(57)【要約】  本発明により、鋳型などの原型を使用することなく製造されたマイクロチャネルを有するマイクロ流路チップが提供される。本発明のマイクロ流路チップは、少なくとも上面基板と下面基板とからなり、該上面基板と下面基板とが接着されているマイクロ流路チップにおいて、少なくとも一方の基板の接着面側に１本以上の非接着薄膜層が形成されており、該非接着薄膜層の両端は大気に向かって開口するポートに接続されていることを特徴とする。一方のポートから陽圧を印加すると非接着薄膜層部分が膨隆してマイクロチャネルとして機能し得る空隙が生じ、その結果、一方のポートから他方のポートへ液体及び／又は気体を移送することができる。
2007094254.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも上面基板と下面基板とからなり、該上面基板と下面基板とが接着されているマイクロ流路チップにおいて、少なくとも一方の基板の接着面側に１本以上の非接着薄膜層が形成されており、該非接着薄膜層の少なくとも一方の端部は大気に向かって開口するポートに接続されているマイクロ流路チップ。
【請求項２】
前記非接着薄膜層がその途中に、円形、楕円形、矩形及び多角形状からなる群から選択される少なくとも一種類の平面形状をした拡大領域層を一個以上更に有する請求項１記載のマイクロ流路チップ。
【請求項３】
前記非接着薄膜層が交差して形成されている請求項１記載のマイクロ流路チップ。
【請求項４】
非接着薄膜層が下面基板の接着面側に形成され、ポートが上面基板側に形成されている請求項１、２又は３記載のマイクロ流路チップ。
【請求項５】
非接着薄膜層が上面基板の接着面側に形成され、ポートが上面基板側に形成されている請求項１、２又は３記載のマイクロ流路チップ。
【請求項６】
非接着薄膜層が上面基板の接着面側及び下面基板の接着面側の両方に形成され、ポートが上面基板側に形成されている請求項１、２又は３記載のマイクロ流路チップ。
【請求項７】
前記非接着薄膜層に対応する位置に１個以上の材料スポット層が更に形成されている請求項１〜６の何れかに記載のマイクロ流路チップ。
【請求項８】
前記材料スポット層は前記非接着薄膜層に対応する位置であって、これら非接着薄膜層が配設されていない基板側に形成されている請求項７に記載のマイクロ流路チップ。
【請求項９】
前記材料スポット層は前記非接着薄膜層上に形成されている請求項７に記載のマイクロ流路チップ。  
【請求項１０】
前記材料スポット層は、化学反応試薬類、溶質類、塩類、糖類、抗原類、抗体類、生理活性物質、内分泌攪乱物質、糖鎖類、糖蛋白、ペプチド、タンパク質類、アミノ酸類、ＤＮＡ類、ＲＮＡ類、微生物類、酵母類、菌類、胞子類、植物断片組織、動物断片組織、薬剤類、ガラス粒子、レジン粒子、磁性体粒子、金属粒子、ポリマー、膨潤ゲル及び固化ゲルからなる群から選択される少なくとも一種類の材料から形成される請求項７〜９の何れかに記載のマイクロ流路チップ。
【請求項１１】
前記上面基板がポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）からなり、下面基板がポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）又はガラスからなることを特徴とする請求項１記載のマイクロ流路チップ。
【請求項１２】
請求項１〜１１の何れかに記載のマイクロ流路チップの製造方法であって、少なくとも一方の基板の接着面側に、所望の貫通パターンを有するマスクを通して、常用の化学的薄膜形成方法のうちの何れかの方法により、非接着薄膜層を塗布することからなるマイクロ流路チップの製造方法。
【請求項１３】
請求項１〜１１の何れかに記載のマイクロ流路チップの製造方法であって、少なくとも一方の基板の接着面側に、所望の貫通パターンを有するマスクを通して、被膜剤を噴霧することにより、非接着薄膜層を塗布することからなるマイクロ流路チップの製造方法。
【請求項１４】
請求項１〜１１の何れかに記載のマイクロ流路チップの製造方法であって、少なくとも一方の基板の接着面側に、非接着薄膜層を印刷することを特徴とするマイクロ流路チップの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマイクロ流路チップ及びその製造方法に関する。更に詳細には、本発明は液体又は気体などの媒体の流路となるべきマイクロチャネルを鋳型などの原型を使用することなく形成することができるマイクロ流路チップ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、マイクロ・トータル・アナリシス・システムズ（μＴＡＳ）又はラブ・オン・チップ(Lab-on-Chip)などの名称で知られるように、基板内に所定の形状の流路を構成するマイクロチャネル及びポートなどの微細構造を設け、該微細構造内で物質の化学反応、合成、精製、抽出、生成及び／又は分析など各種の操作を行うことが提案され、一部実用化されている。このような目的のために製作された、基板内にマイクロチャネル及びポートなどの微細構造を有する構造物は総称して「マイクロ流路チップ」又は「マイクロ流体デバイス」などと呼ばれる。【０００３】
マイクロ流路チップは遺伝子解析、臨床診断、薬物スクリーニング及び環境モニタリングなどの幅広い用途に使用できる。常用サイズの同種の装置に比べて、マイクロ流路チップは(1)サンプル及び試薬の使用量が著しく少ない、(2)分析時間が短い、(3)感度が高い、(4)現場に携帯し、その場で分析できる、及び(5)使い捨てできるなどの利点を有する。【０００４】
従来のマイクロ流路チップ１００は、例えば、図８Ａ及び図８Ｂに示されるように、合成樹脂などの材料からなる上面基板１０２に少なくとも１本の、中空状のマイクロチャネル１０４が形成されており、この中空状マイクロチャネル１０４の少なくとも一端には入出力ポートとなるべきポート１０５，１０６が形成されており、基板１０２の下面側に透明又は不透明な素材（例えば、ガラス又は合成樹脂フィルム）からなる下面基板１０８が接着されている。この下面基板１０８の存在により、ポート１０５，１０６及びマイクロチャネル１０４の底部が封止される。【０００５】
図８Ａ及び図８Ｂに示されるようなマイクロ流路チップの材質や構造及び製造方法は例えば、特許文献１、特許文献２及び非特許文献１などに提案されている。その中で、エラストマータイプのシリコーン樹脂であるポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を用いたことを特徴とする一連のマイクロ流路チップが開発されている。ＰＤＭＳはチャネルなどの微細構造を有するマスター（鋳型）に対する良好なモールド転写性や透明性、耐薬品性、生体適合性などを有し、マイクロ流路チップの構成部材として特に優れた特徴を有している。【０００６】
図９は図８Ａ及び図８Ｂに示されるようなマイクロ流路チップ１００の製造方法の一例を示す工程図である。この製造方法は、半導体の製造に多用される、いわゆるリソグラフィー法を応用した製造方法である。先ず、ステップ（ａ）において、最終製品のマイクロ流路チップ１００のサイズ（例えば、２０ｍｍｘ２０ｍｍ又は２０ｍｍｘ３０ｍｍ）と概ね同じサイズのシリコンウエハ２００を準備する。シリコンウエハ２００は予め乾燥させたり、表面処理などの所望の前処理を施すこともできる。その後、ステップ（ｂ）において、適当なレジスト材料（例えば、ネガティブフォトレジストＳＵ−８など）を２０００ｒｐｍ〜５０００ｒｐｍの回転速度で数秒間〜数十秒間にわたってスピン塗布し、オーブン中で乾燥させ、所望の厚さのレジスト膜２２０を形成する。次いで、ステップ（ｃ）において、このレジスト膜２２０上にマスク２４０を通して、適当な露光装置（図示されていない）で露光する。マスク２４０はマイクロ流路チップ１００におけるチャネル１０４に対応するレイアウトパターンを有する。その後、ステップ（ｄ）において、適当な現像液（例えば、１−メトキシ−２−プロピル酢酸）中で現像し、上面にチャネル１０４に対応する微細構造２６０を有するマスター（鋳型）２８０を生成する。所望により、このマスター２８０を有機溶媒（例えば、イソプロピルアルコール）及び蒸留水で洗浄することができる。更に、マスター２８０の表面をトリフルオロメタンの存在下で反応性イオンエッチングシステムにより処理することができる。このトリフルオロメタン存在下の反応性イオンエッチング処理は、後のステップにおいて、ＰＤＭＳのマスター２８０からの離型性を改善する。次いで、ステップ（ｅ）において、前記のマスター２８０の上面に、ＰＤＭＳプレポリマーと硬化剤を適度な割合で混合し、脱気したＰＤＭＳプレポリマー混合液を流し込む。この際、型枠を使用し、鋳込み型とし、その中にＰＤＭＳプレポリマー混合液を流し込んで型取りすることが好ましい。ＰＤＭＳプレポリマー混合液としては、例えば、米国のダウ・コーニング社製のSYLGARD 184 SILICONE ELASTOMERが好適に使用できる。これは液状のＰＤＭＳプレポリマーと硬化剤を１０対１の割合で混合するものである。塗布後、常温で十分な時間放置するか、又は、例えばオーブン中で６５℃で１時間加熱するか若しくは１３５℃で１５分間加熱して硬化させ、ＰＤＭＳ中間基板３００を生成させる。ＰＤＭＳ中間基板３００は透明性の高いゴム状の樹脂であり、マスター２８０の微細構造２６０が転写されている。その後、ステップ（ｆ）において、ＰＤＭＳ中間基板３００をマスター２８０から剥離し、ＰＤＭＳ中間基板３００の上面から下部の中空状マイクロチャネル１０４に連通するポート１０５（１０６）をパンチ３２０で穿設することによりにＰＤＭＳ基板１０２を得る。次いで、ステップ（ｇ）において、対面基板１０８に、ＰＤＭＳ基板１０２をチャネル１０４形成面を下側にして貼り合わせる。最後に、ステップ（ｈ）において、完成されたマイクロ流路チップ１００を回収する。【０００７】
