(57)【要約】  グラビアシリンダーの銅メッキ層にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）を形成し、表面強化被覆層として用いる技術を全自動化し、夜間であっても無人操業が可能なグラビア製版ロールの全自動製造システムを提供する。中空ロールに銅メッキをするための銅メッキ形成手段と、前記銅メッキがされた中空ロールにグラビアセルを形成するためのグラビアセル形成手段と、前記グラビアセルが形成された中空ロールにＤＬＣ被膜を形成するためのＤＬＣ被膜形成手段と、前記銅メッキ形成手段に中空ロールを自動的に移載する第一自動移載手段と、前記銅メッキ形成手段において銅メッキされた中空ロールを前記グラビアセル形成手段に自動的に搬送する自動搬送手段と、前記グラビアセル形成手段においてグラビアセルが形成された中空ロールを前記ＤＬＣ被膜形成手段に自動的に移載するための第二自動移載手段と、を含むようにした。
2007135898.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
グラビア印刷に用いられるグラビア製版ロールを製造するための全自動製造システムであって、
中空ロールに銅メッキをするための銅メッキ形成手段と、
前記銅メッキがされた中空ロールにグラビアセルを形成するためのグラビアセル形成手段と、
前記グラビアセルが形成された中空ロールにＤＬＣ被膜を形成するためのＤＬＣ被膜形成手段と、
前記銅メッキ形成手段に中空ロールを自動的に移載する第一自動移載手段と、
前記銅メッキ形成手段において銅メッキされた中空ロールを前記グラビアセル形成手段に自動的に搬送する自動搬送手段と、
前記グラビアセル形成手段においてグラビアセルが形成された中空ロールを前記ＤＬＣ被膜形成手段に自動的に移載するための第二自動移載手段と、
を含むことを特徴とするグラビア製版ロールの全自動製造システム。                  
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クロムメッキを用いることなく、充分な強度を有する表面強化被覆層を具備するとともに極めて浅い深度のグラビアセルを有するグラビア製版ロールの全自動製造システムに関し、特にクロム層に替わる表面強化被覆層としてダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）層を設けるとともにグラビア印刷において充分なる印刷濃度（光学濃度、透過率濃度）並びに隠蔽性を達成することができるようにしたグラビア製版ロールの全自動製造システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のグラビア製版ロールの製造工程は、中空ロールを脱脂処理して硫酸銅メッキを付け、砥石研磨装置で精密円筒加工を行ってから、感光膜を塗布形成し、レーザー露光により画像を焼き付け、現像し、腐食してセルを形成し、レジスト剥離し、クロムメッキを付け、ペーパー研磨により砂目を立てて取り出すことが行われていた。鉄の中空ロールにあっては脱脂処理し、ニッケルメッキを付けてから硫酸銅メッキを付け、又、アルミの中空ロールにあっては、ジンケート法又はアノダール法のメッキ前処理を行なってから硫酸銅メッキを付けるという処理工程が行われていた。【０００３】
従来のグラビア製版ロールは、一般的に、１インチ当たり１７５本のスクリーン線を有し、かつ、最シャドウ部のセルの深さが２５μｍ〜３０μｍである版が用いられ、そして、２、３μｍ以上の粒子径のものが９０％以上を占めている無機顔料及び有機顔料を含むグラビアインキを使用してグラビア印刷が行われている。【０００４】
インキの基本組成は、主剤としてインキに色をつける物質である顔料と、顔料を被印刷物に固着させ均一に分散させる物質である樹脂と、インキの流動性・転移性・乾燥性等を調整する物質である溶剤：ベヒクルと、助剤として泡消しや静電気防止などのいろいろな効果を加える添加剤の四つから成り立っている。【０００５】
