Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月12日(2019.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像担持体と、
前記像担持体上にトナー像を形成するトナー像形成手段と、
前記トナー像形成手段で前記像担持体上に形成した画像パターンの濃度を検知する画像濃度検知手段と、
前記画像濃度検知手段の検知結果に基づいて、前記トナー像形成手段で形成する出力画像の濃度が所定の目標濃度になるように該出力画像の画像形成時に用いられる作像条件を更新する画像濃度制御手段と、を備えた画像形成装置であって、
前記画像濃度制御手段は、
前記像担持体上に中間調画像パターン及びベタ画像パターンを前記トナー像形成手段で形成し、
前記中間調画像パターンの濃度及び前記ベタ画像パターンの濃度それぞれを前記画像濃度検知手段で検知し、
前記ベタ画像パターンの濃度の検知結果に基づいて、前記中間調画像パターンの濃度の検知結果が目標中間濃度に維持されるように前記作像条件を更新する第１の作像条件更新制御と、前記ベタ画像パターンの濃度の検知結果が目標ベタ濃度に維持されるように前記作像条件を更新する第２の作像条件更新制御とを切り替えて実行することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
請求項１の画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、前記ベタ画像パターンの濃度の検知結果と所定の閾値との比較結果に基づいて、前記第１の作像条件更新制御と前記第２の作像条件更新制御とを切り替えて実行することを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
請求項１又は２の画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、
非画像形成時に、前記像担持体上に複数の画像濃度部を有する階調画像パターンを形成し、前記階調画像パターンにおける複数の画像濃度部それぞれの濃度の検知結果に基づいて、出力画像の画像形成時の作像条件を決定し、
上記決定した作像条件で前記像担持体上に中間調画像パターン及びベタ画像パターンを前記トナー像形成手段で形成し、前記中間調画像パターンの濃度及び前記ベタ画像パターンの濃度それぞれを前記画像濃度検知手段で検知し、それらの検知結果に基づいて前記目標中間濃度及び前記目標ベタ濃度を決定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかの画像形成装置において、
前記トナー像形成手段で用いる現像剤のトナー濃度を検知するトナー濃度検知手段と、
前記トナー濃度検知手段の検知結果がトナー濃度目標値になるように制御するトナー濃度制御手段と、を更に備え、
前記画像濃度制御手段は、前記第２の作像条件更新制御において、前記ベタ画像パターンの濃度の検知結果が前記目標ベタ濃度に維持されるように、前記トナー濃度目標値を更新することを特徴とする画像形成装置。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれかの画像形成装置において、
前記トナー像形成手段で用いる現像剤のトナー濃度を検知するトナー濃度検知手段と、
前記トナー濃度検知手段の検知結果がトナー濃度目標値になるように制御するトナー濃度制御手段と、を更に備え、
前記画像濃度制御手段は、前記第２の作像条件更新制御において、前記ベタ画像パターンの濃度の検知結果が前記目標ベタ濃度に維持されるように、前記像担持体上に前記出力画像のトナー像を形成するときの条件と前記トナー濃度目標値とを更新することを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかの画像形成装置において、
前記トナー像形成手段における現像剤を収容する現像剤収容部にトナーを供給するトナー供給手段を更に備え、
前記画像濃度制御手段は、前記第２の作像条件更新制御において、前記ベタ画像パターンの濃度の検知結果が前記目標ベタ濃度に維持されるように、前記トナー供給手段によるトナー供給を実行することを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかの画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、前記第２の作像条件更新制御において、前記像担持体上に複数の画像濃度部を有する階調画像パターンを形成し、前記階調画像パターンにおける複数の画像濃度部それぞれの濃度の検知結果に基づいて、出力画像の画像形成時の作像条件を決定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかの画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、前記ベタ画像パターンの濃度の検知結果が所定の閾値未満のとき前記第２の作像条件更新制御を実行しないことを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかの画像形成装置において、
最大濃度目標値は、前記画像濃度検知手段による濃度の検知可能上限値であることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかの画像形成装置において、
前記中間調画像パターン及び前記ベタ画像パターンはそれぞれ、出力画像の画像形成時において、前記像担持体の移動方向と直交する方向における該像担持体上の画像形成領域外、又は、前記像担持体の移動方向における該像担持体上の画像形成領域外に形成することを特徴とする画像形成装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成30年12月5日(2018.12.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定すべき光学面を参照光学面と比較して制御する制御システム（１０）であって、２つのビームスプリッタ（２８、３０）を有するマッハ−ツェンダレイアウトにあり、かつ入射光ビームの位相を変更する位相変更ユニット（２４）を備える干渉装置（２２）を含み、前記位相変更ユニット（２４）が、両ビームスプリッタ（２８、３０）間に配置され、
第１の光軸（Ｏ１）を備え、入射ビームの位相に第１の位相関数を導入することが可能な第１の光学素子（３６）と、
第２の光軸（Ｏ２）を備え、前記第１の光学素子（３６）を透過または反射したビームの位相に第２の位相関数を導入することが可能な第２の光学素子（３８）と
を備え、
前記第１の位相関数と、前記第２の位相関数とがそれぞれ、同じ光学収差に対応し、前記第１の光学素子（３６）、および前記第２の光学素子（３８）のうちの少なくとも一方が、関連する前記光学素子（３６、３８）に特有の前記光軸（Ｏ１、Ｏ２）周りで回転し、
前記干渉装置（２２）は、レーザビームの発生、及び干渉縞の測定の両方のために使用されるユニットを備え、前記干渉縞は、ビームの干渉装置２２全体を通過する反射の後及び前記ユニットへの戻りの後に分析されることを特徴とする、制御システム。
【請求項２】
