【事件の表示】
　特願２０１６−　７２８２０「容器内清浄化装置および清浄化方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２９年１０月　５日出願公開，特開２０１７−１８３６５４，請求項の数（８）〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は，特許すべきものとする。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は，平成２８年３月３１日の出願であって，令和元年１１月１８日付けで拒絶理由通知がされ，令和２年３月２４日付けで意見書が提出されるとともに手続補正がされ，同年９月１日付けで拒絶査定（原査定）がされ，これに対し，同年１２月８日に拒絶査定不服審判の請求がされると同時に手続補正がされたものである。
第２　原査定の理由の概要
　原査定（令和２年９月１日付け拒絶査定）の理由の概要は次のとおりである。
　本願の請求項１〜８に係る発明は，以下の引用文献１，２に記載された発明及び周知技術（引用文献３，４，５）に基づいて，その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下，「当業者」という。）が容易に発明できたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　引用文献等一覧
１.特開２００９−１６４３６９号公報
２.特開２００９−２３９００６号公報
３.特開２０１０−７２６２４号公報
４.特開２０１４−２７２５８号公報
５.特開平６−１７７０５３号公報
第３　本願発明
　本願請求項１〜８に係る発明（以下，それぞれ「本願発明１」〜「本願発明８」といい，まとめて「本願発明」ともいう。）は，令和２年１２月８日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された事項により特定される発明であり，本願発明１は以下のとおりの発明である。
「【請求項１】
　ＥＦＥＭや処理室を有する処理装置とは別途設置され，ウエハを取り出し可能な容器主開口を有するウエハ搬送容器内を清浄化する容器内清浄化装置であって，
　前記ウエハ搬送容器を載置する載置部と，
　ウエハを搬送する搬送ロボットが配置されておらず，ミニエンバイロメントや処理室へ繋がるドアが形成されておらず，前記容器主開口に接続する装置開口を備える清浄化室と，
　前記容器主開口を閉鎖する蓋および前記装置開口を閉鎖するドアを開閉し，前記ウエハ搬送容器内と前記清浄化室とを連通させる開閉機構と，
　前記清浄化室の上部に配置され，前記清浄化室の下方に向かって，クリーンドライエアーと不活性ガスとを切り替えて放出可能な第１のガス放出手段と，
　前記清浄化室内に配置され，前記装置開口に向かって不活性ガスを放出可能な第２のガス放出手段と，
　を有し，
　前記第１のガス放出手段は，クリーンドライエアーと不活性ガスとの共通の放出口を有しており，前記放出口は，クリーンドライエアーと不活性ガスとを切り替えて放出する容器内清浄化装置。」
　なお，本願発明２〜６は，本願発明１を減縮した発明であり，本願発明７は，本願発明１の方法に対応する発明であり，本願発明８は，本願発明７を減縮した発明である。
第４　引用文献，引用発明等
１　引用文献１について
（１）引用文献１の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献１（特開２００９−１６４３６９号公報）には，図面とともに次の事項が記載されている（下線は当審が付した。以下，同様である。）。
ア　「【技術分野】
【０００１】
　
本発明は，半導体製造プロセス等において，ポッドと呼ばれる搬送容器に内部保持された被収容物たる例えばウエハを半導体処理装置間にて移送する際に用いられる所謂FIMS（Front-Opening Interface Mechanical Standard）システムと，半導体処理装置等との間において被収容物の搬送を行う被収容物搬送システムに関する
イ　「【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
　半導体素子の小型化・高性能化に伴って，従来はそれほど問題とならなかった，ポッド内部に侵入した酸素等による酸化が留意され始めている。これら酸化性の気体は，ウエハ表面或いはウエハ上に形成された各種層に極薄の酸化膜を形成する。このような酸化膜の存在により，微細半導体素子が所望の特性を確保できない可能性が出てきている。対策として，酸素分圧等が制御されていない気体の，ポッド外部からポッド内部への侵入を抑制することが考えられる。具体的な方法として，特許文献２には，FIMSシステムにおけるポッドの開口に隣接する領域に気体の供給ノズルと吸引ノズルとを設けてポッド開口を略閉鎖する気流膜を形成する構成が示されている。当該気流膜の形成により，外部気体のポッド内部への侵入を防止している。
【０００９】
　しかしながら，移載ロボットが配置される所謂微小空間に対しては，フィルタを介して単に塵等の管理が為された通常の空気の供給しか行われていない。従って，ウエハをポッドから搬出する際或いはポッドに搬入する際には，ウエハは常に酸化性気体の管理が為されていない環境下を通過することとなってしまう。実際には，この搬送操作は極短時間で行われる操作であり，現状の半導体製造工程においては大きな問題となっていない。しかし，例えば結露といった現象のように水分等は短時間であってもウエハ表面に付着可能であり，一旦付着した場合には各種薄膜の酸化を抑制することは困難である。
【００１０】
　本発明は，以上の背景に鑑み，
ポッド解放後及びウエハの搬送時においても，ウエハが存在する空間における酸素等酸化性の気体の分圧を所定の低いレベルに抑制することを可能とする，被収容物たるウエハの搬送システムを提供すること
ウ　「【発明を実施するための最良の形態】
・・・
【００１８】
　本発明に係る
ウエハ搬送システム１は，ポッド２がローディングされる載置台５，第一の室１１及び当該第一の室に付随する構成，第二の室３１及び当該第二の室に付随する構成，及びこれら構成をからの情報を集約し且つこれら構成を制御する制御装置５５を含む
第一の室１１は，第一の隔壁１３，第一の開口部１５，第一のドア１７，FFU（ファンフィルタユニット）１９，第一の不活性ガス供給系２１，FFUシャッター２３，及び第一の排気ポート２５を有する
第二の室３１は，第二の隔壁３３，第三の隔壁３５，第二の開口部３７，第二のドア３９，第二の不活性ガス供給系４１，及び搬送用ロボット４３を有する
第三の隔壁３５は，不図示の処理室と処理室ドア４５を介して連通可能な第三の開口部４７が設けられている
【００１９】
　載置台５は，上面に載置されるポッド２を所定位置に固定可能となるように，ポッド下面に配置される構成との協働が可能な例えばピン等からなる位置決め手段６，及びクランプ部材からなる固定手段７を有する。
ポッド２は
載置台上に載置される
【００２０】
　
第一の開口部１３は，ポッド２の開口を閉鎖する蓋が通過可能であって
第一のドア１７は，第一の開口部１３を略閉鎖する初期状態と，当該開口部１３を完全に開放する収容状態との間で移動可能である
初期状態においてポッド２の蓋が第一のドア１７と当接すると，当該ドア１７はこの蓋を保持し，載置台５上に固定されるポッド２より蓋を分離し，当該蓋と共に収容位置に後退する
より詳細には当該ドア１７は，蓋の分離及び再装着において図中矢印Ｃに示す動作を為し，蓋を分離した状態から図中矢印Ｄの方向に沿った動作を為して収容位置に移動する。これら矢印Ｃ及びＤに示される方向に沿った動作は，第一のドア１７と接続される第一のドア駆動機構１６によって為される
【００２１】
　
第一の室１１の上面にはFFU１９が配置されており
【００２２】
　第一の室１１は，更にFFUシャッター２３及び第一の不活性ガス供給系２１を有する。FFUシャッター２３にはシャッター駆動機構２４が付随する。該シャッター駆動機構２４は，第一の室１１の内部空間に影響を与えない収容位置と，FFU１９の下方に移動して第一の室１１に対してFFU１９を空間的に分離する閉鎖位置との２位置の間で，FFUシャッター２３を図中矢印Ｅに沿った方向に移動する。
