(57)【要約】  本発明は、ガラス基板を長時間にわたり円滑に研磨することができる基板の研磨装置を提供する。  本発明は、吸着シートと比較して引っ張り方向の剛性が高い中間シートを、膜体と吸着シートとの間に介在させて接着する。研磨中に発生する研磨抵抗によって膜体は引っ張り方向に伸縮し、膜体の伸縮動作により中間シートと膜体との間に剥がれが生じる場合があるが、膜体と吸着シートとの間に中間シートが介在されているため、ガラス基板Ｇの吸着により伸縮が制約された吸着シートと、吸着シートよりも引っ張り方向の剛性が高い中間シートとの間では、中間シートが引っ張り方向に伸縮しないため相対的なずれが発生しなくなり、吸着シートが中間シートから剥がれて捲り上がることを防止できる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を吸着し保持する吸着シートが取り付けられた膜体と該膜体が取り付けられるキャリアとの間に加圧流体を供給し、前記吸着シートに吸着されて保持された基板を前記加圧流体の圧力により研磨定盤に押し付けて研磨する研磨装置において、
前記膜体と前記吸着シートとの間に中間シートが接着されており、
該中間シートの引っ張り方向の剛性が、前記吸着シートの引っ張り方向の剛性よりも高いことを特徴とする基板の研磨装置。
【請求項２】
前記吸着シートが、発泡ポリウレタンからなり、
前記中間シートが、ポリカーボネイト、アクリル、アルミニウム、ステンレス、ガラス又は炭素繊維強化プラスチックからなる請求項１に記載の基板の研磨装置。
【請求項３】
前記中間シートが、ポリカーボネイトからなる請求項２に記載の基板の研磨装置。
【請求項４】
前記吸着シートが、キャリアに張設された膜体に中間シートを介して接着されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の基板の研磨装置
【請求項５】
前記膜体が気密保持層と強度保持層からなる二重構造に構成されており、中間シートが前記強度保持層の下面に接着されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板の研磨装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板の研磨装置を用いて基板を研磨することを特徴とする基板の研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は基板の研磨装置に係り、特にガラス基板を研磨してフラットパネルディスプレイ等に用いる薄板ガラス基板を製造するための基板の研磨装置及び該研磨装置を用いた基板の研磨方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ用の薄板ガラス基板の製造方法の一つとして、フロート法といわれる成形法を用いた製造方法が知られている。この製造方法は、前記フロート法により溶融ガラスを板状に成形し、その後研磨装置によってガラス板の表面の微小な凹凸やうねりを研磨して除去することにより、厚さ０．５〜１．１ｍｍの薄板状にする方法である。【０００３】
本願出願人は特許文献１において、特にフラットパネルディスプレイ用の薄板ガラス基板を対象とする研磨装置を提案している。この研磨装置は、基板を吸着して保持する吸着シートが取り付けられた膜体と、この膜体が取り付けられるキャリアとの間に加圧流体を供給し、吸着シートに吸着保持された基板を加圧流体の圧力により研磨定盤に押し付けて研磨する。【０００４】
また、特許文献１に開示された膜体は気密保持層、強度保持層、及び平滑層から構成されるとともに、吸着シートは自己吸着力を有する多孔質の発泡ポリウレタンシートによって構成されている。
しかしながら、特許文献１に開示された研磨装置では、基板の研磨中に吸着シートが膜体から剥がれて捲れ上がり基板を破損する問題があった。研磨中に発生する基板の破損原因について、本願出願人は実機による試験において鋭意解析した結果、以下の事象により発生することを突きとめた。
つまり、膜体は、基板の研磨中に基板と研磨定盤との間に生じる研磨抵抗を受ける関係で引っ張り方向（伸展方向：面方向）の力を研磨定盤から受ける。また、研磨中にはキャリア及び研磨定盤が回転しているため膜体は、前記力により繰り返し引っ張り方向に伸縮される力を受け、引っ張り方向に伸縮することになる。