しかし、図９に示されるようなリソグラフィー法を実施する場合、原型となるべきマスター（鋳型）２８０を製造するために先ず露光用マスクを製造しなければならない。このマスク製造のために高価な製造装置を使用しなければならない。更に、マスクを通してレジストを露光させるために、高価な露光装置を使用しなければならない。また、露光後に現像装置が必要となるばかりか、使用済み現像液の廃棄処理も必要となる。従って、マスター（鋳型）２８０の作製には極めて多大な労力、手間及びコストがかかり、最終製品のマイクロ流路チップ１００のコストを増大させる原因となっていた。しかも、レジスト鋳型の場合、硬質なため、耐久性及び密着性が悪く、比較的簡単に破損してしまうことがあった。よって、その都度、前記のような手順によりレジスト製マスター（鋳型）２８０を作り直さなければならなかった。このため、マイクロ流路チップ１００の製造コストが益々増大してしまう結果を招き、使い捨てチップを安価に供給することが困難であった。【０００８】
また、ポート１０５からポート１０６に液体などの媒体を送る場合、その流れを制御するために中空状マイクロチャネル１０４の途中にマイクロバルブなどの流体制御素子を配設することがある（例えば、特許文献３，図３参照）。しかし、このようなマイクロバルブは構造が複雑であるため、その形成は容易ではなく、実際に配設するとなればマイクロ流路チップ１００の製造コストを一層増大させることとなる。
【特許文献１】特開２００１−１５７８５５号公報
【特許文献２】米国特許第５９６５２３７号明細書
【特許文献３】特開２００１−３０４４４０号公報
【非特許文献１】David C. Duffy et al., Rapid Prototyping of Microfluidic Systems in Poly(dimethylsiloxane), Analytical Chemistry, Vol.70, No.23, December 1, 1988, pp.4974-4984
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って、本発明の目的は、鋳型などの原型を使用することなく製造されたマイクロチャネルを有するマイクロ流路チップを提供することである。
本発明の別の目的は、液体又は気体などの媒体の流路となるべきマイクロチャネルを有するマイクロ流路チップにおいて、鋳型などの原型を使用することなくマイクロ流路チップを製造する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するための手段として、請求項１における発明は、少なくとも上面基板と下面基板とからなり、該上面基板と下面基板とが接着されているマイクロ流路チップにおいて、少なくとも一方の基板の接着面側に１本以上の非接着薄膜層が形成されており、該非接着薄膜層の少なくとも一方の端部は大気に向かって開口するポートに接続されているマイクロ流路チップである。【００１１】
この発明によれば、ポートを介して陽圧を印加することにより、非接着薄膜層部分が膨隆し、マイクロチャネルとして機能し得る空隙を生じさせることができる。その結果、一方のポートから液体及び／又は気体を、膨隆により生じた空隙内に送入することが可能となる。非接着薄膜層の両端が大気に向かって開口するポートに接続されていれば、一方のポートから他方のポートへ液体及び／又は気体を移送することができる。また、使用の形態によっては、非接着薄膜層部分は開閉弁又はマイクロバルブとしての機能を果たすこともできる。【００１２】
前記課題を解決するための手段として、請求項２における発明は、前記非接着薄膜層がその途中に、円形、楕円形、矩形及び多角形状からなる群から選択される少なくとも一種類の平面形状をした拡大領域層を一個以上更に有することを特徴とする請求項１記載のマイクロ流路チップである。【００１３】
この発明によれば、拡大領域層は膨隆時に液溜めとして機能することができ、この液溜め部分を利用してＰＣＲ増幅などの作業を効率的に実施することができる。【００１４】
前記課題を解決するための手段として、請求項３における発明は、非接着薄膜層が交差して形成されていることを特徴とする請求項１記載のマイクロ流路チップである。【００１５】
この発明によれば、例えば、２本の非接着薄膜層を交差して形成することにより、電気泳動に使用可能なマイクロ流路チップが簡単に得られる。【００１６】
前記課題を解決するための手段として、請求項４における発明は、非接着薄膜層が下面基板の接着面側に形成され、ポートが上面基板側に形成されていることを特徴とする請求項１、２又は３記載のマイクロ流路チップである。【００１７】
この発明によれば、ポートと非接着薄膜層を別々に形成することができる。【００１８】
前記課題を解決するための手段として、請求項５における発明は、非接着薄膜層が上面基板の接着面側に形成され、ポートが上面基板側に形成されていることを特徴とする請求項１、２、又は３記載のマイクロ流路チップである。【００１９】
この発明によれば、ポートと非接着薄膜層を一方の基板側だけに形成することができるので、他方の基板側は唯貼り合わせるだけでよい。【００２０】
前記課題を解決するための手段として、請求項６における発明は、非接着薄膜層が上面基板の接着面側及び下面基板の接着面側の両方に形成され、ポートが上面基板側に形成されていることを特徴とする請求項１、２又は３記載のマイクロ流路チップである。【００２１】
この発明によれば、下面基板と上面基板との非接着性が更に確実となり、陽圧を印加したときに非接着薄膜層部分が一層膨隆し易くなる。【００２２】
前記課題を解決するための手段として、請求項７における発明は、前記非接着薄膜層に対応する位置に材料スポット層が更に形成されていることを特徴とする請求項１記載のマイクロ流路チップである。【００２３】
この発明によれば、空気中の水分、酸素、微生物類などにより分解されたり浸襲されやすい材料類又は衝撃や環境圧により移動されやすい材料類を使用直前まで、これらから安定的に密閉又は遮蔽し、安全に保存又は保護することができる。【００２４】
前記課題を解決するための手段として、請求項８における発明は、前記材料スポット層は前記非接着薄膜層に対応する位置であって、これら非接着薄膜層が配設されていない基板側に形成されている請求項７に記載のマイクロ流路チップである。【００２５】
この発明によれば、材料スポット層を非接着薄膜層と別々に形成することができる。【００２６】
前記課題を解決するための手段として、請求項９における発明は、前記材料スポット層は前記非接着薄膜層上に形成されている請求項７に記載のマイクロ流路チップである。【００２７】
この発明によれば、材料スポット層を非接着薄膜層が配設されていない基板上に形成できない場合に対応することができる。【００２８】
前記課題を解決するための手段として、請求項１０における発明は、前記材料スポット層は、化学反応試薬類、溶質類、塩類、糖類、抗原類、抗体類、生理活性物質、内分泌攪乱物質、糖鎖類、糖蛋白、ペプチド、タンパク質類、アミノ酸類、ＤＮＡ類、ＲＮＡ類、微生物類、酵母類、菌類、胞子類、植物断片組織、動物断片組織、薬剤類、ガラス粒子、レジン粒子、磁性体粒子、金属粒子、ポリマー、膨潤ゲル及び固化ゲルからなる群から選択される少なくとも一種類の材料から形成される請求項７〜９の何れかに記載のマイクロ流路チップである。【００２９】
この発明によれば、非固形物及び固形物の両方の材料とも材料スポット層形成材料とすることができる。【００３０】
前記課題を解決するための手段として、請求項１１における発明は、前記上面基板がポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）からなり、下面基板がポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）又はガラスからなることを特徴とする請求項１記載のマイクロ流路チップである。【００３１】
この発明によれば、接着剤を使用することなく、上面基板と下面基板を相互に恒久接着させることができる。【００３２】
前記課題を解決するための手段として、請求項１２における発明は、請求項１〜１１の何れかに記載のマイクロ流路チップの製造方法であって、少なくとも一方の基板の接着面側に、所望の貫通パターンを有するマスクを通して、常用の化学的薄膜形成方法のうちの何れかの方法により、非接着薄膜層を塗布することからなるマイクロ流路チップの製造方法である。【００３３】
