【誤訳訂正書】
【提出日】平成31年1月30日(2019.1.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸性ガスを処理するための方法であって、
酸性ガスを受け取り、処理することによって処理後に気相ストリーム１及び液相ストリーム２を得て、上記ストリーム２を、部分的にまたは完全に第一処理装置に再循環させる、第一処理装置の使用と、
第一処理装置からのストリーム１を処理することによって気相ストリーム３及び液相ストリーム４を得て、ストリーム４をストリーム４１、ストリーム４２及びストリーム４３の３つのサブストリームに分離させ、そのうちのストリーム４１を、上記酸性ガスを処理するために使用される処理液として、上記第一処理装置に戻し、上記ストリーム４２を第二処理装置に再循環させる、第二処理装置の使用と、
第二処理装置からのストリーム３を処理することによって気相ストリーム５及び液相ストリーム６を得て、ストリーム６をストリーム６１及びストリーム６２の２つのサブストリームに分離させ、そのうちのストリーム６１を処理剤と混合してから、上記ストリーム１を処理するために使用される処理液として、上記第二処理装置に戻し、上記ストリーム６２を第三処理装置に再循環させる、第三処理装置の使用と、
上記第二処理装置からの上記ストリーム４３を受け取り、ストリーム４３を処理液として上記第三処理装置からのストリーム５を処理することによって気相ストリーム７及び液相ストリーム８を得て、ストリーム８をトリーム８１およびストリーム８２の２つのサブストリームに分離させ、そのうちのストリーム８１を処理剤と混合してから、処理液として、上記第三処理装置に戻し、上記ストリーム８２を第四処理装置に再循環させる、第四処理装置の使用と、を含み、
上記処理剤はアルカリを含有する溶液である、方法。
【請求項２】
上記酸性ガスは、硫化水素および二酸化炭素を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記第三処理装置は、１つ以上のリアクタを含み得る、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
上記処理剤は、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液およびアンモニア水溶液からなる群から選択される少なくとも１つである、請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
上記第二処理装置に添加される処理剤と、上記第三処理装置に添加される処理剤との体積流量比は、１：１から３：１である、請求項１〜４の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
上記第二処理装置に添加される処理剤と、上記第三処理装置に添加される処理剤との体積流量比は、３：２から５：２である、請求項１〜４の何れか一項に記載の方法。
【請求項７】
上記第一処理装置、上記第二処理装置、上記第三処理装置、および上記第四処理装置は、各々独立に、気泡カラムリアクタ、充填カラムリアクタ、衝突流リアクタ、回転床リアクタ、およびベンチュリリアクタからなる群から選択される、請求項１〜６の何れか一項に記載の方法。
【請求項８】
上記第一処理装置および上記第二処理装置は、各々、ベンチュリリアクタであって、上記第三処理装置および上記第四処理装置は、各々、回転床リアクタである、請求項１〜７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
上記回転床リアクタの回転速度は、５０ｒｐｍから５０００ｒｐｍに制御される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
上記回転床リアクタの回転速度は、１５０ｒｐｍから２０００ｒｐｍに制御される、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
上記第一処理装置および上記第二処理装置における処理温度は、７０℃から１００℃である、請求項１〜１０の何れか一項に記載の方法。
【請求項１２】
上記第一処理装置および上記第二処理装置における処理温度は、８０℃から９５℃である、請求項１〜１０の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
上記第三処理装置および上記第四処理装置における処理温度は、６０℃から９０℃である、請求項１〜１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１４】
