(57)【要約】  本発明は、セルロースエステルフィルムであって、セルロースエステル及びホスホナイト化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とし、溶媒の乾燥及び回収に伴う製造負荷、設備負荷及び環境負荷を低減し、透明性が高く、幅手方向のリターデーションのばらつきが小さい等の優れた光学特性を有し、着色が少なく、かつ加工安定性に優れたセルロースエステルフィルム及びその製造方法、該セルロースエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして使用した偏光板、及び該偏光板を使用した液晶表示装置が提供できる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステル及びホスホナイト化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。
【請求項２】
前記ホスホナイト化合物が下記一般式（１）または（２）で表されることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のセルロースエステルフィルム。
一般式（１）  Ｒ1Ｐ（ＯＲ2）2
（式中、Ｒ1は置換または未置換のフェニル基、またはチエニル基を、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、チエニル基または１〜５個の置換基を有し、該置換基の炭素原子数の合計が１〜１４である置換フェニル基を示す。複数のＲ2は互いに結合して環を形成してもよい。）
一般式（２）    （Ｒ4Ｏ）2ＰＲ3−Ｒ3Ｐ（ＯＲ4）2
（式中、Ｒ3は置換または未置換のフェニレン基、またはチエニレン基を、Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、チエニル基または１〜５個の置換基を有し、該置換基の炭素原子数の合計が１〜１４である置換フェニル基を示す。複数のＲ４は互いに結合して環を形成してもよい。）
【請求項３】
前記セルロースエステル１００質量部に対し、前記ホスホナイト化合物を０．０１〜５質量部含有することを特徴とする請求の範囲第１または２項に記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項４】
前記セルロースエステル１００質量部に対し、亜リン酸エステル化合物を０．０１〜５質量部含有することを特徴とする請求の範囲第１〜３項のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項５】
前記セルロースエステル１００質量部に対し、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、イオウ化合物の中から選ばれる少なくとも１種の化合物を０．０１〜５質量部含有することを特徴とする請求の範囲第１〜４項のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項６】
前記セルロースエステルが、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求の範囲第１〜５項のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項７】
多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤の少なくとも１種を含有す
ることを特徴とする請求の範囲第１〜６項のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項８】
前記ホスホナイト化合物が前記一般式（２）で表されることを特徴とする請求の範囲第２項に記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項９】
前記一般式（２）のＲ4が、１〜５個の置換基を有し、該置換基の炭素原子数の合計が９〜１４である置換フェニル基であることを特徴とする請求の範囲第８項に記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項１０】
前記ホスホナイト化合物がテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトであることを特徴とする請求の範囲第９項に記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項１１】
少なくとも炭素ラジカル捕捉剤を含有することを特徴とする請求の範囲第１〜１０項のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム。
【請求項１２】
前記炭素ラジカル捕捉剤が、下記一般式（５）で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第１１項に記載のセルロースエステルフィルム。
一般式（５）
【化１】
2007066519.tif 000035
（一般式（５）中、Ｒ11は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
【請求項１３】
前記炭素ラジカル捕捉剤が、下記一般式（６）で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第１１項に記載のセルロースエステルフィルム。
一般式（６）
【化２】
2007066519.tif 000036
（式中、Ｒ22〜Ｒ25はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ26は水素原子または置換基を表し、ｎは１または２を表す。但し、ｎが１であるとき、Ｒ21は１価の置換基を表し、ｎが２であるとき、Ｒ21は２価の連結基を表す。）
【請求項１４】
請求の範囲第１〜１３項のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルムを、１５０〜３００℃で溶融流延し製造することを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。
【請求項１５】
請求の範囲第１〜１３項のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム、または請求の範囲第１４項に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法により製造されたセルロースエステルフィルムを保護フィルムとして用いることを特徴とする偏光板。
【請求項１６】
請求の範囲第１５項に記載の偏光板を用いることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホスホナイト化合物を含有するセルロースエステルフィルム及びその製造方法、偏光板、及びその偏光板を用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ）は低電圧、低消費電力でＩＣ回路への直結が可能であり、そして特に薄型化が可能であることから、ワードプロセッサやパーソナルコンピュータ、テレビ、モニター、携帯情報端末等の表示装置として広く採用されている。このＬＣＤの基本的な構成は、例えば、液晶セルの両側に偏光板を設けたものである。【０００３】
ところで偏光板は一定方向の偏波面の光だけを通すものである。従って、ＬＣＤは電界による液晶の配向の変化を可視化させる重要な役割を担っている。即ち、偏光板の性能によってＬＣＤの性能が大きく左右される。【０００４】
偏光板の偏光子はヨウ素等を高分子フィルムに吸着・延伸したものである。即ち、二色性物質（ヨウ素）を含むＨインキと呼ばれる溶液を、ポリビニルアルコールのフィルムに湿式吸着させた後、このフィルムを１軸延伸することにより、二色性物質を一方向に配向させたものである。偏光板の保護フィルムとしては、セルロースエステル、特にセルローストリアセテートが広く用いられている。【０００５】
セルロースエステルフィルムは、光学的、物理的に偏光板用の保護フィルムとして有用であるため一般に広く用いられている。しかしながら、現在のフィルム製造方法はハロゲン系の溶媒を用いた流延製膜法による製造方法であるため、溶媒回収に要する費用は非常に大きい負担となっている。また、ハロゲン系溶剤は環境負荷が大きいという課題を有している。近年、例えば、特許文献１には偏向板保護フィルム用として、セルロースエステルを溶融製膜する試みが行なわれているが、セルロースエステルは溶融時の粘度が非常に高い高分子であり、かつガラス転移温度も高いため、溶融してダイスから押出し、冷却ドラムまたは冷却ベルト上にキャスティングしてもレベリングし難く、押出し後に短時間で固化するため、得られるフィルムの物性特性である平面性やカール性、さらには寸法安定性、また光学特性である複屈折均一性、特にフィルム幅手方向での複屈折均一性が溶液流延フィルムよりも低いといった課題を有していることが分かっている。【０００６】
また、溶融製膜は１５０℃を超える高温プロセスであるため、セルロースエステルの熱分解による分子量低下に基づく加工安定性の低下や着色といったセルロースエステルフィルムにとっては致命的な課題が存在している。これを解決するために。安定剤としてヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、あるいは酸掃去剤をある添加量比で加えることによって、着色や加工安定性の改善を図った技術が開示されている（例えば、特許文献２参照）。また、溶融時の粘度を低下させる目的で可塑剤として多価アルコールエステル系可塑剤を用いる技術（例えば、特許文献３参照）も公開されている。しかし、いずれの公知技術をもってしても上記の課題、特に、分子量低下に基づく加工安定性の劣化や着色の問題、光学特性である複屈折均一性の問題を解決するには不十分であった。【０００７】
一方、ホスホナイト化合物は各種有機高分子材料の材料の劣化を防止する化合物として公知である（例えば、特許文献４〜１６参照）。【０００８】
しかしながら、セルロースエステルフィルムの光学特性である複屈折均一性、特にフィルム幅手方向での複屈折均一性を改良する手段として検討された例は知られていない。またホスホナイト化合物、亜リン酸エステル化合物及び／またはヒンダードフェノール化合物を安定剤として含有する環状ポリオレフィン系樹脂組成物が知られている（例えば、特許文献１７参照）。またホスホナイト化合物、亜リン酸エステル化合物及び／またはヒンダードフェノール化合物を安定剤として含有する有機高分子材料組成物が知られている（例えば、特許文献１８参照）。【０００９】
しかしながら上記の安定剤をセルロースエステルの光学特性の改良手段に適用した例はいまだ知られていない。
【特許文献１】特開２０００−３５２６２０号公報
【特許文献２】特開２００３−１９２９２０号公報
【特許文献３】特開２００３−１２８２３号公報
【特許文献４】特開平１−２０２４９号公報
【特許文献５】特開平５−１７８８７０号公報
【特許文献６】特開平７−３３９６９号公報
【特許文献７】特開平７−６２１６２号公報
【特許文献８】特開平７−６２２３８号公報
【特許文献９】特開平８−１６５３７５号公報
【特許文献１０】特開平９−１００３４６号公報
【特許文献１１】特開２０００−１７８３８４号公報
【特許文献１２】特開２００１−３１０９７２号公報
【特許文献１３】特開２００２−２４８４１６号公報
【特許文献１４】特開２００３−９６０８９号公報
【特許文献１５】特開２００３−２９２９５４号公報
【特許文献１６】特開平５−１９４７８５号公報
【特許文献１７】特開２００１−２６１９４３号公報
【特許文献１８】国際公開第９９／５４３９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、溶媒の乾燥及び回収に伴う製造負荷、設備負荷及び環境負荷を低減し、透明性が高く、幅手方向のリターデーションのばらつきが小さい等の優れた光学特性を有し、着色が少なく、かつ加工安定性に優れたセルロースエステルフィルム及びその製造方法、該セルロースエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして使用した偏光板、及び該偏光板を使用した液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。【００１２】
１．セルロースエステル及びホスホナイト化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とするセルロースエステルフィルム。【００１３】
２．前記ホスホナイト化合物が下記一般式（１）または（２）で表されることを特徴とする１に記載のセルロースエステルフィルム。【００１４】
一般式（１）  Ｒ1Ｐ（ＯＲ2）2
（式中、Ｒ1は置換または未置換のフェニル基、またはチエニル基、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、チエニル基または１〜５個の置換基を有し、該置換基の炭素原子数の合計が１〜１４である置換フェニル基を示す。複数のＲ2は互いに結合して環を形成してもよい。）
一般式（２）    （Ｒ4Ｏ）2ＰＲ3−Ｒ3Ｐ（ＯＲ4）2
（式中、Ｒ3は置換または未置換のフェニレン基、またはチエニレン基、Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、チエニル基または１〜５個の置換基を有し、該置換基の炭素原子数の合計が１〜１４である置換フェニル基を示す。複数のＲ４は互いに結合して環を形成してもよい。）
３．前記セルロースエステル１００質量部に対し、前記ホスホナイト化合物を０．０１〜５質量部含有することを特徴とする１または２に記載のセルロースエステルフィルム。【００１５】
４．前記セルロースエステル１００質量部に対し、亜リン酸エステル化合物を０．０１〜５質量部含有することを特徴とする１〜３のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム。【００１６】
５．前記セルロースエステル１００質量部に対し、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、イオウ化合物の中から選ばれる少なくとも１種の化合物を０．０１〜５質量部含有することを特徴とする１〜４のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム。【００１７】
