【手続補正書】
【提出日】平成31年4月15日(2019.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硫酸第二鉄を含む酸性硫酸塩溶液リーチ内の材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を抽出するために、０．２ｍＭ以上５０ｍＭ未満の範囲の濃度でチオカルボニル官能基を有する試薬の使用であって、
前記試薬の前記チオカルボニル官能基は、部分的に負の電荷を帯電し、負の静電ポテンシャル面を有し、かつ、その最低空分子軌道として空のπ＊反結合性軌道を有する、ことを特徴とする使用。
【請求項２】
酸性硫酸塩溶液リーチ内の材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を抽出するために、チオカルボニル官能基を有する試薬の使用であって、
前記試薬は、チオ尿素ではなく、前記試薬の前記チオカルボニル官能基は、部分的に負の電荷を有し、負の静電ポテンシャル面を有し、かつ、その最低空分子軌道として空のπ＊反結合性軌道を有する、ことを特徴とする使用。
【請求項３】
前記酸性硫酸塩リーチは、硫酸第二鉄を有する、ことを特徴とする請求項２に記載の使用。
【請求項４】
前記試薬は、イソチオ尿素、Ｎ−Ｎ’置換チオ尿素、２，５−ジチオビウレア、ジチオビウレット、チオセミカルバジドのプルーム、チオセミカルバジド、チオアセトアミド、２−メチル−３−チオセミカルバジド、４−メチル−３−チオセミカルバジド、トリチオ炭酸ビニレンのプルーム、トリチオ炭酸ビニレン、２−シアノチオアセトアミド、トリチオ炭酸エチレン、エチルキサントゲン酸カリウム、ジメチルチオカルバモイル塩化物、ジメチルジチオカルバミン酸塩、ジメチルトリチオ炭酸塩、Ｎ，Ｎ’−ジメチルチオホルムアミド、４，４−ジメチル−３−チオセミカルバジド、４−エチル−３−チオセミカルバジド、Ｏ−イソプロピルキサントゲン酸、チオオキサム酸エチル、ジチオアセテートエチル、ピラジン−２−チオカルボキサミド、ジエチルチオカルバモイル塩化物、ジエチルジチオカルバミン酸塩、一硫化テトラメチルチウラム、二硫化テトラメチルチウラム、クロロチオノぎ酸ペンタフルオロフェニル、４−フルオロフェニルクロロチオノぎ酸、Ｏ−フェニルクロロチオノぎ酸、クロロジチオノぎ酸フェニル、３，４−ジフルオロチオベンズアミド、２−ブロモチオベンズアミド、３−ブロモチオベンズアミド、４−ブロモチオベンズアミド、４−クロロチオベンズアミド、４−フルオロチオベンズアミド、チオ安息香酸、チオベンズアミド、４−フェニルチオセミカルバジド、Ｏ−（ｐ−トリル）クロロチオノぎ酸、４−ブロモ−２−メチルチオベンズアミド、３−メトキシチオベンズアミド、４−メトキシチオベンズアミド、４−メチルベンゼンチオアミド、チオアセトアニリド、サリチルアルデヒドチオセミカルバゾン、インドール−３−チオカルボキサミド、Ｓ−（チオベンゾイル）チオグリコール酸、３−（アセトキシ）チオベンズアミド、４−（アセトキシ）チオベンズアミド、メチルＮ’−[(e)-(4-クロロフェニル)メチリデン]ヒドラゾノチオカルバミン酸、３−エトキシチオベンズアミド、４−エチルベンゼン−１−チオカルボキサミド、ターシャリー−ブチル−３−[(メチルスルフォニル)オキシ]−１−アゼチジンカルボン酸塩、ジエチルジチオカルバミン酸、２−ヒドロキシベンズアルデヒド、Ｎ−エチルチオセミカルバゾン、(1R,4R)-1,7,7-トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−２−チオン、テトラエチルチウラムジスルフィド、４’−ヒドロキシビフェニル−４−チオカルボキサミド、ジチゾン、４’−メチルビフェニル−４−チオカルボキサミド、テトライソプロピルチウラムジスルフィド、アントラセン−９−チオカルボキサミド、フェナントレン−９−チオカルボキサミド、ジベンジルジチオカルバミン酸ナトリウム、および、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）チオベンゾフェノン、または、これらの任意の組みあわせである、ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項５】
前記試薬は、イソチオ尿素、Ｎ−Ｎ’置換チオ尿素、２，５−ジチオビウレア、ジチオビウレット、チオセミカルバジドのプルーム、チオセミカルバジド、チオアセトアミド、２−メチル−３−チオセミカルバジド、４−メチル−３−チオセミカルバジド、トリチオ炭酸ビニレンのプルーム、トリチオ炭酸ビニレン、２−シアノチオアセトアミド、トリチオ炭酸エチレン、エチルキサントゲン酸カリウム、ジメチルチオカルバモイル塩化物、ジメチルジチオカルバミン酸塩、ジメチルトリチオ炭酸塩、Ｎ，Ｎ’−ジメチルチオホルムアミド、４，４−ジメチル−３−チオセミカルバジド、４−エチル−３−チオセミカルバジド、Ｏ−イソプロピルキサントゲン酸、チオオキサム酸エチル、ジチオアセテートエチル、ピラジン−２−チオカルボキサミド、ジエチルチオカルバモイル塩化物、ジエチルジチオカルバミン酸塩、一硫化テトラメチルチウラム、二硫化テトラメチルチウラム、クロロチオノぎ酸ペンタフルオロフェニル、４−フルオロフェニルクロロチオノぎ酸、Ｏ−フェニルクロロチオノぎ酸、クロロジチオノぎ酸フェニル、３，４−ジフルオロチオベンズアミド、２−ブロモチオベンズアミド、３−ブロモチオベンズアミド、４−ブロモチオベンズアミド、４−クロロチオベンズアミド、４−フルオロチオベンズアミド、チオ安息香酸、チオベンズアミド、４−フェニルチオセミカルバジド、Ｏ−（ｐ−トリル）クロロチオノぎ酸、４−ブロモ−２−メチルチオベンズアミド、３−メトキシチオベンズアミド、４−メトキシチオベンズアミド、４−メチルベンゼンチオアミド、チオアセトアニリド、サリチルアルデヒドチオセミカルバゾン、インドール−３−チオカルボキサミド、Ｓ−（チオベンゾイル）チオグリコール酸、３−（アセトキシ）チオベンズアミド、４−（アセトキシ）チオベンズアミド、メチルＮ’−[(e)-(4-クロロフェニル)メチリデン]ヒドラゾノチオカルバミン酸、３−エトキシチオベンズアミド、４−エチルベンゼン−１−チオカルボキサミド、ターシャリー−ブチル−３−[(メチルスルフォニル)オキシ]−１−アゼチジンカルボン酸塩、ジエチルジチオカルバミン酸、２−（フェニルカルボノチオイルチオ）プロパン酸、２−ヒドロキシベンズアルデヒド、Ｎ−エチルチオセミカルバゾン、(1R,4R)-1,7,7-トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−２−チオン、テトラエチルチウラムジスルフィド、４’−ヒドロキシビフェニル−４−チオカルボキサミド、４−ビフェニルチオアミド、ジチゾン、４’−メチルビフェニル−４−チオカルボキサミド、テトライソプロピルチウラムジスルフィド、アントラセン−９−チオカルボキサミド、フェナントレン−９−チオカルボキサミド、ジベンジルジチオカルバミン酸ナトリウム、および、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）チオベンゾフェノン、または、これらの任意の組みあわせである、ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項６】
硫酸第二鉄を含む酸性硫酸塩溶液リーチ内の材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を抽出するために、０．２ｍＭ以上５０ｍＭ未満の範囲の濃度で試薬の使用であって、
前記試薬は、チオ尿素（Ｔｕ）、チオアセトアミド（ＴＡ）、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム（ＳＤＤＣ）、トリチオ炭酸塩エチレン（ＥＴＣ）、チオセミカルバジド（ＴＳＣＡ）、または、それらの組みあわせである、ことを特徴とする使用。
【請求項７】
硫酸第二鉄を含む酸性硫酸塩溶液リーチ内の材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を抽出するために、０．２ｍＭ以上５０ｍＭ未満の範囲の濃度で試薬の使用であって、前記試薬は、チオ尿素（Ｔｕ）である、ことを特徴とする使用。
【請求項８】
酸性硫酸塩溶液リーチ内の材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を抽出するために、試薬の使用であって、前記試薬はチオアセトアミド（ＴＡ）である、ことを特徴とする使用。
【請求項９】
酸性硫酸塩溶液リーチ内の材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を抽出するために、試薬の使用であって、前記試薬はジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム（ＳＤＤＣ）である、ことを特徴とする使用。
【請求項１０】
酸性硫酸塩溶液リーチ内の材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を抽出するために、試薬の使用であって、前記試薬はトリチオ炭酸塩エチレン（ＥＴＣ）である、ことを特徴とする使用。
【請求項１１】
酸性硫酸塩溶液リーチ内の材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を抽出するために、試薬の使用であって、前記試薬はチオセミカルバジド（ＴＳＣＡ）である、ことを特徴とする使用。
【請求項１２】
前記酸性硫酸塩溶液リーチは、硫酸第二鉄を含む、ことを特徴とする請求項８から１１のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１３】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記試薬の濃度は、０．２ｍＭから３０ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１４】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記試薬の濃度は、０．２ｍＭから２０ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１５】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記試薬の濃度は、０．２ｍＭから１０ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１６】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記試薬の濃度は、０．２ｍＭから５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１７】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記試薬の濃度は、０．２ｍＭから４ｍＭの範囲、０．２ｍＭから３ｍＭの範囲、０．２ｍＭから２．５ｍＭの範囲、０．２ｍＭから２ｍＭの範囲、０．２ｍＭから１．５ｍＭの範囲、０．２ｍＭから１．０ｍＭの範囲、または、０．２ｍＭから０．５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１８】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記試薬の濃度は、２ｍＭである、ことを特徴とする請求項１から１２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１９】
酸性硫酸塩溶液リーチ内の材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を抽出するために、ホルムアミジン二硫化物（ＦＤＳ）の使用。
【請求項２０】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記ＦＤＳの濃度は、０．１ｍＭから１５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項１９に記載の使用。
