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【手続補正書】
【提出日】令和1年6月18日(2019.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに偏光角度が異なる複数の偏光光を光電変換することにより生成された入力画像の輝度値を用いて、前記偏光角度に応じて変化する輝度成分のうち特定の偏光角度での特定成分を取得する取得手段と、
前記特定成分を用いて出力画像を生成する生成手段とを有し、
前記輝度値は、前記特定成分と、前記偏光角度に依存しない独立成分とを含むことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記取得手段は、前記偏光角度ごとの前記輝度成分を示す関数を取得し、該関数を用いて前記特定成分を取得することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記取得手段は、前記輝度成分の最大値と該最大値に対応する前記偏光角度とを用いて前記関数を取得することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記取得手段は、前記輝度値に対するフィッティングを行うことで前記関数を取得することを特徴とする請求項２または３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記関数は、正弦関数または余弦関数であることを特徴とする請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記関数は、正弦関数および余弦関数とは異なる関数であることを特徴とする請求項２または３に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記生成手段は、前記特定成分および前記独立成分を用いて前記出力画像を生成することを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記生成手段は、前記特定成分および前記独立成分の線形和を用いて前記出力画像を生成することを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記生成手段は、複数の前記特定成分を用いて前記出力画像を生成することを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記入力画像は、前記複数の偏光光の夫々に対応する複数の画像を含むことを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記入力画像は、前記複数の偏光光の夫々に対応する複数の輝度情報を含む１枚の画像であることを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の画像処理装置と、前記複数の偏光光を光電変換する撮像素子とを有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１３】
互いに偏光角度が異なる複数の偏光光を光電変換することにより生成された入力画像の輝度値を用いて、前記偏光角度に応じて変化する輝度成分のうち特定の偏光角度での特定成分を取得するステップと、
前記特定成分を用いて出力画像を生成するステップとを有し、
前記輝度値は、前記特定成分と、前記偏光角度に依存しない独立成分とを含むことを特徴とする画像処理方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の画像処理方法をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一側面としての画像処理装置は、互いに偏光方向が異なる複数の偏光光を撮像することにより生成された入力画像の輝度値を用いて、偏光方向が基準軸に対してなす偏光角度に応じて変化する輝度成分のうち特定の偏光角度での特定成分を取得する取得手段と、特定成分を用いて出力画像を生成する生成手段とを有し、輝度値は、特定成分と、偏光角度に依存しない独立成分とを含むことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
なお、上記画像処理装置と、互いに偏光方向が異なる複数の偏光光を光電変換する撮像素子とを有する撮像装置も、本発明の他の一側面を構成する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明の他の一側面としての画像処理方法は、互いに偏光角度が異なる複数の偏光光を光電変換することにより生成された入力画像の輝度値を用いて、偏光角度に応じて変化する輝度成分のうち特定の偏光角度での特定成分を取得するステップと、特定成分を用いて出力画像を生成するステップとを有し、輝度値は、特定成分と、偏光角度に依存しない独立成分とを含むことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
さらに、上記画像処理方法をコンピュータに実行させるプログラムも、本発明の他の一側面を構成する。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月17日(2019.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の目的を達成するため、本発明による通信手段は、第一の外部装置と第二の外部装置を含む複数の外部装置のうちのいずれかと無線通信を行う通信手段と、第１の状態と当該第１の状態よりも消費電力の小さい第２の状態とを有する制御手段と、を備える通信装置であって、前記第２の状態において、前記通信手段を介して前記第一の外部装置から接続要求を受信した場合は、前記通信手段により前記第一の外部装置との接続を確立するための処理を開始すると共に、前記制御手段は前記第１の状態に遷移し、前記第２の状態において、前記通信手段を介して前記第二の外部装置から接続要求を受信した場合は、前記通信手段により前記第二の外部装置との接続を確立するための処理を開始すると共に、前記制御手段は前記第１の状態に遷移しないことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の外部装置と第二の外部装置を含む複数の外部装置のうちのいずれかと無線通信を行う通信手段と、
第１の状態と当該第１の状態よりも消費電力の小さい第２の状態とを有する制御手段と、
を備える通信装置であって、
前記第２の状態において、前記通信手段を介して前記第一の外部装置から接続要求を受信した場合は、前記通信手段により前記第一の外部装置との接続を確立するための処理を開始すると共に、前記制御手段は前記第１の状態に遷移し、
前記第２の状態において、前記通信手段を介して前記第二の外部装置から接続要求を受信した場合は、前記通信手段により前記第二の外部装置との接続を確立するための処理を開始すると共に、前記制御手段は前記第１の状態に遷移しない
