【事件の表示】
　特願２０１５−　　８６０１「エレクトロクロミック素子及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２８年　７月２５日出願公開、特開２０１６−１３３６４８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、２０１５年（平成２７年）１月２０日の出願であって、その手続の経緯の概要は、以下のとおりである。 
　　　平成３０年　９月１２日付け：拒絶理由通知書 
　　　平成３０年１１月１９日　　：意見書、手続補正書の提出 
　　　平成３１年　４月１７日付け：拒絶理由通知書 
　　　令和　元年　６月１２日　　：意見書、手続補正書の提出 
　　　令和　元年１０月　７日付け：拒絶査定（原査定） 
　　　令和　２年　１月１４日　　：審判請求書、手続補正書の提出
第２　令和２年１月１４日にされた手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　令和２年１月１４日にされた手続補正を却下する。
［理由］
１　本件補正の内容
　令和２年１月１４日にされた手続補正（以下「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１に記載された発明は、次のとおり補正された（下線は、補正箇所を示すために請求人が付したものである。）。
（本件補正前）
「第１の支持体上に形成した第１の電極層と、
　前記第１の電極層に対向するように設けられた第２の支持体上に形成された第２の電極層と、
　前記第１の電極層と前記第２の電極層の間に設けられた電解質層と、
　前記第１の電極層及び前記第２の電極層のいずれか一方に接するように設けられたエレクトロクロミック層と、を有するエレクトロクロミック素子であって、
　前記エレクトロクロミック層を有する側の電極層よりも低抵抗な材料からなる補助電極を、前記補助電極が前記エレクトロクロミック層を有する側の前記電極層に接するように有しており、
　前記補助電極が、前記エレクトロクロミック層を有する側の前記支持体の表面に埋設されるとともに、前記補助電極の表面及び前記エレクトロクロミック層を有する側の支持体の表面とが成す面が平滑であり、
　前記補助電極の平均幅が、５μｍ〜５０μｍであり、
　前記補助電極の平均厚みが、０．５μｍ〜１０μｍである
　ことを特徴とするエレクトロクロミック素子。」
（本件補正後）
「第１の支持体上に形成した第１の電極層と、
　前記第１の電極層に対向するように設けられた第２の支持体上に形成された第２の電極層と、
　前記第１の電極層と前記第２の電極層の間に設けられた電解質層と、
　前記第１の電極層及び前記第２の電極層のいずれか一方に接するように設けられたエレクトロクロミック層と、を有するエレクトロクロミック素子であって、
　
前記第１の支持体及び前記第２の支持体の少なくとも一方の、互いに対向する側の面に補助電極が埋設される凹部を有し、
　前記エレクトロクロミック層を有する側の電極層よりも低抵抗な材料からなる補助電極を、前記補助電極が前記エレクトロクロミック層を有する側の前記電極層に接するように有しており、
　前記補助電極が、前記エレクトロクロミック層を有する側の前記支持体の表面
に形成された凹部に
　
前記凹部のピッチが５００μｍ〜５０００μｍであり、
　前記補助電極の平均幅が、５μｍ〜５０μｍであり、
　前記補助電極の平均厚みが、０．５μｍ〜１０μｍであ
り、
　
調光眼鏡、調光ガラス、及び防眩ミラーのいずれかに用いられる
　ことを特徴とするエレクトロクロミック素子。」
２　補正の適否
　本件補正は、本件補正前の請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「第１支持体」及び「第２支持体」について、「少なくとも一方の、互いに対向する側の面に補助電極が埋設される凹部を有し」、「凹部のピッチが５００μｍ〜５０００μｍであ」るとの限定を付加し、「エレクトロクロミック素子」について「調光眼鏡、調光ガラス、及び防眩ミラーのいずれかに用いられる」との限定を付加するものであって、本件補正前の請求項１に記載された発明と本件補正後の請求項１に記載された発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるから、特許法第１７条の２第５項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明が、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか（特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか）について、以下、検討する。
（１）本件補正発明
　本件補正後の請求項１に記載された発明（以下「本件補正発明」という。）は、上記１の「（本件補正後）」に記載したとおりのものである。
（２）引用文献の記載及び引用発明
ア　原査定の拒絶の理由で引用された、本願の出願日前に頒布された刊行物である特開昭６３−１５８５２８号公報（以下、「引用文献１」という。）には、図面とともに、次の記載がある。（下線は当審が付した。以下同様。）
（ア）「［産業上の利用分野］
　本発明は
エレクトロクロミック
素子
［従来の技術］
