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【手続補正書】
【提出日】令和1年6月14日(2019.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効成分として水素ガスを含む加齢に起因するヒトの認知機能の低下の抑制剤であって、
吸入によるヒトへの投与において用いられるための、認知機能の低下の抑制剤。
【請求項２】
気体である請求項１に記載の前記認知機能の低下の抑制剤。
【請求項３】
前記認知機能の低下が、記憶障害、言語障害、実行障害、注意力欠如、アルツハイマー病、および／または、血管性認知症からなる群から選択される、請求項１または２に記載の認知機能の低下の抑制剤。
【請求項４】
前記抑制剤に含まれる前記水素ガスの濃度が４％である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の認知機能の低下の抑制剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
本明細書を以下の発明の記載を包含する。
（１）水素ガスを含む加齢に起因する認識機能の低下抑制剤。
（２）水素ガスからなる加齢に起因する認識機能の低下抑制剤。
（３）水素ガスを含む、記憶喪失、アルツハイマー病、及び血管性認知症を含む認知障害抑制剤。
２．マテリアルと方法
本オープンラベル予備実験(ClinicalTrials.gov、NCT02830854に登録済)への参加を志願した参加者(ｎ＝１３)は、地域社会に住む老齢の女性(６８．０±３．０歳、体重６６．９±１０．３kg、身長１６１．１±５．８cm)であった。除外基準としては、重篤な疾病か精神病併発症がある。本調査は、ヘルシンキ宣言のガイドラインに準拠して実行され、地元のＩＲＢが本調査プロトコルを承認した。参加者は全員、インフォームドコンセントを提出し、調査中は通常のライフスタイルを維持し、通常の食事摂取を続けるように要求された。参加者は、４週間に渡って１日当たり１５分間、Ｈ２を吸入した。Ｈ２ガス(４％)は、生物学的ガス供給装置(日本国神奈川県のＭＩＺ株式会社)から提供され、治験中、研究査察官が日々のＨ２吸入について監視した。ベースラインから４週目までの期間の治療効能の主要評価指標は、ミニメンタルステート検査（Mini Mental State Exam、ＭＭＳＥ)スコアの変化であった。さらに、他の認識力マーカーの検査と副作用の評価を、ベースラインと、調査開始から４週間後に行なった。参加者の認知機能は、ＭＭＳＥとアルツハイマー病検査尺度のサブスケール(ADAS-Cog)を使って評価された。ＭＭＳＥは、高齢者の認知障害度を判断するために臨床・調査環境で広範囲に使われる３０ポイント・アンケート調査である。ADAS-Cogは、11個のタスクから成る認識力検査装置であり、認知症の検査のために、記憶障害、言語障害、実行障害、注意力欠如、その他の認識力を判断するものである。上述の検査に加えて、参加者は、副作用(例えば、吐気、頭痛)の自己申告・自由回答式アンケート調査によって、調査期間中、H2インターベンションの有害事象を報告するように要求された。ウィルコクソンの符号順位検定を使って、インターベンションの期間に参加者の応答の間に有意な差があるかどうかを確証した(ベースライン対投与後)。有意度Ｐ≦０．０５に設定された。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月1日(2018.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下地基板と、第１超格子層と、接続層と、第２超格子層と、窒化物半導体結晶層とを有し、
前記下地基板、前記第１超格子層、前記接続層、前記第２超格子層および前記窒化物半導体結晶層が、前記下地基板、前記第１超格子層、前記接続層、前記第２超格子層、前記窒化物半導体結晶層の順に位置し、
前記第１超格子層が、第１層および第２層からなる第１単位層を複数有し、
前記第２超格子層が、第３層および第４層からなる第２単位層を１層有し、
前記第１層が、Ａｌｘ１Ｇａ１−ｘ１Ｎ（０＜ｘ１≦１）からなり、
前記第２層が、Ａｌｙ１Ｇａ１−ｙ１Ｎ（０≦ｙ１＜１、ｘ１＞ｙ１）からなり、
前記第３層が、Ａｌｘ２Ｇａ１−ｘ２Ｎ（０＜ｘ２≦１）からなり、
前記第４層が、Ａｌｙ２Ｇａ１−ｙ２Ｎ（０≦ｙ２＜１、ｘ２＞ｙ２）からなり、
前記第１超格子層の平均格子定数と前記第２超格子層の平均格子定数とが異なり、
前記第１超格子層および前記第２超格子層から選択された１以上の層に、耐電圧を向上する不純物原子が、７×１０１８［atoms/cm3］を超える密度で含まれ、
前記不純物原子が、炭素である
半導体基板。
【請求項２】
前記接続層が、前記第１超格子層および前記第２超格子層に接する結晶層である
請求項１に記載の半導体基板。
【請求項３】
前記接続層の組成が、前記接続層の厚さ方向において前記第１超格子層から前記第２超格子層へ向かって連続的に変化する
請求項１または請求項２に記載の半導体基板。
【請求項４】
前記接続層の組成が、前記接続層の厚さ方向において前記第１超格子層から前記第２超格子層に向かって段階的に変化する
請求項１または請求項２に記載の半導体基板。
【請求項５】
前記接続層が、ＡｌｚＧａ１−ｚＮ（０≦ｚ≦１）からなる
請求項１から請求項４の何れか一項に記載の半導体基板。
【請求項６】
前記接続層の厚さが、前記第１層、前記第２層、前記第３層および前記第４層の何れの層の厚さより大きい
請求項１から請求項５の何れか一項に記載の半導体基板。
【請求項７】
前記接続層の平均格子定数が、前記第１超格子層および前記第２超格子層のいずれの平均格子定数より小さい
請求項１から請求項６の何れか一項に記載の半導体基板。
【請求項８】
前記第１超格子層が、前記第１層および前記第２層からなる前記第１単位層を１層〜２００層有する請求項１から請求項７の何れか一項に記載の半導体基板。
【請求項９】
請求項１から請求項８の何れか一項に記載の半導体基板の製造方法であって、
前記第１層および前記第２層を第１単位層とし、前記第１単位層の形成をｎ回繰り返して前記第１超格子層を形成するステップと、
前記接続層を形成するステップと、
前記第３層および前記第４層を第２単位層とし、前記第２単位層の形成を１回繰り返して前記第２超格子層を形成するステップと、
前記窒化物半導体結晶層を形成するステップと、を有し、
