(57)【要約】    投影光学系（３０）の最終レンズと被露光体（４０）との間に液体（ＬＷ）を充填して前記液体を介してレチクル（２０）のパターンを当該被露光体に露光する露光装置（１）であって、前記被露光体を駆動するステージ（４５）を有し、前記ステージの周りに遮蔽空間（ＳＳ）を形成するように前記ステージを取り囲み、且つ前記被露光体の搬出入用の開口を備える遮蔽部（８１）と、前記遮蔽部の開口を介して前記液体の蒸気が前記遮蔽空間の外に流出するのを防止するか該蒸気の外への流出量を小さくできる、ロードロック室（８３）などの装置とを設ける。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系の最終レンズと被露光体との間に液体を充填して前記液体を介してレチクルのパターンを当該被露光体に露光する露光装置であって、前記被露光体を駆動するステージと、前記ステージの周りに遮蔽空間を形成するように前記ステージを取り囲み、且つ前記被露光体の搬出入用の開口を備える遮蔽部と、前記遮蔽部の開口を介して前記液体の蒸気が前記遮蔽空間の外に流出するのを防止するか該蒸気の外への流出量を小さくする装置とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記装置は、前記被露光体を収納するポートと前記遮蔽部との間に設けられ、前記ポートから前記被露光体を受け取って前記遮蔽空間に供給すると共に内部の雰囲気を変換することが可能なロードロック室を備えることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記装置は、前記開口部にエアカーテンを形成する装置であることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
前記液体は水よりも屈折率が大きな液体であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項５】
前記液体は、可燃性の有機液体であることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記充填した液体を保持するための窒素ガス、不活性ガス又は両者の混合ガスを前記液体の周囲に流すガス供給装置を備えることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の露光装置。
【請求項７】
前記不活性ガスがアルゴンであることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記装置は、前記遮蔽空間の温度を調節する温調装置を更に有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項９】
請求項１乃至９のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被露光体を露光するステップと、
露光された前記被露光体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般には、露光装置に係り、特に、投影光学系の最終面（最終レンズ）とウェハ等の被露光体の表面との間に液体を局所的に充填し、投影光学系及び液体を介して被露光体を露光する、所謂、液浸露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レチクル（マスク）に描画された回路パターンを投影光学系によってウェハに露光する投影露光装置は従来から使用されており、近年では、高解像度の露光装置が益々要求されている。【０００３】
高解像度の要請に応えるための一手段として液浸露光が注目されている。液浸露光は、投影光学系のウェハ側の媒質を液体（液浸液）にすることによって投影光学系の開口数（ＮＡ）の増加を更に進めるものである。投影光学系のＮＡは、媒質の屈折率をｎとすると
ＮＡ＝ｎ×ｓｉｎθであるので、投影光学系とウェハとの間を空気の屈折率よりも高い屈折率（ｎ＞１）の媒質を満たすことでＮＡをｎまで大きくすることができる。そして、プロセス定数ｋ１と光源の波長λによって表される露光装置の解像度Ｒ（Ｒ＝ｋ１×（λ／
ＮＡ））を小さくしようとするものである。【０００４】
液浸露光においては、投影光学系の最終面とウェハとの間に液体を局所的に充填するローカルフィル方式が提案されている（例えば、特許文献１を参照のこと）。