６．前記セルロースエステルが、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする１〜５のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム。【００１８】
７．多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする１〜６のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム。【００１９】
８．前記ホスホナイト化合物が前記一般式（２）で表されることを特徴とする２に記載のセルロースエステルフィルム。【００２０】
９．前記一般式（２）のＲ4が、１〜５個の置換基を有し、該置換基の炭素原子数の合計が９〜１４である置換フェニル基であることを特徴とする８に記載のセルロースエステルフィルム。【００２１】
１０．前記ホスホナイト化合物がテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトであることを特徴とする９に記載のセルロースエステルフィルム。【００２２】
１１．少なくとも炭素ラジカル捕捉剤を含有することを特徴とする１〜１０のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム。【００２３】
１２．前記炭素ラジカル捕捉剤が、下記一般式（５）で表される化合物であることを特徴とする１１に記載のセルロースエステルフィルム
一般式（５）【００２４】
【化１】
2007066519.tif 000002
【００２５】
（一般式（５）中、Ｒ11は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
１３．前記炭素ラジカル捕捉剤が、下記一般式（６）で表される化合物であることを特徴とする１１に記載のセルロースエステルフィルム
一般式（６）【００２６】
【化２】
2007066519.tif 000003
【００２７】
（式中、Ｒ22〜Ｒ25はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ26は水素原子または置換基を表し、ｎは１または２を表す。但し、ｎが１であるとき、Ｒ21は１価の置換基を表し、ｎが２であるとき、Ｒ21は２価の連結基を表す。）
１４．１〜１３のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルムを、１５０〜３００℃で溶融流延し製造することを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造方法。【００２８】
１５．１〜１３のいずれか１項に記載のセルロースエステルフィルム、または１４に記載のセルロースエステルフィルムの製造方法により製造されたセルロースエステルフィルムを保護フィルムとして用いることを特徴とする偏光板。【００２９】
１６．１５に記載の偏光板を用いることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、溶媒の乾燥及び回収に伴う製造負荷、設備負荷及び環境負荷を低減し、光学特性に優れ、着色が少なく、さらに加工安定性の劣化が少ないセルロースエステルフィルム及びその製造方法、該セルロースエステルフィルムを特に幅手方向の複屈折特性のばらつきが少ない優れた偏光板保護フィルムとして用いた偏光板、及びその偏光板を用いた液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明についてさらに詳細に説明する。【００３２】
セルロースエステルフィルムの製造法の一つである溶液流延法は、セルロースエステルを溶媒に溶解した溶液を流延し、溶媒を蒸発、乾燥することによって製膜するものであり、この方法はフィルム内部に残存する溶媒を除去しなければならないため、乾燥ライン、乾燥エネルギー、及び蒸発した溶媒の回収及び再生装置等、製造ラインへの設備投資及び製造コストが膨大になっており、これらを削減することが重要な課題となっている。【００３３】
これに対し溶融流延法による製膜では、溶液流延としてセルロースエステルの溶液を調整するための溶媒を用いないため、前述の乾燥負荷、設備負荷が生じない。【００３４】
本発明者らは鋭意検討の結果、セルロースエステルフィルム、さらに具体的には偏光版保護用途のセルロースエステルフィルムにホスホナイト化合物を含有させることにより、驚くべきことにリターデーションの均一性が大幅に改善されるという効果が得られた。同時に溶融製膜時の樹脂の熱分解による分子量低下に基づく加工安定性の劣化や着色を改善できることも分かった。リターデーションの均一性を改善する効果は、さらに亜リン酸エステルを含有することで増強される。また、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物または硫黄化合物を添加すると上記効果がさらに向上することが分かった。また可塑剤として用いる多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤はセルロースエステルとの親和性が高く、そのためセルロースエステルフィルムとして光学特性、加工安定性を向上させるが、ホスホナイトが共存する場合、驚くべきことにフィルムの透明性が向上することが分かった。これらの効果により溶液製膜法で作製されたものと同等以上の特性を有するセルロースエステルフィルムを溶融製膜法でも得られることが分かった。【００３５】
以下、本発明に用いられる各種化合物について詳述する。【００３６】
（ホスホナイト化合物）
本発明に用いられるホスホナイト化合物は、従来公知のもの、例えば前記参考文献４〜１５に記載の化合物を用いることができる。好ましくは前記一般式（１）または（２）で表される化合物である。【００３７】
前記一般式（１）において、Ｒ1は置換または無置換のフェニル基、またはチエニル基を、Ｒ2は炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、チエニル基、または１〜５個の置換基を有し、該置換基の炭素原子数の合計が１〜１４である置換フェニル基を表す。複数のＲ2は互いに結合して環を形成してもよいが、Ｒ2として好ましくは炭素数１〜９のアルキル基によって置換されたフェニル基が挙げられる。Ｒ2として好ましくは、置換フェニル基であり、置換基の炭素数の合計は、好ましくは９〜１４であり、より好ましくは９〜１１である。複数のＲ2が結合して互いに環を形成する場合、フェニル環上の炭素数の合計が１０〜３０であることが好ましい。【００３８】
前記、置換基としては特に制限はないが、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基等）、複素環基（例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、ホスホノ基、アシル基（例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、シアノ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等）、アニリノ基（例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、イミド基、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。これらの置換基は同様の置換基によって更に置換されていてもよい。【００３９】
前記一般式（２）において、Ｒ３は置換または無置換のフェニレン基、チエニレン基を、Ｒ４は炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、チエニル基、または１〜５個の置換基を有し、該置換基の炭素原子数の合計が１〜１４である置換フェニル基を表す。複数のＲ４は互いに結合して環を形成してもよいが、Ｒ４として好ましくは炭素数１〜９のアルキル基によって置換されたフェニル基が挙げられる。Ｒ４として好ましくは、置換フェニル基であり、置換基の炭素数の合計は、好ましくは９〜１４であり、より好ましくは９〜１１である。複数のＲ４が結合して互いに環を形成する場合、フェニル環上の炭素数の合計が１０〜３０であることが好ましい。【００４０】
前記置換基としては、Ｒ２において、述べたものと同じである。【００４１】
具体的には、一般式（１）で表されるホスホナイト化合物としては、ジメチル−フェニルホスホナイト、ジ−ｔ−ブチル−フェニルホスホナイト等のジアルキル−フェニルホスホナイト類、ジフェニル−フェニルホスホナイト、ジ−（４−ペンチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２−ｔ−ブチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２−メチル−３−ペンチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２−メチル−４−オクチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（３−ブチル−４−メチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（３−ヘキシル−４−エチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２，４，６−トリメチルフェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２，３−ジメチル−４−エチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２，６−ジエチル−３−ブチルフェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２，３−ジプロピル−５−ブチルフェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−フェニルホスホナイト、等のジ−フェニル誘導体−フェニルホスホナイト類が挙げられる。【００４２】
また、一般式（２）で表されるホスホナイト化合物としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３，４−トリメチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジメチル−５−エチル−フェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジメチル−４−プロピルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジメチル−５−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジメチル−４−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジエチル−５−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４，５−トリエチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジエチル−４−プロピルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジエチル−６−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジエチル−５−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジエチル−６−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジプロピル−５−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジプロピル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジプロピル−５−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジプロピル−６−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジプロピル−５−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジブチル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジブチル−３−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジブチル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−３−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−３−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−３−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジブチル−４−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジブチル−３−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジブチル−４−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−３−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−３−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−６−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−３−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−５−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３，４−トリブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト等が挙げられる。【００４３】