第一の不活性ガス供給系２１は，FFU１９と同様に第一の室１１の上部に配置される
【００２３】
　通常
FFUは下方空間に対してクリーンエアを供給する
FFU１９によるダウンフロー
ウエハの搬送操作に際して，制御装置５５は，FFU１９からの清浄空気の供給を停止する
更に，制御装置５５は，第一の不活性ガス供給系２１からFFU１９と同等の流量での窒素の供給を実施させる
窒素によるダウンフローの形成が可能となる
エ　「【図１Ａ】
【図１Ｂ】
」
（２）引用文献に記載された発明
　前記（１）ウの記載事項によれば，引用文献１には，以下の発明（以下，「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。
　「ポッド２がローディングされる載置台５，
　第一の隔壁１３，第一の開口部１５，第一のドア１７，FFU（ファンフィルタユニット）１９，第一の不活性ガス供給系２１，FFUシャッター２３，及び第一の排気ポート２５を有する第一の室１１，
　第二の隔壁３３，第三の隔壁３５，第二の開口部３７，第二のドア３９，第二の不活性ガス供給系４１，及び搬送用ロボット４３を有する第二の室３１，
　及びこれら構成からの情報を集約し且つこれら構成を制御する制御装置５５を含み，
　前記第三の隔壁３５は，処理室と処理室ドア４５を介して連通可能な第三の開口部４７が設けられており，
　前記第一の開口部１５は，前記ポッド２の開口を閉鎖する蓋が通過可能であり，
　前記第一のドア１７は，前記第一の開口部１５を略閉鎖する初期状態と，当該開口部１５を完全に開放する収容状態との間で移動可能であり，
　前記初期状態において前記ポッド２の蓋が前記第一のドア１７と当接すると，当該ドア１７はこの蓋を保持し，前記載置台５上に固定されるポッド２より蓋を分離し，当該蓋と共に前記収容位置に後退し，これらの動作は，前記第一のドア１７と接続される第一のドア駆動機構１６によって為され，
　前記FFU１９及び前記第一の不活性ガス供給系２１は，前記第一の室１１の上部に配置されており，前記FFU１９から供給されるクリーンエアによりダウンフローが形成され，前記第一の不活性ガス供給系２１から供給される窒素によりダウンフローが形成され，
　ウエハの搬送操作に際して，前記制御装置５５は，前記FFU１９からのクリーンエアの供給を停止し，更に，前記第一の不活性ガス供給系２１から前記FFU１９と同等の流量での窒素の供給を実施するウエハ搬送システム１。」
２　引用文献２について
（１）引用文献２の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された引用文献２（特開２００９−２３９００６号公報）には，図面とともに次の事項が記載されている。
ア　「【技術分野】
【０００１】
　本発明は，半導体製造プロセス等において，シリコンウエハ等を半導体処理装置間にて移送する際に用いられる密閉容器の蓋開閉装置及び方法に関する。より詳細には，該密閉容器はシリコンウエハを収容して当該装置間での該ウエハの搬送に供せられる容器であって，本発明は当該容器の蓋の開閉を行うための装置，当該開閉装置を用いた該容器内部のガスを置換するガス置換装置，及び当該容器からウエハを取り出すために該容器から蓋を取り外し且つ該容器内部に対するシリコンウエハの搬入搬出を可能とする，ロードポート装置たる所謂FIMS（Front-Opening Interface Mechanical Standard）システムに関する。」
イ　「【００２０】
　本発明の一実施形態に係る
ガス置換装置２０は
ポッド１に対して，蓋３を取り外すと共に当該ポッド内部に封入された気体を新鮮且つ清浄な窒素に置き換える装置である
ガス置換装置２０は，ポッド本体２ａを支持するポッドテーブル２２，パージ用室２１を構成する筐体２３，パージ用室２１内部に配置される第一のガスノズル２５及び第二のガスノズル２７，及び筐体２３に設けられた筐体開口２３ａを閉鎖可能なチャンバープレート２９を含んで該プレート２９を駆動するプレート駆動機構３７を有している
