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【手続補正書】
【提出日】平成30年12月14日(2018.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理のためのシステムであって、前記システムは、
プラズマ処理チャンバと、
前記プラズマ処理チャンバに結合されたプラズマ源と、
前記プラズマ源に結合されたプラズマ電力供給部であって、前記プラズマ電力供給部は、複数の周期的パルスエンベロープにおいて前記プラズマ処理チャンバに電力を印加することにより、前記プラズマ処理チャンバ内のプラズマの密度を制御するように構成されている、プラズマ電力供給部と、
前記プラズマ処理チャンバ内の支持部であって、基板を支持する支持部と、
バイアス供給部であって、前記バイアス供給部は、前記複数の周期的パルスエンベロープの各々内で修正された周期的電圧関数を前記基板支持部に提供することにより、前記プラズマ処理チャンバ内の前記基板支持部に影響を及ぼすイオンのエネルギーを制御するように構成されている、バイアス供給部と
を備える、システム。
【請求項２】
前記修正された周期的電圧関数は、周期的電圧関数とイオン電流補償ＩＣとの組み合わせから形成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記修正された周期的電圧関数は、
第１の部分と呼ばれる急速に増加する電圧と、
前記第１の部分の終了時に開始し、第２の部分と呼ばれる実質的に一定の電圧と、
前記第２の部分の終了時に開始し、第３の部分と呼ばれる、前記実質的に一定の電圧を下回る電圧ステップΔＶと、
前記第３の部分の終了時に開始し、第４の部分と呼ばれる傾き電圧であって、前記傾き電圧は、前記イオン電流補償によって制御される傾きｄＶ０／ｄｔを有する、傾き電圧と
を含む、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記プラズマ電力供給部は、正弦波電力を印加するように構成されたＲＦ電力供給部である、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記バイアス供給部は、前記複数の周期的パルスエンベロープの各々内で前記修正された周期的電圧関数を前記基板支持部に提供することにより、多重イオンエネルギーを提供するように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記バイアス供給部は、前記修正された周期的電圧関数を提供することにより、サイクルごとにイオンエネルギーを変化させるように構成されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記バイアス供給部は、前記プラズマの密度を測定するように構成されており、前記ソース供給部は、前記測定されたプラズマ密度によって少なくとも部分的に制御される、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
プラズマ処理のための方法であって、前記方法は、
プラズマ処理チャンバ内の基板支持部上に基板を配置することと、
複数の周期的パルスエンベロープにおいて前記プラズマ処理チャンバに印加された電力を用いて前記プラズマ処理チャンバ内のプラズマを持続させることと、
前記複数の周期的パルスエンベロープの各々内で前記基板支持部に修正された周期的電圧関数を提供することにより、前記プラズマ処理チャンバ内の前記基板支持部に影響を及ぼすイオンのエネルギーを制御することと
を含む、方法。
【請求項９】
前記修正された周期的電圧関数は、周期的電圧関数とイオン電流補償ＩＣとの組み合わせから形成される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記修正された周期的電圧関数は、
第１の部分と呼ばれる急速に増加する電圧と、
前記第１の部分の終了時に開始し、第２の部分と呼ばれる実質的に一定の電圧と、
前記第２の部分の終了時に開始し、第３の部分と呼ばれる、前記実質的に一定の電圧を下回る電圧ステップΔＶと、
前記第３の部分の終了時に開始し、第４の部分と呼ばれる傾き電圧であって、前記傾き電圧は、前記イオン電流補償によって制御される傾きｄＶ０／ｄｔを有する、傾き電圧と
を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記プラズマ処理チャンバ内の前記プラズマを持続させることは、前記複数の周期的パルスエンベロープにおける正弦波ＲＦ電力を用いて前記プラズマを持続させることを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記複数の周期的パルスエンベロープの各々内で前記電圧ステップΔＶを修正することにより、前記複数の周期的パルスエンベロープの各々内で多重イオンエネルギーを提供することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
サイクルごとに前記電圧ステップΔＶを修正することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記修正された周期的電圧関数を提供するバイアス供給部を用いて前記プラズマの密度を測定することと、
前記測定されたプラズマ密度を少なくとも部分的に用いて、複数の周期的パルスエンベロープにおいて前記プラズマ処理チャンバに前記電力を印加するプラズマ供給部を制御することと
を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
命令で符号化された非一過性のプロセッサ読み取り可能な媒体であって、前記命令は、
複数の周期的パルスエンベロープにおいてプラズマ処理チャンバに印加された電力を用いて前記プラズマ処理チャンバ内のプラズマを持続させることと、
前記複数の周期的パルスエンベロープ内の各々内で基板支持部に修正された周期的電圧関数を提供し、前記プラズマ処理チャンバ内の前記基板支持部に影響を及ぼすイオンのエネルギーを制御することと
を行うための命令を含む、非一過性のプロセッサ読み取り可能な媒体。
【請求項１６】
前記修正された周期的電圧関数を周期的電圧関数とイオン電流補償ＩＣとの組み合わせから形成するための命令で符号化されている、請求項１５に記載の非一過性のプロセッサ読み取り可能な媒体。
【請求項１７】
第１の部分と呼ばれる急速に増加する電圧と、
前記第１の部分の終了時に開始し、第２の部分と呼ばれる実質的に一定の電圧と、
前記第２の部分の終了時に開始し、第３の部分と呼ばれる、前記実質的に一定の電圧を下回る電圧ステップΔＶと、
前記第３の部分の終了時に開始し、第４の部分と呼ばれる傾き電圧であって、前記傾き電圧は、前記イオン電流補償によって制御される傾きｄＶ０／ｄｔを有する、傾き電圧と
を有する前記修正された周期的電圧関数を形成するための命令で符号化されている、請求項１６に記載の非一過性のプロセッサ読み取り可能な媒体。
【請求項１８】
