【事件の表示】
　特願２０１９−５５０８７７「有機ＥＬ表示装置およびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔令和　１年１０月　３日国際公開、ＷＯ２０１９／１８６８２４、請求項の数（１５）〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　原査定を取り消す。
　本願の発明は、特許すべきものとする。
【理　由】
第１　事案の概要
　１　手続等の経緯
　特願２０１９−５５０８７７号（以下「本件出願」という。）は、２０１８年（平成３０年）３月２８日を国際出願日とする出願であって、その手続等の経緯の概要は、以下のとおりである。
　令和　元年１０月２１日付け：拒絶理由通知書
　令和　元年１２月２４日　　：意見書
　令和　元年１２月２４日　　：手続補正書
　令和　２年　１月２９日付け：拒絶査定（以下「原査定」という。）
　令和　２年　４月２８日　　：審判請求書
　令和　２年１１月１８日付け：拒絶理由通知書
　（この拒絶理由通知書によって通知された拒絶の理由を、以下、「当審拒絶理由」という。）
　令和　３年　１月２０日　　：意見書
　令和　３年　１月２０日　　：手続補正書
　（この手続補正書による補正を、以下「本件補正」という。）
　２　原査定の概要
　原査定の拒絶の理由は、概略、［Ａ］本件出願の請求項１，２，７〜９及び１４に係る発明（令和元年１２月２４日にした手続補正後のもの）は、本件出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物に記載された発明であるから、特許法２９条１項３号に該当し、特許を受けることができない、及び［Ｂ］本件出願の請求項３〜６，１０〜１３及び１５に係る発明は、本件出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて、本件出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない、というものである。
　引用例１：特開２００４−７９２９１号公報
　引用例２：特開２０１７−２２８４８０号公報
　引用例３：特開２００５−９６１０８号公報
　引用例４：国際公開第２０１８／００３１２９号
　３　当審拒絶理由通知の概要
　当審拒絶理由は、概略、［ａ］本件出願の特許請求の範囲の請求項１〜９及び１３に係る発明は、本件出願前に日本国内又は外国において電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて、本件出願前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができない、及び［ｂ］本件出願の発明の詳細な説明の記載は、経済産業省令で定めるところにより、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものであるということことができないから、特許法３６条４項１号に規定する要件を満たしていない、というものである。
　引用文献１：特開２０１８−１４１７６号公報
　引用文献２：国際公開第２０１８／００３１２９号
　引用文献３：特開２０１７−２２８４８０号公報
　（当合議体注：引用文献１が主引用例であり、引用文献２〜３は、副引用例である。）
　４　本願発明
　本件出願の請求項１〜請求項１５に係る発明（以下、それぞれ「本願発明１」〜「本願発明１５」という。）は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１〜請求項１５に記載された事項によって特定されるとおりの、以下のものである。
「　　【請求項１】
　複数の画素を有する有機ＥＬ表示装置であって、
　基板および前記基板に支持された複数の有機ＥＬ素子を有する素子基板と、前記複数の有機ＥＬ素子を覆う薄膜封止構造とを有し、
　前記薄膜封止構造は、第１無機バリア層と、前記第１無機バリア層上に形成された有機バリア層と、前記有機バリア層上に形成された第２無機バリア層とを有し、
　前記第１無機バリア層は、ＳｉＯ２層と、前記ＳｉＯ２層上に形成されたＳｉＮ層またはＳｉＯＮ層を含み、
　前記第１無機バリア層の前記有機バリア層に接する表面は、複数の微細な凸部を有し、
前記表面の粗さの最大高さＲｚは２０ｎｍ以上１００ｎｍ未満であって、
　前記第１無機バリア層の厚さは、２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であり、前記表面の粗さの最大高さＲｚの５倍以上である、有機ＥＬ表示装置。
　　【請求項２】
　前記有機バリア層を構成する樹脂材料は前記複数の微細な凸部の隙間に充填されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