【請求項２１】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記ＦＤＳの濃度は、０．１ｍＭから１０ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項１９に記載の使用。
【請求項２２】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記ＦＤＳの濃度は、０．１ｍＭから５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項１９に記載の使用。
【請求項２３】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記ＦＤＳの濃度は、０．１ｍＭから２．５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項１９に記載の使用。
【請求項２４】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記ＦＤＳの濃度は、０．１ｍＭから２ｍＭの範囲、０．１ｍＭから１．５ｍＭの範囲、０．２ｍＭから１．２５ｍＭの範囲、０．１ｍＭから１ｍＭの範囲、０．１ｍＭから０．７５ｍＭの範囲、０．１ｍＭから０．５ｍＭの範囲、または、０．１ｍＭから０．２５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項１９に記載の使用。
【請求項２５】
前記酸性硫酸塩溶液リーチ内の前記ＦＤＳの濃度は、１ｍＭである、ことを特徴とする請求項１９に記載の使用。
【請求項２６】
前記酸性硫酸塩溶液リーチは、硫酸第二鉄を含む、ことを特徴とする請求項１９から２５のいずれか一項に記載の使用。
【請求項２７】
前記少なくともひとつの卑金属は、銅を含み、前記少なくともひとつの卑金属硫化物は、少なくともひとつの銅硫化物を含む、ことを特徴とする請求項１から２６のいずれか一項に記載の使用。
【請求項２８】
前記少なくともひとつの銅硫化物は、黄銅鉱を含む、ことを特徴とする請求項２７に記載の使用。
【請求項２９】
前記少なくともひとつの銅硫化物は、銅藍、斑銅鉱、またこれらの組みあわせを含む、ことを特徴とする請求項２７または２８に記載の使用。
【請求項３０】
前記少なくともひとつの銅硫化物は、硫ひ銅鉱を含む、ことを特徴とする請求項２７から２９のいずれか一項に記載の使用。
【請求項３１】
前記少なくともひとつの銅硫化物は、化学式ＣｕｘＳｙ（ここで、ｘ：ｙの比は１と２の間である）の少なくともひとつの銅硫化物を含む、ことを特徴とする請求項２７から３０のいずれか一項に記載の使用。
【請求項３２】
前記化学式ＣｕｘＳｙの少なくともひとつの銅硫化物は、輝銅鉱、デュルレ鉱、ダイジェナイト、またはそれらの組みあわせを含む、ことを特徴とする請求項３１に記載の使用。
【請求項３３】
前記少なくともひとつの卑金属は、カドミウムを含み、前記少なくともひとつの卑金属硫化物は、硫化カドミウムを含む、ことを特徴とする請求項１から３２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項３４】
前記硫化カドミウムは、硫化カドミウム鉱を含む、ことを特徴とする請求項３３に記載の使用。
【請求項３５】
前記少なくともひとつの卑金属は、ニッケルを含み、前記少なくともひとつの卑金属硫化物は、少なくともひとつの硫化ニッケルを含む、ことを特徴とする請求項１から３４のいずれか一項に記載の使用。
【請求項３６】
前記少なくともひとつの硫化ニッケルは、硫鉄ニッケル鉱、ビオラル鉱、またはそれらの組みあわせを含む、ことを特徴とする請求項３５に記載の使用。
【請求項３７】
前記材料は、鉱石である、ことを特徴とする請求項１から３６のいずれか一項に記載の使用。
【請求項３８】
前記材料は、前記少なくともひとつの卑金属硫化物が凝集したものである、ことを特徴とする請求項１から３６のいずれか一項に記載の使用。
【請求項３９】
前記酸性硫酸塩溶液リーチは、パーコレーションリーチである、ことを特徴とする請求項１から３８のいずれか一項に記載の使用。
【請求項４０】
前記パーコレーションリーチは、ヒープリーチである、ことを特徴とする請求項３９に記載の使用。
【請求項４１】
前記酸性硫酸塩溶液リーチの動作ポテンシャルは、Ａｇ／ＡｇＣｌに対して５００ｍＶ以上である、ことを特徴とする請求項１から４０のいずれか一項に記載の使用。
【請求項４２】
材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を回収する方法であって、
前記材料を、チオカルボニル官能基を有する試薬および硫酸第二鉄を含む酸性硫酸塩溶液に接触させる工程であって、前記酸性硫酸塩溶液中の前記試薬の初期濃度は、０．２ｍＭ以上５０ｍＭ未満の範囲であり、卑金属イオンを含む貴液を生成する、ところの工程と、
前記貴液から前記少なくともひとつの卑金属を回収する工程と
を備え、
前記試薬のチオカルボニル官能基は、部分的に負の電荷を帯電し、負の静電ポテンシャル面を有し、かつ、その最低空分子軌道として空のπ＊反結合性軌道を有する、ことを特徴とする方法。
【請求項４３】
材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を回収する方法であって、
前記材料を、チオカルボニル官能基を有する試薬を含む酸性硫酸塩溶液に接触させる工程であって、卑金属イオンを含む貴液を生成する、ところの工程と、
前記貴液から前記少なくともひとつの卑金属を回収する工程と
を備え、
前記試薬は、チオ尿素（Ｔｕ）ではなく、前記試薬のチオカルボニル官能基は、部分的に負の電荷を帯電し、負の静電ポテンシャル面を有し、かつ、その最低空分子軌道として空のπ＊反結合性軌道を有する、ことを特徴とする方法。
【請求項４４】