前記干渉装置（２２）が、第１の光ビームと第２の光ビームとの間の干渉装置（２２）であり、前記第１の光ビームが、前記参照光学面と理想平坦面と間のずれに比例した位相を有し、前記第２の光ビームが、前記測定すべき光学面と理想平坦面との間のずれに比例した位相と、前記第１の位相関数と、前記第２の位相関数との合計に等しい位相を有する、請求項１に記載の制御システム。
【請求項３】
光ビームを前記参照光学面に投射することが可能であり、かつ前記位相変更ユニット（２４）からの光ビームを前記測定すべき光学面に投影することが可能な光学投影系（２６）をさらに含む、請求項１または２に記載の制御システム。
【請求項４】
前記位相変更ユニット（２４）と前記光学投影系（２６）との間に配置された格納可能なミラーをさらに含む、請求項３に記載の制御システム。
【請求項５】
前記光学収差には、いかなる回転対称性もない、請求項１から４のいずれか一項に記載の制御システム。
【請求項６】
前記光学収差が、ゼルニケフローである、請求項１から５のいずれか一項に記載の制御システム。
【請求項７】
前記第１の光学素子（３６）と、前記第２の光学素子（３８）とが同一である、請求項１から６のいずれか一項に記載の制御システム。
【請求項８】
前記第１の光学素子（３６）、および前記第２の光学素子（３８）がそれぞれ、プレート、平凹レンズ、平凸レンズ、円柱レンズ、ホログラム、およびミラーからなる群から選択される、請求項１から７のいずれか一項に記載の制御システム。
【請求項９】
前記位相変更ユニット（２４）が、少なくとも１つの角度エンコーダを含み、各角度エンコーダが、前記光学素子（３６、３８）を回転させる、請求項１から８のいずれか一項に記載の制御システム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
特定の実施形態によれば、この光学系は、以下の特徴の１つまたはいくつかを、個々に、または技術的に実施可能なあらゆる組合せに従って含む。
−  制御システムは、第１の光ビームと第２の光ビームとの間で干渉を生じる装置を備え、第１のビームは、参照光学面と理想平坦面との間のずれに比例した位相を有し、第２のビームは、測定すべき光学面と理想平坦面との間のずれに比例した位相と、第１の位相関数と、第２の位相関数との合計に等しい位相を有する。
−  干渉装置は、マッハ−ツェンダ型のレイアウトにある。
−  制御システムは、光ビームを参照光学面に投影することが可能であり、かつ位相変更ユニットからの光ビームを測定すべき光学面に投影することが可能な光学投影系を備える。
−  制御システムは、位相変更ユニットと投影系との間に配置された格納可能なミラーを備える。
−  光学収差には、いかなる回転対称性もない。
−  光学収差は、ゼルニケフロー（Ｚｅｒｎｉｋｅ  ｆｌａｗ）である。
−  第１の光学素子と、第２の光学素子とは、同一である。
−  第１の光学素子、および第２の光学素子はそれぞれ、プレート、平凹レンズ、平凸レンズ、円柱レンズ、ホログラム、およびミラーからなる群から選択される。
−  位相変更ユニットは、少なくとも１つの角度エンコーダを含み、各角度エンコーダは、光学素子を回転させる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６０】
この目的で、光学素子３６と３８とは位相が逆に設定されており、したがってこれらの光学素子３６および３８の両出力で位相が変更されることはない。その後、例えば位相変更ユニット２４と光学投影系２６との間に配置された格納可能な平面鏡を用いて較正を実施することが可能である。次いで、この較正は、理想波と比較したときに、導入された収差が測定可能なまま残るように、小角度の位置偏位を実施することによって、導入された収差を測定することによって完了する。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月29日(2019.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態に制御可能な遊技機であって、
可変表示に関する情報を、保留記憶として記憶する保留記憶手段と、
前記保留記憶手段に記憶された保留記憶に対応して保留表示を表示する保留表示手段と、
保留表示の表示態様を通常態様とは異なる態様に変化させる保留予告演出の変化態様を決定する保留予告決定手段と、
前記保留予告決定手段が決定した変化態様に従って前記保留予告演出を実行可能な保留予告実行手段とを備え、
前記保留予告決定手段は、
少なくとも、第１タイミングと第２タイミングとを含む複数の変化タイミングにおける前記保留予告演出の変化態様を決定可能であり、
前記保留予告演出の変化態様を決定するための決定データを用いて前記第１タイミングにおける前記保留予告演出の変化態様を決定した後に、前記決定データを用いて前記第２タイミングにおける前記保留予告演出の変化態様を決定する
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
可変表示の実行中に該可変表示に対応する対応表示を所定領域で行う対応表示制御手段と、
前記所定領域に表示された前記対応表示の表示態様を通常態様とは異なる態様に変化させる対応表示変化手段とを備えた
請求項１記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（手段Ａ）本発明による遊技機は、可変表示を行い、遊技者にとって有利な有利状態（例えば、大当り遊技状態）に制御可能な遊技機であって、可変表示に関する情報を、保留記憶として記憶する保留記憶手段（例えば、第１保留記憶バッファ、第２保留記憶バッファ）と、保留記憶手段に記憶された保留記憶に対応して保留表示を表示する保留表示手段（例えば、合算保留記憶表示部１８ｃ）と、保留表示の表示態様を通常態様（例えば、黒色の丸形表示）とは異なる態様（例えば、特殊表示態様（青色や緑色、赤色、金色、桜柄、虹色の丸形表示））に変化させる保留予告演出（例えば、図４７に示す態様の保留予告演出）の変化態様を決定する保留予告決定手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ６００３，Ｓ６０１２を実行する部分）と、保留予告決定手段が決定した変化態様に従って保留予告演出を実行可能な保留予告実行手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ６０１５，Ｓ８１０８を実行する部分）とを備え、保留予告決定手段は、少なくとも、第１タイミングと第２タイミングとを含む複数の変化タイミング（例えば、始動入賞が発生したタイミング、その後の保留表示のシフトのタイミング）における保留予告演出の変化態様を決定可能であり、保留予告演出の変化態様を決定するための決定データ（例えば、図３９に示す保留表示変化態様決定テーブル）を用いて第１タイミングにおける保留予告演出の変化態様を決定した後に、決定データを用いて第２タイミングにおける保留予告演出の変化態様を決定する（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００は、図３９に示す保留表示変化態様決定テーブルを汎用的に用いて、ステップＳ６０１２の処理を繰り返し実行することによって、最終表示態様から順に１つずつ前の保留表示の変化前の表示態様を決定する）ことを特徴とする。そのような構成によれば、変化タイミングごとに決定データを用いて保留予告演出の変化態様を決定するので、決定データのデータ容量の増大を防止し記憶領域の容量を圧迫することを低減することができる。
