Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月6日(2018.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１クロックを循環的に第１のカウント値までカウントする第１のカウント処理と、前記第１のカウント処理によるカウントが前記第１のカウント値に達する毎に音響効果が付加された音響信号を出力する音響信号出力処理と、を実行する第１の処理部と、
第２クロックを循環的に第２のカウント値までカウントする第２のカウント処理と、前記第２のカウント処理によるカウントが前記第２のカウント値に達する毎に自動演奏を進行させる自動演奏制御処理と、前記第２のカウント処理によるカウントが前記第２のカウント値に達したタイミングと前記第１のカウント処理によるカウントが前記第１のカウント値に達したタイミングとの差分時間を循環的に検出する検出処理と、前記検出処理により検出される差分時間を小さくするように前記第２のカウント値を変更する補正処理と、を実行する第２の処理部と、
を備えた音響処理装置。
【請求項２】
前記音響処理装置さらに、前記自動演奏のテンポを指定するテンポ指定部を有し、
前記第１のカウント値及び前記第２のカウント値は、前記指定されたテンポに対応して決定される、請求項１に記載の音響処理装置。
【請求項３】
前記音響処理装置はさらに、複数種の自動演奏のテンポ夫々に対応して前記第１及び第２のカウント値を記憶するテーブルを有し、
前記第２の処理部はさらに、指定された自動演奏のテンポに対応する前記第１及び第２のカウント値を前記テーブルから読み出すとともに、前記第１のカウント値を前記第１の処理部に設定するカウント値設定処理を実行する、請求項１または２に記載の音響処理装置。
【請求項４】
前記第１の処理部は、前記第１のカウント処理によりカウントされたカウント値が前記第１のカウント値に達するまでの時間の自然数倍及び所定自然数分の１倍のいずれか一方の関係の時間に同期したタイミングで、供給される音響信号に対して音響効果を付加する処理を実行し、前記音響信号出力処理は、前記タイミングで前記音響効果が付加された音響信号を出力する、請求項１乃至３のいずれかに記載の音響処理装置。
【請求項５】
前記第１の処理部は、供給される音響信号に対してエコー効果を付加するディレイ処理を実行し、前記音響信号出力処理は、前記エコー効果が付加された音響信号を出力する、請求項１乃至４のいずれかに記載の音響処理装置。
【請求項６】
前記第１の処理部は、供給される音響信号に対してビブラート効果及びトレモロ効果の少なくとも一方を付加するためのＬＦＯを生成する処理を実行し、前記音響信号出力処理は、前記ビブラート効果及びトレモロ効果の少なくとも一方が付加された音響信号を出力する、請求項１乃至５いずれかに記載の音響処理装置。
【請求項７】
第１の処理部及び第２の処理部を有する音響処理装置に用いられる音響処理方法であって、
前記第１の処理部に、
第１クロックを循環的に第１のカウント値までカウントする第１のカウント処理と、
前記第１のカウント処理によるカウントが前記第１のカウント値に達する毎に音響効果が付加された音響信号を出力する音響信号出力処理と、
を実行させ、
前記第２の処理部に、
第２クロックを循環的に第２のカウント値までカウントする第２のカウント処理と、
前記第２のカウント処理によるカウントが前記第２のカウント値に達する毎に自動演奏を進行させる自動演奏制御処理と、
前記第２のカウント処理によるカウントが前記第２のカウント値に達したタイミングと前記第１のカウント処理によるカウントが前記第１のカウント値に達したタイミングとの差分時間を循環的に検出する検出処理と、
前記検出処理により検出される差分時間を小さくするように前記第２のカウント値を変更する補正処理と、
を実行させる音響処理方法。
【請求項８】
音響処理装置として用いられるコンピュータに、
第１クロックを循環的に第１のカウント値までカウントする第１のカウント処理と、
前記第１のカウント処理によるカウントが前記第１のカウント値に達する毎に音響効果が付加された音響信号を出力する音響信号出力処理と、
第２クロックを循環的に第２のカウント値までカウントする第２のカウント処理と、
前記第２のカウント処理によるカウントが前記第２のカウント値に達する毎に自動演奏を進行させる自動演奏制御処理と、
前記第２のカウント処理によるカウントが前記第２のカウント値に達したタイミングと前記第１のカウント処理によるカウントが前記第１のカウント値に達したタイミングとの差分時間を循環的に検出する検出処理と、
前記検出処理により検出される差分時間を小さくするように前記第２のカウント値を変更する補正処理と、
を実行させるプログラム。
【請求項９】
請求項１乃至６のいずれかに記載の音響処理装置と、
発生すべき楽音の音高を指定する演奏操作子と、
前記演奏操作子で指定された音高の楽音波形を音響波形信号として生成して、前記第１の処理部に供給する波形発生器と、
を備えた電子楽器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
態様の一例の音響処理装置は、
第１クロックを循環的に第１のカウント値までカウントする第１のカウント処理と、前記第１のカウント処理によるカウントが前記第１のカウント値に達する毎に音響効果が付加された音響信号を出力する音響信号出力処理と、を実行する第１の処理部と、
第２クロックを循環的に第２のカウント値までカウントする第２のカウント処理と、前記第２のカウント処理によるカウントが前記第２のカウント値に達する毎に自動演奏を進行させる自動演奏制御処理と、前記第２のカウント処理によるカウントが前記第２のカウント値に達したタイミングと前記第１のカウント処理によるカウントが前記第１のカウント値に達したタイミングとの差分時間を循環的に検出する検出処理と、前記検出処理により検出される差分時間を小さくするように前記第２のカウント値を変更する補正処理と、を実行する第２の処理部と、
を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月19日(2018.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２の状態に切り替え可能な光学素子であって、
該第１及び第２の状態の間で光学的性質が変化する第１及び第２の光学要素を有し、
前記第２の状態において、前記第１の光学要素の屈折率及びアッベ数を各々ｎ１及びν１、前記第２の光学要素の屈折率及びアッベ数を各々ｎ２及びν２とするとき、
ｎ１＜ｎ２
ν１＜ν２
なる条件を満たすことを特徴とする光学素子。
【請求項２】
前記第１及び第２の光学要素の夫々の屈折率及びアッベ数は、前記第１及び第２の状態の間で変化することを特徴とする請求項１に記載の光学素子。
【請求項３】
前記第１及び第２の光学要素の夫々の光学的性質は、印加される電圧に応じて変化することを特徴とする請求項１又は２に記載の光学素子。
【請求項４】
前記第１の状態は電気不活性化状態であり、前記第２の状態は電気活性化状態であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項５】