本発明においては、一般式（２）で表されるホスホナイト化合物が好ましい。中でも、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト等の４，４′−ビフェニレンジホスホナイト化合物が好ましく、特に好ましいものはテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイトが好適である。【００４４】
特に好ましいホスホナイト化合物を次に示す。【００４５】
【化３】
2007066519.tif 000004
【００４６】
【化４】
2007066519.tif 000005
【００４７】
【化５】
2007066519.tif 000006
【００４８】
【化６】
2007066519.tif 000007
【００４９】
【化７】
2007066519.tif 000008
【００５０】
ホスホナイト化合物の含有量は、セルロースエステル１００質量部に対して、通常０．００１〜１０．０質量部、好ましくは０．０１〜５．０質量部、さらに好ましくは０．１〜３．０質量部である。【００５１】
（亜リン酸エステル化合物）
本発明のセルロースエステルフィルムは、亜リン酸エステル化合物を含有することが好ましい。本発明に用いられる亜リン酸エステル化合物は、一般の樹脂工業で通常使用される物であれば格別な限定はなく、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物等が挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等が特に好ましい。最も好ましい亜リン酸エステル化合物としては下記一般式（３）で表される化合物である。【００５２】
【化８】
2007066519.tif 000009
【００５３】
式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ7、Ｒ8はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基またはフェニル基を表し、Ｒ3、Ｒ6はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｘは単結合、硫黄原子もしくは−ＣＨＲ9−基（Ｒ9は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す。）を表す。Ａは炭素数２〜８のアルキレン基または＊−ＣＯＲ10−基（Ｒ10は単なる結合または炭素数１〜８のアルキレン基を表し、＊は酸素側に結合していることを示す。）を表す。Ｙ及びＺはいずれか一方がヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシ基または炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基を表し、もう一方が水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。【００５４】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基であることが好ましく、Ｒ5は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基であることが好ましい。【００５５】
ここで、炭素数１〜８のアルキル基の代表例としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、ｉ−オクチル、ｔ−オクチル、２−エチルヘキシル等が挙げられる。また炭素数５〜８のシクロアルキル基の代表例としては、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基の代表例としては、例えば、１−メチルシクロペンチル、１−メチルシクロヘキシル、１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘキシル等が挙げられる。炭素数７〜１２のアラルキル基の代表例としては、例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル等が挙げられる。【００５６】
中でも、Ｒ1、Ｒ4はｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、ｔ−オクチル等のｔ−アルキル基、シクロヘキシル、１−メチルシクロヘキシルであることが好ましい。Ｒ2はメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル等の炭素数１〜５のアルキル基であることが好ましく、とりわけメチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチルであることが好ましい。Ｒ5は水素原子、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル等の炭素数１〜５のアルキル基であることが好ましい。【００５７】
Ｒ3は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表すが、炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、前記と同様のアルキル基が挙げられる。好ましくは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基であり、とりわけ水素原子またはメチル基であることが好ましい。【００５８】
また、Ｘは単なる結合、硫黄原子または炭素数１〜８のアルキルもしくは炭素数５〜８のシクロアルキルが置換していることもあるメチレン基を表す。ここで、メチレン基に置換している炭素数１〜８のアルキル、炭素数５〜８のシクロアルキルとしては、それぞれ前記と同様のアルキル基、シクロアルキル基が挙げられる。Ｘは単なる結合、メチレン基またはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル等が置換したメチレン基であることが好ましい。【００５９】
Ａは炭素数２〜８のアルキレン基または＊−ＣＯＲ10−基（Ｒ10は単なる結合または炭素数１〜８のアルキレン基を、＊は酸素側に結合していることを示す。）を表す。ここで、炭素数２〜８のアルキレン基の代表例としては、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、２，２−ジメチル−１，３−
プロピレン等が挙げられる。プロピレンが好ましく用いられる。また、＊−ＣＯＲ10−基における＊はカルボニルがホスファイトの酸素と結合していることを示す。Ｒ10における、炭素数１〜８のアルキレン基の代表例としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、２，２−ジメチル−１，３−プロピレン等が挙げられる。Ｒ10としては単なる結合、エチレン等が好ましく用いられる。【００６０】
Ｙ、Ｚはいずれか一方がヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシ基または炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基を表し、もう一方が水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。ここで、炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、前記と同様のアルキル基が挙げられ、炭素数１〜８のアルコキシ基としては、例えば、アルキル部分が前記の炭素数１〜８のアルキルと同様のアルキルであるアルコキシ基が挙げられる。また炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基としては、例えば、アラルキル部分が前記炭素数７〜１２のアラルキルと同様のアラルキルであるアラルキルオキシ基が挙げられる。【００６１】
このような一般式（３）で表される化合物の具体例を以下に示す。【００６２】
化合物１：６−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン
化合物２：６−〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン
これらの亜リン酸エステル化合物は、上記ホスホナイト化合物に対して組み合わせて用いることが好ましいが、セルロースエステル１００質量部に対して、通常０．００１〜１０．０質量部、好ましくは０．０１〜５．０質量部、さらに好ましくは０．１〜３．０質量部である。【００６３】
（ヒンダードフェノール化合物）
本発明に用いられるヒンダードフェノール化合物は、例えば、米国特許第４，８３９，
４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されているもの等の、２，６−ジアルキルフェノ
ール誘導体化合物が含まれる。このような化合物には、下記一般式（７）で表される化合
物が含まれる。
一般式（７）【００６４】
【化９】
2007066519.tif 000010
【００６５】
式中、Ｒ３１、Ｒ３２及びＲ３３は、さらに置換されているかまたは置換されていないアルキル置換基を表す。ヒンダードフェノール化合物の具体例には、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリトリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ���ェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトール−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのヒンダードフェノール化合物は、例えば、ＣｉｂａＳｐｅｃｉａｌｔｙＣｈｅｍｉｃａｌｓから、”Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６”及び”Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０”という商品名で市販されている。【００６６】
（ヒンダードアミン化合物）
本発明のセルロースエステルフィルムは、ヒンダードアミン化合物を含有することが好ましい。本発明に好ましいヒンダードアミン化合物としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。【００６７】
（イオウ化合物）
本発明のセルロースエステルフィルムは、イオウ化合物を含有することが好ましい。本発明に好ましいイオウ化合物としては、例えば、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。【００６８】
これらのヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、イオウ化合物は、前記ホスホナイト化合物、及び／または前記亜リン酸エステル化合物に対して組み合わせて用いることがことができるが、セルロースエステル１００質量部に対して、通常０．００１〜１０．０質量部、好ましくは０．０１〜５．０質量部、さらに好ましくは０．１〜３．０質量部である。【００６９】
（セルロースエステル）
本発明に係るセルロースエステルは、脂肪酸アシル基、置換もしくは無置換の芳香族アシル基の中からいずれかの構造を含む、セルロースの単独または混合酸エステルである。【００７０】
芳香族アシル基において、芳香族環がベンゼン環であるとき、ベンゼン環の置換基の例としてハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、アラルキル基、ニトロ、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシルオキシ基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルキルスルホニルオキシ基及びアリールオキシスルホニル基、−Ｓ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＯＲ、−ＰＨ−Ｒ、−Ｐ（−Ｒ）2、−ＰＨ−Ｏ−Ｒ、−Ｐ（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｐ（−Ｏ−Ｒ）2、−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）2、−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ、−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）2、−Ｏ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）2−Ｏ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）2、−ＮＨ−ＰＨ（＝Ｏ）−Ｒ、−ＮＨ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｒ）（−Ｏ−Ｒ）、−ＮＨ−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）2、−ＳｉＨ2−Ｒ、−ＳｉＨ（−Ｒ）2、−Ｓｉ（−Ｒ）3、−Ｏ−ＳｉＨ2−Ｒ、−Ｏ−ＳｉＨ（−Ｒ）2及び−Ｏ−Ｓｉ（−Ｒ）3が含まれる。上記Ｒは脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基である。置換基の数は、１〜５個が好ましく、１〜４個がより好ましく、１〜３個がさらに好ましく、１個または２個が最も好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基及びウレイド基が好ましく、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基及びカルボンアミド基がより好ましく、ハロゲン原子、シアノ、アルキル基、アルコキシ基及びアリールオキシ基がさらに好ましく、ハロゲン原子、アルキル基及びアルコキシ基が最も好ましい。【００７１】
上記ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が含まれる。【００７２】
