(57)【要約】下記式（１）で示される構造を有するジイモニウム塩化合物。2007097368.tif 000011  ただし、式（１）において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、Ｒ１〜Ｒ８のうちの少なくとも一つは下記式（２）、式（３）、アルコキシアルキル基から選択される基である。  −（Ｂ）          （２）  −（Ａ）−（Ｂ）    （３）  ただし、（Ｂ）は炭素数が３〜１０個の環状アルキル基であり、（Ａ）は炭素数が１〜１０個のアルキレン基である。
2007097368.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で示される構造を有することを特徴とするジイモニウム塩化合物。
【化１】
2007097368.tif 000009
ただし、式（１）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、環Ａおよび環Ｂのうちの少なくとも１つは置換基を有していてもよく、Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも一つは下記式（２）で表される環状アルキル基、または下記式（３）で表される環状アルキル基を有するアルキレン基である。
−（Ｂ）            （２）
−（Ａ）−（Ｂ）    （３）
ただし、式（２）および式（３）中において、（Ｂ）は、炭素数が３〜１０個の環状ア
ルキル基であり、（Ｂ）は置換基を有していてもよい。式（３）中において、（Ａ）は炭素数が１〜１０個のアルキレン基あり、（Ａ）は置換基を有していてもよい。
【請求項２】
前記Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも１つは、シクロヘキシルメチル基、４−メチルシクロヘキシル基、シクロヘキシルエチル基、４−エチルシクロヘキシル基、シクロヘキシルプロピル基、４−プロピルシクロヘキシル基、または４−イソプロピルシクロヘキシルメチル基である請求項１に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項３】
前記式（１）におけるＸは、６フッ化リン酸イオンである請求項１に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項４】
前記環Ａおよび前記環Ｂの１，４−位以外は、全て無置換である請求項１に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項５】
前記環Ａおよび前記環Ｂの１，４−位以外は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子およびヒドロキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有する請求項１に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項６】
下記式（４）で示される構造を有することを特徴とするジイモニウム塩化合物。
【化２】
2007097368.tif 000010
ただし、式（４）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、環Ａおよび環Ｂのうちの少なくとも１つは置換基を有していてもよく、Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも一つはアルコキシアルキル基である。
【請求項７】
前記Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも１つは、２−エトキシエチル基、２−プロポキシエチル基、２−イソプロポキシエチル基、２−イソプロポキシメチル基である請求項６に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項８】
前記式（４）におけるＸは、(ＲfＳＯ2)−Ｎ-−（ＳＯ2Ｒf'）で示される陰イオンである請求項６に記載のジイモニウム塩化合物。
ただし、ＲfおよびＲf'は炭素数１〜４のフルオロアルキル基である。
【請求項９】
前記Ｒfおよび前記Ｒf'が同一のパーフルオロアルキル基である請求項８に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項１０】
前記環Ａおよび前記環Ｂの１，４−位以外は、全て無置換である請求項６に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項１１】
前記環Ａおよび前記環Ｂの１，４−位以外は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子およびヒドロキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有する請求項６に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかの項に記載のジイモニウム塩化合物と、樹脂とを含む近赤外線吸収組成物。
【請求項１３】
シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素およびジチオール系色素からなる群から選ばれる少なくとも１種の色素をさらに含む請求項１２に記載の近赤外線吸収組成物。
【請求項１４】
請求項１〜１１のいずれかの項に記載のジイモニウム塩化合物を含む近赤外線吸収フィルタ。
【請求項１５】
シアニン色素、フタロシアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素およびジチオール系色素からなる群から選ばれる少なくとも１種の色素をさらに含む請求項１４に記載の近赤外線吸収フィルタ。
【請求項１６】
基材と、前記基材の一方の主面側に配置された近赤外線吸収層とを備え、
前記近赤外線吸収層は、請求項１〜１１のいずれかの項に記載のジイモニウム塩化合物を含む近赤外線吸収フィルタ。
【請求項１７】
前記基材の前記近赤外線吸収層側の主面の反対側に配置された反射防止層をさらに備えた請求項１６に記載の近赤外線吸収フィルタ。
【請求項１８】
前記基材と前記反射防止層の間に配置されたハードコート層をさらに備えた請求項１７に記載の近赤外線吸収フィルタ。
【請求項１９】
請求項１４に記載の近赤外線吸収フィルタを含むディスプレイ用前面板。
【請求項２０】
請求項１５に記載の近赤外線吸収フィルタを含むディスプレイ用前面板。
【請求項２１】
請求項１６に記載の近赤外線吸収フィルタを含むディスプレイ用前面板。
【請求項２２】
請求項１７に記載の近赤外線吸収フィルタを含むディスプレイ用前面板。
【請求項２３】
請求項１８に記載の近赤外線吸収フィルタを含むディスプレイ用前面板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線フィルタなどの製造に用いられるジイモニウム塩化合物、およびこれ含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型ディスプレイとして様々な形式のディスプレイが開発、商品化されており、その一つにプラズマディスプレイがある。プラズマディスプレイを構成する表示パネル（プラズマディスプレイパネルと呼ばれ、以下「ＰＤＰ」と略する。）においては、２枚のガラス板の間にキセノンとネオンとを含む混合ガスが封入されている。この混合ガスに高電圧をかけると紫外線が発生し、紫外線がガラス板に塗布された蛍光体にあたって、蛍光体が発光する。【０００３】
上記放電の際には、紫外線と同時に波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線も放射される。この近赤外線の波長領域は、近赤外線通信や家庭用電子機器のリモートコントロールの波長域と重なるため、ＰＤＰから放射される近赤外線は、電子機器の誤作動を引き起こす原因となる。そのため、従来からＰＤＰの前面板に、近赤外線吸収能を有するジイモニウム塩化合物を含む近赤外線フィルタを用いて、近赤外線を吸収している（例えば、特許文献１、２参照）。詳細な理由は不明であるが、合成のしやすさや価格、耐久性等の理由から、上記ジイモニウム塩化合物としては、末端基として直鎖状のアルキル基を有する化合物が多用されてきた。また、直鎖状のアルキル基を有する化合物よりも、耐熱性が高い、末端基としてｉｓｏ−ブチル基等の分岐鎖状のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いることも既に開示されている。
【特許文献１】特開昭６１−６９９９１号公報
【特許文献２】特公平６−２６０２８号公報
【特許文献３】特許第３６９９４６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、直鎖状のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物は、湿度に対して変化し易い性質を有している。そのため、これが原因で、経時的に近赤外線吸収能が低下するという問題があった。末端基としてｉｓｏ−ブチル基等の分岐鎖状のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物についても、耐湿熱性について十分ではなく、特に比較的短波長の近赤外線に対する吸収能が経時的に低下するという問題があった。【０００５】
本発明は、耐湿熱性が優れた近赤外線吸収化合物（ジイモニウム塩化合物）、およびこれ含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１のジイモニウム塩化合物は、下記式（１）で示される構造を有することを特徴とする。【０００７】
【化１】
2007097368.tif 000003
【０００８】
ただし、式（１）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、環Ａおよび環Ｂのうちの少なくとも１つは置換基を有していてもよく、Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも一つは下記式（２）で表される環状アルキル基、または下記式（３）で表される環状アルキル基を有するアルキレン基である。
−（Ｂ）            （２）
−（Ａ）−（Ｂ）    （３）
ただし、式（２）および式（３）中において、（Ｂ）は、炭素数が３〜１０個の環状アルキル基であり、（Ｂ）は置換基を有していてもよい。式（３）中において、（Ａ）は炭素数が１〜１０個のアルキレン基あり、（Ａ）は置換基を有していてもよい。【０００９】
本発明の第２のジイモニウム塩化合物は、下記式（４）で示される構造を有することを特徴とする。
【化２】
2007097368.tif 000004
ただし、式（４）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、環Ａおよび環Ｂのうちの少なくとも１つは置換基を有していてもよく、Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも一つはアルコキシアルキル基である。【００１０】
本発明の近赤外線吸収組成物は、本発明の第１のジイモニウム塩化合物または本発明の第２のジイモニウム塩化合物と、樹脂とを含むことを特徴とする。【００１１】
本発明の近赤外線吸収フィルタは、本発明の第１のジイモニウム塩化合物または本発明の第２のジイモニウム塩化合物を含むことを特徴とする。【００１２】
本発明のディスプレイ用前面板は、本発明の上記近赤外線吸収フィルタを含むことを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本実施形態の近赤外線吸収フィルタの一例を示す断面図である。
【図２】本実施形態の近赤外線吸収フィルタの他の例を示す断面図である。
【図３】本実施形態のディスプレイ用前面板の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下本発明の一例について詳細に説明する。【００１５】
（実施形態１）
実施形態１では、本発明の第１のジイモニウム塩化合物について説明する。本発明の第１のジイモニウム塩化合物は、上記式（１）で示される構造をしている。【００１６】
式（１）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンである。１価のアニオンとしては、例えば、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸イオン、硝酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、プロピル硫酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酢酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、マロン酸イオン、オレイン酸イオン、ステアリン酸イオン、クエン酸イオン、二リン酸水素イオン、リン酸二水素イオン、ペンタクロロスズ酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、ジルコン酸イオン、６フッ化リン酸イオン、６フッ化アンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸イオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミド酸イオン、ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド酸イオン、トリフルオロメタンスルホンへプタフルオロプロパンスルホンイミド酸イオン、または、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド酸イオンなどの陰イオンが挙げられる。なかでも、６フッ化リン酸イオンが特に好ましい。【００１７】
２価のアニオンとしては、例えば、ナフタレン−１、５−ジスルホン酸、Ｒ酸、Ｇ酸、Ｈ酸、ベンゾイルＨ酸、ｐ−クロルベンゾイルＨ酸、ｐ−トルエンスルホニルＨ酸、クロルＨ酸、クロルアセチルＨ酸、メタニルγ酸、６−スルホナフチル−γ酸、Ｃ酸、ε酸、ｐ−トルエンスルホニルＲ酸、ナフタリン−１，６−ジスルホン酸、１−ナフトール−４，８−ジスルホン酸、等のナフタレンジスルホン酸誘導体、カルボニルＪ酸、４，４’−ジアミノスチルベン−２，２’−ジスルホン酸、ジＪ酸、ナフタル酸、ナフタリン−２，３−ジカルボン酸、ジフェン酸、スチルベン−４，４’−ジカルボン酸、６−スルホ−２ −オキシ−３−ナフトエ酸、アントラキノン−１，８−ジスルホン酸、１，６−ジアミノアントラキノン−２，７−ジスルホン酸、２−（４−スルホフェニル）−６−アミノベンゾトリアゾール−５−スルホン酸、６−（３−メチル−５−ピラゾロニル）−ナフタレン−１，３−ジスルホン酸、１−ナフトール−６−（４−アミノ−３−スルホ）アニリノ−３−スルホン酸等の２価の有機酸のイオンが挙げられる。【００１８】
