(57)【要約】  光学ローパスフィルタは、液晶の層を有する液晶基板から成る。光学ローパスフィルタは、液晶が第１方向に沿って配向された第１液晶部と、液晶が第１方向とは異なる第２方向に沿って配向された第２液晶部とを備える。第１液晶部と第２液晶部とは、液晶基板に交互に繰り返し配置されている。
2008004570.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶の層を有する液晶基板から成る光学ローパスフィルタであって、
前記液晶が第１方向に沿って配向された第１液晶部と、
前記液晶が前記第１方向とは異なる第２方向に沿って配向された第２液晶部とを備え、
前記第１液晶部と前記第２液晶部とは、前記液晶基板に交互に繰り返し配置されている光学ローパスフィルタ。
【請求項２】
請求項１による光学ローパスフィルタにおいて、
前記液晶は、一軸性屈折率楕円体の液晶分子を含む光学ローパスフィルタ。
【請求項３】
請求項２による光学ローパスフィルタにおいて、
前記第１液晶部と前記第２液晶部を透過する直線偏光の位相は、互いに略半波長ずれている光学ローパスフィルタ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項による光学ローパスフィルタにおいて、
前記第１液晶部同士または前記第２液晶部同士の配向方向が互いに直交するように前記光学ローパスフィルタを複数重ねて配置した光学ローパスフィルタ。
【請求項５】
請求項１による光学ローパスフィルタにおいて、
前記第１液晶部は、前記液晶の層が延在する方向に平行な第１の方向に前記液晶が配向しており、
前記第２液晶部は、前記液晶の層が延在する方向において前記第１の方向と直交する第２の方向に前記液晶が配向しており、
前記第１液晶部と前記第２液晶部とは、前記液晶の層が延在する方向に沿って交互に繰り返し配置されている光学ローパスフィルタ。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項による光学ローパスフィルタにおいて、
前記液晶は光学的に一軸結晶であって、前記液晶層の厚さを一軸結晶の常屈折率と異常屈折率との差、および入射する光束の波長に基づいて決定する光学ローパスフィルタ。
【請求項７】
請求項５または６による光学ローパスフィルタにおいて、
前記第１の方向へ前記液晶を配向させる部分と前記第２の方向へ前記液晶を配向させる部分とを交互に繰り返し配置した配向膜上に、前記液晶層を形成した光学ローパスフィルタ。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項による光学ローパスフィルタにおいて、
前記液晶層は、電極が形成された一対の基板間に挟持されたネマティック液晶を有する光学ローパスフィルタ。
【請求項９】
請求項８による光学ローパスフィルタにおいて、
前記電極に対する印加電圧を制御する制御回路をさらに備える光学ローパスフィルタ。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項による光学ローパスフィルタにおいて、
前記交互に配置された液晶部の幅の比率は、正弦波的に変化するように設定されている光学ローパスフィルタ。
【請求項１１】
撮像装置であって、
請求項１〜１０のいずれか１項による光学ローパスフィルタと、
前記光学ローパスフィルタを介して撮像光を受光する受光素子とを備える撮像装置。
【請求項１２】
請求項１１による撮像装置において、
前記液晶基板の隣り合う異なる液晶部のピッチを、前記光学ローパスフィルタと前記受光素子との間隔、および前記受光素子の画素ピッチから要求される分離幅に応じて設定する撮像装置。
【請求項１３】
請求項１１または１２による撮像装置において、
前記光学ローパスフィルタは、互いに直交する直線偏光の光のそれぞれに対して複数設けられている撮像装置。
【請求項１４】
カメラであって、
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学ローパスフィルタと、
前記光学ローパスフィルタを介して被写体光を受光する撮像素子とを備えるカメラ。
【請求項１５】
請求項１４によるカメラにおいて、
前記光学ローパスフィルタは、互いに直交する直線偏光の光のそれぞれに対して複数設けられているカメラ。
【請求項１６】
光学ローパスフィルタの製造方法であって、
液晶の層を有する液晶基板に、前記液晶の配向方向が互いに異なる第１液晶部と第２液晶部とを交互に繰り返し配置する光学ローパスフィルタの製造方法。
【請求項１７】
請求項１６による光学ローパスフィルタの製造方法において、
紫外線硬化型液晶に含まれる一軸性屈折率楕円体の液晶分子を第１の配向状態にして前記第１液晶部とする第１の工程と、
前記紫外線硬化型液晶に、部分的に紫外線を透過するマスクを用いて紫外線を照射して硬化領域と未硬化領域とを形成する第２の工程と、
前記未硬化領域の液晶分子を第２の配向状態にして、その未硬化領域を紫外線照射により硬化させて前記第２液晶部とする第３の工程とを有する光学ローパスフィルタの製造方法。
【請求項１８】
請求項１７による光学ローパスフィルタの製造方法において、
前記第１および第２の配向状態のいずれか一方は、領域内の液晶分子が各々任意の方向に配向している無配向な状態である光学ローパスフィルタの製造方法。
【請求項１９】
請求項１７または１８による光学ローパスフィルタの製造方法において、
前記第２の工程では、紫外線に対する透過部と遮光部とを市松模様に配置したマスク、または、紫外線透過率がマスク面に沿って漸次的に変化するグラデーションマスクを用いて紫外線を照射する光学ローパスフィルタの製造方法。
【請求項２０】
請求項１６による光学ローパスフィルタの製造方法において、
基板上に光配向剤を形成する第１の工程と、
前記第１液晶部と第２液晶部とに対応して、透過率の異なる領域が交互に設けられたマスクを介して、前記光配向剤を露光する第２の工程と、
前記光配向剤の前記第２の工程で感光していない領域を露光する第３の工程と、
前記光配向剤上に液晶層を形成する第４の工程とを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶を用いた光学ローパスフィルタ、光学ローパスフィルタを備えたカメラや撮像装置、および光学ローパスフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
