Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月20日(2019.3.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
図柄情報の変動表示を行う変動表示手段と、
始動条件の成立に基づいて抽選用乱数を取得する乱数取得手段と、
開始条件が成立したときに前記乱数取得手段により取得された抽選用乱数に基づいて抽選を行う抽選手段と、
前記抽選手段の抽選結果が当りである場合に、遊技者に利益を付与する利益付与状態に制御する利益付与状態制御手段と、を備え、
前記抽選手段の抽選結果が当りである場合に、前記変動表示手段にて前記図柄情報の変動表示を行って特定の図柄情報を停止表示する遊技機において、
前記乱数取得手段により前記抽選用乱数が取得されてから前記開始条件が成立するまでの間、当該抽選用乱数を記憶し、当該抽選用乱数に基づいた前記抽選手段による抽選の実行を所定の上限数まで待機させる乱数記憶手段と、
前記乱数記憶手段による前記抽選用乱数の記憶を保留表示として所定の態様で表示する保留表示手段と、
前記開始条件が成立したときに前記保留表示を変動対応表示として所定の位置に所定の態様で表示することが可能な変動対応表示手段と、
前記変動対応表示手段によって表示される前記変動対応表示の態様を変化可能とし、当該変動対応表示の態様が変化した態様によって前記当りの期待を示唆する変動対応予告演出を実行可能な変動対応予告演出実行手段と、
前記変動表示手段にて前記図柄情報の変動表示を行う場合に、前記図柄情報が複数回にわたって変動するかのように前記図柄情報を変動表示させる連続変動演出を実行可能な連続変動演出実行手段と、を備え、
前記図柄情報の変動表示の実行中において前記連続変動演出実行手段により前記連続変動演出を実行することが確定することを示す特別表示態様の表示が開始されたあとに前記変動対応表示手段によって表示されている前記変動対応表示を認識不能にし、
前記認識不能にした前記変動対応表示をあらためて認識させる際には、前記認識不能にする前に表示されていた前記変動対応表示の態様と同じ態様で表示し、該同じ態様で表示されたあとに該同じ態様とは異なる態様の表示を前記所定の位置にて表示可能とされており、
前記異なる態様の表示がされる前の前記同じ態様で表示される前記変動対応表示の表示位置は、前記認識不能にする前に前記変動対応表示が表示されていた前記所定の位置と同じ位置とされており、
前記変動対応表示手段によって表示されている前記変動対応表示を認識不能にしたとき前記特別表示態様の表示が継続して行われている
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記した遊技機では、保留表示の態様の変化によって大当り遊技に対する期待感を高めているものの、まだまだ演出の工夫の余地はある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上記した事情に鑑みなされたもので、演出の工夫が施された遊技機を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
図柄情報の変動表示を行う変動表示手段と、始動条件の成立に基づいて抽選用乱数を取得する乱数取得手段と、開始条件が成立したときに前記乱数取得手段により取得された抽選用乱数に基づいて抽選を行う抽選手段と、前記抽選手段の抽選結果が当りである場合に、遊技者に利益を付与する利益付与状態に制御する利益付与状態制御手段と、を備え、前記抽選手段の抽選結果が当りである場合に、前記変動表示手段にて前記図柄情報の変動表示を行って特定の図柄情報を停止表示する遊技機において、前記乱数取得手段により前記抽選用乱数が取得されてから前記開始条件が成立するまでの間、当該抽選用乱数を記憶し、当該抽選用乱数に基づいた前記抽選手段による抽選の実行を所定の上限数まで待機させる乱数記憶手段と、前記乱数記憶手段による前記抽選用乱数の記憶を保留表示として所定の態様で表示する保留表示手段と、前記開始条件が成立したときに前記保留表示を変動対応表示として所定の位置に所定の態様で表示することが可能な変動対応表示手段と、前記変動対応表示手段によって表示される前記変動対応表示の態様を変化可能とし、当該変動対応表示の態様が変化した態様によって前記当りの期待を示唆する変動対応予告演出を実行可能な変動対応予告演出実行手段と、前記変動表示手段にて前記図柄情報の変動表示を行う場合に、前記図柄情報が複数回にわたって変動するかのように前記図柄情報を変動表示させる連続変動演出を実行可能な連続変動演出実行手段と、を備え、前記図柄情報の変動表示の実行中において前記連続変動演出実行手段により前記連続変動演出を実行することが確定することを示す特別表示態様の表示が開始されたあとに前記変動対応表示手段によって表示されている前記変動対応表示を認識不能にし、前記認識不能にした前記変動対応表示をあらためて認識させる際には、前記認識不能にする前に表示されていた前記変動対応表示の態様と同じ態様で表示し、該同じ態様で表示されたあとに該同じ態様とは異なる態様の表示を前記所定の位置にて表示可能とされており、前記異なる態様の表示がされる前の前記同じ態様で表示される前記変動対応表示の表示位置は、前記認識不能にする前に前記変動対応表示が表示されていた前記所定の位置と同じ位置とされており、前記変動対応表示手段によって表示されている前記変動対応表示を認識不能にしたとき前記特別表示態様の表示が継続して行われていることを特徴とする遊技機。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の遊技機においては、演出の工夫が施された遊技機を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和1年6月18日(2019.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
第１流体および第２流体を送風可能な送風機であって、
ファン軸心（ＣＬ）を中心に回転することで前記ファン軸心の一方側から吸い込んだ前記第１流体および前記第２流体を前記ファン軸心から遠ざかる方向に吹き出す遠心ファン（２４）と、
前記遠心ファンに対して間隔をあけて配置され、前記遠心ファンの空気吸込側に形成される吸込空間（２２４）に設けられた隔壁（２８）と、を備え、
前記遠心ファンは、
前記吸込空間の周りに間隔をあけて配置され、前記ファン軸心の周りを回転することで前記ファン軸心の一方側から空気を吸い込む複数枚のブレード（２４２）と、
前記複数枚のブレードのうち前記ファン軸心の他方側を連結するファンボス（２４６）と、を有し、
前記隔壁は、
前記吸込空間において前記ファン軸心に沿って延びるとともに前記吸込空間を少なくとも前記第１流体が通る第１空間（２２４Ａ）と前記第２流体が通る第２空間（２２４Ｂ）に仕切るベース部（３０）と、
前記ベース部における前記ファン軸心の他方側に接続され、前記ファン軸心側から前記ブレードに近づく方向に延びて前記ファンボスの一部を覆う拡大部（３２）と、を有し、
前記ベース部は、前記ファン軸心から最も離れた外側の両端部（３０１、３０２）が前記複数枚のブレードの手前に位置するように前記ファン軸心から離れる方向に延びており、
前記拡大部と前記ファンボスとの間には、前記第１空間側に開口する第１空間側開口部（３３１）と前記第２空間側に開口する第２空間側開口部（３３２）を連通させる隙間流路（３３）が形成されており、