【００２１】
　
第一のガスノズル２５はパージ用室２１の天井部分に配置され，当該室の上面から下面に対してパージ用の不活性ガスである窒素ガスの流れを形成可能となるように構成される
第二のガスノズル２７は
パージ用室２１とポッド２本体内部とが連通した状態においてポッド本体２内部に対して直接的に不活性ガスを供給可能となるようにガス供給方向が設定されている
ウ　「【図１】
」
（２）引用文献２に記載された発明
　前記（１）イの記載によれば，引用文献２には，以下の発明（以下，引用発明２」という。）が記載されていると認められる。
　「ポッド１に対して，蓋３を取り外すと共に当該ポッド内部に封入された気体を新鮮且つ清浄な窒素に置き換える装置であって，
　ポッド本体２ａを支持するポッドテーブル２２，パージ用室２１を構成する筐体２３，パージ用室２１内部に配置される第一のガスノズル２５及び第二のガスノズル２７，及び筐体２３に設けられた筐体開口２３ａを閉鎖可能なチャンバープレート２９を含んで該プレート２９を駆動するプレート駆動機構３７を有し，
　前記第一のガスノズル２５は前記パージ用室２１の天井部分に配置され，当該パージ用室の上面から下面に対してパージ用の不活性ガスである窒素ガスの流れを形成可能となるように構成され，
　第二のガスノズル２７は，前記パージ用室２１と前記ポッド２本体内部とが連通した状態において前記ポッド本体２内部に対して直接的に不活性ガスを供給可能となるようにガス供給方向が設定されるガス置換装置２０。」
３　引用文献３について
　原査定の拒絶の理由に周知技術として引用された引用文献３（特開２０１０−７２６２４号公報）には，図面とともに次の事項が記載されている。
ア　「【技術分野】
【０００１】
　本発明は，レチクル収納装置およびレチクル保管方法に関する。」
イ　「【００２０】
　本実施形態のレチクル収納装置１０は，ストッカ２０内の状態を検知する検出部（酸素濃度計６７）と，検出部（酸素濃度計６７）の検知結果に基づいてガス流路３０を通じてストッカ２０内に供給されるガスを第一ガス（窒素ガス）と第二ガス（乾燥空気）とに交互に切り替える制御部６０と，をさらに備えている。
【００２１】
　より具体的には，本実施形態の検出部は，ストッカ２０内の第一ガス（窒素ガス）または第二ガス（乾燥空気）の濃度を検知する酸素濃度計６７である。
【００２２】
　ここで，検出部が第一ガスまたは第二ガスの濃度を検知するとは，第一ガスまたは第二ガスに含有される特定の成分の濃度を検知して，第一ガスまたは第二ガスの濃度に換算することを含む。すなわち，本実施形態のように，酸素濃度計６７によってストッカ２０内の酸素濃度を検知して，乾燥空気（第二ガス）の濃度を比例演算によって検出してもよい。
【００２３】
　酸素濃度計６７と制御部６０とは，信号線６９によって電気的に接続されている。なお，酸素濃度計６７は，ガス流路３０の開口端とは離間した位置，具体的にはストッカ２０の収納部２２における互いに異なる内壁面に設けられるとよい。これにより，収納部２２に流入するパージガスの影響を受けず，収納部２２の内部の酸素濃度を酸素濃度計６７によって正確に測定することができる。
【００２４】
　酸素濃度計６７はストッカ２０内における酸素濃度を所定の時間間隔で測定し，信号線６９を通じて検出信号を制御部６０に送信する。
　制御部６０は，検出信号に基づいて，ストッカ２０内における酸素濃度および乾燥空気（第二ガス）の濃度を検知する。乾燥空気中の酸素濃度は既知であり，具体的には約２０％で一定であることから，制御部６０は，酸素濃度計６７からの検出信号（酸素濃度値）に基づいて，ストッカ２０内における乾燥空気（第二ガス）の濃度を容易に演算することができる。
【００２５】
　ガス流路３０の具体的な切り替え動作は以下のようにして行う。すなわち，開閉弁４２，４４，４６は電磁弁であり，それぞれ制御部６０と信号線６２，６４，６６により接続されている。
