(57)【要約】  本発明の紫外線硬化型組成物においては、多官能（メタ）アクリレートにより多くの架橋点を形成でき、単官能（メタ）アクリレート及び脂環式構造を有する（メタ）アクリレートにより、硬化膜全体の架橋密度や硬さを好適に制御できスタンパと剥離する際に好適な剥離の挙動を示すことができる。さらに反応性部位にメチル基を有するメタクリレート及び脂環式構造を有する（メタ）アクリレートにより硬化膜表面の汎用樹脂との剥離性が良好となる。これら（メタ）アクリレートを特定量で配合することで、得られる硬化膜は、光ディスクの中間層として有用な耐熱性等の特性を保持しつつ汎用樹脂製のスタンパと好適に剥離可能となる。これにより本発明の紫外線硬化型組成物を、光ディスク中間層として適用した場合には、スタンパの剥離時にも、ディスクの割れ、凹凸パターンの変形や欠落が生じにくくなる。
2008018315.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートと、一分子中に２個の（メタ）アクリロイル基を有する二官能（メタ）アクリレートと、一分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有する単官能（メタ）アクリレートとを含有する紫外線硬化型組成物であって、
紫外線硬化型組成物に含まれる（メタ）アクリレート中の多官能（メタ）アクリレートの含有量が３０〜７０質量％であり、単官能（メタ）アクリレートの含有量が５〜３０質量％であり、
脂環式構造を有する二官能（メタ）アクリレートと脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリレートの含有量の和が１０〜５０質量％であり、かつ、メタクリレートの含有量が７質量％以上であることを特徴とする光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項２】
前記多官能（メタ）アクリレートが、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種である請求項１に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項３】
前記脂環式構造を有する二官能（メタ）アクリレートが、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート及びペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種であり、前記脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリレートが、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート及びジシクロペンタニル（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種である請求項１に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項４】
前記メタクリレートが、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート及びジシクロペンタニルメタクリレートから選ばれる少なくとも一種である請求項１に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項５】
ポリカーボネート基板上に硬化後の膜厚が３０μｍになるように塗布して１４５０Ｖの電圧で１５ショットの紫外線を照射して硬化膜を形成し、硬化膜を９０°方向に１２５ｍｍ／ｍｉｎの速度で引っ張った際の接着力が、４ｋｇ／ｃｍ２以下である請求項１に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項６】
２５℃でのＢ型粘度が５０〜１０００ｍＰａ・ｓである請求項１に記載の紫外線硬化型組成物。
【請求項７】
硬化後の膜厚が３０μｍになるように１４５０Ｖの電圧で１５ショットの紫外線を照射して形成した硬化膜の１００℃における弾性率が５００〜４０００ＭＰａである請求項１に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項８】
基板上に少なくとも２層の光反射層を有する光ディスクであって、隣り合う２層の光反射層の間に、請求項１〜７のいずれかに記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を有し、前記光透過層が、その表面に凹凸パターンを有することを特徴とする光ディスク。
【請求項９】
基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、光透過層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層され、前記光透過層が請求項１〜７のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、前記中間層の第二の情報記録層と積層される表面に凹凸パターンを有し、前記基板面から入射した光により記録又は再生を行うことを特徴とする光ディスク。
【請求項１０】
基板上に、少なくとも第一の光反射層、第一の情報記録層、第一の光透過層、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層とが順に積層され、前記第一の光透過層が請求項１〜７のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、前記第一の光透過層の第二の光反射層と積層される表面に凹凸パターンを有し、前記基板面から入射した光により記録又は再生を行うことを特徴とする光ディスク。
【請求項１１】
基板上に少なくとも２層の光反射層を有する光ディスクの製造方法であって、
表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、光反射層を有する基板との間に、請求項１〜７のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を形成した後、前記光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された光透過層を形成する工程を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【請求項１２】
基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、光透過層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
（１）基板上に、第一の情報記録層と第一の光反射層とを順に積層する工程と、
（２）表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の光反射層との間に、請求項１〜７のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を形成した後、前記光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された光透過層を形成する工程と、
（３）前記光透過層上に、第二の情報記録層と第二の光反射層とを順に積層する工程、
を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【請求項１３】
基板上に、少なくとも第一の光反射層、第一の情報記録層、第一の光透過層、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
（１’）基板上に、第一の光反射層と第一の情報記録層とを順に積層する工程と、
（２’）表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の情報記録層との間に、請求項１〜７のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる第一の光透過層を形成した後、前記第一の光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された第一の光透過層を形成する工程と、
（３’）前記第一の光透過層上に、第二の光反射層、第二の情報記録層及び第二の光透過層とを順に積層する工程、
を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＤＶＤやＨＤ−ＤＶＤ、Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃなどの光ディスクの凹凸パターンが形成される中間層として使用される紫外線硬化型組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＤＶＤ、ＨＤ−ＤＶＤやＢｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃなどの光ディスクの大容量化の要求にともない、複数の情報記録層を有する多層構造の光ディスクが広く用いられている。多層の光ディスクは、複数の情報記録層が、中間層を介して積層された構造を有するのが一般的であり、具体的には、基板上に第１の情報記録層を有し、これに表面に凹凸パターンを有する中間層が積層され、さらに第２の情報記録層が積層され、第２の情報記録層には中間層の凹凸パターンが転写されている。中間層の凹凸パターンの形成には、通常、樹脂層である中間層をスタンパによって押圧する２Ｐ（Photo Polymerization）法により形成される（特許文献１参照）。【０００３】
