(57)【要約】  従来の樹脂層が露出したグラビア製版ロールよりも耐久性が向上し、長寿命化を図ったグラビア製版ロール及びその製造方法を提供する。版母材と、該版母材の表面に設けられた樹脂層と、該樹脂層に形成されたグラビアセルと、該樹脂層及びグラビアセルの表面を被覆するように形成された表面強化被覆層と、を含むグラビア製版ロールとした。前記表面強化被覆層が、ＤＬＣ被覆層、二酸化珪素被覆層又はクロムメッキ被覆層であることが好ましい。
2007135900.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
版母材と、該版母材の表面に設けられた樹脂層と、該樹脂層に形成されたグラビアセルと、該樹脂層及びグラビアセルの表面を被覆するように形成された表面強化被覆層と、を有することを特徴とするグラビア製版ロール。
【請求項２】
前記表面強化被覆層が、ＤＬＣ被覆層、二酸化珪素被覆層又はクロムメッキ被覆層であることを特徴とする請求項１記載のグラビア製版ロール。
【請求項３】
前記表面強化被覆層がＤＬＣ被覆層であり、前記樹脂層とＤＬＣ被覆層の間に密着層を有することを特徴とする請求項２記載のグラビア製版ロール。
【請求項４】
請求項１又は２記載のグラビア製版ロールを製造する方法であって、
版母材を準備する工程と、
該版母材の表面に樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、
該樹脂層にグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、
該グラビアセルが形成された樹脂層及びグラビアセルの表面を被覆するように表面強化被覆層を形成する表面強化被覆層形成工程と、
を含むことを特徴とするグラビア製版ロールの製造方法。                    
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、グラビア印刷に用いられるグラビア製版ロールであって、表面部分の耐久性が向上したグラビア製版ロール及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、樹脂製のグラビア製版ロールとして、例えば、シート状の樹脂製の基材中に、親水性物質または親水性膜で包んだ光吸収体あるいは光吸収膜で包んだ親水性物質を内在させたものがある（特許文献１）。【０００３】
しかし、上記したような樹脂製のグラビア製版ロールは、ハードクロムメッキ金属に比べ、その表面硬度が著しく低いという欠点があり、かかる欠点を解消すべく、熱可塑性樹脂及び光吸収剤を含んでなるレーザー製版用版材料において、更に、撥水剤又は撥油剤を含有させたものがある（特許文献２）。【０００４】
しかしながら、上記したような従来のグラビア製版ロールでは、樹脂面が表面に露出していたために、耐久性に問題があり、数千枚程度の印刷で寿命となってしまうという問題があった。【０００５】
また、本願出願人は、版基材の表面に、膜厚がセルの深さに等しくなるように樹脂膜を形成し、樹脂膜の表面に超硬質膜を形成し、レーザーを照射して超硬質膜の一部と樹脂膜の一部を焼失して版基材を露出しそこにインキを収容するセルを形成したグラビア印刷版を提案している（特許文献３）。【０００６】
しかし、上記特許文献３では、グラビアセルを形成するために、超硬質膜及び樹脂膜をレーザーにより除去する必要がある。そのため、グラビアセルを形成した後には、樹脂膜及び版基材が露出した部分が存在してしまうため、耐刷力が問題となっていた。
【特許文献１】特開平５−２４６１６５
【特許文献２】特開平７−２７６８３７
【特許文献３】特開平１１−３０９９５０
【特許文献４】特開２００３−１９７６１１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みなされたもので、従来の樹脂層が露出したグラビア製版ロールよりも耐久性が向上し、長寿命化を図ったグラビア製版ロール及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明のグラビア製版ロールは、版母材と、該版母材の表面に設けられた樹脂層と、該樹脂層に形成されたグラビアセルと、該樹脂層及びグラビアセルの表面を被覆するように形成された表面強化被覆層と、を有することを特徴とする。【０００９】
