(57)【要約】本発明は、Geで形成されたコアと、無機物で形成されたシェルとを有し、前記コアの平均粒径が1〜50nmの範囲であることを特徴とするコア／シェル型ナノ粒子であって、生体毒性や環境への負荷が少なく、化学的安定性に優れ、相対発光強度が高く、また光照射を続けた際の発光強度の低下が小さい半導体ナノ粒子が提供できる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
Geで形成されたコアと、無機物で形成されたシェルとを有し、前記コアの平均粒径が1〜50nmの範囲であることを特徴とするコア／シェル型ナノ粒子。
【請求項２】
前記平均粒径が、１〜２０ｎｍであることを特徴とする請求の範囲第１項に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
【請求項３】
前記無機物が、Ｇｅの単体を除く無機化合物であることを特徴とする請求の範囲第１または２項に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
【請求項４】
前記無機化合物がＧｅＯ２であることを特徴とする請求の範囲第３項に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
【請求項５】
前記シェルの平均厚さが、１〜５０ｎｍであることを特徴とする請求の範囲第１〜４項のいずれか１項に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
【請求項６】
前記平均厚さが、３〜６０ｎｍであることを特徴とする請求の範囲第５項に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
【請求項７】
前記シェルの表面が親水化剤により親水化処理されていることを特徴とする請求の範囲第１〜６項のいずれか１項に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
【請求項８】
前記親水化剤が、メルカプトプロピオン酸、メルカプトウンデカン酸およびアミノプロパンチオールから選ばれる少なくとも１つを含有することを特徴とする請求の範囲第７項に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
【請求項９】
分子標識物質を含む生体物質標識剤であって、該分子標識物質が、請求の範囲第７または８項に記載のコア／シェル型ナノ粒子と、有機分子を介して結合されていることを特徴とする生体物質標識剤。
【請求項１０】
前記分子標識物質が、ヌクレオチド鎖であることを特徴とする請求の範囲第９項に記載の生体物質標識剤。
【請求項１１】
前記分子標識物質が、抗体であることを特徴とする請求の範囲第９項に記載の生体物質標識剤。
【請求項１２】
前記有機分子が、アルブミン、ミオグロビン、カゼイン、およびビオチンと結合したアビジンの少なくとも１つであることを特徴とする請求の範囲第９〜１１項のいずれか１項に記載の生体物質標識剤。
【請求項１３】
請求の範囲第１〜８項のいずれか１項に記載のコア／シェル型ナノ粒子を製造する粒子の製造方法であって、コアを形成する工程および該コア上にシェルを形成する工程を有し、該コアを形成する工程が、有機溶媒中にゲルマニウム塩と界面活性剤とを分散して、ゲルマニウム塩を含む界面活性剤の逆ミセルを形成する工程と、ゲルマニウム塩を還元剤により還元してゲルマニウム粒子を形成する工程とを有することを特徴とする粒子の製造方法。
【請求項１４】
前記ゲルマニウム塩が、ＧｅＣｌ４であることを特徴とする請求の範囲第１３項に記載の粒子の製造方法。
【請求項１５】
前記還元剤が、水素化アルミニウムリチウムであることを特徴とする請求の範囲第１３または１４項に記載の粒子の製造方法。
【請求項１６】
前記コア上にシェルを形成する工程が、前記ゲルマニウム粒子の表面酸化を行い、ＧｅＯ２のシェルを形成する工程であることを特徴とする請求の範囲第１３〜１５項のいずれか１項に記載の粒子の製造方法。
【請求項１７】
前記コア上にシェルを形成する工程の後に、前記コア／シェル型ナノ粒子を親水化剤により親水化処理する工程を有することを特徴とする請求の範囲第１３〜１６のいずれか１項に記載の粒子の製造方法。
【請求項１８】