前記拡大部は、前記第２空間側開口部側の圧力が前記第１空間側開口部側の圧力よりも低くなるように、前記吸込空間のうち前記第２空間側に偏って存在している送風機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
第１流体および第２流体を送風可能な送風機であって、
ファン軸心（ＣＬ）を中心に回転することで前記ファン軸心の一方側から吸い込んだ前記第１流体および前記第２流体を前記ファン軸心から遠ざかる方向に吹き出す遠心ファン（２４）と、
前記遠心ファンに対して間隔をあけて配置され、前記遠心ファンの空気吸込側に形成される吸込空間（２２４）に設けられた隔壁（２８）と、を備え、
前記遠心ファンは、
前記吸込空間の周りに間隔をあけて配置され、前記ファン軸心の周りを回転することで前記ファン軸心の一方側から空気を吸い込む複数枚のブレード（２４２）と、
前記複数枚のブレードのうち前記ファン軸心の他方側を連結するファンボス（２４６）と、を有し、
前記隔壁は、
前記吸込空間において前記ファン軸心に沿って延びるとともに前記吸込空間を少なくとも前記第１流体が通る第１空間（２２４Ａ）と前記第２流体が通る第２空間（２２４Ｂ）に仕切るベース部（３０）と、
前記ベース部における前記ファン軸心の他方側に接続され、前記ファン軸心側から前記ブレードに近づく方向に延びて前記ファンボスの一部を覆う拡大部（３２）と、を有し、
前記ベース部は、前記ファン軸心から最も離れた外側の両端部（３０１、３０２）が前記複数枚のブレードの手前に位置するように前記ファン軸心から離れる方向に延びており、
前記拡大部は、前記ファン軸心から前記ブレードの前縁部（２４３）に相対する外縁部（３２０）までの距離が所定の基準距離よりも長くなる延在部位（３２２）を有し、前記延在部位が前記吸込空間のうち前記第２空間側に偏って存在している送風機。 
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
隔壁は、
吸込空間においてファン軸心に沿って延びるとともに吸込空間を少なくとも第１流体が通る第１空間（２２４Ａ）と第２流体が通る第２空間（２２４Ｂ）に仕切るベース部（３０）と、
ベース部におけるファン軸心の他方側に接続され、ファン軸心側からブレードに近づく方向に延びてファンボスの一部を覆う拡大部（３２）と、を有する。ベース部は、ファン軸心から最も離れた外側の両端部（３０１、３０２）が複数枚のブレードの手前に位置するようにファン軸心から離れる方向に延びている。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月29日(2019.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（１）を複数の部分に分離するためのレーザベースの機械加工の方法であって、
前記基板（１）を機械加工するためのレーザ（３）のレーザビーム（２ａ、２ｂ）が前記基板（１）へと向けられ、前記レーザ（３）の波長λは前記基板（１）が当該波長に対して透明であるか、あるいは、前記基板（１）の材料においてビーム方向に沿って起こる前記レーザビームの強度の減少が、浸透深さ１ミリメートル当たり１０％以下であるように実質的に透明であり、
光学配置（６）が前記レーザ（３）の光線路内に位置付けられており、前記ビーム方向に沿って見て延在するレーザビーム焦線（２ｂ）が、前記光学配置（６）の出力側において、前記基板（１）へ向けられた前記レーザビーム（２ａ）から形成され、前記光学配置（６）は、前記基板（１）の外側の少なくとも１つの位置において、前記レーザビームを環状の断面を有するビームに変換し、
前記基板（１）は、前記ビーム方向から見て、延在部分（２ｃ）に沿って前記基板（１）の材料内において誘起吸収が生じ、前記延在部分（２ｃ）に沿って前記基板（１）の材料内に誘起された亀裂形成がもたらされるという効果を有するように、前記レーザビーム焦線（２ｂ）に対して位置決めされる、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記光学配置（６）はアキシコン（１０）を含むことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記誘起吸収は、前記基板（１）の材料のアブレーションおよび溶融なしで前記基板（１）の微細構造において前記亀裂形成が起こるように、生成されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記基板（１）は、当該基板の材料内における前記誘起吸収の延長部分（２ｃ）が、２つの対向する基板表面（１ａ，１ｂ）の少なくとも一方まで延びるように、前記レーザビーム焦線（２ｂ）に対して位置決めされることを特徴する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
（Ｉ）前記基板（１）は、前記基板の材料内における前記誘起吸収の前記延在部分（２ｃ）が、２つの対向する基板表面のうちの一方（１ａ）から他方（１ｂ）へと当該基板（１）の全層厚さｄに亘って延びるように、前記レーザビーム焦線（２ｂ）に対して位置決めされ、あるいは、
（ＩＩ）前記基板（１）は、当該基板（１）の材料内における前記誘起吸収の前記延在部分（２ｃ）が、２つの対向する基板表面のうちの一方（１ａ）から他方（１ｂ）へは至らず、当該基板（１）の全層厚さｄに亘ってではなく延びるように、前記レーザビーム焦線（２ｂ）に対して位置決めされる、
ことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記基板（１）の材料内における前記誘起吸収の前記延在部分（２ｃ）は、基板内部において、前記基板（１）の全層厚さｄの８０％から９８％に亘り、延在することを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ビームの縦方向に見て、前記レーザビーム焦線（２ｂ）の範囲ｌおよび／または前記基板（１）の材料内における前記誘起吸収の前記延在部分（２ｃ）の範囲Ｌは、０．１ｍｍから１００ｍｍの間であり、および／または、
前記２つの対向する基板表面（１ａ，１ｂ）に垂直に測定された前記基板（１）の前記全層厚さｄは、３０μｍから３０００μｍの間であり、および／または、
前記レーザビーム焦線（２ｂ）の前記範囲ｌと前記基板（１）の前記全層厚さｄとの比率Ｖ１＝ｌ／ｄは、１０から０．５の間であり、および／または、
前記ビームの縦方向に見て、前記基板（１）の材料内における前記延在部分（２ｃ）の範囲Ｌと、前記ビームの縦方向を横切る方向に見て、前記基板（１）の材料内における前記延在部分（２ｃ）の平均範囲Ｄとの比率Ｖ２＝Ｌ／Ｄは、５から５０００の間である、
ことを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記ビームの縦方向に見て、前記レーザビーム焦線（２ｂ）の範囲ｌおよび／または前記基板（１）の材料内における前記誘起吸収の前記延在部分（２ｃ）の範囲Ｌは、０．３ｍｍから１０ｍｍの間であることを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年3月11日(2019.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物半導体を半導体層に用いた第１のＴＦＴとポリシリコンを半導体層に用いた第２のＴＦＴおよび第３のＴＦＴを有する表示装置の製造方法であって、
基板上に非晶質シリコンを形成した後ポリシリコンに変換し、