ことを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記接続が確立された状態とは、互いのデバイスアドレスを登録することで、互いに機器間の接続を認証し合った状態であることを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記第１の状態においてユーザからの操作が無い状態のまま所定時間が経過した場合、前記制御手段は前記第２の状態に遷移することを特徴とする請求項１又は２に記載の通信装置。
【請求項４】
前記第２の状態において前記第二の外部装置との接続が確立された状態で、前記通信手段を介して所定のコマンドを前記第二の外部装置から受け付けた場合、前記制御手段は前記第１の状態へ遷移することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項５】
前記第２の状態において、前記通信手段を介して前記第一の外部装置から接続要求を受信した場合であっても、前記接続要求に所定のコマンドが含まれていない場合、前記制御手段は前記第１の状態に遷移しないことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項６】
撮像手段を更に備え、
前記所定のコマンドは撮像手段に撮像させるためのコマンドであることを特徴とする請求項４又は５に記載の通信装置。
【請求項７】
前記無線通信はＢＬＥ（Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ  Ｌｏｗ  Ｅｎｅｒｇｙ）であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項８】
前記第一の外部装置と前記第二の外部装置とは、予め互いにペアリング済みであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項９】
前記第一の外部装置はリモコンであり、前記第二の外部装置はスマートフォンであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１０】
前記制御手段と接続する電源を更に備え、
前記第１の状態は、前記制御手段への電力が供給されている状態であり、前記第２の状態は、前記制御手段への電力が供給されていない状態であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１１】
第一の外部装置と第二の外部装置を含む複数の外部装置のうちのいずれかと無線通信を行う通信手段と、第１の状態と当該第１の状態よりも消費電力の小さい第２の状態とを有する制御手段とを備える通信装置の制御方法であって、
前記第２の状態において、前記通信手段を介して前記第一の外部装置から接続要求を受信した場合は、前記通信手段により前記第一の外部装置との接続を確立するための処理を開始すると共に、前記制御手段は前記第１の状態に遷移するステップと、
前記第２の状態において、前記通信手段を介して前記第二の外部装置から接続要求を受信した場合は、前記通信手段により前記第二の外部装置との接続を確立するための処理を開始すると共に、前記制御手段は前記第１の状態に遷移しないステップと、
を有することを特徴とする通信装置の制御方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の通信装置の制御方法の各ステップをコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月14日(2019.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力された処理対象の対象画像に対し、第１の画像処理を実行し、処理結果の第１の画像を記憶手段に書き込む第１の処理手段と、
前記記憶手段に書き込まれた前記第１の画像を読み出し、該第１の画像に対し、前記第１の画像処理と異なる第２の画像処理を実行し、処理結果である第２の画像を出力する第２の処理手段と、
前記第１の処理手段と前記第２の処理手段とを制御する制御手段と、を有し、
前記第１の画像処理及び前記第２の画像処理は、処理対象である画像につき定められた複数の領域の各々について実行されるものであり、
前記制御手段は、前記第２の処理手段による前記第１の画像の読み出しを、前記第１の処理手段による該第１の画像の書き込みと並行して行うよう制御し、
前記第１の画像処理の処理対象として前記対象画像につき定める第１の領域の大きさよりも、前記第２の画像処理の処理対象として前記第１の画像につき定める第２の領域の大きさが小さい
ことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記第２の処理手段による前記第１の画像の画素の読み出しが、前記第１の処理手段による該画素の書き込みよりも前になされないよう制御することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記第２の画像処理は、前記第１の画像につき定められた１つの前記第２の領域につき、該領域の画素と該領域外の参照領域の画素とを読み出して実行される画像処理であることを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記対象画像につき定める少なくとも１つの前記第１の領域の大きさを、１つの前記第２の領域を処理対象とする前記第２の画像処理において読み出される前記参照領域の画素を含むように決定することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記第２の領域に対応する画素を含む前記第１の領域に、該第２の領域を処理対象とする前記第２の画像処理において前記参照領域として読み出される画素が含まれるように、前記第１の領域の大きさを決定することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記第１の領域の大きさと前記第２の領域の大きさとを、少なくとも前記第２の画像処理の実行後の前記第２の処理手段による前記第１の画像の画素の読み出しにおいて、前記第１の処理手段による該画素の書き込みを待機する必要がないよう決定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記第１の領域の大きさと前記第２の領域の大きさとを、前記第１の処理手段及び前記第２の処理手段の少なくともいずれかの処理性能、及び前記記憶手段からの画像の読み出しに係り使用可能な帯域幅に基づいて決定することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記処理性能は、対応する画像処理において読み出して保持可能な画素数、及び、対応する画像処理において単位時間あたりに処理可能な画素数の少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記第１の画像につき定める前記第２の領域と同数であり、かつ複数種類の大きさを有する前記第１の領域を前記対象画像につき定めることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記第１の画像につき定める前記第２の領域の数を、前記対象画像につき定める前記第１の領域の数よりも多くするよう、前記第１の処理手段及び前記第２の処理手段を制御することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記第２の画像処理は、幾何変形を行う処理を含むことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