前記酸性硫酸塩溶液は、硫酸第二鉄を含む、ことを特徴とする請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記試薬は、イソチオ尿素、Ｎ−Ｎ’置換チオ尿素、２，５−ジチオビウレア、ジチオビウレット、チオセミカルバジドのプルーム、チオセミカルバジド、チオアセトアミド、２−メチル−３−チオセミカルバジド、４−メチル−３−チオセミカルバジド、トリチオ炭酸ビニレンのプルーム、トリチオ炭酸ビニレン、２−シアノチオアセトアミド、トリチオ炭酸エチレン、エチルキサントゲン酸カリウム、ジメチルチオカルバモイル塩化物、ジメチルジチオカルバミン酸塩、ジメチルトリチオ炭酸塩、Ｎ，Ｎ’−ジメチルチオホルムアミド、４，４−ジメチル−３−チオセミカルバジド、４−エチル−３−チオセミカルバジド、Ｏ−イソプロピルキサントゲン酸、チオオキサム酸エチル、ジチオアセテートエチル、ピラジン−２−チオカルボキサミド、ジエチルチオカルバモイル塩化物、ジエチルジチオカルバミン酸塩、一硫化テトラメチルチウラム、二硫化テトラメチルチウラム、クロロチオノぎ酸ペンタフルオロフェニル、４−フルオロフェニルクロロチオノぎ酸、Ｏ−フェニルクロロチオノぎ酸、クロロジチオノぎ酸フェニル、３，４−ジフルオロチオベンズアミド、２−ブロモチオベンズアミド、３−ブロモチオベンズアミド、４−ブロモチオベンズアミド、４−クロロチオベンズアミド、４−フルオロチオベンズアミド、チオ安息香酸、チオベンズアミド、４−フェニルチオセミカルバジド、Ｏ−（ｐ−トリル）クロロチオノぎ酸、４−ブロモ−２−メチルチオベンズアミド、３−メトキシチオベンズアミド、４−メトキシチオベンズアミド、４−メチルベンゼンチオアミド、チオアセトアニリド、サリチルアルデヒドチオセミカルバゾン、インドール−３−チオカルボキサミド、Ｓ−（チオベンゾイル）チオグリコール酸、３−（アセトキシ）チオベンズアミド、４−（アセトキシ）チオベンズアミド、メチルＮ’−[(e)-(4-クロロフェニル)メチリデン]ヒドラゾノチオカルバミン酸、３−エトキシチオベンズアミド、４−エチルベンゼン−１−チオカルボキサミド、ターシャリー−ブチル−３−[(メチルスルフォニル)オキシ]−１−アゼチジンカルボン酸塩、ジエチルジチオカルバミン酸、２−ヒドロキシベンズアルデヒド、Ｎ−エチルチオセミカルバゾン、(1R,4R)-1,7,7-トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−２−チオン、テトラエチルチウラムジスルフィド、４’−ヒドロキシビフェニル−４−チオカルボキサミド、ジチゾン、４’−メチルビフェニル−４−チオカルボキサミド、テトライソプロピルチウラムジスルフィド、アントラセン−９−チオカルボキサミド、フェナントレン−９−チオカルボキサミド、ジベンジルジチオカルバミン酸ナトリウム、および、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）チオベンゾフェノン、または、これらの任意の組みあわせである、ことを特徴とする請求項４２から４４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４６】
前記試薬は、イソチオ尿素、Ｎ−Ｎ’置換チオ尿素、２，５−ジチオビウレア、ジチオビウレット、チオセミカルバジドのプルーム、チオセミカルバジド、チオアセトアミド、２−メチル−３−チオセミカルバジド、４−メチル−３−チオセミカルバジド、トリチオ炭酸ビニレンのプルーム、トリチオ炭酸ビニレン、２−シアノチオアセトアミド、トリチオ炭酸エチレン、エチルキサントゲン酸カリウム、ジメチルチオカルバモイル塩化物、ジメチルジチオカルバミン酸塩、ジメチルトリチオ炭酸塩、Ｎ，Ｎ’−ジメチルチオホルムアミド、４，４−ジメチル−３−チオセミカルバジド、４−エチル−３−チオセミカルバジド、Ｏ−イソプロピルキサントゲン酸、チオオキサム酸エチル、ジチオアセテートエチル、ピラジン−２−チオカルボキサミド、ジエチルチオカルバモイル塩化物、ジエチルジチオカルバミン酸塩、一硫化テトラメチルチウラム、二硫化テトラメチルチウラム、クロロチオノぎ酸ペンタフルオロフェニル、４−フルオロフェニルクロロチオノぎ酸、Ｏ−フェニルクロロチオノぎ酸、クロロジチオノぎ酸フェニル、３，４−ジフルオロチオベンズアミド、２−ブロモチオベンズアミド、３−ブロモチオベンズアミド、４−ブロモチオベンズアミド、４−クロロチオベンズアミド、４−フルオロチオベンズアミド、チオ安息香酸、チオベンズアミド、４−フェニルチオセミカルバジド、Ｏ−（ｐ−トリル）クロロチオノぎ酸、４−ブロモ−２−メチルチオベンズアミド、３−メトキシチオベンズアミド、４−メトキシチオベンズアミド、４−メチルベンゼンチオアミド、チオアセトアニリド、サリチルアルデヒドチオセミカルバゾン、インドール−３−チオカルボキサミド、Ｓ−（チオベンゾイル）チオグリコール酸、３−（アセトキシ）チオベンズアミド、４−（アセトキシ）チオベンズアミド、メチルＮ’−[(e)-(4-クロロフェニル)メチリデン]ヒドラゾノチオカルバミン酸、３−エトキシチオベンズアミド、４−エチルベンゼン−１−チオカルボキサミド、ターシャリー−ブチル−３−[(メチルスルフォニル)オキシ]−１−アゼチジンカルボン酸塩、ジエチルジチオカルバミン酸、２−（フェニルカルボノチオイルチオ）プロパン酸、２−ヒドロキシベンズアルデヒド、Ｎ−エチルチオセミカルバゾン、(1R,4R)-1,7,7-トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−２−チオン、テトラエチルチウラムジスルフィド、４’−ヒドロキシビフェニル−４−チオカルボキサミド、４−ビフェニルチオアミド、ジチゾン、４’−メチルビフェニル−４−チオカルボキサミド、テトライソプロピルチウラムジスルフィド、アントラセン−９−チオカルボキサミド、フェナントレン−９−チオカルボキサミド、ジベンジルジチオカルバミン酸ナトリウム、および、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）チオベンゾフェノン、または、これらの任意の組みあわせである、ことを特徴とする請求項４２から４４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４７】
材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を回収する方法であって、
前記材料を、チオカルボニル官能基を有する試薬および硫酸第二鉄を含む酸性硫酸塩溶液に接触させる工程であって、前記酸性硫酸塩溶液中の前記試薬の初期濃度は、０．２ｍＭ以上５０ｍＭ未満の範囲であり、卑金属イオンを含む貴液を生成する、ところの工程と、
