(57)【要約】  異なる２つの光学系の光学部材が共通の鏡筒内に混在するような場合にも、複数の光学部材をそれらの相対位置が容易に調整できるように保持できる光学部材保持装置である。投影光学系中のミラー（Ｍ４）と照明光学系中のミラー（Ｍ）とを保持する光学部材保持装置であって、鏡筒ユニット（１２Ｃ）と、ミラー（Ｍ４）を保持するインナーリング（２１）と、ミラー（Ｍ）を保持する保持部材（３２）と、鏡筒ユニット（１２Ｃ）に取り付けられた支持板（２５Ｃ，３１）と、支持板（２５Ｃ，３１）に取り付けられ、ミラー（Ｍ４）とミラー（Ｍ）との相対位置を調整する保持調整機構（１３Ｄ，１３Ｍ）とを有する。
2007086557.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光学部材を鏡筒内に保持する光学部材保持装置であって、
前記複数の光学部材のうち、第１の光学部材を保持する第１保持部と、
前記複数の光学部材のうち、第２の光学部材を保持する第２保持部と、
前記鏡筒に取り付けられ、前記第１保持部及び前記第２保持部を支持する支持台と、
前記支持台に取り付けられ、前記第１保持部と前記第２保持部との相対位置を調整する調整機構とを備えたことを特徴とする光学部材保持装置。
【請求項２】
前記調整機構は、前記支持台に対して前記第１保持部の相対位置を調整する第１調整機構と、前記支持台に対して前記第２保持部の相対位置を調整する第２調整機構とを有することを特徴とする請求項１に記載の光学部材保持装置。
【請求項３】
前記第２の光学部材の光学表面は、入射した光を反射する反射面を有し、
前記鏡筒は、前記反射面に対向する部分に開口が設けられたことを特徴とする請求項２に記載の光学部材保持装置。
【請求項４】
前記第２調整機構は、前記第２保持部を前記鏡筒の中心に対して半径方向に移動させる第１調整部と、前記第２保持部を前記第２の光学部材の反射面に平行な軸の周りに回転させる第２調整部と、前記第２保持部を前記第２の光学部材の光軸の周りに回転させる第３調整部とを有することを特徴とする請求項２に記載の光学部材保持装置。
【請求項５】
前記第１調整部、第２調整部、第３調整部による前記第２保持部の変位を検出する複数のセンサを備えたことを特徴とする請求項４に記載の光学部材保持装置。
【請求項６】
前記第１調整機構は、前記支持台に対して前記第１の光学部材を当該光学部材の光軸方向に移動させると共に、前記支持台に対して前記第１の光学部材を当該光学部材の光軸に対して傾斜させることを特徴とする請求項２から５のいずれか一項に記載の光学部材保持装置。
【請求項７】
前記調整機構は、前記支持台に対する前記第１の光学部材の相対位置を調整した際、前記第１の光学部材の位置に応じて、前記第２の光学部材の位置を調整することを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の光学部材保持装置。
【請求項８】
前記第１の光学部材は、第１光学系を構成する複数の光学部材の一つであり、
前記第２の光学部材は、前記第１光学系とは異なる第２光学系を構成する複数の光学部材の一つであることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の光学部材保持装置。
【請求項９】
前記第１光学系は、パターンが形成されたマスクを照明する照明光学系を含み、
前記第２光学系は、前記パターンを基板上に形成する投影光学系を含むことを特徴とする請求項８に記載の光学部材保持装置。
【請求項１０】
光学部材保持装置であって、
第１光学系を構成する複数の光学部材のうち、第１光学部材を保持する第１保持部と、
前記第１光学系とは異なる第２光学系を構成する複数の光学部材のうち、第２光学部材を保持する第２保持部と、
前記第１保持部を介して前記第１光学部材を収容すると共に、前記第２保持部を介して前記第２光学部材を収容する鏡筒と、
前記第１保持部と前記第２保持部との相対位置を調整する調整機構とを備えたことを特徴とする光学部材保持装置。
【請求項１１】
前記鏡筒は、前記第１保持部及び前記第２保持部を支持する支持台を有し、
前記調整機構は、前記支持台に取り付けられることを特徴とする請求項１０に記載の光学部材保持装置。
【請求項１２】
前記調整機構は、前記支持台に対して前記第１保持部の相対位置を調整する第１調整機構と、前記支持台に対して前記第２保持部の相対位置を調整する第２調整機構とを有することを特徴とする請求項１１に記載の光学部材保持装置。
【請求項１３】
前記第２調整機構は、前記第２保持部を前記鏡筒の中心に対して半径方向に移動させる第１調整部と、前記第２保持部を前記第２の光学部材の反射面に平行な軸の周りに回転させる第２調整部と、前記第２保持部を前記第２の光学部材の光軸の周りに回転させる第３調整部とを有することを特徴とする請求項１２に記載の光学部材保持装置。
【請求項１４】
前記第１調整部、第２調整部、第３調整部による前記第２保持部の変位を検出する複数のセンサを備えたことを特徴とする請求項１３に記載の光学部材保持装置。
【請求項１５】
前記第１調整機構は、前記支持台に対して前記第１の光学部材を当該光学部材の光軸方向に移動させると共に、前記支持台に対して前記第１の光学部材を当該光学部材の光軸に対して傾斜させることを特徴とする請求項１１から１４のいずれか一項に記載の光学部材保持装置。
【請求項１６】
前記調整機構は、前記鏡筒に対する前記第１の光学部材の相対位置を調整した際、前記第１の光学部材の位置に応じて、前記第２の光学部材の位置を調整することを特徴とする請求項１０から１５のいずれか一項に記載の光学部材保持装置。
【請求項１７】
複数の光学部材のうち、第１の光学部材及び第２の光学部材の位置を調整する調整方法であって、
前記第１の光学部材及び前記第２の光学部材は、鏡筒に取り付けられた支持台に対して相対位置が調整可能に設けられ、
前記支持台に対する前記第１の光学部材の位置に応じて、前記第２の光学部材の位置を調整することを特徴とする光学部材の位置調整方法。
【請求項１８】
前記第１の光学部材は、第１光学系を構成する複数の光学部材の一つであり、
前記第２の光学部材は、前記第１光学系とは異なる第２光学系を構成する複数の光学部材の一つであることを特徴とする請求項１７に記載の光学部材の位置調整方法。
【請求項１９】
前記第１光学系は、パターンが形成されたマスクを照明する照明光学系を含み、