撮像素子を用いて撮影を行う電子カメラでは、一般的に、モアレ縞の発生を防止するために光学ローパスフィルタが用いられている。このような光学ローパスフィルタとして、透明基板の表面に凹凸のレリーフ面が形成された位相型の回折格子の回折作用を利用して像分離を行う光学ローパスフィルタが知られている（特許文献１参照）。【０００３】
【特許文献１】特開平６−１４８５７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、凹面と凸面とを繋ぐ垂直なエッジ面が、斜光線で陰になったり全反射で明るくなったりして、格子模様が撮像面に映りこみ、撮像画像に悪影響を与えるという問題が生じる。とりわけ、カメラの撮像レンズの絞り値が小さいときには光束が垂直平行光に近くなり、エッジの映り込みが著しくなる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の態様による、液晶の層を有する液晶基板から成る光学ローパスフィルタは、液晶が第１方向に沿って配向された第１液晶部と、液晶が第１方向とは異なる第２方向に沿って配向された第２液晶部とを備え、第１液晶部と第２液晶部とは、液晶基板に交互に繰り返し配置されている。
本発明の第２の態様は、第１の態様による光学ローパスフィルタにおいて、液晶は、一軸性屈折率楕円体の液晶分子を含んでもよい。
本発明の第３の態様は、第２の態様による光学ローパスフィルタにおいて、第１液晶部と第２液晶部を透過する直線偏光の位相は、互いに略半波長ずれていることが好ましい。
本発明の第４の態様は、第１〜３のいずれかの態様による光学ローパスフィルタにおいて、第１液晶部同士または第２液晶部同士の配向方向が互いに直交するように光学ローパスフィルタを複数重ねて配置してもよい。
本発明の第５の態様は、第１の態様による光学ローパスフィルタにおいて、第１液晶部は、液晶の層が延在する方向に平行な第１の方向に液晶が配向しており、第２液晶部は、液晶の層が延在する方向において第１の方向と直交する第２の方向に液晶が配向しており、第１液晶部と第２液晶部とは、液晶の層が延在する方向に沿って交互に繰り返し配置されていることが好ましい。
本発明の第６の態様は、第１〜５のいずれかの態様による光学ローパスフィルタにおいて、液晶は光学的に一軸結晶であって、液晶層の厚さを一軸結晶の常屈折率と異常屈折率との差、および入射する光束の波長に基づいて決定してもよい。
本発明の第７の態様は、第５または６の態様による光学ローパスフィルタにおいて、第１の方向へ液晶を配向させる部分と第２の方向へ液晶を配向させる部分とを交互に繰り返し配置した配向膜上に、液晶層を形成することが好ましい。
本発明の第８の態様は、第１〜７のいずれかの態様による光学ローパスフィルタにおいて、液晶層は、電極が形成された一対の基板間に挟持されたネマティック液晶を有してもよい。
本発明の第９の態様は、第８の態様による光学ローパスフィルタにおいて、電極に対する印加電圧を制御する制御回路をさらに備えてもよい。
本発明の第１０の態様は、第１〜９のいずれかの態様による光学ローパスフィルタにおいて、交互に配置された液晶部の幅の比率は、正弦波的に変化するように設定されてもよい。
本発明の第１１の態様による撮像装置は、第１〜１０のいずれかの態様による光学ローパスフィルタと、光学ローパスフィルタを介して撮像光を受光する受光素子とを備える。
本発明の第１２の態様は、第１１の態様による撮像装置において、液晶基板の隣り合う異なる液晶部のピッチを、光学ローパスフィルタと受光素子との間隔、および受光素子の画素ピッチから要求される分離幅に応じて設定してもよい。
本発明の第１３の態様は、第１１または１２の態様による撮像装置において、光学ローパスフィルタは、互いに直交する直線偏光の光のそれぞれに対して複数設けられてもよい。
本発明の第１４の態様によるカメラは、第１〜１０のいずれかの態様による光学ローパスフィルタと、光学ローパスフィルタを介して被写体光を受光する撮像素子とを備える。
本発明の第１５の態様は、第１４の態様によるカメラにおいて、光学ローパスフィルタは、互いに直交する直線偏光の光のそれぞれに対して複数設けられてもよい。
本発明の第１６の態様による光学ローパスフィルタの製造方法は、液晶の層を有する液晶基板に、液晶の配向方向が互いに異なる第１液晶部と第２液晶部とを交互に繰り返し配置する。
本発明の第１７の態様は、第１６の態様による光学ローパスフィルタの製造方法において、紫外線硬化型液晶に含まれる一軸性屈折率楕円体の液晶分子を第１の配向状態にして第１液晶部とする第１の工程と、紫外線硬化型液晶に、部分的に紫外線を透過するマスクを用いて紫外線を照射して硬化領域と未硬化領域とを形成する第２の工程と、未硬化領域の液晶分子を第２の配向状態にして、その未硬化領域を紫外線照射により硬化させて第２液晶部とする第３の工程とを有することが好ましい。
本発明の第１８の態様は、第１７の態様による光学ローパスフィルタの製造方法において、第１および第２の配向状態のいずれか一方は、領域内の液晶分子が各々任意の方向に配向している無配向な状態であってもよい。
本発明の第１９の態様は、第１７または１８の態様による光学ローパスフィルタの製造方法において、第２の工程では、紫外線に対する透過部と遮光部とを市松模様に配置したマスク、または、紫外線透過率がマスク面に沿って漸次的に変化するグラデーションマスクを用いて紫外線を照射してもよい。
本発明の第２０の態様は、第１６の態様による光学ローパスフィルタの製造方法において、基板上に光配向剤を形成する第１の工程と、第１液晶部と第２液晶部とに対応して、透過率の異なる領域が交互に設けられたマスクを介して、光配向剤を露光する第２の工程と、光配向剤の第２の工程で感光していない領域を露光する第３の工程と、光配向剤上に液晶層を形成する第４の工程とを有してもよい。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、光学ローパスフィルタの利用時に格子模様の映りこみを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、本発明によるカメラの第１の実施の形態を示す図であり、カメラの概略構成を示したものである。