　ＥＣ素子は、液晶表示素子（ＬＣＤ）に比して、駆動に大電流を要し、大面積のＥＣ素子では応答速度が低下したり、着色濃度が不十分になったりするという問題点を有していた。
　これは、ＥＣ素子の場合にも、少なくとも一方の電極は透明電極とせざるをえなく、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２等の透明電極を使用しているため、抵抗が高く、大面積のＥＣ素子に要求される電荷が短時間で供給できないためである。このため、この透明電極の上又は下に低抵抗の金属等の導電性材料による低抵抗導電層を積層することが提案されている。
　具体的には、基板上に低抵抗導電層を線状等に形成し、この上に透明電極を積層形成したり、逆に透明電極を形成した上に低抵抗導電層を線状等に積層形成したりする。
［発明の解決しようとする問題点］
　このような低抵抗導電層を基板上または基板上の透明電極上に形成したＥＣ素子は、低抵抗導電層が形成されていないＥＣ素子に比して、抵抗が低下するため、応答速度は向上する。
　さらに大面積のＥＣ表示素子やＥＣ調光素子では、その着消色により多くの電流が必要とされる。この要求に対して、前述の構成のＥＣ素子では、ＥＣ素子のセル内に低抵抗導電層が形成されるため、その厚みは上下の基板間での短絡の防止という点からみてあまり厚くすることはできなく、低抵抗導電層の抵抗を下げるためにはその幅を広くする必要が生じた。しかし、低抵抗導電層の幅を広くすることは不要な非表示部分を増加させることとなる。このため、表示素子においてはＥＣ素子特有の白い背景に黒い線が広い幅で見えてしまい見栄えが低下することになる。また、ＥＣ調光素子の場合には、見えない部分が増加し、やはり目ざわりなものとなる。
　なお、ＬＣＤにおいても画素数の多い高密度の表示素子においては、その引き廻しのリードが細くなるため、一部のものでは低抵抗導電層を形成しているが、必要とされる電流がＥＣ素子に比してはるかに少なく、はとんどこのような問題点を生じない。
　このため、幅は従来と同等で、抵抗値が低い低抵抗導電層が望まれていた。」
（第１頁右下欄１９行〜第２頁左下欄７行）
（イ）「　第１図は１本発明のＥＣ素子の基本的構造を示す断面図である。
　第１図において、
一方の基板１Ａ上には、透明電極２Ａ、さらにその上にＥＣ物質層３が形成され
他方の基板１Ｂ上には、電極２Ｂが形成され
これらの電極の形成された基板１Ａ、１Ｂには、溝４Ａ、４Ｂが形成され、これらの溝の中には低抵抗導電層５Ａ、５Ｂが形成されて
これらの２枚の基板１Ａ、１Ｂは、その間に電解質６を挟持するように電極面が相対向するように配置され、周辺がシール材７でシールされて
（第２頁右下欄６行〜１７行）
（ウ）「　この低抵抗導電層は、透明電極が形成される基板に形成された溝に埋め込まれ形成されたものであり、表示素子のように表示パターンがある場合には、そのパターンに合せて形成すればよいし、調光素子のように全面ベタパターンの場合には通常、線状、格子状、亀甲状等の形状に形成されればよい。
　
この低抵抗導電層の幅と厚み
は基板の厚みと要求される抵抗値とＥＣ素子の大きさとによって適宜定められればよく、幅は０．１〜１０ｍｍ程度、厚みは０．０２〜１ｍｍ程度とされればよ
　
この低抵抗導電層を形成するための溝中に埋設される導電性材料は、金属、導電ペースト等透明電極よりも低抵抗で
（第３頁右上欄４行〜１５行）
（エ）「　本発明のＥＣ素子は、特に透過型の調光素子に好適であり、両方の基板ともに溝を形成し、低抵抗導電層を形成することにより、大きな面積であっても高速で応答するＥＣ素子を容易に製造することができる。この
窓ガラス等の調光用ＥＣ素子
実施例を示し、更に詳細に説明する。
［実施例］
実施例１
　４００Ｘ８００ｍｍのガラス基板に底辺が０．５ｍｍ、深さ０．５ｍｍの逆三角形状の溝をダイアモンド砥石により１００ｍｍ間隔で８本形成した。この溝付きの基板の溝に銀ペーストをスクリーン印刷により印刷し、５１０℃で焼成して低抵抗導電層を形成した。次いで、ＩＴＯ膜を面抵抗が１０Ω／口となるように蒸着して透明電極付きの基板を製造した。
　このガラス基板のＩＴＯ膜上に、ＷＯ３を４５０ｎｍ蒸着して第１の基板を製造した。」
（第５頁右上欄１８行〜左下欄１８行）
（オ）第１図は次のものである。
（カ）上記（エ）の実施例及び第１図の記載によれば、「低抵抗導電層５Ａ」は「透明電極２Ａ」と接している。
（キ）上記記載及び図面から、引用文献１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。（括弧書きは、参考までに、記載の根拠を示したものである。）
「エレクトロクロミック素子であって、（上記（ア））
　一方の基板１Ａ上には、透明電極２Ａ、さらにその上にＥＣ物質層３が形成されており、他方の基板１Ｂ上には、電極２Ｂが形成され、（上記（イ））
　これらの電極の形成された基板１Ａ、１Ｂには、溝４Ａ、４Ｂが形成され、これらの溝の中には低抵抗導電層５Ａ、５Ｂが形成され、（上記（イ））
　低抵抗導電層５Ａは透明電極２Ａと接し、（上記（カ））
　これらの２枚の基板１Ａ、１Ｂは、その間に電解質６を挟持するように電極面が相対向するように配置され、周辺がシール材７でシールされ、（上記（イ））
　この低抵抗導電層の幅と厚みは基板の厚みと要求される抵抗値とＥＣ素子の大きさとによって適宜定められればよく、幅は０．１〜１０ｍｍ程度、厚みは０．０２〜１ｍｍ程度とされればよく、（上記（ウ））
