Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月12日(2019.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
陰極１８は、例えば、光反射性を有する反射電極であり、例えば反射性を有する金属材料を用いて形成された金属電極である。陰極１８の材料としては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム−リチウム合金、マグネシウム−銀合金等が用いられる。なお、陰極１８は、反射電極に限るものではなく、ＩＴＯ膜等の透明電極であってもよい。本実施の形態において、基板１０及び陽極１１が透光性を有し、陰極１８が反射性を有している場合には、有機電界発光素子１は、基板１０側から光が放出するボトムエミッション構造となっている。なお、本実施の形態において、基板１０及び陽極１１が反射性を有し、陰極１８が透光性を有している場合には、有機電界発光素子１は、陰極１８側から光が放出するトップエミッション構造となっている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
ここで、キャリア注入のうち、電子注入に着目すると、発光層に電子を注入する有機層として、低仕事関数の金属を有機材料にドープした電子注入層を用いることが知られている。しかし、そのような電子注入層を用いた場合には、ドープ金属が発光層にまで拡散し、発光効率が低下するおそれがある。この問題に対して、ドープ金属の拡散を抑制する拡散抑制層を設けることが、上記の特許文献１〜３に開示されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
しかし、特許文献１〜３に記載の発明では、拡散抑制層に、各種有機化合物（例えば、クラウンエーテル誘導体）やそれらの金属塩（例えば、フッ化物等）が用いられているので、拡散抑制層そのものが安定性に欠けている。特に、拡散抑制層に、アルカリ金属やアルカリ土類金属を含む有機化合物の塩が用いられている場合には、拡散抑制層内の金属が発光層に拡散しやすい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
バッファ層１９は、発光層１４と拡散抑制層１５とが直接、接するのを防止するための層である。バッファ層１９は、発光層１４と、電子輸送層１６若しくは電子注入層１７との間に配置されており、拡散抑制層１５よりも発光層１４寄りに配置されている。バッファ層１９は、正孔ブロック層としての機能を有していてもよい。バッファ層１９は、例えば、オキサジアゾール誘導体（ＯＸＤ）、トリアゾール誘導体（ＴＡＺ）、フェナンスロリン誘導体（ＢＣＰ、Ｂｐｈｅｎ）などのπ電子系低分子有機材料によって構成されている。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月25日(2019.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の基板処理方法は、酸素含有雰囲気下にて紫外線を照射することにより分解する被処理膜の原料を基板に塗布する工程と、
前記基板に塗布された原料を加熱して被処理膜を形成する工程と、
前記被処理膜が形成された基板を、排気機構を備えた酸素含有雰囲気の処理室内に配置し、前記排気機構による排気が停止された状態にて、当該基板に紫外線を照射して前記被処理膜の一部を除去する工程と、
次いで、前記排気機構により処理室内を排気する工程と、を含むことを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記の基板処理方法は、以下の構成を備えていてもよい。
（ａ）酸素濃度が、空気中の酸素濃度と同等以上の酸素含有気体を前記処理室へ供給して前記酸素含有雰囲気を形成する工程を含み、前記酸素含有雰囲気を形成する工程と、前記被処理膜の一部を除去する工程と、前記処理室内を排気する工程とを繰り返し実行すること。
（ｂ）前記排気機構により処理室内の排気を行う際に、当該処理室の排気を促進するための排気用気体を供給する工程を含み、前記処理室内を排気する工程を実行する際に、前記排気用気体を供給する工程を実行すること。
（ｃ）前記被処理膜の一部を除去する工程の実行中に、前記基板を加熱する工程を含み、前記基板を加熱する工程は、基板の中央部側の温度よりも、当該基板の周縁部側の温度の方が低くなるように行われること。
（ｄ）前記被処理膜の一部を除去する工程は、基板の領域毎に紫外線の照度を設定して行われること。
（ｅ）前記処理室の下面側には開口部が形成され、前記開口部に嵌合し、基板が載置される載置台と、前記基板の受け渡しを行うための受け渡し位置と、前記受け渡し位置の上方側に設けられ、前記処理室の開口部を塞いで処理室内に基板を載置するための処理位置との間で載置台を昇降させる昇降機構と、を用い、前記受け渡し位置にて、少なくとも前記被処理膜の原料が塗布された後の基板を載置台に載置し、当該載置台を処理位置まで上昇させる工程と、被処理膜の一部が除去された後の基板が載置された載置台を処理位置から受け渡し位置まで降下させ、当該基板を搬出する工程と、を含むこと。
（ｆ）前記被処理膜は、炭素化合物を含む有機膜であること。  
（ｇ）前記被処理膜の原料を基板に塗布する工程は、表面にパターンが形成された基板に対して行われ、前記被処理膜の原料を基板に塗布する工程と、前記被処理膜を形成する工程と、前記被処理膜の一部を除去する工程とをそれぞれこの順で複数回行い、少なくとも最後より前に行われる被処理膜の一部を除去する工程において、前記パターンの表面が露出するまで、前記被処理膜の一部を除去すること。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の基板処理装置は、酸素含有雰囲気下にて紫外線を照射することにより分解する被処理膜が形成された基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置された基板が収容される酸素含有雰囲気の処理室と、
前記処理室内の基板に紫外線を照射する紫外線照射部と、
前記処理室内の排気を行う排気機構と、
前記排気機構による排気が停止された状態にて、前記紫外線照射部から基板に紫外線を照射して前記被処理膜の一部を除去するステップと、次いで、前記排気機構により処理室内を排気するステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、排気機構を備えた処理室にて基板に紫外線を照射する際に、前記排気機構による処理室内の排気を停止することにより、気流の影響を抑えて基板面内で均一に被処理膜の一部除去を行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月14日(2019.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バッテリーセルをガイドする２個以上の凸部が形成されている下部板を有するモジュールケース；前記凸部の間に装着されている複数のバッテリーセル；および前記凸部の間の下部板の表面と前記バッテリーセルの間に存在する冷却プレートを含み、