　そして，制御部６０は，開閉弁４２，４４，４６の開閉を切り換えることにより，窒素ガスと乾燥空気とによってストッカ２０を交互にパージする。具体的には，第一パージ工程として，制御部６０は開閉弁４２と開閉弁４６に対して開放命令を送信する。開閉弁４２，４６が開放されると，ストッカ２０内の初期空気は排気口３８より排気され，ストッカ２０内に第一ガス容器５０より窒素ガスが供給される。なお，開閉弁４４は閉止しておく。開閉弁４６を開放してストッカ２０より初期空気の排気を開始するタイミングと，開閉弁４２を開放してストッカ２０に窒素ガスを供給するタイミングについては，互いに同時でもよく，相違してもよい。ストッカ２０の内圧を所定に保持する観点からは，両者をほぼ同時とするとよい。
【００２６】
　所定時間の排気および給気がおこなわれたところで，制御部６０は開閉弁４６と開閉弁４２に対してそれぞれ閉止命令を送信する。窒素ガスによるパージ時間は，予め制御部６０に設定された時間に亘っておこなってもよく，または，ストッカ２０の内圧を制御部６０で検知して所定の内圧となった時点で開閉弁４６と開閉弁４２を個別に閉止してもよい。制御部６０でストッカ２０の内圧を検知する場合には，ストッカ２０内に設置した圧力センサ（図示せず）の出力信号を，図示しない信号線を通じて制御部６０に取り込むとよい。」
ウ　「【図１】
」
４　引用文献４について
　原査定の拒絶の理由に周知技術として引用された引用文献４（特開２０１４−２７２５８号公報）には，図面とともに次の事項が記載されている。
ア　「【技術分野】
【０００１】
　本発明は，半導体製造プロセス等において，ポッドと呼ばれる密閉型の搬送容器の内部に保持されたウエハを半導体処理装置に移載する，或いはウエハを該半導体処理装置より該ポッドに移載する際に用いられる所謂FIMS（Front-Opening Interface Mechanical Standard）システム，即ちロードポート装置に関する。また，本発明は該ロードポート装置を用いたＥＦＥＭ（Equipment front end module，以下ＥＦＥＭと称する。）システムにも関する。」
イ　「【００１９】
　ポッド搬入モードでは，ポッド１における蓋の開閉をロードポート装置１０３で行う直前であって，ドア１９によって開口部１５を開放した際に開口部１５前の雰囲気における酸素濃度を予め低下させる操作が行われる。即ち，ポッド１を開放した場合に酸化性雰囲気がその内部に収容されたウエハに対して影響する恐れが低い低濃度が，酸素濃度の閾値２として選択される。なお，急激な不活性ガス供給を停止した場合に例えば気体が淀む空間等からの酸素の流出の恐れがあることから，この閾値２は実際に影響が無いとされる濃度よりもより低い値に設定される。また，雰囲気における酸素濃度を急激に低下させる必要があることから，不活性ガス流量は最も大きくなるように設定される。なお，このポッド搬入モードでは酸素濃度の細かく管理する必要があることから，当該操作の実行時間を規定するタイマは最も短いタイマ２に設定される。」
ウ　「【００３８】
　次に，ＥＦＥＭシステム１００に対して実際にポッド１を載置してこれに収容されるウエハを取出す工程について，各々の工程での装置状態を模式的に示す図８を用いて説明する。図８は，図５に示したＥＦＥＭシステム１００について，ＥＦＥＭ部１０１及び３台のロードポート装置１０３からなる構成において３個のポッド１を開放する操作の各々の工程を簡略化して示している。図８Ａは，ポッド１はまだ搬送されてきておらず，ＥＦＥＭ部１０１は上限閾値１を選択した前述したアイドルモードにあり，且つロードポート装置１０３におけるガスパージは停止された状態にある。この状態ではアイドルモードによりＥＦＥＭ部１０１内での酸素濃度が所定の濃度範囲内となるように窒素流量の制御が為され，酸素濃度が低下して閾値以下となったことにより下限閾値３を用いる維持モードに移行する。この状態からポッド１の載置−蓋の取り外しによる開放，が実行される。」
エ　「【図８】
」
５　引用文献５について
　原査定の拒絶の理由に周知技術として引用された引用文献５（特開平６−１７７０５３号公報）には，図面とともに次の事項が記載されている。
