(57)【要約】  軸に関してほぼ対称または直交する２つの方向において軸に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状の光強度分布を射出瞳に形成して、所望の照明条件で被照射面を照明することのできる照明光学装置。複数の第１光学要素を有する第１フライアイ光学系（１８ａ）と、複数の第１光学要素に一対一対応するように並列に配置された複数の第２光学要素を有する第２フライアイ光学系（１８ｂ）とを備え、複数の第２光学要素の各々からの光が被照射面（Ｍ）を重畳的に照明するように構成されている。複数の第１光学要素と複数の第２光学要素との対応関係は、照明光学装置の射出瞳における光強度分布のプロファイルが軸に関してほぼ対称または直交する２つの方向において軸に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状になるように設定されている。
2007138805.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に並列に配置された複数の第１光学要素を有する第１フライアイ光学系と、
前記第１フライアイ光学系と前記被照射面との間の光路中に前記複数の第１光学要素に一対一対応するように並列に配置された複数の第２光学要素を有する第２フライアイ光学系とを備え、
前記複数の第２光学要素の各々からの光が前記被照射面を重畳的に照明するように構成され、
前記複数の第１光学要素と前記複数の第２光学要素との対応関係は、前記照明光学装置の射出瞳における光強度分布のプロファイルが、軸に関してほぼ回転対称になるように、または直交する２つの方向において軸に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状になるように設定されている照明光学装置。
【請求項２】
前記第１フライアイ光学系は、Ｎ個の第１光学要素からなる要素群をＮ個含み、
前記第２フライアイ光学系は、Ｎ個の第２光学要素からなる要素群をＮ個含み、
前記複数の第１光学要素と前記複数の第２光学要素との対応関係は、前記第１フライアイ光学系の各要素群のｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の第１光学要素を経た光束が、前記第２フライアイ光学系のｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の要素群の第２光学要素に入射するように設定されている請求項１に記載の照明光学装置。
【請求項３】
前記第１フライアイ光学系は、ｎ個の第１光学要素からなる要素群をＮ個含み、
前記第２フライアイ光学系は、ｎ個の第２光学要素からなる要素群をＮ個含み、
前記複数の第１光学要素と前記複数の第２光学要素との対応関係は、前記第１フライアイ光学系のｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の要素群の各第１光学要素を経た光束が、前記第２フライアイ光学系のｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の要素群の各第２光学要素に入射するように設定され、
前記第１フライアイ光学系中の各要素群および前記第２フライアイ光学系中の各要素群にそれぞれ外接する長方形の長辺の長さに対する短辺の長さの比は１／２以上である請求項１に記載の照明光学装置。
【請求項４】
前記第１フライアイ光学系は、ｎ個の第１光学要素からなる要素群をＮ個含み、
前記第２フライアイ光学系は、Ｎ個の第２光学要素からなる要素群をｎ個含み、
前記複数の第１光学要素と前記複数の第２光学要素との対応関係は、前記第１フライアイ光学系の少なくとも１つの要素群について、当該要素群のｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の第１光学要素を経た光束が、前記第２フライアイ光学系のｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の要素群の第２光学要素に入射するように設定されている請求項１に記載の照明光学装置。
【請求項５】
前記第１フライアイ光学系のすべての要素群について、各要素群のｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の第１光学要素を経た光束が、前記第２フライアイ光学系のｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の要素群の第２光学要素に入射するように設定されている請求項４に記載の照明光学装置。
【請求項６】
前記第１フライアイ光学系および前記第２フライアイ光学系のうちの少なくとも一方の光学系の各要素群において、各要素群中の複数の光学要素は互いに異なる焦点距離を有する請求項２乃至５のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項７】
前記複数の第１光学要素の各々および前記複数の第２光学要素の各々はそれぞれ凹面反射鏡である請求項１乃至６のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項８】
前記第１光学要素の各々は円弧状の外形形状を有し、前記第２光学要素の各々は矩形状の外形形状を有する請求項１乃至７のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項９】
前記第１フライアイ光学系の１つの要素群に含まれる第１光学要素は互いに隣接して配置されている請求項１乃至８のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項１０】
前記第２フライアイ光学系の１つの要素群に含まれる第２光学要素は互いに隣接して配置されている請求項１乃至９のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項１１】
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に並列に配置されたｍ個の第１光学要素を有する第１フライアイ光学系と、
前記第１フライアイ光学系と前記被照射面との間の光路中に前記ｍ個の第１光学要素に一対一対応するように並列に配置されたｍ個の第２光学要素を有する第２フライアイ光学系とを備え、
前記複数の第２光学要素の各々からの光が前記被照射面を重畳的に照明するように構成され、
前記ｍ個の第２光学要素を、各要素群が互いにほぼ同じ数の第２光学要素を含み且つ各要素群にそれぞれ外接する長方形の長辺の長さに対する短辺の長さの比が１／２以上になるように、ｍの平方根の少数点以下を切り捨てて得られる整数ｎ個の要素群に仮想的に分割し、前記第１フライアイ光学系において互いに隣り合う任意のｎ個の第１光学要素を想定したとき、
前記第２フライアイ光学系中のｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の要素群に含まれる第２光学要素の数をＰｉとし、前記任意のｎ個の第１光学要素に対応するｎ個の第２光学要素のうち、ｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の要素群に含まれる第２光学要素の数をＲｉとするとき、
【数３】
2007138805.tif 000005
により定義される評価値Ｈが、該評価値Ｈのとり得る最大値と最小値との平均値よりも大きくなるように、前記ｍ個の第１光学要素と前記ｍ個の第２光学要素との対応関係が設定されている照明光学装置。
【請求項１２】
前記ｍ個の第１光学要素の各々および前記ｍ個の第２光学要素の各々はそれぞれ凹面反射鏡である請求項１１に記載の照明光学装置。
【請求項１３】
前記ｍ個の第１光学要素の各々は円弧状の外形形状を有し、前記ｍ個の第２光学要素の各々は矩形状の外形形状を有する請求項１１または１２に記載の照明光学装置。
【請求項１４】
前記第１フライアイ光学系中の前記ｍ個の第１光学要素は互いに隣接して配置されている請求項１１乃至１３のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項１５】
前記第２フライアイ光学系中の前記ｍ個の第２光学要素は互いに隣接して配置されている請求項１１乃至１４のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項１６】
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置された複数の第１光学要素を有する第１フライアイ光学系と、
前記第１フライアイ光学系と前記被照射面との間の光路中に前記複数の第１光学要素に一対一対応するように配置された複数の第２光学要素を有する第２フライアイ光学系とを備え、
前記複数の第２光学要素の各々からの光が前記被照射面を重畳的に照明するように構成され、
前記第１フライアイ光学系は、Ｎ個の第１光学要素からなる要素群をＮ個含み、
前記第２フライアイ光学系は、Ｎ個の第２光学要素からなる要素群をＮ個含み、
