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【手続補正書】
【提出日】令和1年9月9日(2019.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
小型軽量化および高性能化を図りうるとともに、減圧器である膨張弁を近くに設置することができるエバポレータとして、本出願人は、先に、一端部に冷媒入口を有する第１ヘッダ部、第１ヘッダ部の風上側に並ぶように設けられ、かつ第１ヘッダ部の冷媒入口と同一端部に冷媒出口を有する第２ヘッダ部、第１ヘッダ部の下方に間隔をおいて配置された第３ヘッダ部、第２ヘッダ部の下方に間隔をおくとともに第３ヘッダ部の風上側に並ぶように設けられた第４ヘッダ部、第１ヘッダ部と第３ヘッダ部との間、および第２ヘッダ部と第４ヘッダ部との間にヘッダ部の長手方向に間隔をおいて配置され、かつ両端部がヘッダ部に接続された複数の熱交換管、ならびに隣り合う熱交換管どうしの間に配置されたフィンを有するエバポレータ本体と、冷媒入口に冷媒を送り込む冷媒導入路および冷媒出口から冷媒を送り出す冷媒排出路を有する冷媒入出部材と、冷媒入出部材に接合されるとともに冷媒入出部材の冷媒導入路に通じる冷媒通路を有し、かつ冷媒導入路に冷媒を送り込む入口側管と、冷媒入出部材に接合されるとともに冷媒入出部材の冷媒排出路に通じる冷媒通路を有し、かつ冷媒排出路から冷媒を送り出す出口側管と、入口側管および出口側管を、両管の冷媒通路に通じる２つの流路を有する管接続部材である膨張弁取付部材に接続する管継手部材とを備えており、冷媒入出部材が、第１ヘッダ部の前記一端部と第２ヘッダ部の前記一端部に跨るように接合された第１プレートと、第１プレートにおける両ヘッダ部とは反対側の面に積層状に接合された第２プレートと、第２プレートにおける第１プレートとは反対側の面に積層状に接合された第３プレートとからなり、第１プレートおよび第３プレートのうちの少なくともいずれか一方のプレートを外方に膨出させるとともに、第２プレートに第１および第３プレートの外方膨出部どうしを必要部分で通じさせる貫通状連通部を形成することによって、冷媒流れ方向下流端が第１ヘッダ部の冷媒入口に通じるとともに冷媒流れ方向上流端が入口側管の冷媒通路に通じる冷媒導入路、および冷媒流れ方向上流端が第２ヘッダ部の冷媒出口に通じるとともに冷媒流れ方向下流側端が出口側管の冷媒通路に通じる冷媒排出路が相互に非連通状態で設けられ、冷媒入出部材に、一端が風上側縁部に開口するとともに他端が冷媒導入路に通じ、かつ入口側管の一部分を嵌め入れる第１嵌合凹部、および一端が風上側縁部に開口するとともに他端が冷媒排出路に通じ、かつ出口側管の一部分を嵌め入れる第２嵌合凹部が形成され、入口側管が、その一端寄りの部分が第１嵌合凹部内に挿入されるとともに残りの部分が冷媒入出部材の風上側縁部から突出するように冷媒入出部材に接合され、出口側管が、その一端寄りの部分が第２嵌合凹部内に挿入されるとともに残りの部分が冷媒入出部材の風上側縁部から入口側管と同方向に突出するように冷媒入出部材に接合され、管継手部材に、入口側管および出口側管における冷媒入出部材から突出した部分が通される貫通穴が形成され、入口側管および出口側管が管継手部材の貫通穴に通されるとともに管接続部材に接合されているエバポレータを提案した（特許文献１参照）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【図１】この発明による熱交換器を適用したエバポレータの全体構成を示す一部切り欠き斜視図である。
【図２】図１のエバポレータの第１ヘッダタンクの一部と冷媒入出部材とを示す分解斜視図である。
【図３】図１のエバポレータの一部を示す右側面図である。
【図４】図１のエバポレータにおける冷媒入出部材の第１プレートの部分で切断した右側方から見た一部切り欠き垂直断面図である。
【図５】図１のエバポレータにおける冷媒入出部材の第２プレートの部分で切断した右側方から見た一部切り欠き垂直断面図である。
【図６】図３のＡ−Ａ線断面図である。
【図７】図１のエバポレータにおける冷媒入出部材と管継手部材とを示す分解斜視図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2018155410.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月14日(2019.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
流体の物理量を計測する物理量計測装置（１４，６０，８０）であって、
前記流体が流れるバイパス流路（３１，３２，７１，９１，９２，９５）を有するハウジング（２１，６１，８１）と、
前記バイパス流路において前記流体の物理量を検出する物理量検出部（２２，６２，８２，９７，９８）と、
を備え、
前記ハウジングは、
誘電体により形成されたハウジング本体（４１，６１ａ，８１ａ）と、
前記ハウジング本体の表面（４１ａ，４１ｂ）の少なくとも一部を覆う覆い膜（４２）と、
を有しており、
前記ハウジング本体において当該ハウジング本体の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいること、又は前記覆い膜において当該覆い膜の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいることで、前記ハウジングの表面が前記プラス電荷を帯びている、物理量計測装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
流体を取り込むバイパス流路（３１，３２，７１，９１，９２，９５）を有するハウジング（２１，６１，８１）と、
前記バイパス流路において前記流体の物理量を検出する物理量検出部（２２，６２，８２，９７，９８）と、
を備え、
前記ハウジングは、
誘電体により形成されたハウジング本体（４１，６１ａ，８１ａ）と、
前記ハウジング本体の表面（４１ａ，４１ｂ）の少なくとも一部を覆う覆い膜（４２）と、
を有しており、
前記ハウジング本体において当該ハウジング本体の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいること、又は前記覆い膜において当該覆い膜の表面に沿ってプラス電荷（４５）が並んでいることで、前記ハウジングの表面が前記プラス電荷を帯びている、物理量計測装置（１４，６０，８０）を製造する製造方法であって、
前記覆い膜を形成するための塗布剤（Ｑ１）を前記ハウジング本体の表面に塗布し、
