【事件の表示】
　特願２０１６−５６９６８４「延長された寿命を有する高解像低消費電力ＯＬＥＤディスプレイ」拒絶査定不服審判事件〔平成２７年１２月　３日国際公開、ＷＯ２０１５／１８３９５４、平成２９年　８月　３日国内公表、特表２０１７−５２１８１９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続等の経緯
　特願２０１６−５６９６８４号（以下「本件出願」という。）は、２０１５年（平成２７年）５月２７日（パリ条約に基づく優先権主張外国庁受理　２０１４年（平成２６年）５月２７日（ＵＳ）アメリカ合衆国　２０１４年（平成２６年）５月３０日（ＵＳ）アメリカ合衆国　２０１４年（平成２６年）７月１８日（ＵＳ）アメリカ合衆国　２０１４年（平成２６年）１０月２４日（ＵＳ）アメリカ合衆国　２０１５年（平成２７年）１月２６日（ＵＳ）アメリカ合衆国　２０１５年（平成２７年）１月２６日（ＵＳ）アメリカ合衆国　２０１５年（平成２７年）４月２８日（ＵＳ）アメリカ合衆国）を国際出願日とする国際特許出願であって、その手続の経緯は、概略、以下のとおりである。
平成２９年　１月２６日　　　：手続補正書の提出
平成３０年１０月２６日付け　：拒絶理由通知書
平成３１年　１月２１日　　　：意見書の提出
平成３１年　１月２１日　　　：手続補正書の提出
平成３１年　２月１３日付け　：拒絶査定（以下「原査定」という。）
令和　元年　６月１０日　　　：審判請求書の提出
令和　元年　６月１０日　　　：手続補正書の提出
令和　元年１２月２６日　　　：上申書の提出
第２　原査定の概要
　原査定の拒絶の理由は、概略、本件出願の請求項１〜１１、４４に係る発明は、本件出願の優先権主張の日（以下「本件優先日」という。）前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物である下記の引用文献に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記の引用文献に記載された発明に基づいて、本件優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。
引用文献１：特開２０１４−４５１６６号公報
引用文献２：米国特許出願公開第２０１３／０２８５５３７号明細書
引用文献３：特表２００８−５３９５５４号公報
引用文献４：米国特許出願公開第２００９／０２９５２８３号明細書
引用文献５：特開２００７−３１７９１５号公報
引用文献６：特開２０１４−５９５６０号公報
（当合議体注:引用文献１〜４は、いずれも主引用例である。引用文献５〜６は、いずれも周知技術を示す文献である。）
第３　本願発明
　本件出願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、令和元６月１０日にした手続補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりの、次のものである。
「　フルカラーＯＬＥＤディスプレイを含むデバイスであって、
　前記フルカラーＯＬＥＤディスプレイにおけるフルカラー画素配列が、
　基板と、
　複数の画素とを含み、
　各画素が、基板上で互いに隣り合って配置される、異なる色の少なくとも２色の発光領域を含み、
　各画素が、黄色発光領域を含み、各黄色発光領域が、隣り合う画素における黄色発光領域と隣り合い、
　前記フルカラーＯＬＥＤディスプレイが、少なくとも６００ｄｐｉの解像度を有することを特徴とするデバイス。」
　なお，令和元年６月１０日にした手続補正のうち，請求項１についての補正は，補正前の請求項７を請求項１とする補正（請求項の削除）を目的とする補正である。
第４　引用文献、引用発明
１　引用文献１の記載事項
　原査定の拒絶の理由で引用文献１として引用され、本件出願の最先の優先権主張の日（以下「本件優先日」という。）前に、日本国内又は外国において、頒布された刊行物である、特開２０１４−４５１６６号公報（以下、同じく「引用文献１」という。）には、以下の事項が記載されている。なお、下線は、当合議体が付与したものであり、引用発明の認定に活用した箇所を示す。
（１）「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　基板上に形成される配線パターンと、
　前記配線パターン上に積層され、所定の位置に上下方向のコンタクトホールが形成される第１の絶縁膜と、
　前記第１の絶縁膜上に形成され、前記コンタクトホールに貫入して前記配線パターンに電気的に接続されるコンタクト部を有する下部電極と、
　前記下部電極上に形成される発光層と、
　前記発光層上に形成される上部電極と、
　前記発光層が前記下部電極と前記上部電極とに挟まれる発光領域を、前記コンタクト部を含む領域として規定する発光領域規定部材と、
　前記基板上で少なくとも前記コンタクト部に対応する領域に配置されるカラーフィルタと
