(57)【要約】  本発明は、溶融流延法による製膜時に生じるスジや斑むらがなく、更に高温高湿条件下での偏光子の着色が改善された偏光板保護フィルムの製造方法、偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置を提供する。この偏光板保護フィルムの製造方法は、セルロースエステルと、トリアジン環化合物の少なくとも１種と、フェノール系化合物と、一般式（Ｌ）で表される化合物とを含有する混合物を、加熱溶融し溶融流延法によって製膜することを特徴とする。    【化１】2008007566.tif 000107
2008007566.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステルと、トリアジン環化合物の少なくとも１種と、フェノール系化合物と、一般式（Ｌ）で表される化合物とを含有する混合物を、加熱溶融し溶融流延法によって製膜することを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
【化１】
2008007566.tif 000105
（式中、Ｒ2〜Ｒ5はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ6は水素原子または置換基を表し、ｎは１または２を表す。ｎが１であるとき、Ｒ1は置換基を表し、ｎが２であるとき、Ｒ1は２価の連結基を表す。）
【請求項２】
前記トリアジン環化合物が、下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
【化２】
2008007566.tif 000106
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、芳香族環又は複素環を表し；Ｘ1は単結合、−ＮＲ4−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ2は単結合、−ＮＲ5−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ3は単結合、−ＮＲ6−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。）
【請求項３】
前記セルロースエステルのアシル基の置換度が、下記の式（ｉ）、（ii）で規定する条件を同時に満たすことを特徴とする請求の範囲第１項または第２項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
式（ｉ）  ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（ii）  １．０≦Ｙ≦１．５
（式中、Ｘはアセチル基の置換度を表し、Ｙはプロピオネート基の置換度を表す。）
【請求項４】
更に、リン系化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする請求の範囲第１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。
【請求項５】
請求の範囲第１項乃至第４項のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法であって、流延ダイから押し出された偏光板保護フィルムを金属製外筒と内筒とその間に流体を流す空間とを有する弾性タッチロールにより冷却ロールに押圧しながら搬送することを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
【請求項６】
請求の範囲第１項乃至第５項のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする偏光板保護フィルム。
【請求項７】
請求の範囲第６項に記載の偏光板保護フィルムを少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項８】
請求の範囲第７項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板保護フィルムの製造方法、偏光板保護フィルム、偏光板、及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースエステルフィルムは、光学的、物理的に偏光板用の保護フィルムとして有用であるため一般に広く用いられている。しかしながら、フィルムの製造方法はハロゲン系の溶媒を用いた流延製膜法による製造方法であるため、溶媒回収に要する費用は非常に大きい負担となっていた。そのため、溶媒を用いない溶融流延によって、光学用セルロースエステルフィルムを作製する技術が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。【０００３】
一方、セルロースエステルは溶融時の粘度が非常に高い高分子であり、且つガラス転移温度も高いため、セルロースエステルを溶融してダイスから押出し、冷却ドラムまたは冷却ベルト上にキャスティングしてもレべリングし難く、押出し後に短時間で固化するため、製膜時にスジや斑むらが発生し、液晶表示装置に組み込んだ場合表示斑となるという問題があった。【０００４】
これに対し、セルロースエステルと、トリアジン環化合物の少なくとも１種とを含有し溶融流延することで、表示斑をなくす技術が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。【０００５】
ところが本発明者らの検討によれば、特許文献２記載の方法で作製した偏光板保護フィルムを用いて偏光板を作製すると、高温高湿等の強制劣化条件下では偏光子の着色が問題となることが判明した。着色に関し、これまでに溶融時の熱耐性を向上する手段としてヒンダードアミン系耐光安定剤やリン系化合物といった添加物が一般的に用いられてきたが、これらの添加物は、多量の添加によって、フィルムの着色を促進したり、湿熱条件下による酢綿分解を起すなどして、偏光板保護フィルムとして用いた際、高温高湿条件下での偏光子の着色を招くという問題があった。
【特許文献１】特開２０００−３５２６２０号公報
【特許文献２】特開２００６−２０２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って本発明の目的は、溶融流延法による製膜時に生じるスジや斑むらがなく、更に高温高湿条件下での偏光子の着色が改善された偏光板保護フィルムの製造方法、偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。【０００８】
１．セルロースエステルと、トリアジン環化合物の少なくとも１種と、フェノール系化合物と、一般式（Ｌ）で表される化合物とを含有する混合物を、加熱溶融し溶融流延法によって製膜することを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。【０００９】
【化１】
2008007566.tif 000003
【００１０】
（式中、Ｒ2〜Ｒ5はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ6は水素原子または置換基を表し、ｎは１または２を表す。ｎが１であるとき、Ｒ1は置換基を表し、ｎが２であるとき、Ｒ1は２価の連結基を表す。）
２．前記トリアジン環化合物が下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする前記１に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。【００１１】
【化２】
2008007566.tif 000004
【００１２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、芳香族環又は複素環を表し；Ｘ1は単結合、−ＮＲ4−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ2は単結合、−ＮＲ5−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ3は単結合、−ＮＲ6−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。）
３．前記セルロースエステルのアシル基の置換度が、下記の式（ｉ）、（ii）で規定する条件を同時に満たすことを特徴とする前記１または２に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。【００１３】
式（ｉ）  ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（ii）  １．０≦Ｙ≦１．５
（式中、Ｘはアセチル基の置換度を表し、Ｙはプロピオネート基の置換度を表す。）
４．更に、リン系化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする前記１に記載の偏光板保護フィルムの製造方法。【００１４】
５．前記１乃至４のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法であって、流延ダイから押し出された偏光板保護フィルムを金属製外筒と内筒とその間に流体を流す空間とを有する弾性タッチロールにより冷却ロールに押圧しながら搬送することを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。【００１５】
６．前記１乃至５のいずれか１項に記載の偏光板保護フィルムの製造方法により製造されたことを特徴とする偏光板保護フィルム。【００１６】
７．前記６に記載の偏光板保護フィルムを少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする偏光板。【００１７】
８．前記７に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１８】
本発明により、溶融流延法による製膜時に生じるスジや斑むらがなく、更に高温高湿条件下での偏光子の着色が改善された偏光板保護フィルムの製造方法、偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置を提供することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の偏光板保護フィルムを製造する装置の説明図である。
【符号の説明】
【００２０】
１  押し出し機
２  フィルター
３  スタチックミキサー
４  ダイ（厚み調整手段含む）
５  タッチロール
６  第１冷却ロール
６′  第２冷却ロール
７  剥離ロール
８  ダンサーロール
９  延伸機
１０  スリッター
１１  厚み測定手段
１２  エンボスリング及びバックロール
１３  巻き取り機
１４  巻き取られたフィルム
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【００２２】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討の結果、セルロースエステルと、トリアジン環化合物の少なくとも１種と、フェノール系化合物と、一般式（Ｌ）で表される化合物とを含有する混合物を、加熱溶融し溶融流延法によって製膜することを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法により、溶融流延法による製膜時に生じるスジや斑むらがなく、更に高温高湿条件下での偏光子の着色が改善された偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置を提供出来ることを見出したものである。【００２３】
特に、一般式（Ｌ）で表される化合物は、熱分解により発生したアルキルラジカルを捕捉する働きがあり、該化合物はセルロースエステル樹脂に用いた場合、そのポリマー鎖の末端もしくは側鎖に一般式（Ｌ）に由来する芳香環系の構造が結合し、新たな化合物が発生するものと推測される。この化合物の構造が、セルロースエステル樹脂と、通常添加される芳香環系の可塑剤やトリアジン環化合物のようなリターデーション調整剤との間で何らかの相互作用を及ぼすものと推測できる。【００２４】
以下、本発明を各要素毎に詳細に説明する。【００２５】
尚、本発明にかかる偏光板保護フィルムを単にセルロースエステルフィルムという場合もある。【００２６】
《一般式（Ｌ）で表される化合物》
本発明は、セルロースエステルフィルムからなる偏光板保護フィルムにおいて、該偏光板保護フィルムが下記一般式（Ｌ）で表される化合物を含有することが特徴である。【００２７】
【化３】
2008007566.tif 000005
【００２８】
一般式（Ｌ）において、Ｒ2〜Ｒ5はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ6は水素原子または置換基を表し、ｎは１または２を表す。ｎが１であるとき、Ｒ1は置換基を表し、ｎが２であるとき、Ｒ1は２価の連結基を表す。【００２９】
本発明に係る一般式（Ｌ）の化合物の添加量は、セルロースエステルの種類やその他の添加剤の種類や量によって適宜調整すればよく、特に限定はないが、形成された偏光板保護フィルム中のセルロースエステルに対し、０．０１〜１０質量％程度添加することが好ましく、０．１〜１．０質量％となることが特に好ましい。【００３０】
さらに、詳細に本発明の一般式（Ｌ）の化合物について説明する。【００３１】
一般式（Ｌ）において、ｎは１または２を表し；ｎが１であるとき、Ｒ1はおのおの未置換の、または炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、フェニルアミノ基またはジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）−アミノ基で置換された、ナフチル基、フェナントリル基、アントリル基、５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル基、５，６，７，８−テトラヒドロ−１−ナフチル基、チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、ナフト［２，３−ｂ］チエニル基、チアントレニル基、ジベンゾフリル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサンチニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、インドリル基、インダゾリル基、プリニル基、キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタルアジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シノリル基、プテリジニル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナンチリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、フルオレニル基またはフェノキサジニル基を表すか、あるいはＲ1は下記式（II）で表される基【００３２】
【化４】
2008007566.tif 000006
【００３３】
を表し、ならびに；ｎが２であるとき、Ｒ1は未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくはヒドロキシ基により置換されたフェニレン基、またはナフチレン基を表すか；または−Ｒ12−Ｘ−Ｒ13−（基中、Ｘは直接結合；酸素原子、硫黄原子もしくは−ＮＲ31−を表す。）を表し；Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5はおのおの互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換フェニル基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００３４】
【化５】
2008007566.tif 000007
【００３５】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイルオキシ基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基または炭素原子数１ないし１２のアルキル−置換ベンゾイルオキシ基を表し（ただし、Ｒ2が水素原子またはメチル基の
場合、式（II）中の、後述するＲ7またはＲ9はヒドロキシ基または炭素原子数１ないし２５のアルカノイルオキシ基を表さない。）；あるいは置換基Ｒ2及びＲ3または、Ｒ3及びＲ4またはＲ4及びＲ5のおのおのの対は結合している炭素原子と一緒になって、ベンゼン環を形成し；Ｒ4はさらに−（ＣＨ2）p−ＣＯＲ15または−（ＣＨ2）qＯＨ（式中、ｐは０、１または２を表し；ｑは１、２、３、４、５及び６を表す。）を表し；あるいはＲ3、Ｒ5及びＲ6が水素原子を表す場合、Ｒ4はさらに下記式（III）【００３６】
【化６】
2008007566.tif 000008
【００３７】
（式中、Ｒ1はｎ＝１に対して上記で定義されたと同じ意味を表す。）で表される基を表し；Ｒ6は水素原子または下記式（IV）【００３８】
【化７】
2008007566.tif 000009
【００３９】
（式中、Ｒ4は式（III）の基でなく及びＲ1はｎ＝１に対して上記で定義されたと同じ意味を表す。）で表される基を表し；Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10はおのおの互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００４０】
【化８】
2008007566.tif 000010
【００４１】
で中断された炭素原子数２ないし２５のアルキル基；炭素原子数１ないし２５のアルコキシ基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００４２】
【化９】
2008007566.tif 000011
【００４３】
で中断された炭素原子数２ないし２５のアルコキシ基；炭素原子数１ないし２５のアルキルチオ基、炭素原子数３ないし２５のアルケニル基、炭素原子数３ないし２５のアルケニルオキシ基、炭素原子数３ないし２５のアルキニル基、炭素原子数３ないし２５のアルキニルオキシ基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルコキシ基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換フェニル基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換フェノキシ基；未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換炭素原子数５ないし８のシクロアルコキシ基；炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４アルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイル基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００４４】
【化１０】
2008007566.tif 000012
【００４５】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイル基；炭素原子数１ないし２５のアルカノイルオキシ基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００４６】
【化１１】
2008007566.tif 000013
【００４７】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイルオキシ基；炭素原子数１ないし２５のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００４８】
【化１２】
2008007566.tif 000014
【００４９】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基；炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００５０】
【化１３】
2008007566.tif 000015
【００５１】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニル基、炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基、ベンゾイル基または炭素原子数１ないし１２のアルキル置換ベンゾイル基；ベンゾイルオキシ基または炭素原子数１ないし１２のアルキル置換ベンゾイルオキシ基；【００５２】
【化１４】
2008007566.tif 000016
【００５３】
を表すか、また、式（II）中、置換基Ｒ7及びＲ8またはＲ8及びＲ11のおのおのの対は、結合している炭素原子と一緒になって、ベンゼン環を形成し、Ｒ11は水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルキル基、炭素原子数１ないし２５のアルキルチオ基、炭素原子数３ないし２５のアルケニル基、炭素原子数３ないし２５のアルキニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル置換−フェニル基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル置換−炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし２５のアルカノイル基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００５４】
【化１５】
2008007566.tif 000017
【００５５】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイル基；炭素原子数１ないし２５のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００５６】
【化１６】
2008007566.tif 000018
【００５７】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基または炭素原子数１ないし１２のアルキル−置換ベンゾイル基を表し；ただし、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10またはＲ11の少なくとも１つは水素原子でなく；Ｒ12及びＲ13はおのおの互いに独立して未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換フェニレン基またはナフチレン基を表し；Ｒ14は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；Ｒ15はヒドロキシ基、下記基【００５８】
【化１７】
2008007566.tif 000019
【００５９】
（基中、Ｍはｒ価の金属カチオンを表し、及びｒは１、２もしくは３を表す。）、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基または【００６０】
【化１８】
2008007566.tif 000020
【００６１】
を表し；Ｒ16及びＲ17はおのおの互いに独立して水素原子、ＣＦ3、炭素原子数１ないし１２のアルキル基またはフェニル基を表すか、あるいはＲ16及びＲ17は結合している炭素原子と一緒になって、未置換のもしくは１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成し；Ｒ18及びＲ19はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、フェニル基を表し；Ｒ20は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；Ｒ21は水素原子、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換フェニル基、炭素原子数１ないし２５のアルキル基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００６２】
【化１９】
2008007566.tif 000021
【００６３】
で中断された炭素原子数２ないし２５のアルキル基；未置換のもしくはフェニル部分において１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００６４】
【化２０】
2008007566.tif 000022
【００６５】
で中断され、かつ、未置換のもしくはフェニル部分において１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし２５のフェニルアルキル基を表し；あるいはＲ20及びＲ21は結合している炭素原子と一緒になって、未置換のもしくは１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし１２のシクロアルキレン環を形成し；Ｒ22は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；Ｒ23は水素原子、炭素原子数１ないし２５のアルカノイル基、炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００６６】
【化２１】
2008007566.tif 000023
【００６７】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイル基；ジ（炭素原子数１ないし６のアルキル）−ホスホネート基により置換された炭素原子数２ないし２５のアルカノイル基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニル基、テノイル基、フロイル基、ベンゾイル基または炭素原子数１ないし１２のアルキル置換ベンゾイル基；【００６８】
【化２２】
2008007566.tif 000024
【００６９】
（基中、ｓは１または２を表す。）を表し；Ｒ24及びＲ25はおのおの互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表し；Ｒ26は水素原子または炭素原子数１ないし８のアルキル基を表し；Ｒ27は直接結合、炭素原子数１ないし１８のアルキレン基；酸素原子、硫黄原子もしくは【００７０】
【化２３】
2008007566.tif 000025
【００７１】
で中断された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基；炭素原子数２ないし１８のアルケニレン基、炭素原子数２ないし２０のアルキリデン基、炭素原子数７ないし２０のフェニルアルキリデン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基、炭素原子数７ないし８のビシクロアルキレン基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換フェニレン基、【００７２】
【化２４】
2008007566.tif 000026
【００７３】
を表し；Ｒ28はヒドロキシ基、【００７４】
【化２５】
2008007566.tif 000027
【００７５】
、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基または【００７６】
【化２６】
2008007566.tif 000028
【００７７】
を表し；Ｒ29は酸素原子、−ＮＨ−または【００７８】
【化２７】
2008007566.tif 000029
【００７９】
を表し；Ｒ30は炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはフェニル基を表し；Ｒ31は水素原子または炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表す、で表される化合物に関する。【００８０】
