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【手続補正書】
【提出日】令和1年5月30日(2019.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の面に同一形状の成形部が形成された回転部と、
前記回転部を回転可能に支持する枠部と、
型締めにより前記複数の面のうちの一つの面と当接してキャビティを形成する第一部と、
前記型締めにより前記複数の面のうち、前記一つの面とは別の面と当接する第二部と、前記枠部に取り付けられた製造ユニットと、を備えることを特徴とする金型。
【請求項２】
前記製造ユニットはスライド部であり、前記スライド部は移動可能であり、前記移動により前記回転部に当接させることによって前記キャビティの一部を形成することを特徴とする請求項１に記載の金型。
【請求項３】
前記型締めによって前記スライド部を前記回転部に当接させる移動手段を有することを特徴とする請求項２に記載の金型。
【請求項４】
前記製造ユニットは、射出ユニットであること特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の金型。
【請求項５】
前記製造ユニットは、前記射出ユニットとともに前記回転部へ向かう方向へ移動可能な第二のスライド部と、前記射出ユニットおよび前記第二のスライド部を前記回転部へ向かう方向へ移動させる移動手段をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の金型。
【請求項６】
前記射出ユニットは、前記第二のスライド部によって形成されるキャビティに樹脂を射出することを特徴とする請求項５に記載の金型。
【請求項７】
前記第二のスライド部によって形成されるキャビティは、前記第二のスライド部と前記回転部に保持された成形部材の一部とで形成されることを特徴とする請求項６に記載の金型。
【請求項８】
前記成形部は、第一の成形部と第二の成形部を有し、前記第一の成形部および前記第二の成形部の少なくとも一方は駒部に形成されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の金型。
【請求項９】
前記製造ユニットは、前記駒部を移動させる移動手段であることを特徴とする請求項８に記載の金型。
【請求項１０】
前記製造ユニットは、前記成形部で成形される成形部材を離型させる離型手段を駆動する駆動手段であることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の金型。
【請求項１１】
前記回転部は、前記離型手段を有することを特徴とする請求項１０に記載の金型。
【請求項１２】
前記離型手段は、エジェクタピンであることを特徴とする請求項１０または１１に記載の金型。
【請求項１３】
前記駆動手段は、ソレノイドあるいはエアシリンダであることを特徴とする請求項１０から１２のいずれか１項に記載の金型。
【請求項１４】
第一の面と第二の面を当接させることでキャビティを形成する金型であって、
第一の面には、第一の成形部と第二の成形部が形成され、前記第一の成形部および前記第二の成形部の少なくとも一方は駒部に形成され、
前記駒部を移動させる移動手段を有することを特徴とする金型。
【請求項１５】
前記駒部の移動により、前記第一の成形部と前記第二の成形部とを対向させることを特徴とする請求項１４に記載の金型。
【請求項１６】
複数の面に同一形状の成形部が形成された回転部と、前記回転部を回転可能に支持する枠部と、を有する金型を用いて製造された部品を用いて物品を製造する物品の製造方法であって、
前記枠部の第一の位置に前記回転部の第一の面を移動させて成形部材を成形する工程と、
前記枠部の第二の位置に、前記成形部材が保持された回転部の第一の面を移動させて、前記枠部に取付けられた駆動手段を駆動させて前記成形部材を前記回転部から取り外すことを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１７】
複数の面に同一形状の成形部が形成された回転部と、前記回転部を回転可能に支持する枠部と、を有する金型を用いて製造された部品を用いて物品を製造する物品の製造方法であって、
前記枠部の第一の位置に前記回転部の第一の面を移動させて第一の成形部材と第二の成形部材とを成形する工程と、
前記第一の面に形成された第一の成形部材と前記第二の成形部材を、前記回転部を回転させて前記枠部の第二の位置に移動させて、前記枠部に取り付けられた射出ユニットから、前記第一の成形部材および前記第二の成形部材の少なくとも一方の一部に樹脂を射出し、前記第一の成形部材および前記第二の成形部材の少なくとも一方の一部に第三の成形部材を形成する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１８】
前記第三の成形部材を形成する工程の後、さらに前記回転部を回転させて、前記第一の面を前記枠部の第三の位置に移動させて、前記枠部に取り付けられた移動手段により、前記第二の成形部材を前記第一の成形部材上に移動させて前記第一の成形部材と前記第二の成形部材を接合させる工程を、さらに有することを特徴とする請求項１７に記載の物品の製造方法。
【請求項１９】
前記接合させる工程の後、さらに前記回転部を回転させて、前記第一の面を前記枠部の第四の位置に移動させて、前記第一の成形部材と前記第二の成形部材が接合された部材を前記第一の面から取り出すことを特徴とする請求項１８に記載の物品の製造方法。
【請求項２０】
金型の第一部に形成された成形部と、前記金型の第二部に形成された成形部と、により形成されるキャビティに樹脂を射出し固化させて離型することで、前記第二部に形成された第一の成形部材および第二の成形部材を用いて物品を製造する物品の製造方法であって、
前記第二部に形成された成形部は、第一の成形部と、駒部に形成された第二の成形部であって、
前記第一の成形部に形成された前記第一の成形部材上に、前記第二の成形部に形成された前記第二の成形部材を、前記駒部を移動させることで移動させて、前記第一の成形部材と前記第二の成形部材を接合させることを特徴とする物品の製造方法。
【請求項２１】
前記接合は、嵌合部を嵌合させることで行なうことを特徴とする請求項２０に記載の物品の製造方法。
【請求項２２】
前記接合は、前記第一の成形部材と前記第二の成形部材との間に樹脂を流し込むことにより行なうことを特徴とする請求項２０に記載の物品の製造方法。
【請求項２３】
請求項１から１５のいずれか１項に記載の金型を用いて成形された成形品を装着するための装着部を備えた画像形成装置を製造することを特徴とする画像形成装置の製造方法。
【請求項２４】