前記第１及び第２の光学要素の夫々は、レリーフ面を含むことを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項６】
前記第１の状態から前記第２の状態に変化したときの、前記第１及び第２の光学要素の夫々の屈折率の変化量をΔｎ１及びΔｎ２、前記第１及び第２の光学要素の夫々のアッベ数の変化量をΔν１及びΔν２とするとき、
Δｎ１／Δν１＜Δｎ２／Δν２
なる条件を満たすことを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項７】
前記第１の状態から前記第２の状態に変化したときの、前記第１及び第２の光学要素の夫々の屈折率の変化量をΔｎ１及びΔｎ２、前記第１及び第２の光学要素の夫々のアッベ数の変化量をΔν１及びΔν２とするとき、
（Δｎ１／Δν１）／（Δｎ２／Δν２）＞１．５
なる条件を満たすことを特徴とする請求項１乃至６の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項８】
前記第１及び第２の光学要素の夫々の複屈折率は、０．０８以上であることを特徴とする請求項１乃至７の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項９】
０．００６＜（ｎ２−ｎ１）＜０．０６
なる条件を満たすことを特徴とする請求項１乃至８の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項１０】
前記第１の状態における前記第１及び第２の光学要素の屈折率の差は、前記第２の状態における前記第１及び第２の光学要素の屈折率の差よりも小さいことを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項１１】
前記第１の状態における前記第１及び第２の光学要素のアッベ数の差は、前記第２の状態における前記第１及び第２の光学要素のアッベ数の差よりも小さいことを特徴とする請求項１乃至１０の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項１２】
前記第１及び第２の光学要素の夫々は、コレステリック液晶、又はカイラルツイスト剤が添加されたネマチック液晶で構成されることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項１３】
前記第１及び第２の光学要素を挟むように設けられた一対の第１の透明電極と、該一対の第１の透明電極を挟むように設けられた一対の第１の基板とを有することを特徴とする請求項１乃至１２の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項１４】
前記第１及び第２の光学要素の夫々における前記第１の基板に近い面は、レリーフ面であることを特徴とする請求項１３に記載の光学素子。
【請求項１５】
前記第１及び第２の光学要素の間に設けられた第２の透明電極を有することを特徴とする請求項１乃至１４の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項１６】
前記第１及び第２の光学要素の間に設けられた第２の基板を有し、前記第１及び第２の光学要素の夫々における前記第２の基板に近い面はレリーフ面であることを特徴とする請求項１乃至１３の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項１７】
前記第１及び第２の状態の間で焦点距離を切り替え可能であることを特徴とする請求項１乃至１６の何れか一項に記載の光学素子。
【請求項１８】
請求項１乃至１７の何れか一項に記載の光学素子と、該光学素子を前記第１又は第２の状態に設定する制御部とを備えることを特徴とする光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一側面としての光学素子は、第１及び第２の状態に切り替え可能な光学素子であって、該第１及び第２の状態の間で光学的性質が変化する第１及び第２の光学要素を有し、前記第２の状態において、前記第１の光学要素の屈折率及びアッベ数を各々ｎ１及びν１、前記第２の光学要素の屈折率及びアッベ数を各々ｎ２及びν２とするとき、これらは所定の関係を満たす。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の他の側面としての光学機器は、前記光学素子と、該光学素子を前記第１又は第２の状態に設定する制御部とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月5日(2018.12.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１領域と、前記第１領域に隣接する第２領域と、前記第１領域及び前記第２領域に配置され前記第２領域に形成された第１貫通部を有する絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に形成されたパッド電極と、前記パッド電極と電気的に接続された信号配線と、を有する第１基板と、
接続配線を有し、前記絶縁基板の下方に位置する配線基板と、
前記第１貫通部内に設けられ、前記パッド電極と前記接続配線とを電気的に接続する導電材料と、を備え、
前記第２領域の前記絶縁基板は、前記第１領域の前記絶縁基板よりも薄い表示装置。
【請求項２】
前記第１基板は、さらに、前記絶縁基板と前記パッド電極との間に絶縁膜を備え、
前記絶縁膜は、前記第１貫通部と重なる位置に第２貫通部を有する請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記絶縁膜は、無機絶縁膜である請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記絶縁膜は、少なくとも第１絶縁膜と、第２絶縁膜と、を備え、
前記第１絶縁膜と前記第２絶縁膜とは互いに異なる材料で形成される請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２領域の前記絶縁基板の厚さは０μｍより大きく、１μｍ以下である請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１基板は、さらに、支持基板を備え、
前記支持基板は、前記第１領域に配置される請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記支持基板は、ガラスによって形成される請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１基板の上方に位置し前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、
前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせるシール材と、を備え、
前記シール材は、前記第１貫通部と重なる位置に形成される請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
