Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月8日(2019.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光体と、
静電潜像を形成するために前記感光体を露光する露光手段と、
現像剤を担持して回転する現像剤担持体を有し、前記感光体上の前記静電潜像を前記現像剤担持体に担持された前記現像剤を用いて現像する現像手段と、
前記現像手段による現像によって顕像化された画像が転写される中間転写体と、
前記画像を前記中間転写体からシートへ転写させる転写手段と、
前記感光体を回転する感光体モータと、
前記中間転写体を回転する中間転写体モータと、
前記感光体の回転速度が感光体目標速度となるように前記感光体モータを制御し、前記中間転写体の回転速度が中間転写体目標速度となるように前記中間転写体モータを制御するモータ制御手段と、
前記感光体と前記中間転写体と前記現像剤担持体が回転している第１状態において前記感光体モータの負荷に関する第１情報を取得し、前記現像剤担持体の回転が停止し、且つ、前記感光体と前記中間転写体が回転している第２状態において前記感光体モータの負荷に関する第２情報を取得し、前記感光体目標速度を変更するか否かを前記第１情報と前記第２情報とに基づいて制御する制御手段と、を有し、
前記感光体と前記中間転写体と前記現像剤担持体が回転しながら前記画像が複数のシートへ形成されている間に所定条件が満たされた場合、前記制御手段は前記現像剤担持体の回転を停止させて前記第２情報を取得することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記所定条件は、前記複数のシートに形成された前記画像の枚数に関する条件であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記複数のシートに形成された前記画像の枚数が所定枚数に達する度に前記所定条件が満たされることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記第１情報は、前記第１状態において前記感光体モータへ供給されるＰＷＭ信号のデューティであり、
前記第２情報は、前記第２状態において前記感光体モータへ供給されるＰＷＭ信号のデューティであることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項５】
感光体と、
静電潜像を形成するために前記感光体を露光する露光手段と、
現像剤を担持して回転する現像剤担持体を有し、前記感光体上の前記静電潜像を前記現像剤担持体に担持された前記現像剤を用いて現像する現像手段と、
前記現像手段による現像によって顕像化された画像が転写される中間転写体と、
前記画像を前記中間転写体からシートへ転写させる転写手段と、
前記感光体を回転する感光体モータと、
前記中間転写体を回転する中間転写体モータと、
前記感光体の回転速度が感光体目標速度となるように前記感光体モータを制御し、前記中間転写体の回転速度が中間転写体目標速度となるように前記中間転写体モータを制御するモータ制御手段と、
前記感光体と前記中間転写体と前記現像剤担持体が回転している第１状態において前記中間転写体モータの負荷に関する第１情報を取得し、前記現像剤担持体の回転が停止し、且つ、前記感光体と前記中間転写体が回転している第２状態において前記中間転写体モータの負荷に関する第２情報を取得し、前記感光体目標速度を変更するか否かを前記第１情報と前記第２情報とに基づいて制御する制御手段と、を有し、
前記感光体と前記中間転写体と前記現像剤担持体が回転しながら前記画像が複数のシートへ形成されている間に所定条件が満たされた場合、前記制御手段は前記現像剤担持体の回転を停止させて前記第２情報を取得することを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
前記所定条件は、前記複数のシートに形成された前記画像の枚数に関する条件であることを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記複数のシートに形成された前記画像の枚数が所定枚数に達する度に前記所定条件が満たされることを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記第１情報は、前記第１状態において前記中間転写体モータへ供給されるＰＷＭ信号のデューティであり、
前記第２情報は、前記第２状態において前記中間転写体モータへ供給されるＰＷＭ信号のデューティであることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、たとえば、
感光体と、
静電潜像を形成するために前記感光体を露光する露光手段と、
現像剤を担持して回転する現像剤担持体を有し、前記感光体上の前記静電潜像を前記現像剤担持体に担持された前記現像剤を用いて現像する現像手段と、
前記現像手段による現像によって顕像化された画像が転写される中間転写体と、
前記画像を前記中間転写体からシートへ転写させる転写手段と、
前記感光体を回転する感光体モータと、
前記中間転写体を回転する中間転写体モータと、
前記感光体の回転速度が感光体目標速度となるように前記感光体モータを制御し、前記中間転写体の回転速度が中間転写体目標速度となるように前記中間転写体モータを制御するモータ制御手段と、
前記感光体と前記中間転写体と前記現像剤担持体が回転している第１状態において前記感光体モータの負荷に関する第１情報を取得し、前記現像剤担持体の回転が停止し、且つ、前記感光体と前記中間転写体が回転している第２状態において前記感光体モータの負荷に関する第２情報を取得し、前記感光体目標速度を変更するか否かを前記第１情報と前記第２情報とに基づいて制御する制御手段と、を有し、
前記感光体と前記中間転写体と前記現像剤担持体が回転しながら前記画像が複数のシートへ形成されている間に所定条件が満たされた場合、前記制御手段は前記現像剤担持体の回転を停止させて前記第２情報を取得することを特徴とする画像形成装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月27日(2019.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記投射環境は、前記投射手段による投射の方向及び投射先に形成される投影面の状態の少なくとも一方を含むことを特徴とする、
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の投射型デバイス。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月4日(2019.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する基板保持装置であって、
前記基板を保持する保持部と、
前記基板の前記保持部側の面の一部の領域を吸着支持する第１支持部と、該第１支持部によって吸着支持される領域とは異なる前記保持部側の面の一部の領域を支持する第２支持部とを含む支持部材と、