前記貴液から前記少なくともひとつの卑金属を回収する工程と
を備え、
前記試薬は、チオ尿素（Ｔｕ）、チオアセトアミド（ＴＡ）、ジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム（ＳＤＤＣ）、トリチオ炭酸塩エチレン（ＥＴＣ）、チオセミカルバジド（ＴＳＣＡ）、または、それらの組みあわせである、ことを特徴とする方法。
【請求項４８】
材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を回収する方法であって、
前記材料を、試薬および硫酸第二鉄を含む酸性硫酸塩溶液に接触させる工程であって、前記試薬はチオ尿素（Ｔｕ）であり、前記酸性硫酸塩溶液中の前記試薬の初期濃度は、０．２ｍＭ以上５０ｍＭ未満の範囲であり、卑金属イオンを含む貴液を生成する、ところの工程と、
前記貴液から前記少なくともひとつの卑金属を回収する工程と
を備える方法。
【請求項４９】
材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を回収する方法であって、
前記材料を、チオカルボニル官能基を有する試薬を含む酸性硫酸塩溶液に接触させる工程であって、前記試薬はチオアセトアミド（ＴＡ）であり、卑金属イオンを含む貴液を生成する、ところの工程と、
前記貴液から前記少なくともひとつの卑金属を回収する工程と
を備える方法。
【請求項５０】
材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を回収する方法であって、
前記材料を、チオカルボニル官能基を有する試薬を含む酸性硫酸塩溶液に接触させる工程であって、前記試薬はジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム（ＳＤＤＣ）であり、卑金属イオンを含む貴液を生成する、ところの工程と、
前記貴液から前記少なくともひとつの卑金属を回収する工程と
を備える方法。
【請求項５１】
材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を回収する方法であって、
前記材料を、チオカルボニル官能基を有する試薬を含む酸性硫酸塩溶液に接触させる工程であって、前記試薬はトリチオ炭酸塩エチレン（ＥＴＣ）であり、卑金属イオンを含む貴液を生成する、ところの工程と、
前記貴液から前記少なくともひとつの卑金属を回収する工程と
を備える方法。
【請求項５２】
材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を回収する方法であって、
前記材料を、チオカルボニル官能基を有する試薬を含む酸性硫酸塩溶液に接触させる工程であって、前記試薬はチオセミカルバジド（ＴＳＣＡ）であり、卑金属イオンを含む貴液を生成する、ところの工程と、
前記貴液から前記少なくともひとつの卑金属を回収する工程と
を備える方法。
【請求項５３】
前記酸性硫酸塩溶液は、さらに硫酸第二鉄を含む、ことを特徴とする請求項４９から５２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５４】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記試薬の濃度は、０．２ｍＭから３０ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項４２から５３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５５】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記試薬の濃度は、０．２ｍＭから２０ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項４２から５３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５６】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記試薬の濃度は、０．２ｍＭから１０ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項４２から５３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５７】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記試薬の濃度は、０．２ｍＭから５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項４２から５３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５８】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記試薬の濃度は、０．２ｍＭから４ｍＭの範囲、０．２ｍＭから３ｍＭの範囲、０．２ｍＭから２．５ｍＭの範囲、０．２ｍＭから２ｍＭの範囲、０．２ｍＭから１．５ｍＭの範囲、０．２ｍＭから１．０ｍＭの範囲、または、０．２ｍＭから０．５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項４２から５３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５９】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記試薬の濃度は、２ｍＭである、ことを特徴とする請求項４２から５３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６０】
材料内の少なくともひとつの卑金属硫化物から少なくともひとつの卑金属を回収する方法であって、
前記材料を、ホルムアミジン二硫化物（ＦＤＳ）を含む酸性硫酸塩溶液に接触させる工程であって、卑金属イオンを含む貴液を生成する、ところの工程と、