前記親水化剤が、メルカプトプロピオン酸、メルカプトウンデカン酸およびアミノプロパンチオールから選ばれる少なくとも１つを含有することを特徴とする請求の範囲第１７項に記載の粒子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コア／シェル型ナノ粒子、これを用いた生体物質標識剤およびこの粒子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ナノ粒子は、その粒径がナノメートルサイズであるため、バンドギャップエネルギーの増大など量子サイズ効果を発現し、例えば、良好な光吸収特性および発光特性などの光学特性を示すことが知られている。そのため近年では、半導体ナノ粒子に関する研究報告が活発になされるだけでなく、CdSe/ZnS型半導体ナノ粒子、Si/SiO2型半導体ナノ粒子などの半導体ナノ粒子は、ディスプレー用、LED用等様々な用途での検討が進められている。【０００３】
一方、生体物質を標識する手段として、分子標識物質をマーカー物質に結合した生体物質標識剤を用いる方法が検討されている。しかし、上記方法で従来使用されてきた有機蛍光色素などのマーカー物質は、紫外線照射時の劣化が激しく寿命が短いことが欠点であり、また発光効率が低く、感度も十分ではなかった。【０００４】
そのため、近年、上記マーカー物質として半導体ナノ粒子を用いる方法が注目されている。例えば、極性官能基を有する高分子を半導体ナノ粒子の表面に物理的および／または化学的に接合した生体物質標識剤が検討されている（例えば、特許文献1参照。）。また、有機分子をSi/SiO2型半導体ナノ粒子の表面に結合した生体物質標識剤が検討されている（例えば、特許文献2参照。）。
【特許文献１】特開2003-329686号公報
【特許文献２】特開2005-172429号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
これら従来の半導体ナノ粒子を用いた生体物質標識剤には課題が存在した。【０００６】
例えば、特許文献1で実質的にその効果も含めて開示されている半導体ナノ粒子は、（CdSe/ZnS型）半導体ナノ粒子であるが、生体物質標識剤として使用する場合には、その表面は有機分子で覆われているとはいうものの、この半導体ナノ粒子と使用される材料、特にCdSeは、本質的に、生体毒性、環境への負荷が指摘されており、生体物質標識剤としての使用には課題があった。【０００７】
また特許文献２で使用されるSi/SiO2型半導体ナノ粒子は、Siをそのコア材として使用しているが、条件によっては、Siは他の物質、（例えば酸素）との反応性が高すぎる場合があり、例えば水分散液中で紫外線を照射し続けた場合の発光特性の劣化等の課題があった。【０００８】
本発明はこれらの課題を解決するために、生体毒性や環境への負荷が少なく、また安定性の高い半導体ナノ粒子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題を検討し、Ge（ゲルマニウム）でコアを形成し、Geを除く無機物でシェルを形成した特定の半導体ナノ粒子が、生体毒性、環境への負荷がなく、化学的安定性に優れ、しかも発光強度などの光学特性に優れることを見出し、本発明を完成させた。【００１０】
すなわち本発明は、
Geで形成されコアと、Geを除く無機物で形成されシェルとを有し、前記コアの平均粒径が1〜50nmの範囲であるコア/シェル型ナノ粒子（以下、単にＧｅナノ粒子ともいう）である。【００１１】
前記シェルを形成するGeを除く無機物としては無機化合物が好ましい。また前記無機化合物としてはGeO2が好ましい。また前記シェルの厚さとしては、1〜50nmの範囲であることが好ましい。また前記シェルの表面が親水化処理されていてもよい。【００１２】
前記Geナノ粒子は、分子標識物質と有機分子を介して結合させることにより生体物質標識剤として使用できる。【００１３】
また前記Geナノ粒子は、好ましくは逆ミセル法により製造することができる。【００１４】
本発明の構成は以下の通りである。
１．  Geで形成されたコアと、無機物で形成されたシェルとを有し、前記コアの平均粒径が1〜50nmの範囲であることを特徴とするコア／シェル型ナノ粒子。
２．前記平均粒径が、１〜２０ｎｍであることを特徴とする１に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
３．前記無機物が、Ｇｅの単体を除く無機化合物であることを特徴とする１または２に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
４．前記無機化合物がＧｅＯ２であることを特徴とする３に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
５．前記シェルの平均厚さが、１〜５０ｎｍであることを特徴とする１〜４のいずれか１項に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
６．前記平均厚さが、３〜６０ｎｍであることを特徴とする５に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