前記塗布剤を塗布した状態の前記ハウジング本体を洗浄し、
前記ハウジング本体を洗浄した後、前記ハウジング本体の表面に塗布された状態の前記塗布剤を乾燥させる、物理量計測装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記ハウジング本体を前記塗布剤に浸すことで、前記ハウジングの表面に前記塗布剤を塗布し、
前記塗布剤を塗布した状態の前記ハウジング本体を洗浄剤（Ｑ２）に浸すことで、当該ハウジング本体を洗浄する、請求項６に記載の物理量計測装置の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記物理量検出部を前記ハウジング本体に取り付けた後に、前記塗布剤を前記ハウジング本体の表面に塗布する、請求項７に記載の物理量計測装置の製造方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記ハウジング本体に対して前記塗布剤を噴射することで、前記ハウジングの表面に前記塗布剤を塗布する、請求項６〜８のいずれか１つに記載の物理量計測装置の製造方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】令和1年10月2日(2019.10.2)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
容器中の乾燥剤は、好ましくは、４０℃で１０％〜２０％相対湿度（ＲＨ）の環境と接したとき、その重量の最大で１５％の水分を吸湿する。より好ましくは、乾燥剤は、４０℃で１０％〜２０％ＲＨの環境と接したとき、その重量の最大で１０％の水分を吸湿する。もっとも好ましくは、乾燥剤は、４０℃で１０％〜２０％ＲＨの環境と接したとき、その重量の５％〜１０％の水分を吸湿する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
４０℃で１０％〜２０％ＲＨの環境と接したとき、その重量の５％〜１０％の水分を吸湿する乾燥剤の例はシリカゲルを含む。シリカゲルは、０％〜約６０％のＲＨ値の場合、周囲環境の相対湿度にほぼ比例するレベルで水分を吸湿することができる。対照的に、試験センサに従来から使用されているモレキュラーシーブ乾燥剤は、１０％〜２０％のＲＨを有する環境から多量の水分を速やかに吸湿することができる。モレキュラーシーブは、４０℃で５％ＲＨの環境と接したとき、その重量の１５％〜２０％の水分を吸湿することができ、その後、相対湿度が高まるとともに、最小量のさらなる水分を吸湿することができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
４０℃で１０％〜２０％ＲＨの環境と接したとき、その重量の最大で１５％の水分を吸湿することができる乾燥剤の例はポリマー配合モレキュラーシーブの組成物を含む。乾燥剤をポリマーとブレンドすることによって乾燥剤の効能を下げることができる。ポリマー中の乾燥剤は部分的にしか環境に暴露されないため、水分の吸湿は、純粋な乾燥剤の吸湿速度よりも低い速度でしか起こらない。４０℃で１０％〜２０％ＲＨの環境と接したとき、その重量の最大で１５％の水分を吸湿することができる乾燥剤のもう一つの例はモレキュラーシーブとシリカゲルとのブレンドを含む。ブレンド中のモレキュラーシーブ及びシリカゲルのタイプ及び相対量の選択が、低い相対湿度でブレンド組成物によって吸湿される全水分の調整を許すことができる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
試験センサ中の酵素の活性及び試験センサの試験性能の両方が、センサの容器中に使用される乾燥剤のタイプによって影響されると思われる。その重量の最大で１５％の水分を吸湿する、又はその重量の最大で１０％又は５％〜１０％の水分を吸湿する乾燥剤は、４０℃で１０％〜２０％ＲＨの環境と接すると、酵素をその活性状態に保持することを可能にする残留水分レベルを試薬組成物中に提供することができる。対照的に、モレキュラーシーブのような活動性の乾燥剤による試薬組成物の過度の乾燥は酵素不活性化を招くおそれがある。より活動性が低い乾燥剤は、パッケージ中の湿度レベルが２０％ＲＨを超えたときのみ雰囲気から水を吸湿することにより、試験センサの容器中のメディエータと酵素とで正反対の水分要件を均衡させることができる。したがって、より活動性が低い乾燥剤は、酵素の活性に悪影響を及ぼすことなく、メディエータを高い水分から保護することができる。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月5日(2019.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図７は、サイクリックボルタメントリー（ＣＶ）測定によるＣＶ曲線を示す図である。図７のＣＶ曲線は、図６で示した電極２および電極３を用いたＣＶ測定により得られたものであり、スペーサ２３の高さが、０．０１、０．０１５、０．０６、１．８ｍｍの４つの場合が示されている。スペーサ２３の高さは、電極２および電極３の距離であり、空間２４の高さである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
スペーサ２３の高さが１．８ｍｍの場合のＣＶ曲線は、ヒステリシスが大きい。一方、スペーサ２３の高さが０．０６ｍｍ以下のＣＶ曲線は、ヒステリシスが小さい。また、スペーサ２３の高さが小さくなるにつれ、電流値が大きく増大した。この現象は、櫛形電極において、陽極および陰極の歯同士の距離を狭めた場合の振る舞いと一致する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記空間の高さが、０．０６ｍｍ以下であることを特徴とする
請求項１または２に記載の電極。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月14日(2019.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板厚方向に貫通する第１貫通部が形成される天板と、
板厚方向に貫通すると共に前記第１貫通部に対向して第２貫通部が形成される底板と、
前記天板と前記底板とを連結し且つ前記第１貫通部及び前記第２貫通部における貫通方向に沿って貫通すると共に複数の連結部材が挿通される取付孔が形成される側板と、
を備え、
前記複数の連結部材は、互いに接触せず、且つ、前記取付孔の内面に接触しないように配置される、
