Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月2日(2019.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光電変換部が配された半導体基板と、
前記半導体基板の上に設けられ、複数の配線を有する第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の上に設けられ、前記第１絶縁層とは異なる材料で構成された第２絶縁層と、
前記光電変換部の上方であって、前記第１絶縁層の開口部に設けられた、前記第１絶縁層よりも高い屈折率を有する光導波路と、
前記光導波路と前記第２絶縁層の境界に設けられ、前記光導波路よりも低い屈折率を有する光反射層と、
を備え、
前記光反射層は前記光導波路の側面の一部に設けられており、
前記光反射層と前記第２絶縁層の境界面が、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層の境界面に対してなす角度をαとするとき、α＜９０°を満たすことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】
前記光導波路と前記第１絶縁層の境界面が、前記半導体基板と前記第１絶縁層の境界面に対してなす角度をβとするとき、α＜βを満たすことを特徴とする請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記第２絶縁層と前記光導波路が、窒化シリコンで形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記光導波路と前記第１絶縁層の境界面が、前記半導体基板と前記第１絶縁層の境界面に対してなす角度をβとするとき、β＜９０°を満たすことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記光導波路と前記第１絶縁層とが、前記光反射層を介さずに接していることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記光反射層が、空隙からなることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項７】
半導体基板の上に複数の光電変換部を配するステップと、
前記半導体基板の上に第１絶縁層を形成するステップと、
前記光電変換部の上方の前記第１絶縁層に開口部を形成するステップと、
前記第１絶縁層の上に第２絶縁層を形成するステップと、
前記第１絶縁層よりも高い屈折率を有する埋め込み部材を前記開口部に充填して光導波路を形成するステップと、
前記光導波路と前記第２絶縁層の境界であって前記光導波路の側面の一部に、前記光導波路よりも低い屈折率を有する光反射層を設けるステップと、
を有し、
前記光反射層と前記第２絶縁層の境界面が、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層の境界面に対してなす角度をαとするとき、α＜９０°を満たすことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
【請求項８】
前記光導波路を形成するステップは、
第１の埋め込み部材を前記開口部に充填する第１の埋め込みステップと、
前記第１の埋め込み部材が充填された前記開口部に第２の埋め込み部材を充填する第２の埋め込みステップと、
を有し、
前記光反射層を設けるステップは、
前記第１の埋め込みステップと前記第２の埋め込みステップの間において、前記第１の埋め込み部材及び前記第２の埋め込み部材よりも高いエッチングレートを有する高エッチングレート層を、前記第１の埋め込み部材の上に形成するステップと、
前記第１の埋め込み部材及び前記第２の埋め込み部材を、前記高エッチングレート層が露出するまで平坦化するステップと、
前記高エッチングレート層をウェットエッチングにより除去して、空隙からなる前記光反射層を形成するステップと、
を有することを特徴とする請求項７に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項９】
前記光導波路を形成するステップは、
第１の埋め込み部材を前記開口部に充填する第１の埋め込みステップと、
前記第１の埋め込み部材が充填された前記開口部に第２の埋め込み部材を充填する第２の埋め込みステップと、
を有し、
前記光反射層を設けるステップは、
前記第１の埋め込みステップと前記第２の埋め込みステップの間において、前記第１の埋め込み部材及び前記第２の埋め込み部材よりも低い屈折率を有する低屈折率層を、前記第１の埋め込み部材の上に形成するステップと、
前記第１の埋め込み部材及び前記第２の埋め込み部材を、前記低屈折率層が露出するまで平坦化するステップと、
を有することを特徴とする請求項７に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１の埋め込みステップは、前記第２絶縁層を形成するステップと同一ステップで行うことを特徴とする請求項８または９に記載の固体撮像装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１から６のいずれか１項に記載の固体撮像装置と、
前記固体撮像装置から出力される信号を処理する信号処理装置と、
を備えることを特徴とする撮像システム。
【請求項１２】
前記第２絶縁層は、前記第１絶縁層が有する前記複数の配線のうち、最上層の配線の上に設けられていることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１３】
前記光導波路と前記第１絶縁層との境界の少なくとも一部には前記光反射層が設けられていないことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項１４】
前記第１絶縁層は、酸化シリコンを主成分とする材料で構成されており、前記第２絶縁層は、窒化シリコンを主成分とする材料で構成されていることを特徴とする請求項６に記載の固体撮像装置。
【請求項１５】
複数の光電変換部が配された半導体基板と、
前記半導体基板の上に設けられた複数の配線を有する第１絶縁層と、
前記第１絶縁層の上に設けられ、前記第１絶縁層と異なる材料からなる第２絶縁層と、
前記光電変換部の上方であって、前記第１絶縁層の開口部に設けられ、前記第１絶縁層と異なる材料からなる光導波路と、
前記光導波路と前記第２絶縁層の境界に設けられた空隙と、
を備え、
前記空隙は、前記光導波路の側壁の一部に設けられており、
前記空隙と前記第２絶縁層の境界面が、前記第１絶縁層と前記第２絶縁層の境界面に対してなす角度をαとするとき、α＜９０°を満たす