７．前記シェルの表面が親水化剤により親水化処理されていることを特徴とする１〜６のいずれか１項に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
８．前記親水化剤が、メルカプトプロピオン酸、メルカプトウンデカン酸およびアミノプロパンチオールから選ばれる少なくとも１つを含有することを特徴とする７に記載のコア／シェル型ナノ粒子。
９．分子標識物質を含む生体物質標識剤であって、該分子標識物質が、７または８に記載のコア／シェル型ナノ粒子と、有機分子を介して結合されていることを特徴とする生体物質標識剤。
１０．前記分子標識物質が、ヌクレオチド鎖であることを特徴とする９に記載の生体物質標識剤。
１１．前記分子標識物質が、抗体であることを特徴とする９に記載の生体物質標識剤。
１２．前記有機分子が、アルブミン、ミオグロビン、カゼイン、およびビオチンと結合したアビジンの少なくとも１つであることを特徴とする９〜１１のいずれか１項に記載の生体物質標識剤。
１３．〜８のいずれか１項に記載のコア／シェル型ナノ粒子を製造する粒子の製造方法であって、コアを形成する工程および該コア上にシェルを形成する工程を有し、該コアを形成する工程が、有機溶媒中にゲルマニウム塩と界面活性剤とを分散して、ゲルマニウム塩を含む界面活性剤の逆ミセルを形成する工程と、ゲルマニウム塩を還元剤により還元してゲルマニウム粒子を形成する工程とを有することを特徴とする粒子の製造方法。
１４．前記ゲルマニウム塩が、ＧｅＣｌ４であることを特徴とする１３に記載の粒子の製造方法。
１５．前記還元剤が、水素化アルミニウムリチウムであることを特徴とする１３または１４に記載の粒子の製造方法。
１６．前記コア上にシェルを形成する工程が、前記ゲルマニウム粒子の表面酸化を行い、ＧｅＯ２のシェルを形成する工程であることを特徴とする１３〜１５のいずれか１項に記載の粒子の製造方法。
１７．前記コア上にシェルを形成する工程の後に、前記コア／シェル型ナノ粒子を親水化剤により親水化処理する工程を有することを特徴とする１３〜１６のいずれか１項に記載の粒子の製造方法。
１８．前記親水化剤が、メルカプトプロピオン酸、メルカプトウンデカン酸およびアミノプロパンチオールから選ばれる少なくとも１つを含有することを特徴とする１７に記載の粒子の製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のGeナノ粒子は、生体毒性や環境への負荷が少なく、化学的安定性に優れ、相対発光強度が高く、また光照射を続けた際の発光強度の低下が小さい。【００１６】
またGeナノ粒子を用いた本発明の生体物質標識剤は長時間、高輝度で生体物質を標識しつづけることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
次に本発明について具体的に説明する。【００１８】
なお本明細書ではA/B型ナノ粒子という表現を用いることがあるが、これはAでコアが形成され、Bでシェルが形成されたナノ粒子を意味する。例えばGe/GeO2型ナノ粒子とはGeでコアが形成され、GeO2でシェルが形成されたナノ粒子を意味する。【００１９】
本発明に係るナノ粒子とは、粒径が１００ｎｍ以下の粒子をいう。【００２０】
〔コア／シェル型のナノ粒子〕
〈コア〉
本発明のコア/シェル型ナノ粒子のコアはGeで形成されている。このコアの形態としては好ましくはGeの結晶であり、単結晶でも多結晶でも良いが、発光スペクトルの半値幅が狭くなるため単結晶の方がより好ましい。【００２１】
前記コアを形成するGeの純度は通常Geが90％以上であり、好ましくはGeが95％以上であり、さらに好ましくはGeが99％以上である。【００２２】
前記Geで形成されるコアの平均粒径は1〜50ｎｍの範囲であり、好ましくは1〜20ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは2〜12ｎｍの範囲である。コアの粒径が上記範囲の下限値以上であれば、粒子径の調整が容易となり、粒子径のばらつきが小さくなる。またコアの粒径が上記範囲の上限値以下であれば高い発光効率等の良好な光学特性を有する。【００２３】
本発明において、粒径は、粒子の投影面積と同じ面積を有する円の直径を表し、平均粒径は１００個抽出してその粒径を測定し、その測定値の数平均値をいう。【００２４】
〈シェル〉
本発明のコア/シェル型ナノ粒子のシェルは、Geを除く無機物で形成される。前記Geを除く無機物としては通常は無機化合物が用いられる。【００２５】