ここで、膜体に接着され該膜体よりも軟質な吸着シートは、膜体の伸縮に連なって伸縮動作をすれば問題はない。しかし、吸着シートに基板が吸着保持されているため、すなわち吸着シートの伸縮動作が基板によって制約されているため、吸着シートの引っ張り方向の伸縮が制約される。このような現象により、伸縮する膜体と伸縮しない吸着シートとの間に相対的なずれが発生し、そのずれにより吸着シートの周縁部が膜体から徐々に剥がれる。そして、その剥がれた部分が大きくなると、剥がれた部分が研磨中に捲くれ上がる。こうした不具合は基板の破損を招くため、保守が必要になる。
【特許文献１】特開２００４−１２２３５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記のような問題に鑑みてなされたものであって、基板を長時間にわたり円滑に研磨加工することができる基板の研磨装置、及び該研磨装置を用いた基板の研磨方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記の目的を達成するため、本発明は、基板を吸着保持する吸着シートが取り付けられた膜体と該膜体が取り付けられるキャリアとの間に加圧流体を供給し、前記吸着シートに吸着保持された基板を前記加圧流体の圧力により研磨定盤に押し付けて研磨する研磨装置において、前記膜体と前記吸着シートとの間に中間シートが接着されており、該中間シートの引っ張り方向の剛性が、前記吸着シートの引っ張り方向の剛性よりも高いものであることを特徴とする基板の研磨装置を提供する。【０００７】
本発明では、膜体と吸着シートとの間に中間シートが接着されている。このため、研磨抵抗による膜体の引っ張り方向の伸縮動作により中間シートと膜体との間に剥がれが生じる場合があるが、中間シートと吸着シートとの間では相対的なずれは発生しない。なぜならば、吸着シートは基板の吸着により伸縮が制約されており、中間シートは吸着シートよりも引っ張り方向の剛性が高く引っ張り方向に伸縮しないためである。その結果、吸着シートが中間シートから剥がれなくなり、吸着シートが剥がれて捲り上がることを防止することができる。【０００８】
本発明の好ましい実施形態では、前記吸着シートが発泡ポリウレタンからなり、前記中間シートがポリカーボネイト、アクリル、アルミニウム、ステンレス、ガラス、又は炭素繊維強化プラスチック（ＣＦＲＰ：Carbon  Fiber  Reinforced  Plastics）からなるものを使用できる。これらの材料によって中間シートを製造することにより、基板の研磨中において引っ張り方向に伸縮しない剛性の高い中間シートを提供できる。前記中間シートはポリカーボネイトからなるものであればより好ましい。【０００９】
また、これらの材料の他、ＡＢＳ（Acrylonitrile  Butadiene  Styrene）、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ：Fiber  Reinforced  Plastics）も例示できる。【００１０】
また本発明は、前記の研磨装置を用いて基板を研磨することを特徴とする基板の研磨方法を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る基板の研磨装置及び基板の研磨方法によれば、吸着シートよりも引っ張り方向の剛性が高い中間シートを膜体と吸着シートとの間に介在させたので、膜体が引っ張り方向に伸縮しても中間シートが引っ張り方向に伸縮しないため、吸着シートと中間シートの間には相対的なずれが発生しなくなり、吸着シートが中間シートから剥がれて捲り上がることを防止できる。これにより、研磨装置で長時間にわたり基板を円滑に研磨することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１の実施の形態の研磨装置の全体構造を示す平面図。
【図２】研磨ヘッドと研磨ステージの実施の形態を示す側面図。
【図３】研磨ヘッドの組立斜視図。
【図４】膜枠の膜体の三層構造を示す説明図。
【図５】摺動リングに対する膜枠の着脱構造を示す要部拡大断面図。