ア　「【０００９】ロードロック室Ｂを純窒素ガスで大気遮断するには，図２で二点鎖線で示されるように，内外の各ドア５ａ，５ｂを閉じると共に，空気供給路２０の切換弁１５を閉じておいて，純窒素ガス供給路１０の切換弁１２を開いて，所定の圧力の純窒素ガスをロードロック室Ｂの小室７に連続供給する。このようにして，空気で充満されているロードロック室Ｂに純窒素ガスが供給されると，この純窒素ガスは空気中に拡散して混合すると同時に，純窒素ガスの供給圧によって内部の空気は底部の搬出穴１６及び排出ホース１７を通って装置外部に排出される。このロードロック室Ｂの容積は小さく（0.1〜0.15ｍ3程度），しかも供給当初における純窒素ガスの供給量を多くすれば，短時間のうちにロードロック室Ｂ内の空気は全て排出されて，純窒素ガスと置換されて，このロードロック室Ｂは，純窒素ガスで充満されてほぼ無酸素状態となる。主室Ａの酸素濃度は，１０ppm程度であるのに対して，ロードロック室Ｂの酸素濃度は２０ppm程度となるようにしてある。そして，ロードロック室Ｂの酸素濃度が上記値に達したと推定される時間を見計らって，純窒素ガスの単位時間当りの供給量を少なくして，連続供給し続ける。これによって，ロードロック室Ｂの窒素ガスは，その供給圧により底部の排出穴１６を通って，その供給量に対応した量だけ排出され続けて，上記した酸素濃度が維持されて，大気遮断状態が維持される。このようにして，ロードロック室Ｂが純窒素ガスによりロードロックされたならば，図２で実線で示されるように，内側のドア５ｂを開閉させて，主室Ａとロードロック室Ｂとの間において，ウェハキャリアの出し入れを行うことができる。
【００１０】一方，ロードロック室Ｂと装置外部との間において，ウェハキャリアの出し入れを行う場合には，図３に示されるように，双方のドア５ａ，５ｂを閉じて，切換弁１２を閉じることによって純窒素ガスの供給を絶ち，この状態でモータＭによって送風機１３を作動させて，小室７及びフィルター８を介してロードロック室Ｂに大量の空気を供給する。これにより，ロードロック室Ｂ内の純窒素ガスは，短時間のうちにその全てが底部の排出穴１６及びホース１７を通って外部に排出されて，空気と置換される。その後に，図４に示されるように，外側のドア５ａを開いて，ロードロック室Ｂと装置外部との間においてウェハキャリアの出し入れを行う。」
イ　「【図２】
【図３】
」
第５　対比・判断
１　本願発明１について
（１）対比
ア　本願発明１と引用発明１とを対比する。
（ア）引用文献１の前記第４　１（１）アの記載によれば，ポッドは，内部に被収容物たる例えばウエハが保持される搬送容器であるから，引用発明１の「ポッド２」は，本願発明１の「ウエハ搬送容器」に相当する。そして，引用発明１の「ポッド２の開口」は，内部に保持されているウエハを取り出し可能であることは明らかであるから，本願発明１の「ウエハを取り出し可能な容器主開口」に相当する。
　また，引用文献１の第４　１（１）ウの【００１９】の記載によれば，ポッド２は載置台上に載置されるものであるから，引用発明１の「ポッド２がローディングされる載置台５」は，本願発明１の「ウエハ搬送容器を載置する載置部」に相当する。
（イ）引用発明１の「第一の室１１」は「第一の開口部１５」及び「第一のドア１７」を有するものであるところ，「前記第一の開口部１５は，前記ポッド２の開口を閉鎖する蓋が通過可能であり，前記第一のドア１７は，前記第一の開口部１５を略閉鎖する初期状態と，当該開口部１５を完全に開放する収容状態との間で移動可能であ」るから，引用発明１の「第一の室１１」は，「ポッド２の開口」に接続する「第一の開口部１５」を備えているといえる。
　また，引用発明１の「第一の室１１」には，ウエハを搬送する搬送ロボットは配置されていない。
　そうすると，引用発明１の「ポッド２の開口」に接続する「第一の開口部１５」を備える「第一の室１１」と，本願発明１の「ウエハを搬送する搬送ロボットが配置されておらず，前記容器主開口に接続する装置開口を備える清浄化室」とは，「ウエハを搬送する搬送ロボットが配置されておらず，前記容器主開口に接続する装置開口を備える」「室」である点で共通する。