前記複数の周期的パルスエンベロープの各々内で前記電圧ステップΔＶを修正し、前記複数の周期的パルスエンベロープの各々内で多重イオンエネルギーを提供するための命令で符号化されている、請求項１７に記載の非一過性のプロセッサ読み取り可能な媒体。
【請求項１９】
サイクルごとに前記電圧ステップΔＶを修正するための命令で符号化されている、請求項１７に記載の非一過性のプロセッサ読み取り可能な媒体。
【請求項２０】
前記修正された周期的電圧関数を提供するバイアス供給部を用いて前記プラズマの密度を測定することと、
前記測定されたプラズマ密度を少なくとも部分的に用いて、複数の周期的パルスエンベロープにおいて前記プラズマ処理チャンバに前記電力を印加するプラズマ供給部を制御することと
を行うための命令で符号化されている、請求項１５に記載の非一過性のプロセッサ読み取り可能な媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月4日(2019.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動体の運転を支援する運転支援システムであって、
道路の車線をあらわした車線の情報に関する信頼度をあらわした信頼度情報を、前記車線の情報に関連付けて記憶する記憶部と、
前記信頼度情報及び前記車線の情報に基づいて、前記移動体の運転を支援するための制御情報を出力する情報管理部とを備える運転支援システム。
【請求項２】
移動体の運転を支援する運転支援システムであって、
前記移動体の通行を規制する地物の情報に関する信頼度をあらわした信頼度情報を、前記地物の情報に関連付けて記憶する記憶部と、
前記信頼度情報及び前記地物の情報に基づいて、前記移動体の運転を支援するための制御情報を出力する情報管理部とを備える運転支援システム。
【請求項３】
請求項１または２に記載の運転支援システムであって、
前記制御情報は、前記移動体の位置を特定するための位置特定情報を含む運転支援システム。
【請求項４】
請求項１乃至３のうちいずれか一項に記載の運転支援システムであって、
前記信頼度情報は、前記信頼度の程度に応じた信頼度レベル情報として規定される運転支援システム。
【請求項５】
請求項４に記載の運転支援システムであって、
前記情報管理部は、前記信頼度レベル情報に応じて、前記移動体の運転を支援するための制御情報を異ならせる運転支援システム。
【請求項６】
請求項４に記載の運転支援システムであって、
前記情報管理部は、前記信頼度レベル情報が所定の値である場合、前記移動体の運転を支援するための制御情報を出力しない運転支援システム。
【請求項７】
記憶部に記憶された地図データを、移動体の運転を支援する運転支援機能を有する情報管理部に参照させる参照機能を実現させるプログラムであって、
前記地図データは、道路の車線をあらわした車線の情報に関する信頼度をあらわした信頼度情報を、前記車線の情報に関連付けて記憶しており、
前記参照機能は、前記情報管理部に前記信頼度情報及び前記車線の情報を参照させる機能を含み、
前記運転支援機能は、前記信頼度情報及び前記車線の情報に基づいて、前記移動体の運転を支援するための制御情報を出力する機能を含むプログラム。
【請求項８】
記憶部に記憶された地図データを、移動体の運転を支援する運転支援機能を有する情報管理部に参照させる参照機能を実現させるプログラムであって、
前記地図データは、前記移動体の通行を規制する地物の情報に関する信頼度をあらわした信頼度情報を、前記地物の情報に関連付けて記憶しており、
前記参照機能は、前記情報管理部に前記信頼度情報及び前記地物の情報を参照させる機能を含み、
前記運転支援機能は、前記信頼度情報及び前記地物の情報に基づいて、前記移動体の運転を支援するための制御情報を出力する機能を含むプログラム。
【請求項９】
請求項２に記載の運転支援システムであって、
前記信頼度情報は、前記移動体により取得された地物に関する周辺情報と前記地物の情報との差異情報の数に基づき生成された情報である運転支援システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】運転支援システム、プログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記の課題の少なくとも一部を解決するために、移動体の運転を支援する運転支援システムであって、道路の車線をあらわした車線の情報に関する信頼度をあらわした信頼度情報を、車線の情報に関連付けて記憶する記憶部と、信頼度情報及び車線の情報に基づいて、移動体の運転を支援するための制御情報を出力する情報管理部とを備える運転支援システムを提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月1日(2019.1.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
商品価格を提示する電子棚札の出力手段と、
商品広告を、前記電子棚札側からの要求に応じて応答する装置が応答する前記商品広告を、要求し受信する単独構成の無線通信手段と、
前記商品広告を、前記出力手段で提示する商品広告手段と、を備えることを特徴とする電子棚札。
【請求項２】
請求項１に記載の電子棚札で提示する前記商品広告を応答する店舗外の前記装置は、前記商品広告を、前記電子棚札側からの要求に応じて応答することを特徴とする方法。
【請求項３】
プロセッサを、
請求項１に記載の電子棚札の前記商品広告手段として機能させるための制御プログラム。
【請求項４】
請求項１に記載の電子棚札で提示する前記商品広告を応答する店舗内の前記装置は、前記商品広告を、前記電子棚札側からの要求に応じて応答することを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的を達成するため本発明の電子棚札は、商品価格を提示する電子棚札の出力手段と、商品広告を、前記電子棚札側からの要求に応じて応答する装置が応答する前記商品広告を、要求し受信する単独構成の無線通信手段と、前記商品広告を、前記出力手段で提示する商品広告手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、従来の電子棚札では、電子棚札側からの要求に応じて装置が応答する商品広告を、単独構成の無線通信手段により、要求し受信することができなかった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
そこで、本発明の目的は、電子棚札側からの要求に応じて装置が応答する商品広告を、単独構成の無線通信手段により、要求し受信することができる電子棚札を提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明によれば、電子棚札は、電子棚札側からの要求に応じて装置が応答する商品広告を、単独構成の無線通信手段により、要求し受信することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月29日(2019.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の対価の徴収と引き換えに複数のユーザに共通のゲームをプレイさせるゲームシステムであって、
