(57)【要約】  非表示領域に通気路を形成することにより、閉鎖型リブ構造のＰＤＰにおけるパネル内の排気を良好にする。  一対の基板が対向配置されて周辺が封着され、その封着の際に基板間に存在する不純物ガスが排出されることで製造され、一対の基板間には、縦リブと横リブからなるセル画定用のリブが表示領域に形成されるとともに、表示領域の外縁から基板の周辺部にまたがる非表示領域にセル画定用のリブと同じ形状のダミーリブが形成されたプラズマディスプレイパネルにおいて、ダミーリブが形成された非表示領域に通気路を設ける。
2007138700.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板が対向配置されて周辺が封着され、その封着の際に基板間に存在する不純物ガスが排出されることで製造されるパネルであって、
一対の基板間には、縦リブと横リブからなるセル画定用のリブが表示領域に形成されるとともに、表示領域の外縁から基板の周辺部にまたがる非表示領域に前記セル画定用のリブと同じ形状のダミーリブが形成されてなり、
ダミーリブが形成された非表示領域に通気路が設けられてなるプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記通気路が複数の通気路からなり、前記ダミーリブの形成された非表示領域が、それら複数の通気路によって複数の島状に分断されてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記島状に分断された領域のコーナーに位置するダミーリブの角部が丸みを帯びて形成されてなる請求項２記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記通気路が、表示領域と非表示領域の境界部分に設けられ、表示領域のコーナーに位置するリブの角部が丸みを帯びて形成されてなる請求項２記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記表示領域の外縁に位置するリブは、少なくともコーナー部分の幅が、外縁に位置しないリブの幅よりも太く形成されてなる請求項４記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記通気路が、一対の基板が対向配置されて周辺が封着される際に一対の基板がクリップで挟まれる仮止め領域を避けて形成されてなる請求項１〜５のいずれか１つに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
一方の基板の表示領域に縦リブと横リブからなるセル画定用のリブを形成するとともに、表示領域の外縁から基板の周辺部にまたがる非表示領域に前記セル画定用のリブと同じ形状のダミーリブを形成する際、ダミーリブを形成した非表示領域に通気路を形成し、
その後、一方の基板を他方の基板に対向配置して周辺を封着し、その封着の際に両基板間から不純物ガスを排出させる工程を備えてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」と記す）およびその製造方法に関し、さらに詳しくは、前面側の基板と背面側の基板を対向させて周辺を封着材で封着するＰＤＰおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のＰＤＰとして、ＡＣ型の３電極面放電型ＰＤＰが知られている。このＰＤＰは、電極、誘電体層、蛍光体層、リブ（隔壁）等の所望の構成物を形成した前面側の基板と背面側の基板を対向させて周辺を封着することで製造される。この周辺を封着する工程は、封止工程、封着工程、封着排気工程などと称されるが、本明細書では封着工程と称する。【０００３】
この封着工程では、通常は背面側の基板の周辺にガラス封着材を塗布し、背面側の基板に前面側の基板を重ね合わせ、両基板の周辺部をクリップで挟んで仮止めし、その状態で加熱プロセスを経て両基板を気密接着させる。この加熱プロセスでは、ガラス封着材を加熱溶融しながら、ＰＤＰ内部を負圧にすることでＰＤＰの内部から不純物ガスを排気し、それに続いてＰＤＰ内の放電空間に放電ガスを充填するようにしている。【０００４】
上記クリップによる仮止めは、基板周辺を複数箇所（たとえば４箇所）クリップで挟むことにより行う。このため、前面側の基板と背面側の基板が一定の隙間で封着されるように、基板周辺のクリップ挟持領域までダミーリブを形成するようにしている。【０００５】