本発明のグラビア製版ロールの製造方法は、版母材を準備する工程と、該版母材の表面に樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、該樹脂層にグラビアセルを形成するグラビアセル形成工程と、該グラビアセルが形成された樹脂層及びグラビアセルの表面を被覆するように表面強化被覆層を形成する表面強化被覆層形成工程と、を含むことを特徴とする。【００１０】
前記版母材としては、例えば中空ロール状としたアルミ、鉄、又はＣＦＲＰ（炭素繊維強化樹脂）が好適に用いられる。【００１１】
前記樹脂層の厚さが５μｍ〜５０μｍ、前記グラビアセルの深度が３μｍ〜１０μｍ、及び前記表面強化被覆層の厚さが、０．１〜１０μｍであるのが好ましい。【００１２】
前記樹脂層に用いられる樹脂（合成樹脂等）としては、例えば、フェノール樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、ポリ酢酸ビニル、ウレタン、ポリアクリロニトリル、ポリブテン、ポリアセタール、ポリアミド、ポリイミド、アラミド、アイオノマー、硝化綿、ポリエチレンナフタレート、メチルテルペン共重合体、ポリ弗化ビニル、弗素樹脂、一酸化三弗化エチレン、四弗化エチレン、カルボキシル化オレフィン等が適用できる。【００１３】
前記グラビアセルを形成する方法としては、レーザー法（レーザー発振器、たとえば、ＹＡＧレーザー装置により発振したレーザーを樹脂層表面照射して所定のグラビアセルを形成する）や電子彫刻法（デジタル信号によりダイヤモンド彫刻針を機械的に作動させ樹脂層表面にグラビアセルを彫刻する）等が適用できる。【００１４】
前記表面強化被覆層としては、クロムメッキなどの従来の表面強化被覆層、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）被覆層やペルヒドロポリシラザンを原料として形成した二酸化珪素被覆層などが適用できる。【００１５】
表面強化被覆層として、クロムメッキを行う場合には、従来公知の手法によりクロムメッキを行えばよい。【００１６】
表面強化被覆層としてＤＬＣ被覆層を形成する場合には、樹脂層とＤＬＣ被覆層の間に密着層を設けることが好ましい。【００１７】
ＤＬＣ被覆層の形成方法としては、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法を用いることができる。
ＰＶＤ法としてはスパッタリング法、真空蒸着法（エレクトロンビーム法）、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法（分子線エピタキシー法）、レーザーアブレーション法、イオンアシスト成膜法等の公知の方法を適用できる。
ＣＶＤ法としては、常圧で成膜するＡＰＣＶＤ法（Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition）、０．０５Ｔｏｒｒ程度の減圧で成膜するＬＰＣＶＤ法（Low Pressure Chemical Vapor Deposition）、常圧よりやや低い６００Ｔｏｒｒ程度の圧力のＳＡＣＶＤ法（Subatmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition）、超高真空のＵＨＶＣＶＤ法（Ultra-High-Vacuum Chemical Vapor Deposition）、６００〜１０００℃の高温の熱ＣＶＤ法、高周波プラズマエネルギーを用い２００〜４５０℃で成膜するプラズマＣＶＤ法（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）、紫外線による励起を利用した光ＣＶＤ法、ソースに有機金属を用いた化合物結晶成長用のＭＯＣＶＤ法（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）等の公知の方法を適用できる。【００１８】