【特許文献１】特表２００４−０８６４７０号公報
【発明の開示】
【０００５】
しかし、液浸露光装置においては液浸液が気化、拡散して光学系表面に付着し、光学像を劣化させる可能性がある。また、更に、拡散した液浸液の蒸気が外部に流出してクリーンルーム環境を汚染する可能性もある。これに対し、特許文献１は、ウェハステージ周囲に液浸液の蒸気の拡散を防止する囲いを設けている。しかし、囲いにはウェハが搬入及び搬出される開口が必要であり、かかる開口を通じて液浸液の蒸気が囲いの外部に拡散するおそれがある。
【０００６】
本発明は、液浸液の蒸気の拡散を防止するか小さくできる液浸露光装置を提供する。
【０００７】
本発明の一側面としての露光装置は、投影光学系の最終レンズと被露光体との間に液体を充填して前記液体を介してレチクルのパターンを当該被露光体に露光する露光装置であって、前記被露光体を駆動するステージと、前記ステージの周りに遮蔽空間を形成するように前記ステージを取り囲み、且つ前記被露光体の搬出入用の開口を備える遮蔽部と、前記遮蔽部の開口を介して前記液体の蒸気が前記遮蔽空間の外に流出するのを防止するか該蒸気の外への流出量を小さくする装置とを有することを特徴とする。
【０００８】
本発明の更に別の側面としてのデバイス製造方法は、上述の露光装置を用いて被露光体を露光するステップと、露光された前記被露光体を現像するステップとを有することを特徴とする。
【０００９】
本発明の他の目的又はその他の特徴は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施例によって明らかにされるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施例１の露光装置の構成を示す概略断面図である。
【図２】本発明の実施例２の露光装置の構成を示す概略断面図である。
【図３】本発明の実施例３の露光装置の構成を示す概略断面図である。
【図４】デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。
【図５】図４に示すステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本発明の一側面としての露光装置１について説明する。
【実施例１】
【００１２】
図１は、本発明の実施例１の露光装置１の構成を示す概略断面図である。露光装置１は、投影光学系３０とウェハ４０との間に供給される液体（液浸液）ＬＷを介して、レチクル２０に形成された回路パターンを所謂ステップ・アンド・スキャン方式でウェハ４０に露光する液浸型の投影露光装置（液浸露光装置）である。露光装置１はステップ・アンド・リピート方式にも適用することができる。【００１３】
露光装置１は、図１に示すように、照明装置１０と、レチクル２０を載置するレチクルステージ２２と、投影光学系３０と、ウェハ４０を載置するウェハステージ４５と、液体供給回収部と、ステージ制御系６０と、拡散防止装置８０とを含む。【００１４】
照明装置１０は、転写用の回路パターンが形成されたレチクル２０を照明し、光源部と、照明光学系とを有する。光源部は、本実施形態では、光源として、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザーを使用する。但し、光源部は、ＡｒＦエキシマレーザーに限定さ
れず、例えば、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー、波長約１５７ｎｍのＦ２レーザーを使用してもよい。照明光学系は、光源からの光でレチクル２０を照明する光学系である。【００１５】
レチクル２０は、図示しないレチクル搬送系により露光装置１の外部から搬送され、レチクルステージ２２に支持及び駆動される。レチクル２０は、例えば、石英製で、その上には転写されるべき回路パターンが形成されている。レチクル２０から発せられた回折光
は、投影光学系３０を通り、ウェハ４０上に投影される。レチクル２０とウェハ４０とは、光学的に共役の関係に配置される。露光装置１はスキャナーであるため、レチクル２０とウェハ４０を縮小倍率比の速度比で走査することにより、レチクル２０のパターンをウ
ェハ４０上に転写する。【００１６】