前記ゲームをプレイする前記複数のユーザの人数を判別する人数判別手段と、
前記人数判別手段の判別結果に基づいて、前記ゲームのプレイに伴い前記所定の対価として前記複数のユーザの全体から徴収されるべき全体の対価の額を前記複数のユーザの各ユーザに均等に割り当てた場合の均等額が前記複数のユーザの人数に応じて変化するように、各ユーザから個別に徴収されるべき個別の対価及び前記全体の対価の少なくともいずれか一方の額を設定する対価設定手段と、を備え、
前記対価設定手段は、前記複数のユーザ間における負担額の相違を許容するようにユーザ毎の前記個別の対価及び前記全体の対価の少なくともいずれか一方の額を設定し、
前記複数のユーザにおける一部のユーザの負担額が他のユーザの負担額と相違する場合、前記複数のユーザにおける一部のユーザまたは全ユーザに特典が付与される、
ゲームシステム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月20日(2019.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部が設けられた筐体と、
絶縁フィルムと、当該絶縁フィルム上に設けられた導線と、接続端子と、を有し、前記開口部を貫通する第一可撓配線部材と、
前記開口部に充填された封止剤と、
前記筐体に収容されるとともに、前記第一可撓配線部材に電気的に接続され、前記第一可撓配線部材の前記接続端子と電気的に接続されるコネクタを有した、第二可撓配線部材と、
前記筐体内に収容され、前記第一可撓配線部材及び前記第二可撓配線部材を介して前記筐体外の第二電気部品と電気的に接続された第一電気部品と、
を備えた、電子機器。
【請求項２】
前記第一電気部品は、前記筐体、前記第一可撓配線部材、及び前記封止剤により密封される、請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記第一可撓配線部材は、前記筐体の内側及び外側のうち少なくとも一方で互いに離れる方向に延びる第三可撓配線部材及び第四可撓配線部材を有した、請求項１または２に記載の電子機器。
【請求項４】
前記第三可撓配線部材及び前記第四可撓配線部材は、前記開口部で互いに結合された、請求項３に記載の電子機器。
【請求項５】
前記開口部において前記第三可撓配線部材及び前記第四可撓配線部材の間に介在して前記第三可撓配線部材及び前記第四可撓配線部材を互いに結合させる結合部、をさらに備えた請求項４に記載の電子機器。
【請求項６】
前記第三可撓配線部材及び前記第四可撓配線部材は、前記結合部のビアを通して延びる導体部を介して電気的に接続される、請求項５に記載の電子機器。
【請求項７】
前記第一可撓配線部材及び前記第二可撓配線部材は、フレキシブルプリント配線板である、請求項１〜６のうちいずれか一つに記載の電子機器。
【請求項８】
前記第一可撓配線部材の前記接続端子は、前記筐体の内側に位置する第一接続端子と、前記筐体の外側に位置する第二接続端子と、を有する、請求項１〜７のうちいずれか一つに記載の電子機器。
【請求項９】
前記第一接続端子は、前記第二可撓配線部材に設けられた端子に電気的に接続された、請求項８に記載の電子機器。
【請求項１０】
前記第一可撓配線部材は、前記筐体の内面上及び外面上に配置された、請求項８または９に記載の電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
実施形態の電子機器は、例えば、筐体と、第一可撓配線部材と、封止剤と、第二可撓配線部材と、第一電気部品と、を備える。筐体には、開口部が設けられる。第一可撓配線部材は、絶縁フィルムと、当該絶縁フィルム上に設けられた導線と、接続端子とを有し、開口部を貫通する。封止剤は、開口部に充填される。第二可撓配線部材は、筐体に収容されるとともに、第一可撓配線部材に電気的に接続され、第一可撓配線部材の接続端子と電気的に接続されるコネクタを有する。第一電気部品は、筐体内に収容され、前記第一可撓配線部材及び前記第二可撓配線部材を介して筐体外の第二電気部品と電気的に接続される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
例えば、電子機器は、ＨＤＤには限定されない。また、電子機器の形状や、大きさ等のスペックは、上記実施形態には限定されない。また、第一電気部品は筐体内に設けられた電気部品であればよく、上記実施形態には限定されないし、第二電気部品は筐体外に設けられた電気部品であればよく、上記実施形態には限定されない。また、可撓配線部材の形状や、大きさ、各部の位置等のスペックは、上記実施形態には限定されない。例えば、可撓配線部材内には、可撓配線部材の厚さ方向に互いに離間して複数の導体層や複数の導線が設けられてもよい。また、可撓配線部材は、筐体の底壁とは異なる壁を貫通してもよい。また、筐体内は、気密に密閉されなくてもよいし、筐体内には空気が収容されてもよい。
以下に、出願当初の特許請求の範囲の内容を付記する。
［１］
開口部が設けられた筐体と、
絶縁フィルムと、当該絶縁フィルム上に設けられた導線と、接続端子と、を有する可撓配線部材であって、前記開口部を貫通しかつ封止するよう設けられるとともに、当該可撓配線部材を曲げることによって前記接続端子が前記開口部から離間して前記筐体上に配置された可撓配線部材と、
前記筐体内に収容され、前記可撓配線部材を介して前記筐体外の第二電気部品と電気的に接続された第一電気部品と、
を備えた、電子機器。
［２］
開口部を有する筐体と、
前記開口部に設けられた隔壁と、
少なくとも一部が前記隔壁に固定され、前記筐体の外側に露出した部分と、前記筐体の内側に露出した部分と、を有する可撓配線部材と、
前記筐体内に収容され、前記可撓配線部材を介して筐体外の第二電気部品と電気的に接続された第一電気部品と、
を備えた、電子機器。
［３］
前記隔壁は、前記筐体の外面より内側または外側に位置された、［２］に記載の電子機器。
［４］
前記可撓配線部材は、前記隔壁と前記筐体との間を通して設けられた、［３］に記載の電子機器。
［５］
前記可撓配線部材は、隔壁の外面に固定された第一固定部分と、前記隔壁の内面に固定された第二固定部分と、を有する、［２］〜［４］のうちいずれか一つに記載の電子機器。
［６］
前記可撓配線部材は、前記第一固定部分から離間した位置で前記第二電気部品と接続され、あるいは前記第二固定部分から離間した位置で前記第一電気部品と接続された、［５］に記載の電子機器。
［７］
前記可撓配線部材は、互いに結合された第一可撓配線部材と第二可撓配線部材とを含み、
前記第一可撓配線部材の前記第一固定部分と前記第二可撓配線部材の前記第一固定部分とが、前記第一可撓配線部材と前記第二可撓配線部材との結合部から互いに離れる方向に延び、前記第一可撓配線部材の前記第二固定部分と前記第二可撓配線部材の前記第二固定部分とが、前記結合部から互いに離れる方向に延びた、［５］または［６］に記載の電子機器。
［８］
前記隔壁は、前記可撓配線部材と接着され、