上記アルキル基は、環状構造あるいは分岐を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜４が最も好ましい。アルキル基の例には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル及び２−エチルヘキシルが含まれる。上記アルコキシ基は、環状構造あるいは分岐を有していてもよい。アルコキシ基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜６がさらに好ましく、１〜４が最も好ましい。アルコキシ基は、さらに別のアルコキシ基で置換されていてもよい。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メトキシ−２−エトキシエトキシ、ブチルオキシ、ヘキシルオキシ及びオクチルオキシが含まれる。【００７３】
上記アリール基の炭素原子数は、６〜２０が好ましく、６〜１２がさらに好ましい。アリール基の例には、フェニル及びナフチルが含まれる。上記アリールオキシ基の炭素原子数は、６〜２０が好ましく、６〜１２がさらに好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシ及びナフトキシが含まれる。上記アシル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がさらに好ましい。アシル基の例には、ホルミル、アセチル及びベンゾイルが含まれる。上記カルボンアミド基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がさらに好ましい。カルボンアミド基の例には、アセトアミド及びベンズアミドが含まれる。上記スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がさらに好ましい。スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド及びｐ−トルエンスルホンアミドが含まれる。上記ウレイド基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がさらに好ましい。ウレイド基の例には、（無置換）ウレイドが含まれる。【００７４】
上記アラルキル基の炭素原子数は、７〜２０が好ましく、７〜１２がさらに好ましい。アラルキル基の例には、ベンジル、フェネチル及びナフチルメチルが含まれる。上記アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、２〜１２がさらに好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニルが含まれる。上記アリールオキシカルボニル基の炭素原子数は、７〜２０が好ましく、７〜１２がさらに好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニルが含まれる。上記アラルキルオキシカルボニル基の炭素原子数は、８〜２０が好ましく、８〜１２がさらに好ましい。アラルキルオキシカルボニル基の例には、ベンジルオキシカルボニルが含まれる。上記カルバモイル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がさらに好ましい。カルバモイル基の例には、（無置換）カルバモイル及びＮ−メチルカルバモイルが含まれる。上記スルファモイル基の炭素原子数は、２０以下が好ましく、１２以下がさらに好ましい。スルファモイル基の例には、（無置換）スルファモイル及びＮ−メチルスルファモイルが含まれる。上記アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、２〜１２がさらに好ましい。アシルオキシ基の例には、アセトキシ及びベンゾイルオキシが含まれる。【００７５】
上記アルケニル基の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜１２がさらに好ましい。アルケニル基の例には、ビニル、アリル及びイソプロペニルが含まれる。上記アルキニル基の炭素原子数は、２〜２０が好ましく、２〜１２がさらに好ましい。アルキニル基の例には、チエニルが含まれる。上記アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がさらに好ましい。上記アリールスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０が好ましく、６〜１２がさらに好ましい。上記アルキルオキシスルホニル基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がさらに好ましい。上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０が好ましく、６〜１２がさらに好ましい。上記アルキルスルホニルオキシ基の炭素原子数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がさらに好ましい。上記アリールオキシスルホニル基の炭素原子数は、６〜２０が好ましく、６〜１２がさらに好ましい。【００７６】
本発明に係るセルロースエステルにおいて、セルロースの水酸基部分の水素原子が脂肪族アシル基との脂肪酸エステルであるとき、脂肪族アシル基は炭素原子数が２〜２０で、具体的にはアセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ステアロイル等が挙げられる。【００７７】
本発明において前記脂肪族アシル基とは、さらに置換基を有するものも包含する意味であり、置換基としては上述の芳香族アシル基において、芳香族環がベンゼン環であるとき、ベンゼン環の置換基として例示したものが挙げられる。【００７８】
また、上記セルロースエステルのエステル化された置換基が芳香環であるとき、芳香族環に置換する置換基Ｘの数は０または１〜５個であり、好ましくは１〜３個で、特に好ましいのは１または２個である。さらに芳香族環に置換する置換基の数が２個以上の時、互いに同じでも異なっていてもよいが、また、互いに連結して縮合多環化合物（例えば、ナフタレン、インデン、インダン、フェナントレン、キノリン、イソキノリン、クロメン、クロマン、フタラジン、アクリジン、インドール、インドリン等）を形成してもよい。【００７９】
上記セルロースエステルにおいて置換もしくは無置換の脂肪族アシル基、置換もしくは無置換の芳香族アシル基の少なくともいずれか１種選択された構造を有する構造を有することが本発明に係るセルロースエステルに用いる構造として用いられ、これらは、セルロースの単独または混合酸エステルでもよく、２種以上のセルロースエステルを混合して用いてもよい。【００８０】
本発明に係るセルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも１種が好ましい。【００８１】
混合脂肪酸エステルの置換度として、さらに好ましいセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートの低級脂肪酸エステルは炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（１）及び（２）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂である。
式（１）２．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（２）０≦Ｘ≦２．５
この内、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも０≦Ｘ≦２．２であり、０．５≦Ｙ≦３．０が好ましい。上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているのものである。これらは公知の方法で合成することができる。【００８２】
さらに、本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．５〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは２．０〜4．０であり、さらに好ましくは２．５〜３．５である。【００８３】
本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際、剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、あるいは単独で使用することができる。【００８４】
例えば、綿花リンター由来セルロースエステル：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースエステル：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースエステルの比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることができる。【００８５】
(可塑剤)
本発明のセルロースエステルフィルムは、更に可塑剤を含むことが好ましい。
一般に、可塑剤として知られる化合物を添加することは、機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水分透過率低減等、フィルムの改質の観点において好ましい。また本発明で行う溶融流延法においては、可塑剤の添加により、用いるセルロースエステル単独のガラス転移温度よりもフィルム構成材料の溶融温度を低下させる、または同じ加熱温度においてセルロースエステルよりもフィルム構成材料の粘度を低下させることができる。ここで、本発明において、フィルム構成材料の溶融温度とは、該材料の流動性が発現された温度を意味する。【００８６】
セルロースエステル単独では、ガラス転移温度よりも低いとフィルム化するための流動性は発現されない。しかしながら、セルロースエステルは、ガラス転移温度以上において熱量の吸収により弾性率あるいは粘度が低下し、流動性が発現される。フィルム構成材料を溶融させるためには、添加する可塑剤がセルロースエステルのガラス転移温度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつことが上記目的を満たすために好ましい。さらに多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤はセルロースエステルと親和性が高く、より好ましい。【００８７】
本発明においては、多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤を用いることが好ましい。【００８８】
多価アルコールエステル系の一つであるエチレングリコールエステル系の可塑剤は、具体的には、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジブチレート等のエチレングリコールアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジシクロプロピルカルボキシレート、エチレングリコールジシクロヘキルカルボキシレート等のエチレングリコールシクロアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジベンゾエート、エチレングリコールジ４−メチルベンゾエート等のエチレングリコールアリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。さらにエチレングリコール部も置換されていてもよく、エチレングリコールエステルの部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等、化合物分子構造の一部に導入されていてもよい。【００８９】
多価アルコールエステル系の一つであるグリセリンエステル系の可塑剤は、具体的にはトリアセチン、トリブチリン、グリセリンジアセテートカプリレート、グリセリンオレートプロピオネート等のグリセリンアルキルエステル、グリセリントリシクロプロピルカルボキシレート、グリセリントリシクロヘキシルカルボキシレート等のグリセリンシクロアルキルエステル、グリセリントリベンゾエート、グリセリン４−メチルベンゾエート等のグリセリンアリールエステル、ジグリセリンテトラアセチレート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンアセテートトリカプリレート、ジグリセリンテトララウレート、等のジグリセリンアルキルエステル、ジグリセリンテトラシクロブチルカルボキシレート、ジグリセリンテトラシクロペンチルカルボキシレート等のジグリセリンシクロアルキルエステル、ジグリセリンテトラベンゾエート、ジグリセリン３−メチルベンゾエート等のジグリセリンアリールエステル等が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。さらにグリセリン、ジグリセリン部も置換されていてもよく、グリセリンエステル、ジグリセリンエステルの部分構造がポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等、化合物分子構造の一部に導入されていてもよい。【００９０】
その他の多価アルコールエステル系の可塑剤としては、具体的には特開２００３−１２８２３号公報の段落３０〜３３記載の多価アルコールエステル系可塑剤が挙げられる。【００９１】
上記多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤の中では、アルキル多価アルコールアリールエステルが好ましく、具体的には上記のエチレングリコールジベンゾエート、グリセリントリベンゾエート、ジグリセリンテトラベンゾエート、特開２００３−１２８２３号公報の段落３２記載例示化合物１６が挙げられる。【００９２】
〈その他の可塑剤〉
本発明においては、リン酸エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等のその他の可塑剤も用いられる。【００９３】
リン酸エステル系の可塑剤：具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等のリン酸アルキルエステル、トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等のリン酸シクロアルキルエステル、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート等のリン酸アリールエステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。【００９４】