ｎが１であり、Ｒ1が、おのおの未置換の、または炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基またはジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）−アミノ基で置換された、ナフチル基、フェナントリル基、アントリル基、５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル基、５，６，７，８−テトラヒドロ−１−ナフチル基、チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、ナフト［２，３−ｂ］チエニル基、チアントレニル基、ジベンゾフリル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサンチニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、インドリル基、インダゾリル基、プリニル基、キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタルアジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シノリル基、プテリジニル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナンチリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、フルオレニル基、フェノキサジニル基、もしくは上記式（II）で表される基である場合、好ましくは、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−フェニルアミノ−４−ナフチル基、１−メチルナフチル基、２−メチルナフチル基、１−メトキシ−２−ナフチル基、２−メトキシ−１−ナフチル基、１−ジメチルアミノ−２−ナフチル基、１，２−ジメチル−４−ナフチル基、１，２−ジメチル−６−ナフチル基、１，２−ジメチル−７−ナフチル基、１，３−ジメチル−６−ナフチル基、１，４−ジメチル−６−ナフチル基、１，５−ジメチル−２−ナフチル基、１，６−ジメチル−２−ナフチル基、１−ヒドロキシ−２−ナフチル基、２−ヒドロキシ−１−ナフチル基、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフチル基、７−フェナントリル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、３−ベンゾ［ｂ］チエニル基、５−ベンゾ［ｂ］チエニル基、２−ベンゾ［ｂ］チエニル基、４−ジベンゾフリル基、４，７−ジベンゾフリル基、４−メチル−７−ジベンゾフリル基、２−キサンテニル基、８−メチル−２−キサンテニル基、３−キサンテニル基、２−フェノキサンチニル基、２，７−フェノキサンチニル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、５−メチル−３−ピロリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル基、５−イミダゾリル基、２−メチル−４−イミダゾリル基、２−エチル−４−イミダゾリル基、２−エチル−５−イミダゾリル基、３−ピラゾリル基、１−メチル−３−ピラゾリル基、１−プロピル−４−ピラゾリル基、２−ピラジニル基、５，６−ジメチル−２−ピラジニル基、２−インドリジニル基、２−メチル−３−イソインドリル基、２−メチル−１−イソインドリル基、１−メチル−２−インドリル基、１−メチル−３−インドリル基、１，５−ジメチル−２−インドリル基、１−メチル−３−インダゾリル基、２，７−ジメチル−８−プリニル���、２−メトキシ−７−メチル−８−プリニル基、２−キノリジニル基、３−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、イソキノリル基、３−メトキシ−６−イソキノリル基、２−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、２−メトキシ−３−キノリル基、２−メトキシ−６−キノリル基、６−フタラジニル基、７−フタラジニル基、１−メトキシ−６−フタラジニル基、１，４−ジメトキシ−６−フタラジニル基、１，８−ナフチリジニ−２−イル基、２−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、２，３−ジメチル−６−キノキサリニル基、２，３−ジメトキシ−６−キノキサリニル基、２−キナゾリニル基、７−キナゾリニル基、２−ジメチルアミノ−６−キナゾリニル基、３−シノリニル基、６−シノリニル基、７−シノリニル基、３−メトキシ−７−シノリニル基、２−プテリジニル基、６−プテリジニル基、７−プテリジニル基、６，７−ジメトキシ−２−プテリジニル基、２−カルバゾリル基、２−カルバゾリル基、９−メチル−２−カルバゾリル基、９−メチル−３−カルバゾリル基、β−カルボリニ−３−イル基、１−メチル−β−カルボリニ−３−イル基、１−メチル−β−カルボリニ−６−イル基、３−フェニアントリジニル基、２−アクリジニル基、３−アクリジニル基、２−ペリミジニル基、１−メチル−５−ペリミジニル基、５−フェナントロリニル基、６−フェナントロリニル基、１−フェナジニル基、２−フェナジニル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリル基、２−フェノチアジニル基、３−フェノチアジニル基、１０−メチル−３−フェノチアジニル基、３−イソキサゾリル基、４−イソキサゾリル基、５−イソキサゾリル基、４−メチル−３−フラザニル基、２−フェノキサジニル基または１０−メチル−２−フェノキサジニル基である。【００８１】
上記の置換基のうち、上記式（II）で表される基、または各々未置換の、または炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、フェニルアミノ基またはジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）−アミノ基で置換された、ナフチル基、フェナントリル基、アントリル基、５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル基、５，６，７，８−テトラヒドロ−１−ナフチル基、チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、ナフト［２，３−ｂ］チエニル基、チアントレニル基、ジベンゾフリル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサンチニル基、ピロリル基、イソインドリル基、インドリル基、フェノチアジニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、フルオレニル基またはフェノキサジニル基が特に好ましく、代表的には１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−フェニルアミノ−４−ナフチル基、１−メチルナフチル基、２−メチルナフチル基、１−メトキシ−２−ナフチル基、２−メトキシ−１−ナフチル基、１−ジメチルアミノ−２−ナフチル基、１，２−ジメチル−４−ナフチル基、１，２−ジメチル−６−ナフチル基、１，２−ジメチル−７−ナフチル基、１，３−ジメチル−６−ナフチル基、１，４−ジメチル−６−ナフチル基、１，５−ジメチル−２−ナフチル基、１，６−ジメチル−２−ナフチル基、１−ヒドロキシ−２−ナフチル基、２−ヒドロキシ−１−ナフチル基、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフチル基、７−フェナントリル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、３−ベンゾ［ｂ］チエニル基、５−ベンゾ［ｂ］チエニル基、２−ベンゾ［ｂ］チエニル基、４−ジベンゾフリル基、４，７−ジベンゾフリル基、４−メチル−７−ジベンゾフリル基、２−キサンテニル基、８−メチル−２−キサンテニル基、３−キサンテニル基、２−フェノキサンチニル基、２，７−フェノキサンチニル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、２−フェノチアジニル基、３−フェノチアジニル基、１０−メチル−３−フェノチアジニル基である。【００８２】
ハロゲン置換基は、塩素置換基、臭素置換基またはヨウ素置換基であることが好ましく、塩素置換基がより好ましい。【００８３】
２５個までの炭素原子をもつアルカノイル基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイル基、エイコサノイル基またはドコサノイル基である。２ないし１８個の、より好ましくは２ないし１２個の、特に２ないし６個の炭素原子のアルカノイル基が好ましい。アセチル基が特別に好ましい。【００８４】
ジ（炭素原子数１ないし６のアルキル）ホスホネート基により置換されている炭素原子数２ないし２５のアルカノイル基は代表的には、（ＣＨ3ＣＨ2Ｏ）2ＰＯＣＨ2ＣＯ−、（ＣＨ3Ｏ）2ＰＯＣＨ2ＣＯ−、（ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2ＰＯＣＨ2ＣＯ−、（ＣＨ3ＣＨ2Ｏ）2ＰＯＣＨ2ＣＨ2ＣＯ−、（ＣＨ3Ｏ）2ＰＯＣＨ2ＣＨ2ＣＯ−、（ＣＨ3ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2ＰＯＣＨ2ＣＨ2ＣＯ−、（ＣＨ3ＣＨ2Ｏ）2ＰＯ（ＣＨ2）4ＣＯ−、（ＣＨ3ＣＨ2Ｏ）2ＰＯ（ＣＨ2）8ＣＯ−または（ＣＨ3ＣＨ2Ｏ）2ＰＯ（ＣＨ2）17ＣＯ−である。【００８５】
２５個までの炭素原子を持つアルカノイルオキシ基は、枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えば、ホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、デカノイルオキシ基、ウンデカノイルオキシ基、ドデカノイルオキシ基、トリデカノイルオキシ基、テトラデカノイルオキシ基、ペンタデカノイルオキシ基、ヘキサデカノイルオキシ基、ヘプタデカノイルオキシ基、オクタデカノイルオキシ基、エキコサノイルオキシ基またはドコサノイルオキシ基である。２ないし１８個の、より好ましくは２ないし１２個の、例えば２ないし６個の炭素原子のアルカノイルオキシ基が好ましい。アセトキシ基が特別に好ましい。【００８６】
３個ないし２５個の炭素原子を持つアルケノイル基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えば、プロペノイル基、２−ブテノイル基、３−ブテノイル基、イソブテノイル基、ｎ−２，４−ペンタジエノイル基、３−メチル−２−ブテノイル基、ｎ−２−オクテノイル基、ｎ−２−ドデセノイル基、イソ−ドデセノイル基、オレオイル基、ｎ−２−オクダデカノイル基またはｎ−４−オクタデカノイル基である。３ないし１８個の、より好ましくは３ないし１２個の、例えば３ないし６個の、最も好ましくは３ないし４個の炭素原子のアルケノイル基が好ましい。【００８７】
酸素原子、硫黄原子もしくは【００８８】
【化２８】
2008007566.tif 000030
【００８９】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルケノイル基は代表的にはＣＨ3ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＯ−またはＣＨ3ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ＝ＣＨＣＯ−である。【００９０】
３ないし２５個の炭素原子をもつアルケノイルオキシ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えば、プロペノイルオキシ基、２−ブテノイルオキシ基、３−ブテノイルオキシ基、イソブテノイルオキシ基、ｎ−２，４−ペンタジエノイルオキシ基、３−メチル−２−ブテノイルオキシ基、ｎ−２−オクテノイルオキシ基、ｎ−２−ドデセノイルオキシ基、イソ−ドデセノイルオキシ基、オレオイルオキシ基、ｎ−２−オクタデセノイルオキシ基またはｎ−４−オクタデセノイルオキシ基である。３ないし１８個の、より好ましくは３ないし１２個の、代表的には３ないし６個の、最も好ましくは３ないし４個の炭素原子のアルケノイルオキシ基が好ましい。【００９１】
酸素原子、硫黄原子もしくは【００９２】
【化２９】
2008007566.tif 000031
【００９３】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルケノイルオキシ基は代表的にはＣＨ3ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−またはＣＨ3ＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−である。【００９４】
酸素原子、硫黄原子もしくは【００９５】
【化３０】
2008007566.tif 000032
【００９６】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイル基は代表的にはＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2ＣＯ−，ＣＨ3−Ｓ−ＣＨ2ＣＯ−、ＣＨ3−ＮＨ−ＣＨ2ＣＯ−、ＣＨ3−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2ＣＯ−、ＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＣＨ2ＣＯ、ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）2Ｏ−ＣＨ2ＣＯ−、ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−）3Ｏ−ＣＨ2ＣＯ−またはＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−）4Ｏ−ＣＨ2ＣＯ−である。【００９７】
酸素原子、硫黄原子もしくは【００９８】
【化３１】
2008007566.tif 000033
【００９９】
で中断された炭素原子数３ないし２５のアルカノイルオキシ基は代表的にはＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2ＣＯＯ−、ＣＨ3−Ｓ−ＣＨ2ＣＯＯ−、ＣＨ3−ＮＨ−ＣＨ2ＣＯＯ−、ＣＨ3−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2ＣＯＯ−、ＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−ＯＣＨ2ＣＯＯ−、ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）2Ｏ−ＣＨ2ＣＯＯ−、ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−）3Ｏ−ＣＨ2ＣＯＯ−またはＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−）4Ｏ−ＣＨ2ＣＯＯ−である。【０１００】
炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニル基の例は、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、シクロヘプチルカルボニル基及びシクロオクチルカルボニル基である。シクロヘキシルカルボニル基が好ましい。【０１０１】
炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニルオキシ基の例は、シクロペンチルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘプチルカルボニルオキシ基及びシクロオクチルカルボニルオキシ基である。シクロヘキシルカルボニルオキシ基が好ましい。【０１０２】
好ましくは１ないし３個の、最も好ましくは１ないし２個のアルキル基をもつ、炭素原子数１ないし１２のアルキル−置換ベンゾイル基はｏ−、ｍ−もしくはｐ−メチルベンゾイル基、２，３−ジメチルベンゾイル基、２，４−ジメチルベンゾイル基、２，５−ジメチルベンゾイル基、２，６−ジメチルベンゾイル基、３，４−ジメチルベンゾイル基、３，５−ジメチルベンゾイル基、２−メチル−６−エチルベンゾイル基、４−第三ブチル−ベンゾイル基、２−エチルベンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、２，６−ジメチル−４−第三ブチルベンゾイル基または３，５−ジ第三ブチル−ブチルベンゾイル基である。好ましい置換基は炭素原子数１ないし８のアルキル基、最も好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。【０１０３】
好ましくは１ないし３個の、最も好ましくは１ないし２個のアルキル基をもつ、炭素原子数１ないし１２のアルキル−置換ベンゾイルオキシ基はｏ−、ｍ−もしくはｐ−メチルベンゾイルオキシ基、２，３−ジメチルベンゾイルオキ基、２，４−ジメチルベンゾイルオキシ基、２，５−ジメチルベンゾイルオキシ基、２，６−ジメチルベンゾイルオキシ基、３，４−ジメチルベンゾイルオキシ基、３，５−ジメチルベンゾイルオキシ基、２−メチル−６−エチルベンゾイルオキシ基、４−第三ブチルベンゾイルオキシ基、２−エチルベンンゾイルオキシ基、２，４，６−トリメチルベンゾイルオキシ基、２，６−ジメチル−４−第三ブチルベンゾイルオキシ基及び３，５−ジ第三ブチルベンゾイルオキシ基である。好ましい置換基は炭素原子数１ないし８のアルキル基、最も好ましくは炭素原子数１ないし４のアルキル基である。【０１０４】
２５個までの炭素原子をもつアルキル基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３，−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基またはドコシル基である。好ましいＲ2及びＲ4の意味は代表的には、炭素原子数１ないし１８のアルキル基である。特に好ましいＲ4の意味は炭素原子数１ないし４のアルキル基である。【０１０５】
３個ないし２５個の炭素原子を持つアルケニル基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えば、プロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−２，４−ペンタジエニル基、３−メチル−２−ブテニル基、ｎ−２−オクテニル基、ｎ−２−ドデセニル基、イソドデセニル基、オレイル基、ｎ−２−オクダデカニル基またはｎ−４−オクタデカニル基である。３ないし１８個の、より好ましくは３ないし１２個の、代表的には３ないし６個の、最も好ましくは３ないし４個の炭素原子のアルケニル基が好ましい。【０１０６】
３個ないし２５個の炭素原子を持つアルケニルオキシ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えば、プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、イソブテニルオキシ基、ｎ−２，４−ペンタジエニルオキシ基、３−メチル−２−ブテニルオキシ基、ｎ−２−オクテニルオキシ基、ｎ−２−ドデセニルオキシ基、イソドデセニルオキシ基、オレイルオキシ基、ｎ−２−オクダデカニルオキシ基またはｎ−４−オクタデカニルオキシ基である。３ないし１８個の、より好ましくは３ないし１２個の、代表的には３ないし６個の、最も好ましくは３ないし４個の炭素原子のアルケニルオキシ基が好ましい。【０１０７】
３個ないし２５個の炭素原子を持つアルキニル基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えば、プロピニル基（−ＣＨ2−Ｃ≡ＣＨ）、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ｎ−２−オクチニル基、ｎ−２−ドデシニル基である。３ないし１８個の、より好ましくは３ないし１２個の、代表的には３ないし６個の、最も好ましくは３ないし４個の炭素原子のアルキニル基が好ましい。【０１０８】
３個ないし２５個の炭素原子を持つアルキニルオキシ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えば、プロピニルオキシ基（−ＯＣＨ2−Ｃ≡ＣＨ）、２−ブチニルオキシ基、３−ブチニルオキシ基、ｎ−２−オクチニルオキシ基、ｎ−２−ドデシニルオキシ基である。３ないし１８個の、より好ましくは３ないし１２個の、代表的には３ないし６個の、最も好ましくは３ないし４個の炭素原子のアルキニルオキシ基が好ましい。【０１０９】
酸素原子、硫黄原子もしくは【０１１０】
【化３２】
2008007566.tif 000034
【０１１１】
で中断された炭素原子数２ないし２５のアルキル基は、代表的にはＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2−，ＣＨ3−Ｓ−ＣＨ2−、ＣＨ3−ＮＨ−ＣＨ2−、ＣＨ3−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2−、ＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−、ＣＨ3（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）2Ｏ−ＣＨ2−、ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−）3Ｏ−ＣＨ2−またはＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−）4Ｏ−ＣＨ2−である。【０１１２】
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は代表的には、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基及び２−フェニルエチル基である。ベンジル基及びα，α−ジメチルベンジル基が好ましい。【０１１３】
未置換のまたはフェニル部分で１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されている炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は代表的には、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、２−フェニルエチル基、２−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、４−メチルベンジル基、２，４−ジメチルベンジル基、２，６−ジメチルベンジル基または４−第三ブチルベンジル基である。ベンジル基が好ましい。【０１１４】
酸素原子、硫黄原子もしくは【０１１５】
【化３３】
2008007566.tif 000035
【０１１６】
で中断され、かつ、未置換のまたはフェニル部分で１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されている炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基は、例えばフェノキシメチル基、２−メチルフェノキシメチル基、３−メチルフェノキシメチル基、４−メチルフェノキシメチル基、２，４−メチルフェノキシメチル基、２，３−メチルフェノキシメチル基、フェニルチオメチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル−メチル基、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメチル基、４−第三ブチルフェノキシメチル基、４−第三ブチルフェニキシエトキシメチル基、２，４−ジ−第三ブチルフェノキシメチル、２，４−ジ−第三ブチルフェノキシエトキシメチル基、フェノキシエトキシエトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、ベンジルオキシエトキシメチル基、Ｎ−ベンジル−Ｎ−エチルメチル基またはＮ−ベンジル−Ｎ−イソプロピルメチル基のような、枝分かれしたまたは枝分かれしていない基である。【０１１７】
炭素原子数７ないし９のフェニルアルコキシ基は代表的には、ベンジルオキシ基、α−メチルベンジルオキシ基、α，α−ジメチルベンジルオキシ基及び２−フェニルエトキシ基である。ベンジルオキシ基が好ましい。【０１１８】
好ましくは１ないし３個、特に１または２個のアルキル基を含む、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェニル基の例は、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２−メチル−６−エチルフェニル基、４−第三ブチルフェニル基、２−エチルフェニル基及び２，６−ジエチルフェニル基である。【０１１９】
好ましくは１ないし３個、特に１または２個のアルキル基を含む、炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換されたフェノキシ基の例は、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２−メチル−６−エチルフェノキシ基、４−第三ブチルフェノキシ基、２−エチルフェノキシ基及び２，６−ジエチルフェノキシ基である。【０１２０】
未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基の例は、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、第三ブチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基及びシクロオクチル基である。シクロヘキシル基及び第三ブチルシクロヘキシル基が好ましい。【０１２１】
未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルコキシ基の例は、シクロペントキシ基、メチルシクロペントキシ基、ジメチルシクロペントキシ基、シクロヘクソキシ基、メチルシクロヘクソキシ基、ジメチルシクロヘクソキシ基、トリメチルシクロヘクソキシ基、第三ブチルシクロヘクソキシ基、シクロヘプトキシ基及びシクロオクトキシ基である。シクロヘクソキシ基及び第三ブチルシクロヘキシキシ基が好ましい。【０１２２】
２５個までの炭素原子をもつアルコキシ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ、デシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基またはオクタデシルオキシ基である。１ないし１２個の、好ましくは１ないし８個の、例えば１ないし６個の炭素原子のアルコキシ基が好ましい。【０１２３】
酸素原子、硫黄原子もしくは【０１２４】
【化３４】
2008007566.tif 000036
【０１２５】
で中断された炭素原子数２ないし２５のアルコキシ基は代表的には、ＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、ＣＨ3−Ｓ−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、ＣＨ3−ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、ＣＨ3−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、ＣＨ3−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、ＣＨ3（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）2Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−）3Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−または
ＣＨ3−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−）4Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−である。【０１２６】
２５個までの炭素原子をもつアルキルチオ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、テトラデシルチオ基、ヘキサデシルチオ基またはオクタデシルチオ基である。１ないし１２個の、好ましくは１ないし８個の、例えば１ないし６個の炭素原子のアルキルチオ基が好ましい。【０１２７】
４個までの炭素原子をもつアルキルアミノ基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基または第三ブチルアミノ基である。【０１２８】
ジ（炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ）基もまた、おのおの他方と独立した２つの部分は枝分かれしたまたは枝分かれしていないことを意味し、代表的には、ジメチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチル−ｎ−プロピルアミノ基、メチルイソプロピルアミノ基、メチル−ｎ−ブチルアミノ基、メチルイソブチルアミノ基、エチルイソプロピルアミノ基、エチル−ｎ−ブチルアミノ基、エチルイソブチルアミノ基、エチル−第三ブチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、イソプロピル−ｎ−ブチルアミノ基、イソプロピルイソブチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基またはジイソブチルアミノ基である。【０１２９】
２５個までの炭素原子を持つアルカノイルアミノ基は、枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブタノイルアミノ基、ペンタノイルアミノ基、ヘキサノイルアミノ基、ヘプタノイルアミノ基、オクタノイルアミノ基、ノナノイルアミノ基、デカノイルアミノ基、ウンデカノイルアミノ基、ドデカノイルアミノ基、トリデカノイルアミノ基、テトラデカノイルアミノ基、ペンタデカノイルアミノ基、ヘキサデカノイルアミノ基、ヘプタデカノイルアミノ基、オクタデカノイルアミノ基、エキコサノイルアミノ基またはドコサノイルアミノ基である。２ないし１８個の、好ましくは２ないし１２個の、例えば２ないし６個の炭素原子のアルカノイルアミノ基が好ましい。【０１３０】
炭素原子数１ないし１８の炭素原子をもつアルキレン基は枝分かれしたまたは枝分かれしていない基であり、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ドデカメチレン基またはオクタデカメチレン基である。炭素原子数１ないし１２のアルキレン基が好ましく、及び炭素原子数１ないし８のアルキレン基が特に好ましい。【０１３１】
１ないし３個の、好ましくは１ないし２個の枝分かれしたまたは枝分かれしていない基を含む、炭素原子数１ないし４のアルキル−置換炭素原子数５ないし１２のシクロアルキレン環の例は、シクロペンチレン、メチルシクロペンチレン、ジメチルシクロペンチレン、シクロヘキシレン、メチルシクロヘキシレン、ジメチルシクロヘキシレン、トリメチルシクロヘキシレン、第三ブチルシクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレンまたはシクロデシレン環である。シクロヘキシレン及び第三ブチルシクロヘキシレン環が好ましい。【０１３２】
酸素原子、硫黄原子または【０１３３】
【化３５】
2008007566.tif 000037
【０１３４】
で中断された炭素原子数２ないし１８のアルキレン基の例は−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−ＮＨ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）−ＣＨ2−、−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−）2Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）3Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ2−（Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2）4Ｏ−ＣＨ2−及び−ＣＨ2ＣＨ2−Ｓ−ＣＨ2ＣＨ2−である。【０１３５】
炭素原子数１ないし１８のアルケニレン基は代表的にはビニレン基、メチルビニレン基、オクテニルエチレン基またはドデセニルエチレン基である。炭素原子数２ないし８のアルケニレン基が好ましい。【０１３６】
２ないし２０個の炭素原子を持つアルキリデン基は代表的には、エチリデン基、プロピリデン基、ブチリデン基、ペンチリデン基、４−メチルペンチリデン基、ヘプチリデン基、ノニリデン基、トリデシリデン基、ノナデシリデン基、１−メチルエチリデン基、１−エチルプロピリデン基及び１−エチルペンチリデン基である。炭素原子数２ないし８のアルキリデン基が好ましい。【０１３７】
７ないし２０個の炭素原子を持つフェニルアルキリデン基の例はベンジリデン基、２−フェニルエチリデン基及び１−フェニル基−２−ヘキシリデン基である。炭素原子数７ないし９のフェニルアルキリデン基が好ましい。【０１３８】
炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基は２つの自由電子価及び少なくとも１つの環単位をもつ飽和炭化水素基であり、例えば、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基またはシクロオクチレン基である。シクロヘキシレン基が好ましい。【０１３９】
炭素原子数７ないし８のビシクロアルキレン基はビシクロヘプチレン基及びビシクロオクチレン基である。【０１４０】
未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換フェニレン基またはナフチレン基の例は１，２−，１，３−及び１，４−フェニレン基；１，２−，１，３−，１，４−，１，６−，１，７−，２，６−または２，７−ナフチレン基である。１，４−フェニレン基が好ましい。【０１４１】
好ましくは１ないし３個の、最も好ましくは１または２個の、枝分かれしたまたは枝分かれしていないアルキル基を含む、炭素原子数１ないし４のアルキル−置換炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環の例は、シクロペンチリデン、メチルシクロペンチリデン、ジメチルシクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、メチルシクロヘキシリデン、ジメチルシクロヘキシリデン、トリメチルシクロヘキシリデン、第三ブチルシクロヘキシリデン、シクロヘプチリデン及びシクロオクチリデンである。シクロヘキシリデン及び第三ブチルシクロヘキシリデンが好ましい。【０１４２】
１価、２価または３価の金属カチオンは好ましくはアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオンまたはアルミニウムカチオンであり、例えばＮａ+、Ｋ+、Ｍｇ++、Ｃａ++またはＡｌ+++である。【０１４３】
一般式（Ｌ）で表される化合物は、好ましくは、ｎが１であるとき、Ｒ1が、おのおの未置換の、またはパラ位において、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基もしくはジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）−アミノ基により置換されたフェニル基；１ないし５個のアルキル置換基中で同時に最大数１８個の炭素原子数を含む一ないし五置換されたアルキルフェニル基；おのおの未置換の、または炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基、ヒドロキシ基またはアミノ基で置換された、ナフチル基、ビフェニル基、テルフェニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオレニル基、カルバゾリル基、チエニル基、ピロリル基、フェノチアジニル基または５，６，７，８−テトラヒドロナフチル基を表す、化合物である。【０１４４】
好ましい一般式（Ｌ）で表される化合物は、ｎが２であるとき、Ｒ1が−Ｒ12−Ｘ−Ｒ13−を表し；Ｒ12及びＲ13がフェニレン基を表し；Ｘが酸素原子または−ＮＲ31−を表し；及びＲ31が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表す、化合物である。【０１４５】
さらに好ましい一般式（Ｌ）で表される化合物は、ｎが１であるとき、Ｒ1が、おのおの未置換の、または炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基またはジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）−アミノ基で置換された、ナフチル基、フェナントリル基、チエニル基、ジベンゾフリル基、カルバゾリル基、フルオレニル基を表すか、あるいは式（II）【０１４６】
【化３６】
2008007566.tif 000038
【０１４７】
で表される基を表し；Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10はおのおの互いに独立して水素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基；酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基；炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基；酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数２ないし１８のアルコキシ基；炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数３ないし１２のアルケニルオキシ基、炭素原子数３ないし１２のアルキニルオキシ基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルコキシ基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換フェニル基、フェノキシ基、シクロヘキシル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルコキシ基；炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４アルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし１２のアルカノイル基；酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数３ないし１２のアルカノイル基；炭素原子数３ないし１２のアルカノイルオキシ基；酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数３ないし１２のアルカノイルオキシ基；炭素原子数１ないし１２のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし１２のアルケノイル基、炭素原子数３ないし１２のアルケノイルオキシ基、シクロヘキシルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、ベンゾイル基または炭素原子数１ないし４のアルキル−置換ベンゾイル基；ベンゾイルオキシ基または炭素原子数１ないし４のアルキル置換ベンゾイルオキシ基；【０１４８】
【化３７】
2008007566.tif 000039
【０１４９】
を表すか、また、式（II）中、置換基Ｒ7及びＲ8またはＲ8及びＲ11のおのおのの対は、結合している炭素原子と一緒になって、ベンゼン環を形成し、Ｒ11は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル置換−フェニル基、シクロヘキシル基、炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基、ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基、炭素原子数１ないし１２のアルカノイル基；酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数３ないし１２のアルカノイル基；炭素原子数１ないし１２のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし１２のアルケノイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基または炭素原子数１ないし４のアルキル−置換ベンゾイル基を表し；ただし、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10またはＲ11の少なくとも１つは水素原子でなく；Ｒ15はヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基または【０１５０】
【化３８】
2008007566.tif 000040
【０１５１】
を表し；Ｒ18及びＲ19はおのおの互いに独立して、水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；Ｒ20は水素原子を表し；Ｒ21は水素原子、フェニル基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数２ないし１８のアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；酸素原子もしくは硫黄原子で中断され、かつ、未置換のもしくはフェニル部分において１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で置換された炭素原子数７ないし１８のフェニルアルキル基を表し；あるいはＲ20及びＲ21は結合している炭素原子と一緒になって、未置換のもしくは１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたシクロヘキシレン環を形成し；Ｒ22は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；Ｒ23は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし１２のアルケノイル基；酸素原子もしくは硫黄原子で中断された炭素原子数３ないし１２のアルカノイル基；ジ（炭素原子数１ないし６のアルキル）−ホスホネート基により置換された炭素原子数２ないし１２のアルカノイル基；炭素原子数６ないし９のシクロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基；【０１５２】
【化３９】
2008007566.tif 000041
【０１５３】
（基中、ｓは１または２を表す。）を表し；Ｒ24及びＲ25はおのおの互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表し；Ｒ26は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；Ｒ27は炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、炭素原子数２ないし８のアルケニレン基、炭素原子数２ないし８のアルキリデン基、炭素原子数７ないし１２のフェニルアルキリデン基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキレン基、フェニレン基を表し；Ｒ28はヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基または【０１５４】
【化４０】
2008007566.tif 000042
【０１５５】
を表し；Ｒ29は酸素原子または−ＮＨ−を表しＲ30は炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはフェニル基を表す、化合物である。【０１５６】
また、好ましいものは、ｎが１であるとき、Ｒ1が、フェナントリル基、チエニル基、ジベンゾフリル基；未置換のもしくは炭素原子数１ないし４のアルキル−置換カルバゾリル基；またはフルオレニル基を表すか、あるいは式（II）【０１５７】
【化４１】
2008007566.tif 000043
【０１５８】
で表される基を表し；Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10はおのおの互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数３ないし４のアルケニルオキシ基、炭素原子数３ないし４のアルキニルオキシ基、フェニル基、ベンゾイル基、ベンゾイルオキシ基または【０１５９】
【化４２】
2008007566.tif 000044
【０１６０】
を表し、Ｒ11は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、フェニル基またはシクロヘキシル基を表し；ただし、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10またはＲ11の少なくとも１つは水素原子でなく；Ｒ20は水素原子を表し；Ｒ21は水素原子、フェニル基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基を表し；あるいはＲ20及びＲ21は結合している一緒になって、未置換のもしくは１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換されたシクロヘキシレン環を形成し；Ｒ22は水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；Ｒ23は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルカノイル基またはベンゾイル基を表す、一般式（Ｌ）で表される化合物である。【０１６１】
Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10はおのおの互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、及びＲ11は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基またはフェニル基を表し；ただし、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10またはＲ11の少なくとも１つは水素原子でない、一般式（Ｌ）で表される化合物は特別に好ましい。【０１６２】
より好ましい一般式（Ｌ）で表される化合物は、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5はおのおの互いに独立して水素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、ベンジル基、フェニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルキルチオ基、炭素原子数１ないし１８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１ないし１８のアルカノイルアミノ基、炭素原子数３ないし１８のアルケノイルオキシ基またはベンゾイルオキシ基を表し（ただし、Ｒ2が水素原子またはメチル基の場合、Ｒ7またはＲ9はヒドロキシ基または炭素原子数１ないし２５のアルカノイルオキシ基を表さない。）；あるいは置換基Ｒ2及びＲ3または、Ｒ3及びＲ4またはＲ4及びＲ5は結合している炭素原子と一緒になって、ベンゼン環を形成し；Ｒ4はさらに−（ＣＨ2）p−ＣＯＲ15または−（ＣＨ2）qＯＨ（式中、ｐは１または２を表し；ｑは２、３、４、５または６を表す。）を表し；あるいはＲ3、Ｒ5及びＲ6が水素原子を表す場合、Ｒ4はさらに式（III）で表される基を表し；Ｒ15はヒドロキシ基、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基または【０１６３】
【化４３】
2008007566.tif 000045
【０１６４】
を表し；Ｒ16及びＲ17はメチル基を表すか、または結合している炭素原子と一緒になって、未置換のもしくは１ないし３個の炭素原子数１ないし４のアルキル基により置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキリデン環を形成し；Ｒ24及びＲ25はおのおの互いに独立して水素原子または炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表す、化合物である。【０１６５】
特に好ましい一般式（Ｌ）で表される化合物はまた、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の少なくとも２つが水素原子である、化合物である。【０１６６】
特に好ましい一般式（Ｌ）で表される化合物は、Ｒ3及びＲ5が水素原子である化合物である。【０１６７】
非常に特別に好ましい一般式（Ｌ）で表される化合物は、Ｒ2が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し；Ｒ3が水素原子を表し；Ｒ4が炭素原子数１ないし４のアルキル基を表すかまたは、Ｒ6が水素原子を表す場合、Ｒ4はさらに式（III）で表される基を表し；Ｒ5は水素原子を表し、ならびにＲ16及びＲ17は結合している炭素原子と一緒になってシクロヘキシリデン環を形成する、化合物である。【０１６８】
一般式（Ｌ）で表される化合物はそれ自体公知の方法によって製造できる。【０１６９】
一般式（Ｌ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０１７０】
【化４４】
2008007566.tif 000046
【０１７１】
【化４５】
2008007566.tif 000047
【０１７２】
【化４６】
2008007566.tif 000048
【０１７３】
また、最も好ましい一般式（Ｌ）で表される化合物は下記構造式で示す化合物であり、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）よりＨＰ−１３６という名称で製造されている。【０１７４】
【化４７】
2008007566.tif 000049
【０１７５】
《トリアジン環化合物》
本発明では、トリアジン環化合物の少なくとも１種を用いるが、中でも前記一般式（１）で示されるトリアジン環化合物をセルロースエステルに添加することが好ましい。【０１７６】
トリアジン環化合物は単独で用いてもよく、混合して用いてもよい。好ましい含有量は、形成された偏光板保護フィルム中のセルロースエステルに対し、０．１質量％以上１５質量％以下であり、より好ましくは０．３質量％以上１２質量％以下、さらに好ましくは０．８質量％以上８質量％以下である。トリアジン環化合物を２種以上混合して用いた場合、これらの含有量は添加されるトリアジン環化合物の総和を指す。【０１７７】
前記一般式（１）で示されるトリアジン環化合物の式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、芳香族環又は複素環を表し；Ｘ1は単結合、−ＮＲ4−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ2は単結合、−ＮＲ5−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し；Ｘ3は単結合、−ＮＲ6−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。【０１７８】
上記一般式（１）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3は、それぞれ独立して、芳香族環又は複素環を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3が表す芳香族環は、フェニル又はナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3が表す芳香族環は、置換基を有していてもよく、置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。【０１７９】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3が表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、２−ピリジル又は４−ピリジル）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記芳香族環が有してもよい置換基の例と同様である。Ｘ１、Ｘ２及びＸ３がそれぞれ単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがさらに好ましく、５員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子（例えばＯ、Ｓ）を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。【０１８０】
【化４８】
2008007566.tif 000050
【０１８１】
【化４９】
2008007566.tif 000051
【０１８２】
さらに（１）式中Ｘ1は、単結合、−ＮＲ4−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、Ｘ2は、単結合、−ＮＲ5−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、Ｘ3は単結合、−ＮＲ6−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、芳香族環基又は複素環基を表す。【０１８３】
Ｒ4、Ｒ5及びＲ6がそれぞれ表すアルキル基は、環状アルキル基であっても鎖状アルキル基であってもよいが、鎖状アルキル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基を表すのがより好ましい。アルキル基の炭素原子数は１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることがさらに好ましく、１〜８がさらにまた好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ）及びアシルオキシ基（例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）が含まれる。【０１８４】
Ｒ4、Ｒ5及びＲ6がそれぞれ表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがさらにまた好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。Ｒ4、Ｒ5及びＲ6がそれぞれ表す芳香族環基及び複素環基は、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3がそれぞれ表す芳香族環及び複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基及び複素環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例にはＲ1、Ｒ2、及びＲ3の芳香族環及び複素環の置換基と同様である。【０１８５】
これらの中で特に好ましいものは、Ｘ1が−ＮＲ4−、Ｘ2が−ＮＲ5−、Ｘ3が−ＮＲ6−である。【０１８６】
本発明におけるトリアジン環化合物の分子量は、３００〜２，０００であることが好ましい。該化合物の沸点は２６０℃以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置｛例えば、“ＴＧ／ＤＴＡ１００”セイコー電子工業（株）製｝を用いて測定できる。【０１８７】
以下に本発明に用いられるトリアジン環を有する化合物の具体例を示す。先ず、これらのうち、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3が−ＮＨ−であり、且つ前記Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が同一ではない化合物の具体例を示す。【０１８８】
【化５０】
2008007566.tif 000052
【０１８９】
【化５１】
2008007566.tif 000053
【０１９０】
【化５２】
2008007566.tif 000054
【０１９１】
【化５３】
2008007566.tif 000055
【０１９２】
【化５４】
2008007566.tif 000056
【０１９３】
【化５５】
2008007566.tif 000057
【０１９４】
【化５６】
2008007566.tif 000058
【０１９５】
【化５７】
2008007566.tif 000059
【０１９６】
【化５８】
2008007566.tif 000060
【０１９７】
【化５９】
2008007566.tif 000061
【０１９８】
【化６０】
2008007566.tif 000062
【０１９９】
また、Ｘ1が−ＮＲ4−、Ｘ2が−ＮＲ5−、Ｘ3が−ＮＲ6−であり、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は同一ではなく、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3も同一ではない化合物の具体例としては：【０２００】
【化６１】
2008007566.tif 000063
【０２０１】