レチクルステージ２２は、レチクルステージ２２を固定するための図示しない定盤に取り付けられている。レチクルステージ２２は、図示しないレチクルチャックを介してレチクル２０を支持し、図示しない移動機構及びステージ制御系６０によって移動制御される。図示しない移動機構は、リニアモーターなどで構成され、走査方向にレチクルステージ２２を駆動することでレチクル２０を移動することができる。【００１７】
投影光学系３０は、レチクル２０に形成されたパターンを経た回折光をウェハ４０上に結像する機能を有する。投影光学系３０は、複数のレンズ素子のみからなる屈折光学系、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを有する反射屈折光学系等を使用すること
ができる。【００１８】
ウェハ４０は、図示しないウェハ搬送系により露光装置１の外部から搬送され、ウェハステージ４５に支持及び駆動される。ウェハ４０は被露光体であり、別の実施例では被露光体は液晶基板、その他の被露光体を広く含む。ウェハ４０には、フォトレジストが塗布
されている。【００１９】
同面板４４は、ウェハステージ４５に支持されたウェハ４０の表面とウェハ４０の外側の領域（ウェハステージ４５）とを同一面にするための板であり、ウェハ４０と略同一な高さを有する。また、同面板４４は、一般的に、液浸露光を行う場合に使用され、ウェハ４０の外側の領域においても液膜を形成することを可能にする。【００２０】
ウェハステージ４５は、ウェハステージ４５を固定するためのステージ定盤４８に取り付けられており、ウェハチャック４２を介してウェハ４０を支持する。【００２１】
液体供給回収部は、液体供給部５０、液体回収部５５と、液浸制御装置５８とを有する。【００２２】
液体供給部５０は、投影光学系３０とウェハ４０との間の空間又は間隙に液体ＬＷを供給する。液体供給部５０は、液体ＬＷの周囲に液体を封じ込める（保持する）ガスのカーテンを形成するための気体を供給する機能を有してもよい。【００２３】
液体が純水の場合は、このカーテンのためのガスはエアーが好ましい。液体が有機液体の場合は、このカーテンのためのガスは窒素、不活性ガス、又は両者の混合ガスである。この不活性ガスはアルゴンが好ましい。【００２４】
なお、ガスのカーテンを形成する構成は、特開２００４−２８９１２６号公報に記載されているので、ここでは説明を省略する。【００２５】
液体供給部５０は、本実施形態では、図示しない生成装置と、液体ＬＷを貯めるタンク、液体ＬＷを送り出す圧送装置、液体ＬＷの供給流量を制御する流量制御装置とを有する。また、液体ＬＷに溶解している溶存気体の脱気装置５１と、温度制御装置５２と、液体供給配管５３とを有する。液体供給部５０は、投影光学系３０の最終面の周囲に配置された液体供給口５４を介して液体ＬＷを供給し、投影光学系３０とウェハ４０との間の空間に液体ＬＷの液膜を形成する。なお、投影光学系３０とウェハ４０との間の空間は、液体ＬＷの液膜を安定に形成、且つ、除去できる程度であることが好ましく、例えば、１．０ｍｍとするとよい。【００２６】
液体ＬＷは、露光光の吸収が少ないものの中から選択され、更に、石英や蛍石などの屈折系光学素子以上の屈折率を有することが好ましい。本実施例は、液体ＬＷに、可燃性の有機液体を使用するが、本発明は、これに限定されるものではなく純水そのほかの液体でもよい。【００２７】
上記有機液体は、純水よりも屈折率が大きい液体であり、特開2006-313905号公報に記載されているものが使用できる。【００２８】
液体ＬＷは、予め、脱気装置５２を用いて溶存ガスが十分に取り除かれたものが好ましい。なぜなら、かかる液体ＬＷは、気泡の発生を抑制し、また、気泡が発生しても即座に液体中に吸収できるからである。例えば、空気中に多く含まれる窒素及び酸素を対象とし、液体ＬＷに溶存可能なガス量の８０％を除去すれば、十分に気泡の発生を抑制することができる。また、酸素は１９３ｎｍの光を吸収するため、酸素を十分に取り除いた液体ＬＷは必須である。勿論、脱気装置５１を露光装置１に備えて、常に液体ＬＷ中の溶存ガスを取り除きながら液体供給部５０に液体ＬＷを供給してもよい。【００２９】
生成装置は、図示しない原料液供給源から供給される原料液中に含まれる金属イオン、微粒子及び有機物などの不純物を低減し、液体ＬＷを生成する。生成装置により生成された液体ＬＷは、脱気装置５１に供給される。【００３０】
脱気装置５１は、液体ＬＷに脱気処理を施し、液体ＬＷの溶存酸素及び溶存窒素を低減する。脱気装置５１は、例えば、膜モジュールと真空ポンプによって構成される。脱気装置５１としては、例えば、ガス透過性の膜を隔てて、一方に液体ＬＷを流し、他方を真空
