(57)【要約】  汚れの付着を防止するとともに、拭き傷の発生を防止するために、光学部品１は、基材２と、当該基材２の表面に設けられたｎ個の層に形成された反射防止膜３とを備える。この反射防止膜３は導電性を有する材料からなる第（ｎ−１）層Ｍｎ−１を有し、この第（ｎ−１）層Ｍｎ−１の表面と、当該光学部品１の表面との距離は４〜２０ｎｍである。
2008018340.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、当該基材の表面に設けられた反射防止膜とを備える光学部品であって、
前記反射防止膜は、導電性を有する材料からなる導電材料層を有し、
この導電材料層の表面と、当該光学部品の表面との距離は４〜２０ｎｍであることを特徴とする光学部品。
【請求項２】
請求の範囲第１項記載の光学部品において、
当該光学部品の表面抵抗値が、１０５ＭΩ／□未満であることを特徴とする光学部品。
【請求項３】
基材と、当該基材の表面に設けられた反射防止膜とを備える光学部品であって、
前記反射防止膜は、導電性を有する材料からなる導電材料層を、当該光学部品の表面よりも内側に有し、
当該光学部品の表面抵抗値が、１０５ＭΩ／□未満であることを特徴とする光学部品。
【請求項４】
請求の範囲第１項〜第３項の何れか一項に記載の光学部品において、
前記導電材料層の厚さは、３〜２５ｎｍであることを特徴とする光学部品。
【請求項５】
請求の範囲第４項記載の光学部品において、
前記導電材料層の厚さは、３〜１８ｎｍであることを特徴とする光学部品。
【請求項６】
請求の範囲第１項〜第５項の何れか一項に記載の光学部品において、
前記導電性を有する材料は、波長６００ｎｍの光に対して屈折率が１．５５以上の高屈折率材料であることを特徴とする光学部品。
【請求項７】
請求の範囲第６項記載の光学部品において、
前記高屈折率材料は、酸化インジューム系または酸化亜鉛系の混合材料を含有することを特徴とする光学部品。
【請求項８】
請求の範囲第１項〜第７項の何れか一項に記載の光学部品において、
前記反射防止膜は、
前記導電材料層よりも当該光学部品の表面側に、波長６００ｎｍの光に対して屈折率が１．５５未満の低屈折率材料からなる低屈折率層を有することを特徴とする光学部品。
【請求項９】
請求の範囲第８項記載の光学部品において、
前記低屈折率層の厚さは、４〜２０ｎｍであることを特徴とする光学部品。
【請求項１０】
請求の範囲第８項または第９項記載の光学部品において、
前記低屈折率層は、当該光学部品の表面に位置することを特徴とする光学部品。
【請求項１１】
請求の範囲第８項または第９項記載の光学部品において、
前記低屈折率層よりも当該光学部品の表面側に撥水コートを有することを特徴とする光学部品。
【請求項１２】
請求の範囲第８項〜第１１項の何れか一項に記載の光学部品において、
前記低屈折率材料は、酸化シリコンまたは、酸化シリコン及び酸化アルミニウムの混合材料の何れか一方を含有することを特徴とする光学部品。
【請求項１３】
請求の範囲第１項〜第１２項の何れか一項に記載の光学部品において、
前記基材は、高分子樹脂から形成されていることを特徴とする光学部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防汚性を有する光学部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光ピックアップ装置等に用いられる光学部品には、光学性能を維持する観点から、光学部品の表面に撥水性を付与して汚れの除去を容易化する撥水コートや、光学部品表面の帯電を防止して静電気による粉塵の付着を防止する防汚コート等が設けられている。また、このような防汚コートは、反射防止膜としても機能するようになっており、導電性物質からなる導電材料層を表面側から１層目や３層目などに有している（例えば、特許文献１，２参照）。
【特許文献１】特開昭５９−９０８０１号公報
【特許文献２】特公昭５３−２８２１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記の撥水コートでは、付着した汚れは容易に除去できるものの、付着自体を防止することはできない。【０００４】