この発明によれば、マスクパターンに従った非接着薄膜層を少なくとも一方の基板の接着面側に常用の化学的薄膜形成方法で簡単に形成することができる。従来の鋳型を使用する方法に比べて、製造コストが安価であるばかりか、量産性にも優れている。【００３４】
前記課題を解決するための手段として、請求項１３における発明は、請求項１〜１１の何れかに記載のマイクロ流路チップの製造方法であって、少なくとも一方の基板の接着面側に、所望の貫通パターンを有するマスクを通して、被膜剤を噴霧することにより、非接着薄膜層を塗布することからなるマイクロ流路チップの製造方法である。【００３５】
この発明によれば、マスクパターンに従った非接着薄膜層を少なくとも一方の基板の接着面側に、特別な装置を使用すること無く、極めて簡単に塗布形成することができる。従来の鋳型を使用する方法に比べて、製造コストが著しく安価であるばかりか、量産性にも優れている。【００３６】
前記課題を解決するための手段として、請求項１４における発明は、請求項１〜１１の何れかに記載のマイクロ流路チップの製造方法であって、少なくとも一方の基板の接着面側に、非接着薄膜層を印刷することを特徴とするマイクロ流路チップの製造方法である。【００３７】
この発明によれば、非接着薄膜層が印刷により形成されるので、従来の鋳型を使用する方法に比べて、製造コストが更に一層安価になるばかりか、量産性の点でも非常に優れている。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、一方の基板面に非接着薄膜層を形成し、両基板を貼り合わせるだけで従来のマイクロチャネルと同等の機能を発揮させることができ、しかも、マイクロバルブのような流体制御素子を配設しなくても、同等の機能を達成することができる。その結果、従来のリソグラフィー法によりマイクロ流路チップやマイクロバルブを製造していたのに比べて、極めて簡単にマイクロ流路チップを製造することができるばかりか、非常に安価にマイクロ流路チップを提供することができる。【００３９】
従来のマイクロチャネルを有するマイクロ流路チップに比べて、本発明の非接着薄膜層を有するマイクロ流路チップの別の効果は、従来のマイクロチャネルは送液の際、気泡が混入し易かったのに対して、本発明の非接着薄膜層の場合、陽圧を印加して膨隆させなければマイクロチャネルとして機能する空隙が生じないため、送液時に気泡が混入することが殆ど無いことである。マイクロチャネルに気泡が混入すると以後の送液が困難となるばかりか、気泡の除去も非常に困難であった。従って、従来のマイクロチャネルを有するマイクロ流路チップでは、送液の際、気泡が混入しないように細心の注意を払いながら実施しなければならず、送液作業に無駄な時間が費やされていた。本発明のマイクロ流路チップによれば、送液作業に無駄な労力を費やす必要は無い。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１Ａ】本発明によるマイクロ流路チップの一例の概要平面図である。
【図１Ｂ】図１Ａにおける１Ｂ−１Ｂ線に沿った断面図である。
【図２Ａ】本発明のマイクロ流路チップの使用形態の一例を示す部分概要断面図である。
【図２Ｂ】図２Ａにおけるマイクロ流路チップにおいて、非接着薄膜層１１の部分だけが僅かに膨隆し、マイクロチャネルとして機能し得る空隙１８が生じた状態を示す部分概要断面図である。
【図３】本発明の或る実施態様のマイクロ流路チップの製造方法の一例を説明する工程図である。
【図４Ａ】本発明の別の実施態様のマイクロ流路チップの製造方法の一例を説明する工程図である。
【図４Ｂ】図４Ａに示された本発明の別の実施態様のマイクロ流路チップの製造方法の続きの工程を説明する工程図である。
【図５Ａ】本発明によるマイクロ流路チップの別の実施態様の概要平面図である。
【図５Ｂ】図５Ａにおける５Ｂ−５Ｂ線に沿った断面図である。
【図６Ａ】本発明によるマイクロ流路チップの他の実施態様の概要平面図である。
【図６Ｂ】図６Ａにおける６Ｂ−６Ｂ線に沿った断面図である。
【図６Ｃ】図６Ｂに示された本発明のマイクロ流路チップの使用形態の一例を示す部分概要断面図である。
【図７Ａ】本発明によるマイクロ流路チップの他の実施態様の概要平面図である。
【図７Ｂ】図７Ａにおけるマイクロ流路チップ１Ｄにおいて、非接着薄膜層１１の部分だけが僅かに膨隆することにより空隙１８が生じ、その結果、非接着薄膜層１１両側の、中空状チャネル１０４が連通された状態を示す部分概要断面図である。
【図８Ａ】従来のマイクロ流路チップの一例の概要平面図である。
【図８Ｂ】図８Ａにおける８Ｂ−８Ｂ線に沿った断面図である。
【図９】図８Ａ及び図８Ｂに示されたマイクロ流路チップの従来の製造方法の一例を説明する工程図である。
【符号の説明】
【００４１】
１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ  本発明によるマイクロ流路チップ
３  上面基板
５  下面基板
７，７Ａ，７Ｂ，９，９Ａ，９Ｂ  ポート  
１１，１１Ａ  非接着薄膜層
１４  アダプター
１６  送入チューブ
１８  空隙
２０，２０Ａ  マスク
２２  貫通孔
２４  拡大領域層
２６  貫通孔
２８  ＰＤＭＳシート
３０  化学反応試薬スポット層
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
図１Ａは本発明によるマイクロ流路チップの一例の概要平面図であり、図１Ｂは図１Ａにおける１Ｂ−１Ｂ線に沿った断面図である。本発明によるマイクロ流路チップは、従来のマイクロ流路チップと同様に、上面基板３と下面基板５とからなり、上面基板３には液体又は気体などの媒体の入出力口となるべきポート７及び９が配設されている。上面基板３と下面基板５は非接着薄膜層１１及びポート７，９以外の部分では、互いに接着している。非接着薄膜層１１は下記で詳細に説明するように従来のマイクロ流路チップにおけるマイクロチャネルとなるべき部分である。しかし、通常は、ポート７とポート９は非接着薄膜層１１により遮断されているので、液体又は気体などの媒体を一方のポートから他方のポートに送ることはできない。【００４３】
非接着薄膜層１１としては、公知慣用の化学的薄膜形成技術により形成される、例えば電極膜、誘電体保護膜、半導体膜、透明導電膜、蛍光膜、超伝導膜、誘電体膜、太陽電池膜、反射防止膜、耐磨耗性膜、光学干渉膜、反射膜、帯電防止膜、導電膜、防汚膜、ハードコート膜、バリア膜、電磁波遮蔽膜、赤外線遮蔽膜、紫外線吸収膜、潤滑膜、形状記憶膜、磁気記録膜、発光素子膜、生体適合膜、耐食性膜、触媒膜、ガスセンサー膜等が挙げられる。【００４４】
非接着薄膜層１１を形成する化学的薄膜形成手段としては、例えば反応性ガスとして好ましくは、有機フッ素化合物や金属化合物を用いてプラズマ放電処理装置により薄膜を形成する方法が使用できる。【００４５】
この薄膜形成方法で使用される有機フッ素化合物としては、フッ化メタン類（例えば、フルオロメタン、ジフルオロメタン、トリフロオロメタン、テトラフルオロメタン）、フッ化エタン（例えば、ヘキサフルオロエタン）、１，１，２，２−テトラフルオロエチレン、１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパン、ヘキサフルオロプロペン、６−フッ化プロピレンなどのフッ化炭素化合物、１，１−ジフルオロエチレン、１，１，１，２−テトラフルオロエタン、１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンなどのフッ化炭化水素化合物、ジフルオロジクロロメタン、トリフルオロクロロメタンなどのフッ化塩化炭素水素化合物、１，１，１，３，３，３、−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、パーフルオロブタノールなどのフッ化アルコール、ビニルトリフルオロアセテート、１，１，１−トリフルオロアセテートなどのフッ化カルボン酸エステル、アセチルフルオライド、ヘキサフルオロアセトン、１，１，１−トリフルオロアセトンなどのフッ化ケトンなどを挙げることができる。【００４６】
また、この薄膜形成方法で使用される金属化合物としては、Ａｌ、Ａｓ、Ａｕ、Ｂ、Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｄ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｇ、Ｉｎ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｙ、ＺｎまたはＺｒなどの単一あるいは合金金属化合物若しくは有機金属化合物を挙げることができる。【００４７】