環Ａおよび４つの環Ｂのうちの少なくとも１つは、１,４−位以外に１〜４個の置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。上記置換基としては、例えば、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子およびヒドロキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基が挙げられる。低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基などの、炭素数が１〜５個のアルキル基が挙げられる。低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基などの、炭素数が１〜５個のアルコキシ基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子などが挙げられる。【００１９】
環Ａおよび４つの環Ｂのうちの少なくとも１つが置換基を有する場合、その置換基は、ハロゲン原子（特に塩素原子、臭素原子）、メチル基またはシアノ基であると好ましい。【００２０】
４つの環Ｂの全てが置換基を有する場合は、全ての置換基は同じであると好ましい。この場合、置換基の位置は、フェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対してｍ−位であると、合成し易く好ましい。【００２１】
環Ａおよび４つの環Ｂが１,４−位以外に置換基を有していないと、ジイモニウム塩化
合物の合成上よりいっそう好ましい。【００２２】
Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも一つは、上記式（２）で表される環状アルキル基、または式（３）で表される環状アルキル基を有するアルキレン基である。本実施形態のジイモニウム塩化合物は、上記環状アルキル基、または上記環状アルキル基を有するアルキレン基を含んでいるので、環状アルキル基による立体障害により安定性がよい。環状アルキル基の炭素数は、３〜１０個であればよいが、コストの観点から３〜８個が好ましい。アルキレン基（−（ＣＨ2）n−）の炭素数ｎについては１〜１０個であればよい。【００２３】
尚、環状アルキル基が後述の置換基を有する場合、上記「３〜１０個」または「３〜８個」は当該置換基の炭素を含めない数であり、アルキレン基（−（ＣＨ2）n−）が後述の置換基を有する場合、上記「１〜１０個」は当該置換基の炭素を含めない数である。【００２４】
式（２）および式（３）における（Ｂ）、および式（３）における（Ａ）は、置換基を有していてもよい。当該置換基としては、シアノ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基、炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基、アリルオキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基、または炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。【００２５】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基などが挙げられる。炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基としては、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基などが挙げられる。炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基としては、メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基などが挙げられる。炭素数６〜１２のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基などが挙げられる。炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基などが挙げられる。炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基などが挙げられる。炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。【００２６】
より具体的には、上記式（２）で表される環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、４−メチルシクロヘキシル基、４−エチルシクロヘキシル基、４−プロピルシクロヘキシル基などが挙げられる。上記式（３）式で表される環状アルキル基を有するアルキレン基としては、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロヘキシルプロピル基、または４−イソプロピルシクロヘキシルメチル基などが挙げられる。なかでも、コストおよび合成の容易性の観点から、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、４−メチルシクロヘキシル基、４−エチルシクロヘキシル基、４−プロピルシクロヘキシル基、シクロヘキシルプロピル基、または４−イソプロピルシクロヘキシルメチル基などが、特に好ましい。【００２７】
Ｒ1〜Ｒ8は全てが、上記環状アルキル基、および環状アルキル基を有するアルキレン基のうちの何れかであってもよいが、Ｒ1〜Ｒ8のうちの幾つかについては、上記環状アルキル基、または環状アルキル基を有するアルキレン基であり、残りについては、例えば、分岐鎖状または直鎖状のアルキル基であってもよい。分岐鎖状または直鎖状のアルキル基の炭素数は１〜２０個が適当である。直鎖状のアルキル基については、置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。【００２８】
上記分岐鎖状アルキル基としては、例えば、１−メチルエチル基（ｉｓｏ−プロピル基）、１−メチルプロピル基（ｓｅｃ−ブチル基）、１，１−ジメチルエチル基（ｔｅｒｔ−ブチル基）、１，１−ジメチルプロピル基、１−メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、２−メチルプロピル基（ｉｓｏ−ブチル基）、２，２−ジメチルプロピル基、２−メチルブチル基、２−エチルブチル基、３−メチルブチル基（ｉｓｏ−アミル基）、１，１−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、および３，３−ジメチルブチル基などの炭素数１〜２０の分岐鎖状アルキル基が挙げられる。なかでも、炭素数１〜１０の分岐鎖状アルキル基が好ましい。【００２９】
上記直鎖状アルキル基としては、例えば、エチル基、ｎ−プロピル基、またはｎ−ブチル基などが挙げられる。これらの直鎖状アルキル基が置換基を有する場合、当該置換基は、式（２）および式（３）における（Ｂ）、または式（３）における（Ａ）が有する置換基と同様である。すなわち、当該置換基としては、シアノ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基、炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基、アリルオキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基、または炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。【００３０】
次に、本発明の第１のジイモニウム塩化合物の具体例を表１に示す。ただし、本発明の第２のジイモニウム塩化合物は表１に列挙された具体例に限定されない。【００３１】
【表１】
2007097368.tif 000005
【００３２】
表１において、環Ａの１，４−位以外が無置換である場合は「Ｈ」と略記しており、環Ｂについても同様である。Ｒ1〜Ｒ8の全てが、シクロヘキシルメチルである場合は、８（シクロヘキシルメチル）と略記している。Ｒ1〜Ｒ8のうち、いずれか４つがｎ-ブチルであり、残りの４つがシクロヘキシルメチルである場合は、４（ｎ-ブチル）、４（シクロヘキシルメチル）と略記している。【００３３】
本発明の式（１）で示されるジイモニウム塩化合物は、例えば下記の方法により製造できる。【００３４】
まず、例えば、米国特許明細書第３２５１８８１、米国特許明細書第３５７５８７１、特開昭６１−６９９９１号公報などに記載された方法にて、アミノ体を得る。すなわち、まず、［化３］に記載のとおり、p−フェニレンジアミンと１−クロロ-4-ニトロベンゼンを、ウルマン反応および還元反応させて、アミノ体を得る。尚、［化３］における、環Ａおよび環Ｂは上記で定義された通りである。【００３５】
【化３】
2007097368.tif 000006
【００３６】
次いで、例えば、上記表１のＮｏ．１の化合物のように、Ｒ1〜Ｒ8の全ての置換基が同一である化合物（全同一置換体）を得る場合は、３０〜１８０℃、より好ましくは５０〜１５０℃の有機溶剤に、上記アミノ体を溶解し、有機溶剤中で、アミノ体１モルに対して８モルのハロゲン化化合物（（ブロモメチル）シクロヘキサン）を反応させる。これにより、全同一置換体を得ることができる。有機溶剤には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどの水溶性極性溶媒を用いると好ましい。【００３７】
全同一置換体以外の化合物を合成する場合、例えば、上記表１のＮｏ．３の化合物を合成する場合は、３０〜１８０℃より好ましくは５０〜１５０℃の有機溶剤に、上記アミノ体を溶解し、有機溶剤中で、上記アミノ体１モルに対して４モルの（ブロモメチル）シクロヘキサンを反応させる。このようにして、Ｒ1〜Ｒ8のうち４つの置換基として、シクロヘキシルメチル基を導入する。次いで、他の置換基を導入するために、有機溶剤中で、アミノ体１モルに対して４モルの１−ブロモブタンを反応させて、Ｒ1〜Ｒ8のうちの残りの４つの置換基として、ｎ-ブチルを導入する。以上と同様にして、全同一置換体以外の任意の化合物を得ることができる。【００３８】
次いで、以上のようにして合成した化合物を、０〜１００℃、より好ましくは２０〜１００℃の有機溶剤に、式（１）のＸに対応する酸化剤（例えば銀塩）とともに添加して、酸化反応を行う。有機溶剤には、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどの水溶性極性溶媒を用いると好ましい。酸化剤の当量を２当量にすれば、式（１）で表されるジイモニウム塩化合物が得られる。【００３９】
上記銀塩と反応させる方法以外に、下記の方法でも、式（１）で表されるジイモニウム塩化合物を得ることができる。【００４０】
例えば、上記のようにして合成した化合物（全同一置換体、または全同一置換体以外の任意の化合物）を、有機溶剤中で、硝酸銀、過塩素酸銀、塩化第二銅、二酸化マンガンなどの酸化剤を用いて酸化する。得られた反応液に、所望のアニオンの酸または塩を添加するか、所望のカチオンのアルカリを添加して、塩交換を行う。この方法によっても、ジイモニウム塩化合物を得ることができる。【００４１】
このようにして得たジイモニウム塩化合物は、極大吸収波長が９００ｎｍ以上にあり、吸光係数も数万から、数十万程度と大きい。この様な化合物は、近赤外線吸収フィルタに含まれる近赤外線吸収化合物としての用途以外に、ＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒなどの光記録媒体の褪色防止剤（一重項酸素クエンチャー）、断熱フィルム、サングラスなどに使用できる。【００４２】
（実施形態２）
実施形態１では、本発明の第２のジイモニウム塩化合物について説明する。本発明の第２のジイモニウム塩化合物は、上記式（４）で示される構造をしている。【００４３】
式（４）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンである。１価のアニオンとしては、例えば、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸イオン、硝酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、プロピル硫酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酢酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、マロン酸イオン、オレイン酸イオン、ステアリン酸イオン、クエン酸イオン、二リン酸水素イオン、リン酸二水素イオン、ペンタクロロスズ酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、ジルコン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸イオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミド酸イオン、ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド酸イオン、トリフルオロメタンスルホンへプタフルオロプロパンスルホンイミド酸イオン、または、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド酸イオン等の陰イオンが挙げられる。なかでも、(ＲfＳＯ2)−Ｎ-−（ＳＯ2Ｒf'）（ＲfおよびＲf'は炭素数１〜４のフルオロアルキル基）で示される陰イオンが、近赤外線吸収能力が高い点で好ましい。具体的には、ＲfおよびＲf'が同一のパーフルオロアルキル基である、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸イオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミド酸イオン等が好ましい。【００４４】
また、２価のアニオンとしては例えばナフタレン−１、５−ジスルホン酸、Ｒ酸、Ｇ酸、Ｈ酸、ベンゾイルＨ酸、ｐ−クロルベンゾイルＨ酸、ｐ−トルエンスルホニルＨ酸、クロルＨ酸、クロルアセチルＨ酸、メタニルγ酸、６−スルホナフチル−γ酸、Ｃ酸、ε酸、ｐ−トルエンスルホニルＲ酸、ナフタリン−１，６−ジスルホン酸、１−ナフトール−４，８−ジスルホン酸、等のナフタレンジスルホン酸誘導体、カルボニルＪ酸、４，４’− ジアミノスチルベン−２，２’−ジスルホン酸、ジＪ酸、ナフタル酸、ナフタリン−２，３−ジカルボン酸、ジフェン酸、スチルベン−４，４’−ジカルボン酸、６−スルホ−２ −オキシ−３−ナフトエ酸、アントラキノン−１，８−ジスルホン酸、１，６−ジアミノアントラキノン−２，７−ジスルホン酸、２−（４−スルホフェニル）−６−アミノベンゾトリアゾール−５−スルホン酸、６−（３−メチル−５−ピラゾロニル）−ナフタレン−１，３−ジスルホン酸、１−ナフトール−６−（４−アミノ−３−スルホ）アニリノ−３−スルホン酸等の２価の有機酸のイオンが挙げられる。【００４５】
環Ａおよび４つの環Ｂのうちの少なくとも１つは、１,４−位以外に１〜４個の置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。上記置換基としては、例えば、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子およびヒドロキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基が挙げられる。低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基等の、炭素数が１〜５個のアルキル基が挙げられる。低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等の、炭素数が１〜５個のアルコキシ基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子等が挙げられる。【００４６】
