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【手続補正書】
【提出日】令和1年8月26日(2019.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
文法に従って、識別されたユーザからの自然言語表現を構文解析することによって、文法スロットの値を決定するステップと、
文法スロットの、複数の前記ユーザの各々に関連するスロット値を格納するステップと、
属性ラベルの、複数の前記ユーザの各々に関連するクラス値を格納するステップと、
複数の前記ユーザに関連する前記スロット値および前記クラス値に基づいて、前記属性ラベルを有する特定のユーザの分類を計算するステップと、
分類要求に応答して、前記分類を分類クライアントに提供し、クレジット数から増分を減算するステップとを含む、方法。
【請求項２】
ウェブＡＰＩインターフェイスを介して、分類要求が受信され、分類が提供される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記分類を計算するステップは、前記分類要求の前に実行される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記分類は、確率を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記文法は、ドメインプロバイダによって提供される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
各分類要求に応じて、クレジット累算器を増分するステップと、
前記クレジット累算器の値に比例して、前記ドメインプロバイダに報酬を支払うステップとをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
第２のドメインプロバイダによって提供された第２の文法に従って、前記自然言語表現を構文解析することによって、第２の文法スロットの値を決定するステップと、
前記分類要求に応答して、第２の増分を第２のクレジット累算器に加算するステップと、
前記第２のクレジット累算器の値に比例して、前記第２のドメインプロバイダに報酬を支払うステップとをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記特定のユーザの前記文法スロットの履歴値を格納するステップをさらに含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
文法に従って、識別されたユーザからの自然言語表現を構文解析することによって、文法スロットのスロット値を決定するステップと、
文法スロットの、複数の前記ユーザの各々に関連する値を格納するステップと、
複数の前記ユーザに関連する前記スロット値およびクラス値に基づいて、分類アルゴリズムから特定のユーザのドメイン確率分布を計算するステップと、
特定の自然言語表現を構文解析することによって、複数の解釈スコアおよび選択されるドメインを生成するステップと、
前記ドメイン確率を重みとして解釈スコアに適用することによって、ドメインを選択するステップとを含む、方法。
【請求項１０】
前記ドメイン確率分布を計算するステップは、前記特定の自然言語表現を構文解析する前に実行される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記特定のユーザの前記文法スロットの履歴値を格納するステップをさらに含む、請求項９または１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記履歴値に関連するタイムスタンプを格納するステップをさらに含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
広告を選択する方法であって、
ユーザＩＤを含む分類要求を仮想アシスタントプロバイダのウェブＡＰＩに送信するステップと、
前記ウェブＡＰＩから、前記ユーザＩＤに対応する分類を受信するステップと、
少なくとも部分的に前記分類に応じて、複数の広告のうちの１つを選択するステップと、
前記仮想アシスタントプロバイダからＡＰＩクレジットを要求するステップとを含む、方法。
【請求項１４】
興味のある特性でラベル付けた複数のユーザのユーザＩＤデータを前記仮想アシスタントプロバイダに提供するステップをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
分類に使用される文法スロットのサブセットを選択するステップをさらに含む、請求項１３または１４に記載の方法。
【請求項１６】
複数の文法スロットのサブセットに対する分類要求を検査するステップをさらに含む、請求項１３に記載の方法。
【請求項１７】
方法であって、
ドメインプロバイダによって作成された自然言語文法のスロットに対してユーザが表現した値のベクトルに基づいて、識別されたユーザを分類するステップと、
前記分類の実行に応じて、前記ドメインプロバイダに報酬を支払うステップとを含み、
前記分類は、複数の他のユーザの各々のスロットベクトル上で訓練され、
前記ベクトルは、興味のあるクラスに分類される、方法。
【請求項１８】
前記分類は、分類クライアントからのＡＰＩ要求に応じて実行される、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記分類は、分類クライアントからの要求に応じて実行され、
前記方法は、前記分類に応じて、前記分類クライアントのＡＰＩクレジットを減算するステップをさらに含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
コンピュータシステムによって実行されることにより請求項１〜１９のいずれか１項に記載の方法を前記コンピュータシステムに実施させるコードを含む、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月19日(2019.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の事業者から受付けた情報を第１の記憶装置に登録する登録部と、
利用者の利用目的に応じて前記情報の分析を行う提供者に対し、前記第１の記憶装置に登録された情報のうち、当該提供者が指定した種別の情報を提供する提供部と、
を有することを特徴とする提供装置。
【請求項２】
前記利用者から前記情報の利用目的を受付けると、受付けた情報を第２の記憶装置に登録する受付部と、
前記提供者に対し、前記第２の記憶装置に登録された利用目的を提示する提示部と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の提供装置。
【請求項３】
前記提供部により提供された情報の分析結果であって、前記利用目的に応じた分析結果を前記提供者から受付ける結果受付部と、
