Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月1日(2019.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インフルエンザウイルスのヘマグルチニン(ＨＡ)タンパク質のステム領域のエピトープに結合し、インフルエンザＡウイルス株Ｈ５Ｎ１を中和する、単離されたモノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片であって、該エピトープが、インフルエンザＡウイルスＨＡ１ポリペプチドの位置１８、３８、４０及び２９１のアミノ酸を含み、前記モノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片が、１〜２００ｐＭのＫｄ値でＨＡに結合する、モノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片。
【請求項２】
前記エピトープが非線形である、請求項１に記載のモノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片。
【請求項３】
前記エピトープがＨＡ１とＨＡ２のポリペプチドを含む、請求項１に記載のモノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片。
【請求項４】
エピトープが、インフルエンザＡウイルスＨＡ２ポリペプチドの位置１８、１９、２０、２１、３８、４１、４２、４５、４９、５２、５３および５６のアミノ酸を更に含む、請求項１に記載のモノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片。
【請求項５】
前記モノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片がウイルスと細胞の膜融合を阻害する、請求項１から４の何れか一項に記載のモノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片。 
【請求項６】
前記モノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片が、モノクローナル抗体Ｄ８、Ｆ１０、又はＡ６６のＨＡタンパク質への結合と競合する、請求項１から５の何れか一項に記載のモノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片。
【請求項７】
前記モノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片が、約１００〜２００ｐＭのＫｄ値でＨＡに結合する、請求項１から６の何れか一項に記載のモノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片。
【請求項８】
インフルエンザＡウイルス株Ｈ５Ｎ１によって引き起こされる疾患又は疾病を患うリスクにあるヒトにおいて、上記疾患又は疾病を予防するための医薬であって、請求項１から７の何れか一項に記載のモノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ抗体の治療的有効量を含む、医薬。
【請求項９】
抗ウイルス薬、ウイルス侵入阻害薬又はウイルス接着阻害薬を更に含む、請求項８に記載の医薬。
【請求項１０】
前記抗ウイルス薬が、ノイラミニダーゼ阻害薬、 ＨＡ阻害薬、シアル酸阻害薬又はＭ２イオンチャネル阻害薬である、請求項９に記載の医薬。
【請求項１１】
前記Ｍ２イオンチャネル阻害薬がアマンタジン又は リマンタジンである、請求項１０に記載の医薬。
【請求項１２】
前記ノイラミニダーゼ阻害薬がザナミビル又は リン酸オセルタミビルである、請求項１０に記載の医薬。
【請求項１３】
前記医薬がインフルエンザウイルスへの曝露の前又はその後に投与される、請求項８に記載の医薬。
【請求項１４】
前記医薬が、 前記インフルエンザＡウイルスを中和するために十分な用量で投与される、請求項８に記載の医薬。
【請求項１５】
インフルエンザＡウイルス株Ｈ５Ｎ１によって引き起こされる疾患又は疾病を患うヒトにおいて、上記疾患又は疾病を治療するための組成物であって、請求項１から７の何れか一項に記載のモノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ断片、及び担体を含む、組成物。
【請求項１６】
抗ウイルス薬、ウイルス侵入阻害薬又はウイルス接着阻害薬を更に含む、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
前記抗ウイルス薬が、ノイラミニダーゼ阻害薬、ＨＡ阻害薬、シアル酸阻害薬又はＭ２イオンチャネル阻害薬である、 請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
前記Ｍ２イオンチャネル阻害薬がアマンタジン又は リマンタジンである、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記ノイラミニダーゼ阻害薬がザナミビル又はリン酸オセルタミビルである、請求項１７に記載の組成物。
【請求項２０】
グループＩインフルエンザウイルスに特異的な１以上の抗体を更に含む、及び／又はグループＩＩインフルエンザウイルスに特異的な抗体を更に含む、請求項１５から１７の何れか一項に記載の組成物。
【請求項２１】
インフルエンザＡウイルス株Ｈ５Ｎ１によって引き起こされる疾患又は疾病の治療又は予防のための医薬の製造における、請求項１から７の何れか一項に記載のモノクローナル抗体又はそのｓｃＦｖ抗体の使用。
【請求項２２】
三量体ヘマグルチニン(ＨＡ)タンパク質を特異的に結合する単離された抗体の製造方法であって、(ａ)固形表面に固定されているＨＡタンパク質に単鎖又はＦａｂ発現ライブラリをさらし、(ｂ)該タンパク質を特異的に結合する該ライブラリ中の抗体を同定し、そして、(ｃ)抗体をライブラリから単離することを含み、前記単離された抗体が、インフルエンザウイルスのＨＡタンパク質のステム領域のエピトープに結合し、且つインフルエンザＡウイルス株Ｈ５Ｎ１を中和し、前記エピトープが、インフルエンザＡウイルスＨＡ１ポリペプチドの位置１８、３８、４０及び２９１のアミノ酸を含み、前記単離された抗体が、１〜２００ｐＭのＫｄ値でＨＡに結合する、方法。
【請求項２３】
前記固形表面が可塑性である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記ＨＡタンパク質が非哺乳動物細胞において生産される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記ＨＡタンパク質が、野生型ＨＡタンパク質に比べて変更されたグリコシル化を含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２６】