この他の化学的膜形成手段としては、例えばゾルゲル法による緻密な膜形成で、ゾルゲルとして好ましい金属化合物としては、Ａｌ、Ａｓ、Ａｕ、Ｂ、Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｄ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｇ、Ｉｎ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｙ、ＺｎまたはＺｒなどの単一あるいは合金金属化合物若しくは有機金属化合物を挙げることができる。【００４８】
非接着薄膜層１１は前記以外の方法でも形成することができる。例えば、非接着薄膜層１１を下面基板５の上面に印刷により形成することができる。印刷は例えば、ロール印刷、シルク印刷、パターン印刷、転写、静電複写、など様々な公知慣用の印刷方法を採用することができる。非接着薄膜層１１を印刷法で形成する場合、非接着薄膜層１１の形成材料としては、金属微粒子（例えば、Ａｌ、Ａｓ、Ａｕ、Ｂ、Ｂｉ、Ｃａ、Ｃｄ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｈｇ、Ｉｎ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｎａ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｙ、ＺｎまたはＺｒなどの単一金属微粒子又はこれらの２種類以上の合金微粒子、若しくはこれらの単一金属又は合金の酸化物微粒子（例えば、ＩＴＯ微粒子など）及びこれらの有機金属化合物微粒子など）、導電インク、絶縁インク、カーボン微粒子、シラン剤、パリレン、塗料、顔料、染料、水性染料インク、水性顔料インク、油性染料インク、油性顔料インク、溶剤性インク、ソリッドインク、ゲルインク、ポリマーインクなどが好適に使用できる。【００４９】
別法として、非接着薄膜層１１は噴霧塗布法によっても形成することができる。例えば、所定のチャネルパターンを有するマスクの上面から被膜剤を噴霧し、乾燥させることにより下面基板５の上面に非接着薄膜層１１を形成することもできる。例えば、電極被膜、誘電体保護被膜、半導体被膜、導電被膜、蛍光被膜、超伝導被膜、誘電体被膜、反射防止被膜、耐磨耗性被膜、光学干渉被膜、反射被膜、帯電防止被膜、防汚被膜、ハードコート被膜、バリア被膜、電磁波遮蔽被膜、赤外線遮蔽被膜、紫外線吸収被膜、潤滑被膜、発光素子被膜、生体適合性被膜、耐食性被膜、触媒被膜、金属被膜、ガラス被膜、塗装被膜、撥水性被膜、親水性被膜、樹脂被膜、ゴム被膜、合成繊維被膜、合成樹脂被膜、リン脂質被膜、生体由来物質による被膜、生体物質接着防止被膜、脂質被膜、油被膜、シラン化合物被膜、シラザン化合物被膜、粘着被膜などの被膜を形成する物質を適当な溶媒に溶解又は懸濁させ、得られた溶液又は懸濁液を被膜剤として噴霧することができる。【００５０】
非接着薄膜層１１の膜厚は、使用される薄膜形成方法に応じて変化するが、一般的に、１０ｎｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。非接着薄膜層１１の膜厚が１０ｎｍ未満の場合、非接着薄膜層１１が均一に形成されず、接着部位と非接着部位が島状に点々と生じてマイクロチャネルとして機能させることが困難になる。一方、非接着薄膜層１１の膜厚が３００μｍ超の場合、非接着効果が飽和するばかりか、非接着薄膜層１１と上面基板３との接着境界が、非接着薄膜層１１の厚みにより浮き上がり、接着不良を引き起こす。その結果、正確な非接着薄膜層１１の幅を維持できなくなるなどの不都合が生じるので好ましくない。化学的薄膜形成方法による場合、非接着薄膜層１１の膜厚は１０ｎｍ〜１０μｍの範囲内、好ましくは、３０ｎｍ〜５μｍの範囲内、一層好ましくは、５０ｎｍ〜３μｍの範囲内である。噴霧塗布法による場合、非接着薄膜層１１の膜厚は５０ｎｍ〜３００μｍの範囲内、好ましくは、８０ｎｍ〜２００μｍの範囲内、一層好ましくは、１００ｎｍ〜１００μｍの範囲内である。印刷法による場合、非接着薄膜層１１の膜厚は５００ｎｍ〜１００μｍの範囲内、好ましくは、８００ｎｍ〜８０μｍの範囲内、一層好ましくは、１μｍ〜５０μｍの範囲内である。  【００５１】
非接着薄膜層１１の幅は、従来のマイクロ流路チップにおけるマイクロチャネルの幅と概ね同一であるか又はこれよりも大きいか若しくは小さいことができる。一般的に、非接着薄膜層１１の幅は、１０μｍ〜３０００μｍ程度である。非接着薄膜層１１の幅が１０μｍ未満の場合、非接着部を膨隆させてマイクロチャネルを出現させるための圧力が高くなり過ぎ、マイクロ流路チップ１自体を破壊してしまう危険性がある。一方、非接着薄膜層１１の幅が３０００μｍ超の場合、本来微量な液体や気体を搬送・制御し、物質の化学反応、合成、精製、抽出、生成及び／又は分析を行うことが目的であるのに対し、３０００μｍ超の幅で膨隆されたチャネルは、著しく過飽和量となる。また、膨隆チャネル構造の利点でもある液体のチャネル内付着防止機能の点でも機能を損なう可能性があり得るなどの不都合が生じるので好ましくない。【００５２】
非接着薄膜層１１のパターン自体は図示された直線状に限定されない。目的及び／又は用途などを考慮して、Ｙ字形状、Ｌ字形状などの様々なパターンの非接着薄膜層１１を採用することができる。また、両端にポートを有する非接着薄膜層１１は１本だけでなく複数本形成することができる。複数本のポート付き非接着薄膜層１１は並行配置又は交差配置など任意の形態で配置することができる。交差配置は従来のクロスインジェクション方式の電気泳動用チップとして有用である。更に、非接着薄膜層１１は、線状部分の他に、円形、楕円形、矩形、多角形状などの任意の平面形状をした拡大領域を有することもできる。拡大領域は反応室などとして利用することもできる。【００５３】
本発明によるマイクロ流路チップ１における上面基板３は弾性及び／又は可撓性を必ずしも有する必要は無いが、一般的に、ポリマー又はエラストマーであることが好ましい。上面基板３が弾性及び／又は可撓性を有する材料から形成されていない場合、非接着薄膜層１１の部分を、従来のマイクロ流路チップにおけるマイクロチャネルとなるように変形させることが不可能又は困難となる。従って、上面基板３の形成材料としては例えば、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）などのようなシリコーンゴムの他、ニトリルゴム、水素化ニトリルゴム、フッ素ゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロプレンゴム、アクリルゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、クロロスルフォン化ポリエチレンゴム、エピクロルヒドリンゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、多硫化ゴム、ノルボルネンゴム、熱可塑性エラストマーなどが好ましい。ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）などのようなシリコーンゴムが特に好ましい。【００５４】
上面基板３の厚さは一般的に、１０μｍ〜５ｍｍの範囲内であることが好ましい。上面基板３の厚さが１０μｍ未満の場合、低い圧力でも非接着薄膜層１１の部分が膨隆してマイクロチャネルを出現させ易いが、反面、破れ易くなる危険性がある。一方、上面基板３の厚さが５ｍｍ超の場合、非接着薄膜層１１の部分を膨隆させてマイクロチャネルを出現させるために非常に高い圧力が必要となるので好ましくない。【００５５】
本発明によるマイクロ流路チップ１における下面基板５は弾性及び／又は可撓性を必ずしも有する必要は無いが、上面基板３と強固に接着可能であることが好ましい。この“強固な接着”とは、非接着薄膜層以外の接着部分が、非接着薄膜層部位の膨隆変形によりチャネル構造の出現を可能とする接着力をいう。更には、非接着薄膜層部位の膨隆変形により生じたチャネル構造内には、液体、気体、蒸気又はポリマーやゲル状物質などを加圧充填し、加圧移動或いは扱き移動させることがあり、この加圧や扱きに耐え得る接着強度が必要である。上面基板３がポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）である場合、下面基板５がＰＤＭＳ又はガラスであれば、上面基板３と下面基板５とは、相互に強固に接着することができる。この現象は一般的に、「恒久接着（パーマネント・ボンディング）」と呼ばれている。恒久接着とは、ある種の表面改質を行うだけで、接着剤無しでＰＤＭＳ上面基板と下面基板とを相互に接着することができる性質のことであり、マイクロチャネル及び／又はポートなどの微細構造の良好な封止性を発揮させることができる。ＰＤＭＳ基板の恒久接着では、貼り合わせ面を適宜表面改質処理した後、両方の基板の貼り合わせ面を密着して重ね合わせ、一定時間放置することで、容易に接着が行えるものである。換言すれば、非接着薄膜層１１の部分は恒久接着していないので、圧力などにより風船状に膨隆変形してマイクロチャネルを出現させることができる。また、この膨隆部分以外の箇所は恒久接着しているため、膨隆部分に通される液体又は気体などが他の部位に漏出することも無い。【００５６】