請求項１６、１７、または２０に記載の各工程を、前記金型を制御する制御装置に実行させるための制御プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】金型、物品の製造方法、および画像形成装置の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、回転する金型、その金型を用いた物品の製造方法、および画像形成装置の製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月31日(2019.1.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体にインク滴を吐出することにより画像を前記記録媒体に形成する画像形成装置であって、
それぞれが前記記録媒体にインク滴を吐出する、副走査方向に並んだ複数のノズル孔を有するヘッドと、
前記ヘッドの前記副走査方向に直交する主走査方向の移動を制御する主走査制御部と、
前記副走査方向の同一位置上で、前記複数のノズル孔を前記主走査方向にＮ回（Ｎは２以上の整数）スキャンさせるように、前記主走査制御部を制御するスキャン制御部と、
前記Ｎ回のスキャンのそれぞれ毎に、前記複数のノズル孔の前記副走査方向の位置に対応するラインの画像データから対応する画素を抽出し、抽出した前記画素の値を表す記録画素データを生成する信号生成部と、
前記記録画素データに応じた波形パターンの記録信号を出力する信号出力部と、
前記記録信号に応じて前記複数のノズル孔からインク滴を吐出させるヘッド駆動部と、
を備え、
前記信号生成部は、
前記Ｎ回のスキャンのうちの第１スキャンにおいて、前記記録媒体における前記副走査方向の第１位置に対して前記複数のノズル孔のうちの第１ノズル孔からインク滴を吐出させ、
前記Ｎ回のスキャンのうち前記第１スキャンより後の第２スキャンにおいて、前記記録媒体における前記第１位置より前記副走査方向の逆方向に戻る第２位置に対して前記複数のノズル孔のうちの前記第１ノズル孔とは異なる第２ノズル孔からインク滴を吐出させるパターンを含む前記記録画素データを生成する
画像形成装置。
【請求項２】
前記信号生成部は、連続した２回のスキャンにおいて、隣接する２つの画素に対応するインク滴が吐出されないパターンの前記記録画素データを生成する
請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記ヘッドの前記主走査方向の位置を所定間隔毎に示す位置信号を発生する主走査エンコーダと、
前記位置信号の位相をずらしたタイミング信号を生成するタイミング生成部と、
をさらに備え、
前記信号出力部は、前記記録信号を前記タイミング信号のタイミングで出力し、
前記タイミング生成部は、前記Ｎ回のスキャンのそれぞれ毎に、異なる位相の前記タイミング信号を生成する
請求項１または２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記主走査制御部は、前記ヘッドを前記主走査方向に予め定められた速度で移動させ、
前記タイミング生成部は、前記ヘッドが前記所定間隔を検出する周期より短い時間分、前記位置信号を遅延させて前記タイミング信号を生成する
請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記タイミング生成部は、前記副走査方向の同一位置上のＮ回のスキャンのそれぞれ毎に、前記位置信号の周期に対して１／Ｎ周期ずつ位相をずらした前記タイミング信号を生成する
請求項３または４に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記ヘッドは、互いに異なる色のインク滴を吐出するＮ個のノズルユニットを有し、
前記Ｎ個のノズルユニットのそれぞれは、前記副走査方向に所定距離毎に少なくとも一列に並んで配置されたＬ個（Ｌは２以上の整数）のノズル孔を含み、
前記Ｎ個のノズルユニットは、前記主走査方向に並べて配置され、
前記ヘッド駆動部は、前記副走査方向の同一位置上のＮ回のスキャンのそれぞれ毎に、異なる色の１個の前記ノズル孔からインク滴を吐出させる
請求項１から５の何れか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記ノズル孔の前記副走査方向の間隔より短い距離単位で、前記記録媒体の前記副走査方向に対する移動を制御する副走査制御部
をさらに備える請求項６に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記信号生成部は、１回のスキャンにおいて、複数の前記ノズルユニットに含まれるノズル孔を同時に用いて、前記Ｌ個のノズル孔からインク滴を吐出させるパターンの前記記録画素データを生成する
請求項６または７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
記録媒体にインク滴を吐出することにより画像を前記記録媒体に形成する画像形成装置で実行される画像形成方法であって、
前記画像形成装置は、
それぞれが前記記録媒体にインク滴を吐出する、副走査方向に並んだ複数のノズル孔を有するヘッドと、
前記ヘッドの前記副走査方向に直交する主走査方向の移動を制御する主走査制御部と、
前記副走査方向の同一位置上で、前記複数のノズル孔を前記主走査方向にＮ回（Ｎは２以上の整数）スキャンさせるように、前記主走査制御部を制御するスキャン制御部と、
前記Ｎ回のスキャンのそれぞれ毎に、前記複数のノズル孔の前記副走査方向の位置に対応するラインの画像データから対応する画素を抽出し、抽出した前記画素の値を表す記録画素データを生成する信号生成部と、
前記記録画素データに応じた波形パターンの記録信号を出力する信号出力部と、
前記記録信号に応じて前記複数のノズル孔からインク滴を吐出させるヘッド駆動部と、
を備え、
前記信号生成部が、
前記Ｎ回のスキャンのうちの第１スキャンにおいて、前記記録媒体における前記副走査方向の第１位置に対して前記複数のノズル孔のうちの第１ノズル孔からインク滴を吐出させ、
前記Ｎ回のスキャンのうち前記第１スキャンより後の第２スキャンにおいて、前記記録媒体における前記第１位置より前記副走査方向の逆方向に戻る第２位置に対して前記複数のノズル孔のうちの前記第１ノズル孔とは異なる第２ノズル孔からインク滴を吐出させるパターンを含む前記記録画素データを生成する