前記ＨＡタンパク質が、前記ＨＡタンパク質の球状上部をマスキングするように前記固形表面上で固定されている、請求項２２に記載の方法。
【請求項２７】
前記発現ライブラリが非免疫性ライブラリである、請求項２２に記載の方法。
【請求項２８】
前記発現ライブラリがＨ５ナイーブライブラリである、請求項２２に記載の方法。
【請求項２９】
試料中のインフルエンザＡウイルス株Ｈ５Ｎ１の存在の検出方法であって、
ａ) 試料を請求項１から７の何れか一項に記載のモノクローナル抗体と接触させ、そして、ｂ) 抗体−抗原複合体の有無を検出し、
このことにより該試料中のインフルエンザＡウイルス株Ｈ５Ｎ１の存在を検出することを含む、方法。
【請求項３０】
検出がインビボで起こる、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
試料が血液、体毛、頬擦過物、唾液、生検又は精液から得られる、請求項２９又は３０に記載の方法。  
【請求項３２】
ＶＨ生殖系遺伝子ＩＧＨＶ１-６９*０１によってコードされるＶＨアミノ酸配列を含み、ａ) 位置２７のアミノ酸がバリンであり、ｂ) 位置２８のアミノ酸がスレオニンであり、ｃ) 位置３０のアミノ酸がセリンであり、ｄ) 位置３１のアミノ酸がセリンであり、ｅ) 位置５４のアミノ酸がメチオニンであり、ｆ) 位置５５のアミノ酸がフェニルアラニンであり、ｇ) 位置５８のアミノ酸がスレオニンであり、ｈ) 位置１００のアミノ酸がプロリンであり、ｉ) 位置１０１のアミノ酸がセリンであり、ｊ) 位置１０２のアミノ酸がチロシンであり、ｋ) 位置１０３のアミノ酸がイソロイシンであり、位置１０５のアミノ酸がセリンであり、インフルエンザウイルスのヘマグルチニン(ＨＡ)タンパク質のステム領域のエピトープに結合して、インフルエンザＡウイルスを中和する、単離されたモノクローナル抗体。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月22日(2019.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブリモニジン及び／又はその塩、水溶性高分子、及びクロルヘキシジングルコン酸塩を含有する水性液剤であって、
水溶性高分子が、カルボキシメチルセルロース及び／又はその塩、ポリビニルアルコール、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、及びヒアルロン酸及び／又はその塩よりなる群から選択される少なくとも１種である、水性液剤。
【請求項２】
ブリモニジン及び／又はその塩の含有量が０．０５ｗ／ｖ％〜０．２ｗ／ｖ％であり、水溶性高分子の含有量が０．０５ｗ／ｖ％〜３ｗ／ｖ％であり、クロルヘキシジングルコン酸塩の含有量が０．００１ｗ／ｖ％〜０．０１ｗ／ｖ％である、請求項１に記載の水性液剤。
【請求項３】
ブリモニジン及び／又はその塩と、水溶性高分子と、クロルヘキシジングルコン酸塩との重量比が１：１〜１５：０．０１〜０．１である、請求項１又は２に記載の水性液剤。
【請求項４】
ブリモニジン及び／又はその塩の含有量が０．１ｗ／ｖ％であり、カルボキシメチルセルロース及び／又はその塩の含有量が０．５ｗ／ｖ％であり、クロルヘキシジングルコン酸塩の含有量が０．００２５ｗ／ｖ％〜０．００５ｗ／ｖ％である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の水性液剤。
【請求項５】
水性液剤を６０℃で４週間保管した後の該水性液剤の粘度を当該４週間保管する前の該水性液剤の粘度で除して算出した粘度安定性が、９０％以上である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の水性液剤。
【請求項６】
該水性液剤が眼科用である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の水性液剤。
【請求項７】
該眼科用の水性液剤が点眼剤である、請求項６に記載の水性液剤。
【請求項８】
緑内障を治療するための、請求項１〜７のいずれか一項に記載の水性液剤。
【請求項９】
水性液剤の粘度低下を抑制する方法であって、水溶性高分子を含有する水性液剤中にブリモニジン及び／又はその塩と、クロルヘキシジングルコン酸塩とを共存させる工程を含み、
水溶性高分子が、カルボキシメチルセルロース及び／又はその塩、ポリビニルアルコール、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、及びヒアルロン酸及び／又はその塩よりなる群から選択される少なくとも１種である、粘度低下を抑制する方法。
【請求項１０】
ブリモニジン及び／又はその塩の含有量が０．０５ｗ／ｖ％〜０．２ｗ／ｖ％であり、水溶性高分子の含有量が０．０５ｗ／ｖ％〜３ｗ／ｖ％であり、クロルヘキシジングルコン酸塩の含有量が０．００１ｗ／ｖ％〜０．０１ｗ／ｖ％である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
ブリモニジン及び／又はその塩と、水溶性高分子と、クロルヘキシジングルコン酸塩との重量比が１：１〜１５：０．０１〜０．１である、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
水溶性高分子を含有する水性液剤の粘度低下を抑制するための、ブリモニジン及び／又はその塩と、クロルヘキシジングルコン酸塩との両方を含有する粘度低下抑制剤であって、
水溶性高分子が、カルボキシメチルセルロース及び／又はその塩、ポリビニルアルコール、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、及びヒアルロン酸及び／又はその塩よりなる群から選択される少なくとも１種である、粘度低下抑制剤。
【請求項１３】
ブリモニジン及び／又はその塩の含有量が０．０５ｗ／ｖ％〜０．２ｗ／ｖ％であり、クロルヘキシジングルコン酸塩の含有量が０．００１ｗ／ｖ％〜０．０１ｗ／ｖ％となるように配合される、請求項１２に記載の粘度低下抑制剤。
【請求項１４】
ブリモニジン及び／又はその塩と、水溶性高分子と、クロルヘキシジングルコン酸塩との重量比が１：１〜１５：０．０１〜０．１となるように配合される、請求項１２又は１３に記載の粘度低下抑制剤。
【請求項１５】
水溶性高分子がカルボキシメチルセルロース及び／又はその塩を含む、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の粘度低下抑制剤。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月5日(2019.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも分枝オレフィン及び直鎖オレフィンを含む原料から、前記分枝オレフィンを除去し、内部オレフィンを得る工程１と、