上記第三処理装置および上記第四処理装置における処理温度は、６５℃から８０℃である、請求項１〜１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１５】
上記第一処理装置および上記第二処理装置は、各々、
液相ストリームを受け取り、蓄えるための、ベンチュリリアクタの上部に位置する液相貯蔵タンクと、
供給部の上部が上記液相貯蔵タンク内に伸び、スリーブ構造を形成する、ベンチュリリアクタの中部に位置する直線反応管と、
上記直線反応管の排出部の下部が接続されている、ベンチュリリアクタの下部に位置するガス液体分離管と、
をそれぞれ含むベンチュリリアクタであり、
上記液相貯蔵タンクは、処理されるガスを受け取るための気相注入口が備えられており、上記気相注入口の位置は、上記直線反応管の上記供給部の上部注入口よりも高く、
上記液相貯蔵タンクの側壁上に、再循環された液体を受け取るための循環液注入口が備えられており、これにより、上記循環液注入口に入る液相ストリームは、最初に、液相貯蔵タンクにおける上記直線反応管の上記供給部の上記上部注入口よりも低くなっている空間に保存され、液体が上記供給部の上部注入口に達すると、液体がそれ以上に入ると溢れるので、直線反応管の内壁上に液体フィルムが形成されることによって、上記直線反応管の内壁上において材料の結晶が形成され詰まりが発生することが防止される、
請求項７〜１４の何れか一項に記載の方法。
【請求項１６】
上記ベンチュリリアクタの直線反応管は、その管壁上に、処理液としての液相ストリームを受け取るための液相ストリーム注入口が備えられており、上記液相ストリーム注入口は、液相貯蔵タンクと上記直線反応管の接続部に隣接した位置に配置されており、ガス液体分離管は、気相排出口および液相排出口が備えられている、請求項７〜１５の何れか一項に記載の方法。
【請求項１７】
上記ベンチュリリアクタの供給部の上端には、歯形溝が開設されており、当該歯形溝の構造は、扇形歯形溝、四角形歯形溝、および三角形歯形溝からなる群から選択される一種である、請求項１５または１６に記載の方法。
【請求項１８】
上記ベンチュリリアクタの液相ストリーム注入口は、１〜１０個の液相分配器に接続されており、当該液相分配器は、上記直線反応管の中心線に配置されており、上方から下方に吸収液を噴射することができる、請求項１５〜１７の何れか一項に記載の方法。
【請求項１９】
上記ベンチュリリアクタの液相ストリーム注入口は、４〜６個の液相分配器に接続されており、当該液相分配器は、上記直線反応管の中心線に配置されており、上方から下方に吸収液を噴射することができる、請求項１５〜１７の何れか一項に記載の方法。
【請求項２０】
第一処理装置として上記ベンチュリリアクタが使用される時、第一処理装置に再循環させる全ての又は一部のストリーム２は、上記第一処理装置の循環液注入口および吸収液注入口の各々を経由して第一処理装置に入り、循環液注入口を経由して第一処理装置に入るストリームと、吸収液注入口を経由して第一処理装置に入るストリームとの体積流量比は、１：６から１：２である、請求項１６に記載の方法。
【請求項２１】
第一処理装置として上記ベンチュリリアクタが使用される時、第一処理装置に再循環させる全ての又は一部のストリーム２は、上記第一処理装置の循環液注入口および吸収液注入口の各々を経由して第一処理装置に入り、循環液注入口を経由して第一処理装置に入るストリームと、吸収液注入口を経由して第一処理装置に入るストリームとの体積流量比は、１：４から１：３である、請求項１６に記載の方法。
【請求項２２】
第二処理装置として上記ベンチュリリアクタが使用される時、第二処理装置に再循環させるストリーム４２は、第二処理装置の循環液注入口および吸収液注入口の各々を経由して第二処理装置に入り、循環液注入口を経由して第二処理装置に入るストリームと、吸収液注入口を経由して第二処理装置に入るストリームとの体積流量比は、１：６から１：２である、請求項１６〜２１の何れか一項に記載の方法。
【請求項２３】
第二処理装置として上記ベンチュリリアクタが使用される時、第二処理装置に再循環させるストリーム４２は、第二処理装置の循環液注入口および吸収液注入口の各々を経由して第二処理装置に入り、循環液注入口を経由して第二処理装置に入るストリームと、吸収液注入口を経由して第二処理装置に入るストリームとの体積流量比は、１：４から１：３である、請求項１６〜２１の何れか一項に記載の方法。
【請求項２４】
酸性ガスを処理するための装置であって、