　　【請求項３】
　前記素子基板は、前記複数の画素のそれぞれを規定するバンク層をさらに有し、
　前記有機バリア層は、前記バンク層を覆い、平坦な表面を有している、請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示装置。
　　【請求項４】
　前記素子基板は、前記複数の画素のそれぞれを規定するバンク層をさらに有し、
　前記バンク層は、前記複数の画素のそれぞれの周囲を包囲する斜面を有し、
　前記有機バリア層は、離散的に分布する複数の中実部を有し、
　前記複数の中実部は、前記第１無機バリア層の、前記斜面上の部分から前記画素内の周辺に至る画素周辺中実部を有し、
　前記画素周辺中実部に接する前記第１無機バリア層の表面の粗さの最大高さＲｚは２０ｎｍ以上１００ｎｍ未満である、請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示装置。
　　【請求項５】
　前記有機バリア層の厚さは５０ｎｍ以上２００ｎｍ未満であり、かつ、前記第１無機バリア層の前記表面の粗さの最大高さＲｚより大きい、請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置。
　　【請求項６】
　前記第１無機バリア層は、屈折率が１．７０以上１．９０以下のＳｉＯＮ層を含む、請求項１から５のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
　　【請求項７】
　前記有機バリア層はアクリル樹脂で形成されている、請求項１から６のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
　　【請求項８】
　有機ＥＬ表示装置を製造する方法であって、
　前記有機ＥＬ表示装置は、複数の画素を有し、
　基板および前記基板に支持された複数の有機ＥＬ素子を有する素子基板と、前記複数の有機ＥＬ素子を覆う薄膜封止構造とを有し、
　前記薄膜封止構造は、第１無機バリア層と、前記第１無機バリア層上に形成された有機バリア層と、前記有機バリア層上に形成された第２無機バリア層とを有し、
　前記第１無機バリア層の前記有機バリア層に接する表面は、複数の微細な凸部を有し、
前記表面の粗さの最大高さＲｚは２０ｎｍ以上１００ｎｍ未満であって、
　前記第１無機バリア層の厚さは、２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であり、前記表面の粗さの最大高さＲｚの５倍以上であり、
　前記第１無機バリア層を形成する工程は、プラズマＣＶＤ法を用いてＳｉＮまたはＳｉＯＮを含む無機絶縁膜を堆積する工程を包含し、
　前記堆積工程は、前記素子基板の温度を上昇させる、または、プラズマエネルギーを上昇させる工程を包含する、製造方法。
　　【請求項９】
　有機ＥＬ表示装置を製造する方法であって、
　前記有機ＥＬ表示装置は、複数の画素を有し、
　基板および前記基板に支持された複数の有機ＥＬ素子を有する素子基板と、前記複数の有機ＥＬ素子を覆う薄膜封止構造とを有し、
　前記薄膜封止構造は、第１無機バリア層と、前記第１無機バリア層上に形成された有機バリア層と、前記有機バリア層上に形成された第２無機バリア層とを有し、
　前記第１無機バリア層の前記有機バリア層に接する表面は、複数の微細な凸部を有し、
前記表面の粗さの最大高さＲｚは２０ｎｍ以上１００ｎｍ未満であって、
　前記第１無機バリア層の厚さは、２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であり、前記表面の粗さの最大高さＲｚの５倍以上であり、
　前記第１無機バリア層を形成する工程は、ＳｉＮまたはＳｉＯＮを含む無機絶縁膜を堆積する工程と、前記堆積工程の後に、前記無機絶縁膜の表面を酸素またはオゾンを含むガスでアッシングする工程とを包含する、製造方法。
　　【請求項１０】
　前記有機バリア層を構成する樹脂材料は前記複数の微細な凸部の隙間に充填されている
、請求項８または９に記載の製造方法。
　　【請求項１１】
　前記素子基板は、前記複数の画素のそれぞれを規定するバンク層をさらに有し、
　前記有機バリア層は、前記バンク層を覆い、平坦な表面を有している、請求項８から１０のいずれかに記載の製造方法。
　　【請求項１２】
　前記有機バリア層の厚さは３μｍ以上５μｍ以下である、請求項１１に記載の製造方法。
　　【請求項１３】
　前記素子基板は、前記複数の画素のそれぞれを規定するバンク層をさらに有し、
　前記バンク層は、前記複数の画素のそれぞれの周囲を包囲する斜面を有し、
　前記有機バリア層は、離散的に分布する複数の中実部を有し、
　前記複数の中実部は、前記第１無機バリア層の、前記斜面上の部分から前記画素内の周辺に至る画素周辺中実部を有し、