前記無機化合物としては、コアであるGeよりもバンドギャップエネルギーの大きいものが好ましくは用いられる。バンドキ゛ャッフ゜の大きいものとしては例えば、GeO2、SiO2、GeO2とSiO2の混晶、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、InP、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、およびCdTe等があげられる。中でも好ましいものはGeO2、SiO2、GeO2とSiO2の混晶であり、特に好ましいものはGeO2である。GeO2はGeと比較してバンドギャップが大きく、また格子間距離がGeに近いためコアとシェルの接合面での格子ひずみが少なくなり、結晶欠陥を形成しにくいため好ましい。【００２６】
前記シェルの平均厚みは特に制限はないが、好ましくは1〜50ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは2〜10ｎｍの範囲である。シェルの平均厚みが上記範囲の下限値よりも大きいとシェルとしての厚みが充分であり、コアのGeと他の物質との化学反応や、光照射を続けた際の発光強度の低下等の原因とならない。またシェルの厚みが上記範囲の上限値よりも小さいとナノ粒子の光学特性を充分に発揮できるため好ましい。【００２７】
〈Geナノ粒子の製法〉
本発明のコア/シェル構造を有するGeナノ粒子の製法としては例えば、逆ミセル法、CVD法、ホットソープ法、およびレーザーアブレーション法が挙げられる。【００２８】
上記、製法のうち、逆ミセル法によりGe/GeO2型ナノ粒子を製造する場合には、例えば有機溶媒中で界面活性剤の存在下ゲルマニウム塩、例えばGeCl4の逆ミセルを形成し、還元剤でGe微粒子を形成し、その後Ge微粒子の表面酸化を行なうことにより、Ge/GeO2型ナノ粒子を得ることができる。【００２９】
前記界面活性剤としては、油溶性界面活性剤が好ましく用いられる。具体的には、スルホン酸塩型（例えば、ビス（2−エチルヘキシル）スルホ琥珀酸ナトリウム）、4級アンモニウム塩型（例えば、テトラオクチルアンモニウムブロマイド（tetraoctylammonium bromide）（以下「TOAB」と記す。）、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド等）、エーテル型（例えば、ペンタエチレングリコールデシルエーテル）等が挙げられる。【００３０】
前記有機溶媒としては、界面活性剤を溶解する非水溶性有機溶媒が好ましい。中でもアルカン及びエーテルが好ましい。前記アルカンは、炭素数７〜12の範囲の整数のものが好ましい。具体的にはヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、イソオクタン、ウンデカン、ドデカンが好ましい。前記エーテルは炭素数4〜8の範囲の整数のものが好ましい。具体的にはジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテルが好ましい。前記有機溶媒中の界面活性剤量は、20〜200g/リットルの範囲であることが好ましい。【００３１】
上記還元剤としては例えば、水素化アルミニウムリチウム、一酸化炭素、Mg、Caなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水素化物、およびナトリウムナフトハライド（Na(naphthalide)）などが用いられる。中でも水素化アルミニウムリチウム、が好ましく用いられる。【００３２】
上述した逆ミセル法によるGe/GeO2型ナノ粒子の製法でコア粒径が1〜50ｎｍの範囲のGe/GeO2型ナノ粒子を得るためには、例えば重量比で、トルエン：TOAB：GeCl4＝100：2：0.2とし、温度を20〜105℃の範囲とする必要がある。【００３３】
またコア表面にGeO2のシェルを形成するには、酸化性ガス雰囲気中例えば空気、酸素富化空気または酸素雰囲気中で酸化すればよい。また加熱および／または加圧した空気、酸素富化空気または酸素雰囲気中で酸化することによりシェルであるGeO2をさらに厚くすることができる。【００３４】
シェルの厚さを1〜50ｎｍの範囲にするためには、例えば、1〜60分の間、空気雰囲気下で、且つ200〜400℃の温度範囲で酸化すればよい。このようにして得られたGe/GeO2型ナノ粒子は化学的安定性に優れ、例えばSi／SiO2型ナノ粒子と比較すると水分散液中でGe/GeO2型ナノ粒子に紫外線を照射した場合でも発光強度の劣化が起こりづらい。【００３５】
〈Geナノ粒子の構造、物性〉
本発明のコア/シェル構造を有するGeナノ粒子全体の粒径は好ましくは3〜60ｎｍの範囲好ましくは3〜20ｎｍの範囲であることがより好ましい。上記範囲内であるとラベリングの対象であるDNAまたは抗体とほぼ同じサイズとなるのため好ましい。【００３６】