その後前記ポリシリコンをフォトリソグラフィにより複数の前記第２のＴＦＴおよび第３のＴＦＴの半導体層と前記第１のＴＦＴのソース電極座及びドレイン電極座に同時に形成し、
さらに前記第２のＴＦＴの半導体層全体と前記第３のＴＦＴの半導体層のチャネル部に第１のレジストを形成し、第１のイオンインプランテーションを行い前記第１のレジストに覆われない部分にリンをドーピングし、
その後前記第１のレジストを剥離し、前記第１のＴＦＴが配置される部分に酸化物半導体層を形成し、
さらにゲート絶縁膜を全面に形成した後、前記第１、第２及び第３のＴＦＴにそれぞれ第１のゲート電極、第２のゲート電極及び第３のゲート電極を形成し、
その後前記第１のゲート電極、第２のゲート電極及び第３のゲート電極をマスクとして第２のイオンインプランテーションを行ってリンをドーピングし、
さらに前記第１のＴＦＴと前記第３のＴＦＴを第２のレジストで覆い、前記第２のＴＦＴの半導体層に前記第２のゲート電極及び前記第２のレジストをマスクとして第３のイオンインプランテーションを行ってボロンをドーピングし、
その後前記第２のレジストを剥離し、層間絶縁膜を形成した後該層間絶縁膜にスルーホールを開口し、ソース電極とドレイン電極を形成したことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記基板上に前記非晶質シリコンを形成するに先立って下地膜を形成することを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記酸化物半導体は、ＩＧＺＯ、ＩＴＺＯ、ＺｎＯＮ、ＩＺＯ、ＩＧＯ、ＺｎＯのいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記酸化物半導体は、１０ｎｍないし１００ｎｍの範囲の膜厚で形成されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記スルーホールを開口した後、前記ドレイン電極およびソース電極を形成
する前に、前記ポリシリコンの表面酸化膜を除去するためにフッ酸洗浄を行うことを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記表示装置は液晶表示装置であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記表示装置は有機ＥＬ表示装置であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項８】
酸化物半導体を半導体層に用いた第１のＴＦＴとポリシリコンを半導体層に用いた第２のＴＦＴおよび第３のＴＦＴを有する表示装置の製造方法であって、
基板上に非晶質シリコンを形成した後ポリシリコンに変換し、
その後前記ポリシリコンをフォトリソグラフィにより複数の前記第２のＴＦＴおよび第３のＴＦＴの半導体層と前記第１のＴＦＴのソース電極座及びドレイン電極座に同時に形成し、
さらに前記第２のＴＦＴの半導体層全体と前記第３のＴＦＴの半導体層のチャネル部に第１のレジストを形成し、第１のイオンインプランテーションを行い前記第１のレジストに覆われない部分にリンをドーピングし、
その後前記第１のレジストを剥離し、前記第１のＴＦＴが配置される部分に酸化物半導体層を形成し、
さらにゲート絶縁膜を全面に形成した後、前記第１、第２及び第３のＴＦＴにそれぞれ第１のゲート電極、第２のゲート電極及び第３のゲート電極を形成し、
その後前記第１のゲート電極、第２のゲート電極及び第３のゲート電極をマスクとして第２のイオンインプランテーションを行ってリンをドーピングし、
さらに前記第１のＴＦＴの前記酸化物半導体層及び前記ソース電極座と前記ドレイン電極座のいずれか一方を含む部分と前記第３のＴＦＴを第２のレジストで覆い、前記第２のＴＦＴの半導体層および前記ソース電極座と前記ドレイン電極座のいずれか他方に、前記ゲート電極及び前記第２のレジストをマスクとして第３のイオンインプランテーションを行ってボロンをドーピングし、
その後前記第２のレジストを剥離し、層間絶縁膜を形成した後該層間絶縁膜にスルーホールを開口し、ソース電極とドレイン電極を形成したことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記表示装置の製造方法は液晶表示装置であることを特徴とする請求項８に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記表示装置の製造方法は有機ＥＬ表示装置であることを特徴とする請求項８に記載の表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【特許文献１】ＷＯ２０１５／１９４４１７
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図１４は本発明の実施例２を示す断面図である。図１４が図３と異なる点は、図１４のｎ−ＭＯＳ ＴＡＯＳにおけるドレイン電極１１２の部分である。ｎ−ＭＯＳ ＴＡＯＳのドレインを構成するＬＴＰＳ１１２はｐ＋となっているのに対して、ＴＡＯＳ１１０の部分はｎ−となっている。したがって、ＴＡＯＳとドレインを構成するＬＴＰＳとの間にはｐｎ接合によるダイオードが形成されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
図２０は図１９のＢ−Ｂ断面図である。図２０において、ＴＦＴ基板１００に有機ＥＬ層を含む表示素子層２１０が形成されている。表示素子層２１０は図１９の表示領域１０に対応して形成されている。有機ＥＬ材料は水分によって分解するので、外部からの水分の侵入を防止するために、表示素子層２１０を覆って保護層２１５がＳｉＮｘ等によって形成されている。保護層２１５の上に偏光板２２０が貼り付けられている。また、表示素子層２１０以外の部分には端子部１５０が形成され、端子部１５０にフレキシブル配線基板１６０が接続している。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月18日(2019.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性基板と、この絶縁性基板の表面の少なくとも一部の領域に積層され、かつ活性金属層及び非透過層を含む接合層と、この接合層に積層され、導体を含み、かつ多孔質構造を有する表面導体層とを含むメタライズ基板であって、
前記活性金属層が、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｎ及びＡｌからなる群より選択された少なくとも１種の活性金属又はこの活性金属を含む合金を含み、
前記非透過層が、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ、Ｐｄ及びＰｔからなる群より選択された少なくとも１種のバリア性金属又はこのバリア性金属を含む合金を含み、かつ活性金属層と表面導体層との間に介在するメタライズ基板。
【請求項２】
接合層が、さらに親和層を含み、この親和層が、表面導体層に含まれる金属と同一又は合金化可能な金属を含み、かつ前記親和層が表面導体層と接している請求項１記載のメタライズ基板。
【請求項３】
表面導体層に含まれる導体が、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ及びＡｌからなる群より選択された少なくとも１種の導電性金属又はこの導電性金属を含む合金を含む請求項１又は２記載のメタライズ基板。