前記冷却プレートと前記下部板の間で前記冷却プレートおよび前記凸部と接触しており、熱伝導度が２Ｗ／ｍＫ以上である樹脂層をさらに含む、バッテリーモジュール。
【請求項２】
下部板は熱伝導度が１０Ｗ／ｍＫ以上である、請求項１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項３】
下部板は水冷システムと熱的に接触している、請求項１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項４】
冷却プレートは熱伝導度が１０Ｗ／ｍＫ以上である、請求項１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項５】
樹脂層は、下部板の全体面積の１０％以上の面積を覆っている、請求項１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項６】
樹脂層は熱伝導度が３Ｗ／ｍＫ以上である、請求項１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項７】
樹脂層は絶縁破壊電圧が１０ｋＶ／ｍｍ以上である、請求項１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項８】
樹脂層は、比重が５以下である、請求項１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項９】
樹脂層は、熱重量分析（ＴＧＡ）で８００℃残量が７０重量％以上である、請求項１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項１０】
樹脂層は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、オレフィン樹脂、ＥＶＡ樹脂またはシリコン樹脂を含む、請求項１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項１１】
樹脂層はフィラーを含む、請求項１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項１２】
フィラーは、セラミック粒子または炭素系フィラーである、請求項１１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項１３】
樹脂層は、揺変性付与剤、希釈剤、分散剤、表面処理剤、難燃剤またはカップリング剤を含む、請求項１に記載のバッテリーモジュール。
【請求項１４】
請求項１に記載されたバッテリーモジュールを２個以上含み、前記２個以上のバッテリーモジュールは互いに電気的に連結されている、バッテリーパック。
【請求項１５】
請求項１に記載されたバッテリーモジュールまたは請求項１４に記載されたバッテリーパックを含む、自動車。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月8日(2019.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
巻線を巻回してなる巻回部を有するコイルと、
前記巻回部の内側に配置される内側コア部および前記巻回部の外側に配置される外側コア部を有する磁性コアと、
前記コイルと前記磁性コアの組合体に係る物理量で、かつ前記コイルへの通電に伴って変化する物理量を測定するセンサと、
前記センサの配線を係止する配線係止部と、を備えるリアクトルであって、
前記配線係止部は、
リアクトルを構成する任意の部材の平面部上に立設され、先端側が屈曲する第一爪部材と、
前記平面部上に立設され、先端側が前記第一爪部材の屈曲方向と逆方向に屈曲する第二爪部材と、
両爪部材の屈曲の内側に形成され、前記配線が配置される配線経路と、を備え、
前記平面部に沿った方向のうち、前記第一爪部材の屈曲方向に沿った方向をＸ方向、前記Ｘ方向に直交する方向をＹ方向とし、前記平面部の鉛直方向をＺ方向としたとき、
前記第二爪部材は、前記第一爪部材から前記Ｘ方向および前記Ｙ方向に離隔した位置に設けられ、
前記Ｙ方向における前記第一爪部材の先端と前記第二爪部材の先端との離隔距離Ｌが、前記配線の直径の１倍超１．５倍以下で、
前記Ｚ方向から前記配線係止部に係止される前記配線を見たときに、前記配線の上部にオーバーラップする前記第一爪部材のオーバーラップ長ｔ１と、前記配線の上部にオーバーラップする前記第二爪部材のオーバーラップ長ｔ２の合計が、前記配線の直径以上である、
リアクトル。
【請求項２】
前記第一爪部材のオーバーラップ長ｔ１、および前記第二爪部材のオーバーラップ長ｔ２は共に、前記配線の半径以上、前記配線の直径以下である請求項１に記載のリアクトル。
【請求項３】
前記第一爪部材は、前記Ｚ方向に延びる第一基部と、前記第一基部の先端から前記Ｘ方向における前記第二爪部材側に延びる第一屈曲端と、を備え、
前記第二爪部材は、前記Ｚ方向に延びる第二基部と、前記第二基部の先端から前記Ｘ方向における前記第一爪部材側に延びる第二屈曲端と、を備える請求項１または請求項２に記載のリアクトル。
【請求項４】
前記第一爪部材は、前記第一基部の側部から前記Ｙ方向における前記第二爪部材から離れる側に延びる第一ガイド壁を備え、
前記第二爪部材は、前記第二基部の側部から前記Ｙ方向における前記第一爪部材から離れる側に延びる第二ガイド壁を備える請求項３に記載のリアクトル。
【請求項５】
前記配線係止部を複数備え、
任意の前記配線係止部における前記配線経路と、他の前記配線係止部における前記配線経路とが非同軸である請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のリアクトル。
【請求項６】
前記巻線の端部に接続される端子金具と、
前記端子金具を外部配線に電気的に接続するブリッジ部材と、
前記端子金具と前記ブリッジ部材とを締結する台座となる端子台と、を備え、
前記端子台に前記配線係止部が形成されている請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のリアクトル。
【請求項７】
前記ブリッジ部材に前記配線係止部が形成されている請求項６に記載のリアクトル。
【請求項８】
前記外側コア部の少なくとも外側面を覆う外側樹脂部を備え、
前記外側樹脂部の一部で前記端子台が形成されている請求項６または請求項７に記載のリアクトル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
＜４＞上記＜３＞のリアクトルの一形態として、
前記第一爪部材は、前記第一基部の側部から前記Ｙ方向における前記第二爪部材から離れる側に延びる第一ガイド壁を備え、
前記第二爪部材は、前記第二基部の側部から前記Ｙ方向における前記第一爪部材から離れる側に延びる第二ガイド壁を備える形態を挙げることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