中間層形成時には、スタンパから中間層への凹凸パターンの転写時に、スタンパを中間層から剥離する際の剥離性が悪いと、中間層の一部がスタンパと共に剥離するため、欠陥が生じる。このため、従来使用されているスタンパは、中間層として使用される各種の紫外線硬化樹脂との剥離性が良好なポリオレフィン系のスタンパが広く使用されている（特許文献２、３参照）。このようなポリオレフィン系のスタンパは、各種の紫外線硬化樹脂に対して良好な剥離性を有するが、そのコストが高く、また再利用するためには表面に付着した樹脂を洗浄する必要があるため、実際に再利用することが難しいことから、安価なポリカーボネートなどの樹脂スタンパへの転換が望まれている。【０００４】
従来の光ディスクに使用されている紫外線硬化樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物を含有する紫外線硬化型組成物が開示されている（特許文献４参照）。該組成物は、特定構造の化合物を含有するとともに、硬化物が特定の弾性率を有することにより、良好に反射膜を転写できる硬化物を与える。また、特定のエポキシ（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリロイル基含有化合物と、光重合開始剤とを含有することにより、情報記録層に金、銀またはチッ化珪素を用いた場合でも、良好な信頼性を有し、外観変化を生じない情報記録媒体接着用の樹脂組成物が開示されている（特許文献５参照）。【０００５】
しかしながら、これら従来の樹脂組成物は、光ディスクの光透過層などの中間層に適用し、スタンパとしてポリカーボネートのような汎用樹脂を用いると、その剥離性が充分でないため、剥離した際中間層の一部がスタンパに残り、中間層として形成されたピットやグルーブ等の凹凸パターン形状の変形や欠落が見られるといった問題が生じていた。【０００６】
【特許文献１】特開平０９−１６１３２９号公報
【特許文献２】特開２００３−０８５８３９号公報
【特許文献３】特開２００５−１６６２４１号公報
【特許文献４】特開２００５−２４３１０９号公報
【特許文献５】特開２００５−０４８０９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、スタンパとしてポリカーボネートなどの安価な汎用樹脂を使用した場合であっても、凹凸パターン形状の変形や欠落やディスクの割れが生じにくく、光ディスクの中間層として有用な特性を有する紫外線硬化型組成物を提供すること、更には、多層構造の光ディスクの製造方法において、スタンパとしてポリカーボネートなどの安価な汎用樹脂を使用できる製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の紫外線硬化型組成物によれば、多官能（メタ）アクリレートにより多くの架橋点を形成でき、単官能（メタ）アクリレート及び脂環式構造を有する（メタ）アクリレートにより、硬化膜全体の架橋密度や硬さを好適に制御できスタンパと剥離する際に好適な剥離の挙動を示すことができる。さらに反応性部位にメチル基を有するメタクリレート及び脂環式構造を有する（メタ）アクリレートにより硬化膜表面の汎用樹脂との剥離性が良好となる。これら（メタ）アクリレートを特定量で配合することで、得られる硬化膜は、光ディスクの中間層として有用な耐熱性等の特性を保持しつつ汎用樹脂製のスタンパと好適に剥離可能となる。これにより本発明の紫外線硬化型組成物を、光ディスク中間層として適用した場合には、スタンパの剥離時にも、ディスクの割れ、凹凸パターンの変形や欠落が生じにくくなる。【０００９】
すなわち本発明は、一分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートと、一分子中に２個の（メタ）アクリロイル基を有する二官能（メタ）アクリレートと、一分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有する単官能（メタ）アクリレートとを含有する紫外線硬化型組成物であって、紫外線硬化型組成物に含まれる（メタ）アクリレート中の多官能（メタ）アクリレートの含有量が３０〜７０質量％であり、単官能（メタ）アクリレートの含有量が５〜３０質量％であり、脂環式構造を有する二官能（メタ）アクリレートと脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリレートの含有量の和が１０〜５０質量％であり、かつ、メタクリレートの含有量が７質量％以上である光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物を提供するものである。【００１０】
また、本発明は、基板上に少なくとも１層の情報記録層を有する光ディスクであって、基板と情報記録層との間、又は、隣り合う２層の情報記録層の間の中間層として、上記光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を有する光ディスクを提供するものである。【００１１】
さらに本発明は、基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、中間層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
（１）基板上に、第一の情報記録層と第一の光反射層とを形成する工程と、
（２）表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の光反射層との間に、上記の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる中間層を形成した後、前記中間層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された中間層を形成する工程と、
（３）前記中間層上に、第二の情報記録層と第二の光反射層とを形成する工程、
を有する光ディスク記録媒体の製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物は、ポリカーボネートに対して良好な剥離性を有する硬化物を与えることができるため、スタンパとして高価なオレフィン系樹脂を使用しなくとも、良好に凹凸パターンを形成することができる。さらに、当該光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物組成物は、高い弾性率を実現できることから、光ディスクのプリピットやグルーブを形成する中間層に好適に使用できる。【００１３】
また、本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクの製造方法によれば、高価なオレフィン系樹脂を使用しなくとも好適に光ディスクを作製することができるため、低コストでの光ディスクの製造が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
［紫外線硬化型組成物］
本発明の光ディスク中間層用用紫外線硬化型組成物は、一分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート（以下、多官能（メタ）アクリレートと略記する）と、一分子中に２個の（メタ）アクリロイル基を有する二官能（メタ）アクリレート（以下、二官能（メタ）アクリレートと略記する）と、一分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有する単官能（メタ）アクリレートとを含有する紫外線硬化型組成物であって、紫外線硬化型組成物に含まれる（メタ）アクリレート中の多官能（メタ）アクリレートの含有量が３０〜７０質量％であり、単官能（メタ）アクリレートの含有量が５〜３０質量％であり、脂環式構造を有する二官能（メタ）アクリレートと脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリレートの含有量の和が１０〜５０質量％であり、かつ、メタクリレートの含有量が７質量％以上の紫外線硬化型組成物である。なお、本明細書中で（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートをいい、同様に（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロいうる基をいう。また、中間層とは、光ディスクの表層以外の部分に設けられる光透過層などの表裏に他の層を有する層をいう。【００１５】
（多官能（メタ）アクリレート）
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化型組成物に含まれる（メタ）アクリレート１００質量％のうち、多官能（メタ）アクリレートを３０〜７０質量％、好ましくは４０〜７０質量％、より好ましくは、５０〜７０質量％含有する。本発明の紫外線硬化型組成物は、多官能（メタ）アクリレートを高い含有率で含有することにより、剛直な硬化膜が得られ、ポリカーボネート等の汎用樹脂との剥離性の向上に寄与すると共に、高温でも極めて硬く、高いガラス転移温度が得られるため、記録の際の熱を受けたとしても、それによる変形を殆ど生じない。従って、本発明の紫外線硬化型組成物は、光ディスクの中間層として、好適な剥離性や耐熱性を有する硬化物を与えることができる。【００１６】