撮像を行い、対象画像を出力する撮像手段と、
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の画像処理装置と、
を有することを特徴とする撮像装置。
【請求項１３】
前記撮像装置の状態は、前記対象画像の撮像に用いられたレンズの特性を含むことを特徴とする請求項１２に記載の撮像装置。
【請求項１４】
入力された処理対象の対象画像に対し、第１の画像処理を実行し、処理結果の第１の画像を記憶手段に書き込む第１の処理工程と、
前記記憶手段に書き込まれた前記第１の画像を読み出し、該第１の画像に対し、前記第１の画像処理と異なる第２の画像処理を実行し、処理結果の第２の画像を出力する第２の処理工程と、
前記第１の処理工程と前記第１の処理工程とを制御する制御工程と、を有し、
前記第１の画像処理及び前記第２の画像処理は、処理対象である画像につき定めた複数の領域の各々について実行されるものであり、
前記制御工程において、前記第２の処理工程における前記第１の画像の読み出しを、前記第１の処理工程における該第１の画像の書き込みと並行して行うよう制御され、
前記第１の画像処理の処理対象として前記対象画像につき定める第１の領域の大きさよりも、前記第２の画像処理の処理対象として前記第１の画像につき定める第２の領域の大きさが小さい
ことを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項１５】
コンピュータを、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前述の目的を達成するために、本発明の画像処理装置は、入力された処理対象の対象画像に対し、第１の画像処理を実行し、処理結果の第１の画像を記憶手段に書き込む第１の処理手段と、記憶手段に書き込まれた第１の画像を読み出し、該第１の画像に対し、第１の画像処理と異なる第２の画像処理を実行し、処理結果である第２の画像を出力する第２の処理手段と、第１の処理手段と第２の処理手段とを制御する制御手段と、を有し、第１の画像処理及び第２の画像処理は、処理対象である画像につき定められた複数の領域の各々について実行されるものであり、制御手段は、第２の処理手段による第１の画像の読み出しを、第１の処理手段による該第１の画像の書き込みと並行して行うよう制御し、第１の画像処理の処理対象として対象画像につき定める第１の領域の大きさよりも、第２の画像処理の処理対象として第１の画像につき定める第２の領域の大きさが小さいことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月5日(2019.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の伝送方式で伝送されるデジタル放送のコンテンツおよび前記コンテンツのコンテンツ保護に関する制御情報を受信可能な第１の放送受信部と、
前記第１の伝送方式とは異なる第２の伝送方式で伝送されるデジタル放送のコンテンツおよび前記コンテンツのコンテンツ保護に関する制御情報を受信可能な第２の放送受信部と、
前記第１の放送受信部または前記第２の放送受信部で受信したコンテンツを蓄積する蓄積部と、
前記第１の放送受信部または前記第２の放送受信部で受信したコンテンツまたは前記蓄積部に蓄積していたコンテンツの映像を外部機器に出力する映像出力部と、
制御部と、を備え、
前記制御部による前記蓄積部、および前記映像出力部の制御状態には、
前記蓄積部でのコンテンツの蓄積を行わずに前記映像出力部から外部機器へ出力する第１の映像出力処理状態と、
前記蓄積部でのコンテンツの蓄積を行うコンテンツの蓄積処理状態と、
前記蓄積部でのコンテンツの蓄積処理後にコンテンツを前記映像出力部から外部機器へ出力する第２の映像出力処理状態とがあり、
前記制御部は、前記コンテンツ保護に関する制御情報に基づいてコンテンツ保護処理の制御が可能であり、前記第１の放送受信部で受信したコンテンツについては、前記第１の映像出力処理状態ではコンテンツの映像の画素数に応じてコンテンツ保護処理の切り替えを行い、前記第２の映像出力処理状態でもコンテンツの映像の画素数に応じてコンテンツ保護処理の切り替えを行い、前記第１の映像出力処理状態と前記第２の映像出力処理状態とでコンテンツ保護処理の切り替えを行う閾値の画素数は等しく、前記第１の放送受信部で受信したコンテンツのうち該閾値の画素数以下の画素数のコンテンツの保護処理は、前記第２の放送受信部で受信したコンテンツに対する前記第１の映像出力処理状態と前記第２の映像出力処理状態におけるコンテンツの保護処理と共通である、
放送受信装置。
【請求項２】
第１の伝送方式で伝送されるデジタル放送を受信可能な第１の受信ステップと、
前記第１の伝送方式とは異なる第２の伝送方式で伝送されるデジタル放送を受信可能な第２の受信ステップと、
前記第１の受信ステップで受信したコンテンツを蓄積する蓄積ステップと、
前記第１の受信ステップで受信したコンテンツを、前記蓄積ステップにおける蓄積を行わずに外部機器に出力する第１の映像出力ステップと、
前記蓄積ステップで蓄積したコンテンツの映像を外部機器に出力する第２の映像出力ステップと、を備え、
前記第１の受信ステップで受信した放送のコンテンツについて、前記第１の受信ステップで受信したコンテンツ保護に関する制御情報に基づいてコンテンツ保護処理の制御が可能であり、前記第１の受信ステップで受信したコンテンツの映像について、前記第１の映像出力ステップでの出力処理では、出力されるコンテンツの映像の画素数に応じてコンテンツ保護処理の切り替えを行い、前記第１の受信ステップで受信した放送のコンテンツについて、前記第２の映像出力ステップでの出力処理でもコンテンツの映像の画素数に応じてコンテンツ保護処理の切り替えを行い、
前記第１の受信ステップで受信した放送のコンテンツについて、前記第１の映像出力ステップでの出力処理と、前記第２の映像出力ステップでの出力処理とで、コンテンツ保護処理の切り替えを行う閾値の画素数は等しく、
前記第１の受信ステップで受信したコンテンツのうち該閾値の画素数以下の画素数のコンテンツについての、前記第１の映像出力ステップでの出力処理におけるコンテンツの保護処理および前記第２の映像出力ステップでの出力処理におけるコンテンツの保護処理は、それぞれ、前記第２の受信ステップで受信したコンテンツについての対応する映像出力処理におけるコンテンツの保護処理と共通である、
コンテンツ保護処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】放送受信装置およびコンテンツ保護処理方法