ＰＶＤ法によってＤＬＣ被覆層を形成するにあたっては、樹脂層の上に密着層として金属層及び当該金属の炭化金属層を設けてからＤＬＣ被覆層を形成するのが好ましい。前記金属層の金属としては、炭化可能でありかつ銅と親和性の高い金属を用いるのが好ましく、タングステン（Ｗ）、珪素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）、及びジルコニウム（Ｚｒ）からなる群から選ばれる一種又は二種以上の金属が好適に用いられる。前記炭化金属層が、炭化金属傾斜層であって、該炭化金属傾斜層における炭素の組成比が前記金属層側から前記ＤＬＣ被覆層方向に対して炭素の比率が徐々に増大するように設定されているのが好ましい。【００１９】
また、ＣＶＤ法によってＤＬＣ被覆層を形成するにあたっては、樹脂層の上に密着層を設けてからＤＬＣ被覆層を形成するのが好ましく、該密着層が、アルミニウム（Ａｌ）、リン（Ｐ）、チタン（Ｔｉ）及び珪素（Ｓｉ）からなる群から選ばれる一種又は二種以上から形成されるのがより好ましい。【００２０】
表面強化被覆層として、ペルヒドロポリシラザン溶液を原料として形成した二酸化珪素被覆層を形成する場合、ペルヒドロポリシラザンを溶解する溶剤としては公知のものを用いればよいが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エーテル、ＴＨＦ、塩化メチレン、四塩化炭素、ソルベッソ、ジイソプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル、デカヒドロナフタリンのほか特許文献４に記載されたようなアニソール、デカリン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、リモネン、ヘキサン、オクタン、ノナン、デカン、Ｃ８−Ｃ１１アルカン混合物、Ｃ１８−Ｃ１１芳香族炭化水素混合物、Ｃ８以上の芳香族炭化水素を５重量％以上２５重量％以下含有する脂肪族／脂環式炭化水素混合物、及びジブチルエーテルなどを用いることができる。【００２１】
上記した各種溶剤に溶解されて作製されるペルヒドロポリシラザン溶液は、そのままでも過熱水蒸気による加熱処理によって二酸化珪素へ転化するが、反応速度の増加、反応時間の短縮、反応温度の低下、形成される二酸化珪素被覆層の密着性の向上等を図る目的で触媒を用いるのが好ましい。これらの触媒も公知であり、例えばアミンやパラジウムが用いられるが、具体的には、有機アミン、例えばＣ１−Ｃ５のアルキル基が１−３個配置された第１−第３級の直鎖状脂肪族アミン、フェニル基が１−３個配置された第１−第３級の芳香族アミン、ピリジン又はこれにメチル、エチル基等のアルキル基が核置換された環状脂肪族アミン等が挙げられ、さらに好ましいものとして、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノブチルアミン、モノプロピルアミン、ジプロピルアミン等を挙げることができる。これらの触媒はペルヒドロポリシラザン溶液に予め添加しておいてもよく、また過熱水蒸気による加熱処理の際の処理雰囲気中に気化状態で含有させることもできる。【００２２】
前記ペルヒドロポリシラザン溶液を塗布する方法としては、ペルヒドロポリシラザン溶液をスプレーコート、インクジェット塗布、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布等の公知の塗布方法が適用できる。【００２３】
前記ペルヒドロポリシラザン溶液の塗布層を二酸化珪素被覆層とする二酸化珪素被覆層形成工程としては、前記ペルヒドロポリシラザン塗布層を過熱水蒸気によって所定時間加熱して所定の硬度の二酸化珪素被覆層とすることが好ましい。前記過熱水蒸気の温度は１００℃以上、好ましくは１００℃を超え３００℃以下のものが用いられるが、中空ロール及び樹脂層の材質に応じて適宜最適な温度を設定することはいうまでもない。【００２４】
前記二酸化珪素被覆層形成工程における加熱処理が、第１次及び第２次加熱処理を含む複数段の加熱処理であることが好ましく、該第１次加熱処理の条件を１００℃〜１７０℃、１分〜３０分、及び該第２次加熱処理の条件を１４０℃〜２００℃、１分〜３０分とし、該第２次加熱処理の温度を該第１次加熱処理の温度よりも高く設定することがより好ましい。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、従来の樹脂層が露出したグラビア製版ロールよりも耐久性が向上し、長寿命化を図ったグラビア製版ロール及びその製造方法を提供することができるという著大な効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明のグラビア製版ロールの製造方法の工程順を示す模式図である。