　を備える表示装置。
・・・（省略）・・・
【請求項１６】
　基板上に配線パターンを形成する工程と、
　前記配線パターン上に第１の絶縁膜を積層し、該第１の絶縁膜の所定の位置に上下方向のコンタクトホールを形成する工程と、
　前記第１の絶縁膜上に、前記コンタクトホールに貫入して前記配線パターンに電気的に接続されるコンタクト部を有する下部電極を形成する工程と、
　前記下部電極上に発光層を形成する工程と、
　前記発光層上に上部電極を形成する工程と、
　前記発光層が前記下部電極と前記上部電極に挟まれる発光領域を、前記コンタクト部を含む領域として規定する工程と、
　前記基板上で少なくとも前記コンタクト部に対応する領域にカラーフィルタを配置する工程と
　を含む、表示装置の製造方法。
【請求項１７】
　前記下部電極を形成する工程は、
　前記第１の絶縁膜上に前記コンタクトホールに貫入して前記配線パターンに電気的に接続されるコンタクト部を有する第１の下部電極を形成する工程と、
　前記第１の下部電極上に第２の絶縁膜を積層し、該第２の絶縁膜の所定の位置に開口部を形成する工程と、
　前記第２の絶縁膜上に、前記開口部の側面に貫入して前記下部電極に接続される第２の下部電極を形成する工程と
を含み、
　前記発光領域を規定する工程では、前記発光層が前記第２の下部電極と前記上部電極に挟まれる領域を前記発光領域として規定する、請求項１６に記載の表示装置の製造方法
【請求項１８】
　基板上に配線パターンを形成する工程と、
　前記配線パターン上に第１の絶縁膜を積層し、該第１の絶縁膜の所定の位置に上下方向のコンタクトホールを形成する工程と、
　前記第１の絶縁膜上に第２の絶縁膜を積層し、該第２の絶縁膜の所定の位置に、前記コンタクトホールを包含する開口部を形成する工程と、
　前記第２の絶縁膜上に、前記開口部および前記コンタクトホールに貫入して前記配線パターンに電気的に接続されるコンタクト部を有する下部電極を形成する工程と、
　前記下部電極上に発光層を形成する工程と、
　前記発光層上に上部電極を形成する工程と、
　前記発光層が前記下部電極と前記上部電極に挟まれる発光領域を、前記コンタクト部を含む領域として規定する工程と、
　前記基板上で少なくとも前記コンタクト部に対応する領域にカラーフィルタを配置する工程と
　を含む、表示装置の製造方法。
【請求項１９】
　基板上に形成される配線パターンと、
　前記配線パターン上に積層され、所定の位置に上下方向のコンタクトホールが形成される第１の絶縁膜と、
　前記第１の絶縁膜上に形成され、前記コンタクトホールに貫入して前記配線パターンに電気的に接続されるコンタクト部を有する下部電極と、
　前記下部電極上に形成される発光層と、
　前記発光層上に形成される上部電極と、
　前記発光層が前記下部電極と前記上部電極に挟まれる発光領域を、前記コンタクト部を含む領域として規定する発光領域規定部材と、
　前記基板上で少なくとも前記コンタクト部に対応する領域に配置されるカラーフィルタと
　を有する表示装置を備える電子機器。
【請求項２０】
　基板上に形成される配線パターンと、前記配線パターン上に積層され、所定の位置に上下方向のコンタクトホールが形成される第１の絶縁膜と、前記第１の絶縁膜上に形成され、前記コンタクトホールに貫入して前記配線パターンに電気的に接続されるコンタクト部を有する下部電極と、前記下部電極上に形成される発光層と、前記発光層上に形成される上部電極と、前記発光層が前記下部電極と前記上部電極に挟まれる発光領域を、前記コンタクト部を含む領域として規定する発光領域規定部材と、前記基板上で少なくとも前記コンタクト部に対応する領域に配置されるカラーフィルタとを含む表示装置を、
　前記配線パターンに電気的に接続される画素駆動回路によって、前記発光層を含む発光素子が逆バイアス状態で容量性素子として機能するように駆動させる、表示装置の駆動方法。」
（２）「【技術分野】
【０００１】
　本開示は、表示装置、電子機器、表示装置の製造方法および表示装置の駆動方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
　近年、ＬＥＤ（Light　Emitting　Diode）やＯＬＥＤ（Organic　Light　Emitting　Diode）を発光素子として用いた自発光型の表示装置が普及している。こうした表示装置では、陽極（アノード）と陰極（カソード）との間に発光素子を配置し、電圧を印加することによって素子を発光させる。素子が電極間に挟まれて発光する領域を発光領域という。表示領域に占める発光領域の割合が大きいほど、表示装置は効率的に発光することになる。
【０００３】
　ところが、実際には、さまざまな原因で発光領域の大きさが制限される。そこで、限られた発光領域の中でより効率的に光を取り出す技術が提案されている。例えば、特許文献１には、発光素子の発光面の周囲に凹面鏡部を立設して光を反射させることによって、配光特性の均一さを維持しつつ配光角度や分布などを制御する技術が記載されている。