環Ａおよび４つの環Ｂのうちの少なくとも１つが置換基を有する場合、その置換基は、ハロゲン原子（特に塩素原子、臭素原子）、メチル基またはシアノ基であると好ましい。【００４７】
４つの環Ｂ全てが置換基を有する場合は、全ての置換基は同じであると好ましい。この場合、置換基の位置は、フェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対してｍ−位であると、合成し易く好ましい。【００４８】
環Ａおよび４つの環Ｂが１,４−位以外に置換基を有していないと、ジイモニウム塩化合物をよりいっそう合成し易く好ましい。【００４９】
Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも１つはアルコキシアルキル基である。アルコキシアルキル基としては、直鎖状アルコキシアルキル基または分岐鎖状アルコキシアルキル基のいずれであってもよい。例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ−プロポキシメチル基、２−イソプロポキシメチル基、イソブトキシメチル基、ｓｅｃ−ブトキシメチル基、ｔ−ブトキシメチル基、ペンチルオキシメチル基、ヘキシルオキシメチル基、１−メトキシエチル基、２−メトキシエチル基、１−エトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−プロポキシエチル基、１−プロポキシエチル基、２−イソプロポキシエチル基、１−イソプロポキシエチル基、１−ブトキシエチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシ）エチル基、１−（ｔ−ブトキシ）エチル基、１−イソブトキシエチル基、２−ブトキシエチル基、２−イソブトキシエチル基、２−（ｓｅｃ−ブトキシ）エチル基、２−（ｔ−ブトキシ）エチル基、３−エトキシプロピル基、３−メトキシプロピル基、２−メトキシプロピル基、１−メトキシプロピル基、２−エトキシプロピル基、３−プロポキシプロピル基、３−イソプロポキシプロピル基、３−（ｔ−ブトキシ）プロピル基、４−メトキシブチル基、３−メトキシブチル基、２−メトキシブチル基、４−エトキシブチル基、３−エトキシブチル基、４−プロポキシブチル基、４−（ｔ−ブトキシ）ブチル基、５−メトキシペンチル基、４−メトキシペンチル基、３−メトキシペンチル基、２−メトキシペンチル基、５−エトキシペンチル基、４−エトキシペンチル基、５−プロポキシペンチル基、６−メトキシヘキシル基、６−エトキシヘキシル基、６−（ｔ−ブトキシ）ヘキシル基、２−メトキシ−１−メチルエチル基、２−エトキシ−１−メチルエチル基、２−メトキシ−１−エチルエチル基、２−ブトキシ−１−メチルエチル基、３−メトキシ−２−メチルプロピル基、３−メトキシ−１−メチルプロピル基、３−メチル−３−メトキシブチル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。なかでも、２−イソプロポキシエチル基、２−イソプロポキシメチル基、２−エトキシエチル基、２−プロポキシエチル基が、近赤外線吸収能が高い点で好適である。【００５０】
Ｒ1〜Ｒ8の全てが、上記アルコキシアルキル基であってもよいが、Ｒ1〜Ｒ8のうちの幾つかについては上記アルコキシアルキル基であり、残りについては、例えば分岐鎖状又は直鎖状のアルキル基であってもよい。分岐鎖状または直鎖状のアルキル基の炭素数は、１〜２０個が適当である。更に、分岐鎖状または直鎖状アルキル基は、置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。【００５１】
上記分岐鎖状アルキル基としては、例えば、１−メチルエチル基（ｉｓｏ−プロピル基）、１−メチルプロピル基（ｓｅｃ−ブチル基）、１，１−ジメチルエチル基（ｔ−ブチル基）、１，１−ジメチルプロピル基、１−メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、２−メチルプロピル基（ｉｓｏ−ブチル基）、２，２−ジメチルプロピル基、２−メチルブチル基、２−エチルブチル基、３−メチルブチル基（ｉｓｏ−アミル基）、１，１−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、及び３，３−ジメチルブチル基等の炭素数１〜２０の分岐鎖状アルキル基が挙げられる。なかでも、炭素数１〜１０の分岐鎖状アルキル基が好ましい。【００５２】
上記直鎖状アルキル基としては、例えば、エチル基、ｎ−プロピル基、またはｎ−ブチル基等が挙げられる。【００５３】
これら分岐鎖状アルキル基、または直鎖状アルキル基が置換基を有する場合、当該置換基は、シアノ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基、炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基、または炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基が挙げられる。【００５４】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基としては、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基等が挙げられる。炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基としては、メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基等が挙げられる。炭素数６〜１２のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。【００５５】
次に、本発明の第２のジイモニウム塩化合物の具体例を表２に示す。ただし、本発明の第２のジイモニウム塩化合物は表２に列挙された具体例に限定されない。【００５６】
【表２】
2007097368.tif 000007
【００５７】
表２において、環Ａの１，４−位以外が無置換である場合は「Ｈ」と略記しており、環Ｂについても同様である。Ｒ1〜Ｒ8の全てが、２−イソプロポキシエチルである場合は、８（２−イソプロポキシエチル）と略記している。Ｒ1〜Ｒ8のうち、いずれか４つが２−イソプロポキシエチルであり、残りの４つがｎ−ブチルである場合は、４（２−イソプロポキシエチル）、４（ｎ−ブチル）と略記している。【００５８】
本発明の式（４）で示されるジイモニウム塩化合物は、例えば、下記の方法により製造できる。【００５９】
まず、例えば、米国特許明細書第３２５１８８１、米国特許明細書第３５７５８７１、特開昭６１−６９９９１号公報等に記載された方法にて、アミノ体を得る。すなわち、まず、上記［化３］に記載のとおり、p−フェニレンジアミンと１−クロロ-4-ニトロベンゼンを、ウルマン反応および還元反応させて、アミノ体を得る。尚、［化３］における、環Ａおよび環Ｂは上記で定義された通りである。【００６０】
次いで、例えば、上記表２のＮｏ．１３の化合物のように、Ｒ1〜Ｒ8の全ての置換基が同一である化合物（全同一置換体）を得る場合は、３０〜１８０℃、より好ましくは５０〜１５０℃の有機溶剤に、上記アミノ体を溶解し、有機溶剤中で、アミノ体１モルに対して８モルのハロゲン化化合物（２−イソプロポキシエチルブロマイド）を反応させる。これにより、全同一置換体を得ることができる。有機溶剤には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の水溶性極性溶媒を用いると好ましい。【００６１】
全同一置換体以外の化合物を合成する場合、例えば、上記表２のＮｏ．１４の化合物を合成する場合は、３０〜１８０℃、より好ましくは５０〜１５０℃の水溶性極性溶媒中に、上記アミノ体を溶解し、この溶剤中で、上記アミノ体１モルに対して４モルの２−イソプロポキシエチルブロマイドを反応させる。このようにして、Ｒ1〜Ｒ8のうち４つの置換基として、２−イソプロポキシエチル基を導入する。次いで、他の置換基を導入するために、上記溶剤中で、アミノ体１モルに対して４モルの１−ブロモブタンを反応させて、Ｒ1〜Ｒ8のうちの残りの４つの置換基として、ｎ-ブチルを導入する。以上と同様にして、全同一置換体以外の任意の化合物を得ることができる。【００６２】
次いで、以上のようにして合成した化合物を、０〜１００℃、より好ましくは２０〜１００℃の有機溶剤に、式（１）のＸに対応する酸化剤（例えば銀塩）とともに添加して、酸化反応を行う。有機溶剤には、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の水溶性極性溶媒を用いると好ましい。酸化剤の当量を２当量にすれば、式（１）で表されるジイモニウム塩化合物が得られる。【００６３】
上記銀塩と反応させる方法以外に、下記の方法でも、式（４）で表されるジイモニウム塩化合物を得ることができる。【００６４】
例えば、上記のようにして合成した化合物（全同一置換体、または全同一置換体以外の任意の化合物）を有機溶剤中で、硝酸銀、過塩素酸銀、塩化第二銅、二酸化マンガン等の酸化剤を用いて酸化する。得られた反応液に、所望のアニオンの酸または塩を添加するか、所望のカチオンのアルカリを添加して、塩交換を行う。この方法によっても、ジイモニウム塩化合物を得ることができる。【００６５】
このようにして得たジイモニウム塩化合物は、極大吸収波長が９００ｎｍ以上にあり、吸光係数も数万から数十万程度と大きい。更に、本実施形態のジイモニウム塩化合物は、構造中にアルコキシアルキル基を有するため溶剤への溶解性が高い。この様な化合物は、近赤外線吸収フィルタに含まれる近赤外線吸収化合物としての用途以外に、ＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ等の光記録媒体の褪色防止剤（一重項酸素クエンチャー）、断熱フィルム、サングラス等に使用できる。【００６６】
（実施形態３）
実施形態３では、実施形態１のジイモニウム塩化合物を用いた近赤外線吸収フィルタの一例について説明する。【００６７】
図１に示すように、本実施形態の近赤外線吸収フィルムは、基材１と、基材１の一方の主面上に配置された近赤外線吸収層２から構成されている。本実施形態の近赤外線吸収フィルムは、熱や湿度による悪影響を受けにくい実施形態１のジイモニウム塩化合物を用いているので、経時的に近赤外線吸収能が低下することが抑制されている。【００６８】
基材１の材料としては、可視光に対して透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、飽和ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂などの樹脂をフィルム状またはシート状に加工したものを用いることができる。【００６９】
上記樹脂をフィルム状又はシート状に加工する方法としては、例えば、押し出し成形、カレンダー成形、圧縮成形、射出成形、上記樹脂を溶剤に溶解させてキャスティングする方法などが挙げられる。基材１の厚さは、通常１０μｍ〜５００μｍ程度である。なお、上記樹脂には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、表面調整剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されていてもよい。【００７０】
近赤外線吸収層２は、実施形態１の近赤外線吸収化合物と、バインダーとしての樹脂とを含む近赤外線吸収組成物を、溶媒に添加して得た塗料を基材に塗付することにより形成できる。【００７１】
近赤外線吸収組成物に含まれる近赤外線吸収化合物は、実施形態１の近赤外線吸収化合物（ジイモニウム塩化合物）のみでもよいが、実施形態１の近赤外線吸収化合物とは最大吸収波長の異なる別の近赤外線吸収化合物も含んでいると好ましい。このように、最大吸収波長が相違する２種以上の近赤外線吸収化合物を用いれば、１種の近赤外線吸収化合物を用いる場合よりも、近赤外線波長領域（８５０ｎｍ〜１１００ｎｍ）のうちの、より広い波長域の光を吸収できるからである。近赤外線波長領域（８５０ｎｍ〜１１００ｎｍ）の光をほぼ全て吸収可能なように、近赤外線吸収組成物が、最大吸収波長が相違する２種以上の近赤外線吸収化合物を含んでいると、より好ましい。２種以上の近赤外線吸収化合物の配合割合は、各近赤外線吸収化合物の近赤外線吸収波長領域などに応じて、適宜決定すればよい。【００７２】
実施形態１の近赤外線吸収化合物とは最大吸収波長の異なる別の近赤外線吸収化合物としては、シアニン系色素（イオン結合性化合物）、フタロシアニン系色素（金属錯体化合物）、アゾ系色素、スクアリリウム系色素およびジチオール系色素からなる群から選ばれる少なくとも１種の色素が挙げられる。【００７３】
２種以上の近赤外線吸収化合物の組み合わせは、例えば、実施形態１のジイモニウム系化合物／シアニン系色素、実施形態１のジイモニウム塩化合物／フタロシアニン系色素などが挙げられる。【００７４】
近赤外線吸収組成物に含まれるバインダー樹脂については、可視光に対して透光性を有していれば特に制限はないが、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリブチラール樹脂、ポリエステル樹脂などを用いることができる。これらの樹脂のうち１種を用いてもよいし、２種以上がブレンドされたポリマーブレンドを用いてもよい。特に、ガラス転移温度が８０℃以上の樹脂を用いると、近赤外線吸収化合物との相溶性が良好であるので好ましい。【００７５】
近赤外線吸収組成物に含まれるバインダー樹脂の配合割合について、特に制限はないが、近赤外線吸収化合物１００重量部に対して、１０００〜２０００重量部程度であると好ましい。【００７６】
近赤外線吸収組成物には、必要に応じて、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、表面調整剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されていてもよい。【００７７】
塗料に含まれ、近赤外線吸収化合物およびバインダー樹脂を溶解させる溶媒としては、特に限定はないが、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、プロビオニトリルなどの有機溶媒、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。【００７８】
尚、本願において、「近赤外線吸収化合物の溶解」とは、近赤外線吸収化合物が、溶媒中に溶け込み、固体の形状になく、イオン対または錯体の状態となることを意味し、イオン対または錯体をなさないほどに、溶媒に溶け込んだ状態を意味する「解離」とは区別される。【００７９】
塗料の塗布方法について、特に制限はないが、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法、グラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法を用いることができる。【００８０】
本実施形態の近赤外線吸収フィルタは、Ｈａｚｅ値（ＪＩＳ  Ｋ７１０５に規定）が１％以下であると好ましい。Ｈａｚｅ値が１％以下であると、例えば、上記近赤外線吸収フィルタをＰＤＰの前面板の構成部材として使用した場合に、画像の鮮やかさが損なわれないからである。なお、Ｈａｚｅ値は、曇価とも呼ばれ、プラスチックの内部や表面の曇りの度合いを表す値であり、低ければ低いほど好ましい。【００８１】