にして液体ＬＷ中の溶存ガスをその膜を介して真空中に追い出す装置が好適である。【００３１】
温度制御装置５２は、液体ＬＷを所定の温度に制御する機能を有する。【００３２】
液体供給配管５３は、脱気装置５１及び温度制御装置５２によって脱気処理及び温度制御が施された液体ＬＷを、液体供給口５４を介して投影光学系３０とウェハ４０との間の空間に供給する。【００３３】
液体回収部５５は、液体供給部５０によって供給された液体ＬＷを回収する機能を有し、本実施形態では、液体回収配管５６、回収した液体ＬＷを一時的に貯めるタンク、液体ＬＷの回収流量を制御するための流量制御装置を有する。液体回収配管５６は、液体回収口５７を介して回収する。【００３４】
液体供給口５４及び液体回収口５６は、投影光学系３０に隣接する部材に形成され、ウェハ４０に対向している。本実施例では、液体供給口５４が液体回収口５６よりも投影光学系３０の光軸に近い。液体供給口５４及び液体回収口５６は、無機材料などの多孔質部
材を嵌め込んでもよいし、スリット状の開口であってもよい。【００３５】
液体供給配管５３と液体回収配管５６は、液体ＬＷを汚染しないように、溶出物質が少ないポリテトラフルオロエチレン（ポリ四弗化エチレン）樹脂などの樹脂で構成することが好ましい。【００３６】
液浸制御装置５８は、液体供給部５０と液体回収部５５を制御し、また、後述するステージ制御装置６１とも交信する。液浸制御装置５８は、ウェハステージ４５の現在位置、速度、加速度、目標位置、移動方向といった情報をステージ制御装置６１から受けて、これらの情報に基づいて、液浸の開始や中止、流量等の制御指令を液体供給部５０や液体回収部５５に与える。【００３７】
ステージ制御系６０は、レチクルステージ２２とウェハステージ４５の移動を制御する制御系であり、ステージ制御装置６１と、一対のレーザー干渉計６２と、一対の参照ミラー６３とを有する。一対の参照ミラー６３はレチクルステージ２２とウェハステージ４５
上に搭載されている。一対のレーザー干渉計６２は、対応する参照ミラーと光学的に接続されている。【００３８】
レチクル２０とウェハ４０は、同期して走査され、レチクルステージ２２とウェハステージ４５の二次元的な位置は、一対の参照ミラー６３とレーザー干渉計６２によってリアルタイムに計測される。この計測値に基づいて、ステージ制御装置６１は、レチクルステージ２２やウェハステージ４５の位置決めや同期制御を行い、両者は一定の速度比率で駆動される。ウェハステージ４５には、ウェハ４０の上下方向（鉛直方向）の位置や回転方向、傾き調整、変更或いは制御する駆動装置（図示せず）が内蔵されている。露光時は、
この駆動装置により投影光学系３０の焦点面にウェハ４０上の露光領域が常に高精度に合致するようにウェハステージ４５が制御される。ここで、ウェハ４０上の面の位置（上下方向位置と傾き）は、不図示のフォーカスセンサによって計測され、ステージ制御装置６１に提供される。【００３９】
露光装置１本体は、不図示のチャンバー内に設置されており、露光装置１本体を取り巻く環境が所定の温度に維持される。レチクルステージ２２、ウェハステージ４５、干渉計６２を取り巻く空間や、投影光学系３０を取り巻く空間には、更に個別に温度制御された空調空気が吹き込まれて、環境温度が更に高精度に維持される。【００４０】
拡散防止装置８０（遮蔽部の開口を介して液体の蒸気が遮蔽空間の外に流出するのを防止するか蒸気の外への流出量を小さくする装置）は、ウェハ４０、同面板４４、ウェハステージ４５から液体ＬＷの蒸気が拡散することを防止する。これにより、拡散防止装置８０は、蒸発した液体ＬＷと（照明光学系や投影光学系などの）光学系、（レチクルステージ２２の移動機構などの）点火源及び作業員の接触を遮断し、光学性能の維持と安全性を高めることができる。【００４１】
拡散防止装置８０は、遮蔽部と、流出防止手段と、温調装置８５とを有する。【００４２】
遮蔽部は、ウェハステージ４５を取り囲んでウェハステージ４５の周りに遮蔽空間ＳＳを形成し、本実施例では隔壁部材８１として構成されている。遮蔽空間ＳＳはウェハ４０が露光される露光空間又は処理空間でもある。遮蔽空間ＳＳは、ステージ定盤４８上にステージの移動範囲全てを含んだ大きさで拡散防止装置８０の隔壁部材８１で形成する。天井部の部材には、投影光学系３０の鏡筒や供給配管５３や回収配管５６を設けてあるが、これらの開口から液浸液蒸気が拡散することのないように密閉処理されている。かかる構成で、ウェハステージ４５と隔壁部材８１は干渉することなく液浸液ＬＷの蒸気を遮蔽空間ＳＳ内に留めることができる。また、天井となる隔壁部材は鏡筒定盤（不図示）を流用してもよい。レーザー干渉計６２及び参照ミラー６３も遮蔽空間ＳＳ内に設けてあるため、
