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【手続補正書】
【提出日】平成31年4月12日(2019.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線画像を撮像する撮像部を有する放射線撮像装置であって、
前記撮像部は、前記放射線撮像装置に入射する放射線の照射量の累計値を取得するために放射線を検出する検出素子を含み、
前記放射線撮像装置は、ユーザからの曝射要求に従って、前記検出素子をリセットする第１のリセット動作を行い、
前記第１のリセット動作の後、前記検出素子からの信号に基づいて放射線の照射量を検出する処理部を備えることを特徴とする放射線撮像装置。
【請求項２】
前記撮像部は、複数の画素が配された画素アレイを含み、
前記検出素子が前記画素アレイに配されることを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項３】
前記撮像部は、複数の画素が配された画素アレイを含み、
前記放射線撮像装置は、前記曝射要求に従って、前記複数の画素のうち一部を前記検出素子として用いることを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項４】
前記放射線撮像装置は、前記検出素子から信号を繰り返して読み出すことによって放射線の照射量を検出する第１の読出動作を行い、
前記第１のリセット動作においてリセットの開始から、前記第１の読出動作において最初の信号の読み出しを開始するまでの時間と、
前記第１の読出動作において前記検出素子から信号の読み出しを開始してから次の読み出しを開始するまでの時間と、
が同じことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の放射線撮像装置。
【請求項５】
前記放射線撮像装置は、
前記第１のリセット動作の後、かつ、前記曝射要求から放射線が照射されるまでの間に、前記検出素子から信号を読み出す第２の読出動作を行い、
前記第２の読出動作の後、前記検出素子から信号を繰り返して読み出すことによって放射線の照射量を検出する第１の読出動作を行い、
前記第１の読出動作によって取得した信号と、前記第２の読出動作によって取得した信号と、に基づいて放射線の照射量を検出することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の放射線撮像装置。
【請求項６】
前記第１のリセット動作においてリセットの開始から、前記第２の読出動作において信号の読み出しを開始するまでの時間と、
前記第２の読出動作において信号の読み出しの開始から、前記第１の読出動作において最初の信号の読み出しを開始するまでの時間と、
前記第１の読出動作において前記検出素子から信号の読み出しを開始してから次の読み出しを開始するまでの時間と、
が同じことを特徴とする請求項５に記載の放射線撮像装置。
【請求項７】
前記第１の読出動作において、前記検出素子から信号を読み出した後、かつ、次に信号を読み出す前に、
前記放射線撮像装置は、前記検出素子から出力される信号を伝達する信号線のノイズ成分を読み出す第３の読出動作を行い、
前記第１の読出動作によって取得した信号と、前記第２の読出動作によって取得した信号と、前記ノイズ成分と、に基づいて放射線の照射量を検出することを特徴とする請求項５又は６に記載の放射線撮像装置。
【請求項８】
前記放射線撮像装置は、前記曝射要求を受ける前に、前記撮像部を繰り返してリセットする第２のリセット動作を行い、
前記第２のリセット動作でリセットを開始してから次のリセットを開始するまでの時間が、前記第１の読出動作で信号の読み出しを開始してから次の読み出しを開始するまでの時間よりも長い又は同じことを特徴とする請求項４乃至７の何れか１項に記載の放射線撮像装置。
【請求項９】
検出された放射線の照射量に基づいて、放射線の照射を停止させるための照射停止信号を出力することを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の放射線撮像装置。
【請求項１０】
前記放射線撮像装置は、
検出された放射線の照射量に基づいて、放射線の照射を停止させるための照射停止信号を出力し、前記第１の読出動作を停止させた後、
前記撮像部から信号を読み出す第３の読出動作と、
前記第３の読出動作の後、前記撮像部をリセットする第３のリセット動作と、
前記第３のリセット動作の後、前記撮像部から信号を読み出す第４の読出動作と、を行い、
前記第３の読出動作によって取得された信号と、前記第４の読出動作によって取得された信号と、に基づいて前記放射線画像が取得され、
前記第２のリセット動作において最後のリセットの開始から、前記第３の読出動作において信号の読み出しを開始するまでの時間と、
前記第３のリセット動作においてリセットの開始から、前記第４の読出動作において信号の読み出しを開始するまでの時間と、
が同じことを特徴とする請求項８に記載の放射線撮像装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか１項に記載の放射線撮像装置と、放射線を照射する放射線源と、放射線の照射を制御する照射制御部と、を備え、
前記照射制御部は、前記放射線撮像装置による放射線の照射量の検出の開始に応じて前記放射線源から前記放射線撮像装置に放射線を照射させることを特徴とする放射線撮像システム。
【請求項１２】
請求項９又は１０に記載の放射線撮像装置と、放射線を照射する放射線源と、放射線の照射を制御する照射制御部と、を備え、
前記照射制御部は、
前記放射線撮像装置による放射線の照射量の検出の開始に応じて前記放射線源から前記放射線撮像装置に放射線を照射させ、
前記照射停止信号に応じて前記放射線源から前記放射線撮像装置への放射線の照射を停止させることを特徴とする放射線撮像システム。
【請求項１３】
放射線画像を撮像する撮像部を有する放射線撮像装置の制御方法であって、
前記撮像部は、前記放射線撮像装置に入射する放射線の照射量の累計値を取得するために放射線を検出する検出素子を含み、
ユーザからの曝射要求に従って、前記検出素子をリセットするリセット工程と、
前記リセット工程の後、前記検出素子からの信号に基づいて放射線の照射量を検出する工程と、