前記第１超格子層を形成するステップおよび前記第２超格子層を形成するステップから選択された１以上のステップにおいて、形成される層の耐電圧を向上する不純物原子が、７×１０１８［atoms/cm3］を超える密度で含まれるよう当該層を形成し、
前記不純物原子が炭素である
半導体基板の製造方法。
【請求項１０】
前記窒化物半導体結晶層の組成および厚さに応じ、前記半導体基板の前記窒化物半導体結晶層の表面における反りが５０μｍ以下となるよう、前記第１層〜第４層の各組成、前記第１層〜第４層の各厚さおよび前記第１超格子層における単位層の繰り返し数ｎから選択された１以上のパラメータを調整する
請求項９に記載の半導体基板の製造方法。
【請求項１１】
前記窒化物半導体結晶層の組成および厚さに応じ、前記半導体基板の前記窒化物半導体結晶層の表面における反りが５０μｍ以下となるよう、前記第１超格子層における単位層の繰り返し数ｎを調整する
請求項１０に記載の半導体基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
（実施例３）
実施例３の半導体基板は、第１超格子層１１０における第１単位層１１６の層数ｎと第２超格子層１３０における第２単位層１３６の層数ｍを変えた例を示す。炭素原子濃度を１×１０１９（ｃｍ−３）に固定し、層数ｎと層数ｍを変化させたこと以外は、実施例１と同様に半導体基板を形成した。層数ｎおよび層数ｍは、ｍ／ｎ＝７５／７５、１００／５０、１／１４９の３水準とした。図８は、実施例３の半導体基板の反り量と耐電圧を示したグラフである。層数ｎと層数ｍとを変化させることで、反り量が制御できることがわかる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
（実施例４）
実施例４の半導体基板は、下地基板１０２としてサファイア基板を用いた場合を示す。下地基板１０２としてサファイア基板を用い、炭素原子濃度を１×１０１９（ｃｍ−３）に固定し、層数ｎと層数ｍを変化させたこと以外は、実施例１と同様に半導体基板を形成した。層数ｎおよび層数ｍは、ｍ／ｎ＝７５／７５、５０／１００の２水準とした。図９は、実施例４の半導体基板の反り量を示したグラフである。下地基板１０２がサファイア基板の場合であっても、第１超格子層１１０および第２超格子層１３０における単位層の層数ｎおよび層数ｍを変化することで、反り量を制御できることがわかる。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月18日(2018.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
目標施工面の形成作業を行う多関節型の作業装置と、
制御信号に基づいて前記作業装置を駆動する複数の油圧アクチュエータと、
前記作業装置の動作軌跡が前記目標施工面の上方に保持されるように、前記複数の油圧アクチュエータに少なくとも１つ含まれる補正対象油圧アクチュエータの制御信号である軌跡補正制御信号を前記作業装置から前記目標施工面までの距離に基づいて算出する軌跡補正制御信号演算部を有する制御装置とを備える作業機械において、
前記制御装置は、前記複数の油圧アクチュエータに少なくとも１つ含まれる特定油圧アクチュエータの目標出力と実出力の差分が所定の出力値よりも大きいとき、前記特定油圧アクチュエータの駆動圧に基づいて前記補正対象油圧アクチュエータの制御信号である出力補正制御信号を算出する出力補正制御信号演算部をさらに有し、
前記補正対象油圧アクチュエータは、前記特定油圧アクチュエータの動作中、前記出力補正制御信号と前記軌跡補正制御信号のうち大きい方に基づいて制御されることを特徴とする作業機械。
【請求項２】
請求項１の作業機械において、
前記出力補正制御信号演算部は、前記特定油圧アクチュエータの駆動圧が所定の圧力値よりも大きいとき、前記補正対象油圧アクチュエータの動作により前記作業装置が前記目標施工面から遠ざかるように前記出力補正制御信号を算出することを特徴とする作業機械。
【請求項３】
請求項１の作業機械において、
前記出力補正制御信号演算部は、前記特定油圧アクチュエータの駆動圧が所定の圧力値よりも小さいとき、前記補正対象油圧アクチュエータの動作により前記作業装置が前記目標施工面に近づくように前記出力補正制御信号を算出することを特徴とする作業機械。
【請求項４】
請求項１の作業機械において、
前記作業装置は、ブーム、アーム及びバケットを有するフロント作業装置であり、
前記特定油圧アクチュエータには前記アームを駆動するアームシリンダが含まれており、
前記補正対象油圧アクチュエータは前記ブームを駆動するブームシリンダであることを特徴とする作業機械。
【請求項５】
請求項１の作業機械において、
前記作業装置が取り付けられた旋回体と、
前記旋回体を制御信号に基づいて旋回させる油圧モータとをさらに備え、
前記制御装置は、前記油圧モータの制御信号が出力されているとき、前記軌跡補正制御信号演算部及び前記出力補正制御信号演算部による前記軌跡補正制御信号及び前記出力補正制御信号の算出を中断することを特徴とする作業機械。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月20日(2018.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
作業機械の周囲に存在する障害物を検出する障害物検出部と、
前記障害物検出部で検出された前記障害物と前記作業機械の位置関係を算出する位置関係算出部と、
前記位置関係算出部で算出された前記位置関係に基づいて警報レベルを決定する警報レベル決定部と、
前記警報レベル決定部で決定された前記警報レベルに応じた警報内容を出力装置に出力する警報出力部とを有する制御装置を備える作業機械の周囲監視装置において、
前記制御装置は、
前記作業機械の姿勢及び動作の情報を取得する機械状態取り込み部と、
前記機械状態取り込み部が取得した前記作業機械の姿勢及び動作の情報に基づいて前記作業機械の運転席からの死角領域を算出する死角算出部と、
前記死角算出部が算出した前記死角領域と前記位置関係算出部が算出した前記位置関係に基づいて前記障害物に対する視認レベルを決定する視認レベル決定部とをさらに有し、
前記警報レベル決定部は、前記視認レベル決定部で決定された前記視認レベルに応じて前記警報レベルを補正する
ことを特徴とする作業機械の周囲監視装置。
【請求項２】
請求項１の作業機械の周囲監視装置において、
前記死角算出部は、前記作業機械の動作に基づいてオペレータの視線を推定し、その視線と前記作業機械の姿勢に基づいて前記死角領域を算出する