【図２】本発明のグラビア製版ロールの製造方法の工程順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００２７】
１０：グラビア製版ロール、１２：版母材、１４：樹脂層、１６：グラビアセル、１８：表面強化被覆層。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下に本発明の実施の形態を添付図面とともに説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。【００２９】
図１は本発明のグラビア製版ロールの製造方法の工程順を示す模式図である。図２は本発明のグラビア製版ロールの製造方法の工程順を示すフローチャートである。【００３０】
本発明のグラビア製版ロール及びその製造方法を図１及び図２を用いて説明する。図中、符号１０は本発明のグラビア製版ロールである。本発明のグラビア製版ロール１０は、図１（ｄ）に示される如く、版母材１２と、該版母材１２の表面に設けられた樹脂層１４と、該樹脂層１４に形成されたグラビアセル１６と、該樹脂層１４及びグラビアセル１６の表面に設けられた表面強化被覆層１８とから構成されている。【００３１】
グラビア製版ロール１０の製造にあたっては、まず、版母材１２を準備する（図１（ａ）及び図２のステップ１００）。版母材１２としては、アルミ、鉄、ＣＦＲＰ（炭素繊維強化樹脂）などからなる中空ロールを使用できる。【００３２】
次に、版母材１２の表面に樹脂層１４を形成する（図１（ｂ）及び図２のステップ１０２）。樹脂層１４に用いられる樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、ポリ酢酸ビニル、ウレタン、ポリアクリロニトリル、ポリブテン、ポリアセタール、ポリアミド、ポリイミド、アラミド、アイオノマー、硝化綿、ポリエチレンナフタレート、メチルテルペン共重合体、ポリ弗化ビニル、弗素樹脂、一酸化三弗化エチレン、四弗化エチレン、カルボキシル化オレフィン等が適用できる。なお、表面強化被覆層の形成工程等において加熱処理を施す場合は、該加熱処理に耐え得る耐熱性を有する樹脂を用いる必要がある。前記樹脂層の厚さは５μｍ〜５０μｍが好適である。【００３３】
次に、樹脂層１４にグラビアセル１６を形成する（図１（ｃ）及び図２のステップ１０４）。前記グラビアセル１６を形成する方法としては、レーザー法（レーザー発振器、たとえば、ＹＡＧレーザー装置により発振したレーザーを樹脂層表面に照射して所定のグラビアセルを形成する）や電子彫刻法（デジタル信号によりダイヤモンド彫刻針を機械的に作動させ樹脂層表面にグラビアセルを彫刻する）等が適用できる。グラビアセルの深度は３μｍ〜１０μｍが好適である。【００３４】
そして、グラビアセル１６が形成された樹脂層１４の上に表面強化被覆層１８を形成する（図１（ｄ）及び図２のステップ１０６）。表面強化被覆層１８としては、クロムメッキ被覆層などの従来周知の表面強化被覆層の他に、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）被覆層やペルヒドロポリシラザンを原料として形成した二酸化珪素被覆層などが適用できる。【００３５】
表面強化被覆層１８として、クロムメッキ被覆層を適用する場合には、従来公知の手法によりクロムメッキを行えばよい。【００３６】
表面強化被覆層１８としてＤＬＣ被覆層を形成する場合には、ＤＬＣ被覆層の形成方法としては、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法を用いることができる。
ＰＶＤ法としては、スパッタリング法、真空蒸着法（エレクトロンビーム法）、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法（分子線エピタキシー法）、レーザーアブレーション法、イオンアシスト成膜法等の公知の方法を適用できる。【００３７】