【０００４】
　一方、特許文献２には、表示装置の画素駆動回路において、発光素子を逆バイアス状態で容量性素子として機能させる技術が記載されている。この場合、発光領域の大きさが、発光素子が容量性素子として機能する場合の容量に影響する。発光領域が大きければ、容量素子として機能する場合により大きな容量が得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−２１８２９６号公報
【特許文献２】特開２００７−１７１８２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　上記のように、自発光型の表示装置では、発光領域をより大きくすることが求められる場合がある。そこで、本開示では、自発光型の発光装置において、発光領域をより大きくすることが可能な、新規かつ改良された表示装置、表示装置の製造方法、電子機器および表示装置の駆動方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
・・・（省略）・・・
【０００９】
　また、本開示によれば、基板上に形成される配線パターンと、上記配線パターン上に積層され、所定の位置に上下方向のコンタクトホールが形成される第１の絶縁膜と、上記第１の絶縁膜上に形成され、上記コンタクトホールに貫入して上記配線パターンに電気的に接続されるコンタクト部を有する下部電極と、上記下部電極上に形成される発光層と、上記発光層上に形成される上部電極と、上記発光層が上記下部電極と上記上部電極に挟まれる発光領域を、上記コンタクト部を含む領域として規定する発光領域規定部材と、上記基板上で少なくとも上記コンタクト部に対応する領域に配置されるカラーフィルタとを有する表示装置を含む電子機器が提供される。
・・・（省略）・・・
【００１１】
　発光領域に下部電極のコンタクト部を含めることで、コンタクト部を含めない場合に比べて発光領域を大きくすることが可能である。コンタクト部で発光層の膜厚が変化することによる発光の色度のずれは、カラーフィルタを用いてカットすることができる。
【発明の効果】
【００１２】
　以上説明したように本開示によれば、自発光型の発光装置において、発光領域をより大きくすることができる。」
（３）「【００１６】
（１．第１の実施形態）
（１−１．関連技術の説明）
　はじめに、本開示の実施形態の理解のために、関連技術について説明する。既に述べたように、自発光型の表示装置では、さまざまな原因で発光領域の大きさが制限される。その原因の１つが、下部電極を配線パターンに接続するコンタクト部の存在である。これについて、以下で図１および図２を参照して説明する。
【００１７】
　図１は、コンタクト部によって発光領域が制限される例を示す断面図である。図１には、有機ＥＬ（Electro　Luminescence）ディスプレイ１０が示されている。有機ＥＬディスプレイ１０は、基板１１、ＴＦＴ（Thin　Film　Transistor）層２０、平坦化絶縁膜３０、下部電極４０、発光層５０、上部電極６０、および開口規定絶縁膜７０を有する。ＴＦＴ層２０は、ゲート電極２１、ゲート絶縁膜２２、半導体層２３、層間絶縁膜２４、および配線パターン２５を含む。有機ＥＬディスプレイ１０は、上部電極６０側から光を取り出すトップエミッション型の表示装置である。
【００１８】
　図示された有機ＥＬディスプレイ１０において、発光領域Ｅ０は、発光層５０が下部電極４０と上部電極６０との間に挟まれている領域である。ここで、発光領域Ｅ０は、開口規定絶縁膜７０に形成された開口部によって規定される。発光領域Ｅ０以外の領域では、下部電極４０と発光層５０との間に開口規定絶縁膜７０が介在しているため、発光層５０は発光しない。
【００１９】
　ここで、下部電極４０は、コンタクト部４０ｃで配線パターン２５に電気的に接続されている。コンタクト部４０ｃは、下部電極４０が平坦化絶縁膜３０に形成されたコンタクトホール３０ｃに貫入する部分である。コンタクトホール３０ｃは、平坦化絶縁膜３０を上下方向に貫通して形成される開口部である。
【００２０】
　図示されているように、有機ＥＬディスプレイ１０における発光領域Ｅ０は、下部電極４０のコンタクト部４０ｃを含まないように設定される。これは、コンタクト部４０ｃを発光領域Ｅ０として下部電極４０上に発光層５０を形成すると、形成された段差（配線パターン２５に向かって凹んでいる）のために発光層５０の膜厚が他の部分とは異なってしまうためである。発光層５０の膜厚が発光領域の中で変化すると、その部分で発光の色度がずれてしまう。特に、キャビティ設計によって発光層５０の厚さを設定している場合、色度のずれは特に大きくなる。
・・・（省略）・・・
【００３０】
（表示領域の構成）