前記第２光学系は、前記パターンを基板上に形成する投影光学系を含むことを特徴とする請求項１８に記載の光学部材の位置調整方法。
【請求項２０】
光学部材の位置を調整する調整方法であって、
第１光学系を構成する複数の光学部材のうち、第１光学部材と、前記第１光学系とは異なる第２光学系を構成する複数の光学部材のうち、第２光学部材とを鏡筒に収容し、
前記第１光学部材の位置を調整した後、第２光学部材の位置を調整することを特徴とする光学部材の位置調整方法。
【請求項２１】
前記第１光学系は、パターンが形成されたマスクを照明する照明光学系を含み、
前記第２光学系は、前記パターンを基板上に形成する投影光学系を含むことを特徴とする請求項２０に記載の光学部材の位置調整方法。  
【請求項２２】
露光ビームで光学部材を介してマスクを照明し、前記露光ビームで前記マスク及び投影光学系を介して物体を露光する露光装置であって、
前記光学部材と前記投影光学系を構成する複数の光学部材とのうち、第１の光学部材と第２の光学部材とを請求項１から７のいずれか一項に記載の光学部材保持装置で保持することを特徴とする露光装置。
【請求項２３】
前記マスクとして反射型マスクが用いられ、
前記マスクを照明するための光学部材及び前記投影光学系を構成する複数の光学部材はすべてミラーであり、
前記各ミラーの反射面には極端紫外光を反射させるための多層膜が設けられていることを特徴とする請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２４】
露光ビームで第１の光学系を介してマスクを照明し、前記露光ビームで前記マスク及び第２の光学系を介して物体を露光する露光装置であって、
前記第１の光学系を構成する複数の光学部材のうち、第１光学部材と、前記第２の光学系を構成する複数の光学部材のうち、第２光学部材とを請求項１から１６のいずれか一項に記載の光学部材保持装置で保持することを特徴とする露光装置。
【請求項２５】
リソグラフィ工程を用いてデバイスを製造する方法において、
前記リソグラフィ工程で請求項２２又は２４に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の光学部材を保持する光学部材保持装置、複数の光学部材の位置を調整する位置調整方法、その光学部材保持装置で照明光学系及び投影光学系中の複数の光学部材を保持する露光装置、並びに露光装置を用いたデバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体素子、液晶表示素子等を製造するためのリソグラフィ工程では、マスクとしてのレチクルに形成されたパターンを、投影光学系を介してレジスト等が塗布されたウエハ又はガラスプレート等の基板上に転写する露光装置が用いられている。この種の露光装置としては、近年では、ステッパ等の一括露光方式及びスキャニングステッパ等の走査露光型の投影露光装置が主に用いられている。【０００３】
露光装置では、従来、露光ビーム（露光用の照明光）として水銀ランプからの輝線（例えばｉ線）やＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）のような紫外光が使用されていた。最近ではより高い解像度を得るために、露光ビームとしてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）などの遠紫外光やＦ2 レーザ光（波長１５７ｎｍ）のような真空紫外光を使用する露光装置の開発も行われている。【０００４】
さらに、より微細な半導体素子等を製造するために、最近では、露光ビームとして波長が１００ｎｍ程度以下の軟Ｘ線領域の光、すなわち極端紫外光（以下、ＥＵＶ（Extreme Ultraviolet)光と呼ぶ。）を使用するＥＵＶ露光装置の開発も行われている。このＥＵＶ露光装置では、ＥＵＶ光が透過する光学材料が現時点では存在しないため、照明光学系及び投影光学系は全て反射光学素子（ミラー）によって構成され、レチクルもまた反射型レチクルが使用される。【０００５】
投影光学系として、屈折系、反射屈折系、及び反射系のいずれを用いる場合であっても、レチクルパターンの像を高解像度でウエハ上に転写するためには投影光学系の結像特性（諸収差）を調整することが必要であり、そのための手段として、投影光学系を構成する少なくとも一部の光学部材の位置・姿勢を調整する調整機構が一般的に採用される。この位置・姿勢の調整機構としては、レバーと、このレバーの動きを機械的に縮小する機構とを用いる機構が知られている（例えば、特許文献１参照）。その他の位置・姿勢の調整機構として、パラレルリンクメカニズムを採用したパラレルリンク式調整機構も知られている。
【特許文献１】特開２００２−１３１６０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来のように、紫外光、遠紫外光、あるいは真空紫外光を露光ビームとして用いる場合には、レチクルは透過照明が可能であり、照明光学系と投影光学系とは完全に分離できる。そのため、一方の光学系の光学部材の保持機構を設計する際に、他方の光学系を考慮する必要はなかった。しかしながら、ＥＵＶ露光装置においては、レチクルも含めて全部の光学部材が反射部材であるため、一方の光学系（例えば、投影光学系）の鏡筒中に、他方の光学系（例えば、照明光学系）を構成する一部の光学部材（ミラー）を配置する必要がある。例えば、一部の光学部材としては、照明光学系を構成する複数のミラーのうち、最もレチクル側に配置されるミラーがある。このように一方の光学系の鏡筒中に、他方の光学系を構成する一部の光学部材を配置する際、各光学系の光学部材が露光ビームとしてのＥＵＶ光を遮光しないように、かつ複数の光学部材間の相対位置を容易に調整できるように保持機構を設計する必要がある。【０００７】
本発明は斯かる点に鑑み、異なる２つの光学系の光学部材が共通の鏡筒内に混在するような場合にも、複数の光学部材をそれらの相対位置が容易に調整できるように保持できる光学部材保持技術を提供することを目的とする。さらに本発明は、そのような光学部材保持技術を用いた露光技術を提供することをも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明による第１の光学部材保持装置は、複数の光学部材（Ｍ４，Ｍ）を鏡筒（１２Ｃ，１２Ｄ）内に保持する光学部材保持装置であって、その複数の光学部材のうち、第１の光学部材（Ｍ）を保持する第１保持部（３２）と、その複数の光学部材のうち、第２の光学部材（Ｍ４）を保持する第２保持部（２１）と、その鏡筒に取り付けられ、その第１保持部及びその第２保持部を支持する支持台（２５Ｃ，３１）と、その支持台に取り付けられ、その第１保持部とその第２保持部との相対位置を調整する調整機構（１３Ｄ，１３Ｍ）とを備えたものである。