一方、ＰＤＰのリブ構造は、複数のリブを縦方向（表示の列方向）に設けることで放電空間を横方向（表示の行方向）にだけ仕切る直線状の構造（ストライプリブ構造）のものや、リブを横方向と縦方向に設けることで放電空間をセル毎に仕切る格子状の構造（ボックスリブ構造、ワッフルリブ構造）のものなどがある。近年では、画素の高精細化のためにボックスリブ構造のＰＤＰの要望が高まっている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ボックスリブ構造のＰＤＰは、閉鎖型のリブ構造であるため、ストライプリブ構造のＰＤＰと比較して、パネル内部の通気コンダクタンスが小さく、不純物ガスの排気が難しいという問題がある。不純物ガスの除去が不充分であると、パネルの特性が悪化する。具体的には、蛍光体劣化による輝度の低下や電圧変動が生じ、パネルの表示ムラを引き起こしやすくなる。【０００７】
このため、パネル内の通気パスを良好にする各種の構造が提案されている。一例として、非表示領域の通気パス拡大を狙ったものとして、非表示領域に溝を設けたものが知られている（特許文献１参照）。また、パネルの長辺側の通気パスを短辺側よりも多くとることで排気効率を良くするものが知られている（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平１１−２３８４６６号公報
【特許文献２】特開２００３−２１７４５７号公報
【０００８】
本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、非表示領域に通気路を形成することにより、閉鎖型リブ構造のＰＤＰにおけるパネル内の排気を良好にするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、一対の基板が対向配置されて周辺が封着され、その封着の際に基板間に存在する不純物ガスが排出されることで製造されるパネルであって、一対の基板間には、縦リブと横リブからなるセル画定用のリブが表示領域に形成されるとともに、表示領域の外縁から基板の周辺部にまたがる非表示領域に前記セル画定用のリブと同じ形状のダミーリブが形成されてなり、ダミーリブが形成された非表示領域に通気路が設けられてなるプラズマディスプレイパネルである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ダミーリブが形成された非表示領域に通気路を設けたので、基板間に閉鎖型のリブを形成したＰＤＰにおいて、一対の基板を対向配置して周辺を封着する際に、基板間に存在する不純物ガスの排出が十分に行われ、これによりＰＤＰを高品質で信頼性の高いものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明のＰＤＰの構成を示す説明図である。
【図２】ＰＤＰの詳細な部分分解斜視図である。
【図３】本発明の実施形態１の構成を示す説明図である。
【図４】通気路を形成していないＰＤＰの比較例である。
【図５】本発明の実施形態２の構成を示す説明図である。
【図６】本発明の実施形態３の構成を示す説明図である。
【図７】本発明の実施形態４の構成を示す説明図である。
【図８】表示領域のコーナーに位置するボックスリブの平面図である。
【図９】表示領域のコーナーに位置するボックスリブの平面図である。
【符号の説明】
【００１２】
１０  ＰＤＰ
１１  前面側の基板
１２  透明電極
１３  バス電極
１７，２４  誘電体層
１８  保護膜
２１  背面側の基板
２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂ  蛍光体層
２９  ボックスリブ
２９ａ  ボックスリブの角部
２９ｂ  外縁ボックスリブ
３０  放電空間
３１  表示領域
３２  非表示領域
３３  ダミーリブ
３４  クリップ挟持領域
４１  ガラス封着材
４２  通気孔
４３  通気路
Ａ  アドレス電極
Ｌ  表示ライン
Ｘ，Ｙ  表示電極
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明において、一対の基板としては、ガラス、石英、セラミックス等の基板や、これらの基板上に、電極、絶縁膜、誘電体層、保護膜等の所望の構成物を形成した基板が含まれる。【００１４】
上記電極は、当該分野で公知の各種の材料と方法を用いて形成することができる。電極に用いられる材料としては、例えば、ＩＴＯ、ＳｎＯ2などの透明な導電性材料や、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒなどの金属の導電性材料が挙げられる。電極の形成方法としては、当該分野で公知の各種の方法を適用することができる。たとえば、印刷などの厚膜形成技術を用いて形成してもよいし、物理的堆積法または化学的堆積法からなる薄膜形成技術を用いて形成してもよい。厚膜形成技術としては、スクリーン印刷法などが挙げられる。薄膜形成技術の内、物理的堆積法としては、蒸着法やスパッタ法などが挙げられる。化学的堆積方法としては、熱ＣＶＤ法や光ＣＶＤ法、あるいはプラズマＣＶＤ法などが挙げられる。【００１５】