　図５は、有機ＥＬディスプレイ１００における表示領域１０１の平面構成の例を示す図である。図５に示すように、表示領域１０１には、赤色発光素子１１０Ｒ、緑色発光素子１１０Ｇ、および青色発光素子１１０Ｂがマトリクス状に配列される。一組の赤色発光素子１１０Ｒ、緑色発光素子１１０Ｇ、および青色発光素子１１０Ｂは、画素１１０を構成する。
【００３１】
　図６は、図５の緑色発光素子１１０Ｇ部分のＩ−Ｉ断面図である。なお、以下で説明しる構造は、赤色発光素子１１０Ｒ、および青色発光素子１１０Ｂの部分についても同様である。図６に示すように、
基板１１１上には、基板１１１側から順に、ＴＦＴ層１２０、平坦化絶縁膜１３０、下部電極１４０、発光層１５０、上部電極１６０、および開口規定絶縁膜１７０が形成され
【００３２】
　基板１１１は、平坦面を有する支持体である。基板１１としては、例えば、石英、ガラス、金属箔、または樹脂製のフィルムやシートなどが用いられる。
【００３３】
　ＴＦＴ層１２０は、ゲート電極１２１、ゲート絶縁膜１２２、半導体層１２３、層間絶縁膜１２４、および配線パターン１２５を含む。ＴＦＴ層１２０には、例えば図４に示した駆動トランジスタＴｒ１、書き込みトランジスタＴｒ２、およびキャパシタＣｓなどを含む画素駆動回路が形成される。ゲート電極１２１は、例えばＭｏによって形成されうる。また、配線パターン１２５は、例えばＴｉ／Ａｌ／Ｔｉの積層構造によって形成されうる。
【００３４】
　ここで、上述の通り、ＴＦＴの構造としては各種の構造を用いることが可能である。従って、図示されたボトムゲート構造のＴＦＴ層１２０は一例にすぎず、ＴＦＴ層１２０はトップゲート構造であってもよい。また、ＴＦＴ層１２０には、例えばアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）ＴＦＴ、低温ポリシリコン（ＬＴＰＳ：Low-Temperature　Poly　Silicon）ＴＦＴ、有機ＴＦＴ、または透明酸化物半導体（ＴＯＳ：Transparent　Oxide　Semiconductor）ＴＦＴなど、各種のＴＦＴを形成することが可能である。なお、例えばスマートフォンや携帯電話などのモバイル機器における高精細化のためには移動度が高いＬＴＰＳが適し、フレキシブルパネルには折り曲げに強い有機ＴＦＴが適し、大型ディスプレイには大型プロセスに対応可能なａ−ＳｉやＴＯＳが適する。
【００３５】
　平坦化絶縁膜１３０は、ＴＦＴ層１２０の表面を平坦化するために設けられる。平坦化絶縁膜１３０には、コンタクトホール１３０ｃが形成される。コンタクトホール１３０ｃは、平坦化絶縁膜１３０を上下方向に貫通して形成される開口部であり、そこに下部電極１４０のコンタクト部１４０ｃが貫入して配線パターン１２５に電気的に接続される。そのため、平坦化絶縁膜１３０は、例えばポリイミド系の有機材料、または酸化ケイ素（ＳｉＯ２）などの無機材料のような、パターン精度がよい材料によって形成されることが望ましい。
【００３６】
　下部電極１４０は、発光素子のアノードであり、上述のようにコンタクトホール１３０ｃに貫入するコンタクト部１４０ｃによってＴＦＴ層１２０の配線パターン１２５に電気的に接続される。下部電極１４０は、発光素子ごとに設けられ、例えばＩＴＯ（Indium　Tin　Oxide）／Ａｌ合金、またはＡｌ合金のような金属材料で形成される。なお、後述するように有機ＥＬディスプレイ１００はボトムエミッション型であってもよいが、その場合、下部電極１４０は、例えばＩＴＯを用いて、厚さが数十ｎｍ〜数百ｎｍの透明電極として形成される。
【００３７】
　発光層１５０は、発光素子の色に対応する所定の波長範囲に少なくとも１つのピーク波長を有する発光材料を含んで形成され、下部電極１４０と上部電極１６０との間に電圧が印加されることによって発光する層である。発光層１５０は、例えば、アノード側から正孔注入層、正孔輸送層、発光材料層、電子輸送層、電子注入層の積層構造によって形成される。本実施形態では、発光層１５０が発光素子ごとに塗り分けられてもいる。この場合、塗り分けられるのは発光材料層だけであり、正孔注入層など他の層は表示領域１０１の全面に共通して形成されてもよい。発光層１５０は、印刷または転写によって形成されてもよく、蒸着によって形成されてもよい。
【００３８】
　上部電極１６０は、発光素子のカソードであり、低抵抗化のために表示領域１０１の全面に共通して設けられる。つまり、上部電極１６０は、各発光素子の共通電極である。上部電極１６０は、例えば膜厚数ｎｍ〜数十ｎｍのＭｇＡｇ（薄膜化することで半透明電極になる）、または膜厚数十ｎｍ〜数百ｎｍのＩＺＯ（Indium　Zinc　Oxide；透明電極）などを用いて形成されうる。なお、有機ＥＬディスプレイ１００がボトムエミッション型である場合、上部電極１６０は、例えば膜厚数十ｎｍ〜数百ｎｍのＭｇＡｇなどを用いて形成されうる。
【００３９】