（手段１）他の遊技機は、各々を識別可能な複数種類の識別情報（例えば、第１特別図柄、第２特別図柄）の可変表示を行う可変表示手段（例えば、第１特別図柄表示器８ａ、第２特別図柄表示器８ｂ）に特定表示結果（例えば、大当り図柄）が導出表示されたときに遊技者にとって有利な特定遊技状態（例えば、大当り遊技状態）に制御する遊技機であって、未だ開始されていない識別情報の可変表示について、保留記憶として記憶する保留記憶手段（例えば、第１保留記憶バッファ、第２保留記憶バッファ）と、保留記憶手段に記憶された保留記憶に対応して保留表示を表示する保留表示手段（例えば、合算保留記憶表示部１８ｃ）と、保留表示の表示態様を通常態様（例えば、黒色の丸形表示）とは異なる態様（例えば、特殊表示態様（青色や緑色、赤色、金色、桜柄、虹色の丸形表示））に変化させる保留予告演出（例えば、図４７に示す態様の保留予告演出）の変化態様を決定する保留予告決定手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ６００３，Ｓ６０１２を実行する部分）と、保留予告決定手段が決定した変化態様に従って保留予告演出を実行可能な保留予告実行手段（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００におけるステップＳ６０１５，Ｓ８１０８を実行する部分）とを備え、保留予告決定手段は、少なくとも、第１タイミングと第２タイミングとを含む複数の変化タイミング（例えば、始動入賞が発生したタイミング、その後の保留表示のシフトのタイミング）における保留予告演出の変化態様を決定可能であり、保留予告演出の変化態様を決定するための決定データ（例えば、図３９に示す保留表示変化態様決定テーブル）を用いて第１タイミングにおける保留予告演出の変化態様を決定した後に、決定データを用いて第２タイミングにおける保留予告演出の変化態様を決定する（例えば、演出制御用マイクロコンピュータ１００は、図３９に示す保留表示変化態様決定テーブルを汎用的に用いて、ステップＳ６０１２の処理を繰り返し実行することによって、最終表示態様から順に１つずつ前の保留表示の変化前の表示態様を決定する）ことを特徴とする。そのような構成によれば、変化タイミングごとに決定データを用いて保留予告演出の変化態様を決定するので、決定データのデータ容量の増大を防止し記憶領域の容量を圧迫することを低減することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月28日(2019.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
図６は、画像形成装置１００の電力状態の制御を示すフローチャートである。図６に示す各ステップの処理は、ＣＰＵ１０１が、ＲＯＭ１０２に格納された制御プログラムを読み出して実行することによって、画像形成装置１００において実現される。なお、例えば、ＵＳＢデバイス１５０がカードリーダである場合、ユーザがカードリーダを用いてカード認証を行うと、当該カードリーダと端末１７０との間でＵＳＢＮＷ通信が行われることになる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
図７は、第２の実施形態に係る、画像形成装置１００の電力状態の制御を示すフローチャートである。図７に示す各ステップの処理は、ＣＰＵ１０１が、ＲＯＭ１０２に格納された制御プログラムを読み出して実行することによって、画像形成装置１００において実現される。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月5日(2019.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材と剥離可能に設けられた保護層とを備えた転写箔であって、
前記保護層が、活性光線硬化樹脂を含み、
前記活性光線硬化樹脂が、重合成分として、水酸基含有（メタ）アクリレート化合物を含み、前記水酸基含有（メタ）アクリレート化合物の水酸基価が、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、
前記保護層が、フィラーを含み、
前記フィラーの体積平均粒子径が、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることを特徴とする、転写箔。
【請求項２】
前記保護層上に接着層をさらに備える、請求項１に記載の転写箔。
【請求項３】
前記接着層が、受容層としての機能を有する、請求項２に記載の転写箔。
【請求項４】
前記接着層が、シリコーンを含む、請求項２または３に記載の転写箔。
【請求項５】
前記基材と、前記保護層との間に離型層を備える、請求項１〜４のいずれか一項に記載の転写箔。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成31年2月19日(2019.2.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
言及した方法は、キャリア材の外側および／もしくは内側、ならびに／または外側層の外面および／もしくは側面にテクスチャ（ざらざらした表面）を生成することをさらに含むことができる。たとえば、擬似縫合線として形成されたテクスチャ、および／または外側層の外面におけるパネルの静止摩擦を高めるためのテクスチャを提供することができる。別法または追加として、キャリア材上のテクスチャを、その上に形成される外側層および／または内側層に対する付着力を改善するために提供することができる。しかしながら、別法または追加として、キャリア材の外側、および／または外側層の外面上のテクスチャは、３次元的に見える視覚効果を生み出すのに役立つこともできる。別法または追加として、テクスチャを内側層の内面に生成することもできる。こうしたテクスチャによって、たとえばボール用のブラッダーおよび／またはカーカスに対する内側層の付着力を高めることができる。本発明による方法の主要な利点は、使用する型の中で任意のテクスチャを完全に生成することができることにある。製造されたパネルに後でテクスチャを付ける必要がない。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月10日(2019.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
始動口への入球に起因して当否判定を行う当否判定手段と、
前記当否判定にて当りとなる際に当り図柄を決定する決定手段と、
前記当り図柄を確定表示する図柄表示手段と、
複数のラウンド数決定口を備え、自装置に進入した遊技球がいずれかの前記ラウンド数決定口に入球するよう構成されている振分装置と、
前記当否判定で当りになると、前記当り図柄に応じて、前記振分装置に設けられたそれぞれの前記ラウンド数決定口に対して該当りに起因して行われる大当り遊技のラウンド数を割り当てる割当手段と、
前記当否判定で当りとなった後、遊技球がいずれかの前記ラウンド数決定口に進入すると、該ラウンド数決定口に対して前記割当手段により割り当てられた前記ラウンド数を前記大当り遊技のラウンド数として決定するラウンド数決定手段と、