本発明において、セル画定用のリブは、縦リブと横リブからなるものであればよい。縦リブと横リブは、特に直交している必要はなく、任意の角度で交差するものであればよい。縦リブと横リブの高さは、同一である必要はなく、異なる高さであってもよい。【００１６】
通気路は、ダミーリブが形成された非表示領域に設けられていればよい。この通気路は、その通気路となる位置にリブを形成しないことで、形成することができる。通気路は、直線状であってもよく、曲線状であてもよい。【００１７】
上記構成において、通気路が複数の通気路で構成され、ダミーリブの形成された非表示領域が、それら複数の通気路によって複数の島状に分断されていてもよい。この場合、島状に分断された領域のコーナーに位置するダミーリブの角部は、丸みを帯びて形成されていることが望ましい。【００１８】
通気路は、表示領域と非表示領域の境界部分に設けられ、表示領域のコーナーに位置するリブの角部が丸みを帯びて形成されていてもよい。また、表示領域の外縁に位置するリブは、少なくともコーナー部分の幅が、外縁に位置しないリブの幅よりも広く形成されていることが望ましい。【００１９】
通気路は、一対の基板が対向配置されて周辺が封着される際に一対の基板がクリップで挟まれる仮止め領域を避けて形成されていることが望ましい。【００２０】
本発明は、また、一方の基板の表示領域に縦リブと横リブからなるセル画定用のリブを形成するとともに、表示領域の外縁から基板の周辺部にまたがる非表示領域に前記セル画定用のリブと同じ形状のダミーリブを形成する際、ダミーリブを形成した非表示領域に通気路を形成し、その後、一方の基板を他方の基板に対向配置して周辺を封着し、その封着の際に両基板間から不純物ガスを排出させる工程を備えてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法である。【００２１】
以下、図面に示す実施形態に基づいて本発明を詳述する。なお、本発明はこれによって限定されるものではなく、各種の変形が可能である。【００２２】
図１（ａ）および図１（ｂ）は本発明のＰＤＰの構成を示す説明図である。図１（ａ）は全体図、図１（ｂ）は部分分解斜視図である。このＰＤＰはカラー表示用のＡＣ駆動型の３電極面放電型ＰＤＰである。【００２３】
ＰＤＰ１０は、ＰＤＰとして機能する構成要素が形成された前面側の基板１１と背面側の基板２１から構成されている。前面側の基板１１と背面側の基板２１としては、ガラス基板を用いているが、ガラス基板以外に、石英基板、セラミックス基板等も使用することができる。【００２４】
前面側の基板１１の内側面には、水平方向に表示電極Ｘと表示電極Ｙが等間隔に配置されている。隣接する表示電極Ｘと表示電極Ｙとの間が全て表示ラインＬとなる。各表示電極Ｘ，Ｙは、ＩＴＯ、ＳｎＯ2などの幅の広い透明電極１２と、例えばＡｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ及びそれらの積層体（例えばＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒの積層構造）等からなる金属製の幅の狭いバス電極１３から構成されている。表示電極Ｘ，Ｙは、Ａｇ、Ａｕについてはスクリーン印刷のような厚膜形成技術を用い、その他については蒸着法、スパッタ法等の薄膜形成技術とエッチング技術を用いることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成することができる。【００２５】
なお、本ＰＤＰでは、表示電極Ｘと表示電極Ｙが等間隔に配置され、隣接する表示電極Ｘと表示電極Ｙとの間が全て表示ラインＬとなる、いわゆるＡＬＩＳ構造のＰＤＰとなっているが、対となる表示電極Ｘ，Ｙが放電の発生しない間隔（非放電ギャップ）を隔てて配置された構造のＰＤＰであっても、本発明を適用することができる。【００２６】
表示電極Ｘ，Ｙの上には、表示電極Ｘ，Ｙを覆うように誘電体層１７が形成されている。誘電体層１７は、ガラスフリット、バインダー樹脂、および溶媒からなるガラスペーストを、前面側の基板１１上にスクリーン印刷法で塗布し、焼成することにより形成している。誘電体層１７は、プラズマＣＶＤ法でＳｉＯ2膜を成膜することにより形成してもよい。【００２７】
誘電体層１７の上には、表示の際の放電により生じるイオンの衝突による損傷から誘電体層１７を保護するための保護膜１８が形成されている。この保護膜はＭｇＯで形成されている。保護膜は、電子ビーム蒸着法やスパッタ法のような、当該分野で公知の薄膜形成プロセスによって形成することができる。【００２８】