前記可撓配線部材は、前記可撓配線部材の前記隔壁との接着領域の端部と重なるように位置された導体層を有した、［７］に記載の電子機器。
［９］
前記導体層は、前記可撓配線部材の周縁に設けられるか、または前記隔壁の周縁と前記可撓配線部材の厚さ方向に重なる位置に設けられた、［８］に記載の電子機器。
［１０］
前記導体層は、前記可撓配線部材が曲げられた曲部とは外れて設けられた、［８］または［９］に記載の電子機器。
［１１］
前記可撓配線部材は、フレキシブルプリント配線板である、［１］〜［１０］のうちいずれか一つに記載の電子機器。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月28日(2019.8.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの引き出し部を含むコイルと磁性物質を含む本体と、
前記本体の外部面の少なくとも一部上に配置され、前記コイルと接する内部面を含み、前記コイルと電気的に接続される外部電極と、を含み、
前記本体内には、前記コイルを支持する支持部材が配置され、
前記支持部材において、前記外部電極の前記内部面に向かう面の少なくとも一部は加工面で構成され、
前記引き出し部の下面の少なくとも一部領域の下側に配置される前記支持部材の最小厚さＴ１．ｍｉｎは、前記コイルのうち最内側のコイルパターンの下面の少なくとも一部領域の下側に配置される前記支持部材の最小厚さＴ２．ｍｉｎより薄い、コイル部品。
【請求項２】
前記加工面は外側に向かうほど厚さが薄くなる階段状で構成される、請求項１に記載のコイル部品。
【請求項３】
前記支持部材は前記外部電極から離れ、前記外部電極と接していない、請求項１または２に記載のコイル部品。
【請求項４】
前記加工面の表面には絶縁膜が配置される、請求項１から３のいずれか一項に記載のコイル部品。
【請求項５】
前記加工面の少なくとも一部は曲線で構成される、請求項１から４のいずれか一項に記載のコイル部品。
【請求項６】
前記加工面は内側に凹んだスリットを含む形状で構成される、請求項１から５のいずれか一項に記載のコイル部品。
【請求項７】
前記コイルは、前記支持部材の上面及び下面にそれぞれ配置される上部コイルと下部コイルを含み、前記上部コイルと下部コイルはビアを介して接続されている、請求項１から６のいずれか一項に記載のコイル部品。
【請求項８】
前記支持部材は貫通孔を含み、前記貫通孔の内部に磁性物質が充填されている、請求項１から７のいずれか一項に記載のコイル部品。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月1日(2019.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理システムにおいてエンドエフェクタによって基板をハンドリングする方法であって、前記エンドエフェクタは、第１の、第２の、第３の、第４の、第５の、第６の、及び第７の基板支持パッドを有し、前記方法は、
前記基板の周縁部に前記第２の、第５の、及び第６の基板支持パッドを係合させることと、
前記エンドエフェクタを前記基板処理システムの処理チャンバ内へ第１の距離だけ移動させることと、
前記基板の前記周縁部を前記第２の、第５の、及び第６の基板支持パッドから切り離すことと、
前記エンドエフェクタを前記基板処理システムの前記処理チャンバ内へ第２の距離だけ移動させることと、
前記基板の前記周縁部に前記第１の、第３の、第４の、及び第７の基板支持パッドを係合させることと、
を備える方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、
前記第１の及び第３の基板支持パッドは、第１の高さを形成し、前記第４の及び第６の基板支持パッドは、前記第１の高さよりも小さい第２の高さを形成する、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の方法であって、
前記第２の基板支持パッドは、第１の高さを形成し、前記第５の及び第６の基板支持パッドは、前記第１の高さよりも大きい第２の高さを形成する、方法。
【請求項４】
請求項３に記載の方法であって、
前記第１の及び第３の基板支持パッドは、前記第２の高さに等しい第３の高さを形成し、前記第４の及び第７の基板支持パッドは、前記第１の高さに等しい第４の高さを形成する、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法であって、
前記基板の周縁部に前記第２の、第５の、及び第６の基板支持パッドを係合させることは、前記第４の及び第７の基板支持パッドを前記基板の前記周縁部の半径方向内側に位置決めすることを含む、方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法であって、
前記基板の周縁部に前記第１の、第３の、第４の、及び第７の基板支持パッドを係合させることは、更に、前記第２の基板支持パッドを前記基板の前記周縁部の半径方向内側に位置決めすることを含む、方法。
【請求項７】
請求項１に記載の方法であって、
前記第２の、第５の、及び第６の基板支持パッドは、第１の直径と第１の中心軸とを有する第１の円を形成し、前記第１の、第３の、第４の、及び第７の基板支持パッドは、第２の直径と第２の中心軸とを有する第２の円を形成し、前記基板は、第３の中心軸を有する第３の円を形成し、
前記基板の前記周縁部に前記第２の、第５の、及び第６の基板支持パッドを係合させることは、前記第２の中心軸を第３の中心軸に対して第１の角度に配置することを含み、
前記基板の前記周縁部に第１の、第３の、第４の、及び第７の基板支持パッドを係合させることは、前記第１の中心軸を前記第３の中心軸に対して第２の角度に配置することを含む、方法。
【請求項８】
請求項７に記載の方法であって、
前記第１の角度は、前記第２の角度に等しい、方法。
【請求項９】
請求項７に記載の方法であって、
前記第１の直径は、前記第２の直径に等しい、方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の方法であって、
前記第１の、第２の、第３の、第４の、第５の、第６の、及び第７の基板支持パッドは、それぞれ、第１の、第２の、第３の、第４の、第５の、第６の、及び第７の傾斜した基板支持表面を含む、方法。
【請求項１１】
エンドエフェクタであって、
第１の、第２の、及び第３の基板支持パッドを有する本体であって、前記第１の基板支持パッドは、第１の高さを形成し、前記第２の基板支持パッドは、前記第１の高さよりも小さい第２の高さを形成し、前記第３の基板支持パッドは、前記第１の高さに等しい第３の高さを形成する、本体と、
前記本体から伸び、第４の及び第５の基板支持パッドを有する第１の枝であって、前記第４の基板支持パッドは、前記第２の高さに等しい第４の高さを形成し、前記第５の基板支持パッドは、前記第１の及び第３の高さに等しい第５の高さを形成する、第１の枝と、
前記本体から伸び、第６の及び第７の基板支持パッドを有する第２の枝であって、前記第６の基板支持パッドは、前記第１の、第３の、及び第５の高さに等しい第６の高さを形成し、前記第７の基板支持パッドは、前記第２の及び第４の高さに等しい第７の高さを形成する、第２の枝と、