前記絶縁基板は、ポリイミドで形成される、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記パッド電極は、前記導電材料に接する第１電極を備え、
前記第１電極は、透明導電層である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記パッド電極は、前記第１電極の上に配置された第２電極を備え、
前記第２電極は、金属材料を用いて形成される、請求項７に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記第１領域における前記絶縁基板の第１下面より前記第２領域における前記絶縁基板の第２下面が上方に位置する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記第１領域における前記絶縁基板の第１下面は遮光マスクに接し、前記第２領域における前記絶縁基板の第２下面は前記導電材料に接する、請求項１に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月27日(2018.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電部材で構成される第１の外装部材と、
非導電部材で構成される第２の外装部材と、
前記第２の外装部材により覆われ、無線通信可能なアンテナと、を有し、
前記アンテナは、
電流を供給する給電部と、
前記電流を電波として発振する発振部と、
前記給電部と前記発振部の間にある中間部と、を有し、
前記給電部および前記発振部は、前記中間部よりも、前記第１の外装部材から離れている、
ことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記アンテナが配線された基板を更に有し、
前記基板は、第１の辺と該第１の辺と反対側の第２の辺を有し、
前記給電部および前記発振部は、前記第２の辺よりも第１の辺に近く、
前記中間部は、前記第１の辺よりも第２の辺に近いことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記アンテナは、
前記給電部から第１の方向に導体が延びる第１部分と、
前記第１部分の端部から前記第１の方向と直交する第２の方向に導体が延びる第２部分と、
前記第２部分の端部から前記第１の方向に導体が延びる第３部分と、
前記第３部分の端部から前記第２の方向と反対の第３の方向に導体が延びて前記発振部と接続する第４部分と、を有し、
前記中間部は、前記第３部分であることを特徴とする請求項１または２に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記撮像装置は、アクセサリーを着脱可能なアクセサリーシューを有し、
前記給電部および前記発振部は、前記中間部よりも、前記第１の外装部材のうち前記アクセサリーシューの周囲に形成される壁部から離れている、
ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項５】
前記中間部と前記壁部の間の第１の最短距離、前記給電部と前記壁部の間の第２の最短距離、および、前記発振部と前記壁部の間の第３の最短距離のうち、前記第１の最短距離が最も短いことを特徴とする請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
前記撮像装置は、撮影光学系からの光束をファインダ接眼部に導くペンタプリズムを有し、
前記アンテナは、前記ペンタプリズムの一対のダハ面のうち一方の上に設けられることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項７】
前記アンテナが配線された基板を更に有し、
前記基板は、
前記中間部よりも前記給電部および前記発振部が近くに配置された第１の辺と、
前記給電部および前記発振部よりも前記中間部が近くに配置された第２の辺と、
前記給電部よりも前記発振部および前記中間部が近くに配置された第３の辺と、を有し、
前記基板は、前記第３の辺が、前記第１の辺および前記第２の辺よりも、前記一対のダハ面に接続する稜線に近づくように配置されることを特徴とする請求項６に記載の撮像装置。
【請求項８】
前記給電部および前記発振部は、前記第１の外装部材の外部において、前記第２の外装部材によって覆われていることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項９】
前記第１の外装部材は、開口部を有し、
前記第２の外装部材は、前記開口部の外側に設けられ、前記開口部を覆うように前記第１の外装部材と接続し、
前記給電部および前記発振部は、前記開口部の外側において、前記第２の外装部材によって覆われていることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１０】
前記撮像装置は、前記アンテナを有する第１の通信モジュールを保持する第１の保持手段を有し、
前記第１の通信モジュールは、金属材料で形成されるグランド部を有し、
前記第１の保持手段は、導電部材で構成され、前記グランド部と当接し、前記第１の外装部材に固定されることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１１】
前記第１の保持手段は、前記第１の外装部材よりも熱伝導率の高い材料で構成されていることを特徴とする請求項１０に記載の撮像装置。
【請求項１２】
前記撮像装置は、前記第２の外装部材の内部に、前記アンテナを有する第１の通信モジュールと異なる無線通信規格を用いて無線通信を行う第２の通信モジュールおよび第３の通信モジュールを有することを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の撮像装置。
【請求項１３】
前記撮像装置は、撮影光学系からの光束をファインダ接眼部に導くペンタプリズムを有し、
前記第１の通信モジュールは、前記ペンタプリズムの一対のダハ面のうち一方の上に設けられ、
前記第２の通信モジュールは、前記一対のダハ面のうち他方の上に設けられ、
前記第３の通信モジュールは、前記一対のダハ面が接続する稜線の上に設けられることを特徴とする請求項１２に記載の撮像装置。
【請求項１４】
前記撮像装置は、前記第２の通信モジュールおよび前記第３の通信モジュールを保持する第２の保持手段を有し、
前記第２の保持手段は、非導電部材で構成され、前記第１の外装部材に固定されることを特徴とする請求項１２または１３に記載の撮像装置。
【請求項１５】
前記第１の通信モジュールは、無線ＬＡＮモジュールであり、
前記第２の通信モジュールは、衛星からの電波を受信して測位を行う測位モジュールであり、
前記第３の通信モジュールは、無線ＰＡＮモジュールであることを特徴とする請求項１２ないし１４のいずれか１項に記載の撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の撮像装置は、導電部材で構成される第１の外装部材と、非導電部材で構成される第２の外装部材と、第２の外装部材により覆われ、無線通信可能なアンテナと、を有し、アンテナは、電流を供給する給電部と、電流を電波として発振する発振部と、給電部と発振部の間にある中間部と、を有し、給電部および発振部は、中間部よりも、第１の外装部材から離れていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月10日(2018.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回折面と少なくとも一つの非球面とを有し、