背面側の基板２１の内側面には、平面的にみて表示電極Ｘ，Ｙと交差する方向に複数のアドレス電極Ａが形成され、そのアドレス電極Ａを覆って誘電体層２４が形成されている。アドレス電極Ａは、Ｙ電極との交差部で発光セルを選択するためのアドレス放電を発生させるものであり、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒの３層構造で形成されている。このアドレス電極Ａは、その他に、例えばＡｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ等で形成することもできる。アドレス電極Ａも、表示電極Ｘ，Ｙと同様に、Ａｇ、Ａｕについてはスクリーン印刷のような厚膜形成技術を用い、その他については蒸着法、スパッタ法等の薄膜形成技術とエッチング技術を用いることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成することができる。誘電体層２４は、誘電体層１７と同じ材料、同じ方法を用いて形成することができる。【００２９】
隣接するアドレス電極Ａとアドレス電極Ａとの間の誘電体層２４上には、放電空間をセルごとに区画する格子状のリブ２９が形成されている。格子状のリブ２９はボックスリブやメッシュ状リブ、ワッフルリブなどとも呼ばれる。リブ２９は、サンドブラスト法、フォトエッチング法等により形成することができる。例えば、サンドブラスト法では、ガラスフリット、バインダー樹脂、溶媒等からなるガラスペーストを誘電体層２４上に塗布して乾燥させた後、そのガラスペースト層上にリブパターンの開口を有する切削マスクを設けた状態で切削粒子を吹きつけて、マスクの開口に露出したガラスペースト層を切削し、さらに焼成することにより形成する。また、フォトエッチング法では、切削粒子で切削することに代えて、バインダー樹脂に感光性の樹脂を使用し、マスクを用いた露光及び現像の後、焼成することにより形成する。【００３０】
格子状のリブ２９で囲まれた平面視矩形のセルの側面及び底面には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂが形成されている。蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂは、蛍光体粉末とバインダー樹脂と溶媒とを含む蛍光体ペーストをリブ２９で囲まれたセル内にスクリーン印刷、又はディスペンサーを用いた方法などで塗布し、これを各色毎に繰り返した後、焼成することにより形成している。この蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂは、蛍光体粉末と感光性材料とバインダー樹脂とを含むシート状の蛍光体層材料（いわゆるグリーンシート）を使用し、フォトリソグラフィー技術で形成することもできる。この場合、所望の色のシートを基板上の表示領域全面に貼り付けて、露光、現像を行い、これを各色毎に繰り返すことで、対応するセル内に各色の蛍光体層を形成することができる。【００３１】
ＰＤＰは、上記した前面側の基板１１と背面側の基板２１とを、表示電極Ｘ，Ｙとアドレス電極Ａとが交差するように対向配置し、周囲を封着し、リブ２９で囲まれた放電空間３０にＸｅとＮｅとを混合した放電ガスを充填することにより作製されている。このＰＤＰでは、表示電極Ｘ，Ｙとアドレス電極Ａとの交差部の放電空間３０が、表示の最小単位である１つのセル（単位発光領域）となる。１画素はＲ、Ｇ、Ｂの３つのセルで構成される。【００３２】
図２（ａ）および図２（ｂ）はＰＤＰの詳細な部分分解斜視図である。図２（ａ）は前面側の基板を示し、図２（ｂ）は背面側の基板を示している。
図２（ｂ）に示すように、背面側の基板２１には、表示領域３１に、縦リブと横リブからなるセル画定用のリブ２９が形成されるとともに、表示領域３１の外縁から基板の周辺部にまたがる非表示領域３２に、セル画定用のリブと同じ形状のダミーリブ３３が表示領域のセル画定用リブに連続して形成されている。【００３３】
表示領域３１に形成されたセル画定用の格子状リブはボックスリブ２９と呼び、非表示領域３２に形成された格子状のリブはダミーリブ３３と呼ぶ。
表示領域３１のセルには蛍光体層が形成されているが、非表示領域３２のセルには蛍光体層は形成されていない。ダミーリブ３３が形成された非表示領域３２には、後述する通気路が設けられている。【００３４】
背面側の基板２１の周囲には、ガラス封着材４１が塗布されている。このガラス封着材４１は、ガラスフリット、バインダー樹脂、溶媒等からなるガラスペーストを塗布して乾燥させた後、仮焼成して、バインダー樹脂成分を焼失させたものである。【００３５】