本発明による第２の光学部材保持装置は、第１光学系を構成する複数の光学部材のうち、第１光学部材（Ｍ）を保持する第１保持部（３２）と、その第１光学系とは異なる第２光学系を構成する複数の光学部材のうち、第２光学部材（Ｍ４）を保持する第２保持部（２１）と、その第１保持部を介してその第１光学部材を収容すると共に、その第２保持部を介してその第２光学部材を収容する鏡筒（１２Ｃ，１２Ｄ）と、その第１保持部とその第２保持部との相対位置を調整する調整機構（１３Ｄ，１３Ｍ）とを備えたものである。【０００９】
斯かる本発明によれば、その第１及び第２の光学部材が異なる光学系に属するような場合にも、その２つの光学部材を共通の鏡筒内に配置して、かつその調整機構によってそれらの相対位置を容易に調整できる。
また、本発明による第１の光学部材の位置調整方法は、複数の光学部材のうち、第１の光学部材（Ｍ）及び第２の光学部材（Ｍ４）の位置を調整する調整方法であって、その第１の光学部材及びその第２の光学部材は、鏡筒（１２Ｃ，１２Ｄ）に取り付けられた支持台（２５Ｃ，３１）に対して相対位置が調整可能に設けられ、その支持台に対するその第１の光学部材の位置に応じて、その第２の光学部材の位置を調整するものである。
本発明による第２の光学部材の位置調整方法は、光学部材の位置を調整する調整方法であって、第１光学系を構成する複数の光学部材のうち、第１光学部材（Ｍ）と、その第１光学系とは異なる第２光学系を構成する複数の光学部材のうち、第２光学部材（Ｍ４）とを鏡筒（１２Ｃ，１２Ｄ）に収容し、その第１光学部材の位置を調整した後、第２光学部材の位置を調整するものである。【００１０】
本発明によれば、その第１及び第２の光学部材が異なる光学系に属するような場合にも、その２つの光学部材を共通の鏡筒内に配置して、かつそれらの相対位置を容易に調整できる。
また、本発明による第１の露光装置は、露光ビームで光学部材（Ｍ）を介してマスク（Ｒ）を照明し、その露光ビームでそのマスク及び投影光学系（ＰＯ）を介して物体（Ｗ）を露光する露光装置であって、その光学部材とその投影光学系を構成する複数の光学部材とのうち、第１の光学部材（Ｍ）と第２の光学部材（Ｍ４）とを本発明の光学部材保持装置で保持するものである。
本発明による第２の露光装置は、露光ビームで第１の光学系を介してマスク（Ｒ）を照明し、その露光ビームでそのマスク及び第２の光学系（ＰＯ）を介して物体（Ｗ）を露光する露光装置であって、その第１の光学系を構成する複数の光学部材のうち、第１光学部材（Ｍ）と、その第２の光学系を構成する複数の光学部材のうち、第２光学部材（Ｍ４）とを本発明の光学部材保持装置で保持するものである。
なお、以上の本発明の所定要素に付した括弧付き符号は、本発明の一実施形態を示す図面中の部材に対応しているが、各符号は本発明を分かり易くするために本発明の要素を例示したに過ぎず、本発明をその実施形態の構成に限定するものではない。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、第１及び第２の光学部材が異なる光学系に属するような場合にも、それらの光学部材を共通の鏡筒内に配置し、かつそれらの相対位置を容易に調整できる。特に、本発明をＥＵＶ露光装置に適用した場合には、例えば同じ鏡筒内に照明光学系の光学部材と投影光学系の光学部材とを容易に相対位置が調整できる状態で配置できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態の一例の露光装置の概略構成を示す一部を切り欠いた図である。
【図２】図１の投影光学系ＰＯ内の照明光の光路を示す断面図である。
【図３】（Ａ）は投影光学系ＰＯを構成する複数のミラーを斜め上方から見た斜視図、（Ｂ）はその複数のミラーを斜め下方から見た斜視図である。
【図４】図１の投影光学系ＰＯの鏡筒及びミラーの保持調整機構を示す断面図である。
【図５】図４中の鏡筒ユニット１２Ｃ及び１２Ｄを示す斜視図である。
【図６】図５の構成から上方の鏡筒ユニット１２Ｄ及び支持板２５Ｃを取り外した状態を示す斜視図である。
【図７】図６を照明光学系側（−Ｙ方向）から見た側面図である。
【図８】図６のスライド部材３５及び駆動板３４を−Ｘ方向から見た側面図である。
【符号の説明】
【００１３】
１０…露光装置、Ｒ…レチクル（マスク）、ＰＯ…投影光学系、Ｍ４…ミラー、Ｍ…ミラー、Ｗ…ウエハ（物体）、１１…フランジ、１２Ａ〜１２Ｅ…鏡筒ユニット、１３Ｄ…保持調整機構、１３Ｍ…保持調整機構、３５…スライド部材、３６Ａ，３６Ｂ…Ｙ軸駆動機構、４０Ａ〜４０Ｃ…駆動機構、４８Ａ〜４８Ｅ…センサ
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態の一例につき図面を参照して説明する。本例は、露光ビームとして極端紫外光、即ちＥＵＶ（Extreme Ultraviolet)光を使用するＥＵＶ露光装置に本発明を適用したものである。
図１には、本例の露光装置１０の全体構成が概略的に示されている。この露光装置１０では、後述するように、投影光学系ＰＯが使用されているので、以下では、投影光学系ＰＯの光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面内で図１における紙面内左右方向にＹ軸を取り、紙面に直交する方向にＸ軸を取って説明する。露光装置１０は、マスクとしてのレチクルＲに形成された回路パターンの一部の像を投影光学系ＰＯを介して物体としてのウエハＷ上に投影しつつ、レチクルＲとウエハＷとを投影光学系ＰＯに対して１次元方向（ここではＹ方向）に相対走査する。この相対走査によって、レチクルＲの回路パターンの全体をウエハＷ上の複数のショット領域の各々にステップ・アンド・スキャン方式で転写するものである。【００１５】