前記受付部が受け付けた分析結果を前記利用者に提供する結果提供部と
を有することを特徴とする請求項２に記載の提供装置。
【請求項４】
前記提示部は、前記情報の登録を行った事象者、および、前記複数の事業者が登録した情報の管理を行う事業者とは異なる提供者に対し、前記利用目的を提示する
ことを特徴とする請求項３に記載の提供装置。
【請求項５】
前記提供部は、前記分析結果として、前記複数の事業者が登録した情報を用いて学習を行ったモデルを提供する
ことを特徴とする請求項４に記載の提供装置。
【請求項６】
前記受付部は、前記利用目的として、予測対象となる所定の事象の登録を受付け、
前記結果提供部は、前記分析結果として、前記所定の事象の予測を行うモデルを提供する
ことを特徴とする請求項４または５に記載の提供装置。
【請求項７】
前記提供者による分析結果の提供が行われた場合は、当該提供者に対する所定の報酬を設定する第１設定部
を有することを特徴とする請求項１〜６のうちいずれか１つに記載の提供装置。
【請求項８】
前記提供者による分析結果の提供が行われた場合は、当該分析結果の作成に利用された情報を登録した事業者に対する所定の報酬を設定する第２設定部
を有することを特徴とする請求項１〜７のうちいずれか１つに記載の提供装置。
【請求項９】
所定の事業者の紹介により他の事業者が情報を登録した場合は、当該所定の事業者に対する所定の報酬を設定する第３設定部
を有することを特徴とする請求項１〜８のうちいずれか１つに記載の提供装置。
【請求項１０】
前記第３設定部は、前記他の事業者として、前記所定の事業者と業種が類似する事業者が情報を登録した場合は、当該所定の事業者に対する所定の報酬を設定する
ことを特徴とする請求項９に記載の提供装置。
【請求項１１】
提供装置が実行する提供方法であって、
複数の事業者から受付けた情報を第１の記憶装置に登録する登録工程と、
利用者の利用目的に応じて前記情報の分析を行う提供者に対し、前記第１の記憶装置に登録された情報のうち、当該提供者が指定した種別の情報を提供する提供工程と、
を含むことを特徴とする提供方法。
【請求項１２】
複数の事業者から受付けた情報を第１の記憶装置に登録する登録手順と、
利用者の利用目的に応じて前記情報の分析を行う提供者に対し、前記第１の記憶装置に登録された情報のうち、当該提供者が指定した種別の情報を提供する提供手順と、
をコンピュータに実行させるための提供プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】提供装置、提供方法および提供プログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、提供装置、提供方法および提供プログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本願に係る提供装置は、複数の事業者から受付けた情報を第１の記憶装置に登録する登録部と、利用者の利用目的に応じて前記情報の分析を行う提供者に対し、前記第１の記憶装置に登録された情報のうち、当該提供者が指定した種別の情報を提供する提供部と、を有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
以下に、本願に係る提供装置、提供方法および提供プログラムを実施するための形態（以下、「実施形態」と呼ぶ。）について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施形態により本願に係る提供装置、提供方法および提供プログラムが限定されるものではない。また、以下の各実施形態において同一の部位には同一の符号を付し、重複する説明は省略される。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月6日(2019.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
障害物との衝突の可能性の程度に応じて、前記衝突を回避するための支援処理を実行する支援部（Ｓ１２０〜Ｓ１７０）と、
自車が従うべき信号機に接近している場合に（Ｓ２１０，ＹＥＳ）、運転者にとって前記信号機を視認しにくい状況であるとき（Ｓ２２０，ＹＥＳ）、前記可能性の程度と前記支援処理との関係を、初期条件とは異なる条件に設定する設定部（Ｓ２１０〜Ｓ２６０）と、
を備え、
前記支援部は、前記初期条件に設定されている場合、前記可能性の程度が所定程度であるとき、第１の支援処理を実行し、
前記設定部は、交差点に進入することを前記信号機が禁止している場合（Ｓ２４０，ＮＯ）、前記可能性の程度が前記所定程度であるとき、前記第１の支援処理よりも強く支援する第２の支援処理が実行されるように前記条件を設定する衝突回避支援装置。
【請求項２】
障害物との衝突の可能性の程度に応じて、前記衝突を回避するための支援処理を実行する支援部（Ｓ１２０〜Ｓ１７０）と、
自車が従うべき信号機に接近している場合に（Ｓ２１０，ＹＥＳ）、運転者にとって前記信号機を視認しにくい状況であるとき（Ｓ２２０，ＹＥＳ）、前記可能性の程度と前記支援処理との関係を、初期条件とは異なる条件に設定する設定部（Ｓ２１０〜Ｓ２６０）と、
を備え、
前記支援部は、前記初期条件に設定されている場合、前記可能性の程度が所定程度であるとき、第１の支援処理を実行し、
前記設定部は、交差点に進入することを前記信号機が許可している場合（Ｓ２４０，ＹＥＳ）、前記可能性の程度が前記所定程度であるとき、前記第１の支援処理よりも弱く支援する第２の支援処理が実行されるように前記条件を設定する衝突回避支援装置。
【請求項３】
前記設定部は、運転者が前記信号機の表示を視認していないことを必要条件として（Ｓ２３０，ＹＥＳ）、前記初期条件とは異なる条件に設定する
請求項１または請求項２に記載の衝突回避支援装置。
【請求項４】
前記設定部は、交差点に進入することを前記信号機が許可しているか禁止しているかを、路車間通信によって取得する
請求項１から請求項３までの何れか一項に記載の衝突回避支援装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本開示の一形態は、障害物との衝突の可能性の程度に応じて、前記衝突を回避するための支援処理を実行する支援部（Ｓ１２０〜Ｓ１７０）と、自車が従うべき信号機に接近している場合に（Ｓ２１０，ＹＥＳ）、運転者にとって前記信号機を視認しにくい状況であるとき（Ｓ２２０，ＹＥＳ）、前記可能性の程度と前記支援処理との関係を、初期条件とは異なる条件に設定する設定部（Ｓ２１０〜Ｓ２６０）と、を備える衝突回避支援装置である。前記支援部は、前記初期条件に設定されている場合、前記可能性の程度が所定程度であるとき、第１の支援処理を実行する。前記設定部は、交差点に進入することを前記信号機が禁止している場合（Ｓ２４０，ＮＯ）、前記可能性の程度が前記所定程度であるとき、前記第１の支援処理よりも強く支援する第２の支援処理が実行されるように前記条件を設定する。