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月1日(2019.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と、第２の電極と、第３の電極と、酸化物半導体層と、第１の絶縁層と、第２の絶縁層と、を有する半導体装置であって、
前記半導体装置は、第１の領域と、前記第１の領域に囲まれた第２の領域と、を有し、
前記第１の領域において、前記第１の絶縁層の上方に前記第２の電極が位置し、
前記第１の領域において、前記第２の電極の上方に前記酸化物半導体層が位置し、
前記第１の領域において、前記酸化物半導体層の上方に前記第２の絶縁層が位置し、
前記第２の領域において、前記第１の絶縁層は、開口部を有し、
前記第２の領域において、前記第１の電極の上方に前記酸化物半導体層が位置し、
前記第２の領域において、前記酸化物半導体層の上方に前記第２の絶縁層が位置し、
前記第２の領域において、前記第２の絶縁層の上方に前記第３の電極が位置する半導体装置。
【請求項２】
第１の電極と、第２の電極と、第３の電極と、酸化物半導体層と、第１の絶縁層と、第２の絶縁層と、を有する半導体装置であって、
前記半導体装置は、第１の領域と、前記第１の領域に囲まれた第２の領域と、を有し、
前記第１の領域において、前記第１の絶縁層の上方に前記第２の電極が位置し、
前記第１の領域において、前記第２の電極の上方に前記酸化物半導体層が位置し、
前記第１の領域において、前記酸化物半導体層の上方に前記第２の絶縁層が位置し、
前記第２の領域において、前記第１の絶縁層は、第１の開口部を有し、
前記第２の領域において、前記第２の電極は、第２の開口部を有し、
前記第２の領域において、前記第１の電極の上方に前記酸化物半導体層が位置し、
前記第２の領域において、前記酸化物半導体層の上方に前記第２の絶縁層が位置し、
前記第２の領域において、前記第２の絶縁層の上方に前記第３の電極が位置する半導体装置。
【請求項３】
第１の電極と、第２の電極と、第３の電極と、酸化物半導体層と、第１の絶縁層と、第２の絶縁層と、を有する半導体装置であって、
前記半導体装置は、第１の領域と、前記第１の領域に囲まれた第２の領域と、を有し、
前記第１の領域において、前記第１の絶縁層の上方に前記第２の電極が位置し、
前記第１の領域において、前記第２の電極の上方に前記酸化物半導体層が位置し、
前記第１の領域において、前記酸化物半導体層の上方に前記第２の絶縁層が位置し、
前記第２の領域において、前記第１の絶縁層は、開口部を有し、
前記第２の領域において、前記第１の電極の上方に前記酸化物半導体層が位置し、
前記第２の領域において、前記酸化物半導体層の上方に前記第２の絶縁層が位置し、
前記第２の領域において、前記第２の絶縁層の上方に前記第３の電極が位置し、
前記第２の絶縁層は、前記開口部に沿って凹部を有し、
前記第３の電極は、前記凹部に埋め込まれている半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第１の絶縁層は、酸素を含む半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第１の電極は、ソース電極及びドレイン電極の一方としての機能を有し、
前記第２の電極は、ソース電極及びドレイン電極の他方としての機能を有する半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一に記載の半導体装置を有する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月29日(2019.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置、及び半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の酸化物半導体層と、
前記第１の酸化物半導体層上の、第２の酸化物半導体層と、
前記第２の酸化物半導体層上の、第１の電極と、
前記第２の酸化物半導体層上の、第２の電極と、
前記第１の電極の上面及び側面を覆い、前記第２の電極の上面及び側面を覆い、前記第２の酸化物半導体層の側面を覆い、且つ前記第１の酸化物半導体層の側面を覆う、第３の酸化物半導体層と、
前記第３の酸化物半導体層上の、第１の絶縁層と、
前記第１の電極及び前記第２の電極との間に設けられた前記第１の絶縁層の開口部と重なる、第１の凹部の形状を有する第４の酸化物半導体層と、
前記第１の凹部と重なる、第２の凹部の形状を有するゲート絶縁層と、
前記第２の凹部と重なる、ゲート電極と、
前記第４の酸化物半導体層、前記ゲート絶縁層、及び前記ゲート電極上の、第２の絶縁層と、を有し、
前記ゲート電極上の上面は、前記第４の酸化物半導体層の上面、及び前記ゲート絶縁層の上面と等しい位置を有し、
前記第１の絶縁層の上面側は、前記第１の絶縁層の下面側より酸素が多く存在する領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
第２の酸化物半導体層と、
前記第２の酸化物半導体層上の、第１の電極と、
前記第２の酸化物半導体層上の、第２の電極と、
前記第１の電極の上面及び側面を覆い、前記第２の電極の上面及び側面を覆い、前記第２の酸化物半導体層の側面を覆い、且つ前記第１の酸化物半導体層の側面を覆う、第３の酸化物半導体層と、
前記第３の酸化物半導体層上の、第１の絶縁層と、
前記第１の電極及び前記第２の電極との間に設けられた前記第１の絶縁層の開口部と重なる、第１の凹部の形状を有する第４の酸化物半導体層と、
前記第１の凹部と重なる、第２の凹部の形状を有するゲート絶縁層と、
前記第２の凹部と重なる、ゲート電極と、
前記第４の酸化物半導体層、前記ゲート絶縁層、及び前記ゲート電極上の、第２の絶縁層と、を有し、
前記ゲート電極上の上面は、前記第４の酸化物半導体層の上面、及び前記ゲート絶縁層の上面と等しい位置を有し、
前記第１の絶縁層の上面側は、前記第１の絶縁層の下面側より酸素が多く存在する領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記第２の酸化物半導体層は前記ゲート電極と重なる領域に、チャネル形成領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第２の酸化物半導体層は、ＩｎまたはＺｎの一方、もしくは両方を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第３の酸化物半導体層は、前記第２の酸化物半導体層に含まれる金属元素のうち、少なくとも一種類の元素を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記第３の酸化物半導体層は、ｃ軸配向領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
第１の酸化物半導体層と、
前記第１の酸化物半導体層上の、第２の酸化物半導体層と、
前記第２の酸化物半導体層上の、第１の電極と、