　前記画素周辺中実部に接する前記第１無機バリア層の表面の粗さの最大高さＲｚは２０ｎｍ以上１００ｎｍ未満である、請求項８から１０のいずれかに記載の製造方法。
　　【請求項１４】
　前記有機バリア層の厚さは５０ｎｍ以上２００ｎｍ未満であり、かつ、前記第１無機バリア層の前記表面の粗さの最大高さＲｚより大きい、請求項１３に記載の製造方法。
　　【請求項１５】
　前記第１無機バリア層は、ＳｉＯ２層と、前記ＳｉＯ２層上に形成されたＳｉＮ層またはＳｉＯＮ層を含む、請求項８から１４のいずれかに記載の製造方法。」
第２　当合議体の判断
　１　引用文献の記載及び引用発明
（１）引用文献１の記載
　当審拒絶理由で引用された引用文献１（特開２０１８−１４１７６号公報）は、本件出願前に日本国内又は外国において電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明が記載されたものであるところ、そこには、以下の記載がある。なお、下線は当合議体が付したものであり、引用発明の認定及び判断等に活用した箇所を示す。
　ア　「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、表示装置に関する。
…中略…
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】 特開２０１２−１９９０９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　特許文献１のように、反射防止膜の表面に凹凸形状を形成した封止ガラスを用いた表示装置は、外光の反射率を低減することによって、視認性を向上することが出来る。
【０００７】
　しかしながら、表示装置の表面における反射率を低減できたとしても、表示装置の内部に屈折率の異なる層が重ねて形成されている場合、当該層の界面において光の反射が生じる。この場合、内部に形成された各層の界面において反射された光の強度だけ、表示装置の外に取り出される光の強度が減少してしまう。
【０００８】
　本発明は上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、光を取り出す効率が高く、高輝度な表示装置を提供することにある。」
　イ　「【課題を解決するための手段】
【０００９】
　本発明の一態様は、表示画像を生成するマトリクス層と、前記マトリクス層から発せられた光が取り出される側に形成された第１膜と、前記第１膜の前記光が取り出される側に、前記第１膜と接して形成された第２膜と、前記マトリクス層により構成される表示領域と、前記表示領域の周辺を取り囲む外部領域と、を有する表示装置であって、前記第１膜及び前記第２膜の一方は、前記第１膜及び前記第２膜の界面に、可視光の波長よりも短い高さの凸部を有し、他方は、前記界面に、前記凸部を収容する凹部を有する、ことを特徴としたものである。
【００１０】
　また、本発明の他の一態様は、表示画像を生成するマトリクス層を形成する工程と、前記マトリクス層から発せられた光が取り出される側に、第１膜を形成する工程と、前記第１膜の前記光が取り出される側に、前記第１膜と接する第２膜を形成する工程と、を有する表示装置の製造方法であって、前記第１膜及び前記第２膜の一方は、前記第１膜及び前記第２膜の界面に、可視光の波長よりも短い高さの凸部を有し、他方は、前記界面に、前記凸部を収容する凹部を有する、ことを特徴としたものである。
…中略…
【発明を実施するための形態】
…中略…
【００１６】
　図３は、第１の実施形態における表示領域２１０の断面について概略的に示す図の一例である。図３に示すように、
表示パネル２００は、基板３００と、マトリクス層３０２と、第１無機膜３０４と、有機膜３０６と、第２無機膜３０８と、有機接着剤３１０と、保護フィルム２０４と、を含む。
【００１７】
　
マトリクス層３０２は、アレイ層３１２と、アノード電極３１４と、発光層３１６と、カソード電極３１８と、を含んで構成され、表示画像を生成する
アレイ層３１２は、ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極や半導体層等を含んで構成される画素トランジスタを有する。
…中略…
【００１９】
　発光層３１６は、アノード電極３１４の上層に形成され、光を発する。具体的には、発光層３１６は、アノード電極３１４の上層に、ホール注入層、ホール輸送層、発光層３１６、電子注入層、及び、電子輸送層が積層されることによって形成される。発光層３１６は、アノード電極３１４から注入されたホールと、カソード電極３１８から注入された電子とが再結合することにより発光する。
…中略…
【００２２】
　第１無機膜３０４は、マトリクス層３０２から発せられた光が取り出される側に形成される。具体的には、例えば、観察者が観測する方向を上側とした場合に、