液浸液蒸気の揺らぎによる位置計測誤差は小さい。【００４３】
拡散防止装置は、遮蔽部に形成されたウェハ４０の搬出入用のゲートバルブ８２を介して遮蔽空間ＳＳの外部に液体ＬＷの蒸気が流出することを防止する。本実施例では、流出防止手段はロードロック室８３として構成される。ロードロック室８３は、ウェハ４０を収納する図示しないポートと遮蔽空間ＳＳとの間に設けられる。ロードロック室８３は、ポートからウェハ４０を受け取って遮蔽空間ＳＳに供給すると共に内部の雰囲気ＩＡを変換する。ロードロック室８３は、気体供給装置８４ａと気体回収装置８４ｂとを有する。【００４４】
ウェハ４０の搬入時には、気体供給装置８４ａから、例えば、窒素を供給し、気体回収装置８４ｂで窒素を回収しながら、ロードロック室８３内を窒素でパージする。その後、ポートとの接続部であるドア８３ａを開けてウェハ４０をロードロック室８３内へ挿入し、ドア８３ａを閉め、再び気体供給装置８４ａ及び気体回収装置８４ｂを用いてロードロック室８３内を窒素雰囲気とする。その後、ゲートバルブ８２を開けてウェハ４０をチャック４２上に搬入する。【００４５】
ウェハ４０の搬出時には、ゲートバルブ８２を開け、ロードロック室８３に露光済みのウェハ４０を入れる。続いてゲートバルブ８２を閉じ、ロードロック室８３内を窒素パージして有機溶剤蒸気を含む気体を窒素で置換する。続いて、ドア８３ａを開けてウェハ４０を搬出する。このような動作を行うことで、遮蔽空間ＳＳの外部に液浸液ＬＷの蒸気が流出することはない。ロードロック室８３において置換する気体は不活性ガス等が用いることができる。また、気体回収装置８４ｂは、液浸液ＬＷの蒸気を除去するための装置、例えば、吸着フィルタ（不図示）を有する。このような装置を組み込むことで環境を汚染することがなくなる。また、露光装置１の生産性確保のためには、ロードロック室８３でウェハ４０の搬入出が同時に取り扱える構成が好ましい。【００４６】
遮蔽空間ＳＳ内では、ステージ駆動部などからの熱による温度上昇が予想される。温調装置８５は、遮蔽空間ＳＳの温度を所定の温度に維持する機能を有する。本実施例の温調装置８５は、温調された不活性ガス、例えば、窒素、遮蔽空間ＳＳへ導入することで遮蔽空間ＳＳの温度を所定の温度に維持し、気体供給部と気体回収部とを有する。気体供給部は、温調された気体を供給する供給装置８５ａと、かかる気体を供給装置８５ａから遮蔽空間ＳＳに導入する供給管８５ｂとを有する。気体回収部はかかる気体を回収する回収装置８５ｃと、かかる気体を遮蔽空間ＳＳから回収装置８５ｃに導入する回収管８５ｄとを有する。回収装置８５ｄには、液浸液蒸気を除去する装置、例えば、吸着フィルタ（不図示）が組み込まれている。このような装置を組み込むことで環境を汚染することがなくなる。また、遮蔽空間ＳＳからの気体の回収は自然排気でもよい。代替的に、回収装置２８５ｄに吸気のためのファンなどを設け、供給装置８５ａと回収装置８５ｄの間で気体の流量を制御する制御装置（不図示）を設け、流量制御して温調された気体を流してもよい。
このような構成にすることで、温度制御性などがより向上し、露光精度の向上が向上する。
【実施例２】
【００４７】
図２は、本発明の実施例２の露光装置１Ａの概略断面図である。実施例１と同様の部材には同一の参照符号を付している。露光装置１Ａは、拡散防止装置（遮蔽部の開口を介して液体の蒸気が遮蔽空間の外に流出するのを防止するか蒸気の外への流出量を小さくする装置）にエアカーテン形成手段８６を使用している点が露光装置１と相違する。【００４８】
エアカーテン形成手段８６は、エアカーテンをウェハ４０の搬出入の開口部に形成する。エアカーテン方式は、実施例１の拡散防止装置よりも機構が簡単でウェハ４０の搬出入の時間が短くて済むため生産性の向上が期待できる。更に、この方式は機構の小型が容易であり、露光装置１の大型化を抑制できる。エアカーテンは、温調装置８５の気体供給回収量に影響を与えないように供給量が制御される。エアカーテンは、温調装置８５と同様に、温調された気体の供給及び回収の流量の制御装置（不図示）を設けることが望ましい。また、遮蔽空間ＳＳの機密性を向上させ、液浸液蒸気の拡散をより防ぐために、２重のエアカーテンを形成することが好ましい。このため、本実施例のエアカーテン形成手段８６は、一対の気体供給管８６ａと一対の気体回収管８６ｂとを有する。