端子台は比較的大きく、配線係止部を設けるのに十分な平面部を確保し易いため、配線係止部を形成することに好適である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
ブリッジ部材も比較的大きく、配線係止部を設けるのに十分な平面部を確保し易いため、配線係止部を形成することに好適である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
１  リアクトル
１０  組合体
２  コイル  ２ｗ  巻線  ２ｃ  巻回部    ２ｊ  接合部
２０  端子金具
２１  端子部    ２２  接続部
３  磁性コア
３１  内側コア部  ３１ｍ  内コア片  ３２  外側コア部
３２ｉ  内側面    ３２ｏ  外側面
４  モールド樹脂部
４１  内側樹脂部    ４２  外側樹脂部  ４３  固定部  ４３ｃ  カラー
５  絶縁介在部材
５１  内側介在部材  ５１０  当て止め部
５２  端面介在部材  ５２ｈ    樹脂充填孔
６  端子台
６０  平面部  ６１  ナット    ６２  仕切り部
７，７Ａ，７Ｂ  配線係止部
７０  配線経路
７１  第一爪部材
７１ｂ  第一基部  ７１ｔ  第一屈曲端  ７１ｗ  第一ガイド壁
７２  第二爪部材
７２ｂ  第二基部  ７２ｔ  第二屈曲端  ７２ｗ  第二ガイド壁
８  センサ
８０  センサホルダ    ８１  配線
９  ブリッジ部材
９０  平面部  ９１  端子  ９２  端子モールド部
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月27日(2019.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
ＥＣＵ４０，４１は、通信バス４２を介して相互に通信する。更に、ＥＣＵ４０，４１夫々は、中継装置２を介して、ＥＣＵ５０，５１と通信する。同様に、ＥＣＵ５０，５１は、通信バス５２を介して相互に通信する。更に、ＥＣＵ５０，５１夫々は、中継装置２を介して、ＥＣＵ４０，４１と通信する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
第１中継処理は、ＥＣＵ中継機２０の入出力部６１から入出力部７１に入力されたデータの中継に関する処理である。第２中継処理は、通信部７４，７５中の１つが受信したデータの中継に関する処理である。保存処理は、ＥＣＵ中継機２０の入出力部６１からバス中継機２１の入出力部７１に入力された保存データを保存する処理である。監視処理は、ＥＣＵ中継機２０の記憶部６３に記憶されているカウンタ値情報が示すイエロー値及びレッド値、即ち、送受信部６０ａ，６０ｂ，６０ｃが行うデータの受信の状態を監視する処理である。コンピュータプログラムＰ１は、第１中継処理、第２中継処理、保存処理及び監視処理を制御部７０が実行するために用いられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
制御部７０は、ステップＳ１を実行した後、入出力部７２にカウンタ値信号が入力されたか否かを判定する（ステップＳ２）。制御部７０は、入出力部７２にカウンタ値信号が入力されていないと判定した場合（Ｓ２：ＮＯ）、ステップＳ２を再び実行し、入出力部７２にカウンタ値信号が入力されるまで待機する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１５】
前述したように、送受信部６０ａ，６０ｂ，６０ｃ夫々が受信したデータの中で、中継設定が「禁止」であるデータについては、Ｎ個のデータを受信する都度、受信したＮ個のデータ中の１つが、保存データとして、ＥＣＵ中継機２０の入出力部６１からバス中継機２１の入出力部７１に出力される。バス中継機２１の制御部７０は、入出力部７１に入力された保存データを記憶部７３に保存する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１６】
例えば、送受信部６０ａが受信したデータについて、中継設定が「禁止」である場合、送受信部６０ａがＮ個のデータを受信する都度、送受信部６０ａが受信したＮ個のデータ中の１つが、保存データとして、ＥＣＵ中継機２０の入出力部６１からバス中継機２１の入出力部７１に出力される。バス中継機２１の制御部７０は、入出力部７１に入力された保存データを記憶部７３に保存する。記憶部７３に保存されたデータは、例えば、ＤｏＳ攻撃を解析するために用いられる。記憶部７３に保存されたデータは、例えば、図示しない無線器によって、車両の外側に設置されたサーバに無線で送信される。制御部７０は保存部としても機能する。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月30日(2019.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウム酸素電池と、
前記リチウム酸素電池を密閉する密閉ケースと、
前記密閉ケースに連結され、前記リチウム酸素電池から放出された酸素を圧縮する酸素圧縮部と、
前記酸素圧縮部によって圧縮された酸素を貯蔵する貯蔵部と、
前記密閉ケースに連結され、前記貯蔵部に貯蔵されている酸素を前記リチウム酸素電池に供給する酸素供給部と、
前記密閉ケース内の温度を測定する温度測定部と、
前記密閉ケース内の温度を予め定められた範囲内に維持する温度調整部と
を備え、
前記温度調整部は、前記酸素供給部から前記密閉ケースに供給される酸素を加熱することによって、前記密閉ケース内の温度を調整する、電池システム。
【請求項２】
リチウム酸素電池と、
前記リチウム酸素電池を密閉する密閉ケースと、
前記密閉ケースに連結され、前記リチウム酸素電池から放出された酸素を圧縮する酸素圧縮部と、
前記酸素圧縮部によって圧縮された酸素を貯蔵する貯蔵部と、
前記密閉ケースに連結され、前記貯蔵部に貯蔵されている酸素を前記リチウム酸素電池に供給する酸素供給部と、
前記密閉ケース内の温度を測定する温度測定部と、
前記密閉ケース内の温度を予め定められた範囲内に維持する温度調整部と
を備え、
前記温度調整部は、前記密閉ケース内に設置されたヒータによって前記密閉ケース内を加熱することによって、前記密閉ケース内の温度を調整する、電池システム。
【請求項３】
前記酸素供給部は、前記貯蔵部に貯蔵されている酸素を前記密閉ケースに供給し、
前記電池システムは、
前記密閉ケース内に配置され、前記酸素供給部によって供給された酸素を前記リチウム酸素電池に対して送風する送風ファン
をさらに備える、請求項１又は２に記載の電池システム。
【請求項４】
前記密閉ケースの内圧を測定する内圧測定部と、
前記密閉ケースの内圧を予め定められた範囲内に維持する内圧調整部と
を備える請求項１から３のいずれか一項に記載の電池システム。
【請求項５】
前記内圧調整部は、前記密閉ケースの内圧が予め定められた閾値より高い場合、前記酸素圧縮部に前記密閉ケース内の酸素を圧縮させ、前記密閉ケースの内圧が予め定められた閾値より低い場合、前記酸素供給部に前記貯蔵部に貯蔵されている酸素を前記密閉ケースに対して供給させる、請求項４に記載の電池システム。