【図２】図２（ａ）は、光学ローパスフィルタ４を構成する液晶フィルム４０の構造を模式的に示す平面図、図２（ｂ）はＡ−Ａ断面図である。
【図３】図３は、屈折率楕円体を説明する図である。
【図４】図４（ａ）は光学ローパスフィルタによる光束の分離を説明する図であり、図４（ｂ）は各領域の配置と光束分離方向との関係を示す図である。
【図５】図５（ａ）〜図５（ｄ）は液晶フィルムの製造方法を説明する図であり、図５（ａ）〜図５（ｃ）は第１〜第３の工程を示し、図５（ｄ）はマスクの平面図である。
【図６】図６（ａ）〜図６（ｃ）は液晶フィルムの製造方法を説明する図であり、図６（ａ）は第３の工程後の液晶層を示し、図６（ｂ）は第４の工程を示し、図６（ｃ）は第４の工程後の液晶層を示す。
【図７】図７（ａ）はグラデーションマスクの透過率分布を説明する図であり、図７（ｂ）は光学ローパスフィルタの他の例を示す図である。
【図８】図８（ａ）は液晶フィルムの構造を模式的に示す平面図、図８（ｂ）はＡ−Ａ断面図である。
【図９】図９は屈折率楕円体を説明する図である。
【図１０】図１０（ａ）は光学ローパスフィルタ４による光束の分離を説明する図であり、図１０（ｂ）は各領域の配置と光束分離方向との関係を示す図である。
【図１１】図１１（ａ）〜図１１（ｃ）は液晶フィルムの製造方法を説明する図であり、図１１（ａ）は第１の工程を、図１１（ｂ）は第２の工程を、図１１（ｃ）はマスクの平面図をそれぞれ示す。
【図１２】図１２（ａ）〜図１２（ｃ）は液晶フィルムの製造方法を説明する図であり、図１２（ａ）は光配向膜の平面図、図１２（ｂ）は第３の工程を説明する断面図、図１２（ｃ）は紫外線照射後の光配向膜の平面図をそれぞれ示す。
【図１３】図１３（ａ）（ｂ）は液晶フィルムの製造方法を説明する図であり、図１３（ａ）は第４の工程を説明する断面図、図１３（ｂ）は液晶フィルムの断面図である。
【図１４】図１４は紫外線の斜入射による光配向を示す図である。
【図１５】図１５（ａ）（ｂ）は第１の変形例を説明する図であり、図１５（ａ）はローパス機能がオンの状態を示し、図１５（ｂ）はローパス機能がオフの状態を示している。
【図１６】図１６（ａ）（ｂ）は第２の変形例を説明する図であり、各領域の配置パターンを示す。
【図１７】図１７（ａ）（ｂ）は正弦波的な配置パターンを説明する図であり、図１７（ａ）は正弦曲線を、図１７（ｂ）は、図１６（ｂ）の破線で囲まれた部分をそれぞれ示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
−第１の実施の形態−
以下、図を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。図１は本発明によるカメラの第１の実施の形態を示す図であり、カメラの概略構成を示したものである。１は撮像装置であり、撮影レンズ５で結像された被写体像を結像する撮像素子２が設けられている。撮像素子２は、撮像光（被写体光）を受光する受光素子であって、例えば、画素を２次元的に配置したＣＣＤ撮像素子やＣＭＯＳ撮像素子などが用いられる。３は撮像素子２を保護するためのカバーガラスであり、カバーガラス３の表面には光学ローパスフィルタ４が貼り付けられている。【０００９】
撮像装置１と撮影レンズ５との間にはメインミラー６およびシャッター７が設けられている。露光時にはメインミラー６が光路外へと待避駆動され、シャッター７が開かれる。その結果、被写体像が撮像素子２によって撮像される。一方、非露光時には、撮影レンズ５からの被写体光はメインミラー６で反射され、撮像面と光学的に等価な位置に配置されたファインダスクリーン８上に結像する。ファインダスクリーン８上に結像された被写体像は、ペンタプリズム９および接眼レンズ１０を介してファインダ画像として観察される。【００１０】
図２（ａ）（ｂ）は光学ローパスフィルタ４を構成する液晶フィルム４０の構造を示す模式図であり、図２（ａ）は平面図、図２（ｂ）はＡ−Ａ断面図である。後述するように、本実施の形態の光学ローパスフィルタ４はこの液晶フィルム４０を２枚重ねて使用している。この液晶フィルム４０には紫外線の照射により硬化する紫外線硬化型液晶が用いられている。紫外線硬化型液晶に含まれる液晶分子４００は、一軸性屈折率楕円体としての性質を有している。液晶フィルム４０には、液晶分子４００の配向方向（すなわち屈折率楕円体の配向方向）が異なる２種類の矩形領域４０ａ，４０ｂがｘ方向およびｙ方向に交互に繰り返し配置されている。【００１１】
図２（ｂ）の断面図に示すように、領域４０ａにおける液晶分子４００の配向方向はｘ軸方向であって基板面（ｘｙ平面）に対してほぼ平行になっている。一方、領域４０ｂにおいては、液晶分子４００は基板面に対してほぼ垂直に配向している。一軸性屈折率楕円体の光学異方性を有する液晶の場合、屈折率楕円体の配向方向は液晶分子４００の配向方向とほぼ一致している。液晶フィルム４０は、図２（ｂ）に示すような向きに液晶分子４００を配向させ、紫外線照射によって液晶を硬化させたものである。【００１２】
この屈折率楕円体は図３に示すように回転楕円体形状をしており、回転軸方向（ｘ軸方向）の径が異常屈折率n1を表し、回転軸に直交する方向（ｙ軸方向、ｚ軸方向）の径が常屈折率n2を表している。なお、図３に示した屈折率楕円体は図２（ｂ）の領域４０ａに関するものを示したものであり、ny＝nzであってn1＞n2であるとして考える。領域４０ｂにおいては、屈折率楕円体の長軸が基板に垂直な方向（ｚ軸方向）を向いている。【００１３】
領域４０ａにｚプラス方向から光が入射した場合、ｘ方向に振動する直線偏光の光に対しては屈折率n1となり、ｙ方向に振動する直線偏光の光に対しては屈折率n2となる。一方、領域４０ｂにｚプラス方向から光が入射した場合、ｘ方向に振動する直線偏光の光に対してもｙ方向に振動する直線偏光の光に対しても屈折率n2となる。すなわち、ｙ方向に振動する直線偏光に対しては液晶フィルム４０は単なる透明基板であるが、ｘ方向に振動する直線偏光に対しては、回折格子の機能を有している。【００１４】