さらに、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3が−ＮＨ−であって、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3が同一（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ）の化合物としては、下記一般式（１−１）に示される化合物を挙げることができる。なお、下記の一般式における複数のＲは同一の基を意味し、Ｒの定義は、具体例番号と共に一般式の後に示す。【０２０２】
【化６２】
2008007566.tif 000064
【０２０３】
Ｒ：
（２−１）フェニル
（２−２）４−ブチルフェニル
（２−３）４−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−４）４−（５−ノネニル）フェニル
（２−５）ｐ−ビフェニリル
（２−６）４−エトキシカルボニルフェニル
（２−７）４−ブトキシフェニル
（２−８）４−メチルフェニル
（２−９）４−クロロフェニル
（２−１０）４−フェニルチオフェニル
（２−１１）４−ベンゾイルフェニル
（２−１２）４−アセトキシフェニル
（２−１３）４−ベンゾイルオキシフェニル
（２−１４）４−フェノキシカルボニルフェニル
（２−１５）４−メトキシフェニル
（２−１６）４−アニリノフェニル
（２−１７）４−イソブチリルアミノフェニル
（２−１８）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２−１９）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（２−２０）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２−２１）４−フェノキシフェニル
（２−２２）４−ヒドロキシフェニル
（２−２３）３−ブチルフェニル
（２−２４）３−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−２５）３−（５−ノネニル）フェニル
（２−２６）ｍ−ビフェニリル
（２−２７）３−エトキシカルボニルフェニル
（２−２８）３−ブトキシフェニル
（２−２９）３−メチルフェニル
（２−３０）３−クロロフェニル
（２−３１）３−フェニルチオフェニル
（２−３２）３−ベンゾイルフェニル
（２−３３）３−アセトキシフェニル
（２−３４）３−ベンゾイルオキシフェニル
（２−３５）３−フェノキシカルボニルフェニル
（２−３６）３−メトキシフェニル
（２−３７）３−アニリノフェニル
（２−３８）３−イソブチリルアミノフェニル
（２−３９）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２−４０）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（２−４１）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２−４２）３−フェノキシフェニル
（２−４３）３−ヒドロキシフェニル
（２−４４）２−ブチルフェニル
（２−４５）２−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−４６）２−（５−ノネニル）フェニル
（２−４７）ｏ−ビフェニリル
（２−４８）２−エトキシカルボニルフェニル
（２−４９）２−ブトキシフェニル
（２−５０）２−メチルフェニル
（２−５１）２−クロロフェニル
（２−５２）２−フェニルチオフェニル
（２−５３）２−ベンゾイルフェニル
（２−５４）２−アセトキシフェニル
（２−５５）２−ベンゾイルオキシフェニル
（２−５６）２−フェノキシカルボニルフェニル
（２−５７）２−メトキシフェニル
（２−５８）２−アニリノフェニル
（２−５９）２−イソブチリルアミノフェニル
（２−６０）２−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２−６１）２−（３−エチルウレイド）フェニル
（２−６２）２−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２−６３）２−フェノキシフェニル
（２−６４）２−ヒドロキシフェニル
（２−６５）３，４−ジブチルフェニル
（２−６６）３，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−６７）３，４−ジフェニルフェニル
（２−６８）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（２−６９）３，４−ジドデシルオキシフェニル
（２−７０）３，４−ジメチルフェニル
（２−７１）３，４−ジクロロフェニル
（２−７２）３，４−ジベンゾイルフェニル
（２−７３）３，４−ジアセトキシフェニル
（２−７４）３，４−ジメトキシフェニル
（２−７５）３，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−７６）３，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（２−７７）３，４−ジフェノキシフェニル
（２−７８）３，４−ジヒドロキシフェニル
（２−７９）３，５−ジブチルフェニル
（２−８０）３，５−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−８１）３，５−ジフェニルフェニル
（２−８２）３，５−ジエトキシカルボニルフェニル
（２−８３）３，５−ジドデシルオキシフェニル
（２−８４）３，５−ジメチルフェニル
（２−８５）３，５−ジクロロフェニル
（２−８６）３，５−ジベンゾイルフェニル
（２−８７）３，５−ジアセトキシフェニル
（２−８８）３，５−ジメトキシフェニル
（２−８９）３，５−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−９０）３，５−ジイソブチリルアミノフェニル
（２−９１）３，５−ジフェノキシフェニル
（２−９２）３，５−ジヒドロキシフェニル
（２−９３）２，４−ジブチルフェニル
（２−９４）２，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−９５）２，４−ジフェニルフェニル
（２−９６）２，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（２−９７）２，４−ジドデシルオキシフェニル
（２−９８）２，４−ジメチルフェニル
（２−９９）２，４−ジクロロフェニル
（２−１００）２，４−ジベンゾイルフェニル
（２−１０１）２，４−ジアセトキシフェニル
（２−１０２）２，４−ジメトキシフェニル
（２−１０３）２，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−１０４）２，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（２−１０５）２，４−ジフェノキシフェニル
（２−１０６）２，４−ジヒドロキシフェニル
（２−１０７）２，３−ジブチルフェニル
（２−１０８）２，３−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−１０９）２，３−ジフェニルフェニル
（２−１１０）２，３−ジエトキシカルボニルフェニル
（２−１１１）２，３−ジドデシルオキシフェニル
（２−１１２）２，３−ジメチルフェニル
（２−１１３）２，３−ジクロロフェニル
（２−１１４）２，３−ジベンゾイルフェニル
（２−１１５）２，３−ジアセトキシフェニル
（２−１１７）２，３−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−１１８）２，３−ジイソブチリルアミノフェニル
（２−１１９）２，３−ジフェノキシフェニル
（２−１２０）２，３−ジヒドロキシフェニル
（２−１２１）２，６−ジブチルフェニル
（２−１２２）２，６−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−１２３）２，６−ジフェニルフェニル
（２−１２４）２，６−ジエトキシカルボニルフェニル
（２−１２５）２，６−ジドデシルオキシフェニル
（２−１２６）２，６−ジメチルフェニル
（２−１２７）２，６−ジクロロフェニル
（２−１２８）２，６−ジベンゾイルフェニル
（２−１２９）２，６−ジアセトキシフェニル
（２−１３０）２，６−ジメトキシフェニル
（２−１３１）２，６−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−１３２）２，６−ジイソブチリルアミノフェニル
（２−１３３）２，６−ジフェノキシフェニル
（２−１３４）２，６−ジヒドロキシフェニル
（２−１３５）３，４，５−トリブチルフェニル
（２−１３６）３，４，５−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−１３７）３，４，５−トリフェニルフェニル
（２−１３８）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（２−１３９）３，４，５−トリドデシルオキシフェニル
（２−１４０）３，４，５−トリメチルフェニル
（２−１４１）３，４，５−トリクロロフェニル
（２−１４２）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（２−１４３）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（２−１４４）３，４，５−トリメトキシフェニル
（２−１４５）３，４，５−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−１４６）３，４，５−トリイソブチリルアミノフェニル
（２−１４７）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（２−１４８）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
（２−１４９）２，４，６−トリブチルフェニル
（２−１５０）２，４，６−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２−１５１）２，４，６−トリフェニルフェニル
（２−１５２）２，４，６−トリエトキシカルボニルフェニル
（２−１５３）２，４，６−トリドデシルオキシフェニル
（２−１５４）２，４，６−トリメチルフェニル
（２−１５５）２，４，６−トリクロロフェニル
（２−１５６）２，４，６−トリベンゾイルフェニル
（２−１５７）２，４，６−トリアセトキシフェニル
（２−１５８）２，４，６−トリメトキシフェニル
（２−１５９）２，４，６−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２−１６０）２，４，６−トリイソブチリルアミノフェニル
（２−１６１）２，４，６−トリフェノキシフェニル
（２−１６２）２，４，６−トリヒドロキシフェニル
（２−１６３）ペンタフルオロフェニル
（２−１６４）ペンタクロロフェニル
（２−１６５）ペンタメトキシフェニル
（２−１６６）６−Ｎ−メチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（２−１６７）５−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１６８）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１６９）５−エトキシ−７−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１７０）３−メトキシ−２−ナフチル
（２−１７１）１−エトキシ−２−ナフチル
（２−１７２）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（２−１７３）５−メトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１７４）１−（４−メチルフェニル）−２−ナフチル
（２−１７５）６，８−ジ−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１７６）６−Ｎ−２−アセトキシエチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（２−１７７）５−アセトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（２−１７８）３−ベンゾイルオキシ−２−ナフチル
（２−１７９）５−アセチルアミノ−１−ナフチル
（２−１８０）２−メトキシ−１−ナフチル
（２−１８１）４−フェノキシ−１−ナフチル
（２−１８２）５−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（２−１８３）３−Ｎ−メチルカルバモイル−４−ヒドロキシ−１−ナフチル
（２−１８４）５−メトキシ−６−Ｎ−エチルスルファモイル−１−ナフチル
（２−１８５）７−テトラデシルオキシ−１−ナフチル
（２−１８６）４−（４−メチルフェノキシ）−１−ナフチル
（２−１８７）６−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（２−１８８）３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル−４−メトキシ−１−ナフチル
（２−１８９）５−メトキシ−６−Ｎ−ベンジルスルファモイル−１−ナフチル
（２−１９０）３，６−ジ−Ｎ−フェニルスルファモイル−１−ナフチル
さらにまた、Ｘ1が−ＮＲ4−、Ｘ2が−ＮＲ5−、Ｘ3が−ＮＲ6−であり、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は同一（Ｒ4＝Ｒ5＝Ｒ6＝Ｒ）で、且つＲ1、Ｒ2及びＲ3がフェニル基である化合物の具体例としては、下記一般式（１−２）に示される化合物を挙げることができる。なお、下記の一般式における複数のＲに関しては、前記と同様である。【０２０４】
【化６３】
2008007566.tif 000065
【０２０５】
Ｒ：
（２−１９１）メチル
（２−１９２）フェニル
（２−１９３）ブチル
次に、本発明に用いられるトリアジン環を有する化合物のうち、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3の少なくとも１つがＯ又はＳを含む連結基であって、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3が同一（Ｒ1＝Ｒ2＝Ｒ3＝Ｒ）の化合物としては、化合物の具体例としては、下記一般式（１−４）〜（１−９）の化合物を挙げることができる。なお、下記の一般式における複数のＲに関しては、前記と同様である。【０２０６】
【化６４】
2008007566.tif 000066
【０２０７】
Ｒ：
（３−１）フェニル
（３−２）３−エトキシカルボニルフェニル
（３−３）３−ブトキシフェニル
（３−４）ｍ−ビフェニリル
（３−５）３−フェニルチオフェニル
（３−６）３−クロロフェニル
（３−７）３−ベンゾイルフェニル
（３−８）３−アセトキシフェニル
（３−９）３−ベンゾイルオキシフェニル
（３−１０）３−フェノキシカルボニルフェニル
（３−１１）３−メトキシフェニル
（３−１２）３−アニリノフェニル
（３−１３）３−イソブチリルアミノフェニル
（３−１４）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−１５）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−１６）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−１７）３−メチルフェニル
（３−１８）３−フェノキシフェニル
（３−１９）３−ヒドロキシフェニル
（３−２０）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−２１）４−ブトキシフェニル
（３−２２）ｐ−ビフェニリル
（３−２３）４−フェニルチオフェニル
（３−２４）４−クロロフェニル
（３−２５）４−ベンゾイルフェニル
（３−２６）４−アセトキシフェニル
（３−２７）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−２８）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−２９）４−メトキシフェニル
（３−３０）４−アニリノフェニル
（３−３１）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−３２）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−３３）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−３４）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−３５）４−メチルフェニル
（３−３６）４−フェノキシフェニル
（３−３７）４−ヒドロキシフェニル
（３−３８）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（３−３９）３，４−ジブトキシフェニル
（３−４０）３，４−ジフェニルフェニル
（３−４１）３，４−ジフェニルチオフェニル
（３−４２）３，４−ジクロロフェニル
（３−４３）３，４−ジベンゾイルフェニル
（３−４４）３，４−ジアセトキシフェニル
（３−４５）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（３−４６）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（３−４７）３，４−ジメトキシフェニル
（３−４８）３，４−ジアニリノフェニル
（３−４９）３，４−ジメチルフェニル
（３−５０）３，４−ジフェノキシフェニル
（３−５１）３，４−ジヒドロキシフェニル
（３−５２）２−ナフチル
（３−５３）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（３−５４）３，４，５−トリブトキシフェニル
（３−５５）３，４，５−トリフェニルフェニル
（３−５６）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（３−５７）３，４，５−トリクロロフェニル
（３−５８）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（３−５９）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（３−６０）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（３−６１）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（３−６２）３，４，５−トリメトキシフェニル
（３−６３）３，４，５−トリアニリノフェニル
（３−６４）３，４，５−トリメチルフェニル
（３−６５）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（３−６６）３，４，５−トリヒドロキシフェニル【０２０８】
【化６５】
2008007566.tif 000067
【０２０９】
Ｒ：
（３−６７）フェニル
（３−６８）３−エトキシカルボニルフェニル
（３−６９）３−ブトキシフェニル
（３−７０）ｍ−ビフェニリル
（３−７１）３−フェニルチオフェニル
（３−７２）３−クロロフェニル
（３−７３）３−ベンゾイルフェニル
（３−７４）３−アセトキシフェニル
（３−７５）３−ベンゾイルオキシフェニル
（３−７６）３−フェノキシカルボニルフェニル
（３−７７）３−メトキシフェニル
（３−７８）３−アニリノフェニル
（３−７９）３−イソブチリルアミノフェニル
（３−８０）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−８１）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−８２）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−８３）３−メチルフェニル
（３−８４）３−フェノキシフェニル
（３−８５）３−ヒドロキシフェニル
（３−８６）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−８７）４−ブトキシフェニル
（３−８８）ｐ−ビフェニリル
（３−８９）４−フェニルチオフェニル
（３−９０）４−クロロフェニル
（３−９１）４−ベンゾイルフェニル
（３−９２）４−アセトキシフェニル
（３−９３）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−９４）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−９５）４−メトキシフェニル
（３−９６）４−アニリノフェニル
（３−９７）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−９８）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−９９）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−１００）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−１０１）４−メチルフェニル
（３−１０２）４−フェノキシフェニル
（３−１０３）４−ヒドロキシフェニル
（３−１０４）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（３−１０５）３，４−ジブトキシフェニル
（３−１０６）３，４−ジフェニルフェニル
（３−１０７）３，４−ジフェニルチオフェニル
（３−１０８）３，４−ジクロロフェニル
（３−１０９）３，４−ジベンゾイルフェニル
（３−１１０）３，４−ジアセトキシフェニル
（３−１１１）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（３−１１２）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（３−１１３）３，４−ジメトキシフェニル
（３−１１４）３，４−ジアニリノフェニル
（３−１１５）３，４−ジメチルフェニル
（３−１１６）３，４−ジフェノキシフェニル
（３−１１７）３，４−ジヒドロキシフェニル
（３−１１８）２−ナフチル
（３−１１９）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（３−１２０）３，４，５−トリブトキシフェニル
（３−１２１）３，４，５−トリフェニルフェニル
（３−１２２）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（３−１２３）３，４，５−トリクロロフェニル
（３−１２４）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（３−１２５）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（３−１２６）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（３−１２７）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（３−１２８）３，４，５−トリメトキシフェニル
（３−１２９）３，４，５−トリアニリノフェニル
（３−１３０）３，４，５−トリメチルフェニル
（３−１３１）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（３−１３２）３，４，５−トリヒドロキシフェニル【０２１０】
【化６６】
2008007566.tif 000068
【０２１１】
Ｒ：
（３−１３３）フェニル
（３−１３４）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−１３５）４−ブトキシフェニル
（３−１３６）ｐ−ビフェニリル
（３−１３７）４−フェニルチオフェニル
（３−１３８）４−クロロフェニル
（３−１３９）４−ベンゾイルフェニル
（３−１４０）４−アセトキシフェニル
（３−１４１）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−１４２）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−１４３）４−メトキシフェニル
（３−１４４）４−アニリノフェニル
（３−１４５）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−１４６）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−１４７）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−１４８）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−１４９）４−メチルフェニル
（３−１５０）４−フェノキシフェニル
（３−１５１）４−ヒドロキシフェニル【０２１２】
【化６７】
2008007566.tif 000069
【０２１３】
Ｒ：
（３−１５２）フェニル
（３−１５３）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−１５４）４−ブトキシフェニル
（３−１５５）ｐ−ビフェニリル
（３−１５６）４−フェニルチオフェニル
（３−１５７）４−クロロフェニル
（３−１５８）４−ベンゾイルフェニル
（３−１５９）４−アセトキシフェニル
（３−１６０）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−１６１）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−１６２）４−メトキシフェニル
（３−１６３）４−アニリノフェニル
（３−１６４）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−１６５）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−１６６）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−１６７）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−１６８）４−メチルフェニル
（３−１６９）４−フェノキシフェニル
（３−１７０）４−ヒドロキシフェニル【０２１４】
【化６８】
2008007566.tif 000070
【０２１５】
Ｒ：
（３−１７１）フェニル
（３−１７２）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−１７３）４−ブトキシフェニル
（３−１７４）ｐ−ビフェニリル
（３−１７５）４−フェニルチオフェニル
（３−１７６）４−クロロフェニル
（３−１７７）４−ベンゾイルフェニル
（３−１７８）４−アセトキシフェニル
（３−１７９）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−１８０）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−１８１）４−メトキシフェニル
（３−１８２）４−アニリノフェニル
（３−１８３）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−１８４）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−１８５）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−１８６）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−１８７）４−メチルフェニル
（３−１８８）４−フェノキシフェニル
（３−１８９）４−ヒドロキシフェニル【０２１６】
【化６９】
2008007566.tif 000071
【０２１７】
Ｒ：
（３−１９０）フェニル
（３−１９１）４−エトキシカルボニルフェニル
（３−１９２）４−ブトキシフェニル
（３−１９３）ｐ−ビフェニリル
（３−１９４）４−フェニルチオフェニル