近赤外線吸収フィルタの、波長領域８５０ｎｍ〜１１００ｎｍにおける分光透過率は、１５％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。分光透過率がこの範囲であれば、近赤外線吸収フィルタによって電子機器の誤作動を十分に抑制できる。なお、上記分光透過率は低ければ低いほど好ましい。【００８２】
近赤外線吸収層２の厚さは、２μｍ以上１５μｍ以下であると好ましく、３μｍ以上１０μｍ以下であるとより好ましい。近赤外線吸収層２の厚さが２μｍ未満の場合、波長領域８５０ｎｍ〜１１００ｎｍにおける分光透過率を１５％以下にするためには、バインダー樹脂に対する近赤外線吸収化合物の添加量を増加させる必要がある。この場合、未溶解の近赤外線吸収化合物に起因する光の散乱が生じ、その結果、Ｈａｚｅ値が大きくなるという問題が生じる場合がある。また、近赤外線吸収層２の厚さが１５μｍを越える場合、波長領域８５０ｎｍ〜１１００ｎｍにおける分光透過率を１５％以下に維持できるものの、近赤外線吸収層２中に遊離した溶剤が残る場合がある。この残存溶剤は、近赤外線吸収化合物の再溶解または解離などを引き起こして、近赤外線吸収特性の経時劣化をもたらす。近赤外線吸収層２の厚さが、２μｍ以上１５μｍ以下であれば、溶剤の残留を好適に抑制できる。【００８３】
以上、図１に示した近赤外線吸収フィルタを例に挙げて本実施形態の近赤外線吸収フィルタの一例を説明したが、本実施形態の近赤外線吸収フィルタの構造は図１に示した例に限定されない。本実施形態の近赤外線吸収フィルタは、樹脂に近赤外線吸収化合物が分散された単一の層からなるものであってもよい。また、図２に示すように、近赤外線吸収フィルタは、基材１の近赤外線吸収層２側の反対側に配置された反射防止層４を備えていてもよいし、基材１と反射防止層４の間に配置されたハードコート層３を備えていてもよい。ハードコート層３は、例えば、熱硬化性樹脂や無機微粒子などを含む。反射防止層４は、屈折率の異なる３つの膜から構成されていてもよく、この場合、３つの膜は、ハードコート層３側から中屈折率膜４ａ、高屈折率膜４ｂ、低屈折率膜４ｃの順に配置される。【００８４】
上記近赤外線吸収フィルタに含まれる実施形態１のジイモニウム塩化合物は、１種に限定されず、２種以上であってもよい。また上記近赤外線吸収フィルタでは、実施形態１のジイモニウム塩化合物を用いているが、これに代えて実施形態２のジイモニウム塩化合物を１種以上用いてもよい。実施形態２のジイモニウム塩化合物も熱や湿度による悪影響を受けにくいので、この場合も、経時的に近赤外線吸収能が低下することが抑制された近赤外線吸収フィルタを提供できる。また上記近赤外線吸収フィルタは、実施形態１のジイモニウム塩化合物と実施形態２のジイモニウム塩化合物の両方を含んでいてもよい。【００８５】
（実施形態４）
実施形態４では、本発明のディスプレイ用前面板の一例について説明する。図３に示すように、本実施形態のディスプレイ用前面板１１は、基板１２と、基板１２の一方の主面側に配置された近赤外線吸収フィルタ１３と、基板１２の他方の主面側に配置された電磁波遮蔽層１４と、電極（アース）１５とから形成されている。【００８６】
基板１２の材料は、可視光に対して透光性を有する材料であれば特に限定されず、例えば、強化ガラスなどを用いることができる。近赤外線吸収フィルタ１３としては、例えば、実施形態３の近赤外線吸収フィルタを用いることができる。【００８７】
本実施形態のディスプレイ用前面板は、実施形態３の近赤外線吸収フィルタを用いているので、高温高湿な使用条件下における近赤外線吸収特性の経時劣化が抑制されている。【００８８】
以下、実施例に基づき本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されない。
【実施例】
【００８９】
（実施例１）
p-フェニレンジアミン１０．８重量部、p−ニトロクロロベンゼン９４．５重量部、無水炭酸カリウム３４．５重量部、銅粉２重量部を用意し、これらを、ジメチルホルムアミド１５０重量部中において、撹拌下還流した。還流は１５時間行った。この反応後、反応混合物をろ過し、ろ過物をジメチルホルムアミド、水、アセトンでよく洗浄した後、乾燥して、赤褐色のＮ，Ｎ，Ｎ',Ｎ'−テトラキス（p−ニトロフェニル）−p−フェニレンジアミンを３０重量部得た。【００９０】
次に、オートクレーブ中において、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ'−テトラキス（p−ニトロフェニル）−p−フェニレンジアミン２５重量部を、パラジウム−カーボン水添触媒１重量部とともに、ジメチルホルムアミド１００重量部中に加えた。その際、圧力５．０ｋｇ／ｃｍ2の水素ガス圧をかけながら、９０℃〜１００℃で水素吸収が止まるまで撹拌した。このようにして得た反応液をろ過し、次いで、ろ液を３５０重量部の氷水に入れ、しばらく撹拌した後、沈殿物をろ過した。その後、沈殿物をエタノール−ジメチルホルムアミド混合溶媒（体積比５：７）中で再結晶させて、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ'−テトラキス（p−アミノフェニル）−p−フェニレンジアミンを１４重量部得た。液クロ分析により、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ'−テトラキス（p−アミノフェニル）−p−フェニレンジアミンの純度は９５．８％であった。核磁気共鳴スペクトル（ｄ6―ＤＭＳＯ）分析をしたところ、ＮＭＲチャートには、δ３．３５ｐｐｍに８Ｈ分のアミノ基の吸収が、δ６．４０〜６．５１ｐｐｍにブロードなダブレットの２０Ｈ分芳香族環の吸収が見られた。【００９１】
上記アミノ体３．８部、Ｎ，Ｎ'−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）３０重量部、炭酸カリウム１５重量部、ブロモメチルシクロヘキサン１２．８重量を用意し、これらを１２０〜１４０℃で８時間撹拌した。次いで、冷却後、析出した結晶を、ろ過し、水洗後乾燥し、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いて再結晶させて、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス〔p−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル〕−p−フェニレンジアミン２．０１重量部を得た。【００９２】
Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス[p−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル]−p−フェニレンジアミン１重量部を、ＴＨＦ１０重量部に加え、７０℃撹拌下、これらに、ＤＭＦ１０重量部に溶解させた６フッ化リン酸銀をさらに加えた。６フッ化リン酸銀のモル数は、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス〔p−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル〕−p−フェニレンジアミンのそれの２倍とした。これらを１時間反応させたのち、析出した銀をろ別した。ろ液に水５重量部を加え、析出した結晶をろ取後乾燥することにより、表１のＮｏ．１の化合物０．９８重量部を得た。Ｎｏ．１の化合物の吸収極大波長は１０９２ｎｍであり、近赤外領域の光に対して大きな吸収領域を有する化合物であった。【００９３】
（実施例２）
６フッ化リン酸銀に代えて、６フッ化アンチモン酸銀を用いたこと以外は実施例１と同
様にして、表１のＮｏ.２の化合物を得た。【００９４】
（実施例３）
ブロモメチルシクロヘキサンに代えて、１−ブロモ−２−シクロヘキシルエタンを用いたこと以外は実施例１と同様にして、表１のＮｏ.７の化合物を得た。【００９５】
（実施例４）
６フッ化リン酸銀に代えて、６フッ化アンチモン酸銀を用いたこと以外は実施例３と同様にして、表１のＮｏ.８の化合物を得た。【００９６】
（実施例５）
Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス（ｐ−アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン３．８重量部、ＤＭＦ３０重量部、炭酸カリウム１５重量部、イソプロポキシエチルブロマイド１３．４重量部を用意し、これらを１００℃〜１３０℃で８時間撹拌した。次いで、得られた反応液を氷水１００重量部に入れ攪拌した後、沈殿物をろ取した。ろ取した沈殿物を乾燥した後、シリカゲルカラムを用いて精製し、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス[ｐ−ジ（イソプロポキシエチル）アミノフェニル]−ｐ−フェニレンジアミン３．５３重量部を得た。【００９７】
Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス[ｐ−ジ（イソプロポキシエチル）アミノフェニル]−ｐ−フェニレンジアミン１重量部を、ＤＭＦ１０重量部に加え、７０℃撹拌下、これらに、ＤＭＦ１０重量部に溶解させたビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸銀をさらに加えた。ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸銀のモル数は、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス[ｐ−ジ（イソプロポキシエチル）アミノフェニル]−ｐ−フェニレンジアミンのそれの２倍とした。これらを１時間反応させた後、析出した銀をろ別した。ろ液に水１０重量部を加え、析出した結晶をろ取後乾燥することにより、表１のＮｏ．１３の化合物０．７６重量部を得た。Ｎｏ.１３の化合物の吸収極大波長は１０６８ｎｍであり、Ｎｏ.１３の化合物は、近赤外領域の光に対して大きな吸収を示す化合物であった。【００９８】
（実施例６）
イソプロポキシエチルブロマイドに代えて、イソプロポキシメチルブロマイドを用いたこと以外は実施例５と同様にして、表１のＮｏ.１５の化合物を得た。【００９９】
ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）１００重量部に対して、以上のようにして得た化合物Ｎｏ.１、Ｎｏ.２、Ｎｏ.７、Ｎｏ.８、Ｎｏ.１３、Ｎｏ.１５それぞれを７．２５重量部を、さらに溶媒としてメチルエチルケトンを２３３重量部添加して、近赤外線吸収層形成用の塗料を得た。この塗料を、マイクログラビアコーターを用いて基材に塗布し、塗付された塗料を乾燥して近赤外線吸収フィルタを得た。塗料の塗付は、乾燥後の膜厚が４μｍとなるように行った。基材には、表裏両面に易接着処理が施された厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製“Ｕ−３４”）を用いた。【０１００】
（比較例１）
ブロモメチルシクロヘキサンに代えて、ｎ−ブチルブロマイドを用いたこと以外は実施例１と同様にして、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラキス〔p−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル〕−p−フェニレンジアミンを得た。次いで、実施例２と同様にして、この化合物と６フッ化アンチモン酸銀とを反応させて、直鎖のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を得た。また、直鎖のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いて、実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルタを得た。【０１０１】
（比較例２）
ブロモメチルシクロヘキサンに代えて、ｉｓｏ−ブチルブロマイドを用いたこと以外は実施例１と同様にして、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラキス〔p−ジ（ｉｓｏ−ブチル）アミノフェニル〕−p−フェニレンジアミンを得た。次いで、実施例１と同様にして、この化合物と６フッ化リン酸銀とを反応させて分岐のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を得た。また、分岐のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いて、実施例と同様にして近赤外線吸収フィルタを得た。【０１０２】
（耐湿熱性試験）
実施例１〜６および比較例１，２の近赤外線吸収フィルタについて、温度８０℃湿度９５％で４８時間保存する試験を行い、この試験前後の分光透過率を分光光度計（日本分光社製“Ｕ−Ｂｅｓｔ  Ｖ−５７０”）を用いて測定した。そして、特定波長の透過率の変化率を算出した。得られた透過率の変化率について以下の基準で評価を行い、結果を表３に示した。【０１０３】
〔評価基準〕
◎：試験前後における透過率変化が０．５％未満
○：試験前後における透過率変化が０．５％以上１．５％未満
△：試験前後における透過率変化が１．５％以上３．０％未満
×：試験前後における透過率変化が３．０％以上【０１０４】
【表３】
2007097368.tif 000008
【０１０５】
表３に示すように、環状アルキル基、または環状アルキル基を有するアルキレン基を有するジイモニウム塩化合物を用いた実施例１〜４の近赤外線吸収フィルタは、直鎖状のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いた比較例１および分岐鎖状のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いた比較例２の近赤外線吸収フィルタよりも、耐湿熱性試験後の近赤外線吸収能の劣化の程度が小さいことが確認できた。【０１０６】
また、ジイモニウム塩化合物を構成するアニオンが６フッ化リン酸イオンであると、耐湿熱性試験後の近赤外線吸収能の劣化が非常に小さいことが確認できた。【０１０７】
また、表３に示すように、アルコキシアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いた実施例５，６の近赤外線吸収フィルタについても、比較例１および比較例２の近赤外線吸収フィルタよりも、耐湿熱性試験前後の透過率変化が特に短波長域において小さく、近赤外線吸収能の劣化の程度が小さいことが確認できた。【０１０８】
以上のとおり、本発明によれば、耐熱性および耐湿性が優れた近赤外線吸収化合物（ジイモニウム塩化合物）、およびこれ含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板を提供できる。
【産業上の利用可能性】
【０１０９】
本発明のジイモニウム塩化合物は、耐熱性および耐湿性が優れているので、様々な用途に用いることができる。例えば、ＰＤＰのディスプレイ用前面板、自動車ガラス、建材用近赤外線吸収フィルタなどに用いることができ、特にＰＤＰのディスプレイ用前面板の近赤外線吸収フィルタとして有用である。また、本発明のジイモニウム塩化合物は、ＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒなどの光記録媒体に使用される色素としても用いることができる。
【図１】
2007097368.tif 000012
【図２】
2007097368.tif 000013