（ウ）引用発明１の「前記ポッド２の開口を閉鎖する蓋」は，本願発明１の「容器主開口を閉鎖する蓋」に相当する。また，引用発明１の「前記第一のドア１７」は，「前記第一の開口部１５を略閉鎖する」ものであるから，本願発明１の「前記装置開口を閉鎖するドア」に相当する。
　そして，引用発明１は，「前記初期状態において前記ポッド２の蓋が前記第一のドア１７と当接すると，当該ドア１７はこの蓋を保持し，前記載置台５上に固定されるポッド２より蓋を分離し，当該蓋と共に前記収容位置に後退し，これらの動作は，前記第一のドア１７と接続される第一のドア駆動機構１６によって為され」るものであるから，「第一のドア駆動機構１６」は，「ポッド２の蓋」及び「第一のドア１７」を開閉し，「ポッド２」と「第一の室１１」を連通させるものであるといえる。
　そうすると，引用発明１の「ポッド２の蓋」及び「第一のドア１７」を開閉し，「ポッド２」と「第一の室１１」を連通させる「第一のドア駆動機構１６」は，本願発明１の「開閉機構」と，「前記容器主開口を閉鎖する蓋および前記装置開口を閉鎖するドアを開閉し，前記ウエハ搬送容器内と前記」「室とを連通させる開閉機構」である点で共通する。
（エ）引用発明１は，「前記FFU１９及び前記第一の不活性ガス供給系２１は，前記第一の室１１の上部に配置されており，前記FFU１９から供給されるクリーンエアによりダウンフローが形成され，前記第一の不活性ガス供給系２１から供給される窒素によりダウンフローが形成され，ウエハの搬送操作に際して，前記制御装置５５は，前記FFU１９からのクリーンエアの供給を停止し，更に，前記第一の不活性ガス供給系２１から前記FFU１９と同等の流量での窒素の供給を実施する」ものであるから，引用発明１の「前記FFU１９及び前記第一の不活性ガス供給系２１」は，前記第一の室１１の上部に配置され，クリーンエアと窒素ガスとを切り替えて放出可能であるといえる。
　そうすると，引用発明１の「前記FFU１９及び前記第一の不活性ガス供給系２１」と，本願発明１の「前記清浄化室の上部に配置され，前記清浄化室の下方に向かって，クリーンドライエアーと不活性ガスとを切り替えて放出可能な第１のガス放出手段」とは，「室の上部に配置され，前記」「室の下方に向かって，クリーンドライエアーと不活性ガスとを切り替えて放出可能な第１のガス放出手段」である点で共通する。
（オ）前記（ア）〜（エ）を参照すると，引用発明１の「ウエハ搬送システム１」と本願発明１の「容器内清浄化装置」は，「装置」である点で共通する。
（カ）以上から，本願発明１と引用発明１との間には，次の一致点，相違点があるといえる。
＜一致点＞
「ウエハを取り出し可能な容器主開口を有するウエハ搬送容器を備える装置であって，
　前記ウエハ搬送容器を載置する載置部と，
　ウエハを搬送する搬送ロボットが配置されておらず，前記主開口に接続する装置開口を備える室と，
　前記容器主開口を閉鎖する蓋および前記装置開口を閉鎖するドアを開閉し，前記ウエハ搬送容器内と前記室とを連通させる開閉機構と，
　前記清浄化室の上部に配置され，前記室の下方に向かって，クリーンドライエアーと不活性ガスとを切り替えて放出可能な第１のガス放出手段と，
　を有する装置。」
　
＜相違点＞
相違点１：本願発明１は，「ＥＦＥＭや処理室を有する処理装置とは別途設置され」る「ウエハ搬送容器内を清浄化する容器内清浄化装置」であるのに対して，引用発明１は，「処理室」を有する，「ウエハ搬送システム１」であって，「ポッド２」内を清浄化する容器内清浄化装置ではない点。
相違点２：「ウエハを搬送する搬送ロボットが配置されておらず，前記容器主開口に接続する装置開口を備える」「室」について，本願発明１は，「ミニエンバイロメントや処理室へ繋がるドアが形成されて」いない「清浄化室」であるのに対して，引用発明１は，「搬送用ロボット４３を有する第二の室３１」へ繋がる「第二のドア３９」が形成されており，清浄化室かどうか不明である点。
相違点３：本願発明１は，「前記清浄化室内に配置され，前記装置開口に向かって不活性ガスを放出可能な第２のガス放出手段」を有しているのに対し，引用発明１は，そのような構成を有していない点。
