【事件の表示】
　特願２０１６−５０８０６３「放射コレクタ、放射源およびリソグラフィ装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２６年１０月２３日国際公開、ＷＯ２０１４／１７００９３、平成２８年　７月２８日国内公表、特表２０１６−５２２４３１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯  
　本願は、２０１４年（平成２６年）３月２４日（パリ条約による優先権主張２０１３年４月１７日、米国）を国際出願日とする出願であって、その手続の概要は、以下のとおりである。  
　平成３０年　１月１９日付け：拒絶理由の通知  
　平成３０年　４月２３日　　：意見書、手続補正書の提出  
　平成３０年　９月１８日付け：拒絶理由（最後の拒絶理由）の通知  
　平成３１年　２月２５日　　：意見書、手続補正書の提出  
　令和　元年　５月２３日付け：平成３１年２月２５日の手続補正について
　　　　　　　　　　　　　　　の補正の却下の決定、拒絶査定  
　令和　元年　９月３０日　　：審判請求書、手続補正書の提出
　令和　２年　６月３０日付け：拒絶理由の通知  
　令和　２年１０月　７日　　：意見書の提出  
第２　本願発明
　本願の請求項１ないし１３に係る発明は、令和元年９月３０日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１３に記載された事項により特定されるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、以下のとおりのものである。
「　【請求項１】
　放射コレクタであって、
　当該放射コレクタは、極端紫外（ＥＵＶ）放出プラズマを生成するために、当該放射コレクタを通して一つ以上のレーザビームを第１焦点に渡すよう構成された開口と、互いの周りに配置され、当該放射コレクタの光軸の周りに円周方向に延在している複数の反射面を備え、
　前記複数の反射面のそれぞれが複数の楕円の異なる一つの一部と一致しており、
　前記複数の楕円は、共通の第２焦点および前記第１焦点を有し、前記第１焦点および前記第２焦点は前記光軸上に配置され、
　前記複数の反射面は、ｉ）前記光軸に対して垂直な方向に沿って配置され、ｉｉ）前記第１焦点から生じる、前記ＥＵＶ放出プラズマを用いて生成される放射を受け、ｉｉｉ）前記第２焦点に受けた放射を反射するよう構成され、
　前記第１焦点および前記第２焦点は、前記複数の反射面の少なくとも１つに対して同じ側に位置し、
　前記第１焦点は、前記光軸に対して垂直な方向に沿って配置された前記複数の反射面と、前記第２焦点との間に位置する、放射コレクタ。」
第３　拒絶の理由
　令和２年６月３０日付けで当審が通知した拒絶の理由の概要は、次のとおりである。
［理由］（進歩性）本件出願の下記の請求項に係る発明は、その優先日前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　　　記　（引用文献等については引用文献等一覧参照） 
・請求項　１−１３
・引用文献等　１−６
　＜引用文献等一覧＞
引用文献１：特開２０１２−１０９２１８号公報
引用文献２：米国特許出願公開第２００８／００７３５９２号明細書
引用文献３：特開２０１０−００４００１号公報
引用文献４：特表２０１０−５３８４２０号公報
引用文献５：特開２０１２−１９９５８２号公報
引用文献６：特開２０１２−２３５１０９号公報
第４　引用文献について
１　引用文献１の記載
（１）引用文献１には、以下の事項が記載されている（下線は、当審で付した。以下同様。）。
「【技術分野】 
【０００１】
　本開示は、極端紫外（ＥＵＶ）光を生成するための装置及びシステムに関する。」
「【０００９】
　＜１．第１の実施形態＞
　図１は、本開示の第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す断面図である。ＥＵＶ光生成システム１００では、ＬＰＰ方式が採用されてもよい。図１に示すように、
ＥＵＶ光生成システム１００は、チャンバ１と、支持フレーム２と、ターゲット供給部３と、ＥＵＶ集光ミラー４と、ドライバレーザ５と、を含
・・・（中略）・・・
【００１４】
　
支持フレーム２は、
ターゲット供給部３や、ＥＵＶ集光ミラー４等を所定位置に支持し、
【００１５】
　ターゲット供給部３は、ＥＵＶ光を生成するために用いられるスズ（Ｓｎ）やリチウム（Ｌｉ）等のターゲット物質をチャンバ１内に供給するよう構成されてもよい。ターゲット供給部３は、ターゲット物質を収容するタンク３ａと、タンク３ａ内のターゲット物質をチャンバ１内に出力するためのノズル３ｂと、を含んでもよい。
【００１６】