【請求項４】
表面導体層の空隙率が５〜３０体積％である請求項１〜３のいずれかに記載のメタライズ基板。
【請求項５】
絶縁性基板の表面に、活性金属層及び非透過層を含む接合層を積層する接合層形成工程、接合層の上に、金属粒子及び有機ビヒクルを含む表面導体層用導体ペーストを塗布する導体塗布工程、塗布した前記導体ペーストに含まれる金属粒子の焼結温度以上に加熱して導体ペーストを焼成し、導体を含み、かつ多孔質構造を有する表面導体層を形成する導体焼成工程を含む請求項１〜４のいずれかに記載のメタライズ基板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月24日(2019.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
Ｓ３１０で記録部１１２は、ＲＡＷデータを所定形式のデータファイルとして記録媒体に記録する。図６（ａ）に記録フォーマットの例を示す。ヘッダ部６０１には、ファイル形式を示す識別コードなどが含まれている。符号化ＲＡＷデータ部６０２には、符号化部１１１が生成した符号化ＲＡＷデータが格納される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
（変形例）
なお、図１（ｂ）のように、画像処理部１０５’として、図１（ａ）における切り替え部１０６，１１０を設けない構成としてもよい。この場合、撮像部１０２からのＲＡＷデータに対しては必ずデモザイク処理、リサイズ処理、モザイク化処理が適用される。そのため、制御部１０４は、ＲＡＷデータのリサイズを行わない場合には、リサイズ部１０８に水平方向倍率１、垂直方向倍率１を設定し、ＲＡＷデータが実質的にリサイズされないように画像処理部１０５’の動作を制御する。ＲＡＷデータのリサイズを行う場合、制御部１０４は、Ｓ３０３で決定した倍率をリサイズ部１０８に設定する。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月29日(2019.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力画像の信号成分に応じた複数次元のルックアップテーブルを用いた補間処理によって、前記入力画像の各画素値を入力値として、出力デバイスが扱う信号成分に対応する出力値に色分解する色分解処理手段を備え、
前記ルックアップテーブルの各格子点の少なくとも一部には、前記複数次元の次元毎に、各格子点間の変化特性を表す情報が対応付けられ、
前記色分解処理手段は、前記変化特性を表す情報に基づいて前記補間処理を行う
ことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記色分解処理手段は、前記変化特性を表す情報に基づいて導出した重み係数を用いた多面体補間により、前記出力値を決定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記変化特性を表す情報は、格子点間における出力値の非線形性を示す数式であることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記変化特性を表す情報は、格子点間における出力値の非線形性を示す、所定数の入力値と出力値とを対応付けたテーブルであることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項５】
それぞれ異なる内容の変化特性を識別するインデックス値によって、前記ルックアップテーブルの各格子点に前記変化特性を表す情報が対応付けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記インデックス値は、前記ルックアップテーブルの各格子点と関連付けられて、前記ルックアップテーブルに格納されていることを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記出力デバイスは、印刷装置であり、
前記出力デバイスが扱う信号成分に対応する出力値は、前記印刷装置における印刷出力に使用する色材の量を表す色材値である
ことを特徴とする請求項５又は６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記印刷装置は、前記色材としてインクを用いるインクジェット方式の印刷装置であり、
前記インデックス値は、前記インクの種類に応じて、前記ルックアップテーブルにおける一部の格子点とだけ対応付けられることを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記ルックアップテーブルは、前記インクの種類毎に設けられることを特徴とする請求項８に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記色分解を行う前に、前記入力画像の各画素値を入力値とする１次元のルックアップテーブルを用いて非線形な変換を行うことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記入力画像の信号成分は、ＲＧＢであり、
前記ルックアップテーブルは、Ｒ軸、Ｇ軸、Ｂ軸の次元毎に、各格子点間の変化特性を表す情報が各格子点に対応付けられている
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記入力画像の信号成分は、ＣＭＹＫであり、
前記ルックアップテーブルは、Ｃ軸、Ｍ軸、Ｙ軸及びＫ軸の次元毎に、各格子点間の変化特性を表す情報が各格子点に対応付けられている
ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
前記入力画像の信号成分には、画像の色を表す色成分に加え、画像の光沢を表す光沢成分を含むことを特徴とする請求項１１又は１２に記載の画像処理装置。
【請求項１４】
入力画像の信号成分に応じた複数次元のルックアップテーブルを用いた補間処理によって、前記入力画像の各画素値を入力値として、出力デバイスが扱う信号成分に対応する出力値に色分解する色分解処理の方法であって、
前記ルックアップテーブルの各格子点の少なくとも一部には、前記複数次元の次元毎に、各格子点間の変化特性を表す情報が対応付けられ、
前記色分解処理では、前記変化特性を表す情報に基づいて前記補間処理を行う
ことを特徴とする方法。
【請求項１５】
コンピュータを、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の画像処理装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月19日(2019.4.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力画像の信号成分を、出力デバイスが扱う信号成分に色分解する画像処理装置であって、
前記入力画像の信号成分に応じた複数次元の色分解ＬＵＴに基づく補間処理によって、前記入力画像の各画素値に対応する前記出力デバイスが扱う信号成分の出力値を決定する補間手段と、
前記補間手段における前記補間処理の前に、前記入力画像の画素値を、１次元の変換ＬＵＴを用いて非線形変換する変換手段と、
を備え、
前記色分解ＬＵＴは、前記複数次元のうち少なくとも１つの次元の入出力特性において、出力値が極大または極小値を取るピーク箇所、あるいは、入力値に対して出力値が立ち上がる立ち上がり箇所を複数含み、