ことを特徴とするシリンダジャケット。
【請求項２】
前記取付孔は、長孔形状をなすことを特徴とする請求項１に記載のシリンダジャケット。
【請求項３】
前記取付孔は、前記第１貫通部及び前記第２貫通部における幅方向の両側に設けられることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のシリンダジャケット。
【請求項４】
台板と、
前記台板上に設けられる架構と、
前記架構上に設けられる請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のシリンダジャケットと、
前記台板と前記架構を貫通すると共に前記シリンダジャケットの前記取付孔を貫通して前記台板と前記架構と前記シリンダジャケットを連結する複数の連結部材と、
を備えることを特徴とするクロスヘッド式内燃機関。
【請求項５】
前記複数の連結部材は、前記架構の貫通孔を貫通し、一端部が前記台板に螺合して固定され、他端部が前記取付孔に挿通されると共に、前記取付孔の端部に配置される座金を貫通し、ナットが螺合して締結されることを特徴とする請求項４に記載のクロスヘッド式内燃機関。
【請求項６】
前記座金の硬度は、前記シリンダジャケットの硬度よりも高い材質であることを特徴とする請求項５に記載のクロスヘッド式内燃機関。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月12日(2019.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
過給気が流入する流入部（１０）を有する高温側タンク（１）と、
前記高温側タンクを流出して内部を流通する過給気と外部の空気との熱交換によって過給気を冷却するコア部（２）と、
前記コア部において冷却された過給気が外部機器へ向けて流出する流出部（４３）を有する低温側タンク（３）と、
前記低温側タンクの底部から前記流出部の内部まで延びるように設けられる水吸い上げ管（４４、１４４、２４４）と、を備え、
前記低温側タンクは、
部分的に貫通穴（４２０）が設けられた底板部（４２、１４２）と、前記コア部に連結されている上端部と、前記底板部と前記上端部との間に形成された上室（４１）と、を有する樹脂製の第１タンク部（４）と、
上端周縁部（５０）が前記第１タンク部に連結された状態で、前記第１タンク部を構成する部品の一部である前記底板部によって前記上室と仕切られて前記上室よりも下方に位置する下室（５１）を形成する樹脂製の第２タンク部（５）と、を有し、
前記第１タンク部と前記第２タンク部は、互いに溶着されている結合部（４０，５０）を形成する冷却装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月18日(2019.7.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項８のロータリ圧縮機において、
前記上油流出路を前記上ブレード機構を臨む位置に設定し、
前記下油流出路を前記下ブレード機構を臨む位置に設定することを特徴とするロータリ圧縮機。
【手続補正書】
【提出日】令和1年9月2日(2019.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａｌ：０．１〜１．０質量％およびＳｉ：０．１〜１．０質量％の少なくとも一方を含み且つＡｌとＳｉの合計含有量が０．１〜１．０質量％であり、残部がＴｉおよび不可避不純物からなり、平均粒径が５〜２０μｍである電極用チタン合金板。
【請求項２】
表面にＡｌおよびＳｉの少なくとも一方を含む酸化皮膜を有し、該酸化皮膜中のＡｌとＳｉの合計含有量が０．０８〜０．５５質量％である請求項１に記載の電極用チタン合金板。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月7日(2019.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも測距を行う光波距離測定機構と、レーザ光線を回転照射して基準面を形成するレーザ回転照射機構とを一体に備えるレーザ測量装置の製造方法であって、
前記光波距離測定機構及び前記レーザ回転照射機構が別体の状態で、前記光波距離測定機構が有する第１のチルトセンサ及び前記レーザ回転照射機構が有する第２のチルトセンサそれぞれのチルトオフセット値を測定する第１のチルトオフセット値測定工程と、
前記レーザ回転照射機構を前記光波距離測定機構に載置する載置工程と、
前記光波距離測定機構が有する整準部により整準を行う整準工程と、
前記光波距離測定機構に固定する固定工程と、
を備えるレーザ測量装置の製造方法。
【請求項２】
前記光波距離測定機構に前記レーザ回転照射機構が載置された状態で、前記第２のチルトセンサのチルトオフセット値を測定する第２のチルトオフセット値測定工程を、さらに備え、
前記固定工程は、前記第２のチルトオフセット値に基づき前記レーザ回転照射機構の姿勢を調整して前記光波距離測定機構に固定する、請求項１に記載のレーザ測量装置の製造方法。
【請求項３】
前記固定工程の後、前記レーザ回転照射機構によりレーザ光線を照射し、当該レーザ光線の照射方向が水平となるように、前記光波距離測定機構が有する整準部により前記光波距離測定機構及び前記レーザ回転照射機構の一体としての姿勢を調整するレーザ照射調整工程を、さらに備える請求項１又は２に記載のレーザ測量装置の製造方法。
【請求項４】
少なくとも測距を行う光波距離測定機構と、レーザ光線を回転照射して基準面を形成するレーザ回転照射機構とを一体に備えるレーザ測量装置であって、
前記光波距離測定機構は、
少なくとも測距可能な望遠鏡部と、
整準のための姿勢調整が可能な整準部と、
傾きを検出する第１のチルトセンサと、を有し、
前記レーザ回転照射機構は、
前記レーザ光線を回転照射するレーザ照射部と、
傾きを検出する第２のチルトセンサと、
前記光波距離測定機構に対する姿勢を調整する姿勢調整部と、
前記光波距離測定機構に対する姿勢を固定する固定部と、を有する
レーザ測量装置。
【請求項５】
前記第２のチルトセンサは前記第１のチルトセンサよりも傾きを検出する精度が高い請求項４に記載のレーザ測量装置。
【請求項６】