　ターゲット供給部３は、連続流れ（ターゲット噴流）や液滴（ドロップレット）等の、公知の何れの態様でターゲット物質をチャンバ１内に供給するよう構成されてもよい。例えば、ターゲット物質としてスズを溶融した状態で用いる場合には、ターゲット供給部３は、スズを溶融するためのヒータ、溶融スズを加圧して噴出させるための高純度アルゴン（Ａｒ）ガスを供給するためのガスボンベ、高純度アルゴンガスの流量を制御するためのマスフローコントローラ等をさらに含んでもよい。
【００１７】
　
ドライバレーザ５は、ターゲット物質を励起してプラズマ化するために用いられるレーザ光を出力する
ドライバレーザ５から出力されたレーザ光は、
チャンバ１内に導入され
チャンバ１内に導入されたレーザ光は、ＥＵＶ集光ミラー４に形成された貫通孔を通って、チャンバ１内の所定のプラズマ生成領域ＰＳで集光され
プラズマ生成領域ＰＳにおいて、ターゲット物質がレーザ光に照射されると、ターゲット物質がプラズマ化し
このプラズマから、ＥＵＶ光を含む様々な波長の光が放射され
【００１８】
　ＥＵＶ集光ミラー４は、チャンバ１内に設けられてもよい。
ＥＵＶ集光ミラー４は、所定の波長のＥＵＶ光を高い反射率で反射する多層膜がコートされた反射面を有してもよい
ＥＵＶ集光ミラー４の反射面は回転楕円面の形状で、ＥＵＶ集光ミラー４は、回転楕円面の第１の焦点位置がプラズマ生成領域ＰＳに位置するように配置され
ＥＵＶ集光ミラー４によって反射されたＥＵＶ光は、回転楕円面の第２の焦点位置、すなわち中間集光点ＩＦに集光され
【００１９】
　以上のように、チャンバ１内に供給されたターゲット物質にレーザ光が照射されることにより、ターゲット物質がプラズマ化し得る。このプラズマからＥＵＶ光を含む様々な波長の光が放射され得る。放射される光の内、所定の波長（例えば、１３．５ｎｍ）のＥＵＶ光が、ＥＵＶ集光ミラー４によって高い反射率で反射されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー４によって反射されたＥＵＶ光は、接続部１２の開口を介して、チャンバ１の外部に接続された露光装置の投影光学系等の処理装置に出力されてもよい。」
　図１の記載から、
「第１の焦点位置（プラズマ生成領域ＰＳ）」及び「第２の焦点位置（中間集光点ＩＦ）」は、「反射面」の同じ側に位置し、「第１の焦点位置（プラズマ生成領域ＰＳ）」は「反射面」と「第２の焦点位置（中間集光点ＩＦ）」との間に位置する
（２）引用発明
　したがって、引用文献１には、以下の発明が記載されていると認められる（以下「引用発明」という。）。
「チャンバ１と、支持フレーム２と、ターゲット供給部３と、ＥＵＶ集光ミラー４と、ドライバレーザ５と、を含むＥＵＶ光生成システム１００において、（【０００１】） 
　支持フレーム２は、ターゲット供給部３や、ＥＵＶ集光ミラー４等を所定位置に支持し、（【００１４】） 
　ドライバレーザ５は、ターゲット物質を励起してプラズマ化するために用いられるレーザ光を出力するよう構成され、
　ドライバレーザ５から出力されたレーザ光は、チャンバ１内に導入され、チャンバ１内に導入されたレーザ光は、ＥＵＶ集光ミラー４に形成された貫通孔を通って、チャンバ１内の所定のプラズマ生成領域ＰＳで集光され、
　プラズマ生成領域ＰＳにおいて、ターゲット物質がレーザ光に照射されると、ターゲット物質がプラズマ化し、
　このプラズマから、ＥＵＶ光を含む様々な波長の光が放射され、（【００１７】）
　ＥＵＶ集光ミラー４は、所定の波長のＥＵＶ光を高い反射率で反射する多層膜がコートされた反射面を有し、ＥＵＶ集光ミラー４の反射面は回転楕円面の形状で、
　ＥＵＶ集光ミラー４は、回転楕円面の第１の焦点位置がプラズマ生成領域ＰＳに位置するように配置され、
　ＥＵＶ集光ミラー４によって反射されたＥＵＶ光は、回転楕円面の第２の焦点位置、すなわち中間集光点ＩＦに集光されるものであり、（【００１８】）
　第１の焦点位置（プラズマ生成領域ＰＳ）及び第２の焦点位置（中間集光点ＩＦ）は、反射面の同じ側に位置し、第１の焦点位置（プラズマ生成領域ＰＳ）は、反射面と第２の焦点位置（中間集光点ＩＦ）との間に位置する、（上記（ウ））
　ＥＵＶ光生成システム１００のＥＵＶ集光ミラー４。（【０００９】）」
２　引用文献２の記載
　引用文献２には以下の事項が記載されている。 
「[0002]
The present description relates to the field of optical collectors for EUV photolithography, and in particular, to a collector using an elliptical reflective surface to provide collection in a single reflection.