前記複数の第１光学要素と前記複数の第２光学要素との対応関係は、前記第１フライアイ光学系の各要素群のｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の第１光学要素を経た光束が、前記第２フライアイ光学系のｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の要素群の第２光学要素に入射するように設定されている照明光学装置。
【請求項１７】
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置された複数の第１光学要素を有する第１フライアイ光学系と、
前記第１フライアイ光学系と前記被照射面との間の光路中に前記複数の第１光学要素に一対一対応するように配置された複数の第２光学要素を有する第２フライアイ光学系とを備え、
前記複数の第２光学要素の各々からの光が前記被照射面を重畳的に照明するように構成され、
前記第１フライアイ光学系は、ｎ個の第１光学要素からなる要素群をＮ個含み、
前記第２フライアイ光学系は、ｎ個の第２光学要素からなる要素群をＮ個含み、
前記複数の第１光学要素と前記複数の第２光学要素との対応関係は、前記第１フライアイ光学系のｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の要素群の各第１光学要素を経た光束が、前記第２フライアイ光学系のｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の要素群の各第２光学要素に入射するように設定され、
前記第１フライアイ光学系中の各要素群および前記第２フライアイ光学系中の各要素群にそれぞれ外接する長方形の長辺の長さに対する短辺の長さの比は１／２以上である照明光学装置。
【請求項１８】
光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置された複数の第１光学要素を有する第１フライアイ光学系と、
前記第１フライアイ光学系と前記被照射面との間の光路中に前記複数の第１光学要素に一対一対応するように配置された複数の第２光学要素を有する第２フライアイ光学系とを備え、
前記複数の第２光学要素の各々からの光が前記被照射面を重畳的に照明するように構成され、
前記第１フライアイ光学系は、ｎ個の第１光学要素からなる要素群をＮ個含み、
前記第２フライアイ光学系は、Ｎ個の第２光学要素からなる要素群をｎ個含み、
前記複数の第１光学要素と前記複数の第２光学要素との対応関係は、前記第１フライアイ光学系の少なくとも１つの要素群について、当該要素群のｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の第１光学要素を経た光束が、前記第２フライアイ光学系のｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の要素群の第２光学要素に入射するように設定されている照明光学装置。
【請求項１９】
前記第１フライアイ光学系のすべての要素群について、各要素群のｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の第１光学要素を経た光束が、前記第２フライアイ光学系のｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の要素群の第２光学要素に入射するように設定されている請求項１８に記載の照明光学装置。
【請求項２０】
前記第１フライアイ光学系および前記第２フライアイ光学系のうちの少なくとも一方の光学系の各要素群において、各要素群中の複数の光学要素は互いに異なる焦点距離を有する請求項１６乃至１９のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項２１】
前記複数の第１光学要素の各々および前記複数の第２光学要素の各々はそれぞれ凹面反射鏡である請求項１６乃至２０のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項２２】
前記第１光学要素の各々は円弧状の外形形状を有し、前記第２光学要素の各々は矩形状の外形形状を有する請求項１６乃至２１のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項２３】
前記第１フライアイ光学系の１つの要素群に含まれる第１光学要素は互いに隣接して配置されている請求項１６乃至２２のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項２４】
前記第２フライアイ光学系の１つの要素群に含まれる第２光学要素は互いに隣接して配置されている請求項１６乃至２３のいずれか１項に記載の照明光学装置。
【請求項２５】
請求項１乃至２４のいずれか１項に記載の照明光学装置を備え、前記被照射面に配置されたマスクのパターンを感光性基板に露光する露光装置。
【請求項２６】
請求項２５に記載の露光装置を用いて前記マスクのパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記露光工程を経た前記感光性基板を現像する現像工程とを含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法に関する。さらに詳細には、本発明は、半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等のデバイスをリソグラフィ工程で製造するのに使用される露光装置に好適な照明光学装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子などの製造に使用される露光装置では、マスク（レチクル）上に形成された回路パターンを、投影光学系を介して感光性基板（たとえばウェハ）上に投影転写する。感光性基板にはレジストが塗布されており、投影光学系を介した投影露光によりレジストが感光し、マスクパターンに対応したレジストパターンが得られる。露光装置の解像力は、露光光の波長と投影光学系の開口数とに依存する。【０００３】
すなわち、露光装置の解像力を向上させるには、露光光の波長を短くするとともに、投影光学系の開口数を大きくすることが必要になる。一般に、投影光学系の開口数を所定値以上に大きくすることは光学設計の観点から困難であるため、露光光の短波長化が必要になる。そこで、半導体パターニングの次世代の露光方法（露光装置）として、ＥＵＶＬ（Extreme UltraViolet Lithography：極紫外リソグラフィ）の手法が注目されている。【０００４】
ＥＵＶＬ露光装置では、波長が２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ光や波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ光を用いる従来の露光方法と比較して、５〜２０ｎｍ程度の波長を有するＥＵＶ（Extreme UltraViolet：極紫外線）光を用いる。露光光としてＥＵＶ光を用いる場合、使用可能な光透過性の光学材料が存在しなくなる。このため、ＥＵＶＬ露光装置では、反射型のオプティカルインテグレータ、反射型のマスク、および反射型の投影光学系を用いることになる（たとえば特許文献１を参照）。【０００５】
【特許文献１】米国特許第６，４５２，６６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ＥＵＶＬ露光装置に限らず、一般の露光装置において、照明光学装置の射出瞳に形成される光強度分布（以下、「瞳強度分布」ともいう）は光軸あるいは中心軸に関してほぼ回転対称であることが望ましい。しかしながら、後述のように、ＥＵＶＬ露光装置に用いられる照明光学装置では、回転対称な瞳強度分布を得ることが困難である。瞳強度分布が回転対称でない場合、感光性基板に形成される像の線幅がパターンの方向により異なってしまい、ひいては製造される集積回路の性能が低下し易い。【０００７】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、軸に関してほぼ回転対称或いは直交する２つの方向において軸に関してほぼ対称で且つほぼ同じ形状の光強度分布を射出瞳に形成して、所望の照明条件で被照射面を照明することのできる照明光学装置を提供することを目的とする。また、本発明は、所望の照明条件で被照射面としてのマスクを照明する照明光学装置を用いて、良好な照明条件の下で良好な露光を行うことのできる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するために、本発明の第１形態では、光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に並列に配置された複数の第１光学要素を有する第１フライアイ光学系と、
前記第１フライアイ光学系と前記被照射面との間の光路中に前記複数の第１光学要素に一対一対応するように並列に配置された複数の第２光学要素を有する第２フライアイ光学系とを備え、
前記複数の第２光学要素の各々からの光が前記被照射面を重畳的に照明するように構成され、