また、エチレンビス（ジメチルホスフェート）、ブチレンビス（ジエチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアルキルホスフェート）、エチレンビス（ジフェニルホスフェート）、プロピレンビス（ジナフチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアリールホスフェート）、フェニレンビス（ジブチルホスフェート）、ビフェニレンビス（ジオクチルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアルキルホスフェート）、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）、ナフチレンビス（ジトルイルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアリールホスフェート）等のリン酸エステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。【００９５】
さらに、リン酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等、化合物の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、リン酸アリールエステル、アリーレンビス（ジアリールホスフェート）が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）が好ましい。【００９６】
ポリマー可塑剤：具体的には、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリＮ−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ４−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。数平均分子量は１，０００〜５００，０００程度が好ましく、特に好ましくは５，０００〜２００，０００である。１，０００未満では揮発性に問題が生じ、５００，０００を超えると可塑化能力が低下し、セルロースエステルフィルムの機械的性質に悪影響を及ぼす。これらポリマー可塑剤は１種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを２種以上併用して用いてもよい。【００９７】
上記可塑剤の添加量はセルロースエステル１００質量部に対して、通常０．１〜５０質量部、好ましくは１〜３０質量部、さらに好ましくは３〜１５質量部である。【００９８】
高分子の劣化過程では、１）結合開裂による炭素ラジカルの発生、２）炭素ラジカルと酸素との反応によるパーオキシラジカルの発生、３）パーオキシラジカルによる水素ラジカルの引き抜きによるパーオキシドの生成等の過程が含まれ、それぞれの活性種に起因した様々な分解経路が存在する。従って高分子の劣化を防止する為には、上記活性種を不活性化するような劣化防止剤の添加が有効である。
（炭素ラジカル捕捉剤）
本発明のセルロースエステルフィルムは、炭素ラジカル捕捉剤を含有することが好ましい。上記１）の過程に対しては、分解によって生じた炭素ラジカルを速やかにトラップして不活性化する炭素ラジカル捕捉剤が効果的である。本発明において「炭素ラジカル捕捉剤」とは、炭素ラジカルが速やかに付加反応しうる基（例えば２重結合、３重結合等の不飽和基）を有し、かつ炭素ラジカル付加後に重合等の後続反応が起こらない安定な生成物を与える化合物を意味する。上記炭素ラジカル捕捉剤としては分子内に速やかに炭素ラジカルと反応する基（（メタ）アクリロイル基、アリール基等の不飽和基）およびフェノール系、ラクトン系化合物等のラジカル重合禁止能を有する化合物が有用であり、特に下記一般式（５）または下記一般式（６）で表わされる化合物が好ましい。
一般式（５）【００９９】
【化１０】
2007066519.tif 000011
【０１００】
一般式（５）において、Ｒ11は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、好ましくは水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子またはメチル基である。Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基を表し、直鎖でも、分岐構造または環構造を有してもよい。Ｒ12およびＲ13は、好ましくは４級炭素を含む「＊−Ｃ（ＣＨ3）2−Ｒ’」で表される構造（＊は芳香環への連結部位を表し、Ｒ’は炭素数１〜５のアルキル基を表す。）である。Ｒ12は、より好ましくはｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基またはｔｅｒｔ−オクチル基である。Ｒ13は、より好ましくはｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基である。上記一般式（５）で表される化合物として、市販のものでは「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＭ、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＳ」（共に商品名、住友化学工業（株）製）等が挙げられる。以下に上記一般式（５）で表わされる化合物の具体例（I−１〜I−１８）を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０１０１】
【化１１】
2007066519.tif 000012
【０１０２】
【化１２】
2007066519.tif 000013
【０１０３】
【化１３】
2007066519.tif 000014
【０１０４】
【化１４】
2007066519.tif 000015
【０１０５】
一般式（６）【０１０６】
【化１５】
2007066519.tif 000016
【０１０７】
一般式（６）において、Ｒ22〜Ｒ25はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ22〜Ｒ25で表される置換基としては特に制限はないが、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基等）、複素環基（例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、ホスホノ基、アシル基（例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、シアノ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等）、アニリノ基（例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、イミド基、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミ���ウレイド基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。これらの置換基は同様の置換基によって更に置換されていてもよい。【０１０８】
前記一般式（６）において、Ｒ26は水素原子または置換基を表し、Ｒ26で表される置換基は、前記Ｒ22〜Ｒ25で表される置換基と同様な基を挙げることができる。
前記一般式（６）において、ｎは１または２を表す。
前記一般式（６）において、ｎが１であるとき、Ｒ21は置換基を表し、ｎが２であるとき、Ｒ21は２価の連結基を表す。Ｒ21が置換基を表すとき、置換基としては、前記Ｒ22〜Ｒ25で表される置換基と同様な基を挙げることができる。
Ｒ21は２価の連結基を表すとき、２価の連結基として例えば、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、或いはこれらの連結基の組み合わせを挙げることができる。【０１０９】
前記一般式（６）において、ｎは１が好ましい。
次に、本発明における前記一般式（６）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって限定されるものではない。【０１１０】
【化１６】
2007066519.tif 000017
【０１１１】
【化１７】
2007066519.tif 000018
【０１１２】
【化１８】
2007066519.tif 000019
【０１１３】
【化１９】
2007066519.tif 000020
【０１１４】
上記、炭素ラジカル捕捉剤は、それぞれ１種或いは２種以上組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、セルロースエステル１００質量部に対して、通常０．００１〜１０．０質量部、好ましくは０．０１〜５．０質量部、更に好ましくは、０．１〜３．０質量部である。【０１１５】
（その他の添加剤）
本発明のセルロースエステルフィルムは、上述の化合物の他に、過酸化物分解剤、金属不活性化剤、紫外線吸収剤、マット剤、染料、または顔料等の添加剤を含んでも構わない。
〈酸掃去剤〉
酸掃去剤とは製造時から持ち込まれるセルロースエステル中に残留する酸（プロトン酸）をトラップする役割を担う剤である。また、セルロースエステルを溶融するとポリマー中の水分と熱により側鎖の加水分解が促進し、ＣＡＰ（セルロースアセテートプロピオネート）ならば酢酸やプロピオン酸が生成する。酸と化学的に結合できればよく、エポキシ、３級アミン、エーテル構造等を有する化合物が挙げられるが、これに限定されるものでない。【０１１６】
具体的には、米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されている酸掃去剤としてのエポキシ化合物を含んでなるのが好ましい。このような酸掃去剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシド等の縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテル等、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（即ち、４，４′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に２〜２２個の炭素原子の脂肪酸の４〜２個程度の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）等）、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリド等（例えば、エポキシ化大豆油等の組成物によって代表され、例示され得る、エポキシ化植物油及び他の不飽和天然油（これらは時としてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している））が含まれる。特に好ましいのは、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物ＥＰＯＮ８１５ｃ、及び下記一般式（４）で表される他のエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生成物である。【０１１７】
【化２０】
2007066519.tif 000021
【０１１８】
式中、ｎは０〜１２を表す。さらに、用いることができる可能な酸掃去剤としては、特開平５−１９４７８８号公報の段落８７〜１０５に記載されているものが含まれる。【０１１９】
〈紫外線吸収剤〉
紫外線吸収剤としては、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。【０１２０】
有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。【０１２１】
また、本発明においては、従来公知の紫外線吸収性ポリマーと組み合わせて用いることもできる。従来公知の紫外線吸収性ポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学社製）を単独重合させたポリマー及びＲＵＶＡ−９３と他のモノマーとを共重合させたポリマー等が挙げられる。具体的には、ＲＵＶＡ−９３とメチルメタクリレートを３：７の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−３０Ｍ、５：５の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−５０Ｍ等が挙げられる。更に、特開２００３−１１３３１７号公報に記載のポリマー等が挙げられる。【０１２２】
また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８（いずれもチバ−スペシャルティ−ケミカルズ社製）、ＬＡ−３１（旭電化社製）、ＲＵＶＡ−１００（大塚化学社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ２５０（住友化学社製）を用いることもできる。【０１２３】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。【０１２４】
本発明においては、紫外線吸収剤は０．１〜２０質量％添加することが好ましく、さらに０．５〜１０質量％添加することが好ましく、さらに１〜５質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。【０１２５】
〈マット剤〉
本発明のセルロースエステルフィルムには、滑り性を付与するためにマット剤等の微粒子を添加することができ、微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。マット剤はできるだけ微粒子のものが好ましく、微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることができる。中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを低くできるので好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好ましい。【０１２６】
表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサン等が挙げられる。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。また、微粒子の二次粒子の平均粒径は０．０５〜１．０μｍの範囲である。好ましい微粒子の二次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは７〜１４ｎｍである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、セルロースエステルフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させるために好ましく用いられる。微粒子のセルロースエステル中の含有量はセルロースエステルに対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。【０１２７】