（日本語訳：[0002]
本説明は、ＥＵＶフォトリソグラフィ用の光学コレクタの分野に関し、特に、楕円反射面を使用して一回の反射で収集を提供するコレクタに関する
「DETAILEDDESCRIPTION
[0014] Elliptical mirrors may be designed and constructed to collect EUV with a single bounce, a high range of incident light angles and at low cost. The design is compact, potentially easy to cool, and collects a larger proportion of the light from an EUV source than many other designs. As many as fifteen or more elliptical shells may be used to collect light from different types of EUV sources. The shells are reflective and may be used in a vacuum environment to avoid  absorption.」
（日本語訳：詳細な説明
[0014]
楕円ミラーは、１回の反射、広範囲の入射光角度、低コストでＥＵＶを収集するように設計および構築できます。設計はコンパクトで、冷却が容易な可能性があり、他の多くの設計よりもＥＵＶ光源からの光の割合を多く集めます。１５以上の楕円シェルを使用して、さまざまなタイプのＥＵＶ光源からの光を収集できます。シェルは反射性があり、吸収を避けるために真空環境で使用できます。）
「[0016] The described  collector is particularly well-suited for discharge produced plasma  (DPP)sources. However, 
it may be adapted to any of a variety of other extreme  ultraviolet (EUV)
[0017] 
FIG. 1 shows an example of a fifteen ring elliptical collector 10 according to an embodiment of the invention. The collector has fifteen concentric or nested rings 11, 12, 13, 14 . . . Each ring is in the shape of a circle and is formed by a shell with an  elliptical cross-section, as shown in FIG. 3.
[0018] FIG. 2 is a simulated  ray trace diagram showing the collection of EUV light by the array of nested  shells, 
the array of elliptical shells, including outer shell 12 collect the light from a light source 20 and bring it to a focus at a focus point 22.
（日本語訳： [0016]
記載されたコレクタは、放電生成プラズマ（ＤＰＰ）源に特に適しています。しかしながら、それは、
他の様々な極端紫外線（ＥＵＶ）
にも適合され得る
[0017]
図１は、本発明の実施形態による１５個のリングの楕円形コレクタ１０の例を示す。  コレクターには、１５個の同心円または入れ子のリング１１、１２、１３、１４・・・があります。各リングは、円形であり、図３に示されるように、楕円形の断面を有するシェルによって形成される。
[0018]
図２は、入れ子シェルのアレイによるＥＵＶ光の収集を示すシミュレーションされた光線追跡図であり、
外側シェル１２を含む楕円シェルのアレイは、光源２０からの光を収集し、それを焦点２２に焦点を合わせる。
「[0019] FIG. 3 is a diagram  of a cross-section of an example elliptical shell 12 of the collector 10 of FIG. 1. The cross-sectional diagram shows two internal surfaces 31, 32 which are exposed to the EUV light. If, as shown in FIG. 1, the shells are circular,then these two surfaces are different locations on one continuous inner surface of the ring. FIG. 3 also shows an ellipse drawn with one focus 20 at the illumination source image plane and the other focus 22 at the focal point of the collector system. 
The outer surface of the ellipse defines the shape of the inner reflective surface 31, 32 of the shell.
（日本語訳：[0019]
図３は、図１のコレクタ１０の例示的な楕円シェル１２の断面図である。 断面図は、ＥＵＶ光に露光される２つの内面３１、３２を示している。図１に示すように、シェルは円形であり、これらの２つの表面は、リングの１つの連続した内表面上の異なる位置である。図３はまた、照明源画像平面に１つの焦点２０で、コレクタシステムの焦点に他の焦点２２で描かれた楕円を示す。 
楕円の外面は、シェルの内部反射面３１、３２の形状を定義します
「[0021] 
The elliptical surface of each shell may be based on an ellipse with a different height, but the same foci.