第１の触媒及び前記第１の触媒と異なる第２の触媒を用いた酸化的脱水素により、前記内部オレフィンからジエンを生成する工程２と、を備え、
前記第１の触媒が、ビスマス、モリブテン及び酸素を含む複合酸化物を有する脱水素触媒であり、
前記第２の触媒が、シリカ及びアルミナからなる群より選択される少なくとも一種を含む異性化触媒である、
ジエンの製造方法。
【請求項２】
前記直鎖オレフィンの少なくとも一部が末端オレフィンであり、
前記工程１では、反応蒸留により、前記原料から前記分枝オレフィンを除去し、且つ、前記末端オレフィンを前記内部オレフィンに異性化する、
請求項１に記載のジエンの製造方法。
【請求項３】
前記原料中の前記分枝オレフィンの質量含有率がＣ１であり、前記原料中の前記直鎖オレフィンの質量含有率がＣ２であるとき、Ｃ２／Ｃ１が０．１〜５．０である、
請求項１又は２に記載のジエンの製造方法。
【請求項４】
前記Ｃ２／Ｃ１が０．５〜３．０である、請求項３に記載のジエンの製造方法。
【請求項５】
前記第２の触媒が、シリカ及びアルミナを含み、
前記第２の触媒におけるＡｌに対するＳｉのモル比（Ｓｉ／Ａｌ）が５．０以上２０００以下である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のジエンの製造方法。
【請求項６】
前記工程２が、前記第１の触媒及び前記第２の触媒を充填した反応器を用いて、前記内部オレフィンからジエンを生成する工程である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のジエンの製造方法。
【請求項７】
前記酸化的脱水素における反応温度が、２８０〜４００℃である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のジエンの製造方法。
【請求項８】
前記酸化的脱水素における重量空間速度が、０．０５〜１０ｈ−１である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のジエンの製造方法。
【請求項９】
前記直鎖オレフィンがブテンを含む、
請求項１〜８のいずれか一項に記載のジエンの製造方法。
【請求項１０】
前記原料が、重油留分の流動接触分解により得られ、
前記分枝オレフィン又は前記直鎖オレフィンの炭素数が４である、
請求項１〜９のいずれか一項に記載のジエンの製造方法。
【請求項１１】
前記原料が、ナフサの熱分解により得られ、
前記分枝オレフィン又は前記直鎖オレフィンの炭素数が４である、
請求項１〜９のいずれか一項に記載のジエンの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月14日(2019.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）：
（Ａ）平均粒径０．２５〜１０μｍの酸化ケイ素    ０．５〜１０質量％、
（Ｂ１）ＨＬＢ１２〜１８の非イオン界面活性剤    ０．１〜１５質量％、
（Ｃ）水溶性増粘剤  ０．１〜１質量％
（Ｄ）水
を含み、２５℃における粘度が１５００〜１００００ｍＰａ・ｓである原液、並びに
（Ｅ）炭酸ガス
を含有し、成分（Ａ）〜（Ｄ）を含む原液と、（Ｅ）炭酸ガスの質量割合が、１００：０．０１〜１００：５であるエアゾール化粧料。
【請求項２】
成分（Ｃ）が、アクリル酸／アクリル酸アルキルコポリマー又はカルボキシビニルポリマーである請求項１に記載のエアゾール化粧料。
【請求項３】
成分（Ｃ）の含有量が、０．２５〜０．６質量％である請求項１又は２記載のエアゾール化粧料。
【請求項４】
さらに、（Ｆ）油剤を原液中に０．１〜５０質量％含有する請求項１〜３のいずれか１項記載のエアゾール化粧料。
【請求項５】
さらに、（Ｂ２）アニオン界面活性剤を原液中に含有し、且つ、成分（Ｂ１）及び（Ｂ２）の質量割合（Ｂ１）／（Ｂ２）＝１〜１００である請求項１〜４のいずれか１項記載のエアゾール化粧料。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項記載のエアゾール化粧料を皮膚に塗布し、一定時間放置、肌になじませる、拭き取る、又は洗い流す使用方法。
【請求項７】
以下の方法により製造される請求項１〜５のいずれか１項記載のエアゾール化粧料の製造方法。
工程１：工程１：成分（Ｃ）、（Ｄ）及び塩基成分を混合し、均一にする。
工程２：工程１で得られた液に、成分（Ａ）及び（Ｂ）を加え、均一にする。
工程３：工程２で得られた液を１５〜３０℃に冷却する。
工程４：工程３で得られた原液を耐圧容器に充填し、密封した後、成分（Ｅ）を充填する。
【請求項８】
工程２において、更に、（Ｆ）油剤、その他成分を加え、均一にする請求項７記載のエアゾール化粧料の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月19日(2019.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被覆対象となる金属材の表面にコーティング材を被覆する方法であって、
水分が付着した前記金属材の表面に前記コーティング材の原材料を被覆し、該原材料に含まれる成分と空気中の水分とを化学反応させるとともに、前記原材料に含まれる成分と前記金属材の表面に付着している水分とを化学反応させることで、前記金属材の表面にＳｉＯ２を主成分とした薄膜のコーティング材を生成することを特徴とするコーティング材の被覆方法。
【請求項２】
前記コーティング材の表層面は、ナノレベルの微細な凹凸からなるディンプルが形成された平滑面であることを特徴とする請求項１に記載のコーティング材の被覆方法。
【請求項３】
前記ディンプルは、前記原材料に含まれる成分と水分との化学反応で生成した気体を揮発させることで形成されることを特徴とする請求項２に記載のコーティング材の被覆方法。
【請求項４】
前記コーティング材は、１０ｎｍ〜１μｍの膜厚を有していることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のコーティング材の被覆方法。
【請求項５】
前記金属材の表面に目粗し処理を施した後、該金属材の表面に前記コーティング材の原材料を被覆することを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のコーティング材の被覆方法。
【請求項６】
前記金属材の表面に水分を付着させた後、該金属材の表面に前記コーティング材の原材料を被覆することを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のコーティング材の被覆方法。