を備えるエンドエフェクタ。
【請求項１２】
請求項１１に記載のエンドエフェクタであって、
前記第１の、第３の、第４の、及び第７の基板支持パッドは、第１の直径と第１の中心軸とを有する第１の円を形成し、前記第２の、第５の、及び第６の基板支持パッドは、第２の直径と第２の中心軸とを有する第２の円を形成する、エンドエフェクタ。
【請求項１３】
請求項１２に記載のエンドエフェクタであって、
前記第１の直径は、前記第２の直径に等しい、エンドエフェクタ。
【請求項１４】
請求項１２に記載のエンドエフェクタであって、
前記第１の中心軸は、前記第２の中心軸から直線的にずれている、エンドエフェクタ。
【請求項１５】
請求項１２に記載のエンドエフェクタであって、
前記第１の中心軸と前記第２の中心軸とは、一定の角度を形成する、エンドエフェクタ。
【請求項１６】
請求項１１に記載のエンドエフェクタであって、
前記本体は、前記第１の及び第２の枝と一体成形される、エンドエフェクタ。
【請求項１７】
エンドエフェクタであって、
第１の、第２の、第３の、第４の、第５の、第６の、及び第７の基板支持パッドを備え、前記第１の、第３の、第４の、及び第７の基板支持パッドは、第１の円を形成し、前記第２の、第５の、及び第６の基板支持パッドは、第２の円を形成し、前記第１の円は、第１の直径と第１の中心軸とを有し、前記第２の円は、前記第１の直径に等しい第２の直径と、前記第１の中心軸からずれた第２の中心軸とを有し、前記第１の基板支持パッドは、第１の高さを形成し、前記第２の基板支持パッドは、前記第１の高さよりも小さい第２の高さを形成し、前記第３の基板支持パッドは、前記第２の高さよりも大きい第３の高さを形成し、前記第４の基板支持パッドは、前記第３の高さよりも小さい第４の高さを形成し、前記第５の基板支持パッドは、前記第４の高さよりも大きい第５の高さを形成し、前記第６の基板支持パッドは、前記第４の高さよりも大きい第６の高さを形成し、前記第７の基板支持パッドは、前記第６の高さよりも小さい第７の高さを形成する、エンドエフェクタ。
【請求項１８】
請求項１７に記載のエンドエフェクタであって、
前記第１の中心軸と前記第２の中心軸とは、一定の角度を形成する、エンドエフェクタ。
【請求項１９】
請求項１７に記載のエンドエフェクタであって、
前記エンドエフェクタは、本体の部分と、前記本体の部分から伸びる第１の及び第２の枝の部分とを含み、前記第４の、第５の、第６の、及び第７の基板支持パッドのそれぞれは、前記第１の枝の部分上及び前記第２の枝の部分上のいずれかに配置される、エンドエフェクタ。
【請求項２０】
請求項１９に記載のエンドエフェクタであって、
前記本体の部分は、第１の及び第２の枝の部分と一体成形される、エンドエフェクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月3日(2019.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子回路が形成されている半導体基板、および、第１のパターンで前記半導体基板の表面上に配置されるＩＣ接触パッド、を含む集積回路（ＩＣ）ダイであって、前記ＩＣ接触パッドは前記電子回路と動作可能に結合される、集積回路ダイと、
パッケージ基板、第２のパターンで第１の表面上に配置される複数の第１のパッケージ接触構造、第２の表面上に配置される複数の第２のパッケージ接触構造、および、前記第１および第２の表面の間にパッケージ構造を介して延びる複数のパッケージ導体であって、それにより、前記パッケージ導体の各々は関連する第１のパッケージ接触構造および関連する第２のパッケージ接触構造の間に電気経路を形成する、複数のパッケージ導体、を含むパッケージ構造と、
前記第１のパターンで第１の表面上に配置される複数の第１の接触点、第２の表面上に配置される複数の第２の接触点、および、複数のインターポーザ導体、を含むガラス基板を備えるインターポーザであって、前記インターポーザ導体の各々は関連する第１の接触点および関連する第２の接触点の間に電気経路を形成するよう構成される、インターポーザと、
前記インターポーザと付着され、トリガ信号に応答して前記ガラス基板上に初期の破砕強度を生成および印加するよう構成される、トリガデバイスと、
を備える過渡的な電子デバイスであって、
前記インターポーザは前記パッケージ基板に固定され、それにより、前記第２の表面上に配置される前記第２の接触点の各々は、対応する第１のパッケージ接触構造と電気的に接続され、
前記ガラス基板は相当量のイオンを含有し、それにより、第２の破砕が前記初期の破砕強度に応答して前記ガラス基板に生成されて前記ガラス基板全体に伝搬し、したがって、前記ガラス基板が粉末化され、および、
前記ＩＣダイは前記ガラス基板に固定的に付着され、それにより、前記第２の破砕が前記ＩＣダイ内に、前記ＩＣダイを粉末化するのに十分なエネルギーで伝搬する、
過渡的な電子デバイス。
【請求項２】
前記ガラス基板は１００μｍ〜３００μｍの範囲の厚さを備える、請求項１に記載の過渡的な電子デバイス。
【請求項３】
前記ガラス基板はケイ酸塩ガラスを備える、請求項２に記載の過渡的な電子デバイス。
【請求項４】
前記ガラス基板は、前記第１の表面および前記第２の表面の間に延びる複数のガラス貫通ビアを規定する、請求項２に記載の過渡的な電子デバイス。
【請求項５】
前記トリガデバイスは、前記初期の破砕強度の放出を外部から供給されるトリガ信号に応答して制御するよう構成される作動メカニズムを備える、請求項１に記載の過渡的な電子デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月12日(2019.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に位置し、ハロゲン元素を含む第１の絶縁体と、
前記第１の絶縁体上の第２の絶縁体と、
前記第２の絶縁体の上面の少なくとも一部に接する酸化物半導体と、
前記酸化物半導体の上面の少なくとも一部に接する第３の絶縁体と、
前記酸化物半導体と電気的に接続された第１の導電体及び第２の導電体と、
前記第３の絶縁体上の第４の絶縁体と、
前記第４の絶縁体上に位置し、少なくとも一部が前記第１の導電体と前記第２の導電体の間に位置する第３の導電体と、
前記第３の導電体上の第５の絶縁体と、を有する半導体装置。
【請求項２】
基板上に位置し、ハロゲン元素を含む第１の絶縁体と、
前記第１の絶縁体上の第２の絶縁体と、
前記第２の絶縁体の上面の少なくとも一部に接する酸化物半導体と、
前記酸化物半導体の上面の少なくとも一部に接する第３の絶縁体と、
前記酸化物半導体と電気的に接続された第１の導電体及び第２の導電体と、
前記第３の絶縁体上の第４の絶縁体と、
前記第４の絶縁体上に位置し、少なくとも一部が前記第１の導電体と前記第２の導電体の間に位置する第３の導電体と、
前記第３の導電体上の第５の絶縁体と、を有するトランジスタを有し、
前記第２の絶縁体の側面と前記酸化物半導体の側面とは重なり、