前記ラウンド数決定手段が決定した前記ラウンド数の大当り遊技を行う大当り遊技手段と、
前記当り図柄が確定表示されたことに基づいて開始され、前記ラウンド数決定口への遊技球の進入及び所定時間の経過のいずれかを契機として終了する第１期間と、
前記所定時間の経過による前記第１期間の終了に基づいて開始され、前記ラウンド数決定口への遊技球の進入を契機として終了する第２期間と、を備え、
前記割当手段は、前記第１期間であるか前記第２期間であるかによって、それぞれの前記ラウンド数決定口に割り当てる前記ラウンド数を異ならせ、
前記割当手段によりそれぞれの前記ラウンド数決定口に対して割り当てられたラウンド数の平均ラウンド数は、第２期間において前記当り図柄に関係なく同一であり、第１期間においては前記当り図柄に対応して設けられたテーブルに基づいて変更される
ことを特徴とする弾球遊技機。
【請求項２】
請求項１に記載の弾球遊技機において、
遊技情報を表示する遊技情報表示手段を備え、
前記遊技情報表示手段は、前記第１期間及び第２期間に係る期間情報表示と、該期間情報表示に対応するそれぞれの前記ラウンド数決定口に割り当てられた前記ラウンド数に係るラウンド数情報表示とを行う、
ことを特徴とする弾球遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題に鑑みてなされた請求項１に係る発明は、始動口への入球に起因して当否判定を行う当否判定手段と、当否判定にて当りとなる際に当り図柄を決定する決定手段と、当り図柄を確定表示する図柄表示手段と、複数のラウンド数決定口を備え、自装置に進入した遊技球がいずれかのラウンド数決定口に入球するよう構成されている振分装置と、当否判定で当りになると、当り図柄に応じて、振分装置に設けられたそれぞれのラウンド数決定口に対して該当りに起因して行われる大当り遊技のラウンド数を割り当てる割当手段と、当否判定で当りとなった後、遊技球がいずれかのラウンド数決定口に進入すると、該ラウンド数決定口に対して割当手段により割り当てられたラウンド数を大当り遊技のラウンド数として決定するラウンド数決定手段と、ラウンド数決定手段が決定したラウンド数の大当り遊技を行う大当り遊技手段と、当り図柄が確定表示されたことに基づいて開始され、ラウンド数決定口への遊技球の進入及び所定時間の経過のいずれかを契機として終了する第１期間と、所定時間の経過による第１期間の終了に基づいて開始され、ラウンド数決定口への遊技球の進入を契機として終了する第２期間と、を備え、割当手段は、第１期間であるか第２期間であるかによって、それぞれのラウンド数決定口に割り当てるラウンド数を異ならせる、ことを特徴とする弾球遊技機に関するものである。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年8月23日(2019.8.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インプラント式経皮的医療デバイスと、
少なくとも１種の生体吸収性ポリマーコーティングを有するメッシュを含むデバイスであって、前記コーティングが、経時的に溶出される少なくとも１種の有効薬剤を含み、前記インプラント式経皮的医療デバイスの注入ポートの中及びその周囲に固定された、デバイスとを備え、
前記インプラント式経皮的医療デバイスが胃ラップバンドであり、該胃ラップバンドが、（１）胃バンドと、（２）注入ポートと、（３）接続管とを有し、
前記注入ポートの中及びその周囲が、前記胃ラップバンドを少なくとも部分的に取り囲む若しくは覆う領域、又は前記胃ラップバンドを取り囲む領域に隣接した領域を含む、
システム。
【請求項２】
前記少なくとも１種の生体吸収性ポリマーコーティングが、チロシン誘導ポリエステルアミドを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記チロシン誘導ポリエステルアミドが、チロシン誘導ポリエステルアミドのＰ２２ファミリーのメンバーである、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記チロシン誘導ポリエステルアミドのＰ２２ファミリーにおける遊離酸のパーセンテージが、５％〜４０％の範囲である、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記コーティングが、チロシン誘導ポリエステルアミドと、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリ（Ｌ−ラクチド）（ＰＬＬＡ）、ポリ（Ｄ，Ｌ−ラクチド）（ＰＬＡ）ポリグリコール酸［ポリグリコリド（ＰＧＡ）］、ポリ（Ｌ−ラクチド−ｃｏ−Ｄ，Ｌ−ラクチド）（ＰＬＬＡ／ＰＬＡ）、ポリ（Ｌ−ラクチド−ｃｏ−グリコリド）（ＰＬＬＡ／ＰＧＡ）、ポリ（Ｄ、Ｌ−ラクチド−ｃｏ−グリコリド）（ＰＬＡ／ＰＧＡ）、ポリ（グリコリド−ｃｏ−トリメチレンカーボネート）（ＰＧＡ／ＰＴＭＣ）、ポリ（Ｄ，Ｌ−ラクチド−ｃｏ−カプロラクトン）（ＰＬＡ／ＰＣＬ）、ポリ（グリコリド−ｃｏ−カプロラクトン）（ＰＧＡ／ＰＣＬ）、ポリ（オキサ）エステル、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）、ポリジオキサノン（ＰＤＳ）、ポリプロピレンフマレート、ポリエチルグルタメート−ｃｏ−グルタミン酸）、ポリ（ｔｅｒｔ−ブチルオキシ−カルボニルメチルグルタメート）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）、ポリカプロラクトンｃｏ−ブチルアクリレート、ポリヒドロキシブチレート（ＰＨＢＴ）、ポリヒドロキシブチレート、ポリ（ホスファゼン）、ポリ（ホスフェートエステル）、ポリ（アミノ酸）、ポリデプシペプチド、ポリイミノカーボネート、ポリ［（９７．５％ジメチル−トリメチレンカーボネート）−ｃｏ−（２．５％トリメチレンカーボネート）］、ポリ（オルトエステル）、チロシン誘導ポリカーボネート、チロシン誘導ポリイミノカーボネート、チロシン誘導ポリホスホネート、ポリエチレンオキシド、ポリアルキレンオキシド、及びヒドロキシプロピルメチルセルロースからなる群から選択される少なくとも１種のポリマーとを含む、請求項１〜４のいずれかに記載のシステム。
【請求項６】
前記有効薬剤が、抗菌剤、麻酔薬、凝血促進剤又は抗炎症剤である、請求項１〜５のいずれかに記載のシステム。
【請求項７】
前記抗菌剤が、抗生物質、消毒薬及び殺菌剤からなる群から選択される、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記抗生物質が、テトラサイクリン、ペニシリン、マクロライド、リファンピン及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記有効薬剤が、リファンピン、ミノサイクリン又はこれらの混合物であり、前記リファンピン、ミノサイクリン又はこれらの混合物の少なくとも６０％が、２４〜３６時間以内に放出される、請求項１〜８のいずれかに記載のシステム。
【請求項１０】
胃ラップバンドと、
