２が、非パタン部（Ｒｆ＝１）へと連続的に変化することを設計指針として以下２種類を設計した。すなわち、平均ラフネスファクタＲｆ２が、パタン部側からバリア領域側へと減少するようなバリア領域を設けた。
[0254]　（ｄ−１）バリア領域（１）
　円筒形状鋳型の周方向のピッチ（周ピッチ）を変化させ、軸方向のピッチ（送りピッチ）は、周ピッチに従い、正規配列になるように設定した。パタン部とバリア領域との界面を点０としてとり、パタン部からバリア領域の方向への軸（距離）を設定した。図３２は、この場合における周ピッチと距離（グラフ１００）、および、ラフネスファクタＲｆと距離（グラフ１０１）との関係を示すグラフである。図３２に示すグラフの横軸はパタン部とバリア領域との界面（点０）からの距離［ｍｍ］を示し、縦軸（左）は周ピッチ［ｎｍ］を示し、縦軸（右）はラフネスファクタＲｆの値を示す。図３２において、送りピッチは、周ピッチ×（０．８６６）である。点０（距離０ｍｍ）におけるピッチは４６０ｎｍであり、パタン部と連続である。点０からの距離が大きくなるほど、周ピッチは指数的に増加する。この周ピッチの変化に伴い、ラフネスファクタＲｆ２は、フラットである１へと連続的に変化する。すなわち、ラフネスファクタＲｆ２は、パタン部側からバリア領域側へと減少する。また、ピッチがパタン部側からバリア領域側へと大きくなることに伴い、開口率はパタン部側からバリア領域側へと増加している。
[0255]　（ｄ−２）バリア領域（２）
　円筒形状鋳型の送りピッチのみを変化させ、周ピッチは４６０ｎｍで一定とした。配列は正規配列とした。パタン部とバリア領域との界面を点０としてとり、パタン部からバリア領域の方向への軸（距離）を設定した。図３３は、この場合における送りピッチと距離（グラフ１０２）、および、ラフネスファクタＲｆと距離（グラフ１０３）との関係を示すグラフである。図３３に示すグラフの横軸はパタン部とバリア領域との界面（点０）からの距離［ｍｍ］を示し、縦軸（左）は送りピッチ［ｎｍ］を示し、縦軸（右）はラフネスファクタＲｆの値を示す。軸ピッチは、４６０ｎｍで一定である。点０（距離０ｍｍ）における送りピッチは３９８ｎｍであり、パタン部と連続である。点０からの距離が大きくなるほど、送りピッチは指数的に増加する。この送りピッチの変化に伴い、ラフネスファクタＲｆは、フラットである１へと連続的に変化する。すなわち、ラフネスファクタＲｆ２は、パタン部側からバリア領域側へと減少する。また、ピッチがパタン部側からバリア領域側へと大きくなることに伴い、開口率はパタン部側からバリア領域側へと増加している。
[0256]（ｅ）塗工結果
　バリア領域を持たない鋳型Ａ由来の樹脂モールドＤを用いた場合（比較例１）、材料Ｅ〜Ｇおよびその濃度に関わらず、パタン部と非パタン部界面において、むらが観察された。むらは、溶剤の揮発乾燥と共に白いもやとなって観察された。これは、図１Ｂに示すように、パタン部１１１と非パタン部１１２との界面上において塗工液１１３の膜内部に強い応力が働き、塗工液１１３の膜の分裂が生じ、これにより塗工斑（膜厚斑）が生じたためである（塗工不良（１））。
[0257]　バリア領域を持つ鋳型Ｂ由来の樹脂モールドＤを用いた場合（実施例１）、材料Ｅ〜Ｇおよびその濃度に関わらず、パタン部とバリア領域との界面、および、バリア領域と非パタン部との界面において、むらは観察されず、良好な塗工が得られた。これは、図４Ａに示すように、バリア領域１１１上において塗工液１１３の膜内部の応力が緩和され、塗工液１１３の膜の分裂が生じず、これにより塗工が良好に行われたためである。」
（２）[図1]
（３）[図2]
  
（４）[図3]
  
（５）[図4]
  
（６）[図23]
  
（７）[図24] 
  