前記貴液から前記少なくともひとつの卑金属を回収する工程と
を備える方法。
【請求項６１】
前記酸性硫酸塩溶液は、さらに硫酸第二鉄を含む、ことを特徴とする請求項６０に記載の方法。
【請求項６２】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記ＦＤＳの濃度は、０．１ｍＭから１５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項６０または６１に記載の方法。
【請求項６３】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記ＦＤＳの濃度は、０．１ｍＭから１０ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項６０または６１に記載の方法。
【請求項６４】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記ＦＤＳの濃度は、０．２ｍＭから５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項６０または６１に記載の方法。
【請求項６５】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記ＦＤＳの濃度は、０．１ｍＭから２．５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項６０または６１に記載の方法。
【請求項６６】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記ＦＤＳの濃度は、０．１ｍＭから２ｍＭの範囲、０．１ｍＭから１．５ｍＭの範囲、０．２ｍＭから１．２５ｍＭの範囲、０．１ｍＭから１ｍＭの範囲、０．１ｍＭから０．７５ｍＭの範囲、０．１ｍＭから０．５ｍＭの範囲、または、０．１ｍＭから０．２５ｍＭの範囲である、ことを特徴とする請求項６０または６１に記載の方法。
【請求項６７】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記ＦＤＳの濃度は、１ｍＭである、ことを特徴とする請求項６０または６１に記載の使用。
【請求項６８】
前記酸性硫酸塩溶液内の前記ＦＤＳの前記濃度は、卑金属イオンを含む前記貴液を生成するための前記試薬を含まない酸性硫酸塩溶液に比べ、前記卑金属イオンの抽出速度を増加させるのに十分なチオ尿素を与えるのに十分なものである、ことを特徴とする請求項６０から６７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６９】
前記少なくともひとつの卑金属硫化物は、少なくともひとつの銅硫化物を含む、ことを特徴とする請求項４２から６８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７０】
前記少なくともひとつの銅硫化物は、黄銅鉱を含む、ことを特徴とする請求項６９に記載の方法。
【請求項７１】
前記少なくともひとつの銅硫化物は、銅藍、斑銅鉱、またこれらの組みあわせを含む、ことを特徴とする請求項６９または７０に記載の方法。
【請求項７２】
前記少なくともひとつの銅硫化物は、硫ひ銅鉱を含む、ことを特徴とする請求項６９から７１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７３】
前記少なくともひとつの銅硫化物は、化学式ＣｕｘＳｙ（ここで、ｘ：ｙの比は１と２の間である）の少なくともひとつの銅硫化物を含む、ことを特徴とする請求項６９から７２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７４】
前記化学式ＣｕｘＳｙの少なくともひとつの銅硫化物は、輝銅鉱、デュルレ鉱、ダイジェナイト、またはそれらの組みあわせを含む、ことを特徴とする請求項７３に記載の方法。
【請求項７５】
前記少なくともひとつの卑金属は、カドミウムを含み、前記少なくともひとつの卑金属硫化物は、硫化カドミウムを含む、ことを特徴とする請求項４２から７４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７６】
前記硫化カドミウムは、硫化カドミウム鉱である、ことを特徴とする請求項７５に記載の方法。
【請求項７７】
前記少なくともひとつの卑金属硫化物は、少なくともひとつの硫化ニッケルを含む、ことを特徴とする請求項４２から７６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７８】
前記少なくともひとつの硫化ニッケルは、硫鉄ニッケル鉱、ビオラル鉱、またはそれらの組みあわせを含む、ことを特徴とする請求項７７に記載の方法。
【請求項７９】
前記材料は、鉱石である、ことを特徴とする請求項４２から７８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８０】
前記材料は、凝集物である、ことを特徴とする請求項４２から７８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８１】
前記方法は、パーコレーションリーチである、ことを特徴とする請求項４２から８０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８２】
前記パーコレーションリーチは、ヒープリーチである、ことを特徴とする請求項８１に記載の方法。
【請求項８３】
Ａｇ／ＡｇＣｌに対して５００ｍＶ以上に、前記酸性硫酸塩溶液の動作ポテンシャルを維持する工程をさらに備える、請求項４２から８２のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