前記基板が前記保持部と接触した後、前記第１支持部に前記基板を吸着させたまま前記第２支持部を前記基板から遠ざける駆動手段と、
前記駆動手段により前記第２支持部が前記保持部側の面から遠ざけられた状態で前記保持部側の面に気体を供給する供給手段と、を有することを特徴とする基板保持装置。
【請求項２】
前記第２支持部と前記保持部側の面との接触面積が、前記第１支持部と前記保持部側の面との接触面積よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記駆動手段は、前記第２支持部の位置制御を停止することにより前記第２支持部を前記保持部側の面から遠ざけることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記支持部材は、前記駆動手段から生じるパーティクルの飛散を防止するカバーを有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記第１支持部の前記保持部側の面との接触部は、前記基板の形状にならって変形することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項６】
前記第１支持部は、前記第１支持部と前記第２支持部との相対移動を規制する規制部を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項７】
前記供給手段により気体を供給した後、前記保持部と前記基板の間を排気して前記基板を前記保持部で保持することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項８】
原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
請求項１乃至７のいずれかに記載の基板保持装置と、
前記保持部に保持された基板上に前記パターンを形成するパターン形成手段と、を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項９】
請求項８に記載のリソグラフィ装置を用いて、基板上に前記パターンを形成する工程と、
パターンの形成された基板を加工する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、基板を保持する基板保持装置であって、前記基板を保持する保持部と、前記基板の前記保持部側の面の一部の領域を吸着支持する第１支持部と、該第１支持部によって吸着支持される領域とは異なる前記保持部側の面の一部の領域を支持する第２支持部とを含む支持部材と、前記基板が前記保持部と接触した後、前記第１支持部に前記基板を吸着させたまま前記第２支持部を前記基板から遠ざける駆動手段と、前記駆動手段により前記第２支持部が前記保持部側の面から遠ざけられた状態で前記保持部側の面に気体を供給する供給手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月11日(2019.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
ステップＳ６０２で第１の動作モードと判定された場合、ステップＳ６０３でストロボＭＰＵ２０３は、外部ストロボ２００の照射方向に関する情報として、ストロボヘッド部２０２が基準位置にあるときの発光部２０５の照射光軸に対する現在の発光部の照射光軸の角度差を表示部２１０に表示させる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
一方、ステップＳ６０２で第１の動作モードと判定されなかった場合、ステップＳ６０４でストロボＭＰＵ２０３は、外部ストロボ２００の照射方向に関する情報として、ストロボヘッド部２０２の基準位置との角度差を表示部２１０に表示させる。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月14日(2019.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
負の屈折力を有する第１レンズ群と、
前記第１レンズ群より像側に配置され、正の屈折力を有する第２レンズ群と、
前記第２レンズ群より像側に配置され、光軸と直交する方向の変位成分を持つように移動する防振群を有する後続レンズ群と、を有し、
広角端状態から望遠端状態に変倍する際に、前記第１レンズ群と前記第２レンズ群との間隔が変化し、前記第２レンズ群と前記後続レンズ群との間隔が変化し、
次式の条件を満足することを特徴とする変倍光学系。
４．８９９  ≦  ｜ｆ１ＶＲａｗ／ｆｗ｜  ＜  １０００．０００
但し、
ｆ１ＶＲａｗ：前記防振群より物体側に配置されたレンズの広角端状態における合成焦点距離
ｆｗ：広角端状態における全系の焦点距離
【請求項２】
前記防振群は、少なくとも１枚の正レンズと、少なくとも１枚の負レンズと、を有して構成されていることを特徴とする請求項１に記載の変倍光学系。
【請求項３】
前記第１レンズ群より像側であって、且つ、前記後続レンズ群より物体側に配置されるレンズは、４枚以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の変倍光学系。
【請求項４】
前記後続レンズ群は、前記防振群と、前記防振群の物体側に配置されて負の屈折力を有する物体側群と、を有し、
次式の条件を満足することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の変倍光学系。
−３０．００  ＜  βａｗ  ＜  １０．００
但し、
βａｗ：広角端状態における前記物体側群の結像倍率
【請求項５】
前記第１レンズ群と前記後続レンズ群との間にあるレンズ群の少なくとも一部を合焦群とし、
合焦時に、前記合焦群を光軸方向に移動させることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の変倍光学系。
【請求項６】
前記合焦群は、正の屈折力を有することを特徴とする請求項５に記載の変倍光学系。
【請求項７】
次式の条件を満足することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の変倍光学系。
０．２００  ＜  （−ｆ１）／ｆ２  ＜  ０．７００
但し、
ｆ１：前記第１レンズ群の焦点距離
ｆ２：前記第２レンズ群の焦点距離
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の変倍光学系を有することを特徴とする光学機器。
【請求項９】
負の屈折力を有する第１レンズ群と、前記第１レンズ群より像側に配置され、正の屈折力を有する第２レンズ群と、前記第２レンズ群より像側に配置され、光軸と直交する方向の変位成分を持つように移動する防振群を有する後続レンズ群と、を有する変倍光学系の製造方法であって、
広角端状態から望遠端状態に変倍する際に、前記第１レンズ群と前記第２レンズ群との間隔が変化し、前記第２レンズ群と前記後続レンズ群との間隔が変化するように配置し、
次式の条件を満足するように配置することを特徴とする変倍光学系の製造方法。