第１無機膜３０４は、マトリクス層３０２の上側に無機材料によって形成される。無機材料は、例えばＳｉＮ等の窒化物が用いられる。
第１無機膜３０４の屈折率は、およそ１．８であ
【００２３】
　有機膜３０６は、マトリクス層３０２から発せられた光が取り出される側に形成される。具体的には、例えば、有機膜３０６は、第１無機膜３０４の上側に有機材料によって形成される。有機材料は、例えば、アクリルが用いられる。また、有機膜３０６の屈折率は、およそ１．５である。
【００２４】
　ここで、
第１無機膜３０４は、第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面に、可視光の波長よりも短い高さの凸部を有し
高さが３００ｎｍ以下である凸部
【００２５】
　また、当該凸部は、第１無機膜３０４から有機膜３０６に向かうにつれて、滑らかに細くなる形状に形成される。一方、有機膜３０６は、第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面に、第１無機膜３０４に設けられた３００ｎｍ以下の高さである凸部を隙間なく収容する凹部を有する。
【００２６】
　なお、有機膜３０６は、第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面に、可視光の波長よりも短い高さの凸部を有し、第１無機膜３０４は、第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面に当該凸部を収容する凹部を有する構成としてもよい。すなわち、凸部の向きは、マトリクス層３０２から発せられた光が取り出される方向に向かって形成されてもよいし、観察者が観察する側からマトリクス層３０２が形成された方向に向かって形成されてもよい。
【００２７】
　
第２無機膜３０８は、有機膜３０６の光が取り出される側に、有機膜３０６と接して形成される
【００２８】
　また、第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面の構成と同様に、有機膜３０６及び第２無機膜３０８の界面にも凸部と凹部が形成される。具体的には、有機膜３０６及び第２無機膜３０８の一方は、有機膜３０６及び第２無機膜３０８の界面に、可視光の波長よりも短い高さの凸部を有し、他方は、界面に、凸部を収容する凹部を有する。
【００２９】
　
第１無機膜３０４、有機膜３０６、及び、第２無機膜３０８は、発光層３１６を封止する封止膜３２０を構成する。
【００３０】
　有機接着剤３１０は、第２無機膜３０８の光が取り出される側に、第２無機膜３０８と接して形成され、保護フィルム２０４を接着する。具体的には、有機接着剤３１０は、第２無機膜３０８の観察者が観測する側に、第２無機膜３０８と接して形成され、第２無機膜３０８と保護フィルム２０４を接着する。有機接着剤３１０の屈折率は、およそ１．５である。
【００３１】
　また、第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面の構成と同様に、第２無機膜３０８及び有機接着剤３１０の界面にも凸部と凹部が形成される。具体的には、第２無機膜３０８及び有機接着剤３１０の一方は、第２無機膜３０８及び有機接着剤３１０の界面に、可視光の波長よりも短い高さの凸部を有し、他方は、界面に、凸部を収容する凹部を有する。
【００３２】
　保護フィルム２０４は、有機接着剤３１０の光が取り出される側に、有機接着剤３１０と接して設けられる。具体的には、保護フィルム２０４は、表示パネル２００を外傷から保護するアクリル製のフィルムであって、有機接着剤３１０によって、第２無機膜３０８に接着される。保護フィルム２０４の屈折率は、およそ１．８である。
【００３３】
　また、第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面の構成と同様に、有機接着剤３１０及び保護フィルム２０４の界面にも凸部と凹部が形成される。具体的には、有機接着剤３１０及び保護フィルム２０４の一方は、有機接着剤３１０及び保護フィルム２０４の界面に、可視光の波長よりも短い高さの凸部を有し、他方は、界面に、凸部を収容する凹部を有する。
【００３４】
　上記のように、第１無機膜３０４乃至保護フィルム２０４の各界面において、凸部と凹部が形成されることにより、各界面における反射率を低減し、発光層３１６が発した光を効率良く取り出すことができる。
【００３５】
　具体的には、例えば、第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面において、第１無機膜３０４が有機膜３０６に向かって凸部を有する場合について説明する。第１無機膜３０４に形成された凸部は、高さが可視光の波長より小さいことから、可視光と凸部の間で生じる屈折、反射等は無視できるほど小さい。また、平面視において、凸部の先端部においては、第１無機膜３０４が占める面積が小さく、有機膜３０６が占める割合が大きい。従って、凸部の先端部における屈折率は、有機膜３０６の屈折率と近い値となる。