前記複数の第１光学要素と前記複数の第２光学要素との対応関係は、前記照明光学装置の射出瞳における光強度分布のプロファイルが、軸に関してほぼ回転対称になるように、または直交する２つの方向において軸に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状になるように設定されていることを特徴とする照明光学装置を提供する。【０００９】
本発明の第２形態では、光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に並列に配置されたｍ個の第１光学要素を有する第１フライアイ光学系と、
前記第１フライアイ光学系と前記被照射面との間の光路中に前記ｍ個の第１光学要素に一対一対応するように並列に配置されたｍ個の第２光学要素を有する第２フライアイ光学系とを備え、
前記複数の第２光学要素の各々からの光が前記被照射面を重畳的に照明するように構成され、
前記ｍ個の第２光学要素を、各要素群が互いにほぼ同じ数の第２光学要素を含み且つ各要素群にそれぞれ外接する長方形の長辺の長さに対する短辺の長さの比が１／２以上になるように、ｍの平方根の少数点以下を切り捨てて得られる整数ｎ個の要素群に仮想的に分割し、前記第１フライアイ光学系において互いに隣り合う任意のｎ個の第１光学要素を想定したとき、
前記第２フライアイ光学系中のｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の要素群に含まれる第２光学要素の数をＰｉとし、前記任意のｎ個の第１光学要素に対応するｎ個の第２光学要素のうち、ｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の要素群に含まれる第２光学要素の数をＲｉとするとき、
【数１】
2007138805.tif 000003
により定義される評価値Ｈが、該評価値Ｈのとり得る最大値と最小値との平均値よりも大きくなるように、前記ｍ個の第１光学要素と前記ｍ個の第２光学要素との対応関係が設定されている照明光学装置を提供する。【００１０】
本発明の第３形態では、第１形態または第２形態の照明光学装置を備え、前記被照射面に配置されたマスクのパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置を提供する。【００１１】
本発明の第４形態では、第３形態の露光装置を用いて前記マスクのパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記露光工程を経た前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の一例では、第１フライアイ光学系の第１光学要素から第２フライアイ光学系の第２光学要素ヘ部分光束を伝達する際に、第１フライアイ光学系の同一グループ（同一要素群）で反射された部分光束群を、第２フライアイ光学系の入射面上で分散する位置へ導く。その結果、本発明の一例で得られる瞳強度分布のプロファイルは、軸を通る任意の方向に沿って同じような形状になり、ひいては軸に関してほぼ回転対称または直交する２つの方向において軸に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状になる。【００１３】
こうして、本発明の一例である照明光学装置では、軸に関してほぼ回転対称または直交する２つの方向において軸に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状な光強度分布を射出瞳に形成して、所望の照明条件で被照射面を照明することができる。また、本発明の一例である露光装置では、軸に関してほぼ回転対称または直交する２つの方向において軸に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状な光強度分布を射出瞳に形成して、所望の照明条件で被照射面としてのマスクを照明する照明光学装置を用いて、良好な照明条件の下で良好な露光を行うことにより、性能の良好なデバイスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施形態にかかる露光装置の全体構成を概略的に示す図である。
【図２】図１の光源、照明光学系および投影光学系の内部構成を概略的に示す図である。
【図３】本実施形態における１回の走査露光を概略的に説明する図である。
【図４】本実施形態におけるオプティカルインテグレータの構成を概略的に示す図である。
【図５】従来技術において照明光学装置の射出瞳に形成される光強度分布のプロファイルを模式的に示す図であって、（ａ）はｘ方向のプロファイルを、（ｂ）はｙ方向のプロファイルを示している。
【図６】本実施形態における複数の第１凹面反射鏡要素と複数の第２凹面反射鏡要素との対応関係を一次元的に簡略化して説明する図である。
【図７】本実施形態の第１変形例における複数の第１凹面反射鏡要素と複数の第２凹面反射鏡要素との対応関係を説明する図であって、（ａ）はｙ方向に隣接して並んだ９個の第１凹面反射鏡要素を、（ｂ）は縦横に隣接して並んだ９個の第２凹面反射鏡要素を示している。
【図８】第１比較例における複数の第１凹面反射鏡要素と複数の第２凹面反射鏡要素との対応関係を説明する図であって、（ａ）はｙ方向に隣接して並んだ３つの第１凹面反射鏡要素を、（ｂ）はｘ方向に隣接して並んだ３つの第２凹面反射鏡要素を示している。
【図９】本実施形態の第２変形例において第１フライアイ光学系中の複数の第１凹面反射鏡要素を仮想的にグループ分けする様子を示す図である。
【図１０】本実施形態の第２変形例において第２フライアイ光学系中の複数の第２凹面反射鏡要素を仮想的にグループ分けする様子を示す図である。
【図１１】第２変形例において第１フライアイ光学系の１番目の要素群が互いに隣接する２３個の第１凹面反射鏡要素を有する様子を示す図である。
【図１２】第２変形例において第１フライアイ光学系の１番目の要素群中のｉ番目の第１凹面反射鏡要素を経た光束が第２フライアイ光学系中のｉ番目の要素群の第２凹面反射鏡要素に入射することを説明する図である。
【図１３】第２変形例において第２フライアイ光学系の１番目の要素群のｊ番目の第２凹面反射鏡要素に対して、第１フライアイ光学系のｊ番目の要素群の第１凹面反射鏡要素を経た光束が入射することを説明する図である。
【図１４】第２比較例において第１フライアイ光学系中の複数の第１凹面反射鏡要素を仮想的に６つのグループに分ける様子を示す図である。
【図１５】第２比較例において第２フライアイ光学系中の複数の第２凹面反射鏡要素を仮想的に６つのグループに分ける様子を示す図である。
【図１６】第３変形例において第１フライアイ光学系中の複数の第１凹面反射鏡要素を仮想的にグループ分けする様子を示す図である。
【図１７】第３変形例において第２フライアイ光学系中の複数の第２凹面反射鏡要素を仮想的にグループ分けする様子を示す図である。
【図１８】第３変形例において第２フライアイ光学系の１番目の要素群のｊ番目の第２凹面反射鏡要素に対して、第１フライアイ光学系のｊ番目の要素群の第１凹面反射鏡要素を経た光束が入射することを説明する図である。
【図１９】評価値Ｈを説明するための図であって、第１フライアイ光学系において１６個の第１光学要素が任意に選択されている様子を示す図である。
【図２０】選択された１６個の第１光学要素からの光束が入射する第２光学要素の位置が良好な分散性をもって分布している一例を示す図である。
【図２１】選択された１６個の第１光学要素からの光束が入射する第２光学要素の位置が分散することなく１つの要素群に集中している一例を示す図である。
【図２２】選択された１６個の第１光学要素からの光束が入射する第２光学要素の位置があまり分散することなく２つの要素群にほぼ集中している現行の設計解の一例を示す図である。
【図２３】マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例について、そのフローチャートを示す図である。
【符号の説明】
【００１５】
１  レーザプラズマ光源
２  照明光学系
５  マスクステージ
７  ウェハステージ
１１  レーザ光源
１３  気体ターゲット
１４  ノズル
１５  楕円反射鏡
１８ａ，１８ｂ  フライアイ光学系
２１  視野絞り
Ｍ  マスク
ＰＬ  投影光学系
Ｗ  ウェハ
ＥＲ  静止露光領域
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図１は、実施形態にかかる露光装置の全体構成を概略的に示す図である。図２は、図１の光源、照明光学系および投影光学系の内部構成を概略的に示す図である。図１において、投影光学系の光軸方向すなわち感光性基板であるウェハの法線方向に沿ってＺ軸を、ウェハ面内において図１の紙面に平行な方向にＹ軸を、ウェハ面内において図１の紙面に垂直な方向にＸ軸をそれぞれ設定している。【００１７】
図１を参照すると、本実施形態の露光装置は、露光光を供給するための光源として、たとえばレーザプラズマ光源１を備えている。光源１から射出された光は、波長選択フィルタ（不図示）を介して、照明光学系２に入射する。ここで、波長選択フィルタは、光源１が供給する光から、所定波長（たとえば１３．４ｎｍまたは１１．５ｎｍ）のＥＵＶ光だけを選択的に透過させ、他の波長の光の透過を遮る特性を有する。波長選択フィルタを透過したＥＵＶ光３は、照明光学系２および光路偏向鏡としての平面反射鏡４を介して、転写すべきパターンが形成された反射型のマスク（レチクル）Ｍを照明する。【００１８】