少なくとも１種の生体吸収性ポリマーを含む組成物であって、経時的に溶出されるリファンピン及びミノサイクリンを含み、前記組成物が、前記胃ラップバンドの注入ポートの中及びその周囲に固定され、該胃ラップバンドが、（１）胃バンドと、（２）注入ポートと、（３）接続管とを有し、
前記注入ポートの中及びその周囲が、前記胃ラップバンドを少なくとも部分的に取り囲む若しくは覆う領域、又は前記胃ラップバンドを取り囲む領域に隣接した領域を含む、組成物とを備える
システム。
【請求項１１】
前記組成物が、パテ剤、ペースト剤、ゲル剤、フォーム剤、軟膏剤及びクリーム剤からなる群から選択される製剤である、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記少なくとも１種の生体吸収性ポリマーの量が、重量で前記組成物の３０％〜８０％の範囲である、請求項１０又は１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記少なくとも１種の生体吸収性ポリマーが、チロシン誘導ポリエステルアミドである、請求項１０〜１２のいずれかに記載のシステム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０９】
＜実施例４＞
メッシュ又はゲル（本明細書に記載されている）は、１又は複数種の抗菌剤、麻酔薬、凝血促進剤及び／又は抗炎症剤等が挙げられるがこれらに限定されない少なくとも１種のＡＰＩを、腹腔鏡の調整可能な胃バンド（ＬＡＧＢ）のデバイスの注入ポート（ガス注入ポート又はリザーバとしても知られている）の中に及び／又はその周囲の領域へと送達するよう設計される。先の研究は、感染がＬＡＧＢデバイスの注入ポートに関連することを実証する（Ｆａｃｅｋら、ＡＮＺ Ｊ Ｓｕｒｇ ８０（２０１０）５０６〜５０９）。デバイスは、ＬＡＧＢデバイスの注入ポートの中及び／又は別の部分へと、及び／又は隣接の組織へと固着されて、１つ又は複数種の抗菌剤、麻酔薬、凝血促進剤及び／又は抗炎症剤等が挙げられるがこれらに限定されない固定用量の少なくとも１種のＡＰＩを、注入ポートの中に及び／又はその周囲にある期間溶出するであろう。本デバイスの臨床目的は、放出される薬物により決定され、この臨床目的としては、鎮痛、感染低下、抗凝血及びＬＡＧＢデバイスの改善された宿主耐性（ｈｏｓｔ ｔｏｌｅｒａｎｃｅ）が挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月22日(2019.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
図１０は、表面処理空気コアの複数入力および複数出力電力伝達構成への適用を示す。この例では、３つのモジュールの各々に周波数選択可能整流器および超短波（ＶＨＦ）インバータが備え付けられている。モジュールＭ１は電源であり、モジュールＭ２およびＭ３は受信機である。モジュールＭ１から、一次ＤＣ電力１０１０が超短波（ＶＨＦ）インバータ１００３ａを介してＡＣに変換され、ＡＣ電流は周波数選択可能整流器１００１ａによって共振周波数ｆresに設定される。ＡＣ電流は、表面処理空気コア内に共振磁束１００５を生じさせる共振周波数を有する。送電は、図９Ｃを参照して上述したように、共振周波数ｆresでピーク効率を有する。モジュールＭ２およびＭ３はそれぞれ周波数選択可能整流器１００３ｂおよび１００３ｃに、かつそれぞれＶＨＦインバータ１００１ｂおよび１００１ｃに接続される。モジュールＭ２は表面処理空気コア３００からＡＣ電力を受信し、周波数選択可能整流器１００３ｂを介してＤＣ電力を生成するように整流される。同様に、モジュールＭ３は表面処理空気コア３００からＡＣ電流を受信し、周波数選択可能整流器１００３ｃを介してＤＣ電力を生成するように整流される。上記の構成は、モジュールＭ２およびＭ３の受信周波数に基づいてさまざまな動作モードを生成し得る。たとえば、完全不整合モードでは、Ｍ２およびＭ３の双方がモジュールＭ１の周波数範囲外の周波数に設定される。一部不整合モードでは、モジュールＭ２は共振周波数ｆresの近くに設定され、モジュールＭ３はモジュールＭ１の周波数範囲外の周波数に設定される。エネルギ分布モードでは、モジュールＭ２およびＭ３の双方がモジュールＭ１の周波数帯域内の周波数に設定される。各モードの送電特性を図１１Ａ〜図１１Ｃに示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2016184732.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月25日(2019.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の表面および前記第１の表面の反対側の第２の表面を含む細長い本体と、
前記第１の表面から前記第２の表面まで延びる複数のガス貫通穴であり、少なくとも３つのグループに割り振られた複数のガス貫通穴と、
前記少なくとも３つのグループの各々の間に配置される締め具穴であって、前記第１の表面から前記第２の表面に延びる締め具穴とを備え、
前記締め具穴の直径は、前記ガス貫通穴の直径より大きい整流板。
【請求項２】
前記ガス貫通穴が、前記第１の表面に沿って整列した位置で前記第１の表面に開く、請求項１に記載の整流板。
【請求項３】
前記複数のガス貫通穴が互いに平行である、請求項１に記載の整流板。
【請求項４】
前記複数のガス貫通穴がそれぞれ円形の断面を含む、請求項１に記載の整流板。
【請求項５】
前記締め具穴と前記ガス貫通穴は、前記第１の表面に沿って整列した位置で前記第１の表面に開いている、請求項１に記載の整流板。
【請求項６】
前記円形の断面の直径が３．５ミリメートル未満である、請求項４に記載の整流板。
【請求項７】
前記複数のガス貫通穴が、前記少なくとも３つのグループ内において等しくない間隔で配置された、請求項１に記載の整流板。
【請求項８】
前記第１の表面と前記第２の表面とが５ミリメートル未満の距離によって隔てられた、請求項１に記載の整流板。
【請求項９】
第１の表面および前記第１の表面の反対側の第２の表面を含む細長い本体と、
前記第１の表面から前記第２の表面まで延び、少なくとも３つのグループに割り振られた複数のガス貫通穴であって、第１の直径を有するガス貫通穴と、
前記少なくとも３つのグループの各々の間に配置される専用の締め具穴であって、前記第１の表面から前記第２の表面に延び、第２の直径を有する専用の締め具穴とを備え、
前記専用の締め具穴の前記第２の直径は、前記ガス貫通穴の前記第１の直径より大きい整流板。
【請求項１０】
前記細長い本体は、更に、
第１の端部と第２の端部とを有する長軸と、
前記長軸に直交し、上面から下面に延びる短軸とを備え、
前記上面及び下面は、前記第１の表面と前記第２の表面を分離している、請求項９に記載の整流板。
【請求項１１】
前記複数のガス貫通穴は、前記長軸と平行に一列に配置されており、前記一列の配置は、前記上面よりも前記下面に近い、請求項１０に記載の整流板。
【請求項１２】
前記複数のガス貫通穴における各隣接ガス貫通穴の間の間隔は、前記少なくとも３つのグループのいずれか１つのグループにおいて規則的に間隔があけられていない、請求項１０に記載の整流板。
【請求項１３】
前記ガス貫通穴は、３つのグループの中に間隔をあけられる、請求項１０に記載の整流板。
【請求項１４】
前記ガス貫通穴の３つのグループは、