すなわち、ｘ方向の直線偏光に対しては、領域４０ａを通過した光と領域４０ｂを通過した光との間には、ｔ・（n1−n2）だけの位相差が生じる。ここで、ｔは液晶フィルム４０の厚さである。この位相差が光の波長の半分となるように設定すると、０次の回折光がゼロとなり、液晶フィルム４０は±１次回折光による光束分離によってローパスフィルタとして機能することになる。なお、±２次以上の回折光も発生するが強度が非常に弱いので、実質的には±１次回折光による光学ローパスフィルタとして考えて良い。液晶フィルム４０では、領域４０ａ，４０ｂがｘ方向およびｙ方向に交互に配置されているので、光束はｘ方向およびｙ方向の２方向に分離されることになる。【００１５】
例えば、n1−n2＝０．１で光の波長λがλ＝５４０ｎｍの場合には、厚さｔを次式（１）のように設定すれば良い。
ｔ＝λ／（２（n1−n2））＝２．７（μｍ）      …（１）
式（１）は位相差がλ／２である場合の厚さであって、一般的には（位相変化量）＝（２ｎ＋１）πであれば良いので、次式（２）において、ｎを０，１，２，３，４，…とおくことにより所望の厚さを選択すれば良い。
ｔ＝λ（２ｎ＋１）／（２（n1−n2））      …（２）【００１６】
図２（ａ）（ｂ）に示した液晶フィルム４０では、領域４０ａの液晶分子４００がｘ方向に配向しているためにｘ方向の直線偏光だけが２方向に分離した。ところで、図２（ａ）（ｂ）に示した液晶フィルム４０をｚ軸の周りに９０度回転すると、領域４０ａの液晶分子４００はｙ方向に配向されていることになる。そのため、このような配置とすると図２（ａ）の配置の場合とは異なり、ｙ方向の直線偏光が２方向に分離されることになる。【００１７】
すなわち、領域４０ａの液晶分子４００の配向方向が互いに直交するように液晶フィルム４０を２枚重ねると、入射光の偏光方向に依らず２方向に分離されることになる。なお、液晶フィルム４０を重ねる場合、領域４０ａ同士および領域４０ｂ同士が重なっている必要はない。図１に示した光学ローパスフィルタ４においては、図２（ａ）（ｂ）に示すような液晶フィルム４０が領域４０ａの液晶分子４００の配向方向が互いに直交するように２枚重ねてカバーガラス３に貼り付けてある。【００１８】
次に、光学ローパスフィルタ４による光束の分離幅について、図４（ａ）（ｂ）を参照して説明する。なお、光学ローパスフィルタ４は液晶フィルム４０を２枚重ねたものであるが、互いに直交する直線偏光の一方に対する一方の液晶フィルム４０のフィルタ機能と、他方の直線偏光に対する他方の液晶フィルム４０のフィルタ機能とは全く同じである。【００１９】
第１の実施の形態では、撮像素子２の画素はｘ方向およびｙ方向にマトリクス状に配列されているとし、光学ローパスフィルタ４は画素配列方向に光束を分離するものとする。すなわち、図４（ａ）に示すように、撮影レンズ５から光学ローパスフィルタ４に入射した光束２０は、光学ローパスフィルタ４によってｘ方向およびｙ方向の２方向に分離される。分離された光束は、カバーガラス３を透過して撮像素子２の撮像面に入射する。【００２０】
図４（ｂ）は撮像面上における分離光束２０Ａ〜２０Ｄの位置関係および領域４０ａ，４０ｂの配置を示す図である。図２（ａ）に示すように領域４０ａ，４０ｂがｘｙ方向に配列されている場合、光束分離方向もｘｙ方向に十字状に分離されることになる。一方、撮像素子２の画素配列はｘｙ方向であるため、画素配列に合わせて分離後の４つの光束が正方形の頂点に位置するようにするためには、図４（ｂ）に示すように、領域４０ａに対する領域４０ｂの位置が斜め４５度となるように液晶フィルム４０を配置する必要がある。【００２１】
その場合、光束分離方向も斜め４５度方向となり、分離された光束２０Ａ〜２０Ｄは一辺の長さが画素ピッチｐに等しい正方形の頂点上に並ぶ。そのため、撮像面上における分離幅ｈはｈ＝ｐ√２となる必要がある。カバーガラス３の厚さがｔ２、屈折率がndであって、光学ローパスフィルタ４と撮像面との間隔をＬとすると、光学ローパスフィルタ４から撮像面までの光学的距離Ｌ’は次式（３）で表される。
Ｌ’＝ｔ２＋（Ｌ−ｔ２）・nd      …（３）【００２２】
図４（ａ）から分かるように、撮像面上での分離幅ｈは光学ローパスフィルタ４から撮像面までの光学的距離に依存する。そのため、領域４０ａと領域４０ｂとの繰り返しピッチｄは、次式（４）で算出される。λは光の波長である。例えば、画素ピッチｐ＝２μｍ、間隔Ｌ＝１ｍｍ、カバーガラス３の厚さｔ２＝０．５ｍｍ、屈折率nd＝１．５、λ＝５４０ｎｍとすると、領域４０ａと領域４０ｂとの繰り返しピッチｄはｄ≒０．４７７ｍｍとなる。そのため、正方形領域４０ａ，４０ｂの一辺の長さは０．４７７ｍｍとなる。
ｄ＝２λ・Ｌ’／ｈ
＝２λ・（ｔ２＋（Ｌ−ｔ２）・nd）／（ｐ√２）      …（４）【００２３】
［液晶フィルム４０の製造方法］
次いで、液晶フィルム４０の製造方法の概略について説明する。まず、図５（ａ）に示す第１の工程では、平面基板３０上に配向膜（ポリイミド膜等）３１を塗布し、配向膜３１にラビング処理を施す。ここでは、図示左右方向に液晶分子が配向されるようなラビング処理を行う。図５（ｂ）に示す第２の工程では、配向膜３１上にモノマー状態の紫外線硬化型液晶を膜状に拡散させて液晶層３２を形成する。液晶層３２中の液晶分子４００は配向膜３１の配向方向に配向され、液晶分子４００は長軸が平面基板３０の基板面にほぼ並行となるように配向する。【００２４】
液晶層３２の形成方法としては、スピンコーターなどの装置を用いて配向膜３１上に液晶を所定厚さに拡散させる。ここで、所定厚さとは上述した液晶フィルム４０の厚さｔである。なお、液晶層３２の厚さｔは、一軸結晶の常屈折率と異常屈折率との差、および入射する光束の波長に基づいて決定するようにするのが好ましい。また、通常の液晶パネルのように、スペーサを介して所定間隔に配置された一対の透明基板の間に液晶を注入するようにしても良い。この場合も、少なくとも一方の透明基板上に配向膜３１を形成しておく。【００２５】
図５（ｃ）に示す第３の工程では、マスク３３を用いて液晶層３２を紫外線露光する。図５（ｄ）はマスク３３の平面図であり、矩形状の紫外線透過領域３３ａと紫外線非透過領域３３ｂとが市松模様に配置されている。この場合の露光は、マスク３３を露光面に密着させるタイプの露光を採用しても良いし、光学系を用いてマスク像を露光面に投影するタイプでも良い。図６（ａ）は硬化後の液晶層３２を示したものであり、液晶層３２の紫外線が照射された領域３２ａ（紫外線透過領域３３ａに対向する領域）ではモノマー状態がポリマー状態に硬化し、液晶分子４００の配向方向が基板に平行な方向に固定される。紫外線非透過領域３３ｂが対向している領域３２ｂでは、液晶は未硬化状態のままになっている。【００２６】