ＰＤＭＳ上面基板３と恒久接着可能であれば、ＰＤＭＳ又はガラス以外の材料からなる下面基板５も当然使用できる。例えば、セルロースエステル基体、ポリエステル基体、ポリカーボネート基体、ポリスチレン基体、ポリオレフィン基体、等で、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートフタレート、セルローストリアセテート、セルロースナイトレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル、ポリアリレートなどが挙げられる。また、ポリ乳酸樹脂、ポリブチレンサクシネート、ニトリルゴム、水素化ニトリルゴム、フッ素ゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロプレンゴム、アクリルゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、クロロスルフォン化ポリエチレンゴム、エピクロルヒドリンゴム、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、多硫化ゴム、ノルボルネンゴム、熱可塑性エラストマーなども下面基板５の形成材料として使用できる。これらの素材は単独であるいは適宜混合されて使用することもできる。【００５７】
さらに、これらの素材が単独で恒久接着できない場合は、接着面に表面処理を施して恒久接着を行う。この表面処理剤として好ましくは、珪素化合物やチタン化合物で、具体的には、ジメチルシラン、テトラメチルシラン、テトラエチルシランなどのアルキルシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシランなどの珪素アルコキシシランの有機珪素化合物、モノシラン、ジシランなどの珪素水素化合物、ジクロロシラン、トリクロロシラン、テトラクロロシランなどのハロゲン化珪素化合物、ヘキサメチルジシラザンなどのシラザン、又、ビニル、エポキシ、スチリル、メタクリロキシ、アクリロキシ、アミノ、ウレイド、クロロプロピル、メルカプト、スルフィド、イソシアネートなど官能基が導入されている珪素化合物、などが挙げられる。これらの表面処理剤は単独で使用することもできるが、二種類以上を適宜混合して使用することもできる。【００５８】
下面基板５の厚さは一般的に、３００μｍ〜１０ｍｍの範囲内であることが好ましい。下面基板５の厚さが３００μｍ未満の場合、マイクロ流路チップ１全体の機械的強度を維持することが困難となる。一方、下面基板５の厚さが１０ｍｍ超の場合、マイクロ流路チップ１に必要な機械的強度が飽和し、不経済となるだけである。【００５９】
図２は本発明のマイクロ流路チップ１の使用形態の一例を示す部分概要断面図である。本発明のマイクロ流路チップ１では、図２（Ａ）に示されるように、液体又は気体の導入部となるべきポート７の開口部にアダプター１４を配設し、このアダプター１４に送入チューブ１６を接続する。言うまでもなく、アダプター１４の形状は図示されたものに限定されない。ポート内に一部挿入される形態でなく、上面基板３に直接固着される形態でもよい。別法として、アダプター１４を使用せず、各ポートに送入チューブ１６を直接接続する形態も実施可能である。アダプター１４の形成材料は、ＰＤＭＳ製上面基板３と恒久接着可能なＰＤＭＳが好ましいが、その他の材料も使用できる。アダプター１４がＰＤＭＳ製でない場合、アダプター１４を上面基板３に固着させるために、適当な接着剤を使用することもできる。送入チューブ１６は可撓性を有する材料から形成されている。例えば、テフロン（登録商標）チューブが好ましい。送入チューブ１６はアダプター１４の適当な接着剤を使用することにより固着させることができる。送入チューブ１６の他端は図示されていないが適当な原液供給手段及び／又は加圧手段（例えば、マイクロポンプ又はシリンジなど）に接続されている。ポート７内に目的の液体が注入されたら、送入チューブ１６から気体（例えば、空気）を高圧（例えば、１０ｋＰａ〜１００ｋＰａ）で送入する。又は、ポート７内に目的の液体を陽圧を印加しながら注入すると、図２（Ｂ）に示されるように、非接着薄膜層１１に対応する上面基板部分だけが僅かに膨隆し、マイクロチャネルとして機能し得る空隙１８が生じ、ポート７内の液体及び／又は気体をポート９に移送することができる。上面基板３の非接着薄膜層１１に対応する上部外面を指などで圧迫すると、膨隆空隙１８は簡単に閉塞される。従って、本発明のマイクロ流路チップ１では、従来のマイクロバルブなどのような特別な構成要素を配設しなくても、マイクロバルブと同等の作用効果を発揮させることができる。【００６０】
図１に示された実施態様では、非接着薄膜層１１の両端が大気に向かって開口するポート７及び９に接続されているが、一方のポートにしか接続されていなくてもよい。非接着薄膜層１１の少なくとも一方の端部が大気に向かって開口するポートに接続されていれば、大気に向かって開口しているポートを介して陽圧を印加することにより、非接着薄膜層１１部分を膨隆させ、マイクロチャネルとして機能し得る空隙を生じさせることができる。これは風船を膨らませる原理と同じである。その結果、一方のポートから液体及び／又は気体を、膨隆により生じた空隙内に送入することが可能となる。非接着薄膜層の両端が大気に向かって開口するポートに接続されていれば、一方のポートから他方のポートへ液体及び／又は気体を移送することができる。【００６１】
図３は本発明のマイクロ流路チップ１の製造方法の一例の工程説明図である。先ず、ステップ（ａ）において、所定のチャネルデザインのパターンが形成されたマスク２０を準備する。マスクは厚さが０．０１ｍｍ〜１ｍｍ程度の合成樹脂フィルム（例えば、ＰＥＴフィルム、塩化ビニルフィルム等）又は金属箔などで形成することができる。従って、フィルム又は金属箔を金型で打ち抜くか、刃物でカッティングするか、又はレーザなどで放電加工或いはフライスによる機械加工することにより所望の貫通パターンを有するマスクを製造することができる。ステップ（ｂ）において、マスク２０を下面基板５となるべき基材（例えば、ＰＤＭＳ）の上面に吸着などの現象を利用して貼り合わせるか、又は接着により貼り合わせる。ステップ（ｃ）において、この積層体をトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）の存在下で反応性イオンエッチングシステム（ＲＩＥ）で処理することにより、下面基板５にチャネルデザインに対応するパターンのトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）を塗布する。ステップ（ｄ）において、マスク２０を剥がすと、下面基板５の上面にチャネルデザインに対応するパターンのトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）からなる非接着薄膜層１１が残る。別法として、一般に市販されているシリコンアクリル樹脂系撥水剤からなる防水スプレーをマスク２０上から散布又は噴霧して下面基板５にチャネルデザインに対応するパターンのシリコンアクリル樹脂系撥水剤を塗布することにより、シリコンアクリル樹脂系撥水剤からなる非接着薄膜層１１を形成することもできる。ステップ（ｅ）において、下面基板５の非接着薄膜層１１が存在する上面及びポート７，９のための貫通孔が開設された上面基板３の下面側を表面改質処理する。表面改質処理方法としては、酸素プラズマ処理法又はエキシマＵＶ光照射処理法などを使用することができる。酸素プラズマ処理法は、酸素存在下で反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）装置により実施することができる。エキシマＵＶ光照射処理法は誘電体バリヤ放電ランプにより大気圧の空気雰囲気下で実施できるので処理コストが安価である。次いで、ステップ（ｆ）において、表面改質処理された面同士を貼り合わせ、上面基板３と下面基板５とを恒久接着させる。各ポートに送入チューブを直接接続させる場合には、この段階で本発明のマイクロ流路チップ１が完成したことになる。しかし、所望により、最後に、ステップ（ｇ）において、ポート７，９の各部位に、送入チューブ接続用のアダプター１４を固着させ、本発明のマイクロ流路チップ１を得ることもできる。【００６２】