　この低抵抗導電層を形成するための溝中に埋設される導電性材料は、金属、導電ペースト等透明電極よりも低抵抗であって、（上記（ウ））
　窓ガラス等の調光用ＥＣ素子に使用される、（上記（エ））
　エレクトロクロミック素子」
イ　原査定の拒絶の理由で引用された、本願の出願日前に頒布された刊行物である国際公開第２０１１／０２１４７０号（以下、「引用文献２」という。）には、図面とともに、次の記載がある。
（ア）「［0022］　本発明によれば、
透明絶縁体の表面に設けられた溝に金属電極膜を形成し、溝の外部にはみ出した金属電極膜を研磨により除去するようにしたため、金属電極膜と透明絶縁体の表面との段差を小さくすることができ、その上に形成される透明導電膜が段差で損傷されることがない。
透明導電性基板
・・・（中略）・・・
 ［0025］　透明導電性基板２は、図１（ａ）に示すように、透明基板２０１、金属電極膜２０３、透明導電膜２０４、及び保護膜２０５等から構成される。
［0026］　透明基板２０１は、本発明における透明絶縁体に該当し、その表面に金属電極膜２０３を形成する為の格子状の溝２０１ａが形成されている。透明基板２０１の材料としては、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、石英等の電子デバイスに使用されている硬質の材料を用いることができる。
［0027］　溝２０１ａの形成方法としては、透明基板２０１の表面にレジストをパターニングした後、エッチング法を用いて形成することができる。レジストのパターニング方法としては、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法等のダイレクトパターニング法や、フォトリソグラフィ法等を用いて形成することができる。尚、溝２０１ａのパターン形状は、格子状に限定されることなく、例えばストライプ状であってもよい。
［0028］　
金属電極膜２０３
透明基板２０１の溝２０１ａに形成され、透明導電膜２０４を低抵抗化するものであ
（イ）「［0043］　電極膜３０３としては、ＥＣＤ素子の場合は、ＩＴＯ電極上にアンチモンをドープした酸化スズ層を有する電極を用いることができる。ＥＤ素子の場合は、銀電極や銀パラジウム電極等の金属電極を用いることができる。
［0044］　尚、ＥＣＤ素子とは、電極膜の表面の酸化還元反応による光吸収状態の可逆変化を利用した
エレクトロクロミック表示素子
（ウ）「［0067］　最初に、厚み０．７ｍｍの無アルカリガラス基板の表面に、スパッタリング法を用いてＣｒを厚さ１００ｎｍで成膜した後、Ｃｒ膜をフォトリソグラフィ法を用いてパターニングした。続いて、パターン化されたＣｒ膜をレジストとして、無アルカリガラス基板をエッチングし、その表面に格子状の溝２０１ａを形成した。尚、エッチング液としては、バッファードフッ酸（ＢＨＦ）を用いた。その後、硝酸二アンモニウムセリウム（IV）と硝酸の混合液に浸漬し、レジスト（Ｃｒ膜）を除去し、格子状の溝２０１ａが形成された無アルカリガラス基板（図４（ａ）：透明基板２０１）を製作した。尚、
溝２０１ａ
幅１０μｍ、深さ２μｍ、ピッチ２００μｍ
（エ）図１は次のものである。
（オ）上記（ア）、（イ）及び（エ）によれば、引用文献２には、「エレクトロクロミック表示素子」に適用可能な「透明導電性基板」に関し、「
金属電極膜２０３」が「透明基板２０１の溝２０１ａに形成され、透明導電膜２０４を低抵抗化するものであ
（図１（ａ）及び図１（ｂ）参照。）
、その上に形成される透明導電膜が段差で損傷されることがない。
（カ）上記（ウ）によれば、引用文献２には、「溝２０１ａ」が「幅１０μｍ、深さ２μｍ、ピッチ２００μｍ」である点について記載されている。
ウ　原査定の拒絶の理由で引用された、本願の出願日前に頒布された刊行物である米国特許出願公開第２００２／００４４３３１号明細書（以下、「引用文献３」という。）には、図面とともに、次の記載がある。
（ア）「[0003] This invention relates to busbars utilized in 
electrically powered cells
electrochromic devices
（仮訳：「[0003] 本発明は、電気動力セルで利用されるバスバーに関するものである。特に、本発明は、エレクトロクロミックデバイスに使用されるエッジ及び内部バスバーに関するものである。・・・（中略）・・・」）
（イ）「[0257] As shown in FIG. 21, the “effective height” of the grid may be reduced by embedding the grid conductor partially in the TC and substrate. Internal busbar conductors 2102 are embedded in substrate 2101. The formation of internal busbar conductor 2102 may be done by any convenient way such as, for example, by etching or ablating away a desired pattern in the