前記整準部は、前記第１のチルトセンサにより検出される傾きに基づき、自動的に整準を行うことが可能である請求項４または５に記載のレーザ測量装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記した目的を達成するために、本発明に係るレーザ測量装置の製造方法では、少なくとも測距を行う光波距離測定機構と、レーザ光線を回転照射して基準面を形成するレーザ回転照射機構とを一体に備えるレーザ測量装置の製造方法であって、前記光波距離測定機構及び前記レーザ回転照射機構が別体の状態で、前記光波距離測定機構が有する第１のチルトセンサ及び前記レーザ回転照射機構が有する第２のチルトセンサそれぞれのチルトオフセット値を測定する第１のチルトオフセット値測定工程と、前記レーザ回転照射機構を前記光波距離測定機構に載置する載置工程と、前記光波距離測定機構が有する整準部により整準を行う整準工程と、前記光波距離測定機構に固定する固定工程と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明に係るレーザ測量装置の製造方法において、前記光波距離測定機構に前記レーザ回転照射機構が載置された状態で、前記第２のチルトセンサのチルトオフセット値を測定する第２のチルトオフセット値測定工程を、さらに備え、前記固定工程は、前記第２のチルトオフセット値に基づき前記レーザ回転照射機構の姿勢を調整して前記光波距離測定機構に固定してもよい。
また、本発明に係るレーザ測量装置の製造方法において、前記固定工程の後、前記レーザ回転照射機構によりレーザ光線を照射し、当該レーザ光線の照射方向が水平となるように、前記光波距離測定機構が有する整準部により前記光波距離測定機構及び前記レーザ回転照射機構の一体としての姿勢を調整するレーザ照射調整工程を、さらに備えてもよい。
【手続補正書】
【提出日】令和1年5月15日(2019.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１貫通孔が設けられた基材と、
前記第１貫通孔を覆うように前記基材の第１面に設けられた第１電極と、
前記第１貫通孔内に設けられ、温度に依存して前記第１電極と接触または離間する第１貫通電極と、
を具備することを特徴とする電子デバイス。
【請求項２】
前記第１貫通電極は、第１温度未満で前記第１電極と離間し前記第１温度以上で前記第１電極と離間する、または第２温度未満で前記第１電極と接触し前記第２温度以上で前記第１電極と離間することを特徴とする請求項１記載の電子デバイス。
【請求項３】
前記基材に設けられ前記第１貫通孔より径の大きな第２貫通孔を覆うように前記基材の前記第１面に設けられた第２電極と、
前記第２貫通孔内に設けられ、温度によらず前記第２電極と接触する第２貫通電極と、
を具備することを特徴とする請求項１または２記載の電子デバイス。
【請求項４】
前記第１電極の前記第１貫通電極と接触する面は前記第１貫通電極より融点が高い層であることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項記載の電子デバイス。
【請求項５】
前記第１貫通電極と前記第１電極とが接触する面は前記第１面から外側に湾曲していることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項記載の電子デバイス。
【請求項６】
互いに積層された複数の前記基材を具備することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項記載の電子デバイス。
【請求項７】
前記基材は半導体基板であることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項記載の電子デバイス。
【請求項８】
基材の第１面に設けられた第１電極と第２電極とにそれぞれ接するように、前記基材に第１貫通孔と前記第１貫通孔より径の大きな第２貫通孔を形成する工程と、
前記第１貫通孔内および前記第２貫通孔内に前記第１電極に接触せず前記第２電極に接触するようにシード層を形成する工程と、
前記シード層をシードにめっきすることで、前記第１貫通孔内に温度により前記第１電極と接触または離間する第１貫通電極と、前記第２貫通孔内に温度によらず前記第２電極と前記シード層を介し接触する第２貫通電極と、を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
第１貫通孔が設けられた基材と、前記第１貫通孔を覆うように前記基材の第１面に設けられた第１電極と、前記第１貫通孔内に設けられ、温度に依存して前記第１電極と接触または離間する第１貫通電極と、を具備することを特徴とする電子デバイスである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
［実施例１の変形例１］
図２（ａ）から図４（ｂ）の説明では、基材１０の線熱膨張係数が貫通電極１２より小さい例を説明したが、基材１０の線熱膨張係数は貫通電極１２より大きくてもよい。例えば基材１０としてエポキシ系樹脂等の樹脂を用いる。エポキシ系樹脂では、線熱膨張係数は例えば６７ｐｐｍである。貫通電極１２として銅を用いると、基材１０の線熱膨張係数は貫通電極１２より大きくなる。この場合、図２（ｃ）において、室温Ｔ０でｄ＝０となり、高温でｄ＞０となる。このように、一定温度未満でオン、一定温度以上でオフする温度スイッチを実現できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
なお、以上の説明に関して更に以下の付記を開示する。
（付記１）第１貫通孔が設けられた基材と、前記第１貫通孔を覆うように前記基材の第１面に設けられた第１電極と、前記第１貫通孔内に設けられ、温度に依存して前記第１電極と接触または離間する第１貫通電極と、を具備することを特徴とする電子デバイス。
（付記２）前記第１貫通電極は、第１温度未満で前記第１電極と離間し前記第１温度以上で前記第１電極と離間する、または第２温度未満で前記第１電極と接触し前記第２温度以上で前記第１電極と離間することを特徴とする付記１記載の電子デバイス。
（付記３）前記基材に設けられ前記第１貫通孔より径の大きな第２貫通孔を覆うように前記基材の前記第１面に設けられた第２電極と、前記第２電極内に設けられ、温度によらず前記第２電極と接触する第２貫通電極と、を具備することを特徴とする付記１または２記載の電子デバイス。
（付記４）前記第１電極の前記第１貫通電極と接触する面は前記第１貫通電極より融点が高い層であることを特徴とする付記１から３のいずれか一項記載の電子デバイス。
（付記５）前記第１貫通電極と前記第１電極とが接触する面は前記第１面から外側に湾曲していることを特徴とする付記１から４のいずれか一項記載の電子デバイス。
（付記６）互いに積層された複数の前記基材を具備することを特徴とする付記１から５のいずれか一項記載の電子デバイス。
