【手続補正書】
【提出日】令和1年7月11日(2019.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
パターン形成装置１２の第２蓄積装置ＢＦ２は、駆動ローラＮＲ５、ＮＲ６と複数のダンサーローラ２２とを有している。駆動ローラＮＲ５は、処理装置ＰＲ３から送られてきた基板Ｐの表裏両面を挟持しながら回転して、基板Ｐを第２蓄積装置ＢＦ２内に搬入する。駆動ローラＮＲ６は、基板Ｐの表裏両面を挟持しながら、第２蓄積装置ＢＦ２内の基板Ｐを処理装置ＰＲ４に搬出する。複数のダンサーローラ２２は、駆動ローラＮＲ５と駆動ローラＮＲ６との間に設けられ、基板Ｐに対して所定のテンションを付与するものである。複数のダンサーローラ２２は、Ｚ方向に移動可能であり、上側（＋Ｚ方向側）のダンサーローラ２２（２２ａ）は、＋Ｚ方向に付勢されており、下側（−Ｚ方向側）のダンサーローラ２２（２２ｂ）は、−Ｚ方向に付勢されている。このダンサーローラ２２ａとダンサーローラ２２ｂとはＸ方向に関して交互に配置されている。このような構成を有することにより、第２蓄積装置ＢＦ２は、第１蓄積装置ＢＦ１と同様に、基板Ｐに所定のテンションを付与した状態で、基板Ｐを蓄積することができる。なお、第１蓄積装置ＢＦ１と第２蓄積装置ＢＦ２の構成は同一とする。駆動ローラＮＲ５、ＮＲ６は、下位制御装置２４によって制御されるモータや減速機等を有する回転駆動源（図示略）からの回転トルクが与えられることで回転する。この駆動ローラＮＲ５の回転速度によって、第２蓄積装置ＢＦ２に搬入する基板Ｐの搬送速度が規定され、駆動ローラＮＲ６の回転速度によって、第２蓄積装置ＢＦ２から搬出する基板Ｐの搬送速度が規定される。また、駆動ローラＮＲ５、ＮＲ６に設けられた図示しないエンコーダから送られてくる回転速度信号は、下位制御装置２４に送られる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
また、停止要求装置ＰＲｄが処理装置ＰＲ３の場合、ステップＳ３では、基板Ｐの搬送速度Ｖｐｐと作業情報（停止時間、遅延可能時間）とに基づいて、蓄積装置ＢＦ１、ＢＦ２の両方の蓄積情報が検証（判定）される。この場合、処理装置ＰＲ２と処理装置ＰＲ４（ＰＲ５）は稼動し続けるので、第１蓄積装置ＢＦ１に関しては、処理装置ＰＲ３の停止時間（中断時間）ＴＳ３と基板Ｐの搬送速度Ｖｐｐとの関係から、Ｖｐｐ・ＴＳ３で決まる長さ以上の新規蓄積可能長があるか否かが検証（判定）される。また、第２蓄積装置ＢＦ２に関しては、停止時間ＴＳ３と基板Ｐの搬送速度Ｖｐｐとの関係から、第２蓄積装置ＢＦ２の現在の既蓄積長Ｌｆ２が、基板Ｐの搬送速度Ｖｐｐとの関係から、Ｌｆ２＞Ｖｐｐ・ＴＳ３になっているかが検証（判定）される。つまり、第１蓄積装置ＢＦ１の蓄積状態（新規蓄積可能長）が、必要蓄積状態を満たすか（Ｖｐｐ・ＴＳ３以上であるか）否かが検証され、第２蓄積装置ＢＦ２の蓄積状態（既蓄積長Ｌｆ２）が、必要蓄積状態を満たすか（Ｖｐｐ・ＴＳ３以上であるか）否かが判断される。蓄積装置ＢＦ１、ＢＦ２の蓄積状態が必要蓄積状態を満たす場合は、停止要求装置ＰＲｄ（ＰＲ３）の停止時間中に、蓄積装置ＢＦ１、ＢＦ２の蓄積状況が正常に推移する。この場合は、停止要求装置ＰＲｄ（ＰＲ３）の停止時間中に、第１蓄積装置ＢＦ１の蓄積長が一定の速度（一定の割合）で徐々に長くなり、第２蓄積装置ＢＦ２の蓄積長が一定の速度（一定の割合）で徐々に短くなる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