を含むことを特徴とする制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題に鑑みて、本発明の実施形態に係る放射線撮像装置は、放射線画像を撮像する撮像部を有する放射線撮像装置であって、撮像部は、放射線撮像装置に入射する放射線の照射量の累計値を取得するために放射線を検出する検出素子を含み、放射線撮像装置は、ユーザからの曝射要求に従って、検出素子をリセットする第１のリセット動作を行い、第１のリセット動作の後、検出素子からの信号に基づいて放射線の照射量を検出する処理部を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月18日(2019.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通常区間と有利区間とを設定可能であって前記通常区間において前記有利区間の開始条件が成立したことに基づいて前記有利区間を開始させ、前記有利区間においてクリアカウンタの値を更新して前記クリアカウンタの値に基づいて前記有利区間を終了させて所定の初期化処理を実行して前記通常区間に復帰させる制御と、
前記有利区間に滞在していることを報知する有利区間報知を実行する制御と、を行う遊技機であって、
前記有利区間を開始させた場合に所定条件を満たしてから前記有利区間報知を開始することを特徴とする遊技機。
【請求項２】
請求項１において、
前記有利区間において所定条件下でアシストタイム遊技を行わせる制御と、
前記アシストタイム遊技において所定の役の入賞を補助する入賞補助演出を実行する制御と、を行うことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月12日(2019.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、複数のリール（Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３）と、
役の内部抽選を行う内部抽選手段（１２０）と、
前記複数のリールの回転態様及び停止態様を制御するリール制御手段（１３０）と、
前記複数のリールが停止した場合における有効ライン（Ｌ１）上の図柄組合せに基づいて、役の入賞判定を行う入賞判定手段と、
複数の遊技状態の間での遊技状態の移行に係る制御を実行する遊技状態移行制御手段（１７０）と、
特定役の入賞を補助する入賞補助制御が実行されるアシストタイム状態と、前記入賞補助制御が実行されない非アシストタイム状態と、の間での移行に係る制御を行うアシストタイム状態制御手段（２００）と、
前記アシストタイム状態制御手段によって更新される値を記憶するカウンタ記憶手段と、を備え、
前記複数の遊技状態は、
第１遊技状態と、
前記第１遊技状態から移行可能な第２遊技状態と、を含み、
前記内部抽選で当選可能な役には、第１役と、第１役とは異なる第２役と、を含み、
前記アシストタイム状態制御手段は、
遊技状態が前記第１遊技状態である遊技において前記第１役を入賞可能な場合と、遊技状態が前記第２遊技状態である遊技において前記第２役を入賞可能な場合と、に、前記カウンタ記憶手段の記憶する値を更新する更新処理を実行可能である、ことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のリールと、
役の内部抽選を行う内部抽選手段と、
前記複数のリールの回転態様及び停止態様を制御するリール制御手段と、
前記複数のリールが停止した場合における有効ライン上の図柄組合せに基づいて、役の入賞判定を行う入賞判定手段と、
複数の遊技状態の間での遊技状態の移行に係る制御を実行する遊技状態移行制御手段と、
特定役の入賞を補助する入賞補助制御が実行されるアシストタイム状態と、前記入賞補助制御が実行されない非アシストタイム状態と、の間での移行に係る制御を行うアシストタイム状態制御手段と、
前記アシストタイム状態制御手段によって更新される値を記憶するカウンタ記憶手段と、を備え、
前記複数の遊技状態は、
第１遊技状態と、
前記第１遊技状態から移行可能な第２遊技状態と、を含み、
前記内部抽選で当選可能な役には、第１役と、第１役とは異なる第２役と、を含み、
前記アシストタイム状態制御手段は、
遊技状態が前記第１遊技状態である遊技において前記第１役を入賞可能な場合と、遊技状態が前記第２遊技状態である遊技において前記第２役を入賞可能な場合と、に、前記カウンタ記憶手段の記憶する値を更新する更新処理を実行可能である、
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月27日(2019.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から出力された光を被検体に照射する照射部と、
送信超音波を送信する送信素子と、
受信音響波を受信して電気信号を出力する受信素子と、
信号処理部と、
情報処理部と、
制御部と、
を有する被検体情報取得装置であって、
前記信号処理部は、前記光が被検体に照射されたことにより前記被検体内で発生した光音響波に由来する前記電気信号から光音響信号を生成するとともに、前記送信超音波が前記被検体内で反射されたエコー波に由来する前記電気信号から超音波エコー信号を生成し、
前記情報処理部は、前記光音響信号を用いて前記被検体の光音響特性情報を取得するとともに、前記超音波エコー信号を用いて、前記被検体の血流に関する情報を含む、前記被検体の超音波特性情報を取得し、
前記制御部は、前記血流に関する情報に応じて、前記光の照射、前記光音響信号の生成、および、前記光音響特性情報の取得のうちの少なくとも１つの制御を行う
ことを特徴とする被検体情報取得装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記血流に関する情報が所定の条件を満たしているか否かに応じて前記制御を行う
ことを特徴とする請求項１に記載の被検体情報取得装置。
【請求項３】
前記所定の条件は、前記被検体の血流量または血流の流速が閾値を超えているか否かである
ことを特徴とする請求項２に記載の被検体情報取得装置。
【請求項４】
前記所定の条件は、前記被検体の血流量または前記血流の流速の低下量に関する値が閾値を超えているか否かである
ことを特徴とする請求項２に記載の被検体情報取得装置。
【請求項５】
提示装置をさらに有し、
前記制御部は、前記所定の条件が満たされていない場合、前記提示装置に前記所定の条件が満たされていないことを提示する
ことを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記所定の条件が満たされていない場合、前記光の照射、前記光音響信号の生成、または、前記光音響特性情報の取得を停止させる
ことを特徴とする請求項２ないし５のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記所定の条件が満たされていない場合、前記光の照射、前記光音響信号の生成、または、前記光音響特性情報の取得を中断させる