本発明で使用する多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートが、硬化後に高い弾性率を与えることができるので好ましい。【００１７】
なかでもトリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートは、硬化後に特に高い弾性率を与えることができるので更に好ましく、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等は最も好ましい。【００１８】
（二官能（メタ）アクリレート）
本発明の紫外線硬化型組成物は、二官能（メタ）アクリレートを含有することにより、紫外線硬化型組成物の粘度や、得られる硬化物の物性を光ディスクに適した範囲に調整することができる。【００１９】
本発明に使用する二官能（メタ）アクリレートとしては、脂環式構造を有する二官能アクリレートとして、ノルボルナンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート等があげられる。【００２０】
他の二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルエーテルモノマー等が挙げられる。【００２１】
なかでも、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが好ましく、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが特に好ましい。【００２２】
また、下記の式（１）で表される二官能（メタ）アクリレートは、得られる硬化物に、ポリカーボネート等に対する高い剥離性を付与できるため好ましく使用できる。【００２３】
【化１】
2008018315.tif 000003
（式（２）中、Ｒ１、Ｒ５は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２〜Ｒ４は各々独立して水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。）【００２４】
（単官能（メタ）アクリレート）
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化型組成物に含まれる（メタ）アクリレート中に、単官能（メタ）アクリレートを５〜３０質量％、好ましくは５〜２５質量％、より好ましくは５〜２０質量％含有する。単官能（メタ）アクリレートを当該含有量で、三官能（メタ）アクリレートと併用することで、硬化膜の架橋構造を好適に調整し、ポリカーボネート等の樹脂に対する接着性を低下させることができる。【００２５】
脂環式構造を有する単官能の（メタ）アクリレートとしては、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタンアダマンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラシクロドデカニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等がある。【００２６】
他の単官能（メタ）（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、等が挙げられる。【００２７】
中でも、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートが好ましい。特にイソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレートが特に好ましく、その中でもイソボルニルメタクリレートは硬化膜を更に剛直にすると共に、硬化物のポリカーボネート剥離性に極めて優れるため、最も好ましい。【００２８】
（脂環式構造を有する（メタ）アクリレート）
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化型組成物に含まれる（メタ）アクリレートのうち、脂環式構造を有する二官能（メタ）アクリレートと脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリレートの含有量の和が１０〜５０質量％、好ましくは２０〜５０質量％、より好ましくは２５〜４５質量％、特に好ましくは３０〜４５質量％である。脂環式構造を有する（メタ）アクリレートは剛直な環構造を有するため、当該範囲で含有することにより、三官能以上のアクリレートと共に高温での高い弾性率と高いガラス転移温度を与えることができる。また、極性基を有さないものを使用することによりポリカーボネート等の樹脂に対する接着性を低下させることができる。【００２９】
本発明においては、紫外線硬化型組成物に使用する二官能（メタ）アクリレートや単官能（メタ）アクリレートの一部又は全部に、上記した脂環式構造を有する二官能（メタ）アクリレート、脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリレートを使用することで、脂環式構造を有する（メタ）アクリレートの含有量を適宜調整できる。【００３０】
脂環式構造を有する（メタ）アクリレートとしては、二官能（メタ）アクリレートとしては、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが好ましく、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートが特に好ましい。また単官能（メタ）アクリレートとしては、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートが好ましい。特にイソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレートが特に好ましく、その中でもイソボルニルメタクリレートは硬化膜を剛直にすると共に、硬化物のポリカーボネート剥離性に極めて優れるため、最も好ましい。【００３１】
また、（メタ）アクリレート中の多官能（メタ）アクリレート、脂環式構造を有する二官能（メタ）アクリレート及び脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリレートの含有量の和が６０質量％以上であることが好ましい。【００３２】
（メタクリレート）
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化型組成物に使用する（メタ）アクリレート中、７質量％以上がメタクリレートとなるよう含有させることにより、硬化膜にポリカーボネート等の汎用樹脂に対する好適な剥離性を与えることができる。メタクリレートの含有量の上限は特に制限されないが、メタクリレートの量が多いと硬化性が低下する傾向があるため、７５質量％以下とすることが好ましく、７〜４５質量％であることがより好ましく、１０〜３０質量％であることが特に好ましい。なかでも、メタクリレートとしては単官能メタクリレートを使用することが剥離性の向上に好適であり、単官能メタクリレートを７質量％以上含有することが好ましく、単官能メタクリレートを１０質量％含有することが好ましい。【００３３】
本発明においては、紫外線硬化型組成物に使用する（メタ）アクリレートの一部にメタクリレートを使用することでメタクリレートの含有量を適宜調整できる。【００３４】
メタクリレートとしては、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレートが好ましい。特にイソボルニルメタクリレートは硬化膜を剛直にすると共に、硬化物のポリカーボネート剥離性に極めて優れるため、最も好ましい。【００３５】
（（メタ）アクリレートオリゴマー）
本発明の紫外線硬化型組成物は、上記（メタ）アクリレート以外に（メタ）アクリレートオリゴマーを含有してもよい。（メタ）アクリレートオリゴマーの中でもエポキシ（メタ）アクリレートは、剛直な構造を有することにより、ポリカーボネートに対する剥離性が向上するため、好ましい。【００３６】
本発明で使用するエポキシ（メタ）アクリレートとしては、上記特性を有するものであればよく、例えば、下記式（２）で表されるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレートを使用できる。【００３７】
【化２】
2008018315.tif 000004
【００３８】
（式中、Ｙは−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−又は−Ｃ（ＣＨ３）２−を表し、Ｚは各々独立的に、水素原子又は−ＣＨ３を表し、ｎは０又は１以上の整数を表す。）【００３９】
このようなビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレートとしては、油化シェルエポキシ社製エピコート８０２、１００１、１００４等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、及びエピコート４００１Ｐ、４００２Ｐ、４００３Ｐ等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応によって得られるエポキシアクリレート等が挙げられる。【００４０】
中でもＹが−Ｃ（ＣＨ３）２−であり、ｎが０又は１〜６の整数である構造の付加重合体を主構成成分とするビスフェノールＡ型のエポキシ（メタ）アクリレートであることがより好ましい。【００４１】