マスクＭは、そのパターン面がＸＹ平面に沿って延びるように、Ｙ方向に沿って移動可能なマスクステージ５によって保持されている。マスクステージ５の移動は、レーザ干渉計６により計測されるように構成されている。照明されたマスクＭのパターンからの光は、反射型の投影光学系ＰＬを介して、感光性基板であるウェハＷ上にマスクパターンの像を形成する。すなわち、ウェハＷ上には、後述するように、たとえばＹ軸に関して対称な円弧状の静止露光領域（実効露光領域）が形成される。【００１９】
ウェハＷは、その露光面がＸＹ平面に沿って延びるように、Ｘ方向およびＹ方向に沿って二次元的に移動可能なウェハステージ７によって保持されている。ウェハステージ７の移動は、マスクステージ５と同様に、レーザ干渉計８により計測されるように構成されている。こうして、マスクステージ５およびウェハステージ７をＹ方向に沿って移動させながら、すなわち投影光学系ＰＬに対してマスクＭおよびウェハＷをＹ方向に沿って相対移動させながら走査露光（スキャン露光）を行うことにより、ウェハＷの１つの矩形状のショット領域にマスクＭのパターンが転写される。【００２０】
このとき、投影光学系ＰＬの投影倍率（転写倍率）が例えば１／４である場合、ウェハステージ７の移動速度をマスクステージ５の移動速度の１／４に設定して同期走査を行う。また、ウェハステージ７をＸ方向およびＹ方向に沿って二次元的に移動させながら走査露光を繰り返すことにより、ウェハＷの各ショット領域にマスクＭのパターンが逐次転写される。【００２１】
図２を参照すると、図１に示したレーザプラズマ光源１は、レーザ光源１１、集光レンズ１２、ノズル１４、ダクト１６等からなる。レーザ光源１１から発した光（非ＥＵＶ光）が集光レンズ１２を介して気体ターゲット１３上に集光する。ここで、たとえばキセノン（Ｘｅ）からなる高圧ガスがノズル１４より供給され、ノズル１４から噴射されたガスが気体ターゲット１３を形成する。気体ターゲット１３は、集光されたレーザ光によりエネルギーを得てプラズマ化し、ＥＵＶ光を発する。なお、気体ターゲット１３は、楕円反射鏡１５の第１焦点に位置決めされている。【００２２】
したがって、レーザプラズマ光源１から放射されたＥＵＶ光は、楕円反射鏡１５の第２焦点に集光する。一方、発光を終えたガスはダクト１６を介して吸引されて外部へ導かれる。楕円反射鏡１５の第２焦点に集光したＥＵＶ光は、凹面反射鏡１７を介してほぼ平行光束となり、一対のフライアイ光学系１８ａおよび１８ｂからなるオプティカルインテグレータ１８に導かれる。第１フライアイ光学系１８ａおよび第２フライアイ光学系１８ｂの構成および作用については後述する。【００２３】
こうして、オプティカルインテグレータ１８の射出面の近傍、すなわち第２フライアイ光学系１８ｂの反射面の近傍には、所定の形状を有する実質的な面光源が形成される。ここで、実質的な面光源は、照明光学系２（図２では参照符号は不図示：１７,１８ａ，１８ｂ，１９ａ，１９ｂ）の射出瞳位置に形成される。実質的な面光源からの光は、凸面反射鏡１９ａと凹面反射鏡１９ｂにより構成されたコンデンサー光学系１９（参照符号は不図示：１９ａ，１９ｂ）を介して、照明光学系２から射出される。そして、コンデンサー光学系１９により、前述の「実質的な面光源」は、投影光学系ＰＬの入射瞳に投影される。すなわち、「実質的な面光源」は、投影光学系ＰＬの入射瞳と共役にされる。【００２４】
照明光学系２から射出された光は、平面反射鏡４により偏向された後、マスクＭにほぼ平行に且つ近接して配置された視野絞り２１の円弧状の開口部（光透過部）を介して、マスクＭ上に円弧状の照明領域を形成する。このように、光源１（１１〜１６）、照明光学系２（１７〜１９）、平面反射鏡４および視野絞り２１は、所定のパターンが設けられたマスクＭをケーラー照明するための照明系を構成している。【００２５】
照明されたマスクＭのパターンからの光は、投影光学系ＰＬを介して、ウェハＷ上の円弧状の静止露光領域にマスクパターンの像を形成する。投影光学系ＰＬは、マスクＭのパターンの中間像を形成するための第１反射結像光学系と、マスクパターンの中間像の像（マスクＭのパターンの二次像）をウェハＷ上に形成するための第２反射結像光学系とにより構成されている。第１反射結像光学系は４つの反射鏡Ｍ１〜Ｍ４により構成され、第２反射結像光学系は２つの反射鏡Ｍ５およびＭ６により構成されている。また、投影光学系ＰＬはウェハ側（像側）にテレセントリックな光学系である。【００２６】
図３は、本実施形態における１回の走査露光を概略的に説明する図である。図３を参照すると、本実施形態の露光装置では、投影光学系ＰＬの円弧状の有効結像領域および有効視野に対応するように、Ｙ軸に関して対称な円弧状の静止露光領域（実効露光領域）ＥＲが形成される。この円弧状の静止露光領域ＥＲは、１回の走査露光（スキャン露光）によりウェハＷの矩形状の１つのショット領域ＳＲにマスクＭのパターンを転写する際に、図中実線で示す走査開始位置から図中破線で示す走査終了位置まで移動する。【００２７】
図４は、本実施形態におけるオプティカルインテグレータの構成を概略的に示す図である。本実施形態のオプティカルインテグレータ１８は、図４（ａ）に示すように並列に配置された複数の第１凹面反射鏡要素（第１光学要素）１８ａａからなる第１フライアイ光学系１８ａと、複数の第１凹面反射鏡要素１８ａａに一対一対応して、図４（ｂ）に示すように並列に配置された複数の第２凹面反射鏡要素（第２光学要素）１８ｂａからなる第２フライアイ光学系１８ｂとにより構成されている。ここで、並列に配置されているとは、各フライアイ光学系１８ａ、１８ｂに入射した光が分割されて部分光束として各反射鏡要素に入射するように各反射鏡要素が配置されていることを意味する。【００２８】
図４（ａ）では、第１フライアイ光学系１８ａの入射面においてＸ方向に対応する方向にｘ方向を設定し、第１フライアイ光学系１８ａの入射面においてｘ方向と直交する方向にｙ方向を設定している。同様に、図４（ｂ）では、第２フライアイ光学系１８ｂの入射面においてＸ方向に対応する方向にｘ方向を設定し、第２フライアイ光学系１８ｂの入射面においてｘ方向と直交する方向にｙ方向を設定している。また、図４では、図面の明瞭化のために、一対のフライアイ光学系１８ａ，１８ｂを構成する凹面反射鏡要素１８ａａ，１８ｂａの数を実際よりも少なく表わしている。【００２９】
具体的に、第１フライアイ光学系１８ａは、図４（ａ）に示すように、円弧状の外形形状を有する第１凹面反射鏡要素１８ａａを縦横に且つ稠密に配置することにより構成されている。第１凹面反射鏡要素１８ａａが円弧状の外形形状を有するのは、上述したように、投影光学系ＰＬの円弧状の有効結像領域および有効視野に対応して、マスクＭ上に円弧状の照明領域を形成し、ひいてはウェハＷ上に円弧状の静止露光領域ＥＲを形成するためである。【００３０】
一方、第２フライアイ光学系１８ｂは、図４（ｂ）に示すように、例えば正方形状に近い矩形状の外形形状を有する第２凹面反射鏡要素１８ｂａを縦横に且つほぼ稠密に配置することにより構成されている。第２凹面反射鏡要素１８ｂａが正方形状に近い矩形状の外形形状を有するのは、各第２凹面反射鏡要素１８ｂａの表面またはその近傍にほぼ円形状の小光源が形成されるからである。【００３１】
第１フライアイ光学系１８ａの入射面の外形が円形状に近い形状になっているのは、オプティカルインテグレータ１８に入射する光束（すなわち第１フライアイ光学系１８ａに入射する光束）の断面形状がほぼ円形状であり、照明効率を高めるためである。また、第２フライアイ光学系１８ｂの入射面の外形が円形状に近い形状になっているのは、オプティカルインテグレータ１８の射出面（すなわち第２フライアイ光学系１８ｂの射出面）の近傍の射出瞳に形成される光強度分布（実質的な面光源）の外形形状がほぼ円形状であるためである。【００３２】
本実施形態において、オプティカルインテグレータ１８に入射した光束は、第１フライアイ光学系１８ａ中の複数の第１凹面反射鏡要素１８ａａにより波面分割される。各第１凹面反射鏡要素１８ａａにより反射された光束は、第２フライアイ光学系１８ｂ中の対応する第２凹面反射鏡要素１８ｂａに入射する。各第２凹面反射鏡要素１８ｂａにより反射された光束は、導光光学系としてのコンデンサー光学系１９を介して、マスクＭ上の円弧状の照明領域を重畳的に照明する。【００３３】
図５は、従来技術において照明光学装置の射出瞳に形成される光強度分布のプロファイルを模式的に示す図であって、（ａ）はｘ方向のプロファイルを、（ｂ）はｙ方向のプロファイルを示している。上述したように、オプティカルインテグレータ１８の第１フライアイ光学系１８ａに入射した光束は、ｘ方向に沿って細長く延びる円弧状の外形形状を有する複数の第１凹面反射鏡要素１８ａａにより波面分割される。すなわち、図４（ａ）を参照して明らかなように、オプティカルインテグレータ１８におけるｘ方向の波面分割数は、ｙ方向の波面分割数よりもかなり少ない。【００３４】