【図３】
2007097368.tif 000014
【手続補正書】
【提出日】平成20年5月7日(2008.5.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で示される構造を有することを特徴とするジイモニウム塩化合物。
【化１】
2007097368.tif 000015
ただし、式（１）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、環Ａおよび環Ｂのうちの少なくとも１つは置換基を有していてもよく、Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも一つは下記式（２）で表される環状アルキル基、または下記式（３）で表される環状アルキル基を有するアルキレン基である。
−（Ｂ） （２）
−（Ａ）−（Ｂ） （３）
ただし、式（２）および式（３）中において、（Ｂ）は、炭素数が３〜１０個の環状アルキル基であり、（Ｂ）は置換基を有していてもよい。式（３）中において、（Ａ）は炭素数が１〜１０個のアルキレン基あり、（Ａ）は置換基を有していてもよい。
【請求項２】
前記Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも１つは、シクロヘキシルメチル基、４−メチルシクロヘキシル基、シクロヘキシルエチル基、４−エチルシクロヘキシル基、シクロヘキシルプロピル基、４−プロピルシクロヘキシル基、または４−イソプロピルシクロヘキシルメチル基である請求項１に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項３】
前記式（１）におけるＸは、６フッ化リン酸イオンである請求項１に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項４】
前記環Ａおよび前記環Ｂの１，４−位以外は、全て無置換である請求項１に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項５】
前記環Ａおよび前記環Ｂの１，４−位以外は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子およびヒドロキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有する請求項１に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項６】
下記式（４）で示される構造を有することを特徴とするジイモニウム塩化合物。
【化２】
2007097368.tif 000016
ただし、式（４）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、環Ａおよび環Ｂのうちの少なくとも１つは置換基を有していてもよく、Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも一つはアルコキシアルキル基である。
【請求項７】
前記Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも１つは、２−エトキシエチル基、２−プロポキシエチル基、２−イソプロポキシエチル基、２−イソプロポキシメチル基である請求項６に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項８】
前記式（４）におけるＸは、(ＲfＳＯ2)−Ｎ-−（ＳＯ2Ｒf'）で示される陰イオンである請求項６に記載のジイモニウム塩化合物。
ただし、ＲfおよびＲf'は炭素数１〜４のフルオロアルキル基である。
【請求項９】
前記Ｒfおよび前記Ｒf'が同一のパーフルオロアルキル基である請求項８に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項１０】
前記環Ａおよび前記環Ｂの１，４−位以外は、全て無置換である請求項６に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項１１】
前記環Ａおよび前記環Ｂの１，４−位以外は、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子およびヒドロキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基を有する請求項６に記載のジイモニウム塩化合物。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかの項に記載のジイモニウム塩化合物と、樹脂とを含む近赤外線吸収組成物。
【請求項１３】
シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素およびジチオール系色素からなる群から選ばれる少なくとも１種の色素をさらに含む請求項１２に記載の近赤外線吸収組成物。
【請求項１４】
請求項１〜１１のいずれかの項に記載のジイモニウム塩化合物を含む近赤外線吸収フィルタ。
【請求項１５】
シアニン色素、フタロシアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素およびジチオール系色素からなる群から選ばれる少なくとも１種の色素をさらに含む請求項１４に記載の近赤外線吸収フィルタ。
【請求項１６】
基材と、前記基材の一方の主面側に配置された近赤外線吸収層とを備え、
前記近赤外線吸収層は、請求項１〜１１のいずれかの項に記載のジイモニウム塩化合物を含む近赤外線吸収フィルタ。
【請求項１７】
前記基材の前記近赤外線吸収層側の主面の反対側に配置された反射防止層をさらに備えた請求項１６に記載の近赤外線吸収フィルタ。
【請求項１８】
前記基材と前記反射防止層の間に配置されたハードコート層をさらに備えた請求項１７に記載の近赤外線吸収フィルタ。
【請求項１９】
請求項１４に記載の近赤外線吸収フィルタを含むディスプレイ用前面板。
【請求項２０】
請求項１５に記載の近赤外線吸収フィルタを含むディスプレイ用前面板。
【請求項２１】
請求項１６に記載の近赤外線吸収フィルタを含むディスプレイ用前面板。
【請求項２２】
請求項１７に記載の近赤外線吸収フィルタを含むディスプレイ用前面板。
【請求項２３】
請求項１８に記載の近赤外線吸収フィルタを含むディスプレイ用前面板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線フィルタなどの製造に用いられるジイモニウム塩化合物、およびこれ含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型ディスプレイとして様々な形式のディスプレイが開発、商品化されており、その一つにプラズマディスプレイがある。プラズマディスプレイを構成する表示パネル（プラズマディスプレイパネルと呼ばれ、以下「ＰＤＰ」と略する。）においては、２枚のガラス板の間にキセノンとネオンとを含む混合ガスが封入されている。この混合ガスに高電圧をかけると紫外線が発生し、紫外線がガラス板に塗布された蛍光体にあたって、蛍光体が発光する。
【０００３】
上記放電の際には、紫外線と同時に波長８５０ｎｍ〜１１００ｎｍの近赤外線も放射される。この近赤外線の波長領域は、近赤外線通信や家庭用電子機器のリモートコントロールの波長域と重なるため、ＰＤＰから放射される近赤外線は、電子機器の誤作動を引き起こす原因となる。そのため、従来からＰＤＰの前面板に、近赤外線吸収能を有するジイモニウム塩化合物を含む近赤外線フィルタを用いて、近赤外線を吸収している（例えば、特許文献１、２参照）。詳細な理由は不明であるが、合成のしやすさや価格、耐久性等の理由から、上記ジイモニウム塩化合物としては、末端基として直鎖状のアルキル基を有する化合物が多用されてきた。また、直鎖状のアルキル基を有する化合物よりも、耐熱性が高い、末端基としてｉｓｏ−ブチル基等の分岐鎖状のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いることも既に開示されている。
【特許文献１】特開昭６１−６９９９１号公報
【特許文献２】特公平６−２６０２８号公報
【特許文献３】特許第３６９９４６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、直鎖状のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物は、湿度に対して変化し易い性質を有している。そのため、これが原因で、経時的に近赤外線吸収能が低下するという問題があった。末端基としてｉｓｏ−ブチル基等の分岐鎖状のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物についても、耐湿熱性について十分ではなく、特に比較的短波長の近赤外線に対する吸収能が経時的に低下するという問題があった。
【０００５】
本発明は、耐湿熱性が優れた近赤外線吸収化合物（ジイモニウム塩化合物）、およびこれ含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１のジイモニウム塩化合物は、下記式（１）で示される構造を有することを特徴とする。
【０００７】
【化１】
2007097368.tif 000017
【０００８】
ただし、式（１）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、環Ａおよび環Ｂのうちの少なくとも１つは置換基を有していてもよく、Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも一つは下記式（２）で表される環状アルキル基、または下記式（３）で表される環状アルキル基を有するアルキレン基である。
−（Ｂ） （２）
−（Ａ）−（Ｂ） （３）
ただし、式（２）および式（３）中において、（Ｂ）は、炭素数が３〜１０個の環状アルキル基であり、（Ｂ）は置換基を有していてもよい。式（３）中において、（Ａ）は炭素数が１〜１０個のアルキレン基あり、（Ａ）は置換基を有していてもよい。
【０００９】
本発明の第２のジイモニウム塩化合物は、下記式（４）で示される構造を有することを特徴とする。
【化２】
2007097368.tif 000018
ただし、式（４）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンであり、環Ａおよび環Ｂのうちの少なくとも１つは置換基を有していてもよく、Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ同一であっても、異なっていてもよく、Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも一つはアルコキシアルキル基である。
【００１０】
本発明の近赤外線吸収組成物は、本発明の第１のジイモニウム塩化合物または本発明の第２のジイモニウム塩化合物と、樹脂とを含むことを特徴とする。
【００１１】
本発明の近赤外線吸収フィルタは、本発明の第１のジイモニウム塩化合物または本発明の第２のジイモニウム塩化合物を含むことを特徴とする。
【００１２】
本発明のディスプレイ用前面板は、本発明の上記近赤外線吸収フィルタを含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、耐熱性および耐湿性が優れた近赤外線吸収化合物（ジイモニウム塩化合物）、およびこれ含む近赤外線吸収組成物、並びに近赤外線吸収フィルタ、ディスプレイ用前面板を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下本発明の一例について詳細に説明する。
【００１５】
（実施形態１）
実施形態１では、本発明の第１のジイモニウム塩化合物について説明する。本発明の第１のジイモニウム塩化合物は、上記式（１）で示される構造をしている。
【００１６】
式（１）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンである。１価のアニオンとしては、例えば、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸イオン、硝酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、プロピル硫酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酢酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、マロン酸イオン、オレイン酸イオン、ステアリン酸イオン、クエン酸イオン、二リン酸水素イオン、リン酸二水素イオン、ペンタクロロスズ酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、ジルコン酸イオン、６フッ化リン酸イオン、６フッ化アンチモン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸イオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミド酸イオン、ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド酸イオン、トリフルオロメタンスルホンへプタフルオロプロパンスルホンイミド酸イオン、または、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド酸イオンなどの陰イオンが挙げられる。なかでも、６フッ化リン酸イオンが特に好ましい。
【００１７】
２価のアニオンとしては、例えば、ナフタレン−１、５−ジスルホン酸、Ｒ酸、Ｇ酸、Ｈ酸、ベンゾイルＨ酸、ｐ−クロルベンゾイルＨ酸、ｐ−トルエンスルホニルＨ酸、クロルＨ酸、クロルアセチルＨ酸、メタニルγ酸、６−スルホナフチル−γ酸、Ｃ酸、ε酸、ｐ−トルエンスルホニルＲ酸、ナフタリン−１，６−ジスルホン酸、１−ナフトール−４，８−ジスルホン酸、等のナフタレンジスルホン酸誘導体、カルボニルＪ酸、４，４'−ジアミノスチルベン−２，２'−ジスルホン酸、ジＪ酸、ナフタル酸、ナフタリン−２，３−ジカルボン酸、ジフェン酸、スチルベン−４，４'−ジカルボン酸、６−スルホ−２ −オキシ−３−ナフトエ酸、アントラキノン−１，８−ジスルホン酸、１，６−ジアミノアントラキノン−２，７−ジスルホン酸、２−（４−スルホフェニル）−６−アミノベンゾトリアゾール−５−スルホン酸、６−（３−メチル−５−ピラゾロニル）−ナフタレン−１，３−ジスルホン酸、１−ナフトール−６−（４−アミノ−３−スルホ）アニリノ−３−スルホン酸等の２価の有機酸のイオンが挙げられる。
【００１８】
環Ａおよび４つの環Ｂのうちの少なくとも１つは、１,４−位以外に１〜４個の置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。上記置換基としては、例えば、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子およびヒドロキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基が挙げられる。低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基などの、炭素数が１〜５個のアルキル基が挙げられる。低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基などの、炭素数が１〜５個のアルコキシ基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子などが挙げられる。