画像形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、記録媒体にインク滴を吐出することにより画像を前記記録媒体に形成する画像形成装置であって、それぞれが前記記録媒体にインク滴を吐出する、副走査方向に並んだ複数のノズル孔を有するヘッドと、前記ヘッドの前記副走査方向に直交する主走査方向の移動を制御する主走査制御部と、前記副走査方向の同一位置上で、前記複数のノズル孔を前記主走査方向にＮ回（Ｎは２以上の整数）スキャンさせるように、前記主走査制御部を制御するスキャン制御部と、前記Ｎ回のスキャンのそれぞれ毎に、前記複数のノズル孔の前記副走査方向の位置に対応するラインの画像データから対応する画素を抽出し、抽出した前記画素の値を表す記録画素データを生成する信号生成部と、前記記録画素データに応じた波形パターンの記録信号を出力する信号出力部と、前記記録信号に応じて前記複数のノズル孔からインク滴を吐出させるヘッド駆動部と、を備え、前記信号生成部は、前記Ｎ回のスキャンのうちの第１スキャンにおいて、前記記録媒体における前記副走査方向の第１位置に対して前記複数のノズル孔のうちの第１ノズル孔からインク滴を吐出させ、前記Ｎ回のスキャンのうち前記第１スキャンより後の第２スキャンにおいて、前記記録媒体における前記第１位置より前記副走査方向の逆方向に戻る第２位置に対して前記複数のノズル孔のうちの前記第１ノズル孔とは異なる第２ノズル孔からインク滴を吐出させるパターンを含む前記記録画素データを生成する。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月11日(2019.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撓み変形が許容される駆動領域に当該駆動領域を変形させる駆動素子が設けられた第１の基板と、
バンプ電極を介在させた状態で前記第１の基板に対して間隔を開けて配置された第２の基板と、
前記間隔を保持した状態で前記第１の基板と前記第２の基板とを接合する接着剤と、を備え、
前記接着剤は、少なくとも前記バンプ電極と前記駆動領域との間の領域に設けられたことを特徴とする電子デバイス。
【請求項２】
前記接着剤は、前記バンプ電極の両側に設けられたことを特徴とする請求項１に記載の電子デバイス。
【請求項３】
前記接着剤と前記バンプ電極とは、離間して設けられたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電子デバイス。
【請求項４】
前記バンプ電極を第１の方向に沿って複数備え、
前記接着剤は、前記第１の方向に沿って列状に設けられたことを特徴とする請求項１から請求項３の何れか一項に記載の電子デバイス。
【請求項５】
前記駆動素子を前記第１の方向に沿って複数備え、
前記接着剤は、前記第１の方向に直交する第２の方向における前記バンプ電極の両側に設けられたことを特徴とする請求項４に記載の電子デバイス。
【請求項６】
請求項１から請求項５の前記電子デバイスが設けられ、前記駆動素子を駆動させて圧力室に圧力変動を生じさせて前記圧力室に連通するノズルからインク滴を噴射する記録ヘッド。
【請求項７】
請求項６に記載の前記記録ヘッドを搭載し、記録媒体にインクを噴射して記録を行うプリンター
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子デバイス、記録ヘッド、プリンター
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、駆動領域を変形させる駆動素子が設けられた電子デバイス、記録ヘッド、プリンターに関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の電子デバイスは、上記目的を達成するために提案されたものであり、撓み変形が許容される駆動領域に当該駆動領域を変形させる駆動素子が設けられた第１の基板と、
バンプ電極を介在させた状態で前記第１の基板に対して間隔を開けて配置された第２の基板と、
前記間隔を保持した状態で前記第１の基板と前記第２の基板とを接合する接着剤と、を備え、
前記接着剤は、少なくとも前記バンプ電極と前記駆動領域との間の領域に設けられたことを特徴とする。
この構成によれば、接着剤がバンプ電極と駆動領域との間の領域に設けられているため、バンプ電極が持つ弾性復元力により、第１の基板と第２の基板との間に応力が働いたとしても、これらの基板が変形すること、特に駆動領域が変形することを抑制できる。
また、上記構成において、前記接着剤は、前記バンプ電極の両側に設けられたことが望ましい。
この構成によれば、第１の基板及び第２の基板が変形することを更に抑制できる。また、バンプ電極の両側において、当該バンプ電極に対して接着剤を対称的に配置することができる。その結果、第１の基板及び第２の基板にかかる応力の偏りを抑制でき、第１の基板及び第２の基板が変形することを一層抑制できる。
さらに、上記各構成において、前記接着剤と前記バンプ電極とは、離間して設けられたことが望ましい。
この構成によれば、バンプ電極を押し潰すことで第１の基板と第２の基板とを導通させる際に、幅方向に広がるように弾性変形したバンプ電極が接着剤と干渉することを抑制できる。すなわち、バンプ電極の潰し代を確保することができ、バンプ電極の導通不良を抑制することができる。
また、上記各構成において、前記バンプ電極を第１の方向に沿って複数備え、
前記接着剤は、前記第１の方向に沿って列状に設けられたことが望ましい。
この構成によれば、接着剤の接着面積を増加させることができる。これにより、接着強度を向上させることができ、第１の基板及び第２の基板が変形することをより一層抑制できる。
さらに、上記構成において、前記駆動素子を前記第１の方向に沿って複数備え、
前記接着剤は、前記第１の方向に直交する第２の方向における前記バンプ電極の両側に設けられたことが望ましい。
この構成によれば、接着剤の接着面積をより一層増加させることができる。これにより、接着強度を向上させることができ、第１の基板及び第２の基板が変形することをより確実に抑制できる。
さらに、上記各構成の電子デバイスが設けられ、前記駆動素子を駆動させて圧力室に圧力変動を生じさせて前記圧力室に連通するノズルからインク滴を噴射する記録ヘッドであることが望ましい。
さらに上記各構成の記録ヘッドを搭載し、記録媒体にインクを噴射して記録を行うプリンターであることが望ましい。
本発明の電子デバイスは、上記目的を達成するために提案されたものであり、撓み変形が許容される駆動領域に当該駆動領域を変形させる駆動素子が設けられた第１の基板と、
弾性を有するバンプ電極を介在させた状態で前記第１の基板に対して間隔を開けて配置された第２の基板と、
前記間隔を保持した状態で前記第１の基板と前記第２の基板とを接合する感光性接着剤と、を備え、
前記感光性接着剤は、少なくとも前記バンプ電極と前記駆動領域との間の領域に設けられたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月16日(2019.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】石膏コア、スラリー、及び石膏パネル