【請求項６】
前記酸素供給部はコンプレッサであり、
前記内圧調整部は、前記コンプレッサの回転数を調整することにより、前記密閉ケースの内圧を維持する、請求項４又は５に記載の電池システム。
【請求項７】
前記内圧調整部は、前記貯蔵部に貯蔵されている酸素の、前記密閉ケースへの供給量を調整する弁を制御することによって、前記密閉ケースの内圧を維持する、請求項４又は５に記載の電池システム。
【請求項８】
前記密閉ケースは、保温効果を有する、請求項１から７のいずれか一項に記載の電池システム。
【請求項９】
前記密閉ケースは、断熱材を有する、請求項８に記載の電池システム。
【請求項１０】
リチウム酸素電池と、
前記リチウム酸素電池を密閉する密閉ケースと、
前記密閉ケースに連結され、前記リチウム酸素電池から放出された酸素を圧縮する酸素圧縮部と、
前記酸素圧縮部によって圧縮された酸素を貯蔵する貯蔵部と、
前記密閉ケースに連結され、前記貯蔵部に貯蔵されている酸素を前記密閉ケースに供給する酸素供給部と、
前記密閉ケース内に配置され、前記酸素供給部によって供給された酸素を前記リチウム酸素電池に対して送風する送風ファンと、
前記送風ファンによる送風量を調整する風量調整部と、
前記密閉ケースの内圧を測定する内圧測定部と、
前記密閉ケースの内圧を調整する内圧調整部と、
前記密閉ケース内の温度を測定する温度測定部と、
前記密閉ケース内の温度を調整する温度調整部と、
前記風量調整部による前記送風量の調整、前記内圧調整部による前記密閉ケースの内圧の調整、及び前記温度調整部による前記密閉ケースの温度の調整の少なくともいずれかを制御することにより、前記リチウム酸素電池の環境を調整する環境調整部と
を備える、電池システム。
【請求項１１】
前記環境調整部は、前記電池システムの動作モードに応じて、前記リチウム酸素電池の環境を調整する、請求項１０に記載の電池システム。
【請求項１２】
リチウム酸素電池と、
前記リチウム酸素電池から放出された酸素を圧縮する酸素圧縮部と、
前記酸素圧縮部によって圧縮された酸素を貯蔵する貯蔵部と、
前記貯蔵部に貯蔵されている酸素を前記リチウム酸素電池に供給する酸素供給部と
を備え、
前記酸素圧縮部は、コンプレッサであり、
前記コンプレッサは、前記貯蔵部に貯蔵されている圧縮された酸素の膨張力を利用して発電する、電池システム。
【請求項１３】
前記酸素供給部は、前記コンプレッサである、請求項１２に記載の電池システム。
【請求項１４】
前記コンプレッサは、前記リチウム酸素電池の電力を使用して酸素を圧縮する、請求項１２又は１３に記載の電池システム。
【請求項１５】
前記リチウム酸素電池に電力を供給して前記リチウム酸素電池を充電する電力供給部
を備え、
前記酸素圧縮部は、前記電力供給部が前記リチウム酸素電池を充電することによって前記リチウム酸素電池から放出された酸素を圧縮する、請求項１から１４のいずれか一項に記載の電池システム。
【請求項１６】
前記電力供給部は、太陽光発電によって発電された電力を前記リチウム酸素電池に供給する、請求項１５に記載の電池システム。
【請求項１７】
請求項１から１６のいずれか一項に記載の電池システムと、
前記リチウム酸素電池の電力を使用して移動制御を実行する移動制御部と
を備える移動体。
【請求項１８】
請求項１から１６のいずれか一項に記載の電池システムと、
前記リチウム酸素電池の電力を使用して無線通信を実行する無線通信部と
を備える移動体。
【請求項１９】
飛行可能であって、成層圏プラットフォームとして機能する、請求項１７又は１８に記載の移動体。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月5日(2019.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一次側の平面空芯コイル（Ｎａｐ）と、
前記一次側の平面空芯コイル（Ｎａｐ）から該一次側の平面空芯コイル（Ｎａｐ）の巻線中心軸（Ｓｐ，Ｓｓ）方向に間隔をおいて配置され、前記巻線中心軸（Ｓｐ，Ｓｓ）方向において前記一次側の平面空芯コイル（Ｎａｐ）と対向しない非対向部（ＮＦｓ）を有する二次側の平面空芯コイル（Ｎａｓ）と、
前記巻線中心軸（Ｓｐ，Ｓｓ）方向における前記一次側の平面空芯コイル（Ｎａｐ）及び前記二次側の平面空芯コイル（Ｎａｓ）の外側にそれぞれ積層された、一次側の平面コア（Ｃｐ）及び二次側の平面コア（Ｃｓ）と、
を備え、
前記一次側及び二次側の各平面空芯コイル（Ｎａｐ，Ｎａｓ）は、前記巻線中心軸（Ｓｐ，Ｓｓ）方向において互いに対向する対向部分（Ｆｐ，Ｆｓ）をそれぞれ有し、
前記一次側の平面空芯コイル（Ｎａｐ）と前記二次側の平面空芯コイル（Ｎａｓ）とにおいて、一方の平面空芯コイル（Ｎａｐ，Ｎａｓ）の巻線中心軸（Ｓｐ）の位置は、他方の平面空芯コイル（Ｎａｓ，Ｎａｐ）の空芯部（Ａｓ，Ａｐ）よりも外側に配置されており、
前記一次側の平面コア（Ｃｐ）及び前記二次側の平面コア（Ｃｓ）は、互いに間隔を置いて非接触の状態で配置される、
プレーナ型トランス（Ｔｐ）。
【請求項２】
前記一次側の平面コア（Ｃｐ）及び前記二次側の平面コア（Ｃｓ）は、前記巻線中心軸（Ｓｐ，Ｓｓ）方向における前記一次側及び二次側の各平面空芯コイル（Ｎａｐ，Ｎａｓ）の空芯部（Ａｐ，Ａｓ）どうしの対向部分（Ｆｐ，Ｆｓ）を挟んで前記巻線中心軸（Ｓｐ，Ｓｓ）方向に間隔をおいて配置されている請求項１記載のプレーナ型トランス（Ｔｐ）。
【請求項３】
前記一次側及び二次側の各平面コア（Ｃｐ，Ｃｓ）は、前記巻線中心軸（Ｓｐ，Ｓｓ）方向と交差する平面における前記一次側及び二次側の各平面空芯コイル（Ｎａｐ，Ｎａｓ）の輪郭よりも大きい外形を有している請求項１又は２記載のプレーナ型トランス。
【請求項４】
前記巻線中心軸（Ｓｐ，Ｓｓ）方向における前記一次側の平面空芯コイル（Ｎａｐ）及び前記二次側の平面空芯コイル（Ｎａｓ）の間に介設された絶縁基板（５）をさらに備えており、該絶縁基板（５）の第１面（５１）に前記一次側の平面空芯コイル（Ｎａｐ）が形成され、前記絶縁基板（５）の前記第１面（５１）とは反対側の第２面（５３）に前記二次側の平面空芯コイル（Ｎａｓ）が形成されている請求項１、２又３記載のプレーナ型トランス（Ｔｐ）。
【請求項５】
ＬＬＣコンバータ（３）を用いた絶縁型のＤＣＤＣコンバータ（１）のトランス（Ｔ）として、請求項１〜４の何れか１項に記載のプレーナ型トランス（Ｔｐ）を用いたＤＣＤＣコンバータ（１）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明の１つの態様によるプレーナ型トランスは、
一次側の平面空芯コイルと、
前記一次側の平面空芯コイルから該一次側の平面空芯コイルの巻線中心軸方向に間隔をおいて配置され、前記巻線中心軸方向において前記一次側の平面空芯コイルと対向しない非対向部を有する二次側の平面空芯コイルと、
前記巻線中心軸方向における前記一次側の平面空芯コイル及び前記二次側の平面空芯コイルの外側にそれぞれ積層された、一次側の平面コア及び二次側の平面コアと、
を備え、
前記一次側及び二次側の各平面空芯コイルは、前記巻線中心軸方向において互いに対向する対向部分をそれぞれ有し、