一方、上記の防汚コートのうち、表面側から１層目に導電材料層を有するものでは、汚れの付着を防止することはできるものの、光学部品の表面を拭く場合などに導電材料層の表面、つまり光学部品の表面に傷が発生しやすい。特に、光学部品の本体が高分子樹脂製である場合には、導電材料層が１２０℃以下の低い基板温度で成膜されるため、防汚コートの強度が低くなり、拭き傷が発生しやすくなる。【０００５】
また、上記の防汚コートのうち、表面側から３層目に導電材料層を有するものでは、導電材料層よりも表面側に２層の非導電性層が形成されているため、光学部品表面での導電性が低くなってしまい、汚れの付着を防止するための十分な帯電防止性能が得られない場合がある。【０００６】
本発明の課題は、汚れの付着を防止するとともに、拭き傷の発生を防止することができる光学部品を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求の範囲第１項記載の発明は、基材と、当該基材の表面に設けられた反射防止膜とを備える光学部品であって、前記反射防止膜は、導電性を有する材料からなる導電材料層を有し、この導電材料層の表面と、当該光学部品の表面との距離は４〜２０ｎｍであることを特徴とする。【０００８】
請求の範囲第１項記載の発明によれば、反射防止膜は導電材料層を有し、当該導電材料層の表面と光学部品の表面との距離は４〜２０ｎｍであるので、導電材料層の表面が光学部品の表面に位置する場合と異なり、光学部品の表面を拭いた場合にも当該表面に拭き傷が発生するのを防止することができる。また、光学部品表面での導電性が確実に維持されて帯電を防止する結果、汚れの付着を防止することができる。【０００９】
なお、光学部品とは、通常レンズやプリズム、フィルター等の光学素子として使用される製品（部品）の何れであっても良い。【００１０】
請求の範囲第２項記載の発明は、請求の範囲第１項記載の光学部品において、当該光学部品の表面抵抗値が、１０５ＭΩ／□未満であることを特徴とする。【００１１】
請求の範囲第２項記載の発明によれば、光学部品の表面抵抗値が１０５ＭΩ／□未満であるので、より確実に光学部品表面での帯電を防止し、汚れの付着を防止することができる。【００１２】
なお、表面抵抗値の単位中の「□」は、スクウェアの意である。【００１３】
請求の範囲第３項記載の発明は、基材と、当該基材の表面に設けられた反射防止膜とを備える光学部品であって、前記反射防止膜は、導電性を有する材料からなる導電材料層を、当該光学部品の表面よりも内側に有し、当該光学部品の表面抵抗値が、１０５ＭΩ／□未満であることを特徴とする。【００１４】
請求の範囲第３項記載の発明によれば、反射防止膜は導電材料層を光学部品の表面よりも内側に有するので、導電材料層の表面が光学部品の表面に位置する場合と異なり、光学部品の表面を拭いた場合にも当該表面に拭き傷が発生するのを防止することができる。また、光学部品の表面抵抗値が１０５ＭΩ／□未満であるので、光学部品表面での導電性が確実に維持されて帯電を防止する結果、汚れの付着を防止することができる。【００１５】
請求の範囲第４項記載の発明は、請求の範囲第１項〜第３項の何れか一項に記載の光学部品において、前記導電材料層の厚さは、３〜２５ｎｍであることを特徴とする。【００１６】
請求の範囲第４項記載の発明によれば、導電材料層の厚さは３〜２５ｎｍであるので、より確実に光学部品表面での帯電を防止し、汚れの付着を防止することができる。【００１７】
請求の範囲第５項記載の発明は、請求の範囲第４項記載の光学部品において、前記導電材料層の厚さは、３〜１８ｎｍであることを特徴とする。【００１８】
請求の範囲第５項記載の発明によれば、導電材料層の厚さは３〜１８ｎｍであるので、より確実に光学部品表面での帯電を防止し、汚れの付着を防止することができる。【００１９】
請求の範囲第６項記載の発明は、請求の範囲第１項〜第５項の何れか一項に記載の光学部品において、前記導電性を有する材料は、波長６００ｎｍの光に対して屈折率が１．５５以上の高屈折率材料であることを特徴とする。【００２０】