substrate and then depositing the desired grid material. The effective height of the grid may be reduced by embedding it partially in the glass as well as the TC. One can etch or ablate away consecutively the TC coating and the substrate, followed by depositing the desired grid material. Alternatively, one can deposit the grid onto, or embed the grid into, the glass before the TC is deposited. The portion of 
busbar conductors 2102
substrate 2101
 same plane 2103
（仮訳：「[0257] 図21に示すように、グリッドの“有効高さ”は、グリッド状の導体を部分的にTCと基板内に埋め込むことによって低減することができる。内部バスバー導体2102は基板2101内に埋設される。内部バスバー導体2102の形成は、例えば、エッチング又は基板に所望のパターンを切除する、所望のグリッド材料を堆積させることによるなど、任意の便利な方法によって行うことができる。グリッドの有効高さは、ガラスだけでなく、TCにそれを部分的に埋め込むことによって低減することができる。1つのTCコーティングおよび基板は、次いで所望のグリッド材料を堆積させることにより連続的にエッチングまたは削摩することができる。代替的に、TCが堆積される前に、またはグリッドを、ガラス上にグリッドを付着させることができる。基板2101の表面の上方にあるバスバー導電2102の一部は、その表面まで除去され、バスバー導体は実質的に同一平面2103にある。」）
（ウ）ＦＩＧ．２１は次のものである。
（エ）上記（ア）〜（ウ）によれば、引用文献３には、「electrochromic devices」（エレクトロクロミックデバイス）に適用される「electrically powered cells」（電気駆動セル）において、「busbar conductors 2102」（バスバー導体２１０２）の表面が、「substrate 2101」（基板２１０１）の「same plane 2103」（同一面２１０３）にある点について記載されている。
エ　原査定の拒絶の理由で引用された、本願の出願日前に頒布された刊行物である特開２０１０−１０８６８４号公報（以下、「引用文献４」という。）には、図面とともに、次の記載がある。
（ア）「【００１５】
　本発明によれば、
透明導電性基板
金属電極膜と透明基板との段差を、透明絶縁膜で埋めることにより、透明導電膜が該段差で損傷を受けることを防止することができ
【００１６】
　また、
このような透明導電性基板と、該透明導電性基板に対向し電解液を挟んで、基板の表面に電極膜が形成された電極基板と、を備えた構成の電気化学表示素子とすることにより、表示エリア全面渡って表示濃度が均一で表示ムラが無く
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
　以下図面に基づいて、本発明に係る透明導電性基板、及び電気化学表示素子の実施の形態を説明する。尚、本発明を図示の実施の形態に基づいて説明するが、本発明は該実施の形態に限られない。また、以下の説明において、「透明」とは、可視光域（波長４００ＮＭ〜７００ＮＭ）での透過率が７０％以上を指す。
【００１８】
　最初に本発明の実施形態に係る透明導電性基板の概略構成を図１を用いて説明する。図１は、透明導電性基板２の概略構成を示す断面模式図である。
【００１９】
　透明導電性基板２は、図１に示すように、透明基板２０１、金属電極膜２０３、透明絶縁膜２０２、透明導電膜２０４、及び樹脂膜２０６等から構成される。」
（イ）「【００３１】
　次に、本発明の実施形態に係る電気化学表示素子の構成を図４を用いて説明する。図４は、電気化学表示素子１の概略構成を示す断面模式図である。
【００３２】
　電気化学表示素子１の要部は、図２に示すように、透明導電性基板２、電極基板３、及び電解液６等から構成される。
【００３３】
　電極基板３は、基板３０１、及び基板３０１の表面に形成された電極膜３０３等から構成される。
【００３４】
　電気化学表示素子１は、観察側に透明導電性基板２が、非観察側に電極基板３が配され、透明導電性基板２の透明導電膜２０４と電極基板３の電極膜３０３とが対向するように配置されている。
【００３５】
　透明導電膜２０４と電極膜３０３との間には、
ＥＣＤ素子
（ウ）図１は次のものである。
 
（エ）図４は次のものである。
（オ）上記（ア）〜（エ）によれば、引用文献４には、「ＥＣＤ素子」に適用できる「透明導電性基板」において、「金属電極膜と透明基板との段差を、透明絶縁膜で埋めることにより、透明導電膜が該段差で損傷を受けることを防止することができ」、「このような透明導電性基板と、該透明導電性基板に対向し電解液を挟んで、基板の表面に電極膜が形成された電極基板と、を備えた構成の電気化学表示素子とすることにより、表示エリア全面渡って表示濃度が均一で表示ムラが無く」なる点について記載されている。
