Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月24日(2019.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
［実施例３］
２−ＨＨ−５                                            （３−１）          ８％
３−ＨＨ−Ｖ                                            （３−１）        １０％
３−ＨＨ−Ｖ１                                          （３−１）          ７％
４−ＨＨ−Ｖ                                            （３−１）        １０％
４−ＨＨ−Ｖ１                                          （３−１）          ８％
５−ＨＢ−Ｏ２                                          （３−２）          ７％
４−ＨＨＥＨ−３                                        （３−４）          ３％
１−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−２Ｖ                                  （３−８）          ３％
５−ＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                                （４−１）          ６％
３−ＨＨＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                              （４−４）          ６％
Ｖ−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                          （４−９）          ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        （４−２０）        ７％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）−Ｆ                （４−２８）        ３％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）−Ｆ                （４−２８）        ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ）−Ｆ                （４−２８）        ４％
５−ＨＢ−ＣＬ                                          （４）              ５％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−３                                    （−）              ５％
ＮＩ＝７８．５℃；Ｔｃ＜−２０℃；Δｎ＝０．０９５；Δε＝３．４；Ｖｔｈ＝１．５０Ｖ；η＝８．４ｍＰａ・ｓ；γ１＝５４．２ｍＰａ・ｓ．
この組成物に化合物（１−４）を０．８重量％の割合で添加し、らせんピッチを測定した。Ｐ＝１．５μｍ．
2018095668.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月28日(2019.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コガネバナの根の抽出物を有効成分とするシトクロムＰ４５０−１Ａ１の発現を阻害する、剤。
【請求項２】
コガネバナの根の有機溶媒又は含水有機溶媒による抽出物を有効成分とする、請求項１記載の剤。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月29日(2019.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面と、
前記第１面に対向する第２面と、
前記第１面と前記第２面を接続する少なくとも一つの端面を有するガラス板状体からなり、
前記ガラス板状体は化学強化されてなり、
前記第１面上の任意の点からの接線方向をＸ軸とし、前記第１面の中心からの接線方向のうち、前記Ｘ軸に直交する方向をＹ軸とし、前記Ｘ軸と前記Ｙ軸に直交する方向をＺ軸とするとき、
前記Ｘ軸は、前記第１面上の任意の点における前記第１面の接線方向のうち、前記Ｘ軸と前記Ｚ軸を通るＸＺ平面における前記第１面の断面の第１曲率半径Ｒ1が最小となる方向であり、
前記第１面は、前記第１面上の少なくとも１点において前記Ｘ軸方向にその表面が屈曲した屈曲部を有しており、
前記第１面上において、曲率半径が３００ｍｍ未満である特異屈曲部が、単位面積１ｍｍ2あたり１０箇所以下である、曲面カバーガラス。
【請求項２】
第１面と、
前記第１面に対向する第２面と、
前記第１面と前記第２面を接続する少なくとも一つの端面を有するガラス板状体からなり、
前記ガラス板状体は化学強化ガラスからなり、
前記第１面の任意の点における接線方向のいずれかをＸ軸とし、前記任意の点における第１面の接線方向のうち、前記Ｘ軸に直交する方向をＹ軸とし、前記Ｘ軸と前記Ｙ軸に直交する方向をＺ軸とするとき、
前記Ｘ軸は、前記第１面上の任意の点における前記第１面の接線方向のうち、前記Ｘ軸と前記Ｚ軸を通るＸＺ平面における前記第１面の断面の第１曲率半径Ｒ1が最小となる方向であり、
前記第１面は、前記第１面上の少なくとも１点において前記Ｘ軸方向にその表面が屈曲した屈曲部を有しており、
前記第１面上において、曲率半径が３００ｍｍ未満である特異屈曲部が、単位面積１ｍｍ2あたり１０箇所以下である、曲面カバーガラス。
【請求項３】
前記第１面の屈曲部のヘイズが５０％以下である、請求項１または２に記載の曲面カバーガラス。
【請求項４】
前記第１面の屈曲部のヘイズが２０％以下である、請求項１または２に記載の曲面カバーガラス。
【請求項５】
前記第１面に防汚層が形成されている、請求項１または２に記載の曲面カバーガラス。
【請求項６】
前記第１面の屈曲部の静止摩擦係数が１．０以下である請求項１および２に記載の曲面カバーガラス。
【請求項７】
前記第１面の屈曲部の動摩擦係数が０．０２以下である請求項１および２に記載の曲面カバーガラス。
【請求項８】