また、水添ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型等のエポキシ（メタ）アクリレートも好適に使用できる。【００４２】
本発明で使用するエポキシ（メタ）アクリレートのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量（Ｍｗ）としては、５００〜３０００であることが好ましく、８００〜１５００であることがより好ましい。エポキシ（メタ）アクリレートの構造、及び分子量を上記の範囲とすることにより、本発明の紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクの耐久性及び耐光性がより優れたものとなる。なお、ＧＰＣは東ソー（株）社製 ＨＬＣ−８０２０を用い、カラムはＧＭＨｘｌ−ＧＭＨｘｌ−Ｇ２００Ｈｘｌ−Ｇ１０００Ｈｘｌｗを使用した。溶媒はＴＨＦを用い、１．０ｍｌ／ｍｉｎの流量でカラム温度が４０℃、検出器温度が３０℃、分子量は標準ポリスチレン換算で測定を行った。【００４３】
エポキシ（メタ）アクリレートを併用する場合には、その含有量が５〜４０質量％であることが好ましく、５〜３５質量％であることがより好ましく、２０〜３５質量％であることが最も好ましい。【００４４】
他の（メタ）アクリレートオリゴマーとして、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレートを使用することで得られる硬化膜の特性を調整することもできる。これらオリゴマーを含有する際には、硬化物の剥離性を低下させず、光ディスクの中間層として好適な耐熱性等を保持するため、その含有量が１０質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましい。【００４５】
（光重合開始剤）
本発明では光重合開始剤を必要に応じ使用することができる。光重合開始剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できるが、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明で使用する光重合開始剤として好適である。本発明に使用する光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤を使用することができる。【００４６】
（シリコン系添加剤）
また、本発明においては、シリコン系の添加剤を使用することにより、ポリカーボネート等の樹脂との剥離性を向上させることができる。当該シリコン系の添加剤としては、たとえば、エチレンオキサイド変性シリコンアクリレートなどのシリコン系アクリレートや、プロピレンオキサイド変性シリコンアクリレート、エチレンオキサイド変性シリコンオイルや、プロピレンオキサイド変性シリコンオイルなどの変性シリコンオイルが使用できる。【００４７】
なかでも、エチレンオキサイド変性シリコンアクリレートや、プロピレンオキサイド変性シリコンアクリレート、エチレンオキサイド変性シリコンオイルや、プロピレンオキサイド変性シリコンオイル等が好ましく使用できる。【００４８】
シリコン系アクリレートや、変性シリコンオイル等のシリコン系添加剤の含有量としては、紫外線硬化型組成物に含まれるシリコン系添加剤以外の（メタ）アクリレート１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましく、０．０１〜５質量部がより好ましく、０．１〜１質量部が特に好ましい。【００４９】
シリコン系アクリレートとしては、例えば、Ｔｅｇｏｒａｄ  ２２００Ｎ、２５００Ｎ、２１００Ｎ（デグサジャパン株式会社製）等が好適であり、変性シリコンオイルとしては、例えば、側鎖変性型でも末端変性型でも良く、東レダウコーニング（株）社製Ｌ−７００１、Ｌ−７００２、Ｙ−７００６等を使用することができる。【００５０】
これらシリコン系添加剤はポリカーボネートに対する接着力を低下させる場合に特に効果的である。【００５１】
（その他の添加剤）
また、本発明の組成物を構成する際の任意成分としては、次のようなものが有り、本発明の効果を損なわない範囲内で使用可能である。すなわち、光重合開始剤に対する増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等であり、さらには前述光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、かつ紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。また、本発明の紫外線硬化型組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。【００５２】
（組成物の特性）
本発明の紫外線硬化型組成物は、上記構成により、架橋密度が高くなり剛直な硬化物を形成して、高い弾性率と、高いガラス転移温度を実現でき、情報を記録する際に変形を生じにくくなる。また、剛直であると共に適度な柔軟性を有する硬化膜を実現でき、汎用樹脂、特にポリカーボネートとの優れた剥離性を発現できる。【００５３】
本発明の紫外線硬化型組成物は、その硬化物のポリカーボネートに対する接着力が、４ｋｇ／ｃｍ２以下、好ましくは３ｋｇ／ｃｍ２以下、より好ましくは１ｋｇ／ｃｍ２以下であることが好ましい。【００５４】
本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物のポリカーボネートに対する接着力は、例えば、以下の試験により測定される。１．２ｍｍ厚のポリカーボネート板に紫外線硬化型組成物をコート、ＵＶ硬化させた後、ステンレス製の１０ｍｍ角のアタッチメントに両面テープを貼り、その後硬化膜と接着させる。このアタッチメント周囲をカッターナイフで硬化膜をカットする。その後、イマダ（株）製電動式縦型電動スタンドＭＸ５００Ｎを用い、９０°方向にステンレス製の１０ｍｍ角のアタッチメントを１２５ｍｍ／ｍｉｎの速度で引っ張り、接着力を測定することができる。【００５５】
本発明の紫外線硬化型組成物は、２５℃でのＢ型粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以下、好ましくは５０〜１０００、より好ましくは５０〜５００Ｐａ・ｓとすることで、光ディスクの中間層、特に５〜７０μｍの厚さの中間層を好適に形成できる。【００５６】
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化後の硬化被膜の１００℃における弾性率が５００〜４０００ＭＰａであることが好ましく、１０００〜３５００ＭＰａであるとより好ましい。弾性率を当該範囲とすることで、転写されたピット形状を熱や湿度の変化に対しても好適に保持できる。【００５７】
［光ディスク］
次に本発明の光ディスクについて説明する。本発明の光ディスクは、基板上に少なくとも１層の光反射層を有する光ディスクであって、基板と光反射層との間、又は、隣り合う２層の反射層の間に、上記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる硬化層を有し、前記硬化層が、その表面に凹凸パターンを有するものである。ここで、凹凸パターンとは、ピット、グルーブ及びランドの少なくとも一つをいう。【００５８】
本発明の光ディスクは、当該凹凸パターンを汎用樹脂であるポリカーボネート等をスタンパとして用いて生産することが可能である。記録メディアとして大量生産される光ディスクにおいて、このような安価なスタンパを使用できる本発明の光ディスクは、従来の光ディスクに比して、大きく製造コストの低減が可能である。【００５９】
具体的な構成としては、（i）基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、光透過層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層され、光透過層が本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、光透過層の表面に凹凸パターンを有し、第二の情報記録層と積層される構成、（ii）基板上に、少なくとも第一の光反射層、第一の情報記録層、第一の光透過層、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層とが順に積層され、前記第一の光透過層が本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、前記第一の光透過層の第二の光反射層と積層される表面に凹凸パターンを有する構成などが例示できる。これら光ディスクは、更に情報記録層や光反射層を積層して、３以上の情報記録部位を有する構成としてもよい。【００６０】
上記構成（i）の構成の例としては、２層ＤＶＤ−Ｒ、２層ＨＤ−ＤＶＤ−Ｒが挙げられるが、この場合には光透過層の厚みは３０〜６０μｍ程度の厚さを有するものを使用できる。【００６１】
また、上記構成（ii）の構成の例としては、Ｂｌｕ−Ｒａｙ  Ｄｉｓｃが挙げられ、上記の光透過層は、レーザー光の発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましい。光透過層の厚みは５０〜１５０μｍの範囲であり、７５〜１５０μｍであることが特に好ましい。光透過層の厚みは、通常、約１００μｍに設定される。上記構成で、２層の光透過層を有する場合、第一の光透過層の厚みは１０〜４０μｍ、第二の光透過層の厚みは９０〜６０μｍが好ましい。厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。【００６２】