また、従来技術では、第１フライアイ光学系１８ａの複数の第１凹面反射鏡要素１８ａａと第２フライアイ光学系１８ｂの複数の第２凹面反射鏡要素１８ｂａとの対応関係について、特段の配慮をしていない。したがって、例えば光軸あるいは中心軸に関してほぼ対称な凸状の光強度分布（中心の強度が最も大きく周辺に向かって強度が小さくなる分布）を有する光束がオプティカルインテグレータ１８に入射した場合、従来技術で得られる瞳強度分布のプロファイルは、波面分割数の比較的多いｙ方向には図５（ｂ）に示すように強度がほぼ連続的に変化する曲線状になるが、波面分割数の比較的少ないｘ方向には図５（ａ）に示すように強度が不連続的に変化する階段状になる。すなわち、従来技術では、瞳強度分布が光軸あるいは中心軸に関してほぼ回転対称にならないため、ウェハＷ上に形成される像の線幅がパターンの方向により異なってしまい、ひいては製造される集積回路の性能が低下し易い。【００３５】
本実施形態では、第１フライアイ光学系１８ａが、互いに隣接するＮ個の第１凹面反射鏡要素からなる要素群をＮ個含むように、多数の第１凹面反射鏡要素１８ａａを仮想的にグループ分けする。同様に、第２フライアイ光学系１８ｂが、互いに隣接するＮ個の第２凹面反射鏡要素からなる要素群をＮ個含むように、多数の第２凹面反射鏡要素１８ｂａを仮想的にグループ分けする。そして、第１フライアイ光学系１８ａの各要素群のｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の第１凹面反射鏡要素を経た光束が、第２フライアイ光学系１８ｂのｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の要素群の第２凹面反射鏡要素に入射するように、複数の第１凹面反射鏡要素１８ａａと複数の第２凹面反射鏡要素１８ｂａとの対応関係を設定する。【００３６】
以下、図６に示すような簡略化された一次元化モデルを参照して、本実施形態における複数の第１凹面反射鏡要素１８ａａと複数の第２凹面反射鏡要素１８ｂａとの対応関係を説明する。図６に示す一次元化モデルでは、第１フライアイ光学系１８ａが、図中鉛直方向に隣接する４個の第１凹面反射鏡要素からなる要素群を図中鉛直方向に沿って４個含んでいる。また、第２フライアイ光学系１８ｂも、第１フライアイ光学系１８ａと同様に、図中鉛直方向に隣接する４個の第２凹面反射鏡要素からなる要素群を図中鉛直方向に沿って４個含んでいる。【００３７】
ここで、第１フライアイ光学系１８ａの第１番目の要素群３１ａに着目すると、この要素群３１ａ中の第１番目の第１凹面反射鏡要素３１ａａを経た光束は、第２フライアイ光学系１８ｂの第１番目の要素群３２ａ中の第２凹面反射鏡要素（例えば第１番目の第２凹面反射鏡要素）に入射する。第１番目の要素群３１ａ中の第２番目の第１凹面反射鏡要素３１ａｂを経た光束は、第２フライアイ光学系１８ｂの第２番目の要素群３２ｂ中の第２凹面反射鏡要素（例えば第１番目の第２凹面反射鏡要素）に入射する。【００３８】
第１番目の要素群３１ａ中の第３番目の第１凹面反射鏡要素３１ａｃを経た光束は、第２フライアイ光学系１８ｂの第３番目の要素群３２ｃ中の第２凹面反射鏡要素（例えば第１番目の第２凹面反射鏡要素）に入射する。第１番目の要素群３１ａ中の第４番目の第１凹面反射鏡要素３１ａｄを経た光束は、第２フライアイ光学系１８ｂの第４番目の要素群３２ｄ中の第２凹面反射鏡要素（例えば第１番目の第２凹面反射鏡要素）に入射する。【００３９】
同様に、第１フライアイ光学系１８ａの第２番目の要素群３１ｂ、第３番目の要素群３１ｃ、および第４番目の要素群３１ｄについても、第１番目〜第４番目の第１凹面反射鏡要素を経た光束は、第２フライアイ光学系１８ｂの第１番目〜第４番目の要素群３２ａ〜３２ｄ中の第２凹面反射鏡要素にそれぞれ入射する。実際のオプティカルインテグレータ１８では、図６に示す一次元化モデルとは異なり、第１フライアイ光学系１８ａ中のＮ個の要素群および第２フライアイ光学系１８ｂ中のＮ個の要素群はともに二次元的に配置され、各要素群中のＮ個の凹面反射鏡要素も二次元的に配置される。【００４０】
以上のように、本実施形態では、第１フライアイ光学系１８ａに入射して波面分割された多数の部分光束を、全面的に並び替えて第２フライアイ光学系１８ｂへ伝達している。換言すれば、オプティカルインテグレータ１８の入射側の第１凹面反射鏡要素１８ａａから射出側の第２凹面反射鏡要素１８ｂａヘ部分光束を伝達する際に、入射側の第１フライアイ光学系１８ａの同一グループ（同一要素群）で反射された部分光束群を、射出側の第２フライアイ光学系１８ｂの同一グループ（同一要素群）へ入射させることなく、第２フライアイ光学系１８ｂの入射面上で分散する位置へ導いている。【００４１】
こうして、本実施形態では、例えば光軸あるいは中心軸等の軸に関してほぼ対称な凸状の光強度分布を有する光束がオプティカルインテグレータ１８に入射した場合、この凸状の光強度分布を有する光束は第１フライアイ光学系１８ａ中の多数の第１凹面反射鏡要素１８ａａにより波面分割され、波面分割された各部分光束はランダムに近い形態で並び替えられ、第２フライアイ光学系１８ｂ中の各第２凹面反射鏡要素１８ｂａに達する。その結果、本実施形態で得られる瞳強度分布のプロファイルは、軸を通る任意の方向（すなわち径方向）に沿って図５（ｂ）に示すような曲線状になり、ひいては軸に関してほぼ回転対称になる。【００４２】
以上のように、本実施形態の照明光学装置では、軸に関してほぼ回転対称な光強度分布を射出瞳に形成して、所望の照明条件でマスクＭ（ひいてはウェハＷ）を照明することができる。また、本実施形態の露光装置では、軸に関してほぼ回転対称な光強度分布を射出瞳に形成して、所望の照明条件でマスクＭを照明する照明光学装置を用いて、良好な照明条件の下で良好な露光を行うことができる。具体的に、軸に関してほぼ回転対称なプロファイルを有する瞳強度分布に基づいて、縦方向パターン、横方向パターンおよび斜め方向パターンの線幅の均一化を図ることができる。【００４３】
なお、上述の実施形態では、軸に関してほぼ回転対称な光強度分布を射出瞳に形成するために、入射側の第１フライアイ光学系１８ａの同一グループ（同一要素群）で反射された部分光束群を、第２フライアイ光学系１８ｂの入射面上で分散する位置へ導いている。しかしながら、これに限定されることなく、入射側の第１フライアイ光学系１８ａの同一グループ（同一要素群）で反射された部分光束群を、第２フライアイ光学系１８ｂの対応するグループ（対応する要素群）へ分散して導く第１変形例により、上述の実施形態に類似の効果を得ることもできる。【００４４】
図７は、本実施形態の第１変形例における複数の第１凹面反射鏡要素と複数の第２凹面反射鏡要素との対応関係を説明する図であって、（ａ）はｙ方向に隣接して並んだ９個の第１凹面反射鏡要素を、（ｂ）は縦横に隣接して並んだ９個の第２凹面反射鏡要素を示している。また、図８は、第１比較例における複数の第１凹面反射鏡要素と複数の第２凹面反射鏡要素との対応関係を説明する図であって、（ａ）はｙ方向に隣接して並んだ３つの第１凹面反射鏡要素を、（ｂ）はｘ方向に隣接して並んだ３つの第２凹面反射鏡要素を示している。【００４５】
本実施形態の第１変形例では、第１フライアイ光学系１８ａが、互いに隣接するｎ個の第１凹面反射鏡要素からなる要素群をＮ個含むように、多数の第１凹面反射鏡要素１８ａａを仮想的にグループ分けする。同様に、第２フライアイ光学系１８ｂが、互いに隣接するｎ個の第２凹面反射鏡要素からなる要素群をＮ個含むように、多数の第２凹面反射鏡要素１８ｂａを仮想的にグループ分けする。【００４６】
そして、第１フライアイ光学系１８ａのｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の要素群の各第１凹面反射鏡要素を経た光束が、第２フライアイ光学系１８ｂのｉ（ｉ＝１〜Ｎ）番目の要素群の各第２凹面反射鏡要素に入射するように、複数の第１凹面反射鏡要素１８ａａと複数の第２凹面反射鏡要素１８ｂａとの対応関係を設定する。さらに、第１フライアイ光学系１８ａ中の各要素群および第２フライアイ光学系１８ｂ中の各要素群が正方形または正方形に近い長方形にそれぞれ内接するように、複数の第１凹面反射鏡要素１８ａａおよび複数の第２凹面反射鏡要素１８ｂａの仮想的なグループ分けを設定する。【００４７】
すなわち、第１変形例において、第１フライアイ光学系１８ａ中の典型的な１つの要素群は、図７（ａ）に示すように、ｙ方向に隣接して並んだ９個の円弧状の第１凹面反射鏡要素１８ａａ１〜１８ａａ９により構成され、ほぼ正方形に内接するような外形形状を有する。また、第２フライアイ光学系１８ｂ中の対応する要素群は、図７（ｂ）に示すように、ｘ方向およびｙ方向に縦横に隣接配置された３×３＝９個の矩形状の第２凹面反射鏡要素１８ｂａ１〜１８ｂａ９により構成され、ほぼ正方形に内接するような外形形状を有する。なお、９個の円弧状の第１凹面反射鏡要素１８ａａ１〜１８ａａ９と９個の矩形状の第２凹面反射鏡要素１８ｂａ１〜１８ｂａ９との対応関係は、要素群に依存して適宜変化する。【００４８】
したがって、第１フライアイ光学系１８ａ中のほぼ正方形状の外形を有する１つの要素群で波面分割された光束は、第２フライアイ光学系１８ｂ中のほぼ正方形状の外形を有する１つの要素群に入射することになるので、９個の第２凹面反射鏡要素１８ｂａ１〜１８ｂａ９に対応した部分領域に形成される瞳強度分布は、波面分割効果によりある程度均一化される。その結果、第１変形例で得られる瞳強度分布のプロファイルは、ｘ方向においてもｙ方向においても、図５（ａ）に示すように強度が不連続的に変化する階段状になる。【００４９】