請求の範囲第６項記載の発明によれば、請求の範囲第１項〜第５項の何れか一項に記載の発明と同様の効果を得ることができる。【００２１】
なお、波長６００ｎｍの光に対して屈折率が１．８以上であれば、より好ましい。【００２２】
請求の範囲第７項記載の発明は、請求の範囲第６項記載の光学部品において、前記高屈折率材料は、酸化インジューム系または酸化亜鉛系の混合材料を含有することを特徴とする。【００２３】
請求の範囲第７項記載の発明によれば、請求の範囲第６項記載の発明と同様の効果を得ることができる。【００２４】
なお、酸化インジューム系の混合材料とは、少なくとも酸化インジュームを含む混合材料であり、例えば酸化インジュームとスズとの混合材料を主成分とする材料である。また、酸化亜鉛系の混合材料とは、少なくとも酸化亜鉛を含む混合材料であり、例えば酸化亜鉛とガリウムとの混合材料を主成分とする材料である。【００２５】
また、含有するとは、一成分として含んでいても良いし、全成分として含んでいても良い。つまり、他の成分を含んでいても良いし、含んでいなくても良い。【００２６】
請求の範囲第８項記載の発明は、請求の範囲第１項〜第７項の何れか一項に記載の光学部品において、前記反射防止膜は、前記導電材料層よりも当該光学部品の表面側に、波長６００ｎｍの光に対して屈折率が１．５５未満の低屈折率材料からなる低屈折率層を有することを特徴とする。【００２７】
請求の範囲第８項記載の発明によれば、反射防止膜は導電材料層よりも光学部品の表面側に低屈折率層を有するので、当該低屈折率層によって、光学部品の反射防止機能を向上させることができる。【００２８】
請求の範囲第９項記載の発明は、請求の範囲第８項記載の光学部品において、前記低屈折率層の厚さは、４〜２０ｎｍであることを特徴とする。【００２９】
請求の範囲第９項記載の発明によれば、請求の範囲第８項記載の発明と同様の効果を得ることができる。【００３０】
請求の範囲第１０項記載の発明は、請求の範囲第８項または第９項記載の光学部品において、前記低屈折率層は、当該光学部品の表面に位置することを特徴とする。【００３１】
請求の範囲第１０項記載の発明によれば、請求の範囲第８項または第９項記載の発明と同様の効果を得ることができる。【００３２】
請求の範囲第１１項記載の発明は、請求の範囲第８項または第９項記載の光学部品において、前記低屈折率層よりも当該光学部品の表面側に撥水コートを有することを特徴とする。【００３３】
請求の範囲第１１項記載の発明によれば、低屈折率層よりも当該光学部品の表面側に撥水コートを有するので、光学部品の表面に付着した汚れの除去を容易化することができる。【００３４】
請求の範囲第１２項記載の発明は、請求の範囲第８項〜第１１項の何れか一項に記載の光学部品において、前記低屈折率材料は、酸化シリコンまたは、酸化シリコン及び酸化アルミニウムの混合材料の何れか一方を含有することを特徴とする。【００３５】
請求の範囲第１２項記載の発明によれば、請求の範囲第８項〜第１１項の何れか一項に記載の発明と同様の効果を得ることができる。【００３６】
請求の範囲第１３項記載の発明は、請求の範囲第１項〜第１２項の何れか一項に記載の光学部品において、前記基材は、高分子樹脂から形成されていることを特徴とする。【００３７】
請求の範囲第１３項記載の発明によれば、請求の範囲第１項〜第１２項の何れか一項に記載の発明と同様の効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００３８】
請求の範囲第１項記載の発明によれば、光学部品の表面に拭き傷が発生するのを防止することができる。また、汚れの付着を防止することができる。【００３９】
請求の範囲第２項記載の発明によれば、請求の範囲第１項記載の発明と同様の効果を得ることができるのは勿論のこと、より確実に汚れの付着を防止することができる。【００４０】
請求の範囲第３項記載の発明によれば、光学部品の表面に拭き傷が発生するのを防止することができる。また、汚れの付着を防止することができる。【００４１】
