【手続補正書】
【提出日】令和1年8月20日(2019.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型を用いて基板上のインプリント領域にインプリント材のパターンを形成するステーションを複数有するインプリント装置であって、
前記複数のステーションそれぞれに設けられた、前記基板の保持および温度調整を行う保持部と、
前記インプリント領域のサイズと前記基板の温度とに基づいて、前記複数のステーションのうち当該基板に前記パターンを形成するステーションの前記保持部に前記温度調整の目標値を出力する制御部と、を有することを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
基板上のインプリント領域のサイズを計測する計測部を有し、
前記制御部は、前記計測部によって計測された前記サイズに基づいて目標値を出力することを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記計測部は、前記基板に形成された複数のマークの位置に基づいて前記サイズを計測することを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
基板の温度を計測する計測部を有し、
前記制御部は、前記計測部によって計測された前記温度に基づいて前記目標値を出力することを特徴とする請求項１ないし請求項３のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記複数のステーションそれぞれの前記保持部の温度にさらに基づいて、前記目標値を出力することを特徴とする請求項１ないし請求項４のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記サイズと、前記基板の前記温度と、前記複数のステーションそれぞれの前記保持部の温度とに基づいて、当該基板に前記パターンを形成するステーションの決定を行うことを特徴とする請求項１ないし請求項４のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記型のサイズにさらに基づいて、前記目標値を出力することを特徴とする請求項５に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記型のサイズにさらに基づいて、前記決定を行うことを特徴とする請求項６に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記型の保持および前記型の温度を調整する型保持部を有し、
前記制御部は、前記型保持部に前記型の温度調整に用いられる目標値を出力することを特徴とする請求項１ないし請求項８のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記インプリント材の温度を調整する第１調整部を有し、
前記制御部は、前記目標値に基づいて、前記第１調整部に前記インプリント材の温度調整に用いられる第２目標値を出力することを特徴とする請求項１ないし請求項８のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
前記複数のステーションに選択的に前記基板を搬送する搬送部を有し、
前記搬送部は、前記基板の温度調整を行う第２調整部を含み、
前記制御部は、前記目標値に基づいて、前記第２調整部にその温度調整の目標値を出力することを特徴とする請求項１ないし請求項８のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１２】
前記複数のステーションに選択的に前記基板を搬送する搬送部を有し、
前記制御部は、前記決定に基づいて、前記搬送部の搬送先を制御する、
ことを特徴とする請求項６に記載のインプリント装置。
【請求項１３】
前記搬送部は、複数の基板を収容した容器を搬送することを特徴とする請求項１１または請求項１２に記載のインプリント装置。
【請求項１４】
基板のインプリント領域のサイズと前記基板の温度とを計測する計測部を含む計測ステーションと、
前記計測部により前記サイズと前記温度とが計測された前記基板を保持する保持部を含み、型を用いて前記基板のインプリント領域にインプリント材のパターンを形成するインプリントステーションと、を有し、
前記インプリントステーションは、前記計測部により計測された前記サイズと前記温度とに応じて、前記保持部により保持された前記基板の温度を調整する調整部を含むことを特徴とするインプリント装置。
【請求項１５】
前記調整部は、前記インプリント領域のサイズが目標サイズになるように前記基板の温度を調整することを特徴とする請求項１４に記載のインプリント装置。
【請求項１６】
前記調整部は、前記インプリント領域のサイズと前記基板の温度とを調整することを特徴とする請求項１４または１５に記載のインプリント装置。
【請求項１７】
前記計測部により前記サイズと前記温度とが計測された前記基板を保持する第２保持部を含み、前記型を用いて前記基板の前記インプリント領域にインプリント材料のパターンを形成する第２インプリントステーションを有し、
前記第２インプリントステーションは、前記計測部により計測された前記サイズと前記温度とに応じて、前記第２保持部により保持された前記基板の温度を調整する第２調整部を含むことを特徴とする請求項１４ないし１６のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１８】
前記計測部は、前記基板に形成された複数のマークの位置に基づいて前記サイズを計測することを特徴とする請求項１４ないし１７のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１９】
前記調整部は、前記保持部の温度にさらにもとづいて、前記保持部により保持された前記基板の温度を調整することを特徴とする請求項１４ないし１８のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項２０】
前記調整部は、前記型のサイズにさらに基づいて、前記保持部によって保持された基板の温度を調整することを特徴とする請求項１４ないし１９のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項２１】
前記型の保持し、前記計測部により計測された前記サイズと前記温度とに基づいて前記型の温度を調整する型保持部を有することを特徴とする請求項１４ないし２０のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項２２】
前記計測部により計測された前記温度に基づいて、インプリント材の温度を調整する第１調整部を有することを特徴とする請求項１４ないし２１のうちいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項２３】
請求項１ないし請求項２２のうちいずれか１項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、を含むことを特徴とする物品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
インプリント技術は、ナノスケ−ルの微細パタ−ンの形成を可能にする技術であり、磁気記憶媒体や半導体デバイスの量産向けナノリソグラフィ技術の１つとして実用化されつつある。基板上のインプリント領域（のパターン）への重ね合わせのために、温度制御による型または基板の倍率の補正が必要となりうる（特許文献１）。
従来のパターン倍率補正の方法として、特許文献１に示すように、基板保持部の温度制御により基板の熱膨張を利用してパターンの倍率を補正する方法が提案されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の一側面としてのインプリント装置は、型を用いて基板上のインプリント領域にインプリント材のパターンを形成するステーションを複数有するインプリント装置であって、前記複数のステーションそれぞれに設けられた、前記基板の保持および温度調整を行う保持部と、前記インプリント領域のサイズと前記基板の温度とに基づいて、前記複数のステーションのうち当該基板に前記パターンを形成するステーションの前記保持部に前記温度調整の目標値を出力する制御部と、を有することを特徴とするインプリント装置。