前記変換ＬＵＴは、前記色分解ＬＵＴにおける前記複数のピーク箇所又は立ち上がり箇所のそれぞれに対応して非線形性を高める入出力特性を有する、
ことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記変換手段は、前記色分解ＬＵＴにおける前記複数のピーク箇所又は立ち上がり箇所のそれぞれに対応する複数の前記変換ＬＵＴを用いて、前記入力画像の各画素値を非線形変換することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記補間手段は、前記色分解ＬＵＴにおける前記複数のピーク箇所又は立ち上がり箇所のそれぞれに対応する、前記色分解ＬＵＴを分割して得られる複数の部分ＬＵＴを用いて、前記非線形変換された前記入力画像の画素値を入力値とした補間処理を行う補間手段と、
前記補間手段でそれぞれ得られた前記補間処理の結果を合成して、前記入力画像の画素値に対応する前記出力値を生成する合成手段と、
をさらに備え、
前記複数の部分ＬＵＴのそれぞれで同じ位置にある格子点値の総和は、前記色分解ＬＵＴにおけるその対応する位置にある格子点値と等しい、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記補間手段は、前記複数の部分ＬＵＴのそれぞれに対応して、複数の補間処理を行う手段で構成され、
前記合成手段は、前記複数の補間処理を行う手段からそれぞれ受け取った補間処理の結果を合成して、前記入力画像の画素値に対応する前記出力値を生成する
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記色分解ＬＵＴを格納する格納手段と、
前記格納手段に格納された前記色分解ＬＵＴを分割することにより前記複数の部分ＬＵＴを生成するＬＵＴ生成手段と
をさらに備えたことを特徴とする請求項３又は４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記ＬＵＴ生成手段は、前記色分解ＬＵＴにおける前記複数のピーク箇所又は立ち上がり箇所の数に応じた複数のマスクを用いて、前記色分解ＬＵＴを分割し、
前記複数のマスクは、各マスクの分割率の総和が、入力値の全範囲において1.0となるようなマスクである
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記入力画像の信号成分は、ＲＧＢ色空間で表される色成分であり、
前記ＬＵＴ生成手段は、前記入力画像のＲＧＢ値に応じて前記分割を行う、
ことを特徴とする請求項５又は６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記変換手段で使用する前記変換ＬＵＴ及び前記補間手段で使用する前記部分ＬＵＴを指定する指定手段をさらに備え、
前記変換手段は、前記指定手段で指定された前記変換ＬＵＴを用いて非線形変換を行い、
前記補間手段は、前記指定手段で指定された前記部分ＬＵＴを用いて補間処理を行う
ことを特徴とする請求項３乃至７のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記補間手段が、前記複数の部分ＬＵＴに代えて、当該複数の部分ＬＵＴの各入出力特性を表す数式を用いて、前記補間処理を行うことを特徴とする請求項３乃至８のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記出力デバイスは、印刷装置であり、
前記出力デバイスが扱う信号成分に対応する出力値は、前記印刷装置における画像形成で使用する色材の量を表す値である
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記印刷装置は、インクジェット方式の印刷装置であり、
前記色材の量を表す値は、インク値である、
ことを特徴とする請求項１０に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記印刷装置が用いるインクには、特色のインクを含み、
前記変換手段における非線形変換及び前記補間手段における補間処理は、前記特色のインクについてのみ行う
ことを特徴とする請求項１１に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
前記特色のインクは、さらに淡色のインクであることを特徴とする請求項１２に記載の画像処理装置。
【請求項１４】
入力画像の信号成分を、出力デバイスが扱う信号成分に色分解する画像処理方法であって、
前記入力画像の信号成分に応じた複数次元の色分解ＬＵＴに基づく補間処理によって、前記入力画像の各画素値に対応する前記出力デバイスが扱う信号成分の出力値を決定する補間ステップと、
前記補間ステップにおける前記補間処理の前に、前記入力画像の画素値を、１次元の変換ＬＵＴを用いて非線形変換する変換ステップと、
を含み、
前記色分解ＬＵＴは、前記複数次元のうち少なくとも１つの次元の入出力特性において、出力値が極大または極小値を取るピーク箇所、あるいは、入力値に対して出力値が立ち上がる立ち上がり箇所を複数含み、
前記変換ＬＵＴは、前記色分解ＬＵＴにおける前記複数のピーク箇所又は立ち上がり箇所のそれぞれに対応して非線形性を高める入出力特性を有する、
ことを特徴とする画像処理方法。
【請求項１５】
コンピュータを、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の画像処理装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月10日(2019.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側より像側へ順に配置された、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群、負の屈折力の第５レンズ群、１つ以上のレンズ群を含む後群から構成され、ズーミングに際して隣り合うレンズ群の間隔が変化するズームレンズであって、
広角端から望遠端へのズーミングに際して、前記第３レンズ群が物体側に移動し、
像ぶれ補正に際して前記第４レンズ群は光軸に対して垂直方向の成分を持つ方向に移動し、
前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３、前記第４レンズ群の焦点距離をｆ４とするとき、
１．２＜ｆ４／ｆ３＜３．０
なる条件式を満たすことを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
前記第４レンズ群は、３枚以下のレンズから構成されることを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項３】
広角端に比べて望遠端において、前記第３レンズ群と前記第４レンズ群の間隔は狭くなることを特徴とする請求項１または２に記載のズームレンズ。
【請求項４】
前記第４レンズ群の最も物体側のレンズ面の曲率半径をＲ４ａ、前記第４レンズ群の最も像側のレンズ面の曲率半径をＲ４ｂとするとき、
０．５＜｜Ｒ４ａ｜／ｆ４＜１．５
１．０＜｜Ｒ４ｂ｜／ｆ４＜５．０
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項５】
前記第５レンズ群の焦点距離をｆ５、広角端における全系の焦点距離をｆｗとするとき、
１．０＜−ｆ５／ｆｗ＜２．５