請求の範囲第４項記載の発明によれば、請求の範囲第１項〜第３項の何れか一項に記載の発明と同様の効果を得ることができるのは勿論のこと、より確実に汚れの付着を防止することができる。【００４２】
請求の範囲第５項記載の発明によれば、請求の範囲第４項記載の発明と同様の効果を得ることができるのは勿論のこと、より確実に汚れの付着を防止することができる。【００４３】
請求の範囲第６項記載の発明によれば、請求の範囲第１項〜第５項の何れか一項に記載の発明と同様の効果を得ることができる。【００４４】
請求の範囲第７項記載の発明によれば、請求の範囲第６項記載の発明と同様の効果を得ることができる。【００４５】
請求の範囲第８項記載の発明によれば、請求の範囲第１項〜第７項の何れか一項に記載の発明と同様の効果を得ることができるのは勿論のこと、光学部品の反射防止機能を向上させることができる。【００４６】
請求の範囲第９項記載の発明によれば、請求の範囲第８項記載の発明と同様の効果を得ることができる。【００４７】
請求の範囲第１０項記載の発明によれば、請求の範囲第８項または第９項記載の発明と同様の効果を得ることができる。【００４８】
請求の範囲第１１項記載の発明によれば、請求の範囲第８項または第９項記載の発明と同様の効果を得ることができるのは勿論のこと、光学部品の表面に付着した汚れの除去を容易化することができる。【００４９】
請求の範囲第１２項記載の発明によれば、請求の範囲第８項〜第１１項の何れか一項に記載の発明と同様の効果を得ることができる。【００５０】
請求の範囲第１３項記載の発明によれば、請求の範囲第１項〜第１２項の何れか一項に記載の発明と同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明に係る光学部品１の一例を示す図であり、図（ａ）は概略構成図、図（ｂ）は図（ａ）における円形Ｘ内の部分拡大図である。
【図２】実施例（３），比較例（１）の光学部品の反射率特性を示す図である。
【図３】実施例（１２），比較例（７）の光学部品の反射率特性を示す図である。
【図４】実施例（１５），比較例（８）の光学部品の反射率特性を示す図である。
【図５】実施例（１６），比較例（９）の光学部品の反射率特性を示す図である。
【図６】表面抵抗値の測定方法を説明するための図である。
【符号の説明】
【００５２】
１  光学部品
２  基材
３  反射防止膜
Ｍｎ−１  第（ｎ−１）層（導電材料層）
Ｍｎ  第ｎ層（低屈折率層）
【発明を実施するための最良の形態】
【００５３】
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。ただし、発明の範囲は図示例に限定されない。【００５４】
図１は、本発明に係る光学部品１の一例を示す図であり、図１（ａ）は概略構成図、図１（ｂ）は図１（ａ）における円形Ｘ内の部分拡大図である。【００５５】
この図に示すように、光学部品１は、例えば車載用ＤＶＤ装置における光ピックアップ装置の対物レンズ等として用いられるものであり、基材２を備えている。【００５６】
この基材２は、本実施の形態においては、曲面状の光学面を有している。但し、光学部品１の光学面は、平面であっても良いし、回折構造などの微細構造を有していても良い。【００５７】
また、基材２は、高分子樹脂によって形成されている。ここで、高分子樹脂としては、光学材料として一般的に用いられる透明の樹脂材料であれば特に制限はないが、光学部品としての加工性を考慮すると、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂であることが好ましい。また、特にポリオレフィン樹脂としては、環状オレフィン樹脂であるＺＥＯＮＥＸ（日本ゼオン社製）や、アペル（三井化学社製）などが好適である。このような樹脂製品として、ＺＥＯＮＥＸとしてはＺＥＯＮＥＸ３３０Ｒ（製品名）があり、アペルとしてはＡＰＬ５０１４ＤＰ（製品名）がある。但し、高分子樹脂はこれらに限るものではない。【００５８】
基材２の表面には、反射防止膜３が設けられている。なお、反射防止膜３は、基材２に対して前記光ピックアップ装置の光源側に設けられていても良いし、ＤＶＤなどの情報記録媒体側に設けられていても良いし、これら両方の側に設けられていても良い。【００５９】