４．８９９  ≦  ｜ｆ１ＶＲａｗ／ｆｗ｜  ＜  １０００．０００
但し、
ｆ１ＶＲａｗ：前記防振群より物体側に配置されたレンズの広角端状態における合成焦点距離
ｆｗ：広角端状態における全系の焦点距離
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
本発明の第一の態様に係る変倍光学系は、負の屈折力を有する第１レンズ群と、第１レンズ群より像側に配置され、正の屈折力を有する第２レンズ群と、第２レンズ群より像側に配置され、光軸と直交する方向の変位成分を持つように移動する防振群を有する後続レンズ群と、を有し、広角端状態から望遠端状態に変倍する際に、第１レンズ群と第２レンズ群との間隔が変化し、第２レンズ群と後続レンズ群との間隔が変化し、次式の条件を満足することを特徴とする。
４．８９９  ≦  ｜ｆ１ＶＲａｗ／ｆｗ｜  ＜  １０００．０００
但し、
ｆ１ＶＲａｗ：防振群より物体側に配置されたレンズの広角端状態における合成焦点距離
ｆｗ：広角端状態における全系の焦点距離
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
また、本発明の第一の態様に係る光学系の製造方法は、負の屈折力を有する第１レンズ群と、第１レンズ群より像側に配置され、正の屈折力を有する第２レンズ群と、第２レンズ群より像側に配置され、光軸と直交する方向の変位成分を持つように移動する防振群を有する後続レンズ群と、を有する変倍光学系の製造方法であって、広角端状態から望遠端状態に変倍する際に、第１レンズ群と第２レンズ群との間隔が変化し、第２レンズ群と後続レンズ群との間隔が変化するように配置し、次式の条件を満足するように配置することを特徴とする。
４．８９９  ≦  ｜ｆ１ＶＲａｗ／ｆｗ｜  ＜  １０００．０００
但し、
ｆ１ＶＲａｗ：防振群より物体側に配置されたレンズの広角端状態における合成焦点距離
ｆｗ：広角端状態における全系の焦点距離
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
４．８９９  ≦  ｜ｆ１ＶＲａｗ／ｆｗ｜  ＜  １０００．０００    （１）
但し、
ｆ１ＶＲａｗ：防振群ＧＶＲｂより物体側に配置されたレンズの広角端状態における合成焦点距離
ｆｗ：広角端状態における全系の焦点距離
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
このように、この変倍光学系ＺＬ１は、上記条件式（１）〜（３）を全て満足している。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
このように、この変倍光学系ＺＬ２は、上記条件式（１）〜（３）を全て満足している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
このように、この変倍光学系ＺＬ３は、上記条件式（１）〜（３）を全て満足している。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
このように、この変倍光学系ＺＬ４は、上記条件式（１）〜（３）を全て満足している。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月12日(2019.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動するベルト部材と、
ベルト部材の寄りを検知するベルト寄り検知機構と、ベルト寄り検知機構の検知結果に基づいて、ベルト部材の寄りを補正するベルト寄り補正手段とを備えたベルト装置において、
前記ベルト寄り検知機構は、前記ベルト部材の端部に設けられた検知マークと、前記ベルト部材の幅方向に移動可能に設けられ、前記検知マークを検知するマーク検知手段とを有することを特徴とするベルト装置。
【請求項２】
請求項１に記載のベルト装置において、
前記ベルト寄り検知機構を用いて、前記ベルト部材の回転を検知することを特徴とするベルト装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のベルト装置において、
前記ベルト部材の回転方向において、前記検知マークが前記マーク検知手段と対向する位置にくるように、前記ベルト部材を停止させ、前記マーク検知手段を前記ベルト部材の幅方向に移動させて前記検知マークの検知を行い、その検知結果に基づいてベルト寄りを検知することを特徴とするベルト装置。
【請求項４】
請求項３に記載のベルト装置において、
前記検知マークのベルト部材の幅方向長さを、ベルト部材の寄り検知時の前記マーク検知手段のベルト幅方向移動距離と同じ長さとしたことを特徴とするベルト装置。
【請求項５】
請求項３に記載のベルト装置において、
前記検知マークのベルト部材の幅方向長さを、ベルト部材の寄り検知時の前記マーク検知手段のベルト幅方向移動距離よりも短くしたことを特徴とするベルト装置。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれかに記載のベルト装置において、
前記検知マークは、前記ベルト部材の表面に直接、形成されていることを特徴とするベルト装置。
【請求項７】
ベルト装置と、
前記ベルト部材を加熱する加熱手段と、
前記ベルト部材の外周面に当接して、前記ベルト部材の内周面に接触する接触部材に向けて前記ベルト部材を加圧する加圧部材と、
画像が形成された記録媒体を、前記加圧部材の加圧により形成されたニップに通過させて該記録媒体上の画像を定着させる定着装置において、
前記ベルト装置として、請求項１乃至６いずれかに記載のベルト装置を用いたことを特徴とする定着装置。
【請求項８】
請求項７に記載の定着装置において、
前記ベルト寄り検知機構を用いて、前記ベルト部材の回転を検知するものであって、
前記ベルト部材の回転検知の結果に基づいて、前記加熱手段を制御することを特徴とする定着装置。
【請求項９】
請求項８に記載の定着装置において、
前記ベルト部材の回転検知の結果に基づいて、ベルト部材の回転速度を把握し、把握した回転速度に基づいて、規定時間当たりに前記ベルト部材に付与する熱量を調整することを特徴とする定着装置。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の定着装置において、
前記ベルト部材が回転していないことを検知したときは、前記加熱手段による前記ベルト部材の加熱を停止することを特徴とする定着装置。
【請求項１１】
請求項７乃至１０いずれかに記載の定着装置において、
前記加圧部材の前記ベルト部材に対する加圧力が調製可能な加圧調整機構を、前記加圧部材のベルト部材幅方向両端に設け、
前記ベルト寄り補正手段は、各加圧調整機構を制御して、前記ベルト部材の寄りを補正することを特徴とする定着装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の定着装置において、
前記ベルト寄り補正手段は、前記ベルト部材の寄りの検知結果に基づいて、寄っていない側の加圧力が、寄っている側の加圧力よりも低くなるように、各加圧調整機構を制御することを特徴とする定着装置。