前記一次側の平面空芯コイルと前記二次側の平面空芯コイルとにおいて、一方の平面空芯コイルの巻線中心軸の位置は、他方の平面空芯コイルの空芯部よりも外側に配置されており、
前記一次側の平面コア及び前記二次側の平面コアは、互いに間隔を置いて非接触の状態で配置される。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月28日(2019.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面撮像素子と後面撮像素子とスイッチとを有し、ユーザが手に持って前記スイッチにより撮影指示をすることで入力されたパノラマ画像に基づいて出力画像を生成する画像生成装置であって、
前記パノラマ画像で出力範囲を指定する出力範囲パラメータと、前記出力画像において撮像されている手を修正する修正箇所を指定する修正パラメータと、を入力するパラメータ入力手段と、
前記出力画像の前記修正パラメータで指定された箇所を修正する画像修正手段と、を有し、
前記出力画像は、
前記出力範囲パラメータで指定された前記パノラマ画像の範囲の画像から生成され、または前記修正によって修正された前記パノラマ画像である画像生成装置。
【請求項２】
前記画像修正手段は、
前記修正箇所と、周辺画素と、の類似度の算出し、前記類似度と、前記周辺画素と、に基づいて前記出力画像の前記修正箇所を修正し、
前記類似度の算出は、
前記出力画像の画素数、解像度、または画像の向きを変更した画像を用いて複数回行う請求項１に記載の画像生成装置。
【請求項３】
前記出力画像に出力される範囲の面を示す投影面と、
前記出力範囲パラメータで示される領域へ前記投影面を移動させた投影面と、
前記投影面上の座標と、
前記投影面上の座標に対応した前記移動させた投影面上の座標と、
前記投影面と、前記移動させた投影面と、に内接する球と、
を設定し、
前記画像修正手段は、
前記投影面上の座標と、前記移動させた投影面上の座標と、の距離を、前記球の半径と、前記投影面の一辺の長さと、に基づいて計算された円弧の長さに基づいて計算する請求項１乃至２に記載のいずれかの画像生成装置。
【請求項４】
前記出力範囲に対する前記修正箇所の割合に基づいて前記出力範囲の変更を行う請求項１乃至３に記載のいずれかの画像生成装置。
【請求項５】
前記出力範囲を変更は、
前記出力範囲を拡大する変更である請求項４に記載の画像生成装置。
【請求項６】
前記出力範囲を変更は、
前記出力画像の画素数を少なくする変更である請求項４に記載の画像生成装置。
【請求項７】
前記出力範囲を変更は、
前記出力画像の画素数を前記パノラマ画像の解像度と同一または近似の値する変更である請求項４に記載の画像生成装置。
【請求項８】
前記画像修正手段は、
前記出力画像の前記修正箇所を複数回修正し、各回の修正を行うかの判断を前記出力画像の画素数に基づいて変更する請求項１乃至７に記載のいずれかの画像生成装置。
【請求項９】
前面撮像素子と後面撮像素子とスイッチとを有し、ユーザが手に持って前記スイッチにより撮影指示をすることで入力されたパノラマ画像に基づいて出力画像を生成する画像生成方法であって、
前記パノラマ画像で出力範囲を指定する出力範囲パラメータと、前記出力画像において撮像されている手を修正する修正箇所を指定する修正パラメータと、を入力するパラメータ入力手順と、
前記出力画像の前記修正パラメータで指定された箇所を修正する画像修正手順と、を行い、
前記出力画像は、
前記出力範囲パラメータで指定された前記パノラマ画像の範囲の画像から生成され、または前記修正によって修正された前記パノラマ画像である画像生成方法。
【請求項１０】
前面撮像素子と後面撮像素子とスイッチとを有し、ユーザが手に持って前記スイッチにより撮影指示をすることで入力されたパノラマ画像に基づいて出力画像を生成する画像生成方法であって、
前記パノラマ画像で出力範囲を指定する出力範囲パラメータと、前記出力画像において撮像されている手を修正する修正箇所を指定する修正パラメータと、を入力するパラメータ入力手順と、
前記出力画像の前記修正パラメータで指定された箇所を修正する画像修正手順と、を行い、
前記出力画像は、
前記出力範囲パラメータで指定された前記パノラマ画像の範囲の画像から生成され、または前記修正によって修正された前記パノラマ画像である画像生成方法をコンピュータに実行させるプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
一態様における、前面撮像素子と後面撮像素子とスイッチとを有し、ユーザが手に持って前記スイッチにより撮影指示をすることで入力されたパノラマ画像に基づいて出力画像を生成する画像生成装置であって、前記パノラマ画像で出力範囲を指定する出力範囲パラメータと、前記出力画像において撮像されている手を修正する修正箇所を指定する修正パラメータと、を入力するパラメータ入力手段と、前記出力画像の前記修正パラメータで指定された箇所を修正する画像修正手段と、を有し、前記出力画像は、前記出力範囲パラメータで指定された前記パノラマ画像の範囲の画像から生成され、または前記修正によって修正された前記パノラマ画像であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月6日(2019.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
上記磁気テープの垂直方向角型比は、０．６５以上である。本発明者は、磁気テープの垂直方向角型比は、先に記載した後者の粒子（微細な粒子）の存在量の指標になり得ると推察している。磁気テープの垂直方向角型比が０．６５以上である磁性層は、かかる微細な粒子の存在量が少ないと考えられる。このことも、先に記載したように、結果的に、磁性層表面粗さＲａが１．８ｎｍ以下の磁気テープを用いるタイミングベースサーボシステムにおいてヘッド位置決め精度を向上させることにつながると、本発明者は考えている。
タイミングベースサーボシステムにおけるヘッド位置決め精度の更なる向上の観点から、上記垂直方向角型比は０．６８以上であることが好ましく、０．７０以上であることがより好ましく、０．７３以上であることが更に好ましく、０．７５以上であることが一層好ましい。また、角型比は、原理上、最大で１．００である。したがって、上記磁気テープの垂直方向角型比は１．００以下である。上記垂直方向角型比は、例えば０．９５以下、０．９０以下、０．８７以下または０．８５以下であってもよい。上記垂直方向角型比の値が大きいほど、磁性層中に上記の微細な後者の粒子が少なくサーボ信号の出力低下をより一層抑制する観点から好ましいと考えられる。したがって、上記垂直方向角型比は、上記例示した値を上回ってもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
＜非磁性層形成用組成物の処方＞
非磁性無機粉末  α−酸化鉄：１００．０部
（平均粒子サイズ：１０ｎｍ、ＢＥＴ比表面積：７５ｍ２／ｇ）
カーボンブラック：２５．０部
（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：１８．０部