（日本語訳：[0021]
各シェルの楕円面は、高さが異なるが、焦点が同じ楕円に基づいている場合があります。
　図１、図２及び図３の記載から、複数の反射面（１１，１２，１３，１４・・・）は光源２０と焦点位置２２を結ぶ軸に対して垂直な方向に沿って配置されているコレクタ１０が、見て取れる。 
 
第５　対比
１　本願発明と引用発明を対比する。
（１）本願発明の「放射コレクタであって」との特定事項について検討する。
ア　本願発明において「放射コレクタ」は、「第１焦点」で生じたＥＵＶを反射し、「第２焦点」に集光するものであり、引用発明の「ＥＵＶ集光ミラー４」は、「回転楕円面の第１の焦点位置」である「プラズマ生成領域ＰＳ」で発生したＥＵＶ光（放射）を、「回転楕円面の第２の焦点位置（中間集光点ＩＦ）」に集光するもの（コレクタ）である。
イ　したがって、引用発明の「ＥＵＶ集光ミラー４」は、本願発明の「放射コレクタ」に相当する。
（２）本願発明の「当該放射コレクタは、極端紫外（ＥＵＶ）放出プラズマを生成するために、当該放射コレクタを通して一つ以上のレーザビームを第１焦点に渡すよう構成された開口と、互いの周りに配置され、当該放射コレクタの光軸の周りに円周方向に延在している複数の反射面を備え」との特定事項について検討する。
ア　引用発明における、ドライバレーザ５から出力された「レーザ光」、「第１の焦点位置（プラズマ生成領域ＰＳ）」、ＥＵＶ集光ミラー４に形成された「貫通孔」は、それぞれ、本願発明における「レーザビーム」、「第１焦点」、「開口」に相当する。
　そして、引用発明は、本願発明でいう「ＥＵＶ放出プラズマを生成するため」のものであり、「ＥＵＶ集光ミラー４」の「貫通孔」と「反射面」はそのためのものである。
イ　また、引用発明は、「ＥＵＶ集光ミラー４」の「反射面」の形状が「回転楕円面」であり、「回転楕円面の第１の焦点位置」が「プラズマ生成領域ＰＳに位置」しており、さらに、「ＥＵＶ集光ミラー４によって反射されたＥＵＶ光は、回転楕円面の第２の焦点位置、すなわち中間集光点ＩＦに集光される」ものである。
　そうすると、引用発明における「ＥＵＶ集光ミラー４」の「第１の焦点位置」と「第２の焦点位置」を結ぶ線は、本願発明の「放射コレクタの光軸」に相当し、「ＥＵＶ集光ミラー４」の「反射面」は、「第１の焦点位置」と「第２の焦点位置」を結ぶ線の周りの円周方向に延在していることは明らかである。
ウ　したがって、引用発明は本願発明と、「放射コレクタは、ＥＵＶ放出プラズマを生成するために、当該放射コレクタを通して一つ以上のレーザビームを第１焦点に渡すよう構成された開口と、当該放射コレクタの光軸の周りに円周方向に延在している反射面を備え」る点で一致する。
（３）本願発明の「前記複数の反射面のそれぞれが複数の楕円の異なる一つの一部と一致しており」との特定事項について検討する。
ア　引用発明における「ＥＵＶ集光ミラー４」の「反射面」は、形状が「回転楕円面」であるから、楕円の一部と一致しているものである。
イ　したがって、引用発明は本願発明と「反射面が楕円の一部と一致して」いる点で一致する。
（４）本願発明の「前記複数の楕円は、共通の第２焦点および前記第１焦点を有し、前記第１焦点および前記第２焦点は前記光軸上に配置され」との特定事項について検討する。
ア　上記（２）イのとおり、引用発明における、「第２の焦点位置」、「第１の焦点位置」、「第２の焦点位置」と「第１の焦点位置」とを結ぶ線は、それぞれ、本願発明における「第２焦点」、「第１焦点」、「光軸」に相当する。
イ　したがって、引用発明は、本願発明と「楕円は、第２焦点および第１焦点を有し、第１焦点および第２焦点は光軸上に配置され」ている点で一致する。
（５）本願発明の「前記複数の反射面は、ｉ）前記光軸に対して垂直な方向に沿って配置され、ｉｉ）前記第１焦点から生じる、前記ＥＵＶ放出プラズマを用いて生成される放射を受け、ｉｉｉ）前記第２焦点に受けた放射を反射するよう構成され」との特定事項について検討する。
　引用発明の「ＥＵＶ集光ミラー４」は、上記（２）ウで示したとおりのものであるから、引用発明は本願発明と「反射面は、ｉｉ）第１焦点から生じる、ＥＵＶ放出プラズマを用いて生成される放射を受け、ｉｉｉ）第２焦点に受けた放射を反射するよう構成され」ている点で一致する。