図３はＰＤＰの実施形態１の構成を平面的にみた状態を示す説明図である。
ＰＤＰ１０は、上述したように、表示電極、誘電体層、保護膜を形成した前面側の基板１１と、アドレス電極、誘電体層、格子状のリブ、蛍光体層を形成した背面側の基板２１とを対向配置し、基板の周囲をガラス封着材４１で封着し、リブで囲まれた放電空間にＸｅとＮｅとを混合した放電ガスを充填することにより作製されている。背面側の基板２１の表示領域３１にはボックスリブが形成され、非表示領域３２にはダミーリブが形成されている。【００３６】
そして、ダミーリブが形成された非表示領域３２には、基板の左右に幅Ｌの直線状の通気路４３が縦方向に形成されている。この通気路４３は以下のようにして形成する。【００３７】
ボックスリブとダミーリブの形成は、サンドブラスト法で行う。このサンドブラスト法では、ガラスフリット、バインダー樹脂、溶媒等からなるガラスペーストを基板上に塗布して乾燥させた後、そのガラスペースト層上にリブパターンの開口を有する切削マスクを設けた状態で切削粒子を吹きつけて、マスクの開口に露出したガラスペースト層を切削し、それを焼成することにより形成する。この場合、切削マスクは、感光性のドライフィルムレジストを基板にラミネートした後、フォトマスクを介して露光し、現像することで形成するのであるが、通気路４３は、その際のフォトマスクの形状を、通気路を設けた形状とすることで形成することができる。リブをフォトエッチング法で形成する場合でも、フォトマスクの形状を、通気路を設けた形状とすることで形成することができる。【００３８】
前面側の基板１１と背面側の基板２１の周辺を封着する封着工程では、背面側の基板２１の周辺にガラス封着材４１を塗布して仮焼成した後、背面側の基板２１に前面側の基板１１を対向させ、両基板を金属製のクリップ（図示していない）で挟んで仮止めし、その状態で加熱プロセスを経て両基板を気密接着させる。この加熱プロセスでは、ガラス封着材４１を加熱溶融しながら、背面側の基板２１形成した通気孔４２から空気を抜いてＰＤＰ内部を負圧にすることで、ＰＤＰの内部から不純物ガスを排気し、それに続いてＰＤＰ内の放電空間に放電ガスを充填する。この際、非表示領域３２とガラス封着材４１との間の隙間と、通気路４３が通気（排気）パスとなる。【００３９】
上記クリップによる仮止めは、基板周辺の４箇所に形成したクリップ挟持領域（仮止め領域）３４をクリップで挟持することにより行う。このため、基板周辺のクリップ挟持領域３４までダミーリブを形成し、前面側の基板１１と背面側の基板２１がクリップの挟持で湾曲せず、一定の隙間で封着されるようにしている。【００４０】
本実施形態では、クリップ挟持領域３４をパネル左右の４箇所としたが、クリップ挟持領域３４の位置、数、大きさについては特に制約はない。ただし、パネル強度に対してのバランスを保つため、クリップ位置は等間隔に配置することが望ましい。【００４１】
本実施形態では、基板の短辺側でボックスリブとダミーリブとを分離しており、この分離した部分を幅Ｌの通気路４３とし、通気パスに利用する。このため、ダミーリブが通気路４３で島状に分断された形態となっている。このようにダミーリブの周囲が完全に別のリブと分離されているリブを島状ダミーリブと呼ぶ。【００４２】
図４は比較例であり、通気路を形成していないＰＤＰを平面的にみた状態を示す説明図である。この図に示すように、非表示領域３２に通気路を形成していない場合には、封着工程の際の通気パスは、非表示領域３２とガラス封着材４１との間の隙間のみである。【００４３】
これに対し、上述の実施形態では、通気路を設けているので、不純物ガスの排気、および放電ガスの充填を十分に行うことができる。また、クリップ位置におけるダミーリブは比較例と変わらないため、パネル強度も比較例とほぼ同じ強度とすることができる。【００４４】
このように、クリップの仮止め領域を確保しながら、ダミーリブを形成した非表示領域内に、非表示領域を貫通する通気路を形成し、この通気路を通気パスとして確保する。これにより、従来と同様にクリップで基板を挟持して、封着工程における不純物ガスの排気および放電ガスの充填を良好に行うことができ、ＰＤＰの品質向上を図ることができる。【００４５】
図５はＰＤＰの実施形態２の構成を平面的にみた状態を示す説明図である。
実施形態１との違いは、左右の島状ダミーリブが複数の島状ダミーリブに分断されている点である。こうすることで、ダミーリブの間に複数の通気路ができ、これら複数の通気路を通気パスとして利用することができる。通気パスの幅を広く形成しすぎると、外圧に対するパネル強度が低下するが、本実施形態のように複数の島状ダミーリブに分離すれば、外圧に対するパネル強度を低下させずに通気パスを広くすることができる。【００４６】