ことを特徴とする作業機械の周囲監視装置。
【請求項３】
請求項１の作業機械の周囲監視装置において、
前記作業機械のオペレータの頭部位置を検出する頭部位置検出装置と、
前記オペレータの視線を検出する視線検出装置とをさらに備え、
前記死角算出部は、前記頭部位置検出装置で検出された前記頭部位置、前記視線検出装置で検出された前記視線および前記作業機械の姿勢に基づいて前記死角領域を算出する
ことを特徴とする作業機械の周囲監視装置。
【請求項４】
請求項２の作業機械の周囲監視装置において、
前記作業機械の周囲の所定の領域を映す視覚補助装置をさらに備え、
前記死角算出部は、
前記オペレータの視線に基づいてオペレータが前記視覚補助装置を注視していると判定した場合、前記視覚補助装置に映し出される領域に基づいて前記死角領域を算出し、
前記オペレータの視線に基づいてオペレータが前記視覚補助装置を注視していないと判定した場合、前記オペレータの視野に基づいて前記死角領域を算出する
ことを特徴とする作業機械の周囲監視装置。
【請求項５】
請求項２の作業機械の周囲監視装置において、
前記視認レベル決定部は、さらに、前記障害物から前記視線までの距離に基づいて前記視認レベルを決定する
ことを特徴とする作業機械の周囲監視装置。
【請求項６】
請求項５の作業機械の周囲監視装置において、
前記視認レベルはレベルが高いほど前記作業機械のオペレータが障害物を認識している可能性が高いことを示し、前記視認レベルには複数のレベルが設定されており、
前記視認レベル決定部は、前記死角領域に前記障害物が位置する場合には前記視認レベルを第１レベルに決定し、前記死角領域に前記障害物が位置せずかつ前記視線が前記障害物から所定距離内に無い場合には前記視認レベルを前記第１レベルより高い第２レベルに設定し、前記死角領域に前記障害物が位置せずかつ前記視線が前記障害物から所定距離以上離れている場合には前記視認レベルを前記第２レベルより高い第３レベルに設定し、
前記警報レベル決定部は、前記視認レベルが前記第１レベルのとき前記警報レベルを上げ、前記視認レベルが前記第２レベルのとき前記警報レベルを維持し、前記視認レベルが前記第３レベルのとき前記警報レベルを下げる
ことを特徴とする作業機械の周囲監視装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
警報レベル５の場合、警報レベル４での表示及び音による警報に加えて、車体動作停止信号を生成する。決定した警報の内容は運転席内に設置された警報出力装置１０へ出力し、車体動作停止信号は車体制御部２０へ出力し、それぞれの装置１０ａ，１０ｂによって警報又は車体動作停止制御を行う。例えば、油圧ショベルでは、オペレータの操作レバー２６の操作によってパイロット圧を変化させ、ブームシリンダ３ａ、アームシリンダ３ｂ、バケットシリンダ３ｃ、旋回モータ３ｄ及び左右の走行モータ３ｅ、３ｆの各アクチュエータを駆動する油の流量を制御している。車体動作停止信号が入力された場合、車体制御部２０は、ロック弁３９を閉じてギヤポンプ２４から操作レバー２６への圧油の供給を停止させることで、レバー操作を無効化し、車体の停止制御を行う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
ステップ５０５またはステップ５０６で得られた死角領域データは視認レベル決定部３００へ出力される。視認レベル決定部３００以降の処理については、第１実施形態に記載の内容と同様の流れで処理を行う。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月1日(2019.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリウレタンプレポリマー；及び
アンヒドロ糖アルコールによる鎖延長部分；
を含有してなるポリウレタン。
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月28日(2018.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビニル系樹脂からなる体積平均粒子径が０．５〜１０μｍの樹脂粒子群であって、
体積平均粒子径の２倍以上の粒子径を有する樹脂粒子の個数が１０万個中５個以下であり、
０．９７以下の円形度を有する樹脂粒子の割合が１％以下であることを特徴とする樹脂粒子群。
【請求項２】
光学部品用であることを特徴とする請求項１に記載の樹脂粒子群。
【請求項３】
光拡散フィルム用であることを特徴とする請求項１に記載の樹脂粒子群。
【請求項４】
防眩フィルム用であることを特徴とする請求項１に記載の樹脂粒子群。
【請求項５】
樹脂粒子群の生成後に、気流分級機を用いた分級により前記樹脂粒子群から粗大樹脂粒子群を除去する分級工程を含む、体積平均粒子径が０．５〜１０μｍの樹脂粒子群の製造方法であって、
前記樹脂粒子群の分級工程は、樹脂粒子群の生成後に解砕工程を経ることなく実施され、
前記気流分級機は、
樹脂粒子群が供給される分級用空洞部と、
前記分級用空洞部の外周部に配置され、前記分級用空洞部に旋回流が発生するように前記分級用空洞部に互いの間から空気を送り込む複数のガイドベーンと、
前記分級用空洞部の上部及び下部にそれぞれ空気を噴射する第１及び第２の噴射ノズルと、
前記分級用空洞部から分級された樹脂粒子群を含む気流を上方へ排出する分級樹脂粒子群排出口と、
前記分級用空洞部から粗大樹脂粒子群を下方へ排出する粗大樹脂粒子群排出口とを備えていることを特徴とする樹脂粒子群の製造方法。
【請求項６】
前記樹脂粒子群はシード重合によって生成され、
前記樹脂粒子群の分級工程は、シード重合後、前記樹脂粒子群を水系媒体中から取り出し乾燥樹脂粒子群とし、この乾燥樹脂粒子群から粗大樹脂粒子群を除去する分級工程であることを特徴とする請求項５に記載の樹脂粒子群の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜４の何れか一つに記載の樹脂粒子群と、バインダーとを含むことを特徴とする樹脂組成物。
【請求項８】
請求項７に記載の樹脂組成物を、フィルム状に成形した樹脂組成物。
【請求項９】
請求項７に記載の樹脂組成物を、基材フィルム上に塗布してなることを特徴とする光学部品。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月22日(2019.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲームを実行する情報処理装置に、