【００１９】
環Ａおよび４つの環Ｂのうちの少なくとも１つが置換基を有する場合、その置換基は、ハロゲン原子（特に塩素原子、臭素原子）、メチル基またはシアノ基であると好ましい。
【００２０】
４つの環Ｂの全てが置換基を有する場合は、全ての置換基は同じであると好ましい。この場合、置換基の位置は、フェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対してｍ−位であると、合成し易く好ましい。
【００２１】
環Ａおよび４つの環Ｂが１,４−位以外に置換基を有していないと、ジイモニウム塩化合物の合成上よりいっそう好ましい。
【００２２】
Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも一つは、上記式（２）で表される環状アルキル基、または式（３）で表される環状アルキル基を有するアルキレン基である。本実施形態のジイモニウム塩化合物は、上記環状アルキル基、または上記環状アルキル基を有するアルキレン基を含んでいるので、環状アルキル基による立体障害により安定性がよい。環状アルキル基の炭素数は、３〜１０個であればよいが、コストの観点から３〜８個が好ましい。アルキレン基（−（ＣＨ2）n−）の炭素数ｎについては１〜１０個であればよい。
【００２３】
尚、環状アルキル基が後述の置換基を有する場合、上記「３〜１０個」または「３〜８個」は当該置換基の炭素を含めない数であり、アルキレン基（−（ＣＨ2）n−）が後述の置換基を有する場合、上記「１〜１０個」は当該置換基の炭素を含めない数である。
【００２４】
式（２）および式（３）における（Ｂ）、および式（３）における（Ａ）は、置換基を有していてもよい。当該置換基としては、シアノ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基、炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基、アリルオキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基、または炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。
【００２５】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基などが挙げられる。炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基としては、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基などが挙げられる。炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基としては、メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基などが挙げられる。炭素数６〜１２のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基などが挙げられる。炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基などが挙げられる。炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基などが挙げられる。炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。
【００２６】
より具体的には、上記式（２）で表される環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、４−メチルシクロヘキシル基、４−エチルシクロヘキシル基、４−プロピルシクロヘキシル基などが挙げられる。上記式（３）式で表される環状アルキル基を有するアルキレン基としては、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロヘキシルプロピル基、または４−イソプロピルシクロヘキシルメチル基などが挙げられる。なかでも、コストおよび合成の容易性の観点から、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、４−メチルシクロヘキシル基、４−エチルシクロヘキシル基、４−プロピルシクロヘキシル基、シクロヘキシルプロピル基、または４−イソプロピルシクロヘキシルメチル基などが、特に好ましい。
【００２７】
Ｒ1〜Ｒ8は全てが、上記環状アルキル基、および環状アルキル基を有するアルキレン基のうちの何れかであってもよいが、Ｒ1〜Ｒ8のうちの幾つかについては、上記環状アルキル基、または環状アルキル基を有するアルキレン基であり、残りについては、例えば、分岐鎖状または直鎖状のアルキル基であってもよい。分岐鎖状または直鎖状のアルキル基の炭素数は１〜２０個が適当である。直鎖状のアルキル基については、置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。
【００２８】
上記分岐鎖状アルキル基としては、例えば、１−メチルエチル基（ｉｓｏ−プロピル基）、１−メチルプロピル基（ｓｅｃ−ブチル基）、１，１−ジメチルエチル基（ｔｅｒｔ−ブチル基）、１，１−ジメチルプロピル基、１−メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、２−メチルプロピル基（ｉｓｏ−ブチル基）、２，２−ジメチルプロピル基、２−メチルブチル基、２−エチルブチル基、３−メチルブチル基（ｉｓｏ−アミル基）、１，１−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、および３，３−ジメチルブチル基などの炭素数１〜２０の分岐鎖状アルキル基が挙げられる。なかでも、炭素数１〜１０の分岐鎖状アルキル基が好ましい。
【００２９】
上記直鎖状アルキル基としては、例えば、エチル基、ｎ−プロピル基、またはｎ−ブチル基などが挙げられる。これらの直鎖状アルキル基が置換基を有する場合、当該置換基は、式（２）および式（３）における（Ｂ）、または式（３）における（Ａ）が有する置換基と同様である。すなわち、当該置換基としては、シアノ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基、炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基、アリルオキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基、または炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基などが挙げられる。
【００３０】
次に、本発明の第１のジイモニウム塩化合物の具体例を表１に示す。ただし、本発明の第２のジイモニウム塩化合物は表１に列挙された具体例に限定されない。
【００３１】
【表１】
2007097368.tif 000019
【００３２】
表１において、環Ａの１，４−位以外が無置換である場合は「Ｈ」と略記しており、環Ｂについても同様である。Ｒ1〜Ｒ8の全てが、シクロヘキシルメチルである場合は、８（シクロヘキシルメチル）と略記している。Ｒ1〜Ｒ8のうち、いずれか４つがｎ-ブチルであり、残りの４つがシクロヘキシルメチルである場合は、４（ｎ-ブチル）、４（シクロヘキシルメチル）と略記している。
【００３３】
本発明の式（１）で示されるジイモニウム塩化合物は、例えば下記の方法により製造できる。
【００３４】
まず、例えば、米国特許明細書第３２５１８８１、米国特許明細書第３５７５８７１、特開昭６１−６９９９１号公報などに記載された方法にて、アミノ体を得る。すなわち、まず、［化３］に記載のとおり、p−フェニレンジアミンと１−クロロ-4-ニトロベンゼンを、ウルマン反応および還元反応させて、アミノ体を得る。尚、［化３］における、環Ａおよび環Ｂは上記で定義された通りである。
【００３５】
【化３】
2007097368.tif 000020
【００３６】
次いで、例えば、上記表１のＮｏ．１の化合物のように、Ｒ1〜Ｒ8の全ての置換基が同一である化合物（全同一置換体）を得る場合は、３０〜１８０℃、より好ましくは５０〜１５０℃の有機溶剤に、上記アミノ体を溶解し、有機溶剤中で、アミノ体１モルに対して８モルのハロゲン化化合物（（ブロモメチル）シクロヘキサン）を反応させる。これにより、全同一置換体を得ることができる。有機溶剤には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどの水溶性極性溶媒を用いると好ましい。
【００３７】
全同一置換体以外の化合物を合成する場合、例えば、上記表１のＮｏ．３の化合物を合成する場合は、３０〜１８０℃より好ましくは５０〜１５０℃の有機溶剤に、上記アミノ体を溶解し、有機溶剤中で、上記アミノ体１モルに対して４モルの（ブロモメチル）シクロヘキサンを反応させる。このようにして、Ｒ1〜Ｒ8のうち４つの置換基として、シクロヘキシルメチル基を導入する。次いで、他の置換基を導入するために、有機溶剤中で、アミノ体１モルに対して４モルの１−ブロモブタンを反応させて、Ｒ1〜Ｒ8のうちの残りの４つの置換基として、ｎ-ブチルを導入する。以上と同様にして、全同一置換体以外の任意の化合物を得ることができる。
【００３８】
次いで、以上のようにして合成した化合物を、０〜１００℃、より好ましくは２０〜１００℃の有機溶剤に、式（１）のＸに対応する酸化剤（例えば銀塩）とともに添加して、酸化反応を行う。有機溶剤には、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどの水溶性極性溶媒を用いると好ましい。酸化剤の当量を２当量にすれば、式（１）で表されるジイモニウム塩化合物が得られる。
【００３９】
上記銀塩と反応させる方法以外に、下記の方法でも、式（１）で表されるジイモニウム塩化合物を得ることができる。
【００４０】
例えば、上記のようにして合成した化合物（全同一置換体、または全同一置換体以外の任意の化合物）を、有機溶剤中で、硝酸銀、過塩素酸銀、塩化第二銅、二酸化マンガンなどの酸化剤を用いて酸化する。得られた反応液に、所望のアニオンの酸または塩を添加するか、所望のカチオンのアルカリを添加して、塩交換を行う。この方法によっても、ジイモニウム塩化合物を得ることができる。
【００４１】
このようにして得たジイモニウム塩化合物は、極大吸収波長が９００ｎｍ以上にあり、吸光係数も数万から、数十万程度と大きい。この様な化合物は、近赤外線吸収フィルタに含まれる近赤外線吸収化合物としての用途以外に、ＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒなどの光記録媒体の褪色防止剤（一重項酸素クエンチャー）、断熱フィルム、サングラスなどに使用できる。
【００４２】
（実施形態２）
実施形態１では、本発明の第２のジイモニウム塩化合物について説明する。本発明の第２のジイモニウム塩化合物は、上記式（４）で示される構造をしている。
【００４３】
式（４）中において、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンである。１価のアニオンとしては、例えば、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸イオン、硝酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、プロピル硫酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酢酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、マロン酸イオン、オレイン酸イオン、ステアリン酸イオン、クエン酸イオン、二リン酸水素イオン、リン酸二水素イオン、ペンタクロロスズ酸イオン、クロロスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、ジルコン酸イオン、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸イオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミド酸イオン、ペンタフルオロエタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド酸イオン、トリフルオロメタンスルホンへプタフルオロプロパンスルホンイミド酸イオン、または、ノナフルオロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド酸イオン等の陰イオンが挙げられる。なかでも、(ＲfＳＯ2)−Ｎ-−（ＳＯ2Ｒf'）（ＲfおよびＲf'は炭素数１〜４のフルオロアルキル基）で示される陰イオンが、近赤外線吸収能力が高い点で好ましい。具体的には、ＲfおよびＲf'が同一のパーフルオロアルキル基である、ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸イオン、ビス（ペンタフルオロエタンスルホン）イミド酸イオン等が好ましい。
【００４４】
また、２価のアニオンとしては例えばナフタレン−１、５−ジスルホン酸、Ｒ酸、Ｇ酸、Ｈ酸、ベンゾイルＨ酸、ｐ−クロルベンゾイルＨ酸、ｐ−トルエンスルホニルＨ酸、クロルＨ酸、クロルアセチルＨ酸、メタニルγ酸、６−スルホナフチル−γ酸、Ｃ酸、ε酸、ｐ−トルエンスルホニルＲ酸、ナフタリン−１，６−ジスルホン酸、１−ナフトール−４，８−ジスルホン酸、等のナフタレンジスルホン酸誘導体、カルボニルＪ酸、４，４'− ジアミノスチルベン−２，２'−ジスルホン酸、ジＪ酸、ナフタル酸、ナフタリン−２，３−ジカルボン酸、ジフェン酸、スチルベン−４，４'−ジカルボン酸、６−スルホ−２ −オキシ−３−ナフトエ酸、アントラキノン−１，８−ジスルホン酸、１，６−ジアミノアントラキノン−２，７−ジスルホン酸、２−（４−スルホフェニル）−６−アミノベンゾトリアゾール−５−スルホン酸、６−（３−メチル−５−ピラゾロニル）−ナフタレン−１，３−ジスルホン酸、１−ナフトール−６−（４−アミノ−３−スルホ）アニリノ−３−スルホン酸等の２価の有機酸のイオンが挙げられる。
【００４５】
環Ａおよび４つの環Ｂのうちの少なくとも１つは、１,４−位以外に１〜４個の置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。上記置換基としては、例えば、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子およびヒドロキシル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基が挙げられる。低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基等の、炭素数が１〜５個のアルキル基が挙げられる。低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等の、炭素数が１〜５個のアルコキシ基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子等が挙げられる。
【００４６】
環Ａおよび４つの環Ｂのうちの少なくとも１つが置換基を有する場合、その置換基は、ハロゲン原子（特に塩素原子、臭素原子）、メチル基またはシアノ基であると好ましい。
【００４７】