ステップＳ２２のシミュレーションの結果、ダイコータヘッドＤＣＨの処理条件の変更が対応し切れない等の状況によって、適当な速度変化特性Ｖ２（ｔ）が見いだせなかった場合は、ステップＳ２３の判断により、ステップＳ２４に進み、停止要求装置ＰＲｄ（処理装置ＰＲ３）の付加作業のために、遅延可能時間Ｔｄｐ３の経過前に停止要求装置ＰＲｄ（処理装置ＰＲ３）を単独に停止させることが不可能であると判断し、シミュレーションを終了する。ステップＳ２４を経た場合は、先の図１０のステップＳ７において停止不可と判断され、ステップＳ９のライン停止指示が行われる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
また、以上の説明では、停止要求装置ＰＲｄを処理装置ＰＲ３としたが、他の処理装置ＰＲ２、ＰＲ４（ＰＲ５）であっても、図１１のシミュレーションは同様に適用可能である。停止要求装置ＰＲｄが処理装置ＰＲ２であって、図１０のステップＳ４での判断により、ステップＳ６（図１１）のシミュレーションを行う場合は、上流側に蓄積装置が無く、下流側に第１蓄積装置ＢＦ１が有るので、図１１のステップＳ２１、Ｓ２６、Ｓ２７の後、ステップＳ２４かＳ２８の一方が実行される。また、停止要求装置ＰＲｄが処理装置ＰＲ４（ＰＲ５）であって、図１０のステップＳ４での判断により、ステップＳ６（図１１）のシミュレーションを行う場合は、下流側に蓄積装置が無く、上流側に第２蓄積装置ＢＦ２が有るので、図１１のステップＳ２１、Ｓ２２、Ｓ２３の後、ステップＳ２４とステップＳ２８のいずれか一方が実行される。さらに、停止要求装置ＰＲｄが処理装置ＰＲ２、またはＰＲ４（ＰＲ５）の場合、処理装置ＰＲ３での基板Ｐの搬送速度の調整を条件変更に加えることができる。その場合に、処理装置ＰＲ３での基板Ｐの搬送速度を規定速度Ｖｐｐから低下させる場合は、図６に示したポリゴンミラー６６の回転速度と、描画データ（パターンの画素データ）に応じて描画用光学素子（光変調素子）５２をＯｎ／Ｏｆｆするクロックパルスの周波数とを、同じ比率で低下させるようにすればよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２８】
そのため、第１蓄積装置ＢＦ１および前記第２蓄積装置ＢＦ２の蓄積長を所定の範囲内に収めるために、処理装置ＰＲ３での基板Ｐの搬送速度を元に戻す必要がある。そのため、ステップＳ４３で、処理装置ＰＲ３の処理条件と搬送速度条件とを変更すると、上位制御装置１４は、いずれか１つの他の処理装置ＰＲの処理条件を変更することで、処理装置ＰＲ３の搬送速度条件を元に戻した場合に発生する処理誤差Ｅ３ｂをカバー（補完）することができる否かを判断する（ステップＳ４４）。つまり、処理装置ＰＲ３の搬送速度を元に戻すと、露光量が減るので、それによって生じる不具合いを他の処理装置ＰＲで補うことで、パターンの線幅を目標線幅にすることができるか否かを判断する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５４】