設計波長をλ０、設計回折次数をｍ（ｍは整数）、光軸に垂直な方向における該光軸からの距離をｒ、１からｐまでの整数をｉ、２ｉ次項の位相係数をＣｉとして、前記回折面の位相関数ψ（ｒ）を
ψ（ｒ）＝２×ｍ×π／λ０×（Ｃ１×ｒ２＋Ｃ２×ｒ４＋Ｃ３×ｒ６＋Ｃ４×ｒ８＋Ｃ５×ｒ１０＋…＋Ｃｐ×ｒ２×ｐ）
なる式で表し、
近軸曲率半径をＲ、円錐定数をｋ、１からｑまでの整数をｊ、２（ｊ＋１）次項の非球面係数をＡｊとして、前記少なくとも一つの非球面の非球面関数Ｘ（ｒ）を
Ｘ（ｒ）＝（１／Ｒ）×ｒ２／［１＋√｛１−（１＋ｋ）（ｒ／Ｒ）２｝］＋Ａ１×ｒ４＋Ａ２×ｒ６＋Ａ３×ｒ８＋Ａ４×ｒ１０＋…＋Ａｑ×ｒ２×（ｑ＋１）
なる式で表すとき、
前記位相関数ψ（ｒ）と、前記少なくとも一つの非球面のうち前記回折面に最も近い第１の非球面の前記非球面関数Ｘ（ｒ）とは、前記距離ｒが大きくなるほど互いに異なる符号で大きくなり、
前記位相関数ψ（ｒ）において、２次項の位相係数Ｃ１と比較して該２次項よりも高次の項の位相係数の和の方が大きく、
無限遠物体に合焦したときの焦点距離をｆ、ＦナンバーをＦｎｏとするとき、
【数１】
2017111263.tif 000001
【数２】
2017111263.tif 000002
なる条件を満足することを特徴とする光学系。
【請求項２】
波長λに対する前記回折面の焦点距離ｆｄｏを
１／ｆｄｏ＝−２×ｍ×Ｃ１×λ／λ０
なる式で表し、
光学全長をＬとするとき、
【数３】
2017111263.tif 000003
なる条件を満足することを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項３】
前記回折面と前記第１の非球面とは同一面であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学系。
【請求項４】
前記第１の非球面の非球面関数Ｘ（ｒ）において、４次項の非球面係数Ａ１と比較して該４次項よりも高次の項の非球面係数の和の方が大きく、
【数４】
2017111263.tif 000004
なる条件を満足することを特徴とする請求項３に記載の光学系。
【請求項５】
無限遠物体に合焦した状態において、（ｍ＋１）次の回折光のうちｄ線の瞳９割位置での球面収差量をＳＡｈ９（ｍ＋１）、前記（ｍ＋１）次の回折光のうちｄ線の瞳５割位置での球面収差量をＳＡｈ５（ｍ＋１）とするとき、
２＜ＳＡｈ９（ｍ＋１）／ＳＡｈ５（ｍ＋１）＜４０
なる条件を満足することを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の光学系。
【請求項６】
物体側から像側へ順に配置された、正の屈折力の第１レンズ群、合焦に伴い移動する第２レンズ群、第３レンズ群を有し、前記第１レンズ群は前記回折面及び前記第１の非球面を含むことを特徴とする請求項１乃至５の何れか一項に記載の光学系。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一項に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】回折光学素子を用いた光学系および光学機器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、回折光学素子を用いた光学系に関し、スチルカメラやビデオカメラ等の光学機器に用いられる光学系に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、回折光学素子の回折面における高次光の位相係数で規定される屈折力までをも考慮したフレア抑制効果を有し、かつ諸収差も良好に補正できる小型の光学系およびこれを用いた光学機器を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一側面としての光学系は、回折面と少なくとも一つの非球面とを有する。設計波長をλ０、設計回折次数をｍ（ｍは整数）、光軸に垂直な方向における該光軸からの距離をｒ、１からｐまでの整数をｉ、２ｉ次項の位相係数をＣｉとして、前記回折面の位相関数ψ（ｒ）をψ（ｒ）＝２×ｍ×π／λ０×（Ｃ１×ｒ２＋Ｃ２×ｒ４＋Ｃ３×ｒ６＋Ｃ４×ｒ８＋Ｃ５×ｒ１０＋…＋Ｃｐ×ｒ２×ｐ）なる式で表し、近軸曲率半径をＲ、円錐定数をｋ、１からｑまでの整数をｊ、２（ｊ＋１）次項の非球面係数をＡｊとして、前記少なくとも一つの非球面の非球面関数Ｘ（ｒ）をＸ（ｒ）＝（１／Ｒ）×ｒ２／［１＋√｛１−（１＋ｋ）（ｒ／Ｒ）２｝］＋Ａ１×ｒ４＋Ａ２×ｒ６＋Ａ３×ｒ８＋Ａ４×ｒ１０＋…＋Ａｑ×ｒ２×（ｑ＋１）なる式で表すとき、前記位相関数ψ（ｒ）と、前記少なくとも一つの非球面のうち前記回折面に最も近い第１の非球面の前記非球面関数Ｘ（ｒ）とは、前記距離ｒが大きくなるほど互いに異なる符号で大きくなり、前記位相関数ψ（ｒ）において、２次項の位相係数Ｃ１と比較して該２次項よりも高次の項の位相係数の和の方が大きく、無限遠物体に合焦したときの焦点距離をｆ、ＦナンバーをＦｎｏとするとき、
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【数１】
2017111263.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月14日(2018.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録紙に画像を形成する画像形成手段と、
前記記録紙に向けて光を発する発光素子を有し、前記記録紙に形成されたテスト画像からの反射光を測定する測定手段と、
前記画像形成手段によって複数の第１記録紙に第１キャリブレーション用の第１テスト画像を形成させ、前記第１テスト画像が形成された前記複数の第１記録紙の内の最初の記録紙を前記測定手段が測定する前に、前記測定手段の第１予備発光を実行し、前記第１予備発光後に前記測定手段によって前記複数の第１記録紙上の前記第１テスト画像を測定させ、前記第１テスト画像の測定結果に基づいて前記第１キャリブレーションを実行し、前記画像形成手段によって複数の第２記録紙に前記第１キャリブレーションと異なる第２キャリブレーション用の第２テスト画像を形成させ、前記第２テスト画像が形成された前記複数の第２記録紙の内の最初の記録紙を前記測定手段が測定する前に、前記測定手段の第２予備発光を実施し、前記第２予備発光後に前記測定手段によって前記複数の第２記録紙上の前記第２テスト画像を測定させ、前記第２テスト画像の測定結果に基づいて前記第２キャリブレーションを実行する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記第１キャリブレーションと前記第２キャリブレーションを連続して実行する場合、前記第２予備発光に要する時間を前記第１予備発光に要する時間よりも短くすることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記第１キャリブレーションにおいて前記画像形成手段により形成される画像の濃度を調整するための画像形成条件を決定し、前記第２キャリブレーションにおいて前記画像形成条件に基づいて前記第２テスト画像を形成することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記画像形成手段は、異なる色の画像を形成する複数の画像形成部を有し、