４つの環Ｂ全てが置換基を有する場合は、全ての置換基は同じであると好ましい。この場合、置換基の位置は、フェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対してｍ−位であると、合成し易く好ましい。
【００４８】
環Ａおよび４つの環Ｂが１,４−位以外に置換基を有していないと、ジイモニウム塩化合物をよりいっそう合成し易く好ましい。
【００４９】
Ｒ1〜Ｒ8のうちの少なくとも１つはアルコキシアルキル基である。アルコキシアルキル基としては、直鎖状アルコキシアルキル基または分岐鎖状アルコキシアルキル基のいずれであってもよい。例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ−プロポキシメチル基、２−イソプロポキシメチル基、イソブトキシメチル基、ｓｅｃ−ブトキシメチル基、ｔ−ブトキシメチル基、ペンチルオキシメチル基、ヘキシルオキシメチル基、１−メトキシエチル基、２−メトキシエチル基、１−エトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−プロポキシエチル基、１−プロポキシエチル基、２−イソプロポキシエチル基、１−イソプロポキシエチル基、１−ブトキシエチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシ）エチル基、１−（ｔ−ブトキシ）エチル基、１−イソブトキシエチル基、２−ブトキシエチル基、２−イソブトキシエチル基、２−（ｓｅｃ−ブトキシ）エチル基、２−（ｔ−ブトキシ）エチル基、３−エトキシプロピル基、３−メトキシプロピル基、２−メトキシプロピル基、１−メトキシプロピル基、２−エトキシプロピル基、３−プロポキシプロピル基、３−イソプロポキシプロピル基、３−（ｔ−ブトキシ）プロピル基、４−メトキシブチル基、３−メトキシブチル基、２−メトキシブチル基、４−エトキシブチル基、３−エトキシブチル基、４−プロポキシブチル基、４−（ｔ−ブトキシ）ブチル基、５−メトキシペンチル基、４−メトキシペンチル基、３−メトキシペンチル基、２−メトキシペンチル基、５−エトキシペンチル基、４−エトキシペンチル基、５−プロポキシペンチル基、６−メトキシヘキシル基、６−エトキシヘキシル基、６−（ｔ−ブトキシ）ヘキシル基、２−メトキシ−１−メチルエチル基、２−エトキシ−１−メチルエチル基、２−メトキシ−１−エチルエチル基、２−ブトキシ−１−メチルエチル基、３−メトキシ−２−メチルプロピル基、３−メトキシ−１−メチルプロピル基、３−メチル−３−メトキシブチル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。なかでも、２−イソプロポキシエチル基、２−イソプロポキシメチル基、２−エトキシエチル基、２−プロポキシエチル基が、近赤外線吸収能が高い点で好適である。
【００５０】
Ｒ1〜Ｒ8の全てが、上記アルコキシアルキル基であってもよいが、Ｒ1〜Ｒ8のうちの幾つかについては上記アルコキシアルキル基であり、残りについては、例えば分岐鎖状又は直鎖状のアルキル基であってもよい。分岐鎖状または直鎖状のアルキル基の炭素数は、１〜２０個が適当である。更に、分岐鎖状または直鎖状アルキル基は、置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。
【００５１】
上記分岐鎖状アルキル基としては、例えば、１−メチルエチル基（ｉｓｏ−プロピル基）、１−メチルプロピル基（ｓｅｃ−ブチル基）、１，１−ジメチルエチル基（ｔ−ブチル基）、１，１−ジメチルプロピル基、１−メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、２−メチルプロピル基（ｉｓｏ−ブチル基）、２，２−ジメチルプロピル基、２−メチルブチル基、２−エチルブチル基、３−メチルブチル基（ｉｓｏ−アミル基）、１，１−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、及び３，３−ジメチルブチル基等の炭素数１〜２０の分岐鎖状アルキル基が挙げられる。なかでも、炭素数１〜１０の分岐鎖状アルキル基が好ましい。
【００５２】
上記直鎖状アルキル基としては、例えば、エチル基、ｎ−プロピル基、またはｎ−ブチル基等が挙げられる。
【００５３】
これら分岐鎖状アルキル基、または直鎖状アルキル基が置換基を有する場合、当該置換基は、シアノ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基、炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基、または炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基が挙げられる。
【００５４】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。炭素数２〜８のアルコキシアルコキシ基としては、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシプロポキシ基、メトキシブトキシ基、エトキシブトキシ基等が挙げられる。炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基としては、メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基等が挙げられる。炭素数６〜１２のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００５５】
次に、本発明の第２のジイモニウム塩化合物の具体例を表２に示す。ただし、本発明の第２のジイモニウム塩化合物は表２に列挙された具体例に限定されない。
【００５６】
【表２】
2007097368.tif 000021
【００５７】
表２において、環Ａの１，４−位以外が無置換である場合は「Ｈ」と略記しており、環Ｂについても同様である。Ｒ1〜Ｒ8の全てが、２−イソプロポキシエチルである場合は、８（２−イソプロポキシエチル）と略記している。Ｒ1〜Ｒ8のうち、いずれか４つが２−イソプロポキシエチルであり、残りの４つがｎ−ブチルである場合は、４（２−イソプロポキシエチル）、４（ｎ−ブチル）と略記している。
【００５８】
本発明の式（４）で示されるジイモニウム塩化合物は、例えば、下記の方法により製造できる。
【００５９】
まず、例えば、米国特許明細書第３２５１８８１、米国特許明細書第３５７５８７１、特開昭６１−６９９９１号公報等に記載された方法にて、アミノ体を得る。すなわち、まず、上記［化３］に記載のとおり、p−フェニレンジアミンと１−クロロ-4-ニトロベンゼンを、ウルマン反応および還元反応させて、アミノ体を得る。尚、［化３］における、環Ａおよび環Ｂは上記で定義された通りである。
【００６０】
次いで、例えば、上記表２のＮｏ．１３の化合物のように、Ｒ1〜Ｒ8の全ての置換基が同一である化合物（全同一置換体）を得る場合は、３０〜１８０℃、より好ましくは５０〜１５０℃の有機溶剤に、上記アミノ体を溶解し、有機溶剤中で、アミノ体１モルに対して８モルのハロゲン化化合物（２−イソプロポキシエチルブロマイド）を反応させる。これにより、全同一置換体を得ることができる。有機溶剤には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の水溶性極性溶媒を用いると好ましい。
【００６１】
全同一置換体以外の化合物を合成する場合、例えば、上記表２のＮｏ．１４の化合物を合成する場合は、３０〜１８０℃、より好ましくは５０〜１５０℃の水溶性極性溶媒中に、上記アミノ体を溶解し、この溶剤中で、上記アミノ体１モルに対して４モルの２−イソプロポキシエチルブロマイドを反応させる。このようにして、Ｒ1〜Ｒ8のうち４つの置換基として、２−イソプロポキシエチル基を導入する。次いで、他の置換基を導入するために、上記溶剤中で、アミノ体１モルに対して４モルの１−ブロモブタンを反応させて、Ｒ1〜Ｒ8のうちの残りの４つの置換基として、ｎ-ブチルを導入する。以上と同様にして、全同一置換体以外の任意の化合物を得ることができる。
【００６２】
次いで、以上のようにして合成した化合物を、０〜１００℃、より好ましくは２０〜１００℃の有機溶剤に、式（１）のＸに対応する酸化剤（例えば銀塩）とともに添加して、酸化反応を行う。有機溶剤には、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の水溶性極性溶媒を用いると好ましい。酸化剤の当量を２当量にすれば、式（１）で表されるジイモニウム塩化合物が得られる。
【００６３】
上記銀塩と反応させる方法以外に、下記の方法でも、式（４）で表されるジイモニウム塩化合物を得ることができる。
【００６４】
例えば、上記のようにして合成した化合物（全同一置換体、または全同一置換体以外の任意の化合物）を有機溶剤中で、硝酸銀、過塩素酸銀、塩化第二銅、二酸化マンガン等の酸化剤を用いて酸化する。得られた反応液に、所望のアニオンの酸または塩を添加するか、所望のカチオンのアルカリを添加して、塩交換を行う。この方法によっても、ジイモニウム塩化合物を得ることができる。
【００６５】
このようにして得たジイモニウム塩化合物は、極大吸収波長が９００ｎｍ以上にあり、吸光係数も数万から数十万程度と大きい。更に、本実施形態のジイモニウム塩化合物は、構造中にアルコキシアルキル基を有するため溶剤への溶解性が高い。この様な化合物は、近赤外線吸収フィルタに含まれる近赤外線吸収化合物としての用途以外に、ＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒ等の光記録媒体の褪色防止剤（一重項酸素クエンチャー）、断熱フィルム、サングラス等に使用できる。
【００６６】
（実施形態３）
実施形態３では、実施形態１のジイモニウム塩化合物を用いた近赤外線吸収フィルタの一例について説明する。
【００６７】
図１に示すように、本実施形態の近赤外線吸収フィルムは、基材１と、基材１の一方の主面上に配置された近赤外線吸収層２から構成されている。本実施形態の近赤外線吸収フィルムは、熱や湿度による悪影響を受けにくい実施形態１のジイモニウム塩化合物を用いているので、経時的に近赤外線吸収能が低下することが抑制されている。
【００６８】
基材１の材料としては、可視光に対して透光性を有する材料であれば特に制限されない。例えば、飽和ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂などの樹脂をフィルム状またはシート状に加工したものを用いることができる。
【００６９】
上記樹脂をフィルム状又はシート状に加工する方法としては、例えば、押し出し成形、カレンダー成形、圧縮成形、射出成形、上記樹脂を溶剤に溶解させてキャスティングする方法などが挙げられる。基材１の厚さは、通常１０μｍ〜５００μｍ程度である。なお、上記樹脂には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、表面調整剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されていてもよい。
【００７０】
近赤外線吸収層２は、実施形態１の近赤外線吸収化合物と、バインダーとしての樹脂とを含む近赤外線吸収組成物を、溶媒に添加して得た塗料を基材に塗付することにより形成できる。
【００７１】
近赤外線吸収組成物に含まれる近赤外線吸収化合物は、実施形態１の近赤外線吸収化合物（ジイモニウム塩化合物）のみでもよいが、実施形態１の近赤外線吸収化合物とは最大吸収波長の異なる別の近赤外線吸収化合物も含んでいると好ましい。このように、最大吸収波長が相違する２種以上の近赤外線吸収化合物を用いれば、１種の近赤外線吸収化合物を用いる場合よりも、近赤外線波長領域（８５０ｎｍ〜１１００ｎｍ）のうちの、より広い波長域の光を吸収できるからである。近赤外線波長領域（８５０ｎｍ〜１１００ｎｍ）の光をほぼ全て吸収可能なように、近赤外線吸収組成物が、最大吸収波長が相違する２種以上の近赤外線吸収化合物を含んでいると、より好ましい。２種以上の近赤外線吸収化合物の配合割合は、各近赤外線吸収化合物の近赤外線吸収波長領域などに応じて、適宜決定すればよい。
【００７２】
実施形態１の近赤外線吸収化合物とは最大吸収波長の異なる別の近赤外線吸収化合物としては、シアニン系色素（イオン結合性化合物）、フタロシアニン系色素（金属錯体化合物）、アゾ系色素、スクアリリウム系色素およびジチオール系色素からなる群から選ばれる少なくとも１種の色素が挙げられる。
【００７３】
２種以上の近赤外線吸収化合物の組み合わせは、例えば、実施形態１のジイモニウム系化合物／シアニン系色素、実施形態１のジイモニウム塩化合物／フタロシアニン系色素などが挙げられる。
【００７４】
近赤外線吸収組成物に含まれるバインダー樹脂については、可視光に対して透光性を有していれば特に制限はないが、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、セルロース樹脂、ポリブチラール樹脂、ポリエステル樹脂などを用いることができる。これらの樹脂のうち１種を用いてもよいし、２種以上がブレンドされたポリマーブレンドを用いてもよい。特に、ガラス転移温度が８０℃以上の樹脂を用いると、近赤外線吸収化合物との相溶性が良好であるので好ましい。
【００７５】
近赤外線吸収組成物に含まれるバインダー樹脂の配合割合について、特に制限はないが、近赤外線吸収化合物１００重量部に対して、１０００〜２０００重量部程度であると好ましい。
【００７６】
近赤外線吸収組成物には、必要に応じて、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、表面調整剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されていてもよい。
【００７７】
塗料に含まれ、近赤外線吸収化合物およびバインダー樹脂を溶解させる溶媒としては、特に限定はないが、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、プロビオニトリルなどの有機溶媒、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。
【００７８】
尚、本願において、「近赤外線吸収化合物の溶解」とは、近赤外線吸収化合物が、溶媒中に溶け込み、固体の形状になく、イオン対または錯体の状態となることを意味し、イオン対または錯体をなさないほどに、溶媒に溶け込んだ状態を意味する「解離」とは区別される。
【００７９】
塗料の塗布方法について、特に制限はないが、例えば、ロールコート、ダイコート、エアナイフコート、ブレードコート、スピンコート、リバースコート、グラビアコートなどの塗工法、グラビア印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷などの印刷法を用いることができる。
【００８０】
本実施形態の近赤外線吸収フィルタは、Ｈａｚｅ値（ＪＩＳ  Ｋ７１０５に規定）が１％以下であると好ましい。Ｈａｚｅ値が１％以下であると、例えば、上記近赤外線吸収フィルタをＰＤＰの前面板の構成部材として使用した場合に、画像の鮮やかさが損なわれないからである。なお、Ｈａｚｅ値は、曇価とも呼ばれ、プラスチックの内部や表面の曇りの度合いを表す値であり、低ければ低いほど好ましい。
【００８１】
近赤外線吸収フィルタの、波長領域８５０ｎｍ〜１１００ｎｍにおける分光透過率は、１５％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。分光透過率がこの範囲であれば、近赤外線吸収フィルタによって電子機器の誤作動を十分に抑制できる。なお、上記分光透過率は低ければ低いほど好ましい。