ことを特徴とする請求項２ないし５のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記光の照射、前記光音響信号の生成、または、前記光音響特性情報の取得が中断されたのち、前記所定の条件が満たされると、前記光の照射、前記光音響信号の生成、または、前記光音響特性情報の取得を再開させる
ことを特徴とする請求項７に記載の被検体情報取得装置。
【請求項９】
前記情報処理部は、前記光音響特性情報を取得する際に、前記所定の条件が満たされていないときに取得された前記光音響信号を利用しない
ことを特徴とする請求項２ないし５のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１０】
入力部をさらに有し、
前記制御部は、ユーザからの前記入力部を介した操作に応じて、前記被検体情報取得装置を、前記光音響特性情報を取得する光音響測定モードまたは前記超音波特性情報を取得する超音波エコーモードに切り替える
ことを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１１】
入力部をさらに有し、
前記制御部は、前記入力部を介して、ユーザから、前記超音波特性情報を取得する関心領域の指定を受け付ける
ことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１２】
前記制御部は、前記光音響測定モードへの切り替えを行う場合に、前記血流に関する情報が所定の条件を満たしているか否かを判定する
ことを特徴とする請求項１０に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１３】
前記送信素子、前記受信素子、および、前記光の出射端を含む筺体をさらに有し、
前記入力部は、前記筺体に設けられたスイッチである
ことを特徴とする請求項１０ないし１２のいずれか１項に記載の被検体情報取得装置。
【請求項１４】
光源から出力された光を被検体に照射する照射部と、送信超音波を送信する送信素子と、受信音響波を受信して電気信号を出力する受信素子と、信号処理部と、情報処理部と、制御部と、を有する被検体情報取得装置の制御方法であって、
前記信号処理部が、前記光が前記被検体に照射されたことにより前記被検体内で発生した光音響波に由来する前記電気信号から光音響信号を生成するとともに、前記送信超音波が前記被検体内で反射されたエコー波に由来する前記電気信号から超音波エコー信号を生成するステップと、
前記情報処理部が、前記光音響信号を用いて前記被検体の光音響特性情報を取得するとともに、前記超音波エコー信号を用いて、前記被検体の血流に関する情報を含む、前記被検体の超音波特性情報を取得するステップと、
前記制御部が、前記血流に関する情報に応じて、前記光の照射、前記光音響信号の生成、および、前記光音響特性情報の取得のうちの少なくとも１つの制御を行うステップと、を有することを特徴とする被検体情報取得装置の制御方法。
【請求項１５】
前記制御部は、前記血流に関する情報が所定の条件を満たしているか否かに応じて前記制御を行う
ことを特徴とする請求項１４に記載の被検体情報取得装置の制御方法。
【請求項１６】
前記所定の条件は、前記被検体の血流量または血流の流速が閾値を超えているか否かである
ことを特徴とする請求項１５に記載の被検体情報取得装置の制御方法。
【請求項１７】
前記所定の条件は、前記被検体の血流量または前記血流の流速の低下量に関する値が閾値を超えているか否かである
ことを特徴とする請求項１５に記載の被検体情報取得装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月31日(2019.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の周辺を撮影した周辺映像データを取得する映像データ取得部と、
前記車両の周辺において検出した障害物の位置情報を取得する障害物情報取得部と、
前記障害物情報取得部が取得した前記障害物の位置情報に基づいて、前記映像データ取得部が取得した周辺映像を、前記車両および前記障害物が俯瞰できるように、前記車両から前記障害物への延長線上で規定された位置に仮想視点が位置するように視点変換処理を行って合成した俯瞰映像を生成する俯瞰映像生成部と、
前記俯瞰映像生成部が生成した俯瞰映像を表示部に表示させる表示制御部と、
を有し、
前記俯瞰映像生成部は、前記障害物が複数存在する場合、前記車両から複数の前記障害物のそれぞれへの延長線に基づいて決めた位置に仮想視点が位置するように視点変換処理を行った俯瞰映像を生成する、
俯瞰映像生成装置。
【請求項２】
前記俯瞰映像生成部は、前記障害物が複数存在する場合、前記車両から複数の前記障害物のそれぞれへの延長線のいずれか二本の間の角の二等分線上に仮想視点が位置するように視点変換処理を行った俯瞰映像を生成する、
請求項１に記載の俯瞰映像生成装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の俯瞰映像生成装置と、
前記車両の周辺を撮影する複数のカメラ、前記表示部、障害物を検出し障害物情報を出力する検出部の少なくともいずれかと
を備える、俯瞰映像生成システム。
【請求項４】
車両の周辺を撮影した周辺映像データを取得する映像データ取得ステップと、
前記車両の周辺において検出した障害物の位置情報を取得する障害物情報取得ステップと、
前記障害物情報取得ステップで取得した前記障害物の位置情報に基づいて、前記映像データ取得ステップで取得した周辺映像を、前記車両および前記障害物が俯瞰できるように、前記車両から前記障害物への延長線上に仮想視点が位置するように視点変換処理を行った俯瞰映像を生成する俯瞰映像生成ステップと、
前記俯瞰映像生成ステップで生成した俯瞰映像を表示部に表示させる表示制御ステップと、
を含み、
前記俯瞰映像生成ステップは、前記障害物が複数存在する場合、前記車両から複数の前記障害物のそれぞれへの延長線に基づいて決めた位置に仮想視点が位置するように視点変換処理を行った俯瞰映像を生成する、
俯瞰映像生成装置が実行する俯瞰映像生成方法。
【請求項５】
車両の周辺を撮影した周辺映像データを取得する映像データ取得ステップと、
前記車両の周辺において検出した障害物の位置情報を取得する障害物情報取得ステップと、
前記障害物情報取得ステップで取得した前記障害物の位置情報に基づいて、前記映像データ取得ステップで取得した周辺映像を、前記車両および前記障害物が俯瞰できるように、前記車両から前記障害物への延長線上に仮想視点が位置するように視点変換処理を行った俯瞰映像を生成する俯瞰映像生成ステップと、