前記第１の端部に隣接する第１のグループと、
前記第２の端部に隣接する第２のグループと、
前記第１のグループと前記第２のグループの間に配置される中間グループとを備え、
前記中間グループにおける前記ガス貫通穴は、前記中間グループの中心にわたる隣接ガス貫通穴間にギャップを有しており、前記ギャップの第１の長さは、前記専用の締め具穴に隣接する前記ガス貫通穴の第２の長さより長い、請求項１１に記載の整流板。
【請求項１５】
第１の表面および前記第１の表面の反対側の第２の表面を含む細長い本体と、
前記第１の表面から前記第２の表面まで延び、少なくとも３つのグループに割り振られた複数のガス貫通穴であって、第１の直径を有し、エピタキシャル成長装置の動作中に整流板を介してガス通路を提供するように専用化された、複数のガス貫通穴と、
前記少なくとも３つのグループの各々の間に配置される専用の締め具穴であって、前記第１の表面から前記第２の表面に延び、第２の直径を有する専用の締め具穴とを備え、
前記専用の締め具穴の前記第２の直径は、前記ガス貫通穴の前記第１の直径より大きく、前記専用の締め具穴及び前記ガス貫通穴は、前記第１の表面に沿って整列した位置で前記第１の表面に開いている、整流板。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月21日(2019.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上の第１の酸化物半導体と、
前記第１の酸化物半導体上の第１の酸化物絶縁体と、
前記第１の酸化物絶縁体上の第２の酸化物半導体と、
前記第２の酸化物半導体上のソース電極層およびドレイン電極層と、
前記第２の酸化物半導体上、前記ソース電極層上、および前記ドレイン電極層上の第２の酸化物絶縁体と、
前記第２の酸化物絶縁体上のゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上のゲート電極層と、を有し、
前記第１の酸化物半導体、前記第１の酸化物絶縁体、前記第２の酸化物半導体、および前記第２の酸化物絶縁体の各々は、インジウム、元素Ｍ（Ｍは、ガリウム、アルミニウム、チタン、イットリウム、またはスズ）、および亜鉛を含み、
前記第１の酸化物半導体は、ｃ軸配向した結晶を有し、
前記第１の酸化物半導体が有するインジウムの原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数は、１／３以上であり、
前記第１の酸化物絶縁体が有する亜鉛の原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数は、１／３以下であり、
前記第２の酸化物半導体は、ｃ軸配した結晶を有し、
前記第２の酸化物半導体が有するインジウムの原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数は、１／３以上である、半導体装置。
【請求項２】
第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上の第１の酸化物半導体と、
前記第１の酸化物半導体上の第１の酸化物絶縁体と、
前記第１の酸化物絶縁体上の第２の酸化物半導体と、
前記第２の酸化物半導体上の第２の酸化物絶縁体と、
前記第２の酸化物絶縁体上のゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上のゲート電極層と、
前記第２の酸化物半導体上のソース電極層およびドレイン電極層と、を有し、
前記第１の酸化物半導体、前記第１の酸化物絶縁体、前記第２の酸化物半導体、および前記第２の酸化物絶縁体の各々は、インジウム、元素Ｍ（Ｍは、ガリウム、アルミニウム、チタン、イットリウム、またはスズ）、および亜鉛を含み、
前記第１の酸化物半導体は、ｃ軸配向した結晶を有し、
前記第１の酸化物半導体が有するインジウムの原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数は、１／３以上であり、
前記第１の酸化物絶縁体が有する亜鉛の原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数は、１／３以下であり、
前記第２の酸化物半導体は、ｃ軸配向した結晶を有し、
前記第２の酸化物半導体が有するインジウムの原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数は、１／３以上である、半導体装置。
【請求項３】
第１の絶縁層と、
前記第１の絶縁層上の第１の酸化物半導体と、
前記第１の酸化物半導体上の第１の酸化物絶縁体と、
前記第１の酸化物絶縁体上の第２の酸化物半導体と、
前記第２の酸化物半導体上のソース電極層およびドレイン電極層と、
前記第１の絶縁層上、前記ソース電極層上および前記ドレイン電極層上の第２の絶縁層と、
前記第２の酸化物半導体上の第２の酸化物絶縁体と、
前記第２の酸化物絶縁体上のゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上のゲート電極層と、を有し、
前記第１の酸化物半導体、前記第１の酸化物絶縁体、前記第２の酸化物半導体、および前記第２の酸化物絶縁体の各々は、インジウム、元素Ｍ（Ｍは、ガリウム、アルミニウム、チタン、イットリウム、またはスズ）、および亜鉛を含み、
前記第１の酸化物半導体は、ｃ軸配向した結晶を有し、
前記第１の酸化物半導体が有するインジウムの原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数は、１／３以上であり、
前記第１の酸化物絶縁体が有する亜鉛の原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数は、１／３以下であり、
前記第２の酸化物半導体は、ｃ軸配向した結晶を有し、
前記第２の酸化物半導体が有するインジウムの原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数は、１／３以上である、半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
前記第１の酸化物半導体は、厚さが０．２ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、
前記第１の酸化物絶縁体は、厚さが３ｎｍ以上５０ｎｍ以下である、半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一において、
前記第１の酸化物絶縁体が有するインジウムの原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数は、前記第１の酸化物半導体が有するインジウムの原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数に比して小さく、かつ前記第２の酸化物半導体が有するインジウムの原子数をインジウム、元素Ｍ、および亜鉛の原子数の合計で除した数に比して小さい、半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一において、