また、説明をわかり易くするために、本発明の態様にかかるデバイス製造システム１０を第１の実施の形態と第２の実施の形態とに分けて説明した。したがって、第２の実施の形態で説明したデバイス製造システム１０が有する構成、機能、特性、性能、性質等は、必要に応じて第１の実施の形態でも引用することができる。逆に、第１の実施の形態で説明したデバイス製造システム１０が有する構成、機能、特性、性能、性質等も、必要に応じて第２の実施の形態で引用することができる。したがって、第１の実施の形態と第２の実施の形態とをともに、デバイス製造システム１０（製造ライン）内で実施するように組み合わせてもよい。その組み合せによれば、各処理装置の性能や精度を長期間に渡って安定的に維持できるので、複数の処理工程中のどこかで生じるプロセス変動による処理誤差を正確にカバーすることが可能となり、製造ラインを長期に渡って稼動させることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６８】
回転ドラムＤＲ３は、Ｙ方向に延びる中心軸ＡＸ３と、中心軸ＡＸ３から一定半径の円筒状の円周面とを有し、外周面（円周面）に倣って基板Ｐの一部を長尺方向に支持しつつ、中心軸ＡＸ３を中心に回転して基板Ｐを案内ローラＲ１２に導く。回転ドラムＤＲ３は、下側（−Ｚ方向側、つまり、重力が働く方向側）の外周面の約半周面で基板Ｐを支持する。案内ローラＲ１２は、送られてきた基板Ｐを駆動ローラＮＲ１２に向かって搬送する。駆動ローラＮＲ１２は、送られてきた基板Ｐの表裏両面を挟持しながら回転することで、基板Ｐを処理装置ＰＲ５側に搬送する。テンション調整ローラＲＴ１０、ＲＴ１２は、駆動ローラＮＲ１０と駆動ローラＮＲ１２との間で搬送される基板Ｐに対して所定のテンションを付与するものである。テンション調整ローラＲＴ１０は、＋Ｚ方向に付勢されており、テンション調整ローラＲＴ１２は、−Ｚ方向に付勢されている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８８】
供給用ロールＦＲ１から送り出されるシート状の基板Ｐは、処理装置ＰＲ２の回転ドラムＤＲ１で支持された状態で所定の速度で搬送され、ダイコータヘッドＤＣＨによって塗布液ＬＱｃが塗布される。塗布後の基板Ｐは略水平に＋Ｘ方向に送られ、デバイス製造システム１０’の上方に配置された処理装置ＰＲ２’内の乾燥装置（乾燥部）で乾燥されてから、第１蓄積装置ＢＦ１内の多数のダンサーローラＲｄを通って、処理装置ＰＲ２’の−Ｚ方向側に配置された処理装置ＰＲ３に送られる。第１蓄積装置ＢＦ１内の複数のダンサーローラＲｄは、基板ＰをＸＹ面（床面）と略平行になるようにテンションをかけて折り返すように配置される。処理装置ＰＲ３は、−Ｚ方向に送られる基板Ｐを回転ドラムＤＲ２の下半分程度に掛け回した後、＋Ｚ方向にリリースするように搬送する。そのため、基板Ｐにパターン露光を行う露光ヘッド３６は回転ドラムＤＲ２の下方（−Ｚ方向側）に設けられる。処理装置ＰＲ３で露光された基板Ｐは、処理装置ＰＲ３の−Ｘ方向側に配置された第２蓄積装置ＢＦ２に送られ、複数のダンサーローラＲｄを通って、第２蓄積装置ＢＦ２の−Ｘ方向側に配置された処理装置ＰＲ４’に送られる。処理装置ＰＲ４’は、送られてきた基板Ｐを現像液またはメッキ液を溜める液漕ＢＴ１、洗浄用の純水等を溜める洗浄漕ＢＴ２の順に通した後、処理装置ＰＲ４’の−Ｘ方向側に配置された処理装置ＰＲ６に送る。処理装置ＰＲ６内の複数のダンサーローラＲｄを通って乾燥された基板Ｐは、回収用ロールＦＲ２に巻き取られる。