油性インキの溶剤は、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、ＭＥＫ、ＭＩＢＫ、ＩＰＡ、エタノール、ｎ−プロパノール等が使用されており、水性インキの溶剤は、エタノール、ｎ−プロパノール、ＩＰＡ、水が使用されている。【０００６】
トルエン・ＭＥＫなど油性インキで使われている化学物質は、（１）刺激臭が強い。（
２）引火点が低く、揮発性も高い為、充満した際に引火・爆発しやすい。（３）人体に吸引されると健康被害を及ぼす。（４）環境にも影響がある。（５）炭酸ガス排出量削減にマイナスである。【０００７】
印刷工程で蒸発する溶剤等の有機化合物（ＶＯＣ）は、（１）工場外へ排出して大気汚染や工場周辺の悪臭問題につながっている。（２）排出しきれないものは工場内に充満して引火・爆発の危険性や作業員の健康被害など、作業環境の危険性がある。（３）蒸発しきれない溶剤は、フィルムに残り、印刷された袋の特有の臭いの原因となる。特に食品業界で問題である。【０００８】
残留溶剤問題は、商品のイメージを低下するだけでなく、食品の場合、風味を損なったり、臭いを吸着しやすいものにいたっては味が変化する場合がある。【０００９】
水性インキは、基本的に水とアルコールを使用することにより、油性インキの諸問題を解決しているが、エタノールが残留する問題は残る。しかし、エタノール＋水は、強い刺激臭もなく、内容物の風味を変化することはない。エタノールが与える影響は、環境や健康上影響を与える許容範囲よりもかなり低い。工場内はエタノールで充満しているが、臭いは殆ど無い。しかし、アルコールであるので引火の危険がない訳ではないが、有機溶剤に比べれば、危険度はかなり低いものとなる。【００１０】
従来のレーザー製版により作られるグラビア版は、一般的に、１インチ当たり１７５本のスクリーン線を有し、かつ、最シャドウ部のセルの深さが２０μｍ〜３０μｍである版が用いられる。この条件で水性グラビア印刷を行うと、インクの乾燥速度が遅いので、版かぶりが生じ易い。インクの乾燥速度が遅いので、油性インキ使用のグラビア印刷に比して印刷速度が低くする必要があり、印刷効率（生産効率）が悪くなる。【００１１】
水性グラビア印刷に使用される版は、インクの乾燥速度を速くするために、油性グラビア印刷と比較すると、セルが浅く、スクリーン線数が多いことが特徴である。これによって、油性とは違う風合いの印刷が出来上がる。一般的に、色合いが明るくなり、また、網点再現性（細かいところ）が良くなり、ハイライト性が良くなり、浅版化することにより、インキ使用量が減り、インキ使用量が減ることで更に溶剤による影響は少なくなる。水性グラビアインキを用い、メッシュの線数が２００〜４００線、版深が１０〜１７μｍの版を用いるグラビア印刷方法も提案されている。【００１２】
また、グラビア印刷では、グラビア製版ロール（グラビアシリンダー）に対し、製版情報に応じた微小な凹部（グラビアセル）を形成して版面を製作し当該グラビアセルにインキを充填して被印刷物に転写するものである。一般的なグラビア製版ロールにおいては、アルミニウムや鉄などの金属製中空ロールの表面に版面形成用の銅メッキ層（版材）を設け、該銅メッキ層にエッチングによって製版情報に応じ多数の微小な凹部（グラビアセル）を形成し、次いでグラビア製版ロールの耐刷力を増すためのクロムメッキによって硬質のクロム層を形成して表面強化被覆層とし、製版（版面の製作）が完了する。しかし、クロムメッキ工程においては毒性の高い六価クロムを用いているために、作業の安全維持を図るために余分なコストがかかる他、公害発生の問題もあり、クロム層に替わる表面強化被覆層の出現が待望されているのが現状である。【００１３】
そこで、本願出願人らは鋭意研究を進めた結果、銅メッキ層にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）被膜を形成し、表面強化被覆層として用いる技術を提案した（特許文献７）。【００１４】
一方、本願出願人は、往復旋回自在な産業用ロボット及び円錐面の母線に被製版ロールの面長方向が一致するように多数本の被製版ロールをロールパレットに斜めに円周配列に立て掛けることができるターンテーブル式のロールストック装置と砥石研磨装置を備え、産業用ロボットが、ロールストック装置にストックされた被製版ロールを取り出して装置への受け渡しを行い、硫酸銅メッキ−研磨−感光膜塗布−レーザーによる画像焼付け−現像−エッチングの工程により製版を行うグラビア印刷用被製版ロールのメッキ工場及びグラビア製版工場を提案している（特許文献１）。【００１５】