図４Ａ及び図４Ｂは別の実施態様のマイクロ流路チップ１Ａの製造方法の一例の工程説明図である。図４Ａ及び図４Ｂの製造方法も、図３に示される製造方法と基本的に同じである。先ず、ステップ（ａ）において、所定のチャネルデザインを有するマスク２０Ａを準備する。このマスクは図３のマスク２０と異なり、液溜め部位を形成するための貫通孔２２を有する。ステップ（ｂ）において、マスク２０Ａを下面基板５となるべき基材（例えば、ＰＤＭＳ）の上面に吸着などの現象を利用して貼り合わせるか、又は接着により貼り合わせる。ステップ（ｃ）において、この積層体をトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）の存在下で反応性イオンエッチングシステム（ＲＩＥ）で処理することにより、下面基板５にチャネルデザインに対応するパターンのトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）を塗布する。ステップ（ｄ）において、マスク２０Ａを剥がすと、下面基板５の上面にチャネルデザインに対応するパターンのトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）からなる非接着薄膜層１１Ａが残る。別法として、一般に市販されているシリコンアクリル樹脂系撥水剤からなる防水スプレーをマスク２０Ａ上から散布又は噴霧して下面基板５にチャネルデザインに対応するパターンのシリコンアクリル樹脂系撥水剤を塗布することにより、シリコンアクリル樹脂系撥水剤からなる非接着薄膜層１１Ａを形成することもできる。この非接着薄膜層１１Ａは、図３の非接着薄膜層１１と異なり、液溜め部位となるべき拡大領域２４を有する。ステップ（ｅ）において、下面基板５の非接着薄膜層１１Ａが存在する上面及びポート７，９のための貫通孔が開設された上面基板３の下面側を表面改質処理する。次いで、ステップ（ｆ）において、表面改質処理された面同士を貼り合わせ、上面基板３と下面基板５とを恒久接着させる。ステップ（ｇ）において、ポートとして兼用できる所定の厚み（例えば、１ｍｍ）の、ポート部位２箇所と、液溜め部位２４の形状と同じ形状（例えば、直径５ｍｍの円）の貫通孔２６が形成されたシリコーンゴムシート２８の下面側と、前記ステップ（ｆ）で得られた積層体の上面側を表面改質処理する。貫通孔２６の直径は液溜め部位２４の直径と同じか又は大きいことが好ましい。最後に、ステップ（ｈ）において、シリコーンゴムシート２８の貫通孔７Ａ，９Ａと上面基板３のポート７，９を位置合わせして、恒久接着により貼り合わせ、目的のマイクロ流路チップ１Ａを完成させる。図示されていないが、所望により、シリコーンゴムシート２８の貫通孔７Ａ，９Ａに送入チューブ接続用のアダプター１４を固着させることもできる。シリコーンゴムシート２８の表面改質処理は本発明の必須要件ではない。シリコーンゴムシート２８を表面改質処理せず、上面基板３に自己吸着させるだけでもよい。言うまでもなく、非接着薄膜層１１の形成方法、膜厚、線幅及びパターンなどに関する前記説明は、非接着薄膜層１１Ａに対しても同等に適用可能である。従って、非接着薄膜層１１Ａの形成方法、膜厚、線幅及びパターンなどに関する説明は単なる重複となるので、省略する。【００６３】
前記各製造方法において、非接着薄膜層１１，１１Ａは下面基板側でなく、上面基板側に配設することもできる。この場合、ポート及び非接着薄膜層などの微細構成要素が全て上面基板側に配設されるので、下面基板は何の微細加工も必要無くなり、マイクロ流路チップの製造が一層単純化される。【００６４】
また、別の実施態様として、非接着薄膜層１１，１１Ａは下面基板側及び上面基板側の両方に配設することもできる。この場合、下面基板と上面基板との非接着性が更に確実となり、陽圧を印加したときに非接着薄膜層１１，１１Ａ部分が一層膨隆し易くなるという利点がある。【００６５】
図５Ａ及び図５Ｂは本発明によるマイクロ流路チップの別の実施態様を示す平面図と断面図である。図示されているように、メインの非接着薄膜層１１と交差してサブの非接着薄膜層１１Ｂが形成されている。言うまでもなく、非接着薄膜層１１の形成方法、膜厚、線幅及びパターンなどに関する前記説明は、非接着薄膜層１１Ｂに対しても同等に適用可能である。このマイクロ流路チップ１Ｂはクロスインジェクション方式の電気泳動用チップとして特に好適である。例えば、マイクロ流路チップ１Ｂを電気泳動用チップとして使用する必要が生じた場合、ポート９からポート７及び７Ｂ、９Ｂに向かってゲル電解質を充填し、非接着薄膜層１１及び１１Ｂを前記のように膨隆させてマイクロ電気泳動路として電気泳動を行う。ポート９から充填した該ゲル電解質がポート７及び７Ｂ、９Ｂに溢れ出たのを確認後、ポート７及び７Ｂ、９Ｂ内にも該ゲル電解質を充填する。次いで、ポート７Ｂ内に電気泳動すべき検体を注入し、ポート７及び９、７Ｂ、９Ｂに電極を浸漬する。始めに、ポート７Ｂとポート９Ｂの両電極間に電圧を印加する。この電圧印加により、ポート７Ｂの検体はポート９Ｂに向かい、膨隆チャネル１１Ｂ内を泳動されていく。適当な光学的検出手段（図示されていない）により、検体が膨隆チャネル１１Ｂと膨隆チャネル１１との交差点にまで泳動されたことを確認し、電圧の印加を、ポート７とポート９の電極間に切り換える。この電圧印加の切換により、膨隆チャネル１１Ｂと膨隆チャネル１１との交差点に存在する検体はポート９に向かって泳動していくので、ポート９付近で適当な光学的検出手段（図示されていない）により所定の検出処理を行うことができる。従来技術によれば、このような電気泳動用のマイクロ流路チップは複雑なリソグラフィー法等で製作されてきたが、本発明によれば、前記のような簡単な方法で安価に大量生産することができる。【００６６】
図６Ａ、図６Ｂ及び図６Ｃは本発明によるマイクロ流路チップの別の実施態様を示す平面図と断面図である。この実施態様におけるマイクロ流路チップ１Ｃでは、非接着薄膜層１１に対応する位置に材料スポット層３０が存在する。この実施態様におけるマイクロ流路チップ１Ｃの利点は、空気中の水分、酸素、微生物類などにより分解又は浸襲されやすい材料を使用直前まで、これら水分、酸素、微生物類などから密閉又は遮蔽して、安全に保存又は保護できることである。また、本発明のマイクロ流路チップ１Ｃは、従来の矩形チャネルではチップに与えられる衝撃や環境圧の変化などにより移動し易く、チャネル内の所定箇所に留めて置くことが困難である材料についても、風圧や外部衝撃などから保護し、使用直前まで所定箇所に留めて置くことが出来る。【００６７】
図６Ａ、図６Ｂ及び図６Ｃにおいて、材料スポット層３０は１個だけでなく、所望の個数を存在させることができる。また、材料スポット層３０は非接着薄膜層１１に対応する位置だけでなく、図４Ａ及び図４Ｂに示されるような、液溜め部位となるべき拡大領域２４に対応する位置にも存在させることができる。材料スポット層３０は下面基板５側に形成することができる。しかし、この態様に限定されない。下面基板５側に非接着薄膜層１１が形成された後、非接着薄膜層１１の上面に材料スポット層３０を設けることもできるし、或いは、上面基板３側に設けることもできる。下面基板５がガラス製である場合、材料スポット層３０をガラス基板の上面に形成し、非接着薄膜層１１を上面基板３の下面側に設けることができる。【００６８】
材料スポット層３０を形成するための材料としては、液体又は固体の任意の材料を使用できる。液体の場合、そのままでも使用できるが、塗布し乾燥させ被膜状にして使用することもできる。このような材料は例えば、化学反応試薬類、溶質類、塩類、糖類、抗原類、抗体類、生理活性物質、内分泌攪乱物質、糖鎖類、糖蛋白、ペプチド、タンパク質類、アミノ酸類、ＤＮＡ類、ＲＮＡ類、微生物類、酵母類、菌類、胞子類、植物断片組織、動物断片組織、薬剤類、ガラス粒子、レジン粒子、磁性体粒子、金属粒子、ポリマー、膨潤ゲル及び固化ゲルなどであることができる。これらの材料は単独で使用することもできるが、二種類以上を併用することもできる。【００６９】
従って、材料スポット層３０は例えば、ＰＣＲ増幅反応用のオリゴマー（すなわち、ＰＣＲ用プライマー）であることもできるし、あるいは、抗原抗体反応又は酵素免疫測定（ＥＬＩＳＡ）法における抗原類又は抗体類であることもできる。ＥＬＩＳＡ法には直接吸着法とサンドイッチ法の二種類があるが、直接吸着法の場合には、ガラス基板５の固相表面に、抗原３０（例えば、ＨＩＶ抗原）を例えば、アミノカップリング法、表面チオールカップリング法又はリガンドチオールカップリング法などの方法により付着させることができる。また、サンドイッチ法の場合には、抗原の代わりに一次抗体をガラス基板５の固相表面に結合させることができる。直接吸着法の場合、ポート７から被検サンプル（例えば、血清）を注入する。サンプル中に抗体（例えば、抗ＨＩＶ抗体）があれば、抗原３０と反応し、結合する。その後、発色試薬などをポート７から注入することにより抗原抗体反応を確認することができる。サンドイッチ法の場合、目的物質（例えば、タンパク質）を含む溶液をポート７から注入すると、溶液中の抗原が「抗原抗体反応」によりガラス基板５上の一次抗体に結合する。その後、ポート７から酵素標識二次抗体を注入し、一次抗体に結合していた目的物質を定性及び定量することができる。また、材料スポット層３０が例えば、ガラス粒子からなる場合、ポート７から被検サンプルを注入する。サンプル中にＤＮＡがあれば、ＤＮＡはガラス粒子に吸着される。その後、ガラス粒子を適当な溶離剤で洗浄すれば、目的のＤＮＡだけを分離することができる。【００７０】
材料スポット層３０は手作業で塗布形成することもできるし、あるいは自動塗布装置で形成することもできる。自動塗布装置は例えば、日立ハイテクノロジーズ社から市販されている全自動のマイクロアレイヤー（例えば、Proteogen  CM-1000）などを使用することができる。この装置の特徴は、ガラス基板上に抗原を付着させるために、ガラス基板上に「プロリンカー」と呼ばれる固定化試薬を予め固着させておくことである。この装置によれば、２５．４ｍｍｘ７６．２ｍｍのスタンダードフォーマットスライドガラスを使用して、スポット径１００〜３００μｍ、スポットピッチ１０μｍ、スポット密度最大４９００スポット／ｃｍ２で、化学反応試薬類を自動塗布することができる。材料スポット層３０が固形物類からなる場合、当該固形物類を適当な溶媒類などに懸濁させ、この懸濁液をガラス基板上に塗布し、必要に応じて乾燥処理を行うことにより定着させることができる。【００７１】