３次元の仮想空間内に仮想カメラ及びフィールドオブジェクトを配置する第１配置ステップと、
前記仮想カメラと前記フィールドオブジェクトとの相対的位置関係に基づいて、前記フィールドオブジェクト上に配置するための平面オブジェクトを、該平面オブジェクトの少なくとも２辺がゲーム画面上で上方へ向かって平行に延びるように変形する第１変形ステップと、
変形された前記平面オブジェクトを前記フィールドオブジェクト上に配置する第２配置ステップと、
前記仮想カメラを視点とするゲーム画面を表示させるステップと、
を実行させる、プログラム。
【請求項２】
請求項１に記載のプログラムであって、
前記平面オブジェクトの形状は平行四辺形であり、
前記第１変形ステップにおいて、前記平行四辺形の少なくとも１辺が前記仮想カメラの光軸に対して所定条件を満たすように、前記平面オブジェクトを変形する、プログラム。
【請求項３】
請求項２に記載のプログラムであって、
前記平面オブジェクトは、前記フィールドオブジェクト上に固定的に配置されており、
前記情報処理装置に、
前記仮想カメラと前記フィールドオブジェクトとの前記相対的位置関係が変化する場合、前記所定条件を満たすように、前記相対的位置関係の変化に追従して前記平面オブジェクトを変形する第２変形ステップ
を更に実行させる、プログラム。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか一項に記載のプログラムであって、
前記第２配置ステップにおいて、前記平面オブジェクトの平面が前記仮想カメラの光軸に略平行となるように、前記平面オブジェクトを前記フィールドオブジェクト上に配置する、プログラム。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか一項に記載のプログラムであって、
前記第２配置ステップにおいて、前記仮想空間内の同一平面上に複数の前記平面オブジェクトを並べて配置する、プログラム。
【請求項６】
請求項５に記載のプログラムであって、
前記複数の平面オブジェクトのそれぞれは、他の前記平面オブジェクトと隣接しまたは重畳するように並んで配置されており、
前記情報処理装置に、
１つのテクスチャ画像が分割された複数の画像領域を前記複数の平面オブジェクトにそれぞれ投影し、又は、視覚的に連続する１以上のテクスチャ画像を前記複数の平面オブジェクトにそれぞれ投影するステップ
を更に実行させる、プログラム。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一項に記載のプログラムであって、
前記フィールドオブジェクトは、前記仮想カメラから光軸方向に離れるに従って前記仮想カメラから見て下方に傾斜する形状を有しており、
前記第１変形ステップにおいて、前記フィールドオブジェクトの前記形状に基づいて、前記平面オブジェクトを変形する、プログラム。
【請求項８】
情報処理装置によって実行されるゲームの制御方法であって、
３次元の仮想空間内に仮想カメラ及びフィールドオブジェクトを配置する第１配置ステップと、
前記仮想カメラと前記フィールドオブジェクトとの相対的位置関係に基づいて、前記フィールドオブジェクト上に配置するための平面オブジェクトを、該平面オブジェクトの少なくとも２辺がゲーム画面上で上方へ向かって平行に延びるように変形する第１変形ステップと、
変形された前記平面オブジェクトを前記フィールドオブジェクト上に配置する第２配置ステップと、
前記仮想カメラを視点とするゲーム画面を表示させるステップと、
を実行させる、制御方法。
【請求項９】
ゲームを実行する情報処理装置であって、
画面を表示する表示部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
３次元の仮想空間内に仮想カメラ及びフィールドオブジェクトを配置し、
前記仮想カメラと前記フィールドオブジェクトとの相対的位置関係に基づいて、前記フィールドオブジェクト上に配置するための平面オブジェクトを、該平面オブジェクトの少なくとも２辺がゲーム画面上で上方へ向かって平行に延びるように変形し、
変形された前記平面オブジェクトを前記フィールドオブジェクト上に配置し、
前記仮想カメラを視点とするゲーム画面を前記表示部に表示させる、情報処理装置。
【手続補正書】
【提出日】令和1年11月11日(2019.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示システム及びタッチパネルのコマンド入力方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子機器と、演算装置と、を有する表示システムであって、
前記電子機器は、表示部と、第１のタッチセンサと、第２のタッチセンサと、通信部と、を有し、
前記第１のタッチセンサと、前記第２のタッチセンサとの間に間隔を有し、
前記第１のタッチセンサと、前記第２のタッチセンサと、は同一面上に設けられており、
前記第１のタッチセンサと、前記第２のタッチセンサと、はコマンドを検出する機能を有し、
前記通信部は、前記コマンドに応じた第１のデータを前記演算装置に送信する機能を有し、
前記演算装置は、前記第１のデータに応じた第２のデータを出力する機能を有し、
前記演算装置は、前記第２のデータを前記通信部に送信する機能を有し、
前記表示部は、前記第２のデータに応じた表示を行う機能を有する、表示システム。
【請求項２】
請求項１において、
前記通信部は、前記演算装置と無線通信を行う機能を有する、表示システム。
【請求項３】
電子機器と、第１の演算装置と、第２の演算装置と、を有する表示システムであって、
前記電子機器は、表示部と、第１のタッチセンサと、第２のタッチセンサと、通信部と、を有し、
前記第１のタッチセンサと、前記第２のタッチセンサとの間に間隔を有し、
前記第１のタッチセンサと、前記第２のタッチセンサと、は同一面上に設けられており、
前記第１のタッチセンサと、前記第２のタッチセンサと、はコマンドを検出する機能を有し、
前記通信部は、前記コマンドに応じた第１のデータを前記第１の演算装置に送信する機能を有し、
前記第１の演算装置は、前記第１のデータを、ネットワークを介して前記第２の演算装置に送信する機能を有し、
前記第２の演算装置は、前記第１のデータに応じた第２のデータを出力する機能を有し、
前記第２の演算装置は、前記第２のデータを、ネットワークを介して前記第１の演算装置に送信する機能を有し、