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固まった石膏の結晶母体と、１５６０°Ｆ（約８５０℃）で１時間加熱した際の体積膨張率が元の体積の３００％以上である高膨張粒子とを含む石膏コアであって、
前記高膨張粒子は、１０％未満のＸ−Ｙ方向の高温収縮をもたらすような量及び分布で、前記コア内に存在し、
前記石膏コアは、カバーシートの間に配置された場合に、立方フィートあたり４０ポンド（約６４０ｋｇ／ｍ３）以下の密度と、少なくとも１１ポンド（約５０Ｎ）のコア硬度とをもたらす、
ことを特徴とする石膏コア。
【請求項２】
固まった石膏の結晶母体と、１５６０°Ｆ（約８５０℃）で１時間加熱した際の体積膨張率が元の体積の３００％以上である高膨張粒子とを含む石膏コアであって、
前記高膨張粒子は、１０％以上のＺ方向の高温厚み膨張をもたらすような量及び分布で、前記コア内に存在し、
前記石膏コアは、カバーシートの間に配置された場合に、立方フィートあたり４０ポンド（約６４０ｋｇ／ｍ３）以下の密度と、少なくとも１１ポンド（約５０Ｎ）のコア硬度とをもたらす、
ことを特徴とする石膏コア。
【請求項３】
水と、１１６２から１５６５ｌｂ／ｍｓｆ（約５．７から約７．６ｋｇ／ｍ２）の量のスタッコと、前記スタッコの重量に基づいて１０重量％以下の量で存在し、１５６０°Ｆ（約８５０℃）で１時間加熱した際の体積膨張率が元の体積の３００％以上である高膨張粒子とを含有するスラリーであって、
前記スラリーは、立方フィートあたり４０ポンド（約６４０ｋｇ／ｍ３）以下の密度を有するパネル内で２つのカバーシートの間に配置される石膏コアを製造するために用いられ、
前記高膨張粒子は、１０％未満のＸ−Ｙ方向の高温収縮をもたらすような量及び分布で、前記コア内に存在する、
ことを特徴とするスラリー。
【請求項４】
水と、１１６２から１５６５ｌｂ／ｍｓｆ（約５．７から約７．６ｋｇ／ｍ２）の量のスタッコと、前記スタッコの重量に基づいて１０重量％以下の量で存在し、少なくとも５０％が３００μｍを超える平均直径を有する高膨張粒子とを含有するスラリーであって、
前記スラリーは、立方フィートあたり４０ポンド（約６４０ｋｇ／ｍ３）以下の密度を有するパネル内で２つのカバーシートの間に配置される石膏コアを製造するために用いられ、
前記高膨張粒子は、１０％未満のＸ−Ｙ方向の高温収縮をもたらすような量及び分布で、前記コア内に存在する、
ことを特徴とするスラリー。
【請求項５】
２つのカバーシートの間に配置される石膏コアを含む石膏パネルであって、
前記石膏コアは、１１６２から１５６５ｌｂ／ｍｓｆ（約５．７から約７．６ｋｇ／ｍ２）の量のスタッコと、前記スタッコの重量に基づいて１０重量％以下の量で存在し、１５６０°Ｆ（約８５０℃）で１時間加熱した際の体積膨張率が元の体積の３００％以上である高膨張粒子とを含有する混合物から形成され、
前記高膨張粒子は、１０％未満のＸ−Ｙ方向の高温収縮をもたらすような量及び分布で、前記コア内に存在し、
前記パネルは、立方フィートあたり４０ポンド（約６４０ｋｇ／ｍ３）以下の密度を有する、
ことを特徴とする石膏パネル。
【請求項６】
２つのカバーシートの間に配置される石膏コアを含む石膏パネルであって、
前記石膏コアは、１１６２から１５６５ｌｂ／ｍｓｆ（約５．７から約７．６ｋｇ／ｍ２）の量のスタッコと、前記スタッコの重量に基づいて１０重量％以下の量で存在し、１５６０°Ｆ（約８５０℃）で１時間加熱した際の体積膨張率が元の体積の３００％以上である高膨張粒子とを含有する混合物から形成され、
前記高膨張粒子は、１０％以上のＺ方向の高温厚み膨張をもたらすような量及び分布で、前記コア内に存在し、
前記パネルは、立方フィートあたり４０ポンド（約６４０ｋｇ／ｍ３）以下の密度を有する、
ことを特徴とする石膏パネル。
【請求項７】
２つのカバーシートの間に配置される石膏コアを含む石膏パネルであって、
前記石膏コアは、１１６２から１５６５ｌｂ／ｍｓｆ（約５．７から約７．６ｋｇ／ｍ２）の量のスタッコと、前記スタッコの重量に基づいて１０重量％以下の量で存在し、１５６０°Ｆ（約８５０℃）で１時間加熱した際の体積膨張率が元の体積の３００％以上である高膨張粒子と、前記スタッコの重量に基づいて３重量％以下の量のデンプンと、鉱物繊維、ガラス繊維、炭素繊維、又はこれらの組み合わせとを含有する混合物から形成され、
前記高膨張粒子は、１０％未満のＸ−Ｙ方向の高温収縮をもたらすような量及び分布で、前記コア内に存在し、
前記パネルは、立方フィートあたり４０ポンド（約６４０ｋｇ／ｍ３）以下の密度を有する、
ことを特徴とする石膏パネル。
【請求項８】
固まった石膏の結晶母体と、少なくとも５０％が３００μｍを超える平均直径を有する高膨張粒子とを含む石膏コアであって、
前記高膨張粒子は、１０％未満のＸ−Ｙ方向の高温収縮をもたらすような量及び分布で、前記コア内に存在し、
前記石膏コアは、カバーシートの間に配置された場合に、立方フィートあたり４０ポンド（約６４０ｋｇ／ｍ３）以下の密度と、少なくとも１１ポンド（約５０Ｎ）のコア硬度とをもたらす、
ことを特徴とする石膏コア。
【請求項９】
固まった石膏の結晶母体と、少なくとも５０％が３００μｍを超える平均直径を有する高膨張粒子とを含む石膏コアであって、
前記高膨張粒子は、０．２以上の高温収縮に対する高温厚み膨張の比をもたらすような量及び分布で、前記コア内に存在し、
前記石膏コアは、カバーシートの間に配置された場合に、立方フィートあたり４０ポンド（約６４０ｋｇ／ｍ３）以下の密度と、少なくとも１１ポンド（約５０Ｎ）のコア硬度とをもたらす、
ことを特徴とする石膏コア。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月15日(2019.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応チャンバ中で、触媒の存在で、そして６００〜１２００℃の温度で、炭化水素ガスの分解によってカーボンナノチューブを製造するための方法であって、以下の工程、
（ａ）電気的アーク放電によって生成される、前記触媒物質を含む蒸気を凝縮することによる、または前記触媒物質を含む有機金属化合物の分解生成物の凝縮による、該触媒物質を含み、１００ｎｍ以下、好ましくは１〜４０ｎｍの平均粒径を有するナノ粒子の予備的な調製工程；
（ｂ）キャリアガスの流れを、該触媒物質を含むナノ粒子および炭化水素ガスと混合することによって作用混合物を調製する工程；