図７Ａは本発明によるマイクロ流路チップの他の実施態様を示す概要断面図である。図示された実施態様におけるマイクロ流路チップ１Ｄは、従来の鋳型を使用するリソグラフィー法で作成された中空状マイクロチャネル１０４を有し、この中空状マイクロチャネル１０４を分断又は連結するように非接着薄膜層１１が配設されている。【００７２】
図７Ｂは、図７Ａにおけるマイクロ流路チップ１Ｄにおいて、非接着薄膜層１１の部分だけが僅かに膨隆することにより空隙１８が生じ、その結果、非接着薄膜層１１両側の、中空状マイクロチャネル１０４が連通された状態を示す部分概要断面図である。液体又は気体の導入部となるべきポート７の開口部にアダプター１４を配設し、このアダプター１４に送入チューブ１６を接続する。送入チューブ１６から気体（例えば、空気）を高圧（例えば、１０ｋＰａ〜１００ｋＰａ）で送入すると、非接着薄膜層１１に対応する上面基板部分だけが僅かに膨隆し、空隙１８が生じ、その結果、非接着薄膜層１１両端側の、中空状マイクロチャネル１０４が連通される。従って、この実施態様によれば、非接着薄膜層１１はマイクロチャネル自体として機能することができるばかりか、従来の光リソグラフィ方法で作製された中空状マイクロチャネル間の開閉弁又はマイクロバルブとしての機能を果たすこともできる。
【実施例１】
【００７３】
（１）マイクロ流路チップの作製
図３に示される工程 図に従ってマイクロ流路チップを作製した。厚さ０．０２５ｍｍのＰＥＴフィルムの表面に線幅４００μｍの刻線をＬ字状に貫通形成したマスクを準備した。このマスクを厚さ３ｍｍのＰＤＭＳ製下面基板の上面に載置し、自己吸着によりＰＤＭＳ製下面基板に貼着させた。この積層物を反応性イオンエッチング装置内に収納し、マスク上面からトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）を塗布した。塗布処理終了後、反応性イオンエッチング装置から積層物を取り出し、マスクを除去した。その結果、ＰＤＭＳ製下面基板の上面に、厚さ１μｍのトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）薄膜パターンがＬ字状に形成されていた。このトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）薄膜パターンは非接着薄膜層となるべき部分である。トリフルオロメタン（ＣＨＦ３）薄膜パターンが形成されているＰＤＭＳ製下面基板の上面側と、内径２ｍｍのポート用貫通孔を所定の位置に有する厚さ０．１ｍｍのシリコーンゴム製上面基板の下面側を、反応性イオンエッチング装置内で酸素プラズマにより表面改質処理した。処理後、トリフルオロメタン（ＣＨＦ３）薄膜パターンが形成されているＰＤＭＳ製下面基板の上面側にシリコーンゴム製上面基板の下面側を貼り合わせたところ、ＰＤＭＳ製下面基板とシリコーンゴム製上面基板は恒久接着した。シリコーンゴム製上面基板のポート部位に、内径２ｍｍの貫通孔を有する厚さ５ｍｍの矩形状アダプターを前記と同様な表面改質処理を行った後に、恒久接着させた。
（２）送液試験
前記（１）で作製されたマイクロ流路チップにおいて、一方のポートから他方のポートに液体を送液できるか試験した。ポート９側にＤＮＡ染色液であるサイバー・グリーンＩ(Cyber Green I)を１μＬ入れ、顕微鏡で蛍光の有無を観察した。この時点では、ＤＮＡが存在しないため、何の蛍光も観察されなかった。ポート７側に、ＴＥに溶解されているヒトゲノム（ＤＮＡ）溶液を１０μＬ入れ、アダプターの貫通孔にシリンジを接続してポート７内の溶液に空気圧（陽圧）を印加した。圧力を徐々に増大させていくと、５０ｋＰａを越えた時点で、トリフルオロメタン（ＣＨＦ３）薄膜パターンからなる非接着部分が膨隆してマイクロチャネルとして機能すべき空隙が発生し、ポート７側の溶液がポート９側に送液され、ＤＮＡ溶液は蛍光試薬と混合された。蛍光顕微鏡下で観察すると、ＤＮＡにインターカレートされた蛍光試薬が蛍光を発している様が観察できた。これにより、トリフルオロメタン（ＣＨＦ３）薄膜パターンからなる非接着部分はマイクロチャネルとして機能できることが立証された。
【実施例２】
【００７４】
（１）マイクロ流路チップの作製
図４Ａ及び図４Ｂに示される工程図に従ってマイクロ流路チップを作製した。厚さ０．０２５ｍｍのＰＥＴフィルムの表面に線幅４００μｍの刻線を直線状に貫通形成すると共に、途中に内径５ｍｍの円形状貫通孔を形成したマスクを準備した。このマスクを厚さ３ｍｍのＰＤＭＳ製下面基板の上面に載置し、自己吸着によりＰＤＭＳ製下面基板に貼着させた。この積層物を反応性イオンエッチング装置内に収納し、マスク上面からトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）を塗布した。塗布処理終了後、反応性イオンエッチング装置から積層物を取り出し、マスクを除去した。その結果、ＰＤＭＳ製下面基板の上面に、厚さ１μｍのトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）薄膜パターンがマスクパターンの通りに形成されていた。このトリフルオロメタン（ＣＨＦ３）薄膜パターンは非接着薄膜層となるべき部分であり、特に、直径５ｍｍの円形非接着薄膜層は、最終製品のマイクロ流路チップにおける液溜め部分となる。トリフルオロメタン（ＣＨＦ３）薄膜パターンが形成されているＰＤＭＳ製下面基板の上面側と、内径２ｍｍのポート用貫通孔を所定の位置に有する厚さ０．１ｍｍのシリコーンゴム製上面基板の下面側を、反応性イオンエッチング装置内で酸素プラズマにより表面改質処理した。処理後、トリフルオロメタン（ＣＨＦ３）薄膜パターンが形成されているＰＤＭＳ製下面基板の上面側にシリコーンゴム製上面基板の下面側を貼り合わせたところ、ＰＤＭＳ製下面基板とシリコーンゴム製上面基板は恒久接着した。ポート部位を兼用できる、厚さ５ｍｍの、ポート部位２箇所と液溜めの形状と同じ形状（すなわち、内径５ｍｍの円）を切り抜いたシリコーンゴム製シートを準備した。前記恒久接着した積層上面と、このシリコーンゴム製シートの下面を反応性イオンエッチング装置内で酸素プラズマにより表面改質処理した。処理後、両部材を貼り合わせ、恒久接着させた。
（２）ＰＣＲ増幅試験
前記（１）で作製されたマイクロ流路チップにおける液溜め部分にＰＣＲ溶液を溜め、上面から面圧を加えた状態でＰＣＲを実行し、ＤＮＡの増幅の有無を確認した。先ず、ポート７からＰＣＲに必要な混合溶液（プライマー、ＤＮＡ、ｄＮＴＰ、バッファー及び酵素）を加圧送液した。液溜め部位に送液された混合溶液は、途中の液溜め部位でその形状に膨れ上がり、液体が一時的に溜められることが確認できた。液溜め部位は、上部のＰＤＭＳ製シートの円形貫通孔を越えるほどに膨れ上がった。更に加圧送液を続けると、一定の膨れ上がりの後に、ポート９に送液された。膨れ上がった部位を周囲の高さ（１ｍｍ厚）と同じになるように、ＰＤＭＳ製シートの上面からスライドガラスで押し付けると、それぞれのポートに送液され、ＰＤＭＳ製シートの厚み分（１ｍｍ）に相当する一定量が液溜め部位に残された。このチップを、既存のＰＣＲ装置に実装した。このＰＣＲ装置は、上面の蓋に９５℃以上に加熱されたアルミのヒートプレートを押し付け、チューブ内の液体が蒸発するのを防ぐ機構を有していた。この機構を利用し、上面からチップ全体に加圧されるように、高さをアルミプレートなどで調節した状態でチップ全面に均等な力で押し付けるように固定した。用いた酵素の温度サイクルが実現できるように、予め温度データを実験的に抽出し、至適温度で増幅した。この結果、宝バイオ（株）社製のＴａＫａＲａＺ−Ｔａｑ（登録商標）を用い、約３０分でＰＣＲサイクルが完了し、ＤＮＡの増幅も確認できた。本実施例で使用された、液溜め部位を有する非接着薄膜層を有するマイクロ流路チップでは、液溜め部位を利用することで液体を溜め置き、ＰＣＲのような温度サイクル下においても、ポートを塞がずに（すなわち、密閉することなく）、上面から加圧するだけで、増幅作業が完了でき、反応終了後は液溜め部位を加圧することでポート９へ送液できることも確認できた。本実験では、既存のＰＣＲ装置に実装し、液留め部分に空気を入れずにＰＣＲ混合液が送液でき、ＰＣＲサイクルが速くても増幅できた。この２点から、上面の蓋を９５℃以上に加熱しなくても増幅できる可能性を示している。
【実施例３】
【００７５】
（１）マイクロ流路チップの作製