（３−１９５）４−クロロフェニル
（３−１９６）４−ベンゾイルフェニル
（３−１９７）４−アセトキシフェニル
（３−１９８）４−ベンゾイルオキシフェニル
（３−１９９）４−フェノキシカルボニルフェニル
（３−２００）４−メトキシフェニル
（３−２０１）４−アニリノフェニル
（３−２０２）４−イソブチリルアミノフェニル
（３−２０３）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（３−２０４）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（３−２０５）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３−２０６）４−メチルフェニル
（３−２０７）４−フェノキシフェニル
（３−２０８）４−ヒドロキシフェニル
またＸ1、Ｘ2及びＸ3の少なくとも１つがＯ又はＳを含む連結基である化合物の具体例としては、さらに次の化合物を挙げることができる。【０２１８】
【化７０】
2008007566.tif 000072
【０２１９】
３番目として、本発明に用いられるトリアジン環を有する化合物のうち、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3が何れも単結合であり、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が同一である化合物の具体例としては、下記一般式（１−１０）の化合物を挙げることができる。なお、下記の一般式における複数のＲに関しては、前記と同様である。【０２２０】
【化７１】
2008007566.tif 000073
【０２２１】
Ｒ：
（４−１）フェニル
（４−２）４−エトキシカルボニルフェニル
（４−３）４−ブトキシフェニル
（４−４）ｐ−ビフェニリル
（４−５）４−ピリジル
（４−６）２−ナフチル
（４−７）２−メチルフェニル
（４−８）３，４−ジメトキシフェニル
（４−９）２−フリル
さらに：【０２２２】
【化７２】
2008007566.tif 000074
【０２２３】
《酸化防止剤》
セルロースエステルは、熱だけでなく酸素によっても分解が促進されるため、本発明の偏光板保護フィルムにおいては安定化剤として酸化防止剤を含有することが好ましい。【０２２４】
特に、溶融流延法による製膜が行われるような高温環境下では、セルロースエステルフィルム成形材料の熱、及び酸素による分解が促進されるため、酸化防止剤を含有することが好ましい。【０２２５】
本発明において有用な酸化防止剤としては、酸素によるセルロースエステルフィルム成形材料の劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも有用な酸化防止剤としては、フェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物、耐熱加工安定剤、酸素スカベンジャー等が挙げられ、これらの中でも、特に本発明では必須成分であるフェノール系化合物の他ではリン系化合物が好ましい。これらの化合物を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、熱や熱酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。【０２２６】
（フェノール系化合物）
フェノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されており、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。フェノール系化合物の添加量については、セルロースエステルの種類やその他の添加剤の種類や量によって適宜調整すればよく、特に限定はないが、形成された偏光板保護フィルム中のセルロースエステルに対し、０．０１〜１０質量％程度添加することが好ましく、０．２〜２．０質量％となることが特に好ましい。このような化合物のうち好ましい化合物として、下記一般式（Ａ）で表される化合物が好ましい。【０２２７】
【化７３】
2008007566.tif 000075
【０２２８】
式中、Ｒ11〜Ｒ15は置換基を表す。置換基としては、水素原子、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン−オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げられる。これらの置換基はさらに置換されてもよい。【０２２９】
また、Ｒ11は水素原子、Ｒ12、Ｒ16はｔ−ブチル基であるフェノール系化合物が好ましい。フェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリトリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート���、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトール−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのフェノール系化合物は、例えば、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、”Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６”及び”Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０”という商品名で市販されている。【０２３０】
（リン系化合物）
本発明において添加剤として、リン系化合物の少なくとも１種を含有することが好ましく、下記一般式（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、（Ｂ−３）、（Ｂ−４）、（Ｂ−５）で表される部分構造を分子内に有する化合物が好ましい。【０２３１】
【化７４】
2008007566.tif 000076
【０２３２】
式中、Ｐｈ1及びＰｈ′1は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ1及びＰｈ′1はフェニレン基を表し、該フェニレン基の水素原子はフェニル基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。Ｐｈ1及びＰｈ′1は互いに同一でもよく、異なってもよい。Ｘは単結合、硫黄原子または−ＣＨＲ6−基を表す。Ｒ6は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数５〜８のシクロアルキル基を表す。また、これらは前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。【０２３３】
【化７５】
2008007566.tif 000077
【０２３４】
式中、Ｐｈ2及びＰｈ′2は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ2及びＰｈ′2はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。Ｐｈ2及びＰｈ′2は互いに同一でもよく、異なってもよい。また、これらは前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。【０２３５】
【化７６】
2008007566.tif 000078
【０２３６】
式中、Ｐｈ3は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ3はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。また、これらは前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。【０２３７】
【化７７】
2008007566.tif 000079
【０２３８】
式中、Ｐｈ4は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ4は炭素数１〜２０のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。【０２３９】
【化７８】
2008007566.tif 000080
【０２４０】
式中、Ｐｈ5、Ｐｈ′5及びＰｈ″5は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ5、Ｐｈ′5及びＰｈ″5は炭素数１〜２０のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。【０２４１】
リン系化合物の添加量は、セルロースエステルの種類やその他の添加剤の種類や量によって適宜調整すればよく、特に限定はないが、形成された偏光板保護フィルム中のセルロースエステルに対し、０．０１〜１０質量％程度添加することが好ましく、０．１〜１．０質量％となることが特に好ましい。【０２４２】
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物；などのジホスファイト系化合物；トリフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジイルビスホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジイルビスホスホナイトなどのホスホナイト系化合物；トリフェニルホスフィナイト、２，６−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイトなどのホスフィナイト系化合物；トリフェニルホスフィン、トリス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィンなどのホスフィン系化合物；などが挙げられる。上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学工業株式会社から、”ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”、旭電化工業株式会社からＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−２４Ｇ”、”ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−３６”及び”ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ３０１０”、エーピーアイコーポレーション社から”ＧＳＹ−Ｐ１０１”、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社から”ＩＲＧＡＦＯＳ  Ｐ−ＥＰＱ”という商品名で市販されている。【０２４３】
また、下記化合物が挙げられる。【０２４４】
【化７９】
2008007566.tif 000081
【０２４５】
【化８０】
2008007566.tif 000082
【０２４６】
【化８１】
2008007566.tif 000083
【０２４７】
【化８２】
2008007566.tif 000084
【０２４８】
（ヒンダードアミン系化合物）
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式（Ｃ）で表されるヒンダードアミン系化合物が好ましい。【０２４９】
【化８３】
2008007566.tif 000085
【０２５０】
式中、Ｒ21〜Ｒ27は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義である。Ｒ24は水素原子、メチル基、Ｒ27は水素原子、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ25、Ｒ26はメチル基が好ましい。【０２５１】
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。【０２５２】
また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。【０２５３】
これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。【０２５４】
上記タイプのヒンダードアミン系化合物は、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社から、”Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４”及び”Ｔｉｎｕｖｉｎ７７０”、旭電化工業株式会社から”ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＬＡ−５２”という商品名で市販されている。【０２５５】
（イオウ系化合物）
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式（Ｄ）で表されるイオウ系化合物が好ましい。【０２５６】
【化８４】
2008007566.tif 000086
【０２５７】
式中、Ｒ31及びＲ32は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ15で表される置換基と同義である。【０２５８】
イオウ系化合物の具体例としては、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。【０２５９】
上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、住友化学工業株式会社から、”スミライザー
ＴＰＬ−Ｒ”及び”スミライザー  ＴＰ−Ｄ”という商品名で市販されている。【０２６０】
酸化防止剤は、後述のセルロースエステル同様に、製造時から持ち越される、あるいは保存中に発生する残留酸、無機塩、有機低分子等の不純物を除去することが好ましく、より好ましくは純度９９％以上である。残留酸及び水としては、０．０１〜１００ｐｐｍであることが好ましく、セルロースエステルを溶融流延法による製膜する上で、熱劣化を抑制でき、製膜安定性、フィルムの光学物性、機械物性が向上する。【０２６１】
酸化防止剤は０．１〜１０質量％添加することが好ましく、さらに０．２〜５質量％添加することが好ましく、さらに０．３〜２質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。【０２６２】
酸化防止剤の添加量が少なすぎると溶融時に安定化作用が低いために、効果が得られず、また添加量が少なすぎるとセルロースエステルへの相溶性の観点からフィルムとしての透明性の低下を引き起こし、またフィルムが脆くなることがあるため好ましくない。【０２６３】
《酸捕捉剤》
セルロースエステルは溶融流延法による製膜が行われるような高温環境下では酸によっても分解が促進されるため、本発明の偏光板保護フィルムにおいては安定化剤として酸捕捉剤を含有することが好ましい。本発明において有用な酸捕捉剤としては、酸と反応して酸を不活性化する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されているような、エポキシ基を有する化合物が好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシド等の縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテル等、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（即ち、４，４′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２〜２２個の炭素原子の脂肪酸の４〜２個程度の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）等）、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリド等（例えば、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油等）の組成物によって代表され例示され得るエポキシ化植物油及び他の不飽和天然油（これらはときとしてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している）が含まれる。また、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物として、ＥＰＯＮ  ８１５Ｃ、及び下記一般式（Ｅ）で表される他のエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生成物も好ましく用いることができる。【０２６４】
【化８５】
2008007566.tif 000087
【０２６５】
式中、ｎは０〜１２の整数である。用いることができるその他の酸捕捉剤としては、特開平５−１９４７８８号公報の段落８７〜１０５に記載されているものが含まれる。【０２６６】
酸捕捉剤は０．１〜１０質量％添加することが好ましく、さらに０．２〜５質量％添加することが好ましく、さらに０．５〜２質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。【０２６７】
なお酸捕捉剤は、酸掃去剤、酸捕獲剤、酸キャッチャー等と称されることもあるが、本発明においてはこれらの呼称による差異なく用いることができる。【０２６８】
《セルロースエステル》
次に、本発明に係るセルロースエステルについて、詳述する。【０２６９】
本発明の偏光板保護フィルムは、セルロースエステルを用いて溶融流延法により製造される。【０２７０】
本発明における溶融流延とは、実質的に溶媒を用いずにセルロースエステルを流動性を示す温度まで加熱溶融しこれを用いて製膜する方法であり、例えば流動性のセルロースエステルをダイスから押し出して製膜する方法である。なお溶融セルロースエステルを調製する過程の一部で溶媒を使用してもよいが、フィルム状に成形を行う溶融流延法による製膜プロセスにおいては実質的に溶媒を用いずに成形加工する。【０２７１】
偏光板保護フィルムを構成するセルロースエステルとしては、溶融流延法による製膜可能なセルロースエステルであれば特に限定はされないが、光学特性等の得られるフィルムの特性に鑑みると、セルロースの低級脂肪酸エステルを使用することが好ましい。本発明においてセルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が５以下の脂肪酸を意味し、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースピバレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ましいものとして挙げられる。炭素原子数が６以上の脂肪酸で置換されたセルロースエステルでは、溶融流延法による製膜性は良好であるものの、得られるセルロースエステルフィルムの力学特性が低く、実質的に光学フィルムとして用いることが難しいためである。力学特性と溶融流延法による製膜性の双方を両立させるために、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等のように混合脂肪酸エステルを用いてもよい。なお溶液流延製膜で一般に用いられているセルロースエステルであるトリアセチルセルロースについては、溶融温度よりも分解温度の方が高いセルロースエステルであるため、溶融流延法による製膜には用いることは難しい。【０２７２】
従って、最も好ましいセルロースの低級脂肪酸エステルは炭素原子数２又は３のアシル基を置換基として有し、酢酸による置換度、即ちアセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基による置換度をＹとした時、下記式（ｉ）、（ii）を満たすセルロースエステルが好ましい。【０２７３】
式（ｉ）  ２．６≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（ii）  １．０≦Ｙ≦１．５
この中でも、特にアセチル基の置換度が、プロピオニル基の置換度と同じか、プロピオニル基の置換度より大きいことが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することが出来る。【０２７４】
尚、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等のアシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することが出来る。【０２７５】
本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ比が１．０〜５．５のものが用いられ、特に好ましくは１．４〜５．０であり、更に好ましくは２．０〜３．０である。また、Ｍｗは１０万〜５０万、中でも１５万〜３０万のものが好ましく用いられる。【０２７６】
セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することが出来る。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を算出する。【０２７７】
測定条件は以下の通りである。【０２７８】
溶媒    ：  テトヒドロフラン
装置    ：  ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）
カラム：    ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍ（東ソー（株）製）
カラム温度：４０℃
試料温度：  ０．１質量％
注入量：    １０μｌ
流量    ：  ０．６ｍｌ／１ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレン：ＰＳ−１（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製）Ｍｗ＝２，５６０，０００〜５８０迄の９サンプルによる校正曲線を使用。【０２７９】
本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することが出来る。【０２８０】
例えば、綿花リンター由来セルロース樹脂：木材パルプ（針葉樹）由来セルロース樹脂：木材パルプ（広葉樹）由来セルロース樹脂の比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることが出来る。【０２８１】
セルロースエステルは、例えば、原料セルロースの水酸基を無水酢酸、無水プロピオン酸及び／または無水酪酸を用いて常法によりアセチル基、プロピオニル基及び／またはブチル基を上記の範囲内に置換することで得られる。このようなセルロースエステルの合成方法は、特に限定はないが、例えば、特開平１０−４５８０４号或いは特表平６−５０１０４０号に記載の方法を参考にして合成することが出来る。【０２８２】
また、工業的にはセルロースエステルは硫酸を触媒として合成されているが、この硫酸は完全には除去されておらず、残留する硫酸が溶融流延法による製膜時に各種の分解反応を引き起こし、得られるセルロースエステルフィルムの品質に影響を与えるため、本発明に用いられるセルロースエステル中の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で０．１〜４０ｐｐｍの範囲であることが好ましい。これらは塩の形で含有していると考えられる。残留硫酸含有量が４０ｐｐｍを超えると熱溶融時のダイリップ部の付着物が増加するため好ましくない。また、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティングの際に破断しやすくなるため好ましくない。少ない方が好ましいが、０．１未満とするにはセルロースエステルの洗浄工程の負担が大きくなり過ぎるため好ましくないだけでなく、逆に破断しやすくなることがあり好ましくない。これは洗浄回数が増えることが樹脂に影響を与えているのかもしれないがよく分かっていない。更に０．１〜３０ｐｐｍの範囲が好ましい。残留硫酸含有量は、同様にＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６により測定することが出来る。【０２８３】
また、その他（酢酸等）の残留酸を含めたトータル残留酸量は１０００ｐｐｍ以下が好ましく、５００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１００ｐｐｍ以下がより好ましい。【０２８４】
合成したセルロースエステルの洗浄を、溶液流延法に用いられる場合に比べて、更に十分に行うことによって、残留酸含有量を上記の範囲とすることが出来、溶融流延法によってフィルムを製造する際に、リップ部への付着が軽減され、平面性に優れるフィルムが得られ、寸法変化、機械強度、透明性、耐透湿性、後述する厚み方向のリターデーション値Ｒｔ、面内方向のリターデーション値Ｒｏが良好なフィルムを得ることが出来る。また、セルロースエステルの洗浄は、水に加えて、メタノール、エタノールのような貧溶媒、或いは結果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の混合溶媒を用いることが出来、残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物を除去する事が出来る。更に、セルロースエステルの洗浄は、ヒンダードアミン、亜リン酸エステルといった酸化防止剤の存在下で行うことが好ましく、セルロースエステルの耐熱性、製膜安定性が向上する。【０２８５】
また、セルロースエステルの耐熱性、機械物性、光学物性等を向上させるため、セルロースエステルの良溶媒に溶解後、貧溶媒中に再沈殿させ、セルロースエステルの低分子量成分、その他不純物を除去する事が出来る。この時、前述のセルロースエステルの洗浄同様に、酸化防止剤の存在下で行うことが好ましい。【０２８６】
更に、セルロースエステルの再沈殿処理の後、別のポリマー或いは低分子化合物を添加してもよい。【０２８７】
本発明の偏光板保護フィルムは輝点異物に優れるが、用いられるセルロースエステルもフィルム製膜した時に輝点異物が少ないものであることが好ましい。輝点異物とは、２枚の偏光板を直交に配置し（クロスニコル）、この間に偏光板保護フィルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、もう一方の面から偏光板保護フィルムを観察した時に、光源の光が漏れて見える点のことである。このとき評価に用いる偏光板は輝点異物がない保護フィルムで構成されたものであることが望ましく、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。輝点異物はセルロースエステルに含まれる未酢化若しくは低酢化度のセルロースがその原因の１つと考えられ、輝点異物の少ないセルロースエステルを用いる（例えば、置換度の分散の小さいセルロースエステルを用いる）ことと、溶融したセルロースエステルを濾過すること、或いはセルロースエステルの合成後期の過程や沈殿物を得る過程の少なくとも何れかにおいて、一度溶液状態として同様に濾過工程を経由して輝点異物を除去することも出来る。溶融樹脂は粘度が高いため、後者の方法のほうが効率がよい。【０２８８】
フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルムに含まれるセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物は少なくなる傾向があるが、輝点異物は、輝点の直径０．０１ｍｍ以上が２００個／ｃｍ2以下であることが好ましく、更に１００個／ｃｍ2以下であることが好ましく、５０個／ｃｍ2以下であることが好ましく、３０個／ｃｍ2以下であることが好ましく、１０個／ｃｍ2以下であることが好ましいが、皆無であることが最も好ましい。また、０．００５〜０．０１ｍｍ以下の輝点についても２００個／ｃｍ2以下であることが好ましく、更に１００個／ｃｍ2以下であることが好ましく、５０個／ｃｍ2以下であることが好ましく、３０個／ｃｍ2以下であることが好ましく、１０個／ｃｍ2以下であることが好ましいが、皆無であることが最も好ましい。【０２８９】