二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル（株）製のアエロジル（ＡＥＲＯＳＩＬ）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることができ、好ましくはアエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。この場合、平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９：０．１の範囲で使用できる。【０１２８】
上記マット剤として用いられるフィルム中の微粒子の存在は、別の目的としてフィルムの強度向上のために用いることもできる。また、フィルム中の上記微粒子の存在は、本発明のセルロースエステルフィルムを構成するセルロースエステル自身の配向性を向上することも可能である。【０１２９】
〈複屈折制御剤〉
本発明のセルロースエステルフィルムにおいて配向膜を形成して液晶層を設け、セルロースエステルフィルムと液晶層由来の複屈折を複合化して光学補償能を付与して、液晶表示品質の向上のためにこのような偏光板加工を行ってもよい。複屈折を調節するために添加する化合物は、欧州特許第９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物を複屈折制御剤として使用することもできる。また２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に不飽和ヘテロ環である。中でも１，３，５−トリアジン環が特に好ましい。【０１３０】
〈高分子材料〉
本発明のセルロースエステルフィルムは、セルロースエステル以外の高分子材料やオリゴマーを適宜選択して混合してもよい。前述の高分子材料やオリゴマーはセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにしたときの透過率が８０％以上、さらに好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９２％以上が好ましい。セルロースエステル以外の高分子材料やオリゴマーの少なくとも１種以上を混合する目的は、加熱溶融時の粘度制御やフィルム加工後のフィルム物性を向上するために行う意味を含んでいる。この場合は、上述のその他化合物として含むことができる。【０１３１】
（化合物の含有方法）
本発明において、上記本発明に係る化合物を含有することとは、該化合物がセルロースエステル内部に包まれている状態のみならず、内部及び表面に同時に存在することも含むものである。【０１３２】
化合物を内包させる方法としては、セルロースエステルを溶媒に溶解した後、これに化合物を溶解または微分散させ、溶媒を除去する方法が挙げられる。溶媒を除去する方法は公知の方法が適用でき、例えば、液中乾燥法、気中乾燥法、溶媒共沈法、凍結乾燥法、溶液流延法等が挙げられ、溶媒除去後のセルロースエステル及び化合物の混合物は、粉体、顆粒、ペレット、フィルム等の形状に調製することができる。化合物の内包は前述のようにセルロースエステル固体を溶解して行うが、セルロースエステルの合成工程において析出固化と同時に行ってもよい。【０１３３】
液中乾燥法は、例えば、セルロースエステル及び化合物を溶解した溶液にラウリル硫酸ナトリウム等の活性剤水溶液を加え、乳化分散する。次いで、常圧または減圧蒸留して溶媒を除去し、化合物を内包したセルロースエステルの分散物を得ることができる。さらに、活性剤除去のため、遠心分離やデカンテーションを行うことが好ましい。乳化法としては、各種の方法を用いることができ、超音波、高速回転せん断、高圧による乳化分散装置を使用することが好ましい。【０１３４】
超音波による乳化分散では、所謂バッチ式と連続式の２通りが使用可能である。バッチ式は比較的少量のサンプル作製に適し、連続式は大量のサンプル作製に適する。連続式では、例えば、ＵＨ−６００ＳＲ（株式会社エスエムテー製）のような装置を用いることが可能である。このような連続式の場合、超音波の照射時間は分散室容積／流速×循環回数で求めることができる。超音波照射装置が複数ある場合は、それぞれの照射時間の合計として求められる。超音波の照射時間は実際上は１００００秒以下である。また、１００００秒以上必要であると工程の負荷が大きく、実際上は乳化剤の再選択等により乳化分散時間を短くする必要がある。そのため１００００秒以上は必要でない。さらに好ましくは１０秒以上、２０００秒以内である。【０１３５】
高速回転せん断による乳化分散装置としては、ディスパーミキサー、ホモミキサー、ウルトラミキサー等が使用でき、これらの型式は乳化分散時の液粘度によって使い分けることができる。【０１３６】
高圧による乳化分散ではＬＡＢ２０００（エスエムテー社製）等が使用できるが、その乳化・分散能力は試料にかけられる圧力に依存する。圧力は１０4〜５×１０5ｋＰａの範囲が好ましい。【０１３７】
活性剤としては、陽イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、両性界面活性剤、高分子分散剤等を用いることができ、溶媒や目的とする乳化物の粒径に応じて決めることができる。【０１３８】
気中乾燥法は、例えば、ＧＳ３１０（ヤマト科学社製）のようなスプレードライヤーを用いて、セルロースエステル及び化合物を溶解した溶液を噴霧し乾燥するものである。【０１３９】
溶媒共沈法は、セルロースエステル及び化合物を溶解した溶液をセルロースエステル及び化合物に対して貧溶媒であるものに添加し、析出させるものである。貧溶媒はセルロースエステルを溶解する前記溶媒と任意に混合することができる。貧溶媒は混合溶媒でも構わない。また、セルロースエステル及び化合物の溶液中に、貧溶媒を加えても構わない。【０１４０】
析出したセルロースエステル及び化合物の混合物は、ろ過、乾燥し分離することができる。【０１４１】
セルロースエステルと化合物の混合物において、混合物中の化合物の粒径は１μｍ以下であり、好ましくは５００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは２００ｎｍ以下である。化合物の粒径が小さいほど、溶融成形物の加工安定性、光学特性の分布が均一になり好ましい。【０１４２】
上記セルロースエステルと添加剤の混合物、及び加熱溶融時に添加する添加剤は、乾燥することが望ましい。ここで乾燥とは、材料のいずれかが吸湿した水分に加え、セルロースエステルと添加剤の混合物の調製時に用いた水または溶媒、添加剤の合成時に混入している溶媒のいずれかの除去をさす。【０１４３】
この除去する方法は公知の乾燥方法が適用でき、加熱法、減圧法、加熱減圧法等の方法で行うことができ、空気中または不活性ガスとして窒素を選択した雰囲気下で行ってもよい。これらの公知の乾燥方法を行うとき、材料が分解しない温度領域で行うことがフィルムの品質上好ましい。【０１４４】
例えば、前記乾燥工程で除去した後の残存する水分または溶媒は、各々フィルム構成材料の全体の質量に対して１０質量％以下、好ましくは５質量％以下、より好ましくは１質量％以下、さらに好ましくは０．１質量％以下にすることである。このときの乾燥温度は、１００℃以上で乾燥する材料のＴｇ以下が好ましい。材料同士の融着を回避する観点を含めると、乾燥温度はより好ましくは１００℃以上（Ｔｇ−５）℃以下、さらに好ましくは１１０℃以上（Ｔｇ−２０）℃以下である。好ましい乾燥時間は０．５〜２４時間、より好ましくは１〜１８時間、さらに好ましくは１．５〜１２時間である。これらの範囲よりも低いと乾燥度が低いか、または乾燥時間がかかり過ぎることがある。また乾燥する材料にＴｇが存在するときには、Ｔｇよりも高い乾燥温度に加熱すると材料が融着して取り扱いが困難になることがある。【０１４５】
乾燥工程は２段階以上の分離してもよく、例えば、予備乾燥工程による材料の保管と、溶融製膜する直前〜１週間前の間に行う直前乾燥工程を介して溶融製膜してもよい。【０１４６】
（セルロースエステルフィルム）
本発明のセルロースエステルフィルムの厚さは１０〜５００μｍが好ましい。特に２０μｍ以上、さらに３５μｍ以上が好ましい。また、１５０μｍ以下、さらに１２０μｍ以下が好ましい。特に好ましくは２５〜９０μｍが好ましい。また、好ましくはヘイズ値１％未満、より好ましくは０．５％未満である。【０１４７】
（セルロースエステルフィルムの製造方法）
本発明のセルロースエステルフィルムは溶融流延により製造されることが好ましい。本発明における溶融流延とは、溶媒を用いずセルロースエステルの流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを流延することを言う。加熱溶融する成形法はさらに詳細には溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度等に優れるセルロースエステルフィルムを得るためには、溶融押出し法が優れている。ここでフィルム構成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後、ドラムまたはエンドレスベルト上に押出し製膜することが、溶融流延製膜法として本発明のセルロースエステルフィルムの製造方法に含まれる。【０１４８】
本発明に係るセルロースエステル及び添加剤の混合物を熱風乾燥または真空乾燥した後、溶融押出し、Ｔ型ダイよりフィルム状に押出して、静電印加法等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸フィルムを得る。冷却ドラムの温度は９０〜１５０℃に維持されていることが好ましい。【０１４９】
溶融押出しは一軸押出し機、二軸押出し機、さらに二軸押出し機の下流に一軸押出し機を連結して用いてもよいが、得られるフィルムの加工安定性、光学特性の点から、一軸押出し機を用いることが好ましい。さらに原料タンク、原料の投入部、押出し機内といった原料の供給、溶融工程を、窒素ガス等の不活性ガスで置換、あるいは減圧することが好ましい。【０１５０】
前記溶融押出し時の温度は、通常１５０〜３００℃の範囲、好ましくは１８０〜２７０℃、さらに好ましくは２００〜２５０℃の範囲である。【０１５１】
本発明のセルロースエステルフィルムは、幅手方向もしくは製膜方向に延伸製膜されたフィルムであることが特に好ましい。【０１５２】
前述の冷却ドラムから剥離され、得られた未延伸フィルムを複数のロール群及び／または赤外線ヒーター等の加熱装置を介してセルロースエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）からＴｇ＋１００℃の範囲内に加熱し、一段または多段縦延伸することが好ましい。次に、上記のようにして得られた縦方向に延伸されたセルロースエステルフィルムを、Ｔｇ〜Ｔｇ−２０℃の温度範囲内で横延伸し、次いで熱固定することが好ましい。【０１５３】
横延伸する場合、２つ以上に分割された延伸領域で温度差を１〜５０℃の範囲で順次昇温しながら横延伸すると、幅方向の物性の分布が低減でき好ましい。さらに横延伸後、フィルムをその最終横延伸温度以下でＴｇ−４０℃以上の範囲に０．０１〜５分間保持すると幅方向の物性の分布がさらに低減でき好ましい。【０１５４】
熱固定は、その最終横延伸温度より高温で、Ｔｇ−２０℃以下の温度範囲内で通常０．５〜３００秒間熱固定する。この際、２つ以上に分割された領域で温度差を１〜１００℃の範囲で順次昇温しながら熱固定することが好ましい。【０１５５】
熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ以上の温度範囲内で、横方向及び／または縦方向に０．１〜１０％弛緩処理することが好ましい。また冷却は、最終熱固定温度からＴｇまでを、毎秒１００℃以下の冷却速度で徐冷することが好ましい。冷却、弛緩処理する手段は特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の温度領域で順次冷却しながらこれらの処理を行うことがフィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。なお、冷却速度は、最終熱固定温度をＴ１、フィルムが最終熱固定温度からＴｇに達するまでの時間をｔとしたとき、（Ｔ１−Ｔｇ）／ｔで求めた値である。【０１５６】
これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件のより最適な条件は、フィルムを構成するセルロースエステルにより異なるので、得られた二軸延伸フィルムの物性を測定し、好ましい特性を有するように適宜調整することにより決定すればよい。【０１５７】
（機能性層）
本発明のセルロースエステルフィルムの製造に際し、延伸の前及び／または後で帯電防止層、ハードコート層、反射防止層、易滑性層、易接着層、防眩層、バリアー層、光学補償層等の機能性層を塗設してもよい。特に、帯電防止層、ハードコート層、反射防止層、易接着層、防眩層及び光学補償層から選ばれる少なくとも１層を設けることが好ましい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。【０１５８】
製膜工程において、カットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、あるいは必要に応じて造粒処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料としてまたは異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。【０１５９】