この反射防止膜３は、反射防止機能を有する膜であり、ｎ個（ｎは例えば４〜７の自然数）の層Ｍ，…から構成されている。【００６０】
以下、これらの層Ｍ，…を内側から外側に向かって第１層Ｍ１〜第ｎ層Ｍｎとすると、最も外側の第ｎ層Ｍｎの厚さは４〜２０ｎｍ、第ｎ層Ｍｎよりも内側の第（ｎ−１）層Ｍｎ−１の厚さは３〜２５ｎｍ、好ましくは３〜１８ｎｍとなっている。また、第（ｎ−１）層Ｍｎ−１の表面は、光学部品１の表面から４〜２０ｎｍの深さに位置している。但し、第ｎ層Ｍｎは、光学部品１の最表面に位置していても良いし、撥水コート（図示せず）よりも内側に位置していても良い。反射防止膜３の外側に撥水コートを設ける場合には、光学部品１の表面に付着した汚れの除去を容易化することができる。なお、このような撥水コートはパーフルオロアルキルシラン、例えばＳｕｂｓｔａｎｃｅＷＲ１Ｐａｔｉｎａｌ（商品名、メルクジャパン株式会社製）を材料として形成することができる。【００６１】
また、反射防止膜３の第（ｎ−２）層Ｍｎ−２及び第ｎ層Ｍｎは低屈折率材料から形成されており、第（ｎ−１）層Ｍｎ−１は、導電性を有する高屈折率材料から形成されて導電材料層となっている。これにより、光学部品１の表面抵抗値は、１０５ＭΩ／□未満となっている。【００６２】
ここで、低屈折率材料としては、酸化シリコンまたは、酸化シリコン及び酸化アルミニウムの混合材料の何れか一方を含有するものを用いることができる。なお、このような混合材料としては、例えば、ＳｕｂｓｔａｎｃｅＬ５（商品名、メルクジャパン株式会社製）が好適である。また、酸化シリコンに混合される材料は、酸化アルミニウムに限定されるものではない。【００６３】
また、導電性を有する高屈折率材料としては、酸化インジューム系や酸化亜鉛系の混合材料を含有するもの、具体的には酸化インジュームとスズとの混合材料（ＩＴＯ）や、酸化亜鉛とガリウムとの混合材料を含有するものを用いることができる。酸化インジュームとスズとの混合材料におけるスズの混合割合は３〜１０ｗｔ％であることが好ましい。また、酸化インジュームや酸化亜鉛に混合ざれる材料は、スズやガリウムに限定されるものではない。【００６４】
なお、以上の反射防止膜３における第１層Ｍ１〜第（ｎ−３）層Ｍｎ−３の材料や厚さは、反射防止膜３が全体として反射防止機能を有する限りにおいて、任意に設計可能である。【００６５】
以上の光学部品１は、従来より公知の製造方法によって製造することができる。具体的には、例えば光学部品１の反射防止膜３や前記撥水コートは、真空蒸着法やスパッタ法、ＣＶＤ法などで成膜することができる。【００６６】
このような光学部品１によれば、反射防止膜３は第（ｎ−１）層Ｍｎ−１、つまり導電材料層の表面を内側に有し、この導電材料層と、光学部品１の表面との距離が４〜２０ｎｍであるので、導電材料層の表面が光学部品１の表面に位置する場合と異なり、光学部品１の表面を拭いた場合にも当該表面に拭き傷が発生するのを防止することができる。【００６７】
また、光学部品１表面での導電性が確実に維持されて帯電を防止する結果、汚れの付着を防止することができる。また、光学部品１の表面抵抗値が１０５ＭΩ／□未満であるので、より確実に光学部品１表面での帯電を防止し、汚れの付着を防止することができる。また、導電材料層の厚さは３〜２５ｎｍ、好ましくは３〜１８ｎｍであるので、いっそう確実に光学部品１表面での帯電を防止し、汚れの付着を防止することができる。【００６８】
また、反射防止膜３は導電材料層よりも光学部品１の表面側に第ｎ層Ｍｎ、つまり低屈折率層を有するので、当該低屈折率層によって、光学部品１の反射防止機能を向上させることができる。【００６９】
なお、上記の実施の形態においては、光学部品１を単玉の光学素子として説明したが、複数玉の光学素子としても良い。
【実施例１】
【００７０】
以下に、実施例および比較例を挙げることにより、本発明をさらに具体的に説明する。＜光学部品の構成＞
上記実施の形態における光学部品１の実施例（１）〜（１６）及び比較例（１）〜（９）として、以下の表１〜表７に示す層構成の反射防止膜や撥水コートを基材２の光学面上に設けたものを形成した。【００７１】