前記第５の絶縁体は、前記第２の絶縁体の側面及び前記酸化物半導体の側面と接し、且つ前記第１の絶縁体の上面と接する半導体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第１の絶縁体下の第６の絶縁体を有し、
前記第６の絶縁体は、前記第１の絶縁体より水及び水素を透過させにくい半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記ハロゲン元素は、フッ素、塩素または臭素のいずれかである半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月15日(2019.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
線状又は紐状の製品例えばケーブル（Ｋ）をケーブル処理システムとりわけケーブル剥きシステム内で案内及び搬送する装置であり、その製品（Ｋ）用の案内ギャップ（Ｓ）を画定する少なくとも一対の相対向する移送装置（１ａ，１ｂ，４ａ，４ｂ，５ａ，５ｂ，６ａ，６ｂ，７ａ，７ｂ）を備え、その移送装置により、製品（Ｋ）及び少なくとも１個の大径一次ローラ（１ａ，１ｂ）及び少なくとも１個のより小径な二次ローラ（４ａ，４ｂ）と摩擦的に相互作用する少なくとも各１個の案内兼搬送手段（５ａ，５ｂ）が体現され、その案内ギャップ（Ｓ）が、少なくとも、互いに逆側にある大径一次ローラ（１ａ，１ｂ）によって画定される装置であって、上記小径二次ローラのうち少なくとも１個（４ａ，４ｂ，３６）好ましくは案内ギャップ（Ｓ）に対し互いに逆側に位置する二次ローラ双方が、付随する個別の一次ローラ（１ａ，１ｂ，３０）の製品（Ｋ）との接触点から見て搬送方向に沿い前方にある少なくとも１個のポジションと、その一次ローラ（１ａ，１ｂ，３０）の製品（Ｋ）との接触点から見て搬送方向に沿い後方にある少なくとも１個の第２ポジションと、の間で調整され／調整可能であり、いずれのポジションでも製品（Ｋ）と接触することを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置であって、上記小径二次ローラのうち少なくとも１個（４ａ，４ｂ，３６）好ましくは案内ギャップ（Ｓ）に対し互いに逆側に位置する二次ローラ双方が、製品（Ｋ）から持ち上がったポジションへと調整可能であることを特徴とする装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の装置であって、上記二次ローラ（４ａ，４ｂ，３６）が、案内ギャップ（Ｓ）の別々の側で互いに独立に調整可能であることを特徴とする装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のうちいずれか一項記載の装置であって、少なくとも１個の二次ローラ（４ａ，４ｂ，３６）が支持器（３３，３４，５４）上に実装されており、その支持器が、個別の一次ローラ（１ａ，１ｂ，３０）に対し離散的なポジション又は位置に固定可能、且つそれらポジション又は位置間で可変なことを特徴とする装置。
【請求項５】
請求項４記載の装置であって、少なくとも１個の二次ローラ（４ａ，４ｂ，３６）が、長方形の支持要素（３３，３４，５４）上に好ましくは一端にて偏心実装されており、上記支持要素（３３，３４，５４）が、個別の一次ローラ（１ａ，１ｂ，３０）との関係で、互いに逆向きに存する少なくとも二通りの向きに固定可能であり、それら二通りの向きが長手方向に関し案内ギャップ（Ｓ）に対し平行であることを特徴とする装置。
【請求項６】
請求項５記載の装置であって、その支持要素（３３，３４）が、少なくとも、本装置上で案内ギャップ（Ｓ）に対し平行に延びる案内器と相互作用し、例えば溝内に挿入されることを特徴とする装置。
【請求項７】
請求項４記載の装置であって、少なくとも１個の二次ローラ（４ａ，４ｂ，３６）が、長方形の支持要素（５４）上に好ましくは一端にて偏心実装されており、上記支持要素（５４）が、一次ローラ（３０）の軸に対し平行に存する回動軸の周りで好ましくはロータリフランジ（５１）と共に枢動可能、且つ少なくとも二通りのポジションで固定可能であることを特徴とする装置。
【請求項８】
請求項７記載の装置であって、その支持要素（５４）がディスク（５１）上に実装されており、そのディスクが、一次ローラ（３０）の軸に対し同軸な軸周りで回動可能、且つ少なくとも二通りのポジションで固定可能であることを特徴とする装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のうちいずれか一項記載の装置であって、その移送装置のうち少なくとも案内ギャップ（Ｓ）の片側にある部分が支持プレート（２０，５０）上にあり、その支持プレートが、同移送装置のうち向かい側の部分に対する案内ギャップ（Ｓ）を縮小及び／又は拡大すべく調整可能であることを特徴とする装置。
【請求項１０】
ケーブル処理システムとりわけケーブル剥きシステム又はケーブル切断機であり、少なくとも１個のケーブル処理装置及び少なくとも１個のケーブル案内兼搬送装置を有するケーブル処理システムであって、それら装置のうち少なくとも１個（１ａ，１ｂ，４ａ，４ｂ，５ａ，５ｂ，３０，３１，３６）が請求項１乃至９のうち一項に従い構成されていることを特徴とするケーブル処理システム。
【請求項１１】
請求項１０記載のケーブル処理システムであって、請求項１乃至９のうち一項に係る少なくとも１個の装置（１ａ，１ｂ，４ａ，４ｂ，５ａ，５ｂ，３０，３１，３６）がケーブル処理装置より上流に、また類種の装置（１ａ，１ｂ，４ａ，４ｂ，５ａ，５ｂ，３０，３１，３６）が下流に配置されていることを特徴とするケーブル処理システム。
【請求項１２】
請求項１１記載のケーブル処理システムであって、そのケーブル処理装置（２，８）の各側に配置されている装置群（１ａ，１ｂ，４ａ，４ｂ，５ａ，５ｂ，３０，３１，３６）の二次ローラ（４ａ，４ｂ，３６）が、互いに独立に調整可能であることを特徴とするケーブル処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
ここで始点となるのは、製品用の案内ギャップを画定する少なくとも一対の相対向する移送装置を備え、その移送装置により、ケーブル及び少なくとも１個の大径一次ローラ及び少なくとも１個のより小径な二次ローラと摩擦的に相互作用する少なくとも各１個の案内兼搬送手段が体現され、その案内ギャップが、少なくとも、互いに逆側にある大径一次ローラによって画定される装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月16日(2019.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光電変換素子と、第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、第３のトランジスタと、第４のトランジスタと、第５のトランジスタと、第６のトランジスタと、第１の容量素子と、を有し、