また、本願出願人は、往復旋回自在な産業用ロボット及びロール入出装置と多数本の被製版ロールをストックすることができるロールストック装置と砥石研磨装置を備え、産業用ロボットが、ロールストック装置にストックされた被製版ロールを取り出して装置への受け渡しを行い、硫酸銅メッキ−研磨−感光膜塗布−レーザーによる画像焼付け−現像−エッチングの工程により製版を行うグラビア印刷用被製版ロールのメッキ工場を提案している（特許文献２）。【００１６】
さらに、本願出願人は、往復旋回自在な産業用ロボット及び円錐面の母線に被製版ロールの面長方向が一致するように多数本の被製版ロールをロールパレットに斜めに円周配列に立て掛けることができるターンテーブル式のロールストック装置と砥石研磨装置を備え、産業用ロボットが、ロールストック装置にストックされた被製版ロールを取り出して装置への受け渡しを行い、硫酸銅メッキ−研磨−感光膜塗布−レーザーによる画像焼付け−現像−エッチング−レジスト剥離−ニッケル合金メッキ−焼入れの工程により製版を行うグラビア印刷用被製版ロールのメッキ工場及びグラビア製版工場を提案している（特許文献３）。【００１７】
その他にも、本願出願人は、メッキラインが設置された部屋と隣接する部屋に、少なくとも、レーザー露光装置と感光膜塗布装置とロール載置台と被製版ロールを両端チャックしてハンドリングする走行形産業用ロボットを備え、走行形産業用ロボットにより部屋内の装置との間で、並びに、メッキラインが設置された部屋との間で被製版ロールの授受を行うように構成されているグラビア製版工場（特許文献４）なども提案している。【００１８】
しかしながら、グラビアシリンダーの銅メッキ層にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）を形成し、表面強化被覆層として用いる技術を全自動化し、夜間であっても無人操業が可能なグラビア製版ロールの全自動製造システムはいまだ開発されていない。
【特許文献１】特開２００４−２２３７５１
【特許文献２】特開２００４−２２５１１１
【特許文献３】特開２００４−２３２０２８
【特許文献４】特開平１０−１９３５５１
【特許文献５】特開２００２−２０５３６９
【特許文献６】特公昭５７−３６９９５
【特許文献７】ＷＯ２００６／１３２０８５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みなされたもので、グラビアシリンダーの銅メッキ層にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）被膜を形成し、表面強化被覆層として用いる技術を全自動化し、夜間であっても無人操業が可能なグラビア製版ロールの全自動製造システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
上記課題を解決するために、本発明のグラビア製版ロールの全自動製造システムは、グラビア印刷に用いられるグラビア製版ロールを製造するための全自動グラビア製版ロール製造システムであって、中空ロールに銅メッキをするための銅メッキ形成手段と、前記銅メッキがされた中空ロールにグラビアセルを形成するためのグラビアセル形成手段と、前記グラビアセルが形成された中空ロールにＤＬＣ被膜を形成するためのＤＬＣ被膜形成手段と、前記銅メッキ形成手段に中空ロールを自動的に移載する第一自動移載手段と、前記銅メッキ形成手段において銅メッキされた中空ロールを前記グラビアセル形成手段に自動的に搬送する自動搬送手段と、前記グラビアセル形成手段においてグラビアセルが形成された中空ロールを前記ＤＬＣ被膜形成手段に自動的に移載するための第二自動移載手段と、を含むことを特徴とする。【００２１】