【００３６】
　また、凸部の中央部においては、第１無機膜３０４が占める面積と、有機膜３０６が占める割合が同程度となる。従って、凸部の中央部における屈折率は、およそ有機膜３０６の屈折率と第１無機膜３０４の屈折率の中央の値となる。さらに、凸部の根本付近においては、第１無機膜３０４が占める面積が大きく、有機膜３０６が占める割合が小さい。従って、凸部の根本付近における屈折率は、およそ第１無機膜３０４の屈折率と近い値となる。
【００３７】
　以上のように、凸部が、第１無機膜３０４から有機膜３０６に向かうにつれて、滑らかに細くなる形状に形成されることにより、凸部の先端部から凸部の根本にかけて、第１無機膜３０４と有機膜３０６の面積が滑らかに変化する。そのため、凸部の先端部から凸部の根本にかけて、滑らかに屈折率が変化することにより、屈折率の急激な変化によって生じる反射を低減することができる。従って、第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面における反射率を低減し、発光層３１６が発した光を効率良く取り出すことができる。
【００３８】
　上記のような、第１無機膜から有機膜に入射した光に対する屈折率を連続的に変化させることにより、屈折率の不連続界面を消失させることによって光の反射を抑制する構造は、蛾の目の構造を利用した、いわゆるモスアイ構造（登録商標）と呼ばれるものである。
…中略…
【００４２】
　続いて、上記表示装置１００の製造方法について説明する。本表示装置１００の製造方法は、表示画像を生成するマトリクス層３０２を形成する工程と、マトリクス層３０２から発せられた光が取り出される側に、第１膜を形成する工程と、第１膜の光が取り出される側に、第１膜と接する第２膜を形成する工程と、を含む。
【００４３】
　なお、第１膜は、第１無機膜３０４、有機膜３０６、第２無機膜３０８及び有機接着剤３１０のいずれかに相当し、第２膜は、第１膜の上層に接して形成された有機膜３０６、第２無機膜３０８、有機接着剤３１０、保護フィルム２０４のいずれかに相当する。ここでは、第１膜が第１無機膜３０４であって、第２膜が有機膜３０６である場合について、第１膜及び第２膜を形成する工程について説明する。
【００４４】
　図５は、第１無機膜３０４までを形成する工程を説明する為の図である。図５（ａ）に示すように、まず、
基板３００上に、マトリクス層３０２が形成される
【００４５】
　続いて、図５（ｂ）に示すように、第１無機膜３０４の上層にフォトレジスト５０２が塗布される。そして、図５（ｃ）に示すように、フォトリソグラフィ技術を用いて、第１無機膜３０４に凸部を形成する領域に塗布されたフォトレジスト５０２を残し、他の領域に塗布されたフォトレジスト５０２を除去する。
【００４６】
　次に、図５（ｄ）に示すように、フォトレジスト５０２が除去された領域に形成されたＳｉＮをエッチングする。ここで、第１無機膜３０４が順テーパを有する形状となるようにエッチングを行うことにより、第１無機膜３０４から有機膜３０６に向かうにつれて、滑らかに細くなるように第１無機膜３０４の凸部が形成される。
【００４７】
　次に、図６（ａ）に示すように、凸部が形成された第１無機膜３０４の上層に、有機膜３０６としてアクリルが塗布される。ここで、塗布された直後の状態におけるアクリルは、硬化されていないことから、第１無機膜３０４に形成された凸部を収納するように、隙間なく塗布される。
【００４８】
　さらに、有機膜３０６の材料であるアクリルが硬化する前に、モールド６０２を有機膜３０６の表面に押し付ける。ここで、モールド６０２は、有機膜３０６に形成する凸部と対応する凹部を有し、モールド６０２が有機膜３０６に押し付けられることにより、有機膜３０６の表面に、上側に向かうにつれて滑らかに細くなる凸部が形成される。
【００４９】
　そして、図６（ｂ）に示すように、モールド６０２を除去した後、アクリルを硬化させることによって、凸部を有する有機膜３０６が形成される。さらに、有機膜３０６を形成後、第２無機膜３０８として、ＳｉＮがスパッタや蒸着等の製膜方法によって、均一な高さで形成される。ここで、スパッタや蒸着等の方法によって第２無機膜３０８が堆積されることによって、有機膜３０６に形成された凸部を収納するように、隙間なく凹部が形成される。
【００５０】
　以降、第２無機膜３０８の凸部、有機接着剤３１０、有機接着剤３１０の凸部及び凹部、保護フィルム２０４が順に形成されるが、第２無機膜３０８の凸部を形成する工程は、第１無機膜３０４の凸部を形成する工程と同様であり、有機接着剤３１０の凸部を形成する工程は、有機膜３０６に凸部を形成する工程と同様である為、説明を省略する。