前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロース樹脂を含む組成物を共押出しして、積層構造のセルロースエステルフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成のセルロースエステルフィルムを作ることができる。例えば、マット剤はスキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多く入れることができ、コア層のみに入れてもよい。また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えば、スキン層に低揮発性の可塑剤及び／または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、あるいは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。スキン層とコア層のＴｇが異なっていてもよく、スキン層のＴｇよりコア層のＴｇが低いことが好ましい。また、溶融流延時のセルロースエステルを含む溶融物の粘度もスキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度＞コア層の粘度でも、コア層の粘度≧スキン層の粘度でもよい。【０１６０】
（偏光版）
本発明のセルロースエステルフィルムは偏光板保護フィルム用として用いることができる。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースエステルフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用いて、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを貼り合わせる方法があり、少なくとも片面に本発明の偏光板保護フィルムであるセルロースエステルフィルムが偏光子に直接貼合できる観点で好ましい。【０１６１】
また、上記アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、同６−１１８２３２号の各公報に記載されているような易接着加工を施して偏光板加工を行ってもよい。【０１６２】
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。【０１６３】
（寸法安定性）
本発明のセルロースエステルフィルムは、寸度安定性が２３℃５５％ＲＨに２４時間放置したフィルムの寸法を基準としたとき、８０℃９０％ＲＨにおける寸法の変動値が±１．０％未満が好ましく、さらに好ましくは０．５％未満であり、特に好ましくは０．１％未満である。【０１６４】
（延伸操作、屈折率制御）
本発明のセルロースエステルフィルムは、延伸操作により屈折率制御を行うことができる。延伸操作としては、セルロースエステルの１方向に１．０〜２．０倍及びフィルム面内にそれと直交する方向に１．０１〜２．５倍延伸することで好ましい範囲の屈折率に制御することができる。【０１６５】
例えば、フィルムの長手方向及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方向に対して、逐次または同時に延伸することができる。このとき少なくとも１方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となり破断が発生してしまう場合がある。【０１６６】
例えば、溶融して流延した方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、フィルムの厚み方向の屈折率が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑制あるいは、幅方向にも延伸することで改善できる。幅方向に延伸する場合、幅手で屈折率に分布が生じる場合がある。これは、テンター法を用いた場合にみられることがあるが、幅方向に延伸したことでフィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、所謂ボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。この場合でも、該流延方向に延伸することでボーイング現象を抑制でき、幅手の位相差の分布を少なく改善できるのである。【０１６７】
さらに、互いに直行する２軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少できる。セルロースエステルフィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。【０１６８】
セルロースエステルフィルム支持体の膜厚変動は、±３％、さらに±１％の範囲とすることが好ましい。以上のような目的において、互いに直交する２軸方向に延伸する方法は有効であり、互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に１．０〜２．０倍、幅方向に１．０１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に１．０１〜１．５倍、幅方向に１．０５〜２．０倍に範囲で行うことが好ましい。【０１６９】
応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、幅方向に延伸することで、セルロースエステルフィルムの遅相軸が幅方向に付与することができる。この場合、本発明において、表示品質の向上のためには、セルロースエステルフィルムの遅相軸が、幅方向にあるほうが好ましく、（幅方向の延伸倍率）＞（流延方向の延伸倍率）を満たすことが必要である。【０１７０】
光学フィルムの面内方向のリタデーションＲｏのCV値（後述）は、５％未満に調整することが好ましく、より好ましくは２％以下であり、特に好ましくは、１．５％未満である。また、フィルムの厚み方向のリタデーションＲｔのCV値（後述）を５％未満に調整することが好ましいが、さらに好ましくは、２％以下であり、特に好ましくは、１．５％未満である。【０１７１】
位相差フィルムにおいて、リタデーション値の分布変動が小さい方が好ましく、液晶表示装置に位相差フィルムを含む偏光板を用いるとき、該リタデーション分布変動が小さいことが色ムラ等を防止する観点で好ましい。【０１７２】
位相差フィルムを、ＶＡモードまたはＴＮモードの液晶セルの表示品質の向上に適したリタデーション値を有するように調整し、特にＶＡモードとして上記のマルチドメインに分割してＭＶＡモードに好ましく用いられるようにするには、面内リタデーションＲｏを３０ｎｍよりも大きく、９５ｎｍ以下に、かつ厚み方向リタデーションＲｔを７０ｎｍよりも大きく、４００ｎｍ以下の値に調整することが求められる。【０１７３】
ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法等が挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。【０１７４】
製膜工程のこれらの幅保持あるいは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。【０１７５】
本発明のセルロースエステルフィルムを偏光板保護フィルムとした場合、該保護フィルムの厚さは１０〜５００μｍが好ましい。特に２０μｍ以上、さらに３５μｍ以上が好ましい。また、１５０μｍ以下、さらに１２０μｍ以下が好ましい。特に好ましくは２５〜９０μｍが好ましい。上記領域よりもセルロースエステルフィルムが厚いと偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的には適さない。一方、上記領域よりも薄いと複屈折の発現が困難となること、フィルムの透湿性が高くなり偏光子に対して湿度から保護する能力が低下してしまうために好ましくない。【０１７６】
本発明のセルロースエステルフィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角をθ１とするとθ１は−１°〜＋１°が好ましく、−０．５〜＋０．５°であることがより好ましい。このθ１は配向角として定義でき、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて行うことができる。【０１７７】
θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与でき、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得ることに寄与できる。【０１７８】
（液晶表示装置）
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明のセルロースエステルフィルムを適用した偏光板保護フィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面に該偏光板保護フィルムを用いることが特に好ましい。【０１７９】
また光学補償層を設けた偏光子保護フィルムや、延伸操作等によりそれ自身に適切な光学補償能を付与した偏光子保護フィルムの場合には、液晶セルと接する部位に配置することで、優れた表示性が得られる。本発明に係わるセルロースエステルフィルムを用いることで、高品質の偏光板用保護フィルム、反射防止フィルム、位相差フィルム等の光学フィルムを得ることができ、さらには表示品質の高い液晶表示装置を得ることができる。【０１８０】
本発明が対象とする光学フィルムは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の各種ディスプレイ、特に液晶ディスプレイに用いられる機能フィルムのことであり、偏向板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルムを含むものである。
【実施例】
【０１８１】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。なお、以下の「部」は「質量部」を表す。【０１８２】
実施例１
〔セルロースエステルフィルム試料の製造〕
タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表１、２に記載の化合物を用い、直径２０ｍｍの押し出し機（ダイス設定温度２３０℃）でストランドを押し出し、水冷した後に切断し、ペレットを得た。これを４回繰り返した。１回目のペレット及び４回目のペレットを各々２４０℃の溶融温度に加熱溶融した後、Ｔ型ダイより溶融押出成形し、さらに１６０℃において１．２×１．２の延伸比で延伸した。その結果、膜厚８０μｍのフィルム試料を得た。【０１８３】
使用した化合物の詳細を以下に示す。【０１８４】
（セルロースエステル）
ＣＥ−１：セルロースアセテートプロピオネート、アセチル基置換度＝２．１、プロピオニル置換度＝０．７、総置換度＝２．８、重量平均分子量＝２１万（ポリスチレン換算）、分散度＝２．６
ＣＥ−２：セルロースアセテートプロピオネート、アセチル置換度＝１．５、プロピオニル置換度＝１．４、総置換度＝２．９、重量平均分子量＝２１万（ポリスチレン換算）、分散度＝２．８
ＣＥ−３：セルロースアセテートプロピオネート、アセチル置換度＝０．１、プロピオニル置換度＝２．８、総置換度＝２．９、重量平均分子量＝２８万（ポリスチレン換算）、分散度＝２．８
上記において、分散度とは、重量平均分子量/数平均分子量をいう。【０１８５】
（亜リン酸エステル）
化合物１：６−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン
化合物２：６−〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ〕−２，４，８，１０−テトラキス−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１．３．２〕ジオキサフォスフェピン
（ヒンダードフェノール）
Ｐ−１：ｎ−オクタデシル−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アセテート
Ｐ−２：オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート
Ｐ−３：トリエチレングリコール−ビス（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート）
Ｐ−４：テトラキス（メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニルプロピオネート））メタン
（ヒンダードアミン）
Ａ−１：ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート
Ａ−２：２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート
Ａ−３：４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン
（イオウ化合物）
Ｓ−１：ジラウリル３，３−チオジプロピオネート
Ｓ−２：ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）
（可塑剤）Ｋ−１ ：【０１８６】
【化２１】
2007066519.tif 000022
【０１８７】
Ｋ−２：【０１８８】
【化２２】
2007066519.tif 000023
【０１８９】
【表１】
2007066519.tif 000024
【０１９０】
添加量はセルロースエステル１００質量部に対する質量部を表す。【０１９１】
【表２】
2007066519.tif 000025
【０１９２】
添加量はセルロースエステル１００質量部に対する質量部を表す。【０１９３】
〔セルロースエステルフィルムの評価〕
以上のようにして作製した試料について、以下に記載したような評価を行なった。その結果を表３に示す。【０１９４】
（１）発煙の状態
Ｔ型ダイの吐出口から発生する煙の状態及び縦型ポリシングロールの状態を目視で観察し、以下の基準により評価した。
◎：発煙が全く認められない
○：発煙がわずかに認められる
△：発煙が多量に認められる
×：発煙が多量に認められ、縦型ポリシングロールの表面に発煙による曇りが認められる。【０１９５】
（２）加工安定性劣化の評価
メルトインデックス（ＭＩ）は、一定温度で溶融した有機高分子材料を規定の長さと径の円形ダイから一定荷重で押し出すとき、１０分間の流量を質量（ｇ単位）で表した数値であり、溶融粘度の指標として使われている。セルロースエステルの場合その数値が大きいほど加工安定性がよく、小さいほど加工安定性が悪いと考えられ、また、ＭＩを繰り返し測定することにより、その数値の変動の少ない場合にＭＩ保持効果が大きく、加工安定性に優れているとされる。１回目のペレット及び４回目のペレットを用いてＪＩＳ−Ｋ７２１０に準じてメルトインデックス（ＭＩ）を測定した。測定温度は２３０℃、測定荷重は２１．２Ｎとした。【０１９６】
（３）着色の評価