露光装置１０は、軟Ｘ線領域の光、即ち波長１００ｎｍ程度以下の極端紫外光（ＥＵＶ光）を露光用の照明光ＥＬ（露光ビーム）として射出する光源装置１、この光源装置１からの照明光ＥＬを反射して所定の入射角、例えば約５０ｍｒａｄでレチクルＲのパターン面（下面）に入射させる光路折り曲げ用のミラーＭを含む照明光学系、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲのパターン面で反射された照明光ＥＬをウエハＷの被露光面（上面）に対して垂直に投射する投影光学系ＰＯ、及びウエハＷを保持するウエハステージＷＳＴ等を備えている。なお、ミラーＭは、平面ミラーで形成され、投影光学系ＰＯの鏡筒２の内部に配置されているが、実際には照明光学系を構成する複数の光学部材のうちの一つである。光源装置１としては、一例として、レーザ励起プラズマ光源が用いられている。また、照明光ＥＬとしては、一例として、主に波長５〜２０ｎｍ、例えば波長１１ｎｍのＥＵＶ光が用いられる。ＥＵＶ光は、空気中を通過できない（空気中では、ＥＵＶ光のエネルギが減衰されてしまう）ため、露光装置１０は不図示の真空チャンバ内に収容されている。【００１６】
前記照明光学系は、複数の光学部材、すなわち、照明用ミラー、波長選択窓等（いずれも図示省略）、及びミラーＭ等を含んで構成されている。また、光源装置１内には、集光ミラーとしての放物面鏡が配置されており、この放物面鏡も照明光学系を構成する一部の光学部材としてもよい。ミラーＭは、照明光学系を複数の照明用ミラーのうち、最もレチクルＲ側に配置される。このミラーＭは、光源装置１から射出され、かつ照明光学系内の照明ミラーを介した照明光ＥＬをレチクルＲに向けて反射し、レチクルＲのパターンの一部の領域を円弧スリット状で照明する。
前記レチクルステージＲＳＴは、ＸＹ平面に沿って配置されたレチクルベース３上に配置され、駆動装置４を構成する例えば磁気浮上型２次元リニアアクチュエータが発生する磁気浮上力によってレチクルベース３上に非接触状態で支持されている。レチクルステージＲＳＴは、駆動装置４が発生する駆動力によってＹ方向に所定ストロークで駆動されるとともに、Ｘ方向及びθｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）にも微小量駆動される。また、レチクルステージＲＳＴは、駆動装置４が複数箇所で発生する磁気浮上力の調整によってＺ方向、Ｘ軸回りの回転方向（θｘ方向）、及びＹ軸回りの回転方向（θｙ方向）にも微小量だけ駆動可能である。【００１７】
レチクルステージＲＳＴの下面側に不図示の静電チャック方式（又はメカチャック方式）のレチクルホルダが設けられ、該レチクルホルダによってレチクルＲが吸引によって保持されている。このレチクルＲとしては、照明光ＥＬがＥＵＶ光であることから反射型レチクルが用いられている。レチクルＲは、シリコンウエハ、石英、低膨張ガラスなどの薄い板状の部材から成り、そのパターン面には、ＥＵＶ光を反射する反射膜が形成されている。この反射膜は、モリブデンＭｏとベリリウムＢｅとの膜が交互に約５．５ｎｍの周期で、約５０ペア積層された多層膜である。この多層膜は波長１１ｎｍのＥＵＶ光に対して約７０％の反射率を有する。なお、ミラーＭ、その他の照明光学系及び投影光学系ＰＯ内の各ミラーの反射面にも同様の構成の多層膜が形成されている。レチクルＲのパターン面に形成された多層膜上には、吸収層として例えばニッケルＮｉ又はアルミニウムＡｌが一面に塗布され、その吸収層にパターンニングが施されて反射部としての回路パターンが形成されている。その回路パターンで反射されたＥＵＶ光（照明光ＥＬ）が投影光学系ＰＯに向かう。【００１８】
レチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）のＸＹ面内の位置（Ｘ，Ｙ，θｚ）は、レチクルステージＲＳＴに設けられた（又は形成された）反射面にレーザビームを投射するレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）５Ｒによって、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出される。また、レチクルＲのＺ方向の位置及びＸＹ面に対する傾斜角（θｘ，θｙ）は、そのパターン面に対し斜め方向から検出ビームを照射する送光系６Ｒａと、そのパターン面で反射された検出ビームを受光する受光系６Ｒｂとから構成されるフォーカスセンサによって計測されている。このフォーカスセンサとしては、例えば特開平６−２８３４０３号公報（対応米国特許第５，４４８，３３２号）等に開示される多点焦点位置検出系が用いられている。レチクル干渉計５Ｒ及びフォーカスセンサ（６Ｒａ，６Ｒｂ）の計測値は、主制御装置（不図示）に供給され、この主制御装置がその計測値に基づいて駆動部４を介してレチクルステージＲＳＴ（レチクルＲ）を６自由度で駆動する。【００１９】
投影光学系ＰＯは、開口数ＮＡが例えば０．１で、反射光学素子（ミラー）のみから成る反射光学系が使用されており、本例の投影倍率は１／４倍である。投影光学系ＰＯの鏡筒２には、ミラーＭに入射する照明光ＥＬ及びレチクルＲに入射して反射される照明光ＥＬをそれぞれ通過させるための開口２ａ及び２ｂが形成され、投影光学系ＰＯからウエハＷに入射する照明光ＥＬを通過させるための開口（不図示）も形成されている。レチクルＲによって反射された照明光ＥＬは、投影光学系ＰＯを介してウエハＷ上に投射され、これによりレチクルＲ上のパターンは１／４に縮小されてウエハＷに転写される。【００２０】
前記ウエハステージＷＳＴは、ＸＹ平面に沿って配置されたウエハベース７上に配置され、例えば磁気浮上型２次元リニアアクチュエータから成る駆動装置８によってウエハベース７上に非接触状態で支持されている。このウエハステージＷＳＴは、駆動装置８によってＸ方向及びＹ方向に例えば３００〜４００ｍｍの所定ストロ−クで駆動され、θｚ方向にも微小量駆動される。また、ウエハステージＷＳＴは、駆動装置８によってＺ方向及びＸＹ面に対する傾斜方向にも微小量だけ駆動可能である。【００２１】