前記俯瞰映像生成ステップで生成した俯瞰映像を表示部に表示させる表示制御ステップと、
を含み、
前記俯瞰映像生成ステップは、前記障害物が複数存在する場合、前記車両から複数の前記障害物のそれぞれへの延長線に基づいて決めた位置に仮想視点が位置するように視点変換処理を行った俯瞰映像を生成する、
俯瞰映像生成装置として動作するコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月31日(2019.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の周囲を撮影する複数のカメラからの映像データを取得する映像データ取得部と、
前記映像データ取得部が取得した映像に視点変換処理を行い合成することで、前記車両の上方を仮想視点とした俯瞰映像を生成する俯瞰映像生成部と、
前記車両の周囲の障害物を検出する検出部からの情報を取得し、検出した障害物の俯瞰映像上の位置を特定する障害物情報取得部と、
前記俯瞰映像を表示部に表示させる表示制御部と、
を備え、
前記俯瞰映像生成部は、前記障害物情報取得部が特定した障害物の位置が、俯瞰映像における複数の映像の合成境界に重なる位置である場合、前記障害物が前記合成境界に重ならない位置となる方向に前記俯瞰映像の仮想視点の位置を変更した俯瞰映像を生成する、
俯瞰映像生成装置。
【請求項２】
前記俯瞰映像生成部は、仮想視点の位置を、前記複数のカメラの映像において仮想視点の位置を変更する前より表示範囲が広くなる映像に前記障害物が含まれて表示されるように変更することで前記障害物が前記合成境界に重ならない位置となるように、前記俯瞰映像の仮想視点の位置を変更する、
請求項１に記載の俯瞰映像生成装置。
【請求項３】
前記車両の進行方向を取得する車両情報取得部をさらに備え、
前記俯瞰映像生成部は、前記障害物情報取得部が特定した障害物の位置が前記車両の進行方向にある合成境界に重なる場合は、前記俯瞰映像の仮想視点の位置を前記障害物が前記合成境界に重ならない位置である前記車両の進行方向側の位置に変更した俯瞰映像を生成する、
請求項１または２に記載の俯瞰映像生成装置。
【請求項４】
前記車両の進行方向を取得する車両情報取得部をさらに備え、
前記俯瞰映像生成部は、前記障害物情報取得部が特定した障害物の位置が前記車両の進行方向にある合成境界に重なるとき、前記俯瞰映像の仮想視点の位置を前記障害物が前記合成境界に重ならない位置である前記車両の進行方向とは反対側の位置に変更した俯瞰映像を生成する、
請求項１または２に記載の俯瞰映像生成装置。
【請求項５】
前記車両の進行方向を取得する車両情報取得部をさらに備え、
前記俯瞰映像生成部は、前記障害物情報取得部が特定した障害物の位置が前記車両の進行方向にある合成境界に重なるとき、前記俯瞰映像の仮想視点の位置を前記障害物が前記合成境界に重ならない位置である前記車両の進行方向と交差する方向に位置を変更した俯瞰映像を生成する、
請求項１または２に記載の俯瞰映像生成装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の俯瞰映像生成装置と、
前記カメラと、前記検出部と、前記表示部との少なくともいずれかと、を備える、
俯瞰映像生成システム。
【請求項７】
車両の周囲を撮影する複数のカメラからの映像データを取得する映像データ取得ステップと、
前記映像データ取得ステップで取得した映像に視点変換処理を行い合成することで、前記車両の上方を仮想視点とした俯瞰映像を生成する俯瞰映像生成ステップと、
前記車両の周囲の障害物を検出する検出部からの情報を取得し、検出した障害物の俯瞰映像上の位置を特定する障害物情報取得ステップと、
前記俯瞰映像を表示部に表示させる表示制御ステップと、
を含み、
前記俯瞰映像生成ステップは、前記障害物情報取得ステップで特定した障害物の位置が、俯瞰映像における複数の映像の合成境界に重なる位置である場合、前記障害物が前記合成境界に重ならない位置となる方向に前記俯瞰映像の仮想視点の位置を変更した俯瞰映像を生成する、
俯瞰映像生成装置が実行する俯瞰映像生成方法。
【請求項８】
車両の周囲を撮影する複数のカメラからの映像データを取得する映像データ取得ステップと、
前記映像データ取得ステップで取得した映像に視点変換処理を行い合成することで、前記車両の上方を仮想視点とした俯瞰映像を生成する俯瞰映像生成ステップと、
前記車両の周囲の障害物を検出する検出部からの情報を取得し、検出した障害物の俯瞰映像上の位置を特定する障害物情報取得ステップと、
前記俯瞰映像を表示部に表示させる表示制御ステップと、
を含み、
前記俯瞰映像生成ステップは、前記障害物情報取得ステップで特定した障害物の位置が、俯瞰映像における複数の映像の合成境界に重なる位置である場合、前記障害物が前記合成境界に重ならない位置となる方向に前記俯瞰映像の仮想視点の位置を変更した俯瞰映像を生成する、
ことを俯瞰映像生成装置として動作するコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月31日(2019.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の周辺を撮影した周辺映像データを取得する映像データ取得部と、
前記車両の周辺において検出した障害物の位置情報を取得する障害物情報取得部と、
前記障害物情報取得部が取得した前記障害物の位置情報に基づいて、前記映像データ取得部が取得した周辺映像を、前記車両および前記障害物が俯瞰できるように、前記車両の真上の位置から車幅方向または前後方向の少なくともいずれかに離間し、前記車両から前記障害物への延長線上ではない位置に仮想視点が位置するように視点変換処理を行って合成した俯瞰映像を生成する俯瞰映像生成部と、
前記俯瞰映像生成部が生成した俯瞰映像を表示部に表示させる表示制御部と
を有することを特徴とする俯瞰映像生成装置。
【請求項２】
前記俯瞰映像生成部は、前記車両から前記障害物への延長線ではない位置として前記車両から前記障害物への延長線に直交する直交線上に仮想視点が位置するように視点変換処理を行った俯瞰映像を生成する、
請求項１に記載の俯瞰映像生成装置。
【請求項３】
前記俯瞰映像生成部は、前記障害物が複数存在する場合、前記車両と複数の前記障害物とのそれぞれの延長線に直交する直交線に基づいて位置決めされた仮想視点で視点変換処理を行った俯瞰映像を生成する、
請求項２に記載の俯瞰映像生成装置。
【請求項４】