【００８２】
近赤外線吸収層２の厚さは、２μｍ以上１５μｍ以下であると好ましく、３μｍ以上１０μｍ以下であるとより好ましい。近赤外線吸収層２の厚さが２μｍ未満の場合、波長領域８５０ｎｍ〜１１００ｎｍにおける分光透過率を１５％以下にするためには、バインダー樹脂に対する近赤外線吸収化合物の添加量を増加させる必要がある。この場合、未溶解の近赤外線吸収化合物に起因する光の散乱が生じ、その結果、Ｈａｚｅ値が大きくなるという問題が生じる場合がある。また、近赤外線吸収層２の厚さが１５μｍを越える場合、波長領域８５０ｎｍ〜１１００ｎｍにおける分光透過率を１５％以下に維持できるものの、近赤外線吸収層２中に遊離した溶剤が残る場合がある。この残存溶剤は、近赤外線吸収化合物の再溶解または解離などを引き起こして、近赤外線吸収特性の経時劣化をもたらす。近赤外線吸収層２の厚さが、２μｍ以上１５μｍ以下であれば、溶剤の残留を好適に抑制できる。
【００８３】
以上、図１に示した近赤外線吸収フィルタを例に挙げて本実施形態の近赤外線吸収フィルタの一例を説明したが、本実施形態の近赤外線吸収フィルタの構造は図１に示した例に限定されない。本実施形態の近赤外線吸収フィルタは、樹脂に近赤外線吸収化合物が分散された単一の層からなるものであってもよい。また、図２に示すように、近赤外線吸収フィルタは、基材１の近赤外線吸収層２側の反対側に配置された反射防止層４を備えていてもよいし、基材１と反射防止層４の間に配置されたハードコート層３を備えていてもよい。ハードコート層３は、例えば、熱硬化性樹脂や無機微粒子などを含む。反射防止層４は、屈折率の異なる３つの膜から構成されていてもよく、この場合、３つの膜は、ハードコート層３側から中屈折率膜４ａ、高屈折率膜４ｂ、低屈折率膜４ｃの順に配置される。
【００８４】
上記近赤外線吸収フィルタに含まれる実施形態１のジイモニウム塩化合物は、１種に限定されず、２種以上であってもよい。また上記近赤外線吸収フィルタでは、実施形態１のジイモニウム塩化合物を用いているが、これに代えて実施形態２のジイモニウム塩化合物を１種以上用いてもよい。実施形態２のジイモニウム塩化合物も熱や湿度による悪影響を受けにくいので、この場合も、経時的に近赤外線吸収能が低下することが抑制された近赤外線吸収フィルタを提供できる。また上記近赤外線吸収フィルタは、実施形態１のジイモニウム塩化合物と実施形態２のジイモニウム塩化合物の両方を含んでいてもよい。
【００８５】
（実施形態４）
実施形態４では、本発明のディスプレイ用前面板の一例について説明する。図３に示すように、本実施形態のディスプレイ用前面板１１は、基板１２と、基板１２の一方の主面側に配置された近赤外線吸収フィルタ１３と、基板１２の他方の主面側に配置された電磁波遮蔽層１４と、電極（アース）１５とから形成されている。
【００８６】
基板１２の材料は、可視光に対して透光性を有する材料であれば特に限定されず、例えば、強化ガラスなどを用いることができる。近赤外線吸収フィルタ１３としては、例えば、実施形態３の近赤外線吸収フィルタを用いることができる。
【００８７】
本実施形態のディスプレイ用前面板は、実施形態３の近赤外線吸収フィルタを用いているので、高温高湿な使用条件下における近赤外線吸収特性の経時劣化が抑制されている。
【００８８】
以下、実施例に基づき本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されない。
【実施例】
【００８９】
（実施例１）
p-フェニレンジアミン１０．８重量部、p−ニトロクロロベンゼン９４．５重量部、無水炭酸カリウム３４．５重量部、銅粉２重量部を用意し、これらを、ジメチルホルムアミド１５０重量部中において、撹拌下還流した。還流は１５時間行った。この反応後、反応混合物をろ過し、ろ過物をジメチルホルムアミド、水、アセトンでよく洗浄した後、乾燥して、赤褐色のＮ，Ｎ，Ｎ',Ｎ'−テトラキス（p−ニトロフェニル）−p−フェニレンジアミンを３０重量部得た。
【００９０】
次に、オートクレーブ中において、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ'−テトラキス（p−ニトロフェニル）−p−フェニレンジアミン２５重量部を、パラジウム−カーボン水添触媒１重量部とともに、ジメチルホルムアミド１００重量部中に加えた。その際、圧力５．０ｋｇ／ｃｍ2の水素ガス圧をかけながら、９０℃〜１００℃で水素吸収が止まるまで撹拌した。このようにして得た反応液をろ過し、次いで、ろ液を３５０重量部の氷水に入れ、しばらく撹拌した後、沈殿物をろ過した。その後、沈殿物をエタノール−ジメチルホルムアミド混合溶媒（体積比５：７）中で再結晶させて、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ'−テトラキス（p−アミノフェニル）−p−フェニレンジアミンを１４重量部得た。液クロ分析により、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ'−テトラキス（p−アミノフェニル）−p−フェニレンジアミンの純度は９５．８％であった。核磁気共鳴スペクトル（ｄ6―ＤＭＳＯ）分析をしたところ、ＮＭＲチャートには、δ３．３５ｐｐｍに８Ｈ分のアミノ基の吸収が、δ６．４０〜６．５１ｐｐｍにブロードなダブレットの２０Ｈ分芳香族環の吸収が見られた。
【００９１】
上記アミノ体３．８部、Ｎ，Ｎ'−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）３０重量部、炭酸カリウム１５重量部、ブロモメチルシクロヘキサン１２．８重量を用意し、これらを１２０〜１４０℃で８時間撹拌した。次いで、冷却後、析出した結晶を、ろ過し、水洗後乾燥し、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いて再結晶させて、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス〔p−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル〕−p−フェニレンジアミン２．０１重量部を得た。
【００９２】
Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス[p−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル]−p−フェニレンジアミン１重量部を、ＴＨＦ１０重量部に加え、７０℃撹拌下、これらに、ＤＭＦ１０重量部に溶解させた６フッ化リン酸銀をさらに加えた。６フッ化リン酸銀のモル数は、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス〔p−ジ（シクロヘキシルメチル）アミノフェニル〕−p−フェニレンジアミンのそれの２倍とした。これらを１時間反応させたのち、析出した銀をろ別した。ろ液に水５重量部を加え、析出した結晶をろ取後乾燥することにより、表１のＮｏ．１の化合物０．９８重量部を得た。Ｎｏ．１の化合物の吸収極大波長は１０９２ｎｍであり、近赤外領域の光に対して大きな吸収領域を有する化合物であった。
【００９３】
（実施例２）
６フッ化リン酸銀に代えて、６フッ化アンチモン酸銀を用いたこと以外は実施例１と同様にして、表１のＮｏ.２の化合物を得た。
【００９４】
（実施例３）
ブロモメチルシクロヘキサンに代えて、１−ブロモ−２−シクロヘキシルエタンを用いたこと以外は実施例１と同様にして、表１のＮｏ.７の化合物を得た。
【００９５】
（実施例４）
６フッ化リン酸銀に代えて、６フッ化アンチモン酸銀を用いたこと以外は実施例３と同様にして、表１のＮｏ.８の化合物を得た。
【００９６】
（実施例５）
Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス（ｐ−アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン３．８重量部、ＤＭＦ３０重量部、炭酸カリウム１５重量部、イソプロポキシエチルブロマイド１３．４重量部を用意し、これらを１００℃〜１３０℃で８時間撹拌した。次いで、得られた反応液を氷水１００重量部に入れ攪拌した後、沈殿物をろ取した。ろ取した沈殿物を乾燥した後、シリカゲルカラムを用いて精製し、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス[ｐ−ジ（イソプロポキシエチル）アミノフェニル]−ｐ−フェニレンジアミン３．５３重量部を得た。
【００９７】
Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス[ｐ−ジ（イソプロポキシエチル）アミノフェニル]−ｐ−フェニレンジアミン１重量部を、ＤＭＦ１０重量部に加え、７０℃撹拌下、これらに、ＤＭＦ１０重量部に溶解させたビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸銀をさらに加えた。ビス（トリフルオロメタンスルホン）イミド酸銀のモル数は、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス[ｐ−ジ（イソプロポキシエチル）アミノフェニル]−ｐ−フェニレンジアミンのそれの２倍とした。これらを１時間反応させた後、析出した銀をろ別した。ろ液に水１０重量部を加え、析出した結晶をろ取後乾燥することにより、表１のＮｏ．１３の化合物０．７６重量部を得た。Ｎｏ.１３の化合物の吸収極大波長は１０６８ｎｍであり、Ｎｏ.１３の化合物は、近赤外領域の光に対して大きな吸収を示す化合物であった。
【００９８】
（実施例６）
イソプロポキシエチルブロマイドに代えて、イソプロポキシメチルブロマイドを用いたこと以外は実施例５と同様にして、表１のＮｏ.１５の化合物を得た。
【００９９】
ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）１００重量部に対して、以上のようにして得た化合物Ｎｏ.１、Ｎｏ.２、Ｎｏ.７、Ｎｏ.８、Ｎｏ.１３、Ｎｏ.１５それぞれを７．２５重量部を、さらに溶媒としてメチルエチルケトンを２３３重量部添加して、近赤外線吸収層形成用の塗料を得た。この塗料を、マイクログラビアコーターを用いて基材に塗布し、塗付された塗料を乾燥して近赤外線吸収フィルタを得た。塗料の塗付は、乾燥後の膜厚が４μｍとなるように行った。基材には、表裏両面に易接着処理が施された厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製"Ｕ−３４"）を用いた。
【０１００】
（比較例１）
ブロモメチルシクロヘキサンに代えて、ｎ−ブチルブロマイドを用いたこと以外は実施例１と同様にして、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラキス〔p−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル〕−p−フェニレンジアミンを得た。次いで、実施例２と同様にして、この化合物と６フッ化アンチモン酸銀とを反応させて、直鎖のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を得た。また、直鎖のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いて、実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルタを得た。
【０１０１】
（比較例２）
ブロモメチルシクロヘキサンに代えて、ｉｓｏ−ブチルブロマイドを用いたこと以外は実施例１と同様にして、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'−テトラキス〔p−ジ（ｉｓｏ−ブチル）アミノフェニル〕−p−フェニレンジアミンを得た。次いで、実施例１と同様にして、この化合物と６フッ化リン酸銀とを反応させて分岐のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を得た。また、分岐のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いて、実施例と同様にして近赤外線吸収フィルタを得た。
【０１０２】
（耐湿熱性試験）
実施例１〜６および比較例１，２の近赤外線吸収フィルタについて、温度８０℃湿度９５％で４８時間保存する試験を行い、この試験前後の分光透過率を分光光度計（日本分光社製"Ｕ−Ｂｅｓｔ  Ｖ−５７０"）を用いて測定した。そして、特定波長の透過率の変化率を算出した。得られた透過率の変化率について以下の基準で評価を行い、結果を表３に示した。
【０１０３】
〔評価基準〕
◎：試験前後における透過率変化が０．５％未満
○：試験前後における透過率変化が０．５％以上１．５％未満
△：試験前後における透過率変化が１．５％以上３．０％未満
×：試験前後における透過率変化が３．０％以上
【０１０４】
【表３】
2007097368.tif 000022
【０１０５】
表３に示すように、環状アルキル基、または環状アルキル基を有するアルキレン基を有するジイモニウム塩化合物を用いた実施例１〜４の近赤外線吸収フィルタは、直鎖状のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いた比較例１および分岐鎖状のアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いた比較例２の近赤外線吸収フィルタよりも、耐湿熱性試験後の近赤外線吸収能の劣化の程度が小さいことが確認できた。
【０１０６】
また、ジイモニウム塩化合物を構成するアニオンが６フッ化リン酸イオンであると、耐湿熱性試験後の近赤外線吸収能の劣化が非常に小さいことが確認できた。
【０１０７】
また、表３に示すように、アルコキシアルキル基を有するジイモニウム塩化合物を用いた実施例５，６の近赤外線吸収フィルタについても、比較例１および比較例２の近赤外線吸収フィルタよりも、耐湿熱性試験前後の透過率変化が特に短波長域において小さく、近赤外線吸収能の劣化の程度が小さいことが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本発明のジイモニウム塩化合物は、耐熱性および耐湿性が優れているので、様々な用途に用いることができる。例えば、ＰＤＰのディスプレイ用前面板、自動車ガラス、建材用近赤外線吸収フィルタなどに用いることができ、特にＰＤＰのディスプレイ用前面板の近赤外線吸収フィルタとして有用である。また、本発明のジイモニウム塩化合物は、ＣＤ−Ｒ，ＤＶＤ−Ｒなどの光記録媒体に使用される色素としても用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０９】
【図１】本実施形態の近赤外線吸収フィルタの一例を示す断面図である。
【図２】本実施形態の近赤外線吸収フィルタの他の例を示す断面図である。
【図３】本実施形態のディスプレイ用前面板の一例を示す断面図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2007097368.tif 000023
【図２】
2007097368.tif 000024
【図３】
2007097368.tif 000025
【国際調査報告】
2007097368.tif 000026
2007097368.tif 000027
2007097368.tif 000028
2007097368.tif 000029