ことを特徴とする光電変換装置。
【請求項１６】
前記光導波路と前記第１絶縁層との境界の少なくとも一部には前記空隙が設けられていないことを特徴とする請求項１５に記載の光電変換装置。
【請求項１７】
前記第２絶縁層及び前記光導波路は、窒化シリコンを主成分とする材料で構成されていることを特徴とする請求項１５に記載の光電変換装置。
【請求項１８】
前記第１絶縁層は、酸化シリコンを主成分とする材料で構成されていることを特徴とする請求項１７に記載の光電変換装置。
【請求項１９】
前記第２絶縁層は、前記第１絶縁層が有する前記複数の配線のうち、最上層の配線の上に設けられていることを特徴とする請求項１８に記載の光電変換装置。
【請求項２０】
前記光導波路と前記第１絶縁層との境界面が、前記半導体基板と前記第１絶縁層との境界面に対してなす角度をβとするとき、α＜βを満たすことを特徴とする請求項１５から１９のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項２１】
請求項１５から２０のいずれか１項に記載の光電変換装置と、
前記光電変換装置から出力される信号を処理する信号処理装置と、
を備えることを特徴とする撮像システム。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月26日(2019.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子実装用の基板であって、対向する第１主面と第２主面とにそれぞれ導体パターンを有する基板と、
対向する第１面及び第２面を有し、上記第１主面における導体パターンに上記第２面を接合した接合領域を有する板状電極部材と、を備え、
上記板状電極部材は、上記第１面に凹部を上記第２面に凸部をそれぞれ有し、この凹部及び凸部は、当該板状電極部材の厚み方向において上記接合領域を上記第１面及び上記第２面に投影した投影領域に位置し、
上記凸部は、半円球状又は角柱形状である、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
半導体素子実装用の基板であって、対向する第１主面と第２主面とにそれぞれ導体パターンを有する基板と、
対向する第１面及び第２面を有し、上記第１主面における導体パターンに上記第２面を接合した接合領域を有する板状電極部材と、を備え、
上記板状電極部材は、上記第１面に凹部を上記第２面に凸部をそれぞれ有し、この凹部及び凸部は、当該板状電極部材の厚み方向において上記接合領域を上記第１面及び上記第２面に投影した投影領域に位置し、
上記板状電極部材は、当該板状電極部材の厚み方向において上記凹部と上記凸部とを貫通する穴を有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
半導体素子実装用の基板であって、対向する第１主面と第２主面とにそれぞれ導体パターンを有する基板と、
対向する第１面及び第２面を有し、上記第１主面における導体パターンに上記第２面を接合した接合領域を有する板状電極部材と、を備え、
上記板状電極部材は、当該板状電極部材の端部に設けた複数の切り込み間に位置する切欠き片を折り曲げた状態の舌片を上記接合領域に有する、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
半導体素子実装用の基板であって、対向する第１主面と第２主面とにそれぞれ導体パターンを有する基板と、
対向する第１面及び第２面を有し、上記第１主面における導体パターンに上記第２面を接合した接合領域を有する板状電極部材と、を備え、
上記板状電極部材は、上記接合領域に切欠き部を有し、かつ、上記接合領域における当該板状電極部材の断面積が接合領域外における当該板状電極部材の断面積に比して同じあるいは小さい、
ことを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
上記基板の第１主面、上記接合領域、及び上記板状電極部材を封止する封止材をさらに備える、請求項１から４のいずれか１項に記載の半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月1日(2019.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に設けられた第１遮光層と、
前記第１遮光層を覆う第１絶縁層と、
前記第１絶縁層上に設けられ、第１電極及び第２電極が接続され、ダイオードを構成する半導体層と、
前記半導体層を覆う第２絶縁層と、
平面方向から見て、前記半導体層を囲むように、前記第２絶縁層に設けられ、少なくとも前記第１絶縁層に達する開口部と、
前記開口部の少なくとも側壁を覆う第２遮光層と、を有するフォトセンサ。
【請求項２】
断面方向から見て、前記開口部内における前記第２遮光層の下面は、前記半導体層の下面よりも前記絶縁表面に近いことを特徴とする、請求項１記載のフォトセンサ。
【請求項３】
前記開口部は、前記第２絶縁層及び前記第１絶縁層に設けられ、前記第１遮光層に達し、
前記第２遮光層は、前記開口部の少なくとも側壁を覆うと共に前記第１遮光層と接することを特徴とする、請求項１記載のフォトセンサ。
【請求項４】
前記第１電極及び第２電極は、前記第２遮光層と同層に設けられることを特徴とする、請求項１記載のフォトセンサ。
【請求項５】
前記半導体層は、前記第１電極及び前記第２電極の一方と接するＰ型不純物領域と、前記第１電極及び前記第２電極の他方と接するＮ型不純物領域と、前記Ｐ型不純物領域と前記Ｎ型不純物領域に挟まれたイントリンシック領域と、を有することを特徴とする、請求項１記載のフォトセンサ。
【請求項６】
前記第２遮光層上に設けられた平坦化層と、
前記平坦化層上に設けられたレンズと、
をさらに有し、
前記レンズと前記半導体層とは、平面的に見て重畳していることを特徴とする、請求項１記載のフォトセンサ。
【請求項７】
前記第１遮光層及び前記第２遮光層は、金属層であることを特徴とする、請求項１記載のフォトセンサ。
【請求項８】
前記第１遮光層は、前記Ｐ型不純物領域又は前記Ｎ型不純物領域に対して電位差を有する制御電位が印加されることを特徴とする、請求項５記載のフォトセンサ。
【請求項９】
絶縁表面上に設けられた第１遮光層と、
前記第１遮光層を覆う第１絶縁層と、
前記第１絶縁層上に設けられ、第１電極及び第２電極が接続され、ダイオードを構成する半導体層と、
前記半導体層を覆う第２絶縁層と、
平面方向から見て、前記半導体層を囲むように、前記第２絶縁層に設けられ、少なくとも前記第１絶縁層に達する開口部と、
前記開口部を充填する第２遮光層と、を備えたフォトセンサと、
前記半導体層と同層の他の半導体層を有するトランジスタと、