ウエハステージＷＳＴの上面には、静電チャック方式の不図示のウエハホルダが載置され、該ウエハホルダによってウエハＷが吸引によって保持されている。ウエハステージＷＳＴのＸ方向、Ｙ方向の位置、及びＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の周りの回転角θｘ，θｙ，θｚは、外部に配置されたレーザ干渉計（以下、「ウエハ干渉計」という）５Ｗにより、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。また、投影光学系ＰＯの鏡筒２を基準とするウエハＷのＺ方向の位置及びＸＹ面に対する傾斜角（θｘ，θｙ）は、その被露光面に対し斜め方向から検出ビームを照射する送光系６Ｗａと、その被露光面で反射された検出ビームを受光する受光系６Ｗｂとから構成されるフォーカスセンサによって計測されている。このフォーカスセンサは、レチクルＲ用のフォーカスセンサ（６Ｒａ，６Ｒｂ）と同様の多点焦点位置検出系である。ウエハ干渉計５Ｗ及びフォーカスセンサ（６Ｗａ，６Ｗｂ）の計測値は、不図示の主制御装置に供給され、主制御装置はその計測値及びレチクルステージＲＳＴの位置の計測値に基づいて、駆動装置８を介してウエハステージＷＳＴ（ウエハＷ）を６自由度で駆動する。【００２２】
さらに、本実施形態では、図１に示されるように、投影光学系ＰＯの鏡筒２に、ウエハＷ上のアライメントマークの位置を計測するためのアライメント系ＡＬＧが固定されている。このアライメント系ＡＬＧとしては、いわゆるＦＩＡ（Field Image Alignment)方式のような画像処理方式のセンサやＡＦＭ（原子間力顕微鏡）のような走査型プローブ顕微鏡等を用いることができる。ウエハステージＷＳＴ上面の一端部には、レチクルＲに形成されたパターンの投影像の位置とアライメント系ＡＬＧとの相対位置関係の計測（いわゆるベースライン計測）等を行うための空間像計測部ＦＭが設けられている。【００２３】
次に、投影光学系ＰＯ及び照明光学系中の光路折り曲げ用のミラーＭについて詳細に説明する。図２は、投影光学系ＰＯを構成する複数の光学部材としての６枚のミラーＭ１〜Ｍ６及びミラーＭの配置を示し、この図２において、レチクルＲからウエハＷに向かって、反射面を下方（−Ｚ方向）に向けたミラーＭ２、反射面を下方に向けたミラーＭ４、反射面を上方（＋Ｚ方向）に向けたミラーＭ３、反射面を上方に向けたミラーＭ１、反射面を下方に向けたミラーＭ６、及び反射面を上方に向けたミラーＭ５が配置され、照明光学系の一部であるミラーＭは、ほぼミラーＭ３及びＭ４の反射面を延長した２つの面Ｃａ及びＣｂの間に配置されている。ミラーＭ１〜Ｍ６の反射面は、それぞれ球面又は非球面を有する。さらに、ミラーＭ１〜Ｍ６の反射面を延長した面は、回転対称な面であり、その回転対称軸が投影光学系ＰＯの光軸ＡＸにほぼ一致するように位置調整されている。また、ミラーＭ１，Ｍ２，Ｍ４，Ｍ６は凹面鏡であり、他のミラーＭ３，Ｍ５は凸面鏡である。ミラーＭ１〜Ｍ６それぞれの反射面は、設計値に対して露光波長の約５０分の１から６０分の１以下の凹凸となる加工精度で加工され、ＲＭＳ値（標準偏差）で０．２ｎｍから０．３ｎｍ以下の平坦度誤差のみが残存している。各ミラーの反射面の形状は、計測と加工とを交互に繰り返しながら形成されている。【００２４】
図２の構成において、ミラーＭで上方に反射された照明光ＥＬは、レチクルＲで下方に反射された後にミラーＭ１で上方に反射され、続いてミラーＭ２で下方に反射された後、ミラーＭ３で上方に反射され、ミラーＭ４で下方に反射される。そして、ミラーＭ５で上方に反射された照明光ＥＬは、ミラーＭ６で下方に反射されて、ウエハＷ上にレチクルＲのパターンの像を形成する。【００２５】
図３（Ａ）は、その６枚のミラーＭ１〜Ｍ６を斜め上方から見た斜視図を示し、図３（Ｂ）は、その６枚のミラーＭ１〜Ｍ６を斜め下方から見た斜視図を示している。なお、図３（Ａ）、（Ｂ）では、各ミラーの反射面に、ハッチングが付されている。これらの図から分かるように、ミラーＭ１〜Ｍ６は、それぞれ照明光ＥＬを遮光しないような形状に加工されている。【００２６】
図４は、投影光学系ＰＯの鏡筒及びミラーＭ１〜Ｍ６，Ｍの保持調整機構を示す。投影光学系ＰＯは、ミラーＭ１〜Ｍ６を保持する鏡筒を有し、この鏡筒は、各ミラーＭ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６を保持する円筒状の複数の鏡筒ユニット１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ，１２Ｅ，１２Ｆを有する。この図４において、ミラーＭ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６はそれぞれほぼ鏡筒ユニット１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ，１２Ｄ，１２Ｅ，１２Ｆ内に保持調整機構１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ，１３Ｄ，１３Ｅ，１３Ｆによって、不図示のコラム等に対してＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の位置、及びＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の周りの回転角の６自由度で移動（駆動）可能に保持されている。なお、鏡筒ユニット１２Ｄのみは、ミラーＭ４を配置するために＋Ｙ方向の側面が切り欠かれており、その−Ｙ方向の内部に照明光学系のミラーＭが配置されている。また、鏡筒ユニット１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｅ，１２Ｆ内にそれぞれリング状の支持板２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｅ，２５Ｆが固定され、保持調整機構１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｆは、それぞれ支持板２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｆ上に固定され、保持調整機構１３Ｅは支持板２５Ｅの底面に固定されている。【００２７】
図５は、図４中の鏡筒ユニット１２Ｃ及び１２Ｄ（鏡筒）を示し、この図５において、鏡筒ユニット１２Ｃの上面の−Ｙ方向側及び＋Ｙ方向側にそれぞれ照明光ＥＬを通過させる開口が形成された半円板状の支持板３１及び２５Ｃ（支持台）が固定され、支持板２５Ｃ上に保持調整機構１３Ｄ（第２調整機構）を介してミラーＭ４（第２の光学部材）を保持するインナーリング２１（第２保持部）が支持され、支持板３１上に保持調整機構１３Ｍ（第１調整機構）を介して保持部材３２（第１保持部）中に収納されたミラーＭ（第１の光学部材）が支持されている。保持調整機構１３Ｄ及び１３Ｍは全体として、ミラーＭ４とミラーＭとの相対位置を調整する調整機構として使用される。鏡筒ユニット１２Ｃ及び１２Ｄの−Ｙ方向の側面、即ちミラーＭの反射面に対向する部分には照明光ＥＬを通過させるための開口１２Ｃａ及び１２Ｄａが形成されている。開口１２Ｃａ及び１２Ｄａを通して保持調整機構１３Ｍの調整を行うことも可能である。【００２８】