また、本開示の他の形態は、障害物との衝突の可能性の程度に応じて、前記衝突を回避するための支援処理を実行する支援部（Ｓ１２０〜Ｓ１７０）と、自車が従うべき信号機に接近している場合に（Ｓ２１０，ＹＥＳ）、運転者にとって前記信号機を視認しにくい状況であるとき（Ｓ２２０，ＹＥＳ）、前記可能性の程度と前記支援処理との関係を、初期条件とは異なる条件に設定する設定部（Ｓ２１０〜Ｓ２６０）と、を備える衝突回避支援装置である。前記支援部は、前記初期条件に設定されている場合、前記可能性の程度が所定程度であるとき、第１の支援処理を実行する。前記設定部は、交差点に進入することを前記信号機が許可している場合（Ｓ２４０，ＹＥＳ）、前記可能性の程度が前記所定程度であるとき、前記第１の支援処理よりも弱く支援する第２の支援処理が実行されるように前記条件を設定する。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月14日(2019.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高温超伝導層を含む高温超伝導線材同士が接続された高温超伝導線材の接続体であって、
対向する第１の高温超伝導線材と第２の高温超伝導線材とが、当該第１の高温超伝導線材および第２の高温超伝導線材の長手方向に沿って互いに分離している複数の接合箇所において超伝導接続されている、
ことを特徴とする高温超伝導線材の接続体。
【請求項２】
前記複数の接合箇所のそれぞれは、矩形、角丸矩形、楕円形のいずれかであり、前記高温超伝導線材の長手方向の長さをＬ、幅方向の長さをＷとしたときに、
０．１＜Ｌ／Ｗ＜１．５
を満たす、
ことを特徴とする請求項１に記載の高温超伝導線材の接続体。
【請求項３】
０．２５＜Ｌ／Ｗ＜０．７５を満たす、
ことを特徴とする請求項２に記載の高温超伝導線材の接続体。
【請求項４】
前記複数の接合箇所についての前記Ｗおよび／または前記Ｌは、前記高温超伝導線材の長手方向に沿って上流側から下流側に向かって単調増加する、
ことを特徴とする請求項２または３に記載の高温超伝導線材の接続体。
【請求項５】
前記第１の高温超伝導線材の高温超伝導層と前記第２の高温超伝導線材の高温超伝導層は、直接または高温超伝導体を介して接合されている、
請求項１から４のいずれか１項に記載の高温超伝導線材の接続体。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月6日(2019.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【図１】本発明の放熱基板の側断面図
【図２】放熱基板の製造工程を示す側断面図
【図３】放熱基板の製造工程を示す側断面図
【図４】放熱基板の製造工程を示す側断面図
【図５】放熱基板の製造工程を示す側断面図
【図６】放熱基板の製造工程を示す側断面図
【図７】放熱基板の製造工程を示す側断面図
【図８】放熱基板の製造工程を示す側断面図
【図９】放熱基板の製造工程を示す側断面図
【図１０】放熱基板の使用例を示す側断面図
【図１１】変形例の放熱基板の側断面図
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】追加
【補正の内容】
【図１１】
2019046954.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月29日(2019.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反転型の半導体素子を備えている炭化珪素半導体装置であって、
炭化珪素で構成された第１または第２導電型の基板（１）と、
前記基板の上に形成され、前記基板よりも低不純物濃度とされた第１導電型の炭化珪素からなるドリフト層（２、３、５）と、
前記ドリフト層の上に形成された第２導電型の炭化珪素からなるベース領域（６）と、
前記ベース領域の上に形成され、前記ドリフト層よりも第１導電型不純物濃度が高くされた第１導電型の炭化珪素からなるソース領域（８）と、
前記ソース領域の表面から前記ベース領域よりも深く形成されたゲートトレンチ（１１）内に、該ゲートトレンチの内壁面を覆うゲート絶縁膜（１２）と該ゲート絶縁膜の上に配置されたゲート電極（１３）とを備えて構成され、一方向を長手方向として複数本がストライプ状に並べられたトレンチゲート構造と、
前記ゲート電極および前記ゲート絶縁膜を覆うと共にコンタクトホールが形成された層間絶縁膜（１４）と、
前記コンタクトホールを通じて、前記ソース領域にオーミック接触させられたソース電極（１５）と、
前記基板の裏面側に形成されたドレイン電極（１６）と、を含む前記半導体素子を備え、
前記ソース領域は、前記ベース領域側の方が前記ソース電極にオーミック接触させられる表面側よりも低不純物濃度で構成されており、
前記ベース領域と前記ソース領域との間には、キャリア濃度が５．０×１０１５／ｃｍ３以下とされたノンドープ層（７）が備えられている炭化珪素半導体装置。
【請求項２】
前記ソース領域は、前記ベース領域側に位置する第１ソース領域（８ａ）と前記ソース電極にオーミック接触させられる第２ソース領域（８ｂ）とを有した構成とされている請求項１に記載の炭化珪素半導体装置。
【請求項３】
前記第２ソース領域は、厚さが０．１μｍ以上とされていると共に、第２導電型不純物濃度が１．０×１０１８〜５．０×１０１９／ｃｍ３とされている請求項２に記載の炭化珪素半導体装置。
【請求項４】
前記第１ソース領域は、厚さが０．２〜０．５μｍとされ、不純物濃度が２．０×１０１６〜１．０×１０１７／ｃｍ３とされている請求項２または３に記載の炭化珪素半導体装置。
【請求項５】
前記ノンドープ層は、厚さが０．０５〜０．２μｍとされている請求項１ないし４のいずれか１つに記載の炭化珪素半導体装置。
【請求項６】
前記ノンドープ層および前記ソース領域の合計膜厚が０．８μｍ以下とされている請求項１ないし５のいずれか１つに記載の炭化珪素半導体装置。
【請求項７】
反転型の半導体素子を備えた炭化珪素半導体装置の製造方法であって、
炭化珪素で構成された第１または第２導電型の基板（１）を用意することと、
前記基板の上に、前記基板よりも低不純物濃度の第１導電型の炭化珪素からなるドリフト層（２、３、５）を形成することと、
前記ドリフト層の上に、第２導電型の炭化珪素からなるベース領域（６）を形成することと、
前記ベース領域の上に、前記ドリフト層よりも第１導電型不純物濃度が高くされた第１導電型の炭化珪素からなるソース領域（８）を形成することと、
前記ソース領域の表面から前記ベース領域よりも深いゲートトレンチ（１１）を、一方向を長手方向としてストライプ状に複数本形成したのち、前記ゲートトレンチの内壁面にゲート絶縁膜（１２）を形成すると共に、前記ゲート絶縁膜の上にゲート電極（１３）を形成することでトレンチゲート構造を形成することと、
前記ソース領域に電気的に接続されるソース電極（１５）を形成することと、