前記第１面に印刷層が形成されている、請求項１または２に記載の曲面カバーガラス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記した目的を達成するため、本発明は、第１面と、
前記第１面に対向する第２面と、
前記第１面と前記第２面を接続する少なくとも一つの端面を有するガラス板状体からなり、
前記ガラス板状体は化学強化されてなり、
前記第１面上の任意の点からの接線方向をＸ軸とし、前記第１面の中心からの接線方向のうち、前記Ｘ軸に直交する方向をＹ軸とし、前記Ｘ軸と前記Ｙ軸に直交する方向をＺ軸とするとき、
前記Ｘ軸は、前記第１面上の任意の点における前記第１面の接線方向のうち、前記Ｘ軸と前記Ｚ軸を通るＸＺ平面における前記第１面の断面の第１曲率半径Ｒ1が最小となる方向であり、
前記第１面は、前記第１面上の少なくとも１点において前記Ｘ軸方向にその表面が屈曲した屈曲部を有しており、
前記第１面上において、曲率半径が３００ｍｍ未満である特異屈曲部が、単位面積１ｍｍ2あたり１０箇所以下である、曲面カバーガラス、を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、上記した目的を達成するため、本発明は、第１面と、
前記第１面に対向する第２面と、
前記第１面と前記第２面を接続する少なくとも一つの端面を有するガラス板状体からなり、
前記ガラス板状体は化学強化ガラスからなり、
前記第１面の任意の点における接線方向のいずれかをＸ軸とし、前記任意の点における第１面の接線方向のうち、前記Ｘ軸に直交する方向をＹ軸とし、前記Ｘ軸と前記Ｙ軸に直交する方向をＺ軸とするとき、
前記Ｘ軸は、前記第１面上の任意の点における前記第１面の接線方向のうち、前記Ｘ軸と前記Ｚ軸を通るＸＺ平面における前記第１面の断面の第１曲率半径Ｒ1が最小となる方向であり、
前記第１面は、前記第１面上の少なくとも１点において前記Ｘ軸方向にその表面が屈曲した屈曲部を有しており、
前記第１面上において、曲率半径が３００ｍｍ未満である特異屈曲部が、単位面積１ｍｍ2あたり１０箇所以下である、曲面カバーガラス、を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の曲面カバーガラスは、前記第１面の屈曲部のヘイズが５０％以下であることが好ましく、２０％以下がより好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の曲面カバーガラスは、前記第１面の屈曲部の静止摩擦係数が１．０以下であることが好ましい。
また、前記第１面の屈曲部の動摩擦係数が０．０２以下であることが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の曲面カバーガラスは、前記第１面に防汚層が形成されていてもよい。
また、前記第１面に印刷層が形成されていてもよい。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月7日(2019.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次粒子と、該一次粒子が凝集して形成された二次粒子と、から構成されたリチウム金属複合酸化物粉末の製造方法であって、
該リチウム金属複合酸化物粉末は下記組成式（１）で表され、
該リチウム金属複合酸化物粉末が、下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の要件を全て満たし、
ニッケル塩溶液及びコバルト塩溶液を含む混合原料液を調製する工程と、
前記混合原料液ならびに錯化剤を連続的に反応槽へ供給しつつ、反応槽内のｐＨを１１以上１３以下に調整し、前記反応槽に酸素を含まないガスを連続的に通気させて、金属複合化合物を得る工程と、
得られた金属複合化合物とリチウム化合物とを混合して、大気雰囲気下で焼成する第１焼成工程と、大気雰囲気下で前記第１焼成工程よりも高温で焼成する第２焼成工程とを備え、
前記第１焼成工程の焼成温度（Ｔ１）と、前記第２焼成工程の焼成温度（Ｔ２）との差（Ｔ２−Ｔ１）が、２００℃未満であることを特徴とするリチウム金属複合酸化物粉末の製造方法。
Ｌｉ［Ｌｉｘ（Ｎｉ（１−ｙ−ｚ−ｗ）ＣｏｙＭｎｚＭｗ）１−ｘ］Ｏ２      （１）
（ただし、ＭはＦｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｗ、Ｂ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｇａ及びＶからなる群より選択される１種以上の金属元素であり、−０．１≦ｘ≦０．２、０＜ｙ≦０．４、０≦ｚ≦０．４、０≦ｗ≦０．１を満たす。）
（Ａ）ＢＥＴ比表面積が１ｍ２／ｇ未満である。
（Ｂ）前記二次粒子の平均圧壊強度が１００ＭＰａを超える。
（Ｃ）９０％累積体積粒度Ｄ９０と１０％累積体積粒度Ｄ１０との比率（Ｄ９０／Ｄ１０）が２．０以上である。
【請求項２】
ＣｕＫα線を使用した粉末Ｘ線回折測定において、
２θ＝１８．７±１°の範囲内の回折ピークの半値幅をＡ、２θ＝４４．４±１°の範囲内の回折ピークの半値幅をＢとしたとき、Ａ／Ｂが０．９以下である請求項１に記載のリチウム金属複合酸化物粉末の製造方法。
【請求項３】
ＣｕＫα線を使用した粉末Ｘ線回折測定において、
２θ＝１８．７±１°の範囲内の回折ピークの結晶子径をＬａ、２θ＝４４．４±１°の範囲内の回折ピークの結晶子径をＬｂとしたとき、Ｌａ／Ｌｂが１を超える請求項１または２に記載のリチウム金属複合酸化物粉末の製造方法。
【請求項４】
前記組成式（１）において、０＜ｘ≦０．２である請求項１〜３のいずれか１項に記載のリチウム金属複合酸化物粉末の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月31日(2019.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ダウンドロー法を用いたガラス物品の製造方法であって、
成形体で成形されたガラスリボンを上下複数段のアニーラローラで挟持した状態で下方に搬送しながら徐冷する生産工程と、前記生産工程の前に、前記成形体から流下させたガラスを前記アニーラローラで順に挟持し、前記ガラスリボンの形状に近づける準備工程とを備え、
前記アニーラローラは、前記生産工程で前記ガラスリボンの歪点超となる第一温度領域に配置された第一ローラと、前記生産工程で前記ガラスリボンの歪点以下となる第二温度領域に配置された第二ローラとを備え、
前記第二ローラは、前記生産工程における内部冷却温度が前記準備工程における内部冷却温度よりも高いことを特徴とするガラス物品の製造方法。
【請求項２】
前記生産工程で、前記第一ローラの内部冷却温度が、前記第二ローラの内部冷却温度よりも低いことを特徴とする請求項１に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項３】