【請求項１３】
記録媒体に対して画像を形成する画像形成部と、
前記画像形成部で形成された前記記録媒体上の画像を定着させる定着手段と、を備えた画像形成装置において、
前記定着手段として、請求項７乃至１２いずれかに記載の定着装置を用いたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月8日(2019.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転可能な無端状の回転体と、前記回転体の外周面と接触する接触部材と、前記回転体の内側に配置されて前記回転体を介して前記接触部材と当接しニップ部を形成するニップ形成部材と、前記回転体の内周面と前記ニップ形成部材との間に介在する潤滑部材と、を備えた定着装置において、
前記ニップ形成部材が、前記ニップ部を形成し、前記回転体の内周面に摺接する第一の面と、前記第一の面における前記回転体の回転方向の上流側端部側に配置され、前記第一の面に対して所定の角度をもつ第二の面と、前記第一の面と第二の面とを接続する曲げ部とを有し、
前記第二の面、前記曲げ部、及び、前記回転体の内周面で形成される空間に堆積する前記潤滑部材の量が、前記回転体の回転軸方向における前記ニップ形成部材の端部側よりも中央部側の方が多くなるように前記第一の面、前記第二の面、及び前記曲げ部を形成したこと特徴とする定着装置。
【請求項２】
請求項１に記載の定着装置において、前記回転体内部に存在する発熱体と、前記第一の面に対して反対側に位置する前記ニップ形成部材の面と接触して前記ニップ形成部材を保持する保持部材とを備え、
前記ニップ形成部材が、基材と、前記基材に対して前記回転体の内周面側に配置されて前記基材より大きな熱伝導率を有し、前記第一の面、前記第二の面、及び、前記曲げ部を有する熱伝導部材とを備え、
前記回転体の内周面の法線と前記第二の面とが交わる点から前記回転体の内周面までの距離が、前記回転軸方向における任意の位置を最大距離として、該任意の位置から前記ニップ形成部材の該回転軸方向の端部に向かうにつれて小さくなるように前記第一の面、前記第二の面、及び前記曲げ部を形成したこと特徴とする定着装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の定着装置において、前記曲げ部が前記回転体の内周面と接触し、前記回転体の内周面の法線と前記第二の面とが交わる点から前記回転体の内周面までの距離が、前記曲げ部から前記回転方向の上流側に向かうにつれて大きくなるように前記第一の面、前記第二の面、及び前記曲げ部を形成したことを特徴とする定着装置。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の定着装置において、前記曲げ部が前記回転体の内周面と非接触であり、前記回転体の内周面の法線と前記第二の面とが交わる点から前記回転体の内周面までの距離が、前記回転方向で前記曲げ部を最小値として、前記曲げ部から前記回転方向の上流側に向かうにつれて大きくなるように前記曲げ部を形成したことを特徴とする定着装置。
【請求項５】
請求項１乃至４いずれか一に記載の定着装置において、前記曲げ部が、曲線形状であることを特徴とする定着装置。
【請求項６】
請求項５に記載の定着装置において、前記曲げ部と前記回転体の内周面との間に、前記曲げ部の前記第一の面側であって前記回転体の内周面と接触する接触領域と、前記曲げ部の前記第二の面側であって前記回転体の内周面と非接触となる非接触領域とを有し、前記非接触領域において、前記回転体の内周面の法線と前記曲げ部における前記非接触領域とが交わる点から前記回転体の内周面まで距離が、前記回転軸方向における任意の位置を最大距離として、該任意の点から前記ニップ形成部材の該回転軸方向の端部に向かうにつれて小さくなるように前記第一の面、前記第二の面、及び前記曲げ部を形成したことを特徴とする定着装置。
【請求項７】
請求項６に記載の定着装置において、前記回転体の内周面の法線と前記曲げ部における前記非接触領域とが交わる点から前記回転体の内周面まで距離が、前記曲げ部における前記接触領域から前記回転方向の上流側に向かうにつれて大きくなるように前記第一の面、前記第二の面、及び前記曲げ部を形成したことを特徴とする定着装置。
【請求項８】
請求項５乃至７いずれか一に記載の定着装置において、前記曲線形状の曲率半径が、前記回転軸方向における任意の位置を最大にして、該任意の位置から前記ニップ形成部材の該回転軸方向の端部に向かって小さくなるように前記第一の面、前記第二の面、及び前記曲げ部を形成したことを特徴とする定着装置。
【請求項９】
請求項１乃至８いずれか一に記載の定着装置において、前記ニップ形成部材における前記曲げ部の曲げ開始位置が、前記回転軸方向における任意の位置から前記ニップ形成部材の該回転軸方向端部に向かうにつれて、前記回転方向上流側にずれるように前記第一の面、前記第二の面、及び前記曲げ部を形成したことを特徴とする定着装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の定着装置において、前記回転体内部に存在する発熱体と、前記第一の面に対して反対側に位置する前記ニップ形成部材の面と接触して前記ニップ形成部材を保持する保持部材とを備え、
前記ニップ形成部材が、基材と、前記基材に対して前記回転体の内周面側に配置されて前記基材より大きな熱伝導率を有し、前記第一の面、前記第二の面、及び、前記曲げ部を有する熱伝導部材とを備え、
前記曲げ部が曲線形状であり、前記曲げ部の前記第一の面側であって前記回転体の内周面と接触する接触領域と、前記曲げ部の前記第二の面側であって前記回転体の内周面と非接触となる非接触領域とを有し、前記非接触領域において、前記回転体の内周面の法線と前記曲げ部における前記非接触領域とが交わる点から前記回転体の内周面まで距離が、前記回転軸方向における任意の位置を最大距離として、該任意の点から前記ニップ形成部材の該回転軸方向の端部に向かうにつれて小さくなるように前記第一の面、前記第二の面、及び前記曲げ部を形成したことを特徴とする定着装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の定着装置において、前記曲げ部の曲率半径が、前記回転軸方向における任意の位置を最大距離として、該任意の位置から前記ニップ形成部材の該回転軸方向の端部に向かって小さくなるように前記第一の面、前記第二の面、及び前記曲げ部を形成したことを特徴とする定着装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載の定着装置において、前記ニップ形成部材における前記曲げ部の曲げ開始位置が、前記回転軸方向における任意の位置から前記ニップ形成部材の該回転軸方向の端部に向かって、前記回転方向の上流側にずれるように前記第一の面、前記第二の面、及び前記曲げ部を形成したことを特徴とする定着装置。
【請求項１３】