前記第２遮光層上に設けられた平坦化層と、
前記平坦化層上に設けられ、前記トランジスタと電気的に接続された発光素子と、を有し、
前記トランジスタのゲート電極、ソース電極、ドレイン電極の少なくとも一は、前記第１遮光層又は前記第２遮光層と同層に設けられることを特徴とする、表示装置。
【請求項１０】
前記平坦化層上に設けられ、前記発光素子を区画するバンクと、
前記平坦化層上に設けられ、平面方向から見て、前記フォトセンサの前記半導体層と重畳するレンズと、をさらに有し、
前記バンクと前記レンズとは、同一材料で形成されることを特徴とする、請求項９記載の表示装置。
【請求項１１】
前記第１電極及び第２電極は、前記第２遮光層と同層に設けられることを特徴とする、請求項９記載の表示装置。
【請求項１２】
前記半導体層は、前記第１電極及び前記第２電極の一方と接するＰ型不純物領域と、前記第１電極及び前記第２電極の他方と接するＮ型不純物領域と、前記Ｐ型不純物領域と前記Ｎ型不純物領域に挟まれたイントリンシック領域と、を有することを特徴とする、請求項９記載の表示装置。
【請求項１３】
第１絶縁表面上に設けられた第１遮光層と、前記第１遮光層を覆う第１絶縁層と、前記第１絶縁層上に設けられ、第１電極及び第２電極が接続され、第１ダイオードを構成する第１半導体層と、前記第１半導体層を覆う第２絶縁層と、平面方向から見て、前記第１半導体層を囲むように、前記第２絶縁層に設けられ、少なくとも前記第１絶縁層に達する第１開口部と、前記第１開口部の少なくとも側壁を覆う第２遮光層と、を有するフォトセンサと、
ソース領域及びドレイン領域の一方が、前記第１電極又は前記第２電極と電気的に接続され、他方がグランドに接続され、ゲートがリセット信号線に接続されたトランジスタと、
前記ソース領域及びドレイン領域の一方と、前記グランドとの間で、前記フォトセンサと直列に接続されたキャパシタと、を有する光検出回路。
【請求項１４】
前記第１半導体層は、
前記第１電極及び前記第２電極の一方と接するＰ型不純物領域と、
前記第１電極及び前記第２電極の他方と接するＮ型不純物領域と、
前記Ｐ型不純物領域と前記Ｎ型不純物領域に挟まれたイントリンシック領域と、を有することを特徴とする、請求項１３記載の光検出回路。
【請求項１５】
前記第１遮光層、及び前記第２遮光層は、金属層であることを特徴とする、請求項１３記載の光検出回路。
【請求項１６】
前記第１遮光層は、前記Ｐ型不純物領域又は前記Ｎ型不純物領域に対して電位差を有する制御電位が印加されることを特徴とする、請求項１３記載の光検出回路。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月10日(2018.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素を有し、前記各画素に有機ＥＬ素子に流す電流を制御するトランジスタを有する有機ＥＬ表示装置であって、
前記トランジスタは、
一方が前記有機ＥＬ素子と電気的に接続され、他方が前記有機ＥＬ表示装置の外部から電源が供給されるドレイン電極及びソース電極と、
前記ソース電極と前記ドレイン電極の間に形成された第１のゲート電極と、
前記第１のゲート電極の下層側に形成された半導体膜と、を有し、
前記半導体膜における、前記第１のゲート電極と前記ドレイン電極または前記ソース電極の間の領域の一方の第１の領域は、ｎ型イオンが高い濃度で注入され、他の一方の第２の領域は、ｎ型イオンが低い濃度で注入される、
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記第１の領域は、該第１の領域の全域に渡って、ｎ型イオンが高い濃度で注入され、前記第２の領域は、該第２の領域の全域に渡って、ｎ型イオンが低い濃度で注入される、
ことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記トランジスタは、前記第１のゲート電極の上に絶縁層を介して第２のゲート電極を備え、平面視で前記第１のゲート電極と前記第１の領域の少なくとも一部で重なる領域を有することを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記第２のゲート電極は、前記第１の領域と前記第２の領域のうち、前記第２の領域とは平面視で重なるような領域を有し、前記第１の領域とは重なる領域を有さないように設けられることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
複数の画素を有し、前記各画素に有機ＥＬ素子に流す電流を制御するトランジスタを有する有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、
前記トランジスタに含まれる半導体膜を形成する工程と、
前記半導体膜の上層側に、前記半導体膜の中央部に第１のゲート電極を形成する工程と、
前記第１のゲート電極をマスクとして、前記半導体膜にｎ型イオンを注入する工程と、
前記半導体膜と前記第１のゲート電極を覆うように絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の上層側に、前記半導体膜における、前記第１のゲート電極と前記ドレイン電極側または前記ソース電極の間の領域の一方のみと重なるように第２のゲート電極を形成する工程と、
前記第２のゲート電極をマスクとして、前記半導体膜にｎ型イオンを注入する工程と、
を含むことを特徴とする製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
第２のゲート電極４１０は、第１のゲート電極４０６と同電位になるよう接続され、第
１の領域４１４と第２の領域４１６のうち、第２の領域４１６とは平面視で重なるような
領域を有し、第１の領域４１４とは重なる領域を有さないように形成される。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月16日(2019.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る照明器具は、照明器具本体と、前記照明器具本体に取り付けられた光源と、前記照明器具本体に保持され、前記光源を覆う着脱可能な第１カバーと、前記光源に接続された内部配線と、前記照明器具本体の内側面部に設けられる配線保護部と、を備え、前記第１カバーは、上端部側が前記照明器具本体に係合されることで前記照明器具本体に保持されるようになっており、前記配線保護部は、前記第１カバーが前記照明器具本体に係合された状態において、前記第１カバーの上端部よりも上方で前記内部配線を下側から支持するフランジ部を有しているものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明器具本体と、
