【手続補正書】
【提出日】平成30年12月17日(2018.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃｕを５．０原子％以上２０原子％以下、及び窒素を３０原子％以上４５原子％以下含み、残部がＡｌ及び不可避不純物からなる薄膜からなることを特徴とするアルミニウム合金窒化薄膜。
【請求項２】
前記窒素の含有量が４０原子％以上であって、更に、Ｙ、Ｓｉ、Ｎｉ、Ｔｉ及びＮｄから選ばれる元素の少なくとも１種を下記含有量の範囲で含むものである請求項１に記載のアルミニウム合金窒化薄膜。
（含有量）
Ｙ：１．０原子％以上５．０原子％以下
Ｓｉ：０．５原子％以上１０．０原子％以下
Ｎｉ：３．０原子％以上３０．０原子％以下
Ｔｉ：１．０原子％以上６．０原子％以下
Ｎｄ：１．０原子％以上１０．０原子％以下
【請求項３】
アルミニウム合金窒化薄膜と金属電極薄膜とを含むアルミニウム合金窒化積層薄膜であって、
前記アルミニウム合金窒化薄膜は、
Ｃｕを５．０原子％以上２０原子％以下、及び窒素を３０原子％以上４５原子％以下含み、残部がＡｌ及び不可避不純物からなる薄膜からなり、
前記金属電極薄膜の単膜としての電気抵抗率が１５μΩ・ｃｍ以下であるアルミニウム合金窒化積層薄膜。
【請求項４】
前記アルミニウム合金窒化薄膜の窒素の含有量が４０原子％以上であって、更に、Ｙ、Ｓｉ、Ｎｉ、Ｔｉ及びＮｄから選ばれる元素の少なくとも１種を下記含有量の範囲で含むものである請求項３に記載のアルミニウム合金窒化積層薄膜。
（含有量）
Ｙ：１．０原子％以上５．０原子％以下
Ｓｉ：０．５原子％以上１０．０原子％以下
Ｎｉ：３．０原子％以上３０．０原子％以下
Ｔｉ：１．０原子％以上６．０原子％以下
Ｎｄ：１．０原子％以上１０．０原子％以下
【請求項５】
請求項１または２に記載のアルミニウム合金窒化薄膜の成膜に用いられるスパッタリングターゲット。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
すなわち、本発明は、以下の［１］〜［５］に係るものである。
［１］  Ｃｕを５．０原子％以上２０原子％以下、及び窒素を３０原子％以上４５原子％以下含み、残部がＡｌ及び不可避不純物からなる薄膜からなることを特徴とするアルミニウム合金窒化薄膜。
［２］  前記窒素の含有量が４０原子％以上であって、更に、Ｙ、Ｓｉ、Ｎｉ、Ｔｉ及びＮｄから選ばれる元素の少なくとも１種を下記含有量の範囲で含むものである前記［１］に記載のアルミニウム合金窒化薄膜。
（含有量）
Ｙ：１．０原子％以上５．０原子％以下
Ｓｉ：０．５原子％以上１０．０原子％以下
Ｎｉ：３．０原子％以上３０．０原子％以下
Ｔｉ：１．０原子％以上６．０原子％以下
Ｎｄ：１．０原子％以上１０．０原子％以下
［３］  アルミニウム合金窒化薄膜と金属電極薄膜とを含むアルミニウム合金窒化積層薄膜であって、
前記アルミニウム合金窒化薄膜は、
Ｃｕを５．０原子％以上２０原子％以下、及び窒素を３０原子％以上４５原子％以下含み、残部がＡｌ及び不可避不純物からなる薄膜からなり、
前記金属電極薄膜の単膜としての電気抵抗率が１５μΩ・ｃｍ以下であるアルミニウム合金窒化積層薄膜。
［４］  前記アルミニウム合金窒化薄膜の窒素の含有量が４０原子％以上であって、更に、Ｙ、Ｓｉ、Ｎｉ、Ｔｉ及びＮｄから選ばれる元素の少なくとも１種を下記含有量の範囲で含むものである前記［３］に記載のアルミニウム合金窒化積層薄膜。
（含有量）
Ｙ：１．０原子％以上５．０原子％以下
Ｓｉ：０．５原子％以上１０．０原子％以下
Ｎｉ：３．０原子％以上３０．０原子％以下
Ｔｉ：１．０原子％以上６．０原子％以下
Ｎｄ：１．０原子％以上１０．０原子％以下
［５］  前記［１］または［２］に記載のアルミニウム合金窒化薄膜の成膜に用いられるスパッタリングターゲット。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【図１】図１は、本発明のアルミニウム合金窒化積層薄膜の一構造例を示す概略断面図である。
【図２】図２は、本発明のアルミニウム合金窒化積層薄膜の一構造例を示す概略断面図である。
【図３】図３は、本発明のアルミニウム合金窒化積層薄膜の一構造例を示す概略断面図である。
【図４】図４は、本発明のアルミニウム合金窒化積層薄膜の一構造例を示す概略断面図である。
【図５】図５は、アルミニウム窒化薄膜と本発明のアルミニウム合金窒化薄膜（Ａｌ−７原子％Ｃｕ−Ｎ）の膜中窒素量に対する波長５５０ｎｍにおける反射率（膜厚５０ｎｍ）を示すグラフである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
金属電極薄膜の合金薄膜として含まれていてもよい合金成分としては、Ａｌ、Ｃｕ及びＡｇの他に、Ｎｉ、Ｌａ、Ｇｅ、Ｎｄ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｍｎ、Ｂｉ、Ｚｎ等が挙げられる。これらの主元素でない成分の合計含有量は一般的に０．１〜３．０原子％である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
（６）：アルミニウム合金窒化積層薄膜の反射率