ＣＶＤ法としては、常圧で成膜するＡＰＣＶＤ法（Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition）、０．０５Ｔｏｒｒ程度の減圧で成膜するＬＰＣＶＤ法（Low Pressure Chemical Vapor Deposition）、常圧よりやや低い６００Ｔｏｒｒ程度の圧力のＳＡＣＶＤ法（Subatmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition）、超高真空のＵＨＶＣＶＤ法（Ultra-High-Vacuum Chemical Vapor Deposition）、６００〜１０００℃の高温の熱ＣＶＤ法、高周波プラズマエネルギーを用い２００〜４５０℃で成膜するプラズマＣＶＤ法（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）、紫外線による励起を利用した光ＣＶＤ法、ソースに有機金属を用いた化合物結晶成長用のＭＯＣＶＤ法（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）等の公知の方法が適用できる。
ＣＶＤ法においてＤＬＣ被覆層を形成するために用いられる炭化水素系原料ガスとしては、シクロへキサン、ベンゼン、アセチレン、メタン、ブチルベンゼン、トルエン、シクロペンタン等の公知のガス種の一種又は二種以上が用いられる。【００３８】
なお、表面強化被覆層１８として樹脂層１４の上にＤＬＣ被覆層を形成するにあたっては、樹脂層１４の上に密着層を設けてからＤＬＣ被覆層を形成するのが好ましい。
ＰＶＤ法でＤＬＣ被覆層を形成する場合には、密着層として、金属層及び炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層を設けることが好ましい。前記金属層の厚さが０．１〜１μｍ、前記炭化金属層の厚さが０．１〜１μｍ、前記ＤＬＣ被覆層の厚さが０．１〜１０μｍであることが好ましい。【００３９】
金属層及び炭化金属層の形成方法は特に限定されないが、ＤＬＣ被覆層の形成方法と同種の方法を用いることにより、同一の装置が使用可能となり、好適である。
前記金属層における金属としては、タングステン（Ｗ）、珪素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）、及びジルコニウム（Ｚｒ）からなる群から選ばれる一種又は二種以上の金属が好適に用いられる。【００４０】
前記炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層における金属は、前記金属層と同一の金属を用いる。炭化金属傾斜層における炭素の組成比は金属層側からＤＬＣ被覆層方向に対して炭素の比率が徐々に増大するように設定する。つまり、炭素の組成比は０％〜徐々に（階段状もしくは無段階状に）比率を増し、最後はほぼ１００％となるように成膜を行う。【００４１】
この場合、炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層中の炭素の組成比の調整方法は公知の方法を用いればよいが、例えば、スパッタリング法（固体金属ターゲットを用い、アルゴンガス雰囲気で炭化水素ガス、例えば、メタンガス、エタンガス、プロパンガス、ブタンガス、アセチレンガス等の注入量を階段状又は無段階状に徐々に増大する）によって、炭化金属層中の炭素の割合が樹脂層の側からＤＬＣ被覆層方向に対して階段状又は無段階状に徐々に増大するように炭素及び金属の両者の組成割合を変化させた炭化金属層、即ち炭化金属傾斜層を形成することができる。【００４２】
このように炭化金属層の炭素の割合を調整することによって樹脂層及びＤＬＣ被覆層の双方に対する金属層及び炭化金属層の密着度を向上させることができる。また、炭化水素ガスの注入量を一定とすれば、炭素及び金属の組成割合を一定とした炭化金属層とすることができ、炭化金属傾斜層と同様の作用を行わせることができる。【００４３】
また、ＣＶＤ法によってＤＬＣ被覆層を形成する場合には、密着層がアルミニウム（Ａｌ）、リン（Ｐ）、チタン（Ｔｉ）及び珪素（Ｓｉ）からなる群から選ばれる一種又は二種以上から形成されるのが好ましい。密着層の厚さとしては０．１〜１μｍが好適である。【００４４】