（６）本願発明の「前記第１焦点および前記第２焦点は、前記複数の反射面の少なくとも１つに対して同じ側に位置し、前記第１焦点は、前記光軸に対して垂直な方向に沿って配置された前記複数の反射面と、前記第２焦点との間に位置する」との特定事項について検討する。
　引用発明において、第１の焦点位置（プラズマ生成領域ＰＳ）及び第２の焦点位置（中間集光点ＩＦ）は、反射面の同じ側に位置し、第１の焦点位置（プラズマ生成領域ＰＳ）は、反射面と第２の焦点位置（中間集光点ＩＦ）との間に位置する。
　したがって、引用発明は、本願発明と「第１焦点および第２焦点は、反射面に対して同じ側に位置し、第１焦点は、反射面と第２焦点との間に位置する」点で一致する。
（７）そうすると、本願発明と引用発明との一致点及び相違点は、次のとおりである。
【一致点】
「放射コレクタであって、
　当該放射コレクタは、ＥＵＶ放出プラズマを生成するために、当該放射コレクタを通して一つ以上のレーザビームを第１焦点に渡すよう構成された開口と、当該放射コレクタの光軸の周りに円周方向に延在している反射面を備え、
　反射面が楕円の一部と一致しており、
　楕円は、第２焦点および第１焦点を有し、第１焦点および第２焦点は光軸上に配置され、
　反射面は、ｉｉ）第１焦点から生じる、ＥＵＶ放出プラズマを用いて生成される放射を受け、ｉｉｉ）第２焦点に受けた放射を反射するよう構成され、
　第１焦点および第２焦点は、反射面に対して同じ側に位置し、第１焦点は、反射面と第２焦点との間に位置する、放射コレクタ。」
【相違点】
　本願発明では、反射面が「複数」備えられ、「複数」の反射面の「それぞれ」が「複数」の楕円の「異なる一つの」一部と一致しており、「複数」の楕円は、「共通の」第２焦点および第１焦点を有し、「複数」の反射面は、「光軸に対して垂直な方向に沿って配置され」ており、第１焦点及び第２焦点の位置が、「複数」の反射面の「少なくとも１つ」に対して同じ側に位置し、第１焦点は「光軸に対して垂直な方向に沿って配置された複数の」反射面と第２焦点との間に位置するのに対し、
　引用発明では、反射面が単一であり、第１焦点及び第２焦点の位置が「単一の」反射面に対して同じ側に位置しており、第１焦点は「単一の」反射面と第２焦点との間に位置する点。
第６　判断
１　相違点に対する判断
（１）引用文献２には、ＥＵＶリソグラフィに用いるコレクタとして、複数の反射面（１１，１２，１３，１４・・・）を備え、反射面のそれぞれは、異なる高さを有するが、同じ焦点を持つ楕円に基づいて構成されており、複数の反射面（１１，１２，１３，１４・・・）は光源２０と焦点位置２２を結ぶ軸に対して垂直な方向に沿って配置されているコレクタの技術事項が開示されているものと認められる。
　そして、このコレクタは、このコレクタと同じ（共通する）焦点を持つ楕円に沿って設けられた一枚の反射面からなるコレクタと、同じ集光特性を備えているものである。
（２）また、ミラーに関する技術において、ミラーを薄くすることは周知の技術課題である（必要ならば、特開昭４７−１２０７８号公報（特に、第５頁右下欄下から４行目−第６頁左上欄下から４行目、ＦＩＧ．３参照。）、特開２００３−１５６６１０号公報（特に、図２（ａ）参照。）、特開平４−２１９７１５号公報（特に、【００１３】、図６参照。）、特開平６−１３０２１１号公報（特に、図２参照。）、特開平８−１２９９０４号公報（特に、図１４参照。）を参照されたい。）。
（３）ここで、引用発明において、「ＥＵＶ集光ミラー４」は、「回転楕円面」の「第１の焦点位置（プラズマ生成領域ＰＳ）」で発生したＥＵＶ光が、「回転楕円面」の「第２の焦点位置（中間集光点ＩＦ）」に集光される機能を備えていれば、いかなる形状であってもよいものであるといえる。
（４）そうすると、引用発明においても、上記周知の技術課題も考慮して、引用文献２に記載の技術事項を採用し、「ＥＵＶ集光ミラー４」と同じ集光特性を備える集光ミラーを、「第１の焦点位置」と「第２の焦点位置」とに、共通の焦点を持つ回転楕円面形状の反射面を、それぞれ高さを異ならせて複数備え、この複数の反射面を「第１の焦点位置」と「第２の焦点位置」とを結ぶ線に対して垂直な方向に沿って配置したものとすることは、当業者にとって容易になし得る事項である。