チオカルボニル官能基を有する付加的化合物の非排他的リストは、イソチオ尿素、Ｎ−Ｎ’置換チオ尿素、２，５−ジチオビウレア、ジチオビウレット、チオセミカルバジドのプルーム、チオセミカルバジド、クロロチオノぎ酸メチル、ジチオオキサミド、チオアセトアミド、２−メチル−３−チオセミカルバジド、４−メチル−３−チオセミカルバジド、トリチオ炭酸ビニレンのプルーム、トリチオ炭酸ビニレン、２−シアノチオアセトアミド、トリチオ炭酸エチレン、エチルキサントゲン酸カリウム、ジメチルチオカルバモイル塩化物、ジメチルジチオカルバミン酸塩、Ｓ，Ｓ’ジメチルジチオ炭酸塩、ジメチルトリチオ炭酸塩、Ｎ，Ｎ’−ジメチルチオホルムアミド、４，４−ジメチル−３−チオセミカルバジド、４−エチル−３−チオセミカルバジド、Ｏ−イソプロピルキサントゲン酸、チオオキサム酸エチル、ジチオアセテートエチル、ピラジン−２−チオカルボキサミド、ジエチルチオカルバモイル塩化物、ジエチルジチオカルバミン酸塩、一硫化テトラメチルチウラム、二硫化テトラメチルチウラム、クロロチオノぎ酸ペンタフルオロフェニル、４−フルオロフェニルクロロチオノぎ酸、Ｏ−フェニルクロロチオノぎ酸、クロロジチオノぎ酸フェニル、３，４−ジフルオロチオベンズアミド、２−ブロモチオベンズアミド、３−ブロモチオベンズアミド、４−ブロモチオベンズアミド、４−クロロチオベンズアミド、４−フルオロチオベンズアミド、チオ安息香酸、チオベンズアミド、４−フェニルチオセミカルバジド、Ｏ−（ｐ−トリル）クロロチオノぎ酸、４−ブロモ−２−メチルチオベンズアミド、３−メトキシチオベンズアミド、４−メトキシチオベンズアミド、４−メチルベンゼンチオアミド、チオアセトアニリド、サリチルアルデヒドチオセミカルバゾン、インドール−３−チオカルボキサミド、Ｓ−（チオベンゾイル）チオグリコール酸、３−（アセトキシ）チオベンズアミド、４−（アセトキシ）チオベンズアミド、メチルＮ’−[(e)-(4-クロロフェニル)メチリデン]ヒドラゾノチオカルバミン酸、３−エトキシチオベンズアミド、４−エチルベンゼン−１−チオカルボキサミド、ターシャリー−ブチル−３−[(メチルスルフォニル)オキシ]−１−アゼチジンカルボン酸塩、ジエチルジチオカルバミン酸、２−ヒドロキシベンズアルデヒド、Ｎ−エチルチオセミカルバゾン、(1R,4R)-1,7,7-トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−２−チオン、テトラエチルチウラムジスルフィド、４’−ヒドロキシビフェニル−４−チオカルボキサミド、ジチゾン、４’−メチルビフェニル−４−チオカルボキサミド、テトライソプロピルチウラムジスルフィド、アントラセン−９−チオカルボキサミド、フェナントレン−９−チオカルボキサミド、ジベンジルジチオカルバミン酸ナトリウム、および、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）チオベンゾフェノンを含む。これらの試薬は、例えば、Ｓｉｇｍａ  Ａｌｄｒｉｃｈ社からすでに入手可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
実施例１  チオ尿素を使った黄銅鉱からの銅の抽出
実施例１．１
黄銅鉱電極の電気化学的性質に関するチオ尿素の効果は、従来の３電極ガラス被覆電池で研究された。ＣｕＦｅＳ２電極が動作電極として使用され、飽和塩化第一水銀電極（ＳＣＥ）が基準電極として使用され、グラファイト棒がカウンター電極として使用された。ＣｕＦｅＳ２電極は、６００および１２００グリットのカーバイドペーパーを使って研磨された。すべての実験は、温度制御されたウォーターバスを使って２５℃で実行された。電解液の組成は、５００ｍＭのＨ２ＳＯ４、２０ｍＭのＦｅ２ＳＯ４、および、０−１００ｍＭのチオ尿素である。測定を開始する前に、溶液は溶解酸素の濃度を減少させるために、３０分間Ｎ２によってバブリングされた。オープンサーキットポテンシャル（ＯＣＰ）が、０．１ｍＶ／ｍｉｎ未満の電荷が観測されるまで記録された。一定のＯＣＰ値が観測された後、電気化学インピーダンス顕微鏡（ＥＩＳ）が１０ｋＨｚから１０ｍＨｚの正弦関数摂動する５ｍＶ交流電流を使って、ＯＣＰで実行された。線形分極抵抗（ＬＰＲ）試験が、ＯＣＰから±１５ｍＶにおいて０．０５ｍＶ／ｓの走査速度を使って実行された。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
これらの鉱石の特定の鉱物学的組成は、表１に与えられる。鉱物Ａ、鉱物Ｂ、鉱物ＣのＣｕ含有量は、それぞれ、０．５２％、１．０３％および１．２２％ｗ／ｗであった。浸出の前に、鉱物は、鉱物内に存在する酸消費材料を中性化するべく酸処理された。すなわち、鉱物は、８０％濃度の硫酸および２０％濃度の脱イオン水からなる濃縮硫酸溶液と混合され、７２時間放置された。鉱物Ｃを使ったひとつの処理に対して、チオ尿素は、硫酸処理溶液に添加された。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
鉱物Ａ、鉱物Ｂおよび鉱物Ｃにおける浸出試験の結果は、図４、５および６にそれぞれ示されている。リキビアント内のチオ尿素の存在は、黄銅鉱から銅の浸出においてポジティブな効果を明確に有する。平均して、チオ尿素の存在下における浸出速度は、浸出溶液がチオ尿素を含まない場合の対照群テストに比べ、１．５から２．４の係数だけ増加した。図４から６に示す最終ポイントの時点で、チオ尿素が添加されず硫酸および硫酸第二鉄のみを含む溶液によって浸出された鉱物Ａ、鉱物Ｂ、鉱物Ｃを含むカラムに対する銅抽出は、それぞれ、２１．２％（１９８日後）、１２．４％（５０日後）、および、４０．６％（３２２日後）であった。１０ｍＭのチオ尿素を添加した場合、これらの抽出は、それぞれ、３７．９％、３２．０％および７２．３％であった。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
浸出の前に、鉱物は、カラムリーチ実験で使用された鉱物に実行されたものと類似の手続きを使って処理された。鉱物は、８０％濃度の硫酸および２０％の脱イオン水からなる濃縮硫酸溶液と混合され、鉱物中に存在する酸消費材料を中和するべく７２時間の間放置された。いくつかの実験に対して、異なる濃度のチオ尿素が硫酸処理溶液を使って鉱物に添加された。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