前記第１の酸化物絶縁体は、スピネル結晶を有さず、ｃ軸配向した結晶を有する、半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月22日(2019.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素を有し、
前記画素は、第１の電極と、第２の電極と、液晶と、基板と、を有し、
前記第１の電極及び前記第２の電極は、前記基板上に設けられ、
前記液晶は、前記第１の電極及び前記第２の電極の間に生じる電界で動作し、
前記画素は、上面視において、前記第１の電極と前記第２の電極の間隔が一定である第１の領域と、前記第１の電極と前記第２の電極の間隔が前記第１の領域とは異なる第２の領域を有する、表示装置。
【請求項２】
画素を有し、
前記画素は、第１乃至第３の電極と、液晶と、第１の基板と、第２の基板を有し、
前記第１の電極及び前記第２の電極は、前記第１の基板上に設けられ、
前記第３の電極は、前記第２の基板の前記第１の基板と対向する側に設けられ、
前記液晶は、前記第１の電極乃至第３の電極の間に生じる電界で動作し、
前記画素は、上面視において、前記第１の電極と前記第２の電極の間隔が一定である第１の領域と、前記第１の電極と前記第２の電極の間隔が前記第１の領域とは異なる第２の領域を有する、表示装置。
【請求項３】
画素を有し、
前記画素は、第１の電極と、第２の電極と、液晶と、基板と、スイッチング素子を有し、
前記第１の電極及び前記第２の電極は、前記基板上に設けられ、
前記液晶は、前記第１の電極及び前記第２の電極の間に生じる電界で動作し、
前記画素は、上面視において、前記第１の電極と前記第２の電極の間隔が一定である第１の領域と、前記第１の電極と前記第２の電極の間隔が前記第１の領域とは異なる第２の領域を有する、表示装置。
【請求項４】
画素を有し、
前記画素は、第１乃至第３の電極と、液晶と、第１の基板と、第２の基板と、スイッチング素子を有し、
前記第１の電極及び前記第２の電極は、前記第１の基板上に設けられ、
前記第３の電極は、前記第２の基板の前記第１の基板と対向する側に設けられ、
前記液晶は、前記第１の電極乃至前記第３の電極の間に生じる電界で動作し、
前記画素は、上面視において、前記第１の電極と前記第２の電極の間隔が一定である第１の領域と、前記第１の電極と前記第２の電極の間隔が前記第１の領域とは異なる第２の領域を有する、表示装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４のいずれか一において、
前記スイッチング素子は前記第１の基板上に設けられている、表示装置。
【請求項６】
請求項３または請求項４のいずれか一において、
前記スイッチング素子は電界効果型トランジスタである、表示装置。
【請求項７】
請求項３または請求項４のいずれか一において、
前記スイッチング素子は酸化物半導体を有する、表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一つに記載の表示装置と、
スイッチ、スピーカ、表示部または筐体と、を有する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月18日(2019.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶性樹脂Ａを含有する結着樹脂を含有するトナー粒子を含有するトナーであって、
前記トナーの示差走査熱量計（ＤＳＣ）による測定において、前記トナーが、下記式（１）及び式（２）を満足することを特徴とするトナー。
５０．０≦Ｔｔ≦８０．０      式（１）
０．００≦ΔＨＴ’ｔ−３／ΔＨ≦０．２０      式（２）
（式（１）及び（２）中、
Ｔｔ（℃）は、１回目の昇温過程における、前記結晶性樹脂Ａに由来する吸熱ピークＰ１のピーク温度を示す。
ΔＨ（Ｊ／ｇ）は、２回目の昇温過程における前記結晶性樹脂Ａに由来する吸熱ピークＰ２のピーク温度をＴ’ｔ（℃）としたとき、前記Ｔ’ｔよりも２０．０℃低い温度から前記Ｔ’ｔよりも１０．０℃高い温度までの前記結晶性樹脂Ａに由来する吸熱量を示す。
ΔＨＴ’ｔ−３（Ｊ／ｇ）は、前記Ｔ’ｔよりも２０．０℃低い温度から前記Ｔ’ｔよりも３．０℃低い温度までの前記結晶性樹脂Ａに由来する吸熱量を示す。）
【請求項２】
前記ΔＨ及び前記ΔＨＴ’ｔ−３が、下記式（３）を満足する請求項１に記載のトナー。
０．００≦ΔＨＴ’ｔ−３／ΔＨ≦０．１５      式（３）
【請求項３】
前記トナーのＤＳＣによる測定において、前記吸熱ピークＰ２の半値幅が、３．０℃以下である請求項１又は２に記載のトナー。
【請求項４】
前記トナー粒子が、
結着樹脂を含有するコアと、
該コアの表面に存在する樹脂Ｂを含有するシェル相と
を有するコアシェル構造のトナー粒子であり、
前記樹脂Ｂが、
結晶性樹脂Ｂ１に由来する部位ｂ１と、
結晶性樹脂Ｂ２に由来する部位ｂ２と
を含有し、
前記結着樹脂、前記結晶性樹脂Ｂ１及び前記結晶性樹脂Ｂ２が、下記式（４）及び（５）を満足する請求項１〜３のいずれか１項に記載のトナー。
１０．０≦ＴＢ２−ＴＡ≦３０．０    式（４）
−１０．０≦ＴＡ−ＴＢ１≦５．０    式（５）
（式（４）及び（５）中、
ＴＡ（℃）は、前記結着樹脂のＤＳＣによる測定において、１回目の昇温過程における、前記結晶性樹脂Ａに由来する吸熱ピークのピーク温度を示す。
ＴＢ１（℃）は、前記結晶性樹脂Ｂ１のＤＳＣによる測定において、１回目の昇温過程における吸熱ピークのピーク温度を示す。
ＴＢ２（℃）は、前記結晶性樹脂Ｂ２のＤＳＣによる測定において、１回目の昇温過程における吸熱ピークのピーク温度を示す。）
【請求項５】
前記ＴＡ及び前記ＴＢ１が、下記式（５）’を満足する請求項４に記載のトナー。
−５．０≦ＴＡ−ＴＢ１≦５．０    式（５）’
【請求項６】
前記樹脂Ｂが、
結晶性樹脂Ｂ１に由来する部位ｂ１と、
結晶性樹脂Ｂ２に由来する部位ｂ２と
を一分子中に含有する請求項４または５に記載のトナー。
【請求項７】
前記ＴＢ１及び前記ＴＢ２が、下記式（６）を満足する請求項４〜６のいずれか１項に記載のトナー。
５．０≦ＴＢ２−ＴＢ１≦３５．０      式（６）
【請求項８】
前記樹脂Ｂにおける前記結晶性樹脂Ｂ２に由来する部位ｂ２の含有量が、前記結着樹脂１００質量部に対し、０．５質量部以上４．０質量部以下であり、
前記樹脂Ｂにおける前記結晶性樹脂Ｂ２に由来する部位ｂ２の含有量が、前記結晶性樹脂Ｂ１に由来する部位ｂ１及び前記結晶性樹脂Ｂ２に由来する部位ｂ２の合計に対し、１０．０質量％以上５０．０質量％以下である
請求項４〜７のいずれか１項に記載のトナー。
【請求項９】
前記結晶性樹脂Ｂ１が、直鎖脂肪族ジオールに由来するユニット、及び直鎖脂肪族ジカルボン酸に由来するユニットを有する結晶性ポリエステル樹脂を含有し、
前記結晶性樹脂Ｂ２が、直鎖脂肪族ジオールに由来するユニット、及び直鎖脂肪族ジカルボン酸に由来するユニットを有する結晶性ポリエステル樹脂を含有し、
前記結晶性樹脂Ｂ１及び前記結晶性樹脂Ｂ２が、下記式（７）を満足する
請求項４〜８のいずれか１項に記載のトナー。
Ｃｂ２−Ｃｂ１≧２．０      式（７）
（式（７）中、
Ｃｂ１は、前記結晶性樹脂Ｂ１の直鎖脂肪族ジオールの炭素数と、直鎖脂肪族ジカルボン酸の炭素数との合計を示す。
Ｃｂ２は、前記結晶性樹脂Ｂ２の直鎖脂肪族ジオールの炭素数と、直鎖脂肪族ジカルボン酸の炭素数との合計を示す。）