【請求項７】
表面にコーティング材が被覆された金属材であって、
水分が付着した前記金属材の表面に前記コーティング材の原材料を被覆し、該原材料に含まれる成分と空気中の水分とを化学反応させるとともに、前記原材料に含まれる成分と前記金属材の表面に付着している水分とを化学反応させることで、前記金属材の表面にＳｉＯ２を主成分とした薄膜のコーティング材が生成されていることを特徴とするコーティング材が被覆された金属材。
【請求項８】
前記金属材は、鉄よりもモース硬度の低い金属からなることを特徴とする請求項７に記載のコーティング材が被覆された金属材。
【請求項９】
前記金属材は、銀若しくは銅からなることを特徴とする請求項７または８に記載のコーティング材が被覆された金属材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月7日(2019.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒化物セラミックス基板の一方もしくは両方の主面に銅板が接合されてなる接合基板を製造する方法であって、
前記窒化物セラミックス基板の一方もしくは両方の主面に、ＡｇとＴｉとを含むろう材を接合後に得られる接合層厚みが０．１μｍ〜５μｍとなるように塗布する塗布工程と、
前記窒化物セラミックス基板の前記ろう材の被塗布面に対して前記銅板を重ね合わせた状態で、前記窒化物セラミックス基板と前記銅板とを真空もしくはＡｒ雰囲気下で８５０℃〜１０００℃の接合温度かつ５ＭＰａ〜２５ＭＰａの接合圧力で加熱加圧する接合工程と、
を備えることを特徴とする、接合基板の製造方法。
【請求項２】
窒化物セラミックス基板の一方もしくは両方の主面に銅板が接合されてなる接合基板であって、
ＴｉＮを含みかつＡｇ−Ｃｕ層を含まない接合層が前記窒化物セラミックス基板と前記銅板との間に介在するとともに少なくとも前記銅板と直接に接しており、
前記銅板内に、Ａｇ原子が拡散してなり、前記Ａｇ原子の存在比率が１５ａｔ％以下であるＡｇ拡散領域が存在する、
ことを特徴とする接合基板。
【請求項３】
請求項２に記載の接合基板であって、
前記接合層と前記銅板との界面に、Ａｇの存在比率が６０ａｔ％を超え１００ａｔ％以下である、ＡｇリッチなＡｇ−Ｃｕ合金相またはＡｇ金属相であるＡｇリッチ相が、離散的に存在する、
ことを特徴とする接合基板。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の接合基板であって、
前記Ａｇ拡散領域が、前記銅板内において少なくとも前記接合層との界面近傍に存在する、
ことを特徴とする接合基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記課題を解決するため、本発明の第１の態様では、窒化物セラミックス基板の一方もしくは両方の主面に銅板が接合されてなる接合基板を製造する方法が、前記窒化物セラミックス基板の一方もしくは両方の主面に、ＡｇとＴｉとを含むろう材を接合後に得られる接合層厚みが０．１μｍ〜５μｍとなるように塗布する塗布工程と、前記窒化物セラミックス基板の前記ろう材の被塗布面に対して前記銅板を重ね合わせた状態で、前記窒化物セラミックス基板と前記銅板とを真空もしくはＡｒ雰囲気下で８５０℃〜１０００℃の接合温度かつ５ＭＰａ〜２５ＭＰａの接合圧力で加熱加圧する接合工程とを備える、ようにした。
また、本発明の第２の態様では、窒化物セラミックス基板の一方もしくは両方の主面に銅板が接合されてなる接合基板において、ＴｉＮを含みかつＡｇ−Ｃｕ層を含まない接合層が前記窒化物セラミックス基板と前記銅板との間に介在するとともに少なくとも前記銅板と直接に接しており、前記銅板内に、Ａｇ原子が拡散してなり、前記Ａｇ原子の存在比率が１５ａｔ％以下であるＡｇ拡散領域が存在する、ようにした。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明の第３の態様では、第２の態様に係る接合基板において、前記接合層と前記銅板との界面に、Ａｇの存在比率が６０ａｔ％を超え１００ａｔ％以下である、ＡｇリッチなＡｇ−Ｃｕ合金相またはＡｇ金属相であるＡｇリッチ相が、離散的に存在するようにした。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明の第４の態様では、第２または第３の態様に係る接合基板において、前記Ａｇ拡散領域が、前記銅板内において少なくとも前記接合層との界面近傍に存在するようにした。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明の第１ないし第４の態様によれば、冷熱サイクルに対する信頼性が高く、かつ、放熱性の優れた接合基板を得ることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
特に、第３の態様によれば、冷熱サイクルのみならず電気的な絶縁破壊に対しても信頼性が高い接合基板を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月2日(2019.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】照明装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、照明装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、このような課題を考慮してなされたものであり、安定に支持することが可能となる照明装置を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、照明光を出力する光源を備えた光源部と、該光源部に連なるコネクタ部とから構成される照明装置において、前記光源部と前記コネクタ部との結合部分には、前記照明装置の側面から延出する突起部が設けられていることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明によれば、突起部が照明装置の変位を規制するための位置規制部として機能するので、安定的に照明装置を支持することができる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
以下、本発明に係る照明装置について、好適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照しながら詳細に説明する。
【手続補正２５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光を出力する光源を備えた光源部と、該光源部に連なるコネクタ部とから構成される照明装置において、
前記光源部と前記コネクタ部との結合部分には、前記照明装置の側面から延出する突起部が設けられている