前記第２の酸化物半導体層上の、第２の電極と、
前記第１の電極の上面及び側面を覆い、前記第２の電極の上面及び側面を覆い、前記第２の酸化物半導体層の側面を覆い、且つ前記第１の酸化物半導体層の側面を覆う、第３の酸化物半導体層と、
前記第３の酸化物半導体層上の、第１の絶縁層と、
前記第１の電極及び前記第２の電極との間に設けられた前記第１の絶縁層の開口部と重なる、第１の凹部の形状を有する第４の酸化物半導体層と、
前記第１の凹部と重なる、第２の凹部の形状を有するゲート絶縁層と、
前記第２の凹部と重なる、ゲート電極と、
前記第４の酸化物半導体層、前記ゲート絶縁層、及び前記ゲート電極上の、第２の絶縁層と、を有し、
前記ゲート電極上の上面は、前記第４の酸化物半導体層の上面、及び前記ゲート絶縁層の上面と等しい位置を有する半導体装置の作製方法であって、
前記第２の絶縁膜形成後の加熱処理により、前記第１の絶縁膜が有する酸素が、前記第１の酸化物半導体層乃至前記第３の酸化物半導体層へ導入されることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月8日(2019.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の論理セルを有する半導体装置であって、
第１素子層と、
第２素子層と、
第１乃至第ｋ配線層と（ｋは２よりも大きい整数である。）と、を有し、
前記第１素子層および前記第２素子層には、それぞれ、複数のトランジスタが設けられ、
前記第１乃至前記第ｋ配線層は、この順序で積層され、
前記第１素子層は、前記第１配線層の下層に設けられ、
前記第２素子層は、前記第１配線層と前記第１配線層との間に設けられ、
前記論理セルのトランジスタは、前記第１素子層に設けられ、
前記論理セルの配線は、前記第１配線層に設けられ、
前記論理セルの入力ポートおよび出力ポートは、それぞれ、前記第２配線層に設けられている半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第２配線層の配線によって、または前記第２配線層の配線および第３配線層の配線によって、前記論理セルの前記入力ポートは、他の前記論理セルの前記出力ポートに電気的に接続されている半導体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第２配線層の配線グリッドの間隔は、前記第１配線層の配線グリッドの間隔の１．５倍、または２倍である半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第２トランジスタと前記論理セルとが電気的に接続されている回路を有する半導体装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
バックアップ回路が設けられており、
前記バックアップ回路は、当該論理セルと電気的に接続され、
前記バックアップ回路はトランジスタおよび容量素子を有し、
前記トランジスタは、前記容量素子の充電及び放電を制御する機能を有し、前記第２素子層に設けられている半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月1日(2019.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の絶縁体を形成し、
前記第１の絶縁体上に第１の酸化物半導体を形成し、
前記第１の酸化物半導体上に第１の導電体を形成し、
前記第１の導電体を加工して第２の導電体を形成し、
前記第１の酸化物半導体を加工して第２の酸化物半導体を形成し、
前記第２の導電体上に第２の絶縁体を形成し、
前記第２の絶縁体上に第３の絶縁体を形成し、
前記第３の絶縁体上に第４の絶縁体を形成し、
前記第４の絶縁体を選択的に加工して、前記第３の絶縁体の一部を露出させ、
前記露出した第３の絶縁体を選択的に加工して、前記第２の絶縁体の一部を露出させ、
前記露出した第２の絶縁体を選択的に加工して、前記第２の導電体の一部を露出させ、
前記露出した第２の導電体を選択的に加工して、前記第２の酸化物半導体の一部を露出させ、
前記第２の酸化物半導体および前記第４の絶縁体上に第５の絶縁体を形成し、
前記第５の絶縁体上に第３の導電体を形成した後、化学的機械研磨処理を行うことで、前記第４の絶縁体の上面を露出させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
第１の絶縁体を形成し、
前記第１の絶縁体上に第１の酸化物半導体を形成し、
前記第１の酸化物半導体を加工して第２の酸化物半導体を形成し、
前記第２の酸化物半導体上に第１の導電体を形成し、
前記第１の導電体を加工して第２の導電体を形成し、
前記第２の導電体上に第２の絶縁体を形成し、
前記第２の絶縁体上に第３の絶縁体を形成し、
前記第３の絶縁体上に第４の絶縁体を形成し、
前記第４の絶縁体を選択的に加工して、前記第３の絶縁体の一部を露出させ、
前記露出した第３の絶縁体を選択的に加工して、前記第２の絶縁体の一部を露出させ、
前記露出した第２の絶縁体を選択的に加工して、前記第２の導電体の一部を露出させ、
前記露出した第２の導電体を選択的に加工して、前記第２の酸化物半導体の一部を露出させ、
前記第２の酸化物半導体および前記第４の絶縁体上に第５の絶縁体を形成し、
前記第５の絶縁体上に第３の導電体を形成した後、化学的機械研磨処理を行うことで、前記第４の絶縁体の上面を露出させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
第１の絶縁体を形成し、
前記第１の絶縁体上に第１の酸化物半導体を形成し、
前記第１の酸化物半導体上に第１の導電体を形成し、
前記第１の導電体を加工して第２の導電体を形成し、
前記第１の酸化物半導体を加工して第２の酸化物半導体を形成し、
前記第２の導電体上に第２の絶縁体を形成し、
前記第２の絶縁体上に第３の絶縁体を形成し、
前記第３の絶縁体を選択的に加工して、前記第２の絶縁体の一部を露出させ、
前記露出した第２の絶縁体を選択的に加工して、前記第２の導電体の一部を露出させ、
前記露出した第２の導電体を選択的に加工して、前記第２の酸化物半導体の一部を露出させ、
前記露出した第２の酸化物半導体および前記第３の絶縁体上に犠牲層を形成した後、化学的機械研磨処理を行うことで、前記第３の絶縁体の上面を露出させ、
前記第３の絶縁体および前記犠牲層上に第４の絶縁体を形成し、
前記第４の絶縁体を選択的に加工して、前記犠牲層の上面を露出させ、
前記犠牲層を加工して、前記第２の酸化物半導体の一部を露出させ、
前記第２の酸化物半導体および前記第４の絶縁体上に第５の絶縁体を形成し、
前記第５の絶縁体上に第３の導電体を形成した後、化学的機械研磨処理を行うことで、前記第４の絶縁体の上面を露出させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記第５の絶縁体を形成後、前記第５の絶縁体上に第３の酸化物半導体を形成し、