前記光電変換素子の一方の端子は、前記第１のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第６のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第１の容量素子の一方の端子と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第１の容量素子の他方の端子と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第４のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第４のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第５のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続され、
前記第４のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第２のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続されている撮像装置。
【請求項２】
光電変換素子と、第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、第３のトランジスタと、第４のトランジスタと、第５のトランジスタと、第１の容量素子と、を有し、
前記光電変換素子の一方の端子は、前記第１のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第１の容量素子の一方の端子と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第１の容量素子の他方の端子と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方は、前記第４のトランジスタのゲート電極と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第４のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第５のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続され、
前記第４のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の他方は、前記第２のトランジスタのソース電極またはドレイン電極の一方と電気的に接続されている撮像装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
第２の容量素子を有し、
前記第２の容量素子の一方の端子は、前記第１の容量素子の他方の端子と電気的に接続されている撮像装置。
【請求項４】
請求項１に記載の撮像装置の駆動方法であって、
前記撮像装置は複数の画素を有し、
前記複数の画素はそれぞれ前記第４のトランジスタを有し、
第１の時刻において前記第１のトランジスタ、前記第６のトランジスタ、前記第３のトランジスタおよび前記第５のトランジスタをオンとし、前記第２のトランジスタをオフとした後、
第２の時刻で前記第５のトランジスタをオフとし、前記第２のトランジスタをオンとすることにより前記第４のトランジスタのしきい値電圧のばらつきの補正を行う、撮像装置の駆動方法。
【請求項５】
請求項４において、
前記第２の時刻において前記第２のトランジスタのゲート電極に印加する電位は、前記第２の時刻以降に行う撮像動作の際に、前記第２のトランジスタのゲート電極に印加する電位よりも高い、撮像装置の駆動方法。
【請求項６】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の撮像装置と、表示装置と、を有する電子機器。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月14日(2019.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コイルの内周側に配置され、可動部を磁気吸引する磁気吸引面を有する固定コアと、
前記コイルに対して軸方向外側に位置するカバー部と、
前記コイルの外周側に配置されるヨークと、を含み構成される磁気回路を備えた電磁式の流量制御弁において、
前記固定コアは、前記カバー部と軸方向に接触し前記コイルの外周側に向かって拡大する拡大部を有し、
前記カバー部は、前記固定コアの外周側と対向する内周側対向面と、前記ヨークの内周側と対向する外周側対向面と、前記拡大部と軸方向に接触する接触面と、を有し、
前記内周側対向面と前記固定コアとの間に設けられる第一の隙間と、前記外周側対向面と前記ヨークとの間に設けられる第二の隙間と、を有する流量制御弁。
【請求項２】
請求項１において、
前記第一の隙間は、前記第二の隙間よりも大きく形成される流量制御弁。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記固定コアは、前記拡大部に対して軸方向外側に、前記拡大部よりも径の小さい細径部を有し、
前記細径部は、前記カバー部に挿入される流量制御弁。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項において、
前記カバー部は、固定ピンにより前記接触面が前記拡大部に押し付けられるように固定される流量制御弁。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項において、
前記カバー部の軸方向厚みは、前記ヨークの径方向厚みよりも厚く構成される流量制御弁。
【請求項６】
燃料を加圧する加圧室と、
前記加圧室の出口側に配置され燃料を吐出する吐出弁と、
前記加圧室の入口側に配置され、燃料を前記加圧室に送る吸入弁と、
前記加圧室を往復運動可能なプランジャと、を備え、
前記吸入弁に前記請求項１〜５のいずれか一項に記載の流量制御弁を用いた高圧燃料供給ポンプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するため本発明の高圧ポンプの流量制御弁は、
コイルの内周側に配置され、可動部を磁気吸引する磁気吸引面を有する固定コアと、
前記コイルに対して軸方向外側に位置するカバー部と、
前記コイルの外周側に配置されるヨークと、を含み構成される磁気回路を備えた電磁式の流量制御弁において、
前記固定コアは、前記カバー部と軸方向に接触し前記コイルの外周側に向かって拡大する拡大部を有し、
前記カバー部は、前記固定コアの外周側と対向する内周側対向面と、前記ヨークの内周側と対向する外周側対向面と、前記拡大部と軸方向に接触する接触面と、を有し、
前記内周側対向面と前記固定コアとの間に設けられる第一の隙間と、前記外周側対向面と前記ヨークとの間に設けられる第二の隙間と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月29日(2019.5.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向に延びる第１部分と、前記第１部分の一端が屈曲され、前記第１部分に対して交差する第２方向に沿って延びる第２部分と、前記第１部分と前記第２部分との間に設けられた貫通孔と、を有する第１板部材と、