図４に戻り、支持板２５Ｃの底面に保持調整機構１３Ｃが固定されている。また、不図示のコラムに大型のリング状のフランジ１１が固定され、フランジ１１の底面にワッシャ１４Ａを介してボルト１５によって鏡筒ユニット１２Ａが固定され、鏡筒ユニット１２Ａの底面にワッシャ１４Ｆを介してボルト１６及びナット１７によって鏡筒ユニット１２Ｆが固定され、鏡筒ユニット１２Ｆの底面にワッシャ１４Ｅを介してボルト（不図示）によって鏡筒ユニット１２Ｅが固定されている。さらに、鏡筒ユニット１２Ｅの下面には、鏡筒ユニット１２Ｅ内のミラーＭ５を覆うように、照明光を通過させる開口が形成された鏡筒ユニット１２Ｈが固定されている。【００２９】
また、フランジ１１の上面にワッシャ１４Ｃを介してボルト（不図示）によって鏡筒ユニット１２Ｃが固定され、鏡筒ユニット１２Ｃの上面にボルト（不図示）によって鏡筒ユニット１２Ｄが固定され、鏡筒ユニット１２Ｄの上面にワッシャ１４Ｂを介してボルト及びナット（不図示）によって鏡筒ユニット１２Ｂが固定されている。鏡筒ユニット１２Ｂの上面には、鏡筒ユニット１２Ｂ内のミラーＭ２を覆うように、照明光を通過させる開口が形成された鏡筒ユニット１２Ｇが固定されている。本例では、フランジ１１、鏡筒ユニット１２Ａ〜１２Ｈ、ワッシャ１４Ａ〜１４Ｆ、及びこれらを固定するためのボルトやナット等から図１の投影光学系ＰＯの鏡筒２が構成されている。鏡筒ユニット１２Ａ〜１２Ｈ及びフランジ１１は、ステンレス等の脱ガスの少ない材料にて形成されている。【００３０】
上記の保持調整機構１３Ａ〜１３Ｆのうち、保持調整機構１３Ａ〜１３Ｅの構成は、大きさは異なるが基本的に同一であるため、そのうちの保持調整機構１３Ａの構成につき説明する。即ち、フランジ１１の底面にワッシャ１４Ａを介して鏡筒ユニット１２Ａが固定され、鏡筒ユニット１２Ａ内の支持板２５Ａ上に、保持調整機構１３Ａを介してミラーＭ１が保持されている。保持調整機構１３Ａは、ミラーＭ１を保持するインナーリング２１（保持部）と、これに対してＺ方向に離れて配置されたアウターリング２３と、アウターリング２３に対してインナーリング２１のＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の位置、及びＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の周りの角度からなる６自由度の相対位置をアクティブに微調整するパラレルリンク機構２２と、支持板２５Ａに対してアウターリング２３のＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の位置、及びＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の周りの角度からなる６自由度の相対位置を調整する半固定式のレバー方式調整機構２４とを備えている。パラレルリンク機構２２は、例えばピエゾ素子のような駆動素子によって独立に伸縮量が制御可能な６個のロッド状のリンク４７Ａ，４７Ｂ，４７Ｃ，４７Ｄ，４７Ｅ，４７Ｆを備え、レバー方式調整機構２４は、例えば特開２００２−１３１６０５号公報に開示されているように、それぞれ保持対象の光学部材の光軸方向及び円周方向の２自由度の変位を制御できる３個のテコの原理を用いた駆動部４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃを備えている。【００３１】
また、ワッシャ１４Ａの厚さを調整することで不図示のコラムに対する鏡筒ユニット１２Ａ、ひいてはミラーＭ１を保持するインナーリング２１のＺ方向（ミラーＭ１の光軸方向）の位置を制御できる。また、ボルト１５の径に比べて鏡筒ユニット１２Ａに設けられたボルト用の孔の径が或る程度大きいことを利用して、不図示の調整治具を用いて、不図示のコラムに対する鏡筒ユニット１２ＡのＸ方向、Ｙ方向の位置を調整することも可能である。これは、ミラーＭ４の保持調整機構１３Ｄを含む他の保持調整機構１３Ｂ〜１３Ｅにおいても同様である。ただし、保持調整機構１３Ｃ及び１３Ｄにおいては、ワッシャ１４Ｃは兼用されている。【００３２】
これに対して、保持調整機構１３Ｆは、ミラーＭ６を保持する円筒状の保持部材２１Ｆと、支持板２５Ｆに対して保持部材２１Ｆ（ミラーＭ６）を駆動するレバー方式調整機構２４とから構成されている。即ち、保持調整機構１３Ｆにおいては、保持調整機構１３Ａと比べてパラレルリンク機構２２が省略されている。なお、ミラーＭ６についても、保持調整機構１３Ａと同様に２種類の調整機構を設けてもよいことは言うまでもない。また、ミラーＭ１〜Ｍ６のうちの少なくとも１枚のミラーについては、保持調整機構１３Ａと同様の保持調整機構で保持し、他のミラーについては、保持調整機構１３Ｆと同様の保持調整機構で保持してもよい。【００３３】
次に、図５中のミラーＭ用の保持調整機構１３Ｍの構成につき図６〜図８を参照して詳細に説明する。
図６は、図５の構成から上側の鏡筒ユニット１２Ｄ及び支持板２５Ｃを取り外した状態を示す斜視図、図７は図６を照明光学系側（−Ｙ方向）から見た側面図である。図６に示すように、鏡筒ユニット１２Ｃの上面には、支持板３１が固定されており、この支持板３１の上面はほぼＸＹ平面に平行である。支持板３１の上面には、Ｘ方向の両側面が三角形の枠状に形成されたスライド部材３５が、ガイド部材３６（図８参照）に沿ってＹ方向に移動可能に載置されている。スライド部材３５の−Ｙ方向の斜面に所定の可変間隔を隔てて平板状の駆動板３４が配置され、駆動板３４の−Ｙ方向の上面にミラーＭを収納した保持部材３２がＸ方向の２箇所の固定部３３Ａ，３３Ｂ（図７参照）、及び−Ｚ方向の固定部（不図示）で固定されている。【００３４】
なお、本例のミラーＭの上部には、レチクルで反射された照明光ＥＬを下方のミラーＭ１側（図２参照）に通過させるための半円状の切り欠き部Ｍａが形成され、駆動板３４、スライド部材３５、及び支持板３１にもそれぞれその照明光ＥＬを通過させる開口が形成されている。