前記第３の酸化物半導体上に、前記第３の導電体を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第２の絶縁体は、化学的機械研磨処理によって表面が平坦化された絶縁体であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５いずれか一項において、
前記第３の導電体は、銅を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
基板上の第１の絶縁体と、
前記第１の絶縁体上の第１の半導体と、
前記第１の半導体上の第２の半導体と、
前記第２の半導体上の第１の導電体および第２の導電体と、
前記第１の絶縁体、前記第１の導電体および前記第２の導電体上の第２の絶縁体と、
前記第２の絶縁体上の第３の絶縁体と、
前記第３の絶縁体上の第４の絶縁体と、
前記第２の半導体上の第３の半導体と、
前記第３の半導体上の第５の絶縁体と、
前記第５の絶縁体上の第３の導電体と、を有し、
上面形状において、前記第３の導電体は、底面より上面の面積が大きく、
前記第３の絶縁体は、前記第２の絶縁体より比誘電率が大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項７において、
前記第３の導電体は、銅を有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月14日(2019.3.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気が流れる環境に配置されるセンシング部（１０）の出力値に基づいて空気流量を測定する空気流量測定装置であって、
前記出力値を取得する取得部（２１）と、
前記環境内における前記空気の偏流の状態を示す偏流情報を記憶している記憶部（３０）と、
少なくともひとつの前記偏流情報と前記出力値とを用いて、前記偏流によって生じる前記空気流量の脈動誤差が小さくなるように、前記空気流量を補正する脈動誤差補正部（２２ａ〜２２ｊ）と、
前記空気流量の脈動の状態を示す脈動状態情報を取得する状態取得部（２７、２７ａ）と、を備えており、
前記状態取得部は、前記出力値から所定期間における前記空気流量の平均値である平均流量を算出するとともに、前記空気流量の最大値である脈動最大値を求め、前記脈動最大値と前記平均流量との差を取ることで前記空気流量の脈動振幅を算出し、さらに、前記脈動振幅を前記平均流量で除して前記出力値における前記空気の脈動波形の脈動率を算出することで、前記脈動状態情報としての前記脈動率を取得し、
前記脈動誤差補正部は、前記偏流情報と前記出力値とに加えて前記脈動状態情報としての前記脈動率を用いて、前記偏流によって生じる前記空気流量の脈動誤差が小さくなるように、前記空気流量を補正する空気流量測定装置。
【請求項２】
前記センシング部は、内燃機関の吸気通路に設けられたエアクリーナ内に配置されており、
前記記憶部には、前記偏流情報として、前記エアクリーナの形状を示す形状情報が記憶されている請求項１に記載の空気流量測定装置。
【請求項３】
前記センシング部は、内燃機関の吸気通路に設けられたエアクリーナ内に配置されており、
前記記憶部には、前記偏流情報として、前記空気が流れる所定の管径を有した基準管に、前記センシング部を取り付けた際の基準出力値に対応する基準空気流量を分子とし、前記エアクリーナ内に配置された前記センシング部が前記基準出力値を出力した際の前記基準出力値に対応する個別空気流量を分母とした偏流度が記憶されている請求項１に記載の空気流量測定装置。
【請求項４】
前記脈動誤差補正部が、前記出力値と複数の前記偏流情報とを用いて、前記偏流によって生じる前記空気流量の脈動誤差が小さくなるように、前記空気流量を補正する請求項１乃至３のいずれか一項に記載の空気流量測定装置。
【請求項５】
前記状態取得部が、前記脈動状態情報として、前記出力値における前記空気の脈動波形の振幅である脈動振幅、前記脈動波形の周波数である脈動周波数、所定期間における前記空気流量の平均値である平均流量の少なくともひとつを取得する請求項１乃至４のいずれか一項に記載の空気流量測定装置。
【請求項６】
前記状態取得部が、前記出力値に基づいて前記脈動状態情報を取得する請求項１乃至５のいずれか一項に記載の空気流量測定装置。
【請求項７】
前記脈動誤差補正部で補正された前記空気流量を用いて内燃機関を制御する内燃機関制御装置から前記内燃機関の運転状態を示す信号を取得可能に構成されており、
前記状態取得部が、前記信号を取得し、前記信号に基づいて前記脈動状態情報を取得する請求項１乃至５のいずれか一項に記載の空気流量測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するために本開示は、
空気が流れる環境に配置されるセンシング部（１０）の出力値に基づいて空気流量を測
定する空気流量測定装置であって、
出力値を取得する取得部（２１）と、
環境内における空気の偏流の状態を示す偏流情報を記憶している記憶部（３０）と、
少なくともひとつの偏流情報と出力値とを用いて、偏流によって生じる空気流量の脈動
誤差が小さくなるように、空気流量を補正する脈動誤差補正部（２２ａ〜２２ｊ）と、
空気流量の脈動の状態を示す脈動状態情報を取得する状態取得部（２７、２７ａ）と、を備えており、
状態取得部は、出力値から所定期間における空気流量の平均値である平均流量を算出するとともに、空気流量の最大値である脈動最大値を求め、脈動最大値と平均流量との差を取ることで空気流量の脈動振幅を算出し、さらに、脈動振幅を平均流量で除して出力値における空気の脈動波形の脈動率を算出することで、脈動状態情報としての脈動率を取得し、
脈動誤差補正部は、偏流情報と出力値とに加えて脈動状態情報としての脈動率を用いて、偏流によって生じる空気流量の脈動誤差が小さくなるように、空気流量を補正することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月23日(2019.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気が流れる環境に配置されるセンシング部（１０）の出力値に基づいて空気流量を測定する空気流量測定装置であって、
前記出力値における前記空気の脈動波形の少なくとも１サイクル分のサンプリングデータから標準偏差を算出する標準偏差演算部（３６）と、
前記標準偏差に相関した、前記空気流量の脈動誤差を予測する脈動誤差予測部（３８ｄ、３８ｆ）と、
前記脈動誤差予測部にて予測した前記脈動誤差を用いて、前記脈動誤差が小さくなるように前記空気流量を補正する脈動誤差補正部（３９）と、
前記出力値から前記脈動波形の尖度を算出する尖度演算部（４２）と、を備えており、
前記脈動誤差予測部は、さらに、前記尖度にも相関した前記脈動誤差を予測する空気流量測定装置。
【請求項２】
空気が流れる環境に配置されるセンシング部（１０）の出力値に基づいて空気流量を測定する空気流量測定装置であって、
前記出力値における前記空気の脈動波形の少なくとも１サイクル分のサンプリングデータから標準偏差を算出する標準偏差演算部（３６）と、
前記標準偏差に相関した、前記空気流量の脈動誤差を予測する脈動誤差予測部（３８ｅ、３８ｆ）と、