すなわち、第１変形例において、瞳強度分布のプロファイルは、軸に関してほぼ回転対称にはならないが、ｘ方向およびｙ方向に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状（互いにほぼ同じような階段状）になる。こうして、第１変形例では、直交する２つの方向（ｘ方向およびｙ方向）に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状のプロファイルを有する瞳強度分布に基づいて、縦方向パターンおよび横方向パターンの線幅の均一化を図ることができる。【００５０】
ただし、第１変形例では、上述の実施形態の場合とは異なり、斜め方向パターンについて線幅の均一化を図ることはできない。このように、パターンの線幅均一化の観点によれば、図７の第１変形例よりも上述の実施形態の方が好ましい。しかしながら、上述の実施形態では、凹面反射鏡要素毎に比較的大きく異なる方向に光束の向きを変える必要があり、比較的大きく異なる向きにチルトした凹面反射鏡要素が並ぶことになる。したがって、上述の実施形態では、第１変形例の場合よりも、隣接する２つの凹面反射鏡要素の間に比較的大きな段差が生じ、場合によっては光量ロスが発生し易い。【００５１】
一方、第１比較例では、第１フライアイ光学系１８ａ中の典型的な１つの要素群は、図８（ａ）に示すように、ｙ方向に隣接して並んだ３つの円弧状の第１凹面反射鏡要素１８ａａ１〜１８ａａ３により構成され、ｘ方向に細長く延びる長方形に内接するような外形形状を有する。また、第２フライアイ光学系１８ｂ中の対応する要素群は、図８（ｂ）に示すように、ｘ方向に隣接して並んだ３つの矩形状の第２凹面反射鏡要素１８ｂａ１〜１８ｂａ３により構成され、ｘ方向に細長く延びる長方形に内接するような外形形状を有する。【００５２】
この場合、第１フライアイ光学系１８ａ中のｘ方向に細長く延びる長方形状の外形を有する１つの要素群で波面分割された光束は、第２フライアイ光学系１８ｂ中のｘ方向に細長く延びる長方形状の外形を有する１つの要素群に入射することになるので、３つの第２凹面反射鏡要素１８ｂａ１〜１８ｂａ３に対応した部分領域に形成される瞳強度分布は、波面分割効果によりある程度均一化される。【００５３】
その結果、第１比較例で得られる瞳強度分布のプロファイルは、ｘ方向には図５（ａ）に示すように強度が不連続的に変化する階段状になり、ｙ方向には図５（ｂ）に示すように強度がほぼ連続的に変化する曲線状になる。すなわち、第１比較例では、瞳強度分布のｘ方向に沿ったプロファイルの形状と瞳強度分布のｘ方向に沿ったプロファイルの形状とが実質的に異なるため、縦方向のパターンの線幅と横方向のパターンの線幅との均一化を図ることができない。【００５４】
第１変形例と第１比較例とを参照して明らかなように、直交する２つの方向に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状のプロファイルを有する瞳強度分布を形成して、縦方向パターンおよび横方向パターンの線幅の均一化を図るには、第１フライアイ光学系１８ａ中の各要素群および第２フライアイ光学系１８ｂ中の各要素群に外接する長方形の縦横比が重要であり、この外接する長方形が正方形に近いことが好ましい。一般的には、各要素群に外接する長方形（正方形を含む広い概念）の長辺の長さに対する短辺の長さの比が１／２以上であれば、線幅の均一化について所要の効果を得ることができる。【００５５】
また、上述の実施形態では、第１フライアイ光学系１８ａがＮ個の第１凹面反射鏡要素からなる要素群をＮ個含み、第２フライアイ光学系１８ｂもＮ個の第２凹面反射鏡要素からなる要素群をＮ個含むように凹面反射鏡要素をグループ分けしている。しかしながら、これに限定されることなく、第１フライアイ光学系１８ａがｎ個の第１凹面反射鏡要素からなる要素群をＮ個含み、第２フライアイ光学系１８ｂがＮ個の第２凹面反射鏡要素からなる要素群をｎ個含むように凹面反射鏡要素をグループ分けする第２変形例により、上述の実施形態と同様の効果を得ることもできる。【００５６】
具体的に、第２変形例では、第１フライアイ光学系１８ａが、図９に示すように、互いに隣接する２３個の第１凹面反射鏡要素からなる要素群を１２個含むように、合計２７６個の第１凹面反射鏡要素１８ａａを仮想的にグループ分けしている。図９では、ｊ（ｊ＝１〜１２）番目の要素群を参照符号Ｆｊで示している。一方、第２フライアイ光学系１８ｂは、図１０に示すように、互いに隣接する１２個の第２凹面反射鏡要素からなる要素群を２３個含むように、合計２７６個の第２凹面反射鏡要素１８ｂａを仮想的にグループ分けしている。図１０では、ｉ（ｉ＝１〜２３）番目の要素群を参照符号Ｂｉで示している。【００５７】
以下、第１フライアイ光学系１８ａの１番目の要素群Ｆ１および第２フライアイ光学系１８ｂの１番目の要素群Ｂ１に着目して、第２変形例における複数の第１凹面反射鏡要素１８ａａと複数の第２凹面反射鏡要素１８ｂａとの対応関係を説明する。第１フライアイ光学系１８ａの１番目の要素群Ｆ１は、図１１に示すように、互いに隣接する２３個の第１凹面反射鏡要素を有する。図１１では、１番目の要素群Ｆ１中のｉ（ｉ＝１〜２３）番目の第１凹面反射鏡要素を参照符号Ｆ１Ｅｉで示している。【００５８】
第２変形例では、第１フライアイ光学系１８ａの１番目の要素群Ｆ１について、この要素群Ｆ１のｉ（ｉ＝１〜２３）番目の第１凹面反射鏡要素Ｆ１Ｅｉを経た光束が、第２フライアイ光学系１８ｂのｉ（ｉ＝１〜２３）番目の要素群Ｂｉ中のいずれか１つの第２凹面反射鏡要素に入射するように、複数の第１凹面反射鏡要素１８ａａと複数の第２凹面反射鏡要素１８ｂａとの対応関係を設定している。すなわち、要素群Ｆ１のｉ（ｉ＝１〜２３）番目の第１凹面反射鏡要素Ｆ１Ｅｉが、図１２に示すように、第２フライアイ光学系１８ｂ中のｉ（ｉ＝１〜２３）番目の要素群Ｂｉ中のいずれか１つの第２凹面反射鏡要素ＢｉＥｊと対応している。なお、図示を省略したが、第１フライアイ光学系１８ａの他の要素群Ｆｊ（ｊ＝２〜１２）についても同様に、この要素群Ｆｊのｉ（ｉ＝１〜２３）番目の第１凹面反射鏡要素ＦｊＥｉを経た光束が、第２フライアイ光学系１８ｂのｉ（ｉ＝１〜２３）番目の要素群Ｂｉ中のいずれか１つの第２凹面反射鏡要素に入射する。【００５９】
したがって、図１３に示すように、第２フライアイ光学系１８ｂの１番目の要素群Ｂ１において、この要素群Ｂ１のｊ（ｊ＝１〜１２）番目の第２凹面反射鏡要素Ｂ１Ｅｊには、第１フライアイ光学系１８ａのｊ（ｊ＝１〜１２）番目の要素群Ｆｊ中のいずれか１つの第１凹面反射鏡要素ＦｊＥｉを経た光束が入射する。なお、図示を省略したが、第２フライアイ光学系１８ｂの他の要素群Ｂｉ（ｉ＝２〜２３）についても同様に、この要素群Ｂｉのｊ（ｊ＝１〜１２）番目の第２凹面反射鏡要素ＢｉＥｊには、第１フライアイ光学系１８ａのｊ（ｊ＝１〜１２）番目の要素群Ｆｊ中のいずれか１つの第１凹面反射鏡要素ＦｊＥｉを経た光束が入射する。このように、第２フライアイ光学系１８ｂの１つの要素群に第１フライアイ光学系１８ａの全ての要素群からの光が入射するので、第２フライアイ光学系１８ｂ中の各要素群間において光強度分布は一定になる。【００６０】
以上のように、第２変形例においても、上述の実施形態と同様に、オプティカルインテグレータ１８の入射側の第１凹面反射鏡要素１８ａａから射出側の第２凹面反射鏡要素１８ｂａヘ部分光束を伝達する際に、入射側の第１フライアイ光学系１８ａの同一要素群で反射された部分光束群を、射出側の第２フライアイ光学系１８ｂの同一要素群へ入射させることなく、第２フライアイ光学系１８ｂの入射面上で分散する位置へ導いている。その結果、第２変形例において得られる瞳強度分布のプロファイルは、上述の実施形態の場合と同様に、軸を通る任意の方向（すなわち径方向）に沿って図５（ｂ）に示すような曲線状になり、ひいては軸に関してほぼ回転対称になる。【００６１】
一方、第２変形例に対応する第２比較例では、第１フライアイ光学系中の複数の第１凹面反射鏡要素が、図１４に示すように、ｙ方向に細長い短冊状の外形形状を有する６つの要素群ＣＦ１〜ＣＦ６に仮想的にグループ分けされている。また、第２フライアイ光学系中の複数の第２凹面反射鏡要素は、図１５に示すように、第１フライアイ光学系中の要素群ＣＦ１〜ＣＦ６に対応して、ｙ方向に細長い短冊状の外形形状を有する６つの要素群ＣＢ１〜ＣＢ６に仮想的にグループ分けされている。【００６２】
第２比較例では、第１フライアイ光学系中の各要素群ＣＦ１〜ＣＦ６に含まれるｘ方向の細長い円弧状の複数の第１凹面反射鏡要素により波面分割された光束が、第２フライアイ光学系１８ｂ中の各要素群ＣＢ１〜ＣＢ６中の対応する複数の第２凹面反射鏡要素に入射する。このため、第２比較例で得られる瞳強度分布のプロファイルは、第１比較例の場合と同様に、ｘ方向には図５（ａ）に示すように強度が不連続的に変化する階段状になり、ｙ方向には図５（ｂ）に示すように強度がほぼ連続的に変化する曲線状になる。【００６３】