【００５１】
　以上の工程によって、第１無機膜３０４乃至保護フィルム２０４の各界面において、凸部及び当該凸部を収容する凹部が形成されることにより、各界面における反射率を低減し、発光層３１６が発した光を効率良く取り出すことができる表示装置１００が完成する。」
「【図３】
 」
（２）引用発明
　ア　表示パネル２００
　引用文献１の【００１６】及び図３には、「第１の実施形態」として、「基板３００と、マトリクス層３０２と、第１無機膜３０４と、有機膜３０６と、第２無機膜３０８と、有機接着剤３１０と、保護フィルム２０４と、を含む」「表示パネル２００」が記載されている。ここで、【００２９】の記載から、「第１無機膜３０４、有機膜３０６、及び、第２無機膜３０８は、発光層３１６を封止する封止膜３２０を構成する」ものである。
　イ　マトリクス層３０２
　引用文献１の【００１７】の記載から、上記「マトリクス層３０２」は、「アレイ層３１２と、アノード電極３１４と、発光層３１６と、カソード電極３１８と、を含んで構成され、表示画像を生成する」ものである。ここで、【００１９】の記載からみて、上記「発光層３１６」は、「有機ＥＬ発光層」であるといえる。さらに、【００４４】及び図３の記載から、「基板３００上に、マトリクス層３０２が形成される」ことが把握される。
　ウ　アレイ層３１２
　引用文献１の【００１７】の記載から、上記「アレイ層３１２」は、「ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極や半導体層等を含んで構成される画素トランジスタを有する」ことが把握される。
　エ　第１無機膜３０４
　引用文献１の【００２２】には、「第１無機膜３０４は、マトリクス層３０２の上側に無機材料によって形成される」こと、及び「無機材料は、例えばＳｉＮ等の窒化物が用いられ」、「第１無機膜３０４の屈折率は、およそ１．８である」ことが記載されている。
　さらに、【００２４】には、「第１無機膜３０４は、第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面に、」「高さが３００ｎｍ以下である凸部」「を有」することが記載されている。
　オ　第２無機膜３０８
　引用文献１の【００２７】には、「第２無機膜３０８は、有機膜３０６の光が取り出される側に、有機膜３０６と接して形成される」ことが記載されている。
　カ　上記ア〜オから、引用文献１には、「表示パネル」として、次の発明が記載されている（以下「引用発明」という。）。
「　基板３００と、マトリクス層３０２と、第１無機膜３０４と、有機膜３０６と、第２無機膜３０８と、有機接着剤３１０と、保護フィルム２０４と、を含む表示パネル２００であって、
　第１無機膜３０４、有機膜３０６、及び、第２無機膜３０８は、発光層３１６を封止する封止膜３２０を構成し、
　マトリクス層３０２は、基板３００上に形成され、アレイ層３１２と、アノード電極３１４と、発光層３１６と、カソード電極３１８と、を含んで構成され、表示画像を生成し、
　アレイ層３１２は、ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極や半導体層を含んで構成される画素トランジスタを有し、
　発光層３１６は、有機ＥＬ発光層であり、
　第１無機膜３０４は、マトリクス層３０２の上側に無機材料によって形成され、無機材料は、例えばＳｉＮ等の窒化物が用いられ、第１無機膜３０４の屈折率は、およそ１．８であり、
　第１無機膜３０４は、第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面に、高さが３００ｎｍ以下である凸部を有し、
　第２無機膜３０８は、有機膜３０６の光が取り出される側に、有機膜３０６と接して形成される、
　表示パネル２００。」
　２　対比及び判断
（１）対比
　本願発明１と引用発明を対比すると以下のとおりとなる。
　ア　有機ＥＬ表示装置
　引用発明の「表示パネル２００」は、「基板３００と、マトリクス層３０２と、第１無機膜３０４と、有機膜３０６と、第２無機膜３０８と、有機接着剤３１０と、保護フィルム２０４と、を含む」。また、引用発明の「マトリクス層３０２は、基板３００上に形成され、アレイ層３１２と、アノード電極３１４と、発光層３１６と、カソード電極３１８と、を含んで構成され、表示画像を生成し」、「アレイ層３１２は、ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極や半導体層を含んで構成される画素トランジスタを有し」、「発光層３１６は、有機ＥＬ発光層であ」る。
　画像表示に関する技術常識を考慮すると、引用発明の「表示パネル２００」が、マトリクス状に配置された多数の「画像を構成する単位領域」により「表示画像を生成し」ていることは、明らかである。また、引用発明の「発光層３１６は、有機ＥＬ発光層であ」るから、引用発明の「表示パネル２００」は、有機ＥＬ表示装置といえる。