前記照明器具本体に取り付けられた光源と、
前記照明器具本体に保持され、前記光源を覆う着脱可能な第１カバーと、
前記光源に接続された内部配線と、
前記照明器具本体の内側面部に設けられる配線保護部と、を備え、
前記第１カバーは、
上端部側が前記照明器具本体に係合されることで前記照明器具本体に保持されるようになっており、
前記配線保護部は、
前記第１カバーが前記照明器具本体に係合された状態において、前記第１カバーの上端部よりも上方で前記内部配線を下側から支持するフランジ部を有している
照明器具。
【請求項２】
前記第１カバーは着脱の際に移動可能に構成されており、
前記内部配線は、
前記フランジ部に支持されることで前記第１カバーから区画される
請求項１に記載の照明器具。
【請求項３】
前記照明器具本体には電源端子台が設けられており、
前記内部配線は、
前記電源端子台を介して前記光源に接続されている
請求項１又は２に記載の照明器具。
【請求項４】
前記配線保護部は、
前記第１カバーを保持する機能を有し、複数の前記第１カバーに共用されており、
前記内部配線は、
前記配線保護部により、前記照明器具本体の長手方向に延びるように設けられる
請求項１〜３のいずれか一項に記載の照明器具。
【請求項５】
前記配線保護部は、
断面視Ｌ字形状に構成されることで前記フランジ部が形成されている
請求項１〜４のいずれか一項に記載の照明器具。
【請求項６】
前記照明器具本体の前記第１カバーの間に固定され、前記第１カバーの移動を規制する第２カバーを備えた
請求項１〜５のいずれか一項に記載の照明器具。
【請求項７】
前記第１カバーは、
前記配線保護部に係合されることによって前記照明器具本体に保持された状態で移動可能になっている
請求項１〜６のいずれか一項に記載の照明器具。
【請求項８】
前記第２カバーが前記照明器具本体に搭載されている設備機器を覆うものであり、
前記光源と前記設備機器を搭載する空間が、前記照明器具本体において直線上に配置されている
請求項６に記載の照明器具。
【請求項９】
前記第２カバーは、
ネジにより前記照明器具本体に固定される
請求項８に記載の照明器具。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月26日(2018.12.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
請求項２から請求項１０までのいずれかに記載のコネクタ組立体であって、
前記被規制部は、係止突起を有しており、
前記係止突起は、前記前後方向及び前記上下方向の双方と直交する幅方向において内側に突出しており、
前記係止突起は、前記上下方向及び前記幅方向の双方と斜交する下面を有している
コネクタ組立体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図１０から図１５までに示されるように、雄端子５５０は、全体的に略Ｌ字形状を有しており、接触部５５２と被固定部５５４とを有している。接触部５５２は雄端子５５０の上端付近であり、被固定部５５４は雄端子５５０の＋Ｘ側端部である。雄端子５５０の夫々は、相手側コネクタハウジング５０５の端子保持部５０８に保持されている。被固定部５５４は、回路基板（図示せず）に半田付けされるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
図２１から図２４までに示されるように、外周部２１９Ａは、上下方向と直交する平面内においてハウジング本体２１０Ａの外縁を規定しており、上下方向と直交する平面内において包囲部収容部２１１を包囲している。本実施の形態において、上下方向はＺ方向である。上方は＋Ｚ方向であり、下方は−Ｚ方向である。また、本実施の形態において、上下方向と直交する平面は、ＸＹ平面である。ハウジング側規制部２２０Ａは、外周部２１９Ａの幅方向の内面から内側に突出した突起２２４Ａである。本実施の形態において、幅方向はＸ方向である。突起２２４Ａは、アーム部２２８Ａの後端付近に位置している。アーム部２２８Ａは弾性変形可能であり、突起２２４Ａは幅方向に移動可能となっている。突起２２４Ａは、円錐部２２５Ａと、軸部２２６Ａとで構成されている。円錐部２２５Ａは、略円錐形状を有しており、軸部２２６Ａの幅方向内端から幅方向内側に延びている。軸部２２６Ａは、幅方向と直交する平面内において一定の外径を有している。本実施の形態において、幅方向と直交する平面はＹＺ平面である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
相手側コネクタ５００をコネクタ１００Ａに対してさらに上方に移動させると、第２押圧部５３０は、スライダ側被押圧部４７０の斜面４７２を押圧することによりスライダ４００を前方に向けて所定量移動させる。より具体的には、相手側コネクタ５００をコネクタ１００Ａに対してさらに上方に移動させると、第２押圧部５３０の前端５３２はスライダ側被押圧部４７０の斜面４７２を上方に押圧するが、前述のようにスライダ４００の上方への移動はレバー３００の歯車部３１０により規制されているため、スライダ側被押圧部４７０の斜面４７２は負荷された上方に向かう力を前方に向かう力に変換する。これにより、第２押圧部５３０の前端５３２は、スライダ側被押圧部４７０の斜面４７２の下端から上端までを順次押圧することとなり、スライダ４００Ａは、前方に向けて所定量移動する。このとき、ハウジング側規制部２２０Ａの突起２２４Ａは、幅方向において被規制部４５０Ａの孔４５２Ａの外側に位置しており、アーム部２２８Ａは弾性変形している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
その後、第２押圧部５３０がスライダ側規制部４８０の平面４８２に突き当たることにより、相手側コネクタ５００の上方への移動が規制される。より具体的には、第２押圧部５３０の前端５３２がスライダ側規制部４８０の平面４８２の前端４８４に突き当たることにより、相手側コネクタ５００の上方への移動が規制される。このため、ユーザーは、相手側コネクタ５００のコネクタ１００Ａへの押し込みが完了したことを認識することができる。このとき、相手側コネクタ５００のカム突起（力受部）５１０は、カム溝（力伝達部）４３０内に夫々位置しており、レバー３００は回転可能な状態となっている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