前記制御手段は、前記第１キャリブレーションにおいて、前記複数の画像形成部により形成される前記異なる色の画像の階調特性を前記第１テスト画像の測定結果に基づいて補正し、
前記制御手段は、前記第２キャリブレーションにおいて、前記複数の画像形成部により形成される混色の画像の色を前記第２テスト画像の測定結果に基づいて補正することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記画像形成手段は、異なる色の画像を形成する複数の画像形成部を有し、
前記第１テスト画像は、前記異なる色毎の単色のテスト画像を含み、
前記第２テスト画像は、前記異なる色を混色したテスト画像を含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記測定手段は、回折格子と、前記回折格子により分光された反射光を受光するラインセンサとを有し、前記ラインセンサの受光結果に基づいて前記反射光の複数の波長の強度を測定することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
記録紙に画像を形成する画像形成手段、前記記録紙に向けて光を発する発光素子を有し、前記記録紙に形成されたテスト画像からの反射光を測定する測定手段を有する画像形成装置で実行される画像形成方法であって、前記画像形成装置が、
前記画像形成手段によって複数の第１記録紙に第１キャリブレーション用の第１テスト画像を形成させ、前記第１テスト画像が形成された前記複数の第１記録紙の内の最初の記録紙を前記測定手段が測定する前に、前記測定手段の第１予備発光を実行し、前記第１予備発光後に前記測定手段によって前記複数の第１記録紙上の前記第１テスト画像を測定させ、前記第１テスト画像の測定結果に基づいて前記第１キャリブレーションを実行し、前記画像形成手段によって複数の第２記録紙に前記第１キャリブレーションと異なる第２キャリブレーション用の第２テスト画像を形成させ、前記第２テスト画像が形成された前記複数の第２記録紙の内の最初の記録紙を前記測定手段が測定する前に、前記測定手段の第２予備発光を実施し、前記第２予備発光後に前記測定手段によって前記複数の第２記録紙上の前記第２テスト画像を測定させ、前記第２テスト画像の測定結果に基づいて前記第２キャリブレーションを実行し、
前記第１キャリブレーションと前記第２キャリブレーションを連続して実行する場合、前記第２予備発光に要する時間を前記第１予備発光に要する時間よりも短くすることを特徴とする、画像形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上述した課題を解決するために、本発明にかかる画像形成装置は、記録紙に画像を形成する画像形成手段と、前記記録紙に向けて光を発する発光素子を有し、前記記録紙に形成されたテスト画像からの反射光を測定する測定手段と、前記画像形成手段によって複数の第１記録紙に第１キャリブレーション用の第１テスト画像を形成させ、前記第１テスト画像が形成された前記複数の第１記録紙の内の最初の記録紙を前記測定手段が測定する前に、前記測定手段の第１予備発光を実行し、前記第１予備発光後に前記測定手段によって前記複数の第１記録紙上の前記第１テスト画像を測定させ、前記第１テスト画像の測定結果に基づいて前記第１キャリブレーションを実行し、前記画像形成手段によって複数の第２記録紙に前記第１キャリブレーションと異なる第２キャリブレーション用の第２テスト画像を形成させ、前記第２テスト画像が形成された前記複数の第２記録紙の内の最初の記録紙を前記測定手段が測定する前に、前記測定手段の第２予備発光を実施し、前記第２予備発光後に前記測定手段によって前記複数の第２記録紙上の前記第２テスト画像を測定させ、前記第２テスト画像の測定結果に基づいて前記第２キャリブレーションを実行する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記第１キャリブレーションと前記第２キャリブレーションを連続して実行する場合、前記第２予備発光に要する時間を前記第１予備発光に要する時間よりも短くすることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月27日(2018.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
切替えレバー２０７の長手方向２箇所のうち一方には第１の凹部２０７ｃ１が形成され、他方には第２の凹部２０７ｃ２が形成されている。さらに、切替えレバー２０７には、第１の凹部２０７ｃ１および第２の凹部２０７ｃ２をつなぐようにガイド溝部２０７ｄが形成されている。これら第１の凹部２０７ｃ１、第２の凹部２０７ｃ２およびガイド溝部２０７ｄには、ボール２１０側に開いたテーパ面２０７ｅが形成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
切替えレバー２０７と一体にスライドするストッパ板２１３におけるスライド方向（周方向）の２箇所のうち一方には大径穴部（第１の開口部）２１３ｂが、他方には大径穴部２１３ｂより小径の小径穴部（第２の開口部）２１３ｃがそれぞれ形成されている。大径穴部２１３ｂの内径はフォロワーピン２１２の先端部２１２ａの外径より大きい。すなわち、大径穴部２１３ｂは、後述するように先端部２１２ａの通り抜けを許容する内径を有する。一方、小径穴部２１３ｃの内径はフォロワーピン２１２の先端部２１２ａの外径より小さい。すなわち、小径穴部２１３ｃは、先端部２１２ａの通り抜けを阻止する内径を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
クリックＯＮ状態（図６、図８（ａ））では、スプリング２１１が発生した付勢力によってボール２１０は切替えレバー２０７の第１の凹部２０７ｃ１に係合し、そのテーパ面２０７ｅに押圧状態で当接する。これにより、スライド可能な切替えレバー２０７およびストッパ板２１３は、クリックＯＮ位置Ｐ１で安定する。このとき、フォロワーピン２１２の先端部２１２ａは、ストッパ板２１３のうち第１の凹部２０７ｃ１と同じ周方向位置Ｐ１′に設けられた大径穴部２１３ｂを通り抜けてそこから突出する位置（突出位置）まで移動する。そして、フォロワーピン２１２の先端部２１２ａは、クリック板２２０の凹部２２０ａおよび凸部２２０ｂ（以下、これらをまとめて凹凸部という）に押圧状態で当接する。このため、操作リング２０１とともにクリック板２２０が回転すると、スプリング２１１により付勢されたフォロワーピン２１２がクリック板２２０の凹凸部２２０ａ，２２０ｂに対して落ち込んだり乗り上げたりしてクリック感が発生する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