図６において、駆動板３４は、上方の１箇所の駆動機構４０Ａと、下方においてＸ方向に所定間隔で２箇所に配置された駆動機構４０Ｂ及び４０Ｃ（図７参照）とにおいてそれぞれスライド部材３５のその斜面に対して法線方向に駆動される。この場合、下方の２箇所の駆動機構４０Ｂ，４０Ｃ（第２調整部）の駆動量を異ならしめることによって、保持部材３２（ミラーＭ）をこのミラーＭの反射面（光学表面）に平行でＹＺ平面内にある第１軸の周りに角度θＹＺだけ傾斜させることができる。また、駆動機構４０Ａ〜４０Ｃ（第３調整部）を用いて、下方の２箇所の駆動機構４０Ｂ，４０Ｃの駆動量を等しくし、かつこの駆動量に対して上方の１箇所の駆動機構４０Ａの駆動量を異ならしめることによって、保持部材３２（ミラーＭ）をこのミラーＭの反射面に平行でＸ軸に平行な第２軸（上記の第１軸に直交する軸）の周りに角度θＸだけ傾斜させることができる。【００３５】
また、図７に示すように、スライド部材３５、ひいては保持部材３２（ミラーＭ）は、支持板３１上にＸ方向に所定間隔で設けられた２箇所のＹ軸駆動機構３６Ａ及び３６Ｂ（第１調整部）によってＹ方向、即ち鏡筒ユニット１２Ｃの中心から半径方向に沿って駆動される。さらに、３箇所の駆動機構４０Ａ〜４０Ｃの駆動量を等しくして、この際の保持部材３２（ミラーＭ）のＹ方向への変位を相殺するようにＹ軸駆動機構３６Ａ，３６Ｂでスライド部材３５、ひいては保持部材３２（ミラーＭ）をＹ方向に駆動することで、ミラーＭをＺ方向にのみ駆動することもできる。このようにスライド部材３５、駆動板３４、Ｙ軸駆動機構３６Ａ，３６Ｂ、及び駆動機構４０Ａ〜４０Ｃを含んで、保持部材３２及びミラーＭのＹ方向、Ｚ方向の位置と、角度θＹＺ及びθＸとを調整するための保持調整機構１３Ｍが構成されている。なお、ミラーＭの反射面に平行な面内でのミラーＭの変位、即ちミラーＭのＸ方向及びその反射面の法線の周りの回転方向の変位は、その反射面で反射される照明光ＥＬの光路に影響しない。そこで、本例ではミラーＭをＸ方向及びその反射面の法線の周りの回転方向に駆動する機構は備えていない。【００３６】
この構成では、２箇所のＹ軸駆動機構３６Ａ，３６Ｂを取り外して、スライド部材３５を−Ｙ方向に移動させることで、保持調整機構１３Ｍと保持部材３２（ミラーＭ）とを一体的に鏡筒ユニット１２Ｃから容易に取り外すことが可能である。また、逆の動作を行うことによって、外部で組み立てた保持調整機構１３Ｍと保持部材３２（ミラーＭ）とを一体的に容易に鏡筒ユニット１２Ｃの支持板３１上に組み込むことが可能である。この際に、鏡筒ユニット１２Ｃには開口１２Ｃａが設けてあるため、保持部材３２と鏡筒ユニット１２Ｃとが機械的に干渉することがない。【００３７】
本例の２つのＹ軸駆動機構３６Ａ，３６Ｂの構成は同じであり、３つの駆動機構４０Ａ〜４０Ｃの構成は同様であるため、一方のＹ軸駆動機構３６Ａ及び１つの駆動機構４０Ａの構成につき図８を参照して説明する。
図８は、図６のスライド部材３５及び駆動板３４を−Ｘ方向から見た側面図であり、この図８において、Ｙ軸駆動機構３６Ａは、支持板３１上に固定された固定部材３７と、この固定部材３７の貫通孔を通してＹ軸に沿ってスライド部材３５の端部に設けられたねじ部３５ａに螺合するボルト３８と、このボルト３８を固定部材３７に対して相対的に固定するための１対のＥリング３９Ａ，３９Ｂとから構成されている。Ｅリング３９Ａ，３９Ｂは、固定部材３７を挟むようにボルト３８の軸に設けられた溝に装着されている。この構成でボルト３８を回転することによって、固定部材３７に対してスライド部材３５及び保持部材３２（ミラーＭ）を＋Ｙ方向又は−Ｙ方向に駆動することができる。なお、ボルト３８は作業者がマニュアルで操作してもよいし、モータで自動的に操作してもよい。【００３８】
一方、駆動機構４０Ａは、駆動板３４の上側の端部に固定された固定部材４２と、この固定部材４２の貫通孔を通して配置されたボルト４３と、このボルト４３を固定部材４２に対して相対的に固定するための１対のＥリング４５Ａ，４５Ｂと、スライド部材３５の上部に固定された取付部材４６と、この取付部材４６の固定部材４２に対向する面に固定されるとともに、ボルト４３に螺合するねじ部４４ｃが形成されたフレキシャ部材４４（弾性部材）とから構成されている。Ｅリング４５Ａ，４５Ｂは、固定部材４２の先端部を挟むようにボルト４３の軸に設けられた溝に装着されている。また、フレキシャ部材４４には、互いに直交する方向に２箇所の溝部４４ａ及び４４ｂが形成されているため、駆動機構４０Ａを駆動する際に駆動板３４に不要な応力が作用しない。この構成でボルト４３を操作することによって、スライド部材３５に対して固定部材４２を介して駆動板３４（ひいてはミラーＭ）を、スライド部材３５の斜面に垂直な方向に駆動することができる。他の下方の駆動機構４０Ｂ，４０Ｃも駆動機構４０Ａと同様に構成されているが、駆動機構４０Ｂ，４０Ｃのフレキシャ部材４４はスライド部材３５の斜面に設けられた凹部に設置されている点が異なっている。なお、ボルト４３は、ボルト３８と同様、作業者がマニュアルで操作してもよいし、モータで自動的に操作するようにしてもよい。この際に、本例のＹ軸駆動機構３６Ａ，３６Ｂのボルト３８、及び駆動機構４０Ａ〜４０Ｃのボルト４３の回転部は鏡筒ユニット１２Ｃの半径方向の外側を向いているため、開口１２Ｃａ等を通して外部から容易に調整すること可能である。【００３９】
また、ミラーＭの駆動量を検出する静電容量型のセンサが設けられている。図７及び図８に示すように、静電容量センサは、駆動板３４に固定された被検出部４９Ａ，４９Ｂ，４９Ｃ，４９Ｄ，４９Ｅと、この被検出部のそれぞれに対向して配置される検出部４８Ａ，４８Ｂ，４８Ｃ，４８Ｄ，４８Ｅとを備える。検出部４８Ａ〜４８Ｅは一例として図５の上方の鏡筒ユニット１２Ｄに固定されるが、投影光学系ＰＯの組立調整中には不図示の調整用のコラム等に固定してもよい。そして、図７の左側に配置された１対のセンサ４８Ａ，４８Ｂの検出結果の差分から図６のミラーＭの角度θＸが求められ、図７のＸ軸に沿って配列された１対のセンサ４８Ａ，４８Ｃの検出結果の差分から図６のミラーＭの角度θＹＺが求められ、図７の駆動板３４の上端にＸ軸に沿って配列された１対のセンサ４８Ｄ，４８Ｅの検出結果からミラーＭのＺ方向の駆動量とＹ軸の周りの回転角とが求められる。さらに、例えば３つのセンサ４８Ａ〜４８Ｃの検出結果の平均値からミラーＭのＹ方向の駆動量が求められる。なお、ミラーＭの駆動量とは、図５のミラーＭ４に対するミラーＭの相対位置の変化量とみなすことも可能である。また、ミラーＭの駆動量は、静電容量型のセンサの他に、磁気式や光学式等のセンサも使用してもよい。【００４０】