前記第２部分に沿って延びる第２板部材と、
を備える画像形成装置用フレームであって、
前記第１板部材は、前記第１部分の一端に被位置決め部、前記第２部分に被固定部を有し、
前記第２板部材は、前記被位置決め部が突き当てられ、前記第２板部材に対する前記第１板部材の位置が決められる位置決め部と、前記被固定部に固定される固定部と、を有し、
前記固定部は、前記第１方向と前記第２方向と直交する第３方向において、前記貫通孔が設けられた位置と異なる位置に設けられ、
前記固定部が前記被固定部に向けて突出するように前記第２板部材が撓んだ状態として、前記固定部が前記被固定部に固定されていることを特徴とする画像形成装置用フレーム。
【請求項２】
前記固定部を前記被固定部に溶着して固定される際、
前記被固定部は、前記固定部に向けて力が作用させられ、前記固定部は、前記被固定部に作用する力と反対方向に向けて、前記被固定部に加えられる力よりも大きい力が加えられることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置用フレーム。
【請求項３】
前記固定部は、前記被固定部に対してビスで固定されることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置用フレーム。
【請求項４】
前記第１板部材及び前記第２板部材は金属製の板部材であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成装置用フレーム。
【請求項５】
前記位置決め部と、前記固定部との距離が１５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置用フレーム。
【請求項６】
前記第２板部材の厚さが０．６ｍｍ以上〜１．２ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像形成装置用フレーム。
【請求項７】
前記第１板部材が感光体を露光する露光ユニットを支持することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像形成装置用フレーム。
【請求項８】
前記第１板部材が感光体からトナー像を転写される転写ユニットを支持することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像形成装置用フレーム。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月6日(2019.11.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板上にパターン形成用の薄膜を備えたマスクブランクであって、
前記薄膜は、金属、ケイ素および窒素を含有する材料からなり、
前記薄膜における前記金属の含有量［原子％］を前記金属およびケイ素の合計含有量［原子％］で除した比率は、１５％以下であり、
前記薄膜に対し、二次イオン質量分析法による分析を行ってケイ素の二次イオン強度の深さ方向の分布を取得したとき、前記薄膜の透光性基板とは反対側の表層領域における前記ケイ素の二次イオン強度の最大ピーク［Ｃｏｕｎｔｓ／ｓｅｃ］を、前記薄膜における前記透光性基板の界面との近傍領域と前記表層領域を除いた領域である内部領域の深さ方向における前記ケイ素の二次イオン強度の平均値［Ｃｏｕｎｔｓ／ｓｅｃ］で除した比率が１．０以上１．６以下であり、
前記表層領域は、前記薄膜における前記透光性基板とは反対側の表面から前記透光性基板側に向かって１０ｎｍの深さまでの範囲にわたる領域であり、
前記近傍領域は、前記透光性基板との界面から前記表層領域側に向かって２０ｎｍの深さまでの範囲にわたる領域であり、
前記表層領域は、前記内部領域よりも酸化が進んでいる
ことを特徴とするマスクブランク。
【請求項２】
前記ケイ素の二次イオン強度の深さ方向の分布は、一次イオン種がＣｓ＋、一次加速電圧が２．０ｋＶ、一次イオンの照射領域を一辺が１２０μｍである四角形の内側領域とした測定条件で取得されるものであることを特徴とする請求項１記載のマスクブランク。
【請求項３】
前記薄膜に対し、二次イオン質量分析法による分析を行って酸素の二次イオン強度の深さ方向の分布を取得したとき、前記内部領域の深さ方向における前記酸素の二次イオン強度の平均値が２０００［Ｃｏｕｎｔｓ／ｓｅｃ］以下であることを特徴とする請求項２記載のマスクブランク。
【請求項４】
前記薄膜における前記金属の含有量［原子％］を前記金属およびケイ素の合計含有量［原子％］で除した比率は、１％以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項５】
前記内部領域は、その内部領域を構成する各元素の含有量の深さ方向での差がいずれも５原子％以下であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項６】
前記内部領域の各深さで測定したケイ素の二次イオン強度の測定値［Ｃｏｕｎｔｓ／ｓｅｃ］から前記ケイ素の二次イオン強度の平均値［Ｃｏｕｎｔｓ／ｓｅｃ］を差し引いた数値の絶対値を前記ケイ素の二次イオン強度の平均値［Ｃｏｕｎｔｓ／ｓｅｃ］で除した比率は、０．１未満であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項７】
前記薄膜は、ＡｒＦエキシマレーザーの露光光を１％以上の透過率で透過させる機能と、前記薄膜を透過した前記露光光に対して前記薄膜の厚さと同じ距離だけ空気中を通過した前記露光光との間で１５０度以上１９０度以下の位相差を生じさせる機能とを有する位相シフト膜であることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のマスクブランク。
【請求項８】
前記位相シフト膜上に、遮光膜を備えることを特徴とする請求項７記載のマスクブランク。
【請求項９】
前記遮光膜は、クロムを含有する材料からなることを特徴とする請求項８記載のマスクブランク。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載のマスクブランクの前記薄膜にドライエッチングで転写パターンを形成する工程を有することを特徴とする転写用マスクの製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の転写用マスクの製造方法により製造された転写用マスクを用い、半導体基板上のレジスト膜に転写パターンを露光転写する工程を有することを特
徴とする半導体デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】マスクブランク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法