輝点異物を溶融濾過によって除去する場合、セルロースエステルを単独で溶融させたものを濾過するよりも可塑剤、劣化防止剤、酸化防止剤等を添加混合したセルロースエステル組成物を濾過することが輝点異物の除去効率が高く好ましい。もちろん、セルロースエステルの合成の際に溶媒に溶解させて濾過により低減させてもよい。紫外線吸収剤、その他の添加物も適宜混合したものを濾過することが出来る。濾過はセルロースエステルを含む溶融物の粘度が１００００Ｐ以下で濾過されることが好ましく、更に好ましくは５０００Ｐ以下が好ましく、１０００Ｐ以下であることが更に好ましく、５００Ｐ以下であることが更に好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などの弗素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられるが、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。絶対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく用いられ、３０μｍ以下のものが更に好ましく、１０μｍ以下のものが更に好ましく、５μｍ以下のものが更に好ましく用いられる。これらは適宜組み合わせて使用することも出来る。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプでも用いることが出来るが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用いられる。【０２９０】
別の実施態様では、原料のセルロースエステルは少なくとも一度溶媒に溶解させた後、溶媒を乾燥させたセルロースエステルを用いても良い。その際には可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、酸化防止剤及びマット剤の少なくとも１つ以上と共に溶媒に溶解させた後、乾燥させたセルロースエステルを用いる。溶媒としては、メチレンクロライド、酢酸メチル、ジオキソラン等の溶液流延法で用いられる良溶媒を用いることが出来、同時にメタノール、エタノール、ブタノール等の貧溶媒を用いてもよい。溶解の過程で−２０℃以下に冷却したり、８０℃以上に加熱したりしても良い。このようなセルロースエステルを用いると、溶融状態にした時の各添加物を均一にしやすく、光学特性を均一に出来ることがある。【０２９１】
本発明の偏光板保護フィルムはセルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにした時の透過率が８０％以上、更に好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上であることが好ましい。【０２９２】
《紫外線吸収剤》
紫外線吸収剤は、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号、特開２００３−１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。【０２９３】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール  、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、６−（２−ベンゾトリアゾル）−４−ｔ−オクチル−６’−ｔ−ブチル−４’−メチル−２，２’メチレンビスフェノール等を挙げることができるが、これらに限定されない。【０２９４】
また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）２３４、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８（いずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＬＡ３１（旭電化社製）、ＪＡＳＴ−５００（城北化学社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ  ２５０（住友化学社製）が挙げられる。【０２９５】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。【０２９６】
本発明においては、紫外線吸収剤は０．１〜５質量％添加することが好ましく、さらに０．２〜３質量％添加することが好ましく、さらに０．５〜２質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。【０２９７】
またこれらのベンゾトリアゾール構造やベンゾフェノン構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、可塑剤、酸化防止剤、酸掃去剤等の他の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。【０２９８】
《可塑剤》
本発明に係る偏光板保護フィルムの製造においては、フィルム形成材料中に少なくとも１種の可塑剤を１〜３０質量％含有することが好ましい。【０２９９】
可塑剤とは、一般的には高分子中に添加することによって脆弱性を改良したり、柔軟性を付与したりする効果のある添加剤であるが、本発明においては、セルロースエステル単独での溶融温度よりも溶融温度を低下させるため、また同じ加熱温度においてセルロース樹脂単独よりも可塑剤を含むフィルム構成材料の溶融粘度を低下させるために、可塑剤を添加する。また、セルロースエステルの親水性を改善し、偏光板保護フィルムの透湿度改善するためにも添加されるため透湿防止剤としての機能を有する。【０３００】
ここで、フィルム構成材料の溶融温度とは、該材料が加熱され流動性が発現された状態の温度を意味する。セルロースエステルを溶融流動させるためには、少なくともガラス転移温度よりも高い温度に加熱する必要がある。ガラス転移温度以上においては、熱量の吸収により弾性率あるいは粘度が低下し、流動性が発現される。しかしセルロースエステルでは高温下では溶融と同時に熱分解によってセルロースエステルの分子量の低下が発生し、得られるフィルムの力学特性等に悪影響を及ぼすことがあるため、なるべく低い温度でセルロースエステルを溶融させる必要がある。フィルム構成材料の溶融温度を低下させるためには、セルロースエステルのガラス転移温度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつ可塑剤を添加することで達成することができる。【０３０１】
本発明の偏光板保護フィルムには、下記一般式（２）で表される有機酸と３価以上のアルコールが縮合した構造を有するエステル化合物を、１〜２５質量％含有することが好ましい。１質量％以上の添加により、平面性改善の効果が認められ、２５質量％より少ないとブリードアウトしにくくなり、フィルムの経時安定性に優れるため好ましい。より好ましくは該可塑剤を３〜２０質量％含有する偏光板保護フィルムであり、さらに好ましくは５〜１５質量％含有する偏光板保護フィルムである。【０３０２】
【化８６】
2008007566.tif 000088
【０３０３】
式中、Ｒ1〜Ｒ5は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していてよい。Ｌは連結基を表し、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表す。【０３０４】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるシクロアルキル基としては、炭素数３〜８のシクロアルキル基が好ましく、具体的にはシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の基である。これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、フェノキシ基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数２〜８のアシル基、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のカルボニルオキシ基等が挙げられる。【０３０５】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、γ−フェニルプロピル基等の基を表し、また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。【０３０６】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアルコキシ基としては、炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、２−エチルヘキシルオキシ、もしくはｔ−ブトキシ等の各アルコキシ基である。また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アラルキル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい）、アルケニル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等によってさらに置換されていてもよい））、アセチル基、プロピオニル基等のアシル基が、またアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のアシルオキシ基、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられる。【０３０７】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるシクロアルコキシ基としては、無置換のシクロアルコキシ基としては炭素数１〜８のシクロアルコキシ基基が挙げられ、具体的には、シクロプロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ等の基が挙げられる。また、これらの基は置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。【０３０８】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアリールオキシ基としては、フェノキシ基が挙げられるが、このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等前記シクロアルキル基に置換してもよい基として挙げられた置換基で置換されていてもよい。【０３０９】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等が挙げられ、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。【０３１０】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基等の炭素数２〜８の無置換のアシル基が挙げられ（アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。）、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。【０３１１】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等の炭素数２〜８の無置換のアシルオキシ基（アシル基の炭化水素基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル基を含む。）、またベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられるが、これらの基はさらに前記シクロアルキル基に置換してもよい基と同様の基により置換されていてもよい。【０３１２】
Ｒ1〜Ｒ5で表されるオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、またフェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基を表す。これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。【０３１３】
また、Ｒ1〜Ｒ5で表されるオキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基等の炭素数１〜８のアルコキシカルボニルオキシ基を表し、これらの置換基はさらに置換されていてもよく、好ましい置換基としては、前記のシクロアルキル基に置換してもよい基を同様に挙げることができる。【０３１４】
Ｒ1〜Ｒ5のうちのいずれか同士で互いに連結し、環構造を形成していてもよい。【０３１５】
また、Ｌで表される連結基としては、置換または無置換のアルキレン基、酸素原子、または直接結合を表すが、アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等の基であり、これらの基は、さらに前記のＲ1〜Ｒ5で表される基に置換してもよい基としてあげられた基で置換されていてもよい。【０３１６】
中でも、Ｌで表される連結基として特に好ましいのは直接結合であり芳香族カルボン酸である。【０３１７】
また、これら本発明において可塑剤となるエステル化合物を構成する、前記一般式（２）で表される有機酸としては、少なくともＲ1またはＲ2に前記アルコキシ基、アシル基、オキシカルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニルオキシ基を有するものが好ましい。また複数の置換基を有する化合物も好ましい。【０３１８】
なお本発明においては３価以上のアルコールの水酸基を置換する有機酸は単一種であっても複数種であってもよい。【０３１９】
本発明において、前記一般式（２）で表される有機酸と反応して多価アルコールエステル化合物を形成する３価以上のアルコール化合物としては、好ましくは３〜２０価の脂肪族多価アルコールであり、本発明おいて３価以上のアルコールは下記一般式（３）で表されるものが好ましい。【０３２０】
一般式（３）  Ｒ′−（ＯＨ）m
式中、Ｒ′はｍ価の有機基、ｍは３以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性水酸基を表す。特に好ましいのは、ｍとしては３または４の多価アルコールである。【０３２１】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，３−ヘキサントリオール、１，２，６−ヘキサントリオール、グリセリン、ジグリセリン、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ガラクチトール、イノシトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが好ましい。【０３２２】
一般式（２）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールのエステルは、公知の方法により合成できる。実施例に代表的合成例を示したが、前記一般式（２）で表される有機酸と、多価アルコールを例えば、酸の存在下縮合させエステル化する方法、また、有機酸を予め酸クロライドあるいは酸無水物としておき、多価アルコールと反応させる方法、有機酸のフェニルエステルと多価アルコールを反応させる方法等があり、目的とするエステル化合物により、適宜、収率のよい方法を選択することが好ましい。【０３２３】
一般式（２）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールのエステルからなる可塑剤としては、下記一般式（４）で表される化合物が好ましい。【０３２４】
【化８７】
2008007566.tif 000089
【０３２５】
式中、Ｒ6〜Ｒ20は水素原子またはシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基を表し、これらはさらに置換基を有していてよい。Ｒ２１は水素原子またはアルキル基を表す。【０３２６】
Ｒ6〜Ｒ20のシクロアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、オキシカルボニルオキシ基については、前記一般式（２）のＲ1〜Ｒ5と同様の基が挙げられる。【０３２７】
このようにして得られる多価アルコールエステルの分子量には特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、４００〜１０００であることがさらに好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。【０３２８】
以下に、本発明に用いられる多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。【０３２９】
【化８８】
2008007566.tif 000090
【０３３０】
【化８９】
2008007566.tif 000091
【０３３１】
【化９０】
2008007566.tif 000092
【０３３２】
【化９１】
2008007566.tif 000093
【０３３３】
【化９２】
2008007566.tif 000094
【０３３４】
【化９３】
2008007566.tif 000095
【０３３５】
【化９４】
2008007566.tif 000096
【０３３６】
【化９５】
2008007566.tif 000097
【０３３７】
【化９６】
2008007566.tif 000098
【０３３８】
【化９７】
2008007566.tif 000099
【０３３９】
【化９８】
2008007566.tif 000100
【０３４０】
【化９９】
2008007566.tif 000101
【０３４１】
本発明に係る偏光板保護フィルムの製造において、少なくとも前記一般式（２）で表される有機酸及び３価以上の多価アルコールから製造されるエステル化合物を可塑剤として１〜２５質量％含有することが好ましいが、それ以外の可塑剤と併用してもよい。【０３４２】
前記一般式（２）で表される有機酸と３価以上の多価アルコールからなるエステル化合物は、セルロースエステルに対する相溶性が高く、高添加率で添加することができる特徴があるため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウトを発生することがなく、必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用することができる。【０３４３】
なお、他の可塑剤を併用する際には、上記可塑剤が、可塑剤全体の少なくとも５０質量％以上含有されることが好ましい。より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上含有されることが好ましい。このような範囲で用いれば、他の可塑剤との併用によっても、溶融流延時のセルロールエステルフィルムの平面性を向上させることができるという、一定の効果を得ることができる。【０３４４】
併用するその他の可塑剤としては、脂肪族カルボン酸−多価アルコール系可塑剤、特開２００３−１２８２３公報段落３０〜３３に記載されているような、無置換の芳香族カルボン酸またはシクロアルキルカルボン酸−多価アルコールエステル系可塑剤、あるいはジオクチルアジペート、ジシクロヘキシルアジペート、ジフェニルサクシネート、ジ２−ナフチル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート、トリシクロヘキシルトリカルバレート、テトラ３−メチルフェニルテトラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカルボキシレート、テトラブチル−１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボキシレート、トリフェニル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート、トリフェニルベンゼン−１，３，５−テトラカルボキシレート、フタル酸系可塑剤（例えばジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等）、クエン酸系可塑剤（クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等）等の多価カルボン酸エステル系可塑剤、トリフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、ブチレンビス（ジエチルホスフェート）、エチレンビス（ジフェニルホスフェート）、フェニレンビス（ジブチルホスフェート）、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）（旭電化製アデカスタブＰＦＲ）、フェニレンビス（ジキシレニルホスフェート）（旭電化製アデカスタブＦＰ５００）、ビスフェノールＡジフェニルホスフェート（旭電化製アデカスタブＦＰ６００）等のリン酸エステル系可塑剤、例えば特開２００２−２２９５６の段落番号４９〜５６に記載のポリマーポリエステル等、ポリエーテル系可塑剤等が挙げられる。【０３４５】
しかし、リン酸系可塑剤は加水分解によって強酸を発生し、可塑剤自身及びセルロースエステルの加水分解を促進する。このため、保存安定性が悪い、セルロースエステルの溶融流延法による製膜に使用するとフィルムの着色が発生しやすい等の問題により、フタル酸エステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、ポリエーテル系可塑剤を使用することが好ましい。【０３４６】
なお、本発明に係る偏光板保護フィルムは、着色すると光学用途として影響を与えるため、好ましくは黄色度（イエローインデックス、ＹＩ）が３．０以下、より好ましくは１．０以下である。黄色度はＪＩＳ−Ｋ７１０３に基づいて測定することができる。【０３４７】
《粘度低下剤》
本発明において、溶融粘度を低減する目的として、水素結合性溶媒を添加する事が出来る。水素結合性溶媒とは、Ｊ．Ｎ．イスラエルアチビリ著、「分子間力と表面力」（近藤保、大島広行訳、マグロウヒル出版、１９９１年）に記載されるように、電気的に陰性な原子（酸素、窒素、フッ素、塩素）と電気的に陰性な原子と共有結合した水素原子間に生ずる、水素原子媒介「結合」を生ずることが出来るような有機溶媒、即ち、結合モーメントが大きく、かつ水素を含む結合、例えば、Ｏ−Ｈ（酸素水素結合）、Ｎ−Ｈ（窒素水素結合）、Ｆ−Ｈ（フッ素水素結合）を含むことで近接した分子同士が配列出来るような有機溶媒をいう。これらは、セルロースエステルの分子間水素結合よりもセルロースとの間で強い水素結合を形成する能力を有するもので、本発明で行う溶融流延法においては、用いるセルロースエステル単独のガラス転移温度よりも、水素結合性溶媒の添加によりセルロースエステル組成物の溶融温度を低下する事が出来る、または同じ溶融温度においてセルロースエステルよりも水素結合性溶媒を含むセルロースエステル組成物の溶融粘度を低下する事が出来る。【０３４８】
水素結合性溶媒としては、例えば、アルコール類：例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、２−エチルヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、ドデカノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ヘキシルセロソルブ、グリセリン等、ケトン類：アセトン、メチルエチルケトン等、カルボン酸類：例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等、エーテル類：例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等、ピロリドン類：例えば、Ｎ−メチルピロリドン等、アミン類：例えば、トリメチルアミン、ピリジン等、等を例示することが出来る。これら水素結合性溶媒は、単独で、又は２種以上混合して用いることが出来る。これらのうちでも、アルコール、ケトン、エーテル類が好ましく、特にメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、オクタノール、ドデカノール、エチレングリコール、グリセリン、アセトン、テトラヒドロフランが好ましい。更に、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、グリセリン、アセトン、テトラヒドロフランのような水溶性溶媒が特に好ましい。ここで水溶性とは、水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ以上のものをいう。【０３４９】
《リターデーション調整剤》
本発明の偏光板保護フィルムにおいて配向膜を形成して液晶層を設け、光学フィルムと液晶層由来のリターデーションを複合化して光学補償能を付与した偏光板加工を行ってもよいし、リターデーションを調整するための化合物を偏光板保護フィルムに含有させてもよい。【０３５０】
リターデーションを調整するために添加する化合物は、欧州特許第９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物を使用することも出来る。また２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に不飽和ヘテロ環である。中でも本発明に係る１，３，５−トリアジン環を有する化合物が好ましい。【０３５１】
《マット剤》
本発明に係る偏光板保護フィルムは、滑り性や光学的、機械的機能を付与するためにマット剤を添加することができる。マット剤としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。【０３５２】
マット剤の形状は、球状、棒状、針状、層状、平板状等の形状のものが好ましく用いられる。マット剤としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の金属の酸化物、リン酸塩、ケイ酸塩、炭酸塩等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることができる。中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを低くできるので好ましい。これらの微粒子は有機物により表面処理されていることが、フィルムのヘイズを低下できるため好ましい。【０３５３】
表面処理は、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサン等で行うことが好ましい。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。また、微粒子の一次粒子の平均粒径は０．０１〜１．０μｍの範囲であることが好ましい。好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは、７〜１４ｎｍである。これらの微粒子は、偏光板保護フィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させるために好ましく用いられる。【０３５４】
二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル（株）製のアエロジル（ＡＥＲＯＳＩＬ）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２
、ＯＸ５０、ＴＴ６００等を挙げることができ、好ましくはアエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。【０３５５】
２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９：０．１の範囲で使用できる。【０３５６】
これらのマット剤の添加方法は混練する等によって行うことが好ましい。また、別の形態として予め溶媒に分散したマット剤とセルロースエステル及び／または可塑剤及び／または紫外線吸収剤を混合分散させた後、溶媒を揮発または沈殿させた固形物を得て、これをセルロースエステル溶融物の製造過程で用いることが、マット剤がセルロース樹脂中で均一に分散できる観点から好ましい。【０３５７】
上記マット剤は、フィルムの機械的、電気的、光学的特性改善のために添加することもできる。【０３５８】
なお、これらの微粒子を添加するほど、得られる偏光板保護フィルムの滑り性は向上するが、添加するほどヘイズが上昇するため、含有量は好ましくは０．００１〜５質量％が好ましく、より好ましくは０．００５〜１質量％であり、さらに好ましくは０．０１〜０．５質量％である。【０３５９】
なお、本発明に係る偏光板保護フィルムとしては、ヘイズ値が１．０％を超えると光学用材料として影響を与えるため、好ましくはヘイズ値は１．０％未満、より好ましくは０．５％未満である。ヘイズ値はＪＩＳ−Ｋ７１３６に基づいて測定することができる。【０３６０】
フィルム構成材料は溶融及び製膜工程において、揮発成分が少ないまたは発生しないことが求められる。これは加熱溶融時に発泡して、フィルム内部の欠陥やフィルム表面の平面性劣化を削減または回避するためである。【０３６１】
《溶融流延法》
本発明に係る偏光板保護フィルムは溶融流延によって形成する。溶液流延法において用いられる溶媒（例えば塩化メチレン等）を用いずに、加熱溶融する溶融流延による成形法は、さらに詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度等に優れる偏光板保護フィルムを得るためには、溶融押し出し法が優れている。【０３６２】