アルミニウム合金窒化積層薄膜の反射率は、日本分光社製Ｖ−５７０分光光度計を用い、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの反射率スペクトルを測定した。表２には温水浸漬試験前後の波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍにおける反射率を記載した。また表２には温水浸漬試験前後の波長５５０ｎｍにおける反射率の差を反射率変化量として記載した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
［アルミニウム合金窒化薄膜の評価：試験例１−２〜１−８］
アルミニウム合金窒化薄膜の光吸収特性についての評価を行うため、純アルミニウム窒化薄膜（試験例１−２〜１−４）及びアルミニウム合金窒化薄膜（試験例１−５〜１−８）を表１に記載の組成となるように下記条件でスパッタリング法により成膜した。基板には厚みが０．７ｍｍのコーニング社製ＥＡＧＬＥ  ＸＧガラスを用いた。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
得られた試験例１−２〜１−８の純アルミニウム窒化薄膜またはアルミニウム合金窒化薄膜の組成及び評価結果を表１に示す。表１中、反射率が５０％以下、かつ温水浸漬試験による溶解膜厚が３０ｎｍ以下であれば、評価を「○」とした。 
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
【表１】
2017043806.tif 000001
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
試験例１−２〜１−４は純アルミニウムの窒化物の薄膜であるが、膜中の窒素量が３０原子％以上においては、反射率が５０％以下となるものの、温水浸漬試験による溶解膜厚が３０ｎｍを超え、温水浸漬試験に対する耐久性を満たさなかった。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
試験例１−５〜１−８はＡｌ−７原子％Ｃｕ−Ｎ薄膜である。Ｃｕを含むことにより反射率が下がり、膜中の窒素量が３０原子％以上４５原子％以下では要求する反射率５０％以下、温水浸漬試験による溶解膜厚３０ｎｍ以下を満たした。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
なお、Ａｌ窒化薄膜と本発明のアルミニウム合金窒化薄膜（Ａｌ−７原子％Ｃｕ−Ｎ）の膜中窒素量に対する波長５５０ｎｍにおける反射率（膜厚５０ｎｍ）を図５のグラフにまとめた。図５中のプロットは試験例１−２〜１−８に相当するが、純金属窒化物であるＡｌ−Ｎと合金窒化物であるＡｌ−７原子％Ｃｕ−Ｎの膜中窒素量に対する反射率依存性は一致しており、純金属窒化物と合金窒化物によらず光吸収は膜中窒素量に依存していることが分かった。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
［アルミニウム合金窒化積層薄膜の評価：試験例３−５、３−１２〜３−１９、３−２１及び３−２６〜３−３０］
アルミニウム合金窒化積層薄膜の評価を行うため、アルミニウム合金窒化薄膜を成膜し、次いでＡｌ−０．２原子％Ｎｄ合金の金属電極薄膜を連続スパッタすることで表２に記載の組成のアルミニウム合金窒化積層薄膜をそれぞれ成膜した。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
得られたアルミニウム合金窒化積層薄膜の組成及び評価結果を表２に示す。表２中、反射率が５０％以下、温水浸漬試験前後での波長５５０ｎｍにおける反射率変化量が１０％以下、かつシート抵抗が１．５Ω／ｃｍ２以下であれば、評価を「○」とした。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
【表２】
2017043806.tif 000002
【手続補正２６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
試験例３−５のアルミニウム合金窒化薄膜はＡｌ−７原子％Ｃｕ−Ｎ薄膜である。
【手続補正２８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
試験例３−１２及び３−１３のアルミニウム合金窒化薄膜はＹを添加したＡｌ−７．０原子％Ｃｕ−Ｙ−Ｎ薄膜である。試験例３−１２は膜中の窒素量が２１．２原子％であるが、この場合単膜反射率が高く、反射率５０％超となった。試験例３−１３において窒素量を４６．１原子％と増やすことにより反射率５０％以下、かつ反射率変化量１０％以下を満足した。
【手続補正３０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
試験例３−２１、３−２６〜３−３０のアルミニウム合金窒化薄膜はＮｄを添加したＡｌ−Ｃｕ−Ｎｄ−Ｎ薄膜である。これらはいずれも反射率５０％以下、反射率変化量１０％以下を満足した。
【手続補正３１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2017043806.tif 000003
【手続補正３２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】削除
【補正の内容】