【請求項１０】
前記トナー粒子における、前記樹脂Ｂの含有量が、前記結着樹脂１００質量部に対し、３．０質量部以上１５．０質量部以下である請求項４〜９のいずれか１項に記載のトナー。
【請求項１１】
前記結晶性樹脂Ａが、
炭素数３〜１０の直鎖脂肪族ジオールに由来するユニットと、
炭素数６〜１４の直鎖脂肪族ジカルボン酸に由来するユニットと
を有する請求項１〜１０のいずれか１項に記載のトナー。
【請求項１２】
前記結着樹脂に対する前記結晶性樹脂Ａの含有量が、５０．０質量％以上９０．０質量％以下である請求項１１に記載のトナー。
【請求項１３】
前記結着樹脂が、前記結晶性樹脂Ａと非晶性樹脂とが化学的に結合したブロックポリマーを含有する請求項１１又は１２に記載のトナー。
【請求項１４】
前記Ｔｔ及び前記Ｔ’ｔが、下記式（８）を満足する請求項１〜１３のいずれか１項に記載のトナー。
０．０≦Ｔ’ｔ−Ｔｔ≦５．０      式（８）
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月11日(2019.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
航空機のデータ・ネットワークのための無線データ集信機であって、
上面および底面を有するプリント基板（ＰＣＢ）と、
前記ＰＣＢの前記上面に電気的に接続され前記ＰＣＢの中心線の近傍にあるコントローラと、
前記コントローラの周囲で互いに直交配置された前記ＰＣＢの前記上面に電気的に接続された４つの無線周波数（ＲＦ）送受信器であって、各々が、前記コントローラ、および前記航空機の環境を測定する少なくとも１つの無線センサと、通信するように構成された、４つの無線周波数（ＲＦ）送受信器と、
前記ＰＣＢの前記上面に沿って設けた４つの逆Ｆ  ＰＣＢトレース・アンテナであって、各々が、前記ＲＦ送受信器のうち１つに電気的に接続され、前記コントローラの周りで互いと直交して配置された、４つの逆Ｆ  ＰＣＢトレース・アンテナと、
を備え、
前記コントローラは、前記航空機の前記環境に関するセンサ・データを前記少なくとも１つの無線センサから前記ＲＦ送受信器のうち少なくとも１つを利用して受信し、前記データ・ネットワークのデータ・バックボーンを利用して前記センサ・データを前記航空機の前記データ・ネットワークのアプリケーション・サーバに提供するように構成された、
無線データ集信機。
【請求項２】
前記コントローラを前記アプリケーション・サーバに電気的に接続する、前記ＰＣＢの中心線近くで前記ＰＣＢの前記底面に接続されたコネクタをさらに備える、請求項１に記載の無線データ集信機。
【請求項３】
前記ＰＣＢの前記上面を機械的に遮蔽するように構成されたＲＦ透過レドームをさらに備える、請求項１に記載の無線データ集信機。
【請求項４】
前記ＲＦ送受信器および前記コントローラを囲み、前記逆Ｆ  ＰＣＢトレース・アンテナを露出するように構成された前記ＰＣＢの前記上面に近接する金属遮蔽をさらに備える、請求項１に記載の無線データ集信機。
【請求項５】
前記ＲＦ送受信器と前記コントローラに対するＰＣＢトレースを囲み、前記逆Ｆ  ＰＣＢトレース・アンテナに隣接する前記ＰＣＢの前記底面を露出するように構成された、前記ＰＣＢの前記底面に近接する金属遮蔽をさらに備える、請求項１に記載の無線データ集信機。
【請求項６】
前記航空機の前記環境に関する前記センサ・データは、前記環境の温度、前記環境の圧力、および前記環境の振動のうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の無線データ集信機。
【請求項７】
前記コントローラは前記少なくとも１つの測定値を前記ネットワークのデータ・バックボーンを利用して前記アプリケーション・サーバに転送するように構成された、請求項６に記載の無線データ集信機。
【請求項８】
前記逆Ｆ  ＰＣＢトレース・アンテナの各々は前記ＰＣＢの外側の縁に沿って配置される、請求項１に記載の無線データ集信機。
【請求項９】
前記逆Ｆ  ＰＣＢトレース・アンテナの各々の間の前記ＰＣＢの前記外側の縁に沿った領域にはＰＣＢトレースが欠けている、請求項８に記載の無線データ集信機。
【請求項１０】
前記ＰＣＢは十字形に組み立てられ、前記逆Ｆ  ＰＣＢトレース・アンテナの各々は、前記十字形の４つの端のうち１つに配置される、請求項９に記載の無線データ集信機。
【請求項１１】
航空機のデータ・ネットワークのための無線データ集信機であって、
プリント基板（ＰＣＢ）と、
前記ＰＣＢに電気的に接続されたコントローラと、
前記コントローラの周囲に配置され、前記ＰＣＢに電気的に接続された４つの無線周波数（ＲＦ）送受信器であって、各々が、前記コントローラ、および前記航空機の環境を測定する少なくとも１つの無線センサと通信するように構成された、４つの無線周波数（ＲＦ）送受信器と、
前記ＰＣＢに設けられた４つの逆Ｆ  ＰＣＢトレース・アンテナであって、各々が、前記ＲＦ送受信器のうち１つに電気的に接続され、前記コントローラの周りで互いと直交して配置された、４つの逆Ｆ  ＰＣＢトレース・アンテナと、
を備え、
前記コントローラは、前記航空機の前記環境に関するセンサ・データを前記少なくとも１つの無線センサから前記ＲＦ送受信器のうち少なくとも１つを利用して受信し、前記データ・ネットワークのデータ・バックボーンを利用して前記センサ・データを前記航空機の前記データ・ネットワークに提供するように構成された、
無線データ集信機。
【請求項１２】
前記無線データ集信機を前記データ・バックボーンに電気的に接続し、前記コントローラの近くで前記ＰＣＢの底面に接続されたコネクタをさらに備える、請求項１１に記載の無線データ集信機。
【請求項１３】
前記コントローラは、前記少なくとも１つの測定値を前記データ・バックボーンを利用して前記航空機の前記データ・ネットワークに転送するように構成された、請求項１２に記載の無線データ集信機。
【請求項１４】
前記逆Ｆ  ＰＣＢトレース・アンテナの各々は前記ＰＣＢの外側の縁に沿って配置される、請求項１１に記載の無線データ集信機。
【請求項１５】
航空機のデータ・ネットワークのための無線データ集信機であって、
プリント基板（ＰＣＢ）に電気的に接続されたコントローラと、
前記コントローラの周囲に配置され、前記ＰＣＢに電気的に接続された４つの無線周波数（ＲＦ）送受信器であって、各々が、前記コントローラ、および前記航空機の環境を測定する少なくとも１つの無線センサと通信するように構成された、４つの無線周波数（ＲＦ）送受信器と、
前記ＰＣＢに設けられた４つのＰＣＢトレース・アンテナであって、各々が、前記ＲＦ送受信器のうち１つに電気的に接続され、前記コントローラの周りで互いと直交して配置された、４つのＰＣＢトレース・アンテナと、
を備え、
前記コントローラは、前記航空機の前記環境に関するセンサ・データを前記少なくとも１つの無線センサから前記ＲＦ送受信器のうち少なくとも１つを利用して受信し、前記センサ・データを前記航空機の前記データ・ネットワークに提供するように構成された、
無線データ集信機。
【請求項１６】
前記ＰＣＢトレース・アンテナは、逆Ｆアンテナを含む、請求項１５に記載の無線データ集信機。
【請求項１７】
前記逆Ｆアンテナの各々は、前記ＰＣＢの外側の縁に沿って配置される、請求項１６に記載の無線データ集信機。