より詳細には、実施例（１）〜（１１）及び比較例（１）〜（６）は、ＤＶＤ及びＣＤの記録再生に使用する２波長の光束に対応している。また、実施例（１２）〜（１４）及び比較例（７）は、ＢＤ（Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ）の記録再生に使用する１波長の光束に対応している。また、実施例（１５）〜（１６）及び比較例（８）〜（９）は、ＢＤ、ＤＶＤ及びＣＤの記録再生に使用する３波長の光束に対応している。【００７２】
なお、これら実施例（１）〜（１６）及び比較例（１）〜（９）では、表に示した以外の膜が光学部品の表面側に設けられていることはないものとする。【００７３】
また、表中、各欄中段の「ｄ」は層の厚さを示しており、「ｎ」は屈折率を示している。また、「Ｌ５」材料は上述の「ＳｕｂｓｔａｎｃｅＬ５」を示している。【００７４】
【表１】
2008018340.tif 000003
【００７５】
【表２】
2008018340.tif 000004
【００７６】
【表３】
2008018340.tif 000005
【００７７】
【表４】
2008018340.tif 000006
【００７８】
【表５】
2008018340.tif 000007
【００７９】
【表６】
2008018340.tif 000008
【００８０】
【表７】
2008018340.tif 000009
【００８１】
＜反射防止性能の評価＞
上記のように形成された実施例（１）〜（１６），比較例（１）〜（９）の光学部品の分光反射率特性をレンズ反射率測定器「ＵＳＰＭ−ＲＵ」（商品名、オリンパス株式会社製）で測定し、下記の基準に従って反射防止性能を評価したところ、下記表８のような結果が得られた。【００８２】
なお、波長３５０〜１０００ｎｍの分光反射率特性において極小反射率を示す最も短い波長をλ１（ｎｍ）、この波長λ１に対応する反射率をＲｍｉｎ１（％）とし、２番目に短い波長をλ２（ｎｍ）、この波長λ２に対応する反射率をＲｍｉｎ２（％）とした場合に、各光学部品についての極小反射率Ｒｍｉｎ１，Ｒｍｉｎ２は上記表１〜表７の最下欄に示す通りである。また、各光学部品の分光反射率特性は、例えば実施例（３）では図２の「グラフ１」、比較例（１）では図２の「グラフ２」、実施例（１２）では図３の「グラフ３」、比較例（７）では図３の「グラフ４」、実施例（１５）では図４の「グラフ５」、比較例（８）では図４の「グラフ６」、実施例（１６）では図５の「グラフ７」、比較例（９）では図５の「グラフ８」に示す通りである。
（反射防止性能の評価レベル）
・実施例（１）〜（１１）及び比較例（１）〜（６）の場合
○：極小反射率の波長λ１が７５０±２０ｎｍにあり、その波長λ１の反射率Ｒｍｉｎ１が０．７％未満。光ピックアップ装置の対物レンズとして用いた場合に、情報の記録、再生において全く実用上の問題なし。
△：波長λ１が７５０±２０ｎｍにあり、反射率Ｒｍｉｎ１が０．７％以上で１％未満。記録、再生において実用上の問題なし。
×：上記○，△の基準をともに満たさない。記録、再生において実用上の問題あり。
・実施例（１２）〜（１４）及び比較例（７）の場合
○：極小反射率の波長λ１が４０５±２０ｎｍにあり、その波長λ１の反射率Ｒｍｉｎ１が０．７％未満。記録、再生において全く実用上の問題なし。
△：波長λ１が４０５±２０ｎｍにあり、反射率Ｒｍｉｎ１が０．７％以上で１．０％未満。記録、再生において実用上の問題なし。
×：上記○，△の基準をともに満たさない。記録、再生において実用上の問題あり。
・実施例（１５）〜（１６）及び比較例（８）〜（９）の場合
○：極小反射率の波長λ１が４０５±２０ｎｍにあり、その波長λ１の反射率Ｒｍｉｎ１が０．７％未満。更に、極小反射率の波長λ２が７００±５０ｎｍにあり、その波長λ２の反射率Ｒｍｉｎ２が０．７％未満。記録、再生において全く実用上の問題なし。
△：波長λ１が４０５±２０ｎｍにあり、反射率Ｒｍｉｎ１が０．７％以上で１％未満。更に、極小反射率の波長λ２が７００±５０ｎｍにあり、その波長λ２の反射率Ｒｍｉｎ２が０．７％以上で１％未満。記録、再生において実用上の問題なし。