前記俯瞰映像生成部は、前記障害物が複数存在する場合、前記車両および複数の前記障害物の少なくとも一部が俯瞰できるように、前記車両から前記障害物への延長線ではない位置として前記車両の真上の位置から車幅方向または前後方向の少なくともいずれかに離間して仮想視点が位置するように視点変換処理を行った映像と、前記車両および複数の前記障害物の少なくとも残りの一部が俯瞰できるように、前記車両から前記障害物への延長線ではない位置として前記車両の真上の位置から車幅方向または前後方向の少なくともいずれかに離間して仮想視点が位置するように視点変換処理を行った映像とを合成して俯瞰映像を生成する、
請求項１に記載の俯瞰映像生成装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の俯瞰映像生成装置と、
前記車両の周辺を撮影する複数のカメラ、前記表示部、障害物を検出し障害物情報を出力する検出部の少なくともいずれかと
を備える、俯瞰映像生成システム。
【請求項６】
車両の周辺を撮影した周辺映像データを取得する映像データ取得ステップと、
前記車両の周辺において検出した障害物の位置情報を取得する障害物情報取得ステップと、
前記障害物情報取得ステップで取得した前記障害物の位置情報に基づいて、前記映像データ取得ステップで取得した周辺映像を、前記車両および前記障害物が俯瞰できるように、前記車両の真上の位置から車幅方向または前後方向の少なくともいずれかに離間し、前記車両から前記障害物への延長線上ではない位置に仮想視点が位置するように視点変換処理を行って合成した俯瞰映像を生成する俯瞰映像生成ステップと、
前記俯瞰映像生成ステップで生成した俯瞰映像を表示部に表示させる表示制御ステップと
を含む俯瞰映像生成装置が実行する俯瞰映像生成方法。
【請求項７】
車両の周辺を撮影した周辺映像データを取得する映像データ取得ステップと、
前記車両の周辺において検出した障害物の位置情報を取得する障害物情報取得ステップと、
前記障害物情報取得ステップで取得した前記障害物の位置情報に基づいて、前記映像データ取得ステップで取得した周辺映像を、前記車両および前記障害物が俯瞰できるように、前記車両の真上の位置から車幅方向または前後方向の少なくともいずれかに離間し、前記車両から前記障害物への延長線上ではない位置に仮想視点が位置するように視点変換処理を行って合成した俯瞰映像を生成する俯瞰映像生成ステップと、
前記俯瞰映像生成ステップで生成した俯瞰映像を表示部に表示させる表示制御ステップと
を俯瞰映像生成装置として動作するコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月31日(2019.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両の側部に対して可動する可動部に前記車両の後方を撮影可能に設置された側方カメラが撮影した側後方映像データ、および、前記車両の後方に前記車両の後方を撮影可能に設置された後方カメラが撮影した後方映像データを取得する映像データ取得部と、
前記側方カメラによる後方確認範囲によって定義される所定の撮影範囲を含むように、前記側後方映像データを切出して表示部に表示させ、前記可動部が動作して、前記側方カメラが前記所定の撮影範囲を撮影できない向きであるときは、前記側方カメラからの第一映像に加えて前記後方カメラからの第二映像を前記表示部に表示させる表示制御部と、
を備えることを特徴とする車両用表示制御装置。
【請求項２】
前記表示制御部は、前記可動部が動作して、前記側方カメラが前記所定の撮影範囲と同一の範囲である第一撮影範囲を撮影できない向きであるときは、前記側方カメラからの第一映像に加えて前記後方カメラからの第二映像を前記表示部に表示させる、請求項１に記載の車両用表示制御装置。
【請求項３】
前記表示制御部は、前記可動部が動作して、前記側方カメラが前記所定の撮影範囲の一部分を撮影できない向きであるときは、前記側方カメラからの第一映像に加えて前記後方カメラからの第二映像を前記表示部に表示させる、請求項１に記載の車両用表示制御装置。
【請求項４】
前記可動部の動作量を含む動作情報を取得する検出部、
を備え、
前記表示制御部は、前記検出部で取得した前記動作情報に基づいて、前記側方カメラの向きを判断する請求項１から３のいずれか１項に記載の車両用表示制御装置。
【請求項５】
前記表示制御部は、前記側方カメラが前記所定の撮影範囲において撮影できない方向に対応した前記後方カメラの映像を加えて、前記表示部に表示させる、
請求項１から４のいずれか１項に記載の車両用表示制御装置。
【請求項６】
前記可動部は、前記車両の側部扉または前記側方カメラを前記車両に折り畳み可能に支持するカメラ支持部であり、
前記検出部は、前記側部扉または前記カメラ支持部の動作量を検出する、
請求項４に記載の車両用表示制御装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の車両用表示制御装置と、
前記可動部、前記側方カメラ、前記後方カメラ、前記表示部のうち少なくともいずれかを備えることを特徴とする車両用表示制御システム。
【請求項８】
車両の側部に対して可動する可動部に前記車両の後方を撮影可能に設置された側方カメラが撮影した側後方映像データ、および、前記車両の後方に前記車両の後方を撮影可能に設置された後方カメラが撮影した後方映像データを取得する映像データ取得ステップと、
前記側方カメラによる後方確認範囲によって定義される所定の撮影範囲を含むように、前記側後方映像データを切出して表示部に表示させ、前記可動部が動作して、前記側方カメラが前記所定の撮影範囲を撮影できない向きであるときは、前記側方カメラからの第一映像に加えて前記後方カメラからの第二映像を前記表示部に表示させる表示制御ステップと、
を車両用表示制御装置が実行する車両用表示制御方法。
【請求項９】
車両の側部に対して可動する可動部に前記車両の後方を撮影可能に設置された側方カメラが撮影した側後方映像データ、および、前記車両の後方に前記車両の後方を撮影可能に設置された後方カメラが撮影した後方映像データを取得する映像データ取得ステップと、
前記側方カメラによる後方確認範囲によって定義される所定の撮影範囲を含むように、前記側後方映像データを切出して表示部に表示させ、前記可動部が動作して、前記側方カメラが前記所定の撮影範囲を撮影できない向きであるときは、前記側方カメラからの第一映像に加えて前記後方カメラからの第二映像を前記表示部に表示させる表示制御ステップと、
を車両用表示制御装置として動作するコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月6日(2019.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