前記基板の裏面側にドレイン電極（１６）を形成することと、を含み、
前記ベース領域を形成すること、および、前記ソース領域を形成することでは、前記ベース領域および前記ソース領域をエピタキシャル成長によって形成し、
前記ソース領域を形成することでは、前記ベース領域側より第１導電型不純物濃度が異なる第１ソース領域（８ａ）と前記ソース電極にオーミック接触させられる第２ソース領域（８ｂ）とを順にエピタキシャル成長によって形成し、前記第１ソース領域を前記第２ソース領域よりも低不純物濃度で形成する炭化珪素半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記ベース領域を形成すること、および、前記ソース領域を形成することの間に、炭化珪素で構成されるノンドープ層（７）を形成することを含み、
前記ベース領域を形成することと前記ノンドープ層を形成すること、および、前記ソース領域を形成することを連続的にエピタキシャル成長によって行い、
前記ノンドープ層を形成することでは、第１導電型ドーパントおよび第２導電型ドーパントのガス導入を停止した状態で前記エピタキシャル成長を行うことで、前記ノンドープ層を厚さ０．０５〜０．２μｍで形成する請求項７に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記ノンドープ層を形成すること、および、前記ソース領域を形成することののち、前記ソース領域の表面側から第２導電型不純物をイオン注入することで、前記ベース領域に達して、該ベース領域と前記ソース電極とを連結する第２導電型の連結層（１０）を形成することを含み、
前記連結層を形成することでは、前記連結層のうち前記第１ソース領域に対して前記第２導電型不純物をイオン注入する部分を第１領域（１０ａ）とし、前記第２ソース領域に対して前記第２導電型不純物をイオン注入する部分を第２領域（１０ｂ）として、前記第２ソース領域の第１導電型不純物濃度の２〜１０倍のドーズ量で前記第２導電型不純物をイオン注入したのち、１５００℃以上の熱処理によって活性化することで前記第２領域を形成することを含んでいる請求項８に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月10日(2019.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通電によって発熱する発熱部（２２）を有する発熱層（２２０）と、
前記発熱層の一面側に互いに離れて配置された一対の電極（２４ａ、２４ｂ）と、
前記一対の電極間に電界を形成して前記一対の電極の周囲の物体を検出する検出部（３０）と、
前記検出部の検出結果に応じて前記発熱部への通電量を制御する制御部（４０）と、を備え、
前記発熱層は、複数の前記発熱部を有し、
複数の前記発熱部の間には、複数の前記発熱部よりも熱伝導率の低い発熱部側低熱伝導部（２１）が配置され、前記発熱層の面方向の熱の移動が抑制される構造を有し、
前記一対の電極の間には、前記一対の電極よりも熱伝導率の低い電極側低熱伝導部（２５）が配置され、前記一対の電極の面方向の熱の移動が抑制される構造を有し、
前記発熱部と前記一対の電極との間に絶縁基板（２３）が設けられ、
前記絶縁基板を挟んで前記一対の電極より前記発熱層の他面側に前記発熱部が配置されることで、前記一対の電極における前記発熱層の一面側の電界が安定し、かつ、前記発熱層の他面側からの電磁影響を低減する構造を有し、
前記発熱層は、該発熱層の一面側に位置する物体へ向けて輻射熱を放射するよう配置されているヒータ装置。
【請求項２】
前記一対の電極は、互いに隣接して配置された発信電極（２４ａ）と受信電極（２４ｂ）である請求項１に記載のヒータ装置。
【請求項３】
前記発信電極および前記受信電極の少なくとも一方は、前記発信電極および前記受信電極の配置された範囲において所定の単位面積あたりの前記発信電極および前記受信電極の専有面積が１よりも小さくなっている請求項２に記載のヒータ装置。
【請求項４】
前記所定の単位面積は、１平方センチメートル以下である請求項３に記載のヒータ装置。
【請求項５】
前記検出部は、前記発信電極および前記受信電極との間に電界を形成するとともに、前記発信電極および前記受信電極との間の静電容量を検出する相互容量方式により前記発信電極および前記受信電極の周囲の物体を検出する請求項２ないし４のいずれか１つに記載のヒータ装置。
【請求項６】
前記検出部は、前記発信電極にパルス状のパルス電圧を印加して前記発信電極および前記受信電極との間に電界を形成した後、前記発信電極および前記受信電極との間の静電容量を検出する請求項５に記載のヒータ装置。
【請求項７】
前記発信電極および前記受信電極の周囲を囲むように配置され、接地端子と接続されるグランド電極（２５ｃ）を備えた請求項２ないし６のいずれか１つに記載のヒータ装置。
【請求項８】
複数の前記発信電極および複数の前記受信電極を有し、
複数の前記発信電極および複数の前記受信電極の各々は、矩形形状を成しており、
複数の前記発信電極の少なくとも１つは、第１の辺が複数の前記受信電極の１つの前記受信電極の一辺と対向するとともに、前記第１の辺の隣に位置する第２の辺が、前記発信電極の前記第１の辺と対向するよう配置された前記受信電極の隣に配置された前記受信電極の一辺と対向するよう配置されている請求項２ないし７のいずれか１つに記載のヒータ装置。
【請求項９】
複数の前記発信電極は、それぞれ対角位置における前記一対の角部が同一線上に配置されて互いに接続されるとともに、複数の前記受信電極は、それぞれ対角位置における前記一対の角部が同一線上に配置されて互いに接続されている請求項８に記載のヒータ装置。
【請求項１０】
前記発信電極は、前記受信電極を囲うように配置され、かつ、前記発信電極の面積は、前記受信電極の面積よりも大きくなっている請求項２ないし８のいずれか１つに記載のヒータ装置。
【請求項１１】
前記発信電極および前記受信電極は、同一材料のもので構成されている請求項２ないし１０のいずれか１つに記載のヒータ装置。
【請求項１２】
前記発熱部は、接地端子に接地されるように構成されている請求項１ないし１１のいずれか１つに記載のヒータ装置。
【請求項１３】
前記発熱層は、該発熱層の一面側に位置する物体へ向けて輻射熱を放射するよう配置され、