（重量平均分子量：７００００、ＳＯ３Ｎａ基含有量：０.２ｍｅｑ/ｇ）
ステアリン酸：１．０部
シクロヘキサノン：３００．０部
メチルエチルケトン：３００．０部
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
＜バックコート層形成用組成物の処方＞
非磁性無機粉末 α−酸化鉄：８０．０部
（平均粒子サイズ：０.１５μｍ、ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ）
カーボンブラック：２０．０部
（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）
塩化ビニル共重合体：１３．０部
スルホン酸塩基含有ポリウレタン樹脂：６．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
シクロヘキサノン：１５５．０部
メチルエチルケトン：１５５．０部
ステアリン酸：３．０部
ステアリン酸ブチル：３．０部
ポリイソシアネート：５．０部
シクロヘキサノン：２００．０部
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
（３）磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ、Ｖｅｅｃｏ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ４）をタッピングモードで用いて、磁気テープの磁性層表面において測定面積４０μｍ×４０μｍの範囲を測定し、中心線平均表面粗さＲａを求めた。探針としてはＢＲＵＫＥＲ社製ＲＴＥＳＰ−３００を使用し、スキャン速度（探針移動速度）は４０μｍ／秒、分解能は５１２ｐｉｘｅｌ×５１２ｐｉｘｅｌとする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月20日(2019.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
セル領域（１）を有し、前記セル領域に接合型ＦＥＴが形成された半導体装置であって、
前記セル領域は、
第１導電型のドリフト層（１３）と、
前記ドリフト層上に配置された第１導電型のチャネル層（１４）と、
前記チャネル層の表層部に形成され、前記チャネル層よりも高不純物濃度とされた第１導電型のソース層（１５）と、
前記チャネル層に前記ソース層よりも深くまで形成された第２導電型のゲート層（１６）と、
前記チャネル層に前記ソース層よりも深くまで形成された第２導電型のボディ層（１７）と、
前記ドリフト層を挟んで前記ソース層と反対側に配置されるドレイン層（１１）と、
前記ゲート層と電気的に接続されるゲート配線（１９）と、
前記ソース層および前記ボディ層と電気的に接続された第１電極（２１）と、
前記ドレイン層と電気的に接続される第２電極（２２）と、を備え、
前記ゲート層は、前記チャネル層のうちの前記ドリフト層側と反対側の表面から形成され、
前記セル領域の外側には、前記ボディ層が形成されており、
前記ボディ層の底部側では、前記ゲート層の底部側よりも電界強度が高くなる半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
セル領域（１）を有し、前記セル領域に接合型ＦＥＴが形成された半導体装置であって、
第１導電型のドリフト層（１３）と、
前記ドリフト層上に配置された第１導電型のチャネル層（１４）と、
前記チャネル層の表層部に形成され、前記チャネル層よりも高不純物濃度とされた第１導電型のソース層（１５）と、
前記チャネル層に前記ソース層よりも深くまで形成された第２導電型のゲート層（１６）と、
前記チャネル層に前記ソース層よりも深くまで形成された第２導電型のボディ層（１７）と、
前記ドリフト層を挟んで前記ソース層と反対側に配置されるドレイン層（１１）と、
前記ゲート層と電気的に接続されるゲート配線（１９）と、
前記ソース層および前記ボディ層と電気的に接続された第１電極（２１）と、
前記ドレイン層と電気的に接続される第２電極（２２）と、を備え、
前記ゲート層は、前記チャネル層のうちの前記ドリフト層側と反対側の表面から形成され、
前記セル領域の外側には、前記ボディ層が形成されており、
前記ボディ層は、前記ゲート層と不純物濃度が等しくされていると共に同じ幅とされており、前記ゲート層よりも深くまで形成されている半導体装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
そして、請求項１では、ゲート層は、チャネル層のうちのドリフト層側と反対側の表面から形成され、セル領域の外側には、ボディ層が形成されており、ボディ層の底部側では、ゲート層の底部側よりも電界強度が高くなるようにしている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項１２では、ゲート層は、チャネル層のうちのドリフト層側と反対側の表面から形成され、セル領域の外側には、ボディ層が形成されており、ボディ層は、ゲート層と不純物濃度が等しくされていると共に同じ幅とされており、ゲート層よりも深くまで形成されている。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月30日(2019.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
ピックアップ機構４０は、半導体チップｔを吸着保持する吸着ノズル４１と、この吸着ノズル４１を、図１に破線矢印で示すように、供給装置１０と中間ステージ３０との間で移動させる駆動装置（不図示）とを備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
図５（Ａ）に示すように、突き上げ機構６０の直上、つまり、ピックアップ位置にピックアップ対象の半導体チップｔが位置付けられると、突上げ機構６０はバックアップ面６１ａによって粘着シート１１の下面を支持する。そして、開閉弁６３ｃを開くことによって吸引溝６１ｃおよび吸引孔６１ｄに所定の負圧（−９０ｋＰａの負圧）を作用させて粘着シート１１を吸着保持する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
吸着ノズル４１が半導体チップｔを吸着したならば、図５（Ｃ）に示すように、第１〜第４の押し上げ体６２ａ〜６２ｄを予め設定された高さだけ上昇させる。このとき、吸着ノズル４１は同期して上昇する。これにより、粘着シート１１は、第１〜第４の押し上げ体６２ａ〜６２ｄによって凸状に押し上げられる。このとき、粘着シート１１とバックアップ面６１ａおよび第１〜第４の押し上げ体６２ａ〜６２ｄの上端面との間には−９０ｋＰａの負圧が作用されている。そのため、粘着シート１１において第１〜第４の押し上げ体６２ａ〜６２ｄによって押し上げられて傾斜した部分１１ａには、負圧によって引き下げられる力が作用する。これにより、半導体チップｔの外縁部、より具体的には、半導体チップｔにおいて第１の押し上げ体６２ａからはみ出した外縁部において、粘着シート１１には半導体チップｔから引き剥がそうとする力が作用する。これにより、半導体チップｔの前記外縁部から粘着シート１１が剥離する。なおこのとき、半導体チップｔのはみ出し量がわずかであるから、半導体チップｔの各辺の全域で一度に粘着シート１１の剥離を開始したとしても、半導体チップｔの損傷が発生することがない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