２　引用発明
　引用文献１の上記１の記載に基づけば、引用文献１には、第１の実施形態に係る鋳型３００（[0120]〜[0125]、[図23]）から転写形成されたフィルムとして、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「　鋳型から転写形成されたフィルムであって、
　鋳型は、円筒状または円柱状で構成され、外周表面に微細凹凸構造を有するパタン部およびバリア領域を具備し、パタン部がバリア領域に挟まれ、
　バリア領域の平均ラフネスファクタＲｆ２は、パタン部の平均ラフネスファクタＲｆ１より小さく、バリア領域の平均ラフネスファクタＲｆ２は、バリア領域の内側、すなわちパタン部側から外側にかけて連続的に減少し、
　微細凹凸構造を有するパタン部と、微細凹凸構造を有さない非パタン部との間に、バリア領域を配置する、フィルム。」
第５　対比・判断
１　本件発明１
（１）対比
　本件発明１と引用発明とを対比する。
　引用発明の「フィルム」と本件発明１の「加飾フィルム」とは、「フィルム」の点で共通する。
（２）一致点及び相違点
　以上より、本件発明１と引用発明とは、「フィルム」の点で一致し、以下の点で相違する。
（相違点１）
　「フィルム」が、本件発明１は、「加飾フィルム」であるのに対して、引用発明は、「加飾」のためのフィルムであるかどうかが明らかでない点。
（相違点２）
　本件発明１が、「フィルム面が、第１領域、前記第１領域に接する第２領域、及び前記２領域に接する第３領域を有し、
　前記第１領域が光透過性を有し、
　前記第１領域のＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に準じて測定されるフィルム表面の６０度鏡面光沢度Ｇｓ1（６０°）が、前記第３領域のＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に準じて測定されるフィルム表面の６０度鏡面光沢度Ｇｓ3（６０°）よりも小さく、
　前記第２領域のＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に準じて測定されるフィルム表面の６０度鏡面光沢度Ｇｓ2（６０°）が、前記第１領域側から前記第３領域側に向かってＧｓ1（６０°）からＧｓ3（６０°）まで漸増している」のに対して、引用発明は、上記の構成を具備するかどうかが明らかでない点。
（３）判断
　上記相違点１及び上記相違点２について検討する。
　まず、上記相違点２について、引用発明において、パタン部、バリア領域及び非パタン部を具備するのはあくまでも鋳型であって、その鋳型によって表面に微細凹凸構造が転写形成されたフィルムが、当該バリア領域及び非パタン部を有するとは、必ずしもいえない。
　この点につき、引用文献１の[0001]には、「本発明は、表面に微細凹凸構造が転写された被処理体を作製するための微細凹凸構造鋳型に関する。」と記載されているように、鋳型から転写形成されたフィルムには、微細凹凸構造であるパタン部は形成されているものの、バリア領域や非パタン部が転写されるとまではいえない。また、引用文献１の他の箇所にも、鋳型から転写形成されたフィルムがバリア領域及び非パタン部を具備することを窺わせる記載はない。むしろ、引用文献１には「非パタン部１１２上ではじかれた塗工液１１３による、パタン部１１１上の塗工斑も、塗工不良に含まれる」（[0019]）、「非パタン部１１２上ではじかれた塗工液１１３の液滴が、パタン部１１１内部へと侵入することを阻害し、塗工不良（２）を抑制するために、図３に示すように、パタン部１１１と非パタン部１１２との間にバリア領域１１４を設ける」（[0022]）と説明されているように、転写領域はあくまでパタン部であって、バリア領域は「塗工不良」を抑制する目的で鋳型に設けられるものと理解できる。念のため付言すると、引用文献１の[0247]や[0257]の記載は、あくまでも鋳型における塗膜のむらや弾きなどの塗工についての評価であるから、転写形成されたフィルムが、例えば光学素子として使用する部分において、バリア領域及び非パタン部を具備するかどうかについて言及するものではない。
　さらに、上記相違点１及び上記相違点２に係る、フィルム面が、第１領域、前記第１領域に接する第２領域、及び前記２領域に接する第３領域を有する加飾フィルムは、引用文献１のみならず、原査定の理由に示された、特開２００２−３５７７０４号公報（以下「引用文献２」という。）、特開２０１５−１９３２４８号公報（以下「引用文献３」という。）のいずれの文献にも、記載されておらず、公知技術又は周知技術であるともいえない。