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項６】
広角端における前記後群の焦点距離をｆｒｗ、広角端における全系の焦点距離をｆｗとするとき、
−０．３＜ｆｗ／ｆｒｗ＜０．４
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項７】
無限遠から近距離へのフォーカシングに際して前記第５レンズ群は像側へ移動することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項８】
前記第５レンズ群は、２枚のレンズから構成されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項９】
前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１、広角端における全系の焦点距離をｆｗとするとき、
３．５＜ｆ１／ｆｗ＜６．０
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１０】
前記第２レンズ群の焦点距離をｆ２、広角端における全系の焦点距離をｆｗとするとき、
０．７＜−ｆ２／ｆｗ＜１．２
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１１】
広角端における全系の焦点距離をｆｗとするとき、
１．０＜ｆ３／ｆｗ＜２．０
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１２】
広角端における全系の焦点距離をｆｗとするとき、
１．５＜ｆ４／ｆｗ＜３．５
なる条件式を満たすことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１３】
前記後群は、物体側から像側へ順に配置された、負の屈折力の第６レンズ群、正の屈折力の第７レンズ群から構成されることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１４】
前記後群は正の屈折力の第６レンズ群から構成されることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１５】
前記後群は負の屈折力の第６レンズ群から構成されることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれか１項に記載のズームレンズと、該ズームレンズによって形成された像を受光する撮像素子を有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のズームレンズは、物体側より像側へ順に配置された、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群、負の屈折力の第５レンズ群、１つ以上のレンズ群を含む後群から構成され、ズーミングに際して隣り合うレンズ群の間隔が変化するズームレンズであって、
広角端から望遠端へのズーミングに際して、前記第３レンズ群が物体側に移動し、
像ぶれ補正に際して前記第４レンズ群は光軸に対して垂直方向の成分を持つ方向に移動し、
前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３、前記第４レンズ群の焦点距離をｆ４とするとき、
１．２＜ｆ４／ｆ３＜３．０
なる条件式を満たすことを特徴とするズームレンズ。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
以下に本発明の好ましい実施の形態を、添付の図面に基づいて説明する。本発明のズームレンズは、物体側より像側へ順に配置された、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群、負の屈折力の第５レンズ群、１つ以上のレンズ群を含む後群から構成される。ズーミングに際して隣り合うレンズ群の間隔が変化する。広角端から望遠端へのズーミングに際して、第３レンズ群が物体側に移動する。像ぶれ補正に際して第４レンズ群は光軸に対して垂直方向の成分を持つ方向に移動する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
次に本発明を実施するにあたり、より好ましい条件について説明する。第４レンズ群Ｌ４は、３枚以下のレンズから構成されると良い。像ぶれ補正用の第４レンズ群Ｌ４は、レンズ群の重量が大きくなる程、それを駆動させるための機構が大きくなり、全系が大型化する。このため、像ぶれ補正用の第４レンズ群Ｌ４は軽量であることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
しかしながら、１枚のレンズでは、像ぶれ補正時の収差を補正するのが難しくなるため、３枚以下のレンズから構成するのが良い。好ましくは、正レンズと負レンズを含む３枚以下のレンズから構成することが好ましい。より好ましくは、１枚の正レンズと１枚の負レンズから構成するのが良い。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
次に、第５レンズ群は、２枚のレンズから構成するのが良い。ズーミングによる収差変動、フォーカシングによる収差変動を小さくし、かつ、レンズ群厚を短くして変倍を効率に行うためには、１枚の正レンズと１枚の負レンズから構成するのが良い。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月13日(2019.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
出力軸と、前記出力軸の方向における前記出力軸の移動と前記方向を有する軸の周りにおける前記出力軸の回転との操作をするための操作部とを有し、前記移動と前記回転とにより、それぞれレンズ装置の第１の操作と第２の操作とを行うための一軸二操作方式の操作装置であって、
前記出力軸の前記回転の角度と、前記方向を有する前記軸の周りにおける前記操作部の回転の角度との比率を切り替える切り替え手段を有する、
ことを特徴とする操作装置。
【請求項２】
前記切り替え手段は、前記操作部に配されていることを特徴とする請求項１に記載の操作装置。
【請求項３】
前記操作部を前記出力軸に直接的に接続する第１の機構と、
遊星歯車を含み、前記遊星歯車を介して前記操作部を前記出力軸に接続する第２の機構と、
を有し、
前記切り替え手段は、前記第１の機構と前記第２の機構とを互いに切り替える、
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の操作装置。
【請求項４】
前記出力軸を支持するスライダ部材と、
前記方向において移動可能に、かつ前記方向を有する軸の周りにおいて回転不能に前記スライダ部材を支持する支持部と、
を有し、
前記スライダ部材は、前記遊星歯車とは噛み合う歯車を含む、
ことを特徴とする請求項３に記載の操作装置。
【請求項５】
前記噛み合う歯車は、太陽ギアであることを特徴とする請求項４に記載の操作装置。
【請求項６】
前記噛み合う歯車は、前記遊星歯車の外側に配された歯車であることを特徴とする請求項４に記載の操作装置。
【請求項７】
前記出力軸に固定され、前記出力軸の回転量を視認可能とする指標を有することを特徴とする請求項１ないし請求項６のうちいずれか１項に記載の操作装置。
【請求項８】