前記脈動誤差予測部にて予測した前記脈動誤差を用いて、前記脈動誤差が小さくなるように前記空気流量を補正する脈動誤差補正部（３９）と、
前記出力値から前記脈動波形の歪度を算出する歪度演算部（４３）と、を備えており、
前記脈動誤差予測部は、さらに、前記歪度にも相関した前記脈動誤差を予測する空気流量測定装置。
【請求項３】
前記脈動波形の周波数である脈動周波数を取得する周波数取得部（４１、４１ａ）を備えており、
前記脈動誤差予測部が、さらに、前記脈動周波数にも相関した前記脈動誤差を予測する請求項１又は２に記載の空気流量測定装置。
【請求項４】
空気が流れる環境に配置されるセンシング部（１０）の出力値に基づいて空気流量を測定する空気流量測定装置であって、
前記出力値における前記空気の脈動波形の少なくとも１サイクル分のサンプリングデータから標準偏差を算出する標準偏差演算部（３６）と、
前記標準偏差に相関した、前記空気流量の脈動誤差を予測する脈動誤差予測部（３８ａ、３８ｃ、３８ｆ）と、
前記脈動誤差予測部にて予測した前記脈動誤差を用いて、前記脈動誤差が小さくなるように前記空気流量を補正する脈動誤差補正部（３９）と、
前記脈動波形の周波数である脈動周波数を前記サンプリングデータから取得する周波数取得部（４１、４１ａ）と、を備えており、
前記脈動誤差予測部は、さらに、前記脈動周波数にも相関した前記脈動誤差を予測する空気流量測定装置。
【請求項５】
前記出力値から前記脈動波形の尖度を算出する尖度演算部（４２）を備えており、
前記脈動誤差予測部が、さらに、前記尖度にも相関した前記脈動誤差を予測する請求項４に記載の空気流量測定装置。
【請求項６】
前記出力値から前記脈動波形の歪度を算出する歪度演算部（４３）を備えており、
前記脈動誤差予測部が、さらに、前記歪度にも相関した前記脈動誤差を予測する請求項４に記載の空気流量測定装置。
【請求項７】
前記出力値から前記空気流量の平均値である平均空気量を算出する平均空気量演算部（３７）を備えており、
前記脈動誤差予測部が、さらに、前記平均空気量にも相関した前記脈動誤差を予測する請求項１乃至６のいずれか一項に記載の空気流量測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するために本開示は、
空気が流れる環境に配置されるセンシング部（１０）の出力値に基づいて空気流量を測定する空気流量測定装置であって、
出力値における空気の脈動波形の少なくとも１サイクル分のサンプリングデータから標準偏差を算出する標準偏差演算部（３６）と、
標準偏差に相関した、空気流量の脈動誤差を予測する脈動誤差予測部（３８ｄ、３８ｆ）と、
脈動誤差予測部にて予測した脈動誤差を用いて、脈動誤差が小さくなるように空気流量を補正する脈動誤差補正部（３９）と、
出力値から脈動波形の尖度を算出する尖度演算部（４２）と、を備えており、
脈動誤差予測部は、さらに、尖度にも相関した脈動誤差を予測する空気流量測定装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
脈動誤差予測部３８ｄは、標準偏差σと尖度Ｋｕとを用いて脈動誤差Ｅｒｒを予測する。つまり、脈動誤差予測部３８ｄは、標準偏差σに加えて、さらに尖度Ｋｕにも相関した脈動誤差Ｅｒｒを予測する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
脈動誤差予測部３８ｅは、例えば、歪度Ｓｋと標準偏差σとに脈動誤差Ｅｒｒが関連付けられたマップなどを用いて、歪度Ｓｋと標準偏差σとに相関した脈動誤差Ｅｒｒを予測する。つまり、脈動誤差予測部３８ｅは、歪度演算部４３によって歪度Ｓｋが得られ、標準偏差演算部３６によって標準偏差σが得られると、得られた歪度Ｓｋと標準偏差σとに相関する脈動誤差Ｅｒｒをマップから抽出する。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月5日(2019.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒状の筒部（３１）の先端部が曲面状の底部（３２）によって閉塞されたイオン伝導性を有する固体電解質体（３）、前記固体電解質体の外側面（３０１）に設けられて検出ガス（Ｇ）に晒される検出電極（４Ｂ）、及び前記固体電解質体の内側面（３０２）に設けられて基準ガス（Ａ）に晒される基準電極（４Ａ）を有するセンサ素子（２）と、
前記固体電解質体を加熱するための発熱部（５２１）を先端部に有し、前記先端部の先端（５０１）が前記底部の内側面に接触する状態で、前記固体電解質体の内側に配置されたヒータ（５）と、を備えるガスセンサにおいて、
前記基準電極は、
前記基準電極の最も先端側（Ｌ１）の位置であって前記発熱部と対向する位置において、前記筒部の中心軸線（Ｏ）を中心とする周方向（Ｃ）の全周に設けられた内側検知部（４１）と、
前記基準電極の最も基端側（Ｌ２）の位置において、前記周方向の全周又は一部に設けられ、内側端子金具（７１）に接続される内側接続部（４３）と、
前記内側検知部と前記内側接続部とを繋ぐ位置において、前記周方向の一部に設けられ、前記内側接続部に比べて前記周方向における形成範囲が狭い内側リード部（４２）と、を有し、
前記内側リード部の前記周方向における形成範囲は、前記内側検知部から前記内側接続部に向かうに連れて段階的又はテーパ状に縮小しており、
前記固体電解質体の内側面全体の表面積をＳ１とし、前記固体電解質体の内側面全体において、前記基準電極が形成された表面積をＳ２としたとき、
前記固体電解質体の内側面全体において、前記基準電極が削減された表面積の割合（Ｓ１−Ｓ２）／Ｓ１は、０．３≦（Ｓ１−Ｓ２）／Ｓ１≦０．７の関係を有する、ガスセンサ。
【請求項２】
前記内側検知部は、前記筒部の内側面における先端側の位置の全周と、前記底部の内側面の全体とに連続して設けられており、
前記ヒータの前記先端部の先端は、前記底部の内側面における前記内側検知部に接触している、請求項１に記載のガスセンサ。
【請求項３】
前記内側リード部は、前記中心軸線に平行に形成されている、請求項１又は２に記載のガスセンサ。
【請求項４】
前記基準電極の平均膜厚は、０．４〜１．６μｍの範囲内にある、請求項１〜３のいずれか１項に記載のガスセンサ。
【請求項５】
前記ガスセンサは、内燃機関から排気される排ガスが流れる排気管に配置され、前記排ガスを前記検出ガスとして、前記固体電解質体を介して前記検出電極と前記基準電極との間に生じる起電力を検出して、前記内燃機関の空燃比が、理論空燃比と比べて空気に対する燃料の割合が多いリッチ側にあるか、理論空燃比と比べて空気に対する燃料の割合が多い少ないリーン側にあるかを判定するために用いられ、
前記理論空燃比が１４．５であるときの、前記内燃機関に供給された空気質量を燃料の完全燃焼に理論上必要な最少空気質量で除した値である空気過剰率λを１．００とした場合、前記起電力に基づいて、空気過剰率λが０．９７〜１．００である範囲内の空燃比を検出するために用いられる、請求項１〜４のいずれか１項に記載のガスセンサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の一態様は、筒状の筒部（３１）の先端部が曲面状の底部（３２）によって閉塞されたイオン伝導性を有する固体電解質体（３）、前記固体電解質体の外側面（３０１）に設けられて検出ガス（Ｇ）に晒される検出電極（４Ｂ）、及び前記固体電解質体の内側面（３０２）に設けられて基準ガス（Ａ）に晒される基準電極（４Ａ）を有するセンサ素子（２）と、