＜試験条件＞
・半導体チップの大きさ：３×４ｍｍ
・半導体チップの厚さ：３５μｍ、２５μｍ、１５μｍの３種類
・突き上げ機構６０と粘着シート１１との間に作用させる負圧の大きさ：−９０ｋＰａ、−８８ｋＰａ、−８５ｋＰａ、−８３ｋＰａ、−８０ｋＰａの５条件
・突き上げ量：１ｍｍ
※突き上げ量は、図５（Ｃ）に示す第１〜第４の押し上げ体６２ａ〜６２ｄを上昇させる量のこと。
・待機時間：０．２秒
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
１  実装装置
１０  供給装置
１１  粘着シート
１２  ウエーハリング
１３  ウエーハテーブル
２０  基板ステージ
３０  中間ステージ
４０  ピックアップ機構
４１  吸着ノズル
５０  実装機構
５１  実装ツール
６０  突き上げ機構
６１  バックアップ体
６１ａ  バックアップ面
６１ｂ  内部空間
６１ｃ  吸引溝
６１ｄ  吸引孔
６１ｅ  連通溝
６１ｆ  開口部
６２  押し上げ機構
６２ａ  第１の押し上げ体
６２ｂ  第２の押し上げ体
６２ｃ  第３の押し上げ体
６２ｄ  第４の押し上げ体
６２ｅ  昇降駆動装置
６２ｆ  昇降駆動装置
６２ｇ  昇降駆動装置
６２ｈ  昇降駆動装置
６３  吸引ポンプ
６３ａ  真空配管
６３ｂ  圧力制御装置（負圧調整機構）
６３ｃ  開閉弁
６３ｄ  圧力検出器
６４  凸部
６５  凸部
６６  凹部
７０  制御装置
７１  記憶部
ｔ  半導体チップ
Ｋ  基板
Ｗ  ウエーハ
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月2日(2019.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
特許文献１には、ハイブリッド自動車や電気自動車等においてバッテリーとインバーターとを電気的に接続するための高圧用の導電路が開示されている。この導電路は、細長いプラス極の第１導体を中心に配し、第１導体を第１絶縁体で包囲し、第１絶縁体をマイナス極の第２導体で包囲し、第２導体を第２絶縁体で包囲した同心状の積層形態となっている。第１導体の端末部には端子が固着されている。第２導体の外周には端子金具が取り付けられ、端子金具には電線からなる導電部材が接続され、導電部材に端子が固着されている。第１導体と導電部材は並列するように配索され、バッテリーやインバーターに接続される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
実施例１の固着部材２３が、第２導体１５の前端部と分岐導体２２の後端部だけでなく、第１導体１３と延長導体１８との接続部分までも包囲するような円筒形をなしていたのに対し、本実施例２の固着部材２５は、第２導体１５の前端部の一部と分岐導体２２の後端部の一部だけを包囲する円環状をなしている。固着部材２５は、第２導体１５及び分岐導体２２と同一の金属材料からなり、縮径変形するようにカシメ変形されている。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月2日(2019.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
そこで、本発明の目的は、各サーバが、組み合わせることによりコンテンツの使用が許可される各ライセンスの組み合わせが妥当か否かの認証手段に用いる情報を、各々に含む各ライセンスを生成することができる方法およびシステムを提供することにある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明によれば、方法およびシステムは、各サーバが、組み合わせることによりコンテンツの使用が許可される各ライセンスの組み合わせが妥当か否かの認証手段に用いる情報を、各々に含む各ライセンスを生成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月8日(2019.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性材料よりなる素線が複数撚り合わせられた導体と、前記導体の外周を被覆する絶縁被覆と、を有する絶縁電線において、
前記絶縁電線は、前記絶縁被覆が前記導体の外周から除去された露出部と、前記絶縁被覆が前記導体の外周を被覆した状態にある被覆部と、を長手軸方向に沿って隣接して有し、
単位長さあたりの前記導電性材料の密度が、前記露出部において、前記被覆部のうち、少なくとも、前記露出部に隣接した領域を除く遠隔域よりも高くなっており、
前記露出部における前記素線の間の空間に、絶縁性材料よりなる封止剤が充填されていることを特徴とする絶縁電線。
【請求項２】
前記露出部において、前記封止剤は、前記素線の間の空間と連続して、前記導体の外周を被覆していることを特徴とする請求項１に記載の絶縁電線。
【請求項３】
前記封止剤は、前記露出部において前記導体の外周を被覆する領域と連続して、前記被覆部の前記露出部に隣接する端部において、前記絶縁被覆の外周を被覆していることを特徴とする請求項２に記載の絶縁電線。
【請求項４】
前記露出部における単位長さあたりの前記導電性材料の密度が、前記被覆部の前記遠隔域における単位長さあたりの前記導電性材料の密度の１．０１倍以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の絶縁電線。
【請求項５】
前記露出部における単位長さあたりの前記導電性材料の密度が、前記被覆部の前記遠隔域における単位長さあたりの前記導電性材料の密度の１．５倍以下であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の絶縁電線。
【請求項６】
前記素線の撚りピッチが、前記露出部において、前記被覆部の前記遠隔域よりも小さいことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の絶縁電線。
【請求項７】
前記絶縁電線は、前記露出部を、前記絶縁電線の長手軸方向の中途部に有し、単位長さあたりの前記導電性材料の密度が、前記露出部において、前記露出部の両側に位置する前記被覆部のうち、少なくとも、前記露出部の両側に隣接した領域を除く遠隔域よりも高くなっていることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の絶縁電線。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月21日(2018.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像を用いて、異なる複数の領域の動きベクトルを検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された前記異なる複数の領域の動きベクトルに基づいて、主被写体の動き量を判定する判定手段と、