（付記７）前記基材は半導体基板であることを特徴とする付記１から６のいずれか一項記載の電子デバイス。
（付記８）前記基材は絶縁基板であることを特徴とする付記１から６のいずれか一項記載の電子デバイス。
（付記９）前記基材はシリコン基板であり、前記第１貫通電極は銅層であることを特徴とする付記８記載の電子デバイス。
（付記１０）基材の第１面に設けられた第１電極と第２電極とにそれぞれ接するように、前記基材に第１貫通孔と前記第１貫通孔より径の大きな第２貫通孔を形成する工程と、前記第１貫通孔内および前記第２貫通孔内に前記第１電極に接触せず前記第２電極に接触するようにシード層を形成する工程と、前記シード層をシードにめっきすることで、前記第１貫通孔内に温度により前記第１電極と接触または離間する第１貫通電極と、前記第２貫通孔内に温度によらず前記第２電極と前記シード層を介し接触する第２貫通電極と、を形成する工程と、を含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
（付記１１）前記シード層を形成する工程は、スパッタ法を用い前記シード層を形成する工程を含むことを特徴とする付記１０記載の電子デバイスの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年2月20日(2019.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに波長域が異なる光を射出する第一光源部、第二光源部、及び第三光源部がそれぞれ有する放熱部を、送風手段を備えた画像投写装置の吸気口と排気口の間の冷却風路上に配置する光源装置において、
所定の光強度と寿命が得られるように各光源部の光源を駆動する場合の、各光源部の光源の発熱量をＱ、各光源部の光源に設けた発光素子の所定の光強度と寿命を得るために超えたくない設定温度をＴとしたとき、
前記冷却風路の上流側から下流側に向けて、各発光部のＴ／Ｑの値が大きくなる順序で、各発光部の放熱部を配置することを特徴とする光源装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光源装置において、
前記第一光源部は、第一波長域の光を射出する発光素子が設けられた第一光源を有し、
前記第二光源部は、第一波長域の光を射出する発光素子と第一波長域の光を受光して第二波長域の光を射出する第一波長変換部材とが設けられた第二光源を有し、
前記第三光源部は、第一波長域の光を射出する発光素子と第一波長域の光を受光して第三波長域の光を射出する第二波長変換部材とが設けられた第三光源を有し、
前記第一光源、前記第二光源、及び第三光源の内、少なくとも２つの光源に設けられる発光素子は、同一種類のものであることを特徴とする光源装置。
【請求項３】
請求項２に記載の光源装置において、
前記第一波長域の光は青色の波長域の光、前記第二波長域の光は赤色の波長域の光、前記第三波長域の光は緑色の波長域の光であり、
各光源に設けられる発光素子が、青色の波長域の光を射出する青色発光素子であることを特徴とする光源装置。
【請求項４】
請求項３に記載の光源装置において、
前記第二光源と前記第三光源の内、少なくともいずれかは、その内部に複数の青色発光素子と、前記複数の青色発光素子の光を複数回反射させるロッドインテグレーターレンズとを有し、光量を均一化して射出することを特徴とする光源装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一に記載の光源装置において、
各光源部は、それぞれの放熱部として、放熱板を有していることを特徴とする光源装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一に記載の光源装置において、
前記冷却風路の上流側から下流側に向けて、各発光部のＴ／Ｑの値が大きくなる順序で、各発光部の光源を配置することを特徴とする光源装置。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれか一に記載の光源装置において、
各光源部の少なくともいずれかは、光源と放熱部とが離間しており、光源で生じた熱を離間した放熱部に熱移動させる熱移動手段を有していることを特徴とする光源装置。
【請求項８】
請求項７に記載の光源装置において、
前記熱移動手段は、ヒートパイプであることを特徴とする光源装置。
【請求項９】
吸気口と排気口を有する筐体と、前記吸気口と前記排気口との間の冷却風路と、該冷却風路に風を流す送風手段と、前記冷却風路上に配置される放熱部がそれぞれ設けられた複数の光源部を有した光源装置とを備えた画像投写装置において、
前記光源装置として、請求項１乃至８のいずれか一に記載の光源装置を備えたことを特徴とする画像投写装置。
【請求項１０】
吸気口と排気口を有する筐体と、前記吸気口と前記排気口との間の冷却風路と、該冷却風路に風を流す送風手段と、前記冷却風路上に配置される放熱部がそれぞれ設けられた複数の光源部を有した光源装置とを備えた画像投写装置に用いられる、光源装置の配置方法において、
前記光源装置として、請求項１乃至８のいずれか一に記載の光源装置を備えたことを特徴とする光源装置の配置方法。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月2日(2019.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクを照明する照明光学系であり、光を整形する開口を有するスリットを含む照明光学系と、
前記照明光学系からの光で照明された前記マスクの像を基板に投影する投影光学系を有し、
前記マスクと前記基板との相対位置を所定方向に変えながら前記基板を露光する露光装置であって、
前記開口を規定する曲線の曲率は、前記投影光学系のＮＡに応じて可変であることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記開口を規定する曲線の曲率を変更する変更部をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記変更部は、前記スリットに力を加えて前記開口を規定する曲線の曲率を変更することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記変更部は、前記スリットを、前記曲率が第１曲率の第１スリットから、前記曲率が前記第１曲率とは異なる第２曲率の第２スリットに交換することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第２スリットの開口の前記所定方向の幅は、前記第１スリットの開口の前記所定方向の幅と異なることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記変更部は、前記所定方向の幅を変更することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記所定方向は、前記投影光学系の光軸に直交する方向であることを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記曲線は円弧であることを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