ことを特徴とする照明装置。
【請求項２】
請求項１記載の照明装置において、
前記突起部は、前記照明装置の長手方向に沿う２つの側面に設けられている
ことを特徴とする照明装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の照明装置において、
前記突起部は、前記照明装置の側面から略同一の突出量で延出している
ことを特徴とする照明装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の照明装置において、
前記突起部は、前記照明装置の側面における該照明装置の底部から上部側にかけて設けられている
ことを特徴とする照明装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の照明装置において、
前記結合部分から離れた前記光源部の端部から延出する延出部が設けられている
ことを特徴とする照明装置。
【請求項６】
請求項５記載の照明装置において、
前記延出部は、前記光源部の端部の少なくとも１箇所から略同一の延出量で延出するリブである
ことを特徴とする照明装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の照明装置において、
前記照明装置は、取付対象の係合爪が前記コネクタ部の上面に係合することにより、前記取付対象に取り付けられる
ことを特徴とする照明装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の照明装置において、
前記コネクタ部は、取付対象の支持壁が前記コネクタ部の側面に当接することにより、該支持壁に支持される
ことを特徴とする照明装置。
【請求項９】
請求項８記載の照明装置において、
前記支持壁は、前記コネクタ部の互いに向かい合う２つの側面に当接することにより、該コネクタ部を支持する
ことを特徴とする照明装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の照明装置において、
前記照明装置は、車両のドアライニングに設けられる
ことを特徴とする照明装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月12日(2019.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真画像形成装置の本体に着脱可能に構成されているプロセスカートリッジであって、該プロセスカートリッジは電子写真感光体と、該電子写真感光体に接触して配置されている清掃部材とを有しており、該電子写真感光体の表面層の弾性変形率が３５％以上であり、該清掃部材はウレタンフォームからなり、該ウレタンフォームの密度が２００〜５００ｋｇ/ｍ３であり、該ウレタンフォームの２５％圧縮荷重が０．３ＭＰａ以下であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項２】
前記ウレタンフォームはセル構造を有し、セル径が３５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のプロセスカートリッジ。
【請求項３】
前記電子写真感光体の表面層が樹脂と電荷輸送物質を含有し、樹脂は式（II）で示される構造を有することを特徴とする請求項１または２に記載のプロセスカートリッジ。
【化１】
2019095672.tif 000001
（式（II）において、Ｘ２は、単結合、酸素原子、２価のアルキレン基又は２価のシクロアルキレン基を表す。Ｒ１１〜Ｒ１８は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。）
【請求項４】
前記電子写真感光体の表面層が樹脂と電荷輸送物質を含有し、さらに体積平均粒径３０ｎｍ以上４００ｎｍ以下のシリカ粒子を含有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項５】
前記電子写真感光体の表面層が樹脂と電荷輸送物質を有し、さらに前記式（II）で示される構造、及び式（Ｉ）で示される構造を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のプロセスカートリッジ。
【化２】
2019095672.tif 000002
（式（Ｉ）において、Ｘ１は、２価の基を表す。）
【請求項６】
前記式（II）で示される構造が式（II−１）で示される構造及び式（II−３）で示される構造を有することを特徴とする請求項５記載のプロセスカートリッジ。
【化３】
2019095672.tif 000003
（式（II−１）において、Ｒ２１は、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基を表す。Ｒ２２、Ｒ２３は、それぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ２４〜Ｒ２７は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。ｍは、括弧内の繰り返し数を示し、０〜３の整数である。）
【化４】
2019095672.tif 000004
（式（II−３）において、Ｒ４１〜Ｒ４４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。）
【請求項７】
前記式（Ｉ）で示される構造として、式（Ｉ−１）で示される構造を有することを特徴とする請求項６記載のプロセスカートリッジ。
【化５】
2019095672.tif 000005
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか１項に記載のプロセスカートリッジを用いることを特徴とする電子写真画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、電子写真画像形成装置の本体に着脱可能に構成されているプロセスカートリッジであって、該プロセスカートリッジは電子写真感光体と、該電子写真感光体に接触して配置されている清掃部材とを有しており、該電子写真感光体の表面層の弾性変形率が３５％以上であり、該清掃部材はウレタンフォーム層からなり、該ウレタンフォーム層の密度が２００〜５００ｋｇ/ｍ３であり、該ウレタンフォーム層の２５％圧縮荷重が０．３ＭＰａ以下であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、電子写真画像形成装置の本体に着脱可能に構成されているプロセスカートリッジであって、該プロセスカートリッジは電子写真感光体と、該電子写真感光体に接触して配置されている清掃部材とを有しており、該電子写真感光体の表面層の弾性変形率が３５％以上であり、該清掃部材はウレタンフォーム層からなり、該ウレタンフォーム層の密度が２００〜５００ｋｇ/ｍ３であり、該ウレタンフォーム層の２５％圧縮荷重が０．３ＭＰａ以下であることを特徴とするプロセスカートリッジである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