溶融流延法で本発明の偏光板保護フィルムを得るには、予めルロースエステルや添加剤の混合物を用いて、ペレット状成型物を作製することが好ましい。ペレット状の成型物を作製する方法としては、２軸押出し機にてセルロースエステルのガラス転移温度以上、融点＋３０℃以下の温度にて、組成物を溶融押出しして棒状のストランドを得た後、所望の大きさに裁断する方法などが挙げられる。【０３６３】
セルロースエステルは熱による劣化が著しい材料のため、劣化しない温度にて成型する方法が好ましい。【０３６４】
セルロースエステルと本発明に係る添加剤を混合し得られた成型物の大きさは、１ｍｍ×１ｍｍ×１ｍｍ〜２０ｍｍ×２０ｍｍ×２０ｍｍの立方体の範囲内であることが本発明の効果を得る上で好ましい。溶融押出し法においては、１ｍｍ×１ｍｍ×１ｍｍより小さいと、成型物投入時にブロッキングを起こし供給が安定せず、また、２０ｍｍ×２０ｍｍ×２０ｍｍより大きいと、成型物の溶融及び粉砕性が悪く、結果投入口で詰まり、生産性が著しく悪くなる恐れがある。また、１ｍｍ×１ｍｍ×１ｍｍより小さいと、成型物の比表面積が大きくなるため空気（特に酸素と水）との接触面積も大きくなり、セルロースが劣化しやすくなり、分子量が低下し、結果、機械的強度が低下する恐れがある。加圧加熱溶融法においては、２０ｍｍ×２０ｍｍ×２０ｍｍより大きいと膜厚の小さい（１００μｍ以下）フィルムが得られにくくなる。また、膜厚にムラが出来やすくなる。（膜厚精度が悪くなる。）
成型物にすると、樹脂と添加剤が密着するため、混合・分散性が高まる。また、空気（特に酸素と水）との接触面積が小さくなるためセルロースエステルの劣化にも有利である。【０３６５】
例えば、本発明に用いられるセルロースエステル及び添加剤の混合物を、熱風乾燥又は真空乾燥した後、溶融押出し、Ｔ型ダイよりフィルム状に押出しして、静電印加法等により冷却ドラムに密着させ、冷却固化させ、未延伸フィルムを得る。【０３６６】
本発明のセルロースエステル及び添加剤は、０．１〜２０ｍｍ程度の粉体、またはペレットであることが好ましい。原料によっては含有する水分の量が多く、乾燥が必要なものもある。乾燥は、単独に乾燥しても良く、複数の原料を混合してから乾燥しても良い。セルロースエステルは加熱により酸を発生することがあり、この酸により分解劣化が進行するので、酸を発生させないように６０〜９０℃程度で乾燥することが好ましい。到達乾燥レベルを上げるために、露点の低い乾燥空気を使用するか、減圧ないし真空乾燥することも好ましい。好ましい露点は−２０℃以下、更に好ましくは−３０℃以下である。添加剤によっては融点が低いものもあり、混合してから乾燥する場合は、乾燥中に粘着して固まらないように、使用材料中最も融点の低い物質の融点以下で乾燥する必要がある。もちろん単独に乾燥してから混合すればよいのであるが、混合中に吸湿することがあるので、混合してから乾燥するのが好ましい。【０３６７】
乾燥終了した原料は、すぐ押出し機に送るか、吸湿を防止するために高温低露点ないし減圧に維持されたストックタンクに保管された後、押出し機に送る。【０３６８】
原料として、製膜後スリットしたり、巻き取った後製品にならなかったロスフィルムを回収再使用することが出来る。回収フィルムは通常粉砕して供給するが、それだけでペレットに成形したり、造粒して供給することも出来る。回収フィルムも乾燥が必要であるが、単独で乾燥しても良いし、バージンのポリマー原料と混合してから乾燥しても良いし、添加剤と混合してから乾燥しても良い。【０３６９】
溶融押出しは、一軸押出し機、二軸押出し機、更に２台の押出し機を直列に連結するタンデム押出しなどが挙げられるが、本発明では２台の押出し機を直列に連結するタンデム押出しを用いることが好ましい。【０３７０】
該押出し機下流にダイを設置して直接押出し製膜しても良いし、ストランドダイを設置していったんペレット化してからそのペレットを押出し製膜しても良い。【０３７１】
更に、原料タンク、原料の投入部、押出し機内といった原料の供給、溶融工程を、窒素ガス等の不活性ガスで置換、或いは減圧することが好ましい。本発明では、セルロースエステルと複数の添加剤を混合するため、混練性能に優れた二軸押出し機を使用してペレット化した後、定量性の良い単軸押出し機を用いて溶融押出し製膜することが好ましい。【０３７２】
特にフィルムを製造する上で留意することは、なるべく機械的ストレスを与えずに加熱溶融させる方法が好ましい。既存の装置としては、１軸押出し機、ホットプレス機などがある。１軸押出し機の場合、透明なフィルムを得ることが出来る温度において、できる限り低温にて短時間で押出しすることが望ましい。投入口からダイまでの経路においては、セルロースエステルのガラス転移温度：Ｔｇ〜融点：Ｔｍ＋５０℃の温度に設定しておくことが望ましく、ダイに近づくにつれて温度を段階的に上げるのが好ましい。ダイの温度は、Ｔｍ〜Ｔｍ＋３０℃に設定することが好ましい。【０３７３】
滞留時間（押出し時間）は、可能な限り短時間の方が好ましい。２０〜３６０秒が好ましく、より好ましくは２０〜６０秒であった。滞留時間が長いと、劣化が著しくなる恐れがあり、また、あまりにも短時間すぎると、溶融が不十分になる恐れがある。滞留時間は、シャフトの回転数、成型物の粘弾性、加熱温度などによって調整される。【０３７４】
本発明の前記溶融押出し時の温度は、１５０〜３００℃、より好ましくは２００〜２８０℃の温度範囲であることが好ましい。【０３７５】
押出し機下流に、ギヤポンプ、フィルターを配置するのが好ましい。ギヤポンプは溶融樹脂を定量的に搬送出来るので、引取りフィルムの膜厚を均一にするために好ましく適用出来る。ギヤポンプ直前に、ギヤポンプ保護のためのフィルターを配置するのが好ましい。ギヤポンプは、２ギヤタイプ、３ギヤタイプなどあるが、定量性のより良い３ギヤタイプが好ましい。ギヤポンプ下流にメインフィルターを配置する。メインフィルターは製品フィルム中の異物を減らし、製品品質を向上する。【０３７６】
ダイは、Ｔダイが好ましい。押し引きボルト、リップヒータ、ヒートボルトなどのリップ間隙調整機構を備え、膜厚を均一に調整する。リップを傷つきにくくするために、メッキしたり、ダイヤモンドライクカーボンのような超硬度処理することも好ましい。吐出する方向は、水平方向でも垂直方向でも良い。引取りロールにあわせて斜め下に吐出することも適用出来る。【０３７７】
吐出された溶融フィルムの引取りは、静電印加法等により冷却ドラムに密着させて引取る方法、または２本のロールの間に溶融フィルムを挟んで引取る方法も好ましく適用出来る。【０３７８】
本発明において、前記２本のロールの内１本として、流延ダイから押し出された偏光板保護フィルムを金属製外筒と内筒とその間に流体を流す空間とを有する下記弾性タッチロールにより冷却ロールに押圧しながら搬送することが製膜時に生じるスジや斑むらの発生を低減する上好ましい。【０３７９】
本発明で好ましい弾性タッチロールは、金属製外筒と内筒との２重構造になっており、その間に冷却流体を流せるように空間を有しているものである。更に、金属製外筒は弾性を有していることにより、タッチロール表面の温度を精度よく制御でき、かつ適度に弾性変形する性質を利用して、長手方向にフィルムを押圧する距離が稼げるとの効果を有することにより、熱による劣化や歪も低減される。金属製外筒の肉厚の範囲は、０．００３≦（金属製外筒の肉厚）／（タッチロール半径）≦０．０３であれば、適度な弾性となり好ましい。タッチロールの半径、すなわち、金属外筒の半径が大きければ金属外筒の肉厚が厚くても適度に撓むのである。タッチロールの直径は１００ｍｍ〜６００ｍｍが好ましい。金属製外筒の肉厚があまり薄すぎると強度が不足し、破損の懸念がある。一方、厚すぎると、ロール質量が重くなりすぎ、回転むらの懸念がある。従って、金属外筒の肉厚は、０．１〜５ｍｍであることが好ましい。【０３８０】
金属外筒表面の表面粗さは、Ｒａで０．１μｍ以下とすることが好ましく、更に０．０５μｍ以下とすることが好ましい。ロール表面が平滑であるほど、得られるフィルムの表面も平滑にできる。【０３８１】
金属外筒の材質は、平滑で、適度な弾性があり、耐久性があることが求められる。炭素鋼、ステンレス、チタン、電鋳法で製造されたニッケルなどが好ましく用いることができる。更にその表面の硬度をあげたり、樹脂との剥離性を改良するため、ハードクロムメッキや、ニッケルメッキ、非晶質クロムメッキなどや、セラミック溶射等の表面処理を施すことが好ましい。表面加工した表面は更に研磨し上述した表面粗さとすることが好ましい。【０３８２】
内筒は、炭素鋼、ステンレス、アルミニウム、チタンなどの軽量で剛性のある金属製内筒であることが好ましい。内筒に剛性をもたせることで、ロールの回転ぶれを抑えることができる。内筒の肉厚は、外筒の２〜１０倍とすることで十分な剛性が得られる。内筒には更にシリコーン、フッ素ゴムなどの樹脂製弾性材料が被覆されていてもよい。【０３８３】
冷却流体を流す空間の構造は、ロール表面の温度を均一に制御できるものであればよく、例えば、巾方向に行きと戻りが交互に流れるようにしたり、スパイラル状に流れるようにすることでロール表面の温度分布の小さい温度制御ができる。冷却流体は、特に制限はなく、使用する温度域に合わせて、水やオイルを使用できる。【０３８４】
タッチロールの表面温度は、フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）より低いことが好ましい。Ｔｇより高いと、フィルムとロールとの剥離性が劣る場合がある。低すぎるとフィルム中からの揮発成分がロールに析出する場合があるので、１０℃〜Ｔｇ−１０℃であることが更に好ましい。【０３８５】
ここでいうＴｇとは、フィルムのＴｇであり、ＤＳＣ測定（昇温速度１０℃／分）によって求められる、ベースラインが偏奇し始める温度である。【０３８６】
本発明で用いる弾性タッチロールは、巾方向の中央部が端部より径が大きいいわゆるクラウンロールの形状とすることが好ましい。タッチロールは、その両端部を加圧手段でフィルムに押圧するのが一般的であるが、この場合、タッチロールが撓むため、端部にいくほど強く押圧されてしまう現象がある。ロールをクラウン形状にすることで高度に均一な押圧が可能となるのである。【０３８７】
本発明で用いる弾性タッチロールの幅は、フィルム幅よりも広くすることで、フィルム全体を冷却ロールに密着できるので好ましい。また、ドロー比が大きくなると、フィルムの両端部がネックイン現象により耳高（端部の膜厚が厚くなる）になる場合がある。この場合は、耳高部を逃げるように、金属製外筒の幅をフィルム幅より狭くしてもよい。あるいは、金属製外筒の外径を小さくして耳高部を逃げてもよい。【０３８８】
金属製弾性タッチロールの具体例としては、特許第３１９４９０４号、特許第３４２２７９８号、特開２００２−３６３３２号、特開２００２−３６３３３号に記載されている成形用ロールが挙げられる。【０３８９】
タッチロールの撓みを防止するため、冷却ロールに対してタッチロールの反対側にサポートロールを配してもよい。【０３９０】
タッチロールの汚れを清掃する装置を配してもよい。清掃装置としては、例えば、ロール表面を必要により溶剤を浸透させた不織布などの部材をロールに押し当てる方法、液体中にロールを接触させる方法、コロナ放電やグロー放電などのプラズマ放電によりロール表面の汚れを揮発させる方法などが好ましく用いることができる。【０３９１】
タッチロールの表面温度を更に均一にするため、タッチロールに温調ロールを接触させたり、温度制御された空気を吹き付けたり、液体などの熱媒体を接触させてもよい。【０３９２】
本発明では、更にタッチロール押圧時のタッチロール線圧を１ｋｇ／ｃｍ以上、１５ｋｇ／ｃｍ以下に調整することが好ましい。タッチロール線圧をこの範囲とすることで、溶融流延法で製造されたセルロース樹脂フィルムの熱による歪を少なくした偏光板保護フィルムが得られる。線圧とは、タッチロールがフィルムを押圧する力を押圧時のフィルム幅で除した値である。線圧を上記の範囲にする方法は、特に限定はなく、例えば、エアーシリンダーや油圧シリンダーなどでロール両端を押圧することができる。サポートロールによりタッチロールを押圧することで、間接的にフィルムを押圧してもよい。【０３９３】
タッチロールでフィルムを押圧する際のフィルム温度は、高いほど歪が低減されるが、あまり高すぎると、別の歪が発生する場合がある。これは、フィルム中から揮発成分が揮発し、タッチロールで押圧する際に均一に押圧されないためと予想している。本発明ではタッチロール側フィルム表面温度Ｔを、Ｔｇ＜Ｔ＜Ｔｇ＋１１０℃とすることが好ましい。押圧時のフィルム温度を上記範囲にする方法は特に限定はないが、例えば、ダイと冷却ロール間の距離を近づけて、ダイと冷却ロール間での冷却を抑制する方法やダイと冷却ロール間を断熱材で囲って保温したり、あるいは熱風や赤外線ヒータやマイクロ波加熱等により加温する方法が挙げられる。もちろん押出温度を高く設定してもよい。【０３９４】
フィルム表面温度およびロール表面温度は非接触式の赤外温度計で測定できる。具体的には、非接触ハンディ温度計（ＩＴ２−８０、（株）キーエンス製）を用いてフィルムの幅手方向に１０箇所を被測定物から０．５ｍの距離で測定する。【０３９５】
タッチロール側フィルム表面温度Ｔは、搬送されているフィルムをタッチロールをはずした状態でタッチロール側から非接触式の赤外温度計で測定したフィルム表面温度のことをさす。【０３９６】
冷却ロールは、高剛性の金属ロールで内部に温度制御可能な熱媒体または冷媒体が流れるような構造を備えるロールであり、大きさは限定されないが、溶融押出されたフィルムを冷却するのに十分な大きさであればよく、通常冷却ロールの直径は１００ｍｍから１ｍ程度である。冷却ロールの表面材質は、炭素鋼、ステンレス、アルミニウム、チタンなどが挙げられる。更に表面の硬度をあげたり、樹脂との剥離性を改良するため、ハードクロムメッキや、ニッケルメッキ、非晶質クロムメッキなどや、セラミック溶射等の表面処理を施すことが好ましい。冷却ロール表面の表面粗さは、Ｒａで０．１μｍ以下とすることが好ましく、更に０．０５μｍ以下とすることが好ましい。ロール表面が平滑であるほど、得られるフィルムの表面も平滑にできる。もちろん表面加工した表面は更に研磨し上述した表面粗さとすることが好ましい。【０３９７】
また、セルロースエステル樹脂を含む溶融物は他の熱可塑性樹脂と比較して、溶融粘度が高く、延伸もしにくい。そのため、ドロー比が大きいと搬送方向で膜厚変動が生じやすく、又、テンター工程で延伸する際にも破断しやすくなるという問題があり、通常はドロー比７〜８程度で実施していたのであるが、本発明では、セルロース樹脂を含む溶融物をダイからフィルム状に押出し、ドロー比１０以上３０以下として得られたフィルムを、弾性タッチロールで冷却ロールに押圧しながら搬送することが好ましい。【０３９８】
ドロー比とは、ダイのリップクリアランスを冷却ロール上で固化したフィルムの平均膜厚で除した値である。ドロー比をこの範囲とすることで、液晶表示装置で画像を表示したときに、スジや斑点状ムラの発生を低減出来、生産性の良好な偏光板保護フィルムが得られる。ドロー比は、ダイリップクリアランスと冷却ロールの引き取り速度により調整できる。ダイリップクリアランスは、９００μｍ以上が好ましく、更に１ｍｍ以上２ｍｍ以下が好ましい。【０３９９】
また、ダイ出口から冷却ドラムや引取りロールの周辺雰囲気を吸引することが好ましく行われる。溶融押出しされたフィルムからポリマー分解物や可塑剤などの添加剤が揮発し、ダイリップやロールに付着汚染するのを防ぐためである。吸引は、ダイリップから樹脂が吐出された直後に設置することが好ましい。揮発ガスの除去効果を上げるために周辺を囲むことも好ましい。囲って吸引すると、隙間を通して周囲から空気を吸い込むことにより、ダイリップから吐出された樹脂フィルムがゆらいで膜厚ムラとなることがあるので、吸引風量と同量の新鮮空気を囲いの中に供給することも好ましい。供給する空気の温度が振れると樹脂フィルムの温度が変化して膜厚ムラを生じるので、温度も一定に制御することが好ましい。このような措置を施したとしても、溶融フィルムからの揮発ガスによるロール汚染を完全になくすわけにいかないので、引取りロールや冷却ドラムに清掃装置を設置することが好ましく行われる。清掃装置はフィルム成形中もずっと継続して機能するタイプと、定期的にフィルム成形を中断して機能するタイプのどちらも適用出来る。【０４００】
本発明の偏光板保護フィルムは、幅手方向もしくは製膜方向または両方向に延伸製膜されたフィルムであることが好ましい。【０４０１】
前述の冷却ドラムから剥離され、得られた未延伸フィルムを複数のロール群及び／又は赤外線ヒーター等の加熱装置を介してセルロースエステルのガラス転移温度（Ｔｇ）からＴｇ＋１００℃の範囲内に加熱し、一段又は多段縦延伸することが好ましい。延伸の倍率は５〜２００％の範囲で製品に要求されるリターデーションを満足するように選択される。【０４０２】
次に、上記のようにして得られた縦方向に延伸された偏光板保護フィルムを、Ｔｇ−２０℃〜Ｔｇ＋２０℃の温度範囲内で、５〜２００％の範囲で横延伸し、次いで熱固定することが好ましい。【０４０３】
横延伸する場合、２つ以上に分割された延伸領域で温度差を１〜５０℃の範囲で順次昇温しながら横延伸すると、幅方向の物性の分布が低減でき好ましい。更に横延伸後、フィルムをその最終横延伸温度以下でＴｇ−４０℃以上の範囲に０．０１〜５分間保持すると幅方向の物性の分布が更に低減でき好ましい。延伸の順番は、タテ、ヨコの順に限らず、ヨコ、タテの順でもかまわない。【０４０４】
また同時二軸延伸も好ましく適用出来る。逐次延伸では２段目の延伸時に破断しやすい傾向があるが、同時二軸延伸は破断しにくく、縦横の配向が均一に出来るメリットがある。【０４０５】
熱固定は、その最終横延伸温度より高温で、Ｔｇ＋５０℃以下の温度範囲内で通常０．５〜３００秒間熱固定する。この際、２つ以上に分割された領域で温度差を１〜１００℃の範囲で順次昇温しながら熱固定することが好ましい。【０４０６】
熱固定されたフィルムは通常Ｔｇ以下まで冷却され、フィルム両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。この際、最終熱固定温度以下、Ｔｇ−３０℃以上の温度範囲内で、横方向及び／又は縦方向に０．１〜１０％弛緩処理することが好ましい。又冷却は、最終熱固定温度からＴｇまでを、毎秒１００℃以下の冷却速度で徐冷することが好ましい。冷却、弛緩処理する手段は特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の温度領域で順次冷却しながらこれらの処理を行うことがフィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。尚、冷却速度は、最終熱固定温度をＴ１、フィルムが最終熱固定温度からＴｇに達するまでの時間をｔとしたとき、（Ｔ１−Ｔｇ）／ｔで求めた値である。【０４０７】
これら熱固定条件、冷却、弛緩処理条件のより最適な条件は、フィルムを構成するセルロースエステルにより異なるので、得られた延伸フィルムの物性を測定し、好ましい特性を有するように適宜調整することにより決定すればよい。【０４０８】
また、製膜工程において、カットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料として又は異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。【０４０９】
（延伸操作、屈折率制御）
本発明の偏光板保護フィルムを位相差フィルムとして用いる場合、延伸操作により屈折率制御を行うことが好ましい。延伸操作としては、セルロースエステルの１方向に１．０〜２．０倍及びフィルム面内にそれと直交する方向に１．０１〜２．５倍延伸することで好ましい範囲の屈折率に制御することが出来る。【０４１０】
例えばフィルムの長手方向（製膜方向）及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方向に対して、逐次または同時に延伸することが出来る。このとき少なくとも１方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となり破断が発生してしまう場合がある。【０４１１】
例えば溶融して流延した方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、フィルムの厚み方向の屈折率が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑制或いは、幅方向にも延伸することで改善出来る。幅方向に延伸する場合、幅手で屈折率に分布が生じる場合がある。これは、テンター法を用いた場合にみられることがあるが、幅方向に延伸したことで、フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、所謂ボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。この場合でも、該流延方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制出来、幅手の位相差の分布を少なく改善出来るのである。【０４１２】
更に、互いに直行する２軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少出来る。偏光板保護フィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。【０４１３】
偏光板保護フィルムの膜厚変動は、±３％、更に±１％の範囲とすることが好ましい。以上の様な目的において、互いに直交する２軸方向に延伸する方法は有効であり、互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に１．０〜２．０倍、幅方向に１．０１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に１．０１〜１．５倍、幅方向に１．０５〜２．０倍に範囲で行うことが好ましい。【０４１４】
応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、幅方向に延伸することで、偏光板保護フィルムの遅相軸が幅方向に付与することが出来る。この場合、本発明において、表示品質の向上のためには、偏光板保護フィルムの遅相軸が、幅方向にあるほうが好ましく、（幅方向の延伸倍率）＞（流延方向の延伸倍率）を満たすことが必要である。【０４１５】
ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、或いは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことが出来、破断等の危険性が減少出来るので好ましい。【０４１６】
製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。【０４１７】
本発明の偏光板保護フィルムを位相差フィルムとして用いるには、上記延伸操作を行い、２３℃５５％ＲＨ下で波長５９０ｎｍでの式（１）で表される面内リターデーション値Ｒｏが１０〜１００ｎｍ、好ましくは２０〜８０ｎｍの範囲にあり、式（２）で表される厚み方向リターデーション値Ｒｔが８０〜４００ｎｍ、好ましくは１００〜２５０ｎｍの範囲にあり、かつＲｔ／Ｒｏが２．０〜５．０の範囲にあることが好ましい。【０４１８】
式（１）Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（２）Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（ここで、フィルム面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、遅相軸に直交する方向の屈折率をｎｙ、フィルム厚み方向の屈折率をｎｚ、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）をそれぞれ表す。）
本発明の偏光板保護フィルムの厚さは１０〜５００μｍが好ましい。特に２０μｍ以上、更に３５μｍ以上が好ましい。又、１５０μｍ以下、更に１２０μｍ以下が好ましい。特に好ましくは２５以上〜９０μｍが好ましい。上記領域よりも偏光板保護フィルムが厚いと偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的には適さない。一方、上記領域よりも薄いと、リターデーションの発現が困難となること、フィルムの透湿性が高くなり偏光子に対して湿度から保護する能力が低下してしまうために好ましくない。【０４１９】
本発明の偏光板保護フィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角をθ１とするとθ１は−１°以上＋１°以下であることが好ましく、−０．５°以上＋０．５°以下であることがより好ましい。このθ１は配向角として定義出来、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて行うことが出来る。θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与出来、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得ることに寄与出来る。【０４２０】
〈機能性層〉
本発明の偏光板保護フィルムの製造に際し、延伸の前及び／又は後帯電防止層、ハードコート層、反射防止層、易滑性層、易接着層、防眩層、バリアー層、光学補償層、バックコート層等の機能性層を塗設してもよい。特に、帯電防止層、ハードコート層、反射防止層、易接着層、防眩層、及びバックコート層から選ばれる少なくとも１層を設けることが好ましく、該反射防止層は反射率低減の為に中空微粒子を含有することが特に好ましい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことが出来る。【０４２１】
〈偏光板〉
本発明の偏光板保護フィルムを有する偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することが出来る。得られた偏光板保護フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルム或いはエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、けん化度９９．０〜９９．９９モル％であるエチレン変性ポリビニルアルコールを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用いて、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを貼り合わせてもよいし、少なくとも片面に本発明
の偏光板保護フィルムを偏光子に直接貼合してもよい。もう一方の面には別の偏光板保護フィルムを用いてもよく、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ−Ｎ、以上コニカミノルタオプト（株）製）等が好ましく用いられる。【０４２２】
また、上記アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、同６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施して偏光板加工を行ってもよい。【０４２３】
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することが出来る。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。【０４２４】
（液晶表示装置）
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶セルを含む基板が配置されているが、本発明の偏光板保護フィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムにはクリアハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に用いることも好ましい。また、延伸した本発明の偏光板保護フィルムは視野角拡大の為の位相差フィルムとして用いることも好ましい。【０４２５】
本発明の偏光板保護フィルム及びそれを用いた偏光板は反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。特に画面が３０型以上、特に３０型〜５４型の大画面の表示装置では、画面周辺部での白抜けなどもなく、その効果が長期間維持され、ＭＶＡ型液晶表示装置では顕著な効果が認められる。特に、色むら、ぎらつきや波打ちムラが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
【実施例】
【０４２６】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０４２７】
（用いる素材）
〈セルロースエステル〉
Ｃ−１．セルロースアセテートプロピオネート：アセチル基置換度１．９２、プロピオニル基置換度０．７４、総アシル基置換度２．６６、数平均分子量６００００
Ｃ−２．セルロースアセテートブチレート：アセチル基置換度１．３８、ブチリル基置換度１．３０、総アシル基置換度２．６８、数平均分子量１０００００
Ｃ−３．セルロースアセテートプロピオネート：アセチル基置換度１．４、プロピオニル基置換度１．３５、総アシル基置換度、数平均分子量６００００