本発明のコア/シェル構造を有するGeナノ粒子は、生体毒性や環境への負荷が無く、劣化反応等の化学反応が起こりにくく、相対発光強度が高く、また光照射を続けた際の発光強度の低下が小さい。【００３７】
〔Geナノ粒子の親水化処理〕
上述したGeナノ粒子のシェルの表面は疎水性であるため、例えば生体物質標識剤として使用する場合は、このままでは水分散性が悪く、粒子が凝集してしまう等の問題があるため、本発明のGeナノ粒子のシェルの表面を親水化処理することが好ましい。【００３８】
親水化処理の方法としては例えば、粒子表面に表面修飾剤を化学的および／または物理的に結合させる方法がある。表面修飾剤としては、親水基として、カルボキシル基・アミノ基を持つものが好ましく用いられ、具体的にはメルカプトプロピオン酸、メルカプトウンデカン酸、アミノプロパンチオールなどがあげられる。具体的にはGe/GeO2型ナノ粒子10-5gをメルカプトウンデカン酸0.2gが溶解した純水10ml中に分散させて、40℃、10分間攪拌し、シェルの表面を処理することでGeナノ粒子のシェルの表面をカルボキシル基で修飾することができる。【００３９】
〔生体物質標識剤〕本発明の生体物質標識剤は、上述した親水化処理されたコア/シェル型ナノ粒子と、分子標識物質とを有機分子を介して結合させて得られる。【００４０】
〈分子標識物質〉
本発明の生体物質標識剤は分子標識物質が目的とする生体物質と特異的に結合および／または反応することにより、生体物質の標識が可能となる。【００４１】
該分子標識物質としては例えば、ヌクレオチド鎖、抗体、抗原およびシクロデキストリン等が挙げられる。【００４２】
〈有機分子〉
本発明の生体物質標識剤は、親水化処理されたコア/シェル構造を有するGeナノ粒子と、分子標識物質とが有機分子により結合されている。該有機分子としてはGeナノ粒子と分子標識物質とを結合できる有機分子であれば特に制限はないが、例えば、タンパク質中でも、アルブミン、ミオグロビンおよびカゼイン等、またタンパク質の一種であるアビジンをビオチンと共に用いることも好適に用いられる。上記結合の態様としては特に限定されず、共有結合、イオン結合、水素結合、配位結合、物理吸着および化学吸着等が挙げられる。結合の安定性から共有結合などの結合力の強い結合が好ましい。【００４３】
具体的には、Ge/GeO2型ナノ粒子をメルカプトウンデカン酸で親水化処理した場合は、有機分子としてアビジンおよびビオチンを用いることができる。この場合親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子のカルボキシル基はアビジンと好適に結合し、アビジンがさらにビオチンと選択的に結合し、ビオチンがさらに分子標識物質と結合することにより生体物質標識剤となる。
【実施例】
【００４４】
次の本発明について実施例を示してさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
（実施例１）
トルエン100mlに界面活性剤TOAB3.0ｇを溶解した溶液中に、溶液温度60℃でGeCl4を100μl滴下した。溶液を温度60℃で2時間攪拌し逆ミセルを形成した後、温度60℃で還元剤として濃度1Mの水素化アルミニウムリチウムのトルエン溶液を1ml滴下し0.5時間攪拌してGe微粒子を形成した。【００４５】
得られた反応混合物からロータリーエバポレーションで全ての溶剤を取り除き、Ge微粒子を含む固形分を得た。その後、Ge微粒子を含む固形分をヘキサン25ml中に再分散し、この液と純水100mlとを混合して洗浄した。このような洗浄をすることで生成したGeの微粒子はヘキサン相に存在したままで、未反応物や副生成物等は水相に移行する。その後静置して、水相をヘキサン相から除去することで精製したGe微粒子のヘキサン分散液を得た。さらに得られたGe微粒子のヘキサン分散液をロータリーエバポレーションで蒸発させてGe微粒子の乾燥粉体を得た。この乾燥粉体を空気中で取り出し、表面を400℃、0.1時間、空気中で酸化させてGe/GeO2型ナノ粒子30μgを得た。その後メルカプトウンデカン酸0.2ｇを溶解した10ｍｌ純水中にGe/GeO2型ナノ粒子10-5gを再分散させ、40℃、10分間攪拌することで表面が親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子１を形成した。【００４６】