図６（ｂ）に示す第４の工程では、平面基板３０に垂直な方向の電界を印加して、未硬化状態である領域３２ｂの液晶分子４００を垂直方向に強制的に配向させる。そして、その状態で紫外線を照射して領域３２ｂの液晶を硬化させ、液晶分子４００の配向方向を基板垂直方向に固定する。その結果、図６（ｃ）に示すように、基板３０に平行な配向特性を有する領域３２ａと、基板３０に垂直な配向特性を有する領域３２ｂとを備えた液晶層３２が形成される。この液晶層３２を基板３０から剥離することによって、図２（ａ）（ｂ）に示すような液晶フィルム４０が得られる。ここで、液晶層３２の領域３２ａ，３２ｂは、それぞれ液晶フィルム４０の領域４０ａ，４０ｂに対応している。【００２７】
なお、電界を印加して未硬化状態である領域３２ｂの液晶分子４００を基板垂直方向に配向させる代わりに、高温状態にして領域３２ｂを等方性状態にした後に紫外線硬化させても良い。例えば、領域３２ｂが未硬化状態の液晶層３２が形成された平面基板３０を恒温槽等を用いて加熱昇温して、紫外線を照射する。ネマティック液晶は、一定温度を越えると光学異方性をもつ液晶であることをやめ等方性の液体のような状態となる。そのため、領域３２ｂの未硬化状態の液晶は、高温下において液晶としての光学特性を失い所定の屈折率を有する物質となる。そして、紫外線を照射することにより、領域３２ｂにおける等方性状態を固定する。この場合、領域３２ａは基板に平行な配向特性を有し、領域３２ｂは配向特性を持たない領域となる。【００２８】
上述した第３の工程では、紫外線に対する透過部と遮光部とが市松模様に配置されたマスク３３を用いて紫外線を照射したが、図７（ａ）に示すように紫外線透過率がｘ軸方向およびｙ軸方向に漸次的に変化するグラデーションマスクを用いても良い。図７（ａ）に示す例では、サインカーブのように紫外線透過率が変化している。このように紫外線透過率が漸次的に変化するマスクを用いると、位置の変化とともに基板上に照射される紫外線の強度も漸次的に変化し、紫外線強度が小さくなるにつれて未硬化領域の混入割合が徐々に増加することになる。その結果、光学性能が向上することになる。【００２９】
以上説明した第１の実施の形態の作用効果をまとめると以下のようになる。
（１）一軸性屈折率楕円体の液晶分子を含む液晶基板（液晶フィルム４０）から成る光学ローパスフィルタ４であって、液晶基板に、屈折率楕円体の配向方向が互いに異なる第１の領域４０ａと第２の領域４０ｂとを交互に繰り返し配置した。これにより、回折作用を利用した光学ローパスフィルタにおいて格子模様の撮像面への映りこみを防止することができる。凹凸のレリーフが形成された位相型回折格子を型成形する場合を考えると、凹凸の寸法が波長オーダーであるため、型の形成が非常に難しくコストアップを招く。一方、第１の実施の形態における液晶フィルム４０では、均一な厚さの液晶層を形成し、紫外線照射により領域４０ａ，４０ｂを形成するので、簡単に製造することができ、コストダウンを図ることができる。【００３０】
（２）直線偏光に対する第１の領域４０ａの光路と第２の領域４０ｂの光路とを、ほぼ半波長ずらすことにより０次光の強度をほぼゼロとすることができる。また、第１の領域同士または第２の領域同士の配向方向が互いに直交するように液晶フィルム４０を複数重ねて配置することにより、偏光方向によらず光学ローパスフィルタとして機能する。
（３）光学ローパスフィルタの製造方法において、紫外線硬化型液晶に含まれる一軸性屈折率楕円体の液晶分子４００を第１の配向状態にする第１の工程と、紫外線硬化型液晶に、部分的に紫外線を透過するマスク３３を用いて紫外線を照射して硬化領域３２ａと未硬化領域３２ｂとを形成する第２の工程と、未硬化領域３２ｂの液晶分子４００を第２の配向状態にして、その未硬化領域３２ｂを紫外線照射により硬化させる第３の工程とを有することにより、紫外線硬化型液晶を用いた光学ローパスフィルタを得ることができる。
（４）なお、第１および第２の配向状態のいずれか一方を、領域内の液晶分子４００が各々任意の方向に配向している無配向な状態としても良い。また、第２の工程において、紫外線に対する透過部３３ａと遮光部３３ｂとを市松模様に配置したマスク３３、または、紫外線透過率がマスク面に沿って漸次的に変化するグラデーションマスクを用いるようにしても良い。
（５）上記光学ローパスフィルタとその光学ローパスフィルタを介して被写体光を受光する撮像素子とを備えたカメラや、上記光学ローパスフィルタとその光学ローパスフィルタを介して撮像光を受光する受光素子とを備える撮像装置において、液晶基板の隣り合う異なる領域のピッチを、光学ローパスフィルタと撮像素子との間隔、および撮像素子の画素ピッチから要求される分離幅に応じて設定するようにしても良い。【００３１】
上述した第１の実施の形態では、領域４０ａ，４０ｂをｘ方向およびｙ方向に交互に配置することにより、光束をｘおよびｙ方向の２方向に分離したが、図７（ｂ）に示すように、ライン状の領域４０ａ，４０ｂをｘ方向およびｙ方向のいずれか一方の方向にのみ交互に配置して、光束を一方向に分離するようにしても良い。【００３２】
また、カバーガラス３に液晶フィルム４０を貼り合わせるのではなく、カバーガラス３の面上に直接液晶層を２層形成するようにしても良い。すなわち、カバーガラス３上にスピンコーターにより所定厚さの液晶層を形成して、図６（ｃ）に示すような液晶層３２を形成する。さらに、その液晶層３２上に液晶層をスピンコーターにより形成し、領域３２ａの配向方向が下層の液晶層３２の領域３２ａの配向方向と直交するように２層目の液晶層３２を形成する。なお、以上の説明はあくまでも一例であり、本発明の特徴を損なわない限り、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではない。【００３３】
−第２の実施の形態−
次に、本発明の第２の実施の形態について、図面を用いて説明する。以下では、上述した第１の実施の形態との相違点を主に説明する。【００３４】