前記一対の電極は、前記発熱層の一面側に配置されている請求項１ないし１２のいずれか１つに記載のヒータ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、通電によって発熱する発熱部（２２）を有する発熱層（２２０）と、発熱層の一面側に互いに離れて配置された一対の電極（２４ａ、２４ｂ）と、一対の電極間に電界を形成して一対の電極の周囲の物体を検出する検出部（３０）と、検出部の検出結果に応じて複数の発熱部への通電量を制御する制御部（４０）と、を備え、発熱層は、複数の発熱部を有し、複数の発熱部の間には、複数の発熱部よりも熱伝導率の低い発熱部側低熱伝導部（２１）が配置され、発熱層の面方向の熱の移動が抑制される構造を有し、一対の電極の間には、一対の電極よりも熱伝導率の低い電極側低熱伝導部（２５）が配置され、一対の電極の面方向の熱の移動が抑制される構造を有し、発熱部と一対の電極との間に絶縁基板（２３）が設けられ、絶縁基板を挟んで一対の電極より発熱層の他面側に発熱部が配置されることで、一対の電極における発熱層の一面側の電界が安定し、かつ、発熱層の他面側からの電磁影響を低減する構造を有し、発熱層は、該発熱層の一面側に位置する物体へ向けて輻射熱を放射するよう配置されている。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月10日(2018.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
着色した樹脂粒子を製造する方法であって、
（ａ）均一な油中水（Ｗ／Ｏ）分散物が作成されるように、顔料およびポリエステル樹脂を、水と少なくとも１つの有機溶媒の混合物に溶解することと；
（ｂ）前記油中水分散物が、前記着色した樹脂粒子を含む水中油エマルションに変換されるように、水を添加することによって転相乳化を行うことと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記有機溶媒が、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）またはこれらの混合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記樹脂粒子を構成する樹脂が、さらに、ポリスチレン樹脂、ポリアクリレート樹脂またはこれらの組み合わせを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ポリエステル樹脂が、アモルファス樹脂、結晶性樹脂、または両者を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記顔料がイエロー顔料を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記顔料がピグメントイエロー７４を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記樹脂が、高分子量樹脂、低分子量樹脂、または両者を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記溶解すること、前記転相乳化を行うこと、または両者を、上昇させた温度にて実施する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
顔料が、約０．１重量％〜約２０重量％の量で存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記溶解することに、中和剤の使用がさらに含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記溶解することに、アンモニアの使用がさらに含まれる、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
有機溶媒を前記水中油エマルションから分離することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記分離することに、有機溶媒を蒸留することが含まれる、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
（ｉ）さらなる着色剤が存在しない状態で、前記着色した樹脂粒子と、任意要素のワックスおよび任意要素の界面活性剤とを合わせ、トナー試薬エマルションを作成することと；
（ｉｉ）前記トナー試薬エマルションを、場合により凝集剤と共にインキュベートし、凝集した粒子を作成することと；
（ｉｉｉ）前記凝集した粒子を処理し、その成長を止めることと；
（ｉｖ）場合により、成長を止められた前記凝集した粒子をシェル樹脂で処理することと；
（ｖ）場合により、工程（ｉｉｉ）または工程（ｉｖ）の前記凝集した粒子を融着し、着色したトナー粒子を作成することと、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記トナー試薬エマルションが、アモルファス樹脂、結晶性樹脂、または両者を含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記トナー試薬エマルションがワックスを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記工程（ｉｉ）に、凝集剤の使用が含まれる、請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
前記凝集した粒子がシェル樹脂で処理される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
前記工程（ｉｉｉ）の前記凝集した粒子を融着することを含む、請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
前記工程（ｉｖ）の前記凝集した粒子を融着することを含む、請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月31日(2019.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
結着樹脂と着色剤とを含有するトナー粒子、及び外添剤を含有するトナーにおいて、
該トナーの平均円形度が０．９７０以上であり、
該外添剤は、外添剤Ａと外添剤Ｂとを含有し、
該外添剤Ａは、該トナー表面を走査型電子顕微鏡を用いて観察したとき、
１）長辺と短辺の比率を示すアスペクト比が１．２以下であり、
２）個数平均粒径（Ｄ１）が８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
３）該トナー表面上の平均存在率が５面積％以上４０面積％以下であり、
該トナーのポリカーボネート薄膜付着測定法において、ポリカーボネート薄膜の面積を１００面積％としたときに、付着する該外添剤Ａの量が、０．０２０面積％以下であり、
該外添剤Ｂは、該トナー表面を走査型電子顕微鏡を用いて観察したとき、
１）該外添剤Ｂの一個当たりの面積が０．００５μｍ２以上０．１００μｍ２以下であり、
２）下記式（Ｉ）で求められる該外添剤Ｂの形状指数である稠密度が０．４以上０．８以下であることを特徴とするトナー。
式（Ｉ）  稠密度＝（外添剤粒子の面積）／（外添剤粒子における凸包の面積）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、結着樹脂と着色剤とを含有するトナー粒子、及び外添剤を含有するトナーにおいて、