　開口規定絶縁膜１７０は、下部電極１４０と上部電極１６０との間の絶縁性を確保するとともに、形成された開口部によって発光領域を規定する。開口規定絶縁膜１７０は、例えば酸化ケイ素などの無機絶縁材料によって形成されてもよい。あるいは、開口規定絶縁膜１７０は、上記の無機絶縁材料の上に、感光性ポリイミドなどの感光性樹脂を積層して形成されてもよい。
【００４０】
　上記のような有機ＥＬディスプレイ１００において、発光領域Ｅ１は、発光層１５０が下部電極１４０と上部電極１６０との間に挟まれている領域である。発光領域Ｅ１は、開口規定絶縁膜１７０に形成された開口部によって規定される。発光領域Ｅ１以外の領域では、下部電極１４０と発光層１５０との間に開口規定絶縁膜１７０が介在しているため、発光層１５０は発光しない。
【００４１】
　図示されているように、発光領域Ｅ１は、下部電極１４０のコンタクト部１４０ｃを含んで設定される。上述のように、コンタクト部１４０ｃを発光領域Ｅ１に含め、コンタクト部１４０ｃで下部電極１４０上に発光層１５０を形成すると、形成された段差（配線パターン１２５に向かって凹んでいる）のために発光層１５０の膜厚が他の部分とは異なることによって、発光の色度のずれが生じる。そこで、本実施形態では、発光の色度のずれを、発光領域Ｅ１に設けられるカラーフィルタ（図示せず）を用いてカットすることによって、コンタクト部１４０ｃを含む発光領域Ｅ１を設定することを可能にする。
・・・（省略）・・・
【００５４】
　（２．第２の実施形態）
　次に、図９を参照して、本開示の第２の実施形態について説明する。図９は、本開示の第２の実施形態に係る表示装置の表示領域の断面図である。なお、以下で説明する点を除いて、本実施形態の構成は上記の第１の実施形態の構成と同様である。
【００５５】
　図９に示されるように、本開示の第２の実施形態に係る表示装置である有機ＥＬディスプレイ２００では、発光層２５０が、複数の発光素子に共通して形成される。発光層２５０を共有する各発光素子では、カラーフィルタ（図示せず）が設けられ、発光層の光から各発光素子に対応する色の光を取り出す。ここで設けられるカラーフィルタは、コンタクト部１４０ｃの部分で発光層２５０の膜厚が他の部分と異なることによって生じる発光の色度のずれをカットするためにも用いられる。
【００５６】
　このように共通形成される発光層２５０の例としては、赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）（黄色（Ｙ）が加えられてもよい）の発光素子に共通して形成される黄色発光層、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）（白色（Ｗ）が加えられてもよい）の発光素子に共通して形成される白色発光層などがある。白色発光層の場合、画素を構成するすべての発光素子が共通の発光層を用いることになるため、発光層２５０は表示領域１０１の全面に形成される。
【００５７】
　例えば、発光層を共通形成することで、発光層を発光素子ごとに塗り分ける場合に比べて高い解像度を実現することが可能である。例えば、第１の実施形態のように発光層を発光素子ごとに塗り分ける場合、現在のメタルマスク蒸着技術では解像度２００ｐｐｉ程度が限界であるために、それ以上の解像度の場合には印刷または転写によって発光層を形成する。
【００５８】
　一方、発光層を青色（Ｂ）および黄色（Ｙ）の２色の塗り分けとすれば、解像度３００ｐｐｉ程度までメタルマスク蒸着技術で製造することが可能である。また、発光層を白色（Ｗ）１色のみとして表示領域１０１の全面に形成すれば、解像度５００ｐｐｉ程度までメタルマスク蒸着技術で製造することが可能である。
【００５９】
　なお、発光層の塗り分けやカラーフィルタの配置に関するバリエーションについては、後でさらに詳しく説明する。
・・・（省略）・・・
【０１１２】
　（９．発光層のバリエーション）
　次に、図２７〜図３１を参照して、本開示の実施形態における発光層のバリエーションについて説明する。上述のように、本開示の実施形態は、発光層が発光素子間で塗り分けられる場合（例えば第１および第３の実施形態）と、発光層が発光素子間で共通形成される場合（例えば第２および第４の実施形態）とを含む。これらの実施形態を単独で、または組み合わせて実現することによって、任意のパターンの発光層の配置を実現することが可能である。
【０１１３】
　なお、以下の説明の図では、カラーフィルタの配置が“ＣＦ”として、発光層の配置（塗り分け）が“ＯＬＥＤ”として、発光領域（開口部）の配置が“ＷＩＮ”として、それぞれ示されている。これらの配置の重ね合わせによって、“Ｐｉｘｅｌ”として示す各種の画素配置が実現される。また、以下の説明の図では、例えば黄色の発光層を発光層Ｙ、青色の発光素子を発光素子Ｂ、といったように、色を示す文字によって各色の発光層を区別して示す場合がある。
【０１１４】
　図２７は、発光層の第１のバリエーションを示す平面図である。この例では、