前記第一ローラは、内部に冷却流体を流通可能な通路を有する第一軸部と、前記第一軸部に設けられた第一ローラ本体とを備えており、
前記第二ローラは、内部に冷却流体を流通可能な通路を有する第二軸部と、前記第二軸部に設けられた第二ローラ本体とを備えていることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項４】
前記準備工程と前記生産工程で、前記第二軸部に対する前記冷却流体の供給流量を変えることで、前記第二ローラの内部冷却温度を調整することを特徴とする請求項３に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項５】
前記生産工程で、前記第二軸部に対する前記冷却流体の供給を停止することを特徴とする請求項３又は４に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項６】
前記第二軸部は、両持ち支持された金属製であり、
前記第二ローラ本体は、前記第二軸部の軸方向両側にそれぞれ設けられており、
前記第二軸部は、前記第二軸部の軸方向における前記第二ローラ本体間に金属露出部を有することを特徴とする請求項３〜５にいずれか１項に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項７】
前記第二軸部は、片持ち支持された金属製であり、
前記第二ローラ本体は、前記第二軸部の軸方向片側に設けられていることを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項８】
前記準備工程は、前記ガラスの厚み及び反りの向きを調整する調整工程を備えており、前記調整工程の後に、前記第二ローラの内部冷却温度を、前記準備工程における内部冷却温度から前記生産工程における内部冷却温度に切り替えることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項９】
前記生産工程で前記ガラスリボンの状態を検出するとともに、その検出結果に基づいて前記ガラスリボンの生産不良が検出された時に、前記第二ローラの内部冷却温度を、前記生産工程における内部冷却温度から前記準備工程における内部冷却温度に切り替えることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のガラス物品の製造方法。
【請求項１０】
前記生産工程で徐冷後の前記ガラスリボンをロール状に巻き取ることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載のガラス物品の製造方法。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記の構成において、生産工程でガラスリボンの状態を検出するとともに、その検出結果に基づいてガラスリボンの生産不良が検出された時に、第二ローラの内部冷却温度を、生産工程における内部冷却温度から準備工程における内部冷却温度に切り替えてもよい。このようにすれば、生産工程でガラスリボンの生産不良が生じた時に、第二ローラの内部冷却温度を準備工程における内部冷却温度に自動的に切り替えることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月13日(2019.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾性波素子であって、
第１成分φが１０°≦φ≦５０°を満たし、第２成分θが−９０°−０．５×（−０．２２３４ρＭ２＋６．９１１９ρＭ−８．９２８）°≦θ≦−９０°＋０．５×（−０．２２３４ρＭ２＋６．９１１９ρＭ−８．９２８）°を満たすオイラー角（φ，θ，ψ）を有するタンタル酸リチウム基板と、
前記タンタル酸リチウム基板の上に設けられて波長λの主要弾性波を励振させる電極と
を含み、
ここでρＭは前記電極の密度を表し、
前記電極の密度ρＭは、ρＴｉがチタン（Ｔｉ）の密度を表す場合にρＭ≧ρＴｉを満たし、
前記電極の厚さｈＭは、０．１４１×ｅｘｐ（−０．０７５ρＭ）λ≦ｈＭ≦０．１３４λを満たす弾性波素子。
【請求項２】
前記タンタル酸リチウム基板とは逆の温度係数を有する絶縁層をさらに含み、
前記絶縁層は、前記タンタル酸リチウム基板及び前記電極を覆う請求項１の弾性波素子。
【請求項３】
前記絶縁層は二酸化ケイ素から作られる請求項２の弾性波素子。
【請求項４】
前記絶縁層は、０．０８λ≦ｈＳ≦０．５５λを満たす厚さｈＳを有する請求項３の弾性波素子。
【請求項５】
前記絶縁層は、前記電極の電極指の延伸方向と直交する方向の断面において前記電極の上方に設けられた突起を含む請求項２の弾性波素子。
【請求項６】
前記突起の高さｈＴ及び前記電極の厚さｈＭは０≦ｈＴ≦ｈＭを満たす請求項５の弾性波素子。
【請求項７】
第３成分ψが（−３７１．８１ｈＳ２＋３６．９２ｈＳ＋３．５３）°≦ψ≦（−３７１．８１ｈＳ２＋３６．９２ｈＳ＋１３．５３）°を満たす請求項２の弾性波素子。
【請求項８】
アンテナデュプレクサであって、
第１周波数を通過させるべく構成された受信フィルタと、
第２周波数を通過させるべく構成された送信フィルタと
を含み、
前記受信フィルタ及び前記送信フィルタの少なくとも一方が請求項１の弾性波素子を含むアンテナデュプレクサ。
【請求項９】
ダイプレクサであって、
第１周波数帯域を受信するべく構成された第１受信フィルタと、
前記第１周波数帯域とは異なる第２周波数帯域を受信するべく構成された第２受信フィルタと
を含み、
前記第１受信フィルタ及び前記第２受信フィルタの少なくとも一方が請求項１の弾性波素子を含むダイプレクサ。
【請求項１０】
請求項８のアンテナデュプレクサ及び請求項９のダイプレクサの一方を含む通信機器。
【請求項１１】
前記通信機器は携帯電話である請求項１０の通信機器。
【請求項１２】
前記電極は、インターディジタル電極指を有するＩＤＴ電極である請求項１の弾性波素子。
【請求項１３】
前記ＩＤＴ電極は、チタン、モリブデン、タングステン及び白金からなる群から選択された一つの金属を含む請求項１２の弾性波素子。
【請求項１４】
前記ＩＤＴ電極の上にアルミニウム層が設けられる請求項１３の弾性波素子。
【請求項１５】
前記ＩＤＴ電極の厚さｈＭは、前記ＩＤＴ電極の厚さ及び前記アルミニウム層の厚さを含む請求項１４の弾性波素子。
【請求項１６】
第２成分θが−１１１°≦θ≦−６９°を満たす請求項１３の弾性波素子。
【請求項１７】
前記ＩＤＴ電極はタングステンを含む請求項１６の弾性波素子。
【請求項１８】
第３成分ψが−１６°≦ψ≦−２．５°を満たす請求項１の弾性波素子。
【請求項１９】
弾性波素子であって、
第１成分φが１０°≦φ≦５０°を満たし、第３成分ψが−１６°≦ψ≦−２．５°を満たすオイラー角（φ，θ，ψ）を有するタンタル酸リチウム基板と、