なお、上述の第２変形例では、第１フライアイ光学系１８ａ中の２７６個の第１凹面反射鏡要素１８ａａのすべてが仮想的にグループ分けされ、第２フライアイ光学系１８ｂ中の２７６個の第２凹面反射鏡要素１８ｂａのすべてが仮想的にグループ分けされている。しかしながら、これに限定されることなく、第１フライアイ光学系１８ａ中の大部分の第１凹面反射鏡要素１８ａａを仮想的にグループ分けし、第２フライアイ光学系１８ｂ中の大部分の第２凹面反射鏡要素１８ｂａを仮想的にグループ分けする第３変形例においても、上述の実施形態および第２変形例と同様の効果を得ることもできる。【００６４】
具体的に、第３変形例では、第１フライアイ光学系１８ａが、図１６に示すように、互いに隣接する１６個の第１凹面反射鏡要素からなる要素群を１６個含むように、合計２５６個の第１凹面反射鏡要素１８ａａを仮想的にグループ分けしている。図１６では、太線により囲まれた領域が１つの要素群に対応し、ｊ（ｊ＝１〜１６）番目の要素群を参照符号Ｆｊで示している。また、いずれの要素群にも属しない２０個の第１凹面反射鏡要素１８ａａにハッチングを施している。【００６５】
一方、第２フライアイ光学系１８ｂは、図１７に示すように、互いに隣接する１６個の第２凹面反射鏡要素からなる要素群を１６個含むように、合計２５６個の第２凹面反射鏡要素１８ｂａを仮想的にグループ分けしている。図１７では、太線により囲まれた領域が１つの要素群に対応し、ｉ（ｉ＝１〜１６）番目の要素群を参照符号Ｂｉで示している。また、いずれの要素群にも属しない２０個の第２凹面反射鏡要素１８ｂａにハッチングを施している。なお、要素群Ｂ４、Ｂ１３には第２凹面反射鏡要素１８ｂａの辺が接していない第２凹面反射鏡要素１８ｂａを含むが、この場合も要素群Ｂ４、Ｂ１３内の全ての第２凹面反射鏡要素１８ｂａは隣接して配置されていると言える。【００６６】
第３変形例では、第１フライアイ光学系１８ａの１番目の要素群Ｆ１について、この要素群Ｆ１のｉ（ｉ＝１〜１６）番目の第１凹面反射鏡要素Ｆ１Ｅｉを経た光束が、第２フライアイ光学系１８ｂのｉ（ｉ＝１〜１６）番目の要素群Ｂｉ中のいずれか１つの第２凹面反射鏡要素に入射する。すなわち、要素群Ｆ１のｉ（ｉ＝１〜１６）番目の第１凹面反射鏡要素Ｆ１Ｅｉが、図１７に示すように、第２フライアイ光学系１８ｂ中のｉ（ｉ＝１〜１６）番目の要素群Ｂｉ中のいずれか１つの第２凹面反射鏡要素ＢｉＥｊと対応している。なお、図示を省略したが、第１フライアイ光学系１８ａの他の要素群Ｆｊ（ｊ＝２〜１６）についても同様に、この要素群Ｆｊのｉ（ｉ＝１〜１６）番目の第１凹面反射鏡要素ＦｊＥｉを経た光束が、第２フライアイ光学系１８ｂのｉ（ｉ＝１〜１６）番目の要素群Ｂｉ中のいずれか１つの第２凹面反射鏡要素に入射する。【００６７】
したがって、図１８に示すように、第２フライアイ光学系１８ｂの１番目の要素群Ｂ１において、この要素群Ｂ１のｊ（ｊ＝１〜１６）番目の第２凹面反射鏡要素Ｂ１Ｅｊには、第１フライアイ光学系１８ａのｊ（ｊ＝１〜１６）番目の要素群Ｆｊ中のいずれか１つの第１凹面反射鏡要素ＦｊＥｉを経た光束が入射する。なお、図示を省略したが、第２フライアイ光学系１８ｂの他の要素群Ｂｉ（ｉ＝２〜１６）についても同様に、この要素群Ｂｉのｊ（ｊ＝１〜１６）番目の第２凹面反射鏡要素ＢｉＥｊには、第１フライアイ光学系１８ａのｊ（ｊ＝１〜１６）番目の要素群Ｆｊ中のいずれか１つの第１凹面反射鏡要素ＦｊＥｉを経た光束が入射する。このように、第２フライアイ光学系１８ｂの１つの要素群に第１フライアイ光学系１８ａの全ての要素群からの光が入射するので、第２フライアイ光学系１８ｂ中の各要素群間において光強度分布は互いにほぼ等しくなる。【００６８】
図１７を参照すると、グループ分けされていない２０個の第２凹面反射鏡要素１８ｂａは、互いに離間した状態で比較的良好に分散配置されている。したがって、第３変形例では、グループ分けされていない２０個の第１凹面反射鏡要素１８ａａと２０個の第２凹面反射鏡要素１８ｂａとの対応関係を適宜設定しても、入射側の第１フライアイ光学系１８ａにおいて比較的近い位置で反射された２つの部分光束が、射出側の第２フライアイ光学系１８ｂにおいて比較的近い位置に入射することはない。【００６９】
第３変形例では、上述の実施形態および第２変形例と同様に、オプティカルインテグレータ１８の入射側の第１凹面反射鏡要素１８ａａから射出側の第２凹面反射鏡要素１８ｂａヘ部分光束を伝達する際に、入射側の第１フライアイ光学系１８ａの同一要素群で反射された部分光束群を、射出側の第２フライアイ光学系１８ｂの同一要素群へ入射させることなく、第２フライアイ光学系１８ｂの入射面上で分散する位置へ導いている。その結果、第３変形例において得られる瞳強度分布のプロファイルは、上述の実施形態および第２変形例の場合と同様に、軸を通る任意の方向（すなわち径方向）に沿って図５（ｂ）に示すような曲線状になり、ひいては軸に関してほぼ回転対称になる。【００７０】
なお、上述の説明では、第１フライアイ光学系の複数の第１凹面反射鏡要素を複数の要素群にグループ分けし、第２フライアイ光学系の複数の第２凹面反射鏡要素を複数の要素群にグループ分けした後に、複数の第１凹面反射鏡要素と複数の第２凹面反射鏡要素との対応関係を設定している。しかしながら、照明光学装置の射出瞳における光強度分布のプロファイルが、軸に関してほぼ回転対称に、または直交する２つの方向に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状になるように、複数の第１凹面反射鏡要素と複数の第２凹面反射鏡要素との対応関係を設定する手法については様々な変形例が可能である。【００７１】
以下、何らかの手法に基づいて第１フライアイ光学系の複数の第１光学要素（第１凹面反射鏡要素）と第２フライアイ光学系の複数の第２光学要素（第２凹面反射鏡要素）との対応関係を設定したときに、その対応関係により射出瞳における光強度分布のプロファイルが、軸に関してほぼ回転対称に、または直交する２つの方向に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状になるか否かを評価するための評価値Ｈについて説明する。【００７２】
原理上、第１フライアイ光学系の第１光学要素の数と第２フライアイ光学系の第２光学要素の数とは互いに同じである。仮に、ダミーの光学要素または計測用の光学要素がフライアイ光学系に付加されていたとしても、照明に寄与する有効な光学要素の数は第１フライアイ光学系と第２フライアイ光学系とで互いに同じになる。そこで、第１フライアイ光学系の第１光学要素の数および第２フライアイ光学系の第２光学要素の数をｍとする。【００７３】
具体的に、図１９に示す第１フライアイ光学系１８ａを構成する第１光学要素１８ａａの数ｍは２７６個であり、図２０に示す第２フライアイ光学系１８ｂを構成する第２光学要素１８ｂａの数ｍも２７６個である。ここで、整数ｎを、ｎ＝Int｛Sqrt（ｍ）｝（ｍの平方根の小数点以下を切り捨てた整数）と定義し、第１フライアイ光学系１８ａにおいて互いに隣り合う任意のｎ個の第１光学要素１８ａａを想定する。ｍ＝２７６の場合、整数ｎは１６である。したがって、図１９では、ハッチングを施した１６個の第１光学要素１８ａａが、互いに隣り合う任意のｎ個の第１光学要素１８ａａとして選択されている。【００７４】
次に、第２フライアイ光学系１８ｂ中のｍ＝２７６個の第２光学要素１８ｂａを、各要素群が互いにほぼ同じ数の第２光学要素１８ｂａを含むようにｎ＝１６個の要素群に仮想的に分割する。分割に際して、各要素群に属する第２光学要素１８ｂａの差が最大で１個になるように分割する。図２０では、２７６個の第２光学要素１８ｂａが、１７個の第２光学要素１８ｂａからなる１２の要素群と、１８個の第２光学要素１８ｂａからなる４つの要素群とに分割されている。【００７５】
具体的に、図２０において太線により分割された１６個の要素群Ｂ１〜Ｂ１６のうち、１７個の第２光学要素１８ｂａからなる要素群は、Ｂ１〜Ｂ５，Ｂ８，Ｂ９，Ｂ１２〜Ｂ１６であり、１８個の第２光学要素１８ｂａからなる要素群は、Ｂ６，Ｂ７，Ｂ１０，Ｂ１１である。また、分割に際して、各要素群の外周の長さができるだけ小さくなるように、すなわち各要素群の外形形状が細長くならないように分割する。具体的には、各要素群にそれぞれ外接する長方形の長辺の長さと短辺の長さとの差ができるだけ小さくなるように、例えば各要素群にそれぞれ外接する長方形の長辺の長さに対する短辺の長さの比が例えば１／２以上になるように分割する。【００７６】
そして、図１９で選択された１６個の第１光学要素１８ａａで反射された光束が第２フライアイ光学系１８ｂ中の各要素群Ｂ１〜Ｂ１６において幾つの第２光学要素１８ｂａに入射するかを考える。上述した評価値Ｈは、第２フライアイ光学系１８ｂ中のｉ（ｉ＝１〜１６）番目の要素群に含まれる第２光学要素の数をＰｉとし、任意の１６個の第１光学要素に対応する１６個の第２光学要素のうち、ｉ（ｉ＝１〜ｎ）番目の要素群に含まれる第２光学要素の数をＲｉとするとき、次の式（１）により定義される。【００７７】
【数２】
2007138805.tif 000004
【００７８】
式（１）において、Ｒｉの値が零である項の値は零であるものとして計算する。評価値Ｈは、いわゆる「エントロピー」であって、選択された１６個の第１光学要素１８ａａで反射された光束が入射する第２光学要素１８ｂａの位置の分散性の指標である。ここで、任意の１６個の第１光学要素１８ａａで反射された光束が入射する第２光学要素１８ｂａの位置のばらつき具合により変化する評価値Ｈが、この評価値Ｈのとり得る最大値と最小値との平均値よりも大きい場合、照明光学装置の射出瞳における光強度分布のプロファイルが、軸に関してほぼ回転対称になるか、または直交する２つの方向において軸に関してほぼ対称で且つ互いにほぼ同じ形状になるものと評価する。【００７９】