記録材上に形成したトナー像を、前記記録材上に定着する定着装置を備えた画像形成装置において、前記定着装置として、請求項１乃至１２のいずれか一に記載の定着装置を備えることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月28日(2019.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理装置と搬送装置と制御装置とを備えるプラズマ処理システムであって、
前記プラズマ処理装置は、
処理室と、
前記処理室の内部に設けられ、基板を載置する載置台と、
前記基板の周囲を取り囲むように前記載置台に載置されるフォーカスリングと、
を有し、
前記搬送装置は、前記フォーカスリングを搬送可能に構成され、
前記制御装置は、
前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内から前記フォーカスリングを搬出する搬出ステップと、
前記搬出ステップの後、前記載置台の前記フォーカスリングが載置される面をクリーニング処理するクリーニングステップと、
前記クリーニングステップの後、前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内にフォーカスリングを搬入し、前記載置台に載置する搬入ステップと、
を実行するように制御する、
プラズマ処理システム。
【請求項２】
プラズマ処理装置と搬送装置と制御装置とを備えるプラズマ処理システムであって、
前記プラズマ処理装置は、
処理室と、
前記処理室の内部に設けられ、基板を載置する載置台と、
前記基板の周囲を取り囲むように前記載置台に載置されるフォーカスリングと、
を有し、
前記搬送装置は、前記フォーカスリングを搬送可能に構成され、
前記制御装置は、
前記フォーカスリングが前記処理室内にある状態で、前記処理室内をクリーニング処理するクリーニングステップと、
前記クリーニングステップの後、前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内から前記フォーカスリングを搬出する搬出ステップと、
前記搬出ステップの後、前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内にフォーカスリングを搬入し、前記載置台に載置する搬入ステップと、
を実行するように制御する、
プラズマ処理システム。
【請求項３】
前記制御装置は、前記搬出ステップの前に、前記プラズマ処理装置のクリーニングを行うように制御する、請求項１に記載のプラズマ処理システム。
【請求項４】
前記制御装置は、前記搬出ステップの後に、前記プラズマ処理装置のクリーニングを行うように制御する、請求項２に記載のプラズマ処理システム。
【請求項５】
前記制御装置は、前記搬入ステップの後に、前記プラズマ処理装置のシーズニングを行うように制御する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
【請求項６】
前記搬送装置は、前記処理室に前記基板を搬送可能に構成される、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
【請求項７】
前記搬送装置は、前記基板の外周縁部を保持した状態で前記基板を搬送し、前記フォーカスリングの下面を保持した状態で前記フォーカスリングを搬送するように構成される、請求項６に記載のプラズマ処理システム。
【請求項８】
前記搬送装置は、旋回可能であり、前記フォーカスリングを搬送する際、旋回半径が最小となるように旋回するように構成される、請求項６又は７に記載のプラズマ処理システム。
【請求項９】
前記制御装置は、前記搬入ステップにおいて、前記搬送装置により前記フォーカスリングを保持した状態で前記フォーカスリングの位置を検出し、検出した前記フォーカスリングの位置と基準位置とのずれを補正して前記載置台に前記フォーカスリングを載置するように制御する、請求項６乃至８のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
【請求項１０】
前記制御装置は、前記フォーカスリングの内周縁部の位置に基づいて、前記フォーカスリングの有無及び位置を検出するように制御する、請求項９に記載のプラズマ処理システム。
【請求項１１】
前記制御装置は、前記フォーカスリングの交換が必要であるか否かを判定する消耗度判定ステップを更に実行し、
前記制御装置は、前記消耗度判定ステップにおいて前記フォーカスリングの交換が必要であると判定した場合、前記搬出ステップを行うように制御する、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
【請求項１２】
前記クリーニング処理は、ＮＰＰＣ（Non Plasma Particle Cleaning）又はプラズマを用いるものである、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
【請求項１３】
前記クリーニング処理は、前記載置台に前記基板が載置された状態で行うものである、請求項１乃至１２のいずれか一項に記載のプラズマ処理システム。
【請求項１４】
前記消耗度判定ステップでは、高周波電力が供給された時間の積算値であるＲＦ積算時間、所定のプラズマ処理の際に前記処理室において供給された高周波電力の積算値であるＲＦ積算電力、または前記処理室において行われる処理のステップのうちフォーカスリングが削られるステップにおいて高周波電力が供給された時間の積算値や高周波電力の積算値であるレシピの特定ステップの積算値に基づいて、消耗度が判定される、請求項１１に記載のプラズマ処理システム。
【請求項１５】
前記制御装置は、前記消耗度判定ステップでフォーカスリングの交換が必要であると判定した場合、前記処理室において基板に処理が行われていないか、または前記処理室において処理が行われている基板と同一のロットの基板の処理が終了しているときに交換可能と判定する、請求項１１に記載のプラズマ処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマ処理システム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、プラズマ処理システムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本開示は、生産性を向上させることが可能な技術を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本開示の一態様のプラズマ処理システムは、プラズマ処理装置と搬送装置と制御装置とを備えるプラズマ処理システムであって、前記プラズマ処理装置は、処理室と、前記処理室の内部に設けられ、基板を載置する載置台と、前記基板の周囲を取り囲むように前記載置台に載置されるフォーカスリングと、を有し、前記搬送装置は、前記フォーカスリングを搬送可能に構成され、前記制御装置は、前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内から前記フォーカスリングを搬出する搬出ステップと、前記搬出ステップの後、前記載置台の前記フォーカスリングが載置される面をクリーニング処理するクリーニングステップと、前記クリーニングステップの後、前記処理室を大気開放することなく、前記搬送装置により前記処理室内にフォーカスリングを搬入し、前記載置台に載置する搬入ステップと、を実行するように制御する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本開示によれば、生産性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月11日(2019.7.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記調整手段は、前記パターンの形成に用いる型の種類が変わることによる前記フォーカス状態の変化を低減させる手段であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月19日(2018.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