前記タンタル酸リチウム基板の上に設けられて波長λの主要弾性波を励振させる電極と
を含み、
前記電極は、ρＴｉがチタン（Ｔｉ）の密度を表す場合にρＭ≧ρＴｉを満たす密度ρＭを有し、
前記電極の厚さｈＭは、０．１４１×ｅｘｐ（−０．０７５ρＭ）λ≦ｈＭ≦０．１３４λを満たす弾性波素子。
【請求項２０】
前記タンタル酸リチウム基板とは逆の温度係数を有する絶縁層をさらに含み、
前記絶縁層は、前記タンタル酸リチウム基板及び前記電極を覆う請求項１９の弾性波素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１４】
2016171571.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月27日(2019.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極と、
前記一対の電極間に配置された有機光電変換層と、
前記一対の電極の少なくとも一方と前記有機光電変換層との間に設けられたバッファ層と、を備え、
前記有機光電変換層は、分子内に電子供与性分子構造と電子受容性分子構造の両方を含む共役系高分子の電子供与性材料と、電子受容体性材料と、を用いて形成され、
前記バッファ層は、金属酸化物から形成され、且つ熱処理によって形成された変質部を有することを特徴とする有機光電変換デバイス。
【請求項２】
前記バッファ層は、酸化モリブデン（ＭｏＯｘ）であり、
前記変質部は、前記光電変換層の形成前、かつ、１４０〜２００℃の範囲での熱処理によって形成されたことを特徴とする請求項１に記載の有機光電変換デバイス。
【請求項３】
一対の電極と、
前記一対の電極間に配置された有機光電変換層と、
前記一対の電極の少なくとも一方と前記有機光電変換層との間に設けられたバッファ層と、を備え、
前記有機光電変換層は、分子内に電子供与性分子構造と電子受容性分子構造の両方を含む共役系高分子の電子供与性材料と、電子受容体性材料と、を用いて形成され、
前記バッファ層の表層部は、ｘの値が２．９３以上の酸化モリブデン（ＭｏＯｘ）であることを特徴とする有機光電変換デバイス。
【請求項４】
前記バッファ層の表層部は、Ｍｏ５＋／Ｍｏ６＋の値の前記バッファ層の膜厚方向での変化率が３倍以下であることを特徴とする請求項３に記載の有機光電変換デバイス。
【請求項５】
前記バッファ層の表層部は、Ｍｏ５＋／Ｍｏ６＋の値が０．１３以下、かつ、ＭｏＯｘのｘの値の前記バッファ層の膜厚方向での増減が０．０５以下であることを特徴とする請求項３または４に記載の有機光電変換デバイス。
【請求項６】
前記バッファ層の表層部は、その厚さが１０ｎｍ以下、表面の二乗平均平方根粗さ（ＲＭＳ）が２ｎｍ〜５ｎｍ、かつ、波長５５０ｎｍ〜９００ｎｍの光の透過率の平均値が９２％以下であることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載の有機光電変換デバイス。
【請求項７】
前記バッファ層の表層部は、入射角度６０度以上でのX線測定におけるX線の侵入深さに当たる部分であることを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載の有機光電変換デバイス。
【請求項８】
前記電子供与性材料は、ベンゾジチオフェン、チエノチオフェン、ベンゾチアジアゾール、シクロペンタジチオフェン、カルバゾールのいずれかの分子構造のうち、少なくとも一つを分子内に含む共役系高分子であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の有機光電変換デバイス。
【請求項９】
前記有機光電変換層は、ＰＣＰＤＴＢＴ、ＰＣＤＴＢＴ、ＰＢＤＴＴＴ−ＥＦ、ＰＢＤＴＴＴ−ＥＦＴ、ＰＦＦＢＴ４Ｔ−２０Ｄのいずれか一つの電子供与性材料を用いて形成されたことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の有機光電変換デバイス。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の有機光電変換デバイスを備えたことを特徴とする太陽電池。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月21日(2019.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光素子、発光装置、表示装置、電子機器および照明装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蛍光発光材料と、ホスト材料と、を有し、
前記ホスト材料は、第１の有機化合物と、第２の有機化合物と、を有し、
前記第１の有機化合物と前記第２の有機化合物とは、励起錯体を形成しうる組み合わせであり、
前記励起錯体が呈する発光は、遅延蛍光成分の占める割合が５％以上であり、
前記遅延蛍光成分は、蛍光寿命が１０ｎｓ以上５０μｓ以下の遅延蛍光成分を有する、発光素子。
【請求項２】
請求項１において、
前記励起錯体は、前記蛍光発光材料へ励起エネルギーを供与する機能を有する、発光素子。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記励起錯体の発光スペクトルは、前記蛍光発光材料の吸収スペクトルの最も低いエネルギー側の吸収帯と重なりを有する、発光素子。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記蛍光発光材料からの発光が得られる、発光素子。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第１の有機化合物または前記第２の有機化合物の一方は、電子を輸送する機能を有し、
前記第１の有機化合物または前記第２の有機化合物の他方は、正孔を輸送する機能を有する、発光素子。
【請求項６】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記第１の有機化合物または前記第２の有機化合物の一方は、π電子不足型複素芳香環骨格を有し、
前記第１の有機化合物または前記第２の有機化合物の他方は、π電子過剰型複素芳香環骨格または芳香族アミン骨格を有する、発光素子。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の発光素子と、基板と、を有する発光装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の発光素子と、カラーフィルタまたはトランジスタの少なくとも一方と、を有する表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載の表示装置と、筐体またはタッチセンサの少なくとも一方と、を有する電子機器。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の発光素子と、筐体またはタッチセンサの少なくとも一方と、を有する照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月28日(2019.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の半導体層と、