（ｃ）４００〜１４００℃の温度の該作用混合物を、少なくとも０．０３ｍ３の体積の、少なくとも０．１ｍのその向かい合う壁の間の距離または直径を有する該反応チャンバ中に供給する工程；
（ｄ）該反応チャンバからカーボンナノチューブを、該炭化水素ガスの分解生成物の流れの中に排出する工程；
（ｅ）該炭化水素ガスの分解生成物から該カーボンナノチューブを分離する工程；
を含んでなる方法。
【請求項２】
前記カーボンナノチューブが、単層カーボンナノチューブである、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記触媒物質を含むナノ粒子の前記予備的な調製工程において、前記触媒物質を含む前記蒸気が、２つの電極間で形成される電気的アーク放電によって生成され、該電極の少なくとも一方が、前記触媒物質を含む金属で満たされた開放型容器として構成されており、かつ該電気的アーク放電の作用によって少なくとも部分的に溶融されている、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
前記触媒物質を含むナノ粒子の前記予備的な調製工程において、前記触媒物質を含む前記蒸気が、前記蒸発チャンバ中で、２つの電極間で形成される電気的アーク放電によって調製され、該電極の少なくとも一方が、前記触媒物質を含む金属で満たされた開放型容器の形態で構成されており、かつ該電気的アーク放電の作用によって少なくとも部分的に溶融されており、該チャンバは、２つの部分に分割されており、それぞれの電極は、別個の部分に配置されており、かつ該２つの部分は、渦流の形態で供給されるプラズマ形成ガスを受け入れるように、放電路によって相互連結されている、請求項１または２記載の方法。
【請求項５】
前記プラズマ形成ガスが、炭化水素ガス、または不活性ガス、または水素、または窒素、またはアンモニア、またはそれらの少なくとも２種の混合物から選択される、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記キャリアガスが、前記蒸発チャンバを通過し、そして次いで前記炭化水素ガスと混合される、請求項４または５記載の方法。
【請求項７】
前記触媒物質を含むナノ粒子の前記予備的な調製工程において、液体の前記有機金属化合物が、それを少なくともその沸点まで加熱することによって蒸発され、かつ結果として生成された蒸気が、少なくともその分解温度に加熱される、請求項１または２記載の方法。
【請求項８】
前記触媒物質を含むナノ粒子の前記予備的な調製工程において、固体の前記有機金属化合物が、それを少なくともその融点まで加熱することによって溶融され、そして次いでそれを少なくともその沸点まで加熱することによって蒸発され、そして結果として生成された蒸気が、少なくともその分解温度に加熱される、請求項１または２記載の方法。
【請求項９】
前記触媒物質を含むナノ粒子の前記予備的な調製工程において、微細な粉末の形態の前記有機金属物質が、スプレーガスと共にスプレーされ、そして次いで結果として得られた混合物を少なくともその沸点まで加熱することによって蒸発され、かつその蒸気が、少なくともその分解温度まで更に加熱することによって分解される、請求項１または２記載の方法。
【請求項１０】
前記有機金属化合物の前記蒸気が、４００〜１４００℃の温度に加熱された前記キャリアガスと混合されることによって、その分解温度に加熱される、請求項７、８または９記載の方法。
【請求項１１】
前記キャリアガスと混合する前に、前記有機金属化合物の前記蒸気が前記炭化水素ガスと予備混合される、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記炭化水素ガスが、４００℃以上の温度に予備加熱される、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
前記有機金属化合物の前記蒸気と混合された後に、前記キャリアガスが、前記炭化水素ガスと混合される、請求項１０〜１２のいずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
前記液体の有機金属化合物が、好ましくはペンタカルボニル鉄である、請求項７記載の方法。
【請求項１５】
前記固体の有機金属化合物が、フェロセン、ニッケロセンおよびコバルトセンから選択される、請求項８または９記載の方法。
【請求項１６】
前記作用混合物の前記反応チャンバ入口での供給速度が、該混合物の該反応チャンバ中の滞留時間が０．０５分間〜１００分間であるように維持される、請求項１または２記載の方法。
【請求項１７】
前記炭化水素ガスが、天然ガス、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、エチレン、プロピレン、脂肪族炭化水素、あるいは炭素原子数が１〜１０の範囲の炭化水素、または単環式または隔離されたもしくは縮合環の二環式芳香族炭化水素、およびオレフィンＣｘＨ２ｘ、ここでｘは２，３もしくは４である、またはアントラセンの蒸気もしくはアントラセンオイル、または他の炭化水素ガス、または高飽和蒸気圧を有する炭化水素、エチルアルコール、あるいはそれらの２種、３種もしくは４種以上の混合物から選択される、請求項１または２記載の方法。
【請求項１８】
前記触媒物質が、第５Ｂ族遷移金属、第６Ｂ族遷移金属、第８族遷移金属、好ましくは鉄の遷移金属の群、または２種、３種もしくは４種以上の遷移金属の混合物から選択される、請求項１または２記載の方法。
【請求項１９】
前記キャリアガスが、不活性ガス、または水素、または窒素、またはアンモニア、または炭化水素、またはアルコール蒸気、またはそれらの２種、３種もしくは４種以上の混合物から選択される、請求項１または２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月9日(2019.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の上に第１の導電体を形成し、
前記第１の導電体の上に第１の絶縁体を成膜し、
前記第１の絶縁体の上に、前記第１の絶縁体より水素を透過させにくい第２の絶縁体を成膜し、
前記第２の絶縁体の上に第３の絶縁体を成膜し、
前記第３の絶縁体の上に第１の開口を有するハードマスクを形成し、
前記ハードマスクの上に、第２の開口を有するレジストマスクを形成し、
前記レジストマスクを用いて、前記第３の絶縁体をエッチングして、前記第３の絶縁体に第３の開口を形成し、
前記レジストマスクを用いて、前記第２の絶縁体をエッチングして、前記第２の絶縁体に第４の開口を形成し、
前記レジストマスクを除去し、
前記ハードマスクを用いて、前記第１の絶縁体乃至前記第３の絶縁体をエッチングして、前記第１の絶縁体乃至前記第３の絶縁体に第５の開口を形成し、