　そうしてみると、引用発明の上記「画像を構成する単位領域」は、本願発明１の「画素」に相当する。また、引用発明の「表示パネル２００」は、本願発明１の「複数の画素を有する」とされる「有機ＥＬ表示装置」に相当する。
　イ　基板及び素子基板
　引用発明の「表示パネル２００」は、前記アで述べた構成を具備する。
　ここで、引用発明の「マトリクス層３０２」のうち、「アノード電極３１４と、発光層３１６と、カソード電極３１８」の部分は、機能的にみて「有機ＥＬ発光素子」であり、これが多数あることは明らかである。また、引用発明の「マトリクス層３０２」は、「基板３００上に形成され」、上記「有機ＥＬ発光素子」を「含んで構成され」ているから、引用発明の上記「有機ＥＬ発光素子」は「基板３００」に支持されたものである。
　そうしてみると、引用発明の「基板３００」、上記「有機ＥＬ発光素子」は、それぞれ本願発明１の「基板」、及び「前記基板に支持された複数の」とされる「有機ＥＬ素子」に相当する。また、引用発明の「基板３００」と「マトリクス層３０２」を併せたものは、本願発明１の「基板および前記基板に支持された複数の有機ＥＬ素子を有する」とされる「素子基板」に相当する。
　ウ　薄膜封止構造
　引用発明の「表示パネル２００」において、「第１無機膜３０４、有機膜３０６、及び、第２無機膜３０８は、発光層３１６を封止する封止膜３２０を構成し」ている。
　上記の構成及び有機ＥＬに関する技術常識を考慮すると、引用発明の「封止膜３２０」が、薄膜の封止構造であり、複数の前記「有機ＥＬ発光素子」を覆うことは明らかである。
　そうしてみると、引用発明の「封止膜３２０」は、本願発明１の「前記複数の有機ＥＬ素子を覆う」とされる「薄膜封止構造」に相当する。また、前記ア及びイの対比結果も考慮すると、引用発明の「表示パネル２００」は、本願発明１の「有機ＥＬ表示装置」における「素子基板と」、「薄膜封止構造とを有し」という要件を満たす。
　エ　第１無機バリア層、有機バリア層及び第２無機バリア層
　引用発明の「表示パネル２００」は、前記ウで述べた構成を具備する。また、引用発明の「第１無機膜３０４」は、「第１無機膜３０４と有機膜３０６の界面に、高さが３００ｎｍ以下である凸部を有し」ている。
　ここで、「封止膜３２０」という用語から理解される機能及び各層の材料からみて、引用発明の「第１無機膜３０４」、「有機膜３０６」及び「第２無機膜３０８」は、それぞれ本願発明１の「第１無機バリア層」、「有機バリア層」及び「第２無機バリア層」に相当する。また、引用発明の「封止膜３２０」は、その積層関係からみて、本願発明１の「薄膜封止構造」における、「第１無機バリア層と、前記第１無機バリア層上に形成された有機バリア層と、前記有機バリア層上に形成された第２無機バリア層とを有し」という要件を満たす。さらに、引用発明の「第１無機膜３０４」は、その「凸部」の大きさ及び位置関係からみて、本願発明１の「第１無機バリア層」における「前記有機バリア層に接する表面は、複数の微細な凸部を有し」という要件を満たす。
（２）一致点及び相違点
　ア　一致点
　本願発明１と引用発明は、次の構成で一致する。
　「　複数の画素を有する有機ＥＬ表示装置であって、
　基板および前記基板に支持された複数の有機ＥＬ素子を有する素子基板と、前記複数の有機ＥＬ素子を覆う薄膜封止構造とを有し、
　前記薄膜封止構造は、第１無機バリア層と、前記第１無機バリア層上に形成された有機バリア層と、前記有機バリア層上に形成された第２無機バリア層とを有し、
　前記第１無機バリア層の前記有機バリア層に接する表面は、複数の微細な凸部を有する、有機ＥＬ表示装置。」
　イ　相違点
　本願発明１と引用発明は、次の点で相違する。
（相違点１）
　「第１無機バリア層」が、本願発明１は、「ＳｉＯ２層と、前記ＳｉＯ２層上に形成されたＳｉＮ層またはＳｉＯＮ層を含」むのに対し、引用発明は、「無機材料によって形成され、無機材料は、例えばＳｉＮ等の窒化物が用いられ、第１無機膜３０４の屈折率は、およそ１．８であ」る点。
（相違点２）
　「前記第１無機バリア層の前記有機バリア層に接する表面」が、本願発明１は、「前記表面の粗さの最大高さＲｚは２０ｎｍ以上１００ｎｍ未満であって」との構成を有するとともに、「第１無機バリア層」が、本願発明１は、「厚さが２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であり、前記表面の粗さの最大高さＲｚの５倍以上である」のに対し、引用発明は、「高さが３００ｎｍ以下である凸部を有し」ているものの、その余は不明である点。
（３）判断
　相違点１について検討する。
　引用発明の「第１無機膜３０４」は、「無機材料によって形成され」るところ、「ＳｉＯ２」は、封止膜として機能し得る無機膜を形成可能な無機材料として、周知のものである。