切替えレバー２０７をクリックＯＦＦ位置Ｐ２から図９（ｂ）中のＲ１方向にスライドさせる間およびクリックＯＮ位置Ｐ１から同図中のＲ２方向にスライドさせる間は、図９（ａ）〜（ｃ）に示すＯＮ／ＯＦＦ中間状態となる。このＯＮ／ＯＦＦ中間状態では、ボール２１０は切替えレバー２０７のガイド溝部２０７ｄにおいてテーパ面２０７ｅに当接する。また、フォロワーピン２１２の先端部２１２ａのうちクリックＯＮ状態でクリック板２２０の凹凸部２２０ａ，２２０ｂに当接する最先端面（以下、クリック当接面という）を除いた部分がストッパ板２１３のガイド溝部２１３ｆにおいてテーパ面２１３ｅに当接する。これにより、フォロワーピン２１２の先端部２１２ａはクリックＯＦＦ状態と同様にクリック板２２０の凹凸部２２０ａ，２２０ｂから離れた位置に保持される。フォロワーピン２１２のクリック当接面は、クリック板２２０の凹凸部２２０ａ，２２０ｂに当接してクリック感を決定する重要な部分である。このため、本実施例では、ストッパ板２１３にガイド溝部２１３ｆを設けてクリック当接面がストッパ板２１３との摺動によって摩耗することを防止している。つまり、クリック当接面がストッパ板２１３に当接しないようにしている。また、ガイド溝部２１３ｆを設けることでスプリング２１１の付勢力を弱め、切替え途中の感触を軽くすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
図１０には、前面カバーユニット２のうちベース部材２０８の鏡筒保持部２０８ｅに組み付けられた切替えレバー２０７を示している。切替えレバー２０７は、鏡筒カバー２０２に沿って延びる円弧形状を有し、鏡筒保持部２０８ｅに円弧形状に延びるように形成されたガイド溝部２０８ａによってガイドされながら周方向にスライドする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図１１（ａ）には、前面カバーユニット２のうち、ベース部材２０８から鏡筒カバー２０２および操作リング２０１を分解して示す。ベース部材２０８の鏡筒保持部２０８ｄにはクリック切替え機構（切替えレバー２０７等）が組み付けられている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
一方、図１４（ｂ）に示すクリックＯＦＦ状態でも、クリック切替え機構を構成する切替えレバー２０７、ボール２１０、スプリング２１１、フォロワーピン２１２およびストッパ板２１３は互いに電気的に導通可能となる。ただし、操作リング２０１と一体に結合しているクリック板２２０に対してフォロワーピン２１２が接触しないために、クリック切替え機構が電気的に孤立するおそれがある。しかし、本実施例では、板金部材２１４の腕部２１４ｃが切替えレバー２０７の側面部２０７ｉに接触するため、前面カバーユニット２の全ての金属部品は前面カバー２０５に電気的に導通可能となる。そして、前面カバー２０５からカメラ１内の他の全ての金属部品に電気的に繋がる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月12日(2018.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地図上において避難者が歩行可能な領域である歩行領域上の、災害の被害地域に含まれていない場所を特定する特定手段と、
前記特定手段により特定された場所を、前記避難者の避難目的地の候補として表示画面に表示すべく制御する表示制御手段と、
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記特定手段は、前記歩行領域上における、前記被害地域から所定範囲内の場所であって、前記被害地域に含まれていない場所を特定することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記特定手段は、前記地図を分割した分割領域のうち、前記被害地域に隣接する分割領域を特定し、
前記表示制御手段は、前記特定手段により特定された前記分割領域を、前記避難目的地の候補として表示画面に表示すべく制御することを特徴とする請求項１又は２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記表示制御手段により避難目的地の候補として表示された場所に対するユーザ操作に基づいて、当該操作を受け付けた場所を避難目的地として選択する選択手段を更に備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記表示制御手段により避難目的地の候補として表示された全ての場所を、一括で避難目的地として選択するための画面を表示する画面表示手段を更に備え、
前記選択手段は、前記画面表示手段により表示された画面における操作に基づいて、前記表示制御手段により避難目的地の候補として表示された全ての場所を、一括で避難目的地として選択することを特徴とする請求項４に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記表示制御手段は、前記特定手段により特定された前記被害地域に含まれていない場所のうち、前記避難者が移動可能な他の場所とつながっている場所を前記避難目的地の候補として表示すべく制御することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記地図上に配置されるオブジェクトのうち、建物又は道のオブジェクトの示す領域を前記歩行領域として決定する歩行領域決定手段を更に備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の情報処理装置。
【請求項８】
情報処理装置の制御方法であって、
地図上において避難者が歩行可能な領域である歩行領域上の、災害の被害地域に含まれていない場所を特定する特定工程と、
前記特定工程で特定された場所を、前記避難者の避難目的地の候補として表示画面に表示すべく制御する表示制御工程と、
を含むことを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項９】
コンピュータを、
地図上において避難者が歩行可能な領域である歩行領域上の、災害の被害地域に含まれていない場所を特定する特定手段と、
前記特定手段により特定された場所を、前記避難者の避難目的地の候補として表示画面に表示すべく制御する表示制御手段として機能させるためのプログラム。
【請求項１０】
情報処理システムであって、
地図上において避難者が歩行可能な領域である歩行領域上の、災害の被害地域に含まれていない場所を特定する特定手段と、
前記特定手段により特定された場所を、前記避難者の避難目的地の候補として表示画面に表示すべく制御する表示制御手段と、
を備えることを特徴とする情報処理システム。
【請求項１１】
情報処理システムの制御方法であって、
地図上において避難者が歩行可能な領域である歩行領域上の、災害の被害地域に含まれていない場所を特定する特定工程と、
前記特定工程で特定された場所を、前記避難者の避難目的地の候補として表示画面に表示すべく制御する表示制御工程と、
を含むことを特徴とする情報処理システムの制御方法。
【請求項１２】
情報処理システムを、