中空ロール（版母材）の銅メッキ形成手段としては、従来公知の銅メッキ層が使用できる（例えば、特許文献１〜６）。グラビアセルの形成は、エッチング法又は電子彫刻法によって行えばよい。ここでエッチング法は、銅メッキされた中空ロールの版胴面に感光液を塗布して直接焼き付けた後、エッチングしてグラビアセルを形成する方法である。電子彫刻法は、デジタル信号によりダイヤモンド彫刻針を機械的に作動させグラビアシリンダー（グラビア製版ロール）の銅表面にグラビアセルを彫刻する方法である。したがって、エッチング法によるグラビアセル形成手段としては、従来公知の感光膜塗布装置及びレーザー露光装置が挙げられる。電子彫刻法によるグラビアセル形成手段としては、従来公知の電子彫刻機が挙げられる。【００２２】
ＤＬＣ被膜の形成方法としては、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法を用いることができる。ＰＶＤ法としてはスパッタリング法、真空蒸着法（エレクトロンビーム法）、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法（分子線エピタキシー法）、レーザーアブレーション法、イオンアシスト成膜法等の公知の方法を適用できる。ＣＶＤ法としては、常圧で成膜するＡＰＣＶＤ法（Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition）、０．０５Ｔｏｒｒ程度の減圧で成膜するＬＰＣＶＤ法（Low Pressure Chemical Vapor Deposition）、常圧よりやや低い６００Ｔｏｒｒ程度の圧力のＳＡＣＶＤ法（Subatmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition）、超高真空のＵＨＶＣＶＤ法（Ultra-High-Vacuum Chemical Vapor Deposition）、６００〜１０００℃の高温の熱ＣＶＤ法、高周波プラズマエネルギーを用い２００〜４５０℃で成膜するプラズマＣＶＤ法（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）、紫外線による励起を利用した光ＣＶＤ法、ソースに有機金属を用いた化合物結晶成長用のＭＯＣＶＤ法（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）等が適用できる。したがって、ＤＬＣ被膜形成手段としては、上記した方法が実践できる装置であればよく、従来公知のスパッタリング装置、真空蒸着装置、イオンプレーティング装置、ＭＢＥ装置、レーザーアブレーション装置、イオンアシスト成膜装置、ＡＰＣＶＤ装置、ＬＰＣＶＤ装置、ＳＡＣＶＤ装置、ＵＨＶＣＶＤ装置、熱ＣＶＤ装置、プラズマＣＶＤ装置、光ＣＶＤ装置、ＭＯＣＶＤ装置等が挙げられる。【００２３】
前記銅メッキ形成手段に中空ロールを自動的に移載する第一自動移載手段としては、従来公知の産業用ロボットが使用できる。前記銅メッキ形成手段において銅メッキされた中空ロールを前記グラビアセル形成手段に自動的に搬送する自動搬送手段としては、従来公知のスタッカクレーンが使用でき、このスタッカクレーンでカセット型ロールチャック装置が搬送される構成が使用できる。前記グラビアセル形成手段においてグラビアセルが形成された中空ロールを前記ＤＬＣ被膜形成手段に自動的に移載するための第二自動移載手段としては、従来公知の産業用ロボットが使用できる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、グラビアシリンダーの銅メッキ層にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）を形成し、表面強化被覆層として用いる技術を全自動化し、夜間であっても無人操業が可能なグラビア製版ロールの全自動製造システムを提供することができるという著大な効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明に係るグラビア製版ロールの全自動製造システムの概略平面図である。
【符号の説明】
【００２６】