　しかしながら、本願発明１の「第１無機バリア層」は、引用発明において、単に「無機材料」として「ＳｉＯ２」を採用したものではなく、「ＳｉＯ２層と、前記ＳｉＯ２層上に形成されたＳｉＮ層またはＳｉＯＮ層」の２層で構成されたものである。そして、このような構成は、引用文献１に記載も示唆もされていない構成である。また、引用発明の「第１無機膜３０４の屈折率は、およそ１．８であり」、これは、「カソード電極３１８」の屈折率とのマッチングを考慮したものと考えられるから、ここに屈折率が１．５程度のＳｉＯ２層を設ける動機付けがない。
　さらにすすんで検討すると、引用文献１の【０００７】には、発明が解決しようとする課題として、「表示装置の内部に屈折率の異なる層が重ねて形成されている場合、当該層の界面において光の反射が生じる。この場合、内部に形成された各層の界面において反射された光の強度だけ、表示装置の外に取り出される光の強度が減少してしまう。」ことが挙げられている。このような記載に接した当業者ならば、引用発明の「封止層３２０」の界面の数が増えることは、光の効率が不利になると考えるのが普通であるから、引用発明において、「ＳｉＮ」からなる「第１無機層３０４」の下に、あえて「ＳｉＯ２層」を設けることは、阻害要因があるともいえる。
　そして、相違点１に係る本願発明１の構成は、当審拒絶理由通知で引用した他の引用文献（引用文献２及び引用文献３）や、原査定の拒絶の理由において引用された引用文献（引用例１〜引用例４）にも記載されておらず、また、本件出願前の当業者における周知技術や技術常識でもない。
（４）小括
　以上のとおりであるから、相違点２について検討するまでもなく、本願発明１は、たとえ当業者といえども、引用文献１に記載された発明に基づいて、容易に発明をすることができたものであるということができない。
（５）本願発明２〜本願発明７について
　本願発明２〜本願発明７は、本願発明１の構成に対して、さらに他の発明特定事項を付加してなる「有機ＥＬ表示装置」であるから、いずれも、少なくとも上記相違点１に係る本願発明１の構成を具備する。
　そうしてみると、これら発明についても、たとえ当業者といえども、引用文献１に記載された発明に基づいて、容易に発明をすることができたものであるということができない。
（６）本願発明８について
　本願発明８は、「前記第１無機バリア層を形成する工程は、プラズマＣＶＤ法を用いてＳｉＮまたはＳｉＯＮを含む無機絶縁膜を堆積する工程を包含し」、「前記堆積工程は、前記素子基板の温度を上昇させる、または、プラズマエネルギーを上昇させる工程を包含する」という構成（以下「相違点４に係る本願発明８の構成」という。）を有する。
　しかしながら、引用文献１には、このような工程により「第１無機膜３０４」を製造することは記載も示唆もなく、この点は、他の文献等を考慮しても同様である。
　そうしてみると、本願発明８についても、たとえ当業者といえども、引用文献１に記載された発明に基づいて、容易に発明をすることができたものであるということができない。
（７）本願発明９について
　本願発明９は、「前記第１無機バリア層を形成する工程は、ＳｉＮまたはＳｉＯＮを含む無機絶縁膜を堆積する工程と、前記堆積工程の後に、前記無機絶縁膜の表面を酸素またはオゾンを含むガスでアッシングする工程とを包含する」という構成（以下「相違点５に係る本願発明９の構成」という。）を有する。
　しかしながら、引用文献１には、このような工程により「第１無機膜３０４」を製造することは記載も示唆もなく、この点は、他の文献等を考慮しても同様である。
　そうしてみると、本願発明９についても、たとえ当業者といえども、引用文献１に記載された発明に基づいて、容易に発明をすることができたものであるということができない。
（８）請求項１０〜請求項１５について
　本願発明１０〜本願発明１５は、本願発明８又は本願発明９の構成に対して、さらに他の発明特定事項を付加してなる「製造方法」であるから、いずれも、少なくとも相違点４に係る本願発明８の構成又は相違点５に係る本願発明９の構成を具備する。
　そうしてみると、これら発明についても、たとえ当業者といえども、引用文献１に記載された発明に基づいて、容易に発明をすることができたものであるということができない。
第３　原査定の拒絶の理由について
　前記「第２」で述べたとおりであるから、原査定の拒絶の理由によっては、本件出願を拒絶することはできない。
第４　当審拒絶理由（委任省令要件）について
　本件補正により、当審拒絶理由は解消した。
第５　むすび
　以上のとおり、原査定の拒絶の理由及び当合議体が通知した拒絶の理由によっては、本件出願を拒絶することはできない。
　また、他に本件出願を拒絶すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。