地図上において避難者が歩行可能な領域である歩行領域上の、災害の被害地域に含まれていない場所を特定する特定手段と、
前記特定手段により特定された場所を、前記避難者の避難目的地の候補として表示画面に表示すべく制御する表示制御手段と、
して機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の情報処理装置は、地図上において避難者が歩行可能な領域である歩行領域上の、災害の被害地域に含まれていない場所を特定する特定手段と、前記特定手段により特定された場所を、前記避難者の避難目的地の候補として表示画面に表示すべく制御する表示制御手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月27日(2018.11.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属アルコキシド化合物と、
アルカノールアミン化合物と、
ホルムアミド化合物と、
溶剤と、を含むことを特徴とする金属酸化物成膜用組成物。
【請求項２】
前記金属アルコキシド化合物を１としたときのｍｏｌ比が、前記アルカノールアミン化合物は０．５以上、３．０以下、前記ホルムアミド化合物は０．５以上、３．０以下であることを特徴とする、請求項１に記載の金属酸化物成膜用組成物。
【請求項３】
ＺｒＯ2、ＬｉＮｂＯ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｌｉ2ＺｒＯ3、Ｌｉ3ＰＯ4、Ｌｉ3ＢＯ3、Ｌｉ3ＳｂＯ3から選ばれる１種を形成するための前記金属アルコキシド化合物を含むことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の金属酸化物成膜用組成物。
【請求項４】
前記金属アルコキシド化合物が、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−ｉ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｉ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔ−ブトキシジルコニウム、メトキシリチウム、エトキシリチウム、ｉ−プロポキシリチウム、ｎ−プロポキシリチウム、ｉ−ブトキシリチウム、ｎ−ブトキシリチウム、ｓｅｃ−ブトキシリチウム、ｔ−ブトキシリチウム、２−ブトキシエトキシリチウム、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリ−ｉ−プロポキシアルミニウム、トリ−ｎ−プロポキシアルミニウム、トリ−ｉ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｎ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｔ−ブトキシアルミニウム、ペンタメトキシニオブ、ペンタエトキシニオブ、ペンタ−ｉ−プロポキシニオブ、ペンタ−ｎ−プロポキシニオブ、ペンタ−ｉ−ブトキシニオブ、ペンタ−ｎ−ブトキシニオブ、ペンタ−ｓｅｃ−ブトキシニオブ、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリ−ｎ−ブチル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、トリメトキシボロン、トリエトキシボロン、トリ−ｉ−プロポキシボロン、トリ−ｎ−プロポキシボロン、トリメトキシアンチモン、トリエトキシアンチモン、トリ−ｉ−プロポキシアンチモン、トリ−ｎ−プロポキシアンチモン、トリ−ｉ−ブトキシアンチモン、トリ−ｎ−ブトキシアンチモンから選ばれる１種を含むことを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の金属酸化物成膜用組成物。
【請求項５】
前記アルカノールアミン化合物が、モノエタノールアミン、モノプロパノールアミン、モノイソプロパノールアミン、モノノルマルプロパノールアミン、モノブタノールアミン、モノノルマルブタノールアミン、モノ−２−ヒドロキシブチルアミン、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、ジ−２−ヒドロキシブチルアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−ベンジルエタノールアミン、メチルジメタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、トリブタノールアミンから選ばれる１種を含むことを特徴とする、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の金属酸化物成膜用組成物。
【請求項６】
前記ホルムアミド化合物が、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドから選ばれる１種を含むことを特徴とする、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の金属酸化物成膜用組成物。
【請求項７】
正極活物質層と固体電解質層とが複合化された正極複合体であって、
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の金属酸化物成膜用組成物を用いて、前記正極活物質層と前記固体電解質層との間に設けられた、金属酸化物の膜を有することを特徴とする正極複合体。
【請求項８】
正極活物質層と固体電解質層とが複合化された正極複合体の製造方法であって、
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の金属酸化物成膜用組成物を用いて、前記正極活物質層に前記金属酸化物成膜用組成物を塗布する工程と、
塗布された前記金属酸化物成膜用組成物を固化して、前記正極活物質層の表面に金属酸化物の膜を形成する工程と、
前記金属酸化物の膜が形成された前記正極活物質層と、前記固体電解質層とを複合化して前記正極複合体を形成する工程と、を備えていることを特徴とする、正極複合体の製造方法。
【請求項９】
５００℃以上の温度で、前記金属酸化物成膜用組成物を固化することを特徴とする請求項８に記載の正極複合体の製造方法。
【請求項１０】
請求項７に記載された正極複合体と、
負極と、を有することを特徴とする電池。
【請求項１１】
正極活物質層および固体電解質層が複合化された正極複合体と、負極活物質層を含む負極とを有する電池の製造方法であって、
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の金属酸化物成膜用組成物を用いて、前記正極活物質層の表面に前記金属酸化物成膜用組成物を塗布する工程と、
塗布された前記金属酸化物成膜用組成物を固化して、前記正極活物質層の表面に前記金属酸化物の膜を形成する工程と、
前記金属酸化物の膜が形成された前記正極活物質層と、前記固体電解質層とを複合化して前記正極複合体を形成する工程と、
前記正極複合体と前記負極とを接合する工程と、を備えていることを特徴とする電池の製造方法。
【請求項１２】