例えば、選択された１６個の第１光学要素１８ａａで反射された光束が入射する第２光学要素１８ｂａ（図２０においてハッチングを施した光学要素）が、図２０に示すように良好な分散性をもって各要素群Ｂ１〜Ｂ１６に１個づつ分布している場合、以下の式（１ａ）に示すように評価値Ｈは最大値になる。【００８０】
Ｈ＝１／１６／１７／０．０５８０１×log2（１６×１７×０．０５８０１）×１２
＋１／１６／１８／０．０５８０１×log2（１６×１８×０．０５８０１）×４
≒１．７９０      （１ａ）
ただし、
Ａ＝（１／１６／１７）×１２＋（１／１６／１８）×４
≒５．８０１×１０-2＝０．０５８０１【００８１】
一方、例えば選択された１６個の第１光学要素１８ａａで反射された光束が入射する第２光学要素１８ｂａが、図２１においてハッチングを施して示すように、良好に分散することなく１つの要素群Ｂ８に集中している場合、以下の式（１ｂ）に示すように評価値Ｈは最小値になる。【００８２】
Ｈ＝１６／１６／１７／０．０５８８２×log2（１６×１７×０．０５８８２／１６）
≒０      （１ｂ）
ただし、
Ａ＝１６／１６／１７≒５．８８２×１０-2＝０．０５８８２【００８３】
また、例えば現行の設計解の一例では、選択された１６個の第１光学要素１８ａａで反射された光束が入射する第２光学要素１８ｂａは、図２２においてハッチングを施して示すように、あまり良好に分散することなく２つの要素群Ｂ６およびＢ７にほぼ集中している。その結果、評価値Ｈは、以下の式（１ｃ）に示すように、評価値Ｈの最大値１．７９０と最小値０との平均値０．８９４８よりも小さい。【００８４】
Ｈ＝７／１６／１８／０．０５５５６×log2（１６×１７×０．０５５５６／７）×２
＋１／１６／１８／０．０５５５６×log2（１６×１８×０．０５５５６）×２
≒０．４６４７＜０．８９４８      （１ｃ）
ただし、
Ａ＝（７／１６／１８）×２＋（１／１６／１８）×２
≒５．５５６×１０-2＝０．０５５５６【００８５】
なお、上述の実施形態および各変形例において、第１フライアイ光学系１８ａおよび第２フライアイ光学系１８ｂのうちの少なくとも一方の光学系の各要素群において、各要素群中の複数の凹面反射鏡要素（光学要素）は互いに異なる焦点距離を有することが好ましい。特に、第２フライアイ光学系１８ｂの複数の第２凹面反射鏡要素１８ｂａからの各光束が、導光光学系としてのコンデンサー光学系１９を介してマスクＭ上の円弧状の照明領域を重畳的に照明する際に、導光光学系の収差に起因して複数の光束が完全に重ね合わされずに少しずつ互いに位置ずれする場合があるが、この場合には、複数の第２凹面反射鏡要素１８ｂａの焦点距離を互いに異ならせることにより光束の位置ずれを軽減することができる。【００８６】
また、上述の実施形態および各変形例では、第１フライアイ光学系１８ａ中の第１凹面反射鏡要素１８ａａが円弧状の外形形状を有し、第２フライアイ光学系１８ｂ中の第２凹面反射鏡要素１８ｂａが矩形状の外形形状を有するが、これに限定されることなく、各光学要素の外形形状については様々な形態が可能である。例えば、各光学要素の外形形状として、矩形、円形、楕円形等を採用可能である。なお、第１フライアイ光学系１８ａの第１凹面反射鏡要素１８ａａの形状と、マスク面の照明形状を本実施例では同様な円弧形状としたが、同一形状にしなくてもよい。例えば、第１凹面反射鏡要素１８ａａの外形形状を矩形とし、マスク面の照明形状を円弧形状としてもよい。また、上述の実施形態および各変形例では、全ての光学要素に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなく、少なくとも１つの特定の所要領域の光学要素に対してのみ本発明を適用することも可能である。【００８７】
また、上述の実施形態では、反射型のオプティカルインテグレータを有する照明光学装置に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなく、例えば屈折型のオプティカルインテグレータを有する照明光学装置に対しても本発明を適用することができる。この場合、第１フライアイ光学系および第２フライアイ光学系は、たとえば微小レンズ要素のような光学要素を並列配置することにより構成される。【００８８】
また、上述の実施形態では、反射型のマスクＭを用いるＥＵＶＬ露光装置の照明光学装置に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなく、光源からの光に基づいて被照射面を照明する一般の照明光学装置に対しても本発明を適用することができる。【００８９】
上述の実施形態にかかる露光装置では、照明系によってマスクを照明し（照明工程）、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する（露光工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、本実施形態の露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図２３のフローチャートを参照して説明する。【００９０】
先ず、図２３のステップ３０１において、１ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップ３０２において、その１ロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ３０３において、本実施形態の露光装置を用いて、マスク（レチクル）上のパターンの像がその投影光学系を介して、その１ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。【００９１】
その後、ステップ３０４において、その１ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ３０５において、その１ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。【００９２】
なお、上述の実施形態にかかるＥＵＶＬ露光装置では、ＥＵＶ光を供給するための光源としてレーザプラズマ光源を用いている。しかしながら、これに限定されることなく、ＥＵＶ光を供給する他の適当な光源、たとえばシンクロトロン放射（ＳＯＲ）光源などを用いることもできる。【００９３】
なお、上述の実施形態では第１フライアイ光学系、第２フライアイ光学系の各反射鏡要素の形状は、凹面に限らずに、凸面、平面、非球面のいずれの形状を用いる事も可能であり、また、第１あるいは第２フライアイ光学系の全ての反射鏡要素の形状が同じでなくてもよい。更に、各反射鏡要素の位置や角度を調整するためのアクチュエータを配置してもよい。このようにすると、例えば、第１フライアイ光学系１８の反射鏡要素１８ａａと第２フライアイ光学系１８ｂの反射鏡要素１８ｂａとの対応関係を任意に変更することができる。例えば、照明条件を変更した場合等に第２フライアイ光学系上の照明強度分布を調整することが可能となる。【００９４】
なお、上述の実施形態では照明光学系の射出瞳上で軸に対してほぼ回転対称な照明強度分布を形成しているが、更に、全体の強度分布が巨視的に見てほぼ一定である事が好ましい場合は、巨視的に見てほぼ一定と成るように反射鏡要素１８ａａと反射鏡要素１８ｂａとの対応関係を決めればよい。
【図１】
2007138805.tif 000006
【図２】
2007138805.tif 000007
【図３】
2007138805.tif 000008
【図４】
2007138805.tif 000009
【図５】
2007138805.tif 000010
【図６】
2007138805.tif 000011
【図７】
2007138805.tif 000012
【図８】
2007138805.tif 000013
【図９】
2007138805.tif 000014
【図１０】
2007138805.tif 000015
【図１１】
2007138805.tif 000016
【図１２】
2007138805.tif 000017
【図１３】
2007138805.tif 000018
【図１４】
2007138805.tif 000019
【図１５】
2007138805.tif 000020
【図１６】
2007138805.tif 000021
【図１７】
2007138805.tif 000022
【図１８】
2007138805.tif 000023
【図１９】
2007138805.tif 000024
【図２０】
2007138805.tif 000025
【図２１】
2007138805.tif 000026
【図２２】
2007138805.tif 000027
【図２３】
2007138805.tif 000028
【国際調査報告】
2007138805.tif 000029
2007138805.tif 000030
2007138805.tif 000031
2007138805.tif 000032