発光層が黄色（Ｙ）および青色（Ｂ）の２色塗り分けで形成され
カラーフィルタは、発光層Ｙに赤色（Ｒ）、黄色（Ｙ）および緑色（Ｇ）が、発光層Ｂに青色（Ｂ）が配置され
Ｒ，Ｙ，Ｇ，Ｂの４色の発光素子からなる画素配置が実現され
【０１１５】
　なお、この場合、発光素子Ｙ，Ｂでは、発光する色と発光層の色とが同じであるために、必ずしもカラーフィルタは設けられなくてもよい。しかしながら、上述の通り、発光素子においてコンタクト部１４０ｃを含む発光領域を設定する場合、コンタクト部１４０ｃの部分で発光層２５０の膜厚が他の部分と異なることによって生じる発光の色度のずれをカットするためにカラーフィルタが用いられる。従って、コンタクト部１４０ｃを発光領域に含めるのであれば、発光素子Ｙ，Ｂでもカラーフィルタが設けられる。
【０１１６】
　図２８は、発光層の第２のバリエーションを示す平面図である。この例では、上記の第１のバリエーションと同じく、発光層が黄色（Ｙ）および青色（Ｂ）の２色塗り分けで形成される。一方、カラーフィルタは、発光層Ｙに赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ）が、発光層Ｂに青色（Ｂ）が配置される。これによって、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色の発光素子からなる画素配置が実現される。この場合も、コンタクト部１４０ｃを発光領域に含めるのであれば、発光素子Ｂでもカラーフィルタが設けられる。
・・・（省略）・・・
【０１２１】
　（１０．画素パターンの配置）
　次に、図３２Ａ〜図４２を参照して、本開示の実施形態における付加的な構成としても採用することが可能な、画素パターンの配置について説明する。
・・・（省略）・・・
【０１２９】
　図３６Ａおよび図３６Ｂは、画素パターンの反転配置の第１の例を示す図である。この例では、図２７を参照して説明した発光層の第１のバリエーションと同様に、黄色（Ｙ）および青色（Ｂ）の２色塗り分けで発光層が形成され、発光層Ｙに赤色（Ｒ）、黄色（Ｙ）および緑色（Ｇ）、発光層Ｂに青色（Ｂ）のカラーフィルタが配置される。
【０１３０】
　図３６Ａは、
Ｒ，Ｙ，Ｇ，Ｂの４色の発光素子によって構成される画素配置のパターン
画素配置のパターンを１つおきに反転させ
【０１３１】
　図３７Ａおよび図３７Ｂは、それぞれ、図３６Ａおよび図３６Ｂの例における発光層の配置を示す図である。図示された例では、発光素子Ｒ，Ｙ，Ｇに対応する領域に黄色（Ｙ）発光層が、発光素子Ｂに対応する領域に青色（Ｂ）発光層が、それぞれ形成されている。これらの発光層は、例えば、発光層Ｂを表示領域の全面にエリアマスクを用いて蒸着し、発光層Ｙを所定の領域にスリットマスクを用いて蒸着することによって形成される。なお、発光層Ｙは、転写または印刷によって形成されてもよい。
【０１３２】
　このとき、塗り分けの境界部分では、蒸着の誤差を考慮して、発光素子の発光領域との間にマージンが設けられる。図３７Ａに示された、画素配置のパターンが反転されない例では、発光層Ｙと発光層Ｂとの境界部分で、発光層Ｙ側ではマージンｙ（ｍ１）が、発光層Ｂ側ではマージンｙ（ｍ２）が設けられる。この結果、ｙ軸方向について、発光層Ｙの発光領域ｙ（ｒｇｙ）と、発光層Ｂの発光領域ｙ（ｂ）とは、画素全体のサイズｙ（ｐｉｘ）に対して、下記の式１を満たすように設定される。
【０１３３】
【数１】
【０１３４】
　一方、図３７Ｂに示された、画素配置のパターンが反転される例では、発光層Ｙと発光層Ｂとの境界部分でマージンｙ（ｍ１），ｙ（ｍ２）が設けられることは反転されない例と同じである。しかし、反転したパターンとそうではないパターンとの境界部分、すなわちパターンＰ１１とパターンＰ１２Ｒとの境界部分、および
パターンＰ１２ＲとＰ１３との境界部分では、
発光層Ｙが続いて
【０１３５】
【数２】
【０１３６】
　上記のようにｙ（ｍ３）＜ｙ（ｍ１）＋ｙ（ｍ２）であるために、この場合、発光領域ｙ（ｒｇｙ）および発光領域ｙ（ｂ）として使える領域が（ｙ（ｍ１）＋ｙ（ｍ２））−ｙ（ｍ３）だけ大きくなる。従って、図３６Ａおよび図３７Ａに示されたようにパターンを反転させずに配置する場合よりも、図３６Ｂおよび図３７Ｂに示されたようにパターンを１つおきに反転させて配置する場合の方が、開口率、つまり表示領域における発光領域の割合は大きくなる。
・・・（省略）・・・
【０１４５】
　（１１．電子機器への適用）
　次に、図４４を参照して、本開示の実施形態に係る表示装置を有する電子機器の構成について説明する。図４４は、電子機器の構成を示す概略的なブロック図である。
【０１４６】
　図４４を参照すると、
電子機器１０００は、有機ＥＬディスプレイ１００、制御回路１１００、操作部１２００、記憶部１３００、および通信部１４００を含む
（４）図１
「
」
（５）図５
「
」
（６）図６
「
」
（７）図９