相違点４：本願発明１は，「前記第１のガス放出手段は，クリーンドライエアーと不活性ガスとの共通の放出口を有しており，前記放出口は，クリーンドライエアーと不活性ガスとを切り替えて放出する」のに対し，引用発明１は，そのような構成を有していない点。
（２）相違点についての判断
ア　相違点１について検討すると，引用発明２は，「ポッド１に対して，蓋３を取り外すと共に当該ポッド内部に封入された気体を新鮮且つ清浄な窒素に置き換える装置」であって，引用文献２の前記第４　２（１）ウの図面を参照すると，他の処理装置とは一緒に設置されるものではないから，相違点１に係る本願発明１の「ＥＦＥＭや処理室を有する処理装置とは別途設置され」る「ウエハ搬送容器内を清浄化する清浄化装置」であるといえる。
イ　一方，引用文献１の前記第４　１（１）ア及びイの記載によれば，引用発明１は，「半導体製造プロセス等において，ポッドと呼ばれる搬送容器に内部保持された被収容物たる例えばウエハを半導体処理装置間にて移送する際に用いられる所謂FIMS（Front-Opening Interface Mechanical Standard）システムと，半導体処理装置等との間において被収容物の搬送を行う被収容物搬送システムに関する」ものであって，「ポッド解放後及びウエハの搬送時においても，ウエハが存在する空間における酸素等酸化性の気体の分圧を所定の低いレベルに抑制することを可能とする，被収容物たるウエハの搬送システムを提供すること」を発明が解決しようとする課題とするものである。
　そうすると，引用発明１の「ウエハ搬送システム１」は，半導体処理装置等の「処理装置」へ，ウエハを搬送することを前提とするものであるから，引用発明２のような，相違点１に係る本願発明１の「ＥＦＥＭや処理室を有する処理装置とは別途設置され」る「ウエハ搬送容器内を清浄化する清浄化装置」とすることには阻害要因がある。
　また，引用文献３〜５には，相違点１に係る本願発明１の「ＥＦＥＭや処理室を有する処理装置とは別途設置され」る「ウエハ搬送容器内を清浄化する清浄化装置」については，記載も示唆もされていない。
ウ　したがって，引用発明１において、相違点１に係る本願発明１の特定事項とすることは、当業者が容易になし得るものとはいえない。
エ　よって，相違点２〜４について判断するまでもなく，本願発明１は，引用文献１，２に記載された発明及び周知技術（引用文献３〜５）に基づいて，当業者が容易に発明できたものとはいえない。
２　本願発明２〜６について
　本願発明２〜６は，いずれも本願発明１の全ての発明特定事項を有しているから，本願発明１と同様の理由により，引用文献１，２に記載された各発明及び周知技術（引用文献３〜５）に基づいて，当業者が容易に発明できたものとはいえない。
３　本願発明７，８について
　本願発明７は，本願発明１に対応する方法の発明であり，本願発明１に対応する発明特定事項を有しているから，本願発明１と同様の理由により，引用文献１，２に記載された各発明及び周知技術（引用文献３〜５）に基づいて，当業者が容易に発明できたものとはいえない。
　また，本願発明８は，本願発明７の全ての発明特定事項を有しているから，本願発明７と同様の理由により，引用文献１，２に記載された各発明及び周知技術（引用文献３〜５）に基づいて，当業者が容易に発明できたものとはいえない。
第６　原査定について
１　理由（特許法第２９条第２項）について
　審判請求時の補正により，本願発明１〜８は，いずれも「ＥＦＥＭや処理室を有する処理装置とは別途設置され」る「ウエハ搬送容器内を清浄化する清浄化装置」という事項を有するものとなっており，前記第５で検討したとおり，拒絶査定において引用された引用文献１，２に記載された各発明及び周知技術（引用文献３）に基づいて，当業者が容易に発明できたものとはいえない。
　したがって，原査定の理由を維持することはできない。
第７　むすび
　以上のとおり，原査定の理由によっては，本願を拒絶することはできない。
　また，他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって，結論のとおり審決する。