オ　本願の出願日前に頒布された刊行物である特開２０１０−１３４０１５号公報（以下、「引用文献５」という。）には、図面とともに、次の記載がある。
（ア）「【００１８】
以下、本発明に係る調光素子の実施例について図面を参照しつつ説明する。なお、図面は、本発明の調光素子の特徴を説明するために、強調したい部分が寸法的に拡大され、かつ、模式的に説明されている。
【００１９】
まず、本発明の
調光素子
導電ネットワーク１２
可撓性透明基板
【００２０】
ここで、各層の積層順序は、例えば、図１に示すように、可撓性透明基板１０の上に、透明導電層１１と、導電ネットワーク１２とが順次積層された積層構造体であっても、また、図２に示すように、可撓性透明基板１０の上に導電ネットワーク１２と、透明導電層１１とが順次積層された積層構造体であってもよい。
また、導電ネットワーク１２が透明導電層１１の間に介在されてサンドイッチ状となって可撓性透明基板１０の上に積層されていてもよい。
また、ＩＴＯ膜は高分子フィルムに直接成膜されていてもよいが、高分子フィルムとＩＴＯ膜との間にアンダーコート層を介在させてもよく、このようなアンダーコート層を形成することにより高分子フィルムに対する透明導電膜の密着性を高め、透明導電膜の剥離を一層防止することができる。
【００２１】
ここで、導電ネットワーク１２とは、線幅Ｗが１μｍ以上５０μｍ以下の範囲内であり、厚みｔが２００Å（０．０２μｍ）以上である線状の導電層が網目状に配列した構造体である。このような構造体は、金属の多数の帯が縦、横又は斜め等に交差して互いの交差点が電気的に接続された構造体であり、例えば、図３に示すような互いに直交した縦条と横条とから構成され、交差点が電気的に接続されている格子を含む。
【００２２】
本発明に係る導電ネットワーク１２は、金属細線が網目状に配列されて形成されているので、断線箇所が少ない場合には、周囲の他の回路が断線部位を含む駆動ユニットの補完をすることができるものである。このような観点から本発明に係る導電ネットワーク１２とは、マスク部２０の形状が正方形の格子模様である図３に示す模様に限定されず、マスク部２０の形状が長方形、六角形（ハニカム状）、三角形などの多角形が包含される。また、マスク部２０は、円形、楕円形をなどの曲線部を含む構成でもよい。
このような調光素子の一例では、図５に示すように、透明電極基板１上に酸化型若しくは還元型
エレクトロクロミック
（イ）「【００４１】
導電ネットワーク１３は、基本的には、透明電極基板としての透明性を確保しつつ、大面積の調光素子の駆動単位を小さくすること、及びそれに伴い一部の細線が断線しても他の回路から駆動電圧の補完が可能であることが必要である。細線の幅を太くすれば細線の断線の確率は低下し、また、細線の数を増やせば、細線の一部が断線した場合の迂回回路も充実して駆動電圧の補完が可能である。しかしながら、細線の幅を太くすればするほど、また、細線の数を増やせば増やすほど透明電極基板としての透明性の確保が困難となる。
本発明において、可撓性透明電極基板の全面積Ｓａに対する導電ネットワークが積層されていない部分の面積Ｓｔで定義される開口率Ａ（＝Ｓｔ／Ｓａ）が８０％以上であることが好ましい。
本発明に係る導電ネットワーク１３では、通常、１００μｍ以上のピッチＷを有している。導電ネットワーク１３の形体が互いに直交する格子模様である場合、線幅Ｄと
ピッチ
【００４２】
【表１】
」
（※当審注：【００４１】内の「導電ネットワーク１３」の記載は「導電ネットワーク１２」の誤記であると認める。）
（ウ）図２は次のものである。
（エ）図３は次のものである。
（オ）上記（ア）〜（エ）によれば、引用文献５には、「調光素子」（「エレクトロクロミック」デバイス）に適用される「可撓性透明基板」において、該「可撓性透明基板」に形成した「導電ネットワーク１２」の「ピッチ」を「５０μｍ」〜「１００００μｍ」とした点及び「線幅Ｄ」を「１μｍ」〜「５０μｍ」とした点（【００４２】【表１】参照。）について記載されている。
（３）対比
　本件補正発明と引用発明を対比する。
ア　本件補正発明の「第１の支持体上に形成した第１の電極層と、」との特定事項について
　引用発明の「基板１Ａ」及び「透明電極２Ａ」は、それぞれ、本件補正発明の「第１の支持体」及び「第１の電極層」に相当する。
　よって、引用発明は、本件補正発明の上記特定事項を備える。
イ　本件補正発明の「前記第１の電極層に対向するように設けられた第２の支持体上に形成された第２の電極層と、」との特定事項について
　引用発明の「基板１Ｂ」及び「透明電極２Ｂ」は、それぞれ、本件補正発明の「第２の支持体」及び「第２の電極層」に相当する。
　よって、引用発明は、本件補正発明の上記特定事項を備える。
ウ　本件補正発明の「前記第１の電極層と前記第２の電極層の間に設けられた電解質層と、」との特定事項について
　引用発明の「電解質６」は、本件補正発明の「電解質層」に相当する。
　よって、引用発明は、本件補正発明の上記特定事項を備える。
エ　本件補正発明の「前記第１の電極層及び前記第２の電極層のいずれか一方に接するように設けられたエレクトロクロミック層と、を有するエレクトロクロミック素子であって、」との特定事項について