マスクを照明する照明光学系であり、光を整形する開口を有するスリットを含む照明光学系と、前記照明光学系からの光で照明された前記マスクの像を基板に投影する投影光学系とを用いて、前記基板を露光する露光方法であって、
前記投影光学系のＮＡに基づいて決定された曲率となるように、前記開口を規定する曲線の曲率を変更するステップと、
前記開口を通過した光によって前記基板を露光するステップを含むことを特徴とする露光方法。
【請求項１０】
請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いてパターンを基板上に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、を有する
ことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は、マスクを照明する照明光学系であり、光を整形する開口を有するスリットを含む照明光学系と、照明光学系からの光で照明されたマスクの像を基板に投影する投影光学系を有し、マスクと基板との相対位置を所定方向に変えながら基板を露光する露光装置であって、開口を規定する曲線の曲率は、投影光学系のＮＡに応じて可変であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月21日(2019.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録材にトナー像を形成する画像形成部と、
無端ベルトと、
前記無端ベルトに当接して前記無端ベルトとの間に、前記画像形成部により記録材上に形成されたトナー像を記録材に定着するためのニップ部を形成する回転体と、
前記無端ベルトを内側から前記回転体に向けて押圧する押圧部材と、
前記回転体を回転させる駆動手段と、
前記回転体が回転開始された時の起動トルクと、前記回転体が回転開始された後の定常回転時の定常トルクとを取得し、取得した前記起動トルクと前記定常トルクとの差分に基づいて前記無端ベルトの交換時期を判断する制御手段と、を有する、
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記押圧部材に設けられ、前記無端ベルトを加熱するヒータを備える、
ことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記駆動手段は、モータであり、
前記制御手段は、前記モータに流れる電流値に基づいて前記起動トルクと前記定常トルクとを取得する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記制御手段により判断された前記無端ベルトの交換時期に基づき、前記無端ベルトの交換を促す報知手段を備える、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像形成装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電子写真方式等を採用した複写機、プリンタ、ファクシミリ、あるいはこれらの機能を兼ね備えた複合機等の画像形成装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
そこで本発明の目的は、無端状ベルト等の摺動部材の交換時期を精度良く、且つ異常が発生する前に予測できる画像形成装置を提供することである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明に係る画像形成装置は、記録材にトナー像を形成する画像形成部と、無端ベルトと、前記無端ベルトに当接して前記無端ベルトとの間に、前記画像形成部により記録材上に形成されたトナー像を記録材に定着するためのニップ部を形成する回転体と、前記無端ベルトを内側から前記回転体に向けて押圧する押圧部材と、前記回転体を回転させる駆動手段と、前記回転体が回転開始された時の起動トルクと、前記回転体が回転開始された後の定常回転時の定常トルクとを取得し、取得した前記起動トルクと前記定常トルクとの差分に基づいて前記無端ベルトの交換時期を判断する制御手段と、を有する、ことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明によれば、無端ベルトの交換時期を精度良く、且つ異常が発生する前に予測できる画像形成装置を提供できる。
【手続補正書】
【提出日】令和1年8月1日(2019.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電パターンおよび部品実装面を有した小片基板、間隔を存して前記小片基板に設けられた複数の電極取付部、および棒状の導電性磁性体金属により構成され、一端が前記導電パターンに接続された状態で前記電極取付部に固定され、他端が前記小片基板の厚み方向に突出した複数の外部接続電極を備えた電子パーツユニットと、
前記部品実装面に実装されて前記導電パターンに導通接続される回路部品と、
前記外部接続電極の間隔を基準ピッチとして縦横に配置された複数の永久磁石を有する学習ベースと、
前記各永久磁石の配置と同じ配置の電極配置ガイドマークおよび隣接した前記電極配置ガイドマークにわたる配線ガイドマークが記され、かつ前記配線ガイドマーク上に配線パターンが描画される配線パターン形成面を有して、前記学習ベースに前記配線パターン形成面が露出した状態に載置されるサーキットカードと、を具備し、
前記学習ベースは、前記サーキットカードが前記配線パターン形成面を露出した状態で載置されるカード載置部を備え、
前記カード載置部に前記学習ベースが前記載置された場合、
前記外部接続電極が前記永久磁石に吸引されることにより前記回路部品と前記配線パターンとが回路接続され、前記学習ベース上に電子回路が形成される電子機器学習装置であって、