該トナーの平均円形度が０．９７０以上であり、
該外添剤は、外添剤Ａと外添剤Ｂとを含有し、
該外添剤Ａは、該トナー表面を走査型電子顕微鏡を用いて観察したとき、
１）長辺と短辺の比率を示すアスペクト比が１．２以下であり、
２）個数平均粒径（Ｄ１）が８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
３）該トナー表面上の平均存在率が５面積％以上４０面積％以下であり、
該トナーのポリカーボネート薄膜付着測定法において、ポリカーボネート薄膜の面積を１００面積％としたときに、付着する該外添剤Ａの量が、０．０２０面積％以下であり、
該外添剤Ｂは、該トナー表面を走査型電子顕微鏡を用いて観察したとき、
１）該外添剤Ｂの一個当たりの面積が０．００５μｍ２以上０．１００μｍ２以下であり、
２）下記式（Ｉ）で求められる該外添剤Ｂの形状指数である稠密度が０．４以上０．８以下であることを特徴とするトナーに関する。
式（Ｉ）  稠密度＝（外添剤粒子の面積）／（外添剤粒子における凸包の面積）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
次に、外添剤Ｂによる『トナーすり抜け抑制効果』について詳細に述べる。
外添剤Ｂの特徴は、該トナー表面を走査型電子顕微鏡を用いて観察したとき、
１）一個当たりの面積が０．００５μｍ２以上０．１００μｍ２以下であり、
２）下記式（Ｉ）で求められる外添剤の形状指数である稠密度が０．４以上０．８以下である。
式（Ｉ）  稠密度＝（外添剤粒子の面積）／（外添剤粒子における凸包の面積）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
外添剤Ｂの形状を示す、面積と稠密度は、走査型電子顕微鏡Ｓ−４８００による観察と画像解析により求められる。上記と同様にして、Ｓ−４８００により、トナー表面の画像を得る。
外添剤Ｂの面積としては、観察視野中において高輝度の外添剤の内、アスペクト比が１．２を超える形状の粒子を画像解析ソフトウェア、イメージＪで規定して抽出した値である。
具体的には、面積の測定は、以下のように行う。粒子解析により、画像中の外添剤粒子（ここではシリカ粒子）とトナー粒子を二値化により、色分けする。外添剤粒子の中から、外添剤Ａに相当する粒子（アスペクト比が１．２以下）を除去する。残った外添剤Ｂの由来の粒子について、測定の設定より、選択画面の面積を表示させる。この操作を複数行い、１００個の平均値を求めることで、外添剤Ｂ一個当たりの面積を算出する。
稠密度とは、外添剤粒子の面積及び外添剤粒子における凸包の面積を算出し下記式（Ｉ）で示される値であり、画像解析ソフトウェアＩｍａｇｅ  Ｊ（開発元Ｗａｙｎｅ  Ｒａｓｂａｎｄ）にて稠密度はＳｏｌｉｄｉｔｙという名称で数値範囲の規定を行う事が可能である。
稠密度＝（外添剤粒子の面積）／（外添剤粒子における凸包の面積）    式（Ｉ）
稠密度は０から１の間の値をとる量であり、値が小さいほど凹部が多く、入り組んだ形状となる。具体的な測定方法は以下の通りである。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月25日(2019.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源からの光を変調させて画像光を形成する複数の光変調装置と、
複数の前記画像光を合成する光合成装置と、
前記光合成装置を固定する固定部と、を備え、
前記光合成装置は、前記固定部に固定される被固定面を有し、
前記固定部は、前記光合成装置を固定する固定面を有し、
前記固定面は、前記被固定面と点接触する頂点を有し、
前記被固定面における前記頂点との接触点は、前記固定部と前記光合成装置との相対的な姿勢を変化させた場合に、前記頂点から移動しない、
プロジェクター。
【請求項２】
前記固定面と前記被固定面との間には、接着剤が充填されている、請求項１に記載のプロジェクター。
【請求項３】
前記固定面が、円錐面である、
請求項１又は２に記載のプロジェクター。
【請求項４】
前記光合成装置は、光が入射する３つの入射面と、合成された光を出射する１つの射出面と、前記入射面および前記射出面と直交する２つの直交面と、を有するクロスダイクロイックプリズムであり、
前記被固定面は、２つの直交面のうち何れか一方である、請求項１〜３の何れか一項に記載のプロジェクター。
【請求項５】
前記固定面は、前記被固定面の中心に点接触する、
請求項４に記載のプロジェクター。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
次に、光合成装置６０およびその固定方法について説明する。
本実施得形態の光合成装置６０は、直方体のクロスダイクロイックプリズム５２である。光合成装置６０は、３つの入射面６１Ｒ、６１Ｇ、６１Ｂと、１つの射出面６１Ｃと、入射面６１Ｒ、６１Ｇ、６１Ｂおよび射出面６１Ｃと直交する２つの直交面と、を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
第１の反射膜６５Ｒは、赤色光ＬＲのみを反射し、他の波長の光を透過する。第１の反射膜６５Ｒは、入射面６１Ｒから入射した赤色光ＬＲを射出面６１Ｃ側に反射する。第２の反射膜６５Ｂは、青色光ＬＢのみを反射し、他の波長の光を透過する。第２の反射膜６５Ｂは、入射面６１Ｂから入射した青色光ＬＢを射出面６１Ｃ側に反射する。第１の反射膜６５Ｒおよび第２の反射膜６５Ｂは、入射面６１Ｇから入射した緑色光ＬＧを透過する。これにより光合成装置６０は、入射面６１Ｒ、６１Ｇ、６１Ｂから入射した赤色光ＬＲ、青色光ＬＢおよび緑色光ＬＧを合成して射出面６１Ｃから射出する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
次いで、図６に示すように、光合成装置６０の固定ベース７２に対する姿勢調整を行う（姿勢調整工程）。光合成装置６０の姿勢調整は、光合成装置６０の入射面６１Ｒ、６１Ｇ、６１Ｂに光源２（又は試験用光源）からの光を入射させ射出面６１Ｃから投射される合成画像をカメラにより観測しながら行う。光合成装置６０が適正な角度に対して傾いている場合には、合成画像にずれが生じる。作業者（又は調整装置）は、観測された画像のズレを最小とするように、光合成装置６０をＸθ方向、Ｙθ方向、Ｚθ方向に回転させる。
光合成装置６０の姿勢調整が完了した後に、紫外線を照射して接着剤７４を硬化させ、固定面７３と被固定面６３とを互いに固定する。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月24日(2019.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズの位置を検出するレンズ位置検出部と、
前記レンズが固定された可動レンズ枠を移動させるモータと、
前記モータの駆動状態を検出する駆動状態検出部と、
