【手続補正書】
【提出日】平成30年12月26日(2018.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線基板と、
前記配線基板の上に形成された第１クラッド層と、
前記第１クラッド層の上面に直接形成された下地保護層と、
前記第１クラッド層及び前記下地保護層の上に形成されたコア層と、
前記コア層と前記下地保護層とをその積層方向に連続的に切欠いて形成された、傾斜面を備えた溝部と、
前記傾斜面に形成された光路変換ミラーと、
前記第１クラッド層及び前記コア層の上に形成された第２クラッド層と
を有し、
前記下地保護層は並んで配置された複数の下地保護パターンを有し、前記コア層は並んで配置された複数のコアパターンを有し、複数の前記下地保護パターンそれぞれの上に、前記コアパターンが１つずつ配置され、
前記下地保護層の屈折率は前記コア層の屈折率よりも低く、
前記下地保護層の前記コアパターンの光伝搬方向と平面視において垂直に交わる方向の幅は、前記コア層の前記コアパターンの光伝搬方向と平面視において垂直に交わる方向の幅以上であることを特徴とする光導波路装置。
【請求項２】
前記コア層の溝部は前記コア層の両端部に形成され、
前記下地保護層は、前記コア層の両端部に対応する領域に分離されて配置されていることを特徴とする請求項１に記載の光導波路装置。
【請求項３】
前記下地保護層の前記コアパターンの光伝搬方向と平面視において垂直に交わる方向の幅は、前記コア層の前記コアパターンの光伝搬方向と平面視において垂直に交わる方向の幅よりも大きく設定され、
前記下地保護層の前記幅の方向の両端部に、前記溝部に連通する切込みが形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の光導波路装置。
【請求項４】
前記下地保護層は、前記第１クラッド層と同じ屈折率を有する樹脂から形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光導波路装置。
【請求項５】
前記配線基板に接続され、前記光路変換ミラーに光結合された光素子を有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光導波路装置。
【請求項６】
配線基板の上に、第１クラッド層を形成する工程と、
前記第１クラッド層の上面に下地保護層を直接形成する工程と、
前記第１クラッド層及び前記下地保護層の上にコア層を形成する工程と、
回転ブレードにより、前記コア層と前記下地保護層とをその積層方向に連続的に切欠いて、傾斜面を備えた溝部を形成する工程と、
前記傾斜面に光路変換ミラーを形成する工程と、
前記第１クラッド層及び前記コア層の上に第２クラッド層を形成する工程と
を有し、
前記下地保護層は並んで配置された複数の下地保護パターンを有し、前記コア層は並んで配置された複数のコアパターンを有し、複数の前記下地保護パターンそれぞれの上に、前記コアパターンが１つずつ配置され、
前記下地保護層の屈折率は前記コア層の屈折率よりも低く、
前記下地保護層の前記コアパターンの光伝搬方向と平面視において垂直に交わる方向の幅は、前記コア層の前記コアパターンの光伝搬方向と平面視において垂直に交わる方向の幅以上に設定されることを特徴とする光導波路装置の製造方法。
【請求項７】
前記下地保護層を形成する工程において、
前記下地保護層は、前記コア層の両端部に対応する領域に分離されて配置され、
前記溝部を形成する工程において、
前記コア層の溝部は前記コア層の両端部に形成されることを特徴とする請求項６に記載の光導波路装置の製造方法。
【請求項８】
前記下地保護層を形成する工程において、
前記下地保護層の前記コアパターンの光伝搬方向と平面視において垂直に交わる方向の幅は、前記コア層の前記コアパターンの光伝搬方向と平面視において垂直に交わる方向の幅よりも大きく設定され、
前記溝部を形成する工程において、
前記下地保護層の前記幅の方向の両端部に、前記溝部に連通する切込みが形成されることを特徴とする請求項６又は７に記載の光導波路装置の製造方法。
【請求項９】
前記コア層を形成する工程において、
前記コア層は複数で並んで形成され、
前記溝部を形成する工程において、
前記複数のコア層に溝部を形成する際に、前記回転ブレードと前記第１クラッド層との間に隙間が生じることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の光導波路装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第２クラッド層を形成する工程の後に、
前記光路変換ミラーに光結合される光素子を前記配線基板に接続する工程を有することを特徴とする請求項６乃至９のいずれか一項に記載の光導波路装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
以下の開示の一観点によれば、配線基板と、前記配線基板の上に形成された第１クラッド層と、前記第１クラッド層の上面に直接形成された下地保護層と、前記第１クラッド層及び前記下地保護層の上に形成されたコア層と、前記コア層と前記下地保護層とをその積層方向に連続的に切欠いて形成された、傾斜面を備えた溝部と、前記傾斜面に形成された光路変換ミラーと、前記第１クラッド層及び前記コア層の上に形成された第２クラッド層とを有し、前記下地保護層は並んで配置された複数の下地保護パターンを有し、前記コア層は並んで配置された複数のコアパターンを有し、複数の前記下地保護パターンそれぞれの上に、前記コアパターンが１つずつ配置され、前記下地保護層の屈折率は前記コア層の屈折率よりも低く、前記下地保護層の前記コアパターンの光伝搬方向と平面視において垂直に交わる方向の幅は、前記コア層の前記コアパターンの光伝搬方向と平面視において垂直に交わる方向の幅以上である光導波路装置が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
図１３（ｂ）は図１３（ａ）の光導波路装置１を上側からみた平面図である。図１３（ｂ）及び前述した図６（ｂ）に示すように、下地保護層４０の幅はコア層３４の幅よりも大きく設定されている。あるいは、下地保護層４０の幅はコア層３４の幅と同じであってもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
本実施形態の光導波路装置１では、光路変換ミラーＭの下の領域での剥離が発生しないため、歩留りよく製造されると共に、光素子との光結合の高い信頼性が得られる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2017187620.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
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【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１２】
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【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2017187620.tif 000004
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
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