接続端面を有するベースと、このベースの前記接続端面と交差する方向の一端開口面を覆う箱状のケースとを有し、前記ベースと前記ケースとがシール材によりシールされて前記ベースと前記ケースとで囲まれた閉鎖空間が内部に設けられているハウジングと、
前記ベースの前記接続端面と交差する方向に延びかつ前記閉鎖空間に配置されていると共に前記ベースに固定された本体部と、この本体部から前記ベースを前記ベースの前記接続端面と交差する方向に貫通して前記ハウジングの外部まで延びている脚部とを有する少なくとも１つの端子と、
を備える電子機器のシール構造であって、
前記ベースが、
前記閉鎖空間に開口して前記本体部を収容する端子溝と、
前記端子溝から前記ベースの前記接続端面と交差する方向に延びて前記脚部の一部を収容する貫通孔と、
前記端子の前記本体部および前記脚部と前記ベースの前記端子溝および前記貫通孔と共に、前記ハウジングの外部から前記貫通孔と前記脚部との間および前記端子溝と前記本体部との間を通って前記閉鎖空間に向かって延びる前記シール材の配置領域を形成する配置領域形成部と、
を有し、
前記配置領域形成部が、前記端子溝の底部かつ前記貫通孔の近傍に配置されている凹部を含んでいる、シール構造。
【請求項２】
前記端子の前記本体部が、弾性変形可能な板状を有すると共に、その板面に平行かつ前記ベースの前記接続端面と交差する方向に直交する方向に延びると共に前記端子溝内に位置するばね支点部を有し、
前記配置領域形成部が、前記ベースの前記接続端面と交差する方向において、前記ばね支点部よりも前記ベースの近くに配置されている、請求項１に記載のシール構造。
【請求項３】
前記流入路における前記端子と前記ベースとの最短距離が０．２ｍｍ未満であり、前記配置領域形成部における前記端子と前記ベースとの最短距離が０．２ｍｍ以上である、請求項１または２に記載のシール構造。
【請求項４】
前記端子の少なくとも１つが、
前記本体部から前記ベースの前記接続端面と交差する方向に延びかつ前記脚部に並列に配置されていると共に、前記ベースの前記接続端面と交差する方向における前記本体部からの長さが前記脚部よりも短いシール材配置部を有し、
前記ベースが、
前記閉鎖空間に開口して前記本体部が収容された端子溝と、
前記端子溝から前記ベースの前記接続端面と交差する方向に延びて前記脚部の一部を収容する第１貫通孔と、
前記端子溝から前記ベースの前記接続端面と交差する方向に延びかつ前記第１貫通孔の延在方向に並列に延びていると共に、前記ベースの前記接続端面から前記シール材配置部が突出しないように前記シール材配置部を収容する第２貫通孔と、
を有する、請求項１から３のいずれか１つに記載のシール構造。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１つに記載のシール構造を備えた電子機器。
【請求項６】
前記電子機器が、電磁継電器である、請求項５に記載の電子機器。
【請求項７】
接続端面を有するベースと、このベースの前記接続端面と交差する方向の一端開口面を覆う箱状のケースとを有し、前記ベースと前記ケースとの接合部分がシール材によりシールされて前記ベースと前記ケースとで囲まれた閉鎖空間が内部に設けられているハウジングと、
前記閉鎖空間に配置されかつ前記ベースの前記接続端面と交差する方向に沿って前記ベースに固定された本体部と、この本体部から前記ベースを前記ベースの前記接続端面と交差する方向に貫通して前記ハウジングの外部まで延びている脚部とを有する少なくとも１つの端子と、
を備える電子機器の製造方法であって、
前記ベースが、
前記閉鎖空間に開口して前記本体部を収容する端子溝と、
前記端子溝から前記ベースの前記接続端面と交差する方向に延びかつ前記脚部の一部を収容する貫通孔と、
前記ハウジングの外部から前記貫通孔と前記脚部との間および前記端子溝と前記本体部との間を通って前記閉鎖空間に向って延びる流入路に設けられたシール材規制部と、
を有しており、
固定接点端子、可動接点端子、電磁石部、および、可動部が組み付けられた前記ベースの前記一端開口面側から前記ケースを取り付けた後、前記ベースの前記接続端面側から前記閉鎖空間に向かって前記シール材が流れる状態で前記電子機器を固定して、前記ベースと前記ケースとの接合部分に前記シール材を充填すると共に、
前記シール材規制部により、前記流入路を通る前記シール材の流入範囲を規制する、電子機器の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月28日(2019.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極を有する電子部品と、
前記電極が露出するように前記電子部品を埋設する樹脂成形体と、
前記樹脂成形体と前記電子部品との間に介在し、前記樹脂成形体から露出する樹脂部材と、
前記樹脂成形体および前記樹脂部材の上に形成され、前記電極と接続する配線とを備え、
前記樹脂部材の熱膨張率は、前記樹脂成形体の熱膨張率よりも小さく、かつ、前記電極の熱膨張率よりも大きい、電子装置。
【請求項２】
電極を有する電子部品と、
前記電極が露出するように前記電子部品を埋設する樹脂成形体と、
前記樹脂成形体と前記電子部品との間に介在し、前記樹脂成形体から露出する樹脂部材と、
前記樹脂成形体および前記樹脂部材の上に形成され、前記電極と接続する配線とを備える電子装置であって、
前記樹脂部材は、内部に空隙を有し、
前記電子装置は、前記空隙内に形成され、前記配線と前記電極とに接続する導電路をさらに備える、電子装置。
【請求項３】
電極を有する電子部品と、
前記電極が露出するように前記電子部品を埋設する樹脂成形体と、
前記樹脂成形体と前記電子部品との間に介在し、前記樹脂成形体から露出する樹脂部材と、
前記樹脂成形体および前記樹脂部材の上に形成され、前記電極と接続する配線とを備える電子装置の製造方法であって、
接着性の液状層が表面に塗布されたシート上に前記電子部品を配置し、前記電子部品の側面に沿った前記液状層の濡れ上がりによって、前記電子部品の周囲に濡れ上がり部を形成する第１工程と、
前記濡れ上がり部を硬化させて前記樹脂部材を形成する第２工程と、
前記樹脂部材を形成した後に、前記シートにおける前記電子部品の配置面に樹脂材料を射出して、前記樹脂成形体を成形する第３工程と、
前記樹脂成形体と前記電子部品との間に前記樹脂部材が残るように、前記シートを前記樹脂成形体から剥離する第４工程と、
前記樹脂成形体および前記樹脂部材の上に前記配線を形成する第５工程とを備える、電子装置の製造方法。
【請求項４】
前記液状層は揮発性物質を含み、