前記第１の演算装置は、前記第２のデータを前記通信部に送信する機能を有し、
前記表示部は、前記第２のデータに応じた表示を行う機能を有する、表示システム。
【請求項４】
請求項３において、
前記通信部は、前記第１の演算装置と無線通信を行う機能を有する、表示システム。
【請求項５】
第１のタッチセンサと、第２のタッチセンサと、を有するタッチパネルにおいて、
前記第１のタッチセンサが被検知体を検出する第１のステップと、
前記第２のタッチセンサの動作を有効にする動作を開始する第２のステップと、
前記第２のタッチセンサが被検知体を検出する第３のステップと、
前記第３のステップで被検知体を検出した場合、第１のコマンドが実行される第４のステップと、
前記第２のタッチセンサの動作を無効にする動作を開始する第５のステップと、
前記第３のステップで被検知体を検出しない場合、前記第５のステップに移行する第６のステップと、を有し、
前記第２のステップにおいて、
前記第１のタッチセンサが被検知体を検出した場合に、前記第２のタッチセンサの動作を有効にする動作を開始し、
前記第２のステップと、前記第６のステップと、の間に第１の時間を有し、
前記第１の時間は、０．０５秒以上０．５秒以下である、
タッチパネルのコマンド入力方法。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月11日(2019.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレンズ群と開口絞りを有し、ズーミングに際して隣り合うレンズ群の間隔が変化するズームレンズにおいて、
前記複数のレンズ群は、物体側から像側へ順に配置された、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群、負の屈折力の第５レンズ群、正又は負の屈折力の第６レンズ群から構成され、
前記第１レンズ群は、物体側から像側へ順に配置された、正の屈折力の第１レンズ、負の屈折力の第２レンズから構成され、
前記第２レンズの材料は樹脂であり、
前記第１レンズの材料の屈折率とアッベ数を各々Ｎｄｐ１、νｄｐ１、前記第１レンズの焦点距離をｆｐ１、前記第２レンズの焦点距離をｆｎ２とするとき、
１．５＜｜ｆｎ２／ｆｐ１｜＜４．０
０．０１＜Ｎｄｐ１−（２．６２−０．０１６１×νｄｐ１）
なる条件式を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
前記第２レンズの材料の屈折率とアッベ数を各々Ｎｄｎ２、νｄｎ２とするとき、
０．０１＜０．０００２５９×νｄｎ２2−０．０２６４×νｄｎ２＋２．２１３−Ｎｄｎ２
１５．０＜νｄｎ２＜６０．０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項３】
前記第２レンズの物体側のレンズ面と像側のレンズ面の曲率半径を各々Ｒ２ａ、Ｒ２ｂとするとき、
０．１５≦（Ｒ２ａ−Ｒ２ｂ）／（Ｒ２ａ＋Ｒ２ｂ）≦０．５５
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１または２に記載のズームレンズ。
【請求項４】
広角端における全系の焦点距離をｆｗとするとき、
１．５≦｜ｆｎ２／ｆｗ｜≦６．０
なる条件式を満足することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項５】
フォーカシングに際して前記第５レンズ群が移動することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項６】
広角端から望遠端へのズーミングに際して、前記第２レンズ群は像側へ凸状の軌跡で移動し、前記第１レンズ群、前記第３レンズ群、前記第４レンズ群、前記第５レンズ群、前記第６レンズ群は物体側へ移動することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項７】
前記開口絞りはズーミングに際して移動することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項８】
前記第２レンズは物体側に凸面を向けたメニスカス形状のレンズであることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項９】
前記開口絞りは、前記第３レンズ群と前記第４レンズ群との間に配置されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載のズームレンズと、該ズームレンズによって形成される像を受光する撮像素子とを有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明のズームレンズは、複数のレンズ群と開口絞りを有し、ズーミングに際して隣り合うレンズ群の間隔が変化するズームレンズにおいて、
前記複数のレンズ群は、物体側から像側へ順に配置された、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群、負の屈折力の第５レンズ群、正又は負の屈折力の第６レンズ群から構成され、
前記第１レンズ群は、物体側から像側へ順に配置された、正の屈折力の第１レンズ、負の屈折力の第２レンズから構成され、
前記第２レンズの材料は樹脂であり、
前記第１レンズの材料の屈折率とアッベ数を各々Ｎｄｐ１、νｄｐ１、前記第１レンズの焦点距離をｆｐ１、前記第２レンズの焦点距離をｆｎ２とするとき、
１．５＜｜ｆｎ２／ｆｐ１｜＜４．０
０．０１＜Ｎｄｐ１−（２．６２−０．０１６１×νｄｐ１）
なる条件式を満足することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
以下に本発明の好ましい実施の形態を、添付の図面に基づいて説明する。本発明のズームレンズは、複数のレンズ群と開口絞りを有し、ズーミングに際して隣り合うレンズ群の間隔が変化する。具体的には、本発明のズームレンズは、物体側から像側へ順に配置された次のレンズ群より構成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群、負の屈折力の第５レンズ群、正又は負の屈折力の第６レンズ群より構成されている。ズーミングに際して隣り合うレンズ群の間隔が変化するように各レンズ群が移動する。開口絞りは、第３レンズ群と第４レンズ群との間に配置されている。ここでレンズ群とはズーミング及びフォーカシングに伴う光軸方向のレンズ間隔の変化によって分けられるレンズ系及び開口絞りによって分けられるレンズ系をいう。