添加剤を有機高分子材料に練り込んだ場合、変色度の尺度として黄色度（ＹＩともいう。）も一般的に広く用いられている。黄色度（ＹＩ）はカラーメーターにより測定し、数値の大きいほど変色度または着色度が大きいことを示し、小さいほど加工時の着色が少なく優れているとされている。１回目のペレット及び４回目のペレットを用いて作製したフィルムについてＪＩＳＫ７１０３に従って黄色度（ＹＩ値）を測定し、その差を求めた。【０１９７】
（４）リターデーションの変動係数（ＣＶ）の評価
ペレット作製回数が１回のセルロースエステルフィルム試料について、幅手方向に１ｃｍ間隔で３次元方向の屈折率を測定した。下記式より得られたリターデーションの変動係数（ＣＶ）で表したものである。【０１９８】
測定は、自動複屈折計ＫＯＢＵＲＡ・２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で波長が５９０ｎｍにおいて、行われ、得られた測定値を下式(a)、（ｂ）に代入して、面内リターデーションＲｏ、厚み方向リターデーションＲｔを求めた。
式（a）
面内リターデーションＲｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ｂ）
厚み方向リターデーションＲｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
ここに、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）、ｎｘはフィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう、ｎｙはフィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率、ｎｚは厚み方向におけるフィルムの屈折率である。得られた面内及び厚み方向のリターデーションをそれぞれ（ｎ−１）法による標準偏差を求めた。面内及び厚み方向のリターデーションの変動係数（ＣＶ）下記式から求めた。ｎとしては１３０〜１４０に設定した。【０１９９】
リターデーション（面内及び厚み方向）の変動係数（ＣＶ）
＝リターデーションの標準偏差／リターデーションの平均値
得られたリターデーション（面内及び厚み方向）の変動係数（ＣＶ）は、次の評価基準で評価された。
◎：変動係数（ＣＶ）が１．５％未満、実用上、優れたレベルである。
○：変動係数（ＣＶ）が１．５％以上５％未満、実用上の最低許容範囲である。
△：変動係数（ＣＶ）が５％以上、１０％未満、実用上問題が発生する可能性のあるレベルである。
×：変動係数（ＣＶ）が１０％以上、実用不能のレベルである。【０２００】
（５）透明性の評価
ペレット作製回数が１回のセルロースエステルフィルム試料について、ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を用いて測定した結果から、試料の厚さが８０μｍの場合のヘイズの値に換算して表示した。評価は、ヘイズが０．５％未満を◎、０．５〜１．０％未満を○、１．０〜１．５未満を△、１．５〜２．０％未満を×、２．０％以上を××とした。【０２０１】
【表３】
2007066519.tif 000026
【０２０２】
表３から、本発明の試料は、比較例の試料に対して加工安定性、着色、リターデーションの変動係数（ＣＶ）、ヘイズが良く、透明性に優れ、その結果光学的に優秀であることが明らかとなった。【０２０３】
実施例２
〔塗設用組成物の調製〕
（帯電防止層塗布組成物（１））
ポリメチルメタアクリレート（重量平均分子量５５万、Ｔｇ：９０℃）０．５部
プロピレングリコールモノメチルエーテル６０部
メチルエチルケトン１６部
乳酸エチル５部
メタノール８部
導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（０．１〜０．３μｍ粒子）０．５部
（ハードコート層塗布組成物（２））
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体６０部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体２０部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分２０部
ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤６部
シリコーン系界面活性剤１部
プロピレングリコールモノメチルエーテル７５部
メチルエチルケトン７５部
（カール防止層塗布組成物（３））
アセトン３５部
酢酸エチル４５部
イソプロピルアルコール５部
ジアセチルセルロース０．５部
超微粒子シリカ２％アセトン分散液（アエロジル：２００Ｖ）（日本アエロジル（株）製）０．１部【０２０４】
【化２３】
2007066519.tif 000027
【０２０５】
下記に従って、機能付与した偏光板保護フィルムを作製した。【０２０６】
〔偏光板保護フィルム〕
延伸比率を縦１．２×横２．０とした以外は、実施例１のセルロースエステルフィルム試料３と同様にして作製した試料５３の片面に、カール防止層塗布組成物（３）をウェット膜厚１３μｍとなるようにグラビアコートし、乾燥温度８０±５℃にて乾燥させた。これを試料５３Ａとする。このセルロースエステルフィルムのもう１方の面に帯電防止層塗布組成物（１）を２８℃、８２％ＲＨの環境下でウェット膜厚で７μｍとなるようにフィルムの搬送速度３０ｍ／ｍｉｎで塗布幅１ｍで塗布し、次いで８０±５℃に設定された乾燥部で乾燥して乾燥膜厚で約０．２μｍの樹脂層を設け、帯電防止層付きセルロースエステルフィルムを得た。これを試料５３Ｂとする。【０２０７】
さらにこの帯電防止層の上にハードコート層塗布組成物（２）をウェット膜厚で１３μｍとなるように塗設し、乾燥温度９０℃にて乾燥させた後、紫外線を１５０ｍＪ／ｍ2となるように照射して、乾燥膜厚で５μｍのクリアハードコート層を設けた。これを試料５３Ｃとする。【０２０８】
得られた光学フィルム試料５３Ａ、試料５３Ｂ、試料５３Ｃは共にブラッシングを起こすこともなく、乾燥後の亀裂の発生も認められず、塗布性は良好であった。【０２０９】
実施例１で作製した本発明試料３を、本発明試料５、７、９、１３、１５、２１、２９、３５，３９、４３、４７に変更した以外は全く上記方法と同様にして、本発明試料５５(A、Ｂ、Ｃ)、５７(A、Ｂ、Ｃ)、５９(A、Ｂ、Ｃ)、６３(A、Ｂ、Ｃ)、６５(A、Ｂ、Ｃ)７１(A、Ｂ、Ｃ)、７９(A、Ｂ、Ｃ)、８５(A、Ｂ、Ｃ)、８９(A、Ｂ、Ｃ)、９３(A、Ｂ、Ｃ)、９７(A、Ｂ、Ｃ)を作製した結果、いずれも良好な塗布性が確認された。【０２１０】
比較として、実施例１で作製した試料１、２５、３３、４１を用い同様の方法で塗布を行った。【０２１１】
カール防止層塗布組成物（３）を塗布したものを試料５１Ａ、７５Ａ、８３Ａ、９１Ａ、さらに帯電防止層塗布組成物（１）を塗布したものを試料５１Ｂ、７５Ｂ、８３Ｂ、９１Ｂ、さらにこの帯電防止層の上にハードコート層塗布組成物（２）を塗布したものを試料５１Ｃ、７５Ｃ、８３Ｃ、９１Ｃとした。【０２１２】
その結果、高湿度環境で塗布したとき、試料５１Ａ、７５Ａ、８３Ａ、９１Ａでブラッシングが起こった。また、試料５１Ｂ、７５Ｂ、８３Ｂ、９１Ｂでは乾燥後微細な亀裂が認められることがあり、試料５１Ｃ、７５Ｃ、８３Ｃ、９１Ｃでは乾燥後微細な亀裂が明確に認められた。【０２１３】
〔偏光板の作製〕
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを沃素１質量部、沃化カリウム２質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液に浸漬し、５０℃で４倍に延伸し偏光子を作製した。【０２１４】
本発明の試料３、５、９、１３、２１、２７、３５、４３、４７、比較試料１、２５、２７、４１を、４０℃の２．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で６０秒間アルカリ処理し、さらに水洗乾燥して表面をアルカリ処理した。【０２１５】
前記偏光子の両面に、本発明の試料３、５、９、１３、２１、２７、３５、４３、４７、比較試料１、２５、２７、４１のアルカリ処理面を、完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として両面から貼合し、保護フィルムが形成された本発明の偏光板３、５、９、１３、２１、２７、３５、４３、４７、比較の偏光板１、２５、２７、４１を作製した。【０２１６】
本発明の偏光板は比較の偏光板と比較して光学的、物理的に優れ、良好な偏光度を有する偏光板であった。【０２１７】
〔液晶表示装置とその評価〕
１５型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレーＬＡ−１５２９ＨＭ（ＮＥＣ製）の偏光板を剥がた。次に、上記作製した偏光板を液晶セルのサイズに合わせて断裁し、液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板２枚を偏光板の偏光軸が元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、偏光板を取り替えた１５型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレーを作製し、その表示特性を評価した。その結果、本発明の偏光板を使用した液晶ディスプレーは、比較の偏光板を使用した液晶ディスプレーに比べコントラストも高く、優れた表示性を示した。これにより本発明の偏光板は、液晶ディスプレー等の画像表示装置用の偏光板として優れていることが確認された。
実施例３
〔セルロースエステルフィルム（位相差フィルム）の製造〕
タンブラーミキサーを用いて５分間ドライ混合した表４に記載の化合物を用い、直径２０ｍｍの押し出し機（ダイス設定温度２３０℃）でストランドを押し出し、水冷した後に切断し、ペレットを得た。このペレットを各々２４０℃の溶融温度に加熱溶融した後、Ｔ型ダイより溶融押出成形し、さらに１６０℃において１．２×１．２の延伸比で延伸し、膜厚４０μｍ、幅２．２ｍ、Ｒ ｏ が４５〜５５ｎｍ 、Ｒｔが１２０〜１３５ｎｍの範囲に収まるような位相差フィルムを作成した。【０２１８】
使用した化合物の詳細を以下に示す。その他の化合物は前記記載されているものを使用した。【０２１９】
（セルロースエステル）
ＣＥ−４：セルロースアセテートプロピオネート、アセチル基置換度＝１．３８、プロピオニル置換度＝１．３０、総置換度＝２．６８、重量平均分子量＝２１万（ポリスチレン換算）、分散度＝２．９
ＣＥ−５：セルロースアセテートプロピオネート、アセチル置換度＝１．３１、プロピオニル置換度＝１．２３、総置換度＝２．５４、重量平均分子量＝２０万（ポリスチレン換算）、分散度＝２．９
（亜リン酸エステル）
化合物３：【０２２０】
【化２４】
2007066519.tif 000028
【０２２１】
（可塑剤）
Ｋ−３：【０２２２】
【化２５】
2007066519.tif 000029
【０２２３】
（紫外線吸収剤）
ＵＶ−１：【０２２４】
【化２６】
2007066519.tif 000030
【０２２５】
ＵＶ−２：【０２２６】
【化２７】
2007066519.tif 000031
【０２２７】
ＵＶ−３：【０２２８】
【化２８】
2007066519.tif 000032
【０２２９】
【表４】
2007066519.tif 000033
【０２３０】
添加量はセルロースエステル１００質量部に対する質量部を表す。
〔セルロースエステルフィルムの評価〕
以上のようにして作成した試料について、以下に記載したような評価を行なった。その結果を表５に示す。【０２３１】
（１）加工安定性劣化の評価
作成したペレットをＪＩＳ−Ｋ７２１０に準じてメルトインデックス（ＭＩ）を測定した。測定温度は２３０℃、測定荷重は２１．２Ｎとした。【０２３２】
（２）着色の評価（ＹＩ測定）
日立ハイテクノロジーズ社製分光光度計Ｕ−３３１０を用いて、作成したセルロースエステルフィルムの吸収スペクトルを測定し、三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを算出した。この三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚから、ＪＩＳ−Ｋ７１０３に基づいて黄色度ＹＩを算出した。【０２３３】
得られた黄色度ＹＩは、次の評価基準で評価された。
７：０．８未満
６：０．８以上１．０未満
５：１．０以上１．５未満
４：１．５以上２．０未満
３：２．０以上３．０未満
２：３．０以上４．０未満
１：４．０以上
（３）リターデーションの変動係数（ＣＶ）の評価
作成したセルロースエステルフィルム試料について、実施例１と同様にして、厚み方向のリターデーション（Ｒｔ）の変動係数（ＣＶ）を求めた。  得られた厚み方向のリターデーション（Ｒｔ）の変動係数（ＣＶ）は、次の評価基準で評価された。【０２３４】
７：（ＣＶ）が１．５％未満、実用上非常に優れたレベルである。【０２３５】
６：（ＣＶ）が１．５％以上２．０％未満、実用上優れたレベルである。【０２３６】
５：（ＣＶ）が２．０％以上５．０％未満、実用上問題のないレベルである。【０２３７】
４：（ＣＶ）が５．０％以上６．０％未満、実用上の最低許容範囲である。【０２３８】
３：（ＣＶ）が６．０％以上８．０％未満、実用上問題が発生する可能性のあるレベルである。【０２３９】
２：（ＣＶ）が８．０％以上、１０％未満、実用上問題が発生する可能性のあるレベルである。【０２４０】
１：（ＣＶ）が１０％以上、実用上問題が発生するレベルである。【０２４１】
（４）透明性の評価
作成したセルロースエステルフィルム試料について、ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を用いて測定した結果から、試料の厚さが８０μｍの場合のヘイズの値に換算して表示した。
得られた透明性は、次の評価基準で評価された。
５：ヘイズが０．５％未満
４：ヘイズが０．５〜１．０％未満
３：ヘイズが１．０〜１．５％未満
２：ヘイズが１．５〜２．０％未満
１：ヘイズが２．０％以上
結果を表５に示す。【０２４２】
【表５】
2007066519.tif 000034
【０２４３】
表５から、本発明の試料は、比較例の試料に対して加工安定性、着色、リターデーション変動、ヘイズが良く、透明性に優れ、位相差フィルムとしても優秀な性能を有することが確認された。【０２４４】
特に添加剤として特定の構造をもつホスホナイト化合物、ヒンダードフェノール系化合物、及び特定の構造を有する炭素ラジカル捕捉剤の併用が好ましい相乗効果をもたらし、性能が向上することが明らかとなった。
【国際調査報告】
2007066519.tif 000037
2007066519.tif 000038