前記判定手段により判定された前記主被写体の動き量に基づいて、前記主被写体の像ブレを補正する制御手段と、を備え、
前記判定手段は、前記異なる複数の領域内の前記動きベクトルにより表される複数の動き量の中の重心または、動き量が０付近の判定範囲に含まれる動き量のピークを、前記主被写体の動き量と判定することを特徴とする像ブレ補正装置。
【請求項２】
前記複数の画像を撮像する撮像装置の動きを検出する角速度センサをさらに備え、前記判定手段は、前記角速度センサの検出結果に基づいて前記判定範囲を変更することを特徴とする請求項１に記載の像ブレ補正装置。
【請求項３】
前記判定手段は、前記角速度センサが前記撮像装置の動きが小さくなることを示すにつれて、前記判定範囲を狭めることを特徴とする請求項２に記載の像ブレ補正装置。
【請求項４】
前記検出手段により検出された前記異なる複数の領域の動きベクトルの分布に応じて、前記判定手段は、前記判定範囲に含まれる前記動き量の重心を前記主被写体の動き量とするか、前記判定範囲に含まれる動き量のピークを前記主被写体の動き量とするかを切り替えることを特徴とする請求項１に記載の像ブレ補正装置。
【請求項５】
前記判定範囲に含まれる動き量が複数のピークを有する場合には、前記判定手段は、前記判定範囲に含まれる動き量の重心を前記主被写体の動き量とすることを特徴とする請求項４に記載の像ブレ補正装置。
【請求項６】
前記複数の画像を撮像する撮像装置の動きを検出する角速度センサをさらに備え、前記判定手段は、前記判定範囲に含まれる動き量の中で、前記主被写体の動き量の判定に用いられない動き量を、前記角速度センサの検出結果に応じて判定することを特徴とする請求項１に記載の像ブレ補正装置。
【請求項７】
前記判定手段は、前記角速度センサの検出結果に応じて背景の動き量を判定し、前記判定範囲に含まれる動き量の中で、判定された前記背景の動き量を前記主被写体の動き量の判定に用いないことを特徴とする請求項６に記載の像ブレ補正装置。
【請求項８】
複数の画像を用いて、異なる複数の領域の動きベクトルを検出する第１の検出工程と、
前記第１の検出工程において検出された前記異なる複数の領域の動きベクトルに基づいて、主被写体の動き量を判定する判定工程と、
前記判定工程において判定された前記主被写体の動き量に基づいて、前記主被写体の像ブレを補正する制御工程と、を有し、
前記判定工程では、前記異なる複数の領域内の前記動きベクトルにより表される複数の動き量の中の重心または、動き量が０付近の判定範囲に含まれる動き量のピークを、前記主被写体の動き量と判定することを特徴とする像ブレ補正装置の制御方法。
【請求項９】
請求項８に記載の制御方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラムを記憶したコンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【請求項１０】
複数の画像を用いて、異なる複数の領域の動きベクトルを検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された前記異なる複数の領域の動きベクトルに基づいて、主被写体の動き量を判定する判定手段と、
前記判定手段により判定された前記主被写体の動き量に基づいて、前記主被写体の像ブレを補正する制御手段と、を備え、
前記判定手段は、前記複数の画像を撮像する撮像装置の動きを検出する角速度センサの検出結果に基づいて前記判定範囲を判定することを特徴とする像ブレ補正装置。
【請求項１１】
前記判定手段は、前記角速度センサの検出結果に基づいて、前記判定範囲の広さを変更することを特徴とする請求項１０に記載の像ブレ補正装置。
【請求項１２】
前記判定手段は、前記角速度センサの検出結果が前記撮像装置の動き量が第１の値であることを示す場合、または前記角速度センサの検出結果が前記撮像装置の動き量が前記第１の値よりも小さい第２の値であることを示す場合、前記判定範囲を狭くすることを特徴とする請求項１１に記載の像ブレ補正装置。
【請求項１３】
複数の画像を用いて、異なる複数の領域の動きベクトルを検出する第１の検出工程と、
前記第１の検出工程において検出された前記異なる複数の領域の動きベクトルに基づいて、主被写体の動き量を判定する判定工程と、
前記判定工程において判定された前記主被写体の動き量に基づいて、前記主被写体の像ブレを補正する制御工程と、を有し、
前記判定工程では、前記複数の画像を撮像する撮像装置の動きを検出する角速度センサの検出結果に基づいて前記判定範囲を判定することを特徴とする像ブレ補正装置の制御方法。
【請求項１４】
複数の画像を用いて、異なる複数の領域の動きベクトルを検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された異なる複数の領域の動きベクトルに基づいて、主被写体の動き量を判定する判定手段と、
前記判定手段によって判定された主被写体の動き量に基づいて、前記主被写体の像ブレを補正する制御手段と、を備え、
前記判定手段によって判定された前記主被写体の動き量は、所定値以下であることを特徴とする像ブレ補正装置。
【請求項１５】
前記判定手段は、前記複数の画像を撮像する撮像装置の動きを検出する角速度センサの検出結果に基づいて前記所定値を変更することを特徴とする請求項１４に記載の像ブレ補正装置。
【請求項１６】
複数の画像を用いて、異なる複数の領域の動きベクトルを検出する第１の検出工程と、
前記第１の検出工程において検出された前記異なる複数の領域の動きベクトルに基づいて、主被写体の動き量を判定する判定工程と、
前記判定工程において判定された前記主被写体の動き量に基づいて、前記主被写体の像ブレを補正する制御工程と、を有し、
前記判定工程において判定された前記主被写体の動き量は、所定値以下であることを特徴とする像ブレ補正装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】像ブレ補正装置及びその制御方法、記憶媒体
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係わる像ブレ補正装置は、複数の画像を用いて、異なる複数の領域の動きベクトルを検出する検出手段と、前記検出手段により検出された前記異なる複数の領域の動きベクトルに基づいて、主被写体の動き量を判定する判定手段と、前記判定手段により判定された前記主被写体の動き量に基づいて、前記主被写体の像ブレを補正する制御手段と、を備え、前記判定手段は、前記異なる複数の領域内の前記動きベクトルにより表される複数の動き量の中の重心または、動き量が０付近の判定範囲に含まれる動き量のピークを、前記主被写体の動き量と判定することを特徴とする。