第１金属パターン１２ｂには第１金属接合材１６、２０で半導体チップ１８、２２が固定されている。半導体チップ１８、２２はＳｉＣによって形成されている。半導体チップ１８は例えばＩＧＢＴ(Insulated Gate Bipolar Transistor)であり、半導体チップ２２は例えば還流ダイオードである。ＳｉＣによって形成された半導体チップ又はウエハの厚みは０．２５ｍｍ〜０．３５ｍｍとすることが一般的である。例えば、特開２０１４−８２３６１号公報の明細書段落０００５にはｎ型ＳｉＣウエハの厚さが３５０μｍであることが開示されている。本発明の実施の形態１に係る半導体モジュールの半導体チップ１８、２２の厚みＺ２は０．２５ｍｍ以上０．３５ｍｍ以下とした。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2018010929.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月13日(2019.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱電素子に用いられる熱電素子材料であって、
多数の量子ドットから構成された量子ドット部を備え、
前記量子ドット部には、電流の担い手となるキャリアが存在しており、
前記多数の量子ドットのうち隣接する量子ドット同士は、互いに分離しているが、前記キャリアが前記量子ドット間で移動できる程度に近接しており、
前記量子ドット部の前記キャリアと電気的に引き合っているイオンを含むイオン媒体を備え、
前記イオン媒体は前記量子ドット部に近接している、熱電素子材料。
【請求項２】
前記量子ドット部において、隣接する量子ドット同士は配位子を介して結合されており、
前記配位子の長さは、前記隣接する量子ドット間で前記キャリアが移動できる程度に短い、請求項１に記載の熱電素子材料。
【請求項３】
前記イオン媒体は、前記量子ドット部に接触している、請求項１又は２に記載の熱電素子材料。
【請求項４】
多数の量子ドットから構成された量子ドット部を備えており、前記量子ドット部に、電流の担い手となるキャリアが存在している熱電素子材料の製造方法であって、
前記多数の量子ドットのうち隣接する量子ドット同士を、互いに分離させつつ前記キャリアが前記量子ドット間で移動できる程度に近接させる量子ドット部作製処理を有し、
前記量子ドット部作製処理の後、
前記量子ドット部の表面に液体イオン媒体を接触させ、
この状態で、前記液体イオン媒体における電圧印加位置と前記量子ドット部との間に電圧を印加し、
この状態で、前記液体イオン媒体を凝固させる、熱電素子材料の製造方法。
【請求項５】
前記量子ドット部作製処理では、
（Ａ）第１の配位子が結合した前記多数の量子ドットを含む液体である量子ドット液を固化させることにより、量子ドット固体を形成し、
（Ｂ）前記第１の配位子よりも短い第２の配位子を含む液体である配位子液を前記量子ドット固体に滴下することにより、前記量子ドット固体において、各前記量子ドットに結合する配位子を、前記第１の配位子から前記第２の配位子に置き換え、
（Ｃ）前記量子ドット固体から前記第１の配位子を除去して前記量子ドット部を得る、請求項４に記載の熱電素子材料の製造方法。
【請求項６】
前記（Ａ）において、回転可能に設けた基板の上面において、前記量子ドット固体を形成し、
前記配位子液は前記第１の配位子を溶かす溶媒を含んでおり、または、前記（Ｃ）を行う前に、前記第１の配位子を溶かす溶媒を前記量子ドット固体に滴下し、
前記（Ｃ）において、前記第１の配位子が溶けた前記溶媒を前記量子ドット固体から飛散させるように前記基板を回転させる、請求項５に記載の熱電素子材料の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月21日(2019.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁層と、
前記絶縁層の一方の面側に埋め込まれた配線層と、を有し、
前記配線層は、第１の部分と、前記第１の部分よりも幅が広い第２の部分と、を備え、
前記第１の部分は、前記第２の部分よりも層厚が薄く形成されており、
前記第１の部分の一方の面及び前記第２の部分の一方の面は、前記絶縁層の一方の面から露出し、
前記第２の部分の他方の面の一部は、前記絶縁層の他方の面側に開口する開口部内に露出している配線基板。
【請求項２】
前記第１の部分の一方の面と前記第２の部分の一方の面とが同一平面上にある請求項１に記載の配線基板。
【請求項３】
前記第１の部分の側面及び他方の面は前記絶縁層に被覆され、
前記第２の部分の側面及び他方の面は前記絶縁層に被覆され、
前記第２の部分の他方の面の一部が前記開口部内に露出している請求項１又は２に記載の配線基板。
【請求項４】
前記第１の部分は配線パターンを含み、前記第２の部分はパッドを含む請求項１乃至３の何れか一項に記載の配線基板。
【請求項５】
前記パッドは、
前記開口部内に露出する部分に設けられた外部接続用のパッドと、
該外部接続用のパッドと異なる部分に設けられた半導体チップ接続用のパッドと、を含む請求項４に記載の配線基板。
【請求項６】
前記第１の部分の一方の面と前記第２の部分の一方の面は、前記絶縁層の一方の面よりも窪んだ位置に露出している請求項１乃至５の何れか一項に記載の配線基板。
【請求項７】
前記絶縁層の他方の面側に、粘着層を介して支持体が設けられた請求項１乃至６の何れか一項に記載の配線基板。
【請求項８】
支持体上にめっきを析出し、第１の部分と、前記第１の部分よりも幅が広い第２の部分と、を備え、前記第１の部分及び前記第２の部分の一方の面が前記支持体と接する配線層を形成する工程と、
前記支持体上に、前記第１の部分及び前記第２の部分を被覆するように、一方の面が前記支持体と接する絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層に、前記絶縁層の他方の面側に開口し前記第２の部分の他方の面の一部を露出する開口部を形成する工程と、
前記支持体を除去する工程と、を有し、
前記配線層を形成する工程では、前記第１の部分は、前記第２の部分よりも層厚が薄く形成される配線基板の製造方法。
