【手続補正書】
【提出日】平成30年12月11日(2018.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持するように構成された第１の基板ホルダと、
前記基板を保持するように構成された第２の基板ホルダと、
センサ及び／又は検出器を保持するように構成されたセンサホルダと、
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを保持するように構成された支持構造と、
前記パターニングデバイスにより前記放射ビームに付与されたパターンを、前記基板のターゲット部分へと投影するように構成された投影システムと、
前記基板上の基板アライメントマークの位置を測定する為のアライメントセンサを備える第１のアライメントシステムを有する測定デバイスと、
前記基板上の前記基板アライメントマークの位置を測定する為のアライメントセンサを備える第２のアライメントシステムを備える追加的な測定デバイスと、
空間像を測定するように構成された空間像測定デバイスと、を備え、
前記第２の基板ホルダは、マーカを有し、
前記空間像測定デバイスは、前記第２の基板ホルダ上の前記マーカと、前記センサホルダ上の前記検出器と、を有する、
露光装置。
【請求項２】
基板を保持するように構成された第１の基板ホルダと、
前記基板を保持するように構成された第２の基板ホルダと、
センサ及び／又は検出器を保持するように構成されたセンサホルダと、
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを保持するように構成された支持構造と、
前記パターニングデバイスにより前記放射ビームに付与されたパターンを、前記基板のターゲット部分へと投影するように構成された投影システムと、
前記基板上の複数の基板アライメントマークの位置を測定する為のアライメントセンサを備える第１のアライメントシステムを有する測定デバイスと、
前記基板上の前記複数の基板アライメントマークのうち少なくとも１つの基板アライメントマークの位置を測定する為のアライメントセンサを備える第２のアライメントシステムを備える追加的な測定デバイスと、
空間像を測定するように構成された空間像測定デバイスと、を備え、
前記第２の基板ホルダは、マーカを有し、
前記空間像測定デバイスは、前記第２の基板ホルダ上の前記マーカと、前記センサホルダ上の前記検出器と、を有する、
露光装置。
【請求項３】
基板を保持するように構成された第１の基板ホルダと、
前記基板を保持するように構成された第２の基板ホルダと、
センサ及び／又は検出器を保持するように構成されたセンサホルダと、
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを保持するように構成された支持構造と、
前記パターニングデバイスにより前記放射ビームに付与されたパターンを、前記基板のターゲット部分へと投影するように構成された投影システムと、
前記基板上の複数の基板アライメントマークの位置を測定する為のアライメントセンサを備える第１のアライメントシステムを有する測定デバイスと、
前記基板上の前記複数の基板アライメントマークのうち少なくとも２つの基板アライメントマークの位置を測定する為のアライメントセンサを備える第２のアライメントシステムを備える追加的な測定デバイスと、
空間像を測定するように構成された空間像測定デバイスと、を備え、
前記第２の基板ホルダは、マーカを有し、
前記空間像測定デバイスは、前記第２の基板ホルダ上の前記マーカと、前記センサホルダ上の前記検出器と、を有する、
露光装置。
【請求項４】
前記第２のアライメントシステムによって測定される基板アライメントマークの数は、３個から１６個である、請求項２又は３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１のアライメントシステムによって測定される基板アライメントマークの数は、９６個以上である、請求項２から４の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記マーカは、少なくとも一つの基準プレートを備える、請求項１から５の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記検出器は、前記第２の基板ホルダ及び前記センサホルダが一体となっているときに前記空間像を測定する、請求項１から６の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記センサホルダは、波面収差測定デバイス、照度モニタ、照度むらセンサ、及び／又は、均一性センサを保持する、請求項１から７の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１の基板ホルダの下面に配置された第１のスケールを備える、請求項１から８の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第１のアライメントシステムの下方に配置された第１のエンコーダヘッドを備える、請求項１から９の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第１の基板ホルダが前記測定デバイス付近にあるときに、前記第１の基板ホルダの位置情報を表す第１の信号を提供するように構成された第１の位置測定システムを備える、請求項１から１０の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記第２の基板ホルダ及び／又は前記センサホルダが前記投影システム付近にあるときに、前記第２の基板ホルダ及び／又は前記センサホルダの位置情報を表す第２の信号を提供するように構成された第２の位置測定システムを備える、請求項１から１１の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記第２の位置測定システムは、第２のエンコーダヘッドと、前記第２の基板ホルダの表面に配置された第２のスケールと、を有し、
前記第２のエンコーダヘッドは、前記第２の基板ホルダが前記投影システム付近にあるときに前記第２のスケールに対向するように配置される、請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第２の位置測定システムは、前記センサホルダの表面に配置された第３のスケールをさらに有し、
前記第２のエンコーダヘッドは、前記センサホルダが前記投影システム付近にあるときに前記第３のスケールに対向するように配置される、請求項１３に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記測定デバイスは、前記追加的な測定デバイスよりも前記投影システムから遠い位置に配置されている、請求項１から１４の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記基板を前記第１の基板ホルダから前記第２の基板ホルダへと運ぶように構成される移動デバイスをさらに備える、請求項１から１５の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記追加的な測定デバイスは、自動合焦システムを備える、請求項１から１６の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記自動合焦システムは、前記基板の上面に向かって傾斜角度で放射される光を与えるための光源を含み、前記基板の上面によって反射される反射光に基づいて、前記第２の基板ホルダに保持された前記基板の平坦さに関する情報を提供するように構成される、請求項１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記自動合焦システム及び前記空間像測定システムによって得られた信号を処理して、前記基板と前記パターニングデバイスとの位置関係を決定する制御ユニットを備える、請求項１７又は１８に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記支持構造の位置決め、前記パターニングデバイスを曲げること、及び／又は、前記第２の基板ホルダの位置決め、によって前記空間像の光学特性を制御する制御ユニットを備える、請求項１から１９の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記放射ビームは、１９３ｎｍの波長、又は、１９３ｎｍ付近の波長を有する紫外線放射である、請求項１から２０の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記投影システムと、前記第２の基板ホルダ、前記基板及び前記センサホルダの少なくとも一つと、の間に画定される空間に、液浸液を供給して閉じ込めるように構成された液体ハンドリングシステムを備える、請求項１から２１の何れか一項に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記液体ハンドリングシステムは、前記空間から前記液浸液を回収するように構成された回収ポートを有する、請求項２２に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記回収ポートには、多孔性部材が配置されている、請求項２３に記載の露光装置。