前記サーキットカードは、
前記電極配置ガイドマークに対応した孔付ランド、および当該孔付ランドに導電接続され前記配線ガイドマークに対応した導電パターンを有し、前記導電パターンに沿う切断を可能にし、所望の区画を前記切断することで貼着シールを得られるようにしたパターンシートと、
前記孔付ランドと同じ配置の部品リード挿通孔を有し、接着シートにより前記貼着シールを貼着可能としたユニバーサル基板とを具備することを特徴とする、電子機器学習装置。
【請求項２】
前記ユニバーサル基板は一方面を部品実装面、他方面を前記貼着シールが貼着されるパターン形成面として、その板面に前記孔付ランドに対応した部品リード挿通孔を配置したリジット基板により構成され、前記パターンシートは前記導電パターンを格子状に配し、当該導電パターンで囲われた四辺形の面部を開口してパターン切り出しガイドを形成した貼着シールにより構成されていることを特徴とする請求項１に記載の電子機器学習装置。
【請求項３】
導電パターンおよび部品実装面を有した小片基板、間隔を存して前記小片基板に設けられた複数の電極取付部、および棒状の導電性磁性体金属により構成され、一端が前記導電パターンに接続された状態で前記電極取付部に固定され、他端が前記小片基板の厚み方向に突出した複数の外部接続電極を備えた電子パーツユニットと、
前記部品実装面に実装されて前記導電パターンに導通接続される回路部品と、
前記外部接続電極の間隔を基準ピッチとして縦横に配置された複数の永久磁石を有する学習ベースと、
前記各永久磁石の配置と同じ配置の電極配置ガイドマークおよび隣接した前記電極配置ガイドマークにわたる配線ガイドマークが記され、かつ前記配線ガイドマーク上に配線パターンが描画される配線パターン形成面を有して、前記学習ベースに前記配線パターン形成面が露出した状態に載置されるサーキットカードと、を具備し、
前記学習ベースは、前記サーキットカードが前記配線パターン形成面を露出した状態で載置されるカード載置部を備え、
前記カード載置部に前記学習ベースが前記載置された場合、
前記外部接続電極が前記永久磁石に吸引されることにより前記回路部品と前記配線パターンとが回路接続され、前記学習ベース上に電子回路が形成される電子機器学習装置の学習キットの製造方法であり、
前記サーキットカードは、
前記電極配置ガイドマークに対応した孔付ランド、および当該孔付ランドに導電接続され前記配線ガイドマークに対応した導電パターンを有するパターンシートであって、前記導電パターンに沿う切断を可能にし、このパターンシートから所望の区画を前記切断することで貼着シールを得られるようにしたこと、
前記ランドと同じ配置の部品リード挿通孔を有するユニバーサル基板の一方の面に接着シートにより前記貼着シールを貼着可能とすること、
を備えることを特徴とする電子機器学習装置の学習キット製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子機器学習装置、電子機器学習装置の学習キットの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電子技術分野の学校用実習教材として提供される、複数種の機能別回路学習を可能にした電子機器学習装置、電子機器学習装置の学習キットの製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
さらに上記学習により習得した各種機能回路から所望する任意の電子回路を選択して製品となる実用機器を製作する際に、当該実用機器の回路基板作成並びに回路実装を効率よく実施できる自由度の高い回路設計を可能にした電子機器学習装置、電子機器学習装置の学習キットの製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一実施形態に係る電子機器学習装置は、導電パターンおよび部品実装面を有した小片基板、間隔を存して前記小片基板に設けられた複数の電極取付部、および棒状の導電性磁性体金属により構成され、一端が前記導電パターンに接続された状態で前記電極取付部に固定され、他端が前記小片基板の厚み方向に突出した複数の外部接続電極を備えた電子パーツユニットと、
前記部品実装面に実装されて前記導電パターンに導通接続される回路部品と、
前記外部接続電極の間隔を基準ピッチとして縦横に配置された複数の永久磁石を有する学習ベースと、
前記各永久磁石の配置と同じ配置の電極配置ガイドマークおよび隣接した前記電極配置ガイドマークにわたる配線ガイドマークが記され、かつ前記配線ガイドマーク上に配線パターンが描画される配線パターン形成面を有して、前記学習ベースに前記配線パターン形成面が露出した状態に載置されるサーキットカードと、を具備し、
前記学習ベースは、前記サーキットカードが前記配線パターン形成面を露出した状態で載置されるカード載置部を備え、
前記カード載置部に前記学習ベースが前記載置された場合、
前記外部接続電極が前記永久磁石に吸引されることにより前記回路部品と前記配線パターンとが回路接続され、前記学習ベース上に電子回路が形成される電子機器学習装置であって、
前記サーキットカードは、
前記電極配置ガイドマークに対応した孔付ランド、および当該ランドに導電接続され前記配線ガイドマークに対応した導電パターンを有し、前記導電パターンに沿う切断を可能にし、所望の区画を前記切断することで貼着シールを得られるようにしたパターンシートと、前記ランドと同じ配置の部品リード挿通孔を有し、接着シートにより前記貼着シールを貼着可能としたユニバーサル基板とを具備することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】令和1年7月22日(2019.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光源部を有する発光手段と、
前記発光手段から発せられた光を画像データに基づいて変調することにより画像を表示する表示手段と、
各光源部について、前記光源部の目標輝度である第１目標輝度を、入力画像データに基づいて決定する第１決定手段と、
前記目標輝度の時間変化が抑制されるように前記第１目標輝度を補正する第１補正処理を各光源部について行うことにより、各光源部の第２目標輝度を取得する第１補正手段と、
各光源部について、前記光源部の発光輝度を制御する駆動値である第１駆動値を、前記第２目標輝度に基づいて決定する第２決定手段と、
前記駆動値の時間変化が抑制されるように前記第１駆動値を補正する第２補正処理を各光源部について行うことにより、各光源部の第２駆動値を取得する第２補正手段と、