上述の嵌合状態においてレバー３００を第２位置から第１位置へ回転したとき、スライダ４００Ａは、前後方向において後方へ移動し、かつカム溝（力伝達部）４３０は、相手側コネクタ５００のカム突起（力受部）５１０を上下方向において下方へ移動させ、それによって、コネクタ１００Ａと相手側コネクタ５００とは抜去可能な状態となる。より具体的には、上述の嵌合状態においてレバー３００を第２位置から第１位置へ回転したとき、コネクタ１００Ａのスライダ４００Ａのカム溝（力伝達部）４３０に収容されていた相手側コネクタ５００のカム突起（力受部）５１０を開口部４３２付近にまで移動させ、それによって、コネクタ１００Ａと相手側コネクタ５００とは抜去可能な状態となる。このとき、ハウジング側規制部２２０Ａの突起２２４Ａは、スライダ４００Ａの外側面を乗り越えて被規制部４５０Ａの孔４５２Ａに挿入されることとなる。即ち、被規制部４５０Ａの前方への移動が妨げられているため、スライダ４００Ａの前方への移動は規制されている。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月5日(2019.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】積層体の加工装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のローラ乃至第６のローラを有する積層体の加工装置であって、
前記第１のローラ乃至前記第３のローラは、それぞれの軸が互いに概略平行であり、かつ、互いに離れるように設けられ、
前記第４のローラは、前記第１のローラと互いの軸が概略平行であり、かつ、前記第１のローラ上において前記第１のローラと離れるように設けられ、
前記第５のローラは、前記第２のローラと互いの軸が概略平行であり、かつ、前記第２のローラ上において前記第２のローラと離れるようにして設けられ、
前記第６のローラは、前記第３のローラと互いの軸が概略平行であり、かつ、前記第３のローラ上において前記第３のローラと離れるように設けられ、
前記第１のローラ乃至前記第３のローラは、自転する動力機構を有し、
前記第５のローラは加熱機構を有することを特徴とする積層体の加工装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第４のローラと前記第５のローラとの間に、前記積層体を加熱する加熱機構が設けられていることを特徴とする積層体の加工装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第６のローラは、加熱機構を有することを特徴とする積層体の加工装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記第４のローラ乃至前記第６のローラは、表面に弾性材料が用いられていることを特徴とする積層体の加工装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第１のローラ乃至前記第６のローラは、表面が導電性を有すること特徴とする積層体の加工装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記積層体は、基板と、前記基板上の第１の層と、前記第１の層上の第２の層と、を有し、
前記第１のローラおよび前記第２のローラは、前記積層体を搬送する機能を有し、
前記第３のローラは、前記基板を搬送する機能を有し、
前記第４のローラは、第１の可撓性基板を前記第２の層に貼り合わせる機能を有し、
前記第５のローラは、前記基板と、前記第１の層、前記第２の層および前記第１の可撓性基板とを分離する機能を有し、
前記第６のローラは、第２の可撓性基板を前記第１の層に貼り合わせる機能を有することを特徴とする積層体の加工装置。
【請求項７】
請求項６において、
前記基板と、前記第１の層、前記第２の層および前記第１の可撓性基板との分離は、前記第１の層の可塑性を出現させる温度または前記第１の層の融点以上の温度で、前記第１の層を加熱して行うことを特徴とする積層体の加工装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月8日(2019.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】積層体の加工装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に可撓性基板を備えた積層体の加工装置であって、
前記基板を固定する固定機構を有し、
前記可撓性基板の一部を保持する保持機構を有し、
前記積層体を可撓性基板側から加熱する加熱機構を有する積層体の加工装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記保持機構は、クランプ冶具である積層体の加工装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記保持機構は、吸着機構である積層体の加工装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記加熱機構は、ローラである積層体の加工装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記ローラは、回転を伴って水平方向に移動する機能を有する積層体の加工装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記保持機構は、前記ローラの回転に伴って上方に移動する機能を有する積層体の加工装置。
【請求項７】
請求項４乃至６のいずれか一項において、
前記ローラは、表面が弾性材料で構成される積層体の加工装置。
【請求項８】
請求項４乃至６のいずれか一項において、
前記ローラは、表面が導電性を有する積層体の加工装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項において、
前記固定機構は、真空吸着機構である積層体の加工装置。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれか一項において、
前記固定機構は、前記積層体を加熱する機能を有する積層体の加工装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月12日(2019.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ金属原子が封入されている原子セルと、
前記アルカリ金属原子を励起する光を出射する光源部と、
前記原子セルを通過した光の強度に応じた信号を出力する光検出部と、
デジタル処理を用いて前記光検出部からの信号を周波数が高くなる側に周波数変換した信号を出力する周波数変換部と、
前記周波数変換部からの信号を検波する検波部と、を備えることを特徴とする量子干渉装置。
【請求項２】