本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物を光透過層として使用する際には、当該硬化物の１００℃における弾性率が５００〜４０００ＭＰａであることが好ましく、１０００〜３５００ＭＰａであるとより好ましい。当該範囲の弾性率を有すると、情報を書き込む際に生じる熱に対する変形抑止効果に優れ、またポリカーボネートに対する剥離性にも優れる。【００６３】
本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物を光透過層として使用する際には、レーザー光の発振波長が５００ｎｍ程度のレーザーや、３７０〜４３０ｎｍのブルーレーザーを効率良く透過することが好ましく、１００μｍの厚さにおいて４０５ｎｍの光の透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。【００６４】
光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。ブルーレーザーを使用する場合には、４００ｎｍ近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層は、これら材料を用いてスパッタリング・蒸着等の方法で薄膜を形成することにより得ることができる。また、当該光反射層は、必要に応じ半透明の光反射層とすることができる。【００６５】
基板としては、ディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。【００６６】
また、書込可能な光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。【００６７】
情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｓｂ−Ｔｅ系、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金を用いることができる。【００６８】
有機色素型記録層に用いる有機色素としては、アゾ系色素以外に、記録に用いるレーザー光によってピットを形成することができるものであれば特に制限なく使用でき、例えば、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリリウム塩系、スクワリリウム系、クロコニウム系、ホルマザン系、金属錯体色素系等が挙げられる。また、色素に一重項酸素クエンチャーを混合して用いるのもよい。クエンチャーとしては、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系等の金属錯体が好ましい。また、窒素のラジカルカチオンを有するアミン系化合物やヒンダードアミン等のアミン系のクエンチャーも好適である。各々の情報記録層に用いる材料は同じでも良いし異なっていてもよい。【００６９】
本発明の光ディスクとしては、凹凸パターンを有する紫外線硬化型組成物の硬化物層を有する構成であればよく、追記型のＤＶＤ−Ｒ及びＤＶＤ＋Ｒ、二層型のＤＶＤ−Ｒ及びＤＶＤ＋Ｒ、書き換え可能型のＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等のＤＶＤ、あるいは、光ディスク基板の上に、紫外線硬化型組成物の硬化被膜を積層することにより光透過層を形成した光ディスク、例えば、情報読み書き用のレーザー光として青紫色レーザー光を用いた次世代タイプの光ディスク（商品名「Ｂｌｕ−ｒａｙ」、商品名「ＨＤ−ＤＶＤ」）等の製造においても使用することができる。【００７０】
［光ディスクの製造方法］
本発明の光ディスクは、表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、光反射層を有する基板との間に、上記した本発明の紫外線硬化型組成物を挟持し、紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を形成した後、前記光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された光透過層を形成する工程を有する製造方法により好適に製造される。【００７１】
光反射層を有する基板は、光反射層が最表層であっても、光反射層に積層された情報記録層等の他の層が最表層であってもよい。当該工程により光反射層を有する基板上にグルーブやピットなどの凹凸パターンが形成された光透過層を形成でき、これに更に光透過層や情報記録層を形成して多層の光ディスクを製造できる。最表層には凹凸パターンを有さない光透過層や、他の基板を積層する。【００７２】
光ディスクが再生専用の場合には、表面に凹凸パターンを有する基板上に光反射層を積層し、次いで、当該光反射層と、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパとの間に、上記した本発明の紫外線硬化型組成物を挟持し、紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を形成した後、前記光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された光透過層を形成する。これに、更に光反射層を形成した後、同様の光透過層や最表層となる光透過層、あるいは基板等を積層してディスクを形成する。【００７３】
記録・再生が可能な光ディスクとしては、例えば、下記（I）、（II）の製造方法により製造される。
（I）基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、光透過層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
（１）基板上に、第一の情報記録層と第一の光反射層とを順に積層する工程と、
（２）表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の光反射層との間に、上記本発明の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を形成した後、前記中間層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された光透過層を形成する工程と、
（３）前記光透過層上に、第二の情報記録層と第二の光反射層とを順に積層する工程、
を有する方法。【００７４】
（II）基板上に、少なくとも第一の光反射層、第一の情報記録層、第一の光透過層、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
（１’）基板上に、第一の光反射層と第一の情報記録層とを順に積層する工程と、
（２’）表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の情報記録層との間に、上記本発明の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる第一の光透過層を形成した後、前記第一の光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された第一の光透過層を形成する工程と、
（３’）前記第一の光透過層上に、第二の光反射層、第二の情報記録層及び第二の光透過層とを順に積層する工程、
を有する方法。【００７５】
上記（I）、（II）の方法によれば、二層の情報記録層を有する光ディスクを形成できるが、更に、（２）、（３）あるいは（２’）、（３’）の工程と同様の工程を繰り返すことにより三層、四層の情報記録層を有する光ディスクを製造できる。また、（３）、（３’）の工程においては、光反射層、情報記録層及び光透過層を順に積層しても、これらが既に積層された状態のものを一度に積層してもよい。【００７６】
本発明の製造方法においては、スタンパとしてポリカーボネートを使用できるため、安価なコストで光ディスクの製造が可能である。また、他の汎用の樹脂性スタンパも使用でき、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるものを用いることもできる。【００７７】
紫外線照射にあたっては、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。硬化物のゲル分率は７０％〜１００％が好ましく、更に好ましくは８５％〜１００％である。【００７８】
［実施態様］
以下、本発明の光ディスクの具体例として、上記（i）の構成における情報記録層として、色素記録層を使用した例を以下に示す。【００７９】
本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクの実施態様としては、例えば、図１に示したように、色素記録層（ａ１）と、半透明の光反射層（ｔ１）と、本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物の光透過層（ｃ１）と、色素記録層（ｂ）と、光反射層（ｒ）とが、この順に積層された構造を有する光ディスクがある。【００８０】