【図６】膜体、中間シート、吸着シートの配置構成を示した側面図。
【符号の説明】
【００１３】
Ｇ…ガラス基板、１０…研磨装置、１２…コンベア、１４…膜枠、１６…ステージ、１８…第１の研磨ステージ、２０…第２の研磨ステージ、２２…ステージ、２４…ガラス基板搬出コンベア、２６…膜枠洗浄ステージ、２８…膜枠乾燥ステージ、３０…膜枠返送コンベア、３２…ロボット、３３…アーム、３４…吸着パッド、３６…コンベア、３８…膜体、４０…上枠、４２…下枠、４４…気密保持層、４６…強度保持層、４８…平滑層、５０…研磨ヘッド、５１…本体ケーシング、５２…キャリア、５３…下部外周リング部、５４…空気室、５６…スピンドル、５８…研磨パッド、６０…研磨パッド、６２…研磨定盤、６４…回転軸、６６…研磨定盤、６８…回転軸、７０…直動ガイド、７２…ガイドレール、７４…メンテナンスステージ、７６…メンテナンスステージ、７８…吊上リング、８０…貫通孔、８２…摺動リング、８４…摺動リング吊具、８６…上ばね、８８…吊上ばね、９０…貫通孔、９２…スクリュウジャッキ、９４…ストッパピン、９６…ラインシャフト、９８…噴射口、１００…空気室、１０２…エア供給路、１０４…バルブ、１０６…エアポンプ、１０８…ピン、１１０…ヘッド部、１１２…フック、１１４…ピン、１１６…孔、１１８…ストッパ板、１２０…エア流路、１２２…挟持部材、１２４…挟みプレート、１２６…ポール、１２８…貫通孔、１３０…貫通孔、１３８…コンベア、１４０…ロボット、１４２…アーム、１４４…吸着ヘッド、１４６…コンベア、１５０、１５２、１５４…搬送装置、１６０…ガイドレール、１７０…ガイドレール、２００…吸着シート、２１０…中間シート
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面に従って本発明に係る基板の研磨装置及び基板の研磨方法の好ましい実施の形態について詳説する。【００１５】
図１に示す基板の研磨装置１０は、大型のガラス基板Ｇ（例えば、一辺が２０００ｍｍを超え、厚み０．５ｍｍ〜１．１ｍｍ）の片面を液晶ディスプレイ用ガラス基板に必要な平坦度に研磨する研磨装置である。【００１６】
この研磨装置１０は、研磨前のガラス基板Ｇを搬送するコンベア１２、ガラス基板Ｇを膜枠１４に貼着するステージ１６、第１の研磨ステージ１８、第２の研磨ステージ２０、研磨完了したガラス基板Ｇを膜枠１４から取り外すステージ２２、ガラス基板搬出コンベア２４、膜枠洗浄ステージ２６、膜枠乾燥ステージ２８、及び膜枠返送コンベア３０を主要素として構成されている。【００１７】
また、研磨装置１０には、ステージ１６から第１の研磨ステージ１８に膜枠１４を搬送する搬送装置１５０、第１の研磨ステージ１８から第２の研磨ステージ２０に膜枠１４を搬送する搬送装置１５２、及び第２の研磨ステージ２０からステージ２２に膜枠１４を搬送する搬送装置１５４が設けられている。【００１８】
コンベア１２によって搬送されてきた研磨前のガラス基板Ｇは、ロボット３２のアーム３３に設けられた吸着パッド３４に吸着保持される。そして、アーム３３の回転動作によってコンベア１２からコンベア３６に移載され、コンベア３６によってステージ１６に向けて搬送される。【００１９】
ステージ１６において、まず、ガラス基板Ｇが膜枠１４に保持される。次にこの保持方法について説明する。膜枠１４はステージ１６において、ガラス基板貼着手段である不図示の昇降装置に保持されており、膜枠１４の下方にガラス基板Ｇが位置したところで、膜枠１４が昇降装置により下降移動され、膜枠１４に張設された図２の膜体３８がガラス基板Ｇに押し付けられる。【００２０】
膜体３８の下面には、ガラス基板Ｇを自己吸着する多孔質性の発泡ポリウレタン製吸着シート２００が接着されるとともに、この吸着シート２００と膜体３８との間にポリカーボネイト製の中間シート２１０が介在されて吸着シート２００と膜体３８とに接着されている。【００２１】
ガラス基板Ｇは、前述した昇降装置による押圧力によって吸着シート２００に押し付けられ、吸着シート２００によって吸着保持される。その後、膜枠１４が図１の搬送装置１５０に保持されて、図３の第１の研磨ステージ１８に搬送され、ここでキャリア５２に取り付けられる。【００２２】