この場合でも、通気路はクリップ挟持領域には設けないようにする。ただし、パネル内部の通気コンダクタンスにバラツキがでないように、クリップ挟持領域を基準にして島状ダミーリブを等間隔に配置することが好ましい。【００４７】
図６はＰＤＰの実施形態３の構成を平面的にみた状態を示す説明図である。
実施形態２との違いは、複数に分断した島状ダミーリブのコーナーに位置するダミーリブの角部にＲを設け、丸みを帯びた形状にした点である。【００４８】
その理由は以下の通りである。すなわち、ボックスリブおよびダミーリブを形成する際、サンドブラストで形成すると、切削粒子を吹き付けるノズルを移動させたとき、切削マスクのノズル移動方向におけるリブの端部において、リブのサイドカットが生じる。【００４９】
このため、その後の焼成工程でリブを焼成した際、このサイドカットの部分が跳ね上がることがある。リブの端部が跳ね上がると、この跳ね上がりにより、背面側の基板と前面側の基板を対向させたとき、前面側の基板が反り、この反った前面側の基板が、電極に電圧を印加する際の駆動パルスの影響により振動し、この振動が可聴領域となり異音が発生することがある。【００５０】
したがって、この跳ね上がり防止策として、島状ダミーリブのコーナーに位置するダミーリブの角部にＲを設けて、角部を丸く形成する。この場合、この跳ね上がりを考慮して、ダミーリブの高さを予め低めに設計し、リブを形成するようにしてもよい。【００５１】
図７はＰＤＰの実施形態４の構成を平面的にみた状態を示す説明図である。
実施形態３との違いは、表示領域の外周の４辺に通気路を設けていることである。つまり表示領域と非表示領域との全ての境界部分に通気路を設け、表示領域のコーナーに位置するボックスリブの角部にＲを設け、丸みを帯びた形状にした点である。【００５２】
この形状にするのは、上述した理由と同じであり、リブの端部の跳ね上がりを防止するためである。しかし、表示領域の４辺に通気路を設けた場合、表示領域のボックスリブが崩れ、表示領域の端部の表示セルが損なわれる恐れがある。そのための解決策として図８および図９を示す。【００５３】
図８および図９は表示領域のコーナーに位置するボックスリブの平面図である。図８はコーナーのリブの幅を太くした例を示し、図９は外周のリブの幅を太くした例を示している。【００５４】
第１の解決策は、図８に示すように、表示領域のコーナーに位置するボックスリブの角部２９ａの幅を、他のボックスリブ２９の幅よりも太くする。そうすることで、表示セルを損なうことなく、ボックスリブの角部２９ａにＲを形成することができる。跳ね上がり量をより少なくするためには、Ｒの半径が大きいほどよい。ただし、熱収縮によるリブの跳ね上がり量のバラツキが大きくならないように、リブを太くしすぎないようにする。【００５５】
第２の解決策は、図９に示すように、表示領域の外縁に位置する外縁ボックスリブ２９ｂの幅を、外縁に位置しないボックスリブ２９の幅よりも太くする。外縁ボックスリブ２９ｂの幅を太くすると、通気パスを若干狭めることになるが、角部のＲを大きくすることができる。【００５６】
このように、ダミーリブを形成した非表示領域に通気路を設けることにより、基板の封着工程の際の通気パスを確保して、不純物ガスの排気、および放電ガスの充填を十分に行うことが可能になる。さらに、非表示領域に通気路を設けることで、ダミーリブとガラス封着材との間の通気パスを狭くすることができるので、その結果、パネルの外形をより小型にすることが可能になる。【００５７】
以上説明したように、本実施例によれば、クリップの仮止め領域を確保しながら、非表示領域に通気路を形成することにより、閉鎖型リブ構造のＰＤＰにおけるパネル内の排気、およびパネル内への放電ガスの充填を良好に行うことができ、ＰＤＰの品質向上を図ることができる。
【図１】
2007138700.tif 000003
【図２】
2007138700.tif 000004
【図３】
2007138700.tif 000005
【図４】
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【図５】
2007138700.tif 000007
【図６】
2007138700.tif 000008
【図７】
2007138700.tif 000009
【図８】
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【図９】
2007138700.tif 000011
【国際調査報告】
2007138700.tif 000012
2007138700.tif 000013
2007138700.tif 000014
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