ウレタンフォーム層の密度が２００〜５００ｋｇ/ｍ３であり該ウレタンフォーム層の２５％圧縮荷重が０．３ＭＰａ以下のウレタンフォーム層、即ち密度が高く柔らかいウレタンフォーム層を清掃部材として用い、一定以上の弾性変形率を有する感光体をクリーニングすることで、従来のゴムブレードで生じていたエッジ摩耗やたわみ起因のクリーニング不良の改善が可能となった。この時、一定以上の弾性変形率を感光体が有することが必須であり、この条件を満たさないときは、十分な効果が見られないことが分かった。感光体表面が一定以上の弾性変形率を有することで、ウレタンフォーム層と感光体の間にトナー層が安定的に形成され、低摩擦の状態が維持されるとともに、ウレタンフォーム層と感光体の追従性が良好になるため優れたクリーニング特性を有すると推測している。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月25日(2019.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一棒状体と、前記第一棒状体に対してそれぞれ交差する２本の第二棒状体とを連結する交差連結具であって、
前記第一棒状体を保持する第一保持部と、
前記第二棒状体をそれぞれ保持する一対の第二保持部と、を備え、
前記第一保持部が、前記第一棒状体の保持位置に対して板面に沿う方向の両側に設けられた一対の取付基部を有するベース板部を含み、
一対の前記第二保持部の一方が、対応する前記第二棒状体に直交する方向に沿って締結される連結ボルトを用いて当該第二棒状体をその軸方向に沿って挟み込んで保持するとともに、一対の前記取付基部の一方に相対変位可能に連結され、
一対の前記第二保持部の他方が、対応する前記第二棒状体に直交する方向に沿って締結される連結ボルトを用いて当該第二棒状体をその軸方向に沿って挟み込んで保持するとともに、一対の前記取付基部の他方に相対変位可能に連結されている交差連結具。
【請求項２】
第一棒状体と、前記第一棒状体に対してそれぞれ交差する２本の第二棒状体とを連結する交差連結具であって、
前記第一棒状体を保持する第一保持部と、
前記第二棒状体をそれぞれ保持する一対の第二保持部と、を備え、
前記第一保持部が、前記第一棒状体の保持位置に対して板面に沿う方向の両側に設けられた一対の取付基部を有するベース板部を含み、
一対の前記第二保持部の一方が、対応する前記第二棒状体を当該第二棒状体の軸方向に沿って面で押さえる状態で挟み込んで保持するとともに、一対の前記取付基部の一方に相対変位可能に連結され、
一対の前記第二保持部の他方が、対応する前記第二棒状体を当該第二棒状体の軸方向に沿って面で押さえる状態で挟み込んで保持するとともに、一対の前記取付基部の他方に相対変位可能に連結されている交差連結具。
【請求項３】
一対の前記第二保持部のそれぞれが、対応する前記第二棒状体に直交する方向に沿って締結される連結ボルトを用いて、対応する前記第二棒状体を挟み込んで保持する請求項２に記載の交差連結具。
【請求項４】
前記第二保持部が、対応する前記第二棒状体の外周を包囲する湾曲部又はループ部を有する部材を含む請求項１から３のいずれか一項に記載の交差連結具。
【請求項５】
前記取付基部と前記第二保持部との各組に対して、前記取付基部と前記第二保持部とを連結するとともに前記取付基部に対する前記第二保持部の相対姿勢変更のための支点となる枢支連結部材を個別に備えている請求項１から４のいずれか一項に記載の交差連結具。
【請求項６】
一対の前記第二保持部が、前記ベース板部の一対の前記取付基部における板厚方向の同じ側の面に連結されている請求項１から５のいずれか一項に記載の交差連結具。
【請求項７】
前記第一保持部が、前記ベース板部との間に前記第一棒状体を挟み込んで保持する第一保持板部をさらに含む請求項１から６のいずれか一項に記載の交差連結具。
【請求項８】
前記ベース板部が、一対の前記取付基部のそれぞれに対して交差する状態で一対の前記取付基部の間に配置されたベース本体部をさらに有し、
前記第一保持板部が、前記ベース本体部に固定されている請求項７に記載の交差連結具。
【請求項９】
前記ベース本体部に対して、一対の前記取付基部がそれぞれ鈍角状に交差して配置されている請求項８に記載の交差連結具。
【請求項１０】
前記第一保持部が、前記第一棒状体の軸方向の２箇所に対して係合する一対の係合部を有する請求項１から６のいずれか一項に記載の交差連結具。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月19日(2019.9.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を入れて加熱する加熱室と、
前記加熱室の壁面に接続される天面に、設けられた観測窓と、
前記被加熱物を加熱する加熱手段と、
前記観測窓を視野範囲として前記被加熱物の温度を検知する赤外線センサと、
前記赤外線センサを収めるとともに前記赤外線センサを臨ませる窓部を有するユニットケースと、
前記加熱手段を制御する制御手段と、を備え、
前記ユニットケースを回動させることにより、前記窓部を前記観測窓に臨ませる状態と、前記前記窓部以外を前記観測窓に臨ませる状態をとり、
前記制御手段は、前記赤外線センサによる冷凍状態の被加熱物を検知した温度に基づいて解凍に係る加熱制御をすることを特徴とする加熱調理器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、  被加熱物を入れて加熱する加熱室と、前記加熱室の壁面に接続される天面に設けられた観測窓と、前記被加熱物を加熱する加熱手段と、前記観測窓を視野範囲として前記被加熱物の温度を検知する赤外線センサと、該赤外線センサを収めるとともに該赤外線センサを臨ませる窓部を有するユニットケースと、前記加熱手段を制御する制御手段と、を備え、前記ユニットケースを回動させることにより、前記窓部を前記観測窓に臨ませる状態と、前記前記窓部以外を前記観測窓に臨ませる状態をとり、前記制御手段は、前記赤外線センサによる冷凍状態の被加熱物を検知した温度に基づいて解凍に係る加熱制御をするものである。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月5日(2019.6.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
焦点調節レンズを有する光学系の瞳の第１の領域を通過した光の第１の像を受光し、第１信号を出力する画素と、前記光学系の瞳の前記第１の領域とは異なる第２の領域を通過した光の第２の像を受光し、第２信号を出力する画素とを有し、前記光学系の像を撮像する撮像素子と、