前記第２工程において前記濡れ上がり部を硬化させるときに前記揮発性物質を揮発させることにより、前記樹脂部材の内部に空隙を形成し、
前記第５工程において、前記配線を構成する導電材料を前記空隙内に浸透させることにより、前記樹脂部材の内部に前記配線と前記電極とに接続する導電路を形成する、請求項３に記載の電子装置の製造方法。
【請求項５】
電極を有する電子部品と、
前記電極が露出するように前記電子部品を埋設する樹脂成形体と、
前記樹脂成形体と前記電子部品との間に介在し、前記樹脂成形体から露出する樹脂部材と、
前記樹脂成形体および前記樹脂部材の上に形成され、前記電極と接続する配線とを備える電子装置の製造方法であって、
接着性の液状層が表面に塗布されたシート上に前記電子部品を配置し、前記電子部品の側面に沿った前記液状層の濡れ上がりによって、前記電子部品の周囲に濡れ上がり部を形成する第１工程と、
前記濡れ上がり部を硬化させる第２工程と、
前記シートにおける前記電子部品の配置面に第１樹脂材料を射出することにより、前記電子部品を埋設した樹脂成形体を成形する第３工程と、
前記シートおよび前記濡れ上がり部を前記樹脂成形体から剥離することにより、前記樹脂成形体における前記電子部品の周囲に前記濡れ上がり部の形状に応じた溝を形成する第４工程と、
前記溝を埋めるように第２樹脂材料を供給し、前記第２樹脂材料を硬化させて前記樹脂部材を形成する第５工程と、
前記樹脂成形体および前記樹脂部材の上に前記配線を形成する第６工程とを備える、電子装置の製造方法。
【請求項６】
前記第２樹脂材料は揮発性物質を含み、
前記第５工程において前記第２樹脂材料を硬化させるときに前記揮発性物質を揮発させることにより、前記樹脂部材の内部に空隙を形成し、
前記第６工程において、前記配線を構成する導電材料を前記空隙内に浸透させることにより、前記樹脂部材の内部に前記配線と前記電極とに接続する導電路を形成する、請求項５に記載の電子装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
電子部品１０は、受動部品（抵抗、コンデンサ等）、能動部品（ＬＳＩ、ＩＣ等）、電源装置（電池等）、表示装置（ＬＥＤ等）、センサ、スイッチ等から選択される部品である。以下では、電極１１，１２を有するチップ型の電子部品１０を例として説明する。図１には、１つの電子部品１０のみが示されているが、電子装置１が備える電子部品１０の個数は、１個に限定されず、複数であってもよい。さらに、電子部品１０の種類も特に限定されない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
（ｖ）樹脂部材形成工程
次に、電子部品１０の周囲の溝７０を埋めるように樹脂材を供給して、溝７０の形状に沿った樹脂部材３０を形成する。樹脂部材３０の樹脂材料としては、実施の形態１の液状層６０の材料を用いることができる。樹脂材は、実施の形態１の（ｖ）配線形成工程と同様にインクジェット印刷法を用いて溝７０に供給され、紫外線照射または熱処理によって硬化される。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月31日(2019.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本明細書に開示された蓄電ユニットに係る実施態様として、次の構成が好ましい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
回路基板５０はホルダ３０の下面よりもやや小寸の略長方形状に形成されている。回路基板５０は、図２に示すように、上面５１がホルダ３０の裏面と接して配される一方、下面５２にはキャパシタＢＴの充放電を制御するための電子部品Ｐが実装されている。また、回路基板５０には基板貫通孔５３が貫通して設けられているとともに、その上面５１には各基板貫通孔５３の周縁に図示しないランドが設けられて、グランドパターン（所定のラインの一例）と接続されている。ランドおよび基板貫通孔５３の内径は、ホルダ３０に設けられたカラー３５の内径とほぼ同寸となっており、各ランドの上面は各カラー３５の下面と接触している。回路基板５０の下面５２は、金属ケース１０の下ケース１７で覆われている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
ブラケット受部４０は、図１および図４に示すように、全体として前後に扁平な略直方体形状をなしている。ブラケット受部４０には、下面に開口する一対の保持溝部４１が形成されているとともに、上面にはホルダ３０の前側面３１寄りの位置に挿通スリット４２が保持溝部４１に連通して設けられている。挿通スリット４２の寸法は、接触片１６が挿通可能な程度となっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
また、本実施形態においては、図８に示すように、上ケース１１１の前側壁１１５の中央に後方へ突出するばね片１１６が一体的に設けられて、ブラケット１６０と接触するための接触片１１６（接続部の一例）とされている。ばね片１１６は、ブラケット受部１４０の前面側から前面開口部１４６を通って保持溝部１４１内に露出し、保持部内に挿入されたブラケット１６０に接触している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2018142571.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2018142571.tif 000002
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2018142571.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月21日(2019.10.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
前記半導体基板上に第１層間絶縁膜を介して形成された第１配線と、
前記第１層間絶縁膜上に、前記第１配線を覆うように形成された第２層間絶縁膜と、
前記第２層間絶縁膜上に形成された第１パッドと、
前記第２層間絶縁膜上に形成され、前記第１パッドを露出する第１開口部を有する第１絶縁膜と、
前記第１開口部から露出された前記第１パッド上を含む前記第１絶縁膜上に形成され、前記第１パッドと電気的に接続された第２配線と、
前記第１絶縁膜上に形成され、前記第２配線と一体的に接続された第２パッドと、
を有し、
前記第１配線の少なくとも一部は、前記第１パッドと平面視において重なっており、
前記第１パッドと前記第２配線との接続領域の下方に、前記第１配線の端部が位置し、