前記第１の半導体層上に第１のゲート絶縁膜と、
前記第１のゲート絶縁膜上に第１のゲート電極と、
前記第１のゲート電極上及び前記第１のゲート絶縁膜と接する第２の半導体層と、
前記第２の半導体層上に導電層と、
前記第２の半導体層及び前記導電層を覆う第２のゲート絶縁膜と、
前記第２のゲート絶縁膜を介して前記第２の半導体層の側面の少なくとも一部を覆う第２のゲート電極と、を有し、
前記第２の半導体層の端部と前記導電層の端部が概略一致することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
第１の半導体層と、
前記第１の半導体層上に一対の電極と、
前記一対の電極上には開口部を有する層間膜と、
前記開口部を介して前記第１の半導体層の上面に接する第１のゲート絶縁膜と、
前記第１のゲート絶縁膜上に第１のゲート電極と、
前記第１のゲート電極上及び前記第１のゲート絶縁膜と接する第２の半導体層と、
前記第２の半導体層上に導電層と、
前記第２の半導体層及び前記導電層を覆う第２のゲート絶縁膜と、
前記第２のゲート絶縁膜を介して前記第２の半導体層の側面の少なくとも一部を覆う第２のゲート電極と、を有し、
前記層間膜の上面、前記第１のゲート絶縁膜の上面、及び前記第１のゲート電極の上面が概略一致し、
前記第２の半導体層の端部と前記導電層の端部が概略一致することを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
第１の半導体層と、
前記第１の半導体層上に第１のゲート絶縁膜と、
前記第１のゲート絶縁膜上に第１のゲート電極と、
前記第１のゲート電極上及び前記第１のゲート絶縁膜と接する第２の半導体層と、
前記第２の半導体層上に導電層と、
前記第１のゲート電極、前記第２の半導体層、及び前記導電層を覆う第２のゲート絶縁膜と、
前記第２のゲート絶縁膜を介して前記第２の半導体層の側面の少なくとも一部を覆う第２のゲート電極と、を有し、
前記第１のゲート電極の端部、前記第２の半導体層の端部、及び前記導電層の端部が概略一致することを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第１の半導体層及び前記第２の半導体層は酸化物半導体層であることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記酸化物半導体層はｃ軸配向性を有する結晶を有することを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月12日(2019.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷却水の流れる冷却水流路（７３）を有し、所定の隙間を有して積層して配置される複数の冷却プレート（７０）と、
積層された複数の前記冷却プレートの周囲に設けられ、過給気が流入する流入側開口部（５１２）、及び過給気が流出する流出側開口部（５１３）を有するダクトプレート（５０）と、
前記ダクトプレート及び前記冷却プレートに接合され、前記ダクトプレートと前記冷却プレートとの間の隙間への過給気の流入を妨げるスペーサプレート（９０）と、を備え、
前記冷却プレートは、
隣り合う前記冷却プレートに接合されることにより２つの前記冷却プレートのそれぞれの前記冷却水流路を連通させるカップ部（７２０，７２２）を有し、
前記冷却水流路は、
前記カップ部から前記過給気の流れ方向に直交する方向に延びるように形成される流路部分（７３０，７３１）を有し、
前記カップ部は、
前記流路部分における冷却水の流れ方向に直交する方向を流路幅方向とするとき、前記流路部分の流路幅方向の中心よりも前記過給気の流れ方向にずれた位置に中心軸を有するように筒状に形成されている
熱交換器。
【請求項２】
前記流路部分は、
前記ダクトプレートの前記流入側開口部よりも前記流出側開口部に近い位置に配置される第１流路部分（７３０）と、
前記ダクトプレートの前記流出側開口部よりも前記流入側開口部に近い位置に配置される第２流路部分（７３１）と、からなり、
前記カップ部は、
前記第１流路部分に冷却水を流入させる流入側カップ部（７２２）と、
前記第２流路部分を流れた冷却水を流出させる流出側カップ部（７２０）と、からなり、
少なくとも前記流出側カップ部（７２０）は、
前記第２流路部分の流路幅方向の中心よりも前記過給気の流れ方向の下流側にずれた位置に中心軸を有するように筒状に形成されている
請求項１に記載の熱交換器。
【請求項３】
前記流入側カップ部は、
前記第１流路部分の流路幅方向の中心よりも前記過給気の流れ方向の上流側にずれた位置に中心軸を有するように筒状に形成されている
請求項２に記載の熱交換器。
【請求項４】
前記ダクトプレートは、ダクトプレートアッパ（５１ａ）及びダクトプレートロア（５１ｂ）により構成され、
前記流入側開口部にかしめられ、過給気を前記ダクトプレートの内部に導く流入側タンク（３０）が固定される流入側かしめプレート（５２）と、
前記流出側開口部にかしめられ、前記ダクトプレートの内部を通過した過給気を流出させる流出側タンク（３１）が固定される流出側かしめプレート（５３）と、を更に備える
請求項１〜３のいずれか一項に記載の熱交換器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決する熱交換器（１３）は、複数の冷却プレート（７０）と、ダクトプレート（５０）と、スペーサプレート（９０）と、を備える。複数の冷却プレートは、冷却水の流れる冷却水流路（７３）を有し、所定の隙間を有して積層して配置される。ダクトプレートは、積層された複数の冷却プレートの周囲に設けられ、過給気が流入する流入側開口部（５１２）、及び過給気が流出する流出側開口部（５１３）を有する。スペーサプレートは、ダクトプレート及び冷却プレートに接合され、ダクトプレートと冷却プレートとの間の隙間への過給気の流入を妨げる。冷却プレートは、隣り合う冷却プレートに接合されることにより２つの冷却プレートのそれぞれの冷却水流路を連通させるカップ部（７２０，７２２）を有する。冷却水流路は、カップ部から過給気の流れ方向に直交する方向に延びるように形成される流路部分（７３０，７３１）を有する。カップ部は、流路部分における冷却水の流れ方向に直交する方向を流路幅方向とするとき、流路部分の流路幅方向の中心よりも過給気の流れ方向にずれた位置に中心軸を有するように筒状に形成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月1日(2019.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