噴霧塗布法を用いて、図３に示される工程図に従ってマイクロ流路チップを作製した。厚さ０．０２５ｍｍのＰＥＴフィルムの表面に線幅１ｍｍの刻線をＬ字状に貫通形成したマスクを準備した。このマスクを厚さ３ｍｍのＰＤＭＳ製下面基板の上面に載置し、自己吸着によりＰＤＭＳ製下面基板に貼着させた。マスク上面から一般に市販されているシリコンアクリル樹脂系撥水剤である防水スプレーを噴霧した。噴霧処理終了後、マスクを除去した。その結果、ＰＤＭＳ製下面基板の上面に、厚さ１μｍ〜５μｍのシリコンアクリル樹脂系撥水剤被膜パターンがＬ字状に形成されていた。このシリコンアクリル樹脂系撥水剤被膜パターンは非接着薄膜層となるべき部分である。シリコンアクリル樹脂系撥水剤被膜パターンが形成されているＰＤＭＳ製下面基板の上面側と、内径２ｍｍのポート用貫通孔を所定の位置に有する厚さ０．１ｍｍのシリコーンゴム製上面基板の下面側を、反応性イオンエッチング装置内で酸素プラズマにより表面改質処理した。処理後、シリコンアクリル樹脂系撥水剤被膜パターンが形成されているＰＤＭＳ製下面基板の上面側にシリコーンゴム製上面基板の下面側を貼り合わせたところ、ＰＤＭＳ製下面基板とシリコーンゴム製上面基板は恒久接着した。シリコーンゴム製上面基板のポート部位に、内径２ｍｍの貫通孔を有する厚さ５ｍｍの矩形状アダプターを前記と同様な表面改質処理を行った後に、恒久接着させた。
（２）送液試験
前記（１）で作製されたマイクロ流路チップにおいて、一方のポートから他方のポートに液体を送液できるか試験した。ポート９側にＤＮＡ染色液であるサイバー・グリーンＩ(Cyber Green I)を１μＬ入れ、顕微鏡で蛍光の有無を観察した。この時点では、ＤＮＡが存在しないため、何の蛍光も観察されなかった。ポート７側に、ＴＥに溶解されているヒトゲノム（ＤＮＡ）溶液を１０μＬ入れ、アダプターの貫通孔にシリンジを接続してポート７内の溶液に空気圧（陽圧）を印加した。圧力を徐々に増大させていくと、５０ｋＰａを越えた時点で、シリコンアクリル樹脂系撥水剤被膜パターンからなる非接着部分が膨隆してマイクロチャネルとして機能すべき空隙が発生し、ポート７側の溶液がポート９側に送液され、ＤＮＡ溶液は蛍光試薬と混合された。蛍光顕微鏡下で観察すると、ＤＮＡにインターカレートされた蛍光試薬が蛍光を発している様が観察できた。これにより、噴霧塗布法により形成されたシリコンアクリル樹脂系撥水剤被膜パターンからなる非接着部分はマイクロチャネルとして機能できることが立証された。
【実施例４】
【００７６】
（１）マイクロ流路チップの作製
図１に示されるような構造のマイクロ流路チップを印刷法により作製した。公知慣用の印刷用ＯＨＰ(Over Head Projector)ポリエステルシート（厚さ１００μｍ）の印刷面を酸素プラズマ処理法で表面改質し、その後、同表面改質面にアミノシラン剤を塗布することにより、ＯＨＰシート印刷面を恒久接着が可能となるように改質した。次いで、パソコンで描画したＬ字パターンをレーザープリンターによりＯＨＰシートの印刷面に印刷した。ＯＨＰシート上には厚さ１μｍ〜６μｍ、線幅８００μｍのカーボンブラック及び顔料（主成分）が印字されていた。ＯＨＰシートに印字された印刷薄膜パターンが存在する上面及びポート７，９に連通する貫通孔が開設された厚さ１００μｍのシリコーンゴムシートからなる上面基板の下面側を酸素プラズマ処理法で表面改質処理した。次いで、表面改質された面同士を貼り合わせ、上面基板のシリコーンゴムとＯＨＰシートからなる下面基板とを恒久接着させた。ポート７，９の各部位に送入チューブ接続用の厚み５ｍｍのシリコーンゴム製のアダプターを固着させ、本発明のマイクロ流路チップを作製した。
（２）送液試験
前記（１）で作製されたマイクロ流路チップにおいて、一方のポートから他方のポートに液体を送液できるか試験した。ポート９側にＤＮＡ染色液であるサイバー・グリーンＩ(Cyber Green I)を１μＬ入れ、顕微鏡で蛍光の有無を観察した。この時点では、ＤＮＡが存在しないため、何の蛍光も観察されなかった。ポート７側に、ＴＥに溶解されているヒトゲノム（ＤＮＡ）溶液を１０μＬ入れ、アダプターの貫通孔にシリンジを接続してポート７内の溶液に空気圧（陽圧）を印加した。圧力を徐々に増大させていくと、４０ｋＰａを越えた時点で、印刷薄膜パターンからなる非接着部分が膨隆してマイクロチャネルとして機能すべき空隙が発生し、ポート７側の溶液がポート９側に送液され、ＤＮＡ溶液は蛍光試薬と混合された。蛍光顕微鏡下で観察すると、ＤＮＡにインターカレートされた蛍光試薬が蛍光を発している様が観察できた。これにより、印刷法により形成されたパターンからなる非接着部分はマイクロチャネルとして機能できることが立証された。
【実施例５】
【００７７】
（１）マイクロ流路チップの作製
図５Ａ及び図５Ｂに示されるような構造のマイクロ流路チップ１Ｂを実施例１に述べた方法に準じて作製した。
（２）電気泳動試験
ポート７からポート９及び７Ｂ、９Ｂに向かって日立マイクロ電気泳動用ポリマーであるゲル電気泳動物質を注入した。サンプル（検体）として、蛍光物質であるＦＩＴＣで標識したＤＮＡをポート７Ｂに入れ、ポート７Ｂとポート９Ｂとの間に３００Ｖの電圧を印加した。ＦＩＴＣ標識ＤＮＡがポート９Ｂにまで達したことを蛍光検出装置で確認した後、ポート７Ｂとポート９Ｂとの間の電圧印加を停止した。次いで、ポート７とポート９との間に７５０Ｖ、ポート７Ｂとポート９Ｂのそれぞれに１３０Ｖの電圧を同時に印加した。ポート９においてＦＩＴＣ標識ＤＮＡの存在が蛍光検出装置で確認できた。これにより、本発明のマイクロ流路チップ１Ｂを用いて電気泳動処理を実施できることが立証された。
【実施例６】
【００７８】
（１）マイクロ流路チップの作製
図６Ａ及び図６Ｂに示されるような構造のマイクロ流路チップ１Ｃを実施例１に述べた方法に準じて作製した。但し、本実施例では、下面基板５上の非接着薄膜層１１の上面に、材料スポット層としてＰＣＲ用プライマーを塗布し、乾燥させた後、上面基板３を下面基板５に恒久接着させた。
（２）材料スポット層の固定保持試験
ポート７からプライマー以外のＰＣＲに必要な混合溶液（ＤＮＡ、ｄＮＴＰ、バッファー及び酵素）を加圧送液した。この混合溶液が非接着薄膜層のプライマー塗布部位に達したとき、その薬液内に乾燥したプライマーが混和された。プライマーが混和された混合溶液をポート９から取り出し、所定のＰＣＲ増幅反応を実施したところＤＮＡの増幅が確認できた。これにより、本発明のマイクロ流路チップ１Ｃによれば、チャネルの所定領域内に、結合や吸着以外の手法により、ＰＣＲ用プライマーを適切に固定保持して、保存しておくことができることが実証された。この立証により、非接着薄膜層の所定箇所に、例えば、バッファ作用の塩や糖を塗布し、乾燥させておくことにより、水を送液するだけで、至適なバッファー溶液をチャネル内で製造することも可能であることが想到できる。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
以上、本発明のマイクロ流路チップの好ましい実施態様について具体的に説明してきたが、本発明は開示された実施態様にのみ限定されず、様々な改変を行うことができる。例えば、非接着薄膜層１１を碁盤の目状に形成し、個々の交点を押圧閉塞封止する機構と組み合わせて使用することにより、何通りものチャネル送液が可能となる。また、非接着薄膜層１１を有する基板を複数枚積重することにより、立体的な上下送液も可能となる。【００８０】
本発明によれば、マイクロ流路チップを極めて容易かつ安価に製造することができるので、その実用性及び経済性が飛躍的に向上される。その結果、本発明のマイクロ流路チップは、医学、獣医学、歯科学、薬学、生命科学、食品、農業、水産、警察鑑識など様々な分野で好適に有効利用することができる。特に、本発明のマイクロ流路チップは、蛍光抗体法、in situ Hibridization等に最適なマイクロ流路チップとして、免疫疾患検査、細胞培養、ウィルス固定、病理検査、細胞診、生検組織診、血液検査、細菌検査、タンパク質分析、ＤＮＡ分析、ＲＮＡ分析などの広範な領域で安価に使用できる。
【図１Ａ】
2007094254.tif 000003
【図１Ｂ】
2007094254.tif 000004
【図２Ａ】
2007094254.tif 000005
【図２Ｂ】
2007094254.tif 000006
【図３】
2007094254.tif 000007
【図４Ａ】
2007094254.tif 000008
【図４Ｂ】
2007094254.tif 000009
【図５Ａ】
2007094254.tif 000010
【図５Ｂ】
2007094254.tif 000011
【図６Ａ】
2007094254.tif 000012
【図６Ｂ】
2007094254.tif 000013
【図６Ｃ】
2007094254.tif 000014
【図７Ａ】
2007094254.tif 000015
【図７Ｂ】
2007094254.tif 000016
【図８Ａ】
2007094254.tif 000017
【図８Ｂ】
2007094254.tif 000018
【図９】
2007094254.tif 000019
【国際調査報告】
2007094254.tif 000020
2007094254.tif 000021
2007094254.tif 000022
2007094254.tif 000023