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月12日(2018.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源から出射された光源光を変調する光変調装置と、
前記光変調装置で変調された変調光を投写する投写光学系と、
前記変調光の領域毎に焦点を調整可能な焦点調整手段と、
を備えることを特徴とするプロジェクター。
【請求項２】
前記光変調装置は、複数の領域に分割され、
前記焦点調整手段は、分割された領域毎に焦点調整を行うことを特徴とする請求項１に記載のプロジェクター。
【請求項３】
前記焦点調整手段は、前記光変調装置の画素毎に焦点調整を行うことを特徴とする請求項１または２に記載のプロジェクター。
【請求項４】
前記焦点調整手段は、前記光変調装置と前記投写光学系の間に配置されていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のプロジェクター。
【請求項５】
複数の前記光変調装置と、前記複数の光変調装置で変調された変調光を合成する合成光学系とを備え、
前記焦点調整手段は、前記合成光学系と前記投写光学系の間に配置されていることを特徴とする請求項４に記載のプロジェクター。
【請求項６】
複数の前記光変調装置と、前記光変調装置のそれぞれに対応する複数の前記焦点調整手段とを備えることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のプロジェクター。
【請求項７】
前記複数の光変調装置からの変調光を合成する合成光学系を有し、
前記複数の焦点調整手段は、前記複数の光変調装置と、前記合成光学系の間に 
配置されていることを特徴とする請求項６に記載のプロジェクター。
【請求項８】
前記変調光の領域毎に、前記変調光が投写される投写領域までの離間距離を測定する距離測定手段と、
前記距離測定手段により測定した前記離間距離に基づいて、前記焦点調整手段により前記変調光の領域毎に焦点調整を行わせる制御手段と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載のプロジェクター。
【請求項９】
前記制御手段は、前記距離測定手段により測定した前記離間距離に基づいて、前記投写光学系による焦点調整と、前記焦点調整手段による前記変調光の領域毎の焦点調整とにより、前記変調光の領域毎の焦点を前記投写領域にそれぞれ合わせることを特徴とする請求項８に記載のプロジェクター。
【請求項１０】
前記制御手段は、測定した前記離間距離に基づいて設定した基準距離に基づいて、前記投写光学系による焦点調整により、前記変調光の領域毎の焦点を、前記基準距離だけ離れた位置に合わせ、
前記基準距離と、測定した前記離間距離との差に基づいて、前記焦点調整手段による前記変調光の領域毎の焦点調整により、前記変調光の領域毎の焦点を前記投写領域にそれぞれ合わせることを特徴とする請求項９に記載のプロジェクター。
【請求項１１】
前記焦点調整手段は、前記領域毎の焦点を調整する電気式焦点可変レンズを備えることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のプロジェクター。
【請求項１２】
光源と、
前記光源から出射された光源光を変調する光変調装置と、
前記光変調装置で変調された変調光を投写する投写光学系と、を備えるプロジェクターの制御方法であって、
前記変調光の領域毎に、各領域の前記変調光が投写される投写領域までの離間距離を測定し、
測定した前記離間距離に基づいて、前記焦点調整手段により前記変調光の領域毎に焦点調整を行わせることを特徴とするプロジェクターの制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明は、上記構成において、複数の前記光変調装置と、前記複数の光変調装置で変調された変調光を合成する合成光学系とを備え、前記焦点調整手段は、前記合成光学系と前記投写光学系の間に配置されていることを特徴とする。
本発明によれば、従来のプロジェクター等が有する合成光学系と投写光学系の間に空くスペースを利用して焦点調整手段を配置できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明は、光源と、前記光源から出射された光源光を変調する光変調装置と、前記光変調装置で変調された変調光を投写する投写光学系と、を備えるプロジェクターの制御方法であって、前記変調光の領域毎に、各領域の前記変調光が投写される投写領域までの離間距離を測定し、測定した前記離間距離に基づいて、前記焦点調整手段により前記変調光の領域毎に焦点調整を行わせることを特徴とする。
本発明によれば、投写面の形状等に起因する焦点ずれを抑制し、曲面や凹凸面等に合焦した状態で投写可能になる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
この焦点調整部１００は、電圧を印加していない場合（電圧無印加状態）、液晶層１１３の屈折率とレンズ形状層１１６の屈折率とが一致するように、液晶材料とレンズ形状層１１６の樹脂材料とが選択される。このため、変調光の領域ＲＲ毎に焦点を変える必要がない場合、電圧無印加状態とされることにより、液晶層１１３とレンズ形状層１１６との界面で光の屈折が生じず、焦点は変更されない。
一方、第１電極１１５−第２電極１１７間に電圧を印加した場合、印加する電圧に応じて液晶層１１３の配向状態が変化する。これにより、印加する電圧を調整することにより、液晶層１１３とレンズ形状層１１６との界面での屈折率を調整することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
距離測定部２２２は、制御部２１２の制御の下、各領域ＲＲの変調光が投写される投写領域までの距離を測定する。
本実施形態の距離測定部２２２は、レーザー距離計が適用され、投写領域毎に（投写面ＳＣにおける各領域ＲＲに対応する領域毎に）、プロジェクター１０との離間距離を測定する。なお、距離測定部２２２は、レーザー距離計に限らず、複数のカメラを用いて距離を測定する構成等の公知の距離測定装置を広く適用可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2017134144.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月22日(2019.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の配線層を含むと共に、一方の面に複数の第１電極を有する第１基板と、