電圧信号に応じた周波数の信号を出力する電圧制御型発振器と、
前記電圧制御型発振器からの信号を前記アルカリ金属原子の基底準位間の遷移周波数に応じた周波数に周波数逓倍するとともに位相変調してマイクロ波信号を生成する逓倍合成部と、を備え、
前記周波数変換部は、前記位相変調の周波数に応じた周波数成分を周波数変換する請求項１に記載の量子干渉装置。
【請求項３】
発振器を備え、
前記逓倍合成部は、前記発振器からの信号に基づいてデジタル処理を用いて前記電圧制御型発振器からの信号を位相変調して、段階的に変化する周波数成分を有する前記マイクロ波信号を生成し、
前記検波部は、前記発振器からの信号を用いて前記検波を行う請求項２に記載の量子干渉装置。
【請求項４】
発振器と、
前記発振器からの信号を周波数分周する分周器と、を備え、
前記逓倍合成部は、前記分周器からの信号を用いて前記位相変調を行い、
前記検波部は、前記発振器からの信号を用いて前記検波を行う請求項２に記載の量子干渉装置。
【請求項５】
前記周波数変換部は、フーリエ変換回路を有する請求項１ないし４のいずれか１項に記載の量子干渉装置。
【請求項６】
前記周波数変換部は、前記検波部での検波対象となる信号の周波数を１ｋＨｚ以上１００ＭＨｚ以下の周波数に変換する請求項１ないし５のいずれか１項に記載の量子干渉装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の量子干渉装置を備えることを特徴とする原子発振器。
【請求項８】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の量子干渉装置を備えることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】量子干渉装置、原子発振器、および電子機器
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月29日(2019.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の目的を達成するため、本発明による画像処理装置は、撮像装置の全方位を撮像して得られた全方位画像を画像処理して補正画像を得る画像処理装置であって、前記全方位画像を幾何変形処理によって矩形画像に変形する変形手段と、前記変形手段により得られた矩形画像の階調を補正して前記補正画像を得る補正手段と、前記矩形画像が縮小された縮小画像を用いて、前記補正手段による補正の度合いを調整する調整手段と、を有し、前記調整手段は、前記全方位画像における像高に基づいて、前記調整に用いる縮小画像を決定することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像装置の全方位を撮像して得られた全方位画像を画像処理して補正画像を得る画像処理装置であって、
前記全方位画像を幾何変形処理によって矩形画像に変形する変形手段と、
前記変形手段により得られた矩形画像の階調を補正して前記補正画像を得る補正手段と、
前記矩形画像が縮小された縮小画像を用いて、前記補正手段による補正の度合いを調整する調整手段と、を有し、
前記調整手段は、前記全方位画像における像高に基づいて、前記調整に用いる縮小画像を決定することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記矩形画像から、互いに異なる解像度の複数の縮小画像を生成する生成手段をさらに有し、
前記調整手段は、前記複数の縮小画像を用いて、前記補正の度合いを調整することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記調整手段は、前記全方位画像における像高に基づいて、前記複数の縮小画像間の信号レベルの差を調整し、前記信号レベルの差が調整された複数の縮小画像を用いて、前記補正の度合いを調整することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記調整手段は全方位画像における像高が低い領域ほど、前記複数の縮小画像の間における信号レベルの差を大きくすることを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記調整手段は、解像度が所定の解像度よりも高い縮小画像である高解像度画像において前記全方位画像における像高が所定の像高未満である場合には前記像高が低くなるほどレベル調整ゲインを大きくして前記高解像度画像の信号レベルを調整することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記調整手段は前記高解像度画像において前記全方位画像における像高が所定の像高以上である場合には前記像高に拘わらず前記レベル調整ゲインを一定とすることを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記調整手段は、前記解像度が所定の解像度以下の縮小画像である低解像度画像において前記全方位画像における像高が前記所定の像高未満である場合には前記像高が低くなるほど前記レベル調整ゲインを小さくして前記高解像度画像の信号レベルを調整することを特徴とする請求項５又は６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記調整手段は前記低解像度画像において前記全方位画像における像高が前記所定の像高以上である場合には前記像高に拘わらず前記レベル調整ゲインを一定とすることを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
撮像装置の全方位を撮像して得られた全方位画像を画像処理して補正画像を得る画像処理装置の制御方法であって、
前記全方位画像を幾何変形処理によって矩形画像に変形する変形ステップと、
前記変形ステップで得られた矩形画像の階調を補正して前記補正画像を得る補正ステップと、
前記矩形画像が縮小された縮小画像を用いて、前記補正ステップによる補正の度合いを調整する調整ステップと、を有し、
前記調整ステップでは、前記全方位画像における像高に基づいて、前記調整に用いる縮小画像を決定することを特徴とする制御方法。
【請求項１０】
コンピュータを、請求項１乃至８のいずれか１項の画像処理装置の各手段として機能させるコンピュータが実行可能な制御プログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月20日(2019.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓膜と、
前記可撓膜に設けられる圧電素子と、を備え、
前記圧電素子は、圧電体と、前記圧電体に接する第一電極、第二電極、第三電極、及び第四電極と、を有し、