「
」
（８）図２７
「
」
（９）図３６Ａ
「
」
（１０）図３６Ｂ
「
」
（１１）図３７Ａ
「
」
（１２）図３７Ｂ
「
」
２　引用発明
（１）【００５４】〜【００５８】、図９に記載された第２の実施形態に係る表示装置の表示領域は、発光層が異なることを除いて、【００３１】、図６に記載された第１の実施形態の構成と同様である。
（２）【０１１２】の記載により、【０１１４】、図２７に記載された発光層の第１のバリエーションは、第２の実施形態に対応するものである。
（３）【０１２１】の記載により、【０１２９】〜【０１３６】、図３６Ｂ、図３７Ｂに記載された画素パターンの配置は、第１のバリエーションに対応する第２の実施形態において採用されるものである。
（４）【０１４６】の記載により、【０１４５】〜【０１４６】、図４４に記載された電子機器への適用は、第２の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイであってもよいものである。
（５）そうしてみると、引用文献１には、第２の実施形態として次の発明（「以下「引用発明」という。」）が記載されていると認められる。なお、用語を統一して記載した。
「　有機ＥＬディスプレイ、制御回路、操作部、記憶部、および通信部を含む電子機器であって、
　有機ＥＬディスプレイの基板上には、基板側から順に、ＴＦＴ層、平坦化絶縁膜、下部電極、発光層、上部電極、および開口規定絶縁膜が形成され、
　発光層が黄色および青色の２色塗り分けで形成され、カラーフィルタは、黄色発光層に赤色、黄色および緑色が、青色発光層に青色が配置され、これによって、赤色、黄色、緑色、青色の４色の発光素子からなる画素配置が実現され、
　赤色、黄色、緑色、青色の４色の発光素子によって構成される画素配置のパターンを１つおきに反転させ、黄色発光層は、画素配置のパターンと画素配置のパターンとの境界部分で続いている、
　デバイス。」
第５　当審の判断
１　対比
　本願発明１と引用発明とを対比する。
（１）フルカラーＯＬＥＤディスプレイ
　引用発明の「有機ＥＬディスプレイ」の「基板上には、基板側から順に、ＴＦＴ層、平坦化絶縁膜、下部電極、発光層、上部電極、および開口規定絶縁膜が形成され」、「発光層が黄色および青色の２色塗り分けで形成され、カラーフィルタは、黄色発光層に赤色、黄色および緑色が、青色発光層に青色が配置され、これによって、赤色、黄色、緑色、青色の４色の発光素子からなる画素配置が実現され」ている。
　ここで、上記の基板上の構成からみて，引用発明の「有機ＥＬ」とは、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）のことである。また、引用発明の「ディスプレイ」は、その文言が意味するとおりのものである。さらに、上記の発光層の構成からみて、引用発明の「有機ＥＬディスプレイ」は、フルカラーである。
　そうしてみると、引用発明の「赤色、黄色、緑色、青色の４色の発光素子からなる画素配置が実現され」る「有機ＥＬディスプレイ」は、本願発明の「フルカラーＯＬＥＤディスプレイ」に相当する。
（２）フルカラー画素配列、基板、画素
　引用発明の「有機ＥＬディスプレイ」は、上記（ア）で述べた構成に加えて、「赤色、黄色、緑色、青色の４色の発光素子によって構成される画素配置のパターンを１つおきに反転させ」た構成を具備する。
　そうしてみると、引用発明の「基板」上の複数の「画素」からなる「画素配置のパターン」は、本願発明の「前記フルカラーＯＬＥＤディスプレイにおける」とされる「フルカラー画素配列」に相当するとともに、引用発明の「画素」は、本願発明の「画素」に相当する。
　また、引用発明の「基板」は、その文言どおり、本願発明の「基板」に相当する。
　さらに、上記構成と上記の相当関係から、引用発明の「画素配置のパターン」は、本願発明の「フルカラー画素配列」における、「基板と」、「複数の画素とを含み」という要件を満たす。
（３）発光領域
　引用発明は、「発光層が黄色および青色の２色塗り分けで形成され、カラーフィルタは、黄色発光層に赤色、黄色および緑色が、青色発光層に青色が配置され、これによって、赤色、黄色、緑色、青色の４色の発光素子からなる画素配置が実現され」、「赤色、黄色、緑色、青色の４色の発光素子によって構成される画素配置のパターンを１つおきに反転させ、黄色発光層は，画素配置のパターンと画素配置のパターンとの境界部分で続いている」ものである。
　上記構成から、引用発明の「画素」は、本願発明の「画素」の「基板上で互いに隣り合って配置される、異なる２色の発光領域を含み」という要件を満たす。
　また、上記構成から、引用発明の「発光層」は発光する領域を有し、引用発明の「発光層」の発光する領域は、本願発明の「発光領域」に相当し、引用発明の「黄色発光層」は黄色発光する領域を有し、引用発明の「黄色発光層」の黄色発光する領域は、本願発明の「黄色発光領域」に相当する。