　引用発明の「ＥＣ物質層３」は、本件補正発明の「エレクトロクロミック層」に相当する。また、引用発明は「基板１Ａ上には、透明電極２Ａ、さらにその上にＥＣ物質層３が形成され」るものである。
　よって、引用発明は、本件補正発明の上記特定事項を備える。
オ　本件補正発明の「前記第１の支持体及び前記第２の支持体の少なくとも一方の、互いに対向する側の面に補助電極が埋設される凹部を有し、」との特定事項について
　引用発明の「低抵抗導電層５Ａ」及び「溝４Ａ」は、それぞれ、本件補正発明の「補助電極」及び「凹部」に相当する。また、引用発明は「溝」（「溝４Ａ」）「の中に」「低抵抗導電層５Ａ」「が形成され」るものである。
　よって、引用発明は、本件補正発明の上記特定事項を備える。
カ　本件補正発明の「前記エレクトロクロミック層を有する側の電極層よりも低抵抗な材料からなる補助電極を、前記補助電極が前記エレクトロクロミック層を有する側の前記電極層に接するように有しており、」との特定事項について
　引用発明において「低抵抗導電層を形成するための溝中に埋設される導電性材料は、金属、導電ペースト等透明電極よりも低抵抗であ」るから、「ＥＣ物質層３」が形成される側の基板に形成される「低抵抗導電層５Ａ」は「透明電極２Ａ」より「低抵抗」であり、かつ、「低抵抗導電層５Ａは透明電極２Ａと接」するものである。
　よって、引用発明は、本件補正発明の上記特定事項を備える。
キ　本件補正発明の「前記補助電極が、前記エレクトロクロミック層を有する側の前記支持体の表面に形成された凹部に埋設されるとともに、前記補助電極の表面及び前記エレクトロクロミック層を有する側の支持体の表面とが成す面が平滑であり、」との特定事項について
　上記オに記載したように、引用発明は「溝」（「溝４Ａ」）「の中に」「低抵抗導電層５Ａ」「が形成され」るものであるが、引用発明の「透明電極２Ａ」の表面と「基板１Ａ」の表面が平滑であるか不明である。
　よって、引用発明は、本件補正発明の上記特定事項のうち、「前記補助電極が、前記エレクトロクロミック層を有する側の前記支持体の表面に形成された凹部に埋設され」るとの特定事項を備える。
ク　本件補正発明の「前記凹部のピッチが５００μｍ〜５０００μｍであり、」「前記補助電極の平均幅が、５μｍ〜５０μｍであり、」「前記補助電極の平均厚みが、０．５μｍ〜１０μｍであり、」との特定事項について
　引用発明において、「低抵抗導電層」の「幅は０．１〜１０ｍｍ程度、厚みは０．０２〜１ｍｍ程度」である。
　よって、引用発明は、本件補正発明の上記特定事項を備えない。
ケ　本件補正発明の「調光眼鏡、調光ガラス、及び防眩ミラーのいずれかに用いられる」との特定事項について
　引用発明は「窓ガラス等の調光用ＥＣ素子に使用される」ものである。
　よって、引用発明は、本件補正発明の上記特定事項を備える。
コ　本件補正発明の「エレクトロクロミック素子」との特定事項について
　引用発明は、本件補正発明の上記特定事項を備える。
サ　以上ア〜コにより、本件補正発明と引用発明は、下記の点で一致している。
［一致点］
「第１の支持体上に形成した第１の電極層と、
　前記第１の電極層に対向するように設けられた第２の支持体上に形成された第２の電極層と、
　前記第１の電極層と前記第２の電極層の間に設けられた電解質層と、
　前記第１の電極層及び前記第２の電極層のいずれか一方に接するように設けられたエレクトロクロミック層と、を有するエレクトロクロミック素子であって、
　前記第１の支持体及び前記第２の支持体の少なくとも一方の、互いに対向する側の面に補助電極が埋設される凹部を有し、
　前記エレクトロクロミック層を有する側の電極層よりも低抵抗な材料からなる補助電極を、前記補助電極が前記エレクトロクロミック層を有する側の前記電極層に接するように有しており、
　前記補助電極が、前記エレクトロクロミック層を有する側の前記支持体の表面に形成された凹部に埋設され、
　調光眼鏡、調光ガラス、及び防眩ミラーのいずれかに用いられる
　エレクトロクロミック素子。」
　他方、本件補正発明と引用発明は、下記の点で相違又は一応相違する。
［相違点１］
　「前記補助電極の表面及び前記エレクトロクロミック層を有する側の支持体の表面とが成す面」につき、本件補正発明においては、「平滑であ」るのに対し、引用発明においては、「平滑であ」るか不明である点
［相違点２］
　「凹部」及び「補助電極」につき、本件補正発明においては、「前記凹部のピッチが５００μｍ〜５０００μｍであり、」「前記補助電極の平均幅が、５μｍ〜５０μｍであり、」「前記補助電極の平均厚みが、０．５μｍ〜１０μｍであ」るのに対し、引用発明においては、そのような特定がなされていない点
（４）判断
　上記相違点について検討する。
ア　相違点１について
　引用文献１の第１図の記載、及び、一般的に導電性基板において透明電極が基板の平坦面に設けられる等の技術常識に照らせば、引用発明の「低抵抗導電層５Ａ」の表面と「基板１Ａ」の表面は平坦であると解するのが相当である。仮にそこまでは言えないとしても、引用文献２（上記（２）イ（オ））、引用文献３（上記（２）ウ（エ））及び引用文献４（上記（２）エ（オ））に記載されるように、エレクトロクロミック素子に適用される導電性基板において、基板上に設けられた金属電極膜の表面と該基板の表面との段差を小さくしたり（段差による金属電極膜の損傷を防ぐためには、段差がない、すなわち平坦である方が良いことは明らか。）、同一面とすることが明示されているのであるから、引用発明の「低抵抗導電層５Ａ」の表面と「基板１Ａ」の表面を平坦とすることに困難はない。その際、当該平坦な面が滑らかである方が、金属電極膜の損傷をより防ぐことができることもまた明らかであるから、「低抵抗導電層５Ａ」の表面と「基板１Ａ」の表面を「平滑」にすることは当業者にとって設計事項にすぎない。