台座部と、当該台座部から鉛直方向に延在する突起部と、前記台座部と前記突起部との接続部分を跨ぐように形成され、前記突起部の正面視に対して水平面内で垂直な方向から視たときに、前記台座部から遠ざかるにつれて、表面から前記突起部までの距離が徐々に短くなるように形成された飛び出し部と、を有する被取り付け部品と、
前記突起部と前記飛び出し部との双方を挿入可能な孔部を有する取り付け部品と、
を具備し、
前記孔部は、前記突起部及び前記飛び出し部を前記孔部に挿入した際、前記飛び出し部の表面が接触する第一内壁部と、前記突起部の、前記飛び出し部が形成された側とは反対側の表面が接触する第二内壁部と、を有し、
前記飛び出し部と前記第一内壁部とのうちの少なくとも一方は金属により構成され、
前記突起部及び前記飛び出し部が前記孔部に挿入されることで、前記取り付け部品が前記被取り付け部品に取り付けられた取り付け構造を有することを特徴とする、空気調和機。
【請求項２】
前記台座部及び前記突起部は板状部材によって一体に構成され、
前記孔部は、板状部材に対して形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の空気調和機。
【請求項３】
前記孔部は、ねじを挿入可能な円形部を備え、
前記突起部を前記孔部に挿入した際、前記飛び出し部の表面が前記第一内壁部としての前記円形部の内壁に接触するとともに、前記突起部の、前記飛び出し部が形成された側とは反対側の表面が前記第二内壁部に接触することを特徴とする、請求項１又は２に記載の空気調和機。
【請求項４】
前記飛び出し部は、前記突起部を正面に視たときに、鉛直上方向に向かって窄まるように形成されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の空気調和機。
【請求項５】
前記被取り付け部品は、前記空気調和機の内部の空間を仕切る仕切り板であり、前記台座部、前記突起部及び前記飛び出し部は当該仕切り板に形成され、
前記取り付け部品は、前記空気調和機を制御する電気部品を収容した電気箱であり、前記孔部は前記電気箱に形成されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の空気調和機。
【請求項６】
筐体を備え、前記取り付け部品及び前記被取り付け部品は前記筐体の内部に収容され、
前記筐体には、前記取り付け部品を前記筐体の外部からねじ止め可能な第一ねじ穴が形成され、
前記取り付け部品には、当該第一ねじ穴を通じて前記筐体の外部からねじ止め可能な第二ねじ穴が形成され、
前記取り付け部品が前記被取り付け部品に取り付けられた状態で、前記第一ねじ穴を通じて前記第二ねじ穴にねじ止めされることで、前記筐体の外部から前記取り付け部品が前記筐体の内部に固定されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の空気調和機。
【請求項７】
前記突起部の鉛直方向の長さは、前記孔部に前記突起部が挿入されていないときに前記第一ねじ穴と前記第二ねじ穴とが重ならない長さであることを特徴とする、請求項６に記載の空気調和機。
【請求項８】
天板を備え、
前記取り付け部品が前記被取り付け部品に取り付けられたときに、前記取り付け部品と
前記天板との間には前記取り付け部品を固定するクッション材が配置されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の空気調和機。
【請求項９】
前記孔部の前記台座部側の開口端が前記飛び出し部の前記表面に食い込んだ状態で、前記突起部及び前記飛び出し部が前記孔部に挿入されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の空気調和機。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月10日(2019.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のオブジェクトが配置される仮想空間の設定処理を行う仮想空間設定部と、
頭部装着型表示装置を装着するユーザの視点に対応する仮想カメラの制御処理を行う仮想カメラ制御部と、
前記頭部装着型表示装置の表示画像として、前記仮想空間において前記仮想カメラから見える画像を生成する表示処理部と、
を含み、
前記仮想空間設定部は、
前記ユーザの視点変化に追従するように制御される少なくとも１つの情報表示物を前記仮想空間に配置し、
前記情報表示物毎に、前記情報表示物により提示される情報の重要度がどの程度なのかを示す重要度情報が関連づけられており、
前記表示処理部は、
前記情報表示物と前記仮想空間のオブジェクトとが所与の位置関係になった場合に、前記情報表示物に関連づけられた前記重要度情報を用いて、前記情報表示物又は前記オブジェクトの表示態様の変更処理を行うことを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項２】
請求項１において、
前記情報表示物に対して前記重要度情報が関連づけられて記憶される記憶部を含み、
前記表示処理部は、
前記記憶部において前記情報表示物に関連づけられた前記重要度情報を用いて、前記表示態様の変更処理を行うことを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記表示処理部は、
前記情報表示物に対して重要度が高いことを示す前記重要度情報が関連づけられている場合には、前記オブジェクトの方の表示態様を変更し、前記情報表示物に対して重要度が低いことを示す前記重要度情報が関連づけられている場合には、前記情報表示物の方の表示態様を変更することを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかにおいて、
前記表示処理部は、
前記情報表示物が表示されてからの経過時間に応じた前記表示態様の変更処理を行うことを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかにおいて、
前記表示処理部は、
前記表示態様の変更処理として、
前記情報表示物又は前記オブジェクトの消去処理、前記情報表示物又は前記オブジェクトの半透明化処理、前記ユーザの視線方向への前記情報表示物の追従の解除処理、前記情報表示物又は前記オブジェクトの移動処理、前記情報表示物又は前記オブジェクトのサイズ変更処理、或いは前記情報表示物又は前記オブジェクトの色情報変更処理を行うことを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかにおいて、