【請求項９】
前記開口部を形成する工程と前記支持体を除去する工程との間に、前記絶縁層の他方の面側に粘着層を介して他の支持体を設ける工程を有する請求項８に記載の配線基板の製造方法。
【請求項１０】
前記配線層を形成する工程では、
硫酸銅と硫酸を所定の濃度比で建浴した電解銅めっき液を用いた電解めっき法により、前記第１の部分及び前記第２の部分を銅めっきで形成し、
前記所定の濃度比を予め調整することで、前記第１の部分の層厚を前記第２の部分の層厚よりも薄く形成する請求項８又は９に記載の配線基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月9日(2019.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型を用いて基板の上のインプリント材を成形するインプリント装置であって、
前記基板を保持し移動する基板ステージと、
前記型を保持する型保持部と、
前記型保持部の周辺に配置された周辺部材と、を備え、
前記周辺部材の側面に、前記基板ステージが面しうる空間にガスを吹き出す吹き出し部が設けられている、
ことを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記周辺部材は、前記基板ステージに対向する部分を含む下面と、前記型保持部の側の第１側面と、前記第１側面とは異なる第２側面とを有し、
前記第２側面には、前記ガスを吹き出す吹き出し部が設けられている、
ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記型の側面に力を加えることによって前記型を変形させる型変形機構を更に備え、前記型変形機構は、前記型が配置される領域と前記第１側面との間に配置されている、
ことを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記型保持部は、前記型の上面を吸着する吸着部を有する第１部分と、前記型の側面に対向する第２部分とを含み、前記周辺部材は、前記第１側面と前記型が配置される領域との間に前記第２部分が配置されるように構成されている、
ことを特徴とする請求項２又は３に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記周辺部材の前記下面と前記基板ステージの上面との距離が１０ｍｍ以下である、
ことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記吹き出し部は、前記第２側面に設けられた吹き出し口と、前記周辺部材の内部を通って前記吹き出し口に接続された流路とを含む、
ことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記吹き出し部は、前記第２側面に取り付けられた吹き出し口を含む、
ことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記吹き出し部は、前記第２側面が面している前記空間にガスを吹き出す、
ことを特徴とする請求項２乃至７のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記型と前記基板との間の処理空間に第１ガスを供給する第１ガス供給部と、前記処理空間を取り囲む周辺空間に第２ガスを供給する第２ガス供給部とを更に備える、
ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
前記吹き出し部は、水平にガスを吹き出す、
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１１】
前記吹き出し部は、斜め下方に向けてガスを吹き出す、
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のインプリント装置によって基板の上にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を加工する工程と、
を含み、前記加工が行われた前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
半導体デバイスやＭＥＭＳなどの微細化の要求が進み、従来のフォトリソグラフィー技術に加え、基板の上でインプリント材を型（モールド）で成形し、インプリント材のパターンを基板の上に形成する微細加工技術が注目を集めている。この技術は、インプリント技術と呼ばれる。インプリント技術によれば、基板の上に数ナノメートルオーダーの微細な構造体を形成することができる。例えば、インプリント技術の１つとして、光硬化法がある。この光硬化法を採用したインプリント装置では、まず、基板の上のインプリント領域にインプリント材を塗布する。次に、インプリント材に型を押し付けて、型のパターン領域の凹部にインプリト材を充填させる。次に、インプリント材に紫外線を照射することによってインプリント材を硬化させることによって凹部に対応するパターンを形成する。次に、硬化したインプリント材から型を引き離すことにより、基板の上に、インプリント材のパターンが残る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の１つの側面は、型を用いて基板の上のインプリント材を成形するインプリント装置に係り、前記インプリント装置は、前記基板を保持し移動する基板ステージと、前記型を保持する型保持部と、前記型保持部の周辺に配置された周辺部材と、を備え、前記周辺部材の側面に、前記基板ステージが面しうる空間にガスを吹き出す吹き出し部が設けられている。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月4日(2019.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステル樹脂Ａ、ポリエステル樹脂Ｂ及び有機金属化合物を含有するトナー粒子を有するトナーであって、
前記ポリエステル樹脂Ａは、芳香族多価アルコールを８０mol％以上含有するアルコール成分と多価カルボン酸成分との縮重合体である非晶性ポリエステル樹脂であり、
前記ポリエステル樹脂Ｂは、炭素数６以上１２以下の脂肪族ジオールを８０mol％以上含有するアルコール成分と、炭素数６以上１２以下の脂肪族ジカルボン酸を８０mol％以上含有するカルボン酸成分との縮重合体である結晶性ポリエステル樹脂であり、
前記有機金属化合物は、ジルコニウムと芳香族ヒドロキシカルボン酸との反応によって生成された有機ジルコニウム化合物であって、該有機ジルコニウム化合物が、ジルコニウム原子１molに対して芳香族ヒドロキシカルボン酸単位を１．２〜１．８mol含有することを特徴とするトナー。
【請求項２】
前記芳香族ヒドロキシカルボン酸が、サリチル酸、５−メチルサリチル酸、３，５−ジメチルサリチル酸、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルサリチル酸、５−メトキシサリチル酸、３−メチル−５−プロピルサリチル酸、及び５−ｔｅｒｔ−ヘプチルサリチル酸からなる群から選択される１以上の芳香族ヒドロキシカルボン酸である請求項１に記載のトナー。