前記第１基板に対向配置されると共に、前記複数の第１電極に対向して第２電極を有する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に封止された液晶層と
を備え、
前記第１基板の面内の周辺部における厚みは、中央部における厚みよりも大きい
液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１基板の前記液晶層側の面は凹形状を有する
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
複数の画素を含み、
前記凹形状は、有効画素領域に形成されている
請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記凹形状は、前記周辺部から中央部に向かって緩やかに湾曲した形状である
請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記複数の配線層のうちの第１配線層の配置密度は、前記周辺部において前記中央部よりも高い
請求項１〜４のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１配線層は、前記複数の配線層のうちの最上層の配線層である
請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記複数の配線層には、前記第１電極毎に電界効果型トランジスタが形成され、
前記第１配線層は、前記電界効果型トランジスタと前記第１電極との間の層に配置されている
請求項５または６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１基板は、前記第１配線層上に第１絶縁膜を有し、
前記第１絶縁膜の厚みは、前記周辺部において前記中央部よりも大きい
請求項５〜７のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１配線層の配置密度は、前記中央部から前記周辺部に向かって階段状にまたは緩やかに変化する
請求項５〜８のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第１配線層では、前記周辺部において前記中央部よりも配線同士の間隔が小さい
請求項５〜９のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１配線層では、前記周辺部において前記中央部よりも配線面積占有率が高い
請求項５〜１０のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記複数の配線層の上に第２絶縁膜を有し、
前記第２絶縁膜の厚みは、前記周辺部において前記中央部よりも大きい
請求項１〜１１のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第１電極は反射電極であり、
前記第２電極は透明電極である
請求項１〜１２のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記第１基板はシリコン（Ｓｉ）基板を含み、
前記第２基板はガラス基板を含む
請求項１〜１３のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
複数の配線層を含むと共に、一方の面に複数の第１電極を有する第１基板と、
前記第１基板に対向配置されると共に、前記複数の第１電極に対向して第２電極を有する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に封止された液晶層と
を備え、
前記第１基板の面内の周辺部における厚みは、中央部における厚みよりも大きい
液晶表示装置を有する電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
液晶層１２の厚み（セルギャップ）は、例えば１μｍ以上５μｍ以下である。この液晶層１２は、例えばスペーサを用いずに駆動基板１０と対向基板２０との間に挟持されている。換言すると、液晶表示装置１では、対向基板２０と駆動基板１０とがスペーサを介さずに重ね合わせられている。この液晶層１２の周囲に形成された封止部材１４は、例えば紫外線硬化型の樹脂を含んで構成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
投射型表示装置２は、例えば、光源駆動部３１と、光源装置３２と、光変調装置１Ａと、投影光学系３３と、画像処理部３４と、フレームメモリ３５と、パネル駆動部３６と、投影光学系駆動部３７と、制御部３０とを備えている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
光源駆動部３１は、光源装置３２に配置された光源の発光タイミングを制御するためのパルス信号を出力するものである。この光源駆動部３１は、例えば図示しないＰＷＭ設定部、ＰＷＭ信号生成部およびリミッター等を備えており、制御部３０の制御に基づいて、液晶表示装置１の光源ドライバーを制御し、光源をＰＷＭ制御することにより、光源の点灯および消灯、あるいは輝度の調整を行うものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
光源装置３２は、例えば光源と、光源を駆動する光源ドライバーと、光源を駆動する際の電流値を設定する電流値設定部とを備えている。光源ドライバーは、図示しない電源回路から供給される電源に基づき、光源駆動部３１から入力されるパルス信号に同期して、電流値設定部が設定した電流値をもつパルス電流を生成する。生成されたパルス電流は、光源に供給される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