前記情報表示物は、説明表示のための表示物、ステータス表示のための表示物、会話表示のための表示物、コマンド選択のための表示物、又はメニュー表示のための表示物であることを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかにおいて、
前記オブジェクトは、ゲームに登場する移動体、固定物、アイテム、又は背景のオブジェクトであることを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかにおいて、
前記情報表示物と前記オブジェクトの位置関係を判定する判定部を含み、
前記表示処理部は、
前記判定部により前記情報表示物と前記オブジェクトとが前記所与の位置関係になったと判定された場合に、前記表示態様の変更処理を行うことを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項９】
請求項８において、
前記表示処理部は、
前記判定部により前記情報表示物と前記オブジェクトとが衝突の位置関係又は接近の位置関係になったと判定された場合に、前記表示態様の変更処理を行うことを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項１０】
請求項８又は９において、
前記判定部は、
前記情報表示物と前記オブジェクトの３次元座標値、前記情報表示物と前記オブジェクトの奥行き値、又は前記情報表示物と前記オブジェクトを平面に投影した場合の２次元座標値に基づいて、前記位置関係を判定することを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれかにおいて、
前記仮想空間設定部は、
前記ユーザの視線方向での所与の奥行き位置に、前記ユーザの視点変化に追従するように前記情報表示物を配置することを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれかにおいて、
前記仮想カメラ制御部は、
前記ユーザの視点情報のトラッキング情報に基づいて、前記ユーザの視点変化に追従するように前記仮想カメラを制御することを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれかにおいて、
ゲーム処理を行うゲーム処理部を含み、
前記ゲーム処理部は、
前記ユーザのゲームプレイの対象となるキャラクタの情報と前記ユーザの視点情報との応じたコマンドの効果を、発動させる処理を行うことを特徴とするシミュレーションシステム。
【請求項１４】
複数のオブジェクトが配置される仮想空間の設定処理を行う仮想空間設定部と、
頭部装着型表示装置を装着するユーザの視点に対応する仮想カメラの制御処理を行う仮想カメラ制御部と、
前記頭部装着型表示装置の表示画像として、前記仮想空間において前記仮想カメラから見える画像を生成する表示処理部として、
コンピュータを機能させ、
前記仮想空間設定部は、
前記ユーザの視点変化に追従するように制御される少なくとも１つの情報表示物を前記仮想空間に配置し、
前記情報表示物毎に、前記情報表示物により提示される情報の重要度がどの程度なのかを示す重要度情報が関連づけられており、
前記表示処理部は、
前記情報表示物と前記仮想空間のオブジェクトとが所与の位置関係になった場合に、前記情報表示物に関連づけられた前記重要度情報を用いて、前記情報表示物又は前記オブジェクトの表示態様の変更処理を行うことを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月17日(2019.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動取引ユニットと、
前記自動取引ユニットを収容し、前記自動取引ユニットへのアクセスを可能とする開閉部を有する筐体と、
前記筐体の前記開閉部を電気的に施錠及び開錠する筐体電気錠と、
前記自動取引ユニットにアクセスして自動取引装置の作業を行う作業者に対応するカード又は携帯端末から前記作業者に関する情報を取得するカードリーダと、
複数の認証条件の中から前記作業に応じた認証条件を選択し、当該選択した認証条件によって前記作業者を認証する認証部と、を有し、
前記筐体電気錠は、前記認証部によって前記作業者が認証されたときに前記筐体の前記開閉部を開錠することを特徴とする自動取引装置。
【請求項２】
前記認証部は、前記作業が前記自動取引装置を監視する監視端末からの許可を認証条件とする作業であるか否かの判定を行い、前記作業が前記監視端末の許可を認証条件とする作業であると判定した場合、前記監視端末から前記作業を許可することを示す信号を受信して前記作業者の認証を完了することを特徴とする請求項１に記載の自動取引装置。
【請求項３】
前記筐体の前記開閉部を機械鍵によって機械的に施錠及び開錠する筐体機械錠を有し、
前記認証部は、前記カード又は携帯端末による前記作業者の認証を行う第１のモードと、前記カード又は携帯端末による前記作業者の認証を停止する第２のモードとを切替えるモード切替部を有し、
前記筐体電気錠は、前記第２のモードにおいては常に前記筐体の前記開閉部を開錠することを特徴とする請求項１又は２に記載の自動取引装置。
【請求項４】
現金を収納する現金収納ユニットを有するユニットと、
前記ユニットを収容し、前記ユニットへのアクセスを可能とする開閉部を有する筐体と、
前記筐体の前記開閉部を電気的に施錠及び開錠する筐体電気錠と、
前記ユニットにアクセスして現金処理装置の作業を行う作業者に対応するカード又は携帯端末から前記作業者に関する情報を取得するカードリーダと、
複数の認証条件の中から前記作業に応じた認証条件を選択し、当該選択した認証条件によって前記作業者を認証する認証部と、を有し、
前記筐体電気錠は、前記認証部によって前記作業者が認証されたときに前記筐体の前記開閉部を開錠することを特徴とする現金処理装置。
【請求項５】
前記認証部は、前記作業が前記現金処理装置を監視する監視端末からの許可を認証条件とする作業であるか否かの判定を行い、前記作業が前記監視端末の許可を認証条件とする作業であると判定した場合、前記監視端末から前記作業を許可することを示す信号を受信して前記作業者の認証を完了することを特徴とする請求項４に記載の現金処理装置。
【請求項６】
前記筐体の前記開閉部を機械鍵によって機械的に施錠及び開錠する筐体機械錠を有し、
前記認証部は、前記カード又は携帯端末による前記作業者の認証を行う第１のモードと、前記カード又は携帯端末による前記作業者の認証を停止する第２のモードとを切替えるモード切替部を有し、
前記筐体電気錠は、前記第２のモードにおいては常に前記筐体の前記開閉部を開錠することを特徴とする請求項４又は５に記載の現金処理装置。
【請求項７】