【請求項３】
前記芳香族多価アルコールは、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物である請求項１又は２に記載のトナー。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載のトナーの製造方法であって、
下記式（ｉ）で表されるスズ化合物を触媒として、芳香族多価アルコールを８０mol％以上含有するアルコール成分と多価カルボン酸成分とを縮重合することにより前記ポリエステル樹脂Ａを得る工程、
を含むトナーの製造方法。
【化１】
2018010114.tif 000001
（式中Ｒは炭素数５〜１５のアルキル基を示す）
【請求項５】
前記ポリエステル樹脂Ａ、前記ポリエステル樹脂Ｂ及び有機金属化合物を含有する混合物を溶融混練し、得られた混練物を粉砕してトナー粒子を得る工程、
を含む請求項４に記載のトナーの製造方法。
【請求項６】
前記トナー粒子を熱処理する工程を含む請求項４又は５に記載のトナーの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の課題は、下記の構成のトナーにより解決することができる。
すなわち、本発明によれば、ポリエステル樹脂Ａ、ポリエステル樹脂Ｂ及び有機金属化合物を含有するトナー粒子を有するトナーにおいて、
前記ポリエステル樹脂Ａは芳香族多価アルコールを８０mol％以上含有するアルコール成分と多価カルボン酸成分との縮重合体である非晶性ポリエステル樹脂であり、
前記ポリエステル樹脂Ｂは、炭素数６以上１２以下の脂肪族ジオールを８０mol％以上含有するアルコール成分と、炭素数６以上１２以下の脂肪族ジカルボン酸を８０mol％以上含有するカルボン酸成分との縮重合体である結晶性ポリエステル樹脂であり、
前記有機金属化合物は、ジルコニウムと芳香族ヒドロキシカルボン酸との反応によって生成された有機ジルコニウム化合物であって、該有機ジルコニウム化合物が、ジルコニウム原子１molに対して芳香族ヒドロキシカルボン酸単位を１．２〜１．８mol含有するトナーが提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
以下、本発明を実施するための形態を詳細に説明する。
本発明によれば、ポリエステル樹脂Ａ、ポリエステル樹脂Ｂ及び有機金属化合物を含有するトナー粒子を有するトナーであって、
前記ポリエステル樹脂Ａは、芳香族多価アルコールを８０mol％以上含有するアルコール成分と多価カルボン酸成分との縮重合体である非晶性ポリエステル樹脂であり、
前記ポリエステル樹脂Ｂは、炭素数６以上１２以下の脂肪族ジオールを８０mol％以上含有するアルコール成分と、炭素数６以上１２以下の脂肪族ジカルボン酸を８０mol％以上含有するカルボン酸成分との縮重合体である結晶性ポリエステル樹脂であり、
前記有機金属化合物は、ジルコニウムと芳香族ヒドロキシカルボン酸との反応によって生成された有機ジルコニウム化合物であって、該有機ジルコニウム化合物が、ジルコニウム原子１molに対して芳香族ヒドロキシカルボン酸単位を１．２〜１．８mol含有するトナーが提供される。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月3日(2019.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】トナーおよびトナーの製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、結着樹脂及び着色剤を含有するトナー粒子を有するトナーであって、
前記結着樹脂はポリエステルユニットとビニル系重合体ユニットとが化学的に結合したハイブリッド樹脂であり、
前記ビニル系重合体ユニットは、ポリエステルユニット及びその原料の非存在下でビニル系モノマーを重合させて得られるユニットであり、
前記ハイブリッド樹脂は、エステル化触媒と、ピロガロール化合物と前記ビニル系重合体ユニットの存在下で多価カルボン酸及び多価アルコールを縮重合させて得られるハイブリッド樹脂であることを特徴とするトナーに関する。
また、本発明は、ポリエステルユニット及びその原料の非存在下でビニル系モノマーを重合させて、ビニル系重合体ユニットを得る工程、
前記ビニル系重合体ユニット、エステル化触媒及びピロガロール化合物の存在下で、多価カルボン酸及び多価アルコールを縮重合させて、前記ビニル系重合体ユニットにポリエステルユニットが化学的に結合したハイブリッド樹脂を得る工程、
得られたハイブリッド樹脂と着色剤とを溶融混練し溶融混練物を得る工程、及び
得られた溶融混練物を粉砕する工程、
を経てトナー粒子を製造することを特徴とするトナーの製造方法に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結着樹脂及び着色剤を含有するトナー粒子を有するトナーであって、
前記結着樹脂はポリエステルユニットとビニル系重合体ユニットとが化学的に結合したハイブリッド樹脂であり、
前記ビニル系重合体ユニットは、ポリエステルユニット及びその原料の非存在下でビニル系モノマーを重合させて得られるユニットであり、
前記ハイブリッド樹脂は、エステル化触媒と、ピロガロール化合物と前記ビニル系重合体ユニットの存在下で多価カルボン酸及び多価アルコールを縮重合させて得られるハイブリッド樹脂であることを特徴とするトナー。
【請求項２】
ピロガロール化合物が、式（１）で表される、請求項１に記載のトナー。
【化１】
2018010124.tif 000001
（式中、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ独立して、水素原子又は−ＣＯＯＲ4（Ｒ4は水素原子、炭素数１以上１２以下の炭化水素基を示す。）を示す。）
【請求項３】
ポリエステルの原料モノマー総量１００質量部に対して、ピロガロール化合物の含有量が０．００１質量部以上２．０質量部以下である、請求項１または２に記載のトナー。
【請求項４】
エステル化触媒がチタン化合物である請求項１〜３のいずれか一項に記載のトナー。
【請求項５】
ポリエステルユニット及びその原料の非存在下でビニル系モノマーを重合させて、ビニル系重合体ユニットを得る工程、
前記ビニル系重合体ユニット、エステル化触媒及びピロガロール化合物の存在下で、多価カルボン酸及び多価アルコールを縮重合させて、前記ビニル系重合体ユニットにポリエステルユニットが化学的に結合したハイブリッド樹脂を得る工程、
得られたハイブリッド樹脂と着色剤とを溶融混練し溶融混練物を得る工程、及び
得られた溶融混練物を粉砕する工程、
を経てトナー粒子を製造することを特徴とするトナーの製造方法。
【請求項６】
前記ピロガロール化合物が、式（１）で表される、請求項５に記載のトナーの製造方法。
【化２】
2018010124.tif 000002
（式中、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ独立して、水素原子又は−ＣＯＯＲ4（Ｒ4は水素原子、炭素数１以上１２以下の炭化水素基を示す。）を示す。）