図５に戻り、本例の投影光学系ＰＯのミラーＭ４及びミラーＭの位置の調整時には、一例として先ず保持調整機構１３Ｍを用いて照明光学系の一部であるミラーＭの位置及び角度を図１のレチクルＲ、あるいは照明光学系１の他のミラー等の目標位置及び目標角度に対して調整する。例えば、照明光学系を構成する他のミラーの光軸に対して、ミラーＭの光軸を調整する。本例の照明光学系及び投影光学系ＰＯは反射系であるため、調整時には可視光等を使用することも可能である。次に、投影光学系ＰＯ中の光学部材であるミラーＭ４の位置調整を行う際に、図４のワッシャ１４Ｃの厚さ等を調整して鏡筒ユニット１２Ｃの位置そのものを調整することがある。この場合には、照明光学系の一部であるミラーＭの位置や角度が、目標位置や目標角度からずれてしまう。そこで、鏡筒ユニット１２Ｃの位置の調整量に基づく、ミラーＭのずれ量を相殺するように、保持調整機構１３ＭでミラーＭの位置及び角度を調整する。即ちミラーＭ４に対するミラーＭの相対位置を調整することによって、ミラーＭの位置及び角度をミラーＭの位置を変えることなく、目標位置及び目標角度になるように再調整する。その後、必要があれば、保持調整機構１３ＤでミラーＭ４の位置及び角度の微調整を行うことで、ミラーＭ４及びミラーＭをそれぞれ目標位置に容易にかつ迅速に調整することができる。【００４１】
その後、図１の露光装置１０を用いた露光開始前又は定期的に、オペレータによってテストプリント等によって投影光学系ＰＯの結像特性が計測され、その結像特性の計測結果に基づいて不図示のミラー制御装置により図４の保持調整機構１３Ａ〜１３Ｅ内のパラレルリンク機構２２を駆動して、投影光学系ＰＯの波面収差、又は所定の結像特性（例えば像面湾曲、非点収差、コマ収差、球面収差及び歪曲収差など）を補正することもできる。これによって、常に高精度に露光を行うことができる。【００４２】
この際に、露光装置１０では、極めて波長の短いＥＵＶ光を照明光ＥＬとして用い、色収差のない反射系の投影光学系ＰＯを介してレチクルＲのパターンがウエハＷ上に転写されるので、レチクルＲ上の微細パターンをウエハＷ上の各ショット領域に高精度に転写することができる。具体的には、最小線幅７０ｎｍ程度以下の微細パターンの高精度な転写が可能である。【００４３】
なお、上記実施形態では、図５の鏡筒ユニット１２Ｃの支持板２５Ｃ，３１上には投影光学系ＰＯ中のミラーＭ４と照明光学系中のミラーＭとが配置されているが、支持板２５Ｃ，３１上に投影光学系ＰＯ中の複数のミラーと照明光学系中の複数のミラーとが配置されているような場合にも本発明を適用できる。また、上記実施形態では、ミラーＭ４とミラーＭとを支持板２５Ｃ、３１上に配置する構成について説明したが、それぞれ、別々に保持される構成についても本発明を適用することができる。その照明光学系中の複数のミラーは複数の鏡筒ユニットに亘って配置されていてもよい。さらに、本例の投影光学系ＰＯは鏡筒ユニット方式であるが、鏡筒ユニット方式でない場合にも本発明を適用することができる。【００４４】
なお、上記の実施形態の露光装置を用いて半導体デバイスを製造する場合、この半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、このステップに基づいてレチクルを製造するステップ、シリコン材料からウエハを形成するステップ、上記の実施形態の露光装置によりアライメントを行ってレチクルのパターンをウエハに露光するステップ、エッチング等の回路パターンを形成するステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、及び検査ステップ等を経て製造される。【００４５】
また、上記実施形態では、光学部材がミラーの場合について説明したが、本発明がこれに限られるものではなく、光学部材がレンズであっても良い。また、上記実施形態では、露光ビームとしてＥＵＶ光を用い、６枚のミラーのみから成るオール反射の投影光学系を用いる場合について説明したが、これは一例であって、本発明がこれに限定されないことは勿論である。すなわち、例えば、特開平１１−３４５７６１号公報に開示されるような４枚のミラーのみから成る投影光学系を備えた露光装置は勿論、光源に波長１００〜１６０ｎｍのＶＵＶ光源、例えばＡｒ2 レーザ（波長１２６ｎｍ）を用い、４〜８枚のミラーを有する投影光学系などにも好適に適用することができる。また、レンズのみから成る屈折系の投影光学系、レンズを一部に含む反射屈折系の投影光学系のいずれにも、本発明は好適に適用することができる。【００４６】
なお、上記実施形態では、露光光として波長１１ｎｍのＥＵＶ光を用いる場合について説明したが、これに限らず、露光光として波長１３ｎｍのＥＵＶ光を用いても良い。この場合には、波長１３ｎｍのＥＵＶ光に対して約７０％の反射率を確保するため、各ミラーの反射膜としてモリブデンＭｏとケイ素Ｓｉとを交互に積層した多層膜を用いる必要がある。また、上記実施形態では、露光光源としてレーザ励起プラズマ光源を用いるものとしたが、これに限らず、ＳＯＲ（Synchrotron Orbital Radiation)リング、ベータトロン光源、ディスチャージド光源、Ｘ線レーザなどのいずれを用いても良い。【００４７】
このように、本発明は上述の実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得る。また、明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約を含む２００６年１月３０日付け提出の日本国特願２００６−０２０５７６号の全ての開示内容は、そっくりそのまま引用して本願に組み込まれている。
なお、法令で許容される限りにおいて、露光装置などに関する全ての引例の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明をＥＵＶ露光装置に適用した場合には、例えば同じ鏡筒内に照明光学系の光学部材と投影光学系の光学部材とを容易に相対位置が調整できる状態で配置できるため、ＥＵＶ露光装置の組立調整が容易になる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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