×：上記○，△の基準をともに満たさない。記録、再生において実用上の問題あり。【００８３】
【表８】
2008018340.tif 000010
【００８４】
＜帯電防止性能の評価＞
また、実施例（１）〜（１６），比較例（１）〜（９）の光学部品として、下記の測定試料（１），（２）を作成した後、その表面抵抗値を極超絶縁計（ＳＭ−１０Ｅ型、東亜電波工業株式会社製）で実測または計算し、下記の基準に従って帯電防止性能を評価したところ、下記表９や上記表８のような結果が得られた。
（測定試料）
測定試料（１）：直径φ３０ｍｍ、厚さ３ｍｍの円盤状プラスチックテストピース
測定試料（２）：対象とする形状の光学部品
なお、これら測定試料（１），（２）の反射防止膜や撥水コートは、真空蒸着法やスパッタ法、ＣＶＤ法などを用い、反射防止膜形成装置によって同一条件で形成した。【００８５】
また、測定試料（１）は実施例（１）についてのみ作成し、測定試料（２）は実施例（１）〜（１６），比較例（１）〜（９）のそれぞれについて作成した。
（測定・計算方法）
ステップ１：表面抵抗値換算係数Ｒｓｏ／Ｒの算出
まず、上記の測定試料（１）について、反射防止膜を有する光学面の表面抵抗値Ｒｓｏ（単位：ＭΩ／□）を前記極超絶縁計で測定した。【００８６】
一方、測定試料（２）について、図６に示すように、まず、反射防止膜でコートされた光学面に銀ペースト剤などの導電性塗料で電極５ａ，５ｂを形成し、当該電極５ａ，５ｂ間の抵抗値Ｒ（単位：ＭΩ）を前記極超絶縁計６で測定した。【００８７】
そして、測定された表面抵抗値Ｒｓｏ及び抵抗値ＲからＲｓｏ／Ｒを算出し、この値を表面抵抗値換算係数とした。【００８８】
なお、以上のステップ１は実施例（１）についてのみ行った。これにより、測定試料（１）から表面抵抗値Ｒｓｏを実測してＲｓｏ＝４×１０４ＭΩ／□の結果を得た。また、測定試料（２）から抵抗値Ｒを実測してＲ＝２×１０３ＭΩの結果を得た。そして、表面抵抗値換算係数Ｒｓｏ／Ｒ＝２０の結果を得た。
ステップ２：表面抵抗値Ｒｓの測定
実施例（１）〜（１６），比較例（１）〜（９）の測定試料（２）について、上記ステップ１で使用したものと同形状・同配置の電極５ａ，５ｂを試料表面に形成した後（図６参照）、当該電極５ａ，５ｂ間の抵抗値Ｒ（単位：ＭΩ）を前記極超絶縁計６で実測し、下記の計算式により表面抵抗値Ｒｓを求めた。即ち、実施例（２）〜（１６），比較例（１）〜（９）については、測定試料（２）のみを作成して抵抗値Ｒを測定し、実施例（１）について求めた表面抵抗値換算係数Ｒｓｏ／Ｒ（＝２０）を掛けることで表面抵抗値Ｒｓを求めた。【００８９】
Ｒｓ＝Ｒ×（Ｒｓｏ／Ｒ）
なお、表面抵抗値Ｒｓや抵抗値Ｒの値は測定環境の湿度の影響を受けやすいため、上記の測定は相対湿度２０％、温度１５〜２５℃の低湿条件下で行った。
（帯電防止性能の評価レベル）
○：表面抵抗値Ｒｓが１０５ＭΩ／□未満。動的状態でも帯電防止効果あり。
△：表面抵抗値Ｒｓが１０５〜７ＭΩ／□。静的状態で帯電防止効果あり。
×：表面抵抗値Ｒｓが１０７ＭΩ／□以上。表面に静電荷が蓄積し、帯電防止効果なし。【００９０】
なお、上記の評価基準は、「帯電防止材料の最新技術と応用展開」（出版社：（株）ジーエムシー出版）に基づいて設定した。【００９１】
【表９】
2008018340.tif 000011
【００９２】
但し、上記の表９において、例えば「１０Ｅ＋ｎ」（ｎは自然数）とは、「１０ｎ」を意味する。
＜防汚性能の評価＞
また、実施例（１）〜（１６），比較例（１）〜（９）の光学部品としての上記測定試料（１），（２）の防汚による透過率変動量を測定し、下記の基準に従って防汚性能を評価したところ、上記表８のような結果が得られた。
（測定方法）
まず、従来より公知の透過率測定装置により、実施例（１）〜（１１）及び比較例（１）〜（６）では波長６５０ｎｍの光束透過率を、実施例（１２）〜（１６）及び比較例（７）〜（９）では波長４０５ｎｍの光束透過率を、それぞれ測定試料（２）を用いて測定した。次に、湿度を２０％以下に維持してタバコの煙を充満させたガラス容器の中に各実施例，比較例の測定試料（２）を配置して１週間放置した後、同様の条件で透過率を測定した。