１０：本発明に係るグラビア製版ロールの全自動製造システム、１２ａ，１２ｂ：産業用ロボット、１４ａ，１４ｂ：ロボットアーム、１６：中空ロール、１８ａ，１８ｂ，１８ｃ，１８ｄ：ロールストック装置、２０：自動研磨装置、２２：感光膜塗布装置、２３：スタッカクレーン、２４：レーザー露光装置、２６：脱着ユニット、２８：現像ユニット、３０：水洗乾燥ユニット、３２：カセット形ロールチャック回転搬送ユニット載置台、３３：カセット形ロールチャック回転搬送ユニット、３４：ＤＬＣ前処理ユニット、３６：腐食ユニット、３８：レジスト剥離ユニット、４０：銅メッキユニット、４２：ニッケルメッキユニット、４４：電解脱脂処理ユニット、４６：ＤＬＣ被膜形成システム、４８：ロール載置台、５０：グラビア製版ロール、Ａ１，Ａ２：ロボット室、Ｂ：メッキ室。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。【００２８】
図１は、本発明に係るグラビア製版ロールの全自動製造システムの概略平面図である。【００２９】
本発明に係るグラビア製版ロールの全自動製造システムを添付図面を用いて説明する。図１において、符号１０は本発明に係るグラビア製版ロールの全自動製造システムを示す。グラビア製版ロールの全自動製造システム１０は、ロボット室Ａ１及びＡ２と、メッキ室Ｂとから構成されている。【００３０】
ロボット室Ａ１の構成について説明する。ロボット室Ａ１において、符号１２ａは第一自動移載手段として作用する産業用ロボットであり、ロボットアーム１４ａを有している。【００３１】
符号１６は中空ロール（版母材）であり、１８ａ，１８ｂはそれぞれロールストック装置である。このロールストック装置については例えば特許文献１〜３に開示されたロールストック装置を用いることが可能である。なお、符号２０は自動研磨装置であり、例えば特許文献３に開示されているような研磨装置（特許文献３、図１の研磨装置６）を用いることが可能である。【００３２】
符号２２は感光膜塗布装置であり、符号２４はレーザー露光装置である。感光膜塗布装置２２及びレーザー露光装置２４はグラビアセル形成手段として作用する。これらの装置には従来公知の装置を適用することができ、例えば特許文献１に開示されたような感光膜塗布装置及びレーザー露光装置を用いることができる。【００３３】
次に、メッキ室Ｂの構成について説明する。メッキ室Ｂにおいて、符号２３は自動搬送手段として作用するスタッカクレーンであり、符号３３はスタッカクレーン２３で搬送されるカセット形ロールチャック回転搬送ユニットである。前記スタッカクレーン２３はカセット型ロールチャック装置（図示省略）を吊り上げて搬送する構成であり、前記カセット型ロールチャック装置は、水平に位置される中空ロール１６の両端のチャック孔をチャック回転し通電し得る一対のチャックコーン及び各チャックコーンの外側を密封する防水キャップを有する構成とされている。これらスタッカクレーンの構造及びカセット型ロールチャック装置の構造については、例えば特許文献２などから公知であるため詳細な説明は省略する。符号３２は待機用のカセット形ロールチャック回転搬送ユニットを載置するためのカセット形ロールチャック回転搬送ユニット載置台である。スタッカクレーン２３、カセット形ロールチャック回転搬送ユニット３３及びカセット形ロールチャック回転搬送ユニット載置台３２は従来公知のものを使用することができ、例えば特許文献２に記載のものが使用できる。【００３４】
符号２６は脱着ユニット、符号２８は現像ユニット、符号３０は水洗乾燥ユニットを示す。脱着ユニット２６は例えば特許文献６に開示されたものが使用でき、現像ユニット２８についても従来公知のもの（例えば特許文献１）を使用できる。水洗乾燥ユニット３０は、中空ロール１６を水洗乾燥するためのユニットである。【００３５】
産業用ロボット１４ａは、中空ロール１６をチャックして中継台装置（図示省略、例えば特許文献２参照）の四本の円錐ロールの上に受け渡し、又、四本の円錐ロールの上に載置された中空ロール１６を受け取る。スタッカクレーン２３は、カセット形ロールチャック回転搬送ユニット３３を吊り上げて中継台装置の四本の円錐ロールの上に載せられた中空ロール１６の上にセットする。すると、カセット形ロールチャック回転搬送ユニット３３が中空ロール１６の両端をチャックし、スタッカクレーン２３は、カセット形ロールチャック回転搬送ユニット３３を吊り上げて各ユニット間を搬送する。各ユニットは、カセット形ロールチャック回転搬送ユニット３３の装置フレームの両側の端板を湾部に受け入れて該カセット形ロールチャック回転搬送ユニット３３を受け入れた状態となり、この状態で中空ロール１６に対して着脱、現像、洗浄・乾燥、脱脂処理、硫酸銅メッキ処理、ニッケルメッキ処理ができる構成である。【００３６】