図８（ａ）（ｂ）は、図１に示したカメラに用いられる光学ローパスフィルタ４を構成する液晶フィルム４０’の構造を示す模式図であり、図８（ａ）は平面図、図８（ｂ）はＡ−Ａ断面図である。この液晶フィルム４０’には紫外線の照射により硬化する紫外線硬化型液晶が用いられている。液晶に含まれる液晶分子４００は、一軸性屈折率楕円体としての性質を有している。液晶フィルム４０’には、液晶分子４００の配向方向（すなわち屈折率楕円体の配向方向）が異なる２種類の矩形領域４０ａ，４０ｂがｘ方向およびｙ方向に交互に繰り返される市松模様に配置されている。【００３５】
図８（ｂ）の断面図に示すように、領域４０ａにおける液晶分子４００の配向方向はｘ軸方向であって基板面（ｘｙ平面）に対してほぼ平行になっている。一方、領域４０ｂの液晶分子４００はｙ軸方向に配向しており、基板面に対してほぼ平行になっている。なお、ここでは液晶分子４００を基板面に平行となるようなホモジニアス配向にしているが、液晶分子４００が上下方向に若干チルトしていてもかまわない。一軸性屈折率楕円体の光学異方性を有する液晶の場合、屈折率楕円体の配向方向は液晶分子４００の配向方向とほぼ一致している。液晶フィルム４０’は、図８（ｂ）に示すような向きに液晶分子４００を配向させ、紫外線照射によって液晶を硬化させたものである。【００３６】
この屈折率楕円体は図９に示すように回転楕円体形状をしており、回転軸方向（ｘ軸方向）の径が異常屈折率n1を表し、回転軸に直交する方向（ｙ軸方向、ｚ軸方向）の径が常屈折率n2を表している。なお、図９に示した屈折率楕円体は図８（ｂ）の領域４０ａに関するものを示したものであり、ny＝nzであってn1＞n2であるとして考える。領域４０ｂにおいては、屈折率楕円体の長軸がｙ軸方向を向いている。【００３７】
このような液晶フィルム４０にｚプラス方向から光が入射した場合、領域４０ａでは、ｘ方向に振動する直線偏光の光に対しては屈折率n1となり、ｙ方向に振動する直線偏光の光に対しては屈折率n2となる。一方、領域４０ｂでは、領域４０ａとは逆にｙ方向に振動する直線偏光の光に対して屈折率n1となり、ｘ方向に振動する直線偏光の光に対して屈折率n2となる。入射光の直交する２つの偏光に対して、同じように回折作用が働くことになる。すなわち、入射する光の偏光方向に関係なく、液晶フィルム４０は回折格子として機能することになる。【００３８】
すなわち、領域４０ａを通過した光と領域４０ｂを通過した光との間には、ｔ・（n1−n2）だけの位相差が生じる。ここで、ｔは液晶フィルム４０の厚さである。次式（５）に示すように位相差が光の波長の半分となるように設定すると、０次の回折光がゼロとなり、液晶フィルム４０は±１次回折光による光束分離によってローパスフィルタとして機能することになる。式（５）において、ｋは自然数０，１，２，３，４，…である。
ｔ＝（ｋ＋１／２）λ／｜n1−n2｜      …（５）【００３９】
例えば、n1−n2＝０．１で光の波長λがλ＝５４０ｎｍの場合には、ｋ＝０のときの厚さｔは２．７μｍとなる。なお、±２次以上の回折光も発生するが強度が非常に弱いので、実質的には±１次回折光による光学ローパスフィルタとして考えて良い。液晶フィルム４０では、領域４０ａ，４０ｂがｘ方向およびｙ方向に交互に配置されているので、光束はｘ方向およびｙ方向の２方向に分離されることになる。【００４０】
次に、光学ローパスフィルタ４（すなわち液晶フィルム４０’）による光束の分離幅について、図１０（ａ）（ｂ）を参照して説明する。第２の実施の形態では、撮像素子２の画素はｘ方向およびｙ方向にマトリクス状に配列されているとし、光学ローパスフィルタ４は画素配列方向に光束を分離するものとする。すなわち、撮影レンズ５から光学ローパスフィルタ４に入射した光束２０は、光学ローパスフィルタ４によってｘ方向およびｙ方向の２方向に分離される。分離された光束は、カバーガラス３を透過して撮像素子２の撮像面に入射する。【００４１】
図１０（ｂ）は撮像面上における分離光束２０Ａ〜２０Ｄの位置関係および領域４０ａ，４０ｂの配置を示す図である。図８（ａ）に示すように領域４０ａ，４０ｂがｘｙ方向に配列されている場合、光束分離方向もｘｙ方向に十字状に分離されることになる。一方、撮像素子２の画素配列はｘｙ方向であるため、画素配列に合わせて分離後の４つの光束が正方形の頂点に位置するようにするためには、図１０（ｂ）に示すように、領域４０ａに対する領域４０ｂの位置が斜め４５度となるように液晶フィルム４０を配置する必要がある。【００４２】
領域４０ａ，４０ｂを一辺の長さがｄの正方形とすると、この長さｄは光学ローパスフィルタ４に要求される分離角θによって決まる（図１０（ａ）参照）。ｄと分離角θとの間には次式（６）の関係がある。そして、撮像素子２の画素ピッチｐを光学ローパスフィルタ４のナイキスト周波数とするような設計方法をとる。
ｄ＝λ／tanθ      …（６）【００４３】
カバーガラス３の厚さおよび屈折率をt2、nd、光学ローパスフィルタ４と撮像面との間隔をＬとすると、光学ローパスフィルタ４から撮像面までの光学的距離はＬ’は次式（７）で表される。そのため、式（６）は式（８）のようになる。
Ｌ’＝t2＋（Ｌ−t2）・nd      …（７）
ｄ＝２λ・Ｌ’／ｈ
＝２λ・（ｔ２＋（Ｌ−t2）・nd）／ｈ      …（８）【００４４】
また、図１０（ｂ）に示すように、分離方向は４５度傾いた方向となるので、画素ピッチをｐとすると必要な分離幅ｈはｈ＝ｐ√２となる。例えば、画素ピッチｐ＝２μｍ、間隔Ｌ＝１ｍｍ、カバーガラス３の厚さt2＝０．５ｍｍ、屈折率nd＝１．５、λ＝５４０ｎｍとすると、ｈ＝２√２となり、領域４０ａと領域４０ｂとの繰り返しピッチ、すなわち正方形領域４０ａ，４０ｂの一辺の長さｄはｄ≒０．４７７ｍｍとなる。すなわち、領域４０ａ，４０ｂとの繰り返しピッチｐは、光学ローパスフィルタ４と撮像素子２との間隔、および撮像素子２の画素ピッチｐから要求される分離幅に応じて設定される。【００４５】
このように、第２の実施の形態の光学ローパスフィルタ４では、液晶分子４００の面内における配向方向が互いに直交する領域４０ａ，４０ｂを、同一液晶層に市松模様に交互に配置した。したがって、例えば凹凸レリーフ型を利用した光学ローパスフィルタで発生するような格子模様の撮像面への映りこみを防止することができる。【００４６】
［液晶フィルム４０’の製造方法］
次に、液晶フィルム４０’の製造方法の概略について説明する。まず、図１１（ａ）に示す第１の工程では、平面基板３０上に、光反応性官能基をもつ化合物からなる光配向剤の膜（以下では光配向膜と称する）３１を形成する。この時点では、光配向膜３１の光配向分子３１０はランダムな方向を向いている。図１１（ｂ）に示す第２の工程では、マスク３２を用いて偏光した紫外線により光配向膜３１を露光し、光配向分子３１０を配向させる。【００４７】