正極活物質層と、固体電解質層と、前記固体電解質層から露出する前記正極活物質層に接する集電体と、を有する電池の製造方法であって、
正極活物質とバインダーとを含む混合物を、８５０℃以上、前記正極活物質の融点未満の温度条件で熱処理し、多孔質の前記正極活物質層を得る工程と、
多孔質の前記正極活物質層に、請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の金属酸化物成膜用組成物を塗布する工程と、
塗布された前記金属酸化物成膜用組成物を固化して、多孔質の前記正極活物質層の細孔の内部を含む表面に金属酸化物の膜を形成する工程と、
前記正極活物質層の表面に、前記固体電解質層の形成材料を含む液状体を塗布して熱処理し、前記固体電解質層を形成する工程と、を備えていることを特徴とする電池の製造方法。
【請求項１３】
５００℃以上の温度で、前記金属酸化物成膜用組成物を固化することを特徴とする請求項１２に記載の電池の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月13日(2018.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
蓄電部として、いわゆる蓄電池を用いる場合には、蓄電池の寿命が数年と比較的短いため、定期的に蓄電池の劣化をチェックする必要がある。ところが、上記の特許文献１に記載されているように、蓄電部として電気二重層コンデンサを用いる場合には、電気二重層コンデンサの寿命が蓄電池の寿命と比較して非常に長いので、電気二重層コンデンサの状態を定期的にチェックすることは行われていない。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月9日(2019.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する処理システムであって、当該処理システムは、
処理するための基板を受けるようなサイズとされ、構成されたチャンバと、
前記チャンバ内に位置決めされ、前記基板を保持するように構成された基板ホルダと、
前記基板が前記チャンバ内にあるときに前記基板のワーク面上に画像を投射するように構成された画像投射システムであって、該画像投射システムは、マイクロミラー投射デバイスを用いて、前記画像を投射する、画像投射システムと、
前記画像投射システムを制御し、前記画像投射システムに、前記基板のワーク面上に画素ベースの画像を投射させるように構成されたコントローラであって、前記画像投射システムは、前記基板に対応する限界寸法（ＣＤ）シグナチャを含む所定の基板シグナチャに基づいた前記画像を投射するように構成された、コントローラと、を含む処理システム。
【請求項２】
前記画像投射システムは、画素ベースの投射システムを使用する、請求項１に記載の処理システム。
【請求項３】
投射された各画素は、光強度と光振幅とからなる群から選択されたパラメータによって変化させられることができる、請求項２に記載の処理システム。
【請求項４】
前記画像投射システムは、ライン単位で前記基板のワーク面上に所与の画像を投射するように構成された、請求項１に記載の処理システム。
【請求項５】
前記画像投射システムは、追加的に、所与のエッチングチャンバのＣＤエッチングシグナチャに基づいた前記画像を投射するように構成された、請求項１に記載の処理システム。
【請求項６】
前記画像投射システムは、前記画像を投射して、その後に続くエッチング処理中のＣＤ正規化のため、前記基板上でのバイアスされたＣＤシグナチャを生成するように構成された、請求項１に記載の処理システム。
【請求項７】
前記画像投射システムは、前記ワーク面にわたってレーザビームを動かすように構成された一つ以上のミラーを用いて、前記基板のワーク面上に所与の画像を投射し、前記基板のワーク面の各画素位置に指向されたレーザ放射量を変化させるように構成された、請求項４に記載の処理システム。
【請求項８】
前記画像投射システムは、レーザガルバノメータデバイスを含む、請求項７に記載の処理システム。
【請求項９】
前記画像投射システムは、化学線を所与の基板に提供するように構成された光源を含む、請求項８に記載の処理システム。
【請求項１０】
前記光源は、４００ナノメートルの波長未満の放射を提供するように構成された、請求項９に記載の処理システム。
【請求項１１】
前記画像投射システムは、デジタル光処理（ＤＬＰ）デバイス若しくはグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）デバイス又はレーザガルバノメータデバイスを用いて、前記基板のワーク面上に前記画像を投射する、請求項１に記載の処理システム。
【請求項１２】
前記画像投射システムは、６０秒未満で前記基板のワーク面上に所与の画像を投射するように構成された、請求項１１に記載の処理システム。
【請求項１３】
前記画像投射システムは、毎秒複数回、前記基板のワーク面上に所与の画像を投射するように構成された、請求項１１に記載の処理システム。
【請求項１４】
投射された各画素の強度は、前記基板の限界寸法シグナチャに基づいた、請求項１１に記載の処理システム。
【請求項１５】
回転する基板上に液体をディスペンスする少なくとも一つのモジュールを含み、前記基板を加熱する加熱機構を備えた少なくとも一つのモジュールを含む半導体製造ツール内に、前記チャンバは位置決めされた、請求項１１に記載の処理システム。
【請求項１６】
前記基板上にフォトレジストをディスペンスするように構成された少なくとも一つのモジュールと、
前記基板上に現像ケミカルをディスペンスするように構成された少なくとも一つのモジュールと、
前記基板をベークするように構成された少なくとも一つのモジュールと、
を含む半導体製造ツール内に、前記チャンバは位置決めされた、請求項１１に記載の処理システム。
【請求項１７】
処理するための基板を受けるようなサイズとされ、構成されたチャンバと、
前記チャンバ内に位置決めされ、前記基板を保持するように構成された基板ホルダと、
前記基板が前記チャンバ内にあるときに前記基板のワーク面上に画像を投射するように構成された画像投射システムであって、該画像投射システムは、マイクロミラー投射デバイスを用いて、前記画像を投射する、画像投射システムと、
前記画像投射システムを制御し、前記画像投射システムに前記基板のワーク面上に画素ベースの画像を投射させるように構成されたコントローラであって、前記画素ベースの画像は、前記基板のワーク面の異なる特性を空間的にマッピングし、かつ前記基板に対応する限界寸法（ＣＤ）シグナチャを含む所定の基板シグナチャに基づく、コントローラと、を含む処理システム。
【請求項１８】
前記画像投射システムは、前記ワーク面にわたってレーザビームを動かすように構成された一つ以上のミラーを用いて、前記基板のワーク面上に所与の画像を投射し、前記基板のワーク面の各画素位置に指向されたレーザ放射量を変化させるように構成され、
前記コントローラは、前記基板の限界寸法シグナチャに基づいた前記画素ベースの画像を生成するように構成された、請求項１７に記載の処理システム。
【請求項１９】
前記画像投射システムは、特定のエッチングチャンバのＣＤエッチングシグナチャに基づいた前記画像を投射するように構成された、請求項１７に記載の処理システム。