図１の光ディスクは、基板（ｄ１）１上に色素記録層（ａ１）２と、半透明の光反射層（ｔ１）３と、紫外線硬化型組成物の層光透過層（ｃ１）４と、色素記録層（ｂ）５と、光反射層（ｒ）６と、基板（ｄ２）７とが順に積層された構造の光ディスクである。図１中、色素記録層（ａ１）２と半透明の光反射層（ｔ１）３とが第１記録層２１を形成し、色素記録層（ｂ）５と光反射層（ｒ）６とが第２記録層２２を形成している。また、半透明の光反射層（ｔ１）３と色素記録層（ｂ）５とが互いに向き合うように紫外線硬化型組成物の光透過層（ｃ１）４を介して積層されている。なお、図１中には、光の入射方向に対して凸状の記録トラック（グルーブ）１１（第１記録層）と凸状の記録トラック（グルーブ）１２（第２記録層）も図示した。【００８１】
本発明の光ディスクは、光反射層（ｒ）６と、基板（ｄ２）７との間に接着層８を設けても良い（図２）。また、光透過層（ｃ１）４と、色素記録層（ｂ）５との間に、色素記録層（ａ２）３１と、半透明の光反射層（ｔ２）３２と、前記紫外線硬化型組成物の光透過層（ｃ２）３３とをこの順に積層した１又は２以上の積層体（ｓ）２３を積層した構造の光ディスクであっても良い。
この場合、光透過層（ｃ１）４と色素記録層（ａ２）３１とが接し、色素記録層（ｂ）５と光透過層（ｃ２）３３とが接するように積層する。光透過層（ｃ２）３３は、これまで詳細に説明してきた上記の紫外線硬化型組成物により形成する。
また、２以上の積層体（ｓ）２３を積層する場合には、一方の積層体（ｓ１）の色素記録層（ａ２）と、この積層体（ｓ１）と隣接する他の積層体（ｓ２）の光透過層（ｃ２）とが接するようにこれまで詳細に説明してきた上記の紫外線硬化型組成物の光透過層を介して積層する。
図２に示した光ディスクにおける第１記録層２１に、更に積層体（ｓ）２３を１層だけ積層した例が図３の光ディスクである。【００８２】
また、図３の光ディスクにおける光透過層（ｃ１）４と光透過層（ｃ２）３３は、２層以上の光透過層として積層しても良い。最近の光ディスクでは高容量化に伴い、ディスクの反りをできる限り低減させる必要が生じてきている。そのため、図４に示したように、光透過層（ｃ１）４には反りを低減させるために非常に柔らかい光透過層（ｃ３）４１を積層し、続いて本発明で記載されている紫外線硬化型組成物を光透過層（ｃ４）４２として積層しても良い。同様に光透過層（ｃ２）３３には反りを低減させるために非常に柔らかい光透過層（ｃ５）４３を積層し、続いて本発明で記載されている紫外線硬化型組成物を光透過層（ｃ６）４４として積層しても良い。【００８３】
上記の半透明の光反射層は、第２記録層の記録、再生が可能な程度に、適度な光透過性を有する光反射層である。具体的には、情報を記録再生するためのレーザー光の光透過率が４０％以上であり、かつ適度な光反射率（通常、３０％以上）を持つ反射層であることが好ましい。半透明の光反射層の厚さは通常、５０ｎｍ以下が好適である。より好適には３０ｎｍ以下である。更に好ましくは２５ｎｍ以下である。【００８４】
第２記録層の光反射層は、高反射率である必要がある。また、高耐久性であることが望ましい。高反射率を確保するために、光反射層の厚さは通常、２０ｎｍ以上が好適である。より好適には３０ｎｍ以上である。更に好ましくは５０ｎｍ以上である。但し、生産のタクトタイムを短くし、コストを下げるためにはある程度薄いことが好ましく、通常４００ｎｍ以下とする。より好ましくは３００ｎｍ以下とする。【００８５】
基板の厚さとしては、０．１〜２．０ｍｍが好ましく、０．３〜１．５ｍｍ以上がより好ましい。【００８６】
これらの光ディスクは、例えば、以下の工程により製造することができる。
図１に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形することによって、記録トラック（グルーブ）１１と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板（ｄ１）１を作製する。次にアゾ系色素を溶剤に溶解させた後、基板（ｄ１）１の記録トラック側の表面にスピンコート等により色素記録層（ａ１）２を形成する。更にその上に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより半透明の光反射層（ｔ１）３を成膜し、第１記録層２１を作製する。【００８７】
次に、ポリカーボネート樹脂を射出成形にすることによって、記録トラック（グルーブ）１２と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板（ｄ２）７を作製する。次に銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層（ｒ）６を成膜する。この上に、アゾ系色素を溶剤に溶解させた後、基板（ｄ２）７の記録トラック側の表面にスピンコート等により色素記録層（ｂ）５を形成し、第２記録層２２を作製する。【００８８】
第１記録層を有する基板（ｄ１）の半透明の光反射層（ｔ１）３の表面に、紫外線硬化型組成物を塗布し、第２記録層を有する基板の色素記録層（ｂ）５とスピンコート等により貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させ、光透過層（ｃ１）４を形成し、図１の光ディスクを作製する。【００８９】
図２に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形にすることによって、記録トラック（グルーブ）１１と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板（ｄ１）１を作製する。次にアゾ系色素を溶剤に溶解させた後、基板（ｄ１）１の記録トラック側の表面にスピンコート等により色素記録層（ａ１）２を形成する。更にその上に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより半透明の光反射層（ｔ１）３を成膜し、第１記録層２１を作製する。【００９０】
この上に、本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物の光透過層（ｃ１）４を形成するが、その際に型を用いて表面に記録トラック（グルーブ）１３を転写する。記録トラック（グルーブ）１３を転写する工程は次の通りである。基板（ｄ１）１の半透明の光反射層（ｔ１）３上に、本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物を塗布し、その上に記録トラック（グルーブ）１３を形成するための型と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、本発明の組成物を硬化させる。その後、型を剥離して、光透過層（ｃ１）４に記録トラック（グルーブ）１３を設けた光ディスク基板を用意する。なお、型としては、光透過層（ｃ１）４に対して十分な剥離性を有するものであれば、特に制限無く使用できるが、生産性及びコストの面から、樹脂製スタンパが好ましい。樹脂製スタンパの材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂からなるものを用いることができる。本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物の光透過層（ｃ１）４はポリカーボネートとの密着力を低下させているため、ポリカーボネート系樹脂が使用可能である。【００９１】
続いて、この光ディスク基板の光透過層（ｃ１）４の記録トラック（グルーブ）１３を有する側の表面に、アゾ系色素を溶剤に溶解させた後、スピンコート等により色素記録層（ｂ）５を形成する。更に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層（ｒ）６を成膜して、第２記録層２２を作製する。【００９２】
次に、ポリカーボネート樹脂を射出成形することにより記録層を有しない基板（ｄ２）７を作製する。上記のようにして得られた２層の記録層を有する基板の光反射層（ｒ）６の表面に、紫外線硬化型接着剤を塗布し、基板（ｄ２）７と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型接着剤を硬化させ、接着層８を形成し、図２の光ディスクを作製できる。【００９３】
図３に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
上記の図２に示す光ディスクにおける第１記録層２１及び光透過層（ｃ１）４を形成する方法と同様にして、図３に示す基板（ｄ１）１の上に第１記録層２１を形成し、その上に、記録トラック（グルーブ）を有する紫外線硬化型組成物の光透過層（ｃ１）４を形成する。次に、図２に示す光ディスクにおける第１記録層２１を形成する方法と同様にして、図３の積層体（ｓ）２３を形成する。この上に、図２に示す光ディスクにおける第２記録層２２を形成する方法と同様にして、第２記録層２２を形成する。最後に、第２記録層２２の光反射層（ｒ）６表面に、紫外線硬化型接着剤を塗布し、記録層を有しないポリカーボネート樹脂基板（ｄ２）７と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型接着剤を硬化させ、接着層８を形成し、図３の光ディスクを作製できる。
【実施例】
【００９４】
次に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。【００９５】
（実施例および比較例）
＜組成物および光ディスクサンプルの調製＞
下記表１〜７に示した配合組成（表中の配合数値は質量部を表す）により、各組成材料を６０℃で３時間加熱・溶解して、各実施例および各比較例の紫外線硬化型組成物を調製した。