膜枠１４は図２に示したように、膜体３８を上枠４０と下枠４２との間で張設した後、上枠４０と下枠４２とを不図示のボルトによって締結することによって構成される。なお、膜枠１４や膜体３８は円形に限定されるものではなく、矩形でもよい。【００２３】
この膜体３８は図４の如く気密保持層４４、強度保持層４６からなる二層構造に構成されている。気密保持層４４は図２及び図５に示すように、その外周部がキャリア５２の下部外周リング部５３に密着されてキャリア５２の空気室５４との間で気密を保持するシート材である。シート材の材料としてはゴム類、シリコン類、フッ素樹脂、塩化ビニル（ＰＶＣ）等のビニル系、ナイロン系及びウレタン等を例示できる。また、図４の強度保持層４６は、気密保持層４４を保持するとともに膜体３８全体を張設する張力に耐え得る所定の引張強さを有するシート材である。また、その下面には中間シート２１０が接着されている。この接着剤としては、従来の膜体に使用されている接着剤などが適宜使用でき、例えばウレタン系接着剤又はエポキシ系接着剤が好ましく使用できる。【００２４】
強度保持層４６の材料としては、アラミド繊維、ステンレス製金網、スチール金網、炭素繊維、ガラス繊維、ナイロン繊維、金属シート、樹脂シート等であり、アラミド繊維が引張力に対する伸びが極めて少ないという理由で好ましい。【００２５】
次に、図３に示す研磨ヘッド５０について説明するが、第１の研磨ステージ１８の研磨ヘッド５０及び第２の研磨ステージ２０の研磨ヘッド５０は同一構造なので、同一の符号を付して説明する。【００２６】
研磨ヘッド５０は、本体ケーシング５１にモータが内蔵され、このモータの出力軸が、鉛直方向に垂下されたスピンドル５６に連結されて構成される。このスピンドル５６にキャリア５２が連結されている。また、本体ケーシング５１は、昇降機構１５６を介してスライダ１５８に連結されている。この昇降機構１５６によって本体ケーシング５１がスライダ１５８に対して昇降されることにより、キャリア５２が第１の研磨ステージ１８の研磨パッド５８、及び第２の研磨ステージ２０の研磨パッド６０に対し進退移動されるとともに、膜枠１４に貼着されたガラス基板Ｇを研磨パッド５８、６０に所定の研磨圧力で押圧することができる。【００２７】
研磨パッド５８は、研磨定盤６２の上面に貼り付けられ、研磨定盤６２の下部には、不図示のモータによって回転される回転軸６４が連結される。また、研磨パッド６０は、研磨定盤６６の上面に貼り付けられ、研磨定盤６６の下部には、不図示のモータによって回転される回転軸６８が連結されている。【００２８】
さらに、本体ケーシング５１は、不図示の公転駆動機構に連結され、所定の公転半径で公転する機能も有している。なお、この公転駆動機構は、本体ケーシング５１にプラネタリーギア機構を内蔵し、プラネタリーギア機構の出力軸をスピンドル５６に連結することによっても構成できる。以上が各研磨ステージ１８、２０の構成であり、これらの研磨ステージ１８、２０によってガラス基板Ｇが研磨され、ガラス基板Ｇの表面の微小な凹凸やうねりが除去される。【００２９】
一方、第１の研磨ステージ１８のスライダ１５８には、直動ガイド７０、７０が取り付けられている。直動ガイド７０、７０はガイドレール７２、７２に嵌合されている。このガイドレール７２、７２は、図１の如く第１の研磨ステージ１８のスピンドル５６やキャリア５２をメンテナンスするメンテナンスステージ７４に向けて配設されている。【００３０】
また、図２の如く第２の研磨ステージ２０のスライダ１５８にも同様に、直動ガイド７０、７０が取り付けられ、直動ガイド７０、７０はガイドレール１６０、１６０に嵌合されている。このガイドレール１６０、１６０は、図１の如く第２の研磨ステージ２０のスピンドル５６やキャリア５２をメンテナンスするメンテナンスステージ７６に向けて配設されている。【００３１】
キャリア５２は、図２の如くキャリア５２の上部外周部に吊上リング７８が不図示のボルトによって固定されている。吊上リング７８のキャリア５２の外周部から突出したフランジ部には、貫通孔８０、８０…が同心円上で等間隔に複数個形成され、これらの貫通孔８０、８０…に、摺動リング８２の上面に突設された摺動リング吊具８４が図５の如く下方から貫通される。また、摺動リング吊具８４は、吊上リング７８と吊上用皿ばね８６との間に配置された吊上ばね８８に貫通されるとともに、吊上用皿ばね８６の貫通孔９０に貫通され、スクリュウジャッキ９２に連結されている。【００３２】