密着層の形成方法は特に限定されないが、ＤＬＣ被覆層の形成方法と同種の方法を用いることにより、同一の装置が使用可能となり、好適である。ＣＶＤ法により密着層を形成する場合、トリメチルアルミニウム、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラエトキシド、テトラメチルシラン、亜リン酸トリメチル、ヘキサメチルジシロキサンからなる群から選ばれる一種又は二種以上のガス種を用いるのが好適である。【００４５】
ペルヒドロポリシラザン溶液を原料として形成した二酸化珪素被覆層の形成方法としては、まず樹脂層の表面にペルヒドロポリシラザン塗布層を形成する。ペルヒドロポリシラザン塗布層の形成方法としては、ペルヒドロポリシラザンを前述したような公知の溶剤に溶解してペルヒドロポリシラザン溶液を作製し、このペルヒドロポリシラザン溶液をスプレーコート、インクジェット塗布、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布等の公知の塗布方法で塗布すればよい。【００４６】
該ペルヒドロポリシラザン溶液の塗布膜は、形成しようとする前記二酸化珪素被覆層の厚さに応じて所定の膜厚の塗布膜（加熱処理による目減りを考慮して形成される二酸化珪素被覆層よりも厚めの膜厚とする）を形成するのが好ましい。二酸化珪素被覆層の厚さは、０．１〜１０μ、好ましくは０．１〜５μｍ、さらに好ましくは０．１〜３μｍ、より好ましくは０．１〜１μｍであることが好適である。【００４７】
上記した各種溶剤に溶解されて作製されるペルヒドロポリシラザン溶液は、そのままでも過熱水蒸気による加熱処理によって二酸化珪素へ転化するが、反応速度の増加、反応時間の短縮、反応温度の低下、形成される二酸化珪素被覆層の密着性の向上等を図る目的で前述したような触媒を用いるのが好ましい。【００４８】
前記ペルヒドロポリシラザン溶液の塗布層を二酸化珪素被覆層とする二酸化珪素被覆層形成工程としては、前記ペルヒドロポリシラザン塗布層を過熱水蒸気によって所定時間加熱して所定の硬度の二酸化珪素被覆層とすることが好ましい。前記過熱水蒸気の温度は１００℃以上、好ましくは１００℃を超え３００℃以下のものが用いられるが、中空ロール及び樹脂層の材質に応じて適宜最適な温度を設定することはいうまでもない。処理時間は、１分〜１時間程度、好ましくは５分〜４０分程度、さらに好ましくは１０分〜３０分程度である。処理時間を長くすればそれだけ二酸化珪素被覆層の硬度は上がるが、経済性を考慮すると上記した処理時間が好適である。【００４９】
前記過熱水蒸気による加熱処理は１段処理でもよいが、第１次及び第２次加熱処理を含む複数段の加熱処理とするのが好適であり、第１次加熱処理の条件を１００℃〜１７０℃、好ましくは１０５℃〜１７０℃、1分〜３０分、及び第２次加熱処理の条件を１４０℃〜２００℃、1分〜３０分とし、第２次加熱処理の温度を第１次加熱処理の温度よりも高く設定することが好適であり、第２次加熱処理の温度が第１次加熱処理の温度より５℃以上高いことが好ましく、１０℃以上高いことがより好ましい。【００５０】
前記加熱処理によって形成された二酸化珪素被覆層の表面を冷水又は温水で洗浄する工程をさらに含むのが好ましい。形成された二酸化珪素被覆層の表面を冷水又は温水で洗浄することによって、二酸化珪素被覆層の品質を向上させることができる。冷水は常温水を用いればよく、温水は４０℃〜１００℃程度の加熱水を用いればよい。洗浄時間は３０秒〜１０分程度で十分である。
【実施例】
【００５１】
以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。
（実施例１）
まず、円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍの版母材（アルミ中空ロール）を準備した。この版母材に対して下記する手順で樹脂層の形成及びグラビアセルの形成を行った。まず、上記版母材に１０μｍの耐熱性フェノール樹脂の樹脂層を形成した。この樹脂層の表面を４Ｈ研磨機（株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機）を用いて研磨して当該樹脂層の表面を均一な研磨面とした。ついで、レーザー発振器（ＹＡＧレーザー）を用いて樹脂層の表面にグラビアセルを形成した。【００５２】