前記焦点調節レンズが移動する範囲と、前記焦点調節レンズの位置と、前記撮像素子から出力された前記第１信号及び前記第２信号と、に基づいて、前記光学系の像の位置と前記撮像素子の撮像面とのずれ量であるデフォーカス量を算出するデフォーカス量算出部と、
前記デフォーカス量算出部で算出された前記光学系の像の位置と前記撮像素子の撮像面とのずれ量に基づいて、前記焦点調節レンズの移動を制御する移動制御部と、を有する焦点調節装置。
【請求項２】
請求項１に記載の焦点調節装置において、
前記デフォーカス量算出部は、前記焦点調節レンズの移動の範囲及び前記焦点調節レンズの位置から、前記第１の像の位置と前記第２の像の位置とのずれ量のとりうる範囲に基づくずれ量範囲を算出し、算出した前記ずれ量範囲と、記第１信号及び前記第２信号と、に基づいて前記デフォーカス量を算出する焦点調節装置。
【請求項３】
請求項２に記載の焦点調節装置において、
前記ずれ量範囲は、前記第１の像の位置と前記第２の像の位置とのずれ量のとりうる範囲よりも広い範囲である焦点調節装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項記載の焦点調節装置において、
前記デフォーカス量算出部は、前記ずれ量範囲に基づく範囲内で、前記第１信号と前記第２信号とを相対的にずらし、前記第１信号と第２信号との相関値を算出する焦点調節装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項記載の焦点調節装置において、
前記移動制御部は、前記デフォーカス量算出部で算出する、前記デフォーカス量に基づき移動した後の前記焦点調節レンズの移動後の位置が、前記焦点調節レンズの移動の範囲外となる場合は、前記焦点調節レンズの移動を禁止する焦点調節装置。
【請求項６】
複数のレンズと、前記レンズに対して第１の位置に配置され、光を受光し第１信号を出力する画素と、前記レンズに対して前記第１の位置と異なる第２の位置に配置され、光を受光し第２信号を出力する画素と、を有し、光学系で形成される像を撮像する撮像素子と、
前記光学系が備える焦点調節レンズの移動の範囲と、前記焦点調節レンズの位置と、前記撮像素子から出力された前記第１信号及び前記第２信号と、を基に、前記光学系の像の位置と前記撮像素子の撮像面とのずれ量を算出するデフォーカス量算出部と、
前記デフォーカス量算出部で算出された前記光学系の像の位置と前記撮像素子の撮像面とのずれ量に基づいて、前記焦点調節レンズの移動を制御する移動制御部と、を有する焦点調節装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の焦点調節装置を有する撮像装置。
【請求項８】
請求項１から６のいずれかに記載の焦点調節装置と、
前記光学系と、を有するカメラ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
［１］本発明に係る焦点調節装置は、焦点調節レンズを有する光学系の瞳の第１の領域を通過した光の第１の像を受光し、第１信号を出力する画素と、前記光学系の瞳の前記第１の領域とは異なる第２の領域を通過した光の第２の像を受光し、第２信号を出力する画素とを有し、前記光学系の像を撮像する撮像素子と、前記焦点調節レンズが移動する範囲と、前記焦点調節レンズの位置と、前記撮像素子から出力された前記第１信号及び前記第２信号と、に基づいて、前記光学系の像の位置と前記撮像素子の撮像面とのずれ量であるデフォーカス量を算出するデフォーカス量算出部と、前記デフォーカス量算出部で算出された前記光学系の像の位置と前記撮像素子の撮像面とのずれ量に基づいて、前記焦点調節レンズの移動を制御する移動制御部と、を有する。
［２］上記焦点調節装置に係る発明において、前記デフォーカス量算出部は、前記焦点調節レンズの移動の範囲及び前記焦点調節レンズの位置から、前記第１の像の位置と前記第２の像の位置とのずれ量のとりうる範囲に基づくずれ量範囲を算出し、算出した前記ずれ量範囲と、記第１信号及び前記第２信号と、に基づいて前記デフォーカス量を算出する。
［３］上記焦点調節装置に係る発明において、前記ずれ量範囲は、前記第１の像の位置と前記第２の像の位置とのずれ量のとりうる範囲よりも広い範囲である。
［４］上記焦点調節装置に係る発明において、前記デフォーカス量算出部は、前記ずれ量の範囲に基づく範囲内で、前記第１信号と前記第２信号とを相対的にずらし、前記第１信号と第２信号との相関値を算出する。
［５］上記焦点調節装置に係る発明において、前記移動制御部は、前記デフォーカス量算出部で算出する、前記デフォーカス量に基づき移動した後の前記焦点調節レンズの移動後の位置が、前記焦点調節レンズの移動の範囲外となる場合は、前記焦点調節レンズの移動を禁止する。
［６］本発明に係る焦点調節装置は、複数のレンズと、前記レンズに対して第１の位置に配置され、光を受光し第１信号を出力する画素と、前記レンズに対して前記第１の位置と異なる第２の位置に配置され、光を受光し第２信号を出力する画素と、を有し、光学系で形成される像を撮像する撮像素子と、前記光学系が備える焦点調節レンズの移動の範囲と、前記焦点調節レンズの位置と、前記撮像素子から出力された前記第１信号及び前記第２信号と、を基に、前記光学系の像の位置と前記撮像素子の撮像面とのずれ量を算出するデフォーカス量算出部と、前記デフォーカス量算出部で算出された前記光学系の像の位置と前記撮像素子の撮像面とのずれ量に基づいて、前記焦点調節レンズの移動を制御する移動制御部と、を有する。
［７］本発明に係る撮像装置は、上記いずれかの焦点調節装置を備えている。
［８］本発明に係るカメラは、上記いずれかの焦点調節装置と、光学系とを有する。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月27日(2019.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
ステップＳ３９では、対象ノードＸの名称と対象ノードＹの名称とを比較し、名称順で前の対象ノードＸまたは対象ノードＹに、不一致マークおよび比較済マークを付与して、ステップＳ４０へ移行する。例えば、対象ノードＸの名称が「Ｃ１」であって、対象ノードＹの名称が「ａｎｄ（Ｃ１、Ｃ２）」であった場合、前述の名称順のルールから、信号のみからなる名称は演算子を含む名称よりも前であるため、対象ノードＸに不一致マークおよび比較済マークが付与される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