符号３４はＤＬＣ前処理ユニット、符号３６は腐食ユニット、符号３８はレジスト剥離ユニット、符号４０は銅メッキユニット（銅メッキ形成手段）、符号４２はニッケルメッキユニット、符号４４は電解脱脂ユニットである。ＤＬＣ前処理ユニット３４は、ＤＬＣ被膜形成の前処理として、中空ロール１６の脱脂・洗浄を行うための装置であり、例えば従来公知の脱脂装置が使用できる。メッキ工程に用いられるその他の装置については、従来公知であり、例えば特許文献１〜３に記載された処理装置を使用すればよい。【００３７】
次に、ロボット室Ａ２の構成について説明する。ロボット室Ａ２において、符号１２ｂは第二自動移載手段として作用する産業用ロボットであり、ロボットアーム１４ｂを有している。【００３８】
符号４６は、ＤＬＣの被膜形成を行うためのＤＬＣ被膜形成システム（ＤＬＣ被膜形成手段）である。ＤＬＣ被膜形成システム４６は、中空ロール１６を回転載置させるためのロール載置台４８を有している。ＤＬＣの被膜形成は、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法を用いることができる。ＰＶＤ法としては、スパッタリング法、真空蒸着法（エレクトロンビーム法）、イオンプレーティング法、ＭＢＥ法（分子線エピタキシー法）、レーザーアブレーション法、イオンアシスト成膜法等の公知の方法を適用できる。ＣＶＤ法としては、常圧で成膜するＡＰＣＶＤ法（Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition）、０．０５Ｔｏｒｒ程度の減圧で成膜するＬＰＣＶＤ法（Low Pressure Chemical Vapor Deposition）、常圧よりやや低い６００Ｔｏｒｒ程度の圧力のＳＡＣＶＤ法（Subatmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition）、超高真空のＵＨＶＣＶＤ法（Ultra-High-Vacuum Chemical Vapor Deposition）、６００〜１０００℃の高温の熱ＣＶＤ法、高周波プラズマエネルギーを用い２００〜４５０℃で成膜するプラズマＣＶＤ法（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition）、紫外線による励起を利用した光ＣＶＤ法、ソースに有機金属を用いた化合物結晶成長用のＭＯＣＶＤ法（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）等が適用できる。ＣＶＤ法によってＤＬＣ被膜を形成するために用いられる炭化水素系原料ガスとしては、シクロへキサン、ベンゼン、アセチレン、メタン、ブチルベンゼン、トルエン、シクロペンタン等の公知のガス種の一種又は二種以上が用いられる。【００３９】
したがって、ＤＬＣ被膜形成システム４６は、上記した方法が実践できる装置であればよく、従来公知のスパッタリング装置、真空蒸着装置、イオンプレーティング装置、ＭＢＥ装置、レーザーアブレーション装置、イオンアシスト成膜装置、ＡＰＣＶＤ装置、ＬＰＣＶＤ装置、ＳＡＣＶＤ装置、ＵＨＶＣＶＤ装置、熱ＣＶＤ装置、プラズマＣＶＤ装置、光ＣＶＤ装置、ＭＯＣＶＤ装置等が使用できる。【００４０】
ＰＶＤ法でＤＬＣ被膜を形成する場合には、銅メッキ層とＤＬＣ被膜との間には両者の密着性を高めるために銅メッキ層側から金属層及び炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層を設けるのが好ましい。前記金属層における金属としては、炭化可能でありかつ銅と親和力の高い金属が好ましい。この金属としては、タングステン（Ｗ）、珪素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）、及びジルコニウム（Ｚｒ）等を用いることができる。金属層及び炭化金属層の形成方法は特に限定されないが、ＤＬＣ被膜の形成方法と同種の方法を用いることにより、同一の装置が使用可能となり、好適である。【００４１】