前記第一電極と前記第二電極とは、前記第一電極と前記第二電極との間に前記圧電体を挟んで離間し、かつ、前記圧電体の厚さ方向から見た平面視において重なり、
前記第三電極と前記第四電極とは、前記第三電極と前記第四電極との間に前記圧電体を挟んで離間し、かつ、前記平面視において重なり、
前記第一電極と前記第三電極とは、前記平面視において離間し、
前記第二電極と前記第四電極とは、前記平面視において離間する
ことを特徴とする超音波トランスデューサー。
【請求項２】
請求項１に記載の超音波トランスデューサーにおいて、
前記圧電素子は、さらに、前記圧電体に接する第五電極及び第六電極を有し、
前記第五電極と前記第六電極とは、前記第五電極と前記第六電極との間に前記圧電体を挟んで離間し、かつ、前記平面視において重なり、
前記第五電極は、前記第一電極と前記第三電極との間に位置し、
前記第六電極は、前記第二電極と前記第四電極との間に位置する
ことを特徴とする超音波トランスデューサー。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の超音波トランスデューサーにおいて、
前記第一電極と前記第四電極との距離は、前記第一電極と前記第三電極との距離より大きい
ことを特徴とする超音波トランスデューサー。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の超音波トランスデューサーにおいて、
前記第一電極の前記第三電極と対向する端面は、前記第二電極の前記第四電極と対向する端面と前記平面視において重なる
ことを特徴とする超音波トランスデューサー。
【請求項５】
可撓膜、及び前記可撓膜に設けられる圧電素子を備える超音波トランスデューサーと、
前記超音波トランスデューサーを制御する制御部と、を備え、
前記圧電素子は、圧電体と、前記圧電体に接する第一電極、第二電極、第三電極、及び第四電極と、を有し、
前記第一電極と前記第二電極とは、前記第一電極と前記第二電極との間に前記圧電体を挟んで離間し、かつ、前記圧電体の厚さ方向から見た平面視において重なり、
前記第三電極と前記第四電極とは、前記第三電極と前記第四電極との間に前記圧電体を挟んで離間し、かつ、前記平面視において重なり、
前記第一電極と前記第三電極とは、前記平面視において離間し、
前記第二電極と前記第四電極とは、前記平面視において離間する
ことを特徴とする超音波装置。
【請求項６】
請求項５に記載の超音波装置において、
前記第一電極及び前記第三電極を接続し、かつ、前記第二電極及び前記第四電極を接続する第一接続状態と、前記第一電極及び前記第二電極を接続し、かつ、前記第三電極及び前記第四電極を接続する第二接続状態と、を切り替える切替部を備える
ことを特徴とする超音波装置。
【請求項７】
請求項６に記載の超音波装置において、
前記制御部は、前記切替部を制御し、超音波の送信時に前記第一接続状態に切り替え、超音波の受信時に前記第二接続状態に切り替える切替制御部を有する
ことを特徴とする超音波装置。
【請求項８】
請求項５から請求項７のいずれか一項に記載の超音波装置において、
前記制御部は、前記第一電極と前記第二電極との間、及び、前記第三電極と前記第四電極との間に第一分極電圧を印加する第一分極処理を実施する分極制御部を有する
ことを特徴とする超音波装置。
【請求項９】
請求項５から請求項８のいずれか一項に記載の超音波装置において、
前記制御部は、前記第一電極と前記第三電極との間、及び、前記第二電極と前記第四電極との間に第二分極電圧を印加する第二分極処理を実施する分極制御部を有する
ことを特徴とする超音波装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】超音波トランスデューサー、及び超音波装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、超音波トランスデューサー、及び超音波装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、以下の形態又は適用例として、高い送信出力及び受信感度を有する超音波トランスデューサー、及び超音波装置を提供することを一つの目的とする。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月1日(2019.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
近年、携帯電話や、デジタルカメラ等の携帯機器にも無線通信機能が搭載されている。これらの無線通信の技術では、Bluetooth Low Energy(BLE)など、電力消費を抑えるための規格が登場してきている。例えば、BLEを用いた通信におけるデータを送受信する間隔（connection interval：CI）を、機器の動作モードに応じて変更することが開示されている（特許文献１を参照）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
画面３２０は、画面３００において撮影リモコンボタン３０２が選択された場合に表示部２０６に表示される画面の一例である。画面３２０には、複数の操作ボタンが表示されている。操作ボタンには、画面３００に戻るためのメニューボタン３２１、レリーズスイッチのＳＷ２に対応する撮影ボタン３２２と、ＳＷ１に対応するＡＦボタン３２３、ズームを制御するズームボタン３２４が含まれる。これらの操作ボタンは、デジタルカメラ１００の撮影モードにおいて操作部１０５が提供する操作機能に対応している。よって、ユーザはこれらの操作によりデジタルカメラ１００の操作部１０５を直接に操作したのと同様の操作を実施することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
次に、本実施形態におけるデジタルカメラ１００を携帯電話２００により遠隔操作する場合の処理の流れを説明する。図４は携帯電話２００でデジタルカメラ１００をBluetooth（特にはBluetooth Low Energy：BLE）経由で遠隔操作する場合のシーケンスを示す模式図である。図４では、装置間の通信シーケンス及び、当該通信を実行するために各装置において実行される動作の一例を示している。当該シーケンスは、デジタルカメラ１００においては制御部１０１の制御に基づき近距離無線通信部１１２を含む各処理ブロックが実行する。また、携帯電話２００においては制御部２０１の制御に基づき近距離無線通信部２１２を含む各処理ブロックが実行する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