【実施例３】
【００４９】
図３は、本発明の実施例３の露光装置１Ｂの概略断面図である。露光装置１Ｂは、液体供給口５４及び液体回収口５７の外周に拡散防止装置８０Ｂを配置し、液体ＬＷの蒸気を投影光学系３０の最終レンズ（ウェハ４０と最も近く対向しているレンズ）周辺の外側に漏らさない構成となっている。【００５０】
拡散防止装置８０Ｂは、液体供給口５４及び液体回収口５７の外周に設けられたリング状の突起であり、ウェハ４０又は同面板４４と微小な隙間（好ましくは、０．１ｍｍ以下）でステージ空間と遮蔽空間ＳＳが空間的にほぼ分離されるように設計される。【００５１】
この空間的分離は、ステージの水平方向の移動範囲（所謂XY平面内での移動範囲）内で維持されるように設計される。したがって、ステージに対するウエハを着脱時においても、両空間は分離されていて、液体の蒸気はステージ空間に漏れないか、漏れても問題の無い量である。【００５２】
また、拡散防止装置８０Ｂによって形成された遮蔽空間ＳＳに対して、回収装置８５ｄが設けられており、液体ＬＷの蒸気を回収すると共に、遮蔽空間ＳＳがその外側のステージ空間に対して負圧になるように制御される。これにより、遮蔽空間ＳＳとステージ空間は、微小隙
間でつながっているものの、ステージ空間から遮蔽空間ＳＳの方向へ気体が流れるため、液体ＬＷの蒸気がステージ空間に漏れ出すことがない。【００５３】
更に、ウェハステージ４５のＺ方向位置の変動等にも対応するため拡散防止装置８０Ｂの突起を上下に駆動する突起上下機構が設けられている。かかる突起上下機構は、ステージ制御装置６１と連携し、ウェハステージ４５や液浸制御装置５８と連動して必要に応じ
て、突起を上下させる。【００５４】
この実施例３の構成をまとめる。投影光学系の最終レンズと被露光体との間に液体を充填して前記液体を介してレチクルのパターンを当該被露光体に露光する露光装置である。そして、この露光装置は、被露光体を駆動ステージと、液体の周りに遮蔽空間を形成するように液体を取り囲む遮蔽部（突起部）を有する。この遮蔽部は、前記同面板の表面とウエハ表面と間に、そこから液体の蒸気が出ないか出てもその量が問題無い位小さい隙間が生じるよう設けられる。この遮蔽部は上下動できるのが好ましい。【００５５】
以上の実施例１乃至３の各構成により、ウェハ４０の般出入においても遮蔽空間ＳＳの外部へ液浸液ＬＷの蒸気を拡散させることを無くしたり、外部への蒸気の拡散量を非常に少なくできる。この結果、液浸液ＬＷの蒸気による光学系への付着（汚染）を防止するか又は問題無いくらい少なくし、露光性能を維持することができる。また、特に、液浸液ＬＷが可燃性である場合、遮蔽空間ＳＳがレチクルステージの点火源から隔離することができ安全性を高めることができる。更に、クリーンルームの汚染や人体への影響をなくすことができる。【００５６】
実施例１乃至３の露光装置において、照明装置１０から発せられた光束は、レチクル２０を、例えば、ケーラー照明する。レチクル２０を通過してレチクルパターンを反映する光は、投影光学系３０により、液体ＬＷを介してウェハ４０に結像される。この露光装置１は、液体ＬＷの蒸気の拡散を防止して、スループットの低下及び露光精度の悪化を防止すると共に安全性を維持して、デバイス（半導体素子、ＬＣＤ素子、撮像素子（ＣＣＤなど）、薄膜磁気ヘッドなど）を提供する。【００５７】
次に、図４及び図５を参照して、上述の露光装置１を利用したデバイスの製造方法の実施例を説明する。図４は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造を例に説明する。ステップ１（回路設計）では、デバイスの回路設計を行う。ステップ２（レチクル製作）では、設計した回路パターンを形成したレチクルを製作する。ステップ３（ウェハ製造）では、シリコンなどの材料を用いてウェハを製造する。ステップ４（ウェハプロセス）は、前工程と呼ばれ、レチクルとウェハを用いて本発明のリソグラフィー技術によってウェハ上に実際の回路を形成する。ステップ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップ４によって作成されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセ
ンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）では、ステップ５で作成された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テストなどの検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。【００５８】
図５は、ステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップ１１（酸化）では、ウェハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）では、ウェハ上に電極を蒸着などによって形成する。ステップ１４（イオン打ち込み）では、ウェハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）では、ウェハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では、上述の露光装置１によってレチクルの回路パターンをウェハに露光する。ステップ１７（現像）では、露光したウェハを現像する。ステップ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。かかるデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。このように、露光装置１を使用するデバイス製造方法、並びに結果物としてのデバイスも本発明の一側面を構成する。【００５９】
以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【産業上の利用の可能性】
【００６０】
本発明によれば、可燃性の液浸材を安全に使用可能な液浸露光装置を提供する。
【図１】
2007083686.tif 000003
【図２】
2007083686.tif 000004
【図３】
2007083686.tif 000005
【図４】
2007083686.tif 000006
【図５】
2007083686.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成19年7月6日(2007.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して被露光体を露光する露光装置において、
レチクルのパターン像を前記被露光体に投影する投影光学系と、
前記被露光体を駆動するステージと、
前記投影光学系と前記被露光体との間へ前記液体を供給する液体供給部と、
前記投影光学系と前記被露光体との間から前記液体を回収する液体回収部と、
前記液体供給部の液体回収口および前記液体回収部の液体回収口の外周に設けられ、前記被露光体または前記被露光体の外周に配置された同面板とともに、前記液体の周りに遮蔽空間を形成する突起部と、
前記遮蔽空間の前記液体の蒸気を回収するとともに、前記遮蔽空間をその外に対して負圧にする回収装置と、を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
（削除）
【請求項３】
（削除）
【請求項４】
前記液体は水よりも屈折率が大きな液体であることを特徴とする請求項１または１０に記載の露光装置。
【請求項５】
前記液体は、可燃性の有機液体であることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
（削除）
【請求項７】
（削除）
【請求項８】
（削除）
【請求項９】
請求項１、４、５、１０のうちいずれか一項に記載の露光装置を用いて被露光体を露光するステップと、
露光された前記被露光体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１０】
前記突起部を上下に駆動する突起上下機構を有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
蒸気が囲いの外部に拡散するおそれがある。
［０００６］
本発明は、液浸液の蒸気の拡散を防止するか小さくできる液浸露光装置を提供する。
［０００７］