得られた表面が親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子１を高分解能ＴＥＭで観察したところ、コアがGeで、シェルがGeO2で形成されていることが確認された。またＴＥＭ写真より表面が親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子１の全体粒径（カルボキシル基を除く）、コア粒径、シェル厚を測定した。原料の質量比とコア粒径の関係を表１に示し、各測定結果を表１に示す。
（実施例２）
実施例１のTOABの量を2.0ｇとしたこと以外は実施例１と同様にして、表面が親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子２を形成した。【００４７】
得られた表面が親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子２を高分解能ＴＥＭで観察したところ、コアがGeで、シェルがGeO2で形成されていることが確認された。またＴＥＭ写真より表面が親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子２の全体粒径、コア粒径、シェル厚を測定した。原料の質量比とコア粒径の関係を表１に示し、各測定結果を表１に示す。
（実施例３）
実施例１のTOABの量を1.0ｇとしたこと以外は実施例１と同様にして、表面が親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子３を形成した。【００４８】
得られた表面が親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子３を高分解能ＴＥＭで観察したところ、コアがGeで、シェルがGeO2で形成されていることが確認された。またＴＥＭ写真より表面が親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子３の全体粒径、コア粒径、シェル厚を測定した。原料の質量比とコア粒径の関係を表１に示し、各測定結果を表１に示す。
〔比較例1〕
実施例１の「GeCl4を100μl」を「SiCl4を80μl」としたこと以外は実施例１と同様にして、表面が親水化処理されたSi/SiO2型ナノ粒子を形成した。【００４９】
得られた表面が親水化処理されたSi/SiO2型ナノ粒子４を高分解能ＴＥＭで観察したところ、コアがSiで、シェルがSiO2で形成されていることが確認された。またＴＥＭ写真より表面が親水化処理されたSi/SiO2型ナノ粒子の平均粒径、コアの平均粒径、シェルの平均厚さを測定した。原料の質量比とコア粒径の関係を表１に示し、各測定結果を表１に示す。【００５０】
【表１】
2007086410.tif 000002
【００５１】
尚、質量比は、トルエンの密度：０．８７ｇ／ｃｍ３、ＧｅＣｌ４の密度１．９ｇ／ｃｍ３、ＳｉＣｌ４の密度１．４８として、体積から換算した値である。
＊１：トルエン：ＴＯＡＢ：ＳｉＣｌ４（質量比）
得られた表面が親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子１〜３および表面が親水化処理されたSi/SiO2型ナノ粒子の発光特性を以下のような方法で測定した。【００５２】
日立分光蛍光光度計F-7000を用いて、上記4種類のナノ粒子それぞれについて、励起波長365nmでの発光スペクトルの測定を行ない、ピーク波長強度の比較を行なった。【００５３】
また4種類のナノ粒子それぞれについて、発光スペクトルの時間変化を測定し、各ナノ粒子の初期の発光強度を100とした際の1時間後の相対発光強度を求めた。結果を表２に示す。【００５４】
【表２】
2007086410.tif 000003
【００５５】
初期の発光強度は、Ｇｅ／ＧｅＯ２型ナノ粒子１の初期発光強度を１００としたときの相対値であり、１時間後の発光強度は、各粒子の初期の発光強度を１００としたときの相対値である。
（実施例４）
実施例１で作製した表面が親水化処理されたGe/GeO2型ナノ粒子１の水溶液にアビジン25ｍｇを添加し40℃で10分間攪拌を行い、アビジンコンジュゲートGe/GeO2型ナノ粒子を作製した。【００５６】
得られたアビジンコンジュゲートGe/GeO2型ナノ粒子溶液に  ビオチン化された塩基配列が既知であるオリゴヌクレオチドを混合攪拌し、ナノ粒子でラベリングされたオリゴヌクレオチドを作製した。【００５７】
さまざまな塩基配列を持つオリゴヌクレオチドを固定化したDNAチップ上に上記のラベリングしたオリゴヌクレオチドを滴下・洗浄したところ、ラベリングされたオリゴヌクレオチドと相補的な塩基配列をもつオリゴヌクレオチドのスポットのみが紫外線照射により発光した。このことより、ナノ粒子でのオリゴヌクレオチドのラベリングを確認することができた。
【国際調査報告】
2007086410.tif 000004
2007086410.tif 000005