（防汚性能の評価レベル）
○：放置後の透過率低下が１％未満。
△：放置後の透過率低下が１％以上〜２％未満。
×：放置後の透過率低下が２％以上。
＜膜強度の評価＞
また、実施例（１）〜（１６），比較例（１）〜（９）の光学部品としての上記測定試料（１），（２）の膜強度を測定し、下記の基準に従って評価したところ、上記表８のような結果が得られた。
（測定方法）
測定試料（２）の表面を、イソプロピルアルコールを染み込ませた綿棒で拭き、表面の反射防止膜または撥水コートが剥がれるまでの拭き回数を測定した。なお、拭き荷重は５〜１０ｇの間とした。また、測定は回折構造などの凸凹形状のない部分に対して行った。
（膜強度の評価レベル）
○：５０回未満で最表層の反射防止膜，撥水コートが剥がれない。
△：１０回未満で最表層の反射防止膜，撥水コートが剥がれず、５０回未満で剥がれる。×：１０回未満で最表層の反射防止膜，撥水コートが剥がれる。
＜総合評価＞
以上の結果に基づき、下記の評価レベルに従って実施例（１）〜（１６），比較例（１）〜（９）の光学部品の総合評価を行ったところ、上記表８のような結果が得られた。
（総合評価の評価レベル）
○：４項目全ての評価項目が○。実用上極めて優れている。
△：４項目中、１個のみが△で、他は全て○。実用上問題なし。
×：上記○，△の基準をともに満たさない。実用上問題あり。【００９３】
これにより、導電材料層（第（ｎ−１）層）の厚さが３ｎｍ以上、２５ｎｍ以下で、かつ導電材料層表面と光学部品の最外表面との距離が４ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の場合には、総合評価は△レベル以上となり、実用上問題のないことが分かった。【００９４】
但し、特に導電材料層の厚さが１８ｎｍより大きい場合には、実施例（７），（１１），比較例（６）に示すように、膜強度が△レベルになることが分かった。この理由は、導電材料層が金属酸化物や酸化シリコンの層と比較して膜強度、例えば硬度や緻密性、耐擦性などが低いためと考えられる。また、樹脂製の基材に導電材料層を成膜する時には、ガラス製の基材に成膜する場合と比較して基材温度を高く維持できずに導電材料層の膜強度が低くなってしまうため、導電材料層の厚さを大きくすると、その表面側に酸化シリコンなどの層を設けても反射防止膜全体の膜強度が良好に成りにくいためと考えられる。【００９５】
これに対し、導電材料層の厚さが３ｎｍ以上、１８ｎｍ以下の場合には、上記のような問題が改善され、総合評価は○レベルとなることが分かった。【００９６】
一方、導電材料層の厚さが２５ｎｍより大きい場合には、表面抵抗値は小さくなるものの、反射防止性能を良好に維持することが困難になり、また、導電材料層の表面側に酸化シリコンなどの層を設けても膜強度が向上しないことが分かった（比較例（６）参照）。【００９７】
また、導電材料層の厚さが３ｎｍ未満の場合には、表面抵抗値が大きくなり、また、蒸着条件による抵抗値の変動が大きくなる結果、帯電防止性能や防汚性能が低下することが分かった（比較例（５）参照）。【００９８】
また、導電材料層の表面側に酸化シリコン等を積層する場合に、この層の厚さが４ｎｍ未満であると、導電材料層の低い膜強度に起因して反射防止膜の膜強度を向上させることができないのに対し（比較例（２）参照）、４ｎｍ以上であると膜強度を向上させることができることが分かった（実施例（１）〜（１６）参照）。なお、実施例（７），（１１）で膜強度が△レベルに若干低下しているのは、上述のように導電材料層の層厚が１８ｎｍより大きいためであると考えられる。また、酸化シリコン等の層厚が２０ｎｍ以上であると、膜強度の向上は可能であるものの、反射防止層の表面抵抗値が大きくなり、帯電防止性能、防汚性能が低下することが分かった（比較例（３），（４）参照）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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