次に、ペルヒドロポリシラザンの２０％ジブチルエーテル溶液（製品名：アクアミカ（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）の登録商標）ＮＬ１２０Ａ、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製）を、上記グラビアセルを形成した樹脂層を有するシリンダーに対してＨＶＬＰスプレー塗布を行った。当該シリンダーに均一に塗布された塗布膜厚は０．８μｍであった。このペルヒドロポリシラザンが塗布されたシリンダーを過熱水蒸気で２段加熱処理を行った（１次加熱：１４０℃で１０分間処理、２次加熱：１７０℃で１０分間処理）。このようにして、本発明のグラビア製版ロールを完成した。【００５３】
続いて、作製したグラビア製版ロールに対して印刷インキとしてシアンインキ、（ザーンカップ粘度１８秒）（サカタインクス社製水性インクスーパーラミピュア藍８００ＰＲ−５）を適用しＯＰＰ（Oriented Polypropylene Film：２軸延伸ポリプロピレンフィルム）を用いて印刷テスト（印刷速度：１２０ｍ／分）を行った。得られた印刷物は版カブリがなく、５０，０００ｍの長さまで印刷できた。パターンの精度は変化がなかった。また、エッチングされたシリンダーに対する二酸化珪素被覆層の密着性は問題がなかった。この本発明のグラビアシリンダーのハイライト部からシャドウ部のグラデーションは良好であり、インキ転移性は問題ないと判断される。【００５４】
（実施例２）
表面強化被覆層として二酸化珪素被覆層の代わりに下記の手順によりＰＶＤ法によりＤＬＣ被覆層を形成した以外は実施例１と同様にして本発明のグラビア製版ロールを作製した。まず、前記したグラビアセルを形成した樹脂層の上面にスパッタリング法によってタングステン層を形成した。スパッタリング条件は次の通りである。
タングステン試料：固体タングステンターゲット、雰囲気：アルゴンガス雰囲気、成膜温度：２００〜３００℃、成膜時間：６０分、成膜厚さ：０．１μｍ。【００５５】
次に、タングステン層の上面にスパッタリング法によって炭化タングステン層を形成した。スパッタリング条件は次の通りである。
タングステン試料：固体タングステンターゲット、雰囲気：アルゴンガス雰囲気で炭化水素ガスを徐々に増加、成膜温度：２００〜３００℃、成膜時間：６０分、成膜厚さ：０．１μｍ。【００５６】
さらに、炭化タングステン層の上面にスパッタリング法によってＤＬＣ被覆層を被覆形成した。スパッタリング条件は次の通りである。
ＤＬＣ試料：固体カーボンターゲット、雰囲気：アルゴンガス雰囲気、成膜温度：２００〜３００℃、成膜時間：１５０分、成膜厚さ：１μｍ。【００５７】
このようにして、グラビア製版ロールを完成した。このグラビア製版ロールを用いて実施例１と同様に印刷テストを行ったところ実施例１と同様の良好な印刷結果を得ることができた。【００５８】
（実施例３）
表面強化被覆層として二酸化珪素被覆層の代わりに下記の手順によりＣＶＤ法によりＤＬＣ被覆層を形成した以外は実施例１と同様にして本発明のグラビア製版ロールを作製した。まず、前記したグラビアセルを形成した樹脂層の上面にガス種としてトリメチルアルミニウムを用いプラズマＣＶＤ法によって厚さ０．１μｍのアルミニウム層を形成した。次に、アルミニウム層の上面にプラズマＣＶＤ法によって厚さ１μｍのＤＬＣ被覆層を被覆形成した。このようにしてグラビア製版ロールを完成した。このグラビア製版ロールを用いて実施例１と同様に印刷テストを行ったところ実施例１と同様の良好な印刷結果を得ることができた。【００５９】
なお、実施例１の二酸化珪素被覆層の代わりにクロムメッキ被覆層を常法により形成した以外は実施例１と同様にして本発明のグラビア製版ロールを作製し、同様の印刷テストを行ったところ実施例１と同様の良好な印刷結果を得ることができることを確認した。
【図１】
2007135900.tif 000003
【図２】
2007135900.tif 000004
【国際調査報告】
2007135900.tif 000005
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