前記第１配線における第１領域に複数の第２開口部が形成されており、
前記第１領域の少なくとも一部は、前記接続領域と平面視において重なっている、半導体装置。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置において、
平面視において、前記第１配線と前記接続領域との重なり領域は、前記第１領域に含まれている、半導体装置。
【請求項３】
請求項１記載の半導体装置において、
前記複数の第２開口部は、前記第１配線の前記第１領域に、スリット状に形成されている、半導体装置。
【請求項４】
請求項１記載の半導体装置において、
前記複数の第２開口部は、前記第１配線の前記第１領域に、メッシュ状に形成されている、半導体装置。
【請求項５】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第１配線において前記複数の第２開口部が形成されていないと仮定した場合の前記第１配線の第１の幅は、０．６μｍ以上であり、
前記接続領域の下方において、前記第１配線に幅が０．６μｍ以上となる箇所が生じないように、前記第１配線の前記第１領域に前記複数の第２開口部が形成されている、半導体装置。
【請求項６】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第１絶縁膜は、第２絶縁膜と前記第２絶縁膜上の第３絶縁膜との積層膜からなり、
前記第３絶縁膜は、樹脂膜からなり、
前記第１開口部は、前記第２絶縁膜の第３開口部と、前記第３絶縁膜の第４開口部とにより形成されており、
前記第３開口部は、平面視において前記第４開口部に内包され、
前記第２絶縁膜の前記第３開口部から露出された前記第１パッドに、前記第２配線が接続されている、半導体装置。
【請求項７】
請求項６記載の半導体装置において、
平面視において、前記第１配線と前記第３開口部との重なり領域は、前記第１領域に含まれている、半導体装置。
【請求項８】
請求項７記載の半導体装置において、
平面視において、前記第１配線と前記第４開口部との重なり領域は、前記第１領域に含まれている、半導体装置。
【請求項９】
請求項８記載の半導体装置において、
前記第１配線において前記複数の第２開口部が形成されていないと仮定した場合の前記第１配線の第１の幅は、０．６μｍ以上であり、
前記第４開口部の下方において、前記第１配線に幅が０．６μｍ以上となる箇所が生じないように、前記第１配線の前記第１領域に前記複数の第２開口部が形成されている、半導体装置。
【請求項１０】
請求項８記載の半導体装置において、
平面視において、前記第４開口部から５μｍ以上離れた領域には、前記複数の第２開口部は形成されていない、半導体装置。
【請求項１１】
請求項８記載の半導体装置において、
前記複数の第２開口部は、前記第１配線の前記第１領域に、スリット状に形成されている、半導体装置。
【請求項１２】
請求項８記載の半導体装置において、
前記複数の第２開口部は、前記第１配線の前記第１領域に、メッシュ状に形成されている、半導体装置。
【請求項１３】
請求項８記載の半導体装置において、
前記第２絶縁膜は、酸化シリコン膜からなる第４絶縁膜と、前記第４絶縁膜上に形成された酸窒化シリコン膜または窒化シリコン膜からなる第５絶縁膜と、の積層膜からなる、半導体装置。
【請求項１４】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第１パッドは、アルミニウムパッドであり、
前記第２配線は、銅配線である、半導体装置。
【請求項１５】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第１配線は、電源配線またはグランド配線である、半導体装置。
【請求項１６】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第１絶縁膜上に、前記第２配線を覆うように形成された保護絶縁膜を更に有し、
前記保護絶縁膜は、前記第２パッドを露出する第５開口部を有する、半導体装置。
【請求項１７】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第１パッドの下方に延在する、前記第１配線と同層の第３配線を更に有し、
前記第３配線の少なくとも一部は、前記第１パッドと平面視において重なっており、
前記接続領域の下方に、前記第３配線の端部が位置し、
前記第３配線には、開口部は形成されておらず、
前記第３配線の第２の幅は、前記第１配線において前記複数の第２開口部が形成されていないと仮定した場合の前記第１配線の第１の幅よりも小さい、半導体装置。
【請求項１８】
請求項１７記載の半導体装置において、
前記第１配線は、電源配線またはグランド配線であり、
前記第３配線は信号配線である、半導体装置。
【請求項１９】
請求項１記載の半導体装置において、
前記第１配線は、第１方向に延在する第１配線部と、前記第１方向と交差する第２方向に延在する第２配線部と、を一体的に有し、
前記第１配線部と前記第２配線部との連結部は、前記第１領域に含まれており、
前記第１配線部における前記第１領域において、前記複数の第２開口部は、前記連結部の近傍ではメッシュ状に形成され、前記連結部の近傍以外では、前記第１方向に延在するスリット状に形成されている、半導体装置。
【請求項２０】
半導体基板と、
前記半導体基板上に第１層間絶縁膜を介して形成された第１配線と、
前記第１層間絶縁膜上に、前記第１配線を覆うように形成された第２層間絶縁膜と、
前記第２層間絶縁膜上に形成された第１パッドと、
前記第２層間絶縁膜上に形成され、前記第１パッドを露出する第１開口部を有する第１絶縁膜と、
前記第１開口部から露出された前記第１パッド上を含む前記第１絶縁膜上に形成され、前記第１パッドと電気的に接続された第２配線と、
前記第１絶縁膜上に形成され、前記第２配線と一体的に接続された第２パッドと、
を有し、
前記第１絶縁膜は、第２絶縁膜と前記第２絶縁膜上の第３絶縁膜との積層膜からなり、
前記第３絶縁膜は、樹脂膜からなり、
前記第１開口部は、前記第２絶縁膜の第３開口部と、前記第３絶縁膜の第４開口部とにより形成されており、
前記第３開口部は、平面視において前記第４開口部に内包され、
前記第２絶縁膜の前記第３開口部から露出された前記第１パッドに、前記第２配線が接続されており、
前記第１配線の少なくとも一部は、前記第１パッドと平面視において重なっており、
前記第４開口部の下方に、前記第１配線の端部が位置し、
前記第１配線における第１領域に複数の第２開口部が形成されており、
前記第１領域の少なくとも一部は、前記第４開口部と平面視において重なっている、半導体装置。