前記第５の開口の内壁及び底面を覆うように第２の導電体を成膜し、
前記第５の開口を埋め込むように前記第２の導電体の上に第３の導電体を成膜し、
前記ハードマスク、前記第２の導電体及び前記第３の導電体に研磨処理を行って、前記ハードマスクを除去し、前記第２の導電体、前記第３の導電体及び前記第３の絶縁体の上面の高さを略一致させ、
前記第２の導電体及び前記第３の導電体の上に酸化物半導体を形成し、
前記第２の絶縁体は、前記第５の開口の縁において前記第２の導電体と接し、
前記第２の導電体は、前記第３の導電体より水素を透過させにくい導電体である半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第２の開口の幅の最大値は、前記第１の開口の幅の最小値より小さい半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１または２のいずれかにおいて、
前記第２の導電体は、タンタルと、窒素と、を含む半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第２の絶縁体は、アルミニウムと、酸素と、を含む半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月17日(2019.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に第１の導電体を形成し、
前記第１の導電体上に第１の絶縁体を形成し、
前記第１の絶縁体上に第１の開口を有する第１のハードマスクを形成し、
前記第１のハードマスクを用いて前記第１の絶縁体をエッチングして、第２の開口を有する第２の絶縁体を形成し、
前記第１の開口及び前記第２の開口を埋め込むように第２の導電体を形成し、
前記第１のハードマスク及び前記第２の導電体に研磨処理を行って、前記第２の開口に埋め込まれた第３の導電体を形成し、
前記第２の絶縁体上及び前記第３の導電体上に第４の導電体を形成し、
エッチングガスを用いて前記第４の導電体をエッチングして、第５の導電体を形成し、
前記第１のハードマスクは、前記エッチングガスを用いてエッチングすることが可能である半導体装置の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１のハードマスクは、第６の導電体と、前記第６の導電体上の第３の絶縁体と、を有する半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記第１のハードマスクと前記第４の導電体は、同種の金属元素を有する半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一において、
平面視において、前記第５の導電体と重ならない領域における前記第１のハードマスクをエッチングする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
基板上に第１の導電体を形成し、
前記第１の導電体上に第１の絶縁体を形成し、
前記第１の絶縁体上に第１のハードマスクを形成し、
前記第１のハードマスク上に第１の開口を有する第１のレジストマスクを形成し、
前記第１のレジストマスクを用いて前記第１のハードマスクをエッチングして、第２の開口を有する第２のハードマスクを形成し、
前記第１のレジストマスクを除去し、
前記第２のハードマスクを用いて前記第１の絶縁体をエッチングして、第３の開口を有する第２の絶縁体を形成し、
前記第２の開口及び前記第３の開口を埋め込むように第２の導電体を形成し、
前記第２のハードマスク及び前記第２の導電体に研磨処理を行って、前記第３の開口に埋め込まれた第３の導電体を形成し、
前記第２の絶縁体上及び前記第３の導電体上に第４の導電体を形成し、
前記第４の導電体上に第２のレジストマスクを形成し、
前記第２のレジストマスクを用いて、エッチングガスを用いて前記第４の導電体をエッチングして、第５の導電体を形成し、
前記第２のレジストマスクを除去し、
前記第２のハードマスクは、前記エッチングガスを用いてエッチングすることが可能である半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項５において、
前記第２のハードマスクは、第６の導電体と、前記第６の導電体上の第３の絶縁体と、を有する半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項５又は６において、
前記第２のハードマスクと前記第４の導電体は、同種の金属元素を有する半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項５乃至７のいずれか一において、
平面視において、前記第２のレジストマスクと重ならない領域における前記第２のハードマスクをエッチングする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月30日(2019.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】酸化物半導体膜
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｉｎと、Ｍ（ＭはＡｌ、Ｇａ、Ｙ、またはＳｎを表す。）と、Ｚｎと、を有する酸化物半導体膜であって、
前記酸化物半導体膜は、
Ｉｎ１＋ｘＭ１−ｘＯ３（ＺｎＯ）ｙ（ｘは０＜ｘ＜０．５を満たす数、ｙは概略１を表す。）構造の固溶域近傍の組成を有する、
ことを特徴とする酸化物半導体膜。
【請求項２】
請求項１において、
前記ｘが概略０．３３である、
ことを特徴とする酸化物半導体膜。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記酸化物半導体膜の前記Ｉｎ、前記Ｍ、及び前記Ｚｎの原子数の比は、
Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝４：２：３近傍であり、
前記Ｉｎが４の場合、前記Ｍが１．５以上２．５以下であり、且つ前記Ｚｎが２以上４以下である、
ことを特徴とする酸化物半導体膜。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜は、
結晶部を有し、
前記結晶部は、ｃ軸配向性を有する、
ことを特徴とする酸化物半導体膜。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜は、
水素濃度が１×１０２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ３未満である領域を有する、
