【手続補正書】
【提出日】令和1年5月31日(2019.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
さらに、柱体の外側に、酸素貯蔵器ならびにオゾン発生器が配置されており、このオゾン発生器を介して、酸素貯蔵器からオゾンが光解離可能なガスとして発生可能でありかつ柱体にガス供給システムを介して供給可能であり、その際に光源から放出されるビームとオゾンの間の相互作用により、酸素ラジカルが光解離生成物として結果として生じ、これらの光解離生成物が汚染物と反応してポンプで排出可能な分解生成物になることが可能である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
荷電粒子ビーム光学系を介して露光モードにおいて、真空試料室内で所望のパターンを露光するために、荷電粒子ビーム光学系を有する柱体を用いて荷電粒子ビーム機器を運転するための本発明による方法は、
−柱体および／または真空試料室を洗浄するために、洗浄モードにおいて、光解離可能なガスを備えた調節可能なガス流が、ガス供給システムを介して柱体および／または真空試料室に供給され、
−個々の光源がそれと接続された制御ユニットを介して時間上選択的にスイッチを入り切りされることにより、
洗浄モードにおいて、供給されるガスが、柱体および／または真空試料室内で空間的に分散された状態で配置された複数の光源を用いて光解離されることが意図される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子ビーム機器において、
−柱体（１０；１１０）であって、この柱体が荷電粒子ビーム光学系を介して露光モードにおいて、真空試料室（２０；１２０）内で所望のパターンを露光するために、荷電粒子ビームを作るための荷電粒子ビーム光学系を備えた柱体と、
−ガス供給システムであって、このガス供給システムを介して、柱体（１０；１１０）および／または真空試料室（２０；１２０）に洗浄モードにおいて、光解離可能なガスを備えた調節可能なガス流を供給するためにガス供給システムと、
−複数の光源（１５．１〜１５．５；１１５．１〜１１５．５）であって、これらの光源が空間的に分散された状態で柱体（１０；１１０）および／または真空試料室（２０；１２０）内に配置されておりかつ洗浄モードにおいて供給されるガスの光解離をもたらす光源と
−光源（１５．１〜１５．５；１１５．１〜１１５．５）に接続された制御ユニット（３０；１３０）であって、この制御ユニットが、この制御ユニットを介して洗浄モードにおいて、個々の光源（１５．１〜１５．５；１１５．１〜１１５．５）が時間上選択的にスイッチを入り切り可能であるように構成されている制御ユニットを備えていて、
−柱体（１０；１１０）の外側に、酸素貯蔵器（１；１０１）ならびにオゾン発生器（２；１０２）が配置されており、このオゾン発生器を介して、酸素貯蔵器（１；１０１）からオゾンが光解離可能なガスとして発生可能でありかつ柱体（１０；１１０）にガス供給システムを介して供給可能であり、その際に光源（１５．１〜１５．５；１１５．１〜１１５．５）から放出されるビームとオゾンの間の相互作用により、酸素ラジカルが光解離生成物として生じ、これらの光解離生成物が汚染と反応してポンプで排出可能な分解生成物（ＣＯ２；Ｈ２Ｏ）になることを特徴とする荷電粒子ビーム機器。
【請求項２】
制御ユニット（３０；１３０）がさらにガス供給システムの吸気弁と動作接続しており、かつ吸気弁（３；１０３）への作用により、洗浄モードで柱体（１０；１１０）および／または真空試料室（２０；１２０）内におけるガス圧が、的を絞って調節可能であるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子ビーム機器。
【請求項３】
柱体（１０；１１０）および／または真空試料室（２０；１２０）の規定された空間的領域のために、制御ユニット（３０；１３０）において、各々パラメータセットが置かれ、このパラメータセットは各領域の最適に洗浄するための必要なパラメータを含み、パラメータセットは少なくとも一つあるいは複数の特定の光源（１５．１〜１５．５；１１５．１〜１１５．５）の選択、光源のスイッチを入れる時間ならびに柱体（１０；１１０）および／または真空試料室（２０；１２０）内の特定のガス圧を含むことを特徴とする請求項２に記載の荷電粒子ビーム機器。
【請求項４】
汚染物と光解離生成物の反応から生じる分解生成物（ＣＯ２；Ｈ２Ｏ）をポンプで排出するために、真空試料室（２０；１２０）は真空ポンプ（５；１０５）と動作接続しており、真空試料室（２０；１２０）と真空ポンプ（５；１０５）の間には変換ユニット（４；１０４）が配置されており、この変換ユニットはまだポンプ排出ガス流内にある光解離可能なガスの残余物を分解することを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子ビーム機器。