酸性ガスを受け取り処理することによって処理後に気相ストリーム１及び液相ストリーム２を得て、上記ストリーム２を、部分的にまたは完全に第一処理装置に再循環させる、第一処理装置と、
上記第一処理装置に接続され、第一処理装置からのストリーム１を処理することによって気相ストリーム３及び液相ストリーム４を得て、ストリーム４をストリーム４１、ストリーム４２及びストリーム４３の３つのサブストリームに分離させ、そのうちのストリーム４１を、上記酸性ガスを処理するために使用される処理液として、上記第一処理装置に戻し、上記ストリーム４２を第二処理装置に再循環させる、第二処理装置と、
上記第二処理装置に接続され、上記第二処理装置からのストリーム３を処理することによって気相ストリーム５及び液相ストリーム６を得て、ストリーム６をストリーム６１及びストリーム６２の２つのサブストリームに分離させ、そのうちのストリーム６１を処理剤と混合してから、上記ストリーム１を処理するために使用される処理液として、上記第二処理装置に戻し、上記ストリーム６２を第三処理装置に再循環させる、第三処理装置と、
上記第二処理装置と第三処理装置にそれぞれ接続され、上記第二処理装置からのストリーム４３を受け取り、上記ストリーム４３を処理液として上記第三処理装置からのストリーム５を処理することによって気相ストリーム７及び液相ストリーム８を得て、ストリーム８をトリーム８１およびストリーム８２の２つのサブストリームに分離させ、そのうちのストリーム８１を処理剤と混合してから、処理液として、上記第三処理装置に戻し、上記ストリーム８２を第四処理装置に再循環させる、第四処理装置と、を含み、
上記処理剤はアルカリを含有する溶液である、装置。
【請求項２５】
上記第一処理装置、上記第二処理装置、上記第三処理装置、および上記第四処理装置は、各々独立に、気泡カラムリアクタ、充填カラムリアクタ、衝突流リアクタ、回転床リアクタ、およびベンチュリリアクタからなる群から選択される、請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
上記第一処理装置および上記第二処理装置は、各々、ベンチュリリアクタであって、上記第三処理装置および上記第四処理装置は、各々、回転床リアクタである、請求項２５に記載の装置。
【請求項２７】
上記ベンチュリリアクタは、
液相ストリームを受け取り、蓄えるための、ベンチュリリアクタの上部に位置する液相貯蔵タンクと、
供給部の上部が上記液相貯蔵タンク内に伸び、スリーブ構造を形成する、ベンチュリリアクタの中部に位置する直線反応管と、
上記直線反応管の排出部の下部が接続されている、ベンチュリリアクタの下部に位置するガス液体分離管と、
を備え、
上記液相貯蔵タンクは、処理されるガスを受け取るための気相注入口が備えられており、上記気相注入口の位置は、上記直線反応管の上記供給部の上部注入口よりも高く、
上記液相貯蔵タンクの側壁上に、再循環された液体を受け取るための循環液注入口が備えられており、これにより、上記循環液注入口に入る液相ストリームは、最初に、液相貯蔵タンクにおける上記直線反応管の上記供給部の上記上部注入口よりも低くなっている空間に保存され、液体が上記供給部の上部注入口に達すると、液体がそれ以上に入ると溢れるので、直線反応管の内壁上に液体フィルムが形成されることによって、上記直線反応管の内壁上において材料の結晶が形成され詰まりが発生することが防止される、
請求項２５または２６に記載の装置。
【請求項２８】
上記ベンチュリリアクタの上記直線反応管は、その管壁上に、処理液としての液相ストリームを受け取るための液相ストリーム注入口が備えられており、当該液相ストリーム注入口は、上記液相貯蔵タンクと上記直線反応管の接続部に隣接した位置に配置されており、上記ガス液体分離管は、気相排出口および液相排出口が備えられている、請求項２７に記載の装置。
【請求項２９】
上記ベンチュリリアクタの上記供給部の上端には、歯形溝が開設されており、当該歯形溝の構造は、扇形歯形溝、四角形歯形溝、および三角形歯形溝からなる群から選択される一種である、請求項２７または２８に記載の装置。
【請求項３０】
上記ベンチュリリアクタの上記液相ストリーム注入口は、１〜１０個の液相分配器に接続されており、当該液相分配器は、上記直線反応管の中心線に配置されており、上方から下方に吸収液を噴射することができる、請求項２７〜２９の何れか一項に記載の装置。
【請求項３１】
上記ベンチュリリアクタの液相ストリーム注入口は、４〜６個の液相分配器に接続されており、当該４〜６個の液相分配器は、上記直線反応管の中心線に配置されており、上方から下方に吸収液を噴射することができる、請求項２７〜２９の何れか一項に記載の装置。