ことを特徴とする酸化物半導体膜。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜は、
前記Ｉｎ、前記Ｍ、前記Ｚｎ、及びＯの合計が９９．９７ａｔｏｍｉｃ％以上である領域を有する、
ことを特徴とする酸化物半導体膜。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記酸化物半導体膜は、
Ｆｅ、Ｎｉ、及びＳｉの合計が０．０３ａｔｏｍｉｃ％未満である領域を有する、
ことを特徴とする酸化物半導体膜。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月5日(2019.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の視点の画像を取得可能な第１の取得手段と、
前記第１の取得手段により取得された複数の視点の画像に基づいて被写体の形状の情報を取得する第２の取得手段と、
前記第１の取得手段により取得された複数の視点の画像から得られる被写体の反射光の分布に基づいて、被写体の質感の情報を取得する第３の取得手段と、
前記第１乃至第３の取得手段により取得された、被写体の形状の情報と、被写体の質感の情報と、前記複数の視点の画像とを含むファイルを生成する生成手段と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記第２の取得手段は、被写体の色の情報をさらに取得することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記ファイルはメタデータを含み、該メタデータはサムネイル画像を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記ファイルはメタデータを含み、該メタデータは３Ｄプリンタに関する情報を含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記ファイルは、前記複数の視点の画像をＲＡＷデータとして含むとともに、前記被写体の形状の情報と、前記被写体の質感の情報を、メタデータとして含むことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記生成手段により生成されたファイルを記録する記録手段をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記記録手段は、被写体の形状の情報と、被写体の質感の情報とを、前記複数の視点の画像における所定の横幅、所定の縦幅、所定の奥行き方向の距離からなる１つのボクセルごとに記録することを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記記録手段は、前記質感の情報として、予め設定されたパターンとの整合が高い情報を選択して記録することを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記記録手段は、前記質感の情報のうち主たる被写体に対応する情報を前記ファイルのメタデータとして記録することを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記第３の取得手段により、被写体の質感の情報を取得するか否かを指定する指定手段をさらに備えることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記指定手段は、前記記録手段により記録された情報に基づいて３Ｄプリントを行うプリンタの特性に基づいて、被写体の質感の情報を取得するか否かを指定することを特徴とする請求項１０に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記質感の情報とは、被写体の反射特性の情報であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
前記質感の情報とは、被写体のＢＲＤＦ（Bidirectional Reflectance Distribution Function）であることを特徴とする請求項１２に記載の画像処理装置。
【請求項１４】
前記複数の視点の画像を撮像する撮像手段をさらに備え、前記複数の視点の画像を、前記撮像手段を移動させながら取得することを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１５】
前記撮像手段を移動させながら前記複数の視点の画像を取得する場合に、時間的に隣接する２つの画像が少なくとも１つの視点が重なるように画像を取得することを特徴とする請求項１４に記載の画像処理装置。
【請求項１６】
前記複数の視点の画像に存在する顔を検知する顔検知手段をさらに備え、該顔検知手段により顔であると判断された領域については、予め定められた質感の情報を付与することを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１７】
前記第３の取得手段は、被写体からの反射光の反射の方向と反射の強度とに基づいて被写体の質感の情報を取得することを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項１８】
請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の画像処理装置と、
前記画像処理装置により得られた情報に基づいてプリントを行う３Ｄプリンタと、
を備えることを特徴とする３Ｄプリントシステム。
【請求項１９】
前記第１の取得手段が画像の取得に先だって、３Ｄプリンタに関する情報を取得することを特徴とする請求項１８に記載の３Ｄプリントシステム。
【請求項２０】
前記３Ｄプリンタが前記第１の取得手段からの要求に応じて、３Ｄプリンタに関する情報を送信することを特徴とする請求項１９に記載の３Ｄプリントシステム。
【請求項２１】
前記３Ｄプリンタが前記第１の取得手段の種別に応じて、プリント方法を特定してプリントを行うことを特徴とする請求項１８乃至２０のいずれか１項に記載の３Ｄプリントシステム。
【請求項２２】
複数の視点の画像を取得する第１の取得工程と、
前記第１の取得工程により取得された複数の視点の画像に基づいて被写体の形状の情報を取得する第２の取得工程と、
前記第１の取得工程により取得された複数の視点の画像から得られる被写体の反射光の分布に基づいて、被写体の質感の情報を取得する第３の取得工程と、
前記第１乃至第３の取得工程により取得された、被写体の形状の情報と、被写体の質感の情報と、前記複数の視点の画像とを含むファイルを生成する生成工程と、