前記モード切替部は、前記現金処理装置の稼働時刻に応じて前記第１及び第２のモードを切替えることを特徴とする請求項６に記載の現金処理装置。
【請求項８】
前記モード切替部は、外部からの指定によって前記第１及び第２のモードを切替えることを特徴とする請求項６に記載の現金処理装置。
【請求項９】
前記ユニットは、前記現金を収納する前記現金収納ユニットと、前記現金収納ユニットに設けられかつ前記現金収納ユニットに収納された現金にアクセス可能なように開閉する開閉部と、前記現金収納ユニットの前記開閉部を電気的に施錠及び開錠するユニット電気錠とを有し、
前記ユニット電気錠は、前記認証部によって前記作業者が認証されたときに前記現金収納ユニットの前記開閉部を開錠することを特徴とする請求項４又は５に記載の現金処理装置。
【請求項１０】
前記ユニットは、前記現金収納ユニットの前記開閉部を機械鍵によって機械的に施錠及び開錠するユニット機械錠を有することを特徴とする請求項９に記載の現金処理装置。
【請求項１１】
前記カードリーダは、前記カード又は携帯端末が前記作業者にかざされたとき、前記作業者に関する情報を取得することを特徴とする請求項４に記載の現金処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】自動取引装置及び現金処理装置
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月28日(2019.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
製品の製造方法であって、
前記製品を識別するための識別データを記憶するＩＣチップを囲むように樹脂を射出することにより、前記ＩＣチップを埋設した樹脂成形体を成形する第１工程と、
前記樹脂成形体を前記製品の外装部品として、製品本体に取り付ける第２工程と、
前記製品本体に取り付けられた前記樹脂成形体の外表面上に、前記ＩＣチップが無線通信するためのアンテナ配線を印刷する第３工程と、
前記製品の出荷先を示す出荷先情報および前記製品の使用環境を示す環境情報に応じて、前記アンテナ配線のパターンを決定する第４工程とを備え、
前記第３工程において、前記第４工程によって決定されたパターンの前記アンテナ配線を印刷し、
前記第４工程は、
前記環境情報によって示される使用環境に基づいて、前記アンテナ配線の通信条件を設定する第５工程と、
出荷先および通信条件と前記アンテナ配線のパターンとを対応付けた情報に基づいて、前記出荷先情報によって示される出荷先と、前記第５工程において設定された通信条件とに対応する前記アンテナ配線のパターンを選択する第６工程とを含む、製品の製造方法。
【請求項２】
製品の外装部品であって、
樹脂成形体を備え、前記樹脂成形体の表面は、前記外装部品の外表面となる第１面を含み、
前記外装部品は、
前記樹脂成形体に埋設され、前記製品を識別する識別データを記憶するＩＣチップと、
前記第１面の上に形成された、前記ＩＣチップが無線通信するためのアンテナ配線と、
前記ＩＣチップに接続されたＩＣ側アンテナとをさらに備え、
前記ＩＣチップと前記ＩＣ側アンテナとは、一体化されてＩＣモジュールを構成し、
前記樹脂成形体は、前記ＩＣモジュールを埋設し、
前記アンテナ配線は、前記ＩＣ側アンテナと電磁結合するブースターアンテナであり、
前記樹脂成形体の表面は、前記外装部品の内表面となる第２面を含み、
前記第２面は、前記第１面の裏側の面であり、
前記ＩＣモジュールは、前記第２面から露出するように前記樹脂成形体に埋設され、
前記アンテナ配線は、前記ＩＣモジュールに対向するように前記第１面の上に形成される、外装部品。
【請求項３】
製品の外装部品であって、
樹脂成形体を備え、前記樹脂成形体の表面は、前記外装部品の外表面となる第１面を含み、
前記外装部品は、
前記樹脂成形体に埋設され、前記製品を識別する識別データを記憶するＩＣチップと、
前記第１面の上に形成された、前記ＩＣチップが無線通信するためのアンテナ配線と、
前記ＩＣチップに接続されたＩＣ側アンテナとをさらに備え、
前記ＩＣチップと前記ＩＣ側アンテナとは、一体化されてＩＣモジュールを構成し、
前記樹脂成形体は、前記ＩＣモジュールを埋設し、
前記アンテナ配線は、前記ＩＣ側アンテナと電磁結合するブースターアンテナであり、
前記樹脂成形体は、第１樹脂成形部品と第２樹脂成形部品とを含み、
前記第１面は、前記第１樹脂成形部品の外表面の一部であり、
前記第２樹脂成形部品の外表面は、前記第１面と同一平面上にある第２面を含み、
前記ＩＣモジュールは、前記第２樹脂成形部品に埋設され、前記第２面から露出する、、外装部品。
【請求項４】
前記アンテナ配線の上に形成された絶縁膜をさらに備える、請求項２または３に記載の外装部品。
【請求項５】
前記ＩＣチップは、前記第１面から露出し、
前記アンテナ配線は、前記ＩＣチップに電気的に接続される、請求項２から４のいずれか１項に記載の外装部品。
【請求項６】
製品の外装部品におけるアンテナ配線のパターンを選択するアンテナパターン選択装置であって、
前記外装部品は、樹脂成形体を備え、前記樹脂成形体の表面は、前記外装部品の外表面となる第１面を含み、
前記外装部品は、
前記樹脂成形体に埋設され、前記製品を識別する識別データを記憶するＩＣチップと、
前記第１面の上に形成された、前記ＩＣチップが無線通信するための前記アンテナ配線とをさらに備え、
前記アンテナパターン選択装置は、
前記製品の出荷先を示す出荷先情報の入力を受ける第１入力部と、
前記製品の使用環境を示す環境情報の入力を受ける第２入力部と、
前記環境情報によって示される使用環境に基づいて、前記アンテナ配線の通信条件を設定する通信条件設定部と、
出荷先および通信条件と前記アンテナ配線のパターンとを対応付けた情報に基づいて、前記出荷先情報によって示される出荷先と、前記通信条件設定部によって設定された通信条件に対応する前記アンテナ配線のパターンを選択するパターン選択部とを備える、アンテナパターン選択装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
近年、各種製品の寿命もしくは修復履歴の管理、または製品が設置されている環境等の監視の目的で、製品単体毎の識別情報を把握する需要が高まっている。たとえば、生産工場において使用されている装置に内装されている部品の識別情報を把握する需要がある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
（絶縁膜形成工程）
最後に図５（ｂ）に示されるように、アンテナ配線１３を覆うように樹脂成形体１１の面１１ａ上に絶縁膜（レジスト）１４を形成する。これにより、アンテナ配線１３の硫化、酸化または機械的負荷による摩耗を防ぐことができる。絶縁膜１４は、たとえばインクジェット印刷法により、アンテナ配線１３上に選択的に従来公知の紫外線硬化型の樹脂材等を噴射して、硬化することにより形成される。