Ｃ−４．セルロースアセテートプロピオネート：アセチル基置換度１．８０、プロピオニル基置換度１．００、総アシル基置換度２．８０、数平均分子量６００００
Ｃ−５．セルロースアセテートプロピオネート：アセチル基置換度１．４５、プロピオニル基置換度１．４５、総アシル基置換度２．９０、数平均分子量６００００
Ｃ−６．セルロースアセテートプロピオネート：アセチル基置換度１．２、プロピオニル基置換度１．６０、総アシル基置換度２．８０、数平均分子量６００００
尚、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等のアシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定した。【０４２８】
〈可塑剤〉
（合成例１：トリメチロールプロパントリベンゾエート（ＴＭＰＴＢ）の合成）
１００℃に保持した４５質量部のトリメチロールプロパン、１０１質量部のトリエチルアミンの混合溶液を攪拌しながら、７１質量部の塩化ベンゾイルを３０分間かけて滴下し、さらに３０分間攪拌した。反応終了後室温まで冷却して沈殿物を炉別した後、酢酸エチル・純水を加えて洗浄し、有機相を分取して酢酸エチルを減圧留去し、１２６質量部（収率８５％）の白色の結晶を得た。なお、この化合物の分子量は４４６である。【０４２９】
（合成例２：一般式（２）で表される化合物、化合物例９）
１０℃に保持した５４質量部のトリメチロールプロパン、１２７質量部のピリジン、５００質量部の酢酸エチルの混合溶液を攪拌しながら、２４０質量部のｏ−メトキシベンゾイルクロライドを３０分間かけて滴下し、その後、８０℃まで加熱して、３時間攪拌した。反応終了後、室温まで冷却して沈殿物を炉別した後、１モル／Ｌ  ＨＣｌ水溶液を加えて洗浄し、さらに１％Ｎａ2ＣＯ3水溶液を加えて洗浄した後、有機相を分取して酢酸エチルを減圧留去し、１９３質量部（収率９０％）の透明液体を得た。なお、この化合物の分子量は５３７である。【０４３０】
〈添加剤１〉
（合成例３：一般式（Ｌ）で表される化合物、化合物１０１）
５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン、ｐ−キシレンならびに触媒としてフルキャット（Ｆｕｌｃａｔ）２２Ｂから出発して、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−（２，５−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０１）を合成した。【０４３１】
ａ）５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オンの合成
１，２−ジクロロエタン３００ｍｌ中の２，４−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−フェノール（９７％）２１２．５ｇ（１．００ｍｏｌ）、５０％水性グリオキシル酸１６３．０ｇ（１．１０ｍｏｌ）及びｐ−トルエンスルホン酸一水塩０．５ｇ（２．６ｍｍｏｌ）を水分離器上で３．５時間、窒素気流中で還流した。その後、反応混合物を減圧ロータリーエバポレーターで濃縮した。残渣をヘキサン８００ｍｌに溶解し、そして水で３回洗浄した。分液漏斗中、水相を分離し、さらにヘキサン３００ｍｌで抽出した。有機相を集め、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧エバポレーターで濃縮した。残渣から濃い黄色の樹脂の形態の、分析的に精製された５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン２６２．３ｇ（〜１００％）を得た。【０４３２】
ｂ）５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−（２，５−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物（１０１））の合成
ｐ−キシレン５００ｍｌ（４．０５ｍｏｌ）中の５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン２６２．３ｇ（１．００ｍｏｌ）溶液にフルキャット２２Ｂ４０ｇを加え、及び混合物を水分離器上で１．５時間還流した。フルキャット２２Ｂ触媒を次にろ過により除去し、過剰ｐ−キシレンを減圧エバポレーターで留去した。メタノール４００ｍｌからの残渣の結晶化により、融点９３−９７℃の５，７−ジ−第三ブチル−３−（２，５−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０１）２８０．６ｇ（８０％）を得た。【０４３３】
（合成例４：一般式（Ｌ）で表される化合物、化合物１０３、１０３Ａの合成）
２，４−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−フェノール、グリオキシル酸及びｏ−キシレンならびに触媒としてフルキャットまたはフルモント（Ｆｕｌｍｏｎｔ）から出発して、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０３）及び３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０３Ａ異性体）の約５．７：１混合物を合成した。【０４３４】
水分離器を備えた１５００ｍｌの二層反応器に２，４−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−フェノール２０６．３ｇ（１．０ｍｏｌ）、ｏ−キシレン４８５ｇ（５．５ｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸一水塩０．５ｇ（２．６ｍｍｏｌ）及び５０％水性グリオキシル酸１６３ｇ（１．１ｍｏｌ）を入れた。攪拌しながら、混合物を８５〜９０℃に加熱しそして装置を同時に約４５０ｍｂａｒに排気した。反応器中の温度が８５〜９０℃になると直ちに、ｏ−キシレン／水混合物が蒸留され始め、ｏ−キシレンは還流され及び水は系から除去された。反応器の温度を８５〜９０℃に保てるように減圧を連続的に高めた。水約９０〜１００ｍｌの全てが３ないし４時間かけて蒸留された。減圧を窒素により解除し、触媒（フルキャット３０もしくは４０、フルモントＸＭＰ−３もしくはＸＭＰ−４）４０ｇを透明な黄色の溶液に加えた。装置を７００ｍｂａｒの圧力に排気しそして懸濁物を１６５℃の加熱浴温度で攪拌した。約１２８℃の温度から反応水が共沸物として系から留去され始めた。装置の温度は最後の方で最大１４０℃に昇温させた。総量約２０ｍｌの水が系から１ないし２時間かけて留去された。次に減圧を窒素により解除した。反応混合物を９０〜１００℃に冷却し及びろ過した。装置及びフィルター残渣をｏ−キシレン１００ｇですすいだ。ろ液を二層反応器に移しそして減圧下で濃縮し、ｏ−キシレン３６０ｇで回収した。やや赤い黄色の残渣を７０℃に冷却し、温度を６０〜６５℃に保ちながら、メタノール６３６ｇを滴下漏斗から注意して加えた。溶液に結晶種を入れ、６０〜６５℃で約３０分間攪拌して結晶化させた。次に結晶化スラリーを２時間かけて−５℃に冷却し、そしてこの温度で攪拌をさらに１時間続けた。結晶を吸引ろ過で集め、残渣を冷メタノール（−５℃）４００ｍｌを使用して５回に分けて洗浄した。十分に乾圧された生成物を５０〜６０℃の真空乾燥機で乾燥して、白色固体２６６ｇを得た。ガスクロマトグラフィーによる分析は、この物質が３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０３）約８５％、ならびに３−（２，３−ジメチルフェニル）５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−Ｈ−ベンゾフラン−２−オン異性体（化合物１０３Ａ）約１５％からなることを示す。【０４３５】
（合成例５：一般式（Ｌ）で表される化合物、化合物１０５の合成）
５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン、エチルベンゼンならびに触媒としてフルキャット２２Ｂから出発して、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−（４−エチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０５）を合成した。【０４３６】
エチルベンゼン５００ｍｌ（４．０８ｍｏｌ）中の５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン２６２．３ｇ（１．００ｍｏｌ）溶液にフルキャット２２Ｂ  ４０ｇを加え、そして混合物を水分離器上で１．５時間還流した。フルキャット２２Ｂ触媒を次にろ過により除去し、過剰エチルベンゼンを減圧エバポレーターで留去した。ＧＣ−ＭＳ分析はパラ−異性体（化合物１０５）５９．２％、メタ−異性体（化合物１０５Ａ）１０．８％及びオルト−異性体（化合物１０５Ｂ）２１．１％の混合物からなる残渣を示した。メタノール４００ｍｌからの残渣の結晶化により、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−（４−エチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０５）（パラ−異性体）１６３．８ｇ（４７％）が得られ、それはさらにメタ−異性体５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−（３−エチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０５Ａ）５．６％、及びオルト−異性体５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−（２−エチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０５Ｂ）１．３％を含む。メタノールからのさらなる結晶化から、融点１２７−１３２℃のほとんど純粋なパラ異性体（化合物１０５）を得た。【０４３７】
（合成例６：一般式（Ｌ）で表される化合物、化合物１１１）
５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン、ペンタメチルベンゼンならびに触媒として四塩化錫から出発して、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−（２，３，４，５，６−ペンタメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物（１１１））を合成した。【０４３８】
ペンタメチルベンゼン１１．５ｇ（７７．５ｍｏｌ）及び四塩化錫１０ｍｌ（８５．０ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロメタン５０ｍｌ中の５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン１９．７ｇ（７５．０ｍｍｏｌ）の溶液に加え、そして反応混合物を１時間還流した。反応混合物を水で稀釈しそしてトルエンで３回抽出した。有機相を集め、水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして減圧エバポレーターで濃縮した。エタノールからの残渣の結晶化により融点１８５−１９０℃の、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−（２，３，４，５，６−ペンタメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１１１）２６．３ｇ（８９％）が得られた。【０４３９】
（合成例７：一般式（Ｌ）で表される化合物、化合物１０８）
５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン、チオアニソールならびに触媒として三塩化アルミニウムから出発して、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−（４−メチルチオフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０８）を合成した。【０４４０】
チオアニソール２５ｍｌ（０．２１ｍｏｌ）中の５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−ヒドロキシ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン２６．２ｇ（０．１０ｍｏｌ）の溶液をチオアニソール１５ｍｌ（０．１３ｍｏｌ）中の塩化アルミニウム１４．７ｇ（０．１１ｍｏｌ）の溶液に３５〜４０℃で滴下で添加した。反応混合物をその後３０℃で３０分間及び８０℃で２時間攪拌し、そして冷却後、水約５０ｍｌ、そして次に濃塩酸及び塩化メチレンを均質な２層混合物が形成されるのに十分な量で注意深く加えた。有機相を分離し、水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥しそしてロータリーエバポレーターで濃縮した。エタノールからの残渣の結晶化により、融点１２５−１３１℃の５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３−（４−メチルチオフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０８）６．７ｇを得た。【０４４１】
ＨＰ１３６；ＩＲＧＡＮＯＸ  ＨＰ１３６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：一般式（Ｌ）で表される化合物例）
〈添加剤２：トリアジン環化合物〉
次に、本実施例で使用されるトリアジン環化合物の合成法に関して具体的に記載するが、これ以外の化合物に対しても、これらの例と同様に合成することができる。【０４４２】
合成例１：例示化合物（１−１）
（１）２，４−ジ−ｍ−トルイジノ−６−クロル−１，３，５−トリアジンの合成
４００Ｌの反応容器に塩化シアヌル２５ｋｇ（１３６モル）を入れ、メチルエチルケトン２００Ｌで溶解した。次いで、ｍ−トルイジン２９．１ｋｇ（２７０モル）を５℃以下で滴下し、その後、ジイソプロピルエチルアミン３５．２ｋｇ（２７０モル）を５℃以下で滴下した。滴下後、室温下で２時間反応させたのち、反応液を氷水５００Ｌ中に注ぎ込み、有機層を酢酸エチル５００Ｌで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、得られた残渣をイソプロピルアルコール１００Ｌに溶解し再結晶した。得られた結晶を乾燥することにより目的物を得た（収量３７．７ｋｇ、収率８５モル％）。【０４４３】
（２）例示化合物（１−１）の合成
上記で得られた２，４−ジ−ｍ−トルイジノ−６−クロル−１，３，５−トリアジン８．１ｋｇ（２５モル）と、アニリン２．３ｋｇ（２５モル）とを３００Ｌの反応容器に入れ、ＤＭＦ２０Ｌで溶解した。次いで、炭酸カリウム５．２ｋｇ（３７．５モル）を加え１２０℃で２時間反応させた後、冷却し、酢酸エチル１００Ｌで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１（体積比））で単離し目的物を得た（収量８．６ｋｇ、収率９０モル％）。化学構造はＮＭＲスペクトル、ＭＳスペクトル及び元素分析で確認した。【０４４４】
合成例２：例示化合物（１−２）の合成
上記合成例１（１）で得られた２，４−ジ−ｍ−トルイジノ−６−クロル−１，３，５−トリアジン８．１ｋｇ（２５モル）と、ｐ−アニシジン３．１ｋｇ（２５モル）とを２００Ｌの反応容器に入れ、ＤＭＦ２０Ｌで溶解した。次いで、炭酸カリウム５．２ｋｇ（３７．５モル）を加え１２０℃で２時間反応させた。冷却後、酢酸エチル１００Ｌで抽出し、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１（体積比））で単離し目的物を得た（収量９．１ｋｇ、収率８８モル％）。化学構造はＮＭＲスペクトル、ＭＳスペクトル及び元素分析で確認した。【０４４５】
合成例３：例示化合物（１−３５）の合成
（１）２−（２−クロルアニリノ）−４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの合成。【０４４６】
５００Ｌの反応容器に塩化シアヌル１４．４ｋｇ（７８モル）を入れ、メチルエチルケトン８０Ｌに溶解した。次いで、ｏ−クロルアニリン１０ｋｇ（７８モル）を０℃以下で滴下し、更にジイソプロピルエチルアミン１０．１ｋｇ（７８モル）を０℃以下で滴下した。滴下後、室温下で２時間反応させたのち、反応液を氷水１６０Ｌ中へ注ぎ込んで有機層を酢酸エチル２００Ｌで抽出した。その後、抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１（体積比））で単離し目的物を得た（収量１９．３ｋｇ、収率９０モル％）。【０４４７】
（２）例示化合物（１−３５）の合成
上記で得られた２−（２−クロルアニリノ）−４，６−ジクロル−１，３，５−トリアジン５．４ｋｇ（２０モル）を４００Ｌの反応容器に入れ、ＤＭＦ２０Ｌで溶解した。次いで、ｍ−トルイジン４．２ｋｇ（４０モル）と炭酸カリウム８．２ｋｇ（６０モル）とを加え、１２０℃で２時間反応させた。冷却後、反応液を氷水１００Ｌ中へ注ぎ込み、有機層を酢酸エチル１５０Ｌで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／１（体積比））で単離し目的物を得た（収量７．３ｋｇ、収率８７モル％）。化学構造はＮＭＲスペクトル、ＭＳスペクトル及び元素分析で確認した。【０４４８】
合成例４：例示化合物（２−１）の合成
４００Ｌの反応容器に塩化シアヌル２５ｋｇ（１３６モル）を入れ、メチルエチルケトン２００Ｌで溶解した。次いで、アニリン４０ｋｇ（４０５モル）を５℃以下で滴下し、その後、ジイソプロピルエチルアミン５２．８ｋｇ（４０５モル）を５℃以下で滴下した。滴下後、室温下で２時間反応させたのち、反応液を氷水５００Ｌ中に注ぎ込み、有機層を酢酸エチル５００Ｌで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、得られた残渣をイソプロピルアルコール１００Ｌに溶解し再結晶した。得られた結晶を乾燥することにより目的物を得た（収量５０．４ｋｇ、収率８５モル％）。【０４４９】
合成例５：例示化合物（２−２９）の合成
４００Ｌの反応容器に塩化シアヌル２５ｋｇ（１３６モル）を入れ、メチルエチルケトン２００Ｌで溶解した。次いで、ｍ−トルイジン３８ｋｇ（４０５モル）を５℃以下で滴下し、その後、ジイソプロピルエチルアミン５２．８ｋｇ（４０５モル）を５℃以下で滴下した。滴下後、室温下で２時間反応させたのち、反応液を氷水５００Ｌ中に注ぎ込み、有機層を酢酸エチル５００Ｌで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを減圧留去した。次いで、得られた残渣をイソプロピルアルコール１００Ｌに溶解し再結晶した。得られた結晶を乾燥することにより目的物を得た（収量５４．４ｋｇ、収率８５モル％）。【０４５０】
〈添加剤３：フェノール系化合物〉
ＨＰ−１：ＩＲＧＡＮＯＸ−１０１０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
ＨＰ−２：ＩＲＧＡＮＯＸ−１０７６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
〈添加剤４：リン系化合物〉
ＧＳＹ：ＧＳＹ−Ｐ１０１（エーピーアイコーポレーション社製）
Ｐ−ＥＰＱ：ＩＲＧＡＦＯＳ  Ｐ−ＥＰＱ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
実施例１
（偏光板保護フィルム１０１の作製）
上記合成例で作製した各種化合物、また市販の各種化合物を用いて、溶融流延法により偏光板保護フィルム１０１を作製した。【０４５１】
セルロースエステル（Ｃ−１）                                    １００質量部
可塑剤（ＴＭＰＴＢ）                                                ５質量部
可塑剤（一般式（２）例示化合物９）                                  ５質量部
添加剤１（合成例４の３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０３）及び３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−Ｂｕ−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン（化合物１０３Ａ異性体の約５．７：１混合物））                                      ０．３質量部
添加剤２（一般式（１）例示化合物（１−１））                        １質量部
添加剤３（ＨＰ−１）                                            ０．５質量部
紫外線吸収剤Ｔｉ９２８（チバスペシャルティケミカルズ社製）      １．５質量部
マット剤（シーホスターＫＥＰ−３０：日本触媒（株）製、平均粒径０．３μｍシリカ微粒子）                                                          ０．１質量部【０４５２】
【化１００】
2008007566.tif 000102
【０４５３】
セルロースエステルＣ−１を７０℃、３時間減圧下で乾燥を行い室温まで冷却した後、可塑剤、添加剤、紫外線吸収剤、マット剤を混合した。この混合物を真空ナウターミキサーで８０℃、１Ｔｏｒｒで３時間混合しながら更に乾燥した。得られた混合物を２軸式押し出し機を用いて２３５℃で溶融混合しペレット化した。この際、混錬時のせん断による発熱を抑えるためニーディングディスクは用いずオールスクリュータイプのスクリューを用いた。また、ベント孔から真空引きを行い、混錬中に発生する揮発成分を吸引除去した。なお、押出機に供給するフィーダーやホッパー、押出機ダイから冷却槽間は、乾燥窒素ガス雰囲気として、樹脂への水分の吸湿を防止した。【０４５４】
フィルム製膜は図１に示す製造装置で行った。【０４５５】
第１冷却ロール及び第２冷却ロールは直径４０ｃｍのステンレス製とし、表面にハードクロムメッキを施した。又、内部には温度調整用のオイル（冷却用流体）を循環させて、ロール表面温度を制御した。弾性タッチロールは、直径２０ｃｍとし、内筒と外筒はステンレス製とし、外筒の表面にはハードクロムメッキを施した。外筒の肉厚は２ｍｍとし、内筒と外筒との間の空間に温度調整用のオイル（冷却用流体）を循環させて弾性タッチロールの表面温度を制御した。【０４５６】
得られたペレット（水分率５０ｐｐｍ）を、１軸押出機を用いてＴダイからフィルム状に表面温度１００℃の第１冷却ロール上に溶融温度２５０℃でフィルム状に溶融押し出しドロー比２０で、膜厚８０μｍのキャストフィルムを得た。この際、Ｔダイのリップクリアランス１．５ｍｍ、リップ部平均表面粗さＲａ０．０１μｍのＴダイを用いた。また押出機中間部のホッパー開口部から、滑り剤としてシリカ微粒子を、０．１質量部となるよう添加した。【０４５７】
更に、第１冷却ロール上でフィルムを２ｍｍ厚の金属表面を有する弾性タッチロールを線圧１０ｋｇ／ｃｍで押圧した。押圧時のタッチロール側のフィルム温度は、１８０℃±１℃であった。（ここでいう押圧時のタッチロール側のフィルム温度は、第１ロール（冷却ロール）上のタッチロールが接する位置のフィルムの温度を、非接触温度計を用いて、タッチロールを後退させてタッチロールがない状態で５０ｃｍ離れた位置から幅方向に１０点測定したフィルム表面温度の平均値を指す。）このフィルムのガラス転移温度Ｔｇは１３６℃であった。（セイコー（株）製、ＤＳＣ６２００を用いてＤＳＣ法（窒素中、昇温温度１０℃／分）によりダイスから押し出されたフィルムのガラス転移温度を測定した。）
なお、弾性タッチロールの表面温度は１００℃、第２冷却ロールの表面温度は３０℃とした。弾性タッチロール、第１冷却ロール、第２冷却ロールの各ロールの表面温度は、ロールにフィルムが最初に接する位置から回転方向に対して９０°手前の位置のロール表面の温度を非接触温度計を用いて幅方向に１０点測定した平均値を各ロールの表面温度とした。【０４５８】
得られたフィルムを予熱ゾーン、延伸ゾーン、保持ゾーン、冷却ゾーン（各ゾーン間には各ゾーン間の断熱を確実にするためのニュートラルゾーンも有する）を有するテンターに導入し、巾方向に１６０℃で１．３倍延伸した後、巾方向に２％緩和しながら７０℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落として、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施し、幅１４３０ｍｍにスリットした膜厚６０μｍの偏光板保護フィルム１０１を得た。この際、予熱温度、保持温度を調整し延伸によるボーイング現象を防止した。得られた偏光板保護フィルム１０１から残留溶媒は検出されなかった。【０４５９】
次いで、セルロースエステル、添加剤１、添加剤２、添加剤３、添加剤４を表１のように変更した以外は本発明の偏光板保護フィルム１０１と同様にして、幅１４３０ｍｍ、膜厚６０μｍの偏光板保護フィルム１０２〜１２３を得た。【０４６０】
【表１】
2008007566.tif 000103
【０４６１】
《偏光板の作製》
上記作製した偏光板保護フィルム１０１〜１２３を使って、下記アルカリケン化処理、次いで偏光板の作製を行った。【０４６２】
〈アルカリケン化処理〉
ケン化工程    ２Ｍ−ＮａＯＨ      ５０℃  ９０秒
水洗工程      水                  ３０℃  ４５秒
中和工程      １０質量％ＨＣｌ    ３０℃  ４５秒
水洗工程      水                  ３０℃  ４５秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで８０℃で乾燥を行った。【０４６３】
〈偏光子の作製〉
厚さ１２０μｍの長尺ロールポリビニルアルコールフィルムを沃素１質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で５倍に搬送方向に延伸して偏光子を作った。【０４６４】
上記偏光子の片面にアルカリケン化処理した前記偏光板保護フィルム１０１〜１２３を、もう一方の面にコニカミノルタタックＫＣ４ＦＲ−１（コニカミノルタオプト（株）製）を、完全ケン化型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として、各々貼り合わせ、乾燥して偏光板Ｐ１０１〜１２３を作製した。【０４６５】
《液晶表示装置の作製》
ＶＡ型液晶表示装置である富士通製１５型ディスプレイＶＬ−１５０ＳＤの予め貼合されていた視認側の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板Ｐ１０１〜１２３をそれぞれ液晶セル（ＶＡ型）のガラス面に貼合し、液晶表示装置１０１〜１２３を作製した。その際、上記作製した偏光板保護フィルム１０１〜１２３が表示面側となるように、また偏光板の貼合の向きは予め貼合されていた偏光板と同一方向に吸収軸が向くように行った。【０４６６】
《評価》
得られた偏光板、液晶表示装置を用いて以下の評価を行った。【０４６７】
（偏光子安定性の評価方法）
上記作製した偏光板について、温度６０℃、湿度９０％ＲＨの環境下に５０時間保持して、強制劣化試験を実施した。試験後の偏光板について、可視域領域の色変化の有無を目視にて観察し、得られた結果を下記の表２に示した。【０４６８】
◎：変化なし
○：やや着色あり
△：着色あり
×：着色著しい
（明暗のスジ）
上記作製した液晶表示装置でグレー画像を表示させ、スジに起因する明暗のスジを目視で観察し、下記基準でランク付けし、得られた結果を下記の表２に示した。【０４６９】
ランク    基準
◎：スジは認められない
○：部分的に僅かにスジが認められる
△：全体に僅かにスジが認められる
×：全体にはっきりとスジが認められる
（斑むら）
上記作製した液晶表示装置で黒表示にしたときの点状あるいは面状で現れる斑状の明暗を目視で観察し、下記基準でランク付けし、得られた結果を下記の表２に示した。【０４７０】
ランク    基準
◎：光の抜けはなく全体に均一な暗視野
○：部分的に僅かに明暗の斑が認められる
△：全体に僅かに明暗の斑が認められる
×：全体に明暗の斑が認められる【０４７１】
【表２】
2008007566.tif 000104
【０４７２】
上表から、本発明の偏光板保護フィルム１０１〜１１２、１１７〜１２３を用いた偏光板、液晶表示装置は、着色、明暗のスジ、斑むらに優れており、視認性に優れた偏光板、液晶表示装置であることが分かった。
【図１】
2008007566.tif 000108
【国際調査報告】
2008007566.tif 000109
2008007566.tif 000110