例えば、携帯電話２００のユーザが画面３１０上でタップ操作（画面を指で触れた後に、直ちに指を画面から離す）を行った場合を考える。この場合、制御部２０１は図４で示したＳ４０９におけるボタン押下操作受付と、後述のＳ４１４におけるボタン開放操作受付とを連続して受け付けることとなる。このボタン開放操作を受け付けた時点でデジタルカメラ１００への通知タイミングが到来していない場合、先に到来した通知タイミングでは、ボタン押下操作に基づくボタン押下通知のみが送信される。そして、ボタン押下操作の直後に受け付けたボタン開放操作に基づくボタン開放を通知するためには、更にＣＩ経過後の次の通知タイミングまで待機しなければならない。ここで、上記ユーザは携帯電話２００の画面をタップしただけであるから、ボタン押下の後、直ちにボタンを開放するボタン操作に対応する動作をデジタルカメラ１００が実行すると期待している。しかし、その時に設定されているＣＩの長さが所定時間よりも長い場合、デジタルカメラ１００はボタン押下通知を受信した後、当該所定時間が経過してもボタン開放通知を受信できない。本実施形態では、ボタン操作のキーリピートを実行するか否かを判定するための時間的基準であるキーリピート時間（T_keyrepeat）を、当該所定時間とみなす。この場合、制御部１０１はボタンが継続的に押下されていると判断し、キーリピート動作を実行してしまう。これはユーザが期待する動作とは異なってしまう。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月27日(2019.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記複数の画像処理回路のうち第２の画像処理回路は、表示装置に画像を出力する表示制御部を有し、
当該表示制御部は、前記第２の画像処理回路が処理した画像データ、並びに、前記通信部を介して前記第２の画像処理回路以外の画像処理回路で処理された領域の画像データから１フレームの表示のための画像データを取得して前記表示装置に出力する
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
第１の画像処理回路と、
前記第１の画像処理回路に接続された第１のメモリと、
第２の画像処理回路と、
前記第２の画像処理回路に接続された第２のメモリとを有し、
前記第１の画像処理回路は、
符号化されたＲＡＷ動画像データを復号し、復号されたＲＡＷ動画像データを、前記第１のメモリに格納する復号部と、
前記第１のメモリを用いて、前記復号部により復号されたＲＡＷ動画像データに対し、前記ＲＡＷ動画像データの現像処理を含む所定の画像処理を施し、第１の動画像データを生成する第１の画像処理部と、
前記第２の画像処理回路と通信を行う第１の通信部と、
前記復号部により復号された前記ＲＡＷ動画像データの１フレーム内の一部の領域を前記第１の画像処理回路と前記第２の画像処理回路がそれぞれ処理するように、前記第１の画像処理回路が処理する第１の領域と前記第２の画像処理回路が処理する領域であって前記第１の領域よりも画素数が多い第２の領域とを決定する領域決定部と、
前記領域決定部で決定された、前記第２の領域の前記ＲＡＷ動画像データを、前記第１の通信部により前記第２の画像処理回路に送信する送信部とを有し、
前記第２の画像処理回路は、
前記第１の画像処理回路と通信を行う第２の通信部と、
前記第１の画像処理回路から送信され前記第２の通信部により受信した前記第２の領域のＲＡＷ動画像データに対して、前記第２のメモリを用いて前記所定の画像処理を施し、第２の動画像データを生成する第２の画像処理部と、
表示装置に対して動画像データを出力する表示制御部とを有し、
前記第１の画像処理部は前記第１の領域のＲＡＷ動画像データを処理し、
前記送信部は前記第１の画像処理部により生成された前記第１の領域の前記第１の動画像データを前記第１の通信部により前記第２の画像処理回路に送信し、
前記表示制御部は、前記第１の画像処理回路から送信された前記第１の領域の前記第１の動画像データと、前記第２の画像処理部により生成された前記第２の領域の前記第２の動画像データとを用いて前記表示装置に表示するための動画像データの各フレームを生成し、前記表示装置に出力する
ことを特徴とする画像処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月27日(2019.5.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートが搬送される搬送路を形成する第１の導電性部材と、
一端が前記第１の導電性部材に当接して弾性力を及ぼすように配置される第２の導電性部材と、
前記第２の導電性部材が収容され、前記第２の導電性部材の付勢方向を規制する筒部と、
電気基板を支持する第３の導電性部材と
を備え、
前記第３の導電性部材は、前記筒部における前記搬送路の反対側に設けられた開口部に挿入される板部を有し、
前記板部により前記第２の導電性部材の他端を押圧することを特徴とするシート搬送装置。
【請求項２】
前記開口部は前記筒部に設けたスリットであり、
前記スリットに前記板部が挿入されることを特徴とする請求項１に記載のシート搬送装置。
【請求項３】
前記板部は、前記搬送路と垂直であり、前記搬送路と平行に延びることを特徴とする請求項２に記載のシート搬送装置。
【請求項４】
前記シート搬送装置の装置本体に設けられる固定軸と、
前記第３の導電性部材に設けられる支持部と、を有し、
前記支持部が前記固定軸に対して回動可能に当接し、前記固定軸を中心として前記第３の導電性部材を回動させることで、前記板部が前記開口部に当接可能であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のシート搬送装置。
【請求項５】
前記第１の導電性部材に対向して配置され、前記第１の導電性部材との間に前記搬送路を形成する導電性の上部搬送ガイドと、
前記上部搬送ガイドと前記第１の導電性部材とを電気的に導通する弾性部材と
を備えることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のシート搬送装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係るシート搬送装置によれば、
シートが搬送される搬送路を形成する第１の導電性部材と、
一端が前記第１の導電性部材に当接して弾性力を及ぼすように配置される第２の導電性部材と、
前記第２の導電性部材が収容され、前記第２の導電性部材の付勢方向を規制する筒部と、
電気基板を支持する第３の導電性部材と
を備え、
前記第３の導電性部材は、前記筒部における前記搬送路の反対側に設けられた開口部に挿入される板部を有し、
前記板部により前記第２の導電性部材の他端を押圧することを特徴とする。