前記第１の操作は、ズーム操作であり、前記第２の操作は、フォーカス操作であることを特徴とする請求項１ないし請求項７のうちいずれか１項に記載の操作装置。
【請求項９】
請求項１ないし請求項８のうちいずれか１項に記載の操作装置を有することを特徴とするレンズ装置。
【請求項１０】
請求項９に記載のレンズ装置を有することを特徴とする撮影装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】操作装置、レンズ装置および撮影装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、操作装置、レンズ装置、および撮影装置に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そこで、本発明は、例えば、操作部の回転角度と出力軸の回転角度との関係を切り替えるのに有利な一軸二操作方式の操作装置を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明のレンズ操作装置は、出力軸と、前記出力軸の方向における前記出力軸の移動と前記方向を有する軸の周りにおける前記出力軸の回転との操作をするための操作部とを有し、前記移動と前記回転とにより、それぞれレンズ装置の第１の操作と第２の操作とを行うための一軸二操作方式の操作装置であって、前記出力軸の前記回転の角度と、前記方向を有する前記軸の周りにおける前記操作部の回転の角度との比率を切り替える切り替え手段を有する、ことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、例えば、操作部の回転角度と出力軸の回転角度との関係を切り替えるのに有利な一軸二操作方式の操作装置を提供することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月11日(2019.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のファイバーと、前記第１のファイバーを伝搬した光が伝搬するように、前記第１のファイバーと接続された第２のファイバーと、を備え、
前記第１のファイバーと前記第２のファイバーのうち少なくとも１つがフォトニック結晶ファイバーであり、
前記第２のファイバーは、前記第１のファイバーと前記第２のファイバーとの接続面より順に第１の被覆層と第２の被覆層で被覆されており、
前記第１の被覆層の屈折率ｎ１は、前記第２のファイバーのクラッド層の屈折率より大きく、
前記第１のファイバーのＮＡ、前記第２のファイバーの中心を原点とする前記第１の被覆層の半径Ｒ、前記第２のファイバーの中心を原点とする前記第２の被覆層の半径ｒ、前記接続面と前記第１の被覆層の端との間の距離Ｌ、が、
Ｌ＞（ｒ×ｎ１）／ＮＡ
の関係式を満たす、
ことを特徴とするファイバー構造体。
【請求項２】
さらに、Ｒ＞（２Ｌ×ＮＡ）／（２ｎ１）の関係式が満たされる、
ことを特徴とする請求項１に記載のファイバー構造体。
【請求項３】
前記ファイバー構造体をパルス光が伝搬する場合、前記第１のファイバーを伝搬するパルス光のパワーをＰ０、前記第１のファイバーと前記第２のファイバーとの結合効率をαとすると、
Ｐ０（１−α）｛１−ｅｘｐ［−２（ｒ／（Ｌ（ＮＡ／ｎ１）））２］｝＜１Ｗが満たされる、
ことを特徴とする請求項１または２に記載のファイバー構造体。
【請求項４】
前記ファイバー構造体をパルス光が伝搬する場合、前記第１のファイバーを伝搬する前記パルス光のパワーをＰ０、前記第１のファイバーと前記第２のファイバーとの結合効率をαとすると、
Ｐ０｛１−ｅｘｐ［−２（ｒ／（Ｌ（ＮＡ／ｎ１）））２］｝＜１Ｗが満たされる、
ことを特徴とする請求項１または２に記載のファイバー構造体。
【請求項５】
前記第１の被覆層１の透過率は、前記第２の被覆層の透過率より大きい、
ことを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載のファイバー構造体。
【請求項６】
前記第１の被覆層の透過率は９０％／ｍｍ以上である、
ことを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載のファイバー構造体。
【請求項７】
ヒートシンクを備え、前記ヒートシンクは前記第１の被覆層と接触しており、前記ヒートシンクの熱伝導率は前記第１の被覆層の熱伝導率よりも大きい、
ことを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載のファイバー構造体。
【請求項８】
前記第１の被覆層は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、高屈折率ポリマー、の何れかを含むＵＶ硬化樹脂、ポリカーボネード、およびサファイアの少なくとも１つを含む、
ことを特徴とする請求項１から７の何れか１項に記載のファイバー構造体。
【請求項９】
請求項１から８の何れか１項に記載のファイバー構造体と、パルス光源と、を備え、
前記パルス光源からのパルス光が、前記第１のファイバーを伝搬したのち前記第２のファイバーを伝搬するように、前記パルス光源と前記第１のファイバーと前記第２のファイバーとが光学的に接続されている、
ことを特徴とする光源装置。
【請求項１０】
前記パルス光源は、Ｙｂドープファイバー利得媒体として用い、モード同期によってパルス光を出力するファイバーレーザと、Ｙｂドープファイバーを媒体として用いた増幅器とを含む、
ことを特徴とする請求項９に記載の光源装置。
【請求項１１】
第１のファイバーと、前記第１のファイバーを伝搬した光が伝搬するように、前記第１のファイバーと接合された第２のファイバーと、前記第１のファイバーと前記第２のファイバーとの間の接合表面を被覆する第１の被覆層と、前記第１の被覆層と接触し、前記第１の被覆層よりも熱伝導性が高いヒートシンクとを有するファイバー構造体であって、
前記第１のファイバーと前記第２のファイバーの一方が、フォトニック結晶ファイバーであり、前記第１のファイバーと前記第２のファイバーの他方が光学ファイバーであることを特徴とするファイバー構造体。
【請求項１２】
前記第２のファイバーは第２の被覆層で被覆されていることを特徴とする請求項１１に記載のファイバー構造体。
【請求項１３】
前記第１の被覆層の透過率は、前記第２の被覆層の透過率よりも大きいことを特徴とする請求項１２に記載のファイバー構造体。
【請求項１４】
前記第１の被覆層の透過率は９０％／ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれか１項に記載のファイバー構造体。
【請求項１５】
前記第１の被覆層は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、高屈折率ポリマー、の何れかを含むＵＶ硬化樹脂、ポリカーボネード、およびサファイアの少なくとも１つの部材を含むことを特徴とする請求項１１乃至１４のいずれか１項に記載のファイバー構造体。
【請求項１６】
前記第１の被覆層の屈折率は、前記第２のファイバーのクラッド層の屈折率よりも大きいことを特徴とする請求項１１乃至１５のいずれか１項に記載のファイバー構造体。
【請求項１７】
請求項１１乃至１６のいずれか１項に記載のファイバー構造体と、パルス光源とを有する光源装置であって、
前記パルス光源と、前記第１のファイバーと、前記第２のファイバーとは、
前記パルス光源からのパルス光が、前記第１のファイバーを伝搬した後に前記第２のファイバーを伝搬するように、光学的に接続されていることを特徴とする光源装置。