光変調装置１Ａは、画像信号に基づき、光源装置３２から出力された光（照明光）を変調して画像光を生成するものであり、１または複数の反射型液晶デバイスを含んで構成されている。この光変調装置１Ａに、上記実施の形態等の液晶表示装置が適用される。光変調装置１Ａは、例えば、青色光を変調する液晶パネル、赤色光を変調する液晶パネル、および緑色光を変調する液晶パネルを含む。この光変調装置１Ａにより変調されたＲＧＢの各色光は、クロスダイクロイックプリズム等により合成されて、投影光学系３３に導かれる。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月16日(2019.1.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示手段と、前記表示手段に表示された画像の一部の輝度及び色の少なくとも一方を測定する測定器と、に接続する制御装置であって、
前記測定器の測定位置に対応する前記表示手段の画面の位置を取得する取得手段と、
前記測定器から取得した前記輝度及び色の少なくとも一方に関する測定値が所定の条件を満たす場合、前記表示手段の前記位置の表示を更新する制御手段と、
を備えることを特徴とする制御装置。
【請求項２】
前記測定値が前記所定の条件を満たさない場合、前記取得手段は、前記測定器から測定値を、再度取得する
ことを特徴とする請求項１に記載の制御装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記測定値が前記測定位置に対応する範囲に含まれる場合に、前記表示手段の前記位置の表示を更新する
ことを特徴とする請求項１または２に記載の制御装置。
【請求項４】
前記制御手段は、
第２測定位置に所定の画像を表示した状態で前記測定器が取得した第２測定位置に対する第１測定値と、前記測定位置に応じた閾値と、に基づいて、前記範囲を決定し、
前記測定位置に前記所定の画像を表示した状態で前記測定器が取得した前記測定位置に対する第２測定値が、前記範囲に含まれる場合に、前記表示手段の前記位置の表示を更新する
ことを特徴とする請求項３に記載の制御装置。
【請求項５】
前記範囲は、前記第１測定値から前記閾値を減算した値から、前記第１測定値に前記閾値を加算した値までに含まれる範囲である
ことを特徴とする請求項４に記載の制御装置。
【請求項６】
前記閾値は、前記測定位置が前記表示手段の画面の中央から遠いほど大きくなる
ことを特徴とする請求項５に記載の制御装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記測定器から取得した前記輝度及び色の少なくとも一方に関する測定値が前記所定の条件を満たす場合、前記表示手段の前記位置の表示を、測定の完了を示す所定の表示に更新する
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の制御装置。
【請求項８】
表示手段に表示された画像の一部の輝度及び色の少なくとも一方を測定する測定器の測定位置に対応する、前記表示手段の画面の位置を取得する取得ステップと、
前記測定器から取得した前記輝度及び色の少なくとも一方に関する測定値が所定の条件を満たす場合、前記表示手段の前記位置の表示を更新する制御ステップと、
を有することを特徴とする制御方法。
【請求項９】
前記測定値が前記所定の条件を満たさない場合、前記取得ステップでは、前記測定器から測定値を、再度取得する
ことを特徴とする請求項８に記載の制御方法。
【請求項１０】
前記制御ステップでは、前記測定値が前記測定位置に対応する範囲に含まれる場合に、前記表示手段の前記位置の表示を更新する
ことを特徴とする請求項８または９に記載の制御方法。
【請求項１１】
前記制御ステップでは、
第２測定位置に所定の画像を表示した状態で前記測定器が取得した第２測定位置に対する第１測定値と、前記測定位置に応じた閾値と、に基づいて、前記範囲を決定し、
前記測定位置に前記所定の画像を表示した状態で前記測定器が取得した前記測定位置に対する第２測定値が、前記範囲に含まれる場合に、前記表示手段の前記位置の表示を更新する
ことを特徴とする請求項１０に記載の制御方法。
【請求項１２】
前記範囲は、前記第１測定値から前記閾値を減算した値から、前記第１測定値に前記閾値を加算した値までに含まれる範囲である
ことを特徴とする請求項１１に記載の制御方法。
【請求項１３】
前記閾値は、前記測定位置が前記表示手段の画面の中央から遠いほど大きくなる
ことを特徴とする請求項１２に記載の制御方法。
【請求項１４】
前記制御ステップでは、前記測定器から取得した前記輝度及び色の少なくとも一方に関する測定値が前記所定の条件を満たす場合、前記表示手段の前記位置の表示を、測定の完了を示す所定の表示に更新する
ことを特徴とする請求項８〜１３のいずれか１項に記載の制御方法。
【請求項１５】
請求項８〜１４のいずれか１項に記載の制御方法の各ステップをコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第１の態様は、
表示手段と、前記表示手段に表示された画像の一部の輝度及び色の少なくとも一方を測定する測定器と、に接続する制御装置であって、
前記測定器の測定位置に対応する前記表示手段の画面の位置を取得する取得手段と、
前記測定器から取得した前記輝度及び色の少なくとも一方に関する測定値が所定の条件を満たす場合、前記表示手段の前記位置の表示を更新する制御手段と、
を備えることを特徴とする制御装置である。 
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第２の態様は、
表示手段に表示された画像の一部の輝度及び色の少なくとも一方を測定する測定器の測定位置に対応する、前記表示手段の画面の位置を取得する取得ステップと、
前記測定器から取得した前記輝度及び色の少なくとも一方に関する測定値が所定の条件を満たす場合、前記表示手段の前記位置の表示を更新する制御ステップと、
を有することを特徴とする制御方法である。 
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
位置検出部１０３は、測定部１０２によって測定値が取得された画面内の位置である測定位置を検出し、検出した測定位置を示す位置情報を検出結果として出力する。本実施形態では、画面内の基準位置（原点位置）に測定部１０２が置かれた状態が、測定部１０２の初期状態として使用される。図４は、測定部１０２の初期状態が実現される様子を示す図である。まず、基準位置に所定のグラフィック画像（パッチ画像１０８）が表示される。次に、ユーザがパッチ画像１０８の位置に測定部１０２を置くことにより、測定部１０２の初期状態が実現される。そして、位置検出部１０３は、測定部１０２の移動速度を繰り返し検出し、測定部１０２の初期状態と、測定部１０２の移動速度とに基づいて、測定位置（例えば、基準位置に対する測定位置の相対値）を示す情報を位置情報として生成する。