撮像装置から取得した前記レンズの目標位置と前記レンズ位置検出部により検出された前記レンズ位置との差分に応じた目標速度と、前記駆動状態検出部による前記駆動状態に応じた速度との差分に基づいて、前記モータの駆動速度を決定する制御部と
を備える交換レンズ。
【請求項２】
前記目標位置は、前記レンズ位置検出部で検出された前記レンズの位置に応じて決定された位置である
請求項１に記載の交換レンズ。
【請求項３】
前記目標位置は、コントラストオートフォーカス方式によって決定された位置である
請求項２に記載の交換レンズ。
【請求項４】
前記駆動状態は、前記モータの回転角度である
請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の交換レンズ。
【請求項５】
前記モータはリング状の超音波モータである
請求項４に記載の交換レンズ。
【請求項６】
前記駆動状態は、前記モータの軸の回転角度である
請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の交換レンズ。
【請求項７】
前記モータはＤＣモータである
請求項６に記載の交換レンズ。
【請求項８】
前記レンズはフォーカスレンズである
請求項３に記載の交換レンズ。
【請求項９】
第１のフォーカスレンズとしての前記フォーカスレンズと比べて、Ｆ値が大きい第２のフォーカスレンズをさらに備え、
前記レンズ位置検出部は、前記第１のフォーカスレンズの位置を検出する
請求項８に記載の交換レンズ。
【請求項１０】
前記レンズ位置検出部は、鏡筒の内側の位置であって、前記鏡筒に対して移動可能な前記可動レンズ枠の可動可能範囲のうち、前記可動レンズ枠が前記可動可能範囲の何れの位置にある場合においても、前記レンズの位置を検出可能な位置に配置されている
請求項３、請求項８、または請求項９に記載の交換レンズ。
【請求項１１】
前記制御部は、前記コントラストオートフォーカス方式でのサーチ開始時点では、前記モータを一定の駆動速度で動作させ、前記レンズが前記目標位置に到達するのに先立って、前記モータの駆動を停止させる
請求項３、請求項８、請求項９、または請求項１０に記載の交換レンズ。
【請求項１２】
前記モータの駆動を前記可動レンズ枠に伝達する駆動系をさらに備え、
前記モータの駆動の停止後、前記駆動系による摩擦によって前記可動レンズ枠が停止する
請求項１１に記載の交換レンズ。
【請求項１３】
前記制御部は、前記レンズの移動前の位置と、前記目標位置との関係に基づいて決定される速度曲線に従って、前記モータの前記駆動速度を徐々に低減させる
請求項１１または請求項１２に記載の交換レンズ。
【請求項１４】
前記制御部は、前記撮像装置から取得したオートフォーカスの動作モード情報に応じて前記速度曲線を決定する
請求項１３に記載の交換レンズ。
【請求項１５】
前記レンズ位置検出部は、前記駆動状態検出部よりも、より前記レンズに近い位置に設けられている
請求項１乃至請求項１４の何れか一項に記載の交換レンズ。
【請求項１６】
前記レンズ位置検出部は、前記レンズ近傍に設けられている
請求項１乃至請求項１４の何れか一項に記載の交換レンズ。
【請求項１７】
前記レンズは、対物側フォーカスレンズおよび素子側フォーカスレンズを有しており、
前記レンズ位置検出部は、前記駆動状態検出部よりも、より前記対物側フォーカスレンズに近い位置に設けられている
請求項１乃至請求項１４の何れか一項に記載の交換レンズ。
【請求項１８】
前記レンズ位置検出部は、前記対物側フォーカスレンズのレンズ中心の実位置を検出する
請求項１７に記載の交換レンズ。
【請求項１９】
撮像装置に装着される交換レンズの駆動方法であって、
レンズ位置検出部によりレンズの位置を検出し、
前記レンズが固定された可動レンズ枠を移動させるモータの駆動状態を駆動状態検出部により検出し、
前記撮像装置から取得した前記レンズの目標位置と前記レンズ位置検出部により検出された前記レンズ位置との差分に応じた目標速度と、前記駆動状態検出部による前記駆動状態に応じた速度との差分に基づいて、前記モータの駆動速度を決定する
ステップを含む駆動方法。
【請求項２０】
レンズの位置を検出するレンズ位置検出部と、
前記レンズが固定された可動レンズ枠を移動させるモータと、
前記モータの駆動状態を検出する駆動状態検出部と、
撮像装置から取得した前記レンズの目標位置と前記レンズ位置検出部により検出された前記レンズ位置との差分に応じた目標速度と、前記駆動状態検出部による前記駆動状態に応じた速度との差分に基づいて、前記モータの駆動速度を決定する制御部と
を備える電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
メカシャッタ７３は、撮像素子７６の前面に配置されており、シャッタ駆動部７５の制御に従って開閉する。シャッタ検出部７４は、メカシャッタ７３の開閉状態を検出し、ボディ制御部７２に供給する。シャッタ駆動部７５は、ボディ制御部７２の制御に基づいてメカシャッタ７３を開状態または閉状態に駆動する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
撮像素子７６は、CCD（Charge Coupled Device）またはCMOS（Complementary Metal Oxide Semiconductor）センサで構成される。撮像素子７６は、ズームレンズ２３乃至メカシャッタ７３を介して入射した光を光電変換することで被写体を撮像し、その結果得られた画像の画像データを画像信号処理部７７に供給する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６１】
サーボ処理部３３５は、差分算出部３３４から供給された速度偏差に基づいて、ＰＩＤ（Proportional Integral Differential）サーボによりモータ３０１の駆動を制御する。すなわち、サーボ処理部３３５は、差分算出部３３４からの速度偏差に基づいて、モータ３０１の回転速度を変化させるための制御値を決定し、その制御値をドライバ３３６に供給する。なお、制御値は例えばデジタルの電圧信号などとされる。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月10日(2019.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスバリア性を有する外被材と、
前記外被材の内部に設けられた芯材とを備え、前記外被材の内部が減圧密封された真空断熱材であって、
前記外被材の周縁がシールされて構成されたシール部と、
前記外被材の隣接する周縁に形成された、第１のヒレ部および第２のヒレ部と、
前記第１のヒレ部および前記第２のヒレ部が前記芯材の、前記芯材の側面に直交する面である平面部に向けて折り返された際に、前記芯材の前記側面に発生する突出部が圧縮されて形成された圧縮部と
を備え、
前記圧縮部は、前記真空断熱材の側面の端部のコーナ部に形成され、