　そうしてみると、当業者であっても、引用発明に基づいて上記相違点１及び上記相違点２に係る本件発明１の構成とすることが、容易になし得たということはできない。
（４）小括
　以上のとおりであるから、本件発明１は、引用文献１に記載された発明ということはできず、また、当業者であっても、引用文献１に記載された発明及び引用文献１〜３に記載された事項に基づいて容易に発明をすることができたということができない。
２　本件発明２〜５、１１〜１２について
　本件発明２〜５、１１〜１２は、本件発明１の構成を全て具備するものであるから、本件発明２〜５、１１〜１２も、本件発明１と同じ理由により、当業者であっても、引用文献１に記載された発明及び引用文献１〜３に記載された事項に基づいて容易に発明をすることができたということができない。
３　本件発明６について
（１）対比
　本件発明６と引用発明とを対比する。
　引用発明の「フィルム」もシートであるといえるから、本件発明６の「転写シート」と引用発明の「フィルム」とは、「シート」の点で共通する。
（２）一致点及び相違点
　以上より、本件発明６と引用発明とは、「シート」の点で一致し、以下の点で相違する。
（相違点３）
　「シート」が、本件発明６は、「離型シート上に、前記離型シートに接する転写層を少なくとも備えた転写シート」であるのに対して、引用発明は、「フィルム」であることにとどまり、転写シートではない点。
（相違点４）
　本件発明６が、「転写層の転写面が、第１領域、前記第１領域に接する第２領域、及び前記２領域に接する第３領域を有し、
　前記第１領域が光透過性を有し、
　前記転写層を黒色平滑板に転写した際に、
　前記第１領域のＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に準じて測定されるフィルム表面の６０度鏡面光沢度Ｇｓ1（６０°）が、前記第３領域のＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に準じて測定されるフィルム表面の６０度鏡面光沢度Ｇｓ3（６０°）よりも小さく、
　前記第２領域のＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に準じて測定されるフィルム表面の６０度鏡面光沢度Ｇｓ2（６０°）が、前記第１領域側から前記第３領域側に向かってＧｓ1（６０°）からＧｓ3（６０°）まで漸増している」のに対して、引用発明は、上記の構成を具備するかどうかが明らかでない点
（２）判断
　上記相違点３及び上記相違点４について検討する。
　まず、上記相違点３について、引用文献１には、被処理体が転写シートであることは、記載も示唆もされていない。
　そして、上記相違点４については、本件発明１の「加飾フィルム」を本件発明６の「転写シート」に置き換えたものであるから、上記１（３）で述べたとおりであり、したがって、上記相違点３及び上記相違点４に係る本件発明６の構成は、引用文献１、引用文献２及び引用文献３のいずれの文献にも、記載されておらず、公知技術又は周知技術であるともいえない。
　そうしてみると、当業者であっても、引用発明に基づいて上記相違点３及び上記相違点４に係る本件発明６の構成とすることが、容易になし得たということはできない。
（３）小括
　以上のとおりであるから、本件発明６は、当業者であっても、引用文献１に記載された発明及び引用文献１〜３に記載された事項に基づいて容易に発明をすることができたということができない。
４　本件発明７〜１０、１３について
　本件発明７〜１０、１３は、本件発明６の構成を全て具備するものであるから、本件発明７〜１０、１３も、本件発明６と同じ理由により、当業者であっても、引用文献１に記載された発明及び引用文献１〜３に記載された事項に基づいて容易に発明をすることができたということができない。
第６　原査定について
　上記第５で述べたように、本件の請求項１〜１３に係る発明は、引用文献１に記載された発明ということはできず、また、当業者であっても、拒絶査定において引用された引用文献１に記載された発明及び引用文献１〜３に記載された事項に基づいて、容易に発明をすることができたということができない。したがって、原査定の理由を維持することはできない。
第７　むすび
　以上のとおり、原査定の理由によっては、本願を拒絶することはできない。
　また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。