【請求項５】
この荷電粒子ビーム機器が柱体（１０；１１０）内に配置された荷電粒子ビーム源（１１；１１１）を備えており、この荷電粒子ビーム源には、荷電粒子ビーム源（１１；１１１）を光解離生成物の逆拡散から保護するために保護シールド（１２；１１２）が前方に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子ビーム機器。
【請求項６】
光源（１５．１〜１５．５；１１５．１〜１１５．５）が柱体（１０；１１０）および／または真空試料室（２０；１２０）内で各々、有機汚染になり易い要素に対して隣接して配置されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載の荷電粒子ビーム機器。
【請求項７】
光源（１５．１〜１５．５）が各々ＬＥＤとして構成されており、これらのＬＥＤが２００ｎｍと３００ｎｍの間のＵＶスペクトルの帯域で放射することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載の荷電粒子ビーム機器。
【請求項８】
複数の光源（１１５．１〜１１５．５）が複数の光ファイバを備えたファイバ束の出口面として構成されており、空間的に分散された状態で柱体（１１０）および／または真空試料室（１２０）内に配置されており、かつファイバ束の他端には光源（１５０）が配置されており、この光源を介してファイバ束の個々の光ファイバ内への光の結合が行われており、その際に光源（１５０）と光ファイバの間には少なくとも一つの開閉装置（１４０）が配置されており、この開閉装置が個々の光ファイバの時間上選択的なスイッチの入り切りを行うための制御ユニット（１３０）を介して操作可能であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載の荷電粒子ビーム機器。
【請求項９】
荷電粒子ビーム光学系を介して露光モードにおいて、真空試料室（２０；１２０）内で所望のパターンを露光するために、荷電粒子ビーム光学系を有する柱体（１０；１１０）を用いて荷電粒子ビーム機器を運転するための方法であって、
−柱体（１０；１１０）および／または真空試料室（２０；１２０）を洗浄するために、洗浄モードにおいて、光解離可能なガスを備えた調節可能なガス流が、ガス供給システムを介して柱体（１０；１１０）および／または真空試料室（２０；１２０）に供給され、
−個々の光源（１５．１〜１５．５；１１５．１〜１１５．５）がそれと接続された制御ユニット（３０；１３０）を介して時間上選択的にスイッチを入り切りされることにより、洗浄モードにおいて、供給されるガスが、柱体（１０；１１０）および／または真空試料室（２０；１２０）内で空間分散された状態で配置された複数の光源（１５．１〜１５．５；１１５．１〜１１５．５）を用いて光解離され、
−柱体（１０；１１０）の外側に、酸素貯蔵器（１；１０１）ならびにオゾン発生器（２；１０２）が配置されており、このオゾン発生器を介して、酸素貯蔵器（１；１０１）からオゾンが光解離可能なガスとして発生可能でありかつ柱体（１０；１１０）にガス供給システムを介して供給可能であり、その際に光源（１５．１〜１５．５；１１５．１〜１１５．５）から放出されるビームとオゾンの間の相互作用により、酸素ラジカルが光解離生成物として生じ、これらの光解離生成物が汚染と反応してポンプで排出可能な分解生成物（ＣＯ２；Ｈ２Ｏ）になることを特徴とする方法。
【請求項１０】
制御ユニット（３０；１３０）がさらにガス供給システムの吸気弁（３；１０３）と動作接続しており、洗浄モードにおいて、ガス圧が柱体（１０；１１０）および／または真空試料室（２０；１２０）内で規定された状態で調節されるように、吸気弁（３；１０３）に作用することを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
制御ユニット（３０；１３０）を介して洗浄モードにおいて、個々の光源（１５．１〜１５．５；１１５．１〜１１５．５）の時間的活性化が、各々の光源（１５．１〜１５．５；１１５．１〜１１５．５）の周囲の汚染に依存して行われることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
洗浄モード中に荷電粒子ビームがスイッチを入れられることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
汚染物と光解離生成物の反応から生じる分解生成物（ＣＯ２、Ｈ２Ｏ）が真空ポンプを介して排出されることを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
ポンプで排出されるガス流内にまだある光解離可能なガスの残余物が分解されことを特徴とする請求項１３に記載の方法。