紫外線は偏光板３３を介してマスク３２に照射され、図の左右方向に偏光した偏光光のみが偏光板３３を透過する。図１１（ｃ）はマスク３２の平面図であり、正方形の紫外線透過領域３２ａと紫外線不透過領域３２ｂが市松模様に配置されている。そのため、光配向膜３１の内の透過領域３２ａに対応する領域のみに偏光した紫外線が照射されることになる。偏光した紫外線が照射された領域では、光配向膜３１内の光配向分子３１０に異方的な化学反応を生じさせる。【００４８】
図１２（ａ）は光配向膜３１の平面図であり、紫外線照射後の光配向分子３１０の様子を模式的に示したものである。領域３１ａは紫外線が照射された領域であり、光配向分子３１０は紫外線の偏光方向に配向される。一方、不透過領域３２ｂにより遮蔽されて紫外線が照射されなかった領域３１ｂの光配向分子３１０は、配向方向がランダムになったままである。【００４９】
図１２（ｂ）は第３の工程を説明する断面図である。第３の工程では、マスク３２’を用いて紫外線露光を行う。マスク３２’は、光配向膜３１０の領域３１ｂに透過領域３２ａが対向し、光配向膜３１０の領域３１ａに不透過領域３２ｂが対向するマスクであり、図１１（ｃ）に示したマスク３２と相補的なマスクとなっている。そのため、マスク３２をずらして用いることにより、マスク３２’の代替とすることができる。【００５０】
紫外線照射の際には紙面に垂直な偏光光を透過する偏光板３４を用い、この偏光板３４を透過した偏光光を光配向膜３１に照射する。図１２（ｃ）は紫外線照射後の光配向膜３１を示したものであり、領域３１ｂには図示上下方向に偏光した紫外線が照射される。その結果、領域３１ｂの光配向分子３１０は図示上下方向に配向されることになる。【００５１】
図１３（ａ）は第４の工程を説明する図である。第４の工程では、光配向膜３１上にモノマー状態の紫外線硬化型液晶を膜状に拡散させて液晶層４１を形成し、紫外線を照射して液晶層４１を硬化させる。光配向膜３１の光配向分子３１０は、領域３１ａでは図示左右方向に配向されており、領域３１ｂでは紙面に垂直な方向に配向されている。【００５２】
液晶層４１の液晶分子４００は光配向膜３１の光配向分子３１０の配向方向に配向されるため、領域３１ａ上の領域４０ａでは液晶分子４００は図示左右方向に配向され、領域３１ｂ上に位置する領域４１ｂの液晶分子４００は紙面に垂直な方向に配向される。紫外線照射によりモノマーがポリマーとなり、液晶分子４００の配向方向が図１３（ａ）に示す状態に固定される。そして、硬化した液晶層４１を基板３０から剥離することにより、図１３（ｂ）に示すような液晶フィルム４０が得られる。【００５３】
なお、液晶層４１の形成方法としては、スピンコーターなどの装置を用いて配向膜３１上に液晶を所定厚さに拡散させる。ここで、所定厚さとは上述した液晶フィルム４０’の厚さt2である。また、紫外線露光は、マスク３２，３２’を露光面に密着させるタイプの露光を採用しても良いし、光学系を用いてマスク像を露光面に投影するタイプでも良い。【００５４】
上述した第２の実施の形態では、偏光板３３，３４を用いて、直線偏光した紫外線により光配向膜３１の光配向分子３１０を所定方向に配向させた。しかし、直線偏光の紫外線を用いる代わりに、図１４に示すように紫外線を光配向膜３１に斜入射させることによっても同様の光配向を行わせることができる。この場合、光配向膜３１としては、例えば、低分子アゾ色素誘導体の膜などが用いられる。紫外線は、ほぼブリュースター角で斜入射させる。【００５５】
［変形例１］
上述した第２の実施の形態では、紫外線硬化型液晶を硬化させることで液晶フィルム４０’を形成し、それを光学ローパスフィルタ４として用いたが、通常の液晶パネルのように、スペーサを介して所定間隔に配置された一対の透明基板の間に液晶を注入するようにしても良い。この場合、予め透明基板上に光配向膜３１を形成して図１２（ｃ）のように配向させておく。使用する液晶は、紫外線硬化型液晶でも良いし、通常のネマティック液晶でも良い。【００５６】
また、ネマティック液晶を用いるタイプの場合、図１５（ａ）（ｂ）に示すような構成にして、ローパス機能をオンオフできるようにしても良い。図１５（ａ）はローパス機能がオンの状態を示し、図１５（ｂ）はローパス機能がオフの状態を示している。ガラス基板などの透明基板５１の表面には、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）等の透明導電膜により電極５２がそれぞれ形成されている。【００５７】
さらに、いずれか一方の透明基板５１の電極５２上には、上述した光配向膜３１が形成されている。光配向膜３１は図１２（ｃ）のように光配向されており、配向方向が互いに直交する領域３１ａ，３１ｂが形成されている。なお、配向方向は、領域３１ａでは図示左右方向であり、領域３１ｂでは紙面に垂直な方向である。これらの透明基板５１を所定間隔で配置して、その隙間にネマティック液晶を注入して液晶層５０を形成する。駆動制御部６０は、電極５２の印加電圧を制御することにより光学ローパスフィルタ４のローパス機能のオンオフを制御している。【００５８】
図１５（ａ）はローパス機能をオンとした場合を示したものである。これは、電極５２間の電位差がゼロとなるように制御されている状態であって、例えば、印加電圧＝ゼロとした場合である。この場合、液晶分子５００は光配向膜３１によって配向され、領域３１ａに対向する領域５０では図示左右方向に配向し、領域３１ｂに対向する部分では紙面に垂直な方向に配向する。その結果、液晶層５０は回折格子として動作するようになる。【００５９】
一方、図１５（ｂ）はローパス機能をオフとした場合を示しており、駆動制御部６０は電極５２間に電位差が生じるように印加電圧を制御する。その結果、液晶層５０には基板垂直方向（図示上下方向）に電界が生じ、領域５０ａおよび５０ｂの液晶分子５００は基板垂直方向に配向させられる。その結果、液晶層５０の回折機能は消滅することになる。【００６０】
このように、図１５（ａ）（ｂ）に示した光学ローパスフィルタ４ではローパスフィルタとしての機能のオンオフを行うことができる。そのため、例えば、モアレ防止よりも解像度の高い画像を撮影したい場合には、図１５（ｂ）に示すようにローパス機能をオフして撮影を行えば良く、被写体や撮影意図に応じて柔軟に対応することが可能となる。【００６１】