【請求項１８】
前記パルス光源は、Ｙｂドープファイバーを利得媒体として用い、モード同期によってパルス光を出力するファイバーレーザと、Ｙｂドープファイバーを媒体として用いた増幅器と、を含むことを特徴とする請求項１７に記載の光源装置。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月12日(2019.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定方向に表面が移動する像担持体と、
前記像担持体上にトナー像を形成するトナー像形成手段と、
前記トナー像形成手段で前記像担持体上に形成した画像パターンの濃度を検知する画像濃度検知手段と、
前記画像濃度検知手段の検知結果に基づいて、前記トナー像形成手段で形成する出力画像の濃度が所定の目標濃度になるように該出力画像の画像形成時に用いられる画像形成条件を決定する画像濃度制御手段と、を備えた画像形成装置であって、
前記像担持体の表面移動方向と直交する幅方向における複数箇所の位置それぞれに対向するように前記画像濃度検知手段を複数設け、
前記画像濃度制御手段は、
前記像担持体における前記複数の画像濃度検知手段それぞれに対応する位置に同一濃度の画像パターンのトナー像を形成し、
前記複数の画像濃度検知手段によって検知された複数の周期的な濃度ムラそれぞれの振幅を低減するように、前記出力画像の画像形成時に用いる画像形成条件を決定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
請求項１の画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、前記複数の画像濃度検知手段によって検知された複数の周期的な濃度ムラそれぞれの振幅を低減するように、前記画像形成条件を周期的に変化させる制御データの振幅及び位相を決定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
請求項２の画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、
前記複数の画像濃度検知手段によって検知された複数の周期的な濃度ムラそれぞれの振幅及び位相を極座標上に表し、
前記極座標上における前記複数の周期的な濃度ムラそれぞれの位置のすべてを包含する最小包含円の中心座標を算出し、
前記算出された中心座標の振幅及び位相を、前記画像形成条件の補正に用いる目標濃度ムラの振幅及び位相として設定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
請求項２の画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、
前記複数の画像濃度検知手段によって検知された複数の周期的な濃度ムラそれぞれの振幅及び位相を極座標上に表し、
前記極座標上における前記複数の周期的な濃度ムラそれぞれの位置の重心座標を算出し、
前記算出された重心座標の振幅及び位相を、前記画像形成条件の補正に用いる目標濃度ムラの振幅及び位相として設定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかの画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、前記複数の画像濃度検知手段によって検知された複数の周期的な濃度ムラそれぞれの波形を平均化処理して各濃度ムラの振幅及び位相を求めることを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
請求項５の画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、前記複数の画像濃度検知手段のそれぞれについて、前記周期的な濃度ムラの波形を複数回測定し、その複数回測定した複数の周期的な濃度ムラの波形いずれか１つの波形と他の波形との間の位相差を求め、その位相差が所定の閾値以上である前記他の波形を除外して前記平均化処理を行うことを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】
請求項１乃至４のいずれかの画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、前記複数の画像濃度検知手段によって検知された複数の周期的な濃度ムラそれぞれの波形を、該波形の平均値を基準にした変動率の波形に変換し、その変換後の複数の変動率に基づいて各濃度ムラの振幅及び位相を求めることを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項７の画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、前記変換後の複数の変動率それぞれの波形を平均化処理して各濃度ムラの振幅及び位相を求めることを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
請求項８の画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、前記複数の画像濃度検知手段のそれぞれについて、前記周期的な濃度ムラの波形を複数回測定し、その複数回測定した複数の周期的な濃度ムラから変換された前記複数の変動率の波形のいずれか１つの波形と他の波形との間の位相差を求め、その位相差が所定の閾値以上である前記他の波形を除外して前記複数の変動率の平均化処理を行うことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかの画像形成装置において、
前記トナー像形成手段は、回転駆動される潜像担持体と、前記潜像担持体上に潜像を形成する手段と、前記潜像担持体上の潜像を現像する回転駆動される現像剤担持体を有する現像手段と、を備え、
前記潜像担持体及び前記現像剤担持体の少なくとも一方の回転位置を検知する回転位置検知手段を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１１】
請求項１０の画像形成装置において、
前記回転位置検知手段で回転位置が検知される前記潜像担持体及び前記現像手段のうち少なくとも一方は装置本体に対して着脱可能に構成され、
前記回転位置検知手段は装置本体側に設けられていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１２】
請求項１１の画像形成装置において、
前記画像濃度制御手段は、前記潜像担持体及び前記現像手段のうち少なくとも一方の着脱を検知したときに、当該画像形成装置の次の起動時に、前記画像形成条件を更新することを特徴とする画像形成装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれかの画像形成装置において、
前記像担持体における前記複数の画像濃度検知手段それぞれに対応する位置に形成する複数の画像パターンはそれぞれ、高濃度のベタパターンであることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１２のいずれかの画像形成装置において、
前記像担持体における前記複数の画像濃度検知手段それぞれに対応する位置に形成する複数の画像パターンはそれぞれ、中間濃度のハーフトーンパターンであることを特徴とする画像形成装置。