したがって、スクリュウジャッキ９２を動作させ、摺動リング吊具８４を吊上ばね８８の付勢力に抗して上方に引き上げると、摺動リング８２がキャリア５２に対して引き上げられる。これにより、摺動リング８２に着脱自在に取り付けられた膜枠１４が引き上げられて、膜体３８に所定の張力が付与される。【００３３】
張力付与の自動化に際しては、膜枠１４と膜体３８とを複数個用意し運用する。しかし、膜枠１４に対して膜体３８の初期張力には個体差があることが考えられること、また使用時間の違いにより、複数存在する膜体３８、３８…の初期張力に違いがあることから、いかなる張力個体差を有する膜体３８にも同等の使用張力を付与することは難しい。また、膜体３８に過張力がかかってしまうと膜体３８や周辺機器の破損にもつながる危険がある。これを解決するために、吊上ばね８８の収縮量（吊上リング７８と吊上用皿ばね８６との間隔）を監視する。すなわち、スクリュウジャッキ９２の引き上げ量だけではなく、実際に膜体３８に付与される張力を吊上ばね８８の縮み量を監視することで測るものである。この吊上ばね８８を有することで、膜体３８に一定張力がかかるようにすることと、膜体３８に過張力がかかることの防止とを同時に解決することができる。なお、一定張力にするために、吊上ばね８８の縮み量の測定が必要となるが、その一つの手段として、スクリュウジャッキ９２にラインシャフト９６を介して連結された不図示のモータの電流値からトルクを算出し、スクリュウジャッキ９２の吊上力を間接的に取得し、これを管理することで膜体３８に付与される張力を監視することができる。ラインシャフト９６は、前記モータの駆動力をスクリュウジャッキ９２に伝達するシャフトである。また、符号９４は、吊上リング７８と吊上用皿ばね８６との間に生じている吊上ばね８８の反力を受けておくためのストッパピンである。【００３４】
キャリア５２には、図５の空気室５４に圧縮エア（加圧流体）を噴出する噴射口９８、９８…が複数形成される。これらの噴射口９８、９８…は、キャリア５２の上面に形成された空気室１００を介して、図３上で破線で示すエア供給路１０２に連通される。エア供給路１０２は、研磨ヘッド５０に取り付けられた不図示のロータリジョイントを介して研磨ヘッド５０の外部に延設され、バルブ１０４を介してエアポンプ１０６に接続されている。したがって、バルブ１０４を開放すると、エアポンプ１０６からの圧縮エアがエア供給路１０２、空気室１００、及び噴射口９８を介して空気室５４に供給される。これにより、圧縮エアの圧力が膜体３８を介してガラス基板Ｇに伝達され、この圧力によってガラス基板Ｇが研磨パッド５８、６０に押し付けられて研磨される。【００３５】
一方、図２の如く膜枠１４の上枠４０には、複数のピン１０８、１０８…が同心円上で等間隔に突設され、これらのピン１０８の上端部に形成された、図５に示す大径のヘッド部１１０が、摺動リング８２の下部に固定されたフック１１２に係合されることにより、膜枠１４が摺動リング８２に取り付けられる。ヘッド部１１０とフック１１２との係合力は、スクリュウジャッキ９２によって膜体３８を張り上げた時の膜体３８の反力によって強固になり、研磨時に膜体３８から受ける研磨抵抗ではフック１１２からヘッド部１１０が外れない。【００３６】
図１に示した第２の研磨ステージ２０でガラス基板Ｇの研磨が終了すると、ここで膜枠１４がキャリア５２から取り外されて搬送装置１５４によりステージ２２に搬送される。
キャリア５２から膜枠１４を取り外す方法は、まず、図５に示したスクリュウジャッキ９２を緩める方向に動作させ、膜体３８の張力を解消する。次に、キャリア５２に対して膜枠１４を所定角度回動させてフック１１２からヘッド部１１０を取り外す。これにより、キャリア５２から膜枠１４が取り外される。【００３７】
図１に示したステージ２２では、搬送装置１５４で搬送されてきた膜枠１４から、研磨終了したガラス基板Ｇを剥ぎ取る。剥ぎ取られたガラス基板Ｇは、コンベア１３８によって搬送され、そして、ロボット１４０のアーム１４２に取り付けられた吸着ヘッド１４４に吸着され、ロボット１４０の動作によってガラス基板搬出用コンベア２４に移載され、研磨装置１０の外部に搬出される。【００３８】