前記固体電解質体を加熱するための発熱部（５２１）を先端部に有し、前記先端部の先端（５０１）が前記底部の内側面に接触する状態で、前記固体電解質体の内側に配置されたヒータ（５）と、を備えるガスセンサにおいて、
前記基準電極は、
前記基準電極の最も先端側（Ｌ１）の位置であって前記発熱部と対向する位置において、前記筒部の中心軸線（Ｏ）を中心とする周方向（Ｃ）の全周に設けられた内側検知部（４１）と、
前記基準電極の最も基端側（Ｌ２）の位置において、前記周方向の全周又は一部に設けられ、内側端子金具（７１）に接続される内側接続部（４３）と、
前記内側検知部と前記内側接続部とを繋ぐ位置において、前記周方向の一部に設けられ、前記内側接続部に比べて前記周方向における形成範囲が狭い内側リード部（４２）と、を有し、
前記内側リード部の前記周方向における形成範囲は、前記内側検知部から前記内側接続部に向かうに連れて段階的又はテーパ状に縮小しており、
前記固体電解質体の内側面全体の表面積をＳ１とし、前記固体電解質体の内側面全体において、前記基準電極が形成された表面積をＳ２としたとき、
前記固体電解質体の内側面全体において、前記基準電極が削減された表面積の割合（Ｓ１−Ｓ２）／Ｓ１は、０．３≦（Ｓ１−Ｓ２）／Ｓ１≦０．７の関係を有する、ガスセンサにある。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月22日(2019.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流通路（５ａ、２４ａ）を流通する気体の湿度を検出する湿度計測装置において、
湿度に応じた検出信号を出力する湿度センサ（１２）と、
前記流通路に配置されて内部に前記湿度センサを収容するケースであって、前記湿度センサが配置される計測室（３１、５１）、および前記流通路を流通する気体の一部を前記計測室へ流入させる流入口（３３、５３）が形成されたケース（３０、５０）と、
前記流通路に面した通路壁面（３２、５２、３２Ａ）から突出する形状であり、前記通路壁面に沿って流れる気体を前記流入口へ案内する突起（４０）と、
を備える湿度計測装置。
【請求項２】
前記流通路は、内燃機関の燃焼室へ空気を導く吸気通路であり、
前記ケースが前記吸気通路に配置されることで、前記ケースの外面が前記通路壁面となる請求項１に記載の湿度計測装置。
【請求項３】
前記突起は、前記流通路の気体流れ方向の上流側から下流側へ前記流入口を投影させた投影範囲に位置する請求項２に記載の湿度計測装置。
【請求項４】
前記流入口の下流端から前記突起までの離間距離（Ｌ１）は、前記突起の高さ（Ｌ２）より短い請求項３に記載の湿度計測装置。
【請求項５】
前記突起は、前記流入口を跨ぐように配置されている請求項２に記載の湿度計測装置。
【請求項６】
内燃機関の燃焼室へ空気を導く吸気通路に配置され、前記吸気通路と連通する連通路（２４ａ）および前記ケースを有する構造体（２０Ａ）を備え、
前記連通路が前記流通路であり、
前記構造体のうち前記連通路に面した壁面（５２）が前記通路壁面となる請求項１に記載の湿度計測装置。
【請求項７】
前記突起は、前記壁面のうち前記流入口に対向する部分に位置する請求項６に記載の湿度計測装置。
【請求項８】
前記突起は、前記壁面のうち前記湿度センサに対向する部分に位置する請求項７に記載
の湿度計測装置。
【請求項９】
前記突起は、前記流通路の気体流れ方向に対して傾斜する向きに延びる形状である請求項１〜８のいずれか１つに記載の湿度計測装置。
【請求項１０】
前記突起は、前記流入口を挟んで互いに対向する位置に２つ配置され、かつ、前記流通路の気体流れ方向の上流側から下流側に向けて互いの離間距離が徐々に狭くなる向きに配置されている請求項９に記載の湿度計測装置。
【請求項１１】
前記流通路の気体流れ方向において、前記突起の全体が前記流入口の上流端よりも上流側に位置する請求項１０に記載の湿度計測装置。
【請求項１２】
前記計測室は直方体形状であり、
前記計測室には、前記流入口から流入した気体が直方体形状の角部（５１ａ）に流れることを遮る遮蔽板（４１）が設けられている請求項１〜１１のいずれか１つに記載の湿度計測装置。
【請求項１３】
前記流入口には、気体に含まれる異物を捕捉する流入口フィルタ（３４）が設けられている請求項１〜１２のいずれか１つに記載の湿度計測装置。
【請求項１４】
前記湿度センサには、前記計測室の気体に含まれる異物を捕捉する計測室内フィルタ（
３５）が設けられている請求項１〜１３のいずれか１つに記載の湿度計測装置。
【請求項１５】
前記突起は、前記流通路における気体の流通方向のうち前記流入口に対向する部分に位置し、かつ、前記流通方向のうち前記湿度センサに対向する部分よりも上流側または下流側に位置する請求項１〜１４のいずれか１つに記載の湿度計測装置。
【請求項１６】
前記計測室は直方体形状である請求項１〜１５のいずれか１つに記載の湿度計測装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】湿度計測装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、気体の湿度を検出する湿度計測装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の目的は、ダスト付着による検出精度悪化の抑制と検出応答性との両立を図った湿度計測装置を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
開示される発明の１つは、流通路（５ａ、２４ａ）を流通する気体の湿度を検出する湿度計測装置において、湿度に応じた検出信号を出力する湿度センサ（１２）と、流通路に配置されて内部に湿度センサを収容するケースであって、湿度センサが配置される計測室（３１、５１）、および流通路を流通する気体の一部を計測室へ流入させる流入口（３３、５３）が形成されたケース（３０、５０）と、流通路に面した通路壁面（３２、５２、３２Ａ）から突出する形状であり、通路壁面に沿って流れる気体を流入口へ案内する突起（４０）と、を備える湿度計測装置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記態様によれば、ケース内に湿度センサを収容しているので、流通路を流通する気体に含まれるダストが湿度センサへ付着することを抑制できる。それでいて、流通路に面した通路壁面に沿って流れる気体は、突起により流入口へ案内されるので、計測室内の気体（計測気体）と計測室外の気体との入れ替わりが促進される。よって、湿度変化時の検出応答性を向上できる。つまり、ダスト付着による検出精度悪化の抑制と検出応答性との両立を図ることができる。