イ　相違点２について
　引用発明における「低抵抗導電層」の「幅は０．１〜１０ｍｍ程度、厚みは０．０２〜１ｍｍ程度」であるものの、引用発明において「低抵抗導電層の幅と厚みは基板の厚みと要求される抵抗値とＥＣ素子の大きさとによって適宜定められればよ」いものである。
　一方、本件出願時に公知であった引用文献２（上記（２）イ（カ））には、「溝２０１ａ」（本件補正発明の「凹部」に相当）が「幅１０μｍ、深さ２μｍ、ピッチ２００μｍ」である点について記載され、本件出願時に公知であった引用文献５（上記（２）オ（オ））には「導電ネットワーク１２」（本件補正発明の「補助電極」に相当）の「ピッチ」が「５０μｍ」〜「１００００μｍ」である点及び「線幅Ｄ」が「１μｍ」〜「５０μｍ」である点について記載されていることから、本件出願時において導電性基板に形成される溝（及び該溝に形成される金属電極膜）のサイズをマイクロメートルのオーダーとすることは技術常識であったと言える。
　そうすると、当業者であるなら該技術常識に照らし、引用発明において「溝４Ａ」及び「低抵抗導電層５Ａ」のサイズをマイクロメーターのオーダーとすることは容易であるといえる。そして、引用文献５の【００４２】【表１】（上記（２）オ（イ））からは、「導電ネットワーク１２」の「ピッチ」について「５０μｍ」〜「１００００μｍ」の範囲で、「線幅Ｄ」について「１μｍ」〜「５０μｍ」の範囲で、当業者は様々な組み合わせを検討している事が理解でき、このような事情も考慮すれば、「凹部のピッチ」、「補助電極の平均幅」、「補助電極の平均厚み」のサイズを本件補正発明のようにしたことについても、数値の通常の最適化又は好適化にすぎない。
ウ　本件補正発明の効果について
　本件補正発明の「発色ムラがなく、応答速度の優れた、エレクトロクロミック素子を提供することができる。」（【０００９】）という効果は、「凹部」及び「補助電極」のサイズについて通常の最適化又は好適化をすることによって得られるものに過ぎず、顕著なものということはできない。
エ　請求人の主張について
　請求人は令和２年１月１４日に提出された審判請求書において、以下のように主張する。
［主張１］
「補正後の本願発明のエレクトロクロミック素子は、補助電極の平均幅が、５μｍ〜５０μｍであり、前記補助電極の平均厚みが、０．５μｍ〜１０μｍであり、補助電極が埋設される凹部のピッチが５００μｍ〜５０００μｍであることにより、エレクトロクロミック素子の応答性及び視認性を向上させると共に、エレクトロクロミック層の厚みを抑えることができるという優れた技術的効果が得られるものです（本願明細書の段落［００２６］、［００２７］参照）。このことは、本願明細書の実施例の結果から明らかに認められます。
　これに対して、本願の補助電極に相当する引用文献１の低抵抗導電層の幅は０．１〜１０ｍｍ（１００μｍ〜１０ｍｍ）程度、厚みは０．０２〜1ｍｍ（２０μｍ〜１０００μｍ）程度であると記載され（引用文献１の第３頁右上欄第６行目乃至第７行目参照）、引用文献１の実施例１では幅０．５mm（５００μｍ）、深さ０．５ｍｍ（５００μｍ）の溝、実施例３では幅１ｍｍ（１０００μｍ）、深さ０．３〜０．５ｍｍ（３００μｍ〜５００μｍ）の溝、実施例４では幅１ｍｍ（１０００μｍ）、深さ０．５ｍｍ（５００μｍ）の溝がそれぞれ設けられています。更に、引用文献１の実施例１〜７の溝（凹部）のピッチは１００ｍｍであり（引用文献１の第５頁左下欄参照）、本願発明の溝（凹部）のピッチ５００μｍ〜５０００μｍ（０．５ｍｍ〜５ｍｍ）に比べて、大幅に大きいことが明らかです。これら引用文献１の実施例は、いずれも本願の補助電極の平均幅の範囲、及び補助電極の平均厚みの範囲を満たさず、本願発明の比較例に該当し、いずれも本願発明の優れた技術的効果が得られません。
　また、引用文献２には、溝のピッチが２００μｍ（実施例１）、１００μｍ（実施例２）と記載されており、本願発明の溝（凹部）のピッチ５００μｍ〜５０００μｍ（０．５ｍｍ〜５ｍｍ）に比べて、小さいことが明らかです。
　更に、引用文献３〜４には、補助電極の平均幅が、５μｍ〜５０μｍであり、前記補助電極の平均厚みが、０．５μｍ〜１０μｍであること、補助電極が埋設される凹部のピッチが５００μｍ〜５０００μｍであること、及びこれらによる有利な効果について記載も示唆もされていません。」
（審判請求書第９頁２６行〜第１０頁２４行）
［主張２］
「これに対して、引用文献１のエレクトロクロミック素子は、大面積の表示素子や調光素子を想定しています。即ち、引用文献１の第２頁の左上欄には、「［従来の技術］ＥＣ素子は、液晶表示素子（ＬＣＤ）に比して、駆動に大電流を要し、大面積のＥＣ素子では応答速度が低下したり、着色濃度が不十分になったりするという問題点を有していた。」と記載されています。また、引用文献１の第２頁の右上欄には、「［発明の解決しようとする問題点］このような低抵抗導電層を基板上または基板上の透明電極上に形成したＥＣ素子は、低抵抗導電層が形成されていないＥＣ素子に比して抵抗が低下するため、応答速度は向上する。さらに大面積のＥＣ表示素子やＥＣ調光素子では、その着消色により多くの電流が必要となる。・・・」と記載されています。