前記発光手段から発せられた光の、前記表示手段への入射時における輝度である入射輝度を、各光源部の前記第２目標輝度に基づいて推定する推定手段と、
前記推定手段によって推定された入射輝度に基づいて、前記入力画像データを補正する第３補正手段と、
各光源部の第２目標輝度と、各光源部の実際の発光輝度との差が第１閾値以下となるように、前記第１補正処理で使用される第１パラメータと、前記第２補正処理で使用される第２パラメータとを設定する設定手段と、
を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記設定手段は、前記第１駆動値への前記駆動値の時間変化が前記第１目標輝度への前記目標輝度の時間変化よりも速い速度で行われるように、前記第１パラメータと前記第２パラメータとを設定する
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記駆動値は、前記光源部の駆動時間に関する値であり、
前記表示装置は、
各光源部の前記第１駆動値に基づいて、前記複数の光源部にそれぞれ対応する複数の駆動時間の総和である総駆動時間が第２閾値よりも長い場合に、前記総駆動時間が前記第
２閾値以下となるように各光源部の前記第１駆動値を補正することにより、各光源部の第３駆動値を取得する第４補正手段、
をさらに有し、
前記第２補正処理は、前記第３駆動値を補正する処理である
ことを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第２決定手段は、各光源部の発光効率を考慮して各光源部の前記第１駆動値を決定する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記発光手段から発せられた光の輝度を検出する検出手段、をさらに有し、
前記第２決定手段は、各光源部の前記第２目標輝度と、前記検出手段の検出結果とに基づいて、各光源部の前記第１駆動値を決定する
ことを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
ユーザからの要求を受け付け可能な受付手段、をさらに有し、
前記設定手段は、前記要求があった場合に、
前記第１パラメータとして、前記要求に応じた第１の値を設定し、
前記第２パラメータとして、前記要求に応じた第２の値を設定する
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記要求は、前記表示手段によって表示された前記画像のコントラストに関する要求である
ことを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記要求は、前記発光手段に供給される電流値に関する要求であり、
前記設定手段は、高い電流値に関する要求があった場合に、低い電流値に関する要求があった場合の第２パラメータに比べ前記駆動値の時間変化の抑制度合いが小さい第２パラメータを設定する
ことを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項９】
前記表示装置では、動画像データの各フレームの画像データが、前記入力画像データとして順に使用され、
前記表示装置は、前記動画像データのシーンの切り替わりを検出するシーンチェンジ検出手段、をさらに有し、
前記設定手段は、前記動画像データのシーンの切り替わりがあった場合に、
前記第１パラメータとして、第３の値を設定し、
前記第２パラメータとして、第４の値を設定し、
前記第１パラメータを、前記第３の値から、前記目標輝度の時間変化の抑制度合いが前記第３の値よりも大きい第５の値へ段階的に変更し、
前記第２パラメータを、前記第４の値から、前記駆動値の時間変化の抑制度合いが前記第４の値よりも大きい第６の値へ段階的に変更する
ことを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記表示装置は、複数の表示モードを有しており、
前記設定手段は、前記表示装置の表示モードの切り替わりがあった場合に、
前記第１パラメータとして、第７の値を設定し、
前記第２パラメータとして、第８の値を設定し、
前記第１パラメータを、前記第７の値から、前記目標輝度の時間変化の抑制度合いが前記第７の値よりも大きい第９の値へ段階的に変更し、
前記第２パラメータを、前記第８の値から、前記駆動値の時間変化の抑制度合いが前記第８の値よりも大きい第１０の値へ段階的に変更する
ことを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記目標輝度が前記光源部の実際の発光輝度に近づくように前記駆動値の時間変化の抑制度合いに基づいて前記第２目標輝度を補正する第３補正処理を各光源部について行うことにより、各光源部の第３目標輝度を取得する第５補正手段、をさらに有し、
前記推定手段は、前記入射輝度を、各光源部の前記第３目標輝度に基づいて推定する
ことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１２】
複数の光源部を有する発光手段と、
前記発光手段から発せられた光を画像データに基づいて変調することにより画像を表示する表示手段と、
を有する表示装置の制御方法であって、
各光源部について、前記光源部の目標輝度である第１目標輝度を、入力画像データに基づいて決定する第１決定ステップと、
前記目標輝度の時間変化が抑制されるように前記第１目標輝度を補正する第１補正処理を各光源部について行うことにより、各光源部の第２目標輝度を取得する第１補正ステップと、
各光源部について、前記光源部の発光輝度を制御する駆動値である第１駆動値を、前記第２目標輝度に基づいて決定する第２決定ステップと、
前記駆動値の時間変化が抑制されるように前記第１駆動値を補正する第２補正処理を各光源部について行うことにより、各光源部の第２駆動値を取得する第２補正ステップと、
前記発光手段から発せられた光の、前記表示手段への入射時における輝度である入射輝度を、各光源部の前記第２目標輝度に基づいて推定する推定ステップと、
前記推定ステップにおいて推定された入射輝度に基づいて、前記入力画像データを補正する第３補正ステップと、
各光源部の第２目標輝度と、各光源部の実際の発光輝度との差が第１閾値以下となるように、前記第１補正処理で使用される第１パラメータと、前記第２補正処理で使用される第２パラメータとを設定する設定ステップと、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の制御方法の各ステップをコンピュータに実行させるためのプログラム。