銅浸出におけるチオ尿素のポジティブな効果が観測された。粗い鉱物実験に対して、８０から１２０時間後まで、プラトー効果は観測されなかった。チオ尿素は、粗い鉱物実験に対して周期的に添加され、銅溶解にポジティブに作用した。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
図９からわかるように、５ｍＭの濃度のチオ尿素は、鉱物Ｂに対してテストされた他のチオ尿素濃度よりも高い銅溶解量を生じた。鉱物Ａに関して、約８０から１２０時間の後まで、プラトー効果は観測されず、それは、図１０に示すように、チオ尿素の濃度に応じて変化した。チオ尿素の周期的な添加は、銅溶解の増加を生じさせ、溶解プラトーを遅延させた。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
興味深いのは、１００ｍＭの濃度のチオ尿素を含む溶液は、チオ尿素を含まないものより、銅抽出においてより高い効果を示さず、いくつかの時間ポイントでは悪かった。これは、DeschenesおよびGhaliの結果と一致する。それは、〜２００ｍＭの濃度のチオ尿素（すなわち、１５ｇ／Ｌ）を含む溶液は黄銅鉱からの銅抽出を改善しなかったことを報告していた。チオ尿素は、高い濃度において不安定であり、かつ、分解する。したがって、チオ尿素の初期濃度が３０ｍＭよりも幾分高い場合に、黄銅鉱ミネラル上に膜を形成しそれによりその不動態化を助けるべく、チオ尿素の分解によって十分な硫黄元素が生成されることが可能となる。高いＴｕドーズ量において、溶液から銅がいくらか沈殿し（例えば、図１５を参照）、いくらか低い抽出結果をもたらすことも可能である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
黄銅鉱における触媒効果を証明するために、さまざまな不純物を含む黄銅鉱濃縮物の代わりに、１００％純粋の合成黄銅鉱が使用された。黄銅鉱は、熱水アプローチを通じて合成された。ＣｕＣｌ、ＦｅＣｌ３およびチオ尿素が１：１：２のモル比で最初に混合され、１５０ｍｌの脱イオン水内で分解された。溶液はテフロン（登録商標）加工された反応ベッセルへ転送され、２４０℃で２４時間加熱された。反応の最後に、沈殿したパウダーが酸性水（ｐＨ＝１）によって洗浄され、室温で乾燥された。ＸＲＤ解析の結果は、合成黄銅鉱は黄銅鉱ミネラル濃縮物に比べ任意の不純物を含まなかったことを示した。この合成黄銅鉱が、ここに開示するように攪拌反応器内で実行されるすべてのテストにおいて使用された。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９１】
ここに開示する実験で使用される硫ひ銅鉱は、硫ひ銅鉱濃縮物の形式であり、ＸＲＤ解析により約７０％の硫ひ銅鉱を含んでいた。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
この実験で使用された硫化カドミウムのミネラルは、熱水アプローチを通じて合成された。ＣｄＣｌ２およびチオ尿素は、１：１のモル比で混合され、１００ｍｌの脱イオン水中で分解された。溶液はテフロン（登録商標）加工された反応ベッセルへ転送され、１５０℃で２４時間加熱された。合成されたＣｄＳは、酸洗浄され空気中で乾燥された。ＸＲＤ解析の結果は、他の成分との干渉なしで１００％純粋であることを示した。
【表２】
2019039076.tif 000001
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
図１１は、黄銅鉱、銅藍、輝銅鉱および斑銅鉱（それらはすべてＣｕ（Ｉ）を含む）を含む、共通の銅硫化物ミネラルの浸出をＴｕが触媒することを示す。浸出の９６時間後、黄銅鉱の抽出は、Ｔｕ無しの２１．１％に比べ、２ｍＭのＴｕにより６４．１％に達した。銅藍の抽出は、Ｔｕ無しの７．２％に比べ、２ｍＭのＴｕにより７４．４％に達した。
輝銅鉱の抽出は、Ｔｕ無しの６５．１％に比べ、２ｍＭのＴｕにより８５．６％に達した。斑銅鉱の抽出は、Ｔｕ無しの５６．７％に比べ、２ｍＭのＴｕにより９１．４％に達した。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
Ｎｉ（ＩＩＩ）のようなｄ７電子構成を有する遷移金属を含むミネラルもまたＴｕの添加によって触媒リーチを経験する。Ｃｕ（ＩＩ）と同様に、Ｎｉ（ＩＩＩ）は７個のｄ電子構成により最高に安定した酸化状態であり、ｄ１０ミネラルのような劇的な触媒効果は期待できない。図１４を参照して、初期濃度２ｍＭのＴｕを有するリーチ溶液による浸出は、Ｔｕ無しの対照群に比べ、ビオラル鉱からのニッケルのリーチ速度を増加させる。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
実施例３  試薬ドーズ量
試薬の最適なドーズ量が、浸出の効果を増加させることができる。最初に、ある濃度において、試薬は、所望の金属イオンと不溶性複合体を形成し、沈殿する。例えば、Ｔｕは３：１のモル比でＣｕ（Ｉ）イオンと不溶性複合体を形成する。Ｃｕ−Ｔｕ複合体沈殿が生じる濃度範囲を試験するために沈殿テストが実行された。２０ｍＬのＣｕ溶液がいくつかの独立部分に分割され、続いて、さまざまなＴｕドーズ量（すなわち、０から６０ｍＭ）が添加された。溶液は２４時間攪拌され、溶液フェーズで残った銅がＡＡＳによって分析された、図１５に示す実験結果は、Ｃｕの残留量の割合をプロットしたものである。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
上述したように、さまざまな濃度のＦｅ３＋およびＣｕ２＋イオンを含む酸溶液（ｐＨ１．８）による前記した振とうフラスコテストにおいて、ＦＤＳの分解により４ｍＭのＴｕの添加の際わずかな沈殿が生じた。したがって、４ｍＭより低い濃度のＴｕがこの沈殿を回避することができる。一連の振とうフラスコテストが、Ｃｕ複合沈殿物を生じさせないＦｅ３＋およびＣｕ２＋の濃度範囲を同定するために、初期濃度２ｍＭのＴｕを含む溶液、および、Ｆｅ３＋（０−１００ｍＭ）およびＣｕ２＋（０−５０ｍＭ）を含むマトリクスのさまざまな濃度を含む溶液において実行された。結果として、この広範囲の濃度のＦｅおよびＣｕマトリクスにおいて、２ｍＭのＴｕを使用することで、溶液フェーズからのＣｕの沈殿および損失は生じなかったことが示された。