（５）そして、引用発明において、上記周知の技術課題も考慮して、引用文献２に記載の技術事項を採用し、「ＥＵＶ集光ミラー４」を「第１の焦点位置」と「第２の焦点位置」とを結ぶ線に対して垂直な方向に沿って配置された複数の反射面を備えるよう構成した場合、「第１の焦点位置」及び「第２の焦点位置」は、複数の反射面に対して同じ側に位置するようになり、また、「第１の焦点位置」は、「第１の焦点位置」と「第２の焦点位置」とを結ぶ線に対して垂直な方向に沿って配置された複数の反射面と、「第２の焦点位置」との間に位置するようになる。
（６）以上のとおりであるから、引用発明に引用文献２に記載の技術事項を採用して、相違点に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
（７）効果について  
　そして、相違点を総合的に勘案しても、本願発明の奏する作用効果は、引用発明及び引用文献２に記載の技術事項の奏する作用効果から予測される範囲内のものにすぎず、格別顕著なものということはできない。
（８）したがって、本願発明は、引用文献１に記載された発明及び引用文献２に記載の技術事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
第７　審判請求人の主張について
１　審判請求人は、令和２年１０月７日付けの意見書において、
（１）「すなわち、引用文献２に開示されたコレクタ１２は、ＥＵＶ光源内ではなく、ＥＵＶ光源よりも下流に配置されるものです。」、「引用文献２に開示されたコレクタ１０と、引用文献１に開示されたＥＵＶ集光ミラー４は、ＥＵＶ露光装置において配置される位置が全く異なります。引用文献２には、コレクタ１０を光源１０１内に使用することができるなどといった示唆は全くありません。従いまして、引用文献１に記載の発明において引用文献２に開示されたコレクタ１２を採用する動機付けが存在しませんので、本願発明１は引用発明、及び、引用文献２に記載の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえません。」、
（２）「引用文献２には、コレクタ１０はＤＰＰ源での使用に適することが記載されており、一方、引用文献１の図１に開示されたＥＵＶ光生成システム１００は、ＬＰＰ方式の光源であることが記載されています。すなわち、光源の動作原理が異なります。したがって、この点からも、引用文献２に開示された技術を引用文献１に開示された発明で採用する動機付けが存在しませんので、本願発明１は引用発明、及び、引用文献２に記載の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえません。」、
（３）「引用文献２に記載の技術事項を採用するのであれば、引用文献２におけるコレクタ１２に対する光源２０と焦点２２の位置関係も採用すべきであると考えます。」、
（４）「引用文献１に記載された発明において、引用文献２に記載の技術事項を採用するというのであれば、引用文献１の図１６のように、プラズマ生成領域ＰＳと中間集光点ＩＦとの間に複数の反射面を配置するのが自然であると考えます。」、
（５）「引用文献２は、光コレクタ１０が「極端紫外（ＥＵＶ）放出プラズマを生成するために、当該放射コレクタを通して一つ以上のレーザビームを第１焦点に渡すよう構成された開口」を有することを開示していません。」
旨主張している。
２　上記主張について検討する。
（１）上記１（１）について
　引用文献１の図１の記載から、ドライバレーザ５よりも下流にＥＵＶ集光ミラー４が配置されることが、見て取れる。
（２）上記１（２）、１（３）、１（４）について
　引用文献２には、「記載されたコレクタは、放電生成プラズマ（ＤＰＰ）源に特に適しています。しかしながら、それは、
他の様々な極端紫外線（ＥＵＶ）
にも適合され得る
　したがって、引用文献２に記載の技術事項は、ＤＰＰ源以外の
他の様々な極端紫外線（ＥＵＶ）にも適合され得る
（３）上記１（５）について
　引用文献２の図２の記載から、コレクタ１０の中心に開口を有することが見て取れる。
　以上のとおりであるから、審判請求人の主張を採用することはできない。
第８　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び引用文献２に記載の技術事項に基いて、その優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。