前記炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層における金属は前記金属層と同一の金属を用いる。炭化金属傾斜層における炭素の組成比は金属層側からＤＬＣ被膜方向に対して炭素の比率が徐々に増大するように設定する。つまり、炭素の組成比は０％〜徐々に（階段状もしくは無段階状に）比率を増し、最後はほぼ１００％となるように成膜を行う。【００４２】
この場合、炭化金属層、好ましくは炭化金属傾斜層中の炭素の組成比の調整方法は公知の方法を用いればよいが、例えば、スパッタリング法（固体金属ターゲットを用い、アルゴンガス雰囲気で炭化水素ガス、例えば、メタンガス、エタンガス、プロパンガス、ブタンガス、アセチレンガス等の注入量を階段状又は無段階状に徐々に増大する）によって、炭化金属層中の炭素の割合が銅メッキ層の側からＤＬＣ被膜方向に対して階段状又は無段階状に徐々に増大するように炭素及び金属の両者の組成割合を変化させた炭化金属層、即ち炭化金属傾斜層を形成することができる。【００４３】
このように炭化金属層の炭素の割合を調整することによって銅メッキ層及びＤＬＣ被膜の双方に対する金属層及び炭化金属層の密着度を向上させることができる。また、炭化水素ガスの注入量を一定とすれば、炭素及び金属の組成割合を一定とした炭化金属層とすることができ、炭化金属傾斜層と同様の作用を行わせることができる。【００４４】
また、ＣＶＤ法によってＤＬＣ被膜を形成するにあたっては、銅メッキ層の上に密着層を設けてからＤＬＣ被膜を形成するのが好ましい。前記密着層は、アルミニウム（Ａｌ）、リン（Ｐ）、チタン（Ｔｉ）及び珪素（Ｓｉ）からなる群から選ばれる一種又は二種以上から形成されるのが好ましい。密着層の形成方法は特に限定されないが、ＤＬＣ被膜の形成方法と同種の方法を用いることにより、同一の装置が使用可能となり、好適である。ＣＶＤ法により密着層を形成する場合、トリメチルアルミニウム、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラエトキシド、テトラメチルシラン、亜リン酸トリメチル、ヘキサメチルジシロキサンからなる群から選ばれる一種又は二種以上のガス種を用いるのが好適である。【００４５】
符号１８ｃ，１８ｄはそれぞれロールストック装置である。このロールストック装置については例えば特許文献１〜３に開示されたロールストック装置を用いることが可能である。【００４６】
次に、グラビア製版ロールの全自動製造システム１０の作用を説明する。中空ロール１６は、ロールストック装置１８ａ，１８ｂにストックされた後、電解脱脂処理ユニット４
４で脱脂処理されて銅メッキユニット４０で硫酸銅メッキを付けられ、自動研磨装置２０で精密円筒加工を行ってから、感光膜塗布装置２２で感光膜を塗布形成される。そして、レーザー露光装置２４でレーザー露光により画像を焼き付けられ、現像ユニット２８で現像され、水洗乾燥ユニット３０で水洗いされ、腐食ユニット３６にて腐食されてセルが形成される。そして、レジスト剥離ユニット３８にてレジスト剥離が行われ、ＤＬＣ前処理ユニット３４にてＤＬＣ前処理が行われる。【００４７】
その後、中空ロール１６はＤＬＣ被膜形成システム４６にてＤＬＣ被膜が形成される。グラビアセルが形成された中空ロール１６は、例えばロールストック装置１８ｄにストックされ、その後ＤＬＣ被膜形成システム４６へロボットアーム１４ｂによって自動的に搬入される。ＤＬＣ被膜形成システム４６でＤＬＣ被膜が形成された中空ロール１６は例えばロールストック装置１８ｃへとストックされ、運び出される。このようにして、グラビア製版ロール５０が全自動で出来上がる。                                      
【図１】
2007135898.tif 000003
【国際調査報告】
2007135898.tif 000004
2007135898.tif 000005