本発明の一側面としての露光装置は、液体を介して被露光体を露光する露光装置において、レチクルのパターン像を前記被露光体に投影する投影光学系と、前記被露光体を駆動するステージと、前記投影光学系と前記被露光体との間へ前記液体を供給する液体供給部と、前記投影光学系と前記被露光体との間から前記液体を回収する液体回収部と前記液体供給部の液体回収口および前記液体回収部の液体回収口の外周に設けられ、前記被露光体または前記被露光体の外周に配置された同面板とともに、前記液体の周りに遮蔽空間を形成する突起部と、前記遮蔽空間の前記液体の蒸気を回収するとともに、前記遮蔽空間をその外に対して負圧にする回収装置と、を有することを特徴とする。
［０００８］
本発明の更に別の側面としてのデバイス製造方法は、上述の露光装置を用いて被露光体を露光するステップと、露光された前記被露光体を現像するステップとを有することを特徴とする。
［０００９］
本発明の他の目的又はその他の特徴は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施例によって明らかにされるであろう。
図面の簡単な説明
［００１０］
［図１］本発明の実施例１の露光装置の構成を示す概略断面図である。
［図２］本発明の実施例２の露光装置の構成を示す概略断面図である。
［図３］本発明の実施例３の露光装置の構成を示す概略断面図である。
［図４］デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。
［図５］図４に示すステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
発明を実施するための最良の形態
［００１１］
以下、添付図面を参照して、本発明の一側面としての露光装置１について説明する。
実施例１
［００１２］
図１は、本発明の実施例１の露光装置１の構成を示す概略断面図である。露光装置１は、投影光学系３０とウェハ４０との間に供給される液体（液浸液）ＬＷを介して、レ
【手続補正書】
【提出日】平成20年7月30日(2008.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して被露光体を露光する露光装置において、
レチクルのパターン像を前記被露光体に投影する投影光学系と、
前記被露光体を駆動するステージと、
前記投影光学系と前記被露光体との間へ前記液体を供給する液体供給部と、
前記投影光学系と前記被露光体との間から前記液体を回収する液体回収部と、
前記液体供給部の液体供給口および前記液体回収部の液体回収口の外周に設けられ、前記被露光体または前記被露光体の外周に配置された同面板とともに、前記液体の周りに遮蔽空間を形成する突起部と、
前記遮蔽空間の前記液体の蒸気を回収するとともに、前記遮蔽空間をその外に対して負圧にする回収装置と、を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記突起部を上下に駆動する突起上下機構を有することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記液体は水よりも屈折率が大きな液体であることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記液体は、可燃性の有機液体であることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のうちいずれか一項に記載の露光装置を用いて被露光体を露光するステップと、
露光された前記被露光体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
液体ＬＷは、予め、脱気装置５１を用いて溶存ガスが十分に取り除かれたものが好ましい。なぜなら、かかる液体ＬＷは、気泡の発生を抑制し、また、気泡が発生しても即座に液体中に吸収できるからである。例えば、空気中に多く含まれる窒素及び酸素を対象とし、液体ＬＷに溶存可能なガス量の８０％を除去すれば、十分に気泡の発生を抑制することができる。また、酸素は１９３ｎｍの光を吸収するため、酸素を十分に取り除いた液体ＬＷは必須である。勿論、脱気装置５１を露光装置１に備えて、常に液体ＬＷ中の溶存ガスを取り除きながら液体供給部５０に液体ＬＷを供給してもよい。
【国際調査報告】
2007083686.tif 000008
2007083686.tif 000009
2007083686.tif 000010
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