　また、引用文献２に記載の発明は、透明導電膜を有する透明導電性基板を要するデバイスとして、大型のフラットパネルディスプレイや太陽電池を想定しており、「しかしながら、近年のＩＴＯに代表される透明導電膜においては、高い透過率を維持しながら電気抵抗を低減させることは材料固有の抵抗率の限界から難しく、大型化の一途をたどるディスプレイデバイスや太陽電池への対応が困難になりつつある」（引用文献２の段落［０００２］参照）。更に、引用文献２に記載の発明の課題は、「製造工程の複雑化と高価格化を招くことなく、高透過率と低抵抗を兼備し、信頼性の高い透明導電性基板の製造方法、透明導電性基板、及び電気化学表示素子を提供する」こと（引用文献２の段落［００１０］参照）であり、“高透過率”とあるものの、本願発明の課題である「視認性向上」については記載も示唆もされていません。したがって、
引用文献１に記載の発明と引用文献２に記載の発明とを結び付ける動機づけは存在しません。
（審判請求書第１１頁１行〜２２行）
　以下、上記主張１について検討する。
　引用発明において、本件補正発明における「凹部」及び「補助電極」の数値限定を採用する点及び該数値限定を採用することによる効果については、上記イ及びウで検討したとおりである。
　次に、上記主張２について検討する。
　請求人は「引用文献１に記載の発明と引用文献２に記載の発明とを結び付ける動機づけは存在しません。」と主張するが、引用文献２に記載された「透明導電性基板」は「エレクトロクロミック表示素子」に適用可能なものであって（上記（２）イ（イ）を参照。）、引用発明と技術分野が一致するものである。また、引用発明と引用文献２に記載された発明とは、「エレクトロクロミック表示素子に適用可能な透明導電性基板において、透明基板に溝を形成して金属電極膜（低抵抗導電層）を埋め込み、その上に形成された透明導電膜（透明電極）を低抵抗化するものである点」で作用・機能も共通している。そうすると、当業者であれば、引用発明に引用文献２に記載の技術事項を採用する動機付けがあったというべきである。
　以上の理由により、請求人の上記主張１及び主張２は採用できない。
（５）小括
　したがって、本件補正発明は、引用発明及び引用文献２ないし４に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
３　本件補正についてのむすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法１７条の２第６項において準用する同法１２６条７項の規定に違反するので、同法１５９条１項の規定において読み替えて準用する同法５３条１項の規定により却下すべきものである。 
　よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。 　　 
第３　本願発明について 
１　本願発明 
　令和２年１月１４日にされた手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、令和元年６月１２日に提出された手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜９に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、上記第２［理由］１の「（本件補正前）」に記載のとおりのものである。
２　原査定の拒絶の理由 
　原査定の拒絶の理由は、 
　本願発明は、本願の優先日前に日本国内又は外国において、頒布された刊行物である又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった文献である引用文献１ないし４に記載された発明に基づいて、本願の優先日前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない
　というものである。 
３　進歩性について
（１）引用文献の記載及び引用発明
　原査定の拒絶の理由で引用された引用文献の記載及び引用発明は、上記第２［理由］２（２）に記載したとおりである。
（２）対比・判断
　本願発明は、前記第２［理由］２で検討した本件補正発明から、「第１支持体」及び「第２支持体」について、「少なくとも一方の、互いに対向する側の面に補助電極が埋設される凹部を有し」、「凹部のピッチが５００μｍ〜５０００μｍであ」るとの限定を削除し、「エレクトロクロミック素子」について「調光眼鏡、調光ガラス、及び防眩ミラーのいずれかに用いられる」との限定を削除したものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、さらに他の事項を付加したものに相当する本件補正発明が、前記第２の［理由］２（３）、（４）に記載したとおり、引用発明及び引用文献２ないし４に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、引用発明及び引用文献２ないし４に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
第４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。