ガラス基板Ｇが剥ぎ取られた膜枠１４はコンベア１４６によって膜枠洗浄ステージ２６に搬送され、ここで水洗浄される。洗浄終了した膜枠１４は、コンベア１４８によって膜枠乾燥ステージ２８に搬送され、ここで加熱されて乾燥される。そして、乾燥終了した膜枠１４は、膜枠返送コンベア３０によってステージ１６に搬送され、ガラス基板Ｇの貼着に再使用される。以上が研磨装置１０の全体構成である。【００３９】
膜体３８は、ガラス基板Ｇの研磨中にガラス基板Ｇと研磨パッド５８、６０との間に生じる研磨抵抗を受ける関係で引っ張り方向（伸展方向：面方向）の力を研磨パッド５８、６０から受ける。また、研磨中にはキャリア５２及び研磨パッド５８、６０が回転しているため膜体３８は、前記力により繰り返し引っ張り方向に伸縮される力を受け、引っ張り方向に伸縮することになる。【００４０】
ここで、膜体３８よりも軟質な吸着シート２００が膜体３８に直接接着されている従来の構造では、研磨中の吸着シート２００の挙動をみると、膜体３８の伸縮に連なって吸着シート２００が伸縮動作を行えば問題はないが、吸着シート２００にガラス基板Ｇが吸着保持されているため、すなわち、吸着シート２００の伸縮動作がガラス基板Ｇによって制約されているため吸着シート２００の引っ張り方向の伸縮が制約される。このような事象により、伸縮する膜体３８と伸縮しない吸着シート２００との間に相対的なずれが発生し、そのずれにより吸着シート２００の周縁部が膜体３８から徐々に剥がれていき、その剥がれた部分が大きくなると、剥がれた部分が研磨中に捲くれ上がる。【００４１】
そこで、このような不具合を防止するため、実施の形態の構造では図６の如く、吸着シート２００と比較して引っ張り方向の剛性が高い中間シート２１０を、膜体３８と吸着シート２００との間に介在させて接着している。【００４２】
この構造によれば、研磨中に発生する研磨抵抗によって膜体３８は前述の如く引っ張り方向に伸縮するが、膜体３８と吸着シート２００との間に中間シート２１０が介在されているため、膜体３８の伸縮動作により中間シート２１０と膜体３８との間に剥がれが生じる場合があるが、中間シート２１０と吸着シート２００との間では、ガラス基板Ｇの吸着により伸縮が制約された吸着シート２００と、吸着シート２００よりも引っ張り方向の剛性が高い中間シート２１０との間には、中間シート２１０が引っ張り方向に伸縮しないため相対的なずれは発生しない。よって、吸着シート２００が中間シート２１０から剥がれないため、吸着シート２００が剥がれて捲り上がることを防止することができる。【００４３】
したがって、実施の形態の研磨装置１０によれば、ガラス基板Ｇを長時間にわたり円滑に研磨することができる。【００４４】
なお、実施の形態では、中間シート２１０の素材をポリカーボネイトとしたが、これに限定されるものではなくアクリル、アルミニウム、ステンレス、ガラス又は炭素繊維強化プラスチックでもよい。また、これらの材質の他、ＡＢＳ（Acrylonitrile  Butadiene  Styrene）、ＦＲＰ（Fiber  Reinforced  Plastics）も例示できる。【００４５】
さらに、膜体３８を気密保持層４４、強度保持層４６から構成して強度保持層４６に中間シート２１０を接着する構造としたので、強度保持層４６に接着していた平滑層を無くすことができ、膜体３８のコストを削減することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明は、フラットパネルディスプレイ等に用いる薄板ガラス基板を製造するためのガラス基板の研磨に好適である。
なお、２００５年８月１９日に出願された日本特許出願２００５−２３９０４０号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【図１】
2007020859.tif 000002
【図２】
2007020859.tif 000003
【図３】
2007020859.tif 000004
【図４】
2007020859.tif 000005
【図５】
2007020859.tif 000006
【図６】
2007020859.tif 000007
【国際調査報告】
2007020859.tif 000008
2007020859.tif 000009