上記のプログラム比較方法であって、前記順序変換ステップは、比較対象の２つの前記ラダー回路のうち、一方の前記ラダー回路について、前記論理式の前記信号の順序を、前記論理式の結果が変わらないように並べ替えた論理式をすべて生成し、前記比較ステップは、一方の前記ラダー回路の前記論理式の前記信号の順序を並べ替えた一方の前記ラダー回路の前記論理式が生成されるたびに、前記信号の順序を並べ替えた後の一方の前記ラダー回路の前記論理式と、他方の前記ラダー回路の前記論理式とを比較してもよい。これにより、１つのラダー回路の論理式の順序をすべてのパターンで並べ替えることで、２つのラダー回路が一致するか否かを判定することが容易となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項７に記載のプログラム比較方法であって、
前記順序変換ステップは、比較対象の２つの前記ラダー回路のうち、一方の前記ラダー回路について、前記論理式の前記信号の順序を、前記論理式の結果が変わらないように並べ替えた論理式をすべて生成し、
前記比較ステップは、一方の前記ラダー回路の前記論理式の前記信号の順序を並べ替えた一方の前記ラダー回路の前記論理式が生成されるたびに、前記信号の順序を並べ替えた後の一方の前記ラダー回路の前記論理式と、他方の前記ラダー回路の前記論理式とを比較する、プログラム比較方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月16日(2019.8.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学アセンブリであって、
光が本体の第２の端部を介して前記本体から出るように前記本体の第１の端部から前記本体の前記第２の端部まで前記光を案内する前記本体を備える導波路、および
結合出力デバイス
を備えるアセンブリを備える、照射光学ユニットと、
前記光を生成するように構成された光源と、
測定デバイスと、
ａ）照射フィールド、またはｂ）前記照射フィールドが結像される像面を検出するように構成された検出デバイスと、を備え、
前記本体の前記第２の端部が、出口面内にあり、
前記結合出力デバイスが、ａ）前記出口面内にある、ｂ）前記出口面付近にある、ｃ）前記出口面に対して共役関係にある、またはｄ）前記出口面と共益関係にある面付近にある結合出力面内にあり、
前記結合出力デバイスが、部分光ビームが前記本体の前記第２の端部から出た後で前記部分光ビームを反射して、前記部分光ビームを、前記光の残りの部分が前記本体の前記第２の端部から出た後で前記光の前記残りの部分から分離するように構成され、
前記部分光ビームの断面が、前記本体の前記第２の端部から出る前記光の断面の一部分であり、
前記測定デバイスが、前記部分光ビームの測定変数特性を検出するように構成され、
前記装置が、前記装置の使用中に、
前記部分光ビームが、前記光源から前記導波路を通って前記測定デバイスに至る経路をたどり、
前記光の前記残りの部分が前記光源から前記照射光学ユニットを通って前記照射フィールドに至る経路をたどり、その結果、前記光の前記残りの部分が前記検出デバイスによって検出可能となるように構成され、
前記装置が、ウェハまたはマスクを検査するように構成される、光学アセンブリ。
【請求項２】
前記結合出力デバイスが、前記部分ビームが中間フィールド面から結合出力されるように配置され、前記中間フィールド面が、前記照射フィールドに、または照射フィールド面から結像することができる、請求項１に記載の光学アセンブリ。
【請求項３】
前記結合出力デバイスが、ミラーを備える、請求項１または２に記載の光学アセンブリ。
【請求項４】
前記ミラーが、前記部分光ビームの前記断面が７０°より大きい入射角で前記ミラーに入射するように構成される、請求項３に記載の光学アセンブリ。
【請求項５】
前記ミラーが、前記ミラーの少なくとも一部分が前記本体の外側となるように、前記本体から遠ざかる方向に前記出口面を超えて延びる、請求項３または４に記載の光学アセンブリ。
【請求項６】
前記結合出力デバイスが、絞りを備える、請求項１から５のいずれか１項に記載の光学アセンブリ。
【請求項７】
前記測定デバイスが、ｈ３に対するｈ１の比が１未満となる面の領域内にセンサを備え、
ｈ１が、導波路入口領域の同一の点から生じる前記部分光ビームにおける反射の次数が同じ光線の間の距離であり、
ｈ３が、導波路出口領域の同じ点を通過する前記部分光ビームにおける反射の次数がゼロの光線の間の最大距離である、請求項１から６のいずれか１項に記載の光学アセンブリ。
【請求項８】
前記測定デバイスが、線量測定センサを備える、請求項７に記載の光学アセンブリ。
【請求項９】
前記線量測定センサが、前記線量測定センサの検出ビームにおいて前記光ビームの前記残りの部分と同じ角度分布を検出するように構成される、請求項８に記載の光学アセンブリ。
【請求項１０】
前記測定デバイスが、焦電センサを備える、請求項１から９のいずれか１項に記載の光学アセンブリ。
【請求項１１】
同時に前記結合出力デバイスの一部でもあるセンサ光学ユニットを備える、請求項１から１０のいずれか１項に記載の光学アセンブリ。
【請求項１２】
前記測定デバイスが、前記照射フィールドの位置を検出するように構成されたフィールド位置センサを備える、請求項１から１１のいずれか１項に記載の光学アセンブリ。
【請求項１３】
前記フィールド位置センサが、空間解像センサである、請求項１２に記載の光学アセンブリ。
【請求項１４】
前記空間解像センサが、４分割センサを含む、請求項１３に記載の光学アセンブリ。
【請求項１５】
前記測定デバイスが、前記照射フィールドの照射の角度分布を測定するように構成された瞳センサを備える、請求項１から１４のいずれか１項に記載の光学アセンブリ。
【請求項１６】
制御／調整デバイスと、
前記装置の構成要素を駆動するように構成された変位デバイスと、をさらに備え、
前記測定デバイスが、前記制御／調整デバイスと信号接続しており、前記変位デバイスが、前記制御／調整デバイスと信号接続している、請求項１から１５のいずれか１項に記載の光学アセンブリ。
【請求項１７】
前記結合出力面を前記測定デバイスの検出面に結像するように構成されたセンサ光学ユニットをさらに備える、請求項１から１６のいずれか１項に記載の光学アセンブリ。
【請求項１８】
前記センサ光学ユニットが、凹面鏡を備える、請求項１７に記載の光学アセンブリ。
【請求項１９】
前記センサ光学ユニットが、前記第１のデバイスによって前記光ビームの前記残りの部分より大きな開口が検出されることを回避するための開口絞りを備える、請求項１７に記載の光学アセンブリ。
【請求項２０】
前記センサ光学ユニットが、前記第１のデバイスによって前記光ビームの前記残りの部分より大きな開口が検出されることを回避するための反射コーティングを備える、請求項１７に記載の光学アセンブリ。
【請求項２１】
第２の測定デバイスをさらに備え、前記第２の測定デバイスが、前記導波路に入射したときの前記照射光の偏心および傾斜を測定するように構成される、請求項１から２０のいずれか１項に記載の光学アセンブリ。