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載の画像処理方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項２４】
請求項２２に記載の画像処理方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラムを記憶したコンピュータが読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】令和1年10月10日(2019.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
コンピュータ可読記憶媒体は、コンピュータ可読プログラム製品の形を取ることができ、該コンピュータ可読プログラム製品は、１つ又は複数のコンピュータ可読媒体内で実施され、コンピュータ可読プログラム・コードを有し、該コンピュータ可読プログラム・コードは、１つ又は複数のコンピュータ可読記憶媒体上において実施され、コンピュータによって実行可能である。ここに使用されるコンピュータ可読媒体は、情報を記憶する固有の機能とその情報を取り出せる固有の機能とを備えた非一時的記憶媒体であると考えられる。コンピュータ可読記憶媒体は、例えば、電子的な、磁気的な、光学的な、電磁的な、赤外線の、又は、半導体のシステム、装置、又は、機器、あるいは、それらの任意の適切な組み合わせであってもよく、且つ、これらには限定されない。本原理を適用できるコンピュータ可読記憶媒体の更に具体的な例としては、ポータブル・コンピュータ・ディスケット、ハード・ディスク、読み出し専用メモリ（ＲＯＭ）、消去書込み可能型読み出し専用メモリ（ＥＰＲＯＭ又はフラッシュ・メモリ）、ポータブル・コンパクト・ディスク読み出し専用メモリ（ＣＤ-ＲＯＭ）、光学式記憶デバイス、磁気的記憶デバイス、あるいは、それらの任意の適切な組み合わせが挙げられるが、これらは、当業者であれば容易に
理解できるように、単なる例示であって網羅的な列挙ではない。
上述の実施形態の一部又は全部は、以下の付記のように記載され得るが、以下には限定されない。
（付記１）
インターネット・プロトコル・ネットワークを介してオーディオ／ビデオ・ストリームを受信するオーディオ／ビデオ受信装置のファスト・チャンネル・チェンジの方法において、方法が、オーディオ／ビデオ受信装置によって実施され、方法が、
チャンネル変更命令を受信することと、
新たなチャンネルに対応するオーディオ／ビデオ・ストリームのバースト配信についての要求を送信することと、
バースト配信に含まれるビデオのプレゼンテーション・タイム・スタンプの受信前のバースト配信に含まれる最新のプログラム・クロック・リファレンスとオフセットとの加算値でオーディオ／ビデオ受信装置内の復号器クロックを初期化することであって、オフセットは、バーストにおけるビデオ・フレームとそれに対応するオーディオ・フレームとの間のドリフトと、データがプレイアウト・レートでの配信に比べて超過して受信されるバースト配信の一部分の持続期間として定義されるバースト配信の超過データ配信の持続期間との関数である、初期化することと、
バースト配信の終了後にプレイアウト・レートでオーディオ／ビデオ・ストリームを受信することと、
を含むことを特徴とする、方法。
（付記２）
ドリフトは、ビデオのプレゼンテーション・タイム・スタンプと最新のプログラム・クロック・リファレンスとの差分である、付記１に記載の方法。
（付記３）
差分がバースト配信の超過データ配信の持続期間よりも短い場合は、オフセットがドリフトに等しく、その他の場合は、オフセットが超過データ配信の持続期間である、付記１又は２に記載の方法。
（付記４）
オーディオ・フレームとビデオ・フレームとの間のドリフトをモニタリングすることと、
オーディオ・フレームとビデオ・フレームとの間のドリフトが変化した場合に、復号器クロックをオーディオ・フレームとビデオ・フレームとの間のドリフトにおける変化に基づいて再初期化することと、
を更に含む、付記１から３のいずれか１項に記載の方法。
（付記５）
バースト特性をモニタリングすることと、
バースト特性が変化した場合に、復号器クロックを変化したバースト特性に基づいて再初期化することと、
を更に含む、付記１から４のいずれか１項に記載の方法。
（付記６）
オーディオ・フレームとビデオ・フレームとの間のドリフトをモニタリングすることと、
バースト特性をモニタリングすることと、
ドリフト又はバースト特性が変化した場合に、復号器クロックを、変化したドリフトに基づいて、又は、変化したバースト特性に基づいて、再初期化することと、
を更に含む、付記１から３のいずれか１項に記載の方法。
（付記７）
復号器クロックの再初期化は、オーディオ／ビデオ受信装置によって出力される動画の出現の前に行われる、付記４から６のいずれか１項に記載の方法。
（付記８）
復号器クロックはシステム・タイム・クロックである、付記１から３のいずれか１項に記載の方法。
（付記９）
オーディオ／ビデオ受信装置において、
オーディオ／ビデオ受信装置が、ビデオのプレゼンテーション・タイム・スタンプの受信前に受信された最新のプログラム・クロック・リファレンスとオフセットとの加算値でオーディオ／ビデオ受信装置の復号器クロックを初期化するように構成された復号器クロック初期化器を備え、オフセットは、バースト配信におけるオーディオ・フレームとビデオ・フレームとの間のドリフトと、データがプレイアウト・レートでの配信に比べて超過して受信されるバースト配信の一部分の持続期間として定義されるバースト配信の超過データ配信の持続期間との関数である、オーディオ／ビデオ受信装置。
（付記１０）
装置が、
チャンネル変更命令を受信するように構成されたインタフェースと、
選択されたオーディオ／ビデオ・チャンネルからのオーディオ／ビデオ・コンテンツのバースト配信についての要求を送信するように構成されたネットワーク・インタフェースと、
を更に備え、
ネットワーク・インタフェースは、バースト配信の終了前にプレイアウト・レートでの伝送からのオーディオ／ビデオ・コンテンツの受信に切り換えるように更に構成されている、付記９に記載のオーディオ／ビデオ受信装置。
（付記１１）
復号器クロック初期化器は、ドリフトを、ビデオのプレゼンテーション・タイム・スタンプと最新のプログラム・クロック・リファレンスとの差分として算出するように更に構成されている、付記９又は１０に記載のオーディオ／ビデオ受信装置。
（付記１２）
復号器クロック初期化器は、差分がバースト受信の超過データ配信の持続期間よりも短い場合は、オフセットをドリフトと等しくなるように算出するように更に構成されており、その他の場合は、オフセットは超過データ配信の持続期間である、付記９から１１のいずれか１項に記載のオーディオ／ビデオ受信装置。