次に、厚さ１．２ｍｍ、直径１２０ｍｍの光ディスク用ポリカーボネート基板上に実施例及び比較例の各組成物を膜厚が３０μｍになるように塗布し、ウシオ電機（株）社製フラッシュランプＳＢＣ−１７を使用して、１４５０Ｖの電圧で１５ショットの紫外線を照射して硬化膜とし、評価用の各光ディスク用サンプルを調製した。ただし、比較例１１〜１２の組成物については、当該条件では硬化しなかったため、アイグラフィック（株）社製水銀ランプにて１０００ｍＪで硬化させて評価用の各光ディスク用サンプルを調製した。【００９６】
＜接着力測定、剥離試験＞
ステンレス製の１０ｍｍ角のアタッチメントに両面テープを貼り、その後、上記光ディスク用サンプルの硬化膜と接着させる。このアタッチメント周囲をカッターナイフで硬化膜をカットする。その後、イマダ（株）製電動式縦型電動スタンドＭＸ５００Ｎを用い、９０°方向にステンレス製の１０ｍｍ角のアタッチメントを１２５ｍｍ／ｍｉｎの速度で引っ張り、剥離時の接着力を測定した。また、剥離試験として、剥離後のポリカーボネート基板の状態を観察した。剥離試験の評価基準は以下のとおりである。
◎：剥離が良好であり、剥離面のポリカーボネート基板や硬化膜にひび割れや欠損が見られないもの。
○：剥離の際にやや抵抗があるが、剥離面のポリカーボネート基板や硬化膜にひび割れや欠損が見られないもの。
×：剥離面にひび割れが生じたもの、剥離せず欠損部分が生じたもの。【００９７】
＜弾性率測定＞
紫外線硬化型組成物をガラス板上に乾燥塗膜厚が１００μｍになるように塗布した後、メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて窒素雰囲気中で０．５Ｊ／ｃｍ２で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率を、自動動的粘弾性測定機（Ｒｅｏｍｅｔｒｉｃ  Ｓｃｉｅｎｃｔｉｆｉｃ社製ＳＯＬＩＤ  ＡＮＡＬＹＺＥＲ  ＲＳＡ−III）で測定し、１００℃での動的弾性率Ｅ‘を求めた。このＥ’を弾性率とした。
測定条件
（１）サンプルサイズ：  幅６ｍｍ、長さ２０ｍｍ
（２）ひずみ：  ０．１％
（３）周波数：３．５Ｈｚ
（４）昇温速度：  ３℃／ｍｉｎ【００９８】
【表１】
2008018315.tif 000005
【００９９】
【表２】
2008018315.tif 000006
【０１００】
【表３】
2008018315.tif 000007
【０１０１】
【表４】
2008018315.tif 000008
【０１０２】
【表５】
2008018315.tif 000009
【０１０３】
【表６】
2008018315.tif 000010
【０１０４】
【表７】
2008018315.tif 000011
【０１０５】
表１〜７中の各化合物は、下記のとおりである。
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート「ＰＨ−４６００」コグニスジャパン（株）社製
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート「アロニックスＭ−４５０」東亞合成（株）社製
ＴＡＥＩＣ：トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート
ＴＭＰＴＭＡ：トリメチロールプロパントリメタクリレート
ＴＭＰ（ＥＯ）ＴＡ：トリメチロールプロパン１モルに３モルのエチレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリアクリレート
ＴＣＤＤＡ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
ＴＣＤＤＭＡ：トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート
ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリコールジアクリレート
Ｒ−６０４：上記式（１）において、Ｒ１及びＲ５が水素原子、Ｒ２及びＲ３がメチル基、Ｒ４がエチル基である化合物（日本化薬（株）社製）
ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート（大阪有機化学工業（株）社製）
ＩＢ−Ｘ：イソボルニルメタクリレート（共栄社化学（株）社製）
エポキシアクリレート：ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート「ユニディックＶ５５３０」大日本インキ化学工業（株）社製
エポキシメタクリレート：ビスフェノールＡ型エポキシメタクリレート「ＣＮ１５１」サートマージャパン（株）社製
ウレタンアクリレート：分子量１２００のポリテトラメチレングリコール１モルとメチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）２モルとの反応生成物に、さらに２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応させて得られるポリウレタンアクリレート
Ｔｅｇｏｒａｄ２２００Ｎ：シリコン系添加剤（デグサジャパン株式会社製）
ＨＣＰＫ：  １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン【０１０６】
上記表１〜７から明らかなように、本発明に係わる実施例１〜２０で得られた紫外線硬化型組成物を用いると、剥離の際に、基板の欠落や硬化膜の欠損は確認されなかった。特に接着力が３以下のものは、剥離の際の抵抗が少なく良好に剥離が可能であった。【０１０７】
一方、比較例１〜１０では、ポリカーボネート基板に対しかなり強固に接着し、比較例２、５〜７、９〜１２においては、５ｍｍ四方以上の欠損がポリカーボネート基板に生じた。また、比較例１、３、４及び８においては、剥離面前面にひび割れが生じた。また、比較例１１〜１２においては、硬化に非常に大きなエネルギーが必要であり、得られた硬化膜は高温下での弾性率が低く、耐熱性に乏しいものであった。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物は、ポリカーボネートに対して良好な剥離性を有する硬化物を与えることができるため、スタンパとして高価なオレフィン系樹脂を使用しなくとも、良好に凹凸パターンを形成することができることから、光ディスクのプリピットやグルーブを形成する中間層に好適に使用できる。また、本発明の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクの製造方法によれば、高価なオレフィン系樹脂を使用しなくとも好適に光ディスクを作製することができるため、低コストでの光ディスクの製造が可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０９】
【図１】本発明の二層型光ディスクの一例を示す図である。
【図２】本発明の二層型光ディスクの一例を示す図である。
【図３】本発明の三層型光ディスクの一例を示す図である。
【図４】本発明の三層型光ディスクの一例を示す図である。
【符号の説明】
【０１１０】
１  基板（ｄ１）
２  色素記録層（ａ１）
３  半透明光反射層（ｔ１）
４  紫外線硬化型組成物の光透過層（ｃ１）
５  色素記録層（ｂ）
６  光反射層（ｒ）
７  基板（ｄ２）
８  接着層
１１  凸状の記録トラック（グルーブ）
１２  凸状の記録トラック（グルーブ）
１３  凸状の記録トラック（グルーブ）
２１  色素記録層（ａ１）２と半透明光反射層（ｔ１）３とが積層された第１記録層
２２  色素記録層（ｂ）５と光反射層（ｒ）６とが積層された第２記録層
２３  積層体（ｓ）
３１  色素記録層（ａ２）
３２  半透明光反射層（ｔ２）
３３  紫外線硬化型組成物の光透過層(c2)
４１  光透過層（ｃ３）
４２  光透過層（ｃ４）
４３  光過層（ｃ５）
４４  光透過層（ｃ６）
【図１】
2008018315.tif 000012
【図２】
2008018315.tif 000013
【図３】
2008018315.tif 000014
【図４】
2008018315.tif 000015
【手続補正書】
【提出日】平成20年6月19日(2008.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
【表１】
2008018315.tif 000016
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
【表２】
2008018315.tif 000017
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
【表３】
2008018315.tif 000018
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
表１〜７中の各化合物は、下記のとおりである。
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート「ＰＨ−４６００」コグニスジャパン（株）社製
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート「アロニックスＭ−４５０」東亞合成（株）社製
ＴＡＥＩＣ：トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート
ＴＭＰＴＭＡ：トリメチロールプロパントリメタクリレート
ＴＭＰ（ＥＯ）ＴＡ：トリメチロールプロパン１モルに３モルのエチレンオキサイドを付加して得たトリオールのトリアクリレート