前記圧縮部の高さは、前記側面の、前記圧縮部が形成される前記コーナ部以外の稜線の頂点から、５ｍｍ以内の高さである
真空断熱材。
【請求項２】
前記圧縮部は、前記突出部が熱成型されることによって形成された
請求項１に記載の真空断熱材。
【請求項３】
前記外被材は熱溶着層を有し、
前記圧縮部の前記熱溶着層が、前記圧縮部が形成される際の圧縮によって熱溶着されている
請求項１または２に記載の真空断熱材。
【請求項４】
前記外被材は、二枚の外被材シートの三辺を溶着して得られる三方袋により構成され、
前記三方袋に前記芯材が減圧密封されるとともに、
前記三方袋周縁の前記第１のヒレ部および前記第２のヒレ部が折り曲げられて、前記コーナ部において、二重以上に重なるように構成された
請求項２または３に記載の真空断熱材。
【請求項５】
前記平面部に折り重ねられた前記第１のヒレ部および前記第２のヒレ部の高さが、前記平面部の高さと実質的に同等である
請求項２から請求項４までのいずれか１項に記載の真空断熱材。
【請求項６】
前記真空断熱材の厚みが、２０ｍｍ以上である
請求項１から５のいずれか１項に記載の真空断熱材。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月14日(2018.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
常温における飽和蒸気圧が大気圧以下である成分を主成分として含む冷媒を液相で貯留しつつ液相の前記冷媒を蒸発させる蒸発器と、
電動機と、前記電動機によって駆動されて回転する回転体と、液相の前記冷媒が流入する流入口及び液相の前記冷媒が流出する流出口を有する、前記電動機を冷却する冷却器とを含み、前記回転体の回転によって前記蒸発器で液相の前記冷媒の蒸発により発生した気相の前記冷媒を圧縮する圧縮機と、
前記圧縮機で圧縮された気相の前記冷媒を凝縮させつつ液相の前記冷媒を貯留する凝縮器と、
前記凝縮器に貯留された液相の前記冷媒を流通させて前記蒸発器に供給する液流路と、
前記液流路の途中に位置する分岐点と前記冷却器の前記流入口とを接続し、前記液流路を流れる液相の前記冷媒の一部を前記冷却器に供給する冷媒供給路と、
前記冷却器の前記流出口と前記凝縮器とを接続し、前記冷却器に供給された液相の前記冷媒を前記凝縮器に戻す冷媒排出路と、を備えた、
冷凍サイクル装置。
【請求項２】
前記冷媒排出路に配置され、前記冷媒排出路を流れる前記冷媒の圧力を調整する圧力調整機構と、
前記冷媒排出路において前記冷却器の前記流出口と前記圧力調整機構との間に配置され、前記冷媒排出路を流れる前記冷媒の温度を検出する温度センサと、
前記冷媒排出路において前記冷却器の前記流出口と前記圧力調整機構との間に配置され、前記冷媒排出路を流れる前記冷媒の圧力を検出する圧力センサと、をさらに備え、
前記圧力調整機構は、前記温度センサによって検出された前記冷媒の温度及び前記圧力センサによって検出された前記冷媒の圧力に基づいて、前記冷媒排出路を流れる前記冷媒の圧力を、前記冷媒排出路を流れる前記冷媒が液相となる圧力に調整する、
請求項１に記載の冷凍サイクル装置。
【請求項３】
前記液流路において前記凝縮器と前記分岐点との間に配置された循環ポンプをさらに備えた、請求項１又は２に記載の冷凍サイクル装置。
【請求項４】
冷凍サイクルを構成する圧縮機の冷却方法であって、
凝縮器に貯留された液相冷媒を、凝縮器と蒸発器とを接続した液流路を介して前記蒸発器へ供給し、
前記蒸発器へ供給される前記液相冷媒のうち少なくとも一部の液相冷媒を、前記液流路から分岐して前記圧縮機へ接続した冷媒供給路を介して前記圧縮機へ供給し、
前記少なくとも一部の液相冷媒を用いて前記圧縮機の内部に配置された電動機を冷却し、
冷却に用いた前記少なくとも一部の液相冷媒を、前記圧縮機と前記凝縮器とを接続した冷媒排出路を介して前記凝縮器へ供給する、
冷却方法。
【請求項５】
前記凝縮器へ供給される前記少なくとも一部の液相冷媒の圧力を検出し、
検出した前記圧力が冷媒飽和圧力よりも小さい場合、前記冷媒排出路を流れる前記少なくとも一部の液相冷媒の圧力が前記冷媒飽和圧力以上になるように、前記冷媒排出路を流れる前記少なくとも一部の液相冷媒の圧力を増加させる、
請求項４に記載の冷却方法。
【請求項６】
前記凝縮器へ供給される前記少なくとも一部の液相冷媒の温度を検出し、
検出した前記温度が予め設定された許容温度よりも高く且つ検出した前記圧力が予め設定された許容圧力以下である場合、前記冷媒排出路を流れる前記少なくとも一部の液相冷媒の温度が前記許容温度以下になるように、前記冷媒供給路を流れる前記少なくとも一部の液相冷媒の流量を増加させる、
請求項５に記載の冷却方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】冷凍サイクル装置及び冷却方法
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月11日(2019.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面側から順に第１ハードコート、第２ハードコート、及び透明樹脂フィルムの層を有し、
上記第１ハードコートは樹脂微粒子を含み、かつ無機粒子を含まない塗料からなり；
上記第２ハードコートは無機微粒子を含む塗料からなり；
下記（１）〜（３）を満たすハードコート積層フィルム。
（１）全光線透過率が８５％以上。
（２）上記第１ハードコート表面の鉛筆硬度が５Ｈ以上。
（３）ＸＹＺ表色系のＹ値が１．５〜４．２％。
【請求項２】
更に下記（４）を満たす、請求項１に記載のハードコート積層フィルム。
（４）上記第１ハードコート表面の往復７５００回綿拭後の水接触角が１００度以上。
【請求項３】
更に下記（５）を満たす、請求項１又は２に記載のハードコート積層フィルム。
（５）最小曲げ半径が４０ｍｍ以下。
【請求項４】
更に下記（６）を満たす、請求項１〜３の何れか１項に記載のハードコート積層フィルム。
（６）黄色度指数が３以下。
【請求項５】
上記第１ハードコートが平均粒子径０．５〜１０μｍの樹脂微粒子を含み、かつ無機粒子を含まない塗料からなる請求項１〜４の何れか１項に記載のハードコート積層フィルム。
【請求項６】
上記第２ハードコートが平均粒子径１〜３００ｎｍの無機微粒子を含む塗料からなる請求項１〜５の何れか１項に記載のハードコート積層フィルム。
【請求項７】
上記第１ハードコートの厚みが、０．５〜５μｍである、請求項１〜６の何れか１項に記載のハードコート積層フィルム。
【請求項８】
上記第２ハードコートの厚みが、１０〜３０μｍである、請求項１〜７の何れか１項に記載のハードコート積層フィルム。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか１項に記載のハードコート積層フィルムの画像表示装置部材としての使用。
【請求項１０】
請求項１〜８の何れか１項に記載のハードコート積層フィルムを含む画像表示装置。