上述した第２の実施の形態の光学ローパスフィルタ４では、図１６（ａ）に示すように、一辺の長さがｄの正方形領域４０ａ，４０ｂを市松模様に配置した。しかし、図１６（ｂ）に示すように、領域４０ａと同様にｘ方向に配向している領域７０ａ〜７０ｆと、領域４０ｂと同様にｙ方向に配向している領域７１ａ〜７１ｆとをｘ方向およびｙ方向に配置しても良い。領域７０ａと領域７１ａとは、形状が同じで配向方向が異なっている。領域７０ｂと領域７１ｂ、領域７０ｃと領域７１ｃ、領域７０ｄと領域７１ｄ、領域７０ｅと領域７１ｅ、および領域７０ｆと領域７１ｆに関しても同様である。なお、各領域７０ａ〜７０ｆ，７１ａ〜７１ｆの幅は、ｘ方向もｙ方向も同じである。【００６２】
図１７（ｂ）は、図１６（ｂ）の破線で囲まれた部分を示したものであって、ｘ方向の配置パターンを示したものである。一方、図１７（ａ）は、周期２ｄの正弦曲線を示したものである。図１７（ｂ）に示したパターンにおいては、各領域７０ａ〜７０ｆ，７１ａ〜７１ｆの幅は、隣あった配向方向の異なる領域に関して、幅の比率が正弦波的に変化するように設定されている。【００６３】
ここで、幅の比率とは、例えば隣り合う領域７０ｃ，７１ｄを例にとると、次式（９）で表される量であって、合計の幅に対するｘ方向に配向している領域の幅を表す量である。
比率＝（領域７０ｃの幅）／{（領域７１ｄの幅）＋（領域７０ｃの幅）}    …（９）
この大きさは、図１７（ａ）に示した正弦曲線の点Ｐ１の値と同じになっている。また、正弦曲線の周期２ｄの半分の距離ｄの位置にある領域７０ｄ，７１ｄの場合には、幅が等しいので比率は０．５となり曲線上の点Ｐ２と同じ値になっている。【００６４】
図１７（ａ）（ｂ）ではｘ方向について説明したが、図１６（ｂ）に示すようにｙ方向に関しても同様の構成となっている。図１６（ｂ）に示す配置パターンも、図１６（ａ）に示す配置パターンと同様にピッチｄの回折格子となっている。このように、図１６（ａ）に示す矩形波的配置パターンを図１６（ｂ）の正弦波的配置パターンとすることにより、一次光の回折効率が高まり光学ローパスフィルタ４の効果が増すとともに、多次光が低減する。その結果、ＭＴＦの低下を抑制することができる。さらに、上述した第１の実施の形態における光学ローパスフィルタ４においても、正弦波的配置パターンを適用し、上記式（９）に従って各領域の幅を決定することも可能である。【００６５】
以上説明した第２の実施の形態の作用効果をまとめると以下のようになる。
（１）液晶が液晶層４１が延在する方向に平行な第１の方向に配向している領域４０ａと、液晶が液晶層が延在する方向において第１の方向と直交する第２の方向に配向している領域４０ｂとを、液晶層４１の延在する方向に沿って交互に繰り返し配置して光学ローパスフィルタ４とした。これにより、格子模様の撮像面への映りこみを防止することができる。
（２）凹凸のレリーフが形成された位相型回折格子を型成形する場合を考えると、凹凸の寸法が波長オーダーであるため、型の形成が非常に難しくコストアップを招く。第２の実施の形態の光学ローパスフィルタ４では、均一な厚さの液晶層４１の領域４０ａ，４０ｂを紫外線硬化させて形成するので、簡単に製造することができ、コストダウンを図ることができる。【００６６】
（３）なお、液晶層４１の厚さを一軸結晶の常屈折率と異常屈折率との差、および入射する光束の波長に基づいて決定するようにするのが好ましい。また、第１の方向へ配向させる領域３１ａと第２の方向へ配向させる領域３１ｂとを交互に繰り返し配置した配向膜３１上に液晶層４１を形成することで、液晶の配向を容易に行わせることができる。
（４）図１５（ａ）（ｂ）に示すように、液晶層５０を、電極５２が形成された一対の基板５１間に挟持されたネマティック液晶としても良い。さらに、駆動制御部６０により電極５２に対する印加電圧を制御することで、光学ローパスフィルタ機能をオンオフさせることができる。【００６７】
（５）また、交互に配置された領域７０ａ〜７０ｆ，７１ａ〜７１ｆの幅の比率を、正弦波的に変化するように設定することで、一次光の回折効率が高まり光学ローパスフィルタ４の効果が増すとともに、多次光が低減する。その結果、ＭＴＦの低下を抑制することができる。
（６）基板上に光配向剤を形成し、透過率の異なる領域が交互に設けられたマスク３２を介して光配向剤を露光し、さらに、光配向剤のまだ感光していない領域を露光し、このようにして感光した光配向剤上に液晶層を形成することで、容易に光学ローパスフィルタ４を製造することができる。また、光配向材上に液晶層を形成した状態で紫外線照射を行い、液晶分子の配向を行うようにすることも可能である。なお、上述した第１の実施の形態による光学ローパスフィルタ４の製造方法を、第２の実施の形態による光学ローパスフィルタ４の製造方法に適用することももちろん可能である。【００６８】
上述した第２の実施の形態では、領域４０ａ，４０ｂをｘ方向およびｙ方向に交互に配置することにより、光束をｘおよびｙ方向の２方向に分離したが、ライン状の領域４０ａ，４０ｂを一方の方向に交互に配置して、光束を一方向に分離するようにしても良い（図７（ｂ）参照）。また、カバーガラス３に液晶フィルム４０’を貼り合わせるのではなく、カバーガラス３の面上に液晶層４１を直接形成するようにしても良い。なお、以上の説明はあくまでも一例であり、本発明の特徴を損なわない限り、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではない。【００６９】
上記では、種々の実施の形態および変形例を説明したが、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。
本出願は日本国特許出願２００６−１８５１５３号（２００６年７月５日出願）、および日本国特許出願２００６−２５２８０５号（２００６年９月１９日出願）を基礎として、その内容は引用文としてここに組み込まれる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【国際調査報告】
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