ＴＣＤＤＡ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
ＴＣＤＤＭＡ：トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート
ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリコールジアクリレート
Ｒ−６０４：上記式（１）において、Ｒ１及びＲ５が水素原子、Ｒ２及びＲ３がメチル基、Ｒ４がエチル基である化合物（日本化薬（株）社製）
ＩＢ−ＸＡ：イソボルニルアクリレート（大阪有機化学工業（株）社製）
ＩＢ−Ｘ：イソボルニルメタクリレート（共栄社化学（株）社製）
エポキシアクリレート：ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート「ユニディックＶ５５３０」大日本インキ化学工業（株）社製
エポキシメタクリレート：ビスフェノールＡ型エポキシメタクリレート「ＣＮ１５１」サートマージャパン（株）社製
ウレタンアクリレート：分子量１２００のポリテトラメチレングリコール１モルとメチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）２モルとの反応生成物に、さらに２−ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応させて得られるポリウレタンアクリレート
Ｔｅｇｏｒａｄ２２００Ｎ：シリコン系添加剤（デグサジャパン株式会社製）
ＨＣＰＫ：  １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
【手続補正書】
【提出日】平成20年9月16日(2008.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレートと、一分子中に２個の（メタ）アクリロイル基を有する二官能（メタ）アクリレートと、一分子中に１個の（メタ）アクリロイル基を有する単官能（メタ）アクリレートとを含有する紫外線硬化型組成物であって、
紫外線硬化型組成物に含まれる（メタ）アクリレート中の多官能（メタ）アクリレートの含有量が３０〜７０質量％であり、単官能（メタ）アクリレートの含有量が５〜３０質量％であり、
脂環式構造を有する二官能（メタ）アクリレートと脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリレートの含有量の和が１０〜５０質量％であり、かつ、メタクリレートの含有量が７〜７５質量％であることを特徴とする光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項２】
前記多官能（メタ）アクリレートが、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種である請求項１に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項３】
前記脂環式構造を有する二官能（メタ）アクリレートが、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート及びペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種であり、前記脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリレートが、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート及びジシクロペンタニル（メタ）アクリレートから選ばれる少なくとも一種である請求項１に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項４】
前記メタクリレートが、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート及びジシクロペンタニルメタクリレートから選ばれる少なくとも一種である請求項１に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項５】
ポリカーボネート基板上に硬化後の膜厚が３０μｍになるように塗布して１４５０Ｖの電圧で１５ショットの紫外線を照射して硬化膜を形成し、硬化膜を９０°方向に１２５ｍｍ／ｍｉｎの速度で引っ張った際の接着力が、４ｋｇ／ｃｍ２以下である請求項１に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項６】
２５℃でのＢ型粘度が５０〜１０００ｍＰａ・ｓである請求項１に記載の紫外線硬化型組成物。
【請求項７】
硬化後の膜厚が３０μｍになるように１４５０Ｖの電圧で１５ショットの紫外線を照射して形成した硬化膜の１００℃における弾性率が５００〜４０００ＭＰａである請求項１に記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物。
【請求項８】
基板上に少なくとも２層の光反射層を有する光ディスクであって、隣り合う２層の光反射層の間に、請求項１〜７のいずれかに記載の光ディスク中間層用紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を有し、前記光透過層が、その表面に凹凸パターンを有することを特徴とする光ディスク。
【請求項９】
基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、光透過層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層され、前記光透過層が請求項１〜７のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、前記中間層の第二の情報記録層と積層される表面に凹凸パターンを有し、前記基板面から入射した光により記録又は再生を行うことを特徴とする光ディスク。
【請求項１０】
基板上に、少なくとも第一の光反射層、第一の情報記録層、第一の光透過層、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層とが順に積層され、前記第一の光透過層が請求項１〜７のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、前記第一の光透過層の第二の光反射層と積層される表面に凹凸パターンを有し、前記基板面から入射した光により記録又は再生を行うことを特徴とする光ディスク。
【請求項１１】
基板上に少なくとも２層の光反射層を有する光ディスクの製造方法であって、
表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、光反射層を有する基板との間に、請求項１〜７のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を形成した後、前記光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された光透過層を形成する工程を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【請求項１２】
基板上に、少なくとも第一の情報記録層、第一の光反射層、光透過層、第二の情報記録層、第二の光反射層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
（１）基板上に、第一の情報記録層と第一の光反射層とを順に積層する工程と、
（２）表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の光反射層との間に、請求項１〜７のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる光透過層を形成した後、前記光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された光透過層を形成する工程と、
（３）前記光透過層上に、第二の情報記録層と第二の光反射層とを順に積層する工程、
を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【請求項１３】
基板上に、少なくとも第一の光反射層、第一の情報記録層、第一の光透過層、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層とが順に積層された光ディスクの製造方法であって、
（１’）基板上に、第一の光反射層と第一の情報記録層とを順に積層する工程と、
（２’）表面に凹凸パターンを有し、少なくとも凹凸パターンが形成された表面がポリカーボネートからなるスタンパと、前記第一の情報記録層との間に、請求項１〜７のいずれかに記載の紫外線硬化型組成物を挟持し、
紫外線を照射して前記紫外線硬化型組成物の硬化物からなる第一の光透過層を形成した後、前記第一の光透過層と前記スタンパとを剥離して、凹凸パターンが形成された第一の光透過層を形成する工程と、
（３’）前記第一の光透過層上に、第二の光反射層、第二の情報記録層及び第二の光透過層とを順に積層する工程、
を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【国際調査報告】
2008018315.tif 000019
2008018315.tif 000020
2008018315.tif 000021
2008018315.tif 000022