　さらに、上記構成から、引用発明の「画素」は、本願発明の「画素」の「黄色発光領域を含み、各黄色発光領域が、隣合う画素における黄色発光領域と隣り合い」という要件も満たす。
（４）デバイス
　上記（１）ないし（３）より、引用発明の「電子機器」は、本願発明の「デバイス」に相当する。また、引用発明の「有機ＥＬディスプレイ、制御回路、操作部、記憶部、および通信部を含む電子機器」は、本願発明の「フルカラーＯＬＥＤディスプレイを含むデバイス」という要件を満たす。
２　一致点・相違点
（１）一致点
　以上の対比結果を踏まえると、本願発明と引用発明は、以下の点で一致する。
「　フルカラーＯＬＥＤディスプレイを含むデバイスであって、
　前記フルカラーＯＬＥＤディスプレイにおけるフルカラー画素配列が、
　基板と、
　複数の画素とを含み、
　各画素が、基板上で互いに隣り合って配置される、異なる色の少なくとも２色の発光領域を含み、
　各画素が、黄色発光領域を含み、各黄色発光領域が、隣り合う画素における黄色発光領域と隣り合う、デバイス。」
（２）相違点
　本願発明と引用発明は、以下の点で相違する。
（相違点）
　「フルカラーのＯＬＥＤディスプレイ」が、本願発明は、「少なくとも６００ｄｐｉの解像度を有する」のに対して、引用発明は、そのような特定がなされていない点。
３　判断
　上記相違点について検討する。
　ＯＬＥＤディスプレイを含む表示デバイスの技術分野において、解像度が高いほど望ましいのは当然であって、どの程度の解像度とするかは、当業者にとって適宜選択可能な設計事項にすぎず、上記相違点に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　なお、引用文献１の【００５８】には、「一方、発光層を青色（Ｂ）および黄色（Ｙ）の２色の塗り分けとすれば、解像度３００ｐｐｉ程度までメタルマスク蒸着技術で製造することが可能である。」と記載されている。
　しかしながら、上記記載は、メタルマスク蒸着技術で製造すると解像度が３００ｐｐｉ程度になると述べているだけであって、技術思想として解像度を３００ｐｐｉ（当合議体注：本願発明でいう「ｄｐｉ」は、引用発明でいう「ｐｐｉ」である。）とすることが好ましいことを意味するものではない。また、引用文献１の特許請求の範囲において、表示装置の製造方法が記載されているところ、特許請求の範囲における表示装置の製造方法がおいてはメタルマスク蒸着技術は記載されておらず、引用文献１における発光層の成膜方法は必ずしもメタルマスク蒸着技術に限定されるものではない（当合議体注：このことは、引用文献１の【０１３１】の記載からも確認できる。）。
　さらに進んで検討すると、引用文献１の【００５８】の「３００ｐｐｉ」という記載は、大量生産を前提とした場合におけるメタルマスク蒸着技術の限界を述べたものであって、実験レベルの製造技術や、メタルマスク蒸着技術よりも高い解像度を達成できる製造技術を見込んだ上で、それを採用して解像度を「６００ｄｐｉ」などと規定することは、当業者が容易になし得ることである。
　そうしてみると、引用文献１の上記記載は阻害要因とはならない。
４　効果についての検討
　本件出願明細書の【００１８】の「本明細書に開示される各種実施形態は、ＯＬＥＤディスプレイなどのデバイス及びその作製のための技術を提供し、これらによれば、含まれる発光領域の数が限定されていながらも、フルカラーディスプレイ及びこれに類するデバイスを提供するために十分な色範囲を提供することができる。」、【０２４９】の「本明細書に開示されるディスプレイは、また、比較的高い解像度を有することができる。例えば、２５０、３００、４００、５００、６００、７００ｄｐｉ、若しくはそれ以上、又はこれらの値の間の任意の値などの解像度を有することができる。」という効果は、引用発明から予測できる範囲内のものである。
５　審判請求人の主張について
　審判請求人は、平成３１年１月２１日提出の意見書の「４．（２）」において、「引用文献１には、請求項１における「少なくとも６００ｄｐｉの解像度を有する」フルカラーＯＬＥＤディスプレイについて、何ら記載も示唆もありません。」、令和元年６月１０提出の審判請求書の「３．（ｃ）」において、「引用文献１（図３６−３９）には、青色発光領域が隣接することの記載はありますが、黄色発光領域が隣接することについては記載がありません。」、令和元年１２月２６日提出の上申書の「１．」において、「引用文献１は『少なくとも６００ｄｐｉの解像度』に対して阻害要因を有すると理解できます。」と、主張している。
　しかしながら、上記１ないし３で示したように、審判請求人の上記主張は、いずれも採用することができない。
６　小括
　本願発明は、引用文献１に記載された発明に基づいて、本件優先日前の当業者が容易に発明をすることができたものである。
第６　むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。